JP2014111617A - ペンダントシリル基を有するフルオロケミカル化合物 - Google Patents

Abstract

【課題】硬質表面を有する基材への撥水性、撥油性、防染み性、防汚性の付与に有用なフルオロケミカルシラン化合物、及びそれを用いたコーティング組成物を提供する。
【解決手段】（Ｃ_４Ｆ_９ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＯＣＨ_２−ＣＨ_２）_２−Ｎ−（ＣＨ_２）_３−Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３、Ｆ（ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２Ｏ）_ａＣＦ（ＣＦ_３）−ＣＯＮＨＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＯＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｎ−［（ＣＨ_２）_３−Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３］_２等で示されるフルオロケミカルシラン化合物、及びそれから誘導されるコーティング組成物。［上記式中、ａの平均は４〜２０である。］
【選択図】なし

Description

本発明は、撥水性、撥油性、防染み性、防汚性を与えるように、基材、特にセラミックス又はガラスのような硬質表面を有する基材の処理に使用してもよい、フルオロケミカルシラン化合物、及びそれから誘導されるコーティング組成物に関する。

基材に撥油性及び撥水性を与える処理のための多数のフッ素化組成物が当技術分野において既知であるが、基材処理、特に、セラミックス、ガラス及び石のような硬質表面を有する基材に撥水性及び撥油性を付与し、容易に洗浄できるようにするために、更に改善された組成物を提供するという要望が引き続き存在している。

特に光学分野において、染み、塵及び埃への耐性を付与するために、硬質表面としてのガラス及びプラスチックを処理する必要性がある。こうした組成物及びそれらを採用する方法が、改善された特性を有するコーティングを生み出し得ることが望ましい。特に、コーティングの摩耗耐性の改善を包含するコーティングの耐久性を改善することが好ましい。更に、より少量の洗剤、水、又はより少ない手作業を使用しながら、こうした基材の洗浄の容易さを向上することは、最終消費者の要望であるだけでなく、環境に対してもプラスの効果を有する。また、コーティングが、特に良好な耐化学性及び耐溶媒性を示すことが望ましい。組成物は、容易で安全な方法で簡便に適用され、既存の製造方法に適合性があるべきである。好ましくは、組成物は、処理すべき基材を作製するために実施される製造プロセスに容易に適合するであろう。

本発明は、式

のフルオロケミカルシラン化合物を提供し、
式中、
Ｒ_ｆはフッ素含有基であり、
Ｒ^１は、共有結合、多価アルキレン若しくはアリーレン基、又はこれらの組み合わせであり、アルキレン基は、１つ以上のカテナリー酸素又は窒素原子を含有しているか、又は含有しておらず、
Ｒ^２は、アミノシランとアクリロイル基とのマイケル反応から誘導されるシラン含有基であり、
ｘ及びｙは、それぞれ独立して、少なくとも１であり、ｚは１又は２である。

１つの態様においては、本発明は、少なくとも１つのフッ素含有基と、アミノシランとアクリロイル化合物とのマイケル反応から誘導される少なくとも１つのシラン含有部分とを有する１つ以上の化合物及び化合物の混合物（例えば、少なくとも１つのフッ素含有基を有するアクリレート化ポリオール）を含む化学組成物に関する。

特に指定のない限り、本明細書及び特許請求の範囲において使用される次の用語は、以下に与えられる意味を有する：
「アルキル」は、１〜約１２個の炭素原子を有する直鎖状又は分枝鎖状、環式又は非環式（acyclic）、飽和一価炭化水素ラジカル、例えばメチル、エチル、１−プロピル、２−プロピル、ペンチル、及び同類のものを意味する。

「アクリロイル」は、アクリレート、チオアクリレート、又はアクリルアミドを意味する。

「アルキレン」は、１〜約１２個の炭素原子を有する直鎖状飽和二価炭化水素ラジカル又は３〜約１２個の炭素原子を有する分枝鎖状飽和二価炭化水素ラジカル、例えばメチレン、エチレン、プロピレン、２−メチルプロピレン、ペンチレン、ヘキシレン、及び同類のものを意味する。

「アルコキシ」は、末端酸素原子を有するアルキル、例えばＣＨ_３−Ｏ−、Ｃ_２Ｈ_５−Ｏ−、及び同類のものを意味する。

「アラルキレン」は、アルキレンラジカルに付着する芳香族基を有する、上記で定義されるアルキレンラジカル、例えばベンジル、１−ナフチルエチル、及び同類のものを意味する。

「アルカリーレン」は、アルキル基が付着したアリーレン基を意味する。

「アリーレン」は、フェニレン、ナフタレン等のような多価の芳香族ラジカルを意味する。

「硬化化学組成物」は、化学組成物が乾燥されること、又は溶媒が、化学組成物から、周辺温度以上から乾燥まで、蒸発されたことを意味する。本組成物は、更に、シラン化合物間に形成されるシロキサン結合の結果、架橋されてもよい。

「求核フルオロケミカル化合物」は、ヒドロキシル基又はアミン基のような１つ又は２つの求核官能基、並びにペルフルオロアルキル、ペルフルオロアルキレン、ペルフルオロオキシアルキル又はペルフルオロオキシアルキレン基を有する化合物を意味し、例えばＣＦ_９ＳＯ_２Ｎ（ＣＨ_３）ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＨ、Ｃ_４Ｆ_９ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＨ、Ｃ_２Ｆ_５Ｏ（Ｃ_２Ｆ_４Ｏ）_３ＣＦ_２ＣＯＮＨＣ_２Ｈ_４ＯＨ、ｃ−Ｃ_６Ｆ_１１ＣＨ_２ＯＨ、及び同類のものである。

「求電子フルオロケミカル化合物」は、酸、アシルハロゲン化物又はエステルのような１つ又は２つの求電子官能基、並びにペルフルオロアルキル、ペルフルオロアルキレン、ペルフルオロオキシアルキル又はペルフルオロオキシアルキレン基を有する化合物を意味し、例えばＣ_４Ｆ_９ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＯ_２ＣＨ_３、Ｃ_４Ｆ_９ＣＯ_２Ｈ、Ｃ_２Ｆ_５Ｏ（Ｃ_２Ｆ_４Ｏ）_３ＣＦ_２ＣＯＣｌ、ｃ−Ｃ_６Ｆ_１１ＣＯ_２Ｈ、及び同類のものである。

「硬質基材」は、その形状を維持するいずれかの剛体材料を意味し、例えば、ガラス、セラミック、コンクリート、天然石、木材、金属、プラスチック、及び同類のものである。

「オキシアルコキシ」は、１つ以上の酸素原子がアルキル鎖に存在していてもよく、存在する炭素原子の総数が５０個まででもよいことを除いて、アルコキシとして上記で与えられた意味を本質的に有し、例えば、ＣＨ_３ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ−、Ｃ_４Ｈ_９ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ−、ＣＨ_３Ｏ（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_{１−１００}Ｈ、及び同類のものである。

「オキシアルキル」は、１つ以上の酸素へテロ原子がアルキル鎖に存在していてもよいことを除いて、アルキルについて上記で与えられた意味を本質的に有し、これらのへテロ原子は、少なくとも１つの炭素により互いに分離されており、例えば、ＣＨ_３ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２−、ＣＨ_３ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２−、Ｃ_４Ｆ_９ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２−、及び同類のものである。

「オキシアルキレン」は、１つ以上の酸素へテロ原子がアルキレン鎖に存在していてもよいことを除いて、アルキレンについて上記で与えられた意味を本質的に有し、これらのへテロ原子は、少なくとも１つの炭素により互いに分離されており、例えば、−ＣＨ_２ＯＣＨ_２Ｏ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−、及び同類のものである。

「ハロ」とは、フルオロ、クロロ、ブロモ、又はヨード、好ましくはフルオロ及びクロロを意味する。

「ペルフルオロアルキル」は、アルキルラジカルの水素原子の全て又は本質的に全てがフッ素原子で置き換えられ、炭素原子の数が１〜約１２個であることを除いて、「アルキル」について上記で与えられた意味を本質的に有し、例えば、ペルフルオロプロピル、ペルフルオロブチル、ペルフルオロオクチル、及び同類のものである。

「ペルフルオロアルキレン」は、アルキレンラジカルの水素原子の全て又は本質的に全てがフッ素原子で置き換えられていることを除いて「アルキレン」について上記で与えられた意味を本質的に有し、例えばペルフルオロプロピレン、ペルフルオロブチレン、ペルフルオロオクチレン、及び同類のものである。

「ペルフルオロオキシアルキル」は、オキシアルキルラジカルの水素原子の全て又は本質的に全てがフッ素原子で置き換えられ、炭素原子の数が３〜約１００個であることを除いて、「オキシアルキル」として上記で与えられた意味を本質的に有し、例えば、ＣＦ_３ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、ＣＦ_３ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_３ＣＦ_２ＣＦ_２−、Ｃ_３Ｆ_７Ｏ（ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２Ｏ）_ｓＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２−（式中ｓは、（例えば）約１〜約５０である）、及び同類のものである。

「ペルフルオロオキシアルキレン」は、オキシアルキレンラジカルの水素原子の全て又は本質的に全てがフッ素原子で置き換えられ、炭素原子の数が３〜約１００であることを除いて、「オキシアルキレン」として上記に与えられた意味を本質的に有し、例えば、−ＣＦ_２ＯＣＦ_２−、又は−［ＣＦ_２−ＣＦ_２−Ｏ］_ｒ−［ＣＦ（ＣＦ_３）−ＣＦ_２−Ｏ］_ｓ−（式中、ｒ及びｓは（例えば）１〜５０の整数である）である。

「ペルフルオロ化された基」は、炭素に結合した水素原子の全て又は本質的に全てがフッ素原子で置き換えられている有機基を意味し、例えば、ペルフルオロアルキル及びペルフルオロオキシアルキル、及び同類のものである。

「求核性アクリロイル化合物」は、１分子当たり少なくとも１つの一級又は二級の求核基、並びにアクリレート及びアクリルアミド基を包含する少なくとも１つのアクリロイル基を有する、有機化合物を意味する。

「マイケル付加」とは、アミノシランのような求核試薬がアクリロイル基に１，４付加をする付加反応を指す。

本発明は、上記の式Ｉのフルオロケミカルシラン化合物を提供する。

式中、
Ｒ_ｆは、一価のペルフルオロアルキル含有基若しくはペルフルオロオキシアルキル含有基、又は二価のペルフルオロアルキレン含有基若しくはペルフルオロオキシアルキレン含有基を包含するフッ素含有基であり、
Ｒ^１は、共有結合、多価アルキレン若しくはアリーレン基、又はこれらの組み合わせであり、アルキレン基は、１つ以上のカテナリー酸素又は窒素原子を含有しているか、又は含有しておらず、
Ｒ^２は、アミノシランとアクリロイル基とのマイケル反応から誘導されるシラン含有基であり、
Ｘ^２は、−Ｏ、−Ｓ−、又は−ＮＲ^４−であり、式中、Ｒ^４は、Ｈ又はＣ_１〜Ｃ_４アルキルであり、
Ｒ^５は、Ｃ_１〜Ｃ_４アルキル、又は−Ｒ^６−Ｓｉ（Ｙ_ｐ）（Ｒ^７）_３−ｐ又は（Ｒ_ｆ）_ｘ−Ｒ^１−Ｘ^２−Ｃ（Ｏ）−ＣＨ_２ＣＨ_２−であり、
ｘ及びｙは、それぞれ独立して、少なくとも１であり、ｚは１又は２である。

式Ｉについて、Ｒ^２は、次式の通り、アミノシランのアクリロイル基へのマイケル付加により誘導される。

式中、
Ｘ^２は、−Ｏ、−Ｓ−、又は−ＮＲ^４−であり、式中、Ｒ^４は、Ｈ又はＣ_１〜Ｃ_４アルキルであり、
Ｒ^５は、Ｃ_１〜Ｃ_４アルキル、又は−Ｒ^６−Ｓｉ（Ｙ_ｐ）（Ｒ^７）_３−ｐ又は（Ｒ_ｆ）_ｘ−Ｒ^１−Ｘ^２−Ｃ（Ｏ）−ＣＨ_２ＣＨ_２−であり、
Ｒ^６は二価アルキレン基であり、アルキレン基は、１つ以上のカテナリー酸素又は窒素原子を含有しているか、又は含有しておらず、
Ｙは、加水分解性基であり、
Ｒ^７は、一価のアルキル又はアリール基であり、
ｐは１、２又は３である。

本発明者らは、理論に束縛されることを望まないが、上記式Ｉの化合物は、基材表面との縮合反応を受け、式ＩＩの加水分解可能な「Ｙ」基の加水分解又は置換を介し、シロキサン層を形成すると考えられる。この文脈において、「シロキサン」は、式Ｉの化合物に付着される、−Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ−結合を指す。水の存在下で、「Ｙ」基は、「Ｓｉ−ＯＨ」基への加水分解、更にシロキサンへの縮合を受けるであろう。

式Ｉの化合物を含有するコーティング組成物から調製されるコーティングは、それ自体の化合物を包含し、加えて、予め選択された基材の表面への結合、及びシロキサン形成による分子間架橋から生じたシロキサン誘導体を包含する。コーティングはまた、未反応又は未縮合の「Ｓｉ−Ｙ」基も包含することができる。組成物は、オリゴマーペルフルオロオキシアルキルモノハイドライド、出発原料、並びにペルフルオロオキシアルキルアルコール及びエステルのような、非シラン系材料を更に含有してよい。

一実施形態において、本発明は、式Ｉの化合物、溶媒、並びに水及び酸を含有しているか、又は含有していない、コーティング組成物を提供する。別の実施形態においては、コーティング組成物は、式Ｉの化合物の水性懸濁液又は分散物を含む。セラミックスのような多くの基材への良好な耐久性を得るために、本発明の組成物は、好ましくは水を包含する。したがって、本発明は、基材と式Ｉの化合物及び溶媒を含むコーティング組成物とを接触させる工程を含むコーティング方法を提供する。別の実施形態においては、式Ｉの化合物は、基材、特に光学的応用において使用される反射防止基材に、化学蒸着方法によって適用されてもよい。

式Ｉに関して、Ｒ_ｆ基は、一価のペルフルオロアルキル含有基若しくはペルフルオロオキシアルキル含有基、又は二価のペルフルオロアルキレン含有基若しくはペルフルオロオキシアルキレン含有基を含んでもよい。より具体的には、Ｒ_ｆは、式ＩＩＩにより表され得る。

式中、
Ｒ_ｆ ^１は、一価のペルフルオロアルキル基又はペルフルオロオキシアルキル基、若しくは二価のペルフルオロアルキレン基又はペルフルオロオキシアルキレン基であり、
Ｑは、共有結合、又はアルキレン、アリーレン、アラルキレン、アルカリーレンのような二価結合基であることができ、Ｏ、Ｎ、及びＳ、及びこれらの組み合わせのようなカテナリーへテロ原子を包含するか、又は包含しない。またＱは、スルホンアミド、カルボキシアミド、又はエステルのようなカルボニル又はスルホニル、及びこれらの組み合わせのようなヘテロ原子含有官能基を包含しているか、又は包含しておらず、Ｑは、「Ｑ−ＣＯ−Ｘ^２−」部分がカルバメート、尿素、又は炭酸塩基でない、すなわちカルボニルに隣接する原子がヘテロ原子でないように更に選択され；
Ｘ^２は、−Ｏ−、−ＮＲ^４−、又は−Ｓ−、であり、式中、Ｒ^４は、Ｈ又はＣ_１〜Ｃ_４のアルキルであり、
ｚは１又は２であり、
ｖは０又は１である。

式ＩＩＩのＲ_ｆ ^１基は、直鎖状、分枝鎖状、又は環式フルオロケミカル基又はこれらのいずれかの組み合わせを含有することができる。Ｒ_ｆ ^１基は、一価又は二価であることができ、炭素−酸素−炭素鎖（すなわち、ペルフルオロオキシアルキレン基）を形成するように、炭素−炭素鎖中に１つ以上のカテナリー酸素原子を含有しているか、又は含有していない。完全にフッ素化された基が、一般に好ましいが、２つの炭素原子毎に１つ以下の水素又は他のハロ原子が存在するという条件で、置換基として水素又は他のハロ原子も存在できる。

いずれかのＲ_ｆ ^１基が、少なくとも約４０重量％のフッ素、より好ましくは少なくとも約５０重量％のフッ素を含有するのが更に好ましい。一価のＲ_ｆ ^１基の末端部分は、一般に完全にフッ素化されており、好ましくは、少なくとも３個のフッ素原子を含有する、例えば、ＣＦ_３−、ＣＦ_３ＣＦ_２−、ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２−、（ＣＦ_３）_２Ｎ−、（ＣＦ_３）_２ＣＦ−、ＳＦ_５ＣＦ_２−である。特定の実施形態において、ｎが２〜１２まである、一価のペルフルオロアルキル基（すなわち、式Ｃ_ｎＦ_２ｎ＋１−のもの）、又は二価のペルフルオロアルキレン基（すなわち、式−Ｃ_ｎＦ_２ｎ−のもの）が、好ましいＲ_ｆ ^１基であり、ｎ＝３〜５がより好ましく、ｎ＝４が最も好ましい。

有用なペルフルオロオキシアルキル及びペルフルオロオキシアルキレンＲ_ｆ ^１基は、次式に相当する：
Ｗ−Ｒ_ｆ ^３−Ｏ−Ｒ_ｆ ^４−（Ｒ_ｆ ^５）_ｑ− （ＩＶ）
式中、
Ｗは、一価のペルフルオロオキシアルキルについてはＦであり、二価のペルフルオロオキシアルキレンについてはオープン結合価（open valence）（「−」）であり、
Ｒ_ｆ ^３は、ペルフルオロアルキレン基を表し、Ｒ_ｆ ^４は、１、２、３、又は４つの炭素原子を有するペルフルオロアルキレンオキシ基、又はこうしたペルフルオロアルキレンオキシ基の混合物からなるペルフルオロアルキレンオキシ基を表し、Ｒ_ｆ ^５は、ペルフルオロアルキレン基を表し、ｑは０又は１である。式（ＩＶ）のペルフルオロアルキレン基Ｒ_ｆ ^３及びＲ_ｆ ^５は、直鎖状又は分枝鎖状であってもよく、１〜１０個の炭素原子、好ましくは１〜６個の炭素原子を含んでもよい。典型的な一価のペルフルオロアルキル基は、ＣＦ_３−ＣＦ_２−ＣＦ_２−であり、典型的な二価のペルフルオロアルキレンは、−ＣＦ_２−ＣＦ_２−ＣＦ_２−、−ＣＦ_２−、又は−ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２−である。ペルフルオロアルキレンオキシ基Ｒ_ｆ ^４の例としては、−ＣＦ_２−ＣＦ_２−Ｏ−、−ＣＦ（ＣＦ_３）−ＣＦ_２−Ｏ−、−ＣＦ_２−ＣＦ（ＣＦ_３）−Ｏ−、−ＣＦ_２−ＣＦ_２−ＣＦ_２−Ｏ−、−ＣＦ_２−Ｏ−、−ＣＦ（ＣＦ_３）−Ｏ−、及び−ＣＦ_２−ＣＦ_２−ＣＦ_２−ＣＦ_２−Ｏが挙げられる。

ペルフルオロアルキレンオキシ基Ｒ_ｆ ^４は、同一のペルフルオロオキシアルキレン単位、又は異なるペルフルオロオキシアルキレン単位の混合物から構成されてもよい。ペルフルオロオキシアルキレン基が、異なるペルフルオロアルキレンオキシ単位からなる場合、それらは、ランダム構成、交互構成で存在することができ、又はブロックとして存在することができる。ペルフルオロ化されたポリ（オキシアルキレン）基の典型的な例としては：
−［ＣＦ_２−ＣＦ_２−Ｏ］_ｒ−；−［ＣＦ（ＣＦ_３）−ＣＦ_２−Ｏ］_ｓ−；−［ＣＦ_２ＣＦ_２−Ｏ］_ｒ−［ＣＦ_２Ｏ］_ｔ−、−［ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−Ｏ］_ｕ及び−［ＣＦ_２−ＣＦ_２−Ｏ］_ｒ−［ＣＦ（ＣＦ_３）−ＣＦ_２−Ｏ］_ｓ−が挙げられ；式中、ｒ、ｓ、ｔ及びｕはそれぞれ１〜５０、好ましくは２〜２５の整数である。式（Ｖ）に対応する好ましいペルフルオロオキシアルキル基は、ＣＦ_３−ＣＦ_２−ＣＦ_２−Ｏ−［ＣＦ（ＣＦ_３）−ＣＦ_２Ｏ］_ｓ−ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２−であり、式中、ｓは２〜２５の整数である。

ペルフルオロオキシアルキル及びペルフルオロオキシアルキレン化合物は、末端フッ化カルボニル基をもたらす、ヘキサフルオロプロピレンオキシドのオリゴマー化により、得ることができる。このフッ化カルボニルを、当業者に周知の反応によって、酸、エテスル、又はアルコールに変換させてもよい。その後、フッ化カルボニル若しくは酸、エステル又はそれから誘導されたアルコールを更に反応させ、既知の手順に従って、所望の基を導入してよい。

ｙ又はｚが１である式ＩのＲ_ｆ基又は式ＩＩＩのＲ_ｆ ^１基に関して、フルオロケミカル一官能性化合物、好ましくはモノアルコール及びモノアミンが意図される。有用なフルオロケミカル一官能性化合物の代表的な例としては、次のものが挙げられる。

ＣＦ_３（ＣＦ_２）_３ＳＯ_２Ｎ（ＣＨ_３）ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＨ、ＣＦ_３（ＣＦ_２）_３ＳＯ_２Ｎ（ＣＨ_３）ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２ＯＨ、
ＣＦ_３（ＣＦ_２）_３ＳＯ_２Ｎ（ＣＨ_３）ＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_３）ＮＨ_２、ＣＦ_３（ＣＦ_２）_３ＳＯ_２Ｎ（ＣＨ_２ＣＨ_３）ＣＨ_２ＣＨ_２ＳＨ、
ＣＦ_３（ＣＦ_２）_３ＳＯ_２Ｎ（ＣＨ_３）ＣＨ_２ＣＨ_２ＳＣＨ_２ＣＨ_２ＯＨ、Ｃ_６Ｆ_１３ＳＯ_２Ｎ（ＣＨ_３）（ＣＨ_２）_４ＯＨ、
ＣＦ_３（ＣＦ_２）_７ＳＯ_２Ｎ（Ｈ）（ＣＨ_２）_３ＯＨ、Ｃ_３Ｆ_７ＳＯ_２Ｎ（ＣＨ_３）ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＨ、
ＣＦ_３（ＣＦ_２）_４ＳＯ_２Ｎ（ＣＨ_３）（ＣＨ_２）_４ＮＨ_２、Ｃ_４Ｆ_９ＳＯ_２Ｎ（ＣＨ_３）（ＣＨ_２）_１１ＯＨ、
ＣＦ_３（ＣＦ_２）_５ＳＯ_２Ｎ（ＣＨ_２ＣＨ_３）ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＨ、ＣＦ_３（ＣＦ_２）_５ＳＯ_２Ｎ（Ｃ_２Ｈ_５）（ＣＨ_２）_６ＯＨ、
ＣＦ_３（ＣＦ_２）_２ＳＯ_２Ｎ（Ｃ_２Ｈ_５）（ＣＨ_２）_４ＯＨ、ＣＦ_３（ＣＦ_２）_３ＳＯ_２Ｎ（Ｃ_３Ｈ_７）ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＨ、
ＣＦ_３（ＣＦ_２）_４ＳＯ_２Ｎ（ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_３）ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＨ、
ＣＦ_３（ＣＦ_２）_４ＳＯ_２Ｎ（ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_３）ＣＨ_２ＣＨ_２ＮＨＣＨ_３、
ＣＦ_３（ＣＦ_２）_３ＳＯ_２Ｎ（Ｃ_４Ｈ_９）ＣＨ_２ＣＨ_２ＮＨ_２、ＣＦ_３（ＣＦ_２）_３ＳＯ_２Ｎ（Ｃ_４Ｈ_９）（ＣＨ_２）_４ＳＨ、
ＣＦ_３（ＣＦ_２）_３ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＨ、Ｃ_４Ｆ_９ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣＦ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＯＨ；
ｎ−Ｃ_６Ｆ_１３ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＯＮ（Ｈ）ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＨ；Ｃ_６Ｆ_１３ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＯ_２Ｃ_２Ｈ_４ＣＨ（ＣＨ_３）ＯＨ；
Ｃ_３Ｆ_７ＣＯＮ（Ｈ）ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＨ；Ｃ_３Ｆ_７Ｏ（ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２Ｏ）_１−３６ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＨ_２ＯＨ；及び
Ｃ_３Ｆ_７Ｏ（ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２Ｏ）_１−３６ＣＦ（ＣＦ_３）Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｈ）ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＨ、及び同類のもの、並びにこれらの混合物。

ｙ又はｚが２である式ＩのＲ_ｆ基又は式ＩＩＩのＲ_ｆ ^１基に関して、フッ素化ポリオール及びポリアミンが意図される。好適なフッ素化ポリオールの代表的な例としては、Ｒ_ｆ ^１ＳＯ_２Ｎ（ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＨ）_２、例えばＮ−ビス（２−ヒドロキシエチル）ペルフルオロブチルスルホンアミド；Ｒ_ｆ ^１ＯＣ_６Ｈ_４ＳＯ_２Ｎ（ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＨ）_２；Ｒ_ｆ ^１ＳＯ_２Ｎ（Ｒ^’）ＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２ＯＨ、例えばＣ_６Ｆ_１３ＳＯ_２Ｎ（Ｃ_３Ｈ_７）ＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２ＯＨ；Ｒ_ｆ ^１ＣＨ_２ＣＯＮ（ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＨ）_２；ＣＦ_３ＣＦ_２（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_３ＯＣＦ_２ＣＯＮ（ＣＨ_３）ＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２ＯＨ；
Ｒ_ｆ ^１ＯＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２ＯＨ、例えばＣ_４Ｆ_９ＯＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２ＯＨ；
Ｒ_ｆ ^１ＣＨ_２ＣＨ_２ＳＣ_３Ｈ_６ＯＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２ＯＨ；Ｒ_ｆ ^１ＣＨ_２ＣＨ_２ＳＣ_３Ｈ_６ＣＨ（ＣＨ_２ＯＨ）_２；
Ｒ_ｆ ^１ＣＨ_２ＣＨ_２ＳＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２ＯＨ；Ｒ_ｆ ^１ＣＨ_２ＣＨ_２ＳＣＨ（ＣＨ_２ＯＨ）ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＨ；
Ｒ_ｆ ^１ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＳＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２ＯＨ、例えばＣ_５Ｆ_１１（ＣＨ_２）_３ＳＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２ＯＨ；
Ｒ_ｆ ^１ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２ＯＨ、例えばＣ_５Ｆ_１１（ＣＨ_２）_３ＯＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２ＯＨ；
Ｒ_ｆ ^１ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣ_２Ｈ_４ＯＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２ＯＨ；Ｒ_ｆ ^１ＣＨ_２ＣＨ_２（ＣＨ_３）ＯＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２ＯＨ；
Ｒ_ｆ ^１（ＣＨ_２）_４ＳＣ_３Ｈ_６ＣＨ（ＣＨ_２ＯＨ）ＣＨ_２ＯＨ；Ｒ_ｆ ^１（ＣＨ_２）_４ＳＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_２ＯＨ）_２；
Ｒ_ｆ ^１（ＣＨ_２）_４ＳＣ_３Ｈ_６ＯＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２ＯＨ；Ｒ_ｆ ^１ＣＨ_２ＣＨ（Ｃ_４Ｈ_９）ＳＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２ＯＨ；
Ｒ_ｆ ^１ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２ＯＨ；Ｒ_ｆ ^１ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２ＳＣＨ_２ＣＨ_２ＯＨ；
Ｒ_ｆ ^１ＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２ＳＣＨ_２ＣＨ_２ＯＨ；Ｒ_ｆ ^１ＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＯＨ；
Ｒ_ｆ ^１ＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２ＯＨ；Ｒ_ｆ ^１Ｒ’’ＳＣＨ（Ｒ’’’ＯＨ）ＣＨ（Ｒ’’’ＯＨ）ＳＲ^”Ｒ_ｆ；
（Ｒ_ｆ ^１ＣＨ_２ＣＨ_２ＳＣＨ_２ＣＨ_２ＳＣＨ_２）_２Ｃ（ＣＨ_２ＯＨ）_２；［（ＣＦ_３）_２ＣＦＯ（ＣＦ_２）_２（ＣＨ_２）_２ＳＣＨ_２］_２Ｃ（ＣＨ_２ＯＨ）_２；
（Ｒ_ｆ ^１Ｒ’’ＳＣＨ_２）_２Ｃ（ＣＨ_２ＯＨ）_２；１，４−ビス（１−ヒドロキシ−１，１−ジヒドロペルフルオロエトキシエトキシ）ペルフルオロ−ｎ−ブタン（ＨＯＣＨ_２ＣＦ_２ＯＣ_２Ｆ_４Ｏ（ＣＦ_２）_４ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨ）；１，４−ビス（１−ヒドロキシ−１，１−ジヒドロペルフルオロプロポキシ）ペルフルオロ−ｎ−ブタン（ＨＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２）_４ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨ）；フッ素化オキセタンの開環重合により作製されるフッ素化オキセタンポリオール、例えば、ポリ−３−フォックス（Poly-3-Fox）（商標）（オムノバ・ソリューションズ社（Omnova Solutions, Inc.）、オハイオ州、アクロン（Akron）から入手可能）；米国特許第４，５０８，９１６号（ニューウェル（Newell）ら）に記載されるような、フッ素化有機基置換エポキシドの少なくとも２つのヒドロキシル基を含有する化合物による開環付加重合により調製されたポリエーテルアルコール；ソルベイ（Solvay）、ニュージャージー州、ソロホール（Thorofore）から入手可能なフォンブリン（Fomblin）（商標）ＺＤＯＬ（ＨＯＣＨ_２ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２Ｏ）_８−１２（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_８−１２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨ）のようなペルフルオロポリエーテルジオールが挙げられ；式中、Ｒ_ｆは、１〜１２個の炭素原子を有するペルフルオロアルキル基、又は３〜約５０個の炭素原子を有するペルフルオロオキシアルキル基（存在する全てのペルフルオロカーボン鎖が６個以下の炭素原子を有する）、又はこれらの混合物であり；Ｒ’は炭素原子１〜４個のアルキル；Ｒ’’は炭素原子１〜１２個の分岐鎖状若しくは直鎖状アルキレン、炭素原子２〜１２個のアルキレンチオ−アルキレン、炭素原子２〜１２個のアルキレン−オキシアルキレン、又は炭素原子２〜１２個のアルキレンイミノアルキレンであり、窒素原子は第三置換基水素又は１〜６個の炭素原子のアルキルを含有し；Ｒ’’’は炭素原子１〜１２個の直鎖状若しくは分岐鎖状アルキレン、又は式Ｃ_ｒＨ_２ｒ（ＯＣ_ＳＨ_２Ｓ）_ｔのアルキレン−ポリオキシアルキレンであり、式中、ｒは１〜１２であり、ｓは２〜６であり、ｔは１〜４０である。

