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JP2586713B2 - ピラゾール誘導体、その製造法およびそれを含有する医薬組成物 - Google Patents

ピラゾール誘導体、その製造法およびそれを含有する医薬組成物

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JP2586713B2
JP2586713B2 JP2252319A JP25231990A JP2586713B2 JP 2586713 B2 JP2586713 B2 JP 2586713B2 JP 2252319 A JP2252319 A JP 2252319A JP 25231990 A JP25231990 A JP 25231990A JP 2586713 B2 JP2586713 B2 JP 2586713B2
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昌昭 松尾
喜良 辻
信清 小西
克哉 中村
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Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
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Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 この発明は新規なピラゾール誘導体およびその塩に関
する。
さらに詳細には、この発明は、抗炎症、鎮痛、抗血栓
作用を有する新規ピラゾール誘導体およびその塩、その
製造法、それを含有する医薬組成物およびヒトあるいは
動物での炎症症状、種々の疼痛、膠原病、自己免疫疾
患、種々の免疫疾患、血栓病の治療および／または予防
を目的とした医療に用いる方法、より具体的には、関節
・筋肉の炎症と疼痛［たとえば、慢性関節リウマチ、リ
ウマチ性脊椎炎、骨関節症、痛風性関節炎など］、炎症
性皮膚症状［たとえば、日焼、湿疹など］、炎症性眼症
状［たとえば、結膜炎など］、炎症が関与する肺疾患
［たとえば、喘息、気管支炎、ハト飼育者病、農夫肺な
ど］、症状を伴う消化器症状［たとえば、アフタ性潰
瘍、クローン病、萎縮性胃炎、変形性胃炎、潰瘍性大腸
炎、小児脂肪便症、限局性回腸炎、過敏性腸症候群な
ど］、歯肉炎、術後または外傷後の炎症、疼痛、腫脹、
発熱、炎症に伴う疼痛などの症状、特にリポキシゲナー
ゼ、シクロオキシゲナーゼ産物が因子であるもの、全身
性エリテマトーデス、強皮症、多発性筋炎、結節性動脈
周囲炎、リウマチ熱、シェーグレン症候群、ペーチェッ
ト病、甲状腺炎、Ｉ型糖尿病、ネフローゼ症候群、再生
不良性貧血、重症筋無力症、ブドウ膜炎、接触性皮膚
炎、乾癬、川崎症、サルコイドーシス、ホジキン病など
の治療および／または予防の方法に関する。
さらに、目的化合物は高血糖まは高脂血症が原因とな
る疾患、および循環器系疾患または脳血管疾患の治療薬
および／または予防薬として有用であることが期待され
る。
この発明の目的は抗炎症、鎮痛、抗血栓作用を有する
新規かつ有用なピラゾール誘導体およびその塩を提供す
ることにある。
この発明の他の目的は、前記ピラゾール誘導体および
その塩の製造法を提供することにある。
この発明のさらに他の目的は、前記ピラゾール誘導体
およびその医薬として許容される塩を有効成分として含
有する医薬組成物を提供することにある。
この発明のいま一つの目的は、前記ピラゾール誘導体
およびその医薬として許容される塩を用いて炎症症状、
種々の疼痛、その他前記疾患の治療法および／予防法を
提供することにある。
抗炎症および鎮痛作用を持つピラゾール誘導体のある
ものは、例えば、カナダ特許1130808、ヨーロッパ特許
出願公開番号272704および293220に記載の如く、既に知
られている。
この発明の目的化合物であるピラゾール誘導体は新規
であり、下記の一般式［Ｉ］で表わされる化合物 ［式中、R1は低級アルキル基、ハロゲン原子、低級アル
コキシ基、低級アルキルチオ基、低級アルキルスルフィ
ニル基、低級アルキルスルホニル基、水酸基、低級アル
キルスルホニルオキシ基、ニトロ基、アミノ基、低級ア
ルキルアミノ基、アシルアミノ基および低級アルキル
（アシル）アミノ基からなる群より選ばれた置換基で置
換されていてもよいアリール基；または複素環基を、R2
は水素原子；アミノ基、低級アルキルアミノ基、ハロゲ
ン原子もしくはアシルオキシ基で置換されたメチル基；
アシル基；アシルアミノ基；シアノ基；ハロゲン原子；
低級アルキルチオ基；低級アルキルスルフィニル基；ま
たは複素環基を、R3は低級アルキル基、低級アルキルチ
オ基、低級アルキルスルフィニル基、ハロゲン原子、ア
ミノ基、低級アルキルアミノ基、アシルアミノ基、低級
アルキル（アシル）アミノ基、低級アルコキシ基、シア
ノ基、水酸基もしくはアシル基で置換されたアリール
基；または低級アルキルチオ基、低級アルキルスルフィ
ニル基もしくは低級アルキルスルホニル基で置換されて
いてもよい複素環基を示す。但し、R2がカルボキシ基、
エステル化されたカルボキシ基またはトリ（ハロ）メチ
ル基である場合、R3は低級アルキルチオ基、低級アルキ
ルスルフィニル基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、
アシルアミノ基、低級アルキル（アシル）アミノ基、水
酸基もしくはアシル基で置換されたアリール基；または
低級アルキルチオ基、低級アルキルスルフィニル基もし
くは低級アルキルスルホニル基で置換された複素環基で
あるか、またはR1が低級アルキルチオ基、低級アルキル
スルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、水酸基、
低級アルキルスルホニルオキシ基、ニトロ基、アミノ
基、低級アルキルアミノ基、アシルアミノ基および低級
アルキル（アシル）アミノ基からなる群より選ばれた置
換基で置換されたアリール基；または複素環基である］
およびその塩である。
目的化合物［Ｉ］またはその塩は下記の製造法によっ
て製造することができる。
［式中、R1、R2、R3はそれぞれ前記定義の通りであり、
R3 aはアリール基または複素環基で、それぞれ低級アル
キルチオ基で置換されており、R3 bはアリール基または
複素環基で、それぞれ低級アルキルスルフィニル基もし
くは低級アルキルスルホニル基で置換されており、R2 a
はエステル化されたカルボキシ基を、R2 bは低級アルキ
ル基、アリール基、シクロ（低級）アルキル基および水
酸基からなる群より選ばれた置換基で置換されていても
よいカルバモイル基または含窒素複素環カルボニル基
を、R2 cは低級アルキル基で置換されていてもよいカル
バモイル基を、R2 dは低級アルキル基で置換されていて
もよいアミノメチル基を、R4は低級アルキル基を、R1 a
は低級アルキル基、ハロゲン原子、低級アルコキシ基、
低級アルキルチオ基、低級アルキルスルフィニル基、低
級アルキルスルホニル基、水酸基、低級アルキルスルホ
ニルオキシ基、ニトロ基、低級アルキルアミノ基、アシ
ルアミノ基および低級アルキル（アシル）アミノ基から
なる群より選ばれた置換基で置換されていてもよいアリ
ール基または複素環基を、R1 bは低級アルキルチオ基で
置換されたアリール基を、R1 cは低級アルキルスルフィ
ニル基もしくは低級アルキルスルホニル基で置換された
アリール基を、R1 dはニトロ基で置換されたアリール基
を、R1 eはアミノ基で置換されたアリール基を、R1 fは低
級アルキル基、ハロゲン原子、低級アルコキシ基、低級
アルキルチオ基、低級アルキルスルフィニル基、低級ア
ルキルスルホニル基、低級アルキルスルホニルオキシ
基、ニトロ基、アシルアミノ基および低級アルキル（ア
シル）アミノ基からなる群より選ばれた置換基で置換さ
れていてもよいアリール基または複素環基を、R2 eはア
シルアミノ基を、R1 gはアミノ基もしくはアシルアミノ
基で置換されたアリール基を、R1 hは低級アルキルアミ
ノ基もしくは低級アルキル（アシル）アミノ基で置換さ
れたアリール基を、R3 cはアミノ基で置換されたアリー
ル基を、R3 dはアシルアミノ基で置換されたアリール基
を、R1 iはアミノ基で置換されたアリール基を、R1 jはア
シルアミノ基で置換されたアリール基を、R3 eはアミノ
基もしくはアシルアミノ基で置換されたアリール基を、
R3 fは低級アルキルアミノ基もしくは低級アルキル（ア
シル）アミノ基で置換されたアリール基を、R1 kはアシ
ルアミノ基もしくは低級アルキル（アシル）アミノ基で
置換されたアリール基を、R1 lはアミノ基もしくは低級
アルキルアミノ基で置換されたアリール基を、R3 gはア
シルアミノ基もしくは低級アルキル（アシル）アミノ基
で置換されたアリール基を、R3 hはアミノ基もしくは低
級アルキルアミノ基で置換されたアリール基を、Ｘはハ
ロゲン原子を、R6は低級アルキルチオ基を示す。］ この明細書の以上の説明および以下の説明において、
この発明の範囲に含まれる種々の定義の適当な例を次に
詳細に説明する。
「低級」とは特に説明ない限り、炭素原子１ないし６
個を意味する。
「低級アルキル基」および「低級アルキルチオ基」、
「低級アルキルスルホニル基」、「低級アルキル（アシ
ル）アミノ基」、「低級アルキルスルフィニル基」、
「低級アルキルスルホニルオキシ基」の低級アルキル部
分の適当な例としては、直鎖状または分枝鎖状のもの、
例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピ
ル基、ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、ペンチ
ル基、ヘキシル基などが挙げられ、それらの中でもメチ
ル基が好ましい。
「低級アルコキシ基」の適当な例としては、メトキシ
基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブ
トキシ基、イソブトキシ基、ｔ−ブトキシ基などが挙げ
られ、それらの中でもメトキシ基が好ましい。
「アリール基」の適当な例としては、フェニル基、ナ
フチル基などが挙げられ、それらの中でもフェニル基が
好ましい。
R1のアリール基は１ないし５個の既に述べた如き置換
基で置換されていてもよく、R3のアリール基は１ないし
５個の既に述べた如き置換基で置換されており、それら
の中でも好ましい置換基の数は１ないし３個である。
「複素環基」の適当な例としては、窒素原子、酸素原
子または硫黄原子などのヘテロ原子を少なくとも１個を
含む単環式または多環式の飽和または不飽和複素環基が
挙げられる。
前記定義の「複素環基」の好ましい例としては、窒素
原子１ないし４個を含む３ないし８員、より好ましくは
５ないし６員の不飽和複素単環基、例えばピロピル基、
イミダゾリル基、ピラゾリル基、ピリジル基、ピリジル
Ｎ−オキシド基、ジヒドロピリジル基、テトラヒドロピ
リジル基、ピリミジル基、ピラジニル基、ピリダジニル
基、トリアジニル基、トリアゾリル基、テトラジニル
基、テトラゾリル基など；窒素原子１ないし４個を含む
３ないし８員、より好ましくは５ないし６員の飽和複素
単環基、例えばピロリジニル基、イミダゾリジニル基、
ピペリジノ基、ピペラジニル基など；窒素原子１ないし
５個を含む不飽和縮合複素環基、例えばインドリル基、
イソインドリル基、インドリジニル基、ベンズイミダゾ
リル基、キノリル基、イソキノリル基、インダゾリル
基、ベンゾトリアゾリル基など；酸素原子１ないし２個
および窒素原子１ないし３個を含む３ないし８員の不飽
和複素単環基、例えばオキサゾリル基、イソオキサゾリ
ル基、オキサジアゾリル基など；酸素原子１ないし２個
および窒素原子１ないし３個を含む３ないし８員の飽和
複素単環基、例えばホルモリノ基、シドノニル基など；
酸素原子１ないし２個および窒素原子１ないし３個を含
む不飽和縮合複素環基、例えばベンゾキサゾリル基、ベ
ンゾキサジアゾリル基など；硫黄原子１ないし２個およ
び窒素原子１ないし３個を含む３ないし８員の不飽和複
素単環基、例えばチアゾリル基、イソチアゾリル基、チ
アジアゾリル基など；硫黄原子１ないし２個を含む３な
いし８員の不飽和複素単環基、例えばチエニル基など；
硫黄原子１ないし２個および窒素原子１ないし３個を含
む不飽和縮合複素環基、例えばベンゾチアゾリル基、ベ
ンゾチアジアゾリル基など；酸素原子１個を含む３ない
し８員の不飽和複素単環基、例えばフリル基など；硫黄
原子１ないし２個を含む不飽和縮合複素環基、例えば、
ベンゾチエニル基など；酸素原子１ないし２個を含む不
飽和縮合複素環基、例えばベンゾフラニル基など；など
が挙げられる。
前記「複素環基」は既に述べた如き低級アルキル基で
置換されていてもよく、それらの中でも好ましいものは
ピロリジニル基、Ｎ−メチルピペラジニル基、テトラゾ
リル基、チエニル基またはピリジル基である。
「シクロ（低級）アルキル基」の好ましい例として
は、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチ
ル基、シクロヘキシル基などが挙げられ、それらの中で
もシクロプロピル基が好ましい。
「ハロゲン原子」の好ましい例としては、フッ素、塩
素、臭素および沃素が挙げられ、それらの中でもフッ素
が好ましい。
「低級アルキルアミノ（低級）アルキル基」の適当な
例としては、モノ−またはジ（低級アルキル）アミノ置
換低級アルキル基、例えばメチルアミノメチル基、メチ
ルアミノエチル基、メチルアミノプロピル基、メチルア
ミノヘキシル基、エチルアミノメチル基、エチルアミノ
エチル基、エチルアミノプロピル基、エチルアミノヘキ
シル基、ジメチルアミノメチル基、ジメチルアミノエチ
ル基、ジメチルアミノプロピル基、ジメチルアミノヘキ
シル基、ジエチルアミノメチル基、ジエチルアミノエチ
ル基、ジエチルアミノプロピル基、ジエチルアミノヘキ
シル基などが挙げられる。
「低級アルキルアミノ基」および「低級アルキルアミ
ノメチル基」における低級アルキルアミノ部分の適当な
例としては、モノ−またはジ（低級アルキル）アミノ
基、例えばメチルアミノ基、エチルアミノ基、ジメチル
アミノ基、ジエチルアミノ基などが挙げられる。
「ハロ（低級）アルキル基」の適当な例としては、ク
ロロメチル基、フルオロメチル基、ブロモメチル基、ジ
フルオロメチル基、ジクロロメチル基、トリフルオロメ
チル基、トリクロロメチル基、２−フルオロエチル基な
どが挙げられる。
「アシル基」および「アシルオキシ基」、「アシルア
ミノ基」、「低級アルキル（アシル）アミノ基」におけ
るアシル部分の適当な例としては、カルボキシ基；エス
テル化されたカルボキシ基；低級アルキル基、シクロ
（低級）アルキル基、アリール基および水酸基からなる
群より選ばれた置換基で置換されていてもよいカルバモ
イル基；低級アルコキシ基で置換されていてもよい低級
アルカノイル基；複素環カルボニル基；低級アルキルス
ルホニル基などが挙げられる。
エステル化されたカルボキシ基は置換または無置換低
級アルコキシカルボニル基（例えばメトキシカルボニル
基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、
ブトキシカルボニル基、ヘキシルオキシカルボニル基、
２−ヨードエトキシカルボニル基、2,2,2−トリクロロ
エトキシカルボニル基など）、置換または無置換アリー
ルオキシカルボニル基（例えばフェノキシカルボニル
基、４−ニトロフェノキシカルボニル基、２−ナフチル
オキシカルボニル基など）、置換または無置換アル（低
級）アルコキシカルボニル基（例えばベンジルオキシカ
ルボニル基、フェネチルオキシカルボニル基、ベンズヒ
ドリルオキシカルボニル基、４−ニトロベンジルオキシ
カルボニル基など）などであってよい。
低級アルカノイル基としてはホルミル基、アセチル
基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、バ
レリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、ヘキサノイ
ル基などが挙げられる。
「複素環カルボニル基」における複素環部分として
は、「複素環基」で例示したものと同じである。
「複素環カルボニル基」の適当な例としては、ピロリ
ジニルカルボニル基、イミダゾリジニルカルボニル基、
ピペリジノカルボニル基、ピペリジニルカルボニル基、
Ｎ−メチルピペリジニルカルボニル基などの含窒素複素
環カルボニル基が挙げられ、それらの中でも好ましいも
のはピロリジニルカルボニル基またはＮ−メチルピペラ
ジニルカルボニル基である。
「低級アルキルスルホニル基」の適当な例としてはメ
チルスルホニル基、エチルスルホニル基、プロピルスル
ホニル基などが挙げられ、それらの中でもメチルスルホ
ニル基が好ましい。
「低級アルキルスルフィニル基」の適当な例として
は、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、プ
ロピルスルフィニル基などが挙げられ、それらの中でも
メチルスルフィニル基が好ましい。
目的化合物［Ｉ］の塩の適当な例としては、慣用の無
毒性の塩であって、酸付加塩、例えば無機酸との付加塩
（例えば、塩酸塩、臭化水素酸塩、硫酸塩、燐酸塩な
ど）、有機酸との付加塩（例えば、蟻酸塩、酢酸塩、ト
リフルオロ酢酸塩、マレイン酸塩、酒石酸塩、メタンス
ルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、トルエンスルホン
酸塩など）、アミノ酸との塩（例えば、アルギニン塩、
アスパラギン酸塩、グルタミン酸塩など）、金属塩、例
えばアルカリ金属塩（例えば、ナトリウム塩、カリウム
塩など）およびアルカリ土類金属塩（例えば、カルシウ
ム塩、マグネシウム塩など）、アンモニウム塩、有機塩
基との付加塩（例えば、トリメチルアミン塩、トリエチ
ルアミン塩など）などが挙げられる。
目的化合物［Ｉ］の製造法を次に詳細に説明する。
製造法１ 化合物［I a］またはその塩および／または化合物［I
b］またはその塩は、化合物［II a］またはその塩を化
合物［III］またはその塩と反応させて製造することが
できる。
化合物［II a］および［III］の塩の適当な例として
は、化合物［Ｉ］で示したものと同じものを例示するこ
とができる。
この反応は、通常、アルコール（例えば、メタノー
ル、エタノールなど）、ジオキサン、テトラヒドロフラ
ン、酢酸、その他反応に悪影響を及ぼさない有機溶媒な
どの慣用の溶媒中で行われる。
反応温度は特に限定されず、通常、加熱下で反応は行
われる。
製造法２ 化合物［I c］またはその塩および／または化合物［I
d］またはその塩は、化合物［II b］またはその塩を化
合物［III］またはその塩と反応させて製造することが
できる。
化合物［II b］および［III］の塩の適当な例として
は、化合物［Ｉ］で示したものと同じものが挙げられ
る。
この反応は、製造法１と実質的に同様の方法で行われ
るので、この反応の反応様式ならびに反応条件（例え
ば、溶媒、反応温度など）も製造法１に示した通りでよ
い。
製造法３ 化合物［I e］またはその塩および／または化合物［I
f］またはその塩は化合物［II c］またはその塩を化合
物［III］またはその塩と反応させることにより製造す
ることができる 化合物［II c］および［III］の塩の適当な例として
は化合物［Ｉ］で示したものと同じものが挙げられる。
この反応は製造法１と実質的に同様に行われるので、
この反応の反応様式および反応条件（例えば、溶媒、反
応温度など）も製造法１に示した通りでよい。
製造法４ 化合物［I h］またはその塩は化合物［I g］またはそ
の塩を酸化剤と反応させることにより製造することがで
きる。
適当な酸化剤としては、過酸化水素、ジョーンズ試
薬、過酸（例えば、過酢酸、過安息香酸、ｍ−クロロ過
安息香酸など）、クロム酸、過マンガン酸カリウム、過
沃素酸アルカリ金属（例えば、過沃素酸カリウムなど）
などが挙げられる。
この反応は、通常、酢酸、ジクロロメタン、アセト
ン、酢酸エチル、クロロホルム、水、アルコール（例え
ば、メタノール、エタノールなど）などの反応に悪影響
を及ぼさない溶媒中で行われる。
反応温度は特に限定されず、通常、冷却ないし加温下
で反応は行われる。
この反応では、R1が低級アルキルチオ基で置換された
アリール基および／またはR2が低級アルキルチオ基であ
る化合物［I g］を原料化合物として用いる場合、R1が
低級アルキルスルフィニル基または低級アルキルスルホ
ニル基で置換されたアリール基および／またはR2が低級
アルキルスルフィニル基または低級アルキルスルホニル
基である化合物［I h］が反応条件によって得られるこ
とがある。これらの場合もこの反応の範囲に含まれるも
のである。
製造法５ 化合物［I j］およびその塩は化合物［I i］またはそ
の塩を脱エステル化反応に付すことによって製造するこ
とができる。
この反応は、加水分解、還元などの常法に従って行わ
れる。
加水分解は塩基またはルイス酸を含む酸の存在下で行
うことが好ましい。適当な塩基としては、無機塩基およ
び有機塩基、例えば、アルカリ金属（例えば、ナトリウ
ム、カリウムなど）、アルカリ土類金属（例えば、マグ
ネシウム、カルシウムなど）、それらの水酸化物もしく
は炭酸塩もしくは炭酸水素塩、トリアルキルアミン（例
えば、トリメチルアミン、トリエチルアミンなど）、ピ
コリン、1,5−ジアザビシクロ［4,3,0］ノネン−５、1,
4−ジアザビシクロ［2,2,2］オクタン、1,8−ジアザビ
シクロ［5,4,0］ウンデセン−７などが挙げられる。適
当な酸としては、有機酸（例えば、蟻酸、酢酸、プロピ
オン酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸など）、無
機酸（例えば、塩酸、臭化水素酸、沃化水素酸、硫酸な
ど）およびルイス酸（例えば、三臭化ホウ素など）など
が挙げられる。
反応は、通常、水、アルコール（例えば、メタノー
ル、エタノールなど）、塩化メチレン、テトラヒドロフ
ラン、それらの混合物、その他反応に悪影響を及ぼさな
い溶媒などの溶媒中で行われる。液状の塩基または酸は
溶媒としても用いることができる。反応温度は特に限定
されず、通常、冷却ないし加温下で反応は行われる。
反応は、エステル部分、例えば、４−ニトロベンジ
ル、２−ヨードエチル、2,2,2−トリクロロエチルなど
の脱離に好適に用いることができる。脱離反応に適用で
きる還元方法としては化学還元および接触還元が挙げら
れる。
化学還元に用いられる適当な還元剤としては、金属
（例えば、錫、亜鉛、鉄など）または金属化合物（例え
ば、塩化クロム、酢酸クロムなど）と有機もしくは無機
酸（例えば、蟻酸、酢酸、プロピオン酸、トリフルオロ
酢酸、ｐ−トルエンスルホン酸、塩酸、臭化水素酸な
ど）との組合である。
接触還元に用いられる適当な溶媒としては、白金触媒
