[go: up one dir, main page]
More Web Proxy on the site http://driver.im/

JP2021085711A - Current detector - Google Patents

Current detector Download PDF

Info

Publication number
JP2021085711A
JP2021085711A JP2019213352A JP2019213352A JP2021085711A JP 2021085711 A JP2021085711 A JP 2021085711A JP 2019213352 A JP2019213352 A JP 2019213352A JP 2019213352 A JP2019213352 A JP 2019213352A JP 2021085711 A JP2021085711 A JP 2021085711A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
path portion
wiring
magnetic field
current
axis direction
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2019213352A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
竜哉 眞野
Tatsuya Mano
竜哉 眞野
博之 網永
Hiroyuki Aminaga
博之 網永
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Rohm Co Ltd
Original Assignee
Rohm Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Rohm Co Ltd filed Critical Rohm Co Ltd
Priority to JP2019213352A priority Critical patent/JP2021085711A/en
Publication of JP2021085711A publication Critical patent/JP2021085711A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Measuring Instrument Details And Bridges, And Automatic Balancing Devices (AREA)

Abstract

To provide a current detector which is of a low loss type, and with which it is possible to increase the detectable amount of current.SOLUTION: Second wiring 22 is arranged on the other side in a third direction (z axis direction) from first wiring 21, with one and the other ends of each of the first wiring 21 and the second wiring 22 electrically connected to each other. A first magnetic field detection part 11 is, in a plan view of a plane that includes a first direction (x axis direction) and a second direction (y axis direction), arranged in a first second-direction area R211 between both end positions in second direction of a first outward path part 211, and in the plan view, arranged in a second second-direction area R221 between both end positions in second direction of a second outward path part 221. A second magnetic field detection part 12 is, in the plan view, arranged in a third second-direction area R212 between both end positions in second direction of a first homeward path part 212, and in the plan view, arranged in a fourth second-direction area R222 between both end positions in second direction of a second homeward path part 222.SELECTED DRAWING: Figure 11

Description

本発明は、電流検出装置に関する。 The present invention relates to a current detector.

従来、1次導体に流れる電流を測定する電流センサとして、例えばホール素子を用いるもの(ホール型)や磁気抵抗効果素子を用いるもの(MR型)が知られている(例えば、特許文献1を参照)。 Conventionally, as a current sensor for measuring the current flowing through the primary conductor, for example, one using a Hall element (Hall type) and one using a magnetoresistive effect element (MR type) are known (see, for example, Patent Document 1). ).

特開2011−39021号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2011-39021

しかしながら、特にホール型の電流センサは、一般的に感度が低いので、1次導体とホール素子とを近付ける必要があり、電流センサのICパッケージ内部に1次導体を設ける必要があった。すなわち、ICパッケージ内部に電流を引き込む引き込み型の電流センサとする必要があった。引き込み型の電流センサでは、1次導体の抵抗値が大きくなり、損失が大きくなる虞があった。 However, since the sensitivity of a Hall-type current sensor is generally low, it is necessary to bring the primary conductor and the Hall element close to each other, and it is necessary to provide the primary conductor inside the IC package of the current sensor. That is, it is necessary to use a retractable current sensor that draws a current inside the IC package. In the retractable current sensor, the resistance value of the primary conductor becomes large, and there is a possibility that the loss becomes large.

上記状況に鑑み、本発明は、低損失であり、且つ、検出可能な電流量を増やすことのできる電流検出装置を提供することを目的とする。 In view of the above situation, it is an object of the present invention to provide a current detection device having low loss and capable of increasing the amount of detectable current.

上記目的を達成するために本発明の一態様に係る電流検出装置は、
第1方向、第2方向および第3方向は互いに直交するとして、
前記第1方向および前記第2方向を含む平面状に拡がり、前記第3方向に厚みを有する基板と、
前記基板の前記第3方向一方側表面に配置される磁界センサと、
を備え、
前記磁界センサは、第1磁界検出部と、第2磁界検出部と、を有し、
前記基板は、第1配線と、前記第1配線より前記第3方向他方側に配置される第2配線と、を有し、
前記第1配線の一端部と前記第2配線の一端部とは、電気的に接続され、
前記第1配線の他端部と前記第2配線の他端部とは、電気的に接続され、
前記第1配線は、前記第2方向に延びる第1往路部と、前記第2方向に延びる第1復路部と、を含み、
前記第1復路部は、前記第1往路部に対して前記第1方向一方側に配置され、前記第1往路部と電気的に接続され、
前記第2配線は、前記第2方向に延びる第2往路部と、前記第2方向に延びる第2復路部と、を含み、
前記第2復路部は、前記第2往路部に対して前記第1方向一方側に配置され、前記第2往路部と電気的に接続され、
前記第1磁界検出部は、前記第1方向および前記第2方向を含む平面の平面視において、前記第1往路部の前記第2方向両端位置間の第1の第2方向領域に配置され、且つ、前記平面視において、前記第2往路部の前記第2方向両端位置間の第2の第2方向領域に配置され、
前記第2磁界検出部は、前記平面視において、前記第1復路部の前記第2方向両端位置間の第3の第2方向領域に配置され、且つ、前記平面視において、前記第2復路部の前記第2方向両端位置間の第4の第2方向領域に配置される構成としている(第1の構成)。
The current detection device according to one aspect of the present invention in order to achieve the above object
Assuming that the first direction, the second direction, and the third direction are orthogonal to each other,
A substrate that spreads in a plane including the first direction and the second direction and has a thickness in the third direction.
A magnetic field sensor arranged on the surface of the substrate on one side in the third direction,
With
The magnetic field sensor has a first magnetic field detection unit and a second magnetic field detection unit.
The substrate has a first wiring and a second wiring arranged on the other side of the first wiring in the third direction.
One end of the first wiring and one end of the second wiring are electrically connected to each other.
The other end of the first wiring and the other end of the second wiring are electrically connected.
The first wiring includes a first outward path portion extending in the second direction and a first return path portion extending in the second direction.
The first return path portion is arranged on one side in the first direction with respect to the first outward path portion, and is electrically connected to the first outward path portion.
The second wiring includes a second outward path portion extending in the second direction and a second return path portion extending in the second direction.
The second return path portion is arranged on one side of the first direction with respect to the second outward path portion, and is electrically connected to the second outward path portion.
The first magnetic field detection unit is arranged in a first second direction region between the positions of both ends of the second direction of the first outward path portion in a plan view of a plane including the first direction and the second direction. Moreover, in the plan view, it is arranged in the second second direction region between the positions of both ends of the second direction of the second outward path portion.
The second magnetic field detection unit is arranged in a third second direction region between the positions of both ends of the first return path portion in the second direction in the plan view, and the second return path portion is arranged in the plan view. It is configured to be arranged in the fourth second direction region between the positions at both ends of the second direction (first configuration).

また、上記第1の構成において、前記第1往路部の幅および前記第1復路部の幅は、同じ第1幅であり、前記第2往路部の幅および前記第2復路部の幅は、同じ第2幅であり、前記第1幅と前記第2幅と、は異なっていることとしてもよい(第2の構成)。 Further, in the first configuration, the width of the first outward path portion and the width of the first return path portion are the same first width, and the width of the second outward path portion and the width of the second return path portion are the same. The second width is the same, and the first width and the second width may be different (second configuration).

また、上記第1または第2の構成において、前記第1往路部と前記第1復路部との間の第1方向距離と、前記第2往路部と前記第2復路部との間の第1方向距離と、は異なっていることとしてもよい(第3の構成)。 Further, in the first or second configuration, the first directional distance between the first outward path portion and the first return path portion and the first between the second outward path portion and the second return path portion. The directional distance may be different (third configuration).

また、上記第1から第3のいずれかの構成において、前記第1往路部と前記第1復路部との間と、前記第2往路部と前記第2復路部との間との少なくとも一方は、負荷を介した連結部により連結されることとしてもよい(第4の構成)。 Further, in any one of the first to third configurations, at least one of the space between the first outward path portion and the first return path portion and the space between the second outward path portion and the second return path portion is , May be connected by a connecting portion via a load (fourth configuration).

また、上記目的を達成するために本発明の別態様に係る電流検出装置は、
第1方向、第2方向および第3方向は互いに直交するとして、
前記第1方向および前記第2方向を含む平面状に拡がり、前記第3方向に厚みを有する基板と、
前記基板の前記第3方向一方側表面に配置される磁界センサと、
を備え、
前記磁界センサは、第1磁界検出部と、第2磁界検出部と、を有し、
前記基板は、第1配線と、第2配線と、を有し、
前記第1配線の一端部と前記第2配線の一端部とは、電気的に接続され、
前記第1配線の他端部と前記第2配線の他端部とは、電気的に接続され、
前記第1配線は、前記第2方向に延びる第1往路部と、前記第2方向に延びる第1復路部と、を含み、
前記第1復路部は、前記第1往路部に対して前記第1方向一方側に配置され、前記第1往路部と電気的に接続され、
前記第1磁界検出部は、前記第1方向および前記第2方向を含む平面の平面視において、前記第1往路部の前記第2方向両端位置間の第1の第2方向領域に配置され、
前記第2磁界検出部は、前記平面視において、前記第1復路部の前記第2方向両端位置間の第2の第2方向領域に配置され、
前記第2配線は、前記平面視において、前記第1の第2方向領域および前記第2の第2方向領域ともに重ならない構成としている(第5の構成)。
Further, in order to achieve the above object, the current detection device according to another aspect of the present invention may be used.
Assuming that the first direction, the second direction, and the third direction are orthogonal to each other,
A substrate that spreads in a plane including the first direction and the second direction and has a thickness in the third direction.
A magnetic field sensor arranged on the surface of the substrate on one side in the third direction,
With
The magnetic field sensor has a first magnetic field detection unit and a second magnetic field detection unit.
The substrate has a first wiring and a second wiring.
One end of the first wiring and one end of the second wiring are electrically connected to each other.
The other end of the first wiring and the other end of the second wiring are electrically connected.
The first wiring includes a first outward path portion extending in the second direction and a first return path portion extending in the second direction.
The first return path portion is arranged on one side in the first direction with respect to the first outward path portion, and is electrically connected to the first outward path portion.
The first magnetic field detection unit is arranged in a first second direction region between the positions of both ends of the second direction of the first outbound route unit in a plan view of a plane including the first direction and the second direction.
The second magnetic field detection unit is arranged in the second second direction region between the positions of both ends of the second direction of the first return path unit in the plan view.
The second wiring has a configuration in which neither the first second direction region nor the second second direction region overlap in the plan view (fifth configuration).

