JP2004008871A - ペースト塗布機 - Google Patents
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Abstract
【課題】従来の塗布機で、高速にペーストパターンを塗布描画する場合に、基板を搭載して、XY方向に移動する基板保持機構の加減速動作により、装置内にて加振力が発生し、これに起因した、振動が各部に生じ、特に、基板塗布面とノズル先端での相対振動により、塗布形状が不安定になり、塗布精度が低下する問題があった。
【解決手段】本発明は塗布機の塗布ヘッドを支持するZ軸テーブル支持架台(門型フレーム)の両端に振動絶縁手段を設置し、塗布動作時のノズルと基板表面の相対振動を低減できるようにペースト塗布機を構成している。
【選択図】 図1
【解決手段】本発明は塗布機の塗布ヘッドを支持するZ軸テーブル支持架台(門型フレーム)の両端に振動絶縁手段を設置し、塗布動作時のノズルと基板表面の相対振動を低減できるようにペースト塗布機を構成している。
【選択図】 図1
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明はペースト収納筒に充填されたペーストを、ノズルの吐出口から基板上に吐出させながら基板とノズルの相対位置関係を変化させ、基板上に所望形状のペーストパターンを描画するペースト塗布機に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来の技術としては、特開平11−262712号公報では、ペースト収納筒とノズル及び基板うねり測定用の距離計を直動ガイドで案内したZ軸テーブルを、ボールねじとサーボモータにより上下方向に制御し、基板表面にペーストパターンを塗布描画する構成にしている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、従来の技術としては、塗布機にて高速にペーストパターンを塗布描画する場合に、基板を搭載して、XY方向に移動する基板保持機構の加減速動作により、装置内にて加振力が発生する。そして、この加振力により、装置各部に振動が発生する。特に、基板塗布面とノズル先端での相対振動により、塗布形状が不安定になり、塗布精度が低下する問題があり、振動の低減が求められている。
【0004】
上述のように、本発明の目的は、塗布動作時における架台面から塗布ヘッド部を支持しているZ軸テーブル支持架台(門型フレーム)への振動伝達を防止することで、高速動作時に発生するノズルと基板表面の相対振動を低減し、高速・高精度のペースト塗布の行えるペースト塗布機を提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明は塗布機の塗布ヘッドを支持するZ軸テーブル支持架台(門型フレーム)の支柱の両端に振動絶縁手段又は、振動減衰手段を設置し、塗布動作時のノズルと基板表面の相対振動を低減するように構成した。
【0006】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施形態について図面を用いて説明する。
図1は本発明によるペースト塗布機の一実施形態を示す斜視図である。
【0007】
図1において、架台1の上部の面上には、X軸方向への移動ガイドを備えたX軸移動テーブル3が設けられている。このX軸移動テーブル3に直交するように、Y軸方向への移動ガイドを備えたY軸移動テーブル5が設けてある。更に、X軸移動テーブル3上には、Y軸移動テーブル5をX軸方向に移動させるためのX軸サーボモータとボールネジが設けられいる。また、Y軸移動テーブル5上にはθ軸移動テーブル8が設けてあり、Y軸移動テーブルにθ軸移動テーブル8をY軸方向に移動させるためのY軸サーボモータ6とボールネジが設けてある。θ軸移動テーブル8上には基板保持機構を備えた基板保持テーブル7が設けてある。θ軸移動テーブル8には、基板保持テーブル7をθ軸方向に回転させるためのθ軸サーボモータ8aが設けてある。ここで、基板保持機構は、基板9を負圧により吸引し吸着させる吸引吸着機構でも、静電気により吸着させる静電吸着機構のどちらを用いても良い。
【0008】
また、架台1上面にはZ軸テーブル支持架台2が、2本の支柱2s1、2s2上に基板保持テーブル7を跨いで設けてある(門型フレーム形状としてある)。Z軸テーブル支持架台2には、Z軸移動テーブル支持ブラケット10が設けられ、このZ軸移動テーブル支持ブラケット10に、Z軸方向の移動ガイドを備えたZ軸移動テーブル11が固定されている。Z軸移動テーブル11上には、距離計16やペースト収納(シリンジ)13等を取り付けた支持台(可動部)が設けられている。さらに、Z軸移動テーブル11には、この支持台をZ軸方向に移動させるためのZ軸サーボモータ12やボールネジが設けてある。また、ペースト収納筒13は、支持台(可動部)に着脱自在に取り付けられている。ペースト収納筒13の先端側にはノズル支持具14が設けてある。
【0009】
また、照明の可能な光源を有する鏡筒を備えた画像認識カメラ15も、基板の位置合わせやペーストパターンの形状認識などのために、支持台に基板に対向するように設けられている。
