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JP2003045235A - Anisotropy conductive paste - Google Patents

Anisotropy conductive paste

Info

Publication number
JP2003045235A
JP2003045235A JP2001227851A JP2001227851A JP2003045235A JP 2003045235 A JP2003045235 A JP 2003045235A JP 2001227851 A JP2001227851 A JP 2001227851A JP 2001227851 A JP2001227851 A JP 2001227851A JP 2003045235 A JP2003045235 A JP 2003045235A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
conductive paste
anisotropic conductive
mass
softening point
epoxy resin
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2001227851A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP4627125B2 (en
Inventor
Yasushi Mizuta
康司 水田
Tatsuji Murata
達司 村田
Makoto Nakahara
真 中原
Takatoshi Kira
隆敏 吉良
Daisuke Ikesugi
大輔 池杉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsui Chemicals Inc
Sharp Corp
Original Assignee
Mitsui Chemicals Inc
Sharp Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsui Chemicals Inc, Sharp Corp filed Critical Mitsui Chemicals Inc
Priority to JP2001227851A priority Critical patent/JP4627125B2/en
Publication of JP2003045235A publication Critical patent/JP2003045235A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4627125B2 publication Critical patent/JP4627125B2/en
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Expired - Lifetime legal-status Critical Current

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  • Non-Insulated Conductors (AREA)
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an anisotropy conductive paste that is superior in storage stability and dispenser painting work performance and does not have occurrence of resin fall-out, gas and spread at the thermo-compression bonding, and the hardened substance has high reliability of adhesion and connection at high temperature and high humidity, and has a good repair performance. SOLUTION: The anisotropy paste contains (I) 30-80 mass % of epoxy resin, (II) 10-50 mass % of amine system hardening agent, (III) 5-25 mass % of a high softening point particulate, (IV) 97-99.9 volume % of resin composite containing 5-25 mass % of poly-silicone, and (V) 0.1-3 volume % of conductive particles.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶ディスプレ
イ、エレクトロルミネッセンスディスプレイ、プラズマ
ディスプレイなどのフラットパネルディスプレイ、電荷
結合素子(CCD、Charge Coupled Device)、および
CMOS(Complementary Metal OxideSemiconductor)
などの半導体デバイスに使用される電気回路の微細な配
線の接続に用いられる異方性導電ペーストおよびそれを
用いた電気回路配線の接続方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a flat panel display such as a liquid crystal display, an electroluminescence display, a plasma display, a charge coupled device (CCD), and a CMOS (Complementary Metal Oxide Semiconductor).
The present invention relates to an anisotropic conductive paste used for connecting fine wiring of an electric circuit used for a semiconductor device, and a method for connecting electric circuit wiring using the anisotropic conductive paste.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、テレビジョン受信機、パーソナル
コンピューター、携帯電話器などに使用されている液晶
ディスプレイなどは、高精細化、小型化されており、そ
れに伴ってドライバの集積回路の配線が狭ピッチ化して
いる。また、高生産性を維持するために、温度が200
℃、圧力が2MPa、時間が20〜30秒といった激し
い熱圧着条件下において、集積回路を実装したTCP
(Tape Carrier Package)の配線と液晶ディスプレイ基
板の配線との接続を行っている。
2. Description of the Related Art In recent years, liquid crystal displays and the like used in television receivers, personal computers, mobile phones, etc. have been made finer and smaller, and accordingly, the wiring of the integrated circuit of the driver has become narrower. It is pitching. In addition, in order to maintain high productivity, the temperature is 200
TCP mounted with an integrated circuit under severe thermocompression bonding conditions such as ℃, pressure of 2 MPa and time of 20 to 30 seconds.
The wiring of (Tape Carrier Package) and the wiring of the liquid crystal display board are connected.

【0003】従来からこのような配線の接続を行うため
に、特開平3−46707号公報などに開示されている
ような、微細な導電性粒子を樹脂中に分散させることで
異方性を持たせた異方性導電フィルムが使用されてい
る。しかしながら、この異方性導電フィルムは、離型フ
ィルムを使用してフィルム化することで製造されるた
め、製造コストがかかり高価であること、使用に際して
は専用の自動剥離機の併設が必須となることなどコスト
面で問題を有する。また、十分な接着強度が得られず、
高温高湿下では接続信頼性が低下するなどの問題も有す
る。
Conventionally, in order to connect such wirings, anisotropy is obtained by dispersing fine conductive particles in a resin as disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 3-46707. An anisotropic conductive film is used. However, since this anisotropic conductive film is manufactured by forming it into a film using a release film, the manufacturing cost is high and expensive, and it is necessary to install a dedicated automatic peeling machine at the time of use. There is a problem in terms of cost. In addition, sufficient adhesive strength cannot be obtained,
There is also a problem that the connection reliability is lowered under high temperature and high humidity.

【0004】これらの問題を解決する材料としては、特
開昭62−40183号公報、特開昭62−76215
号公報、特開昭62−176139号公報などに開示さ
れているような、室温で液状である異方性導電ペースト
または異方性導電接着剤が挙げられる。しかしながら、
これらの異方性導電ペーストまたは異方性導電接着剤
は、急激な昇温を伴う熱圧着工程では粘度が激しく低下
する。したがって、液流れの発生が原因である樹脂抜け
が発生したり、染み出し汚染が発生するといった問題を
有する。また、導電性粒子の部分凝集の発生による圧着
方向での導通不良などの問題も有する。これらの現象
は、前記異方性導電ペーストなどの中に存在する気泡が
原因となっている。さらに、前記異方性導電ペーストな
どが硬化した後、この硬化物中に残存した気泡により高
温高湿時の接続信頼性が保持できないという問題も有す
る。またさらに、前記硬化物は、強度は十分に有する
が、リペア性がないなどの問題も有する。
Materials for solving these problems are disclosed in Japanese Patent Laid-Open Nos. 62-40183 and 62-76215.
An anisotropic conductive paste or an anisotropic conductive adhesive that is liquid at room temperature as disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 62-176139. However,
The viscosity of these anisotropic conductive pastes or anisotropic conductive adhesives is drastically reduced in the thermocompression bonding process involving a rapid temperature rise. Therefore, there is a problem that the resin comes off due to the generation of the liquid flow or the bleeding contamination occurs. In addition, there is a problem such as poor conduction in the pressure bonding direction due to the occurrence of partial aggregation of the conductive particles. These phenomena are caused by bubbles present in the anisotropic conductive paste and the like. Further, after the anisotropic conductive paste or the like is hardened, there is a problem that the connection reliability at high temperature and high humidity cannot be maintained due to the bubbles remaining in the hardened material. Furthermore, although the cured product has sufficient strength, it has a problem that it does not have repairability.

【0005】したがって、特に、温度が200℃、圧力
が2MPa、時間が20〜30秒といった激しい熱圧着
条件下でも、硬化物中に気泡が残存せず、高い接着信頼
性、接続信頼性およびリペア性を有した材料が望まれ
る。
Therefore, in particular, even under severe thermocompression bonding conditions such as a temperature of 200 ° C., a pressure of 2 MPa, and a time of 20 to 30 seconds, no bubbles remain in the cured product, which results in high adhesion reliability, connection reliability and repair. A material having properties is desired.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、貯蔵
安定性、ディスペンサー塗布作業性に優れ、熱圧着時の
樹脂抜け、気泡および染み出しの発生がなく、その硬化
物は、高温高湿時においても接着信頼性および接続信頼
性が高く、かつリペア性を有した異方性導電ペーストを
提供することである。
The object of the present invention is excellent in storage stability and workability of dispenser application, and there is no resin dropout, bubble and exudation during thermocompression bonding, and the cured product thereof has high temperature and high humidity. An object of the present invention is to provide an anisotropic conductive paste having high adhesive reliability and connection reliability and repairability.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明は、(I)エポキ
シ樹脂を30〜80質量%、(II)アミン系硬化剤を
10〜50質量%、(III)高軟化点微粒子を5〜2
5質量%、(IV)ポリシリコーンを5〜25質量%含
む樹脂組成物97〜99.9体積%と、(V)導電性粒
子0.1〜3体積%とを含むことを特徴とする異方性導
電ペーストである。
According to the present invention, (I) epoxy resin is 30 to 80% by mass, (II) amine curing agent is 10 to 50% by mass, and (III) high softening point fine particles are 5 to 2%.
5% by mass, 97 to 99.9% by volume of a resin composition containing 5 to 25% by mass of (IV) polysilicone, and (V) 0.1 to 3% by volume of conductive particles. It is an anisotropic conductive paste.

【0008】また本発明は、(I)エポキシ樹脂を30
〜79.9質量%、(II)アミン系硬化剤を10〜5
0質量%、(III)高軟化点微粒子を5〜25質量
%、(IV)ポリシリコーンを5〜25質量%、(V
I)カップリング剤を0.1〜5質量%含む樹脂組成物
97〜99.9体積%と、(V)導電性粒子0.1〜3
体積%とを含むことを特徴とする異方性導電ペーストで
ある。
The present invention also provides (I) epoxy resin 30
˜79.9 mass%, (II) amine curing agent 10-5
0% by mass, (III) 5 to 25% by mass of high softening point fine particles, (IV) 5 to 25% by mass of polysilicone, (V)
I) resin composition 97 to 99.9% by volume containing 0.1 to 5% by mass of coupling agent, and (V) conductive particles 0.1 to 3
The anisotropic conductive paste is characterized by containing a volume%.

