JP2003340666A - 吸着テーブルとこれを用いた処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 メンテナンス性向上及び長寿命化を図った吸
着テーブルを提供する。 【解決手段】 基板Ｗが載置される吸着テーブルとして
の移動テーブル１３の表面（基板載置面）が摩耗等によ
り劣化した場合には、移動テーブル１３全部を交換する
必要はなく、吸着孔プレート２２を新たな吸着孔プレー
ト２２に交換可能である、つまり、ベースプレート２１
の吸着孔プレート専用吸着溝４１と基板吸着用吸着溝２
７とでの負圧発生を解除し吸着孔プレート２２のベース
プレート２１への吸着保持を解除して、吸着孔プレート
２２を交換するだけでよいことから、簡単に吸着孔プレ
ート２２を交換できメンテナンス性を向上させることが
でき、低コストで性能維持でき、寿命が長いという優れ
た移動テーブル１３を得ることができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、プリント配線基板
などの処理対象物を真空吸着して保持する吸着テーブル
とこれを用いた処理装置に係り、特に、吸着テーブルの
メンテナンス性の向上および長寿命化を図るための技術
に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来の吸着テーブルとしては、例えば、
処理対象物としてのプリント配線基板（以下、適宜に基
板と略称する）の外観を光学的に検査する外観検査装置
や、処理対象物としてのプリント配線板用の基材にレー
ザービームを照射して所望のパターンを描画するレーザ
ー露光装置などに設けられたものが知られている。この
吸着テーブルは、基板との光学的コントラストが必要な
ために、その表面（基板載置面）を例えば黒色（その
他、光沢を設けている場合もある）としており、光学系
の焦点深度の関係から高い平面精度が要求されている。
また、基板を基板載置面に真空吸着するためその基板載
置面の全域にわたって小径の孔が複数個形成されてい
る。この吸着テーブルの構造について、次に具体的に説
明する。

【０００３】従来の吸着テーブルは、２枚の板状部材で
ハニカム部材を挟み込んだハニカムボード（市販品）で
構成されている。このハニカムボードの一方の板状部材
には複数個の貫通孔が形成されており、このハニカムボ
ードの他方の板状部材には排気手段に連通させるための
連通穴が形成されている。また、ハニカム部材の六角形
細胞状の各セルに、隣接する各セルを相互に連通させる
ような切り欠き（溝）または連通穴を形成しておいた
り、いずれか一方の板状部材のハニカム部材と接続する
側をえぐっておいたりすることで、排気手段と吸着孔と
を連通させる排気通路を確保している。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな構成を有する従来の吸着テーブルでは、次のような
問題がある。

【０００５】すなわち、従来の吸着テーブル（ハニカム
ボード）では、金属メッキ処理を施すことができないた
め、塗装処理を施しているが、塗装であるが為に、特
に、その基板載置面の劣化が早く、吸着テーブルの寿命
が短いという問題がある。つまり、吸着テーブルの表面
（基板載置面）に基板を載置することを繰り返し実行し
ていくうちに、その表面が基板との接触によって摩耗等
して表面状態が悪くなり劣化することになる。

【０００６】この吸着テーブルの表面（基板載置面）の
劣化は、この吸着テーブルを用いる装置自体の性能低下
をもたらす。つまり、処理対象物を検査する等の所望の
処理に不具合（表面状態が悪いことに起因する検査不具
合）が生じる。具体的には、ハニカムボードの黒色の表
面が基板との接触により摩耗し、その摩耗部分が白く
（表面状態が悪く）なり、ハニカムボードの表面（黒
色）に例えば透明な処理対象物を載置した状態でこの処
理対象物を撮像すると、上記の白くなった部分では他の
黒い部分と比べてハニカムボードの表面からの反射光量
が変わってしまうので、処理対象物を正確に検査するこ
とができないという不具合が生じるのである。

【０００７】したがって、劣化した吸着テーブルを新品
の吸着テーブルに交換しなければならないが、この吸着
テーブルは、昇降移動、水平移動および鉛直軸周りに回
動可能となるように、昇降、水平移動および回動自在な
駆動機構に取り付けられているし、吸着テーブルの背面
に真空吸着用配管が接続されていることもあって、吸着
テーブルを容易に交換することができず、メンテナンス
性に劣っているという問題もある。

【０００８】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであって、メンテナンス性の向上および長寿命化
を図った吸着テーブルを提供することを第１の目的とす
る。また、本発明は、上記の吸着テーブルを用いて、処
理対象物の処理を長期間にわたって正確に実行できる処
理装置を提供することを第２の目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明は、このような目
的を達成するために、次のような構成をとる。すなわ
ち、請求項１に記載の発明は、処理対象物を真空吸着す
る吸着テーブルにおいて、処理対象物が載置される一方
面と、この一方面とは逆の面である他方面とを連通す
る、処理対象物を吸着するための吸着孔が複数個形成さ
れた第１板部材と、前記第１板部材の他方面に当接する
面である前面側に凹部が形成され、前記凹部の底面と、
前記前面とは逆の面である背面とを連通する排気経路が
形成された第２板部材とを備え、前記第２板部材の排気
経路を介してこの第２板部材の凹部に負圧を発生させる
ことで前記第１板部材を前記第２板部材に吸着保持させ
ることを特徴とする。

【００１０】（作用・効果）請求項１に記載の発明によ
れば、第１板部材は、処理対象物が載置される一方面
と、この一方面とは逆の面である他方面とを連通する、
処理対象物を吸着するための吸着孔が複数個形成された
ものであり、第２板部材は、第１板部材の他方面に当接
する面である前面側に凹部が形成され、この凹部の底面
と、前面とは逆の面である背面とを連通する排気経路が
形成されたものであり、第２板部材の排気経路を介して
この第２板部材の凹部に負圧を発生させることで第１板
部材を第２板部材に吸着保持させている。したがって、
処理対象物が載置される吸着テーブルの表面が摩耗等に
より劣化した場合には、吸着テーブル全部を交換する必
要はなく、第１板部材を新たな第１板部材に交換するこ
とができる。つまり、第２板部材の凹部での負圧発生を
解除し第１板部材の第２板部材への吸着保持を解除し
て、第１板部材を交換するだけでよいことから、簡単に
第１板部材を交換できメンテナンス性を向上させること
ができ、低コストで性能維持でき、寿命が長いという優
れた吸着テーブルを得ることができる。

