JP2007238988A - 微細構造体の製造方法および微細構造体 - Google Patents
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Abstract
【課題】毒性の高い６価クロム酸化合物を用いずに、製造処理時間が短く、安全に、かつ、ポアの配列の規則性が高い微細構造体を得ることができる微細構造体の製造方法およびその方法によって得られる微細構造体の提供。
【解決手段】アルミニウム基板と、前記アルミニウム基板の表面に存在する、マイクロポアを有する陽極酸化皮膜とを有するアルミニウム部材に、少なくとも、
２５℃１気圧下における粘度が０．０５〜１００．０Ｐａ・ｓである溶液を用いて、前記陽極酸化皮膜の一部を溶解する皮膜溶解処理を施して、表面にマイクロポアを有する微細構造体を得る、微細構造体の製造方法。
【選択図】図１
【解決手段】アルミニウム基板と、前記アルミニウム基板の表面に存在する、マイクロポアを有する陽極酸化皮膜とを有するアルミニウム部材に、少なくとも、
２５℃１気圧下における粘度が０．０５〜１００．０Ｐａ・ｓである溶液を用いて、前記陽極酸化皮膜の一部を溶解する皮膜溶解処理を施して、表面にマイクロポアを有する微細構造体を得る、微細構造体の製造方法。
【選択図】図１
Description
本発明は、微細構造体およびその製造方法に関する。
金属および半導体の薄膜、細線、ドット等の技術領域では、ある特徴的な長さより小さいサイズにおいて自由電子の動きが閉じ込められることにより、電気的、光学的および化学的に特異な現象が見られることが知られている。このような現象は「量子力学的サイズ効果（量子サイズ効果）」と呼ばれている。このような特異な現象を応用した機能性材料の研究開発が、現在、盛んに行なわれている。具体的には、数百ｎｍより微細な構造を有する材料が、「微細構造体」または「ナノ構造体」と称されており、材料開発の対象の一つとされている。
こうした微細構造体の作製方法としては、例えば、フォトリソグラフィ、電子線露光、Ｘ線露光等の微細パターン形成技術を初めとする半導体加工技術によって直接的にナノ構造体を作製する方法が挙げられる。
中でも、規則的な微細構造を有する微細構造体を作製する方法についての研究が注目され、多く行われている。
例えば、自己規制的に規則的な構造が形成される方法として、電解液中でアルミニウムに陽極酸化処理を施して得られる陽極酸化アルミナ膜（陽極酸化皮膜）が挙げられる。陽極酸化皮膜には、数ｎｍ程度から数百ｎｍ程度の直径を有する複数の微細孔（マイクロポア）が規則的に形成されることが知られている。この陽極酸化皮膜の自己規則化を用い、完全に規則的な配列を得ると、理論的には、マイクロポアを中心に底面が正六角形である六角柱のセルが形成され、隣接するマイクロポアを結ぶ線が正三角形を成すことが知られている。
例えば、自己規制的に規則的な構造が形成される方法として、電解液中でアルミニウムに陽極酸化処理を施して得られる陽極酸化アルミナ膜（陽極酸化皮膜）が挙げられる。陽極酸化皮膜には、数ｎｍ程度から数百ｎｍ程度の直径を有する複数の微細孔（マイクロポア）が規則的に形成されることが知られている。この陽極酸化皮膜の自己規則化を用い、完全に規則的な配列を得ると、理論的には、マイクロポアを中心に底面が正六角形である六角柱のセルが形成され、隣接するマイクロポアを結ぶ線が正三角形を成すことが知られている。
このようなマイクロポアを有する陽極酸化皮膜の用途例としては、光機能性ナノデバイス、磁気デバイス、発光担体、触媒担持体等が知られている。例えば、特許文献１には、ポアを金属で封孔し局在プラズモン共鳴を発生させてラマン分光分析用装置へ応用する旨が記載されている。
このようなマイクロポアを形成させる陽極酸化処理の前には、陽極酸化処理のマイクロポアの生成の起点となる窪みを形成させておく方法が知られている。このような窪みを形成させることにより、マイクロポアの配列（以下、「ポア配列」ともいう。）およびポア径のばらつきを所望の範囲に制御することが容易となる。
窪みを形成させる一般的な方法として、陽極酸化皮膜の自己規則性を利用した自己規則化法が知られている。これは陽極酸化皮膜のマイクロポアが規則的に配列する性質を利用し、規則的な配列をかく乱する要因を取り除くことで、規則性を向上させる方法である。
この自己規則化法は、特許文献１に記載されているように、一度陽極酸化処理した後、リン酸および６価クロム酸の混合水溶液への浸せき処理を施し、再度陽極酸化処理を順に行うのが一般的であるが、より製造処理時間の短く、安全性の高い製造方法が望まれていた。
このようなマイクロポアを形成させる陽極酸化処理の前には、陽極酸化処理のマイクロポアの生成の起点となる窪みを形成させておく方法が知られている。このような窪みを形成させることにより、マイクロポアの配列（以下、「ポア配列」ともいう。）およびポア径のばらつきを所望の範囲に制御することが容易となる。
窪みを形成させる一般的な方法として、陽極酸化皮膜の自己規則性を利用した自己規則化法が知られている。これは陽極酸化皮膜のマイクロポアが規則的に配列する性質を利用し、規則的な配列をかく乱する要因を取り除くことで、規則性を向上させる方法である。
この自己規則化法は、特許文献１に記載されているように、一度陽極酸化処理した後、リン酸および６価クロム酸の混合水溶液への浸せき処理を施し、再度陽極酸化処理を順に行うのが一般的であるが、より製造処理時間の短く、安全性の高い製造方法が望まれていた。
したがって、本発明は、毒性の高い６価クロム酸化合物を用いずに、製造処理時間が短く、安全に、かつ、ポアの配列の規則性が高い微細構造体を得ることができる微細構造体の製造方法およびその方法によって得られる微細構造体を提供することを目的とする。
本発明者は、上記目的を達成すべく鋭意研究した結果、リン酸および６価クロム酸の混合水溶液を用いて陽極酸化皮膜を溶解させて再度陽極酸化する代わりに、２５℃１気圧下における粘度が０．１０〜１００．０Ｐａ・ｓである溶液を用いて、酸化皮膜層の一部を溶解する処理を行うことで、製造処理時間が短く、安全に、ポアの配列の規則性が高い微細構造体を得ることができることを見出し、本発明を完成させた。
即ち、本発明は、以下の（ｉ）〜（ｉｖ）を提供する。
（ｉ）アルミニウム基板と、上記アルミニウム基板の表面に存在する、マイクロポアを有する陽極酸化皮膜とを有するアルミニウム部材に、少なくとも、
２５℃１気圧下における粘度が０．０５〜１００．０Ｐａ・ｓである溶液を用いて、上記陽極酸化皮膜の一部を溶解する皮膜溶解処理を施して、表面にマイクロポアを有する微細構造体を得る、微細構造体の製造方法。
（ｉｉ）上記アルミニウム部材が、上記アルミニウム基板の表面に、１０〜２０００ｇ／ｍ2の陽極酸化皮膜を形成する陽極酸化処理を施して得られる、上記（ｉ）に記載の微細構造体の製造方法。
（ｉｉｉ）上記（ｉ）または（ｉｉ）に記載の微細構造体の製造方法により得られる微細構造体。
（ｉｖ）マイクロポアについて下記式（１）により定義される規則化度が５０％以上である、上記（ｉｉｉ）に記載の微細構造体。
規則化度（％）＝Ｂ／Ａ×１００ （１）
上記式（１）中、Ａは、測定範囲におけるマイクロポアの全数を表す。Ｂは、一のマイクロポアの重心を中心とし、他のマイクロポアの縁に内接する最も半径が短い円を描いた場合に、その円の内部に上記一のマイクロポア以外のマイクロポアの重心を６個含むことになる上記一のマイクロポアの測定範囲における数を表す。
（ｉ）アルミニウム基板と、上記アルミニウム基板の表面に存在する、マイクロポアを有する陽極酸化皮膜とを有するアルミニウム部材に、少なくとも、
２５℃１気圧下における粘度が０．０５〜１００．０Ｐａ・ｓである溶液を用いて、上記陽極酸化皮膜の一部を溶解する皮膜溶解処理を施して、表面にマイクロポアを有する微細構造体を得る、微細構造体の製造方法。
（ｉｉ）上記アルミニウム部材が、上記アルミニウム基板の表面に、１０〜２０００ｇ／ｍ2の陽極酸化皮膜を形成する陽極酸化処理を施して得られる、上記（ｉ）に記載の微細構造体の製造方法。
（ｉｉｉ）上記（ｉ）または（ｉｉ）に記載の微細構造体の製造方法により得られる微細構造体。
（ｉｖ）マイクロポアについて下記式（１）により定義される規則化度が５０％以上である、上記（ｉｉｉ）に記載の微細構造体。
規則化度（％）＝Ｂ／Ａ×１００ （１）
上記式（１）中、Ａは、測定範囲におけるマイクロポアの全数を表す。Ｂは、一のマイクロポアの重心を中心とし、他のマイクロポアの縁に内接する最も半径が短い円を描いた場合に、その円の内部に上記一のマイクロポア以外のマイクロポアの重心を６個含むことになる上記一のマイクロポアの測定範囲における数を表す。
本発明の微細構造体の製造方法によれば、毒性の高い６価クロム酸化合物を用いずに、製造処理時間が短く、安全に、かつ、ポアの配列の規則性が高い微細構造体を得ることができる。
