JP2005014191A - 光学素子の研磨装置及び研磨方法、並びに光学素子 - Google Patents

Abstract

【課題】光学面を高精度に仕上げることができる光学素子の研磨装置及び研磨方法、並びに露光装置に装着した状態で高い光学面の面精度を有する光学素子を提供する。
【解決手段】凹面反射鏡３１を保持装置４０により保持したままの状態で、凹面反射鏡３１の反射面３１ａを研磨装置８０により研磨する。研磨装置８０には、凹面反射鏡３１を保持したままの保持装置４０を支持する保持台８１と、この保持台８１により支持されている凹面反射鏡３１の反射面３１ａを空間９０に露出させるための開口部８６ａ〜８６ｃを有するカバー部８４とを設ける。また、カバー部８４には、その突出部８４ｃと凹面反射鏡３１のシール鍔部３７ｂとの間に配置されて、保持台８１とカバー部８４との内部空間への研磨剤の流入を抑制するシールリング８５を設ける。
【選択図】 図７

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光学素子の光学面を研磨するための研磨装置及び研磨方法、並びに光学素子に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
この種の光学素子には、レンズやミラー等があり、例えばマスク上のパターンの像を基板に転写する露光装置等に数多く用いられている。また、露光装置に設けられる光学素子は、保持装置を介して鏡筒に保持されている。
【０００３】
このような露光装置に使用される光学素子の仕上加工は、例えば以下のような手順で行われる。
まず、予め所定の形状に形成された光学素子を研磨装置用の固定枠に固定し、この状態で光学素子の光学面（入射面や出射面）の状態を例えば干渉計等により測定する。この測定の結果から、光学素子の光学面を、どのくらい研磨するかを決定する。次いで、光学素子を固定枠に固定した状態で、その固定枠を研磨装置の研磨台に載置し、光学素子の光学面を研磨する。
【０００４】
その後、光学素子を固定枠から取り外し、その光学素子を、前記保持装置により保持する。そして、このように保持した状態で光学素子の研磨後の光学面（研磨面）の状態を例えば干渉計等により測定する。ここで、この干渉計による測定の結果、光学面（研磨面）が所望の状態と一致する場合には、その光学素子の仕上加工を終了する。
【０００５】
一方、光学面が所望の状態と一致しない場合には、光学素子を保持装置から取り外すとともに再び前記固定枠に固定して、光学面を研磨する。その後、光学素子を、固定枠から取り外すとともに保持装置により保持し、研磨後の光学面（研磨面）の状態を例えば干渉計等により測定する。この測定の結果、光学面（研磨面）が所望の状態と一致すれば、その光学素子の仕上加工を終了する。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
ところが、研磨後の光学素子を露光装置に組み付ける度に、その光学素子を、干渉計による光学面の測定時と同様の状態で、すなわち光学素子が歪まないように保持しなければならず、作業性の低下を招いていた。また、光学素子を、歪んだ状態で固定枠に固定して研磨した場合には、研磨後において、その光学素子を固定枠から取り外した際に光学面（研磨面）が歪んでしまうという問題があった。また、光学素子を、歪ませることなく固定枠に固定して研磨したとしても、研磨後に固定枠から取り外し、保持装置にその光学素子を保持する際に歪んでしまうという問題もあった。
【０００７】
特に、例えば半導体素子製造用の露光装置においては、近年の半導体素子の著しい高度集積化に伴ってパターンがますます微細化してきており、投影光学系のさらなる高解像度化が要求されてきている。そして、こうした要求に応えるためには、投影光学系等に用いられる光学素子を精度よく仕上げることが非常に重要となってきている。
【０００８】
このような半導体露光装置用の光学素子においては、研磨装置の固定枠の表面に僅かな歪み等が生じている場合、光学素子の光学面は、その固定枠の表面状態（微小なうねり等）の影響を受けた状態で研磨されることになる。このように研磨された光学素子を、前記固定枠とは表面状態の異なる鏡筒に取着した場合、僅かな表面状態の差であっても、光学面の面精度に影響が及ぶおそれがある。
【０００９】
本発明は、このような従来の技術に存在する問題点に着目してなされたものである。その目的としては、光学面を精度よく仕上げることができる光学素子の研磨装置及び研磨方法を提供することにある。また、露光装置に装着した状態で高い光学面の面精度を有する光学素子を提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
前記目的を達成するために、本願請求項１に記載の発明は、周縁部を保持する保持装置を介して鏡筒に取り付けられる光学素子のうち、所定の研磨面を研磨する光学素子の研磨装置において、前記保持装置が取り付けられた前記光学素子を支持する保持台と、前記光学素子のうち、前記所定の研磨面を研磨する際に、前記所定の研磨面を研磨する空間から前記保持装置を隔離する隔離部材と、を備えることを特徴とするものである。
【００１１】
この本願請求項１に記載の発明では、光学素子の光学面の研磨を、保持装置により光学素子を保持した状態で行うことが可能となるとともに、研磨後の光学素子を、保持装置により保持した状態で鏡筒に取り付けることが可能となる。これにより、研磨の前後において、光学素子の保持状態が大きく変化することがなく、研磨した光学面を所望の状態に維持しつつ、光学素子を鏡筒に取り付けることができる。このように、光学面の研磨後において、光学素子を保持装置から取り外すことなく鏡筒に取り付けることができるため、光学面の歪みの発生を抑制することができる。
【００１２】
また、本願請求項２に記載の発明は、前記請求項１に記載の発明において、前記保持装置は、前記光学素子の周縁部に係合する座面が形成された座面ブロックと、前記座面ブロックを前記光学素子の接線方向周りと径方向周りとの少なくとも一方に回転可能に支持する座面ブロック支持機構と、を備えることを特徴とするものである。
【００１３】
この本願請求項２に記載の発明では、前記請求項１に記載の発明の作用に加えて、光学素子を保持装置により保持する際には、座面ブロック支持機構が、光学素子の接線方向周りと径方向周りとの少なくとも一方に回転する。この回転により、光学素子の歪みが吸収され、光学素子が、歪んだ状態で保持装置に保持されることが抑制される。また、研磨装置の固定枠に光学素子を支持する際、あるいは研磨した光学素子を鏡筒に支持する際において、それら固定枠、鏡筒の受け部の表面状態が光学素子の光学面の面精度に及ぼす影響を低減することが可能となる。このため、光学素子における研磨面（光学面）の高精度な研磨が短時間で行われる。
【００１４】
また、本願請求項３に記載の発明は、前記請求項１または請求項２に記載の発明において、前記光学素子は、前記所定の研磨面として、入射光を入射する入射面または入射光を反射する反射面と、該入射面または該反射面に対して交差する側面とを有し、前記隔離部材は、前記入射面または前記反射面を露出させる開口部が形成されたカバー部と、前記開口部の周縁と前記光学素子の側面との間に設けられ、前記保持装置に対して、前記入射面または前記反射面を研磨する際の研磨剤の到達を抑制するシール部材と、を有することを特徴とするものである。
【００１５】
この本願請求項３に記載の発明では、前記請求項１または請求項２に記載の発明の作用に加えて、光学素子の研磨面を研磨する際に研磨剤が用いられる場合には、その研磨剤が保持装置にかかることが回避される。
【００１６】
また、本願請求項４に記載の発明は、前記請求項３に記載の発明において、前記シール部材は、前記カバー部に対して着脱可能に設けられていることを特徴とするものである。
【００１７】
この本願請求項４に記載の発明では、前記請求項３に記載の発明の作用に加えて、シール部材が劣化等した場合には、そのシール部材のみを取り替えることができる。このため、取替費用を低減することが可能となる。また、シール部材を、種々の光学素子の形状や外径等に応じて、適宜選択して取り替えることが可能となる。このため、研磨装置の汎用性を向上することが可能となる。
