JP2003185835A - 真正性識別体、および真正性識別構造転写シート - Google Patents
真正性識別体、および真正性識別構造転写シートInfo
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Abstract
ラム等が形成された真正性識別構造が、真正性識別を必
要とする対象物に適用する際の耐熱性、および真正性識
別対象物に適用した後の耐熱性が不十分であった点を解
消することを課題とする。 【解決手段】 真正性識別対象物2上に、接着剤層3、
耐熱性向上層4、ホログラム等の微細凹凸5aを下面に
するコレステリック液晶層5、および保護層6を積層し
た構造とし、課題を解決することができた。これら各層
は、転写シートの構成とすることにより、転写法を利用
して真正性識別対象物2上に適用できる。
Description
回折構造の微細凹凸を有するコレステリック液晶層が、
微細凹凸側に耐熱性向上層を伴なった真正性識別構造
を、カード類、有価証券類等の情報記録媒体を代表とす
る真正性識別対象物に適用した真正性識別体、およびそ
のような真正性識別体を製造するための転写シートに関
するものである。
偽造されて使用されると、カードの保持者やカード会社
もしくは金融機関に損害を与え得る。同様に偽造が問題
となるものとしては、運転免許証、社員証、会員証等の
身分証明書、入学試験用の受験票、パスポート等、紙
幣、商品券、ポイントカード、株券、証券、抽選券、馬
券、預金通帳、乗車券、通行券、航空券、種々の催事の
入場券、遊戯券、交通機関や公衆電話用のプリペイドカ
ード等がある。これらはいずれも、経済的、もしくは社
会的な価値を有する情報を保持した情報記録媒体であ
り、偽造による損害を防止する目的で、そのものの真正
性を識別できる機能を有することが望まれる。
も、高額商品、例えば、高級腕時計、高級皮革製品、貴
金属製品、もしくは宝飾品等の、しばしば、高級ブラン
ド品と言われるもの、または、それら高額商品の収納箱
やケース等も偽造され得るものである。また、量産品で
も有名ブランドのもの、例えば、オーディオ製品、電化
製品等、または、それらに吊り下げられるタグも、偽造
の対象となりやすい。さらに、著作物である音楽ソフ
ト、映像ソフト、コンピュータソフト、もしくはゲーム
ソフト等が記録された記憶媒体、またはそれらのケース
等も、やはり偽造の対象となり得る。これらのものも偽
造による損害を防止する目的で、そのものの真正性を識
別できる機能を有することが望まれる。
(総称して、真正性識別対象物と言う。)の偽造を防止
する目的で、その構造の精密さから、製造上の困難性を
有すると言われるホログラムを真正性の識別可能なもの
(真正性識別構造と言う。)として適用することが多く
行なわれている。しかしながら、ホログラムの製造方法
自体は知られており、ホログラムが単に目視するだけの
ホログラムであるときは、もともと精密なものであるだ
けに、真正なホログラムと偽造されたホログラムとの区
別は困難である。
紫外線硬化性樹脂を用いて形成され、その硬化した樹脂
の層の表面に、ホログラムの干渉縞が微細凹凸として形
成されたものであるが、近年、コレステリック液晶を含
有する層が左円偏光もしくは右円偏光のいずれかを反射
する性質を有し、従って、左円偏光板もしくは右円偏光
板のいずれかを用いた場合にのみ、色が見える特性を有
し、また、層の表面にホログラム等の微細凹凸を形成し
得ることから、コレステリック液晶層をホログラム等の
光回折構造を形成するための層として利用した真正性識
別構造は、合成樹脂、もしくは紫外線硬化性樹脂を用い
た場合にくらべて、偽造防止に対する抵抗性が増すので
好ましい。
層からなる真正性識別構造は、一般的なホログラム形成
用材料を用いて得られる真正性識別構造にくらべると、
耐熱性が不十分であり、特に、ホログラム等の光回折構
造を、熱と圧力をかけつつ情報記録媒体に適用するホッ
トスタンプ方式による適用する際には、ホログラム等の
光回折構造の微細凹凸が加熱や加圧によって消失しやす
く、コレステリック液晶層からなる真正性識別構造が適
用された真正性識別対象物も、真正性識別構造の耐熱性
が不十分なものとなりやすい。
来、コレステリック液晶層からなるホログラム等の光回
折構造が形成された真正性識別構造が、真正性識別対象
物に適用する際の耐熱性、および真正性識別対象物に適
用した後の耐熱性が不十分であった点を解消することを
課題とする。
等の光回折構造が微細凹凸として形成されたコレステリ
ック液晶層からなる真正性識別構造の微細凹凸側に、耐
