JP2781783B2 - 半導体装置用パッケージ - Google Patents
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Description
ージに関し、特に高周波トランジスタ用の樹脂モールド
型の半導体装置用パッケージに関する。
ーダ装置などの高周波機器に用いられているGaAsF
ET等の半導体装置は、高周波領域の寄生容量や寄生イ
ンダクタンス等に起因する損失を抑制して所望の特性を
得るため、一般にセラミック製のいわゆるセラミックパ
ッケージが広く用いられてきた。しかし、この種のセラ
ミックパッケージはセラミックのコストが高いため、半
導体装置自体のコストを上昇させてしまうという問題点
がある。
のため、例えば、特開平2−17664号公報(文献
1)に記載されたような樹脂モールド材を用いたパッケ
ージが開発されている。
上法として、従来よりコレクタリードとベースリードと
の間にエミッタリードを配置する方法が採用されてきて
いる。
トランジスタの等価回路を示す図7を参照すると、コレ
クタC,ベースBの各電極相互間に寄生容量Cbco,
Cc2が存在し、コレクタリードとベースリードとの間
にエミッタリードを配置することにより、これら寄生容
量Cbco,Cc2をキャンセルできるので、高周波特
性を向上させることができる。
ージの部品配置の一例を模式平面図で示す図8を参照す
ると、この従来の第1の半導体装置用パッケージは、日
本電子機械工業会規格(EIAJ)規定のSC−56ミ
ニモールドトランジスタパッケージ(以下SC−56パ
ッケージ)であり、ほぼ中央部から右上部を占めるコレ
クタリード11上に搭載した半導体素子4と、左下に配
置されたベースリード12と、これらコレクタリード1
1とベースリード12との間を通して配置され右下およ
び左上にアウタリードを有するエミッタリード13と、
半導体素子4の電極パッドからベースリード12とエミ
ッタリード13とを電気接続するボンデングワイヤ5と
を備える。
9×1.5mmと小型であり、高周波特性も優れてい
る。しかし、コレクタ電極の熱容量が小さいので小電力
用のトランジスタにしか適用できない。
熱容量を向上した従来の第2の半導体装置用パッケージ
であるEIAJ規定のSOT−89パッケージの外観を
平面図および側面図で示す図9(A),(B)および一
般的なトランジスタに適用した場合の内部部品配置の一
例を模式平面図で示す図9(C)を参照すると、中央部
に半導体素子4を搭載するとともに放熱器を兼ねた大面
積のコレクタリード11を配置し、左側にベースリード
12を右側にエミッタリード13をそれぞれ配置しモー
ルド樹脂7で封止する構造である。このSOT−89パ
ッケージの外形寸法は4.5×2.5mm、リード1
1,12,13の厚さは0.4mmである。したがって
このままでは、上述したように高周波特性改善のためコ
レクタリードとベースリードとの間にエミッタリードを
通すことは極めて困難である。無理にこのような構造を
適用した場合の部品配置の想定模式平面図である図9
(D)を参照すると、リードのエッチングやプレス加工
などの一般的な加工限度のため、各リード間の間隙をリ
ード厚さの0.4mm以上確保する必要があるため、図
示のようにコレクタ電極を極端に縮小せざるを得ずこれ
ではトランジスタとして成立しない。
を行うことにより低減することによりリード配置密度を
向上させる技術として、特開平4−31326号公報
(文献2)記載のリードフレームの製造方法は、ダムバ
ーおよびタイバーを有するIC用リードフレームのこれ
らダムバーおよびタイバーに伸縮部を形成しエッチング
やプレス加工などの一般加工の後横方向から圧力を加え
て縮小させる。この方法は上記縮小のための加工工程を
追加する必要があり、また、リード側面形状は、リード
面に対し垂直であるとは限らないので高精度で縮小させ
ることは困難である。
半導体装置用パッケージは、コレクタ電極の熱容量が小
さいので小電力用のトランジスタにしか適用できないと
いう欠点があった。
るため放熱容量を向上した従来の第2の半導体装置用パ