【0009】また好ましくは、前記エポキシ樹脂(I)
は、エポキシ基を1分子中に少なくとも平均1〜6個有
し、かつ分子量が100〜7000である。
Further preferably, the epoxy resin (I)
Has an average of 1 to 6 epoxy groups in one molecule and a molecular weight of 100 to 7,000.

【0010】また好ましくは、前記アミン系硬化剤(I
I)として、イミダゾール系硬化剤を用い、前記イミダ
ゾール系硬化剤がマイクロカプセル化されているものを
用いる。
Preferably, the amine curing agent (I
As I), an imidazole-based curing agent is used, and the imidazole-based curing agent is microencapsulated.

【0011】また好ましくは、前記高軟化点微粒子(I
II)は、60〜150℃の軟化点温度を持ち、かつ1
次粒子径が0.01〜2μmの範囲であるものを用い、
メチル(メタ)アクリレートと該メチル(メタ)アクリ
レート以外の共重合可能なモノマーとを共重合して得ら
れる高軟化点微粒子であって、前記メチル(メタ)アク
リレートを30〜70質量%含むものを用いる。
Preferably, the high softening point fine particles (I
II) has a softening point temperature of 60 to 150 ° C. and 1
Use the particles having a secondary particle size of 0.01 to 2 μm,
High softening point fine particles obtained by copolymerizing methyl (meth) acrylate and a copolymerizable monomer other than the methyl (meth) acrylate, the fine particles having 30 to 70% by mass of the methyl (meth) acrylate. To use.

【0012】また好ましくは、前記ポリシリコーン(I
V)は、シリコーン変性されたエラストマーを用い、前
記シリコーン変性されたエラストマーの軟化点温度が−
80〜0℃であり、かつ該エラストマーが粒子として存
在しており、その1次粒子径が0.05〜5μmである
ものを用いる。さらに好ましくは、前記シリコーン変性
されたエラストマーが、エポキシ樹脂にグラフト化して
いるものを用いる。
Also preferably, the above-mentioned polysilicone (I
V) uses a silicone-modified elastomer, and the softening point temperature of the silicone-modified elastomer is −
The temperature is 80 to 0 ° C., the elastomer is present as particles, and the primary particle diameter thereof is 0.05 to 5 μm. More preferably, the silicone-modified elastomer is grafted on an epoxy resin.

【0013】また好ましくは、前記導電性粒子(V)の
表面成分が、金またはニッケルであるものを用いる。
Preferably, the surface component of the conductive particles (V) is gold or nickel.

【0014】また好ましくは、前記異方性導電ペースト
の25℃における粘度を、30〜400Pa・sとす
る。
Preferably, the anisotropic conductive paste has a viscosity at 25 ° C. of 30 to 400 Pa · s.

【0015】また好ましくは、前記異方性導電ペースト
は、回路材料、液晶ディスプレイ、エレクトロルミネッ
センスディスプレイ、プラズマディスプレイ、電荷結合
素子および半導体デバイスのうちいずれか1つに用い
る。
Further preferably, the anisotropic conductive paste is used for any one of a circuit material, a liquid crystal display, an electroluminescence display, a plasma display, a charge coupled device and a semiconductor device.

【0016】本発明に従えば、貯蔵安定性、ディスペン
サー塗布作業性に優れ、熱圧着時の樹脂抜け、気泡およ
び染み出しの発生がなく、その硬化物は、高温高湿時に
おいても接着信頼性および接続信頼性が高く、かつリペ
ア性を有した異方性導電ペーストが得られる。また、こ
のような異方性導電ペーストを使用することで、配線の
短絡などが発生せず、また隣接配線同士の絶縁性も保た
れる。
According to the present invention, the storage stability and dispenser coating workability are excellent, there is no resin omission, air bubbles and exudation during thermocompression bonding, and the cured product thereof has reliable adhesion even at high temperature and high humidity. Also, an anisotropic conductive paste having high connection reliability and repairability can be obtained. In addition, by using such an anisotropic conductive paste, a short circuit of wiring does not occur, and the insulation between adjacent wirings is maintained.

【0017】また本発明は、前記異方性導電ペーストに
よって、一方の基板上に形成される電気回路配線と、他
方の基板上に形成される電気回路配線とを接続すること
を特徴とする電気回路配線の接続方法である。
Further, the present invention is characterized in that the anisotropic conductive paste connects the electric circuit wiring formed on one substrate and the electric circuit wiring formed on the other substrate. This is a circuit wiring connection method.

【0018】本発明に従えば、高温高湿時においても高
い接着信頼性および接続信頼性が得られる異方性導電ペ
ーストを用いるので、配線同士を確実に接続できる。
According to the present invention, since the anisotropic conductive paste which can obtain high adhesion reliability and connection reliability even at high temperature and high humidity is used, the wirings can be reliably connected.

【0019】[0019]

【発明の実施の形態】本発明の異方性導電ペーストは、
(I)エポキシ樹脂を30〜80質量%、(II)アミ
ン系硬化剤を10〜50質量%、(III)高軟化点微
粒子を5〜25質量%、(IV)ポリシリコーンを5〜
25質量%含む樹脂組成物(以下、樹脂組成物1とい
う)97〜99.9体積%と、(V)導電性粒子0.1
〜3体積%とを含んで調製される。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The anisotropic conductive paste of the present invention is
(I) Epoxy resin 30 to 80% by mass, (II) Amine curing agent 10 to 50% by mass, (III) High softening point fine particles 5 to 25% by mass, (IV) Polysilicone 5 to 5% by mass.
Resin composition (hereinafter referred to as resin composition 1) containing 25% by mass of 97 to 99.9% by volume, and (V) conductive particles 0.1.
˜3% by volume.

【0020】また、(I)エポキシ樹脂を30〜79.
9質量%、(II)アミン系硬化剤を10〜50質量
%、(III)高軟化点微粒子を5〜25質量%、(I
V)ポリシリコーンを5〜25質量%、(VI)カップ
リング剤を0.1〜5質量%含む樹脂組成物(以下、樹
脂組成物2という)97〜99.9体積%と、(V)導
電性粒子0.1〜3体積%とを含んで調製されてもよ
い。以下の説明では、樹脂組成物1および樹脂組成物2
を併せて樹脂組成物という。
Further, the epoxy resin (I) is added in an amount of 30 to 79.
9 mass%, (II) amine curing agent 10 to 50 mass%, (III) high softening point fine particles 5 to 25 mass%, (I
V) 97 to 99.9% by volume of a resin composition (hereinafter, referred to as resin composition 2) containing 5 to 25% by weight of polysilicone and 0.1 to 5% by weight of (VI) coupling agent, and (V) It may be prepared by including 0.1 to 3% by volume of conductive particles. In the following description, the resin composition 1 and the resin composition 2
Are collectively referred to as a resin composition.

【0021】以上のような構成とすることで、貯蔵安定
性、ディスペンサー塗布作業性に優れ、熱圧着時の樹脂
抜け、気泡および染み出しの発生がない異方性導電ペー
ストを得ることができ、またその硬化物も、高温高湿時
においても高い接着信頼性および接続信頼性を有し、か
つリペア性を有する。本発明の異方性導電ペーストは、
圧力をかけて硬化させた方向には導電性を有し、他の方
向には絶縁性を有するという性質を持つ。以下に、成分
(I)〜(VI)について詳しく説明する。
With the above-mentioned constitution, an anisotropic conductive paste having excellent storage stability and dispenser coating workability and free from resin loss during hot pressing, bubbles and exudation can be obtained, The cured product also has high adhesion reliability and connection reliability even at high temperature and high humidity, and also has repairability. The anisotropic conductive paste of the present invention is
It has the property of being electrically conductive in the direction in which it is cured by applying pressure and insulating in the other direction. The components (I) to (VI) will be described in detail below.

【0022】本発明の異方性導電ペーストにおけるエポ
キシ樹脂(I)の使用量としては、樹脂組成物におい
て、30〜80質量%であることが好ましい。また、後
述する(VI)カップリング剤を樹脂組成物に含ませる
場合は、30〜79.9質量%とすることが好ましい。
The amount of the epoxy resin (I) used in the anisotropic conductive paste of the present invention is preferably 30 to 80% by mass in the resin composition. Further, when the (VI) coupling agent described later is included in the resin composition, the content is preferably 30 to 79.9% by mass.

【0023】エポキシ樹脂(I)の使用量を30質量%
以上とすることにより、本発明の異方性導電ペーストの
硬化物において接着信頼性および接続信頼性が確保で
き、80質量%以下とすることにより本発明の異方性導
電ペーストの硬化物においてリペア性が確保できる。こ
こで、リペア性とは、電極同士などを異方性導電ペース
トで接着後、不具合が生じた場合、該ペーストを剥離し
た後再接着することがあるが、その際に、該ペーストが
剥離されたガラス基板などの材料に該ペーストが残存せ
ず、再使用に耐えうる性能をいう。
The amount of the epoxy resin (I) used is 30% by mass.
By the above, the adhesive reliability and connection reliability can be secured in the cured product of the anisotropic conductive paste of the present invention, and the cured product of the anisotropic conductive paste of the present invention can be repaired by setting the content to 80% by mass or less. You can secure the sex. Here, the term "repairability" means that when a problem occurs after the electrodes and the like are bonded together with an anisotropic conductive paste, the paste may be peeled and then re-bonded, but at that time, the paste is peeled off. The paste does not remain on materials such as glass substrates, and it is the ability to withstand reuse.

