JP2015105199A - 光ファイバおよび光ファイバ母材 - Google Patents
光ファイバおよび光ファイバ母材 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2015105199A JP2015105199A JP2013247575A JP2013247575A JP2015105199A JP 2015105199 A JP2015105199 A JP 2015105199A JP 2013247575 A JP2013247575 A JP 2013247575A JP 2013247575 A JP2013247575 A JP 2013247575A JP 2015105199 A JP2015105199 A JP 2015105199A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- core
- optical fiber
- alkali metal
- atomic ppm
- chlorine
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 title claims abstract description 105
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 65
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims abstract description 64
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 61
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims abstract description 61
- 238000005253 cladding Methods 0.000 claims abstract description 30
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims abstract description 29
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 60
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 claims description 58
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 39
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 claims description 39
- 239000011591 potassium Substances 0.000 claims description 39
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 15
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 claims description 6
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 abstract description 7
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 abstract description 7
- 239000000835 fiber Substances 0.000 abstract description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 41
- 238000000034 method Methods 0.000 description 16
- IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M potassium bromide Chemical compound [K+].[Br-] IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 16
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 9
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 9
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 8
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 8
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 8
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 8
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 8
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 8
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 7
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 7
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 7
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 5
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 5
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 4
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 4
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 3
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 3
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 3