（例えば、白金板、白金海綿、白金黒、コロイド合金、
酸化白金、白金線など）、パラジウム触媒（例えば、パ
ラジウム海綿、パラジウム黒、酸化パラジウム、パラジ
ウム炭、コロイドパラジウム、パラジウム−硫酸バリウ
ム、パラジウム−炭酸バリウムなど）、ニッケル触媒
（例えば、還元ニッケル、酸化ニッケル、ラネーニッケ
ルなど）、コバルト触媒（例えば、還元コバルト、ラネ
ーコバルトなど）、鉄触媒（例えば、還元鉄、ラネー鉄
など）、銅触媒（例えば、還元銅、ラネー銅、ウルマン
銅など）などの慣用のものが挙げられる。
還元は、通常、水、アルコール（例えば、メタノー
ル、エタノール、プロパノールなど）、N,N−ジメチル
ホルムアミドまたはそれらの混合物など反応に悪影響を
及ぼさない慣用の溶媒中で行われる。さらに、化学還元
に用いられる前記酸が液状の場合、これらは溶媒として
も使用することができる。また、接触還元に用いられる
溶媒の適当な例としては、前記溶媒、その他ジエチルエ
ーテル、ジオキサン、テトラヒドロフランなどの慣用の
溶媒またはそれらの混合物が挙げられる。
反応温度は特に限定されず、通常、冷却ないし加温下
で反応は行われる。
この反応では、R1が低級アルコキシ基で置換されたア
リール基である化合物［I i］を原料化合物として用い
る場合、R1が水酸基で置換されたアリール基である化合
物［I j］が反応条件によって得られることがある。こ
れらの場合もこの反応の範囲に含まれるものである。
製造法６ 化合物［I k］またはその塩は化合物［I j］またはそ
のカルボキシ基における反応性誘導体またはその塩をア
ミンまたはホルムアミドおよびアルカリ金属アルコキシ
ドと反応させることによって製造することができる。
「アミン」の適当な例としては、アンモニア、低級ア
ルキルアミン、アリールアミン、シクロ（低級）アルキ
ルアミン、低級アルキルヒドロキシルアミン、アミノ
酸、含窒素複素環式化合物などが挙げられる。
低級アルキルアミンとしては、モノ−またはジ（低
級）アルキルアミン、例えば、メチルアミン、エチルア
ミン、プロピルアミン、イソプロピルアミン、ブチルア
ミン、イソブチルアミン、ペンチルアミン、ヘキシルア
ミン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジプロピルア
ミン、ジブチルアミン、ジ−イソプロピルアミン、ジペ
ンチルアミン、ジヘキシルアミンなどが挙げられ、それ
らの中でもメチルアミンまたはジメチルアミンが好まし
い。
アリールアミンとしては、アニリン、ナフチルアミン
などが挙げられる。シクロ（低級）アルキルアミンとし
てはシクロプロピルアミン、シクロブチルアミン、シク
ロペンチルアミン、シクロヘキシルアミンなどが挙げら
れ、それらの中でも好ましいものはシクロプロピルアミ
ンである。
低級アルキルヒドロキシルアミンとしては、メチルヒ
ドロキシルアミン、エチルヒドロキシルアミン、プロピ
ルヒドロキシルアミン、ブチルヒドロキシルアミン、イ
ソプロピルヒドロキシルアミンなどが挙げられ、それら
の中でもメチルヒドロキシルアミンが好ましい。
アミノ酸としては、グリシン、アラニン、β−アラニ
ン、イソロイシン、チロシンなどが挙げられ、それらの
中でもグリシンが好ましい。
含窒素複素環式化合物としては、Ｎ含有またはＮおよ
びＳ含有またはＮおよびＯ含有５〜６員の飽和複素環式
化合物、例えば、ピロリジン、イミダゾリジン、ピペリ
ジン、ピペラジン、Ｎ−（低級）アルキルピペラジン
（例えば、Ｎ−メチルピペラジン、Ｎ−エチルピペラジ
ンなど）、モルホリン、チオモルホリンなどが挙げら
れ、それらの中でもピロリジンまたはＮ−メチルピペラ
ジンが好ましい。
「アルカリ金属アルコキシド」の適当な例としては、
ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウ
ムｔ−ブトキシドなどが挙げられる。
化合物［I j］のカルボキシ基における適当な反応性
誘導体としては、エステル、酸ハロゲン化物、酸無水物
などが挙げられる。反応性誘導体の適当な例としては酸
ハロゲン化物（例えば、酸塩化物、酸臭化物など）；対
称形酸無水物;1,1′−カルボニルジイミダゾールあるい
は脂肪族酸（例えば、酢酸、ピバル酸など）などの酸ま
たは置換燐酸（例えば、ジアルキル燐酸、ジフェニル燐
酸など）との混合酸無水物；低級アルキルエステル（例
えばメチルエステル、エチルエステル、プロピルエステ
ル、ヘキシルエステルなど）、置換または無置換アル
（低級）アルキルエステル（例えばベンジルエステル、
ベンズヒドリルエステル、ｐ−クロロベンジルエステル
など）、置換または無置換アリールエステル（例えばフ
ェニルエステル、トリルエステル、４−ニトロフェニル
エステル、2,4−ジニトロフェニルエステル、ペンタク
ロロフェニルエステル、ナフチルエステルなど）などの
エステルあるいはN,N−ジメチルヒドロキシルアミン、
Ｎ−ヒドロキシスクシンイミド、Ｎ−ヒドロキシフタル
イミドまたは１−ヒドロキシ−６−クロロ−1H−ベンゾ
トリアゾールとのエステルなどが挙げられる。
反応は、通常、水、アセトン、ジオキサン、クロロホ
ルム、塩化メチレン、塩化エチレン、テトラヒドロフラ
ン、ホルムアミド、酢酸エチル、N,N−ジメチルホルム
アミド、ピリジン、その他反応に悪影響を及ぼさない有
機溶媒などの慣用の溶媒中で行われる。これらの溶媒の
中、親水性溶媒は水との混合物として用いることができ
る。
反応に化合物［I j］を遊離酸の形で用いる場合、慣
用の縮合剤、例えば、N,N′−ジシクロヘキシルカルボ
ジイミド、Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ′−モルホリノエチ
ルカルボジイミド、Ｎ−エチル−Ｎ′−（３−ジメチル
アミノプロピル）カルボジイミド、塩化チオニル、塩化
オキサリル、低級アルコキシカルボニルハロゲン化物
（例えば、クロロ蟻酸エチル、クロロ蟻酸イソブチルな
ど）、１−（ｐ−クロロベンゼンスルホニルオキシ）−
６−クロロ−1H−ベンゾトリアゾールなどの存在下で行
うことが好ましい。反応は、また、慣用の塩基、例えば
トリエチルアミン、ピリジン、水酸化ナトリウムなどの
存在下で行うことが好ましい。
反応温度は特に限定されず、冷却ないし加熱下で反応
は行われる。
製造法７ 化合物［I m］またはその塩は化合物［I l］またはそ
の塩を脱水剤と反応させることにより製造することがで
きる。
脱水剤の適当な例としては、燐化合物（例えば、五酸
化燐、五塩化燐、オキシ塩化燐など）、塩化チオニル、
酸無水物（例えば、無水酢酸など）、ホスゲン、塩化ア
リールスルホニル（例えば、塩化ベンゼンスルホニル、
塩化ｐ−トルエンスルホニルなど）、塩化メタンスルホ
ニル、スルファミン酸、スルファミン酸アンモニウム、
N,N′−ジシクロヘキシルカルボジイイド、ハロゲン化
低級アルコキシカルボニル（例えば、クロロ蟻酸エチル
など）などが挙げられる。
反応は、通常、アセトニトリル、塩化メチレン、塩化
エチレン、ベンゼン、N,N−ジメチルホルムアミド、ピ
リジン、その他反応に悪影響を及ぼさない有機溶媒など
の慣用の溶媒中で行われる。
さらに、前記脱水剤が液状の場合、それらは溶媒とし
ても使用することができる。
反応温度は特に限定されず、加温ないし加熱下で反応
は行われる。
この反応では、塩化メチルスルホニルを脱水剤とし
て、またR1が水酸基で置換されたアリール基および／ま
たはR3がアミノ基で置換されたアリール基である化合物
［I l］を原料化合物として用いる場合、R1がメチルス
ルホニルオキシ基で置換されたアリール基および／また
はR3がメチルスルホニルアミノ基で置換されたアリール
基である化合物［I m］が反応条件によって得られるこ
とがある。これらの場合もこの反応の範囲に含まれるも
のである。
製造法８ 化合物［I o］またはその塩は化合物［I n］またはそ
の塩を還元剤と反応させることによって製造することが
できる。
適当な還元剤としては、ジボラン、水素化アルミニウ
ムリチウムなどが挙げられる。
反応は、通常、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、その他反応に悪影響を及ぼさない有機溶媒などの慣
用の溶媒中で行われる。
反応温度は特に限定されず、冷却ないし加熱下で反応
は行われる。
製造法９ 化合物［I p］は下記の方法によって製造することが
できる。
すなわち、１）化合物［I j］またはそのカルボキシ
基における反応性誘導体またはその塩をまず化合物［I
V］と反応させ、次いで、２）得られた生成物を加水分
解に付す。
化合物［I j］のカルボキシ基における反応性誘導体
の適当な例としては、酸ハロゲン化物（例えば、酸塩化
物、酸臭化物など）などが挙げられる。
第一の工程では、反応は塩基、例えばアルカリ金属
（例えば、リチウム、ナトリウム、カリウムなど）、ア
ルカリ土類金属（例えば、カルシウム、マグネシウムな
ど）、水素化アルカリ金属（例えば、水素化ナトリウム
など）、水素化アルカリ土類金属（例えば、水素化カル
シウムなど）、アルカリ金属アルコキシド（例えば、ナ
トリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウム
ｔ−ブトキシドなど）、アルカリ土類金属アルコキシド
（例えば、マグネシウムメトキシド、マグネシウムエト
キシドなど）などの存在下で行うことが好ましい。
反応は、通常、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサンなどの反応に悪影響を及ぼさない溶媒中
で行われる。
反応温度は特に限定されず、冷却ないし加熱下で反応
は行われる。
この反応では、式 （式中、R1、R3、R4はそれぞれ前記定義の通りである）
で表わされる化合物またはその塩が得られることがあ
る。
化合物［I z］またはその塩をさらに加水分解に付し
て、化合物［I p］またはその塩を得る。
加水分解は酸の存在下で行うことが好ましい。
適当な酸としては製造法５で示したものと同じものを
例示することができる。
この加水分解の反応様式および反応条件は製造法５で
説明したものを参照することができる。
製造法10 化合物［I q］またはその塩は化合物［I p］またはそ
の塩を化合物［Ｖ］と反応させることによって製造する
ことができる。
この反応はタリウム（III）塩（例えば、硝酸タリウ
ム（III）など）などの存在下で行うことが好ましい。
反応は、通常、ジオキサン、テトラヒドロフラン、そ
の他反応に悪影響を及ぼさない有機溶媒などの溶媒中で
行われる。
反応温度は特に限定されず、室温または加温ないし加
熱下で反応を行うことが好ましい。
製造法11 化合物［I r］またはその塩は化合物［VI a］または
その塩を亜硝酸化合物と反応させることによって製造す
ることができる。
化合物［VI a］の適当な塩としては化合物［Ｉ］で示
したものと同じものを例示することができる。
適当な亜硝酸化合物の例としては亜硝酸アルカリ金属
（例えば、亜硝酸ナトリウム、亜硝酸カリウムなど）、
亜硝酸アルキル（例えば、亜硝酸ｔ−ブチルなど）など
が挙げられる。
この反応は、通常、塩化第二銅、次亜燐酸などの存在
下で行われる。
反応は、通常、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ア
セトニトリル、その他反応に悪影響を及ぼさない有機溶
媒などの溶媒中で行われる。
反応温度は特に限定されず、冷却ないし加熱下で反応
は行われる。
製造法12 化合物［I t］またはその塩は化合物［I s］またはそ
の塩を酸化剤と反応させることによって製造することが
できる。
この反応は、製造法４と実質的に同様に行われるの
で、この反応の反応様式および反応条件（例えば、溶
媒、反応温度など）も製造法４に示した通りでよい。
この反応では、R2が低級アルキルチオ基および／また
はR3が低級アルキルチオ基で置換されたアリール基また
は低級アルキルチオ基で置換された複素環基である化合
物［I s］を原料化合物として用いる場合、R2が低級ア
ルキルスルフィニル基または低級アルキルスルホニル基
および／またはR3が低級アルキルスルフィニル基または
低級アルキルスルホニル基で置換されたアリール基また
は同様に置換された複素環基である化合物［I t］が反
応条件によって得られることがある。これらの場合もこ
の反応の範囲に含まれるものである。
製造法13 化合物［I v］またはその塩は化合物［I u］またはそ
の塩を還元することによって製造することができる。
反応は化学還元および接触還元を含み、これらは常法
によって行われる。
化学還元に用いられる還元剤の適当な例としては、金
属（例えば、錫、亜鉛、鉄など）、前記金属および／ま
たは金属化合物（例えば、塩化クロム、酢酸クロムな
ど）と有機もしくは無機酸（例えば、蟻酸、酢酸、プロ
ピオン酸、トリフルオロ酢酸、ｐ−トルエンスルホン
酸、塩酸、臭化水素酸など）との組合せ、前記金属およ
び／または金属化合物と塩基（例えば、アンモニア、塩
化アンモニウム、水酸化ナトリウムなど）との組合せ、
水素化金属化合物、例えば、水素化アルミニウム化合物
（例えば、水素化アルミニウムリチウム、水素化アルミ
ニウムナトリウム、水素化アルミニウム、水素化トリメ
トキシアルミニウムリチウム、水素化トリ−ｔ−ブトキ
シアルミニウムリチウムなど）、水素化硼素化合物（例
えば、水素化硼素ナトリウム、水素化硼素リチウム、水
素化シアノ硼素ナトリウム、水素化硼素テトラメチルア
ンモニウム、ボラン、ジボランなど）、燐化合物（例え
ば、三塩化燐、三臭化燐、トリフェニルホスフィン、ト
リエチルホスフィンなど）などが挙げられる。
接触還元に用いられる接触の適当な例としては、白金
触媒（例えば、白金板、白金海綿、白金黒、コロイド白
金、酸化白金、白金線など）、パラジウム触媒（例え
ば、パラジウム海綿、パラジウム黒、酸化パラジウム、
パラジウム炭、コロイドパラジウム、パラジウム−硫酸
バリウム、パラジウム−炭酸バリウムなど）、ニッケル
触媒（例えば、還元ニッケル、酸化ニッケル、ラネーニ
ッケルなど）、コバルト触媒（例えば、還元コバルト、
ラネーコバルトなど）、鉄触媒（例えば、還元鉄、ラネ
ー鉄など）、銅触媒（例えば、還元銅、ラネー銅、ウル
マン銅など）などの慣用のものが挙げられる。
還元は、通常、触媒の存在下で行われる。使用される
溶媒の適当な例としては、水、アルコール（例えば、メ
タノール、エタノール、プロパノールなど）、アセトニ
トリル、その他の慣用の有機溶媒、例えば、ジエチルエ
ーテル、ジオキサン、テトラヒドロフランなど、または
それらの混合物などが挙げられる。
反応温度は特に限定されず、加温ないし加熱下で反応
を行うことが好ましい。
製造法14 化合物［I w］またはその塩は化合物［VI b］または
その塩をアシル化剤と反応させることによって製造する
ことができる。
化合物［VI b］の適当な塩としては、化合物［Ｉ］で
示したものと同じものを例示することができる。
アシル化剤としては、式R5−OH（式中、R5は既に述べ
た如きアシル基またはその反応性誘導体を示す）で表わ
される有機酸が挙げられる。
有機酸の反応性誘導体の適当な例としては、酸ハロゲ
ン化物（例えば、酸塩化物、酸臭化物など）、酸アジ
ド、酸無水物、活性アミド、活性エステルなどの慣用の
ものが挙げられる。
遊離酸をアシル化剤として用いる場合、アシル化反応
は、N,N′−ジシクロヘキシルカルボジイミドなどの慣
用の縮合剤の存在下で行うことが好ましい。
反応は、通常、水、アセトン、ジオキサン、クロロホ
ルム、塩化メチレン、アセトニトリル、塩化エチレン、
テトラヒドロフラン、酢酸エチル、N,N−ジメチルホル
ムアミド、ピリジン、その他反応に悪影響を及ぼさない
有機溶媒またはそれらの混合物などの慣用の溶媒中で行
われる。
反応は、また、トリエチルアミン、ピリジン、水酸化
ナトリウムなどの慣用の塩基の存在下で行うことが好ま
しい。
反応温度は特に限定されず、冷却ないし加熱下で反応
は行われる。
製造法15 化合物［I y］またはその塩は化合物［I x］またはそ
の塩をアルキル化剤と反応させることによって製造する
ことができる。
適当なアルキル化剤としては、低級アルキルハライド
（例えば、沃化メチル、臭化エチルなど）、カルボニル
化合物、例えば、脂肪族ケトン（例えば、アセトン、メ
チルエチルケトンなど）、カルボアルデヒド（例えば、
ホルムアルデヒド、エタナールなど）、オルトカルボン
酸エステル（例えば、オルト蟻酸トリエチルなど）など
と化学還元剤および接触還元剤を含む還元剤（例えば、
蟻酸、水素化硼素ナトリウム、水素化シアノ硼素ナトリ
ウム、パラジウム炭など）の組合せが挙げられる。
低級アルキルハライドをアルキル化剤として用いる場
合、反応はアルカリ金属（例えば、ナトリウム、カリウ
ムなど）、アルカリ土類金属（例えば、マグネシウム、
カルシウムなど）、それらの水素化物もしくは水酸化物
もしくは炭酸塩もしくは炭酸水素塩などの塩基の存在下
で行うことが好ましい。
反応は、通常、水、ジオキサン、アルコール（例え
ば、メタノール、エタノールなど）、アセトニトリル、
テトラヒドロフラン、N,N−ジメチルホルムアミドまた
はそれらの混合物など反応に悪影響を及ぼさない慣用の
溶媒中で行われる。さらに前記アルキル化剤が液状の場
合、これらは溶媒としても用いることができる。
反応温度は特に限定されず、冷却ないし加熱下で反応
は行われる。
この反応では、R2がアミノメチル基および／またはR3
がアミノ基もしくはアシルアミノ基で置換されたアリー
ル基である化合物［I x］を原料化合物として用いる場
合、R2が低級アルキルアミノメチル基および／またはR3
が低級アルキルアミノ基もしくは低級アルキル（アシ
ル）アミノ基で置換されたアリール基である化合物［I
y］が反応条件によって得られることがある。これらの
場合もこの反応の範囲に含まれるものである。
製造法16 化合物［Ｉ−２］またはその塩は化合物［Ｉ−１］ま
たはその塩をアシル化剤と反応させることによって製造
することができる。
この反応は、製造法14と実質的に同様に行うことがで
きるので、この反応の反応様式および反応条件（例え
ば、溶媒、反応温度など）も製造法14に示した通りでよ
い。
この反応では、R1がアミノ基もしくは水酸基で置換さ
れたアリール基および／またはR2がアミノメチル基であ
る化合物［Ｉ−１］を原料化合物として用いる場合、R1
がアシルアミノ基もしくはアシルオキシ基で置換された
アリール基および／またはR2がアシルアミノメチル基で
ある化合物［Ｉ−２］が反応条件によって得られること
がある。これらの場合もこの反応の範囲に含まれるもの
である。
製造法17 化合物［Ｉ−４］またはその塩は、化合物［Ｉ−３］
またはその塩をアシル化剤と反応させることによって製
造することができる。
この反応は、製造法14と実質的に同様に行われるの
で、この反応の反応様式および反応条件（例えば、溶
媒、反応温度など）も製造法14に示した通りでよい。
この反応において、R3がアミノ基もしくは水酸基で置
換されたアリール基および／またはR2がアミノメチル基
である化合物［Ｉ−３］を原料化合物として用いる場
合、R3がアシルアミノ基もしくはアシルオキシ基で置換
されたアリール基および／またはR2がアシルアミノメチ
ル基である化合物［Ｉ−４］が反応条件によって得られ
ることがある。これらの場合もこの反応の範囲に含まれ
るものである。
製造法18 化合物［Ｉ−６］またはその塩は化合物［Ｉ−５］ま
たはその塩をアルキル化剤と反応させることによって製
造することができる。
この反応は、製造法15と実質的に同様に行われるの
で、この反応の反応様式および反応条件（例えば、溶
媒、反応温度など）も製造法15に示した通りである。
この反応では、R2がアミノメチル基および／またはR1
がアミノ基もしくはアシルアミノ基で置換されたアリー
ル基である化合物［Ｉ−５］を原料化合物として用いる
場合、R2が低級アルキルアミノメチル基および／または
R1が低級アルキルアミノ基もしくは低級アルキル（アシ
ル）アミノ基で置換されたアリール基である化合物［Ｉ
−６］が反応条件によって得られる。これらの場合もこ
の反応の範囲に含まれるものである。
製造法19 化合物［Ｉ−８］またはその塩は化合物［Ｉ−７］ま
たはその塩を脱アシル化反応に付すことによって製造す
ることができる。
この反応は、無機酸（例えば、塩酸、臭化水素酸な
ど）および有機酸（例えば、トリフルオロ酢酸、メタン
スルホン酸、トルエンスルホン酸など）の存在下で行う
ことが好ましい。
反応は、通常、水、アルコール（例えば、メタノー
ル、エタノールなど）、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン、その他反応に悪影響を及ぼさない有機溶媒またはそ
れらの混合物などの慣用の溶媒中で行われる。
反応温度は特に限定されず、冷却ないし加熱下で反応
は行われる。
この反応では、R3がアシルアミノ基もしくは低級アル
キル（アシル）アミノ基で置換されたアリール基である
化合物［Ｉ−７］を原料化合物として使用する場合、R3
がアミノ基もしくは低級アルキルアミノ基で置換された
アリール基である化合物［Ｉ−８］が反応条件によって
得られることがある。この場合もこの反応の範囲に含ま
れるものである。
製造法20 化合物［Ｉ−10］またはその塩は化合物［Ｉ−９］ま
たはその塩を脱アシル化反応に付すことによって製造す
ることができる この反応は、製造法19と実質的に同様に行われるの
で、この反応の反応様式および反応条件（例えば、溶
媒、反応温度など）も製造法19に示した通りでよい。
この反応では、R1がアシルアミノ基もしくは低級アル
キル（アシル）アミノ基で置換されたアリール基である
化合物［Ｉ−９］を原料化合物として用いる場合、R1が
アミノ基もしくは低級アルキルアミノ基で置換されたア
リール基である化合物［Ｉ−10］が反応条件によって得
られることがある。この場合もこの反応の範囲に含まれ
るものである。
製造法21 化合物［Ｉ−11］またはその塩は化合物［I m］また
はその塩をアジド化合物と反応させることによって製造
することができる。
適当なアジド化合物としては、アルカリ金属アジド
（例えば、ナトリウムアジド、カリウムアジドなど）、
アルカリ土類金属アジド（例えば、カルシウムアジドな
ど）、アジ化水素などが挙げられる。
反応は、通常、テトラヒドロフラン、ジオキサン、N,
N−ジメチルホルムアミド、その他反応に悪影響を及ぼ
さない有機溶媒などの慣用の溶媒中で行われる。
反応温度は特に限定されず、加温ないし加熱下で反応
は行われる。
製造法22 化合物［Ｉ−12］は下記の方法によって製造すること
ができる。
すなわち、１）化合物［VI］またはその塩はまず亜硝
酸化合物と反応させて、次いで２）得られた生成物をハ
ロゲン化第一銅と反応させる。
化合物［VI］の塩の適当な例としては、化合物［Ｉ］
で示したものと同じものが挙げられる。
適当な亜硝酸化合物としては亜硝酸アルカリ金属（例
えば、亜硝酸ナトリウム、亜硝酸カリウムなど）、亜硝
酸アルキル（例えば、亜硝酸ｔ−ブチルなど）などが挙
