JP2023154554A - 積層体および画像表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】超薄型ガラスを有する前面板と粘着剤層と偏光フィルムとを含む積層体であって、取り扱い性が改善され、及び屈曲性が向上した積層体を提供すること。【解決手段】前面板と粘着剤層と偏光フィルムとをこの順に含み、前面板は、超薄型ガラスとハードコート層とを含み、粘着剤層の温度２５℃における貯蔵弾性率は０．２ＭＰａ以下であり、偏光フィルムは、重合性液晶化合物の硬化物を含む液晶硬化層から構成される、積層体。【選択図】図１

Description

本発明は積層体に関し、さらには積層体を含む画像表示装置にも関する。

特許文献１には、フレキシブルディスプレイ用ウィンドウに用いるフレキシブルガラス基板として薄型ガラスにハードコート層を設けたガラス基板積層体が提案されている。

韓国特許第１０－２２７６１６０号公報

超薄型ガラスを有する前面板は、光学部材との貼合の際に、および画像表示装置に組み込んだ後、画像表示装置を屈曲した際にクラックが生じ易い場合がある。

本発明の目的は、超薄型ガラスを有する前面板と粘着剤層と偏光フィルムとを含む積層体であって、取り扱い性が改善され、及び屈曲性が向上した積層体を提供することである。

本発明は、以下の積層体および画像表示装置を提供する。
［１］ 前面板と粘着剤層と偏光フィルムとをこの順に含み、
前記前面板は、超薄型ガラスとハードコート層とを含み、
前記粘着剤層の温度２５℃における貯蔵弾性率は０．２ＭＰａ以下であり、
前記偏光フィルムは、重合性液晶化合物の硬化物を含む液晶硬化層から構成される、積層体。
［２］ 超薄型ガラスの厚みは５０μｍ以下である、［１］に記載の積層体。
［３］ 前記ハードコート層の厚みは１０μｍ以上である、［１］に記載の積層体。
［４］ 前記ハードコート層の厚みは１０μｍ以上である、［２］に記載の積層体。
［５］ 前記粘着剤層の温度２５℃における貯蔵弾性率は０．０１ＭＰａ以上である、［１］～［４］に記載の積層体。
［６］ 前記粘着剤層の厚みは３０μｍ以下である、［１］～［４］のいずれかに記載の積層体。
［７］ 前記粘着剤層の厚みは３０μｍ以下である、［５］に記載の積層体。
［８］ ［１］～［４］のいずれかに記載の積層体を含む、画像表示装置。
［９］ ［５］に記載の積層体を含む、画像表示装置。
［１０］ ［６］に記載の積層体を含む、画像表示装置。
［１１］ ［７］に記載の積層体を含む、画像表示装置。

本発明はさらに、以下の積層体および画像表示装置を提供する。
［ａ］ 前面板と粘着剤層と偏光フィルムとをこの順に含み、
前記前面板は、超薄型ガラスとハードコート層とを含み、
前記粘着剤層の温度２５℃における貯蔵弾性率は０．２ＭＰａ以下であり、
前記偏光フィルムは、重合性液晶化合物の硬化物を含む液晶硬化層から構成される、積層体。
［ｂ］ 超薄型ガラスの厚みは５０μｍ以下である、［ａ］に記載の積層体。
［ｃ］ 前記ハードコート層の厚みは１０μｍ以上である、［ａ］または［ｂ］に記載の積層体。
［ｄ］ 前記粘着剤層の温度２５℃における貯蔵弾性率は０．０１ＭＰａ以上である、［ａ］～［ｃ］のいずれかに記載の積層体。
［ｅ］ 前記粘着剤層の厚みは３０μｍ以下である、［ａ］～［ｄ］のいずれかに記載の積層体。
［ｆ］ ［ａ］～［ｅ］のいずれかに記載の積層体を含む、画像表示装置。

本発明によれば、超薄型ガラスを有する前面板と粘着剤層と偏光フィルムとを含む積層体であって、取り扱い性が改善され、及び屈曲性が向上した積層体を提供することができる。

本発明に係る積層体の層構成の一例を示す概略断面図である。 本発明に係る積層体の層構成の別の一例を示す概略断面図である。 本発明に係る積層体の層構成の他の一例を示す概略断面図である。 屈曲性試験の方法を説明する概略図である。

以下、図面を参照しつつ本発明の実施形態を説明するが、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。以下の全ての図面においては、各構成要素を理解し易くするために縮尺を適宜調整して示しており、図面に示される各構成要素の縮尺と実際の構成要素の縮尺とは必ずしも一致しない。

＜積層体＞
本発明の一態様にかかる積層体は、前面板と粘着剤層と偏光フィルムとをこの順に含み、前面板は、超薄型ガラスとハードコート層とを含み、粘着剤層の温度２５℃における貯蔵弾性率は０．２ＭＰａ以下であり、偏光フィルムは、重合性液晶化合物の硬化物を含む液晶硬化層から構成される積層体である。

図１に本発明の一態様に係る積層体の概略断面図を示す。図１に示す積層体１００は、前面板１０と、粘着剤層１１と、偏光板１２とがこの順に積層されている。粘着剤層１１は、前面板１０および偏光板１２に接して配置されていてよい。前面板１０は、超薄型ガラス１４とハードコート層１３とを含む。偏光板１２は、視認側（前面板１０側）から順に基材フィルム１５、配向膜１６、偏光フィルム１７、保護層１８が積層されている。積層体１００は、上述の層に加えて、例えば位相差板、貼合層、有機ＥＬパネル、タッチセンサ等のその他の層をさらに含むことができる。

積層体１００は、屈曲軸に対して前面板１０側を内側または外側にして、好ましくは屈曲軸に対して前面板１０側を内側にして屈曲することが可能である。屈曲することが可能であるとは、積層体にクラックを生じさせることなく屈曲させ得ることを意味する。屈曲には、曲げ部分に曲面が形成される折り曲げの形態が含まれる。折り曲げの形態において、折り曲げた内面の屈曲半径は特に限定されない。また、屈曲には、内面の屈折角が０°より大きく１８０°未満である屈折の形態、および内面の屈曲半径がゼロに近似、または内面の屈折角が０°である折り畳みの形態が含まれる。本発明の積層体は、屈曲することが可能であることからフレキシブルディスプレイに好適である。

積層体１００は、後述する屈曲性の評価において繰返しの屈曲を行った場合、クラックが生じにくい屈曲半径が例えば４ｍｍ以下であってよく、好ましくは２ｍｍ以下、より好ましくは１．５ｍｍ以下である。積層体１００は、後述する屈曲性の評価において屈曲半径が１．５ｍｍで繰返しの屈曲を行った場合、最初にクラックが生じる屈曲回数が好ましくは２０万回以上であり、より好ましくは３０万回以上であり、さらに好ましくは４０万回以上であり、特に好ましくは５０万回以上である。

積層体１００の厚みは、積層体に求められる機能および積層体の用途等に応じて異なるため特に限定されないが、例えば３０μｍ以上４０００μｍ以下であり、好ましくは２０００μｍ以下であり、より好ましくは１０００μｍ以下である。本明細書において、積層体および各層の厚みは、後述する実施例において説明する厚み測定方法に従って測定することができる。

積層体１００の平面視形状は、例えば方形形状であってよく、好ましくは長辺と短辺とを有する方形形状であり、より好ましくは長方形である。積層体１００の面方向の形状が長方形である場合、長辺の長さは、例えば１０ｍｍ以上１４００ｍｍ以下であってよく、好ましくは６００ｍｍ以下である。短辺の長さは、例えば５ｍｍ以上８００ｍｍ以下であり、好ましくは５００ｍｍ以下であり、より好ましくは３００ｍｍ以下である。積層体を構成する各層は、角部がＲ加工されたり、端部が切り欠き加工されたり、穴あき加工されたりしていてもよい。

（前面板）
前面板１０は、画像表示装置の視認側の最表面を構成し、画像表示装置の前面（画面）を保護する機能を有することができる。前面板１０は、ウィンドウフィルムと呼ばれるものであることができる。前面板１０は、超薄型ガラス１４とハードコート層１３とを含む。ハードコート層は、超薄型ガラスの片側にのみ配置されていてもよいし、超薄型ガラスの両側に配置されていてもよい。本明細書において、厚みが５０μｍ以下であるガラスを超薄型ガラスという。

前面板１０の厚みは、例えば３０μｍ以上２００μｍ以下であってよく、好ましくは１００μｍ以下であり、より好ましくは５０μｍ以下である。

超薄型ガラス１４は、例えば厚みが５０μｍ以下であることができる。厚みが５０μｍ以下である超薄型ガラスを用いることにより、積層体が薄型化されると共に、積層体の屈曲性および透光性を向上させ易くなる傾向にある。超薄型ガラス１４の厚みは、好ましくは４５μｍ以下であり、より好ましくは４０μｍ以下であり、さらに好ましくは３５μｍ以下であり、特に好ましくは３０μｍ以下である。超薄型ガラス１４の厚みは、通常１０μｍ以上であり、積層体の耐衝撃性を向上させる観点から好ましくは１５μｍ以上である。

