JP2022044010A - ガラス基板多層構造体、その製造方法、およびそれを含むフレキシブルディスプレイパネル - Google Patents

Abstract

【課題】薄膜のガラス基板を基材として用いる場合、飛散防止層およびハードコーティング層の形成時、硬化に応じた熱収縮および熱膨張によるガラス基板のエッジ部分や中心部分などにおける曲げの発生を防止可能な新しい薄膜ガラス基板多層構造体を提供する。また、フレキシブル薄膜ガラス基板上に飛散防止層を構成した際、発生する変形問題を解決するとともに、優れた表面特性を提供するガラス基板多層構造体を提供する。【解決手段】フレキシブルガラス基板１０と、前記フレキシブルガラス基板の一面に形成されるエポキシシロキサン系ハードコーティング層３０と、前記フレキシブルガラス基板の他面に形成されるポリイミド系飛散防止層２０と、を含む、ガラス基板多層構造体とする。【選択図】図１

Description

本開示は、ガラス基板多層構造体、その製造方法、およびそれを含むフレキシブルディスプレイパネルに関する。

近年、スマートフォン、タブレットＰＣのようなモバイル機器の発展とともにディスプレイ装置の薄膜化が求められており、中でも、ユーザーが望む際に曲げたり折り畳んだりできるフレキシブルディスプレイ装置、または製造工程において曲げたり折り畳んだりするステップを備えるフレキシブルディスプレイ装置が注目されている。

かかるディスプレイ装置は、ディスプレイ画面を覆う透明なウィンドウを含み、ウィンドウは、外部衝撃と使用中に加えられるスクラッチなどからディスプレイ装置を保護する機能をする。

ディスプレイ用ウィンドウとしては、機械的特性に優れた素材であるガラスまたは強化ガラスが一般的に用いられているが、従来のガラスは、柔軟性がなく、自体の重さにより、ディスプレイ装置の高重量化の原因になるという問題がある。

上記のような問題を解決するために、フレキシブルガラス基板を薄膜化する技術が開発されているが、依然として曲げたり撓ませたりできるフレキシブル特性を実現することが充分ではなく、また、依然として外部の衝撃に対して容易に破損するという問題を解決できていない現状である。

特にフレキシブルディスプレイ装置の場合、外部衝撃または曲がったり折り畳まれたりする過程でガラス基板ウィンドウが容易に割れ、その破片が飛散してユーザが負傷を受けるという問題がある。また、これを解決するために、フレキシブルガラス薄膜上に飛散防止層を形成して問題を解決しようとする努力があったが、熱履歴などにより収縮する場合、ガラス基板の変形および飛散防止層が形成されたガラス多層構造体の変形の問題は、依然として解決できていない。

そこで、前記熱履歴などの外部応力に応じたガラス基板およびガラス基板の変形問題を解決し、耐久性が向上し、ガラス基板が破損する際の飛散現象が改善され、ユーザの安全を確保することができ、耐熱性および光学的特性が改善される、新しい多層構造の開発が必要な現状である。

韓国公開特許第１０－２０１５－００２８４７１号（２０１５．０３．１６．）

本発明の一課題は、薄膜のガラス基板を基材として用いる場合、飛散防止層およびハードコーティング層の形成時、硬化に応じた熱収縮および熱膨張によるガラス基板のエッジ（edge）部分や中心部分などにおける曲げの発生を防止可能な新しい薄膜ガラス基板多層構造体を提供することにある。また、優れた表面硬度を有するため、従来のプラスチック基材に比べて同一厚さ上でも優れた耐衝撃（ペンドロップ、PEN DROP）特性を有する、フレキシブルディスプレイ装置に適用可能なガラス基板多層構造体を提供することで実現可能である。

本発明の他の一課題は、従来のフレキシブル薄膜ガラス基板上に飛散防止層を構成した際、発生する変形問題を解決するとともに、ペンドロップ試験において３０ｃｍ以上の高い位置から落下させた際にもペンマークが発生しない、優れた表面特性を提供するガラス基板多層構造体を提供することで実現可能である。

本発明のまた他の一課題は、優れた耐久性および耐飛散特性を有するため、ユーザの安全を確保することができ、曲げたり撓ませたりできる柔軟な特性を有するため、折り畳んだり曲げたりする動作を繰り返しても、ガラスが割れたりクラックが発生したりしないため、フレキシブルディスプレイ装置に適用可能なガラス基板多層構造体を提供することで実現可能である。

本発明の一態様は、フレキシブルガラス基板と、前記フレキシブルガラス基板の一面に形成されるエポキシシロキサン系ハードコーティング層と、前記フレキシブルガラス基板の他面に形成されるポリイミド系飛散防止層と、を含む、ガラス基板多層構造体を提供する。

本発明の一態様において、前記ポリイミド系飛散防止層は、フッ素系芳香族ジアミンから誘導された単位および芳香族二無水物から誘導された単位を含むポリイミド系樹脂からなってもよい。

本発明の一態様において、前記エポキシシロキサン系ハードコーティング層は、脂環族エポキシ化シルセスキオキサン系化合物から誘導された単位を含むエポキシシロキサン系樹脂を含んでなってもよい。

本発明の一態様において、前記フレキシブルガラス基板は、厚さが１μｍ～１００μｍであってもよい。
本発明の一態様において、前記ポリイミド系飛散防止層は、厚さが１００ｎｍ～１０μｍであってもよい。

本発明の一態様において、前記エポキシシロキサン系ハードコーティング層は、厚さが１μｍ～５μｍであってもよい。
本発明の一態様において、前記エポキシシロキサン系ハードコーティング層は、ＡＳＴＭ Ｄ３３６３に準じた鉛筆硬度が４Ｈ～６Ｈであってもよい。

本発明の一態様において、前記エポキシシロキサン系ハードコーティング層は、透過率が９０％以上であってもよい。
本発明の一態様において、前記ガラス基板多層構造体は、ペンドロップ試験（PEN DROP TEST）による耐衝撃性が１０ｃｍ以上であってもよい。

本発明の他の一態様は、フレキシブルガラス基板の一面に飛散防止組成物を塗布して硬化し、ポリイミド系飛散防止層を形成するステップと、前記フレキシブルガラス基板の他面にハードコーティング組成物を塗布して硬化し、エポキシシロキサン系ハードコーティング層を形成するステップと、を含む、ガラス基板多層構造体の製造方法を提供する。

本発明の一態様において、前記飛散防止組成物は、フッ素系芳香族ジアミンおよび芳香族二無水物を含んでもよい。
本発明の一態様において、前記ハードコーティング組成物は、脂環族エポキシ化シルセスキオキサン系化合物から誘導された単位を含むエポキシシロキサン系樹脂、架橋剤、および光開始剤を含んでもよい。