好ましいフッ素化ポリオールとしては、Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）ペルフルオロブチルスルホンアミド；ポリ−３−フォックス（Poly-3-Fox）（商標）（オムノバ・ソリューションズ社（Omnova Solutions, Inc.）、オハイオ州、アクロン（Akron）から入手可能）のようなフッ素化オキセタンの開環重合により作製されるフッ素化オキセタンポリオール；米国特許第４，５０８，９１６号（ニューウェル（Newell）ら）に記載されるような少なくとも２つのヒドロキシル基を含有する化合物によるフッ素化有機基置換エポキシドの開環付加重合により調製されるポリエーテルアルコール；ソルベイ（Solvay）（ニュージャージー州，ソロホール（Thorofore））から入手可能なフォンブリン（Fomblin）（商標）ＺＤＯＬ（ＨＯＣＨ_２ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２Ｏ）_８−１２（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_８−１２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨ）のようなペルフルオロポリエーテルジオール）；１，４−ビス（１−ヒドロキシ−１，１−ジヒドロペルフルオロエトキシエトキシ）ペルフルオロ−ｎ−ブタン（ＨＯＣＨ_２ＣＦ_２ＯＣ_２Ｆ_４Ｏ（ＣＦ_２）_４ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨ）；及び１，４−ビス（１−ヒドロキシ−１，１−ジヒドロペルフルオロプロポキシ）ペルフルオロ−ｎ−ブタン（ＨＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２）_４ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨ）が挙げられる。

少なくとも１つのフッ素含有基を含むより好ましいポリオールとしては、Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）ペルフルオロブチルスルホンアミド；１，４−ビス（１−ヒドロキシ−１，１−ジヒドロペルフルオロプロポキシ）ペルフルオロ−ｎ−ブタン（ＨＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２）_４ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨ）、及びＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２−Ｏ−［ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２Ｏ］_ｎ−ＣＦ（ＣＦ_３）−（式中、ｎは３〜２５の整数である）が挙げられる。このペルフルオロ化ポリエーテル基は、ヘキサフルオロプロピレンオキシドのオリゴマー化から誘導され得る。そのようなペルフルオロ化ポリエーテル基は、特にそれらの良性の環境特性により、好ましい。

Ｒ_ｆ基とＲ^２アクリロイル基の間の式ＩのＲ^１部分としては、アルキレン、アリーレン、又はこれらの組み合わせから選択される多価基、並びに任意のカテナリー酸素、又は窒素へテロ原子、又はこれらの組み合わせが挙げられる。Ｒ^１は、非置換であることができ、又はアルキル、アリール、ハロ、若しくはこれらの組み合わせで置換されることができる。Ｒ^１基は、典型的に３０個以下の炭素原子を有する。いくつかの化合物においては、Ｒ^１基は、２０個以下の炭素原子、１０個以下の炭素原子、６個以下の炭素原子、又は４個以下の炭素原子を有する。例えば、Ｒ^１は、アルキレン、アリール基で置換されたアルキレン、又はアリーレンと組み合わせられたアルキレンであることができる。

式ＩのＲ^１部分は、少なくとも２つの求核官能基を有する脂肪族又は芳香族化合物から誘導されてもよい。こうした化合物は、式
Ｒ^１（Ｘ^２Ｈ）_ｙ＋ｘ、
であってよく、式中、Ｒ^１は、共有結合、多価アルキレン若しくはアリーレン基、又はこれらの組み合わせであり、前記アルキレン基は、１つ以上のカテナリー酸素又は窒素原子を含有しているか、又は含有しておらず、各Ｘ^２は、独立して−Ｏ、−Ｓ−、又は−ＮＲ^４−であり、式中、Ｒ^４はＨ又はＣ_１〜Ｃ_４アルキルであり、ｘ＋ｙは少なくとも２である。こうした化合物としては、ポリオール、ポリアミン、及びヒドロキシアミンが挙げられる。

一実施形態においては、式Ｉのフルオロケミカル化合物は、特に、一官能性又は二官能性のペルフルオロ化された基、及び少なくとも１つの求電子官能基を有するフルオロケミカル化合物と、求電子フルオロケミカル化合物との反応生成物を一部分含んでもよい。このような化合物としては、次式のものが挙げられる：
Ｒ_ｆ ^１−［Ｑ−ＣＯ−Ｘ^３］_ｚ （Ｖ）
式中、Ｒ_ｆ ^１、Ｑ、及びｚは、式ＩＩＩについて記載されたとおりであり、Ｘ^３は、−ＯＨ、ハロゲン原子、又はＯＲ^４であり、Ｒ^４はＨ若しくはＣ_１〜Ｃ_４アルキルであり、又は、すなわち式Ｖの化合物は、エステル、酸又はアシルハロゲン化物である。式Ｖの化合物は、Ｒ^１はが共有結合でなく、例えばＲ^１は、ポリオール、又はポリアミンの残基である、化合物又は式Ｉの調製に特に有用である。

請求項１のフルオロケミカル化合物は、一部分において、ａ）求核官能基及び少なくとも１つのアクリロイル基を有する式ＶＩの求核アクリロイル化合物（後記）、並びにｂ）フッ素含有基及び求電子基を有する式Ｖの化合物（前記）の反応生成物を含んでもよい。アクリロイル部分は、アクリレート又はアクリルアミドであってよく、求核官能基は、アミノ、チオール又はヒドロキシ基であってもよい。好ましくは、求核性アクリロイル化合物は、ヒドロキシル基及び少なくとも２つのアクリロイル基を有するポリアクリル化合物である。

こうした求核アクリロイル化合物としては、式：

のものが挙げられ、式中、
Ｘ^２は、−Ｏ、−Ｓ−、又は−ＮＲ^４−、好ましくは−Ｏ−であり、式中、Ｒ^４は、Ｈ、又はＣ_１〜Ｃ_４のアルキルであり、
Ｒ^３は、多価アルキレン若しくはアリーレン基、又はこれらの組み合わせであり、前記アルキレン基は、１つ以上のカテナリー酸素又は窒素原子を含有しているか、又は含有しておらず、ｑは１〜５である。末端アミンは、マイケル付加により重合されてもよいので、末端「ＨＸ^２」基は、好ましくは−ＮＲ^４Ｈでないことが、理解されるであろう。こうした末端アミンの使用は、アクリロイル基がアミノシランによって官能化されるまで、こうしたマイケル重合を防止するために保護基を必要とする可能性がある。

好ましくは、ｑは１を超える。得られる複数のアクリロイル基は、複数のシラン基を有する式Ｉの化合物の調製を可能にする。シラン基とＲ_ｆ基とのモル比は、１：１を超える、又は２：１を超えてもよい。

式ＶＩの有用な求核性アクリロイル化合物としては、例えば、（ａ）ヒドロキシエチルアクリレート、グリセロールモノアクリレート１，３−ブチレングリコールモノアクリレート、１，４−ブタンジオールモノアクリレート、１，６−ヘキサンジオールモノアクリレート、アルコキシル化脂肪族モノアクリレート、シクロヘキサンジメタノールモノアクリレート、アルコキシル化ヘキサンジオールモノアクリレート、アルコキシル化ネオペンチルグリコールモノアクリレート、カプロラクトン修飾ネオペンチルグリコールヒドロキシピバレートアクリレート、カプロラクトン修飾ネオペンチルグリコールヒドロキシピバレートモノアクリレート、ジエチレングリコールモノアクリレート、ジプロピレングリコールモノアクリレート、エトキシル化ビスフェノール−Ａモノアクリレート、ヒドロキシピバラルデヒド修飾トリメチロールプロパンモノアクリレート、ネオペンチルグリコールモノアクリレート、プロポキシル化ネオペンチルグリコールモノアクリレート、テトラエチレングリコールモノアクリレート、トリシクロデカンジメタノールモノアクリレート、トリエチレングリコールモノアクリレート、トリプロピレングリコールモノアクリレートのようなモノアクリロイル含有化合物；（ｂ）グリセロールジアクリレート、エトキシル化トリアクリレート（例えば、エトキシル化トリメチロールプロパンジアクリレート）、ペンタエリスリトールトリアクリレート、プロポキシル化ジアクリレート（例えば、プロポキシル化（３）グリセリルジアクリレート、プロポキシル化（５．５）グリセリルジアクリレート、プロポキシル化（３）トリメチロールプロパンジアクリレート、プロポキシル化（６）トリメチロールプロパンジアクリレート）、トリメチロールプロパンジアクリレート、ジ−トリメチロールプロパンテトラアクリレートのような高官能性（メタ）アクリル含有化合物、並びにジペンタエリスリトールペンタアクリレートのような多価アクリロイル含有化合物からなる群から選択されるアクリレート化合物が挙げられる。

こうした化合物は、例えば、サートマー社（Sartomer Company）（ペンシルバニア州、エクストン（Exton））、ＵＣＢケミカルズ社（UCB Chemicals Corporation）（ジョージア州、スミルナ（Smyrna））、及びアルドリッチ・ケミカル社（Aldrich Chemical Company）（ウィスコンシン州、ミルウォーキー（Milwaukee））のような供給業者から広く入手可能である。更に有用なアクリレート材料としては、例えば米国特許第４，２６２，０７２号（ウェンドリング（Wendling）ら）に記載のもののような、ジヒドロキシヒダントイン部分含有ポリアクリレートが挙げられる。

例示的な求核性アクリロイル化合物について、相当するアクリルアミド及びチオアクリレートを使用してもよいことが理解されるであろう。更に、指示されたヒドロキシル基は、相当するチオール基により置換されてもよい。

別の実施形態においては、式Ｉのフルオロケミカル化合物は、一官能性又は二官能性ペルフルオロ化基、及び少なくとも１つの求核官能基を有する求核フルオロケミカル化合物と、求電子アクリロイル化合物との反応生成物を、部分的に含んでよい。こうした求核フルオロケミカル化合物としては、式：
Ｒ_ｆ ^１−［Ｑ（Ｘ^２Ｈ）_ｙ］_ｚ （ＶＩＩ）
のものが挙げられ、式中、Ｒ_ｆ ^１、Ｑ、Ｘ^２、ｙ及びｚは、式ＩＩＩで記載されたものである。式ＶＩＩの化合物は、式中、Ｒ^１が共有結合である、式Ｉの化合物の調製に特に有用であり、ハロゲン化アクリロイル又は官能的同等物との反応によりアクリロイル基で官能化されてもよい。

したがって、式Ｉの化合物は、式

の中間ポリアクリロイル化合物を経由して調製されてもよく、式中、
Ｒ_ｆ、Ｒ^１、Ｘ^２、ｙ及びｚは式Ｉについて前記のとおりである。その後、式ＶＩＩＩのポリアクリロイル化合物は、アミノシランのマイケル付加によりシラン基で官能化されてもよい。

好ましいアミノシランは、一般式

によって表わすことができ、式中、
Ｒ^５は、Ｈ、Ｃ_１〜Ｃ_４のアルキル、又は−Ｒ^６−Ｓｉ（Ｙ_ｐ）（Ｒ^７）_３−ｐであり、
Ｒ^６は、二価のアルキレン基であり、アルキレン基は、１つ以上のカテナリー酸素原子を含有しているか、又は含有しておらず、
Ｙが、加水分解性基であり、
Ｒ^７は、一価のアルキル若しくはアリール基であり、
ｐは、１、２、又は３、好ましくは、３である。

水の存在下で、Ｙ基は−ＯＨ基に加水分解する可能性があり、基材表面との反応をもたらし、シロキサン連鎖を形成し、したがって形成された結合、特にＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合は、耐水性があり、本発明の化学組成物により付与された染み剥離特性の強化された耐久性を提供し得ることが理解されるであろう。

式ＩＸのアミノシランに関して、Ｒ^５がＨである一級アミンは、マイケル付加により２つのアクリロイル基と反応することが可能であり、これは、式Ｉのフルオロケミカル化合物の架橋を導く可能性があることは、注目すべきである。こうした化合物は、Ｒ^５基が、（Ｒ_ｆ）_ｘ−Ｒ^１−Ｘ^２−Ｃ（Ｏ）−ＣＨ_２ＣＨ_２−である、式ＩＩにより表され得る。

本発明の実行に有用ないくつかのアミノシランは、米国特許第４、３７８、２５０号に記載され、アミノエチルトリエトキシシラン、β−アミノエチルトリメトキシシラン、β−アミノエチルトリエトキシシラン、β−アミノエチルトリブトキシシラン、β−アミノエチルトリプロポキシシラン、α−アミノ−エチルトリメトキシシラン、α−アミノエチルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、
γ−アミノプロピルトリブトキシシラン、γ−アミノプロピルトリプロポキシシラン、
β−アミノプロピルトリメトキシシラン、β−アミノプロピルトリエトキシシラン、
β−アミノプロピルトリプロポキシシラン、β−アミノプロピルトリブトキシシラン、
α−アミノプロピルトリメトキシシラン、α−アミノプロピルトリエトキシシラン、
α−アミノプロピルトリブトキシシラン、及びα−アミノプロピルトリプロポキシシランが挙げられる。