熱性向上層を積層して付与することにより、上記の課題
を解決することができた。
要に応じて接着剤層を介し、少なくとも、耐熱性向上
層、および前記真正性識別対象物側の面に光回折構造の
微細凹凸を有するコレステリック液晶層が順に積層され
たことを特徴とする真正性識別構造を備えた真正性識別
体に関するものである。第2の発明は、第1の発明にお
いて、前記コレステリック液晶層の前記耐熱性向上層が
積層されたのとは反対側に保護層が積層されたことを特
徴とする真正性識別構造を備えた真正性識別体に関する
ものである。第3の発明は、第1または第2の発明にお
いて、前記真正性識別構造を備えた真正性識別対象物が
情報記録媒体であることを特徴とする真正性識別構造を
備えた真正性識別体に関するものである。第4の発明
は、離型性シート状基材の離型性面に転写層が積層され
ており、前記転写層は、前記離型性シート状基材側か
ら、少なくとも、保護層、前記離型性シート状基材側と
は反対側の面に光回折構造の微細凹凸を有するコレステ
リック液晶層、耐熱性向上層、および接着剤層が順に積
層した構造からなるものであることを特徴とする真正性
識別構造転写シートに関するものである。第5の発明
は、第4の発明において、前記コレステリック液晶層の
前記離型性シート状基材側に保護層が積層されたことを
特徴とする真正性識別構造転写シートに関するものであ
る。
面図である。本発明の真正性識別体1は、基本的には、
真正性識別対象物2上に、接着剤層3、耐熱性向上層
4、コレステリック液晶層5、および保護層6が順に積
層された積層構造を有するものであり、コレステリック
液晶層5は、真正性識別対象物2側の面に光回折構造の
微細凹凸5aを有するものである。
おいて挙げた情報記録媒体やその他の種々の物品であ
る。従って、素材としては、物品によって、プラスチッ
ク、布、紙、木、皮革、金属、もしくは石材等、または
それらの任意の組み合わせからなる複合体であり得る。
ときは、基本的には、紙、プラスチック、もしくは紙と
プラスチックの複合体を素材とすることが多い。プラス
チック単独の場合には、プラスチックフィルム、プラス
チックシート、もしくはプラスチック板の単層、もしく
は複層の積層体を素材とすることができる。
ニル、ポリエチレンテレフタレート(以下、PETと略
称することがある。)もしくはポリエチレンナフタレー
ト等のポリエステル、ポリカーボネート、ポリアミド、
ポリイミド、セルロースジアセテート、セルローストリ
アセテート、ポリスチレン系、アクリル、ポリプロピレ
ン、ポリエチレン、ABSなどの樹脂が挙げられる。
は、非晶質ポリエステル樹脂(例えば、イーストマンコ
ダック社製、「PET−G」)が好ましく、さらに耐熱
性を要する場合には、非晶質ポリエステル樹脂とポリカ
ーボネート樹脂のブレンド樹脂が好ましい。この「PE
T−G」としては、例えば、ジカルボン酸成分がテレフ
タル酸であり、ジオール成分がエチレングリコール/
1,4−シクロヘキサンジメタノール=70/30(質
量比)のものがある。
である場合、その厚みを0.76mmとすることが好ま
しい。例えば、厚み280μmの白色プラスチックシー
トをコアシートとして、これを2枚重ね、重ねた両側に
それぞれ厚み100μmの透明プラスチックシートをオ
ーバーシートとして重ねて、熱プレスなどにより積層す
る4層構成の基材(合計厚み0.76mm)を用いると
よい。
ときは、通常、種々の文字、図柄等、または着色が、印
刷、もしくはコーティング、または転写等によって、施
されていてもよい。クレジットカードを例にとっても、
文字としては、カードの名称、発行会社名、もしくは内
容自体はエンボスにより表示されることが多い氏名、有
効期限の項目名、注意書等があり得る。図柄としては、
カードの種類を特徴付ける図柄やキャクター等があり得
る。
系、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体系、アクリル系、
ポリエステル系、ポリウレタン系、ポリアミド系、もし
くはゴム変性物系等の樹脂単独、もしくは2種以上の混
合系のものの中から、耐熱性向上層4および真正性識別
対象物2を構成する素材に応じて選択し使用する。
向を固定化した高分子フィルム、もしくはコレステリッ
ク液晶を適宜な樹脂中に分散したもの等、光学的に選択
反射性及び円偏光選択性を示す媒体すべてを用いること
が可能であるが、特に液晶配向を固定化した高分子フィ
ルムを好適に用いることができる。
としては、低分子液晶をコレステリック配向させた後、
光反応又は熱反応などで低分子液晶を架橋して配向固定
化した高分子フィルムをあげることができる。また、他