げられる。
適当なハロゲン化第一銅としては、塩化第一銅、臭化
第一銅などが挙げられる。
第一の工程において、反応は酸（例えば、硫酸など）
の存在下で行うことが好ましい。
反応は、通常、水、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン、アセトニトリル、その他反応に悪影響を及ぼさない
有機溶媒またはそれらの混合物などの溶媒中で行われ
る。
反応温度は特に限定されず、冷却ないし加温下で反応
は行われる。
第二の工程において、反応はハロゲン化アルカリ金属
（例えば、臭化ナトリウムなど）、および無機酸（例え
ば、臭化水素酸など）の存在下で行うことが好ましい。
反応は、通常、水、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン、その他反応に悪影響を及ぼさない有機溶媒などの溶
媒中で行われる。
反応温度は特に限定されず、加温ないし加熱下で反応
は行われる。
製造法23 化合物［I m］またはその塩は化合物［Ｉ−12］また
はその塩をシアン化第一銅と反応させることにより製造
することができる。
反応は、通常、ピリジン、キノリン、N,N−ジメチル
ホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、その他反応に悪
影響を及ぼさない有機溶媒などの慣用の溶媒中または溶
媒を用いずに行われる。
反応温度は特に限定されず、加温ないし加熱下で反応
は行われる。
製造法24 化合物［Ｉ−12］またはその塩は化合物［Ｉ−13］ま
たはその塩をハロゲン原子と反応させることにより製造
することができる。
反応は、通常、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩
化炭素、その他反応に悪影響を及ぼさない有機溶媒など
の慣用の溶媒中で行われる。
反応温度は特に限定されず、冷却ないし加温下で反応
は行われる。
製造法25 化合物［I a］またはその塩および／または化合物［I
b］またはその塩は化合物［VII］またはその塩を化合
物［III］またはその塩と反応させることにより製造す
ることができる。
化合物［III］または［VII］の塩の適当なものとして
は、化合物［Ｉ］で示したものと同じものを例示するこ
とができる。
この反応は、製造法１と実質的に同様に行われるの
で、この反応様式および反応条件（例えば、溶媒、反応
温度など）も製造法１に示した通りでよい。
前記方法で得られた化合物は、粉末化、再結晶、カラ
ムクロマトグラフィー、再析出などの慣用の方法によっ
て単離・精製することができる。
目的化合物［Ｉ］とその塩は強い抗炎症、鎮痛、抗血
栓作用を有し、ヒトあるいは動物での炎症症状、種々の
疼痛、膠原病、自己免疫疾患、種々の免疫疾患、血栓症
の治療および／または予防に有用であり、特に関節・筋
肉の炎症と疼痛［たとえば、慢性関節リウマチ、リウマ
チ性脊椎炎骨関節炎、痛風性関節炎など］、炎症性皮膚
症状［たとえば、日焼、湿疹など］、炎症性眼症状［た
とえば、結膜炎など］、炎症が関与する肺疾患［たとえ
ば、喘息、気管支炎、ハト飼育者病、農夫肺など］、炎
症を伴う消化器症状［たとえば、アフタ性潰瘍、クロー
ン棒、萎縮性胃炎、変形性胃炎、潰瘍性大腸炎、小児脂
肪便症、限局性回腸炎、過敏性腸症候群など］、歯肉
炎、術後または外傷後の炎症、疼痛、腫張、発熱、炎症
に伴う疼痛などの症状特にリポキシゲナーゼ、シクロオ
キシゲナーゼ産物が因子であるもの、全身性エリテマト
ーデス、強皮症、多発性筋炎、結節性動脈周囲炎、リウ
マチ熱、シェーグレン症候群、ベーチェット病、甲状腺
炎、Ｉ型糖尿病、ネフローゼ症候群、再生不良性貧血、
重症筋無力症、ブドウ膜炎、接触性皮膚炎、乾癬、川崎
病、サルコイドーシス、ポジキン病などの治療および／
予防用剤として有用である。さらに、目的化合物は高血
糖または高脂血症が原因となる疾患、および循環器系疾
患または脳血管疾患の治療薬および／または予防薬とし
て有用であることが期待される。
目的化合物［Ｉ］の有用性を説明するために化合物
［Ｉ］の薬理試験データを以下に示す。
［Ａ］抗炎症作用 ラットのアジュバント関節炎に対する作用： （ｉ）試験方法： １群10匹の雌性スプラーグ・ドーリー系ラットを用い
た。ヒト結核菌（青山Ｂ株）0.5mgを流動パラフィン0.0
5mlに懸濁し右後肢足に皮下注射した。マイコバクテリ
アアジュバントの注射によって局所の変症性変化（一次
病変）が生じ、約10日後に、注射をした足および注射を
しなかった足の両方に二次病変が生じた。アジュバント
の注射前後の足容積の差が関節炎の指標であった。薬物
は１日目から１日１回、連続23日間経口投与した。
［Ｂ］鎮痛作用： ラットでのビール酵母による炎症性疼覚過敏： （ｉ）試験方法： １群10匹の雄性スプラーグ・ドーリー系ラットを用い
た。0.5％メチルセルロースに懸濁した５％ビール酵母
0.1mlを右後足に注射した。酵母を注射後３時間に足に
加圧し、ラットが足をひっこめた時の圧力を読んで疼痛
閾値を測定した。
酵母注射後２時間目に薬物を経口投与した。投与動物
の疼痛閾値を対照動物と比較した。
［Ｃ］抗リウマチ作用： マウスにおけるコラーゲン惹起性関節炎に対する作
用： （ｉ）試験方法： １群８匹の雄性DBA/1マウスを用いた。II型ウシコラ
ーゲンを0.1M酢酸に可溶化し、フロイントの完全アジュ
バント（CFA）に乳化した。CFA中のII型コラーゲン0.2m
gをマウスの尾根部に皮内投与した。21日後に同じ方法
で誘発した。誘発後10日目から薬物を１日１回、３週間
経口投与し、関節炎の肉眼的徴候を週１回観察した。関
節炎指数を用いて肢症状を０−３に段階づけし、関節腫
張と紅斑（段階１）、目に見える関節障害（段階２）、
検出しうる関節強直（段階３）とした。
［Ｄ］抗血栓作用： コラーゲン誘発性血小板凝集に対する作用： （ｉ）試験方法： ３×108/mlの血小板を含む多血小板血漿（PRP）を人
血から作った。PRP245μに薬液＊５μを加え、37℃
で２分間撹拌した。この溶液に凝集誘発剤としてコラー
ゲン（0.5μg/ml）５μを加えた。凝集計（NKK HEMA
−TRACER 1）を用いて凝集を測定した。抑制剤（試験化
合物）の活性をIC50値、すなわち血小板凝集反応を50％
抑制するに必要な投与量として表わした。
薬液＊…試験化合物をジメチルスルホキシドに溶解し
た。
［Ｅ］ウシII型コラーゲンに対する遅延型過敏生（DT
H）反応への作用 （ｉ）試験方法： 本試験には７匹の雄性DBA/1マウスを用いた。ヒト結
核菌株H37Rv（和光純薬工業株式会社、大阪、日本）を
含むフロイントの完全アジュバントに乳化したII型コラ
ーゲン125μｇを尾根部に投与しマウスを感作した。２
週間後にリン酸緩衝食塩液（PBS）中のII型コラーゲン
2.5mg/mlの0.04mlの誘発量を右後足の足底部に注射し、
0.04mlのPBSを左後足に注射して対照とした。誘発後24
時間に両後足の容積を容積計（室町MK−550）で測定し
た。
感作から休日を除いて毎日、薬物を経口投与した。
データは各試験の溶媒対照と比較した抑制率（％）で
表わした。
治療目的に投与する場合、この発明の化合物［Ｉ］お
よびその塩の一つを有効成分として、これを医薬として
許容される担体、例えば経口、非経口および外用に適し
た有機または無機の固形ないし液状賦形剤と配合した医
薬組成物の形で寄与する。これらの医薬組成物はカプセ
ル剤、錠剤、糖衣剤、顆粒剤、吸入剤、坐剤、溶液、懸
濁剤、乳剤などの形をとることができる。必要な場合、
これらの製剤に助剤、安定剤、湿潤剤または乳化剤、緩
衝剤、その他慣用の添加剤を加えることができる。
化合物［Ｉ］の投与量は、患者の年令、症状に応じて
増減することができるが、平均一回量として約0.1mg、1
mg、10mg、50mg、100mg、250mg、500mg、または1000mg
が前記諸疾患の治療目的に有効な量と考えられる。一般
に、一人当り日量として0.1mg/個体ないし1000mg/個体
を投与することができる。
下記の製造例および実施例によりこの発明をさらに詳
細に説明する。
製造例１ ４−（メチルチオ）アセトフェノン（1g）と水素化ナ
トリウム（60％、288mg）のN,N−ジメチルホルムアミド
（7ml）中混合物を室温で30分間撹拌する。混合物を０
℃に冷却し、シュウ酸ジエチル（0.98ml）を滴下する。
得られた混合物を室温で３時間撹拌し、氷水に注ぎ、希
塩酸で酸性とする。析出物を濾過し、水洗後、減圧乾燥
して、エチル ４−［４−（メチルチオ）フェニル］−
2,4−ジオキソブタノエート（1.6g）を淡褐色粉末とし
て得る。
融点:91−97℃ IR（ヌジョール）:3420,1735,1620,1595,1515cm-1 NMR（DMSO−d6,δ）:1.29（3H,t,J＝7Hz）,2.54（3H,
s）,4.25（2H,q,J＝7Hz）,6.78（1H,s）,7.35（2H,d,J
＝8.5Hz）,7.91（2H,d,J＝8.5Hz） Mass（m/z）:266（M+）,193 製造例１と同様にして下記の化合物（製造例２−１）
から２−７））を得る。
製造例２ １）１−［４−（メチルチオ）フェニル］−4,4,4−ト
リフルオロブタン−1,3−ジオン 融点:79−83℃ IR（ヌジョール）:1590（ブロード）,1490cm-1 NMR（DMSO−d6,δ）:2.57（3H,s）,7.0（1H,s）,7.42
（2H,d,J＝8.6Hz）,8.06（2H,d,J＝8.6Hz） Mass（m/z）:262（M+） ２）エチル ４−［５−（メチルチオ）−２−チエニ
ル］−2,4−ジオキソブタノエート 融点:33−45℃ IR（ヌジョール）:1730,1620,1560,1510cm-1 NMR（CDCl3,δ）:1.42（3H,t,J＝7Hz）,2.64（3H,s）,
4.38（2H,q,J＝7Hz）,6.84（1H,s）,6.95（1H,d,J＝4H
z）,7.27（1H,s）,7.63（1H,d,J＝4Hz） Mass（m/z）:272（M+） ３）エチル ４−［４−（ホルミルアミノ）フェニル］
−2,4−ジオキソブタノエート 融点:171−174℃（分解） IR（ヌジョール）:3300,1730,1700,1600,1525cm-1 Mass（m/z）:263（M+） ４）エチル ４−（４−アセチルフェニル）−2,4−ジ
オキソブタノエート 融点:81−82℃ IR（ヌジョール）:1725,1690,1600cm-1 NMR（CDCl3,δ）:1.43（3H,t,J＝7Hz）,2.67（3H,s）,
4.42（2H,q,J＝7Hz）,7.11（1H,s）,8.0−8.2（4H,m）,
15.13（1H,s） Mass（m/z）:262（M+） ５）エチル ４−［3,5−ジ（ｔ−ブチル）−４−ヒド
ロキシフェニル］−2,4−ジオキソブタノエート 融点:128−131℃ IR（ヌジョール）:3600,1730,1630,1595cm-1 NMR（DMSO−d6,δ）:1.35（3H,t,J＝7Hz）,1.43（18H,
s）,4.32（2H,q,J＝7Hz）,6.99（1H,s）,7.74（2H,s） ６）４−フルオロ−１−［４−（メチルチオ）フェニ
ル］ブタン−1,3−ジオン 融点:64−68℃ IR（ヌジョール）:1675,1595,1550cm-1 NMR（CDCl3,δ）:2.49（3H,s）,4.33（1H,s）,5.11（1
H,s）,6.38（1H,d,J＝3Hz）,7.17（2H,d,J＝9Hz）,7.74
（2H,d,J＝9Hz） ７）4,4−ジフルオロ−１−［４−（メチルチオ）フェ
ニル］ブタン−1,3−ジオン IR（ヌジョール）:1640,1595cm-1 Mass（m/z）:244（M+） 製造例３ ジエチルシアノメチルホスホネート（5.3ml）のテト
ラヒドロフラン（10ml）溶液を氷冷した水素化ナトリウ
ム（60％,1.3g）とテトラヒドロフラン（40ml）の混合
物に滴下する。混合物を５℃で15分間撹拌する。この混
合物に４−（メチルチオ）ベンズアルデヒド（5g）のテ
トラヒドロフラン（10ml）溶液を５〜10℃で加える。混
合物を室温で５時間撹拌し、酢酸エチルで希釈後、水洗
する。有機層を乾燥し、減圧濃縮する。残渣を少量のエ
タノールで洗浄し、乾燥して、３−［４−（メチルチ
オ）フェニル］アクリロニトリル（4.7g）を淡褐色結晶
として得る。
IR（ヌジョール）:2220,1615,1590,1490cm-1 NMR（DMSO−d6,δ）:2.51（3H,s）,6.40（1H,d,J＝16.7
Hz）,7.2−7.7（5H,m） Mass（m/z）:175（M+） 製造例４ ４−フルオロフェニルヒドラジン塩酸塩（4g）をナト
リウム（1.13g）のエタノール（50ml）溶液に加え、混
合物を１時間還流する。冷却した混合物に３−［４−
（メチルチオ）フェニル］アクリロニトリル（4.3g）を
加え、一夜還流する。酢酸エチルと水を加え、有機層を
分離し、乾燥、濃縮する。油状残渣（7.6g）をシリカゲ
ル（76g）カラムクロマトグラフィーに付し、トルエン
と酢酸エチルの混合溶媒（2:1）で溶出して、4,5−ジヒ
ドロ−１−（４−フルオロフェニル）−５−［４−（メ
チルチオ）フェニル］ピラゾール−３−アミン（5g）を
淡褐色結晶として得る。
融点:100−110℃ Mass（m/z）:301（M+） 製造例５ 4,5−ジヒドロ−１−（４−フルオロフェニル）−５
−［４−（メチルチオ）フェニル］ピラゾール−３−ア
ミン（1g）と酸化マンガン（IV）（1.16g）のジクロロ
メタン（100ml）中混合物を室温で２時間撹拌する。不
溶物を濾去し、濾液を濃縮乾固する。残渣（1g）をシリ
カゲル（16g）カラムクロマトグラフィーに付し、クロ
ロホルムと酢酸エチルの混合溶媒（5:1）で溶出して、
１−（４−フルオロフェニル）−５−［４−（メチルチ
オ）フェニル］ピラゾール−３−アミン（0.64g）を淡
褐色粉末として得る。
IR（ヌジョール）:3400,1600,1565,1515cm-1 NMR（DMSO−d6,δ）:2.46（3H,s）,4.97（2H,s）,5.82
（1H,s）,7.0−7.3（8H,m） Mass（m/z）:299（M+） 製造例６ 亜硝酸ナトリウム（3.6gfの水（18ml）溶液を含円氷
浴で冷却した４−フルオロ−２−ニトロアニリン（7g）
の濃塩酸（45ml）溶液に30分間かけて滴下する。混合物
を０℃で30分間撹拌する。次いで混合物に塩化第一鈴２
水和物（28.6g）の濃塩酸（24ml）溶液を５℃以下で１
時間かけて滴下する。析出物を濾取し、エーテルで洗浄
して、４−フルオロ−２−ニトロフェニルヒドラジン塩
酸塩（4.4g）を結晶物として得る。
融点：＞260℃ Mass（m/z）:171（M+） 製造例７ 二硫化炭素（4.6g）のテトラヒドロフラン（60ml）溶
液を４−（メチルチオ）アセトフェノン（10g）と60％
水素化ナトリウム（4.8g）のテトラヒドロフラン（100m
l）中混合物に室温で１時間かけて滴下する。混合物を4
0℃で２時間撹拌し、これにヨードメタン（1.71g）のテ
トラヒドロフラン（60ml）溶液を加える。混合物を40℃
で１時間、還流下で１時間撹拌する。これに水とクロロ
ホルムを加え、有機層を水洗し、乾燥後、減圧濃縮す
る。残渣をメタノールで洗浄して、１−［４−（メチル
チオ）フェニル］−3,3−ビス（メチルチオ）−２−プ
ロペン−１−オン（10.5g）を結晶として得る。
融点:119−122℃ IR（ヌジョール）:1620,1590,1550,1495cm-1 NMR（CDCl3,δ）:2.52（3H,s）,2.53（3H,s）,2.56（3
H,s）,6.74（1H,s）,7.26（2H,d,J＝7Hz）,7.83（2H,d,
J＝7Hz） Mass（m/z）:270（M+） 製造例８ エチル ４−（４−トリル）−2,4−ジオキソブタノ
エート（4.7g）と４−フロオロフェニルヒドラジン塩酸
塩（3.6g）のジオキサン（35ml）−エタノール（35ml）
中混合物を５時間還流する。混合物を濾過し、濾液を減
圧濃縮する。油状残渣（8g）をシリカゲル（130g）カラ
ムクロマトグラフィーに付し、クロロホルムで溶出し
て、１−（４−フルオロフェニル）−５−（４−トリ
ル）ピラゾール−３−カルボン酸エチルエステル（2.7
g）を油状物として得る。
IR（薄膜）:1720,1610,1510cm-1 NMR（CDCl3,δ）:1.42（3H,t,J＝7Hz）,2.31（3H,s）,
4.40（2H,q,J＝7Hz）,6.8−7.4（9H,m） 製造例８と同様にして下記の化合物（製造例９−１）
から９−３））を得る。
製造例９ １）１−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メトキ
シフェニル）ピラゾール−３−カルボン酸エチルエステ
ル 融点:91−93℃ IR（ヌジョール）:1715,1610,1510cm-1 NMR（CDCl3,δ）:1.38（3H,t,J＝7Hz）,3.81（3H,s）,
4.45（2H,q,J＝7Hz）,6.8−7.4（9H,m） Mass（m/z）:340（M+） ２）1.5−ビス（４−メトキシフェニル）ピラゾール−
３−カルボン酸エチルエステル IR（薄膜）:1730,1610,1510cm-1 ３）５−（４−シアノフェニル）−１−（４−フルオロ
フェニル）ピラゾール−３−カルボン酸エチルエステル 融点:147−148℃ IR（ヌジョール）:2230,1735,1610,1510cm-1 NMR（CDCl3,δ）:1.3（3H,t,J＝7Hz）,4.46（2H,q,J＝7
Hz）,7.0−7.8（9H,m） Mass（m/z）:335（M+） 製造例10 １−（４−フルオロフェニル）−５−（４−トリル）
ピラゾール−３−カルボン酸エチルエステル（2.7g）と
水酸化カリウム（1.1g）のメタノール（40ml）中混合物
を30分間還流する。溶媒を留去し、残渣を水に溶解し、
酢酸エチルで洗浄する。水層を希塩酸で酸性とし、酢酸
エチルで抽出する。抽出物を水洗し、乾燥、濃縮して、
１−（４−フルオロフェニル）−５−（４−トリル）ピ
ラゾール−３−カルボン酸（2.1g）を結晶として得る。
融点:170−173℃ IR（ヌジョール）:2750,2600,1690,1600,1510cm-1 Mass（m/z）:296（M+） 実施例１ エチル ４−［４−（メチルチオ）フェニル］−2,4
−ジオキソブタノエート（1g）と４−フルオロフェニル
ヒドラジン塩酸塩（0.67g）のエタノール（10ml）およ
びジオキサン（10ml）中混合物を５時間還流する。溶媒
を留去し、残渣をクロロホルムに溶解し、水洗する。有
機層を硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮する。残渣（1.
6g）をシリカゲル（30g）カラムクロマトグラフィーに
付し、トルエンと酢酸エチルの混合溶媒（20:1）で溶出
して、１−（４−フルオロフェニル）−３−［４−（メ
チルチオ）フェニル］ピラゾール−５−カルボン酸エチ
ルエステル（0.11g）を得る。
融点:100−104℃ IR（ヌジョール）:1730,1600,1515cm-1 NMR（CDCl3,δ）:1.29（3H,t,J＝7Hz）,2.51（3H,s）,
4.27（2H,q,J＝7Hz）,7.1−7.9（9H,m） Mass（m/z）:356（M+） さらに、同じ溶媒で溶出した第二の画分を減圧濃縮し
て、１−（４−フルオロフェニル）−５−［４−（メチ
ルチオ）フェニル］ピラゾール−３−カルボン酸エチル
エステル（1.1g）を淡褐色の結晶として得る。
融点:100−102℃ IR（ヌジョール）:1710,1600,1510cm-1 NMR（CDCl3,δ）:1.42（3H,t,J＝7Hz）,2.48（3H,s）,
4.45（2H,q,J＝7Hz）,7.0−7.4（9H,m） Mass（m/z）:356（M+） 実施例２ １−（４−フルオロフェニル）−５−［４−（メチル
チオ）フェニル）ピラゾール−３−カルボン酸エチルエ
ステル（0.95g）と30％過酸化水素溶液（0.79ml）の酢
酸（9.5ml）溶液を70℃で３時間撹拌する。混合物を氷
水浴中で冷却し、析出物を濾過し、エタノールで洗浄し
て、１−（４−フルオロフェニル）−５−［４−（メチ
ルスルホニル）フェニル］ピラゾール−３−カルボン酸
エチルエステル（0.94g）を無色結晶として得る。
融点:210−212℃ IR（ヌジョール）:1715,1600,1515cm-1 NMR（DMSO−d6,δ）:1.32（3H,t,J＝7Hz）,3.25（3H,
s）,4.35（2H,q,J＝7Hz）,7.3−7.6（7H,m）,7.92（2H,
d,J＝8.5Hz） Mass（m/z）:338（M+） 実施例３ １−（４−フルオロフェニル）−５−［４−（メチル
スルホニル）フェニル］ピラゾール−３−カルボン酸エ
チルエステル（4.4g）と4N水酸化ナトリウム（5.7ml）
のテトラヒドロフラン（20ml）、エタノール（10ml）お
よびジオキサン（20ml）中混合物を室温で一夜撹拌す
る。水（50ml）を加え、混合物を塩酸で酸性とする。析
出物を濾過し、水洗して、１−（４−フルオロフェニ
ル）−５−［４−（メチルスルホニル）フェニル］ピラ
ゾール−３−カルボン酸（4.1g）を無色結晶として得
る。
融点:232−234℃ IR（ヌジョール）:1695,1600,1510cm-1 NMR（DMSO−d6,δ）:3.25（3H,s）,7.2−7.6（7H,m）,
7.92（2H,d,J＝8.3Hz）,13.1（1H,s） Mass（m/z）:360（M+） 実施例４ １−（４−フルオロフェニル）−５−［４−（メチル
スルホニル）フェニル］ピラゾール−３−カルボン酸
（1.1g）と五塩化燐（0.67g）のトルエン（16ml）とテ
トラヒドロフラン（9ml）中混合物を室温で２時間撹拌
する。不溶物を濾過し、濾液を濃縮して、１−（４−フ
ルオロフェニル）−５−［４−（メチルスルホニル）フ
ェニル］ピラゾール−３−カルボニルクロリド（1.37
g）を油状物として得る。
IR（薄膜）:1760,1605,1510cm-1 25％メチルアミン水溶液（2ml）、氷水（5ml）および
テトラヒドロフラン（10m）の混合物を上記酸塩化物に
加える。混合物を一夜撹拌する。析出物を濾過し、濾液
を酢酸エチルで抽出する。抽出物を水洗後、乾燥、濃縮
する。残渣（0.21g）と析出物（0.83g）を合わせ、酢酸
エチルとエタノールの混合物から再結晶して、１−（４
−フルオロフェニル）−Ｎ−メチル−５−［４−（メチ
ルスルホニル）フェニル］ピラゾール−３−カルボキサ
ミド（1.0g）を無色結晶として得る。
融点:271−273℃ IR（ヌジョール）:3400,1660,1605,1550,1535,1510cm-1 NMR（DMSO−d6,δ）:2.78（3H,d,J＝4.6Hz）,3.25（3H,
s）,7.16（1H,s）,7.3−7.6（6H,m）,7.91（2H,d,J＝8.