また、上記第5の構成において、前記第1往路部と前記第1復路部との間は、負荷を介した連結部により連結されることとしてもよい(第6の構成)。 Further, in the fifth configuration, the first outward path portion and the first return path portion may be connected by a connecting portion via a load (sixth configuration).

また、上記第5または第6の構成において、前記第1配線と前記第2配線は、同一層の配線に含まれることとしてもよい(第7の構成)。 Further, in the fifth or sixth configuration, the first wiring and the second wiring may be included in the wiring of the same layer (seventh configuration).

また、上記第1から第7のいずれかの構成において、前記第1配線および前記第2配線のそれぞれの幅、厚み、経路長、および材質の少なくともいずれかは異なっていることとしてもよい(第8の構成)。 Further, in any one of the first to seventh configurations, at least one of the width, thickness, path length, and material of the first wiring and the second wiring may be different (the first). 8 configuration).

また、上記第1から第8のいずれかの構成において、前記第1磁界検出部および前記第2磁界検出部は、MI(磁気インピーダンス)効果素子を用いて磁界を検出することとしてもよい(第9の構成)。 Further, in any of the first to eighth configurations, the first magnetic field detection unit and the second magnetic field detection unit may detect a magnetic field using an MI (magnetic impedance) effect element (the first). 9 configuration).

本発明の電流検出装置によれば、低損失であり、且つ、検出可能な電流量を増やすことができる。 According to the current detection device of the present invention, the loss is low and the amount of detectable current can be increased.

磁界センサのICパッケージをz軸方向一方側から視た平面図である。It is a top view which looked at the IC package of a magnetic field sensor from one side in the z-axis direction. 磁界センサのブロック構成図である。It is a block block diagram of a magnetic field sensor. 駆動電流とピックアップコイルに生じる誘起電圧の一例を示す波形図である。It is a waveform figure which shows an example of the drive current and the induced voltage generated in a pickup coil. 比較例に係る電流検出装置のz軸方向一方側から視た平面図である。It is a top view seen from one side in the z-axis direction of the current detection apparatus which concerns on a comparative example. 図4におけるA−A断面図である。FIG. 5 is a sectional view taken along the line AA in FIG. 図4におけるy軸方向領域を示すための平面図である。It is a top view for showing the y-axis direction region in FIG. 往路部の幅および復路部の幅と、電流検出感度との相関関係の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the correlation between the width of the outward path portion and the width of a return path portion, and the current detection sensitivity. 磁界センサと配線との間のz軸方向の距離と、電流検出感度との相関関係の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the correlation between the distance in the z-axis direction between a magnetic field sensor and a wiring, and a current detection sensitivity. 往路部と復路部との間のx軸方向の距離と、電流検出感度との相関関係の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the correlation between the distance in the x-axis direction between an outward path part and a return path part, and a current detection sensitivity. 第1実施形態に係る電流検出装置のz軸方向一方側から視た平面図である。It is a top view seen from one side in the z-axis direction of the current detection apparatus which concerns on 1st Embodiment. 図8におけるA−A断面図である。FIG. 8 is a cross-sectional view taken along the line AA in FIG. 図8におけるB−B断面図である。FIG. 8 is a cross-sectional view taken along the line BB in FIG. 第1実施形態におけるy軸方向領域を示すための平面図である。It is a top view for showing the y-axis direction region in 1st Embodiment. 第1実施形態の変形例を示す平面図である。It is a top view which shows the modification of 1st Embodiment. 第2実施形態に係る電流検出装置のz軸方向一方側から視た平面図である。It is a top view seen from one side in the z-axis direction of the current detection apparatus which concerns on 2nd Embodiment. 第2実施形態におけるy軸方向領域を示すための平面図である。It is a top view for showing the y-axis direction region in 2nd Embodiment. 第3実施形態に係る電流検出装置のz軸方向一方側から視た平面図である。It is a top view seen from one side in the z-axis direction of the current detection apparatus which concerns on 3rd Embodiment. 第1実施例に係る測定対象システムの模式図である。It is a schematic diagram of the measurement target system which concerns on 1st Example. 第2実施例に係る測定対象システムの模式図である。It is a schematic diagram of the measurement target system which concerns on 2nd Example. 第3実施例に係る測定対象システムの模式図である。It is a schematic diagram of the measurement target system which concerns on 3rd Example.

以下に本発明の一実施形態について図面を参照して説明する。なお、図面において、互いに直交するx軸方向(第1方向)、y軸方向(第2方向)、およびz軸方向(第3方向)を示す場合がある。この場合、矢印の指し示す側を一方側、その反対側を他方側と称する。 An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. In the drawings, the x-axis direction (first direction), the y-axis direction (second direction), and the z-axis direction (third direction) that are orthogonal to each other may be shown. In this case, the side pointed by the arrow is referred to as one side, and the opposite side is referred to as the other side.

<1.磁界センサの構成>
まず、本発明の実施形態に係る電流検出装置に用いられる磁界センサの構成について説明する。図1は、磁界センサ1のICパッケージをz軸方向一方側から視た平面図である。図1では、ICパッケージ内部に設けられる第1磁界検出部11および第2磁界検出部12の位置を示している。なお、図1において、ICパッケージの紙面右上端部に示す黒丸は、ICパッケージの隅の位置を特定するために便宜上図示しており、他の図面で磁界センサ1を図示する場合も黒丸を表記している。
<1. Magnetic field sensor configuration>
First, the configuration of the magnetic field sensor used in the current detection device according to the embodiment of the present invention will be described. FIG. 1 is a plan view of the IC package of the magnetic field sensor 1 as viewed from one side in the z-axis direction. FIG. 1 shows the positions of the first magnetic field detection unit 11 and the second magnetic field detection unit 12 provided inside the IC package. In FIG. 1, the black circle shown at the upper right end of the paper surface of the IC package is shown for convenience in order to specify the position of the corner of the IC package, and the black circle is also shown when the magnetic field sensor 1 is shown in other drawings. doing.

図1に示すように、磁界センサ1のICパッケージは、平面視(x軸方向およびy軸方向を含む平面)において、x軸方向に延びる辺およびy軸方向に延びる辺を有する矩形状である。 As shown in FIG. 1, the IC package of the magnetic field sensor 1 has a rectangular shape having a side extending in the x-axis direction and a side extending in the y-axis direction in a plan view (a plane including the x-axis direction and the y-axis direction). ..

第1磁界検出部11のx軸方向中心位置は、ICパッケージのx軸方向中心位置x0よりx軸方向他方側に距離DX1だけ離れている。第2磁界検出部12のx軸方向中心位置は、x軸方向中心位置x0よりx軸方向一方側に距離DX2だけ離れている。そして、DX1=DX2である。 The center position of the first magnetic field detection unit 11 in the x-axis direction is separated from the center position x0 in the x-axis direction of the IC package by a distance DX1 on the other side in the x-axis direction. The center position of the second magnetic field detection unit 12 in the x-axis direction is separated from the center position x0 in the x-axis direction by a distance DX2 on one side in the x-axis direction. Then, DX1 = DX2.

また、第1磁界検出部11のy軸方向中心位置および第2磁界検出部12のy軸方向中心位置は、ともにICパッケージのY軸方向他方側端よりy軸方向一方側に距離DYだけ離れている。 Further, the center position in the y-axis direction of the first magnetic field detection unit 11 and the center position in the y-axis direction of the second magnetic field detection unit 12 are both separated from the other end in the Y-axis direction of the IC package by a distance DY on one side in the y-axis direction. ing.

図2は、磁界センサ1のブロック構成図である。磁界センサ1は、第1磁界検出部11と、第2磁界検出部12と、第1サンプル/ホールド部141と、第2サンプル/ホールド部142と、第1アンプ部151と、第2アンプ部152と、減算部16と、発振部17と、パルス駆動部18と、を有しており、これらの構成要素は、一つのICチップに集積化される。 FIG. 2 is a block configuration diagram of the magnetic field sensor 1. The magnetic field sensor 1 includes a first magnetic field detection unit 11, a second magnetic field detection unit 12, a first sample / hold unit 141, a second sample / hold unit 142, a first amplifier unit 151, and a second amplifier unit. It has 152, a subtraction unit 16, an oscillation unit 17, and a pulse drive unit 18, and these components are integrated into one IC chip.

第1磁界検出部11および第2磁界検出部12のそれぞれは、共有の磁気インピーダンス効果素子(MI効果素子)13と、これに巻回されたコイルL1、L2を含み、コイルL1、L2のそれぞれの両端間に生じる誘起電圧をセンサ信号S11、S12として出力する。MI効果素子13は、例えば、アモルファスワイヤとして構成される。 Each of the first magnetic field detection unit 11 and the second magnetic field detection unit 12 includes a shared magnetic impedance effect element (MI effect element) 13 and coils L1 and L2 wound around the common magnetic impedance effect element (MI effect element) 13, and each of the coils L1 and L2. The induced voltage generated between both ends of is output as sensor signals S11 and S12. The MI effect element 13 is configured as, for example, an amorphous wire.

第1サンプル/ホールド部141および第2サンプル/ホールド部142は、それぞれ、クロック信号CLKに同期して所定の位相におけるセンサ信号S11、S12の信号値(例えばピーク値)をサンプル/ホールドすることにより、サンプル/ホールド信号S21、S22を生成する。 The first sample / hold unit 141 and the second sample / hold unit 142 sample / hold the signal values (for example, peak values) of the sensor signals S11 and S12 in a predetermined phase in synchronization with the clock signal CLK, respectively. , Sample / hold signals S21 and S22 are generated.

