JP2018163440A - メモリシステム - Google Patents
メモリシステム Download PDFInfo
- Publication number
- JP2018163440A JP2018163440A JP2017059222A JP2017059222A JP2018163440A JP 2018163440 A JP2018163440 A JP 2018163440A JP 2017059222 A JP2017059222 A JP 2017059222A JP 2017059222 A JP2017059222 A JP 2017059222A JP 2018163440 A JP2018163440 A JP 2018163440A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- data
- address
- memory
- controller
- column
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000015654 memory Effects 0.000 title claims abstract description 196
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 49
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 16
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 description 11
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 8
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 8
- 230000006870 function Effects 0.000 description 5
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 4
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 4
- 230000004044 response Effects 0.000 description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- 101100481703 Arabidopsis thaliana TMK2 gene Proteins 0.000 description 3
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 3
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 description 2
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 2
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 2
- 101001105315 Bacillus subtilis (strain 168) 50S ribosomal protein L17 Proteins 0.000 description 1
- 101000682328 Bacillus subtilis (strain 168) 50S ribosomal protein L18 Proteins 0.000 description 1
- 101000592939 Bacillus subtilis (strain 168) 50S ribosomal protein L24 Proteins 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 1
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C8/00—Arrangements for selecting an address in a digital store
- G11C8/16—Multiple access memory array, e.g. addressing one storage element via at least two independent addressing line groups
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
- G06F12/00—Accessing, addressing or allocating within memory systems or architectures
- G06F12/02—Addressing or allocation; Relocation
- G06F12/0207—Addressing or allocation; Relocation with multidimensional access, e.g. row/column, matrix
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
- G06F12/00—Accessing, addressing or allocating within memory systems or architectures
- G06F12/02—Addressing or allocation; Relocation
- G06F12/0223—User address space allocation, e.g. contiguous or non contiguous base addressing
- G06F12/023—Free address space management
- G06F12/0238—Memory management in non-volatile memory, e.g. resistive RAM or ferroelectric memory
- G06F12/0246—Memory management in non-volatile memory, e.g. resistive RAM or ferroelectric memory in block erasable memory, e.g. flash memory
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