【0024】本発明に用いられるエポキシ樹脂(I)
は、すでに公知のものを用いてよいが、好ましくは、エ
ポキシ樹脂(I)の1分子中にエポキシ基を平均1〜6
個、より好ましくは平均1.2〜6個、さらに好ましく
は平均1.7〜6個有しているものを用いるのがよい。
エポキシ樹脂(I)の1分子中にエポキシ基を平均1個
〜6個有すれば、本発明の異方性導電ペーストの高温高
湿時における接着信頼性および接続信頼性を得ることが
できる。
Epoxy resin (I) used in the present invention
As the epoxy resin, a known one may be used, but preferably 1 to 6 epoxy groups are averaged in one molecule of the epoxy resin (I).
It is preferable to use those having an average number of 1.2, more preferably 1.2 to 6, and even more preferably 1.7 to 6.
When the epoxy resin (I) has an average of 1 to 6 epoxy groups in one molecule, the anisotropic conductive paste of the present invention can have adhesive reliability and connection reliability at high temperature and high humidity.

【0025】エポキシ樹脂(I)の分子量はとしては、
ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(以下、GP
Cという)によるポリスチレン換算数平均分子量が10
0〜7000の範囲である。好ましくは150〜300
0であり、より好ましくは350〜2000の範囲であ
る。GPCによるポリスチレン換算数平均分子量が10
0〜7000であれば、本発明の異方性導電ペーストの
ディスペンサー塗布作業性が保持できる。
The molecular weight of the epoxy resin (I) is as follows.
Gel permeation chromatography (hereinafter GP
The polystyrene-equivalent number average molecular weight is 10)
It is in the range of 0 to 7,000. Preferably 150-300
It is 0, and more preferably in the range of 350 to 2000. The polystyrene-equivalent number average molecular weight by GPC is 10
When it is from 0 to 7,000, the workability of the anisotropic conductive paste of the present invention in dispenser application can be maintained.

【0026】また、このエポキシ樹脂(I)は、常温下
で液体であっても固体であってもよい。たとえば、単官
能性エポキシ樹脂および多官能性エポキシ樹脂の中から
選ばれたものを単独で用いてもよいし、2種以上を組み
合わせて用いてもよい。
The epoxy resin (I) may be liquid or solid at room temperature. For example, one selected from a monofunctional epoxy resin and a polyfunctional epoxy resin may be used alone, or two or more kinds may be used in combination.

【0027】単官能性エポキシ樹脂としては、脂肪族モ
ノグリシジルエーテル化合物、芳香族モノグリシジルエ
ーテル化合物、脂肪族モノグリシジルエステル化合物、
芳香族モノグリシジルエステル化合物、脂環式モノグリ
シジルエステル化合物、窒素元素含有モノグリシジルエ
ーテル化合物、モノグリシジルプロピルポリシロキサン
化合物、モノグリシジルアルカンなどが挙げられる。
As the monofunctional epoxy resin, an aliphatic monoglycidyl ether compound, an aromatic monoglycidyl ether compound, an aliphatic monoglycidyl ester compound,
Examples thereof include aromatic monoglycidyl ester compounds, alicyclic monoglycidyl ester compounds, nitrogen element-containing monoglycidyl ether compounds, monoglycidylpropyl polysiloxane compounds, and monoglycidyl alkanes.

【0028】前記脂肪族モノグリシジルエーテル化合物
としては、ポリアルキレンモノアルキルエーテル類とエ
ピクロルヒドリンとの反応で得られたもの、脂肪族アル
コール類とエピクロルヒドリンとの反応で得られたもの
などが挙げられる。前記ポリアルキレンモノアルキルエ
ーテル類としては、炭素数が1〜6であるアルキル基ま
たはアルケニル基を有する、エチレングリコールモノア
ルキルエーテル、ジエチレングリコールモノアルキルエ
ーテル、トリエチレングリコールモノアルキルエーテ
ル、ポリエチレングリコールモノアルキルエーテル、プ
ロピレングリコールモノアルキルエーテル、ジプロピレ
ングリコールモノアルキルエーテル、トリプロピレング
リコールモノアルキルエーテル、ポリプロピレングリコ
ールモノアルキルエーテルなどが挙げられる。前記脂肪
族アルコール類としては、n−ブタノール、イソブタノ
ール、n−オクタノール、2−エチルヘキシルアルコー
ル、ジメチロールプロパンモノアルキルエーテル、メチ
ロールプロパンジアルキルエーテル、グリセリンジアル
キルエーテル、ジメチロールプロパンモノアルキルエス
テル、メチロールプロパンジアルキルエステル、グリセ
リンジアルキルエステルなどが挙げられる。
Examples of the aliphatic monoglycidyl ether compounds include those obtained by the reaction of polyalkylene monoalkyl ethers with epichlorohydrin, those obtained by the reaction of aliphatic alcohols with epichlorohydrin, and the like. As the polyalkylene monoalkyl ethers, having an alkyl group or an alkenyl group having 1 to 6 carbon atoms, ethylene glycol monoalkyl ether, diethylene glycol monoalkyl ether, triethylene glycol monoalkyl ether, polyethylene glycol monoalkyl ether, Examples thereof include propylene glycol monoalkyl ether, dipropylene glycol monoalkyl ether, tripropylene glycol monoalkyl ether, polypropylene glycol monoalkyl ether and the like. Examples of the aliphatic alcohols include n-butanol, isobutanol, n-octanol, 2-ethylhexyl alcohol, dimethylolpropane monoalkyl ether, methylolpropane dialkyl ether, glycerin dialkyl ether, dimethylolpropane monoalkyl ester, and methylolpropane dialkyl. Examples thereof include esters and glycerin dialkyl esters.

【0029】前記芳香族モノグリシジルエーテル化合物
としては、芳香族アルコール類またはそれらをエチレン
グリコール、プロピレングリコールなどのアルキレング
リコールで変性したアルコール類と、エピクロルヒドリ
ンとの反応で得られたものが挙げられる。前記芳香族ア
ルコール類としては、フェノール、ベンジルアルコー
ル、キシレノール、ナフトールなどが挙げられる。
Examples of the aromatic monoglycidyl ether compounds include those obtained by reacting aromatic alcohols or alcohols obtained by modifying them with alkylene glycols such as ethylene glycol and propylene glycol, and epichlorohydrin. Examples of the aromatic alcohols include phenol, benzyl alcohol, xylenol, and naphthol.

【0030】前記脂肪族モノグリシジルエステル化合物
としては、脂肪族ジカルボン酸モノアルキルエステルと
エピクロルヒドリンとの反応で得られたものが、また、
芳香族モノグリシジルエステル化合物としては、芳香族
ジカルボン酸モノアルキルエステルとエピクロルヒドリ
ンとの反応で得られたものが挙げられる。
As the above-mentioned aliphatic monoglycidyl ester compound, a compound obtained by reacting an aliphatic dicarboxylic acid monoalkyl ester with epichlorohydrin,
Examples of the aromatic monoglycidyl ester compound include those obtained by the reaction of aromatic dicarboxylic acid monoalkyl ester and epichlorohydrin.

【0031】多官能性エポキシ樹脂としては、脂肪族多
価グリシジルエーテル化合物、芳香族多価グリシジルエ
ーテル化合物、脂肪族多価グリシジルエステル化合物、
芳香族多価グリシジルエステル化合物、脂肪族多価グリ
シジルエーテルエステル化合物、芳香族多価グリシジル
エーテルエステル化合物、脂環式多価グリシジルエーテ
ル化合物、脂肪族多価グリシジルアミン化合物、芳香族
多価グリシジルアミン化合物、ヒダントイン型多価グリ
シジル化合物、ノボラック型多価グリシジルエーテル化
合物、エポキシ化ジエン重合体、3,4−エポキシ−6
−メチルシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシ−6
−メチルシクロヘキサンカーボネート、ビス(2,3−
エポキシシクロペンチル)エーテルなどが挙げられる。
As the polyfunctional epoxy resin, an aliphatic polyvalent glycidyl ether compound, an aromatic polyvalent glycidyl ether compound, an aliphatic polyvalent glycidyl ester compound,
Aromatic polyvalent glycidyl ester compound, aliphatic polyvalent glycidyl ether ester compound, aromatic polyvalent glycidyl ether ester compound, alicyclic polyvalent glycidyl ether compound, aliphatic polyvalent glycidyl amine compound, aromatic polyvalent glycidyl amine compound , Hydantoin type polyvalent glycidyl compound, novolak type polyvalent glycidyl ether compound, epoxidized diene polymer, 3,4-epoxy-6
-Methylcyclohexylmethyl-3,4-epoxy-6
-Methylcyclohexane carbonate, bis (2,3-
Epoxycyclopentyl) ether and the like.

【0032】前記脂肪族多価グリシジルエーテル化合物
としては、ポリアルキレングリコール類とエピクロルヒ
ドリンとの反応で得たられたもの、多価アルコール類と
エピクロルヒドリンとの反応で得られたものなどが挙げ
られる。前記ポリアルキレングリコール類としては、エ
チレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレ
ングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレング
リコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレング
リコール、ポリプロピレングリコールなどが挙げられ
る。前記多価アルコール類としては、ジメチロールプロ
パン、トリメチロールプロパン、スピログリコール、グ
リセリンなどが挙げられる。
Examples of the aliphatic polyhydric glycidyl ether compound include those obtained by the reaction of polyalkylene glycols with epichlorohydrin, those obtained by the reaction of polyhydric alcohols with epichlorohydrin, and the like. Examples of the polyalkylene glycols include ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, polyethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol and polypropylene glycol. Examples of the polyhydric alcohols include dimethylolpropane, trimethylolpropane, spiroglycol, and glycerin.

