JP2003297554A

JP2003297554A - 発光素子およびこれを用いた表示装置並びに照明装置

Info

Publication number: JP2003297554A
Application number: JP2002096325A
Authority: JP
Inventors: Yuji Satani; 裕司佐谷; Naomi Kaneko; 尚美金子; Shirou Sumida; 祉朗炭田
Original assignee: Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Current assignee: Panasonic Holdings Corp
Priority date: 2002-03-29
Filing date: 2002-03-29
Publication date: 2003-10-17

Abstract

(57)【要約】【課題】基板から水分や酸素の侵入が抑制され、しか
も軽量な基板およびこの基板を用いて、さらに上部電極
や発光層へ酸素や水分が侵入するのを完全に抑制し、ダ
ークスポットの成長による劣化を防ぎ、製品寿命の長い
発光素子、およびこれを用いた表示装置ならびに照明装
置を提供する。【解決手段】本発明の発光素子は、基板と、該基板上
に形成された第１の電極と、１層または複数層の有機化
合物層と、第２の電極とを有する発光素子であって、前
記基板は、水蒸気バリア性の材料で形成され、前記基板
中に少なくとも１つの樹脂薄膜が基板下面の表面形状に
対応させて埋設されていることを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、発光素子に関し、
詳しくは各種の表示装置、表示装置の光源またはバック
ライト、および光通信機器に用いられる発光素子に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】有機電界発光素子は、陽極および陰極の
両電極から注入された電荷（ホールおよび電子）が発光
体中で再結合して励起子を生成し、それが発光材料の分
子を励起して発光するという、いわゆる注入型発光素子
であるため、低電圧で駆動できる。

【０００３】有機電界発光素子としては、まず、有機薄
膜をホール輸送性材料からなる薄膜と電子輸送性材料か
らなる薄膜との２層構造として、各々の電極から有機薄
膜中に注入されたホールと電子とが再結合することによ
り発光する素子構造が開発された（Applied Physics Le
tters, 51, 1987, P.913.）。また、正孔輸送材料、発
光材料、電子輸送材料の３層構造が開発された（Japane
se Journal of Applied Physics, Vol.27, No.2, P.26
9.）。図９は、従来の有機電界発光素子の一例を示す概
念断面図である。

【０００４】この有機電界発光素子１８０は、ガラスな
どの透明又は半透明な基板１０１上に、ＩＴＯなどの透
明な導電膜からなる下部電極１０２、ホール輸送層１０
３、発光層１０４、上部電極１０５および保護膜１０６
を、例えば真空蒸着法で順次成膜させたものである。保
護膜１０６は、接着層１０７で基板１０１に接着されて
いる。

【０００５】この有機電界発光素子１８０において、陽
極である下部電極１０２と陰極である上部電極１０５と
の間に直流電圧または直流電流を印加すると、下部電極
１０２から注入されたキャリアとしてのホール（正孔）
が、ホール輸送層１０３を経て、発光層１０４に注入さ
れ、上部電極１０５から注入された電子が、電子輸送層
１０５を経て、発光層１０４に注入される。発光層１０
４において、それらホールと電子の再結合が生じ、これ
に伴って生成される励起子が励起状態から基底状態へ移
行する際に発光を生じる。その発光をガラス基板１０１
側から観察できる。

【０００６】発光層１０４には、８−ヒドロキシキノリ
ンアルミニウム（以下、Ａｌｑ３という）などの発光
材料が使用される。有機電界発光素子では、有機化合物
層１３０を構成する層構造や発光層１０４に用いる材料
を変えることによって、容易に発光波長を変えることが
できる。

【０００７】このような有機電界発光素子においては、
通常、陽極としてはインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）のよ
うな透明電極が用いられ、陰極としては電子注入を効率
よく行うために、マグネシウム−銀合金、アルミニウム
−リチウム合金、カルシウムなどの仕事関数の低く、電
気伝導性の高い金属電極が用いられている。

【０００８】しかし、これらの陰極材料は、活性が高
く、化学的に不安定であるため、空気中の酸素や水分と
容易に反応し、腐食や酸化を生じる。このような陰極材
料の腐食や酸化は、陰極から有機層の剥離を生じ、一般
にダークスポット（素子の発光面において発光しない部
分をいう）と呼ばれる欠陥が発生する。この有機電界発
光素子内のダークスポットの数や大きさは、長期間素子
を保存したり、素子を駆動させる際に増加する。このた
め、素子の不安定性をもたらし、素子の寿命を短いもの
とする。

【０００９】また、陰極材料に限らず、発光層やホール
輸送層などの有機層に用いられる有機材料についても、
一般に酸素や水分との反応により構造の変化を生ずるた
め、同様にダークスポットの発生や発光輝度の低下を引
き起こす。

【００１０】ダークスポットの発生・成長は、上記した
ように陰極材料が化学的に不安定であることに加え、有
機電界発光素子の形成プロセスにおけるパーティクル
（小さなゴミ、塵、不要物による汚れなどをいう。）に
起因している。特に、基板上や発光層を形成する直前の
陽極上にパーティクルが存在すると、基板と陽極との
間、および陽極上に成膜する発光層と陽極との間に、パ
ーティクルが存在したままになる。このような状態で完
成した発光素子に電圧を印加すると、電極間がショート
してパーティクルが存在した部分の陰極及び発光層が欠
損してピンホールを生じる。また、蒸着法により発光層
を成膜する際に、陽極上に存在するパーティクルの部分
に発光層が成膜されずに、小さなピンホールが形成され
ることがある。この状態で陰極を形成した場合に、電圧
を印加すると、当該ピンホール部分がショートして陰極
にピンホールが生じる。このようにして生じたピンホー
ルから大気中の酸素や水分が侵入し、活性な陰極を酸化
させる。このため、ダークスポットが発生し、成長す
る。

【００１１】製造工程をどのように制御しても、このよ
うなパーティクルの存在を完全になくすことは困難であ
る。特に、基板上に設けられた電極上に存在するパーテ
ィクルは、洗浄により除くことができない。したがっ
て、パーティクルの存在している場合に、ダークスポッ
トの発生・成長をいかに抑えるかが重要な問題である。

【００１２】従って、有機電界発光素子の安定性を向上
させ、信頼性を高めるためには、陰極材料や有機層に用
いられる材料を、大気中の水分や酸素から保護するため
に、素子全体を封止することが必要不可欠である。