の例としては、側鎖型又は主鎖型のサーモトロピック高
分子液晶を液晶状態でコレステリック配向させた後、液
晶転移点以下の温度に冷却して、配向状態を固定化して
作製した高分子フィルムをあげることができる。さら
に、側鎖型又は主鎖型のリオトロピック高分子液晶を溶
液中でコレステリック配向させた後、溶媒を徐々に除去
することによって配向状態を固定化して作製した高分子
フィルムを用いることもできる。
高分子液晶の例としては、側鎖に液晶形成基を有するポ
リアクリレート、ポリメタクリレート、ポリシロキサ
ン、ポリマロネートなどの側鎖型ポリマー、主鎖に液晶
形成基をもつポリエステル、ポリエステルアミド、ポリ
カーボネート、ポリアミド、ポリイミドなどの主鎖型ポ
リマーをあげることができる。必要に応じて、コレステ
リック液晶を電離放射線硬化性樹脂中に配合した、コレ
ステリック液晶含有の電離放射線硬化性樹脂組成物を適
宜な基材に塗付し、塗膜に電離放射線を照射することに
よりフィルム化してもよい。塗布したときの基材を剥が
せるように構成することもできる。
リック液晶は、液晶分子の配向構造が膜厚方向に螺旋を
描くように規則的なねじれを有しており、螺旋のピッチ
P(液晶分子が360°回転するのに必要な膜厚)と入
射光の波長λがほぼ等しい場合に、(1)入射光のうち
特定の波長帯域内にある光を強く反射する選択反射性、
および(2)円偏光選択性の、2つの光学的性質を示
す。
定されて生じるため、コレステリック液晶のピッチPを
適切に選択することにより、反射光は色純度の高い有彩
色となる。また、入射光が法線に対し斜めに入射する場
合、ピッチPが見かけ上減少することから、中心波長λ
sは短波長側へ移行し、帯域幅Δλは減少する。この現
象は、中心波長λsが短波長側へ移行することからブル
ーシフトと呼ばれ、目視でも容易に識別可能である。た
とえば、法線方向(0°の入射位置)から観察して赤色
に呈色するコレステリック液晶の反射色は、視野角を大
きくして行くにつれ、オレンジ色、黄色、緑色、青緑
色、青色と順次変化するように観察される。
の円偏光だけを反射し、これと回転方向が反対の円偏光
を透過する性質をいう。入射光のうちコレステリック液
晶の配向構造のねじれ方向と同方向の円偏光成分は反射
され、その反射光の回転方向も同一方向となるのに対
し、逆方向に回転する円偏光成分は透過する点がコレス
テリック液晶に特有な特異な性質である。例えば、右ね
じれ構造を有するコレステリック液晶の場合、右円偏光
を反射し、かつ反射光は右円偏光のままであり、左円偏
光は透過することになる。従って、コレステリック液晶
層5は、入射した光のうち、左円偏光又は右円偏光のい
ずれか一方の光のみを反射させて反射光を生成する層で
ある。
は、上記の2つの光学的性質を有することに加えて、真
正性識別対象物2側の面に、ホログラム等の光回折構造
の微細凹凸5aを有している。この微細凹凸5aの形状
自体は、ホログラム等の光回折構造における各回折格子
を位相変調して得られるものである。
レステリック液晶層5の光学的性質を説明するための断
面図である。真正性識別体1のコレステリック液晶層5
に、その法線に対し斜めの方向(図では、法線に対して
約40°の方向)から入射した入射光Iは、コレステリ
ック液晶層5の保護層6側の表面で正反射して、反射光
Irを生じ、また、反射光Irと同一の円偏光の光が、
微細凹凸5aにより、反射光Irとは異なる方向の回折
光Idを生じ、微細凹凸5aがホログラムにおける各回
折格子を位相変調して得られたものであるときは、ホロ
グラム像を生じる。
レステリック液晶層5は、その保護層6側の表面および
コレステリック液晶層5の内部において、左円偏光又は
右円偏光のいずれか一方の光のみを反射させ、反射光を
生成する。反射光と同一の円偏光の光は、更に微細凹凸
5aまで達し、微細凹凸5aにおいて反射光と異なる方
向の回折光Idを生じ、ホログラム像が形成される。
5の保護層6側の表面で正反射して生じる反射光Irを
検出器を用いて検出する際に、円偏光板を介するか、も
しくは直線偏光板と位相差フィルムを介することによ
り、例えば、コレステリック液晶層5を構成するコレス
テリック液晶が右ねじれ構造を有する場合、右円偏光板
を使用すれば、光が透過して検出器により光が検出さ
れ、左円偏光板を使用すれば、光が吸収されて検出器に
より光が検出されないため、反射光Irが右円偏光であ
ることが分かる。
性を有するので、光源側もしくは検出器側に特定波長域
を透過するバンドパスフィルターを介することにより、
コレステリック液晶層5特有の反射特性を有するかどう
かの判定も行なえる。
なる方向に回折した回折光Idによるホログラム像を検
出器を用いて検出することができる。
液晶層5の微細凹凸5aを埋めて、コレステリック液晶
層5にもたらされる熱や圧力によって、微細凹凸5aが
消失しやすい点を解消する目的で積層するものであり、
この層の積層により、熱や圧力がコレステリック液晶層
5に加わっても、微細凹凸5aが消失せず、コレステリ
ック液晶層5の耐熱性が向上したものとみなせるもので
ある。この目的を果たすため、耐熱性向上層は、コレス
テリック液晶層5よりも耐熱性の高い材料で構成するこ
とが好ましい。この場合の耐熱性向上層4としては、例
えば軟化点がコレステリック液晶層の軟化点よりも高い
樹脂を用いて構成したものであることが好ましいが、よ
り現実的には、コレステリック液晶層5が200℃に達
しても、コレステリック液晶層5の微細凹凸5aが消失
しない樹脂であることが好ましい。
しては熱硬化性樹脂の硬化物を挙げることができ、ま
た、電離放射線硬化性樹脂の硬化物を挙げることもでき
る。電離放射線硬化性樹脂とは、紫外線硬化性樹脂もし
くは電子線硬化性樹脂である。
樹脂としては、ユリア樹脂、メラミン樹脂、フェノール
樹脂、レゾルシノール樹脂、フラン樹脂、エポキシ樹
脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリ
イミド、ポリアミドイミド、ポリベンツイミダゾール、
もしくはポリベンゾチアゾール等を挙げることができ
る。
線硬化性樹脂としては、分子中に重合性不飽和結合また
は、エポキシ基を有するプレポリマー、オリゴマー、及
び/又はモノマーを適宜に混合した電離放射線硬化性樹
脂組成物を使用することが好ましい。電離放射線とは、
電磁波又は荷電粒子線のうち分子を重合又は架橋し得る
エネルギー量子を有するものを指し、通常は、紫外線又
は電子線を指す。
マー、オリゴマーの例としては、不飽和ジカルボン酸と
多価アルコールの縮合物等の不飽和ポリエステル類、ポ
リエステルメタクリレート、ポリエーテルメタクリレー
ト、ポリオールメタクリレート、メラミンメタクリレー
ト等のメタクリレート類、ポリエステルアクリレート、
エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエ
ーテルアクリレート、ポリオールアクリレート、メラミ
ンアクリレート等のアクリレート、カチオン重合型エポ
キシ化合物が挙げられる。
の例としては、スチレン、α−メチルスチレン等のスチ
レン系モノマー、アクリル酸メチル、アクリル酸−2−
エチルヘキシル、アクリル酸メトキシエチル、アクリル
酸ブトキシエチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸メト
キシブチル、アクリル酸フェニル等のアクリル酸エステ
ル類、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタ
クリル酸プロピル、メタクリル酸メトキシエチル、メタ
クリル酸エトキシメチル、メタクリル酸フェニル、メタ
クリル酸ラウリル等のメタクリル酸エステル類、アクリ
ル酸−2−(N,N−ジエチルアミノ)エチル、アクリ
ル酸−2−(N,N−ジメチルアミノ)エチル、アクリ
ル酸−2−(N,N−ジベンジルアミノ)メチル、アク
リル酸−2−(N,N−ジエチルアミノ)プロピル等の
不飽和置換の置換アミノアルコールエステル類、アクリ
ルアミド、メタクリルアミド等の不飽和カルボン酸アミ
ド、エチレングリコールジアクリレート、プロピレング
リコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジア
クリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレー
ト、トリエチレングリコールジアクリレート等の化合
物、ジプロピレングリコールジアクリレート、エチレン
グリコールジアクリレート、プロピレングリコールジメ
タクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート
等の多官能性化合物、及び/又は分子中に2個以上のチ
オール基を有するポリチオール化合物、例えばトリメチ
ロールプロパントリチオグリコレート、トリメチロール
プロパントリチオプロピレート、ペンタエリスリトール
テトラチオグリコレート等が挙げられる。
ノマーとしては、以上の化合物を必要に応じて、1種若
しくは2種以上を混合して用いるが、電離放射線硬化性
樹脂組成物に通常の塗布適性を与えるために、前記のプ