【００１８】
また、本願請求項５に記載の発明は、前記請求項３または請求項４に記載の発明において、前記シール部材は、前記開口部の周縁と前記光学素子の側面との間に挟持された状態で変形し得る軟質材料からなるチューブ材から形成されることを特徴とするものである。
【００１９】
この本願請求項５に記載の発明では、前記請求項３または請求項４に記載の発明の作用に加えて、光学素子の研磨面を研磨する際に、その光学素子をカバー部により覆うと、チューブ材は、カバー部の開口部の周縁と光学素子の側面との間で変形しつつ、それらの間を液密にシールする。この際、チューブ材は変形し易く、しかも変形により生じる弾性力が小さくなる。このため、光学素子の側面に過剰な力が作用することが抑制される。この結果、光学素子の研磨面の研磨時において、その光学素子に歪みの生じることが抑制される。
【００２０】
また、本願請求項６に記載の発明は、前記請求項３〜請求項５のうちいずれか一項に記載の発明において、前記光学素子は、前記側面から光軸方向の異なる位置で外方へ向かって突出するとともに周方向に延びる複数の鍔部を有するものであり、前記保持装置は、前記光学素子を前記複数の鍔部のうちのいずれか１つの第１鍔部を保持し、前記カバー部は、前記開口部の周縁が、前記光学素子の前記複数の鍔部のうちの前記第１鍔部よりも研磨される研磨面側に位置する第２鍔部に対向するように設けられ、前記シール部材は、前記カバー部の前記開口部の周縁と前記第２鍔部との間に設けられることを特徴とするものである。
【００２１】
この本願請求項６に記載の発明では、前記請求項３〜請求項５のうちいずれか一項に記載の発明の作用に加えて、光学素子の側面において、第１鍔部と第２鍔部とは互いに離間した位置にあるため、保持装置とカバー部との接触を回避することが可能となる。これにより、光学素子の研磨面を研磨する際に、保持装置がカバー部によって変形されることを抑制することができる。
【００２２】
また、本願請求項７に記載の発明は、前記請求項６に記載の発明において、前記シール部材は、前記第２鍔部における前記第１鍔部とは反対側の面に圧接するように設けられることを特徴とするものである。
【００２３】
この本願請求項７に記載の発明では、前記請求項６に記載の発明の作用に加えて、光学素子を研磨する際に使用する研磨剤が、保持装置の取り付けられる第１鍔部側へと流下することを、より確実に抑制することができる。
【００２４】
また、本願請求項８に記載の発明は、保持装置により周縁部が保持される光学素子の所定の研磨面を研磨する光学素子の研磨方法において、前記光学素子の研磨面を、請求項１〜請求項７のうちいずれか一項に記載の光学素子の研磨装置を用いて研磨することを特徴とするものである。
【００２５】
この本願請求項８に記載の発明では、請求項１〜請求項７のうちいずれか一項に記載の発明の作用と同様の作用が奏される。
また、本願請求項９に記載の発明は、所定の研磨面を有する光学素子において、前記光学素子は、前記所定の研磨面として、入射光を入射する入射面または入射光を反射する反射面と、該入射面または該反射面に対して交差する側面と、同側面から光軸方向の異なる位置で外方に向かって突出するとともに周方向に延びる複数の鍔部とを有することを特徴とするものである。
【００２６】
この本願請求項９に記載の発明では、光学素子の側面に複数の鍔部を設けることにより、保持装置により保持される鍔部と、研磨装置の隔離部材に当接する鍔部とに機能を分担させることが可能となる。これにより、光学素子を保持装置により保持した状態で、その光学素子の研磨面を研磨装置により研磨することが可能となる。このため、研磨面の研磨後において、光学素子を保持装置から取り外すことなく、例えば露光装置の鏡筒等に取り付けることができ、研磨面の歪みの発生が抑制される。この結果、光学素子を露光装置に組み付けた状態で、その光学素子の光学面の面精度を高く維持することが可能となる。また、光学素子を保持装置により保持した状態で、かつ、その保持装置に研磨剤がかかることを抑制しつつ、光学素子の研磨面を研磨することが可能となる。
【００２７】
また、本願請求項１０に記載の発明は、前記請求項９に記載の発明において、前記複数の鍔部のうち、少なくとも研磨される研磨面側に位置する鍔部を、前記周縁部の側面の全周にわたって環状に形成したことを特徴とするものである。
【００２８】
この本願請求項１０に記載の発明では、前記請求項９に記載の発明の作用に加えて、少なくとも研磨される研磨面側に位置する鍔部を、光学素子の研磨面を研磨する際に研磨装置の隔離部材に当接する鍔部とする場合に、その鍔部の全周が隔離部材と当接した状態となる。これにより、隔離部材と鍔部との間に隙間が形成されることが抑制され、シール性が向上される。
【００２９】
また、本願請求項１１に記載の発明は、前記請求項９または請求項１０に記載の発明において、前記複数の鍔部のうち、保持装置により保持される鍔部を、前記保持装置による保持位置を含んで光軸と交差する方向に延びる面が当該光学素子の重心位置をほぼ通るように設けたことを特徴とするものである。
【００３０】
この本願請求項１１に記載の発明では、前記請求項９または請求項１０に記載の発明の作用に加えて、光学素子が、例えば光学素子自身の光軸が水平方向または斜め方向を指向するように保持装置により保持される場合でも、その光学素子を、モーメントの発生を抑制しつつ安定に保持することが可能となる。これにより、モーメントの発生に起因して光学素子の光学面に変形が生じることが抑制される。このため、光学性能が悪化するおそれを抑制して、光学性能を良好に保つことが可能となる。
【００３１】
また、本願請求項１２に記載の発明は、前記請求項９〜請求項１１のうちいずれか一項に記載の発明において、前記光学素子が、前記入射光を反射する反射面を備える反射光学素子であることを特徴とするものである。
【００３２】
一般に、例えばミラーやハーフミラー等の反射光学素子により反射される反射光は、その反射光学素子の反射面の状態に影響され易い。すなわち、反射光学素子の反射面が僅かにでも歪んでいたりすると、所望の反射光が得られにくくなる。これに対して本願請求項１２に記載の発明では、研磨面の状態が反射光に影響を与え易い反射光学素子にあって研磨面の面精度を向上させることが可能となる。このため、前記請求項９〜請求項１１のうちいずれか一項に記載の発明の作用が、特に顕著に発揮される。
【００３３】
次に、前記各請求項の発明の下で有用性の認められる技術的思想について、それらの作用とともに以下に記載する。
（１） 前記保持装置は、前記光学素子の周縁部を保持する保持部と、同保持部を保持する保持枠とを備えるものであり、前記光学素子は、その周縁部が前記保持装置により保持されるとともに、その保持装置に取着した状態で使用されるものであり、前記保持台は、前記光学素子を、前記保持部を介して前記保持枠に取着した状態で支持することを特徴とする請求項３に記載の光学素子の研磨装置。
【００３４】
従って、この（１）に記載の発明では、前記請求項３に記載の発明の作用に加えて、光学素子の光学面の研磨を、保持部を介して光学素子を保持枠に保持した状態で行うことが可能となるとともに、研磨後の光学素子を、保持枠に保持した状態で鏡筒に取り付けることが可能となる。これにより、研磨した光学面を所望の状態に好適に維持しつつ、光学素子を鏡筒に取り付けることができる。このため、光学面の歪みの発生を、より効果的に抑制することができる。
【００３５】
（２） 前記カバー部は、前記保持部と前記保持枠とを覆うように形成されることを特徴とする前記（１）に記載の光学素子の研磨装置。
従って、この（２）に記載の発明では、前記（１）に記載の発明の作用に加えて、光学素子の研磨面を研磨する際に研磨剤が用いられる場合に、その研磨剤が保持部と保持枠とにかかることを回避させることができる。
【００３６】
【発明の実施の形態】
以下に、本発明を具体化した一実施形態について、図１〜図７を参照して説明する。
【００３７】
図１に示すように、露光装置１１は、半導体素子製造用の露光装置であり、光源１２と、照明光学系１３と、マスクとしてのレチクルＲを保持するレチクルステージ１４と、投影光学系１５と、基板としてのウエハＷを保持するウエハステージ１６とを備えている。