【0033】前記芳香族多価グリシジルエーテル化合物
としては、芳香族ジオール類またはそれらをエチレング
リコール、プロピレングリコールなどのアルキレングリ
コールで変性したジオール類とエピクロルヒドリンとの
反応で得られたものなどが挙げられる。前記芳香族ジオ
ール類としては、ビスフェノールA、ビスフェノール
S、ビスフェノールF、ビスフェノールADなどが挙げ
られる。
Examples of the aromatic polyhydric glycidyl ether compounds include those obtained by reacting aromatic diols or diols obtained by modifying them with alkylene glycols such as ethylene glycol and propylene glycol, and epichlorohydrin. Examples of the aromatic diols include bisphenol A, bisphenol S, bisphenol F and bisphenol AD.

【0034】前記脂肪族多価グリシジルエステル化合物
としては、アジピン酸、イタコン酸などの脂肪族ジカル
ボン酸とエピクロルヒドリンとの反応で得られたものが
挙げられる。
Examples of the aliphatic polyhydric glycidyl ester compounds include those obtained by reacting an aliphatic dicarboxylic acid such as adipic acid or itaconic acid with epichlorohydrin.

【0035】前記芳香族多価グリシジルエステル化合物
としては、イソフタル酸、テレフタル酸、ピロメリット
酸などの芳香族ジカルボン酸とエピクロルヒドリンとの
反応で得られたものが挙げられる。
Examples of the aromatic polyhydric glycidyl ester compounds include those obtained by reacting an aromatic dicarboxylic acid such as isophthalic acid, terephthalic acid and pyromellitic acid with epichlorohydrin.

【0036】前記脂肪族多価グリシジルエーテルエステ
ル化合物および芳香族多価グリシジルエーテルエステル
化合物としては、ヒドロキシジカルボン酸化合物とエピ
クロルヒドリンとの反応で得られたものが挙げられる。
Examples of the aliphatic polyvalent glycidyl ether ester compound and the aromatic polyvalent glycidyl ether ester compound include those obtained by the reaction of a hydroxydicarboxylic acid compound and epichlorohydrin.

【0037】前記脂肪族多価グリシジルアミン化合物と
しては、ポリエチレンジアミンなどの脂肪族ジアミンと
エピクロルヒドリンとの反応で得られたものが挙げられ
る。
Examples of the aliphatic polyhydric glycidyl amine compound include those obtained by reacting an aliphatic diamine such as polyethylene diamine with epichlorohydrin.

【0038】前記芳香族多価グリシジルアミン化合物と
しては、ジアミノジフェニルメタン、アニリン、メタキ
シリレンジアミンなどの芳香族ジアミンとエピクロルヒ
ドリンとの反応で得られたものが挙げられる。
Examples of the aromatic polyvalent glycidylamine compounds include those obtained by the reaction of aromatic diamines such as diaminodiphenylmethane, aniline and metaxylylenediamine with epichlorohydrin.

【0039】前記ヒダントイン型多価グリシジル化合物
としては、ヒダントインまたはその誘導体とエピクロル
ヒドリンとの反応で得られたものが挙げられる。
Examples of the hydantoin-type polyvalent glycidyl compound include those obtained by reacting hydantoin or a derivative thereof with epichlorohydrin.

【0040】前記ノボラック型多価グリシジルエーテル
化合物としては、フェノールまたはクレゾールとホルム
アルデヒドとから誘導されたノボラック樹脂とエピクロ
ルヒドリンとの反応で得られたもの、ポリアルケニルフ
ェノールやそのコポリマーなどのポリフェノール類とエ
ピクロルヒドリンとの反応で得られたものなどが挙げら
れる。
The novolak-type polyhydric glycidyl ether compound is obtained by the reaction of a novolak resin derived from phenol or cresol and formaldehyde with epichlorohydrin, polyphenols such as polyalkenylphenol and its copolymers, and epichlorohydrin. Those obtained by the reaction of.

【0041】前記エポキシ化ジエン重合体としては、エ
ポキシ化ポリブタジエン、エポキシ化ポリイソプレンな
どが挙げられる。
Examples of the epoxidized diene polymer include epoxidized polybutadiene and epoxidized polyisoprene.

【0042】本発明の異方性導電ペーストにおけるアミ
ン系硬化剤(II)の使用量としては、樹脂組成物にお
いて、10〜50質量%であることが好ましい。アミン
系硬化剤(II)の使用量を10質量%以上とすること
により、熱圧着において短時間で本発明の異方性導電ペ
ーストが硬化するため、非常に短時間で微細な配線の接
続をすることができる。また、50質量%以下とするこ
とにより、未反応の硬化剤の量を抑えることができ、か
つエポキシ樹脂(I)の硬化物が有する高い接着信頼性
および接続信頼性を得ることができる。
The amount of the amine-based curing agent (II) used in the anisotropic conductive paste of the present invention is preferably 10 to 50% by mass in the resin composition. By setting the amount of the amine-based curing agent (II) to 10% by mass or more, the anisotropic conductive paste of the present invention is cured in a short time during thermocompression bonding, so that fine wiring can be connected in a very short time. can do. Further, when the content is 50% by mass or less, the amount of unreacted curing agent can be suppressed, and high adhesion reliability and connection reliability of the cured product of the epoxy resin (I) can be obtained.

【0043】前記アミン系硬化剤(II)としては、潜
在性エポキシ硬化剤を用いてもよく、特に40℃以上の
加熱によって熱硬化活性を示す潜在性エポキシ硬化剤を
用いることが好ましい。この40℃以上の加熱によって
熱硬化活性を示す潜在性エポキシ硬化剤としては、すで
に公知のものから選ばれたものを単独で用いてもよい
し、2種以上の混合物を用いてもよい。
As the amine type curing agent (II), a latent epoxy curing agent may be used, and it is particularly preferable to use a latent epoxy curing agent which exhibits thermosetting activity by heating at 40 ° C. or higher. As the latent epoxy curing agent which exhibits thermosetting activity by heating at 40 ° C. or higher, one selected from already known ones may be used alone, or a mixture of two or more kinds may be used.

【0044】前記40℃以上の加熱によって熱硬化活性
を示す潜在性エポキシ硬化剤としては、ジシアンジアミ
ド、ジシアンジアミドの誘導体、アジピン酸ジヒドラジ
ッド、イソフタル酸ジヒドラジッドなどのジビドラジッ
ド化合物などが挙げられる。また、イミダゾール化合物
の誘導体およびそれらの変性物、すなわちイミダゾール
系硬化剤を用いてもよい。具体的には、2−メチルイミ
ダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−
n−ペンタデシルイミダゾールなどのイミダゾール誘導
体、芳香族酸無水物との錯体、イミダゾール化合物とエ
ポキシ樹脂とのアダクト体、それらの変性誘導体、マイ
クロカプセル変性体などが挙げられる。
Examples of the latent epoxy curing agent which exhibits thermosetting activity when heated at 40 ° C. or higher include dicyandiamide, dicyandiamide derivatives, dividazid compounds such as adipic acid dihydrazide and isophthalic acid dihydrazide. Further, a derivative of an imidazole compound and a modified product thereof, that is, an imidazole-based curing agent may be used. Specifically, 2-methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-
Examples thereof include imidazole derivatives such as n-pentadecylimidazole, complexes with aromatic acid anhydrides, adducts of imidazole compounds and epoxy resins, modified derivatives thereof, and modified microcapsules.

【0045】前記マイクロカプセル変性体、すなわちマ
イクロカプセル化されているイミダゾール系硬化剤とし
ては、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−メチ
ルイミダゾール、2−n−ペンタデシルイミダゾールな
どのイミダゾール系硬化剤をコア材として、微小なシェ
ルで封じ込めたマイクロカプセル化物が挙げられる。
Examples of the modified microcapsules, that is, microcapsulated imidazole-based curing agents include imidazole-based curing agents such as 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-methylimidazole, and 2-n-pentadecylimidazole. As a core material, a micro-encapsulated product in which a fine shell is contained is mentioned.

【0046】前記高軟化点微粒子(III)は、軟化点
温度以上で本発明の異方性導電ペーストに溶融すること
により、該ペーストの粘度を増加させ、該ペーストの流
動を抑制する。また、本発明の異方性導電ペーストにリ
ペア性も付与する。
The high softening point fine particles (III) are melted in the anisotropic conductive paste of the present invention at a softening point temperature or higher to increase the viscosity of the paste and suppress the flow of the paste. Further, repairability is also imparted to the anisotropic conductive paste of the present invention.

【0047】本発明の異方性導電ペーストにおける高軟
化点微粒子(III)の使用量としては、樹脂組成物に
おいて、5〜25質量%、好ましくは13〜19質量%
の範囲である。高軟化点微粒子(III)の使用量を5
質量%以上とすることにより、熱圧着時における樹脂抜
けおよび染み出しの発生を抑制することができる。ま
た、25質量%以下とすることにより、本発明の異方性
導電ペーストの粘度が上昇しすぎず、ディスペンサー塗
布などの作業性が高くなる。
The amount of the high softening point fine particles (III) used in the anisotropic conductive paste of the present invention is 5 to 25% by mass, preferably 13 to 19% by mass in the resin composition.
Is the range. The amount of high softening point fine particles (III) used is 5
When the content is at least mass%, it is possible to suppress the occurrence of resin loss and exudation during thermocompression bonding. Further, when the content is 25% by mass or less, the viscosity of the anisotropic conductive paste of the present invention does not increase too much, and workability such as dispenser application becomes high.