レポリマー又はオリゴマーを5重量%以上、前記モノマ
ー及び/又はポリチオール化合物を95重量%以下とす
るのが好ましい。
ときのフレキシビリティーが要求されるときは、モノマ
ー量を減らすか、官能基の数が1又は2のアクリレート
モノマーを使用するとよい。電離放射線硬化性樹脂組成
物を硬化させたときの耐摩耗性、耐熱性、耐溶剤性が要
求されるときは、官能基の数が3つ以上のアクリレート
モノマーを使う等、電離放射線硬化性樹脂組成物の設計
が可能である。
ドロキシアクリレート、2−ヘキシルアクリレート、フ
ェノキシエチルアクリレートが挙げられる。官能基が2
のものとして、エチレングリコールジアクリレート、
1,6−ヘキサンジオールジアクリレートが挙げられ
る。官能基が3以上のものとして、トリメチロールプロ
パントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアク
リレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、
ジペンタエリスリトールヘキサアクレリート等が挙げら
れる。
線照射により行われるときは、光重合開始剤や光重合促
進剤を添加する。光重合開始剤としては、ラジカル重合
性不飽和基を有する樹脂系の場合は、アセトフェノン
類、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、ベンゾイ
ン、ベンゾインメチルエーテル等を単独又は混合して用
いる。また、カチオン重合性官能基を有する樹脂系の場
合は、光重合開始剤として、芳香族ジアゾニウム塩、芳
香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタセロ
ン化合物、ベンゾインスルホン酸エステル等を単独又は
混合物として用いる。光重合開始剤の添加量は、電離放
射線硬化性樹脂組成物100重量部に対し、0.1〜1
0重量部である。電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化が
電子線照射により行われるときは、光重合開始剤や光重
合促進剤を添加しなくてよい。
が、黒色等の暗色の染料もしくは顔料の配合により、黒
色等の暗色とすると、コレステリック液晶層5の微細凹
凸5aにより生じるホログラム等の光回折構造の視認性
が増して好ましい。なお、耐熱性向上層4の厚みとして
は、0.1μm〜5μmが好ましく、より好ましくは
0.5μm〜2μm程度である。
テリック液晶層5の微細凹凸5aがある側とは反対側の
表面に積層され、コレステリック液晶層5の表面に傷が
着いたり、摩耗することを防止する、物理的耐久性の向
上の目的、または、汚れや、水分、もしくは種々の化学
物質から保護する、化学的耐久性の向上の目的で設けら
れる。保護層6はまた、耐熱性保護層5が果たすほどの
効果ではないが、コレステリック液晶層5の微細凹凸が
熱や圧力により消失することを抑制し得る効果も有する
ものである。勿論、コレステリック液晶層5およびそれ
が有する微細凹凸5aの機能を発揮する意味だけから
は、積層しなくてもよいが、真正性識別体1を長期に渡
って使用する際には、積層されていることが好ましい。
明した耐熱性向上層4を構成するためのものと同様、熱
硬化性樹脂の硬化物、または、電離放射線硬化性樹脂の
硬化物を挙げることができ、さらには、一般的な熱可塑
性樹脂を用いることもでき、層の形成法も耐熱性向上層
4の場合と同様である。保護層6の厚みとしては、0.
1μm〜10μm、好ましくは0.5μm〜5μm程度
とするとよい。
は、ロジン変成マレイン酸樹脂、ニトロセルロース、酢
酸セルロース、酪酢酸セルロース、エチルセルロース、
飽和ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、塩化ゴム、環
化ゴム、ポリアミド樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、塩化ビ
ニル/酢酸ビニル共重合樹脂、エチレン/酢酸ビニル共
重合樹脂、塩素化ポリプロピレン、もしくはアクリル樹
脂を挙げることができる。
象物2を基材とし、その上に、接着剤層3、耐熱性向上
層4、コレステリック液晶層5、および保護層6を順に
積層することにより形成することができるが、コレステ
リック液晶層5の真正性識別対象物2側(耐熱性向上層
4側でもある。)に微細凹凸5aを形成する必要上、逆
の順序で積層する方が好ましい。
能な連続したフィルムとして得ることもできるので、コ
レステリック液晶層5の片面には保護層6を積層し、反
