JP2011081121A - 光学積層体 - Google Patents
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Abstract
【課題】導電性材料の安定性が良好であり、と基材密着性に優れたハードコート層と反射防止層を備え、干渉縞の発生を抑え、帯電防止性、透明性に優れる光学積層体を提供する。
【解決手段】透明基材の少なくとも片面に、1分子中に2個以上の(メタ)アクリロイル基を分子中に有する多官能性モノマーを含有する電離放射線硬化型樹脂と、ATO、ITO、Sb2O5、TiO2、ZnO2、Ce2O3の金属酸化物粒子のうち少なくとも1種類以上を含有する導電性材料に、透明基材を溶解または膨潤させる一種類以上の溶剤1と、導電性材料が安定に分散される溶剤2により混合調液された塗布液を用いて形成されるハードコート層と、低屈折率層を順次積層されていることを特徴とする光学積層体である。
【選択図】図1
【解決手段】透明基材の少なくとも片面に、1分子中に2個以上の(メタ)アクリロイル基を分子中に有する多官能性モノマーを含有する電離放射線硬化型樹脂と、ATO、ITO、Sb2O5、TiO2、ZnO2、Ce2O3の金属酸化物粒子のうち少なくとも1種類以上を含有する導電性材料に、透明基材を溶解または膨潤させる一種類以上の溶剤1と、導電性材料が安定に分散される溶剤2により混合調液された塗布液を用いて形成されるハードコート層と、低屈折率層を順次積層されていることを特徴とする光学積層体である。
【選択図】図1
Description
本発明は、優れたハードコート層と反射防止層を備え、干渉縞の発生を抑え、帯電防止性、透明性及び密着性に優れる光学積層体に関するものである。
従来、各種ディスプレイに用いられるプラスチックフィルムに硬度を付帯させる為にアクリル系UV樹脂等をコーティングし、ハードコート性を付帯させる方法が用いられてきた。しかし、これらの方法によってプラスチックフィルムの硬度は改善されるものの、プラスチックフィルムおよびアクリル系UV樹脂が帯電しやすく、作業時あるいは使用時に塵やほこりが付着するという問題があり、帯電性の改善が強く要求されている。
そこでこれらの問題点を改良するために各種導電性材料を添加することが行われているが、導電性材料を添加することで基材とハードコートの屈折率差が生じ、干渉縞が発生してしまう。
これまでにいくつかの発明がなされているが、まず、基材とハードコート層の屈折率差を少なくする為に、基材とハードコート層の間に中間層を設ける方式(特許文献1参照)では干渉縞が低減するだけに過ぎず、完全に消失するわけではない。
また、基材上に、透明導電性層、ハードコート層、高屈折率層及び低屈折率層を順に積層する方法(特許文献2参照)では、導電層が基材とハードコート層の間に存在する為導電性を発現し難いという問題点もある。
さらに、基材を溶解または膨潤させる溶剤を含む樹脂を用いてハードコート層を基材に塗布することによってハードコート層を形成することを特徴とする光学フィルム(特許文献3参照)も提案されているが、基材を溶解または膨潤させる溶剤はおもに導電性材料(特に金属酸化微粒子)の分散を阻害するものであることが多く、干渉縞のない導電性ハードコート層の作製は困難である。
その他の特許として、金属酸化物微粒子以外の導電性材料として4級アンモニウム塩も提案されている(特許文献4参照)が、この4級アンモニウム塩は導電性としては、湿度依存性があることから、有効な導電性材料としては課題がある。
また、類似技術として特許文献5があるが、低屈折率層がいわゆるゾルゲル法による作製した無機材料層となっているため、有機層−無機層界面での密着性が低く、ハードコート層に密着性向上成分を入れる必要がある。
本発明は、上記の課題を解決するためになされたものであって、優れたハードコート層と反射防止層を備え、干渉縞の発生を抑え、帯電防止性、透明性及び密着性に優れる光学積層体を提供するものである。
前記課題は、以下の手段によって解決できる。すなわち、請求項1に係る発明は、透明基材の少なくとも片面に、1分子中に2個以上の(メタ)アクリロイル基を分子中に有する多官能性モノマーを含有する電離放射線硬化型樹脂と、
ATO、ITO、Sb2O5、TiO2、ZnO2、Ce2O3の金属酸化物粒子のうち少なくとも1種類以上を含有する導電性材料に、
透明基材を溶解または膨潤させる一種類以上の溶剤1と、導電性材料が安定に分散される溶剤2により混合調液された塗布液を用いて形成されるハードコート層と、低屈折率層を順次積層されていることを特徴とする光学積層体である。
ATO、ITO、Sb2O5、TiO2、ZnO2、Ce2O3の金属酸化物粒子のうち少なくとも1種類以上を含有する導電性材料に、
透明基材を溶解または膨潤させる一種類以上の溶剤1と、導電性材料が安定に分散される溶剤2により混合調液された塗布液を用いて形成されるハードコート層と、低屈折率層を順次積層されていることを特徴とする光学積層体である。
また、請求項2に係る発明は、前記ハードコート層において、電離放射線硬化型樹脂が、ウレタン(メタ)アクリレートモノマーおよび/またはオリゴマーからなり、電離放射線硬化型樹脂が90重量部から99重量部の範囲内に対し、導電性材料が10重量部から1重量部の範囲内で含むことを特徴とする請求項1記載の光学積層体である。
また、請求項3に係る発明は、前記溶剤1が、酢酸メチル、酢酸エチル、メチルエチルケトン、アセチルアセトン、アセトン、シクロヘキサノンのうち少なくとも1種類と、
前記溶剤2が、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、1−ペンタノール、エチレングリコール、メチルセロソルブ、セロソルブのうち少なくとも1種類を含んでおり、