超薄型ガラス１４は、強度および透光性に優れる化学強化ガラスを用いることが好ましい。化学強化ガラスを用いることで、可撓性（フレキシビリティ）を保ちながらも、積層体の耐衝撃性を向上させることができる。化学強化ガラスは、ガラスの化学的イオン交換処理により得ることができる。化学的イオン交換処理により、ガラス表面のナトリウムイオンやリチウムイオンをイオン半径のより大きなカリウムイオンに部分的に置換することで、ガラス表面の強度を向上させることができる。薄い圧縮応力層の形成により、表面強度が向上する。化学強化ガラスに使用されるガラスとしては、例えば、アルミノシリケートガラス、ソーダライムガラス、ボロシリケートガラス、鉛ガラス、アルカリバリウムガラス、およびアルミノボロシリケートガラス等が挙げられる。

化学的イオン交換処理は、上記ガラスを融点以上に加熱したイオン置換溶液に浸漬またはペースト状のイオン置換溶液をガラスに直接塗布することで行うことができる。イオン置換溶液としては、硝酸カリウム、炭酸カリウム、炭酸水素カリウム、リン酸カリウム、硫酸カリウム及び水酸化カリウムベースのもの等が挙げられる。中でも、硝酸カリウム（３３０℃）は、ガラスの融点（通常５００℃以上６００℃以下）よりも融点が低く、取り扱いが容易であることから好適である。

化学的イオン交換処理の前にエッチング処理を行い、ガラスの薄膜化を行ってもよい。エッチング処理は、化学処理溶液としてフッ酸またはこれとフッ化アンモニウム水溶液及び有機酸、例えば、ギ酸、酢酸、プロピオン酸等とを混合したものを用いて行うこともできる。これらを使用して、噴射、ディッピング等によりエッチングを行うことができる。エッチング処理は、エッチングガスとしてフッ素を含んだ不活性ガス、例えば、ＣＦ_４、Ｃ_３Ｆ_８、Ｃ_２Ｆ_６、ＸｅＦ_２等を少なくとも１種含むＨｅガスまたはＡｒガスを用いて行ってもよい。具体的には、ＨｅガスまたはＡｒガスで希釈したフッ素を含む不活性ガスを大気圧下でプラズマ化し、フッ化炭素からフッ素を遊離させることでエッチングを行うことができる。

前面板１０は、超薄型ガラス１４の少なくとも一方の面にハードコート層１３を有する。ハードコート層１３を設けることにより、積層体１００の取り扱い性が向上し易くなる傾向にある。また、ハードコート層１３を設けることにより、硬度および耐スクラッチ性を向上させることができる。前面板１０が配置される画像表示装置がタッチパネル方式の画像表示装置である場合には、前面板の表面がタッチ面となるため、ハードコート層１２を有する前面板１０は好適である。

ハードコート層１３は、超薄型ガラス１４の一方の面形成されてもよいし、両方の面に形成されていてもよい。超薄型ガラス１４の両方の面に形成される場合、積層体１００の取り扱い性が向上し易くなる傾向にある。ハードコート層１３は、超薄型ガラス１４の一方の面形成される場合、積層体１００が画像表示装置に貼合されたときに視認側となる面に形成されることが好ましい。

ハードコート層１３は、例えば、紫外線硬化型樹脂の硬化層であることができる。紫外線硬化型樹脂としては、例えば（メタ）アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、アミド系樹脂、エポキシ系樹脂等が挙げられる。ハードコート層１３は、硬度を向上させるために、添加剤を含んでいてもよい。添加剤は限定されることはなく、無機系微粒子、有機系微粒子、またはこれらの混合物が挙げられる。

ハードコート層１３は、単層構造を有していてもよく、２層以上からなる多層構造を有していてもよい。ハードコート層１３が多層構造を有する場合、積層体の取り扱い性が向上し易くなる傾向にある。ハードコート層１３が多層構造を有する場合、各層の厚みおよび各層を構成する材料はそれぞれ互いに異なっていてもよいし、同一であってもよい。多層構造は２層または３層から構成されてよく、好ましくは２層から構成される。

ハードコート層１３の厚みは、例えば１０μｍ以上であってよく、好ましくは１５μｍ以上であり、より好ましくは２０μｍ以上であり、例えば５０μｍ以下または４０μｍ以下または３０μｍ以下であってよい。

ハードコート層１３が多層構造であったり超薄型ガラスの両側に配置されたりする場合、全ハードコート層の厚みの合計は、例えば１０μｍ以上であってよく、好ましくは１５μｍ以上であり、より好ましくは２０μｍ以上であり、例えば５０μｍ以下または４０μｍ以下または３０μｍ以下であってよい。

ハードコート層１３の視認側には、耐摩耗性を向上させたり、皮脂などによる汚染を防止したりするために、耐摩耗層が形成されていることも好ましい。前面板１０は、耐摩耗層を有することができ、耐摩耗層は、前面板１０の視認側表面を構成する層であることができる。耐摩耗層はフッ素化合物由来の構造を含むことができる。フッ素化合物としてはケイ素原子を有し、ケイ素原子にアルコキシ基やハロゲンのような加水分解性の基を有する化合物が好ましい。加水分解性基が脱水縮合反応することにより塗膜を形成することができ、また基材表面の活性水素と反応することにより耐摩耗層の密着性を向上させることができる。さらにフッ素化合物は、パーフルオロアルキル基やパーフルオロポリエーテル構造を有すると撥水性を付与することができるので好ましい。特に好ましいのはパーフルオロポリエーテル構造と炭素数４以上の長鎖のアルキル基とを有する含フッ素ポリオルガノシロキサン化合物である。フッ素化合物としては２種類以上の化合物を用いることも好ましい。さらに含むことが好ましいフッ素化合物としては、炭素数２以上のアルキレン基、及びパーフルオロアルキレン基を含む含フッ素オルガノシロキサン化合物である。

耐摩耗層の厚さは、例えば１ｎｍ以上２０ｎｍ以下であってよい。また、耐摩耗層は撥水性を有しており、水接触角が例えば１１０～１２５°程度である。滑落法で測定した接触角ヒステリシス及び滑落角は、それぞれ３～２０°程度、２～５５°程度である。更に、耐摩耗層は、本発明の効果を阻害しない範囲で、シラノール縮合触媒、酸化防止剤、防錆剤、紫外線吸収剤、光安定剤、防カビ剤、抗菌剤、生物付着防止剤、消臭剤、顔料、難燃剤、帯電防止剤等、各種の添加剤を含有していてもよい。

耐摩耗層とハードコート層との間にはプライマー層を設けてもよい。プライマー剤として、例えば紫外線硬化型、熱硬化型、湿気硬化型、あるいは２液硬化型のエポキシ系化合物等のプライマー剤がある。また、プライマー剤として、ポリアミック酸を用いてもよく、シランカップリング剤を用いることも好ましい。プライマー層の厚さは、例えば０．００１～２μｍである。

耐摩耗層とハードコート層とを含む前面板を得る方法としては、ハードコート層の上に、必要に応じてプライマー剤を塗布、乾燥、硬化させてプライマー層を形成させた後、フッ素化合物を含む組成物（耐摩耗層コーティング用組成物）を塗布、乾燥することで形成できる。塗布する方法としては、例えばディップコート法、ロールコート法、バーコート法、スピンコート法、スプレーコート法、ダイコート法、グラビアコート法などが挙げられる。また、プライマー剤、または、耐摩耗層コーティング用組成物を塗布する前に、塗布面をプラズマ処理、コロナ処理、または紫外線処理等の親水化処理を施すことも好ましい。

前面板１０は、耐衝撃性を高めるための樹脂フィルムを備えることができる。樹脂フィルムとしては、光を透過可能な樹脂フィルムであれば限定されない。例えば、トリアセチルセルロース、アセチルセルロースブチレート、エチレン－酢酸ビニル共重合体、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオニルセルロース、ポリエステル、ポリスチレン、ポリアミド、ポリエーテルイミド、ポリ（メタ）アクリル、ポリイミド、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリビニルアセタール、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリメチル（メタ）アクリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、ポリアミドイミド等の高分子で形成されたフィルムが挙げられる。これらの高分子は、単独でまたは２種以上混合して用いることができる。積層体をフレキシブルディスプレイに用いる場合には、優れた可撓性を有し、高い強度及び高い透明性を有するように構成可能な、ポリイミド、ポリアミド、ポリアミドイミド等の高分子で形成された樹脂フィルムが好適に用いられる。なお、本明細書において「（メタ）アクリル」とは、アクリルまたはメタクリルのいずれでもよいことを意味する。（メタ）アクリレート等の「（メタ）」も同様の意味である。樹脂フィルムの厚みは、例えば１０μｍ以上５００μｍ以下であり、好ましくは２０μｍ以上１００μｍ以下である。