ッケージは、高周波特性向上のためコレクタリードとベ
ースリードとの間にエミッタリードを通すことは極めて
困難であり、高周波特性が良くないという欠点があっ
た。
AJ規格SOT−89パッケージと同等寸法でかつ高高
周波特性の優れた半導体装置用パッケージを提供するこ
とにある。
ッケージは、高周波トランジスタである半導体素子をモ
ールド樹脂で封止しインナリードのエミッタリードをコ
レクタリードとベースリードとの間に配置した小型の矩
形の樹脂封止型の半導体装置用パッケージにおいて、前
記エミッタリードと前記コレクタリードとの間および前
記エミッタリードと前記ベースリードとの間の各々の間
隙を前記インナリードの板厚の80%以下に形成したリ
ードフレームを有することを特徴とするものである。
体パッケージの部品配置を図8と共通の構成要素には共
通の文字/数字を用いて模式平面図で示す図1を参照す
ると、この図に示す本実施の形態の半導体装置用パッケ
ージは、パッケージの外形寸法は従来の第2の半導体パ
ッケージ(EIAJ規定のSOT−89パッケージ)と
同一寸法であり、この外形に成形されたモールド樹脂7
と、従来と共通の半導体素子4と、半導体素子4を搭載
するリードフレーム1とを備える。
半の横幅一杯に配置した吊りリード2と、吊りリード2
上に固定されモールド樹脂7の上側中央部にアウタリー
ドを有するコレクタリード11Aと、このコレクタリー
ド11Aにダイボンデングによって搭載した半導体素子
4と、下半の中央部に配置しモールド樹脂の下側中央部
にアウタリードを有するベースリード12Aと、吊りリ
ード2(コレクタリード11A)とベースリード12A
との間に配置しモールド樹脂7の下側左右両端部にアウ
タリードを有するエミッタリード13Aと、半導体素子
4の電極パッドからベースリード12とエミッタリード
13とを電気接続するボンデングワイヤ5とを備える。
ち、コレクタリードとベースリードとの間にエミッタリ
ードを配置するというリード配置を実現するため各リー
ドの板圧を0.25mmと従来の0.4mmに比較して
薄くしている。
持確保のため吊りリード2を用いる。この吊りリード2
は、熱ストレス等の外部ストレスを緩和しパッケージ内
部に伝達しないようにするためと、モールド樹脂7との
接触面積増加のため加工可能な範囲で細いものとし、ア
ンカーホール6および上部の切断部にはノッチ加工部3
を有する。
B,C−C,D−D各断面図で示す図2を参照すると、
図2(B)に示すA−A断面は後述する潰し曲げ(圧
延)加工を実施し、図2(C),(D)に示すB−B,
C−C各断面は非潰し曲げ(折曲げ)加工を実施するこ
とを示す。これらの加工によりリード間間隙は板厚0.
25より狭い0.2を実現している。
参照すると、曲げ部に潰しすなはち加工後板厚=tco
sθ(tは原板厚,θは曲げ角度)を入れた潰し曲げ加
工では平面寸法の変化はない。一方、曲げ部に潰し入れ
ない非潰し曲げ加工では、平面寸法が小さくなり、また
曲げの深さが大きい程平面寸法が小さくなる。これらの
曲げ加工は、通常のディプレス加工工程における順送型
で特別な工程ラインを設けることなく実施可能であり、
したがって、低コストかつ高精度で加工できる。
により、リード間間隙の縮小が可能となる。これによ
り、コレクタリード11Aの寸法を拡大でき、半導体素
子4の発生熱の放熱性を向上できる。さらに、半導体素
子4の搭載位置がベース,エミッタ各リードに近接する
ため、ボンデングワイヤ5の長さを短縮でき、そのイン
ダクタンスが低減するため、高周波特性をさらに改善で
きる。
ス加工の形状を模式平面図で示す図4を参照すると、こ
の図のハッチングで示すプレス抜きパンチはリード間間
隙に対応する。図示のように上記リード間間隙は0.2
8mmおよび0.32mmとリード板厚対応の加工限界
値である0.25mmよりも大きく十分加工可能である
ことを示す。
らない加工法であるので、リードフレームの外形を小さ
くすることができ材料の利用効率が良い。さらに、従来
のSOT−89パッケージ用のリードフレームと同一寸
法として組立予備の共用化を図ることが可能である。