【0048】本発明で使用する高軟化点微粒子(II
I)としては、軟化点温度が60〜150℃であり、か
つ1次粒子径が0.01〜2μmの範囲にあるものであ
れば、すでに公知のものを用いてよい。ここで、1次粒
子とは、機械的にそれ以上分離できない粒子のことであ
る。
High softening point fine particles (II
As I), a known one may be used as long as it has a softening point temperature of 60 to 150 ° C. and a primary particle diameter of 0.01 to 2 μm. Here, the primary particles are particles that cannot be mechanically separated any more.

【0049】軟化点温度が60℃以上であると、室温に
おける本発明の異方性導電ペーストの貯蔵安定性が高く
なる。また、150℃以下であると、150〜200℃
の熱圧着工程において、異方性導電ペーストの流動を抑
えることができ、リペア性も付与することができる。ま
た、高軟化点微粒子(III)の1次粒子径は、ディス
ペンサー塗布などの作業性、接続信頼性などの点から
0.01〜2μmの粒子径のものが好ましい。
When the softening point temperature is 60 ° C. or higher, the storage stability of the anisotropic conductive paste of the present invention at room temperature becomes high. Moreover, when it is 150 ° C. or lower, 150 to 200 ° C.
In the thermocompression bonding step, the flow of the anisotropic conductive paste can be suppressed and repairability can be imparted. The primary particle diameter of the high softening point fine particles (III) is preferably 0.01 to 2 μm in terms of workability such as dispenser application and connection reliability.

【0050】好ましくは、モノマーであるメチル(メ
タ)アクリレート30〜70質量%とその他共重合可能
なモノマーを共重合して得られるエマルション微粒子、
さらに好ましくは、多官能モノマーを使用することによ
りそれらエマルション微粒子に微架橋構造を形成したも
のである。これらを本発明の異方性導電ペーストに用い
ることで、室温における本発明の異方性導電ペーストの
貯蔵安定性がより高くなり、熱圧着時における樹脂抜け
および染み出しの発生をさらに抑制することができる。
Preferably, emulsion fine particles obtained by copolymerizing 30 to 70% by mass of a monomer methyl (meth) acrylate and another copolymerizable monomer,
More preferably, a finely crosslinked structure is formed on the emulsion fine particles by using a polyfunctional monomer. By using these in the anisotropic conductive paste of the present invention, the storage stability of the anisotropic conductive paste of the present invention at room temperature becomes higher, and the occurrence of resin loss and exudation during thermocompression bonding is further suppressed. You can

【0051】前記モノマーとしては、メチル(メタ)ア
クリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル
(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、
2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、アミル(メ
タ)アクリレート、ヘキサデシル(メタ)アクリレー
ト、オクタデシル(メタ)アクリレート、ブトキシエチ
ル(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)ア
クリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレー
ト、グリシジル(メタ)アクリレートなどのアクリル酸
エステル類、アクリルアミド類、(メタ)アクリル酸、
イタコン酸、マレイン酸などの酸モノマー、スチレン、
スチレン誘導体などの芳香族ビニル化合物などが挙げら
れる。
Examples of the monomer include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate,
2-ethylhexyl (meth) acrylate, amyl (meth) acrylate, hexadecyl (meth) acrylate, octadecyl (meth) acrylate, butoxyethyl (meth) acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, glycidyl Acrylic esters such as (meth) acrylate, acrylamides, (meth) acrylic acid,
Acid monomers such as itaconic acid and maleic acid, styrene,
Examples thereof include aromatic vinyl compounds such as styrene derivatives.

【0052】また、前記エマルション微粒子に微架橋構
造を形成するための多官能モノマーとしては、ジビニル
ベンゼン、ジアクリレート類、1,3−ブタジエン、
1,3−ペンタジエン、イソプレン、1,3−ヘキサジ
エン、クロロプレンなどの共役ジエン類などが挙げられ
る。
As the polyfunctional monomer for forming a finely crosslinked structure in the emulsion fine particles, divinylbenzene, diacrylates, 1,3-butadiene,
Examples thereof include conjugated dienes such as 1,3-pentadiene, isoprene, 1,3-hexadiene, and chloroprene.

【0053】前記エマルション微粒子の表面を微架橋す
る方法としては、エマルション微粒子の表面層のエポキ
シ基、カルボキシル基、およびアミノ基を金属架橋させ
ることでアイオノマー架橋させる方法も挙げられる。エ
マルション微粒子に微架橋構造を形成することにより、
室温下でエポキシ樹脂(I)、溶媒などに容易に溶解し
なくなり、本発明の異方性導電ペーストの貯蔵安定性を
向上させることができる。
As a method for slightly cross-linking the surface of the emulsion fine particles, there may be mentioned a method for cross-linking the ionomer by metal-cross-linking the epoxy group, the carboxyl group and the amino group of the surface layer of the emulsion fine particles. By forming a fine crosslinked structure in the emulsion fine particles,
It will not dissolve easily in the epoxy resin (I), solvent, etc. at room temperature, and the storage stability of the anisotropic conductive paste of the present invention can be improved.

【0054】本発明の異方性導電ペーストにおけるポリ
シリコーン(IV)の使用量は、樹脂組成物において、
5〜25質量%、好ましくは7〜15質量%である。ポ
リシリコーン(IV)の使用量を5質量%以上にするこ
とにより、本発明の異方性導電ペーストに消泡性を付与
することができる。また、25質量%以下とすることに
より、異方性導電ペーストの接着性、およびガスバリア
性の低下を抑制でき、ディスペンサー塗布作業性も維持
できる。
The amount of polysilicone (IV) used in the anisotropic conductive paste of the present invention is
It is 5 to 25% by mass, preferably 7 to 15% by mass. By using the polysilicone (IV) in an amount of 5% by mass or more, the anisotropic conductive paste of the present invention can be provided with defoaming properties. Further, when the content is 25% by mass or less, the adhesiveness of the anisotropic conductive paste and the deterioration of the gas barrier property can be suppressed, and the dispenser coating workability can be maintained.

【0055】ポリシリコーン(IV)としては、シリコ
ーン変性されたエラストマーであることが好ましい。ポ
リシリコーンをエラストマー化することにより、異方性
導電ペーストを硬化させた場合に、外部からの物理的衝
撃、冷熱サイクル試験時の熱歪などを緩和させることが
できる。また、前記エラストマーをシリコーン変性する
ことにより、外部からの物理的衝撃、冷熱サイクル試験
時の熱歪などをさらに緩和させることができる。ここ
で、シリコーン変性とは、官能基を有するシリコーンを
エラストマーにグラフト結合させることである。
Polysilicone (IV) is preferably a silicone-modified elastomer. By making the silicone into an elastomer, it is possible to reduce physical shock from the outside, thermal strain during a thermal cycle test, and the like when the anisotropic conductive paste is cured. Further, by modifying the elastomer with silicone, it is possible to further alleviate physical impact from the outside, thermal strain during a thermal cycle test, and the like. Here, the silicone modification is to graft-bond a silicone having a functional group to an elastomer.

【0056】また、ポリシリコーン(IV)としては、
本発明の異方性導電ペーストの成分であるエポキシ樹脂
(I)とは別のエポキシ樹脂にグラフト化しているシリ
コーン変性されたエラストマーを用いるのがより好まし
い。一般的に、エポキシ樹脂とシリコーンの相溶性は低
く、相分離を起こしやすい。したがって、エポキシ樹脂
にグラフト化しているシリコーン変性されたエラストマ
ーを用いることで、ポリシリコーン(IV)の異方性導
電ペーストへの均一な分散が可能となる。
Further, as the polysilicone (IV),
It is more preferable to use a silicone-modified elastomer grafted to an epoxy resin other than the epoxy resin (I) which is a component of the anisotropic conductive paste of the present invention. Generally, the compatibility between epoxy resin and silicone is low, and phase separation easily occurs. Therefore, by using the silicone-modified elastomer grafted to the epoxy resin, it becomes possible to uniformly disperse the poly-silicone (IV) in the anisotropic conductive paste.

【0057】前記エラストマーとしては、軟化点温度が
−80〜0℃のものが好ましい。軟化点温度を−80〜
0℃とすることにより、外部からの物理的衝撃、冷熱サ
イクル試験時の熱歪などを緩和させる効果を向上させ、
高い接着強度が確保できる。
The elastomer preferably has a softening point temperature of -80 to 0 ° C. Softening point temperature is -80 ~
By setting the temperature to 0 ° C., the effect of relieving physical shock from the outside and thermal strain at the time of a thermal cycle test is improved,
High adhesive strength can be secured.

【0058】前記エラストマーの1次粒子径としては、
0.05〜5μm以下のゴム状ポリマー微粒子が好まし
く、より好ましくは、0.1〜3.5μmの範囲であ
る。1次粒子径を0.05μm以上とすることにより、
凝集が発生せず、異方性導電ペーストの粘度が安定して
ディスペンサー塗布などの作業性を確保できる。また、
1次粒子径を5μm以下とすることにより、ディスペン
サー塗布などの作業性を確保でき、高い接着強度も確保
できる。
The primary particle size of the elastomer is
Rubber-like polymer fine particles having a particle size of 0.05 to 5 μm or less are preferable, and a range of 0.1 to 3.5 μm is more preferable. By setting the primary particle diameter to 0.05 μm or more,
Aggregation does not occur, the viscosity of the anisotropic conductive paste is stable, and workability such as dispenser application can be secured. Also,
By setting the primary particle diameter to 5 μm or less, workability such as dispenser application can be ensured, and high adhesive strength can be ensured.