【0010】
更に、架台1上の支柱2s1、2s2とZ軸テーブル支持架台2の間及び架台1と支柱2s1、2s2との間に、ばね又はゴム等の弾性体からなる振動絶縁手段2a1、2a2、2a3、2a4を設けてある。尚振動絶縁手段に換えてダンパ等の振動減衰手段を設けるか、振動絶縁手段に振動減衰手段を併設する構成としても良い。
【0011】
更に、架台1の内部(架台のテーブル面より下部)には、各サーボモータ4、6、8a、12などを制御する主制御部17が設けられている。この主制御部17は、ケーブル21を介して副制御部18に接続されている。副制御部18にはモニタ19と、キーボード20と外部記憶装置18aとが接続されている。キーボード20からは、かかる主制御部17での各種処理のためのデータが入力される。また、画像認識カメラ15で捉えた画像や主制御部17での処理状況がモニタ19で表示される。更に、キーボード20から入力されたデータなどは、外部記憶装置であるハードディスク18aやフロッピディスク18bなどの記憶媒体に記憶保管される。
【0012】
図2に図1におけるペースト収納筒13と距離計16との部分を拡大して示す斜視図を示す。本図において、図1に対応する部分には同一符号を付けている。
【0013】
図2において、距離計16は、下端部に三角形の切込部があって、その切込部に発光素子と複数の受光素子とが設けられている。ノズル13aは、距離計16の切込部の下部に位置付けられている。距離計16は、ノズル13aの先端部からガラス基板9の表面(上面)までの距離を非接触の三角測法で計測する。即ち、上記三角形の切込部での片側の斜面に発光素子が設けられ、この発光素子から放射されたレーザ光Lは基板9上の計測点Sで反射し、上記切込部の他方の斜面に設けられた複数の受光素子のいずれかで受光される。従って、レーザ光Lはペースト収納筒13やノズル13aで遮られることはない。
【0014】
また、基板9上でのレーザ光Lの計測点Sとノズル13aの直下位置とは基板9上で僅かな距離ΔX、ΔYだけずれる。この僅かな距離ΔX、ΔY程度のずれでは、基板9の表面の凹凸に差がないので、距離計16の計測結果とノズル13aの先端部から基板28の表面(上面)までの距離との間に差は殆ど存在しない。 従って、この距離計16の計測結果に基いてZ軸サーボモータ12を制御することにより、基板9の表面の凹凸(うねり)に合わせてノズル13aの先端部から基板9の表面(上面)までの距離(間隔)を一定に維持することができる。なお、距離計等は本構成に限られたものではなく、反射鏡等を用いた方式を採用しても問題ない。
【0015】
このようにして、ノズル13aの先端部から基板9の表面(上面)までの距離(間隔)は一定に維持され、かつ、ノズル13aから吐出される単位時間当りのペースト量が定量に維持されることにより、基板9上に塗布描画されるペーストパターンは幅や厚さが一様になる。
【0016】
ところで、従来の塗布機においては、高速にペーストパターンを塗布描画する場合に、基板を搭載して、XY方向に移動する基板保持機構が加減速動作することにより、装置内に加振力が発生し、これに起因した振動が各部に生じる。特に、基板塗布面とノズル先端の相対振動により、塗布形状が不安定になり、また塗布精度が低下する問題がある。
【0017】
このため、本発明の実施形態では、先に説明したように、塗布動作時に各駆動部から発生する振動、特に架台1側とノズル13a側とで発生する振動の伝達を絶縁するために、Z軸テーブル支持架台2と架台1との間に設けた支柱の両端部に振動絶縁手段を設けた構成とした。本構成とすることにより、高速動作時に装置に発生するノズルと基板表面の相対振動を低減することができる。
【0018】
次に、本実施形態における制御系の構成を説明する。
図3は、図1における制御部の構成を示すブロック図である。同図において、主制御部17は、マイクロコンピュータ17aと、データ通信バス17cと、モータコントローラ17bと、各軸ドライバ17f〜17iと、画像処理装置17eと、外部インターフェース17dとを内蔵している。
【0019】
この主制御部17において、マイクロコンピュータ17aがデータ通信バス17cに接続されている。更に、このデータ通信バス17cには、モータコントローラ17bと、画像認識カメラ15で得られる映像信号を処理する画像処理装置17eと、副制御部18との間の信号伝送やレギュレータ22a、23a、バルブユニット24の制御、及び、距離計16の入力を行なう外部インターフェース17dが接続されている。また、モータコントローラ17bには、X、Y、θ、Zの各軸ドライバ17f〜17iが接続されている。
【0020】
また、マイクロコンピュータ17aには図示しないが、主演算部や後述する塗布描画を行なうための処理プログラムを格納したROM、主演算部での処理結果や外部インターフェース17d及びモータコントローラ17bからの入力データを格納するRAM、外部インターフェース17dやモータコントローラ17bとデータをやりとりする入出力部などを備えている。
【0021】