前記溶剤1が70重量部から95重量部の範囲内であり、前記溶剤2が30重量部から5重量部の範囲内であることを特徴とする請求項1乃至請求項2のいずれかに記載の光学積層体である。
前記溶剤2が、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、1−ペンタノール、エチレングリコール、メチルセロソルブ、セロソルブのうち少なくとも1種類を含んでおり、
前記溶剤1が70重量部から95重量部の範囲内であり、前記溶剤2が30重量部から5重量部の範囲内であることを特徴とする請求項1乃至請求項2のいずれかに記載の光学積層体である。
また、請求項4に係る発明は、前記低屈折率層が、少なくとも1分子中に2個以上の(メタ)アクリロイル基を分子中に含有する多官能性モノマーと、低屈折率微粒子を含有しており、低屈折率層の屈折率が1.3以上1.5以下であることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれかに記載の光学積層体である。
また、請求項5に係る発明は、前記透明基材が、セルロース系フィルムであることを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれかに記載の光学積層体である。
また、請求項6に係る発明は、請求項1乃至請求項5のいずれかに記載の光学積層体と、当該光学積層体の低屈折率層非形成面に第1の偏光板を備えたことを特徴とする反射防止性偏光板である。
また、請求項7に係る発明は、観察者側から順に、請求項6に記載の反射防止性偏光板と、液晶セル、第2の偏光板、バックライトユニットをこの順に備え、前記反射防止性偏光板の低屈折率層非形成面側に液晶セルを保持していることを特徴とする透過型液晶ディスプレイである。
従来、通常のアクリル系紫外線硬化型樹脂バインダー(屈折率約1.50以上1.53以下)と導電性材料(屈折率約1.45以上2.8以下)からなるハードコート剤は、透明基材であるトリアセチルセルロースフィルム等のセルロース系フィルムとの屈折率差をなくすことが困難であり、その結果干渉縞が生じていた。
そこで、本発明の光学積層体は、トリアセチルセルロースフィルム等のセルロース系フィルムからなる透明基材を溶解または膨潤させる溶剤を用いることにより、透明基材とハードコート層界面に屈折率界面を解消し、透明基材とハードコート層の界面からの反射がなく、干渉縞のない積層体を提供することができる。
さらに、導電性材料が安定に分散される溶剤を併用することにより、高い導電性、高い塗液安定性を有している。さらに低屈折率層が1分子中に2個以上の(メタ)アクリロイル基を分子中に含有する多官能性モノマーをマトリックスとすることで、ハードコート層と低反射層の密着性が優れた光学積層体を提供できる。
以下、本発明の一実施例の図面を参照して光学積層体について説明する。
図1に、本発明の光学積層体の構成の一例とする断面図を示す。
本発明の一実施例としての光学積層体は、透明基材(11)の少なくとも片面に、1分子中に2個以上の(メタ)アクリロイル基を分子中に含有する多官能性モノマーを主成分とする電離放射線硬化型樹脂(121)と導電性材料(122)を主成分とするハードコート層(12)、低屈折率層(13)を順次積層した積層体であって、前記ハードコート層(12)が、透明基材(11)を溶解または膨潤させる一種類以上の溶剤1及び導電性材料(122)が安定に分散される溶剤2を含む塗布液を用いて形成される。
さらに低屈折率層(13)が1分子中に2個以上の(メタ)アクリロイル基を分子中に含有する多官能性モノマーを主成分とした低屈折率層形成用樹脂(131)とすることで、優れたハードコート層(12)と低屈折率層(13)を備え、干渉縞の発生を抑え、帯電防止性、透明性及び密着性に優れる光学積層体(1)である。
本発明で用いられる透明基材(11)としては、トリアセチルセルロースフィルム等のセルロース系フィルムが用いられる。複屈折が少なく、透明性、屈折率、分散などの光学特性、さらには耐衝撃性、耐熱性、耐久性などの諸物性の点に優れており、更に溶剤によって容易に溶解または膨潤する為、本発明においては他のフィルムよりも好ましい。
前記透明基材(11)には、各種安定剤、紫外線吸収剤、可塑剤、滑剤、着色剤、酸化防止剤、難燃剤等が添加されていても良い。また、透明基材の厚さは特に限定されるものではないが、20μm以上200μm以下が好ましい。さらにトリアセチルセルロースフィルムである場合には、38μm以上80μm以下が好ましい。
本発明で用いられる電離放射線硬化型樹脂(121)とは、紫外線硬化型樹脂、電子線硬化型樹脂も包含するものであって、1分子中に2個以上の(メタ)アクリロイル基を分子中に含有する多官能性モノマーを主成分とする。
多官能性モノマーとしては、1,4‐ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコール(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、3−メチルペンタンジオールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールビスβ‐(メタ)アクリロイルオキシプロピネート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、トリ(2−ヒドロキシエチル)イソシアネートジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、2,3‐ビス(メタ)アクリロイルオキシエチルオキシメチル[2.2.1]ヘプタン、ポリ1,2−ブタジエンジ(メタ)アクリレート、1,2−ビス(メタ)アクリロイルオキシメチルヘキサン、ノナエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラデカンエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、10−デカンジオール(メタ)アクリレート、3,8−ビス(メタ)アクリロイルオキシメチルトリシクロ[5.2.10]デカン、水素添加ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、2,2−ビス(4−(メタ)アクリロイルオキシジエトキシフェニル)プロパン、1,4−ビス((メタ)アクリロイルオキシメチル)シクロヘキサン、ヒドロキシピバリンサンエステルネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAジグリシジルエーテルジ(メタ)アクリレート、エポキシ変成ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート等を挙げることができる。