JP2017122886A - 光学フィルム、偏光板及び液晶表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】本発明の課題は、帯電防止性と透明性に優れ、着色が軽減した光学フィルムと、それを具備した偏光板及び液晶表示装置を提供することである。【解決手段】本発明の光学フィルムは、シクロオレフィン系樹脂を主成分とする光学フィルムであって、前記光学フィルムが、メタノールウエッタビリティ法で測定される疎水化度が、メタノールと純水が体積比で３：７の第１溶液を用いたときの当該疎水化度が２０％以下であり、メタノールと純水が体積比で６：４の第２溶液を用いたときの当該疎水化度８０％以上であるシリカ粒子と、有機系の非イオン性界面活性剤、アニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤及び両性界面活性剤から選ばれる少なくとも一種の界面活性剤とを含有し、かつ２３℃・５０％ＲＨの環境下で２４時間調湿した後の表面抵抗値が１．０×１０７〜１．０×１０９Ω／ｓｑの範囲内であることを特徴とする。【選択図】なし

Description

本発明は、光学フィルム、偏光板及び液晶表示装置に関し、より詳しくは、帯電防止性と透明性に優れ、着色が軽減した光学フィルムと、それを具備した偏光板及び液晶表示装置に関する。

従来、スマートフォンのような携帯電話や携帯端末で使用されるタッチパネル付き液晶パネルには様々な構成があり、液晶パネル上にタッチパネルを貼り付けた外付け（アウトセル型）と液晶パネル内部にタッチセンサーの少なくとも一部を内蔵した内蔵型（インセル型）などがある。タッチパネルの内部に内蔵するインセル型は、デバイスの薄膜化、軽量化が、可能となる。

しかし、タッチセンサーの一部を液晶パネル内部に内蔵したインセル型ではセンサーの駆動時にパネル内部に帯電することで画像表示に異常が生じることがある。これは、帯電によって液晶分子が誤作動を起こすことによって生じるものである。

この対策として特許文献１のように画像表示装置において、最も視認側に設けられる偏光フィルムよりも、視認側に配置される透明樹脂層に帯電防止機能を持たせることが提案されている。

また、液晶表示素子の輸送時に生じる静電気に起因する回路故障や表示面の傷つき防止のために、２層以上からなる樹脂層のうち少なくとも一層に帯電防止層を用いることが特許文献２に提案されている。

一方、液晶表示装置に用いられる偏光板の保護フィルムを構成する材料としては、従来、セルロースエステル樹脂、ポリカーボネート及びシクロオレフィン系樹脂等が知られている。これらの中でも、高い透明性、耐熱性及び耐湿性を有する観点から、シクロオレフィン系樹脂が注目されている。

近年、画像表示装置に用いられる光学部材は薄膜化が進んでおり、シクロオレフィン系樹脂フィルムも薄膜の状態で用いられている。デバイスのさらなる薄膜化要求に対応するために偏光板に用いられる光学補償フィルムに界面活性剤を含有させ、帯電防止機能を持たせることを検討したところ、帯電防止剤を含有した光学補償フィルムを用いた表示装置において、画像むらが生じるという画質の故障が生じる問題のあることが明らかとなった。

特開２０１５−２００６９８号公報 特開２００７−２３７５５５号公報

本発明は、上記問題・状況に鑑みてなされたものであり、その解決課題は、帯電防止性と透明性に優れ、着色が軽減した光学フィルムと、それを具備した偏光板及び液晶表示装置を提供することである。

本発明者は、上記課題を解決すべく、上記問題の原因等について検討する過程において、シクロオレフィン系樹脂と、界面活性剤及び特定のシリカ粒子を含有した、特定の表面抵抗値を有する光学フィルムにより、帯電防止性と透明性に優れ、着色が軽減した光学フィルムを提供できることを見いだし、本発明に至った。

すなわち、本発明に係る上記課題は、以下の手段により解決される。

１．シクロオレフィン系樹脂を主成分とする光学フィルムであって、前記光学フィルムが、メタノールウエッタビリティ法で測定される疎水化度が、メタノールと純水が体積比で３：７の第１溶液を用いたときの当該疎水化度が２０％以下であり、メタノールと純水が体積比で６：４の第２溶液を用いたときの当該疎水化度８０％以上であるシリカ粒子と、有機系の非イオン性界面活性剤、アニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤及び両性界面活性剤から選ばれる少なくとも一種の界面活性剤とを含有し、かつ２３℃・５０％ＲＨの環境下で２４時間調湿した後の表面抵抗値が、１．０×１０^７〜１．０×１０^９Ω／ｓｑの範囲内であることを特徴とする光学フィルム。

２．上記界面活性剤が、カチオン性界面活性剤であることを特徴とする第１項に記載の光学フィルム。

３．前記シリカ粒子をフィルム全質量に対し、０．１〜０．５質量％の範囲内で含有することを特徴とする第１項又は第２項に記載の光学フィルム。

４．前記界面活性剤をフィルム全質量に対し、０．５〜８質量％の範囲内で含有することを特徴とする第１項から第３項までのいずれか一項に記載の光学フィルム。

５．膜厚が、５〜４０μｍの範囲内であることを特徴とする第１項から第４項までのいずれか一項に記載の光学フィルム。

６．下記式（ｉ）で定義される面内方向のリターデーション値Ｒｏが、０〜１０ｎｍの範囲内であり、下記式（ii）で定義される厚さ方向のリターデーション値Ｒｔが、−１０〜１０ｎｍの範囲内であることを特徴とする第１項から第５項までのいずれか一項に記載の光学フィルム。
式（ｉ） Ｒｏ＝（ｎ_ｘ−ｎ_ｙ）×ｄ
式（ii） Ｒｔ＝｛（ｎ_ｘ＋ｎ_ｙ）／２−ｎ_ｚ｝×ｄ
（式中、ｎ_ｘは、フィルム面内の遅相軸方向の屈折率を表す。ｎ_ｙは、フィルム面内の進相軸方向の屈折率を表す。ｎ_ｚは、フィルムの厚さ方向の屈折率を表す（屈折率は２３℃・５５％ＲＨの環境下、波長５９０ｎｍで測定。）。ｄは、フィルムの厚さ（ｎｍ）を表す。）
７．偏光子を挟んで、視認側に第１の保護フィルムＴ１と、他方の面側に第２の保護フィルムＴ２を有する偏光板であって、保護フィルムＴ１及び保護フィルムＴ２の少なくとも一方が、第１項から第６項までのいずれか一項に記載の光学フィルムであることを特徴とする偏光板。

８．第７項に記載の偏光板を具備していることを特徴とする液晶表示装置。

本発明の上記手段により、帯電防止性と透明性に優れ、着色が軽減した光学フィルムと、それを具備した偏光板及び液晶表示装置を提供することができる。

本発明の効果の発現機構・作用機構については明確になっていないが、以下のように推察している。本発明者らが鋭意検討した結果、この画像ムラは帯電防止等のため、界面活性剤を含有するシクロオレフィン系樹脂を主成分とする光学フィルムが、湿度及び温度の外部環境の変化にともなって着色することが原因であることが明らかとなった。

さらに検討を進めた結果、この光学フィルムの着色は、電解質の界面活性剤のイオン性成分が、シクロオレフィン系樹脂の極性部位にアタックすることで樹脂構造が分解されるために生じていることが推定され、特定の疎水度のシリカ粒子を光学フィルムに含有させることにより改良できることを見いだした。これを改良できるのは、シリカ粒子が存在することで、界面活性剤のイオン成分がシリカ粒子に吸着され、シクロオレフィン系樹脂骨格へのアタックを抑制するためと考えられる。このため樹脂構造の分解が起きにくくなり着色しにくくなり、画質故障が抑制されるものと推定している。

溶液流延成膜装置の一例を示す模式図 本発明の偏光板の構成の一例を示す概略断面図 本発明の偏光板を具備した液晶表示装置の一例を示す概略断面図

本発明の光学フィルムは、シクロオレフィン系樹脂を主成分とする光学フィルムであって、前記光学フィルムが、メタノールウエッタビリティ法で測定される疎水化度が、メタノールと純水が体積比で３：７の第１溶液を用いたときの当該疎水化度が２０％以下であり、メタノールと純水が体積比で６：４の第２溶液を用いたときの当該疎水化度８０％以上であるシリカ粒子と、有機系の非イオン性界面活性剤、アニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤及び両性界面活性剤から選ばれる少なくとも一種の界面活性剤とを含有し、かつ２３℃・５０％ＲＨの環境下で２４時間調湿した後の表面抵抗値が、１．０×１０^７〜１．０×１０^９Ω／ｓｑの範囲内であることを特徴とする。この特徴は、各請求項に係る発明に共通する又は対応する技術的特徴である。

本発明の実施態様としては、本発明の効果発現の観点から、上記界面活性剤が、カチオン性界面活性剤であることが好ましい。

また、前記シリカ粒子をフィルム全質量に対し、０．１〜０．５質量％の範囲内で含有することが、フィルムの着色に対する抑制効果が得られることから、好ましい。

さらに、本発明においては、前記界面活性剤をフィルム全質量に対し、０．５〜８質量％の範囲内で含有することとが好ましい。これにより、帯電防止効果が得られる。

また、膜厚が、５〜４０μｍの範囲内であることが、ディスプレイの薄膜化・小型化及び帯電防止の観点から好ましい。

また、前記式（ｉ）で定義される面内方向のリターデーション値Ｒｏが、０〜１０ｎｍの範囲内であり、前記式（ii）で定義される厚さ方向のリターデーション値Ｒｔが、−１０〜１０ｎｍの範囲内であることが、液晶表示装置の視認性の観点から好ましい。

更には、本発明の偏光板が、偏光子を挟んで、視認側に第１の保護フィルムＴ１と、他方の面側に第２の保護フィルムＴ２を有する偏光板であって、保護フィルムＴ１及び保護フィルムＴ２の少なくとも一方が、本発明に係る光学フィルムであることが、液晶表示装置の視認性の観点から好ましい。

また、本発明の液晶表示装置は、前記偏光板を好適に具備し得る。

以下、本発明とその構成要素、及び本発明を実施するための形態・態様について詳細な説明をする。なお、本願において、数値範囲を表す「〜」は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用している。

《光学フィルムの概要》
本発明の光学フィルムは、シクロオレフィン系樹脂を主成分とする光学フィルムであって、前記光学フィルムが、メタノールウエッタビリティ法で測定される疎水化度が、メタノールと純水が体積比で３：７の第１溶液を用いたときの当該疎水化度が２０％以下であり、メタノールと純水が体積比で６：４の第２溶液を用いたときの当該疎水化度８０％以上であるシリカ粒子と、有機系の非イオン性界面活性剤、アニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤及び両性界面活性剤から選ばれる少なくとも一種の界面活性剤とを含有し、かつ２３℃・５０％ＲＨの環境下で２４時間調湿した後の表面抵抗値が、１．０×１０^７〜１．０×１０^９Ω／ｓｑの範囲内であることを特徴とする。

なお、シクロオレフィン系樹脂を主成分とする光学フィルムとは、光学フィルムを構成する組成の５０質量％以上をシクロオレフィン系樹脂が占めることを意味する。

以下、本発明の光学フィルムの各構成要素、特性値、製造方法等の詳細を以下に説明する。

〔シクロオレフィン系樹脂〕
本発明の光学フィルムに含有されるシクロオレフィン系樹脂は、シクロオレフィン単量体の重合体、又はシクロオレフィン単量体とそれ以外の共重合性単量体との共重合体であることが好ましい。

シクロオレフィン単量体としては、ノルボルネン骨格を有するシクロオレフィン単量体であることが好ましく、下記一般式（Ａ−１）又は（Ａ−２）で表される構造を有するシクロオレフィン単量体であることがより好ましい。

一般式（Ａ−１）中、Ｒ^１〜Ｒ^４は、各々独立に、水素原子、炭素原子数１〜３０の炭化水素基、又は極性基を表す。ｐは、０〜２の整数を表す。ただし、Ｒ^１〜Ｒ^４の全てが同時に水素原子を表すことはなく、Ｒ^１とＲ^２が同時に水素原子を表すことはなく、Ｒ^３とＲ^４が同時に水素原子を表すことはないものとする。

一般式（Ａ−１）においてＲ^１〜Ｒ^４で表される炭素原子数１〜３０の炭化水素基としては、例えば、炭素原子数１〜１０の炭化水素基であることが好ましく、炭素原子数１〜５の炭化水素基であることがより好ましい。炭素原子数１〜３０の炭化水素基は、例えば、ハロゲン原子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子又はケイ素原子を含む連結基を更に有していても良い。そのような連結基の例には、カルボニル基、イミノ基、エーテル結合、シリルエーテル結合、チオエーテル結合等の２価の極性基が含まれる。炭素原子数１〜３０の炭化水素基の例には、メチル基、エチル基、プロピル基及びブチル基等が含まれる。

一般式（Ａ−１）においてＲ^１〜Ｒ^４で表される極性基の例には、カルボキシ基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アミノ基、アミド基及びシアノ基が含まれる。中でも、カルボキシ基、ヒドロキシ基、アルコキシカルボニル基及びアリールオキシカルボニル基が好ましく、溶液製膜時の溶解性を確保する観点から、アルコキシカルボニル基及びアリールオキシカルボニル基が好ましい。

一般式（Ａ−１）におけるｐは、光学フィルムの耐熱性を高める観点から、１又は２を表すことが好ましい。ｐが１又は２を表すと、得られる重合体が嵩高くなり、ガラス転移温度が向上しやすいためである。

一般式（Ａ−２）中、Ｒ^５は、水素原子、炭素数１〜５の炭化水素基、又は炭素数１〜５のアルキル基を有するアルキルシリル基を表す。Ｒ^６は、カルボキシ基、ヒドロキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アミノ基、アミド基、シアノ基、又はハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子若しくはヨウ素原子）を表す。ｐは、０〜２の整数を表す。

一般式（Ａ−２）におけるＲ^５は、炭素数１〜５の炭化水素基を表すことが好ましく、炭素数１〜３の炭化水素基を表すことがより好ましい。

一般式（Ａ−２）におけるＲ^６は、カルボキシ基、ヒドロキシ基、アルコキシカルボニル基及びアリールオキシカルボニル基を表すことが好ましく、溶液製膜時の溶解性を確保する観点から、アルコキシカルボニル基及びアリールオキシカルボニル基がより好ましい。

一般式（Ａ−２）におけるｐは、光学フィルムの耐熱性を高める観点から、１又は２を表すことが好ましい。ｐが１又は２を表すと、得られる重合体が嵩高くなり、ガラス転移温度が向上しやすいためである。

一般式（Ａ−２）で表される構造を有するシクロオレフィン単量体は、得られる光学フィルムにおいて後述する微粒子等の他の成分を偏在させやすい点から好ましい。その理由は明らかではないが、一般式（Ａ−２）におけるＲ^５及びＲ^６が、分子の対称軸に対して片側の環構成炭素原子のみに置換されているので、分子の対称性が低い。これにより、光学フィルムの製膜時の溶媒揮発時に、シクロオレフィン系樹脂と他の成分同士の拡散運動が促進され、これに伴い他の成分の製膜フィルム表面への移動が促されるからであると考えられる。

シクロオレフィン単量体の重合体における一般式（Ａ−２）で表される構造を有するシクロオレフィン単量体の含有割合は、シクロオレフィン系樹脂を構成する全シクロオレフィン単量体の合計に対して例えば７０モル％以上、好ましくは８０モル％以上、より好ましくは１００モル％とし得る。一般式（Ａ−２）で表される構造を有するシクロオレフィン単量体を一定以上含むと、樹脂の配向性が高まるため、位相差値が上昇しやすい。

以下、一般式（Ａ−１）で表される構造を有するシクロオレフィン単量体の具体例を例示化合物１〜１４に示し、一般式（Ａ−２）で表される構造を有するシクロオレフィン単量体の具体例を例示化合物１５〜３４に示す。

シクロオレフィン単量体と共重合可能な共重合性単量体の例には、シクロオレフィン単量体と開環共重合可能な共重合性単量体、及びシクロオレフィン単量体と付加共重合可能な共重合性単量体等が含まれる。