形態の半導体パッケージとに同一特性の半導体素子4を
搭載した場合の高周波特性の比較の一例として周波数1
GHzの場合の利得特性を示す図5を参照すると、曲線
Aに示す本実施の形態のパッケージの方が従来より約2
dB利得が向上していることが判る。
共通の構成要素には共通の文字/数字を用いて模式平面
図で示す図6を参照して説明すると、この図に示す本実
施の形態の第1の実施の形態との相違点は、半導体素子
4の代りにエミッタ電極Eが2つ有する4アウタリード
型の半導体素子4Aを備え、これに対応して2分割され
たエミッタリード11B,11Cを有することである。
置用パッケージは、エミッタリードとコレクタリードと
の間および上記エミッタリードとベースリードとの間の
各々の間隙をインナリードの板厚の80%以下に形成し
たリードフレームを有することにより、従来の第2の半
導体パッケージ(EIAJ規格SOT−89パッケー
ジ)と同等の寸法で高周波特性を向上した小型かつ高電
力用トランジスタの樹脂モールドパッケージを実現でき
るという効果がある。
潰し曲げ加工との組合わせを採用することにより、従来
の第2の半導体パッケージと同一外形の寸法のリードフ
レームを実現でき、同一設備を使用して生産可能である
ことにより低コスト化できるという効果がある。
の形態を示す模式平面図である。
ドフレームの平面図とA−A,B−B,C−C各断面図
および側面図である。
説明図である。
工の形状を模式平面図で示す説明図である。
の半導体パッケージとの高周波特性の一例を比較した特
性図である。
の形態を示す模式平面図である。
ある。
よび部品配置の一例を示す模式平面図である。
示す平面図,側面図およびこのパッケージを用いる一般
用トランジスタおよび高周波用トランジスタを想定した
場合の各部品配置の一例を示す模式平面図である。
Claims (7)
- 【請求項1】 高周波トランジスタである半導体素子を
モールド樹脂で封止しインナリードのエミッタリードを
コレクタリードとベースリードとの間に配置した小型の
矩形の樹脂封止型の半導体装置用パッケージにおいて、 前記エミッタリードと前記コレクタリードとの間および
前記エミッタリードと前記ベースリードとの間の各々の
間隙を前記インナリードの板厚の80%以下に形成した
リードフレームを有することを特徴とする半導体装置用
パッケージ。 - 【請求項2】 前記矩形に形成した前記モールド樹脂の
第1の辺の長さ方向に配置した吊りリードと、 前記吊りリード上に固定され前記モールド樹脂の前記第
1の辺の中央部にアウタリードを有する前記コレクタリ
ードと、 前記コレクタリードに搭載した前記半導体素子と、 前記前記モールド樹脂の第2の辺側のほぼ中央に配置し
この第2の辺の中央部にアウタリードを有する前記ベー
スリードと、 前記コレクタリードと前記ベースリードとの間に配置し
前記第2の辺の両端部近傍にそれぞれアウタリードを有
する前記エミッタリードとを備えることを特徴とする請
求項1記載の半導体装置用パッケージ。 - 【請求項3】 前記矩形の公称寸法が4.5mm×2.
5mmであり、前記インナリードの板厚が0.25mm
であり、前記間隙が0.2mm以下であることを特徴と
する請求項1記載の半導体装置用パッケージ。 - 【請求項4】 前記リードフレームが、前記アウタリー
ドの面に対し前記インナリードの一部に高低差を形成す
るためのディプレス加工で前記インナリードの間隔を縮
小したことを特徴とする請求項1記載の半導体装置用パ
ッケージ。 - 【請求項5】 前記ディプレス加工が、折り曲げまたは
圧延のいずれかまたは両方を含むことを特徴とする請求
項4記載の半導体装置用パッケージ。 - 【請求項6】 金型またはエッチング加工にて所定のパ
ターン形成後ディプレス加工によりインナリード間隔を
縮小することを特徴とするリードフレームの製造方法。 - 【請求項7】 前記ディプレス加工が、折り曲げまたは
圧延のいずれかまたは両方を含むことを特徴とする請求
項6記載のリードフレームの製造方法。
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