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910005793 GeO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 2
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 2
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 238000001069 Raman spectroscopy Methods 0.000 description 1
- -1 alkali metal salt Chemical class 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 1
- 150000002366 halogen compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 229910052701 rubidium Inorganic materials 0.000 description 1
- IGLNJRXAVVLDKE-UHFFFAOYSA-N rubidium atom Chemical compound [Rb] IGLNJRXAVVLDKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/018—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by glass deposition on a glass substrate, e.g. by inside-, modified-, plasma-, or plasma modified- chemical vapour deposition [ICVD, MCVD, PCVD, PMCVD], i.e. by thin layer coating on the inside or outside of a glass tube or on a glass rod
- C03B37/01807—Reactant delivery systems, e.g. reactant deposition burners
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C13/00—Fibre or filament compositions
- C03C13/04—Fibre optics, e.g. core and clad fibre compositions
- C03C13/045—Silica-containing oxide glass compositions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2201/00—Type of glass produced
- C03B2201/06—Doped silica-based glasses
- C03B2201/20—Doped silica-based glasses doped with non-metals other than boron or fluorine
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2201/00—Type of glass produced
- C03B2201/06—Doped silica-based glasses
- C03B2201/30—Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi
- C03B2201/50—Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi doped with alkali metals
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2203/00—Fibre product details, e.g. structure, shape
- C03B2203/10—Internal structure or shape details
- C03B2203/22—Radial profile of refractive index, composition or softening point
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2203/00—Fibre product details, e.g. structure, shape
- C03B2203/10—Internal structure or shape details
- C03B2203/22—Radial profile of refractive index, composition or softening point
- C03B2203/23—Double or multiple optical cladding profiles
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2203/00—Fibre product details, e.g. structure, shape
- C03B2203/10—Internal structure or shape details
- C03B2203/22—Radial profile of refractive index, composition or softening point
- C03B2203/26—Parabolic or graded index [GRIN] core profile
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2203/00—Fibre product details, e.g. structure, shape
- C03B2203/34—Plural core other than bundles, e.g. double core
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2201/00—Glass compositions
- C03C2201/06—Doped silica-based glasses
- C03C2201/08—Doped silica-based glasses containing boron or halide