米国特許第４，３７８，２５０号に記載されるものを包含する、少量（＜２０モルパーセント）のカテナリー窒素含有アミノシランも使用されてもよい。Ｎ−（β−アミノエチル）−β−アミノエチルトリメトキシシラン、Ｎ−（β−アミノエチル）−β−アミノエチルトリエトキシシラン、Ｎ−（β−アミノエチル）−β−アミノエチルトリプロポキシシラン、Ｎ−（β−アミノエチル）−α−アミノエチルトリメトキシシラン、Ｎ−（β−アミノエチル）−α−アミノエチルトリエトキシシラン、Ｎ−（β−アミノエチル）−α−アミノエチルトリプロポキシシラン、Ｎ−（β−アミノエチル）−β−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（β−アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−（β−アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリプロポキシシラン、Ｎ−（β−アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（β−アミノエチル）−β−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−（β−アミノエチル）−β−アミノプロピルトリプロポキシシラン、Ｎ−（γ−アミノプロピル）−β−アミノエチルトリメトキシシラン、Ｎ−（γ−アミノプロピル）−β−アミノエチルトリエトキシシラン、Ｎ−（γ−アミノプロピル）−β−アミノエチルトリプロポキシシラン、Ｎ−メチルアミノプロピルトリメトキシシラン、β−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、及びγ−ジエチレントリアミンプロピルトリエトキシシラン。

式Ｉのフルオロケミカル化合物は、３工程プロセスにより調製され得る。第１工程は、Ｃ_４Ｆ_９Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ_３のような式Ｖの求電子フルオロケミカル化合物と、アルコール又は一級若しくは二級アミノ基のような少なくとも２つの求核基を含有する式Ｒ^１（Ｘ^２Ｈ）_ｙ＋ｘの化合物との反応によるものであり、混合アミン及びアルコール基を持つ対応するフルオロケミカルアミド−ポリオール若しくはポリアミン、エステル−ポリオール若しくはポリアミン、又はアミド、又はエステルを製造する。第２工程は、（Ｒ^１（Ｘ^２Ｈ）_ｙ＋ｘの）残りのアルコール及び／又はアミン基の、ハロゲン化アクリロイル、エステル、無水物又はアクリル酸でのアクリル化であり、式ＶＩＩＩの中間体を製造する。その後、第３工程は、ペンダントアクリロイル基にアミノシランのマイケル付加をもたらす。好ましくは、式Ｒ^１（Ｘ^２Ｈ）_ｙ＋ｘの化合物は、１つの一級アミノ基及び少なくとも２つのヒドロキシ基を有する一級アミノポリオールである。

一般に、反応構成要素及び溶媒は、即時に連続して、又は予め作製された混合物として、乾燥反応容器に充填される。均質な混合物又は溶液が得られると、触媒が添加されるか、又は添加されずに、反応混合物が、ある温度で、反応が発生するのに十分な間加熱される。反応の進行は、ＩＲを監視することによって決定できる。

式Ｖのフッ素化化合物は、化合物Ｒ^１（Ｘ^２Ｈ）_ｙ＋ｘの入手可能なアミン又はアルコール官能基の平均５〜５０モル・パーセントと反応するのに十分な量で使用される。好ましくは、式Ｖの化合物は、平均１０〜３０モルパーセントの基と反応するために使用される。残りの基、平均約５０〜９５モル・パーセント、好ましくは７０〜９０モル・パーセントは、アクリル酸エステルのようなアクリロイル化合物により官能化され、アミノシラン（ＩＸ）のマイケル付加が後続し、ペンダントフルオロケミカル基及びペンダントシラン基を共に有する化合物が得られる。

３工程プロセスの代わりに、式ＶＩＩの求核フルオロケミカル化合物は、アクリル酸エステル（又は同等物）と反応してよく、アミノシラン（ＩＸ）のマイケル付加が後続し、次式の化合物が製造される：

式中、
Ｒ_ｆはフッ素含有基であり；
Ｘ^２は、−Ｏ、−Ｓ−、又は−ＮＲ^４−であり、式中、Ｒ^４は、Ｈ又はＣ_１〜Ｃ_４アルキルであり、
Ｒ^５は、Ｃ_１〜Ｃ_４アルキル、又は−Ｒ^６−Ｓｉ（Ｙ_ｐ）（Ｒ^７）_３−ｐ若しくは（Ｒ_ｆ）_ｘ−Ｘ^２−Ｃ（Ｏ）−ＣＨ_２ＣＨ_２−であり、
Ｒ^６は、二価のアルキレン基であり、アルキレン基は、１つ以上のカテナリー酸素原子を含有しているか、又は含有しておらず、
Ｙは、加水分解性基であり、
Ｒ^７は、一価のアルキル又はアリール基であり、
ｐは、１、２、又は３であり、
ｚは１又は２である。

あるいは、アミノシラン（ＩＸ）及び求核アクリロイル化合物（ＶＩ）は、予備反応してよく、その後、次式ＸＩのこのマイケル付加物は、式Ｖのフルオロケミカルと反応する。

式中、Ｒ^１、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｘ^２、Ｙ、ｐ及びｑは、式Ｉ及びＩＩについて前記したとおりである。

アミノシランのアクリロイル基へのマイケル付加には、触媒は、一般に必要ではないが、マイケル反応に好適な触媒は、その共役酸が、好ましくは１２〜１４のｐＫａを有する塩基である。使用される最も好ましい塩基は、有機のものである。こうした塩基の例は、１，４−ジヒドロピリジン、メチルジフェニルホスファン、メチルジ−ｐ−トリルホスファン、２−アリル−Ｎ−アルキルイミダゾリン、水酸化テトラ−ｔ−ブチルアンモニウム、ＤＢＵ（１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデス−７−エン）及びＤＢＮ（１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノン−５−エン）、カリウムメトキシド、ナトリウムメトキシド、水酸化ナトリウム、及び同類のものである。本発明に関連する好ましい触媒は、ＤＢＵ及びテトラメチルグアニジンである。マイケル付加反応において使用される触媒の量は、固体に対して、好ましくは０．０５重量％〜２重量％、より好ましくは０．１重量％〜１．０重量％である。

本発明による組成物を基材上にコーティングし、少なくとも部分的に硬化して、コーティングされた物品を提供してもよい。いくつかの実施形態では、重合化コーティングは、耐擦傷性、落書き防止性、耐汚性、接着剥離、低屈折率、及び撥水性のうち少なくとも１つを提供する保護コーティングを形成してもよい。本発明によるコーティングされた物品としては、例えば、眼鏡レンズ、鏡、窓、接着剥離ライナー、及び落書き防止フィルムが挙げられる。

好適な基材としては、例えば、ガラス（例えば、窓及び光学素子（例えば、レンズ及び鏡））、セラミック（例えば、セラミックタイル）、セメント、石、塗装面（例えば、自動車のボディパネル、ボート表面）、金属（例えば、建築用柱）、紙（例えば、接着剥離ライナー）、厚紙（例えば、食品容器）、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂（例えば、ポリカーボネート、アクリル、ポリオレフィン、ポリウレタン、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、フェノール樹脂、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、ポリスチレン、及びスチレン−アクリロニトリルコポリマー）並びにこれらの組み合わせが挙げられる。基材は、フィルム、シートであってよく、あるいはいくつかの他の形態であってもよい。基材は、任意にセラマーハードコートをその上に有するか、又は有さない、透明又は半透明の表示素子を含んでもよい。

いくつかの実施形態において、フルオロケミカル化合物と溶媒との混合物を含むコーティング組成物が提供される。本発明のコーティング組成物は、本発明のフルオロケミカル化合物の溶媒懸濁液、分散体又は溶液を含む。コーティングとして適用されると、コーティング組成物は、撥油性及び撥水性、並びに／又は染み剥離及び染み抵抗性を、広範囲の基材のうちのいずれかに付与する。

フルオロケミカル化合物を様々な溶媒に溶解、懸濁、又は分散して、基材上へのコーティングに使用するのに好適なコーティング組成物を形成することができる。一般に、溶媒溶液は、（固体構成要素の総重量に基づき）約０．１〜約５０重量％、又は更に約９０重量％までの、不揮発性固体を含有することができる。コーティング組成物は、好ましくは、固体全体に基づき、約０．１〜約１０重量％のフルオロケミカルシラン化合物を含有する。好ましくは、コーティングに使用されるフルオロケミカル化合物の量は、固体全体の約０．１〜約５重量％、最も好ましくは約０．２〜約１重量％である。好適な溶媒としては、アルコール、エステル、グリコールエーテル、アミド、ケトン、炭化水素、ハイドロフルオロカーボン、ハイドロフルオロエーテル、塩化炭化水素、クロロカーボン、及びこれらの混合物が挙げられる。

コーティング組成物は、水及び酸を更に含んでもよい。一実施形態では、本方法は、基材を式Ｉのシラン及び溶媒とを含むコーティング組成物に接触させることと、続いて基材を水性酸と接触させることとを含む。

製造の容易さ及び費用上の理由から、本発明の組成物は、式Ｉの化合物のうちの１つ以上の濃縮物を希釈することにより、使用の少し前に調製することができる。濃縮物は、一般に、有機溶媒中にフルオロケミカルシランの濃縮液を含むであろう。濃縮物は、数週間、好ましくは少なくとも１ヶ月間、より好ましくは少なくとも３ヶ月間、安定であるべきである。化合物は、有機溶媒中に高濃度で容易に溶解され得ることが見出された。

本発明のコーティング組成物は、シルセスキオキサン又はオルトシリケートを含有しているか、又は含有していない。シルセスキオキサンをコーティング組成物とブレンドしてもよく、又は別の方法としては、式Ｉの化合物のコーティングを、既に適用されたシルセスキオキサンのコーティング上に適用してもよい。有用なシルセスキオキサンとしては、式Ｒ^１０ _２Ｓｉ（ＯＲ^１１）_２のジオルガノオキシシラン（又はそのヒドロシレート（hydrosylate））の、式Ｒ^１０ＳｉＯ_３／２のオルガノシラン（又はそのヒドロシレート）との共縮合物が挙げられ、式中、各Ｒ^１０は、１〜６個の炭素原子のアルキル基又はアリール基であり、Ｒ^１１は、１〜４個の炭素原子を有するアルキルラジカルを表す。好ましいシルセスキオキサンは、組成物への添加前には、中性又はアニオン性のシルセスキオキサンである。有用なシルセスキオキサンは、米国特許第３，４９３，４２４号（モーロック（Mohrlok）ら）、同第４，３５１，７３６号（スタインバーガー（Steinberger）ら）、同第５，０７３，４４２号（ノールトン（Knowlton）ら）、同第４，７８１，８４４号（コートマン（Kortmann）ら）、及び同第４，７８１，８４４号に記載される技術により作製され得る。シルセスキオキサンは、固体全体に対して９０〜９９．９重量％の量で、添加してもよい。

シルセスキオキサンは、酸性又は塩基性条件下で混合物をかき混ぜながら、水、緩衝液、界面活性剤、及び任意に有機溶媒の混合物にシランを添加することにより調製されてもよい。２００〜５００オングストロームの小さな粒径を得るために、分量のシランを均一にゆっくりと添加することが好ましい。添加され得るシランの正確な量は、置換基Ｒ、及び使用される界面活性剤がアニオン性であるかカチオン性であるかに依存する。ユニットがブロック又はランダム分布で存在できる、シルセスキオキサンの共縮合物は、シランの同時加水分解により形成される。存在するテトラアルコキシシラン及びそのヒドロシレート（例えば式Ｓｉ（ＯＨ）_４の）を包含するテトラオルガノシランの量は、シルセスキオキサンの重量に対して１０重量％未満、好ましくは５重量％未満、より好ましくは２重量％未満である。

以下のシランが本発明のシルセスキオキサンの調製において有用である：メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリイソプロポキシオキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、プロピルトリメトキシシラン、イソブチルトリメトキシシラン、イソブチルトリエトキシシラン、２−エチルブチルトリエトキシシラン、及び２−エチルブトキシトリエトキシシラン。

組成物は、例えば、噴霧、ナイフコーティング、切欠きコーティング、リバースロールコーティング、グラビアコーティング、ディップコーティング、バーコーティング、フラッドコーティング、ディップコーティング、又はスピンコーティングのような従来の技術により、基材に適用してよい。組成物をいずれかの厚さに適用し、所望のレベルの撥水性、撥油性、防染み性、防汚性を提供することができる。典型的には、組成物は比較的薄い層として基材に適用され、約４０ｎｍ〜約６０ｎｍの範囲の厚さを有する、乾燥した硬化層が得られるが、より薄い又は厚い（例えば１００マイクロメートル以上までの厚さを有する）層もまた使用されてもよい。次に、典型的には、いずれかの任意の溶媒が少なくとも部分的に除去され（例えば強制空気オーブンを使用する）、その後、組成物を少なくとも部分的に硬化し、耐久性コーティングを形成する。

本発明のフルオロケミカルシランの適用のための好ましいコーティング方法としては、ディップコーティングが挙げられる。典型的には、コーティングされる基材は、室温（典型的に、約２０℃〜約２５℃）で処理組成物に接触させることができる。別の方法としては、混合物を、例えば６０℃〜１５０℃の温度で予備加熱した基材に適用することができる。これは、例えば、セラミックタイルを生産ラインの終わりにてベーキングオーブン直後に処理できる工業生産にとって、特別な関心事である。適用後、処理された基材を、乾燥させるのに十分な時間にわたり室温又は高温、例えば４０℃〜３００℃で乾燥及び硬化させることができる。また、プロセスは過剰の材料を除去するための研磨工程を必要とする可能性もある。

本発明は、比較的耐久性があり、より汚染に抵抗性があり、基材表面自体よりも洗浄し易い保護コーティングを、基材に提供する。本発明は、一実施形態において、基材、好ましくは硬質基材と、単層を超える（典型的には、厚さ約１５オングストロームを超えるその上に付着される防汚コーティングとを含む）コーティングされた物品の調製に使用するための方法及び組成物を提供する。好ましくは、本発明の防汚コーティングは、少なくとも厚さ約２０オングストロームであり、より好ましくは少なくとも厚さ約３０オングストロームである。一般に、コーティングの厚さは、１０マイクロメートル未満、好ましくは５マイクロメートル未満である。コーティング材は、典型的には、物品の外観及び光学特性を実質的に変えない量で存在する。

請求項１の化合物は、眼科用レンズにおいて使用されるもののような反射防止基材のための防汚コーティングを調製するのに特に適している。コーティングは、蒸着により、あるいはディップコーティング、フラッドコーティング、カーテンコーティング、スピンコーティング、バーコーティング、又は他の溶媒系若しくは水性系方法により、提供され得る。

反射防止コーティングは、ガラス、石英、又はポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリチオウレタン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリイミド、及びポリエステル、特にポリエチレンテレフタレートが挙げられる有機ポリマー基材のような透明な（すなわち、光透過性）基材上に付着された材料の１つ以上の層を包含してもよい。最も簡単な反射防止コーティングは、それが配置される基材の屈折率よりも小さい屈折率を有する透明な材料の単一層である。多層の反射防止コーティングは、基材上に誘電材料の２つ以上の層を包含し、少なくとも１つの層は、基材の屈折率よりも高い屈折率を有する。それらは、反射防止フィルム積み重ね体と呼ばれることが多い。