3Hz）,8.35（1H,q,J＝4.6Hz） Mass（m/z）:373（M+） 実施例４と同様にして下記の化合物（実施例５−１）
から５−12））を得る。
実施例５ １）１−（４−フルオロフェニル）−５−［４−（メチ
ルスルホニル）フェニル］ピラゾール−３−カルボキサ
ミド 融点:215−217℃ IR（ヌジョール）:3470,3200,1680,1600,1515cm-1 NMR（DMSO−d6,δ）:3.25（3H,s）,7.16（1H,s）,7.2−
7.6（7H,m）,7.77（1H,s）,7.91（2H,d,J＝8.5Hz） Mass（m/z）:359（M+）,341 ２）１−（４−フルオロフェニル）−N,N−ジメチル−
３−［４−（メチルスルホニル）フェニル］ピラゾール
−５−カルボキサミド 融点:192−193℃ IR（ヌジョール）:1640,1605,1510cm-1 NMR（DMSO−d6,δ）:2.95（3H,s）,2.96（3H,s）,3.27
（3H,s）,7.3−8.3（9H,m） Mass（m/z）:387（M+） ３）１−（４−フルオロフェニル）−３−［４−（メチ
ルスルホニル）フェニル］ピラゾール−５−カルボキサ
ミド 融点:270−271℃ IR（ヌジョール）:3380,3200,1670,1625,1605,1515cm-1 NMR（DMSO−d6,δ）:3.26（3H,s）,7.2−8.2（11H,m） Mass（m/z）:359（M+） ４）５−［3,5−ジ（ｔ−ブチル）−４−ヒドロキシフ
ェニル］−１−（４−フルオロフェニル）ピラゾール−
３−カルボキサミド 融点:247−249℃ IR（ヌジョール）:3650,3500,3350,1660,1510cm-1 NMR（DMSO−d6,δ）:1.26（18H,s）,6.96（3H,s）,7.2
−7.7（6H,m） Mass（m/z）:409（M+） ５）Ｎ−フェニル−１−（４−フルオロフェニル）−５
−［４−（メチルチオ）フェニル］ピラゾール−３−カ
ルボキサミド 融点:200−205℃（分解） IR（ヌジョール）:3400,1680,1595,1530,1510cm-1 NMR（DMSO−d6,δ）:2.46（3H,s）,7.0−7.6（12H,m）,
7.83（2H,d,J＝8Hz）,10.19（1H,s） Mass（m/z）:409（M+） ６）１−（４−フルオロフェニル）−５−［４−（メチ
ルチオ）フェニル］−３−（１−ピロリジニルカルボニ
ル）ピラゾール 融点:139−140℃ IR（ヌジョール）:1615,1515cm-1 NMR（CDCl3,δ）:1.8−2.1（4H,m）,2.48（3H,s）,3.70
（2H,t,J＝6Hz）,3.98（2H,t,J＝6Hz）,6.9−7.4（9H,
m） Mass（m/z）:381（M+） ７）Ｎ−シクロプロピル−１−（４−フルオロフェニ
ル）−５−［４−（メチルチオ）フェニル］ピラゾール
−３−カルボキサミド 融点:147−148℃ IR（ヌジョール）:3360,1675,1600,1510cm-1 NMR（CDCl3,δ）:0.6−0.9（4H,m）,2.48（3H,s）,2.8
−3.0（1H,m）,7.0−7.4（9H,m） Mass（m/z）:367（M+） ８）１−（４−フルオロフェニル）−３−（４−メチル
−１−ピペラジニルカルボニル）−５−［４−（メチル
スルホニル）フェニル］ピラゾール 融点:170−173℃ IR（ヌジョール）:1620,1520,1500cm-1 NMR（CDCl3,δ）:2.34（3H,s）,2.4−2.6（4H,m）,3.08
（3H,s）,3.8−4.2（4H,m）,6.9−7.5（7H,m）,7.91（2
H,d,J＝8Hz） Mass（m/z）:442（M+） ９）Ｎ−ヒドロキシ−Ｎ−メチル−１−（４−フルオロ
フェニル）−５−［４−（メチルスルホニル）フェニ
ル］ピラゾール−３−カルボキサミド 融点:185−188℃（分解） IR（ヌジョール）:1630,1605,1510cm-1 NMR（CDCl3,δ）:3.09（3H,s）,3.86（3H,s）,7.0−7.2
（7H,m）,7.91（2H,d,J＝8Hz） Mass（m/z）:389（M+） 10）Ｎ−｛１−（４−フルオロフェニル）−５−［４−
（メチルスルホニル）フェニル］−３−ピラゾリルカル
ボニル｝グリシン 融点:258−260℃（分解） IR（ヌジョール）:3420,1720,1645,1560,1510cm-1 NMR（DMSO−d6,δ）:3.25（3H,s）,3.89（2H,d,J＝6H
z）,7.20（1H,s）,7.3−7.6（6H,m）,7.92（2H,d,J＝8H
z）,8.50（1H,t,J＝6Hz） Mass（m/z）:417（M+） 11）Ｎ−メチル−１−［４−（Ｎ−ホルミルメチルアミ
ノ）フェニル］−５−［４−（メチルスルホニル）フェ
ニル］ピラゾール−３−カルボキサミド IR（ヌジョール）:3350,1660,1605,1550,1515cm-1 Mass（m/z）:412（M+） 12）N,N−ジメチル−１−［４−（Ｎ−ホルミルメチル
アミノ）フェニル］−５−［４−（メチルスルホニル）
フェニル］ピラゾール−３−カルボキサミド Mass（m/z）:426（M+） 実施例６ １−（４−フルオロフェニル）−５−［４−（メチル
スルホニル）フェニル］ピラゾール−３−カルボキサミ
ド（2.7g）と塩化メタンスルホニル（3.4ml）のピリジ
ン（25ml）中混合物を50℃で６時間撹拌する。溶媒を留
去し、酢酸エチルと水を残渣に加える。析出物を濾過
し、水および酢酸エチルで洗浄する。濾液を分離し、有
機層を希塩酸で乾燥し、乾燥後、濃縮乾固する。残渣と
先に得た析出物を合わせ、エタノールと酢酸エチルの混
合物から再結晶して、１−（４−フルオロフェニル）−
５−［４−（メチルスルホニル）フェニル］ピラゾール
−３−カルボニトリル（2.4g）を無色結晶として得る。
融点:194−196℃ IR（ヌジョール）:2240,1600,1515cm-1 NMR（DMSO−d6,δ）:3.25（3H,s）,7.3−7.6（7H,m）,
7.95（2H,d,J＝6.7Hz） Mass（m/z）:341（M+） 実施例３と同様にして下記の化合物（実施例７−１）
から７−４））を得る。
実施例７ １）１−（４−フルオロフェニル）−５−［４−（メチ
ルチオ）フェニル］ピラゾール−３−カルボン酸 IR（ヌジョール）:3500,1695,1600,1515cm-1 ２）１−（４−フルオロフェニル）−３−［４−（メチ
ルスルホニル）フェニル］ピラゾール−５−カルボン酸 融点:259−260℃（分解） IR（ヌジョール）:1705,1605,1515cm-1 NMR（DMSO−d6,δ）:3.26（3H,s）,7.3−8.3（9H,m） Mass（m/z）:360（M+） ３）５−［3,5−ジ（ｔ−ブチル）−４−ヒドロキシフ
ェニル］−１−（４−フルオロフェニル）ピラゾール−
３−カルボン酸 融点:239−242℃ IR（ヌジョール）:3550,1690,1510cm-1 NMR（DMSO−d6,δ）:1.25（18H,s）,6.96（2H,s）,.03
（1H,s）,7.25−7.45（4H,m） Mass（m/z）:410（M+）,395 ４）１−［４−（Ｎ−ホルミルメチルアミノ）フェニ
ル］−５−［４−（メチルスルホニル）フェニル］ピラ
ゾール−３−カルボン酸 IR（ヌジョール）:1720,1665,1605,1520cm-1 Mass（m/z）:399（M+） 実施例８ １−（４−フルオロフェニル）−５−［４−（メチル
チオ）フェニル］ピラゾール−３−カルボン酸（3g）と
1,1′−カルボニルジイミダゾール（1.6g）のテトラヒ
ドロフラン（39ml）中混合物を１時間還流する。塩酸ジ
メチルアミン（1.04g）と炭酸カリウム（1.33g）を加
え、混合物を３時間撹拌還流する。混合物を酢酸エチル
で希釈し、水、炭酸水素ナトリウム水溶液、希塩酸、水
で順次洗浄後、乾燥、濃縮して、１−（４−フルオロフ
ェニル）−N,N−ジメチル−５−［４−（メチルチオ）
フェニル］ピラゾール−３−カルボキサミド（2.6g）を
淡褐色油状物として得る。
IR（薄膜）:1620,1510cm-1 実施例９ １−（４−フルオロフェニル）−N,N−ジメチル−５
−［４−（メチルチオ）フェニル］ピラゾール−３−カ
ルボキサミド（1g）とｍ−クロロ過安息香酸（1.8g）の
ジクロロメタン（17ml）中混合物を一夜室温で撹拌す
る。不溶物を濾過し、濾液を炭酸水素ナトリウム水溶液
で洗浄し、乾燥後、濃縮乾固する。残留する油状物（1.
4g）をシリカゲル（30g）カラムクロマトグラフィーに
付し、クロロホルムとメタノールの混合溶媒（20:1）で
溶出する。得られた油状物（1.0g）をエーテルから結晶
化して、N,N−ジメチル−１−（４−フルオロフェニ
ル）−５−［４−（メチルスルホニル）フェニル］ピラ
ゾール−３−カルボキサミド（0.69g）を無色結晶とし
て得る。
融点:171−173℃ IR（ヌジョール）:1620,1510cm-1 NMR（DMSO−d6,δ）:3.02（3H,s）,3.25（3H,s）,3.32
（3H,s）,7.08（1H,s）,7.2−8.0（8H,m） Mass（m/z）:387（M+） 実施例10 １−（４−フルオロフェニル）−N,N−ジメチル−５
−［４−（メチルチオ）フェニル）ピラゾール−３−カ
ルボキサミド（1.6g）と水素化アルミニウムリチウム
（0.34g）のエーテル（8.5ml）およびベンゼン（13ml）
中混合物を２時間撹拌還流する。混合物に4N水酸化ナト
リウム（10ml）を滴下し、次いで酢酸エチル（20ml）を
加える。不溶物を濾過し、濾液を分離する。有機層を水
洗し、乾燥、濃縮する。残渣（1.2g）をシリカゲル（30
g）カラムクロマトグラフィーに付し、酢酸エチルとメ
タノールの混合溶媒（5:1）で溶出して、３−（N,N−ジ
メチルアミノメチル）−１−（４−フルオロフェニル）
−５−［４−（メチルチオ）フェニル］ピラゾール（0.
69g）を淡褐色油状物として得る。
IR（薄膜）:2820,2770,1600,1560,1510cm-1 Mass（m/z）:341（M+）,298 実施例９と同様にして下記の化合物（実施例11−１）
から11−３））を得る。
実施例11 １）３−（N,N−ジメチルアミノメチル）−１−（４−
フルオロフェニル）−５−［４−（メチルスルホニル）
フェニル］ピラゾール塩酸塩 融点:157−160℃（分解） IR（ヌジョール）:3350,2580,1600,1510cm-1 NMR（DMSO−d6,δ）:3.25（3H,s）,3.54（6H,s）,4.99
（2H,s）,7.07（1H,s）,7.2−8.0（8H,m）,12.9（1H,
s） Mass（m/z）:373（M+）,330 ２）１−（４−フルオロフェニル）−３−［４−（メチ
ルスルホニル）フェニル］ピラゾール−５−カルボン酸
エチルエステル 融点:203−205℃ IR（ヌジョール）:1725,1605,1515cm-1 NMR（DMSO−d6,δ）:1.21（3H,t,J＝7Hz）,3.27（3H,
s）,4.23（2H,q,J＝7Hz）,7.3−8.3（9H,m） Mass（m/z）:388（M+） ３）１−（４−フルオロフェニル）−５−［４−（メチ
ルスルホニル）フェニル］−３−（トリフルオロメチ
ル）ピラゾール 融点:210−212℃ IR（ヌジョール）:3150,1605,1520,1505cm-1 NMR（DMSO−d6,δ）:3.26（3H,s）,7.3−7.6（7H,m）,
7.96（2H,d,J＝8.3Hz） Mass（m/z）:384（M+） 実施例12 １−（４−フルオロフェニル）−５−［４−（メチル
スルホニル）フェニル］ピラゾール−３−カルボン酸
（6.4g）と塩化チオニル（30ml）のテトラヒドロフラン
（60ml）中混合物を１時間還流後、減圧濃縮して、１−
（４−フルオロフェニル）−５−［４−（メチルスルホ
ニル）フェニル］ピラゾール−３−カルボニルクロリド
を得る。
マロン酸ジエチル（3.46g）とエタノール（1.96ml）
のエーテル（19.6ml）溶液をマグネシウム（518mg）、
エタノール（0.785ml）および四塩化炭素（1.18ml）の
エーテル（19.6ml）中撹拌混合物に窒素雰囲気下で滴下
する。得られた混合物を室温で100分間撹拌し、25分間
還流する。上記酸塩化物のテトラヒドロフラン（24ml）
溶液をこの混合物に少量づつ加える。混合物を室温で85
分間撹拌後、70分間還流する。反応混合物を10％硫酸
（160ml）に注ぎ、酢酸エチルで抽出する。抽出物を水
洗後、硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を減圧留去し
て、３−ビス（エトキシカルボニル）アセチル−１−
（４−フルオロフェニル）−５−［４−（メチルスルホ
ニル）フェニル］ピラゾールを得る。
硫酸（3.9ml）、酢酸（23.6ml）および水（19.6ml）
の混合物を３−ビス（エトキシカルボニル）アセチル−
１−（４−フルオロフェニル）−５−［４−（メチルス
ルホニル）フェニル］ピラゾールに加える。混合物を５
時間還流し、濃縮する。残渣を酢酸エチルに溶解し、溶
液を水洗後、乾燥、濃縮する。残渣をシリカゲル（150
g）カラムクロマトグラフィーに付し、クロロホルムと
酢酸エチルの混合溶媒（3:1）で溶出して、３−アセチ
ル−１−（４−フルオロフェニル）−５−［４−（メチ
ルスルホニル）フェニル］ピラゾール（4.2g）を淡褐色
結晶として得る。
融点:207−209℃ IR（ヌジョール）:1690,1600,1515cm-1 NMR（DMSO−d6,δ）:2.57（3H,s）,3.25（3H,s）,7.2−
8.0（9H,m） Mass（m/z）:358（M+） 実施例13 ３−アセチル−１−（４−フルオロフェニル）−５−
［４−（メチルスルホニル）フェニル］ピラゾール（1.
1g）、硝酸タリウム（III）３水和物（1.6g）と過塩素
酸（70％、3.3ml）のメタノール（16ml）およびジオキ
サン（8ml）中混合物を室温で一夜撹拌する。不溶物を
濾過し、濾液をクロロホルムで希釈し、水洗後、乾燥、
濃縮する。残渣（1,6g）をシリカゲル（100g）カラムク
ロマトグラフィーに付し、トルエンと酢酸エチルの混合
溶媒（2:1）で溶出して、１−（４−フルオロフェニ
ル）−３−（メトキシアセチル）−５−［４−（メチル
スルホニル）フェニル］ピラゾール（0.13g）を淡褐色
結晶として得る。
融点:151−154℃ IR（ヌジョール）:1705,1600,1510cm-1 NMR（DMSO−d6,δ）:3.25（3H,s）,3.39（3H,s）,4.81
（2H,s）,7.2−8.0（9H,m） 実施例１と同様にして下記の化合物（実施例14−１）
から14−26））を得る。
実施例14 １）１−（４−フルオロフェニル）−５−［４−（メチ
ルチオ）フェニル］−３−（トリフルオロメチル）ピラ
ゾール IR（薄膜）:1605,1515,1500cm-1 NMR（CDCl3,δ）:2.48（3H,s）,6.72（1H,s）,7.0−7.4
（8H,m） Mass（m/z）:352（M+） ２）５−［４−（メチルチオ）フェニル］−１−（４−
ピリジル）ピラゾール−３−カルボン酸エチルエステル
塩酸塩 融点:181−186℃ IR（ヌジョール）:1720,1630,1600,1510cm-1 NMR（DMSO−d6,δ）:1.34（3H,t,J＝7Hz）,2.51（3H,
s）,4.37（2H,q,J＝7Hz）,7.21（1H,s）,7.33（4H,s）,
7.72（2H,d,J＝5Hz）,8.85（2H,d,J＝5Hz） Mass（m/z）:339（M+） ３）１−（２−フルオロフェニル）−５−［４−（メチ
ルチオ）フェニル］−３−カルボン酸エチルエステル IR（薄膜）:1725,1600,1510cm-1 NMR（CDCl3,δ）:1.39（3H,t,J＝7Hz）,2.42（3H,s）,
4.42（2H,q,J＝7Hz）,6.9−7.6（9H,m） ４）１−（2,4−ジフルオロフェニル）−５−［４−
（メチルチオ）フェニル］ピラゾール−３−カルボン酸
エチルエステル IR（薄膜）:1720,1605,1515cm-1 NMR（CDCl3,δ）:1.40（3H,t,J＝7Hz）,2.42（3H,s）,
4.43（2H,q,J＝7Hz）,6.7−7.8（8H,m） ５）１−（３−フルオロフェニル）−５−［４−（メチ
ルチオ）フェニル］ピラゾール−３−カルボン酸エチル
エステル IR（薄膜）:1720,1605,1490cm-1 NMR（CDCl3,δ）:1.42（3H,t,J＝7Hz）,2.44（3H,s）,
4.42（2H,q,J＝7Hz）,6.9−7.5（9H,m） ６）５−［４−（メチルチオ）フェニル］−１−フェニ
ルピラゾール−３−カルボン酸エチルエステル IR（薄膜）:1705,1600,1560,1500cm-1 NMR（CDCl3,δ）:1.40（3H,t,J＝7Hz）,2.45（3H,s）,
4.42（2H,q,J＝7Hz）,6.9−7.5（10H,m） ７）１−（４−メトキシフェニル）−５−［４−（メチ
ルチオ）フェニル］ピラゾール−３−カルボン酸エチル
エステル IR（薄膜）:1720,1605,1510cm-1 NMR（CDCl3,δ）:1.42（3H,t,J＝7Hz）,2.47（3H,s）,
3.86（3H,s）,4.45（2H,q,J＝7Hz）,6.8−7.4（9H,m） ８）１−（４−メチルフェニル）−５−［４−（メチル
チオ）フェニル］ピラゾール−３−カルボン酸エチルエ
ステル IR（薄膜）:1720,1605,1520cm-1 NMR（CDCl3,δ）:1.42（3H,t,J＝7Hz）,2.37（3H,s）,
2.47（3H,s）,4.45（2H,q,J＝7Hz）,7.00（1H,s）,7.0
−7.4（8H,m） ９）５−（４−フルオロフェニル）−１−［４−（メチ
ルチオ）フェニル］ピラゾール−３−カルボン酸エチル
エステル 融点:95−96.5℃ IR（ヌジョール）:1710,1610,1545,1495cm-1 NMR（CDCl3,δ）:1.42（3H,t,J＝7Hz）,2.49（3H,s）,
4.45（2H,q,J＝7Hz）,6.9−7.3（9H,m） Mass（m/z）:356（M+） 10）５−［４−（メチルチオ）フェニル］−１−（４−
ニトロフェニル）ピラゾール−３−カルボン酸エチルエ
ステル 融点:157−159℃ IR（ヌジョール）:1695,1655,1590,1510cm-1 Mass（m/z）:383（M+） 11）１−（４−フルオロフェニル）−５−［５−（メチ
ルチオ）−２−チエニル］ピラゾール−３−カルボン酸
エチルエステル IR（薄膜）:1720,1600,1510cm-1 NMR（CDCl3,δ）:1.39（3H,t,J＝7Hz）,2.44（3H,s）,
4.42（2H,q,J＝7Hz）,6.6−7.4（7H,m） 12）１−（４−フルオロフェニル）−５−［４−（ホル
ミルアミノ）フェニル］ピラゾール−３−カルボン酸エ
チルエステル 融点:184−188℃ IR（ヌジョール）:3300,1730,1720,1690,1600,1510cm-1 Mass（m/z）:353（M+） 13）５−［５−（メチルチオ）−２−チエニル］−１−
（４−ニトロフェニル）ピラゾール−３−カルボン酸エ
チルエステル IR（薄膜）:1725,1600,1525,1500cm-1 14）１−（４−ニトロフェニル）−５−（４−トリル）
ピラゾール−３−カルボン酸エチルエルテル 融点:147−149℃ IR（ヌジョール）:1715,1595,1525,1500cm-1 NMR（CDCl3,δ）:1.43（3H,t,J＝7Hz）,2.39（3H,s）,
4.43（2H,q,J＝7Hz）,6.9−8.3（9H,m） Mass（m/z）:351（M+） 15）５−（４−メトキシフェニル）−１−（４−ニトロ
フェニル）ピラゾール−３−カルボン酸エチルエステル 融点:161−162℃ IR（ヌジョール）:1710,1615,1595,1525,1500cm-1 Mass（m/z）:367（M+） 16）５−（４−アセチルフェニル）−１−（４−フルオ
ロフェニル）ピラゾール−３−カルボン酸エチルエステ
ル 融点:220−222℃ IR（ヌジョール）:1710,1610,1510cm-1 Mass（m/z）:352（M+） 17）５−［3,5−ジ（ｔ−ブチル）−４−ヒドロキシフ
ェニル］−１−（４−フルオロフェニル）ピラゾール−
３−カルボン酸エチルエステル 融点:173−174℃ IR（ヌジョール）:3550,1730,1605,1510cm-1 NMR（DMSO−d6,δ）:1.25（18H,s）,1.31（3H,t,J＝8H
z）,4.32（2H,q,J＝8Hz）,6.96（2H,s）,7.08（1H,s）,
7.2−7.5（4H,m） Mass（m/z）:438（M+） 18）１−（2,5−ジフルオロフェニル）−５−［４−
（メチルチオ）フェニル］ピラゾール−３−カルボン酸
エチルエステル 融点:81−84℃ IR（ヌジョール）:1730,1600,1510cm-1 NMR（CDCl3,δ）:1.43（3H,t,J＝7Hz）,2.47（3H,s）,
4.46（2H,q,J＝7Hz）,7.0−7.4（8H,m） Mass（m/z）:374（M+） 19）５−［４−（メチルチオ）フェニル］−１−（２−
ニトロフェニル）ピラゾール−３−カルボン酸エチルエ
ステル 融点:155−157℃ IR（ヌジョール）:1715,1605,1535cm-1 NMR（CDCl3,δ）:1.41（3H,t,J＝7Hz）,2.45（3H,s）,
4.44（2H,q,J＝7Hz）,7.0−8.1（9H,m） Mass（m/z）:383（M+） 20）１−（４−フルオロ−２−ニトロフェニル）−５−
［４−（メチルチオ）フェニル］ピラゾール−３−カル
ボン酸エチルエステル IR（薄膜）:1725,1590,1545,1510cm-1 NMR（CDCl3,δ）:1.41（3H,t,J＝7Hz）,2.46（3H,s）,
4.36（2H,q,J＝7Hz）,6.9−8.0（8H,m） Mass（m/z）:401（M+） 21）５−［４−（メチルチオ）フェニル］−１−（４−
ニトロフェニル）−３−トリフルオロメチル）ピラゾー
ル 融点:163−164℃ IR（ヌジョール）:1600,1525cm-1 22）３−（フルオロメチル）−１−（４−フルオロフェ