多官能モノマーは、単独で使用しても良いし、2種類以上を併用しても良い。また、必要で有れば単官能モノマーと併用して共重合させることもできる。
また、本発明にて好ましい多官能性モノマーとしてウレタンアクリレートも挙げられ、一般にポリエステルポリオールにイソシアネートモノマー、もしくはプレポリマーを反応させて得られた生成物に水酸基を有するアクリレートモノマーを反応させ容易に形成されるものを挙げることができる。
具体的な例としては、ペンタエリスリトールトリアクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ペンタエリスリトールトリアクリレートトルエンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートトルエンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ペンタエリスリトールトリアクリレートイソホロンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートイソホロンジイソシアネートウレタンプレポリマーなどを用いることができる。また、これらの単量体は、1種または2種以上を混合して使用することができる。また、これらは塗液においてモノマーであってもよいし、一部が重合したオリゴマーであってもかまわない。
光重合開始剤としては、例えば、2,2−エトキシアセトフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ジベンゾイル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、p−クロロベンゾフェノン、p−メトキシベンゾフェノン、ミヒラーケトン、アセトフェノン、2−クロロチオキサントン等が挙げられる。これらを単独、もしくは2種類以上合わせて用いても良い。
光増感剤としては、トリエチルアミン、トリエタノールアミン、2−ジメチルアミノエタノール等の3級アミン、トリフェニルホスフィン等のアルキルフォスフィン系、β−チオジグリコール等のチオエーテル系をあげることが出来、これらを1種類あるいは2種類以上を混合して使用することもできる。
さらに、性能改良のため、泡消剤、レベリング剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、重合禁止剤等を含有することもできる。
導電性材料(122)としては、ATO(酸化アンチモン/酸化スズ)、ITO(酸化インジウム/酸化スズ)、Sb2O5、TiO2、ZnO2、Ce2O3等の金属酸化物微粒子が挙げられる。その中でも導電性に優れたATO微粒子の使用が望ましい。
本発明の光学積層体におけるハードコート層(4)は、電離放射線硬化型樹脂(121)は、90重量部から99重量部に対し、導電性材料(122)は、10重量部から1重量部の範囲が好ましい。
ハードコート層における導電性材料が1重量部以下であると、十分な導電性を発現せず、10重量部以上であると金属酸化物微粒子による着色、光学散乱が発生してしまい、光学積層体としての十分な機能を発現しなくなる。
ハードコート層(12)の形成方法としては、ウェットコーティング法とされる、ディップコーティング法、スピンコーティング法、フローコーティング法、スプレーコーティング法、ロールコーティング法、グラビアロールコーティング法、エアドクターコーティング法、プレードコーティング法、ワイヤードクターコーティング法、ナイフコーティング法、リバースコーティング法、トランスファロールコーティング法、マイクログラビアコーティング法、キスコーティング法、キャストコーティング法、スロットオリフィスコーティング法、カレンダーコーティング法、ダイコーティング法等などにより透明基材の少なくとも片面に塗布することにより形成することができる。特に薄く、均一に層を形成する必要性があることより、マイクログラビアコーティング法を用いることが好ましい。また、厚い層を構成する必要が生じた場合には、ダイコーティング法を用いることも可能である。
ハードコート層(12)を形成する際の硬化方法としては、例えば、紫外線照射、加熱等を用いることができる。紫外線照射の場合、高圧水銀ランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ、フュージョンランプ等を使用することができる。紫外線照射量は、通常100mJ/cm2以上800mJ/cm2以下である。
また、ハードコート層の膜厚は3μm以上あれば十分な強度となるが、塗工精度、取扱いから5μm以上10μm以下の範囲が好ましい。10μm以上では硬化収縮による基材の反り、ゆがみ、基材折れが発生してしまうためである。さらに、膜厚としては、5μm以上7μm以下の範囲であるとハードコート層としては非常に好ましい。
溶剤1としては、セルロース系フィルム表面を溶解または膨潤させる溶剤として、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、1,4−ジオキサン、1,3−ジオキソラン、1,3,5−トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトール等のエーテル類、またアセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、およびメチルシクロヘキサノン等のケトン類、また蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸n−ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン醸エチル、酢酸n−ペンチル、およびγ−プチロラクトン等のエステル類、さらにメチルセロソルブ、セロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート等のセロソルブ類が挙げられる。これらを単独、もしくは2種類以上合わせて用いても良い。また、酢酸メチル、酢酸エチル、メチルエチルケトン、アセチルアセトン、アセトン、シクロヘキサノンのうち少なくとも1種類を用いることが好ましい。
溶剤2としては、金属酸化物微粒子の凝集等を起こすことなく安定した塗液状態を維持することを目的としており、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、1−ブタノール、2−ブタノール、イソブチルアルコール等のアルコール類、またメチレングリコール、エチレングリコール、プロピレングリコール等のグリコール類、さらにメチルセロソルブ、セロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート等のセロソルブ類が挙げられる。これらを単独、もしくは2種類以上合わせて用いても良い。また、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、1−ペンタノール、エチレングリコール、メチルセロソルブ、セロソルブのうち少なくとも1種類を用いることが好ましい。
これら溶剤1及び溶剤2は、溶剤1は70重量部から95重量部及び、溶剤2は30重量部から5重量部であり、溶剤1と溶剤2を合わせた時に100重量部となるように調液することが好ましい。
溶剤1が70重量部以下であると、セルロース系フィルム表面を溶解・膨潤させるのに十分でなく、ハードコート層の密着性低下を引き起こしてしまう。一方、溶剤1が95重量部以上であると、導電性材料が塗液中にて不安定になってしまい、微粒子の凝集等の不具合がおこってしまう。
本発明の光学積層体(1)は、低屈折率層(13)を有しており、ハードコート層(12)の上に形成されることが好ましい。これによって、光学積層体における反射防止機能等の光学特性を良好なものとすることができる。
低屈折率層(13)は、ハードコート層(12)よりも低い屈折率を有するものが好ましい。本発明の好ましい態様によれば、ハードコート層の屈折率が1.5以上であり、低屈折率層の屈折率が1.5未満であり、より好ましくは1.45以下、更に好ましくは1.35以下である。屈折率が1.5以上であると低屈折率層(13)とハードコート層(12)の屈折率差が小さいために反射が高くなってしまうことから、屈折率は低い方が望ましい。
低屈折率層における低屈折率粒子(132)として、空隙を有する微粒子を利用することが挙げられ、空隙を有する微粒子とは、微粒子の内部に気体が充填された構造及び/又は気体を含む多孔質構造体を形成し、微粒子本来の屈折率に比べて微粒子中の気体の占有率に反比例して屈折率が低下する微粒子である。
また、微粒子の形態、構造、凝集状態、被膜内部での微粒子の分散状態により、内部、及び/又は表面の少なくとも一部にナノポーラス構造の形成が可能な微粒子も含まれる。この微粒子を使用した低屈折率層は、屈折率を1.30以上1.45以下に調節することが可能である。
このような空隙を有する無機系の微粒子としては、例えば、特許文献6に記載された方法によって調製された中空シリカ微粒子を挙げることができる。また、特許文献7、特許文献8、特許文献9に記載された製法によって得られる中空シリカ微粒子であってもよい。
空隙を有する中空シリカ微粒子は製造が容易でそれ自身の硬度が高いため、バインダーと混合して低屈折率層を形成した際、その層強度が向上され、かつ、屈折率を1.20以上1.45以下程度の範囲内に調整することを可能とする。
中空シリカ微粒子の平均粒子径は、5nm以上300nm以下であることが好ましく、下限が8nmであり上限が100nmであることがより好ましく、下限が10nmであり上限が80nmであることが更に好ましい。
微粒子の平均粒子径がこの範囲内にあることにより、低屈折率層に優れた透明性を付与することが可能となる。中空シリカ微粒子は、前記低屈折率層中にマトリックス樹脂100重量部に対して、通常0.1重量部以上500重量部以下、好ましくは10重量部以上200重量部以下とするのが好ましい。
低屈折率層の形成にあっては、低屈折率層形成用樹脂(131)として1分子中に2個以上の(メタ)アクリロイル基を分子中に含有する多官能性モノマー、中空シリカ微粒子、及び必要に応じて添加剤(重合開始剤、帯電防止剤、防眩剤等)を溶剤に溶解又は分散してなる溶液又は分散液を低屈折率層形成用組成物として用い、前記組成物による塗膜を形成し、紫外線照射あるいは加熱等により硬化させることで低屈折率層を得ることができる。なお、重合開始剤、帯電防止剤、防眩剤等の添加剤は公知のものを使用することができる。
前記低屈折率層形成用樹脂の1分子中に2個以上の(メタ)アクリロイル基を分子中に含有する多官能性モノマーとしては、ハードコート層形成時に用いる電離放射線硬化型樹脂にて記載している樹脂等を使用することができる。
低屈折率層(13)は、通常、揮発性溶媒に希釈して塗布される。希釈溶媒として用いられるものは、組成物の安定性、ハードコート層に対する濡れ性、揮発性などを考慮して、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、2−メトキシエタノール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチル等のケトン類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、ジイソプロピルエーテル等のエーテル類、エチレングリコール、プロピレングリコール、へキシレングリコール等のグリコール類、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、エチルカルビトール、ブチルカルビトール等のグリコールエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、N−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド等が挙げられる。これらを単独、もしくは2種類以上合わせて用いても良い。中でも、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、イソプロピルアルコール(IPA)、n−ブタノール、s−ブタノール、t−ブタノール、PGME、PGMEAが好ましい。また、組成物の調製方法は、成分を均一に混合できれば良く、公知の方法に従って実施すれば良く、公知の装置を使用して混合分散することができる。
低屈折率層は、前述したウェットコーティング法により表面処理を行ったハードコート層上に塗工され、加熱乾燥により塗膜中の溶媒を揮発させ、その後、加熱、紫外線照射、電子線照射等を行い塗膜を硬化させる。また、低屈折率層の形成は、前記ハードコート層の形成方法と同様にマイクログラビア法を用いると好ましい。
なお、低屈折率層を形成する時の膜厚(nm)dAは、
式(1):dA=mλ/(4nA) (1)
(式(1)中、nAは低屈折率層の屈折率を表し、mは正の奇数を表し、好ましくは1を表し、λは波長であり、好ましくは480〜580nmの範囲の値である)を満たすものが好ましい。
式(1):dA=mλ/(4nA) (1)
(式(1)中、nAは低屈折率層の屈折率を表し、mは正の奇数を表し、好ましくは1を表し、λは波長であり、好ましくは480〜580nmの範囲の値である)を満たすものが好ましい。
図2に本発明の光学積層体(1)を用いた反射防止性偏光板(210)について説明する。
図2の反射防止性偏光板(210)においては、第1の透明基材(11)の一方の面にハードコート層(12)と、低屈折率層(13)が順に備えている光学積層体(1)であり、低屈折率層非形成面側に、第1の偏光層(23)と、第2の透明基材(22)を順に備えた反射防止性偏光板(210)となる。
本発明の実施の形態に係る光学積層体(1)は、ディスプレイ部材、画像装置の一部として用いることができる。
図3に本発明の光学積層体(1)を用いた透過型液晶ディスプレイの構成について説明する。
図3(a)の透過型液晶ディスプレイにおいては、本発明の光学積層体(1)を、一方の面に貼り合わせた第1の偏光板(2)を低屈折率層非形成面に備えた反射防止性偏光板(200)、液晶セル(3)、第2の偏光板(4)、バックライトユニット(5)をこの順に備えている。このとき、光学積層体(1)側が観察側すなわちディスプレイ表面となる。
図3(a)にあっては、光学積層体(1)の透明基材(11)と第1の偏光板(2)の透明基材を別々に備える透過型液晶ディスプレイとなっている。
バックライトユニット(5)は、光源と光拡散板を備える。液晶セル(3)は、一方の透明基材に電極が設けられ、もう一方の透明基材に電極及びカラーフィルターを備えており、両電極間に液晶が封入された構造となっている。液晶セル(3)を挟むように設けられる第1、第2の偏光板にあっては、透明基材(21、22、41、42)間に偏光層(23、43)を挟持した構造となっている。
また、図3(b)にあっては、透明基材(11)の一方の面に低屈折率層(13)を備えた光学積層体(1)と、当該反射防止フィルムの低屈折率層非形成面に、偏光層(23)、透明基材(22)を順に備えて、反射防止性偏光板(210)を形成し、反射防止性偏光板(210)、液晶セル(3)、第2の偏光板(4)、バックライトユニット(5)をこの順に備えている。このとき、光学積層体(1)の低屈折率層(13)側が観察側すなわちディスプレイ表面となる。
図3(b)にあっては、光学積層体の反射防止層非形成面に、第1の偏光板として、偏光層(23)と透明基材(22)を、この順に備えた反射防止性偏光板(210)を備えた透過型液晶ディスプレイとなっている。
図3(b)においても、図3(a)と同様に、バックライトユニット(5)は、光源と光拡散板を備える。液晶セルは、一方の透明基材に電極が設けられ、もう一方の透明基材に電極及びカラーフィルターを備えており、両電極間に液晶が封入された構造となっている。液晶セル(3)を挟むように設けられる第1、第2の偏光板にあっては、透明基材(11、22、41、42)間に偏光層(23、43)を挟持した構造となっている。
また、本発明の透過型液晶ディスプレイにあっては、他の機能性部材を備えても良い。他の機能性部材としては、例えば、バックライトから発せられる光を有効に使うための、拡散フィルム、プリズムシート、輝度向上フィルムや、液晶セルや偏光板の位相差を補償するための位相差フィルムが挙げられるが、本発明の透過型液晶ディスプレイはこれらに限定されるものではない。
以上により、本発明の光学積層体を用いた、透過型液晶ディスプレイが製造される。
以下、本発明の具体的な実施例について詳細に説明するが、本発明は実施例に限定されるものではない。
(実施例1)
図1から図3に示すように、第1の透明基材(11)としては、厚さ80μmのトリアセチルセルロースフィルムを用意した。
図1から図3に示すように、第1の透明基材(11)としては、厚さ80μmのトリアセチルセルロースフィルムを用意した。
第1の透明基材(11)上に、ハードコート層処方を撹拌混合した塗布液を、バーコーティング法により乾燥後の膜厚が6μm程度になるように塗布、乾燥させ、高圧水銀灯により600mJ/cm2の紫外線を照射し、ハードコート層を形成した。
前記ハードコート層処方においては、以下の処方にておこなった。
<ハードコート層処方>
・ウレタンアクリレート:UV−1700B(日本合成化学社製) 90重量部
・導電性金属酸化物(五酸化アンチモン、屈折率n=1.60) 10重量部
・光重合開始剤:イルガキュアー184(チバ・ジャパン社製) 3.5重量部
・溶剤1:アセトン 80重量部
・溶剤2:エタノール 20重量部
<ハードコート層処方>
・ウレタンアクリレート:UV−1700B(日本合成化学社製) 90重量部
・導電性金属酸化物(五酸化アンチモン、屈折率n=1.60) 10重量部
・光重合開始剤:イルガキュアー184(チバ・ジャパン社製) 3.5重量部
・溶剤1:アセトン 80重量部
・溶剤2:エタノール 20重量部
ハードコート層の上に、低屈折率層処方をおこなった塗布液を塗布した後、温度50℃の熱オーブン中で60秒間乾燥し、塗膜中の溶剤を蒸発させ、紫外線を積算光量が300mJになるように照射して塗膜を硬化させることにより、0.2g/cm2(乾燥時)の低屈折率層を形成させて、光学積層体を作製した。
前記低屈折率層処方においては、以下の処方にておこなった。
<低屈折率層処方>
・中空シリカ微粒子(該シリカ微粒子の固形分は20重量%溶液;メチルイソブチルケトン、粒子径50ナノメートル) 70重量部
・ペンタエリスリトールトリアクリレート(PETA) 30重量部
・光重合開始剤:イルガキュアー127(チバ・ジャパン社製) 3.0重量部
・メチルイソブチルケトン 50重量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGME) 50重量部
<低屈折率層処方>
・中空シリカ微粒子(該シリカ微粒子の固形分は20重量%溶液;メチルイソブチルケトン、粒子径50ナノメートル) 70重量部
・ペンタエリスリトールトリアクリレート(PETA) 30重量部
・光重合開始剤:イルガキュアー127(チバ・ジャパン社製) 3.0重量部
・メチルイソブチルケトン 50重量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGME) 50重量部
(実施例2)
(実施例1)同様に、以下のハードコート層処方においてハードコート層を形成した。
<ハードコート層処方>
・ウレタンアクリレート:UV−1700B 90重量部
・導電性金属酸化物(五酸化アンチモン、屈折率n=1.60) 10重量部
・光重合開始剤:イルガキュアー184 3.5重量部
・溶剤1:メチルエチルケトン 70重量部
・溶剤2:メチルセロソルブ 30重量部
それ以外の形成方法及び低屈折率層の形成においては、(実施例1)と同様にして光学積層体を作製した。
(実施例1)同様に、以下のハードコート層処方においてハードコート層を形成した。
<ハードコート層処方>
・ウレタンアクリレート:UV−1700B 90重量部
・導電性金属酸化物(五酸化アンチモン、屈折率n=1.60) 10重量部
・光重合開始剤:イルガキュアー184 3.5重量部
・溶剤1:メチルエチルケトン 70重量部
・溶剤2:メチルセロソルブ 30重量部
それ以外の形成方法及び低屈折率層の形成においては、(実施例1)と同様にして光学積層体を作製した。
(実施例3)
(実施例1)同様に、以下のハードコート層処方においてハードコート層を形成した。
<ハードコート層処方>
・ウレタンアクリレート:UA306H(共栄社化学社製) 90重量部
・導電性金属酸化物(五酸化アンチモン、屈折率n=1.60) 10重量部
・光重合開始剤:イルガキュアー184 3.5重量部
・溶剤1:メチルエチルケトン 70重量部
・溶剤2:メチルセロソルブ 30重量部
それ以外の形成方法及び低屈折率層の形成においては、(実施例1)と同様にして光学積層体を作製した。
(実施例1)同様に、以下のハードコート層処方においてハードコート層を形成した。
<ハードコート層処方>
・ウレタンアクリレート:UA306H(共栄社化学社製) 90重量部
・導電性金属酸化物(五酸化アンチモン、屈折率n=1.60) 10重量部
・光重合開始剤:イルガキュアー184 3.5重量部
・溶剤1:メチルエチルケトン 70重量部
・溶剤2:メチルセロソルブ 30重量部
それ以外の形成方法及び低屈折率層の形成においては、(実施例1)と同様にして光学積層体を作製した。
(実施例4)
(実施例1)同様に、以下のハードコート層処方においてハードコート層を形成した。
<ハードコート層処方>
・ウレタンアクリレート:UV−1700B 95重量部
・導電性金属酸化物(五酸化アンチモン、屈折率n=1.60) 5重量部
・光重合開始剤:イルガキュアー184 3.5重量部
・溶剤1:アセトン 70重量部
・溶剤2:エタノール 30重量部
それ以外の形成方法及び低屈折率層の形成においては、(実施例1)と同様にして光学積層体を作製した。
(実施例1)同様に、以下のハードコート層処方においてハードコート層を形成した。
<ハードコート層処方>
・ウレタンアクリレート:UV−1700B 95重量部
・導電性金属酸化物(五酸化アンチモン、屈折率n=1.60) 5重量部
・光重合開始剤:イルガキュアー184 3.5重量部
・溶剤1:アセトン 70重量部
・溶剤2:エタノール 30重量部
それ以外の形成方法及び低屈折率層の形成においては、(実施例1)と同様にして光学積層体を作製した。
本発明の光学積層体の性能と比較するための比較例として、(比較例1)及び(比較例2)を作製した。
(比較例1)
(実施例1)同様に、以下のハードコート層処方においてハードコート層を形成した。
<ハードコート層処方>
・ウレタンアクリレート:UV−1700B 90重量部
・導電性金属酸化物(五酸化アンチモン、屈折率n=1.60) 10重量部
・光重合開始剤:イルガキュアー184 3.5重量部
・溶剤1:アセトン 40重量部
・溶剤2:エタノール 60重量部
それ以外の形成方法及び低屈折率層の形成においては、(実施例1)と同様にして光学積層体を作製した。
(実施例1)同様に、以下のハードコート層処方においてハードコート層を形成した。
<ハードコート層処方>
・ウレタンアクリレート:UV−1700B 90重量部
・導電性金属酸化物(五酸化アンチモン、屈折率n=1.60) 10重量部
・光重合開始剤:イルガキュアー184 3.5重量部
・溶剤1:アセトン 40重量部
・溶剤2:エタノール 60重量部
それ以外の形成方法及び低屈折率層の形成においては、(実施例1)と同様にして光学積層体を作製した。
(比較例2)
(実施例1)同様に、以下のハードコート層処方においてハードコート層を形成した。
<ハードコート層処方>
・ウレタンアクリレート:UV−1700B 90重量部
・導電性金属酸化物(五酸化アンチモン、屈折率n=1.60) 10重量部
・光重合開始剤:イルガキュアー184 3.5重量部
・溶剤1:アセトン 95重量部
・溶剤2:エタノール 5重量部
それ以外の形成方法及び低屈折率層の形成においては、(実施例1)と同様にして光学積層体を作製した。
(実施例1)同様に、以下のハードコート層処方においてハードコート層を形成した。
<ハードコート層処方>
・ウレタンアクリレート:UV−1700B 90重量部
・導電性金属酸化物(五酸化アンチモン、屈折率n=1.60) 10重量部
・光重合開始剤:イルガキュアー184 3.5重量部
・溶剤1:アセトン 95重量部
・溶剤2:エタノール 5重量部
それ以外の形成方法及び低屈折率層の形成においては、(実施例1)と同様にして光学積層体を作製した。
前記(実施例1)、(実施例2)、(実施例3)、(実施例4)及び(比較例1)、(比較例2)の、それぞれの光学積層体の性能は、下記の方法に従って評価した。評価結果については(表1)に示す。
(a)光学特性
「反射率測定」
得られた反射防止フィルムの低屈折率層表面について、自動分光光度計(日立製作所社製、U−4000)を用い、波長360〜800nmの光を入射角5°における分光反射率を測定した。なお、測定の際には透明基材であるトリアセチルセルロースフィルムのうち低屈折率層の形成されていない面につや消し黒色塗料を塗布し、反射防止の処置をおこなった。
「反射率測定」
得られた反射防止フィルムの低屈折率層表面について、自動分光光度計(日立製作所社製、U−4000)を用い、波長360〜800nmの光を入射角5°における分光反射率を測定した。なお、測定の際には透明基材であるトリアセチルセルロースフィルムのうち低屈折率層の形成されていない面につや消し黒色塗料を塗布し、反射防止の処置をおこなった。
「ヘイズ値測定」
得られた光学積層体について、写像性測定器(日本電色工業社製、NDH−2000)を使用して、JIS−K7105−1981に準拠して、ヘイズ値を測定した。
得られた光学積層体について、写像性測定器(日本電色工業社製、NDH−2000)を使用して、JIS−K7105−1981に準拠して、ヘイズ値を測定した。
「干渉縞観察」
得られた光学積層体について、透明基材であるトリアセチルセルロースフィルムのうち低屈折率層の形成されていない面につや消し黒色塗料を塗布したのち、蛍光灯(三波長蛍光灯)直下で低屈折率層表面の干渉縞を目視にて確認した。
得られた光学積層体について、透明基材であるトリアセチルセルロースフィルムのうち低屈折率層の形成されていない面につや消し黒色塗料を塗布したのち、蛍光灯(三波長蛍光灯)直下で低屈折率層表面の干渉縞を目視にて確認した。
目視にて確認した評価は、
○:暗い環境下でも色ムラが確認されない。
×:暗い環境下でも色ムラがはっきりと確認される。
○:暗い環境下でも色ムラが確認されない。
×:暗い環境下でも色ムラがはっきりと確認される。
(b)表面抵抗値
「表面抵抗」
得られた反射防止フィルムの低屈折率層表面の表面抵抗値を、JIS−K6911−1994に準拠して高抵抗抵抗率計(株式会社ダイアインスツルメンツ社製、ハイレスターMCP−HT260)を測定した。
「表面抵抗」
得られた反射防止フィルムの低屈折率層表面の表面抵抗値を、JIS−K6911−1994に準拠して高抵抗抵抗率計(株式会社ダイアインスツルメンツ社製、ハイレスターMCP−HT260)を測定した。
(c)機械強度
「耐擦傷性試験」
学振型摩擦堅牢度試験機(テスター産業株式会社製、AB−301)を用いて、光学積層体の低屈折率層表面に250g/cm2の荷重をかけたスチールウール(日本スチールウール社製、ボンスター#0000)を用い、10往復擦り、擦り跡やキズなどによる外観の変化を目視で評価した。
「耐擦傷性試験」
学振型摩擦堅牢度試験機(テスター産業株式会社製、AB−301)を用いて、光学積層体の低屈折率層表面に250g/cm2の荷重をかけたスチールウール(日本スチールウール社製、ボンスター#0000)を用い、10往復擦り、擦り跡やキズなどによる外観の変化を目視で評価した。
目視にて確認した評価は、
○:傷を確認することが出来ない。
△:数本傷を確認できる。
×:傷が多数確認できる。
○:傷を確認することが出来ない。
△:数本傷を確認できる。
×:傷が多数確認できる。
「密着性試験」
得られた光学積層体について、塗料一般試験法JIS−K5400−1990の付着性試験方法(碁盤目テープ法)に準拠して、低屈折率層表面の塗膜の残存数にて評価した。
得られた光学積層体について、塗料一般試験法JIS−K5400−1990の付着性試験方法(碁盤目テープ法)に準拠して、低屈折率層表面の塗膜の残存数にて評価した。
目視にて確認した評価は、
○:剥離が確認することが出来ない。
△:20マス以下の剥離が確認できる。
×:20マス以上の剥離が確認できる。
○:剥離が確認することが出来ない。
△:20マス以下の剥離が確認できる。
×:20マス以上の剥離が確認できる。
「鉛筆硬度試験」
クレメンス型引掻き硬度試験機(テスター産業株式会社製、HA−301)を用いて、JIS−K5400−1990に従い、光学積層体の低屈折率層表面に500gの荷重をかけた硬度3Hの鉛筆(三菱UNI)を用い、試験を行い、キズによる外観の変化を目視で評価した。
クレメンス型引掻き硬度試験機(テスター産業株式会社製、HA−301)を用いて、JIS−K5400−1990に従い、光学積層体の低屈折率層表面に500gの荷重をかけた硬度3Hの鉛筆(三菱UNI)を用い、試験を行い、キズによる外観の変化を目視で評価した。
目視にて確認した評価は、
○:外観の変化が確認することが出来ない。
×:外観の変化が目立つとき。
○:外観の変化が確認することが出来ない。
×:外観の変化が目立つとき。
このフィルムの性能評価結果を(表1)に示す。
(表1)より、(実施例1)、(実施例2)、(実施例3)、(実施例4)で得られた本発明の光学積層体は、耐擦傷性に優れ、干渉縞が認められない、優れたハードコート層と反射防止層を備え、干渉縞の発生を抑え、帯電防止性、透明性及び密着性に優れるものである。
これに対して、(比較例1)で得られた本発明の光学積層体は、密着性に劣り干渉縞の発生が認められた。また、(比較例2)で得られた本発明の光学積層体は、塗液中に金属酸化物微粒子と思われる凝集体が発生し、表面抵抗値の上昇が認められた。
1 光学積層体
11 透明基材
12 ハードコート層
121 電離放射線硬化型樹脂
122 導電性材料(導電性粒子)
13 低屈折率層
131 低屈折率層形成用樹脂
132 低屈折率粒子
2 第1の偏光板
21 透明基材
22 透明基材
23 偏光層
200 反射防止性偏光板
210 反射防止性偏光板
3 液晶セル
4 第2の偏光板
41 透明基材
42 透明基材
43 偏光層
5 バックライトユニット
11 透明基材
12 ハードコート層
121 電離放射線硬化型樹脂
122 導電性材料(導電性粒子)
13 低屈折率層
131 低屈折率層形成用樹脂
132 低屈折率粒子
2 第1の偏光板
21 透明基材
22 透明基材
23 偏光層
200 反射防止性偏光板
210 反射防止性偏光板
3 液晶セル
4 第2の偏光板
41 透明基材
42 透明基材
43 偏光層
5 バックライトユニット
Claims (7)
- 透明基材の少なくとも片面に、1分子中に2個以上の(メタ)アクリロイル基を分子中に有する多官能性モノマーを含有する電離放射線硬化型樹脂と、
ATO、ITO、Sb2O5、TiO2、ZnO2、Ce2O3の金属酸化物粒子のうち少なくとも1種類以上を含有する導電性材料に、
透明基材を溶解または膨潤させる一種類以上の溶剤1と、導電性材料が安定に分散される溶剤2により混合調液された塗布液を用いて形成されるハードコート層と、低屈折率層を順次積層されていることを特徴とする光学積層体。 - 前記ハードコート層において、電離放射線硬化型樹脂が、ウレタン(メタ)アクリレートモノマーおよび/またはオリゴマーからなり、電離放射線硬化型樹脂が90重量部から99重量部の範囲内に対し、導電性材料が10重量部から1重量部の範囲内で含むことを特徴とする請求項1記載の光学積層体。
- 前記溶剤1が、酢酸メチル、酢酸エチル、メチルエチルケトン、アセチルアセトン、アセトン、シクロヘキサノンのうち少なくとも1種類と、
前記溶剤2が、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、1−ペンタノール、エチレングリコール、メチルセロソルブ、セロソルブのうち少なくとも1種類を含んでおり、
前記溶剤1が70重量部から95重量部の範囲内であり、前記溶剤2が30重量部から5重量部の範囲内であることを特徴とする請求項1乃至請求項2のいずれかに記載の光学積層体。 - 前記低屈折率層が、少なくとも1分子中に2個以上の(メタ)アクリロイル基を分子中に含有する多官能性モノマーと、低屈折率微粒子を含有しており、低屈折率層の屈折率が1.3以上1.5以下であることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれかに記載の光学積層体。
- 前記透明基材が、セルロース系フィルムであることを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれかに記載の光学積層体。
- 請求項1乃至請求項5のいずれかに記載の光学積層体と、当該光学積層体の低屈折率層非形成面に第1の偏光板を備えたことを特徴とする反射防止性偏光板。
- 観察者側から順に、請求項6に記載の反射防止性偏光板と、液晶セル、第2の偏光板、バックライトユニットをこの順に備え、前記反射防止性偏光板の低屈折率層非形成面側に液晶セルを保持していることを特徴とする透過型液晶ディスプレイ。
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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-
2009
- 2009-10-06 JP JP2009232266A patent/JP2011081121A/ja active Pending
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