第1アンプ部151および第2アンプ部152のそれぞれは、サンプル/ホールド信号S21、S22をそれぞれ所定のゲインで増幅することにより、増幅信号S31、S32を生成する。減算部16は、増幅信号S31から増幅信号S32を減算して出力信号S40を生成する。 Each of the first amplifier unit 151 and the second amplifier unit 152 generates amplification signals S31 and S32 by amplifying the sample / hold signals S21 and S22 with predetermined gains, respectively. The subtraction unit 16 subtracts the amplification signal S32 from the amplification signal S31 to generate the output signal S40.

発振部17は、所定周波数のクロック信号CLKを生成し、これをサンプル/ホールド部141、142とパルス駆動部18に供給する。パルス駆動部18は、クロック信号CLKに同期してパルス波状の駆動電流Ipを生成し、これをMI効果素子13に供給する。 The oscillation unit 17 generates a clock signal CLK having a predetermined frequency, and supplies the clock signal CLK to the sample / hold units 141 and 142 and the pulse drive unit 18. The pulse drive unit 18 generates a pulse wave-shaped drive current Ip in synchronization with the clock signal CLK, and supplies this to the MI effect element 13.

ここで、MI効果素子13を用いた磁界検出方法の原理について述べる。MI効果素子13に通電していないときは、MI効果素子13において電子スピンは周方向に向く。なお、周方向とは、MI効果素子13の軸方向周りの方向である。そして、通電していないMI効果素子13に外部磁界が印加されると、電子スピンは傾く。ここで、MI効果素子13に通電すると、電流により生じる周方向の磁界により電子スピンが回転し、周方向の一方向に揃う。この回転の際に生じるMI効果素子13の軸方向の磁気ベクトル変化の速度に比例した誘起電圧がピックアップコイル(コイルL11、L12)に発生する。その後、通電を解除すると、電子スピンは外部磁界に応じた傾いた状態に変化し、その際のMI効果素子13の軸方向の磁気ベクトル変化の速度に比例した誘起電圧がピックアップコイルに発生する。 Here, the principle of the magnetic field detection method using the MI effect element 13 will be described. When the MI effect element 13 is not energized, the electron spins in the MI effect element 13 are directed in the circumferential direction. The circumferential direction is a direction around the axial direction of the MI effect element 13. Then, when an external magnetic field is applied to the MI effect element 13 that is not energized, the electron spin is tilted. Here, when the MI effect element 13 is energized, the electron spins are rotated by the magnetic field in the circumferential direction generated by the electric current, and are aligned in one direction in the circumferential direction. An induced voltage generated in the pickup coils (coils L11 and L12) is generated in the pickup coils (L11, L12) in proportion to the speed of the magnetic vector change in the axial direction of the MI effect element 13 generated during this rotation. After that, when the energization is released, the electron spin changes to a tilted state according to the external magnetic field, and an induced voltage proportional to the speed of the axial magnetic vector change of the MI effect element 13 at that time is generated in the pickup coil.

従って、図3に示すように、MI効果素子13に通電されていない状態から駆動電流Ipにより通電されると(パルス波の立上り)、コイルL11、L12に外部磁界に応じた誘起電圧VHが発生し、センサ信号S11、S12として出力される。また、MI効果素子13が通電された状態から駆動電流Ipによる通電が停止されると(パルス波の立下り)、コイルL11、L12に先の誘起電圧とは逆極性の誘起電圧VLが発生し、センサ信号S11、S12として出力される。なお、外部磁界の向きが逆となると、発生する誘起電圧の極性も逆となる。 Therefore, as shown in FIG. 3, when the MI effect element 13 is energized by the drive current Ip from the state where it is not energized (rising of the pulse wave), the induced voltage VH corresponding to the external magnetic field is generated in the coils L11 and L12. Then, it is output as sensor signals S11 and S12. Further, when the energization by the drive current Ip is stopped from the state where the MI effect element 13 is energized (falling edge of the pulse wave), an induced voltage VL having a polarity opposite to the previous induced voltage is generated in the coils L11 and L12. , It is output as sensor signals S11 and S12. When the direction of the external magnetic field is reversed, the polarity of the generated induced voltage is also reversed.

すなわち、パルス波状の駆動電流Ipにより誘起電圧VH、VLが発生するので、サンプル/ホールド部141、142は、センサ信号S11、S12のピーク値を取得する場合は、誘起電圧VHのピーク値PHと誘起電圧VLのピーク値PLのうちいずれを取得してもよい。 That is, since the induced voltages VH and VL are generated by the pulse wave-shaped drive current Ip, the sample / hold units 141 and 142 are set to the peak value PH of the induced voltage VH when acquiring the peak values of the sensor signals S11 and S12. Any of the peak value PL of the induced voltage VL may be acquired.

<2.比較例>
ここで、本発明の実施形態の理解を助けるため、当該実施形態を説明する前に比較例に係る電流検出装置について説明する。
<2. Comparative example>
Here, in order to help the understanding of the embodiment of the present invention, the current detection device according to the comparative example will be described before the embodiment is described.

図4は、比較例に係る電流検出装置50のz軸方向一方側から視た平面図である。また、図5は、図4における磁界検出部11、12をx軸方向に横切るA−A切断線で切断した場合のA−A断面図である。 FIG. 4 is a plan view of the current detection device 50 according to the comparative example as viewed from one side in the z-axis direction. Further, FIG. 5 is a cross-sectional view taken along the line AA when the magnetic field detection units 11 and 12 in FIG. 4 are cut along the AA cutting line crossing the x-axis direction.

図4に示すように、比較例に係る電流検出装置50は、x軸方向およびy軸方向を含む平面状に拡がってz軸方向に厚みを有するプリント基板20と、磁界センサ1と、を含む。プリント基板20には、配線20Aが形成される。配線20Aは、例えば、銅箔により形成される。配線20Aは、測定対象電流Iが流れる経路である。 As shown in FIG. 4, the current detection device 50 according to the comparative example includes a printed circuit board 20 that extends in a plane including the x-axis direction and the y-axis direction and has a thickness in the z-axis direction, and a magnetic field sensor 1. .. Wiring 20A is formed on the printed circuit board 20. The wiring 20A is formed of, for example, copper foil. The wiring 20A is a path through which the measurement target current I flows.

配線20Aは、y軸方向に延びる往路部201と、y軸方向に延びる復路部202と、連結部203と、を含む。往路部201と復路部202は、x軸方向に配列される。連結部203は、往路部201のy軸方向一方側端と復路部202のy軸方向一方側端とをx軸方向に連結する。これにより、図4に示すように、往路部201、復路部202、および連結部203により、平面視でコの字状が形成される。なお、連結部203を湾曲させた形状とし、往路部201、復路部202、および連結部203によりU字状を形成してもよい。 The wiring 20A includes an outward path portion 201 extending in the y-axis direction, a return path portion 202 extending in the y-axis direction, and a connecting portion 203. The outward path portion 201 and the return path portion 202 are arranged in the x-axis direction. The connecting portion 203 connects the one-sided end in the y-axis direction of the outward path portion 201 and the one-sided end in the y-axis direction of the returning path portion 202 in the x-axis direction. As a result, as shown in FIG. 4, the outward path portion 201, the return path portion 202, and the connecting portion 203 form a U-shape in a plan view. The connecting portion 203 may have a curved shape, and the outward path portion 201, the returning path portion 202, and the connecting portion 203 may form a U shape.

図4に示すように、測定対象電流Iは、往路部201をy軸方向一方側へ流れ、連結部203を介して復路部202に流れ込み、復路部202をy軸方向他方側へ流れる。なお、測定対象電流Iは、復路部202をy軸方向一方側へ流れた場合は、連結部203を介して往路部201に流れ込み、往路部201をy軸方向他方側へ流れる。このように、往路部201と復路部202は、測定対象電流Iが互いに逆向きに流れるよう設けられる。 As shown in FIG. 4, the measurement target current I flows through the outward path portion 201 to one side in the y-axis direction, flows into the return path portion 202 via the connecting portion 203, and flows through the return path portion 202 to the other side in the y-axis direction. When the measurement target current I flows through the return path portion 202 to one side in the y-axis direction, it flows into the outward path portion 201 via the connecting portion 203, and flows through the outward path portion 201 to the other side in the y-axis direction. In this way, the outward path portion 201 and the return path portion 202 are provided so that the measurement target currents I flow in opposite directions to each other.

また、図5に示すように、磁界センサ1は、プリント基板20のz軸方向一方側表面20Sに配置される。図6に示すように、第1磁界検出部11は、平面視において、往路部201のy軸方向両端位置間のy軸方向領域R201に配置される。第2磁界検出部12は、平面視において、復路部202のy軸方向両端位置間のy軸方向領域R202に配置される。図6では、y軸方向領域R201,R202ともにx軸方向に延びる2つの破線にy軸方向に挟まれる領域である。 Further, as shown in FIG. 5, the magnetic field sensor 1 is arranged on the surface 20S on one side in the z-axis direction of the printed circuit board 20. As shown in FIG. 6, the first magnetic field detection unit 11 is arranged in the y-axis direction region R201 between the positions of both ends in the y-axis direction of the outward path unit 201 in a plan view. The second magnetic field detection unit 12 is arranged in the y-axis direction region R202 between the positions of both ends in the y-axis direction of the return path unit 202 in a plan view. In FIG. 6, both the y-axis direction regions R201 and R202 are regions sandwiched in the y-axis direction by two broken lines extending in the x-axis direction.

図5に示すように、往路部201のx軸方向の幅と、復路部202のx軸方向の幅W2とは、幅Wで同じである。そして、図4に示すように、平面視において、往路部201のx軸方向中心位置は、x軸方向中心位置x0よりx軸方向他方側に距離Dx11だけ離れており、復路部202のx軸方向中心位置は、x軸方向中心位置x0よりx軸方向一方側に距離Dx12だけ離れている。Dx11=Dx12とされている。 As shown in FIG. 5, the width of the outward path portion 201 in the x-axis direction and the width W2 of the return path portion 202 in the x-axis direction are the same in width W. Then, as shown in FIG. 4, in the plan view, the center position in the x-axis direction of the outward path portion 201 is separated from the center position x0 in the x-axis direction by a distance Dx11 to the other side in the x-axis direction, and the x-axis of the return path portion 202. The direction center position is separated from the x-axis direction center position x0 by a distance Dx12 on one side in the x-axis direction. Dx11 = Dx12.