開環共重合可能な共重合性単量体の例には、シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘプテン、シクロオクテン及びジシクロペンタジエン等のシクロオレフィンが含まれる。

付加共重合可能な共重合性単量体の例には、不飽和二重結合含有化合物、ビニル系環状炭化水素単量体及び（メタ）アクリレート等が含まれる。不飽和二重結合含有化合物の例には、炭素原子数２〜１２（好ましくは２〜８）のオレフィン系化合物が含まれ、その例には、エチレン、プロピレン及びブテン等が含まれる。ビニル系環状炭化水素単量体の例には、４−ビニルシクロペンテン及び２−メチル−４−イソプロペニルシクロペンテン等のビニルシクロペンテン系単量体が含まれる。（メタ）アクリレートの例には、メチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート及びシクロヘキシル（メタ）アクリレート等の炭素原子数１〜２０のアルキル（メタ）アクリレートが含まれる。

シクロオレフィン単量体と共重合性単量体との共重合体におけるシクロオレフィン単量体の含有割合は、共重合体を構成する全単量体の合計に対して例えば２０〜８０モル％、好ましくは３０〜７０モル％とし得る。

シクロオレフィン系樹脂は、前述の通り、ノルボルネン骨格を有するシクロオレフィン単量体、好ましくは一般式（Ａ−１）又は（Ａ−２）で表される構造を有するシクロオレフィン単量体を重合又は共重合して得られる重合体であり、その例には、以下のものが含まれる。

（１）シクロオレフィン単量体の開環重合体
（２）シクロオレフィン単量体と、それと開環共重合可能な共重合性単量体との開環共重合体
（３）上記（１）又は（２）の開環（共）重合体の水素添加物
（４）上記（１）又は（２）の開環（共）重合体をフリーデルクラフツ反応により環化した後、水素添加した（共）重合体
（５）シクロオレフィン単量体と、不飽和二重結合含有化合物との飽和共重合体
（６）シクロオレフィン単量体のビニル系環状炭化水素単量体との付加共重合体及びその水素添加物
（７）シクロオレフィン単量体と、（メタ）アクリレートとの交互共重合体
上記（１）〜（７）の重合体は、いずれも公知の方法、例えば特開２００８−１０７５３４号公報や特開２００５−２２７６０６号公報に記載の方法で得ることができる。例えば、上記（２）の開環共重合に用いられる触媒や溶媒は、例えば特開２００８−１０７５３４号公報の段落００１９〜００２４に記載のものを使用できる。上記（３）及び（６）の水素添加に用いられる触媒は、例えば特開２００８−１０７５３４号公報の段落００２５〜００２８に記載のものを使用できる。上記（４）のフリーデルクラフツ反応に用いられる酸性化合物は、例えば特開２００８−１０７５３４号公報の段落００２９に記載のものを使用できる。上記（５）〜（７）の付加重合に用いられる触媒は、例えば特開２００５−２２７６０６号公報の段落００５８〜００６３に記載のものを使用できる。上記（７）の交互共重合反応は、例えば特開２００５−２２７６０６号公報の段落００７１及び００７２に記載の方法で行うことができる。

中でも、上記（１）〜（３）及び（５）の重合体が好ましく、上記（３）及び（５）の重合体がより好ましい。すなわち、シクロオレフィン系樹脂は、得られるシクロオレフィン系樹脂のガラス転移温度を高くし、かつ光透過率を高くすることができる点で、下記一般式（Ｂ−１）で表される構造単位及び下記一般式（Ｂ−２）で表される構造単位の少なくとも一方を含むことが好ましく、一般式（Ｂ−２）で表される構造単位のみを含むか、又は一般式（Ｂ−１）で表される構造単位と一般式（Ｂ−２）で表される構造単位の両方を含むことがより好ましい。一般式（Ｂ−１）で表される構造単位は、前述の一般式（Ａ−１）で表されるシクロオレフィン単量体由来の構造単位であり、一般式（Ｂ−２）で表される構造単位は、前述の一般式（Ａ−２）で表されるシクロオレフィン単量体由来の構造単位である。

一般式（Ｂ−１）中、Ｘは、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−ＣＨ_２ＣＨ_２−を表す。Ｒ^１〜Ｒ^４及びｐは、それぞれ一般式（Ａ−１）のＲ^１〜Ｒ^４及びｐと同義である。

一般式（Ｂ−２）中、Ｘは、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−ＣＨ_２ＣＨ_２−を表す。Ｒ^５、Ｒ^６及びｐは、それぞれ一般式（Ａ−２）のＲ^５、Ｒ^６及びｐと同義である。

本発明に係るシクロオレフィン系樹脂は、市販品であっても良い。シクロオレフィン系樹脂の市販品の例には、ＪＳＲ（株）製のアートン（Ａｒｔｏｎ）Ｇ（例えばＧ７８１０等）、アートンＦ、アートンＲ（例えばＲ４５００、Ｒ４９００及びＲ５０００等）、及びアートンＲＸ（例えばＲＸ４５００等）が含まれる。

シクロオレフィン系樹脂の固有粘度〔η〕_ｉｎｈは、３０℃において、０．２〜５ｃｍ^３／ｇであることが好ましく、０．３〜３ｃｍ^３／ｇであることがより好ましく、０．４〜１．５ｃｍ^３／ｇであることが更に好ましい。

シクロオレフィン系樹脂の数平均分子量（Ｍｎ）は、８０００〜１０００００であることが好ましく、１００００〜８００００であることがより好ましく、１２０００〜５００００であることが更に好ましい。シクロオレフィン系樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、２００００〜３０００００であることが好ましく、３００００〜２５００００であることがより好ましく、４００００〜２０００００であることが更に好ましい。シクロオレフィン系樹脂の数平均分子量や重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）にてポリスチレン換算にて測定することができる。

固有粘度〔η〕_ｉｎｈ、数平均分子量及び重量平均分子量が上記範囲にあると、シクロオレフィン系樹脂の耐熱性、耐水性、耐薬品性、機械的特性、及びフィルムとしての成形加工性が良好となる。

シクロオレフィン系樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）は、通常、１１０℃以上であり、１１０〜３５０℃であることが好ましく、１２０〜２５０℃であることがより好ましく、１２０〜２２０℃であることが更に好ましい。Ｔｇが１１０℃以上であると、高温条件下での変形を抑制しやすい。一方、Ｔｇが３５０℃以下であると、成形加工が容易となり、成形加工時の熱による樹脂の劣化も抑制しやすい。

シクロオレフィン系樹脂の含有量は、光学フィルムに対して７０質量％以上であることが好ましく、８０質量％以上であることがより好ましい。

〔シリカ粒子〕
本発明の光学フィルムは、メタノールウエッタビリティ法で測定される疎水化度が、メタノールと純水が体積比で３：７の第１溶液を用いたときの当該疎水化度が２０％以下であり、メタノールと純水が体積比で６：４の第２溶液を用いたときの当該疎水化度８０％以上であるシリカ粒子を含有する。

このようなシリカ粒子を含有させることにより、界面活性剤を含有するシクロオレフィン系樹脂を主成分とする光学フィルムが、湿度及び温度の外部環境の変化にともなって着色することを軽減できる。これはシリカ粒子が存在することで、界面活性剤のイオン成分がシリカ粒子に吸着され、シクロオレフィン系樹脂骨格へのアタックを抑制するためであると考えられる。

ここで、シリカ粒子とは、二酸化ケイ素を主成分とする粒子である。主成分とは、粒子を構成する成分の５０％以上を含有することをいい、好ましくは７０％以上、より好ましくは８０％以上、特に好ましくは９０％以上含まれることをいう。

また、上記シリカ粒子の添加量としては、フィルム全質量に対し、０．１〜０．５質量％の範囲内で含有することが好ましい。添加量が０．１質量％以上であれば、着色防止の効果が得られ、０．５％以下であればヘイズが劣化する懸念がない。

本発明に係るシリカ粒子はフィルム面のすべり性の悪さを改良するため、フィルム表面に凹凸を付与するマット剤としても機能することができる。必要に応じ滑り性や光学的、機械的機能を付与するため、無機化合物の微粒子又は有機化合物の微粒子を、本発明の効果を損なわない範囲で、マット剤として添加することもできる。

〈メタノールウエッタビリティ法〉
本発明に係るシリカ粒子の疎水化度は、アルコール系を含む溶媒や純水などを用いて定量することができる。疎水化度を定量化する方法としては、メタノールウエッタビリティ法（以下、「ＭＷ法」と称する。）が好ましい。本発明において、疎水化度は、本法で求められるメタノールウエッタビリティ値（以下、「ＭＷ値」と称する。）で表す。

上記のＭＷ法において、微粒子の疎水化度を定量化するためには、メタノールと純水とを混合させた第１溶液及び第２溶液をそれぞれ用いる。このとき、メタノールと純水との配合比は、第１溶液においては体積比が３：７であり、また、第２溶液では体積比が６：４である。そして、各溶液に前記微粒子を同量添加して撹拌混合し、この混合した各溶液を遠心分離させて、前記微粒子の沈降物の体積をそれぞれ求め、第１溶液における微粒子の沈降物の体積をｔｍＬとし、第２溶液における微粒子の沈降物の体積をｓｍＬとしたときに、それぞれＭＷ値を、第１溶液におけるＭＷ値＝（ｔ／Ａ）×１００［％］、及び第２溶液におけるＭＷ値＝（ｓ／Ａ）×１００［％］から求める。ここで、Ａは、初めに添加したシリカ粒子の体積（ＡｍＬ）である。

〔ＭＷ法〕
（１）メタノール溶液Ｃと純水Ｄとを、体積比で３：７になるように混合して、第１溶液Ａを調製する（例えば、メタノール溶液Ｃが４０ｍＬに対して、純水Ｄが６０ｍＬ）
（２）次に、１０ｍＬの沈降管Ｆに、０．２ｇのシリカ粒子粉末Ｅと７ｍＬの第１溶液Ａとを入れる。
（３）沈降管Ｆにふたをして、ターブラーミキサを用いて、微粒子粉末Ｅを第１溶液Ａ中に振盪混合する。この際、ターブラーミキサの条件は９０ｒｐｍで３０秒間である。
（４）シリカ粒子粉末Ｅを沈降させるため、遠心分離機を用いる。遠心分離機の条件は、３５００ｒｐｍで１０分間である。
（５）沈降管の目盛で読み取ることができる沈降した微粒子粉末Ｅの沈降物量を体積として読み取り、その値をｔｍＬとする。
（６）新たに、メタノール溶液Ｃと純水Ｄとが、体積比で６：４となるように混合して、第２溶液Ｂを調製する（例えば、メタノール溶液Ｃが６０ｍＬに対して、純水Ｄが４０ｍＬ）。
（７）第２溶液Ｂを用いて、上記（２）〜（５）と同じ手順（８）〜（１１）により、シリカ粒子粉末Ｅの沈降物を作製して、沈降管の目盛で読み取ることができる沈降したシリカ粒子粉末Ｅの沈降物量を体積として読み取り、その値をｓｍＬとする。
（１２）下記式によりＭＷ値（％）を求める。

第１溶液におけるＭＷ値＝（ｔ／Ａ）×１００［％］
第２溶液におけるＭＷ値＝（ｓ／Ａ）×１００［％］
ここで、Ａは、初めに添加したシリカ粒子の体積（ＡｍＬ）である。

シリカ粒子は、
ＳｉＯ_２ → ＳｉＯ−Ｈ → ＳｉＯ⁻＋ Ｈ^＋
のように粒子表面がシラノール基、さらに負電荷をもった状態になっているため、カチオン性の界面活性剤の正電荷部位と相互作用できると考えられる。

メタノールウエッタビリティ法で測定される疎水化度が、メタノールと純水が体積比で３：７の第１溶液を用いたときの当該疎水化度が２０％以下であり、メタノールと純水が体積比で６：４の第２溶液を用いたときの当該疎水化度８０％以上である本発明に係るシリカ粒子は、有機系の界面活性剤の疎水部位と親和性が良く、界面活性剤をより補足しやすいため、着色防止の効果が得られる。

上記したような疎水化度のシリカ粒子は、シリカ粒子のアルキル化処理を行ったものの中から選ぶことができる。また、表面がアルキル化処理により疎水化処理されたシリカ粒子を添加すると、溶媒に対しての分散性がよく、異物の発生を抑制できる利点も有する。

シリカ粒子に対する上記疎水化処理は、アルキル化処理であることが好ましい。アルキル化処理された微粒子の表面はアルキル基を有し、そのアルキル基の炭素数は１〜２０の範囲であることが好ましく、より好ましくは炭素数１〜１２の範囲であり、特に好ましくは、炭素数１〜８の範囲である。

前記シリカ粒子において、表面に炭素数１〜２０の範囲のアルキル基を有するものは、例えば、前記の二酸化ケイ素の粒子をオクチルシランで処理することにより得ることができる。また、表面にオクチル基を有するものの一例としては、アエロジルＲ８０５（日本アエロジル（株）製）の商品名で市販されており、好ましく用いられる。

シリカ粒子の一次粒子の平均粒径は、５〜４００ｎｍの範囲内が好ましく、さらに好ましいのは１０〜３００ｎｍの範囲内である。

シリカ粒子の二次粒子の平均粒径は、１００〜４００ｎｍの範囲内であることが、好ましく、一次粒子の平均粒径が１００〜４００ｎｍの範囲内であれば、凝集せずに一次粒子として含まれていることも好ましい。

〈シリカ粒子の平均粒径の測定方法〉
光学フィルム中におけるシリカ粒子の粒子径の測定は、ミクロトームで断層カットしたフィルム断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ：Ｓｃａｎｎｉｎｇ Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ）で適当な倍率で撮影し、断層カット写真に含まれる１００個の粒子の粒子径を測定し、平均値を求め平均粒径とする。粒子径は、粒子の断面が円形状の場合はその直径とし、円形状以外の場合は面積を算出し、それを円形状に換算したときの直径とする。

ＳＥＭ：ＪＳＭ−６０６０ＬＡ（ＪＥＯＬ：日本電子株式会社）
ミクロトーム：ライカ製ＥＭ ＵＣ６
フィルム中のシリカ粒子の含有量は、フィルムの全質量に対して０．１〜２．５質量％含有する必要があり、０．５〜２．０質量％の範囲内であることが好ましく、特に１．０〜２．０質量％の範囲内であることが、本発明の効果を発現する上で好ましい。

シリカ粒子は、市販品を好ましく使用することができ、アエロジルＲ８０５、Ｒ８１２、Ｒ９７６Ｓ等が、本発明に係る疎水化度を満たすことから、着色を防止しかつ光学フィルムのヘイズを低く保つことができる。

本発明の光学フィルムにおいては、シリカ粒子を含有し、少なくとも一方の面の動摩擦係数が０．２〜１．０の範囲内であることが好ましい。動摩擦係数は、「ＪＩＳ Ｋ７１２５ プラスチック−フィルム及びシート摩擦係数試験方法」に準じて測定することができる。

本発明に係るシリカ粒子の添加方法については、以下の第１〜第３の方法が挙げられるが、いずれの方法を用いてもよい。

〔第１添加方法〕
溶媒と粒子とを撹拌混合した後、分散機を用いて分散を行い、これをドープに加えて撹拌することで流延ドープを得る。

〔第２添加方法〕
溶媒と粒子とを撹拌混合した後、分散機を用いて分散を行ない、粒子分散液を作製する。次に、溶剤に少量の樹脂を加え、撹拌溶解させたものに前記粒子分散液を加えて撹拌した後、これを原料ドープ液に加えて十分に混合させて流延ドープを得る。

〔第３添加方法〕
溶媒に少量の樹脂を加え、撹拌溶解させた後、粒子を加えて分散機を用いて分散を行う。これをドープに加えて十分に混合させる。

完成した流延ドープに含有するシリカ粒子は、ドープの調製に再生フィルムを用いた場合には、この中に含有されるものでもよいが、再生フィルムチップの元となるフィルムを製造する際の流延ドープは、本発明によるものであることが好ましい。

〔界面活性剤〕
本発明の光学フィルムは、光学フィルムの表面抵抗値をコントロールし帯電防止を目的として有機系の界面活性剤を含有する。本発明で用いられる界面活性剤は、有機系の非イオン性界面活性剤、アニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤及び両性界面活性剤から選ばれる少なくとも一種の界面活性剤である。