【0059】前記エラストマーの形成方法としては、シ
リコンゴム微粒子を用いる方法、特開昭60−7295
7号公報に開示されている方法、特開平3−17052
3号公報に開示されている方法、エポキシ樹脂に二重結
合を導入してその二重結合と反応可能なハイドロジェン
含有シリコンを反応させてグラフト体を生成し、グラフ
ト体の存在下でシリコンゴムモノマーを重合させる方
法、エポキシ樹脂に二重結合を導入し、それに重合可能
なビニル基含有シリコンゴムモノマーを反応させてグラ
フト体を生成する方法、該グラフト体の存在下でシリコ
ンゴムモノマーを重合させる方法などが挙げられる。好
ましくは、シリコンゴム微粒子を用いずにグラフト体を
形成する方法およびグラフト体を生成後、シリコンゴム
微粒子を生成させる方法であり、これらの方法は、生成
するシリコンゴム微粒子を制御しやすい。また、これら
の方法で得たエラストマーは、分散しても粘度上昇が少
ないので、良好なディスペンサー塗布作業性が得られ
る。
As a method for forming the elastomer, a method using fine particles of silicon rubber, JP-A-60-7295 is used.
The method disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 7-17052
No. 3, the method disclosed in Japanese Patent Publication No. 3, a double bond is introduced into an epoxy resin, a hydrogen-containing silicon capable of reacting with the double bond is reacted to produce a graft body, and a silicone rubber is produced in the presence of the graft body. A method of polymerizing a monomer, a method of introducing a double bond into an epoxy resin and reacting a polymerizable vinyl group-containing silicone rubber monomer with the epoxy resin to form a graft body, and polymerizing a silicone rubber monomer in the presence of the graft body. Method etc. are mentioned. Preferred are a method of forming a graft body without using silicone rubber fine particles and a method of producing silicon rubber fine particles after producing the graft body, and these methods are easy to control the produced silicon rubber fine particles. Further, the elastomer obtained by these methods has a small increase in viscosity even when dispersed, so that good dispenser coating workability can be obtained.

【0060】前記カップリング剤(VI)は、異方性導
電ペーストと基材との接着力を向上させるために用いら
れ、その使用量は、樹脂組成物において、0.1〜5質
量%である。0.1質量%以上使用することにより高い
接着信頼性を得ることができる。また、5質量%以下と
することにより、本発明の異方性導電ペーストの硬化性
の低下を防止し、周辺部材への汚染を防止することがで
きる。
The coupling agent (VI) is used to improve the adhesive strength between the anisotropic conductive paste and the base material, and the amount used is 0.1 to 5% by mass in the resin composition. is there. High adhesive reliability can be obtained by using 0.1 mass% or more. Further, when the content is 5% by mass or less, deterioration of the curability of the anisotropic conductive paste of the present invention can be prevented, and contamination of peripheral members can be prevented.

【0061】前記カップリング剤(VI)としては、す
でに公知のカップリング剤を用いることができる。具体
的には、トリアルコキシシラン化合物、メチルジアルコ
キシシラン化合物などが挙げられる。より具体的には、
γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ
−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリ
シドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシ
ドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピ
ルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメ
トキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシ
ラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−ア
ミノエチル−γ−イミノプロピルメチルジメトキシシラ
ン、N−アミノエチル−γ−イミノプロピルトリメトキ
シシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシ
ラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−メ
ルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メルカ
プトプロピルトリメトキシシラン、イソシアナートプロ
ピルメチルジエトキシシラン、γ−イソシアナートプロ
ピルトリエトキシシランなどが挙げられる。
As the coupling agent (VI), known coupling agents can be used. Specific examples include a trialkoxysilane compound and a methyldialkoxysilane compound. More specifically,
γ-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, γ
-Glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyl Methyldimethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-aminoethyl-γ-iminopropylmethyldimethoxysilane, N-aminoethyl-γ-iminopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, γ-aminopropyl Trimethoxysilane, γ-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, isocyanatopropylmethyldiethoxysilane, γ-isocyanatopropyltriethoxysilane. And the like.

【0062】本発明の異方性導電ペーストにおける導電
性粒子(V)は、本発明の異方性導電ペーストの0.1
〜3体積%とする。0.1体積%以上とすることによ
り、圧着面に対して垂直方向の導通性が確実に得られ
る。また、3体積%以下とすることにより、狭ピッチの
電極同士を接続する場合にも圧着面に対して水平方向の
隣接配線間で絶縁性を確保することができる。
The conductive particles (V) in the anisotropic conductive paste of the present invention are 0.1% of those of the anisotropic conductive paste of the present invention.
~ 3% by volume. By setting the content to be 0.1% by volume or more, electrical conductivity in the direction perpendicular to the pressure-bonded surface can be reliably obtained. Further, by setting the content to 3% by volume or less, it is possible to secure insulation between adjacent wirings in the horizontal direction with respect to the crimping surface even when electrodes having a narrow pitch are connected to each other.

【0063】前記導電性粒子(V)は、すでに公知のも
のを用いることができる。具体的には、金、ニッケル、
銀、白金などの貴金属類の導電性粒子、銀銅合金、金銅
合金、ニッケル合金などの貴金属合金類の導電性粒子、
ポリスチレンなどの有機ポリマー微粒子に前記貴金属ま
たは貴金属合金の皮膜を形成させて得られる導電性粒子
などが挙げられる。好ましくは、貴金属である金または
ニッケルの導電性粒子、有機ポリマー微粒子に金または
ニッケルの貴金属皮膜を形成させて得られる導電性粒子
など、すなわち表面成分が金またはニッケルで形成され
ている導電性粒子を用いることである。市販品として
は、積水ファインケミカル製の商品名「ミクロパールA
Uシリーズ」が挙げられる。これら導電性粒子の粒子径
は2〜20μmの範囲のものを用いることが好ましい。
As the conductive particles (V), known particles can be used. Specifically, gold, nickel,
Conductive particles of noble metals such as silver and platinum, conductive particles of noble metal alloys such as silver-copper alloy, gold-copper alloy and nickel alloy,
Examples thereof include conductive particles obtained by forming a film of the above-mentioned noble metal or noble metal alloy on fine particles of an organic polymer such as polystyrene. Preferably, conductive particles of noble metal gold or nickel, conductive particles obtained by forming a noble metal film of gold or nickel on organic polymer fine particles, that is, conductive particles whose surface component is formed of gold or nickel. Is to use. As a commercially available product, Sekisui Fine Chemical's product name "Micropearl A"
U series ”. It is preferable to use those conductive particles having a particle diameter in the range of 2 to 20 μm.

【0064】本発明の異方性導電ペーストの粘度は、2
5℃において30〜400Pa・s(EH型粘度計、
2.5rpm)であることが好ましい。粘度を30Pa
・s以上とすることにより、熱圧着による硬化時に気泡
の発生原因となる樹脂の流動を抑制することができる。
また、400Pa・s以下とすることにより、ディスペ
ンサー塗布作業性を維持できる。
The viscosity of the anisotropic conductive paste of the present invention is 2
30 to 400 Pa · s (EH type viscometer,
2.5 rpm) is preferable. Viscosity 30Pa
-By setting it to be s or more, it is possible to suppress the flow of resin which causes bubbles during curing by thermocompression bonding.
Further, when the pressure is 400 Pa · s or less, the dispenser coating workability can be maintained.

【0065】本発明の異方性導電ペーストの調製には、
その他の添加材料、たとえば無機質充填剤、溶媒などを
用いてもよい。
To prepare the anisotropic conductive paste of the present invention,
Other additives such as inorganic fillers and solvents may be used.

【0066】前記無機質充填剤は、粘性調整、硬化物の
熱応力低減などを目的として用い、すでに公知の無機化
合物の中から選択することができる。具体的には、炭酸
カルシウム、炭酸マグネシウム、硫酸バリウム、硫酸マ
グネシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸ジルコニウ
ム、酸化鉄、酸化チタン、酸化アルミニウム(アルミ
ナ)、酸化亜鉛、二酸化ケイ素、チタン酸カリウム、カ
オリン、タルク、アスベスト粉、石英粉、雲母、ガラス
繊維などが挙げられる。前記無機質充填剤の粒子径は、
異方性導電ペーストの導通特性に影響を与えない範囲で
あれば特に制限はないが、2μm以下のものを用いるこ
とが好ましい。また、前記無機質充填剤の使用量も、異
方性導電ペーストの導通特性に影響を与えない範囲であ
れば特に制限はないが、40質量%以下とすることが好
ましい。
The above-mentioned inorganic filler is used for the purpose of adjusting the viscosity and reducing the thermal stress of the cured product, and can be selected from the already known inorganic compounds. Specifically, calcium carbonate, magnesium carbonate, barium sulfate, magnesium sulfate, aluminum silicate, zirconium silicate, iron oxide, titanium oxide, aluminum oxide (alumina), zinc oxide, silicon dioxide, potassium titanate, kaolin, talc. , Asbestos powder, quartz powder, mica, glass fiber and the like. The particle size of the inorganic filler is
There is no particular limitation as long as it does not affect the conduction characteristics of the anisotropic conductive paste, but it is preferable to use one having a thickness of 2 μm or less. The amount of the inorganic filler used is not particularly limited as long as it does not affect the conduction characteristics of the anisotropic conductive paste, but is preferably 40% by mass or less.