本発明のまた他の一態様は、前記ガラス基板多層構造体を含むフレキシブルディスプレイを提供する。

本開示のガラス基板多層構造体は、従来のフレキシブル薄膜ガラス基板上に飛散防止層を構成した際、飛散防止層の引張応力（tensile stress）現象により発生する薄膜ガラス基板多層構造体の変形問題を解決するとともに、ペンドロップ試験において３０ｃｍ以上の高い位置から落下させた際にも飛散防止層にペンマークが発生しない優れた表面特性を提供する。また、本開示のガラス基板多層構造体は、表面硬度が高く、柔軟であり、耐熱性および光学性特性に優れるという長所がある。

本開示のガラス基板多層構造体は、フレキシブルガラス基板の一面にエポキシシロキサン系ハードコーティング層を形成し、前記フレキシブルガラス基板の他面にポリイミド系飛散防止層、特にフッ素含有ポリイミドを採択することで、飛散防止層およびハードコーティング層の相互間の引張応力特性が良いバランスをなして熱履歴などの外部応力によるガラス基板の変形またはガラス基板多層構造体の変形を防止し、特に長期的変形が発生しない非常に優れた効果を有する。

本開示のガラス基板多層構造体は、異なる熱的挙動を示すポリイミド系飛散防止層およびエポキシシロキサン系ハードコーティング層を、フレキシブルガラス基板を中心に相対的な反対面に形成することで、フレキシブルガラス基板の熱変形を抑制するだけでなく、ポリイミド系飛散防止層およびエポキシシロキサン系ハードコーティング層が相互間の変形を抑制する驚くべき効果を有する。さらに、前記ポリイミド系飛散防止層およびエポキシシロキサン系ハードコーティング層は１０μｍ以下の厚さを有することで、軽量化を達成できるだけでなく、ガラス基板が破損する際に飛散する現象が改善され、顕著に向上した耐衝撃（ペンドロップ、PEN DROP）特性を実現することができるため、従来のプラスチック基材からなるカバーウィンドウレベルの厚さ上でペン適用が可能であるという長所がある。

本発明の一態様に係るガラス基板多層構造体の断面を概略的に示した分解斜視図である。

本開示で用いられる用語は、特に定義しない限り、当業者により一般的に理解される意味と同一の意味を有する。また、本開示において、説明で用いられる用語は、単に特定の具体例を効果的に記述するためのものであり、本開示を制限することを意図しない。
本開示の明細書および添付された特許請求の範囲で用いられる単数の形態は、文脈上、特に指示しない限り、複数の形態も含むことを意図する。

本開示を記述する明細書の全般にわたって、ある部分がある構成要素を「含む」とは、特に反対の記載がない限り、他の構成要素を除くものではなく、他の構成要素をさらに含んでもよいことを意味する。

本明細書で用いられる第１、第２などの用語は、多様な構成要素を説明するのに用いられてもよいが、構成要素が用語により限定されてはならない。用語は、１つの構成要素を他の構成要素から区別する目的にのみ用いられる。

本開示において、用語「フレキシブル（flexible）」は、曲がったり撓んだり折り畳まれたりすることを意味する。
本開示において、用語「飛散防止層」は、「ポリイミド系飛散防止層」、具体的には、「フッ素元素を含有するポリイミド系飛散防止層」を含む意味として用いられたものである。
本開示において、用語「ハードコーティング層」は、「エポキシシロキサン系ハードコーティング層」を含む意味として用いられたものである。

本開示の発明者らは、前記課題を解決するために多くの研究をした結果、フレキシブルガラス基板の一面にポリイミド系飛散防止層、特に、フッ素元素を含有するポリイミド系飛散防止層を形成し、前記ポリイミド系飛散防止層が形成された面とは反対面である、フレキシブルガラス基板の他面にエポキシシロキサン系ハードコーティング層を形成することにより、両層の引張応力率を調節することで、ガラス基板多層構造体の変形や長期的変形に応じた問題を解決したフレキシブルガラス基板多層構造体を提供することができるようになった。また、本開示により、フレキシブル特性を実現しながらも、耐飛散特性、耐衝撃特性、および光学特性にも優れるため、フレキシブルディスプレイパネルのカバーウィンドウへの適用に好適なガラス基板多層構造体を製造可能であることを見出し、本開示を完成した。

さらに、前記ポリイミド系飛散防止層は、ポリイミド、特にフッ素含有ポリイミドを採択することで、フレキシブルガラス基板が熱履歴などの多様な外部応力に応じた短期的または長期的変形が発生しない効果を有するだけでなく、エポキシシロキサン系ハードコーティング層の変形と相互作用し、前記ポリイミド系飛散防止層およびエポキシシロキサン系ハードコーティング層の曲げなどの変形を抑制するという効果を有することを認識し、本開示を完成した。具体的に、本開示のポリイミド系飛散防止層を形成する物質として、特にフッ素元素を含有するポリイミド系組成物を用いることで、前記エポキシシロキサン系ハードコーティング層と結合されて変形防止効果をさらに極大化し、また、耐飛散特性に優れながらも、耐熱性および光学的特性に優れることを見出し、本開示を完成するに至った。

以下、本開示の各構成について図面を参照して具体的に説明する。但し、これは例示的なものにすぎず、本開示が例示的に説明された具体的な実施形態に制限されるものではない。
図１は、本発明の一態様に係るガラス基板多層構造体を示した概略的な分解斜視図を示した図である。図１に示されたように、本発明の一態様に係るガラス基板多層構造体１００は、フレキシブルガラス基板１０の一面に形成されたポリイミド系飛散防止層２０、および前記フレキシブルガラス基板１０の他面に形成されたエポキシシロキサン系ハードコーティング層３０を含む。

本発明の一態様に係るガラス基板多層構造体は、ハードコーティング層３０が上部に形成された表面のＡＳＴＭ Ｄ３３６３に準じた鉛筆硬度が３Ｈ以上であってもよく、具体的には４Ｈ以上であってもよい。また、ペンドロップ試験（PEN DROP TEST）による耐衝撃性が１０ｃｍ以上であり、より具体的には３０ｃｍ以上であってもよい。この際、ペンドロップ試験（PEN DROP TEST）による耐衝撃特性は、０．７ｍｍの直径を有し、０．５ｇの重量を有するボールペンを垂直落下させた際に表面打痕および圧痕がない状態を意味する。