また、低湿度でも帯電防止効果を発揮しやすく、フィルムにした際の全光線透過率に優れることから低分子界面活性剤よりも高分子型の界面活性剤が好ましい。さらに、帯電防止剤の効果の発現性は一般にカチオン性＞両性＞アニオン性＞非イオン性の順であり、カチオン性界面活性剤が最も好ましい。またカチオン性界面活性剤は、本発明に係るシリカ粒子との相互作用が強いことからも好ましい。

アニオン性界面活性剤としては、例えば、脂肪酸塩類、高級アルコール硫酸エステル塩類、液体脂肪油硫酸エステル塩類、脂肪族アミン及び脂肪属アマイドの硫酸塩類、脂肪属アルコールリン酸エステル塩類、二塩基性脂肪酸エステルのスルホン酸塩類、脂肪族アミドスルホン酸塩類、アルキルアリルスルホン酸塩類、ホルマリン縮合のナフタリンスルホン酸塩類等が挙げられる。

カチオン性界面活性剤としては、例えば、脂肪族アミン塩類、第４級アンモニウム塩類、アルキルピリジニウム塩等が挙げられる。

非イオン性界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルフェノールエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルエステル類、ソルビタンアルキルエステル類、ポリオキシエチレンソルビタンアルキルエステル類等が挙げられる。

両性イオン性界面活性剤としては、例えば、イミダゾリン誘導体、ベタイン型高級アルキルアミノ誘導体、硫酸エステル誘導体、リン酸エステル誘導体等が挙げられる。

具体的な化合物は、丸茂秀雄著「帯電防止剤 高分子の表面改質」幸書房、増補「プラスチック及びゴム用添加剤実用便覧 ｐ３３３〜ｐ４５５」化学工業社刊、特開平１１−２５６１４３号、特公昭５２−３２５７２号、特開平１０−１５８４８４号等に記載されている。

好ましい界面活性剤としては、アニオン性界面活性剤やカチオン性界面活性剤といったイオン性高分子化合物を挙げることができる。イオン性高分子化合物としては、特公昭４９−２３８２８号、同４９−２３８２７号、同４７−２８９３７号にみられるようなアニオン性高分子化合物；特公昭５５−７３４号、特開昭５０−５４６７２号、特公昭５９−１４７３５号、同５７−１８１７５号、同５７−１８１７６号、同５７−５６０５９号等にみられるような、主鎖中に解離基をもつアイオネン型ポリマー：特公昭５３−１３２２３号、同５７−１５３７６号、特公昭５３−４５２３１号、同５５−１４５７８３号、同５５−６５９５０号、同５５−６７７４６号、同５７−１１３４２号、同５７−１９７３５号、特公昭５８−５６８５８号、特開昭６１−２７８５３号、同６２−９３４６号各公報にみられるような、側鎖中にカチオン性解離基をもつカチオン性ペンダント型ポリマー、特開平５−２３０１６１号公報にみられるようなグラフト共重合体等を挙げることができる。

好ましい高分子型の界面活性剤としては、非イオン型界面活性剤としてポリエーテルエステルアミド酸型、エチレンオキシド−エピクロルヒドリン型及びポリエーテルエステル型が挙げられる。アニオン性界面活性剤としては、ポリスチレンスルホン酸型が挙げられる。カチオン性界面活性剤としては、第四級アンモニウム塩基含有アクリレート重合体型等が挙げられる。

また、本発明において、好ましく用いることのできる界面活性剤は、特開平９−２０３８１０号に記載されているアイオネン導電性ポリマー或いは分子間架橋を有する第４級アンモニウムカチオン導電性ポリマー等である。

架橋型カチオン性導電性ポリマーの特徴は、得られる分散性粒状ポリマーにあり、微粒子内のカチオン成分を高濃度、高密度にもたせることができるため、優れた導電性を有しているばかりでなく、樹脂との相溶性が良く、高い透明性が選られることにある、更に低相対湿度下においても導電性の劣化は見られない。

帯電防止に用いられる架橋型のカチオン性導電性ポリマーである分散性粒状ポリマーは一般に約０．０１〜０．３μｍの微粒子サイズ範囲にあり、好ましくは０．０５〜０．１５μｍの範囲の微粒子サイズが用いられる。

本発明において、上記で説明した各界面活性剤は、フィルム全質量に対し、０．５〜８質量％の範囲内で含有することが好ましく、界面活性剤の添加量が０．５〜８質量％の範囲内である場合、光学フィルムの表面抵抗値を１０^９Ω／ｓｑ以下に調節でき、埃や塵の付着を効果的に抑制でき、樹脂材料の光透過率を所望の値に維持できる。

〈表面抵抗値〉
本発明の光学フィルムは、２３℃・５０％ＲＨの環境下で２４時間調湿した後の表面抵抗値が１．０×１０^７〜１．０×１０^９Ω／ｓｑの範囲内である。好ましくは１．０×１０^７〜５．０×１０^８Ω／ｓｑの範囲内である。

表面抵抗値が、１．０×１０^７を下回ると、添加した界面活性剤活性剤による着色が増加し、また、タッチパネルに適用したとき、ディスプレイのタッチ操作の際の操作感度が低下するため好ましくない。

１．０×１０^９Ω／ｓｑを上回ると、液晶表示素子の輸送時に生じる静電気に起因する回路故障や表示面の傷つきやすくなり、また、タッチパネル付き液晶パネルに光学フィルムを適用したとき、静電気による誤作動する懸念があり好ましくない。

また、誤作動の防止の観点から帯電特性だけでなく、帯電後の放電特性も重要である。具体的には、２３℃・５０％ＲＨの環境下で２４時間調湿した後、光学フィルムを帯電させて、初期帯電電圧が半分に低下するまでの時間を測定し、半減期として測定することができる。半減期は２００秒以内であることが好ましい。半減期は光学フィルムの厚さにより、大きく変わり、薄いほうが好ましい。半減期を短くする観点から、光学フィルムの厚さは４０μｍ以内であることが好ましい。

〔その他の添加剤〕
本発明の光学フィルムには、本発明の目的効果を損なわない範囲で、各種添加剤を適用することができる。

（ポリエステル系可塑剤）
本発明の光学フィルムにおいては、ポリエステル系可塑剤を適用することが、フィルム弾性率、すべり性、フィルム膜面硬度が向上し、その結果、高品位の面品質を得ることができる点で好ましい。

ポリエステル系可塑剤は、ジオールとジカルボン酸とを脱水縮合反応させた後、得られる反応生成物の分子末端の（ジオール由来の）ヒドロキシ基を、環構造を有するヒドロキシ基含有モノカルボン酸のカルボキシ基と脱水縮合反応させて得られる化合物である。

ポリエステル系可塑剤は、下記一般式（１）で表される構造を有する。

一般式（１）
Ｂ−（Ｇ−Ａ）_ｎ−Ｇ−Ｂ
上記一般式（１）において、Ｂは、環構造を有するヒドロキシ基含有モノカルボン酸から誘導される基を表す。環構造とは、脂肪族炭化水素環、脂肪族ヘテロ環、芳香族炭化水素環又は芳香族ヘテロ環を有する構造をいい、好ましくは脂肪族炭化水素環又は芳香族炭化水素環を有する構造をいう。環構造を有するヒドロキシ基含有モノカルボン酸は、炭素原子数５〜２０の脂環式モノカルボン酸、炭素原子数７〜２０の芳香族モノカルボン酸及びそれらの混合物でありうる。

炭素原子数５〜２０の脂環式モノカルボン酸は、好ましくは炭素原子数６〜１５の脂環式モノカルボン酸でありうる。脂環式モノカルボン酸の例には、４−ヒドロキシシクロヘキシル酢酸、３−ヒドロキシシクロヘキシル酢酸、２−ヒドロキシシクロヘキシル酢酸、４−ヒドロキシシクロヘキシルプロピオン酸、４−ヒドロキシシクロヘキシル酪酸、４−ヒドロキシシクロヘキシルグリコール酸、４−ヒドロキシ−ｏ−メチルシクロヘキシル酢酸、４−ヒドロキシ−ｍ−メチルシクロヘキシル酢酸、４−ヒドロキシ−ｐ−メチルシクロヘキシル酢酸、５−ヒドロキシ−ｍ−メチルシクロヘキシル酢酸、６−ヒドロキシ−ｏ−メチルシクロヘキシル酢酸、２，４−ジヒドロキシシクロヘキシル酢酸、２，５−ジヒドロキシシクロヘキシル酢酸、２−（ヒドロキシメチル）シクロヘキシル酢酸、３−（ヒドロキシメチル）シクロヘキシル酢酸、４−（ヒドロキシメチル）シクロヘキシル酢酸、２−（１−ヒドロキシ−１−メチルエチル）シクロヘキシル酢酸、３−（１−ヒドロキシ−１−メチルエチル）シクロヘキシル酢酸、４−（１−ヒドロキシ−１−メチルエチル）シクロヘキシル酢酸等が含まれる。

炭素原子数７〜２０の芳香族モノカルボン酸は、好ましくは炭素原子数７〜１５の芳香族モノカルボン酸でありうる。芳香族モノカルボン酸の例には、４−ヒドロキシ安息香酸、３−ヒドロキシ安息香酸、２−ヒドロキシ安息香酸、４−ヒドロキシ−ｏ−トルイル酸、３−ヒドロキシ−ｐ−トルイル酸、５−ヒドロキシ−ｍ−トルイル酸、６−ヒドロキシ−ｏ−トルイル酸、２，４−ジヒドロキシ安息香酸、２，５−ジヒドロキシ安息香酸、２−（ヒドロキシメチル）安息香酸、３−（ヒドロキシメチル）安息香酸、４−（ヒドロキシメチル）安息香酸、２−（１−ヒドロキシ−１−メチルエチル）安息香酸、３−（１−ヒドロキシ−１−メチルエチル）安息香酸、４−（１−ヒドロキシ−１−メチルエチル）安息香酸等が含まれる。

これらの中でも、光学フィルムに十分な疎水性を付与し、偏光子の水分による劣化を抑制しやすい点から、芳香環を含むヒドロキシ基含有モノカルボン酸（ヒドロキシ基を含む芳香族モノカルボン酸）が好ましい。

式中、Ｇは、炭素原子数２〜１２のアルキレンジオール、炭素原子数６〜１２のシクロアルキレンジオール、炭素原子数４〜１２のオキシアルキレンジオール及び炭素原子数６〜１２のアリーレンジオールからなる群より選ばれる少なくとも１種から誘導される基を表す。

炭素原子数２〜１２のアルキレンジオールの例には、エチレングリコール、１，２−プロピレングリコール、１，３−プロピレングリコール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，２−プロパンジオール、２−メチル−１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール（ネオペンチルグリコール）、２，２−ジエチル−１，３−プロパンジオール（３，３−ジメチロールペンタン）、２−ｎ−ブチル−２−エチル−１，３プロパンジオール（３，３−ジメチロールヘプタン）、３−メチル−１，５−ペンタンジオール１，６−ヘキサンジオール、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオール、２−エチル−１，３−ヘキサンジオール、２−メチル−１，８−オクタンジオール、１，９−ノナンジオール、１，１０−デカンジオール、１，１２−オクタデカンジオール等が含まれる。

炭素原子数６〜１２のシクロアルキレンジオールの例には、水素化ビスフェノールＡ（２，２−ビス（４−ヒドロキシシクロヘキシル）プロパン）、水素化ビスフェノールＢ（２，２−ビス（４−ヒドロキシシクロヘキシル）ブタン等が含まれる。

炭素原子数４〜１２のオキシアルキレンジオールの例には、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール等が含まれる。

炭素原子数６〜１２のアリーレンジオールの例には、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＢ等が含まれる。

ジオールは、１種又は２種以上の混合物として使用される。中でも、シクロオレフィン系樹脂との相溶性に優れる点で、炭素原子数２〜１２のアルキレングリコールが好ましい。

式中、Ａは、炭素原子数４〜１２のアルキレンジカルボン酸、炭素原子数６〜１２のシクロアルキレンジカルボン酸、及び炭素原子数８〜１６のアリーレンジカルボン酸からなる群より選ばれる少なくとも１種から誘導される基を表す。

炭素原子数４〜１２のアルキレンジカルボン酸の例には、コハク酸、マレイン酸、フマル酸、グルタル酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカンジカルボン酸等が含まれる。

炭素原子数６〜１６のシクロアルキレンジカルボン酸の例には、１，２−シクロヘキサンジカルボン酸、１，３−シクロヘキサンジカルボン酸、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸、１，５−デカヒドロナフタレンジカルボン酸、１，４−デカヒドロナフタレンジカルボン酸等が含まれる。

炭素原子数８〜１６のアリーレンジカルボン酸の例には、フタル酸、テレフタル酸、イソフタル酸、１，５−ナフタレンジカルボン酸、１，４−ナフタレンジカルボン酸等が含まれる。

ジカルボン酸は、１種又は２種以上の混合物として使用される。ジカルボン酸は、アルキレンジカルボン酸とアリーレンジカルボン酸の混合物であることが好ましい。アルキレンジカルボン酸とアリーレンジカルボン酸の含有割合は、アルキレンジカルボン酸：アリーレンジカルボン酸＝４０：６０〜９９：１であることが好ましく、５０：５０〜９０：１０であることがより好ましい。

式中、ｎは、０以上の整数を表す。

ポリエステル系可塑剤の数平均分子量は、好ましくは３００〜３００００、より好ましくは３００〜７００の範囲内であり、より好ましくは３００〜６００である。数平均分子量が一定以上であると、ブリードアウトを抑制しやすい。数平均分子量が一定以下であると、シクロオレフィン系樹脂との相溶性を損ないにくくヘイズ上昇を抑制しやすい。

ポリエステル系可塑剤の数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより測定されうる。具体的には、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）測定装置（東ソー株式会社製「ＨＬＣ−８３３０」）を用いて、下記の測定条件で、エステル化合物の標準ポリスチレン換算の数平均分子量（Ｍｎ）を測定することができる。

（測定条件）
カラム：「ＴＳＫ ｇｅｌ ＳｕｐｅｒＨＺＭ−Ｍ」×２本及び「ＴＳＫ ｇｅｌ ＳｕｐｅｒＨＺ−２０００」×２本
ガードカラム：「ＴＳＫ ＳｕｐｅｒＨ−Ｈ」
展開溶媒：テトラヒドロフラン
流速：０．３５ｍＬ／分
ポリエステル系可塑剤の数平均分子量は、縮合又は重縮合の反応時間によって調整することができる。

ポリエステル系可塑剤の酸価は、好ましくは０．５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、より好ましくは０．３ｍｇＫＯＨ／ｇ以下である。ポリエステル系可塑剤の水酸基価は、好ましくは２５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、より好ましくは１５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下である。

ポリエステル系可塑剤の合成は、常法によりジカルボン酸、ジオール、及び末端封止用モノカルボン酸のエステル化反応又はエステル交換反応による熱溶融縮合法、又はジカルボン酸及び末端封止用モノカルボン酸の酸クロライドとジオールとの界面縮合法のいずれかの方法で行うことができる。ジオールとジカルボン酸の仕込み比は、分子末端がジオールとなるように調整される。

一般式（１）で表される構造を有するポリエステル系可塑剤のシクロオレフィン系樹脂に対する添加量は２〜１０質量％の範囲内であることが好ましい。より好ましくは、３〜７質量％の範囲内である。添加量は、２質量％以上の場合で、光学フィルム硬度上昇の効果が認められ、１０質量％以下であると、高温環境下における寸法安定性及びヘイズの安定性を高める観点から好ましい。

（紫外線吸収剤）
偏光子を挟んで、視認側に第１の保護フィルムＴ１と、他方の面側に第２の保護フィルムＴ２を有する偏光板としたとき、保護フィルムＴ１及び保護フィルムＴ２の少なくとも一方が、本発明の光学フィルム構成し、更に保護フィルムＴ１又は保護フィルムＴ２が、紫外線吸収剤を含有していることが好ましい形態の一つである。

本発明の光学フィルムに適用する紫外線吸収剤としては、偏光子や液晶の劣化防止の観点から、波長３７０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れ、かつ液晶の表示性の観点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ない特性を備えていることが好ましい。