対側の面には微細凹凸5aを形成し、形成された微細凹
凸5aを覆うようにして耐熱性向上層4、および接着剤
層3を積層した積層体を形成しておき、得られた積層体
を、真正性識別対象物2と、接着剤層3側が真正性識別
対象物2側になるよう向かい合わせて、両者間に熱と圧
力をかけて接着させ、積層することができる。
微細凹凸5aを有するコレステリック液晶層5、耐熱性
向上層4、および接着剤層3を積層した積層体を転写層
(真正性識別構造でもある。)とする転写シートとして
構成し、このような転写シートを用いて、真正性識別対
象物2上に、転写層をその接着剤層3を利用して積層す
ることもできる。
可能とした真正性識別構造転写シートを示すための断面
図である。本発明の真正性識別構造転写シート11は、
離型性シート上基材12の一方の面の離型性面12a
(図3では下面側)に、保護層6、コレステリック液晶
層5、耐熱性向上層4、および接着剤層3からなる転写
層13が順に積層されており、コレステリック液晶層5
の離型性シート状基材12側とは反対側の面に微細凹凸
5aを有する構造からなるものである。
ト状基材12としては、ポリカーボネート、ポリビニル
アルコール、ポリスルホン、ポリエチレン、ポリプロピ
レン、ポリスチレン、ポリアリレート、ポリエチレンテ
レフタレート、トリアセチルセルロース、ジアセチルセ
ルロース、もしくはポリエチレン−ビニルアルコール共
重合体等の樹脂のフィルムであって、一般的な転写シー
トのベースとして使用するものを使用することができ、
厚みとしては、2〜100μm程度が使いやすいが、こ
の範囲外のものでもよい。
3、通常は、保護層6を構成する素材との関係で、必要
に応じ、離型性層を設けることにより離型性面を構成し
て使用する。また、保護層6を構成する素材との関係
で、保護層6を形成する側の面が適度に離型性を有し、
即ち、適度な接着力を有するけれども、転写層13の剥
離が円滑に行なえる離型性面である場合には、離型性層
を設けずに使用する。
与する目的で設ける離型性層は、樹脂のフィルムとよく
密着し、適宜な離型性面を与える樹脂で構成するか、も
しくは、そのような樹脂に、さらにシリコーン樹脂、シ
リコーンオイル、ワックス等を剥離性を向上させる目的
で添加して構成したものであり、通常、1〜5μm程度
の厚みに形成する。
12a上には、保護層6を積層する。用いる素材は既に
述べた通りであり、塗布に適した適宜な粘度になるよう
調製した後、公知のコーティング方法により塗布し、塗
布後の塗膜に、必要に応じ、電離放射線を照射すること
により、離型性シート状基材12の離型性面12a上
に、保護層6を積層することができる。
対側の面上には、コレステリック液晶層5を積層する。
コレステリック液晶層5を積層するには、既に説明した
素材を用い、塗付および乾燥することにより積層しても
よく、もしくは、別に製造したコレステリック液晶フィ
ルムを接着剤を用いる等により、ラミネートすることに
より積層してもよい。または、コレステリック液晶層の
積層を、コレステリック液晶を電離放射線硬化性樹脂中
に配合した、コレステリック液晶含有の電離放射線硬化
性樹脂組成物を用いた塗布によって行なってもよい。
基材側とは反対の側の面には、ホログラム等の光回折構
造の微細凹凸5aを形成する。微細凹凸5aを形成する
には、コレステリック液晶層5が熱可塑性であるとき
は、所望の微細凹凸5aとは逆型形状を有する凹凸型を
熱および圧力を伴って、押し付けることにより、コレス
テリック液晶層5に、ホログラム等の光回折構造の微細
凹凸5aを形成することが好ましい。
液晶を電離放射線硬化性樹脂中に配合した、コレステリ
ック液晶含有の電離放射線硬化性樹脂組成物等の電離放
射線硬化性組成物を用いて形成される場合には、耐熱保
護層5を積層した離型性シート状基材12と凹凸型と
を、そのような電離放射線硬化性組成物を介して密着さ
せ、そのままの状態で、電離放射線硬化性組成物に対し
て電離放射線を照射し、硬化させることにより、微細凹
凸5aを形成することができる。
化物で構成され、コレステリック液晶層5の形成の際
に、コレステリック液晶含有の電離放射線硬化性樹脂組
成物等の電離放射線硬化性組成物を使用するときは、保
護層6が完全に硬化した後に、コレステリック液晶層5
を形成しようとすると、保護層6とコレステリック液晶
層5との間の接着力が十分向上しないことがあり得る。
そこで、保護層6の硬化を、未だ、表面の接着性が失わ
れない程度にハーフキュア状態で止めておき、コレステ
リック液晶を電離放射線硬化性樹脂中に配合した、コレ
ステリック液晶含有の電離放射線硬化性樹脂組成物等の