本発明の一態様に係るガラス基板多層構造体は、曲げ特性が±０．４ｍｍ以内の値を有してもよく、具体的には、±０．３８ｍｍ、または±０．２ｍｍ以内の値を有してもよい。
前記曲げ特性は、横１８０ｍｍ×縦７６ｍｍ、厚さ４０μｍのガラス基板上に、前記第１ポリイミド系飛散防止層、第２ポリイミド系飛散防止層、およびハードコーティング層を形成した直後、常温でのガラス基板多層構造体の曲げ程度を測定したものである。この際、除振台方向にガラス基板多層構造体が曲がり、ガラス基板の中心（center）がエア（air）層に曲がっている場合には、負（応力）の値（ｍｍ）で示し、その逆に、除振台上でガラス基板の両端（エッジ）がエア（air）層方向に曲がっている場合には、正（張力）の値（ｍｍ）で示す。

本発明の一態様に係るガラス基板多層構造体は、ポリイミド系飛散防止層を形成するポリイミドをフィルムに製造した場合、ＡＳＴＭ Ｅ１１１に準じたモジュラスが４ＧＰａ以下、３ＧＰａ以下、または２．５ＧＰａ以下であり、破断伸びが１０％以上、２０％以上、または３０％以上であり、ＡＳＴＭ Ｄ１７４６に準じて３８８ｎｍで測定された光透過率が５％以上、または５～８０％であり、４００～７００ｎｍで測定された全光線透過率が８７％以上、８８％以上、または８９％以上であり、ＡＳＴＭ Ｄ１００３に準じたヘイズが２．０％以下、１．５％以下、または１．０％以下であり、ＡＳＴＭ Ｅ３１３に準じた黄色度が５．０以下、３．０以下、または０．４～３．０であり、およびｂ^＊値が２．０以下、１．３以下、または０．４～１．３を有してもよい．本発明の一態様に係るガラス基板多層構造体は、フッ素元素を含有するポリイミドを飛散防止層形成用物質として採択し、フレキシブルガラス基板の一面にポリイミド系飛散防止層を形成することで、フレキシブルガラス基板のストレス（例えば、熱履歴などの多様な外部応力）に応じた変形を抑制するだけでなく、ポリイミド系飛散防止層が形成された面とは反対面である、フレキシブルガラス基板の他面に形成されるエポキシシロキサン系ハードコーティング層の変形も抑制し、全体的に本開示のガラス基板多層構造体の変形抵抗性を顕著に向上させるという効果を付与する。

さらに、本発明の一態様に係るガラス基板多層構造体は、上記のような効果だけでなく、優れた柔軟性によりフレキシブル特性の実現が容易であり、耐衝撃および耐飛散特性に優れるため、ユーザの安全を確保することができ、優れた光学的特性により透明であるため、フレキシブルディスプレイパネルのウィンドウカバーとして適用されることができる。

以下、図１を参照して、本発明の一態様に係るガラス基板多層構造体をなすフレキシブルガラス基板１０、ポリイミド系飛散防止層２０、およびアクリル系ハードコーティング層３０の各構成についてより具体的に説明する。

＜フレキシブルガラス基板＞
フレキシブル（flexible）ガラス基板は、折り畳んだり（folderble）曲がったり（curved）するガラス基板を意味し、ディスプレイ装置のウィンドウとして機能できるものであって、耐久性が良く、表面平滑性および透明度に優れるという長所がある。

本発明の一態様として、前記ガラス基板多層構造体１００は、フレキシブルディスプレイパネル１００の一面上に形成されてもよく、曲がりまたは折り畳まれに対応して曲がったり折り畳まれたりすることができる。この際、ガラス基板多層構造体１００が比較的に小さい曲率半径で屈曲するかまたは大略的に折り畳まれる程度に変形するためには、フレキシブルガラス基板１０は、超薄型ガラス基材からなるべきである。また、前記フレキシブルガラス基板１０は、超薄型のガラス基材であってもよく、厚さは１００μｍ以下であってもよく、具体的には、厚さが１～１００μｍまたは３０～１００μｍであってもよい。

本発明の一態様において、前記フレキシブルガラス基板は、化学強化層をさらに含んでもよく、前記化学強化層は、フレキシブルガラス基板に含まれるガラス基材の第１面または第２面のうち何れか１面以上に化学強化処理を行って形成されてもよい。これにより、フレキシブルガラス基板の強度が向上することができる。

このように化学強化処理された超薄型のフレキシブルガラス基板を形成する方法には種々の方法があるが、一例として、１００μｍ以下の厚さを有するマザーガラスを準備し、切断、面取り、焼成などを経て所定の形状に加工した後、それを化学強化処理してもよい。他の一例として、一般厚さのマザーガラスを準備し、１００μｍ以下の厚さにスリミング（slimming）作業をした後、形状加工および化学強化処理を順次行ってもよい。この際、スリミング作業は、機械的方法および化学的方法から選択される何れか１つまたは２つの方法をともに用いて行われてもよい。

＜ポリイミド系飛散防止層＞
本発明の一態様において、前記ポリイミド系飛散防止層は、前記ガラス基板１０の破損時、発生するエネルギーを吸収することで、ガラス基板１０の破片が飛散するのを防止する基本機能を有してもよい。また、エポキシシロキサン系ハードコーティング層が形成される方向とは反対面に形成されるポリイミド飛散防止層の厚さを１０μｍ以下に形成することで、ハードコーティング層およびガラス基板の応力を調節するようにし、熱履歴などの外部応力に応じた長期変形または短期変形を防止する機能をしてもよい。

本発明の一態様において、前記ポリイミド系飛散防止層は、ポリイミド、特にフッ素元素を含有するポリイミドを含んで飛散防止層を形成することで、熱収縮などの外部応力に応じたフレキシブルガラス基板の曲げおよび変形などの変形を抑制するだけでなく、後述するエポキシシロキサン系ハードコーティング層の変形も抑制するという効果を有する。

本発明の一態様において、ポリイミド系飛散防止層は、フッ素系芳香族ジアミンから誘導された単位および芳香族二無水物から誘導された単位を含むポリイミド系樹脂からなる場合、具体的には、前記フッ素系芳香族ジアミンおよび芳香族二無水物を含む単量体を重合したポリイミドイミド系樹脂からなる場合、光学的物性および機械的物性に優れ、弾性力および復原力に優れるという長所を有し、また、前記ガラス基板の変形を防止するという効果をさらに増進させることができる。

本発明の一態様において、前記フッ素系芳香族ジアミンとしては、１，４－ビス（４－アミノ－２－トリフルオロメチルフェノキシ）ベンゼン（１，４－Bis（４－amino－２－trifluoromethylphenoxy）benzene、６ＦＡＰＢ）、２，２’－ビス（トリフルオロメチル）－ベンジジン（２，２’－Bis（trifluoromethyl）benzidine、ＴＦＭＢ）、２，２’－ビス（トリフルオロメチル）－４，４’－ジアミノジフェニルエーテル（２，２’－Bis（trifluoromethyl）－４，４’－diaminodiphenyl ether、６ＦＯＤＡ）などから選択される何れか１つまたは２つ以上を用いてもよい。また、前記フッ素系芳香族ジアミンは、他の公知の芳香族ジアミン成分と混合して用いてもよいが、これに制限されるものではない。かかるフッ素系芳香族ジアミンを用いることで、製造されるポリイミド系飛散防止層によるガラス基板の熱履歴などによる変形を抑制することができ、耐飛散特性をさらに向上させることができ、さらには、光学的特性を向上させることができ、黄色度も改善することができる。

