JP2843059B2 - グリセリン誘導体 - Google Patents
グリセリン誘導体Info
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- JP2843059B2 JP2843059B2 JP1171363A JP17136389A JP2843059B2 JP 2843059 B2 JP2843059 B2 JP 2843059B2 JP 1171363 A JP1171363 A JP 1171363A JP 17136389 A JP17136389 A JP 17136389A JP 2843059 B2 JP2843059 B2 JP 2843059B2
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- Acyclic And Carbocyclic Compounds In Medicinal Compositions (AREA)
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、医薬として優れた作用を有する新規なグリ
セリン誘導体及びその薬理学的に許容できる塩に関す
る。
セリン誘導体及びその薬理学的に許容できる塩に関す
る。
血小板活性化因子〔PAF…Platelet Activating Fact
or〕（以下単にPAFと略称する）は、近年著しく注目さ
れており、最近では種々の疾病との関連性が明らかにな
りつつある。即ち、炎症をはじめとしてDIC、エンドト
キシンショック、喘息、消化管潰瘍、腎炎、肝炎及び臓
器移植時の拒絶反応などに関与していることが推定され
ている。
or〕（以下単にPAFと略称する）は、近年著しく注目さ
れており、最近では種々の疾病との関連性が明らかにな
りつつある。即ち、炎症をはじめとしてDIC、エンドト
キシンショック、喘息、消化管潰瘍、腎炎、肝炎及び臓
器移植時の拒絶反応などに関与していることが推定され
ている。
このような状況において、PAF抑制作用を有する化合
物の探索が行われており、その中でも、例えば特開昭60
−158172号、特開昭61−293954号、特開昭60−243047号
などで示される如くグリセリン誘導体がある。しかしな
がら、現在のところ、抗PAF剤としては満足すべきもの
は出現していない。
物の探索が行われており、その中でも、例えば特開昭60
−158172号、特開昭61−293954号、特開昭60−243047号
などで示される如くグリセリン誘導体がある。しかしな
がら、現在のところ、抗PAF剤としては満足すべきもの
は出現していない。
このような状況に鑑みて、本発明者等は優れたPAF抑
制作用を有するのみならず、作用の持続性、化合物の安
定性においても優れているグリセリン誘導体について長
年にわたって探索研究を続けてきた。
制作用を有するのみならず、作用の持続性、化合物の安
定性においても優れているグリセリン誘導体について長
年にわたって探索研究を続けてきた。
本発明者等は、前記に示した目的で長年鋭意検討を重
ねてきた結果、次に示すグリセリン誘導体又はその薬理
学的に許容できる塩が目的を達成できることを見出し、
本発明を完成した。
ねてきた結果、次に示すグリセリン誘導体又はその薬理
学的に許容できる塩が目的を達成できることを見出し、
本発明を完成した。
即ち、本発明化合物は、次の一般式（Ｉ）で示される
グリセリン誘導体又はその薬理学的に許容できる塩であ
る。
グリセリン誘導体又はその薬理学的に許容できる塩であ
る。
一般式 ｛式中、Ａは （式中、ｎは０又は１〜６の整数を意味し、R1，R2，
R3は同一又は相異なる水素原子又はアルコキシ基を意味
する）で示される基、 （式中、ｍは０又は１〜６の整数を意味する）で示さ
れる基、又は （式中、ｐは０又は１〜６の整数を意味する）で示さ
れる基を意味する。
R3は同一又は相異なる水素原子又はアルコキシ基を意味
する）で示される基、 （式中、ｍは０又は１〜６の整数を意味する）で示さ
れる基、又は （式中、ｐは０又は１〜６の整数を意味する）で示さ
れる基を意味する。
Ｂは低級アルキル基又はアリールアルキル基を意味す
る。
る。
Ｄは、式−Ｙ−(CH2)q−Ｇ 〔式中、Ｙは式 （式中、R4はアシル基又は式 （式中、R5，R6は同一又は相異なる水素原子又は低級
アルキル基を意味する）で示され基を意味する）で示さ
れる基、式 （式中、ｒは１〜３の整数を意味し、R7はアシル基を
意味する）で示され基、式 で示される基、又は式 で示される基を意味する。
アルキル基を意味する）で示され基を意味する）で示さ
れる基、式 （式中、ｒは１〜３の整数を意味し、R7はアシル基を
意味する）で示され基、式 で示される基、又は式 で示される基を意味する。
ｑは０又は１〜３の整数を意味する。
Ｇは式 で示される基又は式 （式中、R8，R9は同一又は相異なる低級アルキル基を
意味する）で示される基を意味する〕で示される基を意
味する。｝ 即ち、上記の一般式（Ｉ）で表されるグリセリン誘導
体は、優れたPAF抑制作用を有し、更に作用の持続性を
有し、しかも化合物自体が安定性が高いという特徴を有
している。
意味する）で示される基を意味する〕で示される基を意
味する。｝ 即ち、上記の一般式（Ｉ）で表されるグリセリン誘導
体は、優れたPAF抑制作用を有し、更に作用の持続性を
有し、しかも化合物自体が安定性が高いという特徴を有
している。
従って本発明の目的は、優れた抗PAF作用を有する新
規なグリセリン誘導体又はその薬理学的に許容できる塩
を提供することであり、更に本発明の目的は、それらの
製造方法を提供することであり、更に本発明の目的はそ
れを含有する医薬を提供するにある。
規なグリセリン誘導体又はその薬理学的に許容できる塩
を提供することであり、更に本発明の目的は、それらの
製造方法を提供することであり、更に本発明の目的はそ
れを含有する医薬を提供するにある。
B,R5，R6，R8，R9の定義にみられる低級アルキル基と
は、炭素数１〜６の直鎖もしくは分枝状のアルキル基、
例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル、イ
ソプロピル、イソブチル、ｎ−ヘプチル、１−エチルプ
ロピル、イソアミル、ｎ−ヘキシルなどをあげることが
できる。
は、炭素数１〜６の直鎖もしくは分枝状のアルキル基、
例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル、イ
ソプロピル、イソブチル、ｎ−ヘプチル、１−エチルプ
ロピル、イソアミル、ｎ−ヘキシルなどをあげることが
できる。
R1，R2，R3の定義にみられる「アルコキシ基」とは、
メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ基などの上
記低級アルキル基から誘導された炭素数１〜６の低級ア
ルコキシ基のほか、炭素数１〜30の直鎖状若しくは分枝
状のアルキル基から誘導されたアルコキシ基を意味す
る。好ましいアルコキシ基としては、メトキシ、エトキ
シ、プロポキシ基などのほか、炭素数14〜22程度のアル
コキシ基をあげることができる。この場合最も好ましい
基はR1，R3がいずれもメトキシ基である場合である。
メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ基などの上
記低級アルキル基から誘導された炭素数１〜６の低級ア
ルコキシ基のほか、炭素数１〜30の直鎖状若しくは分枝
状のアルキル基から誘導されたアルコキシ基を意味す
る。好ましいアルコキシ基としては、メトキシ、エトキ
シ、プロポキシ基などのほか、炭素数14〜22程度のアル
コキシ基をあげることができる。この場合最も好ましい
基はR1，R3がいずれもメトキシ基である場合である。
Ａの定義においてはの場合が最も好ましい。
即ちＡが式 （n,R1，R2，R3は前記の意味を有する）で表される基の
場合である。これらのうち、最も好ましい基をあげれば
式 （式中、R2′はアルコキシ基を意味する）で表される基
であり、特にR2′が炭素数１〜30の場合、特に14〜22の
場合が最も好ましい。
場合である。これらのうち、最も好ましい基をあげれば
式 （式中、R2′はアルコキシ基を意味する）で表される基
であり、特にR2′が炭素数１〜30の場合、特に14〜22の
場合が最も好ましい。
またＢの定義においてはメチル基の場合が最も好まし
い。
い。
R4及びR7の定義におけるアシル基とは、脂肪族飽和カ
ルボン酸、脂肪族不飽和カルボン酸、炭素環式カルボン
酸又は複素環式カルボン酸のような有機酸の残基があげ
られるが、具体的には、例えばホルミル、アセチル、プ
ロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、イソ
バレリル、ピバロイルなどの低級アルカノイル基、置換
もしくは無置換のベンゾイル、トルオイル、ナフトイル
などのアロイル基、フロイル、ニコチノイル、イソニコ
チノイルなどのヘテロアロイル基、シクロヘキシルカル
ボニル基などをあげることができる。これらのうち好ま
しいものをあげれば、アセチル、プロピオニルなどの低
級アルカノイル基、置換もしくは無置換のベンゾイル基
であり、最も好ましいものとしては、例えばアセチル
基、o,m,p−メトキシベンゾイル基などをあげることが
できる。
ルボン酸、脂肪族不飽和カルボン酸、炭素環式カルボン
酸又は複素環式カルボン酸のような有機酸の残基があげ
られるが、具体的には、例えばホルミル、アセチル、プ
ロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、イソ
バレリル、ピバロイルなどの低級アルカノイル基、置換
もしくは無置換のベンゾイル、トルオイル、ナフトイル
などのアロイル基、フロイル、ニコチノイル、イソニコ
チノイルなどのヘテロアロイル基、シクロヘキシルカル
ボニル基などをあげることができる。これらのうち好ま
しいものをあげれば、アセチル、プロピオニルなどの低
級アルカノイル基、置換もしくは無置換のベンゾイル基
であり、最も好ましいものとしては、例えばアセチル
基、o,m,p−メトキシベンゾイル基などをあげることが
できる。
本発明化合物は式（Ｉ）で表されるグリセリン誘導体
又はその薬理学的に許容できる塩である。
又はその薬理学的に許容できる塩である。
これらの塩としてはいかなる塩でもよいが、例えば上
記グリセリン誘導体（Ｉ）の塩酸塩、臭化水素塩、ヨウ
化水素塩、硫酸塩、リン酸塩などの酸付加塩などのほ
か、本発明においてはＧの定義における式 で示される基又は式 （式中、R8，R9は同一又は相異なる低級アルキル基を意
味する）で示される基の窒素原子が四級化された四級塩
が最も好ましい。四級塩であればいかなる塩でもよい
が、これら四級塩の中でも、四級化された基が式 （式中、R10は水素原子又は低級アルキル基を意味
し、Ｘは薬理学的に許容できるアニオンである）で示さ
れる基、又は式 （式中、R8，R9，R11は同一又は相異なる低級アルキ
ル基を意味し、Ｘは薬理学的に許容できるアニオンを意
味する）で示される基である場合が好ましく、式 （式中、R10は水素原子又は低級アルキル基を意味し、
Ｘは薬理学的に許容できるアニオンである）で示される
基である場合が最も好ましい。
記グリセリン誘導体（Ｉ）の塩酸塩、臭化水素塩、ヨウ
化水素塩、硫酸塩、リン酸塩などの酸付加塩などのほ
か、本発明においてはＧの定義における式 で示される基又は式 （式中、R8，R9は同一又は相異なる低級アルキル基を意
味する）で示される基の窒素原子が四級化された四級塩
が最も好ましい。四級塩であればいかなる塩でもよい
が、これら四級塩の中でも、四級化された基が式 （式中、R10は水素原子又は低級アルキル基を意味
し、Ｘは薬理学的に許容できるアニオンである）で示さ
れる基、又は式 （式中、R8，R9，R11は同一又は相異なる低級アルキ
ル基を意味し、Ｘは薬理学的に許容できるアニオンを意
味する）で示される基である場合が好ましく、式 （式中、R10は水素原子又は低級アルキル基を意味し、
Ｘは薬理学的に許容できるアニオンである）で示される
基である場合が最も好ましい。
上記R10，R11の定義にみられる低級アルキル基とは、
炭素数１〜６の直鎖もしくは分枝状のアルキル基、例え
ばメチル、エチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル、イソプ
ロピル、イソブチル、ｎ−ヘプチル、１−エチルプロピ
ル、イソアミノ、ｎ−ヘキシルなどをあげることがで
き、炭素数１〜３程度が好ましく、更にはエチル基の場
合が最も好ましい。
炭素数１〜６の直鎖もしくは分枝状のアルキル基、例え
ばメチル、エチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル、イソプ
ロピル、イソブチル、ｎ−ヘプチル、１−エチルプロピ
ル、イソアミノ、ｎ−ヘキシルなどをあげることがで
き、炭素数１〜３程度が好ましく、更にはエチル基の場
合が最も好ましい。
Ｘはいかなるアニオンでもよいが、代表的なものをあ
げれば、塩素イオン、臭素イオン、ヨウ素イオン、硫酸
イオン、硝酸イオン、リン酸イオン、酢酸イオンなどの
酸のアニオン、水酸イオンなどをあげることができる。
最も好ましいアニオンは塩素イオンなどのハロゲンイオ
ンである。
げれば、塩素イオン、臭素イオン、ヨウ素イオン、硫酸
イオン、硝酸イオン、リン酸イオン、酢酸イオンなどの
酸のアニオン、水酸イオンなどをあげることができる。
最も好ましいアニオンは塩素イオンなどのハロゲンイオ
ンである。
本発明の化合物は、分子内に不斉炭素を有し、種々の
立体異性体が存在するが、本発明においては、その各々
あるいはその混合物のいずれもが本発明に包含されるこ
とは言うまでもない。
立体異性体が存在するが、本発明においては、その各々
あるいはその混合物のいずれもが本発明に包含されるこ
とは言うまでもない。
次に本発明化合物の代表的な製造方法を示す。
製造方法１ 式（Ｉ）において、Ｄが式−Ｙ−(CH2)q−Ｇ（式中Y,
q及びＧは前記の意味を有する）である場合は、例えば
次のような方法で製造することができる。
q及びＧは前記の意味を有する）である場合は、例えば
次のような方法で製造することができる。
（１）Ｙが式 で示される基である場合 （式中、A,B,q,G及びR4は前記の意味を有する） （２）Ｙが式 で示される基である場合 （式中、A,B,r,q,G及びR7は前記の意味を有する） （３）Ｙが式 で示される基、又は式 で示される基である場合 （式中、Ｕは式 で示される基、又は式 で示される基を意味し、A,B,q及びＧは前記の意味を有
する） （工程１及び工程２） 本工程は、一般式（II）又は（IV）で表される化合物
を常法によりアシル化してそれぞれ対応する一般式（II
I）又は（Ｖ）で表される化合物を得る工程である。
する） （工程１及び工程２） 本工程は、一般式（II）又は（IV）で表される化合物
を常法によりアシル化してそれぞれ対応する一般式（II
I）又は（Ｖ）で表される化合物を得る工程である。
アシル化は、例えばR4−OH（式中R4はアシル基を意味
する）又はR7−OH（式中R7はアシル基を意味する）で表
されるカルボン酸の反応性誘導体、例えば酸無水物、酸
ハロゲン化物R4−Hal又はR7−Halなどを一般式（II）又
は（IV）で表される化合物と反応させて、目的物質の一
つである一般式（III）又は（Ｖ）で表される化合物と
する。
する）又はR7−OH（式中R7はアシル基を意味する）で表
されるカルボン酸の反応性誘導体、例えば酸無水物、酸
ハロゲン化物R4−Hal又はR7−Halなどを一般式（II）又
は（IV）で表される化合物と反応させて、目的物質の一
つである一般式（III）又は（Ｖ）で表される化合物と
する。
アセチル基を導入する場合、即ちR4又はR7がアセチル
基である場合は、無水酢酸を用いることが好ましい結果
を与える。
基である場合は、無水酢酸を用いることが好ましい結果
を与える。
また、R4が式 （式中R5，R6は前記の意味を有する）で表される基であ
る場合は、例えば一般式 で表されるようなカルバミルクロリドの使用が好ましい
結果を与える。
る場合は、例えば一般式 で表されるようなカルバミルクロリドの使用が好ましい
結果を与える。
本反応は塩基の存在下に反応を行うことが好ましい。
塩基としては、例えば水素化カリウム、水素化ナトリ
ウムのような水素化アルカリ金属類、金属ナトリウムの
ようなアルカリ金属、ナトリウムメトキシドのようなナ
トリウムアルコラート、水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウムのような水酸化アルカリ、ピリジン、トリエチルア
ミンなどの有機塩基、炭酸カリウム、炭酸ナトリウムな
どの炭酸アルカリなどがあげられる。
ウムのような水素化アルカリ金属類、金属ナトリウムの
ようなアルカリ金属、ナトリウムメトキシドのようなナ
トリウムアルコラート、水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウムのような水酸化アルカリ、ピリジン、トリエチルア
ミンなどの有機塩基、炭酸カリウム、炭酸ナトリウムな
どの炭酸アルカリなどがあげられる。
本反応は、無溶媒、又は例えばテトラヒドロフラン、
ジエチルエーテルなどのエーテル類、アセトン、メチル
エチルケトンのようなケトン類、ベンゼン、トルエンな
どのベンゼン系溶媒、アセトニトリル、ジメチルホルム
アミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルリン酸ト
リアミドなどから選択された溶媒中で行われる。
ジエチルエーテルなどのエーテル類、アセトン、メチル
エチルケトンのようなケトン類、ベンゼン、トルエンな
どのベンゼン系溶媒、アセトニトリル、ジメチルホルム
アミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルリン酸ト
リアミドなどから選択された溶媒中で行われる。
反応温度は約−78℃乃至溶媒沸点まで適宜選ばれる。
（工程３） 本工程は、一般式（VI）で示される化合物を用い常法
に従い置換反応を行い、一般式（IX）で表される化合物
を得る工程である。
に従い置換反応を行い、一般式（IX）で表される化合物
を得る工程である。
置換反応は、例えばヒダントイン誘導体（VII）或い
はジケトピペラジン誘導体（VIII）を塩基処理して得ら
れるアニオン体を一般式（VI）で表される化合物と反応
させることにより、目的物質である一般式（IX）で表さ
れる化合物とする。