ニル）−５−［４−（メチルチオ）フェニル］ピラゾー
ル IR（薄膜）:1600,1515cm-1 NMR（CDCl3,δ）:2.44（3H,s）,5.14（1H,s）,5.67（1
H,s）,6.53（1H,s）,6.8−7.3（8H,m） Mass（m/z）:316（M+） 23）３−（フルオロメチル）−５−［４−（メチルチ
オ）フェニル］−１−（４−ニトロフェニル］ピラゾー
ル 融点:165−167℃ IR（ヌジョール）:1600,1520,1500cm-1 NMR（CDCl3,δ）:2.50（3H,s）,5.36（1H,s）,5.60（1
H,s）,6.64（1H,s）,7.1−8.3（8H,m） Mass（m/z）:343（M+） 24）３−（ジフルオロメチル）−１−（４−ニトロフェ
ニル）−５−［４−（メチルチオ）フェニル］ピラゾー
ル 融点:124−129℃ IR（ヌジョール）:1600,1520cm-1 NMR（CDCl3,δ）:2.50（3H,s）,6.5−8.5（10H,m） Mass（m/z）:361（M+） 25）３−（ジルフオロメチル）−１−（４−フルオロフ
ェニル）−５−［４−（メチルチオ）フェニル］ピラゾ
ール 融点:70−71℃ IR（ヌジョール）:1600,1520cm-1 NMR（CDCl3,δ）:2.48（3H,s）,6.7−7.4（10H,m） Mass（m/z）:334（M+） 26）１−（２−クロロフェニル）−５−［４−（メチル
チオ）フェニル］ピラゾール−３−カルボン酸エチルエ
ステル 融点:119−120℃ IR（ヌジョール）:1715,1605cm-1 NMR（CDCl3,δ）:1.42（3H,t,J＝7Hz）,2.45（3H,s）,
4.45（2H,q,J＝7Hz）,7.0−7.6（9H,m） Mass（m/z）:372（M+）,344 実施例６と同様にして下記の化合物（実施例15−１）
から15−29））を得る。
実施例15 １）１−（４−フルオロフェニル）−３−［４−（メチ
ルスルホニル）フェニル］ピラゾール−５−カルボニト
リル 融点:200−202℃ IR（ヌジョール）:2240,1600,1515cm-1 NMR（DMSO−d6,δ）:3.28（3H,s）,7.4−8.3（9H,m） Mass（m/z）:341（M+） ２）１−（４−フルオロフェニル）−５−［４−（メチ
ルチオ）フェニル］ピラゾール−３−カルボニトリル 融点:106−107℃ IR（ヌジョール）:2250,1600,1510cm-1 NMR（CDCl3,δ）:2.48（3H,s）,6.84（1H,s）,7.0−7.4
（8H,m） Mass（m/z）:309（M+） ３）５−［４−（メチルスルホニル）フェニル］−１−
（４−ピリジル）ピラゾール−３−カルボニトリル 融点:194−195℃ IR（ヌジョール）:2250,1585,1500cm-1 NMR（DMSO−d6,δ）:3.27（3H,s）,7.3−8.1（7H,m）,
8.70（2H,d,J＝5Hz） Mass（m/z）:324（M+） ４）５−［４−（メチルチオ）フェニル］−１−（４−
ピリジル）ピラゾール−３−カルボニトリル塩酸塩 融点:185−188℃ IR（ヌジョール）:2350,2250,2120,2020,1630,1510cm-1 NMR（DMSO−d6,δ）:2.50（3H,s）,7.1−7.6（7H,m）,
8.75（2H,d,J＝6Hz） Mass（m/z）:292（M+） ５）１−（２−フルオロフェニル）−５−［４−（メチ
ルスルホニル）フェニル］ピラゾール−３−カルボニト
リル 融点:147−148℃ IR（ヌジョール）:2250,1600,1500cm-1 NMR（CDCl3,δ）:3.07（3H,s）,7.00（1H,4）,7.0−8.0
（8H,m） Mass（m/z）:341（M+） ６）１−（2,4−ジフルオロフェニル）−５−［４−
（メチルスルホニル）フェニル］ピラゾール−３−カル
ボニトリル 融点:129−130℃ IR（ヌジョール）:2250,1610,1520cm-1 NMR（CDCl3,δ）:3.08（3H,s）,6.8−8.0（8H,m） Mass（m/z）:359（M+） ７）１−（３−フルオロフェニル）−５−［４−（メチ
ルスルホニル）フェニル］ピラゾール−３−カルボニト
リル 融点:167−168℃ IR（ヌジョール）:2250,1600,1495cm-1 NMR（DMSO−d6,δ）:3.26（3H,s）,7.2−8.0（9H,m） Mass（m/z）:341（M+） ８）５−（４−メチルスルホニル）フェニル］−１−フ
ェニルピラゾール−３−カルボニトリル 融点:179−180℃ IR（ヌジョール）:2250,1600,1500cm-1 NMR（DMSO−d6,δ）:3.25（3H,s）,7.3−8.0（10H,m） Mass（m/z）:323（M+） ９）１−（４−メトキシフェニル）−５−［４−（メチ
ルスルホニル）フェニル］ピラゾール−３−カルボニト
リル 融点:153−154℃ IR（ヌジョール）:2250,1600,1515cm-1 NMR（DMSO−d6,δ）:3.25（3H,s）,3.80（3H,s）,7.0−
8.0（9H,m） Mass（m/z）:353（M+） 10）１−（４−メチルフェニル）−５−［４−（メチル
スルホニル）フェニル］ピラゾール−３−カルボニトリ
ル 融点:210−211℃ IR（ヌジョール）:2250,1600,1515cm-1 NMR（CDCl3,δ）:2.41（3H,s）,3.08（3H,s）,6.96（1
H,s）,7.1−8.0（8H,m） 11）５−（４−フルオロフェニル）−１−［４−（メチ
ルチオ）フェニル］ピラゾール−３−カルボニトリル 融点:82−83℃ IR（ヌジョール）:2250,1610,1545,1500cm-1 Mass（m/z）:309（M+） 12）５−［４−（メチルチオ）フェニル］−１−（４−
ニトロフェニル）ピラゾール−３−カルボニトリル 融点:165−166℃ IR（ヌジョール）:2250,1600,1520,1480cm-1 Mass（m/z）:336（M+） 13）１−（４−フルオロフェニル）−５−［５−（メチ
ルチオ）−２−チエニル］ピラゾール−３−カルボニト
リル IR（薄膜）:2250,1600,1510cm-1 14）５−［５−（メチルチオ）−２−チエニル］−１−
（４−ニトロフェニル）ピラゾール−３−カルボニトリ
ル IR（薄膜）:2250,1600,1525,1500cm-1 15）１−（４−フルオロフェニル）−５−［４−（Ｎ−
ホルミルメチルアミノ）フェニル］ピラゾール−３−カ
ルボニトリル 融点:147−148℃ IR（ヌジョール）:2250,1675,1615,1510cm-1 NMR（DMSO−d6,δ）:3.19（3H,s）,7.2−7.7（9H,m）,
8.46（1H,s） Mass（m/z）:320 16）５−［４−（アセトアミド）フェニル］−１−（４
−フルオロフェニル）ピラゾール−３−カルボニトリル 融点:96−98℃ IR（ヌジョール）:3340,2250,1670,1600,1535,1510cm-1 NMR（DMSO−d6,δ）:2.04（3H,s）,7.1−7.6（9H,m）,1
0.10（1H,s） Mass（m/z）:320（M+） 17）１−［４−（Ｎ−ホルミルメチルアミノ）フェニ
ル］−５−（４−トリル）ピラゾール−３−カルボニト
リル IR（薄膜）:2250,1680,1610,1515cm-1 NMR（CDCl3,δ）:2.38（3H,s）,3.33（3H,s）,6.8−7.4
（9H,m）,8.55（1H,s） 18）１−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メトキ
シフェニル）ピラゾール−３−カルボニトリル 融点:122−123℃ IR（ヌジョール）:2250,1610,1500cm-1 NMR（CDCl3,δ）:3.82（3H,s）,6.8−7.4（9H,m） Mass（m/z）:293（M+） 19）５−（４−メトキシフェニル）−１−（４−ニトロ
フェニル）ピラゾール−３−カルボニトリル 融点:125−126℃ IR（ヌジョール）:2250,1615,1600,1520,1500cm-1 Mass（m/z）:320（M+） 20）1,5−ビス（４−メトキシフェニル）ピラゾール−
３−カルボニトリル 融点:79−80℃ IR（ヌジョール）:2250,1610,1515cm-1 NMR（CDCl3,δ）:3.81（3H,s）,3.83（3H,s）,6.7−7.3
（9H,m） Mass（m/z）:305（M+） 21）５−（４−シアノフェニル）−１−（４−フルオロ
フェニル）ピラゾール−３−カルボニトリル 融点:154−156℃ IR（ヌジョール）:2250,2230,1615,1510cm-1 NMR（CDCl3,δ）:6.96（1H,s）,7.0−7.7（8H,m） Mass（m/z）:288（M+） 22）５−［3,5−ジ（ｔ−ブチル）−４−ヒドロキシフ
ェニル］−１−（４−フルオロフェニル）ピラゾール−
３−カルボニトリル 融点:189−190℃ IR（ヌジョール）:3600,2250,1600,1500cm-1 NMR（DMSO−d6,δ）:1.24（18H,s）,6.96（2H,s）,7.3
−7.5（5H,m） Mass（m/z）:391（M+）,376 23）１−（２−フルオロフェニル）−５−［４−（メチ
ルチオ）フェニル］ピラゾール−３−カルボニトリル 融点:76−77℃ IR（ヌジョール）:2250,1600,1505cm-1 NMR（CDCl3,δ）:2.46（3H,s）,6.87（1H,s）,7.0−7.6
（8H,m） Mass（m/z）:309（M+） 24）１−（2,4−ジフルオロフェニル）−５−［４−
（メチルチオ）フェニル］ピラゾール−３−カルボニト
リル 融点:74−75℃ IR（ヌジョール）:2250,1600,1520cm-1 NMR（CDCl3,δ）:2.47（3H,s）,6.8−7.6（8H,m） Mass（m/z）:327（M+） 25）１−（2,5−ジフルオロフェニル）−５−［４−
（メチルチオ）フェニル］ピラゾール−３−カルボニト
リル IR（薄膜）:2250,1625,1600,1510cm-1 26）１−［４−（Ｎ−ホルミルメチルアミノ）フェニ
ル］−５−［４−（メチルチオ）フェニル］ピラゾール
−３−カルボニトリル 融点:132−134℃ IR（ヌジョール）:2250,1670,1600,1515cm-1 Mass（m/z）:348（M+） 27）５−［４−（メチルチオ）フェニル］−１−（２−
ニトロフェニル）ピラゾール−３−カルボニトリル IR（薄膜）:2250,1605,1535cm-1 28）１−（４−フルオロ−２−ニトロフェニル）−５−
［４−（メチルチオ）フェニル］ピラゾール−３−カル
ボニトリル IR（薄膜）:2250,1590,1550,1510cm-1 29）１−（２−クロロフェニル）−５−［４−（メチル
チオ）フェニル］ピラゾール−３−カルボニトリル 融点:124−125℃ IR（ヌジョール）:2250,1600cm-1 NMR（CDCl3,δ）:2.45（3H,s）,6.88（1H,s）,7.0−7.5
（8H,m） Mass（m/z）:325（M+） 実施例16 １−（４−フルオロフェニル）−５−［４−（メチル
チオ）フェニル］ピラゾール−３−アミン（3g）、塩化
第二銅（1.6g）および亜硝酸ｔ−ブチル（1.14g）のア
セトニトリル（50ml）およびジオキサン（20ml）中混合
物を室温で４時間撹拌する。不溶物を濾過し、濾液に酢
酸エチルと水を加える。有機層を分離し、希塩酸で洗浄
後、乾燥、濃縮する。油状残渣（3.8g）をシリカゲル
（40g）カラムクロマトグラフィーに付し、トルエンと
酢酸エチルの混合溶媒（10:1）で溶出して、１−（４−
フルオロフェニル）−５−［４−（メチルチオ）フェニ
ル］ピラゾール（1.4g）の褐色油状物を得る。
IR（薄膜）:1600,1510cm-1 NMR（CDCl3,δ）:2.48（3H,s）,6.48（1H,d,J＝1.8H
z）,6.9−7.4（8H,m）,7.70（1H,d,J＝1.8Hz） Mass（m/z）:284（M+） 実施例２と同様にして下記の化合物（実施例17−１）
から17−30））を得る。
実施例17 １）１−（４−フルオロフェニル）−５−［４−（メチ
ルスルホニル）フェニル］ピラゾール 融点:110−112℃ IR（ヌジョール）:1600,1515cm-1 NMR（DMSO−d6,δ）:3.25（3H,s）,6.83（1H,d,J＝1.9H
z）,7.2−8.0（9H,m） Mass（m/z）:316（M+） ２）１−（４−フルオロフェニル）−５−［４−（メチ
ルスルホニル）フェニル］ピラゾール−３−カルボニト
リル 融点:197℃ IR（ヌジョール）:2240,1600,1515cm-1 ３）５−［４−（メチルスルホニル）フェニル］−１−
（４−ピリジル）ピラゾール−３−カルボン酸エチルエ
ステル 融点:195−199℃ IR（ヌジョール）:1715,1585,1500cm-1 NMR（DMSO−d6,δ）:1.33（3H,t,J＝7Hz）,3.28（3H,
4）,4.37（2H,q,J＝7Hz）,7.2−7.4（3H,m）,7.62（2H,
d,J＝8.5Hz）,7.97（2H,d,J＝8.5Hz）,8.68（2H,br s） Mass（m/z）:371（M+） ４）１−（２−フルオロフェニル）−５−［４−（メチ
ルスルホニル）フェニル］ピラゾール−３−カルボン酸
エチルエステル 融点:165−167℃ IR（ヌジョール）:1720,1600,1500cm-1 NMR（CDCl3,δ）:1.43（3H,t,J＝7Hz）,3.06（3H,s）,
4.47（2H,q,J＝7Hz）,7.0−7.9（9H,m） Mass（m/z）:388（M+）,316 ５）１−（2,4−ジフルオロフェニル）−５−［４−
（メチルスルホニル）フェニル］ピラゾール−３−カル
ボン酸エチルエステル 融点:184−185℃ IR（ヌジョール）:1730,1605,1520cm-1 NMR（CDCl3,δ）:1.40（3H,t,J＝7Hz）,3.07（3H,s）,
4.47（2H,q,J＝7Hz）,6.8−8.0（8H,m） Mass（m/z）:406（M+） ６）１−（３−フルオロフェニル）−５−［４−（メチ
ルスルホニル）フェニル］ピラゾール−３−カルボン酸
エチルエステル 融点:110−112℃ IR（ヌジョール）:1720,1605,1490cm-1 NMR（CDCl3,δ）:1.43（3H,t,J＝7Hz）,3.09（3H,s）,
4.47（2H,q,J＝7Hz）,7.0−8.1（1H,m） Mass（m/z）:388（M+） ７）５−［４−（メチルスルホニル）フェニル］−１−
フェニルピラゾール−３−カルボン酸エチルエステル IR（薄膜）:1720,1600,1500cm-1 ８）１−（４−メトキシフェニル）−５−［４−（メチ
ルスルホニル）フェニル］ピラゾール−３−カルボン酸
エチルエステル 融点:122−125℃ IR（ヌジョール）:1715,1610,1590,1515cm-1 Mass（m/z）:400（M+） ９）１−（４−メチルフェニル）−５−［４−（メチル
スルホニル）フェニル］ピラゾール−３−カルボン酸エ
チルエステル 融点:149−151℃ IR（ヌジョール）:1720,1600,1520cm-1 Mass（m/z）:384（M+） 10）５−［４−（メチルスルホニル）フェニル］−１−
（４−ニトロフェニル）ピラゾール−３−カルボニトリ
ル 融点:199−200℃ IR（ヌジョール）:2250,1600,1530,1500cm-1 Mass（m/z）:368（M+） 11）１−（４−フルオロフェニル）−５−［５−（メチ
ルスルホニル）−２−チエニル］ピラゾール−３−カル
ボニトリル 融点:131−132℃ IR（ヌジョール）:2250,1510cm-1 NMR（DMSO−d6,δ）:3.35（3H,s）,7.3−7.8（7H,m） Mass（m/z）:347（M+） 12）５−［５−（メチルスルホニル）−２−チエニル］
−１−（４−ニトリフェニル）ピラゾール−３−カルボ
ニトリル 融点:98−106℃ IR（ヌジョール）:2250,1615,1595,1530cm-1 Mass（m/z）:374（M+） 13）１−（2,5−ジフルオロフェニル）−５−［４−
（メチルスルホニル）フェニル］ピラゾール−３−カル
ボニトリル 融点:139−140℃ IR（ヌジョール）:2250,1620,1605,1505cm-1 NMR（DMSO−d6,δ）:3.26（3H,4）,7.4−8.0（8H,m） Mass（m/z）:359（M+） 14）１−［４−（Ｎ−ホルミルメチルアミノ）フェニ
ル］−５−［４−（メチルスルホニル）フェニル］ピラ
ゾール−３−カルボニトリル 融点:170−173℃ IR（ヌジョール）:2250,1610,1520cm-1 NMR（DMSO−d6,δ）:3.23（3H,s）,3.26（3H,s）,7.4−
8.0（9H,m）,8.68（1H,s） Mass（m/z）:380（M+） 15）５−［４−（メチルスルホニル）フェニル］−１−
（２−ニトロフェニル）ピラゾール−３−カルボニトリ
ル 融点:123−125℃ IR（ヌジョール）:2250,1605,1535cm-1 Mass（m/z）:368（M+） 16）１−（４−フルオロ−２−ニトロフェニル）−５−
［４−（メチルスルホニル）フェニル］ピラゾール−３
−カルボニトリル 融点:191−193℃ IR（ヌジョール）:2250,1600,1545,1510cm-1 Mass（m/z）:386（M+） 17）５−［４−（メチルスルホニル）フェニル］−１−
（４−ニトロフェニル）−３−（トリフルオロメチル）
ピラゾール 融点:163−164℃ IR（ヌジョール）:1600,1535cm-1 Mass（m/z）:411（M+） 18）３−ブロモ−１−（４−フルオロフェニル）−５−
［４−（メチルスルホニル）フェニル］ピラゾール 融点:185−186℃ IR（ヌジョール）:1600,1515cm-1 NMR（DMSO−d6,δ）:3.24（3H,s）,7.03（1H,s）,7.2−
8.0（8H,m） Mass（m/z）:396,394 19）Ｎ−シクロプロピル−１−（４−フルオロフェニ
ル）−５−［４−（メチルスルホニル）フェニル］ピラ
ゾール−３−カルボキサミド 融点:185−186℃ IR（ヌジョール）:3350,1660,1605,1545,1535,1510cm-1 NMR（CDCl3,δ）:0.6−1.0（4H,m）,2.8−3.0（1H,m）,
3.08（3H,s）,7.0−7.5（8H,m）,7.90（2H,d,J＝8Hz） Mass（m/z）:399（M+） 20）５−［４−（メチルスルホニル）フェニル］−１−
［４−ニトロフェニル］ピラゾール−３−カルボン酸エ
チルエステル 融点:209−210℃ IR（ヌジョール）:1710,1600,1525cm-1 NMR（DMSO−d6,δ）:1.33（3H,t,J＝7Hz）,3.26（3H,
s）,4.37（2H,q,J＝7Hz）,7.36（1H,s）,7.5−8.4（8H,
m） Mass（m/z）:415（M+） 21）３−（フルオロメチル）−１−（４−フルオロフェ
ニル）−５−［４−（メチルスルホニル）フェニル］ピ
ラゾール 融点:166−167℃ IR（ヌジョール）:1600,1515cm-1 NMR（DMSO−d6,δ）:3.25（3H,s）,5.35（1H,s）,5.59
（1H,s）,6.9−8.0（8H,m） Mass（m/z）:348 22）酢酸１−（４−フルオロフェニル）−５−［４−
（メチルスルホニル）フェニル］−３−ピラゾリルメチ
ル 融点:102−103℃ IR（ヌジョール）:1740,1720,1600,1515cm-1 NMR（CDCl3,δ）:2.14（3H,s）,3.07（3H,s）,5.10（2
H,s）,6.66（1H,s）,7.0−8.0（8H,m） Mass（m/z）:388（M+）,345 23）３−（クロロメチル）−１−（４−フルオロフェニ
ル）−５−［４−（メチルスルホニル）フェニル］ピラ
ゾール 融点:155−156℃ IR（ヌジョール）:1600,1515cm-1 NMR（DMSO−d6,δ）:3.25（3H,s）,4.82（2H,s）,6.91
（1H,s）,7.2−8.0（8H,m） Mass（m/z）:364（M+） 24）３−（フルオロメチル）−５−［４−（メチルスル
ホニル）フェニル］−１−（４−ニトロフェニル）ピラ
ゾール 融点:152−153℃ IR（ヌジョール）:1600,1525cm-1 Mass（m/z）:375（M+） 25）３−（ジフルオロメチル）−１−［４−（メチルア
ミノ）フェニル］−５−［４−（メチルスルホニル）フ
ェニル］ピラゾール 融点:175−176℃ IR（ヌジョール）:3430,1615,1540cm-1 NMR（CDCl3,δ）:2.72（3H,s）,3.07（3H,s）,3.97（1
H,s）,6.5−8.1（10H,m） Mass（m/z）:377（M+） 26）３−（ジフルオロメチル）−１−（４−フルオロフ
ェニル）−５−［４−（メチルスルホニル）フェニル］
ピラゾール 融点:190−191℃ IR（ヌジョール）:1600,1515cm-1 NMR（CDCl3,δ）:3.08（3H,s）,6.5−8.0（10H,m） Mass（m/z）:366（M+） 27）４−ブロモ−１−（４−フルオロフェニル）−５−
［４−（メチルスルホニル）フェニル］ピラゾール 融点:169−170℃ IR（ヌジョール）:1600,1510cm-1 NMR（CDCl3,δ）:3.10（3H,s）,7.0−8.0（9H,m） Mass（m/z）:396,394 28）Ｎ−フェニル−１−（４−フルオロフェニル）−５
−［４−（メチルスルホニル）フェニル］ピラゾール−
３−カルボキサミド 融点:232−233℃ IR（ヌジョール）:3350,1680,1595,1535,1505cm-1 NMR（DMSO−d6,δ）:3.26（3H,s）,7.0−8.0（14H,m）,
10.26（1H,s） Mass（m/z）:435 29）１−（４−フルオロフェニル）−５−［４−（メチ
ルスルホニル）フェニル］−３−（１−ピロリジニルカ
ルボチル）ピラゾール 融点:229−230℃ IR（ヌジョール）:1615,1515,1500cm-1 NMR（CDCl3,δ）:1.77−2.07（4H,m）,3.00（3H,s）,3.
67（2H,t,J＝6Hz）,3.97（2H,t,J＝6Hz）,6.9−7.5（7
H,m）,7.87（2H,d,J＝8Hz） Mass（m/z）:413（M+） 30）１−（２−クロロフェニル）−５−［４−（メチル
スルホニル）フェニル］ピラゾール−３−カルボニトリ
ル 融点:151−152℃ IR（ヌジョール）:2250,1610,1545,1490cm-1 NMR（CDCl3,δ）:3.05（3H,s）,7.02（1H,s）,7.3−8.0
（8H,m） Mass（m/z）:375（M+） 実施例18 １−（４−フルオロフェニル）−５−［４−（メチル
チオ）フェニル］ピラゾール−３−カルボン酸エチルエ
ステル（3.6g）と水酸化カリウム（2g）のメタノール
（50ml）中混合物を30分間還流する。溶媒を留去する。
残渣を水に溶解し、クロロホルムで洗浄する。水層を希
塩酸で酸性とし、酢酸エチルで抽出する。抽出物を水洗
し、硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮する。得られた残
渣をエタノールから再結晶して、１−（４−フルオロフ
ェニル）−５−［４−（メチルチオ）フェニル］ピラゾ
ール−３−カルボン酸（2g）を結晶として得る。
融点:199−200℃ IR（ヌジョール）:3550,3300,2500,1710,1680,1600,151
5cm-1 Mass（m/z）:328（M+） 実施例18と同様にして下記の化合物（実施例19−１）
から19−11））を得る。
実施例19 １）５−［４−（メチルスルホニル）フェニル］−１−
（４−ピリジル）ピラゾール−３−カルボン酸 融点:270−271℃（分解） IR（ヌジョール）:1690,1610,1510cm-1 NMR（DMSO−d6,δ）:3.28（3H,s）,7.2−8.0（7H,m）,
8.66（2H,ブロード s）,13,25（1H,s） Mass（m/z）:343（M+） ２）５−［４−（メチルチオ）フェニル］−１−（４−
ピリジル）ピラゾール−３−カルボン酸 融点:225−227℃ IR（ヌジョール）:3400,2400,1700,1600,1510cm-1 Mass（m/z）:311（M+） ３）１−（２−フルオロフェニル）−５−［４−（メチ
ルスルホニル）フェニル］ピラゾール−３−カルボン酸 融点:228−229℃（分解） IR（ヌジョール）:2600,1700,1600,1500cm-1 NMR（DMSO−d6,δ）:3.25（3H,s）,7.22（1H,s）,7.3−
8.0（8H,m）,13.17（1H,s） Mass（m/z）:360（M+） ４）１−（2,4−ジフルオロフェニル）−５−［４−
（メチルスルホニル）フェニル］ピラゾール−３−カル
ボン酸 融点:231−233℃（分解） IR（ヌジョール）:2600,1700,1600,1515cm-1 NMR（DMSO−d6,δ）:3.25（3H,s）,7.3−8.0（8H,m）,1
3.20（1H,s） Mass（m/z）:378（M+） ５）１−（３−フルオロフェニル）−５−［４−（メチ
ルスルホニル）フェニル］ピラゾール−３カルボン酸 IR（ヌジョール）:2630,1705,1600,1490cm-1 NMR（DMSO−d6,δ）:3.26（3H,s）,7.1−8.0（9H,m） Mass（m/z）:360（M+） ６）５−［４−（メチルスルホニル）フェニル］−１−
フェニルピラゾール−３−カルボン酸 融点:203−205℃ IR（ヌジョール）:2625,1700,1600,1495cm-1 Mass（m/z）:342（M+） ７）１−（４−メトキシフェニル）−５−［４−（メチ
ルスルホニル）フェニル］ピラゾール−３−カルボン酸 融点:197−199℃ IR（ヌジョール）:1700,1600,1515cm-1 Mass（m/z）:372（M+） ８）１−（４−メチルフェニル）−５−［４−（メチル
スルホニル）フェニル］ピラゾール−３−カルボン酸 融点:185−187℃ IR（ヌジョール）:2600,1700,1600,1510cm-1 Mass（m/z）:356（M+） ９）５−（４−フルオロフェニル）−１−［４−（メチ
ルチオ）フェニル）ピラゾール−３−カルボン酸 融点:176−178℃ IR（ヌジョール）:3500,1680,1610,1545,1490cm-1 Mass（m/z）:328（M+） 10）５−［４−（メチルチオ）フェニル］−１−（４−
ニトロフェニル）ピラゾール−３−カルボン酸 融点:188−189℃ IR（ヌジョール）:1690,1595,1520cm-1 Mass（m/z）:355（M+） 11）１−（2,4−ジフルオロフェニル）−５−［４−
（メチルチオ）フェニル］ピラゾール−３−カルボン酸 融点:188−190℃ IR（ヌジョール）:3300,2500,1705,1680,1600,1520cm-1 Mass（m/z）:346（M+） 実施例20 １−（４−メトキシフェニル）−５−［４−（メチル
スルホニル）フェニル］ピラゾール−３−カルボン酸エ
チルエステル（2g）と沃化水素酸（57％、5ml）の酢酸
（10ml）中混合物を５時間還流する。反応混合物を濃縮
し、残渣を亜硫酸水素ナトリウム水溶液で粉末化する。
この粗製の粉末をシリカゲル（80g）カラムクロマトグ
ラフィーに付し、クロロホルムとメタノールの混合物で
溶出して、１−（４−ヒドロキシフェニル）−５−［４
−（メチルスルホニル）フェニル］ピラゾール−３−カ
ルボン酸（0.86g）を得る。
融点:233−236℃（分解） IR（ヌジョール）:3550,3250,1700,1600,1515cm-1 Mass（m/z）:358（M+） 実施例21 １−（４−フルオロフェニル）−５−［４−（メチル
チオ）フェニル］ピラゾール−３−カルボン酸（13.5
g）と塩化チオニル（10ml）のジクロロエタン（30ml）
中混合物を１時間還流する。混合物を濃縮して、１−
（４−フルオロフェニル）−５−［４−（メチルチオ）
フェニル］ピラゾール−３−カルボニルクロリドを油状
物として得る。
IR（薄膜）:1760,1605,1510cm-1 上記塩化物のテトラヒドロフラン（50ml）溶液を28％
アンモニア水とテトラヒドロフラン（50ml）の混合物に
５〜10℃で滴下する。混合物を室温で１時間撹拌する。
溶媒を留去し、残渣を水で粉末化して、１−（４−フル
オロフェニル）−５−［４−（メチルチオ）フェニル］
ピラゾール−３−カルボキサミド（11.2g）を結晶とし
て得る。
融点:180−181℃ IR（ヌジョール）:3500,3425,1670,1600,1510cm-1 NMR（CDCl3,δ）:2.48（3H,s）,5.70（1H,s）,6.87（1
H,s）,7.0−7.4（9H,m） Mass（m/z）:327（M+） 実施例21と同様にして下記の化合物（実施例22−１）
から22−13））を得る。
実施例22 １）５−［４−（メチルスルホニル）フェニル］−１−
（４−ピリジル）ピラゾール−３−カルボキサミド 融点:286−288℃ IR（ヌジョール）:3650,3300,3200,1690,1595,1500cm-1 NMR（DMSO−d6,δ）:3.28（3H,s）,7.18（1H,s）,73−
8.0（8H,m）,8.66（2H,d,J＝5Hz） Mass（m/z）:342（M+） ２）５−［４−（メチルチオ）フェニル］−１−（４−
ピリジル）ピラゾール−３−カルボキサミド 融点:213−215℃ IR（ヌジョール）:3360,3150,1680,1595cm-1 ３）１−（２−フルオロフェニル）−５−［４−（メチ
ルスルホニル）フェニル］ピラゾール−３−カルボキサ
ミド 融点:198−199℃ IR（ヌジョール）:3500,3150,1690,1600,1510cm-1 NMR（CDCl3,δ）:3.06（3H,s）,5.68（1H,s）,6.86（1
H,s）,7.1−7.9（9H,m） Mass（m/z）:359（M+） ４）１−（2,4−ジフルオロフェニル）−５−［４−
（メチルスルホニル）フェニル］ピラゾール−３−カル
ボキサミド 融点:213−214℃ IR（ヌジョール）:3440,3150,1685,1610,1520cm-1 NMR（DMSO−d6,δ）:3.25（3H,s）,7.23（1H,s）,7.3−
8.0（7H,m） Mass（m/z）:377（M+） ５）１−（３−フルオロフェニル）−５−［４−（メチ
ルスルホニル）フェニル］ピラゾール−３−カルボキサ
ミド 融点:217−218℃ IR（ヌジョール）:3460,3220,1680,1600,1490cm-1 NMR（DMSO−d6,δ）:3.26（3H,s）,7.1−8.0（11H,m） Mass（m/z）:359（M+） ６）５−［４−（メチルスルホニル）フェニル］−１−
フェニルピラゾール−３−カルボキサミド 融点:265−266℃ IR（ヌジョール）:3474,3200,1680,1600,1495cm-1 NMR（DMSO−d6,δ）:3.24（3H,s）,7.16（1H,s）,7.3−
8.0（11H,m） Mass（m/z）:341（M+） ７）１−（４−メトキシフェニル）−５−［４−（メチ
ルスルホニル）フェニル］ピラゾール−３−カルボキサ
ミド 融点:178−179℃ IR（ヌジョール）:3480,3310,3230,1675,1590,1515cm-1 NMR（DMSO−d6,δ）:3.24（3H,s）,3.79（3H,s）,6.9−
8.0（11H,m） Mass（m/z）:371（M+） ８）１−（４−ヒドロキシフェニル）−５−［４−（メ
チルスルホニル）フェニル］ピラゾール−３−カルボキ
サミド 融点:269−271℃ IR（ヌジョール）:3550,3460,3200,1680,1600,1520cm-1 Mass（m/z）:357（M+） ９）１−（４−メチルフェニル）−５−［４−（メチル
スルホニル）フェニル］ピラゾール−３−カルボキサミ
ド 融点:125−130℃ IR（ヌジョール）:3470,3200,1680,1600,1515cm-1 NMR（DMSO−d6,δ）:2.35（3H,s）,3.24（3H,s）,7.1−
8.0（11H,m） Mass（m/z）:355（M+） 10）５−（４−フルオロフェニル）−１−［４−（メチ
ルチオ）フェニル］ピラゾール−３−カルボキサミド 融点:157−159℃ IR（ヌジョール）:3460,3270,1670,1610,1595,1545,149
5cm-1 Mass（m/z）:327（M+） 11）５−［４−（メチルチオ）フェニル］−１−（４−
ニトロフェニル）ピラゾール−３−カルボキサミド 融点:192−194℃ IR（ヌジョール）:3480,3150,1690,1610,1595,1520cm-1 Mass（m/z）:354（M+） 12）１−（４−フルオロフェニル）−５−（４−トリ
ル）ピラゾール−３−カルボキサミド 融点:183−186℃ IR（ヌジョール）:3500,3350,3300,1685,1610,1510cm-1 NMR（DMSO−d6,δ）:2.29（3H,s）,6.8−7.5（9H,m）,
7.68（2H,s） Mass（m/z）:295（M+） 13）１−（2,4−ジフルオロフェニル）−５−［４−
（メチルチオ）フェニル］ピラゾール−３−カルボキサ
ミド 融点:171−173℃ IR（ヌジョール）:3440,3200,1665,1600,1515cm-1 Mass（m/z）:345（M+） 実施例23 １−（４−ヒドロキシフェニル）−５−［４−（メチ
ルスルホニル）フェニル］ピラゾール−３−カルボキサ
ミド（1.3g）と塩化メタンスルホニル（2.5g）のピリジ
ン（20ml）中混合物を50℃で５時間撹拌する。溶媒を留
去し、希塩酸と酢酸エチルを残渣に加える。有機層を水
洗し、乾燥、濃縮する。残渣をシリカゲル（20g）カラ
ムクロマトグラフィーに付し、クロロホルムとメタノー
ルの混合溶媒（20:1）で溶出して、５−［４−（メチル
スルホニル）フェニル］−１−［４−（メチルスルホニ
ルオキシ）フェニル］ピラゾール−３−カルボニトリル
（0.79g）を結晶として得る。
融点:195−196℃ IR（ヌジョール）:2250,1600,1510cm-1 NMR（DMSO−d6,δ）:3.10（3H,s）,3.45（3H,s）,7.4−
8.0（9H,m） Mass（m/z）:417（M+） 実施例24 過ヨウ素酸ナトリウム（0.7g）の水（5ml）溶液を氷
冷した１−（４−フルオロフェニル）−５−［４−（メ
チルチオ）フェニル］ピラゾール−３−カルボニトリル
（0.6g）のメタノール（50ml）溶液に加える。得られた
溶液を室温で８時間撹拌する。不溶物を濾去し、濾液を
濃縮する。得られた残渣を酢酸エチルに溶解し、溶液を
亜硫酸水素ナトリウム水溶液と水で洗浄する。有機層を
乾燥し、濃縮して油状残留物（0.6g）を得る。残渣をシ
リカゲル（13g）カラムクロマトグラフィーに付し、ク
ロロホルムとメタノールの混合溶媒（50:1）で溶出す
る。精製物をヘキサンとエタノールの混合物から結晶化
して、１−（４−フルオロフェニル）−５−［４−（メ
チルスルフィニル）フェニル］ピラゾール−３−カルボ
ニトリル（0.45g）を結晶として得る。
融点:104−105℃ IR（ヌジョール）:2250,1600,1515cm-1 NMR（CDCl3,δ）:2.76（3H,s）,6.94（1H,s）,7.0−7.7
（8H,m） Mass（m/z）:325（M+）,310 実施例25 ５−（４−フルオロフェニル）−１−［４−（メチル
チオ）フェニル］ピラゾール−３−カルボニトリル（0.
75g）と30％過酸化水素溶液（1.4ml）の酢酸（10ml）中
混合物を50℃で４時間撹拌する。反応混合物を濃縮し、
残渣をエタノールから再結晶して、５−（４−フルオロ
フェニル）−１−［４−（メチルスルホニル）フェニ
ル］ピラゾール−３−カルボニトリル（0.66g）を結晶
として得る。
融点:162−163℃ IR（ヌジョール）:3140,2250,1610,1595,1500cm-1 NMR（CDCl3,δ）:3.09（3H,s）,6.89（1H,s）,7.0−8.0
（8H,m） Mass（m/z）:341（M+） 実施例26 ５−［４−（メチルスルホニル）フェニル］−１−
（４−ニトロフェニル）ピラゾール−３−カルボニトリ
ル（1.1g）、鉄粉（1.1g）および塩化アンモニウム（0.
11g）のエタノール（20ml）および水（7ml）中混合物を
１時間還流する。溶媒を留去し、残渣を濾過し、水洗
御、熱酢酸エチルに溶解する。溶液を濾過し、濾液を濃
縮する。得られた残渣を酢酸エチルから再結晶して、１
−（４−アミノフェニル）−５−［４−（メチルスルホ
ニル）フェニル］ピラゾール−３−カルボニトリル（0.
83g）を結晶として得る。
融点:228−229℃ IR（ヌジョール）:3480,3400,3150,2250,1645,1605,152
0cm-1 NMR（DMSO−d6,δ）:3.25（3H,s）,5.57（2H,s）,6.5−
8.0（9H,m） Mass（m/z）:338（M+） 実施例27 １−（４−フルオロフェニル）−５−［４−（メチル
スルホニル）フェニル］ピラゾール−３−アミン（0.7
g）と無水酢酸（0.22ml）のジクロロメタン（15ml）中
混合物を室温で３時間撹拌後、濃縮する。残渣をシリカ
ゲル（15g）カラムクロマトグラフィーに付し、トルエ
ンと酢酸エチルの混合溶媒（2:1）で溶出する。目的生
成物（0.63g）をエタノールから再結晶して、Ｎ−｛１
−（４−フルオロフェニル）−５−［４−（メチルスル
ホニル）フェニル］−３−ピラゾリル｝アセトアミド
（0.52g）を淡褐色結晶として得る。
融点:203−205℃ IR（ヌジョール）:3350,1690,1580,1510cm-1 NMR（DMSO−d6,δ）:2.05（3H,s）,3.21（3H,s）,6.98
（1H,s）,7.2−7.6（6H,m）,7.89（2H,d,J＝8Hz）,10.7
2（1H,s） Mass（m/z）:373（M+）,331 実施例28 クロロ蟻酸メチル（0.163ml）のアセトニトリル（0.7
ml）溶液を１−（４−フルオロフェニル）−５−［４−
（メチルスルホニル）フェニル］ピラゾール−３−アミ
ン（0.7g）とピリジン（0.171ml）のアセトニトリル（6
ml）−テトラヒドロフラン（7ml）撹拌溶液に−20℃で
滴下する。混合物を５℃で１時間撹拌し、酢酸エチルで
希釈後、水洗し、乾燥、濃縮する。残渣（0.9g）をクロ
ロホルムとエタノールの混合物から再結晶して、Ｎ−
｛１−（４−フルオロフェニル）−５−［４−（メチル
スルホニル）フェニル］−３−ピラゾリル｝カルバミン
酸メチル（0.51g）を淡褐色結晶として得る。
融点:225−227℃ IR（ヌジョール）:3320,1730,1585,1510cm-1 NMR（DMSO−d6,δ）:3.16（3H,s）,3.62（3H,s）,6.73
（1H,s）,7.1−7.5（6H,m）,7.84（2H,d,J＝8Hz）,10.2
2（1H,s） Mass（m/z）:389（M+）,357 実施例29 １−（４−フルオロフェニル）−５−［４−（メチル
スルホニル）フェニル］ピラゾール−３−アミン（0.8
g）と塩化メタンスルホニル（0.224ml）のピリジン（8m
l）中混合物を室温で２時間撹拌する。ピリジンを留去
し、残渣を酢酸エチルに溶解し、水および希塩酸で洗浄
後、乾燥、濃縮する。残留する油状物（1.1g）をシリカ
ゲル（20g）カラムクロマトグラフィーに付し、トルエ
ンと酢酸エチルの混合溶媒（2:1）で溶出する。生成物
（0.74g）をエタノールから再結晶して、Ｎ−｛１−
（４−フルオロフェニル）−５−［４−（メチルスルホ
ニル）フェニル］−３−ピラゾリル｝メタンスルホンア
ミド（0.62g）を淡褐色結晶として得る。
融点:186−187℃ IR（ヌジョール）:3150,1555,1520cm-1 NMR（DMSO−d6,δ）:3.17（3H,s）,3.24（3H,s）,6.55
（1H,s）,7.2−7.5（6H,m）,7.91（2H,d,J＝8.5Hz）,1
0.37（1H,s） Mass（m/z）:409（M+） 実施例30 １−（４−アミノフェニル）−５−［４−（メチルス
ルホニル）フェニル］ピラゾール−３−カルボニトリル
（0.7g）と蟻酸（1ml）のホルマリン（37％、5ml）中混
合物を30分間還流する。クロロホルムを加え、混合物を
水洗後、乾燥、濃縮する。残留する油状物をシリカゲル
カラムクロマトグラフィーに付し、酢酸エチルとトルエ
ンの混合溶媒（2:1）で溶出する。得られた生成物を酢
酸エチルから再結晶して、１−［４−（ジメチルアミ
ノ）フェニル］−５−［４−（メチルスルホニル）フェ
ニル］ピラゾール−３−カルボニトリル（0.46g）を結
晶として得る。
融点:171−172℃ IR（ヌジョール）:2240,1610,1530cm-1 Mass（m/z）:366（M+） 実施例31 １−（４−アミノフェニル）−５−［４−（メチルス
ルホニル）フェニル］ピラゾール−３−カルボニトリル
（1g）、沃化メチル（0.42g）および炭酸カリウム（0.6
g）のN,N−ジメチルホルムアミド（10ml）中混合物を室
温で１時間撹拌する。混合物を水に注ぎ、酢酸エチルで
抽出する。抽出物を水洗し、乾燥、濃縮する。残渣（1.