本発明の一態様において、前記芳香族二無水物は、４，４’－ヘキサフルオロイソプロピリデンジフタル酸無水物（６ＦＤＡ）、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物（ＢＰＤＡ）、オキシジフタル酸二無水物（ＯＤＰＡ）、スルホニルジフタル酸無水物（ＳＯ２ＤＰＡ）、（イソプロピリデンジフェノキシ）ビス（フタル酸無水物）（６ＨＤＢＡ）、４－（２，５－ジオキソテトラヒドロフラン－３－イル）－１，２，３，４－テトラヒドロナフタレン－１，２－ジカルボン酸二無水物（ＴＤＡ）、１，２，４，５－ベンゼンテトラカルボン酸二無水物（ＰＭＤＡ）、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物（ＢＴＤＡ）、ビス（カルボキシフェニル）ジメチルシラン二無水物（ＳｉＤＡ）、ビス（ジカルボキシフェノキシ）ジフェニルスルフィド二無水物（ＢＤＳＤＡ）、およびエチレングリコールビス（アンヒドロトリメリテート）（Ethylene glycol bis（anhydrotrimellitate）、ＴＭＥＧ１００）などから選択される何れか１つまたは２つ以上であってもよいが、これに制限されるものではない。

本発明の一態様において、前記フッ素系芳香族ジアミンと芳香族二無水物は、モル比で、１：０．８～１：１．２で用いてもよく、具体的には１：０．９～１：１．１で用いてもよいが、これに制限されるものではない。
本発明の一態様において、前記ポリイミド系飛散防止層は、厚さが１０μｍ以下であってもよく、下限は特に制限されないが、１００ｎｍであってもよい。

＜ハードコーティング層＞
次に、ハードコーティング層について具体的に説明する。
ハードコーティング層は、ガラス基板多層構造体を外部の物理的および化学的損傷から保護する機能を行うことができ、優れた光学的、機械的特性を有してもよい。

本発明の一態様において、前記エポキシシロキサン系ハードコーティング層３０は、前記ポリイミド系飛散防止層２０が形成されたフレキシブルガラス基板１０の他の一面に形成されてもよく、一例として、前記フレキシブルガラス基板１０は、表面が化学強化処理されてもよく、前記フレキシブルガラス基板１０の表面にエポキシシロキサン系ハードコーティング層３０が形成されてもよい。前記ハードコーティング層は、同一な収縮特性を示す材料からなる１層以上のハードコーティング層をさらに構成してもよいが、これに制限されるものではない。
前記ハードコーティング層は、公知のハードコーティング層形成物質を含んでなってもよく、具体的には、エポキシシロキサン系樹脂を含んでなってもよい。

本発明の一態様において、前記エポキシシロキサン系樹脂は、シルセスキオキサン系化合物を主要成分とする。具体的に、前記シルセスキオキサン系化合物は、脂環族エポキシ化シルセスキオキサン（epoxidized cycloalkyl substituted silsesquioxanes）系化合物であってもよい。

前記脂環族エポキシ化シルセスキオキサン系化合物は、例えば、下記化学式１で表されるトリアルコキシシラン化合物由来の繰り返し単位を含んでもよい。

［化学式１］
Ａ－Ｓｉ（ＯＲ）_３
（前記化学式１中、Ａは、Ｃ２～Ｃ７のエポキシ基が置換されたＣ１～Ｃ１０のアルキル基を意味し、Ｒは、互いに独立して、Ｃ１～Ｃ１０のアルキルであり、前記ＲのＣ１～Ｃ１０のアルキル基の炭素は、酸素で置換されてもよい。）

前記化学式１中、エポキシ基の一例としては、シクロアルキルが融合したエポキシ基であってもよく、具体的な一例は、シクロヘキシルエポキシ基などであってもよい。

ここで、アルコキシシラン化合物の具体的な一例としては、２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）メチルトリメトキシシラン、２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）メチルトリエトキシシラン、２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン、３－グリシドキシプロピルトリメトキシシランのうち１つ以上であってもよいが、これに限定されるものではない。

また、本発明の一態様において、シルセスキオキサン系化合物は、化学式１で表されるトリアルコキシシラン化合物由来の繰り返し単位とともに、下記化学式２で表されるジアルコキシシラン化合物由来の繰り返し単位を含んでもよい。この場合、シルセスキオキサン系化合物は、トリアルコキシシラン化合物１００重量部に対してジアルコキシシラン化合物を０．１～１００重量部を混合し、それを縮合重合して製造することができる。

［化学式２］
Ａ－ＳｉＲ_ａ（ＯＲ）_２
（前記化学式２中、Ｒ_ａは、Ｃ１～Ｃ５から選択される直鎖状または分岐状アルキル基であり、ＡおよびＲは、化学式１の定義と同様である。）

前記化学式２の化合物は、具体的に例を挙げると、２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルメチルジメトキシシラン、２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルプロピルジメトキシシラン、２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルメチルジエトキシシラン、２－（３，４－エポキシシクロペンチル）エチルメチルジエトキシシランなどが挙げられるが、これに限定されるものではなく、１種または２種以上を混合して用いてもよい。

本発明の一態様において、ハードコーティング層は、無機粒子をさらに含んでもよく、前記無機粒子は、シリカおよび金属酸化物からなる群から選択された何れか１つまたは２つ以上を含んでもよい。

前記金属酸化物の具体的な一例として、アルミナ、酸化チタンなどを含んでもよく、これに制限されるものではないが、後述するハードコーティング組成物の他の成分との相溶性の面でシリカが用いられてもよい。これらは単独でまたは２種以上混合して用いられてもよい。また、前記無機粒子は、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、水酸化カリウムなどの水酸化物；金、銀、銅、ニッケル、これらの合金などの金属粒子；カーボン、カーボンナノチューブ、フラーレンなどの導電性粒子；ガラス；セラミック；などから選択される粒子をさらに含んでもよく、これに制限されるものではない。

本発明の一態様において、前記無機粒子は、平均粒径が１～２００ｎｍであってもよく、具体的には５～１８０ｎｍであってもよく、前記平均粒径の範囲内で、２種以上の異なる平均粒径を有する無機粒子を用いてもよいが、これに制限されるものではない。

