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JP2011209527A - Liquid crystal device, method of driving the same, and electronic apparatus - Google Patents

Liquid crystal device, method of driving the same, and electronic apparatus Download PDF

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JP2011209527A
JP2011209527A JP2010077499A JP2010077499A JP2011209527A JP 2011209527 A JP2011209527 A JP 2011209527A JP 2010077499 A JP2010077499 A JP 2010077499A JP 2010077499 A JP2010077499 A JP 2010077499A JP 2011209527 A JP2011209527 A JP 2011209527A
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Japan
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liquid crystal
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counter electrode
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Shohei Yoshida
昇平 吉田
Masakazu Nishida
雅一 西田
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a liquid crystal display device, capable of improving display quality by suppressing the occurrence of displaying failures such as flickers, to provide a method of driving the same, and to provide an electronic apparatus.SOLUTION: The liquid crystal device includes a first dielectric layer 38A located between a pixel electrode 12 and a first alignment layer 13 and made of SiOsmaller in film thickness and higher in specific resistance than a liquid crystal layer, and a second dielectric film 38B located between a counter electrode 22 and a second alignment layer 23 and made of SiOsmaller in film thickness of the first dielectric film 38A and higher in specific resistance than a liquid crystal layer. A counter electrode potential set to reduce flickers caused by a parasitic capacity of a switching element 40 is applied, a voltage of positive polarity and a voltage of negative polarity are applied, and a first period where the voltage of positive polarity is applied is set longer than a second period in which the voltage of negative polarity is applied.

Description

本発明は、液晶装置、液晶装置の駆動方法及び電子機器に関するものである。   The present invention relates to a liquid crystal device, a driving method of the liquid crystal device, and an electronic apparatus.

従来、画素電極を薄膜トランジスター(Thin Film Transistor:以下「TFT」という)により駆動するアクティブマトリクス型の液晶装置がある。この液晶装置では、フリッカーや、表示画像の焼き付き等の表示不具合を抑制するために、例えば、各画素電極に印加される駆動電圧の極性を、走査線やデータ線ごと、または、画像信号におけるフレームごとに反転させる反転駆動(交流駆動)が採用されている。   Conventionally, there is an active matrix type liquid crystal device in which a pixel electrode is driven by a thin film transistor (hereinafter referred to as “TFT”). In this liquid crystal device, in order to suppress display defects such as flicker and burn-in of a display image, for example, the polarity of the driving voltage applied to each pixel electrode is set for each scanning line or data line, or for a frame in an image signal. Inversion driving (AC driving) for inversion every time is employed.

これは、反転駆動によって液晶層へ直流電圧成分が印加されることや、基板間における電荷の偏りを抑制し、フリッカー等の解消しようとするものである。しかしながら、単純に反転駆動を行うだけでは、直流電圧成分の印加は完全には解決されず、依然として表示不具合が発生していた。   This is intended to eliminate flicker and the like by applying a DC voltage component to the liquid crystal layer by inversion driving and suppressing the bias of charge between the substrates. However, simply performing inversion driving does not completely solve the application of the DC voltage component, and display defects still occur.

つまり、反転駆動を行ったとしても、液晶層への直流電圧成分の印加や、電荷の偏りが発生しており、これらに対して対策を講ずる必要があった。また、表示不具合の発生源としては、下記の2つの現象が知られていた。
第1の現象は、いわゆるフィールドスルー(プッシュダウン、突き抜けとも呼ばれる)現象である。これは、TFTのゲート・ドレイン端子間及びソース・ドレイン端子間の寄生容量に起因して、オンからオフ状態に切り換わるときに、ドレイン端子と接続された画素電極の電圧が低下してしまう現象である。具体的には、寄生容量及び蓄積容量に蓄積された電荷が、TFTのオフのタイミングで、再分配されることによる画素電極の電圧低下現象である。
第2の現象は、液晶層を挟持する素子基板と対向基板との特性差に起因した直流電圧成分である、より詳しくは、画素電極やTFT等が形成された素子基板と、対向電極が形成された対向基板とにおいて、それぞれの電気的特性が非対称であることによって、電荷の偏りが生じるためである。
In other words, even when inversion driving is performed, application of a DC voltage component to the liquid crystal layer and bias of electric charges occur, and it is necessary to take measures against them. In addition, the following two phenomena have been known as sources of display defects.
The first phenomenon is a so-called field-through (also called push-down or punch-through) phenomenon. This is a phenomenon in which the voltage of the pixel electrode connected to the drain terminal is lowered when switching from the on state to the off state due to parasitic capacitance between the gate and drain terminals of the TFT and between the source and drain terminals. It is. Specifically, this is a phenomenon in which the voltage of the pixel electrode is lowered due to redistribution of the charges accumulated in the parasitic capacitance and the storage capacitance at the timing when the TFT is turned off.
The second phenomenon is a direct-current voltage component resulting from a characteristic difference between the element substrate sandwiching the liquid crystal layer and the counter substrate. More specifically, the element substrate on which the pixel electrode, the TFT, and the like are formed, and the counter electrode are formed. This is because the electric characteristics are asymmetric in the counter substrate thus formed, thereby causing a bias in charge.

上述した2つの現象に着目した液晶装置の駆動方法が提案されており、例えば、特許文献1では、反転駆動における極性反転の基準となる対向電極電位を、予め第1の現象(フィールドスルー)及び第2の現象(素子基板と対向基板の電気的特性差による電圧変動)による影響を補正するようにシフトさせる技術が開示されている。具体的には、特許文献1では、初期段階において第1の現象による電圧変動分と、第2の現象による電圧変動分とを、所定の計測条件により計測し、それらを加算した値を一定の補正電圧として、対向電極の設定電位(Vcom)に加味している。   A method of driving a liquid crystal device focusing on the two phenomena described above has been proposed. For example, in Patent Document 1, a counter electrode potential serving as a reference for polarity inversion in inversion driving is set in advance by using the first phenomenon (field-through) and A technique for shifting so as to correct the influence of the second phenomenon (voltage fluctuation due to the difference in electrical characteristics between the element substrate and the counter substrate) is disclosed. Specifically, in Patent Document 1, in the initial stage, the voltage fluctuation due to the first phenomenon and the voltage fluctuation due to the second phenomenon are measured under a predetermined measurement condition, and a value obtained by adding them is fixed. The correction voltage is added to the set potential (Vcom) of the counter electrode.

特開2002−189460号公報JP 2002-189460 A

特許文献1の技術にあっては、第1の現象及び第2の現象による電圧変動分を加算した補正電圧を対向電極電位に加えることで、直流電圧成分の発生による表示品位の低下を抑制することができると考えられる。
しかしながら、第1の現象の補正電圧に対して第2の現象の補正電圧がある程度の大きさを持つ場合には、対向電極電位が正負のいずれかに大きくシフトしてしまう。つまり、第2の現象に対する補正電圧が大きいと、駆動電圧の正負における振幅差が大きくなってしまう。このため、フリッカー等の表示不具合が発生してしまう場合がある。
In the technique of Patent Document 1, a correction voltage obtained by adding the voltage fluctuations due to the first phenomenon and the second phenomenon is added to the counter electrode potential, thereby suppressing display quality deterioration due to generation of a DC voltage component. It is considered possible.
However, when the correction voltage of the second phenomenon has a certain level with respect to the correction voltage of the first phenomenon, the counter electrode potential is greatly shifted to either positive or negative. That is, if the correction voltage for the second phenomenon is large, the amplitude difference between the positive and negative driving voltages becomes large. For this reason, display defects such as flicker may occur.

本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであって、フリッカー等の表示不具合の発生を抑制して表示品位の向上を図ることが可能な液晶装置、液晶装置の駆動方法及び電子機器を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of such circumstances, and provides a liquid crystal device, a driving method of the liquid crystal device, and an electronic apparatus capable of improving display quality by suppressing the occurrence of display defects such as flicker. The purpose is to provide.

上記の課題を解決するため、本発明の液晶装置は、複数の走査線と複数のデータ線と、前記走査線と前記データ線との交点に対応して設けられたスイッチング素子及び画素電極と、を備えた素子基板と、前記素子基板に対向配置された、対向電極を備えた対向基板と、前記素子基板と前記対向基板との間に挟持された液晶層と、前記素子基板の前記液晶層の側に設けられた第1配向膜と、前記対向基板の前記液晶層の側に設けられた第2配向膜と、前記画素電極と前記第1配向膜との間に設けられた、前記液晶層よりも膜厚が薄く、かつ、前記液晶層よりも高比抵抗の、SiOからなる第1誘電体膜と、前記対向電極と前記第2配向膜との間に設けられた、前記第1誘電体膜よりも膜厚が薄く、かつ、前記液晶層よりも高比抵抗の、SiOからなる第2誘電体膜と、を備え、前記対向電極には、前記スイッチング素子の寄生容量に起因するフリッカーを低減するように設定された対向電極電位が印加され、前記画素電極には、前記対向電極電位を基準として高位の電圧を正極性、低位の電圧を負極性としたときに、前記正極性の電圧と前記負極性の電圧とが交互に印加され、前記正極性の電圧が印加される第1の期間と、前記負極性の電圧が印加される第2の期間とからなる所定の期間において、前記第1の期間の長さが前記第2の期間の長さに比べて長く設定されることを特徴とする。 In order to solve the above problems, a liquid crystal device of the present invention includes a plurality of scanning lines, a plurality of data lines, a switching element and a pixel electrode provided corresponding to the intersections of the scanning lines and the data lines, An element substrate including: a counter substrate provided with a counter electrode disposed opposite to the element substrate; a liquid crystal layer sandwiched between the element substrate and the counter substrate; and the liquid crystal layer of the element substrate The first alignment film provided on the liquid crystal layer side, the second alignment film provided on the liquid crystal layer side of the counter substrate, and the liquid crystal provided between the pixel electrode and the first alignment film. A first dielectric film made of SiO 2 having a smaller film thickness than the layer and having a higher specific resistance than the liquid crystal layer, and the first dielectric film provided between the counter electrode and the second alignment film, SiO having a smaller film thickness than one dielectric film and a higher specific resistance than the liquid crystal layer Comprising a second dielectric film made of 2, and the counter electrode, the set counter electrode potential to reduce the flicker caused by the parasitic capacitance of the switching element is applied to the pixel electrode, When the higher voltage is positive and the lower voltage is negative with respect to the counter electrode potential, the positive voltage and the negative voltage are applied alternately, and the positive voltage is applied. In the predetermined period including the first period to be applied and the second period to which the negative voltage is applied, the length of the first period is longer than the length of the second period. It is characterized by being set.

この液晶装置によれば、対向電極電位がスイッチング素子の寄生容量に起因するフリッカーを低減するように予めシフトして設定されているため、第1の現象についての補正が盛り込まれている。また、所定の期間のうち第1の期間の長さが第2の期間の長さよりも長く設定されているため、第2の現象についての補正も盛り込まれている。この補正は、本発明者が、素子基板側の画素電極と第1配向膜との間に、液晶層よりも膜厚が薄く、かつ、液晶層よりも高比抵抗の、酸化シリコン(SiO)からなる第1誘電体膜を配置し、対向基板側の対向電極と第2配向膜との間に、前記第1誘電体膜よりも膜厚が薄く、かつ、液晶層よりも高比抵抗の、酸化シリコン(SiO)からなる第2誘電体膜を配置することにより、実効電圧波形が電位の正方向にシフトすることを見出したことによる。この点については、本発明者が行った実験結果からも確認されている。つまり、素子基板側の画素電極と第1配向膜との間に対向基板側の対向電極と第2配向膜との間の第2誘電体膜よりも膜厚が厚い第1誘電体膜を配置することにより、第1誘電体膜の膜厚及び第2誘電体膜の膜厚が同じ場合に比べて、Vcomが正方向にシフトすること(シフト後の対向電極電位がシフト前の対向電極電位から正方向にずれること)が明確になった。このように、Vcomシフトのずれる方向が予め確定しているので、従来の技術のようにいずれにずれるか不確定であった場合に比べて、Vcomシフトについての補正を的確に行うことができる。したがって、フリッカー等の表示不具合の発生を抑制して表示品位の向上を図ることが可能な液晶装置を提供することができる。 According to this liquid crystal device, since the counter electrode potential is set in advance so as to reduce the flicker caused by the parasitic capacitance of the switching element, the correction for the first phenomenon is incorporated. In addition, since the length of the first period of the predetermined period is set longer than the length of the second period, correction for the second phenomenon is included. This correction is performed by the inventor of silicon oxide (SiO 2) having a smaller thickness than the liquid crystal layer and a higher specific resistance than the liquid crystal layer between the pixel electrode on the element substrate and the first alignment film. The first dielectric film is disposed between the counter electrode on the counter substrate side and the second alignment film. The first dielectric film is thinner than the first dielectric film and has a higher specific resistance than the liquid crystal layer. This is because the effective voltage waveform is shifted in the positive direction of the potential by arranging the second dielectric film made of silicon oxide (SiO 2 ). This point has also been confirmed from the results of experiments conducted by the present inventors. In other words, the first dielectric film having a thickness greater than that of the second dielectric film between the counter electrode on the counter substrate side and the second alignment film is disposed between the pixel electrode on the element substrate side and the first alignment film. As a result, Vcom shifts in the positive direction as compared with the case where the film thickness of the first dielectric film and the film thickness of the second dielectric film are the same (the counter electrode potential after the shift is the counter electrode potential before the shift). It became clear that it would shift in the positive direction. As described above, since the shift direction of the Vcom shift is determined in advance, the correction for the Vcom shift can be accurately performed as compared to the case where the shift direction is uncertain as in the prior art. Therefore, it is possible to provide a liquid crystal device capable of improving the display quality by suppressing the occurrence of display defects such as flicker.

本発明の液晶装置は、複数の走査線と複数のデータ線と、前記走査線と前記データ線との交点に対応して設けられたスイッチング素子及び画素電極と、を備えた素子基板と、前記素子基板に対向配置された、対向電極を備えた対向基板と、前記素子基板と前記対向基板との間に挟持された液晶層と、前記素子基板の前記液晶層の側に設けられた第1配向膜と、前記対向基板の前記液晶層の側に設けられた第2配向膜と、前記画素電極と前記第1配向膜との間に設けられた、前記液晶層よりも膜厚が薄く、かつ、前記液晶層よりも高比抵抗の、SiOからなる第1誘電体膜と、前記対向電極と前記第2配向膜との間に設けられた、前記第1誘電体膜よりも膜厚が厚く、かつ、前記液晶層よりも高比抵抗の、SiOからなる第2誘電体膜と、を備え、前記対向電極には、前記スイッチング素子の寄生容量に起因するフリッカーを低減するように設定された対向電極電位が印加され、前記画素電極には、前記対向電極電位を基準として高位の電圧を正極性、低位の電圧を負極性としたときに、前記正極性の電圧と前記負極性の電圧とが交互に印加され、前記正極性の電圧が印加される第1の期間と、前記負極性の電圧が印加される第2の期間とからなる所定の期間において、前記第1の期間の長さが前記第2の期間の長さに比べて短く設定されることを特徴とする。 The liquid crystal device according to the present invention includes an element substrate including a plurality of scanning lines, a plurality of data lines, a switching element and a pixel electrode provided corresponding to an intersection of the scanning lines and the data lines, A counter substrate having a counter electrode disposed opposite to the element substrate, a liquid crystal layer sandwiched between the element substrate and the counter substrate, and a first liquid crystal layer provided on the element substrate on the liquid crystal layer side. An alignment film, a second alignment film provided on the liquid crystal layer side of the counter substrate, and a thickness smaller than the liquid crystal layer provided between the pixel electrode and the first alignment film, In addition, the first dielectric film made of SiO 2 having a higher specific resistance than the liquid crystal layer, and the film thickness than the first dielectric film provided between the counter electrode and the second alignment film. thick, and a high specific resistance than the liquid crystal layer, a second dielectric film made of SiO 2 The counter electrode is applied with a counter electrode potential set so as to reduce flicker caused by parasitic capacitance of the switching element, and the pixel electrode has a higher voltage with reference to the counter electrode potential. The positive polarity voltage and the negative polarity voltage are alternately applied, the first period during which the positive polarity voltage is applied, and the negative polarity The length of the first period is set shorter than the length of the second period in a predetermined period including a second period in which a sex voltage is applied.

この液晶装置によれば、対向電極電位がスイッチング素子の寄生容量に起因するフリッカーを低減するように予めシフトして設定されているため、第1の現象についての補正が盛り込まれている。また、所定の期間のうち第1の期間の長さが第2の期間の長さよりも短く設定されているため、第2の現象についての補正も盛り込まれている。この補正は、本発明者が、素子基板側の画素電極と第1配向膜との間に、液晶層よりも膜厚が薄く、かつ、液晶層よりも高比抵抗の、酸化シリコン(SiO)からなる第1誘電体膜を配置し、対向基板側の対向電極と第2配向膜との間に、前記第1誘電体膜よりも膜厚が厚く、かつ、液晶層よりも高比抵抗の、酸化シリコン(SiO)からなる第2誘電体膜を配置することにより、実効電圧波形が電位の負方向にシフトすることを見出したことによる。この点については、本発明者が行った実験結果からも確認されている。つまり、素子基板側の画素電極と第1配向膜との間に対向基板側の対向電極と第2配向膜との間の第2誘電体膜よりも膜厚が薄い第1誘電体膜を配置することにより、第1誘電体膜の膜厚及び第2誘電体膜の膜厚が同じ場合に比べて、Vcomが負方向にシフトすること(シフト後の対向電極電位がシフト前の対向電極電位から負方向にずれること)が明確になった。このように、Vcomシフトのずれる方向が予め確定しているので、従来の技術のようにいずれにずれるか不確定であった場合に比べて、Vcomシフトについての補正を的確に行うことができる。したがって、フリッカー等の表示不具合の発生を抑制して表示品位の向上を図ることが可能な液晶装置を提供することができる。 According to this liquid crystal device, since the counter electrode potential is set in advance so as to reduce the flicker caused by the parasitic capacitance of the switching element, the correction for the first phenomenon is incorporated. In addition, since the length of the first period of the predetermined period is set shorter than the length of the second period, correction for the second phenomenon is included. This correction is performed by the inventor of silicon oxide (SiO 2) having a smaller thickness than the liquid crystal layer and a higher specific resistance than the liquid crystal layer between the pixel electrode on the element substrate and the first alignment film. The first dielectric film is disposed between the counter electrode on the counter substrate side and the second alignment film. The first dielectric film is thicker than the first dielectric film and has a higher specific resistance than the liquid crystal layer. This is because the effective voltage waveform is shifted in the negative direction of the potential by arranging the second dielectric film made of silicon oxide (SiO 2 ). This point has also been confirmed from the results of experiments conducted by the present inventors. That is, the first dielectric film having a thickness smaller than that of the second dielectric film between the counter electrode on the counter substrate side and the second alignment film is disposed between the pixel electrode on the element substrate side and the first alignment film. As a result, Vcom shifts in the negative direction compared to the case where the film thickness of the first dielectric film and the film thickness of the second dielectric film are the same (the counter electrode potential after the shift is the counter electrode potential before the shift). From the negative direction). As described above, since the shift direction of the Vcom shift is determined in advance, the correction for the Vcom shift can be accurately performed as compared to the case where the shift direction is uncertain as in the prior art. Therefore, it is possible to provide a liquid crystal device capable of improving the display quality by suppressing the occurrence of display defects such as flicker.

また、上記液晶装置において、前記画素電極がAlからなり、前記対向電極がITOからなっていてもよい。   In the liquid crystal device, the pixel electrode may be made of Al, and the counter electrode may be made of ITO.

この液晶装置によれば、画素電極及び対向電極が同じ材料(例えばITO)からなる場合に比べて、Vcomが正方向あるいは負方向のいずれかにシフトすることが明確になり、素子基板と対向基板の特性の非対称性が顕著となる。この点については、本発明者が行った実験結果からも確認されている。このため、画素電極及び対向電極が例えばITOからなる場合に比べて、液晶層を挟持する素子基板と対向基板との特性差に起因した直流電圧成分が顕著に発生することとなる。したがって、フリッカー等の表示不具合の発生を抑制して表示品位の向上を図ることが可能となる。   According to this liquid crystal device, it is clear that Vcom shifts in either the positive direction or the negative direction as compared with the case where the pixel electrode and the counter electrode are made of the same material (for example, ITO). The asymmetry of the characteristics becomes remarkable. This point has also been confirmed from the results of experiments conducted by the present inventors. For this reason, as compared with the case where the pixel electrode and the counter electrode are made of, for example, ITO, a DC voltage component due to the characteristic difference between the element substrate sandwiching the liquid crystal layer and the counter substrate is significantly generated. Therefore, it is possible to improve display quality by suppressing the occurrence of display defects such as flicker.

本発明の液晶装置の駆動方法は、複数の走査線と複数のデータ線と、前記走査線と前記データ線との交点に対応して設けられたスイッチング素子及び画素電極と、を備えた素子基板と、前記素子基板に対向配置された、対向電極を備えた対向基板と、前記素子基板と前記対向基板との間に挟持された液晶層と、前記素子基板の前記液晶層の側に設けられた第1配向膜と、前記対向基板の前記液晶層の側に設けられた第2配向膜と、前記画素電極と前記第1配向膜との間に設けられた、前記液晶層よりも膜厚が薄く、かつ、前記液晶層よりも高比抵抗の、SiOからなる第1誘電体膜と、前記対向電極と前記第2配向膜との間に設けられた、前記第1誘電体膜よりも膜厚が薄く、かつ、前記液晶層よりも高比抵抗の、SiOからなる第2誘電体膜と、を備えた液晶装置の駆動方法であって、前記対向電極に、前記スイッチング素子の寄生容量に起因するフリッカーを低減するように設定された対向電極電位を印加し、前記画素電極に、前記対向電極電位を基準として高位の電圧を正極性、低位の電圧を負極性としたときに、前記正極性の電圧と前記負極性の電圧とを交互に印加し、前記正極性の電圧が印加される第1の期間と、前記負極性の電圧が印加される第2の期間とからなる所定の期間において、前記第1の期間の長さを前記第2の期間の長さに比べて長く設定することを特徴とする。 A driving method of a liquid crystal device according to the present invention includes an element substrate including a plurality of scanning lines, a plurality of data lines, and switching elements and pixel electrodes provided corresponding to intersections of the scanning lines and the data lines. A counter substrate provided with a counter electrode disposed opposite to the element substrate, a liquid crystal layer sandwiched between the element substrate and the counter substrate, and the liquid crystal layer side of the element substrate. The first alignment film, the second alignment film provided on the liquid crystal layer side of the counter substrate, and the film thickness than the liquid crystal layer provided between the pixel electrode and the first alignment film. A first dielectric film made of SiO 2 and having a higher specific resistance than the liquid crystal layer, and the first dielectric film provided between the counter electrode and the second alignment film. thinner film thickness, and said high resistivity than that of the liquid crystal layer, the second consisting of SiO 2 A liquid crystal device driving method comprising: an electric body film, wherein a counter electrode potential set so as to reduce flicker caused by parasitic capacitance of the switching element is applied to the counter electrode, and the pixel electrode In addition, when the higher voltage is positive and the lower voltage is negative with respect to the counter electrode potential, the positive voltage and the negative voltage are alternately applied, and the positive voltage In a predetermined period including a first period in which the negative voltage is applied and a second period in which the negative voltage is applied, the length of the first period is compared with the length of the second period. It is characterized by setting it long.

本発明の液晶装置の駆動方法によれば、対向電極電位がスイッチング素子の寄生容量に起因するフリッカーを低減するように予めシフトして設定されているため、第1の現象についての補正が盛り込まれている。また、所定の期間のうち第1の期間の長さが第2の期間の長さよりも長く設定するため、第2の現象についての補正も盛り込まれることとなる。この補正は、本発明者が、素子基板側の画素電極と第1配向膜との間に、液晶層よりも膜厚が薄く、かつ、液晶層よりも高比抵抗の、酸化シリコン(SiO)からなる第1誘電体膜を配置し、対向基板側の対向電極と第2配向膜との間に、前記第1誘電体膜よりも膜厚が薄く、かつ、液晶層よりも高比抵抗の、酸化シリコン(SiO)からなる第2誘電体膜を配置することにより、実効電圧波形が電位の正方向にシフトすることを見出したことによる。この点については、本発明者が行った実験結果からも確認されている。したがって、フリッカー等の表示不具合の発生を抑制して表示品位の向上を図ることが可能となる。 According to the driving method of the liquid crystal device of the present invention, since the counter electrode potential is set in advance so as to reduce the flicker caused by the parasitic capacitance of the switching element, the correction for the first phenomenon is incorporated. ing. In addition, since the length of the first period of the predetermined period is set longer than the length of the second period, correction for the second phenomenon is also incorporated. This correction is performed by the inventor of silicon oxide (SiO 2) having a smaller thickness than the liquid crystal layer and a higher specific resistance than the liquid crystal layer between the pixel electrode on the element substrate and the first alignment film. The first dielectric film is disposed between the counter electrode on the counter substrate side and the second alignment film. The first dielectric film is thinner than the first dielectric film and has a higher specific resistance than the liquid crystal layer. This is because the effective voltage waveform is shifted in the positive direction of the potential by arranging the second dielectric film made of silicon oxide (SiO 2 ). This point has also been confirmed from the results of experiments conducted by the present inventors. Therefore, it is possible to improve display quality by suppressing the occurrence of display defects such as flicker.

本発明の液晶装置の駆動方法は、複数の走査線と複数のデータ線と、前記走査線と前記データ線との交点に対応して設けられたスイッチング素子及び画素電極と、を備えた素子基板と、前記素子基板に対向配置された、対向電極を備えた対向基板と、前記素子基板と前記対向基板との間に挟持された液晶層と、前記素子基板の前記液晶層の側に設けられた第1配向膜と、前記対向基板の前記液晶層の側に設けられた第2配向膜と、前記画素電極と前記第1配向膜との間に設けられた、前記液晶層よりも膜厚が薄く、かつ、前記液晶層よりも高比抵抗の、SiOからなる第1誘電体膜と、前記対向電極と前記第2配向膜との間に設けられた、前記第1誘電体膜よりも膜厚が厚く、かつ、前記液晶層よりも高比抵抗の、SiOからなる第2誘電体膜と、を備えた液晶装置の駆動方法であって、前記対向電極に、前記スイッチング素子の寄生容量に起因するフリッカーを低減するように設定された対向電極電位を印加し、前記画素電極に、前記対向電極電位を基準として高位の電圧を正極性、低位の電圧を負極性としたときに、前記正極性の電圧と前記負極性の電圧とを交互に印加し、前記正極性の電圧が印加される第1の期間と、前記負極性の電圧が印加される第2の期間とからなる所定の期間において、前記第1の期間の長さを前記第2の期間の長さに比べて短く設定することを特徴とする。 A driving method of a liquid crystal device according to the present invention includes an element substrate including a plurality of scanning lines, a plurality of data lines, and switching elements and pixel electrodes provided corresponding to intersections of the scanning lines and the data lines. A counter substrate provided with a counter electrode disposed opposite to the element substrate, a liquid crystal layer sandwiched between the element substrate and the counter substrate, and the liquid crystal layer side of the element substrate. The first alignment film, the second alignment film provided on the liquid crystal layer side of the counter substrate, and the film thickness than the liquid crystal layer provided between the pixel electrode and the first alignment film. A first dielectric film made of SiO 2 and having a higher specific resistance than the liquid crystal layer, and the first dielectric film provided between the counter electrode and the second alignment film. thicker the film thickness, and said high resistivity than that of the liquid crystal layer, the second consisting of SiO 2 A liquid crystal device driving method comprising: an electric body film, wherein a counter electrode potential set so as to reduce flicker caused by parasitic capacitance of the switching element is applied to the counter electrode, and the pixel electrode In addition, when the higher voltage is positive and the lower voltage is negative with respect to the counter electrode potential, the positive voltage and the negative voltage are alternately applied, and the positive voltage In a predetermined period including a first period in which the negative voltage is applied and a second period in which the negative voltage is applied, the length of the first period is compared with the length of the second period. It is characterized by being set short.