（粘着剤層）
粘着剤層１１は、前面板１０と偏光板１２との間に介在して、これらを接合する層であることができる。粘着剤層は、例えば粘着剤から構成される層またはこの層に対して何らかの処理を施してなる層であってよい。粘着剤とは、感圧式接着剤とも呼ばれるものである。本明細書において「接着剤」とは、粘着剤（感圧式接着剤）以外の接着剤をいい、粘着剤とは明確に区別される。粘着剤層は、１層であってもよく、２層以上からなるものであってもよいが、好ましくは１層である。

粘着剤層１１の温度２５℃における貯蔵弾性率は０．２ＭＰａ以下であり、好ましくは０．１ＭＰａ以下、より好ましくは０．０５ＭＰａ以下である。粘着剤層１１の温度２５℃における貯蔵弾性率は、後述の実施例の欄において説明する測定方法に従って測定される。粘着剤層１１の温度２５℃における貯蔵弾性率は０．２ＭＰａ以下であることにより、積層体１００の屈曲性が向上し易くなる傾向にある。

粘着剤層１１は、後述する粘着剤組成物から形成される。粘着剤層１１の温度２５℃における貯蔵弾性率は、例えば粘着剤組成物に含まれる（メタ）アクリル系ポリマーを構成するモノマーの種類を選択したり、（メタ）アクリル系ポリマーの分子量を調節したり、架橋剤の添加量により、架橋密度を調整したり、粘着剤層の厚みを調節したりする方法、およびこれらの組み合わせの方法等により調節することができる。市販の粘着剤の中から所望の貯蔵弾性率を有するものを選択して用いることもできる。

粘着剤層１１は、（メタ）アクリル系、ゴム系、ウレタン系、エステル系、シリコーン系、ポリビニルエーテル系のような樹脂を主成分とする粘着剤組成物で構成することができる。中でも、透明性、耐候性、耐熱性等に優れる（メタ）アクリル系樹脂をベースポリマーとする粘着剤組成物が好適である。粘着剤組成物は、活性エネルギー線硬化型、熱硬化型であってもよい。

粘着剤組成物に用いられる（メタ）アクリル系樹脂（ベースポリマー）としては、例えば、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸イソオクチル、（メタ）アクリル酸２－エチルヘキシルのような（メタ）アクリル酸エステルの１種または２種以上をモノマーとする重合体または共重合体が好適に用いられる。ベースポリマーには、極性モノマーを共重合させることが好ましい。極性モノマーとしては、例えば、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸２－ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸ヒドロキシエチル、（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレートのような、カルボキシル基、水酸基、アミド基、アミノ基、エポキシ基等を有するモノマーを挙げることができる。

粘着剤組成物は、上記ベースポリマーのみを含むものであってもよいが、通常は架橋剤をさらに含有する。架橋剤としては、２価以上の金属イオンであって、カルボキシル基との間でカルボン酸金属塩を形成するもの；ポリアミン化合物であって、カルボキシル基との間でアミド結合を形成するもの；ポリエポキシ化合物やポリオールであって、カルボキシル基との間でエステル結合を形成するもの；ポリイソシアネート化合物であって、カルボキシル基との間でアミド結合を形成するものが例示される。中でも、ポリイソシアネート化合物が好ましい。

活性エネルギー線硬化型粘着剤組成物とは、紫外線や電子線のような活性エネルギー線の照射を受けて硬化する性質を有しており、活性エネルギー線照射前においても粘着性を有してフィルム等の被着体に密着させることができ、活性エネルギー線の照射によって硬化して密着力の調整ができる性質を有する粘着剤組成物である。活性エネルギー線硬化型粘着剤組成物は、紫外線硬化型であることが好ましい。活性エネルギー線硬化型粘着剤組成物は、ベースポリマー、架橋剤に加えて、活性エネルギー線重合性化合物をさらに含有する。さらに必要に応じて、光重合開始剤や光増感剤等を含有させることもある。

粘着剤組成物は、光散乱性を付与するための微粒子、ビーズ（樹脂ビーズ、ガラスビーズ等）、ガラス繊維、ベースポリマー以外の樹脂、粘着性付与剤、充填剤（金属粉やその他の無機粉末等）、酸化防止剤、紫外線吸収剤、染料、顔料、着色剤、消泡剤、腐食防止剤、帯電防止剤、光重合開始剤等の添加剤を含むことができる。

粘着剤層１１は、上記粘着剤組成物の有機溶剤希釈液を基材上に塗布し、乾燥させることにより形成することができる。活性エネルギー線硬化型粘着剤組成物を用いた場合は、形成された粘着剤層に、活性エネルギー線を照射することにより所望の硬化度を有する硬化物とすることができる。

粘着剤層１１の厚みは、例えば１μｍ以上１００μｍ以下であることが好ましく、５０μｍ以下であることがより好ましく、３０μｍ以下であることが更に好ましく、１０μｍ以上以上であってもよい。

［偏光フィルム］
偏光フィルム１７は、重合性液晶化合物の硬化物を含む液晶硬化層から構成される。偏光フィルム１７が重合性液晶化合物の硬化物を含む液晶硬化層から構成されることにより、積層体１００の屈曲性が向上し易くなる傾向にある。重合性液晶化合物の硬化物を含む液晶硬化層は、液晶性を有する重合性の二色性色素を含む組成物または重合性液晶化合物と二色性色素とを含む組成物を基材フィルムに塗布し硬化させて得られる層からなる偏光層であってよい。二色性色素として、具体的には、ヨウ素や二色性有機染料が用いられる。二色性有機染料としては、例えばアゾ系色素等が挙げられる。アゾ系色素には、例えばＣ．Ｉ．ＤＩＲＥＣＴ ＲＥＤ ３９等のジスアゾ化合物からなる二色性直接染料、トリスアゾ、テトラキスアゾ等の化合物からなる二色性直接染料が包含される。

基材フィルムは一方の面に配向膜が設けられていてもよい。偏光フィルム１７は、屈曲性向上の観点から好ましくは、重合性液晶化合物と１つまたは複数のアゾ系色素とを含む組成物の硬化物と、配向膜とを含む層である。配向膜の厚みは、例えば５ｎｍ以上１μｍ以下であってよい。

偏光フィルム１７は、重合性液晶化合物の硬化物を含む液晶硬化層が積層体に組込まれたものであれば、基材フィルムと共に積層体に組込まれてもよい。基材フィルムの材料および厚みは、後述の熱可塑性樹脂フィルムの材料および厚みと同様であってよい。基材フィルムは、少なくとも一方の面に後述する保護層としてハードコート層（ＨＣ層）が形成されてもよい。

重合性液晶化合物の硬化物を含む液晶硬化層の厚みは、通常１０μｍ以下であり、好ましくは８μｍ以下であり、より好ましくは５μｍ以下である。

［保護層］
保護層は、偏光フィルム１７の片側または両側に配置され、偏光フィルム１７の表面を保護する機能を有することができる。本明細書において、保護層が積層された偏光フィルムを偏光板ということがある。

保護層は、有機物層または無機物層であることができる。有機物層または無機物層は、コーティングにより形成される層であることができる。有機物層は、保護層形成用組成物、例えば（メタ）アクリル系樹脂組成物、エポキシ系樹脂組成物、ポリイミド系樹脂組成物等の硬化樹脂層であることができる。保護層形成用組成物は、活性エネルギー線硬化型であってもよいし、熱硬化型であってもよい。無機物層は、例えばシリコン酸化物等から形成することができる。保護層が有機物層である場合、保護層はハードコート層（ＨＣ層）やオーバーコート（ＯＣ）層と呼ばれるものであってもよい。保護層は、上述の基材フィルム上に直接的に形成されてよく、偏光フィルム上に直接的に形成されてもよい。上述の基材フィルム上に保護層が形成されてから、偏光フィルムが形成され得る。

保護層が有機物層である場合、例えば活性エネルギー線硬化型の保護層形成用組成物を基材フィルム上に塗布し、活性エネルギーを照射して硬化させることにより保護層を作製することができる。基材フィルムは、上述の基材フィルムの説明が適用される。保護層は、基材フィルムが剥離して除去された状態で積層体に組込まれることができる。保護層形成用組成物を塗布する方法としては、例えばスピンコート法等が挙げられる。保護層が無機物層である場合、例えばスパッタリング法、蒸着法等によって保護層を形成することができる。保護層が有機物層または無機物層である場合、保護層の厚みは、例えば０．１μｍ以上１０μｍ以下であってよく、好ましくは５μｍ以下である。