【００３８】
前記光源１２は、例えば波長１５７ｎｍのＦ_２レーザを発振する。
前記照明光学系１３は、図示しないフライアイレンズやロッドレンズ等のオプティカルインテグレータ、リレーレンズ、コンデンサレンズ等の各種レンズ系及び開口絞り等を含んで構成されている。そして、光源１２から出射される露光光ＥＬが、この照明光学系１３を通過することにより、レチクルＲ上のパターンを均一に照明するように調整される。
【００３９】
前記レチクルステージ１４は、照明光学系１３の射出側、すなわち、後述する投影光学系１５の物体面側（露光光ＥＬの入射側）において、そのレチクルＲの載置面が投影光学系１５の光軸方向とほぼ直交するように配置されている。
【００４０】
前記ウエハステージ１６は、投影光学系１５の像面側（露光光ＥＬの射出側）において、ウエハＷの載置面が投影光学系１５の光軸方向と交差するように配置されている。そして、前記露光光ＥＬにて照明されたレチクルＲ上のパターンの像が、投影光学系１５を通して所定の縮小倍率に縮小された状態で、ウエハステージ１６上のウエハＷに投影転写されるようになっている。
【００４１】
次に、投影光学系１５の構成について説明する。
図１及び図２に示すように、投影光学系１５は、反射屈折光学系をなしており、連結部材２０を中心として上方に位置する上部鏡筒２１と、側方に位置する横鏡筒２２と、下方に位置する下部鏡筒２３とを有している。また、投影光学系１５は、複数の光学素子を備えており、それら全ての光学素子（レンズ成分）には、蛍石（ＣａＦ_２結晶）が使用されている。
【００４２】
前記上部鏡筒２１は、投影光学系１５の光軸としての第１光軸ＡＸ上のレチクルＲ側に配置されている。この上部鏡筒２１は、略円筒状をなしており、その内部にレチクルＲのパターンの第１中間像を形成し、複数の光学素子からなる第１結像光学系２４を保持している。また、上部鏡筒２１は、投影系鏡筒の一部をなす部分鏡筒２１ａが複数（この例では４つ）積層された状態で形成されている。これらの部分鏡筒２１ａは、例えばステンレス鋼、チタン合金等の金属材料で構成され、光学素子としての複数のレンズ２５ａ及び光学素子としてのカバーガラス２６を１つまたは複数組み合わせて保持している。
【００４３】
前記横鏡筒２２は、前記第１光軸ＡＸに直交する光軸としての第２光軸ＡＸ’上に配置され、第２中間像を形成するための第２結像光学系２８を保持している。この第２結像光学系２８は、光学素子としての直角反射鏡２９、光学素子としての負レンズ３０、反射光学素子としての凹面反射鏡３１を有している。前記負レンズ３０及び凹面反射鏡３１は、光軸が水平方向を指向するように、縦置き状態で配置されている。前記直角反射鏡２９は、第１光路折り曲げ鏡２９ａと第２光路折り曲げ鏡２９ｂとを備える。この横鏡筒２２は、直角反射鏡２９、負レンズ３０、凹面反射鏡３１をそれぞれ保持するとともに投影系鏡筒の一部をなす複数の部分鏡筒２２ａ〜２２ｃが互いに連結された状態で形成されている。
【００４４】
前記第１結像光学系２４が形成する第１中間像の近傍に、第１光路折り曲げ鏡２９ａが配置され、第１光路折り曲げ鏡２９ａで偏向された露光光ＥＬが、負レンズ３０を介して凹面反射鏡３１に導かれ、そして凹面反射鏡３１によって反射される。凹面反射鏡３１で反射された露光光ＥＬは、再び負レンズ３０を通過し、第１中間像の形成位置の近傍、本実施形態では第２光路折り曲げ鏡２９ｂの近傍に第２中間像を形成する。この第２中間像は、第１中間像とほぼ等倍であり、パターンの２次像である。
【００４５】
すなわち、第２光路折り曲げ鏡２９ｂは、第２結像光学系２８が形成する第２中間像の近傍に配置され、第２中間像へ向かう露光光ＥＬまたは第２中間像からの露光光ＥＬを、屈折型の第３結像光学系３３に向かって偏向する。直角反射鏡２９は、金属材料（ステンレス鋼等）、低熱膨張セラミックス（炭化珪素等）などからなる母材に形成された、互いに直交する２つの斜面の一方に第１光路折り曲げ鏡２９ａの反射面を形成し、また２つの斜面の他方に第２光路折り曲げ鏡２９ｂの反射面を形成する。母材が炭化珪素からなる場合、鋳型に炭化珪素を流し込んだ後に、整形加工を行うことによって形成される。
【００４６】
なお、第１光路折り曲げ鏡２９ａの反射面及び第２光路折り曲げ鏡２９ｂの反射面は、金属反射面である。この金属反射面は、例えば、ＣＶＤなどにより母材の斜面に、ＳｉＣなど研磨に適した材料をコーティングした後に、その斜面を鏡面研磨し、鏡面研磨した面に、金属膜（アルミ膜など）あるいはフッ化物膜を形成したものである。また、金属膜にフッ化物膜を形成してもよい。
【００４７】
さらに、ＳｉＣなどの材料は、母材の前記斜面だけでなく、母材の全表面にも施すことが好ましい。このように母材の全表面をコーティングすることにより、母材から揮散する吸光物質（露光光ＥＬを吸収する酸素、水蒸気、有機物等）を低減することができる。なお、反射面とその他の部分とにそれぞれコーティングする場合には、反射面は鏡面加工が必要であるため、その他の部分に対して厚い方が望ましい。また、母材の加工精度としては、両反射面の直角度が±５秒以内、面精度が３．５〜７λ／１００００ｒｍｓ以内であることが望ましい。また、凹面反射鏡３１の反射面３１ａも、直角反射鏡２９と同様に金属反射面としてもよく、直角度を除いた精度や、その他の加工についても直角反射鏡２９と同様に施すことが望ましい。
【００４８】
なお、直角反射鏡２９の両斜面は、光学的に隔絶されており、第１結像光学系２４からの光束は第２光路折り曲げ鏡２９ｂに入射せず、第２結像光学系２８からの光束が第１光路折り曲げ鏡２９ａに入射しないようになっている。
【００４９】
前記下部鏡筒２３は、投影光学系１５の第１光軸ＡＸ上、すなわち前記上部鏡筒２１と同軸上のウエハＷ側に配置されている。この下部鏡筒２３は、略円筒状をなしており、その内部に第２中間像からの光束に基づいてレチクルＲのパターンの縮小像（第２中間像の像であってパターンの最終像）をウエハＷ上に形成するための第３結像光学系３３を保持している。この第３結像光学系３３は、複数の光学素子を有している。また、下部鏡筒２３は、投影系鏡筒の一部をなす複数（この例では４つ）の部分鏡筒２３ａが積層された状態で形成されている。これらの部分鏡筒２３ａは、例えばステンレス鋼、チタン合金等の金属材料で構成され、光学素子としての複数（この例では４つ）のレンズ２５ｂ及び光学素子としてのカバーガラス３４を１つまたは複数組み合わせて保持している。
【００５０】
本実施形態では、図３に示すように、前記凹面反射鏡３１は、入射光である露光光ＥＬを反射する反射面３１ａと、この反射面３１ａを含む曲面に対して交差する側面としての外周面３１ｂとを有している。この凹面反射鏡３１は、その周縁部、すなわち前記外周面３１ｂから第２光軸ＡＸ’方向の異なる位置で外方に向かって突出する一対の鍔部３７ａ，３７ｂを有している。これら一対の鍔部３７ａ，３７ｂは、外周面３１ｂにおいてその周方向に延びるとともに、環状をなすように外周面３１ｂの全周に亘って形成されている。
【００５１】
また、一対の鍔部３７ａ，３７ｂのうちの第１鍔部としての取付鍔部３７ａは、縦置き状態に配置されたときの凹面反射鏡３１の重心位置Ｇｃを含んで前記凹面反射鏡３１の第２光軸ＡＸ’にほぼ直交する平面Ｐ１に沿って延びるように形成されている。また、一対の鍔部３７ａ，３７ｂのうちの第２鍔部としてのシール鍔部３７ｂは、前記平面Ｐ１よりも凹面反射鏡３１の反射面３１ａ側に位置するとともにその平面Ｐ１と平行をなす平面Ｐ２に沿って延びるように形成されている。
【００５２】
また、本実施形態では、図２に示すように、前記凹面反射鏡３１は、その周縁部が保持装置４０により保持された状態で前記横鏡筒２２の部分鏡筒２２ａに固定されている。
【００５３】
図４に示すように、この保持装置４０は、例えばアルミニウム等の金属材料からなる円環状の枠体４１と、その枠体４１に対して等角度間隔をおいて配設されるとともに凹面反射鏡３１の取付鍔部３７ａを挟持する複数（この例では３つ）の保持部４２とから構成されている。
【００５４】
図５に示すように、前記保持部４２は、大きく分けて基台部材４３とクランプ部材４４とを備えている。そして、枠体４１には、その一方の表面４１ａに、クランプ部材４４が取り付けられる取付溝４５が等角度間隔おきに形成されている。さらに、枠体４１の内周面には、基台部材４３の一部をなす座面ブロック５０ａが収容される収容凹部４６が、前記取付溝４５と対応する位置に形成されている。