本発明の液晶装置の駆動方法によれば、対向電極電位がスイッチング素子の寄生容量に起因するフリッカーを低減するように予めシフトして設定されているため、第1の現象についての補正が盛り込まれている。また、所定の期間のうち第1の期間の長さが第2の期間の長さよりも短く設定するため、第2の現象についての補正も盛り込まれることとなる。この補正は、本発明者が、素子基板側の画素電極と第1配向膜との間に、液晶層よりも膜厚が薄く、かつ、液晶層よりも高比抵抗の、酸化シリコン(SiO)からなる第1誘電体膜を配置し、対向基板側の対向電極と第2配向膜との間に、前記第1誘電体膜よりも膜厚が厚く、かつ、液晶層よりも高比抵抗の、酸化シリコン(SiO)からなる第2誘電体膜を配置することにより、実効電圧波形が電位の負方向にシフトすることを見出したことによる。この点については、本発明者が行った実験結果からも確認されている。したがって、フリッカー等の表示不具合の発生を抑制して表示品位の向上を図ることが可能となる。 According to the driving method of the liquid crystal device of the present invention, since the counter electrode potential is set in advance so as to reduce the flicker caused by the parasitic capacitance of the switching element, the correction for the first phenomenon is incorporated. ing. In addition, since the length of the first period of the predetermined period is set shorter than the length of the second period, correction for the second phenomenon is also incorporated. This correction is performed by the inventor of silicon oxide (SiO 2) having a smaller thickness than the liquid crystal layer and a higher specific resistance than the liquid crystal layer between the pixel electrode on the element substrate and the first alignment film. The first dielectric film is disposed between the counter electrode on the counter substrate side and the second alignment film. The first dielectric film is thicker than the first dielectric film and has a higher specific resistance than the liquid crystal layer. This is because the effective voltage waveform is shifted in the negative direction of the potential by arranging the second dielectric film made of silicon oxide (SiO 2 ). This point has also been confirmed from the results of experiments conducted by the present inventors. Therefore, it is possible to improve display quality by suppressing the occurrence of display defects such as flicker.

また、上記液晶装置の駆動方法において、前記第1誘電体膜の膜厚と前記第2誘電体膜の膜厚との比が1/4のときに、前記第1の期間の長さと前記第2の期間の長さとの比を43.5/56.5以上46.5/53.5以下の範囲に設定してもよい。   Further, in the driving method of the liquid crystal device, when the ratio between the film thickness of the first dielectric film and the film thickness of the second dielectric film is 1/4, the length of the first period and the first The ratio with the length of the period 2 may be set in the range of 43.5 / 56.5 to 46.5 / 53.5.

この液晶装置の駆動方法によれば、フリッカー許容限に対応する最適な時間配分比率となっているので第2の現象に対する補正を効果的に行うことができる。これに対して、第1の期間の長さと第2の期間の長さとの比が43.5/56.5よりも小さいと第1の期間の長さが長すぎてしまい効果的な補正とはならない場合がある。また、第1の期間の長さと第2の期間の長さとの比が46.5/53.5よりも大きいと第1の期間の長さが短すぎてしまい効果的な補正とはならない場合がある。   According to the driving method of the liquid crystal device, since the optimal time distribution ratio corresponding to the flicker allowable limit is obtained, the second phenomenon can be effectively corrected. On the other hand, if the ratio of the length of the first period to the length of the second period is smaller than 43.5 / 56.5, the length of the first period is too long and effective correction is achieved. May not be. In addition, when the ratio of the length of the first period to the length of the second period is larger than 46.5 / 53.5, the length of the first period is too short to be an effective correction. There is.

また、上記液晶装置の駆動方法において、前記第1誘電体膜の膜厚と前記第2誘電体膜の膜厚との比が4/1のときに、前記第1の期間の長さと前記第2の期間の長さとの比を53.5/46.5以上56.5/43.5以下の範囲に設定してもよい。   In the driving method of the liquid crystal device, when the ratio of the thickness of the first dielectric film to the thickness of the second dielectric film is 4/1, the length of the first period and the first The ratio with the length of the period 2 may be set in the range of 53.5 / 46.5 to 56.5 / 43.5.

この液晶装置の駆動方法によれば、フリッカー許容限に対応する最適な時間配分比率となっているので第2の現象に対する補正を効果的に行うことができる。これに対して、第1の期間の長さと第2の期間の長さとの比が53.5/46.5よりも小さいと第1の期間の長さが長すぎてしまい効果的な補正とはならない場合がある。また、第1の期間の長さと第2の期間の長さとの比が56.5/43.5よりも大きいと第1の期間の長さが短すぎてしまい効果的な補正とはならない場合がある。   According to the driving method of the liquid crystal device, since the optimal time distribution ratio corresponding to the flicker allowable limit is obtained, the second phenomenon can be effectively corrected. On the other hand, if the ratio of the length of the first period to the length of the second period is smaller than 53.5 / 46.5, the length of the first period is too long and effective correction is achieved. May not be. In addition, when the ratio of the length of the first period to the length of the second period is larger than 56.5 / 43.5, the length of the first period is too short to be an effective correction. There is.

本発明の電子機器は、上述した液晶装置を備えることを特徴とする。   An electronic apparatus according to the present invention includes the above-described liquid crystal device.

この電子機器によれば、上述した液晶装置を備えているので、フリッカー等の表示不具合の発生を抑制して表示品位の向上を図ることが可能な電子機器を提供することができる。   According to this electronic apparatus, since the above-described liquid crystal device is provided, it is possible to provide an electronic apparatus capable of improving display quality by suppressing the occurrence of display defects such as flicker.

本発明の第1実施形態に係る液晶装置の概略構成を示すブロック図である。1 is a block diagram illustrating a schematic configuration of a liquid crystal device according to a first embodiment of the present invention. 第1実施形態に係る液晶パネルの概略構成を示す図である。It is a figure which shows schematic structure of the liquid crystal panel which concerns on 1st Embodiment. 画素の等価回路図である。It is an equivalent circuit diagram of a pixel. 第1実施形態に係る素子基板をその上に形成された各構成要素とともに対向基板の側から視た液晶パネルの平面図である。It is a top view of the liquid crystal panel which looked at the element substrate concerning a 1st embodiment from the counter substrate side with each component formed on it. 第1実施形態に係る液晶パネルの概略構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows schematic structure of the liquid crystal panel which concerns on 1st Embodiment. 第1実施形態に係るゲート電圧及び駆動電圧波形を示すチャートを示す図である。It is a figure which shows the chart which shows the gate voltage and drive voltage waveform which concern on 1st Embodiment. 第1実施形態に係る時間経過とVcomシフトの関係を示す図である。It is a figure which shows the relationship of time passage and Vcom shift which concern on 1st Embodiment. 第1実施形態に係る時間比率とVcomシフトの関係を示す図である。It is a figure which shows the relationship between the time ratio which concerns on 1st Embodiment, and Vcom shift. 指定値が「+1」のときの走査信号系のタイミングチャートを示す図である。It is a figure which shows the timing chart of a scanning signal system when a designated value is "+1". データ信号系の第1フィールドにおけるタイミングチャートを示す図である。It is a figure which shows the timing chart in the 1st field of a data signal system. データ信号系の第2フィールドにおけるタイミングチャートを示す図である。It is a figure which shows the timing chart in the 2nd field of a data signal system. 指定値が「+1」である場合において、各行の書込状態を連続するフレームに亘る時間経過とともに示した図である。FIG. 10 is a diagram showing the writing state of each row as time passes over successive frames when the designated value is “+1”. 第2実施形態に係る液晶パネルの概略構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows schematic structure of the liquid crystal panel which concerns on 2nd Embodiment. 第2実施形態に係るゲート電圧及び駆動電圧波形を示すチャートを示す図である。It is a figure which shows the chart which shows the gate voltage and drive voltage waveform which concern on 2nd Embodiment. 第2実施形態に係る時間経過とVcomシフトの関係を示す図である。It is a figure which shows the relationship between time passage and Vcom shift which concern on 2nd Embodiment. 第2実施形態に係る時間比率とVcomシフトの関係を示す図である。It is a figure which shows the relationship between the time ratio which concerns on 2nd Embodiment, and Vcom shift. 指定値が「−1」のときの走査信号系のタイミングチャートを示す図である。It is a figure which shows the timing chart of a scanning signal system when a designated value is "-1". 指定値が「−1」である場合において、各行の書込状態を連続するフレームに亘る時間経過とともに示した図である。It is the figure which showed the writing state of each line with progress of time over the continuous frame in case a designated value is "-1." 電子機器の一例であるプロジェクターの概略構成を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows schematic structure of the projector which is an example of an electronic device.

以下、図面を参照して、本発明の実施の形態について説明する。かかる実施の形態は、本発明の一態様を示すものであり、この発明を限定するものではなく、本発明の技術的思想の範囲内で任意に変更可能である。また、以下の図面においては、各構成をわかりやすくするために、実際の構造と各構造における縮尺や数等が異なっている。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. This embodiment shows one aspect of the present invention, and does not limit the present invention, and can be arbitrarily changed within the scope of the technical idea of the present invention. Moreover, in the following drawings, in order to make each structure easy to understand, an actual structure and a scale, a number, and the like in each structure are different.

(第1実施形態)
図1は、本発明の第1実施形態に係る液晶装置100の概略構成を示すブロック図である。液晶装置100は、液晶パネル100A、処理回路150、電圧生成回路160、操作子170から構成されている。液晶パネル100Aは、反射式のアクティブマトリクス型のものである。なお、液晶パネル100Aの詳細な構成については後述する。
(First embodiment)
FIG. 1 is a block diagram showing a schematic configuration of a liquid crystal device 100 according to the first embodiment of the present invention. The liquid crystal device 100 includes a liquid crystal panel 100A, a processing circuit 150, a voltage generation circuit 160, and an operator 170. The liquid crystal panel 100A is of a reflective active matrix type. The detailed configuration of the liquid crystal panel 100A will be described later.

処理回路150は、制御回路152及び表示データ処理回路156を含み、データ信号Vidの出力に合わせて液晶パネル100Aの動作を制御する回路モジュールである。この処理回路150は、例えばFPC(Flexible Printed Circuit)基板によって、液晶パネル100Aと接続されている。   The processing circuit 150 includes a control circuit 152 and a display data processing circuit 156, and is a circuit module that controls the operation of the liquid crystal panel 100A in accordance with the output of the data signal Vid. The processing circuit 150 is connected to the liquid crystal panel 100A by, for example, an FPC (Flexible Printed Circuit) substrate.

制御回路152には、タイミング信号発生回路153が内蔵されている。このタイミング信号発生回路153には、クロック発生回路154が附属している。クロック発生回路154は、各部の制御動作の基準となるクロック信号を生成してタイミング信号発生回路153に出力する。タイミング信号発生回路153は、外部装置(図示略)から供給される垂直同期信号Vs、垂直同期信号Hs及びドットクロック信号Dclkに同期して、液晶パネル100Aを制御するための各種の制御信号を生成する。制御回路152は、タイミング信号発生回路153、後述する表示データ処理回路156及び電圧生成回路160などの各種回路を制御する。   The control circuit 152 includes a timing signal generation circuit 153. A clock generation circuit 154 is attached to the timing signal generation circuit 153. The clock generation circuit 154 generates a clock signal that serves as a reference for the control operation of each unit and outputs the clock signal to the timing signal generation circuit 153. The timing signal generation circuit 153 generates various control signals for controlling the liquid crystal panel 100A in synchronization with the vertical synchronization signal Vs, the vertical synchronization signal Hs, and the dot clock signal Dclk supplied from an external device (not shown). To do. The control circuit 152 controls various circuits such as a timing signal generation circuit 153, a display data processing circuit 156, which will be described later, and a voltage generation circuit 160.

電圧生成回路160は、DC/DCコンバーターを含んで構成される。この電圧生成回路160は、外部装置から供給される直流電力から、各部で使用する複数の直流電圧を生成する。また、電圧生成回路160は、液晶パネル100Aの対向電極22に印加される対向電極電位Vcomを生成し、液晶パネル100Aに供給する。   The voltage generation circuit 160 includes a DC / DC converter. The voltage generation circuit 160 generates a plurality of DC voltages used in each unit from DC power supplied from an external device. The voltage generation circuit 160 generates a counter electrode potential Vcom applied to the counter electrode 22 of the liquid crystal panel 100A, and supplies the counter electrode potential Vcom to the liquid crystal panel 100A.

操作子170は、例えばユーザー等により操作され、その操作に応じた指定値Qを例えば「0」から「+10」までの範囲で出力するものである。具体的には、操作子170が電子機器に搭載された場合には、その操作パネルやリモコン等の操作部によって、操作可能に設けられている。なお、この指定値Qにより、後述するように第2スタートパルスDybの出力タイミングを前後に移動させるようになっている。   The operation element 170 is operated by a user or the like, for example, and outputs a designated value Q corresponding to the operation in a range from “0” to “+10”, for example. Specifically, when the operation element 170 is mounted on an electronic device, the operation element 170 is provided so as to be operable by an operation unit such as an operation panel or a remote controller. Note that the output value of the second start pulse Dyb is moved back and forth by the designated value Q, as will be described later.

表示データ処理回路156には、フレームメモリ157及びDAコンバーター158が附属している。表示データ処理回路156は、外部装置から供給される表示データVideoを、制御回路152による制御に従ってフレームメモリ157に記憶した後、液晶パネル100Aの駆動に同期して読み出すとともに、DAコンバーター158によってアナログのデータ信号Vid(駆動電圧)に変換する。なお、表示データVideoは、液晶パネル100Aにおける画素の階調を規定しており、垂直同期信号Vsの供給タイミングを契機として1フレーム分供給されるとともに、垂直同期信号Hsの供給タイミングを契機として1行分供給される。   A frame memory 157 and a DA converter 158 are attached to the display data processing circuit 156. The display data processing circuit 156 stores the display data Video supplied from the external device in the frame memory 157 according to the control by the control circuit 152, and then reads it in synchronization with the driving of the liquid crystal panel 100A. Data signal Vid (drive voltage) is converted. The display data Video defines the gradation of the pixels in the liquid crystal panel 100A, and is supplied for one frame triggered by the supply timing of the vertical synchronization signal Vs, and 1 by the supply timing of the vertical synchronization signal Hs. Lines are supplied.

ここで、本実施形態における垂直同期信号Vsは、周波数120Hz(周期8.33ミリ秒)とするが、これに限定されるものではない。また、ドットクロック信号Dclkについては、表示データVideoのうち、1画素分が供給される期間を規定するものとする。つまり、制御回路152は、表示データVideoの供給に同期して各部を制御している。   Here, the vertical synchronization signal Vs in the present embodiment has a frequency of 120 Hz (period of 8.33 milliseconds), but is not limited thereto. For the dot clock signal Dclk, a period during which one pixel of the display data Video is supplied is defined. That is, the control circuit 152 controls each unit in synchronization with the supply of the display data Video.

図2は、第1実施形態に係る液晶パネル100Aの概略構成を示す図である。図3は、画素の透過回路図である。
図2に示すように、液晶パネル100Aは、表示領域70の周辺に走査線駆動回路130及びデータ線駆動回路140を内蔵した構成となっている。表示領域70には、480行の走査線61が行(X)方向に延在するように設けられている。また、表示領域70には、640列のデータ線62が列(Y)方向に延在するように設けられている。各データ線62は、各走査線61と互いに電気的に絶縁を保つように配置されている。また、480行の走査線61と640列のデータ線62との交差に対応して、複数の画素70aが形成されている。具体的には、複数の画素70aが、縦480行×横640列のマトリクス状に配列されている。
FIG. 2 is a diagram illustrating a schematic configuration of the liquid crystal panel 100A according to the first embodiment. FIG. 3 is a transmissive circuit diagram of the pixel.
As shown in FIG. 2, the liquid crystal panel 100 </ b> A has a configuration in which a scanning line driving circuit 130 and a data line driving circuit 140 are built around the display area 70. In the display area 70, 480 scanning lines 61 are provided so as to extend in the row (X) direction. Further, 640 columns of data lines 62 are provided in the display area 70 so as to extend in the column (Y) direction. Each data line 62 is arranged so as to be electrically insulated from each scanning line 61. A plurality of pixels 70 a are formed corresponding to the intersections of the scanning lines 61 in 480 rows and the data lines 62 in 640 columns. Specifically, the plurality of pixels 70a are arranged in a matrix of 480 rows × 640 columns.

なお、本実施形態では、実際のところ、複数の画素70aが縦1080行×横1920列のマトリクス状に配列された、FHD(フルHD)の解像度となっているが、説明を容易にするために、解像度をVGA(Video Graphics Array)としている。また、解像度としてはこれに限らず、例えば、XGA(eXtended Graphics Array)や、SXGA(Super-XGA)などの解像度であってもよい。   Note that, in the present embodiment, the resolution is FHD (full HD), in which a plurality of pixels 70a are actually arranged in a matrix of vertical 1080 rows × horizontal 1920 columns, but for ease of explanation. The resolution is VGA (Video Graphics Array). The resolution is not limited to this, and may be a resolution such as XGA (eXtended Graphics Array) or SXGA (Super-XGA).

図3は、i行及びこれと1行下で隣接する(i+1)行と、j列及びこれと1列右で隣接する(j+1)列との交差に対応する2×2の計4画素分の構成を示している。なお、i、(i+1)は、画素が配列する行を示しており、ここでは、1以上480以下の整数となる。また、j、(j+1)は、画素が配列する列を示しており、ここでは、1以上640以下の整数となる。走査線61とデータ線62との各交差点付近に、各画素70aと1対1で対応するスイッチング素子40が設けられている。このスイッチング素子は、薄膜トランジスター(以下、TFTという)により構成されている。具体的には、複数の画素70aの各々は、nチャネル型のTFT40と液晶容量120とを含んで構成されている。   FIG. 3 shows a total of 4 pixels of 2 × 2 corresponding to the intersection of the i row and the (i + 1) row adjacent to it by 1 row and the j column and the (j + 1) column adjacent to the right by 1 column. The structure of is shown. Note that i and (i + 1) indicate rows in which pixels are arranged, and are integers of 1 to 480 in this example. J and (j + 1) indicate columns in which pixels are arranged, and are integers of 1 to 640 in this example. In the vicinity of each intersection of the scanning line 61 and the data line 62, a switching element 40 corresponding to each pixel 70a is provided. This switching element is constituted by a thin film transistor (hereinafter referred to as TFT). Specifically, each of the plurality of pixels 70 a includes an n-channel TFT 40 and a liquid crystal capacitor 120.

ここで、各画素70aについては互いに同一構成なので、i行j列に位置する画素で代表して説明する。当該i行j列の画素におけるTFT40のゲート電極41は、i行目の走査線61に接続されている。一方、TFT40のソース電極は、j列目のデータ線62に接続され、そのドレイン電極は、液晶容量120の一端である画素電極12に接続されている。また、液晶容量120の他端は、対向電極22に接続されている。この対向電極22は、全ての画素に亘って共通であって、時間的に一定の対向電極電位Vcomが印加されている。なお、詳細は後述するが、対向電極電位Vcomは、前述した第1の現象における直流電圧成分を補償するための補正電圧分だけ基準値からシフトされた値となっている。   Here, since the respective pixels 70a have the same configuration, the pixel 70a is representatively described. The gate electrode 41 of the TFT 40 in the pixel in the i row and j column is connected to the i-th scanning line 61. On the other hand, the source electrode of the TFT 40 is connected to the data line 62 in the j-th column, and the drain electrode thereof is connected to the pixel electrode 12 that is one end of the liquid crystal capacitor 120. The other end of the liquid crystal capacitor 120 is connected to the counter electrode 22. The counter electrode 22 is common to all the pixels, and a counter electrode potential Vcom that is constant in time is applied thereto. Although details will be described later, the counter electrode potential Vcom is a value shifted from the reference value by a correction voltage for compensating for the DC voltage component in the first phenomenon described above.

液晶パネル100Aは、素子基板10と対向基板20との一対の基板が一定の間隙を保って貼り合わされるとともに、この間隙に液晶が封止された構成となっている。このうち、素子基板10には、走査線61、データ線62、TFT40及び画素電極12が走査線駆動回路130やデータ線駆動回路140とともに形成されている。一方、対向基板20には、対向電極22が形成されている。そして、これらの電極形成面が互いに対向するように一定の間隙を保って貼り合わされている。このため、液晶容量120は、画素電極12と対向電極22とが液晶120aを挟持することによって構成されている。   The liquid crystal panel 100A has a configuration in which a pair of substrates of the element substrate 10 and the counter substrate 20 are bonded together with a certain gap therebetween, and liquid crystal is sealed in the gap. Among these, the scanning line 61, the data line 62, the TFT 40, and the pixel electrode 12 are formed on the element substrate 10 together with the scanning line driving circuit 130 and the data line driving circuit 140. On the other hand, a counter electrode 22 is formed on the counter substrate 20. Then, these electrode forming surfaces are bonded together with a certain gap so as to face each other. For this reason, the liquid crystal capacitor 120 is configured by the pixel electrode 12 and the counter electrode 22 sandwiching the liquid crystal 120a.

なお、本実施形態では、液晶容量120において保持される電圧実効値がゼロに近ければ、液晶容量120を通過する光の透過率が最小となって黒色表示になる。一方、液晶容量120において保持される電圧実効値が大きくなるにつれて透過する光量が増加して、ついには透過率が最大の白色表示になる。すなわち、液晶パネル100Aはノーマリーブラックモードに設定されているものとする。   In the present embodiment, if the effective voltage value held in the liquid crystal capacitor 120 is close to zero, the transmittance of light passing through the liquid crystal capacitor 120 is minimized and a black display is obtained. On the other hand, the amount of transmitted light increases as the effective voltage value held in the liquid crystal capacitor 120 increases, and finally the white display with the maximum transmittance is obtained. That is, it is assumed that the liquid crystal panel 100A is set to a normally black mode.

この構成において、走査線61に選択電圧を印加し、TFT40をオン(導通)させるとともに、画素電極12に、データ線62及びオン状態のTFT40を介して、階調(明るさ)に応じた電圧のデータ信号Vidを供給すると、選択電圧を印加した走査線61とデータ信号Vidを供給したデータ線62との交差に対応する液晶容量120に、階調に応じた電圧実効値を保持させることができる。   In this configuration, a selection voltage is applied to the scanning line 61 to turn on (conduct) the TFT 40, and the voltage corresponding to the gradation (brightness) is applied to the pixel electrode 12 via the data line 62 and the on-state TFT 40. When the data signal Vid is supplied, the liquid crystal capacitor 120 corresponding to the intersection of the scanning line 61 to which the selection voltage is applied and the data line 62 to which the data signal Vid is supplied holds the effective voltage value corresponding to the gradation. it can.

なお、走査線61が非選択電圧になると、TFT40がオフ(非導通)となるが、このときのオフ抵抗が理想的に無限大とはならないので、液晶容量120に蓄積された電荷が少なからずリークする。このオフリークの影響を少なくするために、蓄積容量50が画素毎に形成されている。この蓄積容量50の一端は、画素電極12(TFT40のドレイン)に接続されている。一方、蓄積容量50の他端は、全画素に亘って容量線64に共通接続されている。この容量線64は、時間的に一定の電位、例えば対向電極22と同じ対向電極電位に保たれている。   Note that when the scanning line 61 becomes a non-selection voltage, the TFT 40 is turned off (non-conducting). However, since the off-resistance at this time is not ideally infinite, the charge accumulated in the liquid crystal capacitor 120 is not small. To leak. In order to reduce the influence of off-leakage, a storage capacitor 50 is formed for each pixel. One end of the storage capacitor 50 is connected to the pixel electrode 12 (the drain of the TFT 40). On the other hand, the other end of the storage capacitor 50 is commonly connected to the capacitor line 64 over all pixels. The capacitor line 64 is maintained at a constant potential, for example, the same counter electrode potential as that of the counter electrode 22.

走査線駆動回路130は、走査信号G1、G2、G3、…、G480を、それぞれ1、2、3、…、480行目の走査線61に供給するものである。走査線駆動回路130は、選択した走査線61への走査信号を電圧に相当するHレベルとし、それ以外の走査線61への走査信号を非選択電圧(接地電位)に相当するLレベルとする。   The scanning line driving circuit 130 supplies scanning signals G1, G2, G3,..., G480 to the scanning lines 61 in the 1, 2, 3,. The scanning line driving circuit 130 sets the scanning signal to the selected scanning line 61 to the H level corresponding to the voltage, and sets the other scanning signals to the scanning line 61 to the L level corresponding to the non-selection voltage (ground potential). .

データ線駆動回路140は、サンプリング信号出力回路142と、各データ線62にそれぞれ対応して設けられたnチャネル型のTFT40とによって構成される。データ線駆動回路140は、選択された走査線61における各画素70aに当該画素の階調を規定するデータ信号Vid(駆動電圧)を供給する。   The data line driving circuit 140 includes a sampling signal output circuit 142 and n-channel TFTs 40 provided corresponding to the data lines 62, respectively. The data line driving circuit 140 supplies a data signal Vid (driving voltage) that defines the gradation of the pixel to each pixel 70a in the selected scanning line 61.

図4は、第1実施形態に係る素子基板10をその上に形成された各構成要素とともに対向基板20の側から視た液晶パネル100Aの平面図である。図5は、第1実施形態に係る液晶パネル100Aの概略構成を示す断面図である。なお、図4においては、便宜上、走査線駆動回路130やデータ線駆動回路140等の各種駆動回路の図示を省略している。また、図5においては、便宜上、液晶層やシール材71の図示を省略している。また、図5において、符号Ta1は第1配向下地膜(第1誘電体膜)38Aの膜厚、符号Ta2は第2配向下地膜(第2誘電体膜)38Bの膜厚である。   FIG. 4 is a plan view of the liquid crystal panel 100A when the element substrate 10 according to the first embodiment is viewed from the counter substrate 20 side together with the components formed thereon. FIG. 5 is a cross-sectional view illustrating a schematic configuration of the liquid crystal panel 100A according to the first embodiment. In FIG. 4, illustration of various drive circuits such as the scanning line drive circuit 130 and the data line drive circuit 140 is omitted for convenience. In FIG. 5, the liquid crystal layer and the sealing material 71 are not shown for convenience. In FIG. 5, reference numeral Ta1 is the film thickness of the first alignment base film (first dielectric film) 38A, and reference numeral Ta2 is the film thickness of the second alignment base film (second dielectric film) 38B.