図5に示すように、往路部201をy軸方向一方側へ流れる測定対象電流Iによって、y軸方向一方側へ視て右回りに磁界M1が発生し、復路部202をy軸方向他方側へ流れる測定対象電流Iによって、y軸方向一方側へ視て左回りに磁界M2が発生する。これにより、第1磁界検出部11に対してx軸方向一方側に向かう測定対象磁界(+b)が印加され、第2磁界検出部12に対してx軸方向他方側に向かう測定対象磁界(−b’)が印加される。ここで、bとb’とはほぼ同一となる。すなわち、第1磁界検出部11および第2磁界検出部12に対してそれぞれ印加される測定対象磁界は、逆方向且つ絶対値が略同一となる。 As shown in FIG. 5, the measurement target current I flowing in the outward path portion 201 in the y-axis direction generates a magnetic field M1 clockwise when viewed in the y-axis direction on one side, and the return path portion 202 is generated in the y-axis direction on the other side. A magnetic field M2 is generated counterclockwise when viewed to one side in the y-axis direction due to the measurement target current I flowing to. As a result, the measurement target magnetic field (+ b) directed to one side in the x-axis direction is applied to the first magnetic field detection unit 11, and the measurement target magnetic field (-) toward the other side in the x-axis direction to the second magnetic field detection unit 12. b') is applied. Here, b and b'are almost the same. That is, the measurement target magnetic fields applied to the first magnetic field detection unit 11 and the second magnetic field detection unit 12, respectively, have substantially the same absolute value in the opposite direction.

このとき、図2に示すように、第1磁界検出部11に対して測定対象磁界(+b)が印加され、第2磁界検出部12に対して測定対象磁界(−b’)が印加される。測定対象磁界(+b)に応じて生成されるセンサ信号S21は正値であり、測定対象磁界(−b)に応じて生成されるセンサ信号S22は負値であり、センサ信号S21とS22の絶対値は略同一となる。そして、第1アンプ部151および第2アンプ部152のゲイン値は、ゲイン値αで等しいとすると、センサ信号S21、S22をそれぞれα倍して増幅信号S31、S32が生成され、減算部16によって増幅信号S31からS32を減算され、出力信号S40が生成される。これにより、出力信号S40は、センサ信号S21をα倍した値をさらに2倍した正値となる。 At this time, as shown in FIG. 2, the measurement target magnetic field (+ b) is applied to the first magnetic field detection unit 11, and the measurement target magnetic field (−b ′) is applied to the second magnetic field detection unit 12. .. The sensor signal S21 generated in response to the measurement target magnetic field (+ b) has a positive value, the sensor signal S22 generated in response to the measurement target magnetic field (−b) has a negative value, and the sensor signals S21 and S22 are absolute. The values are approximately the same. Assuming that the gain values of the first amplifier unit 151 and the second amplifier unit 152 are equal at the gain value α, the sensor signals S21 and S22 are multiplied by α, respectively, and the amplification signals S31 and S32 are generated, and the subtraction unit 16 generates the amplification signals. S32 is subtracted from the amplified signal S31 to generate the output signal S40. As a result, the output signal S40 becomes a positive value obtained by further doubling the value obtained by multiplying the sensor signal S21 by α.

すなわち、図4および図5に示すように、測定対象電流Iが往路部201をy軸方向一方側へ流れる場合に、出力信号S40は正値となる。なお、測定対象電流Iが復路部202をy軸方向一方側へ流れる場合は、第1磁界検出部11に対して測定対象磁界(−b)が印加され、第2磁界検出部12に対して測定対象磁界(+b’)が印加されるため、センサ信号S21が負値、S22が正値となり、出力信号S40は負値となる。 That is, as shown in FIGS. 4 and 5, when the measurement target current I flows through the outward path portion 201 in the y-axis direction, the output signal S40 becomes a positive value. When the measurement target current I flows through the return path portion 202 to one side in the y-axis direction, the measurement target magnetic field (−b) is applied to the first magnetic field detection unit 11 and the measurement target magnetic field (−b) is applied to the second magnetic field detection unit 12. Since the measurement target magnetic field (+ b') is applied, the sensor signal S21 has a negative value, S22 has a positive value, and the output signal S40 has a negative value.

このように、電流検出装置50によれば、測定対象電流Iに応じた出力信号S40を生成することにより、測定対象電流Iを検出可能となる。特に、第1磁界検出部11および第2磁界検出部12はMI効果素子13を用いて磁界を検出するので、磁界検出の感度が高くなり、導体である往路部201および復路部202を第1磁界検出部11および第2磁界検出部12に近づける必要が無く、往路部201および復路部202を磁界センサ1とは別のプリント基板20に設けることができる。従って、従来のような引き込み型の電流センサよりも損失を抑えることができる。 In this way, according to the current detection device 50, the measurement target current I can be detected by generating the output signal S40 corresponding to the measurement target current I. In particular, since the first magnetic field detection unit 11 and the second magnetic field detection unit 12 detect the magnetic field using the MI effect element 13, the sensitivity of magnetic field detection becomes high, and the outward path unit 201 and the return path portion 202, which are conductors, are first. It is not necessary to bring the magnetic field detection unit 11 and the second magnetic field detection unit 12 close to each other, and the outward path unit 201 and the return path unit 202 can be provided on the printed circuit board 20 separate from the magnetic field sensor 1. Therefore, the loss can be suppressed as compared with the conventional retractable current sensor.

なお、第1磁界検出部11および第2磁界検出部12には、電流検出装置50の置かれた環境に依存して外乱となる環境磁界が印加されうる。この場合、第1磁界検出部11および第2磁界検出部12に対してそれぞれ印加される環境磁界は、互いに同相(+aまたは−a)となる。図2には、一例として同相(+a)が印加される場合を示すが、この場合、減算部16により増幅信号S31、S32がキャンセルされ、出力信号S40はゼロとなる。すなわち、環境磁界の影響がキャンセルされた出力信号S40を得ることができる。 An environmental magnetic field that becomes a disturbance may be applied to the first magnetic field detection unit 11 and the second magnetic field detection unit 12 depending on the environment in which the current detection device 50 is placed. In this case, the environmental magnetic fields applied to the first magnetic field detection unit 11 and the second magnetic field detection unit 12 are in phase (+ a or −a) with each other. FIG. 2 shows a case where the in-phase (+ a) is applied as an example. In this case, the amplification signals S31 and S32 are canceled by the subtraction unit 16, and the output signal S40 becomes zero. That is, the output signal S40 in which the influence of the environmental magnetic field is canceled can be obtained.

また、図5に示すプリント基板20における各パラメータを調整することで、第1磁界検出部11および第2磁界検出部12に印加する磁界を調整して、電流検出感度を調整することができる。ここで、電流検出感度とは、測定対象電流Iの1Aの変化に対する出力信号S40の変化を示す値である。 Further, by adjusting each parameter of the printed circuit board 20 shown in FIG. 5, the magnetic fields applied to the first magnetic field detection unit 11 and the second magnetic field detection unit 12 can be adjusted to adjust the current detection sensitivity. Here, the current detection sensitivity is a value indicating a change in the output signal S40 with respect to a change in 1A of the current to be measured I.

例えば、図5に示す往路部201および復路部202の幅Wと、電流検出感度との相関関係の一例を図7Aに示す。図7Aに示すように、幅Wを広くする程、電流検出感度は低くなる。また、図5に示す磁界センサ1(すなわちプリント基板20のz軸方向一方側表面20S)と配線20Aとの間のz軸方向の距離Dzと、電流検出感度との相関関係の一例を図7Bに示す。図7Bに示すように、距離Dzが長くなる程、電流検出感度は低くなる。また、図5に示す往路部201と復路部202との間のx軸方向の距離Sと、電流検出感度との相関関係の一例を図7Cに示す。図7Cに示すように、距離Sが長くなる程、電流検出感度は低くなる。 For example, FIG. 7A shows an example of the correlation between the width W of the outward path portion 201 and the return path portion 202 shown in FIG. 5 and the current detection sensitivity. As shown in FIG. 7A, the wider the width W, the lower the current detection sensitivity. Further, FIG. 7B is an example of the correlation between the distance Dz in the z-axis direction between the magnetic field sensor 1 (that is, the surface 20S on one side in the z-axis direction of the printed circuit board 20) and the wiring 20A shown in FIG. 5 and the current detection sensitivity. Shown in. As shown in FIG. 7B, the longer the distance Dz, the lower the current detection sensitivity. Further, FIG. 7C shows an example of the correlation between the distance S in the x-axis direction between the outward path portion 201 and the return path portion 202 shown in FIG. 5 and the current detection sensitivity. As shown in FIG. 7C, the longer the distance S, the lower the current detection sensitivity.

このように、電流検出装置50では、磁界センサ1は共通でプリント基板20のパラメータを調整することで電流検出感度を調整できるので、従来の引き込み型の電流センサのように電流検出感度ごとに製品を用意する必要が無い。また、引き込み型の電流センサでは、電流検出感度が製品ごととなるので、電流検出感度の細かい調整ができないが、電流検出装置50であれば、電流検出感度の細かい調整が可能となる。 In this way, in the current detection device 50, since the magnetic field sensor 1 can adjust the current detection sensitivity by adjusting the parameters of the printed substrate 20 in common, the product is manufactured for each current detection sensitivity like the conventional retractable current sensor. There is no need to prepare. Further, in the retractable current sensor, the current detection sensitivity is different for each product, so that the current detection sensitivity cannot be finely adjusted. However, in the current detection device 50, the current detection sensitivity can be finely adjusted.