電離放射線硬化性組成物を、ハーフキュア状態の保護層
6上に塗布し、下層の保護層6の硬化を兼ねて、上層の
コレステリック液晶層5を硬化させると、両層共、硬化
させることができる上、両層間の接着力を十分に確保す
ることができるので、好ましい。
平面状のものでも、ローラ状のものでもよい。凹凸型の
片面の微細凹凸は、ホログラムや回折格子パターン(こ
れらを総称して光回折構造と言う。)が有する回折格子
を位相変調して得られたものをオリジナル型として作ら
れる。例えば、ホログラムを撮影する際に、フォトレジ
スト層に対して干渉露光を行ない、現像を行なえば、格
子が凹凸に変換されたレリーフ型を得ることができるの
で、これをオリジナル型とすることができる。また、ホ
ログラムや回折格子パターンを計算によって求めるとき
は、位相の情報を型の深さの情報に変換したデータを基
に、フォトマスクを露光、現像することにより、レリー
フ型を得ることができるので、これをオリジナル型とす
ることができる。
し行なう等により、複製用型を製造し、あるいは、縦横
等に並べる等して、同じ微細凹凸を一度に広い面積に押
し付けることができるよう、好ましくは殖版して、平板
状、もしくはローラ状の凹凸型として、使用する。
設けられた側を覆って、耐熱性向上層4を積層する。熱
硬化性樹脂を用いて耐熱性向上層4を形成するには、主
剤と硬化剤等を混合して、塗布に適した熱硬化性樹脂組
成物を調製して、公知の塗布手段によりコレステリック
液晶層5の微細凹凸5a上に塗布し、塗布後、必要に応
じ、加温して硬化させる。また、電離放射線硬化樹脂を
用いて耐熱性向上層4を形成するには、プレポリマー、
オリゴマー、及び/又はモノマーを、必要に応じて、光
重合開始剤や光重合促進剤を添加して混合して得た電離
放射線硬化性樹脂組成物を、公知の塗布手段により塗布
し、塗布後の塗膜に電離放射線を照射することにより行
なう。コレステリック液晶層5が電離放射線硬化樹脂の
硬化物で構成される場合には、塗布の際の下層となるコ
レステリック液晶層5をハーフキュアさせておき、耐熱
性向上層4を形成する際の電離放射線照射の際に、下層
となる保護層6および/またはコレステリック液晶層5
を完全硬化させるとよい。保護層6およびコレステリッ
ク液晶層5の両方が電離放射線硬化樹脂の硬化物で構成
される場合には、いずれの層もハーフキュア状態として
おき、耐熱性向上層4を形成する際の電離放射線照射の
際に、下層となる保護層6およびコレステリック液晶層
5の両方を完全硬化させるとよい。
積層する。接着剤層3を構成する素材としては、既に説
明したもの用い、耐熱性向上層4上に直接に塗付する
か、もしくは剥離紙(通称、「セパ紙」)に塗布したも
のをラミネートすることによってもよい。この剥離紙
は、真正性識別構造を真正性識別対象物に適用する際に
は、事前に剥がす。
着剤層3側を真正性識別対象物2側に向けて重ね、重ね
合せたものを、平板状、もしくはローラ状の熱プレスを
用いて熱および圧力をかけることにより、接着剤層3を
賦活して接着させ、その後、離型性シート状基材12を
剥がすことにより、上から保護層6、保護層6側とは反
対側の面に光回折構造の微細凹凸5aを有するコレステ
リック液晶層5、耐熱性向上層4、および接着剤層3と
からなる真正性識別構造を、真正性識別対象物2上に転
写することができる。
が、説明した各層の間には、通常、この分野で付加され
得る層が追加されたり、処理が追加されてもよい。例え
ば、接着性を向上させるためのコロナ放電処理、アンカ
ー層もしくはプライマー層の積層等である。また、この
明細書では、離型層はプラスチックフィルムに密着して
おり、離型層と耐熱性保護層の間で剥離することを念頭
に説明したが、離型層と耐熱性保護層との間に、離型性
を調節するための層を追加して、その層と離型層との間
で剥離するよう構成することもできる。また、真正性識
別体や接着性識別構造転写シートには、外から見える限
り、適宜なデザインの図柄、文字を介在させたり、着色
を施してもよい。特に、接着剤層3とコレステリック液
晶層5の間に着色層、特に暗色もしくは濃色の着色層を
介在させてもよい。
もののすべてが含まれるが、真正性識別対象物2が工業
的に利用される可能性の高い情報記録媒体である場合、
先に述べたように、印刷、エンボスがなされていてもよ
いことは勿論だが、用途に応じて、種々の要素、主に、
情報記録手段が付加されていてもよい。そのような情報
記録手段としては、磁気記録層、光学記録層(ホログラ
ムをも含む。)、感熱記録層、感熱発消色層、昇華方式
の記録用の受像層、署名のための筆記性層、またはIC