- G06F13/00—Interconnection of, or transfer of information or other signals between, memories, input/output devices or central processing units
- G06F13/14—Handling requests for interconnection or transfer
- G06F13/16—Handling requests for interconnection or transfer for access to memory bus
- G06F13/1668—Details of memory controller
- G06F13/1689—Synchronisation and timing concerns
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C16/00—Erasable programmable read-only memories
- G11C16/02—Erasable programmable read-only memories electrically programmable
- G11C16/06—Auxiliary circuits, e.g. for writing into memory
- G11C16/08—Address circuits; Decoders; Word-line control circuits
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
- G06F2212/00—Indexing scheme relating to accessing, addressing or allocation within memory systems or architectures
- G06F2212/10—Providing a specific technical effect
- G06F2212/1032—Reliability improvement, data loss prevention, degraded operation etc
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
- G06F2212/00—Indexing scheme relating to accessing, addressing or allocation within memory systems or architectures
- G06F2212/72—Details relating to flash memory management
- G06F2212/7201—Logical to physical mapping or translation of blocks or pages
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
- G06F2212/00—Indexing scheme relating to accessing, addressing or allocation within memory systems or architectures
- G06F2212/72—Details relating to flash memory management
- G06F2212/7208—Multiple device management, e.g. distributing data over multiple flash devices
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Read Only Memory (AREA)
- Memory System (AREA)
Abstract
Description
第1実施形態に係るメモリシステムについて説明する。以下では、半導体記憶装置としてNAND型フラッシュメモリを備えたメモリシステムを例に挙げて説明する。
1.1.1 メモリシステムの全体構成について
まず、本実施形態に係るメモリシステムの大まかな全体構成について、図1を用いて説明する。
引き続き、図1を用いてコントローラ200の構成の詳細について説明する。図1に示すようにコントローラ200は、ホストインターフェース回路210、内蔵メモリ(RAM)220、プロセッサ(CPU)230、バッファメモリ240、NANDインターフェース回路250、及びECC(Error Checking and Correcting)回路260を備えている。
1.1.3.1 全体構成について
次に、NAND型フラッシュメモリ100の構成について、図2を用いて説明する。図2はNAND型フラッシュメモリ100のブロック図である。
次に、上記メモリセルアレイ116の構成について、図3を用いて説明する。図3は、メモリセルアレイ116に含まれる複数のブロックのいずれかの回路図である。
次に、カラムの概念と、センスアンプモジュール118及びデータレジスタ119の構成について、図4を用いて説明する。図4は、センスアンプモジュール118及びデータレジスタ119のブロック図である。
次に、論理アドレスと物理アドレスの概念について図5を用いて説明する。図5は、論理アドレス空間とブロックBLKとの関係を示す概念図である。
次に、本実施形態に係るデータの読み出し動作について説明する。図6は、本実施形態に係るメモリシステム1におけるデータ読み出し時のホスト機器300、コントローラ200、及びNAND型フラッシュメモリ100の動作を示すフローチャートである。
本実施形態によれば、メモリシステムの動作信頼性を向上出来る。本効果につき、以下説明する。
次に、第2実施形態に係るメモリシステムについて説明する。本実施形態は、上記第1実施形態において、NAND型フラッシュメモリ100のデータレジスタ119の動作に関するものである。以下では、第1実施形態と異なる点についてのみ説明する。
本実施形態に係るデータの読み出し時におけるNAND型フラッシュメモリ100の動作につき、図11を用いて説明する。図11は読み出し時における、特にカラム系の動作に着目したフローチャートであり、第1実施形態の図6で説明したステップS14及びS15に相当する。
本実施形態に係るNAND型フラッシュメモリ100によれば、カラムアドレスCAは、最終アドレスに達した後、信号REn/REに同期して先頭アドレスに戻る。これにより、第1実施形態で説明した方法を適用した場合であっても、読み出し開始カラムを自由に設定出来る。