保護層としては、例えば、透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮断性、等方性、延伸性等に優れる熱可塑性樹脂フィルムを用いることもできる。このような熱可塑性樹脂の具体例としては、トリアセチルセルロース等のセルロース樹脂；ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル樹脂；ポリエーテルスルホン樹脂；ポリスルホン樹脂；ポリカーボネート樹脂；ナイロンや芳香族ポリアミド等のポリアミド樹脂；ポリイミド樹脂；ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン・プロピレン共重合体等のポリオレフィン樹脂；シクロ系およびノルボルネン構造を有する環状ポリオレフィン樹脂（ノルボルネン系樹脂ともいう）；（メタ）アクリル樹脂；ポリアリレート樹脂；ポリスチレン樹脂；ポリビニルアルコール樹脂、並びにこれらの混合物を挙げることができる。偏光フィルム１７の両面に保護層が積層されている場合、二つの保護層は同種であってもよいし、異種であってもよい。熱可塑性樹脂フィルムの厚みは、薄型化の観点から、通常３００μｍ以下であり、好ましくは２００μｍ以下であり、より好ましくは１００μｍ以下であり、さらに好ましくは５０μｍ以下であり、なおさらに好ましくは３０μｍ以下であり、また、通常１μｍ以上であり、例えば５μｍ以上または２０μｍ以上であってよい。

保護層が熱可塑性樹脂フィルムである場合、熱可塑性樹脂フィルムは後述の貼合層を介して偏光フィルム１７に積層することができる。熱可塑性樹脂フィルムを偏光フィルム１７に貼合する貼合層としては、好ましくは接着剤層である。あるいは、上述保護層の上に偏光層が形成され得る。積層体１００は、偏光フィルム１７の粘着剤層１１とは反対側に熱可塑性樹脂フィルムおよび硬化樹脂層からなる群から選択される少なくとも１つの保護層を備えることが好ましい。

［その他の層］
（位相差板）
積層体１００は偏光板１２の粘着剤層１１とは反対側に後述の貼合層を介して位相差板を有していてよい。位相差板は、重合性液晶化合物の硬化層を含むことができる。重合性液晶化合物の硬化層は、重合性液晶化合物を含む位相差層形成用組成物を基材フィルムに塗布し硬化させることによって形成することができる。塗布方法としては、例えばコート法、印刷法等が挙げられる。コート法としては、バーコート法、ナイフコート法、ブレードコート法、ダイコート法、ダイレクトグラビアコート法、リバースグラビアコート法、ロールコート法、ＣＡＰコート法、スピンコート法、スプレーコート法、スクリーンコート法、スリットコート法、ディップコート法等が挙げられる。印刷法としては、オフセット印刷法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法、インクジェット印刷法等が挙げられる。

重合性液晶化合物の硬化層は位相差層であることができる。位相差層は、１層または２層以上から構成されることができる。位相差層は、λ／４板、λ／２板等のポジティブＡプレート、およびポジティブＣプレートであってよい。位相差板が重合性液晶化合物の硬化層を１層のみ含む場合、位相差層は、好ましくはλ／４板である。位相差板が重合性液晶化合物の硬化層を２層含む場合、位相差層は、第１液晶硬化位相差層と第２液晶硬化位相差層とからなる位相差層積層体であることができる。第１液晶硬化位相差層と第２液晶硬化位相差層とは、後述する貼合層を介して積層されていてよく、好ましくは接着剤層を介して積層される。第１液晶硬化位相差層および第２液晶硬化位相差層の組合わせとしては、好ましくは第１液晶硬化位相差層がλ／４板であり、および第２液晶硬化位相差層がλ／２板である組合せ、および第１液晶硬化位相差層がλ／４板であり、および第２液晶硬化位相差層がポジティブＣプレートである組合せである。本明細書では、位相差層が積層された偏光板を円偏光板ということがある。

重合性液晶化合物の硬化層の厚みは、例えば０．１μｍ以上１０μｍ以下であり、好ましくは８μｍ以下であり、より好ましくは６μｍ以下である。

基材フィルムと重合性液晶化合物の硬化層との間に配向層が形成されていてもよい。基材フィルムの材料および厚みは、上述した熱可塑性樹脂フィルムの材料および厚みと同様であってよい。重合性液晶化合物を硬化してなる位相差層は、配向層および基材フィルムのいずれか一方または両方と共に積層体１００に組み込まれてもよい。配向層の厚みは、例えば５ｎｍ以上１μｍ以下であってよい。

（貼合層）
貼合層は、粘着剤または接着剤から構成される層である。貼合層は、例えば偏光フィルムと位相差板とを貼合する層、積層体と有機ＥＬパネルやタッチセンサパネルとを貼合する層、偏光フィルムと保護層とを接合する層、第１液晶硬化位相差層と第２液晶硬化位相差層とを接合する層等であることができる。貼合層を構成する粘着剤は、上述の粘着剤層を構成する粘着剤組成物について例示したものと同じ剤であってもよいし、他の粘着剤、例えば（メタ）アクリル系粘着剤、スチレン系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ゴム系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ポリエステル系粘着剤、エポキシ系共重合体粘着剤等であってもよい。積層体１００は、貼合層を１つ備えてもよいし、２以上備えてもよい。積層体１００が貼合層を複数備える場合、複数の貼合層は、互いに同一であってもよいし、異なっていてもよい。

貼合層を構成する接着剤としては、例えば、水系接着剤、活性エネルギー線硬化型接着剤、粘着剤等のうち１または２種以上を組み合せて形成することができる。水系接着剤としては、例えばポリビニルアルコール系樹脂水溶液、水系二液型ウレタン系エマルジョン接着剤等を挙げることができる。活性エネルギー線硬化型接着剤としては、紫外線等の活性エネルギー線を照射することによって硬化する接着剤であり、例えば重合性化合物および光重合性開始剤を含むもの、光反応性樹脂を含むもの、バインダー樹脂および光反応性架橋剤を含むもの等を挙げることができる。上記重合性化合物としては、光硬化性エポキシ系モノマー、光硬化性アクリル系モノマー、光硬化性ウレタン系モノマー等の光重合性モノマーや、これらモノマーに由来するオリゴマー等を挙げることができる。上記光重合開始剤としては、紫外線等の活性エネルギー線を照射して中性ラジカル、アニオンラジカル、カチオンラジカルといった活性種を発生する物質を含むものを挙げることができる。

貼合層として粘着剤層を使用する場合、１μｍ以上であることが好ましく、５μｍ以上であってもよく、通常２００μｍ以下であり、例えば１５０μｍ以下または１００μｍ以下であってよい。貼合層として接着剤層を使用する場合、貼合層の厚みは、０．１μｍ以上であることが好ましく、０．５μｍ以上であってもよく、１０μｍ以下であることが好ましく、５μｍ以下であってもよい。

（有機ＥＬパネル）
有機ＥＬパネルは、公知の有機ＥＬパネルを用いることができる。積層体１００は、偏光板１２の粘着剤層１１とは反対側に有機ＥＬパネルを備えることができる。積層体１００が粘着剤層１１の偏光板１２とは反対側に位相差板を有する場合、有機ＥＬパネルは、位相差板の偏光板１２とは反対側に有機ＥＬパネルを配置することができる。

（タッチセンサパネル）
タッチセンサパネルは、タッチされた位置を検出可能なセンサであれば、検出方式は限定されることはなく、抵抗膜方式、静電容量方式、光センサ方式、超音波方式、電磁誘導結合方式、表面弾性波方式等のタッチセンサパネルが例示される。その中でも、低コスト、早い反応速度、薄膜化の面で、静電容量方式のタッチセンサパネルが好適に用いられる。タッチセンサパネルは、透明導電層とこれを支持する基材フィルムとの間に、接着層、分離層、保護層等を備えてもよい。接着層としては、接着剤層、粘着剤層が挙げられる。透明導電層を支持する基材フィルムとして、一方の表面に透明導電層が蒸着形成されている基材フィルム、接着層を介して透明導電層が転写された基材フィルム等が挙げられる。

静電容量方式のタッチセンサパネルの一例は、基材フィルムと、基材フィルムの表面に設けられた位置検出用の透明導電層と、タッチ位置検知回路とにより構成されている。静電容量方式のタッチセンサパネルを有する積層体を設けた画像表示装置においては、前面板の表面がタッチされると、タッチされた点で人体の静電容量を介して透明導電層が接地される。タッチ位置検知回路が、透明導電層の接地を検知し、タッチされた位置が検出される。互いに離間した複数の透明導電層を有することにより、より詳細な位置の検出が可能となる。

