JP2003295420A - 平版印刷版の製版方法、平版印刷方法および平版印刷原版 - Google Patents
平版印刷版の製版方法、平版印刷方法および平版印刷原版Info
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- JP2003295420A JP2003295420A JP2002097032A JP2002097032A JP2003295420A JP 2003295420 A JP2003295420 A JP 2003295420A JP 2002097032 A JP2002097032 A JP 2002097032A JP 2002097032 A JP2002097032 A JP 2002097032A JP 2003295420 A JP2003295420 A JP 2003295420A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 保存安定性が優れた平版印刷原版から、
耐刷性およびインク受容性が優れた平版印刷版を製版す
る。 【解決手段】 親水性支持体上に、化学的活性コアと熱
可塑性シェルとを有するコア/シェル構造微粒子と親水
性ポリマーとを含む画像形成層が設けられている平版印
刷原版を画像状に加熱し、シェルを軟化させてシェル同
士を融着させると共に、コア同士、コアと親水性支持
体、またはコアと親水性ポリマーとを接触させて、いず
れかを化学的に結合させる工程、そして、平版印刷原版
を水性媒体で処理し、加熱していない部分の画像形成層
を除去する工程から平版印刷版を製版する。
耐刷性およびインク受容性が優れた平版印刷版を製版す
る。 【解決手段】 親水性支持体上に、化学的活性コアと熱
可塑性シェルとを有するコア/シェル構造微粒子と親水
性ポリマーとを含む画像形成層が設けられている平版印
刷原版を画像状に加熱し、シェルを軟化させてシェル同
士を融着させると共に、コア同士、コアと親水性支持
体、またはコアと親水性ポリマーとを接触させて、いず
れかを化学的に結合させる工程、そして、平版印刷原版
を水性媒体で処理し、加熱していない部分の画像形成層
を除去する工程から平版印刷版を製版する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、平版印刷版の製版
方法に関する。特に本発明は、ディジタル信号に基づい
たレーザー光の走査露光によって画像を記録し、印刷機
により現像できる平版印刷版の製版方法に関する。
方法に関する。特に本発明は、ディジタル信号に基づい
たレーザー光の走査露光によって画像を記録し、印刷機
により現像できる平版印刷版の製版方法に関する。
【0002】
【従来の技術】一般に、平版印刷版は、印刷過程でイン
クを受容する親油性の画像部と湿し水を受容する親水性
の非画像部とから成る。従来の平版印刷版は、親水性支
持体上に親油性の感光性樹脂層を設けたPS版に、リス
フイルムを介してマスク露光した後、非画像部を現像液
によって溶解除去することにより製版することが普通で
あった。近年では、コンピュータを用いて画像情報をデ
ジタル情報として電子的に処理し、蓄積して、出力す
る。従って、デジタル画像情報に応じた画像形成処理
は、レーザ光の様な指向性の高い活性放射線を用いる走
査露光により、リスフイルムを介することなく、平版印
刷版用原版に対して直接画像形成を行うことが望まし
い。このようにデジタル画像情報からリスフイルムを介
さずに印刷版を製版する技術は、コンピュータ・トゥ・
プレート(CTP)と呼ばれている。従来のPS版によ
る印刷版の製版方法を、コンピュータ・トゥ・プレート
(CTP)技術で実施しようとすると、レーザ光の波長
領域と感光性樹脂の感光波長領域とが一致しないとの問
題がある。
クを受容する親油性の画像部と湿し水を受容する親水性
の非画像部とから成る。従来の平版印刷版は、親水性支
持体上に親油性の感光性樹脂層を設けたPS版に、リス
フイルムを介してマスク露光した後、非画像部を現像液
によって溶解除去することにより製版することが普通で
あった。近年では、コンピュータを用いて画像情報をデ
ジタル情報として電子的に処理し、蓄積して、出力す
る。従って、デジタル画像情報に応じた画像形成処理
は、レーザ光の様な指向性の高い活性放射線を用いる走
査露光により、リスフイルムを介することなく、平版印
刷版用原版に対して直接画像形成を行うことが望まし
い。このようにデジタル画像情報からリスフイルムを介
さずに印刷版を製版する技術は、コンピュータ・トゥ・
プレート(CTP)と呼ばれている。従来のPS版によ
る印刷版の製版方法を、コンピュータ・トゥ・プレート
(CTP)技術で実施しようとすると、レーザ光の波長
領域と感光性樹脂の感光波長領域とが一致しないとの問
題がある。
【0003】また、従来のPS版では、露光の後、非画
像部を溶解除去する工程(現像処理)が不可欠である。
さらに、現像処理された印刷版を水洗したり、界面活性
剤を含有するリンス液で処理したり、アラビアガムや澱
粉誘導体を含む不感脂化液で処理する後処理工程も必要
であった。これらの付加的な湿式の処理が不可欠である
という点は、従来のPS版の大きな検討課題となってい
る。前記のデジタル処理によって製版工程の前半(画像
形成処理)が簡素化されても、後半(現像処理)が煩雑
な湿式処理では、簡素化による効果が不充分である。特
に近年は、地球環境への配慮が産業界全体の大きな関心
事となっている。環境への配慮からも、湿式の後処理
は、簡素化するか、乾式処理に変更するか、さらには無
処理化することが望ましい。
像部を溶解除去する工程(現像処理)が不可欠である。
さらに、現像処理された印刷版を水洗したり、界面活性
剤を含有するリンス液で処理したり、アラビアガムや澱
粉誘導体を含む不感脂化液で処理する後処理工程も必要
であった。これらの付加的な湿式の処理が不可欠である
という点は、従来のPS版の大きな検討課題となってい
る。前記のデジタル処理によって製版工程の前半(画像
形成処理)が簡素化されても、後半(現像処理)が煩雑
な湿式処理では、簡素化による効果が不充分である。特
に近年は、地球環境への配慮が産業界全体の大きな関心
事となっている。環境への配慮からも、湿式の後処理
は、簡素化するか、乾式処理に変更するか、さらには無
処理化することが望ましい。
【0004】処理工程をなくす方法の一つに、露光済み
の印刷版用原版を印刷機のシリンダーに装着し、シリン
ダーを回転しながら湿し水とインキを供給することによ
って、印刷版用原版の非画像部を除去する機上現像と呼
ばれる方法がある。すなわち、印刷版用原版を露光後、
そのまま印刷機に装着し、通常の印刷過程の中で処理が
完了する方式である。このような機上現像に適した平版
印刷版用原版は、湿し水やインキ溶剤に可溶な感光層を
有し、しかも、明室に置かれた印刷機上で現像されるの
に適した明室取り扱い性を有することが必要とされる。
従来のPS版では、このような要求を満足することは、
実質的に不可能であった。
の印刷版用原版を印刷機のシリンダーに装着し、シリン
ダーを回転しながら湿し水とインキを供給することによ
って、印刷版用原版の非画像部を除去する機上現像と呼
ばれる方法がある。すなわち、印刷版用原版を露光後、
そのまま印刷機に装着し、通常の印刷過程の中で処理が
完了する方式である。このような機上現像に適した平版
印刷版用原版は、湿し水やインキ溶剤に可溶な感光層を
有し、しかも、明室に置かれた印刷機上で現像されるの
に適した明室取り扱い性を有することが必要とされる。
従来のPS版では、このような要求を満足することは、
実質的に不可能であった。
【0005】特許2938397号公報には、親水性バ
インダーポリマー中に熱可塑性疎水性重合体微粒子を分
散させた感光層を親水性支持体上に設けた平版印刷原版
が記載されている。同公報の記載によると、製版におい
て、赤外線レーザ露光して熱可塑性疎水性重合体微粒子
を熱により合体(融着)させて画像形成した後、印刷機
の版胴上に版を取り付け、湿し水またはインクを供給す
ることにより機上現像できる。この平版印刷版用原版は
感光域が赤外領域であることにより、明室での取り扱い
性も有している。特開2001−277740号公報に
は、熱反応性基を有する化合物を収容したマイクロカプ
セルからなる感熱層を有し、感熱層またはその隣接層が
光熱変換剤を含む平版印刷原版が記載されている。マイ
クロカプセルは、製版に用いる熱で外壁が破れる。製版
において、走査露光の熱によりマイクロカプセルを破裂
させ、収容した化合物を反応させて画像を形成する。
インダーポリマー中に熱可塑性疎水性重合体微粒子を分
散させた感光層を親水性支持体上に設けた平版印刷原版
が記載されている。同公報の記載によると、製版におい
て、赤外線レーザ露光して熱可塑性疎水性重合体微粒子
を熱により合体(融着)させて画像形成した後、印刷機
の版胴上に版を取り付け、湿し水またはインクを供給す
ることにより機上現像できる。この平版印刷版用原版は
感光域が赤外領域であることにより、明室での取り扱い
性も有している。特開2001−277740号公報に
は、熱反応性基を有する化合物を収容したマイクロカプ
セルからなる感熱層を有し、感熱層またはその隣接層が
光熱変換剤を含む平版印刷原版が記載されている。マイ
クロカプセルは、製版に用いる熱で外壁が破れる。製版
において、走査露光の熱によりマイクロカプセルを破裂
させ、収容した化合物を反応させて画像を形成する。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】反応により形成した画
像部(特開2001−277740号公報記載)は、熱
融着により形成した画像部(特許2938397号公報
記載)よりも、耐刷性が優れている。本発明の目的は、
複雑なリスフイルムを介した画像露光を必要とせずに、
画像を記録する平版印刷版の製版方法を提供することで
ある。また、本発明の目的は、画像を記録してから湿式
現像処理を行わずに印刷する平版印刷方法を提供するこ
とでもある。さらに本発明の目的は、保存安定性が優れ
た平版印刷原版から、耐刷性が優れた平版印刷版を製版
することでもある。さらにまた本発明の目的は、感度お
よび解像度が高い平版印刷原版を提供することでもあ
る。
像部(特開2001−277740号公報記載)は、熱
融着により形成した画像部(特許2938397号公報
記載)よりも、耐刷性が優れている。本発明の目的は、
複雑なリスフイルムを介した画像露光を必要とせずに、
画像を記録する平版印刷版の製版方法を提供することで
ある。また、本発明の目的は、画像を記録してから湿式
現像処理を行わずに印刷する平版印刷方法を提供するこ
とでもある。さらに本発明の目的は、保存安定性が優れ
た平版印刷原版から、耐刷性が優れた平版印刷版を製版
することでもある。さらにまた本発明の目的は、感度お
よび解像度が高い平版印刷原版を提供することでもあ
る。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明は、下記(1)、
(2)の平版印刷版の製版方法、下記(3)の平版印刷
方法および下記(4)の平版印刷原版を提供する。 (1)親水性支持体上に、化学的活性コアと熱可塑性シ
ェルとを有するコア/シェル構造微粒子と親水性ポリマ
ーとを含む画像形成層が設けられている平版印刷原版を
画像状に加熱し、シェルを軟化させてシェル同士を融着
させると共に、コア同士、コアと親水性支持体、または
コアと親水性ポリマーとを接触させて、いずれかを化学
的に結合させる工程、そして、平版印刷原版を水性媒体
で処理し、加熱していない部分の画像形成層を除去する
工程からなる平版印刷版の製版方法。 (1a)コアが化学的活性基を有するポリマーからなる
(1)に記載の製版方法。 (1b)シェルが60乃至200℃の軟化点を有するポ
リマーからなる(1)に記載の製版方法。
(2)の平版印刷版の製版方法、下記(3)の平版印刷
方法および下記(4)の平版印刷原版を提供する。 (1)親水性支持体上に、化学的活性コアと熱可塑性シ
ェルとを有するコア/シェル構造微粒子と親水性ポリマ
ーとを含む画像形成層が設けられている平版印刷原版を
画像状に加熱し、シェルを軟化させてシェル同士を融着
させると共に、コア同士、コアと親水性支持体、または
コアと親水性ポリマーとを接触させて、いずれかを化学
的に結合させる工程、そして、平版印刷原版を水性媒体
で処理し、加熱していない部分の画像形成層を除去する
工程からなる平版印刷版の製版方法。 (1a)コアが化学的活性基を有するポリマーからなる
(1)に記載の製版方法。 (1b)シェルが60乃至200℃の軟化点を有するポ
リマーからなる(1)に記載の製版方法。
【0008】(2)親水性支持体上に、化学的活性コア
と熱可塑性シェルとを有するコア/シェル構造微粒子、
親水性ポリマーおよび光熱変換剤を含む画像形成層が設
けられている平版印刷原版をレーザー光で走査すること
により画像状に加熱し、シェルを軟化させてシェル同士
を融着させると共に、コア同士、コアと親水性支持体、
またはコアと親水性ポリマーとを接触させて、いずれか
を化学的に結合させる工程、そして、平版印刷原版を水
性媒体で処理し、加熱していない部分の画像形成層を除
去する工程からなる平版印刷版の製版方法。 (2a)コアが化学的活性基を有するポリマーからなる
(2)に記載の製版方法。 (2b)シェルが60乃至200℃の軟化点を有するポ
リマーからなる(2)に記載の製版方法。
と熱可塑性シェルとを有するコア/シェル構造微粒子、
親水性ポリマーおよび光熱変換剤を含む画像形成層が設
けられている平版印刷原版をレーザー光で走査すること
により画像状に加熱し、シェルを軟化させてシェル同士
を融着させると共に、コア同士、コアと親水性支持体、
またはコアと親水性ポリマーとを接触させて、いずれか
を化学的に結合させる工程、そして、平版印刷原版を水
性媒体で処理し、加熱していない部分の画像形成層を除
去する工程からなる平版印刷版の製版方法。 (2a)コアが化学的活性基を有するポリマーからなる
(2)に記載の製版方法。 (2b)シェルが60乃至200℃の軟化点を有するポ
リマーからなる(2)に記載の製版方法。
【0009】(3)親水性支持体上に、化学的活性コア
と熱可塑性シェルとを有するコア/シェル構造微粒子と
親水性ポリマーとを含む画像形成層が設けられている平
版印刷原版を画像状に加熱し、シェルを軟化させてシェ
ル同士を融着させると共に、コア同士、コアと親水性支
持体、またはコアと親水性ポリマーとを接触させて、い
ずれかを化学的に結合させる工程、平版印刷原版を印刷
機に装着して印刷機を稼動させ、湿し水、インク、また
は擦りにより加熱していない部分の画像形成層を除去
し、これにより平版印刷版を製版する工程、そして、さ
らに湿し水と油性インクとを供給し、製版された平版印
刷版で印刷する工程からなる平版印刷方法。 (3a)コアが化学的活性基を有するポリマーからなる
(3)に記載の平版印刷方法。 (3b)シェルが60乃至200℃の軟化点を有するポ
リマーからなる(3)に記載の平版印刷方法。 (3c)画像形成層がさらに光熱変換剤を含み、平版印
刷原版をレーザー光で走査することにより画像状に加熱
する(3)に記載の平版印刷方法。
と熱可塑性シェルとを有するコア/シェル構造微粒子と
親水性ポリマーとを含む画像形成層が設けられている平
版印刷原版を画像状に加熱し、シェルを軟化させてシェ
ル同士を融着させると共に、コア同士、コアと親水性支
持体、またはコアと親水性ポリマーとを接触させて、い
ずれかを化学的に結合させる工程、平版印刷原版を印刷
機に装着して印刷機を稼動させ、湿し水、インク、また
は擦りにより加熱していない部分の画像形成層を除去
し、これにより平版印刷版を製版する工程、そして、さ
らに湿し水と油性インクとを供給し、製版された平版印
刷版で印刷する工程からなる平版印刷方法。 (3a)コアが化学的活性基を有するポリマーからなる
(3)に記載の平版印刷方法。 (3b)シェルが60乃至200℃の軟化点を有するポ
リマーからなる(3)に記載の平版印刷方法。 (3c)画像形成層がさらに光熱変換剤を含み、平版印
刷原版をレーザー光で走査することにより画像状に加熱
する(3)に記載の平版印刷方法。
【0010】(4)親水性支持体上に、化学的活性コア
と熱可塑性シェルとを有するコア/シェル構造微粒子、
親水性ポリマーおよび光熱変換剤を含む画像形成層が設
けられており、コアが化学的活性基を有するポリマーか
らなり、シェルが60乃至200℃の軟化点を有するポ
リマーからなる平版印刷原版。なお、本明細書において
「化学的活性」とは、他の物質と化学結合(水素結合、
共有結合、イオン結合または配位結合)を形成できる官
能基(化学的活性基)を有することを意味する。また、
本明細書において、軟化点は、ストレインゲージ法によ
り測定した値とする。ストレインゲージ法では、測定対
象物質を粉体化した微粒子を銅板とガラスプレートでは
さみ、ガラスプレート側から圧力をかけた状態で銅板を
加熱し、銅板の温度に対して圧力の変化を測定して、軟
化点を決定する方法である。ストレインゲージ法におい
て、圧力の変化が開始した温度を軟化点とする。
と熱可塑性シェルとを有するコア/シェル構造微粒子、
親水性ポリマーおよび光熱変換剤を含む画像形成層が設
けられており、コアが化学的活性基を有するポリマーか
らなり、シェルが60乃至200℃の軟化点を有するポ
リマーからなる平版印刷原版。なお、本明細書において
「化学的活性」とは、他の物質と化学結合(水素結合、
共有結合、イオン結合または配位結合)を形成できる官
能基(化学的活性基)を有することを意味する。また、
本明細書において、軟化点は、ストレインゲージ法によ
り測定した値とする。ストレインゲージ法では、測定対
象物質を粉体化した微粒子を銅板とガラスプレートでは
さみ、ガラスプレート側から圧力をかけた状態で銅板を
加熱し、銅板の温度に対して圧力の変化を測定して、軟
化点を決定する方法である。ストレインゲージ法におい
て、圧力の変化が開始した温度を軟化点とする。
【0011】
【発明の効果】本発明は、化学的活性コアと熱可塑性シ
ェルとを有するコア/シェル構造微粒子を使用すること
を特徴とする。熱可塑性ポリマー粒子を熱で融着させる
製版方法は、耐刷性に問題があった。熱融着するような