反射防止コーティングは、広範囲の材料により提供されてもよい。好ましくは、反射防止コーティングは、薄い金属酸化物フィルムにより、より好ましくは薄いスパッタコーティングされた金属酸化物フィルムにより提供される。本明細書において、「金属酸化物」は、単一金属（半金属を包含する）のオキシド、並びに金属合金のオキシドを包含する。好ましい金属酸化物としては、酸化ケイ素が挙げられ、これらは酸素を消耗する可能性がある（すなわち、オキシド中の酸素の量は、化学量論的量未満である）。好ましくは、最外側表面上の金属酸化物フィルムは、酸化ケイ素（ＳｉＯｘ、式中、ｘは２を超えない）を包含するが、他の好適な材料は、スズ、チタン、ニオビウム、亜鉛、ジルコニウム、タンタル、イットリウム、アルミニウム、セリウム、タングステン、ビスマス、インジウム、及びこれらの混合物の酸化物を包含する。具体例としては、ＳｉＯ_２、ＳｎＯ_２、ＴｉＯ_２、Ｎｂ_２Ｏ_５、ＺｎＯ、ＺｒＯ_２、Ｔａ_２Ｏ_５、Ｙ_２Ｏ_３、Ａｌ_２Ｏ_３、ＣｅＯ_２、ＷＯ_３、Ｂｉ_２Ｏ、Ｉｎ_２Ｏ_３、及びＩＴＯ（酸化インジウムスズ）、並びにこれらの組み合わせ及び交互層が挙げられる。

スパッタコーティングされたフィルムは、熱的に蒸着したフィルムよりもより高い密度を有し、より硬く、より滑らかで、より安定であるという理由で、スパッタコーティングされた金属酸化物フィルムが、熱的に蒸着したフィルムよりも好ましい。こうしたスパッタコーティングされた金属酸化物フィルムは、比較的多孔質であり、原子間力顕微鏡法にて測定して直径およそ約５ナノメートル〜約３０ナノメートルを持つ粒子のクラスターからなるが、これらは、それらの機械的、電気的、及び光学的特性を変え得る水及び気体に対し十分に不浸透性である。

好適な透明基材としては、ガラス並びにポリ（メタ）アクリレート、ポリカーボネート、ポリチオウレタン、ポリスチレン；アクリロニトリル−ブタジエン−スチレンコポリマー及びアクリロニトリル−スチレンコポリマーのようなスチレンコポリマー；セルロースエステル、特にセルロースアセテート及びセルロースアセテート−ブチレートコポリマー；ポリ塩化ビニル；ポリエチレン及びポリプロピレンのようなポリオレフィン；ポリイミド；ポリフェニレンオキサイド；並びにポリエステル、特にポリエチレンテレフタレートのような透明熱可塑性材料が挙げられる。用語「ポリ（メタ）アクリレート」（又は「アクリル樹脂」）としては、キャストアクリルシート（cast acrylic sheeting）、延伸アクリル樹脂、ポリ（メチルメタクリレート）「ＰＭＭＡ」、ポリ（メタクリレート）、ポリ（アクリレート）、ポリ（メチルメタクリレート−コ−エチルアクリレート）と一般に呼ばれる材料、及び同類のものが挙げられる。基材厚さは、変化し得るが、可撓性有機フィルム用は、典型的に、約０．１ｍｍ〜約１ｍｍである。更に、有機ポリマー基材を、種々の異なる方法によって製造することができる。例えば、熱可塑性材料を押出加工して、所望の寸法へ切断することができる。これを所望の形状と寸法に成形することができる。また、セルキャスト（cell cast）を行い、続いて加熱及び延伸して、有機ポリマー基材を形成することができる。

反射防止コーティングを堆積させる基材は、プライマー処理表面を包含してよい。プライマー処理表面は、アクリル樹脂層のような化学プライマー層を適用することにより、あるいは化学的エッチング、電子ビーム照射、コロナ処理、プラズマエッチング、又は接着促進層との同時押出によって得ることができる。こうしたプライマー処理基材は市販されている。例えば、水性アクリレートラテックスによってプライマー処理したポリエチレンテレフタレート基材は、インペリアル・ケミカル・インダストリーズ・フィルムズ社（Imperial Chemical Industries Films）（ノースカロライナ州ホープウェル）から入手可能である。

したがって、本発明は、反射防止基材のための防汚組成物、並びに防汚組成物を蒸発させ、防汚組成物を反射防止基材上に付着することを含む、反射防止基材上に防汚組成物を付着する方法を提供する。反射防止基材は、反射防止フィルム積み重ね体の一部であるいずれかの透明な基材、又は反射防止組成物で全体的に又は部分的に被覆された表面を有するいずれかの透明な基材である。反射防止組成物は、好ましくは反射防止金属酸化物、金属フッ化物、金属窒化物、金属硫化物、又は同類のものである。より好ましくは、反射防止組成物は反射防止金属酸化物であり、最も好ましくは、反射防止組成物はスパッタコーティングされた反射防止金属酸化物フィルム（好ましくは酸化ケイ素を含む）である。本発明の防汚組成物は、表面を、例えば指紋からの皮膚油によるような汚染に対し、より耐性があるようにする。それは、表面を、好ましくは乾燥拭き取りにより、又は水及び洗剤により、きれいにすることをより簡単にする。更に、それは、それが適用される表面、特にフィルム積み重ね体の反射防止表面の光学特性をほとんど又は全く破壊しない。すなわち、本発明の防汚コーティングは、フィルム積み重ね体の反射率を有意に上昇しない。

本発明の方法により製造された物品は、任意の接着強化コーティング、反射防止組成物、好ましくは、多層フィルム積み重ね体、及び式Ｉの化合物を含む防汚組成物が、コーティングされたプライマー処理表面を所望により有するか、又は有さない、ガラス又は有機ポリマー基材のような基材を包含する。

防汚組成物の全般的な厚さは、防汚及び耐久特性を強化するための厚いコーティングに対する要求と、反射防止基材の反射防止特性を維持するための薄いコーティングに対する要求とのバランスをとることからもたらされる。典型的に、本発明の防汚組成物の全般的なコーティング厚さは、約２０〜５００オングストローム、より好ましくは約４０〜１００オングストロームである。別の態様においては、防汚組成物は、好ましくは単層として付着する。

防汚組成物が蒸発する条件は、防汚組成物の構造及び分子量によって変化する可能性がある。本発明の１つの態様においては、蒸発は、約１．３Ｐａ（０．０１ｍｍＨｇ）未満の圧力において起こる可能性があることが好ましい。本発明の別の態様においては、蒸発は、少なくとも約８０℃の温度で起きてもよい。

本発明の別の実施形態においては、蒸発は、防汚組成物及び反射防止基材をチャンバ内に置き、チャンバ（防汚組成物を含有する）を加熱し、チャンバ内の圧力を下げ、当該技術分野において既知の蒸着方法を訴えることを含む。本発明は、防汚組成物及び反射防止基材をチャンバ内に入れる前に、チャンバを加熱する方法も提供する。あるいは、別の方法としては、防汚組成物を第１チャンバに入れ、第１チャンバから蒸発した防汚組成物が、第２チャンバ内で反射防止コーティングされた眼科用レンズに付着できるように、反射防止コーティングされた眼科用レンズを第１チャンバに連結した第２チャンバに入れる。本発明の別の態様では、第１チャンバが加熱されている間、第２チャンバを周囲温度に維持してもよい。有用な真空槽及び装置は当該技術分野において既知である。市販のユニットの１つは、サティス・バキューム（Satis Vacuum）、（米国、オハイオ州、グローブポート（Grove Port））から入手可能な９００ＤＬＳである。

本発明の目的及び利点は、以下の実施例によって更に例示されるが、これらの実施例において列挙された特定の材料及びその量は、他の条件及び詳細と同様に、本発明を不当に制限するものと解釈すべきではない。これらの実施例は、単にあくまで例示を目的としたものであり、添付した特許請求の範囲を限定することを意味するものではない。

特に記載のない限り、実施例及びこれ以降の明細書に記載されている部、百分率、比率等は全て、重量による。使用される溶媒及び他の試薬は、特に記載のない限り、アルドリッチ・ケミカル社（Aldrich Chemical Company）（ウィスコンシン州ミルウォーキー（Milwaukee））より入手した。

試験方法
核磁気共鳴（ＮＭＲ）
バリアンユニティプラス（Varian UNITYplus）４００フーリエ変換ＮＭＲスペクトロメーター（バリアンＮＭＲインスツルメンツ社（Varian NMR Instruments）、カルフォルニア州パロアルト（Palo Alto）から入手可能）にて、^１Ｈ及び^１９Ｆ・ＮＭＲスペクトルを測定した。

赤外線分光分析（ＩＲ）
ＩＲスペクトルを、サーモ・ニコレー社（Thermo-Nicolet）製、アバター（Avatar）３７０ＦＴＩＲ（サーモ・エレクトロン社（マサチューセッツ州ウォルサム（Waltham））から入手可能）にて測定した。

実験
用語リスト：
特に記載のない限り、実施例で使用されるように、「ＨＦＰＯ−」は、メチルエステルＦ（ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２Ｏ）_ａＣＦ（ＣＦ_３）Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ_３の末端基Ｆ（ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２Ｏ）_ａＣＦ（ＣＦ_３）−を指し、ａの平均は４〜２０であり、真空分留による精製を伴う米国特許第３，２５０，８０８号（ムーア（Moore）ら）に報告される方法に従って調製できる。

ＨＦＰＯ−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｈ）ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＨは、米国特許第７，０９４，８２９号（オードナート（Audenart）ら）に記載の方法と同様の手順により調製された。

ＨＦＰＯジメチルエステル：
ＣＨ_３Ｏ（Ｏ）ＣＣＦ（ＣＦ_３）（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）_ｂＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２Ｏ）_ｃＣＦ（ＣＦ_３）ＣＯＯＣＨは、Ｈ_３ＣＯ（Ｏ）Ｃ−ＨＦＰＯ−Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ_３又はＨＦＰＯ−（Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ_３）_２とも呼ばれ（式中、ｂ＋ｃは平均約４〜１５）、米国特許第３，２５０，８０７号（フリッツ（Fritz）ら）において報告される方法にしたがい出発物質として、ＦＣ（Ｏ）ＣＦ_２ＣＦ_２Ｃ（Ｏ）Ｆを使用して調製でき、これは、ＨＦＰＯオリゴマービス−酸フッ化物を提供し、次にメタノリシス、及び米国特許第６，９２３，９２１号（フリン（Flynn）ら）に記載のような真空分留によって、より低沸点の材料を除去することによる精製が続く。ＨＦＰＯ−ＣＯＮＨＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ_２（ＨＦＰＯ−ＡＥＡ）は、Ｕ．Ｓ．２００６／０２１６５００（クルン（Klun）ら）の調製３１Ａに記載されるように調製された。

ＨＦＰＯ−ＣＯＮＨＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＮＨＣＨ_３は、Ｕ．Ｓ．２００２／０２５０９２１において（ＦＣ−１／ＡＭ−１）について与えられた手順に従って調製された。

Ｃ_４Ｆ_９ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ_２は、オークウッド・プロダクト社（Oakwood Products, Inc）、（サウスカロライナ州、ウェストコロンビア（West Columbia））から購入された。

３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン及びビス（トリメトキシシリルプロピル）アミンは、ジェレスト社（Gelest, Inc.）、（ペンシルベニア州、モーリスビル（Morrisville））から入手された。

材料ＨＦＰＯ−ＣＨ_２ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ_２の合成は、以前に報告された方法（マッキンタイア，Ｄ．Ｋ．パテント（McIntyre, D.K. Patent）：米国特許第４，８７３，１４０号；１９８９年１０月１０日）により調整された。

ＮＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−ＮＨ−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＮＨ−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＮＨ_２は、ＶＷＲインターナショナル社（VWR international, Inc,）（ペンシルベニア州、ウェストチェスター（West Chester））から購入された。

ＬＴＭ（ＣＨ_２ＯＣ（Ｏ）ＣＨ＝ＣＨ_２）_２は、式ＣＨ_２＝ＣＨＣ（Ｏ）ＯＣＨ_２ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ（ＣＦ_２Ｏ）_ｎＣＦ_２ＣＨ_２ＯＣ（Ｏ）ＯＣＨ＝ＣＨ_２であり、塩化アクリロイルを塩化メタクリロイルに置き換えて、米国特許第３，８１０，８７４号、実施例ＸＶと同様の手順を使用して調製された。

ＣＨ_２＝ＣＨＣ（Ｏ）Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３は、ＶＷＲインターナショナル社（VWR international, Inc,）（ペンシルベニア州、ウェストチェスター（West Chester））から購入された。

Ｎ−メチルアミノプロピルトリメトキシシラン（ＭＡＰＴＭＳ）は、ユニオンカーバイド・ケミカルズ・アンド・プラスティックス社（Union Carbide Chemicals and Plastics Co.）（コネチカット州ダンブリー（Danbury））から入手された。

ビス（プロピル−３−トリメトキシシラン）アミンは、ゲレスト（Gelest）（ペンシルバニア州、モーリスビル（Morrisville））から入手された。

アミノプロピルトリメトキシシラン、（ＡＰＴＭＳ）は、シグマ・アルドリッチ（Sigma-Aldrich）（ウィスコンシン州、ミルウォーキー（Milwaukee））から入手された。

実施例１．（Ｃ_４Ｆ_９ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＯＣＨ_２−ＣＨ_２）_２−Ｎ−（ＣＨ_２）_３−Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３
１００ｍＬの３首丸底フラスコに、電磁攪拌棒、Ｎ_２注入口、及び還流冷却器を備え、Ｎ_２雰囲気下で、Ｃ_４Ｆ_９ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ_２（５ｇ，０．０１５７モル）を充填した。３−アミノプロピルトリメトキシシラン（１．４０ｇ，０．００７８５モル）を１５分間でフラスコに滴下して添加した。反応は発熱であり、室温で３０分間攪拌した。その後、反応混合物を５５℃で１２時間加熱した。^１Ｈ ＮＭＲにより監視したアクリレートピークが完全に消滅した後、反応を停止した。

実施例２
（ＨＦＰＯ−ＣＨ_２ＯＣＯＣＨ_２−ＣＨ_２）_２−Ｎ−（ＣＨ_２）_３−Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３
１００ｍＬの３首丸底フラスコに、電磁攪拌棒、Ｎ_２注入口、及び還流冷却器を備え、Ｎ_２雰囲気下で、ＨＦＰＯ−ＣＨ_２ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ_２（５ｇ、０．００３９５モル）を充填した。３−アミノプロピルトリメトキシシラン（０．３５ｇ、０．００１９７モル）を１５分間でフラスコに滴下して添加した。反応は発熱であり、室温で３０分間攪拌した。その後、反応混合物を５５℃で１２時間加熱した。

実施例３
ＨＦＰＯ−ＣＯＮＨＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＯＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｎ−［（ＣＨ_２）_３−Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３］_２
１００ｍＬの３首丸底フラスコに、電磁攪拌棒、Ｎ_２注入口、及び還流冷却器を備え、Ｎ_２雰囲気下で、ＨＦＰＯ−ＣＯＮＨＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ_２（１０ｇ、０．００７１４モル）を充填した。ビス（トリメトキシシリルプロピル）アミン（２．４３ｇ、０．００７１４モル）を１５分間でフラスコに滴下して添加した。反応は発熱であり、室温で３０分間攪拌した。その後、反応混合物を５５℃で１２時間加熱した。

調整実施例１
ＨＦＰＯ−Ｃ（Ｏ）ＮＨＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２ＯＨの合成
電磁攪拌棒及び注入口アダプターを備えた５００ｍＬの１首丸底フラスコに、ＨＦＰＯ−Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ_３（ＭＷ：１２６６、６４ｇ，０．０５０６モル）及び（±）−３−アミノ−１，２−プロパンジオール（５．９９ｇ、０．０６５５７モル）を充填し、窒素下で７５℃にて７２時間攪拌した。この時点において、ＦＴＩＲ分析により、所望のアミドと相関するピーク（約１７１０ｃｍ^−１）の出現とともにＨＦＰＯ−Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ_３と相関するピーク（約１７９０ｃｍ^−１）の消滅を確認し、反応は終了した。生成物を７０ｇのメチル第三級−ブチルエーテルに溶解し、１６ｍＬの２Ｎ（水溶液）ＨＣｌと共に室温で１５分間攪拌し、その後、分液漏斗に入れ、水相を廃棄した（ｐＨ＝１）。有機相を３つの水のアリコート１００ｇで連続して洗浄し、分離後に毎回水相を廃棄し、中性ｐＨを得た。生成物を１０ｇの硫酸マグネシウムで乾燥し、ブフナー漏斗で濾過した。６５℃、３．７ｋＰａ（２８トール））において、ロータリーエバポレーターで有機層を濃縮した。ＨＦＰＯ−Ｃ（Ｏ）ＮＨＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２ＯＨの^１Ｈ−ＮＭＲは、所望の生成物に過剰な（±）−３−アミノ−１，２−プロパンジオールがなかったことを示した。

調整実施例２
ＨＦＰＯ−Ｃ（Ｏ）ＮＨＣＨ_２ＣＨ（ＯＣ（Ｏ）ＣＨ＝ＣＨ_２）ＣＨ_２ＯＣ（Ｏ）ＣＨ＝ＣＨ_２の合成
電磁攪拌棒及び注入口アダプターを備えた５００ｍＬの１首丸底フラスコに、ＨＦＰＯ−Ｃ（Ｏ）ＮＨＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２ＯＨ（ＭＷ：１３２５、６０．８８ｇ、０．０４５９モル、調整実施例１より）、トリエチルアミン（１２．０９ｇ、０．１１９５モル）、メチル第三級−ブチルエーテル（８２．９５ｇ）、及びパラ−メトキシフェノール（０．０３ｇ、固体５００ＰＰＭ）を充填し、乾燥空気下で４０℃にて１０分間攪拌した。塩化アクリロイル（９．９８ｇ、０．１１０３モル）を１５分間でフラスコに滴下して添加した。反応は発熱であり、７２時間攪拌した。その後、生成物を熱から除去し、５０ｇの２Ｎ（水溶液）ＨＣｌと共に２０分間攪拌し、その後、分液漏斗に入れ、水相を除去した（ｐＨ＝１）。その後、生成物を９０ｇの１０％（水溶液）炭酸ナトリウムと共に２０分間攪拌し、その後、分液漏斗に入れ、水相を除去した（ｐＨ＝９）。次に、生成物を、９０ｇの１０％（水溶液）塩化ナトリウムと共に２０分間攪拌し、その後、分液漏斗に入れ、水相を廃棄した。生成物を１０ｇの硫酸マグネシウムで乾燥し、ブフナー漏斗で濾過した。有機層をロータリーエバポレーター（５５℃、３．７ｋＰａ（２８トール））で濃縮した。ＨＦＰＯ−Ｃ（Ｏ）ＮＨＣＨ_２ＣＨ（ＯＣ（Ｏ）ＣＨ＝ＣＨ_２）ＣＨ_２ＯＣ（Ｏ）ＣＨ＝ＣＨ_２の^１Ｈ−ＮＭＲは、所望の生成物と一致していた。

実施例４
ＨＦＰＯ−Ｃ（Ｏ）ＮＨＣＨ_２ＣＨ（ＯＣ（Ｏ）ＣＨ_２ＣＨ_２Ｎ（ＣＨ_３）（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３）ＣＨ_２ＯＣ（Ｏ）ＣＨ_２ＣＨ_２Ｎ（ＣＨ_３）（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３
電磁攪拌棒及び注入口アダプターを備えた５００ｍＬの１首丸底フラスコに、ＨＦＰＯ−Ｃ（Ｏ）ＮＨＣＨ_２ＣＨ（ＯＣ（Ｏ）ＣＨ＝ＣＨ_２）ＣＨ_２ＯＣ（Ｏ）ＣＨ＝ＣＨ_２（ＭＷ：１４３３、１０ｇ、０．００７０モル、調整実施例３から）を充填し、乾燥空気下にて５５℃で１０分間攪拌した。ＣＨ_３ＮＨ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３（ＭＷ：１９３、２．６９ｇ、０．０１４０モル）を１５分間でフラスコに滴下して添加した。反応を２４時間攪拌した。ＨＦＰＯ−Ｃ（Ｏ）ＮＨＣＨ_２ＣＨ（ＯＣ（Ｏ）ＣＨ_２ＣＨ_２Ｎ（ＣＨ_３）（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３）ＣＨ_２ＯＣ（Ｏ）ＣＨ_２ＣＨ_２Ｎ（ＣＨ_３）（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３の^１Ｈ−ＮＭＲは、所望の生成物と一致していた。

実施例５
ＨＦＰＯ−Ｃ（Ｏ）ＮＨＣＨ_２ＣＨ（ＯＣ（Ｏ）ＣＨ_２ＣＨ_２Ｎ（（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３）_２）ＣＨ_２ＯＣ（Ｏ）ＣＨ_２ＣＨ_２Ｎ（ＣＨ_３）（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３）_２
電磁攪拌棒及び注入口アダプターを備えた５００ｍＬの１首丸底フラスコに、ＨＦＰＯ−Ｃ（Ｏ）ＮＨＣＨ_２ＣＨ（ＯＣ（Ｏ）ＣＨ＝ＣＨ_２）ＣＨ_２ＯＣ（Ｏ）ＣＨ＝ＣＨ_２（ＭＷ：１４３３、１０ｇ、０．００７０モル、調整実施例３から）を充填し、乾燥空気下にて５５℃で１０分間攪拌した。ＮＨ（（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３）_２（ＭＷ：３４１、４．７６ｇ、０．０１４０モル）を１５分間でフラスコに滴下して添加した。反応を２４時間攪拌した。ＨＦＰＯ−Ｃ（Ｏ）ＮＨＣＨ_２ＣＨ（ＯＣ（Ｏ）ＣＨ_２ＣＨ_２Ｎ（（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３）_２）ＣＨ２ＯＣ（Ｏ）ＣＨ_２ＣＨ_２Ｎ（ＣＨ_３）（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３）_２の^１Ｈ−ＮＭＲは、所望の生成物と一致していた。

実施例６
ＬＴＭ（ＣＨ_２ＯＣ（Ｏ）ＣＨ_２ＣＨ_２Ｎ（（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３）_２）_２
電磁攪拌棒及び注入口アダプターを備えた１００ｍＬの１首丸底フラスコに、ＬＴＭ（ＣＨ_２ＯＣ（Ｏ）ＣＨ＝ＣＨ_２）_２（ＭＷ：２１４２、１５ｇ、０．００７０モル）及びＨＮ（（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３）_２（ＭＷ：３４１、４．７８ｇ、０．０１４０モル）を充填し、乾燥空気下にて６５℃で２４時間攪拌した。ＬＴＭ（ＣＨ_２ＯＣ（Ｏ）ＣＨ_２ＣＨ_２Ｎ（（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３）_２）_２の^１Ｈ−ＮＭＲは、生成物に過剰な出発物質が存在しなかったことを示した。

実施例７
ＬＴＭ（ＣＨ_２ＯＣ（Ｏ）ＣＨ_２ＣＨ_２Ｎ（ＣＨ_３）（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３）_２
電磁攪拌棒及び注入口アダプターを備えた１００ｍＬの１首丸底フラスコに、ＬＴＭ（ＣＨ_２ＯＣ（Ｏ）ＣＨ＝ＣＨ_２）_２（ＭＷ：２１４２、１５ｇ、０．００７０モル）及びＨＮ（ＣＨ_３）（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３（ＭＷ：１９３．２７、２．７１ｇ、０．０１４０モル）を充填し、乾燥空気下にて５５℃で２４時間攪拌した。ＬＴＭ（ＣＨ_２ＯＣ（Ｏ）ＣＨ_２ＣＨ_２Ｎ（ＣＨ_３）（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３）_２の^１Ｈ−ＮＭＲは、生成物に過剰出発物質が存在しなかったことを示した。

調整実施例３
ＨＦＰＯ−（Ｃ（Ｏ）ＮＨＣＨ_２ＣＨ_２ＯＨ）_２の合成
電磁攪拌棒及び注入口アダプターを備えた５００ｍＬの１首丸底フラスコに、ＨＦＰＯ−（Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ_３）_２（ＭＷ：２４００、１５０ｇ、０．０６２５モル）及びエタノールアミン（ＭＷ：６１．０８、９．９３ｇ、０．１６２５モル）を充填し、窒素下で７５℃にて２４時間攪拌した。ＦＴＩＲ分析により、所望のアミドと相関するピーク（約１７１０ｃｍ^−１）の出現とともに、ＨＦＰＯ−（Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ_３）_２と相関するピーク（約１７９０ｃｍ^−１）の消滅を確認し、反応は終了した。生成物を２２５ｇのメチル第三級−ブチルエーテルに溶解し、５０ｍＬの２Ｎ（水溶液）ＨＣｌと共に室温で１５分間攪拌し、その後、分液漏斗に入れ、水相を廃棄した（ｐＨ＝１）。次に、生成物を８０ｍＬの２％（水溶液）炭酸ナトリウムと共に２０分間攪拌し、その後、分液漏斗に入れて水相を廃棄した（ｐＨ＝８）。次に、生成物を５０ｍＬの１０％（水溶液）塩化ナトリウムと共に２０分間攪拌し、その後、分液漏斗に入れて水相を廃棄した。生成物を１０ｇの硫酸マグネシウムで乾燥し、ブフナー漏斗で濾過した。有機層をロータリーエバポレーターで濃縮した（温度：５５℃；真空：３．７ｋＰａ（２８トール））。

調整実施例４
ＨＦＰＯ−（Ｃ（Ｏ）ＮＨＣＨ_２−ＣＨ_２−ＯＣ（Ｏ）ＣＨ＝ＣＨ_２）_２の合成
電磁攪拌棒及び注入口アダプターを備えた５００ｍＬの１首丸底フラスコに、ＨＦＰＯ−（Ｃ（Ｏ）ＮＨＣＨ_２ＣＨ_２ＯＨ）_２（ＭＷ：２４５８、５０ｇ、０．０２０３モル）、トリエチルアミン（５．０２ｇ、０．０４９６モル）及びフロリナート（Fluorinert）（商標）ＦＣ−７７（８７．５０ｇ、ペルフルオロ化溶媒、３Ｍ社から入手可能）を充填し、乾燥空気下で４０℃にて１０分間攪拌した。塩化アクリロイル（ＭＷ：９０．５１、４．４２ｇ、０．０４８８モル）を１５分間でフラスコに滴下して添加した。反応は発熱であり、２４時間攪拌した。その後、生成物を熱から除去し、５ｇの水と共に１２０分間攪拌し、その後、５ｇの硫酸マグネシウムと共に３０分間攪拌し、その後、５ｇの１０％炭酸カリウムと共に３０分間攪拌した。次に、１０ｇのシリカゲルを添加し、６０分間攪拌した。その後、生成物をブフナー漏斗で濾過し、その後、これを追加のフロリナートＦＣ７７で洗浄した。有機層をロータリーエバポレーター（温度：５５℃；真空：３．７ｋＰａ（２８トール））で濃縮した。ＨＦＰＯ−（Ｃ（Ｏ）ＮＨＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣ（Ｏ）ＣＨ＝ＣＨ_２）_２の^１Ｈ−ＮＭＲは、所望の生成物と一致していた。

実施例８
ＨＦＰＯ−（Ｃ（Ｏ）ＮＨＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣ（Ｏ）ＣＨ_２ＣＨ_２−Ｎ（（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３）_２）_２
電磁攪拌棒及び注入口アダプターを備えた５０ｍＬの１首丸底フラスコに、ＨＦＰＯ−（Ｃ（Ｏ）ＮＨＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣ（Ｏ）ＣＨ＝ＣＨ_２）_２（ＭＷ：２５６８、９ｇ、０．００３５モル、調整実施例４から）及びＨＮ（（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３）_２（ＭＷ：３４１、２．３９ｇ、０．００７０モル）を充填し、乾燥空気下にて７０℃で２４時間攪拌した。

実施例９
ＨＦＰＯ−（Ｃ（Ｏ）ＮＨＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣ（Ｏ）ＣＨ_２ＣＨ_２−Ｎ（ＣＨ_３）（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３）_２
電磁攪拌棒及び注入口アダプターを備えた５０ｍＬの１首丸底フラスコに、ＨＦＰＯ−（Ｃ（Ｏ）ＮＨＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣ（Ｏ）ＣＨ＝ＣＨ_２）_２（ＭＷ：２５６８、９ｇ、０．００３５モル、調整実施例４から）及びＨＮ（ＣＨ_３）（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３（ＭＷ：１９３．２７、１．３５ｇ、０．００７０モル）を充填し、乾燥空気下にて７０℃で２４時間攪拌した。

調整実施例５
ＨＦＰＯ−Ｃ（Ｏ）ＮＨＣＨ_２ＣＨ_２Ｎ（ＣＨ_３）Ｃ（Ｏ）ＣＨ＝ＣＨ_２の合成
電磁攪拌棒及び注入口アダプターを備えた２００ｍＬの１首丸底フラスコに、ＨＦＰＯ−Ｃ（Ｏ）ＮＨＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＮＨＣＨ_３（ＭＷ：１２６７．１５、２５ｇ、０．０１９７モル）、トリエチルアミン（ＭＷ：１０１．１９、２．６０ｇ、０．０２５６モル）、メチル−第三級−ブチルエーテル（２９．７４ｇ）、及びｐ−メトキシフェノール（７．５ｍｇ、２５０ＰＰＭ）を充填し、乾燥空気下にて４０℃で１０分間攪拌した。塩化アクリロイル（ＭＷ：９０．５１、２．１４ｇ、０．０２３７モル）を１５分間でフラスコに滴下して添加した。反応は発熱であり、室温で２４時間攪拌した。生成物を熱から除去し、１５ｍＬの２Ｎ（水溶液）ＨＣｌと共に室温で１５分間攪拌し、その後、分液漏斗に入れ、水相を廃棄した（ｐＨ＝１）。その後、生成物を１００ｍＬの水と共に室温で１５分間攪拌し、その後、分液漏斗に入れ、水相を廃棄した。このプロセスをもう３回繰り返し、ｐＨは４に等しかった。この生成物を５ｇの硫酸マグネシウムで乾燥し、ブフナー漏斗で濾過した。有機層をロータリーエバポレーター（温度：５５℃；真空：３．７ｋＰａ（２８トール））で濃縮した。ＨＦＰＯ−Ｃ（Ｏ）ＮＨＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｎ（ＣＨ_３）Ｃ（Ｏ）ＣＨ＝ＣＨ_２の^１Ｈ−ＮＭＲは、所望の生成物と一致していた。