透明導電層は、ＩＴＯ等の金属酸化物からなる透明導電層であってもよく、アルミニウムや銅、銀、金、またはこれらの合金等の金属からなる金属層であってもよい。透明電極層は、スパッタリング法、印刷法、蒸着法等の塗布法により形成される。透明電極層の上に感光性レジストを形成し、その後、フォトリソグラフィによって電極パターン層が形成される。感光性レジストはネガティブタイプ感光性レジストまたはポジティブタイプ感光性レジストが使用され、パターニング後には感光性レジストは残存していてもよいし、除去されていてもよい。スパッタリング法により製膜する場合には、電極パターン形状をもつマスクを配置して、スパッタリングを行い、電極パターン層を形成することもできる。

分離層は、ガラス等の基板上に形成されて、分離層上に形成された透明導電層を分離層とともに、基板から分離するための層であることができる。分離層は、無機物層または有機物層であることが好ましい。無機物層を形成する材料としては、例えばシリコン酸化物が挙げられる。有機物層を形成する材料としては、例えば（メタ）アクリル系樹脂組成物、エポキシ系樹脂組成物、ポリイミド系樹脂組成物等を用いることができる。分離層は、公知のコート法で塗布し、熱硬化もしくはＵＶ硬化またはこれらの組合わせの方法により硬化させて形成することができる。

保護層は、透明導電層に接して導電層を保護するために設けることができる。保護層は有機絶縁膜および無機絶縁膜のうちの少なくとも一つを含み、これらの膜は、スピンコート法、スパッタリング法、蒸着法等の塗布法によって形成することができる。

絶縁層は、例えばシリコン酸化物等の無機絶縁物質、アクリル系樹脂等の透明有機物質から形成することができる。絶縁層は、公知のコート法で塗布した後、熱硬化、ＵＶ硬化、熱乾燥、真空乾燥等によって形成することができる。

タッチセンサパネルの基材フィルムとしては、トリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート、シクロオレフィンポリマー、ポリエチレンナフタレート、ポリオレフィン、ポリシクロオレフィン、ポリカーボネート、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリイミド、ポリアミド、ポリスチレン、ポリノルボルネンなどの樹脂フィルムが挙げられる。所望のタフネスを有する基材フィルムを構成しやすい観点から、ポリエチレンテレフタレートが好ましく用いられる。

タッチセンサパネルの基材フィルムは、優れた耐屈曲性を有する積層体を構成しやすい観点から、厚みが５０μｍ以下であることが好ましく、３０μｍ以下であることがさらに好ましい。タッチセンサパネルの基材フィルムの厚みは、例えば５μｍ以上であってよい。

タッチセンサパネルは、例えば以下のようにして製造することができる。第１の方法では、まず基板へ接着層を介して基材フィルムを積層する。基材フィルム上に、フォトリソグラフィによりパターン化された透明導電層を形成する。熱を加えることにより、基板と基材フィルムとを分離して、透明導電層と基材フィルムとからなるタッチセンサパネルが得られる。基板は、平坦性を維持し、耐熱性を有する基板であれば特に限定されないが、好ましくはガラス基板である。

第２の方法では、まず基板上に分離層を形成する材料を塗布し、分離層を形成する。必要に応じて、分離層上に保護層を塗布によって形成する。パッドパターン層が形成される部分には保護層が形成されないように保護層を形成してもよい。分離層（または保護層）上に、フォトリソグラフィによりパターン化された透明導電層を形成する。透明導電層上に、電極パターン層を埋めるように絶縁層を形成する。絶縁層の上に剥離可能な粘着剤によって保護フィルムを積層し、絶縁層から分離層までを転写して、基板を分離する。剥離可能な保護フィルムを剥離することで、絶縁層／透明導電層／（保護層）／分離層をこの順に有するタッチセンサパネルが得られる。

基材フィルムを含むとき、タッチセンサパネルの厚みは、例えば５μｍ以上２０００μｍ以下であってよく、５μｍ以上１００μｍ以下であってもよい。

基材フィルムを含まないとき、タッチセンサパネルの厚みは、例えば０．５μｍ以上１０μｍ以下であり、好ましくは５μｍ以下である。

積層体１００がタッチセンサパネルを備える場合、タッチセンサパネルは例えば位相差板と有機ＥＬパネルとの間、または前面板１０と偏光板１２との間等に配置することができる。

［積層体の層構成］
図２に示す積層体２００は、視認側から前面板２１、粘着剤層２２、偏光板２３、貼合層２４、位相差板２５がこの順に積層されている。前面板２１は、視認側から第１ハードコート層２６、第２ハードコート層２７、超薄型ガラス２８がこの順に積層されている。偏光フィルム２３は、視認側から基材フィルム２９、配向膜３０、偏光フィルム３１、保護層３２がこの順に積層されている。位相差板２５は、視認側から第１液晶硬化位相差層３３と第２液晶硬化位相差層３４とがこの順に積層されている。

図３は、積層体３００の層構成を示す。図３において各層についての説明は、図２において同一の符号が付された層の説明が適用される。積層体３００は、上述の積層体２００とは第１ハードコート層２６、超薄型ガラス２８および第２ハードコート層２７がこの順に積層されている以外は同様の層構成を有している。

［積層体の用途］
積層体１００は、例えば画像表示装置等に用いることができる。画像表示装置は特に限定されず、例えば有機エレクトロルミネッセンス（有機ＥＬ）表示装置、無機エレクトロルミネッセンス（無機ＥＬ）表示装置、液晶表示装置、電界発光表示装置等が挙げられる。画像表示装置はタッチパネル機能を有していてよい。画像表示装置は好ましくはフレキシブルディスプレイであることができる。積層体１００は、粘着剤層１１に対し前面板１０側が視認側となるように画像表示装置に配置されてよく、好ましくは前面板１１が画像表示装置の最外面を構成するように配置される。

［積層体の製造方法］
積層体は、粘着剤層、あるいはさらに接着剤層を介して積層体を構成する層同士を貼合する工程を含む方法によって製造することができる。粘着剤層や接着剤層を介して層同士を貼合する場合には、密着性を高めるために、貼合面の一方または両方に対して、例えばコロナ処理等の表面活性化処理を施すことが好ましい。

偏光フィルムを構成する重合性液晶化合物の硬化物を含む液晶硬化層は、基材上に配向膜を介して形成することが可能である。重合性液晶化合物の硬化物を含む液晶硬化層は、二色性色素および重合性液晶化合物を含む液晶硬化層形成用組成物を塗布し、硬化させることで形成することができる。液晶硬化層形成用組成物は、上述の二色性色素および重合性液晶化合物に加え、好ましくは重合開始剤、レベリング剤、溶剤をさらに含み、光増感剤、重合禁止剤、レベリング剤等をさらに含み得る。

位相差板に含まれる位相差層は、基材および存在する場合には配向膜上に、重合性液晶化合物を含む位相差層形成用組成物を塗布し、重合性液晶化合物を重合することで製造することができる。位相差層形成用組成物は、溶剤、重合開始剤をさらに含み、光増感剤、重合禁止剤、レベリング剤等をさらに含み得る。基材および配向膜は位相差板に組み込まれてもよいし、あるいは位相差板から剥離されて積層体の構成要素とはならなくてもよい。

液晶硬化層形成用組成物および位相差層形成用組成物の塗布、乾燥および重合性液晶化合物の重合は、従来公知の塗布方法、乾燥方法および重合方法により行うことができる。

例えば液晶硬化層形成用組成物および位相差層形成用組成物の塗布方法としては、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、およびダイコーティング法等を採用することができる。

重合性液晶化合物の重合方法は、重合性液晶化合物の重合性基の種類に応じて選択すればよい。重合性基が光重合性基であれば光重合法により重合することができる。重合基が熱重合性基であれば熱重合法により重合することができる。本実施形態の製造方法においては、光重合法が好ましい。光重合法は、必ずしも透明基材を高温に加熱する必要がないため、耐熱性の低い透明基材を使用することができる。光重合法は、重合性液晶化合物を含む液晶硬化層形成用組成物または位相差層形成用組成物からなる膜に可視光、または紫外光を照射することにより行う。取り扱いやすい点で、紫外光が好ましい。

粘着剤層は粘着剤シートとして準備することができる。粘着剤シートは、例えばトルエンや酢酸エチル等の有機溶剤に粘着剤組成物を溶解または分散させて粘着剤液を調製し、これを離型処理が施された剥離フィルム上に粘着剤からなる層をシート状に形成しておき、その粘着剤層上にさらに別の剥離フィルムを貼合する方式等により作製することができる。一方の剥離フィルムを剥離した粘着シートを一方の層に貼合し、次いで他方の剥離フィルムを剥離し、他方の層を貼合する方法により各層を貼合することができる。

粘着剤液を剥離フィルム上に塗工する方法としては、ダイコーター、カンマコーター、リバースロールコーター、グラビアコーター、ロッドコーター、ワイヤーバーコーター、ドクターブレードコーター、エアドクターコーターなどを用いた通常のコーティング技術を採用すればよい。

剥離フィルムは、プラスチックフィルムと剥離層とから構成されることが好ましい。プラスチックフィルムとしては、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリブチレンテレフタレートフィルム、およびポリエチレンナフタレートフィルム等のポリエステルフィルムや、ポリプロピレンフィルムなどのポリオレフィンフィルムが挙げられる。また、剥離層は、例えば剥離層形成用組成物から形成することができる。剥離層形成用組成物を構成する主な成分（樹脂）としては、特に限定されるもではないが、シリコーン樹脂、アルキド樹脂、アクリル樹脂、および長鎖アルキル樹脂等が挙げられる。

接着剤層の厚みは、それぞれ粘着剤液の塗工条件によって調節をすることができる。粘着剤層の厚みを薄くするためには塗工厚みを小さくすることが効果的である。

＜画像表示装置＞
本発明の別の一態様にかかる画像表示装置は、上記の積層体を含む。表示装置は特に限定されず、例えば有機ＥＬ表示装置、無機ＥＬ表示装置、液晶表示装置、電界発光表示装置等の画像表示装置が挙げられる。画像表示装置はタッチパネル機能を有していてもよい。積層体は、屈曲または折り曲げ等が可能な可撓性を有するフレキシブルディスプレイに好適である。

画像表示装置において、積層体は、前面板を外側（表示素子側とは反対側、すなわち視認側）に向けて画像表示装置が有する表示素子の視認側に配置される。

画像表示装置は、スマートフォン、タブレット等のモバイル機器、テレビ、デジタルフォトフレーム、電子看板、測定器や計器類、事務用機器、医療機器、電算機器等として用いることができる。画像表示装置は、前面板表面に映り込む反射像の歪曲が抑制されているため、画面の視認性に優れている。

以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明する。例中の「％」及び「部」は、特記のない限り、質量％及び質量部である。

［厚みの測定］
超薄型ガラス、粘着剤層および樹脂フィルムの厚みは、接触式膜厚測定装置（株式会社ニコン製「ＭＳ－５Ｃ」）を用いて測定した。偏光子層および配向膜については、レーザー顕微鏡（オリンパス株式会社製「ＯＬＳ４１００」）を用いて測定した。

［温度２５℃における貯蔵弾性率の測定］
粘着剤層の温度２５℃における貯蔵弾性率は、粘弾性測定装置（Ａｎｔｏｎ Ｐａａｒ社製「ＭＣＲ－３０１」（商品名））を使用して測定した。粘着剤層を幅２０ｍｍ×長さ２０ｍｍに裁断し、厚さが１５０μｍとなるように複数枚積層し、積層された粘着剤層をガラス板に接合した。粘着剤層と測定チップとが接着した状態において、－２０℃から１００℃の温度領域で、周波数１.０Ｈｚ、変形量１％、昇温速度５℃／分の条件下で測定を行い、２５℃における貯蔵弾性率値を測定した。

［取り扱い性の評価］
粘着剤層付積層体から剥離フィルムを剥離して粘着剤層を露出させた後、積層体の偏光フィルムに対して位相差板側を基材（ＰＡＩフィルム）に露出させた粘着剤層を介して貼合した。その後、積層体を目視観察してクラックの発生の有無を確認した。各実施例および比較例につき１０個のサンプルについて評価を行った。判定基準は以下の通りである。
◎：０～２個のサンプルにクラックが発生した。
○：３～４個のサンプルにクラックが発生した。
×：５～１０個のサンプルにクラックが発生した。

［屈曲性の評価］
粘着剤層付積層体から、剥離フィルムを剥離して粘着剤層を露出させた。次いで粘着剤層付積層体の位相差板の偏光板とは反対側を、粘着剤層を介して基材（ＰＡＩフィルム）に貼合した。屈曲評価設備（ユアサシステム製、面状体無負荷Ｕ字伸縮試験：ＤＬＤＭＬＨ－ＦＳ）を用いた。図４は、本評価試験の方法を模式的に示す図である。図４に示すように、個別に移動可能な二つの載置台４０１，４０２を、間隙Ｃが３．０ｍｍ（屈曲半径１．５ｍｍ）となるように配置し、間隙Ｃの中心に幅方向の中心が位置するように積層体４００を固定して配置した（図４（ａ））。このとき、前面板が上方となるように積層体４００を配置した。そして、二つの載置台４０１，４０２を位置Ｐ１および位置Ｐ２を回転軸の中心として上方に９０度回転させて、載置台の間隙Ｃに対応する積層体４００の領域に曲げの力を付加した（図４（ｂ））。その後、二つの載置台４０１，４０２を元の位置に戻した（図４（ａ））。以上の一連の操作を完了して、曲げの力の付加回数を１回とカウントした。これを、室温において繰返し行った後、積層体４００の載置台４０１，４０２の間隙Ｃに対応する領域におけるクラックの発生の有無を確認した。載置台４０１，４０２の移動速度、曲げの力の付加のペースは、いずれの積層体に対する評価試験においても同一の条件とした。各積層体を屈曲した後の積層体についてそれぞれクラックが発生する屈曲回数をカウントした判定基準は以下の通りである。
○：屈曲回数が２０万回でもクラックが発生せず。
×：屈曲回数が２０万回未満でクラックが発生。

（ハードコート層形成用組成物１の調製）
１８官能のアクリル基を有するデンドリマーアクリレート（Ｍｉｒａｍｅｒ ＳＰ１１０６、Ｍｉｗｏｎ Ｓｐｅｃｉａｌｉｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌ製）２．０質量部、６官能のアクリル基を有するウレタンアクリレート（Ｍｉｒａｍｅｒ ＰＵ－６２０Ｄ、Ｍｉｗｏｎ Ｓｐｅｃｉａｌｉｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌ社製）１０．０質量部、３官能のアクリル基を有するアクリレートモノマー（Ｍ３４０、Ｍｉｗｏｎ Ｓｐｅｃｉａｌｉｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌ製）８質量部、光重合開始剤（イルガキュア（登録商標）１８４、ＢＡＳＦ製）２質量部、及びレベリング剤（ＢＹＫ－ＵＶ３５３０、ビックケミー・ジャパン株式会社製）０．１質量部を、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）７０質量部に溶解させて攪拌混合し、ハードコート層形成用組成物１を得た。

（ハードコート層形成用組成物２の調製）
多官能アクリレート（Ｍｉｒａｍｅｒ Ｍ３４０、Ｍｉｗｏｎ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌ製）３０質量部と、ナノシリカゾルのプロピレングリコールモノメチルエーテル分散体（１２ｎｍ、固形分４０％）５０質量部と、エチルアセテート１７質量部と、光重合開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ－１８４、Ｃｉｂａ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ製）２．７質量部と、フッ素系添加剤（ＫＹ１２０３、信越化学工業株式会社製）０．３質量部とを攪拌混合し、ハードコート層形成用組成物２を得た。

（前面板Ａの作製）
ハードコート層形成用組成物２を超薄型ガラス１（厚み５０μｍ）（ＵＴＧ１）の一方の面に塗工し、得られた塗膜を温度８０℃で５分間乾燥し、ＵＶ照射装置（ＳＰＯＴＣＵＲＥ ＳＰ－７、ウシオ電機株式会社製）を用いて、露光量５００ｍＪ／ｃｍ^２（３６５ｎｍ基準）のＵＶ光を照射してハードコート層２（ＨＣ層２）を形成した。硬化後の厚みが１０μｍになるように塗工した。ＨＣ層２（厚み１０μｍ）／ＵＴＧ１（厚み５０μｍ）の層構成を有する前面板Ａを得た。

（前面板Ｂの作製）
前面板Ａの作製においてＵＴＧ１を超薄型ガラス２（厚み３０μｍ）（ＵＴＧ２）に変えたこと以外は前面板Ａの作製と同様にしてＨＣ層２（厚み１０μｍ）／ＵＴＧ２（厚み３０μｍ）の層構成を有する前面板Ｂを得た。

（前面板Ｃの作製）
ハードコート層形成用組成物１をＵＴＧ１の一方の面に塗工し、得られた塗膜を温度８０℃で５分間乾燥し、ＵＶ照射装置（ＳＰＯＴＣＵＲＥ ＳＰ－７、ウシオ電機株式会社製）を用いて、露光量５００ｍＪ／ｃｍ^２（３６５ｎｍ基準）のＵＶ光を照射してハードコート層１（ＨＣ層１）を形成した。硬化後の厚みが１０μｍになるように塗工した。次いで同様にして、ＨＣ層１上にハードコート層形成用組成物２を用いて硬化後の厚みが１０μｍになるようにＨＣ層２を形成した。以上のようにして、ＨＣ層２（厚み１０μｍ）／ＨＣ層１（厚み１０μｍ）／ＵＴＧ１（厚み５０μｍ）の層構成を有する前面板Ｃを得た。

（前面板Ｄの作製）
前面板Ｃの作製においてＵＴＧ１をＵＴＧ２に変えたこと以外は前面板Ａの作製と同様にして、ＨＣ層２（厚み１０μｍ）／ＨＣ層１（厚み１０μｍ）／ＵＴＧ２（厚み３０μｍ）の層構成を有する前面板Ｄを得た。

（前面板Ｅの作製）
ハードコート層形成用組成物１をＵＴＧ２の一方の面に塗工し、得られた塗膜を温度８０℃で５分間乾燥し、ＵＶ照射装置（ＳＰＯＴＣＵＲＥ ＳＰ－７、ウシオ電機株式会社製）を用いて、露光量５００ｍＪ／ｃｍ^２（３６５ｎｍ基準）のＵＶ光を照射してＨＣ層１を形成した。硬化後の厚みが１０μｍになるように塗工した。次いで同様にして、ＵＴＧ２の他方の面に、ハードコート層形成用組成物２を用いて硬化後の厚みが１０μｍになるようにＨＣ層２を形成した。以上のようにして、ＨＣ層２（厚み１０μｍ）／ＵＴＧ２（厚み３０μｍ）／ＨＣ層１（厚み１０μｍ）の層構成を有する前面板Ｅを得た。

（粘着シートの作製）
下記の表１に示す各成分の割合にて粘着剤層Ａ、Ｂ、Ｃをそれぞれ形成する粘着剤組成物Ａ、Ｂ、Ｃを調製した。この粘着剤組成物Ａ、Ｂ、Ｃをそれぞれ離型処理された剥離フィルム（ポリエチレンテレフタレートフィルム、厚み３８μｍ）の離型処理面に、アプリケータを利用して乾燥後の厚みが２５μｍになるように塗布した。塗布層を１００℃で１分間乾燥して、粘着剤層Ａ、Ｂ、Ｃを備えるフィルムを得た。その後、粘着剤層Ａ、Ｂ、Ｃ上に、離型処理された別の剥離フィルム（ポリエチレンテレフタレートフィルム、厚み３８μｍ）を貼合した。その後、温度２３℃、相対湿度５０％ＲＨの条件で７日間養生させ、粘着シートＡ、Ｂ、Ｃを得た。さらに、同様の手順により、粘着剤組成物Ｃを用いて、厚み５μｍの粘着剤層Ｄを備える粘着シートＤを作製した。

表１中の単量体の欄における記号は以下の意味を表す。
ＢＡ：アクリル酸ブチル
ＭＭＡ：アクリル酸メチル
ＥＨＡ：アクリル酸２－エチルヘキシル
ＡＡ：アクリル酸

表１中の架橋剤及びシランカップリング剤は以下のものを用いた。
架橋剤：コロネートＬ（東ソー株式会社製）
シランカップリング剤：ＫＢＭ－４０３（信越化学工業株式会社製）

［偏光板Ａの作製］
（基材フィルム）
基材フィルムとして、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム（コニカミノルタ株式会社製、厚み２５μｍ）を準備した。

（配向膜形成用組成物）
ポリマー１は、以下の構造単位からなる光反応性基を有するポリマーである。

ＧＰＣ測定より、得られたポリマー１の分子量は数平均分子量２８２００、Ｍｗ／Ｍｎ１．８２を示し、モノマー含有量は０．５％であった。
ポリマー１を濃度５質量％で、シクロペンタノンに溶解した溶液を配向膜形成用組成物として用いた。

（重合性液晶化合物）
重合性液晶化合物は、式（１－６）で表される重合性液晶化合物［以下、化合物（１－６）ともいう］と式（１－７）で表される重合性液晶化合物［以下、化合物（１－７）ともいう］とを用いた。

化合物（１－６）および化合物（１－７）は、Ｌｕｂ ｅｔ ａｌ．Ｒｅｃｌ．Ｔｒａｖ．Ｃｈｉｍ．Ｐａｙｓ－Ｂａｓ、１１５、３２１－３２８（１９９６）記載の方法により合成した。

（二色性色素）
二色性色素には、下記式（２－１ａ）、（２－１ｂ）、（２－３ａ）で示される特開２０１３－１０１３２８号公報の実施例に記載のアゾ色素を用いた。

（液晶硬化層形成用組成物）
液晶硬化層形成用組成物は、化合物（１－６）７５質量部、化合物（１－７）２５質量部、二色性染料としての上記式（２－１ａ）、（２－１ｂ）、（２－３ａ）で示されるアゾ色素各２．５質量部、重合開始剤としての２－ジメチルアミノ－２－ベンジル－１－（４－モルホリノフェニル）ブタン－１－オン（Ｉｒｇａｃｕｒｅ３６９、ＢＡＳＦジャパン社製）６質量部、およびレベリング剤としてのポリアクリレート化合物（ＢＹＫ－３６１Ｎ、ＢＹＫ－Ｃｈｅｍｉｅ社製）１．２質量部を、溶剤のトルエン４００質量部に混合し、得られた混合物を８０℃で１時間攪拌することにより調製した。

（保護層（ＯＣ層）用組成物）
保護層用組成物は、水１００質量部に対して、ポリビニルアルコール樹脂粉末（株式会社クラレ製、平均重合度１８０００、商品名：ＫＬ－３１８）３質量部と、ポリアミドエポキシ樹脂（架橋剤、住化ケムテックス株式会社製、商品名：ＳＲ６５０（３０））１．５質量部とを混合して調製した。

（偏光フィルムの作製）
基材フィルムにコロナ処理を施した。コロナ処理の条件は、出力０．３ｋＷ、処理速度３ｍ／分とした。その後、基材フィルム上に、配向膜形成用組成物をバーコート法により塗布し、８０℃の乾燥オーブン中で１分間加熱乾燥した。得られた乾燥被膜に偏光ＵＶ照射処理を施して配向膜を形成した。偏光ＵＶ処理は、ＵＶ照射装置（ＳＰＯＴ ＣＵＲＥ ＳＰ－７；ウシオ電機株式会社製）から照射される光を、ワイヤーグリッド（ＵＩＳ－２７１３２＃＃、ウシオ電機株式会社製）を透過させて、波長３６５ｎｍで測定した積算光量が１００ｍＪ／ｃｍ^２である条件で行った。配向膜の厚みは１００ｎｍであった。

形成した配向膜上に、液晶硬化層形成用組成物をバーコート法により塗布し、１２０℃の乾燥オーブンにて１分間加熱乾燥した後、室温まで冷却した。上記ＵＶ照射装置を用いて、積算光量１２００ｍＪ／ｃｍ^２（３６５ｎｍ基準）で紫外線を、乾燥被膜に照射することにより、液晶硬化層（偏光フィルム）を形成した。得られた液晶硬化層の厚みをレーザー顕微鏡（オリンパス株式会社社製 ＯＬＳ３０００）により測定したところ、１．８μｍであった。このようにして、基材フィルム／配向膜／液晶硬化層の層構成を有する積層フィルムＡを得た。

形成した液晶硬化層上に、保護層（ＯＣ層）用組成物をバーコート法により塗布し、乾燥後の厚みが１．０μｍとなるように塗工し、温度８０℃で３分間乾燥した。このようにして、基材フィルム／配向膜／液晶硬化層／保護層（ＯＣ層）からなる偏光板Ａを得た。

［偏光板Ｂの作製］
（保護層）
保護層として、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）フィルム（ＺＦ－１４、日本ゼオン株式会社製、厚み２３μｍ）を準備した。

（偏光フィルム）
厚み３０μｍの長尺のポリビニルアルコール（ＰＶＡ）原反フィルム〔株式会社クラレ製の商品名「クラレポバールフィルムＶＦ－ＰＥ＃３０００」、平均重合度２４００、ケン化度９９．９モル％以上〕をロールから巻き出しながら連続的に搬送し、２０℃の純水からなる膨潤浴に滞留時間３１秒で浸漬させた（膨潤工程）。その後、膨潤浴から引き出したフィルムを、ヨウ化カリウム／水が、２／１００（重量比）であるヨウ素を含む３０℃の染色浴に滞留時間１２２秒で浸漬させた（染色工程）。次いで、染色浴から引き出したフィルムを、ヨウ化カリウム／ホウ酸／水が１２／４．１／１００（重量比）である５６℃の架橋浴に滞留時間７０秒で浸漬させ、続いて、ヨウ化カリウム／ホウ酸／水が９／２．９／１００（重量比）である４０℃の架橋浴に滞留時間１３秒で浸漬させた（架橋工程）。染色工程及び架橋工程において、浴中でのロール間延伸により縦一軸延伸を行った。原反フィルムを基準とする総延伸倍率は５．４倍とした。次に、架橋浴から引き出したフィルムを５℃の純水からなる洗浄浴に滞留時間３秒で浸漬させた後（洗浄工程）、引き続き、湿度調節が可能な第１加熱炉に導入することにより滞留時間１９０秒で高温高湿処理を行って（高温高湿処理工程）、厚み１２．１μｍの偏光フィルム（ＰＶＡ）を得た。

（接着剤組成物）
水：１００重量部、ポリビニルアルコール樹脂粉末（株式会社クラレ製、平均重合度１８０００、商品名：ＫＬ－３１８）：３重量部、ポリアミドエポキシ樹脂（架橋剤、住化ケムテックス株式会社製、商品名：ＳＲ６５０（３０））：１．５重量部を混合し、接着剤組成物を得た。

偏光フィルムと保護層に、コロナ処理を施した。コロナ処理の条件は、出力０．３ｋＷ、処理速度３ｍ／分とした。その後、接着剤組成物を介してこれらを貼合して、６０℃で２分間乾燥することで、保護層／偏光子層からなる偏光板Ｂを得た。

［位相差板の作製］
（第１液晶硬化位相差層）
第１液晶硬化位相差層として、ネマチック液晶化合物が硬化した層、配向層および透明基材からなるλ／４の位相差を与える層を準備した。なお、ネマチック液晶化合物が硬化した層と、配向層との合計の厚みは２μｍであった。ネマチック液晶化合物が硬化した層は、基材フィルム（透明基材）上に形成した配向層上にネマチック液晶化合物を含有する位相差層形成用組成物を塗工し、硬化させることにより形成した。

（第２液晶硬化位相差層）
厚み３８μｍのポリエチレンテレフタレート基材を基材フィルム（透明基材）として用い、その片面に垂直配向層用組成物を膜厚３μｍになるようにコーティングし、２０ｍＪ／ｃｍ^２の偏光紫外線を照射して配向層を作製した。なお、その垂直配向層用組成物としては、２－フェノキシエチルアクリレートと、テトラヒドロフルフリルアクリレートと、ジペンタエリスリトールトリアクリレートと、ビス（２－ビニルオキシエチル）エーテルとを１：１：４：５の割合で混合し、重合開始剤としてＬＵＣＩＲＩＮ（登録商標）ＴＰＯを４％の割合で添加した混合物を用いた。

次いで、形成した配向層上に、光重合性ネマチック液晶（メルク社製、ＲＭＭ２８Ｂ）を含有する位相差層形成用組成物を、ダイコーティングにより配向層上に塗工した。ここで、液晶組成物中、溶媒として、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）と、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）と、沸点が１５５℃であるシクロヘキサノン（ＣＨＮ）とを、質量比（ＭＥＫ：ＭＩＢＫ：ＣＨＮ）で３５：３０：３５の割合で混合させた混合溶媒を用いた。そして、固形分が１～１．５ｇとなるように調製した位相差層形成用組成物を、塗工量が４～５ｇ（ｗｅｔ）となるように配向層上に塗工した。

配向層上に位相差層形成用組成物を塗工した後、乾燥温度を７５℃とし、乾燥時間を１２０秒間として乾燥処理を施した。その後、紫外線（ＵＶ）照射により液晶化合物を重合させて、光重合性ネマチック液晶化合物が硬化した層、配向層、透明基材からなるポジティブＣ層を得た。光重合性ネマチック液晶化合物が硬化した層と、配向層との合計の厚みは４μｍであった。

（位相差板の作製）
第１液晶硬化位相差層と第２液晶硬化位相差層とを、紫外線硬化型接着剤により、それぞれの液晶硬化位相差層面（透明基材とは反対側の面）が貼合面となるように貼り合わせた。次いで、紫外線を照射して紫外線硬化型接着剤を硬化させた。紫外線硬化型接着剤が硬化した後の厚みは２μｍであった。このようにして、基材フィルム／配向層／第１液晶硬化位相差層（２μｍ）／接着剤層（厚み２μｍ）／第２液晶硬化位相差層（厚み４μｍ）／配向層／基材フィルムの層構成を有する位相差板を作製した。

＜実施例１＞
粘着シートＤから一方の剥離フィルムを剥離して露出させた粘着剤層Ｄを、偏光板Ａの保護層側に貼合し、積層体Ａ１を得た。貼合面にはあらかじめ両面コロナ処理（出力０．３ｋＷ、速度３ｍ／分）を行った。

位相差板の第１液晶硬化位相差層側の基材フィルムを剥離し、積層体Ａ１から他方の剥離フィルムを剥離して、粘着剤層Ｄを露出させた。更に、積層体Ａ１の粘着剤層Ｄと、位相差板の第１液晶硬化位相差層とを貼合し、積層体Ａ２を得た。貼合面にはあらかじめ両面コロナ処理（出力０．３ｋＷ、速度３ｍ／分）を行った。

粘着シートＡから一方の剥離フィルムを剥離して粘着剤層Ａを露出させた。次いで、露出させた粘着剤層Ａを積層体Ａ２から第２液晶硬化位相差層の形成に用いた基材フィルムを剥離した面に貼合し、積層体Ａ３を得た。貼合面にはあらかじめ両面コロナ処理（出力０．３ｋＷ、速度３ｍ／分）を行った。

別の粘着シートＡ（粘着シートＡ’という）から一方の剥離フィルムを剥離して粘着剤層Ａ（粘着剤層Ａ’という）を露出させた。次いで、露出させた粘着剤層Ａ’を前面板のＵＴＧ側に貼合し、積層体Ａ４を得た。貼合面にはあらかじめ両面コロナ処理（出力０．３ｋＷ、速度３ｍ／分）を行った。

積層体Ａ４から他方の剥離フィルムを剥離して粘着剤層Ａ’を露出させた。次いで積層体Ａ４の粘着剤層Ａ’を積層体Ａ３の偏光板Ａの基材フィルム側に貼合し、粘着剤層付積層体を得た。貼合面にはあらかじめ両面コロナ処理（出力０．３ｋＷ、速度３ｍ／分）を行った。結果を表２に示す。

＜実施例２～６および比較例１～４＞
前面板および偏光フィルム、ならびに前面板および偏光フィルムを接合する粘着剤層として表１に示す種類の前面板、偏光フィルムおよび粘着剤層を用いたこと以外は実施例１と同様にして粘着剤層付積層体を得た。なお実施例５では、前面板のＨＣ層１側に粘着剤層Ａを貼合した。また比較例１および比較例２ではそれぞれ前面板としてハードコート層を形成せずにＵＴＧ１およびＵＴＧ２を用いた。さらに比較例５では偏光フィルムＢに粘着剤層を直接貼合した。結果を表２に示す。

１００，２００，３００，４００ 積層体、１０，２１ 前面板、１１，２２ 粘着剤層、１２，２３ 偏光板、１３ ハードコート層、１４，２８ 超薄型ガラス、２４ 貼合層、２５ 位相差板、２６ 第１ハードコート層、２７ 第２ハードコート層、１５，２９ 基材フィルム、１６，３０ 配向膜、１７，３１ 偏光フィルム（液晶硬化層）、１８，３２ 保護層、３３ 第１液晶硬化位相差層、３４ 第２液晶硬化位相差層、４０１，４０２ 載置台。

Claims (11)

1. 前面板と粘着剤層と偏光フィルムとをこの順に含み、
   前記前面板は、超薄型ガラスとハードコート層とを含み、
   前記粘着剤層の温度２５℃における貯蔵弾性率は０．２ＭＰａ以下であり、
   前記偏光フィルムは、重合性液晶化合物の硬化物を含む液晶硬化層から構成される、積層体。
2. 超薄型ガラスの厚みは５０μｍ以下である、請求項１に記載の積層体。
3. 前記ハードコート層の厚みは１０μｍ以上である、請求項１に記載の積層体。
4. 前記ハードコート層の厚みは１０μｍ以上である、請求項２に記載の積層体。
5. 前記粘着剤層の温度２５℃における貯蔵弾性率は０．０１ＭＰａ以上である、請求項１～４のいずれか一項に記載の積層体。
6. 前記粘着剤層の厚みは３０μｍ以下である、請求項１～４のいずれか一項に記載の積層体。
7. 前記粘着剤層の厚みは３０μｍ以下である、請求項５に記載の積層体。
8. 請求項１～４のいずれか一項に記載の積層体を含む、画像表示装置。
9. 請求項５に記載の積層体を含む、画像表示装置。
10. 請求項６に記載の積層体を含む、画像表示装置。
11. 請求項７に記載の積層体を含む、画像表示装置。

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