次に、第3実施形態に係るメモリシステムについて説明する。本実施形態は、コントローラ200において、不要なデータを破棄する一具体例に関するものである。以下では、第1及び第2実施形態と異なる点についてのみ説明する。
図13は、NAND型フラッシュメモリ100及びコントローラ200における、データ読み出し時の入出力系統のブロック構成を示している。
上記第1及び第2実施形態には、例えば本実施形態で説明した構成が適用出来る。なお、スイッチSW1を廃しても良い。
上記のように、本実施形態に係るメモリシステムは、半導体メモリ(100)と、コントローラ(200)とを備える。半導体メモリ(100)は、データを保持可能である。コントローラ(200)は、ホスト(300)から第1論理アドレスを受信し、第1論理アドレスに対応する第1物理アドレス(CA9 in 図8)と異なる第2物理アドレス(CA5 in 図8)を半導体メモリ(100)に発行して、該半導体メモリからデータを読み出す。
(1)読み出し動作では、メモリセルトランジスタMTが2ビットのデータを保持し、その閾値を電圧の低いものからEレベル、Aレベル、Bレベル、及びCレベルとすると、
Aレベルの読み出し動作に選択されたワード線に印加される電圧は、例えば0V〜0.55Vの間である。これに限定されることなく、0.1V〜0.24V、0.21V〜0.31V、0.31V〜0.4V、0.4V〜0.5V、0.5V〜0.55Vいずれかの間にしてもよい。
Bレベルの読み出し動作に選択されたワード線に印加される電圧は、例えば1.5V〜2.3Vの間である。これに限定されることなく、1.65V〜1.8V、1.8V〜1.95V、1.95V〜2.1V、2.1V〜2.3Vいずれかの間にしてもよい。
Cレベルの読み出し動作に選択されたワード線に印加される電圧は、例えば3.0V〜4.0Vの間である。これに限定されることなく、3.0V〜3.2V、32V〜3.4V、3.4V〜3.5V、3.5V〜3.6V、3.6V〜4.0Vいずれかの間にしてもよい。
読み出し動作の時間(tR)としては、例えば25μs〜38μs、38μs〜70μs、70μs〜80μsの間にしてもよい。
(2)書き込み動作は、プログラム動作とベリファイ動作を含む。書き込み動作では、
プログラム動作時に選択されたワード線に最初に印加される電圧は、例えば13.7V〜14.3Vの間である。これに限定されることなく、例えば13.7V〜14.0V、14.0V〜14.6Vいずれかの間としてもよい。
奇数番目のワード線を書き込む際の、選択されたワード線に最初に印加される電圧と、偶数番目のワード線を書き込む際の、選択されたワード線に最初に印加される電圧を変えてもよい。
プログラム動作をISPP方式(Incremental Step Pulse Program)としたとき、ステップアップの電圧として、例えば0.5V程度が挙げられる。
非選択のワード線に印加される電圧としては、例えば6.0V〜7.3Vの間としてもよい。この場合に限定されることなく、例えば7.3V〜8.4Vの間としてもよく、6.0V以下としてもよい。
非選択のワード線が奇数番目のワード線であるか、偶数番目のワード線であるかで、印加するパス電圧を変えてもよい。
(3)消去動作では、
半導体基板上部に形成され、かつ、上記メモリセルが上方に配置されたウェルに最初に印加する電圧は、例えば12V〜13.6Vの間である。この場合に限定されることなく、例えば13.6V〜14.8V、14.8V〜19.0V、19.0V〜19.8V、19.8V〜21Vの間であってもよい。
消去動作の時間(tErase)としては、例えば3000μs〜4000μs、4000μs〜5000μs、4000μs〜9000μsの間にしてもよい。
(4)メモリセルの構造は、下記のような構造であっても良い。すなわち、
半導体基板(シリコン基板)上に膜厚が4〜10nmのトンネル絶縁膜を介して配置された電荷蓄積層を有している。この電荷蓄積層は膜厚が2〜3nmのSiN、またはSiONなどの絶縁膜と膜厚が3〜8nmのポリシリコンとの積層構造にすることができる。また、ポリシリコンにはRuなどの金属が添加されていても良い。電荷蓄積層の上には絶縁膜を有している。この絶縁膜は、例えば、膜厚が3〜10nmの下層High−k膜と膜厚が3〜10nmの上層High−k膜に挟まれた膜厚が4〜10nmのシリコン酸化膜を有している。High−k膜はHfOなどが挙げられる。また、シリコン酸化膜の膜厚はHigh−k膜の膜厚よりも厚くすることができる。絶縁膜上には膜厚が3〜10nmの仕事関数調整用の材料を介して膜厚が30nm〜70nmの制御電極が形成されている。ここで仕事関数調整用の材料はTaOなどの金属酸化膜、TaNなどの金属窒化膜である。制御電極にはWなどを用いることができる。
また、メモリセル間にはエアギャップを形成することができる。
100…NAND型フラッシュメモリ、110…入出力回路、111…ロジック回路、112、113、119…レジスタ、114…シーケンサ、115…電圧発生回路、116…メモリセルアレイ、117…ロウデコーダ、118…センスアンプモジュール、120…カラムデコーダ、121…NANDストリング、200…コントローラ、210、250…インターフェース回路、220、240…メモリ、230…プロセッサ、260…ECC回路、300…ホスト機器
Claims (13)
- データを保持可能な半導体メモリと、
ホストから第1論理アドレスを受信し、該第1論理アドレスに対応する第1物理アドレスと異なる第2物理アドレスを前記半導体メモリに発行して、該半導体メモリからデータを読み出すコントローラと
を具備するメモリシステム。 - 前記半導体メモリは、ロウ及びカラムに関連付けられた複数のメモリセルを含み、
前記第2物理アドレスは、前記第1物理アドレスに対してカラムアドレスをシフトさせたアドレスに対応する、請求項1記載のメモリシステム。 - 前記半導体メモリは、複数のメモリセルを含むメモリセルアレイを備え、前記メモリセルアレイからデータはページ単位で読み出され、
前記コントローラは、前記第1論理アドレスと前記第1物理アドレスとの関係を保持するテーブルを備え、該テーブルに基づいて前記受信した第1論理アドレスを前記第1物理アドレスに変換し、
前記第2物理アドレスは、前記カラムアドレスを前記ページにおける先頭カラム側にシフトさせたアドレスに対応する、請求項2記載のメモリシステム。 - 前記半導体メモリは、複数のメモリセルを含むメモリセルアレイを備え、前記コントローラから第1命令と前記第1物理アドレスとを受信すると、該メモリセルアレイからページ単位でデータを読み出し、