2g）をシリカゲル（20g）カラムクロマトグラフィーに
付し、クロロホルムで溶出して、１−［４−（メチルア
ミノ）フェニル］−５−［４−（メチルスルホニル）フ
ェニル］ピラゾール−３−カルボニトリル（0.31g）を
結晶として得る。
融点:166−168℃ IR（ヌジョール）:3450,2240,1610,1530cm-1 NMR（DMSO−d6,δ）:2.51（3H,d,J＝5Hz）,3.25（3H,
s）,6.17（1H,q,J＝5Hz）,6.5−8.0（9H,m） 実施例10と同様にして下記の化合物（実施例32）を得
る。
実施例32 １−（４−フルオロフェニル）−５−［４−（メチルチ
オ）フェニル］ピラゾール−３−イルメチルアミン IR（薄膜）:3400,3300,1600,1500cm-1 NMR（CDCl3,δ）:1.85（2H,s）,2.47（3H,s）,3.96（2
H,s）,6.43（1H,s）,7.0−7.4（8H,m） Mass（m/z）:313（M+） 実施例24と同様にして下記の化合物（実施例33−１）
から33−７））を得る。
実施例33 １）１−（２−フルオロフェニル）−５−［４−（メチ
ルスルフィニル）フェニル］ピラゾール−３−カルボニ
トリル 融点:139−140℃ IR（ヌジョール）:2250,1600,1500cm-1 NMR（CDCl3,δ）:2.73（3H,s）,6.96（1H,s）,7.0−7.7
（8H,m） Mass（m/z）:325（M+）,310 ２）１−（2,4−ジフルオロフェニル）−５−［４−
（メチルフィニル）フェニル］ピラゾール−３−カルボ
ニトリル 融点:136−137℃ IR（ヌジョール）:2260,1615,1520cm-1 NMR（CDCl3,δ）:2.74（3H,s）,6.8−7.7（8H,m） Mass（m/z）:343（M+）,328 ３）１−［４−（Ｎ−ホルミルメチルアミノ）フェニ
ル］−５−［４−（メチルスルフィニル）フェニル］ピ
ラゾール−３−カルボニトリル IR（薄膜）:2250,1680,1610,1515cm-1 ４）５−［４−（メチルスルフィニル）フェニル］−１
−（４−ニトロフェニル）−３−（トリフルオロメチ
ル）ピラゾール 融点:167−168℃ IR（ヌジョール）:1600,1530,1495cm-1 Mass（m/z）:395（M+） ５）３−（フルオロメチル）−１−（４−フルオロフェ
ニル）−５−［４−（メチルスフィニル）フェニル］ピ
ラゾール 融点:130−131℃ IR（ヌジョール）:1600,1515cm-1 NMR（CDCl3,δ）:2.75（3H,s）,5.36（1H,s）,5.60（1
H,s）,6.69（1H,s）,7.0−7.7（8H,m） Mass（m/z）:332（M+） ６）３−（クロロエチル）−１−（４−フルオロフェニ
ル）−５−［４−（メチルスルフィニル）フェニル］ピ
ラゾール 融点:96−97℃ IR（ヌジョール）:1600,1515cm-1 NMR（CDCl3,δ）:2.75（3H,s）,4.70（2H,s）,6.65（1
H,s）,7.0−7.7（8H,m） Mass（m/z）:348（M+） ７）３−（ジフルオロメチル）−１−（４−フルオロフ
ェニル）−５−［４−（メチルスルフィニル）フェニ
ル］ピラゾール 融点:165−166℃ IR（ヌジョール）:1600,1515cm-1 NMR（CDCl3,δ）:2.75（3H,s）,6.5−7.7（10H,m） Mass（m/z）:350（M+）,335 実施例26と同様にして下記の化合物（実施例34−１）
から34−13））を得る。
実施例34 １）１−（４−アミノフェニル）−５−［５−（メチル
スルホニル）−２−チエニル］ピラゾール−３−カルボ
ニトリル 融点:200−203℃ IR（ヌジョール）:3500,3420,2250,1620,1520cm-1 Mass（m/z）:344（M+） ２）１−（４−アミノフェニル）−５−（４−トリル）
ピラゾール−３−カルボン酸エチルエステル 融点:174−175℃ IR（ヌジョール）:3460,3380,1730,1700,1635,1520cm-1 Mass（m/z）:321（M+） ３）１−（４−アミノフェニル）−１−（４−メトキシ
フェニル）ピラゾール−３−カルボニトリル 融点:175−177℃ IR（ヌジョール）:3420,3350,2250,1640,1610,1520cm-1 Mass（m/z）:290（M+） ４）１−（４−アミノフェニル）−５−［４−（メチル
チオ）フェニル］ピラゾール−３−カルボン酸エチルエ
ステル 融点:153−155℃ IR（ヌジョール）:3450,3350,3230,1715,1635,1610,152
0cm-1 Mass（m/z）:353（M+） ５）１−（２−アミノフェニル）−５−［４−（メチル
スルホニル）フェニル］ピラゾール−３−カルボニトリ
ル 融点:191−192℃ IR（ヌジョール）:3500,3400,2250,1635,1600,1500cm-1 Mass（m/z）:338（M+） ６）１−（２−アミノ−４−フルオロフェニル）−５−
［４−（メチルスルホニル）フェニル］ピラゾール−３
−カルボニトリル 融点:206−208℃ IR（ヌジョール）:3500,3400,2250,1630,1510cm-1 Mass（m/z）:356（M+） ７）１−（４−アミノフェニル）−５−［４−（メチル
チオ）フェニル］−３−（トリフルオロメチル）ピラゾ
ール 融点:112−113℃ IR（ヌジョール）:3500,3400,1625,1600,1520,1500cm-1 Mass（m/z）:349（M+） ８）１−（４−アミノフェニル）−５−［４−（メチル
スルホニル）フェニル］−３−（トリフルオロメチル）
ピラゾール 融点:250−251℃ IR（ヌジョール）:3500,3400,1640,1600,1520,1500cm-1 Mass（m/z）:381（M+） ９）１−（４−アミノフェニル）−５−［４−（メチル
スルフィニル）フェニル］−３−（トリフルオロメチ
ル）ピラゾール 融点:213−214℃ IR（ヌジョール）:3500,3380,3250,1645,1610,1525,150
5cm-1 Mass（m/z）:365（M+） 10）１−（４−アミノフェニル）−３−（メチルスルホ
ニル）−５−［４−（メチルスルホニル）フェニル］ピ
ラゾール 融点:208−210℃ IR（ヌジョール）:3500,3400,1635,1605,1520cm-1 Mass（m/z）:391（M+） 11）１−（４−アミノフェニル）−３−（フルオロメチ
ル）−５−［４−（メチルスルホニル）フェニル］ピラ
ゾール 融点:112−116℃ IR（ヌジョール）:3420,3240,1610,1520cm-1 12）１−（４−アミノフェニル）−３−（ジフルオロメ
チル）−５−［４−（メチルチオ）フェニル］ピラゾー
ル IR（薄膜）:3500,3380,1625,1520cm-1 13）１−（４−アミノフェニル）−５−［４−（メチル
スルホニル）フェニル］ピラゾール−３−カルボン酸エ
チルエステル 融点:245−247℃ IR（ヌジョール）:3450,3350,1740,1645,1605,1520cm-1 NMR（DMSO−d6,δ）:1.32（3H,t,J＝7Hz）,3.24（3H,
s）,4.33（2H,q,J＝7Hz）,5.51（2H,s）,6.5−8.0（9H,
m） Mass（m/z）:385（M+） 実施例27と同様にして下記の化合物（実施例35−１）
および35−２））を得る。
実施例35 １）５−［４−（アセトアミド）フェニル］−１−（４
−フルオロフェニル）ピラゾール−３−カルボキサミド 融点:273−275℃ IR（ヌジョール）:3500,3200,1670,1600,1550,1510cm-1 Mass（m/z）:338（M+） ２）１−［４−（アセトアミド）フェニル］−５−［４
−（メチルスルホニル）フェニル］ピラゾール−３−カ
ルボニトリル 融点:206−207℃ IR（ヌジョール）:3270,2250,1690,1670,1605,1555,151
5cm-1 NMR（DMSO−d6,δ）:2.07（3H,s）,3.25（3H,s）,7.3−
8.0（9H,m）,10.21（1H,s） Mass（m/z）:380（M+）,338 実施例29と同様にして下記の化合物（実施例36）を得
る。
実施例36 １−［４−（メチルスルホニルアミノ）フェニル］−５
−［４−（メチルスルホニル）フェニル］ピラゾール−
３−カルボニトリル 融点:232−233℃ IR（ヌジョール）:3240,2250,1600,1515cm-1 NMR（DMSO−d6,δ）:3.09（3H,s）,3.26（3H,s）,7.2−
8.0（9H,m）,10.17（1H,s） Mass（m/z）:416（M+） 実施例31と同様にして下記の化合物（実施例37−１）
から37−４））を得る。
実施例37 １）１−［４−（ジメチルアミノ）フェニル］−５−
［５−（メチルスルホニル）−２−チエニル］ピラゾー
ル−３−カルボニトリル 融点:168−169℃ IR（ヌジョール）:2250,1610,1525cm-1 NMR（DMSO−d6,δ）:3.01（6H,s）,3.33（3H,s）,6.7−
7.8（7H,m） Mass（m/z）:372（M+） ２）１−［４−（エチルアミノ）フェニル］−５−［４
−（メチルスルホニル）フェニル］ピラゾール−３−カ
ルボニトリル 融点:167−168℃ IR（ヌジョール）:3400,2240,1610,1525cm-1 NMR（CDCl3,δ）:1.28（3H,t,J＝7Hz）,3.07（3H,s）,
3.13（2H,q,J＝7Hz）,6.5−8.0（9H,m） Mass（m/z）:366（M+）,351 ３）１−［４−（ジエチルアミノ）フェニル］−５−
［４−（メチルスルホニル）フェニル］ピラゾール−３
−カルボニトリル 融点:155−156℃ IR（ヌジョール）:2240,1610,1520cm-1 NMR（CDCl3,δ）:1.18（6H,t,J＝7Hz）,3.07（3H,s）,
3.37（4H,q,J＝7Hz）,6.5−8.0（9H,m） Mass（m/z）:394（M+）,379 ４）３−（フルオロメチル）−１−［４−（メチルアミ
ノ）フェニル］−５−［４−（メチルスルホニル）フェ
ニル］ピラゾール 融点:151−153℃ IR（ヌジョール）:3425,1615,1535cm-1 NMR（CDCl3,δ）:2.85（3H,s）,3.06（3H,s）,3.94（1
H,s）,5.36（1H,s）,5.60（1H,s）,6.5−8.0（9H,m） Mass（m/z）:359（M+） 実施例38 １−（４−フルオロフェニル）−５−［５−（メチル
チオ）−２−チエニル］ピラゾール−３−カルボン酸エ
チルエステル（2.1g）とナトリウムメトキシド（895m
g）のホルムアミド（10ml）中混合物を100℃で１時間撹
拌する。反応混合物に水を加え、析出物を集め、水洗
後、減圧下に乾燥して、１−（４−フルオロフェニル）
−５−［５−（メチルチオ）−２−チエニル］ピラゾー
ル−３−カルボキサミド（1.6g）を結晶として得る。
融点:132−140℃ IR（ヌジョール）:3500,3300,3200,1700,1665,1600,151
0cm-1 Mass（m/z）:333（M+） 実施例38と同様にして下記の化合物（実施例39−１）
から39−16））を得る。
実施例39 １）５−［５−（メチルチオ）−２−チエニル］−１−
（４−ニトロフェニル）ピラゾール−３−カルボキサミ
ド IR（ヌジョール）:3350,3180,1675,1595,1520cm-1 ２）１−（４−フルオロフェニル）−５−［４−（Ｎ−
ホルミルメチルアミノ）フェニル］ピラゾール−３−カ
ルボキサミド 融点:222−224℃ IR（ヌジョール）:3500,3430,3200,1660,1615,1510cm-1 Mass（m/z）:338（M+） ３）５−（４−アミノフェニル）−１−（４−フルオロ
フェニル）ピラゾール−３−カルボキサミド 融点:195−199℃ IR（ヌジョール）:3500,3360,3200,1675,1630,1610,151
0cm-1 Mass（m/z）:296（M+） ４）１−［４−（Ｎ−ホルミルメチルアミノ）フェニ
ル］−５−（４−トリル）ピラゾール−３−カルボキサ
ミド 融点:202−206℃ IR（ヌジョール）:3400,3200,1665,1610,1520cm-1 Mass（m/z）:334（M+） ５）１−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メトキ
シフェニル）ピラゾール−３−カルボキサミド 融点:136−142℃ IR（ヌジョール）:3500,3350,3200,1705,1690,1665,161
0,1510cm-1 Mass（m/z）:311（M+） ６）５−（４−メトキシフェニル）−１−（４−ニトロ
フェニル）ピラゾール−３−カルボキサミド 融点:200−202℃ IR（ヌジョール）:3400,3170,1680,1610,1595,1520cm-1 Mass（m/z）:338（M+） ７）1,5−ビス（４−メトキシフェニル）ピラゾール−
３−カルボキサミド 融点:130−131℃ IR（ヌジョール）:3450,3300,3250,1675,1660,1610,151
5cm-1 NMR（DMSO−d6,δ）:3.75（3H,s）,3.78（3H,s）,6.7−
7.6（11H,m） Mass:（m/z）:323（M+） ８）５−（４−アセチルフェニル）−１−（４−フルオ
ロフェニル）ピラゾール−３−カルボキサミド 融点：＞300℃ IR（ヌジョール）:3500,3420,1675,1590,1510cm-1 ９）５−（４−シアノフェニル）−１−（４−フルオロ
フェニル）ピラゾール−３−カルボキサミド 融点:181−185℃ IR（ヌジョール）:3500,3350,2240,1660,1600,1510cm-1 Mass（m/z）:306（M+） 10）１−（２−フルオロフェニル）−５−［４−（メチ
ルチオ）フェニル］ピラゾール−３−カルボキサミド 融点:140−146℃ IR（ヌジョール）:3400,3300,1670,1600,1500cm-1 Mass（m/z）:327（M+） 11）１−（2,5−ジフルオロフェニル）−５−［４−
（メチルチオ）フェニル］ピラゾール−３−カルボキサ
ミド 融点:185−187℃ IR（ヌジョール）:3450,3300,3150,1690,1610,1510cm-1 NMR（DMSO−d6,δ）:2.46（3H,s）,7.0−7.8（10H,m） Mass（m/z）:345（M+） 12）１−［４−（Ｎ−ホルミルメチルアミノ）フェニ
ル］−５−［４−（メチルチオ）フェニル］ピラゾール
−３−カルボキサミド 融点:183−189℃ IR（ヌジョール）:3350,3200,1670,1655,1605,1520cm-1 NMR（DMSO−d6,δ）:2.47（3H,s）,3.23（3H,s）,6.9−
7.7（11H,m）,8.65（1H,s） Mass（m/z）:366（M+） 13）５−［４−（メチルチオ）フェニル］−１−（２−
ニトロフェニル）ピラゾール−３−カルボキサミド 融点:196−199℃（分解） IR（ヌジョール）:3500,3160,1690,1610,1530cm-1 Mass（m/z）:354（M+） 14）１−（４−フルオロ−２−ニトロフェニル）−５−
［４−（メチルチオ）フェニル］ピラゾール−３−カル
ボキサミド IR（ヌジョール）:3430,3200,1670,1590,1540,1510cm-1 15）１−［４−（Ｎ−ホルミルメチルアミノ）フェニ
ル］−５−［４−（メチルスルホニル）フェニル］ピラ
ゾール−３−カルボキサミド 融点:278−283℃（分解） IR（ヌジョール）:3350,1665,1600,1520cm-1 Mass（m/z）:398（M+） 16）１−（２−クロロフェニル）−５−［４−（メチル
チオ）フェニル］ピラゾール−３−カルボキサミド 融点:195−201℃ IR（ヌジョール）:3450,3150,1690,1610,1590cm-1 Mass（m/z）:343（M+） 実施例40 １−（４−アミノフェニル）−５−［５−（メチルス
ルホニル）−２−チエニル］ピラゾール−３−カルボニ
トリル（1.1g）と蟻酸（5ml）の混合物を30分間還流す
る。混合物を濃縮し、残渣を水で粉末化して、１−［４
−（ホルミルアミノ）フェニル］−５−［５−（メチル
スルホニル）−２−チエニル］ピラゾール−３−カルボ
ニトリル（1.1g）を結晶として得る。
融点:152−158℃ IR（ヌジョール）:3260,2250,1675,1605,1515cm-1 Mass（m/z）:372（M+） 実施例40と同様にして下記の化合物（実施例41−１）
から41−11））を得る。
実施例41 １）１−［４−（ホルミルアミノ）フェニル］−５−
（４−トリル）ピラゾール−３−カルボン酸エチルエス
テル 融点:201−203℃ IR（ヌジョール）:3260,1730,1690,1600,1530cm-1 ２）１−［４−（ホルミルアミノ）フェニル］−５−
（４−メトキシフェニル）ピラゾール−３−カルボニト
リル IR（薄膜）:3300,2250,1690,1610,1515cm-1 ３）１−［４−（ホルミルアミノ）フェニル］−５−
［４−（メチルチオ）フェニル］ピラゾール−３−カル
ボン酸エチルエステル 融点:190−192℃ IR（ヌジョール）:3250,1730,1690,1605,1520cm-1 ４）１−［４−（ホルミルアミノ）フェニル］−５−
［４−（メチルスルホニル）フェニル］ピラゾール−３
−カルボニトリル 融点:195−197℃ IR（ヌジョール）:3270,2240,1690,1670,1605,1550,151
5cm-1 NMR（DMSO−d6,δ）:3.26（3H,s）,7.2−8.0（9H,m）,
8.32（1H,s）,10.48（1H,s） Mass（m/z）:366（M+） ５）１−［２−（ホルミルアミノ）フェニル］−５−
［４−（メチルスルホニル）フェニル］ピラゾール−３
−カルボニトリル 融点:109−118℃ IR（ヌジョール）:3330,2250,1700,1600,1520cm-1 Mass（m/z）:336（M+）,338 ６）１−［４−（ホルミルアミノ）フェニル］−５−
［４−（メチルチオ）フェニル］−３−（トリフルオロ
メチル）ピラゾール 融点:134−135℃ IR（ヌジョール）:3370,1700,1605,1530cm-1 Mass（m/z）:377（M+） ７）１−［４−（ホルミルアミノ）フェニル］−５−
［４−（メチルスルホニル）フェニル］−３−（トリフ
ルオロメチル）ピラゾール 融点:163−166℃ IR（ヌジョール）:3270,1680,1610,1550,1520,1500cm-1 Mass（m/z）:409（M+） ８）１−［４−（ホルミルアミノ）フェニル］−５−
［４−（メチルスルフィニル）フェニル］−３−（トリ
フルオロメチル）ピラゾール IR（薄膜）:3270,1690,1610,1525,1500cm-1 ９）１−［４−（ホルミルアミノ）フェニル］−３−
（メチルスルホニル）−５−［４−（メチルスルホニ
ル）フェニル］ピラゾール 融点:193−195℃ IR（ヌジョール）:3380,1700,1670,1605,1535cm-1 Mass（m/z）:419（M+） 10）３−（ジフルオロメチル）−１−［４−（ホルミル
アミノ）フェニル−５−［４−（メチルチオ）フェニ
ル］ピラゾール 融点:127−131℃ IR（ヌジョール）:3300,1680,1670,1610,1520cm-1 Mass（m/z）:359（M+） 11）１−［４−（ホルミルアミノ）フェニル］−５−
［４−（メチルスルホニル）フェニル］ピラゾール−３
−カルボン酸エチルエステル 融点:214−216℃ IR（ヌジョール）:3270,1740,1670,1605,1555,1510cm-1 Mass（m/z）:413（M+） 実施例42 １−［４−（ホルミルアミノ）フェニル］−５−［５
−（メチルスルホニル）−２−チエニル］ピラゾール−
３−カルボニトリル（1.1g）のN,N−ジメチルホルムア
ミド（3ml）溶液を水素化ナトリウム（60％、118mg）の
N,N−ジメチルホルムアミド（2ml）中懸濁液に滴下す
る。混合物を０℃で30分間撹拌する。これにヨードメタ
ン（0.84g）のN,N−ジメチルホルムアミド（2ml）溶液
を０℃で滴下する。得られた混合物を０℃で１時間撹拌
し、氷冷した希塩酸に注ぎ、酢酸エチルで抽出する。抽
出物を水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮す
る。残渣をエタノールから再結晶して、１−［４−（Ｎ
−ホルミルメチルアミノ）フェニル］−５−（５−（メ
チルスルホニル）−２−チエニル］ピラゾール−３−カ
ルボニトリル（1g）を結晶として得る。
融点:170−173℃ IR（ヌジョール）:2250,1675,1600,1520cm-1 Mass（m/z）:386（M+） 実施例42と同様にして下記の化合物（実施例43−１）
から43−12））を得る。
実施例43 １）１−（４−フルオロフェニル）−５−［４−（Ｎ−
ホルミルメチルアミノ）フェニル］ピラゾール−３−カ
ルボン酸エチルエステル 融点:118−120℃ IR（ヌジョール）:1715,1680,1610,1515cm-1 NMR（CDCl3,δ）:1.43（3H,t,J＝7Hz）,3.32（3H,s）,
4.46（2H,q,J＝7Hz）,7.0−7.5（9H,m）,8.55（1H,s） Mass（m/z）:367（M+） ２）１−［４−（Ｎ−ホルミルメチルアミノ）フェニ
ル］−５−（４−トリル）ピラゾール−３−カルボン酸
エチルエステル IR（薄膜）:1720,1675,1610,1515cm-1 NMR（CDCl3,δ）:1.39（3H,t,J＝7Hz）,2.32（3H,s）,
3.28（3H,s）,4.42（2H,q,J＝7Hz）,6.9−7.5（9H,m）,
8.42（1H,s） ３）１−［４−（Ｎ−ホルミルメチルアミノ）フェニ
ル］−５−［４−（メトキシフェニル）ピラゾール−３
−カルボニトリル IR（薄膜）:2250,1680,1610,1515cm-1 ４）１−［４−（Ｎ−ホルミルメチルアミノ）フェニ
ル］−５−［４−（メチルチオ）フェニル］ピラゾール
−３−カルボン酸エチルエステル IR（薄膜）:1720,1680,1605,1520cm-1 NMR（CDCl3,δ）:1.42（3H,t,J＝7Hz）,2.47（3H,s）,
3.28（3H,s）,4.42（2H,q,J＝Hz）,6.9−7.4（9H,m）,
8.37（1H,s） ５）１−［４−（Ｎ−ホルミルメチルアミノ）フェニ
ル］−５−［４−（メチルスルホニル）フェニル］ピラ
ゾール−３−カルボニトリル Mass（m/z）:380（M+） ６）１−［２−（Ｎ−ホルミルメチルアミノ）フェニ
ル］−５−［４−（メチルスルホニル）フェニル］ピラ
ゾール−３−カルボニトリル 融点:172−173℃ IR（ヌジョール）:2250,1670,1600,1500cm-1 Mass（m/z）:380（M+）,352 ７）１−［４−（Ｎ−ホルミルメチルアミノ）フェニ
ル］−５−［４−（メチルチオ）フェニル］−３−（ト
リフルオロメチル）ピラゾール 融点:142−144℃ IR（ヌジョール）:1680,1610,1520,1500cm-1 Mass（m/z）:391 ８）１−［４−（Ｎ−ホルミルメチルアミノ）フェニ
ル］−５−［４−（メチルスルホニル）フェニル］−３
−（トリフルオロメチル）ピラゾール 融点:118−120℃ IR（ヌジョール）:1660,1610,1520,1500cm-1 Mass（m/z）:423（M+） ９）１−［４−（Ｎ−ホルミルメチルアミノ）フェニ
ル］−５−［４−（メチルスルフィニル）フェニル−３
−（トリフルオロメチル）ピラゾール IR（薄膜）:1675,1610,1520,1500cm-1 10）１−［４−（Ｎ−ホルミルメチルアミノ）フェニ
ル］−３−（メチルスルホニル）−５−［４−（メチル
スルホニル）フェニル］ピラゾール 融点:146−150℃ IR（ヌジョール）:1675,1605,1520cm-1 Mass（m/z）:433（M+） 11）３−（ジフルオロメチル）−１−［４−（Ｎ−ホル
ミルメチルアミノ）フェニル］−５−［４−（メチルチ
オ）フェニル］ピラゾール 融点:109−115℃ IR（ヌジョール）:1680,1605,1520cm-1 Mass（m/z）:373（M+） 12）１−［４−（Ｎ−ホルミルメチルアミノ）フェニ
ル］−５−［４−（メチルスルホニル）フェニル］ピラ
ゾール−３−カルボン酸エチルエステル IR（ヌジョール）:1745,1725,1680,1600,1520cm-1 Mass（m/z）:427（M+） 実施例44 １−［４−（Ｎ−ホルミルメチルアミノ）フェニル］
−５−［５−（メチルスルホニル）−２−チエニル］ピ
ラゾール−３−カルボニトリル（1g）と10％塩酸（3m
l）のメタノール（15ml）中混合物を60℃で３時間撹拌
する。混合物を冷却後、濾過し、濾液を減圧濃縮する。
残渣をエタノールで洗浄して、１−［４−（メチルアミ
ン）フェニル］−５−［５−（メチルスルホニル）−２
−チエニル］ピラゾール−３−カルボニトリル塩酸塩
（0.89g）を結晶として得る。
融点:205−207℃ IR（ヌジョール）:2600,2450,2250,1510cm-1 NMR（DMSO−d6,δ）:2.76（3H,s）,3.33（3H,s）,6.77
（2H,d,J＝8Hz）,7.26（2H,d,J＝8Hz）,7.43（1H,d,J＝
3Hz）,7.72（1H,s）,7.78（1H,d,J＝3Hz） Mass（m/z）:358（M+） 実施例44と同様にして下記の化合物（実施例45−１）
から45−14））を得る。
実施例45 １）１−（４−フルオロフェニル）−５−［４−（メチ
ルアミノ）フェニル］ピラゾール−３−カルボニトリル
塩酸塩 融点:189−191℃ IR（ヌジョール）:2650,2450,2250,1510cm-1 NMR（DMSO−d6,δ）:2.73（3H,s）,6.8−7.5（9H,m） Mass（m/z）:292（M+） ２）１−［４−（メチルアミン）フェニル］−５−（４
−トリル）ピラゾール−３−カルボニトリル塩酸塩 融点:199−201℃ IR（ヌジョール）:2600,2450,2250,1610,1520cm-1 NMR（DMSO−d6,δ）:2.29（3H,s）,2.76（3H,s）,6.9−
7.4（9H,m）,7.62（2H,s） Mass（m/z）:288（M+） ３）１−［４−（メチルアミノ）フェニル］−５−［４
−（メチルスルホニル）フェニル］ピラゾール−３−カ
ルボニトリル塩酸塩 融点:218−221℃ IR（ヌジョール）:3450,2650,2460,2250,1600,1510cm-1 NMR（DMSO−d6,δ）:2.70（3H,s）,3.25（3H,s）,5.46
（2H,s）,6.5−8.0（9H,m） Mass（m/z）:352（M+） ４）１−［４−（メチルアミノ）フェニル］−５−［４
−（メチルチオ）フェニル］ピラゾール−３−カルボニ