軟化点の低いポリマーは、加熱しなくても、一般に軟ら
かい状態である。そして、熱融着後も軟らかい状態であ
るため、ポリマーが熱融着して形成される疎水性被膜の
強度(耐刷性)が低かった。
ェルとを有するコア/シェル構造微粒子を使用すること
を特徴とする。熱可塑性ポリマー粒子を熱で融着させる
製版方法は、耐刷性に問題があった。熱融着するような
軟化点の低いポリマーは、加熱しなくても、一般に軟ら
かい状態である。そして、熱融着後も軟らかい状態であ
るため、ポリマーが熱融着して形成される疎水性被膜の
強度(耐刷性)が低かった。
【0012】本発明に従い、化学的活性コアと熱可塑性
シェルとを有するコア/シェル構造微粒子を使用する
と、コアの化学結合とシェルの熱融着との双方の作用に
より、画像部を形成する。従って、熱融着型の製版方法
と熱反応型の製版方法との双方の長所を有する平版印刷
版を製版することができる。また、熱可塑性シェルは、
化学的活性コアを隔離して、平版印刷原版の保存中にお
いてコアの反応を防止する作用(マイクロカプセルの壁
と同様の作用)もある。本発明に用いるコア/シェル構
造微粒子は、マイクロカプセルとは異なり、シェルが、
コアの隔離だけではなく、画像形成にも積極的に関与す
る。なお、従来の技術においても、コア/シェル構造微
粒子は提案されている(EP514145A1号明細書
および特開2000−141895号公報記載)。しか
し、それらのコア/シェル構造微粒子は、従来の熱可塑
性ポリマー粒子の改良(コアが軟らかくシェルが硬い構
造)であって、画像形成においてコアは化学結合を形成
しない。
シェルとを有するコア/シェル構造微粒子を使用する
と、コアの化学結合とシェルの熱融着との双方の作用に
より、画像部を形成する。従って、熱融着型の製版方法
と熱反応型の製版方法との双方の長所を有する平版印刷
版を製版することができる。また、熱可塑性シェルは、
化学的活性コアを隔離して、平版印刷原版の保存中にお
いてコアの反応を防止する作用(マイクロカプセルの壁
と同様の作用)もある。本発明に用いるコア/シェル構
造微粒子は、マイクロカプセルとは異なり、シェルが、
コアの隔離だけではなく、画像形成にも積極的に関与す
る。なお、従来の技術においても、コア/シェル構造微
粒子は提案されている(EP514145A1号明細書
および特開2000−141895号公報記載)。しか
し、それらのコア/シェル構造微粒子は、従来の熱可塑
性ポリマー粒子の改良(コアが軟らかくシェルが硬い構
造)であって、画像形成においてコアは化学結合を形成
しない。
【0013】
【発明の実施の形態】[平版印刷原版の基本構成]図1
は、好ましい平版印刷原版の基本構成を示す断面模式図
である。図1に示す平版印刷原版は、親水性支持体
(1)上に、画像形成層(2)が設けられている。画像
形成層(2)では、コア/シェル構造微粒子(21)お
よび光熱変換剤(22)が親水性ポリマー(23)中に
分散している。コア/シェル構造微粒子(21)は、化
学的活性コア(21c)と熱可塑性シェル(21s)と
からなる。
は、好ましい平版印刷原版の基本構成を示す断面模式図
である。図1に示す平版印刷原版は、親水性支持体
(1)上に、画像形成層(2)が設けられている。画像
形成層(2)では、コア/シェル構造微粒子(21)お
よび光熱変換剤(22)が親水性ポリマー(23)中に
分散している。コア/シェル構造微粒子(21)は、化
学的活性コア(21c)と熱可塑性シェル(21s)と
からなる。
【0014】[化学的活性コア]微粒子のコアには、化
学的に活性な物質を使用する。画像形成において、コア
は、別のコア、親水性ポリマーおよび親水性支持体のい
ずれかと、化学的に結合する。化学結合は、水素結合、
イオン結合、配位結合および共有結合のいずれかであ
る。化学結合は、外部のエネルギー(例、熱エネルギ
ー、光エネルギー)なしで形成される結合であることが
好ましい。
学的に活性な物質を使用する。画像形成において、コア
は、別のコア、親水性ポリマーおよび親水性支持体のい
ずれかと、化学的に結合する。化学結合は、水素結合、
イオン結合、配位結合および共有結合のいずれかであ
る。化学結合は、外部のエネルギー(例、熱エネルギ
ー、光エネルギー)なしで形成される結合であることが
好ましい。
【0015】水素結合の場合、化学的活性コアが、水素
(プロトン)供与性基および水素受容性基の一方を有
し、別のコア、親水性ポリマーおよび親水性支持体のい
ずれかが他方を有す。化学的活性コアが、水素供与性基
および水素受容性基の双方を有していてもよい。水素供
与性基の例には、ヒドロキシル基(−OH)、カルボキ
シル基(−COOH)、一級アミノ基(−NH2 )、二
級アミノ基(−NRH)およびイミノ基=NH)が含ま
れる。水素受容性基の例には、カルボニル基(>C=
O)、エーテル基(−O−)および三級アミノ基(−N
R2 )が含まれる。水素供与基−水素受容性基の組み合
わせとしては、ヒドロキシル基−三級アミノ基、カルボ
キシル基−三級アミノ基およびヒドロキシル基−エーテ
ル基が好ましい。ヒドロキシル基−三級アミノ基および
カルボキシル基−三級アミノ基がさらに好ましく、フェ
ノール性ヒドロキシル基−含窒素複素環中の三級アミノ
基およびカルボキシル基−含窒素複素環中の三級アミノ
基が最も好ましい。
(プロトン)供与性基および水素受容性基の一方を有
し、別のコア、親水性ポリマーおよび親水性支持体のい
ずれかが他方を有す。化学的活性コアが、水素供与性基
および水素受容性基の双方を有していてもよい。水素供
与性基の例には、ヒドロキシル基(−OH)、カルボキ
シル基(−COOH)、一級アミノ基(−NH2 )、二
級アミノ基(−NRH)およびイミノ基=NH)が含ま
れる。水素受容性基の例には、カルボニル基(>C=
O)、エーテル基(−O−)および三級アミノ基(−N
R2 )が含まれる。水素供与基−水素受容性基の組み合
わせとしては、ヒドロキシル基−三級アミノ基、カルボ
キシル基−三級アミノ基およびヒドロキシル基−エーテ
ル基が好ましい。ヒドロキシル基−三級アミノ基および
カルボキシル基−三級アミノ基がさらに好ましく、フェ
ノール性ヒドロキシル基−含窒素複素環中の三級アミノ
基およびカルボキシル基−含窒素複素環中の三級アミノ
基が最も好ましい。
【0016】イオン結合の場合、化学的活性コアが、ア
ニオン性基およびカチオン性基の一方を有し、別のコ
ア、親水性ポリマーおよび親水性支持体のいずれかが他
方を有す。化学的活性コアが、アニオン性基およびカチ
オン性基の双方を有していてもよい。アニオン性基の例
には、スルホネート、カルボキシレートおよびホスホネ
ートが含まれる。カチオン性基の例には、アンモニウム
基、ヨードニウム基、スルホニウム基およびホスホニウ
ム基が含まれる。
ニオン性基およびカチオン性基の一方を有し、別のコ
ア、親水性ポリマーおよび親水性支持体のいずれかが他
方を有す。化学的活性コアが、アニオン性基およびカチ
オン性基の双方を有していてもよい。アニオン性基の例
には、スルホネート、カルボキシレートおよびホスホネ
ートが含まれる。カチオン性基の例には、アンモニウム
基、ヨードニウム基、スルホニウム基およびホスホニウ
ム基が含まれる。
【0017】配位結合の場合、化学的活性コアが、配位
子として機能する官能基を有し、親水性支持体がアルミ
ニウム支持体であって、配位子として機能する官能基が
アルミニウムと錯体を形成することが好ましい。配位子
として機能する官能基の例には、一級アミノ基、二級ア
ミノ基、三級アミノ基、アンモニウム基、ピリジニウム
基、ホスホン酸基およびその塩、ホウ酸基およびその
塩、アセトアセチル基、フェノール性ヒドロキシル基、
エポキシ基およびシロキサン基が含まれる。配位子とし
て機能する官能基は、アンモニウム基、ピリジニウム
基、ホスホン酸基およびその塩、ホウ酸基およびその
塩、アセトアセチル基、フェノール性ヒドロキシル基、
エポキシ基およびシロキサン基が好ましく、アンモニウ
ム基、アセトアセチル基、フェノール性ヒドロキシル基
およびエポキシ基がさらに好ましい。
子として機能する官能基を有し、親水性支持体がアルミ
ニウム支持体であって、配位子として機能する官能基が
アルミニウムと錯体を形成することが好ましい。配位子
として機能する官能基の例には、一級アミノ基、二級ア
ミノ基、三級アミノ基、アンモニウム基、ピリジニウム
基、ホスホン酸基およびその塩、ホウ酸基およびその
塩、アセトアセチル基、フェノール性ヒドロキシル基、
エポキシ基およびシロキサン基が含まれる。配位子とし
て機能する官能基は、アンモニウム基、ピリジニウム
基、ホスホン酸基およびその塩、ホウ酸基およびその
塩、アセトアセチル基、フェノール性ヒドロキシル基、
エポキシ基およびシロキサン基が好ましく、アンモニウ
ム基、アセトアセチル基、フェノール性ヒドロキシル基
およびエポキシ基がさらに好ましい。
【0018】共有結合の場合、化学的活性コアが、以下
に述べる化学反応成分の一方を官能基として有し、別の
コア、親水性ポリマーおよび親水性支持体のいずれかが
他方を官能基として有す。化学的活性コアが、双方の基
を有していてもよい。
に述べる化学反応成分の一方を官能基として有し、別の
コア、親水性ポリマーおよび親水性支持体のいずれかが
他方を官能基として有す。化学的活性コアが、双方の基
を有していてもよい。
【0019】(A)活性エステルと活性水素を含む基と
の反応 活性エステルの例には、N−ヒドロキシフタルイミドエ
ステル、N−ヒドロキシこはく酸イミドエステル、p−
ニトロフェニルエステル、p−クロロフェニルエステ
ル、p−メトキシカルボニルフェニルエステル、p−ス
ルホニウムフェニルエステルおよびHCH(OCH3 )
COOCH3 が含まれる。活性水素を含む基の例には、
ヒドロキシル、一級アミノ基、二級アミノ基、チオー
ル、ヒドラジノ、ヒドラジドおよびアミドが含まれる。
の反応 活性エステルの例には、N−ヒドロキシフタルイミドエ
ステル、N−ヒドロキシこはく酸イミドエステル、p−
ニトロフェニルエステル、p−クロロフェニルエステ
ル、p−メトキシカルボニルフェニルエステル、p−ス
ルホニウムフェニルエステルおよびHCH(OCH3 )
COOCH3 が含まれる。活性水素を含む基の例には、
ヒドロキシル、一級アミノ基、二級アミノ基、チオー
ル、ヒドラジノ、ヒドラジドおよびアミドが含まれる。
【0020】(B)酸無水物と活性水素を含む基との反
応 (C)酸ハロゲン化物と活性水素を含む基との反応
応 (C)酸ハロゲン化物と活性水素を含む基との反応
【0021】(D)求核反応により脱離する基と求核性
基との反応 求核反応により脱離する基の例には、ハロゲン原子、ア
ルキルスルホニルオキシ基、アリールスルホニルオキシ
基およびアジド基が含まれる。求核性基の例には、ヒド
ロキシル、アミノ、チオール、ヒドラジノ、ヒドラジ
ド、アミド、スルフィドおよびホスフィノが含まれる。
基との反応 求核反応により脱離する基の例には、ハロゲン原子、ア
ルキルスルホニルオキシ基、アリールスルホニルオキシ
基およびアジド基が含まれる。求核性基の例には、ヒド
ロキシル、アミノ、チオール、ヒドラジノ、ヒドラジ
ド、アミド、スルフィドおよびホスフィノが含まれる。
【0022】(E)環内に不飽和結合を有する複素環基
とカルボニル基との縮合反応 環内に不飽和結合を有する複素環の例には、N−アルキ
ルインドール、N−アルキルピロール、N−アルキルイ
ミダゾール、フランおよびオキサゾールが含まれる。
とカルボニル基との縮合反応 環内に不飽和結合を有する複素環の例には、N−アルキ
ルインドール、N−アルキルピロール、N−アルキルイ
ミダゾール、フランおよびオキサゾールが含まれる。
【0023】(F)環内に不飽和結合を有する複素環基
とアセタール基との縮合反応 (G)オルト位に活性水素を有するフェノール基とオル
ト位またはパラ位にヒドロキシメチル基を有するフェノ
ール基との縮合反応 (H)オルト位に活性水素を有するフェノール基とオル
ト位またはパラ位にヒドロキシメチル基を有するアニリ
ン基との縮合反応
とアセタール基との縮合反応 (G)オルト位に活性水素を有するフェノール基とオル
ト位またはパラ位にヒドロキシメチル基を有するフェノ
ール基との縮合反応 (H)オルト位に活性水素を有するフェノール基とオル
ト位またはパラ位にヒドロキシメチル基を有するアニリ
ン基との縮合反応
【0024】(I)カルボキシル基とN−メチロール基
との縮合反応 (J)カルボキシル基とN−アルコキシメチル基との縮
合反応 (K)カルボキシル基とカルボキシル基との縮合反応 (L)カルボキシル基と活性水素を含む基との縮合反応 (M)活性水素を含む基とN−メチロール基との縮合反
応
との縮合反応 (J)カルボキシル基とN−アルコキシメチル基との縮
合反応 (K)カルボキシル基とカルボキシル基との縮合反応 (L)カルボキシル基と活性水素を含む基との縮合反応 (M)活性水素を含む基とN−メチロール基との縮合反
応
【0025】(N)活性水素を含む基とN−アルコキシ
メチル基との縮合反応 (O)カルボニル基とヒドラジドとの縮合反応 (P)一級アミノ、ヒドラジノ、ケチミンまたはエステ
ルと活性水素原子を含む基との縮合反応 (Q)ジアゾ基と活性メチレン基との反応
メチル基との縮合反応 (O)カルボニル基とヒドラジドとの縮合反応 (P)一級アミノ、ヒドラジノ、ケチミンまたはエステ
ルと活性水素原子を含む基との縮合反応 (Q)ジアゾ基と活性メチレン基との反応
【0026】(R)環状エーテル基と求核性基との反応
環状エーテル基の例には、エポキシ、オキセタンおよび
テトラヒドロフランが含まれる。求核性基の例には、ヒ
ドロキシル、アミノ、カルボキシル、チオール、ヒドラ
ジノ、ヒドラジド、アミド、スルフィドおよびホスフィ
ノが含まれる。
テトラヒドロフランが含まれる。求核性基の例には、ヒ
ドロキシル、アミノ、カルボキシル、チオール、ヒドラ
ジノ、ヒドラジド、アミド、スルフィドおよびホスフィ
ノが含まれる。
【0027】(S)ビニルエーテルとヒドロキシルまた
はカルボキシルとの反応 (T)ジエンとジエノフィルとのディールス−アルダー
反応 (U)エノンと求核性基とのマイケル付加反応 エノンの例には、アクリロイルおよびメタクリロイルが
含まれる。求核性基の例には、ヒドロキシル、アミノ、
カルボキシル、チオール、ヒドラジノ、ヒドラジド、ア
ミド、スルフィドおよびホスフィノが含まれる。 (V)イソシアネートと活性水素を含む基との反応 活性水素を含む基の例には、ヒドロキシル、一級アミノ
基、二級アミノ基、チオール、ヒドラジノ、ヒドラジド
およびアミドが含まれる。
はカルボキシルとの反応 (T)ジエンとジエノフィルとのディールス−アルダー
反応 (U)エノンと求核性基とのマイケル付加反応 エノンの例には、アクリロイルおよびメタクリロイルが
含まれる。求核性基の例には、ヒドロキシル、アミノ、
カルボキシル、チオール、ヒドラジノ、ヒドラジド、ア
ミド、スルフィドおよびホスフィノが含まれる。 (V)イソシアネートと活性水素を含む基との反応 活性水素を含む基の例には、ヒドロキシル、一級アミノ
基、二級アミノ基、チオール、ヒドラジノ、ヒドラジド
およびアミドが含まれる。
【0028】好ましい反応は、(A)活性エステルと活
性水素を含む基との反応、(D)求核反応により脱離す
る基と求核性基との反応、(E)環内に不飽和結合を有
する複素環基とカルボニル基との縮合反応、(F)環内
に不飽和結合を有する複素環基とアセタール基との縮合
反応、(G)オルト位に活性水素を有するフェノール基
とオルト位またはパラ位にヒドロキシメチル基を有する
フェノール基との縮合反応、(H)オルト位に活性水素
を有するフェノール基とオルト位またはパラ位にヒドロ
キシメチル基を有するアニリン基との縮合反応、(I)
カルボキシル基とN−メチロール基との縮合反応、
(J)カルボキシル基とN−アルコキシメチル基との縮
合反応、(M)活性水素を含む基とN−メチロール基と
の縮合反応、(N)活性水素を含む基とN−アルコキシ
メチル基との縮合反応、(O)カルボニル基とヒドラジ
ドとの縮合反応、(Q)ジアゾ基と活性メチレン基との
反応、(R)環状エーテル基と求核性基との反応、
(T)ジエンとジエノフィルとのディールス−アルダー
反応、および(V)イソシアネートと活性水素を含む基
との反応である。
性水素を含む基との反応、(D)求核反応により脱離す
る基と求核性基との反応、(E)環内に不飽和結合を有
する複素環基とカルボニル基との縮合反応、(F)環内
に不飽和結合を有する複素環基とアセタール基との縮合
反応、(G)オルト位に活性水素を有するフェノール基
とオルト位またはパラ位にヒドロキシメチル基を有する
フェノール基との縮合反応、(H)オルト位に活性水素
を有するフェノール基とオルト位またはパラ位にヒドロ
キシメチル基を有するアニリン基との縮合反応、(I)
カルボキシル基とN−メチロール基との縮合反応、
(J)カルボキシル基とN−アルコキシメチル基との縮
合反応、(M)活性水素を含む基とN−メチロール基と
の縮合反応、(N)活性水素を含む基とN−アルコキシ
メチル基との縮合反応、(O)カルボニル基とヒドラジ
ドとの縮合反応、(Q)ジアゾ基と活性メチレン基との
反応、(R)環状エーテル基と求核性基との反応、
(T)ジエンとジエノフィルとのディールス−アルダー
反応、および(V)イソシアネートと活性水素を含む基
との反応である。
【0029】さらに好ましい反応は、(A)活性エステ
ルと活性水素を含む基との反応、(D)求核反応により
脱離する基と求核性基との反応、(E)環内に不飽和結
合を有する複素環基とカルボニル基との縮合反応、
(F)環内に不飽和結合を有する複素環基とアセタール
基との縮合反応、(I)カルボキシル基とN−メチロー
ル基との縮合反応、(J)カルボキシル基とN−アルコ
キシメチル基との縮合反応、(M)活性水素を含む基と
N−メチロール基との縮合反応、(N)活性水素を含む
基とN−アルコキシメチル基との縮合反応、(O)カル
ボニル基とヒドラジドとの縮合反応、および(T)ジエ
ンとジエノフィルとのディールス−アルダー反応であ
る。最も好ましい反応は、(A)活性エステルと活性水
素を含む基との反応、(I)カルボキシル基とN−メチ
ロール基との縮合反応、(J)カルボキシル基とN−ア
ルコキシメチル基との縮合反応、(M)活性水素を含む