前記第1命令の後に第1クロックを前記コントローラから受信する度に、前記第2物理アドレスにおけるカラムアドレスから順番に、前記ページサイズ未満の単位で読み出しデータを前記コントローラへ転送し、
転送すべきデータに対応する前記カラムアドレスが最終アドレスに達した後に更に前記第1クロックを受信した際には、先頭カラムアドレスに対応するデータを前記コントローラへ転送する、請求項1または2記載のメモリシステム。 - 前記半導体メモリは、第2クロックと共に、読み出しデータを前記コントローラへ送信し、
前記コントローラは、前記第2クロックと前記読み出しデータを受信する受信回路と、
前記受信回路から前記読み出しデータを受信するバッファ回路と
を備え、前記第1命令に対応する前記第2クロックの最初の複数サイクルに対応する前記読み出しデータは前記バッファ回路に転送されず、前記複数サイクル後の前記第2クロックに対応する前記読み出しデータが前記バッファ回路に転送される、請求項4記載のメモリシステム。 - 前記第2クロックの前記最初の複数サイクルは、前記第1物理アドレスと前記第2物理アドレスとの相違に対応する、請求項5のメモリシステム。
- 前記半導体メモリは、前記第1クロックに基づいて前記第2クロックを生成する、請求項5または6記載のメモリシステム。
- データを保持可能な半導体メモリと、
前記半導体メモリから前記データを読み出し可能なコントローラと
を具備し、前記コントローラは、ホスト機器から受信した第1論理アドレスに従って前記半導体メモリに第1データを書き込んだ直後に、前記第1論理アドレスに従った読み出し命令を前記半導体メモリに発行した際、前記半導体メモリからは前記第1データと異なる第2データが読み出される、メモリシステム。 - 前記第2データは、第3データと、前記第3データに後続する第1データとを含む、請求項8記載のメモリシステム。
- 前記コントローラは、前記第3データを破棄する、請求項9記載のメモリシステム。
- 前記半導体メモリは、ロウ及びカラムに関連付けられた複数のメモリセルを含み、
前記第1論理アドレスに従った書き込み動作は、第1カラムを基準に実行され、
前記第1論理アドレスに従った読み出し動作は、前記第1カラムと異なる第2カラムを基準に実行される、請求項9乃至10いずれか1項記載のメモリシステム。 - 前記半導体メモリは、複数のメモリセルを含むメモリセルアレイを備え、前記メモリセルアレイからデータはページ単位で読み出され、
前記コントローラは、前記第1論理アドレスと第1物理アドレスとの関係を保持するテーブルを備え、
前記書き込み動作時には、前記受信した第1論理アドレスを前記テーブルに基づいて前記第1物理アドレスに変換し、該第1物理アドレスに対応する領域にデータを書き込むよう、前記半導体メモリに命令し、
前記読み出し動作時には、前記受信した第1論理アドレスを前記テーブルに基づいて前記第1物理アドレスに変換し、更にカラムアドレスが前記ページにおける先頭カラム側にシフトするように、前記第1物理アドレスを第2物理アドレスに変換し、該第2物理アドレスに対応する領域からデータを読み出すよう、前記半導体メモリに命令する、請求項11記載のメモリシステム。 - 半導体メモリは複数のチップを含み、同一のバスにより前記コントローラに接続される、請求項1乃至12いずれか1項記載のメモリシステム。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017059222A JP6779821B2 (ja) | 2017-03-24 | 2017-03-24 | メモリシステム及びデータの読み出し方法 |
US15/693,410 US10236044B2 (en) | 2017-03-24 | 2017-08-31 | Memory system |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017059222A JP6779821B2 (ja) | 2017-03-24 | 2017-03-24 | メモリシステム及びデータの読み出し方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018163440A true JP2018163440A (ja) | 2018-10-18 |
JP6779821B2 JP6779821B2 (ja) | 2020-11-04 |
Family
ID=63582837
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017059222A Active JP6779821B2 (ja) | 2017-03-24 | 2017-03-24 | メモリシステム及びデータの読み出し方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10236044B2 (ja) |
JP (1) | JP6779821B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPWO2021049033A1 (ja) * | 2019-09-13 | 2021-03-18 | ||
JP7576449B2 (ja) | 2020-12-14 | 2024-10-31 | キオクシア株式会社 | メモリシステム |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10740188B2 (en) * | 2018-12-07 | 2020-08-11 | Winbond Electronics Corp. | Volatile memory device and method for efficient bulk data movement, backup operation in the volatile memory device |
JP2020123412A (ja) * | 2019-01-30 | 2020-08-13 | キオクシア株式会社 | 半導体記憶装置 |
KR20210062499A (ko) * | 2019-11-21 | 2021-05-31 | 에스케이하이닉스 주식회사 | 반도체 메모리 장치 및 그 동작 방법 |
US11487446B2 (en) * | 2020-12-03 | 2022-11-01 | Western Digital Technologies, Inc. | Overhead reduction in data transfer protocol for NAND memory |