【0067】前記無機質充填剤は、一部または全部が、
無機質充填剤の100質量%に対して、エポキシ樹脂
(I)およびカップリング剤(VI)の少なくとも一方
の1〜50質量%がグラフト化変性されていることが好
ましい。すなわち、繰り返し溶剤洗浄法で求めた重量増
加率で表されるグラフト化率が、1〜50である無機質
充填剤を用いることが好ましい。
The inorganic filler is partially or wholly
It is preferable that 1 to 50 mass% of at least one of the epoxy resin (I) and the coupling agent (VI) is graft-modified with respect to 100 mass% of the inorganic filler. That is, it is preferable to use an inorganic filler having a grafting ratio of 1 to 50, which is represented by the weight increase ratio obtained by the repeated solvent washing method.

【0068】ここで、繰り返し溶剤洗浄法とは、以下の
ようにグラフト化率を求める方法である。まず、一部ま
たは全部がグラフト化変性されている無機質充填剤を、
その10〜20倍質量の下記溶剤で、5〜10回湿潤濾
過を繰り返す。この濾過により、グラフト化変性してい
ないエポキシ樹脂(I)およびカップリング剤(VI)
が洗い流される。前記溶剤としては、エポキシ樹脂
(I)またはカップリング剤(VI)の良溶剤である、
たとえばアセトン、メチルエチルケトン、メタノール、
エタノール、トルエン、キシレンなどが挙げられる。次
に、前記濾過後に残った無機質充填剤を乾燥し、その質
量を測定する。この質量が、グラフト化変性された無機
質充填剤の乾燥質量となる。この測定値から、以下の計
算式にしたがって、質量増加率を求める。なお、前記繰
り返し溶剤洗浄法の変わりに、前記溶剤を用いたソック
スレー連続抽出法によってグラフト化率を求めてもよ
い。
Here, the repeated solvent washing method is a method of obtaining the grafting ratio as follows. First, the inorganic filler partially or wholly graft-modified,
Wet filtration is repeated 5 to 10 times with 10 to 20 times the mass of the following solvent. By this filtration, the epoxy resin (I) not modified by grafting and the coupling agent (VI)
Are washed away. The solvent is a good solvent for the epoxy resin (I) or the coupling agent (VI),
For example, acetone, methyl ethyl ketone, methanol,
Examples thereof include ethanol, toluene and xylene. Next, the inorganic filler remaining after the filtration is dried and its mass is measured. This mass is the dry mass of the graft-modified inorganic filler. From this measured value, the mass increase rate is calculated according to the following calculation formula. The grafting rate may be obtained by a Soxhlet continuous extraction method using the solvent instead of the repeated solvent washing method.

【0069】グラフト化率=[(グラフト化変性された
無機質充填剤の乾燥質量−グラフト化変性前の無機質充
填剤の乾燥質量)/グラフト化変性前の無機質充填剤の
乾燥質量]×100
Grafting ratio = [(dry mass of inorganic filler modified by grafting-dry mass of inorganic filler before grafting modification) / dry mass of inorganic filler before grafting modification] × 100

【0070】前記溶媒は、ディスペンサー塗付後の平滑
性の確保、異方性導電ペーストを塗布する部材への濡れ
性の向上を図るために使用し、エポキシ樹脂(I)と相
溶するものであれば特に制限されない。好ましくは沸点
が200℃未満、より好ましくは沸点が40〜150℃
の溶媒である。上記沸点を有する溶媒を使用すれば、異
方性導電ペーストを取り扱う際の粘度安定性が確保さ
れ、かつ短時間のプレ乾燥であっても容易に溶媒を除去
することができる。
The solvent is used to secure smoothness after application of the dispenser and to improve wettability to a member to which the anisotropic conductive paste is applied, and is compatible with the epoxy resin (I). If there is no particular limitation. The boiling point is preferably less than 200 ° C, more preferably the boiling point is 40 to 150 ° C.
Is a solvent of. When the solvent having the above boiling point is used, the viscosity stability when handling the anisotropic conductive paste is ensured, and the solvent can be easily removed even by predrying for a short time.

【0071】前記溶媒の具体例としては、メチルエチル
ケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンな
どのケトン溶媒、ジエチレングリコールジメチルエーテ
ル、メチルカルビトール、エチルカルビトール、ブチル
カルビトールなどのエーテル溶媒、酢酸エチル、ジエチ
レングリコールジアセテート、アルコキシジエチレング
リコールモノアセテートなどのアセテート溶媒などが挙
げられる。使用量としては、異方性導電ペーストを硬化
させた後に溶媒が残存しない量で用いる。
Specific examples of the solvent include ketone solvents such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone, ether solvents such as diethylene glycol dimethyl ether, methyl carbitol, ethyl carbitol and butyl carbitol, ethyl acetate, diethylene glycol diacetate and alkoxy. An acetate solvent such as diethylene glycol monoacetate may be used. The amount used is such that no solvent remains after the anisotropic conductive paste is cured.

【0072】本発明の電気回路配線の接続方法につい
て、液晶ディスプレイにおける電気回路配線の接続方法
を例にとって説明する。
The connection method of the electric circuit wiring of the present invention will be described by taking the connection method of the electric circuit wiring in the liquid crystal display as an example.

【0073】まず工程a1において、本発明の異方性導
電ペーストを液晶ディスプレイ基板の所定の位置にディ
スペンサーによって塗布する。次に、工程a2におい
て、前記液晶ディスプレイ基板とIC搭載回路基板であ
るTCPとのアライメントを行う。次に、工程a3にお
いて、加熱プレス固定方式によって前記異方性導電ペー
ストを硬化させる。これらの工程a1〜a3によって、
液晶ディスプレイ基板とTCPとの電気導通回路を形成
する。
First, in step a1, the anisotropic conductive paste of the present invention is applied to a predetermined position on a liquid crystal display substrate by a dispenser. Next, in step a2, the liquid crystal display substrate is aligned with the TCP that is the IC mounted circuit substrate. Next, in step a3, the anisotropic conductive paste is cured by a heating press fixing method. By these steps a1 to a3,
An electric conduction circuit between the liquid crystal display substrate and the TCP is formed.

【0074】工程a1の異方性導電ペーストのディスペ
ンサーによる塗布に際しては、ディスペンサー全体が2
0℃〜50℃の温度下においてプレヒートされていても
よい。また、コンピューター制御で塗布を行ってもよい
し、人力などで必要部位に塗布してもよい。
When the anisotropic conductive paste is applied by the dispenser in step a1, the entire dispenser is
It may be preheated at a temperature of 0 ° C to 50 ° C. In addition, the application may be performed by computer control, or may be applied to a required site manually.

【0075】また、工程a3の加熱プレス固定方式によ
る異方性導電ペーストの硬化に際しては、加熱プレスす
るための熱板の調整温度として100〜300℃、好ま
しくは120〜250℃、より好ましくは120〜20
0℃の範囲とする。また、加熱プレス時の圧締圧は、好
ましくは0.1〜5MPaとし、電極同士の接合部位に
対し均一な熱圧力を付加する。たとえば、電極とプレス
面との間にゴムマットを配置してプレスを行ってもよ
い。
When the anisotropic conductive paste is hardened by the heating press fixing method in step a3, the temperature for adjusting the hot plate for hot pressing is 100 to 300 ° C., preferably 120 to 250 ° C., more preferably 120. ~ 20
It shall be in the range of 0 ° C. Further, the clamping pressure at the time of hot pressing is preferably 0.1 to 5 MPa, and a uniform thermal pressure is applied to the joint portion between the electrodes. For example, a rubber mat may be arranged between the electrode and the pressing surface for pressing.

【0076】以上のように、本発明の異方性導電ペース
トを用いて、液晶ディスプレイ基板の配線とTCPの配
線とを接続すれば、圧着した方向にのみ導電性を有する
ように接続される。したがって、隣接配線間の絶縁性が
保たれ、高い接続信頼性で配線の接続ができる。
As described above, when the wiring of the liquid crystal display substrate and the wiring of the TCP are connected by using the anisotropic conductive paste of the present invention, the connection is made to have conductivity only in the crimping direction. Therefore, insulation between adjacent wirings is maintained, and wirings can be connected with high connection reliability.

【0077】上述した電気回路配線の接続方法では、液
晶ディスプレイについて説明しているが、エレクトロル
ミネッセンスディスプレイ、プラズマディスプレイなど
のフラットパネルディスプレイにおける電気回路配線の
接続にも適用できる。前記エレクトロルミネッセンスデ
ィスプレイとしては、有機エレクトロルミネッセンスデ
ィスプレイと、無機エレクトロルミネッセンスディスプ
レイとが挙げられる。また、本発明の異方性導電ペース
トは、回路材料、CCD、およびCMOSなどの半導体
デバイスの配線の接続にも用いることができる。
In the above-mentioned connection method of electric circuit wiring, the liquid crystal display is explained, but it can also be applied to the connection of electric circuit wiring in a flat panel display such as an electroluminescence display and a plasma display. Examples of the electroluminescence display include an organic electroluminescence display and an inorganic electroluminescence display. The anisotropic conductive paste of the present invention can also be used for connecting wirings of circuit devices, semiconductor devices such as CCDs and CMOSs.

【0078】[0078]

【実施例】以下、実施例により本発明を詳細に説明す
る。
The present invention will be described in detail below with reference to examples.