【００１１】また、請求項２に記載の発明は、請求項１
に記載の吸着テーブルにおいて、前記第２板部材に形成
された前記凹部の少なくとも一部が、前記第１板部材の
吸着孔に連通する処理対象物吸着用の吸着溝であること
を特徴とする。

【００１２】（作用・効果）請求項２に記載の発明によ
れば、第２板部材に形成された凹部の少なくとも一部
が、第１板部材の吸着孔に連通する処理対象物吸着用の
吸着溝であるとしているので、処理対象物を第１板部材
上に載置して、第２板部材の凹部に負圧を発生させるこ
とで、処理対象物は第１板部材の吸着孔による吸引によ
って第１板部材に吸着させることができるとともに、よ
り強固に第１板部材を第２板部材に吸着させることがで
きる。

【００１３】また、請求項３に記載の発明は、請求項２
に記載の吸着テーブルにおいて、前記処理対象物吸着用
の吸着溝以外の第２板部材に形成された前記凹部が、前
記第１板部材で閉塞される第１板部材吸着専用の吸着溝
であることを特徴とする。

【００１４】（作用・効果）請求項３に記載の発明によ
れば、処理対象物吸着用の吸着溝以外の第２板部材に形
成された凹部が、第１板部材で閉塞される第１板部材吸
着専用の吸着溝であるとしているので、第１板部材を第
２板部材に効率良く吸着させることができる。

【００１５】また、請求項４に記載の発明は、請求項１
から請求項３のいずれかに記載の吸着テーブルにおい
て、前記第２板部材は、その前面側に、処理対象物を吸
着するための吸着領域を複数個の独立した領域に区分け
するように、複数個の独立した凹部を形成したことを特
徴とする。

【００１６】（作用・効果）請求項４に記載の発明によ
れば、第２板部材は、その前面側に、処理対象物を吸着
するための吸着領域を複数個の独立した領域に区分けす
るように、複数個の独立した凹部を形成しているので、
吸着すべき処理対象物の大きさに応じて、使用する吸着
領域を適宜に変更することができ、各種の大きさの処理
対象物を好適に吸着することができ、自由度の高い吸着
テーブルを得ることができる。

【００１７】また、請求項５に記載の発明は、請求項１
から請求項４のいずれかに記載の吸着テーブルを備え、
前記吸着テーブルに吸着保持された処理対象物に所定の
処理を施すことを特徴とする。

【００１８】（作用・効果）請求項５に記載の発明によ
れば、請求項１から請求項４のいずれかに記載の吸着テ
ーブルを備え、この吸着テーブルに吸着保持された処理
対象物に所定の処理を施すので、吸着テーブルの表面が
摩耗等により劣化した場合には、吸着テーブル全部を新
品に交換する必要はなく、第１板部材を新たな第１板部
材に交換するだけでよいことから、簡単に第１板部材を
交換できメンテナンス性を向上させることができ、低コ
ストで性能維持でき、長寿命化を図ることができる。そ
の結果、吸着テーブルの性能低下に起因する処理装置の
性能低下を低減でき、処理対象物の処理を長期間にわた
って正確に実行できる。

【００１９】また、請求項６に記載の発明は、請求項５
に記載の処理装置において、前記吸着テーブルに吸着保
持された処理対象物の表面を撮像する撮像手段と、前記
撮像手段によって得られた画像データを処理して処理対
象物の欠陥を検出する検出手段とを備えたことを特徴と
する。

【００２０】（作用・効果）請求項６に記載の発明によ
れば、吸着テーブルに吸着保持された処理対象物の表面
を撮像する撮像手段と、この撮像手段によって得られた
画像データを処理して処理対象物の欠陥を検出する検出
手段とを備えているので、処理対象物を検査する等の所
望の処理が長期間にわたって正確に実行できる。

【００２１】なお、本明細書は、次のような吸着テーブ
ルのメンテナンス方法に係る発明も開示している。

【００２２】（１）処理対象物が載置される一方面と、
この一方面とは逆の面である他方面とを連通する、処理
対象物を吸着するための吸着孔が複数個形成された第１
板部材と、前記第１板部材の他方面に当接する面である
前面側に凹部が形成され、前記凹部の底面と、前記前面
とは逆の面である背面とを連通する排気経路が形成され
た第２板部材とを備え、前記第２板部材の排気経路を介
してこの第２板部材の凹部に負圧を発生させることで前
記第１板部材を前記第２板部材に吸着保持させてなる吸
着テーブルのメンテナンス方法において、前記第２板部
材の凹部での負圧発生を解除して前記第１板部材の前記
第２板部材への吸着を解除することで前記第１板部材を
前記第２板部材から取り外す取り外し過程と、新たな第
１板部材を前記第２板部材に取り付ける取り付け過程
と、前記第２板部材の凹部に負圧を発生させることで、
前記第１板部材を前記第２板部材に吸着させる吸着過程
とを備えていることを特徴とする吸着テーブルのメンテ
ナンス方法

【００２３】前記（１）に記載の吸着テーブルのメンテ
ナンス方法によれば、処理対象物が載置される吸着テー
ブルの表面が摩耗等により劣化した場合には、第２板部
材の凹部での負圧発生を解除して第１板部材の第２板部
材への吸着を解除することで第１板部材を第２板部材か
ら取り外し（取り外し過程）、そして、新たな第１板部
材を第２板部材に取り付け（取り付け過程）、第２板部
材の凹部に負圧を発生させることで、第１板部材を第２
板部材に吸着させる（吸着過程）ので、吸着テーブル全
部を新品に交換する必要はなく、第１板部材を新たな第
１板部材に交換するだけでよいことから、簡単に第１板
部材を交換できメンテナンス性を向上させることがで
き、低コストで性能維持でき、寿命が長いという優れた
吸着テーブルを得ることができる。