各軸ドライバ17f〜17iには、それぞれ各サーボモータ4、6、8a、12が接続されており、各サーボモータに設けてあるエンコーダにより回転量を検出し、その検出結果をX、Y、Z、θの各軸ドライバ17f〜17iに戻して位置制御を行なっている。
【0022】
各サーボモータ4、6、8a、12が、キーボード20から入力されてマイクロコンピュータ17aのRAMに格納されているデータに基いて正逆回転することにより、基板保持テーブル7(図1)に保持された基板9が、Z軸移動テーブル11(図1)を介して、支持したノズル13a(図2)に対し、X、Y軸方向に任意の距離を移動する。その移動中、予め設定してあるデータに基づいてペースト収納筒13に所定の空気圧を継続して印加することで、ノズル13aの先端部の吐出口からペーストが吐出され、基板9に所望のペーストパターンが塗布描画される。
【0023】
尚、本実施形態の空圧系は、正圧源23と負圧源22を有しており、正圧源23からの配管には正圧レギュレータ23aが設けてあり、負圧源22には負圧レギュレータ22aが設けてある。この正、負のレギュレータ22a、23aは外部インターフェース17dからの制御信号に応じて送出する空圧を所定の圧力に調整して、バルブユニット24を介してペースト収納筒13に送り込む。
【0024】
基板保持テーブル7に保持された基板9がX、Y軸方向への水平移動中に距離計16がノズル13aと基板9との間隔を計測し、これを常に一定の間隔を維持するように、サーボモータ12がZ軸ドライバ17iで制御される。
【0025】
次に、図4により、この実施形態での装置の動作について説明する。図4において、電源が投入されると(ステップ100)、まず、塗布機の初期設定が実行される(ステップ200)。この初期設定工程では、図1において、サーボモータ4、6、8a、12を駆動することにより、基板保持テーブル7をX、Y、θ方向に移動させて所定の基準位置に位置決めする。
【0026】
次に、ノズル13a(図2)を、そのペースト吐出口がペースト塗布を開始する位置(即ち、ペースト塗布開始点)となるように、所定の原点位置に設定する。さらに、前回装置を停止した時に設定されていた、品種のペーストパターンの塗布に関係する全てのデータや基板位置データの設定を行なうものである。
【0027】
かかるデータの入力は、キーボード20(図1)から行なわれ、入力されたデータは、前述したように、マイクロコンピュータ17a(図3)に内蔵されたRAMに格納される。
【0028】
この初期設定工程(ステップ200)が終了すると、次に、基板9を装置内に搬入し、基板吸着機構7(図1)に搭載して保持させる(ステップ300)。以上の工程が終了すると、次に、基板に塗布描画するペーストパターンに関する塗布条件としてギャップ、塗布スピード、と負圧力などのデータを読み込む処理を行う(ステップ400)。続いて、基板予備位置決め処理(ステップ500)を行なう。この処理では、基板保持機構7に搭載された基板9の位置決め用マークを画像認識カメラ15で撮影し、位置決め用マークの重心位置を画像処理で求めて基板9のθ方向での傾きを検出する。そして、これに応じてサーボモータ8a(図3)を駆動し、このθ方向の傾きも補正する。
【0029】
なお、ペースト収納筒13内の残りペーストが少ない場合には、次のペースト塗布作業では、この作業の途中でペーストの途切れがないようにするために、前以てペースト収納筒13をノズル13aとともに交換する。但し、このようにノズル13aを交換すると、その位置ずれが生ずることがある。このため、基板9のペーストパターンを形成しない箇所に、交換した新たなノズル13aを用いて十字描画を行ない、この十字描画交点の重心位置を画像処理で求める。この重心位置と基板9上の位置決め用マークの重心位置との間の距離を算出して、これをノズル13aのペースト吐出口の位置ずれ量dx、dyとしてマイクロコンピュータ17aに内蔵のRAMに格納する。これにより、基板予備位置決め処理(ステップ500)を終了する。かかるノズル13aの位置ずれ量dx、dyは、後に行なうペーストパターンの塗布描画の動作時に、この位置ずれを補正する。
【0030】
次に、ペーストパターン描画処理(ステップ600)を行なう。
【0031】
この処理では、塗布開始位置にノズル13aの吐出口を位置付けるために、基板9を移動させ、ノズル位置の比較・調整移動を行なう。すなわちまず、先の基板予備位置決め処理(ステップ500)で得られてマイクロコンピュータ17aのRAMに格納されたノズル13aの位置ずれ量dx、dyが、図2に示したノズル13aの位置ずれ量の許容範囲△X、△Yにあるか否かの判断を行なう。許容範囲内(△X≧dx及び△Y≧dy)であればそのままとし、許容範囲外(△X<dxまたは△Y<dy)であれば、この位置ずれ量dx、dyを基に基板9を移動させる。これにより、ノズル13aのペースト吐出口と基板9の所望位置との間のずれを解消させ、ノズル13aを所望位置に位置決めする。
【0032】