しかしながら、電流検出装置50では、プリント基板20における配線20Aを単層としているので、測定対象電流Iを増加させようとすると、発熱を抑えるために配線20Aの幅を広くしたり、配線20Aの厚みを厚くする必要がある。しかしながら、配線20Aの幅を広くするとプリント基板20のコンパクト化の妨げとなったり、配線20Aの厚みを厚くするとプリント基板20が高価となる虞があった。また、増加させた測定対象電流Iに対しては、磁界センサ1が飽和する虞もあった。このように電流検出装置50には、測定対象電流の増加に際して改善の余地があった。 However, in the current detection device 50, since the wiring 20A on the printed circuit board 20 has a single layer, when the measurement target current I is to be increased, the width of the wiring 20A is widened or the thickness of the wiring 20A is increased in order to suppress heat generation. Need to be thickened. However, if the width of the wiring 20A is widened, it hinders the compactification of the printed circuit board 20, and if the thickness of the wiring 20A is increased, the printed circuit board 20 may become expensive. In addition, the magnetic field sensor 1 may be saturated with respect to the increased measurement target current I. As described above, the current detection device 50 has room for improvement when the current to be measured increases.

<3.第1実施形態>
次に、本発明の第1実施形態に係る電流検出装置について説明する。図8は、第1実施形態に係る電流検出装置5のz軸方向一方側から視た平面図である。図9は、図8におけるA−A切断線で切断した場合のA−A断面図である。図10は、図8におけるB−B切断線で切断した場合のB−B断面図である。
<3. First Embodiment>
Next, the current detection device according to the first embodiment of the present invention will be described. FIG. 8 is a plan view of the current detection device 5 according to the first embodiment as viewed from one side in the z-axis direction. FIG. 9 is a cross-sectional view taken along the line AA in FIG. FIG. 10 is a cross-sectional view taken along the line BB in FIG.

電流検出装置5は、磁界センサ1と、x軸方向およびy軸方向を含む平面状に拡がってz軸方向に厚みを有するプリント基板2と、を有する。磁界センサ1は、プリント基板2のz軸方向一方側表面2Sに配置される。プリント基板2は、1層目である第1配線21と、2層目である第2配線22と、を含む。第2配線22は、第1配線21よりz軸方向他方側に配置される。第1配線21および第2配線22は、例えば銅箔により形成される。 The current detection device 5 includes a magnetic field sensor 1 and a printed circuit board 2 that extends in a plane including the x-axis direction and the y-axis direction and has a thickness in the z-axis direction. The magnetic field sensor 1 is arranged on the surface 2S on one side of the printed circuit board 2 in the z-axis direction. The printed circuit board 2 includes a first wiring 21 which is a first layer and a second wiring 22 which is a second layer. The second wiring 22 is arranged on the other side in the z-axis direction from the first wiring 21. The first wiring 21 and the second wiring 22 are formed of, for example, copper foil.

図8に示すように、第1配線21は、平面視において、先述した比較例に係る配線20A(図4)と同一の形状である。第1配線21は、往路部211と、復路部212と、連結部213と、を含む。第1配線21は、電流経路上に沿って一定の幅W21を有する。 As shown in FIG. 8, the first wiring 21 has the same shape as the wiring 20A (FIG. 4) according to the comparative example described above in a plan view. The first wiring 21 includes an outward route portion 211, a return route portion 212, and a connecting portion 213. The first wiring 21 has a constant width W21 along the current path.

第1配線21の電流流入部21A付近にz軸方向に延びるスルーホール231が形成される。スルーホールとは、内部に導体が充填された、または内壁面に導体が形成された貫通孔である。第1配線21の電流流出部21B付近にz軸方向に延びるスルーホール232が形成される。第1配線21と第2配線22とは、スルーホール231,232により接続される。 A through hole 231 extending in the z-axis direction is formed in the vicinity of the current inflow portion 21A of the first wiring 21. A through hole is a through hole in which a conductor is filled inside or a conductor is formed on an inner wall surface. A through hole 232 extending in the z-axis direction is formed in the vicinity of the current outflow portion 21B of the first wiring 21. The first wiring 21 and the second wiring 22 are connected by through holes 231 and 232.

第2配線22は、スルーホール231との接続箇所が配線の開始箇所であり、スルーホール232との接続箇所が配線の終了箇所である。第2配線22は、図8に示すように、平面視において第1配線21の一部と同一形状であり、平面視で第2配線22の全部が第1配線21と重なる。第2配線22は、電流経路上に沿って一定の幅W22を有する。W21=W22である。 In the second wiring 22, the connection point with the through hole 231 is the start point of the wiring, and the connection point with the through hole 232 is the end point of the wiring. As shown in FIG. 8, the second wiring 22 has the same shape as a part of the first wiring 21 in a plan view, and the entire second wiring 22 overlaps with the first wiring 21 in a plan view. The second wiring 22 has a constant width W22 along the current path. W21 = W22.

第2配線22は、平面視で往路部211と重なる往路部221と、平面視で復路部212と重なる復路部222と、平面視で連結部213と重なる連結部223と、を含む。 The second wiring 22 includes an outward path portion 221 that overlaps the outward path portion 211 in a plan view, a return path portion 222 that overlaps the return path portion 212 in a plan view, and a connecting portion 223 that overlaps the connecting portion 213 in a plan view.

電流流入部21Aに流入した測定対象電流Iは、第1配線21を流れる第1電流I1と、スルーホール231を介して第2配線22に流れ込む第2電流I2と、に分配される。第1電流I1は、往路部211、連結部213、および復路部212を順に流れる。第2電流I2は、往路部221、連結部223、および復路部222を順に流れる。そして、2電流I2はスルーホール232を介して電流流出部21Bに流れ込み、第1電流I1と合成され、測定対象電流Iとなる。なお、電流流出部21Bに測定対象電流Iが流入し、電流流入部21Aから測定対象電流Iが流出することも可能である。その場合、第1電流I1および第2電流I2は、先述と逆方向に流れる。 The measurement target current I that has flowed into the current inflow unit 21A is distributed to a first current I1 that flows through the first wiring 21 and a second current I2 that flows into the second wiring 22 through the through hole 231. The first current I1 flows in this order through the outward path portion 211, the connecting portion 213, and the return path portion 212. The second current I2 flows in this order through the outward path portion 221 and the connecting portion 223, and the return path portion 222. Then, the two-current I2 flows into the current outflow portion 21B through the through hole 232 and is combined with the first current I1 to become the measurement target current I. It is also possible that the measurement target current I flows into the current outflow section 21B and the measurement target current I flows out from the current inflow section 21A. In that case, the first current I1 and the second current I2 flow in the opposite directions to those described above.

これにより、図9に示すように、往路部211ではy軸方向一方側へ流れる第1電流I1によりy軸一方側へ視て右回りの磁界M11が発生する。往路部221ではy軸方向一方側へ流れる第2電流I2によりy軸一方側へ視て右回りの磁界M12が発生する。復路部212ではy軸方向他方側へ流れる第1電流I1によりy軸一方側へ視て左回りの磁界M21が発生する。復路部222ではy軸方向他方側へ流れる第2電流I2によりy軸一方側へ視て左回りの磁界M22が発生する。 As a result, as shown in FIG. 9, in the outward path portion 211, the first current I1 flowing in one side in the y-axis direction generates a magnetic field M11 clockwise in the direction of one side in the y-axis. In the outward path portion 221, a right-handed magnetic field M12 is generated when viewed to one side of the y-axis by the second current I2 flowing to one side in the y-axis direction. In the return path portion 212, a counterclockwise magnetic field M21 is generated when viewed toward one side of the y-axis by the first current I1 flowing to the other side in the y-axis direction. In the return path portion 222, a counterclockwise magnetic field M22 is generated when viewed to one side of the y-axis due to the second current I2 flowing to the other side in the y-axis direction.

ここで、図11に示すように、第1磁界検出部11は、平面視において、往路部211のy軸方向両端位置間のy軸方向領域R211に配置され、且つ、平面視において、往路部221のy軸方向両端位置間のy軸方向領域R221に配置される。第2磁界検出部12は、平面視において、復路部212のy軸方向両端位置間のy軸方向領域R212に配置され、且つ、平面視において、復路部222のy軸方向両端位置間のy軸方向領域R222に配置される。図11では、y軸方向領域R211、R221、R212、R222ともにx軸方向に延びる2つの破線にy軸方向に挟まれる領域である。 Here, as shown in FIG. 11, the first magnetic field detection unit 11 is arranged in the y-axis direction region R211 between the positions of both ends in the y-axis direction of the outward path unit 211 in a plan view, and is arranged in the y-axis direction region R211 in a plan view. It is arranged in the y-axis direction region R221 between the positions of both ends in the y-axis direction of 221. The second magnetic field detection unit 12 is arranged in the y-axis direction region R212 between the positions of both ends of the return path portion 212 in the y-axis direction in a plan view, and y in the plan view between the positions of both ends of the return path portion 222 in the y-axis direction. It is arranged in the axial region R222. In FIG. 11, the y-axis direction regions R211, R221, R212, and R222 are all regions sandwiched in the y-axis direction by two broken lines extending in the x-axis direction.

これにより、第1磁界検出部11には、磁界M11による磁界(+b1)と、磁界M12による磁界(+b2)とが印加され、第2磁界検出部112には、磁界M21による磁界(−b1’)と、磁界M22による磁界(−b2’)とが印加される。b1とb1’、b2とb2’は、それぞれほぼ等しい。 As a result, a magnetic field (+ b1) due to the magnetic field M11 and a magnetic field (+ b2) due to the magnetic field M12 are applied to the first magnetic field detection unit 11, and a magnetic field (-b1') due to the magnetic field M21 is applied to the second magnetic field detection unit 112. ) And the magnetic field (−b2 ′) generated by the magnetic field M22. b1 and b1', b2 and b2' are almost equal, respectively.