図4に示すように、素子基板10の中央には表示領域70が形成されている。この表示領域70の周縁部には、枠状の遮光領域74が設けられており、この遮光領域74を囲むようにシール材71が配設されている。かかるシール材71により素子基板10と対向基板20とを貼り合わせ、両基板とシール材71とに囲まれる領域内に液晶層(不図示)が封入される。そして、シール材71に設けられた液晶注入口は、封止部72により封止される。   As shown in FIG. 4, a display region 70 is formed in the center of the element substrate 10. A frame-shaped light shielding region 74 is provided at the peripheral edge of the display region 70, and a sealing material 71 is disposed so as to surround the light shielding region 74. The element substrate 10 and the counter substrate 20 are bonded together by the sealing material 71, and a liquid crystal layer (not shown) is sealed in a region surrounded by both the substrates and the sealing material 71. Then, the liquid crystal inlet provided in the sealing material 71 is sealed by the sealing portion 72.

シール材71の外側には、図示はしないが走査線61に走査信号を供給する走査線駆動回路130と、データ線62に画像信号を供給するデータ線駆動回路140とが実装されている。素子基板10の端部には外部回路に接続する複数の接続端子75が設けられている。図示はしないが、かかる接続端子75には駆動回路から延びる配線が形成されている。シール材71の四隅には素子基板10と対向基板20とを電気的に接続する基板間導通部73が設けられている。この基板間導通部73も配線を介して接続端子75と電気的に接続されている。   A scanning line driving circuit 130 that supplies a scanning signal to the scanning line 61 and a data line driving circuit 140 that supplies an image signal to the data line 62 are mounted outside the sealing material 71, although not shown. A plurality of connection terminals 75 connected to an external circuit are provided at the end of the element substrate 10. Although not shown, the connection terminal 75 is formed with a wiring extending from the drive circuit. Inter-substrate conducting portions 73 that electrically connect the element substrate 10 and the counter substrate 20 are provided at the four corners of the sealing material 71. The inter-substrate conduction part 73 is also electrically connected to the connection terminal 75 through wiring.

図5に示すように、液晶パネル100Aは、素子基板10と、これに対向配置された対向基板20と、これらの間に挟持された液晶層とを備えて構成されている。素子基板10は、ガラスや石英等の透光性材料からなる基板本体11、及びその内側(液晶層側)に形成されたTFT40や画素電極12、さらにこれを覆う第1配向下地膜38A及び第1配向膜13などを備えている。一方の対向基板20は、ガラスや石英等の透光性材料からなる基板本体21、及びその内側(液晶層側)に形成された遮光膜24、この遮光膜24を覆う対向電極22、さらにこの対向電極22を覆う第2配向下地膜38B及び第2配向膜23などを備えている。   As shown in FIG. 5, the liquid crystal panel 100 </ b> A includes an element substrate 10, a counter substrate 20 disposed so as to face the element substrate 10, and a liquid crystal layer sandwiched therebetween. The element substrate 10 includes a substrate body 11 made of a translucent material such as glass and quartz, the TFT 40 and the pixel electrode 12 formed on the inner side (liquid crystal layer side), a first alignment base film 38A and a first alignment film 38A covering the TFT 40 and the pixel electrode 12. One alignment film 13 and the like are provided. One counter substrate 20 includes a substrate body 21 made of a translucent material such as glass or quartz, a light shielding film 24 formed on the inner side (liquid crystal layer side), a counter electrode 22 covering the light shielding film 24, and A second alignment base film 38B and a second alignment film 23 covering the counter electrode 22 are provided.

素子基板10の側には、画素電極12が設けられており、その上側には、第1配向膜13が設けられている。画素電極12は、例えばアルミニウム(Al)等の導電性膜からなる。   A pixel electrode 12 is provided on the element substrate 10 side, and a first alignment film 13 is provided above the pixel electrode 12. The pixel electrode 12 is made of a conductive film such as aluminum (Al).

他方、対向基板20の側には、その全面に渡って対向電極22が設けられており、その上側には、第2配向膜23が設けられている。この対向電極22は、例えばITO膜等の透明導電性膜からなっている。対向電極22の厚さは、例えば120nm以上160nm以下になっている。また、第2配向膜23の膜厚は、例えば40nm以上80nm以下となっている。   On the other hand, a counter electrode 22 is provided on the entire surface of the counter substrate 20, and a second alignment film 23 is provided on the upper side thereof. The counter electrode 22 is made of a transparent conductive film such as an ITO film. The thickness of the counter electrode 22 is 120 nm or more and 160 nm or less, for example. The film thickness of the second alignment film 23 is, for example, not less than 40 nm and not more than 80 nm.

このように対向配置された素子基板10及び対向基板20間には、前述のシール材71により囲まれた空間に液晶が封入され、液晶層が形成される。液晶層は、画素電極12からの電界が印加されていない状態で配向膜により所定の配向状態をとる。なお、液晶層の液晶は、ツイストネマチックの液晶や、垂直配向用の液晶でも良い。   Between the element substrate 10 and the counter substrate 20 arranged so as to face each other, liquid crystal is sealed in a space surrounded by the sealing material 71 described above to form a liquid crystal layer. The liquid crystal layer assumes a predetermined alignment state by the alignment film in a state where an electric field from the pixel electrode 12 is not applied. Note that the liquid crystal in the liquid crystal layer may be twisted nematic liquid crystal or liquid crystal for vertical alignment.

一方、素子基板10上には、前記の画素電極12及び第1配向膜13の他、これらを含む各種の構成が積層構造をなして備えられている。この積層構造は、下から順に、走査線61を含む第1層、ゲート電極41を含むTFT40等を含む第2層、蓄積容量50を含む第3層、データ線62等を含む第4層、容量線64等を含む第5層、前記の画素電極12及び配向膜等を含む第6層(最上層)からなる。   On the other hand, on the element substrate 10, in addition to the pixel electrode 12 and the first alignment film 13, various configurations including these are provided in a laminated structure. This stacked structure includes, in order from the bottom, a first layer including the scanning line 61, a second layer including the TFT 40 including the gate electrode 41, a third layer including the storage capacitor 50, a fourth layer including the data line 62, and the like. It comprises a fifth layer including the capacitor line 64 and the like, and a sixth layer (uppermost layer) including the pixel electrode 12 and the alignment film.

また、第1層及び第2層間には下地絶縁膜30が、第2層及び第3層間には第1層間絶縁膜31が、第3層及び第4層間には第2層間絶縁膜32が、第4層及び第5層間には第3層間絶縁膜33が、第5層及び第6層間には第4層間絶縁膜34及び第5層間絶縁膜35が、それぞれ設けられており、前述の各要素間が短絡することを防止している。また、これら各種の絶縁膜には、例えば、TFT40の半導体層44中の高濃度ソース領域とデータ線62とを電気的に接続するコンタクトホール等も設けられている。以下では、これらの各要素について、下から順に説明を行う。   Also, a base insulating film 30 is provided between the first layer and the second layer, a first interlayer insulating film 31 is provided between the second layer and the third layer, and a second interlayer insulating film 32 is provided between the third layer and the fourth layer. A third interlayer insulating film 33 is provided between the fourth layer and the fifth interlayer, and a fourth interlayer insulating film 34 and a fifth interlayer insulating film 35 are provided between the fifth layer and the sixth layer, respectively. The short circuit between each element is prevented. These various insulating films are also provided with, for example, contact holes for electrically connecting the high concentration source region in the semiconductor layer 44 of the TFT 40 and the data lines 62. Hereinafter, each of these elements will be described in order from the bottom.

第1層には、例えばタングステンシリサイド(WSi)からなる走査線61が設けられている。この走査線61の膜厚(Z方向の厚さ)は、例えば180nm以上220nm以下になっている。また、この走査線61は遮光性を有しており、画素電極12が形成されない領域を略埋めるように形成されている。このため、走査線61はTFT40に下側から入射しようとする光を遮る機能を有している。   In the first layer, a scanning line 61 made of, for example, tungsten silicide (WSi) is provided. The film thickness (thickness in the Z direction) of the scanning line 61 is, for example, not less than 180 nm and not more than 220 nm. Further, the scanning line 61 has a light shielding property, and is formed so as to substantially fill a region where the pixel electrode 12 is not formed. For this reason, the scanning line 61 has a function of blocking light that enters the TFT 40 from below.

第2層には、ゲート電極41を含むTFT40が設けられている。TFT40 は、LDD(Lightly Doped Drain)構造を有している。その構成要素としては、上述したゲート電極41、例えば導電性のポリシリコン膜からなりゲート電極41からの電界によりチャネルが形成される半導体層44のチャネル領域、ゲート電極41と半導体層44とを絶縁する熱酸化したゲート絶縁膜43を含むゲート絶縁膜42、半導体層44における低濃度ソース領域及び低濃度ドレイン領域並びに高濃度ソース領域及び高濃度ドレイン領域を備えている。なお、ゲート電極41の膜厚は、例えば15nm以上105nm以下となっている。また、半導体層44の膜厚は、例えば40nm程度となっている。また、熱酸化したゲート絶縁膜43の膜厚は、例えば28nm以上35nm以下となっている。また、ゲート絶縁膜42の膜厚は、例えば43nm以上56nm以下となっている。   In the second layer, the TFT 40 including the gate electrode 41 is provided. The TFT 40 has an LDD (Lightly Doped Drain) structure. As its constituent elements, the gate electrode 41 described above, for example, a channel region of the semiconductor layer 44 formed of a conductive polysilicon film and having a channel formed by an electric field from the gate electrode 41, the gate electrode 41 and the semiconductor layer 44 are insulated. A gate insulating film 42 including a thermally oxidized gate insulating film 43, a low concentration source region and a low concentration drain region, and a high concentration source region and a high concentration drain region in the semiconductor layer 44 are provided. The film thickness of the gate electrode 41 is, for example, 15 nm or more and 105 nm or less. The film thickness of the semiconductor layer 44 is about 40 nm, for example. The thickness of the thermally oxidized gate insulating film 43 is, for example, not less than 28 nm and not more than 35 nm. The film thickness of the gate insulating film 42 is, for example, 43 nm or more and 56 nm or less.

走査線61の上、かつ、TFT40の下には、例えばテトラエトキシシラン(TEOS)からなる下地絶縁膜30が設けられている。この下地絶縁膜30の膜厚は、例えば380nm以上420nm以下になっている。下地絶縁膜30は、走査線61からTFT40を層間絶縁する機能を有する。また、この下地絶縁膜30は、素子基板10の全面に形成されている。   A base insulating film 30 made of, for example, tetraethoxysilane (TEOS) is provided on the scanning line 61 and below the TFT 40. The thickness of the base insulating film 30 is, for example, not less than 380 nm and not more than 420 nm. The base insulating film 30 has a function of insulating the TFT 40 from the scanning line 61 between layers. The base insulating film 30 is formed on the entire surface of the element substrate 10.

第3層には、蓄積容量50が設けられている。蓄積容量50は、TFT40の高濃度ドレイン領域及び画素電極12に接続された画素電位側容量電極としての下部容量電極51と、固定電位側容量電極としての上部容量電極53とが、容量絶縁膜52を介して対向配置されることにより形成されている。この蓄積容量50によれば、画素電極12における電位保持特性を顕著に高めることが可能となる。   In the third layer, a storage capacitor 50 is provided. The storage capacitor 50 includes a lower capacitance electrode 51 as a pixel potential side capacitance electrode connected to the high concentration drain region of the TFT 40 and the pixel electrode 12 and an upper capacitance electrode 53 as a fixed potential side capacitance electrode. It is formed by arrange | positioning through. According to the storage capacitor 50, the potential holding characteristic of the pixel electrode 12 can be remarkably improved.

下部容量電極51は、例えば導電性のポリシリコン膜からなり画素電位側容量電極として機能する。この下部容量電極51の膜厚は、例えば95nm以上105nm以下になっている。また、この下部容量電極51は、画素電位側容量電極としての機能のほか、画素電極12とTFT40の高濃度ドレイン領域とを中継接続する機能をもつ。   The lower capacitor electrode 51 is made of, for example, a conductive polysilicon film and functions as a pixel potential side capacitor electrode. The film thickness of the lower capacitor electrode 51 is, for example, not less than 95 nm and not more than 105 nm. In addition to the function as a pixel potential side capacitor electrode, the lower capacitor electrode 51 has a function of relay-connecting the pixel electrode 12 and the high concentration drain region of the TFT 40.

上部容量電極53は、例えばチタンナイトライド(TiN)からなる層(例えば膜厚47nm以上53nm以下)、アルミニウム(Al)からなる層(例えば膜厚142nm以上158nm以下)及びチタンナイトライド(TiN)からなる層(例えば膜厚97nm以上103nm以下)の三層構造からなる。この上部容量電極53は、蓄積容量50の固定電位側容量電極として機能する。そして、上部容量電極53は下部容量電極51と同形状となり、下部容量電極51と同様に島状の電極を構成している。上部容量電極53を固定電位とするために、固定電位とされた容量線64と電気的接続が図られている。また、上部容量電極53は、TFT40に上側から入射しようとする光を遮る機能を有している。   The upper capacitor electrode 53 is made of, for example, a layer made of titanium nitride (TiN) (for example, a film thickness of 47 nm or more and 53 nm or less), a layer made of aluminum (Al) (for example, a film thickness of 142 nm or more and 158 nm or less), and titanium nitride (TiN). It has a three-layer structure of layers (for example, a film thickness of 97 nm or more and 103 nm or less). The upper capacitor electrode 53 functions as a fixed potential side capacitor electrode of the storage capacitor 50. The upper capacitor electrode 53 has the same shape as the lower capacitor electrode 51, and constitutes an island-like electrode like the lower capacitor electrode 51. In order to set the upper capacitor electrode 53 to a fixed potential, electrical connection is made to the capacitor line 64 having a fixed potential. Further, the upper capacitor electrode 53 has a function of blocking light that is about to enter the TFT 40 from above.

容量絶縁膜52は、例えばHTO( High Temprature Oxide)膜からなる。この容量絶縁膜52の膜厚は、例えば3nm以上5nm以下となっている。なお、容量絶縁膜52は、蓄積容量50を増大させる観点から、膜の信頼性が十分に得られる限りにおいて薄いほどよい。また、容量絶縁膜52は、二層構造や三層構造、あるいはそれ以上の積層構造を有するように構成してもよい。   The capacitive insulating film 52 is made of, for example, an HTO (High Temperature Oxide) film. The thickness of the capacitive insulating film 52 is, for example, 3 nm or more and 5 nm or less. Note that the capacitor insulating film 52 is preferably as thin as possible from the viewpoint of increasing the storage capacitor 50 as long as the reliability of the film is sufficiently obtained. Further, the capacitor insulating film 52 may be configured to have a two-layer structure, a three-layer structure, or a stacked structure having more layers.

TFT40ないしゲート電極41及び中継電極の上、かつ、蓄積容量50の下には、例えばテトラエトキシシラン(TEOS)からなる第1層間絶縁膜31が形成されている。この第1層間絶縁膜31の膜厚は、例えば280nm以上320nm以下になっている。   A first interlayer insulating film 31 made of, for example, tetraethoxysilane (TEOS) is formed on the TFT 40 to the gate electrode 41 and the relay electrode and below the storage capacitor 50. The film thickness of the first interlayer insulating film 31 is, for example, not less than 280 nm and not more than 320 nm.

この第1層間絶縁膜31には、TFT40の高濃度ソース領域と後述するデータ線62とを電気的に接続するコンタクトホール31aが、後記第2層間絶縁膜32を貫通して開孔されている。また、第1層間絶縁膜31には、TFT40の高濃度ドレイン領域と蓄積容量50を構成する下部容量電極51とを電気的に接続するコンタクトホール31bが開孔されている。   In the first interlayer insulating film 31, a contact hole 31 a that electrically connects a high-concentration source region of the TFT 40 and a data line 62 to be described later is opened through the second interlayer insulating film 32 described later. . The first interlayer insulating film 31 is provided with a contact hole 31b that electrically connects the high-concentration drain region of the TFT 40 and the lower capacitor electrode 51 constituting the storage capacitor 50.

第4層には、データ線62が設けられている。このデータ線62は、例えば下層より順に、チタン(Ti)からなる層(例えば膜厚19nm以上21nm以下)、チタンナイトライド(TiN)からなる層(例えば膜厚47nm以上53nm以下) 、アルミニウム(Al)からなる層(例えば膜厚332nm以上368以下)及びチタンナイトライド(TiN)からなる層(例えば膜厚142nm以上158nm以下)の四層構造を有する膜として形成されている。   A data line 62 is provided in the fourth layer. The data line 62 includes, for example, a layer made of titanium (Ti) (for example, a film thickness of 19 nm to 21 nm), a layer of titanium nitride (TiN) (for example, a film thickness of 47 nm to 53 nm), aluminum (Al ) (For example, a film thickness of 332 nm or more and 368 nm or less) and a layer of titanium nitride (TiN) (for example, a film thickness of 142 nm or more and 158 nm or less).

また、この第4層には、データ線62と同一膜として、容量線用中継層(図示略)、第1中継電極63及び二連コンタクト部66が形成されている。これらは、平面的に見ると、データ線62と連続した平面形状を有するように形成されているのではなく、各者間はパターニング上分断されるように形成されている。これら容量線用中継層、第1中継電極63及び二連コンタクト部66は、データ線62と同一膜として形成されていることから、下層より順に、Tiからなる層、TiNからなる層、Alからなる層及びTiNからなる層の四層構造を有している。二連コンタクト部66は、表示領域70の外側に設けられており、図示略の配線で引き回された後、素子基板10の表層に引き出されて走査線駆動回路130に接続されている。   In the fourth layer, a capacitor line relay layer (not shown), the first relay electrode 63 and the double contact portion 66 are formed as the same film as the data line 62. These are not formed so as to have a planar shape continuous with the data line 62 when viewed in plan, but are formed so as to be divided by patterning. Since the capacitor line relay layer, the first relay electrode 63, and the double contact portion 66 are formed as the same film as the data line 62, the Ti layer, the TiN layer, and the Al layer are formed in order from the lower layer. And a four-layer structure of TiN. The double contact portion 66 is provided outside the display region 70, and after being routed by a wiring (not shown), is drawn to the surface layer of the element substrate 10 and connected to the scanning line driving circuit 130.

蓄積容量50の上、かつ、データ線62の下には、例えばNSG、PSG,BSG、BPSG等のシリケートガラス膜、窒化シリコン膜や酸化シリコン膜等、あるいは好ましくはTEOS ガスを用いたプラズマCVD法によって形成された膜(以下、P-TEOSという)からなる第2層間絶縁膜32が形成されている。この第2層間絶縁膜32の膜厚は、例えば380nm以上420nm以下となっている。この第2層間絶縁膜32には、TFT40の高濃度ソース領域とデータ線62とを電気的に接続する、前記のコンタクトホール31aが開孔されているとともに、前記容量線用中継層と蓄積容量50の上部容量電極53とを電気的に接続するコンタクトホール(図示略)が開孔されている。   A plasma CVD method using a silicate glass film such as NSG, PSG, BSG, or BPSG, a silicon nitride film, a silicon oxide film, or the like, or preferably TEOS gas, is provided above the storage capacitor 50 and the data line 62. A second interlayer insulating film 32 made of a film formed by (hereinafter referred to as P-TEOS) is formed. The film thickness of the second interlayer insulating film 32 is not less than 380 nm and not more than 420 nm, for example. The second interlayer insulating film 32 is provided with the contact hole 31a for electrically connecting the high-concentration source region of the TFT 40 and the data line 62, and the capacitor line relay layer and the storage capacitor. A contact hole (not shown) for electrically connecting 50 upper capacitor electrodes 53 is opened.

第5層には、容量線64が形成されている。この容量線64は、例えば下層より順に、アルミニウム(Al)からなる層(例えば膜厚315nm以上385nm以下)及びチタンナイトライド(TiN)からなる層(例えば膜厚135nm以上165nm以下)の二層構造を有する膜として形成されている。この容量線64は第3層間絶縁膜33上に形成されている。第3層間絶縁膜33の表面は、CMP( Chemical Mechanical Polishing)処理等の平坦化処理が施されることによって平坦化されている。   A capacitor line 64 is formed in the fifth layer. The capacitor line 64 has, for example, a two-layer structure of a layer made of aluminum (Al) (for example, a film thickness of 315 nm to 385 nm) and a layer (for example, a film thickness of 135 nm to 165 nm) made of titanium nitride (TiN) in order from the lower layer. It is formed as a film having The capacitor line 64 is formed on the third interlayer insulating film 33. The surface of the third interlayer insulating film 33 is flattened by performing a flattening process such as a CMP (Chemical Mechanical Polishing) process.

また、第5層には、このような容量線64と同一膜として、第2中継電極65が形成されている。この第2中継電極65は、後述のコンタクトホール33aを介して、第1中継電極63及び画素電極12間の電気的接続を中継する機能を有する。なお、これら容量線64及び第2中継電極65間は、平面形状的に連続して形成されているのではなく、両者間はパターニング上分断されるように形成されている。第2中継電極65は、容量線64と同様に、下層にAlからなる層、上層にTiNからなる層の二層構造を有している。このように容量線64及び第2中継電極65は、光反射性能に比較的優れたアルミニウムを含み、且つ、光吸収性能に比較的優れたチタンナイトライドを含むことから、遮光層として機能し得る。すなわち、TFT40の半導体層44に対する入射光の進行を、その上側で遮ることが可能である。   In the fifth layer, a second relay electrode 65 is formed as the same film as the capacitor line 64. The second relay electrode 65 has a function of relaying electrical connection between the first relay electrode 63 and the pixel electrode 12 through a contact hole 33a described later. Note that the space between the capacitor line 64 and the second relay electrode 65 is not continuously formed in a planar shape, but is formed so as to be divided for patterning. Similar to the capacitor line 64, the second relay electrode 65 has a two-layer structure in which a lower layer is made of Al and an upper layer is made of TiN. As described above, the capacitor line 64 and the second relay electrode 65 include aluminum that is relatively excellent in light reflection performance and include titanium nitride that is relatively excellent in light absorption performance, and thus can function as a light shielding layer. . That is, it is possible to block the progress of incident light on the semiconductor layer 44 of the TFT 40 on its upper side.

データ線62の上、かつ、容量線64等の下には、例えばP-TEOSからなる第3層間絶縁膜33が形成されている。この第3層間絶縁膜33の膜厚は、例えば570nm以上630nm以下となっている。この第3層間絶縁膜33には、前記の容量線64と容量線用中継層とを電気的に接続するためのコンタクトホール(図示略)、及び、第2中継電極65と第1中継電極63とを電気的に接続するためのコンタクトホール33aがそれぞれ開孔されている。   A third interlayer insulating film 33 made of, for example, P-TEOS is formed on the data line 62 and below the capacitor line 64 and the like. The film thickness of the third interlayer insulating film 33 is not less than 570 nm and not more than 630 nm, for example. In the third interlayer insulating film 33, a contact hole (not shown) for electrically connecting the capacitor line 64 and the capacitor line relay layer, and the second relay electrode 65 and the first relay electrode 63 are provided. Contact holes 33a for electrically connecting the two are opened.

最後に、第6層には、上述したように画素電極12がマトリクス状に形成されている。この画素電極12は、例えばアルミニウム(Al)からなり、その膜厚は例えば180nm以上220nm以下になっている。   Finally, on the sixth layer, the pixel electrodes 12 are formed in a matrix as described above. The pixel electrode 12 is made of, for example, aluminum (Al), and has a film thickness of, for example, 180 nm or more and 220 nm or less.

また、上述の画素電極12と同一膜として、周辺領域には、例えばP-TEOSからなる平坦化膜36が形成されている。この平坦化膜36の膜厚は、例えば180nm以上220nm以下となっている。   Further, as the same film as the pixel electrode 12 described above, a planarizing film 36 made of, for example, P-TEOS is formed in the peripheral region. The thickness of the planarizing film 36 is, for example, not less than 180 nm and not more than 220 nm.

また、画素電極12及び平坦化膜36の上には、第1配向下地膜38A(第1誘電体膜)が形成されている。この第1配向下地膜38Aは、液晶層よりも膜厚が薄く、かつ、液晶層よりも高比抵抗の、酸化シリコン(SiO)からなる誘電体膜である。この第1配向下地膜38Aの膜厚Ta1は、例えば240nm以上360nm以下(本実施形態では300nm)となっている。また、第1配向下地膜38Aの上には、第1配向膜13が形成されている。この第1配向膜13の膜厚は、例えば40nm以上80nm以下となっている。 A first alignment base film 38A (first dielectric film) is formed on the pixel electrode 12 and the planarization film 36. The first alignment base film 38A is a dielectric film made of silicon oxide (SiO 2 ) having a smaller thickness than the liquid crystal layer and a higher specific resistance than the liquid crystal layer. The film thickness Ta1 of the first alignment base film 38A is, for example, not less than 240 nm and not more than 360 nm (300 nm in this embodiment). The first alignment film 13 is formed on the first alignment base film 38A. The film thickness of the first alignment film 13 is, for example, 40 nm or more and 80 nm or less.

また、素子部以外の周辺領域(例えば実装端子部及び上下導通端子部)における第1配向下地膜38Aの上には、例えばITO膜からなる電極パッド39が形成されている。この電極パッド39の膜厚は、例えば135nm以上165nm以下となっている。電極パッド39の一部は、第4層間絶縁膜34、第5層間絶縁膜35、平坦化膜36及び第1配向下地膜38Aに貫設されたコンタクトホール34b内に埋設されて容量線64と電気的に接続されている。   An electrode pad 39 made of, for example, an ITO film is formed on the first alignment base film 38A in the peripheral region other than the element portion (for example, the mounting terminal portion and the vertical conduction terminal portion). The film thickness of the electrode pad 39 is, for example, not less than 135 nm and not more than 165 nm. A part of the electrode pad 39 is buried in the contact hole 34b penetrating the fourth interlayer insulating film 34, the fifth interlayer insulating film 35, the planarizing film 36, and the first alignment base film 38A, and the capacitor line 64 and Electrically connected.

そして、画素電極12及び平坦化膜36の下には、例えば下層より順に、P-TEOSからなる第4層間絶縁膜34(例えば膜厚350nm以上850nm)及びBSGやNSG等のシリケートガラスからなる第5層間絶縁膜35(例えば膜厚55nm以上95nm以下)が形成されている。これら第4層間絶縁膜34及び第5層間絶縁膜35には、画素電極12及び前記の第2中継電極65間を電気的に接続するためのコンタクトホール34aが開孔されている。   Under the pixel electrode 12 and the planarizing film 36, for example, in order from the lower layer, a fourth interlayer insulating film 34 (for example, a film thickness of 350 nm or more and 850 nm) made of P-TEOS and a first glass made of silicate glass such as BSG or NSG. A five-layer insulating film 35 (for example, a film thickness of 55 nm or more and 95 nm or less) is formed. In the fourth interlayer insulating film 34 and the fifth interlayer insulating film 35, a contact hole 34a for electrically connecting the pixel electrode 12 and the second relay electrode 65 is opened.

画素電極12とTFT40との間は、このコンタクトホール34a及び第2中継電極65並びに前述したコンタクトホール33a、第1中継電極63、コンタクトホール32a、下部容量電極51及びコンタクトホール31bを介して、電気的に接続されることとなる。なお、第5層間絶縁膜35の表面は、前述のようにCMP処理等の平坦化処理が施されることによって平坦化されている。これにより、その下方に存在する各種配線や素子等による段差に起因する液晶層の配向不良を低減する。   Between the pixel electrode 12 and the TFT 40, the contact hole 34a, the second relay electrode 65, the contact hole 33a, the first relay electrode 63, the contact hole 32a, the lower capacitor electrode 51, and the contact hole 31b are electrically connected. Will be connected. Note that the surface of the fifth interlayer insulating film 35 is planarized by performing a planarization process such as a CMP process as described above. As a result, alignment defects of the liquid crystal layer due to steps due to various wirings, elements, etc. existing therebelow are reduced.

他方、対向基板20の側においては、対向電極22と第2配向膜23との間に、第2配向下地膜38B(第2誘電体膜)が形成されている。この第2配向下地膜38Bは、前記第1配向下地膜38Aよりも膜厚が薄く、かつ、液晶層よりも高比抵抗の、酸化シリコン(SiO)からなる誘電体膜である。この第2配向下地膜38Bの膜厚Ta2は、例えば60nm以上90nm以下(本実施形態では75nm)となっている(Ta2<Ta1)。 On the other hand, on the counter substrate 20 side, a second alignment base film 38 </ b> B (second dielectric film) is formed between the counter electrode 22 and the second alignment film 23. The second alignment base film 38B is a dielectric film made of silicon oxide (SiO 2 ) having a smaller thickness than the first alignment base film 38A and a higher specific resistance than the liquid crystal layer. The film thickness Ta2 of the second alignment base film 38B is, for example, not less than 60 nm and not more than 90 nm (75 nm in this embodiment) (Ta2 <Ta1).

ところで、従来の液晶装置では、フリッカーや、表示画像の焼き付き等の表示不具合を抑制するために、例えば、各画素電極に印加される駆動電圧の極性を、走査線やデータ線ごと、または、画像信号におけるフレームごとに反転させる反転駆動(交流駆動)が採用されていた。   By the way, in the conventional liquid crystal device, in order to suppress display defects such as flicker and burn-in of a display image, for example, the polarity of the driving voltage applied to each pixel electrode is set for each scanning line or data line, or for an image. Inversion driving (AC driving) for inverting each frame in the signal has been adopted.

これは、反転駆動によって液晶層へ直流電圧成分が印加されることや、基板間における電荷の偏りを抑制し、フリッカー等の解消しようとするものである。しかしながら、単純に反転駆動を行ったとしても、液晶層への直流電圧成分の印加や、電荷の偏りが発生しており、依然として表示不具合が発生していた。この表示不具合の発生源としては、下記の2つの現象が知られていた。   This is intended to eliminate flicker and the like by applying a DC voltage component to the liquid crystal layer by inversion driving and suppressing the bias of charge between the substrates. However, even if inversion driving is simply performed, application of a DC voltage component to the liquid crystal layer and bias of electric charges have occurred, and display defects still occurred. The following two phenomena have been known as the source of this display defect.

第1の現象は、前述したとおり、フィールドスルー現象(プッシュダウン、突き抜けとも呼ばれる)による電圧降下である。これは、電圧低下分に相当する直流電圧を補償することにより補正できる。
これに対して第2の現象は、素子基板と対向基板の電気的な特性差により生じる電荷の偏りである。これを補償するためには、電荷の偏りを打ち消すだけの余分な電流電圧の印加が必要となる。
As described above, the first phenomenon is a voltage drop due to a field-through phenomenon (also called push-down or penetration). This can be corrected by compensating for the DC voltage corresponding to the voltage drop.
On the other hand, the second phenomenon is a bias of electric charges caused by a difference in electrical characteristics between the element substrate and the counter substrate. In order to compensate for this, it is necessary to apply an extra current voltage that cancels out the charge bias.

ここで、図6を用いて、第1の現象及び第2の現象について説明する。図6(a)は、ゲート電圧及び駆動電圧波形を示すチャートである。図6(b)は、液晶層の実効電圧波形を示すチャートである。図6(c)は、図6(b)からある程度の駆動時間経過後の液晶層の実効電圧波形を示すチャートである。なお、図6(a)〜図6(c)において、横軸は時間経過を示し、縦軸は電位を示している。   Here, the first phenomenon and the second phenomenon will be described with reference to FIG. FIG. 6A is a chart showing the gate voltage and drive voltage waveforms. FIG. 6B is a chart showing the effective voltage waveform of the liquid crystal layer. FIG. 6C is a chart showing the effective voltage waveform of the liquid crystal layer after a certain amount of driving time has elapsed from FIG. In FIGS. 6A to 6C, the horizontal axis indicates the passage of time and the vertical axis indicates the potential.

図6(a)に示すように、駆動電圧波形VDの電位は、ゲート電圧VGの立ち上がりと同期して、高電位EH(例えば12V)と低電位EL(例えば2V)とが交互に切り替わるようになっている。   As shown in FIG. 6A, the potential of the drive voltage waveform VD is switched alternately between a high potential EH (for example, 12V) and a low potential EL (for example, 2V) in synchronization with the rise of the gate voltage VG. It has become.

図6(b)に示すように、ゲート電圧VGが立ち上がるとスイッチング素子がオンになり、画素電極12が充電される。液晶層の実効電圧波形VL1の電位は、概ね低電位ELから高電位EHまで上昇する。   As shown in FIG. 6B, when the gate voltage VG rises, the switching element is turned on and the pixel electrode 12 is charged. The potential of the effective voltage waveform VL1 of the liquid crystal layer generally rises from the low potential EL to the high potential EH.

ところで、スイッチング素子が薄膜トランジスターにより構成されている場合に、スイッチング素子がオフになると、突き抜け電圧が生じることがある。すなわち、スイッチング素子のゲート電極41とチャネル領域等との容量に蓄積された電荷が画素電極12に流れることによって、電圧降下V1(突き抜け電圧)が生じる。また、スイッチング素子がオフの状態でチャネル領域をリーク電流が流れることによる、電圧降下V2が生じることもある。これにより、次にゲート電圧が立ち上がるときに、実効電圧波形VL1の電位は、電圧降下V1,V2の分だけ高電位EHよりも低くなっている。   By the way, when the switching element is configured by a thin film transistor, a punch-through voltage may be generated when the switching element is turned off. That is, the electric charge accumulated in the capacitance between the gate electrode 41 and the channel region of the switching element flows to the pixel electrode 12, thereby causing a voltage drop V 1 (punch-through voltage). In addition, a voltage drop V2 may occur due to leakage current flowing through the channel region with the switching element turned off. Thus, when the gate voltage rises next time, the potential of the effective voltage waveform VL1 is lower than the high potential EH by the voltage drops V1 and V2.

次にゲート電圧VGが立ち上がると、駆動電圧波形VDが低電位になり、画素電極12が放電される。すると、液晶層の実効電圧波形VL1の電位は、低電位ELまで降下する。そして、スイッチング素子がオフになると、突き抜け電圧による電圧降下V3が生じ、またリーク電流による電圧上昇が生じる。   Next, when the gate voltage VG rises, the drive voltage waveform VD becomes a low potential, and the pixel electrode 12 is discharged. Then, the potential of the effective voltage waveform VL1 of the liquid crystal layer drops to the low potential EL. When the switching element is turned off, a voltage drop V3 due to a punch-through voltage occurs, and a voltage rise due to a leak current occurs.

対向電極22の電位は、対向電極電位Vcom1に保持されている。対向電極電位Vcom1は、実効電圧波形VL1の対向電極電位Vcom1に対する高電位側と低電位側とのバランスを取るように、予め設定されている。対向電極電位Vcom1は、電圧降下V1〜V3、電圧上昇V4を加味して設定され、一般に、高電位EHと低電位ELとの中間電位EM(例えば7V)と異なる値になる。例えば、実効電圧波形VL1と対向電極電位Vcom1との差分の時間積分値の絶対値が、駆動電圧波形VDが高電位EHである期間と低電位ELである期間とで略等しくなるように最適化された値が、対向電極電位Vcom1として設定される。   The potential of the counter electrode 22 is held at the counter electrode potential Vcom1. The counter electrode potential Vcom1 is set in advance so as to balance the high potential side and the low potential side with respect to the counter electrode potential Vcom1 of the effective voltage waveform VL1. The counter electrode potential Vcom1 is set in consideration of the voltage drops V1 to V3 and the voltage rise V4, and generally has a value different from an intermediate potential EM (for example, 7 V) between the high potential EH and the low potential EL. For example, the absolute value of the time integral value of the difference between the effective voltage waveform VL1 and the counter electrode potential Vcom1 is optimized so as to be approximately equal between the period when the drive voltage waveform VD is the high potential EH and the period when the drive voltage waveform VD is the low potential EL. This value is set as the counter electrode potential Vcom1.

図6(c)に示すように、ある程度の期間だけ液晶層を駆動した後の実効電圧波形VL2は、駆動開始直後の実効電圧波形VL1からシフトすることが多い。なお、実効電圧波形VL2は、電位の正負方向のいずれにシフトする場合もあるが、図6(c)には正方向にシフトしている状態を図示している。シフトした実効電圧波形VL2に対して、正負のバランスを取るように最適化された対向電極電位Vcom2を考える。シフト後の対向電極電位Vcom2は、シフト前の対向電極電位Vcom1から正方向にずれることになる。   As shown in FIG. 6C, the effective voltage waveform VL2 after driving the liquid crystal layer for a certain period often shifts from the effective voltage waveform VL1 immediately after the start of driving. Note that the effective voltage waveform VL2 may be shifted in either the positive or negative direction of the potential, but FIG. 6C illustrates a state in which the effective voltage waveform VL2 is shifted in the positive direction. Consider a counter electrode potential Vcom2 that is optimized to balance positive and negative with respect to the shifted effective voltage waveform VL2. The counter electrode potential Vcom2 after the shift is shifted in the positive direction from the counter electrode potential Vcom1 before the shift.

ここで、従来の技術では、実効電圧波形VL2が電位の正負方向のいずれにシフトするかは不確定であった。つまり、シフト後の対向電極電位Vcom2は、シフト前の対向電極電位Vcom1から正負方向のいずれにずれることになるかは不確定であった。   Here, in the conventional technique, it is uncertain whether the effective voltage waveform VL2 shifts in the positive or negative direction of the potential. That is, it is uncertain whether the counter electrode potential Vcom2 after the shift is shifted in the positive or negative direction from the counter electrode potential Vcom1 before the shift.

しかし、本発明者は、素子基板10側の画素電極12と第1配向膜13との間に、液晶層よりも膜厚が薄く、かつ、液晶層よりも高比抵抗の、酸化シリコン(SiO)からなる第1配向下地膜(第1誘電体膜)38Aを配置し、対向基板20側の対向電極22と第2配向膜23との間に、前記第1誘電体膜38Aよりも膜厚が薄く、かつ、液晶層よりも高比抵抗の、酸化シリコン(SiO)からなる第2配向下地膜(第2誘電体膜)38Bを配置することにより、正負のバランスを取るように最適化された実効電圧波形VL2が電位の正方向にシフトすること(Vcomが正方向にシフトすること)を見出した。この点については、本発明者が行った実験結果からも確認されている。 However, the present inventor has proposed that silicon oxide (SiO 2) between the pixel electrode 12 on the element substrate 10 side and the first alignment film 13 is thinner than the liquid crystal layer and has a higher specific resistance than the liquid crystal layer. 2 ), a first alignment base film (first dielectric film) 38A is disposed, and a film is formed between the counter electrode 22 on the counter substrate 20 side and the second alignment film 23 rather than the first dielectric film 38A. Optimal so as to balance positive and negative by disposing a second alignment base film (second dielectric film) 38B made of silicon oxide (SiO 2 ) having a small thickness and a higher specific resistance than the liquid crystal layer. It was found that the converted effective voltage waveform VL2 shifts in the positive direction of the potential (Vcom shifts in the positive direction). This point has also been confirmed from the results of experiments conducted by the present inventors.

図7は、本発明者が行った実験により得られた、経過時間とVcomシフトの関係を示す図である。なお、図7において、横軸は経過時間、縦軸はVcomシフトを示している。ここで、Vcomシフトは、シフト前の対向電極電位Vcom1とシフト後の対向電極電位Vcom2との差分、つまりVcom2−Vcom1の値とする。また、図7において、「▲」は素子基板10側の第1誘電体膜38Aの膜厚Ta1(300nm)が対向基板20側の第2誘電体膜38Bの膜厚Ta2(75nm)よりも厚い状態(Ta1>Ta2)を示している。また、Vcomシフトが0のときは、第1誘電体膜38Aの膜厚Ta1及び第2誘電体膜38Bの膜厚Ta2が同じ状態(Ta1=Ta2)を示している。また、図7においては、振幅が5Vである矩形波を印加したときのVcomシフトを測定している。   FIG. 7 is a diagram showing the relationship between the elapsed time and the Vcom shift obtained by an experiment conducted by the present inventor. In FIG. 7, the horizontal axis represents elapsed time, and the vertical axis represents Vcom shift. Here, the Vcom shift is a difference between the counter electrode potential Vcom1 before the shift and the counter electrode potential Vcom2 after the shift, that is, a value of Vcom2−Vcom1. In FIG. 7, “▲” indicates that the film thickness Ta1 (300 nm) of the first dielectric film 38A on the element substrate 10 side is thicker than the film thickness Ta2 (75 nm) of the second dielectric film 38B on the counter substrate 20 side. The state (Ta1> Ta2) is shown. When the Vcom shift is 0, the film thickness Ta1 of the first dielectric film 38A and the film thickness Ta2 of the second dielectric film 38B are the same (Ta1 = Ta2). In FIG. 7, the Vcom shift is measured when a rectangular wave having an amplitude of 5V is applied.

図7に示すように、素子基板10側の第1誘電体膜38Aの膜厚Ta1が対向基板20側の第2誘電体膜38Bの膜厚Ta2よりも厚い状態「▲」におけるVcomシフト量は、経過時間が長くなるにつれて増加している。このVcomシフトの増加勾配は、経過時間が長くなるにつれて緩やかになっている。また、このVcomシフト量は、増加勾配が緩やかになった状態において+0.5V程度となっている。Vcomシフト方向は、経過時間の全域において、第1誘電体膜38Aの膜厚Ta1及び第2誘電体膜38Bの膜厚Ta2が同じ状態(Vcomシフトが0)に比べて正方向にシフトしている。   As shown in FIG. 7, the Vcom shift amount in the state “▲” where the film thickness Ta1 of the first dielectric film 38A on the element substrate 10 side is thicker than the film thickness Ta2 of the second dielectric film 38B on the counter substrate 20 side is , Increasing as the elapsed time becomes longer. The increasing gradient of the Vcom shift becomes gentle as the elapsed time becomes longer. Further, the Vcom shift amount is about +0.5 V in a state where the increasing gradient becomes gentle. In the Vcom shift direction, the film thickness Ta1 of the first dielectric film 38A and the film thickness Ta2 of the second dielectric film 38B are shifted in the positive direction over the entire elapsed time as compared with the same state (Vcom shift is 0). Yes.

Vcomシフトがある程度以上に大きくなると、低電位側の期間と高電位側の期間とで液晶層の変調作用の差が大きくなる。すると、表示された画像において、低電位側の期間に変調された光の光量と、高電位側の期間に変調された光の光量との違いが視認されて、画像のちらつき(フリッカー)を生じてしまう。   When the Vcom shift becomes larger than a certain level, the difference in the modulation effect of the liquid crystal layer increases between the low potential side period and the high potential side period. Then, in the displayed image, the difference between the amount of light modulated during the low potential side period and the amount of light modulated during the high potential side period is visually recognized, causing flickering of the image. End up.

本発明者は、実験データからの知見に基づき熟慮した結果、第1の現象に対する補正と、第2の現象に対する補正とを切り分けて補正するのが効果的であることに想到した。つまり、第1の現象の補正方法としては駆動電圧に係らず一定の補正電圧を掛けるとともに、第2の現象に対する補正方法としては、その特性差による直流電圧成分の方向及び大きさに応じて、正極性が保持される期間長の割合を負極性が保持される期間長の割合に比べて長くする方法である。   As a result of careful consideration based on knowledge from experimental data, the present inventor has come up with the idea that it is effective to divide and correct the correction for the first phenomenon and the correction for the second phenomenon. That is, as a correction method for the first phenomenon, a constant correction voltage is applied regardless of the drive voltage, and as a correction method for the second phenomenon, depending on the direction and magnitude of the DC voltage component due to the characteristic difference, In this method, the ratio of the period length in which the positive polarity is maintained is made longer than the ratio of the period length in which the negative polarity is maintained.

一方、フリッカーの経時変化が最小となるような極性時間比率を探索すること(以下、単に探索という)には膨大な時間を要していた。例えば、探索の際の調整には、1回の計測点当たり10分〜60分程度の通電時間を要していた。
しかし、本発明者が、素子基板10側の画素電極12と第1配向膜13との間に、液晶層よりも膜厚が薄く、かつ、液晶層よりも高比抵抗の、酸化シリコン(SiO)からなる第1配向下地膜(第1誘電体膜)38Aを配置し、対向基板20側の対向電極22と第2配向膜23との間に、前記第1誘電体膜よりも膜厚が薄く、かつ、液晶層よりも高比抵抗の、酸化シリコン(SiO)からなる第2配向下地膜(第2誘電体膜)38Bを配置することによりVcomが正方向にシフトすることを見出したことによって、探索に要する時間を短くすることが可能となった。
On the other hand, searching for a polar time ratio that minimizes the change in flicker over time (hereinafter simply referred to as “searching”) required an enormous amount of time. For example, the adjustment at the time of search required energization time of about 10 to 60 minutes per one measurement point.
However, the present inventor has proposed that silicon oxide (SiO 2) between the pixel electrode 12 on the element substrate 10 side and the first alignment film 13 is thinner than the liquid crystal layer and has a higher specific resistance than the liquid crystal layer. 2 ), a first alignment base film (first dielectric film) 38A is disposed, and the thickness between the counter electrode 22 on the counter substrate 20 side and the second alignment film 23 is larger than that of the first dielectric film. It is found that Vcom shifts in the positive direction by arranging the second alignment base film (second dielectric film) 38B made of silicon oxide (SiO 2 ) having a small thickness and a higher specific resistance than the liquid crystal layer. As a result, the time required for the search can be shortened.

図8は、本発明者が行った探索により得られた、時間比率(Duty)とVcomシフトの関係を示す図である。なお、図8において、横軸はDuty(正極性電圧の印加時間と負極性電圧の印加時間との時間比率)、縦軸はVcomシフト(Vcom2−Vcom1)を示している。ここで、横軸と縦軸の交点をDuty50:50とし、横軸の右側を正極性電圧の印加時間が長くなる方向とする。また、縦軸の上側をVcomシフトが正となる方向とする。また、図8において、符号P1は一回目(最初)の計測点、符号P2は二回目の計測点、符号P3は三回目の計測点、符号P4は四回目の計測点、符号P5は五回目(最後)の計測点を示している。また、図8においては、計5回の計測によって探索を行っているが、この回数に限定されることなく、適宜必要に応じて計測数を変更してもよい。   FIG. 8 is a diagram showing the relationship between the time ratio (Duty) and the Vcom shift obtained by the search performed by the present inventor. In FIG. 8, the horizontal axis indicates Duty (time ratio between the application time of the positive polarity voltage and the application time of the negative polarity voltage), and the vertical axis indicates the Vcom shift (Vcom2−Vcom1). Here, the intersection of the horizontal axis and the vertical axis is Duty 50:50, and the right side of the horizontal axis is the direction in which the positive voltage application time becomes longer. The upper side of the vertical axis is the direction in which the Vcom shift is positive. Also, in FIG. 8, reference numeral P1 is the first (first) measurement point, reference numeral P2 is the second measurement point, reference sign P3 is the third measurement point, reference sign P4 is the fourth measurement point, reference sign P5 is the fifth measurement point. The (last) measurement point is shown. Further, in FIG. 8, the search is performed by measuring five times in total, but the number of measurements may be changed as necessary without being limited to this number.

図8に示すように、第1回目の計測点P1をDutyが50%以上となる領域に配置する。この点については、上述した実験結果により、素子基板10側の画素電極12と第1配向膜13との間に上述した誘電体膜を配置するとVcomシフト方向が正方向にずれることから明確となる。つまり、右下がりの線になること及び第5回目の計測点P5がDuty50%よりも大きくなることから、少なくともDutyが50%よりも小さい領域を除いた範囲内(Dutyが50%以上となる領域内)で計測すればよい。このため、第1回目の計測点P1をDutyが50%よりも小さい領域に配置することが不要となり、測定頻度を少なくすることができる。   As shown in FIG. 8, the first measurement point P1 is arranged in an area where the duty is 50% or more. This point is clarified from the experimental results described above because the Vcom shift direction is shifted in the positive direction when the above-described dielectric film is disposed between the pixel electrode 12 on the element substrate 10 side and the first alignment film 13. . That is, since it is a line that falls to the right and the fifth measurement point P5 is larger than Duty 50%, at least within the range excluding the region where Duty is smaller than 50% (region where Duty is 50% or more) )). For this reason, it is not necessary to arrange the first measurement point P1 in an area where the duty is smaller than 50%, and the measurement frequency can be reduced.

次に、第2回目の計測点P2を、横軸を挟んで第1回目の計測点P1よりもDutyが大きい領域に配置する。このように、第1回目の測定結果に基いてパラメータ(Duty)を変化させる正負方向を決定することができる。つまり、第2回目の計測点P2を第1回目の計測点P1よりもDutyの小さい側に配置することが不要となり、測定頻度を少なくすることができる。また、第1回目の計測点P1と第2回目の計測点P2とがプロットされることにより、右下がりの線の傾きを近似的に算出することができる。   Next, the second measurement point P2 is arranged in a region where the duty is larger than the first measurement point P1 across the horizontal axis. Thus, the positive / negative direction in which the parameter (Duty) is changed can be determined based on the first measurement result. In other words, it is not necessary to arrange the second measurement point P2 on the smaller duty side than the first measurement point P1, and the measurement frequency can be reduced. In addition, by plotting the first measurement point P1 and the second measurement point P2, it is possible to approximately calculate the slope of the right-downward line.

次に、第3回目の計測点P3を、近似的に算出された傾きに沿って第1回目の計測点P1と横軸との間に配置する。また、第4回目の計測点P4を、近似的に算出された傾きに沿って第2回目の計測点P2と横軸との間に配置する。このように、Vcomシフトが概ね0になる(Vcom2−Vcom1)の値を推定しつつ、探索範囲を狭めていく。第3回目の計測点P3と第4回目の計測点P4とがプロットされることにより、フリッカーの許容限に対応するVcomシフトを近似的に算出することができる。   Next, the third measurement point P3 is arranged between the first measurement point P1 and the horizontal axis along the approximately calculated inclination. Further, the fourth measurement point P4 is arranged between the second measurement point P2 and the horizontal axis along the approximately calculated inclination. In this way, the search range is narrowed while estimating the value of (Vcom2-Vcom1) at which the Vcom shift is approximately zero. By plotting the third measurement point P3 and the fourth measurement point P4, it is possible to approximately calculate the Vcom shift corresponding to the flicker tolerance.

そして、第5回目の計測点P5を横軸上に配置する。具体的には、第5回目の計測点P5は、計測点P1〜P4を近似的に結ぶ直線及び横軸の交点となる。以上により、フリッカーの経時変化が最小となるような極性時間比率を算出することができる。したがって、この調整方法によれば、測定頻度を減らすことによって探索に要する時間を短くすることができる。   Then, the fifth measurement point P5 is arranged on the horizontal axis. Specifically, the fifth measurement point P5 is an intersection of a straight line and a horizontal axis that approximately connect the measurement points P1 to P4. From the above, it is possible to calculate the polar time ratio that minimizes the flicker change with time. Therefore, according to this adjustment method, the time required for searching can be shortened by reducing the measurement frequency.

(液晶装置の駆動方法)
以下説明する液晶装置の駆動方法は、本発明者が想到内容を具体的に実現するために熟慮及び創意工夫の上創出したものである。
図9は、指定値Qが「+1」のときの走査信号系のタイミングチャートである。また、本実施形態では、複数の走査線61を第1走査線群と第2走査線群に分けて、1つのフレームにおいて、第1走査線群におけるいずれか1本の走査線61と、第2走査線群におけるいずれか1本の走査線61とを交互に選択するとともに、1つのフレームにおいて各走査線61を2回ずつ選択する。いわゆる倍速領域走査反転駆動を用いている。
(Driving method of liquid crystal device)
The driving method of the liquid crystal device described below has been created by the present inventor with careful consideration and ingenuity in order to realize the conceived contents specifically.
FIG. 9 is a timing chart of the scanning signal system when the designated value Q is “+1”. In the present embodiment, the plurality of scanning lines 61 are divided into the first scanning line group and the second scanning line group, and in one frame, any one scanning line 61 in the first scanning line group, Any one scanning line 61 in the two scanning line groups is alternately selected, and each scanning line 61 is selected twice in one frame. So-called double speed area scanning inversion driving is used.

まず、走査線61の駆動方法について説明する。図9は、走査線駆動回路130により出力される走査信号G1〜G480を、スタートパルスとクロック信号との関係において示すタイミングチャートである。ここで、フレームとは、1枚の画像を液晶パネル100Aに表示させるのに要する期間をいう。また、1フレームの期間(所定の期間)のうち、第1スタートパルスDyaが出力されてから第2スタートパルスDybが出力されるまでの期間を第1フィールド(第1の期間)とし、第2スタートパルスDybが出力されてから次の第1スタートパルスDyaが出力されるまでの期間を第2フィールド(第2の期間)としている。また、1つの走査線61は、1フレームの期間において、フィールドごとに1回ずつ、つまり、2回選択されている。   First, a method for driving the scanning line 61 will be described. FIG. 9 is a timing chart showing the scanning signals G1 to G480 output from the scanning line driving circuit 130 in relation to the start pulse and the clock signal. Here, the frame refers to a period required to display one image on the liquid crystal panel 100A. Further, a period from the output of the first start pulse Dya to the output of the second start pulse Dyb in the period of one frame (predetermined period) is defined as a first field (first period), and the second A period from when the start pulse Dyb is output until the next first start pulse Dya is output is defined as a second field (second period). One scanning line 61 is selected once for each field, that is, twice in one frame period.

本実施形態における垂直同期信号Vsは、上述したように周波数120Hzであるので、1フレームの期間についても8.33ミリ秒で固定である。制御回路152(図1参照)は、デューティー比が50%のクロック信号を、1フレームの期間に亘って走査線61数に等しい480周期分出力する。なお、クロック信号の1周期分の期間をHと表記している。   Since the vertical synchronization signal Vs in this embodiment has a frequency of 120 Hz as described above, the period of one frame is also fixed at 8.33 milliseconds. The control circuit 152 (see FIG. 1) outputs a clock signal having a duty ratio of 50% for 480 periods equal to the number of scanning lines 61 over a period of one frame. Note that a period of one cycle of the clock signal is denoted as H.

また、制御回路152は、クロック信号の1周期分のパルス幅を有するスタートパルスを、それぞれクロック信号がHレベルの立ち上がり時において、それぞれ次のように出力する。すなわち、制御回路152は、第1スタートパルスDyaを1フレームの期間の最初(第1フィールドの最初)に出力する。一方、制御回路152は、指定値Qが正の値であるため、第2スタートパルスDybを、第1スタートパルスDyaを出力してからクロック信号の240周期分を出力したタイミングTmよりも「Q×H」だけ遅れて出力する。   Further, the control circuit 152 outputs a start pulse having a pulse width corresponding to one cycle of the clock signal when the clock signal rises to the H level as follows. That is, the control circuit 152 outputs the first start pulse Dya at the beginning of one frame period (the first field). On the other hand, since the specified value Q is a positive value, the control circuit 152 outputs the second start pulse Dyb by “Q” from the timing Tm at which 240 cycles of the clock signal are output after the first start pulse Dya is output. Output is delayed by “× H”.

よって、図9に示すように、指定値Qが「+1」であった場合、第2スタートパルスDybは、タイミングTmよりもクロック信号の1周期分だけ遅延したタイミングTm(+1)で出力される。   Therefore, as shown in FIG. 9, when the designated value Q is “+1”, the second start pulse Dyb is output at timing Tm (+1) delayed by one cycle of the clock signal from timing Tm. .

ここで、スタートパルスは交互に出力される一方、第1スタートパルスDyaの出力タイミングは、指定値Qにかかわらず変更されない。このため、1フレーム(8.33ミリ秒)毎に出力される第1スタートパルスDyaを特定すると、必然的に第2フィールドの開始を規定する第2スタートパルスDybも特定することができる。   Here, while the start pulses are alternately output, the output timing of the first start pulse Dya is not changed regardless of the designated value Q. For this reason, if the first start pulse Dya output every frame (8.33 milliseconds) is specified, the second start pulse Dyb which inevitably defines the start of the second field can also be specified.

走査線駆動回路130は、このようなスタートパルス及びクロック信号から、次のような操作信号を出力する。すなわち、走査線駆動回路130は、第1スタートパルスDyaが供給されると、クロック信号がLレベルに変化するごとに走査信号G1〜G480を順次Hレベルとする。一方、走査線駆動回路130は、第2スタートパルスDybが供給されると、クロック信号がHレベルに変化するごとに走査信号G1〜G480を順次Hレベルとする。   The scanning line driving circuit 130 outputs the following operation signal from the start pulse and the clock signal. That is, when the first start pulse Dya is supplied, the scanning line driving circuit 130 sequentially sets the scanning signals G1 to G480 to the H level each time the clock signal changes to the L level. On the other hand, when the second start pulse Dyb is supplied, the scanning line driving circuit 130 sequentially sets the scanning signals G1 to G480 to the H level each time the clock signal changes to the H level.

第1スタートパルスDyaは、1フレームの期間(第1フィールド)の最初に供給されるので、当該第1スタートパルスDyaの供給を契機とする走査線61の選択は指定値Qによって変化しない。また、当該第1スタートパルスDyaの供給を契機とする走査線61の選択は、クロック信号がLレベルである期間に実行されるので、第1フィールド及び第2フィールドに亘って1行目の走査線61を開始点として画面下方向に向かって2、3、4、…、480行目の順番でクロック信号の半周期の期間をおいて実行されることになる。   Since the first start pulse Dya is supplied at the beginning of one frame period (first field), the selection of the scanning line 61 triggered by the supply of the first start pulse Dya does not change depending on the designated value Q. Since the selection of the scanning line 61 triggered by the supply of the first start pulse Dya is executed in a period in which the clock signal is at the L level, the scanning of the first row over the first field and the second field is performed. It is executed with a half cycle period of the clock signal in the order of the second, third, fourth,.

一方、第2スタートパルスDybは、第2フィールドの最初に供給されるので、当該スタートパルスを契機とする走査線61の選択は、指定値Qによって全体的に前後することになる、すなわち、当該第2スタートパルスDybの供給を契機とする走査線61の選択は、クロック信号がHレベルである期間に実行されるので、あるフレームの第2フィールドから次のフレームの第1フィールドに亘って1行目の走査線61を開始点として画面下方向に向かって2、3、4、…、480行目の順番で、第1スタートパルスDyaの供給を契機とする選択の合間において実行されることになる。つまり、あるフレームの第2フィールドにおける1〜240行目の選択は、例えば指定値Qが「+1」であれば、タイミングTmよりもクロック信号の1周期分だけ全体的に遅延した関係となる。   On the other hand, since the second start pulse Dyb is supplied at the beginning of the second field, the selection of the scanning line 61 triggered by the start pulse is entirely changed by the designated value Q. Since the selection of the scanning line 61 triggered by the supply of the second start pulse Dyb is executed during a period in which the clock signal is at the H level, 1 is selected from the second field of one frame to the first field of the next frame. Executed between the selections triggered by the supply of the first start pulse Dya in the order of rows 2, 3, 4,..., 480 from the scanning line 61 of the row toward the bottom of the screen. become. That is, the selection of the 1st to 240th rows in the second field of a certain frame has a relationship delayed as much as one cycle of the clock signal from the timing Tm if the specified value Q is “+1”, for example.

図10は、データ信号Vid系の第1フィールドにおけるタイミングチャートである。図11は、データ信号Vid系の第2フィールドにおけるタイミングチャートである。続いて、データ線62の駆動方法について図10及び図11を中心に説明する。   FIG. 10 is a timing chart in the first field of the data signal Vid system. FIG. 11 is a timing chart in the second field of the data signal Vid system. Next, a method for driving the data line 62 will be described with reference to FIGS.

データ線駆動回路140のサンプリング信号出力回路142は、制御回路152による制御信号に従って、いずれかの走査線61が選択されて当該走査線61に供給される操作信号がHレベルとなる期間に亘って、順次排他的にHレベルとなるサンプリング信号S1、S2、S3、…、S640を、データ線62の各々に出力する。なお、制御信号とは、実際にはスタートパルスやクロック信号であるが、説明を省略している。   The sampling signal output circuit 142 of the data line driving circuit 140 is in accordance with a control signal from the control circuit 152 over a period in which one of the scanning lines 61 is selected and the operation signal supplied to the scanning line 61 is at the H level. The sampling signals S1, S2, S3,..., S640 that sequentially become H level are output to each of the data lines 62. The control signal is actually a start pulse or a clock signal, but the description is omitted.

走査信号がHレベルとなる期間は、実際にはクロック信号の半分周期の期間よりも若干狭められている。この場合、図10に示すように、第1フィールドにおいては走査信号G(i+240)がHレベルとなった後に走査信号GiがHレベルとなる。
また、図11に示すように、第2フィールドにおいては走査信号GiがHレベルとなった後に走査信号G(i+240)がHレベルとなる。
The period during which the scanning signal is at the H level is actually slightly narrower than the half period of the clock signal. In this case, as shown in FIG. 10, in the first field, after the scanning signal G (i + 240) becomes H level, the scanning signal Gi becomes H level.
Further, as shown in FIG. 11, in the second field, the scanning signal G (i + 240) becomes the H level after the scanning signal Gi becomes the H level.

また、表示データ処理回路156(図1参照)は、選択された走査線61における画素1行分の表示データVideoを、サンプリング信号出力回路142によるサンプリング信号S1〜S640の出力に合わせて次のような極性のデータ信号Vidに変換する。すなわち、表示データ処理回路156は、クロック信号がLレベルのときに選択された画素行における画素のデータ信号Vidを正極性(+)に変換し、クロック信号がHレベルのときに選択された画素行における画素のデータ信号Vidを負極性(−)に変換する。換言すれば、表示データ処理回路156は、第1スタートパルスDyaの供給を契機として選択された画素行における画素のデータ信号Vidを正極性(+)に変換し、第2スタートパルスDybの供給を契機として選択された画素行における画素のデータ信号Vidを負極性(−)に変換する。   Further, the display data processing circuit 156 (see FIG. 1) displays the display data Video for one row on the selected scanning line 61 in accordance with the output of the sampling signals S1 to S640 by the sampling signal output circuit 142 as follows. Is converted to a data signal Vid having a correct polarity. That is, the display data processing circuit 156 converts the pixel data signal Vid in the selected pixel row to the positive polarity (+) when the clock signal is at the L level, and the pixel selected when the clock signal is at the H level. The pixel data signal Vid in the row is converted to negative polarity (-). In other words, the display data processing circuit 156 converts the pixel data signal Vid in the selected pixel row to the positive polarity (+) with the supply of the first start pulse Dya, and supplies the second start pulse Dyb. The pixel data signal Vid in the selected pixel row is converted into negative polarity (−).

ここで、正極性(+)及び負極性(−)とは、基準電圧Vcから高位側を正極性(+)とし、低位側を負極性(−)としている。また、ここでは基準電位を0Vに設定しているが、これに限定するものではない。   Here, the positive polarity (+) and the negative polarity (-) mean that the higher side from the reference voltage Vc is positive (+) and the lower side is negative (-). In addition, although the reference potential is set to 0 V here, the present invention is not limited to this.

また、対向電極電位Vcomが基準電圧Vcよりも負極性(−)側にシフトして設定されている。具体的には、対向電極電位Vcomは、例えば、約−0.1Vから−0.2Vの範囲内の電圧値に設定されている。これは、前述した第1の現象(フィールドスルー)による電圧変動分が約−0.1Vから−0.2Vであるため、これを補正電圧として、対向電極電位Vcomの設定値を基準電圧Vcからシフトさせているからである。すなわち、第1の現象による影響を低減できるように対向電極電位Vcomをシフトさせている。   Further, the counter electrode potential Vcom is set to be shifted to the negative (−) side from the reference voltage Vc. Specifically, the counter electrode potential Vcom is set to a voltage value within a range of about −0.1 V to −0.2 V, for example. This is because the voltage fluctuation due to the first phenomenon (field-through) is about −0.1 V to −0.2 V, and this is used as the correction voltage, and the set value of the counter electrode potential Vcom is changed from the reference voltage Vc. This is because they are shifted. That is, the counter electrode potential Vcom is shifted so as to reduce the influence of the first phenomenon.

また、第1の現象における補正電圧は、個別の液晶パネル100Aごとに計測して求めることが好ましい。具体的には、同じ階調に相当する正・負極性の駆動電圧を交互に印加したときに、フリッカーが十分小さくなる対向電極電位Vcomを求め、その値と、基準電圧Vcとの差から補正電圧を求める。また、このときの駆動電圧は、フリッカーを視認しやすい中間階調に相当する電圧が好ましい。   In addition, the correction voltage in the first phenomenon is preferably obtained by measuring each individual liquid crystal panel 100A. Specifically, when the positive and negative drive voltages corresponding to the same gradation are alternately applied, the counter electrode potential Vcom at which the flicker is sufficiently small is obtained and corrected from the difference between the value and the reference voltage Vc. Find the voltage. In addition, the driving voltage at this time is preferably a voltage corresponding to an intermediate gradation in which flicker is easily visible.

このようにして補正電圧は求められ、制御回路152(図1参照)または電圧生成回路160に設定される。そして、電圧生成回路160は、補正電圧分だけシフトした対向電極電位Vcomを生成し、液晶パネル100Aの対向電極22に供給する。   In this way, the correction voltage is obtained and set in the control circuit 152 (see FIG. 1) or the voltage generation circuit 160. Then, the voltage generation circuit 160 generates the counter electrode potential Vcom shifted by the correction voltage and supplies it to the counter electrode 22 of the liquid crystal panel 100A.

続いて、駆動方法の全般について説明する。
まず、図1において、制御回路152は、外部装置から供給される表示データVideoを、フレームメモリ157に記憶させる。その後、液晶パネル100Aにおいてある画素行の走査線61が選択されるとき、当該画素行の表示データVideoを記憶速度の倍の速度で読み出させる。そして、DAコンバーター158によりアナログのデータ信号Vidに変換する。これとともに、表示データVideoの読み出しに合わせて、サンプリング信号S1〜S640が順次Hレベルとなるように、制御信号を介してサンプリング信号出力回路142を制御する。
Next, the overall driving method will be described.
First, in FIG. 1, the control circuit 152 stores display data Video supplied from an external device in the frame memory 157. Thereafter, when the scanning line 61 of a certain pixel row is selected in the liquid crystal panel 100A, the display data Video of the pixel row is read at a speed twice the storage speed. Then, it is converted into an analog data signal Vid by the DA converter 158. At the same time, the sampling signal output circuit 142 is controlled via the control signal so that the sampling signals S1 to S640 sequentially become H level in accordance with the reading of the display data Video.

図9に示すように、指定値Qが例えば「+1」である場合、第2スタートパルスDybがタイミングTmよりもクロック信号の1周期分だけ時間的に後方のタイミングで出力される。このため、指定値Qが「+1」であれば、第1フィールドの期間はクロック信号の241周期分となるのに対し、第2フィールドの期間はクロック信号の239周期分となる。   As shown in FIG. 9, when the specified value Q is “+1”, for example, the second start pulse Dyb is output at a timing later in time by one cycle of the clock signal than the timing Tm. Therefore, if the designated value Q is “+1”, the period of the first field is 241 periods of the clock signal, whereas the period of the second field is 239 periods of the clock signal.

また、第1フィールドにおいて走査線61が240、1、241、2、242、3、…、480行目という順番で選択される。このため、制御回路152は、はじめに240行目の走査線61が選択されるように、走査線駆動回路130を制御する。一方、制御回路152は、表示データ処理回路156に対し、フレームメモリ157に記憶された240行目に相当する表示データVideoを倍速で読み出させる。そして、DAコンバーター158により負極性のデータ信号Vidを生成させるとともに、データ信号Vidの読み出しに合わせて、図10に示すように、サンプリング信号S1〜S640が順番に排他的にHレベルとなるようにサンプリング信号出力回路142を制御する。サンプリング信号S1〜S640が順番にHレベルになると、TFT40が順番にオンして画像信号線に供給されたデータ信号Vidが1〜640列目のデータ線62にサンプリングされる。   In the first field, the scanning lines 61 are selected in the order of 240, 1, 241, 2, 242, 3,. Therefore, the control circuit 152 first controls the scanning line driving circuit 130 so that the scanning line 61 in the 240th row is selected. On the other hand, the control circuit 152 causes the display data processing circuit 156 to read the display data Video corresponding to the 240th row stored in the frame memory 157 at double speed. Then, the DA converter 158 generates a negative data signal Vid, and the sampling signals S1 to S640 are sequentially set to the H level exclusively as shown in FIG. 10 in accordance with the reading of the data signal Vid. The sampling signal output circuit 142 is controlled. When the sampling signals S1 to S640 are sequentially set to the H level, the TFTs 40 are sequentially turned on, and the data signal Vid supplied to the image signal lines is sampled on the data lines 62 in the 1st to 640th columns.

一方、走査線61が選択されると、走査信号G240がHレベルとなるので、240行目に位置する画素のTFT40がすべてオンする。このため、データ線62にサンプリングされたデータ信号Vidの負極性電圧がそのまま画素電極12に印加される。これにより、240行目であって1、2、3、4、…、639、640列の画素における液晶容量120には、表示データVideoで指定された階調に応じた負極性電圧が書き込まれて、保持される。以下、第1フィールドにおいては、同様な電圧書込の動作が、1、241、2、242、3、…、480行目という順番で実行される。これにより、1〜241行目の画素に対しては階調に応じた正極性電圧が書き込まれ、242〜480行目の画素に対しては階調に応じた負極性電圧が書き込まれて、それぞれ保持される。   On the other hand, when the scanning line 61 is selected, the scanning signal G240 becomes H level, so that all the TFTs 40 of the pixels located in the 240th row are turned on. Therefore, the negative voltage of the data signal Vid sampled on the data line 62 is applied to the pixel electrode 12 as it is. As a result, the negative voltage corresponding to the gradation specified by the display data Video is written into the liquid crystal capacitor 120 in the pixels of the 240th row and the columns 1, 2, 3, 4,..., 639, 640. Held. Hereinafter, in the first field, the same voltage writing operation is executed in the order of the 1st, 241, 242, 242,. Thereby, a positive voltage corresponding to the gradation is written to the pixels in the 1st to 241st rows, and a negative voltage corresponding to the gradation is written to the pixels in the 242nd to 480th rows. Retained respectively.

一方、第2フィールドにおいては、走査線61が1、242、2、243、3、244、…、239、480行目という順番で選択されるとともに、同一行における書込極性が反転される。このため、1〜241行目の画素に対しては階調に応じた負極性電圧が書き込まれ、242〜480行目の画素に対しては階調に応じた正極性電圧が書き込まれて、それぞれ保持される。   On the other hand, in the second field, the scanning line 61 is selected in the order of the 1st, 24th, 2nd, 24th, 3rd, 244th,... For this reason, a negative voltage corresponding to the gradation is written to the pixels in the 1st to 241st rows, and a positive voltage corresponding to the gradation is written to the pixels in the 242nd to 480th rows. Retained respectively.

図12は、指定値Qが「+1」である場合において、各行の書込状態を連続するフレームに亘る時間経過とともに示した図である。なお、最上段への走査線61への書き込み、つまり正極性保持期間の開始時刻は、正確には、第1スタートパルスDyaが供給された後、クロック信号の半周期遅延したタイミングとなるが、図12では、簡略化して第1スタートパルスDyaに合わせている。   FIG. 12 is a diagram showing the writing state of each row as time passes over successive frames when the designated value Q is “+1”. Note that the writing to the scanning line 61 at the top, that is, the start time of the positive polarity holding period, is precisely the timing delayed by a half cycle of the clock signal after the first start pulse Dya is supplied. In FIG. 12, it is simplified and matched with the first start pulse Dya.

図12に示すように、第1フィールドにおいて240、241、242、…、480行目の画素では負極性の書き込みがなされ、1、2、3、…、239行目の画素では正極性の書き込みがなされて、次の書き込みまで保持される。一方、第2フィールドにおいて1、2、3、…、239行目の画素では負極性の書き込みがなされ、240、241、242、…、480行目の画素では正極性の書き込みがなされて、同様に次の書き込みまで保持される。つまり、各フィールドにおいて、正極性を書き込む走査線61と、負極性を書き込む走査線61とが2本選択されているとも捉えることができる。   As shown in FIG. 12, in the first field, pixels of 240, 241, 242,..., 480th row are written with negative polarity, and pixels of rows 1, 2, 3,. Is held until the next writing. On the other hand, in the second field, negative polarity writing is performed on the pixels in the first, second, third,..., 239th rows, and positive polarity writing is performed on the pixels in the 240th, 241, 242,. Until the next write. That is, it can be understood that two scanning lines 61 for writing positive polarity and two scanning lines 61 for writing negative polarity are selected in each field.

このように、指定値Qが「+1」である場合、第2スタートパルスDybの出力タイミングが遅くなる。このため、第2スタートパルスDybの供給を契機とする選択により書き込まれる負極性電圧の保持時間は、第1スタートパルスDyaの供給を契機とする選択により書き込まれる正極性電圧の保持時間よりも短くなる。つまり、指定値Qが正の値であれば、その絶対値が大きくなるにつれて、第2スタートパルスDybの供給を契機とする選択により書き込まれる負極性電圧の保持時間は、第1スタートパルスDyaの供給を契機とする選択により書き込まれる正極性電圧の保持時間よりも短くなる。このため、液晶容量120に印加される負極性の電圧実効値が正極性の電圧実効値を下回ることになる。   Thus, when the designated value Q is “+1”, the output timing of the second start pulse Dyb is delayed. Therefore, the holding time of the negative voltage written by the selection triggered by the supply of the second start pulse Dyb is shorter than the holding time of the positive voltage written by the selection triggered by the supply of the first start pulse Dya. Become. That is, if the specified value Q is a positive value, the holding time of the negative voltage written by selection triggered by the supply of the second start pulse Dyb increases as the absolute value increases. It becomes shorter than the holding time of the positive voltage written by the selection triggered by the supply. For this reason, the negative voltage effective value applied to the liquid crystal capacitor 120 is lower than the positive voltage effective value.

すなわち、正極性電圧が印加される第1フィールドは負極性電圧が印加される第2フィールドに比べて長くなる。したがって、1フレームのうち正極性電圧の印加時間が負極性電圧の印加時間よりも長く設定されるので、Vcomシフトに対応する補正を効果的に行うことができる。   That is, the first field to which the positive voltage is applied is longer than the second field to which the negative voltage is applied. Therefore, since the application time of the positive polarity voltage is set longer than the application time of the negative polarity voltage in one frame, the correction corresponding to the Vcom shift can be effectively performed.

(時間比率の決め方)
Vcomシフトは、電流の極性差により電荷が蓄積されることで電位差が誘起されるため発生すると考えられる。蓄積電荷量と電流(電圧、抵抗)の関係式は、正極性電圧の印加時間比率を(1+X)、負極性電圧の印加時間比率を(1−X)、印加時間をTとすると、以下の式1、式2となる。ここで、正の蓄積電荷量をq+、負の蓄積電荷量をq−、電流をi、電圧をv、抵抗をRとする。
(How to determine the time ratio)
The Vcom shift is considered to occur because a potential difference is induced by accumulation of charges due to a difference in polarity of current. The relational expression between the accumulated charge amount and current (voltage, resistance) is as follows. When the application time ratio of the positive voltage is (1 + X), the application time ratio of the negative voltage is (1-X), and the application time is T, Equations 1 and 2 are obtained. Here, the positive accumulated charge amount is q +, the negative accumulated charge amount is q−, the current is i, the voltage is v, and the resistance is R.

Figure 2011209527
Figure 2011209527

Figure 2011209527
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この考えによると、単位時間当たりの蓄積電荷量を制御することでVcomシフトを防ぐことができる。通電時の矩形波振幅とそのときのVcomシフトから最適な時間配分比率を見積もることができる。q+=q−となるためには、正極性電圧の印加時間比率を(1+X)、負極性電圧の印加時間比率を(1−X)とすると、以下の式3、式4となる。ここで、矩形波振幅をE、VcomシフトをδVとする。なお、Vcomシフトは、シフト前の対向電極電位Vcom1とシフト後の対向電極電位Vcom2との差分、つまりVcom2−Vcom1の値とする。   According to this idea, the Vcom shift can be prevented by controlling the amount of accumulated charge per unit time. An optimal time distribution ratio can be estimated from the rectangular wave amplitude during energization and the Vcom shift at that time. In order to satisfy q + = q−, when the application time ratio of the positive voltage is (1 + X) and the application time ratio of the negative voltage is (1−X), the following expressions 3 and 4 are obtained. Here, the rectangular wave amplitude is E, and the Vcom shift is δV. The Vcom shift is a difference between the counter electrode potential Vcom1 before the shift and the counter electrode potential Vcom2 after the shift, that is, a value of Vcom2−Vcom1.

Figure 2011209527
Figure 2011209527

Figure 2011209527
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例えば、画素電極12に印加する矩形波振幅が±5V、Vcomシフトが+0.5Vのとき、X=0.05となる。このため、正極性電圧の印加時間:負極性電圧の印加時間=55:45にすればVcomのシフトは起きない。   For example, when the rectangular wave amplitude applied to the pixel electrode 12 is ± 5 V and the Vcom shift is +0.5 V, X = 0.05. For this reason, if the application time of the positive voltage: the application time of the negative voltage = 55: 45, the shift of Vcom does not occur.

本発明者の実験結果により、フレームレートが120fpsの場合、フリッカー許容限に対応するVcomシフトが±0.15Vであることが経験的に分かっている。このため、実際にはX=0.035〜0.065にすればよい。したがって、第1誘電体膜38Aの膜厚Ta1(300nm)と第2誘電体膜38Bの膜厚Ta2(75nm)との比が1/4のときに、第1フィールドの長さと第2フィールドの長さとの比を43.5/56.5以上46.5/53.5以下の範囲に設定すればよい。つまり、正極性電圧の印加時間:負極性電圧の印加時間=53.5:46.5〜56.5:43.5になるようにすればよい。フレームレートが120fpsのときには、1フレーム期間は8.3ミリ秒なので、正極性電圧の印加時間:負極性電圧の印加時間=8.42ミリ秒:8.25ミリ秒〜8.92ミリ秒:7.75ミリ秒にする。   From the experiment results of the present inventor, it is empirically known that the Vcom shift corresponding to the flicker tolerance is ± 0.15 V when the frame rate is 120 fps. Therefore, in practice, X may be set to 0.035 to 0.065. Therefore, when the ratio of the film thickness Ta1 (300 nm) of the first dielectric film 38A to the film thickness Ta2 (75 nm) of the second dielectric film 38B is 1/4, the length of the first field and the second field The ratio to the length may be set in the range of 43.5 / 56.5 to 46.5 / 53.5. That is, the application time of the positive polarity voltage: the application time of the negative polarity voltage = 53.5: 46.5 to 56.5: 43.5 may be satisfied. When the frame rate is 120 fps, since one frame period is 8.3 milliseconds, application time of positive voltage: application time of negative voltage = 8.42 milliseconds: 8.25 milliseconds to 8.92 milliseconds: 7.75 milliseconds.

本実施形態に係る液晶装置100によれば、対向電極電位Vcomがスイッチング素子の寄生容量に起因するフリッカーを低減するように予めシフトして設定されているため、第1の現象についての補正が盛り込まれている。また、所定の期間のうち第1の期間の長さが第2の期間の長さよりも長く設定されているため、第2の現象についての補正も盛り込まれている。この補正は、本発明者が、素子基板10側の画素電極12と第1配向膜13との間に、液晶層よりも膜厚が薄く、かつ、液晶層よりも高比抵抗の、酸化シリコン(SiO)からなる第1配向下地膜(第1誘電体膜)38Aを配置し、対向基板20側の対向電極22と第2配向膜23との間に、前記第1誘電体膜38Aよりも膜厚が薄く、かつ、液晶層よりも高比抵抗の、酸化シリコン(SiO)からなる第2配向下地膜(第2誘電体膜)38Bを配置することにより、実効電圧波形が電位の正方向にシフトすることを見出したことによる。この点については、本発明者が行った実験結果からも確認されている。つまり、素子基板10側の画素電極12と第1配向膜13との間に対向基板20側の対向電極22と第2配向膜23との間の第2誘電体膜38Bよりも膜厚が厚い第1誘電体膜38Aを配置することにより、第1誘電体膜38Aの膜厚Ta1及び第2誘電体膜38Bの膜厚Ta2が同じ場合に比べて、Vcomが正方向にシフトすること(シフト後の対向電極電位Vcom2がシフト前の対向電極電位Vcom1から正方向にずれること)が明確になった。このように、Vcomシフトのずれる方向が予め確定しているので、従来の技術のようにいずれにずれるか不確定であった場合に比べて、Vcomシフトについての補正を的確に行うことができる。したがって、フリッカー等の表示不具合の発生を抑制して表示品位の向上を図ることが可能な液晶装置100を提供することができる。 According to the liquid crystal device 100 according to the present embodiment, the counter electrode potential Vcom is shifted and set in advance so as to reduce the flicker caused by the parasitic capacitance of the switching element, so that the correction for the first phenomenon is incorporated. It is. In addition, since the length of the first period of the predetermined period is set longer than the length of the second period, correction for the second phenomenon is included. This correction is performed by the inventor of silicon oxide having a thickness smaller than the liquid crystal layer and higher specific resistance than the liquid crystal layer between the pixel electrode 12 on the element substrate 10 side and the first alignment film 13 A first alignment base film (first dielectric film) 38A made of (SiO 2 ) is disposed, and the first dielectric film 38A is interposed between the counter electrode 22 and the second alignment film 23 on the counter substrate 20 side. By arranging the second alignment base film (second dielectric film) 38B made of silicon oxide (SiO 2 ) having a smaller film thickness and a higher specific resistance than the liquid crystal layer, the effective voltage waveform has the potential of It is because it discovered that it shifted to a positive direction. This point has also been confirmed from the results of experiments conducted by the present inventors. That is, the film thickness is larger between the pixel electrode 12 on the element substrate 10 side and the first alignment film 13 than the second dielectric film 38B between the counter electrode 22 on the counter substrate 20 side and the second alignment film 23. By disposing the first dielectric film 38A, the Vcom shifts in the positive direction as compared with the case where the film thickness Ta1 of the first dielectric film 38A and the film thickness Ta2 of the second dielectric film 38B are the same (shifted). It became clear that the subsequent counter electrode potential Vcom2 is shifted in the positive direction from the counter electrode potential Vcom1 before the shift). As described above, since the shift direction of the Vcom shift is determined in advance, the correction for the Vcom shift can be performed more accurately than in the case where the shift is uncertain as in the prior art. Therefore, it is possible to provide the liquid crystal device 100 capable of improving display quality by suppressing occurrence of display defects such as flicker.

また、この構成によれば、画素電極12及び対向電極22が同じ材料(例えばITO)からなる場合に比べて、Vcomが正方向にシフトすることが明確になり、素子基板10と対向基板20の特性の非対称性が顕著となる。この点については、本発明者が行った実験結果からも確認されている。このため、画素電極12及び対向電極22が例えばITOからなる場合に比べて、液晶層を挟持する素子基板10と対向基板20との特性差に起因した直流電圧成分が顕著に発生することとなる。したがって、フリッカー等の表示不具合の発生を抑制して表示品位の向上を図ることが可能となる。   Also, according to this configuration, it is clear that Vcom shifts in the positive direction as compared with the case where the pixel electrode 12 and the counter electrode 22 are made of the same material (for example, ITO). The characteristic asymmetry becomes remarkable. This point has also been confirmed from the results of experiments conducted by the present inventors. For this reason, compared with the case where the pixel electrode 12 and the counter electrode 22 are made of, for example, ITO, a direct-current voltage component due to the characteristic difference between the element substrate 10 and the counter substrate 20 sandwiching the liquid crystal layer is significantly generated. . Therefore, it is possible to improve display quality by suppressing the occurrence of display defects such as flicker.

本実施形態に係る液晶装置100の駆動方法によれば、対向電極電位Vcomがスイッチング素子の寄生容量に起因するフリッカーを低減するように予めシフトして設定されているため、第1の現象についての補正が盛り込まれている。また、所定の期間のうち第1の期間の長さが第2の期間の長さよりも長く設定するため、第2の現象についての補正も盛り込まれることとなる。この補正は、本発明者が、素子基板10側の画素電極12と第1配向膜13との間に、液晶層よりも膜厚が薄く、かつ、液晶層よりも高比抵抗の、酸化シリコン(SiO)からなる第1配向下地膜(第1誘電体膜)38Aを配置し、対向基板20側の対向電極22と第2配向膜23との間に、前記第1誘電体膜よりも膜厚が薄く、かつ、液晶層よりも高比抵抗の、酸化シリコン(SiO)からなる第2配向下地膜(第2誘電体膜)38Bを配置することにより、実効電圧波形が電位の正方向にシフトすることを見出したことによる。この点については、本発明者が行った実験結果からも確認されている。したがって、フリッカー等の表示不具合の発生を抑制して表示品位の向上を図ることが可能となる。 According to the driving method of the liquid crystal device 100 according to the present embodiment, the counter electrode potential Vcom is set in advance so as to reduce flicker due to the parasitic capacitance of the switching element. Correction is incorporated. In addition, since the length of the first period of the predetermined period is set longer than the length of the second period, correction for the second phenomenon is also incorporated. This correction is performed by the inventor of silicon oxide having a film thickness thinner than the liquid crystal layer and higher specific resistance than the liquid crystal layer between the pixel electrode 12 on the element substrate 10 side and the first alignment film 13. A first alignment base film (first dielectric film) 38A made of (SiO 2 ) is disposed, and is disposed between the counter electrode 22 and the second alignment film 23 on the counter substrate 20 side than the first dielectric film. By disposing the second alignment base film (second dielectric film) 38B made of silicon oxide (SiO 2 ) having a small film thickness and a higher specific resistance than the liquid crystal layer, the effective voltage waveform has a positive potential. By finding that it shifts in the direction. This point has also been confirmed from the results of experiments conducted by the present inventors. Therefore, it is possible to improve display quality by suppressing the occurrence of display defects such as flicker.

また、この液晶装置100の駆動方法によれば、フリッカー許容限に対応する最適な時間配分比率となっているので第2の現象に対する補正を効果的に行うことができる。これに対して、第1の期間の長さと第2の期間の長さとの比が43.5/56.5よりも小さいと第1の期間の長さが長すぎてしまい効果的な補正とはならない場合がある。また、第1の期間の長さと第2の期間の長さとの比が46.5/53.5よりも大きいと第1の期間の長さが短すぎてしまい効果的な補正とはならない場合がある。   Further, according to the driving method of the liquid crystal device 100, since the optimal time distribution ratio corresponding to the flicker tolerance is obtained, the second phenomenon can be effectively corrected. On the other hand, if the ratio of the length of the first period to the length of the second period is smaller than 43.5 / 56.5, the length of the first period is too long and effective correction is achieved. May not be. In addition, when the ratio of the length of the first period to the length of the second period is larger than 46.5 / 53.5, the length of the first period is too short to be an effective correction. There is.

なお、本実施形態では、素子基板10側の画素電極12と第1配向膜13との間に対向基板20側の対向電極22と第2配向膜23との間の第2誘電体膜38Bよりも膜厚が厚い第1誘電体膜38Aを配置する場合を例に挙げて説明したが、これに限らない。以下、本実施形態とは異なる形態の誘電体膜を備える液晶パネルについて図13を用いて説明する。   In the present embodiment, the second dielectric film 38B between the counter electrode 22 on the counter substrate 20 side and the second alignment film 23 is provided between the pixel electrode 12 on the element substrate 10 side and the first alignment film 13. Although the case where the first dielectric film 38A having a large film thickness is disposed has been described as an example, the present invention is not limited thereto. Hereinafter, a liquid crystal panel including a dielectric film having a different form from the present embodiment will be described with reference to FIG.

(第2実施形態)
図13は、第2実施形態に係る液晶パネル100Bの概略構成を示す断面図である。なお、図13は図5に対応する液晶パネル100Bの概略構成を示す断面図である。本実施形態における液晶パネル100Bは、素子基板10A側の画素電極12と第1配向膜13との間に対向基板20A側の対向電極22と第2配向膜23との間の第2誘電体膜138Bよりも膜厚が薄い第1誘電体膜138Aが配置されている点で第1実施形態における液晶パネル100Aと異なる。図13において、図5と同様の要素には同一の符号を付し、詳細な説明を省略する。また、図13において、符号Tb1は第1配向下地膜(第1誘電体膜)138Aの膜厚、符号Tb2は第2配向下地膜(第2誘電体膜)138Bの膜厚である。
(Second Embodiment)
FIG. 13 is a cross-sectional view illustrating a schematic configuration of a liquid crystal panel 100B according to the second embodiment. FIG. 13 is a cross-sectional view showing a schematic configuration of a liquid crystal panel 100B corresponding to FIG. In the present embodiment, the liquid crystal panel 100B includes a second dielectric film between the pixel electrode 12 on the element substrate 10A side and the first alignment film 13 and the counter electrode 22 on the counter substrate 20A side and the second alignment film 23. It differs from the liquid crystal panel 100A in the first embodiment in that a first dielectric film 138A having a thickness smaller than 138B is disposed. In FIG. 13, elements similar to those in FIG. 5 are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted. In FIG. 13, the symbol Tb1 is the thickness of the first alignment underlying film (first dielectric film) 138A, and the symbol Tb2 is the thickness of the second alignment underlying film (second dielectric film) 138B.

図13に示すように、液晶パネル100Bは、素子基板10Aと、これに対向配置された対向基板20Aと、これらの間に挟持された液晶層とを備えて構成されている。素子基板10Aは、ガラスや石英等の透光性材料からなる基板本体11、及びその内側(液晶層側)に形成されたTFT40や画素電極12、さらにこれを覆う第1配向下地膜138A及び第1配向膜13などを備えている。一方の対向基板20Aは、ガラスや石英等の透光性材料からなる基板本体21、及びその内側(液晶層側)に形成された遮光膜24、この遮光膜24を覆う対向電極22、さらにこれを覆う第2配向下地膜138B及び第2配向膜23などを備えている。   As shown in FIG. 13, the liquid crystal panel 100B includes an element substrate 10A, a counter substrate 20A disposed to face the element substrate 10A, and a liquid crystal layer sandwiched therebetween. The element substrate 10A includes a substrate body 11 made of a translucent material such as glass and quartz, the TFT 40 and the pixel electrode 12 formed on the inner side (liquid crystal layer side), a first alignment base film 138A and a first alignment base film 138A covering the TFT 40 and the pixel electrode 12. One alignment film 13 and the like are provided. One counter substrate 20A includes a substrate body 21 made of a translucent material such as glass or quartz, a light shielding film 24 formed on the inner side (liquid crystal layer side), a counter electrode 22 covering the light shielding film 24, and further A second alignment base film 138B, a second alignment film 23, and the like are provided.

素子基板10Aの側には、画素電極12が設けられており、その上側には、第1配向膜13が設けられている。画素電極12は、例えばアルミニウム(Al)等の導電性膜からなっている。画素電極12の厚さは、例えば180nm以上220nm以下になっている。また、第1配向膜13の膜厚は、例えば40nm以上80nm以下となっている。   The pixel electrode 12 is provided on the element substrate 10A side, and the first alignment film 13 is provided on the upper side. The pixel electrode 12 is made of a conductive film such as aluminum (Al). The thickness of the pixel electrode 12 is, for example, not less than 180 nm and not more than 220 nm. The film thickness of the first alignment film 13 is, for example, not less than 40 nm and not more than 80 nm.

他方、対向基板20Aの側には、その全面に渡って対向電極22が設けられており、その上側には、第2配向膜23が設けられている。この対向電極22は、例えばITO膜等の透明導電性膜からなっている。対向電極22の厚さは、例えば120nm以上160nm以下になっている。また、第2配向膜23の膜厚は、例えば40nm以上80nm以下となっている。   On the other hand, the counter electrode 22 is provided on the entire surface of the counter substrate 20A, and the second alignment film 23 is provided on the upper side thereof. The counter electrode 22 is made of a transparent conductive film such as an ITO film. The thickness of the counter electrode 22 is 120 nm or more and 160 nm or less, for example. The film thickness of the second alignment film 23 is, for example, not less than 40 nm and not more than 80 nm.

素子基板10Aの側における画素電極12の上には、第1配向下地膜138A(第1誘電体膜)が形成されている。この第1配向下地膜138Aは、液晶層よりも膜厚が薄く、かつ、液晶層よりも高比抵抗の、酸化シリコン(SiO)からなる誘電体膜である。この第1配向下地膜138Aの膜厚Tb1は、例えば60nm以上90nm以下(本実施形態では75nm)となっている。また、第1配向下地膜138Aの上には、第1配向膜13が形成されている。 On the pixel electrode 12 on the element substrate 10A side, a first alignment base film 138A (first dielectric film) is formed. The first alignment base film 138A is a dielectric film made of silicon oxide (SiO 2 ) having a thickness smaller than that of the liquid crystal layer and higher specific resistance than that of the liquid crystal layer. The film thickness Tb1 of the first alignment base film 138A is, for example, not less than 60 nm and not more than 90 nm (75 nm in this embodiment). A first alignment film 13 is formed on the first alignment base film 138A.

他方、対向基板20Aの側においては、対向電極22と第2配向膜23との間に、第2配向下地膜138B(第2誘電体膜)が形成されている。この第2配向下地膜138Bは、前記第1配向下地膜138Aよりも膜厚が厚く、かつ、液晶層よりも高比抵抗の、酸化シリコン(SiO)からなる誘電体膜である。この第2配向下地膜138Bの膜厚Tb2は、例えば240nm以上360nm以下(本実施形態では300nm)となっている(Tb2>Tb1)。 On the other hand, on the counter substrate 20A side, a second alignment base film 138B (second dielectric film) is formed between the counter electrode 22 and the second alignment film 23. The second alignment base film 138B is a dielectric film made of silicon oxide (SiO 2 ) having a thickness larger than that of the first alignment base film 138A and higher specific resistance than the liquid crystal layer. The film thickness Tb2 of the second alignment base film 138B is, for example, 240 nm or more and 360 nm or less (300 nm in this embodiment) (Tb2> Tb1).

図14は、第2実施形態に係るゲート電圧及び駆動電圧波形を示すチャートを示す図である。なお、図14(a)は、図6(a)に対応する、ゲート電圧及び駆動電圧波形を示すチャートである。図14(b)は、図6(b)に対応する、液晶層の実効電圧波形を示すチャートである。図14(c)は、図6(c)に対応する、図14(b)からある程度の駆動時間経過後の液晶層の実効電圧波形を示すチャートである。本実施形態における液晶層の実効電圧波形は、ある程度の駆動時間経過後に、電位の正方向にシフトする点で第1実施形態における液晶層の実効電圧波形と異なる。図14において、図6と同様の要素には同一の符号を付し、詳細な説明を省略する。なお、図14(a)〜図14(c)において、横軸は時間経過を示し、縦軸は電位を示している。   FIG. 14 is a diagram showing a chart showing gate voltage and drive voltage waveforms according to the second embodiment. FIG. 14A is a chart showing the gate voltage and drive voltage waveforms corresponding to FIG. FIG. 14B is a chart showing the effective voltage waveform of the liquid crystal layer corresponding to FIG. FIG. 14C is a chart showing the effective voltage waveform of the liquid crystal layer after a certain amount of driving time has elapsed from FIG. 14B, corresponding to FIG. The effective voltage waveform of the liquid crystal layer in the present embodiment is different from the effective voltage waveform of the liquid crystal layer in the first embodiment in that the voltage shifts in the positive direction after a certain amount of driving time has elapsed. 14, elements similar to those in FIG. 6 are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted. Note that in FIGS. 14A to 14C, the horizontal axis indicates the passage of time, and the vertical axis indicates the potential.

図14(a)に示すように、駆動電圧波形VDの電位は、ゲート電圧VGの立ち上がりと同期して、高電位EH(例えば12V)と低電位EL(例えば2V)とが交互に切り替わるようになっている。   As shown in FIG. 14A, the potential of the drive voltage waveform VD is switched between a high potential EH (for example, 12 V) and a low potential EL (for example, 2 V) alternately in synchronization with the rising of the gate voltage VG. It has become.

図14(b)に示すように、ゲート電圧VGが立ち上がるとスイッチング素子がオンになり、画素電極12が充電される。液晶層の実効電圧波形VL1の電位は、概ね低電位ELから高電位EHまで上昇する。   As shown in FIG. 14B, when the gate voltage VG rises, the switching element is turned on and the pixel electrode 12 is charged. The potential of the effective voltage waveform VL1 of the liquid crystal layer generally rises from the low potential EL to the high potential EH.

図14(c)に示すように、ある程度の期間だけ液晶層を駆動した後の実効電圧波形VL2は、駆動開始直後の実効電圧波形VL1からシフトすることが多い。なお、実効電圧波形VL2は、電位の正負方向のいずれにシフトする場合もあるが、図14(c)には負方向にシフトしている状態を図示している。シフトした実効電圧波形VL2に対して、正負のバランスを取るように最適化された対向電極電位Vcom2を考える。シフト後の対向電極電位Vcom2は、シフト前の対向電極電位Vcom1から負方向にずれることになる。   As shown in FIG. 14C, the effective voltage waveform VL2 after driving the liquid crystal layer for a certain period often shifts from the effective voltage waveform VL1 immediately after the start of driving. Note that the effective voltage waveform VL2 may shift in either the positive or negative direction of the potential, but FIG. 14C illustrates a state in which the effective voltage waveform VL2 is shifted in the negative direction. Consider a counter electrode potential Vcom2 that is optimized to balance positive and negative with respect to the shifted effective voltage waveform VL2. The counter electrode potential Vcom2 after the shift is shifted in the negative direction from the counter electrode potential Vcom1 before the shift.

ここで、従来の技術では、実効電圧波形VL2が電位の正負方向のいずれにシフトするかは不確定であった。つまり、シフト後の対向電極電位Vcom2は、シフト前の対向電極電位Vcom1から正負方向のいずれにずれることになるかは不確定であった。   Here, in the conventional technique, it is uncertain whether the effective voltage waveform VL2 shifts in the positive or negative direction of the potential. That is, it is uncertain whether the counter electrode potential Vcom2 after the shift is shifted in the positive or negative direction from the counter electrode potential Vcom1 before the shift.

しかし、本発明者は、素子基板10A側の画素電極12と第1配向膜13との間に、液晶層よりも膜厚が薄く、かつ、液晶層よりも高比抵抗の、酸化シリコン(SiO)からなる第1配向下地膜(第1誘電体膜)138Aを配置し、対向基板20A側の対向電極22と第2配向膜23との間に、前記第1誘電体膜138Aよりも膜厚が厚く、かつ、液晶層よりも高比抵抗の、酸化シリコン(SiO)からなる第2配向下地膜(第2誘電体膜)138Bを配置することにより、正負のバランスを取るように最適化された実効電圧波形VL2が電位の負方向にシフトすること(Vcomシフトが負方向にシフトすること)を見出した。この点については、本発明者が行った実験結果からも確認されている。 However, the present inventor has proposed that silicon oxide (SiO 2) between the pixel electrode 12 on the element substrate 10A side and the first alignment film 13 is thinner than the liquid crystal layer and has a higher specific resistance than the liquid crystal layer. 2 ), a first alignment base film (first dielectric film) 138A is disposed, and a film is formed between the counter electrode 22 on the counter substrate 20A side and the second alignment film 23 more than the first dielectric film 138A. Optimal so as to balance positive and negative by disposing a second alignment base film (second dielectric film) 138B made of silicon oxide (SiO 2 ) that is thick and has a higher specific resistance than the liquid crystal layer. It was found that the converted effective voltage waveform VL2 shifts in the negative direction of the potential (Vcom shift shifts in the negative direction). This point has also been confirmed from the results of experiments conducted by the present inventors.

図15は、本発明者が行った実験により得られた、経過時間とVcomシフトの関係を示す図である。なお、図15において、横軸は経過時間、縦軸はVcomシフトを示している。ここで、Vcomシフトは、シフト前の対向電極電位Vcom1とシフト後の対向電極電位Vcom2との差分、つまりVcom2−Vcom1の値とする。また、図15において、「△」は素子基板10A側の第1誘電体膜138Aの膜厚Tb1(75nm)が対向基板20A側の第2誘電体膜138Bの膜厚Tb2(300nm)よりも薄い状態(Tb1<Tb2)を示している。また、Vcomシフトが0のときは、第1誘電体膜138Aの膜厚Tb1及び第2誘電体膜138Bの膜厚Tb2が同じ状態(Tb1=Tb2)を示している。また、図15においては、振幅が5Vである矩形波を印加したときのVcomシフトを測定している。   FIG. 15 is a diagram showing the relationship between the elapsed time and the Vcom shift obtained by an experiment conducted by the present inventor. In FIG. 15, the horizontal axis represents elapsed time, and the vertical axis represents Vcom shift. Here, the Vcom shift is a difference between the counter electrode potential Vcom1 before the shift and the counter electrode potential Vcom2 after the shift, that is, a value of Vcom2−Vcom1. In FIG. 15, “Δ” indicates that the film thickness Tb1 (75 nm) of the first dielectric film 138A on the element substrate 10A side is thinner than the film thickness Tb2 (300 nm) of the second dielectric film 138B on the counter substrate 20A side. The state (Tb1 <Tb2) is shown. When the Vcom shift is 0, the film thickness Tb1 of the first dielectric film 138A and the film thickness Tb2 of the second dielectric film 138B are the same (Tb1 = Tb2). Further, in FIG. 15, the Vcom shift is measured when a rectangular wave having an amplitude of 5V is applied.

図15に示すように、素子基板10A側の第1誘電体膜138Aの膜厚Tb1が対向基板20A側の第2誘電体膜138Bの膜厚Tb2よりも薄い状態「△」におけるVcomシフト量は、経過時間が長くなるにつれて減少している。このVcomシフトの減少勾配は、経過時間が長くなるにつれて緩やかになっている。また、このVcomシフト量は、減少勾配が緩やかになった状態において−0.5V程度となっている。Vcomシフト方向は、経過時間の全域において、第1誘電体膜138Aの膜厚Tb1及び第2誘電体膜138Bの膜厚Tb2が同じ状態(Vcomシフトが0)に比べて負方向にシフトしている。   As shown in FIG. 15, the Vcom shift amount in the state “Δ” where the film thickness Tb1 of the first dielectric film 138A on the element substrate 10A side is thinner than the film thickness Tb2 of the second dielectric film 138B on the counter substrate 20A side is , Decreases as the elapsed time becomes longer. The decreasing slope of the Vcom shift becomes gentle as the elapsed time becomes longer. In addition, the Vcom shift amount is about −0.5 V in a state where the decreasing gradient becomes gentle. In the Vcom shift direction, the film thickness Tb1 of the first dielectric film 138A and the film thickness Tb2 of the second dielectric film 138B are shifted in the negative direction over the entire elapsed time as compared with the same state (Vcom shift is 0). Yes.

Vcomシフトがある程度以上に大きくなると、低電位側の期間と高電位側の期間とで液晶層の変調作用の差が大きくなる。すると、表示された画像において、低電位側の期間に変調された光の光量と、高電位側の期間に変調された光の光量との違いが視認されて、画像のちらつき(フリッカー)を生じてしまう。   When the Vcom shift becomes larger than a certain level, the difference in the modulation effect of the liquid crystal layer increases between the low potential side period and the high potential side period. Then, in the displayed image, the difference between the amount of light modulated during the low potential side period and the amount of light modulated during the high potential side period is visually recognized, causing flickering of the image. End up.

本発明者は、実験データからの知見に基づき熟慮した結果、第1の現象に対する補正と、第2の現象に対する補正とを切り分けて補正するのが効果的であることに想到した。つまり、第1の現象の補正方法としては駆動電圧に係らず一定の補正電圧を掛けるとともに、第2の現象に対する補正方法としては、その特性差による直流電圧成分の方向及び大きさに応じて、正極性が保持される期間長の割合を負極性が保持される期間長の割合に比べて短くする方法である。   As a result of careful consideration based on knowledge from experimental data, the present inventor has come up with the idea that it is effective to divide and correct the correction for the first phenomenon and the correction for the second phenomenon. That is, as a correction method for the first phenomenon, a constant correction voltage is applied regardless of the drive voltage, and as a correction method for the second phenomenon, depending on the direction and magnitude of the DC voltage component due to the characteristic difference, In this method, the ratio of the period length in which the positive polarity is maintained is shorter than the ratio of the period length in which the negative polarity is maintained.

一方、フリッカーの経時変化が最小となるような極性時間比率を探索すること(以下、単に探索という)には膨大な時間を要していた。例えば、探索の際の調整には、1回の計測点当たり10分〜60分程度の通電時間を要していた。
しかし、本発明者が、素子基板10A側の画素電極12と第1配向膜13との間に、液晶層よりも膜厚が薄く、かつ、液晶層よりも高比抵抗の、酸化シリコン(SiO)からなる第1配向下地膜(第1誘電体膜)138Aを配置し、対向基板20A側の対向電極22と第2配向膜23との間に、前記第1誘電体膜138Aよりも膜厚が厚く、かつ、液晶層よりも高比抵抗の、酸化シリコン(SiO)からなる第2配向下地膜(第2誘電体膜)138Bを配置することにより、実効電圧波形VL2が電位の負方向にシフトすることを見出したことによって、探索に要する時間を短くすることが可能となった。
On the other hand, searching for a polar time ratio that minimizes the change in flicker over time (hereinafter simply referred to as “searching”) required an enormous amount of time. For example, the adjustment at the time of search required energization time of about 10 to 60 minutes per one measurement point.
However, the present inventor has proposed that silicon oxide (SiO 2) between the pixel electrode 12 on the element substrate 10A side and the first alignment film 13 is thinner than the liquid crystal layer and has a higher specific resistance than the liquid crystal layer. 2 ), a first alignment base film (first dielectric film) 138A is disposed, and a film is formed between the counter electrode 22 on the counter substrate 20A side and the second alignment film 23 more than the first dielectric film 138A. By disposing the second alignment base film (second dielectric film) 138B made of silicon oxide (SiO 2 ) having a large thickness and a higher specific resistance than the liquid crystal layer, the effective voltage waveform VL2 has a negative potential. The discovery of shifting in the direction has made it possible to shorten the time required for the search.

図16は、本発明者が行った探索により得られた、時間比率(Duty)とVcomシフトの関係を示す図である。なお、図16において、横軸はDuty(正極性電圧の印加時間と負極性電圧の印加時間との時間比率)、縦軸はVcomシフト(Vcom2−Vcom1)を示している。ここで、横軸と縦軸の交点をDuty50:50とし、横軸の右側を正極性電圧の印加時間が長くなる方向とする。また、縦軸の上側をVcomシフトが正となる方向とする。また、図16において、符号P1は一回目(最初)の計測点、符号P2は二回目の計測点、符号P3は三回目の計測点、符号P4は四回目の計測点、符号P5は五回目(最後)の計測点を示している。また、図16においては、計5回の計測によって探索を行っているが、この回数に限定されることなく、適宜必要に応じて計測数を変更してもよい。   FIG. 16 is a diagram showing the relationship between the time ratio (Duty) and the Vcom shift obtained by the search performed by the present inventor. In FIG. 16, the horizontal axis represents Duty (time ratio between the application time of the positive polarity voltage and the application time of the negative polarity voltage), and the vertical axis represents the Vcom shift (Vcom2−Vcom1). Here, the intersection of the horizontal axis and the vertical axis is Duty 50:50, and the right side of the horizontal axis is the direction in which the positive voltage application time becomes longer. The upper side of the vertical axis is the direction in which the Vcom shift is positive. Further, in FIG. 16, reference numeral P1 is the first (first) measurement point, reference P2 is the second measurement point, reference P3 is the third measurement point, reference P4 is the fourth measurement point, and reference P5 is the fifth. The (last) measurement point is shown. In FIG. 16, the search is performed by measuring a total of five times, but the number is not limited to this number, and the number of measurements may be changed as necessary.

図16に示すように、第1回目の計測点P1をDutyが50%以下となる領域に配置する。この点については、上述した実験結果により、対向基板20側の対向電極22と第2配向膜23との間に上述した誘電体膜を配置するとVcomシフト方向が負方向にずれることから明確となる。つまり、右下がりの線になること及び第5回目の計測点P5が時間比率50%よりも小さくなることから、少なくともDutyが50%よりも大きい領域を除いた範囲内(Dutyが50%以下となる領域内)で計測すればよい。このため、第1回目の計測点P1をDutyが50%よりも大きい領域に配置することが不要となり、測定頻度を少なくすることができる。   As shown in FIG. 16, the first measurement point P1 is arranged in a region where the duty is 50% or less. This point becomes clear from the above-described experimental results that the Vcom shift direction is shifted in the negative direction when the above-described dielectric film is disposed between the counter electrode 22 on the counter substrate 20 side and the second alignment film 23. . That is, since it becomes a downward-sloping line and the fifth measurement point P5 is smaller than the time ratio 50%, at least within the range excluding the region where the duty is larger than 50% (the duty is 50% or less). In the region). For this reason, it is not necessary to arrange the first measurement point P1 in a region where the duty is larger than 50%, and the measurement frequency can be reduced.

次に、第2回目の計測点P2を、横軸を挟んで第1回目の計測点P1よりもDutyの小さい側に配置する。このように、第1回目の測定結果に基いてパラメータ(Duty)を変化させる正負方向を決定することができる。つまり、第2回目の計測点P2を第1回目の計測点P1よりもDutyの大きい側に配置することが不要となり、測定頻度を少なくすることができる。また、第1回目の計測点P1と第2回目の計測点P2とがプロットされることにより、右下がりの線の傾きを近似的に算出することができる。   Next, the second measurement point P2 is arranged on the smaller duty side than the first measurement point P1 across the horizontal axis. Thus, the positive / negative direction in which the parameter (Duty) is changed can be determined based on the first measurement result. That is, it is not necessary to arrange the second measurement point P2 on the larger duty side than the first measurement point P1, and the measurement frequency can be reduced. In addition, by plotting the first measurement point P1 and the second measurement point P2, it is possible to approximately calculate the slope of the right-downward line.

次に、第3回目の計測点P3を、近似的に算出された傾きに沿って第1回目の計測点P1と横軸との間に配置する。また、第4回目の計測点P4を、近似的に算出された傾きに沿って第2回目の計測点P2と横軸との間に配置する。このように、Vcomシフトが概ね0になる(Vcom2−Vcom1)の値を推定しつつ、探索範囲を狭めていく。第3回目の計測点P3と第4回目の計測点P4とがプロットされることにより、フリッカーの許容限に対応するVcomシフトを近似的に算出することができる。   Next, the third measurement point P3 is arranged between the first measurement point P1 and the horizontal axis along the approximately calculated inclination. Further, the fourth measurement point P4 is arranged between the second measurement point P2 and the horizontal axis along the approximately calculated inclination. In this way, the search range is narrowed while estimating the value of (Vcom2-Vcom1) at which the Vcom shift is approximately zero. By plotting the third measurement point P3 and the fourth measurement point P4, it is possible to approximately calculate the Vcom shift corresponding to the flicker tolerance.

そして、第5回目の計測点P5を横軸上に配置する。具体的には、第5回目の計測点P5は、計測点P1〜P4を近似的に結ぶ直線及び横軸の交点となる。以上により、フリッカーの経時変化が最小となるような極性時間比率を算出することができる。したがって、この調整方法によれば、測定頻度を減らすことによって探索に要する時間を短くすることができる。   Then, the fifth measurement point P5 is arranged on the horizontal axis. Specifically, the fifth measurement point P5 is an intersection of a straight line and a horizontal axis that approximately connect the measurement points P1 to P4. From the above, it is possible to calculate the polar time ratio that minimizes the flicker change with time. Therefore, according to this adjustment method, the time required for searching can be shortened by reducing the measurement frequency.

(液晶装置の駆動方法)
以下説明する液晶装置の駆動方法は、本発明者が想到内容を具体的に実現するために熟慮及び創意工夫の上創出したものである。
図17は、指定値Qが「−1」のときの走査信号系のタイミングチャートである。また、本実施形態では、複数の走査線61を第1走査線群と第2走査線群に分けて、1つのフレームにおいて、第1走査線群におけるいずれか1本の走査線61と、第2走査線群におけるいずれか1本の走査線61とを交互に選択するとともに、1つのフレームにおいて各走査線61を2回ずつ選択する。いわゆる倍速領域走査反転駆動を用いている。なお、本実施形態において、操作子170(図1参照)は、例えばユーザー等により操作され、その操作に応じた指定値Qを例えば「−10」から「0」までの範囲で出力するものとなっている。
(Driving method of liquid crystal device)
The driving method of the liquid crystal device described below has been created by the present inventor with careful consideration and ingenuity in order to realize the conceived contents specifically.
FIG. 17 is a timing chart of the scanning signal system when the designated value Q is “−1”. In the present embodiment, the plurality of scanning lines 61 are divided into the first scanning line group and the second scanning line group, and in one frame, any one scanning line 61 in the first scanning line group, Any one scanning line 61 in the two scanning line groups is alternately selected, and each scanning line 61 is selected twice in one frame. So-called double speed area scanning inversion driving is used. In this embodiment, the operator 170 (see FIG. 1) is operated by a user or the like, for example, and outputs a specified value Q corresponding to the operation in a range from “−10” to “0”, for example. It has become.

まず、走査線61の駆動方法について説明する。図17は、走査線駆動回路130により出力される走査信号G1〜G480を、スタートパルスとクロック信号との関係において示すタイミングチャートである。ここで、フレームとは、1枚の画像を液晶パネル100Aに表示させるのに要する期間をいう。また、1フレームの期間(所定の期間)のうち、第1スタートパルスDyaが出力されてから第2スタートパルスDybが出力されるまでの期間を第1フィールド(第1の期間)とし、第2スタートパルスDybが出力されてから次の第1スタートパルスDyaが出力されるまでの期間を第2フィールド(第2の期間)としている。また、1つの走査線61は、1フレームの期間において、フィールドごとに1回ずつ、つまり、2回選択されている。   First, a method for driving the scanning line 61 will be described. FIG. 17 is a timing chart showing the scanning signals G1 to G480 output from the scanning line driving circuit 130 in relation to the start pulse and the clock signal. Here, the frame refers to a period required to display one image on the liquid crystal panel 100A. Further, a period from the output of the first start pulse Dya to the output of the second start pulse Dyb in the period of one frame (predetermined period) is defined as a first field (first period), and the second A period from when the start pulse Dyb is output until the next first start pulse Dya is output is defined as a second field (second period). One scanning line 61 is selected once for each field, that is, twice in one frame period.

本実施形態における垂直同期信号Vsは、上述したように周波数120Hzであるので、1フレームの期間についても8.33ミリ秒で固定である。制御回路152(図1参照)は、デューティー比が50%のクロック信号を、1フレームの期間に亘って走査線61数に等しい480周期分出力する。なお、クロック信号の1周期分の期間をHと表記している。   Since the vertical synchronization signal Vs in this embodiment has a frequency of 120 Hz as described above, the period of one frame is also fixed at 8.33 milliseconds. The control circuit 152 (see FIG. 1) outputs a clock signal having a duty ratio of 50% for 480 periods equal to the number of scanning lines 61 over a period of one frame. Note that a period of one cycle of the clock signal is denoted as H.

また、制御回路152は、クロック信号の1周期分のパルス幅を有するスタートパルスを、それぞれクロック信号がHレベルの立ち上がり時において、それぞれ次のように出力する。すなわち、制御回路152は、第1スタートパルスDyaを1フレームの期間の最初(第1フィールドの最初)に出力する。一方、制御回路152は、指定値Qが負の値であるため、第2スタートパルスDybを、第1スタートパルスDyaを出力してからクロック信号の240周期分を出力したタイミングTmよりも「Q×H」だけ早く出力する。   Further, the control circuit 152 outputs a start pulse having a pulse width corresponding to one cycle of the clock signal when the clock signal rises to the H level as follows. That is, the control circuit 152 outputs the first start pulse Dya at the beginning of one frame period (the first field). On the other hand, since the designated value Q is a negative value, the control circuit 152 causes the second start pulse Dyb to be “Q” more than the timing Tm at which 240 cycles of the clock signal are output after the first start pulse Dya is output. Outputs “X” earlier.

よって、図17に示すように、指定値Qが「−1」であった場合、第2スタートパルスDybは、タイミングTmよりもクロック信号の1周期分だけ先行したタイミングTm(−1)で出力される。   Therefore, as shown in FIG. 17, when the designated value Q is “−1”, the second start pulse Dyb is output at timing Tm (−1) preceding the timing Tm by one cycle of the clock signal. Is done.

ここで、スタートパルスは交互に出力される一方、第1スタートパルスDyaの出力タイミングは、指定値Qにかかわらず変更されない。このため、1フレーム(8.33ミリ秒)毎に出力される第1スタートパルスDyaを特定すると、必然的に第2フィールドの開始を規定する第2スタートパルスDybも特定することができる。   Here, while the start pulses are alternately output, the output timing of the first start pulse Dya is not changed regardless of the designated value Q. For this reason, if the first start pulse Dya output every frame (8.33 milliseconds) is specified, the second start pulse Dyb which inevitably defines the start of the second field can also be specified.

走査線駆動回路130は、このようなスタートパルス及びクロック信号から、次のような操作信号を出力する。すなわち、走査線駆動回路130は、第1スタートパルスDyaが供給されると、クロック信号がLレベルに変化するごとに走査信号G1〜G480を順次Hレベルとする。一方、走査線駆動回路130は、第2スタートパルスDybが供給されると、クロック信号がHレベルに変化するごとに走査信号G1〜G480を順次Hレベルとする。   The scanning line driving circuit 130 outputs the following operation signal from the start pulse and the clock signal. That is, when the first start pulse Dya is supplied, the scanning line driving circuit 130 sequentially sets the scanning signals G1 to G480 to the H level each time the clock signal changes to the L level. On the other hand, when the second start pulse Dyb is supplied, the scanning line driving circuit 130 sequentially sets the scanning signals G1 to G480 to the H level each time the clock signal changes to the H level.

第1スタートパルスDyaは、1フレームの期間(第1フィールド)の最初に供給されるので、当該第1スタートパルスDyaの供給を契機とする走査線61の選択は指定値Qによって変化しない。また、当該第1スタートパルスDyaの供給を契機とする走査線61の選択は、クロック信号がLレベルである期間に実行されるので、第1フィールド及び第2フィールドに亘って1行目の走査線61を開始点として画面下方向に向かって2、3、4、…、480行目の順番でクロック信号の半周期の期間をおいて実行されることになる。   Since the first start pulse Dya is supplied at the beginning of one frame period (first field), the selection of the scanning line 61 triggered by the supply of the first start pulse Dya does not change depending on the designated value Q. Since the selection of the scanning line 61 triggered by the supply of the first start pulse Dya is executed in a period in which the clock signal is at the L level, the scanning of the first row over the first field and the second field is performed. It is executed with a half cycle period of the clock signal in the order of the second, third, fourth,.

一方、第2スタートパルスDybは、第2フィールドの最初に供給されるので、当該スタートパルスを契機とする走査線61の選択は、指定値Qによって全体的に前後することになる、すなわち、当該第2スタートパルスDybの供給を契機とする走査線61の選択は、クロック信号がHレベルである期間に実行されるので、あるフレームの第2フィールドから次のフレームの第1フィールドに亘って1行目の走査線61を開始点として画面下方向に向かって2、3、4、…、480行目の順番で、第1スタートパルスDyaの供給を契機とする選択の合間において実行されることになる。つまり、あるフレームの第2フィールドにおける1〜240行目の選択は、例えば指定値Qが「−1」であれば、タイミングTmよりもクロック信号の1周期分だけ全体的に先行した関係となる。
なお、データ線62の駆動方法については、第1実施形態と同様であるのでその詳細な説明を省略する(図10及び図11参照)。
On the other hand, since the second start pulse Dyb is supplied at the beginning of the second field, the selection of the scanning line 61 triggered by the start pulse is entirely changed by the designated value Q. Since the selection of the scanning line 61 triggered by the supply of the second start pulse Dyb is executed during a period in which the clock signal is at the H level, 1 is selected from the second field of one frame to the first field of the next frame. Executed between the selections triggered by the supply of the first start pulse Dya in the order of rows 2, 3, 4,..., 480 from the scanning line 61 of the row toward the bottom of the screen. become. That is, selection of the 1st to 240th lines in the second field of a certain frame has a relationship that precedes the timing Tm by one cycle of the clock signal as a whole if the specified value Q is “−1”, for example. .
Since the driving method of the data line 62 is the same as that of the first embodiment, the detailed description thereof is omitted (see FIGS. 10 and 11).

続いて、駆動方法の全般について説明する。
まず、図1において、制御回路152は、外部装置から供給される表示データVideoを、フレームメモリ157に記憶させる。その後、液晶パネル100Aにおいてある画素行の走査線61が選択されるとき、当該画素行の表示データVideoを記憶速度の倍の速度で読み出させる。そして、DAコンバーター158によりアナログのデータ信号Vidに変換する。これとともに、表示データVideoの読み出しに合わせて、サンプリング信号S1〜S640が順次Hレベルとなるように、制御信号を介してサンプリング信号出力回路142を制御する。
Next, the overall driving method will be described.
First, in FIG. 1, the control circuit 152 stores display data Video supplied from an external device in the frame memory 157. Thereafter, when the scanning line 61 of a certain pixel row is selected in the liquid crystal panel 100A, the display data Video of the pixel row is read at a speed twice the storage speed. Then, it is converted into an analog data signal Vid by the DA converter 158. At the same time, the sampling signal output circuit 142 is controlled via the control signal so that the sampling signals S1 to S640 sequentially become H level in accordance with the reading of the display data Video.

図17に示すように、指定値Qが例えば「−1」である場合、第2スタートパルスDybがタイミングTmよりもクロック信号の1周期分だけ時間的に前方のタイミングで出力される。このため、指定値Qが「−1」であれば、第1フィールドの期間はクロック信号の239周期分となるのに対し、第2フィールドの期間はクロック信号の241周期分となる。   As shown in FIG. 17, when the designated value Q is “−1”, for example, the second start pulse Dyb is output at a timing earlier in time by one cycle of the clock signal than the timing Tm. Therefore, if the designated value Q is “−1”, the period of the first field is 239 periods of the clock signal, whereas the period of the second field is 241 periods of the clock signal.

また、第1フィールドにおいて走査線61が242、1、243、2、244、3、…、480、239行目という順番で選択される。このため、制御回路152は、はじめに242行目の走査線61が選択されるように、走査線駆動回路130を制御する。一方、制御回路152は、表示データ処理回路156に対し、フレームメモリ157に記憶された242行目に相当する表示データVideoを倍速で読み出させる。そして、DAコンバーター158により負極性のデータ信号Vidを生成させるとともに、データ信号Vidの読み出しに合わせて、図10に示すように、サンプリング信号S1〜S640が順番に排他的にHレベルとなるようにサンプリング信号出力回路142を制御する。サンプリング信号S1〜S640が順番にHレベルになると、TFT40が順番にオンして画像信号線に供給されたデータ信号Vidが1〜640列目のデータ線62にサンプリングされる。   In the first field, the scanning lines 61 are selected in the order of 242, 1, 243, 2, 244, 3,. Therefore, the control circuit 152 first controls the scanning line driving circuit 130 so that the scanning line 61 in the 242nd row is selected. On the other hand, the control circuit 152 causes the display data processing circuit 156 to read the display data Video corresponding to the 242nd row stored in the frame memory 157 at double speed. Then, the DA converter 158 generates a negative data signal Vid, and the sampling signals S1 to S640 are sequentially set to the H level exclusively as shown in FIG. 10 in accordance with the reading of the data signal Vid. The sampling signal output circuit 142 is controlled. When the sampling signals S1 to S640 are sequentially set to the H level, the TFTs 40 are sequentially turned on, and the data signal Vid supplied to the image signal lines is sampled on the data lines 62 in the 1st to 640th columns.

一方、走査線61が選択されると、走査信号G242がHレベルとなるので、242行目に位置する画素のTFT40がすべてオンする。このため、データ線62にサンプリングされたデータ信号Vidの負極性電圧がそのまま画素電極12に印加される。これにより、242行目であって1、2、3、4、…、639、640列の画素における液晶容量120には、表示データVideoで指定された階調に応じた負極性電圧が書き込まれて、保持される。以下、第1フィールドにおいては、同様な電圧書込の動作が、1、243、2、244、3、…、480、239行目という順番で実行される。これにより、1〜239行目の画素に対しては階調に応じた正極性電圧が書き込まれ、240〜480行目の画素に対しては階調に応じた負極性電圧が書き込まれて、それぞれ保持される。   On the other hand, when the scanning line 61 is selected, since the scanning signal G242 becomes H level, all the TFTs 40 of the pixels located in the 242nd row are turned on. Therefore, the negative voltage of the data signal Vid sampled on the data line 62 is applied to the pixel electrode 12 as it is. As a result, the negative voltage corresponding to the gradation specified by the display data Video is written in the liquid crystal capacitor 120 in the pixels of the 242nd row and the columns 1, 2, 3, 4,..., 639, 640. Held. Hereinafter, in the first field, the same voltage writing operation is executed in the order of 1, 2, 243, 2, 244, 3,. Thereby, a positive voltage corresponding to the gradation is written to the pixels in the first to 239th rows, and a negative voltage corresponding to the gradation is written to the pixels in the 240th to 480th rows. Retained respectively.

一方、第2フィールドにおいては、走査線61が1、240、2、241、3、242、…、241、480行目という順番で選択されるとともに、同一行における書込極性が反転される。このため、1〜239行目の画素に対しては階調に応じた負極性電圧が書き込まれ、240〜480行目の画素に対しては階調に応じた正極性電圧が書き込まれて、それぞれ保持される。   On the other hand, in the second field, the scanning line 61 is selected in the order of 1, 240, 2, 241, 3, 242, ..., 241, 480th row, and the writing polarity in the same row is inverted. For this reason, a negative voltage corresponding to the gradation is written to the pixels in the first to 239th rows, and a positive voltage corresponding to the gradation is written to the pixels in the 240th to 480th rows. Retained respectively.

図18は、指定値Qが「−1」である場合において、各行の書込状態を連続するフレームに亘る時間経過とともに示した図である。なお、最上段への走査線61への書き込み、つまり正極性保持期間の開始時刻は、正確には、第1スタートパルスDyaが供給された後、クロック信号の半周期先行したタイミングとなるが、図18では、簡略化して第1スタートパルスDyaに合わせている。   FIG. 18 is a diagram showing the writing state of each row as time passes over successive frames when the designated value Q is “−1”. Note that the writing to the scanning line 61 at the top, that is, the start time of the positive polarity holding period, is precisely the timing preceding the half cycle of the clock signal after the first start pulse Dya is supplied. In FIG. 18, it is simplified and matched with the first start pulse Dya.

図18に示すように、第1フィールドにおいて242、243、244、…、480行目の画素では負極性の書き込みがなされ、1、2、3、…、241行目の画素では正極性の書き込みがなされて、次の書き込みまで保持される。一方、第2フィールドにおいて1、2、3、…、241行目の画素では負極性の書き込みがなされ、242、243、244、…、480行目の画素では正極性の書き込みがなされて、同様に次の書き込みまで保持される。つまり、各フィールドにおいて、正極性を書き込む走査線61と、負極性を書き込む走査線61とが2本選択されているとも捉えることができる。   As shown in FIG. 18, in the first field, negative writing is performed on the pixels in the 242, 243, 244,..., 480th rows, and positive writing is performed on the pixels in the 1, 2, 3,. Is held until the next writing. On the other hand, negative-polarity writing is performed on the pixels in the first, second, third,..., And 241st rows in the second field, and positive-polarity writing is performed on the pixels on the 242nd, 243, 244,. Until the next write. That is, it can be understood that two scanning lines 61 for writing positive polarity and two scanning lines 61 for writing negative polarity are selected in each field.

このように、指定値Qが「−1」である場合、第2スタートパルスDybの出力タイミングが早くなる。このため、第2スタートパルスDybの供給を契機とする選択により書き込まれる負極性電圧の保持時間は、第1スタートパルスDyaの供給を契機とする選択により書き込まれる正極性電圧の保持時間よりも長くなる。つまり、指定値Qが負の値であれば、その絶対値が大きくなるにつれて、第2スタートパルスDybの供給を契機とする選択により書き込まれる負極性電圧の保持時間は、第1スタートパルスDyaの供給を契機とする選択により書き込まれる正極性電圧の保持時間よりも長くなる。このため、液晶容量120に印加される負極性の電圧実効値が正極性の電圧実効値を上回ることになる。   Thus, when the designated value Q is “−1”, the output timing of the second start pulse Dyb is advanced. Therefore, the holding time of the negative voltage written by the selection triggered by the supply of the second start pulse Dyb is longer than the holding time of the positive voltage written by the selection triggered by the supply of the first start pulse Dya. Become. That is, if the specified value Q is a negative value, as the absolute value thereof increases, the negative voltage holding time written by selection triggered by the supply of the second start pulse Dyb is the first start pulse Dya. It becomes longer than the holding time of the positive voltage written by the selection triggered by the supply. For this reason, the negative voltage effective value applied to the liquid crystal capacitor 120 exceeds the positive voltage effective value.

すなわち、正極性電圧が印加される第1フィールドは負極性電圧が印加される第2フィールドに比べて短くなる。したがって、1フレームのうち正極性電圧の印加時間が負極性電圧の印加時間よりも短く設定されるので、Vcomシフトに対応する補正を効果的に行うことができる。   That is, the first field to which the positive voltage is applied is shorter than the second field to which the negative voltage is applied. Therefore, since the application time of the positive voltage in one frame is set shorter than the application time of the negative voltage, correction corresponding to the Vcom shift can be effectively performed.

(時間比率の決め方)
上記した(式4)より、例えば、画素電極12に印加する矩形波振幅が±5V、Vcomシフトが−0.5Vのとき、X=−0.05となる。このため、正極性電圧の印加時間:負極性電圧の印加時間=45:55にすればVcomのシフトは起きない。
(How to determine the time ratio)
From the above (Equation 4), for example, when the rectangular wave amplitude applied to the pixel electrode 12 is ± 5 V and the Vcom shift is −0.5 V, X = −0.05. For this reason, if the application time of positive polarity voltage: application time of negative polarity voltage = 45: 55, the shift of Vcom does not occur.

本発明者の実験結果により、フレームレートが120fpsの場合、フリッカー許容限に対応するVcomシフトが±0.15Vであることが経験的に分かっている。このため、実際にはX=−0.065〜−0.035にすればよい。したがって、第1誘電体膜138Aの膜厚Tb1(75nm)と第2誘電体膜138Bの膜厚Tb2(300nm)との比が4/1のときに、第1フィールドの長さと第2フィールドの長さとの比を53.5/46.5以上56.5/43.5以下の範囲に設定すればよい。つまり、正極性電圧の印加時間:負極性電圧の印加時間=43.5:56.5〜56.5:53.5になるようにすればよい。フレームレートが120fpsのときには、1フレーム期間は8.3ミリ秒なので、正極性電圧の印加時間:負極性電圧の印加時間=8.42ミリ秒:8.25ミリ秒〜8.92ミリ秒:7.75ミリ秒にする。   From the experiment results of the present inventor, it is empirically known that the Vcom shift corresponding to the flicker tolerance is ± 0.15 V when the frame rate is 120 fps. Therefore, in practice, X = −0.065 to −0.035 may be set. Therefore, when the ratio of the film thickness Tb1 (75 nm) of the first dielectric film 138A to the film thickness Tb2 (300 nm) of the second dielectric film 138B is 4/1, the length of the first field and the second field The ratio to the length may be set in the range of 53.5 / 46.5 to 56.5 / 43.5. That is, the application time of the positive polarity voltage: the application time of the negative polarity voltage = 43.5: 56.5 to 56.5: 53.5. When the frame rate is 120 fps, since one frame period is 8.3 milliseconds, application time of positive voltage: application time of negative voltage = 8.42 milliseconds: 8.25 milliseconds to 8.92 milliseconds: 7.75 milliseconds.

本実施形態に係る液晶装置によれば、対向電極電位Vcomがスイッチング素子の寄生容量に起因するフリッカーを低減するように予めシフトして設定されているため、第1の現象についての補正が盛り込まれている。また、所定の期間のうち第1の期間の長さが第2の期間の長さよりも短く設定されているため、第2の現象についての補正も盛り込まれている。この補正は、本発明者が、素子基板10A側の画素電極12と第1配向膜13との間に、液晶層よりも膜厚が薄く、かつ、液晶層よりも高比抵抗の、酸化シリコン(SiO)からなる第1配向下地膜(第1誘電体膜)138Aを配置し、対向基板20A側の対向電極22と第2配向膜23との間に、前記第1誘電体膜138Aよりも膜厚が厚く、かつ、液晶層よりも高比抵抗の、酸化シリコン(SiO)からなる第2配向下地膜(第2誘電体膜)138Bを配置することにより、実効電圧波形が電位の負方向にシフトすることを見出したことによる。この点については、本発明者が行った実験結果からも確認されている。つまり、素子基板10A側の画素電極12と第1配向膜13との間に対向基板20A側の対向電極22と第2配向膜23との間の第2誘電体膜138Bよりも膜厚が薄い第1誘電体膜138Aを配置することにより、第1誘電体膜138Aの膜厚Tb1及び第2誘電体膜138Bの膜厚Tb2が同じ場合に比べて、Vcomが負方向にシフトすること(シフト後の対向電極電位Vcom2がシフト前の対向電極電位Vcom1から負方向にずれること)が明確になった。このように、Vcomシフトのずれる方向が予め確定しているので、従来の技術のようにいずれにずれるか不確定であった場合に比べて、Vcomシフトについての補正を的確に行うことができる。したがって、フリッカー等の表示不具合の発生を抑制して表示品位の向上を図ることが可能な液晶装置を提供することができる。 According to the liquid crystal device according to the present embodiment, the counter electrode potential Vcom is shifted and set in advance so as to reduce the flicker caused by the parasitic capacitance of the switching element, so that the correction for the first phenomenon is incorporated. ing. In addition, since the length of the first period of the predetermined period is set shorter than the length of the second period, correction for the second phenomenon is included. This correction is performed by the inventor of silicon oxide having a thickness smaller than that of the liquid crystal layer and higher specific resistance than that of the liquid crystal layer between the pixel electrode 12 on the element substrate 10A side and the first alignment film 13. A first alignment base film (first dielectric film) 138A made of (SiO 2 ) is disposed, and the first dielectric film 138A is interposed between the counter electrode 22 and the second alignment film 23 on the counter substrate 20A side. By arranging the second alignment base film (second dielectric film) 138B made of silicon oxide (SiO 2 ) having a larger film thickness and a higher specific resistance than the liquid crystal layer, the effective voltage waveform has the potential of This is due to finding that the shift is negative. This point has also been confirmed from the results of experiments conducted by the present inventors. That is, the film thickness between the pixel electrode 12 on the element substrate 10A side and the first alignment film 13 is thinner than the second dielectric film 138B between the counter electrode 22 on the counter substrate 20A side and the second alignment film 23. By disposing the first dielectric film 138A, Vcom shifts in the negative direction as compared to the case where the film thickness Tb1 of the first dielectric film 138A and the film thickness Tb2 of the second dielectric film 138B are the same (shifted). It became clear that the subsequent counter electrode potential Vcom2 is shifted in the negative direction from the counter electrode potential Vcom1 before the shift). As described above, since the shift direction of the Vcom shift is determined in advance, the correction for the Vcom shift can be accurately performed as compared to the case where the shift direction is uncertain as in the prior art. Therefore, it is possible to provide a liquid crystal device capable of improving the display quality by suppressing the occurrence of display defects such as flicker.

また、この構成によれば、画素電極12及び対向電極22が同じ材料(例えばITO)からなる場合に比べて、Vcomが負方向にシフトすることが明確になり、素子基板10Aと対向基板20Aの特性の非対称性が顕著となる。この点については、本発明者が行った実験結果からも確認されている。このため、画素電極12及び対向電極22が例えばITOからなる場合に比べて、液晶層を挟持する素子基板10Aと対向基板20Aとの特性差に起因した直流電圧成分が顕著に発生することとなる。したがって、フリッカー等の表示不具合の発生を抑制して表示品位の向上を図ることが可能となる。   Further, according to this configuration, it is clear that Vcom shifts in the negative direction as compared with the case where the pixel electrode 12 and the counter electrode 22 are made of the same material (for example, ITO), and the element substrate 10A and the counter substrate 20A The characteristic asymmetry becomes remarkable. This point has also been confirmed from the results of experiments conducted by the present inventors. For this reason, compared with the case where the pixel electrode 12 and the counter electrode 22 are made of, for example, ITO, a DC voltage component due to the characteristic difference between the element substrate 10A holding the liquid crystal layer and the counter substrate 20A is significantly generated. . Therefore, it is possible to improve display quality by suppressing the occurrence of display defects such as flicker.

本実施形態に係る液晶装置の駆動方法によれば、対向電極電位Vcomがスイッチング素子の寄生容量に起因するフリッカーを低減するように予めシフトして設定されているため、第1の現象についての補正が盛り込まれている。また、所定の期間のうち第1の期間の長さが第2の期間の長さよりも短く設定するため、第2の現象についての補正も盛り込まれることとなる。この補正は、本発明者が、素子基板10A側の画素電極12と第1配向膜13との間に、液晶層よりも膜厚が薄く、かつ、液晶層よりも高比抵抗の、酸化シリコン(SiO)からなる第1配向下地膜(第1誘電体膜)138Aを配置し、対向基板20A側の対向電極22と第2配向膜23との間に、前記第1誘電体膜138Aよりも膜厚が厚く、かつ、液晶層よりも高比抵抗の、酸化シリコン(SiO)からなる第2配向下地膜(第2誘電体膜)138Bを配置することにより、実効電圧波形が電位の負方向にシフトすることを見出したことによる。この点については、本発明者が行った実験結果からも確認されている。したがって、フリッカー等の表示不具合の発生を抑制して表示品位の向上を図ることが可能となる。 According to the driving method of the liquid crystal device according to the present embodiment, the counter electrode potential Vcom is shifted and set in advance so as to reduce the flicker caused by the parasitic capacitance of the switching element. Is included. In addition, since the length of the first period of the predetermined period is set shorter than the length of the second period, correction for the second phenomenon is also incorporated. This correction is performed by the inventor of silicon oxide having a thickness smaller than that of the liquid crystal layer and higher specific resistance than that of the liquid crystal layer between the pixel electrode 12 on the element substrate 10A side and the first alignment film 13. A first alignment base film (first dielectric film) 138A made of (SiO 2 ) is disposed, and the first dielectric film 138A is interposed between the counter electrode 22 and the second alignment film 23 on the counter substrate 20A side. By arranging the second alignment base film (second dielectric film) 138B made of silicon oxide (SiO 2 ) having a larger film thickness and a higher specific resistance than the liquid crystal layer, the effective voltage waveform has the potential of This is due to finding that the shift is negative. This point has also been confirmed from the results of experiments conducted by the present inventors. Therefore, it is possible to improve display quality by suppressing the occurrence of display defects such as flicker.

また、この液晶装置の駆動方法によれば、フリッカー許容限に対応する最適な時間配分比率となっているので第2の現象に対する補正を効果的に行うことができる。これに対して、第1の期間の長さと第2の期間の長さとの比が53.5/46.5よりも小さいと第1の期間の長さが長すぎてしまい効果的な補正とはならない場合がある。また、第1の期間の長さと第2の期間の長さとの比が56.5/43.5よりも大きいと第1の期間の長さが短すぎてしまい効果的な補正とはならない場合がある。   Further, according to the driving method of the liquid crystal device, since the optimum time distribution ratio corresponding to the flicker tolerance is obtained, the correction for the second phenomenon can be effectively performed. On the other hand, if the ratio of the length of the first period to the length of the second period is smaller than 53.5 / 46.5, the length of the first period is too long and effective correction is achieved. May not be. In addition, when the ratio of the length of the first period to the length of the second period is larger than 56.5 / 43.5, the length of the first period is too short to be an effective correction. There is.

(電子機器)
図19は、上述した液晶パネル100A(100B)をライトバルブとして用いた、電子機器の一例であるプロジェクターの概略構成を示す模式図である。図19に示すようにプロジェクター1は、光源2、インテグレーター光学系3、色分離光学系4、3系統の画像形成系5、色合成素子6、および投射光学系7を有している。3系統の画像形成系5として、第1の画像形成系5a、第2の画像形成系5b、および第3の画像形成系5cが設けられている。プロジェクター1は、概略すると以下のように動作する。
(Electronics)
FIG. 19 is a schematic diagram illustrating a schematic configuration of a projector that is an example of an electronic apparatus using the liquid crystal panel 100A (100B) described above as a light valve. As shown in FIG. 19, the projector 1 includes a light source 2, an integrator optical system 3, a color separation optical system 4, three systems of image forming systems 5, a color composition element 6, and a projection optical system 7. As three image forming systems 5, a first image forming system 5a, a second image forming system 5b, and a third image forming system 5c are provided. The projector 1 generally operates as follows.

光源2から出射された光源光は、インテグレーター光学系3に入射する。インテグレーター光学系3に入射した光源光は、照度が均一化されるとともに偏光状態が揃えられて出射される。インテグレーター光学系3から出射された光源光は、色分離光学系4により複数の色光に分離され、色光ごとに異なる系統の画像形成系5に入射する。3系統の画像形成系5の各々に入射した色光は、表示すべき画像の画像データに基づいて変調されて変調光となる。3系統の画像形成系5から出射された3色の変調光は、色合成素子6により合成されて多色光となり、投射光学系7に入射する。投射光学系7に入射した多色光は、スクリーン等の被投射面(図示略)に投射される。これにより、被投射面にフルカラーの画像が表示される。   The light source light emitted from the light source 2 enters the integrator optical system 3. The light source light incident on the integrator optical system 3 is emitted with uniform illuminance and uniform polarization. The light source light emitted from the integrator optical system 3 is separated into a plurality of color lights by the color separation optical system 4 and enters the image forming system 5 of a different system for each color light. The color light incident on each of the three image forming systems 5 is modulated based on the image data of the image to be displayed and becomes modulated light. The three colors of modulated light emitted from the three image forming systems 5 are combined by the color combining element 6 to become multicolor light and enter the projection optical system 7. The polychromatic light incident on the projection optical system 7 is projected onto a projection surface (not shown) such as a screen. Thereby, a full-color image is displayed on the projection surface.

次に、プロジェクター1の構成要素について詳しく説明する。
光源2は、光源ランプ2aおよび放物面リフレクター2bを有している。光源ランプ2aから放射された光は、放物面リフレクター2bによって一方向に反射されて略平行な光線束となり、光源光としてインテグレーター光学系3に入射する。光源ランプ2aは、例えばメタルハライドランプ、キセノンランプ、高圧水銀ランプ、ハロゲンランプ等により構成される。また、放物面リフレクター2bの代わりに楕円リフレクター、球面リフレクター等によりリフレクターを構成してもよい。リフレクターの形状に応じて、リフレクターから出射された光を平行化する平行化レンズが用いられることがある。
Next, components of the projector 1 will be described in detail.
The light source 2 includes a light source lamp 2a and a parabolic reflector 2b. The light emitted from the light source lamp 2a is reflected in one direction by the parabolic reflector 2b to become a substantially parallel light bundle, and enters the integrator optical system 3 as light source light. The light source lamp 2a is constituted by, for example, a metal halide lamp, a xenon lamp, a high-pressure mercury lamp, a halogen lamp, or the like. Moreover, you may comprise a reflector with an elliptic reflector, a spherical reflector, etc. instead of the paraboloid reflector 2b. Depending on the shape of the reflector, a collimating lens that collimates the light emitted from the reflector may be used.

インテグレーター光学系3は、第1のレンズアレイ、第2のレンズアレイ、入射側開口絞り、偏光変換素子、および重畳レンズを有している。インテグレーター光学系3の光軸は、光源2の光軸と略一致しており、上記のインテグレーター光学系3の構成要素の各々は、中心位置がインテグレーター光学系3の光軸上に並ぶように配置されている。   The integrator optical system 3 includes a first lens array, a second lens array, an incident side aperture stop, a polarization conversion element, and a superimposing lens. The optical axis of the integrator optical system 3 is substantially coincident with the optical axis of the light source 2, and each of the components of the integrator optical system 3 is arranged so that the center position is aligned with the optical axis of the integrator optical system 3. Has been.

色分離光学系4は、波長選択面を有する第1〜第3のダイクロイックミラー、および第1、第2の反射ミラーを有している。第1のダイクロイックミラーは、赤色光を反射させるとともに、緑色光および青色光を透過させる特性を有している。第2のダイクロイックミラーは、赤色光を透過させるとともに、緑色光および青色光を反射させる特性を有している。第3のダイクロイックミラーは、緑色光を反射させるとともに、青色光を透過させる特性を有している。第1、第2のダイクロイックミラーは、各々の波長選択面を互いに略直交するように、かつ各々の波長選択面がインテグレーター光学系3の光軸と略45°の角度をなすように配置されている。   The color separation optical system 4 includes first to third dichroic mirrors having wavelength selection surfaces, and first and second reflection mirrors. The first dichroic mirror has characteristics of reflecting red light and transmitting green light and blue light. The second dichroic mirror has characteristics of transmitting red light and reflecting green light and blue light. The third dichroic mirror has characteristics of reflecting green light and transmitting blue light. The first and second dichroic mirrors are arranged so that each wavelength selection plane is substantially orthogonal to each other, and each wavelength selection plane is at an angle of about 45 ° with the optical axis of the integrator optical system 3. Yes.

色分離光学系4に入射した光源光に含まれる赤色の光L10、緑色の光L20および青色の光L30は、以下のようにして分離され、分離された色光ごとに対応する画像形成系5に入射する。
光L10は、第2のダイクロイックミラーを透過するとともに第1のダイクロイックミラーで反射した後に、第1の反射ミラーで反射して、第1の画像形成系5aに入射する。
光L20は、第1のダイクロイックミラーを透過するとともに第2のダイクロイックミラーで反射した後に、第2の反射ミラーで反射し、次いで第3のダイクロイックミラーで反射して、第2の画像形成系5bに入射する。
光L30は、第1のダイクロイックミラーを透過するとともに第2のダイクロイックミラーで反射した後に、第2の反射ミラーで反射し、次いで第3のダイクロイックミラーを透過して、第3の画像形成系5cに入射する。
The red light L10, the green light L20, and the blue light L30 included in the light source light incident on the color separation optical system 4 are separated in the following manner, and are supplied to the image forming system 5 corresponding to each separated color light. Incident.
The light L10 is transmitted through the second dichroic mirror, reflected by the first dichroic mirror, then reflected by the first reflecting mirror, and enters the first image forming system 5a.
The light L20 is transmitted through the first dichroic mirror and reflected by the second dichroic mirror, then reflected by the second reflecting mirror, and then reflected by the third dichroic mirror, and the second image forming system 5b. Is incident on.
The light L30 is transmitted through the first dichroic mirror, reflected by the second dichroic mirror, then reflected by the second reflective mirror, and then transmitted through the third dichroic mirror, thereby causing the third image forming system 5c to be transmitted. Is incident on.

3系統の画像形成系5から出射された3色の変調光は、色合成素子6により合成されて多色光となり、投射光学系7に入射する。投射光学系7に入射した多色光は、スクリーン等の被投射面(図示略)に投射される。これにより、被投射面にフルカラーの画像が表示される。   The three colors of modulated light emitted from the three image forming systems 5 are combined by the color combining element 6 to become multicolor light and enter the projection optical system 7. The polychromatic light incident on the projection optical system 7 is projected onto a projection surface (not shown) such as a screen. Thereby, a full-color image is displayed on the projection surface.

この電子機器によれば、上述した液晶装置100を備えているので、フリッカー等の表示不具合の発生を抑制して表示品位の向上を図ることが可能な電子機器を提供することができる。   According to this electronic apparatus, since the above-described liquid crystal device 100 is provided, it is possible to provide an electronic apparatus that can improve display quality by suppressing the occurrence of display defects such as flicker.

なお、電子機器としては、この他にも、例えば携帯電話、パーソナルコンピューター、ビデオカメラのモニター、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサー、ワークステーション、テレビ電話、POS端末、デジタルスチルカメラ、タッチパネルを備えた機器等が挙げられる。これらの電子機器に対しても、本発明に係る液晶装置100を適用させることができる。   Other electronic devices include, for example, mobile phones, personal computers, video camera monitors, car navigation devices, pagers, electronic notebooks, calculators, word processors, workstations, videophones, POS terminals, digital still cameras, Examples include a device equipped with a touch panel. The liquid crystal device 100 according to the present invention can also be applied to these electronic devices.

また、上記実施形態においては、ある1行の走査線61に沿った画素に対して、階調に応じた電圧を、1列〜640列のデータ信号Vidを順番にサンプリングすることによって、当該行の画素を1列から640列まで順に書き込むという、いわゆる点順次の構成としたが、これに限らない。例えば、データ信号Vidを時間軸にn(nは2以上の整数)倍に伸長するとともに、n本の画像信号線に供給する、いわゆる相展開(シリアル−パラレル変換ともいう)駆動を併用した構成としてもよい(特開2000−112437号公報参照)。
または、すべてのデータ線62に対してデータ信号Vidを一括して供給する、いわゆる線順次の構成としてもよい。
これらの駆動方法であっても、上記実施形態と同様な作用効果を得ることができる。
また、上記実施形態では、液晶モードとして、電圧無印加状態において黒色を表示するノーマリーブラックモード、または、電圧無印加状態において白色を表示するノーマリーホワイトモードのいずれか一方を適用した形態について説明したが、異なる他方の液晶モードにおいても適用することができる。
Further, in the above-described embodiment, the voltage corresponding to the gradation is sequentially sampled from the data signal Vid of the first column to the 640th column with respect to the pixels along the scanning line 61 of one row. The so-called dot-sequential configuration in which the pixels are sequentially written from the first column to the 640th column is not limited to this. For example, the data signal Vid is expanded by n (n is an integer of 2 or more) on the time axis, and the so-called phase expansion (also referred to as serial-parallel conversion) driving for supplying to n image signal lines is used together. (See JP 2000-112437 A).
Alternatively, a so-called line-sequential configuration in which data signals Vid are collectively supplied to all the data lines 62 may be employed.
Even with these driving methods, it is possible to obtain the same functions and effects as in the above embodiment.
In the above-described embodiment, a description is given of a mode in which either a normally black mode that displays black when no voltage is applied or a normally white mode that displays white when no voltage is applied is applied as the liquid crystal mode. However, the present invention can also be applied to another different liquid crystal mode.

1…プロジェクター(電子機器)、10,10A…素子基板、12…画素電極、13…第1配向膜、20,20A…対向基板、22…対向電極、23…第2配向膜、38A,138A…第1配向下地膜(第1誘電体膜)、38B,138B…第2配向下地膜(第2誘電体膜)、40…TFT(スイッチング素子)、61…走査線、62…データ線、100…液晶装置、Vcom…対向電極電位、Ta1,Tb1…第1配向下地膜(第1誘電体膜)の膜厚、Ta2,Tb2…第2配向下地膜(第2誘電体膜)の膜厚、 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Projector (electronic device) 10, 10A ... Element board | substrate, 12 ... Pixel electrode, 13 ... 1st alignment film, 20, 20A ... Counter substrate, 22 ... Counter electrode, 23 ... 2nd alignment film, 38A, 138A ... First alignment base film (first dielectric film), 38B, 138B ... Second alignment base film (second dielectric film), 40 ... TFT (switching element), 61 ... scanning line, 62 ... data line, 100 ... Liquid crystal device, Vcom ... counter electrode potential, Ta1, Tb1, ... film thickness of first alignment underlayer (first dielectric film), Ta2, Tb2 ... film thickness of second alignment underlayer (second dielectric film),

Claims (8)

複数の走査線と複数のデータ線と、前記走査線と前記データ線との交点に対応して設けられたスイッチング素子及び画素電極と、を備えた素子基板と、
前記素子基板に対向配置された、対向電極を備えた対向基板と、
前記素子基板と前記対向基板との間に挟持された液晶層と、
前記素子基板の前記液晶層の側に設けられた第1配向膜と、
前記対向基板の前記液晶層の側に設けられた第2配向膜と、
前記画素電極と前記第1配向膜との間に設けられた、前記液晶層よりも膜厚が薄く、かつ、前記液晶層よりも高比抵抗の、SiOからなる第1誘電体膜と、
前記対向電極と前記第2配向膜との間に設けられた、前記第1誘電体膜よりも膜厚が薄く、かつ、前記液晶層よりも高比抵抗の、SiOからなる第2誘電体膜と、を備え、
前記対向電極には、前記スイッチング素子の寄生容量に起因するフリッカーを低減するように設定された対向電極電位が印加され、
前記画素電極には、前記対向電極電位を基準として高位の電圧を正極性、低位の電圧を負極性としたときに、前記正極性の電圧と前記負極性の電圧とが交互に印加され、
前記正極性の電圧が印加される第1の期間と、前記負極性の電圧が印加される第2の期間とからなる所定の期間において、前記第1の期間の長さが前記第2の期間の長さに比べて長く設定されることを特徴とする液晶装置。
An element substrate comprising a plurality of scanning lines, a plurality of data lines, and switching elements and pixel electrodes provided corresponding to the intersections of the scanning lines and the data lines;
A counter substrate having a counter electrode disposed opposite to the element substrate;
A liquid crystal layer sandwiched between the element substrate and the counter substrate;
A first alignment film provided on the liquid crystal layer side of the element substrate;
A second alignment film provided on the liquid crystal layer side of the counter substrate;
A first dielectric film made of SiO 2 that is provided between the pixel electrode and the first alignment film and is thinner than the liquid crystal layer and has a higher specific resistance than the liquid crystal layer;
A second dielectric made of SiO 2 that is provided between the counter electrode and the second alignment film and has a smaller thickness than the first dielectric film and a higher specific resistance than the liquid crystal layer. A membrane, and
The counter electrode is applied with a counter electrode potential set to reduce flicker due to parasitic capacitance of the switching element,
The pixel electrode is applied with the positive voltage and the negative voltage alternately when the high voltage is positive and the low voltage is negative with reference to the counter electrode potential,
In a predetermined period composed of a first period in which the positive voltage is applied and a second period in which the negative voltage is applied, the length of the first period is the second period. A liquid crystal device characterized in that it is set longer than the length of the liquid crystal device.
複数の走査線と複数のデータ線と、前記走査線と前記データ線との交点に対応して設けられたスイッチング素子及び画素電極と、を備えた素子基板と、
前記素子基板に対向配置された、対向電極を備えた対向基板と、
前記素子基板と前記対向基板との間に挟持された液晶層と、
前記素子基板の前記液晶層の側に設けられた第1配向膜と、
前記対向基板の前記液晶層の側に設けられた第2配向膜と、
前記画素電極と前記第1配向膜との間に設けられた、前記液晶層よりも膜厚が薄く、かつ、前記液晶層よりも高比抵抗の、SiOからなる第1誘電体膜と、
前記対向電極と前記第2配向膜との間に設けられた、前記第1誘電体膜よりも膜厚が厚く、かつ、前記液晶層よりも高比抵抗の、SiOからなる第2誘電体膜と、を備え、
前記対向電極には、前記スイッチング素子の寄生容量に起因するフリッカーを低減するように設定された対向電極電位が印加され、
前記画素電極には、前記対向電極電位を基準として高位の電圧を正極性、低位の電圧を負極性としたときに、前記正極性の電圧と前記負極性の電圧とが交互に印加され、
前記正極性の電圧が印加される第1の期間と、前記負極性の電圧が印加される第2の期間とからなる所定の期間において、前記第1の期間の長さが前記第2の期間の長さに比べて短く設定されることを特徴とする液晶装置。
An element substrate comprising a plurality of scanning lines, a plurality of data lines, and switching elements and pixel electrodes provided corresponding to the intersections of the scanning lines and the data lines;
A counter substrate having a counter electrode disposed opposite to the element substrate;
A liquid crystal layer sandwiched between the element substrate and the counter substrate;
A first alignment film provided on the liquid crystal layer side of the element substrate;
A second alignment film provided on the liquid crystal layer side of the counter substrate;
A first dielectric film made of SiO 2 that is provided between the pixel electrode and the first alignment film and is thinner than the liquid crystal layer and has a higher specific resistance than the liquid crystal layer;
A second dielectric made of SiO 2 that is provided between the counter electrode and the second alignment film and is thicker than the first dielectric film and has a higher specific resistance than the liquid crystal layer. A membrane, and
The counter electrode is applied with a counter electrode potential set to reduce flicker due to parasitic capacitance of the switching element,
The pixel electrode is applied with the positive voltage and the negative voltage alternately when the high voltage is positive and the low voltage is negative with reference to the counter electrode potential,
In a predetermined period composed of a first period in which the positive voltage is applied and a second period in which the negative voltage is applied, the length of the first period is the second period. A liquid crystal device characterized in that it is set shorter than the length of the LCD.
前記画素電極がAlからなり、前記対向電極がITOからなることを特徴とする請求項1または2に記載の液晶装置。   The liquid crystal device according to claim 1, wherein the pixel electrode is made of Al, and the counter electrode is made of ITO. 複数の走査線と複数のデータ線と、前記走査線と前記データ線との交点に対応して設けられたスイッチング素子及び画素電極と、を備えた素子基板と、
前記素子基板に対向配置された、対向電極を備えた対向基板と、
前記素子基板と前記対向基板との間に挟持された液晶層と、
前記素子基板の前記液晶層の側に設けられた第1配向膜と、
前記対向基板の前記液晶層の側に設けられた第2配向膜と、
前記画素電極と前記第1配向膜との間に設けられた、前記液晶層よりも膜厚が薄く、かつ、前記液晶層よりも高比抵抗の、SiOからなる第1誘電体膜と、
前記対向電極と前記第2配向膜との間に設けられた、前記第1誘電体膜よりも膜厚が薄く、かつ、前記液晶層よりも高比抵抗の、SiOからなる第2誘電体膜と、を備えた液晶装置の駆動方法であって、
前記対向電極に、前記スイッチング素子の寄生容量に起因するフリッカーを低減するように設定された対向電極電位を印加し、
前記画素電極に、前記対向電極電位を基準として高位の電圧を正極性、低位の電圧を負極性としたときに、前記正極性の電圧と前記負極性の電圧とを交互に印加し、
前記正極性の電圧が印加される第1の期間と、前記負極性の電圧が印加される第2の期間とからなる所定の期間において、前記第1の期間の長さを前記第2の期間の長さに比べて長く設定することを特徴とする液晶装置の駆動方法。
An element substrate comprising a plurality of scanning lines, a plurality of data lines, and switching elements and pixel electrodes provided corresponding to the intersections of the scanning lines and the data lines;
A counter substrate having a counter electrode disposed opposite to the element substrate;
A liquid crystal layer sandwiched between the element substrate and the counter substrate;
A first alignment film provided on the liquid crystal layer side of the element substrate;
A second alignment film provided on the liquid crystal layer side of the counter substrate;
A first dielectric film made of SiO 2 that is provided between the pixel electrode and the first alignment film and is thinner than the liquid crystal layer and has a higher specific resistance than the liquid crystal layer;
A second dielectric made of SiO 2 that is provided between the counter electrode and the second alignment film and has a smaller thickness than the first dielectric film and a higher specific resistance than the liquid crystal layer. A liquid crystal device driving method comprising: a film;
Applying a counter electrode potential set to reduce flicker due to parasitic capacitance of the switching element to the counter electrode,
When the high voltage is positive and the low voltage is negative with respect to the counter electrode potential as a reference, the positive voltage and the negative voltage are alternately applied to the pixel electrode,
In a predetermined period consisting of a first period in which the positive voltage is applied and a second period in which the negative voltage is applied, the length of the first period is set to the second period. A method of driving a liquid crystal device, characterized in that it is set longer than the length of the liquid crystal device.
複数の走査線と複数のデータ線と、前記走査線と前記データ線との交点に対応して設けられたスイッチング素子及び画素電極と、を備えた素子基板と、
前記素子基板に対向配置された、対向電極を備えた対向基板と、
前記素子基板と前記対向基板との間に挟持された液晶層と、
前記素子基板の前記液晶層の側に設けられた第1配向膜と、
前記対向基板の前記液晶層の側に設けられた第2配向膜と、
前記画素電極と前記第1配向膜との間に設けられた、前記液晶層よりも膜厚が薄く、かつ、前記液晶層よりも高比抵抗の、SiOからなる第1誘電体膜と、
前記対向電極と前記第2配向膜との間に設けられた、前記第1誘電体膜よりも膜厚が厚く、かつ、前記液晶層よりも高比抵抗の、SiOからなる第2誘電体膜と、を備えた液晶装置の駆動方法であって、
前記対向電極に、前記スイッチング素子の寄生容量に起因するフリッカーを低減するように設定された対向電極電位を印加し、
前記画素電極に、前記対向電極電位を基準として高位の電圧を正極性、低位の電圧を負極性としたときに、前記正極性の電圧と前記負極性の電圧とを交互に印加し、
前記正極性の電圧が印加される第1の期間と、前記負極性の電圧が印加される第2の期間とからなる所定の期間において、前記第1の期間の長さを前記第2の期間の長さに比べて短く設定することを特徴とする液晶装置の駆動方法。
An element substrate comprising a plurality of scanning lines, a plurality of data lines, and switching elements and pixel electrodes provided corresponding to the intersections of the scanning lines and the data lines;
A counter substrate having a counter electrode disposed opposite to the element substrate;
A liquid crystal layer sandwiched between the element substrate and the counter substrate;
A first alignment film provided on the liquid crystal layer side of the element substrate;
A second alignment film provided on the liquid crystal layer side of the counter substrate;
A first dielectric film made of SiO 2 that is provided between the pixel electrode and the first alignment film and is thinner than the liquid crystal layer and has a higher specific resistance than the liquid crystal layer;
A second dielectric made of SiO 2 that is provided between the counter electrode and the second alignment film and is thicker than the first dielectric film and has a higher specific resistance than the liquid crystal layer. A liquid crystal device driving method comprising: a film;
Applying a counter electrode potential set to reduce flicker due to parasitic capacitance of the switching element to the counter electrode,
When the high voltage is positive and the low voltage is negative with respect to the counter electrode potential as a reference, the positive voltage and the negative voltage are alternately applied to the pixel electrode,
In a predetermined period consisting of a first period in which the positive voltage is applied and a second period in which the negative voltage is applied, the length of the first period is set to the second period. A method for driving a liquid crystal device, characterized in that it is set shorter than the length of the liquid crystal device.
前記第1誘電体膜の膜厚と前記第2誘電体膜の膜厚との比が1/4のときに、前記第1の期間の長さと前記第2の期間の長さとの比を43.5/56.5以上46.5/53.5以下の範囲に設定することを特徴とする請求項4に記載の液晶装置の駆動方法。   When the ratio of the thickness of the first dielectric film to the thickness of the second dielectric film is 1/4, the ratio of the length of the first period to the length of the second period is 43. 5. The driving method of a liquid crystal device according to claim 4, wherein the driving range is set to a range of not less than 5 / 56.5 and not more than 46.5 / 53.5. 前記第1誘電体膜の膜厚と前記第2誘電体膜の膜厚との比が4/1のときに、前記第1の期間の長さと前記第2の期間の長さとの比を53.5/46.5以上56.5/43.5以下の範囲に設定することを特徴とする請求項5に記載の液晶装置の駆動方法。   When the ratio between the thickness of the first dielectric film and the thickness of the second dielectric film is 4/1, the ratio of the length of the first period to the length of the second period is 53. 6. The driving method of a liquid crystal device according to claim 5, wherein the driving voltage is set in a range of not less than 5 / 46.5 and not more than 56.5 / 43.5. 請求項1〜3のいずれか1項に記載の液晶装置を備えることを特徴とする電子機器。
An electronic apparatus comprising the liquid crystal device according to claim 1.
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