US11586384B2 (en) | 2021-02-16 | 2023-02-21 | Western Digital Technologies, Inc. | Overhead reduction in data transfer protocol for data storage devices |
CN115843379A (zh) | 2021-07-21 | 2023-03-24 | 美光科技公司 | 用来改进顺序存储器命令性能的存储器命令聚合 |
CN113805817B (zh) * | 2021-10-09 | 2024-09-24 | 深圳百瑞互联技术有限公司 | 增强flash存储器随机读写能力的方法、装置、系统及介质 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0498342A (ja) * | 1990-08-09 | 1992-03-31 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体記憶装置 |
JP2001357689A (ja) * | 2001-06-21 | 2001-12-26 | Toshiba Corp | 不揮発性半導体記憶装置 |
JP2008299930A (ja) * | 2007-05-30 | 2008-12-11 | Mega Chips Corp | 半導体記憶装置 |
JP2010522374A (ja) * | 2007-03-20 | 2010-07-01 | アドバンスト・マイクロ・ディバイシズ・インコーポレイテッド | 非eccコンポーネントにおけるeccの実装 |
US20140032815A1 (en) * | 2012-07-26 | 2014-01-30 | Micron Technology, Inc. | Methods and apparatuses for calibrating data sampling points |
Family Cites Families (40)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7190617B1 (en) * | 1989-04-13 | 2007-03-13 | Sandisk Corporation | Flash EEprom system |
US6347051B2 (en) * | 1991-11-26 | 2002-02-12 | Hitachi, Ltd. | Storage device employing a flash memory |
US5943283A (en) * | 1997-12-05 | 1999-08-24 | Invox Technology | Address scrambling in a semiconductor memory |
US7259989B2 (en) * | 2004-09-03 | 2007-08-21 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Non-volatile memory device |
JP2007133683A (ja) * | 2005-11-10 | 2007-05-31 | Sony Corp | メモリシステム |
US7793036B2 (en) * | 2007-05-30 | 2010-09-07 | Intel Corporation | Method and arrangements for utilizing NAND memory |
US7916536B2 (en) * | 2007-07-26 | 2011-03-29 | Micron Technology, Inc. | Programming based on controller performance requirements |
JP5365336B2 (ja) * | 2009-05-01 | 2013-12-11 | ソニー株式会社 | メモリ制御装置およびメモリ制御方法 |
KR20110031522A (ko) * | 2009-09-21 | 2011-03-29 | 삼성전자주식회사 | 메모리 장치, 이를 구비하는 메모리 시스템 및 이의 제어 방법 |
JP4703753B2 (ja) * | 2009-09-30 | 2011-06-15 | 株式会社東芝 | 情報処理装置、半導体記憶装置、及びプログラム |
JP2012234482A (ja) * | 2011-05-09 | 2012-11-29 | Canon Inc | 記憶制御装置及びその制御方法、並びにプログラム |
JP5853219B2 (ja) * | 2011-07-01 | 2016-02-09 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | メモリアクセス制御装置、及び製造方法 |
US8949517B2 (en) * | 2011-10-05 | 2015-02-03 | Lsi Corporation | Self-journaling and hierarchical consistency for non-volatile storage |
US9064590B2 (en) * | 2012-03-02 | 2015-06-23 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Driving method of semiconductor storage device and semiconductor storage device |
US8943283B2 (en) * | 2012-08-31 | 2015-01-27 | International Business Machines Corporation | Converting a first address mapping function for mapping addresses to storage locations to a second address mapping function |
US8996934B2 (en) * | 2012-09-29 | 2015-03-31 | Intel Corporation | Transaction-level testing of memory I/O and memory device |
WO2015059811A1 (ja) * | 2013-10-25 | 2015-04-30 | 株式会社日立製作所 | 半導体装置 |