従って、図2に示す構成により、第1磁界検出部11に印加される磁界(+b1、+b2)に応じたサンプル/ホールド信号S21が生成されるとともに、第2磁界検出部12に印加される磁界(−b1’、−b2’)に応じたサンプル/ホールド信号S22が生成される。これにより、測定対象電流Iの検出信号としての出力信号S40が生成される。 Therefore, according to the configuration shown in FIG. 2, the sample / hold signal S21 corresponding to the magnetic field (+ b1, + b2) applied to the first magnetic field detection unit 11 is generated, and the magnetic field applied to the second magnetic field detection unit 12 is generated. The sample / hold signal S22 corresponding to (-b1', -b2') is generated. As a result, the output signal S40 as the detection signal of the measurement target current I is generated.

このように本実施形態では、測定対象電流Iを分配した第1電流I1および第2電流I2のそれぞれにより発生する磁界を磁界センサ1に検出させることで、測定対象電流Iを検出可能としている。 As described above, in the present embodiment, the measurement target current I can be detected by causing the magnetic field sensor 1 to detect the magnetic fields generated by each of the first current I1 and the second current I2 to which the measurement target current I is distributed.

特に本実施形態では、プリント基板2における配線を2層構成としているので、測定対象電流Iを増加させても、同一層配線の幅を広げるよりもプリント基板2をコンパクト化できたり、同一層配線で厚みを厚くするよりもプリント基板2を安価にすることができる。 In particular, in the present embodiment, since the wiring on the printed circuit board 2 has a two-layer configuration, even if the measurement target current I is increased, the printed circuit board 2 can be made more compact than the width of the same layer wiring is widened, or the same layer wiring can be obtained. The printed circuit board 2 can be made cheaper than the thickness of the printed circuit board 2.

また、図8および図9に示す構成例では、第1配線21の幅W21と第2配線22の幅W22は同一とし、第1配線21の厚みt21と第2配線22の厚みt22は同一としている。さらに、第1配線21におけるスルーホール231との接続箇所からスルーホール232との接続箇所までの経路長L21(図11)は、第2配線22におけるスルーホール231との接続箇所からスルーホール232との接続箇所までの経路長L22(図11)と同一としている。 Further, in the configuration examples shown in FIGS. 8 and 9, the width W21 of the first wiring 21 and the width W22 of the second wiring 22 are the same, and the thickness t21 of the first wiring 21 and the thickness t22 of the second wiring 22 are the same. There is. Further, the path length L21 (FIG. 11) from the connection point with the through hole 231 in the first wiring 21 to the connection point with the through hole 232 is the through hole 232 from the connection point with the through hole 231 in the second wiring 22. It is the same as the path length L22 (FIG. 11) to the connection point of.

これにより、第1配線21と第2配線22を同一の導電性材により形成した場合、第1配線21のスルーホール231、232との接続箇所間の抵抗値(以下、第1抵抗値)は、第2配線22のスルーホール231、232との接続箇所間の抵抗値(以下、第2抵抗値)とほぼ同一となる。従って、測定対象電流Iは、第1電流I1と第2電流I2とに等分配される。 As a result, when the first wiring 21 and the second wiring 22 are formed of the same conductive material, the resistance value (hereinafter referred to as the first resistance value) between the connection points of the first wiring 21 with the through holes 231 and 232 becomes. , The resistance value between the connection points of the second wiring 22 with the through holes 231 and 232 (hereinafter referred to as the second resistance value) is substantially the same. Therefore, the measurement target current I is equally distributed to the first current I1 and the second current I2.

しかしながら、これに限らず、幅W21とW22を異ならせてもよいし、厚みt21とt22とを異ならせてもよいし、経路長L21とL22とを異ならせてもよい。図12は、第2配線22の経路長L22を第1配線21の経路長L21よりも長くした変形例を示す平面図である。または、第1配線21と第2配線22を異なる導電性材により形成してもよい。 However, the present invention is not limited to this, and the widths W21 and W22 may be different, the thicknesses t21 and t22 may be different, and the path lengths L21 and L22 may be different. FIG. 12 is a plan view showing a modified example in which the path length L22 of the second wiring 22 is made longer than the path length L21 of the first wiring 21. Alternatively, the first wiring 21 and the second wiring 22 may be formed of different conductive materials.

このようにすれば、第1抵抗値と第2抵抗値を調整することで、第1電流I1と第2電流I2との分配率を調整できる。 By doing so, the distribution ratio between the first current I1 and the second current I2 can be adjusted by adjusting the first resistance value and the second resistance value.

また、上記のように幅W21とW22とを異ならせることで、電流検出感度を調整できる。また、図9に示す第1配線21における往路部211と復路部212との間のx軸方向距離S1と、第2配線22における往路部221と復路部222との間のx軸方向距離S2と、を異ならせることでも、電流検出感度を調整できる。さらに、図9に示す磁界センサ1(すなわちプリント基板2のz軸方向一方側表面2S)と第1配線21との間のz軸方向距離Dz1と、磁界センサ1と第2配線22との間のz軸方向距離Dz2と、を調整することにより、電流検出感度を調整できる。 Further, the current detection sensitivity can be adjusted by making the widths W21 and W22 different as described above. Further, the x-axis direction distance S1 between the outward path portion 211 and the return path portion 212 in the first wiring 21 shown in FIG. 9 and the x-axis direction distance S2 between the outward path portion 221 and the return path portion 222 in the second wiring 22. The current detection sensitivity can also be adjusted by making them different. Further, between the z-axis direction distance Dz1 between the magnetic field sensor 1 (that is, the surface 2S on one side in the z-axis direction of the printed substrate 2) and the first wiring 21 shown in FIG. 9, and between the magnetic field sensor 1 and the second wiring 22. The current detection sensitivity can be adjusted by adjusting the z-axis direction distance Dz2.

<4.第2実施形態>
次に、本発明の第2実施形態について説明する。図13は、第2実施形態に係る電流検出装置5のz軸方向一方側から視た平面図である。
<4. Second Embodiment>
Next, a second embodiment of the present invention will be described. FIG. 13 is a plan view of the current detection device 5 according to the second embodiment as viewed from one side in the z-axis direction.

図13に示す電流検出装置5の先述した第1実施形態(図8)との相違点は、第2配線22に含まれる往路部221、復路部222、および連結部223の構成である。具体的には、平面視において、往路部211が電流経路の上流側よりy軸方向一方側へ延びて形成されるのに対し、往路部221は電流経路の上流側よりy軸方向他方側へ延びて形成される。また、平面視において、復路部212が電流経路の下流側よりy軸方向一方側へ延びて形成されるのに対し、復路部222は電流経路の下流側よりy軸方向他方側へ延びて形成される。連結部223は、往路部221のy軸方向他方側端と復路部222のy軸方向他方側端とを連結する。 The difference from the above-mentioned first embodiment (FIG. 8) of the current detection device 5 shown in FIG. 13 is the configuration of the outward path portion 221, the return path portion 222, and the connecting portion 223 included in the second wiring 22. Specifically, in a plan view, the outward path portion 211 is formed so as to extend from the upstream side of the current path to one side in the y-axis direction, whereas the outward path portion 221 is formed from the upstream side of the current path to the other side in the y-axis direction. It is extended and formed. Further, in a plan view, the return path portion 212 is formed so as to extend from the downstream side of the current path to one side in the y-axis direction, whereas the return path portion 222 is formed so as to extend from the downstream side of the current path to the other side in the y-axis direction. Will be done. The connecting portion 223 connects the other end of the outward path portion 221 in the y-axis direction and the other end of the return path portion 222 in the y-axis direction.

これにより、図14に示すように、第1磁界検出部11は、平面視において、往路部211のy軸方向両端位置間のy軸方向領域R211に配置される。第2磁界検出部12は、平面視において、復路部212のy軸方向両端位置間のy軸方向領域R212に配置される。図14では、y軸方向領域R211、R212ともにx軸方向に延びる2つの破線にy軸方向に挟まれる領域である。そして、第2配線22は、平面視において、y軸方向領域R211、R212とは重ならない。 As a result, as shown in FIG. 14, the first magnetic field detection unit 11 is arranged in the y-axis direction region R211 between the positions of both ends in the y-axis direction of the outward path unit 211 in a plan view. The second magnetic field detection unit 12 is arranged in the y-axis direction region R212 between the positions of both ends in the y-axis direction of the return path unit 212 in a plan view. In FIG. 14, both the y-axis direction regions R211 and R212 are regions sandwiched in the y-axis direction by two broken lines extending in the x-axis direction. The second wiring 22 does not overlap with the y-axis direction regions R211 and R212 in a plan view.

このようにすれば、往路部211および復路部212において第1電流I1により発生する磁界を第1磁界検出部11および第2磁界検出部12により検出させるとともに、往路部221および復路部222において第2電流I2により発生する磁界は第1磁界検出部11および第2磁界検出部12により検出させないようにすることができる。これにより、測定対象電流Iを増加させても、測定対象電流Iよりも少ない第1電流I1のみを磁界センサ1により検出させるので、磁界センサ1の飽和を回避できる。 In this way, the magnetic field generated by the first current I1 in the outward path section 211 and the return path section 212 is detected by the first magnetic field detection section 11 and the second magnetic field detection section 12, and the outward path section 221 and the return path section 222 are the second. The magnetic field generated by the two currents I2 can be prevented from being detected by the first magnetic field detection unit 11 and the second magnetic field detection unit 12. As a result, even if the measurement target current I is increased, only the first current I1 that is smaller than the measurement target current I is detected by the magnetic field sensor 1, so that saturation of the magnetic field sensor 1 can be avoided.

なお、磁界センサ1により検出される第1電流I1と、第1電流I1と第2電流I2の分配比率に基づき、測定対象電流Iを検出することが可能となる。第1配線21および第2配線22の各幅等のパラメータ調整により、第1抵抗値と第2抵抗値を調整することで、第1電流I1と第2電流I2との分配率を調整できることは、第1実施形態と同様である。 The measurement target current I can be detected based on the distribution ratio of the first current I1 and the first current I1 and the second current I2 detected by the magnetic field sensor 1. It is possible to adjust the distribution ratio between the first current I1 and the second current I2 by adjusting the first resistance value and the second resistance value by adjusting parameters such as the widths of the first wiring 21 and the second wiring 22. , The same as the first embodiment.

