JP2009122416A - 光学薄膜フィルム - Google Patents
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Abstract
【課題】指紋痕の目立たない光学薄膜フィルムおよびそれを用いた部材を提供する。
【解決手段】基材2の一方の面上に、光の波長550nmでの屈折率が1.75未満である低屈折率層4,6および波長550nmでの屈折率が1.75以上である高屈折率層5を含む薄膜層3を有し、前記薄膜層3の面上に、乾燥膜厚が20μmであるオレイン酸を塗布したときに、前記オレイン酸を塗布した前記光学薄膜フィルムと、前記オレイン酸を塗布していない前記光学薄膜フィルムと、のD65光源、5°入射、2°視野、正反射光におけるCIELAB(JIS Z 8729に準拠)の色差ΔE* ab(={(ΔL*)2+(Δa*)2+(Δb*)2}1/2)が5以下であることを特徴とする光学薄膜フィルム。該フィルムを具備する耐指紋痕用途部材。
【選択図】図1
【解決手段】基材2の一方の面上に、光の波長550nmでの屈折率が1.75未満である低屈折率層4,6および波長550nmでの屈折率が1.75以上である高屈折率層5を含む薄膜層3を有し、前記薄膜層3の面上に、乾燥膜厚が20μmであるオレイン酸を塗布したときに、前記オレイン酸を塗布した前記光学薄膜フィルムと、前記オレイン酸を塗布していない前記光学薄膜フィルムと、のD65光源、5°入射、2°視野、正反射光におけるCIELAB(JIS Z 8729に準拠)の色差ΔE* ab(={(ΔL*)2+(Δa*)2+(Δb*)2}1/2)が5以下であることを特徴とする光学薄膜フィルム。該フィルムを具備する耐指紋痕用途部材。
【選択図】図1
Description
本発明は、自動車部材、車両部材、家電用品部材、携帯電話部材、携帯ゲーム機部材、パーソナルコンピューター部材、PDA(Personal Digital Assistant)部材、オーディオ製品部材、カーナビゲーション部材、事務用品部材、スポーツ用品部材、雑貨部材、メガネ・サングラス部材、カメラ部材、光学用品部材、計測機器部材等に用いられる光学薄膜フィルムであって、指紋痕の目立たない光学薄膜フィルムに関するものである。
物の表面に人の指が触れることによって指紋が付着すると、指紋痕が認識されて見た目が汚れたような不快な印象を与えるという問題がある。例えば、携帯電話の筐体を掴むことで指紋が付着し、指紋痕が目立って清潔感が損なわれるというようなことである。特に最近では指で操作する電子機器が増加しており、例えば、携帯電話・PDAのキー操作盤、タッチパネル、パーソナルコンピューターのキーボード、テレビ・エアコンのリモコン等である。
更に、画像表示機器の画像表示部、警告灯などの信号表示部、レンズ・鏡の表面等に指紋が付着すると、表示画像、表示信号、反射像における不鮮明感や、指紋が付着している箇所と付着していない箇所の反射率の違いになどよって視認性が悪化するという問題がある。例えば、携帯電話・PDA・テレビ・カーナビゲーション・パーソナルコンピューターの液晶画面、案内・警告・避難誘導のための信号表示灯、メガネ・サングラス・望遠鏡・カメラのレンズ、時計の文字盤の透明カバー、車のバックミラー・ルームミラー等である。これらの機器に一旦指紋が付着すると指紋痕によって対象物の視認性が低下するばかりでなく、安全性が損なわれて時には危険なことさえある。
指紋痕を目立たなくする方法としては特許文献1が開示されている。しかし、特許文献1の方法は基材の表面に微細な凹凸を形成した防眩性フィルムであるため、表示画像の鮮明感に欠け、明瞭な画像とはならない。
特開平9−127305号公報
本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであって、指紋痕の目立たない光学薄膜フィルムおよびそれを用いた部材を提供することを目的とする。
請求項1に記載の発明は、基材の一方の面上に、光の波長550nmでの屈折率が1.75未満である低屈折率層、または、光の波長550nmでの屈折率が1.75以上である高屈折率層、または、その両方、を少なくとも含む薄膜層を形成してなる光学薄膜フィルムであって、
前記薄膜層の面上に、乾燥膜厚が20μmであるオレイン酸を塗布したときに、
前記オレイン酸を塗布した前記光学薄膜フィルムと、前記オレイン酸を塗布していない前記光学薄膜フィルムと、のD65光源、5°入射、2°視野、正反射光におけるCIELAB(JIS Z 8729に準拠)の色差ΔE* ab(={(ΔL*)2+(Δa*)2+(Δb*)2}1/2)が5以下である、
ことを特徴とする光学薄膜フィルムである。
前記薄膜層の面上に、乾燥膜厚が20μmであるオレイン酸を塗布したときに、
前記オレイン酸を塗布した前記光学薄膜フィルムと、前記オレイン酸を塗布していない前記光学薄膜フィルムと、のD65光源、5°入射、2°視野、正反射光におけるCIELAB(JIS Z 8729に準拠)の色差ΔE* ab(={(ΔL*)2+(Δa*)2+(Δb*)2}1/2)が5以下である、
ことを特徴とする光学薄膜フィルムである。
請求項2に記載の発明は、基材の一方の面上に、光の波長550nmでの屈折率が1.75未満である低屈折率層、または、光の波長550nmでの屈折率が1.75以上である高屈折率層、または、その両方、を少なくとも含む薄膜層と、防汚層と、を順次積層してなる光学薄膜フィルムであって、
前記防汚層の面上に、乾燥膜厚が20μmであるオレイン酸を塗布したときに、
前記オレイン酸を塗布した前記光学薄膜フィルムと、前記オレイン酸を塗布していない前記光学薄膜フィルムと、のD65光源、5°入射、2°視野、正反射光におけるCIELAB(JIS Z 8729に準拠)の色差ΔE* ab(={(ΔL*)2+(Δa*)2+(Δb*)2}1/2)が5以下である、
ことを特徴とする光学薄膜フィルムである。
前記防汚層の面上に、乾燥膜厚が20μmであるオレイン酸を塗布したときに、
前記オレイン酸を塗布した前記光学薄膜フィルムと、前記オレイン酸を塗布していない前記光学薄膜フィルムと、のD65光源、5°入射、2°視野、正反射光におけるCIELAB(JIS Z 8729に準拠)の色差ΔE* ab(={(ΔL*)2+(Δa*)2+(Δb*)2}1/2)が5以下である、
ことを特徴とする光学薄膜フィルムである。
請求項3に記載の発明は、前記低屈折率層または高屈折率層またはその両方が真空成膜法により形成されることを特徴とする請求項1または2に記載の光学薄膜フィルムである。
請求項4に記載の発明は、請求項1乃至3のいずれかに記載の光学薄膜フィルムを具備してなることを特徴とする耐指紋痕用途部材である。
本発明の光学薄膜フィルムは、指紋付着した部分と未付着の部分の光学的な変化が小さく、結果として指紋痕が目立たないものとすることができる。
更に、本発明の光学薄膜フィルムは、透明性を有する基材を用いた場合、薄膜層を形成する際に、材料を適宜選択する、および/または薄膜層の膜厚を適正化することにより、光透過性を有するものとすることができる。
以下、本発明の実施形態について、図面を参照して説明する。
図1は、本発明の光学薄膜フィルムの一例を示す断面図である。図1に示す光学薄膜フィルム1は、基材2上に耐指紋痕の薄膜層3が設けられたものである。
図1は、本発明の光学薄膜フィルムの一例を示す断面図である。図1に示す光学薄膜フィルム1は、基材2上に耐指紋痕の薄膜層3が設けられたものである。
(基材)
本発明における基材2としては、プラスチック、ガラス、金属、あるいはこれらを複合した素材が挙げられる。
プラスチック素材としては、例えば、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリプロピレン、ポリエチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアセタール、ポリビニルアルコール、ポリウレタン、ポリエチルメタクリレート、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリフェニレンサルファイト、ポリエーテルサルホン、ポリエーテルスルフォン、ポリオレフィン、ポリアリレート、ポリスルホン、ポリパラキシレン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリフェニルオキサイド、トリアセチルセルロース、セルロースアセテート、珪素樹脂、フッ素樹脂、アクリル樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ABS樹脂、ABSアロイ等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
ガラス素材としては、例えば、ソーダライムガラス、硼珪酸ガラス、石英ガラス、パイレックス(登録商標)ガラス、無アルカリガラス、鉛ガラス等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
金属素材としては、例えば、アルミニウム、ステンレス、鉄、ニッケル、クロム、ニクロム、亜鉛、錫、鉛、金、銀、銅、パラジウム、めっき鋼板等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
また、これらプラスチック素材、ガラス素材、金属素材を各種複合した素材でも構わない。
本発明における基材2としては、プラスチック、ガラス、金属、あるいはこれらを複合した素材が挙げられる。
プラスチック素材としては、例えば、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリプロピレン、ポリエチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアセタール、ポリビニルアルコール、ポリウレタン、ポリエチルメタクリレート、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリフェニレンサルファイト、ポリエーテルサルホン、ポリエーテルスルフォン、ポリオレフィン、ポリアリレート、ポリスルホン、ポリパラキシレン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリフェニルオキサイド、トリアセチルセルロース、セルロースアセテート、珪素樹脂、フッ素樹脂、アクリル樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ABS樹脂、ABSアロイ等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
ガラス素材としては、例えば、ソーダライムガラス、硼珪酸ガラス、石英ガラス、パイレックス(登録商標)ガラス、無アルカリガラス、鉛ガラス等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
金属素材としては、例えば、アルミニウム、ステンレス、鉄、ニッケル、クロム、ニクロム、亜鉛、錫、鉛、金、銀、銅、パラジウム、めっき鋼板等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
また、これらプラスチック素材、ガラス素材、金属素材を各種複合した素材でも構わない。
また、基材2の形状は、特に限定されず、例えば、板状、ロール状等とすることができる。
基材2の表面は、平滑であることが好ましい。また、基材2の表面は、薄膜層3を形成する前に、必要に応じて表面処理を施してもよい。ここでの表面処理法としては、例えば、コロナ処理法、蒸着処理法、電子ビーム処理法、高周波放電プラズマ処理法、スパッタリング処理法、イオンビーム処理法、大気圧グロー放電プラズマ処理法、アルカリ処理法、酸処理法等が挙げられる。
基材2の厚さは、目的の用途に応じて適宜選択され、通常5μm以上10mm以下とされる。プラスチック素材には、公知の添加剤、例えば、紫外線吸収剤、可塑剤、滑剤、着色剤、酸化防止剤、難燃剤等が含有されていてもよい。
(薄膜層)
図1に示す光学薄膜フィルム1を構成する薄膜層3は、光の波長550nmでの屈折率が1.75未満である低屈折率層、または、光の波長550nmでの屈折率が1.75以上である高屈折率層、または、その両方、を少なくとも含む薄膜層である。
図1に示す光学薄膜フィルム1を構成する薄膜層3は、光の波長550nmでの屈折率が1.75未満である低屈折率層、または、光の波長550nmでの屈折率が1.75以上である高屈折率層、または、その両方、を少なくとも含む薄膜層である。
図1には、基材2に近い側から低屈折率層4、高屈折率層5、低屈折率層6の3層が順次積層してなる薄膜層3が示されているが、これは一実施例にすぎず、基材2の一方の面上に、低屈折率層、高屈折率層の少なくとも一層以上を形成していれば、1層であっても、2層以上であってもよく、層数に制限はない。
(低屈折率層)
本発明における低屈折率層とは、光の波長550nmでの屈折率が1.75未満の層である。光の透過性に優れた低屈折率層とする場合は、可視光領域での消衰係数を0.01未満にすれば良く、一方、光吸収性を有する低屈折率層とする場合は、可視光領域での消衰係数を0.01以上にすれば良い。
本発明における低屈折率層とは、光の波長550nmでの屈折率が1.75未満の層である。光の透過性に優れた低屈折率層とする場合は、可視光領域での消衰係数を0.01未満にすれば良く、一方、光吸収性を有する低屈折率層とする場合は、可視光領域での消衰係数を0.01以上にすれば良い。
低屈折率層の材料としては、例えば、
銀(Ag)(屈折率 0.055、消衰係数 3.32)、
金(Au)(屈折率 0.331、消衰係数 2.32)、
銅(Cu)(屈折率 0.670、消衰係数 2.86)、
アルミニウム(Al)(屈折率 0.834、消衰係数 6.03)、
一窒化チタン(TiN)(屈折率 1.25、消衰係数 2.10)、
クライオライト(Na3AlF6)(屈折率 1.35、消衰係数 0)、
二弗化マグネシウム(MgF2)(屈折率 1.38、消衰係数 0)、
一弗化リチウム(LiF)(屈折率 1.39、消衰係数 0)、
二弗化カルシウム(CaF2)(屈折率 1.43、消衰係数 0)、
二酸化珪素(SiO2)(屈折率 1.46、消衰係数 0)、
二弗化ストロンチウム(SrF2)(屈折率 1.46、消衰係数 0)、
二弗化バリウム(BaF2)(屈折率 1.48、消衰係数 0)、
三弗化イッテルビウム(YbF3)(屈折率 1.52、消衰係数 0)、
タングステンとチタンの窒化物(TiNxWy)(屈折率 1.54、消衰係数 1.52)、
四弗化トリウム(ThF4)(屈折率 1.56、消衰係数 0)、
四弗化ハフニウム(HfF4)(屈折率 1.57、消衰係数 0)、
三弗化ランタン(LaF3)(屈折率 1.58、消衰係数 0)、
三弗化ネオジウム(NdF3)(屈折率 1.60、消衰係数 0)、
三弗化セリウム(CeF3)(屈折率 1.64、消衰係数 0)、
パラジウム(Pd)(屈折率 1.64、消衰係数 3.85)、
三酸化アルミニウム(Al2O3)(屈折率 1.67、消衰係数 0)、
一酸化マグネシウム(MgO)(屈折率 1.74、消衰係数 0)、
または、これら材料の混合物が挙げられる。屈折率、消衰係数は光の波長550nmにおける値である。
銀(Ag)(屈折率 0.055、消衰係数 3.32)、
金(Au)(屈折率 0.331、消衰係数 2.32)、
銅(Cu)(屈折率 0.670、消衰係数 2.86)、
アルミニウム(Al)(屈折率 0.834、消衰係数 6.03)、
一窒化チタン(TiN)(屈折率 1.25、消衰係数 2.10)、
クライオライト(Na3AlF6)(屈折率 1.35、消衰係数 0)、
二弗化マグネシウム(MgF2)(屈折率 1.38、消衰係数 0)、
一弗化リチウム(LiF)(屈折率 1.39、消衰係数 0)、
二弗化カルシウム(CaF2)(屈折率 1.43、消衰係数 0)、
二酸化珪素(SiO2)(屈折率 1.46、消衰係数 0)、
二弗化ストロンチウム(SrF2)(屈折率 1.46、消衰係数 0)、
二弗化バリウム(BaF2)(屈折率 1.48、消衰係数 0)、
三弗化イッテルビウム(YbF3)(屈折率 1.52、消衰係数 0)、
タングステンとチタンの窒化物(TiNxWy)(屈折率 1.54、消衰係数 1.52)、
四弗化トリウム(ThF4)(屈折率 1.56、消衰係数 0)、
四弗化ハフニウム(HfF4)(屈折率 1.57、消衰係数 0)、
三弗化ランタン(LaF3)(屈折率 1.58、消衰係数 0)、
三弗化ネオジウム(NdF3)(屈折率 1.60、消衰係数 0)、
三弗化セリウム(CeF3)(屈折率 1.64、消衰係数 0)、
パラジウム(Pd)(屈折率 1.64、消衰係数 3.85)、
三酸化アルミニウム(Al2O3)(屈折率 1.67、消衰係数 0)、
一酸化マグネシウム(MgO)(屈折率 1.74、消衰係数 0)、
または、これら材料の混合物が挙げられる。屈折率、消衰係数は光の波長550nmにおける値である。
光吸収性を有する低屈折率層とする場合は、可視光領域での消衰係数が0.01以上の材料を使用すればよいが、可視光領域の光透過性を有する程度の膜厚とする必要がある。膜厚が厚過ぎると光透過性のない層になり、逆に、膜厚が薄過ぎると光吸収性が不十分な層になる。光透過性と光吸収性を両立させる好ましい膜厚は0.3nm以上100nm以下である。
ここで、図1に示す低屈折率層4、および6とは、必ずしも同一の材料でなくてもよく、目的に合わせて適宜選択されるものである。
(高屈折率層)
本発明における高屈折率層とは、光の波長550nmでの屈折率が1.75以上の層である。
光の透過性に優れた高屈折率層とする場合は、可視光領域での消衰係数を0.01未満にすれば良く、一方、光吸収性を有する高屈折率層とする場合は、可視光領域での消衰係数を0.01以上にすれば良い。
本発明における高屈折率層とは、光の波長550nmでの屈折率が1.75以上の層である。
光の透過性に優れた高屈折率層とする場合は、可視光領域での消衰係数を0.01未満にすれば良く、一方、光吸収性を有する高屈折率層とする場合は、可視光領域での消衰係数を0.01以上にすれば良い。
高屈折率層の材料としては、例えば、
テルル化鉛(PbTe)(屈折率 1.75、消衰係数 2.90)、
三酸化イットリウム(Y2O3)(屈折率 1.79、消衰係数 0)、
二酸化トリウム(ThO2)(屈折率 1.80、消衰係数 0)、
ニッケル(Ni)(屈折率 1.87、消衰係数 3.32)、
三酸化ビスマス(Bi2O3)(屈折率 1.91、消衰係数 0)、
三酸化ガドリニウム(Gd2O3)(屈折率 1.93、消衰係数 0)、
三酸化ランタン(La2O3)(屈折率 1.95、消衰係数 0)、
十一酸化プラセオジム(Pr6O11)(屈折率 1.95、消衰係数 0)、
ロジウム(Rh)(屈折率 1.97、消衰係数 5.02)、
二酸化ハフニウム(HfO2)(屈折率 1.99、消衰係数 0)、
三酸化ネオジウム(Nd2O3)(屈折率 2.00、消衰係数 0)、
一酸化珪素(SiO)(屈折率 2.00、消衰係数 0.03)、
三酸化アンチモン(Sb2O3)(屈折率 2.04、消衰係数 0)、
一窒化珪素(SiN)(屈折率 2.06、消衰係数 0)、
二酸化ジルコニウム(ZrO2)(屈折率 2.06、消衰係数 0)、
白金(Pt)(屈折率 2.13、消衰係数 3.71)、
五酸化タンタル(Ta2O5)(屈折率 2.14、消衰係数 0)、
二酸化セリウム(CeO2)(屈折率 2.20、消衰係数 0)、
三酸化クロム(Cr2O3)(屈折率 2.24、消衰係数 0.07)、
五酸化ニオブ(Nb2O5)(屈折率 2.27、消衰係数 0)、
二酸化チタン(TiO2)(屈折率 2.32、消衰係数 0)、
一硫化亜鉛(ZnS)(屈折率 2.35、消衰係数 0)、
タンタル(Ta)(屈折率 2.48、消衰係数 1.83)、
チタン(Ti)(屈折率 2.54、消衰係数 3.34)、
一炭化珪素(SiC)(屈折率 2.66、消衰係数 0)、
セレン化亜鉛(ZnSe)(屈折率 2.69、消衰係数 0.02)、
鉄(Fe)(屈折率 2.89、消衰係数 3.35)、
三硫化アンチモン(Sb2S3)(屈折率 3.00、消衰係数 0)、
クロム(Cr)(屈折率 3.12、消衰係数 4.42)、
タングステン(W)(屈折率 3.24、消衰係数 2.49)、
モリブデン(Mo)(屈折率 3.79、消衰係数 3.51)、
ゲルマニウム(Ge)(屈折率 3.95、消衰係数 1.98)、
珪素(Si)(屈折率 4.08、消衰係数 0.04)、
または、これら材料の混合物が挙げられる。屈折率、消衰係数は光の波長550nmにおける値である。
テルル化鉛(PbTe)(屈折率 1.75、消衰係数 2.90)、
三酸化イットリウム(Y2O3)(屈折率 1.79、消衰係数 0)、
二酸化トリウム(ThO2)(屈折率 1.80、消衰係数 0)、
ニッケル(Ni)(屈折率 1.87、消衰係数 3.32)、
三酸化ビスマス(Bi2O3)(屈折率 1.91、消衰係数 0)、
三酸化ガドリニウム(Gd2O3)(屈折率 1.93、消衰係数 0)、
三酸化ランタン(La2O3)(屈折率 1.95、消衰係数 0)、
十一酸化プラセオジム(Pr6O11)(屈折率 1.95、消衰係数 0)、
ロジウム(Rh)(屈折率 1.97、消衰係数 5.02)、
二酸化ハフニウム(HfO2)(屈折率 1.99、消衰係数 0)、
三酸化ネオジウム(Nd2O3)(屈折率 2.00、消衰係数 0)、
一酸化珪素(SiO)(屈折率 2.00、消衰係数 0.03)、
三酸化アンチモン(Sb2O3)(屈折率 2.04、消衰係数 0)、
一窒化珪素(SiN)(屈折率 2.06、消衰係数 0)、
二酸化ジルコニウム(ZrO2)(屈折率 2.06、消衰係数 0)、
白金(Pt)(屈折率 2.13、消衰係数 3.71)、
五酸化タンタル(Ta2O5)(屈折率 2.14、消衰係数 0)、
二酸化セリウム(CeO2)(屈折率 2.20、消衰係数 0)、
三酸化クロム(Cr2O3)(屈折率 2.24、消衰係数 0.07)、
五酸化ニオブ(Nb2O5)(屈折率 2.27、消衰係数 0)、
二酸化チタン(TiO2)(屈折率 2.32、消衰係数 0)、
一硫化亜鉛(ZnS)(屈折率 2.35、消衰係数 0)、
タンタル(Ta)(屈折率 2.48、消衰係数 1.83)、
チタン(Ti)(屈折率 2.54、消衰係数 3.34)、
一炭化珪素(SiC)(屈折率 2.66、消衰係数 0)、
セレン化亜鉛(ZnSe)(屈折率 2.69、消衰係数 0.02)、
鉄(Fe)(屈折率 2.89、消衰係数 3.35)、
三硫化アンチモン(Sb2S3)(屈折率 3.00、消衰係数 0)、
クロム(Cr)(屈折率 3.12、消衰係数 4.42)、
タングステン(W)(屈折率 3.24、消衰係数 2.49)、
モリブデン(Mo)(屈折率 3.79、消衰係数 3.51)、
ゲルマニウム(Ge)(屈折率 3.95、消衰係数 1.98)、
珪素(Si)(屈折率 4.08、消衰係数 0.04)、
または、これら材料の混合物が挙げられる。屈折率、消衰係数は光の波長550nmにおける値である。
光吸収性を有する高屈折率層とする場合は、可視光領域での消衰係数が0.01以上の材料を使用すればよいが、可視光領域の光透過性を有する程度の膜厚とする必要がある。膜厚が厚過ぎると光透過性のない層になり、逆に、膜厚が薄過ぎると光吸収性が不十分な層になる。光透過性と光吸収性を両立させる好ましい膜厚は0.3nm以上100nm以下である。
屈折率、および、消衰係数の光学定数に関しては、分光エリプソメトリー法を用いて、薄膜層試料の表面から反射してくる光の偏光状態の変化を測定することで求めることが可能である。消衰係数に関しては、0.01以上になると光の吸収が大きくなり、一方、0.01未満では光の吸収が小さくなるため、光吸収性を有する光吸収薄膜と光透過性に優れた透明薄膜を消衰係数の値で使い分けることが可能である。
本発明における薄膜層の低屈折率層、および高屈折率層は、蒸着法、スパッタリング法、プラズマCVD法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト法等の真空成膜法により形成することが好ましい。
真空成膜法では基材表面の形状を保持したまま薄膜を形成することが可能である。真空成膜法で堆積していく薄膜形成材料のサイズはオングストロームオーダーの原子・分子であるため、例えば、マイクロメーターオーダーの微細な凹凸を有する基材上に成膜しても表面に均一の厚さで堆積して凹部分を埋めずに元の凹凸形状を保持するため、光学的なムラのない表面を得ることができる。
薄膜層の上に、表面についた水滴、指紋等の拭き取りを容易にし、かつ、表面への衝撃による擦り傷等の外傷を防止することができる防汚層を形成しても良い。防汚層の材料としては、撥水性、撥油性および低摩擦性を有するものであればよく、例えば、珪素酸化物、弗素含有シラン化合物、フルオロアルキルシラザン、フルオロアルキルシラン、弗素含有珪素系化合物、パーフルオロポリエーテル基含有シランカップリング剤等が挙げられる。
防汚層は、蒸着法、スパッタリング法、化学蒸着(CVD)法、プラズマ重合法等の真空ドライプロセスの他、グラビアコート法、スクリーンコート法、ディップコート法、スプレーコート法、オフセットコート法等のウェットプロセスにより形成でき、防汚層の厚さは、物理膜厚で5nm以上10nm以下程度である。
本発明の光学薄膜フィルムにおいては、前記薄膜層の面上に、乾燥膜厚が20μmであるオレイン酸を塗布したときに、前記オレイン酸を塗布した前記光学薄膜フィルムと、前記オレイン酸を塗布していない前記光学薄膜フィルムと、のD65光源、5°入射、2°視野、正反射光におけるCIELAB(JIS Z 8729に準拠)の色差ΔE* ab(={(ΔL*)2+(Δa*)2+(Δb*)2}1/2)が5以下であることを特徴とする。色差ΔE* abが5を超えると指紋付着箇所と指紋未付着箇所の明度、色相、彩度の差異が目視で明確に判別できるようになり、結果として指紋痕が目立ってしまう。色差ΔE* abは5以下が好ましいが、より好ましくは3以下、最も好ましくは1未満である。
人間の指先には、水分、塩分、タンパク質、アミノ酸、脂肪などが付着しているため、手が触れた所には上記成分が指紋として付着する。
本発明では、特に脂肪(屈折率1.46程度)の付着による指紋痕の目立たない光学薄膜フィルムを提供することを目的としている。
また、JIS K 2246に規定される人工指紋液は、鉄鋼を主とした金属材料および製品のさびの発生具合を判定するために用いるのであって、人の指紋の光学的な特性を反映させるような組成とはなっていない。一方、人の指紋は脂肪分を含むことが知られているが、オレイン酸は動物性脂肪や植物油に含まれる生体由来の脂肪酸であるため、人の指紋の光学的特性を反映しているとみなすことができる。したがって、本発明では指紋痕の判定に、上記条件を採用した。
人間の指先には、水分、塩分、タンパク質、アミノ酸、脂肪などが付着しているため、手が触れた所には上記成分が指紋として付着する。
本発明では、特に脂肪(屈折率1.46程度)の付着による指紋痕の目立たない光学薄膜フィルムを提供することを目的としている。
また、JIS K 2246に規定される人工指紋液は、鉄鋼を主とした金属材料および製品のさびの発生具合を判定するために用いるのであって、人の指紋の光学的な特性を反映させるような組成とはなっていない。一方、人の指紋は脂肪分を含むことが知られているが、オレイン酸は動物性脂肪や植物油に含まれる生体由来の脂肪酸であるため、人の指紋の光学的特性を反映しているとみなすことができる。したがって、本発明では指紋痕の判定に、上記条件を採用した。
本発明の光学薄膜フィルムにおけるCIELABの明度L*、色相・彩度a*、b*は、D65光源、5°入射、2°視野、正反射光を用いて、JIS Z 8729に準拠して測定したものである。光透過性を有する基材を用いる場合は、薄膜層3を形成した側と反対側の基材表面を黒く塗り、基材を通して光の漏れがないように加工した。測定光源に関しては、基材の薄膜層を形成した面の側に設置している。
本発明の光学薄膜フィルムにおいては、耐指紋痕光学薄膜層上の指紋付着箇所と指紋未付着箇所でのD65光源、5°入射、2°視野、正反射光におけるCIELAB(JIS Z 8729に準拠)の色差ΔE* ab(={(ΔL*)2+(Δa*)2+(Δb*)2}1/2)を5以下とするために、薄膜層上の指紋付着箇所の反射スペクトルと指紋未付着箇所の反射スペクトルがほぼ一致していることが好ましい。もし一致させることが困難な場合、以下の2通りの方法で対処することが可能である。
一つの対処法は、薄膜層上の指紋付着箇所の反射スペクトルと指紋未付着箇所の反射スペクトルの形がほぼ同じで、かつ、ΔL*が5以下の範囲にある関係とすることである。このとき、両者の反射スペクトルは色相・彩度a*・b*がほぼ一致し、明度L*、つまり反射率Yが異なる関係にある。両者の反射スペクトルの形が一致していて、明度L*、あるいは反射率Yが異なる場合、色差ΔE* abはほぼΔL*だけに依存するからである。明度L*は三刺激値のうちのYにのみ関連する因子である。つまり、横軸に可視光領域の波長380〜780nm、縦軸に反射率Yを採ったとき、どちらか一方の反射スペクトルを縦軸に沿って平行移動させると、もう一方の反射スペクトルにほぼ重なり、かつΔL*が5以下であれば、本発明の指紋痕が目立たない光学薄膜フィルムとすることができる。
もう一つの対処法は、薄膜層上の指紋付着箇所と指紋未付着箇所の明度L*、あるいは反射率Yがほぼ等しく、かつ、{(Δa*)2+(Δb*)2}1/2が5以下の範囲にある関係とすることである。このとき、両者の反射スペクトルは明度L*がほぼ一致し、色相・彩度a*・b*が異なる関係にある。両者の反射スペクトルの明度L*、つまり反射率Yが一致していて、色相・彩度a*・b*が異なる場合、色差E* abはΔa*、およびΔb*に依存し、ΔL*に依存しないからである。つまり、横軸に可視光領域の波長380〜780nm、縦軸に反射率Yを採ったとき、両者の反射スペクトルは明度L*、あるいは反射率Yがほぼ一致し、かつ{(Δa*)2+(Δb*)2}1/2が5以下であれば、本発明の指紋痕が目立たない光学薄膜フィルムとすることができる。
本発明の光学薄膜フィルムは、具体的には、自動車部材、車両部材、家電用品部材、携帯電話部材、携帯ゲーム機部材、パーソナルコンピューター部材、PDA(Personal Digital Assistant)部材、オーディオ製品部材、カーナビゲーション部材、事務用品部材、スポーツ用品部材、雑貨部材、メガネ・サングラス部材、カメラ部材、光学用品部材、計測機器部材等に適用される。
本発明の光学薄膜フィルムを、携帯電話・PDAのキー操作盤、タッチパネル、パーソナルコンピューターのキーボード、テレビ・エアコンのリモコン等に貼り合わせれば、指での操作により付着した指紋痕が目立たなくなるため、清潔感が維持され不快な印象を与えない。
更に、本発明の光学薄膜フィルムを、携帯電話・PDA・テレビ・カーナビゲーション・パーソナルコンピューターの液晶画面、案内・警告・避難誘導のための信号表示灯、メガネ・サングラス・望遠鏡・カメラのレンズ、時計の文字盤の透明カバー、車のバックミラー・ルームミラー等に貼り合わせれば、指紋痕によって対象物の視認性が悪化することなく、安全で快適な視認環境を提供できる。
以下、本発明の実施例を具体的に説明する。
<実施例1>
図1に示すように、基材2である厚さ100μmの無色透明なポリエチレンテレフタレートのフィルム上に、低屈折率層4、高屈折率層5、低屈折率層6の3層が順次積層されてなる薄膜層3を形成した。
<実施例1>
図1に示すように、基材2である厚さ100μmの無色透明なポリエチレンテレフタレートのフィルム上に、低屈折率層4、高屈折率層5、低屈折率層6の3層が順次積層されてなる薄膜層3を形成した。
まず、基材2上に、二酸化珪素(SiO2)を電子ビームを利用した真空蒸着法によって堆積させ、物理膜厚28nmの低屈折率層4を形成した。低屈折率層4の波長550nmにおける屈折率は1.46、消衰係数は0であった。
低屈折率層4の上に、二酸化チタン(TiO2)を電子ビームを利用した真空蒸着法によって堆積させ、物理膜厚9nmの高屈折率層5を形成した。高屈折率層5の波長550nmにおける屈折率は2.32、消衰係数は0であった。
高屈折率層5の上に、二酸化珪素(SiO2)を電子ビームを利用した真空蒸着法によって堆積させ、物理膜厚61nmの低屈折率層6を形成し(波長550nmにおける屈折率は1.46、消衰係数は0)、薄膜層3を完成させて、図1に示す実施例1の光学薄膜フィルム1を完成させた。
得られた光学薄膜フィルム1について、薄膜層3を形成した側と反対側の基材2表面を黒く塗り、基材2の薄膜層3を形成した面の側に測定光源を設置したとき、D65光源、5°入射、2°視野、正反射光におけるCIELAB(JIS Z 8729に準拠)の明度L*、色相・彩度a*・b*を、薄膜層3上にオレイン酸(和光純薬工業株式会社製、屈折率1.46)を乾燥膜厚20μmとして塗布した場合と、未塗布の場合の両方に関して測定した:
(オレイン酸塗布の箇所) L*=22.71、a*=0.47、b*=−1.59
(オレイン酸未塗布の箇所)L*=23.88、a*=0.30、b*=−2.55
以上より、指紋付着の箇所と未付着の箇所の間の色差ΔE* ab(={(ΔL*)2+(Δa*)2+(Δb*)2}1/2)は1.52であった。
(オレイン酸塗布の箇所) L*=22.71、a*=0.47、b*=−1.59
(オレイン酸未塗布の箇所)L*=23.88、a*=0.30、b*=−2.55
以上より、指紋付着の箇所と未付着の箇所の間の色差ΔE* ab(={(ΔL*)2+(Δa*)2+(Δb*)2}1/2)は1.52であった。
得られた光学薄膜フィルム1を液晶ディスプレイに貼り合わせたところ、指紋が付着しても指紋痕が目立たず、不快感のない清潔な印象であった。
加えて、得られた光学薄膜フィルム1は光透過性を有していたため、薄膜層3上に指紋痕が存在していても光学薄膜フィルム1を通してディスプレイに写し出された画像が明瞭に視認できた。
上記した反射明度、および反射色相・彩度の分光測定は、U−4000形 自記分光光度計(株式会社 日立製作所製)を用いて行った。測定手順は次に示すとおりである。まず、光透過性を有する基材の場合は光学薄膜フィルム1の薄膜層3を形成した側と反対側の基材2表面全面を黒い塗料でムラの出ないように塗りつぶした。黒い塗料で塗りつぶした基材2を太陽光の自然光あるいは蛍光灯などの人工光にかざして、基材2を通して光が漏れていないか確認した。次に、基材2の薄膜層3を形成した面側をU−4000形 自記分光光度計の測定光源に向けて設置した。このとき、薄膜層3を形成した基材2表面における鉛直線に対して測定光が5°の角度を持って基材2表面に入射するように設置した。基材2表面で正反射される光の方向で、かつ、2°視野になる位置に測光器を設置して可視光領域(380〜780nm)における分光反射率を測定し、JIS Z 8701に規定される三刺激値X、Y、Zを求めた。三刺激値X、Y、Zの計算は5nm間隔で実施した。続いて、三刺激値を用いてJIS Z 8729に規定されるL*a*b*表色系の明度L*、色相・彩度a*、b*を求めた。
なお、本発明におけるCIELABの明度L*、色相・彩度a*、b*は、D65光源、5°入射、2°視野の条件でJIS Z 8729に準拠して求めたものである。
<実施例2>
図2に示すように、基材2である厚さ100μmの無色透明なポリエチレンテレフタレートのフィルム上に、低屈折率層4の単層が形成されてなる薄膜層3を形成した。
図2に示すように、基材2である厚さ100μmの無色透明なポリエチレンテレフタレートのフィルム上に、低屈折率層4の単層が形成されてなる薄膜層3を形成した。
まず、基材2上に、二酸化珪素(SiO2)を電子ビームを利用した真空蒸着法によって堆積させ、物理膜厚40nmの低屈折率層4を形成し、薄膜層3を完成させた。低屈折率層4の波長550nmにおける屈折率は1.46、消衰係数は0であった。
更に、薄膜層3の上に、防汚剤の弗素含有シラン化合物をマイクログラビア法で塗布して、物理膜厚6nmの防汚層7を形成し、図2に示す実施例2の光学薄膜フィルム1を完成させた。
得られた光学薄膜フィルム1について、薄膜層3を形成した側と反対側の基材2表面を黒く塗り、基材2の薄膜層3を形成した面の側に測定光源を設置したとき、D65光源、5°入射、2°視野、正反射光におけるCIELAB(JIS Z 8729に準拠)の明度L*、色相・彩度a*・b*を、薄膜層3上にオレイン酸(和光純薬工業株式会社製、屈折率1.46)を乾燥膜厚20μmとして塗布した場合と、未塗布の場合の両方に関して測定した:
(オレイン酸塗布の箇所) L*=23.32、a*=−0.17、b*=−0.06
(オレイン酸未塗布の箇所)L*=22.91、a*=0.54、b*=3.35
以上より、指紋付着の箇所と未付着の箇所の間の色差ΔE* ab(={(ΔL*)2+(Δa*)2+(Δb*)2}1/2)は3.50であった。
(オレイン酸塗布の箇所) L*=23.32、a*=−0.17、b*=−0.06
(オレイン酸未塗布の箇所)L*=22.91、a*=0.54、b*=3.35
以上より、指紋付着の箇所と未付着の箇所の間の色差ΔE* ab(={(ΔL*)2+(Δa*)2+(Δb*)2}1/2)は3.50であった。
得られた光学薄膜フィルム1を液晶ディスプレイに貼り合わせたところ、指紋が付着しても指紋痕が目立たず、不快感のない清潔な印象であった。
加えて、得られた光学薄膜フィルム1は光透過性を有していたため、薄膜層3上に指紋痕が存在していても光学薄膜フィルム1を通してディスプレイに写し出された画像が明瞭に視認できた。
以下、本発明の実施例に対する比較例を具体的に説明する。
<比較例1>
図3に示すように、基材2である厚さ100μmの無色透明なポリエチレンテレフタレートのフィルムの一方の表面を黒く塗り、基材2の黒く塗らなかった面の側に測定光源を設置したとき、D65光源、5°入射、2°視野、正反射光におけるCIELAB(JIS Z 8729に準拠)の明度L*、色相・彩度a*・b*を、黒塗りしなかった面にオレイン酸(和光純薬工業株式会社製、屈折率1.46)を乾燥膜厚20μmとして塗布した場合と、未塗布の場合の両方に関して測定した:
(オレイン酸塗布の箇所) L*=22.91、a*=0.01、b*=−0.26
(オレイン酸未塗布の箇所)L*=28.68、a*=0.02、b*=−0.83
以上より、指紋付着の箇所と未付着の箇所の間の色差ΔE* ab(={(ΔL*)2+(Δa*)2+(Δb*)2}1/2)は5.80であった。
(オレイン酸塗布の箇所) L*=22.91、a*=0.01、b*=−0.26
(オレイン酸未塗布の箇所)L*=28.68、a*=0.02、b*=−0.83
以上より、指紋付着の箇所と未付着の箇所の間の色差ΔE* ab(={(ΔL*)2+(Δa*)2+(Δb*)2}1/2)は5.80であった。
基材2を液晶ディスプレイに貼り合わせたところ、指紋が付着すると指紋痕が目立ち、清潔感のない不快な印象であった。
加えて、基材2表面に指紋が付着すると、指紋痕による不鮮明感を生じ、基材2を通してディスプレイに写し出された画像が不明瞭となり、視認性が悪化した。
1……光学薄膜フィルム、2……基材、3……薄膜層、4……低屈折率層、5……高屈折率層、6……低屈折率層、7……防汚層。
Claims (4)
- 基材の一方の面上に、光の波長550nmでの屈折率が1.75未満である低屈折率層、または、光の波長550nmでの屈折率が1.75以上である高屈折率層、または、その両方、を少なくとも含む薄膜層を形成してなる光学薄膜フィルムであって、
前記薄膜層の面上に、乾燥膜厚が20μmであるオレイン酸を塗布したときに、
前記オレイン酸を塗布した前記光学薄膜フィルムと、前記オレイン酸を塗布していない前記光学薄膜フィルムと、のD65光源、5°入射、2°視野、正反射光におけるCIELAB(JIS Z 8729に準拠)の色差ΔE* ab(={(ΔL*)2+(Δa*)2+(Δb*)2}1/2)が5以下である、
ことを特徴とする光学薄膜フィルム。 - 基材の一方の面上に、光の波長550nmでの屈折率が1.75未満である低屈折率層、または、光の波長550nmでの屈折率が1.75以上である高屈折率層、または、その両方、を少なくとも含む薄膜層と、防汚層と、を順次積層してなる光学薄膜フィルムであって、
前記防汚層の面上に、乾燥膜厚が20μmであるオレイン酸を塗布したときに、
前記オレイン酸を塗布した前記光学薄膜フィルムと、前記オレイン酸を塗布していない前記光学薄膜フィルムと、のD65光源、5°入射、2°視野、正反射光におけるCIELAB(JIS Z 8729に準拠)の色差ΔE* ab(={(ΔL*)2+(Δa*)2+(Δb*)2}1/2)が5以下である、
ことを特徴とする光学薄膜フィルム。 - 前記低屈折率層または高屈折率層またはその両方が真空成膜法により形成されることを特徴とする請求項1または2に記載の光学薄膜フィルム。
- 請求項1乃至3のいずれかに記載の光学薄膜フィルムを具備してなることを特徴とする耐指紋痕用途部材。
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Cited By (25)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011046084A (ja) * | 2009-08-26 | 2011-03-10 | Panasonic Electric Works Co Ltd | 耐指紋性フィルム |
JP2013062010A (ja) * | 2011-09-15 | 2013-04-04 | Hitachi Maxell Ltd | 光ピックアップ装置に搭載されるレンズ |
KR20140045430A (ko) | 2011-07-11 | 2014-04-16 | 도레이 카부시키가이샤 | 성형 재료, 도료 조성물 및 성형 재료의 제조 방법 |
JP5527482B2 (ja) * | 2011-04-28 | 2014-06-18 | 旭硝子株式会社 | 反射防止積層体 |
US20140170321A1 (en) * | 2012-12-18 | 2014-06-19 | Whirlpool Corporation | Artificial fingerprint material, process of application, and method of evaluating fingerprint resistance qualities of a surface |
JP2014149512A (ja) * | 2013-01-09 | 2014-08-21 | Toray Ind Inc | 成型材料 |
WO2015056738A1 (ja) * | 2013-10-18 | 2015-04-23 | 日油株式会社 | 耐指紋性反射防止フィルム |
KR20150113950A (ko) | 2013-01-09 | 2015-10-08 | 도레이 카부시키가이샤 | 적층 필름 |
WO2016175064A1 (ja) * | 2015-04-28 | 2016-11-03 | 東レ株式会社 | 積層体 |
WO2017006634A1 (ja) * | 2015-07-08 | 2017-01-12 | ソニー株式会社 | 電子デバイス及び固体撮像装置 |
JP2017518529A (ja) * | 2014-05-23 | 2017-07-06 | コーニング インコーポレイテッド | 引っ掻き傷および指紋の視認性が低下した低コントラストの反射防止物品 |
KR101809296B1 (ko) * | 2013-10-02 | 2017-12-14 | 주식회사 엘지화학 | 투명전극 및 이를 포함하는 전자 소자 |
CN107526122A (zh) * | 2013-10-28 | 2017-12-29 | 大日本印刷株式会社 | 中间基材膜和触控面板传感器 |
KR101832521B1 (ko) * | 2013-10-02 | 2018-02-26 | 주식회사 엘지화학 | 투명전극 및 이를 포함하는 전자 소자 |
WO2018181446A1 (ja) * | 2017-03-30 | 2018-10-04 | 日東電工株式会社 | 遮熱断熱フィルム |
CN109934063A (zh) * | 2017-12-18 | 2019-06-25 | 南昌欧菲生物识别技术有限公司 | 手持终端及其指纹识别模组 |
JP2019177597A (ja) * | 2018-03-30 | 2019-10-17 | 大日本印刷株式会社 | 化粧材、化粧材の製造方法 |
JP2019177599A (ja) * | 2018-03-30 | 2019-10-17 | 大日本印刷株式会社 | 化粧材、化粧材の製造方法 |
JP2020034416A (ja) * | 2018-08-30 | 2020-03-05 | リンテック株式会社 | 耐指紋性の評価方法、光学部材の生産方法および光学部材 |
CN111954594A (zh) * | 2018-03-30 | 2020-11-17 | 大日本印刷株式会社 | 装饰材料、装饰材料的制造方法 |
CN112041708A (zh) * | 2018-04-27 | 2020-12-04 | 住友化学株式会社 | 光学膜、光学层叠体及柔性图像显示装置 |
US20200408954A1 (en) * | 2018-03-02 | 2020-12-31 | Corning Incorporated | Anti-reflective coatings and articles and methods of forming the same |
CN115433906A (zh) * | 2022-09-16 | 2022-12-06 | 安徽光智科技有限公司 | 硒化锌基底8-12um波段高耐久性增透膜的制备方法 |
JP7541637B2 (ja) | 2021-01-08 | 2024-08-29 | デクセリアルズ株式会社 | 半導体受光素子 |
US12140732B2 (en) * | 2019-03-01 | 2024-11-12 | Corning Incorporated | Anti-reflective coatings and articles and methods of forming the same |
-
2007
- 2007-11-15 JP JP2007296385A patent/JP2009122416A/ja active Pending
Cited By (44)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011046084A (ja) * | 2009-08-26 | 2011-03-10 | Panasonic Electric Works Co Ltd | 耐指紋性フィルム |
JP5527482B2 (ja) * | 2011-04-28 | 2014-06-18 | 旭硝子株式会社 | 反射防止積層体 |
JPWO2012147876A1 (ja) * | 2011-04-28 | 2014-07-28 | 旭硝子株式会社 | 反射防止積層体 |
US9025248B2 (en) | 2011-04-28 | 2015-05-05 | Asahi Glass Company, Limited | Antireflection stack |
US9371467B2 (en) | 2011-07-11 | 2016-06-21 | Toray Industries, Inc. | Forming material, paint material composition and production method for forming material |
KR20140045430A (ko) | 2011-07-11 | 2014-04-16 | 도레이 카부시키가이샤 | 성형 재료, 도료 조성물 및 성형 재료의 제조 방법 |
JP2017013510A (ja) * | 2011-07-11 | 2017-01-19 | 東レ株式会社 | 成形材料、塗料組成物および成形材料の製造方法 |
JP2013062010A (ja) * | 2011-09-15 | 2013-04-04 | Hitachi Maxell Ltd | 光ピックアップ装置に搭載されるレンズ |
US20140170321A1 (en) * | 2012-12-18 | 2014-06-19 | Whirlpool Corporation | Artificial fingerprint material, process of application, and method of evaluating fingerprint resistance qualities of a surface |
US9005693B2 (en) * | 2012-12-18 | 2015-04-14 | Whirlpool Corporation | Artificial fingerprint material, process of application, and method of evaluating fingerprint resistance qualities of a surface |
JP2014149512A (ja) * | 2013-01-09 | 2014-08-21 | Toray Ind Inc | 成型材料 |
KR20150113950A (ko) | 2013-01-09 | 2015-10-08 | 도레이 카부시키가이샤 | 적층 필름 |
KR101832521B1 (ko) * | 2013-10-02 | 2018-02-26 | 주식회사 엘지화학 | 투명전극 및 이를 포함하는 전자 소자 |
KR101809296B1 (ko) * | 2013-10-02 | 2017-12-14 | 주식회사 엘지화학 | 투명전극 및 이를 포함하는 전자 소자 |
CN104903755A (zh) * | 2013-10-18 | 2015-09-09 | 日油株式会社 | 耐指纹性防反射膜 |
JPWO2015056738A1 (ja) * | 2013-10-18 | 2017-03-09 | 日油株式会社 | 耐指紋性反射防止フィルム |
WO2015056738A1 (ja) * | 2013-10-18 | 2015-04-23 | 日油株式会社 | 耐指紋性反射防止フィルム |
CN107526122A (zh) * | 2013-10-28 | 2017-12-29 | 大日本印刷株式会社 | 中间基材膜和触控面板传感器 |
CN107526122B (zh) * | 2013-10-28 | 2022-04-26 | 大日本印刷株式会社 | 中间基材膜和触控面板传感器 |
JP2017518529A (ja) * | 2014-05-23 | 2017-07-06 | コーニング インコーポレイテッド | 引っ掻き傷および指紋の視認性が低下した低コントラストの反射防止物品 |
US10620344B2 (en) | 2014-05-23 | 2020-04-14 | Corning Incorporated | Low contrast anti-reflection articles with reduced scratch and fingerprint visibility |
US12092793B2 (en) | 2014-05-23 | 2024-09-17 | Corning Incorporated | Low contrast anti-reflection articles with reduced scratch and fingerprint visibility |
US11531141B2 (en) | 2014-05-23 | 2022-12-20 | Corning Incorporated | Low contrast anti-reflection articles with reduced scratch and fingerprint visibility |
JPWO2016175064A1 (ja) * | 2015-04-28 | 2018-02-15 | 東レ株式会社 | 積層体 |
WO2016175064A1 (ja) * | 2015-04-28 | 2016-11-03 | 東レ株式会社 | 積層体 |
WO2017006634A1 (ja) * | 2015-07-08 | 2017-01-12 | ソニー株式会社 | 電子デバイス及び固体撮像装置 |
US10483473B2 (en) | 2015-07-08 | 2019-11-19 | Sony Corporation | Electronic device and solid state imaging apparatus |
JP2021090058A (ja) * | 2015-07-08 | 2021-06-10 | ソニーグループ株式会社 | 電子デバイスの製造方法 |
US10840466B2 (en) | 2015-07-08 | 2020-11-17 | Sony Corporation | Electronic device and solid state imaging apparatus |
WO2018181446A1 (ja) * | 2017-03-30 | 2018-10-04 | 日東電工株式会社 | 遮熱断熱フィルム |
CN109934063A (zh) * | 2017-12-18 | 2019-06-25 | 南昌欧菲生物识别技术有限公司 | 手持终端及其指纹识别模组 |
US20200408954A1 (en) * | 2018-03-02 | 2020-12-31 | Corning Incorporated | Anti-reflective coatings and articles and methods of forming the same |
JP2019177597A (ja) * | 2018-03-30 | 2019-10-17 | 大日本印刷株式会社 | 化粧材、化粧材の製造方法 |
CN111954594A (zh) * | 2018-03-30 | 2020-11-17 | 大日本印刷株式会社 | 装饰材料、装饰材料的制造方法 |
JP2019177599A (ja) * | 2018-03-30 | 2019-10-17 | 大日本印刷株式会社 | 化粧材、化粧材の製造方法 |
CN112041708A (zh) * | 2018-04-27 | 2020-12-04 | 住友化学株式会社 | 光学膜、光学层叠体及柔性图像显示装置 |
TWI818011B (zh) * | 2018-08-30 | 2023-10-11 | 日商琳得科股份有限公司 | 耐指紋性的評估方法、光學構件的生產方法及光學構件 |
JP7347922B2 (ja) | 2018-08-30 | 2023-09-20 | リンテック株式会社 | 耐指紋性の評価方法、光学部材の生産方法および光学部材 |
CN110873702A (zh) * | 2018-08-30 | 2020-03-10 | 琳得科株式会社 | 耐指纹性的评价方法、光学构件的生产方法及光学构件 |
CN110873702B (zh) * | 2018-08-30 | 2024-07-26 | 琳得科株式会社 | 耐指纹性的评价方法、光学构件的生产方法及光学构件 |
JP2020034416A (ja) * | 2018-08-30 | 2020-03-05 | リンテック株式会社 | 耐指紋性の評価方法、光学部材の生産方法および光学部材 |
US12140732B2 (en) * | 2019-03-01 | 2024-11-12 | Corning Incorporated | Anti-reflective coatings and articles and methods of forming the same |
JP7541637B2 (ja) | 2021-01-08 | 2024-08-29 | デクセリアルズ株式会社 | 半導体受光素子 |
CN115433906A (zh) * | 2022-09-16 | 2022-12-06 | 安徽光智科技有限公司 | 硒化锌基底8-12um波段高耐久性增透膜的制备方法 |
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