はジケトピペラジン誘導体（VIII）を塩基処理して得ら
れるアニオン体を一般式（VI）で表される化合物と反応
させることにより、目的物質である一般式（IX）で表さ
れる化合物とする。
塩基としては、例えば水素化カリウム、水素化ナトリ
ウムのような水素化アルカリ金属類、金属ナトリウムの
ようなアルカリ金属、ナトリウムメトキシドようなナト
リウムアルコラートなどがあげられる。
ウムのような水素化アルカリ金属類、金属ナトリウムの
ようなアルカリ金属、ナトリウムメトキシドようなナト
リウムアルコラートなどがあげられる。
本反応は、例えばテトラヒドロフラン、ジエチルエー
テルなどのエーテル類、ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルスルホキシド、ヘキサメチルリン酸トリアミドなどか
ら選択された溶媒中で行われる。
テルなどのエーテル類、ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルスルホキシド、ヘキサメチルリン酸トリアミドなどか
ら選択された溶媒中で行われる。
四級塩を製造する場合は、前記方法によって製造され
た化合物（III），（Ｖ）又は（IX）を例えば次の製造
方法によって四級塩とする。なお、化合物（III），
（Ｖ）又は（IX）がすでに四級塩となっている場合はも
ちろん必要ない。
た化合物（III），（Ｖ）又は（IX）を例えば次の製造
方法によって四級塩とする。なお、化合物（III），
（Ｖ）又は（IX）がすでに四級塩となっている場合はも
ちろん必要ない。
（ｉ）ピリジニウム塩を製造する場合は以下のとおりで
ある。
ある。
（１）Ｙが式 で示される基である場合 （一連の式中、A,B,R4,q,R10及びＸは前記の意味を有
する） （２）Ｙが式 で示される基である場合 （一連の式中、A,B,R7,r,q,R10及びＸは前記の意味を
有する） （３）Ｙが式−Ｕ−で示される基である場合 （式中、A,B,U,q,R10及びＸは前記の意味を有する） （ii）Ｇ′が式 で示される基である場合は以下のとおりである。
する） （２）Ｙが式 で示される基である場合 （一連の式中、A,B,R7,r,q,R10及びＸは前記の意味を
有する） （３）Ｙが式−Ｕ−で示される基である場合 （式中、A,B,U,q,R10及びＸは前記の意味を有する） （ii）Ｇ′が式 で示される基である場合は以下のとおりである。
（１）Ｙが式 で示される基である場合 （式中、A,B,R4,q,R8，R9，R11及びＸは前記の意味を
有する） （２）Ｙが式 で示される基である場合 （式中、A,B,R7,r,q,R8，R9，R11及びＸは前記の意味
を有する） （３）Ｙが式−Ｕ−で示される基である場合 （式中、A,B,U,q,R8，R9，R11及びＸは前記の意味を
有する） （四級塩化） 本反応は、前記工程で得られた一般式（Ｘ），（XI
I），（XIV），（XVI），（XVIII）又は（XX）で表され
る化合物を常法により四級塩化し、それぞれ本発明化合
物（XI），（XIII），（XV），（XVII），（XIX），（X
XI）を得る工程である。即ち、一般式（Ｘ），（XI
I），（XIV），（XVI），（XVIII）又は（XX）で表され
る化合物を一般式R10−Ｘ（式中R10,Xは前記の意味を有
する）で表される化合物、又はR11−Ｘ（式中R11,Xは前
記の意味を有する）で表される化合物と反応させること
により、容易に目的物質である本発明化合物（XI），
（XIII），（XV），（XVII），（XIX）又は（XXI）を得
る。ハロゲン化水素塩とする際はR10−Hal又はR11−Hal
と反応させる。
有する） （２）Ｙが式 で示される基である場合 （式中、A,B,R7,r,q,R8，R9，R11及びＸは前記の意味
を有する） （３）Ｙが式−Ｕ−で示される基である場合 （式中、A,B,U,q,R8，R9，R11及びＸは前記の意味を
有する） （四級塩化） 本反応は、前記工程で得られた一般式（Ｘ），（XI
I），（XIV），（XVI），（XVIII）又は（XX）で表され
る化合物を常法により四級塩化し、それぞれ本発明化合
物（XI），（XIII），（XV），（XVII），（XIX），（X
XI）を得る工程である。即ち、一般式（Ｘ），（XI
I），（XIV），（XVI），（XVIII）又は（XX）で表され
る化合物を一般式R10−Ｘ（式中R10,Xは前記の意味を有
する）で表される化合物、又はR11−Ｘ（式中R11,Xは前
記の意味を有する）で表される化合物と反応させること
により、容易に目的物質である本発明化合物（XI），
（XIII），（XV），（XVII），（XIX）又は（XXI）を得
る。ハロゲン化水素塩とする際はR10−Hal又はR11−Hal
と反応させる。
本反応は好ましくは窒素中遮光して行われ、無溶媒、
又は例えばジクロロメタン、クロロホルムなどの塩化炭
素系溶媒、ベンゼン、トルエンなどのベンゼン系溶媒な
どから選択された溶媒中で行われる。
又は例えばジクロロメタン、クロロホルムなどの塩化炭
素系溶媒、ベンゼン、トルエンなどのベンゼン系溶媒な
どから選択された溶媒中で行われる。
反応温度は氷冷下乃至溶媒沸点まで適宜選ばれる。
なお、本製造方法において、出発物質として用いられ
る一般式（II）で表される化合物は、例えば次のいくつ
かの方法により製造できる。
る一般式（II）で表される化合物は、例えば次のいくつ
かの方法により製造できる。
製造方法１において、出発物質として用いられる一般
式（II）で表される化合物は、例えば次のような具体的
な製造方法により得ることができる。
式（II）で表される化合物は、例えば次のような具体的
な製造方法により得ることができる。
（１）式（Ｉ）において、Ｄが式 である場合 なお、一般式（XXVI）で表される化合物は、次の方法
によっても製造することができる。
によっても製造することができる。
製造例１で用いられる出発物質（IV）は、例えば次の
ような製造方法で製造される。
ような製造方法で製造される。
製造方法１において、出発物質として用いられる一般
式（VI）で表される化合物は、例えば次の方法によって
製造できる。
式（VI）で表される化合物は、例えば次の方法によって
製造できる。
（式中、A,B,Vは前記の意味を有する） 上述した出発物質を製造する際の各工程について簡単
に説明すれば以下のとおりである。
に説明すれば以下のとおりである。
（工程Ａ） 一般式（XXII）で表される化合物とジヒドロピランを
酸存在下反応させることにより、一般式（XXIII）で表
される化合物を得ることができる。
酸存在下反応させることにより、一般式（XXIII）で表
される化合物を得ることができる。
酸としては、例えばｐ−トルエンスルホン酸、ピリジ
ニウムｐ−トルエンスルホネートなどをあげることがで
きる。
ニウムｐ−トルエンスルホネートなどをあげることがで
きる。
本反応は通常、例えばジクロロメタン、クロロホルム
などの塩化炭素系溶媒、テトラヒドロフラン、ジエチル
エーテルなどのエーテル類、ベンゼン、トルエンなどの
ベンゼン系溶媒、ヘキサンなどの溶媒中で行われる。
などの塩化炭素系溶媒、テトラヒドロフラン、ジエチル
エーテルなどのエーテル類、ベンゼン、トルエンなどの
ベンゼン系溶媒、ヘキサンなどの溶媒中で行われる。
反応温度は氷冷下乃至溶媒の沸点まで適宜選ばれる。
（工程Ｂ） 一般式（XXIII）で表される化合物とメタンスルホニ
ルクロリドを塩基存在下反応させることにより、一般式
（XXIV）で表される化合物を得ることができる。
ルクロリドを塩基存在下反応させることにより、一般式
（XXIV）で表される化合物を得ることができる。
塩基としては、例えばピリジン、トリエチルアミンな
どをあげることができる。
どをあげることができる。
本反応は通常、例えばジクロロメタン、クロロホルム
などの塩化炭素系溶媒、テトラヒドロフラン、ジエチル
エーテルなどのエーテル類、ベンゼン、トルエンなどの
ベンゼン系溶媒、ヘキサンなどの溶媒中で行われる。
などの塩化炭素系溶媒、テトラヒドロフラン、ジエチル
エーテルなどのエーテル類、ベンゼン、トルエンなどの
ベンゼン系溶媒、ヘキサンなどの溶媒中で行われる。
反応温度は氷冷下乃至溶媒の沸点まで適宜選ばれる。
（工程Ｃ） 一般式（XXIV）で表される化合物と、アルコール体或
いはフェノール体AOHを塩基処理することにより生成す
るアルコキシド或いはフェノキシドNa＋Ｏ−Ａを反応さ
せることにより、一般式（XXV）で表される化合物を得
ることができる。
いはフェノール体AOHを塩基処理することにより生成す
るアルコキシド或いはフェノキシドNa＋Ｏ−Ａを反応さ
せることにより、一般式（XXV）で表される化合物を得
ることができる。
塩基としては、例えば水素化カリウム、水素化ナトリ
ウムのような水素化アルカリ金属類、金属ナトリウムの
ようなアルカリ金属、ナトリウムメトキシドのようなナ
トリウムアルコラート、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム
などがあげられる。
ウムのような水素化アルカリ金属類、金属ナトリウムの
ようなアルカリ金属、ナトリウムメトキシドのようなナ
トリウムアルコラート、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム
などがあげられる。
本反応は、例えばテトラヒドロフラン、ジエチルエー
テルなどのエーテル類、ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルスルホキシド、ヘキサメチルリン酸トリアミドなどか
ら選択された溶媒中で行われる。
テルなどのエーテル類、ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルスルホキシド、ヘキサメチルリン酸トリアミドなどか
ら選択された溶媒中で行われる。
反応温度は氷冷下乃至溶媒の沸点まで適宜選ばれる。
（工程Ｄ） 一般式（XXV）で表される化合物を酸処理することに
より、一般式（XXVI）で表される化合物を得ることがで
きる。
より、一般式（XXVI）で表される化合物を得ることがで
きる。
酸としては、例えばｐ−トルエンスルホン酸、塩酸、
硫酸、トリフルオロ酢酸、塩酸などをあげることができ
る。
硫酸、トリフルオロ酢酸、塩酸などをあげることができ
る。
本反応は通常、例えばメタノール、エタノールなどの
アルコール系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルムなど
の塩化炭素系溶媒、テトラヒドロフラン、ジエチルエー
テルなどのエーテル類、或いは上記の溶媒と水との混合
溶媒中で行われる。
アルコール系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルムなど
の塩化炭素系溶媒、テトラヒドロフラン、ジエチルエー
テルなどのエーテル類、或いは上記の溶媒と水との混合
溶媒中で行われる。
反応温度は氷冷下乃至溶媒の沸点まで適宜選ばれる。
（工程Ｅ） 一般式（XXVI）で表される化合物をハロゲノギ酸フェ
ニルと塩基の存在下反応させることにより、一般式（XX
VII）で表される化合物を得ることができる。
ニルと塩基の存在下反応させることにより、一般式（XX
VII）で表される化合物を得ることができる。
使用できる塩基としては、例えばピリジン：トリエチ
ルアミンなどがあげられる。
ルアミンなどがあげられる。
本反応は無溶媒、又は例えばクロロホルム、ジクロロ
メタンなどの塩化炭素系溶媒、テトラヒドロフラン、ジ
エチルエーテルなどのエーテル類ベンゼン、トルエンな
どのベンゼン系溶媒、アセトニトリル、ジメチルホルム
アミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルリン酸ト
リアミドなどから選択された溶媒中で行われる。
メタンなどの塩化炭素系溶媒、テトラヒドロフラン、ジ
エチルエーテルなどのエーテル類ベンゼン、トルエンな
どのベンゼン系溶媒、アセトニトリル、ジメチルホルム
アミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルリン酸ト
リアミドなどから選択された溶媒中で行われる。
反応温度は−78℃乃至溶媒沸点まで適宜選ばれる。
（工程Ｆ） 一般式（XXVII）で表される化合物を一般式（XXVII
I）で表されるアミン体と反応させることにより、一般
式（XXIX）で表される化合物を得ることができる。
I）で表されるアミン体と反応させることにより、一般
式（XXIX）で表される化合物を得ることができる。
本反応は、無溶媒、又は例えばクロロホルム、ジクロ
ロメタンなどの塩化炭素系溶媒、テトラヒドロフラン、
ジエチルエーテルなどのエーテル類、ベンゼン、トルエ
ンなどのベンゼン系溶媒、アセトニトリル、ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルリン
酸トリアミドから選択された溶媒中で行われる。
ロメタンなどの塩化炭素系溶媒、テトラヒドロフラン、
ジエチルエーテルなどのエーテル類、ベンゼン、トルエ
ンなどのベンゼン系溶媒、アセトニトリル、ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルリン
酸トリアミドから選択された溶媒中で行われる。
反応温度は氷冷下乃至溶媒の沸点まで適宜選ばれる。
（工程Ｇ） 一般式（XXVII）で表される化合物を一般式（XXX）で
表されるアミン体と反応させることにより、一般式（XX
XI）で表される化合物を得ることができる。
表されるアミン体と反応させることにより、一般式（XX
XI）で表される化合物を得ることができる。
本反応は、無溶媒、又は例えばクロロホルム、ジクロ
ロメタンなどの塩化炭素系溶媒、テトラヒドロフラン、
ジエチルエーテルなどのエーテル類、ベンゼン、トルエ
ンなどのベンゼン系溶媒、ジメチルスルホキシド、ジメ
チルホルムアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミドから
選択された溶媒中で行われる。
ロメタンなどの塩化炭素系溶媒、テトラヒドロフラン、
ジエチルエーテルなどのエーテル類、ベンゼン、トルエ
ンなどのベンゼン系溶媒、ジメチルスルホキシド、ジメ
チルホルムアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミドから
選択された溶媒中で行われる。
反応温度は氷冷下乃至溶媒沸点まで適宜選ばれる。
（工程Ｈ） 一般式（XXII）で表される化合物を酸触媒下アルコー
ル体HO−Ａと反応させることにより、一般式（XXVI）で
表される化合物を得ることができる。
ル体HO−Ａと反応させることにより、一般式（XXVI）で
表される化合物を得ることができる。
酸としては、ｐ−トルエンスルホン酸、ピリジニウム
ｐ−トルエンスルホン酸などを使用することができる。
ｐ−トルエンスルホン酸などを使用することができる。
本反応は、クロロホルム、ジクロロメタンなどの塩化
炭素系溶媒、ベンゼン、トルエンなどのベンゼン系溶媒
などを用いることができる。
炭素系溶媒、ベンゼン、トルエンなどのベンゼン系溶媒
などを用いることができる。
反応温度は室温乃至溶媒沸点まで適宜選ばれる。
（工程Ｉ） 一般式（XXVI）で表される化合物を塩基存在下ハロゲ
ン化エステルと反応させることにより、一般式（XXXI
I）で表される化合物を得ることができる。
ン化エステルと反応させることにより、一般式（XXXI
I）で表される化合物を得ることができる。
塩基としては、例えば水素化カリウム、水素化ナトリ
ウムのような水素化アルカリ金属類、金属ナトリウムの
ようなアルカリ金属類、ナトリウムメトキシドのような
ナトリウムアルコラートなどがあげられる。
ウムのような水素化アルカリ金属類、金属ナトリウムの
ようなアルカリ金属類、ナトリウムメトキシドのような
ナトリウムアルコラートなどがあげられる。
本反応は、例えばテトラヒドロフラン、ジエチルエー
テルなどのエーテル類、ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルスルホキシド、ヘキサメチルリン酸トリアミドなどか
ら選択された溶媒中で行われる。
テルなどのエーテル類、ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルスルホキシド、ヘキサメチルリン酸トリアミドなどか
ら選択された溶媒中で行われる。
反応温度は氷冷下乃至溶媒の沸点まで適宜選ばれる。
（工程Ｊ） 一般式（XXXIII）で表される化合物とメタンスルホニ
ルクロリドを塩基存在下反応させることにより、一般式
（XXXIV）で表される化合物を得ることができる。
ルクロリドを塩基存在下反応させることにより、一般式
（XXXIV）で表される化合物を得ることができる。
塩基としては、例えばピリジン、トリエチルアミン、
炭酸カリウム、炭酸ナトリウムなどをあげることができ
る。
炭酸カリウム、炭酸ナトリウムなどをあげることができ
る。
本反応は通常、例えばジクロロメタン、クロロホルム
などの塩化炭素系溶媒、テトラヒドロフラン、ジエチル
エーテルなどのエーテル類、ベンゼン、トルエンなどの
ベンゼン系溶媒、ヘキサンなどの溶媒中で行われる。
などの塩化炭素系溶媒、テトラヒドロフラン、ジエチル
エーテルなどのエーテル類、ベンゼン、トルエンなどの
ベンゼン系溶媒、ヘキサンなどの溶媒中で行われる。
反応温度は氷冷下乃至溶媒の沸点まで適宜選ばれる。
（工程Ｋ） 一般式（XXXIV）で表される化合物に、一般式（XXVII
I）で表されるアミン体を塩基処理することにより生成
させたアニオン体を反応させることにより、一般式（XX
XV）で表される化合物を得ることができる。
I）で表されるアミン体を塩基処理することにより生成
させたアニオン体を反応させることにより、一般式（XX
XV）で表される化合物を得ることができる。
塩基としては、例えば水素化カリウム、水素化ナトリ
ウムのような水素化アルカリ金属類、金属ナトリウムの
ようなアルカリ金属、ナトリウムメトキシドのようなナ
トリウムアルコラート、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム
などがあげられる。
ウムのような水素化アルカリ金属類、金属ナトリウムの
ようなアルカリ金属、ナトリウムメトキシドのようなナ
トリウムアルコラート、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム
などがあげられる。
本反応は、例えばテトラヒドロフラン、ジエチルエー