<5.第3実施形態>
本発明の第3実施形態は、第2実施形態の変形例である。図15は、第3実施形態に係る電流検出装置5のz軸方向一方側から視た平面図である。
<5. Third Embodiment>
The third embodiment of the present invention is a modification of the second embodiment. FIG. 15 is a plan view of the current detection device 5 according to the third embodiment as viewed from one side in the z-axis direction.

本実施形態では、プリント基板2に形成される配線は同一層の配線20Bであり、単層配線20Bは、分岐する第1配線2100と第2配線2200を含む。第1配線2100は、往路部211と復路部212を含む。第2配線2200は、往路部221と復路部222を含む。第1配線2100を第1電流I1が流れ、第2配線2200を第2電流I2が流れる。 In the present embodiment, the wiring formed on the printed circuit board 2 is the wiring 20B of the same layer, and the single-layer wiring 20B includes the first wiring 2100 and the second wiring 2200 that branch. The first wiring 2100 includes an outward path portion 211 and a return path portion 212. The second wiring 2200 includes an outward path portion 221 and a return path portion 222. The first current I1 flows through the first wiring 2100, and the second current I2 flows through the second wiring 2200.

図15に示すように、第1磁界検出部11は、平面視において、往路部211のy軸方向両端位置間のy軸方向領域R211に配置される。第2磁界検出部12は、平面視において、復路部212のy軸方向両端位置間のy軸方向領域R212に配置される。図15では、y軸方向領域R211、R212ともにx軸方向に延びる2つの破線にy軸方向に挟まれる領域である。そして、第2配線2200は、平面視において、y軸方向領域R211、R212とは重ならない。 As shown in FIG. 15, the first magnetic field detection unit 11 is arranged in the y-axis direction region R211 between the positions of both ends in the y-axis direction of the outward path unit 211 in a plan view. The second magnetic field detection unit 12 is arranged in the y-axis direction region R212 between the positions of both ends in the y-axis direction of the return path unit 212 in a plan view. In FIG. 15, both the y-axis direction regions R211 and R212 are regions sandwiched in the y-axis direction by two broken lines extending in the x-axis direction. The second wiring 2200 does not overlap with the y-axis direction regions R211 and R212 in a plan view.

このような第3実施形態によっても、第2実施形態と同様の作用効果を享受できる。 Even with such a third embodiment, the same effects as those of the second embodiment can be enjoyed.

<6.測定対象システム>
次に、先述した電流検出装置5を含めた測定対象システムの各種実施例について説明する。
<6. Measurement target system>
Next, various examples of the measurement target system including the above-mentioned current detection device 5 will be described.

図16は、第1実施例に係る測定対象システム1001の模式図である。図16に示す測定対象システム1001は、第1実施形態に係る電流検出装置5を含む。電源Eの正極端と負荷Zとの間の経路上に電流検出装置5を設ける。電流検出装置5は、電源Eの正極端から負荷Zへ流れる測定対象電流Iを検出する。 FIG. 16 is a schematic view of the measurement target system 1001 according to the first embodiment. The measurement target system 1001 shown in FIG. 16 includes the current detection device 5 according to the first embodiment. A current detection device 5 is provided on the path between the positive end of the power supply E and the load Z. The current detection device 5 detects the measurement target current I flowing from the positive end of the power source E to the load Z.

図17は、第2実施例に係る測定対象システム1002の模式図である。測定対象システム1002は、測定対象システム1001(図16)の変形例である。具体的には、往路部221と復路部222との間は連結部223により直接的に接続するが、往路部211と復路部212との間は図16のように連結部213により直接的に接続するのではなく、負荷Z2を介した連結部214で連結させる。これにより、第1電流I1は、往路部211から負荷Z2を介して復路部212へ流れ込む。 FIG. 17 is a schematic view of the measurement target system 1002 according to the second embodiment. The measurement target system 1002 is a modification of the measurement target system 1001 (FIG. 16). Specifically, the outward route portion 221 and the return route portion 222 are directly connected by the connecting portion 223, but the outward route portion 211 and the return route portion 212 are directly connected by the connecting portion 213 as shown in FIG. Instead of connecting, they are connected by the connecting portion 214 via the load Z2. As a result, the first current I1 flows from the outward path portion 211 to the return path portion 212 via the load Z2.

なお、上記第2実施例の変形例として、往路部221と復路部222との間を負荷を介した連結部によって連結してもよい。 As a modification of the second embodiment, the outward path portion 221 and the return path portion 222 may be connected by a connecting portion via a load.

図18は、第3実施例に係る測定対象システム1003の模式図である。図18に示す測定対象システム1003は、第2実施形態に係る電流検出装置5の変形例を含む。電源Eの正極端と負荷Z1との間の経路上に電流検出装置5を設ける。往路部221と復路部222との間は連結部223で直接的に連結するが、往路部211と復路部212との間は負荷Z2を介した連結部214で連結する。これにより、第1電流I1は、往路部211から負荷Z2を介して復路部212へ流れ込む。 FIG. 18 is a schematic view of the measurement target system 1003 according to the third embodiment. The measurement target system 1003 shown in FIG. 18 includes a modification of the current detection device 5 according to the second embodiment. A current detection device 5 is provided on the path between the positive end of the power supply E and the load Z1. The outbound route portion 221 and the inbound route portion 222 are directly connected by a connecting portion 223, but the outbound route portion 211 and the inbound route portion 212 are connected by a connecting portion 214 via a load Z2. As a result, the first current I1 flows from the outward path portion 211 to the return path portion 212 via the load Z2.

なお、上記第3実施例の変形例として、往路部221と復路部222との間を負荷を介した連結部によって連結してもよい。 As a modification of the third embodiment, the outward path portion 221 and the return path portion 222 may be connected by a connecting portion via a load.

<7.その他>
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明の趣旨の範囲内であれば、実施形態は種々の変更が可能である。
<7. Others>
Although the embodiments of the present invention have been described above, the embodiments can be changed in various ways within the scope of the gist of the present invention.

例えば、プリント基板2において、3層目以降の配線を追加してもよい。この場合、3層目以降の配線は、第1実施形態の第2配線22と同様であってもよいし、第2実施形態の第2配線22と同様であってもよい。 For example, in the printed circuit board 2, wiring of the third layer or later may be added. In this case, the wiring of the third and subsequent layers may be the same as the second wiring 22 of the first embodiment, or may be the same as the second wiring 22 of the second embodiment.

本発明は、例えば、産業機器用の電流検出装置に利用することができる。 The present invention can be used, for example, in a current detection device for industrial equipment.

1 磁界センサ
11 第1磁界検出部
12 第2磁界検出部
13 MI(磁気インピーダンス)効果素子
141 第1サンプル/ホールド部
142 第2サンプル/ホールド部
151 第1アンプ部
152 第2アンプ部
16 減算部
17 発振部
18 パルス駆動部
2 プリント基板
21 第1配線
21A 電流流入部
21B 電流流出部
211 往路部
212 復路部
213、214 連結部
22 第2配線
221 往路部
222 復路部
223 連結部
231、232 スルーホール
2100 第1配線
2200 第2配線
5 電流検出装置
1001〜1003 測定対象システム
E 電源
Z、Z1、Z2 負荷
1 Magnetic field sensor 11 1st magnetic field detection unit 12 2nd magnetic field detection unit 13 MI (magnetic impedance) effect element 141 1st sample / hold unit 142 2nd sample / hold unit 151 1st amplifier unit 152 2nd amplifier unit 16 Subtraction unit 17 Oscillating part 18 Pulse drive part 2 Printed board 21 1st wiring 21A Current inflow part 21B Current outflow part 211 Outward path part 212 Return path section 213, 214 Connecting section 22 2nd wiring 221 Outward path section 222 Return path section 223 Connecting section 231, 232 Through Hall 2100 1st wiring 2200 2nd wiring 5 Current detector 1001-1003 Measurement target system E Power supply Z, Z1, Z2 Load

Claims (9)