モジュール、もしくはLSIモジュール、等である。こ
れらは、単独、もしくは二以上、適宜に選択して付加さ
れ得る。
剥離性保護層およびコレステリック液晶層が積層された
積層フィルム(日石三菱(株)製、「CHSフィル
ム」)のコレステリック液晶層に、エンボスホログラム
のマスター型を用い、加熱ロールおよび加圧ロールから
なるプレス装置を利用して、ホログラムの凹凸を形成し
た。次に、ホログラムの凹凸が形成された面上の全面
に、二液硬化型ポリウレタン樹脂系バインダの墨インキ
(ザ・インクテック(株)製、「XEL検知マーク墨」
/「XEL(D)硬化剤(イソシアネート化合物)」=
100/5の混合物)を用い、乾燥時塗付量が1g/m
2になるよう塗布した後、50°の温度で36時間エー
ジングを行なって、耐熱性向上層を形成した。さらに、
耐熱性向上層上の全面に、塩化ビニル/酢酸ビニル共重
合体系樹脂を含むインキ(ザ・インクテック(株)製の
「HS−ASV」/昭和インク工業(株)製の「HS−
31」=10/3の混合物)を用い、乾燥時塗付量が3
g/m2になるよう塗布して、ヒートシール層を形成
し、転写シートとした。このようにして得られた転写シ
ートを、プラスチックカード上に、ヒートシール層側が
接するようにして重ねて通常の条件にて熱転写し、フィ
ルムを剥離したところ、プラスチックカード上に転写さ
れたホログラムが十分に視認でき、ホログラムが熱転写
で損なわれることがなかった。
象物上に積層された、ホログラム等の微細凹凸を有する
コレステリック液晶層の微細凹凸のある側に耐熱性向上
層が積層されているので、不用意に熱や圧力が加わって
も、ホログラム等の微細凹凸が消失しにくく、ホログラ
ム等の微細凹凸を有するコレステリック液晶層の真正性
識別機能が保持され、従って、真正性識別機能の熱や圧
力に対する耐久性が向上した真正性識別体を提供するこ
とができる。請求項2の発明によれば、請求項1の発明
の効果に加え、コレステリック液晶層の微細凹凸の無い
側に保護層が積層されているので、真正性識別構造の表
面の物理的および化学的耐久性が高い真正性識別体を提
供することができる。請求項3の発明によれば、請求項
1または請求項2の発明の効果に加え、真正性識別対象
物が情報記録媒体であるので、情報記録媒体が持つ、経
済的、もしくは社会的な価値を有する情報の真正性が、
より高度な水準で確保された真正性識別体を提供するこ
とができる。請求項4の発明によれば、ホログラム等の
微細凹凸を有するコレステリック液晶層の微細凹凸側転
に耐熱性向上層が積層されているので、この転写シート
を用いて転写を行なえば、熱や圧力が加わっても、ホロ
グラム等の微細凹凸が消失しにくく、ホログラム等の微
細凹凸を有するコレステリック液晶層の真正性識別機能
が保持され、従って、真正性識別機能の耐性が向上した
真正性識別構造を真正性識別対称物上に適用し得る真正
性識別構造転写シートを提供することができる。請求項
5の発明によれば、請求項4の発明の効果に加え、転写
後の最表層となり得る保護層が積層されたことにより、
物理的および化学的耐久性が高められた真正性識別構造
を真正性識別対称物上に適用し得る真正性識別構造転写
シートを提供することができる。
を示す断面図である。
る。
Claims (5)
- 【請求項1】 真正性識別対象物上に、必要に応じて接
着剤層を介し、少なくとも、耐熱性向上層、および前記
真正性識別対象物側の面に光回折構造の微細凹凸を有す
るコレステリック液晶層が順に積層されたことを特徴と
する真正性識別構造を備えた真正性識別体。 - 【請求項2】 前記コレステリック液晶層の前記耐熱性
向上層が積層されたのとは反対側に保護層が積層された
ことを特徴とする請求項1記載の真正性識別構造を備え
た真正性識別体。 - 【請求項3】 前記真正性識別構造を備えた真正性識別
対象物が情報記録媒体であることを特徴とする請求項1
または請求項2記載の真正性識別構造を備えた真正性識
別体。 - 【請求項4】 離型性シート状基材の離型性面に転写層
が積層されており、前記転写層は、前記離型性シート状
基材側から、少なくとも、保護層、前記離型性シート状
基材側とは反対側の面に光回折構造の微細凹凸を有する
コレステリック液晶層、耐熱性向上層、および接着剤層
が順に積層した構造からなるものであることを特徴とす
る真正性識別構造転写シート。 - 【請求項5】 前記コレステリック液晶層の前記離型性
シート状基材側に保護層が積層されたことを特徴とする
請求項4記載の真正性識別構造転写シート。
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