テルなどのエーテル類、ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルスルホキシド、ヘキサメチルリン酸トリアミドなどか
ら選択された溶媒中で行われる。
テルなどのエーテル類、ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルスルホキシド、ヘキサメチルリン酸トリアミドなどか
ら選択された溶媒中で行われる。
反応温度は氷冷下乃至溶媒の沸点まで適宜選ばれる。
（工程Ｌ） 一般式（XXXIV）で表される化合物を、一般式（XXX）
で表されるアミン体を塩基処理することにより生成させ
たアニオン体を反応させることにより、一般式（XXXV
I）で表される化合物を得ることができる。
で表されるアミン体を塩基処理することにより生成させ
たアニオン体を反応させることにより、一般式（XXXV
I）で表される化合物を得ることができる。
塩基としては、例えば水素化カリウム、水素化ナトリ
ウムのような水素化アルカリ金属類、金属ナトリウムの
ようなアルカリ金属、ナトリウムメトキシドのようなナ
トリウムアルコラートなどがあげられる。
ウムのような水素化アルカリ金属類、金属ナトリウムの
ようなアルカリ金属、ナトリウムメトキシドのようなナ
トリウムアルコラートなどがあげられる。
本反応は、例えばテトラヒドロフラン、ジエチルエー
テルなどのエーテル類、ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルスルホキシド、ヘキサメチルリン酸トリアミドなどか
ら選択された溶媒中で行われる。
テルなどのエーテル類、ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルスルホキシド、ヘキサメチルリン酸トリアミドなどか
ら選択された溶媒中で行われる。
反応温度は氷冷下乃至溶媒の沸点まで適宜選ばれる。
（工程Ｍ） 一般式（XXVI）で表される化合物を塩基存在下メタン
スルホニルクロリド、ｐ−トルエンスルホニルクロリド
と反応させることにより、一般式（VI）で表される化合
物を得ることができる。
スルホニルクロリド、ｐ−トルエンスルホニルクロリド
と反応させることにより、一般式（VI）で表される化合
物を得ることができる。
塩基としては、ピリジン、トリエチルアミンなどをあ
げることができる。
げることができる。
本反応は通常、例えばジクロロメタン、クロロホルム
などの塩化炭素系溶媒、テトラヒドロフラン、ジエルエ
ーテルなどのエーテル類、ベンゼン、トルエンなどのベ
ンゼン系溶媒などの溶媒中で行われる。
などの塩化炭素系溶媒、テトラヒドロフラン、ジエルエ
ーテルなどのエーテル類、ベンゼン、トルエンなどのベ
ンゼン系溶媒などの溶媒中で行われる。
反応温度は、氷冷下乃至溶媒の沸点まで適宜選ばれ
る。
る。
次に本発明の効果を詳述するために、実験例を以下に
示す。
示す。
実験例１ ヒト血小板PAF惹起凝集に対する作用 〈方法〉 ２週間以上薬物を服用していない健常成人男子の前腕
静脈から採血し、これに3.8％クエン酸ナトリウム溶液
を1/9容添加した。遠心法により多血小板血漿（PRP）を
調製した。血小板能の測定はボーン（Born）らの光学的
方法に準じて血小板凝集メーターヘマトレーサーII
（二光バイオサイエンス社）を用いて測定した。PAF
はTyrode溶液（Ca++（＋））に溶解し、最大凝集を起こ
す最低の濃度を用いた。被験化合物は生理食塩水に溶解
した。
静脈から採血し、これに3.8％クエン酸ナトリウム溶液
を1/9容添加した。遠心法により多血小板血漿（PRP）を
調製した。血小板能の測定はボーン（Born）らの光学的
方法に準じて血小板凝集メーターヘマトレーサーII
（二光バイオサイエンス社）を用いて測定した。PAF
はTyrode溶液（Ca++（＋））に溶解し、最大凝集を起こ
す最低の濃度を用いた。被験化合物は生理食塩水に溶解
した。
被験化合物の凝集抑制活性は、対照PRPにおけるPAFに
よる最大の光透過度（最大凝集率）に対する抑制率から
求めた。その抑制曲線よりIC50を求めた。結果を表１に
示す。
よる最大の光透過度（最大凝集率）に対する抑制率から
求めた。その抑制曲線よりIC50を求めた。結果を表１に
示す。
被験化合物の欄の番号は下記に示す実施例番号の化合
物である。
物である。
〈結果〉 実験例２ ヒト血小板を用いたPAF receptor binding assay（受容
体拮抗活性） 〈方法〉 男子健常人より常法に従って血小板を得、バインディ
ングバッファー（Binding Buffer）（10mM phosphate−
bufferes saline（pH7.0）,0.1％（w/v）BSA,0.9mM CaC
l2を含む）に108ケ/460μｌとなるように懸濁する。ポ
リプロピレンチューブに被験化合物のバインディングバ
ッファー溶液20μｌを加え、血小板液460μｌをさらに
加えて、Vortex後37℃で６分間インキュベート（incuba
te）する。次いで3H−PAFのバインディングバッファー
溶液20μｌ（final 3H−PAF濃度0.6〜1nM）を加え、６
分間インキュベートし、氷冷した洗浄溶液（0.1％（W/
V）のBSAを含むSaline）3mlを加え反応を停止し、ガラ
スフィルター（Whatman GF/C）上で吸引濾過する。ガラ
スフィルターを乾燥後、液体シンチレーションカウンタ
ーにて放射能を測定する。
体拮抗活性） 〈方法〉 男子健常人より常法に従って血小板を得、バインディ
ングバッファー（Binding Buffer）（10mM phosphate−
bufferes saline（pH7.0）,0.1％（w/v）BSA,0.9mM CaC
l2を含む）に108ケ/460μｌとなるように懸濁する。ポ
リプロピレンチューブに被験化合物のバインディングバ
ッファー溶液20μｌを加え、血小板液460μｌをさらに
加えて、Vortex後37℃で６分間インキュベート（incuba
te）する。次いで3H−PAFのバインディングバッファー
溶液20μｌ（final 3H−PAF濃度0.6〜1nM）を加え、６
分間インキュベートし、氷冷した洗浄溶液（0.1％（W/
V）のBSAを含むSaline）3mlを加え反応を停止し、ガラ
スフィルター（Whatman GF/C）上で吸引濾過する。ガラ
スフィルターを乾燥後、液体シンチレーションカウンタ
ーにて放射能を測定する。
Inhibition％は下記の式に従って計算し、IC50は図よ
り内挿して求めた。
り内挿して求めた。
total binding;薬物あるいはPAF濃度０の時のdpm. non−specific binding;cold PAF 10-5Ｍ加えた時のdp
m. 結果を表２に示す。
m. 結果を表２に示す。
〈結果〉 実験例３ PAF誘発血圧降下に対する作用 〈方法〉 Pento麻酔下（50mg/kg,i.p.）のF344 ratの頸動脈及
び頸静脈にカニュレーションし、動脈から血圧を測定
し、静脈からPAFあるいは被験化合物を0.5ml/kgで投与
した。PAF 0.5μg/kgを投与３分後に被験化合物を投与
し、その拮抗作用を評価した。結果を表３に示す。
び頸静脈にカニュレーションし、動脈から血圧を測定
し、静脈からPAFあるいは被験化合物を0.5ml/kgで投与
した。PAF 0.5μg/kgを投与３分後に被験化合物を投与
し、その拮抗作用を評価した。結果を表３に示す。
表３における回復率とは、降圧に対する被験化合物に
よる昇圧の割合である。
よる昇圧の割合である。
〈結果〉 実験例４ 水溶液中安定性の測定 一連の化合物は水溶液中において中性〜アルカリ性で
不安定であり、これは主にＮ−アセチル又はＮ−ベンゾ
イルの加水分解反応によるものである。いくつかの化合
物においてpH−分解速度プロファイルを調べたところ、
いずれも同様なパターンを示したため、比較的分解しや
すいpH7.4,37℃における分解速度定数を求め、化合物間
の安定性の相対比較を行った。
不安定であり、これは主にＮ−アセチル又はＮ−ベンゾ
イルの加水分解反応によるものである。いくつかの化合
物においてpH−分解速度プロファイルを調べたところ、
いずれも同様なパターンを示したため、比較的分解しや
すいpH7.4,37℃における分解速度定数を求め、化合物間
の安定性の相対比較を行った。
〈実験方法〉 検体水溶液（1mg/ml）１容に対し、緩衝液（0.5M リ
ン酸ナトリウム、pH7.4）９容を加え、37℃に保存し
た。経時的にサンプリングを行い、逆相高速液体クロマ
トグラフィーにより、未変化体残存率を測定した。殆ど
の化合物は一次分解速度式により近似されるので、最小
二乗法により分解速度定数を求めた。結果を表４に示
す。
ン酸ナトリウム、pH7.4）９容を加え、37℃に保存し
た。経時的にサンプリングを行い、逆相高速液体クロマ
トグラフィーにより、未変化体残存率を測定した。殆ど
の化合物は一次分解速度式により近似されるので、最小
二乗法により分解速度定数を求めた。結果を表４に示
す。
〈結果〉 上記の実験例により本発明化合物は、優れたPAF抑制
作用を有することが明らかである。
作用を有することが明らかである。
更に、本発明化合物は、抗PAF作用の持続性に優れ、
かつ安定性においても優れていることが判明しており、
本発明の価値は高い。
かつ安定性においても優れていることが判明しており、
本発明の価値は高い。
従って、本発明化合物は、PAFに起因するあらゆる疾
患の治療・予防に有効である。
患の治療・予防に有効である。
代表的な疾患をあげれば、血栓症、脳卒中（脳出血、
脳血栓）、心筋梗塞、狭心症、ヒトの血管内凝固症候群
（DIC）、血栓性静脈炎、糸球体腎炎、アナフィラキシ
ーショック、出血性ショック、アレルギー疾患などの治
療・予防剤として有用である。
脳血栓）、心筋梗塞、狭心症、ヒトの血管内凝固症候群
（DIC）、血栓性静脈炎、糸球体腎炎、アナフィラキシ
ーショック、出血性ショック、アレルギー疾患などの治
療・予防剤として有用である。
本発明化合物を抗PAF剤として投与する場合、散剤、
顆粒剤、カプセル剤、シロップ剤などとして経口的に投
与してもよいし、また坐剤、注射剤、外用剤、点滴剤と
して非経口的に投与してもよいが、本発明の場合は、通
常は注射剤又は点滴剤として投与することが好ましい。
顆粒剤、カプセル剤、シロップ剤などとして経口的に投
与してもよいし、また坐剤、注射剤、外用剤、点滴剤と
して非経口的に投与してもよいが、本発明の場合は、通
常は注射剤又は点滴剤として投与することが好ましい。
投与量は、疾患の種類、症状の程度、年令などにより
著しく異なるが、点滴注射剤として投与する場合は、約
0.01〜10mg/kg/hr、好ましくは0.03〜5mg/kg/hrを投与
する。
著しく異なるが、点滴注射剤として投与する場合は、約
0.01〜10mg/kg/hr、好ましくは0.03〜5mg/kg/hrを投与
する。
また、静脈注射剤として投与する場合は、通常成人１
日あたり約0.001〜50mg/kg、好ましくは約0.001〜30mg/
kg、更に好ましくは約0.001〜5mg/kg、更に好ましくは
0.003〜3mg/kgを１日１〜数回にわけて投与する。
日あたり約0.001〜50mg/kg、好ましくは約0.001〜30mg/
kg、更に好ましくは約0.001〜5mg/kg、更に好ましくは
0.003〜3mg/kgを１日１〜数回にわけて投与する。
注射剤、点滴剤などを調製する場合は、主薬に必要に
よりpH調整剤、緩衝剤、安定化剤、可溶化剤などを添加
し、必要ならば凍結乾燥などを行って、常法により皮下
・筋肉内・静脈内用注射剤、点滴注射剤とする。
よりpH調整剤、緩衝剤、安定化剤、可溶化剤などを添加
し、必要ならば凍結乾燥などを行って、常法により皮下
・筋肉内・静脈内用注射剤、点滴注射剤とする。
次に本発明の代表的な実施例を掲げるが、本発明がそ
れらにのみ限定されることがないことは言うまでもな
い。
れらにのみ限定されることがないことは言うまでもな
い。
なお、実施例における化学構造式において、Meはメチ
ル基を意味し、Etはエチル基を意味し、Phはフェニル基
を意味し、Acはアセチル基を意味する。
ル基を意味し、Etはエチル基を意味し、Phはフェニル基
を意味し、Acはアセチル基を意味する。
実施例１ １−エチル−２−〔Ｎ−アセチル−Ｎ−〔２−メトキシ
−３−｛２−（3,4,5−トリメトキシ）フェニルエチ
ル｝オキシプロピル〕オキシカルボニル〕アミノメチル
ピリジニウムヨージド （１）（3,4,5−トリメトキシ）フェニルアセトニトリ
ルの合成 3,4,5−トリメトキシベンジルクロリド7.0g及びシア
ン化ナトリウム6.3gをN,N−ジメチルホルムアミド50ml
に溶解し、80℃で45分間攪拌した。反応液を室温にし、
水200mlを加え100mlの酢酸エチルで３回抽出した。抽出
液を飽和食塩水で洗浄後、溶媒を減圧留去し、標題化合
物を5.5g得た。
−３−｛２−（3,4,5−トリメトキシ）フェニルエチ
ル｝オキシプロピル〕オキシカルボニル〕アミノメチル
ピリジニウムヨージド （１）（3,4,5−トリメトキシ）フェニルアセトニトリ
ルの合成 3,4,5−トリメトキシベンジルクロリド7.0g及びシア
ン化ナトリウム6.3gをN,N−ジメチルホルムアミド50ml
に溶解し、80℃で45分間攪拌した。反応液を室温にし、
水200mlを加え100mlの酢酸エチルで３回抽出した。抽出
液を飽和食塩水で洗浄後、溶媒を減圧留去し、標題化合
物を5.5g得た。
（２）（3,4,5−トリメトキシ）フェニル酢酸の合成 3,4,5−トリメトキシフェニルアセトニトリル5.5gをメ
タノール−水（9:1）50mlに溶解し、水酸化ナトリウム
1.5gを加え5.5時間攪拌還流した。反応液を室温にし、
２規定塩酸により中和し、メタノールを減圧留去した。
クロロホルム100mlにより３回抽出し、溶媒を減圧留去
後、標題化合物を5.8g得た。
タノール−水（9:1）50mlに溶解し、水酸化ナトリウム
1.5gを加え5.5時間攪拌還流した。反応液を室温にし、
２規定塩酸により中和し、メタノールを減圧留去した。
クロロホルム100mlにより３回抽出し、溶媒を減圧留去
後、標題化合物を5.8g得た。
（３）２−（3,4,5−トリメトキシ）フェニルエタノー
ルの合成 水素化リチウムアルミニウム1.0gをテトラヒドロフラ
ン50mlに懸濁させ、10mlのテトラヒドロフランに溶解さ
せた（3,4,5−トリメトキシ）フェニル酢酸5.8gを氷冷
下滴下する。反応液を室温にし30分間攪拌した。反応液
を氷冷し水を滴下し、さらに濃塩酸を滴下し酸性にし、
50mlの酢酸エチルにより３回抽出した。抽出液を飽和食
塩水で洗浄し溶媒を減圧留去後、残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー（溶出溶媒；酢酸エチル：ヘキサ
ン＝1:1）により精製し、標題化合物を4.5g得た。1 H−NMR（90MHz,CDCl3）δ； 2.02（br,s,1H）,2.86（t,J＝6Hz,2H）,3.80〜4.00（m,
2H）,3.87（s,3H）,3.90（s,6H）,6.47（s,2H） （４）２−０−メチル−１−０−〔２−（3,4,5−トリ
メトキシ）フェニル〕エチルグリセリンの合成 ２−（3,4,5−トリメトキシ）フェニルエタノール2.7
gをN,N−ジメチルホルムアミド50mlに溶解し、水素化ナ
トリウム（60％）0.9gを加え、室温で30分間攪拌した。
１−０−メタンスルホニル−２−０−メチル−３−０−
テトラヒドロピラン−２−イルグリセリン3.8gを加え、
80℃で１時間攪拌した。反応液を室温にし、水を加え、
酢酸エチル50mlにより３回抽出する。抽出液を飽和食塩
水により洗浄し、溶媒を減圧留去し、残渣をメタノール
−水（9:1）50mlに溶解し、パラトルエンスルホン酸100
mgを加え室温で１時間攪拌した。メタノールを減圧留去
し水を加え、酢酸エチル50mlにより３回抽出した。有機
層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄
し、溶媒を減圧留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（溶出溶媒；酢酸エチル：ヘキサン＝2:
3）により精製し、標題化合物を2.1gを得た。1 H−NMR（90MHz,CDCl3）δ； 2.42（br,s,1H）,2.83（t,J＝7Hz,2H）,3.44（s,3H）,
3.28〜3.88（m,7H）,3.82（s,3H）,3.85（s,6H）,6.43
（s,2H） （５）２−０−メチル−３−０−（２−ピリジル）メチ
ルカルバモイル−１−０−〔２−（3,4,5−トリメトキ
シ）フェニル〕エチルグリセリンの合成 （４）で得た化合物2.1gをピリジン20mlに溶解し、室
温下攪拌しながらクロロギ酸フェニル1.2gを滴下した。
室温で15分間攪拌後、ピリジンを減圧留去し、残渣を20
0mlの酢酸エチルに溶解した。飽和食塩水により洗浄
し、溶媒を減圧留去後、残渣をクロロホルム100mlに溶
解した。２−アミノメチルピリジン2.3gを加え５時間加
熱還流し、クロロホルムを減圧留去後、残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒；酢酸エチル：
ヘキサン＝2:1）により精製し、標題化合物を1.7g得
た。1 H−NMR（90MHz,CDCl3）δ； 2.82（t,J＝8Hz,2H）,3.40〜3.80（m,5H）,3.80（s,3
H）,3.83（s,6H）,4.16〜4.32（m,2H）,4.50（d,J＝6H
z,2H）,5.68〜5.96（m,1H）,6.42（s,2H）,7.04〜7.30
（m,2H）,7.65（dt,J＝8Hz,2Hz,1H）,8.90（d,J＝8Hz,1
H） （６）３−０−〔Ｎ−アセチル−Ｎ−（２−ピリジル）
メチルカルバモイル〕−２−０−メチル−１−０−〔２
−｛（3,4,5−トリメトキシ）フェニル｝エチル〕グリ
セリンの合成 （５）で得た化合物1.7gをピリジン10mlに溶解し、無
水酢酸10mlを加え100℃で２日間攪拌した。ピリジン、
無水酢酸を減圧留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（溶出溶媒；酢酸エチル：ヘキサン＝2:
1）により精製し、標題化合物を1.1g得た。1 H−NMR（90MHz,CDCl3）δ； 2.64（s,3H）,2.76（t,J＝8Hz,3H）,3.29（s,3H）,3.30
〜3.44（m,4H）,3.55（t,J＝8Hz,2H）,3.83（s,3H）,3.