- C03C2201/11—Doped silica-based glasses containing boron or halide containing chlorine
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2201/00—Glass compositions
- C03C2201/06—Doped silica-based glasses
- C03C2201/08—Doped silica-based glasses containing boron or halide
- C03C2201/12—Doped silica-based glasses containing boron or halide containing fluorine
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2201/00—Glass compositions
- C03C2201/06—Doped silica-based glasses
- C03C2201/30—Doped silica-based glasses containing metals
- C03C2201/50—Doped silica-based glasses containing metals containing alkali metals
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/02—Optical fibres with cladding with or without a coating
- G02B6/036—Optical fibres with cladding with or without a coating core or cladding comprising multiple layers
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P40/00—Technologies relating to the processing of minerals
- Y02P40/50—Glass production, e.g. reusing waste heat during processing or shaping
- Y02P40/57—Improving the yield, e-g- reduction of reject rates
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
- Optical Fibers, Optical Fiber Cores, And Optical Fiber Bundles (AREA)
- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
Abstract
【課題】伝送損失が低い光ファイバ、およびこのような光ファイバを得るために使用され、コア部に結晶が発生し難い光ファイバ母材を提供する。
【解決手段】光ファイバは、コアとコアを取り囲むクラッドとを備える光ファイバであって、コアはアルカリ金属元素と塩素元素とを含み、コアにおけるアルカリ金属元素の平均濃度は0.1原子ppm以上20原子ppm以下であり、コアにおける塩素元素の平均濃度は800原子ppm以下であり、波長1550nmにおける伝送損失は0.185dB/km以下である。
【選択図】図2
【解決手段】光ファイバは、コアとコアを取り囲むクラッドとを備える光ファイバであって、コアはアルカリ金属元素と塩素元素とを含み、コアにおけるアルカリ金属元素の平均濃度は0.1原子ppm以上20原子ppm以下であり、コアにおける塩素元素の平均濃度は800原子ppm以下であり、波長1550nmにおける伝送損失は0.185dB/km以下である。
【選択図】図2
Description
本発明は、アルカリ金属元素を添加した光ファイバおよび光ファイバ母材に関する。
アルカリ金属元素をコアに添加した石英ガラス系の光ファイバが知られている(例えば、特許文献1〜11を参照)。光ファイバ母材のコア部にアルカリ金属元素が添加されていると、光ファイバ母材を線引きするときにコア部の粘性を下げることができ、石英ガラスのネットワーク構造の緩和が進行するため、光ファイバの伝送損失を低減することが可能であるといわれている。
アルカリ金属元素を石英ガラス中に添加する方法としては拡散法が知られている(例えば特許文献1、2を参照)。拡散法は、原料となるアルカリ金属元素またはアルカリ金属塩などの原料蒸気をガラスパイプ内に導入しながら、ガラスパイプを外部熱源により加熱したり、ガラスパイプ内にプラズマを発生させたりすることで、アルカリ金属元素をガラスパイプの内表面に拡散添加するものである。
このようにしてアルカリ金属元素をガラスパイプの内表面近傍に添加した後、このガラスパイプを加熱して縮径させる。縮径後、アルカリ金属元素の添加の際に同時に添加されてしまうNiやFeなどの遷移金属元素を除去する目的で、ガラスパイプの内表面のある厚みをエッチングする。アルカリ金属元素は遷移金属元素よりも拡散が速いためガラス表面をある厚みでエッチングして遷移金属元素を除去してもアルカリ金属元素を残留させることが可能である。エッチング後、ガラスパイプを加熱して中実化することで、アルカリ金属元素添加コアロッドを製造する。このアルカリ金属元素添加コアロッドの外側にアルカリ金属元素添加コアロッドを含むコア部よりも屈折率の低いクラッド部を合成することで光ファイバ母材を製造する。そして、この光ファイバ母材を公知の方法で線引きすることで光ファイバを製造することができる。
しかし、特許文献1〜11に記載の技術では、製造工程において光ファイバ母材のコア部に結晶が発生し易かった。そして、このようにコア部に結晶が発生した光ファイバ母材を線引きして得られる光ファイバは、伝送損失が大きくなるという課題があった。
本発明は、上記問題点を解決するためになされたものであり、伝送損失が低い光ファイバ、およびこのような光ファイバを得るために使用され、コア部に結晶が発生し難い光ファイバ母材を提供することを目的とする。
本発明の光ファイバは、コアとコアを取り囲むクラッドとを備える光ファイバであって、コアはアルカリ金属元素と塩素元素とを含み、コアにおけるアルカリ金属元素の平均濃度は0.1原子ppm以上20原子ppm以下であり、コアにおける塩素元素の平均濃度は800原子ppm以下であり、波長1550nmにおける伝送損失は0.185dB/km以下である。
本発明の光ファイバは、コアのおける塩素濃度の平均濃度は300原子ppm以上であるのが好適である。また、本発明の光ファイバは、コアは更にフッ素元素を含み、コアにおけるアルカリ金属元素、塩素元素およびフッ素元素以外のドーパントの平均濃度は10原子ppm以下であるのが好適である。また、本発明の光ファイバは、コアはアルカリ金属元素としてカリウム元素を含むのが好適である。
本発明の光ファイバ母材は、コア部とコア部を取り囲むクラッド部とを備え、上記の光ファイバを得るために使用される石英ガラス系の光ファイバ母材であって、コア部は第一コア部と第一コア部を取り囲む第二コア部とを有し、コア部におけるアルカリ金属元素は第一コア部および第二コア部のうち第一コア部に選択的に含まれ、第二コア部におけるアルカリ金属元素の平均濃度は10原子ppm以下であり、第一コア部における塩素元素の平均濃度は第二コア部における塩素元素の平均濃度よりも小さい。
本発明の光ファイバ母材は、コア部とコア部を取り囲むクラッド部とを備え、上記の光ファイバを得るために使用される石英ガラス系の光ファイバ母材であって、コア部はアルカリ金属元素と塩素元素とを含み、コア部におけるアルカリ金属元素の平均濃度は5原子ppm以上100原子ppm以下であり、コア部における塩素元素の平均濃度は1000原子ppm未満である。
本発明によれば、伝送損失が低い光ファイバ、およびこのような光ファイバを得るために使用され、コア部に結晶が発生し難い光ファイバ母材を提供することができる。
以下、添付図面を参照して、本発明を実施するための形態を詳細に説明する。なお、図面の説明において同一の要素には同一の符号を付し、重複する説明を省略する。
本発明者は、アルカリ金属元素がコアに添加された石英系ガラスからなる光ファイバについて研究を行う過程で、以下のような知見を得た。アルカリ金属元素が添加されたガラスは、ガラス転移点が1000〜1400℃に低温化し、その結晶化速度が速くなるため、結晶化し易くなることが判った。また、アルカリ金属元素添加コアロッドにアルカリ金属元素およびハロゲン元素のうち少なくともどちらか一方が高濃度に含まれていると、光ファイバ母材の製造工程においてアルカリ金属元素とハロゲン元素とが結合する。これにより、アルカリ金属元素のハロゲン化合物がガラス中に多く生成され、ガラス中に結晶が発生し易くなることが判った。
先ず、本実施形態の光ファイバ母材1について説明する。図1は、本実施形態の光ファイバ母材1の断面図である。光ファイバ母材1は、石英系ガラスからなり、コア部10と、このコア部10を取り囲むクラッド部20とを備える。コア部10は、第一コア部11と、この第一コア部11を取り囲む第二コア部12とを有する。クラッド部20は、第二コア部12を取り囲む第一クラッド部(光学クラッド部)21と、この第一クラッド部21を取り囲む第二クラッド部(物理クラッド部)22とを有する。
次に、光ファイバ母材1のコア部10におけるアルカリ金属元素および塩素元素の濃度範囲について説明する。図2は、コア部10における結晶化発生のカリウム(K)元素および塩素(Cl)元素濃度依存性を示すグラフである。これによれば、結晶化発生を防ぐためには、コア部10におけるカリウム元素の平均濃度は100原子ppm以下、塩素元素の平均濃度は1000原子ppm未満であることが望ましい。また図6、7に示すようにこの光ファイバ母材1を線引きするとコア部10に添加されたアルカリ金属元素および塩素元素共にコア部10から拡散が進む。そのため、ファイバ状態でのコアのアルカリ金属元素の平均濃度の好適値は20原子ppm以下、塩素元素の平均濃度の好適値は800原子ppm以下で、また塩素元素の濃度は薄すぎると欠陥が増大し、伝送損失増の要因となるため、少なくとも300原子ppm以上であることが望ましい。
また、一方で、光ファイバ母材1のコア部10にカリウム元素が添加されていると、光ファイバ母材1を線引きするときにコア部10の粘性を下げることができ、石英ガラスのネットワーク構造の緩和が進行するため、光ファイバの伝送損失を低減することが可能である。このことから少なくとも光ファイバ母材1のコア部10におけるカリウム元素の平均濃度は5原子ppm以上であることが望ましい。図6に示すようにファイバ状態でのコアのアルカリ金属元素の平均濃度の好適値は、0.1原子ppm以上である。
特許文献5,6には、屈折率を増加させるための金属酸化物(GeO2、Al2O3等)を実質的に含まず、アルカリ金属元素を添加したコアを有する光ファイバにおいては、塩素元素濃度を低くした方が伝送損失を低減できること、塩素元素を実質的に含まないか、塩素元素濃度が500重量ppm以下であることが望ましいこと、および、カリウム元素濃度はK2Oで50〜500重量ppmが望ましいことが記載されている。なお、本明細書では、屈折率を増加させるための金属酸化物(GeO2、Al2O3等)を実質的に含まないガラスを「純石英ガラス」と呼ぶ。
ここで、濃度換算としては以下の通りとなる。
塩素元素濃度 Cl:1重量ppm ≒ Cl:1.7原子ppm
カリウム元素濃度 K2O:1重量ppm ≒ K:1.3原子ppm
塩素元素濃度 Cl:1重量ppm ≒ Cl:1.7原子ppm
カリウム元素濃度 K2O:1重量ppm ≒ K:1.3原子ppm
これにより、特許文献5,6について塩素元素濃度を原子ppmで表記すると、850原子ppm以下が望ましく、K2O濃度をK原子ppmで表記すると、65〜650原子ppmが望ましいと記載されている。従って、特許文献5,6に記載の技術によれば、光ファイバ母材の製造工程においてガラス中に結晶が発生し、光ファイバの伝送損失が大きくなり易い。
光ファイバ母材1のコア部10におけるアルカリ金属元素および塩素元素の濃度分布は、例えば、図3に示されるように第一コア部11から第二コア部12にかけて塩素元素濃度が略一様なものであってもよい。同図では、カリウム元素および塩素元素は、コア部10の中心部をピークに外側に向かって減少するように添加されている。コア部10全体におけるカリウム元素の平均濃度は100原子ppm以下となっている。コア部10全体における塩素元素の平均濃度は1000原子ppm以下となっている。具体的には、コア部10全体におけるカリウム元素の平均濃度は19.3原子ppm、塩素元素の平均濃度は924原子ppmである。また、コア部10全体におけるカリウム元素のピーク濃度は750原子ppm、塩素元素のピーク濃度は1270原子ppmである。また本光ファイバ母材1を線引きし得られた光ファイバのコアのカリウム元素の平均濃度は2原子ppm、塩素元素の平均濃度は600ppmであった。
また、光ファイバ母材1のコア部10におけるアルカリ金属元素および塩素元素の濃度分布は、例えば、図4に示されるように第一コア部11と第二コア部12とで塩素元素濃度が異なるものであってもよい。同図では、カリウム元素は、第一コア部11および第二コア部12のうち第一コア部11の方に選択的に含まれている。第一コア部11におけるカリウム元素のピーク濃度は1000原子ppmより高く、平均濃度は250原子ppm以上となっている。逆に、第一コア部11における塩素元素の平均濃度は80原子ppmより低くなっている。また、第二コア部12におけるアルカリ金属元素(カリウム元素)の平均濃度は10原子ppm以下(本例では1原子ppm以下となっている)が好ましく、塩素元素の平均濃度は1000原子ppm以上となっている。更に、第一コア部11と第二コア部12とを含むコア部10全体におけるカリウム元素の平均濃度は100原子ppm以下、塩素元素の平均濃度は1000原子ppm以下となっている。具体的には、第一コア部11におけるカリウム元素の平均濃度は260原子ppm、塩素元素の平均濃度は77原子ppmである。第一コア部11におけるカリウム元素のピーク濃度は1141原子ppmである。また、コア部10全体におけるカリウム元素の平均濃度は7.7原子ppm、塩素元素の平均濃度は906原子ppmである。コア部10全体における塩素元素のピーク濃度は1180原子ppmである。また本光ファイバ母材を線引きし得られた光ファイバのコアのカリウム元素の平均濃度は1原子ppm、塩素元素の平均濃度は750原子ppmであった。
光ファイバは光弾性効果により、圧縮応力では屈折率が上昇し、引張り応力では屈折率が減少することが知られている。従って、第一クラッドの外周に設けられる第二クラッドの平均屈折率は、第一クラッドの平均屈折率よりも相対屈折率差で0.01%以上、高いことが望ましい。
伝送損失が0.185dB/km以下に低減するように、光ファイバのコアにおけるアルカリ金属元素の平均濃度は0.1原子ppm以上とするのが好適である。また一方で、高濃度添加すると、耐放射特性や耐水素特性が著しく劣化するために、海底ケーブル用のファイバとしては、当該平均濃度は20原子ppm以下であることが望ましい。光ファイバのコアにおけるアルカリ金属元素、塩素元素およびフッ素元素以外のドーパントの平均濃度は10原子ppm以下であることが望ましい。
光ファイバ母材1のコア部10におけるアルカリ金属元素の平均濃度は、結晶化抑制の観点から、上記のとおり100原子ppm以下であることがよい。このようにすることでアルカリ金属元素添加コアロッドの製造性を向上することが可能である。伝送損失を十分に低減するためには、当該平均濃度は5原子ppm以上であるとよい。
クラッド部20の屈折率(クラッド部20が多層構造の場合には、コア部10外周の3倍程度となる半径位置での屈折率)を基準とした、コア部10の屈折率の最大値の相対屈折率差(Δc2)は0.25〜0.55%であってよい。コア部10の半径は3.0μm以上7.0μm以下であってよい。伝送損失は低い程好ましく、波長1550nmにおける伝送損失は0.180dB/kmよりも低いことが望ましく、0.175dB/km以下が更に望ましく、0.170dB/km以下が最も望ましい。
コア部10は、塩素元素、フッ素(F)元素などのハロゲン元素、カリウム元素、ナトリウム(Na)元素、ルビジウム(Rb)元素などのアルカリ金属元素が添加された石英系ガラスであることが好ましい。それ以外のゲルマニウム(Ge)元素、アルミニウム(Al)元素などの典型金属元素、ニッケル(Ni)、銅(Cu)などの遷移金属元素といった、アルカリ金属元素、塩素元素およびフッ素元素以外のドーパントの濃度は10原子ppm以下であるとよく、1原子ppm以下であると更に好ましく、0.1原子ppm以下であると最も好ましい。
波長1380nmにおける伝送損失は、0.8dB/kmよりも低いことが望ましく、0.4dB/km以下が更に望ましく、0.3dB/km以下が最も望ましい。PMDは0.2ps/√km以下であってよい。ケーブルカットオフ波長は1520nm以下であるとよく、ラマン増幅に用いるポンプ波長となる1450nm以下であると更によい。
光ファイバ母材1のコア部10およびクラッド部20は、それぞれ屈折率構造を有してもよく、例えば、図5に示されるような各種の屈折率プロファイルを有していてもよいが、これに制限されることはない。
実施例1では、以下のようにして光ファイバ母材及び光ファイバを製造して、この光ファイバの伝送特性を調べた。
1.アルカリ金属元素を拡散させるパイプとして、970原子ppmの塩素元素および6000原子ppmのフッ素元素をドーパントとして含み、その他元素の濃度は10原子ppm以下であって、実質的に純石英ガラスであるパイプを準備した(純石英ガラスパイプ)。このガラスパイプの外直径は35mmであり、内直径は20mm程度であった。
2.アルカリ金属原料として臭化カリウム(KBr)を用い、これを外部熱源により840℃に加熱して臭化カリウム蒸気を発生させた。そして、キャリアガスとして導入した流量1SLM(標準状態に換算して1リットル/min)の酸素と共に臭化カリウム蒸気を1.の純石英ガラスパイプに導入しながら、外部熱源である熱プラズマ火炎によって純石英ガラスパイプの外表面が2050℃となるように加熱した。熱プラズマ火炎は30mm/minの速さでトラバースさせ、合計12ターン加熱し、カリウム元素を純石英ガラスパイプの内表面に拡散添加させた。
3.2.のカリウム元素が添加された純石英ガラスパイプ内に酸素(2SLM)を流しながら、外部熱源である熱プラズマ火炎によって純石英ガラスパイプの外表面が2100℃となるように加熱した。熱プラズマ火炎は40mm/minの速さでトラバースさせ、合計6ターン加熱し、カリウム元素が添加された純石英ガラスパイプを内直径が3mmになるまで縮径した。
4.3.のカリウム元素及び酸素分子が添加された純石英ガラスパイプ内にSF6(0.05SLM)、塩素(0.5SLM)およびヘリウム(0.5SLM)の混合ガスを導入しながら、外部熱源で加熱し気相エッチングすることで、純石英ガラスパイプの内直径を3.4mmにした。
5.4.の純石英ガラスパイプ内に酸素(1SLM)を導入しながら、純石英ガラスパイプ内の絶対圧を1kPaにまで減圧し、外部熱源によって表面温度を1400℃として中実化し、外直径が28mmのアルカリ金属元素添加コアガラスロッドとした。このアルカリ金属元素添加コアガラスロッドのカリウム元素濃度は最大値で1800原子ppmであり、カリウム元素が10原子ppm以上に添加されている領域の外直径は12mmであった。
6.5.のアルカリ金属元素添加コアガラスロッドを外直径20mmとなるように外周部を研削し、コアガラスとした。
7.6.のコアガラスの外側にフッ素元素が添加された石英系ガラス(第一クラッド部)を合成し、光学クラッド部付きコアガラスとした。コア部(屈折率:na)と第一クラッド部(屈折率:nb1)との相対屈折率差((na−nb1)/nSiO2×100、nSiO2:純SiO2の屈折率)は最大で0.37%程度であった。この第一クラッド部の合成に際して、ここでは、フッ素元素が添加された石英系ガラスパイプを準備し、6.のコアガラスを挿入、外部熱源によって加熱・一体化する公知のロッドインコラプス法を用いた。このロッドインコラプス法による合成の結果、コアガラス及びその近傍の第一クラッド部の水分量を十分に低く抑制することが可能であった。
8.7.の光学クラッド部付きコアガラスを延伸などにより所定径に加工した後、その外側にフッ素元素が添加された石英系ガラス(第二クラッド部)を合成し、物理クラッド部を更に有する光ファイバ母材とした。光ファイバ母材は、第一クラッド部の外直径が36mm、第二クラッド部の外直径が140mmであった。コア部(屈折率:na)と第二クラッド部(屈折率:nb2)との相対屈折率差((na−nb2)/nSiO2×100、nSiO2:純SiO2の屈折率)は最大で0.38%程度であった。この第二クラッド部の合成には、公知のOVD法を用いた。またこのときの光ファイバ母材では、ガラス中に結晶は見られなかった。
9.8.の光ファイバ母材を公知の方法で線引きすることで光ファイバを製造した。このとき、線引時の光ファイバ化の加工速度は2300m/minであり、光ファイバに加わる張力は0.5Nであった。
以上のようにして製造された光ファイバの構造特性および伝送特性は、以下のとおりであった。コアにおけるカリウム元素の平均濃度は2原子ppm程度であった。伝送損失(波長1300nm)は0.292dB/kmであり、伝送損失(波長1380nm)は0.302dB/kmであり、伝送損失(波長1550nm)は0.165dB/kmであった。波長分散(波長1550nm)は+15.9ps/nm/kmであり、分散スロープ(波長1550nm)は+0.054ps/nm2/kmであった。零分散波長は1310nmであり、零分散波長における分散スロープは+0.083ps/nm2/kmであった。実効断面積(波長1550nm)は82μm2であり、モードフィールドは(波長1550nm)は10.3μmであり、モードフィールド(波長1310nm)は9.1μmであった。ファイバカットオフ波長(2m)は1310nmであり、ケーブルカットオフ波長(22m)は1230nmであった。偏波モード分散(C、Lバンド帯)は0.11ps/√kmであり、非線形係数(波長1550nm、ランダム偏波状態)は1.1(W・km)−1であった。このように低伝送損失の光ファイバが得られた。
実施例2では、以下のようにして光ファイバ母材及び光ファイバを製造して、この光ファイバの伝送特性を調べた。
1.アルカリ金属元素を拡散させるパイプとして、930原子ppmの塩素元素および、6000原子ppmのフッ素元素をドーパントとして含み、その他元素の濃度は10原子ppm以下であって、実質的に純石英ガラスであるパイプを準備した(純石英ガラスパイプ)。このガラスパイプの外直径は35mmであり、内直径は20mm程度であった。
2.アルカリ金属原料として臭化カリウム(KBr)を用い、これを外部熱源により840℃に加熱して臭化カリウム蒸気を発生させた。そして、キャリアガスとして導入した流量1SLM(標準状態に換算して1リットル/min)の酸素と共に臭化カリウム蒸気を1.の純石英ガラスパイプに導入しながら、外部熱源である熱プラズマ火炎によって純石英ガラスパイプの外表面が2050℃となるように加熱した。熱プラズマ火炎は30mm/minの速さでトラバースさせ、合計20ターン加熱し、カリウム元素を純石英ガラスパイプの内表面に拡散添加させた。
3.2.のカリウム元素が添加された純石英ガラスパイプ内に酸素(2SLM)を流しながら、外部熱源である熱プラズマ火炎によって純石英ガラスパイプの外表面が2100℃となるように加熱した。熱プラズマ火炎は40mm/minの速さでトラバースさせ、合計6ターン加熱し、カリウム元素が添加された純石英ガラスパイプを内直径が3mmになるまで縮径した。
4.3.のカリウム元素及び酸素分子が添加された純石英ガラスパイプ内にSF6(0.05SLM)、塩素(0.5SLM)およびヘリウム(0.5SLM)の混合ガスを導入しながら、外部熱源で加熱し気相エッチングすることで、純石英ガラスパイプの内直径を3.4mmにした。
5.4.の純石英ガラスパイプ内に酸素(1SLM)を導入しながら、純石英ガラスパイプ内の絶対圧を1kPaにまで減圧し、外部熱源によって表面温度を1400℃として中実化し、外径が28mmのアルカリ金属元素添加コアガラスロッドとした。このアルカリ金属元素添加コアガラスロッドのカリウム元素濃度は最大値で1140原子ppmであり、カリウム元素が10原子ppm以上に添加されている領域の直径は12mmであった。
6.5.のアルカリ金属元素添加コアガラスロッドを外直径20mmとなるように公知の方法を用いて延伸し、その後、外直径が12mmとなるように外周部を研削した(第一コア部)。
7.6.のアルカリ金属元素添加コアガラスロッドの外側に外直径65mmとなるよう、濃度1000原子ppmの塩素元素が添加された石英系ガラス(第二コア部)を設けた。その後、外直径24mmとなるように公知の方法を用いて延伸した。更に、外直径が20mmとなるように外周部を研削し、コアガラスとした。第一コア部と第二コア部とをあわせて、光ファイバ母材のコア部となる。このコア部におけるアルカリ金属元素の平均濃度は8原子ppmであった。この第二コア部の合成には、ここでは、濃度6000原子ppmの塩素元素が添加された石英系ガラスパイプを準備し、6.のアルカリ金属元素添加コアガラスロッドを挿入、外部熱源によって加熱・一体化する公知のロッドインコラプス法を用いた。このロッドインコラプス法による合成の結果、第一コア部の径(D1)と塩素元素が高濃度に添加された第二コア部の径(D2)との比:D2/D1は5.8であった。
8.7.のコアガラスの外側にフッ素元素が添加された石英系ガラス(第一クラッド部)を合成し、光学クラッド部付きコアガラスとした。第二コア部(na2:第二コア部の屈折率)と第一クラッド部(nb1:第一クラッド部の屈折率)との相対屈折率差((na2−nb1)/nSiO2×100、nSiO2:純SiO2の屈折率)は最大で0.34%程度であった。この第一クラッド部の合成には、ここでは、フッ素元素が添加された石英系ガラスパイプを準備し、7.のコアガラスを挿入、外部熱源によって加熱・一体化する公知のロッドインコラプス法を用いた。このロッドインコラプス法による合成の結果、コアガラス及びその近傍の第一クラッド部の水分量を十分に低く抑制することが可能であった。
9.8.の光学クラッド部付きコアガラスを延伸などにより所定径に加工した後、その外側にフッ素が添加された石英系ガラス(第二クラッド部)を合成し、物理クラッド部を更に有する光ファイバ母材とした。光ファイバ母材は、第一クラッド部の外直径が36mm、第二クラッド部の外直径が140mmであった。第二コア部(na2:第二コア部の屈折率)と第二クラッド部(nb2:第二クラッド部の屈折率)との相対屈折率差((na2−nb2)/nSiO2×100、nSiO2:純SiO2の屈折率)は最大で0.30%程度であった。この第二クラッド部の合成には、公知のVAD法を用いた。またこのときの光ファイバ母材では、ガラス中に結晶は見られなかった。
10.9.の光ファイバ母材を公知の方法で線引きすることで光ファイバを製造した。このとき、線引時の光ファイバ化の加工速度は2300m/minであり、光ファイバに加わる張力は0.5Nであった。
以上のようにして製造された光ファイバの構造特性および伝送特性は、以下のとおりであった。コアにおけるカリウム元素の平均濃度は1原子ppm程度であった。伝送損失(波長1300nm)は0.287dB/kmであり、伝送損失(波長1380nm)は0.292dB/kmであり、伝送損失(波長1550nm)は0.163dB/kmであった。波長分散(波長1550nm)は+20.7ps/nm/kmであり、分散スロープ(波長1550nm)は+0.061ps/nm2/kmであった。実効断面積(波長1550nm)は131μm2であり、モードフィールド(波長1550nm)は12.3μmであり、偏波モード分散(C、Lバンド帯)は0.11ps/√kmであった。このように低伝送損失の光ファイバが得られた。
1…光ファイバ母材、10…コア部、11…第一コア部、12…第二コア部、20…クラッド部、21…第一クラッド部、22…第二クラッド部。
Claims (6)
- コアと前記コアを取り囲むクラッドとを備える光ファイバであって、
前記コアはアルカリ金属元素と塩素元素とを含み、
前記コアにおけるアルカリ金属元素の平均濃度は0.1原子ppm以上20原子ppm以下であり、
前記コアにおける塩素元素の平均濃度は800原子ppm以下であり、
波長1550nmにおける伝送損失は0.185dB/km以下である、光ファイバ。 - 前記コアのおける塩素元素の平均濃度は300原子ppm以上である、請求項1に記載の光ファイバ。
- 前記コアは更にフッ素元素を含み、
前記コアにおけるアルカリ金属元素、塩素元素およびフッ素元素以外のドーパントの平均濃度は10原子ppm以下である、請求項1又は2に記載の光ファイバ。 - 前記コアはアルカリ金属元素としてカリウム元素を含む、請求項1〜3の何れか1項に記載の光ファイバ。
- コア部と前記コア部を取り囲むクラッド部とを備え、請求項1〜4の何れか1項に記載の光ファイバを得るために使用される石英ガラス系の光ファイバ母材であって、
コア部は第一コア部と前記第一コア部を取り囲む第二コア部とを有し、
前記コア部におけるアルカリ金属元素は前記第一コア部および前記第二コア部のうち前記第一コア部に選択的に含まれ、
前記第二コア部におけるアルカリ金属元素の平均濃度は10原子ppm以下であり、
前記第一コア部における塩素元素の平均濃度は前記第二コア部における塩素元素の平均濃度よりも小さい、光ファイバ母材。 - コア部と前記コア部を取り囲むクラッド部とを備え、請求項1〜4の何れか1項に記載の光ファイバを得るために使用される石英ガラス系の光ファイバ母材であって、
前記コア部はアルカリ金属元素と塩素元素とを含み、
前記コア部におけるアルカリ金属元素の平均濃度は5原子ppm以上100原子ppm以下であり、
前記コア部における塩素元素の平均濃度は1000原子ppm未満である、光ファイバ母材。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013247575A JP2015105199A (ja) | 2013-11-29 | 2013-11-29 | 光ファイバおよび光ファイバ母材 |
PCT/JP2014/080590 WO2015079987A1 (ja) | 2013-11-29 | 2014-11-19 | 光ファイバ及び光ファイバ母材 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013247575A JP2015105199A (ja) | 2013-11-29 | 2013-11-29 | 光ファイバおよび光ファイバ母材 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015105199A true JP2015105199A (ja) | 2015-06-08 |
Family
ID=53198931
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013247575A Pending JP2015105199A (ja) | 2013-11-29 | 2013-11-29 | 光ファイバおよび光ファイバ母材 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2015105199A (ja) |
WO (1) | WO2015079987A1 (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017027050A (ja) * | 2015-07-24 | 2017-02-02 | オーエフエス ファイテル,エルエルシー | 低損失でナノスケール構造的に均一なコアを有する光ファイバ |
WO2017145834A1 (ja) * | 2016-02-26 | 2017-08-31 | 住友電気工業株式会社 | 光ファイバ |
WO2019044833A1 (ja) * | 2017-08-31 | 2019-03-07 | 住友電気工業株式会社 | 光ファイバ母材の製造方法、及び、光ファイバの製造方法 |
WO2022264937A1 (ja) | 2021-06-14 | 2022-12-22 | 古河電気工業株式会社 | 光ファイバ |
WO2023157505A1 (ja) * | 2022-02-16 | 2023-08-24 | 住友電気工業株式会社 | 光ファイバ |
JP7552297B2 (ja) | 2019-12-27 | 2024-09-18 | 住友電気工業株式会社 | 光ファイバ |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10667300B2 (en) | 2015-07-06 | 2020-05-26 | Sony Corporation | Communication apparatus and communication method |