また、前記ハードコーティング層は、滑剤をさらに含んでもよい。滑剤は、巻取り効率、耐ブロッキング性、耐摩耗性、耐スクラッチ性などを改善させることができる。前記滑剤の具体的な一例としては、ポリエチレンワックス、パラフィンワックス、合成ワックス、またはモンタンワックスなどのワックス類；シリコン系樹脂、フッ素系樹脂などの合成樹脂類；などが用いられてもよいが、これらは単独でまたは２種以上混合して用いられてもよい。

本発明の一態様において、前記エポキシシロキサン系ハードコーティング層の厚さは５００ｎｍ～３０μｍであってもよく、具体的には、１μｍ～２５μｍであってもよく、３μｍ～２０μｍ、５μｍ～１５μｍ、または１μｍ～５μｍであってもよいが、これに制限されるものではない。前記範囲の厚さを有する場合、エポキシ系ハードコーティング層は、優れた硬度を有しながらも柔軟性を維持し、曲げが実質的に発生しない。

本発明の一態様において、前記エポキシシロキサン系ハードコーティング層は、鉛筆硬度が２Ｈ以上、３Ｈ以上、または４Ｈ以上であり、上限はこれに制限されないが、例えば、６Ｈであってもよい。また、前記エポキシシロキサン系ハードコーティング層は、スチールウール（＃００００、リベロン社製）を用いたスクラッチの評価時、１０回／１Ｋｇｆ、２０回／１Ｋｇｆ、または３０回／１Ｋｇｆにおいてスクラッチが発生せず、水接触角が８０°以上、９０°以上、または１００°以上であってもよい。また、前記エポキシシロキサン系ハードコーティング層は、透過率が９０％以上、具体的には、９５％以上または９９％以上であってもよい。

＜フレキシブルディスプレイパネル＞
本発明の一態様は、前記一態様に係るガラス基板多層構造体をウィンドウカバーとして含む、フレキシブルディスプレイパネルまたはフレキシブルディスプレイ装置を提供することができる。

本発明の一態様として、フレキシブルディスプレイ装置において、ガラス基板多層構造体１００は、フレキシブルディスプレイパネルの最外面ウィンドウ基板として用いられてもよい。フレキシブルディスプレイ装置は、通常の液晶表示装置、電界発光表示装置、プラズマ表示装置、電界放出表示装置などの各種画像表示装置であってもよい。

＜ガラス基板多層構造体の製造方法＞
以下、本発明の一態様に係るガラス基板多層構造体の製造方法について詳細に説明する。
本発明の一態様に係る、ガラス基板多層構造体の製造方法は、フレキシブルガラス基板の一面に飛散防止組成物を塗布して硬化し、ポリイミド系飛散防止層を形成するステップと、前記フレキシブルガラス基板の他面にハードコーティング組成物を塗布して硬化し、エポキシシロキサン系ハードコーティング層を形成するステップと、を含んでもよい。

先ず、本発明の一態様に係る、前記ポリイミド系飛散防止層を形成するステップにおける飛散防止組成物について説明する。
本発明の一態様において、前記飛散防止組成物は、フッ素系芳香族ジアミンおよび芳香族二無水物を含んでもよく、前記フッ素系芳香族ジアミンおよび芳香族二無水物として、上述したものと同一なものを用いてもよい。具体的な一態様として、前記飛散防止組成物は、フッ素系芳香族ジアミンを有機溶媒中に溶解させた後、その結果として得られた混合溶液に芳香族二無水物を添加して重合反応させることで製造されたポリイミド前駆体であってもよい。この際、反応は、不活性気体または窒素気流下で行われてもよく、無水条件で行われてもよい。また、前記重合反応時の温度は、－２０℃～２００℃、または０℃～１８０℃で行われてもよく、前記重合反応に使用可能な有機溶媒としては、Ｎ，Ｎ－ジエチルアセトアミド（Ｎ，Ｎ－diethylacetamide、ＤＥＡｃ）、Ｎ，Ｎ－ジエチルホルムアミド（Ｎ，Ｎ－diethylformamide、ＤＥＦ）、Ｎ－エチルピロリドン（Ｎ－ethylpyrrolidone、ＮＥＰ）、ジメチルプロパンアミド（ＤＭＰＡ）、ジエチルプロパンアミド（ＤＥＰＡ）、またはこれらの混合物の中から選択されてもよい。

この際、前記ポリイミド前駆体溶液は、有機溶媒中に溶解された溶液の形態であってもよく、または、前記溶液を他の溶媒で希釈したものであってもよい。また、ポリイミド前駆体を固形粉末として得た場合には、それを有機溶媒に溶解させて溶液としたものであってもよい。

その後、前記ポリイミド前駆体をイミド化させることで、ポリイミド溶液（飛散防止組成物）を製造することができる。この際、前記イミド化工程は、公知のイミド化方法を制限なしに用いてもよいが、具体的な一例として、化学イミド化方法、熱イミド化方法などが挙げられ、本発明の一態様としては、共沸熱イミド化法や化学イミド化法を用いてもよい。

前記共沸熱イミド化法は、ポリイミド前駆体（ポリアミック酸溶液）にトルエンまたはキシレンを添加して撹拌し、１６０℃～２００℃で６～２４時間イミド化反応を行ってもよく、この間、イミド環が生成されるにつれて放出された水は、トルエンまたはキシレンの共沸混合物として分離されてもよい。

前記製造方法により製造されたポリイミド溶液は、塗布性などの工程性を考慮して、適宜な粘度を有するようにする量で固形分を含んでもよい。
一実施形態によると、前記飛散防止組成物（ポリイミド溶液）は、固形分含量が１～３０重量％、５～２５重量％、または８～２０重量％であってもよい。

以下、ポリイミド系飛散防止層を形成する方法について説明する。
本発明の一態様において、ポリイミド系飛散防止層は、前記飛散防止組成物をフレキシブルガラス基板の前・後面にそれぞれ塗布し硬化することで形成してもよい。この際、塗布する方法としては、制限されるものではないが、バー（bar）コート、ディップ（dip）コート、ダイ（die）コート、グラビア（gravure）コート、コンマ（comma）コート、スリット（slit）コート、またはこれらの混合方式などの多様な方式を用いてもよい。

前記硬化は４０℃～２５０℃の温度で熱処理してもよく、前記熱処理回数は１回以上であってもよく、同一温度または異なる温度範囲で１回以上熱処理してもよい。また、前記熱処理時間は１分～６０分であってもよいが、これに制限されるものではない。

以下、本発明の一態様に係る、前記エポキシシロキサン系ハードコーティング層を形成するステップにおけるハードコーティング組成物について説明する。
本発明の一態様において、前記ハードコーティング組成物は、上述したエポキシシロキサン系樹脂と架橋剤および光開始剤を含んでもよく、具体的に、上述した脂環族エポキシ化シルセスキオキサン系化合物から誘導された単位を含むエポキシシロキサン系樹脂、架橋剤、および光開始剤を含んでもよい。