トリル塩酸塩 融点:113−120℃ IR（ヌジョール）:3400,2650,2450,2250,1600,1515cm-1 NMR（DMSO−d6,δ）:2.46（3H,s）,2.74（3H,s）,6.57
（2H,s）,6.5−7.4（9H,m） Mass（m/z）:320（M+） ５）１−［４−（メチルアミノ）フェニル］−５−［４
−（メチルスルフィニル）フェニル］ピラゾール−３−
カルボニトリル塩酸塩 融点:175−177℃（分解） IR（ヌジョール）:2630,2450,2250,1600,1515cm-1 NMR（DMSO−d6,δ）:2.74（3H,s）,2.76（3H,s）,6.53
（2H,s）,6.7−7.8（9H,m） Mass（m/z）:336（M+）,319 ６）１−［２−（メチルアミノ）フェニル］−５−［４
−（メチルスルホニル）フェニル］ピラゾール−３−カ
ルボニトリル 融点:192−193℃ IR（ヌジョール）:3450,2250,1610,1520cm-1 NMR（DMSO−d6,δ）:2.66（3H,d,J＝5Hz）,3.22（3H,
s）,5.33（1H,q,J＝5Hz）,6.5−8.0（9H,m） Mass（m/z）:352（M+） ７）１−［４−（メチルアミノ）フェニル］−５−［４
−（メチルチオ）フェニル］−３−（トリフルオロメチ
ル）ピラゾール 融点:168−169℃ IR（ヌジョール）:3400,1610,1535,1500cm-1 NMR（CDCl3,δ）:2.47（3H,s）,2.84（3H,s）,6.5−7.3
（9H,m） Mass（m/z）:363（M+） ８）１−［４−（メチルアミノ）フェニル］−５−［４
−（メチルスルホニル）フェニル］−３−（トリフルオ
ロメチル）ピラゾール塩酸塩 融点:200−202℃ IR（ヌジョール）:2725,2600,2450,1600,1520,1500cm-1 NMR（DMSO−d6,δ）:2.75（3H,s）,3.26（3H,s）,6.8−
8.0（9H,m）,8.42（2H,s） Mass（m/z）:395（M+） ９）１−［４−（メチルアミノ）フェニル］−５−［４
−（メチルスルフィニル）フェニル］−３−（トリフル
オロメチル）ピラゾール塩酸塩 融点:171−172℃ IR（ヌジョール）:2625,2450,1500cm-1 NMR（DMSO−d6,δ）:2.76（6H,s）,6.8−7.8（10H,m） Mass（m/z）:379（M+） 10）１−［４−（メチルアミノ）フェニル］−３−（メ
チルスルホニル）−５−［４−（メチルスルホニル）フ
ェニル］ピラゾール塩酸塩 融点:209−211℃ IR（ヌジョール）:2650,2450,1600,1515cm-1 NMR（DMSO−d6,δ）:2.74（3H,s）,3.26（3H,s）,3.35
（3H,s）,6.7−8.0（9H,m） Mass（m/z）:405（M+） 11）３−（ジフルオロメチル）−１−［４−（メチルア
ミノ）フェニル］−５−［４−（メチルチオ）フェニ
ル］ピラゾール 融点:128−129℃ IR（ヌジョール）:3360,1610,1530cm-1 NMR（CDCl3,δ）:2.47（3H,s）,2.84（3H,s）,6.4−7.2
（10H,m） Mass（m/z）:345（M+） 12）Ｎ−メチル−１−［４−（メチルアミノ）フェニ
ル］−５−［４−（メチルスルホニル）フェニル］ピラ
ゾール−３−カルボキサミド 融点:187−188℃ IR（ヌジョール）:3400,1670,1650,1610,1560,1525cm-1 NMR（CDCl3,δ）:2.86（3H,s）,2.92（3H,d,J＝5Hz）,
3.06（3H,s）,4.03（1H,s）,6.5−8.0（10H,m） mass（m/z）:384（M+） 13）N,N−ジメチル−１−［４−（メチルアミノ）フェ
ニル］−５−［４−（メチルスルホニル）フェニル］ピ
ラゾール−３−カルボキサミド 融点:204−205℃ IR（ヌジョール）:3420,1620,1530cm-1 NMR（CDCl3,δ）:2.86（3H,s）,3.07（3H,s）,3.14（3
H,s）,3.44（3H,s）,4.00（1H,s）,6.4−8.0（9H,m） Mass（m/z）:395（M+） 14）１−［４−（メチルアミノ）フェニル］−５−［４
−（メチルスルホニル）フェニル］ピラゾール−３−カ
ルボキサミド 融点:215−216℃ IR（ヌジョール）:3470,3370,3160,1675,1610,1530cm-1 NMR（DMSO−d6,δ）:2.69（3H,d,J＝5Hz）,3.24（3H,
s）,6.07（1H,q,J＝5Hz）,6.55（2H,d,J＝9Hz）,7.0−
8.0（9H,m） Mass（m/z）:370（M+） 実施例46 実施例44と同様にして得られた１−［４−（メチルア
ミノ）フェニル］−５−［４−（メチルスルホニル）フ
ェニル］ピラゾール−３−カルボン酸エチルエステルを
実施例３と同様にして反応させて、１−［４−（メチル
アミノ）フェニル］−５−［４−（メチルスルホニル）
フェニル］ピラゾール−３−カルボン酸を得る。
融点:235−240℃（分解） IR（ヌジョール）:3400,1715,1610,1530cm-1 NMR（DMSO−d6,δ）:2.69（3H,s）,3.24（3H,s）,6.09
（1H,s）,6.55（2H,d,J＝9Hz）,7.05（2H,d,J＝9Hz）,
7.17（1H,s）,7.53（2H,d,J＝8Hz）,7.89（2H,d,J＝8H
z） Mass（m/z）:371（M+） 実施例47 １−（４−フルオロフェニル）−５−［４−（メチル
スルホニル）フェニル］ピラゾール−３−カルボニトリ
ル（1g）、塩化アンモニウム（0.25g）およびアジ化ナ
トリウム（0.24g）のN,N−ジメチルホルムアミド（10m
l）の混合物を105℃で10時間撹拌する。混合物を氷水に
注ぎ、析出物を集め、水洗後、エタノールとテトラヒド
ロフランの混合物から再結晶して、１−（４−フルオロ
フェニル）−５−［４−（メチルスルホニル）フェニ
ル］−３−（５−テトラゾリル）ピラゾール（0.71g）
を結晶として得る。
融点:278−279℃（分解） IR（ヌジョール）:3150,1655,1620,1600,1510cm-1 NMR（DMSO−d6,δ）:3.27（3H,s）,7.3−7.6（7H,m）,
7.95（2H,d,J＝8Hz） Mass（m/z）:384（M+） 実施例47と同様にして下記の化合物（実施例48−１）
および48−２））を得る。
実施例48 １）１−（４−フルオロフェニル）−５−［４−（メチ
ルチオ）フェニル］−３−（５−テトラゾリル）ピラゾ
ール 融点:242−243℃（分解） IR（ヌジョール）:1605,1510cm-1 NMR（DMSO−d6,δ）:2.48（3H,s）,7.1−7.6（9H,s） Mass（m/z）:352（M+） ２）１−（４−フルオロフェニル）−５−［４−（メチ
ルスルフィニル）フェニル］−３−（５−テトラゾリ
ル）ピラゾール 融点:272−273℃（分解） IR（ヌジョール）:1615,1510cm-1 NMR（DMSO−d6,δ）:2.79（3H,s）,7.3−7.8（9H,m） Mass（m/z）:368（M+） 実施例49 エチル ４−［４−（ホルミルアミノ）フェニル］−
2,4−ジオキソブタノエート（6g）と４−フルオロフェ
ニルヒドラジン塩酸塩（4.1g）の酢酸（30ml）中混合物
を100℃で２時間撹拌する。混合物を濃縮し、残渣を10
％塩酸（10ml）とメタノール（40ml）で60℃で２時間処
理する。溶媒を留去し、残渣を水に溶解する。得られた
溶液を中性とし、酢酸エチルで抽出する。析出物を水洗
し、乾燥後、減圧乾燥する。残渣をエタノールで洗浄し
て、５−（４−アミノフェニル）−１−（４−フルオロ
フェニル）ピラゾール−３−カルボン酸エチルエステル
（3.4g）を結晶として得る。
融点:158−160℃ IR（ヌジョール）:3450,3350,3250,1720,1640,1610,151
0cm-1 NMR（CDCl3,δ）:1.42（3H,t,J＝7Hz）,4.44（2H,q,J＝
7Hz）,6.5−7.4（9H,m） Mass（m/z）:325（M+） 実施例50 亜硝酸ナトリウム（0.26g）の水（0.3ml）溶液を含塩
氷浴で冷却した１−（４−フルオロフェニル）−５−
［４−（メチルチオ）フェニル］−３−ピラゾールアミ
ン（1g）、アセトニトリル（1ml）、硫酸（0.6ml）およ
び水（1.6ml）の混合物に加える。混合物を０℃で30分
間撹拌する。得られた混合物を臭化第一銅（645mg）、
臭化ナトリウム（582mg）、臭化水素酸（1.7ml）および
水（3ml）の混合物に80℃で少量づつ加える。混合物を8
0℃で30分間撹拌し、トルエンで抽出する。抽出物を水
洗し、乾燥後、減圧濃縮する。得られた残渣をシリカゲ
ル（10g）カラムクロマトグラフィーで精製して、３−
ブロモ−１−（４−フルオロフェニル）−５−［４−
（メチルチオ）フェニル］ピラゾール（0.35g）を結晶
として得る。
融点:98−99℃ IR（ヌジョール）:1600,1510,1680cm-1 NMR（CDCl3,δ）:2.48（3H,s）,6.49（1H,s）,6.9−7.3
（8H,m） Mass（m/z）:364（M+） 実施例51 ４−ブロモ−１−（４−フルオロフェニル）−５−
［４−（メチルチオ）フェニル］ピラゾール（1.9g）と
シアン化第一銅（0.7g）の混合物を200℃で６時間加熱
する。混合物を酢酸エチルで抽出し、抽出物を減圧濃縮
する。残渣（0.95g）をシリカゲル（20g）カラムクロマ
トグラフィーに付し、クロロホルムで溶出して、１−
（４−フルオロフェニル）−５−［４−（メチルチオ）
フェニル］ピラゾール−４−カルボニトリル（0.95g）
を結晶として得る。
融点:122−123℃ IR（ヌジョール）:2230,1600,1505cm-1 NMR（CDCl3,δ）:2.50（3H,s）,7.0−7.8（8H,m）,8.00
（1H,s） Mass（m/z）:309（M+） 実施例52 臭素（0.9g）のジクロロメタン（2ml）溶液を氷冷し
た１−（４−フルオロフェニル）−５−［４−（メチル
チオ）フェニル］ピラゾール（1.6g）のジクロロメタン
（10ml）溶液に滴下する。混合物を５℃で１時間撹拌
し、亜硫酸水素ナトリウム溶液および水で洗浄し、乾燥
後、減圧濃縮する。残渣（1.9g）をエタノールから再結
晶して、４−ブロモ−１−（４−フルオロフェニル）−
５−［４−（メチルチオ）フェニル］ピラゾール（1.3
g）を結晶として得る。
融点:85−87℃ IR（ヌジョール）:1600,1510cm-1 Mass（m/z）:364,362 実施例53 １−［４−（メチルチオ）フェニル］−3,3−ビス
（メチルチオ）−２−プロペン−１−オン（2.7g）と４
−フルオロフェニルヒドラジン水和物（1.8g）の酢酸
（15ml）中混合物を100℃で７時間撹拌する。溶媒を留
去し、残渣をエタノールに溶解する。不溶物を濾去し、
濾液を減圧濃縮する。残渣をシリカゲル（25g）カラム
クロマトグラフィーに付し、クロロホルムで溶出して、
１−（４−フルオロフェニル）−３−（メチルチオ）−
５−［４−（メチルチオ）フェニルピラゾール（0.73
g）を油状物として得る。
IR（ヌジョール）:1590,1510cm-1 NMR（CDCl3,δ）:2.48（3H,s）,2.59（3H,s）,6.40（1
H,s）,6.9−7.4（8H,m） 実施例53と同様にして下記の化合物（実施例54）を得
る。
実施例54 ３−（メチルチオ）−５−［４−（メチルチオ）フェ
ニル］−１−（４−ニトロフェル）ピラゾール 融点:71−73℃ IR（ヌジョール）:1595,1515,1500cm-1 Mass（m/z）:357（M+） 実施例55 ５−（４−アミノフェニル）−１−（４−フルオロフ
ェニル）ピラゾール−３−カルボキサミド（0.27g）と
塩化メタンスルホニル（0.63g）のピリジン（5ml）中混
合物を60℃で５時間撹拌する。溶媒を留去し、残渣を酢
酸エチルと水の混合物に溶解する。有機層を分離し、水
洗後、乾燥し、減圧濃縮する。残渣をエタノールから結
晶化して、１−（４−フルオロフェニル）−５−［４−
メチルスルホニルアミノ）フェニル］ピラゾール−３−
カルボニトリル（0.19g）を得る。
融点:202−205℃ IR（ヌジョール）:3160,2250,1615,1510cm-1 NMR（DMSO−d6,δ）:3.05（3H,s）,7.1−7.5（9H,m）,1
0.06（1H,s） Mass（m/z）:356（M+）,277 実施例56 １−（２−アミノ−４−フルオロフェニル）−５−
［４−（メチルスルホニル）フェニル］ピラゾール−３
−カルボニトリル（0.87g）、沃化メチル（0.69g）およ
び炭酸カリウム（0.27g）のN,N−ジメチルホルムアミド
（5ml）中混合物を45℃で19時間撹拌する。混合物を水
に注ぎ、酢酸エチルで抽出する。抽出物を水洗し、乾燥
後、減圧濃縮する。残渣（1g）をシリカゲル（15g）カ
ラムクロマトグラフィーに付し、クロロホルムで溶出す
る。
最初の溶出液から１−［２−（ジメチルアミノ）−４
−フルオロフェニル］−５−［４−（メチルスルホニ
ル）フェニル］ピラゾール−３−カルボニトリル（0.11
g）を得る。
融点:200−202℃ IR（ヌジョール）:2250,1620,1500cm-1 NMR（DMSO−d6,δ）:2.11（6H,s）,3.21（3H,s）,6.7−
7.9（8H,m） Mass（m/z）:384（M+） 次の溶出液から１−［４−フルオロ−２−（メチルア
ミノ）フェニル−５−［４−（メチルスルホニル）フェ
ニル］ピラゾール−３−カルボニトリル（0.44g）を得
る。
融点:192−193℃ IR（ヌジョール）:3450,2250,1620,1530cm-1 NMR（DMSO−d6,δ）:2.65（3H,d,J＝3Hz）,3.23（3H,
s）,5.68（1H,q,J＝3Hz）,6.3−8.0（8H,m） Mass（m/z）:370（M+） 実施例57 １−（４−フルオロフェニル）−３−（メチルチオ）
−５−［４−（メチルチオ）フェニル］ピラゾール（0.
73g）、30％過酸化水素（1.5ml）および濃硫酸（２滴）
の酢酸（10ml）中混合物を60℃で４時間撹拌する。溶媒
を留去し、残渣を酢酸エチルに溶解する。溶液を炭酸水
素ナトリウム水溶液および水で順次洗浄し、乾燥後、濃
縮する。残渣を酢酸エチルとエタノールの混合物から再
結晶して、１−（４−フルオロフェニル）−３−（メチ
ルスルホニル）−５−［４−（メチルスルホニル）フェ
ニル］ピラゾール（0.54g）を結晶として得る。
融点:209−210℃ IR（ヌジョール）:1600,1515cm-1 NMR（DMSO−d6,δ）:3.26（3H,s）,3.38（3H,s）,7.3−
8.0（9H,m） Mass（m/z）:394（M+） 実施例57と同様にして下記の化合物（実施例58）を得
る。
実施例58 ３−（メチルスルホニル）−５−［４−（メチルスル
ホニル）フェニル］−１−（４−ニトロフェニル）ピラ
ゾール 融点:187−189℃ IR（ヌジョール）:1600,1530,1500cm-1 Mass（m/z）:421 実施例59 ４−フルオロ−１−［４−（メチルチオ）フェニル］
ブタン−1,3−ジオン（2g）と４−フルオロフェニルヒ
ドラジン塩酸塩（1.6g）の酢酸（10ml）中混合物を５時
間還流する。溶媒を留去し、残渣を酢酸エチルに溶解す
る。得られた溶液を炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄
し、乾燥後、減圧濃縮する。残渣（3g）をシリカゲルカ
ルムクロマトグラフィーに付し、クロロホルムで溶出す
る。最初の溶出液から３−（クロロメチル）−１−（４
−フルオロフェニル）−５−［４−（メチルチオ）フェ
ニル］ピラゾール（1.3g）を油状物として得る。
IR（薄膜）:1600,1510cm-1 NMR（CDCl3,δ）:2.44（3H,s）,4.64（2H,s）,6.49（1
H,s）,6.8−7.3（8H,m） Mass（m/z）:332（M+） 次の溶出液から酢酸１−（４−フルオロフェニル）−
５−［４−（メチルチオ）フェニル］−３−ピラゾリル
メチル（0.6g）を油状物として得る。
IR（薄膜）:1740,1600,1515cm-1 NMR（CDCl3,δ）:2.11（3H,s）,2.44（3H,s）,5.14（2
H,s）,6.46（1H,s）,6.8−7.3（8H,m） 実施例60 塩化アセチル（0.48g）の酢酸エチル（10ml）溶液を
氷冷した１−（４−フルオロフェニル）−５−［４−
（メチルチオ）フェニル］ピラゾール−３−イルメチル
アミン（1.6g）とトリエチルアミン（1g）の酢酸エチル
（50ml）溶液に滴下する。混合物を５℃で１時間撹拌
し、希塩酸、炭酸水素ナトリウム溶液および水で順次洗
浄し、乾燥後、減圧濃縮する。Ｎ−｛１−（４−フルオ
ロフェニル）−５−［４−（メチルチオ）フェニル］ピ
ラゾール−３−イルメチル｝アセトアミドを含む前記残
渣（2.5g）とｍ−クロロ過安息香酸（2.8g）のジクロロ
メタン（50ml）中混合物を室温で一夜撹拌する。混合物
を炭酸水素ナトリウム溶液で洗浄し、減圧濃縮する。Ｎ
−｛１−（４−フルオロフェニル）−５−［４−（メチ
ルスルホニル）フェニル］ピラゾール−３−イルメチ
ル｝アセトアミドを含む残留粉末（2.1g）にエタノール
（40ml）と濃塩酸（15ml）を加える。混合物を７時間還
流し、濃縮乾固する。残渣を水に溶解し、溶液を水酸化
ナトリウムでアルカリ性とし、酢酸エチルで抽出する。
抽出物を水洗し、乾燥後、減圧濃縮する。得られた残渣
（1.4g）をシリカゲル（100g）カラムクロマトグラフィ
ーに付し、クロロホルムとメタノールの混合溶媒（10:
1）で溶出して、１−（４−フルオロフェニル）−５−
［４−（メチルスルホニル）フェニル］ピラゾール−３
−イルメチルアミン（1.0g）を結晶として得る。
融点:150−152℃ IR（ヌジョール）:3380,3300,1600,1510cm-1 NMR（CDCl3,δ）:1.85（2H,s）,3.07（3H,s）,3.99（2
H,s）,6.57（1H,s）,7.0−7.5（6H,m）,7.87（2H,d,J＝
8Hz） Mass（m/z）:345（M+）
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｄ 401/04 ２３１ Ｃ０７Ｄ 401/04 ２３１ 403/04 ２３１ 403/04 ２３１ 409/04 ２３１ 409/04 ２３１ (56)参考文献 特開 平１−52758（ＪＰ，Ａ) 特開 昭52−36666（ＪＰ，Ａ) 特開 昭55−120583（ＪＰ，Ａ) 特開 昭58−177977（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−226815（ＪＰ，Ａ) 米国特許4146721（ＵＳ，Ａ)

Claims (6)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】式 ［式中、R1は低級アルキル基、ハロゲン原子、低級アル
    コキシ基、低級アルキルチオ基、低級アルキルスルフィ
    ニル基、低級アルキルスルホニル基、水酸基、低級アル
    キルスルホニルオキシ基、ニトロ基、アミノ基、低級ア
    ルキルアミノ基、アシルアミノ基および低級アルキル
    （アシル）アミノ基からなる群より選ばれた置換基で置
    換されていてもよいアリール基；またはピリジル基を、
    R2はアミノ基、低級アルキルアミノ基、ハロゲン原子も
    しくはアシルオキシ基で置換されたメチル基；カルボキ
    シ基；エステル化されたカルボキシ基；低級アルキル
    基、シクロ（低級）アルキル基、アリール基および水酸
    基からなる群より選ばれた置換基で置換されていてもよ
    いカルバモイル基；低級アルコキシ基で置換されていて
    もよい低級アルカノイル基；ピロリジニルカルボニル
    基;N−メチルピペラジニルカルボニル基；低級アルキル
    スルホニル基；シアノ基；ハロゲン原子；低級アルキル
    チオ基；低級アルキルスルフィニル基；またはテトラゾ
    リル基を、R3は低級アルキル基、低級アルキルチオ基、
    低級アルキルスルフィニル基、ハロゲン原子、アミノ
    基、低級アルキルアミノ基、アシルアミノ基、低級アル
    キル（アシル）アミノ基、低級アルコキシ基、シアノ
    基、水酸基もしくはアシル基で置換されたアリール基；
    または低級アルキルチオ基、低級アルキルスルフィニル
    基もしくは低級アルキルスルホニル基で置換されていて
    もよいチエニル基を示す。但し、R2がトリ（ハロ）メチ
    ル基である場合、R3は低級アルキルチオ基、低級アルキ
    ルスルフィニル基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、
    アシルアミノ基、低級アルキル（アシル）アミノ基、水
    酸基もしくはアシル基で置換されたアリール基；または
    低級アルキルチオ基、低級アルキルスルフィニル基もし
    くは低級アルキルスルホニル基で置換されたチエニル基
    であるか、またはR1が低級アルキルチオ基、低級アルキ
    ルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、水酸
    基、低級アルキルスルホニルオキシ基、ニトロ基、アミ
    ノ基、低級アルキルアミノ基、アシルアミノ基および低
    級アルキル（アシル）アミノ基からなる群より選ばれた
    置換基で置換されたアリール基；またはピリジル基であ
    り、R2がカルボキシ基、エステル化されたカルボキシ基
    または低級アルカノイル基である場合、R3は低級アルキ
    ルチオ基、低級アルキルスルフィニル基または低級アル
    キルスルホニル基で置換されたアリール基；または低級
    アルキルチオ基、低級アルキルスルフィニル基または低
    級アルキルスルホニル基で置換されたチエニル基であ
    る。］で表わされる化合物およびその塩。
  2. 【請求項２】R2がアミノ基、低級アルキルアミノ基もし
    くはアシルオキシ基で置換されたメチル基；低級アルキ
    ル基、シクロ（低級）アルキル基、アリール基および水
    酸基からなる群より選ばれた置換基で置換されていても
    よいカルバモイル基；低級アルコキシ基で置換されてい
    てもよい低級アルカノイル基；ピロリジニルカルボニル
    基;N−メチルピペラジニルカルボニル基；シアノ基；ハ
    ロゲン原子；低級アルキルチオ基；低級アルキルスルフ
    ィニル基；低級アルキルスルホニル基；またはテトラゾ
    リル基である請求項（１）に記載の化合物。
  3. 【請求項３】R3が低級アルキルチオ基、低級アルキルス
    ルフィニル基もしくは低級アルキルスルホニル基で置換
    されたアリール基である請求項（２）に記載の化合物。
  4. 【請求項４】R1はハロゲン原子で置換されたフェニル
    基、R2はハロゲン原子、R3は低級アルキルチオ基、低級
    アルキルスルフィニル基もしくは低級アルキルスルホニ
    ル基で置換されたフェニル基である請求項（３）に記載
    の化合物。
  5. 【請求項５】式 ［式中、R1は低級アルキル基、ハロゲン原子、低級アル
    コキシ基、低級アルキルチオ基、低級アルキルスルフィ
    ニル基、低級アルキルスルホニル基、水酸基、低級アル
    キルスルホニルオキシ基、ニトロ基、アミノ基、低級ア
    ルキルアミノ基、アシルアミノ基および低級アルキル
    （アシル）アミノ基からなる群より選ばれた置換基で置
    換されていてもよいアリール基；またはピリジル基を、
    R2はアミノ基、低級アルキルアミノ基、ハロゲン原子も
    しくはアシルオキシ基で置換されたメチル基；カルボキ
    シ基；エステル化されたカルボキシ基；低級アルキル
    基、シクロ（低級）アルキル基、アリール基および水酸
    基からなる群より選ばれた置換基で置換されていてもよ
    いカルバモイル基；低級アルコキシ基で置換されていて
    もよい低級アルカノイル基；ピロリジニルカルボニル
    基;N−メチルピペラジニルカルボニル基；低級アルキル
    スルホニル基；シアノ基；ハロゲン原子；低級アルキル
    チオ基；低級アルキルスルフィニル基；またはテトラゾ
    リル基を、R3は低級アルキル基、低級アルキルチオ基、
    低級アルキルスルフィニル基、ハロゲン原子、アミノ
    基、低級アルキルアミノ基、アシルアミノ基、低級アル
    キル（アシル）アミノ基、低級アルコキシ基、シアノ
    基、水酸基もしくはアシル基で置換されたアリール基；
    または低級アルキルチオ基、低級アルキルスルフィニル
    基もしくは低級アルキルスルホニル基で置換されていて
    もよいチエニル基を示す。但し、R2がトリ（ハロ）メチ
    ル基である場合、R3は低級アルキルチオ基、低級アルキ
    ルスルフィニル基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、
    アシルアミノ基、低級アルキル（アシル）アミノ基、水
    酸基もしくはアシル基で置換されたアリール基；または
    低級アルキルチオ基、低級アルキルスルフィニル基もし
    くは低級アルキルスルホニル基で置換されたチエニル基
    であるか、またはR1が低級アルキルチオ基、低級アルキ
    ルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、水酸
    基、低級アルキルスルホニルオキシ基、ニトロ基、アミ
    ノ基、低級アルキルアミノ基、アシルアミノ基および低
    級アルキル（アシル）アミノ基からなる群より選ばれた
    置換基で置換されたアリール基；またはピリジル基であ
    り、R2がカルボキシ基、エステル化されたカルボキシ基
    または低級アルカノイル基である場合、R3は低級アルキ
    ルチオ基、低級アルキルスルフィニル基または低級アル
    キルスルホニル基で置換されたアリール基；または低級
    アルキルチオ基、低級アルキルスルフィニル基または低
    級アルキルスルホニル基で置換されたチエニル基であ
    る。］で表わされる化合物またはその塩の製造法であっ
    て、 式 で表わされる化合物またはその塩を式 R1−NH−NH2 ［III］ で表わされる化合物またはその塩と反応させて、 式 で表わされる化合物またはその塩（前記式中、R1、R2、
    R3はそれぞれ前記定義の通りである）を得ることを特徴
    とする前記製造法。
  6. 【請求項６】請求項（１）に記載の化合物または医薬と
    して許容されるその塩を有効成分として含有する抗炎症
    もしくは鎮痛剤。
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