本発明に適用可能な紫外線吸収剤は特に限定されないが、例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、トリアジン系化合物、ニッケル錯塩系化合物、無機粉体等が挙げられる。

本発明に適用可能な紫外線吸収剤としては、例えば、５−クロロ−２−（３，５−ジ−ｓｅｃ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、（２−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（直鎖及び側鎖ドデシル）−４−メチルフェノール、２−ヒドロキシ−４−ベンジルオキシベンゾフェノン、２，４−ベンジルオキシベンゾフェノン等があり、また、チヌビン１０９、チヌビン１７１、チヌビン２３４、チヌビン３２６、チヌビン３２７、チヌビン３２８、チヌビン９２８等のチヌビン類があり、これらはいずれもＢＡＳＦジャパン社製の市販品であり、好ましく使用できる。

より好ましく用いられる紫外線吸収剤は、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、トリアジン系紫外線吸収剤であり、特に好ましくはベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤である。

例えば、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、下記一般式（ｂ）で示される化合物を用いることができる。

上記一般式（ｂ）において、Ｒ_１、Ｒ_２、Ｒ_３、Ｒ_４及びＲ_５は同一でも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、ヒドロキシ基、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシ基、アシルオキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、モノもしくはジアルキルアミノ基、アシルアミノ基又は５〜６員の複素環基を表し、Ｒ_４とＲ_５は閉環して５〜６員の炭素環を形成してもよい。また、上記記載のこれらの基は、任意の置換基を有していてよい。

以下に、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されない。

ＵＶ−１：２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール
ＵＶ−２：２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール
ＵＶ−３：２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール
ＵＶ−４：２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール
ＵＶ−５：２−（２′−ヒドロキシ−３′−（３″，４″，５″，６″−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール
ＵＶ−６：２，２−メチレンビス（４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール）
ＵＶ−７：２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール
ＵＶ−８：２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（直鎖及び側鎖ドデシル）−４−メチルフェノール（ＴＩＮＵＶＩＮ１７１）
ＵＶ−９：オクチル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル〕プロピオネートと２−エチルヘキシル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル〕プロピオネートの混合物（ＴＩＮＵＶＩＮ１０９）
更に、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては、下記一般式（ｃ）で表される化合物が好ましく用いられる。

上記一般式（ｃ）において、Ｙは水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、又はフェニル基を表し、これらのアルキル基、アルケニル基及びフェニル基は置換基を有していてもよい。Ａは水素原子、アルキル基、アルケニル基、フェニル基、シクロアルキル基、アルキルカルボニル基、アルキルスルホニル基又はＣＯ（ＮＨ）_ｎ−１−Ｄ基を表し、Ｄはアルキル基、アルケニル基又は置換基を有していてもよいフェニル基を表す。ｍ及びｎは１又は２を表す。

上記において、アルキル基としては、例えば、炭素数２４までの直鎖又は分岐の脂肪族基を表し、アルコキシ基としては例えば、炭素数１８までのアルコキシ基を表し、アルケニル基としては例えば、炭素数１６までのアルケニル基でアリル基、２−ブテニル基等を表す。また、アルキル基、アルケニル基、フェニル基への置換基としてはハロゲン原子、例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等、ヒドロキシ基、フェニル基（このフェニル基にはアルキル基又はハロゲン原子等を置換していてもよい）等が挙げられる。

以下に一般式（ｃ）で表されるベンゾフェノン系紫外線吸収剤の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されない。

ＵＶ−１０：２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン
ＵＶ−１１：２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン
ＵＶ−１２：２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホベンゾフェノン
ＵＶ−１３：ビス（２−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−ベンゾイルフェニルメタン）
この他、１，３，５トリアジン環を有する化合物等の円盤状化合物も紫外線吸収剤として好ましく用いられる。

本発明に係る光学フィルムは、紫外線吸収剤を２種以上含有することもできる。

本発明においては、紫外線吸収剤としては、特に、下記で示す「２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（１−メチル−１−フェニルエチル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール」が本発明の保護フィルムの紫外線吸収性と低リターデーションを両立した上で薄いフィルムを提供することができるため、好ましく用いられる。

本発明に係る光学フィルムは、紫外線吸収剤を２種以上含有することもできる。

また、紫外線吸収剤としては高分子紫外線吸収剤も好ましく用いることができ、特に特開平６−１４８４３０号公報に記載のポリマータイプの紫外線吸収剤が好ましく用いられる。

紫外線吸収剤の添加方法は、メタノール、エタノール、ブタノール等のアルコールやメチレンクロライド、酢酸メチル、アセトン、ジオキソラン等の溶媒或いはこれらの混合溶媒に紫外線吸収剤を溶解してからドープに添加するか、又は直接ドープ組成中に添加してもよい。無機粉体のように有機溶媒に溶解しないものは、有機溶媒とセルロースエステル中にディゾルバーやサンドミルを使用し、分散してからドープに添加する。

紫外線吸収剤の使用量は、紫外線吸収剤の種類、使用条件等により一様ではないが、光学フィルムの乾燥膜厚が１０〜１００μｍの場合は、光学フィルムに対して０．５〜１０質量％が好ましく、０．６〜４質量％の範囲内が更に好ましい。

（酸化防止剤）
本発明の光学フィルムには、酸化防止剤を適用することができる。

酸化防止剤は、例えば、光学フィルム中の残留溶媒のハロゲンやリン酸系可塑剤のリン酸等により光学フィルムが分解するのを遅らせたり、防いだりする役割を有するので、フィルム中に含有させることが好ましい。

本発明では、酸化防止剤としては、通常知られているものを使用することができる。特に、ラクトン系、イオウ系、フェノール系、二重結合系、ヒンダードアミン系、リン系の各化合物を好ましく用いることができる。

例えば、ＢＡＳＦジャパン株式会社から市販されている「Ｉｒｇａｆｏｓ ＸＰ４０、Ｉｒｇａｆｏｓ ＸＰ６０」等が挙げられる。

上記イオウ系化合物は、例えば、住友化学株式会社から市販されている「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ ＴＰＬ−Ｒ」及び「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ ＴＰ−Ｄ」を挙げることができる。

上記フェノール系化合物としては、２，６−ジアルキルフェノールの構造を有するものが好ましく、例えば、ＢＡＳＦジャパン株式会社から市販されている「Ｉｒｇａｎｏｘ １０７６」、「Ｉｒｇａｎｏｘ １０１０」、（株）ＡＤＥＫＡから市販されている「アデカスタブ ＡＯ−５０」等を挙げることができる。

上記二重結合系化合物は、住友化学株式会社から「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ ＧＭ」及び「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ ＧＳ」という商品名で市販されている。

上記ヒンダードアミン系化合物は、例えば、ＢＡＳＦジャパン株式会社から市販されている「Ｔｉｎｕｖｉｎ１４４」及び「Ｔｉｎｕｖｉｎ７７０」、株式会社ＡＤＥＫＡから市販されている「ＡＤＫ ＳＴＡＢ ＬＡ−５２」を挙げることができる。

上記リン系化合物としては、例えば、住友化学株式会社から市販されている「ＳｕｍｉｌｉｚｅｒＧＰ」、株式会社ＡＤＥＫＡから市販されている「ＡＤＫ ＳＴＡＢ ＰＥＰ−２４Ｇ」、「ＡＤＫ ＳＴＡＢ ＰＥＰ−３６」及び「ＡＤＫ ＳＴＡＢ ３０１０」、ＢＡＳＦジャパン株式会社から市販されている「ＩＲＧＡＦＯＳ Ｐ−ＥＰＱ」、堺化学工業株式会社から市販されている「ＧＳＹ−Ｐ１０１」を挙げることができる。

（衝撃補強材）
本発明の光学フィルムには、耐衝撃性を高めるために、衝撃補強材として、コア・シェルタイプのアクリル微粒子、スチレン−共役ジエン系化合物又はブチルアクリレート化合物の少なくとも一種を含有することが好ましい。

特に、特開２００９−８４５７４号公報に記載の（メタ）アクリル系ゴムと芳香族ビニル化合物の共重合体に（メタ）アクリル系樹脂がグラフトされたコア・シェルタイプのグラフト共重合体や、国際公開第２００９／０４７９２４号に記載されているコア・シェルタイプのアクリル微粒子、また、特開２０１３−８３９０７号公報に記載のスチレン−ブタジエン系の弾性有機微粒子などの衝撃補強材を含有することが好ましい。

例えば、コア・シェルタイプのアクリル微粒子は、メチルメタクリレート８０〜９８．９質量％、アルキルアクリレート１〜２０質量％及び多官能性グラフト剤０．０１〜０．３質量％の混合物を重合して得られる最内硬質層と、アルキルアクリレート７５〜９８．５質量％、多官能性架橋剤０．０１〜５質量％及び多官能性グラフト剤０．５〜５質量％の混合物を重合して得られる軟質層と、メチルメタクリレート８０〜９９質量％、アルキルアクリレート１〜２０質量％の混合物を重合して得られる最外硬質層とを有する。

また、スチレン−共役ジエン系化合物としては、スチレン−ブタジエン系共重合体であることが好ましい。当該共重合体はゴム状弾性体であっても、また弾性有機微粒子であってもよく、具体的には、弾性有機微粒子はコア・シェルタイプの粒子であることが好ましい。

軟質重合体は、共役ジエン単量体由来の構造単位と、必要に応じて他の単量体由来の構造単位とを含む。共役ジエン単量体の例には、１，３−ブタジエン（以下、単に「ブタジエン」と称することもある。）、イソプレン、１，３−ペンタジエン、２，３−ジメチル−１，３−ブタジエン、２−クロロ−１，３−ブタジエン、ミルセンなどが含まれ、好ましくはブタジエン、イソプレンである。他の単量体の例には、スチレン、α−メチルスチレンなどのスチレン成分が含まれる。軟質重合体における共役ジエン単量体由来の構造単位の含有割合は、通常、５０質量％以上、好ましくは７０質量％以上、より好ましくは９０質量％以上である。

他の重合体の例には、アクリロニトリルとスチレンの共重合体や、メタクリル酸メチル等のメタクリル酸エステルを主成分とする重合体などが含まれる。

市販品としては、例えば、メタブレンＣ−１４０Ａ、Ｃ−２１５Ａ（以上、三菱レイヨン（株）製）、タフプレン１２６、アサフレックス８００、アサフレックス８２５（以上、旭化成ケミカルズ（株）製）、ＴＲ２０００ 、ＴＲ２２５０（以上、ＪＳＲ（株）製）などが挙げられる。

他のゴム状弾性体としては、アクリル酸エステル系ゴム状重合体が挙げられ、ブチルアクリレートを主成分としたアクリル酸エステル系重合体を主成分とするゴム状重合体が好ましい。

〔光学フィルムの光学特性〕
本発明の光学フィルムは、下記式（ｉ）で定義されるリターデーション値Ｒｏが、０〜１０ｎｍの範囲内であり、下記式（ii）で定義されるリターデーション値Ｒｔが、−１０〜１０ｎｍの範囲内であることが好ましい。

式（ｉ）
Ｒｏ＝（ｎ_ｘ−ｎ_ｙ）×ｄ
式（ii）
Ｒｔ＝｛（ｎ_ｘ＋ｎ_ｙ）／２−ｎ_ｚ｝×ｄ
上記式（ｉ）及び（ii）において、Ｒｏはフィルムの面内方向のリターデーション値、Ｒｔはフィルムの厚さ方向のリターデーション値、ｎ_ｘはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率、ｎ_ｙはフィルム面内の進相軸方向の屈折率、ｎ_ｚはフィルムの厚さ方向の屈折率（屈折率は２３℃、５５％ＲＨの環境下、波長５９０ｎｍで測定）、ｄはフィルムの厚さ（ｎｍ）を表す。

面内方向のリターデーション値Ｒｏ、及びフィルムの厚さ方向のリターデーション値Ｒｔは自動複屈折率計アクソスキャン（Ａｘｏ Ｓｃａｎ Ｍｕｅｌｌｅｒ Ｍａｔｒｉｘ
Ｐｏｌａｒｉｍｅｔｅｒ：アクソメトリックス社製）を用いて、２３℃・５５％ＲＨの環境下、５９０ｎｍの波長において、三次元屈折率測定を行い、得られた屈折率ｎｘ、ｎｙ、ｎｚから算出することができる。

上記で規定する式（ｉ）で定義されるリターデーション値Ｒｏが、０〜１０ｎｍの範囲内、式（ii）で表されるリターデーション値Ｒｔが−１０〜１０ｎｍの範囲内とは、面内方向のリターデーション値Ｒｏ（ｎｍ）及びフィルムの厚さ方向のリターデーション値Ｒｔ（ｎｍ）がほぼゼロの光学フィルムであること意味する。

光学フィルムのフィルム面内のリターデーション値Ｒｏ及びフィルムの厚さ方向のリターデーション値Ｒｔをほぼゼロとすることにより、当該光学フィルム側に液晶セルに貼合したとき、得られる液晶表示装置における黒表示時の光漏れを効果的に防止することができるため視認性を向上させることができる。また、光学フィルムの厚さを低減することができるため、偏光板及び液晶表示装置の更なる薄型軽量化を図ることが可能となるため好ましい。

上記条件を達成する方法として、特に制限はないが、フィルム成膜時の延伸条件を適正制御する方法が好適である。

〔光学フィルムの製造方法〕
本発明の光学フィルムの製造方法としては、通常のインフレーション法、Ｔ−ダイ法、カレンダー法、切削法、流延法、エマルジョン法、ホットプレス法等の製造法が使用できるが、着色抑制、異物欠点の抑制、ダイラインなどの光学欠点の抑制などの観点から、成膜方法としては、溶液流延成膜法と溶融流延成膜法が選択でき、特に溶液流延成膜法であることが、シクロオレフィン系樹脂の分布状態を制御してパネルベンドを抑制する効果に加えて、均一で平滑な表面を得ることができ、更にヘイズ及びイエローインデックス（ＹＩ）を低減する観点から好ましい。

〈溶液流延法〉
以下、本発明の光学フィルムの製造に好適な溶液流延法による製造例について説明する。

本発明の光学フィルムの製造は、シクロオレフィン系樹脂と、マット剤、必要に応じ、ポリエステル系可塑剤等の化合物を溶媒に溶解させてドープを調製し、濾過する工程、調製したドープをベルト状又はドラム状の金属支持体上に流延しウェブを形成する工程、形成したウェブを金属支持体から剥離してフィルムとする工程、フィルムを延伸、乾燥する工程、及び乾燥させたフィルムを冷却後ロール状に巻き取る工程により行われる。

以下、各工程について説明する。

（１）溶解工程
シクロオレフィン系樹脂に対する良溶媒を主とする有機溶媒に、溶解釜中で当該樹脂、場合によって、その他の化合物を撹拌しながら溶解してドープを形成する工程、あるいは当該樹脂溶液に、その他の化合物溶液を混合して主溶解液であるドープを形成する工程である。

本発明の光学フィルムを溶液流延法で製造する場合、ドープを形成するのに有用な有機溶媒は、シクロオレフィン系樹脂及びその他の添加剤を同時に溶解するものであれば制限なく用いることができる。

例えば、塩素系有機溶媒としては、塩化メチレン、非塩素系有機溶媒としては、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミル、アセトン、テトラヒドロフラン、１，３−ジオキソラン、１，４−ジオキサン、シクロヘキサノン、ギ酸エチル、２，２，２−トリフルオロエタノール、２，２，３，３−ヘキサフルオロ−１−プロパノール、１，３−ジフルオロ−２−プロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−メチル−２−プロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−プロパノール、２，２，３，３，３−ペンタフルオロ−１−プロパノール、ニトロエタン等を挙げることができ、例えば、主たる溶媒として、塩化メチレン、酢酸メチル、酢酸エチル、アセトンを好ましく使用することができ、塩化メチレン又は酢酸エチルであることが特に好ましい。