以下に、本発明を詳細に説明する。
本発明の微細構造体の製造方法は、
アルミニウム基板と、上記アルミニウム基板の表面に存在する、マイクロポアを有する陽極酸化皮膜とを有するアルミニウム部材に、少なくとも、
２５℃１気圧下における粘度が０．０５〜１００．０Ｐａ・ｓである溶液を用いて、上記陽極酸化皮膜の一部を溶解する皮膜溶解処理を施して、表面にマイクロポアを有する微細構造体を得る、微細構造体の製造方法である。
本発明の微細構造体の製造方法は、
アルミニウム基板と、上記アルミニウム基板の表面に存在する、マイクロポアを有する陽極酸化皮膜とを有するアルミニウム部材に、少なくとも、
２５℃１気圧下における粘度が０．０５〜１００．０Ｐａ・ｓである溶液を用いて、上記陽極酸化皮膜の一部を溶解する皮膜溶解処理を施して、表面にマイクロポアを有する微細構造体を得る、微細構造体の製造方法である。
［アルミニウム部材］
本発明の製造方法に用いられるアルミニウム部材は、アルミニウム基板と、該アルミニウム基板の表面に存在する、マイクロポアを有する陽極酸化皮膜とを有する。
本発明においては、このようなアルミニウム部材は、アルミニウム基板の少なくとも一方の表面に、後述する陽極酸化処理を施して得ることができる。
また、本発明においては、このようなアルミニウム部材は、後述するように、アルミニウム基板の表面に、１０〜２０００ｇ／ｍ2の陽極酸化皮膜を形成する陽極酸化処理を施して得られるのが好ましく、５０〜１５００ｇ／ｍ2の陽極酸化皮膜を形成する陽極酸化処理を施して得られるのがより好ましく、１００〜１０００ｇ／ｍ2の陽極酸化皮膜を形成する陽極酸化処理を施して得られるのが更に好ましい。陽極酸化皮膜の皮膜質量がこの範囲であると、後述する皮膜溶解処理において陽極酸化皮膜の一部を溶解させやすい。
本発明の製造方法に用いられるアルミニウム部材は、アルミニウム基板と、該アルミニウム基板の表面に存在する、マイクロポアを有する陽極酸化皮膜とを有する。
本発明においては、このようなアルミニウム部材は、アルミニウム基板の少なくとも一方の表面に、後述する陽極酸化処理を施して得ることができる。
また、本発明においては、このようなアルミニウム部材は、後述するように、アルミニウム基板の表面に、１０〜２０００ｇ／ｍ2の陽極酸化皮膜を形成する陽極酸化処理を施して得られるのが好ましく、５０〜１５００ｇ／ｍ2の陽極酸化皮膜を形成する陽極酸化処理を施して得られるのがより好ましく、１００〜１０００ｇ／ｍ2の陽極酸化皮膜を形成する陽極酸化処理を施して得られるのが更に好ましい。陽極酸化皮膜の皮膜質量がこの範囲であると、後述する皮膜溶解処理において陽極酸化皮膜の一部を溶解させやすい。
図１は、本発明の微細構造体の製造方法を説明するためのアルミニウム部材および微細構造体の模式的な端面図である。
図１（Ａ）に示されるように、アルミニウム部材１０ａは、アルミニウム基板１２ａとアルミニウム基板１２ａの表面に存在する、マイクロポア１６ａを有する陽極酸化皮膜１４ａとを有する。
図１（Ａ）に示されるように、アルミニウム部材１０ａは、アルミニウム基板１２ａとアルミニウム基板１２ａの表面に存在する、マイクロポア１６ａを有する陽極酸化皮膜１４ａとを有する。
＜アルミニウム基板＞
上記アルミニウム基板は、特に限定されず、その具体例としては、純アルミニウム板；アルミニウムを主成分とし微量の異元素を含む合金板；低純度のアルミニウム（例えば、リサイクル材料）に高純度アルミニウムを蒸着させた基板；シリコンウエハー、石英、ガラス等の表面に蒸着、スパッタ等の方法により高純度アルミニウムを被覆させた基板；アルミニウムをラミネートした樹脂基板；等が挙げられる。
上記アルミニウム基板は、特に限定されず、その具体例としては、純アルミニウム板；アルミニウムを主成分とし微量の異元素を含む合金板；低純度のアルミニウム（例えば、リサイクル材料）に高純度アルミニウムを蒸着させた基板；シリコンウエハー、石英、ガラス等の表面に蒸着、スパッタ等の方法により高純度アルミニウムを被覆させた基板；アルミニウムをラミネートした樹脂基板；等が挙げられる。
本発明においては、アルミニウム基板のうち後述する陽極酸化処理により陽極酸化皮膜を設ける表面は、アルミニウム純度が、９９．５質量％以上であるのが好ましく、９９．９質量％以上であるのがより好ましく、９９．９９質量％以上であるのが更に好ましい。アルミニウム純度が上記範囲であると、ポア配列の規則性が十分となる。
また、本発明においては、アルミニウム基板のうち後述する陽極酸化処理により陽極酸化皮膜を設ける表面は、あらかじめ脱脂処理および鏡面仕上げ処理が施されるのが好ましく、特に、本発明の製造方法により得られる微細構造体が光透過性であることを利用する用途に用いる場合は、ポア配列の規則性が高い領域を広くする観点から、あらかじめ熱処理が施されるのが好ましい。
（熱処理）
熱処理は、２００〜３５０℃で３０秒〜２分程度施すのが好ましい。具体的には、例えば、アルミニウム基板を加熱オーブンに入れる方法等が挙げられる。
このような熱処理を施すことにより、後述する陽極酸化処理により生成するポア配列の規則性が高い領域が広くなる。
また、熱処理後のアルミニウム基板は、急速に冷却するのが好ましい。冷却する方法としては、例えば、水等に直接投入する方法が挙げられる。
熱処理は、２００〜３５０℃で３０秒〜２分程度施すのが好ましい。具体的には、例えば、アルミニウム基板を加熱オーブンに入れる方法等が挙げられる。
このような熱処理を施すことにより、後述する陽極酸化処理により生成するポア配列の規則性が高い領域が広くなる。
また、熱処理後のアルミニウム基板は、急速に冷却するのが好ましい。冷却する方法としては、例えば、水等に直接投入する方法が挙げられる。
（脱脂処理）
脱脂処理は、酸、アルカリ、有機溶剤等を用いて、アルミニウム基板表面に付着した、ほこり、脂、樹脂等の有機成分等を溶解させて除去し、有機成分を原因とする後述の各処理における欠陥の発生を防止することを目的として行われる。
脱脂処理は、酸、アルカリ、有機溶剤等を用いて、アルミニウム基板表面に付着した、ほこり、脂、樹脂等の有機成分等を溶解させて除去し、有機成分を原因とする後述の各処理における欠陥の発生を防止することを目的として行われる。
脱脂処理としては、具体的には、例えば、各種アルコール（例えば、メタノール等）、各種ケトン（例えば、メチルエチルケトン等）、ベンジン、揮発油等の有機溶剤を常温でアルミニウム基板表面に接触させる方法（有機溶剤法）；石けん、中性洗剤等の界面活性剤を含有する液を常温から８０℃までの温度でアルミニウム基板表面に接触させ、その後、水洗する方法（界面活性剤法）；濃度１０〜２００ｇ／Ｌの硫酸水溶液を常温から７０℃までの温度でアルミニウム基板表面に３０〜８０秒間接触させ、その後、水洗する方法；濃度５〜２０ｇ／Ｌの水酸化ナトリウム水溶液を常温でアルミニウム基板表面に３０秒間程度接触させつつ、アルミニウム基板表面を陰極にして電流密度１〜１０Ａ／ｄｍ2の直流電流を流して電解し、その後、濃度１００〜５００ｇ／Ｌの硝酸水溶液を接触させて中和する方法；各種公知の陽極酸化処理用電解液を常温でアルミニウム基板表面に接触させつつ、アルミニウム基板表面を陰極にして電流密度１〜１０Ａ／ｄｍ2の直流電流を流して、または、交流電流を流して電解する方法；濃度１０〜２００ｇ／Ｌのアルカリ水溶液を４０〜５０℃でアルミニウム基板表面に１５〜６０秒間接触させ、その後、濃度１００〜５００ｇ／Ｌの硝酸水溶液を接触させて中和する方法；軽油、灯油等に界面活性剤、水等を混合させた乳化液を常温から５０℃までの温度でアルミニウム基板表面に接触させ、その後、水洗する方法（乳化脱脂法）；炭酸ナトリウム、リン酸塩類、界面活性剤等の混合液を常温から５０℃までの温度でアルミニウム基板表面に３０〜１８０秒間接触させ、その後、水洗する方法（リン酸塩法）；等が挙げられる。
これらのうち、アルミニウム表面の脂分を除去しうる一方で、アルミニウムの溶解がほとんど起こらない観点から、有機溶剤法、界面活性剤法、乳化脱脂法、リン酸塩法が好ましい。
また、脱脂処理には、従来公知の脱脂剤を用いることができる。具体的には、例えば、市販されている各種脱脂剤を所定の方法で用いることにより行うことができる。
（鏡面仕上げ処理）
鏡面仕上げ処理は、アルミニウム基板の表面の凹凸、例えば、アルミニウム基板の圧延時に発生した圧延筋等をなくして、電着法等による封孔処理の均一性や再現性を向上させるために行われる。
本発明において、鏡面仕上げ処理は、特に限定されず、従来公知の方法を用いることができる。例えば、機械研磨、化学研磨、電解研磨が挙げられる。
鏡面仕上げ処理は、アルミニウム基板の表面の凹凸、例えば、アルミニウム基板の圧延時に発生した圧延筋等をなくして、電着法等による封孔処理の均一性や再現性を向上させるために行われる。
本発明において、鏡面仕上げ処理は、特に限定されず、従来公知の方法を用いることができる。例えば、機械研磨、化学研磨、電解研磨が挙げられる。
機械研磨としては、例えば、各種市販の研磨布で研磨する方法、市販の各種研磨剤（例えば、ダイヤ、アルミナ）とバフとを組み合わせた方法等が挙げられる。具体的には、研磨剤を用いる場合、使用する研磨剤を粗い粒子から細かい粒子へと経時的に変更して行う方法が好適に例示される。この場合、最終的に用いる研磨剤としては、＃１５００のものが好ましい。これにより、光沢度を５０％以上（圧延アルミニウムである場合、その圧延方向および幅方向ともに５０％以上）とすることができる。
化学研磨としては、例えば、「アルミニウムハンドブック」，第６版，（社）日本アルミニウム協会編，２００１年，ｐ．１６４−１６５に記載されている各種の方法等が挙げられる。
また、リン酸−硝酸法、Ａｌｕｐｏｌ Ｉ法、Ａｌｕｐｏｌ Ｖ法、Ａｌｃｏａ Ｒ５法、Ｈ3ＰＯ4−ＣＨ3ＣＯＯＨ−Ｃｕ法、Ｈ3ＰＯ4−ＨＮＯ3−ＣＨ3ＣＯＯＨ法が好適に例示される。中でも、リン酸−硝酸法、Ｈ3ＰＯ4−ＣＨ3ＣＯＯＨ−Ｃｕ法、Ｈ3ＰＯ4−ＨＮＯ3−ＣＨ3ＣＯＯＨ法が好ましい。
化学研磨により、光沢度を７０％以上（圧延アルミニウムである場合、その圧延方向および幅方向ともに７０％以上）とすることができる。
また、リン酸−硝酸法、Ａｌｕｐｏｌ Ｉ法、Ａｌｕｐｏｌ Ｖ法、Ａｌｃｏａ Ｒ５法、Ｈ3ＰＯ4−ＣＨ3ＣＯＯＨ−Ｃｕ法、Ｈ3ＰＯ4−ＨＮＯ3−ＣＨ3ＣＯＯＨ法が好適に例示される。中でも、リン酸−硝酸法、Ｈ3ＰＯ4−ＣＨ3ＣＯＯＨ−Ｃｕ法、Ｈ3ＰＯ4−ＨＮＯ3−ＣＨ3ＣＯＯＨ法が好ましい。
化学研磨により、光沢度を７０％以上（圧延アルミニウムである場合、その圧延方向および幅方向ともに７０％以上）とすることができる。
電解研磨としては、例えば、「アルミニウムハンドブック」，第６版，（社）日本アルミニウム協会編，２００１年，ｐ．１６４−１６５に記載されている各種の方法；米国特許第２７０８６５５号明細書に記載されている方法；「実務表面技術」，ｖｏｌ．３３，Ｎｏ．３，１９８６年，ｐ．３２−３８に記載されている方法；等が好適に挙げられる。
電解研磨により、光沢度を７０％以上（圧延アルミニウムである場合、その圧延方向および幅方向ともに７０％以上）とすることができる。
電解研磨により、光沢度を７０％以上（圧延アルミニウムである場合、その圧延方向および幅方向ともに７０％以上）とすることができる。
これらの方法は、適宜組み合わせて用いることができる。具体的には、例えば、研磨剤を粗い粒子から細かい粒子へと経時的に変更する機械研磨を施し、その後、電解研磨を施す方法が好適に挙げられる。
鏡面仕上げ処理により、例えば、平均表面粗さＲa０．１μｍ以下、光沢度５０％以上の表面を得ることができる。平均表面粗さＲaは、０．０３μｍ以下であるのが好ましく、０．０２μｍ以下であるのがより好ましい。また、光沢度は７０％以上であるのが好ましく、８０％以上であるのがより好ましい。
なお、光沢度は、圧延方向に垂直な方向において、ＪＩＳ Ｚ８７４１−１９９７の「方法３ ６０度鏡面光沢」の規定に準じて求められる正反射率である。具体的には、変角光沢度計（例えば、ＶＧ−１Ｄ、日本電色工業社製）を用いて、正反射率７０％以下の場合には入反射角度６０度で、正反射率７０％を超える場合には入反射角度２０度で、測定する。
なお、光沢度は、圧延方向に垂直な方向において、ＪＩＳ Ｚ８７４１−１９９７の「方法３ ６０度鏡面光沢」の規定に準じて求められる正反射率である。具体的には、変角光沢度計（例えば、ＶＧ−１Ｄ、日本電色工業社製）を用いて、正反射率７０％以下の場合には入反射角度６０度で、正反射率７０％を超える場合には入反射角度２０度で、測定する。
＜陽極酸化処理＞
陽極酸化処理は、上記アルミニウム基板の表面に陽極酸化皮膜を形成する処理である。
陽極酸化処理としては、従来公知の方法を用いることができる。具体的には、後述する自己規則化法を用いるのが好ましい。
陽極酸化処理は、上記アルミニウム基板の表面に陽極酸化皮膜を形成する処理である。
陽極酸化処理としては、従来公知の方法を用いることができる。具体的には、後述する自己規則化法を用いるのが好ましい。
自己規則化法は、陽極酸化皮膜のマイクロポアが規則的に配列する性質を利用し、規則的な配列をかく乱する要因を取り除くことで、規則性を向上させる方法である。具体的には、高純度のアルミニウムを使用し、電解液の種類に応じた電圧で、長時間（例えば、数時間から十数時間）かけて、低速で陽極酸化皮膜を形成させる。
この方法においては、ポア径は電圧に依存するので、電圧を制御することにより、ある程度所望のポア径を得ることができる。
この方法においては、ポア径は電圧に依存するので、電圧を制御することにより、ある程度所望のポア径を得ることができる。
陽極酸化処理における電解液の平均流速は、０．５〜２０．０ｍ／ｍｉｎであるのが好ましく、１．０〜１５．０ｍ／ｍｉｎであるのがより好ましく、２．０〜１０．０ｍ／ｍｉｎであるのが更に好ましい。上記範囲の流速で陽極酸化処理を行うことにより、均一かつ高い規則性を有することができる。
また、電解液を上記条件で流動させる方法は、特に限定されないが、例えば、スターラーのような一般的なかくはん装置を使用する方法が用いられる。特に、かくはん速度をデジタル表示でコントロールできるようなスターラーを用いると、平均流速が制御できるため好ましい。このようなかくはん装置としては、例えば、「マグネティックスターラーＨＳ−５０Ｄ（ＡＳ ＯＮＥ製）」等が挙げられる。
また、電解液を上記条件で流動させる方法は、特に限定されないが、例えば、スターラーのような一般的なかくはん装置を使用する方法が用いられる。特に、かくはん速度をデジタル表示でコントロールできるようなスターラーを用いると、平均流速が制御できるため好ましい。このようなかくはん装置としては、例えば、「マグネティックスターラーＨＳ−５０Ｄ（ＡＳ ＯＮＥ製）」等が挙げられる。
陽極酸化処理は、例えば、酸濃度１〜１０質量％の溶液中で、アルミニウム基板を陽極として通電する方法を用いることができる。陽極酸化処理に用いられる溶液としては、酸溶液であることが好ましく、硫酸、リン酸、クロム酸、シュウ酸、スルファミン酸、ベンゼンスルホン酸、アミドスルホン酸等がより好ましく、中でも硫酸、リン酸、シュウ酸が特に好ましい。これらの酸は単独でまたは２種以上を組み合わせて用いることができる。
陽極酸化処理の条件は、使用される電解液によって種々変化するので一概に決定され得ないが、一般的には電解液濃度０．１〜２０質量％、液温−１０〜３０℃、電流密度０．０１〜２０Ａ／ｄｍ2、電圧３〜３００Ｖ、電解時間０．５〜３０時間であるのが好ましく、電解液濃度０．５〜１５質量％、液温−５〜２５℃、電流密度０．０５〜１５Ａ／ｄｍ2、電圧５〜２５０Ｖ、電解時間１〜２５時間であるのがより好ましく、電解液濃度１〜１０質量％、液温０〜２０℃、電流密度０．１〜１０Ａ／ｄｍ2、電圧１０〜２００Ｖ、電解時間２〜２０時間であるのが更に好ましい。
陽極酸化皮膜の膜厚は、１〜３００μｍであるのが好ましく、５〜１５０μｍであるのがより好ましく、１０〜１００μｍであるのが更に好ましい。
陽極酸化皮膜の膜厚は、１〜３００μｍであるのが好ましく、５〜１５０μｍであるのがより好ましく、１０〜１００μｍであるのが更に好ましい。
陽極酸化処理の処理時間は、０．５分〜１６時間であるのが好ましく、１分〜１２時間であるのがより好ましく、２分〜８時間であるのが更に好ましい。
陽極酸化処理は、一定電圧下で行う以外に、電圧を断続的または連続的に変化させる方法も用いることができる。この場合は、電圧を順次低くしていくのが好ましい。これにより、陽極酸化皮膜の抵抗を下げることが可能になる。
本発明においては、陽極酸化皮膜を低温で行うと、マイクロポアの配列が規則的になり、また、ポア径が均一になる。
また、本発明においては、このような陽極酸化処理により形成される陽極酸化皮膜の皮膜質量（膜厚）は、１０〜２０００ｇ／ｍ2（３〜６００μｍ）であるのが好ましく、５０〜１５００ｇ／ｍ2（１５〜４５０μｍ）であるのがより好ましく、１００〜１０００ｇ／ｍ2（３０〜３００μｍ）であるのが更に好ましい。陽極酸化皮膜の皮膜質量（膜厚）がこの範囲であると、上述したように、後述する皮膜溶解処理において陽極酸化皮膜の一部を溶解させやすい。
また、マイクロポアの平均ポア密度は５０〜１５００個／μｍ2であるのが好ましい。
更に、マイクロポアの占める面積率は、２０〜５０％であるのが好ましい。
マイクロポアの占める面積率は、アルミニウム表面の面積に対するマイクロポアの開口部の面積の合計の割合である。マイクロポアの占める面積率の算出においては、マイクロポアには、金属により充填されているものもいないものも含まれる。具体的には、封孔処理前に表面空隙率を測定して求められる。
また、マイクロポアの平均ポア密度は５０〜１５００個／μｍ2であるのが好ましい。
更に、マイクロポアの占める面積率は、２０〜５０％であるのが好ましい。
マイクロポアの占める面積率は、アルミニウム表面の面積に対するマイクロポアの開口部の面積の合計の割合である。マイクロポアの占める面積率の算出においては、マイクロポアには、金属により充填されているものもいないものも含まれる。具体的には、封孔処理前に表面空隙率を測定して求められる。
［皮膜溶解処理］
本発明の製造方法における皮膜溶解処理は、２５℃１気圧下における粘度が０．０５〜１００．０Ｐａ・ｓである溶液を用いて、上記アルミニウム基板の表面に形成された陽極酸化皮膜の一部を溶解する処理であり、これにより表面にマイクロポアを有する微細構造体を得ることができる。
本発明の製造方法における皮膜溶解処理は、２５℃１気圧下における粘度が０．０５〜１００．０Ｐａ・ｓである溶液を用いて、上記アルミニウム基板の表面に形成された陽極酸化皮膜の一部を溶解する処理であり、これにより表面にマイクロポアを有する微細構造体を得ることができる。
本発明においては、陽極酸化皮膜の一部を溶解する溶液は、酸水溶液またはアルカリ水溶液であり、２５℃１気圧下における粘度が０．０５〜１００．０Ｐａ・ｓであり、０．１〜８０．０Ｐａ・ｓであるのが好ましく、１．０〜５０．０Ｐａ・ｓであるのがより好ましい。
溶液の粘度がこの範囲であると、毒性の高い６価クロム酸化合物を用いずに、製造処理時間が短く、安全に、かつ、ポアの配列の規則性が高い微細構造体を得ることができる。これは、上記溶液の粘度が高いため、マイクロポアの内部、特に、アルミニウム基板に近い底部分に溶液が滲入しにくくなり、マイクロポアの内部からの陽極酸化皮膜の溶解を抑制するとともに、陽極酸化皮膜の表面付近、即ち、ポア配列の規則性の低い部分を効率的に除去することができ、上述した陽極酸化皮膜の脱膜処理を施さなくても微細構造体が得られるためであると考えられる。
溶液の粘度がこの範囲であると、毒性の高い６価クロム酸化合物を用いずに、製造処理時間が短く、安全に、かつ、ポアの配列の規則性が高い微細構造体を得ることができる。これは、上記溶液の粘度が高いため、マイクロポアの内部、特に、アルミニウム基板に近い底部分に溶液が滲入しにくくなり、マイクロポアの内部からの陽極酸化皮膜の溶解を抑制するとともに、陽極酸化皮膜の表面付近、即ち、ポア配列の規則性の低い部分を効率的に除去することができ、上述した陽極酸化皮膜の脱膜処理を施さなくても微細構造体が得られるためであると考えられる。
具体的には、図１（Ｂ）に示されるように、皮膜溶解処理により、図１（Ａ）に示されるマイクロポア１６ａの内部の溶解を抑制しつつ陽極酸化皮膜１４ａの表面が溶解し、アルミニウム基板１２ａ上に、マイクロポア１６ｂを有する陽極酸化皮膜１４ｂを有するアルミニウム部材１０ｂが得られる。
本発明においては、上記皮膜溶解処理における陽極酸化皮膜の一部の溶解は、上記溶液に上記アルミニウム部材を浸せきさせることにより行うのが好ましい。
ここで、一部とは、陽極酸化皮膜の０．０１〜９９．９９質量％であるのが好ましく、０．１〜７５．００質量％であるのがより好ましく、１．０〜６０．００質量％であるのが更に好ましい。
また、浸漬時間は、１〜１０００分であるのが好ましく、１０〜７５０分であるのがより好ましく、１５〜５００分であるのが更に好ましい。
ここで、一部とは、陽極酸化皮膜の０．０１〜９９．９９質量％であるのが好ましく、０．１〜７５．００質量％であるのがより好ましく、１．０〜６０．００質量％であるのが更に好ましい。
また、浸漬時間は、１〜１０００分であるのが好ましく、１０〜７５０分であるのがより好ましく、１５〜５００分であるのが更に好ましい。
本発明においては、上記溶液として酸水溶液を用いる場合、該酸水溶液としては、具体的には、例えば、硫酸、リン酸、硝酸、塩酸等の水溶液を用いることができ、これらを一種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
また、酸水溶液の濃度は、１〜１０質量％であるのが好ましく、酸水溶液の温度は、２５〜４０℃であるのが好ましい。
また、酸水溶液の濃度は、１〜１０質量％であるのが好ましく、酸水溶液の温度は、２５〜４０℃であるのが好ましい。
一方、上記溶液としてアルカリ水溶液を用いる場合、該アルカリ水溶液としては、具体的には、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム等の水溶液を用いることができ、これらを一種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
また、アルカリ水溶液の濃度は、０．１〜５質量％であるのが好ましく、アルカリ水溶液の温度は、２０〜３５℃であるのが好ましい。
より具体的には、例えば、５０ｇ／Ｌ、４０℃のリン酸水溶液、０．５ｇ／Ｌ、３０℃の水酸化ナトリウム水溶液、０．５ｇ／Ｌ、３０℃の水酸化カリウム水溶液等が好適に用いられる。
また、アルカリ水溶液の濃度は、０．１〜５質量％であるのが好ましく、アルカリ水溶液の温度は、２０〜３５℃であるのが好ましい。
より具体的には、例えば、５０ｇ／Ｌ、４０℃のリン酸水溶液、０．５ｇ／Ｌ、３０℃の水酸化ナトリウム水溶液、０．５ｇ／Ｌ、３０℃の水酸化カリウム水溶液等が好適に用いられる。
本発明においては、これらの酸またはアルカリ水溶液は、所望の粘度に調整するため、種々のポリマー、モノマー等を混合させることができる。中でも、粘度を高める観点からポリマーを混合させるのが好ましい。
このようなポリマーとしては、例えば、酸またはアルカリ水溶液に溶解する水溶性ポリマーを使用することが好ましい。具体的には、水との強い相互作用を有する極性基（例えば、イオン性基、水酸基、アミノ基、アミド基、エーテル基等）を多く含むポリマーが挙げられる。より具体的には、澱粉類、ガゼイン、ニカワ、ゼラチン、アラビアガム、アルギン酸ソーダ、ペクチンなどの天然ポリマー；カルボキシメチルセルロース、メチルセルロース、ビスコースなどの半合成ポリマー；ポリビニルアルコール、ポリアクリルアミド、ポリエチレンイミン、ポリアクリル酸ソーダ、ポリエチレンオキシド、ポリビニルピロリドン等の合成高分子；などが挙げられ、これらを１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
このようなポリマーとしては、例えば、酸またはアルカリ水溶液に溶解する水溶性ポリマーを使用することが好ましい。具体的には、水との強い相互作用を有する極性基（例えば、イオン性基、水酸基、アミノ基、アミド基、エーテル基等）を多く含むポリマーが挙げられる。より具体的には、澱粉類、ガゼイン、ニカワ、ゼラチン、アラビアガム、アルギン酸ソーダ、ペクチンなどの天然ポリマー；カルボキシメチルセルロース、メチルセルロース、ビスコースなどの半合成ポリマー；ポリビニルアルコール、ポリアクリルアミド、ポリエチレンイミン、ポリアクリル酸ソーダ、ポリエチレンオキシド、ポリビニルピロリドン等の合成高分子；などが挙げられ、これらを１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
［微細構造体］
本発明の微細構造体は、上述した本発明の微細構造体の製造方法により得られる。
また、本発明の微細構造体は、上記アルミニウム部材の記載個所でも述べたように、平均ポア密度が５０〜１５００個／μｍ2であるのが好ましく、マイクロポアの占める面積率が２０〜５０％であるのが好ましい。
更に、本発明の微細構造体は、マイクロポアについて下記式（１）により定義される規則化度が５０％以上であるのが好ましい。
本発明の微細構造体は、上述した本発明の微細構造体の製造方法により得られる。
また、本発明の微細構造体は、上記アルミニウム部材の記載個所でも述べたように、平均ポア密度が５０〜１５００個／μｍ2であるのが好ましく、マイクロポアの占める面積率が２０〜５０％であるのが好ましい。
更に、本発明の微細構造体は、マイクロポアについて下記式（１）により定義される規則化度が５０％以上であるのが好ましい。
規則化度（％）＝Ｂ／Ａ×１００ （１）
上記式（１）中、Ａは、測定範囲におけるマイクロポアの全数を表す。Ｂは、一のマイクロポアの重心を中心とし、他のマイクロポアの縁に内接する最も半径が短い円を描いた場合に、その円の内部に上記一のマイクロポア以外のマイクロポアの重心を６個含むことになる上記一のマイクロポアの測定範囲における数を表す。
図２は、ポアの規則化度を算出する方法の説明図である。図２を用いて、上記式（１）をより具体的に説明する。
図２（Ａ）に示されるマイクロポア１は、マイクロポア１の重心を中心とし、他のマイクロポアの縁に内接する最も半径が短い円３（マイクロポア２に内接している。）を描いた場合に、円３の内部にマイクロポア１以外のマイクロポアの重心を６個含んでいる。したがって、マイクロポア１は、Ｂに算入される。
図２（Ｂ）に示されるマイクロポア４は、マイクロポア４の重心を中心とし、他のマイクロポアの縁に内接する最も半径が短い円６（マイクロポア５に内接している。）を描いた場合に、円６の内部にマイクロポア４以外のマイクロポアの重心を５個含んでいる。したがって、マイクロポア４は、Ｂに算入されない。また、図４（Ｂ）に示されるマイクロポア７は、マイクロポア７の重心を中心とし、他のマイクロポアの縁に内接する最も半径が短い円９（マイクロポア８に内接している。）を描いた場合に、円９の内部にマイクロポア７以外のマイクロポアの重心を７個含んでいる。したがって、マイクロポア７は、Ｂに算入されない。
図２（Ａ）に示されるマイクロポア１は、マイクロポア１の重心を中心とし、他のマイクロポアの縁に内接する最も半径が短い円３（マイクロポア２に内接している。）を描いた場合に、円３の内部にマイクロポア１以外のマイクロポアの重心を６個含んでいる。したがって、マイクロポア１は、Ｂに算入される。
図２（Ｂ）に示されるマイクロポア４は、マイクロポア４の重心を中心とし、他のマイクロポアの縁に内接する最も半径が短い円６（マイクロポア５に内接している。）を描いた場合に、円６の内部にマイクロポア４以外のマイクロポアの重心を５個含んでいる。したがって、マイクロポア４は、Ｂに算入されない。また、図４（Ｂ）に示されるマイクロポア７は、マイクロポア７の重心を中心とし、他のマイクロポアの縁に内接する最も半径が短い円９（マイクロポア８に内接している。）を描いた場合に、円９の内部にマイクロポア７以外のマイクロポアの重心を７個含んでいる。したがって、マイクロポア７は、Ｂに算入されない。
＜ポアワイド処理＞
本発明の微細構造体には、用途に応じて、ポアワイド処理を施すことができる。
ポアワイド処理は、上記陽極酸化処理後、アルミニウム部材を酸水溶液またはアルカリ水溶液に浸せきさせることにより、陽極酸化皮膜を溶解させ、マイクロポアのポア径を拡大する処理である。
これにより、マイクロポアの配列の規則性およびポア径のばらつきを制御することが容易となる。また、陽極酸化皮膜のマイクロポアの底部分のバリヤー皮膜を溶解させることにより、マイクロポア内部に選択的に電着させることおよびポア径のばらつきをやや大きくすることが可能となる。
なお、上記皮膜溶解処理に用いる溶液の２５℃１気圧下における粘度は、０．０５〜１００．０Ｐａ・ｓであるのに対し、ポアワイド処理に用いられる酸水溶液またはアルカリ水溶液の２５℃１気圧下における粘度は、０．００１Ｐａ・ｓ程度である。
本発明の微細構造体には、用途に応じて、ポアワイド処理を施すことができる。
ポアワイド処理は、上記陽極酸化処理後、アルミニウム部材を酸水溶液またはアルカリ水溶液に浸せきさせることにより、陽極酸化皮膜を溶解させ、マイクロポアのポア径を拡大する処理である。
これにより、マイクロポアの配列の規則性およびポア径のばらつきを制御することが容易となる。また、陽極酸化皮膜のマイクロポアの底部分のバリヤー皮膜を溶解させることにより、マイクロポア内部に選択的に電着させることおよびポア径のばらつきをやや大きくすることが可能となる。
なお、上記皮膜溶解処理に用いる溶液の２５℃１気圧下における粘度は、０．０５〜１００．０Ｐａ・ｓであるのに対し、ポアワイド処理に用いられる酸水溶液またはアルカリ水溶液の２５℃１気圧下における粘度は、０．００１Ｐａ・ｓ程度である。
ポアワイド処理に酸水溶液を用いる場合は、硫酸、リン酸、硝酸、塩酸等の無機酸またはこれらの混合物の水溶液を用いることが好ましい。
また、酸水溶液の濃度は、１〜１０質量％であるのが好ましく、酸水溶液の温度は、２５〜４０℃であるのが好ましい。
また、酸水溶液の濃度は、１〜１０質量％であるのが好ましく、酸水溶液の温度は、２５〜４０℃であるのが好ましい。
一方、ポアワイド処理にアルカリ水溶液を用いる場合は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムおよび水酸化リチウムからなる群から選ばれる少なくとも一つのアルカリの水溶液を用いることが好ましい。
また、アルカリ水溶液の濃度は、０．１〜５質量％であるのが好ましく、アルカリ水溶液の温度は、２０〜３５℃であるのが好ましい。
具体的には、例えば、５０ｇ／Ｌ、４０℃のリン酸水溶液、０．５ｇ／Ｌ、３０℃の水酸化ナトリウム水溶液、０．５ｇ／Ｌ、３０℃の水酸化カリウム水溶液等が好適に用いられる。
また、アルカリ水溶液の濃度は、０．１〜５質量％であるのが好ましく、アルカリ水溶液の温度は、２０〜３５℃であるのが好ましい。
具体的には、例えば、５０ｇ／Ｌ、４０℃のリン酸水溶液、０．５ｇ／Ｌ、３０℃の水酸化ナトリウム水溶液、０．５ｇ／Ｌ、３０℃の水酸化カリウム水溶液等が好適に用いられる。
酸水溶液またはアルカリ水溶液への浸せき時間は、８〜６０分であるのが好ましく、１０〜５０分であるのがより好ましく、１５〜３０分であるのが更に好ましい。
＜その他の処理＞
本発明の微細構造体は、必要に応じて、その他の処理を施すことができる。
例えば、本発明の製造方法で得られた微細構造体を試料台にして、水溶液を垂らして膜状にしたい場合には、水との接触角を小さくするために、親水化処理を施してもよい。親水化処理は、従来公知の方法により施すことができる。
本発明の微細構造体は、必要に応じて、その他の処理を施すことができる。
例えば、本発明の製造方法で得られた微細構造体を試料台にして、水溶液を垂らして膜状にしたい場合には、水との接触角を小さくするために、親水化処理を施してもよい。親水化処理は、従来公知の方法により施すことができる。
また、本発明の製造方法で得られた微細構造体を試料台にして、酸で変性し、または分解されるタンパク質を対象とする場合には、陽極酸化処理に用いられ、アルミニウム表面に残留している酸を中和するために、中和処理を施してもよい。中和処理は、従来公知の方法により施すことができる。
更に、本発明の微細構造体は、用途に応じて、アルミニウム基板を除去することもできる。
アルミニウム基板を除去する方法は、特に限定されないが、例えば、アルミナが難溶または不溶であり、アルミニウムが可溶である溶剤に浸せきさせる方法が好ましい。
溶剤としては、具体的には、例えば、臭素、ヨウ素などのハロゲン溶剤；希硫酸、リン酸、シュウ酸、スルファミン酸、ベンゼンスルホン酸、アミドスルホン酸などの酸性溶剤；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウムなどのアルカリ性溶剤；等が好適に例示される。中でも、臭素、ヨウ素が好ましい。
アルミニウム基板を除去する方法は、特に限定されないが、例えば、アルミナが難溶または不溶であり、アルミニウムが可溶である溶剤に浸せきさせる方法が好ましい。
溶剤としては、具体的には、例えば、臭素、ヨウ素などのハロゲン溶剤；希硫酸、リン酸、シュウ酸、スルファミン酸、ベンゼンスルホン酸、アミドスルホン酸などの酸性溶剤；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウムなどのアルカリ性溶剤；等が好適に例示される。中でも、臭素、ヨウ素が好ましい。
本発明の微細構造体は、用途に応じて、陽極酸化皮膜のマイクロポアに触媒を担持することもできる。
本発明においては、上記触媒は触媒機能を有するものであれば特に限定されないが、その具体例としては、ＡｌＣｌ3、ＡｌＢｒ3、Ａｌ2Ｏ3、ＳｉＯ2、ＳｉＯ2−Ａｌ2Ｏ3、Ｓｉゼオライト、ＳｉＯ2−ＮｉＯ、活性炭、ＰｂＯ／Ａｌ2Ｏ3、ＬａＣｏＯ3、Ｈ3ＰＯ4、Ｈ4Ｐ2Ｏ7、Ｂｉ2Ｏ3−ＭｏＯ3、Ｓｂ2Ｏ5、ＳｂＯ5−Ｆｅ2Ｏ3、ＳｎＯ2−Ｓｂ2Ｏ5、Ｃｕ、ＣｕＯ2−Ｃｒ2Ｏ3、Ｃｕ−Ｃｒ2Ｏ3−ＺｎＯ、Ｃｕ／ＳｉＯ2、ＣｕＣｌ2、Ａｇ／α−Ａｌ2Ｏ3、Ａｕ、ＺｎＯ、ＺｎＯ−Ｃｒ2Ｏ3、ＺｎＣｌ2、ＺｎＯ−Ａｌ2Ｏ3−ＣａＯ、ＴｉＯ2、ＴｉＣｌ4・Ａｌ（Ｃ2Ｈ5）3、Ｐｔ／ＴｉＯ2、Ｖ2Ｏ5、Ｖ2Ｏ5−Ｐ2Ｏ5、Ｖ2Ｏ5／ＴｉＯ2、Ｃｒ2Ｏ3、Ｃｒ2Ｏ3／Ａｌ2Ｏ3、ＭｏＯ3、ＭｏＯ3−ＳｎＯ2、Ｃｏ・Ｍｏ／Ａｌ2Ｏ3、Ｎｉ・Ｍｏ／Ａｌ2Ｏ3、ＭｏＳ2、Ｍｏ−Ｂｉ−Ｏ、ＭｏＯ3−Ｆｅ2Ｏ3、Ｈ3ＰＭｏ12Ｏ40、ＷＯ3、Ｈ3ＰＷ12Ｏ40、ＭｎＯ2、Ｆｅ−Ｋ2Ｏ−Ａｌ2Ｏ3、Ｆｅ2Ｏ3−Ｃｒ2Ｏ3、Ｆｅ2Ｏ3−Ｃｒ2Ｏ3−Ｋ2Ｏ、Ｆｅ2Ｏ3、Ｃｏ、Ｃｏ／活性炭、Ｃｏ3Ｏ4、Ｃｏカルボニル錯体、Ｎｉ、ＲａｎｅｙＮｉ、Ｎｉ／担体、修飾Ｎｉ、Ｐｔ、Ｐｔ／Ａｌ2Ｏ3、Ｐｔ−Ｒｈ−Ｐｄ／担体、Ｐｄ、Ｐｄ／ＳｉＯ2、Ｐｄ／Ａｌ2Ｏ3、ＰｄＣｌ2−ＣｕＣｌ2、Ｒｅ、Ｒｅ−Ｐｔ／Ａｌ2Ｏ3、Ｒｅ2Ｏ7／Ａｌ2Ｏ3、Ｒｕ、Ｒｕ／Ａｌ2Ｏ3、Ｒｈ、Ｒｈ錯体等が挙げられる。