US9385054B2 (en) * | 2013-11-08 | 2016-07-05 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Data processing device and manufacturing method thereof |
KR102067014B1 (ko) * | 2014-01-06 | 2020-02-11 | 삼성전자주식회사 | 어드레스 리매핑이 가능한 메모리 시스템 |
JP5751354B1 (ja) * | 2014-01-28 | 2015-07-22 | 日本電気株式会社 | メモリ制御装置、情報処理装置、メモリ制御方法、および、コンピュータ・プログラム |
JP2015184856A (ja) * | 2014-03-24 | 2015-10-22 | ソニー株式会社 | メモリコントローラ、記憶装置、情報処理システム、および、それらにおける制御方法。 |
US10127964B2 (en) * | 2014-07-03 | 2018-11-13 | Yale University | Circuitry for ferroelectric FET-based dynamic random access memory and non-volatile memory |
US9812200B2 (en) | 2014-07-08 | 2017-11-07 | Adesto Technologies Corporation | Concurrent read and write operations in a serial flash device |
US9966146B2 (en) * | 2014-08-13 | 2018-05-08 | Toshiba Memory Corporation | Memory system and method of controlling non-volatile memory |
US9431121B2 (en) * | 2014-10-24 | 2016-08-30 | Micron Technology, Inc. | Read voltage adjustment |
US9293224B1 (en) | 2014-12-15 | 2016-03-22 | Intel Corporation | Double data rate in parallel testing |
US10388369B2 (en) * | 2015-04-28 | 2019-08-20 | Hitachi, Ltd. | Nonvolatile memory control method, control device, and semiconductor storage device |
US10255191B2 (en) * | 2015-08-13 | 2019-04-09 | Advanced Micro Devices, Inc. | Logical memory address regions |
KR20170033643A (ko) * | 2015-09-17 | 2017-03-27 | 에스케이하이닉스 주식회사 | 반도체 시스템 및 그의 동작 방법 |
US11308053B2 (en) * | 2015-10-27 | 2022-04-19 | Teradata Us, Inc. | Buffered data-loading in column-partitioned database tables |
TWI601059B (zh) * | 2015-11-19 | 2017-10-01 | 慧榮科技股份有限公司 | 資料儲存裝置與資料儲存方法 |
KR20170075359A (ko) * | 2015-12-23 | 2017-07-03 | 에스케이하이닉스 주식회사 | 메모리 시스템 및 메모리 콘트롤러의 동작 방법 |
US10229051B2 (en) * | 2015-12-30 | 2019-03-12 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Storage device including nonvolatile memory device and controller, operating method of storage device, and method for accessing storage device |
US10929026B2 (en) * | 2016-02-23 | 2021-02-23 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Multi-cell structure for non-volatile resistive memory |
US20170286311A1 (en) * | 2016-04-01 | 2017-10-05 | Dale J. Juenemann | Repetitive address indirection in a memory |
US9842059B2 (en) * | 2016-04-14 | 2017-12-12 | Western Digital Technologies, Inc. | Wear leveling in storage devices |
US10090044B2 (en) * | 2016-07-21 | 2018-10-02 | Sandisk Technologies Llc | System and method for burst programming directly to MLC memory |
US10747678B2 (en) * | 2016-10-27 | 2020-08-18 | Seagate Technology Llc | Storage tier with compressed forward map |
US10649665B2 (en) * | 2016-11-08 | 2020-05-12 | Micron Technology, Inc. | Data relocation in hybrid memory |
US10430085B2 (en) * | 2016-11-08 | 2019-10-01 | Micron Technology, Inc. | Memory operations on data |
-
2017
- 2017-03-24 JP JP2017059222A patent/JP6779821B2/ja active Active
