JP2007110097A - 有機エレクトロルミネッセンス素子、有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法、表示装置及び照明装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】陰極と陽極との間に、少なくとも有機層を有する有機エレクトロルミネッセンス素子において、該有機層の少なくとも1つの層Aが、精製可能な中分子量化合物または低重合化合物を含有し、且つ、該層Aの膜密度が1.10g/cm3〜1.25g/cm3であることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。
【選択図】なし
Description
また、蒸着法による有機EL素子で見られる、キャリア注入、移動、ブロック、および発光等、それぞれの機能を分離した多層(積層構造)素子の塗布法への展開は、塗布法での発光の高効率化、長寿命化などに対する解決方法であるが、塗布法の場合、上層の塗布溶媒により下層薄膜表面に乱れが生じるため、有機EL素子に求められる積層化膜の形成はきわめて困難であった。そのため、この問題を解決し、積層するための手段や方法が強く求められている。
該有機層の少なくとも1つの層Aが、精製可能な中分子量化合物または低重合化合物を含有し、且つ、該層Aの膜密度が1.10g/cm3〜1.25g/cm3であることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。
該有機層の少なくとも1つの層Aが、精製可能な中分子量化合物または低重合化合物を主成分として含有し、該中分子量化合物または該低重合化合物は、少なくとも2つの重合性官能基を有する化合物または該化合物の重合体であり、且つ、該層Aの膜密度が1.10g/cm3〜1.25g/cm3であることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。
4.前記有機層の少なくとも1つの層Aが、塗布により形成される工程を経て作製されたことを特徴とする前記1〜3のいずれか1項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
6.前記低重合化合物が、下記一般式(2)または(3)を繰り返し単位として有する重合体であることを特徴とする前記1〜4のいずれか1項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
7.前記Zが、下記一般式(a)及び下記一般式(b)で表される正孔輸送性化合物群から選択される化合物から導出される残基を有することを特徴とする前記5または6に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
8.前記Zが、下記一般式(c)、(d)及び(e)で表される電子輸送性化合物群から選択される化合物から導出される残基を有することを特徴とする前記5〜7のいずれか1項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
9.前記Zが、下記一般式(f)及び(g)で表される部分構造群から選択される部分構造を有する残基であり、且つ、該残基が、リン光発光性を分子に付与可能であることを特徴とする前記5〜8のいずれか1項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
10.前記有機層の少なくとも一層が、リン光性発光材料を含むことを特徴とする前記1〜7のいずれか1項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
本発明に係る、精製可能な中分子量化合物について説明する。
本発明の有機EL素子に係る一般式(1)で表される化合物について説明する。
(態様2)前記一般式(c)、(d)び及(e)で表される電子輸送性化合物群から選択される化合物から導出される残基を有する場合、
(態様3)前記一般式(f)及び(g)で表される部分構造群から選択される部分構造を有する残基であり、且つ、該残基が、リン光発光性を分子に付与可能である場合、
等が挙げられる。
上記の一般式(1)で表される部分構造を有する化合物、前記一般式(a)及び(b)で表される正孔輸送性化合物群から選択される化合物から導出される残基、前記一般式(c)、(d)び及(e)で表される電子輸送性化合物群から選択される化合物から導出される残基、前記一般式(f)及び(g)で表される部分構造群から選択される部分構造を有する残基は、更に、各々後述する置換基を有してもよく、置換基としては、アルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基等)、シクロアルキル基(例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等)、アルケニル基(例えば、ビニル基、アリル基等)、アルキニル基(例えば、エチニル基、プロパルギル基等)、アリール基(例えば、フェニル基、ナフチル基等)、芳香族複素環基(例えば、フリル基、チエニル基、ピリジル基、ピリダジニル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、トリアジニル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、チアゾリル基、キナゾリニル基、カルバゾリル基、カルボリニル基、ジアザカルバゾリル基(前記カルボリニル基のカルボリン環を構成する任意の炭素原子の一つが窒素原子で置き換わったものを示す)、フタラジニル基等)、複素環基(例えば、ピロリジル基、イミダゾリジル基、モルホリル基、オキサゾリジル基等)、アルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、ドデシルオキシ基等)、シクロアルコキシ基(例えば、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等)、アリールオキシ基(例えば、フェノキシ基、ナフチルオキシ基等)、アルキルチオ基(例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、オクチルチオ基、ドデシルチオ基等)、シクロアルキルチオ基(例えば、シクロペンチルチオ基、シクロヘキシルチオ基等)、アリールチオ基(例えば、フェニルチオ基、ナフチルチオ基等)、アルコキシカルボニル基(例えば、メチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニル基、ブチルオキシカルボニル基、オクチルオキシカルボニル基、ドデシルオキシカルボニル基等)、アリールオキシカルボニル基(例えば、フェニルオキシカルボニル基、ナフチルオキシカルボニル基等)、スルファモイル基(例えば、アミノスルホニル基、メチルアミノスルホニル基、ジメチルアミノスルホニル基、ブチルアミノスルホニル基、ヘキシルアミノスルホニル基、シクロヘキシルアミノスルホニル基、オクチルアミノスルホニル基、ドデシルアミノスルホニル基、フェニルアミノスルホニル基、ナフチルアミノスルホニル基、2−ピリジルアミノスルホニル基等)、アシル基(例えば、アセチル基、エチルカルボニル基、プロピルカルボニル基、ペンチルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基、オクチルカルボニル基、2−エチルヘキシルカルボニル基、ドデシルカルボニル基、フェニルカルボニル基、ナフチルカルボニル基、ピリジルカルボニル基等)、アシルオキシ基(例えば、アセチルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、ブチルカルボニルオキシ基、オクチルカルボニルオキシ基、ドデシルカルボニルオキシ基、フェニルカルボニルオキシ基等)、アミド基(例えば、メチルカルボニルアミノ基、エチルカルボニルアミノ基、ジメチルカルボニルアミノ基、プロピルカルボニルアミノ基、ペンチルカルボニルアミノ基、シクロヘキシルカルボニルアミノ基、2−エチルヘキシルカルボニルアミノ基、オクチルカルボニルアミノ基、ドデシルカルボニルアミノ基、フェニルカルボニルアミノ基、ナフチルカルボニルアミノ基等)、カルバモイル基(例えば、アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、プロピルアミノカルボニル基、ペンチルアミノカルボニル基、シクロヘキシルアミノカルボニル基、オクチルアミノカルボニル基、2−エチルヘキシルアミノカルボニル基、ドデシルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基、ナフチルアミノカルボニル基、2−ピリジルアミノカルボニル基等)、ウレイド基(例えば、メチルウレイド基、エチルウレイド基、ペンチルウレイド基、シクロヘキシルウレイド基、オクチルウレイド基、ドデシルウレイド基、フェニルウレイド基ナフチルウレイド基、2−ピリジルアミノウレイド基等)、スルフィニル基(例えば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、ブチルスルフィニル基、シクロヘキシルスルフィニル基、2−エチルヘキシルスルフィニル基、ドデシルスルフィニル基、フェニルスルフィニル基、ナフチルスルフィニル基、2−ピリジルスルフィニル基等)、アルキルスルホニル基(例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ブチルスルホニル基、シクロヘキシルスルホニル基、2−エチルヘキシルスルホニル基、ドデシルスルホニル基等)、アリールスルホニル基またはヘテロアリールスルホニル基(例えば、フェニルスルホニル基、ナフチルスルホニル基、2−ピリジルスルホニル基等)、アミノ基(例えば、アミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ブチルアミノ基、シクロペンチルアミノ基、2−エチルヘキシルアミノ基、ドデシルアミノ基、アニリノ基、ナフチルアミノ基、2−ピリジルアミノ基等)、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等)、フッ化炭化水素基(例えば、フルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ペンタフルオロフェニル基等)、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、シリル基(例えば、トリメチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、トリフェニルシリル基、フェニルジエチルシリル基等)、等が挙げられる。
本発明に係る低重合化合物について説明する。
使用カラム:TSKgel SuperHM−M(排除限界:4×106)
溶媒量 :テトラヒドロフラン(THF)
測定温度 :40℃
カラム流量:0.6ml/分
検量線 :標準ポリスチレンを用いて検量線を作成した
本発明に係る低重合化合物としては、上記一般式(2)または(3)を繰り返し単位として有する重合体が好ましく用いられる。
一般式(2)において、Zで表される、蛍光発光性化合物残基、りん光発光性化合物残基は、各々、一般式(1)のZと同義である。
一般式(3)において、Arで表される二価の連結基または三価の連結基の形成に用いられる、5員〜6員の芳香族環としては、ベンゼン環、オキサゾール環、チオフェン環、フラン環、ピロール環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、トリアジン環、イミダゾール環、ピラゾール環、トリアゾール環等が挙げられる。
上記の本発明に係る中分子量化合物や低重合化合物の好ましい態様のひとつとして、少なくとも2つの重合性官能基を有する中分子量化合物や、少なくとも2つの重合性官能基を有する低重合化合物等が挙げられる。
本発明に係る有機層の膜密度の測定方法について説明する。
本発明の有機EL素子の作製方法の一例として、陽極/陽極バッファ層/正孔輸送層/発光層/正孔阻止層/電子輸送層/陰極バッファ層/陰極からなる有機EL素子の作製法について説明する。
本発明の有機EL素子は、少なくとも有機層を構成層として有するが、該有機層の少なくとも一つの層Aは、精製可能な中分子量化合物または低重合化合物を含有し、且つ、該層Aの膜密度が1.10g/cm3〜1.25g/cm3であることが特徴であるが、前記層Aの作製方法として本発明に係る塗布が好ましく用いられる。
本発明に係る非水溶媒について説明する。
本発明に係る非水分散液について説明する。
塗布液に用いる溶媒としては、特に制限はなく、適宜選択することができ、例えば、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、ジクロロベンゼン、ジクロロヘキサノン等のハロゲン系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン、n−プロピルメチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族系溶剤、酢酸エチル、酢酸n−プロピル、酢酸n−ブチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、γ−ブチロラクトン、炭酸ジエチル等のエステル系溶媒、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒、メタノール、エタノール、1−ブタノール、エチレングリコール等のアルコール系溶媒、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル系溶媒、ジメチルスルホキシド、水、これらの混合溶媒、等が挙げられる。なお、これらの中でも前記溶媒として、水、メタノール、1−ブタノール、エチレングリコール等のアルコール系溶媒、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒、これらの混合溶媒等を使用すると、親水性塗布液が得られる。
前記塗布液の粘度としては、乾燥時の塗布ムラを低減させ、且つ、乾燥膜厚の調整を容易にする観点から、0.5mPa・s〜500mPa・sが好ましく、更に、1mPa・s〜100mPa・sの範囲に調整することが好ましい。
前記塗布液の塗布方法としては、例えば、ディッピング法、スピンコーティング法、キャスティング法、ダイコート法、ロールコート法、ブレードコート法、バーコート法、グラビヤコート法等の湿式塗布法により特に好適に行うことができる。これらの中でも、塗布手段としてコータを用いて行うのが好ましく、前記コータの中でも、吐出型コータを用いて行うのが特に好ましい。
前記乾燥の条件としては、特に制限はないが、塗布形成した層が損傷しない範囲の温度、圧力等を採用することが好ましい。
Tg−A>Tg−B>Tg−C
ここで、上記主成分A、B、Cの各々のガラス転移点(Tg−A、B、C)は、従来公知の方法(DSC(示差走査熱量法:Differential Scanning Colorimetry))により求めることが出来る。
本発明に係る塗布には、有機EL素子の構成層(陽極、陰極、前記層A以外の有機層等)の成分が固形分として塗布液中に分散している分散液を用いることが出来るが、好ましくは、該固形分が塗布液中に微粒子分散している微粒子分散液の状態で塗布することが好ましい。
微粒子分散液の調製方法としては、従来公知の微粒子分散液を製造する方法を用いることができる。例えば、ホモジナイザー(高圧、超音波等)、ビーズミル、ジェットミル、アルティマイザーによる物理的な力による分散や、乳化分散等がある。上記方法に加えて、高分子材料の場合、気相重合、乳化重合、懸濁重合等の方法により、高分子微粒子を合成し、これを分散液(場合によっては、再分散が必要な場合もある)とする方法があり、本発明に係る塗布に用いることができる。
これらの方法を用いることにより、ナノサイズの粒径を持つナノ粒子を含む微粒子分散液の製造が可能であり、本発明の有機EL素子の構成層を塗布で積層する場合に有効であり、且つ、得られた素子の諸特性(輝度、発光寿命等)も極めて良好である。
微粒子分散物(単に分散物でもよい)において、分散液中における濃度の測定は、後述の方法で固形分濃度を求め、この値を分散液の濃度とした。
《有機EL素子の構成層形成への微粒子分散液の適用》
本発明に係る有機EL素子の構成層(構成層は、陽極、陰極、上記層A以外の有機層等である)の形成に微粒子分散液を用いる塗布方法を適用することについては、上記層A以外のいずれの構成層にも適用できるが、本発明に係るリン光性発光材料(リン光性発光材料については後で詳細に説明する)を微粒子分散液(微粒子分散物でもよい)として用い、本発明の有機EL素子の発光層の形成を行い、ドーパント化合物として、前記リン光性発光材料を発光層中に組み込むことが出来る。
本発明に係るリン光性発光材料としては、リン光発光性有機金属錯体が好ましく用いられる。りん光発光性有機金属錯体(リン光発光性有機金属錯体については後で詳細に説明する)を発光層形成時に微粒子分散物として用いて、発光層中にドーパントを組み込むメリットについて、本発明者等は以下のように考えている。
微粒子分散液(微粒子分散物でもよい)に含まれる、りん光発光性有機金属錯体(リン光発光性有機金属錯体については後で詳細に説明する)は、りん光発光性有機金属錯体が、包接化合物に包接され、複合体を形成していてもよい。
本発明に用いられる包接化合物について説明する。
本発明に用いられる包接とは、イオン結合力、イオン−双極子相互作用、水素結合、電荷移動相互作用、配位結合、ファンデルワールス力、π−π相互作用(πスタック)等の結合力により、包接化合物が包接される化合物(本発明では、りん光発光性有機金属錯体が包接される化合物である。)を取り囲んで、本発明の複合体を生成する現象を示す。
本発明に係るりん光発光性有機金属錯体が包接化合物に包接されて複合体を形成したか、または未包接体の状態で存在しているかの確認方法としては、従来公知の包接体の一般的な確認方法を使用することができる。
包接の度合いの算出方法としては、本発明の複合体、未包接状態の有機金属錯体の蛍光強度測定から濃度消光を示す濃度を各々測定し、濃度消光の抑制度を算出し、包接の度合いを推定した。
本発明に用いられる包接化合物とは、下記に示す包接機能を有する化合物を指し、例えば、クラウンエーテル誘導体、シクロファン誘導体、カリックスアレーン誘導体、カーボンナノチューブ誘導体、シクロデキストリン誘導体、シクロトリフォスファゼン誘導体、クリプタンド誘導体、ポタンド誘導体等があげられるが、中でも、カリックスアレーン誘導体、クラウンエーテル誘導体、シクロデキストリン誘導体が好ましく、更に好ましくは、カリックスアレーン誘導体、クラウンエーテル誘導体が挙げられる。
本発明に用いられるカリックスアレーン誘導体とは、下記一般式(A)で表されるように、フェノール誘導体をアルキレン基またはオキシアルキレン基で結合した環状構造を有する化合物の総称を表し、また、分子内のフェノール性水酸基は置換基で置換されていて構わない。
本発明に用いられるクラウンエーテル誘導体とは、下記一般式(B)または一般式(C)で各々表されるように、環状ポリエーテルであって、環全体が多座配位子となり、金属イオンや有機イオンと包接する機能を持つ化合物の総称を表し、且つ、酸素原子の代わりにその一部、または全てが窒素、硫黄で置換されても良い。
本発明に用いられるシクロデキストリン誘導体とは、下記一般式(D)で表されるように、複数のD−グルコピラノース基がα−1、4グリコシド結合によって環化した構造を有する化合物の総称。分子内に存在する1級と2級の水酸基は置換基で置換されていて構わない。
本発明に用いられる包接化合物が有する正孔輸送性基について説明する。
300mgのポリビニルカルバゾール(PVK)、18mgのトリス(2−フェニルピリジン)イリジウム(Ir(ppy)3)を30mlのテトラヒドロフラン(THF)に溶解した。次に、エタノール/THF(9/1)溶液50mlを激しく撹拌し、これに前述のTHF溶液10mlをマイクロシリンジを用いて滴下し、一次分散液を得た。この一次分散液を撹拌しながら窒素気流下で約6時間かけて、体積がほぼ半分になるまでゆっくり濃縮し目的の分散液を得た。(平均粒径60nm)
(b)乳化分散による微粒子分散液(ナノ微粒子の製造)の調製
クレアミックスCLM(エムテクニック(株)社製)のポットに、ポリビニルカルバゾール(PVK)12gとトリス(2−フェニルピリジン)イリジウム(Ir(ppy)3)0.72gおよび1,2−ジクロロエタン100mlを加え、撹拌して溶解させた。
4,4’−ビス[N−(1−ナフチル)−N−フェニルアミノ]ビフェニル(α−NPD)50gをエチルアルコール300mlに加え、これを壽工業製アペックスミルで、0.05mmビーズを用いて20分間周速8m/秒で分散させ、目的の微粒子アルコール分散液を得た(平均粒径35nm)。
本発明の有機EL素子の作製方法の一例として、陽極/陽極バッファ層/正孔輸送層/発光層/正孔阻止層/電子輸送層/陰極バッファ層/陰極からなる有機EL素子の作製法について説明する。
本発明の有機EL素子の構成層、前記構成層に係る有機層、無機化合物層について説明する。
(i)陽極/発光層/電子輸送層/陰極
(ii)陽極/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/陰極
(iii)陽極/正孔輸送層/発光層/正孔阻止層/電子輸送層/陰極
(iv)陽極/正孔輸送層/発光層/正孔阻止層/電子輸送層/陰極バッファー層/陰極
(v)陽極/陽極バッファー層/正孔輸送層/発光層/正孔阻止層/電子輸送層/陰極バッファー層/陰極
(有機層(有機化合物層ともいう))
本発明の有機EL素子に係る有機層としては、上記の層構成の中で、正孔輸送層、発光層、正孔阻止層、電子輸送層等が挙げられるが、その他、正孔注入層、電子注入層等、有機EL素子の構成層に含有される有機化合物が含有されていれば、有機層(有機化合物層)として定義される。更に、陽極バッファー層、陰極バッファー層等に有機化合物が用いられる場合には、陽極バッファー層、陰極バッファー層は、各々有機層を形成する。
本発明の有機EL素子に係る無機化合物層とは、構成層の構成成分として無機化合物が主成分(ここで、主成分とは、層全体の50質量%以上含有される場合を示す)を形成する場合の層を示し、具体的には、上記の層構成の中で、陽極バッファー層、陰極バッファー層等の形成に無機化合物が用いられる場合が挙げられる。
本発明に係る有機化合物層の三層の構成層または四層の構成層を構成する、3つの構成層A、B及びCが、該構成層Aが形成された後に、該構成層B、次いで、該構成層Cが塗布されて、連続層を形成される工程を有する場合で、且つ、前記構成層Aが主成分A、前記構成層Bが主成分B、前記構成層Cが主成分Cを各々含有し、該主成分Aのガラス転移点Tg−A、該主成分Bのガラス転移点Tg−B、該主成分Cのガラス転移点Tg−Cが下記の不等式(1)を満たすことが好ましい態様のひとつとして挙げられる。
Tg−A>Tg−B>Tg−C
ここで、上記のガラス転移点(Tg)の測定は、従来公知のDSC(Differntial Scanning Colorimetry:示差走査熱量法)により測定できる。
正孔輸送層とは正孔を輸送する機能を有する正孔輸送材料からなり、広い意味で正孔注入層、電子阻止層も正孔輸送層に含まれる。正孔輸送層は単層または複数層設けることができる。
本発明に用いられる電子輸送層は、陰極より注入された電子を発光層に伝達する機能を有していればよく、その材料としては従来公知の化合物の中から任意のものを選択して用いることができる。また、電子輸送層とは電子を輸送する機能を有する材料を含有し、広い意味で電子注入層、正孔阻止層も電子輸送層に含まれる。電子輸送層は単層または複数層設けることができる。
電子輸送層は、上記電子輸送材料を、例えば真空蒸着法、スピンコート法、キャスト法、インクジェット法を含む印刷法、LB法等の公知の方法により、薄膜化することにより形成することができる。電子輸送層の膜厚については特に制限はないが、通常は5nm〜5μm程度、好ましくは5nm〜200nmである。電子輸送層は、上記材料の1種または2種以上からなる一層構造であってもよい。
本発明に用いられる発光層について説明する。
本発明に用いられるホスト化合物とは、発光層に含有される化合物のうちで室温(25℃)においてリン光発光のリン光量子収率が、0.01未満の化合物である。
本発明に用いられるリン光発光性化合物としては、下記のようなりん光発光を示す有機金属錯体(リン光発光性化合物ともいう)の中から適宜選択して用いることが好ましい。
P−[(デンドロン)m]n
一般式(D)において、デンドロンは、下記一般式(E)で表される樹木状分子を表し、nは、0を超える整数を表し、mは、0を超え、且つ、n未満の整数を表す。Pは、コア(核)となる、リン光発光性有機金属錯体を表す。
本発明の有機EL素子の発光層にはさらにリン光発光性化合物からなるドーパントの他に、蛍光性ドーパントが加えられていても良く、蛍光性ドーパントの代表例としては、クマリン系色素、ピラン系色素、シアニン系色素、クロコニウム系色素、スクアリウム系色素、オキソベンツアントラセン系色素、フルオレセイン系色素、ローダミン系色素、ピリリウム系色素、ペリレン系色素、スチルベン系色素、ポリチオフェン系色素、又は希土類錯体系蛍光体、その他公知の蛍光性化合物等が挙げられる。
正孔阻止層とは広い意味では電子輸送層であり、電子を輸送する機能を有しつつ正孔を輸送する能力が著しく小さい材料からなり、電子を輸送しつつ正孔を阻止することで電子と正孔の再結合確率を向上させることができる。
有機EL素子における陽極としては、仕事関数の大きい(4eV以上)金属、合金、電気伝導性化合物及びこれらの混合物を電極物質とするものが好ましく用いられる。このような電極物質の具体例としてはAu等の金属、CuI、インジウムチンオキシド(ITO)、SnO2、ZnO等の導電性透明材料が挙げられる。また、IDIXO(In2O3−ZnO)等非晶質で透明導電膜を作製可能な材料を用いてもよい。陽極は、これらの電極物質を蒸着やスパッタリング等の方法により、薄膜を形成させ、フォトリソグラフィー法で所望の形状のパターンを形成してもよく、あるいはパターン精度をあまり必要としない場合は(100μm以上程度)、上記電極物質の蒸着やスパッタリング時に所望の形状のマスクを介してパターンを形成してもよい。この陽極より発光を取り出す場合には、透過率を10%より大きくすることが望ましく、また、陽極としてのシート抵抗は数百Ω/□以下が好ましい。さらに膜厚は材料にもよるが、通常10nm〜1000nm、好ましくは10nm〜200nmの範囲で選ばれる。
一方、陰極としては、仕事関数の小さい(4eV以下)金属(電子注入性金属と称する)、合金、電気伝導性化合物及びこれらの混合物を電極物質とするものが用いられる。このような電極物質の具体例としては、ナトリウム、ナトリウム−カリウム合金、マグネシウム、リチウム、マグネシウム/銅混合物、マグネシウム/銀混合物、マグネシウム/アルミニウム混合物、マグネシウム/インジウム混合物、アルミニウム/酸化アルミニウム(Al2O3)混合物、インジウム、リチウム/アルミニウム混合物、希土類金属等が挙げられる。これらの中で、電子注入性及び酸化等に対する耐久性の点から、電子注入性金属とこれより仕事関数の値が大きく安定な金属である第二金属との混合物、例えばマグネシウム/銀混合物、マグネシウム/アルミニウム混合物、マグネシウム/インジウム混合物、アルミニウム/酸化アルミニウム(Al2O3)混合物、リチウム/アルミニウム混合物、アルミニウム等が好適である。
本発明に係る電極(陰極、陽極等)の形成方法について説明する。
注入層は必要に応じて設け、陰極バッファ層(電子注入層)と陽極バッファ層(正孔注入層)があり、上記のごとく陽極と発光層または正孔輸送層の間、及び、陰極と発光層または電子輸送層との間に存在させてもよい。
本発明の有機EL素子は基体上に形成されているのが好ましい。
更に、本発明の有機EL素子の構成層の構成材料として適用可能な化合物を具体的に説明する。尚、下記に示す化合物は、本発明の有機EL素子の性能に影響しない範囲ならば、本発明に係る有機化合物層のいずれの層に用いることも可能である。
本発明に用いられるビニルモノマーとしては、下記一般式(11)で表される化合物が挙げられるが、本発明はこれらに限定されない。
本発明に用いられるビニルポリマーとしては、下記一般式(12)で表される繰り返し単位を有する化合物を用いることができ、前記化合物は、ホモポリマーでもよく、その他重合可能な単量体との共重合体でもよい。
本発明に用いられる縮合ポリマーとしては、下記一般式(13)で表される化合物が挙げられるが、本発明はこれらに限定されない。
本発明の表示装置(単色でもよく、多色でもよい)、照明装置について説明する。
《有機EL素子1−1の作製》
陽極として100mm×100mm×1.1mmのガラス基板上にITO(インジウムチンオキシド)を100nm成膜した基板(NHテクノグラス社製NA−45)にパターニングを行った後、このITO透明電極を設けた透明支持基板をイソプロピルアルコールで超音波洗浄し、乾燥窒素ガスで乾燥し、UVオゾン洗浄を5分間行った。
有機EL素子1−1の作製において、発光層の構成材料である、HT−8、H−9(n=6)を表1に記載の材料に変更した以外は同様にして、有機EL素子1−2〜1−5及び1−8、1−9を各々作製した。
有機EL素子1−1の作製において、正孔輸送層までは同様にして作製し、その後、この正孔輸送層上に、ポリビニルカルバゾール(PVK)30mgと1.5mgのPD−1とをジクロロベンゼン3mlに溶解した溶液を、1000rpm、30秒の条件下、スピンコート法により製膜し、120度で1時間真空乾燥し、膜厚100nmの発光層を形成した。
有機EL素子1−1の作製において、正孔輸送層までは同様にして作製し、その後、この正孔輸送層上に、OC−2(α−NPDともいう)6mg、OC−21(PBDともいう)24mgと1.5mgのPD−1とをジクロロベンゼン3mlに溶解した溶液を、1000rpm、30秒の条件下、スピンコート法により製膜し、120度で1時間真空乾燥し、膜厚100nmの発光層を形成した。
得られた有機EL素子1−1〜1−9を評価するに際しては、作製後の各有機EL素子の非発光面をガラスケースで覆い、厚み300μmのガラス基板を封止用基板として用いて、周囲にシール材として、エポキシ系光硬化型接着剤(東亞合成社製ラックストラックLC0629B)を適用し、これを上記陰極上に重ねて前記透明支持基板と密着させ、ガラス基板側からUV光を照射して、硬化させて、封止して、図5、図6に示すような照明装置を形成して評価した。
作製した有機EL素子について、23℃、乾燥窒素ガス雰囲気下で2.5mA/cm2定電流を印加した時の外部取り出し量子効率(%)を測定した。尚、測定には分光放射輝度計CS−1000(ミノルタ製)を用いた。
23℃、乾燥窒素ガス雰囲気下で2.5mA/cm2の一定電流で駆動したときに、輝度が発光開始直後の輝度(初期輝度)の半分に低下するのに要した時間を測定し、これを半減寿命時間(τ0.5)として寿命の指標とした。尚、測定には同様に、分光放射輝度計CS−1000(ミノルタ製)を用いた。
作製した素子を50℃で15日間保存した後、結晶化等による白化等の異常が生じているかどうか、薄膜表面の変化を目視した。
《有機EL素子2−1の作製》
実施例1の有機EL素子1−1の作製において、正孔輸送層までは同様にして作製し、その後、正孔輸送層上に、ポリビニルカルバゾール(PVK)30mgと1.5mgのPD−1とをジクロロベンゼン3mlに溶解した溶液を、1000rpm、30秒の条件下、スピンコート法により製膜し、120度で1時間真空乾燥し、膜厚100nmの発光層を形成した。
有機EL素子2−1の作製において、発光層まで同様に設けた後、この発光層上に30mgのビス(2−メチル−8−キノラート)−p−フェニルフェノラートアルミニウム錯体(BAlq)をテトラヒドロフラン(THF)3mlに溶解した溶液を2000rpm、30秒の条件下、スピンコート法により製膜を行った。しかしながら、下層面の溶解のため良好な薄膜は得られなかった。
有機EL素子2−1の作製において、発光層まで同様に設けた後、これを真空蒸着装置に取付け、次いで、真空槽を4×10-4Paまで減圧し、BAlq50nmを蒸着して電子輸送層を設けた。さらに、陰極バッファー層としてフッ化リチウム1nm及び陰極としてアルミニウム110nmを蒸着して陰極を形成し、有機EL素子2−3を作製した。
得られた有機EL素子2−1〜2−3の評価は、有機EL素子2−3を100とした時の相対評価により、実施例1に記載と同様に評価した。
《有機EL素子3−1の作製》
陽極として100mm×100mm×1.1mmのガラス基板上にITO(インジウムチンオキシド)を100nm成膜した基板(NHテクノグラス社製NA−45)にパターニングを行った後、このITO透明電極を設けた透明支持基板をイソプロピルアルコールで超音波洗浄し、乾燥窒素ガスで乾燥し、UVオゾン洗浄を5分間行った。
有機EL素子3−1の作製において、第二正孔輸送層に用いたVM−3および発光層の構成材料である、OC−13を表4に記載の材料に変更した以外は同様にして、有機EL素子3−2〜3−7を各々作製した。
得られた有機EL素子3−1〜3−7の評価は、有機EL素子3−7を100とした時の相対評価により、実施例1に記載と同様に評価した。
《フルカラー表示装置の作製》
(青色発光有機EL素子)
実施例1に記載の有機EL素子1−3の作製において、PD−1をPD−9に変更した以外は同様にして、青色発光有機EL素子1−3Bを作製した。
