JP2015201529A - 加工方法 - Google Patents
加工方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2015201529A JP2015201529A JP2014078890A JP2014078890A JP2015201529A JP 2015201529 A JP2015201529 A JP 2015201529A JP 2014078890 A JP2014078890 A JP 2014078890A JP 2014078890 A JP2014078890 A JP 2014078890A JP 2015201529 A JP2015201529 A JP 2015201529A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- workpiece
- laser beam
- beam irradiation
- irradiation step
- recess
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000003672 processing method Methods 0.000 title claims abstract description 18
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims abstract description 14
- 230000004048 modification Effects 0.000 abstract description 4
- 238000012986 modification Methods 0.000 abstract description 4
- 230000035699 permeability Effects 0.000 abstract 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 8
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 4
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 2
- 230000011218 segmentation Effects 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002679 ablation Methods 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Laser Beam Processing (AREA)
- Dicing (AREA)
Abstract
Description
11a 表面
11b 裏面
11c 外周
13 デバイス領域
15 外周余剰領域
17,17a,17b 分割予定ライン(ストリート)
19 デバイス
21 凹部
23 改質層(第一改質層)
25 改質層(第二改質層)
31 エキスパンドシート
33 フレーム
2 レーザー加工装置
4 レーザー加工ヘッド
10 エキスパンド装置
12 被加工物支持機構
14 拡張ドラム
16 フレーム支持テーブル
18 クランプ
20 昇降機構
22 シリンダケース
24 ピストンロッド
L1,L2 レーザービーム
P1,P2 集光点
Claims (2)
- 複数の分割予定ラインを有した被加工物に対して透過性を有する波長のレーザービームを照射して被加工物を加工する加工方法であって、
被加工物の表面には、該分割予定ライン上において局所的に凹部が形成されており、
被加工物の裏面側から被加工物に対して透過性を有する波長の該レーザービームの集光点を該凹部の底部よりも被加工物の表面側の第一位置に位置付け、該分割予定ラインに沿って該レーザービームを照射して第一改質層を形成する第一レーザービーム照射ステップと、
該第一レーザービーム照射ステップを実施した後、被加工物の裏面側から該レーザービームの集光点を該凹部の該底部よりも被加工物の裏面側の第二位置に位置付け、該分割予定ラインに沿って該レーザービームを照射して第二改質層を形成する第二レーザービーム照射ステップと、を備え、
該第一レーザービーム照射ステップでは、該分割予定ライン上の該凹部において該レーザービームの照射を停止することを特徴とする加工方法。 - 該第一レーザービーム照射ステップを実施する前に、被加工物の裏面にエキスパンドシートを貼着するエキスパンドシート貼着ステップと、
該第二レーザービーム照射ステップを実施した後、該エキスパンドシートを拡張することで被加工物に外力を付与して被加工物を該分割予定ラインに沿って分割する分割ステップと、を備えたことを特徴とする請求項1に記載の加工方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014078890A JP6226803B2 (ja) | 2014-04-07 | 2014-04-07 | 加工方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014078890A JP6226803B2 (ja) | 2014-04-07 | 2014-04-07 | 加工方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015201529A true JP2015201529A (ja) | 2015-11-12 |
JP6226803B2 JP6226803B2 (ja) | 2017-11-08 |
Family
ID=54552552
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014078890A Active JP6226803B2 (ja) | 2014-04-07 | 2014-04-07 | 加工方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6226803B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2019038703A (ja) * | 2017-08-22 | 2019-03-14 | 株式会社ディスコ | チップの製造方法 |
US11195757B2 (en) | 2019-02-19 | 2021-12-07 | Disco Corporation | Wafer processing method |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006074025A (ja) * | 2004-08-06 | 2006-03-16 | Hamamatsu Photonics Kk | レーザ加工方法 |
JP2006114627A (ja) * | 2004-10-13 | 2006-04-27 | Hamamatsu Photonics Kk | レーザ加工方法 |
WO2009078231A1 (ja) * | 2007-12-19 | 2009-06-25 | Tokyo Seimitsu Co., Ltd. | レーザーダイシング装置及びダイシング方法 |
JP2009283753A (ja) * | 2008-05-23 | 2009-12-03 | Disco Abrasive Syst Ltd | ウエーハのレーザー加工方法およびレーザー加工装置 |
JP2012190977A (ja) * | 2011-03-10 | 2012-10-04 | Disco Abrasive Syst Ltd | レーザー加工装置 |
-
2014
- 2014-04-07 JP JP2014078890A patent/JP6226803B2/ja active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006074025A (ja) * | 2004-08-06 | 2006-03-16 | Hamamatsu Photonics Kk | レーザ加工方法 |
JP2006114627A (ja) * | 2004-10-13 | 2006-04-27 | Hamamatsu Photonics Kk | レーザ加工方法 |
WO2009078231A1 (ja) * | 2007-12-19 | 2009-06-25 | Tokyo Seimitsu Co., Ltd. | レーザーダイシング装置及びダイシング方法 |
JP2009283753A (ja) * | 2008-05-23 | 2009-12-03 | Disco Abrasive Syst Ltd | ウエーハのレーザー加工方法およびレーザー加工装置 |
JP2012190977A (ja) * | 2011-03-10 | 2012-10-04 | Disco Abrasive Syst Ltd | レーザー加工装置 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2019038703A (ja) * | 2017-08-22 | 2019-03-14 | 株式会社ディスコ | チップの製造方法 |
US11195757B2 (en) | 2019-02-19 | 2021-12-07 | Disco Corporation | Wafer processing method |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6226803B2 (ja) | 2017-11-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5568760B2 (ja) | レーザーによって脆い物質で作られた平行平面板を複数の個々のプレートに分割する方法及び装置 | |
JP5313036B2 (ja) | 粘着テープの拡張方法 | |
JP6214192B2 (ja) | 加工方法 | |
JP2017147361A (ja) | ウエーハの加工方法 | |
JP6230381B2 (ja) | 加工方法 | |
JP5090897B2 (ja) | ウェーハの分割方法 | |
JP2015069975A (ja) | 被加工物の加工方法 | |
KR102250216B1 (ko) | 웨이퍼의 가공 방법 | |
TWI697946B (zh) | 晶圓的加工方法 | |
JP2012186287A (ja) | ウエーハのレーザー加工方法およびレーザー加工装置 | |
JP5860219B2 (ja) | レーザー加工装置 | |
JP2016081990A (ja) | ウエーハの分割方法 | |
JP6523882B2 (ja) | ウエーハの加工方法 | |
KR102356848B1 (ko) | 웨이퍼의 가공 방법 | |
TWI701730B (zh) | 晶圓之加工方法 | |
JP6045361B2 (ja) | ウエーハの加工方法 | |
JP6226803B2 (ja) | 加工方法 | |
KR102256562B1 (ko) | 적층 기판의 가공 방법 | |
JP2019033212A (ja) | 分割方法 | |
JP2016042526A (ja) | ウェーハの加工方法 | |
CN113380608A (zh) | 芯片的制造方法 | |
JP2014067818A (ja) | フレームユニットのテープ弛み固定方法 | |
CN107030389B (zh) | 晶片的加工方法 | |
CN109848587B (zh) | 晶片的加工方法 | |
JP2015107491A (ja) | レーザー加工方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20170216 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20171010 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20171012 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20171010 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6226803 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |