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JP2013129063A - Mask cleaning method in screen printing machine, and screen printing machine - Google Patents

Mask cleaning method in screen printing machine, and screen printing machine Download PDF

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JP2013129063A JP2011278111A JP2011278111A JP2013129063A JP 2013129063 A JP2013129063 A JP 2013129063A JP 2011278111 A JP2011278111 A JP 2011278111A JP 2011278111 A JP2011278111 A JP 2011278111A JP 2013129063 A JP2013129063 A JP 2013129063A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a mask cleaning method in a screen printing machine that prevents paste on a mask cleaner side from entering a non-cleaning region set as a region where a lower surface of a mask is not cleaned, and to provide the screen printing machine.SOLUTION: In a region setting step of setting a cleaning region S1 where the lower surface of the mask 15 in contact with an upper surface of a substrate 2 is cleaned and the non-cleaning region S2 where the lower surface is not cleaned, if the non-cleaning region S2 is set, a mask cleaner 18 is moved in a direction getting away from the non-cleaning region S2 and thereby the cleaning region S1 is cleaned.

Description

本発明は、マスク上でスキージを摺動させて基板に半田等のペーストを印刷するスクリーン印刷機におけるマスククリーニング方法及びスクリーン印刷機に関するものである。   The present invention relates to a mask cleaning method and a screen printer in a screen printer that prints a paste such as solder on a substrate by sliding a squeegee on the mask.

スクリーン印刷機は、基板保持部に保持した基板上の電極に半田等のペーストを印刷する装置であり、基板の電極の配置に応じたパターン孔が形成されたマスクを電極とパターン孔が合致するよう基板に接触させた後、ペーストが供給されたマスク上でスキージを摺動させてペーストを掻き寄せ、マスクのパターン孔を介して基板の電極にペーストを転写させるようになっている。   A screen printing machine is a device that prints a paste such as solder on electrodes on a substrate held by a substrate holder, and the electrodes and pattern holes match a mask in which pattern holes are formed according to the arrangement of electrodes on the substrate. After the contact with the substrate, the squeegee is slid on the mask supplied with the paste to scrape the paste, and the paste is transferred to the electrode of the substrate through the pattern hole of the mask.

このようなスクリーン印刷機では、基板に対するスクリーン印刷作業が進むと、マスクの下面に付着したペーストの影響によって印刷状態が不良になってくるおそれがあるため、クリーニング面をマスクの下面に接触させたペーパー部材をマスクに対して相対移動させてマスクの下面に付着したペーストを拭き取って除去(クリーニング)するマスククリーナが備えられている。   In such a screen printing machine, when the screen printing operation on the substrate proceeds, the printing state may be deteriorated due to the influence of the paste attached to the lower surface of the mask, so the cleaning surface is brought into contact with the lower surface of the mask. A mask cleaner is provided that moves the paper member relative to the mask and wipes off the paste adhered to the lower surface of the mask to remove (clean) it.

このようなマスククリーナを用いたマスククリーニングでは、マスクの下面のクリーニングを行う領域(クリーニング領域)とクリーニングを行わない領域(非クリーニング領域)が設定される場合があり、マスクの下面に非クリーニング領域が設定された場合には、クリーニング領域のみがマスククリーナによってクリーニングされる(例えば、特許文献1)。   In mask cleaning using such a mask cleaner, there may be a case where an area for cleaning the lower surface of the mask (cleaning area) and an area for no cleaning (non-cleaning area) are set. Is set, only the cleaning area is cleaned by the mask cleaner (for example, Patent Document 1).

このようにマスククリーニングにおいて非クリーニング領域として設定される領域は、もともとペーストが印刷されることがない領域のうち、その領域をクリーニングした場合にはマスククリーナのクリーニング面に付着したペーストが擦り付けられて却って不都合が生じる領域(例えば金パッドが分散配置されているような領域)であり、クリーニング時には非クリーニング領域にペーストが付着することのないように注意する必要がある。   As described above, the area set as the non-cleaning area in the mask cleaning is the area where the paste is not printed, and when the area is cleaned, the paste adhered to the cleaning surface of the mask cleaner is rubbed. On the other hand, it is a region where inconvenience occurs (for example, a region where gold pads are dispersedly disposed), and care must be taken so that paste does not adhere to the non-cleaning region during cleaning.

特開平11−165402号公報JP-A-11-165402

しかしながら、従来、クリーニング領域のクリーニング時において、マスククリーナを非クリーニング領域の端部まで移動させた際に、マスククリーナのクリーニング面に付着していたペーストを非クリーニング領域内に侵入させてしまうことがあり、これが原因となって印刷不良が発生するおそれがあるという問題点があった。   However, conventionally, when cleaning the cleaning area, when the mask cleaner is moved to the end of the non-cleaning area, the paste adhering to the cleaning surface of the mask cleaner may enter the non-cleaning area. There is a problem that printing defects may occur due to this.

そこで本発明は、マスクの下面のクリーニングを行わない領域として設定した非クリーニング領域にマスククリーナ側のペーストを侵入させてしまうことのないスクリーン印刷機におけるマスククリーニング方法及びスクリーン印刷機を提供することを目的とする。   Therefore, the present invention provides a mask cleaning method and a screen printer in a screen printer that do not allow the paste on the mask cleaner side to enter a non-cleaning region set as a region where the lower surface of the mask is not cleaned. Objective.

請求項1に記載のマスククリーニング方法は、基板の上面に接触されるマスクと、基板の上面に接触されたマスク上を摺動してマスク上に供給されたペーストを基板に転写させるスキージと、クリーニング面をマスクの下面に接触させた状態でマスクに対して相対移動することによりマスクの下面に付着したペーストをクリーニングするマスククリーナとを備えたスクリーン印刷機におけるマスククリーニング方法であって、マスクの下面のクリーニングを行うクリーニング領域とクリーニングを行わない非クリーニング領域を設定する領域設定工程と、領域設定工程において非クリーニング領域が設定された場合に、非クリーニング領域から遠ざかる方向にマスククリーナを移動させてクリーニング領域のクリーニングを行うクリーニング実行工程とを含む。   The mask cleaning method according to claim 1, a mask that is in contact with the upper surface of the substrate, a squeegee that slides on the mask that is in contact with the upper surface of the substrate and transfers the paste supplied on the mask to the substrate, A mask cleaning method in a screen printing machine, comprising: a mask cleaner that cleans paste adhered to the lower surface of the mask by moving the cleaning surface relative to the mask in a state where the cleaning surface is in contact with the lower surface of the mask. An area setting process for setting a cleaning area for cleaning the lower surface and a non-cleaning area for which cleaning is not performed, and when a non-cleaning area is set in the area setting process, the mask cleaner is moved in a direction away from the non-cleaning area. Cleaning to clean the cleaning area And a line process.

請求項2に記載のマスククリーニング方法は、請求項1に記載のスクリーン印刷機におけるマスククリーニング方法であって、非クリーニング領域は、基板上の電極に対応するパターン孔が形成されていない領域に設定される。   The mask cleaning method according to claim 2 is the mask cleaning method of the screen printing machine according to claim 1, wherein the non-cleaning region is set to a region where a pattern hole corresponding to the electrode on the substrate is not formed. Is done.

請求項3に記載のスクリーン印刷機は、基板の上面に接触されるマスクと、基板の上面に接触されたマスク上を摺動してマスク上に供給されたペーストを基板に転写させるスキージと、クリーニング面をマスクの下面に接触させた状態でマスクに対して相対移動することによりマスクの下面に付着したペーストをクリーニングするマスククリーナと、マスクの下面のクリーニングを行うクリーニング領域とクリーニングを行わない非クリーニング領域を設定する領域設定手段と、領域設定手段により非クリーニング領域が設定された場合に、非クリーニング領域から遠ざかる方向にマスククリーナを移動させてクリーニング領域のクリーニングを行うクリーニング実行手段とを備えた。   The screen printing machine according to claim 3, a mask that is in contact with the upper surface of the substrate, a squeegee that slides on the mask that is in contact with the upper surface of the substrate and transfers the paste supplied on the mask to the substrate, A mask cleaner that cleans the paste adhered to the lower surface of the mask by moving the cleaning surface relative to the mask in contact with the lower surface of the mask, a cleaning area that cleans the lower surface of the mask, and no cleaning An area setting means for setting a cleaning area and a cleaning execution means for cleaning the cleaning area by moving the mask cleaner away from the non-cleaning area when the non-cleaning area is set by the area setting means. .

請求項4に記載のスクリーン印刷機は、請求項3に記載のスクリーン印刷機であって、非クリーニング領域は、基板上の電極に対応するパターン孔が形成されていない領域に設定される。   A screen printer according to a fourth aspect is the screen printer according to the third aspect, wherein the non-cleaning region is set to a region where a pattern hole corresponding to the electrode on the substrate is not formed.

本発明では、マスクの下面のクリーニングを行わない領域として非クリーニング領域が設定された場合に、非クリーニング領域から遠ざかる方向にマスククリーナを移動させてクリーニング領域のクリーニングを行うようにしているので、マスククリーナのクリーニング面から非クリーニング領域内にペーストを侵入させてしまうことがなく、印刷不良の発生を防止することができる。   In the present invention, when a non-cleaning area is set as an area where the lower surface of the mask is not cleaned, the cleaning area is cleaned by moving the mask cleaner away from the non-cleaning area. The paste does not enter the non-cleaning area from the cleaning surface of the cleaner, and the occurrence of printing defects can be prevented.

本発明の一実施の形態におけるスクリーン印刷機の要部の斜視図The perspective view of the principal part of the screen printer in one embodiment of this invention 本発明の一実施の形態におけるスクリーン印刷機の要部の側面図The side view of the principal part of the screen printer in one embodiment of this invention 本発明の一実施の形態におけるスクリーン印刷機が備えるマスクホルダ及びマスクホルダに保持されたマスクの平面図The top view of the mask hold | maintained at the mask holder with which the screen printing machine in one embodiment of this invention is equipped, and a mask holder 本発明の一実施の形態におけるスクリーン印刷機によるスクリーン印刷作業の実行手順を示すフローチャートThe flowchart which shows the execution procedure of the screen printing operation by the screen printer in one embodiment of this invention (a)(b)本発明の一実施の形態におけるスクリーン印刷機によるスクリーン印刷作業の実行手順の説明図(A) (b) Explanatory drawing of the execution procedure of the screen printing work by the screen printer in one embodiment of this invention (a)(b)本発明の一実施の形態におけるスクリーン印刷機によるスクリーン印刷作業の実行手順の説明図(A) (b) Explanatory drawing of the execution procedure of the screen printing work by the screen printer in one embodiment of this invention (a)(b)本発明の一実施の形態におけるスクリーン印刷機によるスクリーン印刷作業の実行手順の説明図(A) (b) Explanatory drawing of the execution procedure of the screen printing work by the screen printer in one embodiment of this invention (a)〜(e)本発明の一実施の形態におけるスクリーン印刷機におけるマスククリーニングの実行手順を示す図(A)-(e) The figure which shows the execution procedure of the mask cleaning in the screen printer in one embodiment of this invention (a)〜(e)本発明の一実施の形態におけるスクリーン印刷機におけるマスククリーニングの実行手順を示す図(A)-(e) The figure which shows the execution procedure of the mask cleaning in the screen printer in one embodiment of this invention

以下、図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。図1及び図2において、スクリーン印刷機1は、基板2上に設けられた多数の電極3のそれぞれに半田等のペーストPtをスクリーン印刷するスクリーン印刷作業を実行する装置であり、基台10上に設けられた基板搬入コンベア11、基板保持ユニット12及び基板搬出コンベア13、基板保持ユニット12の上方に設けられたマスクホルダ14、マスクホルダ14によって水平姿勢に保持されたマスク15、マスク15の上方に設けられたスキージヘッド16、マスク15の下方に設けられたカメラユニット17及びマスククリーナ18並びに基台10内に設けられて各部の作動制御を行う制御装置19を備えている。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. 1 and 2, a screen printing machine 1 is a device that performs a screen printing operation in which a paste Pt such as solder is screen printed on each of a large number of electrodes 3 provided on a substrate 2. The substrate carry-in conveyor 11, the substrate holding unit 12 and the substrate carry-out conveyor 13, the mask holder 14 provided above the substrate holding unit 12, the mask 15 held in a horizontal posture by the mask holder 14, and above the mask 15 A squeegee head 16 provided on the camera 15, a camera unit 17 and a mask cleaner 18 provided below the mask 15, and a control device 19 provided in the base 10 for controlling the operation of each part.

基板搬入コンベア11はスクリーン印刷機1の外部から投入された基板2を搬入し(図1中に示す矢印R1)、基板保持ユニット12に受け渡す。基板搬出コンベア13は基板保持ユニット12から受け取った基板2をスクリーン印刷機1の外部に搬出する(図1中に示す矢印R2)。すなわち、基板2は基板搬入コンベア11、基板保持ユニット12、基板搬出コンベア13の順で搬送され、この基板2の移動方向をX軸方向(オペレータOPから見た左右方向)とする。また、このX軸方向と直交する水平面内方向をY軸方向(オペレータOPから見た前後方向)とし、上下方向をZ軸方向とする。   The substrate carry-in conveyor 11 carries the substrate 2 loaded from the outside of the screen printing machine 1 (arrow R1 shown in FIG. 1) and delivers it to the substrate holding unit 12. The substrate carry-out conveyor 13 carries the substrate 2 received from the substrate holding unit 12 out of the screen printer 1 (arrow R2 shown in FIG. 1). That is, the board | substrate 2 is conveyed in order of the board | substrate carrying-in conveyor 11, the board | substrate holding unit 12, and the board | substrate carrying-out conveyor 13, and let the moving direction of this board | substrate 2 be the X-axis direction (left-right direction seeing from operator OP). Further, the horizontal plane direction orthogonal to the X-axis direction is defined as the Y-axis direction (front-rear direction as viewed from the operator OP), and the vertical direction is defined as the Z-axis direction.

基板保持ユニット12は、XYZロボットから成るユニット移動機構12AによってXY平面内での移動(回転も含む)及びZ軸方向への移動が自在なユニットベース21、ユニットベース21に取り付けられて基板2のX軸方向への搬送及び所定の作業位置(図1に示す位置)への位置決めを行う一対のコンベア22、ユニットベース21に設けられた下受け部昇降シリンダ23、下受け部昇降シリンダ23によって昇降され、コンベア22によって作業位置に位置決めされた基板2の両端がコンベア22から上方に離間するように基板2を下方から持ち上げ支持する下受け部24及びY軸方向に開閉自在に設けられ、下受け部24により持ち上げ支持された基板2の両側部をY軸方向から挟んで(クランプして)保持する一対のクランプ部材25を備えている。   The substrate holding unit 12 is attached to the unit base 21 and the unit base 21 which can be moved (including rotation) in the XY plane and moved in the Z-axis direction by a unit moving mechanism 12A composed of an XYZ robot. A pair of conveyors 22 for carrying in the X-axis direction and positioning to a predetermined work position (the position shown in FIG. 1), a lower part lift cylinder 23 provided on the unit base 21, and a lower receiver lift cylinder 23. The substrate 2 positioned at the working position by the conveyor 22 is lifted and supported from below so that both ends of the substrate 2 are spaced upward from the conveyor 22 and provided so as to be openable and closable in the Y-axis direction. A pair of clamps for holding (clamping) both sides of the substrate 2 lifted and supported by the portion 24 from the Y-axis direction It is equipped with a wood 25.

図3において、マスク15は基板2上の電極3の配置に対応して設けられた多数のパターン孔15hを有した矩形の金属板から成るマスク本体15a、マスク本体15aの周囲に設けられた樹脂(例えばポリエステル)製のメッシュ状の膜部材15b及び膜部材15bの外周部を支持する矩形枠状のマスク枠15wから成る。   In FIG. 3, a mask 15 is a mask body 15a made of a rectangular metal plate having a large number of pattern holes 15h provided corresponding to the arrangement of the electrodes 3 on the substrate 2, and a resin provided around the mask body 15a. It consists of a mesh-shaped film member 15b made of (for example, polyester) and a rectangular frame-shaped mask frame 15w that supports the outer periphery of the film member 15b.

図3において、マスクホルダ14は、基台10の上方をY軸方向に延びた断面L字状の左右一対のレール部材14aから成り、マスク15はこれら左右一対のレール部材14aによってX軸方向に対向する左右両辺が下方から支持される。   In FIG. 3, the mask holder 14 is composed of a pair of left and right rail members 14a having an L-shaped cross section extending above the base 10 in the Y-axis direction, and the mask 15 is moved in the X-axis direction by the pair of left and right rail members 14a. Opposite left and right sides are supported from below.

図1及び図2において、スキージヘッド16は、マスクホルダ14に保持されたマスク15の上方領域をY軸方向に移動自在に設けられたプレート状のベース部材41、ベース部材41に取り付けられてピストンロッド42aをベース部材41の下方に突出させた2つのスキージ昇降シリンダ42、各スキージ昇降シリンダ42のピストンロッド42aの下端に取り付けられてX軸方向に延びたスキージ保持具43及び各スキージ保持具43に上端部が保持されて斜め下方に延びた薄板部材から成る2つのスキージ44を備えている。   1 and 2, a squeegee head 16 is attached to a plate-like base member 41 and a base member 41 which are provided so as to be movable in the Y-axis direction in an upper region of a mask 15 held by a mask holder 14. Two squeegee lifting cylinders 42 with rods 42a projecting below the base member 41, squeegee holders 43 attached to the lower ends of the piston rods 42a of the squeegee lifting cylinders 42 and extending in the X-axis direction, and squeegee holders 43 Are provided with two squeegees 44 each made of a thin plate member having an upper end held and extending obliquely downward.

図1及び図2において、カメラユニット17は撮像視野を下方に向けた下方撮像カメラ17aと撮像視野を上方に向けた上方撮像カメラ17bを備えて成る。カメラユニット17は、図示しないアクチュエータ等から成るカメラユニット移動機構17Aによってマスク15の下方領域を水平面内方向に移動される。   1 and 2, the camera unit 17 includes a lower imaging camera 17a having an imaging field of view directed downward and an upper imaging camera 17b having an imaging field of view directed upward. The camera unit 17 is moved in the horizontal plane in the area below the mask 15 by a camera unit moving mechanism 17A including an actuator (not shown).

図1及び図2において、マスククリーナ18は全体としてX軸方向に延びており、マスク15と平行な水平面内の一の方向(Y軸方向)及び上下方向(Z軸方向)に移動自在に設けられた平面視断面が矩形状の筒状部材から成るノズル部31の上端部にペーパー部材32が掛け渡されて成る。ペーパー部材32のノズル部31の上端部に掛け渡された部分はマスク15(マスク本体15a)の下面と接触してマスク15の下面に付着したペーストPtの残り滓を拭き取るクリーニング面18aとなっている。   1 and 2, the mask cleaner 18 extends in the X-axis direction as a whole, and is provided so as to be movable in one direction (Y-axis direction) and up-down direction (Z-axis direction) in a horizontal plane parallel to the mask 15. The paper member 32 is stretched over the upper end portion of the nozzle portion 31 made of a cylindrical member having a rectangular cross section in plan view. The portion of the paper member 32 that spans the upper end of the nozzle portion 31 is in contact with the lower surface of the mask 15 (mask main body 15a) to form a cleaning surface 18a that wipes off the remaining residue of the paste Pt that has adhered to the lower surface of the mask 15. Yes.

マスククリーナ18は、ノズル部31の上端部によってペーパー部材32をマスク15の下面に押し付けた状態でY軸方向に移動することにより、マスク15の下面に付着したペーストPtを拭き取る。ペーパー部材32のクリーニング面18aは、一対のローラ部材33によってペーパー部材32を巻き取ることで更新することができる。   The mask cleaner 18 wipes the paste Pt adhering to the lower surface of the mask 15 by moving in the Y-axis direction with the paper member 32 being pressed against the lower surface of the mask 15 by the upper end portion of the nozzle portion 31. The cleaning surface 18 a of the paper member 32 can be updated by winding the paper member 32 with a pair of roller members 33.

図2において、ノズル部31内には図示しない空気吸引管路が設けられており、ペーパー部材32のクリーニング面18aを介して空気吸引管路内に空気を吸引することによりペーパー部材32によるペーストPtの拭き取りを効率よく行うことができる。   In FIG. 2, an air suction pipe (not shown) is provided in the nozzle portion 31, and the paste Pt by the paper member 32 is obtained by sucking air into the air suction pipe through the cleaning surface 18 a of the paper member 32. Can be efficiently wiped off.

基板保持ユニット12のコンベア22による基板2の搬送及び作業位置への位置決め動作、作業位置に位置した基板2に対する下受け部24による下受け動作及び一対のクランプ部材25によるクランプ動作は、制御装置19が下受け部昇降シリンダ23を含むアクチュエータ等から成る基板保持機構12B(図2)の作動制御を行うことによってなされ、基板2を保持した基板保持ユニット12の水平面内方向及び上下方向の移動動作は制御装置19が前述のユニット移動機構12Aの作動制御を行うことによってなされる。また、基板搬入コンベア11による基板2の搬入動作及び基板搬出コンベア13による基板2の搬出動作も制御装置19によってなされる。   The substrate holding unit 12 conveys the substrate 2 by the conveyor 22 and positions the substrate 2 at the work position. The substrate receiving unit 24 is positioned at the work position by the lower receiving portion 24 and the clamp member 25 is clamped by the control device 19. 2 is performed by controlling the operation of the substrate holding mechanism 12B (FIG. 2) including an actuator including the lower receiving part raising / lowering cylinder 23, and the movement operation in the horizontal plane direction and the vertical direction of the substrate holding unit 12 holding the substrate 2 is performed. The control device 19 performs the operation control of the unit moving mechanism 12A described above. Further, the control device 19 also performs the operation of carrying in the substrate 2 by the substrate carry-in conveyor 11 and the operation of carrying out the substrate 2 by the substrate carry-out conveyor 13.

図2において、スキージヘッド16(ベース部材41)のY軸方向への往復移動動作は制御装置19が図示しないアクチュエータ等から成るスキージヘッド移動機構16M(図2)の作動制御を行うことによってなされ、各スキージ44のベース部材41に対する昇降動作は、制御装置19がそのスキージ44に対応するスキージ昇降シリンダ42の作動制御を行ってスキージ保持具43を上下させることによってなされる。   In FIG. 2, the reciprocating movement of the squeegee head 16 (base member 41) in the Y-axis direction is performed when the control device 19 controls the operation of a squeegee head moving mechanism 16M (FIG. 2) including an actuator (not shown). The raising / lowering operation of each squeegee 44 with respect to the base member 41 is performed by the control device 19 performing the operation control of the squeegee raising / lowering cylinder 42 corresponding to the squeegee 44 to move the squeegee holder 43 up and down.

図2において、カメラユニット17の水平面内での移動動作は、制御装置19がカメラユニット移動機構17Aの作動制御を行うことによってなされる。下方撮像カメラ17aによる撮像動作の制御と上方撮像カメラ17bによる撮像動作の制御はそれぞれ制御装置19によってなされ、下方撮像カメラ17aの撮像動作によって得られた画像データと上方撮像カメラ17bの撮像動作によって得られた画像データはそれぞれ制御装置19に送信されて制御装置19の画像認識部19aにおいて画像認識処理される。   In FIG. 2, the movement operation of the camera unit 17 in the horizontal plane is performed by the control device 19 controlling the operation of the camera unit movement mechanism 17A. Control of the imaging operation by the lower imaging camera 17a and the imaging operation by the upper imaging camera 17b are respectively performed by the control device 19, and obtained by the image data obtained by the imaging operation of the lower imaging camera 17a and the imaging operation of the upper imaging camera 17b. The received image data is transmitted to the control device 19 and subjected to image recognition processing in the image recognition unit 19a of the control device 19.

マスククリーナ18の水平面内での移動と昇降移動は、制御装置19が図示しないアクチュエータ等から成るクリーナ移動機構18Aの作動制御を行うことによってなされる。また、マスククリーナ18が備えるペーパー部材32の巻き取り動作とペーパー部材32を介したペーストPtの吸引動作は、制御装置19のクリーニング実行部19b(図2)が図示しないアクチュエータ等から成るクリーナ作動機構18B(図2)の作動制御を行うことによってなされる。   The mask cleaner 18 is moved in the horizontal plane and moved up and down by the control device 19 by controlling the operation of a cleaner moving mechanism 18A including an actuator (not shown). In addition, the winding operation of the paper member 32 provided in the mask cleaner 18 and the suction operation of the paste Pt through the paper member 32 are performed by a cleaning operation mechanism 19b (FIG. 2) of the controller 19 including an actuator (not shown). This is done by performing the operation control of 18B (FIG. 2).

このような構成のスクリーン印刷機1がスクリーン印刷作業を行う場合には、制御装置19は先ず、上流工程側の他の装置から基板2が送られてきたことを検知したところで基板搬入コンベア11と基板保持ユニット12のコンベア22を作動させ、スクリーン印刷機1内に基板2を搬入したうえで(図4に示すステップST1。図5(a))、基板保持機構12Bの作動制御を行って基板2を保持する(図4に示すステップST2。図5(b))。基板2の保持は、具体的には、下受け部昇降シリンダ23で下受け部24を押し上げて基板2をコンベア22から浮いた状態に持ち上げる一方(図5(b)中に示す矢印A1)、一対のクランプ部材25を閉じる方向に駆動して基板2の両端を挟み込む(図5(b)中に示す矢印B1)ことによって行う。   When the screen printing machine 1 having such a configuration performs a screen printing operation, the control device 19 first detects that the substrate 2 has been sent from another device on the upstream process side and the substrate carry-in conveyor 11. After the conveyor 22 of the substrate holding unit 12 is operated and the substrate 2 is carried into the screen printing machine 1 (step ST1 shown in FIG. 4; FIG. 5A), the substrate holding mechanism 12B is controlled to operate. 2 is held (step ST2 shown in FIG. 4; FIG. 5B). Specifically, the holding of the substrate 2 is performed by pushing up the lower receiving portion 24 by the lower receiving portion lifting cylinder 23 and lifting the substrate 2 from the conveyor 22 (arrow A1 shown in FIG. 5B), This is done by driving the pair of clamp members 25 in the closing direction and sandwiching both ends of the substrate 2 (arrow B1 shown in FIG. 5B).

制御装置19は基板2を保持したら、カメラユニット移動機構17Aの作動制御を行い、下方撮像カメラ17aを基板2に設けられた基板側マーク2m(図1)の直上に位置させて下方撮像カメラ17aに基板側マーク2mの撮像を行わせる一方、上方撮像カメラ17bをマスク15に設けられたマスク側マーク15m(図1及び図3)の直下に位置させて上方撮像カメラ17bにマスク側マーク15mの撮像を行わせる。そして、得られた基板側マーク2mの画像データから基板2の位置を把握するとともに、得られたマスク側マーク15mの画像データからマスク15の位置を把握し、基板保持ユニット12を水平面内方向に移動させ、基板側マーク2mとマスク側マーク15mとが上下に対向するようにして、マスク15に対する基板2の水平面内方向の位置合わせを行う(図4に示すステップST3)。   When holding the substrate 2, the control device 19 controls the operation of the camera unit moving mechanism 17A, and positions the lower imaging camera 17a directly above the substrate-side mark 2m (FIG. 1) provided on the substrate 2, thereby lowering the imaging camera 17a. The upper imaging camera 17b is positioned immediately below the mask side mark 15m (FIGS. 1 and 3) provided on the mask 15, and the upper imaging camera 17b is moved to the mask side mark 15m. Make an image. And while grasping | ascertaining the position of the board | substrate 2 from the image data of the obtained board | substrate side mark 2m, the position of the mask 15 is grasped | ascertained from the image data of the obtained mask side mark 15m, and the board | substrate holding | maintenance unit 12 is made into a horizontal surface inward direction. The substrate side mark 2m and the mask side mark 15m are vertically moved so as to align the substrate 2 with respect to the mask 15 in the horizontal plane direction (step ST3 shown in FIG. 4).

制御装置19は、マスク15に対する基板2の位置合わせが終わったら、ユニット移動機構12Aの作動制御を行って基板保持ユニット12を基台10に対して上昇させ(図6(a)中に示す矢印C1)、基板2を保持した一対のクランプ部材25がマスク15の下面に相対的に下方から押し当てられるようにすることにより、一対のクランプ部材25及び基板2それぞれの上面をマスク15の下面に接触させる(図4に示すステップST4。図6(a))。これにより基板2上の電極3とマスク15のパターン孔15hとが合致した状態となる。   When the alignment of the substrate 2 with respect to the mask 15 is completed, the control device 19 controls the operation of the unit moving mechanism 12A to raise the substrate holding unit 12 with respect to the base 10 (arrows shown in FIG. 6A). C1) By making the pair of clamp members 25 holding the substrate 2 relatively pressed against the lower surface of the mask 15 from below, the upper surfaces of the pair of clamp members 25 and the substrate 2 are made lower surfaces of the mask 15. Contact is made (step ST4 shown in FIG. 4; FIG. 6A). As a result, the electrode 3 on the substrate 2 and the pattern hole 15h of the mask 15 are brought into alignment.

制御装置19は基板2をマスク15に接触させたら、制御装置19に繋がるディスプレイ装置DP(図2)に、オペレータOPにペーストPtの供給を促すメッセージを表示する(図4に示すステップST5)。この表示に対してオペレータOPは、現時点でマスク15上に残っているペーストPtを目視し、そのペーストPtの量に基づいてペーストPtの供給(補充)を行うべきかどうかの判断を行う。そして、ペーストPtの供給を行うべきと判断したときには、別途用意したペースト供給シリンジ(図示せず)により、マスク15上にペーストPtの供給を行う。そしてオペレータOPは、ペーストPtの供給が終わり、或いはペーストPtの供給が不要と判断したときには、制御装置19に繋がる動作再開ボタンBT(図2)の操作を行う。   When the control device 19 brings the substrate 2 into contact with the mask 15, the control device 19 displays a message for prompting the operator OP to supply the paste Pt on the display device DP (FIG. 2) connected to the control device 19 (step ST5 shown in FIG. 4). In response to this display, the operator OP looks at the paste Pt remaining on the mask 15 at the present time, and determines whether or not to supply (supplement) the paste Pt based on the amount of the paste Pt. When it is determined that the paste Pt should be supplied, the paste Pt is supplied onto the mask 15 by a separately provided paste supply syringe (not shown). When the operator OP determines that the supply of the paste Pt is finished or that the supply of the paste Pt is unnecessary, the operator OP operates the operation restart button BT (FIG. 2) connected to the control device 19.

制御装置19は、ディスプレイ装置DPにペーストPtの供給を促すメッセージを表示した後、動作再開ボタンBTの操作がなされたか否かの判断を一定時間おきに行い(図4に示すステップST6)、動作再開ボタンBTからの信号出力に基づいて、オペレータOPによって動作再開ボタンBTの操作がなされたことを検知したときには、スキージ44によるスキージングを行ってマスク15上のペーストPtを基板2に転写させる(図4に示すステップST7)。   The control device 19 displays a message for prompting the supply of the paste Pt on the display device DP, and then determines whether or not the operation restart button BT has been operated at regular intervals (step ST6 shown in FIG. 4). When it is detected that the operation OP is operated by the operator OP based on the signal output from the restart button BT, squeegee 44 performs squeegeeing to transfer the paste Pt on the mask 15 to the substrate 2 ( Step ST7 shown in FIG.

このスキージングは、具体的には、スキージヘッド16から2つのスキージ44のうちの一方を下降させ、マスク15の上面に当接させた状態を維持したままベース部材41をY軸方向に移動させることによって行う(図6(b)中に示す矢印D)。これによりマスク15上でスキージ44が摺動し、マスク15上のペーストPtはスキージ44によって掻き寄せられてマスク15のパターン孔15h内に押し込まれ、基板2の電極3上に転写される。なお、制御装置19は、スキージヘッド16を前方から後方に移動させてスキージングを行うときには後側のスキージ44をマスク15上に当接させ、スキージヘッド16を後方から前方に移動させてスキージングを行うときには前側のスキージ44をマスク15上に当接させるようにする。   Specifically, this squeezing moves one of the two squeegees 44 down from the squeegee head 16 and moves the base member 41 in the Y-axis direction while maintaining the state in contact with the upper surface of the mask 15. (Arrow D shown in FIG. 6B). As a result, the squeegee 44 slides on the mask 15, and the paste Pt on the mask 15 is scraped by the squeegee 44, pushed into the pattern holes 15 h of the mask 15, and transferred onto the electrodes 3 of the substrate 2. When squeezing by moving the squeegee head 16 from the front to the rear, the control device 19 abuts the squeegee 44 on the rear side on the mask 15 and moves the squeegee head 16 from the rear to the front. When performing, the front squeegee 44 is brought into contact with the mask 15.

制御装置19は、スキージングを行って基板2にペーストPtを転写させたら、ユニット移動機構12Aを作動させて基板保持ユニット12を下降させ(図7(a)中に示す矢印C2)、マスク15から基板2及び一対のクランプ部材25を離間させて版離れを行う(図4に示すステップST8。図7(a))。これにより基板2の電極3上にペーストPtが残留し、基板2にペーストPtが印刷される。   After squeezing and transferring the paste Pt to the substrate 2, the control device 19 operates the unit moving mechanism 12A to lower the substrate holding unit 12 (arrow C2 shown in FIG. 7A), and the mask 15 The substrate 2 and the pair of clamp members 25 are separated from each other to release the plate (step ST8 shown in FIG. 4; FIG. 7A). As a result, the paste Pt remains on the electrode 3 of the substrate 2, and the paste Pt is printed on the substrate 2.

制御装置19は版離れが終わったら、基板保持ユニット12による基板2の保持を解除する(図4に示すステップST9。図7(b))。この基板2の保持の解除は、具体的には、制御装置19が基板保持機構12Bを作動させて一対のクランプ部材25を開かせたうえで(図7(b)中に示す矢印B2)、下受け部24を下降させ(図7(b)中に示す矢印A2)、基板2の両端を一対のコンベア22上に降ろすことによって行う。   When the plate separation is completed, the control device 19 releases the holding of the substrate 2 by the substrate holding unit 12 (step ST9 shown in FIG. 4; FIG. 7B). Specifically, the holding of the substrate 2 is released after the control device 19 operates the substrate holding mechanism 12B to open the pair of clamp members 25 (arrow B2 shown in FIG. 7B). The lower receiving portion 24 is lowered (arrow A2 shown in FIG. 7B), and both ends of the substrate 2 are lowered onto the pair of conveyors 22.

制御装置19は基板2の保持を解除したら、ユニット移動機構12Aを作動させて基板保持ユニット12を水平面内で移動させ、コンベア22の向きを整えたうえでコンベア22及び基板搬出コンベア13を作動させ、基板2をスクリーン印刷機1の外部に搬出する(図4に示すステップST10)。   After releasing the holding of the substrate 2, the control device 19 operates the unit moving mechanism 12 </ b> A to move the substrate holding unit 12 in the horizontal plane, aligns the direction of the conveyor 22, and operates the conveyor 22 and the substrate carry-out conveyor 13. Then, the substrate 2 is carried out of the screen printer 1 (step ST10 shown in FIG. 4).

制御装置19は基板2を搬出したら、他にスクリーン印刷を施す基板2があるかどうかの判断を行う(図4に示すステップST11)。その結果、他にスクリーン印刷を施す基板2があった場合にはステップST1に戻って新たな基板2の搬入を行い、他にスクリーン印刷を施す基板2がなかった場合には一連のスクリーン印刷作業を終了する。   After carrying out the substrate 2, the control device 19 determines whether there is another substrate 2 on which screen printing is to be performed (step ST11 shown in FIG. 4). As a result, if there is another substrate 2 to be screen-printed, the process returns to step ST1 to carry in a new substrate 2, and if there is no other substrate 2 to be screen-printed, a series of screen printing operations. Exit.

スクリーン印刷機1は上記手順によって基板2の1枚当たりのスクリーン印刷作業を行うが、このようなスクリーン印刷作業を数枚〜十数枚(或いは数十枚)の基板2に対して行うと、マスク15の下面に付着したペーストPt(ペーストPtの残り滓)によって印刷状態が不良になってくるおそれがある。このため本実施の形態におけるスクリーン印刷機1では、定期的にマスククリーナ18を用いたマスク15のクリーニング作業を実行するようになっており、図8及び図9の説明図を用いて以下にその説明を行う。   The screen printing machine 1 performs a screen printing operation for each substrate 2 according to the above procedure. When such a screen printing operation is performed on several to a dozen (or several tens) substrates 2, There is a possibility that the printing state becomes poor due to the paste Pt (the remaining residue of the paste Pt) adhering to the lower surface of the mask 15. For this reason, in the screen printing machine 1 in the present embodiment, the cleaning work of the mask 15 using the mask cleaner 18 is periodically performed, which will be described below with reference to FIGS. 8 and 9. Give an explanation.

制御装置19は、マスククリーナ18を用いたマスク15(マスク本体15a)のクリーニングを行うときには、先ず、オペレータOPからの事前入力等によって記憶部19c(図2)に記憶されたマスク15ごとのクリーニング関連情報を入手し、領域設定部19d(図2)において、マスク15の下面のクリーニングを行う領域(クリーニング領域S1。図3も参照)とクリーニングを行わない領域(非クリーニング領域S2。図3も参照)の設定を行う(領域設定工程)。   When cleaning the mask 15 (mask body 15a) using the mask cleaner 18, the control device 19 first cleans each mask 15 stored in the storage unit 19c (FIG. 2) by prior input from the operator OP. In the area setting unit 19d (FIG. 2), the related information is obtained, and the area where the lower surface of the mask 15 is cleaned (cleaning area S1, see also FIG. 3) and the area where no cleaning is performed (non-cleaning area S2, also FIG. 3). Reference) is set (area setting step).

これらクリーニング領域S1と非クリーニング領域S2は、図3に示すように、スキージヘッド16の移動方向であるY軸方向と直交する方向(X軸方向)に延びた帯状の領域として設定する。ここでは、Y軸方向にひとつ目のクリーニング領域S1である第1のクリーニング領域S11、非クリーニング領域S2、ふたつ目のクリーニング領域S1である第2のクリーニング領域S12がマスク15の後方側からこの順で並んだものとなっている。   These cleaning area S1 and non-cleaning area S2 are set as band-like areas extending in a direction (X-axis direction) orthogonal to the Y-axis direction, which is the moving direction of the squeegee head 16, as shown in FIG. Here, the first cleaning area S11 which is the first cleaning area S1, the non-cleaning area S2, and the second cleaning area S12 which is the second cleaning area S1 are arranged in this order from the rear side of the mask 15 in the Y-axis direction. It has become a lineup.

なお、非クリーニング領域S2は、例えば、基板2上の電極3に対応するパターン孔15hが形成されておらず、もともとペーストPtが印刷されることがない領域のうち、その領域をクリーニングした場合にはマスククリーナ18のクリーニング面18aに付着したペーストPtが擦り付けられて却って不都合が生じる領域(例えば金パッドが分散配置されているような領域)に設定される。   The non-cleaning region S2 is, for example, when the pattern hole 15h corresponding to the electrode 3 on the substrate 2 is not formed and the region where the paste Pt is not originally printed is cleaned. Is set in a region where the paste Pt adhering to the cleaning surface 18a of the mask cleaner 18 is rubbed to cause a problem (for example, a region where gold pads are dispersedly arranged).

制御装置19のクリーニング実行部19bは、領域設定部19dにおいて、マスク15の下面のクリーニングを行う領域とクリーニングを行わない領域が設定されたら、クリーナ移動機構18Aとクリーナ作動機構18Bの作動制御を行って、以下に示すクリーニング実行工程を行う。   The cleaning execution unit 19b of the control device 19 controls the operation of the cleaner moving mechanism 18A and the cleaner operating mechanism 18B when the region setting unit 19d sets the region for cleaning the lower surface of the mask 15 and the region for not performing the cleaning. Then, the following cleaning execution process is performed.

クリーニング実行工程では、制御装置19のクリーニング実行部19bは、マスククリーナ18を領域設定部19dで(領域設定工程で)設定された第1のクリーニング領域S11の前後(Y軸方向)の両端部のうち、非クリーニング領域S2側の端部である前方側端部の直下に位置させ(図8(a)中に示す矢印W1)、そこからマスククリーナ18を上昇させて(図8(a)中に示す矢印W2)、マスククリーナ18のクリーニング面18aをマスク15の下面に接触させる(図8(a))。なお、このマスククリーナ18の上昇時にマスククリーナ18のクリーニング面18aが非クリーニング領域S2にかかることがないように、マスククリーナ18を上昇させる前の位置(矢印W1の終端の位置)が、制御装置19のクリーニング実行部19bによって調整される。   In the cleaning execution step, the cleaning execution unit 19b of the control device 19 is provided at both ends of the first cleaning region S11 before and after (in the Y-axis direction) the mask cleaner 18 is set by the region setting unit 19d (in the region setting step). Among them, it is positioned directly below the front end, which is the end on the non-cleaning region S2 side (arrow W1 shown in FIG. 8A), and the mask cleaner 18 is raised from there (in FIG. 8A). Arrow W2), the cleaning surface 18a of the mask cleaner 18 is brought into contact with the lower surface of the mask 15 (FIG. 8A). The position before the mask cleaner 18 is raised (the position at the end of the arrow W1) is set so that the cleaning surface 18a of the mask cleaner 18 does not reach the non-cleaning region S2 when the mask cleaner 18 is raised. 19 is adjusted by the cleaning execution unit 19b.

制御装置19のクリーニング実行部19bは、マスククリーナ18のクリーニング面18aをマスク15の下面に接触させたら、クリーナ移動機構18Aの作動制御を行って、マスククリーナ18を非クリーニング領域S2から遠ざかる方向に(マスク15の内側からマスク15の外側に)移動させ、マスククリーナ18のクリーニング面18a(ペーパー部材32)によりマスク15の下面に付着しているペーストPtの残り滓を拭き取って(図8(b)中に示す矢印W3)、第1のクリーニング領域S11のクリーニングを行う。そして、マスククリーナ18のクリーニング面18aが第1のクリーニング領域S11の端部(非クリーニング領域S2とは反対側の端部であり、後方側の端部)に達したところで第1のクリーニング領域S11のクリーニングが終了する(図8(b))。   When the cleaning execution part 19b of the control device 19 brings the cleaning surface 18a of the mask cleaner 18 into contact with the lower surface of the mask 15, it controls the operation of the cleaner moving mechanism 18A to move the mask cleaner 18 away from the non-cleaning region S2. It is moved (from the inside of the mask 15 to the outside of the mask 15), and the remaining residue of the paste Pt adhering to the lower surface of the mask 15 is wiped off by the cleaning surface 18a (paper member 32) of the mask cleaner 18 (FIG. 8B ) The arrow W3) shown in the middle, and the first cleaning region S11 is cleaned. When the cleaning surface 18a of the mask cleaner 18 reaches the end of the first cleaning region S11 (the end opposite to the non-cleaning region S2 and the rear end), the first cleaning region S11 is reached. The cleaning is finished (FIG. 8B).

ここで、マスククリーナ18のクリーニング面18aによりマスク15の下面に付着しているペーストPtの残り滓を拭き取るときは、制御装置19のクリーニング実行部19bは、ノズル部31内の空気吸引管路を介した空気の吸引動作を行うようにする(その後のクリーニング動作においても同じ)。   Here, when the remaining surface of the paste Pt adhering to the lower surface of the mask 15 is wiped off by the cleaning surface 18 a of the mask cleaner 18, the cleaning execution unit 19 b of the control device 19 opens the air suction pipe in the nozzle unit 31. The air is sucked through (the same applies to the subsequent cleaning operation).

制御装置19のクリーニング実行部19bは、第1のクリーニング領域S11のクリーニングが終了したら、マスククリーナ18を下降させてクリーニング面18aをマスク15の下面から離間させたうえで(図8(c)中に示す矢印W4)、マスククリーナ18を第2のクリーニング領域S12の前後の両端部のうち、非クリーニング領域S2側の端部である後方側端部の直下に位置させる(図8(c)中に示す矢印W5)。そして、そこからマスククリーナ18を上昇させて(図8(c)中に示す矢印W6)、マスククリーナ18のクリーニング面18aをマスク15の下面に接触させる(図8(c))。なお、このマスククリーナ18の上昇時にマスククリーナ18のクリーニング面18aが非クリーニング領域S2にかかることがないように、マスククリーナ18を上昇させる前の位置(矢印W5の終端の位置)が、制御装置19のクリーニング実行部19bによって調整される。   When the cleaning of the first cleaning region S11 is completed, the cleaning execution unit 19b of the control device 19 lowers the mask cleaner 18 to separate the cleaning surface 18a from the lower surface of the mask 15 (in FIG. 8C). Arrow W4), and the mask cleaner 18 is positioned directly below the rear end, which is the end on the non-cleaning region S2 side, of the front and rear ends of the second cleaning region S12 (in FIG. 8C). Arrow W5). Then, the mask cleaner 18 is raised (arrow W6 shown in FIG. 8C), and the cleaning surface 18a of the mask cleaner 18 is brought into contact with the lower surface of the mask 15 (FIG. 8C). The position before the mask cleaner 18 is raised (the position at the end of the arrow W5) is set so that the cleaning surface 18a of the mask cleaner 18 does not enter the non-cleaning region S2 when the mask cleaner 18 is raised. 19 is adjusted by the cleaning execution unit 19b.

制御装置19のクリーニング実行部19bは、マスククリーナ18のクリーニング面18aをマスク15の下面に接触させたら、マスククリーナ18を非クリーニング領域S2から遠ざかる方向に(マスク15の内側からマスク15の外側に)移動させ、マスククリーナ18のクリーニング面18a(ペーパー部材32)によりマスク15の下面に付着しているペーストPtの残り滓を拭き取って(図8(d)中に示す矢印W7)、第2のクリーニング領域S12のクリーニングを行う。そして、マスククリーナ18のクリーニング面18aが第2のクリーニング領域S12の端部(非クリーニング領域S2とは反対側の端部であり、前方側の端部)に達したところで第2のクリーニング領域S12のクリーニングが終了し(図8(d))、マスククリーナ18をマスク15から離間させて(図8(e)中に示す矢印W8)、マスク15の1枚当たりのクリーニング実行工程が終了する(図8(e))。   When the cleaning surface 19a of the mask cleaner 18 contacts the lower surface of the mask 15, the cleaning execution unit 19b of the control device 19 moves the mask cleaner 18 away from the non-cleaning region S2 (from the inside of the mask 15 to the outside of the mask 15). ) The remaining surface of the paste Pt adhering to the lower surface of the mask 15 is wiped off by the cleaning surface 18a (paper member 32) of the mask cleaner 18 (arrow W7 shown in FIG. 8D), and the second The cleaning area S12 is cleaned. When the cleaning surface 18a of the mask cleaner 18 reaches the end of the second cleaning region S12 (the end opposite to the non-cleaning region S2 and the front end), the second cleaning region S12 is reached. Is finished (FIG. 8D), the mask cleaner 18 is separated from the mask 15 (arrow W8 shown in FIG. 8E), and the cleaning execution process for one mask 15 is finished (FIG. 8D). FIG. 8 (e)).

このようにしてマスク15の1枚当たりのクリーニング実行工程が終了した後、次にマスククリーニングを実行すべき時期がきたときには、前述の要領とは前後対称のルートでマスククリーナ18を移動させ、第2のクリーニング領域S12、第1のクリーニング領域S11の順でマスククリーニングを実行する(図9(a),(b),(c),(d),(d),(e)及びこれらの図中に示す矢印W11〜W18参照)   After the cleaning execution process for one mask 15 is completed in this way, when it is time to execute the next mask cleaning, the mask cleaner 18 is moved along a route that is symmetrical with respect to the above-described procedure. The mask cleaning is executed in the order of the second cleaning area S12 and the first cleaning area S11 (FIGS. 9 (a), (b), (c), (d), (d), (e) and these drawings. (See arrows W11-W18 shown in the inside)

なお、このようなマスククリーニングにおいて、制御装置19のクリーニング実行部19bは、マスククリーナ18のクリーニング面18aにくっついたペーストPtが多くなってきた頃に、一対のローラ部材33を作動させてペーパー部材32の巻き取りを行い、クリーニング面18aの更新を行う。   In such a mask cleaning, the cleaning execution unit 19b of the control device 19 operates the pair of roller members 33 when the amount of the paste Pt sticking to the cleaning surface 18a of the mask cleaner 18 increases, so that the paper member 32 is wound up and the cleaning surface 18a is updated.

以上説明したように、本実施の形態におけるスクリーン印刷機1は、基板2の上面に接触されるマスク15、基板2の上面に接触されたマスク15上を摺動してマスク15上に供給されたペーストPtを基板2に転写させるスキージ44、クリーニング面18aをマスク15の下面に接触させた状態でマスク15に対して相対移動することによりマスク15の下面に付着したペーストPtをクリーニングするマスククリーナ18、マスク15の下面のクリーニングを行うクリーニング領域S1とクリーニングを行わない非クリーニング領域S2を設定する領域設定手段(制御装置19の領域設定部19d)及び領域設定手段により非クリーニング領域S2が設定された場合に、非クリーニング領域S2から遠ざかる方向にマスククリーナ18を移動させてクリーニング領域S1のクリーニングを行うクリーニング実行手段(制御装置19のクリーニング実行部19b)を備えたものとなっている。   As described above, the screen printer 1 according to the present embodiment is supplied onto the mask 15 by sliding on the mask 15 in contact with the upper surface of the substrate 2 and the mask 15 in contact with the upper surface of the substrate 2. The squeegee 44 for transferring the paste Pt to the substrate 2 and the mask cleaner for cleaning the paste Pt adhering to the lower surface of the mask 15 by moving relative to the mask 15 with the cleaning surface 18a in contact with the lower surface of the mask 15 18. The non-cleaning area S2 is set by the area setting means (area setting section 19d of the control device 19) and the area setting means for setting the cleaning area S1 for cleaning the lower surface of the mask 15 and the non-cleaning area S2 for which cleaning is not performed. The mask cleaner 18 in a direction away from the non-cleaning region S2. Has become one with the cleaning execution means the moved by cleaning the cleaning area S1 (cleaning executing section 19b of the controller 19).