【００２４】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の一
実施例を説明する。図１は、本発明に係る吸着テーブル
の一例である移動テーブルを用いた外観検査装置の概略
構成を示す切欠き平面図であり、図２はその側面図であ
る。この外観検査装置１０は、吸着テーブルとしての移
動テーブル１３上に載置された例えば矩形のプリント配
線基板（以下、適宜に基板Ｗと呼ぶ）の外観を光学的に
検査するための装置であり、本発明に係る処理装置に相
当する。なお、移動テーブル１３上に載置された矩形の
基板Ｗは、移動テーブル１３に複数個形成された吸着孔
などによって移動テーブル１３に真空吸着されて保持さ
れる。以下に、この外観検査装置１０の各構成について
説明する。

【００２５】この外観検査装置１０は、下部ハウジング
１１と上部ハウジング１２とを備えており、下部ハウジ
ング１１の上面開口付近には、水平方向に移動テーブル
１３が設けられている。基板Ｗは、移動テーブル１３の
上面２２ａ上に載置されて、移動テーブル１３によって
支持される。

【００２６】移動テーブル１３は、一対のガイドレール
１６上をスライド可能であり、このガイドレール１６に
平行な方向にボールネジ１７が伸びている。移動テーブ
ル１３に固定されたナット１９がボールネジ１７に螺合
しており、モータ１８によってボールネジ１７を回転さ
せると移動テーブル１３は水平（±Ｙ）方向に移動す
る。

【００２７】一方、上部ハウジング１２の内部には、移
動テーブル１３に吸着保持された基板Ｗの表面を撮像す
る撮像手段としてのイメージ読取りシステム７０が設け
られている。イメージ読取りシステム７０の中央上部に
は、水平（±Ｘ）方向に伸びた光学ヘッドアレイ１００
が配置されている。この光学ヘッドアレイ１００は８個
の光学ヘッドＨ０〜Ｈ７を備えており、これらの光学ヘ
ッドＨ０〜Ｈ７は支持材１０１によって等間隔に支持さ
れている。この支持材１０１はガイド材１０２上を（±
Ｘ）方向にスライド可能であり、ガイド材１０２は一対
の側部フレーム材７１ａ，７１ｂに固定されている。ま
た、支持材１０１は、ナット（図示せず）とボールネジ
１０４とを介してモータ１０３に結合されている。した
がって、モータ１０３を回転させると、光学ヘッドＨ０
〜Ｈ７は支持材１０１とともに（±Ｘ）方向に移動可能
である。

【００２８】光学ヘッドＨ０〜Ｈ７のそれぞれの下部に
は落射照明用光源１１０が取り付けられている。この落
射照明用光源１１０は、（±Ｘ）方向に伸びた赤色ＬＥ
Ｄの１次元配列を３組備えている。また、上部ハウジン
グ１２中には、イメージ読取りシステム７０によって得
られた画像データを処理して基板Ｗの欠陥を検出する検
出手段としての、各種のデータ処理や動作制御を行うた
めのデータ処理装置３００が配置されている。

【００２９】続いて、移動テーブル１３について図３〜
図６を用いて説明する。図３は本発明に係る吸着テーブ
ルの一例である移動テーブルの概略構成を示すブロック
図である。図４は図３に示した移動テーブルの概略斜視
図であり、図５はその平面図であり、図６はその背面図
である。

【００３０】図３，図４に示すように、移動テーブル１
３は、ベースプレート２１を吸着孔プレート２２と裏面
用プレート２３とで挟み込むようにして構成されてい
る。これらのベースプレート２１、吸着孔プレート２２
および裏面用プレート２３は、例えば平面視で矩形形状
のものである。

【００３１】吸着孔プレート２２は、基板Ｗが載置され
るその上面２２ａと、この上面２２ａとは逆の面である
下面２２ｂとを連通する、基板Ｗを吸着するための小径
の孔である吸着孔２５が複数個形成されたものであり、
その下面２２ｂ側をベースプレート２１の上面２１ａ側
に合わせるようにして設けられている。吸着孔２５は、
千鳥状に面全域にわたって一様に形成されている。この
吸着孔プレート２２は、薄板をタレットパンチなどで穴
明けすることで、上面２２ａと下面２２ｂとを連通する
吸着孔２５を複数個形成でき、低コストで製造すること
ができる。なお、吸着孔２５を形成した後の吸着孔プレ
ート２２の上面２２ａの表面を黒色にするアルマイト処
理などを行う。

【００３２】裏面用プレート２３は、ベースプレート２
１の下面２１ｂ側を閉塞するようにして取り付けられて
いる。

【００３３】ベースプレート２１は、基板Ｗを吸着する
ための吸着領域を複数個の独立した領域（この実施例で
は、領域Ｅ１〜Ｅ４の４個）に区分けしたものである。
具体的には、ベースプレート２１は、その上面２１ａ側
に、領域Ｅ１〜Ｅ４毎に、吸着孔プレート２２の吸着孔
２５に連通する基板吸着用吸着溝２７がそれぞれ形成さ
れており、この領域Ｅ１〜Ｅ４の基板吸着用吸着溝２７
の底面とベースプレート２１の下面２１ｂ側とを個別に
連通する排気経路２９がそれぞれ形成されている。ベー
スプレート２１の下面２１ｂ側で各領域Ｅ１〜Ｅ４の所
定位置には、裏面用プレート２３の連通穴３１がそれぞ
れ位置している。図３，図６に示すように、裏面用プレ
ート２３の各連通穴３１の箇所には、真空用ポート３３
が取り付けられている。図３に示すように、これらの真
空用ポート３３は、排気管３５を介して電磁弁３７に接
続されている。この電磁弁３７は、４入力１出力タイプ
のものであり、４入力を個別に開閉することができるも
のである。この電磁弁３７は排気手段としてのブロア３
９に接続されている。基板Ｗが吸着孔プレート２２の上
面２２ａに載置された状態でブロア３９を排気動作させ
ると、移動テーブル１３内の基板吸着用吸着溝２７の空
気がブロア３９の方に吸引され、基板Ｗが吸着孔プレー
ト２２の上面２２ａに真空吸着されて保持される。な
お、上述の排気管３５は、例えば、移動テーブル１３の
Ｙ方向の移動に際してもこの移動テーブル１３とブロア
３９との接続状態を好適に維持できるようになってい
る。例えば、この排気管３５としては、移動テーブル１
３のＹ方向の移動距離長さ程度有するとともに、真空吸
着により管内径が収縮しない程度の強度を有する柔軟性
のあるフレキシブル管を採用したり、移動テーブル１３
のＹ方向への移動に伴ってＹ方向に伸縮自在な構造の排
気管を採用したりすることで実現できる。

【００３４】さらに、図３に示すように、このベースプ
レート２１は、吸着孔プレート２２を吸着するための吸
着孔プレート専用吸着溝４１を備えている。吸着孔プレ
ート専用吸着溝４１の底面とベースプレート２１の下面
２１ｂ側とを連通する吸着孔プレート用排気経路４３が
形成されている。ベースプレート２１の下面２１ｂ側の
所定位置には、裏面用プレート２３の連通穴４５が位置
している。裏面用プレート２３の連通穴４５の箇所に
は、真空用ポート４７が取り付けられている。この真空
用ポート４７は、排気管４９を介して真空エジェクター
５１に接続されている。この真空エジェクター５１は、
圧力供給部５３から所定の圧力が供給されて空気を排気
させることによって吸着孔プレート専用吸着溝４１内の
空気が真空エジェクター５１の方に吸引され、吸着孔プ
レート２２がベースプレート２１の上面２１ａに真空吸
着されて保持される。

【００３５】ここで、ベースプレート２１の構造につい
て、図７〜図９を用いて詳細に説明する。図７はベース
プレート２１をその上面側から見た平面図であり、図８
はベースプレート２１をその下面側から見た背面図であ
り、図９は図７に示したベースプレート２１の一部分の
形状を示す部分平面図であり、図１０は図７のＡ−Ａ線
で示す箇所の部分断面図である。図７に示すように、ベ
ースプレート２１の上面２１ａ側には、吸着孔プレート
専用吸着溝４１と基板吸着用吸着溝２７とが形成されて
いる。

【００３６】まず、吸着孔プレート専用吸着溝４１につ
いて説明する。図７に示すように、吸着孔プレート専用
吸着溝４１は、ベースプレート２１の外端面に近い四辺
の吸着溝４１ａ，４１ｂと、内部に縦横に形成された吸
着溝４１ｃとが連通されて形成されている。これらの吸
着溝４１ａ〜４１ｃは、例えばその断面が矩形形状とな
っている。図７における左端縦方向の吸着溝４１ａおよ
び下端横方向の吸着溝４１ａは幅５ｍｍ×深さ１ｍｍと
なっている。図７における右端縦方向の吸着溝４１ｂお
よび上端横方向の吸着溝４１ｂは幅７ｍｍ×深さ１ｍｍ
となっている。図７における内部縦方向の吸着溝４１ｃ
および内部横方向の吸着溝４１ｃは幅３ｍｍ×深さ１ｍ
ｍとなっている。この吸着孔プレート専用吸着溝４１
は、ベースプレート２１のほぼ中央に位置する内部横方
向の吸着溝４１ｃの左側寄りの位置に、この内部横方向
の吸着溝４１ｃの底面とベースプレート２１の下面２１
ｂ（図８参照）とを連通する吸着孔プレート用排気経路
４３が形成されている。図８に示すように、ベースプレ
ート２１を下面２１ｂから見ると、この吸着孔プレート
用排気経路４３は、ベースプレート２１のほぼ中央から
右側寄った位置にあることがわかる。図１０に示すよう
に、吸着孔プレート用排気経路４３は、ベースプレート
２１の上面２１ａ側の内部横方向の吸着溝４１ｃとベー
スプレート２１の下面２１ｂとを連通している。この吸
着孔プレート用排気経路４３と裏面用プレート２３の連
通穴４５とが連通していて、この裏面用プレート２３の
連通穴４５の箇所には、真空用ポート４７が取り付けら
れる。

【００３７】次に、基板吸着用吸着溝２７について説明
する。図７に２点鎖線で示すように、ベースプレート２
１の上面２１ａ側には、領域Ｅ１〜Ｅ４毎に、独立した
基板吸着用吸着溝２７がそれぞれ形成されている。各領
域Ｅ１〜Ｅ４の基板吸着用吸着溝２７は、全体の大きさ
等が異なる程度の違いしかなく基本的に同様の構造とな
っているので、ここでは領域Ｅ１の基板吸着用吸着溝２
７を一例として図９を用いて説明することとする。

【００３８】図９に示すように、領域Ｅ１の基板吸着用
吸着溝２７は、この領域Ｅ１の周縁四辺の吸着溝２７ａ
と、この領域Ｅ１の内部に縦横に格子状に形成された吸
着溝２７ｂとが連通されて形成されている。なお、図９
に斜線で示す部分以外の部分が基板吸着用吸着溝２７に
相当し、図９に斜線で示す部分が吸着孔プレート２２の
下面２２ｂに当接する部分（柱部分）に相当する。これ
らの吸着溝２７ａ，２７ｂは、例えばその断面が矩形形
状となっている。図９における領域Ｅ１の周縁四辺の吸
着溝２７ａは幅４ｍｍ×深さ３ｍｍとなっている。図９
における領域Ｅ１の内部に縦横に格子状に形成された吸
着溝２７ｂは幅６ｍｍ×深さ３ｍｍとなっている。な
お、図９では、吸着孔プレート２２がベースプレート２
１の上面２１ａ側に取り付けられた状態でこの吸着孔プ
レート２２の吸着孔２５が基板吸着用吸着溝２７のどこ
に位置するのかがわかるように、吸着孔プレート２２の
吸着孔２５を、破線で示した小径円として部分的に図示
している。

【００３９】図８に示すように、ベースプレート２１の
下面２１ｂ（裏面）側には、複数個の空気だまり部５５
と、空気だまり部５５同士を連通するための縦横方向連
通通路５７とが形成されている。領域Ｅ１には、９個の
空気だまり部５５と８個の縦横方向連通通路５７とが形
成されており、領域Ｅ２には、７個の空気だまり部５５
と６個の縦横方向連通通路５７とが形成されており、領
域Ｅ３には、１４個の空気だまり部５５と１８個の縦横
方向連通通路５７とが形成されており、領域Ｅ４には、
１６個の空気だまり部５５と１５個の縦横方向連通通路
５７とが形成されている。

【００４０】図９に示すように、領域Ｅ１の基板吸着用
吸着溝２７の底面の複数箇所（例えば１５箇所）には、
ベースプレート２１の下面２１ｂ側に形成された、図９
にて破線で示した空気だまり部５５と連通する貫通孔５
９がそれぞれ形成されている。このような貫通孔５９
は、図８に示すように、領域Ｅ２〜Ｅ４についても適宜
に設けられている。

【００４１】図１０に示すように、領域Ｅ１の基板吸着
用吸着溝２７の底面と、ベースプレート２１の下面２１
ｂ側の空気だまり部５５とが貫通孔５９で連通されてお
り、所定の空気だまり部５５同士が縦横方向連通通路５
７で連通されている。特定の空気だまり部５５の所定位
置には、裏面用プレート２３の連通穴３１がそれぞれ位
置している。この裏面用プレート２３の連通穴３１の箇
所には、真空用ポート３３が取り付けられている。この
真空用ポート３３は、排気管３５を介して電磁弁３７に
接続されている。

【００４２】このように空気だまり部５５および縦横方
向連通通路５７を形成しているので、基板吸着用吸着溝
２７の空気を吸引する際の空気抵抗を低くでき、各領域
Ｅ１〜Ｅ４内での吸引力をほぼ均等に分散させることが
でき、基板Ｗを均一に吸着させることができる。

【００４３】なお、図７に示すように、ベースプレート
２１の上面２１ａ側の左上および右下の２箇所には、吸
着孔プレート２２を仮止めするためのネジ穴２１ｃが形
成されている。このネジ穴２１ｃの内周には、このネジ
穴２１ｃ内にボルトを螺入するためのネジ山が形成され
ている。このベースプレート２１の２箇所のネジ穴２１
ｃと対応する、吸着孔プレート２２の各位置には、穴
（この穴に通すべきボルトの径よりも若干大きくあけて
ある穴）が形成されている。吸着孔プレート２２の各穴
にボルトを通してこのボルトをベースプレート２１に締
結することで、吸着孔プレート２２がベースプレート２
１の上面２１ａ側に仮止めされており、吸着孔プレート
２２の吸着が解除された状態においてこの吸着孔プレー
ト２２がベースプレート２１から落ちたり等することを
防止している。

【００４４】また、図８に示すように、ベースプレート
２１の下面２１ｂ側の四隅および各辺の中央の８箇所に
は、裏面用プレート２３を固定するためのネジ穴２１ｄ
が形成されている。このネジ穴２１ｄの内周には、この
ネジ穴２１ｄ内にボルトを螺入するためのネジ山が形成
されている。このベースプレート２１の８箇所のネジ穴
２１ｄと対応する、裏面用プレート２３の各位置には、
穴（この穴に通すべきボルトの径よりも若干大きくあけ
てある穴）が形成されている。裏面用プレート２３の各
穴にボルトを通してこのボルトをベースプレート２１に
締結することで裏面用プレート２３がベースプレート２
１の下面２１ｂ側に固定されている。

【００４５】ベースプレート２１は、上述した吸着孔プ
レート専用吸着溝４１と基板吸着用吸着溝２７と空気だ
まり部５５と縦横方向連通通路５７などを形成するため
の金型を用いて鋳物化することで製造することもでき
る。この場合は、削り出し等の溝加工が不要で低コスト
に製造できる。なお、ベースプレート２１の上面２１ａ
側は高い平面度となるように表面加工されている。

【００４６】なお、上述した吸着孔プレート２２が本発
明における第１板部材に相当し、上述したベースプレー
ト２１が本発明における第２板部材に相当し、上述した
吸着孔プレート専用吸着溝４１と基板吸着用吸着溝２７
とが本発明における凹部に相当し、上述した空気だまり
部５５と貫通孔５９と縦横方向連通通路５７、あるいは
上述した吸着孔プレート用排気経路４３が本発明におけ
る排気経路に相当し、上述した吸着孔プレート専用吸着
溝４１が本発明における第１板部材吸着専用の吸着溝に
相当し、上述した基板吸着用吸着溝２７が本発明におけ
る処理対象物吸着用の吸着溝に相当する。

【００４７】次に、上記のように構成された外観検査装
置の処理動作について説明する。

【００４８】まず、図３に示すように、圧力供給部５３
から所定の圧力を真空エジェクター５１に供給して、こ
の真空エジェクター５１によってベースプレート２１の
吸着孔プレート専用吸着溝４１に負圧を発生させて、吸
着孔プレート２２をベースプレート２１に吸着させて固
定する。このとき、吸着孔プレート２２は、ベースプレ
ート２１の上面２１ａ側の表面精度に倣うように真空吸
着される。

【００４９】図１，図２に示すような状態で基板Ｗが移
動テーブル１３上に、手動または搬送ロボット（図示省
略）により自動で載置される。このとき、移動テーブル
１３上に載置される基板Ｗは、移動テーブル１３上の所
定の載置位置に適切に位置決めされた状態で、移動テー
ブル１３に真空吸着されて保持される。