実施例１０
ＨＦＰＯ−（Ｃ（Ｏ）ＮＨＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｎ（ＣＨ_３）Ｃ（Ｏ）ＣＨ_２ＣＨ_２Ｎ（（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３）_２
電磁攪拌棒及び注入口アダプターを備えた５０ｍＬの１首丸底フラスコに、ＨＦＰＯ−Ｃ（Ｏ）ＮＨＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｎ（ＣＨ_３）Ｃ（Ｏ）ＣＨ＝ＣＨ_２（ＭＷ：１３２２、７ｇ、０．００５３モル）及びＨＮ（（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３）_２（ＭＷ：３４１、１．９０ｇ、０．００５６モル）を充填し、乾燥空気下にて５５℃で２４時間攪拌した。ＨＦＰＯ−Ｃ（Ｏ）ＮＨＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｎ（ＣＨ_３）Ｃ（Ｏ）ＣＨ_２ＣＨ_２Ｎ（（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３）_２の^１Ｈ−ＮＭＲは、所望の生成物を示した。

実施例１１
（ＨＦＰＯ−Ｃ（Ｏ）ＮＨＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣ（Ｏ）ＣＨ_２ＣＨ_２）_２Ｎ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３
１００ｍＬの３首丸底フラスコに、電磁攪拌棒、Ｎ_２注入口、及び還流冷却器を備え、Ｎ_２雰囲気下で、ＨＦＰＯ−Ｃ（Ｏ）ＮＨＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣ（Ｏ）ＣＨ＝ＣＨ_２（５ｇ、０．００３５７モル）を充填した。３−アミノプロピルトリメトキシシラン（０．３２０３ｇ、０．００１７８６モル）を１５分間でフラスコに滴下して添加した。反応は発熱であり、室温で３０分間攪拌した。その後、反応混合物を５５℃で１２時間加熱した。得られた透明な粘稠油をＮＭＲで分析した。

実施例１２
ＨＦＰＯ−Ｃ（Ｏ）ＮＨＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣ（Ｏ）ＣＨ_２ＣＨ_２Ｎ（ＣＨ_３）（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３
１００ｍＬの３首丸底フラスコに、電磁攪拌棒、Ｎ_２注入口、及び還流冷却器を備え、Ｎ_２雰囲気下で、ＨＦＰＯ−ＣＯＮＨＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ_２（５ｇ、０．００３５７モル）を充填した。次に、３−（メチル）アミノプロピルトリメトキシシラン（０．６９ｇ、０．００３５７モル）を１５分間でフラスコに滴下して添加した。反応は発熱であり、室温で３０分間攪拌した。その後、反応混合物を５５℃で１２時間加熱した。透明な粘稠油が得られた。

ディップコートによる眼科用レンズの処理
選択されたフルオロケミカルシランの０．１％ノベック（Novec）（商標）ＨＦＥ−７１００（３Ｍ社から入手可能なハイドロフルオロエーテル）溶液をディップコーターのガラス容器内に入れた。きれいなレンズを１５ｍｍ／秒の速度で溶液内に浸し、２秒間浸漬したままにした。次に、レンズを溶液から１５ｍｍ／秒の速度で引き上げた。コーティングしたレンズを３０分間空気中で乾燥させ、次に０．１％ＨＣｌ溶液内に類似の浸漬速度及び引き上げ速度にて浸漬した。いずれかの過剰な酸を、窒素ガスで吹き飛ばした。レンズをアルミニウムパン内に入れ、オーブン内にて６０℃で３０分間硬化させた。

眼科用メガネの化学蒸着（ＣＶＤ）による処理：
清浄なレンズを、蒸着チャンバ内で、圧力３×１０^−６トールにて本発明の選択された各フルオロケミカルシランで処理した。シランの蒸発温度は、３５０〜５００℃の範囲である。その後、コーティングを周囲条件下で硬化した。

ポリカーボネートエアーウェア・クライザル（AirWear Crizal）（商標）反射防止レンズ半加工品（エシロール（Essilor）ＵＳＡ、（フロリダ州、セントピーターズバーグ（St. Petersburg））から入手）は、引掻き耐性ハードコート、反射防止（ＡＲ）コーティング及び疎水性のトップコートを有すると考えられている。ＡＲコーティングは、酸化ジルコニウム／酸化ケイ素／酸化ジルコニウム／酸化ケイ素を含む４層ＣＶＤコーティングを含むと考えられている。

疎水性のトップコートを除去し、本発明のフルオロケミカルシランを付着させるために、市販レンズ半加工品をイソプロパノールですすぎ、送風機で乾燥し、その後、ハリック（Harrick）ＰＤＣ−３２Ｇクリーナー（Cleaner）／滅菌器（Sterilizer）（ハリック・サイエンティフィック社（Harrick Scientific Corp.）（ニューヨーク州、プレザントビル（Pleasantville）））にて真空プラズマに３分間曝露した。

排出時間試験：
この試験において、処理済み眼科用メガネからの液体排出時間は、ディップコーターを使用して決定した。処理済みレンズを液体（オレイン酸又はイソプロパノール（ＩＰＡ）のどちらか）中に浸し、続いてそこから引き上げる。試験のための引き上げ速度は、毎秒５ｃｍ（２インチ）であった。液体が完全に排出されるために必要な時間を、タイマーにて測定した。

表１は、イソプロパノール及びオレイン酸について、選択されたＣＶＤとディップコーティングされたポリカーボネートレンズの比較のために、測定された排出時間を示す。データに従って、一般に、レンズのＣＶＤコーティングは、ＩＰＡ及びオレイン酸の両方について、ディップコーティングより短い排出時間をもたらす。排出時間は、処理したレンズの滑りやすさを測定するのに使用され、液体を完全に排出するために必要な時間がより短いものは、表面がより滑りやすい。より速い液体の排出は、疎油性表面がより疎水性である徴候でもある。

静的及び動的接触角：
静的、前進及び後退接触角試験は、コーティング材料の表面特性についての迅速及び正確な予測を提供する。処理済みレンズの接触角（乾燥及び硬化後）は、クルス（Kruss）Ｇ１２０及びＡＳＴ ＶＣＡ ２５００ＸＥビデオ接触角システム（ＡＳＴプロダクツ社（AST Products, Inc.））（両方とも、制御及びデータプロセスのためのコンピュータを装着する）を使用して測定した。水及びｎ−ヘキサデカンの両方について、データを収集した。表２は、ＣＶＤ及びディップコーティングプロセスの両方を使用して、各種シランにて処理したレンズの、静的、前進及び後退接触角についてまとめている。測定した接触角は、全ての処理済みレンズについて大きかったが、一般に、ディップコーティングによって処理したレンズは、わずかにより大きな接触角となる。

処理済みレンズのヒステリシス：
最大（前進）と最小（後退）接触角値の差は、接触角ヒステリシスと呼ばれ、表面異質性、粗さ及び機動性を特徴づける。コーティングした表面の容易なクリーニング性能は、接触角ヒステリシスと関連している可能性がある。より高い後退接触角は、処理した表面から染色液体を除去するのを助けるであろう。したがって、接触角ヒステリシスがより小さい場合、性能もより高くなる。表１は、いくつかの処理済みレンズのヒステリシスを示す。

耐久性試験：
レンズ上のシラン処理の耐久性を、以下の方法で決定した：処理済みレンズには、レンズ・イレーサー・アブレーション・テスター（Lens Eraser Abrasion Tester）（コルツ・ラボラトリーズ社（Colts Laboratories, Inc.）（フロリダ州クリアウォーター）から入手）及び３Ｍ高性能クロス（商標）（スコッチ−ブライト（Scotch-Brite）（商標）マイクロファイバー・ダスティング・クロス（Microfiber Dusting Cloth）、３Ｍ社（ミネソタ州セントポール）から入手）を使用して、２．２７ｋｇ（５ポンド）荷重にて５００サイクルの摩耗試験を実施した。次に、摩耗試験に続いて、上記方法を使用して、処理済みレンズの接触角を再度測定した。表２は、磨耗耐性試験後の処理済みレンズの接触角データを示す。表３は、それぞれ磨耗耐性試験前後の、ディップコートにて処理済みレンズについての接触角データを示す。

接着及びエッジング試験：
この試験は、切断操作の間、レンズをエッジャーにおいて適所に保つパッドの能力を決定するために行われ、これはレンズの縁又は周辺を機械加工してフレームの所要の寸法に従わせることからなる。リープパッドＩＩＩ（Leap Pad III）（３Ｍ社（ミネソタ州セントポール）から入手可能）の片面から、シーリング紙を剥離し、コーティングされたレンズの中央へ適用した（レンズを、３０ｃｍ（１２ １／４インチ）バーを備えたトルク器具へしっかりと貼り付ける）。

レンズが回転する間、レンズを適所に保つ装置であるブロックを、リープパッドＩＩＩ（Leap Pad III）の反対側に適用した。パッド及びレンズを備えたトルク器具を、エッジャー内へ挿入し（ブロッカー内へのブロックフランジの位置合わせは重要である）、２８９．６ｋＰａ（２．８６気圧（４２ｐｓｉ））の圧力にてパッド上にしっかりと押し付けた。トルクツールの先端は、トルクス（登録商標）ケールで０度に揃えられた。バネスケールを使用して、０．４５キログラム（６ポンド）の水平力を１分間適用し、トルクス（登録商標）ケール上のトルクツールの新しい位置を、ゼロ位置からの角度として記録した。トルク角度が５以下である場合、エッジングプロセスにおいてレンズを保持するための適切な接着及び能力を有すると考えられる。

本発明のシラン処理の試験結果を、表２に示す。比較のアライズ（Alize）（商標）レンズ半加工品（米国、エシロール（Essilor）から入手）についてのトルク角度は、１５を超え、これは、エッジングプロセスのために特別な一時的コーティングを必要とする（ＷＯ ０１／６８３８４及びＵＳ２００４／０２５３３６９を参照）。本発明に記載される新しいシラン処理は全て、このトルク試験に合格する。ＦＣシランのＣＶＤコーティングレンズを、トルク試験前に最初にイソプロパノールで洗浄した場合、接着が向上し、試験に合格した。したがって、本発明のシラン処理は、エッジングプロセスのための特別な一時的コーティングを必要としない。

本願発明に関連する発明の実施形態を以下に列挙する。
［実施形態１］
式

の化合物であって、
式中、
Ｒ _ｆ はフッ素含有基であり、
Ｒ ^１ は、共有結合、多価アルキレン若しくはアリーレン基、又はこれらの組み合わせであり、前記アルキレン基は、１つ以上のカテナリー酸素又は窒素原子を含有しているか、又は含有しておらず、
Ｒ ^２ は式：

であって、式中、
Ｘ ^２ は、−Ｏ、−Ｓ−、又は−ＮＲ ^４ −であり、式中、Ｒ ^４ は、Ｈ又はＣ _１ 〜Ｃ _４ アルキルであり、
Ｒ ^５ は、Ｃ _１ 〜Ｃ _４ アルキル、又は−Ｒ ^６ −Ｓｉ（Ｙ _ｐ ）（Ｒ ^７ ） _３−ｐ 又は（Ｒ _ｆ ） _ｘ −Ｒ ^１ −Ｘ ^２ −Ｃ（Ｏ）−ＣＨ _２ ＣＨ _２ −であり、
Ｒ ^６ は、二価のアルキレン基であり、前記アルキレン基は、１つ以上のカテナリー酸素原子を含有しているか、又は含有しておらず、
Ｙは、加水分解性基であり、
Ｒ ^７ は、一価のアルキル若しくはアリール基であり、
ｐは、１、２、又は３であり、並びに
ｘ及びｙは、それぞれ独立して、少なくとも１であり、ｚは、１又は２である、化合物。
［実施形態２］
Ｒ _ｆ が式：

であって、式中、
Ｒ _ｆ ^１ は、一価のペルフルオロアルキル基又はペルフルオロオキシアルキル基、あるいは二価のペルフルオロアルキレン基又はペルフルオロオキシアルキレン基であり、
Ｑは、共有結合、又は二価のアルキレン若しくはアリーレン基であり、前記アルキレンは、１つ以上のカテナリーへテロ原子を含有しているか、又は含有しておらず、
Ｘ ^２ は、−Ｏ−、−ＮＲ ^４ −、又は−Ｓ−、であり、式中、Ｒ ^４ は、Ｈ又はＣ _１ 〜Ｃ _４ のアルキルであり、
ｚは１又は２であり、
ｖは０又は１である、実施形態１に記載の化合物。
［実施形態３］
Ｒ ^２ が、フッ素含有アクリロイル化合物とアミノシランとの間のマイケル反応から誘導されるシラン含有部分である、実施形態１に記載の化合物。
［実施形態４］
Ｒ _ｆ が、一価のペルフルオロアルキル及びペルフルオロオキシアルキル基、並びに二価のペルフルオロアルキレン及びペルフルオロオキシアルキレン基から選択されるフッ素含有基を含む、実施形態１に記載の化合物。
［実施形態５］
Ｒ _ｆ ^１ が、−（Ｃ _ｎ Ｆ _２ｎ Ｏ）−、−（ＣＦ（Ｚ）Ｏ）−、−（ＣＦ（Ｚ）Ｃ _ｎ Ｆ _２ｎ Ｏ）−、−（Ｃ _ｎ Ｆ _２ｎ ＣＦ（Ｚ）Ｏ）−、−（ＣＦ _２ ＣＦ（Ｚ）Ｏ）−、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される１つ以上のペルフルオロ化反復単位を含む（式中、ｎは１〜４であり、Ｚはペルフルオロアルキル基、ペルフルオロアルコキシ基、又はペルフルオロオキシアルキル基である）、一価のペルフルオロオキシアルキル基、又は二価のペルフルオロオキシアルキレン基である、実施形態２に記載の化合物。
［実施形態６］
Ｒ _ｆ ^１ が、式
Ｗ−Ｒ _ｆ ^３ −Ｏ−Ｒ _ｆ ^４ −（Ｒ _ｆ ^５ ） _ｑ −
の基を含み、式中、
Ｗは、一価のペルフルオロオキシアルキルについてはＦであり、二価のペルフルオロオキシアルキレンについては開殻価電子（「−」）であり、
Ｒ _ｆ ^３ は、ペルフルオロアルキレン基を表し、
Ｒ _ｆ ^４ は、１、２、３、又は４個の炭素原子を有するペルフルオロオキシアルキレン基、又はこうしたペルフルオロオキシアルキレン基の混合物からなるペルフルオロアルキレンオキシ基を表し、
Ｒ _ｆ ^５ は、ペルフルオロアルキレン基を表し、
ｑは、０又は１である、実施形態２に記載の化合物。
［実施形態７］
前記ペルフルオロオキシアルキレン基が、−［ＣＦ _２ −ＣＦ _２ −Ｏ］ _ｒ −；−［ＣＦ（ＣＦ _３ ）−ＣＦ _２ −Ｏ］ _ｓ −；−［ＣＦ _２ ＣＦ _２ −Ｏ］ _ｒ −［ＣＦ _２ Ｏ］ _ｔ −、−［ＣＦ _２ ＣＦ _２ ＣＦ _２ ＣＦ _２ −Ｏ］ _ｕ 及び−［ＣＦ _２ −ＣＦ _２ −Ｏ］ _ｒ −［ＣＦ（ＣＦ _３ ）−ＣＦ _２ −Ｏ］ _ｓ −（式中、ｒ、ｓ、ｔ及びｕはそれぞれ１〜５０の整数である）の１つ以上から選択される、実施形態４に記載の化合物。
［実施形態８］
Ｒ _ｆ が一価のペルフルオロオキシアルキレン基を含み、ｚが２である、実施形態１に記載の化合物。
［実施形態９］
Ｒ _ｆ ^１ が一価のペルフルオロオキシアルキル基であり、ｚが１である、実施形態２に記載の化合物。
［実施形態１０］
Ｒ _ｆ がフッ素化モノオール又はポリオールから誘導される、実施形態１に記載の化合物。
［実施形態１１］
Ｙが、ハロゲン、Ｃ _１ 〜Ｃ _４ アルコキシ基、又はＣ _１ 〜Ｃ _４ アシロキシ基である、実施形態１に記載の化合物。
［実施形態１２］
シラン基のＲ _ｆ 基に対するモル比が１：１を超える、実施形態２に記載の化合物。
［実施形態１３］
式

であって、式中、
Ｒ _ｆ はフッ素含有基であり、
Ｒ ^１ は、共有結合、多価アルキレン若しくはアリーレン基、又はこれらの組み合わせであり、前記アルキレン基は、１つ以上のカテナリー酸素又は窒素原子を含有するか又は含有しておらず、
Ｘ ^２ は、−Ｏ、−Ｓ−、又は−ＮＲ ^４ −であり、式中、Ｒ ^４ は、Ｈ又はＣ _１ 〜Ｃ _４ アルキルであり、
ｙは少なくとも１であり、ｚは１又は２である、
求核アクリロイル化合物から誘導される実施形態２の化合物。
［実施形態１４］
式：

であって、式中、
Ｒ ^５ は、Ｃ _１ 〜Ｃ _４ のアルキル、又は−Ｒ ^６ −Ｓｉ（Ｙ _ｐ ）（Ｒ ^７ ） _３−ｐ であり、
Ｒ ^６ は、二価のアルキレン基であり、前記アルキレン基は、１つ以上のカテナリー酸素原子を含有するか又は含有しておらず、
Ｙは、加水分解性基であり、
Ｒ ^７ は、一価のアルキル若しくはアリール基であり、
ｐは、１、２、又は３、好ましくは３である、
アミノシランから誘導される実施形態１に記載の化合物。
［実施形態１５］
実施形態１に記載の化合物のうちの少なくとも１つと、溶媒とを含むコーティング組成物。
［実施形態１６］
シルセスキオキサンを更に含む、実施形態１５に記載のコーティング組成物。
［実施形態１７］
アミノシランと、ペンダントアクリレート基を有するフッ素含有化合物とのマイケル付加反応生成物を含む化合物であり、前記フッ素含有化合物が、求電子フルオロケミカル化合物と求核アクリロイル化合物との反応生成物を含む、化合物。
［実施形態１８］
式：

であって、式中、
Ｒ _ｆ はフッ素含有基であり、
Ｘ ^２ は、−Ｏ、−Ｓ−、又は−ＮＲ ^４ −であり、式中、Ｒ ^４ は、Ｈ又はＣ _１ 〜Ｃ _４ アルキルであり、
Ｒ ^５ は、Ｃ _１ −Ｃ _４ アルキル、又は−Ｒ ^６ −Ｓｉ（Ｙ _ｐ ）（Ｒ ^７ ） _３−ｐ 又は（Ｒ _ｆ ） _ｘ −Ｘ ^２ −Ｃ（Ｏ）−ＣＨ _２ ＣＨ _２ −であり、
Ｒ ^６ は、二価のアルキレン基であり、前記アルキレン基は、１つ以上のカテナリー酸素原子を含有するか又は含有しておらず、
Ｙは、加水分解性基であり、
Ｒ ^７ は、一価のアルキル若しくはアリール基であり、
ｐは、１、２、又は３であり、並びに
ｚは１又は２である、実施形態１に記載の化合物。
［実施形態１９］
実施形態１に記載の化合物及び溶媒を含むコーティング組成物。
［実施形態２０］
基材と実施形態１９に記載のコーティング組成物とを接触させる工程を含むコーティング方法。
［実施形態２１］
実施形態１に記載のシラン化合物の硬化コーティングを有する基材を含むコーティング物品。
［実施形態２２］
基材が、１つ以上の金属酸化物を有する金属酸化物フィルムの反射防止表面を含む反射防止基材である、実施形態２１に記載のコーティング物品。
［実施形態２３］
反射防止表面が真空蒸着金属酸化物フィルムを含む、実施形態２２に記載の物品。
［実施形態２４］
シラン化合物が蒸着によりコーティングされた、実施形態２１に記載の物品。
［実施形態２５］
第１表面及び第２表面を有する透明な基材と、第１表面の少なくとも一部上の反射防止コーティングと、反射防止コーティング上に付着したシランのコーティングと、を含む、実施形態２１に記載の物品。
［実施形態２６］
透明な基材が可撓性有機ポリマー物質を含む、実施形態２５に記載の物品。

Claims (26)

1. 式
   

   

   の化合物であって、
   式中、
   Ｒ_ｆはフッ素含有基であり、
   Ｒ^１は、共有結合、多価アルキレン若しくはアリーレン基、又はこれらの組み合わせであり、前記アルキレン基は、１つ以上のカテナリー酸素又は窒素原子を含有しているか、又は含有しておらず、
   Ｒ^２は式：
   

   

   であって、式中、
   Ｘ^２は、−Ｏ、−Ｓ−、又は−ＮＲ^４−であり、式中、Ｒ^４は、Ｈ又はＣ_１〜Ｃ_４アルキルであり、
   Ｒ^５は、Ｃ_１〜Ｃ_４アルキル、又は−Ｒ^６−Ｓｉ（Ｙ_ｐ）（Ｒ^７）_３−ｐ又は（Ｒ_ｆ）_ｘ−Ｒ^１−Ｘ^２−Ｃ（Ｏ）−ＣＨ_２ＣＨ_２−であり、
   Ｒ^６は、二価のアルキレン基であり、前記アルキレン基は、１つ以上のカテナリー酸素原子を含有しているか、又は含有しておらず、
   Ｙは、加水分解性基であり、
   Ｒ^７は、一価のアルキル若しくはアリール基であり、
   ｐは、１、２、又は３であり、並びに
   ｘ及びｙは、それぞれ独立して、少なくとも１であり、ｚは、１又は２である、化合物。
2. Ｒ_ｆが式：
   

   

   であって、式中、
   Ｒ_ｆ ^１は、一価のペルフルオロアルキル基又はペルフルオロオキシアルキル基、あるいは二価のペルフルオロアルキレン基又はペルフルオロオキシアルキレン基であり、
   Ｑは、共有結合、又は二価のアルキレン若しくはアリーレン基であり、前記アルキレンは、１つ以上のカテナリーへテロ原子を含有しているか、又は含有しておらず、
   Ｘ^２は、−Ｏ−、−ＮＲ^４−、又は−Ｓ−、であり、式中、Ｒ^４は、Ｈ又はＣ_１〜Ｃ_４のアルキルであり、
   ｚは１又は２であり、
   ｖは０又は１である、請求項１に記載の化合物。
3. Ｒ^２が、フッ素含有アクリロイル化合物とアミノシランとの間のマイケル反応から誘導されるシラン含有部分である、請求項１に記載の化合物。
4. Ｒ_ｆが、一価のペルフルオロアルキル及びペルフルオロオキシアルキル基、並びに二価のペルフルオロアルキレン及びペルフルオロオキシアルキレン基から選択されるフッ素含有基を含む、請求項１に記載の化合物。
5. Ｒ_ｆ ^１が、−（Ｃ_ｎＦ_２ｎＯ）−、−（ＣＦ（Ｚ）Ｏ）−、−（ＣＦ（Ｚ）Ｃ_ｎＦ_２ｎＯ）−、−（Ｃ_ｎＦ_２ｎＣＦ（Ｚ）Ｏ）−、−（ＣＦ_２ＣＦ（Ｚ）Ｏ）−、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される１つ以上のペルフルオロ化反復単位を含む（式中、ｎは１〜４であり、Ｚはペルフルオロアルキル基、ペルフルオロアルコキシ基、又はペルフルオロオキシアルキル基である）、一価のペルフルオロオキシアルキル基、又は二価のペルフルオロオキシアルキレン基である、請求項２に記載の化合物。
6. Ｒ_ｆ ^１が、式
   Ｗ−Ｒ_ｆ ^３−Ｏ−Ｒ_ｆ ^４−（Ｒ_ｆ ^５）_ｑ−
   の基を含み、式中、
   Ｗは、一価のペルフルオロオキシアルキルについてはＦであり、二価のペルフルオロオキシアルキレンについては開殻価電子（「−」）であり、
   Ｒ_ｆ ^３は、ペルフルオロアルキレン基を表し、
   Ｒ_ｆ ^４は、１、２、３、又は４個の炭素原子を有するペルフルオロオキシアルキレン基、又はこうしたペルフルオロオキシアルキレン基の混合物からなるペルフルオロアルキレンオキシ基を表し、
   Ｒ_ｆ ^５は、ペルフルオロアルキレン基を表し、
   ｑは、０又は１である、請求項２に記載の化合物。
7. 前記ペルフルオロオキシアルキレン基が、−［ＣＦ_２−ＣＦ_２−Ｏ］_ｒ−；−［ＣＦ（ＣＦ_３）−ＣＦ_２−Ｏ］_ｓ−；−［ＣＦ_２ＣＦ_２−Ｏ］_ｒ−［ＣＦ_２Ｏ］_ｔ−、−［ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−Ｏ］_ｕ及び−［ＣＦ_２−ＣＦ_２−Ｏ］_ｒ−［ＣＦ（ＣＦ_３）−ＣＦ_２−Ｏ］_ｓ−（式中、ｒ、ｓ、ｔ及びｕはそれぞれ１〜５０の整数である）の１つ以上から選択される、請求項４に記載の化合物。
8. Ｒ_ｆが一価のペルフルオロオキシアルキレン基を含み、ｚが２である、請求項１に記載の化合物。
9. Ｒ_ｆ ^１が一価のペルフルオロオキシアルキル基であり、ｚが１である、請求項２に記載の化合物。
10. Ｒ_ｆがフッ素化モノオール又はポリオールから誘導される、請求項１に記載の化合物。
11. Ｙが、ハロゲン、Ｃ_１〜Ｃ_４アルコキシ基、又はＣ_１〜Ｃ_４アシロキシ基である、請求項１に記載の化合物。
12. シラン基のＲ_ｆ基に対するモル比が１：１を超える、請求項２に記載の化合物。
13. 式
    

    

    であって、式中、
    Ｒ_ｆはフッ素含有基であり、
    Ｒ^１は、共有結合、多価アルキレン若しくはアリーレン基、又はこれらの組み合わせであり、前記アルキレン基は、１つ以上のカテナリー酸素又は窒素原子を含有するか又は含有しておらず、
    Ｘ^２は、−Ｏ、−Ｓ−、又は−ＮＲ^４−であり、式中、Ｒ^４は、Ｈ又はＣ_１〜Ｃ_４アルキルであり、
    ｙは少なくとも１であり、ｚは１又は２である、
    求核アクリロイル化合物から誘導される請求項２の化合物。
14. 式：
    

    

    であって、式中、
    Ｒ^５は、Ｃ_１〜Ｃ_４のアルキル、又は−Ｒ^６−Ｓｉ（Ｙ_ｐ）（Ｒ^７）_３−ｐであり、
    Ｒ^６は、二価のアルキレン基であり、前記アルキレン基は、１つ以上のカテナリー酸素原子を含有するか又は含有しておらず、
    Ｙは、加水分解性基であり、
    Ｒ^７は、一価のアルキル若しくはアリール基であり、
    ｐは、１、２、又は３、好ましくは３である、
    アミノシランから誘導される請求項１に記載の化合物。
15. 請求項１に記載の化合物のうちの少なくとも１つと、溶媒とを含むコーティング組成物。
16. シルセスキオキサンを更に含む、請求項１５に記載のコーティング組成物。
17. アミノシランと、ペンダントアクリレート基を有するフッ素含有化合物とのマイケル付加反応生成物を含む化合物であり、前記フッ素含有化合物が、求電子フルオロケミカル化合物と求核アクリロイル化合物との反応生成物を含む、化合物。
18. 式：
    

    

    であって、式中、
    Ｒ_ｆはフッ素含有基であり、
    Ｘ^２は、−Ｏ、−Ｓ−、又は−ＮＲ^４−であり、式中、Ｒ^４は、Ｈ又はＣ_１〜Ｃ_４アルキルであり、
    Ｒ^５は、Ｃ_１−Ｃ_４アルキル、又は−Ｒ^６−Ｓｉ（Ｙ_ｐ）（Ｒ^７）_３−ｐ又は（Ｒ_ｆ）_ｘ−Ｘ^２−Ｃ（Ｏ）−ＣＨ_２ＣＨ_２−であり、
    Ｒ^６は、二価のアルキレン基であり、前記アルキレン基は、１つ以上のカテナリー酸素原子を含有するか又は含有しておらず、
    Ｙは、加水分解性基であり、
    Ｒ^７は、一価のアルキル若しくはアリール基であり、
    ｐは、１、２、又は３であり、並びに
    ｚは１又は２である、請求項１に記載の化合物。
19. 請求項１に記載の化合物及び溶媒を含むコーティング組成物。
20. 基材と請求項１９に記載のコーティング組成物とを接触させる工程を含むコーティング方法。
21. 請求項１に記載のシラン化合物の硬化コーティングを有する基材を含むコーティング物品。
22. 基材が、１つ以上の金属酸化物を有する金属酸化物フィルムの反射防止表面を含む反射防止基材である、請求項２１に記載のコーティング物品。
23. 反射防止表面が真空蒸着金属酸化物フィルムを含む、請求項２２に記載の物品。
24. シラン化合物が蒸着によりコーティングされた、請求項２１に記載の物品。
25. 第１表面及び第２表面を有する透明な基材と、第１表面の少なくとも一部上の反射防止コーティングと、反射防止コーティング上に付着したシランのコーティングと、を含む、請求項２１に記載の物品。
26. 透明な基材が可撓性有機ポリマー物質を含む、請求項２５に記載の物品。