次に、ノズル13aの高さをペーストパターン描画高さに設定する。ノズルの初期移動距離データに基づいて、ノズル13aを初期移動距離分下降させる。続く動作では、基板9表面高さを距離計16により測定し、ノズル13a先端がペーストパターンを描画する高さに設定されているか否かを確認する。そして、描画高さに設定できていない場合は、ノズル13aを微小距離下降をさせ、上記の基板9表面計測とノズル13aの微小距離下降を繰返し動作を行い、ノズル13a先端をペーストパターンを塗布描画する高さに設定する。また、ペースト収納筒13が交換されていないときには、ノズル13aの位置ずれ量dx、dyのデータはないので、ペーストパターン描画処理(ステップ600)に入ったところで、直ちに、上記で説明したノズル13aの高さ設定を行なう。
【0033】
以上の処理が終了すると、次に、マイクロコンピュータ17aのRAMに格納されたペーストパターンデータに基づいてサーボモータ4、6を駆動する。これにより、ノズル13aのペースト吐出口が基板28に対向した状態で、このペーストパターンデータに応じて、基板9がX、Y方向に移動する。この移動と同時に、ペースト収納筒13に僅かな気圧を印加してノズル13aのペースト吐出口からのペーストの吐出を開始する。これにより、基板9へのペーストパターンの塗布描画が開始する。
【0034】
そして、先に説明したように、マイクロコンピュータ17aは距離計16からノズル13aのペースト吐出口と基板9の表面との間隔の実測データを受取る。そして、その実測データから基板9の表面のうねりを求める。この求めた値に応じてサーボモータ12を駆動する。これにより、基板9の表面からのノズル13aの設定高さが一定に維持される。
【0035】
高速にペーストパターンを塗布描画する場合に、基板を搭載してXY方向に移動する基板保持機構を乗せたXYθテーブルが、曲線部(コーナ部)において、直線部とほぼ等速になるように、XY軸を協調制御し、加減速動作を行う。この加減速動作によって、装置内に加振力が発生し、装置各部に振動を発生する。
【0036】
特に、基板塗布面とノズル先端での相対振動が発生すると、パターンの潰れや細りが発生し、塗布形状が不安定になる。また、塗布幅や高さが変動し、塗布精度が低下する問題が発生する。
【0037】
このことから、塗布ヘッド部を支持するZ軸テーブル支持架台2の両端の支持部(支柱2s1、2s2)に振動絶縁手段(2a1、2a2、2a3、2a4)又は振動減衰手段、又は振動絶縁と振動減衰の両手段を設置し、Z軸テーブル支持架台2への振動伝達を防止し、塗布動作時のノズルと基板表面の相対振動を低減するようにしている。
【0038】
又、他の方法として、X軸移動テーブルと架台の間に、振動絶縁手段または振動減衰手段を組合わせて設置しても良い。なお、振動絶縁としては、静圧軸受浮上構造、空気ばね、ゴムシート等を使用することができる。
【0039】
ペーストパターンの描画が動作中に、ノズル13aのペースト吐出口が基板9上のペーストパターンデータによって決まる描画パターンの終端であるか否かの判断を行う。判定結果が終端でなければ、再び基板9の表面うねりの測定処理に戻る。。そして以下、上記の塗布描画を繰り返して、ペーストパターン形成が描画パターンの終端に達するまで継続する。判定結果が描画パターン終端の場合には、サーボモータ12を駆動してノズル13aを上昇させ、このペーストパターン描画工程(ステップ600)が終了する。
【0040】
次に、基板排出処置(ステップ700)に進み、図1において、基板9の保持を解除し、装置外に排出する。そして、以上の全工程を停止するか否かを判定する(ステップ800)。判定結果が、複数枚の基板に同じパターンでペースト膜を形成する場合には、ステップ300から繰り返される。そして、全ての基板についてかかる一連の処理が終了すると、作業が全て終了(ステップ900)となる。
【0041】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、塗布動作時における架台面から塗布ヘッド部を支持しているZ軸テーブル支持架台への振動伝達を防止し、高速動作により、装置に発生するノズルと基板表面の相対振動を低減し、基板上に吐出したペーストの描画パターン精度を向上できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明によるペースト塗布機の一実施形態を示す斜視図である。
【図2】図1に示した実施形態でのペースト収納筒と距離計との配置関係を示す斜視図である。
【図3】図1に示した実施形態での制御系統を示すブロック図である。
【図4】図1に示した実施形態の全体動作を示すフローチャートである。
【符号の説明】
1…架台、2…Z軸テーブル支持架台、2−s1、s2…支柱、2a1、2a2、2a3、2a4…振動絶縁手段、3…X軸移動テーブル、4…X軸サーボモータ、5…Y軸移動テーブル、6…Y軸サーボモータ、7…基板保持機構、8…θ軸移動テーブル、9…基板、10…Z軸移動テーブル支持ブラケット、11…Z軸移動テーブル、12…Z軸サーボモータ、13…ペースト収納筒、14…ノズル支持具、15…画像認識カメラ、16…距離計、17…主制御部、18…副制御部、18a、ハードディスク、18b…フロッピィーディスク、19…モニタ、20…キーボード、21…接続ケーブル、22…負圧源、22a…負圧レギュレータ、23…正圧源、23a…正圧レギュレータ、24…バルブユニット、27…吸引手段。
【発明の属する技術分野】
本発明はペースト収納筒に充填されたペーストを、ノズルの吐出口から基板上に吐出させながら基板とノズルの相対位置関係を変化させ、基板上に所望形状のペーストパターンを描画するペースト塗布機に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来の技術としては、特開平11−262712号公報では、ペースト収納筒とノズル及び基板うねり測定用の距離計を直動ガイドで案内したZ軸テーブルを、ボールねじとサーボモータにより上下方向に制御し、基板表面にペーストパターンを塗布描画する構成にしている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、従来の技術としては、塗布機にて高速にペーストパターンを塗布描画する場合に、基板を搭載して、XY方向に移動する基板保持機構の加減速動作により、装置内にて加振力が発生する。そして、この加振力により、装置各部に振動が発生する。特に、基板塗布面とノズル先端での相対振動により、塗布形状が不安定になり、塗布精度が低下する問題があり、振動の低減が求められている。
【0004】
上述のように、本発明の目的は、塗布動作時における架台面から塗布ヘッド部を支持しているZ軸テーブル支持架台(門型フレーム)への振動伝達を防止することで、高速動作時に発生するノズルと基板表面の相対振動を低減し、高速・高精度のペースト塗布の行えるペースト塗布機を提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明は塗布機の塗布ヘッドを支持するZ軸テーブル支持架台(門型フレーム)の支柱の両端に振動絶縁手段又は、振動減衰手段を設置し、塗布動作時のノズルと基板表面の相対振動を低減するように構成した。
【0006】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施形態について図面を用いて説明する。
図1は本発明によるペースト塗布機の一実施形態を示す斜視図である。
【0007】
図1において、架台1の上部の面上には、X軸方向への移動ガイドを備えたX軸移動テーブル3が設けられている。このX軸移動テーブル3に直交するように、Y軸方向への移動ガイドを備えたY軸移動テーブル5が設けてある。更に、X軸移動テーブル3上には、Y軸移動テーブル5をX軸方向に移動させるためのX軸サーボモータとボールネジが設けられいる。また、Y軸移動テーブル5上にはθ軸移動テーブル8が設けてあり、Y軸移動テーブルにθ軸移動テーブル8をY軸方向に移動させるためのY軸サーボモータ6とボールネジが設けてある。θ軸移動テーブル8上には基板保持機構を備えた基板保持テーブル7が設けてある。θ軸移動テーブル8には、基板保持テーブル7をθ軸方向に回転させるためのθ軸サーボモータ8aが設けてある。ここで、基板保持機構は、基板9を負圧により吸引し吸着させる吸引吸着機構でも、静電気により吸着させる静電吸着機構のどちらを用いても良い。
【0008】
また、架台1上面にはZ軸テーブル支持架台2が、2本の支柱2s1、2s2上に基板保持テーブル7を跨いで設けてある(門型フレーム形状としてある)。Z軸テーブル支持架台2には、Z軸移動テーブル支持ブラケット10が設けられ、このZ軸移動テーブル支持ブラケット10に、Z軸方向の移動ガイドを備えたZ軸移動テーブル11が固定されている。Z軸移動テーブル11上には、距離計16やペースト収納(シリンジ)13等を取り付けた支持台(可動部)が設けられている。さらに、Z軸移動テーブル11には、この支持台をZ軸方向に移動させるためのZ軸サーボモータ12やボールネジが設けてある。また、ペースト収納筒13は、支持台(可動部)に着脱自在に取り付けられている。ペースト収納筒13の先端側にはノズル支持具14が設けてある。
【0009】
また、照明の可能な光源を有する鏡筒を備えた画像認識カメラ15も、基板の位置合わせやペーストパターンの形状認識などのために、支持台に基板に対向するように設けられている。
【0010】
更に、架台1上の支柱2s1、2s2とZ軸テーブル支持架台2の間及び架台1と支柱2s1、2s2との間に、ばね又はゴム等の弾性体からなる振動絶縁手段2a1、2a2、2a3、2a4を設けてある。尚振動絶縁手段に換えてダンパ等の振動減衰手段を設けるか、振動絶縁手段に振動減衰手段を併設する構成としても良い。
【0011】
更に、架台1の内部(架台のテーブル面より下部)には、各サーボモータ4、6、8a、12などを制御する主制御部17が設けられている。この主制御部17は、ケーブル21を介して副制御部18に接続されている。副制御部18にはモニタ19と、キーボード20と外部記憶装置18aとが接続されている。キーボード20からは、かかる主制御部17での各種処理のためのデータが入力される。また、画像認識カメラ15で捉えた画像や主制御部17での処理状況がモニタ19で表示される。更に、キーボード20から入力されたデータなどは、外部記憶装置であるハードディスク18aやフロッピディスク18bなどの記憶媒体に記憶保管される。