ドープには、上記有機溶媒の他に、１〜４０質量％の範囲内で炭素数が１〜４の直鎖又は分岐鎖状の脂肪族アルコールを含有させることが好ましい。ドープ中のアルコールの比率が高くなるとウェブがゲル化し、金属支持体からの剥離が容易になり、また、アルコールの割合が少ないときは非塩素系有機溶媒系でのシクロオレフィン系樹脂及びその他の化合物の溶解を促進する役割もある。本発明の光学フィルムの成膜においては、得られる光学フィルムの平面性を高める点から、アルコール濃度が０．５〜１５．０質量％の範囲内にあるドープを用いて成膜する方法を適用することができる。

特に、塩化メチレン及び炭素数１〜４の直鎖又は分岐鎖状の脂肪族アルコールを含有する溶媒に、シクロオレフィン系樹脂及びその他の化合物を、計１５〜４５質量％の範囲内で溶解させたドープ組成物であることが好ましい。

炭素数が１〜４の直鎖又は分岐鎖状の脂肪族アルコールとしては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノールを挙げることができる。これらのうち、ドープの安定性、沸点も比較的低く、乾燥性もよいこと等からメタノール及びエタノールが好ましい。

シクロオレフィン系樹脂又はその他の化合物の溶解には、常圧で行う方法、主溶媒の沸点以下で行う方法、主溶媒の沸点以上で加圧して行う方法、特開平９−９５５４４号公報、特開平９−９５５５７号公報、又は特開平９−９５５３８号公報に記載のような冷却溶解法で行う方法、特開平１１−２１３７９号公報に記載されている高圧で行う方法等種々の溶解方法を用いることができるが、特に主溶媒の沸点以上で加圧して行う方法が好ましい。

ドープ中のシクロオレフィン系樹脂の濃度は、１０〜４０質量％の範囲内であることが好ましい。溶解中又は後のドープに化合物を加えて溶解及び分散した後、濾材で濾過し、脱泡して送液ポンプで次工程に送る。

ドープの濾過については、好ましくはリーフディスクフィルターを具備する主濾過器で、ドープを、例えば、９０％捕集粒子径が微粒子の平均粒子径の１０〜１００倍の濾材で濾過することが好ましい。

本発明において、濾過に使用する濾材は、絶対濾過精度が小さいほうが好ましいが、絶対濾過精度が小さすぎると、濾過材の目詰まりが発生しやすく、濾材の交換を頻繁に行わなければならず、生産性を低下させるという問題点ある。

このため、本発明において、ドープに使用する濾材は、絶対濾過精度０．００８ｍｍ以下のものが好ましく、０．００１〜０．００８ｍｍの範囲内がより好ましく、０．００３〜０．００６ｍｍの範囲内の濾材が更に好ましい。

濾材の材質には、特に制限はなく、通常の濾材を使用することができるが、ポリプロピレン、テフロン（登録商標）等のプラスチック繊維製の濾材やステンレス繊維等の金属製の濾材が繊維の脱落等がなく好ましい。

本発明において、濾過の際のドープの流量が、１０〜８０ｋｇ／（ｈ・ｍ^２）の範囲内であることが好ましく、２０〜６０ｋｇ／（ｈ・ｍ^２）であることがより好ましい。ここで、濾過の際のドープの流量が１０ｋｇ／（ｈ・ｍ^２）以上であれば、効率的な生産性となり、濾過の際のドープの流量が８０ｋｇ／（ｈ・ｍ^２）以下であれば、濾材にかかる圧力が適正となり、濾材を破損させることがなく好ましい。

濾圧は、３５００ｋＰａ以下であることが好ましく、３０００ｋＰａ以下であることがより好ましく、２５００ｋＰａ以下であることが更に好ましい。なお、濾圧は、濾過流量と濾過面積とを適宜選択することでコントロールできる。

次いで、図を交えて、本発明の光学フィルムを溶液流延法で製造する具体的な構成例を説明する。以下の説明において、構成要素の後の括弧内に記載の数字は、図に記載している符号を示してある。

図１は、本発明の光学フィルムの製造に適用可能な溶液流延成膜装置の一例を示す模式図である。

仕込み釜（４１）で調製したドープを濾過器（４４）で大きな凝集物を除去し、ストック釜（４２）へ送液する。その後、ストック釜（４２）より主ドープ溶解釜（１）へ各種添加液を添加する。

その後、主ドープは、主濾過器（３）にて濾過され、これにマット剤分散液や紫外線吸収剤添加液等が導管（１６）よりインライン添加される。

多くの場合、主ドープには、返材が１０〜５０質量％程度含まれることがある。

返材とは、例えば本発明の光学フィルムを細かく粉砕した物で、光学フィルムを成膜するときに発生する、フィルムの両サイド部分を切り落とした物や、擦り傷などでフィルムの規定値を越えた光学フィルム原反が使用される。

また、ドープ調製に用いられるシクロオレフィン系樹脂の原料としては、あらかじめ樹脂及びその他の化合物などをペレット化したものも、好ましく用いることができる。

（２）流延工程
（２−１）ドープの流延
ドープを、送液ポンプ（例えば、加圧型定量ギヤポンプ）を通して加圧ダイ（３０）に送液し、無限に移送する無端の金属支持体（３１）、例えば、ステンレスベルト、あるいは回転する金属ドラム等の金属支持体上の流延位置に、加圧ダイスリットからドープを流延する工程である。

流延（キャスト）工程における金属支持体（３１）は、表面を鏡面仕上げしたものが好ましく、金属支持体としては、ステンレススティールベルト又は鋳物で表面をメッキ仕上げしたドラムが好ましく用いられる。キャストの幅は１〜４ｍの範囲内、好ましくは１．５〜３ｍの範囲内、更に好ましくは２〜２．８ｍの範囲内とすることができる。

流延工程の金属支持体（３１）の表面温度は−５０℃〜溶媒が沸騰して発泡しない温度以下、更に好ましくは−３０〜１００℃の範囲内に設定される。温度が高いほうがウェブの乾燥速度を速くできるので好ましいが、あまり高すぎるとウェブが発泡して平面性が劣化する場合がある。好ましい支持体温度としては、０〜１００℃の範囲内で適宜決定され、５〜３０℃の範囲内が更に好ましい。あるいは、冷却することによってウェブをゲル化させて残留溶媒を多く含んだ状態でドラムから剥離することも好ましい方法である。

金属支持体（３１）の温度を制御する方法は特に制限されないが、温風又は冷風を吹きかける方法や、温水を金属支持体の裏側に接触させる方法がある。温水を用いるほうが熱の伝達が効率的に行われるため、金属支持体（３１）の温度が一定になるまでの時間が短く好ましい。温風を用いる場合は、溶媒の蒸発潜熱によるウェブの温度低下を考慮して、溶媒の沸点以上の温風を使用しつつ、発泡も防ぎながら目的の温度よりも高い温度の風を使う場合がある。特に、流延から剥離するまでの間で支持体の温度及び乾燥風の温度を変更し、効率的に乾燥を行うことが好ましい。

ダイとしては、ダイの口金部分のスリット形状を調整でき、膜厚を均一にしやすいことから、加圧ダイ（３０）が好ましい。加圧ダイ（３０）には、コートハンガーダイやＴダイ等があり、いずれも好ましく用いられる。金属支持体（３１）の表面は鏡面となっている。成膜速度を上げるために、加圧ダイ（３０）を金属支持体（３１）上に２基以上設け、ドープ量を分割して積層してもよい。

（３）溶媒蒸発工程
ウェブ（流延用支持体上にドープを流延し、形成されたドープ膜をウェブという。）を流延用支持体上で加熱し、溶媒を蒸発させる工程である。

溶媒を蒸発させるには、ウェブ側から風を吹かせる方法、支持体の裏面から液体により伝熱させる方法、輻射熱により表裏から伝熱する方法等があるが、裏面液体伝熱方法が乾燥効率がよく好ましい。また、それらを組み合わせる方法も好ましく用いられる。流延後の支持体上のウェブを４０〜１００℃の雰囲気下、支持体上で乾燥させることが好ましい。４０〜１００℃の雰囲気下に維持するには、この温度の温風をウェブ上面に当てるか、赤外線等の手段により加熱することが好ましい。

面品質、透湿性、剥離性の観点から、３０〜１２０秒の範囲内で当該ウェブを支持体から剥離することが好ましい。

（４）剥離工程
剥離工程とは、金属支持体上で溶媒が蒸発したウェブを剥離位置（３３）で剥離する工程である。剥離されたウェブは、フィルムとして次工程に送られる。

金属支持体上の剥離位置（３３）における温度は、好ましくは１０〜４０℃の範囲内であり、更に好ましくは１１〜３０℃の範囲内である。

剥離する時点での金属支持体上でのウェブの剥離時残留溶媒量は、乾燥の条件の強弱、金属支持体の長さ等により５０〜１２０質量％の範囲内として、剥離することが好ましいが、残留溶媒量がより多い時点で剥離する場合、ウェブが柔らか過ぎると剥離時平面性を損ね、剥離張力によるツレや縦スジが発生しやすいため、経済速度と品質との兼ね合いで剥離時の残留溶媒量が決められる。

ウェブの残留溶媒量は下記式（Ｉ）で定義される。

式（Ｉ）
残留溶媒量（％）＝（ウェブの加熱処理前質量−ウェブの加熱処理後質量）／（ウェブの加熱処理後質量）×１００
なお、残留溶媒量を測定する際の加熱処理とは、１１５℃で１時間の加熱処理を行うことを表す。

金属支持体とフィルムとを剥離する際の剥離張力は、通常、１９６〜２４５Ｎ／ｍの範囲内であるが、剥離の際にシワが入りやすい場合、１９０Ｎ／ｍ以下の張力で剥離することが好ましい。

本発明においては、当該金属支持体（３１）上の剥離位置（３３）における温度を−５０〜４０℃の範囲内とするのが好ましく、１０〜４０℃の範囲内がより好ましく、１５〜３０℃の範囲内とするのが最も好ましい。

（５）乾燥及び延伸工程
（乾燥工程）
金属支持体から剥離して得られたウェブを乾燥させる。ウェブの乾燥は、ウェブを上下に配置した多数のローラーにより搬送しながら乾燥させてもよいし、テンター乾燥機のようにウェブの両端部をクリップで固定して搬送しながら乾燥させてもよい。

ウェブを乾燥させる手段は特に制限なく、熱風、赤外線、加熱ローラー、マイクロ波等で行うことができるが、簡便さの点で、熱風で行うことが好ましい。

ウェブの乾燥工程における乾燥温度は、好ましくはフィルムのガラス転移温度（Ｔｇ）以下であって、１００℃以上の温度で１０〜６０分の範囲内の熱処理を行うことが効果的である。乾燥温度は、１００〜２００℃の範囲内、更に好ましくは１１０〜１６０℃の範囲内で乾燥が行われる。

なお、乾燥工程は、予備乾燥工程と本乾燥工程とに分けて行うこともできる。

（延伸工程）
本発明の光学フィルムは、延伸処理することでフィルム内の分子の配向を制御することができ、平面性を向上させ、強靭性を得たりすることができる。

本発明の光学フィルムは、長手方向（ＭＤ方向ともいう。）及び／又は幅手方向（ＴＤ方向ともいう。）に延伸することが好ましく、少なくとも長手方向又は幅手方向に延伸倍率として１．０１〜１０倍の範囲内で延伸することが好ましい。

延伸操作は、多段階に分割して実施してもよい。また、二軸延伸を行う場合には、ＭＤ方向とＴＤ方向の同時二軸延伸を行ってもよいし、段階的に実施してもよい。この場合、段階的とは、例えば、延伸方向の異なる延伸を順次行うことも可能であるし、同一方向の延伸を多段階に分割し、かつ異なる方向の延伸をそのいずれかの段階に加えることも可能である。

すなわち、例えば、次のような延伸ステップも可能である。

・長手方向に延伸→幅手方向に延伸→長手方向に延伸→長手方向に延伸
・幅手方向に延伸→幅手方向に延伸→長手方向に延伸→長手方向に延伸
・幅手方向に延伸→斜め方向に延伸
また、同時二軸延伸には、一方向に延伸し、もう一方を、張力を緩和して収縮する場合も含まれる。

延伸開始時の残留溶媒量は、２〜１０質量％の範囲内であることが好ましい。

残留溶媒量が２質量％以上であれば、膜厚偏差が小さくなり、平面性の観点から好ましく、１０質量％以下であれば、表面の凹凸が減り、平面性が向上し好ましい。

本発明の光学フィルムは、延伸後の膜厚が所望の範囲になるようにＭＤ方向及び／又はＴＤ方向に、好ましくはＴＤ方向に、フィルムのガラス転移温度をＴｇ（℃）としたときに、（Ｔｇ＋１５）〜（Ｔｇ＋５０）℃の温度範囲で延伸することが好ましい。上記温度範囲で延伸すると、延伸応力を低下できるのでヘイズが低くなる。また、破断の発生を抑制し、平面性に優れた光学フィルムが得られる。延伸温度は、（Ｔｇ＋２０）〜（Ｔｇ＋４０）℃の範囲内で行うことが好ましい。

本発明の光学フィルムは、ウェブを少なくともＭＤ方向又はＴＤ方向に１．０１〜１０倍の範囲内で延伸することが好ましいが、延伸の範囲は、元幅に対して１．１〜１０倍の範囲内であることが好ましく、１．２〜８倍の範囲内であることがより好ましい。上記範囲内であればフィルムが強靱となり、フィルムを薄膜化でき、フィルムの平面性を向上させることができる。

ＭＤ方向に延伸するために、剥離張力を１３０Ｎ／ｍ以上で剥離することが好ましく、１５０〜１７０Ｎ／ｍの範囲内で剥離することが特に好ましい。剥離後のウェブは高残留溶媒状態であるため、剥離張力と同様の張力を維持することで、ＭＤ方向への延伸を行うことができる。ウェブが乾燥し、残留溶媒量が減少するにしたがって、ＭＤ方向への延伸率は低下する。

なお、ＭＤ方向の延伸には、ローラーの周速差を利用したローラー延伸機を用いることができ、延伸倍率は、ベルト支持体の回転速度とローラー延伸機の運転速度とから算出できる。

ＴＤ方向に延伸するには、例えば、特開昭６２−４６６２５号公報に示されているような乾燥全工程あるいは一部の工程を幅方向にクリップ又はピンでウェブの幅両端を幅保持しつつ乾燥させる方法（テンター方式と呼ばれる）、中でも、クリップを用いるテンター方式、ピンを用いるピンテンター方式が好ましく用いられる。

ＴＤ方向への延伸に際し、フィルム幅手方向に２５０〜５００％／ｍｉｎの範囲内の延伸速度で延伸することが、フィルムの平面性を向上する観点から好ましい。

延伸速度が２５０％／ｍｉｎ以上であれば、平面性が向上し、またフィルムを高速で処理することができるため、生産適性の観点で好ましく、５００％／ｍｉｎ以下であれば、フィルムが破断することなく処理することができ好ましい。

好ましい延伸速度は、３００〜４００％／ｍｉｎの範囲内である。延伸速度は、下記式（II）によって定義されるものである。

式（II）
延伸速度（％／ｍｉｎ）＝［（ｄ_１／ｄ_２）−１］×１００（％）／ｔ
上記式（II）において、ｄ_１は、延伸後の樹脂フィルムの延伸方向の幅寸法を表す。ｄ_２は、延伸前の樹脂フィルムの延伸方向の幅寸法を表す。ｔは、延伸に要する時間（ｍｉｎ）を表す。

本発明の光学フィルムは、前記式（ｉ）により定義されるリターデーション値（Ｒｏ）が０〜１０ｎｍの範囲内にあり、前記式（ii）により定義されるリターデーション値（Ｒｔ）が−１０〜１０ｎｍの範囲内にあることが、特にリターデーションを必要としない光学フィルムとして具備する場合に好ましい。光学フィルムは、少なくともＭＤ方向又はＴＤ方向に延伸倍率を調整しながら延伸することもできる。

（ナーリング加工）
所定の熱処理又は冷却処理の後、巻取り前にスリッターを設けて端部を切り落とすことが良好な巻姿を得るため好ましい。さらに、幅手両端部には、ナーリング加工をすることが好ましい。

ナーリング加工は、加熱されたエンボスローラーを押し当てることにより形成することができる。エンボスローラーには細かな凹凸が形成されており、これを押し当てることでフィルムに凹凸を形成し、端部を嵩高くすることができる。