本発明の一態様において、前記架橋剤は、エポキシシロキサン系樹脂と架橋結合を形成してハードコーティング層形成用組成物を固体化させ、ハードコーティング層の硬度を向上させることができる。

前記架橋剤は、例えば、下記化学式３で表される化合物を含有してもよく、前記化学式３で表される化合物は、前記化学式１および化学式２の構造のエポキシ単位と同一な脂環族エポキシ化合物であって、架橋結合を促進し、ハードコーティング層の屈折率を維持して視野角の変更をもたらさず、曲げ特性を維持することができ、また、透明性を損なわない。

［化学式３］

（前記化学式３中、Ｒ_１およびＲ_２は、それぞれ独立して、水素、炭素数１～５の直鎖状または分岐状アルキル基であり、Ｘは、直接結合；カルボニル基；カルボネート基；エーテル基；チオエーテル基；エステル基；アミド基；炭素数１～１８の直鎖状または分岐状アルキレン基、アルキリデン基、またはアルコキシレン基；炭素数１～６のシクロアルキレン基、またはシクロアルキリデン基；またはこれらの連結基であってもよい。）

ここで、「直接結合」とは、他の官能基なしに直接連結された構造を意味し、例えば、前記化学式３中、２つのシクロヘキサンが直接連結されたものを意味し得る。また、「連結基」は、前述した置換基が２個以上連結されたものを意味する。また、前記化学式３中、Ｒ_１およびＲ_２の置換位置は、特に限定されないが、Ｘが連結された炭素を１番とし、エポキシ基が連結された炭素を３、４番とする際、６番の位置に置換されてもよい。

前記架橋剤の含量は、特に限定されず、例えば、エポキシシロキサン樹脂１００重量部に対して１～１５０重量部で含まれてもよい。前記範囲の含量である場合、ハードコーティング組成物の粘度を適正範囲に維持することができ、塗布性および硬化反応性を改善させることができる。

また、本発明の一態様において、前記ハードコーティング層は、前記化学式の化合物の他に、多様なエポキシ化合物を追加して用いてもよく、その含量は、前記化学式３の化合物１００重量部に対して２０重量部を超過しないようにしてもよいが、本開示の特性を達成する限り、これに制限されない。

本発明の一態様において、エポキシ系単量体は、ハードコーティング層形成用組成物１００重量部に対して１０～８０重量部で含まれてもよい。前記含量である場合、粘度を調節することができ、厚さ調節が容易であり、表面が均一であり、薄膜の欠点が発生せず、また、硬度を十分に達成することができるが、これに限定されるものではない。

本発明の一態様において、光開始剤は、光カチオン開始剤であって、前記化学式を含むエポキシ系モノマーの縮合を開始することができる。光カチオン開始剤としては、例えば、オニウム塩および／または有機金属塩などを用いてもよく、これに制限されるものではない。例えば、ジアリールヨードニウム塩、トリアリールスルホニウム塩、アリールジアゾニウム塩、鉄－アレーン錯体などを用いてもよく、単独でまたは２種以上混合して用いられてもよい。
前記光開始剤の含量は、特に限定されず、例えば、前記化学式１の化合物１００重量部に対して、０．１～１０重量部、または０．２～５重量部で含まれてもよい。

本発明の一態様において、溶媒の非制限的な例として、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブなどのアルコール系；メチルエチルケトン、メチルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン系；ヘキサン、ヘプタン、オクタンなどのヘキサン系；ベンゼン、トルエン、キシレンなどのベンゼン系；などが挙げられる。これらは単独でまたは２種以上混合して用いられてもよい。

本発明の一態様において、溶媒は、組成物の総重量中で残りの成分が占める量を除いた残量で含まれてもよい。
本発明の一態様において、前記ハードコーティング層形成用組成物は、熱硬化剤をさらに含んでもよい。

前記熱硬化剤は、一例として、スルホニウム塩系、アミン系、イミダゾール系、酸無水物系、アミド系の熱硬化剤などを含んでもよく、変色防止および高硬度を実現するという面で、具体的には、スルホニウム塩系熱硬化剤をさらに用いてもよい。これらは単独でまたは２種以上混合して用いてもよい。

前記熱硬化剤の含量は、特に限定されず、例えば、前記エポキシシロキサン樹脂１００重量部に対して５～３０重量部で含まれてもよい。前記範囲の含量で含まれる場合、ハードコーティング層形成用組成物の硬化効率をさらに改善し、優れた硬度を有するハードコーティング層を形成することができる。

本発明の一態様において、前記ハードコーティング層形成用組成物を用いることで、ガラス基板多層構造体を物理的に保護することができ、機械的な物性をさらに向上させることができるだけでなく、曲げ耐久性をさらに向上させることができる。

本開示に係る脂環族エポキシ化シルセスキオキサン系化合物の重合方法は、公知のものであれば制限されないが、例えば、水の存在下で、上述した化学式１および２で表されるアルコキシシラン間の加水分解および縮合反応により製造することができる。この際、無機酸などの成分を含んで加水分解反応を促進させることができる。また、前記エポキシシロキサン系樹脂は、エポキシシクロヘキシル基を含むシラン化合物が重合されてなってもよい。

この際、脂環族エポキシ化シルセスキオキサン系化合物の重量平均分子量は１，０００～２０，０００ｇ／ｍｏｌであってもよく、前記範囲の重量平均分子量を有する場合、ハードコーティング層形成用組成物が適宜な粘度を有するため、流れ性、塗布性、硬化反応性などが向上することができる。

また、製造されるハードコーティング層の硬度が向上することができる。また、ハードコーティング層の柔軟性が改善され、カール発生が抑制されることができる。具体的には、脂環族エポキシ化シルセスキオキサン系化合物の重量平均分子量は１，０００～１８，０００ｇ／ｍｏｌ、または２，０００～１５，０００ｇ／ｍｏｌであってもよい。この際、重量平均分子量は、ＧＰＣを用いて測定される。

以下、エポキシシロキサン系ハードコーティング層を形成する方法について説明する。
本発明の一態様において、エポキシ系ハードコーティング層は、前記ハードコーティング組成物をポリイミド系飛散防止層が形成された面とは反対面である、フレキシブルガラス基板の他面に塗布し硬化して製造してもよい。この際、塗布する方法としては、制限されるものではないが、バー（bar）コート、ディップ（dip）コート、ダイ（die）コート、グラビア（gravure）コート、コンマ（comma）コート、スリット（slit）コート、またはこれらの混合方式などの多様な方式を用いてもよい。

前記硬化は、光硬化や熱硬化を単独で、または光硬化後に熱硬化、熱硬化後に光硬化するなどの方法により行われてもよい。
本発明の一態様として、前記硬化ステップは、光照射前に乾燥ステップをさらに含んでもよく、前記乾燥は、３０℃～７０℃で１～３０分間行われてもよいが、これに制限されるものではない。

本発明の一態様において、前記ハードコーティング組成物を用いることで、ガラス基板多層構造体を物理的に保護することができ、機械的な物性をさらに向上させることができる。

以下、実施例および比較例に基づいて本開示をより詳細に説明する。但し、下記の実施例および比較例は本開示をより詳細に説明するための１つの例示にすぎず、本開示が下記の実施例および比較例によって制限されるものではない。

以下、物性は次のように測定した。
１）鉛筆硬度
ＡＳＴＭ Ｄ３３６３に準じて、鉛筆硬度計（Kipae E&T社製）を用いて、１ｋｇの荷重で、硬度別の鉛筆（Mitsubishi社）を用いて、実施例および比較例で製造されたガラス基板多層構造体の表面に対する鉛筆硬度を測定した。この際、ガラス基板多層構造体の表面は、ハードコーティング層が形成された方向の表面を対象に測定した。

２）耐衝撃特性の評価（ペンドロップ、pen drop）
BIC Orange ０．７ｍｍのペンを下記の実施例および比較例で製造されたガラス基板多層構造体サンプル上に垂直に立て、指定された位置からペンを落下させた後、ガラス基板多層構造体の状態を下記基準によって評価した。この際、落下方向は、ハードコーティング層が形成された方向の表面を対象に測定した。

＜評価基準＞
◎：打痕および圧痕がない
○：打痕および圧痕がある
Ｘ：割れ（飛散しない）
▲：２回の評価時に結果が異なる

３）曲げ特性
下記の実施例および比較例で製造したガラス基板多層構造体を平たい地面に置き、前記ガラス基板多層構造体の上方向または下方向への曲げ程度を測定したものであり、ガラス基板のエッジ（edge）部分が上側に曲げが発生する場合を＋値で示し、下側に曲げまたは丸めが発生する場合を－値で示した。

具体的に、横１８０ｍｍ×縦７６ｍｍ、厚さ４０μｍのガラス基板上に各飛散防止層およびハードコーティング層形成用組成物を塗布および硬化した直後、水平が正確に合わせられた除振台上にガラス基板多層構造体を載置した後、常温でガラス基板多層構造体の曲げを測定した。この際、除振台方向にガラス基板多層構造体が曲がり、ガラス基板の中心（center）がエア（air）層に曲がっている場合には、エッジを基準に中心の最上曲点部分との段差を測定し、負（応力）の値（ｍｍ）で示し、その逆に、除振台上でガラス基板の両端（エッジ）がエア（air）層方向に曲がっている場合には、中心を基準にエッジが上がった段差を測定し、正（張力）の値（ｍｍ）で示した。

４）光透過率
ＡＳＴＭ Ｄ１７４６の規格に準じて、厚さ５０μｍのフィルムに対して、分光光度計（Spectrophotometer）（日本電色工業社製、ＣＯＨ－４００）を用いて４００～７００ｎｍ波長領域全体で測定された全光線透過率、およびＵＶ／Ｖｉｓ（島津製作所社製、ＵＶ３６００）を用いて３８８ｎｍで測定された単一波長光透過率を測定した。単位は％である。

５）黄色度（ＹＩ）およびｂ^＊値
ＡＳＴＭ Ｅ３１３の規格に準じて、厚さ５０μｍのフィルムを基準として、測色計（Colorimeter）（HunterLab社製、ColorQuest XE）を用いて測定した。

６）位相差（Ｒ_ｔｈ）
ＲＥＴＳ－１００（OTSUKA ELECTRONICS社製）を用いて、入射角０～４５゜の範囲を５゜間隔で垂直方向位相差を測定した。具体的に、サンプル大きさは縦横それぞれ５ｃｍ正方形の形態で試験片をサンプルホルダーに取り付け、モノクロメータを用いて５５０ｎｍに固定し、厚さ方向位相差（Ｒ_ｔｈ）は入射角を０～４５゜の範囲で測定した。

Ｒ_ｔｈ＝［（ｎ_ｘ＋ｎ_ｙ）／２－ｎ_ｚ］×ｄ
ここで、ｎ_ｘは、面内屈折率のうち最も大きい屈折率であり、ｎ_ｙは、面内屈折率のうちｎ_ｘと垂直な屈折率であり、ｎ_ｚは、垂直な屈折率であり、ｄは、ガラス基板多層構造体の厚さを１０μｍに換算して計算した値である。

［製造例１］ポリイミド系飛散防止層形成用組成物の製造
窒素気流が流れる撹拌器内にＮ，Ｎ－dimethylpropionamide（ＤＭＰＡ）２３０ｇを充填した後、反応器の温度を２５℃に維持した状態で、２，２’－ビス（トリフルオロメチル）－４，４’－ジアミノジフェニルエーテル（６ＦＯＤＡ）４１ｇを溶解させた。前記６ＦＯＤＡ溶液にＴＭＥＧ１００（Ethylene glycol bis-anhydro trimellitate）５０ｇを同じ温度で添加し、一定時間溶解しつつ撹拌した。前記反応から製造されたポリイミド前駆体溶液にトルエン（Toluene）５０ｇを追加し、１８０℃で６時間還流させて水を除去した後、固形分濃度が２０重量％になるようにジメチルプロパンアミド（ＤＭＰＡ）を添加し、飛散防止層形成用組成物（ポリイミド溶液）を製造した。

［製造例２］エポキシシロキサン系ハードコーティング層形成用組成物の製造
２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン（ＥＣＴＭＳ、ＴＣＩ社製）および水を２４．６４ｇ：２．７０ｇ（０．１ｍｏｌ：０．１５ｍｏｌ）の割合で混合して反応溶液を製造し、２５０ｍＬの２－neckフラスコに入れた。前記混合物に０．１ｍＬの水酸化テトラメチルアンモニウム（Aldrich社製）触媒およびテトラヒドロフラン（Aldrich社製）１００ｍＬを添加し、２５℃で３６時間撹拌した。その後、層分離を行い、生成物層を塩化メチレン（Aldrich社製）で抽出し、抽出物を硫酸マグネシウム（Aldrich社製）で水分を除去し、溶媒を真空乾燥させ、エポキシシロキサン系樹脂を得た。

上記のように製造されたエポキシシロキサン系樹脂３０ｇ、架橋剤として（３’，４’－エポキシシクロヘキシル）メチル３，４－エポキシシクロヘキサンカルボキシレート１０ｇおよびビス［（３，４－エポキシシクロヘキシル）メチル］アジペート５ｇ、光開始剤として（４－メチルフェニル）［４－（２－メチルプロピル）フェニル］ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート０．５ｇ、メチルエチルケトン５４．５ｇを混合し、ハードコーティング組成物を製造した。

［製造例３］アクリル系ハードコーティング形成用組成物の製造
ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）９１ｇ、粒径が１５ｎｍの第１シリカ微粒子（表面処理：３－メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン）３ｇ、光開始剤（Irgacure 184、Ciba社製）１．９５ｇの固形分をＭＥＫ（methyl ethyl ketone）溶媒に固形分濃度３５重量％になるように希釈し、基材層用組成物を製造した。

［実施例１］
ガラス基板（ＵＴＧ ４０μｍ）の一面に、前記製造例１で作った飛散防止層形成用組成物を＃８メイヤーバー（mayer bar）で塗布し、５０℃で１分間乾燥し、２３０℃で１０分間乾燥し、３μｍの厚さを有するポリイミド系飛散防止層を形成した。そして、前記ガラス基板のコーティングされていない他面に、製造例２で製造したハードコーティング層形成用組成物を＃１０バー（bar）でコーティングし、６５℃で３分間乾燥した後、３００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射し、５μｍの厚さを有するハードコーティング層が形成されたガラス基板多層構造体を製造した。

［実施例２］
前記実施例１において、ポリイミド系飛散防止層の厚さが５μｍであり、ハードコーティング層の厚さが５μｍであることを除いては、実施例１と同様に行い、ガラス基板多層構造体を製造した。

［実施例３］
前記実施例１において、ポリイミド系飛散防止層の厚さが１０μｍであり、ハードコーティング層の厚さが５μｍであることを除いては、実施例１と同様に行い、ガラス基板多層構造体を製造した。

［比較例１］
前記実施例３において、前記ハードコーティング層が前記ポリイミド系飛散防止層上に形成されたことを除いては、実施例３と同様に行い、ガラス基板多層構造体を製造した。

［比較例２］
前記実施例３において、ハードコーティング層として前記製造例３で製造したハードコーティング層形成用組成物を用いて形成したことを除いては、実施例３と同様に行い、ガラス基板多層構造体を製造した。

前記実施例１～３および比較例１、２で製造したガラス基板多層構造体の物性を測定し、下記表１に示した。下記表１は、ガラス基板を基準に、前面と後面の多層構造に対して示したものである。

前記表１のように、実施例１～３の場合、４Ｈ以上の優れた表面硬度を有することが分かり、また、１０ｃｍ以上の高さからも優れた耐飛散特性および耐衝撃特性を有することが分かった。

さらに、薄板のガラス基板の一面にポリイミド系飛散防止層、および他面にエポキシシロキサン系ハードコーティング層を形成した実施例１～３は、曲げの発生が低く、光透過性、黄色度、位相差などの物性に優れたことが分かった。

これに対し、ハードコーティング層／飛散防止層／ガラス基板の順に構成された比較例１の場合、実施例３と同一な組成の物質を用いて、ハードコーティング層および飛散防止層を形成したが、耐飛散特性（耐衝撃性）が顕著に低下することが分かった。また、アクリル系ハードコーティング層を形成した比較例２の場合、耐飛散特性が顕著に低下するだけでなく、ガラス基板多層構造体の曲げが－１．５ｍｍとして非常に大きいことが分かった。

以上、特定の事項と限定された実施形態および図面により本開示を説明したが、これは本開示のより全般的な理解のために提供されたものにすぎず、本開示は上記の実施形態に限定されない。本開示が属する分野において通常の知識を有する者であれば、このような記載から多様な修正および変形が可能である。

したがって、本開示の思想は、説明された実施形態に限定されて決まってはならず、添付の特許請求の範囲だけでなく、この特許請求の範囲と均等または等価的変形を有するものは、何れも本開示の思想の範囲に属するといえる。

１０ フレキシブルガラス基板
２０ ポリイミド系飛散防止層
３０ エポキシシロキサン系ハードコーティング層
１００ ガラス基板多層構造体

Claims (13)

1. フレキシブルガラス基板と、
   前記フレキシブルガラス基板の一面に形成されるエポキシシロキサン系ハードコーティング層と、
   前記フレキシブルガラス基板の他面に形成されるポリイミド系飛散防止層と、を含む、ガラス基板多層構造体。
2. 前記ポリイミド系飛散防止層は、フッ素系芳香族ジアミンから誘導された単位および芳香族二無水物から誘導された単位を含むポリイミド系樹脂を含んでなる、請求項１に記載のガラス基板多層構造体。
3. 前記エポキシシロキサン系ハードコーティング層は、脂環族エポキシ化シルセスキオキサン系化合物から誘導された単位を含むエポキシシロキサン系樹脂を含んでなる、請求項１または２の何れか一項に記載のガラス基板多層構造体。
4. 前記フレキシブルガラス基板は、厚さが１μｍ～１００μｍである、請求項１から３の何れか一項に記載のガラス基板多層構造体。
5. 前記ポリイミド系飛散防止層は、厚さが１００ｎｍ～１０μｍである、請求項１から４の何れか一項に記載のガラス基板多層構造体。
6. 前記エポキシシロキサン系ハードコーティング層は、厚さが１μｍ～５μｍである、請求項１から５の何れか一項に記載のガラス基板多層構造体。
7. 前記エポキシシロキサン系ハードコーティング層は、ＡＳＴＭ Ｄ３３６３に準じた鉛筆硬度が４Ｈ～６Ｈである、請求項１から６の何れか一項に記載のガラス基板多層構造体。
8. 前記エポキシシロキサン系ハードコーティング層は、透過率が９０％以上である、請求項１から７の何れか一項に記載のガラス基板多層構造体。
9. 前記ガラス基板多層構造体は、ペンドロップ試験（PEN DROP TEST）による耐衝撃性が１０ｃｍ以上である、請求項１から８の何れか一項に記載のガラス基板多層構造体。
10. フレキシブルガラス基板の一面に飛散防止組成物を塗布して硬化し、ポリイミド系飛散防止層を形成するステップと、
    前記フレキシブルガラス基板の他面にハードコーティング組成物を塗布して硬化し、エポキシシロキサン系ハードコーティング層を形成するステップと、を含む、ガラス基板多層構造体の製造方法。
11. 前記飛散防止組成物は、フッ素系芳香族ジアミンおよび芳香族二無水物を含む、請求項１０に記載のガラス基板多層構造体の製造方法。
12. 前記ハードコーティング組成物は、脂環族エポキシ化シルセスキオキサン系化合物から誘導された単位を含むエポキシシロキサン系樹脂、架橋剤、および光開始剤を含む、請求項１０または１１の何れか一項に記載のガラス基板多層構造体の製造方法。
13. 請求項１から９の何れか一項に記載のガラス基板多層構造体を含むフレキシブルディスプレイ。
    

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