また、本実施の形態におけるスクリーン印刷機1におけるマスククリーニング方法は、マスク15の下面のクリーニングを行うクリーニング領域S1とクリーニングを行わない非クリーニング領域S2を設定する領域設定工程と、領域設定工程において非クリーニング領域S2が設定された場合に、非クリーニング領域S2から遠ざかる方向にマスククリーナ18を移動させてクリーニング領域S1のクリーニングを行うクリーニング実行工程を含むものとなっている。   Further, the mask cleaning method in the screen printer 1 according to the present embodiment is a non-cleaning region setting step for setting the cleaning region S1 for cleaning the lower surface of the mask 15 and the non-cleaning region S2 for performing no cleaning. When the cleaning area S2 is set, a cleaning execution step is performed in which the mask cleaner 18 is moved in a direction away from the non-cleaning area S2 to clean the cleaning area S1.

本実施の形態におけるスクリーン印刷機1及びスクリーン印刷機1におけるマスククリーニング方法では、マスク15の下面のクリーニングを行わない領域として非クリーニング領域S2が設定された場合に、非クリーニング領域S2から遠ざかる方向にマスククリーナ18を移動させてクリーニング領域S1のクリーニングを行うようにしているので、マスククリーナ18のクリーニング面18aから非クリーニング領域S2内にペーストPtを侵入させてしまうことがなく、印刷不良の発生を防止することができる。   In the screen printing machine 1 and the mask cleaning method in the screen printing machine 1 according to the present embodiment, when the non-cleaning area S2 is set as an area where the lower surface of the mask 15 is not cleaned, it moves away from the non-cleaning area S2. Since the cleaning of the cleaning area S1 is performed by moving the mask cleaner 18, the paste Pt does not enter the non-cleaning area S2 from the cleaning surface 18a of the mask cleaner 18 and the occurrence of printing defects occurs. Can be prevented.

なお、上述の例では、1つの非クリーニング領域S2が2つのクリーニング領域S1(第1のクリーニング領域S11及び第2のクリーニング領域S12)の間に位置するようになっていたが、非クリーニング領域S2はスキージヘッド16の移動方向であるY軸方向と直交する方向(X軸方向)に延びた帯状の領域として設定されるのであれば、その位置及び数は任意である。2つの非クリーニング領域S2の間に位置するひとつのクリーニング領域S1をクリーニングする場合には、クリーニング領域S1それぞれの両端から、クリーニング領域S1の中央へ向かって(すなわち、非クリーニング領域S2から遠ざかる方向にマスククリーナ18を移動させて)クリーニングを行えば、2つの非クリーニング領域S2のいずれにもマスククリーナ18に付着したペーストPtを侵入させることなく、クリーニング領域S1のクリーニングを行うことができる。   In the above example, one non-cleaning region S2 is positioned between two cleaning regions S1 (first cleaning region S11 and second cleaning region S12). Is set as a band-like region extending in the direction (X-axis direction) orthogonal to the Y-axis direction, which is the moving direction of the squeegee head 16, the position and number thereof are arbitrary. When cleaning one cleaning region S1 located between two non-cleaning regions S2, from both ends of each cleaning region S1 toward the center of the cleaning region S1 (that is, in a direction away from the non-cleaning region S2). If cleaning is performed by moving the mask cleaner 18, the cleaning region S 1 can be cleaned without causing the paste Pt adhering to the mask cleaner 18 to enter any of the two non-cleaning regions S 2.

マスクの下面のクリーニングを行わない領域として設定した非クリーニング領域にマスククリーナ側のペーストを侵入させてしまうことのないスクリーン印刷機におけるマスククリーニング方法及びスクリーン印刷機を提供する。   Provided are a mask cleaning method and a screen printer in a screen printer that do not allow a paste on the mask cleaner side to enter a non-cleaning region set as a region where the lower surface of the mask is not cleaned.

1 スクリーン印刷機
2 基板
3 電極
15 マスク
15h パターン孔
18 マスククリーナ
18a クリーニング面
19b クリーニング実行部(クリーニング実行手段)
19d 領域設定部(領域設定手段)
44 スキージ
Pt ペースト
S1 クリーニング領域
S2 非クリーニング領域
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Screen printer 2 Board | substrate 3 Electrode 15 Mask 15h Pattern hole 18 Mask cleaner 18a Cleaning surface 19b Cleaning execution part (cleaning execution means)
19d area setting section (area setting means)
44 Squeegee Pt Paste S1 Cleaning area S2 Non-cleaning area

Claims (4)

基板の上面に接触されるマスクと、基板の上面に接触されたマスク上を摺動してマスク上に供給されたペーストを基板に転写させるスキージと、クリーニング面をマスクの下面に接触させた状態でマスクに対して相対移動することによりマスクの下面に付着したペーストをクリーニングするマスククリーナとを備えたスクリーン印刷機におけるマスククリーニング方法であって、
マスクの下面のクリーニングを行うクリーニング領域とクリーニングを行わない非クリーニング領域を設定する領域設定工程と、
領域設定工程において非クリーニング領域が設定された場合に、非クリーニング領域から遠ざかる方向にマスククリーナを移動させてクリーニング領域のクリーニングを行うクリーニング実行工程とを含むことを特徴とするスクリーン印刷機におけるマスククリーニング方法。
A mask in contact with the upper surface of the substrate, a squeegee that slides on the mask in contact with the upper surface of the substrate and transfers the paste supplied on the mask to the substrate, and a state in which the cleaning surface is in contact with the lower surface of the mask And a mask cleaning method in a screen printing machine provided with a mask cleaner that cleans the paste adhered to the lower surface of the mask by moving relative to the mask.
A region setting step for setting a cleaning region for cleaning the lower surface of the mask and a non-cleaning region for which cleaning is not performed;
And a cleaning execution step of cleaning the cleaning region by moving the mask cleaner away from the non-cleaning region when the non-cleaning region is set in the region setting step. Method.
非クリーニング領域は、基板上の電極に対応するパターン孔が形成されていない領域に設定されることを特徴とする請求項1に記載のスクリーン印刷機におけるマスククリーニング方法。   2. The mask cleaning method for a screen printing machine according to claim 1, wherein the non-cleaning area is set to an area where a pattern hole corresponding to the electrode on the substrate is not formed. 基板の上面に接触されるマスクと、
基板の上面に接触されたマスク上を摺動してマスク上に供給されたペーストを基板に転写させるスキージと、
クリーニング面をマスクの下面に接触させた状態でマスクに対して相対移動することによりマスクの下面に付着したペーストをクリーニングするマスククリーナと、
マスクの下面のクリーニングを行うクリーニング領域とクリーニングを行わない非クリーニング領域を設定する領域設定手段と、
領域設定手段により非クリーニング領域が設定された場合に、非クリーニング領域から遠ざかる方向にマスククリーナを移動させてクリーニング領域のクリーニングを行うクリーニング実行手段とを備えたことを特徴とするスクリーン印刷機。
A mask in contact with the upper surface of the substrate;
A squeegee that slides on the mask in contact with the upper surface of the substrate and transfers the paste supplied on the mask to the substrate;
A mask cleaner that cleans the paste adhered to the lower surface of the mask by moving relative to the mask with the cleaning surface in contact with the lower surface of the mask;
A region setting means for setting a cleaning region for cleaning the lower surface of the mask and a non-cleaning region for which cleaning is not performed;
A screen printing machine comprising: a cleaning execution unit configured to move a mask cleaner in a direction away from the non-cleaning area and clean the cleaning area when the non-cleaning area is set by the area setting unit.
非クリーニング領域は、基板上の電極に対応するパターン孔が形成されていない領域に設定されることを特徴とする請求項3に記載のスクリーン印刷機。   4. The screen printing machine according to claim 3, wherein the non-cleaning area is set in an area where a pattern hole corresponding to the electrode on the substrate is not formed.
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