本発明の光学フィルムの幅手両端部のナーリングの高さは４〜２０μｍの範囲内、幅５〜２０ｍｍの範囲内であることが好ましい。

また、本発明においては、上記のナーリング加工は、フィルムの成膜工程において乾燥終了後、巻取りの前に設けることが好ましい。

（６）巻取り工程
巻取り工程は、ウェブ中の残留溶媒量が２質量％以下となってからフィルムとして巻き取る工程であり、残留溶媒量を０．４質量％以下にすることにより寸法安定性の良好なフィルムを得ることができる。

巻取り方法は、一般に使用されているものを用いればよく、定トルク法、定テンション法、テーパーテンション法、内部応力一定のプログラムテンションコントロール法等があり、それらを使い分ければよい。

〈溶融流延法〉
本発明の光学フィルムは、溶融流延法によって成膜することもできる。溶融流延法は、本発明に係るシクロオレフィン系樹脂及びその他の化合物を含む組成物を、流動性を示す温度まで加熱溶融し、その後、流動性の溶融物を流延することをいう。

溶融流延法では、機械的強度及び表面精度等の点から、溶融押出し法が好ましい。溶融押出しに用いる複数の原材料は、通常あらかじめ混錬してペレット化しておくことが好ましい。

ペレット化は、公知の方法でよく、例えば、シクロオレフィン系樹脂やその他の化合物をフィーダーで押出機に供給して一軸や二軸の押出機を用いて混錬し、ダイからストランド状に押し出し、水冷又は空冷し、カッティングすることでできる。

添加剤は、押出機に供給する前に混合しておいてもよいし、それぞれ個別のフィーダーで供給してもよい。

粒子や酸化防止剤等の少量の添加剤は、均一に混合するため、事前に混合しておくことが好ましい。

押出機は、剪断力を抑え、樹脂が劣化（分子量低下、着色、ゲル生成等）しないように、ペレット化できる程度になるべく低温で加工することが好ましい。例えば、二軸押出機の場合、深溝タイプのスクリューを用いて、同方向に回転させることが好ましい。混錬の均一性から、噛み合いタイプが好ましい。

以上のようにして得られたペレットを用いてフィルム成膜を行う。もちろんペレット化せず、原材料の粉末をそのままフィーダーで押出機に供給し、そのままフィルム成膜することも可能である。

上記ペレットを一軸や二軸タイプの押出機を用いて、押し出す際の溶融温度を２００〜３００℃程度とし、リーフディスクタイプのフィルター等で濾過し異物を除去した後、Ｔダイからフィルム状に流延し、冷却ローラーと弾性タッチローラーでフィルムをニップし、冷却ローラー上で固化させることにより、光学フィルムを成膜する。

供給ホッパーから押出機へ導入する際は、真空下又は減圧下や不活性ガス雰囲気下にして酸化分解等を防止することが好ましい。

押出し流量は、ギヤポンプを導入する等して安定に調整することが好ましい。また、異物の除去に用いるフィルターは、ステンレス繊維焼結フィルターが好ましく用いられる。ステンレス繊維焼結フィルターは、ステンレス繊維体を複雑に絡み合った状態を作り出した上で圧縮し、接触箇所を焼結し一体化したもので、その繊維の太さと圧縮量とにより密度を変え、濾過精度を調整できる。

酸化防止剤や粒子等の添加剤は、あらかじめ樹脂と混合しておいてもよいし、押出機の途中で練り込んでもよい。均一に添加するために、スタチックミキサー等の混合装置を用いることが好ましい。

冷却ローラーと弾性タッチローラーで光学フィルムをニップする際のタッチローラー側の光学フィルム温度は、フィルムのＴｇ〜（Ｔｇ＋１１０）℃の温度範囲にすることが好ましい。このような目的で使用する弾性体表面を有するローラーは、公知のローラーが使用できる。

弾性タッチローラーは、挟圧回転体ともいう。弾性タッチローラーとしては、市販されているものを用いることもできる。

冷却ローラーからフィルムを剥離する際は、張力を制御してフィルムの変形を防止することが好ましい。

また、上記のようにして得られたフィルムは、冷却ローラーに接する工程を通過後、延伸操作により延伸することが好ましい。

延伸する方法は、公知のローラー延伸機やテンター等を好ましく用いることができる。延伸温度は、通常フィルムを構成するシクロオレフィン系樹脂のＴｇ〜（Ｔｇ＋６０）℃の温度範囲で行われることが好ましい。

巻き取る前に、製品となる幅に端部をスリットして裁ち落とし、巻き中の貼り付きや擦り傷防止のために、ナール加工（エンボッシング加工）を両端に施してもよい。ナール加工の方法は、凹凸のパターンを側面に有する金属リングを用いて加熱や加圧をすることにより加工することができる。なお、フィルム両端部のクリップの把持部分は通常、光学フィルムが変形しており製品として使用できないので切除され、再利用される。

〈光学フィルムの物性〉
（波長分散性）
本発明の光学フィルムは、波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍにおけるリターデーション（Ｒｏ）の値をそれぞれＲｏ（４５０）、Ｒｏ（５５０）としたとき、Ｒｏ（４５０）／Ｒｏ（５５０）で算出される値が、１．０１より小さいことが好ましい。

（ヘイズ）
本発明の光学フィルムは、ヘイズ値が１．０％以下であることが好ましく、０．５％以下であることがより好ましい。ヘイズを１．０％以下とすることにより、フィルムの透明性がより高くなり、光学用途のフィルムとしてより用いやすくなるという利点がある。

ヘイズ値は、ＪＩＳ Ｋ ７１３６に準拠して、ヘイズメーター（濁度計）（型式：ＮＤＨ ２０００、日本電色工業（株）製）にて測定される。

（イエローインデックス：ＹＩ）
本発明の光学フィルムは、ＹＩが１．０以下であることが好ましく、０．５以下であることがより好ましい。ＹＩを１．０以下とすることにより、フィルムの透明性がより高くなり、光学用途のフィルムとしてより用いやすくなるという利点がある。特に本発明の光学フィルムを溶液流延法で製造することは、ＹＩを低減する観点から好ましい製造方法である。

本発明でいうイエローインデックス（ＹＩ）は、ＪＩＳ Ｋ ７１０５−６．３に記載の方法で求めることができる。具体的なイエローインデックス値の測定方法としては、日立製作所製の分光光度計Ｕ−３２００と付属の彩度計算プログラム等を用いて、色の三刺激値Ｘ、Ｙ、Ｚを求め、下式に従ってイエローインデックス値を求める。

イエローインデックス（％）＝１００（１．２８Ｘ−１．０６Ｚ）／Ｙ
（全光線透過率）
本発明の光学フィルムの全光線透過率は、好ましくは８０％以上であり、より好ましくは９０％以上である。さらに好ましくは９３％以上である。全光線透過率は、ＪＩＳ Ｋ ７５７３「プラスチック−全光線透過率及び全光線反射率の求め方」に従って測定することができる。

（平衡含水率）
本発明の光学フィルムは、２５℃・５５％ＲＨにおける平衡含水率が３％以下であることが好ましく、２％以下であることがより好ましい。平衡含水率を３％以下とすることにより、湿度変化に対応しやすく、光学特性や寸法がより変化しにくく好ましい。

（フィルム長、幅、膜厚）
本発明の光学フィルムは、長尺であることが好ましく、具体的には、１００〜１００００ｍ程度の長さであることが好ましく、ロール状に巻き取られる。また、本発明の光学フィルムの幅は１ｍ以上であることが好ましく、更に好ましくは１．４ｍ以上であり、特に１．４〜４ｍの範囲内であることが好ましい。

光学フィルムの膜厚は、表示装置の薄型化、生産性の観点から、５〜４０μｍの範囲内であることが好ましい。膜厚が５μｍ以上であれば、一定以上のフィルム強度や位相差を発現させることができる。膜厚が４０μｍ以下であれば、所望の位相差を具備し、かつ偏光板及び表示装置の薄型化に適用できる。

（透湿度）
光学フィルムの４０℃・９０％ＲＨにおける透湿度は、３００ｇ／（ｍ^２・ｄａｙ）以下であることが好ましく、２００ｇ／（ｍ^２・ｄａｙ）以下であることがより好ましく、１０〜１００ｇ／（ｍ^２・ｄａｙ）の範囲内であることが好ましい。これは、高温高湿環境下において、透過した水分による偏光子の寸法変化を抑制するためである。透湿度は、ＪＩＳ Ｚ ０２０８に記載の方法に準拠して４０℃・９０％ＲＨの条件にて測定される。

《偏光板》
本発明の偏光板は、偏光子を挟んで、視認側に第１の保護フィルムＴ１と、他方の面側に第２の保護フィルムＴ２を有し、保護フィルムＴ１及び保護フィルムＴ２の少なくとも一方が、上記説明した本発明の光学フィルムであることを特徴とする。更には、当該保護フィルムＴ１又は保護フィルムＴ２が、紫外線吸収剤を含有していることが好ましい態様であり、さらに好ましくは当該保護フィルムＴ１及び保護フィルムＴ２が、いずれも本発明の光学フィルムであり、かつ紫外線吸収剤を含有している態様である。

他の仕様としては、上述したように、本発明の光学フィルムは、面内方向のリターデーション値Ｒｏ（ｎｍ）及びフィルムの厚さ方向のリターデーション値Ｒｔ（ｎｍ）がほぼゼロの偏光板保護フィルムであることが好ましく、液晶セル側、すなわち第２の保護フィルムＴ２として本発明の光学フィルムを貼合し、反対側の面には、従来公知の偏光板保護フィルムを貼合するといった構成とすることもできる。

一方のフィルムとして適用可能な従来公知の偏光板保護フィルムとしては、市販のセルロースエステルフィルム（例えば、コニカミノルタタック ＫＣ８ＵＸ、ＫＣ５ＵＸ、ＫＣ８ＵＣＲ３、ＫＣ８ＵＣＲ４、ＫＣ８ＵＣＲ５、ＫＣ４ＦＲ、ＫＣ４ＫＲ、ＫＣ４ＤＲ、ＫＣ４ＳＲ、ＫＣ８ＵＹ、ＫＣ６ＵＹ、ＫＣ６ＵＡ、ＫＣ４ＵＹ、ＫＣ４ＵＥ、ＫＣ８ＵＥ、ＫＣ８ＵＹ−ＨＡ、ＫＣ８ＵＸ−ＲＨＡ、ＫＣ８ＵＸＷ−ＲＨＡ−Ｃ、ＫＣ８ＵＸＷ−ＲＨＡ−ＮＣ、ＫＣ４ＵＸＷ−ＲＨＡ−ＮＣ、以上、コニカミノルタ（株）製）等が挙げられる。

図２は、本発明の偏光板の構成の一例を示す概略断面図である。

図２において、偏光板（１０１Ａ）は、偏光子（１０４Ａ）を挟んで、視認側に第１の保護フィルム（Ｔ１）が、液晶セル側に第２の保護フィルム（Ｔ２）が、それぞれ接着剤層（１０３Ａ及び１０３Ｂ）を介して配置されている構成が代表的であり、第１の保護フィルム（Ｔ１）及び第２の保護フィルム（Ｔ２）の少なくとも一方が、本発明の光学フィルムであることが特徴であるが、好ましくは液晶セル側に配置する第２の保護フィルム（Ｔ２）であり、さらに好ましくは第１の保護フィルム（Ｔ１）及び第２の保護フィルム（Ｔ２）が、いずれも本発明の光学フィルムである構成である。

本発明の偏光板においては、本発明の光学フィルム等は、適宜表面処理され、水系接着剤又は活性エネルギー線硬化性接着剤を用いて貼合される。

〔偏光子〕
偏光子は、一定方向の偏波面の光だけを通す素子であり、現在知られている代表的な偏光子は、ポリビニルアルコール系偏光フィルムである。ポリビニルアルコール系偏光フィルムには、ポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を染色させたものと、二色性染料を染色させたものとがある。

偏光子としては、ポリビニルアルコール水溶液を成膜し、これを一軸延伸させて染色するか、染色した後一軸延伸してから、好ましくはホウ素化合物で耐久性処理を行った偏光子が用いられ得る。

偏光子の膜厚は、５．０〜１５．０μｍの範囲内であり、特に５．０〜１０．０μｍの範囲内であることが好ましい。

また、特開２００３−２４８１２３号公報、特開２００３−３４２３２２号公報等に記載のエチレン単位の含有量１〜４モル％、重合度２０００〜４０００、ケン化度９９．０〜９９．９９モル％の範囲内のエチレン変性ポリビニルアルコールも好ましく用いられる。中でも、熱水切断温度が６６〜７３℃の範囲内であるエチレン変性ポリビニルアルコールフィルムが好ましく用いられる。このエチレン変性ポリビニルアルコールフィルムを用いた偏光子は、偏光性能及び耐久性能に優れている上に、色ムラが少なく、大型液晶表示装置に特に好ましく用いられる。

また、偏光板は薄膜とすることが好ましいことから、偏光子の厚さは２．０〜１５．０μｍの範囲内であることが、偏光板の強度と薄膜化を両立する観点から特に好ましい。

このような薄膜の偏光子としては、特開２０１１−１００１６１号公報、特許第４６９１２０５号公報、特許４７５１４８１号公報、特許第４８０４５８９号公報に記載の方法で、積層フィルム型の偏光子を作製することが好ましい。

〔偏光板の製造方法〕
（１．水系接着剤を用いた偏光板の作製）
本発明の偏光板は、一般的な方法で作製することができる。本発明の光学フィルムの偏光子側をコロナ処理、プラズマ処理又はエキシマ光処理等の表面処理を行い、ヨウ素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光子の少なくとも一方の面に、完全ケン化型ポリビニルアルコール水溶液（水系接着剤）を用いて貼り合わせることができる。

その場合、同様に位相差フィルムと偏光子とが、完全ケン化型ポリビニルアルコール水溶液（水系接着剤）により貼合されていることが好ましい。位相差フィルムとして、セルロースエステルフィルムを用いる場合は、表面がケン化処理されていることが好ましい。

偏光子との貼合の向きは、例えば、偏光子の吸収軸と偏光板保護フィルムの遅相軸が直交するように貼合することが好ましい。

（２．活性エネルギー線硬化型接着剤を用いた偏光板の作製）
本発明の偏光板においては、本発明の光学フィルムと偏光子の少なくとも一方の面とが、活性エネルギー線硬化型接着剤により貼合されていることが好ましい態様である。その場合、同様に上記位相差フィルムと偏光子とが、活性エネルギー線硬化型接着剤により貼合されていることが好ましい。さらに、同一種類の活性エネルギー線硬化型接着剤により貼合されていることが好ましい。

本発明においては、本発明の光学フィルムと偏光子との貼合、あるいは、他の偏光板保護フィルムと偏光子との貼合に活性エネルギー線硬化型接着剤を適用することにより、高生産性で、偏光板の変形を抑制しやすく、平面性に優れた特性を得ることができる。

（活性エネルギー線硬化型接着剤の組成）
偏光板の製造に適用可能な活性エネルギー線硬化型接着剤組成物としては、光ラジカル重合を利用した光ラジカル重合型組成物、光カチオン重合を利用した光カチオン重合型組成物、並びに光ラジカル重合及び光カチオン重合を併用したハイブリッド型組成物が知られている。

光ラジカル重合型組成物としては、特開２００８−００９３２９号公報に記載のヒドロキシ基やカルボキシ基等の極性基を含有するラジカル重合性化合物及び極性基を含有しないラジカル重合性化合物を特定割合で含む組成物等が知られている。特に、ラジカル重合性化合物は、ラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物であることが好ましい。ラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物の好ましい例には、（メタ）アクリロイル基を有する化合物が含まれる。（メタ）アクリロイル基を有する化合物の例には、Ｎ置換（メタ）アクリルアミド系化合物、（メタ）アクリレート系化合物などが含まれる。（メタ）アクリルアミドは、アクリアミド又はメタクリアミドを意味する。

また、光カチオン重合型組成物としては、特開２０１１−０２８２３４号公報に開示されているような、（α）カチオン重合性化合物、（β）光カチオン重合開始剤、（γ）３８０ｎｍより長い波長の光に極大吸収を示す光増感剤、及び（δ）ナフタレン系光増感助剤の各成分を含有する活性エネルギー線硬化型接着剤組成物が挙げられる。ただし、これら以外の活性エネルギー線硬化型接着剤が用いられてもよい。

