JP2009028698A - 下水処理用の反応槽 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】槽本体10の中央部に垂直に設けたバッフルプレート2を支持する梁4、4の隙間を通過させて、撹拌羽根7を槽本体10の底面部の中心付近に設置した。撹拌羽根7は、横向き流発生用の上段羽根7aと下向き流発生用の下段羽根7bからなる2段羽根であり、これら上段羽根7aと下段羽根7bとは平面視で一文字状に重なる方向に設置されることが好ましい。また撹拌羽根7の駆動源8は、槽本体1の上面外部に設置されており、回転軸の先端部は、振れ止め部材9を介して槽本体10の底面に固定されることが好ましい。
【選択図】図1
Description
図1は、下水等の原水を高度処理するための処理槽を示す概略全体図である。この処理槽1は、もともとは幅と深さが約10m、長さが約50mの深槽曝気槽であり、幅方向の中央部には垂直にバッフルプレート2が設けられており、また、その片側流路の中間水深部には散気装置3が設置され、中段で曝気してバッフルプレート2の両側を上下に旋回する流れを作る構造となっている。なお、4は前記散気装置を支持していた梁であり、例えば2〜3m間隔で設置されている。
以下に、この撹拌羽根7について説明する。
図2は、無酸素ゾーンBに撹拌羽根7を設置した場合を示す正面断面図であり、図3はその長手手方向の断面図、図4はその平面方向の断面図である。
図示のように、槽本体10の中央部には上下両端を開口した状態で垂直にバッフルプレート2が設けられており、この槽本体10の底面部の中心付近には、前記散気装置を支持していた水平な梁4、4の隙間を通過させて撹拌羽根7が設置されている。この撹拌羽根7は、槽本体内において原水を均一に撹拌するように旋回流を発生させるものであり、底部に沈殿物を生じさせないように、槽本体10の底面部で、かつその中心付近に設置されている。同図は散気装置支持梁の残る側にオフセットして設置することによって槽内の攪拌を均一にすることで攪拌効率を向上させた例を示すが、支持梁のない側に設置する場合においてもバッフル近辺に設置が可能であり上部の開口もスリット状のもので対応できる。
なお、ここでいう一文字状に重なる方向とは、完全に重なるという意味ではなく、ほぼ重なるという意味であり、要は梁4、4の隙間を通過できる程度に細長い一文字状であればよい。
このように、本発明によれば既存の深槽曝気槽に簡単な設計変更を加えるのみで、ほとんどそのまま利用して下水の高度処理を行えるようにしたので、新たな下水処理用の反応槽を建設する必要もなく経済的であり、また反応槽の保守・管理も容易に行えるのでランイングコストも安価にすることができる。
2 バッフルプレート
3 散気装置
4 梁
7 撹拌装置
8 モータ
9 振れ止め部材
10 槽本体
11 蓋体
12 スリット状孔部
20 循環路
Claims (5)
- 槽本体の中央部に垂直に設けたバッフルプレートと片側だけに設置されている散気装置を支持する梁の隙間を通過させて、撹拌羽根を槽本体の底面部の中心付近に設置したことを特徴とする下水処理用の反応槽。
- 撹拌羽根は、横向き流発生用の上段羽根と下向き流発生用の下段羽根を有する2段羽根であり、これら上段羽根と下段羽根とは平面視で一文字状に重なる方向に設置されていることを特徴とする請求項1に記載の下水処理用の反応槽。
- 撹拌羽根の駆動源は、槽本体の上面外部に設置されており、撹拌羽根を通常回転、間欠回転、減速回転、逆回転を自在とすることを特徴とする請求項1または2に記載の下水処理用の反応槽。
- 撹拌羽根の回転軸の先端部は、深層など必要に応じて振れ止め部材を介して槽本体の底面に固定されていることを特徴とする請求項項1〜3のいずれかに記載の下水処理用の反応槽。
- 槽本体の上面を覆う蓋体には、撹拌羽根を槽本体内へ搬入するためのスリット状孔部が形成されていることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の下水処理用の反応槽。
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