基とN−メチロール基との縮合反応、(N)活性水素を
含む基とN−アルコキシメチル基との縮合反応、(O)
カルボニル基とヒドラジドとの縮合反応、および(T)
ジエンとジエノフィルとのディールス−アルダー反応で
ある。
ルと活性水素を含む基との反応、(D)求核反応により
脱離する基と求核性基との反応、(E)環内に不飽和結
合を有する複素環基とカルボニル基との縮合反応、
(F)環内に不飽和結合を有する複素環基とアセタール
基との縮合反応、(I)カルボキシル基とN−メチロー
ル基との縮合反応、(J)カルボキシル基とN−アルコ
キシメチル基との縮合反応、(M)活性水素を含む基と
N−メチロール基との縮合反応、(N)活性水素を含む
基とN−アルコキシメチル基との縮合反応、(O)カル
ボニル基とヒドラジドとの縮合反応、および(T)ジエ
ンとジエノフィルとのディールス−アルダー反応であ
る。最も好ましい反応は、(A)活性エステルと活性水
素を含む基との反応、(I)カルボキシル基とN−メチ
ロール基との縮合反応、(J)カルボキシル基とN−ア
ルコキシメチル基との縮合反応、(M)活性水素を含む
基とN−メチロール基との縮合反応、(N)活性水素を
含む基とN−アルコキシメチル基との縮合反応、(O)
カルボニル基とヒドラジドとの縮合反応、および(T)
ジエンとジエノフィルとのディールス−アルダー反応で
ある。
【0030】コアは、以上述べたような化学的に活性な
官能基を有する化合物からなる。コアは、化学的に活性
な官能基を有するポリマーであることが好ましく、化学
的に活性な官能基を側鎖に有するポリマーであることが
さらに好ましい。ポリマーの主鎖は、炭化水素(ポリオ
レフィン)、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、
ポリウレア、ポリウレタン、ポリエーテルおよびそれら
の組み合わせから選ばれることが好ましい。炭化水素主
鎖が特に好ましい。化学的に活性な官能基は、主鎖に直
結することができる。ただし、化学的に活性な官能基
は、連結基を介して、主鎖に結合する方が好ましい。
官能基を有する化合物からなる。コアは、化学的に活性
な官能基を有するポリマーであることが好ましく、化学
的に活性な官能基を側鎖に有するポリマーであることが
さらに好ましい。ポリマーの主鎖は、炭化水素(ポリオ
レフィン)、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、
ポリウレア、ポリウレタン、ポリエーテルおよびそれら
の組み合わせから選ばれることが好ましい。炭化水素主
鎖が特に好ましい。化学的に活性な官能基は、主鎖に直
結することができる。ただし、化学的に活性な官能基
は、連結基を介して、主鎖に結合する方が好ましい。
【0031】ポリマーの主鎖は、化学的に活性な官能基
以外にも置換基を有することができる。置換基の例に
は、ハロゲン原子(F、Cl、Br、I)、ヒドロキシ
ル、カルボキシル、スルホ、シアノ、一価の脂肪族基、
一価の芳香族基、一価の複素環基、−O−R、−CO−
R、−NH−R、−N(−R)2 、−N+ (−R)3 、
−CO−O−R、−O−CO−R、−CO−NH−R、
−CO−N(−R)2 および−NH−CO−Rが含まれ
る。上記Rは、それぞれ、一価の脂肪族基、一価の芳香
族基または一価の複素環基である。置換基が複数のRが
含む場合、複数のRは互いに異なってもよい。カルボキ
シルおよびスルホは、水素原子が解離していても、塩の
状態になっていてもよい。主鎖の複数の置換基が結合し
て、脂肪族環または複素環を形成してもよい。形成され
る環は、主鎖とスピロ結合の関係になっていてもよい。
形成される環は、置換基を有していてもよい。置換基の
例には、上記主鎖の置換基に加えて、オキソ(=O)が
含まれる。また、主鎖の複数の置換基が結合して、架橋
構造を形成してもよい。
以外にも置換基を有することができる。置換基の例に
は、ハロゲン原子(F、Cl、Br、I)、ヒドロキシ
ル、カルボキシル、スルホ、シアノ、一価の脂肪族基、
一価の芳香族基、一価の複素環基、−O−R、−CO−
R、−NH−R、−N(−R)2 、−N+ (−R)3 、
−CO−O−R、−O−CO−R、−CO−NH−R、
−CO−N(−R)2 および−NH−CO−Rが含まれ
る。上記Rは、それぞれ、一価の脂肪族基、一価の芳香
族基または一価の複素環基である。置換基が複数のRが
含む場合、複数のRは互いに異なってもよい。カルボキ
シルおよびスルホは、水素原子が解離していても、塩の
状態になっていてもよい。主鎖の複数の置換基が結合し
て、脂肪族環または複素環を形成してもよい。形成され
る環は、主鎖とスピロ結合の関係になっていてもよい。
形成される環は、置換基を有していてもよい。置換基の
例には、上記主鎖の置換基に加えて、オキソ(=O)が
含まれる。また、主鎖の複数の置換基が結合して、架橋
構造を形成してもよい。
【0032】脂肪族基は、環状構造または分岐構造を有
していてもよい。脂肪族基は、不飽和結合を有していて
もよい。脂肪族基の炭素原子数は、1乃至40であるこ
とが好ましく、1乃至30であることがより好ましく、
1乃至20であることがさらに好ましく、1乃至15で
あることがさらにまた好ましく、1乃至12であること
が最も好ましい。脂肪族基は、置換基を有していてもよ
い。脂肪族基の置換基の例には、ハロゲン原子(F、C
l、Br、I)、ヒドロキシル、カルボキシル、スル
ホ、シアノ、一価の芳香族基、一価の複素環基、−O−
R、−CO−R、−NH−R、−N(−R)2 、−N+
(−R)3 、−CO−O−R、−O−CO−R、−CO
−NH−R、−CO−N(−R)2 および−NH−CO
−Rが含まれる。上記Rは、それぞれ、一価の脂肪族
基、一価の芳香族基または一価の複素環基である。カル
ボキシルおよびスルホは、水素原子が解離していても、
塩の状態になっていてもよい。
していてもよい。脂肪族基は、不飽和結合を有していて
もよい。脂肪族基の炭素原子数は、1乃至40であるこ
とが好ましく、1乃至30であることがより好ましく、
1乃至20であることがさらに好ましく、1乃至15で
あることがさらにまた好ましく、1乃至12であること
が最も好ましい。脂肪族基は、置換基を有していてもよ
い。脂肪族基の置換基の例には、ハロゲン原子(F、C
l、Br、I)、ヒドロキシル、カルボキシル、スル
ホ、シアノ、一価の芳香族基、一価の複素環基、−O−
R、−CO−R、−NH−R、−N(−R)2 、−N+
(−R)3 、−CO−O−R、−O−CO−R、−CO
−NH−R、−CO−N(−R)2 および−NH−CO
−Rが含まれる。上記Rは、それぞれ、一価の脂肪族
基、一価の芳香族基または一価の複素環基である。カル
ボキシルおよびスルホは、水素原子が解離していても、
塩の状態になっていてもよい。
【0033】芳香族基は、ベンゼン環またはナフタレン
環を有することが好ましい。芳香族基は、置換基を有し
ていてもよい。芳香族基の置換基の例には、ハロゲン原
子(F、Cl、Br、I)、ヒドロキシル、カルボキシ
ル、スルホ、シアノ、一価の脂肪族基、一価の芳香族
基、一価の複素環基、−O−R、−CO−R、−NH−
R、−N(−R)2 、−N+ (−R)3 、−CO−O−
R、−O−CO−R、−CO−NH−R、−CO−N
(−R)2 および−NH−CO−Rが含まれる。上記R
は、それぞれ、一価の脂肪族基、一価の芳香族基または
一価の複素環基である。カルボキシルおよびスルホは、
水素原子が解離していても、塩の状態になっていてもよ
い。複素環基は、3員環乃至7員環を有することが好ま
しい。複素環は、不飽和結合を有していてもよい。複素
環の例には、ピペリジン環およびピペラジン環が含まれ
る。複素環基は、置換基を有していてもよい。複素環基
の置換基は、芳香族基の置換基と同様である。
環を有することが好ましい。芳香族基は、置換基を有し
ていてもよい。芳香族基の置換基の例には、ハロゲン原
子(F、Cl、Br、I)、ヒドロキシル、カルボキシ
ル、スルホ、シアノ、一価の脂肪族基、一価の芳香族
基、一価の複素環基、−O−R、−CO−R、−NH−
R、−N(−R)2 、−N+ (−R)3 、−CO−O−
R、−O−CO−R、−CO−NH−R、−CO−N
(−R)2 および−NH−CO−Rが含まれる。上記R
は、それぞれ、一価の脂肪族基、一価の芳香族基または
一価の複素環基である。カルボキシルおよびスルホは、
水素原子が解離していても、塩の状態になっていてもよ
い。複素環基は、3員環乃至7員環を有することが好ま
しい。複素環は、不飽和結合を有していてもよい。複素
環の例には、ピペリジン環およびピペラジン環が含まれ
る。複素環基は、置換基を有していてもよい。複素環基
の置換基は、芳香族基の置換基と同様である。
【0034】ポリマーが炭化水素主鎖を有する場合、ポ
リマーは、下記(I)で表される化学的に活性な官能基
を含む繰り返し単位を有することが好ましい。
リマーは、下記(I)で表される化学的に活性な官能基
を含む繰り返し単位を有することが好ましい。
【0035】
【化1】
【0036】式(I)において、R1 は、水素原子、炭
素原子数が1乃至10のアルキル基、カルボキシルまた
は炭素原子数が2乃至11のアルコキシカルボニル基で
ある。R1 は、水素原子、炭素原子数が1乃至6のアル
キル基、カルボキシルまたは炭素原子数が2乃至7のア
ルコキシカルボニル基であることが好ましく、水素原
子、炭素原子数が1乃至3のアルキル基、カルボキシル
または炭素原子数が2乃至4のアルコキシカルボニル基
であることがより好ましく、水素原子または炭素原子数
が1乃至3のアルキル基であることがさらに好ましく、
水素原子またはメチルであることが最も好ましい。
素原子数が1乃至10のアルキル基、カルボキシルまた
は炭素原子数が2乃至11のアルコキシカルボニル基で
ある。R1 は、水素原子、炭素原子数が1乃至6のアル
キル基、カルボキシルまたは炭素原子数が2乃至7のア
ルコキシカルボニル基であることが好ましく、水素原
子、炭素原子数が1乃至3のアルキル基、カルボキシル
または炭素原子数が2乃至4のアルコキシカルボニル基
であることがより好ましく、水素原子または炭素原子数
が1乃至3のアルキル基であることがさらに好ましく、
水素原子またはメチルであることが最も好ましい。
【0037】式(I)において、L1 は、単結合または
二価の連結基である。L1 は、脂肪族基、芳香族基、複
素環基、−O−、−S−、−CO−、−CS−、−NH
−およびそれらの組み合わせからなる二価の連結基であ
ることがさらに好ましい。脂肪族基、芳香族基および複
素環基の定義および例は、前述した通りである。式
(I)において、Xは、化学的に活性な官能基である。
二価の連結基である。L1 は、脂肪族基、芳香族基、複
素環基、−O−、−S−、−CO−、−CS−、−NH
−およびそれらの組み合わせからなる二価の連結基であ
ることがさらに好ましい。脂肪族基、芳香族基および複
素環基の定義および例は、前述した通りである。式
(I)において、Xは、化学的に活性な官能基である。
【0038】コアに用いるポリマーとして、化学的に活
性な官能基を含む繰り返し単位のみからなるホモポリマ
ーを用いることができる。また、化学的に活性な官能基
を含む繰り返し単位が二種類以上からなるコポリマーを
用いることができる。化学的に活性な官能基を含む繰り
返し単位と化学的に活性な官能基を含まない繰り返し単
位とのコポリマーを用いることもできる。以下に、ポリ
マーを構成する繰り返し単位の例を示す。
性な官能基を含む繰り返し単位のみからなるホモポリマ
ーを用いることができる。また、化学的に活性な官能基
を含む繰り返し単位が二種類以上からなるコポリマーを
用いることができる。化学的に活性な官能基を含む繰り
返し単位と化学的に活性な官能基を含まない繰り返し単
位とのコポリマーを用いることもできる。以下に、ポリ
マーを構成する繰り返し単位の例を示す。
【0039】
【化2】
【0040】
【化3】
【0041】
【化4】
【0042】
【化5】
【0043】
【化6】
【0044】
【化7】
【0045】
【化8】
【0046】
【化9】
【0047】
【化10】
【0048】
【化11】
【0049】
【化12】
【0050】
【化13】
【0051】
【化14】
【0052】
【化15】
【0053】
【化16】
【0054】
【化17】
【0055】
【化18】
【0056】
【化19】
【0057】
【化20】
【0058】
【化21】
【0059】
【化22】
【0060】
【化23】
【0061】
【化24】
【0062】
【化25】
【0063】
【化26】
【0064】
【化27】
【0065】
【化28】
【0066】
【化29】
【0067】
【化30】
【0068】
【化31】
【0069】
【化32】
【0070】
【化33】
【0071】
【化34】
【0072】
【化35】
【0073】
【化36】
【0074】
【化37】
【0075】
【化38】
【0076】
【化39】
【0077】
【化40】
【0078】
【化41】
【0079】
【化42】
【0080】
【化43】
【0081】
【化44】
【0082】
【化45】
【0083】
【化46】
【0084】
【化47】
【0085】
【化48】
【0086】
【化49】
【0087】
【化50】
【0088】
【化51】
【0089】
【化52】
【0090】
【化53】
【0091】
【化54】
【0092】
【化55】
【0093】
【化56】
【0094】
【化57】
【0095】
【化58】
【0096】
【化59】
【0097】
【化60】
【0098】
【化61】
【0099】
【化62】
【0100】
【化63】
【0101】
【化64】
【0102】
【化65】
【0103】
【化66】
【0104】
【化67】
【0105】
【化68】
【0106】
【化69】
【0107】
【化70】
【0108】
【化71】
【0109】
【化72】
【0110】
【化73】
【0111】
【化74】
【0112】化学的に活性な官能基を含む繰り返し単位
繰り返し単位と化学的に活性な官能基を含まない繰り返
し単位とを組み合わせる場合、化学的に活性な官能基を
含む繰り返し単位/化学的に活性な官能基を含まない繰
り返し単位の割合は、モル比で、0.1/99.9乃至
99.8/0.2であることが好ましく、0.2/9
9.8乃至99/1であることがより好ましく、0.5
/99.5乃至95/5であることがさらに好ましく、
1/99乃至80/20であることがさらにまた好まし
く、2/98乃至49/51であることが最も好まし
い。以下に、コポリマーの例を示す。かっこ内の番号
は、繰り返し単位の例示番号に相当する。繰り返し単位
の割合は、モル比(%)である。
繰り返し単位と化学的に活性な官能基を含まない繰り返
し単位とを組み合わせる場合、化学的に活性な官能基を
含む繰り返し単位/化学的に活性な官能基を含まない繰
り返し単位の割合は、モル比で、0.1/99.9乃至
99.8/0.2であることが好ましく、0.2/9
9.8乃至99/1であることがより好ましく、0.5
/99.5乃至95/5であることがさらに好ましく、
1/99乃至80/20であることがさらにまた好まし
く、2/98乃至49/51であることが最も好まし
い。以下に、コポリマーの例を示す。かっこ内の番号
は、繰り返し単位の例示番号に相当する。繰り返し単位
の割合は、モル比(%)である。
【0113】
CP−1: −(9)25− −(201)75−
CP−2: −(4)30− −(102)70−
CP−3: −(8)25− −(19)75−
CP−4: −(8)50− −(201)50−
CP−5: −(17)20− −(20)80−
CP−6: −(8)50− −(17)50−
CP−7: −(8)50− −(21)50−
CP−8: −(8)50− −(22)50−
CP−9: −(23)60− −(136)40−
CP−10: −(8)20− −(135)80−
【0114】
CP−11: −(24)20− −(243)80−
CP−12: −(1)30− −(201)70−
CP−13: −(26)30− −(201)70−
CP−14: −(27)30− −(201)70−
CP−15: −(34)95− −(35)5 −
CP−16:−(102)40− −(209)60−
CP−17:−(101)80− −(103)20−
CP−18: −(9)25− −(201)75−
CP−19: −(40)50− −(248)50−
CP−20: −(41)50− −(201)50−
【0115】
CP−21:−(243)80− −(248)20−
CP−22:−(104)80− −(211)20−
CP−23: −(43)30− −(201)70−
CP−24: −(44)30− −(202)70−
CP−25: −(48)50− −(110)50−
CP−26: −(50)50− −(51)50−
CP−27: −(52)20− −(201)80−
CP−28: −(53)25− −(120)75−
CP−29: −(54)25− −(101)75−
CP−30: −(1)20− −(201)80−
【0116】
CP−31: −(13)30− −(201)70−
CP−32: −(56)50− −(110)50−
CP−33: −(57)80− −(201)20−
CP−34: −(58)50− −(201)50−
CP−35: −(59)50− −(104)50−
CP−36: −(60)50− −(61)50−
CP−37: −(62)50− −(201)50−
CP−38: −(51)20− −(63)80−
CP−39: −(40)50− −(110)50−
CP−40: −(64)30− −(201)70−
【0117】
CP−41: −(65)80− −(201)20−
CP−42: −(66)50− −(104)50−
CP−43: −(67)50− −(68)50−
CP−44: −(8)80− −(109)20−
CP−45: −(69)80− −(70)20−
CP−46: −(71)50− −(110)50−
CP−47: −(72)80− −(201)20−
CP−48: −(61)50− −(73)50−
CP−49: −(76)20− −(201)80−
CP−50: −(75)25− −(201)75−
CP−51: −(77)20− −(201)80−
【0118】コアに用いるポリマーは、前述した繰り返
し単位に対応するモノマー(一般に、エチレン性不飽和
モノマー)の重合反応(ラジカル重合反応)によって合
成できる。化学的に活性な官能基は、主鎖ポリマーの合
成後に導入してもよい。コアに用いるポリマーは、架橋
構造を有していてもよい。架橋構造は、多官能モノマー
(例えば、エチレン性不飽和基を2個以上有するモノマ
ー)を用いることで、ポリマーに導入できる。多官能モ
ノマーの例には、エチレングリコールジメタクリレート
およびジビニルベンゼンが含まれる。コアに用いる架橋
ポリマーは、80乃至200℃の軟化温度を有すること
が好ましい。重合は、乳化重合反応であることが好まし
い。乳化重合反応であると、ポリマーの合成と同時にコ
ア微粒子を形成することができる。乳化重合反応は、ラ
テックスの製造に一般に用いられている反応条件を採用
すればよい。均質な微粒子を形成するため、乳化重合反
応において界面活性剤を使用することが好ましい。界面
活性剤は、アニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤、
ノニオン界面活性剤および両性界面活性剤に分類され
る。
し単位に対応するモノマー(一般に、エチレン性不飽和
モノマー)の重合反応(ラジカル重合反応)によって合
成できる。化学的に活性な官能基は、主鎖ポリマーの合
成後に導入してもよい。コアに用いるポリマーは、架橋
構造を有していてもよい。架橋構造は、多官能モノマー
(例えば、エチレン性不飽和基を2個以上有するモノマ
ー)を用いることで、ポリマーに導入できる。多官能モ
ノマーの例には、エチレングリコールジメタクリレート
およびジビニルベンゼンが含まれる。コアに用いる架橋
ポリマーは、80乃至200℃の軟化温度を有すること
が好ましい。重合は、乳化重合反応であることが好まし
い。乳化重合反応であると、ポリマーの合成と同時にコ
ア微粒子を形成することができる。乳化重合反応は、ラ
テックスの製造に一般に用いられている反応条件を採用
すればよい。均質な微粒子を形成するため、乳化重合反
応において界面活性剤を使用することが好ましい。界面
活性剤は、アニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤、
ノニオン界面活性剤および両性界面活性剤に分類され
る。
【0119】アニオン性界面活性剤の例には、カルボン
酸塩(例、ラウリン酸カリウム、オレイン酸ナトリウ
ム)、硫酸エステル塩(例、オクチル硫酸ナトリウム、
ドデシル硫酸ナトリウム)、スルホン酸塩(例、ドデシ
ルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ジオクチルスルホこ
はく酸ナトリウム)およびリン酸エステル塩(例、ラウ
リルリン酸ナトリウム)が含まれる。アニオン性界面活
性剤は、アニオン性基に加えてノニオン親水性基を有し
ていてもよい。ノニオン親水性基を有するアニオン性界
面活性剤の例には、ポリエチレングリコール硫酸エステ
ル塩(例、2,4,6−トリ(sec-ブチル)フェニルポ
リエチレングリコールエーテル硫酸ナトリウム、ドデシ
ルポリエチレングリコールエーテル硫酸ナトリウム、オ
クチルポリエチレングリコールエーテル硫酸ナトリウ
ム、ヘプタデシルポリエチレングリコールエーテル硫酸
ナトリウム、ポリエチレングリコールポリプロピレング
リコールポリエチレングリコールエーテル硫酸アンモニ
ウム)、ポリエチレングリコールスルホン酸塩(例、p
−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)フェニルポ
リエチレングリコールスルホン酸ナトリウム、ドデシル
ポリエチレングリコールエーテルスルホこはく酸ジナト
リウム)およびポリエチレングリコールリン酸エステル
(例、ドデシルポリエチレングリコールエステルホスフ
ェート、ジ(ドデシルポリエチレングリコールエステ
ル)ホスフェート)が含まれる。
酸塩(例、ラウリン酸カリウム、オレイン酸ナトリウ
ム)、硫酸エステル塩(例、オクチル硫酸ナトリウム、
ドデシル硫酸ナトリウム)、スルホン酸塩(例、ドデシ
ルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ジオクチルスルホこ
はく酸ナトリウム)およびリン酸エステル塩(例、ラウ
リルリン酸ナトリウム)が含まれる。アニオン性界面活
性剤は、アニオン性基に加えてノニオン親水性基を有し
ていてもよい。ノニオン親水性基を有するアニオン性界
面活性剤の例には、ポリエチレングリコール硫酸エステ
ル塩(例、2,4,6−トリ(sec-ブチル)フェニルポ
リエチレングリコールエーテル硫酸ナトリウム、ドデシ
ルポリエチレングリコールエーテル硫酸ナトリウム、オ
クチルポリエチレングリコールエーテル硫酸ナトリウ
ム、ヘプタデシルポリエチレングリコールエーテル硫酸
ナトリウム、ポリエチレングリコールポリプロピレング
リコールポリエチレングリコールエーテル硫酸アンモニ
ウム)、ポリエチレングリコールスルホン酸塩(例、p
−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)フェニルポ
リエチレングリコールスルホン酸ナトリウム、ドデシル
ポリエチレングリコールエーテルスルホこはく酸ジナト
リウム)およびポリエチレングリコールリン酸エステル
(例、ドデシルポリエチレングリコールエステルホスフ
ェート、ジ(ドデシルポリエチレングリコールエステ
ル)ホスフェート)が含まれる。
【0120】カチオン性界面活性剤の例には、アミン塩
(例、ラウリルアミン硫酸塩、ステアリルアミン硫酸
塩)、ピリジニウム塩(例、セチルピリジニウムクロラ
イド)および4級アンモニウム塩(例、ラウリルトリメ
チルアンモニウムクロライド、ラウロイルアミノプロピ
ルジメチルヒドロキシエチルアンモニウムパークロレイ
ト)が含まれる。カチオン性界面活性剤は、カチオン性
基に加えてノニオン親水性基を有していてもよい。ノニ
オン親水性基を有するカチオン性界面活性剤の例には、
ポリエチレングリコール4級アンモニウム塩(例、メチ
ルヘプタデシルジ(ポリエチレングリコール)アンモニ
ウムクロライド)が含まれる。
(例、ラウリルアミン硫酸塩、ステアリルアミン硫酸
塩)、ピリジニウム塩(例、セチルピリジニウムクロラ
イド)および4級アンモニウム塩(例、ラウリルトリメ
チルアンモニウムクロライド、ラウロイルアミノプロピ
ルジメチルヒドロキシエチルアンモニウムパークロレイ
ト)が含まれる。カチオン性界面活性剤は、カチオン性
基に加えてノニオン親水性基を有していてもよい。ノニ
オン親水性基を有するカチオン性界面活性剤の例には、
ポリエチレングリコール4級アンモニウム塩(例、メチ
ルヘプタデシルジ(ポリエチレングリコール)アンモニ
ウムクロライド)が含まれる。
【0121】ノニオン界面活性剤の例には、ソルビタン
エステル(例、ソルビタンモノラウレート、ソルビタン
モノステアレート)、ポリエチレングリコールエーテル
(例、ポリエチレングリコールドデシルエーテル、ポリ
エチレングリコールトリデシルエーテル、ポリエチレン
グリコールヘキサデシルエーテル、ポリエチレングリコ
ールオクタデシルエーテル、ポリエチレングリコールオ
クタデセニルエーテル、ポリエチレングリコールノニル
フェニルエーテル、ポリエチレングリコールオクチルフ
ェニルエーテル、ポリエチレングリコールポリ(トリメ
チレン)グリコールエーテル、ポリエチレングリコール
ポリプロピレングリコールエチニルエーテル、ポリエチ
レングリコール・p−(1−イソブチル−3−メチルブ
チル)フェニルエーテル、ポリエチレングリコール・
2,4,6−トリ(sec-ブチル)フェニルエーテル、
2,4,7,9−テトラメチル−デカン−5−イン−
4,7−ジ(ポリエチレングリコール)エーテル)、ポ
リエチレングリコールエステル(例、ポリエチレングリ
コールラウレート、ポリエチレングリコールステアレー
ト、ポリエチレングリコールオレエート、ポリエチレン
グリコールジステアレート)、ソルビタンモノエステル
トリ(ポリエチレングリコール)エーテル(例、ソルビ
タン−6−ラウレート−2,3,4−トリ(ポリエチレ
ングリコール)エーテル、ソルビタン−6−ステアレー
ト−2,3,4−トリ(ポリエチレングリコール)エー
テル、ポリエチレングリコールアミン(例、ジ(ポリエ
チレングリコール)ドデシルアミン、ジ(ポリエチレン
グリコール)オクタデシルアミン)、ソルビトールポリ
エチレングリコールエーテル(例、ソルビトール−1,
2,3,4−テトラ(ポリエチレングリコールステアレ
ート)−5,6−ジ(ポリエチレングリコール)エーテ
ル)およびポリエチレングリコールアミド(例、N,N
−ジ(ポリエチレングリコール)ラウリルアミド、N,
N−ジ(ポリエチレングリコール)ステアリリルアミ
ド)が含まれる。
エステル(例、ソルビタンモノラウレート、ソルビタン
モノステアレート)、ポリエチレングリコールエーテル
(例、ポリエチレングリコールドデシルエーテル、ポリ
エチレングリコールトリデシルエーテル、ポリエチレン
グリコールヘキサデシルエーテル、ポリエチレングリコ
ールオクタデシルエーテル、ポリエチレングリコールオ
クタデセニルエーテル、ポリエチレングリコールノニル
フェニルエーテル、ポリエチレングリコールオクチルフ
ェニルエーテル、ポリエチレングリコールポリ(トリメ
チレン)グリコールエーテル、ポリエチレングリコール
ポリプロピレングリコールエチニルエーテル、ポリエチ
レングリコール・p−(1−イソブチル−3−メチルブ
チル)フェニルエーテル、ポリエチレングリコール・
2,4,6−トリ(sec-ブチル)フェニルエーテル、
2,4,7,9−テトラメチル−デカン−5−イン−
4,7−ジ(ポリエチレングリコール)エーテル)、ポ
リエチレングリコールエステル(例、ポリエチレングリ
コールラウレート、ポリエチレングリコールステアレー
ト、ポリエチレングリコールオレエート、ポリエチレン
グリコールジステアレート)、ソルビタンモノエステル
トリ(ポリエチレングリコール)エーテル(例、ソルビ
タン−6−ラウレート−2,3,4−トリ(ポリエチレ
ングリコール)エーテル、ソルビタン−6−ステアレー
ト−2,3,4−トリ(ポリエチレングリコール)エー
テル、ポリエチレングリコールアミン(例、ジ(ポリエ
チレングリコール)ドデシルアミン、ジ(ポリエチレン
グリコール)オクタデシルアミン)、ソルビトールポリ
エチレングリコールエーテル(例、ソルビトール−1,
2,3,4−テトラ(ポリエチレングリコールステアレ
ート)−5,6−ジ(ポリエチレングリコール)エーテ
ル)およびポリエチレングリコールアミド(例、N,N
−ジ(ポリエチレングリコール)ラウリルアミド、N,
N−ジ(ポリエチレングリコール)ステアリリルアミ
ド)が含まれる。
【0122】両性界面活性剤は、アニオン性基とカチオ
ン性基とを有する。両性界面活性剤の例には、ベダイン
エステル(例、ジメチルラウリルベダイン)が含まれ
る。
ン性基とを有する。両性界面活性剤の例には、ベダイン
エステル(例、ジメチルラウリルベダイン)が含まれ
る。
【0123】ノニオン界面活性剤、ノニオン性基を有す
るアニオン性界面活性剤およびノニオン性基を有するカ
チオン性界面活性剤が好ましい。二種類以上の界面活性
剤を併用してもよい。界面活性剤の使用量は、モノマー
の総量の0.01乃至10質量%であることが好まし
い。重合反応は、重合開始剤(連鎖移動剤)を用いるこ
とが好ましい。重合開始剤の使用量は、モノマーの総量
の0.05乃至10質量%であることが好ましい。
るアニオン性界面活性剤およびノニオン性基を有するカ
チオン性界面活性剤が好ましい。二種類以上の界面活性
剤を併用してもよい。界面活性剤の使用量は、モノマー
の総量の0.01乃至10質量%であることが好まし
い。重合反応は、重合開始剤(連鎖移動剤)を用いるこ
とが好ましい。重合開始剤の使用量は、モノマーの総量
の0.05乃至10質量%であることが好ましい。
【0124】コア微粒子の平均粒径は、12乃至150
nmであることが好ましく、16乃至125nmである
ことがさらに好ましい。粒子サイズ分布は、なるべく均
一であることが好ましい。コア微粒子を形成するポリマ
ーは、80乃至200℃の軟化温度を有することが好ま
しく、90乃至150℃の軟化温度を有することがさら
に好ましい。
nmであることが好ましく、16乃至125nmである
ことがさらに好ましい。粒子サイズ分布は、なるべく均
一であることが好ましい。コア微粒子を形成するポリマ
ーは、80乃至200℃の軟化温度を有することが好ま
しく、90乃至150℃の軟化温度を有することがさら
に好ましい。
【0125】[熱可塑性シェル]微粒子のシェルは、ポ
リマーからなることが好ましく、疎水性ポリマーからな
ることがさらに好ましい。シェルポリマーは、実質的に
架橋していないことが好ましい。「実質的に架橋してい
ない」とは、架橋構造を含む繰り返し単位の割合が、モ
ル比で0.1%未満であることを意味する。また、シェ
ルポリマーは、化学的に活性な官能基を実質的に含まな
いことが好ましい。「官能基を実質的に含まない」と
は、同様に、化学的に活性な官能基を含む繰り返し単位
の割合が、モル比で0.1%未満であることを意味す
る。
リマーからなることが好ましく、疎水性ポリマーからな
ることがさらに好ましい。シェルポリマーは、実質的に
架橋していないことが好ましい。「実質的に架橋してい
ない」とは、架橋構造を含む繰り返し単位の割合が、モ
ル比で0.1%未満であることを意味する。また、シェ
ルポリマーは、化学的に活性な官能基を実質的に含まな
いことが好ましい。「官能基を実質的に含まない」と
は、同様に、化学的に活性な官能基を含む繰り返し単位
の割合が、モル比で0.1%未満であることを意味す
る。
【0126】シェルポリマーは、60乃至150℃の軟
化点を有することが好ましく、80乃至130℃の軟化
点を有することがさらに好ましい。シェルポリマーの主
鎖は、炭化水素(ポリオレフィン)、ポリエステル、ポ
リアミド、ポリイミド、ポリウレア、ポリウレタン、ポ
リエーテルおよびそれらの組み合わせから選ばれること
が好ましい。炭化水素主鎖が特に好ましい。
化点を有することが好ましく、80乃至130℃の軟化
点を有することがさらに好ましい。シェルポリマーの主
鎖は、炭化水素(ポリオレフィン)、ポリエステル、ポ
リアミド、ポリイミド、ポリウレア、ポリウレタン、ポ
リエーテルおよびそれらの組み合わせから選ばれること
が好ましい。炭化水素主鎖が特に好ましい。
【0127】シェルポリマーの主鎖は、ポリマー全体が
疎水性である範囲内で、置換基を有することができる。
置換基の例には、ハロゲン原子(F、Cl、Br、
I)、シアノ、一価の脂肪族基、一価の芳香族基、一価
の複素環基、−O−R、−CO−R、−NH−R、−N
(−R)2 、−N+ (−R)3 、−CO−O−R、−O
−CO−R、−CO−NH−R、−CO−N(−R)2
および−NH−CO−Rが含まれる。上記Rは、それぞ
れ、一価の脂肪族基、一価の芳香族基または一価の複素
環基である。置換基が複数のRが含む場合、複数のRは
互いに異なってもよい。カルボキシル、スルホ、硫酸エ
ステル基、ホスホノおよびリン酸エステル基は、水素原
子が解離していても、塩の状態になっていてもよい。主
鎖の複数の置換基が結合して、脂肪族環または複素環を
形成してもよい。形成される環は、主鎖とスピロ結合の
関係になっていてもよい。形成される環は、置換基を有
していてもよい。置換基の例には、上記主鎖の置換基に
加えて、オキソ(=O)が含まれる。
疎水性である範囲内で、置換基を有することができる。
置換基の例には、ハロゲン原子(F、Cl、Br、
I)、シアノ、一価の脂肪族基、一価の芳香族基、一価
の複素環基、−O−R、−CO−R、−NH−R、−N
(−R)2 、−N+ (−R)3 、−CO−O−R、−O
−CO−R、−CO−NH−R、−CO−N(−R)2
および−NH−CO−Rが含まれる。上記Rは、それぞ
れ、一価の脂肪族基、一価の芳香族基または一価の複素
環基である。置換基が複数のRが含む場合、複数のRは
互いに異なってもよい。カルボキシル、スルホ、硫酸エ
ステル基、ホスホノおよびリン酸エステル基は、水素原
子が解離していても、塩の状態になっていてもよい。主
鎖の複数の置換基が結合して、脂肪族環または複素環を
形成してもよい。形成される環は、主鎖とスピロ結合の
関係になっていてもよい。形成される環は、置換基を有
していてもよい。置換基の例には、上記主鎖の置換基に
加えて、オキソ(=O)が含まれる。
【0128】シェルポリマーが炭化水素主鎖を有する場
合、シェルポリマーは、下記(II)で表される繰り返し
単位を有することが好ましい。
合、シェルポリマーは、下記(II)で表される繰り返し
単位を有することが好ましい。
【0129】
【化75】
【0130】式(II)において、R2 は、水素原子、炭
素原子数が1乃至10のアルキル基、カルボキシルまた
は炭素原子数が2乃至11のアルコキシカルボニル基で
ある。R2 は、水素原子、炭素原子数が1乃至6のアル
キル基、カルボキシルまたは炭素原子数が2乃至7のア
ルコキシカルボニル基であることが好ましく、水素原
子、炭素原子数が1乃至3のアルキル基、カルボキシル
または炭素原子数が2乃至4のアルコキシカルボニル基
であることがより好ましく、水素原子または炭素原子数
が1乃至3のアルキル基であることがさらに好ましく、
水素原子またはメチルであることが最も好ましい。式
(II)において、L2 は、−O−または−N(−R4 )
−である。式(II)において、R3 およびR4 は、それ
ぞれ独立に、脂肪族基、芳香族基または複素環基であ
る。脂肪族基、芳香族基および複素環基の定義および例
は、微粒子のコアで説明した通りである。
素原子数が1乃至10のアルキル基、カルボキシルまた
は炭素原子数が2乃至11のアルコキシカルボニル基で
ある。R2 は、水素原子、炭素原子数が1乃至6のアル
キル基、カルボキシルまたは炭素原子数が2乃至7のア
ルコキシカルボニル基であることが好ましく、水素原
子、炭素原子数が1乃至3のアルキル基、カルボキシル
または炭素原子数が2乃至4のアルコキシカルボニル基
であることがより好ましく、水素原子または炭素原子数
が1乃至3のアルキル基であることがさらに好ましく、
水素原子またはメチルであることが最も好ましい。式
(II)において、L2 は、−O−または−N(−R4 )
−である。式(II)において、R3 およびR4 は、それ
ぞれ独立に、脂肪族基、芳香族基または複素環基であ
る。脂肪族基、芳香族基および複素環基の定義および例
は、微粒子のコアで説明した通りである。
【0131】シェルポリマーの繰り返し単位の例は、微
粒子のコアで説明した繰り返し単位の例(101)〜
(140)および(201)〜(252)と同様であ
る。シェルポリマーとして、二種類以上の繰り返し単位
からなるコポリマーを用いることもできる。以下に、二
種類の繰り返し単位からなるコポリマーの例を示す。か
っこ内の番号は、微粒子のコアで説明した繰り返し単位
の例示番号に相当する。繰り返し単位の割合は、モル比
(%)である。
粒子のコアで説明した繰り返し単位の例(101)〜
(140)および(201)〜(252)と同様であ
る。シェルポリマーとして、二種類以上の繰り返し単位
からなるコポリマーを用いることもできる。以下に、二
種類の繰り返し単位からなるコポリマーの例を示す。か
っこ内の番号は、微粒子のコアで説明した繰り返し単位
の例示番号に相当する。繰り返し単位の割合は、モル比
(%)である。
【0132】
CP−101:−(102)70− −(110)30−
CP−102:−(102)80− −(104)20−
CP−103:−(102)60− −(112)40−
CP−104:−(102)95− −(140)5 −
CP−105:−(102)50− −(201)50−
CP−106:−(102)90− −(212)10−
CP−107:−(102)80− −(207)20−
CP−108:−(201)90− −(101)10−
CP−109:−(201)80− −(104)20−
CP−110:−(201)80− −(110)20−
【0133】
CP−111:−(201)90− −(112)10−
CP−112:−(201)90− −(139)10−
CP−113:−(201)95− −(126)5 −
CP−114:−(201)80− −(204)20−
CP−115:−(201)80− −(203)20−
CP−116:−(201)50− −(207)50−
CP−117:−(209)80− −(104)20−
CP−118:−(209)70− −(106)30−
CP−119:−(209)70− −(112)30−
CP−120:−(209)80− −(207)20−
【0134】シェルポリマーは、前述した繰り返し単位
に対応するモノマー(一般に、エチレン性不飽和モノマ
ー)の重合反応(ラジカル重合反応)によって合成でき
る。シェルは、重合反応によりコア微粒子上に直接形成
できる。均質な微粒子を形成するため、シェル形成にお
いては、コア形成と同様に界面活性剤を使用することが
好ましい。好ましい界面活性剤は、コア形成において説
明した界面活性剤と同様である。二種類以上の界面活性
剤を併用してもよい。界面活性剤の使用量は、モノマー
の総量の0.01乃至10質量%であることが好まし
い。重合反応は、重合開始剤(連鎖移動剤)を用いるこ
とが好ましい。重合開始剤の使用量は、モノマーの総量
の0.05乃至10質量%であることが好ましい。シェ
ルポリマーは、60乃至180℃の軟化温度を有するこ
とが好ましく、70乃至140℃の軟化温度を有するこ
とがさらに好ましい。また、シェルポリマーは、コア微
粒子を形成するポリマーの軟化温度よりも低い軟化温度
を有することも好ましい。
に対応するモノマー(一般に、エチレン性不飽和モノマ
ー)の重合反応(ラジカル重合反応)によって合成でき
る。シェルは、重合反応によりコア微粒子上に直接形成
できる。均質な微粒子を形成するため、シェル形成にお
いては、コア形成と同様に界面活性剤を使用することが
好ましい。好ましい界面活性剤は、コア形成において説
明した界面活性剤と同様である。二種類以上の界面活性
剤を併用してもよい。界面活性剤の使用量は、モノマー
の総量の0.01乃至10質量%であることが好まし
い。重合反応は、重合開始剤(連鎖移動剤)を用いるこ
とが好ましい。重合開始剤の使用量は、モノマーの総量
の0.05乃至10質量%であることが好ましい。シェ
ルポリマーは、60乃至180℃の軟化温度を有するこ
とが好ましく、70乃至140℃の軟化温度を有するこ
とがさらに好ましい。また、シェルポリマーは、コア微
粒子を形成するポリマーの軟化温度よりも低い軟化温度
を有することも好ましい。
【0135】コア/シェル構造微粒子の平均粒径は、6
0乃至300nmであることが好ましく、80乃至25
0nmであることがさらに好ましい。粒子サイズ分布
は、なるべく均一であることが好ましい。コア/シェル
の質量比は、0.01乃至5であることが好ましく、
0.03乃至4であることがさらに好ましい。二種類以
上のコア/シェル構造微粒子を混合して用いてもよい。
コア/シェル構造微粒子は、画像形成層に20乃至99
質量%含まれていることが好ましく、50乃至95質量
%含まれていることがさらに好ましく、60乃至90質
量%含まれていることが最も好ましい。
0乃至300nmであることが好ましく、80乃至25
0nmであることがさらに好ましい。粒子サイズ分布
は、なるべく均一であることが好ましい。コア/シェル
の質量比は、0.01乃至5であることが好ましく、
0.03乃至4であることがさらに好ましい。二種類以
上のコア/シェル構造微粒子を混合して用いてもよい。
コア/シェル構造微粒子は、画像形成層に20乃至99
質量%含まれていることが好ましく、50乃至95質量
%含まれていることがさらに好ましく、60乃至90質
量%含まれていることが最も好ましい。
【0136】[親水性ポリマー]親水性ポリマーは、画
像形成層において、コア/シェル構造微粒子のバインダ
ーとして機能させることが好ましい。親水性ポリマーの
親水性基としては、ヒドロキシル、カルボキシルまたは
アミノが好ましい。親水性ポリマーとしては、様々な天
然または半合成ポリマーあるいは合成ポリマーが使用で
きる。天然または半合成ポリマーとしては、多糖類
(例、アラビアゴム、澱粉誘導体、カルボキシメチルセ
ルロース、そのナトリウム塩、セルロースアセテート、
アルギン酸ナトリウム)またはタンパク質(例、カゼイ
ン、ゼラチン)を用いることができる。
像形成層において、コア/シェル構造微粒子のバインダ
ーとして機能させることが好ましい。親水性ポリマーの
親水性基としては、ヒドロキシル、カルボキシルまたは
アミノが好ましい。親水性ポリマーとしては、様々な天
然または半合成ポリマーあるいは合成ポリマーが使用で
きる。天然または半合成ポリマーとしては、多糖類
(例、アラビアゴム、澱粉誘導体、カルボキシメチルセ
ルロース、そのナトリウム塩、セルロースアセテート、
アルギン酸ナトリウム)またはタンパク質(例、カゼイ
ン、ゼラチン)を用いることができる。
【0137】ヒドロキシルを親水性基として有する合成
ポリマーの例には、ポリヒドロキシエチルメタクリレー
ト、ポリヒドロキシエチルアクリレート、ポリヒドロキ
シプロピルメタクリレート、ポリヒドロキシプロピルア
クリレート、ポリヒドロキシブチルメタクリレート、ポ
リヒドロキシブチルアクリレート、ポリアリルアルコー
ル、ポリビニルアルコールおよびポリ−N−メチロール
アクリルアミドが含まれる。カルボキシルを親水性基と
して有する合成ポリマーの例には、ポリマレイン酸、ポ
リアクリル酸、ポリメタクリル酸およびそれらの塩が含
まれる。その他の親水性基(例、アミノ、多数のエーテ
ル結合、親水性複素環基、アミド結合、スルホ)を有す
る合成ポリマーの例には、ポリエチレングリコール、ポ
リビニルホルマール、ポリビニルブチラール、ポリビニ
ルピロリドン、ポリアクリルアミド、ポリメタクリルア
ミドおよびポリ(2−アクリルアミド−2−メチルプロ
パンスルホン酸)およびその塩が含まれる。
ポリマーの例には、ポリヒドロキシエチルメタクリレー
ト、ポリヒドロキシエチルアクリレート、ポリヒドロキ
シプロピルメタクリレート、ポリヒドロキシプロピルア
クリレート、ポリヒドロキシブチルメタクリレート、ポ
リヒドロキシブチルアクリレート、ポリアリルアルコー
ル、ポリビニルアルコールおよびポリ−N−メチロール
アクリルアミドが含まれる。カルボキシルを親水性基と
して有する合成ポリマーの例には、ポリマレイン酸、ポ
リアクリル酸、ポリメタクリル酸およびそれらの塩が含
まれる。その他の親水性基(例、アミノ、多数のエーテ
ル結合、親水性複素環基、アミド結合、スルホ)を有す
る合成ポリマーの例には、ポリエチレングリコール、ポ
リビニルホルマール、ポリビニルブチラール、ポリビニ
ルピロリドン、ポリアクリルアミド、ポリメタクリルア
ミドおよびポリ(2−アクリルアミド−2−メチルプロ
パンスルホン酸)およびその塩が含まれる。
【0138】親水性合成ポリマーの繰り返し単位を二種
類以上有するコポリマーを用いてもよい。親水性合成ポ
リマーの繰り返し単位と、疎水性合成ポリマー(例、ポ
リ酢酸ビニル、ポリスチレン)の繰り返し単位とを含む
コポリマーを用いてもよい。コポリマーの例には、酢酸
ビニル−マレイン酸コポリマー、スチレン−マレイン酸
コポリマーおよびビニルアルコール−酢酸ビニルコポリ
マー(ポリ酢酸ビニルの部分ケン化ポリマー)が含まれ
る。ポリ酢酸ビニルの部分ケン化により、ビニルアルコ
ール−酢酸ビニルコポリマーを合成する場合は、ケン化
度は60質量%以上であることが好ましく、80質量%
以上であることがさらに好ましい。親水性ポリマーは、
アラビアゴム、カルボキシメチルセルロース、ポリアク
リル酸、ポリメタクリル酸、ポリアクリルアミド、ポリ
メタクリルアミド、ポリ(2−アクリルアミド−2−メ
チルプロパンスルホン酸)およびケン化度が60質量%
以上のポリビニルアルコールが好ましく、カルボキシメ
チルセルロース、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、
ポリアクリルアミドおよびポリメタクリルアミドがさら
に好ましい。二種類以上の親水性ポリマーを併用しても
よい。
類以上有するコポリマーを用いてもよい。親水性合成ポ
リマーの繰り返し単位と、疎水性合成ポリマー(例、ポ
リ酢酸ビニル、ポリスチレン)の繰り返し単位とを含む
コポリマーを用いてもよい。コポリマーの例には、酢酸
ビニル−マレイン酸コポリマー、スチレン−マレイン酸
コポリマーおよびビニルアルコール−酢酸ビニルコポリ
マー(ポリ酢酸ビニルの部分ケン化ポリマー)が含まれ
る。ポリ酢酸ビニルの部分ケン化により、ビニルアルコ
ール−酢酸ビニルコポリマーを合成する場合は、ケン化
度は60質量%以上であることが好ましく、80質量%
以上であることがさらに好ましい。親水性ポリマーは、
アラビアゴム、カルボキシメチルセルロース、ポリアク
リル酸、ポリメタクリル酸、ポリアクリルアミド、ポリ
メタクリルアミド、ポリ(2−アクリルアミド−2−メ
チルプロパンスルホン酸)およびケン化度が60質量%
以上のポリビニルアルコールが好ましく、カルボキシメ
チルセルロース、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、
ポリアクリルアミドおよびポリメタクリルアミドがさら
に好ましい。二種類以上の親水性ポリマーを併用しても
よい。
【0139】親水性ポリマーは、架橋構造を有していて
もよい。架橋構造は、架橋剤の使用により親水性ポリマ
ーに導入することが好ましい。架橋剤の例には、アルデ
ヒド(例、グリオキザール)、アルデヒド樹脂(例、メ
ラミンホルムアルデヒド樹脂、尿素ホルムアルデヒド樹
脂)、メチロール化合物(例、N−メチロール尿素、N
−メチロールメラミン、メチロール化ポリアミド樹
脂)、活性ビニル化合物(例、ジビニルスルホン、ビス
(β−ヒドロキシエチルスルホン酸))、エポキシ化合
物(例、エピクロルヒドリン、ポリエチレングリコール
ジグリシジルエーテル、ポリアミド・ポリアミン・エピ
クロロヒドリン付加物、ポリアミドエピクロロヒドリン
樹脂)、エステル(例、モノクロル酢酸エステル、チオ
グリコール酸エステル)、ポリカルボン酸(例、ポリア
クリル酸、メチルビニルエーテル/マレイン酸共重合
物)、無機酸(例、ほう酸)、チタニルスルフェート、
金属塩(例、銅塩、アルミニウム塩、スズ塩、バナジウ
ム塩、クロム塩)および変成ポリアミドポリイミド樹脂
が含まれる。架橋剤に加えて、架橋触媒(例、塩化アン
モニウム、シランカップリング剤、チタネートカップリ
ング剤)を用いてもよい。画像形成層中に親水性ポリマ
ーは、2乃至40質量%含まれることが好ましく、3乃
至30質量%含まれることがさらに好ましい。
もよい。架橋構造は、架橋剤の使用により親水性ポリマ
ーに導入することが好ましい。架橋剤の例には、アルデ
ヒド(例、グリオキザール)、アルデヒド樹脂(例、メ
ラミンホルムアルデヒド樹脂、尿素ホルムアルデヒド樹
脂)、メチロール化合物(例、N−メチロール尿素、N
−メチロールメラミン、メチロール化ポリアミド樹
脂)、活性ビニル化合物(例、ジビニルスルホン、ビス
(β−ヒドロキシエチルスルホン酸))、エポキシ化合
物(例、エピクロルヒドリン、ポリエチレングリコール
ジグリシジルエーテル、ポリアミド・ポリアミン・エピ
クロロヒドリン付加物、ポリアミドエピクロロヒドリン
樹脂)、エステル(例、モノクロル酢酸エステル、チオ
グリコール酸エステル)、ポリカルボン酸(例、ポリア
クリル酸、メチルビニルエーテル/マレイン酸共重合
物)、無機酸(例、ほう酸)、チタニルスルフェート、
金属塩(例、銅塩、アルミニウム塩、スズ塩、バナジウ
ム塩、クロム塩)および変成ポリアミドポリイミド樹脂
が含まれる。架橋剤に加えて、架橋触媒(例、塩化アン
モニウム、シランカップリング剤、チタネートカップリ
ング剤)を用いてもよい。画像形成層中に親水性ポリマ
ーは、2乃至40質量%含まれることが好ましく、3乃
至30質量%含まれることがさらに好ましい。
【0140】[光熱変換剤]画像形成層は、光熱変換剤
を含むことが好ましい。光熱変換剤は、光を吸収し、光
エネルギーを熱エネルギーに変換して、発熱する機能を
有する物質である。光熱変換剤は、コア/シェル構造微
粒子の内部に存在させることができる。光熱変換剤を微
粒子の外部(親水性バインダー中)に添加してもよい。
光熱変換剤が吸収する光の波長(最大吸収波長)は、7
00nm以上(赤外光)であることが特に好ましい。赤
外光を吸収できる顔料、染料または金属微粒子を、光熱
変換剤として好ましく用いることができる。
を含むことが好ましい。光熱変換剤は、光を吸収し、光
エネルギーを熱エネルギーに変換して、発熱する機能を
有する物質である。光熱変換剤は、コア/シェル構造微
粒子の内部に存在させることができる。光熱変換剤を微
粒子の外部(親水性バインダー中)に添加してもよい。
光熱変換剤が吸収する光の波長(最大吸収波長)は、7
00nm以上(赤外光)であることが特に好ましい。赤
外光を吸収できる顔料、染料または金属微粒子を、光熱
変換剤として好ましく用いることができる。
【0141】赤外吸収顔料については、カラーインデッ
クス(C.I.)便覧、「最新顔料便覧」(日本顔料技
術協会編、1977年刊)、「最新顔料応用技術」(C
MC出版、1986年刊)、「印刷インキ技術」(CM
C出版、1984年刊)に記載がある。特に好ましい赤
外吸収顔料は、カーボンブラックである。赤外吸収顔料
をコア/シェル構造微粒子の内部に添加する場合は、顔
料に疎水化(親油化)処理を行うことができる。疎水化
処理としては、親油性樹脂を顔料表面にコートする方法
がある。赤外吸収顔料を親水性ポリマー中に分散させる
場合は、顔料に親水化処理を行うことができる。親水化
処理としては、親水性樹脂を顔料表面にコートする方
法、界面活性剤を顔料表面に付着させる方法、あるい
は、反応性物質(例、シリカゾル、アルミナゾル、シラ
ンカップリング剤、エポキシ化合物、イソシアナート化
合物)を顔料表面に結合させる方法を採用できる。顔料
の粒径は、0.01乃至1μmであることが好ましく、
0.01乃至0.5μmであることがさらに好ましい。
顔料を親水性ポリマー中に分散させる場合、インク製造
やトナー製造に用いられる公知の分散技術が適用でき
る。
クス(C.I.)便覧、「最新顔料便覧」(日本顔料技
術協会編、1977年刊)、「最新顔料応用技術」(C
MC出版、1986年刊)、「印刷インキ技術」(CM
C出版、1984年刊)に記載がある。特に好ましい赤
外吸収顔料は、カーボンブラックである。赤外吸収顔料
をコア/シェル構造微粒子の内部に添加する場合は、顔
料に疎水化(親油化)処理を行うことができる。疎水化
処理としては、親油性樹脂を顔料表面にコートする方法
がある。赤外吸収顔料を親水性ポリマー中に分散させる
場合は、顔料に親水化処理を行うことができる。親水化
処理としては、親水性樹脂を顔料表面にコートする方
法、界面活性剤を顔料表面に付着させる方法、あるい
は、反応性物質(例、シリカゾル、アルミナゾル、シラ
ンカップリング剤、エポキシ化合物、イソシアナート化
合物)を顔料表面に結合させる方法を採用できる。顔料
の粒径は、0.01乃至1μmであることが好ましく、
0.01乃至0.5μmであることがさらに好ましい。
顔料を親水性ポリマー中に分散させる場合、インク製造
やトナー製造に用いられる公知の分散技術が適用でき
る。
【0142】赤外吸収染料については、「染料便覧」有
機合成化学協会編集、昭和45年刊、「化学工業」19
86年5月号P.45〜51の「近赤外吸収色素」、
「90年代機能性色素の開発と市場動向」第2章2.3
項(1990)シーエムシーに記載がある。好ましい赤
外吸収染料は、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロ
ンアゾ染料、ナフトキノン染料(特開昭58−1127
93号、同58−224793号、同59−48187
号、同59−73996号、同60−52940号、同
60−63744号の各公報記載)、アントラキノン染
料、フタロシアニン染料(特開平11−235883号
公報記載)、スクアリリウム染料(特開昭58−112
792号公報記載)、ピリリウム染料(米国特許388
1924号、同4283475号の各明細書、特開昭5
7−142645号、同58−181051号、同58
−220143号、同59−41363号、同59−8
4248号、同59−84249号、同59−1460
63号、同59−146061号、特公平5−1351
4号、同5−19702号の各公報記載)、カルボニウ
ム染料、キノンイミン染料およびメチン染料(特開昭5
8−173696号、同58−181690号、同58
−194595号の各公報記載)である。
機合成化学協会編集、昭和45年刊、「化学工業」19
86年5月号P.45〜51の「近赤外吸収色素」、
「90年代機能性色素の開発と市場動向」第2章2.3
項(1990)シーエムシーに記載がある。好ましい赤
外吸収染料は、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロ
ンアゾ染料、ナフトキノン染料(特開昭58−1127
93号、同58−224793号、同59−48187
号、同59−73996号、同60−52940号、同
60−63744号の各公報記載)、アントラキノン染
料、フタロシアニン染料(特開平11−235883号
公報記載)、スクアリリウム染料(特開昭58−112
792号公報記載)、ピリリウム染料(米国特許388
1924号、同4283475号の各明細書、特開昭5
7−142645号、同58−181051号、同58
−220143号、同59−41363号、同59−8
4248号、同59−84249号、同59−1460
63号、同59−146061号、特公平5−1351
4号、同5−19702号の各公報記載)、カルボニウ
ム染料、キノンイミン染料およびメチン染料(特開昭5
8−173696号、同58−181690号、同58
−194595号の各公報記載)である。
【0143】赤外吸収染料については、米国特許475
6993号、同5156938号の各明細書および特開
平10−268512号公報にも記載がある。市販の赤
外吸収染料(例えば、エポライトIII−178、エポラ
イトIII−130、エポライトIII−125、エポリン社
製)を用いてもよい。メチン染料がさらに好ましく、シ
アニン染料(英国特許434875号、米国特許497
3572号の各明細書、特開昭58−125246号、
同59−84356号、同59−216146号、同6
0−78787号の各公報記載)が最も好ましい。シア
ニン染料は、下記式で定義される。Bo−Le=Bs上
記式において、Bsは、塩基性核であり;Boは、塩基
性核のオニウム体であり;そして、Leは、奇数個のメ
チンからなるメチン鎖である。赤外吸収染料の場合、L
eは、7個のメチンからなるメチン鎖であることが好ま
しい。
6993号、同5156938号の各明細書および特開
平10−268512号公報にも記載がある。市販の赤
外吸収染料(例えば、エポライトIII−178、エポラ
イトIII−130、エポライトIII−125、エポリン社
製)を用いてもよい。メチン染料がさらに好ましく、シ
アニン染料(英国特許434875号、米国特許497
3572号の各明細書、特開昭58−125246号、
同59−84356号、同59−216146号、同6
0−78787号の各公報記載)が最も好ましい。シア
ニン染料は、下記式で定義される。Bo−Le=Bs上
記式において、Bsは、塩基性核であり;Boは、塩基
性核のオニウム体であり;そして、Leは、奇数個のメ
チンからなるメチン鎖である。赤外吸収染料の場合、L
eは、7個のメチンからなるメチン鎖であることが好ま
しい。
【0144】赤外吸収染料を画像形成層の親水性ポリマ
ー中に添加する場合は、親水性の染料を用いることが好
ましい。親水性の赤外吸収染料の例を以下に示す。
ー中に添加する場合は、親水性の染料を用いることが好
ましい。親水性の赤外吸収染料の例を以下に示す。
【0145】
【化76】
【0146】
【化77】
【0147】
【化78】
【0148】
【化79】
【0149】
【化80】
【0150】
【化81】
【0151】赤外吸収染料をコア/シェル構造微粒子内
に添加する場合は、比較的疎水性の染料を用いることが
好ましい。疎水性の赤外吸収染料の例を以下に示す。
に添加する場合は、比較的疎水性の染料を用いることが
好ましい。疎水性の赤外吸収染料の例を以下に示す。
【0152】
【化82】
【0153】
【化83】
【0154】
【化84】
【0155】
【化85】
【0156】
【化86】
【0157】金属は、一般に自己発熱性を有している。
従って、赤外、可視または紫外領域に吸収をもつ金属、
特に赤外領域に吸収をもつ金属は、光熱変換機能を有し
ている。金属微粒子を構成する金属は、光照射によって
熱融着することが好ましい。具体的には、融点が100
0℃以下であることが好ましい。金属微粒子を構成する
金属としては、Si、Al、Ti、V、Cr、Mn、F
e、Co、Ni、Cu、Zn、Y、Zr、Mo、Ag、
Au、Pt、Pd、Rh、In、Sn、W、Te、P
b、Ge、Re、Sbおよびそれらの合金が好ましく、
Re、Sb、Te、Ag、Au、Cu、Ge、Pbおよ
びSnがより好ましく、Ag、Au、Cu、Sb、Ge
およびPbがさらに好ましく、Ag、AuおよびCuが
最も好ましい。
従って、赤外、可視または紫外領域に吸収をもつ金属、
特に赤外領域に吸収をもつ金属は、光熱変換機能を有し
ている。金属微粒子を構成する金属は、光照射によって
熱融着することが好ましい。具体的には、融点が100
0℃以下であることが好ましい。金属微粒子を構成する
金属としては、Si、Al、Ti、V、Cr、Mn、F
e、Co、Ni、Cu、Zn、Y、Zr、Mo、Ag、
Au、Pt、Pd、Rh、In、Sn、W、Te、P
b、Ge、Re、Sbおよびそれらの合金が好ましく、
Re、Sb、Te、Ag、Au、Cu、Ge、Pbおよ
びSnがより好ましく、Ag、Au、Cu、Sb、Ge
およびPbがさらに好ましく、Ag、AuおよびCuが
最も好ましい。
【0158】合金の場合、低融点金属(例、Re、S
b、Te、Au、Ag、Cu、Ge、Pb、Sn)と、
自己発熱性が高い金属(例、Ti、Cr、Fe、Co、
Ni、W、Ge)とを組み合わせることもできる。ま
た、光吸収が大きい金属(例、Ag、Pt、Pd)の微
粒子と他の金属の微粒子とを組み合わせて用いることも
できる。金属微粒子は、表面を親水性化処理することに
よって、親水性ポリマー中に分散することが好ましい。
表面親水性化処理としては、親水性物質(例、界面活性
剤)による表面処理、親水性物質との表面化学反応、あ
るいは親水性ポリマー被膜の形成のような手段を採用で
きる。保護コロイド性の親水性高分子皮膜を設けるなど
の方法を用いることができる。親水性物質との表面化学
反応が好ましく、表面シリケート処理が最も好ましい。
鉄微粒子の表面シリケート処理では、70℃のケイ酸ナ
トリウム(3%)水溶液に鉄微粒子を30秒浸漬する方
法によって表面を充分に親水性化することができる。他
の金属微粒子も同様の方法で表面シリケート処理を行う
ことができる。金属微粒子に代えて、金属酸化物微粒子
または金属硫化物微粒子を用いることもできる。微粒子
の粒径は、10μm以下であることが好ましく、0.0
03乃至5μmであることがさらに好ましく、0.01
乃至3μmであることが最も好ましい。
b、Te、Au、Ag、Cu、Ge、Pb、Sn)と、
自己発熱性が高い金属(例、Ti、Cr、Fe、Co、
Ni、W、Ge)とを組み合わせることもできる。ま
た、光吸収が大きい金属(例、Ag、Pt、Pd)の微
粒子と他の金属の微粒子とを組み合わせて用いることも
できる。金属微粒子は、表面を親水性化処理することに
よって、親水性ポリマー中に分散することが好ましい。
表面親水性化処理としては、親水性物質(例、界面活性
剤)による表面処理、親水性物質との表面化学反応、あ
るいは親水性ポリマー被膜の形成のような手段を採用で
きる。保護コロイド性の親水性高分子皮膜を設けるなど
の方法を用いることができる。親水性物質との表面化学
反応が好ましく、表面シリケート処理が最も好ましい。
鉄微粒子の表面シリケート処理では、70℃のケイ酸ナ
トリウム(3%)水溶液に鉄微粒子を30秒浸漬する方
法によって表面を充分に親水性化することができる。他
の金属微粒子も同様の方法で表面シリケート処理を行う
ことができる。金属微粒子に代えて、金属酸化物微粒子
または金属硫化物微粒子を用いることもできる。微粒子
の粒径は、10μm以下であることが好ましく、0.0
03乃至5μmであることがさらに好ましく、0.01
乃至3μmであることが最も好ましい。
【0159】[画像形成層の他の任意成分]画像形成層
には、画像形成後の画像部と非画像部との区別を目的と
して、着色剤を添加することができる。着色剤として
は、可視領域に大きな吸収を有する染料または顔料を用
いる。着色剤の例には、オイルイエロー#101、オイ
ルイエロー#103、オイルピンク#312、オイルグ
リーンBG、オイルブルーBOS、オイルブルー#60
3、オイルブラックBY、オイルブラックBS、オイル
ブラックT−505(以上オリエント化学工業(株)
製)、ビクトリアピュアブルー、クリスタルバイオレッ
ト(CI42555)、メチルバイオレット(CI42
535)、エチルバイオレット、ローダミンB(CI1
45170B)、マラカイトグリーン(CI4200
0)およびメチレンブルー(CI52015)が含まれ
る。着色剤として用いられる染料については、特開昭6
2−293247号公報に記載がある。酸化チタンのよ
うな無機顔料も着色剤として用いることができる。着色
剤の添加量は、画像形成層の0.01乃至10質量%で
あることが好ましい。
には、画像形成後の画像部と非画像部との区別を目的と
して、着色剤を添加することができる。着色剤として
は、可視領域に大きな吸収を有する染料または顔料を用
いる。着色剤の例には、オイルイエロー#101、オイ
ルイエロー#103、オイルピンク#312、オイルグ
リーンBG、オイルブルーBOS、オイルブルー#60
3、オイルブラックBY、オイルブラックBS、オイル
ブラックT−505(以上オリエント化学工業(株)
製)、ビクトリアピュアブルー、クリスタルバイオレッ
ト(CI42555)、メチルバイオレット(CI42
535)、エチルバイオレット、ローダミンB(CI1
45170B)、マラカイトグリーン(CI4200
0)およびメチレンブルー(CI52015)が含まれ
る。着色剤として用いられる染料については、特開昭6
2−293247号公報に記載がある。酸化チタンのよ
うな無機顔料も着色剤として用いることができる。着色
剤の添加量は、画像形成層の0.01乃至10質量%で
あることが好ましい。
【0160】画像形成層には、機上現像の安定性を広げ
るため、ノニオン界面活性剤(特開昭62−25174
0号、特開平3−208514号の各公報記載)または
両性界面活性剤(特開昭59−121044号、特開平
4−13149号の各公報記載)を添加することができ
る。ノニオン界面活性剤の例には、ソルビタントリステ
アレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタント
リオレート、ステアリン酸モノグリセリドおよびポリオ
キシエチレンノニルフェニルエーテルが含まれる。両性
界面活性剤の例には、アルキルジ(アミノエチル)グリ
シン、アルキルポリアミノエチルグリシン塩酸塩、2−
アルキル−N−カルボキシエチル−N−ヒドロキシエチ
ルイミダゾリニウムベタインおよびN−テトラデシル−
N,N−ベタイン型界面活性剤(アモーゲンK、第一工
業(株)製)が含まれる。ノニオン界面活性剤および両
性界面活性剤は、画像形成層に0.05乃至15質量%
含まれることが好ましく、0.1乃至5質量%含まれる
ことがさらに好ましい。
るため、ノニオン界面活性剤(特開昭62−25174
0号、特開平3−208514号の各公報記載)または
両性界面活性剤(特開昭59−121044号、特開平
4−13149号の各公報記載)を添加することができ
る。ノニオン界面活性剤の例には、ソルビタントリステ
アレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタント
リオレート、ステアリン酸モノグリセリドおよびポリオ
キシエチレンノニルフェニルエーテルが含まれる。両性
界面活性剤の例には、アルキルジ(アミノエチル)グリ
シン、アルキルポリアミノエチルグリシン塩酸塩、2−
アルキル−N−カルボキシエチル−N−ヒドロキシエチ
ルイミダゾリニウムベタインおよびN−テトラデシル−
N,N−ベタイン型界面活性剤(アモーゲンK、第一工
業(株)製)が含まれる。ノニオン界面活性剤および両
性界面活性剤は、画像形成層に0.05乃至15質量%
含まれることが好ましく、0.1乃至5質量%含まれる
ことがさらに好ましい。
【0161】画像形成層に柔軟性を付与するため、可塑
剤を添加してもよい。可塑剤の例には、ポリエチレング
リコール、クエン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フ
タル酸ジブチル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオク
チル、リン酸トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸
トリオクチルおよびオレイン酸テトラヒドロフルフリル
が含まれる。
剤を添加してもよい。可塑剤の例には、ポリエチレング
リコール、クエン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フ
タル酸ジブチル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオク
チル、リン酸トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸
トリオクチルおよびオレイン酸テトラヒドロフルフリル
が含まれる。
【0162】[画像形成層の形成]画像形成層は、各成
分を適当な液状媒体中に溶解、分散または乳化して塗布
液を調製し、親水性支持体上に塗布し、および乾燥して
液状媒体を除去することにより形成することができる。
塗布液に使用する液状媒体の例には、エチレンジクロラ
イド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メタノ
ール、エタノール、プロパノール、エチレングリコール
モノメチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノー
ル、2−メトキシエチルアセテート、1−メトキシ−2
−プロピルアセテート、ジメトキシエタン、乳酸メチ
ル、乳酸エチル、N,N−ジメチルアセトアミド、N,
N−ジメチルホルムアミド、テトラメチルウレア、N−
メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラ
ン、γ−ブチルラクトン、トルエンおよび水が含まれ
る。二種類以上の液体を混合して用いてもよい。塗布液
の全固形分濃度は、1乃至50質量%であることが好ま
しい。
分を適当な液状媒体中に溶解、分散または乳化して塗布
液を調製し、親水性支持体上に塗布し、および乾燥して
液状媒体を除去することにより形成することができる。
塗布液に使用する液状媒体の例には、エチレンジクロラ
イド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メタノ
ール、エタノール、プロパノール、エチレングリコール
モノメチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノー
ル、2−メトキシエチルアセテート、1−メトキシ−2
−プロピルアセテート、ジメトキシエタン、乳酸メチ
ル、乳酸エチル、N,N−ジメチルアセトアミド、N,
N−ジメチルホルムアミド、テトラメチルウレア、N−
メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラ
ン、γ−ブチルラクトン、トルエンおよび水が含まれ
る。二種類以上の液体を混合して用いてもよい。塗布液
の全固形分濃度は、1乃至50質量%であることが好ま
しい。
【0163】塗布液には、塗布性を良化するための界面
活性剤を添加することができる。フッ素系界面活性剤
(特開昭62−170950号公報記載)が特に好まし
い。界面活性剤の添加量は、塗布液の固形分量に対して
0.01乃至1質量%であることが好ましく、0.05
乃至0.5質量%であることがさらに好ましい。画像形
成層の乾燥塗布量は、0.5乃至5.0g/m2 である
ことが好ましい。
活性剤を添加することができる。フッ素系界面活性剤
(特開昭62−170950号公報記載)が特に好まし
い。界面活性剤の添加量は、塗布液の固形分量に対して
0.01乃至1質量%であることが好ましく、0.05
乃至0.5質量%であることがさらに好ましい。画像形
成層の乾燥塗布量は、0.5乃至5.0g/m2 である
ことが好ましい。
【0164】[親水性支持体]親水性支持体としては、
金属板、プラスチックフイルムまたは紙を用いることが
できる。具体的には、表面処理されたアルミニウム板、
親水処理されたプラスチックフイルムまたは耐水処理さ
れた紙が好ましい。さらに具体的には、陽極酸化処理さ
れたアルミニウム板、親水性層を設けたポリエチレンテ
レフタレートフイルムまたはポリエチレンでラミネート
された紙が好ましい。
金属板、プラスチックフイルムまたは紙を用いることが
できる。具体的には、表面処理されたアルミニウム板、
親水処理されたプラスチックフイルムまたは耐水処理さ
れた紙が好ましい。さらに具体的には、陽極酸化処理さ
れたアルミニウム板、親水性層を設けたポリエチレンテ
レフタレートフイルムまたはポリエチレンでラミネート
された紙が好ましい。
【0165】陽極酸化処理されたアルミニウム板が特に
好ましい。アルミニウム板は、純アルミニウム板または
アルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む合金板
である。アルミニウム合金に含まれる異元素の例には、
ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜
鉛、ビスマス、ニッケルおよびチタンが含まれる。異元
素の割合は、10質量%以下であることが好ましい。市
販の印刷版用のアルミニウム板を用いてもよい。アルミ
ニウム板の厚さは、0.05乃至0.6mmであること
が好ましく、0.1乃至0.4mmであることがさらに
好ましく、0.15乃至0.3mmであることが最も好
ましい。
好ましい。アルミニウム板は、純アルミニウム板または
アルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む合金板
である。アルミニウム合金に含まれる異元素の例には、
ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜
鉛、ビスマス、ニッケルおよびチタンが含まれる。異元
素の割合は、10質量%以下であることが好ましい。市
販の印刷版用のアルミニウム板を用いてもよい。アルミ
ニウム板の厚さは、0.05乃至0.6mmであること
が好ましく、0.1乃至0.4mmであることがさらに
好ましく、0.15乃至0.3mmであることが最も好
ましい。
【0166】アルミニウム板表面には、粗面化処理を行
うことが好ましい。粗面化処理は、機械的方法、電気化
学的方法あるいは化学的方法により実施できる。機械的
方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラスト
研磨法またはバフ研磨法を採用できる。電気化学的方法
としては、塩酸または硝酸などの酸を含む電解液中で交
流または直流により行う方法を採用できる。混合酸を用
いた電解粗面化方法(特開昭54−63902号公報記
載)も利用することができる。化学的方法としては、ア
ルミニウム板を鉱酸のアルミニウム塩の飽和水溶液に浸
漬する方法(特開昭54−31187号公報記載)が適
している。粗面化処理は、アルミニウム板の表面の中心
線平均粗さ(Ra)が0.2乃至1.0μmとなるよう
に実施することが好ましい。粗面化されたアルミニウム
板は、必要に応じてアルカリエッチング処理を行う。ア
ルカリ処理液としては、水酸化カリウムまたは水酸化ナ
トリウムの水溶液が一般に用いられる。アルカリエッチ
ング処理の後は、さらに中和処理を行うことが好まし
い。
うことが好ましい。粗面化処理は、機械的方法、電気化
学的方法あるいは化学的方法により実施できる。機械的
方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラスト
研磨法またはバフ研磨法を採用できる。電気化学的方法
としては、塩酸または硝酸などの酸を含む電解液中で交
流または直流により行う方法を採用できる。混合酸を用
いた電解粗面化方法(特開昭54−63902号公報記
載)も利用することができる。化学的方法としては、ア
ルミニウム板を鉱酸のアルミニウム塩の飽和水溶液に浸
漬する方法(特開昭54−31187号公報記載)が適
している。粗面化処理は、アルミニウム板の表面の中心
線平均粗さ(Ra)が0.2乃至1.0μmとなるよう
に実施することが好ましい。粗面化されたアルミニウム
板は、必要に応じてアルカリエッチング処理を行う。ア
ルカリ処理液としては、水酸化カリウムまたは水酸化ナ
トリウムの水溶液が一般に用いられる。アルカリエッチ
ング処理の後は、さらに中和処理を行うことが好まし
い。
【0167】アルミニウム板の陽極酸化処理は、支持体
の耐摩耗性を高めるために行う。陽極酸化処理に用いら
れる電解質としては、多孔質酸化皮膜を形成する種々の
電解質が使用できる。一般には、硫酸、塩酸、蓚酸、ク
ロム酸あるいはそれらの混酸が電解質として用いられ
る。陽極酸化の処理条件は一般に、電解質の濃度が1乃
至80質量%溶液、液温が5乃至70℃、電流密度が5
乃至60A/dm2 、電圧が1乃至100V、そして、
電解時間が10秒乃至5分の範囲である。陽極酸化処理
により形成される酸化皮膜量は、1.0乃至5.0g/
m2 であることが好ましく、1.5乃至4.0g/m2
であることがさらに好ましい。
の耐摩耗性を高めるために行う。陽極酸化処理に用いら
れる電解質としては、多孔質酸化皮膜を形成する種々の
電解質が使用できる。一般には、硫酸、塩酸、蓚酸、ク
ロム酸あるいはそれらの混酸が電解質として用いられ
る。陽極酸化の処理条件は一般に、電解質の濃度が1乃
至80質量%溶液、液温が5乃至70℃、電流密度が5
乃至60A/dm2 、電圧が1乃至100V、そして、
電解時間が10秒乃至5分の範囲である。陽極酸化処理
により形成される酸化皮膜量は、1.0乃至5.0g/
m2 であることが好ましく、1.5乃至4.0g/m2
であることがさらに好ましい。
【0168】[水溶性オーバーコート層]親油性物質に
よる画像形成層表面の汚染防止のため、画像形成層の上
に、水溶性オーバーコート層を設けることができる。水
溶性オーバーコート層は、印刷時に容易に除去できる材
料から構成する。そのためには、水溶性の有機ポリマー
から水溶性オーバーコート層を構成することが好まし
い。水溶性の有機ポリマーの例には、ポリビニルアルコ
ール、ポリ酢酸ビニル、ポリアクリル酸、そのアルカリ
金属塩もしくはアミン塩、ポリメタクリル酸、そのアル
カリ金属塩もしくはアミン塩、ポリアクリルアミド、ポ
リヒドロキシエチルアクリレート、ポリビニルピロリド
ン、ポリビニルメチルエーテル、ポリ−2−アクリルア
ミド−2−メチル−1−プロパンスルホン酸、そのアル
カリ金属塩もしくはアミン塩、アラビアガム、セルロー
スエーテル(例、カルボキシメチルセルロース、カルボ
キシエチルセルロース、メチルセルローズ)、デキスト
リンおよびその誘導体(例、ホワイトデキストリン、酵
素分解エーテル化デキストリンプルラン)が含まれる。
水溶性の有機ポリマーの繰り返し単位を二種類以上有す
るコポリマーを用いてもよい。コポリマーの例には、ビ
ニルアルコール−酢酸ビニルコポリマー(ポリ酢酸ビニ
ルの部分ケン化ポリマー)およびビニルメチルエーテル
−無水マレイン酸コポリマーが含まれる。ポリ酢酸ビニ
ルの部分ケン化により、ビニルアルコール−酢酸ビニル
コポリマーを合成する場合は、ケン化度は65質量%以
上であることが好ましい。二種類以上の水溶性有機ポリ
マーを併用してもよい。
よる画像形成層表面の汚染防止のため、画像形成層の上
に、水溶性オーバーコート層を設けることができる。水
溶性オーバーコート層は、印刷時に容易に除去できる材
料から構成する。そのためには、水溶性の有機ポリマー
から水溶性オーバーコート層を構成することが好まし
い。水溶性の有機ポリマーの例には、ポリビニルアルコ
ール、ポリ酢酸ビニル、ポリアクリル酸、そのアルカリ
金属塩もしくはアミン塩、ポリメタクリル酸、そのアル
カリ金属塩もしくはアミン塩、ポリアクリルアミド、ポ
リヒドロキシエチルアクリレート、ポリビニルピロリド
ン、ポリビニルメチルエーテル、ポリ−2−アクリルア
ミド−2−メチル−1−プロパンスルホン酸、そのアル
カリ金属塩もしくはアミン塩、アラビアガム、セルロー
スエーテル(例、カルボキシメチルセルロース、カルボ
キシエチルセルロース、メチルセルローズ)、デキスト
リンおよびその誘導体(例、ホワイトデキストリン、酵
素分解エーテル化デキストリンプルラン)が含まれる。
水溶性の有機ポリマーの繰り返し単位を二種類以上有す
るコポリマーを用いてもよい。コポリマーの例には、ビ
ニルアルコール−酢酸ビニルコポリマー(ポリ酢酸ビニ
ルの部分ケン化ポリマー)およびビニルメチルエーテル
−無水マレイン酸コポリマーが含まれる。ポリ酢酸ビニ
ルの部分ケン化により、ビニルアルコール−酢酸ビニル
コポリマーを合成する場合は、ケン化度は65質量%以
上であることが好ましい。二種類以上の水溶性有機ポリ
マーを併用してもよい。
【0169】オーバーコート層に、前記の光熱変換剤を
添加してもよい。オーバーコート層に添加する光熱変換
剤は、水溶性であることが好ましい。オーバーコート層
の塗布液には、ノニオン界面活性剤(例、ポリオキシエ
チレンノニルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンド
デシルエーテル)を添加することができる。オーバーコ
ート層の塗布量は、0.1乃至2.0g/m2 であるこ
とが好ましい。
添加してもよい。オーバーコート層に添加する光熱変換
剤は、水溶性であることが好ましい。オーバーコート層
の塗布液には、ノニオン界面活性剤(例、ポリオキシエ
チレンノニルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンド
デシルエーテル)を添加することができる。オーバーコ
ート層の塗布量は、0.1乃至2.0g/m2 であるこ
とが好ましい。
【0170】[画像状加熱工程]平版印刷原版は、画像
状に加熱して画像を形成する。直接的には、熱記録ヘッ
ドによって、平版印刷原版を画像状に加熱できる。その
場合は、光熱変換剤は不要である。ただし、熱記録ヘッ
ドは画像の解像度が一般に低いため、光熱変換剤を用い
て画像露光による光エネルギーを熱エネルギーに変換す
ることが望ましい。一般に、画像露光に用いる露光装置
の方が、熱記録ヘッドよりも高解像度である。露光方法
には、アナログデータである原稿(オリジナル)を介し
ての露光と、オリジナルのデータ(通常はデジタルデー
タ)に対応させた走査露光とがある。オリジナルを介し
ての露光では、光源としてキセノン放電灯または赤外線
ランプが用いられる。キセノン放電灯のような高出力の
光源を使用すれば、短時間のフラッシュ露光も可能であ
る。
状に加熱して画像を形成する。直接的には、熱記録ヘッ
ドによって、平版印刷原版を画像状に加熱できる。その
場合は、光熱変換剤は不要である。ただし、熱記録ヘッ
ドは画像の解像度が一般に低いため、光熱変換剤を用い
て画像露光による光エネルギーを熱エネルギーに変換す
ることが望ましい。一般に、画像露光に用いる露光装置
の方が、熱記録ヘッドよりも高解像度である。露光方法
には、アナログデータである原稿(オリジナル)を介し
ての露光と、オリジナルのデータ(通常はデジタルデー
タ)に対応させた走査露光とがある。オリジナルを介し
ての露光では、光源としてキセノン放電灯または赤外線
ランプが用いられる。キセノン放電灯のような高出力の
光源を使用すれば、短時間のフラッシュ露光も可能であ
る。
【0171】走査露光は、レーザー、特に赤外線レーザ
ーを用いることが一般的である。赤外線の波長は、70
0乃至1200nmであることが好ましい。赤外線は、
固体高出力赤外線レーザー(例えば、半導体レーザー、
YAGレーザー)が好ましい。レーザの出力は100m
W以上が好ましい。露光時間を短縮するため、マルチビ
ームレーザデバイスを用いることが好ましい。また、1
画素あたりの露光時間は20μ秒以内であることが好ま
しい。照射される光エネルギーは10乃至500mJ/
cm2 であることが好ましい。加熱は、シェルおよびコ
アが共に軟化する温度で実施することが好ましい。加熱
温度は、シェルの軟化温度およびコアの軟化温度の高い
方よりも、10℃以上高い温度であることが好ましく、
20℃以上高い温度であることがさらに好ましい。
ーを用いることが一般的である。赤外線の波長は、70
0乃至1200nmであることが好ましい。赤外線は、
固体高出力赤外線レーザー(例えば、半導体レーザー、
YAGレーザー)が好ましい。レーザの出力は100m
W以上が好ましい。露光時間を短縮するため、マルチビ
ームレーザデバイスを用いることが好ましい。また、1
画素あたりの露光時間は20μ秒以内であることが好ま
しい。照射される光エネルギーは10乃至500mJ/
cm2 であることが好ましい。加熱は、シェルおよびコ
アが共に軟化する温度で実施することが好ましい。加熱
温度は、シェルの軟化温度およびコアの軟化温度の高い
方よりも、10℃以上高い温度であることが好ましく、
20℃以上高い温度であることがさらに好ましい。
【0172】[製版および印刷工程]画像状に加熱した
平版印刷原版は、水または適当な水溶液を現像液として
現像することにより、平版印刷版を製版できる。ただ
し、現像処理を実施しなくても、画像状に加熱した平版
印刷原版を直ちに印刷機に装着し、インクと湿し水を用
いて通常の手順で印刷するだけでも、製版と印刷を連続
して実施することができる。すなわち、平版印刷原版を
印刷機に装着して、印刷機を稼動させると、湿し水、イ
ンク、または擦りにより加熱した部分の画像形成層を除
去することができる。なお、レーザー露光装置を有する
印刷機(特許2938398号公報記載)を用いると、
平版印刷原版を印刷機シリンダー上に取りつけた後に、
印刷機に搭載されたレーザーにより露光し、その後に湿
し水又はインクをつけて機上現像する(露光〜印刷を連
続して処理する)ことも可能である。
平版印刷原版は、水または適当な水溶液を現像液として
現像することにより、平版印刷版を製版できる。ただ
し、現像処理を実施しなくても、画像状に加熱した平版
印刷原版を直ちに印刷機に装着し、インクと湿し水を用
いて通常の手順で印刷するだけでも、製版と印刷を連続
して実施することができる。すなわち、平版印刷原版を
印刷機に装着して、印刷機を稼動させると、湿し水、イ
ンク、または擦りにより加熱した部分の画像形成層を除
去することができる。なお、レーザー露光装置を有する
印刷機(特許2938398号公報記載)を用いると、
平版印刷原版を印刷機シリンダー上に取りつけた後に、
印刷機に搭載されたレーザーにより露光し、その後に湿
し水又はインクをつけて機上現像する(露光〜印刷を連
続して処理する)ことも可能である。
【0173】
【実施例】[実施例1]
(コア/シェル構造微粒子の調製)1リットルの三口フ
ラスコに、下記のアニオン界面活性剤の29.6質量%
水溶液4.8gおよび蒸留水540gを入れ、窒素気流
下、50℃にて250回転/分で30分攪拌した。ここ
に、ペルオキソ二硫酸カリウム0.462g、亜硫酸水
素ナトリウム0.178gおよび1M炭酸水素ナトリウ
ム水溶液5.13mLを混合し蒸留水で30mLとした
溶液と、グリシジルメタクリレート71.08gとを3
時間かけて滴下した。滴下終了後、ペルオキソ二硫酸カ
リウム0.231g、亜硫酸水素ナトリウム0.089
g、蒸留水10mLおよび1M炭酸水素ナトリウム水溶
液2.56mLを混合した溶液を加えた後、そのまま3
時間攪拌を続け、コア微粒子を調製した。得られたコア
微粒子の平均粒子径は、100nmであった。また、コ
ア微粒子を形成するポリマーの軟化温度は、85℃であ
った。
ラスコに、下記のアニオン界面活性剤の29.6質量%
水溶液4.8gおよび蒸留水540gを入れ、窒素気流
下、50℃にて250回転/分で30分攪拌した。ここ
に、ペルオキソ二硫酸カリウム0.462g、亜硫酸水
素ナトリウム0.178gおよび1M炭酸水素ナトリウ
ム水溶液5.13mLを混合し蒸留水で30mLとした
溶液と、グリシジルメタクリレート71.08gとを3
時間かけて滴下した。滴下終了後、ペルオキソ二硫酸カ
リウム0.231g、亜硫酸水素ナトリウム0.089
g、蒸留水10mLおよび1M炭酸水素ナトリウム水溶
液2.56mLを混合した溶液を加えた後、そのまま3
時間攪拌を続け、コア微粒子を調製した。得られたコア
微粒子の平均粒子径は、100nmであった。また、コ
ア微粒子を形成するポリマーの軟化温度は、85℃であ
った。
【0174】
【化87】
【0175】得られた反応混合物を、窒素気流下、50
℃にて250回転/分で30分攪拌した後、ペルオキソ
二硫酸カリウム0.127g、亜硫酸水素ナトリウム
0.048g、1M炭酸水素ナトリウム水溶液1.4m
Lを混合し蒸留水で30mLとした溶液とメチルメタク
リレート23.53gとをそれぞれ3時間かけて滴下し
た。滴下終了後、さらにペルオキソ二硫酸カリウム0.
127g、蒸留水10g、亜硫酸水素ナトリウム0.0
48g、1M炭酸水素ナトリウム水溶液1.4mLを混
合した溶液を加えた後、そのまま攪拌を続けた。3時間
後、反応混合物を室温まで冷却し、グラスフィルターに
より濾過して凝集物を取り除いた。蒸留水にて固形分濃
度を10重量%に調整して、コア/シェル構造微粒子を
調製した。得られたコア/シェル構造微粒子の平均粒子
径は110nmであった。また、コア/シェルの質量比
は、3.02であり、シェルポリマーの軟化温度は、1
30℃であった。
℃にて250回転/分で30分攪拌した後、ペルオキソ
二硫酸カリウム0.127g、亜硫酸水素ナトリウム
0.048g、1M炭酸水素ナトリウム水溶液1.4m
Lを混合し蒸留水で30mLとした溶液とメチルメタク
リレート23.53gとをそれぞれ3時間かけて滴下し
た。滴下終了後、さらにペルオキソ二硫酸カリウム0.
127g、蒸留水10g、亜硫酸水素ナトリウム0.0
48g、1M炭酸水素ナトリウム水溶液1.4mLを混
合した溶液を加えた後、そのまま攪拌を続けた。3時間
後、反応混合物を室温まで冷却し、グラスフィルターに
より濾過して凝集物を取り除いた。蒸留水にて固形分濃
度を10重量%に調整して、コア/シェル構造微粒子を
調製した。得られたコア/シェル構造微粒子の平均粒子
径は110nmであった。また、コア/シェルの質量比
は、3.02であり、シェルポリマーの軟化温度は、1
30℃であった。
【0176】(アルミニウム支持体の作製)Al99.
5%以上、Fe0.30%、Si0.10%、Ti0.
02%、Cu0.013%を含むJIS−A−1050
合金の溶湯を清浄化処理し、アルミニウム板を鋳造し
た。清浄化処理には、溶湯中の水素などの不要なガスを
除去するために脱ガス処理し、セラミックチューブフィ
ルタ処理を行った。鋳造法はDC鋳造法で行った。凝固
した板厚500mmの鋳塊を表面から10mm面削し、
金属間化合物が粗大化してしまわないように550℃に
て10時間均質化処理を行った。次いで、400℃で熱
間圧延し、連続焼鈍炉中で500℃にて60秒中間焼鈍
した後、冷間圧延を行って、板圧0.30mmのアルミ
ニウム圧延板とした。圧延ロールの粗さを制御すること
により、冷間圧延後の中心線平均表面粗さRaを0.2
μmに制御した。その後、平面性を向上させるためにテ
ンションレベラーにかけた。
5%以上、Fe0.30%、Si0.10%、Ti0.
02%、Cu0.013%を含むJIS−A−1050
合金の溶湯を清浄化処理し、アルミニウム板を鋳造し
た。清浄化処理には、溶湯中の水素などの不要なガスを
除去するために脱ガス処理し、セラミックチューブフィ
ルタ処理を行った。鋳造法はDC鋳造法で行った。凝固
した板厚500mmの鋳塊を表面から10mm面削し、
金属間化合物が粗大化してしまわないように550℃に
て10時間均質化処理を行った。次いで、400℃で熱
間圧延し、連続焼鈍炉中で500℃にて60秒中間焼鈍
した後、冷間圧延を行って、板圧0.30mmのアルミ
ニウム圧延板とした。圧延ロールの粗さを制御すること
により、冷間圧延後の中心線平均表面粗さRaを0.2
μmに制御した。その後、平面性を向上させるためにテ
ンションレベラーにかけた。
【0177】次に平版印刷版用支持体とするための表面
処理を行った。まず、アルミニウム板表面の圧延油を除
去するため10質量%アルミン酸ソーダ水溶液で50℃
にて30秒間脱脂処理を行い、30質量%硫酸水溶液で
50℃にて30秒間中和、スマット除去処理を行った。
次いで支持体と画像形成層との密着性を良好にし、かつ
非画像部に保水性を与えるため、支持体の表面を粗面化
する、いわゆる、砂目立て処理を行った。1質量%の硝
酸と0.5質量%の硝酸アルミを含有する水溶液を45
℃に保ち、アルミウェブを水溶液中に流しながら、間接
給電セルにより電流密度20A/dm2、デューティー
比1:1の交番波形でアノード側電気量240C/dm
2 を与えることで電解砂目立てを行った。その後10%
アルミン酸ソーダ水溶液で50℃30秒間エッチング処
理を行い、30質量%硫酸水溶液で50℃にて30秒間
中和、スマット除去処理を行った。
処理を行った。まず、アルミニウム板表面の圧延油を除
去するため10質量%アルミン酸ソーダ水溶液で50℃
にて30秒間脱脂処理を行い、30質量%硫酸水溶液で
50℃にて30秒間中和、スマット除去処理を行った。
次いで支持体と画像形成層との密着性を良好にし、かつ
非画像部に保水性を与えるため、支持体の表面を粗面化
する、いわゆる、砂目立て処理を行った。1質量%の硝
酸と0.5質量%の硝酸アルミを含有する水溶液を45
℃に保ち、アルミウェブを水溶液中に流しながら、間接
給電セルにより電流密度20A/dm2、デューティー
比1:1の交番波形でアノード側電気量240C/dm
2 を与えることで電解砂目立てを行った。その後10%
アルミン酸ソーダ水溶液で50℃30秒間エッチング処
理を行い、30質量%硫酸水溶液で50℃にて30秒間
中和、スマット除去処理を行った。
【0178】さらに耐摩耗性、耐薬品性、保水性を向上
させるために、陽極酸化によって支持体に酸化皮膜を形
成させた。電解質として硫酸20質量%水溶液を35℃
で用い、アルミウェブを電解質中に通搬しながら、間接
給電セルにより14A/dm 2 の直流で電解処理を行う
ことで2.5g/m2 の陽極酸化皮膜を作成した。この
後印刷版非画像部としての親水性を確保するため、シリ
ケート処理を行った。処理は3号ケイ酸ソーダ1.5%
水溶液を70℃に保ちアルミウェブの接触時間が15秒
となるよう通搬し、さらに水洗した。Siの付着量は1
0mg/m 2 であった。以上により作成した支持体のR
a(中心線表面粗さ)は0.25μmであった。
させるために、陽極酸化によって支持体に酸化皮膜を形
成させた。電解質として硫酸20質量%水溶液を35℃
で用い、アルミウェブを電解質中に通搬しながら、間接
給電セルにより14A/dm 2 の直流で電解処理を行う
ことで2.5g/m2 の陽極酸化皮膜を作成した。この
後印刷版非画像部としての親水性を確保するため、シリ
ケート処理を行った。処理は3号ケイ酸ソーダ1.5%
水溶液を70℃に保ちアルミウェブの接触時間が15秒
となるよう通搬し、さらに水洗した。Siの付着量は1
0mg/m 2 であった。以上により作成した支持体のR
a(中心線表面粗さ)は0.25μmであった。
【0179】(平版印刷原版の作製)アルミニウム支持
体上に、下記の組成からなる画像形成層塗布液を塗布
し、60℃にて3分間乾燥した。乾燥後の塗布質量は
0.6g/m2 あった。このようにして、平版印刷原版
を作製した。
体上に、下記の組成からなる画像形成層塗布液を塗布
し、60℃にて3分間乾燥した。乾燥後の塗布質量は
0.6g/m2 あった。このようにして、平版印刷原版
を作製した。
【0180】
────────────────────────────────────
画像形成層塗布液組成
────────────────────────────────────
コア/シェル構造微粒子 (固形分換算)0.99g
赤外線吸収染料(IR−10) 0.12g
分子量2.5万のポリアクリル酸 0.09g
フッ素系界面活性剤の10質量%水溶液 0.10g
────────────────────────────────────
【0181】(平版印刷原版の評価)得られた平版印刷
原版を、水冷式40W赤外線半導体レーザーを搭載した
クレオ社製トレンドセッター3244VFSにて外面ド
ラム回転数100rpm、版面エネルギー200mJ/
cm2 、解像度2400dpiの条件で露光した。現像
処理することなく、ハイデルベルグ社製SOR−M印刷
機に装着し、市販の添加剤(IF201(2.5%)富
士写真フイルム(株)製、IF202(0.75%)富
士写真フイルム(株)製)を加えた湿し水を用いて、市
販の黒インキ(GEOS−G墨、大日本インキ化学工業
(株)製)を用いて通常どおり印刷し、良好な印刷物が
得られるまでの印刷枚数(刷り出し)と良好な印刷物が
得られた枚数(耐刷)で評価した。別に、得られた平版
印刷版用原版を、アルミクラフト紙でくるんだ状態で6
0℃、相対湿度40%の恒温恒湿倉庫中に3日間放置し
た後、上記と同様の条件で露光し印刷した。上記製造直
後と同様に、良好な印刷物が得られるまでの印刷枚数
(刷り出し)と良好な印刷物が得られた枚数(耐刷)で
評価した。結果を第2表に示す。
原版を、水冷式40W赤外線半導体レーザーを搭載した
クレオ社製トレンドセッター3244VFSにて外面ド
ラム回転数100rpm、版面エネルギー200mJ/
cm2 、解像度2400dpiの条件で露光した。現像
処理することなく、ハイデルベルグ社製SOR−M印刷
機に装着し、市販の添加剤(IF201(2.5%)富
士写真フイルム(株)製、IF202(0.75%)富
士写真フイルム(株)製)を加えた湿し水を用いて、市
販の黒インキ(GEOS−G墨、大日本インキ化学工業
(株)製)を用いて通常どおり印刷し、良好な印刷物が
得られるまでの印刷枚数(刷り出し)と良好な印刷物が
得られた枚数(耐刷)で評価した。別に、得られた平版
印刷版用原版を、アルミクラフト紙でくるんだ状態で6
0℃、相対湿度40%の恒温恒湿倉庫中に3日間放置し
た後、上記と同様の条件で露光し印刷した。上記製造直
後と同様に、良好な印刷物が得られるまでの印刷枚数
(刷り出し)と良好な印刷物が得られた枚数(耐刷)で
評価した。結果を第2表に示す。
【0182】[実施例2]
(平版印刷原版の作製)グリシジルメタクリレートに代
えて、スチレン/4−ビニルピリジンの混合物(混合モ
ル比:75/25)を用いた以外は、実施例1と同様し
て、コア/シェル構造微粒子を調製した。コア微粒子の
平均粒子径は80nm、コア/シェル構造微粒子の平均
粒子径は100nm、コア/シェルの質量比は1.05
であった。調製したコア/シェル構造微粒子を用いて、
実施例1と同様に平版印刷原版を作製した。
えて、スチレン/4−ビニルピリジンの混合物(混合モ
ル比:75/25)を用いた以外は、実施例1と同様し
て、コア/シェル構造微粒子を調製した。コア微粒子の
平均粒子径は80nm、コア/シェル構造微粒子の平均
粒子径は100nm、コア/シェルの質量比は1.05
であった。調製したコア/シェル構造微粒子を用いて、
実施例1と同様に平版印刷原版を作製した。
【0183】(平版印刷原版の評価)得られた平版印刷
原版を、実施例1と同様に製版し、印刷して評価した。
結果を第2表に示す。
原版を、実施例1と同様に製版し、印刷して評価した。
結果を第2表に示す。
【0184】[実施例3]
(平版印刷原版の作製)グリシジルメタクリレートに代
えて、メチルメタクリレート/アセトアセトキシエチル
メタクリレートの混合物(混合モル比:70/30)を
用いた以外は、実施例1と同様して、コア/シェル構造
微粒子を調製した。コア微粒子の平均粒子径は60n
m、コア/シェル構造微粒子の平均粒子径は90nm、
コア/シェルの質量比は0.42であった。調製したコ
ア/シェル構造微粒子を用いて、実施例1と同様に平版
印刷原版を作製した。
えて、メチルメタクリレート/アセトアセトキシエチル
メタクリレートの混合物(混合モル比:70/30)を
用いた以外は、実施例1と同様して、コア/シェル構造
微粒子を調製した。コア微粒子の平均粒子径は60n
m、コア/シェル構造微粒子の平均粒子径は90nm、
コア/シェルの質量比は0.42であった。調製したコ
ア/シェル構造微粒子を用いて、実施例1と同様に平版
印刷原版を作製した。
【0185】(平版印刷原版の評価)得られた平版印刷
原版を、実施例1と同様に製版し、印刷して評価した。
結果を第2表に示す。
原版を、実施例1と同様に製版し、印刷して評価した。
結果を第2表に示す。
【0186】[実施例4〜6]
(平版印刷原版の作製)第1表に示すコア/シェル構造
微粒子を調製して用いた以外は、実施例1と同様に平版
印刷原版を作製した。
微粒子を調製して用いた以外は、実施例1と同様に平版
印刷原版を作製した。
【0187】
【表1】
第1表
────────────────────────────────────
平版印刷 微粒子の構成ポリマー 平均粒径(nm) 軟化温度(℃) コア/シェ
原版 (コア/シェル) コア 全体 コア シェル ル質量比
────────────────────────────────────
実施例1 10/102 100 110 85 130 3.02
実施例2 CP1/102 80 100 110 130 1.1
実施例3 CP2/102 60 90 80 130 0.4
実施例4 CP49/CP101 80 90 95 85 2.4
実施例5 CP50/CP101 70 90 110 85 0.9
実施例6 CP51/CP101 60 80 100 85 0.7
────────────────────────────────────
【0188】(註)10:ポリグリシジルメタクリレー
ト 102:ポリメチルメタクリレート CP1:スチレン/4−ビニルピリジンコポリマー(共
重合モル比:75/25) CP2:メチルメタクリレート/アセトアセトキシエチ
ルメタクリレートコポリマー(共重合モル比:70/3
0) CP49:スチレン/2−ビニルピリジンコポリマー
(共重合モル比:80/20) CP50:スチレン/N−(イソブトキシメチル)アク
リルアミドコポリマー(共重合モル比:75/25) CP51:スチレン/p−ビニルベンジルアセトアセテ
ートコポリマー(共重合モル比:80/20) CP101:メチルメタクリレート/ブチルメタクリレ
ートコポリマー(共重合モル比:70/30)
ト 102:ポリメチルメタクリレート CP1:スチレン/4−ビニルピリジンコポリマー(共
重合モル比:75/25) CP2:メチルメタクリレート/アセトアセトキシエチ
ルメタクリレートコポリマー(共重合モル比:70/3
0) CP49:スチレン/2−ビニルピリジンコポリマー
(共重合モル比:80/20) CP50:スチレン/N−(イソブトキシメチル)アク
リルアミドコポリマー(共重合モル比:75/25) CP51:スチレン/p−ビニルベンジルアセトアセテ
ートコポリマー(共重合モル比:80/20) CP101:メチルメタクリレート/ブチルメタクリレ
ートコポリマー(共重合モル比:70/30)
【0189】(平版印刷原版の評価)得られた平版印刷
原版を、実施例1と同様に製版し、印刷して評価した。
結果を第2表に示す。
原版を、実施例1と同様に製版し、印刷して評価した。
結果を第2表に示す。
【0190】[比較例1]
(比較用微粒子の調製)1リットルの三口フラスコに、
実施例1で用いたアニオン界面活性剤の29.6質量%
水溶液4.8gおよび蒸留水540gを入れ、窒素気流
下、50℃にて250回転/分で30分攪拌した。ここ
に、ペルオキソ二硫酸カリウム0.462g、亜硫酸水
素ナトリウム0.178g、1M炭酸水素ナトリウム水
溶液5.13mLを混合し蒸留水で30mLとした溶液
と、グリシジルメタクリレート71.08gを3時間か
けて滴下した。滴下終了後、ペルオキソ二硫酸カリウム
0.231g、亜硫酸水素ナトリウム0.089g、蒸
留水10mL、1M炭酸水素ナトリウム水溶液2.56
mLを混合した溶液を加えた後、そのまま3時間攪拌を
続け、微粒子を調製した。得られた微粒子の粒子径は、
100nmであった。また、得られた微粒子水溶液2g
に飽和食塩水1gを加えた後、遠心分離機により樹脂と
水溶液を分離し、上澄みを除去後、減圧下にて乾燥し、
粉体樹脂を得た。ストレインゲージ法による同粉体樹脂
の軟化温度は、85℃であった。
実施例1で用いたアニオン界面活性剤の29.6質量%
水溶液4.8gおよび蒸留水540gを入れ、窒素気流
下、50℃にて250回転/分で30分攪拌した。ここ
に、ペルオキソ二硫酸カリウム0.462g、亜硫酸水
素ナトリウム0.178g、1M炭酸水素ナトリウム水
溶液5.13mLを混合し蒸留水で30mLとした溶液
と、グリシジルメタクリレート71.08gを3時間か
けて滴下した。滴下終了後、ペルオキソ二硫酸カリウム
0.231g、亜硫酸水素ナトリウム0.089g、蒸
留水10mL、1M炭酸水素ナトリウム水溶液2.56
mLを混合した溶液を加えた後、そのまま3時間攪拌を
続け、微粒子を調製した。得られた微粒子の粒子径は、
100nmであった。また、得られた微粒子水溶液2g
に飽和食塩水1gを加えた後、遠心分離機により樹脂と
水溶液を分離し、上澄みを除去後、減圧下にて乾燥し、
粉体樹脂を得た。ストレインゲージ法による同粉体樹脂
の軟化温度は、85℃であった。
【0191】(平版印刷原版の作製)調製したコア/シ
ェル構造微粒子を用いて、実施例1と同様に平版印刷原
版を作製した。
ェル構造微粒子を用いて、実施例1と同様に平版印刷原
版を作製した。
【0192】(平版印刷原版の評価)得られた平版印刷
原版を、実施例1と同様に製版し、印刷して評価した。
結果を第2表に示す。
原版を、実施例1と同様に製版し、印刷して評価した。
結果を第2表に示す。
【0193】
【表2】
第2表
────────────────────────────────────
平版印刷 微粒子の構成ポリマー 印刷評価(製造直後) 印刷評価(保存後)
原版 (コア/シェル) 刷り出し 耐刷枚数 刷り出し 耐刷枚数
────────────────────────────────────
実施例1 10/102 10枚 2.5万枚 10枚 2.5万枚
実施例2 CP1/102 10枚 2.0万枚 10枚 2.0万枚
実施例3 CP2/102 10枚 2.5万枚 10枚 2.5万枚
実施例4 CP49/CP101 10枚 3.0万枚 10枚 3.0万枚
実施例5 CP50/CP101 10枚 3.5万枚 10枚 3.5万枚
実施例6 CP51/CP101 10枚 3.0万枚 10枚 3.0万枚
比較例1 10(非コア/シェル) 30枚 1.5万枚 300枚 1.5万枚
────────────────────────────────────
【0194】(註)10:ポリグリシジルメタクリレー
ト 102:ポリメチルメタクリレート CP1:スチレン/4−ビニルピリジンコポリマー(共
重合モル比:75/25) CP2:メチルメタクリレート/アセトアセトキシエチ
ルメタクリレートコポリマー(共重合モル比:70/3
0) CP49:スチレン/2−ビニルピリジンコポリマー
(共重合モル比:80/20) CP50:スチレン/N−(イソブトキシメチル)アク
リルアミドコポリマー(共重合モル比:75/25) CP51:スチレン/p−ビニルベンジルアセトアセテ
ートコポリマー(共重合モル比:80/20) CP101:メチルメタクリレート/ブチルメタクリレ
ートコポリマー(共重合モル比:70/30)
ト 102:ポリメチルメタクリレート CP1:スチレン/4−ビニルピリジンコポリマー(共
重合モル比:75/25) CP2:メチルメタクリレート/アセトアセトキシエチ
ルメタクリレートコポリマー(共重合モル比:70/3
0) CP49:スチレン/2−ビニルピリジンコポリマー
(共重合モル比:80/20) CP50:スチレン/N−(イソブトキシメチル)アク
リルアミドコポリマー(共重合モル比:75/25) CP51:スチレン/p−ビニルベンジルアセトアセテ
ートコポリマー(共重合モル比:80/20) CP101:メチルメタクリレート/ブチルメタクリレ
ートコポリマー(共重合モル比:70/30)
【図1】好ましい平版印刷原版の基本構成を示す断面模
式図である。
式図である。
1 親水性支持体
2 画像形成層
21 コア/シェル構造微粒子
21c コア
21s シェル
22 光熱変換剤
23 親水性ポリマー
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
Fターム(参考) 2H025 AA01 AA02 AA11 AA12 AB03
AC08 AD01 BJ03 CC11 DA36
FA10
2H084 AA14 AE05 BB02 BB04 CC05
2H096 AA06 BA01 EA04 EA23 GA08
2H114 AA04 AA23 BA01 BA10 DA21
DA41 EA02 FA06
Claims (4)
- 【請求項1】 親水性支持体上に、化学的活性コアと熱
可塑性シェルとを有するコア/シェル構造微粒子と親水
性ポリマーとを含む画像形成層が設けられている平版印
刷原版を画像状に加熱し、シェルを軟化させてシェル同
士を融着させると共に、コア同士、コアと親水性支持
体、またはコアと親水性ポリマーとを接触させて、いず
れかを化学的に結合させる工程、そして、平版印刷原版
を水性媒体で処理し、加熱していない部分の画像形成層
を除去する工程からなる平版印刷版の製版方法。 - 【請求項2】 親水性支持体上に、化学的活性コアと熱
可塑性シェルとを有するコア/シェル構造微粒子、親水
性ポリマーおよび光熱変換剤を含む画像形成層が設けら
れている平版印刷原版をレーザー光で走査することによ
り画像状に加熱し、シェルを軟化させてシェル同士を融
着させると共に、コア同士、コアと親水性支持体、また
はコアと親水性ポリマーとを接触させて、いずれかを化
学的に結合させる工程、そして、平版印刷原版を水性媒
体で処理し、加熱していない部分の画像形成層を除去す
る工程からなる平版印刷版の製版方法。 - 【請求項3】 親水性支持体上に、化学的活性コアと熱
可塑性シェルとを有するコア/シェル構造微粒子と親水
性ポリマーとを含む画像形成層が設けられている平版印
刷原版を画像状に加熱し、シェルを軟化させてシェル同
士を融着させると共に、コア同士、コアと親水性支持
体、またはコアと親水性ポリマーとを接触させて、いず
れかを化学的に結合させる工程、平版印刷原版を印刷機
に装着して印刷機を稼動させ、湿し水、インク、または
擦りにより加熱していない部分の画像形成層を除去し、
これにより平版印刷版を製版する工程、そして、さらに
湿し水と油性インクとを供給し、製版された平版印刷版
で印刷する工程からなる平版印刷方法。 - 【請求項4】 親水性支持体上に、化学的活性コアと熱
可塑性シェルとを有するコア/シェル構造微粒子、親水
性ポリマーおよび光熱変換剤を含む画像形成層が設けら
れており、コアが化学的活性基を有するポリマーからな
り、シェルが60乃至200℃の軟化点を有するポリマ
ーからなる平版印刷原版。
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---|---|---|---|
JP2002097032A JP2003295420A (ja) | 2002-03-29 | 2002-03-29 | 平版印刷版の製版方法、平版印刷方法および平版印刷原版 |
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JP2002097032A JP2003295420A (ja) | 2002-03-29 | 2002-03-29 | 平版印刷版の製版方法、平版印刷方法および平版印刷原版 |
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ID=29239791
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JP (1) | JP2003295420A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2021084977A (ja) * | 2019-11-28 | 2021-06-03 | 花王株式会社 | 樹脂粒子分散体 |
CN115461418A (zh) * | 2020-05-05 | 2022-12-09 | 爱克发有限公司 | 用于喷墨印刷的流体套装 |
-
2002
- 2002-03-29 JP JP2002097032A patent/JP2003295420A/ja not_active Withdrawn
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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WO2021106656A1 (ja) * | 2019-11-28 | 2021-06-03 | 花王株式会社 | 樹脂粒子分散体 |
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