本発明に用いる活性線硬化型接着剤としては、上記公報に記載されているような紫外線硬化型接着剤を用いることが好ましい。

以下、活性エネルギー線硬化型接着剤を用いた偏光板の製造方法の一例を説明する。

本発明の偏光板の製造工程としては、主には、
１）偏光子と本発明の光学フィルムとの接着面のうち、少なくとも一方の面に、活性エネルギー線硬化型接着剤を塗布する接着剤塗布工程と、
２）接着剤層を介して偏光子と偏光板保護フィルムとを接着し、貼り合わせる貼合工程と、
３）接着剤層を介して偏光子と偏光板保護フィルムとが接着された状態で接着剤層を硬化させる硬化工程、
を挙げることができる。また、偏光板保護フィルムの偏光子を接着する面に対し、易接着処理する前処理工程を有していてもよい。

（前処理工程）
前処理工程では、偏光子と接着する偏光板保護フィルムの表面に易接着処理を施す工程である。偏光子の両面に、偏光板保護フィルム及び位相差フィルムを活性エネルギー線硬化型接着剤を介して接着する場合には、偏光板保護フィルムのそれぞれの接着面に対し、易接着処理が施される。

次工程である接着剤塗布工程では、易接着処理された表面が偏光子との貼合面として扱われるので、偏光板保護フィルムの両表面のうち、活性エネルギー線硬化型樹脂層と貼合する面に、易接着処理を施す。易接着処理としては、例えば、コロナ処理、プラズマ処理、エキシマ光処理等が挙げられる。

（接着剤塗布工程）
接着剤塗布工程では、偏光子と偏光板保護フィルムとの接着面のうち少なくとも一方の面側に、活性エネルギー線硬化型接着剤が塗布される。偏光子又は偏光板保護フィルムの表面に直接、活性エネルギー線硬化型接着剤を塗布する場合、その塗布方法に特別な限定はない。例えば、ドクターブレード、ワイヤーバー、ダイコーター、カンマコーター、グラビアコーター等、種々の湿式塗布方式が利用できる。また、偏光子と偏光板保護フィルムの間に、活性エネルギー線硬化型接着剤を流延させたのち、ローラー等で加圧して均一に押し広げる方法も利用できる。

（貼合工程）
上記の方法により活性エネルギー線硬化型接着剤を塗布した後は、貼合工程で処理される。この貼合工程では、例えば、先の塗布工程で偏光子の表面に活性エネルギー線硬化型接着剤を塗布した場合、そこに偏光板保護フィルムが重ね合わされる。先の塗布工程で偏光板保護フィルムの表面に活性エネルギー線硬化型接着剤を塗布した場合は、そこに偏光子が重ね合わされる。また、偏光子と偏光板保護フィルムの間に活性エネルギー線硬化型接着剤を流延させた場合は、その状態で偏光子と偏光板保護フィルムとが重ね合わされる。偏光子の両面に偏光板保護フィルム及び位相差フィルムを接着する場合であって、両面とも活性エネルギー線硬化型接着剤を用いる場合は、偏光子の両面にそれぞれ、活性エネルギー線硬化型接着剤を介して偏光板保護フィルム及び位相差フィルムが重ね合わされる。そして通常は、この状態で両面（偏光子の片面に偏光板保護フィルムを重ね合わせた場合は、偏光子側と偏光板保護フィルム側、また偏光子の両面に偏光板保護フィルム及び位相差フィルムを重ね合わせた場合は、その両面の偏光板保護フィルム及び位相差フィルム側）からローラー等で挟んで加圧することになる。ローラーの材質は、金属やゴム等を用いることが可能である。両面に配置されるローラーは、同じ材質であってもよいし、異なる材質であってもよい。

（硬化工程）
硬化工程では、未硬化の活性エネルギー線硬化型接着剤に活性エネルギー線を照射して、カチオン重合性化合物（例えば、エポキシ化合物やオキセタン化合物）やラジカル重合性化合物（例えば、アクリレート系化合物、アクリルアミド系化合物等）を含む活性エネルギー線硬化型樹脂層を硬化させ、活性エネルギー線硬化型接着剤を介して重ね合わせた偏光子と偏光板保護フィルム、あるいは偏光子と位相差フィルムとを接着させる。偏光子の片面に偏光板保護フィルムを貼合する場合、活性エネルギー線は、偏光子側又は偏光板保護フィルム側のいずれから照射してもよい。また、偏光子の両面に偏光板保護フィルム及び位相差フィルムを貼合する場合、偏光子の両面にそれぞれ活性エネルギー線硬化型接着剤を介して偏光板保護フィルム及び位相差フィルムを重ね合わせた状態で、活性エネルギー線を照射し、両面の活性エネルギー線硬化型接着剤を同時に硬化させるのが有利である。

硬化に適用される活性エネルギー線としては、可視光線、紫外線、Ｘ線、電子線等を用いることができるが、取扱いが容易で硬化速度も十分であることから、一般には電子線や紫外線が好ましく用いられる。

紫外線の光源としては、例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることができる。また、ＡｒＦエキシマレーザー、ＫｒＦエキシマレーザー、エキシマランプ、シンクロトロン放射光等も用いることができる。これらの中でも、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、キセノンアーク、メタルハライドランプが好ましく用いられる。

また、電子線としては、コックロフトワルトン型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器から放出される５０〜１０００ｋｅＶ、好ましくは１００〜３００ｋｅＶの範囲内のエネルギーを有する電子線を挙げることができる。

電子線の照射条件は、接着剤を硬化することができる条件であれば、任意の適切な条件を採用できる。例えば、電子線照射は、加速電圧が好ましくは５〜３００ｋＶの範囲内であり、更に好ましくは１０〜２５０ｋＶの範囲内である。加速電圧が５ｋＶ以上であれば、電子線が接着剤まで十分到達し、所望の硬化条件を得ることができ、加速電圧が３００ｋＶ以下であれば、接着ユニットを通る浸透力が過度に強くなることがなく、透明偏光板保護フィルムや偏光子にダメージを与えることを抑制することができる。

照射線量としては、５〜１００ｋＧｙの範囲内であり、更に好ましくは１０〜７５ｋＧｙの範囲内である。照射線量が５ｋＧｙ以上であれば、活性エネルギー線硬化型接着剤の硬化が十分となり、１００ｋＧｙ以下であれば、偏光板保護フィルムや偏光子にダメージを与えることがなく、機械的強度の低下や黄変を防止することができ、所定の光学特性を得ることができる。

紫外線の照射条件は、活性エネルギー線硬化型接着剤を硬化することができる条件であれば、任意の適切な条件を採用できる。紫外線の照射量は、積算光量で５０〜１５００ｍＪ／ｃｍ^２の範囲内であることが好ましく、１００〜５００ｍＪ／ｃｍ^２の範囲内であるのが更に好ましい。

上記製造方法を連続ラインで行う場合、ライン速度は、活性エネルギー線硬化型接着剤の硬化時間によるが、好ましくは１〜５００ｍ／ｍｉｎの範囲内であり、より好ましくは５〜３００ｍ／ｍｉｎの範囲内、更に好ましくは１０〜１００ｍ／ｍｉｎの範囲内である。ライン速度が１ｍ／ｍｉｎ以上であれば、適切な生産性を確保することができ、透明な偏光板保護フィルムへのダメージを抑制でき、耐久性試験などに耐え得る偏光板を作製することができる。また、ライン速度が５００ｍ／ｍｉｎ以下であれば、得られる接着剤の硬化が十分となり、目的とする接着性を得ることができる。

以上のようにして得られた偏光板において、活性エネルギー線硬化型接着剤層の厚さは、特に限定されないが、通常０．０１〜１０μｍの範囲内であり、好ましくは０．５〜５μｍの範囲内である。

《液晶表示装置》
上記本発明の光学フィルムを貼合した偏光板を液晶表示装置に用いることによって、種々の視認性に優れた本発明の液晶表示装置を作製することができる。

本発明の偏光板は、ＳＴＮ、ＴＮ、ＯＣＢ、ＨＡＮ、ＶＡ（ＭＶＡ、ＰＶＡ）、ＩＰＳ、ＯＣＢなどの各種駆動方式の液晶表示装置に用いることができる。好ましくは、薄膜の偏光板が要求されるＩＰＳ型液晶表示装置である。

液晶表示装置には、通常視認側の偏光板とバックライト側の偏光板の２枚の偏光板が用いられるが、本発明の偏光板を両方の偏光板として用いることも好ましく、片側の偏光板として用いることも好ましい。

ＩＰＳ型液晶表示装置における上記偏光板の貼合の向きは、特開２００５−２３４４３１号公報を参照して行うことができる。

本発明に用いる液晶セルは、液晶層と、前記液晶層を挟持する一対の基板とを含み、前記一対の基板の厚さが０．３〜０．７ｍｍの範囲内のガラス基板であることが、液晶表示装置の薄型化、軽量化の観点から好ましい。

図３は、上記説明した本発明の偏光板（１０１Ａ）及び（１０１Ｂ）を液晶セル（１０１Ｃ）の両面に配置した液晶表示装置（１００）の構成の一例を示す概略断面図である。

図３において、液晶層（１０７）の両面を、透明基材としてガラス基板（１０８Ａ及び１０８Ｂ）で挟持して液晶セル（１０１Ｃ）を構成し、それぞれのガラス基板（１０８Ａ及び１０８Ｂ）のそれぞれの表面に、粘着層（１０６）を介して、図２に示す構成の偏光板（１０１Ａ及び１０１Ｂ）が配置されて、液晶表示装置（１００）を構成している。

当該偏光板（１０１Ａ及び１０１Ｂ）において、本発明の光学フィルムは、少なくとも偏光板保護フィルム１０２Ａ、１０２Ｂ又は１０５Ａ、１０５Ｂの位置に貼合されていることが好ましい。偏光板保護フィルムはそれぞれ紫外線硬化型接着剤１０３Ａ〜１０Ｄによって偏光子１０４Ａ、Ｂに貼合されている。

例えば、ＩＰＳ型液晶表示装置に具備する場合には、偏光板保護フィルム１０５Ａ（Ｔ２）及び１０５Ｂ（Ｔ３）が本発明の光学フィルムであることが好ましい。

液晶セル（１０１Ｃ）は、液晶物質の両面を配向膜、透明電極及びガラス基板（１０８Ａ及び１０８Ｂ）が配置されて構成している。

耐久性、平面性等に優れた本発明の偏光板を液晶表示装置に具備することにより、液晶セルを構成するガラス基材を薄膜化してもパネルベンドが生じにくくすることができ、その結果、薄膜化が達成された液晶表示装置を得ることができる。

液晶セル（１０１Ｃ）に用いることのできるガラス基板（１０８Ａ及び１０８Ｂ）を構成する材質としては、例えば、ソーダライムガラス、ケイ酸塩ガラスなどが挙げられ、ケイ酸塩ガラスであることが好ましく、具体的には、シリカガラス又はホウケイ酸ガラスであることがより好ましい。

ガラス基板を構成するガラスは、アルカリ成分を実質的に含有していない無アルカリガラスであること、具体的には、アルカリ成分の含有量が１０００ｐｐｍ以下であるガラスであることが好ましい。ガラス基板中のアルカリ成分の含有量は、５００ｐｐｍ以下であることが好ましく、３００ｐｐｍ以下であることがより好ましい。アルカリ成分を含有するガラス基材は、フィルム表面で陽イオンの置換が発生し、ソーダ吹きの現象が生じやすい。それにより、フィルム表層の密度が低下しやすく、ガラス基板が破損しやすいからである。

液晶表示装置を構成する液晶セルのガラス基板（１０８Ａ及び１０８Ｂ）の厚さは、０．３〜０．７ｍｍの範囲内であることが好ましい。このような厚さとすることは、液晶表示装置の薄型化形成に寄与することができる点で好ましい。

ガラス基板は、公知の方法、例えばフロート法、ダウンドロー法、オーバーフローダウンドロー法などにより成形されうる。なかでも、成形時にガラス基材の表面が成形部材と接触せず、得られるガラス基材の表面に傷がつきにくいことなどから、オーバーフローダウンドロー法が好ましい。

また、このようなガラス基板は、市販品としても入手することができ、例えば、旭硝子社製の無アルカリガラス ＡＮ１００（厚さ５００μｍ）、コーニング社製のガラス基板ＥＡＧＬＥ ＸＧ（ｒ） Ｓｌｉｍ（厚さ３００μｍ、４００μｍ等）、日本電気硝子社製のガラス基材（厚さ１００〜２００μｍ）等を挙げることができる。

また、図３に示すような偏光板（１０１Ａ、１０１Ｂ）と、液晶セル（１０１Ｃ）を構成するガラス基材（１０８Ａ、１０８Ｂ）とは、粘着層（１０６）を介して接着されている。

粘着層としては、両面テープ、例えば、リンテック社製の厚さ２５μｍの両面テープ（基材レステープ ＭＯ−３００５Ｃ）等や、あるいは前記活性光線硬化型樹脂層の形成に用いる組成物を適用することができる。

本発明の偏光板が用いられた液晶表示装置は、本発明の効果以外にも、層間の密着性に優れ、退色耐性、表示画像のエッグムラ耐性等に優れる利点を有する。

偏光板の位相差フィルム側の表面と、液晶セルの少なくとも一方の表面との貼合は、公知の手法により行われる。場合によっては、接着層を介して貼合されてもよい。

本発明の偏光板を用いることで、特に画面が３０型以上の大画面の液晶表示装置であっても、パネルベンドが抑制され、表示ムラ、正面コントラストなど視認性に優れた液晶表示装置を得ることができる。

《偏光板保護フィルムの用途》
本発明の光学フィルムは、液晶表示装置や有機エレクトロルミネッセンス表示装置等の各種表示装置用の偏光板保護フィルムとして用いることができる。本発明の光学フィルムは、位相差フィルムとしての機能を兼ねることも可能である。

以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。

実施例１
《光学フィルムの作製》
（光学フィルムの１の作製）
（微粒子分散液の調製）
シリカ粒子（アエロジルＲ８１２ 日本アエロジル（株）製） １１質量％
ジクロロメタン ８９質量％
以上をディゾルバーで５０分間撹拌混合した後、マントンゴーリン分散機を用いて分散を行い、微粒子分散液を調製した。

（微粒子添加液１の調製）
溶解タンクにジクロロメタンを入れ、ジクロロメタンを十分に撹拌しながら上記調製した微粒子分散液を５０質量％となるようにゆっくりと添加した。更に、二次粒子の粒径が、所定の大きさとなるようにアトライターにて分散を行った。これを日本精線（株）製のファインメットＮＦで濾過して、微粒子添加液１を調製した。

〈ドープ（Ｄ−１）の調製〉
下記組成物をミキシングタンクに投入し、加熱攪拌して各成分を溶解した後、平均孔径３４μｍのろ紙及び平均孔径１０μｍの焼結金属フィルターでろ過してドープ（Ｄ−１）を調製した。

シクロオレフィン系樹脂：ＡＲＴＯＮ Ｇ７８１０（ＪＳＲ社製） １００質量部
ジクロロメタン ２００質量部
エタノール １０質量部
微粒子添加液 ５．５質量部
塩化テトラメチルアンモニウム ０．４質量部
〈ウェブの形成〉
上記調製したドープ（Ｄ−１）を成膜ラインで流延し、ドープ（Ｄ−１）が自己支持性を持つまで金属支持体上で乾燥した後にウェブとしてはぎ取って、テンターに導入した。

〈光学フィルムの作製〉
次いで、テンターで、延伸率５％、テンター内温度１４０℃として、幅手方向（ＴＤ）にフィルムを延伸し搬送させた。テンター離脱直後から１００Ｎ／ｍのテンションでローラー搬送を行い、更に１４０℃で乾燥して、フィルムを巻取り長４０００ｍで巻き取り、光学フィルム１を作製した。光学フィルム１の乾燥膜厚は、１０μｍであった。なお、光学フィルム１には剥離フィルムを付与した。剥離可能な剥離フィルムとして、粘着剤付きポリエチレンテレフタレートフィルム「マスタック ＮＢＯ−０４２４」（藤森工業（株）製、厚さ６８μｍ）を用いた。