本発明においては、上記触媒は触媒機能を有するものであれば特に限定されないが、その具体例としては、ＡｌＣｌ3、ＡｌＢｒ3、Ａｌ2Ｏ3、ＳｉＯ2、ＳｉＯ2−Ａｌ2Ｏ3、Ｓｉゼオライト、ＳｉＯ2−ＮｉＯ、活性炭、ＰｂＯ／Ａｌ2Ｏ3、ＬａＣｏＯ3、Ｈ3ＰＯ4、Ｈ4Ｐ2Ｏ7、Ｂｉ2Ｏ3−ＭｏＯ3、Ｓｂ2Ｏ5、ＳｂＯ5−Ｆｅ2Ｏ3、ＳｎＯ2−Ｓｂ2Ｏ5、Ｃｕ、ＣｕＯ2−Ｃｒ2Ｏ3、Ｃｕ−Ｃｒ2Ｏ3−ＺｎＯ、Ｃｕ／ＳｉＯ2、ＣｕＣｌ2、Ａｇ／α−Ａｌ2Ｏ3、Ａｕ、ＺｎＯ、ＺｎＯ−Ｃｒ2Ｏ3、ＺｎＣｌ2、ＺｎＯ−Ａｌ2Ｏ3−ＣａＯ、ＴｉＯ2、ＴｉＣｌ4・Ａｌ（Ｃ2Ｈ5）3、Ｐｔ／ＴｉＯ2、Ｖ2Ｏ5、Ｖ2Ｏ5−Ｐ2Ｏ5、Ｖ2Ｏ5／ＴｉＯ2、Ｃｒ2Ｏ3、Ｃｒ2Ｏ3／Ａｌ2Ｏ3、ＭｏＯ3、ＭｏＯ3−ＳｎＯ2、Ｃｏ・Ｍｏ／Ａｌ2Ｏ3、Ｎｉ・Ｍｏ／Ａｌ2Ｏ3、ＭｏＳ2、Ｍｏ−Ｂｉ−Ｏ、ＭｏＯ3−Ｆｅ2Ｏ3、Ｈ3ＰＭｏ12Ｏ40、ＷＯ3、Ｈ3ＰＷ12Ｏ40、ＭｎＯ2、Ｆｅ−Ｋ2Ｏ−Ａｌ2Ｏ3、Ｆｅ2Ｏ3−Ｃｒ2Ｏ3、Ｆｅ2Ｏ3−Ｃｒ2Ｏ3−Ｋ2Ｏ、Ｆｅ2Ｏ3、Ｃｏ、Ｃｏ／活性炭、Ｃｏ3Ｏ4、Ｃｏカルボニル錯体、Ｎｉ、ＲａｎｅｙＮｉ、Ｎｉ／担体、修飾Ｎｉ、Ｐｔ、Ｐｔ／Ａｌ2Ｏ3、Ｐｔ−Ｒｈ−Ｐｄ／担体、Ｐｄ、Ｐｄ／ＳｉＯ2、Ｐｄ／Ａｌ2Ｏ3、ＰｄＣｌ2−ＣｕＣｌ2、Ｒｅ、Ｒｅ−Ｐｔ／Ａｌ2Ｏ3、Ｒｅ2Ｏ7／Ａｌ2Ｏ3、Ｒｕ、Ｒｕ／Ａｌ2Ｏ3、Ｒｈ、Ｒｈ錯体等が挙げられる。
触媒の担持方法は、特に限定されず、従来公知の方法を用いることができる。
例えば、電着法；触媒粒子の分散液を、陽極酸化皮膜を有するアルミニウム部材に塗布し乾燥させる方法；等が好適に挙げられる。触媒は、単一粒子または凝集体であるのが好ましい。
例えば、電着法；触媒粒子の分散液を、陽極酸化皮膜を有するアルミニウム部材に塗布し乾燥させる方法；等が好適に挙げられる。触媒は、単一粒子または凝集体であるのが好ましい。
電着法としては、従来公知の方法を用いることができる。具体的には、例えば、金電着法の場合、１ｇ／ＬのＨＡｕＣｌ4と７ｇ／ＬのＨ2ＳＯ4を含有する３０℃の分散液に、アルミニウム部材を浸せきさせ、１１Ｖの定電圧（スライダックで調整）で、５〜６分間電着処理する方法が挙げられる。
また、電着法としては、現代化学，１９９７年１月号，ｐ．５１−５４に銅、スズおよびニッケルを用いた例が詳細に記載されており、この方法を用いることもできる。
また、電着法としては、現代化学，１９９７年１月号，ｐ．５１−５４に銅、スズおよびニッケルを用いた例が詳細に記載されており、この方法を用いることもできる。
触媒粒子を用いる方法に用いられる分散液は、従来公知の方法により得ることができる。例えば、低真空蒸発法による微粒子の作製方法、触媒塩の水溶液を還元する触媒コロイド作製方法により得ることができる。
触媒コロイド粒子は、平均粒径が１〜２００ｎｍであるのが好ましく、１〜１００ｎｍであるのがより好ましく、２〜８０ｎｍであるのが更に好ましい。
分散液に用いられる分散媒としては、水が好適に用いられる。また、水と混合しうる溶剤、例えば、エチルアルコール、ｎ−プロピルアルコール、ｉ−プロピルアルコール、１−ブチルアルコール、２−ブチルアルコール、ｔ−ブチルアルコール、メチルセルソルブ、ブチルセルソルブ等のアルコールと、水との混合溶媒も用いることができる。
触媒コロイド粒子は、平均粒径が１〜２００ｎｍであるのが好ましく、１〜１００ｎｍであるのがより好ましく、２〜８０ｎｍであるのが更に好ましい。
分散液に用いられる分散媒としては、水が好適に用いられる。また、水と混合しうる溶剤、例えば、エチルアルコール、ｎ−プロピルアルコール、ｉ−プロピルアルコール、１−ブチルアルコール、２−ブチルアルコール、ｔ−ブチルアルコール、メチルセルソルブ、ブチルセルソルブ等のアルコールと、水との混合溶媒も用いることができる。
触媒コロイド粒子を用いる方法において、塗布方法は特に限定されず、例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、浸せき塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等が挙げられる。
触媒コロイド粒子を用いる方法に用いられる分散液としては、例えば、金コロイド粒子の分散液、銀コロイド粒子の分散液が好適に用いられる。
金コロイド粒子の分散液としては、例えば、特開平２００１−８９１４０号公報および特開平１１−８０６４７号公報に記載されているものを用いることができる。また、市販品を用いることもできる。
銀コロイド粒子の分散液は、陽極酸化皮膜から溶出する酸によって影響を受けない点で、銀とパラジウムの合金の粒子を含有するのが好ましい。この場合、パラジウムの含有量は、５〜３０質量％であるのが好ましい。
金コロイド粒子の分散液としては、例えば、特開平２００１−８９１４０号公報および特開平１１−８０６４７号公報に記載されているものを用いることができる。また、市販品を用いることもできる。
銀コロイド粒子の分散液は、陽極酸化皮膜から溶出する酸によって影響を受けない点で、銀とパラジウムの合金の粒子を含有するのが好ましい。この場合、パラジウムの含有量は、５〜３０質量％であるのが好ましい。
分散液を塗布した後、水等の溶媒を用いて適宜洗浄する。これにより、マイクロポアに担持された触媒粒子のみ陽極酸化皮膜に残存し、マイクロポアに充填されなかった触媒粒子は除去される。
担持処理後の触媒の付着量は、１０〜１０００ｍｇ／ｍ2であるのが好ましく、５０〜８００ｍｇ／ｍ2であるのがより好ましく、１００〜５００ｍｇ／ｍ2であるのが特に好ましい。
また、担持処理後の表面空隙率は、７０％以下であるのが好ましく、５０％以下であるのがさらに好ましく、３０％以下であるのが特に好ましい。担持処理後の表面空隙率は、アルミニウム表面の面積に対する担持されていないマイクロポアの開口部の面積の合計の割合である。
また、担持処理後の表面空隙率は、７０％以下であるのが好ましく、５０％以下であるのがさらに好ましく、３０％以下であるのが特に好ましい。担持処理後の表面空隙率は、アルミニウム表面の面積に対する担持されていないマイクロポアの開口部の面積の合計の割合である。
分散液に用いられる触媒コロイド粒子は、通常、粒径分布のばらつきが変動係数で１０〜２０％程度である。本発明においては、ポア径のばらつきを特定の範囲にすることにより、粒径分布にばらつきのあるコロイド粒子を効率よく封孔に用いることができる。
ポア径が５０ｎｍ以上である場合は、触媒コロイド粒子を用いる方法が好適に用いられる。また、ポア径が５０ｎｍ未満である場合は、電着法が好適に用いられる。両者を組み合わせる方法も好適に用いられる。
本発明の微細構造体は、規則的な配列を有するマイクロポアを有するため、種々の用途に応用することができる。
以下に実施例を示して本発明を具体的に説明する。ただし、本発明はこれらに限定されない。
１．微細構造体の作製
（実施例１〜１８、比較例１および２）
第１表に示されるように、基板に、鏡面仕上げ処理、陽極酸化処理、皮膜溶解処理、再陽極酸化処理およびポアワイド処理を順次施して、各微細構造体を得た。なお、第１表中、「−」は該当する処理を施していないことを示す。
１．微細構造体の作製
（実施例１〜１８、比較例１および２）
第１表に示されるように、基板に、鏡面仕上げ処理、陽極酸化処理、皮膜溶解処理、再陽極酸化処理およびポアワイド処理を順次施して、各微細構造体を得た。なお、第１表中、「−」は該当する処理を施していないことを示す。
以下、基板および各処理について説明する。
（１）基板
微細構造体の作製に用いた基板は、以下のとおりである。これらを１０ｃｍ四方の面積で陽極酸化処理できるようカットして使用した。
・基板１：高純度アルミニウム、和光純薬工業社製、純度９９．９９質量％、厚さ０．４ｍｍ
・基板２：表面層Ａを設けたアルミニウムＪＩＳ Ａ１０５０材、日本軽金属社製、純度９９．５質量％、厚さ０．２４ｍｍ
・基板３：表面層Ｂを設けたアルミニウムＪＩＳ Ａ１０５０材、日本軽金属社製、純度９９．５質量％、厚さ０．２４ｍｍ
・基板４：アルミニウムＪＩＳ Ａ１０５０材、日本軽金属社製、純度９９．５質量％、厚さ０．３０ｍｍ
・基板５：表面層Ｃを設けたアルミニウムＪＩＳ Ａ１０５０材、日本軽金属社製、純度９９．５質量％、厚さ０．３０ｍｍ
・基板６：表面層Ｄを設けたアルミニウムＪＩＳ Ａ１０５０材、日本軽金属社製、純度９９．５質量％、厚さ０．３０ｍｍ
微細構造体の作製に用いた基板は、以下のとおりである。これらを１０ｃｍ四方の面積で陽極酸化処理できるようカットして使用した。
・基板１：高純度アルミニウム、和光純薬工業社製、純度９９．９９質量％、厚さ０．４ｍｍ
・基板２：表面層Ａを設けたアルミニウムＪＩＳ Ａ１０５０材、日本軽金属社製、純度９９．５質量％、厚さ０．２４ｍｍ
・基板３：表面層Ｂを設けたアルミニウムＪＩＳ Ａ１０５０材、日本軽金属社製、純度９９．５質量％、厚さ０．２４ｍｍ
・基板４：アルミニウムＪＩＳ Ａ１０５０材、日本軽金属社製、純度９９．５質量％、厚さ０．３０ｍｍ
・基板５：表面層Ｃを設けたアルミニウムＪＩＳ Ａ１０５０材、日本軽金属社製、純度９９．５質量％、厚さ０．３０ｍｍ
・基板６：表面層Ｄを設けたアルミニウムＪＩＳ Ａ１０５０材、日本軽金属社製、純度９９．５質量％、厚さ０．３０ｍｍ
・基板７：アルミニウム蒸着フィルム、トレファンＡＴ８０、東レ社製、純度９９．９質量％、厚さ０．０２ｍｍ
・基板８：表面層Ａを設けたアルミニウムＸＬ無処理材、住友軽金属工業社製、純度９９．３質量％、厚さ０．３０ｍｍ
・基板９：表面層Ｅを設けたガラス、アズワン社製、純度９９．９質量％、厚さ５ｍｍ
・基板１０：表面層Ｅを設けたシリコンウエハー、信越化学工業社製、純度９９．９９質量％以上
・基板１１：表面層Ｅを設けた合成石英、ＶＩＯＳＩＬ−ＳＧ−２Ｂ、信越化学工業社製、純度９９．９９質量％以上、厚さ０．６ｍｍ
・基板１２：表面層Ｅを設けた銅張積層板（ＲＡＳ３３Ｓ４２、信越化学工業社製、純度不明、厚さ０．０８ｍｍ）の表面にＡｌ−Ｃｕ合金膜をスパッタリング法により設けたもの
・基板８：表面層Ａを設けたアルミニウムＸＬ無処理材、住友軽金属工業社製、純度９９．３質量％、厚さ０．３０ｍｍ
・基板９：表面層Ｅを設けたガラス、アズワン社製、純度９９．９質量％、厚さ５ｍｍ
・基板１０：表面層Ｅを設けたシリコンウエハー、信越化学工業社製、純度９９．９９質量％以上
・基板１１：表面層Ｅを設けた合成石英、ＶＩＯＳＩＬ−ＳＧ−２Ｂ、信越化学工業社製、純度９９．９９質量％以上、厚さ０．６ｍｍ
・基板１２：表面層Ｅを設けた銅張積層板（ＲＡＳ３３Ｓ４２、信越化学工業社製、純度不明、厚さ０．０８ｍｍ）の表面にＡｌ−Ｃｕ合金膜をスパッタリング法により設けたもの
なお、上記アルミニウムＪＩＳ Ａ１０５０材は、縦方向の正反射率４０％（標準偏差１０％）、横方向の正反射率１５％（標準偏差１０％）、純度９９．５質量％（標準偏差０．１質量％）であった。
また、上記アルミニウムＸＬ無処理材は、縦方向の正反射率８５％（標準偏差５％）、横方向の正反射率８３％（標準偏差５％）、純度９９．３質量％（標準偏差０．１質量％）であった。
また、上記アルミニウムＸＬ無処理材は、縦方向の正反射率８５％（標準偏差５％）、横方向の正反射率８３％（標準偏差５％）、純度９９．３質量％（標準偏差０．１質量％）であった。
また、表面層Ａ〜Ｅは、以下のように設けた。
表面層Ａは、到達圧力：４×１０-6Ｐａ、蒸着電流：４０Ａ、基板：１５０℃加熱、蒸着材料：純度９９．９質量％のアルミニウム線（ニラコ社製）の条件で、真空蒸着法により、基板上に形成された。表面層Ａの厚さは、０．２μｍであった。
表面層Ｂは、蒸着材料として純度９９．９９質量％のアルミニウム線（ニラコ社製）を用いた以外は、表面層Ａと同様の方法により形成された。表面層Ｂの厚さは、０．２μｍであった。
表面層Ｃは、到達圧力：４×１０-6Ｐａ、スパッタ圧力：１０-2Ｐａ、アルゴン流量：２０ｓｃｃｍ、基板：１５０℃制御（冷却有り）、バイアス：なし、スパッタ電源：ＲＣ、スパッタ電力：ＲＦ４００Ｗ、スパッタ材料：純度９９．９質量％の３Ｎバッキングプレート（協同インターナショナル社製）の条件で、スパッタリング法により、基板上に形成された。表面層Ｃの厚さは、０．５μｍであった。
表面層Ｄは、スパッタ材料として純度９９．９９質量％の４Ｎバッキングプレート（協同インターナショナル社製）を用いた以外は、表面層Ｃと同様の方法により形成された。表面層Ｄの厚さは、０．５μｍであった。
表面層Ｅは、厚さを１μｍとした以外は、表面層Ａと同様の方法により形成された。
表面層Ａは、到達圧力：４×１０-6Ｐａ、蒸着電流：４０Ａ、基板：１５０℃加熱、蒸着材料：純度９９．９質量％のアルミニウム線（ニラコ社製）の条件で、真空蒸着法により、基板上に形成された。表面層Ａの厚さは、０．２μｍであった。
表面層Ｂは、蒸着材料として純度９９．９９質量％のアルミニウム線（ニラコ社製）を用いた以外は、表面層Ａと同様の方法により形成された。表面層Ｂの厚さは、０．２μｍであった。
表面層Ｃは、到達圧力：４×１０-6Ｐａ、スパッタ圧力：１０-2Ｐａ、アルゴン流量：２０ｓｃｃｍ、基板：１５０℃制御（冷却有り）、バイアス：なし、スパッタ電源：ＲＣ、スパッタ電力：ＲＦ４００Ｗ、スパッタ材料：純度９９．９質量％の３Ｎバッキングプレート（協同インターナショナル社製）の条件で、スパッタリング法により、基板上に形成された。表面層Ｃの厚さは、０．５μｍであった。
表面層Ｄは、スパッタ材料として純度９９．９９質量％の４Ｎバッキングプレート（協同インターナショナル社製）を用いた以外は、表面層Ｃと同様の方法により形成された。表面層Ｄの厚さは、０．５μｍであった。
表面層Ｅは、厚さを１μｍとした以外は、表面層Ａと同様の方法により形成された。
なお、表面層の厚さは、ＰＥＴ基板にマスキングを施して、上記と同様の条件で、真空蒸着法およびスパッタリング法を時間を変化させて行い、原子間力顕微鏡（Ａｔｏｍｉｃ Ｆｏｒｃｅ Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ：ＡＦＭ）でそれぞれの膜厚を測定することにより得られた時間と膜厚との相関検量線を用い、時間を調整することにより、調整した。
また、表面層の純度は、走査型Ｘ線光電子分光分析装置（Ｑｕａｎｔｕｍ ２０００、アルバック・ファイ社製）を用いて、エッチング用イオン銃で深さ方向に掘りながら全定量分析を行い、異種金属元素の含有率を検量線法によって定量して求めた。その結果、いずれの表面層も、蒸着材料またはスパッタ材料の純度とほぼ同一の純度であった。
また、表面層の純度は、走査型Ｘ線光電子分光分析装置（Ｑｕａｎｔｕｍ ２０００、アルバック・ファイ社製）を用いて、エッチング用イオン銃で深さ方向に掘りながら全定量分析を行い、異種金属元素の含有率を検量線法によって定量して求めた。その結果、いずれの表面層も、蒸着材料またはスパッタ材料の純度とほぼ同一の純度であった。
（２）鏡面仕上げ処理
上記基板１〜１２のうち、基板１〜６については、以下の鏡面仕上げ処理を施した。
＜鏡面仕上げ処理＞
研磨布を用いた研磨、バフ研磨および電解研磨をこの順に行うことにより、鏡面仕上げ処理を施した。バフ研磨後には水洗を行った。
研磨布を用いた研磨は、研磨盤（Ｓｔｒｕｅｒｓ Ａｂｒａｍｉｎ、丸本工業社製）および耐水研磨布（市販品）を用い、耐水研磨布の番手を＃２００、＃５００、＃８００、＃１０００および＃１５００の順に変更しつつ行った。
バフ研磨は、スラリー状研磨剤（ＦＭ Ｎｏ．３（平均粒径１μｍ）およびＦＭ Ｎｏ．４（平均粒径０．３μｍ）、いずれもフジミインコーポレーテッド社製）を用いて行った。
電解研磨は、下記組成の電解液（温度７０℃）を用いて、陽極を基板、陰極をカーボン電極とし、１３０ｍＡ／ｃｍ2の定電流で、２分間行った。電源としては、ＧＰ０１１０−３０Ｒ（高砂製作所社製）を用いた。
上記基板１〜１２のうち、基板１〜６については、以下の鏡面仕上げ処理を施した。
＜鏡面仕上げ処理＞
研磨布を用いた研磨、バフ研磨および電解研磨をこの順に行うことにより、鏡面仕上げ処理を施した。バフ研磨後には水洗を行った。
研磨布を用いた研磨は、研磨盤（Ｓｔｒｕｅｒｓ Ａｂｒａｍｉｎ、丸本工業社製）および耐水研磨布（市販品）を用い、耐水研磨布の番手を＃２００、＃５００、＃８００、＃１０００および＃１５００の順に変更しつつ行った。
バフ研磨は、スラリー状研磨剤（ＦＭ Ｎｏ．３（平均粒径１μｍ）およびＦＭ Ｎｏ．４（平均粒径０．３μｍ）、いずれもフジミインコーポレーテッド社製）を用いて行った。
電解研磨は、下記組成の電解液（温度７０℃）を用いて、陽極を基板、陰極をカーボン電極とし、１３０ｍＡ／ｃｍ2の定電流で、２分間行った。電源としては、ＧＰ０１１０−３０Ｒ（高砂製作所社製）を用いた。
＜電解液組成＞
・８５質量％リン酸（和光純薬社製試薬） ６６０ｍＬ
・純水 １６０ｍＬ
・硫酸 １５０ｍＬ
・エチレングリコール ３０ｍＬ
・８５質量％リン酸（和光純薬社製試薬） ６６０ｍＬ
・純水 １６０ｍＬ
・硫酸 １５０ｍＬ
・エチレングリコール ３０ｍＬ
（３）陽極酸化処理
鏡面仕上げ処理を施した基板１〜６および鏡面仕上げ処理を施していない基板７〜１２の表面に、第１表に示される条件で、陽極酸化処理を行った。
第１表に示される陽極酸化処理条件の内容は、具体的には、第２表に示されている。即ち、電解液中に基板を浸せきさせ、第２表に示される電解液の種類、濃度、平均流速および温度、電圧、電流密度ならびに処理時間で、陽極酸化処理を行い、第２表に示される皮膜量および膜厚の陽極酸化皮膜を形成させた。陽極酸化処理においては、冷却装置としてＮｅｏＣｏｏｌ ＢＤ３６（ヤマト科学社製）、かくはん加温装置としてペアスターラー ＰＳ−１００（ＥＹＥＬＡ社製）、電源としてＧＰ０６５０−２Ｒ（高砂製作所社製）を用いた。また、電解液の平均流速は、渦式フローモニターＦＬＭ２２−１０ＰＣＷ（ＡＳ ＯＮＥ製）を用いて測定した。
陽極酸化皮膜の皮膜量および膜厚を以下の方法により測定し、第２表に示した。
皮膜量は、各条件による陽極酸化処理の後、下記組成の処理液（５０℃）に、１２時間浸漬させ、浸漬前後の質量の差（減少量）から算出した。
一方、膜厚は、渦電流式膜厚計（ＥＤＹ−１０００、（株）サンコウ電子研究所製）を用いて測定した。
＜処理液組成＞
・純水 １５００ｇ
・８５質量％リン酸 １００ｇ
・無水クロム酸 ３０ｇ
鏡面仕上げ処理を施した基板１〜６および鏡面仕上げ処理を施していない基板７〜１２の表面に、第１表に示される条件で、陽極酸化処理を行った。
第１表に示される陽極酸化処理条件の内容は、具体的には、第２表に示されている。即ち、電解液中に基板を浸せきさせ、第２表に示される電解液の種類、濃度、平均流速および温度、電圧、電流密度ならびに処理時間で、陽極酸化処理を行い、第２表に示される皮膜量および膜厚の陽極酸化皮膜を形成させた。陽極酸化処理においては、冷却装置としてＮｅｏＣｏｏｌ ＢＤ３６（ヤマト科学社製）、かくはん加温装置としてペアスターラー ＰＳ−１００（ＥＹＥＬＡ社製）、電源としてＧＰ０６５０−２Ｒ（高砂製作所社製）を用いた。また、電解液の平均流速は、渦式フローモニターＦＬＭ２２−１０ＰＣＷ（ＡＳ ＯＮＥ製）を用いて測定した。
陽極酸化皮膜の皮膜量および膜厚を以下の方法により測定し、第２表に示した。
皮膜量は、各条件による陽極酸化処理の後、下記組成の処理液（５０℃）に、１２時間浸漬させ、浸漬前後の質量の差（減少量）から算出した。
一方、膜厚は、渦電流式膜厚計（ＥＤＹ−１０００、（株）サンコウ電子研究所製）を用いて測定した。
＜処理液組成＞
・純水 １５００ｇ
・８５質量％リン酸 １００ｇ
・無水クロム酸 ３０ｇ
第２表中、リン酸、シュウ酸および硫酸は、いずれも関東化学社製の試薬を用いた。電流密度は安定時の値を示した。
（４）皮膜溶解処理
陽極酸化処理を施した基板１〜１２の表面に、第１表に示される条件で、皮膜溶解処理を行った。
第１表に示される皮膜溶解処理条件の内容は、具体的には、第３表に示されている。即ち、第３表に示される組成および温度の処理液に、陽極酸化皮膜を有するアルミニウム部材を第３表に示される時間浸せきさせ、第３表に示される溶解量（溶解前の陽極酸化皮膜の皮膜量に対する質量％）を溶解させた。
なお、処理液の粘度は、２５℃１気圧の条件下でウベローデ粘度計管を用いて測定された。
陽極酸化処理を施した基板１〜１２の表面に、第１表に示される条件で、皮膜溶解処理を行った。
第１表に示される皮膜溶解処理条件の内容は、具体的には、第３表に示されている。即ち、第３表に示される組成および温度の処理液に、陽極酸化皮膜を有するアルミニウム部材を第３表に示される時間浸せきさせ、第３表に示される溶解量（溶解前の陽極酸化皮膜の皮膜量に対する質量％）を溶解させた。
なお、処理液の粘度は、２５℃１気圧の条件下でウベローデ粘度計管を用いて測定された。
表３中、８５質量％リン酸および無水クロム酸、その他ポリマー等は、いずれも関東化学社製の試薬を用いた。
（５）再陽極酸化処理
皮膜溶解処理により陽極酸化皮膜を全部除去した比較例１については、皮膜溶解処理後、第１表に示される条件で、再陽極酸化処理を施した。
第１表に示される再陽極酸化処理条件の内容は、具体的には、第４表に示されている。即ち、電解液中に皮膜溶解処理後のアルミニウム部材を浸せきさせ、第４表に示される電解液の種類、濃度および温度、１回目の電圧ならびに回数で、複数回、電解処理を施すことにより行った。電解処理を複数回行う際、１回目は、定電圧の初期設定値Ｖ0に到達したら電解を中断し、２回目は、定電圧の初期設定値０．９×Ｖ0に到達したら電解を中断し、３回目は、定電圧の初期設定値０．８×Ｖ0に到達したら電解を中断するというように、ｎ回目は、定電圧の初期設定値｛１−０．１×（ｎ−１）｝×Ｖ0に到達したら電解を中断することを複数回繰り返した。
陽極酸化皮膜の膜厚を上記と同様の方法により測定し、増加分を第４表に示した。
皮膜溶解処理により陽極酸化皮膜を全部除去した比較例１については、皮膜溶解処理後、第１表に示される条件で、再陽極酸化処理を施した。
第１表に示される再陽極酸化処理条件の内容は、具体的には、第４表に示されている。即ち、電解液中に皮膜溶解処理後のアルミニウム部材を浸せきさせ、第４表に示される電解液の種類、濃度および温度、１回目の電圧ならびに回数で、複数回、電解処理を施すことにより行った。電解処理を複数回行う際、１回目は、定電圧の初期設定値Ｖ0に到達したら電解を中断し、２回目は、定電圧の初期設定値０．９×Ｖ0に到達したら電解を中断し、３回目は、定電圧の初期設定値０．８×Ｖ0に到達したら電解を中断するというように、ｎ回目は、定電圧の初期設定値｛１−０．１×（ｎ−１）｝×Ｖ0に到達したら電解を中断することを複数回繰り返した。
陽極酸化皮膜の膜厚を上記と同様の方法により測定し、増加分を第４表に示した。
（６）ポアワイド処理
皮膜溶解処理後（比較例１については再陽極酸化処理後。以下、本段落において同様。）、第１表に示される条件で、ポアワイド処理を施した。
第１表に示されるポアワイド処理条件の内容は、具体的には、第５表に示されている。即ち、第５表に示される種類、濃度および温度の処理液に、皮膜溶解処理後のアルミニウム部材を第５表に示される時間浸せきさせた。
皮膜溶解処理後（比較例１については再陽極酸化処理後。以下、本段落において同様。）、第１表に示される条件で、ポアワイド処理を施した。
第１表に示されるポアワイド処理条件の内容は、具体的には、第５表に示されている。即ち、第５表に示される種類、濃度および温度の処理液に、皮膜溶解処理後のアルミニウム部材を第５表に示される時間浸せきさせた。
２．微細構造体の性状
上記で得られた微細構造体についてＦＥ−ＳＥＭにより表面写真（倍率２００００倍）を撮影し、１００ｎｍ×１００ｎｍの視野で、マイクロポアについて上記式（１）により定義される規則化度を測定した。規則化度の測定は、１０箇所において行い、平均値を算出した。結果を第１表に示す。
上記で得られた微細構造体についてＦＥ−ＳＥＭにより表面写真（倍率２００００倍）を撮影し、１００ｎｍ×１００ｎｍの視野で、マイクロポアについて上記式（１）により定義される規則化度を測定した。規則化度の測定は、１０箇所において行い、平均値を算出した。結果を第１表に示す。
３．総処理時間等
上記で得られた各微細構造体の総処理時間を計測した。結果を６価クロム酸化合物の使用の有無とともに第６表に示す。なお、第６表中、６価クロム酸化合物を使用しない場合を「○」と表記し、使用する場合を「×」と表記した。
上記で得られた各微細構造体の総処理時間を計測した。結果を６価クロム酸化合物の使用の有無とともに第６表に示す。なお、第６表中、６価クロム酸化合物を使用しない場合を「○」と表記し、使用する場合を「×」と表記した。
第６表から明らかなように、本発明の微細構造体の製造方法（実施例１〜１８）は、毒性の高い６価クロム酸化合物を用いずに、製造処理時間が短く、安全に微細構造体を得ることができ、また、６価クロム酸化合物を使用する場合（比較例２）と同じ程度にポアの配列の規則性が高い微細構造体を得ることができる。
１、２、４、５、７、８、１６ａ、１６ｂ マイクロポア
３、６、９ 円
１０ａ、１０ｂ アルミニウム部材
１２ａ アルミニウム基板
１４ａ、１４ｂ 陽極酸化皮膜
２０ 微細構造体
３、６、９ 円
１０ａ、１０ｂ アルミニウム部材
１２ａ アルミニウム基板
１４ａ、１４ｂ 陽極酸化皮膜
２０ 微細構造体
Claims (4)
- アルミニウム基板と、前記アルミニウム基板の表面に存在する、マイクロポアを有する陽極酸化皮膜とを有するアルミニウム部材に、少なくとも、
２５℃１気圧下における粘度が０．０５〜１００．０Ｐａ・ｓである溶液を用いて、前記陽極酸化皮膜の一部を溶解する皮膜溶解処理を施して、表面にマイクロポアを有する微細構造体を得る、微細構造体の製造方法。 - 前記アルミニウム部材が、前記アルミニウム基板の表面に、１０〜２０００ｇ／ｍ2の陽極酸化皮膜を形成する陽極酸化処理を施して得られる、請求項１に記載の微細構造体の製造方法。
- 請求項１または２に記載の微細構造体の製造方法により得られる微細構造体。
- マイクロポアについて下記式（１）により定義される規則化度が５０％以上である、請求項３に記載の微細構造体。
規則化度（％）＝Ｂ／Ａ×１００ （１）
前記式（１）中、Ａは、測定範囲におけるマイクロポアの全数を表す。Ｂは、一のマイクロポアの重心を中心とし、他のマイクロポアの縁に内接する最も半径が短い円を描いた場合に、その円の内部に前記一のマイクロポア以外のマイクロポアの重心を６個含むことになる前記一のマイクロポアの測定範囲における数を表す。
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| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
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