【００１３】有機電界発光素子を封止する方法として
は、２つの方法が知られている。一つは、蒸着法などの
真空成膜技術を用いて有機電界発光素子の外表面に保護
膜を形成する方法である。他の一つは、ガラス性キャッ
プなどで、有機電界発光素子を封着する方法である。

【００１４】保護膜を形成する方法としては、例えばイ
オンプレーティング法を用いてＧｅＯ、ＳｉＯ、ＡｌＦ
₃などの薄膜を発光素子の外表面に形成する方法（特開
平６−９６８５８号公報）、吸水率１％以上の吸水物質
と吸水率０．１％以下の防湿性物質からなる保護膜を形
成する方法（特開平７−２１１４５５号公報）などが開
示されている。一方、ガラス性キャップなどで、有機電
界発光素子を封着する方法としては、無機電界発光素子
で既に実用化されているように、背面電極の外側にガラ
ス板を設け、背面電極とガラス板との間にシリコーンオ
イルを封入する方法がある。また、絶縁性無機化合物か
らなる保護膜を形成した後、この保護膜を電気絶縁ガラ
スまたは電気絶縁性気密流体を用いてシールドする方法
（特開平５−８９９５９号公報）も開示されている。こ
れらの方法では、ダークスポットの発生・成長を十分に
制御することができない。

【００１５】発光素子に用いられる基板としては、一般
にガラス基板が挙げられる。一方、シート状、またはフ
ィルム状の樹脂基板をガラス基板の代わりに採用した発
光素子は、ガラス基板を用いたものに比べて軽く、また
装置を薄く構成できることから、近年開発が進められて
いる。

【００１６】しかし、樹脂基板は吸湿性が大きい。この
ため、大気中の水分や空気によりダークスポットを生じ
る有機電界発光素子においては、基板から水分が透過す
ることにより、素子寿命が短くなる。

【００１７】一般に、液晶表示装置においては、樹脂基
板上にガスバリア層を形成し、吸湿による寸法変化を抑
える試みがなされている（特開平２−３６４４１７号公
報、特開平９−１４６０８０号公報）。ガスバリア層と
しては、たとえばＳｉＯ_x膜やＳｉＮ_x膜などが知られて
いる。しかし、ガスバリア層を用いても、樹脂基板の吸
湿を完全に防ぐことはできない。これは、ＧｅＯ、Ｓｉ
Ｏなどの無機膜もわずかではあるがピンホールを有して
いることによる。このため、樹脂層の水蒸気透過性が比
較的高いため、無機膜のピンホールやクラックから侵入
した酸素や水分の進入を完全に防ぐことができない。ま
た、ＧｅＯなどの薄膜で、封止膜を形成する方法では、
有機化合物を主成分とする発光層との接着性が悪く、酸
素や水分の進入を完全に防ぐことができない。したがっ
て、有機電界発光素子においては、さらに水蒸気透過率
の低い樹脂基板の開発が望まれている。

【００１８】

【発明が解決しようとする課題】本発明は上記に鑑みな
されたものであり、その目的は、基板から水分や酸素の
侵入が抑制され、しかも軽量な基板を提供することにあ
る。また、上記基板を用いるとともに、さらに上部電極
や発光層へ酸素や水分が侵入するのを完全に抑制し、ダ
ークスポットの成長による劣化を防ぎ、製品寿命の長い
発光素子、およびこれを用いた表示装置ならびに照明装
置を提供することにある。

【００１９】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明の発光素子は、基板と、該基板上に形成され
た第１の電極と、１層または複数層の有機化合物層と、
第２の電極とを有する発光素子であって、前記基板は、
水蒸気バリア性の材料で形成され、前記基板中に少なく
とも１つの樹脂薄膜が基板下面の表面形状に対応させて
埋設されていることを特徴とする。

【００２０】本発明の発光素子に用いられる基板は、水
蒸気バリア性の材料を主材料として形成される。水蒸気
バリア性の材料のみで基板を形成できないのは、以下の
理由による。すなわち、水蒸気バリア性の材料で薄膜を
作ると、この薄膜はわずかではあるがピンホールを有し
ている。このため、ピンホールを通って、大気中の水分
や酸素が電極に侵入し、ダークスポットの発生や成長の
原因となる。一方、水蒸気バリア性の材料で作った薄膜
の厚みを増していくと、薄膜は可撓性を失う。このた
め、基板は外的な力により容易にクラックを生ずる。こ
のクラックから侵入した酸素や水分の進入を完全に防ぐ
ことができない。

【００２１】本発明の構成によると、水蒸気バリア性の
材料を主材料として形成された基板中に、少なくとも１
つの樹脂薄膜が基板下面の表面形状に対応させて埋設さ
れているので、樹脂薄膜で分割されている水蒸気バリア
部は、厚みが小さい。また、樹脂薄膜も優れた可撓性を
有する。この結果、基板に可撓性を与えることができる
ので、クラックが発生しない。一方、樹脂薄膜で分割さ
れている水蒸気バリア部は、ピンホールを有している。
しかし、各水蒸気バリア部の間には樹脂薄膜が介在して
いる。この結果、ピンホールを通って、大気中の水分や
酸素が電極に侵入することを有効に抑制できる。なお、
樹脂薄膜が基板下面の表面形状に対応させているとは、
基板下面が平面であれば樹脂薄膜も平面であり、基板下
面が曲面状であれば樹脂薄膜も曲面状であるように、樹
脂薄膜の形状が基板下面に対応していることをいう。

【００２２】本発明の発光素子に用いられる基板は、水
蒸気バリア性の材料で形成され、前記基板中に少なくと
も１つの樹脂薄膜が基板下面の表面形状に対応させて埋
設されており、基板の第１の電極が形成される面の背面
にさらに樹脂薄膜層が形成されていてもよい。

【００２３】基板は外的な力により容易に傷を生じ、ク
ラックを生ずる。しかし、基板の第１の電極が形成され
る面の背面に樹脂薄膜層を形成させておくと、樹脂薄膜
層が外力を緩衝して樹脂基板の傷の発生を有効に防止で
きる。

【００２４】本発明の発光素子は、さらに保護膜を有し
ていてもよい。保護膜は水蒸気バリア性の材料からなる
層と樹脂層とが交互に積層された積層構造を有し、各層
の外表面積が該層に内接する層の外表面積より大きいこ
とを特徴とする。

【００２５】上記構成によれば、水蒸気バリア層と樹脂
層とが、積層された積層構造を有し、各層の外表面積が
該層に内接する層の外表面積より大きいので、大気中の
酸素や水分が陰極や発光層に侵入することを抑制でき
る。

【００２６】また、前記保護膜は、水蒸気バリア層と樹
脂層とが交互に積層された積層構造をとるので、水蒸気
バリア層がピンホールを有していても、大気中の水分や
酸素の侵入を完全に抑制できる。この結果、ダークスポ
ットの発生・成長を抑制できる。

【００２７】また、本発明の発光素子に用いられる保護
膜は、水蒸気バリア性材料層と樹脂層とが交互に積層さ
れた積層構造を有し、最外層が水蒸気バリア層であり、
最外層の外表面積が該層に内接する積層構造体の外表面
積より大きいことを特徴とする。

【００２８】水蒸気バリア層が少なくとも上記積層構造
の最外層を構成し、前記最外層の外表面積が該層に内接
する積層構造体の外表面積より大きくすることによって
も、大気中の酸素や水分が陰極や発光層に侵入すること
を抑制できる。また、第２の電極上の保護膜が複数の層
から成る積層構造を有している。この結果、パーティク
ルに起因するピンホールが生じた場合にも、ダークスポ
ットの発生・成長を有効に防止できる。

【００２９】前記保護膜は、水蒸気バリア層を少なくと
も２層有すればよい。水蒸気バリア層を少なくとも２層
有すれば、水蒸気バリア層間に樹脂層が介在する。この
ため、水蒸気バリア層がピンホールを有していても、大
気中の水分や酸素の侵入を抑制できる。この結果、ダー
クスポットの発生・成長を抑制できる。

【００３０】前記保護膜の外表面に樹脂層が設けられて
いてもよい。樹脂層が外力を緩衝して、保護膜の最外層
を形成する水蒸気バリア層に外力による傷が発生するこ
とを有効に防止できる。

【００３１】前記保護膜において、前記第１の電極と前
記有機化合物層と前記第２の電極とを直接被覆する層が
樹脂層であってもよい。すなわち、前記第１の電極と前
記有機化合物層と前記第２の電極とを直接被覆する層が
樹脂であれば、電極や発光層との接着性に優れる。

【００３２】前記基板および／または前記保護膜の光取
り出し部の全部または一部が透明または半透明であるこ
とを特徴とする。これにより、本願の発光素子は、基板
側から光を取りだす下面発光、保護膜側から光を取り出
す上面発光、および両方から光を取り出す両面発光のい
ずれの素子構成にも使用できる。

【００３３】水蒸気バリア性の材料としては、金属酸化
物、金属窒化物、および金属窒酸化物からなる群より選
択された少なくとも１種であればよい。

【００３４】上記基板および保護膜の透湿率は、１×１
０³ｇ／ｍ²／ｄａｙ／Ｐａ以下であることを特徴とす
る。この結果、大気中から水分や酸素の透過を有効に抑
制できる。

【００３５】上記それぞれの発光素子は、画像信号を発
生する画像信号出力部と、前記画像信号出力部からの画
像信号に基づいて電流を発生する駆動部と、前記駆動部
から発生した電流に基づいて発光する発光部とを備えた
表示装置の発光部に使用することができる。

【００３６】また、上記それぞれの発光素子は、電流を
発生する駆動部と、前記駆動部から発生した電流に基づ
いて発光する発光部とを備えた照明装置の発光部に使用
することができる。

【００３７】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て、図面を参照しながら説明する。

【００３８】（実施の形態１）図１は、本発明の発光素
子の一例を模式的に説明する断面図である。図１の発光
素子４０では、基板１上に、第１の電極２、ホール輸送
層３、発光層４および第２の電極５が順に積層されてい
る。この基板１中には、樹脂薄膜３１が基板下面の表面
形状に対応させて埋設されている。

【００３９】この図の例では、基板中に埋設されている
樹脂薄膜３１は１枚である。基板の樹脂薄膜３１の上下
に位置する部分１ａがピンホールを有していても、各々
の薄膜が同じ個所にピンホールを有している可能性は極
めて低い。従って、図１に示すように埋設されている樹
脂基板３１が１枚であっても、大気中の水蒸気や酸素の
透過を抑制できる基板１が提供される。一般に基板中に
埋設される樹脂薄膜の数は、１枚以上であれば特に制限
はない。好ましくは、２枚以上である。本発明の発光素
子を上面発光させる場合には、透水率を低下させるため
には、基板中に埋設される樹脂薄膜の数は実施実情に適
う限り多い方が良い。例えば、樹脂薄膜を４枚以上埋設
させればよい。一方、本発明の発光素子を下面発光させ
る場合には、基板を透明または半透明にさせる必要があ
る。このため、基板が透明または半透明を保てるように
樹脂薄膜の数を決定すればよい。なお、特に下面発光さ
せる場合で、埋設させる樹脂薄膜の枚数が制限される場
合には、基板の第１の電極が形成される面の背面に樹脂
薄膜層を形成してもよい。図２は、図１に示す発光素子
の変形例を表す図である。基板１の下面に樹脂膜３２が
形成されている。他の構成は図１と同様である。このよ
うに基板１の下面に樹脂薄膜３２を形成すると、外力に
より基板下部が傷つくことを有効に防止できるからであ
る。

【００４０】基板の膜厚および樹脂薄膜の膜厚は、特に
制限されない。

【００４１】基板を構成する水蒸気バリア性の材料とし
ては、酸化ゲルマニウム、酸化珪素（ＳｉＯ、Ｓｉ
Ｏ₂）、酸化モリブデンなどの金属酸化物、窒化アルミ
ニウム、窒化珪素（ＳｉＯ_X）などの金属窒化物、金属
窒酸化物などの公知の水蒸気透過率の低い物質が挙げら
れる。なお、本発明の発光素子を下面発光させる場合に
は、水蒸気バリア性薄膜の膜厚を調整すれば透明または
半透明の基板を得ることができる。

【００４２】樹脂薄膜に用いられる樹脂としては、ポリ
エステル（ＰＥＴなど）などの熱可塑性樹脂、尿素樹
脂、ポリアクリレート、ポリメタクリレートなどの熱硬
化性樹脂などの公知の樹脂が挙げられる。

【００４３】金属酸化物、金属窒化物および金属窒酸化
物の層は、蒸着法、スパッタ法、イオンプレーティング
法により製膜する。なお、加熱温度は、１００℃程度を
上限とする。樹脂の膜は、塗布・乾燥して形成する、あ
るいは塗布後に反応させて重合して形成する。

【００４４】このようにして形成された基板の透湿率
は、１×１０³ｇ／ｍ²／ｄａｙ／Ｐａ以下であれば好ま
しい。大気中の水分や酸素の透過を有効に抑制できるか
らである。

【００４５】なお、図１に示す基板では、基板の周縁部
１ｂが樹脂薄膜を取り囲むように樹脂薄膜が基板中に埋
設されているが、樹脂薄膜が基板側面に露出する構成で
あってもよい。この場合には、ある程度基板側面から水
分や酸素が侵入するが、積層する樹脂薄膜の数や膜厚を
制御することで、大気中の水分や酸素の侵入を抑制でき
る。

【００４６】基板１の上には、パターニングされた第１
の電極２が設けられている。この実施形態の表示素子だ
けでなく、本発明に係る表示素子全般にいえることであ
るが、図示の第１の電極２を含め、光を取り出す側の電
極材料は、透明導電性膜で構成する。かかる透明導電性
膜の材料としては、４ｅＶ程度より大きい仕事関数を持
つ導電性物質を用いることが好ましい。かかる物質とし
て、炭素、アルミニウム、バナジウム、鉄、コバルト、
ニッケル、銅、亜鉛、タングステン、銀、錫、金などこ
れらの合金のような金属の他、酸化錫、酸化インジウ
ム、酸化アンチモン、酸化亜鉛、酸化ジルコニウムなど
の金属酸化物およびそれらの固溶体や混合体（例えばＩ
ＴＯ（インジウム錫酸化物）など）、ＡＴＯ（アンチモ
ンをドープした酸化スズ）、ＡＺＯ（アルミニウムをド
ープした酸化亜鉛）などの導電性金属化合物のような導
電性化合物を例示できる。

【００４７】第１の電極２を形成する場合、透明基板１
上に、前記したような導電性物質を用い、蒸着、スパッ
タリングなどの手法やゾル−ゲル法あるいはかかる物質
を樹脂などに分散させて塗布するなどの手法を用いて所
望の透光性と導電性が確保されるように形成すれば良
い。特に、ＩＴＯ膜は、その透明性を向上させ、あるい
は抵抗率を低下させる目的で、スパッタリング、エレク
トロンビーム蒸着、イオンプレーティングなどの方法
で、成膜される。

【００４８】また、第１の電極２の膜厚は、必要とされ
るシート抵抗値と可視光透過率から決定される。発光素
子の場合、比較的駆動電流密度が高いので、シート抵抗
値を小さくする必要がある。そのため、膜厚は１００ｎ
ｍ以上の厚さであることが多い。

【００４９】次に、第１の電極上に形成される有機化合
物層は、１）ホール輸送層／発光層、２）ホール輸送層
／発光層／電子輸送層、３）発光層／電子輸送層、４）
ホール輸送層、発光層、電子輸送層に用いる材料を一層
に混合した形態、および５）発光層単独のいずれであっ
てもよい。すなわち、有機化合物層の構成としては、上
記１）〜３）の多層構造のほかに、ホール輸送層、発光
層、電子輸送層に用いる材料を一層に混合した層、また
は５）のように発光材料単独層を一層設けるだけで良
い。一方、上面発光を取り出す場合には、上記構造は逆
に形成される。なお、図１に示す発光素子では、ホール
輸送層３／発光層４の構成とした。

【００５０】次に、第１の電極２の上にホール輸送層３
を形成する。図示のホール輸送層３を含め、本発明にか
かる発光素子において、ホール輸送層の形成のために用
いることができるホール輸送材料としては、公知のもの
を使用できるが、好ましくは発光安定性、耐久性に優れ
るトリフェニルアミンを基本骨格として有する誘導体で
ある。

【００５１】具体的には、特開平７−１２６６１５号公
報に記載のテトラフェニルベンジジン化合物、トリフェ
ニルアミン３量体、およびベンジジン２量体、特開平８
−４８６５６号公報に記載の種々のテトラフェニルジア
ミン誘導体、特開平７−６５９５８号公報に記載のＮ，
Ｎ’−ジフェニル− Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェ
ニル）−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミン
（ＭＴＰＤ（通称ＴＰＤ））などが挙げられる。特開平
１０−２２８９８２号公報に記載のトリフェニルアミン
４量体が、さらに好ましい。この他、ジフェニルアミノ
−α−フェニルスチルベン、ジフェニルアミノフェニル
−α−フェニルスチルベン等を使用することもできる。
また、ｐ層を形成するアモルファスシリコンなどの無機
材料を使用してもよい。

【００５２】ホール輸送層３の厚さは、１０ｎｍ〜１０
００ｎｍ程度とすれば良い。ホール輸送層の厚さが１０
ｎｍより薄くなると、発光効率は良いが、絶縁破壊等し
やすくなり、素子の寿命が短くなる。一方、ホール輸送
層３の厚さが１０００ｎｍより厚くなると、所定の輝度
に発光させるためには印加電圧を高くする必要があり、
発光効率が悪いとともに、素子の劣化を招きやすい。

【００５３】次に、ホール輸送層３の上に発光層４を形
成する。図１にかかる発光素子の発光層に用いられる発
光材料としては、特に制限されるものではなく、上記し
たＡｌｑの他に、その誘導体であるトリス（４−メチル
−８−キノリノラト）アルミニウム、４，４’−ビス
（２，２−ジフェニルビニル）ビフェニルなどのジスチ
リルアリーレン誘導体、テトラフェニルポルフィリンな
どのポルフィリン誘導体、アントラセン、ピレン、ビス
スチリルアントラセン誘導体、テトラフェニルブタジエ
ン誘導体、クマリン誘導体、オキサジアゾ−ル誘導体、
ピロロピリジン誘導体、ぺリノン誘導体、シクロペンタ
ジエン誘導体、チアジアゾロピリジン誘導体などの公知
の低分子発光材料や、ポリ（ｐ−フェニレンビニレン）
などのポリフェニレンビニレン誘導体、ポリチオフェン
誘導体、ポリフルオレンなどの公知の高分子発光材料が
挙げられる。また、発光効率を改善することや発光色を
変化させることを目的に、レーザ色素などの発光材料、
ルブレンなどをドープしたり、トリス（２−フェニルピ
リジン）イリジウムや２，３，７，８，１２，１３，１
７，１８−オクタエチル−２１Ｈ，２３Ｈ−ポルフィリ
ンプラチナ（ＩＩ）などの燐光発光性の重金属錯体を
用いてもよい。

【００５４】なお、発光層中のホール輸送能や電子輸送
能を改善するため、発光層４に上記ホール輸送性材料や
本発明の発光素子材料をその層構成に含ませることもで
きる。また、発光物質として、無機発光物質を用いても
良い。さらに、発光材料を高分子マトリックス中に分散
させても良い。

【００５５】発光層４の厚さは、５ｎｍ〜１０００ｎｍ
程度とすれば良い。発光層の厚さが５ｎｍより薄くなる
と、発光効率は良いが、絶縁破壊等しやすくなり、素子
の寿命が短くなる。一方、発光層の厚さが１０００ｎｍ
より厚くなると、所定の輝度に発光させるためには印加
電圧を高くする必要があり、発光効率が悪いとともに、
素子の劣化を招きやすい。通常は、５ｎｍ〜１００ｎｍ
程度の膜厚であれば、好ましい。

【００５６】発光層は、赤、緑、青などの各色を単独で
発する単一材料のみであっても良く、同一層に複数の発
光材料を含有させて、混合色を取り出すこともできる。
また、赤、緑、青色の発光材料をサブピクセル毎に塗り
分けた構成としても良い。さらに、層毎に発光色が異な
るものを積層し、それぞれの層からの発光色を重ね合わ
せる積層構造としても良い。

【００５７】次に、発光層４の上に、電子輸送層（図示
せず）を形成してもよい。本発明にかかる発光素子にお
いて電子輸送層の形成のために用いることのできる電子
輸送材料としては、公知のものが使用できる。好ましく
は、アルミキノリンである。他の電子輸送材料として
は、トリス（４−メチル−８−キノリラト）アルミニウ
ムなどの金属錯体、３−（２’−ベンゾチアゾリル）−
７−ジエチルアミノクマリン、１，３−ビス（４−ｔ−
ブチルフェニル−１，３，４−オキサジソリル）フェニ
レン（ＯＸＤ−７）、トリアゾール系誘導体、フェナン
トロリン系誘導体などが挙げられる。

【００５８】電子輸送層の厚さは、１０ｎｍ〜１０００
ｎｍ程度とすれば良い。電子輸送層の厚さが１０ｎｍよ
り薄くなると、発光効率は良いが、絶縁破壊等しやすく
なり、素子の寿命が短くなる。一方、電子輸送層の厚さ
が１０００ｎｍより厚くなると、所定の輝度に発光させ
るためには印加電圧を高くする必要があり、発光効率が
悪いとともに、素子の劣化を招きやすい。

【００５９】ホール輸送層３、および電子輸送層は、そ
れぞれ単層でもよいが、イオン化ポテンシャルなどを考
慮して複数の層から形成されても良い。

【００６０】ホール輸送層３、発光層４、電子輸送層
は、それぞれ蒸着法により形成しても良いし、これらの
層を形成する材料を溶解した溶液やこれらの層を形成す
る材料を適当な樹脂とともに溶解した溶液を用い、ディ
ップコート法、スピンコート法等の塗布法により形成し
ても良い。ラングミュア・ブロジェット（ＬＢ）法によ
っても良い。好ましい成膜法は、真空蒸着法である。真
空蒸着法によると、上記各層において、アモルファス状
態の均質な層が形成できるからである。

【００６１】ホール輸送層３、発光層４、電子輸送層
は、それぞれ単独で形成しても良いが、真空中で連続し
て各層を形成することが好ましい。連続して形成すれば
各層の界面に不純物が付着することが防止できるので、
動作電圧の低下を防止し、発光効率の向上、長寿命化な
どといった特性を改善できる。

【００６２】ホール輸送層３、発光層４、電子輸送層の
いずれかの層が、複数の化合物を含む場合であって、真
空蒸着法を用いて層を形成する場合には、単独の化合物
を入れた複数のボートを個別に温度制御して共蒸着する
ことが好ましいが、予め複数の化合物を混合したものを
蒸着しても良い。

【００６３】なお、図示してはいないが上記電子輸送層
の上に、電子注入／輸送特性向上のための電子注入層が
形成されていてもよい。電子注入層形成のための電子注
入材料には、従来公知の各種電子注入材料を用いること
ができるが、好ましくはアルカリ金属（リチウム、ナト
リウムなど）、アルカリ土類金属（ベリリウム、マグネ
シウムなど）、あるいはこれらの塩、酸化物などを用い
ることができる。

【００６４】電子注入層は、蒸着やスパッタリング等の
方法で形成できる。また、その厚さは、０．１ｎｍ〜２
０ｎｍ程度とする。

【００６５】発光層４または電子輸送層の上に、第２の
電極５を形成する。この実施形態の表示素子だけでな
く、本発明に係る表示素子全般にいえることであるが、
図示の第２の電極５を含め、光を取り出さない側の電極
材料は、不透明導電性膜で構成する。図１に示す陰極５
を含め、本発明にかかる発光素子における第２の電極は
低仕事関数の小さい金属の合金を用いることが望まし
い。上記電子注入層が形成されている場合は、アルミニ
ウムや銀などの仕事関数の大きい金属を積層することも
できる。また、第２の電極５を透明ないし半透明な材質
で形成しても、面発光を取り出すことができる。

【００６６】第２の電極５を形成する場合、前記したよ
うな金属材料を用い、蒸着、スパッタリングなどの手法
により陰極を形成する。陰極６の膜厚は、１０ｎｍ〜５
００ｎｍ、より好ましくは５０ｎｍ〜５００ｎｍの範囲
が導電性および製造安定性の点から好ましい。

【００６７】次に、電極２、５、有機化合物層３０を被
覆するように、保護膜６を形成する。図１の例では、保
護膜６は、接着層７で基板１に接着されている。このよ
うに、従来から用いられていた保護膜を用いても、上記
基板を用いるので、基板からの水分や酸素の透過を抑制
できるので、素子寿命の長い発光素子を得ることができ
る。

【００６８】（実施の形態２）図３は、本発明の発光素
子の別の態様を説明するための図である。なお、以下の
説明では、実施の形態１と異なる点についてのみ述べ
る。

【００６９】図３の例では、発光素子６０の基板中に埋
設されている樹脂薄膜３１は４枚である。保護膜６は、
水蒸気バリア層７の下部に樹脂層９が、電極２、５、ホ
ール輸送層３、発光層５を取り囲むように形成されてい
る。また、保護膜６を構成する各層８、９、１０は、該
層に内接する層の該表面積より大きくなるように設けら
れている。この図の例では、樹脂膜９が、電極２、５、
ホール輸送層３、発光層５を取り囲むように形成されて
いるので、保護層６と、電極２、５、ホール輸送層３、
および発光層４との密着性が向上する。また、この図の
例でも、基板１の下面に樹脂膜３２を形成してもよい。
また、保護層６の最外部が、水蒸気バリア層８で完全に
被覆するように構成されている。この結果、大気中の酸
素や水蒸気の透過を抑制できる。

【００７０】この図の例では、水蒸気バリア層と樹脂層
とは、それぞれ２層ずつ積層されているが、保護膜の機
能を発揮するためには、層の数は実施実情に適う限り多
い方が良い。

【００７１】図４は、図３の発光素子の別の態様を説明
する図である。この図の発光素子７０では、保護膜６の
上には、水蒸気バリア層８を被覆するように、さらに樹
脂層３３が設けられている。このように保護膜６の最外
層を樹脂層３３で形成すると、外力が緩衝されるので、
外力から水蒸気バリア膜を保護できる。

【００７２】本実施の形態における保護膜を形成する水
蒸気バリア層７、８と樹脂層９、１０、３３は、実施の
形態１に例示した基板の構成材量が使用できる。

【００７３】（実施の形態３）図５は、本発明の発光素
子の別の態様を説明するための図である。なお、以下の
説明では、実施の形態１と異なる点についてのみ述べ
る。

【００７４】図５の例では、基板中に埋設されている樹
脂薄膜３３は４枚である。保護膜６は、水蒸気バリア層
２５ｂと樹脂層２７、２５ａとがそれぞれ交互に積層さ
れた積層構造２５を有し、水蒸気バリア層２６が少なく
とも上記積層構造２５の最外層を構成し、前記最外層の
外表面積が該層に内接する積層構造体２５の外表面積よ
り大きい。

【００７５】この図の例においても、樹脂層２７が、電
極２、５および有機化合物層３０を取り囲むように形成
されている。この結果、保護層６と、電極２、５および
有機化合物層３０との密着性が向上する。また、保護層
６の最外部が、水蒸気バリア層２６で完全に被覆するよ
うに構成されている。この結果、大気中の酸素や窒素の
透過を抑制できる。また、この図の例でも、基板１の下
面に樹脂膜３２を形成してもよい。

【００７６】保護膜の機能を発揮するためには、層の数
は実施実情に適う限り多い方が良い。なお、最外層以外
の層においては、積層構造体２５を構成する各層（２５
ａ、２５ｂ）の外表面積は、同一であっても、異なって
いてもよい。

【００７７】図６は、図５の発光素子の別の態様を説明
する図である。この図の発光素子９０では、保護膜６の
上には、水蒸気バリア層２６を被覆するように、さらに
樹脂層３３が設けられている。このように保護膜６の最
外層を樹脂層３３で形成すると、外力が緩衝されるの
で、外力から水蒸気バリア膜を保護できる。

【００７８】本実施の形態における保護膜を形成する水
蒸気バリア層２５ｂ、２６と樹脂層２７、２５ａ、３３
は、実施の形態１に例示した基板の構成材量が使用でき
る。

【００７９】

【実施例】以下、実施例に基づいて、本発明の内容を具
体的に説明する。

【００８０】（実施例１）図１の発光素子４０を、以下
のように作成した。ステンレスから成る支持板上に、イ
オンビーム法を用いてＧｅＯ層を形成した。次に、この
ＧｅＯ層の上に、ＧｅＯ層より狭い範囲にアクリル樹脂
層を形成した。次に、上記ＧｅＯ層と同じ範囲にＧｅＯ
層を形成した。このようにして、基板１を作成した。

【００８１】この基板１上に、スパッタリング法を用い
て、ＩＴＯ膜（膜厚１６０ｎｍ）を形成した。

【００８２】次に、ＩＴＯ膜上に、レジスト材（東京応
化工業（株）製、ＯＦＰＲ−８００）をスピンコート法
により塗布し、レジスト膜（膜厚１０μｍ）を形成し
た。このレジスト膜が形成されたガラス基板を、マスク
用いて露光し、現像し、レジスト膜を所定の形状にパタ
ーニングした。その後、このガラス基板を、６０℃で５
０％の塩酸中に浸漬し、レジスト膜の形成されていない
部分のＩＴＯ膜をエッチングし、最後に基板上に残った
レジストを剥離して、基板上に所定の形状のパターンを
有する第１の電極２が形成された。

【００８３】この基板１を２．７×１０^-4Ｐａ以下の真
空度まで減圧した抵抗加熱蒸着装置内に入れて、第１の
電極２を形成した側の基板表面に、正孔輸送材料（ＴＰ
Ｄ）を蒸着し、正孔輸送層３（膜厚約５０ｎｍ）を形成
した。次に、正孔輸送層３上に、Ａｌｑ３を蒸着し、発
光層４（膜厚約７５ｎｍ）を形成した。ＴＰＤとＡｌｑ
３の蒸着速度は、ともに０．２ｎｍ／ｓであった。次
に、発光層上に１０ａｔｍ％のＬｉを含むＡｌ−Ｌｉ合
金を蒸着し、陰極５（膜厚２００ｎｍ）を形成した。

【００８４】上記の方法により、陽極２、有機化合物層
３０、陰極５が積層された基板１を複数個製造した。こ
れらの基板１上に、少なくとも有機化合物層３０と陰極
５とを封止するように、公知の方法を用いてガラスから
なるキャップをエポキシ樹脂を用いて貼りつけ、実施例
１の発光素子３０を得た。

【００８５】上記の発光素子３０を４０℃で、湿度９０
％の恒温恒湿槽内で１０００時間放置して、発光素子に
発生するダークスポットの経時変化を検討した。放置前
から、１０００時間経過する間での間に、成長した単位
面積当たりのダークスポットの数を顕微鏡下で測定し
た。その結果を図７に示す。図７は、放置持間と成長し
たダークスポットの数との関係を示すグラフである。図
７から明らかなように、本発明の発光素子では、ダーク
スポットの発生をわずかに認めた。これは、ガラスキャ
ップによる保護膜を使用したためと考えられた。

【００８６】（実施例２）図２の発光素子５０に用いる
基板１を、以下のように作成した以外は、実施例１と同
様に発光素子を作成した。アクリレートモノマーをステ
ンレスから成る支持板上に蒸着させた。その後、紫外光
を照射し、指示板上で重合させてアクリル樹脂の層を形
成した。次に、このアクリル樹脂層の上に、イオンビー
ム法を用いてＧｅＯ層を形成した。次に、このＧｅＯ層
の上に、ＧｅＯ層より狭い範囲にアクリル樹脂層を形成
した。次に、上記ＧｅＯ層と同じ範囲にＧｅＯ層を形成
した。このようにして、基板１の下面に樹脂膜３２が形
成された基板１を作成した。

【００８７】実施例２で得られた発光素子５０を、実施
例１と同様の条件で、放置試験をした。実施例１と同様
に、ダークスポットの成長が認められなかった。

【００８８】（実施例３）実施例２の方法で、基板１の
下面に樹脂層３２が形成された基板１を作成した。この
基板に、実施例１と同様の方法により、基板１上に陽極
２、有機化合物層３０および陰極５を形成したものを複
数個製造した。図３に示すように、実施例３で用いた基
板１には、樹脂薄膜３１が４枚埋設されている。これら
の基板１上に少なくとも有機化合物層３０と陰極５とを
封止するようにアクリレートモノマーを基板１上に蒸着
させた。その後、紫外光を照射し、基板１上で重合させ
てアクリル樹脂の層９を形成した。次に、このアクリル
樹脂層の上に、アクリル樹脂層の外表面積よりわずかに
広い範囲に、イオンビーム法を用いてＧｅＯ層７を形成
した。同様にして、アクリル樹脂層１０、ＧｅＯ層８を
形成し、図３に示す構造の発光素子５０を複数個製造し
た。

【００８９】上記の発光素子５０を４０℃で、湿度９０
％の恒温恒湿槽内で１０００時間放置して、発光素子に
発生するダークスポットの経時変化を検討した。放置前
から、１０００時間経過する間での間に、成長した単位
面積当たりのダークスポットの数を顕微鏡下で測定し
た。その結果を図８に示す。図８は、放置持間と成長し
たダークスポットの数との関係を示すグラフである。図
８から明らかなように、本発明の発光素子では、ダーク
スポットの発生を認めなかった。

【００９０】また、発光層の上に、さらにＯＸＤ−７を
用いて電子輸送層を形成した発光素子も同様に、ダーク
スポットの発生を認めなかった。

【００９１】さらに、図４に示すような保護膜６上にア
クリル樹脂層３３をさらに形成した形成した発光素子も
同様に、ダークスポットの発生を認めなかった。

【００９２】（実施例４）実施例２の方法で、基板１の
下面に樹脂層３２が形成された基板１を作成した。この
基板に、実施例１と同様の方法により、基板１上に陽極
２、有機化合物層３０および陰極５を形成したものを複
数個製造した。これらの基板１上に、少なくとも有機化
合物層３０と陰極５とを封止するように、蒸着重合をさ
せて尿素樹脂層２７を形成させた。この尿素樹脂層２７
の上に、尿素樹脂層の外周部と重なるように、イオンビ
ーム法を用いてＧｅＯ層を形成した。同様の操作を繰り
返し、尿素樹脂層を７層、ＧｅＯ層を６層形成し、最外
層の外表面積が、積層構造２５体の外表面積より広くな
るように、ＧｅＯ層２６を形成し、図３に示すような構
造の発光素子８０を得た。

【００９３】実施例４で得られた発光素子８０を、実施
例１と同様の条件で、放置試験をした。実施例３と同様
に、ダークスポットの発生が認められなかった。

【００９４】さらに、図６に示すような保護膜６上にア
クリル樹脂層３３をさらに形成した形成した発光素子も
同様に、ダークスポットの発生を認めなかった。

【００９５】（実施例５）この例では、画像信号を発生
する画像信号出力部と、前記画像信号出力部からの画像
信号を発生する走査電極駆動回路と信号駆動回路を有す
る駆動部と１００×１００のマトリクス状に配列された
発光素子を有する発光部とを備えた表示装置を作成し
た。実施例１〜４で作成した発光素子をそれぞれ１００
×１００のマトリクス状に配列した電界発光表示装置を
作成した。いずれの表示装置も長時間発光特性が低下し
なかった。

【００９６】電流を発生する駆動部と前記駆動部から発
生した電流に基づいて発光する発光素子を有する発光部
とを備えた照明装置を作成した。またこの例では、照明
装置は液晶表示パネルのバックライトとして用いた。実
施例１〜４で作成した発光素子をフィルム基板上に作成
し、電圧を印加し点灯したところ、長時間輝度が損失し
ない、局面状の均一な面発光照明装置が得られた。

【００９７】

【発明の効果】以上で説明したように、本発明では、上
部電極や発光層へ酸素や水分が侵入するのを完全に抑制
し、ダークスポットの成長による劣化を防ぎ、製品寿命
の長い発光素子、およびこれを用いた表示装置ならびに
照明装置を得ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１は、本発明の発光素子の一例を模式的に説
明する断面図である。

【図２】図２は、図１に示す発光素子の変形例を表す図
である。

【図３】図３は、本発明の発光素子の別の態様を説明す
るための図である。

【図４】図４は、図３の発光素子の別の態様を説明する
図である。

【図５】図５は、本発明の発光素子の別の態様を説明す
るための図である。

【図６】図６は、図５の発光素子の別の態様を説明する
図である。

【図７】図７は、放置持間と成長したダークスポットの
数との関係を示すグラフである。

【図８】図８は、放置持間と成長したダークスポットの
数との関係を示すグラフである。

【図９】図９は、従来の有機電界発光素子の一例を示す
概念断面図である。

【符号の説明】

１基板２第１の電極３ホール輸送層４発光層５第２の電極６保護膜７、８水蒸気バリア層９、１０樹脂層２５積層構造２６水蒸気バリア層２７樹脂層３０有機化合物層３１樹脂薄膜３２樹脂膜３３樹脂層４０発光素子５０発光素子６０発光素子７０発光素子８０発光素子９０発光素子１０１基板１０２下部電極１０３ホール輸送層１０４発光層１０５上部電極１０６保護膜１０７接着層１３０有機化合物層１８０発光素子

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者炭田祉朗大阪府門真市大字門真1006番地松下電器産業株式会社内Ｆターム(参考） 3K007 AB08 AB11 AB12 BB02 CA04 DB03 FA02

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板と、該基板上に形成された第１の
電極と、１層または複数層の有機化合物層と、第２の電
極とを有する発光素子であって、前記基板は、水蒸気バリア性の材料で形成され、前記基
板中に少なくとも１つの樹脂薄膜が基板下面の表面形状
に対応させて埋設されていることを特徴とする発光素
子。
【請求項２】基板と、該基板上に形成された第１の
電極と、１層または複数層の有機化合物層と、第２の電
極とを有する発光素子であって、前記基板は、水蒸気バリア性の材料で形成され、前記基
板中に少なくとも１つの樹脂薄膜が基板下面の表面形状
に対応させて埋設されており、基板の第１の電極が形成
される面の背面にさらに樹脂薄膜層が形成されているこ
とを特徴とする発光素子。
【請求項３】基板と、該基板上に形成された第１の
電極と、１層または複数層の有機化合物層と、第２の電
極と、前記第１の電極と前記有機化合物層と前記第２の
電極とを被覆する保護膜とを有する発光素子であって、前記基板は、水蒸気バリア性の材料で形成され、前記基
板中に少なくとも１つの樹脂薄膜が基板下面の表面形状
に対応させて埋設されており、前記保護膜は水蒸気バリア性の材料からなる層と樹脂層
とが交互に積層された積層構造を有し、各層の外表面積
が該層に内接する層の外表面積より大きいことを特徴と
する発光素子。
【請求項４】基板と、該基板上に形成された第１の
電極と、１層または複数層の有機化合物層と、第２の電
極と、前記第１の電極と前記有機化合物層と前記第２の
電極とを被覆する保護膜とを有する発光素子であって、前記基板は、水蒸気バリア性の材料で形成され、前記基
板中に少なくとも１つの樹脂薄膜が基板下面の表面形状
に対応させて埋設されており、基板の第１の電極が形成
される面の背面にさらに樹脂薄膜層が形成されていて、前記保護膜は、水蒸気バリア性材料層と樹脂層とが交互
に積層された積層構造を有し、最外層が水蒸気バリア層
であり、最外層の外表面積が該層に内接する積層構造体
の外表面積より大きいことを特徴とする発光素子。
【請求項５】基板と、該基板上に形成された第１の
電極と、１層または複数層の有機化合物層と、第２の電
極と、前記第１の電極と前記有機化合物層と前記第２の
電極とを被覆する保護膜とを有する発光素子であって、前記基板は、水蒸気バリア性の材料で形成され、前記基
板中に少なくとも１つの樹脂薄膜が基板下面の表面形状
に対応させて埋設されており、基板の第１の電極が形成
される面の背面に樹脂薄膜層が形成されていて、前記保護膜は水蒸気バリア性の材料からなる層と樹脂層
とが交互に積層された積層構造を有し、各層の外表面積
が該層に内接する層の外表面積より大きいことを特徴と
する発光素子。
【請求項６】基板と、該基板上に形成された第１の
電極と、１層または複数層の有機化合物層と、第２の電
極と、前記第１の電極と前記有機化合物層と前記第２の
電極とを被覆する保護膜とを有する発光素子であって、前記基板は、水蒸気バリア性の材料で形成され、前記基
板中に少なくとも１つの樹脂薄膜が基板下面の表面形状
に対応させて埋設されており、基板の第１の電極が形成
される面の背面にさらに樹脂薄膜層が形成されていて、前記保護膜は、水蒸気バリア性材料層と樹脂層とが交互
に積層された積層構造を有し、最外層の外表面積が該層
に内接する積層構造体の外表面積より大きいことを特徴
とする発光素子。
【請求項７】前記保護膜は、水蒸気バリア層を少な
くとも２層有することを特徴とする請求項３ないし請求
項６のいずれかに記載の発光素子。
【請求項８】前記保護膜の外表面に樹脂膜が設けら
れていることを特徴とする請求項３ないし請求項７のい
ずれかに記載の発光素子。
【請求項９】前記保護膜において、前記第１の電極
と前記有機化合物層と前記第２の電極とを直接被覆する
層が樹脂層であることを特徴とする請求項３ないし請求
項８のいずれかに記載の発光素子。
【請求項１０】前記基板および／または前記保護膜
の光取り出し部の全部または一部が透明または半透明で
あることを特徴とする請求項１ないし請求項８のいずれ
かに記載の発光素子。
【請求項１１】前記基板を形成する水蒸気バリア性
の材料が、金属酸化物、金属窒化物、および金属窒酸化
物からなる群より選択された少なくとも１種であること
を特徴とする請求項１ないし請求項８のいずれかに記載
の発光素子。
【請求項１２】水蒸気バリア層が金属酸化物、金属
窒化物、および金属窒酸化物からなる群より選択された
少なくとも１種で構成された層であることを特徴とする
請求項１ないし請求項８のいずれかに記載の発光素子。
【請求項１３】前記基板の透湿率が、１×１０³ｇ
／ｍ²／ｄａｙ／Ｐａ以下であることを特徴とする請求
項１ないし請求項８のいずれかに記載の発光素子。
【請求項１４】前記保護膜の透湿率が、１×１０³
ｇ／ｍ²／ｄａｙ／Ｐａ以下であることを特徴とする請
求項１ないし請求項８のいずれかに記載の発光素子。
【請求項１５】画像信号を発生する画像信号出力部
と、前記画像信号出力部からの画像信号に基づいて電流
を発生する駆動部と、前記駆動部から発生した電流に基
づいて発光する発光部とを備えた表示装置であって、前
記発光部が請求項１ないし請求項１４のいずれかに記載
の発光素子であることを特徴とする表示装置。
【請求項１６】電流を発生する駆動部と、前記駆動
部から発生した電流に基づいて発光する発光部とを備え
た照明装置であって、前記発光部は少なくとも１個の発
光素子を有し、該発光素子が請求項１ないし請求項１４
のいずれかに記載の発光素子であることを特徴とする照
明装置。