84（s,6H）,4.24（t,J＝5Hz,2H）,5.08（s,2H）,6.40
（s,2H）,7.00〜7.20（m,2H）,7.59（dt,J＝8Hz,2Hz,1
H）,8.47（dd,J＝8Hz,2Hz,1H） （７）１−エチル−２−〔Ｎ−アセチル−Ｎ−〔２−メ
トキシ−３−｛２−（3,4,5−トリメトキシ）フェニル
エチル｝オキシプロピル〕オキシカルボニル〕アミノメ
チルピリジニウムヨージドの合成 （６）で得た化合物1.1gをヨウ化エチル20mlに溶解
し、24時間加熱還流した。反応液を室温にし、不溶物を
濾別し、アセトンに溶解した。エーテルを加え再度沈澱
させ、上澄みを除くことにより、標題化合物を1.0g得
た。1 H−NMR（90MHz,CDCl3）δ； 1.72（t,J＝8Hz,3H）,2.62（s,3H）,2.80（t,J＝7Hz,2
H）,3.36（s,3H）,3.06〜3.32（m,1H）,3.44〜3.80（m,
4H）,3.79（s,3H）,3.84（s,6H）,4.28〜4.44（m,2H）,
5.02（q,J＝8Hz,2H）,5.38（s,2H）,6.42（s,2H）,7.75
（d,J＝8Hz,1H）,8.03（t,J＝8Hz,1H）,8.48（t,J＝8H
z,1H）,9.57（d,J＝8Hz,1H） 実施例２ １−エチル−２−〔Ｎ−アセチル−Ｎ−｛２−メトキシ
−３−（3,4,5−トリメトキシ）フェノキシプロピルオ
キシ｝カルボニル〕アミノメチルピリジニウムヨージド （１）３−０−（テトラヒドロ−2H−ピラン−２−イ
ル）−２−０−メチルグリセリンの合成 グリセリン−２−メチルエーテル26.7gを塩化メチレ
ン260mlに溶かし、氷冷下で攪拌しながらジヒドロピラ
ン10.6g、ｐ−トルエンスルホン酸2.7gを加えた後、室
温にして1.5時間反応させた。反応液を飽和炭酸水素ナ
トリウム水溶液に加え、塩化メチレン100mlで２回抽出
し、有機層を集め硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮
した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶
出溶媒；酢酸エチル：ヘキサン＝1:2）で精製し、標題
化合物を13.6g得た。1 H−NMR（90MHz,CDCl3）δ； 1.36〜1.96（m,6H）,2.54（bs,1H）,2.32〜3.00（m,7
H）,3.28（s,3H）,4.58（m,1H） （２）１−０−メタンスルホニル−３−０−（テトラヒ
ドロ−2H−ピラン−２−イル）−２−０−メチルグリセ
リンの合成 （１）で得た化合物0.9gをピリジン10mlに溶かし、室
温で攪拌しながらメタンスルホニルクロリド0.7mlを加
え、30分間反応させた。反応液を飽和炭酸水素ナトリウ
ム水溶液に加え、クロロホルム20mlで２回抽出した。有
機層を集め、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮
した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶
出溶媒；酢酸エチル:n−ヘキサン＝1:2）で精製し、標
題化合物を1.1g得た。1 H−NMR（90MHz,CDCl3）δ； 1.36〜2.96（m,6H）,3.02（s,3H）,3.30〜3.97（m,5
H）,3.24（s,3H）,4.20〜4.38（m,2H）,4.35（m,1H） （３）１−０−（3,4,5−トリメトキシフェニル）−３
−０−（テトラヒドロ−2H−ピラン−２−イル）−２−
０−メチルグリセリンの合成 3,4,5−トリメトキシフェノール1.0gをN,N−ジメチル
ホルムアミド20mlに溶かし、室温で攪拌しながら水素化
ナトリウム（60％）280mgを加えた。１時間後、（２）
で得た化合物のN,N−ジメチルホルムアミド溶液（1.0g/
5ml）5mlを滴下し、60℃で１時間反応させた。反応液を
室温に戻し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液に加えクロ
ロホルム20mlで２回抽出した。有機層を集め、無水硫酸
マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮し、残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー（溶出溶媒；酢酸エチル:n−
ヘキサン＝1:2）で精製し、標題化合物を1.3g得た。1 H−NMR（90MHz,CDCl3）δ； 1.40〜1.92（m,6H）,3.32〜4.24（m,7H）,3.52（s,3
H）,3.78（s,3H）,3.84（s,6H）,4.62（m,1H）,6.18
（s,2H） （４）２−０−メチル−１−０−（3,4,5−トリメトキ
シフェニル）グリセリンの合成 （３）で得た化合物1.3gをメタノール26mlに溶かし、
室温で攪拌しながらｐ−トルエンスルホン酸0.4gを加え
３時間反応させた。反応液を飽和炭酸水素ナトリウム水
溶液に加え、クロロホルム20mlで３回抽出した。有機層
を集め、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮後、
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶
媒；酢酸エチル:n−ヘキサン＝1:1）で精製し、標題化
合物を1.0g得た。1 H−NMR（90MHz,CDCl3）δ； 1.20（bs,1H）,3.54（s,3H）,3.60〜3.82（m,3H）,3.78
（s,3H）,3.84（s,6H）,3.82〜4.16（m,2H）,6.16（s,2
H） （５）２−０−メチル−３−０−〔Ｎ−（２−ピリジ
ル）メチル〕カルバモイル−１−０−（3,4,5−トリメ
トキシ）フェニルグリセリンの合成 （４）で得た化合物970mgをピリジン20mlに溶かし、
氷冷下で攪拌しながらクロロギ酸フェニル0.72mlを滴下
した。１時間後、反応液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液に加え、クロロホルム20mlで３回抽出した。有機層を
集め、減圧濃縮し、粗カーボネートを得た。得られたカ
ーボネート1.5gをクロロホルム25mlに溶かし、２−アミ
ノメチルピリジン1.5mlを加え、３時間加熱還流した。
反応液を室温に戻し減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー（溶出溶媒；酢酸エチル:n−ヘキ
サン＝2:1）で精製し、標題化合物を1.4g得た。1 H−NMR（90MHz,CDCl3）δ； 3.50（s,3H）,3.78（s,3H）,3.82（s,6H）,3.80〜3.90
（m,1H）,3.87〜4.20（m,2H）,4.33（m,2H）,4.50（d,J
＝7Hz,2H）,6.00（br,1H）,6.15（s,2H）,7.03〜7.40
（m,2H）,7.63（m,1H）,7.50（m,1H） （６）３−０−〔Ｎ−アセチル−Ｎ−（２−ピリジル）
メチル〕カルバモイル−２−０−メチル−１−０−（3,
4,5−トリメトキシ）フェニルグリセリンの合成 （５）で得た化合物1.3gを無水酢酸13ml、ピリジン13
mlに溶かし、110℃で12時間反応させた。反応液を室温
に戻し、減圧濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー（溶出溶媒；酢酸エチル:n−ヘキサン＝1:1）で精
製し、標題化合物を1.0g得た。1 H−NMR（90MHz,CDCl3）δ； 2.60（s,3H）,3.18（s,3H）,3.30〜3.82（m,3H）,3.79
（s,3H）,3.82（s,6H）,4.36（m,2H）,5.08（bs,2H）,
6.06（s,2H）,6.96〜7.14（m,2H）,7.52（m,1H）,8.40
（m,1H） （７）１−エチル−２−〔Ｎ−アセチル−Ｎ−｛２−メ
トキシ−３−（3,4,5−トリメトキシ）フェノキシプロ
ピルオキシ｝カルボニル〕アミノメチルピリジニウムヨ
ージドの合成 （６）で得た化合物0.95gをヨウ化エチル20mlに溶か
し、50℃で１日反応させた。反応液を室温に戻し、エー
テルを加え、上澄みをデカントで除いた。残渣をアセト
ンを加えて溶かし、再度エーテルを加え上澄みをデカン
トで除き、濃縮乾固して、標題化合物を300mg得た。1 H−NMR（90MHz,CDCl3）δ； 1.68（t,J＝7Hz,3H）,2.66（s,3H）,3.47（s,3H）,3.77
（s,3H）,3.66〜3.88（m,1H）,3.85（s,6H）,4.04（m,2
H）,4.74（m,2H）,5.00（q,J＝7Hz,2H）,5.47（s,2H）,
6.14（s,2H）,7.66（m,1H）,7.92（m,1H）,8.26（m,1
H）,9.34（m,1H） 実施例３ １−エチル−２−〔Ｎ−｛３−（3,5−ジメトキシ−４
−オクタデシルオキシ）ベンジルオキシ−２−メトキシ
プロピルオキシ｝カルボニル−Ｎ−（２−メトキシ）ベ
ンゾイル〕アミノメチルピリジニウムクロリド （１）3,5−ジメトキシ−４−オクタデシルオキシルベ
ンジルアルコールの合成 ｉ）１−オクタデカノール54gを塩化メチレン500ml及び
トリエチルアミン40gに溶解し、氷冷下、塩化メタンス
ルホニル45.8gを滴下し、室温で２時間攪拌した。反応
液を希塩酸、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液の順で
洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、これを濾過し
溶媒を留去して、対応するメシルエステル体を定量的に
得た。
ルの合成 水素化リチウムアルミニウム1.0gをテトラヒドロフラ
ン50mlに懸濁させ、10mlのテトラヒドロフランに溶解さ
せた（3,4,5−トリメトキシ）フェニル酢酸5.8gを氷冷
下滴下する。反応液を室温にし30分間攪拌した。反応液
を氷冷し水を滴下し、さらに濃塩酸を滴下し酸性にし、
50mlの酢酸エチルにより３回抽出した。抽出液を飽和食
塩水で洗浄し溶媒を減圧留去後、残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー（溶出溶媒；酢酸エチル：ヘキサ
ン＝1:1）により精製し、標題化合物を4.5g得た。1 H−NMR（90MHz,CDCl3）δ； 2.02（br,s,1H）,2.86（t,J＝6Hz,2H）,3.80〜4.00（m,
2H）,3.87（s,3H）,3.90（s,6H）,6.47（s,2H） （４）２−０−メチル−１−０−〔２−（3,4,5−トリ
メトキシ）フェニル〕エチルグリセリンの合成 ２−（3,4,5−トリメトキシ）フェニルエタノール2.7
gをN,N−ジメチルホルムアミド50mlに溶解し、水素化ナ
トリウム（60％）0.9gを加え、室温で30分間攪拌した。
１−０−メタンスルホニル−２−０−メチル−３−０−
テトラヒドロピラン−２−イルグリセリン3.8gを加え、
80℃で１時間攪拌した。反応液を室温にし、水を加え、
酢酸エチル50mlにより３回抽出する。抽出液を飽和食塩
水により洗浄し、溶媒を減圧留去し、残渣をメタノール
−水（9:1）50mlに溶解し、パラトルエンスルホン酸100
mgを加え室温で１時間攪拌した。メタノールを減圧留去
し水を加え、酢酸エチル50mlにより３回抽出した。有機
層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄
し、溶媒を減圧留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（溶出溶媒；酢酸エチル：ヘキサン＝2:
3）により精製し、標題化合物を2.1gを得た。1 H−NMR（90MHz,CDCl3）δ； 2.42（br,s,1H）,2.83（t,J＝7Hz,2H）,3.44（s,3H）,
3.28〜3.88（m,7H）,3.82（s,3H）,3.85（s,6H）,6.43
（s,2H） （５）２−０−メチル−３−０−（２−ピリジル）メチ
ルカルバモイル−１−０−〔２−（3,4,5−トリメトキ
シ）フェニル〕エチルグリセリンの合成 （４）で得た化合物2.1gをピリジン20mlに溶解し、室
温下攪拌しながらクロロギ酸フェニル1.2gを滴下した。
室温で15分間攪拌後、ピリジンを減圧留去し、残渣を20
0mlの酢酸エチルに溶解した。飽和食塩水により洗浄
し、溶媒を減圧留去後、残渣をクロロホルム100mlに溶
解した。２−アミノメチルピリジン2.3gを加え５時間加
熱還流し、クロロホルムを減圧留去後、残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒；酢酸エチル：
ヘキサン＝2:1）により精製し、標題化合物を1.7g得
た。1 H−NMR（90MHz,CDCl3）δ； 2.82（t,J＝8Hz,2H）,3.40〜3.80（m,5H）,3.80（s,3
H）,3.83（s,6H）,4.16〜4.32（m,2H）,4.50（d,J＝6H
z,2H）,5.68〜5.96（m,1H）,6.42（s,2H）,7.04〜7.30
（m,2H）,7.65（dt,J＝8Hz,2Hz,1H）,8.90（d,J＝8Hz,1
H） （６）３−０−〔Ｎ−アセチル−Ｎ−（２−ピリジル）
メチルカルバモイル〕−２−０−メチル−１−０−〔２
−｛（3,4,5−トリメトキシ）フェニル｝エチル〕グリ
セリンの合成 （５）で得た化合物1.7gをピリジン10mlに溶解し、無
水酢酸10mlを加え100℃で２日間攪拌した。ピリジン、
無水酢酸を減圧留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（溶出溶媒；酢酸エチル：ヘキサン＝2:
1）により精製し、標題化合物を1.1g得た。1 H−NMR（90MHz,CDCl3）δ； 2.64（s,3H）,2.76（t,J＝8Hz,3H）,3.29（s,3H）,3.30
〜3.44（m,4H）,3.55（t,J＝8Hz,2H）,3.83（s,3H）,3.
84（s,6H）,4.24（t,J＝5Hz,2H）,5.08（s,2H）,6.40
（s,2H）,7.00〜7.20（m,2H）,7.59（dt,J＝8Hz,2Hz,1
H）,8.47（dd,J＝8Hz,2Hz,1H） （７）１−エチル−２−〔Ｎ−アセチル−Ｎ−〔２−メ
トキシ−３−｛２−（3,4,5−トリメトキシ）フェニル
エチル｝オキシプロピル〕オキシカルボニル〕アミノメ
チルピリジニウムヨージドの合成 （６）で得た化合物1.1gをヨウ化エチル20mlに溶解
し、24時間加熱還流した。反応液を室温にし、不溶物を
濾別し、アセトンに溶解した。エーテルを加え再度沈澱
させ、上澄みを除くことにより、標題化合物を1.0g得
た。1 H−NMR（90MHz,CDCl3）δ； 1.72（t,J＝8Hz,3H）,2.62（s,3H）,2.80（t,J＝7Hz,2
H）,3.36（s,3H）,3.06〜3.32（m,1H）,3.44〜3.80（m,
4H）,3.79（s,3H）,3.84（s,6H）,4.28〜4.44（m,2H）,
5.02（q,J＝8Hz,2H）,5.38（s,2H）,6.42（s,2H）,7.75
（d,J＝8Hz,1H）,8.03（t,J＝8Hz,1H）,8.48（t,J＝8H
z,1H）,9.57（d,J＝8Hz,1H） 実施例２ １−エチル−２−〔Ｎ−アセチル−Ｎ−｛２−メトキシ
−３−（3,4,5−トリメトキシ）フェノキシプロピルオ
キシ｝カルボニル〕アミノメチルピリジニウムヨージド （１）３−０−（テトラヒドロ−2H−ピラン−２−イ
ル）−２−０−メチルグリセリンの合成 グリセリン−２−メチルエーテル26.7gを塩化メチレ
ン260mlに溶かし、氷冷下で攪拌しながらジヒドロピラ
ン10.6g、ｐ−トルエンスルホン酸2.7gを加えた後、室
温にして1.5時間反応させた。反応液を飽和炭酸水素ナ
トリウム水溶液に加え、塩化メチレン100mlで２回抽出
し、有機層を集め硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮
した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶
出溶媒；酢酸エチル：ヘキサン＝1:2）で精製し、標題
化合物を13.6g得た。1 H−NMR（90MHz,CDCl3）δ； 1.36〜1.96（m,6H）,2.54（bs,1H）,2.32〜3.00（m,7
H）,3.28（s,3H）,4.58（m,1H） （２）１−０−メタンスルホニル−３−０−（テトラヒ
ドロ−2H−ピラン−２−イル）−２−０−メチルグリセ
リンの合成 （１）で得た化合物0.9gをピリジン10mlに溶かし、室
温で攪拌しながらメタンスルホニルクロリド0.7mlを加
え、30分間反応させた。反応液を飽和炭酸水素ナトリウ
ム水溶液に加え、クロロホルム20mlで２回抽出した。有
機層を集め、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮
した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶
出溶媒；酢酸エチル:n−ヘキサン＝1:2）で精製し、標
題化合物を1.1g得た。1 H−NMR（90MHz,CDCl3）δ； 1.36〜2.96（m,6H）,3.02（s,3H）,3.30〜3.97（m,5
H）,3.24（s,3H）,4.20〜4.38（m,2H）,4.35（m,1H） （３）１−０−（3,4,5−トリメトキシフェニル）−３
−０−（テトラヒドロ−2H−ピラン−２−イル）−２−
０−メチルグリセリンの合成 3,4,5−トリメトキシフェノール1.0gをN,N−ジメチル
ホルムアミド20mlに溶かし、室温で攪拌しながら水素化
ナトリウム（60％）280mgを加えた。１時間後、（２）
で得た化合物のN,N−ジメチルホルムアミド溶液（1.0g/
5ml）5mlを滴下し、60℃で１時間反応させた。反応液を
室温に戻し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液に加えクロ
ロホルム20mlで２回抽出した。有機層を集め、無水硫酸
マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮し、残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー（溶出溶媒；酢酸エチル:n−
ヘキサン＝1:2）で精製し、標題化合物を1.3g得た。1 H−NMR（90MHz,CDCl3）δ； 1.40〜1.92（m,6H）,3.32〜4.24（m,7H）,3.52（s,3
H）,3.78（s,3H）,3.84（s,6H）,4.62（m,1H）,6.18
（s,2H） （４）２−０−メチル−１−０−（3,4,5−トリメトキ
シフェニル）グリセリンの合成 （３）で得た化合物1.3gをメタノール26mlに溶かし、
室温で攪拌しながらｐ−トルエンスルホン酸0.4gを加え
３時間反応させた。反応液を飽和炭酸水素ナトリウム水
溶液に加え、クロロホルム20mlで３回抽出した。有機層
を集め、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮後、
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶
媒；酢酸エチル:n−ヘキサン＝1:1）で精製し、標題化
合物を1.0g得た。1 H−NMR（90MHz,CDCl3）δ； 1.20（bs,1H）,3.54（s,3H）,3.60〜3.82（m,3H）,3.78
（s,3H）,3.84（s,6H）,3.82〜4.16（m,2H）,6.16（s,2
H） （５）２−０−メチル−３−０−〔Ｎ−（２−ピリジ
ル）メチル〕カルバモイル−１−０−（3,4,5−トリメ
トキシ）フェニルグリセリンの合成 （４）で得た化合物970mgをピリジン20mlに溶かし、
氷冷下で攪拌しながらクロロギ酸フェニル0.72mlを滴下
した。１時間後、反応液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液に加え、クロロホルム20mlで３回抽出した。有機層を
集め、減圧濃縮し、粗カーボネートを得た。得られたカ
ーボネート1.5gをクロロホルム25mlに溶かし、２−アミ
ノメチルピリジン1.5mlを加え、３時間加熱還流した。
反応液を室温に戻し減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー（溶出溶媒；酢酸エチル:n−ヘキ
サン＝2:1）で精製し、標題化合物を1.4g得た。1 H−NMR（90MHz,CDCl3）δ； 3.50（s,3H）,3.78（s,3H）,3.82（s,6H）,3.80〜3.90
（m,1H）,3.87〜4.20（m,2H）,4.33（m,2H）,4.50（d,J
＝7Hz,2H）,6.00（br,1H）,6.15（s,2H）,7.03〜7.40
（m,2H）,7.63（m,1H）,7.50（m,1H） （６）３−０−〔Ｎ−アセチル−Ｎ−（２−ピリジル）
メチル〕カルバモイル−２−０−メチル−１−０−（3,
4,5−トリメトキシ）フェニルグリセリンの合成 （５）で得た化合物1.3gを無水酢酸13ml、ピリジン13
mlに溶かし、110℃で12時間反応させた。反応液を室温
に戻し、減圧濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー（溶出溶媒；酢酸エチル:n−ヘキサン＝1:1）で精
製し、標題化合物を1.0g得た。1 H−NMR（90MHz,CDCl3）δ； 2.60（s,3H）,3.18（s,3H）,3.30〜3.82（m,3H）,3.79
（s,3H）,3.82（s,6H）,4.36（m,2H）,5.08（bs,2H）,
6.06（s,2H）,6.96〜7.14（m,2H）,7.52（m,1H）,8.40
（m,1H） （７）１−エチル−２−〔Ｎ−アセチル−Ｎ−｛２−メ
トキシ−３−（3,4,5−トリメトキシ）フェノキシプロ
ピルオキシ｝カルボニル〕アミノメチルピリジニウムヨ
ージドの合成 （６）で得た化合物0.95gをヨウ化エチル20mlに溶か
し、50℃で１日反応させた。反応液を室温に戻し、エー
テルを加え、上澄みをデカントで除いた。残渣をアセト
ンを加えて溶かし、再度エーテルを加え上澄みをデカン
トで除き、濃縮乾固して、標題化合物を300mg得た。1 H−NMR（90MHz,CDCl3）δ； 1.68（t,J＝7Hz,3H）,2.66（s,3H）,3.47（s,3H）,3.77
（s,3H）,3.66〜3.88（m,1H）,3.85（s,6H）,4.04（m,2
H）,4.74（m,2H）,5.00（q,J＝7Hz,2H）,5.47（s,2H）,
6.14（s,2H）,7.66（m,1H）,7.92（m,1H）,8.26（m,1
H）,9.34（m,1H） 実施例３ １−エチル−２−〔Ｎ−｛３−（3,5−ジメトキシ−４
−オクタデシルオキシ）ベンジルオキシ−２−メトキシ
プロピルオキシ｝カルボニル−Ｎ−（２−メトキシ）ベ
ンゾイル〕アミノメチルピリジニウムクロリド （１）3,5−ジメトキシ−４−オクタデシルオキシルベ
ンジルアルコールの合成 ｉ）１−オクタデカノール54gを塩化メチレン500ml及び
トリエチルアミン40gに溶解し、氷冷下、塩化メタンス
ルホニル45.8gを滴下し、室温で２時間攪拌した。反応
液を希塩酸、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液の順で
洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、これを濾過し
溶媒を留去して、対応するメシルエステル体を定量的に
得た。
ii）シリンガアルデヒド19gをN,N−ジメチルホルムアミ
ド150mlに溶解し、室温下で水素化ナトリウム（55％）
6.8gを加え、80℃で40分攪拌した。これを氷冷し、ヨウ
化カリウム13.5g及びｉ）で得たメシルエステル体47.27
gをN,N−ジメチルホルムアミド400mlに懸濁して加え、
再び90℃で13.5時間攪拌した。冷後、水及びクロロホル
ムを加え不溶物を濾去し、クロロホルム層を分取し、飽
和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。
これを濾過し、溶媒留去後、残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーに付し（溶出溶媒；酢酸エチル:n−ヘ
キサン＝5:95）、3,5−ジメトキシ−４−オクタデシル
オキシベンツアルデヒドを24.26g得た。
ド150mlに溶解し、室温下で水素化ナトリウム（55％）
6.8gを加え、80℃で40分攪拌した。これを氷冷し、ヨウ
化カリウム13.5g及びｉ）で得たメシルエステル体47.27
gをN,N−ジメチルホルムアミド400mlに懸濁して加え、
再び90℃で13.5時間攪拌した。冷後、水及びクロロホル
ムを加え不溶物を濾去し、クロロホルム層を分取し、飽
和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。
これを濾過し、溶媒留去後、残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーに付し（溶出溶媒；酢酸エチル:n−ヘ
キサン＝5:95）、3,5−ジメトキシ−４−オクタデシル
オキシベンツアルデヒドを24.26g得た。
iii）ii）で得たアルデヒド体24.26gをジオキサン850ml
に溶解し、水素化ホウ素ナトリウム3.15gを加え、60℃
で２時間攪拌した。水を加え、クロロホルムで抽出し、
飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し
た。これを濾過し、溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーに付し（溶出溶媒；酢酸エチ
ル:n−ヘキサン＝1:4）、標題化合物を18.35g得た。
に溶解し、水素化ホウ素ナトリウム3.15gを加え、60℃
で２時間攪拌した。水を加え、クロロホルムで抽出し、
飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し
た。これを濾過し、溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーに付し（溶出溶媒；酢酸エチ
ル:n−ヘキサン＝1:4）、標題化合物を18.35g得た。
アルデヒド体1 H−NMR（90MHz,CDCl3）δ； 0.7〜1.05（m,3H）,1.05〜1.9（m,32H）,3.91（s,6H）,
4.07（t,J＝7Hz,2H）,7.11（s,2H）,9.85（s,1H） アルコール体1 H−NMR（90MHz,CDCl3）δ； 0.75〜1.0（m,3H）,1.05〜1.9（m,33H）,3.84（s,6H）,
3.94（t,J＝7Hz,2H）,4.5〜4.7（m,2H）,6.59（s,2H） （２）２−メトキシ−３−（3,5−ジメトキシ−４−オ
クタデシルオキシ）ベンジルオキシ−１−プロパノール
の合成 3,5−ジメトキシ−４−オクタデシルオキシベンジル
アルコール18.8g、グリセロール21.5g及びｐ−トルエン
スルホン酸・一水和物1.2gをクロロホルム150mlに溶解
し、４時間加熱還流した。クロロホルムを増量し、飽和
炭酸水素ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水の順で洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。これを濾過し、
溶媒留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーに付し（溶出溶媒；酢酸エチル:n−ヘキサン＝1:
9）、標題化合物を12.34g得た。1 H−NMR（90MHz,CDCl3）δ； 0.7〜1.0（m,3H）,1.1〜1.9（m,32H）,1.9〜2.2（m,1
H）,3.44（s,3H）,3.3〜3.85（m,5H）,3.80（s,6H）,3.
90（t,J＝7Hz,2H）,4.44（s,2H）,6.48（s,2H） （３）１−０−（3,5−ジメトキシ−４−オクタデシル
オキシ）ベンジル−２−０−メチル−３−０−（２−ピ
リジル）メチルカルバモイルグリセリンの合成 （２）で得たアルコール体12.34gを塩化メチレン250m
l及びピリジン5.58gに溶解し、氷冷下でクロロギ酸フェ
ニル7.36gを滴下し、そのまま30分攪拌した。飽和炭酸
水素ナトリウム水溶液を加え、塩化メチレン層を分取
し、水層はクロロホルムで抽出し先の塩化メチレン層と
合わせ、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで
乾燥した。これを濾過し、溶媒留去後、残渣に２−アミ
ノメチルピリジン7.63gを加え、80℃で１時間攪拌し
た。反応混合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
に付し（溶出溶媒；酢酸エチル:n−ヘキサン＝3:2）、
標題化合物を9.45g得た。1 H−NMR（90MHz,CDCl3）δ； 0.7〜1.0（m,3H）,1.05〜1.9（m,32H）,3.48（s,3H）,
3.5〜3.65（m,3H）,3.85（s,6H）,3.94（t,J＝7Hz,2
H）,4.15〜4.35（m,2H）,4.35〜4.55（m,4H）,5.65〜6.
0（m,1H）,6.57（s,2H）,7.05〜7.35（m,2H）,7.66（t
d,J＝8Hz,2Hz,1H）,8.52（bd,J＝5Hz,1H） （４）３−０−（3,5−ジメトキシ−４−オクタデシル
オキシ）ベンジル−１−０−〔Ｎ−（２−メトキシ）ベ
ンゾイル−Ｎ−（２−ピリジル）メチルカルバモイル〕
２−０−メチルグリセリンの合成 （３）で得たピリジン体9.45gをピリジン200mlに溶解
し、室温下２−メトキシ安息香酸クロリド7.40gを滴下
し、50℃で１時間攪拌した。溶媒留去後、酢酸エチルを
加え、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水
の順に洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。これ
を濾過し、溶媒留去後、シリカゲルカラムクロマトグラ
フィーに付し（溶出溶媒；酢酸エチル:n−ヘキサン＝3
5:65）、標題化合物を10.52g得た。1 H−NMR（90MHz,CDCl3）δ； 0.65〜1.0（m,3H）,1.0〜1.9（m,32H）,3.17（s,3H）,
3.05〜3.6（m,3H）,3.78（s,9H）,3.89（t,J＝7Hz,2
H）,3.95〜4.2（m,2H）,4.28（s,2H）,5.17（s,2H）,6.
40（s,2H）,6.65〜7.7（m,7H）,8.43（bd,J＝5Hz,1H） （５）１−エチル−２−〔Ｎ−｛３−（3,5−ジメトキ
シ−４−オクタデシルオキシ）ベンジルオキシ−２−メ
トキシプロピルオキシ｝カルボニル−Ｎ−（２−メトキ
シ）ベンゾイル〕アミノメチルピリジニウムクロリドの
合成 （４）で得た２−メトキシベンゾイル体6.00gをヨウ
化エチル120mlに溶解し、窒素気流下61時間加熱還流し
た。溶媒留去後、残渣をIRA−410（Cl型、溶出溶媒；メ
タノール：水＝7:3）で処理し、クロロ塩とした。さら
にこれをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶
媒；メタノール：塩化メチレン＝5:95）に付し、標題化
合物を2.80g得た。1 H−NMR（90MHz,CDCl3）δ； 0.65〜1.0（m,3H）,1.0〜1.9（m,32H）,1.76（bt,J＝7H
z,3H）,3.16（s,3H）,2.9〜3.3（m,3H）,3.79（s,6H）,
3.84（s,3H）,3.90（t,J＝7Hz,2H）,4.0〜4.25（m,2
H）,4.30（s,2H）,5.15（bq,J＝7Hz,2H）,5.39（bs,2
H）,6.42（s,2H）,6.65〜7.1（m,2H）,7.2〜7.5（m,2
H）,7.8〜8.1（m,2H）,8.15〜8.25（m,1H）,10.15（bd,
J＝7Hz,1H） MSm/z（FAB,Pos.）;821（M+） 実施例４ １−エチル−２−〔Ｎ−｛３−（４−ビフェニル）メチ
ルオキシ−２−メトキシプロピルオキシ｝カルボニル−
Ｎ−（２−メトキシ）ベンゾイル〕アミノメチルピリジ
ニウム クロリド （１）３−（４−ビフェニル）メチルオキシ−２−メト
キシ−１−プロパノールの合成 グリセリン−２−メチルエーテル58.4gをN,N−ジメチ
ルホルムアミド420mlに溶解し、氷冷下で水素化ナトリ
ウム（55％）26.3gを加え、80℃で50分間攪拌した。再
度氷冷し、４−（クロロメチル）ビフェニル55.56gのN,
N−ジメチルホルムアミド溶液180mlを滴下し、そのまま
１時間攪拌し、次いで80℃で2.5時間攪拌した。反応液
を留去し、水を加え、クロロホルムで抽出し、クロロホ
ルム層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで
乾燥した。これを濾過し、溶媒留去後、シリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーに付し（溶出溶媒；酢酸エチル:n
−ヘキサン＝4:6）、標題化合物を16.8g得た。1 H−NMR（90MHz,CDCl3）δ； 1.84（bs,1H）,3.3〜3.9（m,5H）,3.45（s,3H）,4.56
（s,2H）,7.1〜7.7（m,9H） （２）１−０−（４−ビフェニル）メチル−２−０−メ
チル−３−０−（２−ピリジル）メチルカルバモイルグ
リセリンの合成 （１）で得たアルコール体16.76gを塩化メチレン300m
lに溶解し、ピリジン14.6gを加え、氷冷下クロロギ酸フ
ェニル19.3gを滴下し、そのまま30分間攪拌した。反応
液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え激しく攪拌
し、塩化メチレン層を分取し、水層からはクロロホルム
で抽出し塩化メチレン層と合わせた。これを飽和食塩水
で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、これを濾過
し、溶媒留去した。得られた残渣に２−アミノメチルピ
リジン9.98gを加え、80℃で30分攪拌した。反応液をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィーに付し（溶出溶媒；
酢酸エチル:n−ヘキサン＝4:6）、標題化合物を23.11g
得た。1 H−NMR（90MHz,CDCl3）δ； 3.3〜3.8（m,3H）,3.44（s,3H）,4.1〜4.4（m,2H）,4.4
5（d,J＝6Hz,2H）,4.56（s,2H）,5.6〜5.9（m,1H）,6.9
5〜7.7（m,12H）,8.44（d,J＝5Hz,1H） （３）１−０−（４−ビフェニル）メチル−３−０−
〔Ｎ−（２−メトキシ）ベンゾイル−Ｎ−（２−ピリジ
ル）メチルカルバモイル〕−２−０−メチルグリセリン
の合成 （２）で得たピリジン体10.2gをピリジン100mlに溶解
し、室温で２−メトキシ安息香酸クロリド6.42gを室温
で滴下し、50℃で２時間攪拌した。溶媒留去後、酢酸エ
チルを加え、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水の
順で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。これを
濾過し、溶媒留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィーに付し（溶出溶媒；酢酸エチル:n−ヘキサン
＝3:7）、標題化合物を10.93g得た。1 H−NMR（90MHz,CDCl3）δ； 3.05〜3.4（m,3H）,3.22（s,3H）,3.78（s,3H）,3.95〜
4.2（m,2H）,4.40（s,2H）,5.18（s,2H）,6.7〜7.7（m,
16H）,8.4〜8.55（m,1H） （４）１−エチル−２−〔Ｎ−｛３−（４−ビフェニ
ル）メチルオキシ−２−メトキシプロピルオキシ｝カル
ボニル−Ｎ−（２−メトキシ）ベンゾイル〕アミノメチ
ルピリジニウムクロリドの合成 （３）で得た２−メトキシベンゾイル体9.4gをヨウ化
エチル100mlに溶解し、窒素気流下57時間加熱還流し
た。反応液を留去し、残渣をIRA−410（Cl型、溶出溶
媒；メタノール：水＝7:3）で処理し、クロル体を得
た。さらにこれをシリカゲルカラムクロマトグラフィー
に付し（溶出溶媒；メタノール：塩化メチレン＝5:9
5）、標題化合物を8.32g得た。1 H−NMR（90MHz,CDCl3）δ； 1.72（t,J＝7Hz,3H）,3.1〜3.4（m,3H）,3.20（s,3H）,
3.85（s,3H）,3.95〜4.4（m,2H）,4.43（s,2H）,5.00
（q,J＝7Hz,2H）,5.34（bs,2H）,6.7〜7.15（m,2H）,7.
15〜7.75（m,11H）,7.85〜8.2（m,2H）,8.25〜8.6（m,1
H）,9.65（d,J＝6Hz,1H） MSm/z（FAB,Pos.）;569（M+） 実施例５ １−エチル−２−〔Ｎ−｛３−（４−シクロヘキシルメ
トキシ−3,5−ジメトキシ）ベンジルオキシ−２−メト
キシ｝プロピルオキシカルボニル−Ｎ−（２−メトキ
シ）ベンゾイル〕アミノメチルピリジニウム クロリド （１）４−シクロヘキシルメトキシ−3,5−ジメトキシ
ベンズアルデヒドの合成 シリンガアルデヒド171.6gのN,N−ジメチルホルムア
ミド溶液1.8lに水素化ナトリウム49gを加え60℃で30分
攪拌した後、氷冷下、シクロヘキシルブロマイド200g、
ヨウ化カリウム92gを加え80℃で１時間攪拌した。冷
後、水1.5lを注ぎ酢酸エチルで抽出し、硫酸マグネシウ
ムで乾燥した。溶媒を留去した後、残留物をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー（溶出溶媒；酢酸エチル:n−
ヘキサン＝1:9）で精製することにより、標題化合物を2
50g得た。1 H−NMR（90MHz,CDCl3）δ； 0.70〜1.04（m,11H）,3.91（s,6H）,3.76〜3.96（m,2
H）,7.11（s,2H）,9.85（s,1H） （２）４−シクロヘキシルメトキシ−3.5−ジメトキシ
ベンジルアルコールの合成 （１）で得た化合物2.3gのエタノール溶液60mlに室温
で水素化ホウ素ナトリウム0.45gを加え、60℃で１時間
攪拌した。冷後、溶媒を留去し、水を注いでクロロホル
ムで抽出した後、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留
去することより、標題化合物を2.3g得た。1 H−NMR（90MHz,CDCl3）δ； 0.72〜2.04（m,11H）,3.64〜3.88（m,2H）,3.84（s,6
H）,4.52〜4.66（m,2H）,6.57（s,2H） （３）４−シクロヘキシルメトキシ−3.5−ジメトキシ
ベンジルクロリドの合成 （２）で得た化合物10.6gのクロロホルム溶液100ml
に、氷冷下濃塩酸25mlを滴下し、室温で2.5時間攪拌し
た。クロロホルム層を取り、水洗後、飽和炭酸水素ナト
リウム水溶液で洗い、再び水洗した後、硫酸マグネシウ
ムで乾燥し、溶媒を留去することにより、標題化合物を
11.3g得た。1 H−NMR（90MHz,CDCl3）δ； 0.68〜2.04（m,11H）,3.64〜3.92（m,2H）,3.85（s,6
H）,4.53（s,2H）,6.61（s,2H） （４）３−（４−シクロヘキシルメトキシ−3.5−ジメ
トキシ）ベンジルオキシ−２−メトキシプロパノールの
合成 ２−メトキシ−1,3−プロパンジオール21gのN,N−ジ
メチルホルムアミド溶液250mlに、氷冷下水素化ナトリ
ウム5.6gを徐々に加えた後、80℃に昇温して１時間攪拌
した。これに氷冷下、（３）で得た化合物19.4gを加え
再び80℃に昇温し、１時間攪拌した。冷後、水1.5lを加
え、酢酸エチル１で抽出し、硫酸マグネシウムで乾燥
した。溶媒を留去して得た残留物をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー（溶出溶媒；酢酸エチル:n−ヘキサン
＝1:1）で精製することにより、標題化合物を10.0g得
た。1 H−NMR（90MHz,CDCl3）δ； 0.66〜2.22（m,12H）,3.08〜3.94（m,7H）,3.44（s,3
H）,3.80（s,6H）,4.43（s,2H）,6.49（s,2H） （５）１−０−（４−シクロヘキシルメトキシ−3.5−
ジメトキシ）ベンジル−２−０−メチル−３−０−（２
−ピリジル）メチルカルバモイルグリセリンの合成 （４）で得た化合物10.0g、塩化メチレン200ml,ピリ
ジン4.7gの混合物に氷冷下クロロギ酸フェニル5gを滴下
し、10分間攪拌した。飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で
洗い、水洗した後硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を
留去して得た油状物を２−（アミノメチル）ピリジン4.
3gに溶かし、温室で0.5時間攪拌した。これをシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒；酢酸エチル:n
−ヘキサン＝1:1）で精製することにより、標題化合物
を10.0g得た。1 H−NMR（90MHz,CDCl3）δ； 0.83〜1.06（m,11H）,3.36〜3.94（m,5H）,3.44（s,3
H）,3.80（s,6H）,4.22（m,2H）,4.32〜4.52（m,2H）,
4.43（s,2H）,5.60〜5.90（br,s,1H）,6.49（s,2H）,7.
02〜7.26（m,2H）,7.44〜7.70（m,1H）,8.39〜8.51（m,
1H） （６）１−０−（４−シクロヘキシルメトキシ−3.5−
ジメトキシ）ベンジル−３−０−〔Ｎ−（２−メトキ
シ）ベンゾイル−Ｎ−（２−ピリジル）メチル〕カルバ
モイル−２−０−メチルグリセリンの合成 （５）で得られた化合物10.0gのピリジン溶液200mlに
室温で２−メトキシベンゾイルクロリド5.1gを加え、50
℃で２時間攪拌した。冷後、酢酸エチル300mlを加え、
水洗２回、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で２回洗い、
硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去した後、シリ
カゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒；酢酸エチ
ル:n−ヘキサン＝1:1）で精製することにより、標題化
合物を9.0gを得た。1 H−NMR（90MHz,CDCl3）δ； 0.72〜2.03（m,11H）,3.18（s,5H）,3.58〜4.16（m,5
H）,3.78（s,9H）,4.29（s,2H）,5.19（s,2H）,6.43
（s,2H）,6.70〜7.70（m,7H）,8.38〜8.54（m,1H） （７）１−エチル−２−〔Ｎ−｛３−（４−シクロヘキ
シルメトキシ−3,5−ジメトキシ）ベンジルオキシ−２
−メトキシ｝プロピルオキシカルボニル−Ｎ−（２−メ
トキシ）ベンゾイル〕アミノメチルピリジニウム クロ
リドの合成 （６）で得た化合物9.0gのヨウ化エチル溶液100mlを
遮光、窒素ガス中80℃で2.5日間攪拌した。冷後、反応
液を濃縮乾固し、残渣をIRA−410（Cl型、（溶出溶媒；
メタノール：水＝7:3）で処理した。これをシリカゲル
カラムクロマトグラフィー（溶出溶媒；塩化メチレン：
メタノール＝9:1）で精製し凍結乾燥することにより、
標題化合物を6.9g得た。1 H−NMR（400MHz,CDCl3）δ； 0.95〜1.07（m,2H）,1.12〜1.32（m,3H）,1.62〜1.80
（m,7H）,1.90（m,2H）,3.18（s,5H）,3.73（d,J＝7Hz,
2H）,3.81（s,6H）,3.85（s,3H）,4.06（m,1H）,4.23
（m,1H）,4.33（s,2H）,5.20（m,2H）,5.42（s,2H）,6.
47（s,2H）,6.90（d,J＝8Hz,1H）,7.05（m,1H）,7.46
（m,2H）,7.97〜8.12（m,2H）,8.36（m,1H）,10.27（m,
1H） 実施例６ N,N,N−トリメチル−２−〔Ｎ−｛３−（４−シクロヘ
キシルメトキシ−3,5−ジメトキシ）ベンジルオキシ−
２−メトキシ｝プロピルオキシカルボニル−Ｎ−｛２−
（メトキシ）ベンゾイル｝アミノ〕エチルアンモニウム
ヨージド （１）１−０−（４−シクロヘキシルメトキシ−3,5−
ジメトキシ）ベンジル−３−０−〔２−ジメチルアミ
ノ）エチル〕カルバモイル−２−０−メチルグリセリン
の合成 実施例５の（４）で得た化合物8.5g、ピリジン4g、塩
化メチレン100mlの混合物に冷却下クロロギ酸フェニル
4.2gを滴下し、10分間攪拌した。これを飽和炭酸水素ナ
トリウム水溶液で洗い、水洗したのち硫酸マグネシウム
で乾燥した。溶媒を留去して得た残渣をN,N−ジメチル
エチレンジアミン8.1gに溶かし、室温で１時間攪拌し
た。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出
溶媒；酢酸エチル）で精製することにより、標題化合物
10gを得た。1 H−NMR（90MHz,CDCl3）δ； 0.84〜1.12（m,11H）,2.20（s,6H）,1.36（m,2H）,3.21
（m,2H）,3.44（s,3H）,3.46〜3.88（m,5H）,3.80（s,6
H）,4.17（m,2H）,4.44（s,2H）,5.08〜5.32（m,1H）,
6.50（s,2H） （２）１−０−（４−シクロヘキシルメトキシ−3,5−
ジメトキシ）ベンジル−３−０−〔２−ジメチルアミ
ノ）エチル−２−（メトキシ）ベンゾイル〕カルバモイ
ル−２−０−メチルグリセリン （１）で得た化合物1.5gのテトラヒドロフラン溶液30
mlに室温で水素化カリウム（35％）0.53gを加え30分間
攪拌した。これに氷冷下、２−メトキシベンゾイルクロ
リド0.80gを加え30分間攪拌した。酢酸0.56gを加え室温
で30分間攪拌したのち、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液
を加え酢酸エチルで抽出し、水洗後、硫酸マグネシウム
で乾燥した。溶媒を除いてシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー（溶出溶媒；酢酸エチル:n−ヘキサン＝4:1）
で精製することにより、標題化合物を0.24g得た。1 H−NMR（90MHz,CDCl3）δ； 0.76〜2.03（m,11H）,2.28（s,6H）,2.40〜2.66（m,2
H）,3.24（s,5H）,3.60〜4.13（m,7H）,3.73（s,3H）,
3.78（s,6H）,4.33（s,2H）,6.44（s,2H）,6.60〜7.01
（m,2H）,7.18〜7.42（m,2H） （３）N,N,N−トリメチル−２−〔Ｎ−｛３−（４−シ
クロヘキシルメトキシ−3,5−ジメトキシ）ベンジルオ
キシ−２−メトキシ｝プロピルオキシカルボニル−Ｎ−
｛２−（メトキシ）ベンゾイル｝アミノ〕エチルアンモ
ニウムヨージドの合成 （２）で得た化合物0.24g、ヨウ化メチル0.11g、ジエ
チルエーテル10mlの混合物を室温で遮光して、窒素中４
日間攪拌した。生じた沈澱をジエチルエーテルで洗い、
標題化合物を0.25g得た。1 H−NMR（90MHz,CDCl3）δ； 0.84〜2.10（m,11H）,3.23（s,5H）,3.36〜4.47（m,9
H）,3.51（s,9H）,3.77（s,3H）,3.80（s,6H）,4.35
（s,2H）,6.46（s,2H）,6.70〜7.06（m,2H）,7.26〜7.4
7（m,2H） 実施例７ １−エチル−２−〔Ｎ−（N,N−ジメチル）カルバミル
−Ｎ−｛２−メトキシ−３−（3,4,5−トリメトキシ）
ベンジルオキシプロピルオキシ｝カルボニル〕アミノメ
チルピリジニウムヨージド （１）２−０−メチル−１−０−（3,4,5−トリメトキ
シ）ベンジルグリセリンの合成 グリセリン−２−メチルエーテル10gをN,N−ジメチル
ホルムアミド100mlに溶かし、水素化ナトリウム（60
％）3.8gを加え、60℃で１時間攪拌した。反応液を室温
に戻し、3,4,5−トリメトキシベンジルクロリド8.3gを
加え１時間反応させた。反応液を水100mlに加えベンゼ
ン100mlで抽出し、有機層を集め、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー（溶出溶媒；酢酸エチル:n−ヘキサン
＝1:1）で精製し、標題化合物を7.5g得た。1 H−NMR（90MHz,CDCl3）δ； 3.28〜3.85（m,6H）,3.45（s,3H）,3.81（s,3H）,3.84
（s,6H）,4.25（s,2H）,6.50（s,2H） （２）２−０メチル−３−０〔Ｎ−（２−ピリジルメチ
ル）〕カルバモイル−１−０−（3,4,5−トリメトキ
シ）ベンジルグリセリンの合成 （１）で得た化合物6.7gをピリジン67mlに溶かし、氷
冷下で攪拌しながらクロロギ酸フェニル3.5mlを滴下
し、１時間反応させた。反応液を飽和炭酸水素ナトリウ
ム水溶液に加え、ジクロロメタン50mlで２回抽出した。
有機層を集め、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃
縮し、粗カーボネート7.5gを得た。粗カーボネートをク
ロロホルム70mlに溶かし、２−アミノメチルピリジン7m
lを加え、３時間加熱還流した。反応液を室温に戻し、
減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー（溶出溶媒；酢酸エチル:n−ヘキサン＝1:1）で精製
し、標題化合物8.8gを得た。1 H−NMR（90MHz,CDCl3）δ； 3.45（s,3H）,3.48〜3.68（m,3H）,3.80（s,3H）,3.84
（s,6H）,4.14〜4.30（m,2H）,4.45（d,J＝7.5Hz,2H）,
4.46（s,2H）,5.85（br,1H）,6.52（s,2H）,7.02〜7.28
（m,2H）,7.60（m,1H）,8.45（m,1H） （３）３−０−〔Ｎ−（N.N.−ジメチルカルバミル）−
Ｎ−（２−ピリジル）メチル〕カルバモイル−２−０−
メチル−１−０−（3,4,5−トリメトキシ）ベンジルグ
リセリンの合成 （２）で得た化合物0.56gをN,N−ジメチルホルムアミ
ド15mlに溶かし、水素化ナトリウム（60％）80mgを加え
室温で１時間攪拌後、N,N−ジメチルカルバミルクロリ
ド0.18mlを加え、１時間反応させた。反応液を飽和炭酸
水素ナトリウム水溶液に加え、塩化メチレン20mlで３回
抽出し、有機層を集め、無水硫酸マグネシウムで乾燥
後、減圧濃縮した、。残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー（溶出溶媒；酢酸エチル:n−ヘキサン＝2:
1）で精製し、標題化合物を0.58g得た。1 H−NMR（90MHz,CDCl3）δ； 2.96（s,6H）,3.38（s,3H）,3.40〜3.62（m,3H）,3.82
（s,3H）,3.85（s,6H）,4.14〜4.35（m,2H）,4.43（s,2
H）,4.62（s,2H）,6.53（s,2H）,7.04〜7.36（m,2H）,
7.62（m,1H）,8.50（m,1H） （４）１−エチル−２−〔Ｎ−（N,N−ジメチル）カル
バミル−Ｎ−｛２−メトキシ−３−（3,4,5−トリメト
キシ）ベンジルオキシプロピルオキシ｝カルボニル〕ア
ミノメチルピリジニウムヨージド （３）で得た化合物300mgをヨウ化エチル15mlに溶か
し、50℃で３日間反応させた。反応液を室温に戻し、エ
ーテルを加え、デカントで上澄みを除いた。アセトンで
沈澱を溶かし、エーテルを加えデカントで上澄みを除い
た。沈澱を乾固して、標題化合物を250mg得た。1 H−NMR（90MHz,CDCl3）δ； 1.71（t,J＝7Hz,3H）,3.04（s,6H）,3.39（s,3H）,3.40
〜3.66（m,3H）,3.83（s,3H）,3.86（s,6H）,4.24〜4.4
4（m,2H）,4.46（s,2H）,5.04（q,J＝7Hz,2H）,5.25
（s,2H）,6.56（s,2H）,7.92〜8.54（m,3H）,9.52（m,1
H） 実施例８ １−〔２−メトキシ−３−（3,4,5−トリメトキシベン
ジルオキシ〕プロピル−３−（１−エチル−２−ピリジ
ニウム）メチルヒダントインヨージド （１）３−０−メタンスルホニル−２−０−メチル−１
−０−（3,4,5−トリメトキシ）ベンジルグリセリンの
合成 実施例７の（１）で得られた化合物3.0g及びトリエチ
ルアミン2.2gをテトラヒドロフラン100mlに溶解し、氷
冷下塩化メタンスルホニル1.5gを滴下した。室温で１時
間攪拌し、氷水中に注ぎ酢酸エチル50mlにより３回抽出
した。抽出液を飽和食塩水により洗浄し、溶媒を減圧留
去後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶
出溶媒；酢酸エチル:n−ヘキサン＝1:5）により精製
し、標題化合物を2.8g得た。1 H−NMR（90MHz,CDCl3）δ； 3.04（s,3H）,3.48（s,3H）,3.60（m,2H）,3.24〜3.68
（m,1H）,3.84（s,3H）,3.88（s,6H）,4.28〜4.40（m,2
H）,4.49（s,2H）,6.58（s,2H） （２）３−（２−ピリジル）メチルヒダントインの合成 ヒダントイン5.0g、２−クロロメチルピリジン8.2g、
無水炭酸カリウム6.9gをN,N−ジメチルホルムアミド100
mlに溶解し、室温で１時間、80℃で30分間攪拌した。N,
N−ジメチルホルムアミドを減圧留去し、残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒；クロロホル
ム：メタノール＝9:1）により精製し、標題化合物を4.8
g得た。1 H−NMR（90MHz,CDCl3）δ； 4.03（s,2H）,4.81（s,2H）,6.54（brs,1H）,7.08〜7.3
6（m,2H）,7.65（t,J＝8Hz,1H）,8.54（d,J＝8Hz,1H） （３）１−〔２−メトキシ−３−（3,4,5−トリメトキ
シ）ベンジルオキシ〕プロピル−３−（２−ピリジル）
メチルヒダントインの合成 （２）で得た３−（２−ピリジル）メチルヒダントイ
ン0.9gをN,N−ジメチルホルムアミド50mlに溶解し、室
温で水素化ナトリウム（60％）0.2gを加え30分間攪拌し
た。さらに（１）で得られた化合物を加え室温で30分、
80℃で１時間攪拌した。反応液を室温にし氷水中に注ぎ
100mlの酢酸エチルにより３回抽出した。抽出液を飽和
食塩水により洗浄し、溶媒を減圧留去後、残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒；酢酸エチ
ル：ヘキサン＝4:1）により精製し、標題化合物を0.66g
得た。1 H−NMR（90MHz,CDCl3）δ； 3.42（s,3H）,3.48〜3.64（m,5H）,3.84（s,9H）,4.12
（s,2H）,4.45（s,2H）,4.80（s,2H）,6.54（s,2H）,7.
04〜7.32（m,2H）,7.62（t,J＝8Hz,1H）,8.49（d,J＝7H
z,1H） （４）１−〔２−メトキシ−３−（3,4,5−トリメトキ
シ）ベンジルオキシ〕プロピル−３−（１−エチル−２
−ピリジニウム）メチルヒダントインヨージドの合成 （３）で得られた化合物をヨウ化エチル10mlに溶解し
24時間還流した。不溶物を濾別し、アセトンに溶解させ
エーテルを加えることにより沈澱させた。上澄みを除く
ことにより、標題化合物を0.6g得た。1 H−NMR（90MHz,CDCl3）δ； 1.68（t,J＝8Hz,3H）,3.44（s,3H）,3.52〜3.68（m,5
H）,3.82（s,3H）,3.86（s,6H）,4.26（s,2H）,4.46
（s,2H）,5.00（q,J＝8Hz,2H）,5.06（s,2H）,6.56（s,
2H）,7.98〜8.21（m,2H）,8.47（t,J＝8Hz,1H）,9.39
（d,J＝8Hz,1H） 実施例９ １−エチル−２−〔Ｎ−アセチル−Ｎ−｛２−（２−メ
トキシ−３−（3,4,5−トリメトキシベンジルオキシ）
プロピルオキシ）エチル｝〕アミノメチルピリジニウム
ヨージド （１）２−メトキシ−３−（3,4,5−トリメトキシベン
ジルオキシ）プロピルオキシ酢酸メチルの合成 ２−メトキシ−３−（3,4,5−トリメトキシベンジル
オキシ）−１−プロパノール4.43gをN,N−ジメチルホル
ムアミド50mlに溶解し、室温で水素化ナトリウム（60
％）1.2gを加え60℃で１時間加熱し、氷冷下でブロモ酢
酸メチル11.83gを滴下し、そのまましばらく攪拌した。
溶媒留去後、氷水を加え、クロロホルムで抽出し、飽和
食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。こ
れを濾過し、溶媒留去後、残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィーに付し（溶出溶媒；酢酸エチル:n−ヘキ
サン＝1:3）、標題化合物を1.79g得た。1 H−NMR（90MHz,CDCl3）δ； 3.49（s,3H）,3.4〜3.8（m,5H）,3.75（s,3H）,3.85
（s,3H）,3.88（s,6H）,4.14（s,2H）,4.49（s,2H）,6.
58（s,2H） （２）２−〔２−メトキシ−３−（3,4,5−トリメトキ
シベンジルオキシ）プロピルオキシ〕エタノールの合成 水素化リチウムアルミニウム140mgをテトラヒドロフ
ラン10mlに懸濁し、そこに（１）で得たエステル体1.79
gを氷冷下滴下した。室温に戻し、発泡しなくなるまで
水素化リチウムアルミニウムを追加し、30分間攪拌し
た。再度氷冷し、水0.5ml、20％水酸化ナトリウム水溶
液1ml、水1mlの順に滴下し、不溶物を濾去し、溶媒を留
去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに
付し（溶出溶媒；酢酸エチル:n−ヘキサン＝7:3）、標
題化合物を1.01g得た。1 H−NMR（90MHz,CDCl3）δ； 2.3（bs,1H）,3.3〜3.8（m,9H）,3.44（s,3H）,3.80
（s,3H）,3.83（s,6H）,4.45（s,2H）,6.51（s,2H） （３）メタンスルホン酸２−〔２−メトキシ−３−（3,
4,5−トリメトキシベンジルオキシ）プロピルオキシ〕
エチルの合成 （２）で得たアルコール体1.0gを塩化メチレン20ml及
びトリエチルアミン920mgに溶解し、−15℃以下で塩化
メタンスルホニル870mgを滴下した。約30分攪拌後、水
を加え、クロロホルムで抽出し、クロロホルム層を1N−
塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水の順
で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。これを濾
過し、溶媒を留去して、標題化合物を1.38g得た。1 H−NMR（90MHz,CDCl3）δ； 3.02（s,3H）,3.3〜3.95（m,7H）,3.44（s,3H）,3.81
（s,3H）,3.84（s,6H）,4.15〜4.5（m,2H）,4.45（s,2
H）,6.51（s,2H） （４）Ｎ−〔２−｛２−メトキシ−３−（3,4,5−トリ
メトキシベンジルオキシ）プロピルオキシ｝エチル〕−
２−ピリジルメチルアミンの合成 アミノメチルピリジン650mgをN,N−ジメチルホルムア
ミド5mlに溶解し、室温下水素化ナトリウム（60％）290
mgを加え、60℃で20分間攪拌した後、氷冷し、（３）で
得たメシルエステル体1.38gのN,N−ジメチルホルムアミ
ド溶液（10ml）を加え、80℃で２時間攪拌した。溶媒留
去後、水を加え、クロロホルムで抽出し、クロロホルム
層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥
した。これを濾過し、溶媒留去後、残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーに付し（溶出溶媒；メタノー
ル：クロロホルム＝5:95）、標題化合物を330mg得た。1 H−NMR（90MHz,CDCl3）δ； 2.82（t,J＝5Hz,2H）,3.3〜3.8（m,5H）,3.44（s,3H）,
3.59（t,J＝5Hz,2H）,3.79（s,3H）,3.81（s,6H）,3.89
（s,2H）,4.44（s,2H）,6.51（s,2H）,6.9〜7.35（m,2
H）,7.4〜7.7（m,1H）,8.3〜8.55（m,1H） （５）Ｎ−アセチル−Ｎ−〔２−｛２−メトキシ−３−
（3,4,5−トリメトキシベンジルオキシ）プロピルオキ
シ｝エチル〕−２−ピリジルメチルアミンの合成 （４）で得たアミン体330mgをピリジン10mlに溶解
し、室温下無水酢酸400mgを滴下し、そのまま30分間攪
拌した。溶媒留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィーに付し（溶出溶媒；メタノール：クロロホル
ム＝1:99）、標題化合物を280mg得た。1 H−NMR（90MHz,CDCl3）δ； 2.06and2.18（each s,3H）,3.3〜3.75（m,9H）,3.40
（s,3H）,3.79（s,3H）,3.82（s,6H）,4.42（s,2H）,4.
67（s,2H）,6.50（s,2H）,6.9〜7.35（m,2H）,7.4〜7.7
（m,1H）,8.3〜8.6（m,1H） （６）１−エチル−２−〔Ｎ−アセチル−Ｎ−｛２−
（２−メトキシ−３−（3,4,5−トリメトキシベンジル
オキシ）プロピルオキシ）エチル｝〕アミノメチルピリ
ジニウムヨージドの合成 （５）で得たアセチル体280mgをヨウ化エチル10mlに
溶解し、窒素気流下で60℃で87時間攪拌した。油状物質
が浮遊していたのでデカントして溶媒を除き、アセトン
を加えて溶かし、エーテルを加え再沈澱させた。デカン
トして溶媒を除き再びエーテルを加えるという操作を繰
り返し、標題化合物を230mg得た。1 H−NMR（90MHz,CDCl3）δ； 1.69（t,J＝7Hz,3H）,2.24（s,3H）,3.3〜4.0（m,9H）,
3.44（s,3H）,3.80（s,3H）,3.82（s,6H）,4.43（s,2
H）,4.79（q,J＝7Hz,2H）,5.26（s,2H）,6.51（s,2H）,
7.5〜8.3（m,3H）,8.70（d,J＝5Hz,1H） MSm/z（FAB,Pos.）；なし（M+）
4.07（t,J＝7Hz,2H）,7.11（s,2H）,9.85（s,1H） アルコール体1 H−NMR（90MHz,CDCl3）δ； 0.75〜1.0（m,3H）,1.05〜1.9（m,33H）,3.84（s,6H）,
3.94（t,J＝7Hz,2H）,4.5〜4.7（m,2H）,6.59（s,2H） （２）２−メトキシ−３−（3,5−ジメトキシ−４−オ
クタデシルオキシ）ベンジルオキシ−１−プロパノール
の合成 3,5−ジメトキシ−４−オクタデシルオキシベンジル
アルコール18.8g、グリセロール21.5g及びｐ−トルエン
スルホン酸・一水和物1.2gをクロロホルム150mlに溶解
し、４時間加熱還流した。クロロホルムを増量し、飽和
炭酸水素ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水の順で洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。これを濾過し、
溶媒留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーに付し（溶出溶媒；酢酸エチル:n−ヘキサン＝1:
9）、標題化合物を12.34g得た。1 H−NMR（90MHz,CDCl3）δ； 0.7〜1.0（m,3H）,1.1〜1.9（m,32H）,1.9〜2.2（m,1
H）,3.44（s,3H）,3.3〜3.85（m,5H）,3.80（s,6H）,3.
90（t,J＝7Hz,2H）,4.44（s,2H）,6.48（s,2H） （３）１−０−（3,5−ジメトキシ−４−オクタデシル
オキシ）ベンジル−２−０−メチル−３−０−（２−ピ
リジル）メチルカルバモイルグリセリンの合成 （２）で得たアルコール体12.34gを塩化メチレン250m
l及びピリジン5.58gに溶解し、氷冷下でクロロギ酸フェ
ニル7.36gを滴下し、そのまま30分攪拌した。飽和炭酸
水素ナトリウム水溶液を加え、塩化メチレン層を分取
し、水層はクロロホルムで抽出し先の塩化メチレン層と
合わせ、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで
乾燥した。これを濾過し、溶媒留去後、残渣に２−アミ
ノメチルピリジン7.63gを加え、80℃で１時間攪拌し
た。反応混合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
に付し（溶出溶媒；酢酸エチル:n−ヘキサン＝3:2）、
標題化合物を9.45g得た。1 H−NMR（90MHz,CDCl3）δ； 0.7〜1.0（m,3H）,1.05〜1.9（m,32H）,3.48（s,3H）,
3.5〜3.65（m,3H）,3.85（s,6H）,3.94（t,J＝7Hz,2
H）,4.15〜4.35（m,2H）,4.35〜4.55（m,4H）,5.65〜6.
0（m,1H）,6.57（s,2H）,7.05〜7.35（m,2H）,7.66（t
d,J＝8Hz,2Hz,1H）,8.52（bd,J＝5Hz,1H） （４）３−０−（3,5−ジメトキシ−４−オクタデシル
オキシ）ベンジル−１−０−〔Ｎ−（２−メトキシ）ベ
ンゾイル−Ｎ−（２−ピリジル）メチルカルバモイル〕
２−０−メチルグリセリンの合成 （３）で得たピリジン体9.45gをピリジン200mlに溶解
し、室温下２−メトキシ安息香酸クロリド7.40gを滴下
し、50℃で１時間攪拌した。溶媒留去後、酢酸エチルを
加え、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水
の順に洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。これ
を濾過し、溶媒留去後、シリカゲルカラムクロマトグラ
フィーに付し（溶出溶媒；酢酸エチル:n−ヘキサン＝3
5:65）、標題化合物を10.52g得た。1 H−NMR（90MHz,CDCl3）δ； 0.65〜1.0（m,3H）,1.0〜1.9（m,32H）,3.17（s,3H）,
3.05〜3.6（m,3H）,3.78（s,9H）,3.89（t,J＝7Hz,2
H）,3.95〜4.2（m,2H）,4.28（s,2H）,5.17（s,2H）,6.