【0012】
図2に図1におけるペースト収納筒13と距離計16との部分を拡大して示す斜視図を示す。本図において、図1に対応する部分には同一符号を付けている。
【0013】
図2において、距離計16は、下端部に三角形の切込部があって、その切込部に発光素子と複数の受光素子とが設けられている。ノズル13aは、距離計16の切込部の下部に位置付けられている。距離計16は、ノズル13aの先端部からガラス基板9の表面(上面)までの距離を非接触の三角測法で計測する。即ち、上記三角形の切込部での片側の斜面に発光素子が設けられ、この発光素子から放射されたレーザ光Lは基板9上の計測点Sで反射し、上記切込部の他方の斜面に設けられた複数の受光素子のいずれかで受光される。従って、レーザ光Lはペースト収納筒13やノズル13aで遮られることはない。
【0014】
また、基板9上でのレーザ光Lの計測点Sとノズル13aの直下位置とは基板9上で僅かな距離ΔX、ΔYだけずれる。この僅かな距離ΔX、ΔY程度のずれでは、基板9の表面の凹凸に差がないので、距離計16の計測結果とノズル13aの先端部から基板28の表面(上面)までの距離との間に差は殆ど存在しない。 従って、この距離計16の計測結果に基いてZ軸サーボモータ12を制御することにより、基板9の表面の凹凸(うねり)に合わせてノズル13aの先端部から基板9の表面(上面)までの距離(間隔)を一定に維持することができる。なお、距離計等は本構成に限られたものではなく、反射鏡等を用いた方式を採用しても問題ない。
【0015】
このようにして、ノズル13aの先端部から基板9の表面(上面)までの距離(間隔)は一定に維持され、かつ、ノズル13aから吐出される単位時間当りのペースト量が定量に維持されることにより、基板9上に塗布描画されるペーストパターンは幅や厚さが一様になる。
【0016】
ところで、従来の塗布機においては、高速にペーストパターンを塗布描画する場合に、基板を搭載して、XY方向に移動する基板保持機構が加減速動作することにより、装置内に加振力が発生し、これに起因した振動が各部に生じる。特に、基板塗布面とノズル先端の相対振動により、塗布形状が不安定になり、また塗布精度が低下する問題がある。
【0017】
このため、本発明の実施形態では、先に説明したように、塗布動作時に各駆動部から発生する振動、特に架台1側とノズル13a側とで発生する振動の伝達を絶縁するために、Z軸テーブル支持架台2と架台1との間に設けた支柱の両端部に振動絶縁手段を設けた構成とした。本構成とすることにより、高速動作時に装置に発生するノズルと基板表面の相対振動を低減することができる。
【0018】
次に、本実施形態における制御系の構成を説明する。
図3は、図1における制御部の構成を示すブロック図である。同図において、主制御部17は、マイクロコンピュータ17aと、データ通信バス17cと、モータコントローラ17bと、各軸ドライバ17f〜17iと、画像処理装置17eと、外部インターフェース17dとを内蔵している。
【0019】
この主制御部17において、マイクロコンピュータ17aがデータ通信バス17cに接続されている。更に、このデータ通信バス17cには、モータコントローラ17bと、画像認識カメラ15で得られる映像信号を処理する画像処理装置17eと、副制御部18との間の信号伝送やレギュレータ22a、23a、バルブユニット24の制御、及び、距離計16の入力を行なう外部インターフェース17dが接続されている。また、モータコントローラ17bには、X、Y、θ、Zの各軸ドライバ17f〜17iが接続されている。
【0020】
また、マイクロコンピュータ17aには図示しないが、主演算部や後述する塗布描画を行なうための処理プログラムを格納したROM、主演算部での処理結果や外部インターフェース17d及びモータコントローラ17bからの入力データを格納するRAM、外部インターフェース17dやモータコントローラ17bとデータをやりとりする入出力部などを備えている。
【0021】
各軸ドライバ17f〜17iには、それぞれ各サーボモータ4、6、8a、12が接続されており、各サーボモータに設けてあるエンコーダにより回転量を検出し、その検出結果をX、Y、Z、θの各軸ドライバ17f〜17iに戻して位置制御を行なっている。
【0022】
各サーボモータ4、6、8a、12が、キーボード20から入力されてマイクロコンピュータ17aのRAMに格納されているデータに基いて正逆回転することにより、基板保持テーブル7(図1)に保持された基板9が、Z軸移動テーブル11(図1)を介して、支持したノズル13a(図2)に対し、X、Y軸方向に任意の距離を移動する。その移動中、予め設定してあるデータに基づいてペースト収納筒13に所定の空気圧を継続して印加することで、ノズル13aの先端部の吐出口からペーストが吐出され、基板9に所望のペーストパターンが塗布描画される。
【0023】