【００５５】
まず、前記基台部材４３の構成について説明する。
この基台部材４３は、前記凹面反射鏡３１の取付鍔部３７ａにおけるシール鍔部３７ｂと対向する側面とは反対側の側面に係合する座面５１を有する座面ブロック５０ａと、その座面ブロック５０ａの姿勢を調整可能に支持する座面ブロック支持機構５５が形成された支持ブロック５０ｂとを備えている。
【００５６】
前記座面ブロック５０ａは、その長手方向が前記凹面反射鏡３１の外周面３１ｂの接線方向に沿うように配置され、前記座面５１は、その座面ブロック５０ａの長手方向の両端部に形成されている。すなわち、座面５１は、座面ブロック５０ａの表面から突出するように形成されている。この座面５１は、所定の面積を有する平面状をなすとともに、その周縁が所定の曲率をもった曲面状に形成されている。
【００５７】
また、この座面５１の表面には、金の層がめっきや蒸着等により設けられており、その座面５１の表面の凹面反射鏡３１の取付鍔部３７ａに対する摩擦係数が高められている。なお、座面５１と、凹面反射鏡３１の取付鍔部３７ａとの摩擦係数を高めるべく、その取付鍔部３７ａの表面に例えば金属膜等を形成してもよい。また、座面５１と取付鍔部３７ａとの摩擦係数を向上すべく、それら座面５１と取付鍔部３７ａとの接触面積を、座面ブロック５０ａの長手方向に沿って増加させてもよい。
【００５８】
ここで、前記座面ブロック支持機構５５について説明する。
図５及び図６に示すように、前記座面ブロック５０ａと支持ブロック５０ｂとの間、及び支持ブロック５０ｂには、凹面反射鏡３１の径方向（図５のＸ軸方向）に貫通する複数のスリット５６が形成されている。この複数のスリット５６を形成する際、全部のスリット５６が互いに連続しないように、スリット５６の間に、加工を施さない部分を残す。そして、この加工を施さない部分に対して、彫り込み部５７が、図５中のＸ軸方向の＋方向から彫り込む加工と、Ｘ軸方向の−方向からの彫り込む加工とにより形成されている。このＸ軸方向の＋方向からの加工と−方向からの加工とによって、座面ブロック５０ａと支持ブロック５０ｂとの間、及び支持ブロック５０ｂには、複数の首部５８ａ〜５８ｄが形成される。
【００５９】
また、前記支持ブロック５０ｂは、複数のスリット５６により、大きく３つの部分に分割されている。すなわち、支持ブロック５０ｂは、前記枠体４１に対してボルト（図示略）等により固着される基台部５９ａと、第１ブロック５９ｂと、第２ブロック５９ｃとに分割されている。さらに、基台部５９ａと第１ブロック５９ｂとを連結する第１首部５８ａと、基台部５９ａと第２ブロック５９ｃとを連結する第２首部５８ｂと、第１ブロック５９ｂと第２ブロック５９ｃとを連結する第３首部５８ｃと、第２ブロック５９ｃと座面ブロック５０ａとを連結する第４首部５８ｄとが形成されている。これらの首部５８ａ〜５８ｄは、断面正方形をなし、座面ブロック５０ａ、基台部５９ａ、第１ブロック５９ｂ、第２ブロック５９ｃの断面積に比べて著しく小さな正方形の断面積を有する。
【００６０】
そして、第１ブロック５９ｂは、第１首部５８ａ及び第３首部５８ｃによって、基台部５９ａと第２ブロック５９ｃとに固定される。この第１ブロック５９ｂは、第１首部５８ａ及び第３首部５８ｃにより、図６中のＹ軸方向（凹面反射鏡３１の外周面３１ｂの接線方向）周りに回転可能に保持されるが、そのＹ軸方向への変位は拘束される。従って、第１ブロック５９ｂと第１首部５８ａと第３首部５８ｃとにより、凹面反射鏡３１の前記接線方向への変位を拘束する接線方向拘束リンク６０が形成される。
【００６１】
また、第２ブロック５９ｃは、第２首部５８ｂ及び第４首部５８ｄによって、座面ブロック５０ａと基台部５９ａとに固定される。この第２ブロック５９ｃは、第２首部５８ｂ及び第４首部５８ｄにより、図６中のＺ軸方向（凹面反射鏡３１の光軸と平行な方向）周りに回転可能に保持されるが、そのＺ軸方向への変位は拘束される。従って、第２ブロック５９ｃと第２首部５８ｂと第４首部５８ｄとにより、凹面反射鏡３１の前記光軸と平行な方向への変位を拘束する光軸方向拘束リンク６１が形成される。
【００６２】
これら接線方向拘束リンク６０の拘束方向と光軸方向拘束リンク６１の拘束方向とは、互いにほぼ直交する。言い換えれば、接線方向拘束リンク６０の回転軸と光軸方向拘束リンク６１の回転軸とが、互いにほぼ直交する。
【００６３】
そして、座面ブロック５０ａは、第４首部５８ｄによって、支持ブロック５０ｂに連結されている。すなわち、座面ブロック５０ａは、基台部５９ａに対して、接線方向拘束リンク６０と光軸方向拘束リンク６１とを備える一対のリンク機構により支持される。
【００６４】
また、図６に示すように、これらの首部５８ａ〜５８ｄのうち、第２及び第４首部５８ｂ，５８ｄは、前記座面ブロック５０ａの両座面５１の中間位置を通る線上に配置されている。その線は、前記一対の座面５１を結ぶ線と直交するとともに図６中のＺ軸に平行である。一方、第１及び第３首部５８ａ，５８ｃは、一対の座面５１を結ぶ線と平行な線上に配置されている。さらに、第３首部５８ｃは、第４首部５８ｄの近傍に配置されている。
【００６５】
このように構成された座面ブロック支持機構５５において、座面ブロック５０ａは、接線方向拘束リンク６０及び光軸方向拘束リンク６１により、基台部５９ａに対して、図５中のＸ軸方向、Ｙ軸方向、Ｚ軸方向周りに回転可能に、かつＹ軸方向、Ｚ軸方向への変位が抑制されるように支持されている。さらに、座面ブロック５０ａは、第４首部５８ｄにより、図５中のＸ軸方向に変位可能に支持されている。すなわち、座面ブロック支持機構５５は、接線方向拘束リンク６０と、光軸方向拘束リンク６１と、Ｘ軸方向に変位可能な第４首部５８ｄとを含む構成となっている。
【００６６】
なお、図５に示すように、前記基台部材４３には、その座面ブロック５０ａに、座面５１に対して図５中のＺ軸方向（凹面反射鏡３１の取付鍔部３７ａの厚さ方向）に延びて形成される座面側取付部５２を備えている。言い換えると、座面側取付部５２は、前記座面５１からＺ軸方向に所定距離を離間した位置に設けられている。
【００６７】
次に、前記クランプ部材４４の構成について説明する。
図５に示すように、このクランプ部材４４は、前記座面ブロック５０ａの上方に対応して配置され、クランプ本体６５とパッド部材７０とからなっている。
【００６８】
前記クランプ本体６５には、押さえ面ブロック６６と、その押さえ面ブロック６６と一体に形成されて押さえ面ブロック６６を支持する押さえ面ブロック支持機構６７とが装備されている。前記押さえ面ブロック６６の下面の両端には、前記座面ブロック５０ａの座面５１に対向するように押さえ面６８が形成されている。この押さえ面６８は、凹面反射鏡３１の外周面３１ｂの接線方向にほぼ沿った稜線を有する断面三角形状に形成されている。これらの両押さえ面６８の稜線は、その２つの稜線を結ぶ直線の中点が、前記座面ブロック５０ａと光軸方向拘束リンク６１（図６参照）とを連結する第４首部５８ｄの上方に位置するように形成されている。
【００６９】
前記押さえ面ブロック支持機構６７は、腕部６７ａと押さえ面側取付部６７ｂとからなっており、その押さえ面側取付部６７ｂと前記押さえ面ブロック６６とは所定の間隔をおいて離間されている。そして、この押さえ面側取付部６７ｂと前記座面側取付部５２とを前記パッド部材７０を介して接合させた状態でボルト４７により締結することによって、クランプ部材４４が前記座面ブロック５０ａに対して固定されるようになっている。また、前記腕部６７ａは、前記押さえ面ブロック６６と押さえ面側取付部６７ｂとの両端を接続するように一対設けられている。各腕部６７ａは、平面コ字状をなし、押さえ面側取付部６７ｂと前記座面側取付部５２とを前記パッド部材７０を介して接合させた状態で弾性変形可能なだけの長さをもって形成されている。さらに、この腕部６７ａは、枠体４１に装着した状態で、その枠体４１の取付溝４５内にその内周面とは離間した状態で収容されるようになっている。
【００７０】
前記パッド部材７０は、前記両取付部５２，６７ｂの間に挟持される挟持部７１と、前記押さえ面６８と凹面反射鏡３１の取付鍔部３７ａとの間に介装される作用部７２と、それら挟持部７１と作用部７２とを連結するとともに弾性変形可能な薄板状の薄板部７３とからなっている。前記作用部７２の下面には、凹面反射鏡３１の取付鍔部３７ａに係合する作用面７４が、前記座面５１に対応するように平面状に形成されている。この作用面７４の周縁は、凹面反射鏡３１の取付鍔部３７ａに対する角当たりによる損傷を回避するため、所定の曲率をもった曲面状に形成されている。また、この作用面７４の表面には、前記座面５１と同様に金の層がめっきや蒸着等により設けられており、その作用面７４の表面における凹面反射鏡３１の取付鍔部３７ａに対する摩擦係数が高められている。
【００７１】
そして、このように構成されたクランプ部材４４は、前記ボルト４７を締め込むことにより、前記腕部６７ａが弾性変形されて、押さえ面ブロック６６の押さえ面６８に座面ブロック５０ａ側への押圧力を付与する。この押圧力は、パッド部材７０の作用面７４を介して、凹面反射鏡３１の取付鍔部３７ａに作用する。これにより、凹面反射鏡３１の取付鍔部３７ａが、座面ブロック５０ａの座面５１と押さえ面ブロック６６の押さえ面６８との間に挟持される。
【００７２】
このような構成の座面ブロック支持機構５５を介して凹面反射鏡３１が枠体４１に固定される。
ここで、凹面反射鏡３１と枠体４１とは、それぞれ異なる材質で形成されており、凹面反射鏡３１と枠体４１との間では線膨張係数に差を生じることがある。これにより、光源１２からの露光光ＥＬの照射により凹面反射鏡３１が発熱したような場合には、凹面反射鏡３１と枠体４１との間で凹面反射鏡３１の径方向へ伸縮長さの違いが生じることがある。
【００７３】
このような伸縮長さの違いが生じた場合には、各座面ブロック支持機構５５の各拘束リンク６０，６１及び各首部５８ａ〜５８ｄの協働作用により、凹面反射鏡３１を挟持する座面ブロック５０ａと押さえ面ブロック６６とが、枠体４１に対して凹面反射鏡３１の径方向へ相対移動される。これにより、前記伸縮長さの違いが吸収され、凹面反射鏡３１に大きな伸縮荷重が直接加わるおそれはない。
【００７４】
また、枠体４１を部分鏡筒２２ａに固定する際に、部分鏡筒２２ａの受け部の表面状態によっては、その枠体４１にわずかな歪みを生じるおそれがある。このように枠体４１に歪みが生じたとしても、各座面ブロック支持機構５５の各拘束リンク６０，６１及び各首部５８ａ〜５８ｄの協働作用により、凹面反射鏡３１が枠体４１に対してキネマティックに保持されているため、その歪みの影響が凹面反射鏡３１に及ぶことが抑制される。
【００７５】
さらに、本実施形態では、凹面反射鏡３１を露光装置１１の投影光学系１５に組み付ける前において、その凹面反射鏡３１の反射面３１ａを研磨装置により研磨する仕上加工を行っている。
【００７６】
図７に示すように、この研磨装置８０は、凹面反射鏡３１を支持する保持台８１と、この保持台８１により保持された凹面反射鏡３１の反射面３１ａ（研磨面）を研磨する研磨部８２とを備えている。ここで、研磨部８２は、凹面反射鏡３１の反射面３１ａに接触する接触部や、この接触部を回転させたり、移動させたりする駆動部などを備えており、一般的に用いられるものである。
【００７７】
本実施形態では、前記保持台８１は、有底円筒状をなしており、前記保持部４２を介して枠体４１に固定された状態の凹面反射鏡３１を保持できるように構成されている。この保持台８１には、その周壁８１ａの上端面に、枠体４１と係合する段部８１ｂが全周に亘って形成されている。なお、保持台８１は、その段部８１ｂに枠体４１が係合しているときに、凹面反射鏡３１や保持部４２が保持台８１の内底面８１ｃ及び内周面８１ｄに接触しないように形成されている。
【００７８】
また、本実施形態では、研磨装置８０は、凹面反射鏡３１が保持装置４０を介して保持台８１に保持された状態で、枠体４１や保持部４２を、凹面反射鏡３１の反射面３１ａを研磨する空間、すなわち反射面３１ａが表出する空間９０から隔離するための隔離部材８３を備えている。
【００７９】
この隔離部材８３は、保持台８１上に載置されるカバー部８４と、このカバー部８４に設けられるシール部材としてのシールリング８５とを有している。
前記カバー部８４は、前記保持台８１の周壁８１ａ上に載置される円環状の縦壁部８４ａを有している。この縦壁部８４ａには、前記枠体４１の外径よりも大きな内径を有する開口部としての縦壁部側開口部８６ａが形成されている。そして、この縦壁部側開口部８６ａには、前記枠体４１が挿入される。
【００８０】
また、カバー部８４は、縦壁部８４ａの内周面における上端部から内方に向かって突出する円盤状の上底部８４ｂを有している。この上底部８４ｂには、前記凹面反射鏡３１のシール鍔部３７ｂの外径よりも大きな内径を有する開口部としての上底部側開口部８６ｂが形成されている。そして、この上底部側開口部８６ｂには、前記凹面反射鏡３１のシール鍔部３７ｂが挿入される。
【００８１】
さらに、カバー部８４は、上底部８４ｂの先端の内周面における上端部から内方に向かって突出する円盤状の突出部８４ｃを有している。この突出部８４ｃには、凹面反射鏡３１の外周面３１ｂにおけるシール鍔部３７ｂよりも反射面３１ａ側の部分の外径よりも大きな内径を有する開口部としての突出部側開口部８６ｃが形成されている。そして、この突出部側開口部８６ｃには、凹面反射鏡３１におけるシール鍔部３７ｂよりも前記反射面３１ａ側の部分が挿入される。
【００８２】
また、凹面反射鏡３１を、保持装置４０を介して保持台８１に保持し、前記カバー部８４を載置した状態では、前記突出部８４ｃの下面と前記凹面反射鏡３１のシール鍔部３７ｂにおける反射面３１ａ側の側面との間に所定の隙間が形成されるようになっている。
【００８３】
前記シールリング８５は、突出部８４ｃの下面に沿うように設けられている。このシールリング８５は、凹面反射鏡３１を保持した状態の保持台８１上にカバー部８４が載置された際に、突出部８４ｃと凹面反射鏡３１のシール鍔部３７ｂとにより挟持された状態で変形し得る軟質材料からなるチューブ材から形成されている。
【００８４】
そして、シールリング８５は、凹面反射鏡３１の反射面３１ａを研磨する際に、シール鍔部３７ｂにおける前記取付鍔部３７ａとは反対側の面、すなわち、シール鍔部３７ｂにおける凹面反射鏡３１の反射面３１ａ側の面に圧接するように設けられている。このシールリング８５により、凹面反射鏡３１の反射面３１ａを研磨する際に、液状の研磨剤が保持台８１とカバー部８４との内部の空間内に流入することが抑制されるとともに、その研磨剤が保持装置４０に到達することが抑制されるようになっている。
【００８５】
また、このシールリング８５は、カバー部８４に対して着脱可能に設けられている。
このような構成の研磨装置８０を用いて凹面反射鏡３１の反射面３１ａを研磨（仕上加工）する際には、例えば以下のような手順で行われる。
【００８６】
まず、所定の形状に形成された凹面反射鏡３１を、保持部４２を介して枠体４１に固定する。次いで、枠体４１に固定した状態で、凹面反射鏡３１の反射面３１ａの状態を例えば干渉計等により測定する。この測定の結果から、凹面反射鏡３１の反射面３１ａを、どのくらい研磨するかを決定する。
【００８７】
その後、凹面反射鏡３１が固定されたままの状態の枠体４１を、研磨装置８０の保持台８１上に載置する。この際、枠体４１を保持台８１の段部８１ｂに係合させる。そして、カバー部８４を、凹面反射鏡３１の反射面３１ａが前記開口部８６ａ〜８６ｃを介して前記空間９０に露出するように保持台８１上に載置する。この際、枠体４１と保持部４２とがカバー部８４により覆われるとともに、シールリング８５が、カバー部８４の突出部８４ｃと凹面反射鏡３１のシール鍔部３７ｂとの両対向面に圧接されて、保持台８１とカバー部８４との内部空間が前記空間９０から隔離される。
【００８８】
こうして凹面反射鏡３１を保持台８１に保持した状態で、液状の研磨剤を凹面反射鏡３１の反射面３１ａに供給しつつ、前記測定の結果に基づいて、凹面反射鏡３１の反射面３１ａを研磨部８２により研磨する。
【００８９】