- 2017-08-31 US US15/693,410 patent/US10236044B2/en active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0498342A (ja) * | 1990-08-09 | 1992-03-31 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体記憶装置 |
JP2001357689A (ja) * | 2001-06-21 | 2001-12-26 | Toshiba Corp | 不揮発性半導体記憶装置 |
JP2010522374A (ja) * | 2007-03-20 | 2010-07-01 | アドバンスト・マイクロ・ディバイシズ・インコーポレイテッド | 非eccコンポーネントにおけるeccの実装 |
JP2008299930A (ja) * | 2007-05-30 | 2008-12-11 | Mega Chips Corp | 半導体記憶装置 |
US20140032815A1 (en) * | 2012-07-26 | 2014-01-30 | Micron Technology, Inc. | Methods and apparatuses for calibrating data sampling points |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPWO2021049033A1 (ja) * | 2019-09-13 | 2021-03-18 | ||
WO2021049033A1 (ja) * | 2019-09-13 | 2021-03-18 | キオクシア株式会社 | メモリシステム |
TWI764251B (zh) * | 2019-09-13 | 2022-05-11 | 日商鎧俠股份有限公司 | 記憶體系統 |
US11868648B2 (en) | 2019-09-13 | 2024-01-09 | Kioxia Corporation | Memory system |
US12135898B2 (en) | 2019-09-13 | 2024-11-05 | Kioxia Corporation | Memory system |
JP7576449B2 (ja) | 2020-12-14 | 2024-10-31 | キオクシア株式会社 | メモリシステム |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6779821B2 (ja) | 2020-11-04 |
US10236044B2 (en) | 2019-03-19 |
US20180277180A1 (en) | 2018-09-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6779821B2 (ja) | メモリシステム及びデータの読み出し方法 | |
US8452916B2 (en) | Solid state storage device controller with expansion mode | |
US12001723B2 (en) | Memory device | |
JPWO2003085676A1 (ja) | 不揮発性記憶装置 | |
US10453542B2 (en) | Memory device and method of operating the same | |
JP6178909B1 (ja) | 不揮発性半導体記憶装置 | |
US8279670B2 (en) | Non-volatile semiconductor storage device | |
TWI764251B (zh) | 記憶體系統 | |
TWI748070B (zh) | 解碼器和具有該解碼器的半導體裝置 | |
US20120159284A1 (en) | Semiconductor memory device capable of transferring various types of data | |
TW202324420A (zh) | 記憶體裝置、記憶體系統及其讀取操作方法 | |
TW202105393A (zh) | 半導體裝置及連續讀出方法 | |
US11645008B2 (en) | Memory system and operating method thereof for controlling a multi-plane read operation | |
JP4919775B2 (ja) | 不揮発性半導体記憶装置 | |
US9396805B2 (en) | Nonvolatile memory system with improved signal transmission and reception characteristics and method of operating the same | |
US20130024606A1 (en) | Nonvolatile semiconductor memory device | |
US10606745B2 (en) | Memory system | |
JP7012174B1 (ja) | 半導体装置および連続読出し方法 | |
JP6682471B2 (ja) | 半導体記憶装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20170525 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20180831 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20190319 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20191223 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20200128 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20200327 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20200915 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20201014 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6779821 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |