JP2009097014A - Liquid resin composition for sealing, electronic component device and wafer level chip size package - Google Patents
Liquid resin composition for sealing, electronic component device and wafer level chip size package Download PDFInfo
- Publication number
- JP2009097014A JP2009097014A JP2008250280A JP2008250280A JP2009097014A JP 2009097014 A JP2009097014 A JP 2009097014A JP 2008250280 A JP2008250280 A JP 2008250280A JP 2008250280 A JP2008250280 A JP 2008250280A JP 2009097014 A JP2009097014 A JP 2009097014A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resin composition
- sealing
- liquid resin
- liquid
- epoxy resin
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000007788 liquid Substances 0.000 title claims abstract description 132
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 title claims abstract description 123
- 238000007789 sealing Methods 0.000 title claims abstract description 116
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 84
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 claims abstract description 28
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 claims abstract description 28
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 25
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 claims abstract description 25
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims description 65
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims description 65
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 57
- 239000004850 liquid epoxy resins (LERs) Substances 0.000 claims description 43
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 40
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 35
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 claims description 34
- BGDOLELXXPTPFX-UHFFFAOYSA-N 3,4-dihydro-2h-1,2-benzoxazine Chemical group C1=CC=C2ONCCC2=C1 BGDOLELXXPTPFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 33
- 239000004945 silicone rubber Substances 0.000 claims description 33
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 claims description 28
- 229920005573 silicon-containing polymer Polymers 0.000 claims description 24
- -1 siloxane structure Chemical group 0.000 claims description 23
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 claims description 22
- 239000000806 elastomer Substances 0.000 claims description 20
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 18
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 17
- 238000013329 compounding Methods 0.000 claims description 16
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 claims description 16
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 14
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 14
- 239000012792 core layer Substances 0.000 claims description 13
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 12
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 claims description 11
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 claims description 7
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 claims description 7
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 5
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 5
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 claims description 5
- 238000006459 hydrosilylation reaction Methods 0.000 claims description 5
- 229920006136 organohydrogenpolysiloxane Polymers 0.000 claims description 5
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims description 5
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 5
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 claims description 4
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910004283 SiO 4 Inorganic materials 0.000 claims description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical group [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 230000035939 shock Effects 0.000 abstract description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 3
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 56
- 238000000034 method Methods 0.000 description 36
- 239000000047 product Substances 0.000 description 34
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 32
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 32
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 28
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical group [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 20
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N bisphenol F Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 18
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 17
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 16
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 15
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 15
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 15
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 14
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 11
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 10
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 10
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 10
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000005350 fused silica glass Substances 0.000 description 9
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 9
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 9
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 9
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 9
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 description 8
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 8
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 8
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical class C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 8
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 8
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 8
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 6
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 6
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 6
- 230000008569 process Effects 0.000 description 6
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 5
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 5
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 5
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 5
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 5
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 5
- LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1h-imidazole Chemical compound CC1=NC=CN1 LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ULKLGIFJWFIQFF-UHFFFAOYSA-N 5K8XI641G3 Chemical compound CCC1=NC=C(C)N1 ULKLGIFJWFIQFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N catechol Chemical compound OC1=CC=CC=C1O YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000008859 change Effects 0.000 description 4
- 229940125904 compound 1 Drugs 0.000 description 4
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 4
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 4
- 238000013007 heat curing Methods 0.000 description 4
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 4
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 4
- IMNIMPAHZVJRPE-UHFFFAOYSA-N triethylenediamine Chemical compound C1CN2CCN1CC2 IMNIMPAHZVJRPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 4,4'-sulfonyldiphenol Chemical class C1=CC(O)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(O)C=C1 VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N Borate Chemical compound [O-]B([O-])[O-] BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 241001050985 Disco Species 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UMHKOAYRTRADAT-UHFFFAOYSA-N [hydroxy(octoxy)phosphoryl] octyl hydrogen phosphate Chemical compound CCCCCCCCOP(O)(=O)OP(O)(=O)OCCCCCCCC UMHKOAYRTRADAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 3
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 3
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 238000005040 ion trap Methods 0.000 description 3
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 3
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 3
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 3
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N resorcinol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1 GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 235000007586 terpenes Nutrition 0.000 description 3
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 3
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 3
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 3
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000005023 xylyl group Chemical group 0.000 description 3
- KJCVRFUGPWSIIH-UHFFFAOYSA-N 1-naphthol Chemical compound C1=CC=C2C(O)=CC=CC2=C1 KJCVRFUGPWSIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,4,6,6-hexaphenoxy-1,3,5-triaza-2$l^{5},4$l^{5},6$l^{5}-triphosphacyclohexa-1,3,5-triene Chemical compound N=1P(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP=1(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VXQBJTKSVGFQOL-UHFFFAOYSA-N 2-(2-butoxyethoxy)ethyl acetate Chemical compound CCCCOCCOCCOC(C)=O VXQBJTKSVGFQOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FPZWZCWUIYYYBU-UHFFFAOYSA-N 2-(2-ethoxyethoxy)ethyl acetate Chemical compound CCOCCOCCOC(C)=O FPZWZCWUIYYYBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKZQKPRCPNGNFR-UHFFFAOYSA-N 2-(3-hydroxyphenyl)phenol Chemical compound OC1=CC=CC(C=2C(=CC=CC=2)O)=C1 XKZQKPRCPNGNFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JWAZRIHNYRIHIV-UHFFFAOYSA-N 2-naphthol Chemical compound C1=CC=CC2=CC(O)=CC=C21 JWAZRIHNYRIHIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZCUJYXPAKHMBAZ-UHFFFAOYSA-N 2-phenyl-1h-imidazole Chemical compound C1=CNC(C=2C=CC=CC=2)=N1 ZCUJYXPAKHMBAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 2
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TYOXIFXYEIILLY-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-2-phenyl-1h-imidazole Chemical compound N1C(C)=CN=C1C1=CC=CC=C1 TYOXIFXYEIILLY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LTPBRCUWZOMYOC-UHFFFAOYSA-N Beryllium oxide Chemical compound O=[Be] LTPBRCUWZOMYOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N Epichlorohydrin Chemical compound ClCC1CO1 BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UEEJHVSXFDXPFK-UHFFFAOYSA-N N-dimethylaminoethanol Chemical compound CN(C)CCO UEEJHVSXFDXPFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFSLWBXXFJQRDL-UHFFFAOYSA-N Peracetic acid Chemical compound CC(=O)OO KFSLWBXXFJQRDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 2
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 125000003172 aldehyde group Chemical group 0.000 description 2
- XXROGKLTLUQVRX-UHFFFAOYSA-N allyl alcohol Chemical compound OCC=C XXROGKLTLUQVRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 2
- LJCFOYOSGPHIOO-UHFFFAOYSA-N antimony pentoxide Chemical compound O=[Sb](=O)O[Sb](=O)=O LJCFOYOSGPHIOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ADCOVFLJGNWWNZ-UHFFFAOYSA-N antimony trioxide Chemical compound O=[Sb]O[Sb]=O ADCOVFLJGNWWNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003491 array Methods 0.000 description 2
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 2
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 2
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 2
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 2
- 239000011258 core-shell material Substances 0.000 description 2
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 2
- 150000007973 cyanuric acids Chemical class 0.000 description 2
- 229960002887 deanol Drugs 0.000 description 2
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- XXBDWLFCJWSEKW-UHFFFAOYSA-N dimethylbenzylamine Chemical compound CN(C)CC1=CC=CC=C1 XXBDWLFCJWSEKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GPAYUJZHTULNBE-UHFFFAOYSA-N diphenylphosphine Chemical compound C=1C=CC=CC=1PC1=CC=CC=C1 GPAYUJZHTULNBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 2
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 2
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- UJNZOIKQAUQOCN-UHFFFAOYSA-N methyl(diphenyl)phosphane Chemical compound C=1C=CC=CC=1P(C)C1=CC=CC=C1 UJNZOIKQAUQOCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 2
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 2
- NXPPAOGUKPJVDI-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,2-diol Chemical compound C1=CC=CC2=C(O)C(O)=CC=C21 NXPPAOGUKPJVDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004780 naphthols Chemical class 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 2
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 150000003141 primary amines Chemical class 0.000 description 2
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 229960001755 resorcinol Drugs 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 2
- 150000003505 terpenes Chemical class 0.000 description 2
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- TUQOTMZNTHZOKS-UHFFFAOYSA-N tributylphosphine Chemical compound CCCCP(CCCC)CCCC TUQOTMZNTHZOKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAFHKNAQFPVRKR-UHFFFAOYSA-N (3-hydroxy-2,2,4-trimethylpentyl) 2-methylpropanoate Chemical compound CC(C)C(O)C(C)(C)COC(=O)C(C)C DAFHKNAQFPVRKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYNQKSJRFHJZTK-UHFFFAOYSA-N (3-methoxy-3-methylbutyl) acetate Chemical compound COC(C)(C)CCOC(C)=O RYNQKSJRFHJZTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical group C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CUVLMZNMSPJDON-UHFFFAOYSA-N 1-(1-butoxypropan-2-yloxy)propan-2-ol Chemical compound CCCCOCC(C)OCC(C)O CUVLMZNMSPJDON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QWOZZTWBWQMEPD-UHFFFAOYSA-N 1-(2-ethoxypropoxy)propan-2-ol Chemical compound CCOC(C)COCC(C)O QWOZZTWBWQMEPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MODAACUAXYPNJH-UHFFFAOYSA-N 1-(methoxymethyl)-4-[4-(methoxymethyl)phenyl]benzene Chemical group C1=CC(COC)=CC=C1C1=CC=C(COC)C=C1 MODAACUAXYPNJH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FBHPRUXJQNWTEW-UHFFFAOYSA-N 1-benzyl-2-methylimidazole Chemical compound CC1=NC=CN1CC1=CC=CC=C1 FBHPRUXJQNWTEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004963 1-benzylimidazoles Chemical class 0.000 description 1
- RWNUSVWFHDHRCJ-UHFFFAOYSA-N 1-butoxypropan-2-ol Chemical compound CCCCOCC(C)O RWNUSVWFHDHRCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HIQAWCBKWSQMRQ-UHFFFAOYSA-N 16-methylheptadecanoic acid;2-methylprop-2-enoic acid;propan-2-ol;titanium Chemical compound [Ti].CC(C)O.CC(=C)C(O)=O.CC(=C)C(O)=O.CC(C)CCCCCCCCCCCCCCC(O)=O HIQAWCBKWSQMRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IEKHISJGRIEHRE-UHFFFAOYSA-N 16-methylheptadecanoic acid;propan-2-ol;titanium Chemical compound [Ti].CC(C)O.CC(C)CCCCCCCCCCCCCCC(O)=O.CC(C)CCCCCCCCCCCCCCC(O)=O.CC(C)CCCCCCCCCCCCCCC(O)=O IEKHISJGRIEHRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BLBVJHVRECUXKP-UHFFFAOYSA-N 2,3-dimethoxy-1,4-dimethylbenzene Chemical group COC1=C(C)C=CC(C)=C1OC BLBVJHVRECUXKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4-dinitroanilino)-4-methylpentanoic acid Chemical compound CC(C)CC(C(O)=O)NC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1[N+]([O-])=O STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OHJYHAOODFPJOD-UHFFFAOYSA-N 2-(2-ethylhexoxy)ethanol Chemical compound CCCCC(CC)COCCO OHJYHAOODFPJOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GZMAAYIALGURDQ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-hexoxyethoxy)ethanol Chemical compound CCCCCCOCCOCCO GZMAAYIALGURDQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BLDLRWQLBOJPEB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-hydroxyphenyl)sulfanylphenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1SC1=CC=CC=C1O BLDLRWQLBOJPEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethanol Chemical compound COCCOCCO SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYVAYAJYLWYJJN-UHFFFAOYSA-N 2-(2-propoxypropoxy)propan-1-ol Chemical compound CCCOC(C)COC(C)CO XYVAYAJYLWYJJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KESQFSZFUCZCEI-UHFFFAOYSA-N 2-(5-nitropyridin-2-yl)oxyethanol Chemical compound OCCOC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=N1 KESQFSZFUCZCEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- COBPKKZHLDDMTB-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-butoxyethoxy)ethoxy]ethanol Chemical compound CCCCOCCOCCOCCO COBPKKZHLDDMTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFSMVVDJSNMRAR-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-ethoxyethoxy)ethoxy]ethanol Chemical compound CCOCCOCCOCCO WFSMVVDJSNMRAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OADIZUFHUPTFAG-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-ethylhexoxy)ethoxy]ethanol Chemical compound CCCCC(CC)COCCOCCO OADIZUFHUPTFAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WAEVWDZKMBQDEJ-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-methoxypropoxy)propoxy]propan-1-ol Chemical compound COC(C)COC(C)COC(C)CO WAEVWDZKMBQDEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MXVMODFDROLTFD-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-(2-butoxyethoxy)ethoxy]ethoxy]ethanol Chemical compound CCCCOCCOCCOCCOCCO MXVMODFDROLTFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDAWCLOXVUBKRW-UHFFFAOYSA-N 2-aminophenol Chemical compound NC1=CC=CC=C1O CDAWCLOXVUBKRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KKOHCQAVIJDYAF-UHFFFAOYSA-N 2-dodecylbenzenesulfonic acid;propan-2-ol;titanium Chemical compound [Ti].CC(C)O.CCCCCCCCCCCCC1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O.CCCCCCCCCCCCC1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O.CCCCCCCCCCCCC1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O KKOHCQAVIJDYAF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UPGSWASWQBLSKZ-UHFFFAOYSA-N 2-hexoxyethanol Chemical compound CCCCCCOCCO UPGSWASWQBLSKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-methylphenol Chemical compound [CH]OC1=CC=CC([CH])=C1O KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCDWFXQBSFUVSP-UHFFFAOYSA-N 2-phenoxyethanol Chemical compound OCCOC1=CC=CC=C1 QCDWFXQBSFUVSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BCHZICNRHXRCHY-UHFFFAOYSA-N 2h-oxazine Chemical compound N1OC=CC=C1 BCHZICNRHXRCHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RMGZZGUIMNISKP-UHFFFAOYSA-N 3-(2,3-dihydroxyphenoxy)benzene-1,2-diol Chemical class OC1=CC=CC(OC=2C(=C(O)C=CC=2)O)=C1O RMGZZGUIMNISKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCAHUFWKIQLBNB-UHFFFAOYSA-N 3-(3-methoxypropoxy)propan-1-ol Chemical compound COCCCOCCCO QCAHUFWKIQLBNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKYAJDOSWUATPI-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propane-1-thiol Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCS IKYAJDOSWUATPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTKBNCABAMQDIG-UHFFFAOYSA-N 3-butoxypropan-1-ol Chemical compound CCCCOCCCO NTKBNCABAMQDIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCCl OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- URDOJQUSEUXVRP-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOC(=O)C(C)=C URDOJQUSEUXVRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCS UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBQVDAIIQCXKPI-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C=C KBQVDAIIQCXKPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NZGQHKSLKRFZFL-UHFFFAOYSA-N 4-(4-hydroxyphenoxy)phenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1OC1=CC=C(O)C=C1 NZGQHKSLKRFZFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGDAMJGKFYMEDE-UHFFFAOYSA-N 5-(dimethoxymethylsilyl)pentane-1,3-diamine Chemical compound NCCC(CC[SiH2]C(OC)OC)N VGDAMJGKFYMEDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004438 BET method Methods 0.000 description 1
- 229910052582 BN Inorganic materials 0.000 description 1
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 0 CCC(CCCCCC1OC1)(CC*1)N1C(*)N Chemical compound CCC(CCCCCC1OC1)(CC*1)N1C(*)N 0.000 description 1
- SRORDPCXIPXEAX-UHFFFAOYSA-N CCCCCCCCCCCCCP(CCCCCCCCCCCCC)(O)(OCCCCCCCC)OCCCCCCCC.CCCCCCCCCCCCCP(CCCCCCCCCCCCC)(O)(OCCCCCCCC)OCCCCCCCC Chemical compound CCCCCCCCCCCCCP(CCCCCCCCCCCCC)(O)(OCCCCCCCC)OCCCCCCCC.CCCCCCCCCCCCCP(CCCCCCCCCCCCC)(O)(OCCCCCCCC)OCCCCCCCC SRORDPCXIPXEAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical group C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000257303 Hymenoptera Species 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004594 Masterbatch (MB) Substances 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KNANZMNFPYPCHN-UHFFFAOYSA-N N'-[2-(dimethoxymethylsilyl)propan-2-yl]ethane-1,2-diamine Chemical compound COC(OC)[SiH2]C(C)(C)NCCN KNANZMNFPYPCHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJRJJKPEHAURKC-UHFFFAOYSA-N N-Methylmorpholine Chemical compound CN1CCOCC1 SJRJJKPEHAURKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 208000019651 NDE1-related microhydranencephaly Diseases 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002845 Poly(methacrylic acid) Polymers 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 208000034189 Sclerosis Diseases 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NOZAQBYNLKNDRT-UHFFFAOYSA-N [diacetyloxy(ethenyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](OC(C)=O)(OC(C)=O)C=C NOZAQBYNLKNDRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 125000005396 acrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- 229920000800 acrylic rubber Polymers 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000004844 aliphatic epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910001860 alkaline earth metal hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001343 alkyl silanes Chemical class 0.000 description 1
- WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K aluminium hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[Al+3] WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000410 antimony oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- HLPKYOCVWVMBMR-UHFFFAOYSA-N azane benzylbenzene Chemical compound N.N.C=1C=CC=CC=1CC1=CC=CC=C1 HLPKYOCVWVMBMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- LLEMOWNGBBNAJR-UHFFFAOYSA-N biphenyl-2-ol Chemical compound OC1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 LLEMOWNGBBNAJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VCCBEIPGXKNHFW-UHFFFAOYSA-N biphenyl-4,4'-diol Chemical group C1=CC(O)=CC=C1C1=CC=C(O)C=C1 VCCBEIPGXKNHFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004841 bisphenol A epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 150000001638 boron Chemical class 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Chemical compound [O-2].[Ca+2] BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Inorganic materials [Ca]=O ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000292 calcium oxide Substances 0.000 description 1
- 229910052918 calcium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000378 calcium silicate Substances 0.000 description 1
- OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N calcium;dioxido(oxo)silane Chemical compound [Ca+2].[O-][Si]([O-])=O OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 1
- 229910052570 clay Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 1
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 229910002026 crystalline silica Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 238000004925 denaturation Methods 0.000 description 1
- 230000036425 denaturation Effects 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 229940028356 diethylene glycol monobutyl ether Drugs 0.000 description 1
- XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol monoethyl ether Chemical compound CCOCCOCCO XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940075557 diethylene glycol monoethyl ether Drugs 0.000 description 1
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 1
- JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(dimethyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(C)OC JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHGNXNCOTZPEEK-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCOCC1CO1 WHGNXNCOTZPEEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000118 dimethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- HTDKEJXHILZNPP-UHFFFAOYSA-N dioctyl hydrogen phosphate Chemical compound CCCCCCCCOP(O)(=O)OCCCCCCCC HTDKEJXHILZNPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMQYIPNJVLNWOE-UHFFFAOYSA-N dioctyl hydrogen phosphite Chemical compound CCCCCCCCOP(O)OCCCCCCCC XMQYIPNJVLNWOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KZHJGOXRZJKJNY-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O.O=[Al]O[Al]=O.O=[Al]O[Al]=O KZHJGOXRZJKJNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NJLLQSBAHIKGKF-UHFFFAOYSA-N dipotassium dioxido(oxo)titanium Chemical compound [K+].[K+].[O-][Ti]([O-])=O NJLLQSBAHIKGKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- VTIXMGZYGRZMAW-UHFFFAOYSA-N ditridecyl hydrogen phosphite Chemical compound CCCCCCCCCCCCCOP(O)OCCCCCCCCCCCCC VTIXMGZYGRZMAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007720 emulsion polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N endo-cyclopentadiene Natural products C1C=CC=C1 ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WOXXJEVNDJOOLV-UHFFFAOYSA-N ethenyl-tris(2-methoxyethoxy)silane Chemical compound COCCO[Si](OCCOC)(OCCOC)C=C WOXXJEVNDJOOLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- KTWOOEGAPBSYNW-UHFFFAOYSA-N ferrocene Chemical compound [Fe+2].C=1C=C[CH-]C=1.C=1C=C[CH-]C=1 KTWOOEGAPBSYNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 1
- 238000005187 foaming Methods 0.000 description 1
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 1
- 238000007429 general method Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- NEXSMEBSBIABKL-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisilane Chemical compound C[Si](C)(C)[Si](C)(C)C NEXSMEBSBIABKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002768 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L magnesium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Mg+2] VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000347 magnesium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 229910001862 magnesium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N melamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(N)=N1 JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007974 melamines Chemical class 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000005641 methacryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005397 methacrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- XLSZMDLNRCVEIJ-UHFFFAOYSA-N methylimidazole Natural products CC1=CNC=N1 XLSZMDLNRCVEIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000012778 molding material Substances 0.000 description 1
- 229910000476 molybdenum oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052863 mullite Inorganic materials 0.000 description 1
- PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N n'-(3-trimethoxysilylpropyl)ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNCCN PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBJFYLLAMSZSOG-UHFFFAOYSA-N n-(3-trimethoxysilylpropyl)aniline Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNC1=CC=CC=C1 KBJFYLLAMSZSOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YZPARGTXKUIJLJ-UHFFFAOYSA-N n-[3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl]aniline Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCNC1=CC=CC=C1 YZPARGTXKUIJLJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 1
- 125000005375 organosiloxane group Chemical group 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- AFEQENGXSMURHA-UHFFFAOYSA-N oxiran-2-ylmethanamine Chemical compound NCC1CO1 AFEQENGXSMURHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N oxoantimony Chemical class [Sb]=O VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCGNDDUYTRNOFT-UHFFFAOYSA-N oxolane-2,4-dione Chemical compound O=C1COC(=O)C1 JCGNDDUYTRNOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PQQKPALAQIIWST-UHFFFAOYSA-N oxomolybdenum Chemical compound [Mo]=O PQQKPALAQIIWST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- 150000004965 peroxy acids Chemical class 0.000 description 1
- RPGWZZNNEUHDAQ-UHFFFAOYSA-N phenylphosphine Chemical compound PC1=CC=CC=C1 RPGWZZNNEUHDAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920000768 polyamine Polymers 0.000 description 1
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920006124 polyolefin elastomer Polymers 0.000 description 1
- 150000007519 polyprotic acids Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 230000002250 progressing effect Effects 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N prop-2-enylbenzene Chemical compound C=CCC1=CC=CC=C1 HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 238000000518 rheometry Methods 0.000 description 1
- 238000007151 ring opening polymerisation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 1
- FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N silanamine Chemical compound [SiH3]N FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- IYMSIPPWHNIMGE-UHFFFAOYSA-N silylurea Chemical compound NC(=O)N[SiH3] IYMSIPPWHNIMGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052596 spinel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011029 spinel Substances 0.000 description 1
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 1
- 230000007480 spreading Effects 0.000 description 1
- 125000003107 substituted aryl group Chemical group 0.000 description 1
- TXDNPSYEJHXKMK-UHFFFAOYSA-N sulfanylsilane Chemical compound S[SiH3] TXDNPSYEJHXKMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- USFPINLPPFWTJW-UHFFFAOYSA-N tetraphenylphosphonium Chemical compound C1=CC=CC=C1[P+](C=1C=CC=CC=1)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 USFPINLPPFWTJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009974 thixotropic effect Effects 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003609 titanium compounds Chemical class 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001721 transfer moulding Methods 0.000 description 1
- GQIUQDDJKHLHTB-UHFFFAOYSA-N trichloro(ethenyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)C=C GQIUQDDJKHLHTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N triethoxy(methyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)OCC CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLGLQAWTXXGVEM-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol monomethyl ether Chemical compound COCCOCCOCCO JLGLQAWTXXGVEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl]silane Chemical compound C1C(CC[Si](OC)(OC)OC)CCC2OC21 DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BIKXLKXABVUSMH-UHFFFAOYSA-N trizinc;diborate Chemical compound [Zn+2].[Zn+2].[Zn+2].[O-]B([O-])[O-].[O-]B([O-])[O-] BIKXLKXABVUSMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009849 vacuum degassing Methods 0.000 description 1
- 239000005050 vinyl trichlorosilane Substances 0.000 description 1
- UKRDPEFKFJNXQM-UHFFFAOYSA-N vinylsilane Chemical compound [SiH3]C=C UKRDPEFKFJNXQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011800 void material Substances 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
- XAEWLETZEZXLHR-UHFFFAOYSA-N zinc;dioxido(dioxo)molybdenum Chemical compound [Zn+2].[O-][Mo]([O-])(=O)=O XAEWLETZEZXLHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052845 zircon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003755 zirconium compounds Chemical class 0.000 description 1
- GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N zirconium(iv) silicate Chemical compound [Zr+4].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Epoxy Resins (AREA)
- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
Abstract
Description
本発明は、封止用液状樹脂組成物、及びこの封止用液状樹脂組成物で封止した素子を備えてなる電子部品装置及びウエハーレベルチップサイズパッケージに関する。 The present invention relates to an encapsulating liquid resin composition, and an electronic component device and a wafer level chip size package comprising an element encapsulated with the encapsulating liquid resin composition.
従来から、トランジスタ、IC等の電子部品装置の素子封止の分野では、生産性、コスト等の面から樹脂封止が主流となり、エポキシ樹脂成形材料が広く用いられている。この理由としては、エポキシ樹脂が電気特性、耐湿性、耐熱性、機械特性、インサート品との接着性等の諸特性にバランスがとれているためである。 Conventionally, in the field of element sealing of electronic component devices such as transistors and ICs, resin sealing has been the mainstream in terms of productivity, cost, etc., and epoxy resin molding materials have been widely used. This is because the epoxy resin is balanced in various properties such as electrical properties, moisture resistance, heat resistance, mechanical properties, and adhesiveness with inserts.
一方、近年、電子部品装置の低コスト化、高集積化、高性能・高機能化を図るために素子の配線の微細化、多層化、多ピン化、パッケージの小型薄型化による高密度化が進んでいる。これに伴い、ICの素子とほぼ同じサイズの電子部品装置、すなわち、CSP(Chip Size Package)が広く用いられるようになってきている。 On the other hand, in recent years, in order to reduce the cost, high integration, high performance, and high functionality of electronic component devices, device wiring has been miniaturized, multi-layered, multi-pinned, and high density has been achieved by making packages smaller and thinner. Progressing. Accordingly, electronic component devices having almost the same size as IC elements, that is, CSP (Chip Size Package) have been widely used.
このような状況の中、ウエハーの状態で樹脂封止を行うウエハーレベルチップサイズパッケージが高密度実装に有効なパッケージとして注目されている。このウエハーレベルチップサイズパッケージは、半導体素子として微細配線が施され、且つ、その表面に外部接続端子引出し用の再配線及び電極が形成され、該電極上にバンプが形成もしくはリードが接続されたシリコンウエハーの表面をエポキシ樹脂組成物で封止し、バンプもしくはリードにはんだ付けを行った後、該シリコンウエハーを個々の素子に切断、製品とするものである。この方式は、ウエハーの状態で、固形のエポキシ樹脂組成物を用いたトランスファーモールド成形や、液状エポキシ樹脂組成物を用いた印刷成形により多数の素子を一度に封止した後、個片化するため、素子を個片化してから封止する方法に比べ大幅な生産合理化が可能となる。しかしながら、ウエハーレベルチップサイズパッケージにおいては、封止したウエハーが反りやすく、この反りがその後の搬送、研削、検査、個片化等の各工程で問題となっており、更にデバイスによっては素子特性に変動が生じる問題がある。半導体分野においては、より一層のコストダウンを図るため、ウエハー径が益々大きくなる傾向にあり、封止後のウエハーの反りを低減することがウエハーレベルチップサイズパッケージを普及させる上で重要な課題となっている。 Under such circumstances, a wafer level chip size package that performs resin sealing in a wafer state is attracting attention as an effective package for high-density mounting. This wafer level chip size package is a silicon element in which fine wiring is applied as a semiconductor element, and rewiring and electrodes for leading out external connection terminals are formed on the surface, and bumps are formed on the electrodes or leads are connected. The surface of the wafer is sealed with an epoxy resin composition, soldered to bumps or leads, and then the silicon wafer is cut into individual elements to obtain products. This method is used to seal a large number of elements at one time by transfer molding using a solid epoxy resin composition or printing molding using a liquid epoxy resin composition in the state of a wafer, and then separating them into individual pieces. Compared with the method of sealing after separating the elements into individual pieces, the production can be greatly rationalized. However, in a wafer level chip size package, the sealed wafer is likely to warp, and this warpage is a problem in each process such as subsequent conveyance, grinding, inspection, singulation, etc. There is a problem that causes fluctuations. In the semiconductor field, in order to further reduce the cost, the wafer diameter tends to increase further, and reducing the warpage of the wafer after sealing is an important issue in spreading the wafer level chip size package. It has become.
ウエハーの反りは、封止に用いられるエポキシ樹脂組成物の成形収縮や、シリコンウエハーとエポキシ樹脂組成物の熱膨張係数のミスマッチによって発生する応力が影響するものであり、パッケージの信頼性も低下させる恐れがある。そのため、このような用途に用いるエポキシ樹脂組成物には低応力化が必要となり、一般には、エポキシ樹脂組成物の成形収縮を下げたり、無機充填剤を高充填し熱膨張係数を小さくしたり、可撓化剤や可撓性樹脂を用い弾性率を小さくすることが有効とされている。 The warpage of the wafer is affected by the molding shrinkage of the epoxy resin composition used for sealing and the stress generated by the mismatch between the thermal expansion coefficients of the silicon wafer and the epoxy resin composition, and also reduces the reliability of the package. There is a fear. Therefore, it is necessary to reduce the stress in the epoxy resin composition used for such applications, and in general, the molding shrinkage of the epoxy resin composition is reduced, the inorganic filler is highly filled to reduce the thermal expansion coefficient, It is effective to reduce the elastic modulus by using a flexible agent or a flexible resin.
しかしながら、無機充填剤を高充填することにより熱膨張係数をウエハーに近づける手法だけでは、硬化物自体の弾性率が高くなるために応力低減が不十分となり反りを低減するには限界がある。 However, only the method of bringing the thermal expansion coefficient closer to the wafer by highly filling with an inorganic filler increases the elastic modulus of the cured product itself, so that the stress reduction is insufficient and there is a limit to reducing warpage.
そこで、例えば、シリコーン変性エポキシ樹脂を主成分とする、硬化物の常温での弾性率が5GPa以下である液状樹脂組成物が、特許文献1及び特許文献2に開示されている。一方、耐熱性及び保存安定性に優れ、高強度且つ可撓性に優れるジヒドロベンゾオキサジン環を有する熱硬化性樹脂を含有する樹脂組成物が、特許文献3に開示されている。
上記特許文献1及び特許文献2には、シリコーン樹脂をベース樹脂に用いることにより、硬化物の弾性率が低下し応力緩和により反りを小さくする手法が提案されている。しかしながら、樹脂組成物の主成分が低弾性体の柔らかい樹脂骨格から成るため、機械的強度が低下し、封止樹脂を均一に研削することが困難になったり、ウエハーダイシング時に封止樹脂がかけたりする等の問題が生じ易くなることに加え、これらの加工に用いるグラインドホイールやダイシングブレードが加工中に目詰まりし易く、摩耗が著しく速くなるという問題がある。更に、ガラス転移温度や強度の低下により耐湿信頼性が低下するという欠点がある。 Patent Document 1 and Patent Document 2 propose a technique in which a silicone resin is used as a base resin, thereby reducing the elastic modulus of the cured product and reducing warpage by stress relaxation. However, since the main component of the resin composition is composed of a soft resin skeleton with a low elastic body, the mechanical strength is lowered, it becomes difficult to uniformly grind the sealing resin, or the sealing resin is applied during wafer dicing. In addition to the problem that the grinding wheel is likely to occur, the grinding wheel and the dicing blade used in these processes are likely to be clogged during the process, and the wear is significantly increased. Furthermore, there is a drawback that the moisture resistance reliability is lowered due to a decrease in glass transition temperature and strength.
一方、上記特許文献3記載のジヒドロベンゾオキサジン環を有する熱硬化性樹脂を用いる手法では、機械特性や低吸水性、保存安定性に優れる封止用樹脂組成物が得られる。また、ジヒドロベンゾオキサジン環を有する熱硬化性樹脂は、開環重合の際の硬化収縮が小さいという特徴がある。しかしながら、上記特許文献3には印刷法によるウエハーレベルチップサイズパッケージの製造に使用可能な液状樹脂組成物に関する記載は無い。 On the other hand, in the method using a thermosetting resin having a dihydrobenzoxazine ring described in Patent Document 3, a sealing resin composition excellent in mechanical properties, low water absorption, and storage stability is obtained. In addition, thermosetting resins having a dihydrobenzoxazine ring are characterized by low cure shrinkage during ring-opening polymerization. However, Patent Document 3 does not describe a liquid resin composition that can be used for manufacturing a wafer level chip size package by a printing method.
このようにウエハーレベルチップサイズパッケージに使用される封止用液状樹脂組成物には、高強度、高信頼性並びに良好な加工性を発現させながら低応力化を図り、ウエハーの反りを抑えることが望まれているが、有効な解決策は見出されていない。 As described above, the sealing liquid resin composition used for the wafer level chip size package can reduce stress and suppress warpage of the wafer while exhibiting high strength, high reliability and good processability. Although desired, no effective solution has been found.
本発明はかかる状況に鑑みなされたもので、ウエハーレベルチップサイズパッケージ等の低反り性が要求される電子部品装置に適用しても反りが小さく抑えられ、且つ強度、耐熱衝撃性、耐湿性並びに加工性等の信頼性に優れた封止用液状樹脂組成物、及びこの封止用液状樹脂組成物で封止した素子を備えてなる電子部品装置及びウエハーレベルチップサイズパッケージを提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of such circumstances, and even when applied to an electronic component device that requires low warpage such as a wafer level chip size package, the warpage can be suppressed to a small level, and the strength, thermal shock resistance, moisture resistance, An object of the present invention is to provide a sealing liquid resin composition having excellent reliability such as processability, and an electronic component device and a wafer level chip size package comprising an element sealed with the sealing liquid resin composition. And
本発明は、(1)表面が無機化合物により被覆された多孔質シリカ粒子を含む無機充填剤(A)を含有してなる封止用液状樹脂組成物であって、前記封止用液状樹脂組成物の硬化物の25℃における弾性率が、6〜15GPaである封止用液状樹脂組成物に関する。 The present invention is (1) a sealing liquid resin composition comprising an inorganic filler (A) containing porous silica particles whose surface is coated with an inorganic compound, the sealing liquid resin composition It is related with the liquid resin composition for sealing whose elastic modulus in 25 degreeC of the hardened | cured material of a thing is 6-15GPa.
また、本発明は、(2)前記表面が無機化合物により被覆された多孔質シリカ粒子の比表面積が、0.5〜10.0m2/gである前記(1)に記載の封止用液状樹脂組成物に関する。 In addition, the present invention provides: (2) The sealing liquid according to (1), wherein the specific surface area of the porous silica particles whose surfaces are coated with an inorganic compound is 0.5 to 10.0 m 2 / g. The present invention relates to a resin composition.
また、本発明は、(3)前記表面が無機化合物により被覆された多孔質シリカ粒子の圧縮強度が、30〜1500MPaである前記(1)又は(2)に記載の封止用液状樹脂組成物に関する。 Moreover, this invention is (3) The liquid resin composition for sealing as described in said (1) or (2) whose compressive strength of the porous silica particle by which the said surface was coat | covered with the inorganic compound is 30-1500 Mpa. About.
また、本発明は、(4)さらに、液状エポキシ樹脂(B)、フェノール樹脂(C)、エラストマー(D)及び有機溶剤(E)を含有し、前記液状エポキシ樹脂(B)がシリコーン変性エポキシ樹脂を30質量%以上含有することを特徴とする前記(1)〜(3)のいずれか一項に記載の封止用液状樹脂組成物に関する。 The present invention also includes (4) a liquid epoxy resin (B), a phenol resin (C), an elastomer (D) and an organic solvent (E), wherein the liquid epoxy resin (B) is a silicone-modified epoxy resin. The liquid resin composition for sealing according to any one of (1) to (3), wherein 30% by mass or more is contained.
また、本発明は、(5)さらに、ジヒドロベンゾオキサジン環を有する化合物(F)を含有することを特徴とする前記(4)に記載の封止用液状樹脂組成物に関する。 Moreover, this invention relates to the liquid resin composition for sealing as described in said (4) characterized by containing the compound (F) which further has (5) dihydrobenzoxazine ring.
また、本発明は、(6)前記シリコーン変性エポキシ樹脂が、下記一般式(I)で示されるシロキサン構造を有するエポキシ樹脂である前記(4)又は(5)に記載の封止用液状樹脂組成物に関する。
(一般式(I)中のR1及びR2はアルキル基又はアリール基を表し、同一であっても異なっていてもよく、nは1以上の整数である。)
また、本発明は、(7)(B)成分、(C)成分及び(F)成分の合計量に対して、液状エポキシ樹脂(B)の配合割合が30〜83質量%、ジヒドロベンゾオキサジン環を有する化合物(F)の配合割合が8.5〜63質量%、フェノール樹脂(C)の配合割合が2〜35質量%であり、且つ、(C)成分及び(F)成分の合計量に対して、フェノール樹脂(C)の配合割合が、10〜50質量%である前記(5)又は(6)に記載の封止用液状樹脂組成物に関する。
(R 1 and R 2 in the general formula (I) represent an alkyl group or an aryl group, and may be the same or different, and n is an integer of 1 or more.)
In addition, the present invention provides that the blending ratio of the liquid epoxy resin (B) is 30 to 83% by mass with respect to the total amount of the components (7) (B), (C) and (F), The compounding ratio of the compound (F) having 8.5 to 63% by mass, the compounding ratio of the phenol resin (C) is 2 to 35% by mass, and the total amount of the component (C) and the component (F) On the other hand, it is related with the liquid resin composition for sealing as described in said (5) or (6) whose compounding ratio of a phenol resin (C) is 10-50 mass%.
また、本発明は、(8)前記エラストマー(D)が、液状エポキシ樹脂中でアルケニル基含有オルガノポリシロキサンとSiH基含有オルガノハイドロジェンポリシロキサンのヒドロシリル化反応により架橋生成させたシリコーンゴム粒子である前記(4)〜(7)のいずれか一項に記載の封止用液状樹脂組成物に関する。 The present invention is also (8) silicone rubber particles in which the elastomer (D) is crosslinked and formed by a hydrosilylation reaction of an alkenyl group-containing organopolysiloxane and a SiH group-containing organohydrogenpolysiloxane in a liquid epoxy resin. It is related with the liquid resin composition for sealing as described in any one of said (4)-(7).
また、本発明は、(9)前記シリコーンゴム粒子の平均粒径が、0.1〜2μmである前記(8)に記載の封止用液状樹脂組成物に関する。 The present invention also relates to (9) the liquid resin composition for sealing according to (8), wherein the silicone rubber particles have an average particle size of 0.1 to 2 μm.
また、本発明は、(10)前記エラストマー(D)が、固形シリコーン重合体からなるコア層と有機重合体からなるシェル層とを含有するコア/シェル型シリコーン重合体粒子である前記(4)〜(7)のいずれか一項に記載の封止用液状樹脂組成物に関する。 In the present invention, (10) the elastomer (D) is a core / shell type silicone polymer particle containing a core layer made of a solid silicone polymer and a shell layer made of an organic polymer. It is related with the liquid resin composition for sealing as described in any one of-(7).
また、本発明は、(11)前記コア/シェル型シリコーン重合体粒子が、[RSiO3/2]及び/又は[SiO4/2]からなる単位を有する、[RR’SiO2/2]単位(ここで、Rは炭素数6以下のアルキル基、アリール基、又は末端に炭素二重結合を有する置換基であり、R’は炭素数6以下のアルキル基又はアリール基を表す。)を含むシリコーン重合体からなるコア層と、ビニル重合により得られる有機重合体からなるシェル層とを含有するものである前記(10)に記載の封止用液状樹脂組成物に関する。 The present invention also provides (11) [RR′SiO 2/2 ] units, wherein the core / shell type silicone polymer particles have units consisting of [RSiO 3/2 ] and / or [SiO 4/2 ]. (Wherein R represents an alkyl group having 6 or less carbon atoms, an aryl group, or a substituent having a carbon double bond at the terminal, and R ′ represents an alkyl group or aryl group having 6 or less carbon atoms). The liquid resin composition for sealing according to the above (10), comprising a core layer made of a silicone polymer and a shell layer made of an organic polymer obtained by vinyl polymerization.
また、本発明は、(12)前記有機重合体が、アクリル系重合体である前記(10)又は(11)に記載の封止用液状樹脂組成物に関する。 The present invention also relates to (12) the sealing liquid resin composition according to (10) or (11), wherein the organic polymer is an acrylic polymer.
また、本発明は、(13)前記エラストマー(D)の配合量が、(B)成分、(C)成分及び(F)成分の合計100質量部に対し、1〜50質量部である前記(4)〜(12)のいずれか一項に記載の封止用液状樹脂組成物に関する。 Moreover, this invention is the said (13) 1-50 mass parts with respect to the total of 100 mass parts of (B) component, (C) component, and (F) component (B), the compounding quantity of the said elastomer (D). It is related with the liquid resin composition for sealing as described in any one of 4)-(12).
また、本発明は、(14)前記(1)〜(13)のいずれか一項に記載の封止用液状樹脂組成物により封止された素子を備えてなる電子部品装置に関する。 The present invention also relates to (14) an electronic component device comprising an element sealed with the sealing liquid resin composition according to any one of (1) to (13).
また、本発明は、(15)ウエハーレベルチップサイズパッケージの封止に用いられる前記(1)〜(13)のいずれか一項に記載の封止用液状樹脂組成物に関する。 Moreover, this invention relates to the liquid resin composition for sealing as described in any one of said (1)-(13) used for sealing of (15) wafer level chip size package.
また、本発明は、(16)前記(1)〜(13)のいずれか一項に記載の封止用液状樹脂組成物により封止された素子を備えてなるウエハーレベルチップサイズパッケージに関する。 The present invention also relates to (16) a wafer level chip size package comprising an element sealed with the sealing liquid resin composition according to any one of (1) to (13).
本発明によれば、ウエハーレベルチップサイズパッケージ等の低反り性が要求される電子部品装置に適用しても反りが小さく抑えられ、且つ強度、耐熱衝撃性、耐湿性等の信頼性並びに加工性等に優れた封止用液状樹脂組成物、及びこの封止用液状樹脂組成物で封止した素子を備えてなる電子部品装置及びウエハーレベルチップサイズパッケージを提供することができる。 According to the present invention, even when applied to an electronic component device that requires low warpage such as a wafer level chip size package, the warpage is suppressed to a small level, and reliability such as strength, thermal shock resistance, moisture resistance, and workability are reduced. It is possible to provide an electronic component device and a wafer level chip size package comprising a liquid resin composition for sealing excellent in the above, and an element sealed with the liquid resin composition for sealing.
本発明の封止用液状樹脂組成物は、表面が無機化合物により被覆された多孔質シリカ粒子を含む無機充填剤(A)を含有してなる封止用液状樹脂組成物であって、前記封止用液状樹脂組成物の硬化物の25℃における弾性率が、6〜15GPaであることを特徴とする。 The liquid resin composition for sealing according to the present invention is a liquid resin composition for sealing containing an inorganic filler (A) containing porous silica particles whose surfaces are coated with an inorganic compound. The elastic modulus at 25 ° C. of the cured product of the liquid resin composition for stopping is 6 to 15 GPa.
本発明では、封止用液状樹脂組成物を硬化させた硬化物の25℃における弾性率を6〜15GPaの範囲にすることが重要であり、それによって、硬化物の反りを低減でき、封止用液状樹脂組成物の加工性を良好なものとすることができる。前記弾性率は、6〜14GPaであることが好ましく、6〜12GPaであることがより好ましい。封止用液状樹脂組成物をウエハーに印刷塗布し、加熱硬化した際のウエハーの反りを低減するためには、硬化物の弾性率を低くして低応力化を図ることが有効である。しかし、硬化物の25℃における弾性率が6GPa未満の場合、反りは低減できるものの、加工性が悪くなってしまう。特に、樹脂研削工程やダイシング工程において、グラインドホイールやダイシングブレードの摩耗が著しい。一方、25℃における弾性率が15GPaを超えると反りが大きくなり、特に、薄型のウエハーレベルチップサイズパッケージでは、加熱硬化後の反りもさることながら、樹脂面及び裏面(ウエハー面)の研削後、並びにはんだボール搭載工程等におけるリフロー後の反りが顕著となる。このように、本発明においては、封止用液状樹脂組成物の硬化物の25℃における弾性率を上記範囲に設定することが重要であり、その範囲を外れると本発明の目的を達成することができないのである。 In the present invention, it is important to set the elastic modulus at 25 ° C. of the cured product obtained by curing the encapsulating liquid resin composition to be in the range of 6 to 15 GPa. The processability of the liquid resin composition for use can be improved. The elastic modulus is preferably 6 to 14 GPa, and more preferably 6 to 12 GPa. In order to reduce the warpage of the wafer when the liquid resin composition for sealing is printed on the wafer and cured by heating, it is effective to lower the elastic modulus of the cured product to reduce the stress. However, when the elastic modulus at 25 ° C. of the cured product is less than 6 GPa, the warp can be reduced but the workability is deteriorated. In particular, the grinding wheel and dicing blade are significantly worn during the resin grinding process and the dicing process. On the other hand, when the elastic modulus at 25 ° C. exceeds 15 GPa, the warpage becomes large. Especially, in a thin wafer level chip size package, after grinding the resin surface and the back surface (wafer surface), in addition to warping after heat curing, In addition, warping after reflow in the solder ball mounting process or the like becomes significant. Thus, in the present invention, it is important to set the elastic modulus at 25 ° C. of the cured product of the encapsulating liquid resin composition within the above range, and to achieve the object of the present invention outside the range. It is not possible.
封止用液状樹脂組成物の硬化物の25℃における弾性率が6〜15GPaの範囲になるようにするには、例えば、無機充填剤の配合量、エラストマーの配合量、シリコーン変性エポキシ樹脂の配合量を調整すること、多官能のエポキシ樹脂または硬化剤を用いること等によって調整することができる。具体的には、無機充填剤の配合量を増やすと弾性率は高くなり、エラストマーおよびシリコーン変性エポキシ樹脂の配合量を増やすと弾性率は低くなる。また、より多官能のエポキシ樹脂または硬化剤を用いることにより、封止用液状樹脂組成物の硬化物の架橋密度を高くすることによっても弾性率を高くすることが出来る。これらの手法を単独または併用することによって、封止用液状樹脂組成物の硬化物の25℃における弾性率を適正な範囲に調整することが可能である。 In order for the elastic modulus at 25 ° C. of the cured liquid resin composition for sealing to be in the range of 6 to 15 GPa, for example, the blending amount of the inorganic filler, the blending amount of the elastomer, the blending of the silicone-modified epoxy resin It can adjust by adjusting quantity, using a polyfunctional epoxy resin or a hardening | curing agent. Specifically, when the compounding amount of the inorganic filler is increased, the elastic modulus is increased, and when the compounding amount of the elastomer and the silicone-modified epoxy resin is increased, the elastic modulus is decreased. Further, by using a polyfunctional epoxy resin or a curing agent, the elastic modulus can be increased by increasing the crosslink density of the cured product of the encapsulating liquid resin composition. By using these methods alone or in combination, it is possible to adjust the elastic modulus at 25 ° C. of the cured liquid resin composition for sealing to an appropriate range.
ここで硬化物の弾性率は、動的粘弾性測定装置(周波数10Hz)を用いて測定した時の貯蔵弾性率であり、封止用液状樹脂組成物を約290μm厚のシート状に加熱硬化し、このシートを4mm×34mmに切断して試験片を作製し、動的粘弾性測定装置DVE型(株式会社レオロジ製)を用いて、チャック間距離25mm、周波数10Hzの正弦波で連続加振、歪み量5μm、自動静荷重、昇温速度3℃/分、温度範囲20〜250℃の条件で測定し、25℃の時の貯蔵弾性率を読み取ることにより測定できる。 Here, the elastic modulus of the cured product is a storage elastic modulus when measured using a dynamic viscoelasticity measuring apparatus (frequency 10 Hz), and the liquid resin composition for sealing is heated and cured into a sheet of about 290 μm thickness. Then, this sheet was cut into 4 mm × 34 mm to prepare a test piece, and using a dynamic viscoelasticity measuring device DVE type (manufactured by Rheology Co., Ltd.), continuous vibration was performed with a sine wave having a distance between chucks of 25 mm and a frequency of 10 Hz. It can be measured by measuring the strain amount 5 μm, automatic static load, temperature rising rate 3 ° C./min, temperature range 20-250 ° C., and reading the storage elastic modulus at 25 ° C.
(A)成分:無機充填剤
(A−1)表面が無機化合物により被覆された多孔質シリカ粒子
本発明の封止用液状樹脂組成物が含有する無機充填剤(A)は、表面が無機化合物により被覆された多孔質シリカ粒子(A−1)を含むことが重要であり、それによって封止用液状樹脂組成物の粘度上昇を抑え、又、グラインドホイールやダイシングブレードの摩耗を抑え加工性を良好なものとすることができる。表面が被覆されていない多孔質シリカ粒子を用いた場合、比表面積が大きいため封止用液状樹脂組成物の粘度が著しく上昇し、ウエハー上への塗布が困難になり、加工性に劣る。また、粘度を低減するために溶剤を添加する場合においても、溶剤の添加量が多くなるため、加熱硬化後にボイドや著しい膜減りが発生し、硬化物の信頼性に劣る。
(A) Component: Inorganic filler (A-1) Porous silica particles whose surface is coated with an inorganic compound The inorganic filler (A) contained in the sealing liquid resin composition of the present invention has an inorganic compound on the surface. It is important to contain the porous silica particles (A-1) coated with the above, thereby suppressing the increase in the viscosity of the liquid resin composition for sealing, and suppressing the wear of the grind wheel and the dicing blade. It can be good. When porous silica particles whose surface is not coated are used, the specific surface area is large, so that the viscosity of the encapsulating liquid resin composition is remarkably increased, making it difficult to apply onto the wafer, resulting in poor processability. In addition, even when a solvent is added to reduce the viscosity, the amount of the solvent added increases, so that voids and significant film loss occur after heat curing, resulting in poor reliability of the cured product.
表面が無機化合物により被覆された多孔質シリカ粒子の比表面積は、特に限定されないが、0.5〜10.0m2/gが好ましく、0.5〜8.0m2/gがより好ましく、0.6〜6.0m2/gが更に好ましい。前記比表面積が0.5m2/g以上の場合、多孔質シリカ粒子の表面の凹凸が少ないため、樹脂との接着性が低くなり、10.0m2/g以下の場合、封止用液状樹脂組成物の粘度の上昇を抑える効果がある。ここで、多孔質シリカ粒子の比表面積は窒素を用いたBET法により測定したものである。 Surface specific surface area of the porous silica particles coated with the inorganic compound is not particularly limited, but is preferably 0.5~10.0m 2 / g, more preferably 0.5~8.0m 2 / g, 0 More preferably, it is from 6 to 6.0 m 2 / g. When the specific surface area is 0.5 m 2 / g or more, there are few irregularities on the surface of the porous silica particles, so the adhesion to the resin is low, and when it is 10.0 m 2 / g or less, the sealing liquid resin There is an effect of suppressing an increase in the viscosity of the composition. Here, the specific surface area of the porous silica particles is measured by a BET method using nitrogen.
表面が無機化合物により被覆された多孔質シリカ粒子の圧縮強度は、特に限定されないが、30〜1500MPaが好ましく、70〜1200MPaがより好ましく、100〜1000MPaが更に好ましい。前記圧縮強度が30MPa未満の場合、封止用液状樹脂組成物の製造過程で多孔質シリカ粒子が崩壊する可能性があり、1500MPaを超える場合、グラインドホイールやダイシングブレードの摩耗が著しくなる可能性がある。ここで、圧縮強度は微小圧縮試験機(株式会社島津製作所製、MCMT−200)によって、負荷速度定数1、負荷速度0.029〜0.27gf/sで測定した際の、粒子が破壊するときの圧縮強度である。 The compressive strength of the porous silica particles whose surface is coated with an inorganic compound is not particularly limited, but is preferably 30 to 1500 MPa, more preferably 70 to 1200 MPa, and still more preferably 100 to 1000 MPa. When the compressive strength is less than 30 MPa, the porous silica particles may be collapsed during the production process of the sealing liquid resin composition. When the compressive strength is more than 1500 MPa, the grinding wheel and the dicing blade may be significantly worn. is there. Here, the compressive strength is measured when the particle breaks when measured with a micro compression tester (manufactured by Shimadzu Corporation, MCMT-200) at a load speed constant of 1 and a load speed of 0.029 to 0.27 gf / s. Compressive strength of
表面が無機化合物により被覆された多孔質シリカ粒子の平均粒径は、特に限定されないが、充填量を高めるという観点から、平均粒径の異なる複数種類の多孔質シリカ粒子を用いることが好ましい。 The average particle diameter of the porous silica particles whose surface is coated with an inorganic compound is not particularly limited, but it is preferable to use a plurality of types of porous silica particles having different average particle diameters from the viewpoint of increasing the filling amount.
表面が無機化合物により被覆された多孔質シリカ粒子の形状は、特に限定されず、例えば、球形、角状、不定形などが挙げられるが、球形が好ましい。 The shape of the porous silica particles whose surface is coated with an inorganic compound is not particularly limited, and examples thereof include a spherical shape, a square shape, and an indefinite shape, and a spherical shape is preferable.
表面が無機化合物により被覆された多孔質シリカ粒子は、多孔質シリカ粒子の表面を公知の方法、例えば、特開2006−176343号公報に記載の方法により無機化合物で被覆することにより得られるものである。 The porous silica particle whose surface is coated with an inorganic compound is obtained by coating the surface of the porous silica particle with an inorganic compound by a known method, for example, a method described in JP-A-2006-176343. is there.
多孔質シリカ粒子を被覆する無機化合物は、無機酸化物であることが好ましく、珪素を含有する無機酸化物であることが更に好ましい。かかる無機酸化物の具体例としては、酸化珪素、酸化カルシウム、酸化チタンなどが挙げられ、これらの中でも珪素を含有する無機酸化物が好ましく、例えば、二酸化珪素などが好ましい。多孔質シリカ粒子を被覆する化合物が有機物である場合、封止用液状樹脂組成物に有機溶剤を添加した際に被膜層が膨潤又は溶解する懸念があり、更に、硬化物の吸水率が高くなり、信頼性が低下する恐れがある。表面が無機化合物により被覆された多孔質シリカ粒子は特に制限はないが、例えば、特開2006−176343号公報により公開されているような、公知の方法により製造される。一例として、多孔質シリカ粒子を分散させた懸濁液に、無機化合物を溶解又は分散させた溶液を添加し、多孔質シリカ粒子の表面を無機化合物で被覆する方法が挙げられる。 The inorganic compound that covers the porous silica particles is preferably an inorganic oxide, and more preferably an inorganic oxide containing silicon. Specific examples of such inorganic oxides include silicon oxide, calcium oxide, and titanium oxide. Among these, inorganic oxides containing silicon are preferable, and for example, silicon dioxide is preferable. When the compound that coats the porous silica particles is an organic substance, there is a concern that the coating layer may swell or dissolve when an organic solvent is added to the sealing liquid resin composition, and the water absorption of the cured product increases. There is a risk that reliability will be reduced. The porous silica particles whose surface is coated with an inorganic compound are not particularly limited, but are produced by a known method as disclosed in, for example, JP-A-2006-176343. As an example, a method in which a solution in which an inorganic compound is dissolved or dispersed is added to a suspension in which porous silica particles are dispersed, and the surface of the porous silica particles is coated with the inorganic compound.
(A−2)その他の無機充填剤
本発明の封止用液状樹脂組成物には、(A)無機充填剤として上記表面を無機化合物で被覆された多孔質シリカ粒子(A−1)以外のその他の無機充填剤(A−2)を配合することができる。
(A-2) Other inorganic fillers The liquid resin composition for sealing of the present invention includes (A) an inorganic filler other than porous silica particles (A-1) whose surface is coated with an inorganic compound. Other inorganic fillers (A-2) can be blended.
前述したように、充填量を高めるという観点から、平均粒径の異なる粒子を複数種類用いることが好ましいが、その場合、多孔質シリカ粒子(A−1)を複数種用いても良いし、多孔質シリカ粒子(A−1)とその他の無機充填剤(A−2)を併用しても良い。 As described above, from the viewpoint of increasing the filling amount, it is preferable to use a plurality of types of particles having different average particle diameters. However, in that case, a plurality of types of porous silica particles (A-1) may be used. The fine silica particles (A-1) and other inorganic fillers (A-2) may be used in combination.
その他の無機充填剤としては、例えば、溶融シリカ、結晶シリカ等のシリカ、炭酸カルシウム、クレー、酸化アルミナ等のアルミナ、窒化珪素、炭化珪素、窒化ホウ素、珪酸カルシウム、チタン酸カリウム、窒化アルミ、ベリリア、ジルコニア、ジルコン、フォステライト、ステアタイト、スピネル、ムライト、チタニア等の粉体、又はこれらを球形化したビーズ、ガラス繊維などが挙げられる。さらに、難燃効果のある無機充填剤としては水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、硼酸亜鉛、モリブデン酸亜鉛等が挙げられる。これらの中でも線膨張係数低減の観点からは溶融シリカが、高熱伝導性の観点からはアルミナが好ましい。その他の無機充填剤の形状は高充填化及び封止用液状樹脂組成物の微細間隙への流動性・浸透性の観点から球形が好ましい。また、シリカは、封止用液状樹脂組成物の流動性や保存安定性の観点から、予めカップリング剤で処理されたものが好ましい。これらその他の無機充填剤は単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。 Other inorganic fillers include, for example, silica such as fused silica and crystalline silica, alumina such as calcium carbonate, clay and alumina oxide, silicon nitride, silicon carbide, boron nitride, calcium silicate, potassium titanate, aluminum nitride, and beryllia. , Powders of zirconia, zircon, fosterite, steatite, spinel, mullite, titania, or the like, or beads made of these particles, glass fibers, and the like. Furthermore, examples of the inorganic filler having a flame retardant effect include aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, zinc borate, and zinc molybdate. Among these, fused silica is preferable from the viewpoint of reducing the linear expansion coefficient, and alumina is preferable from the viewpoint of high thermal conductivity. The shape of the other inorganic filler is preferably spherical from the viewpoints of high filling and fluidity / penetration into the fine gap of the liquid resin composition for sealing. Silica is preferably pretreated with a coupling agent from the viewpoint of fluidity and storage stability of the encapsulating liquid resin composition. These other inorganic fillers may be used alone or in combination of two or more.
その他の無機充填剤(A−2)の平均粒径は、充填量を高めるという観点から粒度分布を持たせるために、多孔質シリカ粒子(A−1)と異なる範囲の粒径が好ましい。 The average particle size of the other inorganic filler (A-2) is preferably a particle size in a range different from that of the porous silica particles (A-1) in order to have a particle size distribution from the viewpoint of increasing the filling amount.
また、表面を無機化合物で被覆された多孔質シリカ粒子(A−1)と、その他の無機充填剤(A−2)とを併用する場合、表面を無機化合物で被覆された多孔質シリカ粒子(A−1)とその他の無機充填剤(A−2)の合計量に対して、表面が無機化合物で被覆された多孔質シリカ粒子(A−1)の配合割合が、50質量%以上であることが好ましく、55質量%であることがより好ましく、60質量%以上であることが更に好ましい。前記配合割合が50質量%未満の場合、グラインドホイールやダイシングブレードの摩耗が増大する恐れがある。 Moreover, when using together the porous silica particle (A-1) by which the surface was coat | covered with the inorganic compound, and other inorganic fillers (A-2), the porous silica particle by which the surface was coat | covered with the inorganic compound ( The blending ratio of the porous silica particles (A-1) whose surface is coated with an inorganic compound is 50% by mass or more with respect to the total amount of A-1) and other inorganic fillers (A-2). It is preferably 55% by mass, more preferably 60% by mass or more. When the said mixture ratio is less than 50 mass%, there exists a possibility that abrasion of a grinding wheel or a dicing blade may increase.
無機充填剤(A)の配合割合は、特に限定されるものではないが、無機充填剤(A)と後述する成分(B)から成分(E)の合計量に対して、70〜94質量%が好ましく、80〜93質量%がより好ましく、80〜90質量%が特に好ましい。無機充填剤(A)の配合量が70質量%未満の場合、熱膨張係数の低減効果が減少することから反りが大きくなる傾向がある。一方、94質量%を超える場合、封止用液状樹脂組成物の粘度が上昇するため印刷塗布作業性が低下する傾向があり、粘度を下げるために添加する有機溶剤の量を増やすとボイドの発生や著しい膜減り等の不具合を招き、硬化物の信頼性が損なわれる可能性がある。 The blending ratio of the inorganic filler (A) is not particularly limited, but is 70 to 94% by mass with respect to the total amount of the inorganic filler (A) and the components (B) to (E) described later. Is preferable, 80-93 mass% is more preferable, and 80-90 mass% is especially preferable. When the blending amount of the inorganic filler (A) is less than 70% by mass, the warp tends to increase because the effect of reducing the thermal expansion coefficient is reduced. On the other hand, when it exceeds 94% by mass, the viscosity of the liquid resin composition for sealing tends to decrease, so that the printing workability tends to decrease. When the amount of the organic solvent added to decrease the viscosity is increased, voids are generated. In addition, there is a possibility that the reliability of the cured product is impaired due to problems such as significant film reduction.
本発明の封止用液状樹脂組成物は、さらに液状エポキシ樹脂(B)、フェノール樹脂(C)、エラストマー(D)、有機溶剤(E)及びジヒドロベンゾオキサジン環を有する化合物(F)を含有することができる。 The sealing liquid resin composition of the present invention further contains a liquid epoxy resin (B), a phenol resin (C), an elastomer (D), an organic solvent (E), and a compound (F) having a dihydrobenzoxazine ring. be able to.
(B)成分:液状エポキシ樹脂
本発明の封止用液状樹脂組成物に用いる液状エポキシ樹脂(B)は、室温(5〜30℃)において液状であれば、特に限定されないが、弾性率を低下させる等の観点から、シリコーン変性エポキシ樹脂(B−1)を30質量%以上含有することが好ましく、35質量%以上含有することがより好ましく、40質量%以上含有することが更により好ましく、50質量%以上含有することが特に好ましい。
(B) component: liquid epoxy resin Although the liquid epoxy resin (B) used for the liquid resin composition for sealing of this invention will not be specifically limited if it is liquid at room temperature (5-30 degreeC), A elasticity modulus is reduced. From the viewpoint of making it, the silicone-modified epoxy resin (B-1) is preferably contained in an amount of 30% by mass or more, more preferably 35% by mass or more, and even more preferably 40% by mass or more. It is particularly preferable to contain at least mass%.
(B−1)シリコーン変性エポキシ樹脂
液状エポキシ樹脂(B)に含有されるシリコーン変性エポキシ樹脂(B−1)は、どのようなものでも構わないが、下記一般式(I)で示されるシロキサン構造を有することが好ましい。
上記一般式(I)中、R1及びR2はアルキル基又はアリール基であり、同一であっても異なっていてもよく、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基などのアルキル基;フェニル基、キシリル基、トリル基などのアリール基;等が挙げられるが、これらのなかでもメチル基又はフェニル基が好ましく、メチル基がより好ましい。一般式(I)中、nは1以上の整数である。一般式(I)で示されるシロキサン構造を有するシリコーン変性エポキシ樹脂として、工業的に入手可能な市販品としては、ALBIFLEX296、ALBIFLEX348、XP544(Hanse Chemie社製商品名)等がある。 In the general formula (I), R 1 and R 2 are alkyl groups or aryl groups, which may be the same or different. Specifically, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, Examples thereof include alkyl groups such as butyl group, isobutyl group, tert-butyl group, hexyl group, octyl group and decyl group; aryl groups such as phenyl group, xylyl group and tolyl group; among these, methyl group or A phenyl group is preferred, and a methyl group is more preferred. In general formula (I), n is an integer of 1 or more. Examples of commercially available commercially available silicone-modified epoxy resins having a siloxane structure represented by the general formula (I) include ALBIFLEX296, ALBIFLEX348, XP544 (trade names manufactured by Hanse Chemie) and the like.
また、その他のシリコーン変性エポキシ樹脂としては、式(I)で示されるシロキサン構造を有するエポキシ樹脂と、フェノール性水酸基、アミノ基、カルボキシル基、チオール基等のエポキシ基と反応することができる置換基を有し、かつシロキサン構造を有さない化合物と反応して得られるもの;また、ビスフェノールA型、ビスフェノールF型、ビスフェノールAD型エポキシ樹脂のようなシロキサン構造を有さないエポキシ樹脂と、フェノール性水酸基、アミノ基、カルボキシル基、チオール基等のエポキシ基と反応することができる置換基を有し、且つ式(I)で示されるシロキサン構造を有する化合物と反応して得られるもの;等が挙げられる。 In addition, as other silicone-modified epoxy resins, the epoxy resin having a siloxane structure represented by the formula (I) and a substituent capable of reacting with an epoxy group such as a phenolic hydroxyl group, amino group, carboxyl group, and thiol group Obtained by reacting with a compound having no siloxane structure; and an epoxy resin having no siloxane structure, such as bisphenol A type, bisphenol F type, and bisphenol AD type epoxy resin, and phenolic Those having a substituent capable of reacting with an epoxy group such as a hydroxyl group, an amino group, a carboxyl group, and a thiol group, and obtained by reacting with a compound having a siloxane structure represented by the formula (I); It is done.
これらのなかでも、下記一般式(II)で示されるエポキシ樹脂と2官能フェノール類とを反応したものが好ましい。
上記一般式(II)中、R1及びR2はアルキル基又はアリール基であり、同一でも異なっていても良く、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基などのアルキル基;フェニル基、キシリル基、トリル基などのアリール基;等が挙げられるが、これらのなかでもメチル基が好ましい。一般式(II)中、nは1以上の整数であり、25以下が好ましく、15以下がより好ましい。一般式(II)で示されるエポキシ樹脂として工業的に入手可能な市販品としては、KF−105、X−22−163、X22−163A(信越化学工業株式会社製商品名)、TSL9906(GE東芝シリコーン株式会社製商品名)等があり、エポキシ当量は1000g/eq.以下が好ましく、600g/eq.以下がより好ましい。これらエポキシ樹脂は単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。 In the general formula (II), R 1 and R 2 are alkyl groups or aryl groups, which may be the same or different. Specifically, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, Examples thereof include alkyl groups such as isobutyl group, tert-butyl group, hexyl group, octyl group and decyl group; aryl groups such as phenyl group, xylyl group and tolyl group; among these, methyl group is preferable. In general formula (II), n is an integer greater than or equal to 1, 25 or less are preferable and 15 or less are more preferable. Commercially available commercially available epoxy resins represented by the general formula (II) include KF-105, X-22-163, X22-163A (trade names manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), TSL9906 (GE Toshiba). And the epoxy equivalent is 1000 g / eq. The following is preferable, and 600 g / eq. The following is more preferable. These epoxy resins may be used alone or in combination of two or more.
反応に用いられる2官能フェノール類としては、一分子中にフェノール性水酸基を2個有するものであれば特に制限はなく、例えば、ハイドロキノン、レゾルシノール、カテコール、テルペンジフェノール等の単環二官能フェノール類、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールAD、ビスフェノールS等のビスフェノール類、4,4´−ジヒドロキシビフェニル等のジヒドロキシビフェニル類、ビス(4−ヒドロキシフェニル)エーテル等のジヒドロキシフェニルエーテル類及びこれらのフェノール骨格の芳香環に直鎖アルキル基、分岐アルキル基、アリール基、ヒドロキシアルキル基、アリル基、環状脂肪族基等を導入したもの、これらのビスフェノール骨格の中央にある炭素原子に直鎖アルキル基、分岐アルキル基、アリル基、置換基のついたアリル基、環状脂肪族基、アルコキシカルボニル基等を導入した多環二官能フェノール類などが挙げられ、これらを単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。 The bifunctional phenol used in the reaction is not particularly limited as long as it has two phenolic hydroxyl groups in one molecule. For example, monocyclic bifunctional phenols such as hydroquinone, resorcinol, catechol, terpene diphenol, etc. Bisphenols such as bisphenol A, bisphenol F, bisphenol AD and bisphenol S, dihydroxybiphenyls such as 4,4′-dihydroxybiphenyl, dihydroxyphenyl ethers such as bis (4-hydroxyphenyl) ether and the phenol skeleton Introducing a straight chain alkyl group, branched alkyl group, aryl group, hydroxyalkyl group, allyl group, cycloaliphatic group, etc. into the aromatic ring, straight chain alkyl group, branched alkyl on the carbon atom in the center of these bisphenol skeletons Group, ants Groups, substituted aryl groups, cycloaliphatic groups, polycyclic bifunctional phenols into which an alkoxycarbonyl group and the like are introduced, and these may be used alone or in combination of two or more. .
シリコーン変性エポキシ樹脂は、例えば、一般式(II)で示されるエポキシ樹脂と2官能フェノール類を混合し、必要に応じて、触媒を添加し、更に必要に応じて有機溶剤を添加し加熱反応させることにより得られる。触媒としては、1,8−ジアザビシクロ〔5,4,0〕ウンデセン−7、1,5−ジアザビシクロ〔4,3,0〕ノネン−5、5,6−ジブチルアミノ−1,8−ジアザビシクロ〔5,4,0〕ウンデセン−7等のシクロアミジン化合物、その誘導体、トリエチルアミン、トリエチレンジアミン、ベンジルジメチルアミン、トリエタノールアミン、ジメチルアミノエタノール等の3級アミン類、2−メチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、1−ベンジル−2−メチルイミダゾール等のイミダゾール類、トリブチルホスフィン、メチルジフェニルホスフィン、トリフェニルホスフィン、ジフェニルホスフィン、フェニルホスフィン等の有機ホスフィン類、テトラフェニルホスホニウム・テトラフェニルボレート、トリフェニルホスフィンテトラフェニルボレート、2−エチル−4−メチルイミダゾール・テトラフェニルボレート、N−メチルモルホリン・テトラフェニルボレート等のテトラフェニルボロン塩等がある。これらは単独で用いても、2種類以上を併用してもよい。反応する際のエポキシ樹脂と2官能フェノール類との当量比は、エポキシ当量/水酸基当量の比が1〜5であることが好ましい。 The silicone-modified epoxy resin is, for example, mixed with an epoxy resin represented by the general formula (II) and a bifunctional phenol, and if necessary, a catalyst is added, and an organic solvent is further added as necessary to cause a heat reaction. Can be obtained. Examples of the catalyst include 1,8-diazabicyclo [5,4,0] undecene-7, 1,5-diazabicyclo [4,3,0] nonene-5, 5,6-dibutylamino-1,8-diazabicyclo [5]. , 4, 0] undecene-7 and other cycloamidine compounds, derivatives thereof, tertiary amines such as triethylamine, triethylenediamine, benzyldimethylamine, triethanolamine, dimethylaminoethanol, 2-methylimidazole, 2-ethyl-4 -Imidazoles such as methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 1-benzyl-2-methylimidazole, organics such as tributylphosphine, methyldiphenylphosphine, triphenylphosphine, diphenylphosphine, phenylphosphine Phosphine Tetraphenylphosphonium · tetraphenyl borate, triphenyl phosphine tetraphenyl borate, 2-ethyl-4-methylimidazole · tetraphenyl borate, a tetraphenyl boron salts such as N- methylmorpholine tetraphenylborate. These may be used alone or in combination of two or more. As for the equivalent ratio of the epoxy resin and the bifunctional phenol in the reaction, the ratio of epoxy equivalent / hydroxyl equivalent is preferably 1-5.
また、一般式(II)で示されるエポキシ樹脂中のシロキサン構造の繰り返し単位であるnが1〜3程度の、短鎖シロキサンを有するシリコーン変性エポキシ樹脂と2官能フェノール類の反応から得られるシリコーン変性エポキシ樹脂は、界面活性作用が弱く破泡性に劣る傾向にあるため単独で用いるよりも、長鎖シロキサンを有するシリコーン変性エポキシ樹脂と併用することが好ましい。 Moreover, the silicone modification | denaturation obtained from reaction of the silicone modified epoxy resin which has a short chain siloxane and n is about 1-3 which is the repeating unit of the siloxane structure in the epoxy resin shown by general formula (II), and bifunctional phenols Since the epoxy resin has a weak surface activity and tends to be inferior in foaming property, it is preferable to use it together with a silicone-modified epoxy resin having a long-chain siloxane rather than using it alone.
この場合は、短鎖シロキサンを有するシリコーン変性エポキシ樹脂を長鎖シロキサンを有するシリコーン変性エポキシ樹脂と混合したり、短鎖シロキサンを有するシリコーン変性エポキシ樹脂を2官能フェノール類と反応させる時に、長鎖シロキサンを有するエポキシ樹脂と一緒に反応させたりする。反応時の長鎖シロキサンを有するエポキシ樹脂の当量Aと短鎖シロキサンを有するエポキシ樹脂の当量Bとの当量比A/Bは0.2〜5であることが好ましく、0.3〜3であることがより好ましい。前記当量比が0.2未満では破泡性、脱泡性が不十分となる傾向があり、5を超えると得られたシリコーン変性エポキシ樹脂の反応性が低下する傾向がある。 In this case, when the silicone-modified epoxy resin having a short-chain siloxane is mixed with the silicone-modified epoxy resin having a long-chain siloxane, or when the silicone-modified epoxy resin having a short-chain siloxane is reacted with a bifunctional phenol, Or reacting with an epoxy resin having The equivalent ratio A / B of the equivalent A of the epoxy resin having a long-chain siloxane and the equivalent B of an epoxy resin having a short-chain siloxane during the reaction is preferably 0.2 to 5, and preferably 0.3 to 3. It is more preferable. If the equivalent ratio is less than 0.2, the foam breaking property and defoaming property tend to be insufficient, and if it exceeds 5, the reactivity of the resulting silicone-modified epoxy resin tends to be lowered.
これらシリコーン変性エポキシ樹脂(B−1)は、単独で用いても、2種類以上を併用してもよい。 These silicone-modified epoxy resins (B-1) may be used alone or in combination of two or more.
その他の液状エポキシ樹脂(B−2)
液状エポキシ樹脂(B)として、上記シリコーン変性エポキシ樹脂(B−1)以外のその他の液状エポキシ樹脂(B−2)を併用することができる。その他の液状エポキシ樹脂(B−2)は、常温(5〜30℃)において液状であれば特に限定されないが、1分子中に2個以上のエポキシ基を有するものが好ましい。その具体例としては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、フタル酸、ダイマー酸等の多塩基酸とエピクロルヒドリンの反応により得られるグリシジルエステル型エポキシ樹脂、ジアミノジフェニルメタン、イソシアヌル酸等のポリアミンとエピクロルヒドリンの反応により得られるグリシジルアミン型エポキシ樹脂、オレフィン結合を過酢酸等の過酸で酸化して得られる線状脂肪族エポキシ樹脂、及び脂環族エポキシ樹脂、またはフェノール、クレゾール、アルキルフェノール、アリルフェノール、ビスフェノールF、ビスフェノールA等のフェノール類のグリシジルエーテル化物、その他、フェノール類のグリシジルエーテル化物、アルコール類のグリシジルエーテル化物、及びそれらの水素添加物等が挙げられる。これらは単独で用いても、2種類以上を併用してもよい。
Other liquid epoxy resins (B-2)
As the liquid epoxy resin (B), other liquid epoxy resins (B-2) other than the silicone-modified epoxy resin (B-1) can be used in combination. The other liquid epoxy resin (B-2) is not particularly limited as long as it is liquid at normal temperature (5 to 30 ° C.), but preferably has two or more epoxy groups in one molecule. Specific examples thereof include bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, glycidyl ester type epoxy resin obtained by reaction of polybasic acid such as phthalic acid and dimer acid and epichlorohydrin, diamine diphenylmethane, isocyanuric acid and other polyamines. Glycidylamine type epoxy resin obtained by reaction of epichlorohydrin, linear aliphatic epoxy resin obtained by oxidizing olefin bond with peracid such as peracetic acid, and alicyclic epoxy resin, or phenol, cresol, alkylphenol, allylphenol Glycidyl etherified products of phenols such as bisphenol F and bisphenol A, glycidyl etherified products of phenols, glycidyl etherified products of alcohols, and hydrogenated products thereof It is below. These may be used alone or in combination of two or more.
シリコーン変性エポキシ樹脂(B−1)と他の液状エポキシ樹脂(B−2)とを併用する場合、シリコーン変性エポキシ樹脂(B−1)の配合割合は、液状エポキシ樹脂(B)の全量に対して、好ましくは30質量%以上、より好ましくは35質量%以上、更に好ましくは40質量%以上、特に好ましくは50質量%以上である。前記配合割合が30質量%未満の場合、硬化物の弾性率の低減効果が不十分であり、反りが増大する傾向にある。 When silicone modified epoxy resin (B-1) and other liquid epoxy resin (B-2) are used in combination, the blending ratio of silicone modified epoxy resin (B-1) is based on the total amount of liquid epoxy resin (B). And preferably 30% by mass or more, more preferably 35% by mass or more, still more preferably 40% by mass or more, and particularly preferably 50% by mass or more. When the said mixture ratio is less than 30 mass%, the reduction effect of the elasticity modulus of hardened | cured material is inadequate, and it exists in the tendency for curvature to increase.
液状エポキシ樹脂(B)の配合割合は、特に限定されるものではないが、(B)成分、(C)成分及び(F)成分の合計量に対して、30〜83質量%が好ましく、30〜75質量%がより好ましい。前記液状エポキシ樹脂(B)の配合量が30質量%未満では架橋密度が低く、成型後に十分な強度が得られない可能性があり、83質量%を超えると硬化収縮の増加に伴いウエハーの反りが増加し、更に吸水率が増化する傾向がある。 The blending ratio of the liquid epoxy resin (B) is not particularly limited, but is preferably 30 to 83% by mass with respect to the total amount of the component (B), the component (C) and the component (F), 30 -75 mass% is more preferable. If the blending amount of the liquid epoxy resin (B) is less than 30% by mass, the crosslink density is low and sufficient strength may not be obtained after molding. If it exceeds 83% by mass, the warpage of the wafer increases with an increase in curing shrinkage. Tends to increase and the water absorption rate tends to increase.
(C)成分:フェノール樹脂
本発明では、フェノール樹脂(C)を配合することにより、機械特性を低下させずに封止用液状樹脂組成物の硬化性を向上させることができる。本発明の封止用液状樹脂組成物に用いるフェノール樹脂(C)は1分子中に2個以上のフェノール性水酸基を有するものであれば特に限定されず、例えば、フェノール、クレゾール、レゾルシン、カテコール、ビスフェノールA、ビスフェノールF、フェニルフェノール、アミノフェノール等のフェノール類及び/又はα−ナフトール、β−ナフトール、ジヒドロキシナフタレン等のナフトール類とホルムアルデヒド等のアルデヒド基を有する化合物とを酸性触媒下で縮合又は共縮合させて得られるノボラック型フェノール樹脂、フェノール類及び/又はナフトール類とジメトキシパラキシレン又はビス(メトキシメチル)ビフェニルから合成されるフェノール・アラルキル樹脂、ナフトール・アラルキル樹脂などのアラルキル型フェノール樹脂、ジシクロペンタジエン変性フェノール樹脂、シクロペンタジエン変性フェノール樹脂、テルペン変性フェノール樹脂、多環芳香環変性フェノール樹脂、トリフェノールメタン型フェノール樹脂、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、チオジフェノール、ナフタレンジオールなどが挙げられる。さらに、上記したフェノール樹脂はアリル化物として用いることができる。これらのフェノール樹脂は液状であっても固形であってもよいが、樹脂組成物の低粘度化の観点から液状であることが好ましく、アリル化フェノールノボラック樹脂であることが更に好ましい。また、これらのフェノール樹脂は単独で用いても、2種類以上を併用してもよい。フェノール樹脂の工業的に入手可能な市販品は、MEH−8000H(明和化成株式会社製商品名)等がある。固形のフェノール樹脂を用いる場合は、後述の有機溶剤(F)に予め溶解して使用することが好ましい。
(C) component: phenol resin In this invention, the sclerosis | hardenability of the liquid resin composition for sealing can be improved, without reducing a mechanical characteristic by mix | blending a phenol resin (C). The phenol resin (C) used in the liquid resin composition for sealing of the present invention is not particularly limited as long as it has two or more phenolic hydroxyl groups in one molecule. For example, phenol, cresol, resorcin, catechol, Phenols such as bisphenol A, bisphenol F, phenylphenol and aminophenol and / or naphthols such as α-naphthol, β-naphthol and dihydroxynaphthalene and a compound having an aldehyde group such as formaldehyde are condensed or co-polymerized in an acidic catalyst. Aralkyl-type phenolic resins such as phenol-aralkyl resins and naphthol-aralkyl resins synthesized from novolak-type phenolic resins obtained by condensation, phenols and / or naphthols and dimethoxyparaxylene or bis (methoxymethyl) biphenyl Fat, dicyclopentadiene modified phenolic resin, cyclopentadiene modified phenolic resin, terpene modified phenolic resin, polycyclic aromatic ring modified phenolic resin, triphenolmethane type phenolic resin, bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, thiodiphenol, naphthalenediol Etc. Furthermore, the above-described phenol resin can be used as an allylated product. These phenol resins may be liquid or solid, but are preferably liquid from the viewpoint of lowering the viscosity of the resin composition, and more preferably allylated phenol novolac resins. Moreover, these phenol resins may be used independently or may use 2 or more types together. Commercially available commercially available phenol resins include MEH-8000H (trade name, manufactured by Meiwa Kasei Co., Ltd.). When using a solid phenol resin, it is preferable to use it by dissolving in advance in an organic solvent (F) described later.
フェノール樹脂(C)の配合量は、特に限定されるものではないが、(B)成分、(C)成分及び(F)成分の合計量に対して、好ましくは2〜35質量%、より好ましくは7〜30質量%であり、且つ、フェノール樹脂(C)の配合割合は、(C)成分及び(F)成分の合計量に対して、好ましくは10〜50質量%、より好ましくは15〜40質量%である。前記フェノール樹脂(C)の配合量が前記範囲に満たない場合、十分な硬化性が得られない可能性があり、前記範囲を超える場合、硬化性は向上するが吸水率が増加し、機械特性が低下することがある。 The blending amount of the phenol resin (C) is not particularly limited, but is preferably 2 to 35% by mass, more preferably based on the total amount of the component (B), the component (C) and the component (F). Is 7 to 30% by mass, and the blending ratio of the phenol resin (C) is preferably 10 to 50% by mass, more preferably 15 to 15%, based on the total amount of the component (C) and the component (F). 40% by mass. When the blending amount of the phenol resin (C) is less than the above range, sufficient curability may not be obtained, and when it exceeds the above range, the curability is improved but the water absorption is increased, and the mechanical properties are increased. May decrease.
(D)成分:エラストマー
本発明の封止用液状樹脂組成物に用いるエラストマー(D)は、特に限定されないが、例えば、シリコーン系エラストマー、アクリル系エラストマー、ポリオレフィン系エラストマー、スチレン系エラストマー、これらエラストマーの共重合体、これらエラストマーから選ばれる1種類からなるコア層と他の1種類以上からなるシェル層とを含有するコア/シェル型重合体等が挙げられるが、シリコーンゴム粒子、又は固形シリコーン重合体からなるコア層と有機重合体からなるシェル層とを含有するコア/シェル型シリコーン重合体粒子が好ましい。
Component (D): Elastomer The elastomer (D) used in the sealing liquid resin composition of the present invention is not particularly limited, and examples thereof include silicone elastomers, acrylic elastomers, polyolefin elastomers, styrene elastomers, Examples of the copolymer include a core / shell type polymer containing a core layer composed of one type selected from these elastomers and a shell layer composed of one or more other types, such as a silicone rubber particle or a solid silicone polymer. Core / shell type silicone polymer particles containing a core layer made of the above and a shell layer made of an organic polymer are preferred.
前記シリコーンゴム粒子は、液状エポキシ樹脂中でアルケニル基含有オルガノポリシロキサンとSiH基含有オルガノハイドロジェンポリシロキサンのヒドロシリル化反応により架橋生成させたシリコーンゴム粒子がより好ましい。これにより、シリコーンゴム粒子の粒径が微細となるため、硬化物中で分散性の良いシリコーンゴム粒子を得ることができる。液状エポキシ樹脂として液状ビスフェノール型エポキシ樹脂中で前記反応をさせることが、最終的に得られる封止用液状樹脂組成物の粘度、その硬化物のガラス転移温度、接着性、強度及び成形後のウエハー反り等のバランスの点から好ましい。また、オルガノポリシロキサン内のアルケニル基をビニル基とすることが、より好ましい。更に、シリコーンゴム粒子はフェノール性水酸基又はエポキシ基と反応することができる官能基を有するものがより好ましく、官能基としては、例えばカルボキシル基、水酸基、イソシアネート基、チオール基、エポキシ基、アミノ基等が挙げられ、なかでも、エポキシ基が好ましい。 The silicone rubber particles are more preferably silicone rubber particles formed by crosslinking in a liquid epoxy resin by a hydrosilylation reaction of an alkenyl group-containing organopolysiloxane and a SiH group-containing organohydrogenpolysiloxane. Thereby, since the particle size of the silicone rubber particles becomes fine, silicone rubber particles having good dispersibility in the cured product can be obtained. The above reaction in a liquid bisphenol type epoxy resin as a liquid epoxy resin results in the viscosity of the liquid resin composition for sealing finally obtained, the glass transition temperature of the cured product, the adhesiveness, the strength, and the wafer after molding It is preferable from the viewpoint of balance such as warpage. More preferably, the alkenyl group in the organopolysiloxane is a vinyl group. Furthermore, the silicone rubber particles preferably have a functional group capable of reacting with a phenolic hydroxyl group or an epoxy group. Examples of the functional group include a carboxyl group, a hydroxyl group, an isocyanate group, a thiol group, an epoxy group, and an amino group. Among them, an epoxy group is preferable.
液状エポキシ樹脂中でエポキシ基を付与させたシリコーンゴム微粒子を調製する具体的な例としては、例えば米国特許第4853434号公報に開示されているような、液状ビスフェノール型エポキシ樹脂中で、ビニル基含有オルガノポリシロキサンとSiH基含有オルガノハイドロジェンポリシロキサン、エチレンオキシド鎖を有するエポキシ化アリルアルコール、及びアリルグリシジルエーテルを、ヘキサクロロ白金酸等の白金系触媒の存在下、混合後、分散装置で分散させ、次いで110℃で2時間攪拌してヒドロシリル化反応により架橋させ、エポキシ基を有するシリコーンゴム粒子を生成したものが挙げられる。このようなシリコーンゴム粒子の、工業的に入手可能な市販品としては、ALBIDUR EP2240(Hanse Chemie社製商品名、シリコーンゴム粒子分散ビスフェノールA型エポキシ樹脂)等がある。このように本発明では、シリコーンゴム粒子を液状エポキシ樹脂(B)との混合物として配合するのが好ましい。 As a specific example of preparing silicone rubber fine particles to which an epoxy group is imparted in a liquid epoxy resin, for example, as disclosed in US Pat. No. 4,853,434, a liquid bisphenol type epoxy resin containing a vinyl group Organopolysiloxane and SiH group-containing organohydrogenpolysiloxane, epoxidized allyl alcohol having an ethylene oxide chain, and allyl glycidyl ether are mixed with each other in the presence of a platinum-based catalyst such as hexachloroplatinic acid, and then dispersed by a dispersing device. Examples thereof include those obtained by stirring at 110 ° C. for 2 hours and crosslinking by a hydrosilylation reaction to produce silicone rubber particles having an epoxy group. Examples of such commercially available silicone rubber particles include ALBIDUR EP2240 (trade name, manufactured by Hanse Chemie, silicone rubber particle-dispersed bisphenol A epoxy resin). Thus, in this invention, it is preferable to mix | blend a silicone rubber particle as a mixture with a liquid epoxy resin (B).
シリコーンゴム粒子は球状であることが好ましく、粒径は0.1μm以上2μm以下であることが好ましく、更に好ましくは0.1μm以上1μm以下である。このようなシリコーンゴム粒子を用いることにより、本発明の封止用液状樹脂組成物中でのシリコーンゴム粒子の平均粒径を小さくし、分散性を向上させ、更にシリコーンゴム粒子の含有量を増やすことが可能となる。 The silicone rubber particles are preferably spherical, and the particle size is preferably 0.1 μm or more and 2 μm or less, more preferably 0.1 μm or more and 1 μm or less. By using such silicone rubber particles, the average particle size of the silicone rubber particles in the liquid resin composition for sealing of the present invention is reduced, the dispersibility is improved, and the content of the silicone rubber particles is further increased. It becomes possible.
また、コア/シェル型シリコーン重合体粒子は、固形シリコーン重合体からなるコア層と有機重合体からなるシェル層とを含有するものである。コア層となる固形シリコーン重合体は、[RR’SiO2/2]単位を有するオルガノポリシロキサンであり、架橋成分として3官能性シロキサン単位[RSiO3/2]及び/又は4官能性シロキサン単位[SiO4/2]を有することが好ましい。ここで、Rは、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等の炭素数6以下のアルキル基、フェニル基、キシリル基、トリル基等のアリール基、又は、ビニル基、アリル基、メタクリル基、メタクリロキシ基、またはこれらを末端に有するアルキル基等の末端に炭素二重結合を有する置換基である。R’は、Rと同様の炭素数6以下のアルキル基又はアリール基を表す。 The core / shell type silicone polymer particles contain a core layer made of a solid silicone polymer and a shell layer made of an organic polymer. The solid silicone polymer serving as the core layer is an organopolysiloxane having [RR′SiO 2/2 ] units, and has a trifunctional siloxane unit [RSiO 3/2 ] and / or a tetrafunctional siloxane unit as a crosslinking component [ It is preferable to have SiO 4/2 ]. Here, R is an alkyl group having 6 or less carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, an isobutyl group, a pentyl group or a hexyl group, an aryl group such as a phenyl group, a xylyl group or a tolyl group, or , A vinyl group, an allyl group, a methacryl group, a methacryloxy group, or a substituent having a carbon double bond at the end, such as an alkyl group having these at the end. R ′ represents the same alkyl group or aryl group having 6 or less carbon atoms as R.
前記3官能または4官能シロキサン成分は0.5〜20モル%使用することが好ましく、さらには3官能シロキサン成分を2〜10モル%使用することが好ましい。3官能または4官能シロキサン成分が多くなるとコア層となるシリコーン重合体の硬度、弾性率が高くなり、目的とする封止用液状樹脂組成物の硬化物の弾性率低減、発生応力の低減効果が小さくなってしまう可能性がある。また、3官能または4官能シロキサン成分が少なくなると、弾性率の低い重合体を得ることができるが、架橋密度が低くなるため、未反応シロキサン成分が多くなる傾向にある。 The trifunctional or tetrafunctional siloxane component is preferably used in an amount of 0.5 to 20 mol%, more preferably 2 to 10 mol%. When the trifunctional or tetrafunctional siloxane component is increased, the hardness and elastic modulus of the silicone polymer serving as the core layer are increased, and the effect of reducing the elastic modulus of the cured product of the target sealing liquid resin composition and the effect of reducing the generated stress are obtained. There is a possibility of becoming smaller. Further, when the trifunctional or tetrafunctional siloxane component is decreased, a polymer having a low elastic modulus can be obtained, but the crosslinking density is decreased, so that the unreacted siloxane component tends to increase.
また、シェル層となる有機重合体は、ビニル重合により得られる有機重合体であることが好ましく、例えば、ポリビニルブチラール、ポリ酢酸ビニル、ポリスチレン、アクリル系重合体などが挙げられ、これらのなかでも、アクリル系重合体がより好ましい。アクリル系重合体としては、アクリル酸、アクリル酸エステル、メタクリル酸、メタクリル酸エステル、アクリルアミド、アクリロニトリルなどのアクリル系単量体の重合物、及びスチレン、ビニルトルエンなどの前記アクリル系単量体と共重合可能なビニル系単量体との共重合体等が挙げられる。これらのなかでも、ポリメタクリル酸エステルが好ましい。コア/シェル型シリコーン重合体粒子が、上記のようなコア/シェル構造を有することにより、有機重合体の樹脂に対する優れた分散性と固形シリコーン重合体の優れた応力緩和能を両立することが可能となる。 Further, the organic polymer to be the shell layer is preferably an organic polymer obtained by vinyl polymerization, and examples thereof include polyvinyl butyral, polyvinyl acetate, polystyrene, acrylic polymer, and among these, An acrylic polymer is more preferable. Examples of the acrylic polymer include polymers of acrylic monomers such as acrylic acid, acrylic acid ester, methacrylic acid, methacrylic acid ester, acrylamide, and acrylonitrile, and acrylic monomers such as styrene and vinyltoluene. Examples thereof include a copolymer with a polymerizable vinyl monomer. Among these, polymethacrylic acid ester is preferable. Since the core / shell type silicone polymer particles have the core / shell structure as described above, it is possible to achieve both excellent dispersibility of the organic polymer in the resin and excellent stress relaxation ability of the solid silicone polymer. It becomes.
コア/シェル型シリコーン重合体粒子を得る方法としては、乳化重合によりコア層となるシリコーン重合体を合成し、次にアクリル系単量体と開始剤を添加して2段目の重合を行うことでシェル層を形成する方法などがある。この場合、1段目の重合に用いるオルガノシロキサンモノマーまたはオリゴマー成分に二重結合を有するシロキサン化合物を適度に配合することで、二重結合を介してアクリル系重合体がグラフト化し、コア層とシェル層の界面が強固になる。 The core / shell type silicone polymer particles can be obtained by synthesizing a silicone polymer to be a core layer by emulsion polymerization, and then adding an acrylic monomer and an initiator to perform the second stage polymerization. And a method of forming a shell layer. In this case, an acrylic polymer is grafted through the double bond by appropriately blending the siloxane compound having a double bond with the organosiloxane monomer or oligomer component used in the first stage polymerization, and the core layer and the shell The layer interface becomes strong.
コア/シェル型シリコーン重合体粒子の粒径は、封止用液状樹脂組成物を均一に変性するためには細かい方が良好であり、平均1次粒子径が0.05〜1.0μmの範囲であることが好ましく、0.05〜0.5μmの範囲であることがより好ましい。前記粒子径が1.0μmを超える場合は、低反りの効果が低減する傾向がある。また、このコア/シェル型シリコーン重合体粒子は、予め(A)液状エポキシ樹脂との混合物として配合することが好ましい。混合物を得る方法としては、80〜120℃程度に加熱した(A)液状エポキシ樹脂中に、コア/シェル型シリコーン重合体粒子を攪拌下に添加し、高速せん断攪拌したり、プラネタリーミキサー、ホモミキサー、三本ロール等の混練機で混合、分散することにより得ることができる。 The particle size of the core / shell type silicone polymer particles is preferably finer in order to uniformly modify the liquid resin composition for sealing, and the average primary particle size is in the range of 0.05 to 1.0 μm. It is preferable that it is in the range of 0.05 to 0.5 μm. When the particle diameter exceeds 1.0 μm, the effect of low warpage tends to be reduced. The core / shell type silicone polymer particles are preferably blended in advance as a mixture with (A) the liquid epoxy resin. As a method of obtaining a mixture, core / shell type silicone polymer particles are added to (A) liquid epoxy resin heated to about 80 to 120 ° C. with stirring, and high-speed shear stirring is performed, or a planetary mixer, homogenizer is used. It can be obtained by mixing and dispersing with a kneader such as a mixer or three rolls.
エラストマー(D)の配合量は、特に限定されるものではないが、(B)成分、(C)成分及び(F)成分の合計100質量部に対し、好ましくは1〜50質量部、好ましくは5〜40質量部である。前記エラストマー(D)の配合量が前記範囲に満たない場合、低応力化が不十分となるため反りが大きくなり易く、前記範囲を超える場合、硬化物の強度や耐湿性が低下する傾向がある。 The blending amount of the elastomer (D) is not particularly limited, but is preferably 1 to 50 parts by mass, preferably 100 parts by mass with respect to a total of 100 parts by mass of the (B) component, the (C) component and the (F) component. 5 to 40 parts by mass. When the blending amount of the elastomer (D) is less than the above range, the warping tends to be large because the stress reduction is insufficient, and when it exceeds the above range, the strength and moisture resistance of the cured product tend to decrease. .
(E)成分:有機溶剤
本発明の封止用液状樹脂組成物に用いられる有機溶剤(E)は、特に限定されないが、(B−1)成分であるシリコーン変性エポキシ樹脂の配合量の増大による硬化物の機械的強度の低下を生じさせずに、封止用液状樹脂組成物の印刷成形性に最適な粘度及び揺変指数を付与させると共に、(F)成分として固形のジヒドロベンゾオキサジン環を有する化合物を用いる場合や、(C)成分として固形のフェノール樹脂を用いる場合に、それらを溶解するための成分である。
(E) component: organic solvent Although the organic solvent (E) used for the liquid resin composition for sealing of this invention is not specifically limited, By increase of the compounding quantity of the silicone modified epoxy resin which is (B-1) component. Without causing a decrease in the mechanical strength of the cured product, it gives an optimum viscosity and thixotropic index for the print moldability of the sealing liquid resin composition, and a solid dihydrobenzoxazine ring as a component (F) It is a component for dissolving them when using the compound which has it, or when using a solid phenol resin as (C) component.
有機溶剤(E)としては、加熱硬化時の急激な揮発によるボイド形成を避けたり、印刷作業中での溶剤揮発を抑えたりする点からは沸点が170℃以上のものが好ましく、沸点が200℃以上のものがより好ましい。また、真空印刷により塗膜を形成する場合には、封止用液状樹脂組成物が常時真空下で扱われるため溶剤が徐々に揮発し粘度変化が生じる懸念がある。この場合には、有機溶剤の沸点は240℃〜300℃の範囲のものが好ましい。具体的には、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、テトラエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノヘキシルエーテル、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル、エチレングリコールフェニールエーテル、エチレングリコールモノ−2−エチルヘキシルエーテル、ジエチレングリコールモノ−2−エチルヘキシルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールプロピルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノn−ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、3−メチル−3−メトキシブチルアセテート、ブチルカルビトールアセテート、2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオールモノイソブチレート、2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオールジイソブチレート、γ−ブチロラクトン等が挙げられる。これらは単独で用いても2種以上を併用してもよい。 As the organic solvent (E), those having a boiling point of 170 ° C. or higher are preferable from the viewpoint of avoiding void formation due to rapid volatilization at the time of heat curing or suppressing solvent volatilization during printing work, and the boiling point is 200 ° C. The above is more preferable. Moreover, when forming a coating film by vacuum printing, since the sealing liquid resin composition is always handled under vacuum, there exists a possibility that a solvent may volatilize gradually and a viscosity change may arise. In this case, the boiling point of the organic solvent is preferably in the range of 240 ° C to 300 ° C. Specifically, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, triethylene glycol monobutyl ether, tetraethylene glycol monobutyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol Monohexyl ether, diethylene glycol monohexyl ether, ethylene glycol phenyl ether, ethylene glycol mono-2-ethylhexyl ether, diethylene glycol mono-2-ethylhexyl ether, propylene glycol monobutyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol Monoethyl ether, dipropylene glycol monobutyl ether, dipropylene glycol propyl ether, tripropylene glycol monomethyl ether, propylene glycol mono n-butyl ether, diethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monobutyl ether acetate, 3-methyl-3-methoxybutyl acetate, Examples thereof include butyl carbitol acetate, 2,2,4-trimethyl-1,3-pentanediol monoisobutyrate, 2,2,4-trimethyl-1,3-pentanediol diisobutyrate, and γ-butyrolactone. These may be used alone or in combination of two or more.
有機溶剤(E)の配合量は、特に限定されるものではないが、(A)〜(F)成分の合計量に対して、好ましくは1〜10質量%、より好ましくは3〜8質量%である。前記有機溶剤(E)の配合量が1質量%未満の場合、粘度低減効果が不十分であり、印刷塗布作業性の低下や未充填が生じ易くなり、10質量%を超える場合、粘度が下がりすぎて流動性が高くなる恐れがあるため、印刷後、樹脂組成物がウエハー裏面へ流れる裏回りや、硬化後にボイドや著しい膜減りが発生するなどの不具合を招く懸念がある。 The compounding amount of the organic solvent (E) is not particularly limited, but is preferably 1 to 10% by mass, more preferably 3 to 8% by mass, based on the total amount of the components (A) to (F). It is. When the blending amount of the organic solvent (E) is less than 1% by mass, the effect of reducing the viscosity is insufficient, and the printing workability is not easily lowered or unfilled, and when it exceeds 10% by mass, the viscosity is decreased. Since the fluidity may be increased too much, there is a concern that after printing, the resin composition may flow around to the back side of the wafer, or may cause defects such as voids or significant film loss after curing.
(F)成分:ジヒドロベンゾオキサジン環を有する化合物
本発明の封止用液状樹脂組成物に用いるジヒドロベンゾオキサジン環を有する化合物(F)としては、以下の式(a)で表されるジヒドロベンゾオキサジン環を分子内に1つ以上含有するものであれば特に限定されない。
ジヒドロベンゾオキサジン環を有する化合物(F)の具体例としては、下記一般式(III)から(IX)で示されるジヒドロベンゾオキサジン環を1つ含有する単官能化合物、一般式(X)から(XVI)で示されるジヒドロベンゾオキサジン環を複数含有する多官能化合物等が挙げられる。
ジヒドロベンゾオキサジン環を有する化合物の工業的に入手可能な市販品としては、RLV100(エア・ウォーター・ケミカル株式会社製商品名)がある。 As a commercially available product of a compound having a dihydrobenzoxazine ring, there is RLV100 (trade name, manufactured by Air Water Chemical Co., Ltd.).
これらジヒドロベンゾオキサジン環を有する化合物(F)は、フェノール性水酸基を1分子中に1個以上有し、水酸基に対してオルト位の少なくとも1つが置換されていない単環又は縮合多環フェノール類、ホルムアルデヒド及びアミノ基を1分子中に1個有する1級アミン類から公知の方法で合成することができる。たとえば、ジオキサン、トルエン、メタノール、エチレングリコールジメチルエーテル、メチルエチルケトンなどの溶媒にフェノール類を溶解させ、1級アミン類とホルムアルデヒドをその中に添加する方法が使用できる。通常は無触媒で反応を進行させるが、触媒としてアルカリ金属、アルカリ土類金属の水酸化物、3級アミンなどを用いることもできる。原料の仕込み比は通常、フェノール性水酸基/アミノ基/アルデヒド基=1/1/2(モル比)とし、反応温度60〜120℃で2〜24時間反応させる。所定時間経過後、反応生成物である有機層と反応で生成した縮合水とを蒸留等で系外へ除去することで目的とするジヒドロベンゾオキサジン環を有する化合物を得ることができる。 The compound (F) having a dihydrobenzoxazine ring has one or more phenolic hydroxyl groups in one molecule, and at least one ortho-position to the hydroxyl group is not substituted, monocyclic or condensed polycyclic phenols, It can be synthesized by a known method from primary amines having one formaldehyde and one amino group in one molecule. For example, a method in which phenols are dissolved in a solvent such as dioxane, toluene, methanol, ethylene glycol dimethyl ether, methyl ethyl ketone, and primary amines and formaldehyde are added thereto can be used. Usually, the reaction is allowed to proceed without a catalyst, but alkali metal, alkaline earth metal hydroxides, tertiary amines and the like can also be used as catalysts. The raw material charging ratio is usually phenolic hydroxyl group / amino group / aldehyde group = 1/1/2 (molar ratio), and the reaction is carried out at a reaction temperature of 60 to 120 ° C. for 2 to 24 hours. After the elapse of a predetermined time, the target compound having a dihydrobenzoxazine ring can be obtained by removing the organic layer as a reaction product and the condensed water generated by the reaction by distillation or the like.
上記反応で得られるジヒドロベンゾオキサジン環を有する化合物(F)には、原料中のフェノール性水酸基がオキサジン化せずに残存した未反応フェノール類が不純物として含まれる。ジヒドロベンゾオキサジン環を有する化合物の純度は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによるピーク面積比により容易に算出可能である。ジヒドロベンゾオキサジン環を有する化合物の純度は、50%以上が好ましく、55%以上がより好ましく、60%以上が特に好ましい。ジヒドロベンゾオキサジン環を有する化合物の純度が50%未満では、封止用液状樹脂組成物の保存安定性が低下すると共に、成型後のウエハーの反りが大きくなる傾向がある。 The compound (F) having a dihydrobenzoxazine ring obtained by the above reaction contains, as impurities, unreacted phenols in which the phenolic hydroxyl group in the raw material remains without being converted to oxazine. The purity of the compound having a dihydrobenzoxazine ring can be easily calculated from the peak area ratio by gel permeation chromatography. The purity of the compound having a dihydrobenzoxazine ring is preferably 50% or more, more preferably 55% or more, and particularly preferably 60% or more. When the purity of the compound having a dihydrobenzoxazine ring is less than 50%, the storage stability of the encapsulating liquid resin composition is lowered and the warpage of the wafer after molding tends to increase.
また、ジヒドロベンゾオキサジン環を有する化合物(F)は、液状であっても固形であってもよいが、固形のジヒドロベンゾオキサジン環を有する化合物を用いる場合は、後述の有機溶剤(E)に予め溶解して使用することが好ましい。また、ジヒドロベンゾオキサジン環を有する化合物は、単独で用いても、2種類以上を併用してもよい。 In addition, the compound (F) having a dihydrobenzoxazine ring may be liquid or solid. However, when a compound having a solid dihydrobenzoxazine ring is used, it is preliminarily added to the organic solvent (E) described later. It is preferable to use by dissolving. Moreover, the compound which has a dihydrobenzoxazine ring may be used independently, or may use 2 or more types together.
ジヒドロベンゾオキサジン環を有する化合物(F)の配合量は、特に限定されるものではないが、(B)成分、(C)成分及び(F)成分の合計量に対して、8.5〜63質量%が好ましく、10〜50質量%がより好ましい。前記ジヒドロベンゾオキサジン環を有する化合物(F)の配合量が8.5質量%未満ではガラス転移温度及び耐温度サイクル性の低下が顕著となり易く、63質量%を超えると架橋密度が低く、成型後の強度が低下する傾向がある。 Although the compounding quantity of the compound (F) which has a dihydrobenzoxazine ring is not specifically limited, It is 8.5-63 with respect to the total amount of (B) component, (C) component, and (F) component. % By mass is preferable, and 10 to 50% by mass is more preferable. When the compounding amount of the compound (F) having a dihydrobenzoxazine ring is less than 8.5% by mass, the glass transition temperature and the temperature cycle resistance are likely to be significantly lowered. There is a tendency for the strength of the to decrease.
本発明の封止用液状樹脂組成物は、上記(A)〜(F)成分を含有するものである。(A)〜(F)成分の合計量に対して、(A)成分の配合割合は、好ましくは64〜87質量%、より好ましくは73〜86質量%であり、(B)成分の配合割合は、好ましくは1.5〜10質量%、より好ましくは2〜9質量%であり、(C)成分の配合割合は、好ましくは0.1〜4質量%、より好ましくは0.15〜3質量%であり、(D)成分の配合割合は、好ましくは0.1〜10質量%、より好ましくは0.9〜5質量%であり、(E)成分の配合割合は、好ましくは1〜10質量%、より好ましくは3〜8質量%であり、(F)成分の配合割合は、好ましくは0.5〜8質量%、より好ましくは0.7〜6質量%である。前記(A)成分の配合割合が64〜87質量%の範囲であることにより低反り化し易くなる。前記(B)成分の配合割合が1.5〜10質量%の範囲であることにより十分な強度とガラス転移温度を得易くなる。前記(C)成分の配合割合が0.1〜4質量%の範囲であることにより硬化が十分となり,硬化物を低吸湿にし易くなる。前記(D)成分の配合割合が0.1〜40質量%の範囲であることにより硬化後に低反りとし易くなる。前記(E)成分の配合割合が1〜10質量%の範囲であることにより液状封止材の粘度を適正な範囲に保ち易くなる。前記(F)成分の配合割合が0.5〜8質量%の範囲であることにより十分な強度とガラス転移温度を得易くなる。 The encapsulating liquid resin composition of the present invention contains the components (A) to (F). The blending ratio of the component (A) is preferably 64 to 87% by weight, more preferably 73 to 86% by weight, and the blending ratio of the component (B) with respect to the total amount of the components (A) to (F). Is preferably 1.5 to 10% by mass, more preferably 2 to 9% by mass, and the blending ratio of the component (C) is preferably 0.1 to 4% by mass, more preferably 0.15 to 3%. The blending ratio of the component (D) is preferably 0.1 to 10% by weight, more preferably 0.9 to 5% by weight, and the blending ratio of the component (E) is preferably 1 to 10% by weight. It is 10 mass%, More preferably, it is 3-8 mass%, The compounding ratio of (F) component becomes like this. Preferably it is 0.5-8 mass%, More preferably, it is 0.7-6 mass%. When the blending ratio of the component (A) is in the range of 64 to 87% by mass, the warpage is easily reduced. When the blending ratio of the component (B) is in the range of 1.5 to 10% by mass, sufficient strength and glass transition temperature can be easily obtained. When the blending ratio of the component (C) is in the range of 0.1 to 4% by mass, the curing becomes sufficient and the cured product is easily made to absorb moisture. When the blending ratio of the component (D) is in the range of 0.1 to 40% by mass, it becomes easy to reduce warpage after curing. When the blending ratio of the component (E) is in the range of 1 to 10% by mass, the viscosity of the liquid sealing material can be easily maintained in an appropriate range. When the blending ratio of the component (F) is in the range of 0.5 to 8% by mass, sufficient strength and glass transition temperature can be easily obtained.
(硬化促進剤)
また、本発明の封止用液状樹脂組成物には、エポキシ樹脂とフェノール樹脂の反応を促進するために硬化促進剤を添加することができる。硬化促進剤としてはエポキシ基とフェノール性水酸基の反応を促進するものであればどのようなものでもよく、例えば、1,8−ジアザビシクロ〔5,4,0〕ウンデセン−7、1,5−ジアザビシクロ〔4,3,0〕ノネン−5、5,6−ジブチルアミノ−1,8−ジアザビシクロ〔5,4,0〕ウンデセン−7等のシクロアミジン化合物、前記シクロアミジン化合物の誘導体、トリエチルアミン、トリエチレンジアミン、ベンジルジメチルアミン、トリエタノールアミン、ジメチルアミノエタノール等の3級アミン類、2−メチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、1−ベンジル−2−メチルイミダゾール等のイミダゾール類、トリブチルホスフィン、メチルジフェニルホスフィン、トリフェニルホスフィン、ジフェニルホスフィン、フェニルホスフィン等の有機ホスフィン類、テトラフェニルホスホニウム・テトラフェニルボレート、トリフェニルホスフィンテトラフェニルボレート、2−エチル−4−メチルイミダゾール・テトラフェニルボレート、N−メチルモルホリン・テトラフェニルボレート等のテトラフェニルボロン塩等がある。これらは単独で用いても、2種類以上を併用してもよい。硬化促進剤の配合量は特に限定されないが、液状エポキシ樹脂(B)100質量部に対して0.1〜10質量部が好ましい。前記硬化促進剤の配合量が0.1質量部未満では反応の促進効果が低くなり易く、10質量部を超えると保存安定性が低下する傾向にある。
(Curing accelerator)
Moreover, in order to accelerate | stimulate reaction of an epoxy resin and a phenol resin, the hardening accelerator can be added to the liquid resin composition for sealing of this invention. Any curing accelerator may be used as long as it accelerates the reaction between an epoxy group and a phenolic hydroxyl group. For example, 1,8-diazabicyclo [5,4,0] undecene-7,1,5-diazabicyclo Cycloamidine compounds such as [4,3,0] nonene-5,5,6-dibutylamino-1,8-diazabicyclo [5,4,0] undecene-7, derivatives of the cycloamidine compounds, triethylamine, triethylenediamine , Tertiary amines such as benzyldimethylamine, triethanolamine, dimethylaminoethanol, 2-methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 1-benzyl Imidazoles such as 2-methylimidazole, tributylphosphine , Organic diphosphines such as methyldiphenylphosphine, triphenylphosphine, diphenylphosphine, phenylphosphine, tetraphenylphosphonium / tetraphenylborate, triphenylphosphinetetraphenylborate, 2-ethyl-4-methylimidazole / tetraphenylborate, N -Tetraphenylboron salts such as methylmorpholine and tetraphenylborate. These may be used alone or in combination of two or more. Although the compounding quantity of a hardening accelerator is not specifically limited, 0.1-10 mass parts is preferable with respect to 100 mass parts of liquid epoxy resins (B). When the blending amount of the curing accelerator is less than 0.1 parts by mass, the reaction promoting effect tends to be low, and when it exceeds 10 parts by mass, the storage stability tends to decrease.
(カップリング剤)
本発明の封止用液状樹脂組成物は、樹脂成分と表面が無機化合物により被覆された多孔質シリカを含有する無機充填剤(A−1)との親和性を高めて分散性を向上するために、必要に応じてカップリング剤を使用することができる。このカップリング剤としては、たとえば、エポキシシラン、メルカプトシラン、アミノシラン、アルキルシラン、ウレイドシラン、ビニルシラン等の各種シラン系化合物、チタン系化合物、アルミニウムキレート類、アルミニウム/ジルコニウム系化合物等の公知のカップリング剤を添加することが好ましい。これらを例示すると、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス(β‐メトキシエトキシ)シラン、γ‐メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ‐メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ‐アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、β‐(3,4‐エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ‐グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ‐グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ‐メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ‐アミノプロピルトリエトキシシラン、γ‐アニリノプロピルトリメトキシシラン、γ‐アニリノプロピルメチルジメトキシシラン、γ‐[ビス(β‐ヒドロキシエチル)]アミノプロピルトリエトキシシラン、N‐β‐(アミノエチル)‐γ‐アミノプロピルトリメトキシシラン、γ‐(β‐アミノエチル)アミノプロピルジメトキシメチルシラン、N‐(トリメトキシシリルプロピル)エチレンジアミン、N‐(ジメトキシメチルシリルイソプロピル)エチレンジアミン、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、N‐β‐(N‐ビニルベンジルアミノエチル)‐γ‐アミノプロピルトリメトキシシラン、γ‐クロロプロピルトリメトキシシラン、ヘキサメチルジシラン、ビニルトリメトキシシラン、γ‐メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン等のシラン系カップリング剤、イソプロピルトリイソステアロイルチタネート、イソプロピルトリス(ジオクチルパイロホスフェート)チタネート、イソプロピルトリ(N‐アミノエチル‐アミノエチル)チタネート、テトラオクチルビス(ジトリデシルホスファイト)チタネート、テトラ(2,2‐ジアリルオキシメチル‐1‐ブチル)ビス(ジトリデシル)ホスファイトチタネート、ビス(ジオクチルパイロホスフェート)オキシアセテートチタネート、ビス(ジオクチルパイロホスフェート)エチレンチタネート、イソプロピルトリオクタノイルチタネート、イソプロピルジメタクリルイソステアロイルチタネート、イソプロピルトリドデシルベンゼンスルホニルチタネート、イソプロピルイソステアロイルジアクリルチタネート、イソプロピルトリ(ジオクチルホスフェート)チタネート、イソプロピルトリクミルフェニルチタネート、テトライソプロピルビス(ジオクチルホスファイト)チタネート等のチタネート系カップリング剤などが挙げられる。これらは1種を単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
(Coupling agent)
The liquid resin composition for sealing according to the present invention improves the dispersibility by increasing the affinity between the resin component and the inorganic filler (A-1) containing porous silica whose surface is coated with an inorganic compound. In addition, a coupling agent can be used as necessary. Examples of this coupling agent include known couplings such as various silane compounds such as epoxy silane, mercapto silane, amino silane, alkyl silane, ureido silane, and vinyl silane, titanium compounds, aluminum chelates, and aluminum / zirconium compounds. It is preferable to add an agent. Illustrative examples are vinyltrichlorosilane, vinyltriethoxysilane, vinyltris (β-methoxyethoxy) silane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropyltriethoxysilane, γ-acryloxypropyltrimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ- Aminopropyltriethoxysilane, γ-anilinopropyltrimethoxysilane, γ-anilinopropylmethyldimethoxysilane, γ- [bis (β-hydroxyethyl)] aminopropyltriethoxysilane, N-β- (Aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ- (β-aminoethyl) aminopropyldimethoxymethylsilane, N- (trimethoxysilylpropyl) ethylenediamine, N- (dimethoxymethylsilylisopropyl) ethylenediamine, methyltrimethoxy Silane, dimethyldimethoxysilane, methyltriethoxysilane, N-β- (N-vinylbenzylaminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-chloropropyltrimethoxysilane, hexamethyldisilane, vinyltrimethoxysilane, γ -Silane coupling agents such as mercaptopropylmethyldimethoxysilane, isopropyl triisostearoyl titanate, isopropyl tris (dioctyl pyrophosphate) titanate, isopropyl tri N-aminoethyl-aminoethyl) titanate, tetraoctyl bis (ditridecyl phosphite) titanate, tetra (2,2-diallyloxymethyl-1-butyl) bis (ditridecyl) phosphite titanate, bis (dioctyl pyrophosphate) oxy Acetate titanate, bis (dioctylpyrophosphate) ethylene titanate, isopropyl trioctanoyl titanate, isopropyl dimethacrylisostearoyl titanate, isopropyl tridodecylbenzenesulfonyl titanate, isopropyl isostearoyl diacryl titanate, isopropyl tri (dioctyl phosphate) titanate, isopropyl tricumyl Phenyl titanate, tetraisopropyl bis (dioctyl phosphite) titanate And titanate coupling agents such as These may be used alone or in combination of two or more.
上記カップリング剤の配合割合は、無機充填剤(A)に対して、好ましくは0.05〜5質量%、より好ましくは0.1〜2.5質量%である。前記カップリング剤の配合割合が0.05質量%未満では充填剤の分散性向上効果が得られない傾向があり、5質量%を超えると硬化物中にボイドが発生し易い傾向がある。 The blending ratio of the coupling agent is preferably 0.05 to 5% by mass, more preferably 0.1 to 2.5% by mass with respect to the inorganic filler (A). If the blending ratio of the coupling agent is less than 0.05% by mass, the effect of improving the dispersibility of the filler tends not to be obtained, and if it exceeds 5% by mass, voids tend to occur in the cured product.
(イオントラップ剤)
さらに、本発明の封止用液状樹脂組成物には、IC等の半導体素子の耐湿性及び耐熱性を向上させる観点から、必要に応じてイオントラップ剤を使用することができる。イオントラップ剤としては特に制限はなく、従来公知のものを用いることができるが、例えば、ハイドロタルサイト類や、マグネシウム、アルミニウム、チタン、ジルコニウム、ビスマス等の元素の含水酸化物等が挙げられ、これらを単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
(Ion trap agent)
Furthermore, an ion trap agent can be used in the liquid resin composition for sealing according to the present invention as needed from the viewpoint of improving the moisture resistance and heat resistance of a semiconductor element such as an IC. The ion trapping agent is not particularly limited and conventionally known ones can be used, for example, hydrotalcites, hydrous oxides of elements such as magnesium, aluminum, titanium, zirconium, bismuth, etc. These may be used alone or in combination of two or more.
イオントラップ剤の配合割合は、ハロゲンイオン等の陰イオンやナトリウム等の陽イオンを補足できる十分量であれば特に制限はないが、液状エポキシ樹脂(B)に対して、好ましくは1〜10質量%である。 The mixing ratio of the ion trapping agent is not particularly limited as long as it is a sufficient amount capable of capturing anions such as halogen ions and cations such as sodium, but is preferably 1 to 10 mass with respect to the liquid epoxy resin (B). %.
(その他の添加剤)
さらに、本発明の封止用液状樹脂組成物には、染料;顔料;カーボンブラック等の着色剤;リン酸エステル、メラミン、メラミン誘導体、トリアジン環を有する化合物、シアヌル酸誘導体、イソシアヌル酸誘導体等の窒素含有化合物、シクロホスファゼン等の燐窒素含有化合物、酸化亜鉛、酸化鉄、酸化モリブデン、フェロセン等の金属化合物、三酸化アンチモン、四酸化アンチモン、五酸化アンチモン等の酸化アンチモン、ブロム化エポキシ樹脂などの従来公知の難燃剤;などを必要に応じて配合することができる。
(Other additives)
Furthermore, the liquid resin composition for sealing of the present invention includes a dye; a pigment; a colorant such as carbon black; a phosphate ester, a melamine, a melamine derivative, a compound having a triazine ring, a cyanuric acid derivative, and an isocyanuric acid derivative. Nitrogen-containing compounds, phosphorous nitrogen-containing compounds such as cyclophosphazene, metal compounds such as zinc oxide, iron oxide, molybdenum oxide, and ferrocene, antimony oxides such as antimony trioxide, antimony tetraoxide, and antimony pentoxide, brominated epoxy resins, etc. A conventionally well-known flame retardant; etc. can be mix | blended as needed.
(封止用液状樹脂組成物の調製)
本発明の封止用液状樹脂組成物は、上記各種成分を均一に分散混合できるのであれば、いかなる手法を用いても調製できる。一般的な手法として、所定の配合量の成分を秤量し、三本ロール、擂潰機、プラネタリーミキサー、ホモミキサー等によって分散混練を行う方法を挙げることができる。また、適当量の液状エポキシ樹脂、ジヒドロベンゾオキサジン環を有する化合物、フェノール樹脂、シリコーンゴム粒子、無機充填剤、カップリング剤、有機溶剤等の配合成分を予備分散及び予備加熱させたマスターバッチを用いる手法が、均一分散性や流動性の点から好ましい。
(Preparation of liquid resin composition for sealing)
The liquid resin composition for sealing of the present invention can be prepared by any method as long as the various components can be uniformly dispersed and mixed. As a general method, there can be mentioned a method in which components having a predetermined blending amount are weighed and dispersed and kneaded by a three roll, a crusher, a planetary mixer, a homomixer or the like. Also, use a master batch in which compounding components such as an appropriate amount of liquid epoxy resin, a compound having a dihydrobenzoxazine ring, a phenol resin, silicone rubber particles, an inorganic filler, a coupling agent, and an organic solvent are predispersed and preheated. The method is preferable from the viewpoint of uniform dispersibility and fluidity.
本発明の封止用液状樹脂組成物は、25℃での粘度が、10Pa・s〜100Pa・sであることが好ましく、20Pa・s〜70Pa・sであることがより好ましい。前記粘度が10Pa・s未満では、印刷後に樹脂組成物がウエハー端部や裏面へ流れてしまう傾向があり、100Pa・sを超えると広がり性や充填性が低下する傾向がある。 The liquid resin composition for sealing of the present invention preferably has a viscosity at 25 ° C. of 10 Pa · s to 100 Pa · s, and more preferably 20 Pa · s to 70 Pa · s. If the viscosity is less than 10 Pa · s, the resin composition tends to flow to the wafer edge or the back surface after printing, and if it exceeds 100 Pa · s, the spreadability and fillability tend to decrease.
封止用液状樹脂組成物の粘度が10Pa・s〜100Pa・sとなるようにするには、有機溶剤の配合割合などによって調整すればよい。 What is necessary is just to adjust with the compounding ratio of an organic solvent etc., so that the viscosity of the liquid resin composition for sealing may be 10 Pa.s-100 Pa.s.
本発明の封止用液状樹脂組成物は、揺変指数が1.5以下であることが好ましく、1.3以下であることがより好ましい。前記揺変指数が1.5を超えると封止用液状樹脂組成物の広がり性や脱泡性が低下する傾向がある。 In the liquid resin composition for sealing of the present invention, the throttling index is preferably 1.5 or less, and more preferably 1.3 or less. When the change index exceeds 1.5, the spreadability and defoaming property of the liquid resin composition for sealing tend to decrease.
封止用液状樹脂組成物の揺変指数が1.5以下となるようにするには、分散剤,レオロジーコントロール剤などによって調整すればよい。 What is necessary is just to adjust with a dispersing agent, a rheology control agent, etc., in order to make the change index of the liquid resin composition for sealing become 1.5 or less.
ここで粘度はE型粘度計(3°コーン使用)を用い、25℃における回転数5rpmで測定を行い、5rpmでの値を用いて数式(1)から求めることができる。
粘度(Pa・s)=5rpmでの値×f1・・・(1)
(数式(1)中、f1は5rpmの補正係数である。)
また、揺変指数は、回転数1rpmでの粘度/回転数5rpmでの粘度の比として求めることができる。
Here, the viscosity can be obtained from Equation (1) using an E-type viscometer (using a 3 ° cone), measuring at 25 rpm and 5 rpm, and using the value at 5 rpm.
Viscosity (Pa · s) = Value at 5 rpm × f1 (1)
(In Formula (1), f1 is a correction coefficient of 5 rpm.)
Further, the fluctuation index can be obtained as a ratio of viscosity at a rotational speed of 1 rpm / viscosity at a rotational speed of 5 rpm.
本発明の封止用液状樹脂組成物は、硬化物の動的粘弾性測定によるガラス転移温度は50℃以上であることが好ましく、60〜165であることがより好ましく、100℃以上であることが更に好ましい。前記ガラス転移温度が50℃未満であると、機械的強度や耐湿信頼性の低下を招く傾向がある。硬化物のガラス転移温度が50℃以上となるようにするには、ジヒロヘンゾオキサジン環を有する化合物の配合量やエポキシ樹脂、ジヒドロベンゾオキサジン環を有する化合物およびフェノール樹脂の選択などによって調整すればよい。 In the sealing liquid resin composition of the present invention, the glass transition temperature by dynamic viscoelasticity measurement of the cured product is preferably 50 ° C or higher, more preferably 60 to 165, and more preferably 100 ° C or higher. Is more preferable. When the glass transition temperature is less than 50 ° C., mechanical strength and moisture resistance reliability tend to be lowered. In order for the glass transition temperature of the cured product to be 50 ° C. or higher, it can be adjusted by the compounding amount of the compound having a dihydrohenoxazine ring, the selection of an epoxy resin, a compound having a dihydrobenzoxazine ring, and a phenol resin. Good.
ここでガラス転移温度は、動的粘弾性測定装置(周波数10Hz)を用いて測定した時の損失正接の極大値を示す温度である。 Here, the glass transition temperature is a temperature indicating a maximum value of the loss tangent when measured using a dynamic viscoelasticity measuring apparatus (frequency: 10 Hz).
本発明の封止用液状樹脂組成物は、半導体チップ、トランジスタ、ダイオード、サイリスタ等の能動素子、コンデンサ、抵抗体、抵抗アレイ、コイル、スイッチ等の受動素子などの各種素子の封止に好適に用いることができるが、低反り性や高信頼性を要求されるウエハーレベルチップサイズパッケージの素子の封止に特に有効に用いることができる。 The encapsulating liquid resin composition of the present invention is suitable for encapsulating various elements such as active elements such as semiconductor chips, transistors, diodes, thyristors, and passive elements such as capacitors, resistors, resistor arrays, coils, and switches. Although it can be used, it can be used particularly effectively for sealing an element of a wafer level chip size package that requires low warpage and high reliability.
(電子部品装置)
本発明の電子部品装置は、本発明の封止用液状樹脂組成物で封止された素子を備えてなるものである。電子部品装置としては、例えば、リードフレーム、配線済みのテープキャリア、配線板、ガラス、シリコンウエハー等の支持部材に、半導体チップ、トランジスタ、ダイオード、サイリスタ等の能動素子、コンデンサ、抵抗体、抵抗アレイ、コイル、スイッチ等の受動素子などの素子を搭載し、必要な部分を本発明の封止用液状樹脂組成物で封止して得られる電子部品装置などが挙げられる。なかでも、本発明の封止用液状樹脂組成物は低反り性、高信頼性を要求される電子部品装置に有効であり、特にウエハーレベルチップサイズパッケージに好適である。
(Electronic component equipment)
The electronic component device of the present invention comprises an element encapsulated with the encapsulating liquid resin composition of the present invention. Electronic component devices include, for example, lead frames, wired tape carriers, wiring boards, glass, silicon wafers, and other supporting members, active elements such as semiconductor chips, transistors, diodes, thyristors, capacitors, resistors, resistor arrays An electronic component device obtained by mounting an element such as a passive element such as a coil or a switch and sealing a necessary portion with the liquid resin composition for sealing of the present invention. Especially, the liquid resin composition for sealing of the present invention is effective for an electronic component device that requires low warpage and high reliability, and is particularly suitable for a wafer level chip size package.
本発明の封止用液状樹脂組成物を用いて素子を封止する方法としては、ディスペンス方式、注型方式、印刷方式等が挙げられるが、特に印刷方式が好適である。 Examples of a method for sealing an element using the sealing liquid resin composition of the present invention include a dispensing method, a casting method, a printing method, and the like, and a printing method is particularly preferable.
本発明の封止用液状樹脂組成物を用いてウエハー上に形成された素子を封止する方法としても、ディスペンス方式、注型方式、印刷方式等が挙げられるが、特に印刷方式が好適である。 Examples of a method for sealing an element formed on a wafer using the sealing liquid resin composition of the present invention include a dispensing method, a casting method, a printing method, and the like, and a printing method is particularly preferable. .
次に実施例により本発明を説明するが、本発明の範囲はこれらの実施例に限定されるものではない。 EXAMPLES Next, although an Example demonstrates this invention, the scope of the present invention is not limited to these Examples.
(製造例1:シリコーン変性エポキシ樹脂)
窒素導入管、温度計、冷却管及びメカニカルスターラーを取り付けた1リットルのフラスコに、シロキサン構造を有するエポキシ樹脂として「KF−105」(信越化学工業株式会社製商品名)200g、シロキサン構造を有するエポキシ樹脂として「TSL9906」(GE東芝シリコーン株式会社製商品名)74.8g、テルペンジフェノール「YP−90」(ヤスハラケミカル株式会社製商品名)67g、触媒として1,8−ジアザビシクロ(5,4,0)ウンデセン−7(サンアプロ株式会社製商品名「DBU」)2.8gをそれぞれ入れ、窒素雰囲気下、150℃で5時間反応させ、エポキシ当量830g/eq.の液状のシリコーン変性エポキシ樹脂1を得た。
(Production Example 1: Silicone-modified epoxy resin)
“KF-105” (trade name, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) as an epoxy resin having a siloxane structure in a 1-liter flask equipped with a nitrogen introduction tube, a thermometer, a cooling tube and a mechanical stirrer, an epoxy having a siloxane structure “TSL 9906” (trade name, manufactured by GE Toshiba Silicone Co., Ltd.) 74.8 g as resin, 67 g of terpene diphenol “YP-90” (trade name, manufactured by Yasuhara Chemical Co., Ltd.), and 1,8-diazabicyclo (5, 4, 0 as catalyst) ) Undecene-7 (trade name “DBU” manufactured by San Apro Co., Ltd.) (2.8 g) was added and reacted at 150 ° C. for 5 hours in a nitrogen atmosphere to obtain an epoxy equivalent of 830 g / eq. A liquid silicone-modified epoxy resin 1 was obtained.
(製造例2:ジヒドロベンゾオキサジン環を有する化合物1の製造)
ビスフェノールF1.0kg(5mol相当)、アニリン0.93kg(10mol相当)をメチルエチルケトン0.5kg中で混合し、80℃で5時間撹拌し、均一な混合溶液を調整した。5リットルフラスコ中に、ホルマリン1.62kgを仕込み90℃に加熱し、ここへビスフェノールF/アニリン/メチルエチルケトン混合溶液を30分間かけて少しずつ添加した。添加終了後30分間、還流温度に保ち、然る後に100℃で2時間、6666.1Pa以下に減圧して縮合水を除去し、反応し得るフェノール性水酸基の75%がオキサジン化された、下記一般式(X)で表されるジヒドロベンゾオキサジン環を有する化合物1を得た。反応率は、反応し得るフェノール性水酸基のモル数に対する除去した縮合水のモル数の割合から算出した。
Bisphenol F 1.0 kg (equivalent to 5 mol) and 0.93 kg of aniline (equivalent to 10 mol) were mixed in 0.5 kg of methyl ethyl ketone and stirred at 80 ° C. for 5 hours to prepare a uniform mixed solution. Into a 5 liter flask, 1.62 kg of formalin was charged and heated to 90 ° C., and a mixed solution of bisphenol F / aniline / methyl ethyl ketone was added little by little over 30 minutes. After completion of the addition, the reflux temperature was maintained for 30 minutes. After that, the condensed water was removed by reducing the pressure to 6666.1 Pa or less at 100 ° C. for 2 hours, and 75% of the reactive phenolic hydroxyl group was oxazineated. Compound 1 having a dihydrobenzoxazine ring represented by general formula (X) was obtained. The reaction rate was calculated from the ratio of the number of moles of condensed water removed to the number of moles of phenolic hydroxyl groups that can react.
[封止用液状樹脂組成物の作製]
(実施例1〜8及び比較例1〜7)
以下の成分をそれぞれ表1〜表4に示す質量部で配合し、ロール圧10〜30kgfの条件で三本ロールで混練し、次いで、混練温度25℃、混練時間30分の条件で擂潰機にて混練分散した後、真空脱泡して、実施例1〜8及び比較例1〜7の封止用液状樹脂組成物を作製した。
[Preparation of liquid resin composition for sealing]
(Examples 1-8 and Comparative Examples 1-7)
The following components are blended in parts by mass shown in Tables 1 to 4 and kneaded with three rolls under conditions of a roll pressure of 10 to 30 kgf, and then a crusher under conditions of a kneading temperature of 25 ° C and a kneading time of 30 minutes. After kneading and dispersing in, vacuum degassing was carried out to produce sealing liquid resin compositions of Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 to 7.
表1〜表4における割合とは、質量%であり、配合部数とは質量部である。 The ratio in Table 1 to Table 4 is mass%, and the number of blended parts is mass parts.
表1〜4において、(E)エラストマーとして液状エポキシ樹脂2/シリコーンゴム混合物を用いた実施例1、2、7、比較例1〜5は、液状エポキシ樹脂2の配合部数を液状エポキシ樹脂2/シリコーンゴム混合物の欄に含めて記す。前記液状エポキシ樹脂2/シリコーンゴム混合物は、液状エポキシ樹脂2を60質量%及びシリコーンゴム微粒子40質量%からなる混合物であるので、実施例1、2、7、比較例1〜5で用いた液状エポキシ樹脂2/シリコーンゴム混合物の液状エポキシ樹脂2及びシリコーンゴム微粒子の配合部数は表4に示すとおりである。例えば、実施例1で用いた液状エポキシ樹脂2/シリコーンゴム混合物は、液状エポキシ樹脂2を30質量部及びシリコーンゴム微粒子20質量部の混合物であり、実施例2で用いた液状エポキシ樹脂2/シリコーンゴム混合物は、液状エポキシ樹脂2を21質量部及びシリコーンゴム微粒子41質量部の混合物である。 In Tables 1-4, (E) Examples 1, 2, and 7, and Comparative Examples 1 to 5 using a liquid epoxy resin 2 / silicone rubber mixture as an elastomer, the liquid epoxy resin 2 / Include in the column of silicone rubber mixture. Since the liquid epoxy resin 2 / silicone rubber mixture is a mixture comprising 60% by mass of liquid epoxy resin 2 and 40% by mass of silicone rubber fine particles, the liquid used in Examples 1, 2, 7 and Comparative Examples 1-5. Table 4 shows the number of blended liquid epoxy resin 2 and silicone rubber fine particles in the epoxy resin 2 / silicone rubber mixture. For example, the liquid epoxy resin 2 / silicone rubber mixture used in Example 1 is a mixture of 30 parts by mass of liquid epoxy resin 2 and 20 parts by mass of silicone rubber fine particles, and the liquid epoxy resin 2 / silicone used in Example 2 is used. The rubber mixture is a mixture of 21 parts by mass of liquid epoxy resin 2 and 41 parts by mass of silicone rubber fine particles.
(A)無機充填剤
溶融シリカ1:平均粒径0.5μmの球状溶融シリカ
溶融シリカ2:平均粒径4μmの球状溶融シリカ
多孔質シリカ1:平均粒径10μm、比表面積1.1m2/g、圧縮強度519.8MPaの表面が二酸化珪素により被覆された多孔質シリカ(触媒化成工業株式会社製品名「HOLLOWY N−15」)
多孔質シリカ2:平均粒径5μm、比表面積838m2/g、圧縮強度40MPaの多孔質シリカ(旭硝子エスアイテック株式会社製品名「サンスフェアH−51」)
(B)液状エポキシ樹脂
液状エポキシ樹脂1:ビスフェノールF型エポキシ樹脂(東都化成株式会社製商品名「YDF8170C」)
シリコーン変性ポキシ樹脂1:製造例1で得た液状のシリコーン変性ポキシ樹脂1
シリコーン変性ポキシ樹脂2:エポキシ当量804g/eqの液状シリコーン変性エポキシ樹脂(Hanse Chemie社製商品名「ALBIFLEX296」)
(C)フェノール樹脂
フェノール樹脂1:水酸基当量140、粘度1.7Pa・s(25℃)のアリル化フェノールノボラック樹脂(明和化成株式会社製商品名「MEH−8000H」)
(C’)酸無水物系硬化剤
酸無水物系硬化剤:日立化成工業株式会社製商品名「MHAC−HR」
(D)エラストマー
液状エポキシ樹脂2/シリコーンゴム混合物:アルケニル基含有オルガノポリシロキサンとSiH基含有オルガノハイドロジェンポリシロキサンのヒドロシリル化反応により架橋した、エポキシ基を有するシリコーンゴム微粒子が、液状ビスフェノール型エポキシ樹脂(液状エポキシ樹脂2:ビスフェノールA型エポキシ樹脂(三井化学株式会社製商品名「エポミックR140P」)に分散されている、シリコーンゴム微粒子含有液状ビスフェノールA型エポキシ樹脂(シリコーンゴム微粒子含有量40質量%、シリコーンゴム微粒子粒径0.1〜1.0μm、Hanse Chemie社製商品名「ALBIDUR EP2240」)
コアシェルシリコーン重合体粒子:コア層が3官能シロキサン成分としてメチルトリメトキシシラン3モル%及びメタクリロキシプロピルトリメトキシシラン2モル%含むジメチル型固形シリコーン重合体で、シェル層がポリメチルメタクリレートで構成され、コア層/シェル層の質量比率が2/1、平均1次粒子径0.12μmのコア/シェル型シリコーン重合体粒子
(E)有機溶剤
ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート
(F)ジヒドロベンゾオキサジン環を有する化合物
ジヒドロベンゾオキサジン環を有する化合物1:製造例2で得たジヒドロベンゾオキサジン環を有する化合物1
(硬化促進剤)
硬化促進剤1:トリフェニルホスフィン(和光純薬工業株式会社製試薬)
硬化促進剤2:2−エチル−4−メチルイミダゾール(四国化成工業株式会社製品名「キュアゾール2E4MZ」)
(カップリング剤)
カップリング剤:γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業株式会社製商品名「KBM403」)
(着色剤)
カーボンブラック
(イオントラップ剤)
イオントラップ剤:ビスマス系陰イオントラップ剤(東亞合成株式会社商品名「IXE500」)
[封止用液状樹脂組成物の特性評価]
実施例1〜8及び比較例1〜7で作製した封止用液状樹脂組成物の特性を、以下(1)〜(7)に示す各試験により評価した。評価結果を表1〜4に示した。
(A) Inorganic filler Fused silica 1: Spherical fused silica having an average particle size of 0.5 μm Fused silica 2: Spherical fused silica having an average particle size of 4 μm Porous silica 1: Average particle size of 10 μm, specific surface area of 1.1 m 2 / g , Porous silica whose surface has a compressive strength of 519.8 MPa and coated with silicon dioxide (Catalyst Kasei Kogyo Co., Ltd., product name “HOLLOWY N-15”)
Porous silica 2: porous silica having an average particle size of 5 μm, a specific surface area of 838 m 2 / g, and a compressive strength of 40 MPa (Asahi Glass S-Tech Co., Ltd., product name “Sunsphere H-51”)
(B) Liquid epoxy resin Liquid epoxy resin 1: Bisphenol F type epoxy resin (trade name “YDF8170C” manufactured by Tohto Kasei Co., Ltd.)
Silicone-modified poxy resin 1: Liquid silicone-modified poxy resin 1 obtained in Production Example 1
Silicone-modified epoxy resin 2: Liquid silicone-modified epoxy resin having an epoxy equivalent of 804 g / eq (trade name “ALBIFEX 296” manufactured by Hanse Chemie)
(C) Phenol resin Phenol resin 1: An allylated phenol novolak resin (trade name “MEH-8000H” manufactured by Meiwa Kasei Co., Ltd.) having a hydroxyl group equivalent of 140 and a viscosity of 1.7 Pa · s (25 ° C.).
(C ′) Acid anhydride curing agent Acid anhydride curing agent: trade name “MHAC-HR” manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.
(D) Elastomer Liquid Epoxy Resin 2 / Silicone Rubber Mixture: Silicone fine rubber particles having epoxy groups crosslinked by hydrosilylation reaction of alkenyl group-containing organopolysiloxane and SiH group-containing organohydrogenpolysiloxane are liquid bisphenol-type epoxy resins. (Liquid epoxy resin 2: bisphenol A type epoxy resin (trade name “Epomic R140P” manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.) dispersed in a silicone rubber fine particle-containing liquid bisphenol A type epoxy resin (silicone rubber fine particle content 40% by mass, Silicone rubber fine particle diameter of 0.1 to 1.0 μm, trade name “ALBIDUR EP2240” manufactured by Hanse Chemie)
Core-shell silicone polymer particles: a dimethyl type solid silicone polymer in which the core layer contains 3 mol% of methyltrimethoxysilane and 2 mol% of methacryloxypropyltrimethoxysilane as a trifunctional siloxane component, and the shell layer is composed of polymethylmethacrylate, Core / shell type silicone polymer particles having a core layer / shell layer mass ratio of 2/1 and an average primary particle size of 0.12 μm (E) Organic solvent Compound having diethylene glycol monoethyl ether acetate (F) dihydrobenzoxazine ring Compound 1 having dihydrobenzoxazine ring 1: Compound 1 having dihydrobenzoxazine ring obtained in Production Example 2
(Curing accelerator)
Curing accelerator 1: Triphenylphosphine (Reagent manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.)
Curing accelerator 2: 2-ethyl-4-methylimidazole (Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd. product name “CURESOL 2E4MZ”)
(Coupling agent)
Coupling agent: γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane (trade name “KBM403” manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
(Coloring agent)
Carbon black (ion trapping agent)
Ion trap agent: Bismuth-based anion trap agent (trade name “IXE500”, Toagosei Co., Ltd.)
[Characteristic evaluation of liquid resin composition for sealing]
The characteristics of the sealing liquid resin compositions produced in Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 to 7 were evaluated by the tests shown in (1) to (7) below. The evaluation results are shown in Tables 1 to 4.
なお、各種試における封止用液状樹脂組成物の加熱硬化は、実施例1〜8及び比較例1〜6は130℃で1時間、次いで180℃で3時間行い、比較例7は100℃で1時間、次いで150℃で2時間行なった。 In addition, the heat curing of the liquid resin composition for sealing in various trials is performed at 130 ° C. for 1 hour and then at 180 ° C. for 3 hours in Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 to 6, and in Comparative Example 7 at 100 ° C. 1 hour, then at 150 ° C. for 2 hours.
(1)粘度、揺変指数
封止用液状樹脂組成物の25℃における粘度をE型粘度計(株式会社東京計器製、コーン角度3°、回転数5rpm)を用いて測定した。揺変指数は、回転数1rpmで測定した粘度と5rpmで測定した粘度の比(1rpmでの粘度/5rpmでの粘度)として算出した。
(1) Viscosity and Fluctuation Index The viscosity at 25 ° C. of the liquid resin composition for sealing was measured using an E-type viscometer (manufactured by Tokyo Keiki Co., Ltd., cone angle 3 °, rotation speed 5 rpm). The change index was calculated as the ratio of the viscosity measured at 1 rpm to the viscosity measured at 5 rpm (viscosity at 1 rpm / 5 viscosity at 5 rpm).
(2)反り
8インチシリコンウエハー(厚み約730μm)上に、開口197mmφ、厚さ300μmのメタルマスクを用い、印刷成形法により封止用液状樹脂組成物を塗布し、加熱硬化して樹脂厚約200μmの樹脂付きウエハーを作製した。この樹脂付きウエハーの両面を研削し、樹脂厚70μm、ウエハー厚230μmとした。この研削済みウエハーを260℃のリフロー処理を行った。ウエハーの反りは、硬化から15時間経過後、研削後及びリフロー後に、定盤上にウエハー端部の一箇所を固定し浮上った最大高さを測定した。
(2) Warpage On a 8-inch silicon wafer (thickness: about 730 μm), using a metal mask with an opening of 197 mmφ and a thickness of 300 μm, a liquid resin composition for sealing is applied by a printing molding method and cured by heating to a resin thickness of about A 200 μm wafer with resin was prepared. Both surfaces of this resin-coated wafer were ground to a resin thickness of 70 μm and a wafer thickness of 230 μm. The ground wafer was reflowed at 260 ° C. The warpage of the wafer was measured by measuring the maximum height after 15 hours had elapsed from the curing, after grinding and after reflowing, by fixing one end of the wafer on the surface plate.
(3)ガラス転移温度及び弾性率
封止用液状樹脂組成物を約290μm厚のシート状に加熱硬化し、このシートを4mm×34mmに切断して試験片を作製した。そして、動的粘弾性測定装置DVE型(株式会社レオロジ製)を用いて、チャック間距離25mm、周波数10Hzの正弦波で連続加振、歪み量5μm、自動静荷重、昇温速度3℃/分、温度範囲20〜250℃の条件で測定し、損失正接の極大値を示す温度をガラス転移温度とした。また、25℃の貯蔵弾性率を読み取った。
(3) Glass transition temperature and elastic modulus The liquid resin composition for sealing was heat-cured into a sheet having a thickness of about 290 μm, and this sheet was cut into 4 mm × 34 mm to prepare test pieces. And using a dynamic viscoelasticity measuring device DVE type (manufactured by Rheology Co., Ltd.), continuous vibration with a sine wave with a chuck distance of 25 mm and a frequency of 10 Hz, a strain amount of 5 μm, an automatic static load, a heating rate of 3 ° C./min. The glass transition temperature was measured at a temperature range of 20 to 250 ° C. and the temperature showing the maximum value of the loss tangent. Moreover, the storage elastic modulus of 25 degreeC was read.
(4)ダイシングブレード摩耗性
上記(2)と同様にして、樹脂厚約200μmの樹脂付きウエハーを作製した。この樹脂付きウエハーを、オートマッチックダイシングソーDAD341(ディスコ社製)により1mm角にダイシングし、ダイシング後のブレード摩耗量を測定した。ダイシングブレードはディスコ社製NBC−ZH−2050−SE27HEDGを使用し、回転数35000rpm、送り速度50mm/sでブレード摩耗量を測定した。
(4) Dicing blade wearability A resin-coated wafer having a resin thickness of about 200 μm was produced in the same manner as in (2) above. This wafer with resin was diced into 1 mm squares using an automatch dicing saw DAD341 (manufactured by Disco), and the amount of blade wear after dicing was measured. As a dicing blade, NBC-ZH-2050-SE27HEDG manufactured by Disco Corporation was used, and the amount of blade wear was measured at a rotational speed of 35,000 rpm and a feed rate of 50 mm / s.
(5)耐リフロー性
ポリイミドを塗布した8インチシリコンウエハー(厚み約730μm)上に、開口197mmφ、厚さ250μmのメタルマスクを用い、減圧下で印刷成形法により封止用液状樹脂組成物を塗布し、加熱硬化して樹脂厚約160μmの樹脂付きウエハーを作製した。樹脂付きウエハーを、オートマッチックダイシングソーDAD341(ディスコ社製)により5mm角にダイシングし、試験片を作製した。試験片を85℃/85%RHの条件で飽和吸湿後、260℃リフロー処理を20回行った。そして、試験片の外観及びウエハー断面を観察し、外観不良(かけ、クラック等)又は剥離が生じている試験片の数/測定試験片の数(30個)で評価した。
(5) Reflow resistance A liquid resin composition for sealing is applied to an 8-inch silicon wafer (thickness: about 730 μm) coated with polyimide using a metal mask with an opening of 197 mmφ and a thickness of 250 μm by a printing molding method under reduced pressure. Then, it was heat-cured to produce a wafer with resin having a resin thickness of about 160 μm. The wafer with resin was diced into 5 mm square using an automatch dicing saw DAD341 (manufactured by Disco Corporation) to prepare a test piece. The test piece was subjected to 260 ° C. reflow treatment 20 times after saturated moisture absorption under the condition of 85 ° C./85% RH. Then, the appearance of the test piece and the wafer cross-section were observed, and the evaluation was made based on the number of the test pieces in which the appearance defect (hanging, cracks, etc.) or peeling occurred / the number of measurement test pieces (30).
(6)耐温度サイクル性
上記(5)と同様にして5mm角の試験片を作製した。この試験片を−50℃で15分、次いで150℃で15分を1サイクルとするヒートサイクルで1000サイクル繰り返し、試験片の外観及びウエハー断面を観察し、外観不良(かけ、クラック等)又は剥離が生じている試験片の数/測定試験片の数(30個)で評価した。
(6) Temperature cycle resistance A 5 mm square test piece was produced in the same manner as in (5) above. This test piece was repeated 1000 cycles with a heat cycle of 15 minutes at −50 ° C. and then 15 minutes at 150 ° C., the appearance of the test piece and the wafer cross-section were observed, and the appearance was poor (deposition, cracks, etc.) or peeling Was evaluated by the number of test pieces in which the number of occurrences / the number of measurement test pieces (30).
(7)耐湿信頼性
ポリイミドを塗布したシリコンウエハー上に、ライン/スペースが15μm/25μm、厚さ5μmで電解めっきCu膜を櫛歯電極状に形成させたテストエレメントグループ(TEG)を作製した。次いで、櫛歯電極部を封止用液状樹脂組成物で約90μmの厚さに加熱硬化し、封止したTEGを、135℃、85%RH環境下、7.5V印加で300時間導通試験を行い、不良パッケージ数/測定パッケージ数(10個)で評価した。
実施例1〜8で得られた封止用液状樹脂組成物は、いずれの評価において良好な特性を示した。 The sealing liquid resin compositions obtained in Examples 1 to 8 exhibited good characteristics in any evaluation.
これに対して、実施例1の多孔質シリカ1に替えて溶融シリカ2を使用した比較例1及び実施例2の多孔質シリカ1に替えて溶融シリカ2を使用した比較例5は、共にダイシングブレード摩耗量が多かった。多孔質シリカ1を含まない比較例2は硬化物の弾性率が5GPaと低く、ダイシングブレード摩耗量が多かった。また、比較例3は、比較例2の溶融シリカ2に替えて多孔質シリカ1を使用したが、硬化物弾性率が5GPaと低く、ダイシングブレード摩耗量は多く、改善できなかった。実施例1の多孔質シリカ1に替えて、表面が被覆されておらず比表面積の大きい多孔質シリカ2を使用した比較例4は、有機溶剤の配合割合10質量%に増やしたが粘度が著しく高く、サンプルを作製することができなかった。エラストマーを配合しなかった比較例6は反りが大きく、耐温度サイクル性も低かった。また、硬化剤としてフェノール樹脂の替わりに酸無水物系硬化剤を用いた比較例7は反りが大きく、耐リフロー性及び耐湿信頼性が不十分であった。 On the other hand, both Comparative Example 1 using fused silica 2 instead of porous silica 1 of Example 1 and Comparative Example 5 using fused silica 2 instead of porous silica 1 of Example 2 were both dicing. There was a lot of blade wear. In Comparative Example 2 not containing porous silica 1, the cured product had a low elastic modulus of 5 GPa and a large amount of dicing blade wear. In Comparative Example 3, porous silica 1 was used in place of fused silica 2 of Comparative Example 2, but the cured product elastic modulus was as low as 5 GPa, and the amount of wear of the dicing blade was large, and could not be improved. In Comparative Example 4 in which porous silica 2 having a large specific surface area was used instead of porous silica 1 in Example 1, the viscosity was remarkably increased although the blending ratio of the organic solvent was increased to 10% by mass. The sample could not be prepared. The comparative example 6 which did not mix | blend an elastomer had large curvature, and its temperature cycle resistance was also low. Moreover, the comparative example 7 which used the acid anhydride type hardening | curing agent instead of the phenol resin as a hardening | curing agent had large curvature, and reflow resistance and moisture-proof reliability were inadequate.
本発明の封止用液状樹脂組成物によれば、ウエハーレベルチップサイズパッケージ等の低反り性が要求される電子部品装置に適用しても反りが小さく抑えられ、且つ強度、耐熱衝撃性、耐湿性等の信頼性並びに加工性等に優れた封止用液状樹脂組成物、及びこの封止用液状樹脂組成物で封止した素子を備えてなる電子部品装置及びウエハーレベルチップサイズパッケージを提供することができる。 According to the encapsulating liquid resin composition of the present invention, even when applied to an electronic component device that requires low warpage such as a wafer level chip size package, the warpage is suppressed to a small level, and the strength, thermal shock resistance, and moisture resistance are reduced. A liquid resin composition for sealing excellent in reliability such as reliability and processability, and an electronic component device and a wafer level chip size package comprising an element sealed with the liquid resin composition for sealing be able to.
Claims (16)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008250280A JP2009097014A (en) | 2007-09-27 | 2008-09-29 | Liquid resin composition for sealing, electronic component device and wafer level chip size package |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007251280 | 2007-09-27 | ||
JP2008250280A JP2009097014A (en) | 2007-09-27 | 2008-09-29 | Liquid resin composition for sealing, electronic component device and wafer level chip size package |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009097014A true JP2009097014A (en) | 2009-05-07 |
Family
ID=40700300
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008250280A Pending JP2009097014A (en) | 2007-09-27 | 2008-09-29 | Liquid resin composition for sealing, electronic component device and wafer level chip size package |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2009097014A (en) |
Cited By (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009127012A (en) * | 2007-11-27 | 2009-06-11 | Panasonic Electric Works Co Ltd | Method for producing epoxy resin composition for sealing and semiconductor device |
JP2012201696A (en) * | 2011-03-23 | 2012-10-22 | Panasonic Corp | Liquid epoxy resin composition for electronic component and electronic device using the same |
WO2013046434A1 (en) * | 2011-09-30 | 2013-04-04 | Jx日鉱日石エネルギー株式会社 | Benzoxazine resin composition, and fiber-reinforced composite material |
JP2014015490A (en) * | 2012-07-05 | 2014-01-30 | Nitto Denko Corp | Encapsulation resin sheet, manufacturing method of electronic component package, and electronic component package |
JP2014036097A (en) * | 2012-08-08 | 2014-02-24 | Nitto Denko Corp | Resin sheet for sealing electronic component, resin-sealed semiconductor device, and method for manufacturing resin-sealed semiconductor device |
JP2017066174A (en) * | 2015-09-28 | 2017-04-06 | 日東電工株式会社 | Thermosetting composition and sheet, and method for manufacturing device |
JP2018184550A (en) * | 2017-04-26 | 2018-11-22 | 日本ペイント・インダストリアルコ−ティングス株式会社 | Sealing material composition, sealing material composition for semiconductor, and fine particle for sealing material |
JP2020050826A (en) * | 2018-09-28 | 2020-04-02 | 日立化成株式会社 | Resin composition for encapsulation, relocated wafer, semiconductor package, and manufacturing method of semiconductor package |
WO2020130098A1 (en) * | 2018-12-21 | 2020-06-25 | 日立化成株式会社 | Sealing composition and semiconductor device |
CN111372994A (en) * | 2017-11-27 | 2020-07-03 | 纳美仕有限公司 | Film-like semiconductor sealing material |
JP2020143239A (en) * | 2019-03-07 | 2020-09-10 | 味の素株式会社 | Resin composition |
CN111716848A (en) * | 2019-03-19 | 2020-09-29 | 日东电工株式会社 | Sealing sheet |
CN113056519A (en) * | 2018-11-14 | 2021-06-29 | 长濑化成株式会社 | Curable resin composition and curable sheet |
CN113278253A (en) * | 2021-05-11 | 2021-08-20 | 湖北三选科技有限公司 | Dimer acid epoxy resin composition for chip packaging, application thereof and chip cutting method |
CN113278252A (en) * | 2021-05-11 | 2021-08-20 | 湖北三选科技有限公司 | Silicon-containing epoxy resin composition, mold sealing adhesive and application thereof |
KR20210136276A (en) * | 2020-05-07 | 2021-11-17 | 삼성에스디아이 주식회사 | Epoxy resin composition for encapsulating semiconductor device and semiconductor device encapsulated using the same |
US11718708B2 (en) | 2018-07-26 | 2023-08-08 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Curable composition, prepreg, resin sheet, metal foil-clad laminate and printed wiring board |
-
2008
- 2008-09-29 JP JP2008250280A patent/JP2009097014A/en active Pending
Cited By (26)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009127012A (en) * | 2007-11-27 | 2009-06-11 | Panasonic Electric Works Co Ltd | Method for producing epoxy resin composition for sealing and semiconductor device |
JP2012201696A (en) * | 2011-03-23 | 2012-10-22 | Panasonic Corp | Liquid epoxy resin composition for electronic component and electronic device using the same |
WO2013046434A1 (en) * | 2011-09-30 | 2013-04-04 | Jx日鉱日石エネルギー株式会社 | Benzoxazine resin composition, and fiber-reinforced composite material |
JP2014015490A (en) * | 2012-07-05 | 2014-01-30 | Nitto Denko Corp | Encapsulation resin sheet, manufacturing method of electronic component package, and electronic component package |
JP2014036097A (en) * | 2012-08-08 | 2014-02-24 | Nitto Denko Corp | Resin sheet for sealing electronic component, resin-sealed semiconductor device, and method for manufacturing resin-sealed semiconductor device |
JP2017066174A (en) * | 2015-09-28 | 2017-04-06 | 日東電工株式会社 | Thermosetting composition and sheet, and method for manufacturing device |
JP2018184550A (en) * | 2017-04-26 | 2018-11-22 | 日本ペイント・インダストリアルコ−ティングス株式会社 | Sealing material composition, sealing material composition for semiconductor, and fine particle for sealing material |
CN111372994A (en) * | 2017-11-27 | 2020-07-03 | 纳美仕有限公司 | Film-like semiconductor sealing material |
CN111372994B (en) * | 2017-11-27 | 2023-03-14 | 纳美仕有限公司 | Film-like semiconductor sealing material |
TWI815923B (en) * | 2018-07-26 | 2023-09-21 | 日商三菱瓦斯化學股份有限公司 | Curable composition, prepreg, resin sheet, metal foil-clad laminate, and printed wiring board |
US11718708B2 (en) | 2018-07-26 | 2023-08-08 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Curable composition, prepreg, resin sheet, metal foil-clad laminate and printed wiring board |
JP2020050826A (en) * | 2018-09-28 | 2020-04-02 | 日立化成株式会社 | Resin composition for encapsulation, relocated wafer, semiconductor package, and manufacturing method of semiconductor package |
JP7346804B2 (en) | 2018-09-28 | 2023-09-20 | 株式会社レゾナック | Encapsulating resin composition, repositioning wafer, semiconductor package, and method for manufacturing semiconductor package |
CN113056519A (en) * | 2018-11-14 | 2021-06-29 | 长濑化成株式会社 | Curable resin composition and curable sheet |
CN113056519B (en) * | 2018-11-14 | 2024-02-23 | 长濑化成株式会社 | Curable resin composition and curable sheet |
JPWO2020130098A1 (en) * | 2018-12-21 | 2021-11-04 | 昭和電工マテリアルズ株式会社 | Encapsulation composition and semiconductor device |
CN113195586A (en) * | 2018-12-21 | 2021-07-30 | 昭和电工材料株式会社 | Sealing composition and semiconductor device |
WO2020130098A1 (en) * | 2018-12-21 | 2020-06-25 | 日立化成株式会社 | Sealing composition and semiconductor device |
JP7415950B2 (en) | 2018-12-21 | 2024-01-17 | 株式会社レゾナック | Encapsulation composition and semiconductor device |
JP7124770B2 (en) | 2019-03-07 | 2022-08-24 | 味の素株式会社 | resin composition |
JP2020143239A (en) * | 2019-03-07 | 2020-09-10 | 味の素株式会社 | Resin composition |
CN111716848A (en) * | 2019-03-19 | 2020-09-29 | 日东电工株式会社 | Sealing sheet |
KR20210136276A (en) * | 2020-05-07 | 2021-11-17 | 삼성에스디아이 주식회사 | Epoxy resin composition for encapsulating semiconductor device and semiconductor device encapsulated using the same |
KR102601431B1 (en) * | 2020-05-07 | 2023-11-10 | 삼성에스디아이 주식회사 | Epoxy resin composition for encapsulating semiconductor device and semiconductor device encapsulated using the same |
CN113278253A (en) * | 2021-05-11 | 2021-08-20 | 湖北三选科技有限公司 | Dimer acid epoxy resin composition for chip packaging, application thereof and chip cutting method |
CN113278252A (en) * | 2021-05-11 | 2021-08-20 | 湖北三选科技有限公司 | Silicon-containing epoxy resin composition, mold sealing adhesive and application thereof |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2009097014A (en) | Liquid resin composition for sealing, electronic component device and wafer level chip size package | |
JP2009097013A (en) | Liquid resin composition for sealing, electronic component device and wafer level chip-size package | |
JP5217119B2 (en) | Liquid epoxy resin composition for sealing, electronic component device and wafer level chip size package | |
JP2526747B2 (en) | Epoxy resin composition and semiconductor device | |
JP5228426B2 (en) | Liquid resin composition for electronic component sealing and electronic component device using the same | |
JP5277537B2 (en) | Liquid resin composition for electronic components and electronic component device using the same | |
JP2010138384A (en) | Encapsulating liquid epoxy resin composition, electronic component device including element encapsulated with the encapsulating liquid epoxy resin composition, and wafer level chip size package | |
JP2007182562A (en) | Liquid resin composition for electronic element and electronic element device | |
JP2004210901A (en) | Liquid epoxy resin composition and electronic component device | |
JP2007146150A (en) | Epoxy resin composition for sealing and electronic part device by using the same | |
JP5692212B2 (en) | Liquid resin composition for electronic components and electronic component device using the same | |
JP2017105883A (en) | Liquid resin composition, die attach method using the composition, and semiconductor device having cured product of the composition | |
JP2007146148A (en) | Epoxy resin composition for sealing and electronic part device by using the same | |
JPWO2019054217A1 (en) | Epoxy resin composition and electronic component equipment | |
JP2008069291A (en) | Liquid epoxy resin composition for sealing semiconductor and semiconductor device | |
JP2008235669A (en) | Semiconductor device and manufacturing method therefor | |
JP5374818B2 (en) | Liquid epoxy resin composition for sealing, electronic component device and wafer level chip size package | |
JPWO2019146617A1 (en) | Resin composition for sealing | |
JP7167912B2 (en) | Liquid encapsulating resin composition, electronic component device, and method for manufacturing electronic component device | |
JP2008121003A (en) | Epoxy resin molding material for use in sealing, and electronic component device using the same | |
JP2018172545A (en) | Solid sealing material for compression molding, semiconductor device, and semiconductor device production method | |
JP6286959B2 (en) | Epoxy resin composition, electronic component device, and method of manufacturing electronic component device | |
JPWO2019176859A1 (en) | Epoxy resin composition and electronic component equipment | |
JP2019083225A (en) | Liquid resin composition for underfill, electronic component device, and method of manufacturing electronic component device | |
JP2015054952A (en) | Epoxy resin composition, electronic part device and production method of electronic part device |