〈リターデーション値の測定〉
上記作製した光学フィルム１について、フィルム面内のリターデーション値Ｒｏ、及びフィルム膜厚方向のリターデーション値Ｒｔを、５９０ｎｍの波長において、三次元屈折率測定を行い、得られた屈折率ｎ_ｘ、ｎ_ｙ、ｎ_ｚから算出した結果、Ｒｏが２ｎｍ、Ｒｔが４ｎｍであった。

（光学フィルム２〜３０の作製）
上記偏光板保護フィルム１の作製において、シクロオレフィン系樹脂の種類、界面活性剤の種類と添加量、シリカ粒子の種類と添加量及び光学フィルムの厚さを表１及び表２のように変更した以外は光学フィルム１と同様にして、光学フィルム２〜３０を作製した。

ここで、試料作製に用いた材料を、表１及び表２に示した略号とともに以下に記す。
Ａ：シクロオレフィン系樹脂 ＡＲＴＯＮ Ｇ７８１０（ＪＳＲ社製）
Ｂ：シクロオレフィン系樹脂 ＡＲＴＯＮ Ｒ５０００（ＪＳＲ社製）
Ｃ：シクロオレフィン系樹脂 ＡＲＴＯＮ ＲＸ４５００（ＪＳＲ社製）
Ｓ１：カチオン性界面活性剤 塩化テトラメチルアンモニウム（東京化成社製）
Ｓ２：カチオン性界面活性剤 ラウリルトリメチルアンモニウムクロライド（東京化成社製）
Ｓ３：カチオン性界面活性剤 ステアリルトリメチルアンモニウムクロライド（東京化成社製）
Ｓ４：アニオン性界面活性剤 ドデシル硫酸ナトリウム（東京化成社製）
Ｓ５：両イオン性界面活性剤 ラウリルジメチルアミノ酢酸ベタイン（東京化成社製）
Ｓ６：非イオン性界面活性剤 ソルビタンモノラウレート（東京化成社製）
Ｒ８１２：アエロジルＲ８１２（日本アエロジル（株）製）
Ｒ２００Ｖ：アエロジルＲ２００（日本アエロジル（株）製）
Ｒ８１２Ｓ：アエロジルＲ８２１Ｓ（日本アエロジル（株）製）
<シリカ粒子の疎水度の測定>
シリカ粒子の疎水化度は、メタノールウエッタビリティ法（以下、ＭＷ法と称する。）を用いて、本法で求められるメタノールウエッタビリティ値（以下、ＭＷ値と称する。）で表した。

上記のＭＷ法において、微粒子の疎水化度を定量化するためには、メタノールと純水とを混合させた第１溶液及び第２溶液をそれぞれ用いた。このとき、メタノールと純水との配合比は、第１溶液においては体積比が３：７であり、また、第２溶液では体積比が６：４である。そして、各溶液に前記微粒子を同量添加して撹拌混合し、この混合した各溶液を遠心分離させて、前記微粒子の沈降物の体積をそれぞれ求め、第１溶液における微粒子の沈降物の体積をｔｍＬとし、第２溶液における微粒子の沈降物の体積をｓｍＬとしたときに、それぞれＭＷ値を、第１溶液におけるＭＷ値＝（ｔ／Ａ）×１００［％］、及び第２溶液におけるＭＷ値＝（ｓ／Ａ）×１００［％］から求めた。ここで、Ａは、初めに添加したシリカ粒子の体積（ＡｍＬ）である。

〔メタノールウエッタビリティ法〕
（１）メタノール溶液Ｃと純水Ｄとを、体積比で３：７になるように混合して、第１溶液Ａを調製する（例えば、メタノール溶液Ｃが４０ｍＬに対して、純水Ｄが６０ｍＬ）
（２）次に、１０ｍＬの沈降管Ｆに、０．２ｇのシリカ粒子粉末Ｅと７ｍＬの第１溶液Ａとを入れる。
（３）沈降管Ｆにふたをして、ターブラーミキサを用いて、微粒子粉末Ｅを第１溶液Ａ中に振盪混合する。この際、ターブラーミキサの条件は９０ｒｐｍで３０秒間である。
（４）シリカ粒子粉末Ｅを沈降させるため、遠心分離機を用いる。遠心分離機の条件は、３５００ｒｐｍで１０分間である。
（５）沈降管の目盛で読み取ることができる沈降した微粒子粉末Ｅの沈降物量を体積として読み取り、その値をｔｍＬとする。
（６）新たに、メタノール溶液Ｃと純水Ｄとが、体積比で６：４となるように混合して、第２溶液Ｂを調製する（例えば、メタノール溶液Ｃが６０ｍＬに対して、純水Ｄが４０ｍＬ）。
（７）第２溶液Ｂを用いて、上記（２）〜（５）と同じ手順（８）〜（１１）により、シリカ粒子粉末Ｅの沈降物を作製して、沈降管の目盛で読み取ることができる沈降したシリカ粒子粉末Ｅの沈降物量を体積として読み取り、その値をｓｍＬとする。
（１２）下記の式によりＭＷ値（％）を求める。

第１溶液におけるＭＷ値＝（ｔ／Ａ）×１００［％］
第２溶液におけるＭＷ値＝（ｓ／Ａ）×１００［％］
ここで、Ａは、初めに添加したシリカ粒子の体積（ＡｍＬ）である。

用いたシリカ粒子について、それぞれＭＷ法で求めた疎水化度は表１及び表２に示した。

《光学フィルムの評価》
作製した光学フィルム１〜３０について、それぞれ、位相差値、表面抵抗値、半減期、高温高湿下でのヘイズの増加、着色及び全光線透過率を評価した。

〈位相差値〉
上記作製した偏光板保護フィルムについて、フィルム面内のリターデーション値Ｒｏ、及びフィルム膜厚方向のリターデーション値Ｒｔを、自動複屈折率計アクソスキャン（Ａｘｏ Ｓｃａｎ Ｍｕｅｌｌｅｒ Ｍａｔｒｉｘ Ｐｏｌａｒｉｍｅｔｅｒ：アクソメトリックス社製）を用いて、２３℃・５５％ＲＨの環境下、５９０ｎｍの波長において、三次元屈折率測定を行い、得られた屈折率ｎ_ｘ、ｎ_ｙ、ｎ_ｚから算出した。

〈表面抵抗値〉
試料を２３℃、５０％ＲＨの環境下で２４時間調湿した後、 ダイヤインスツルメント社製 高抵抗率計(Ｈｉｒｅｓｔａ ＩＰ ＭＣＰ−ＴＥＳＴＥＲ ＨＴ−２６０)を用い、印加電圧を５００Ｖとしたときの抵抗値を表面固有抵抗値とした。２３℃×５０％ＲＨ環境下で測定し、単位はΩ／ｓｑである。
〈半減期〉
試料を２３℃、５０％ＲＨの環境下で２４時間調湿した後、シシド静電気社製ＳＴＡＴＩＣＨＯＮＥＳＭＥＴＥＲ(半減期)(Ｓ-５１０９型)を用い、極間放電圧：１０ｋｖ、ターンテーブル回転数：１７３０ｒｐｍの条件で、帯電防止性能を有するガスバリア積層体を３０秒間帯電させた後、初期帯電電圧が半分に低下するまでの時間を測定し、半減期とした。２３℃×５０％ＲＨ環境下で測定し、単位は秒(ｓｅｃ)である。

半減期は２００秒以下であることが、静電気による誤作動を防止する上で好ましい。

〈高温高湿下でのヘイズの増加〉
８０℃９０％の環境下で３００時間静置した前後のフィルムのヘイズ（％）の差ΔＨｚを測定し、高温・高湿環境下におけるヘイズ耐久性を以下の評価基準でランク付けした。
なお、ヘイズメーターは日本電色社製、製品名「ＮＤＨ ２０００」を用い、ＪＩＳ Ｋ−７１３６に準拠してヘイズ（％）を測定した。

◎：ΔＨｚが０．１％未満である
○：ΔＨｚが０．１％以上０．３未満である
△：ΔＨｚが０．３％以上である
〈着色〉
８０℃９０％の環境下で３００時間静置した前後の光学フィルムのイエローインデックスの差ΔＹＩを求め、これを着色の評価とした。

イエローインデックス（ＹＩ）は、ＪＩＳ Ｋ−７１０５−６．３に記載の方法で求める。具体的なイエローインデックス値の測定方法としては、（株）日立ハイテクノロジー製の分光光度計Ｕ−３２００と附属の彩度計算プログラム等を用いて、色の三刺激値Ｘ、Ｙ、Ｚを求め、下式に従ってイエローインデックス値を求めた。

イエローインデックス（ＹＩ）＝１００（１．２８Ｘ−１．０６Ｚ）／Ｙ
◎：ΔＹＩが０．０５未満である
○：ΔＹＩが０．０５以上０．１未満である
△：ΔＹＩが０．１以上０．１５未満である
×：ΔＹＩが０．１以上０．１５以上である
〈全光線透過率〉
透明性の評価として全光線透過率を評価した。各光学フィルムの全光線透過率は、２３℃・５５％ＲＨの空調室で２４時間調湿した試料１枚をＪＩＳ Ｋ−７３７５に従って、（株）日立ハイテクノロジーズの分光光度計Ｕ−３３００を用いて可視光領域（４００〜７００ｎｍの範囲）の透過率を測定し、平均値を求め、以下の評価基準で評価した。

◎：９０％以上
○：８５％以上９０％未満
△：８０％以上８５％未満
×：８０％未満
《偏光板の作製》
下記の方法に従って、偏光板１〜３０を作製した。

（偏光子の作製）
平均重合度２４００、ケン化度９９．９モル％の厚さ３０μｍのポリビニルアルコールフィルムを、３０℃の温水中に６０秒間浸漬して膨潤させた。次いで、得られたポリビニルアルコールフィルムを、ヨウ素／ヨウ化カリウム（質量比＝０．５／８）の濃度０．３質量％の水溶液に浸漬し、３．５倍まで延伸させながら染色した。その後、得られたポリビニルアルコールフィルムを、６５℃のホウ酸エステル水溶液中で、トータルの延伸倍率が６．０倍となるように延伸した。その後、得られたポリビニルアルコールフィルムを、４０℃のオーブンにて３分間乾燥して、厚さ１０μｍの偏光子を得た。

（偏光板の作製）
偏光膜の表面に、ｎ−ブチルアクリレートが９０質量％、エチルアクリレートが７質量％、アクリル酸が３質量％からなるアクリル系樹脂１００部と、トリレンジイソシアナート（３モル）のトリメチロールプロパン（１モル）付加物の７５質量％酢酸エチル溶液からなる架橋剤の２部とを混合して得られた粘着剤を用いて、上記作製した光学フィルムを図２に記載のＴ２（１０５Ａ）の位置に、市販のトリアセチルセルロースフィルム（厚さ４０μｍ、コニカミノルタ社製）を図２に記載のＴ１（１０２Ａ）の位置に、それぞれ偏光子（１０４）の片面に粘着させ、メタルハライドランプを２８０〜３２０ｎｍの波長における積算光量が３２０ｍＪ／ｃｍ^２となるように第１の保護フィルム側から照射して、両面の接着剤を硬化させて、各偏光板１〜３０を得た。

《液晶表示装置の作製》
ＩＰＳ型のタブレット型液晶表示装置であるソニーモバイルコミュニケーションズ株式会社製の商品名『ＸＰＥＲＩＡ Ｚ４ Ｔａｂｌｅｔ』の偏光板を剥がし、液晶セルを挟むようにして、前記作製した偏光板２枚を偏光板の偏光軸が元と変わらないように互いに直交するように貼り付け、偏光板で挟まれていないところは光が漏れないように表示側から、黒いテープを貼り、簡易的なＩＰＳ型カラー液晶ディスプレイを作製した。

〈視認性〉
液晶表示装置としての視認性を、下記の基準で評価し、ランク付けを行った。

○：コントラスト、色ムラともに問題ない
△：コントラスト、色ムラの片方にわずかな劣化が見られた
×：コントラスト、色ムラのどちらかでも明らかな劣化が見られた
以上の評価結果をまとめて表１及び表２に示す。

表１及び表２に記載の結果から明らかなように、本発明の光学フィルムは、比較例に対し、明らかに着色（ΔＹＩ）が少なく、かつ帯電防止性と透明性に優れていることが分かる。

１ 溶解釜
３、６、１２、１５ 濾過器
４、１３ ストックタンク
５、１４ 送液ポンプ
８、１６ 導管
１０ 紫外線吸収剤仕込釜
２０ 合流管
２１ 混合機
３０ 加圧ダイ
３１ 金属支持体
３２ ウェブ
３３ 剥離位置
３４ テンター装置
３５ ローラー乾燥装置
４１ 仕込釜
４２ ストック釜
４３ ポンプ
４４ 濾過器
１００ 液晶表示装置
１０１Ａ、１０１Ｂ 偏光板
１０１Ｃ 液晶セル
１０２Ａ 偏光板保護フィルムＴ１
１０２Ｂ 偏光板保護フィルムＴ４
１０３Ａ、１０３Ｂ、１０３Ｃ、１０３Ｄ 紫外線硬化型接着剤
１０４Ａ、１０４Ｂ 偏光子
１０５Ａ 偏光板保護フィルムＴ２
１０５Ｂ 偏光板保護フィルムＴ３
１０６ 粘着層
１０７ 液晶層
１０８Ａ、１０８Ｂ ガラス基板
ＢＬ バックライト

Claims (8)

1. シクロオレフィン系樹脂を主成分とする光学フィルムであって、前記光学フィルムが、メタノールウエッタビリティ法で測定される疎水化度が、メタノールと純水が体積比で３：７の第１溶液を用いたときの当該疎水化度が２０％以下であり、メタノールと純水が体積比で６：４の第２溶液を用いたときの当該疎水化度８０％以上であるシリカ粒子と、有機系の非イオン性界面活性剤、アニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤及び両性界面活性剤から選ばれる少なくとも一種の界面活性剤とを含有し、かつ２３℃・５０％ＲＨの環境下で２４時間調湿した後の表面抵抗値が１．０×１０^７〜１．０×１０^９Ω／ｓｑの範囲内であることを特徴とする光学フィルム。
2. 上記界面活性剤が、カチオン性界面活性剤であることを特徴とする請求項１に記載の光学フィルム。
3. 前記シリカ粒子をフィルム全質量に対し、０．１〜０．５質量％の範囲内で含有することを特徴とする請求項１又は２に記載の光学フィルム。
4. 前記界面活性剤をフィルム全質量に対し、０．５〜８質量％の範囲内で含有することを特徴とする請求項１から請求項３までのいずれか一項に記載の光学フィルム。
5. 膜厚が、５〜４０μｍの範囲内であることを特徴とする請求項１から請求項４までのいずれか一項に記載の光学フィルム。
6. 下記式（ｉ）で定義される面内方向のリターデーション値Ｒｏが、０〜１０ｎｍの範囲内であり、下記式（ii）で定義される厚さ方向のリターデーション値Ｒｔが、−１０〜１０ｎｍの範囲内であることを特徴とする請求項１から請求項５までのいずれか一項に記載の光学フィルム。
   式（ｉ） Ｒｏ＝（ｎ_ｘ−ｎ_ｙ）×ｄ
   式（ii） Ｒｔ＝｛（ｎ_ｘ＋ｎ_ｙ）／２−ｎ_ｚ｝×ｄ
   （式中、ｎ_ｘは、フィルム面内の遅相軸方向の屈折率を表す。ｎ_ｙは、フィルム面内の進相軸方向の屈折率を表す。ｎ_ｚは、フィルムの厚さ方向の屈折率を表す（屈折率は２３℃・５５％ＲＨの環境下、波長５９０ｎｍで測定。）。ｄは、フィルムの厚さ（ｎｍ）を表す。）
7. 偏光子を挟んで、視認側に第１の保護フィルムＴ１と、他方の面側に第２の保護フィルムＴ２を有する偏光板であって、保護フィルムＴ１及び保護フィルムＴ２の少なくとも一方が、請求項１から請求項６までのいずれか一項に記載の光学フィルムであることを特徴とする偏光板。
8. 請求項７に記載の偏光板を具備していることを特徴とする液晶表示装置。

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