40（s,2H）,6.65〜7.7（m,7H）,8.43（bd,J＝5Hz,1H） （５）１−エチル−２−〔Ｎ−｛３−（3,5−ジメトキ
シ−４−オクタデシルオキシ）ベンジルオキシ−２−メ
トキシプロピルオキシ｝カルボニル−Ｎ−（２−メトキ
シ）ベンゾイル〕アミノメチルピリジニウムクロリドの
合成 （４）で得た２−メトキシベンゾイル体6.00gをヨウ
化エチル120mlに溶解し、窒素気流下61時間加熱還流し
た。溶媒留去後、残渣をIRA−410（Cl型、溶出溶媒；メ
タノール：水＝7:3）で処理し、クロロ塩とした。さら
にこれをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶
媒；メタノール：塩化メチレン＝5:95）に付し、標題化
合物を2.80g得た。1 H−NMR（90MHz,CDCl3）δ； 0.65〜1.0（m,3H）,1.0〜1.9（m,32H）,1.76（bt,J＝7H
z,3H）,3.16（s,3H）,2.9〜3.3（m,3H）,3.79（s,6H）,
3.84（s,3H）,3.90（t,J＝7Hz,2H）,4.0〜4.25（m,2
H）,4.30（s,2H）,5.15（bq,J＝7Hz,2H）,5.39（bs,2
H）,6.42（s,2H）,6.65〜7.1（m,2H）,7.2〜7.5（m,2
H）,7.8〜8.1（m,2H）,8.15〜8.25（m,1H）,10.15（bd,
J＝7Hz,1H） MSm/z（FAB,Pos.）;821（M+） 実施例４ １−エチル−２−〔Ｎ−｛３−（４−ビフェニル）メチ
ルオキシ−２−メトキシプロピルオキシ｝カルボニル−
Ｎ−（２−メトキシ）ベンゾイル〕アミノメチルピリジ
ニウム クロリド （１）３−（４−ビフェニル）メチルオキシ−２−メト
キシ−１−プロパノールの合成 グリセリン−２−メチルエーテル58.4gをN,N−ジメチ
ルホルムアミド420mlに溶解し、氷冷下で水素化ナトリ
ウム（55％）26.3gを加え、80℃で50分間攪拌した。再
度氷冷し、４−（クロロメチル）ビフェニル55.56gのN,
N−ジメチルホルムアミド溶液180mlを滴下し、そのまま
１時間攪拌し、次いで80℃で2.5時間攪拌した。反応液
を留去し、水を加え、クロロホルムで抽出し、クロロホ
ルム層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで
乾燥した。これを濾過し、溶媒留去後、シリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーに付し（溶出溶媒；酢酸エチル:n
−ヘキサン＝4:6）、標題化合物を16.8g得た。1 H−NMR（90MHz,CDCl3）δ； 1.84（bs,1H）,3.3〜3.9（m,5H）,3.45（s,3H）,4.56
（s,2H）,7.1〜7.7（m,9H） （２）１−０−（４−ビフェニル）メチル−２−０−メ
チル−３−０−（２−ピリジル）メチルカルバモイルグ
リセリンの合成 （１）で得たアルコール体16.76gを塩化メチレン300m
lに溶解し、ピリジン14.6gを加え、氷冷下クロロギ酸フ
ェニル19.3gを滴下し、そのまま30分間攪拌した。反応
液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え激しく攪拌
し、塩化メチレン層を分取し、水層からはクロロホルム
で抽出し塩化メチレン層と合わせた。これを飽和食塩水
で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、これを濾過
し、溶媒留去した。得られた残渣に２−アミノメチルピ
リジン9.98gを加え、80℃で30分攪拌した。反応液をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィーに付し（溶出溶媒；
酢酸エチル:n−ヘキサン＝4:6）、標題化合物を23.11g
得た。1 H−NMR（90MHz,CDCl3）δ； 3.3〜3.8（m,3H）,3.44（s,3H）,4.1〜4.4（m,2H）,4.4
5（d,J＝6Hz,2H）,4.56（s,2H）,5.6〜5.9（m,1H）,6.9
5〜7.7（m,12H）,8.44（d,J＝5Hz,1H） （３）１−０−（４−ビフェニル）メチル−３−０−
〔Ｎ−（２−メトキシ）ベンゾイル−Ｎ−（２−ピリジ
ル）メチルカルバモイル〕−２−０−メチルグリセリン
の合成 （２）で得たピリジン体10.2gをピリジン100mlに溶解
し、室温で２−メトキシ安息香酸クロリド6.42gを室温
で滴下し、50℃で２時間攪拌した。溶媒留去後、酢酸エ
チルを加え、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水の
順で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。これを
濾過し、溶媒留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィーに付し（溶出溶媒；酢酸エチル:n−ヘキサン
＝3:7）、標題化合物を10.93g得た。1 H−NMR（90MHz,CDCl3）δ； 3.05〜3.4（m,3H）,3.22（s,3H）,3.78（s,3H）,3.95〜
4.2（m,2H）,4.40（s,2H）,5.18（s,2H）,6.7〜7.7（m,
16H）,8.4〜8.55（m,1H） （４）１−エチル−２−〔Ｎ−｛３−（４−ビフェニ
ル）メチルオキシ−２−メトキシプロピルオキシ｝カル
ボニル−Ｎ−（２−メトキシ）ベンゾイル〕アミノメチ
ルピリジニウムクロリドの合成 （３）で得た２−メトキシベンゾイル体9.4gをヨウ化
エチル100mlに溶解し、窒素気流下57時間加熱還流し
た。反応液を留去し、残渣をIRA−410（Cl型、溶出溶
媒；メタノール：水＝7:3）で処理し、クロル体を得
た。さらにこれをシリカゲルカラムクロマトグラフィー
に付し（溶出溶媒；メタノール：塩化メチレン＝5:9
5）、標題化合物を8.32g得た。1 H−NMR（90MHz,CDCl3）δ； 1.72（t,J＝7Hz,3H）,3.1〜3.4（m,3H）,3.20（s,3H）,
3.85（s,3H）,3.95〜4.4（m,2H）,4.43（s,2H）,5.00
（q,J＝7Hz,2H）,5.34（bs,2H）,6.7〜7.15（m,2H）,7.
15〜7.75（m,11H）,7.85〜8.2（m,2H）,8.25〜8.6（m,1
H）,9.65（d,J＝6Hz,1H） MSm/z（FAB,Pos.）;569（M+） 実施例５ １−エチル−２−〔Ｎ−｛３−（４−シクロヘキシルメ
トキシ−3,5−ジメトキシ）ベンジルオキシ−２−メト
キシ｝プロピルオキシカルボニル−Ｎ−（２−メトキ
シ）ベンゾイル〕アミノメチルピリジニウム クロリド （１）４−シクロヘキシルメトキシ−3,5−ジメトキシ
ベンズアルデヒドの合成 シリンガアルデヒド171.6gのN,N−ジメチルホルムア
ミド溶液1.8lに水素化ナトリウム49gを加え60℃で30分
攪拌した後、氷冷下、シクロヘキシルブロマイド200g、
ヨウ化カリウム92gを加え80℃で１時間攪拌した。冷
後、水1.5lを注ぎ酢酸エチルで抽出し、硫酸マグネシウ
ムで乾燥した。溶媒を留去した後、残留物をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー（溶出溶媒；酢酸エチル:n−
ヘキサン＝1:9）で精製することにより、標題化合物を2
50g得た。1 H−NMR（90MHz,CDCl3）δ； 0.70〜1.04（m,11H）,3.91（s,6H）,3.76〜3.96（m,2
H）,7.11（s,2H）,9.85（s,1H） （２）４−シクロヘキシルメトキシ−3.5−ジメトキシ
ベンジルアルコールの合成 （１）で得た化合物2.3gのエタノール溶液60mlに室温
で水素化ホウ素ナトリウム0.45gを加え、60℃で１時間
攪拌した。冷後、溶媒を留去し、水を注いでクロロホル
ムで抽出した後、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留
去することより、標題化合物を2.3g得た。1 H−NMR（90MHz,CDCl3）δ； 0.72〜2.04（m,11H）,3.64〜3.88（m,2H）,3.84（s,6
H）,4.52〜4.66（m,2H）,6.57（s,2H） （３）４−シクロヘキシルメトキシ−3.5−ジメトキシ
ベンジルクロリドの合成 （２）で得た化合物10.6gのクロロホルム溶液100ml
に、氷冷下濃塩酸25mlを滴下し、室温で2.5時間攪拌し
た。クロロホルム層を取り、水洗後、飽和炭酸水素ナト
リウム水溶液で洗い、再び水洗した後、硫酸マグネシウ
ムで乾燥し、溶媒を留去することにより、標題化合物を
11.3g得た。1 H−NMR（90MHz,CDCl3）δ； 0.68〜2.04（m,11H）,3.64〜3.92（m,2H）,3.85（s,6
H）,4.53（s,2H）,6.61（s,2H） （４）３−（４−シクロヘキシルメトキシ−3.5−ジメ
トキシ）ベンジルオキシ−２−メトキシプロパノールの
合成 ２−メトキシ−1,3−プロパンジオール21gのN,N−ジ
メチルホルムアミド溶液250mlに、氷冷下水素化ナトリ
ウム5.6gを徐々に加えた後、80℃に昇温して１時間攪拌
した。これに氷冷下、（３）で得た化合物19.4gを加え
再び80℃に昇温し、１時間攪拌した。冷後、水1.5lを加
え、酢酸エチル１で抽出し、硫酸マグネシウムで乾燥
した。溶媒を留去して得た残留物をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー（溶出溶媒；酢酸エチル:n−ヘキサン
＝1:1）で精製することにより、標題化合物を10.0g得
た。1 H−NMR（90MHz,CDCl3）δ； 0.66〜2.22（m,12H）,3.08〜3.94（m,7H）,3.44（s,3
H）,3.80（s,6H）,4.43（s,2H）,6.49（s,2H） （５）１−０−（４−シクロヘキシルメトキシ−3.5−
ジメトキシ）ベンジル−２−０−メチル−３−０−（２
−ピリジル）メチルカルバモイルグリセリンの合成 （４）で得た化合物10.0g、塩化メチレン200ml,ピリ
ジン4.7gの混合物に氷冷下クロロギ酸フェニル5gを滴下
し、10分間攪拌した。飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で
洗い、水洗した後硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を
留去して得た油状物を２−（アミノメチル）ピリジン4.
3gに溶かし、温室で0.5時間攪拌した。これをシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒；酢酸エチル:n
−ヘキサン＝1:1）で精製することにより、標題化合物
を10.0g得た。1 H−NMR（90MHz,CDCl3）δ； 0.83〜1.06（m,11H）,3.36〜3.94（m,5H）,3.44（s,3
H）,3.80（s,6H）,4.22（m,2H）,4.32〜4.52（m,2H）,
4.43（s,2H）,5.60〜5.90（br,s,1H）,6.49（s,2H）,7.
02〜7.26（m,2H）,7.44〜7.70（m,1H）,8.39〜8.51（m,
1H） （６）１−０−（４−シクロヘキシルメトキシ−3.5−
ジメトキシ）ベンジル−３−０−〔Ｎ−（２−メトキ
シ）ベンゾイル−Ｎ−（２−ピリジル）メチル〕カルバ
モイル−２−０−メチルグリセリンの合成 （５）で得られた化合物10.0gのピリジン溶液200mlに
室温で２−メトキシベンゾイルクロリド5.1gを加え、50
℃で２時間攪拌した。冷後、酢酸エチル300mlを加え、
水洗２回、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で２回洗い、
硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去した後、シリ
カゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒；酢酸エチ
ル:n−ヘキサン＝1:1）で精製することにより、標題化
合物を9.0gを得た。1 H−NMR（90MHz,CDCl3）δ； 0.72〜2.03（m,11H）,3.18（s,5H）,3.58〜4.16（m,5
H）,3.78（s,9H）,4.29（s,2H）,5.19（s,2H）,6.43
（s,2H）,6.70〜7.70（m,7H）,8.38〜8.54（m,1H） （７）１−エチル−２−〔Ｎ−｛３−（４−シクロヘキ
シルメトキシ−3,5−ジメトキシ）ベンジルオキシ−２
−メトキシ｝プロピルオキシカルボニル−Ｎ−（２−メ
トキシ）ベンゾイル〕アミノメチルピリジニウム クロ
リドの合成 （６）で得た化合物9.0gのヨウ化エチル溶液100mlを
遮光、窒素ガス中80℃で2.5日間攪拌した。冷後、反応
液を濃縮乾固し、残渣をIRA−410（Cl型、（溶出溶媒；
メタノール：水＝7:3）で処理した。これをシリカゲル
カラムクロマトグラフィー（溶出溶媒；塩化メチレン：
メタノール＝9:1）で精製し凍結乾燥することにより、
標題化合物を6.9g得た。1 H−NMR（400MHz,CDCl3）δ； 0.95〜1.07（m,2H）,1.12〜1.32（m,3H）,1.62〜1.80
（m,7H）,1.90（m,2H）,3.18（s,5H）,3.73（d,J＝7Hz,
2H）,3.81（s,6H）,3.85（s,3H）,4.06（m,1H）,4.23
（m,1H）,4.33（s,2H）,5.20（m,2H）,5.42（s,2H）,6.
47（s,2H）,6.90（d,J＝8Hz,1H）,7.05（m,1H）,7.46
（m,2H）,7.97〜8.12（m,2H）,8.36（m,1H）,10.27（m,
1H） 実施例６ N,N,N−トリメチル−２−〔Ｎ−｛３−（４−シクロヘ
キシルメトキシ−3,5−ジメトキシ）ベンジルオキシ−
２−メトキシ｝プロピルオキシカルボニル−Ｎ−｛２−
（メトキシ）ベンゾイル｝アミノ〕エチルアンモニウム
ヨージド （１）１−０−（４−シクロヘキシルメトキシ−3,5−
ジメトキシ）ベンジル−３−０−〔２−ジメチルアミ
ノ）エチル〕カルバモイル−２−０−メチルグリセリン
の合成 実施例５の（４）で得た化合物8.5g、ピリジン4g、塩
化メチレン100mlの混合物に冷却下クロロギ酸フェニル
4.2gを滴下し、10分間攪拌した。これを飽和炭酸水素ナ
トリウム水溶液で洗い、水洗したのち硫酸マグネシウム
で乾燥した。溶媒を留去して得た残渣をN,N−ジメチル
エチレンジアミン8.1gに溶かし、室温で１時間攪拌し
た。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出
溶媒；酢酸エチル）で精製することにより、標題化合物
10gを得た。1 H−NMR（90MHz,CDCl3）δ； 0.84〜1.12（m,11H）,2.20（s,6H）,1.36（m,2H）,3.21
（m,2H）,3.44（s,3H）,3.46〜3.88（m,5H）,3.80（s,6
H）,4.17（m,2H）,4.44（s,2H）,5.08〜5.32（m,1H）,
6.50（s,2H） （２）１−０−（４−シクロヘキシルメトキシ−3,5−
ジメトキシ）ベンジル−３−０−〔２−ジメチルアミ
ノ）エチル−２−（メトキシ）ベンゾイル〕カルバモイ
ル−２−０−メチルグリセリン （１）で得た化合物1.5gのテトラヒドロフラン溶液30
mlに室温で水素化カリウム（35％）0.53gを加え30分間
攪拌した。これに氷冷下、２−メトキシベンゾイルクロ
リド0.80gを加え30分間攪拌した。酢酸0.56gを加え室温
で30分間攪拌したのち、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液
を加え酢酸エチルで抽出し、水洗後、硫酸マグネシウム
で乾燥した。溶媒を除いてシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー（溶出溶媒；酢酸エチル:n−ヘキサン＝4:1）
で精製することにより、標題化合物を0.24g得た。1 H−NMR（90MHz,CDCl3）δ； 0.76〜2.03（m,11H）,2.28（s,6H）,2.40〜2.66（m,2
H）,3.24（s,5H）,3.60〜4.13（m,7H）,3.73（s,3H）,
3.78（s,6H）,4.33（s,2H）,6.44（s,2H）,6.60〜7.01
（m,2H）,7.18〜7.42（m,2H） （３）N,N,N−トリメチル−２−〔Ｎ−｛３−（４−シ
クロヘキシルメトキシ−3,5−ジメトキシ）ベンジルオ
キシ−２−メトキシ｝プロピルオキシカルボニル−Ｎ−
｛２−（メトキシ）ベンゾイル｝アミノ〕エチルアンモ
ニウムヨージドの合成 （２）で得た化合物0.24g、ヨウ化メチル0.11g、ジエ
チルエーテル10mlの混合物を室温で遮光して、窒素中４
日間攪拌した。生じた沈澱をジエチルエーテルで洗い、
標題化合物を0.25g得た。1 H−NMR（90MHz,CDCl3）δ； 0.84〜2.10（m,11H）,3.23（s,5H）,3.36〜4.47（m,9
H）,3.51（s,9H）,3.77（s,3H）,3.80（s,6H）,4.35
（s,2H）,6.46（s,2H）,6.70〜7.06（m,2H）,7.26〜7.4
7（m,2H） 実施例７ １−エチル−２−〔Ｎ−（N,N−ジメチル）カルバミル
−Ｎ−｛２−メトキシ−３−（3,4,5−トリメトキシ）
ベンジルオキシプロピルオキシ｝カルボニル〕アミノメ
チルピリジニウムヨージド （１）２−０−メチル−１−０−（3,4,5−トリメトキ
シ）ベンジルグリセリンの合成 グリセリン−２−メチルエーテル10gをN,N−ジメチル
ホルムアミド100mlに溶かし、水素化ナトリウム（60
％）3.8gを加え、60℃で１時間攪拌した。反応液を室温
に戻し、3,4,5−トリメトキシベンジルクロリド8.3gを
加え１時間反応させた。反応液を水100mlに加えベンゼ
ン100mlで抽出し、有機層を集め、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー（溶出溶媒；酢酸エチル:n−ヘキサン
＝1:1）で精製し、標題化合物を7.5g得た。1 H−NMR（90MHz,CDCl3）δ； 3.28〜3.85（m,6H）,3.45（s,3H）,3.81（s,3H）,3.84
（s,6H）,4.25（s,2H）,6.50（s,2H） （２）２−０メチル−３−０〔Ｎ−（２−ピリジルメチ
ル）〕カルバモイル−１−０−（3,4,5−トリメトキ
シ）ベンジルグリセリンの合成 （１）で得た化合物6.7gをピリジン67mlに溶かし、氷
冷下で攪拌しながらクロロギ酸フェニル3.5mlを滴下
し、１時間反応させた。反応液を飽和炭酸水素ナトリウ
ム水溶液に加え、ジクロロメタン50mlで２回抽出した。
有機層を集め、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃
縮し、粗カーボネート7.5gを得た。粗カーボネートをク
ロロホルム70mlに溶かし、２−アミノメチルピリジン7m
lを加え、３時間加熱還流した。反応液を室温に戻し、
減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー（溶出溶媒；酢酸エチル:n−ヘキサン＝1:1）で精製
し、標題化合物8.8gを得た。1 H−NMR（90MHz,CDCl3）δ； 3.45（s,3H）,3.48〜3.68（m,3H）,3.80（s,3H）,3.84
（s,6H）,4.14〜4.30（m,2H）,4.45（d,J＝7.5Hz,2H）,
4.46（s,2H）,5.85（br,1H）,6.52（s,2H）,7.02〜7.28
（m,2H）,7.60（m,1H）,8.45（m,1H） （３）３−０−〔Ｎ−（N.N.−ジメチルカルバミル）−
Ｎ−（２−ピリジル）メチル〕カルバモイル−２−０−
メチル−１−０−（3,4,5−トリメトキシ）ベンジルグ
リセリンの合成 （２）で得た化合物0.56gをN,N−ジメチルホルムアミ
ド15mlに溶かし、水素化ナトリウム（60％）80mgを加え
室温で１時間攪拌後、N,N−ジメチルカルバミルクロリ
ド0.18mlを加え、１時間反応させた。反応液を飽和炭酸
水素ナトリウム水溶液に加え、塩化メチレン20mlで３回
抽出し、有機層を集め、無水硫酸マグネシウムで乾燥
後、減圧濃縮した、。残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー（溶出溶媒；酢酸エチル:n−ヘキサン＝2:
1）で精製し、標題化合物を0.58g得た。1 H−NMR（90MHz,CDCl3）δ； 2.96（s,6H）,3.38（s,3H）,3.40〜3.62（m,3H）,3.82
（s,3H）,3.85（s,6H）,4.14〜4.35（m,2H）,4.43（s,2
H）,4.62（s,2H）,6.53（s,2H）,7.04〜7.36（m,2H）,
7.62（m,1H）,8.50（m,1H） （４）１−エチル−２−〔Ｎ−（N,N−ジメチル）カル
バミル−Ｎ−｛２−メトキシ−３−（3,4,5−トリメト
キシ）ベンジルオキシプロピルオキシ｝カルボニル〕ア
ミノメチルピリジニウムヨージド （３）で得た化合物300mgをヨウ化エチル15mlに溶か
し、50℃で３日間反応させた。反応液を室温に戻し、エ
ーテルを加え、デカントで上澄みを除いた。アセトンで
沈澱を溶かし、エーテルを加えデカントで上澄みを除い
た。沈澱を乾固して、標題化合物を250mg得た。1 H−NMR（90MHz,CDCl3）δ； 1.71（t,J＝7Hz,3H）,3.04（s,6H）,3.39（s,3H）,3.40
〜3.66（m,3H）,3.83（s,3H）,3.86（s,6H）,4.24〜4.4
4（m,2H）,4.46（s,2H）,5.04（q,J＝7Hz,2H）,5.25
（s,2H）,6.56（s,2H）,7.92〜8.54（m,3H）,9.52（m,1
H） 実施例８ １−〔２−メトキシ−３−（3,4,5−トリメトキシベン
ジルオキシ〕プロピル−３−（１−エチル−２−ピリジ
ニウム）メチルヒダントインヨージド （１）３−０−メタンスルホニル−２−０−メチル−１
−０−（3,4,5−トリメトキシ）ベンジルグリセリンの
合成 実施例７の（１）で得られた化合物3.0g及びトリエチ
ルアミン2.2gをテトラヒドロフラン100mlに溶解し、氷
冷下塩化メタンスルホニル1.5gを滴下した。室温で１時
間攪拌し、氷水中に注ぎ酢酸エチル50mlにより３回抽出
した。抽出液を飽和食塩水により洗浄し、溶媒を減圧留
去後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶
出溶媒；酢酸エチル:n−ヘキサン＝1:5）により精製
し、標題化合物を2.8g得た。1 H−NMR（90MHz,CDCl3）δ； 3.04（s,3H）,3.48（s,3H）,3.60（m,2H）,3.24〜3.68
（m,1H）,3.84（s,3H）,3.88（s,6H）,4.28〜4.40（m,2
H）,4.49（s,2H）,6.58（s,2H） （２）３−（２−ピリジル）メチルヒダントインの合成 ヒダントイン5.0g、２−クロロメチルピリジン8.2g、
無水炭酸カリウム6.9gをN,N−ジメチルホルムアミド100
mlに溶解し、室温で１時間、80℃で30分間攪拌した。N,
N−ジメチルホルムアミドを減圧留去し、残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒；クロロホル
ム：メタノール＝9:1）により精製し、標題化合物を4.8
g得た。1 H−NMR（90MHz,CDCl3）δ； 4.03（s,2H）,4.81（s,2H）,6.54（brs,1H）,7.08〜7.3
6（m,2H）,7.65（t,J＝8Hz,1H）,8.54（d,J＝8Hz,1H） （３）１−〔２−メトキシ−３−（3,4,5−トリメトキ
シ）ベンジルオキシ〕プロピル−３−（２−ピリジル）
メチルヒダントインの合成 （２）で得た３−（２−ピリジル）メチルヒダントイ
ン0.9gをN,N−ジメチルホルムアミド50mlに溶解し、室
温で水素化ナトリウム（60％）0.2gを加え30分間攪拌し
た。さらに（１）で得られた化合物を加え室温で30分、
80℃で１時間攪拌した。反応液を室温にし氷水中に注ぎ
100mlの酢酸エチルにより３回抽出した。抽出液を飽和
食塩水により洗浄し、溶媒を減圧留去後、残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒；酢酸エチ
ル：ヘキサン＝4:1）により精製し、標題化合物を0.66g
得た。1 H−NMR（90MHz,CDCl3）δ； 3.42（s,3H）,3.48〜3.64（m,5H）,3.84（s,9H）,4.12
（s,2H）,4.45（s,2H）,4.80（s,2H）,6.54（s,2H）,7.