JP6859796B2 (ja) * | 2017-03-28 | 2021-04-14 | 住友電気工業株式会社 | 結合型マルチコア光ファイバの製造方法 |
JP7119531B2 (ja) * | 2018-04-20 | 2022-08-17 | 住友電気工業株式会社 | 光ファイバ |
JP2020012933A (ja) * | 2018-07-17 | 2020-01-23 | 住友電気工業株式会社 | 光ファイバ |
CN116891335A (zh) * | 2023-07-13 | 2023-10-17 | 江苏亨通光导新材料有限公司 | 一种大有效面积超低损耗光纤的制备方法 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20040057692A1 (en) * | 2002-08-28 | 2004-03-25 | Ball Laura J. | Low loss optical fiber and method for making same |
JP2007504080A (ja) * | 2003-08-29 | 2007-03-01 | コーニング インコーポレイテッド | アルカリ金属酸化物を含有する光ファイバおよびその製造方法と装置 |
US7844155B2 (en) * | 2007-05-07 | 2010-11-30 | Corning Incorporated | Optical fiber containing alkali metal oxide |
JP6136261B2 (ja) * | 2012-01-23 | 2017-05-31 | 住友電気工業株式会社 | 光ファイバ |
-
2013
- 2013-11-29 JP JP2013247575A patent/JP2015105199A/ja active Pending
-
2014
- 2014-11-19 WO PCT/JP2014/080590 patent/WO2015079987A1/ja active Application Filing
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017027050A (ja) * | 2015-07-24 | 2017-02-02 | オーエフエス ファイテル,エルエルシー | 低損失でナノスケール構造的に均一なコアを有する光ファイバ |
CN106842412A (zh) * | 2015-07-24 | 2017-06-13 | Ofs菲特尔有限责任公司 | 具有低损耗和纳米级结构均匀的芯部的光学纤维 |
WO2017145834A1 (ja) * | 2016-02-26 | 2017-08-31 | 住友電気工業株式会社 | 光ファイバ |
JP2017151341A (ja) * | 2016-02-26 | 2017-08-31 | 住友電気工業株式会社 | 光ファイバ |
WO2019044833A1 (ja) * | 2017-08-31 | 2019-03-07 | 住友電気工業株式会社 | 光ファイバ母材の製造方法、及び、光ファイバの製造方法 |
JPWO2019044833A1 (ja) * | 2017-08-31 | 2020-10-15 | 住友電気工業株式会社 | 光ファイバ母材の製造方法、及び、光ファイバの製造方法 |
JP7276134B2 (ja) | 2017-08-31 | 2023-05-18 | 住友電気工業株式会社 | 光ファイバ母材の製造方法、及び、光ファイバの製造方法 |
US11667559B2 (en) | 2017-08-31 | 2023-06-06 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Method for manufacturing optical fiber parent material, and method for manufacturing optical fiber |
JP7552297B2 (ja) | 2019-12-27 | 2024-09-18 | 住友電気工業株式会社 | 光ファイバ |
WO2022264937A1 (ja) | 2021-06-14 | 2022-12-22 | 古河電気工業株式会社 | 光ファイバ |
WO2023157505A1 (ja) * | 2022-02-16 | 2023-08-24 | 住友電気工業株式会社 | 光ファイバ |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2015079987A1 (ja) | 2015-06-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5974455B2 (ja) | 光ファイバ母材、光ファイバ製造方法および光ファイバ | |
JP6187644B2 (ja) | 光ファイバ | |
JP2015105199A (ja) | 光ファイバおよび光ファイバ母材 | |
JP6337509B2 (ja) | 光ファイバ母材製造方法 | |
JP6213262B2 (ja) | 光ファイバ母材および光ファイバ母材製造方法 | |
CN103217735B (zh) | 光纤和光纤预制件 | |
JP6011549B2 (ja) | 光ファイバ母材製造方法 | |
JP5545236B2 (ja) | 光ファイバ母材製造方法 | |
US10031282B2 (en) | Optical fiber | |
JP6551109B2 (ja) | 光ファイバ | |
JP5817462B2 (ja) | 光ファイバ母材製造方法 | |
JP5896056B2 (ja) | 光ファイバ母材および光ファイバ | |
JP6620633B2 (ja) | 光ファイバ | |
JP7380546B2 (ja) | 光ファイバ | |
JP2013032241A (ja) | 光ファイバ母材製造方法 | |
JP2012162410A (ja) | 光ファイバ母材製造方法 | |
JP2016210632A (ja) | 光ファイバ母材 | |
JP7013697B2 (ja) | 光ファイバ母材 | |
JP2014214079A (ja) | 光ファイバ母材 | |
JP2013136485A (ja) | 光ファイバ母材製造方法 |