緑色発光有機EL素子として、実施例1で作製した有機EL素子1−3を用いた。
実施例1の有機EL素子1−3の作製において、PD−1をPD−6に変更した以外は同様にして、赤色発光有機EL素子1−3Rを作製した。
《インクジェットを用いたフルカラー表示装置の作製》
本発明の有機EL素子の構成層の作製には、塗布(溶液塗布、分散液塗布等)が用いられるが、塗布手段としてインクジェットを用いる方法が好ましい手段のひとつとして挙げられる。
ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)−ポリスチレンスルホネート(PEDOT/PSS、Bayer社製、Baytron P Al 4083)20gを純水65g、エトキシエタノール10g、グリセリン5gで希釈したものを用いた。
HT−9(n=10)を60mg、ET−6(n=12)240mgと15mgのPD−1をシクロヘキシルベンゼン25ml、イソプロピルビフェニル25mlに溶解したものを用いた
(青色発光層組成物)
HT−9(n=10)を60mg、ET−6(n=12)240mgと15mgのPD−9をシクロヘキシルベンゼン25ml、イソプロピルビフェニル25mlに溶解したものを用いた
(赤色発光層組成物)
HT−9(n=10)を60mg、ET−6(n=12)240mgと15mgのPD−6をシクロヘキシルベンゼン25ml、イソプロピルビフェニル25mlに溶解したものを用いた
実施例5
《白色発光照明装置の作製》
実施例1で作製した有機EL素子1−3の作製において、PD−1をPD−1、PD−6、PD−9に変更した以外は同様して、白色発光有機EL素子3−1Wを作製した。
3 画素
5 走査線
6 データ線
7 電源ライン
10 有機EL素子
11 スイッチングトランジスタ
12 駆動トランジスタ
13 コンデンサ
A 表示部
B 制御部
107 透明電極付きガラス基板
106 有機EL層
105 陰極
102 ガラスカバー
108 窒素ガス
109 捕水剤
Claims (15)
- 陰極と陽極との間に、少なくとも有機層を有する有機エレクトロルミネッセンス素子において、
該有機層の少なくとも1つの層Aが、精製可能な中分子量化合物または低重合化合物を含有し、且つ、該層Aの膜密度が1.10g/cm3〜1.25g/cm3であることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。 - 陰極と陽極との間に、少なくとも有機層を有する有機エレクトロルミネッセンス素子において、
該有機層の少なくとも1つの層Aが、精製可能な中分子量化合物または低重合化合物を主成分として含有し、該中分子量化合物または該低重合化合物は、少なくとも2つの重合性官能基を有する化合物または該化合物の重合体であり、且つ、該層Aの膜密度が1.10g/cm3〜1.25g/cm3であることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。 - 前記有機層の少なくとも1つの層Aが、塗布により形成される工程を経て作製されたことを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
- 前記低重合化合物が、下記一般式(2)または(3)を繰り返し単位として有する重合体であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
- 前記有機層の少なくとも一層が、リン光性発光材料を含むことを特徴とする請求項1〜7のいずれか1項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
- 白色に発光することを特徴とする請求項1〜10のいずれか1項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
- 請求項1〜11のいずれか1項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子を作製するにあたり、前記層Aを塗布を用いて形成する工程を有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
- 請求項1〜11のいずれか1項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子を備えたことを特徴とする表示装置。
- 請求項1〜11のいずれか1項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子を備えたことを特徴とする照明装置。
- 請求項14に記載の照明装置と、表示手段として液晶素子と、を備えたことを特徴とする表示装置。
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