尚、本実施形態の空圧系は、正圧源23と負圧源22を有しており、正圧源23からの配管には正圧レギュレータ23aが設けてあり、負圧源22には負圧レギュレータ22aが設けてある。この正、負のレギュレータ22a、23aは外部インターフェース17dからの制御信号に応じて送出する空圧を所定の圧力に調整して、バルブユニット24を介してペースト収納筒13に送り込む。
【0024】
基板保持テーブル7に保持された基板9がX、Y軸方向への水平移動中に距離計16がノズル13aと基板9との間隔を計測し、これを常に一定の間隔を維持するように、サーボモータ12がZ軸ドライバ17iで制御される。
【0025】
次に、図4により、この実施形態での装置の動作について説明する。図4において、電源が投入されると(ステップ100)、まず、塗布機の初期設定が実行される(ステップ200)。この初期設定工程では、図1において、サーボモータ4、6、8a、12を駆動することにより、基板保持テーブル7をX、Y、θ方向に移動させて所定の基準位置に位置決めする。
【0026】
次に、ノズル13a(図2)を、そのペースト吐出口がペースト塗布を開始する位置(即ち、ペースト塗布開始点)となるように、所定の原点位置に設定する。さらに、前回装置を停止した時に設定されていた、品種のペーストパターンの塗布に関係する全てのデータや基板位置データの設定を行なうものである。
【0027】
かかるデータの入力は、キーボード20(図1)から行なわれ、入力されたデータは、前述したように、マイクロコンピュータ17a(図3)に内蔵されたRAMに格納される。
【0028】
この初期設定工程(ステップ200)が終了すると、次に、基板9を装置内に搬入し、基板吸着機構7(図1)に搭載して保持させる(ステップ300)。以上の工程が終了すると、次に、基板に塗布描画するペーストパターンに関する塗布条件としてギャップ、塗布スピード、と負圧力などのデータを読み込む処理を行う(ステップ400)。続いて、基板予備位置決め処理(ステップ500)を行なう。この処理では、基板保持機構7に搭載された基板9の位置決め用マークを画像認識カメラ15で撮影し、位置決め用マークの重心位置を画像処理で求めて基板9のθ方向での傾きを検出する。そして、これに応じてサーボモータ8a(図3)を駆動し、このθ方向の傾きも補正する。
【0029】
なお、ペースト収納筒13内の残りペーストが少ない場合には、次のペースト塗布作業では、この作業の途中でペーストの途切れがないようにするために、前以てペースト収納筒13をノズル13aとともに交換する。但し、このようにノズル13aを交換すると、その位置ずれが生ずることがある。このため、基板9のペーストパターンを形成しない箇所に、交換した新たなノズル13aを用いて十字描画を行ない、この十字描画交点の重心位置を画像処理で求める。この重心位置と基板9上の位置決め用マークの重心位置との間の距離を算出して、これをノズル13aのペースト吐出口の位置ずれ量dx、dyとしてマイクロコンピュータ17aに内蔵のRAMに格納する。これにより、基板予備位置決め処理(ステップ500)を終了する。かかるノズル13aの位置ずれ量dx、dyは、後に行なうペーストパターンの塗布描画の動作時に、この位置ずれを補正する。
【0030】
次に、ペーストパターン描画処理(ステップ600)を行なう。
【0031】
この処理では、塗布開始位置にノズル13aの吐出口を位置付けるために、基板9を移動させ、ノズル位置の比較・調整移動を行なう。すなわちまず、先の基板予備位置決め処理(ステップ500)で得られてマイクロコンピュータ17aのRAMに格納されたノズル13aの位置ずれ量dx、dyが、図2に示したノズル13aの位置ずれ量の許容範囲△X、△Yにあるか否かの判断を行なう。許容範囲内(△X≧dx及び△Y≧dy)であればそのままとし、許容範囲外(△X<dxまたは△Y<dy)であれば、この位置ずれ量dx、dyを基に基板9を移動させる。これにより、ノズル13aのペースト吐出口と基板9の所望位置との間のずれを解消させ、ノズル13aを所望位置に位置決めする。
【0032】
次に、ノズル13aの高さをペーストパターン描画高さに設定する。ノズルの初期移動距離データに基づいて、ノズル13aを初期移動距離分下降させる。続く動作では、基板9表面高さを距離計16により測定し、ノズル13a先端がペーストパターンを描画する高さに設定されているか否かを確認する。そして、描画高さに設定できていない場合は、ノズル13aを微小距離下降をさせ、上記の基板9表面計測とノズル13aの微小距離下降を繰返し動作を行い、ノズル13a先端をペーストパターンを塗布描画する高さに設定する。また、ペースト収納筒13が交換されていないときには、ノズル13aの位置ずれ量dx、dyのデータはないので、ペーストパターン描画処理(ステップ600)に入ったところで、直ちに、上記で説明したノズル13aの高さ設定を行なう。
【0033】
以上の処理が終了すると、次に、マイクロコンピュータ17aのRAMに格納されたペーストパターンデータに基づいてサーボモータ4、6を駆動する。これにより、ノズル13aのペースト吐出口が基板28に対向した状態で、このペーストパターンデータに応じて、基板9がX、Y方向に移動する。この移動と同時に、ペースト収納筒13に僅かな気圧を印加してノズル13aのペースト吐出口からのペーストの吐出を開始する。これにより、基板9へのペーストパターンの塗布描画が開始する。
【0034】
そして、先に説明したように、マイクロコンピュータ17aは距離計16からノズル13aのペースト吐出口と基板9の表面との間隔の実測データを受取る。そして、その実測データから基板9の表面のうねりを求める。この求めた値に応じてサーボモータ12を駆動する。これにより、基板9の表面からのノズル13aの設定高さが一定に維持される。
【0035】
高速にペーストパターンを塗布描画する場合に、基板を搭載してXY方向に移動する基板保持機構を乗せたXYθテーブルが、曲線部(コーナ部)において、直線部とほぼ等速になるように、XY軸を協調制御し、加減速動作を行う。この加減速動作によって、装置内に加振力が発生し、装置各部に振動を発生する。
【0036】
特に、基板塗布面とノズル先端での相対振動が発生すると、パターンの潰れや細りが発生し、塗布形状が不安定になる。また、塗布幅や高さが変動し、塗布精度が低下する問題が発生する。
【0037】
このことから、塗布ヘッド部を支持するZ軸テーブル支持架台2の両端の支持部(支柱2s1、2s2)に振動絶縁手段(2a1、2a2、2a3、2a4)又は振動減衰手段、又は振動絶縁と振動減衰の両手段を設置し、Z軸テーブル支持架台2への振動伝達を防止し、塗布動作時のノズルと基板表面の相対振動を低減するようにしている。
【0038】
又、他の方法として、X軸移動テーブルと架台の間に、振動絶縁手段または振動減衰手段を組合わせて設置しても良い。なお、振動絶縁としては、静圧軸受浮上構造、空気ばね、ゴムシート等を使用することができる。
【0039】
ペーストパターンの描画が動作中に、ノズル13aのペースト吐出口が基板9上のペーストパターンデータによって決まる描画パターンの終端であるか否かの判断を行う。判定結果が終端でなければ、再び基板9の表面うねりの測定処理に戻る。。そして以下、上記の塗布描画を繰り返して、ペーストパターン形成が描画パターンの終端に達するまで継続する。判定結果が描画パターン終端の場合には、サーボモータ12を駆動してノズル13aを上昇させ、このペーストパターン描画工程(ステップ600)が終了する。
【0040】
次に、基板排出処置(ステップ700)に進み、図1において、基板9の保持を解除し、装置外に排出する。そして、以上の全工程を停止するか否かを判定する(ステップ800)。判定結果が、複数枚の基板に同じパターンでペースト膜を形成する場合には、ステップ300から繰り返される。そして、全ての基板についてかかる一連の処理が終了すると、作業が全て終了(ステップ900)となる。
【0041】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、塗布動作時における架台面から塗布ヘッド部を支持しているZ軸テーブル支持架台への振動伝達を防止し、高速動作により、装置に発生するノズルと基板表面の相対振動を低減し、基板上に吐出したペーストの描画パターン精度を向上できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明によるペースト塗布機の一実施形態を示す斜視図である。
【図2】図1に示した実施形態でのペースト収納筒と距離計との配置関係を示す斜視図である。
【図3】図1に示した実施形態での制御系統を示すブロック図である。
【図4】図1に示した実施形態の全体動作を示すフローチャートである。
【符号の説明】
1…架台、2…Z軸テーブル支持架台、2−s1、s2…支柱、2a1、2a2、2a3、2a4…振動絶縁手段、3…X軸移動テーブル、4…X軸サーボモータ、5…Y軸移動テーブル、6…Y軸サーボモータ、7…基板保持機構、8…θ軸移動テーブル、9…基板、10…Z軸移動テーブル支持ブラケット、11…Z軸移動テーブル、12…Z軸サーボモータ、13…ペースト収納筒、14…ノズル支持具、15…画像認識カメラ、16…距離計、17…主制御部、18…副制御部、18a、ハードディスク、18b…フロッピィーディスク、19…モニタ、20…キーボード、21…接続ケーブル、22…負圧源、22a…負圧レギュレータ、23…正圧源、23a…正圧レギュレータ、24…バルブユニット、27…吸引手段。
Claims (2)
- ペースト収納筒に充填したペーストを吐出する吐出口を有するノズルと、前記吐出口に対向して基板を載置する基板支持テーブルと、前記基板支持テーブルを保持する架台と、前記架台に支柱を設け、前記支柱によって保持されるZ軸テーブル支持架台に設けたZ軸テーブルに前記ペースト収納筒を設け、前記ペースト収納筒と前記基板支持テーブルとを相対移動するため夫々に設けた駆動機構とを備えたペースト塗布機において、
前記支柱の上部と下部の両端部に振動絶縁手段を設けたことを特徴とするペースト塗布機。 - 請求項1記載のペースト塗布機において、前記振動絶縁手段に部分に振動減衰手段を設置したことを特徴とするペースト塗布機。
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