04〜7.32（m,2H）,7.62（t,J＝8Hz,1H）,8.49（d,J＝7H
z,1H） （４）１−〔２−メトキシ−３−（3,4,5−トリメトキ
シ）ベンジルオキシ〕プロピル−３−（１−エチル−２
−ピリジニウム）メチルヒダントインヨージドの合成 （３）で得られた化合物をヨウ化エチル10mlに溶解し
24時間還流した。不溶物を濾別し、アセトンに溶解させ
エーテルを加えることにより沈澱させた。上澄みを除く
ことにより、標題化合物を0.6g得た。1 H−NMR（90MHz,CDCl3）δ； 1.68（t,J＝8Hz,3H）,3.44（s,3H）,3.52〜3.68（m,5
H）,3.82（s,3H）,3.86（s,6H）,4.26（s,2H）,4.46
（s,2H）,5.00（q,J＝8Hz,2H）,5.06（s,2H）,6.56（s,
2H）,7.98〜8.21（m,2H）,8.47（t,J＝8Hz,1H）,9.39
（d,J＝8Hz,1H） 実施例９ １−エチル−２−〔Ｎ−アセチル−Ｎ−｛２−（２−メ
トキシ−３−（3,4,5−トリメトキシベンジルオキシ）
プロピルオキシ）エチル｝〕アミノメチルピリジニウム
ヨージド （１）２−メトキシ−３−（3,4,5−トリメトキシベン
ジルオキシ）プロピルオキシ酢酸メチルの合成 ２−メトキシ−３−（3,4,5−トリメトキシベンジル
オキシ）−１−プロパノール4.43gをN,N−ジメチルホル
ムアミド50mlに溶解し、室温で水素化ナトリウム（60
％）1.2gを加え60℃で１時間加熱し、氷冷下でブロモ酢
酸メチル11.83gを滴下し、そのまましばらく攪拌した。
溶媒留去後、氷水を加え、クロロホルムで抽出し、飽和
食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。こ
れを濾過し、溶媒留去後、残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィーに付し（溶出溶媒；酢酸エチル:n−ヘキ
サン＝1:3）、標題化合物を1.79g得た。1 H−NMR（90MHz,CDCl3）δ； 3.49（s,3H）,3.4〜3.8（m,5H）,3.75（s,3H）,3.85
（s,3H）,3.88（s,6H）,4.14（s,2H）,4.49（s,2H）,6.
58（s,2H） （２）２−〔２−メトキシ−３−（3,4,5−トリメトキ
シベンジルオキシ）プロピルオキシ〕エタノールの合成 水素化リチウムアルミニウム140mgをテトラヒドロフ
ラン10mlに懸濁し、そこに（１）で得たエステル体1.79
gを氷冷下滴下した。室温に戻し、発泡しなくなるまで
水素化リチウムアルミニウムを追加し、30分間攪拌し
た。再度氷冷し、水0.5ml、20％水酸化ナトリウム水溶
液1ml、水1mlの順に滴下し、不溶物を濾去し、溶媒を留
去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに
付し（溶出溶媒；酢酸エチル:n−ヘキサン＝7:3）、標
題化合物を1.01g得た。1 H−NMR（90MHz,CDCl3）δ； 2.3（bs,1H）,3.3〜3.8（m,9H）,3.44（s,3H）,3.80
（s,3H）,3.83（s,6H）,4.45（s,2H）,6.51（s,2H） （３）メタンスルホン酸２−〔２−メトキシ−３−（3,
4,5−トリメトキシベンジルオキシ）プロピルオキシ〕
エチルの合成 （２）で得たアルコール体1.0gを塩化メチレン20ml及
びトリエチルアミン920mgに溶解し、−15℃以下で塩化
メタンスルホニル870mgを滴下した。約30分攪拌後、水
を加え、クロロホルムで抽出し、クロロホルム層を1N−
塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水の順
で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。これを濾
過し、溶媒を留去して、標題化合物を1.38g得た。1 H−NMR（90MHz,CDCl3）δ； 3.02（s,3H）,3.3〜3.95（m,7H）,3.44（s,3H）,3.81
（s,3H）,3.84（s,6H）,4.15〜4.5（m,2H）,4.45（s,2
H）,6.51（s,2H） （４）Ｎ−〔２−｛２−メトキシ−３−（3,4,5−トリ
メトキシベンジルオキシ）プロピルオキシ｝エチル〕−
２−ピリジルメチルアミンの合成 アミノメチルピリジン650mgをN,N−ジメチルホルムア
ミド5mlに溶解し、室温下水素化ナトリウム（60％）290
mgを加え、60℃で20分間攪拌した後、氷冷し、（３）で
得たメシルエステル体1.38gのN,N−ジメチルホルムアミ
ド溶液（10ml）を加え、80℃で２時間攪拌した。溶媒留
去後、水を加え、クロロホルムで抽出し、クロロホルム
層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥
した。これを濾過し、溶媒留去後、残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーに付し（溶出溶媒；メタノー
ル：クロロホルム＝5:95）、標題化合物を330mg得た。1 H−NMR（90MHz,CDCl3）δ； 2.82（t,J＝5Hz,2H）,3.3〜3.8（m,5H）,3.44（s,3H）,
3.59（t,J＝5Hz,2H）,3.79（s,3H）,3.81（s,6H）,3.89
（s,2H）,4.44（s,2H）,6.51（s,2H）,6.9〜7.35（m,2
H）,7.4〜7.7（m,1H）,8.3〜8.55（m,1H） （５）Ｎ−アセチル−Ｎ−〔２−｛２−メトキシ−３−
（3,4,5−トリメトキシベンジルオキシ）プロピルオキ
シ｝エチル〕−２−ピリジルメチルアミンの合成 （４）で得たアミン体330mgをピリジン10mlに溶解
し、室温下無水酢酸400mgを滴下し、そのまま30分間攪
拌した。溶媒留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィーに付し（溶出溶媒；メタノール：クロロホル
ム＝1:99）、標題化合物を280mg得た。1 H−NMR（90MHz,CDCl3）δ； 2.06and2.18（each s,3H）,3.3〜3.75（m,9H）,3.40
（s,3H）,3.79（s,3H）,3.82（s,6H）,4.42（s,2H）,4.
67（s,2H）,6.50（s,2H）,6.9〜7.35（m,2H）,7.4〜7.7
（m,1H）,8.3〜8.6（m,1H） （６）１−エチル−２−〔Ｎ−アセチル−Ｎ−｛２−
（２−メトキシ−３−（3,4,5−トリメトキシベンジル
オキシ）プロピルオキシ）エチル｝〕アミノメチルピリ
ジニウムヨージドの合成 （５）で得たアセチル体280mgをヨウ化エチル10mlに
溶解し、窒素気流下で60℃で87時間攪拌した。油状物質
が浮遊していたのでデカントして溶媒を除き、アセトン
を加えて溶かし、エーテルを加え再沈澱させた。デカン
トして溶媒を除き再びエーテルを加えるという操作を繰
り返し、標題化合物を230mg得た。1 H−NMR（90MHz,CDCl3）δ； 1.69（t,J＝7Hz,3H）,2.24（s,3H）,3.3〜4.0（m,9H）,
3.44（s,3H）,3.80（s,3H）,3.82（s,6H）,4.43（s,2
H）,4.79（q,J＝7Hz,2H）,5.26（s,2H）,6.51（s,2H）,
7.5〜8.3（m,3H）,8.70（d,J＝5Hz,1H） MSm/z（FAB,Pos.）；なし（M+）
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｃ０７Ｄ 233/02 Ｃ０７Ｄ 233/02 241/08 241/08 401/06 401/06 (72)発明者 川原 哲也 茨城県つくば市天久保２丁目23―５ メ ゾン学園304号 (72)発明者 阿部 信也 茨城県牛久市女化町1083―44 (72)発明者 宮澤 修平 茨城県取手市白山６―８―17 サンラフ ォーレＢ202 (72)発明者 宮本 光明 茨城県土浦市中高津１―４―５ (72)発明者 吉村 寛幸 茨城県つくば市二の宮４丁目４―18 サ ニーヒルテラス301号 (72)発明者 原田 耕吉 茨城県つくば市松代２丁目11―２ グリ ーンハイム３棟２号 (72)発明者 永岡 淳作 茨城県つくば市大字金田1803―１ (72)発明者 川田 力 茨城県土浦市中央２―16―23 亀城ハイ ツ25号 (72)発明者 吉村 勉 茨城県つくば市千現２丁目７―18 細田 住宅４号棟 (72)発明者 鈴木 弘真 茨城県取手市台宿１―３―10 (72)発明者 左右田 茂 茨城県牛久市牛久町972―16 (72)発明者 町田 善正 茨城県つくば市下広岡500―81 (72)発明者 片山 幸一 茨城県つくば市梅園２丁目30―３ (72)発明者 山津 功 茨城県牛久市柏田町3605―669
Claims (15)
- 【請求項１】一般式 ｛式中、Ａは （式中、ｎは０又は１〜６の整数を意味し、R1，R2，R3
は同一又は相異なる水素原子又はアルコキシ基を意味す
る）で示される基、 （式中、ｍは０又は１〜６の整数を意味する）で示され
る基、又は （式中、ｐは０又は１〜６の整数を意味する）で示され
る基を意味する。 Ｂは低級アルキル基又はアリールアルキル基を意味す
る。 Ｄは、式−Ｙ−(CH2)q−Ｇ 〔式中、Ｙは式 （式中、R4はアシル基又は式 （式中、R5，R6は同一又は相異なる水素原子又は低級ア
ルキル基を意味する）で示され基を意味する）で示され
る基、式 （式中、ｒは１〜３の整数を意味し、R7はアシル基を意
味する）で示され基、式 で示される基、又は式 で示される基を意味する。 ｑは０又は１〜３の整数を意味する。 Ｇは式 で示される基又は式 （式中、R8，R9は同一又は相異なる低級アルキル基を意
味する）で示される基を意味する〕で示される基を意味
する。｝ で表されるグリセリン誘導体又はその薬理学的に許容で
きる塩。 - 【請求項２】薬理学的に許容できる塩が、Ｇの定義にお
ける式 で示される基又は式 （式中、R8，R9は同一又は相異なる低級アルキル基を意
味する）で示される基の窒素原子において四級化された
四級塩である請求項１記載の薬理学的に許容できる塩。 - 【請求項３】薬理学的に許容できる塩が、一般式 〔式中、Ａは （式中、ｎは０又は１〜６の整数を意味し、R1，R2，R3
は同一又は相異なる水素原子又はアルコキシ基を意味す
る）で示される基、 （式中、ｍは０又は１〜６の整数を意味する）で示され
る基、又は （式中、ｐは０又は１〜６の整数を意味する）で示され
る基を意味する。 Ｂは低級アルキル基又はアリールアルキル基を意味す
る。 Ｄ′は、式−Ｙ−(CH2)q−Ｇ′ 〔式中、Ｙは式 （式中、R4はアシル基又は式 （式中、R5，R6は同一又は相異なる水素原子又は低級ア
ルキル基を意味する）で示され基を意味する）で示され
る基、式 （式中、ｒは１〜３の整数を意味し、R7はアシル基を意
味する）で示され基、式 で示される基、又は式 で示される基を意味する。 ｑは０又は１〜３の整数を意味する。 Ｇ′は式 （式中、R10は水素原子又は低級アルキル基を意味し、
Ｘは薬理学的に許容できるアニオンを意味する）で示さ
れる基、又は式 （式中、R8，R9，R11は同一又は相異なる低級アルキル
基を意味し、Ｘは薬理学的に許容できるアニオンを意味
する）で示される基を意味する〕で示される基を意味す
る。｝ で表される四級塩である請求項１記載の薬理学的に許容
できる塩。 - 【請求項４】Ｘがハロゲンである請求項３記載の薬理学
的に許容できる塩。 - 【請求項５】Ｘが塩素である請求項４記載の薬理学的に
許容できる塩。 - 【請求項６】Ａが式 （式中、ｎは０又は１〜６の整数を意味し、R1，R2，R3
は同一又は相異なる水素原子又はアルコキシ基を意味す
る）で示される基である請求項１〜５のいずれか一項に
記載のグリセリン誘導体又はその薬理学的に許容できる
塩。 - 【請求項７】Ａが式 （式中、ｎは０又は１〜６の整数を意味し、R1，R2，R3
は同一又は相異なる水素原子又はアルコキシ基を意味す
る）で示される基であり、Ｂがメチル基である請求項１
〜５のいずれか一項に記載のグリセリン誘導体又はその
薬理学的に許容できる塩。 - 【請求項８】Ａが式 （式中、ｎは０又は１〜６の整数を意味し、R1，R2，R3
は同一又は相異なる水素原子又はアルコキシ基を意味す
る）で示される基であり、Ｂがメチル基であり、Ｄが式 （式中、R4′はアシル基を意味し、ｑは０又は１〜３の
整数を意味する）で示される基である請求項１〜５のい
ずれか一項に記載のグリセリン誘導体又はその薬理学的
に許容できる塩。 - 【請求項９】R4′がｏ−,m−又はｐ−アルコキシベンゾ
イル基である請求項８記載のグリセリン誘導体又はその
薬理学的に許容できる塩。 - 【請求項１０】R4′がｏ−,m−又はｐ−メトキシベンゾ
イル基である請求項８記載のグリセリン誘導体又はその
薬理学的に許容できる塩。 - 【請求項１１】R4′がｏ−メトキシベンゾイル基である
請求項８記載のグリセリン誘導体又はその薬理学的に許
容できる塩。 - 【請求項１２】Ａが式 （式中、R2′はアルコキシ基を意味する）で表される基
である請求項６記載のグリセリン誘導体又はその薬理学
的に許容できる塩。 - 【請求項１３】R2′が炭素数14〜22のアルコキシ基であ
る請求項12記載のグリセリン誘導体又はその薬理学的に
許容できる塩。 - 【請求項１４】一般式 ｛式中、Ａは （式中、ｎは０又は１〜６の整数を意味し、R1，R2，R3
は同一又は相異なる水素原子又はアルコキシ基を意味す
る）で示される基、 （式中、ｍは０又は１〜６の整数を意味する）で示され
る基、又は （式中、ｐは０又は１〜６の整数を意味する）で示され
る基を意味する。 Ｂは低級アルキル基又はアリールアルキル基を意味す
る。 Ｄは、式−Ｙ−(CH2)q−Ｇ 〔式中、Ｙは式 （式中、R4はアシル基又は式 （式中、R5，R6は同一又は相異なる水素原子又は低級ア
ルキル基を意味する）で示され基を意味する）で示され
る基、式 （式中、ｒは１〜３の整数を意味し、R7はアシル基を意
味する）で示され基、式 で示される基、又は式 で示される基を意味する。 ｑは０又は１〜３の整数を意味する。 Ｇは式 で示される基又は式 （式中、R8，R9は同一又は相異なる低級アルキル基を意
味する）で示される基を意味する〕で示される基を意味
する。｝ で表されるグリセリン誘導体又はその薬理学的に許容で
きる塩を有効成分とする抗PAF剤。 - 【請求項１５】一般式 ｛式中、Ａは （式中、ｎは０又は１〜６の整数を意味し、R1，R2，R3
は同一又は相異なる水素原子又はアルコキシ基を意味す
る）で示される基、 （式中、ｍは０又は１〜６の整数を意味する）で示され
る基、又は （式中、ｐは０又は１〜６の整数を意味する）で示され
る基を意味する。 Ｂは低級アルキル基又はアリールアルキル基を意味す
る。 Ｄは、式−Ｙ−(CH2)q−Ｇ 〔式中、Ｙは式 （式中、R4はアシル基又は式 （式中、R5，R6は同一又は相異なる水素原子又は低級ア
ルキル基を意味する）で示され基を意味する）で示され
る基、式 （式中、ｒは１〜３の整数を意味し、R7はアシル基を意
味する）で示され基、式 で示される基、又は式 で示される基を意味する。 ｑは０又は１〜３の整数を意味する。 Ｇは式 で示される基又は式 （式中、R8，R9は同一又は相異なる低級アルキル基を意
味する）で示される基を意味する〕で示される基を意味
する。｝ で表されるグリセリン誘導体又はその薬理学的に許容で
きる塩を有効成分とする抗PAF剤が有効な疾患の治療・
予防剤。
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|---|---|---|---|
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| JP (1) | JP2843059B2 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100965307B1 (ko) * | 2010-03-24 | 2010-06-22 | 대한센서 주식회사 | 경광 누수감지기 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5622331A (en) * | 1979-04-20 | 1981-03-02 | Schoeller & Co Elektronik | Method of manufacturing adhesionnsolid metal film treated chemically by vacuum evaporation or sputtering on insulator body |
| JPS6254073A (ja) * | 1985-09-02 | 1987-03-09 | Polyplastics Co | 表面金属処理した樹脂成形品 |
| JPS6337694A (ja) * | 1986-07-31 | 1988-02-18 | 松下電工株式会社 | 回路基板の製造方法 |
-
1989
- 1989-07-03 JP JP1171363A patent/JP2843059B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5622331A (en) * | 1979-04-20 | 1981-03-02 | Schoeller & Co Elektronik | Method of manufacturing adhesionnsolid metal film treated chemically by vacuum evaporation or sputtering on insulator body |
| JPS6254073A (ja) * | 1985-09-02 | 1987-03-09 | Polyplastics Co | 表面金属処理した樹脂成形品 |
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0338561A (ja) | 1991-02-19 |
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