第1方向、第2方向および第3方向は互いに直交するとして、
前記第1方向および前記第2方向を含む平面状に拡がり、前記第3方向に厚みを有する基板と、
前記基板の前記第3方向一方側表面に配置される磁界センサと、
を備え、
前記磁界センサは、第1磁界検出部と、第2磁界検出部と、を有し、
前記基板は、第1配線と、前記第1配線より前記第3方向他方側に配置される第2配線と、を有し、
前記第1配線の一端部と前記第2配線の一端部とは、電気的に接続され、
前記第1配線の他端部と前記第2配線の他端部とは、電気的に接続され、
前記第1配線は、前記第2方向に延びる第1往路部と、前記第2方向に延びる第1復路部と、を含み、
前記第1復路部は、前記第1往路部に対して前記第1方向一方側に配置され、前記第1往路部と電気的に接続され、
前記第2配線は、前記第2方向に延びる第2往路部と、前記第2方向に延びる第2復路部と、を含み、
前記第2復路部は、前記第2往路部に対して前記第1方向一方側に配置され、前記第2往路部と電気的に接続され、
前記第1磁界検出部は、前記第1方向および前記第2方向を含む平面の平面視において、前記第1往路部の前記第2方向両端位置間の第1の第2方向領域に配置され、且つ、前記平面視において、前記第2往路部の前記第2方向両端位置間の第2の第2方向領域に配置され、
前記第2磁界検出部は、前記平面視において、前記第1復路部の前記第2方向両端位置間の第3の第2方向領域に配置され、且つ、前記平面視において、前記第2復路部の前記第2方向両端位置間の第4の第2方向領域に配置される、
電流検出装置。
Assuming that the first direction, the second direction, and the third direction are orthogonal to each other,
A substrate that spreads in a plane including the first direction and the second direction and has a thickness in the third direction.
A magnetic field sensor arranged on the surface of the substrate on one side in the third direction,
With
The magnetic field sensor has a first magnetic field detection unit and a second magnetic field detection unit.
The substrate has a first wiring and a second wiring arranged on the other side of the first wiring in the third direction.
One end of the first wiring and one end of the second wiring are electrically connected to each other.
The other end of the first wiring and the other end of the second wiring are electrically connected.
The first wiring includes a first outward path portion extending in the second direction and a first return path portion extending in the second direction.
The first return path portion is arranged on one side in the first direction with respect to the first outward path portion, and is electrically connected to the first outward path portion.
The second wiring includes a second outward path portion extending in the second direction and a second return path portion extending in the second direction.
The second return path portion is arranged on one side of the first direction with respect to the second outward path portion, and is electrically connected to the second outward path portion.
The first magnetic field detection unit is arranged in a first second direction region between the positions of both ends of the second direction of the first outward path portion in a plan view of a plane including the first direction and the second direction. Moreover, in the plan view, it is arranged in the second second direction region between the positions of both ends of the second direction of the second outward path portion.
The second magnetic field detection unit is arranged in a third second direction region between the positions of both ends of the first return path portion in the second direction in the plan view, and the second return path portion is arranged in the plan view. Is arranged in the fourth second direction region between the positions of both ends in the second direction of the above.
Current detector.
前記第1往路部の幅および前記第1復路部の幅は、同じ第1幅であり、
前記第2往路部の幅および前記第2復路部の幅は、同じ第2幅であり、
前記第1幅と前記第2幅と、は異なっている、請求項1に記載の電流検出装置。
The width of the first outward path portion and the width of the first return path portion are the same first width.
The width of the second outward path portion and the width of the second return path portion are the same second width.
The current detection device according to claim 1, wherein the first width and the second width are different.
前記第1往路部と前記第1復路部との間の前記第1方向距離と、前記第2往路部と前記第2復路部との間の前記第1方向距離と、は異なっている、請求項1または請求項2に記載の電流検出装置。 Claims that the first-direction distance between the first outward path portion and the first return path portion and the first-direction distance between the second outward path portion and the second return path portion are different. The current detection device according to claim 1 or 2. 前記第1往路部と前記第1復路部との間と、前記第2往路部と前記第2復路部との間との少なくとも一方は、負荷を介した連結部により連結される、請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の電流検出装置。 1. Claim 1 in which at least one of the first outward path portion and the first return path portion and between the second outward path portion and the second return path portion is connected by a connection portion via a load. The current detection device according to any one of claims 3. 第1方向、第2方向および第3方向は互いに直交するとして、
前記第1方向および前記第2方向を含む平面状に拡がり、前記第3方向に厚みを有する基板と、
前記基板の前記第3方向一方側表面に配置される磁界センサと、
を備え、
前記磁界センサは、第1磁界検出部と、第2磁界検出部と、を有し、
前記基板は、第1配線と、第2配線と、を有し、
前記第1配線の一端部と前記第2配線の一端部とは、電気的に接続され、
前記第1配線の他端部と前記第2配線の他端部とは、電気的に接続され、
前記第1配線は、前記第2方向に延びる第1往路部と、前記第2方向に延びる第1復路部と、を含み、
前記第1復路部は、前記第1往路部に対して前記第1方向一方側に配置され、前記第1往路部と電気的に接続され、
前記第1磁界検出部は、前記第1方向および前記第2方向を含む平面の平面視において、前記第1往路部の前記第2方向両端位置間の第1の第2方向領域に配置され、
前記第2磁界検出部は、前記平面視において、前記第1復路部の前記第2方向両端位置間の第2の第2方向領域に配置され、
前記第2配線は、前記平面視において、前記第1の第2方向領域および前記第2の第2方向領域ともに重ならない、
電流検出装置。
Assuming that the first direction, the second direction, and the third direction are orthogonal to each other,
A substrate that spreads in a plane including the first direction and the second direction and has a thickness in the third direction.
A magnetic field sensor arranged on the surface of the substrate on one side in the third direction,
With
The magnetic field sensor has a first magnetic field detection unit and a second magnetic field detection unit.
The substrate has a first wiring and a second wiring.
One end of the first wiring and one end of the second wiring are electrically connected to each other.
The other end of the first wiring and the other end of the second wiring are electrically connected.
The first wiring includes a first outward path portion extending in the second direction and a first return path portion extending in the second direction.
The first return path portion is arranged on one side in the first direction with respect to the first outward path portion, and is electrically connected to the first outward path portion.
The first magnetic field detection unit is arranged in a first second direction region between the positions of both ends of the second direction of the first outbound route unit in a plan view of a plane including the first direction and the second direction.
The second magnetic field detection unit is arranged in the second second direction region between the positions of both ends of the second direction of the first return path unit in the plan view.
The second wiring does not overlap with the first second direction region and the second second direction region in the plan view.
Current detector.
前記第1往路部と前記第1復路部との間は、負荷を介した連結部により連結される、請求項5に記載の電流検出装置。 The current detecting device according to claim 5, wherein the first outward path portion and the first return path portion are connected by a connecting portion via a load. 前記第1配線と前記第2配線は、同一層の配線に含まれる、請求項5または請求項6に記載の電流検出装置。 The current detection device according to claim 5 or 6, wherein the first wiring and the second wiring are included in wiring of the same layer. 前記第1配線および前記第2配線のそれぞれの幅、厚み、経路長、および材質の少なくともいずれかは異なっている、請求項1から請求項7のいずれか1項に記載の電流検出装置。 The current detection device according to any one of claims 1 to 7, wherein at least one of the width, thickness, path length, and material of the first wiring and the second wiring is different. 前記第1磁界検出部および前記第2磁界検出部は、MI(磁気インピーダンス)効果素子を用いて磁界を検出する、請求項1から請求項8のいずれか1項に記載の電流検出装置。 The current detection device according to any one of claims 1 to 8, wherein the first magnetic field detection unit and the second magnetic field detection unit detect a magnetic field using an MI (magnetic impedance) effect element.
JP2019213352A 2019-11-26 2019-11-26 Current detector Pending JP2021085711A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2019213352A JP2021085711A (en) 2019-11-26 2019-11-26 Current detector

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2019213352A JP2021085711A (en) 2019-11-26 2019-11-26 Current detector

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2021085711A true JP2021085711A (en) 2021-06-03

Family

ID=76087367

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2019213352A Pending JP2021085711A (en) 2019-11-26 2019-11-26 Current detector

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2021085711A (en)

Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0432078U (en) * 1990-07-12 1992-03-16
JP2000502448A (en) * 1995-12-20 2000-02-29 サンドストランド コーポレイション Current detector
JP2001284823A (en) * 2000-02-22 2001-10-12 Daimlerchrysler Ag Multilayer device of electric conductor with integrated electricity detecting part
JP2004354106A (en) * 2003-05-27 2004-12-16 Mitsubishi Electric Corp Current detector
JP2011145273A (en) * 2010-01-15 2011-07-28 Kohshin Electric Corp Current sensor
WO2015133621A1 (en) * 2014-03-07 2015-09-11 日立金属株式会社 Amperage detector
WO2017089048A1 (en) * 2015-11-23 2017-06-01 Zf Friedrichshafen Ag Device for high voltage high and medium current measurement
JP2017129455A (en) * 2016-01-20 2017-07-27 ローム株式会社 Current sensor
WO2017187733A1 (en) * 2016-04-27 2017-11-02 アルプス電気株式会社 Current sensor
JP2018096795A (en) * 2016-12-12 2018-06-21 株式会社デンソー Current sensor
JP6516058B1 (en) * 2018-10-22 2019-05-22 Tdk株式会社 Current sensor and method of manufacturing bus bar used therefor

Patent Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0432078U (en) * 1990-07-12 1992-03-16
JP2000502448A (en) * 1995-12-20 2000-02-29 サンドストランド コーポレイション Current detector
JP2001284823A (en) * 2000-02-22 2001-10-12 Daimlerchrysler Ag Multilayer device of electric conductor with integrated electricity detecting part
JP2004354106A (en) * 2003-05-27 2004-12-16 Mitsubishi Electric Corp Current detector
JP2011145273A (en) * 2010-01-15 2011-07-28 Kohshin Electric Corp Current sensor
WO2015133621A1 (en) * 2014-03-07 2015-09-11 日立金属株式会社 Amperage detector
WO2017089048A1 (en) * 2015-11-23 2017-06-01 Zf Friedrichshafen Ag Device for high voltage high and medium current measurement
JP2017129455A (en) * 2016-01-20 2017-07-27 ローム株式会社 Current sensor
WO2017187733A1 (en) * 2016-04-27 2017-11-02 アルプス電気株式会社 Current sensor
JP2018096795A (en) * 2016-12-12 2018-06-21 株式会社デンソー Current sensor
JP6516058B1 (en) * 2018-10-22 2019-05-22 Tdk株式会社 Current sensor and method of manufacturing bus bar used therefor

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US10613120B2 (en) Current measurement device
JP2001013231A (en) Magnetic sensor formed on semiconductor substrate
JP2002318250A (en) Current detection device and overload current protection device using the same
JPH0792199A (en) Current sensor
WO2018190261A1 (en) Magnetic sensor
JP2011149827A (en) Energization information measuring device
JPWO2011118184A1 (en) Method for estimating the amount of current by detecting the magnetic field generated from the current
JP2015137892A (en) Current detection structure
JP2008216230A (en) Current sensor
JP2007052018A (en) Magnetometer for torque sensor
JP2009186433A (en) Eddy current sample measurement method, eddy current sensor, and eddy current sample measurement system
JP4529783B2 (en) Magnet impedance sensor element
JP2000228323A (en) Rogowskii coil
JP2021085711A (en) Current detector
JP6394740B2 (en) Magnetic field detector
JP2010286415A (en) Current sensor unit
JP2005055326A (en) Conductor current measurement method and magnetic field sensor for measuring conductor current
JP2019219294A (en) Magnetic sensor
JP2021085712A (en) Current detector
JP6390709B2 (en) Current detection device and current detection method
JP2005156348A (en) Position detection device
JP2009133783A (en) Current sensor
KR102298349B1 (en) Direct current measuring method and apparatus
JP2013053914A (en) Current measuring device
JP2018004316A (en) Position sensor

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20220926

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20230523

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20230606

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20230803

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20231031