この研磨が終了した後は、凹面反射鏡３１を、枠体４１に固定した状態で、保持台８１から外すとともに研磨後の反射面３１ａの状態を例えば干渉計等により再度測定する。ここで、干渉計による再度の測定の結果、研磨後の反射面３１ａが所望の状態と一致する場合には、凹面反射鏡３１の仕上加工を終了する。なお、この仕上加工が終了した後の凹面反射鏡３１は、保持部４２を介して枠体４１に固定されたままの状態で前記部分鏡筒２２ａの所定の位置に固定され、その後、凹面反射鏡３１が固定された部分鏡筒２２ａが前記横鏡筒２２に組み付けられる。
【００９０】
一方、研磨後の反射面３１ａが所望の状態と一致しない場合には、凹面反射鏡３１を、枠体４１に固定したままの状態で保持台８１に再び載置するとともに、カバー部８４を保持台８１に載置する。そして、凹面反射鏡３１の反射面３１ａを、再度の測定の結果に基づいて研磨装置８０により研磨する。この再度の研磨後、凹面反射鏡３１の反射面３１ａの状態を例えば干渉計等により再び測定し、その測定の結果、反射面３１ａが所望の状態と一致すれば、凹面反射鏡３１の研磨（仕上加工）を終了する。
【００９１】
従って、本実施形態によれば、以下のような効果を得ることができる。
（イ） 本実施形態では、研磨装置８０は、凹面反射鏡３１が保持部４２を介して枠体４１に保持されている状態でその枠体４１を支持する保持台８１と、保持台８１上の枠体４１及び保持部４２を前記空間９０から隔離する隔離部材８３とを備えている。そして、凹面反射鏡３１の反射面３１ａを、凹面反射鏡３１が保持部４２を介して枠体４１により保持されている状態で研磨装置８０により研磨している。
【００９２】
これにより、凹面反射鏡３１の反射面３１ａの研磨を、保持部４２を介して凹面反射鏡３１を枠体４１に保持した状態で行うことができるとともに、研磨後の凹面反射鏡３１を、枠体４１に保持した状態で部分鏡筒２２ａ（横鏡筒２２）に取り付けることができる。このように反射面３１ａの研磨後において、凹面反射鏡３１を保持装置４０から取り外すことがないため、保持装置４０による凹面反射鏡３１の保持状態が大きく変化することがない。この結果、反射面３１ａの研磨後において、その反射面３１ａの歪みの発生を抑制して所望の状態に維持しつつ、凹面反射鏡３１を部分鏡筒２２ａに取り付けることができ、凹面反射鏡３１を露光装置１１に装着した状態で、その凹面反射鏡３１の反射面３１ａの面精度を高く維持することができる。
【００９３】
（ロ） 本実施形態では、保持部４２は、凹面反射鏡３１の取付鍔部３７ａに係合する座面５１が形成された座面ブロック５０ａと、この座面ブロック５０ａを、凹面反射鏡３１の外周面３１ｂの接線方向周りと径方向周りとに回転可能に支持する座面ブロック支持機構５５とを備えている。
【００９４】
これにより、凹面反射鏡３１を保持装置４０により保持した状態では、座面ブロック支持機構５５が、凹面反射鏡３１の外周面３１ｂの接線方向周りと径方向周りとに回転可能となる。これにより、座面ブロック５０ａの取付鍔部３７ａの表面に沿った回転が可能となり、凹面反射鏡３１の反射面３１ａに対する保持台８１の段部８１ｂの表面における微小なうねり等の表面状態の影響が遮断される。また、凹面反射鏡３１の反射面３１ａに対する枠体４１の表面状態及び部分鏡筒２２ａの表面状態の影響を遮断することができる。このため、凹面反射鏡３１における反射面３１ａの高精度な研磨を短時間で行うことができる。
【００９５】
（ハ） 本実施形態では、隔離部材８３は、凹面反射鏡３１の反射面３１ａを空間９０に露出させる開口部８６ａ〜８６ｃが形成されるとともに、保持台８１上に載置されたときに、枠体４１と保持部４２とを覆うカバー部８４を有している。また、隔離部材８３は、カバー部８４の突出部８４ｃの周縁と凹面反射鏡３１のシール鍔部３７ｂの側面との間に設けられ、保持装置４０に対して、凹面反射鏡３１の反射面３１ａを研磨する際の研磨剤の到達を抑制するシールリング８５を有している。これにより、凹面反射鏡３１の反射面３１ａの研磨を可能としながらも、その反射面３１ａの研磨時に、液状の研磨剤が枠体４１と保持部４２とにかかることを回避することができる。
【００９６】
（ニ） 本実施形態では、シールリング８５を、カバー部８４に対して着脱可能に設けている。これにより、例えばシールリング８５が劣化等した場合には、そのシールリング８５のみを取り替えることができる。このため、取替費用を低減することができる。また、シールリング８５を、種々の凹面反射鏡３１の形状や外径等に応じて、適宜選択して取り替えることができる。このため、研磨装置８０の汎用性を向上することができる。
【００９７】
（ホ） 本実施形態では、シールリング８５を、カバー部８４の突出部８４ｃの周縁と凹面反射鏡３１の側面との間に挟持された状態で変形し得る軟質材料からなるチューブ材から形成している。これにより、凹面反射鏡３１の反射面３１ａを研磨する際には、その凹面反射鏡３１のシール鍔部３７ｂや保持装置４０をカバー部８４により覆うと、シールリング８５は、カバー部８４の突出部８４ｃの周縁と凹面反射鏡３１のシール鍔部３７ｂとの間で変形しつつ、それらの間を液密にシールする。この際、シールリング８５は変形し易く、しかも変形により生じる弾性力が小さい。このため、凹面反射鏡３１のシール鍔部３７ｂに、シールリング８５の弾性力に起因した過剰な力が作用することを抑制することができる。この結果、凹面反射鏡３１の反射面３１ａの研磨時において、その凹面反射鏡３１に歪みが生じることを抑制することができる。
【００９８】
（ヘ） 本実施形態では、凹面反射鏡３１には、その外周面３１ｂから光軸方向の異なる位置で外方へ向かって突出するとともに周方向に延びる一対の鍔部３７ａ，３７ｂを設けている。また、保持装置４０を、凹面反射鏡３１の一対の鍔部３７ａ，３７ｂのうちの取付鍔部３７ａを保持するように設けている。また、カバー部８４を、その突出部８４ｃが凹面反射鏡３１のシール鍔部３７ｂにおける反射面３１ａ側の側面と対向するように設けている。さらに、シールリング８５を、カバー部８４の突出部８４ｃと凹面反射鏡３１のシール鍔部３７ｂとの間に位置するように設けている。
【００９９】
このように、凹面反射鏡３１の外周面３１ｂに一対の鍔部３７ａ，３７ｂを設けることにより、保持装置４０により保持される取付鍔部３７ａと、研磨装置８０の隔離部材８３に当接されるシール鍔部３７ｂとに機能を分担させることが可能となる。これにより、凹面反射鏡３１を保持装置４０により保持した状態で、その凹面反射鏡３１の反射面３１ａを研磨装置８０により研磨することができる。また、凹面反射鏡３１を保持装置４０により保持した状態で、かつ、その保持装置４０に研磨剤がかかることを抑制しつつ、凹面反射鏡３１の反射面３１ａを研磨することができる。
【０１００】
また、取付鍔部３７ａとシール鍔部３７ｂとは、凹面反射鏡３１の外周面３１ｂにおいて互いに離間した位置にあるため、凹面反射鏡３１が保持台８１とカバー部８４との内部空間内にあるときに、保持装置４０とカバー部８４との接触を回避することができる。このため、凹面反射鏡３１の反射面３１ａを研磨する際に、保持装置４０がカバー部８４との接触によって変形することを抑制することができる。
【０１０１】
（ト） 本実施形態では、シールリング８５を、凹面反射鏡３１のシール鍔部３７ｂにおける反射面３１ａ側の側面に圧接するように設けている。これにより、凹面反射鏡３１の反射面３１ａを研磨する際に使用する研磨剤が、保持装置４０の取り付けられる取付鍔部３７ａ側へと流下することを、より確実に抑制することができる。
【０１０２】
（チ） 本実施形態では、凹面反射鏡３１の外周面３１ｂ上において反射面３１ａ側に位置するシール鍔部３７ｂを、その外周面３１ｂの全周に亘って環状に形成している。これにより、凹面反射鏡３１の反射面３１ａを研磨する際には、シール鍔部３７ｂの全周が隔離部材８３のシールリング８５により圧接された状態となる。このため、隔離部材８３とシール鍔部３７ｂとの間に隙間が形成されることを抑制することができ、それら隔離部材８３とシール鍔部３７ｂとの間のシール性を向上することができる。
【０１０３】
（リ） 本実施形態では、凹面反射鏡３１の前記取付鍔部３７ａを、保持装置４０による保持位置を含んで光軸と交差する方向に延びる平面Ｐ１が、縦置き状態に配置された凹面反射鏡３１の重心位置Ｇｃを通るように設けている。
【０１０４】
これにより、縦置き状態に配置された凹面反射鏡３１を、モーメントの発生を抑制しつつ安定した状態で部分鏡筒２２ａにより保持することができる。このため、前記モーメントの発生に起因する凹面反射鏡３１の反射面３１ａの変形を抑制することができる。この結果、凹面反射鏡３１の光学性能が悪化するおそれを抑制して、光学性能を良好に保つことができる。
【０１０５】
（ヌ） 本実施形態では、露光光ＥＬを反射する凹面反射鏡３１の反射面３１ａを、研磨装置８０により研磨している。
一般に、凹面反射鏡により反射される反射光は、その凹面反射鏡の反射面の状態に影響され易い。すなわち、凹面反射鏡の反射面が僅かにでも歪んでいたりすると、所望の反射光が得られにくくなる。このように反射面３１ａの状態が反射光に大きな影響を与える凹面反射鏡３１を、研磨装置８０により研磨する本実施形態では、特に顕著な効果を得ることができる。
【０１０６】
（変形例）
なお、本発明の実施形態は、以下のように変形してもよい。
・ 前記実施形態において、凹面反射鏡３１の一対の鍔部３７ａ，３７ｂのうちの保持部４２により保持される取付鍔部３７ａは、凹面反射鏡３１の外周面３１ｂの全周に亘って環状に設けられる構成には限定されない。この取付鍔部３７ａを、保持部４２により保持される部分でのみ外周面３１ｂから突出させて形成する構成としてもよい。
【０１０７】
・ 前記実施形態において、凹面反射鏡３１のシール鍔部３７ｂを省略してもよい。
・ 前記実施形態において、凹面反射鏡３１を投影光学系１５に装着した状態で反射面３１ａの研磨量を測定し、その後、凹面反射鏡３１を、投影光学系１５から保持装置４０ごと取り外すとともに保持台８１にセットして、反射面３１ａの研磨を行うようにしてもよい。
【０１０８】
・ 前記実施形態において、凹面反射鏡３１を枠体４１に固定せずに、凹面反射鏡３１の反射面３１ａを研磨装置８０により研磨するようにしてもよい。すなわち、保持部４２により凹面反射鏡３１の取付鍔部３７ａを保持した状態で、その保持部４２を保持台８１により保持しつつ、反射面３１ａを研磨するようにしてもよい。この場合、例えば、保持台８１の段部８１ｂは、保持部４２の支持ブロック５０ｂに係合するように形成される。
【０１０９】
・ 前記実施形態において、座面ブロック支持機構５５は、座面ブロック５０ａを、凹面反射鏡３１の外周面３１ｂの接線方向周りと径方向周りとのどちらか一方にのみ回転可能に支持する構成であってもよい。
【０１１０】
・ 前記実施形態では、押さえ面ブロック６６がパッド部材７０を介して、凹面反射鏡３１の取付鍔部３７ａを押圧するように構成した。これに対して、パッド部材７０を省略して、押さえ面ブロック６６が取付鍔部３７ａを直に押圧するようにしてもよい。この場合、押さえ面ブロック６６の押さえ面６８は、座面５１と同様に平面状に形成することが望ましい。
【０１１１】
・ 前記実施形態では、座面５１を座面ブロック５０ａにおける凹面反射鏡３１との対向面の両端に２つ設けたが、その対向面のほぼ全面に座面を形成してもよいし、３つ以上の座面を形成してもよい。また、押さえ面ブロック６６の押さえ面６８も、同様に、その対向面のほぼ全面に形成してもよいし、３つ以上を形成してもよい。
【０１１２】
・ 前記実施形態では、クランプ本体６５において長く延長された腕部６７ａが、押さえ面ブロック６６を付勢するようになっている。これに対して、この腕部６７ａに代えて、例えば板状の板ばね、コイルばね等を採用して押さえ面ブロック６６を付勢するようにしてもよい。
【０１１３】
・ 前記実施形態において、シールリング８５は、チューブ材からなるものには限定されない。このシールリング８５を、例えば、環状をなす中実体からなるものであってもよい。このようにした場合にも、そのシールリング８５を、カバー部８４の突出部８４ｃと凹面反射鏡３１のシール鍔部３７ｂとの間に挟持された状態で変形し得る軟質材料により形成することが望ましい。
【０１１４】
・ 前記実施形態において、シールリング８５を、カバー部８４に対し、例えば接着等により、着脱不能に設ける構成としてもよい。
・ 前記実施形態において、凹面反射鏡３１は、縦置きタイプのものには限定されず、横置きタイプのものであってもよい。この場合、保持装置４０により保持される取付鍔部３７ａを、凹面反射鏡３１の外周面３１ｂにおいて、重心位置Ｇｃを含む平面Ｐ１に沿うように設ける構成でなくてもよい。
【０１１５】
・ 前記実施形態において、凹面反射鏡３１以外の光学素子、例えば、レンズ２５ａ，２５ｂ、カバーガラス２６、直角反射鏡２９、ハーフミラーなど、露光装置１１に設けられる各種光学素子を研磨装置８０により研磨するようにしてもよい。この場合、それらの光学素子は、保持装置により保持された状態、または、保持装置により保持されるとともに部分鏡筒（鏡筒）に取着された状態で研磨される。
【０１１６】
・ また、レンズ２５ａ，２５ｂ、カバーガラス２６、直角反射鏡２９、ハーフミラーなど、入射面と出射面との両面が研磨される光学素子の場合等には、鍔部を、光学素子の外周面に３個以上設ける構成としてもよい。この場合、例えば、光軸方向の中央に位置する鍔部が保持装置により保持され、入射面に最も接近した位置にある鍔部と出射面に最も接近した位置にある鍔部とがカバー部８４のシールリング８５により圧接される構成とすることができる。
【０１１７】
・ また、露光装置の光源としては、例えばｇ線（４３６ｎｍ）、ｉ線（３６５ｎｍ）、ＫｒＦエキシマレーザ（２４８ｎｍ）、ＡｒＦエキシマレーザ（１９３ｎｍ）、Ｋｒ_２レーザ（１４６ｎｍ）、Ａｒ_２レーザ（１２６ｎｍ）等を用いてもよい。また、ＤＦＢ半導体レーザまたはファイバレーザから発振される赤外域、または可視域の単一波長レーザ光を、例えばエルビウム（またはエルビウムとイッテルビウムの双方）がドープされたファイバアンプで増幅し、非線形光学結晶を用いて紫外光に波長変換した高調波を用いてもよい。
【０１１８】
・ また、露光装置として、投影光学系を用いることなく、マスクと基板とを密接させてマスクのパターンを露光するコンタクト露光装置、マスクと基板とを近接させてマスクのパターンを露光するプロキシミティ露光装置の光学系にも適用することができる。また、投影光学系としては、反射屈折タイプに限らず、全屈折タイプであってもよい。
【０１１９】
さらに、本発明の露光装置は、縮小露光型の露光装置に限定されるものではなく、例えば等倍露光型、拡大露光型の露光装置であってもよい。
また、半導体素子等のマイクロデバイスだけでなく、光露光装置、ＥＵＶ露光装置、Ｘ線露光装置、及び電子線露光装置等で使用されるレチクルまたはマスクを製造するために、マザーレチクルからガラス基板やシリコンウエハなどへ回路パターンを転写する露光装置に用いられる光学素子にも本発明を適用できる。ここで、ＤＵＶ（深紫外）やＶＵＶ（真空紫外）光などを用いる露光装置では一般に透過型レチクルが用いられ、レチクル基板としては、石英ガラス、フッ素がドープされた石英ガラス、蛍石、フッ化マグネシウム、または水晶などが用いられる。また、プロキシミティ方式のＸ線露光装置や電子線露光装置などでは、透過型マスク（ステンシルマスク、メンバレンマスク）が用いられ、マスク基板としてはシリコンウエハなどが用いられる。
【０１２０】
また、半導体素子の製造に用いられる露光装置だけでなく、液晶表示素子（ＬＣＤ）などを含むディスプレイの製造に用いられてデバイスパターンをガラスプレート上へ転写する露光装置に用いられる光学素子にも本発明を適用することができる。その他に、薄膜磁気ヘッド等の製造に用いられて、デバイスパターンをセラミックウエハ等へ転写する露光装置や、ＣＣＤ等の撮像素子の製造に用いられる露光装置などに用いられる光学素子にも本発明を適用することができる。
【０１２１】
さらに、マスクと基板とが相対移動した状態でマスクのパターンを基板へ転写し、基板を順次ステップ移動させるスキャニング・ステッパに用いられる光学素子にも本発明を適用することができる。加えて、マスクと基板とが静止した状態でマスクのパターンを基板へ転写し、基板を順次ステップ移動させるステップ・アンド・リピート方式のステッパに用いられる光学素子にも本発明を適用することができる。
【０１２２】
加えて、他の光学機械、例えば顕微鏡や望遠鏡や干渉計等の光学系における光学素子にも本発明を適用することができる。
【０１２３】