【００５０】具体的には、基板Ｗの大きさに応じて電磁
弁３７の４入力ポートのうちの対応する入力ポートが開
かれ、ブロア３９を排気動作させて、移動テーブル１３
内の基板吸着用吸着溝２７の空気がブロア３９の方に吸
引され、基板Ｗが吸着孔プレート２２の上面２２ａに真
空吸着されて保持される。この実施例では、作業者は、
移動テーブル１３上の基板Ｗの大きさを目視確認し、そ
の大きさに応じて電磁弁３７の４入力ポートのうちの対
応する入力ポートを開くようにこの電磁弁３７の開閉を
切り換え操作している。なお、光学的検知手段や機械的
検知手段によって自動的に移動テーブル１３上の基板Ｗ
の大きさを検知したり、あるいは、レシピから検査すべ
き基板Ｗの大きさを認識したりして、その基板Ｗの大き
さに応じて電磁弁３７の４入力ポートのうちの対応する
入力ポートを開くようにこの電磁弁３７の開閉を人手に
依らず自動的に切り換え制御するようにしてもよい。

【００５１】そして所定のスイッチがマニュアル操作さ
れるとモータ１８が正転し、移動テーブル１３とともに
基板Ｗが（＋Ｙ）方向に移動する。また、光源１１０が
点灯する。

【００５２】移動テーブル１３の移動に伴って基板Ｗが
イメージ読取りシステム７０の位置へ至ると、光源１１
０からの落射照明によってプリントパターンなどのイメ
ージが順次に光学ヘッドＨ０〜Ｈ７で読み取られる。

【００５３】ところで、光学ヘッドＨ０〜Ｈ７は直線状
に配列されているが、それぞれの視野の間にはギャップ
があるため、基板Ｗを（＋Ｙ）方向に移動させても、そ
の表面の画像全体を読み取ることはできない。そこで、
基板Ｗを（＋Ｙ）方向に移動させ終わった後にモータ１
０３を駆動し、それによって光学ヘッドＨ０〜Ｈ７の全
体を（−Ｘ）方向に移動させる。その移動量は光学ヘッ
ドＨ０〜Ｈ７の相互配列ピッチの半分とされる。そし
て、この移動の後にモータ１８を逆回転させて基板Ｗを
（−Ｙ）方向に移動させつつ、光学ヘッドＨ０〜Ｈ７に
よるプリントパターンなどのイメージの読取りを行う。

【００５４】その結果、図１中に実線矢印Ａ１で示すス
キャンと破線矢印Ａ２で示すスキャンとが実行されるこ
とになり、基板Ｗの表面全域にわたるイメージの読取り
が実現される。読取られたイメージはデータ処理装置３
００に与えられ、所定の基準に従ってプリントパターン
やスルーホールなどの良否が判定される。

【００５５】次に、移動テーブル１３のメンテナンス方
法について説明する。例えば、基板Ｗが載置される移動
テーブル１３の表面が摩耗等により劣化した場合には、
次の過程の順にメンテナンス作業を行う。

【００５６】まず、ベースプレート２１の吸着孔プレー
ト専用吸着溝４１での負圧発生を解除して吸着孔プレー
ト２２のベースプレート２１への吸着を解除し、ベース
プレート２１の２箇所のネジ穴２１ｃに螺入されたボル
トを外して、吸着孔プレート２２をベースプレート２１
から取り外す（取り外し過程）。そして、新たな吸着孔
プレート２２をベースプレート２１に取り付ける（取り
付け過程）。そして、新たな吸着孔プレート２２の穴を
介してベースプレート２１の２箇所のネジ穴２１ｃにボ
ルトを螺入して、新たな吸着孔プレート２２をベースプ
レート２１に仮止めし、ベースプレート２１の吸着孔プ
レート専用吸着溝４１に負圧を発生させることで、吸着
孔プレート２２をベースプレート２１に吸着させる（吸
着過程）。

【００５７】このようにすることで、移動テーブル１３
全部を新品に交換する必要はなく、吸着孔プレート２２
を新たな吸着孔プレート２２に交換するだけでよいこと
から、簡単に吸着孔プレート２２を交換できメンテナン
ス性を向上させることができ、低コストで性能維持で
き、寿命が長いという優れた移動テーブル１３を得るこ
とができる。

【００５８】上述したように本実施例装置によれば、吸
着孔プレート２２は、基板Ｗを吸着するための吸着孔２
５が複数個形成されたものであり、ベースプレート２１
は、吸着孔プレート２２の下面２２ｂに当接する面であ
る前面２１ａ側に吸着孔プレート専用吸着溝４１と基板
吸着用吸着溝２７とが形成され、この吸着孔プレート専
用吸着溝４１の底面と下面２１ｂとを連通する吸着孔プ
レート用排気経路４３と、基板吸着用吸着溝２７の底面
と下面２１ｂとを連通する、空気だまり部５５と貫通孔
５９と縦横方向連通通路５７とからなる排気経路２９と
が形成されたものであり、ベースプレート２１の吸着孔
プレート用排気経路４３および排気経路２９を介してこ
のベースプレート２１の吸着孔プレート専用吸着溝４１
と基板吸着用吸着溝２７とに負圧を発生させることで吸
着孔プレート２２をベースプレート２１に吸着保持させ
ている。したがって、基板Ｗが載置される移動テーブル
１３の表面（基板載置面）が摩耗等により劣化した場合
には、移動テーブル１３全部を交換する必要はなく、吸
着孔プレート２２を新たな吸着孔プレート２２に交換す
ることができる。つまり、ベースプレート２１の吸着孔
プレート専用吸着溝４１と基板吸着用吸着溝２７とでの
負圧発生を解除し吸着孔プレート２２のベースプレート
２１への吸着保持を解除して、吸着孔プレート２２を交
換するだけでよいことから、簡単に吸着孔プレート２２
を交換できメンテナンス性を向上させることができ、低
コストで性能維持でき、寿命が長いという優れた移動テ
ーブル１３を得ることができる。

【００５９】また、ベースプレート２１は、吸着孔プレ
ート２２の吸着孔２５に連通する基板吸着用吸着溝２７
を備えているので、基板Ｗを吸着孔プレート２２上に載
置して、ベースプレート２１の基板吸着用吸着溝２７に
負圧を発生させることで、基板Ｗは吸着孔プレート２２
の吸着孔２５による吸引によってこの吸着孔プレート２
２に吸着させることができるとともに、より強固に吸着
孔プレート２２をベースプレート２１に吸着させること
ができる。

【００６０】また、ベースプレート２１は、吸着孔プレ
ート２２で閉塞されている吸着孔プレート専用吸着溝４
１を備えているので、吸着孔プレート２２をベースプレ
ート２１に効率良く吸着させることができる。

【００６１】また、ベースプレート２１は、その前面２
１ａ側に、基板Ｗを吸着するための吸着領域を複数個の
独立した領域に区分けするように、複数個の独立した基
板吸着用吸着溝２７を形成しているので、吸着すべき基
板Ｗの大きさに応じて、使用する吸着領域を適宜に変更
することができ、各種の大きさの基板Ｗを好適に吸着す
ることができる。また、例えば、領域Ｅ１〜Ｅ３までの
大きさの基板しか検査しない、つまり、領域Ｅ４を使用
しないのであれば、領域Ｅ４に対応する箇所に吸着孔２
５を形成していない吸着孔プレート２２に交換すること
ができ、自由度の高い吸着テーブルを得ることができ
る。

【００６２】また、上述の外観検査装置１０は、上述の
移動テーブル１３と、この移動テーブル１３に吸着保持
された基板Ｗの表面を撮像するイメージ読取りシステム
７０と、このイメージ読取りシステム７０によって得ら
れた画像データを処理して基板Ｗの欠陥を検出するデー
タ処理装置３００とを備えているので、基板Ｗの欠陥の
有無を検査する等の所望の処理が正確に実行できる。具
体的には、移動テーブル１３によって基板Ｗが高精度に
吸着保持されていることで以下の効果を有する。すなわ
ち、ベースプレート２１の前面２１ａ側の平面度が高精
度に出されていて、吸着孔プレート２２がこのベースプ
レート２１の前面２１ａ側に倣うことで、吸着孔プレー
ト２２の平面度、つまり、移動テーブル１３の基板Ｗの
載置面の平面度を高精度に確保できるので、一度、基板
Ｗの表面に焦点を合せておけば良く、イメージ読取りシ
ステム７０にＡＦ（オートフォーカス）機能を備える必
要が無いし、吸着孔プレート２２の上面２２ａのたわみ
に起因する検査誤差などを解消できる。また、基板Ｗに
作用する吸着力の均一化を図ることができるので、吸着
力のばらつきに起因して基板Ｗが部分的にたわむことを
防止でき、基板Ｗの表面が均一な状態でこの基板Ｗを良
好に検査できる。また、上述のように吸着孔プレート２
２は吸着保持されると平面度の高精度なベースプレート
２１に倣うので、吸着孔プレート２２はその両面間の平
行度が高精度であれば充分で、その平面度が高精度であ
る必要は無い。したがって、吸着孔プレート２２を容易
かつ安価に製造することができる。

【００６３】また、基板Ｗが載置される移動テーブル１
３の表面（基板載置面）が摩耗等により劣化した場合に
は、移動テーブル１３全部を交換する必要はなく、吸着
孔プレート２２を新たな吸着孔プレート２２に交換する
だけでよいことから、簡単に吸着孔プレート２２を交換
できメンテナンス性を向上させることができ、低コスト
で性能維持でき、寿命が長いので、基板Ｗを検査する等
の所望の処理が長期間にわたって正確に実行できる。

【００６４】なお、本発明は次のように変形実施するこ
とも可能である。

【００６５】（１）上述した実施例では、本発明に係る
吸着テーブルとして移動テーブル１３を一例として説明
してきたが、位置が固定で移動しない吸着テーブルとし
た場合であっても、前述の実施例と同様の効果を有す
る。

【００６６】（２）上述した実施例では、４入力１出力
タイプの電磁弁３７を採用しているが、１入力１出力タ
イプの電磁弁３７を採用し、各電磁弁３７をブロアに接
続するようにしてもよい。

【００６７】（３）上述した実施例では、吸着溝の断面
形状を矩形形状としているが、吸着溝の断面形状をＵ字
形、Ｖ字形など種々の断面形状にしてもよい。

【００６８】（４）上述した実施例では、ベースプレー
ト２１の上面２１ａ側に、吸着孔プレート専用吸着溝４
１と基板吸着用吸着溝２７と形成しているが、ベースプ
レート２１の上面２１ａ側に、基板吸着用吸着溝２７の
みを形成するようにしてもよい。この場合、ブロア３９
により基板吸着用吸着溝２７内に負圧を発生すること
で、吸着孔プレート２２をベースプレート２１に吸着保
持する。このとき、吸着孔２５から基板吸着用吸着溝２
７へ空気が流入しても、基板吸着用吸着溝２７内の負圧
を保持して吸着孔プレート２２を吸着保持できるように
ブロア３９の能力が設定されている。また、吸着孔プレ
ート２２上に基板Ｗが載置されたときは、吸着孔２５が
基板Ｗにより閉塞されるので、吸着孔２５および基板吸
着用吸着溝２７が閉空間となる。この状態では、吸着孔
プレート２２をベースプレート２１に吸着保持する保持
力が大きくなり、より確実に吸着孔プレート２２を吸着
保持することができる。

【００６９】（５）上述した実施例では、ベースプレー
ト２１の吸着孔プレート専用吸着溝４１の空気を吸引す
るために真空エジェクター５１を、ベースプレート２１
の基板吸着用吸着溝２７の空気を吸引するためにブロア
３９を採用しているが、両者をブロア３９や真空ポンプ
や真空エジェクター５１などのうちの同種の真空吸着手
段で統一してもよいし、両者に実施例とは異なる組み合
わせで種類の異なる個別の真空吸着手段を設けたりして
もよいし、両者を単一の真空吸着手段で吸引力を発生さ
せ電磁弁３７などで両者の空気の吸引を入り切りするよ
うにするなどしてもよい。

【００７０】（６）上述した実施例では、ベースプレー
ト２１の下面２１ｂ（背面）側に裏面用プレート２３を
設けているが、空気だまり部５５および縦横方向連通通
路５７をベースプレート２１の内部に設けるようにする
ことで、裏面用プレート２３を設けないようにしてもよ
い。

【００７１】（７）上述した実施例では、基板Ｗを吸着
するための吸着領域を複数個の独立した領域Ｅ１〜Ｅ４
の４個に区分けしているが、４個以外の任意の複数個に
区分けしてもよい。

【００７２】（８）上述した実施例では、本発明の吸着
テーブルを外観検査装置１０に用いた場合について説明
してきたが、作業者による目視確認や修正などのために
基板の所望の箇所を画像表示するベリファイ装置や、プ
リント配線板用の基材にレーザービームを照射して所望
のパターンを描画するなどのレーザー露光装置などに、
本実施例の移動テーブル１３などの吸着テーブルを用い
た場合であっても、上述の実施例と同様の効果を有す
る。

【００７３】（９）上述した実施例では、本発明の吸着
テーブルを外観検査装置１０に用いた場合について説明
してきたが、基板を熱処理するための基板熱処理装置
（例えば、ホットプレートやクールプレートなどを備え
たもの）などに、本実施例の移動テーブル１３などの吸
着テーブルを用いた場合であっても、上述の実施例と同
様の効果を有する。

【００７４】

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によれば、処理対象物が載置される吸着テーブルの表面
が摩耗等により劣化した場合には、吸着テーブル全部を
交換する必要はなく、第１板部材を新たな第１板部材に
交換することができる。つまり、第２板部材の凹部での
負圧発生を解除し第１板部材の第２板部材への吸着保持
を解除して、第１板部材を交換するだけでよいことか
ら、簡単に第１板部材を交換できメンテナンス性を向上
させることができ、低コストで性能維持でき、寿命が長
いという優れた吸着テーブルを得ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る吸着テーブルの一例である移動テ
ーブルを用いた外観検査装置の概略構成を示す切欠き平
面図である。

【図２】図１に示した装置の部分切欠き側面図である。

【図３】本発明に係る吸着テーブルの一例である移動テ
ーブルの概略構成を示すブロック図である。

【図４】図３に示した移動テーブルの概略斜視図であ
る。

【図５】図３に示した移動テーブルの概略平面図であ
る。

【図６】図３に示した移動テーブルの概略背面図であ
る。

【図７】ベースプレートをその上面側から見た平面図で
ある。

【図８】ベースプレートをその下面側から見た背面図で
ある。

【図９】図７に示したベースプレートの一部分の形状を
示す部分平面図である。

【図１０】図７のＡ−Ａ線で示す箇所の部分断面図であ
る。

【符号の説明】

１３ … 移動テーブル ２１ … ベースプレート（第２板部材） ２２ … 吸着孔プレート（第１板部材） ２５ … 吸着孔 ２７ … 基板吸着用吸着溝（凹部、処理対象物吸着用
の吸着溝） ４１ … 吸着孔プレート専用吸着溝（凹部、第１板部
材吸着専用の吸着溝） ４３ … 吸着孔プレート用排気経路（排気経路） ５５ … 空気だまり部（排気経路） ５９ … 貫通孔（排気経路） ５７ … 縦横方向連通通路（排気経路） ７０ … イメージ読取りシステム ３００… データ処理装置 Ｗ … 基板

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小田 裕史 京都市上京区堀川通寺之内上る４丁目天神 北町１番地の１ 大日本スクリーン製造株 式会社内 (72)発明者 宮原 章 京都市上京区堀川通寺之内上る４丁目天神 北町１番地の１ 大日本スクリーン製造株 式会社内 (72)発明者 深尾 直志 京都市上京区堀川通寺之内上る４丁目天神 北町１番地の１ 大日本スクリーン製造株 式会社内 Ｆターム(参考） 3C016 DA01 DA11

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 処理対象物を真空吸着する吸着テーブル
   において、 処理対象物が載置される一方面と、この一方面とは逆の
   面である他方面とを連通する、処理対象物を吸着するた
   めの吸着孔が複数個形成された第１板部材と、 前記第１板部材の他方面に当接する面である前面側に凹
   部が形成され、前記凹部の底面と、前記前面とは逆の面
   である背面とを連通する排気経路が形成された第２板部
   材とを備え、 前記第２板部材の排気経路を介してこの第２板部材の凹
   部に負圧を発生させることで前記第１板部材を前記第２
   板部材に吸着保持させることを特徴とする吸着テーブ
   ル。
2. 【請求項２】 請求項１に記載の吸着テーブルにおい
   て、 前記第２板部材に形成された前記凹部の少なくとも一部
   が、前記第１板部材の吸着孔に連通する処理対象物吸着
   用の吸着溝であることを特徴とする吸着テーブル。
3. 【請求項３】 請求項２に記載の吸着テーブルにおい
   て、 前記処理対象物吸着用の吸着溝以外の第２板部材に形成
   された前記凹部が、前記第１板部材で閉塞される第１板
   部材吸着専用の吸着溝であることを特徴とする吸着テー
   ブル。
4. 【請求項４】 請求項１から請求項３のいずれかに記載
   の吸着テーブルにおいて、 前記第２板部材は、その前面側に、処理対象物を吸着す
   るための吸着領域を複数個の独立した領域に区分けする
   ように、複数個の独立した凹部を形成したことを特徴と
   する吸着テーブル。
5. 【請求項５】 請求項１から請求項４のいずれかに記載
   の吸着テーブルを備え、 前記吸着テーブルに吸着保持された処理対象物に所定の
   処理を施すことを特徴とする処理装置。
6. 【請求項６】 請求項５に記載の処理装置において、 前記吸着テーブルに吸着保持された処理対象物の表面を
   撮像する撮像手段と、 前記撮像手段によって得られた画像データを処理して処
   理対象物の欠陥を検出する検出手段とを備えたことを特
   徴とする処理装置。