【発明の効果】
以上詳述したように、本願請求項１に記載の発明によれば、光学素子の光学面の歪みの発生を抑制することができて、その光学面を精度よく仕上げることができる。
【０１２４】
また、本願請求項２に記載の発明によれば、前記請求項１に記載の発明の効果に加えて、光学素子を受ける受け部の表面状態が光学素子の光学面（研磨面）の面精度に及ぼす影響を低減することができる。また、光学素子における研磨面の高精度な研磨を短時間で行うことができる。
【０１２５】
また、本願請求項３に記載の発明によれば、前記請求項１または請求項２に記載の発明の効果に加えて、光学素子の研磨面の研磨時に、研磨剤が保持装置にかかることを回避することができる。
【０１２６】
また、本願請求項４に記載の発明によれば、前記請求項３に記載の発明の効果に加えて、シール部材を取り替える際の取替費用を低減することができる。また、研磨装置の汎用性を向上することができる。
【０１２７】
また、本願請求項５に記載の発明によれば、前記請求項３または請求項４に記載の発明の効果に加えて、光学素子の側面に過剰な力が作用することを抑制することができ、光学素子の研磨面の研磨時において、その光学素子に歪みが生じることを抑制することができる。
【０１２８】
また、本願請求項６に記載の発明によれば、前記請求項３〜請求項５のうちいずれか一項に記載の発明の効果に加えて、光学素子の研磨時に、保持装置とカバー部とが接触することを回避することができ、保持装置がカバー部との接触によって変形することを抑制することができる。
【０１２９】
また、本願請求項７に記載の発明によれば、前記請求項６に記載の発明の効果に加えて、光学素子を研磨する際に使用する研磨剤が、第１鍔部側へと流下することを、より確実に抑制することができる。
【０１３０】
また、本願請求項８に記載の発明では、請求項１〜請求項７のうちいずれか一項に記載の発明の効果と同様の効果を得ることができる。
また、本願請求項９に記載の発明によれば、光学素子を露光装置に組み付けた状態で、その光学素子の光学面の面精度を高く維持することができる。
【０１３１】
また、本願請求項１０に記載の発明によれば、前記請求項９に記載の発明の効果に加えて、鍔部の全周に亘って、隔離部材と鍔部との間に隙間が形成されることを抑制することができ、それら隔離部材と鍔部との間のシール性を向上することができる。
【０１３２】
また、本願請求項１１に記載の発明によれば、前記請求項９または請求項１０に記載の発明の効果に加えて、光学素子を、その光学性能の悪化を抑制して光学性能を良好に保ちつつ、鏡筒に取り付けることができる。
【０１３３】
また、本願請求項１２に記載の発明によれば、前記請求項９〜請求項１１のうちいずれか一項に記載の発明の効果を、特に顕著に発揮させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の光学素子を備えた露光装置の概要を示す構成図。
【図２】投影光学系を示す断面図。
【図３】凹面反射鏡の断面図。
【図４】図２の４―４線断面図。
【図５】保持装置を示す一部破断分解斜視図。
【図６】基台部材を拡大して示す正面図。
【図７】研磨装置の保持台及び隔離部材を示す断面図。
【符号の説明】
２１…上部鏡筒、２２…横鏡筒、２２ａ…鏡筒の一部を構成する部分鏡筒、２３…下部鏡筒、２５ａ，２５ｂ…光学素子としてのレンズ、２６…光学素子としてのカバーガラス、２９…光学素子としての直角反射鏡、３０…光学素子としての負レンズ、３１…光学素子である反射光学素子としての凹面反射鏡、３１ａ…研磨面としての反射面、３１ｂ…側面としての外周面、３４…光学素子としてのカバーガラス、３７ａ…周縁部である第１鍔部としての取付鍔部、３７ｂ…周縁部である第２鍔部としてのシール鍔部、４０…保持装置、４１…保持装置の一部を構成する枠体、４２…保持装置の一部を構成する保持部、５０ａ…座面ブロック、５１…座面、５５…座面ブロック支持機構、８０…研磨装置、８１…保持台、８３…隔離部材、８４…隔離部材の一部を構成するカバー部、８４ｃ…周縁としての突出部、８５…隔離部材の一部を構成するシール部材としてのシールリング、８６ａ…開口部としての縦壁部側開口部、８６ｂ…開口部としての上底部側開口部、８６ｃ…開口部としての突出部側開口部、９０…空間、ＡＸ…光軸としての第１光軸、ＡＸ’…光軸としての第２光軸、Ｐ１…面としての平面、Ｇｃ…重心位置。

Claims (12)

1. 周縁部を保持する保持装置を介して鏡筒に取り付けられる光学素子のうち、所定の研磨面を研磨する光学素子の研磨装置において、
   前記保持装置が取り付けられた前記光学素子を支持する保持台と、
   前記光学素子のうち、前記所定の研磨面を研磨する際に、前記所定の研磨面を研磨する空間から前記保持装置を隔離する隔離部材と、
   を備えることを特徴とする光学素子の研磨装置。
2. 前記保持装置は、前記光学素子の周縁部に係合する座面が形成された座面ブロックと、
   前記座面ブロックを前記光学素子の接線方向周りと径方向周りとの少なくとも一方に回転可能に支持する座面ブロック支持機構と、
   を備えることを特徴とする請求項１に記載の光学素子の研磨装置。
3. 前記光学素子は、前記所定の研磨面として、入射光を入射する入射面または入射光を反射する反射面と、該入射面または該反射面に対して交差する側面とを有し、
   前記隔離部材は、前記入射面または前記反射面を露出させる開口部が形成されたカバー部と、
   前記開口部の周縁と前記光学素子の側面との間に設けられ、前記保持装置に対して、前記入射面または前記反射面を研磨する際の研磨剤の到達を抑制するシール部材と、
   を有することを特徴とする請求項１または請求項２に記載の光学素子の研磨装置。
4. 前記シール部材は、前記カバー部に対して着脱可能に設けられていることを特徴とする請求項３に記載の光学素子の研磨装置。
5. 前記シール部材は、前記開口部の周縁と前記光学素子の側面との間に挟持された状態で変形し得る軟質材料からなるチューブ材から形成されることを特徴とする請求項３または請求項４に記載の光学素子の研磨装置。
6. 前記光学素子は、前記側面から光軸方向の異なる位置で外方へ向かって突出するとともに周方向に延びる複数の鍔部を有するものであり、前記保持装置は、前記光学素子を前記複数の鍔部のうちのいずれか１つの第１鍔部を保持し、前記カバー部は、前記開口部の周縁が、前記光学素子の前記複数の鍔部のうちの前記第１鍔部よりも研磨される研磨面側に位置する第２鍔部に対向するように設けられ、前記シール部材は、前記カバー部の前記開口部の周縁と前記第２鍔部との間に設けられることを特徴とする請求項３〜請求項５のうちいずれか一項に記載の光学素子の研磨装置。
7. 前記シール部材は、前記第２鍔部における前記第１鍔部とは反対側の面に圧接するように設けられることを特徴とする請求項６に記載の光学素子の研磨装置。
8. 保持装置により周縁部が保持される光学素子の所定の研磨面を研磨する光学素子の研磨方法において、
   前記光学素子の研磨面を、請求項１〜請求項７のうちいずれか一項に記載の光学素子の研磨装置を用いて研磨することを特徴とする光学素子の研磨方法。
9. 所定の研磨面を有する光学素子において、
   前記光学素子は、前記所定の研磨面として、入射光を入射する入射面または入射光を反射する反射面と、該入射面または該反射面に対して交差する側面と、同側面から光軸方向の異なる位置で外方に向かって突出するとともに周方向に延びる複数の鍔部とを有することを特徴とする光学素子。
10. 前記複数の鍔部のうち、少なくとも研磨される研磨面側に位置する鍔部を、前記周縁部の側面の全周にわたって環状に形成したことを特徴とする請求項９に記載の光学素子。
11. 前記複数の鍔部のうち、保持装置により保持される鍔部を、前記保持装置による保持位置を含んで光軸と交差する方向に延びる面が当該光学素子の重心位置をほぼ通るように設けたことを特徴とする請求項９または請求項１０に記載の光学素子。
12. 前記光学素子が、前記入射光を反射する反射面を備える反射光学素子であることを特徴とする請求項９〜請求項１１のうちいずれか一項に記載の光学素子。

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