【0079】[合成例1] 高軟化点微粒子(A)の合
成 攪拌機、窒素導入管、温度計、還流冷却管を備えた10
00mlの四つ口フラスコに、イオン交換水400g、
アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸ナトリウム
1.0gを入れ、65℃まで昇温した。そこへ過硫酸カ
リウム0.4gを添加した後、ホモジナイザーで乳化し
たt−ドデシルメルカプタン1.2g、n−ブチルアク
リレート156g、ジビニルベンゼン4.0g、アルキ
ルジフェニルエーテルジスルホン酸ナトリウム3.0
g、イオン交換水200gからなる混合溶液を4時間連
続滴下した。滴下後2時間反応を継続させた後、メチル
メタクリレート232gを一括で添加した後、1時間反
応を継続させた。次いで、アクリル酸8gを1時間で連
続添加し、65℃一定で2時間反応を継続させた後、冷
却した。水酸化カリウムでpH=7に中和して、固形分
40.6質量%のエマルション溶液を得た。
[Synthesis Example 1] 10 equipped with a synthetic stirrer for high softening point fine particles (A), a nitrogen introducing tube, a thermometer, and a reflux cooling tube
In a 00 ml four-necked flask, 400 g of ion-exchanged water,
1.0 g of sodium alkyldiphenyl ether disulfonate was added, and the temperature was raised to 65 ° C. After adding 0.4 g of potassium persulfate thereto, 1.2 g of t-dodecyl mercaptan emulsified with a homogenizer, 156 g of n-butyl acrylate, 4.0 g of divinylbenzene, sodium alkyldiphenyl ether disulfonate 3.0.
g, and a mixed solution consisting of 200 g of ion-exchanged water were continuously added dropwise for 4 hours. After the reaction was continued for 2 hours after the dropping, 232 g of methyl methacrylate was added all at once, and then the reaction was continued for 1 hour. Next, 8 g of acrylic acid was continuously added over 1 hour, the reaction was continued at 65 ° C. for 2 hours, and then cooled. It was neutralized to pH = 7 with potassium hydroxide to obtain an emulsion solution having a solid content of 40.6% by mass.

【0080】このエマルション溶液1,000gを噴霧
乾燥器にかけて、0.1%以下の水分含有量からなる高
軟化点微粒子(A)を約400g得た。得られた高軟化
点微粒子(A)の軟化点は80℃であった。なお高軟化
点微粒子(A)をN−4コールターカウンターにて粒子
径を測定した結果、180nmであった。
1,000 g of this emulsion solution was applied to a spray dryer to obtain about 400 g of high softening point fine particles (A) having a water content of 0.1% or less. The softening point of the obtained high softening point fine particles (A) was 80 ° C. The high softening point fine particles (A) had a particle size of 180 nm as measured by an N-4 Coulter counter.

【0081】[合成例2] 高軟化点微粒子(B)の合
成 攪拌機、窒素導入管、温度計、還流冷却管を備えた10
00mlの四つ口フラスコにイオン交換水400g、ア
ルキルジフェニルエーテルジスルホン酸ナトリウム1.
0gを入れ、65℃まで昇温した。そこへ過硫酸カリウ
ム0.4gを添加した後、ホモジナイザーで乳化したt
−ドデシルメルカプタン1.2g、n−ブチルアクリレ
ート156g、ジビニルベンゼン4.0g、アルキルジ
フェニルエーテルジスルホン酸ナトリウム3.0g、イ
オン交換水200gからなる混合溶液を4時間連続滴下
した。滴下後2時間反応を継続させた後、メチルメタク
リレート142g、n−ブチルアクリレート90gを一
括で添加した後、1時間反応を継続させた。次いで、ア
クリル酸8gを1時間で連続添加し、65℃一定で2時
間反応を継続させた後、冷却した。水酸化カリウムでp
H=7に中和して固形分40.6質量%のエマルション
溶液を得た。
[Synthesis Example 2] 10 equipped with a stirrer for synthesizing high softening point fine particles (B), a nitrogen introducing tube, a thermometer, and a reflux cooling tube
In a 00 ml four-necked flask, 400 g of ion-exchanged water, sodium alkyldiphenyl ether disulfonate 1.
0 g was added and the temperature was raised to 65 ° C. After adding 0.4 g of potassium persulfate thereto, the mixture was emulsified with a homogenizer.
A mixed solution of 1.2 g of dodecyl mercaptan, 156 g of n-butyl acrylate, 4.0 g of divinylbenzene, 3.0 g of sodium alkyldiphenyl ether disulfonate, and 200 g of ion-exchanged water was continuously added dropwise for 4 hours. After the reaction was continued for 2 hours after the dropping, 142 g of methyl methacrylate and 90 g of n-butyl acrylate were added all at once, and then the reaction was continued for 1 hour. Next, 8 g of acrylic acid was continuously added over 1 hour, the reaction was continued at 65 ° C. for 2 hours, and then cooled. P with potassium hydroxide
It was neutralized to H = 7 to obtain an emulsion solution having a solid content of 40.6% by mass.

【0082】このエマルション溶液1,000gを噴霧
乾燥器にかけて、0.1%以下の水分含有量からなる高
軟化点微粒子(B)を約400g得た。得られた高軟化
点微粒子(B)の軟化点は40℃であった。なお高軟化
点微粒子(B)をN−4コールターカウンターにて粒子
径を測定した結果、180nmであった。
1,000 g of this emulsion solution was applied to a spray drier to obtain about 400 g of high softening point fine particles (B) having a water content of 0.1% or less. The high softening point fine particles (B) thus obtained had a softening point of 40 ° C. The high softening point fine particles (B) had a particle diameter of 180 nm as measured by an N-4 Coulter counter.

【0083】[合成例3] シリコンエラストマー
(A)の合成 攪拌機、気体導入管、温度計、冷却管を備えた2000
mlの四つ口フラスコを用意し、分子内に2個のエポキ
シ基を持つビスフェノールF型エポキシ樹脂(エピクロ
ン830S・大日本インキ化学工業製)600g、メタ
アクリル酸12g、ジメチルエタノールアミン1g、ト
ルエン50gを加え、空気を導入しながら110℃で5
時間反応させ、前記エポキシ樹脂に二重結合を導入し
た。次に、ヒドロキシアクリレート5g、ブチルアクリ
レート10g、アゾビスイソブチロニトリル1gを加
え、70℃で3時間反応させ、さらに90℃で1時間反
応させた。次いで、110℃の減圧下で脱トルエンを行
った。次に、分子中にメトキシ基を有するシリコン中間
体70g、ジブチルスズジラウレート0.3gを加え、
150℃で1時間反応を行い、生成したメタノールを除
去するためさらに1時間反応を継続した。得られたグラ
フト体に、常温硬化型2液タイプのシリコンゴムを1/
1で混合したものを300g加え、2時間反応させるこ
とで、架橋型シリコンゴム微粒子が均一に分散したシリ
コンエラストマー(A)を得た。
[Synthesis Example 3] 2000 equipped with a synthetic stirrer for silicon elastomer (A), a gas introduction pipe, a thermometer, and a cooling pipe
Prepare a ml four-necked flask, 600 g of bisphenol F type epoxy resin (Epiclone 830S, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals) having two epoxy groups in the molecule, 12 g of methacrylic acid, 1 g of dimethylethanolamine, and 50 g of toluene. And at 5 ° C at 110 ° C while introducing air.
After reacting for a time, a double bond was introduced into the epoxy resin. Next, 5 g of hydroxy acrylate, 10 g of butyl acrylate, and 1 g of azobisisobutyronitrile were added, and the mixture was reacted at 70 ° C. for 3 hours and further at 90 ° C. for 1 hour. Then, toluene removal was performed under reduced pressure at 110 ° C. Next, 70 g of a silicon intermediate having a methoxy group in the molecule and 0.3 g of dibutyltin dilaurate are added,
The reaction was carried out at 150 ° C. for 1 hour, and the reaction was further continued for 1 hour in order to remove the produced methanol. To the obtained graft body, 1 / room temperature curing type 2 liquid type silicone rubber
300 g of the mixture obtained in 1 was added and reacted for 2 hours to obtain a silicone elastomer (A) in which crosslinked silicone rubber fine particles were uniformly dispersed.

【0084】このシリコンエラストマー(A)を、光硬
化触媒の存在化に低温で速硬化させ、その硬化物の破断
面モルフォロジーを電子顕微鏡で観察して得た分散ゴム
の平均1次粒子径値は、1.0μmであった。
This silicone elastomer (A) was rapidly cured at a low temperature in the presence of a photocuring catalyst, and the average primary particle diameter value of the dispersed rubber obtained by observing the fracture surface morphology of the cured product with an electron microscope. , 1.0 μm.

【0085】[実施例1]エポキシ樹脂(I)としてビ
スフェノールA型エポキシ樹脂、高軟化点微粒子(II
I)として合成例1において合成した高軟化点微粒子
(A)、ポリシリコーン(IV)として合成例3におい
て合成したシリコンエラストマー(A)、およびカップ
リング剤(VI)としてγ−グリシジルプロピルトリメ
トキシシランKBM−403(信越シリコーン製)をダ
ルトンミキサーで予備混練した後、3本ロールで混練を
行なった。次いで、アミン系硬化剤(II)としてイミ
ダゾール変性マイクロカプセル化硬化剤、導電粒子
(V)としてミクロパールAu−205(積水化学製、
比重2.67)を混合後、ダルトンミキサーで真空化混
練脱泡を行なった。各材料の配合量(単位:g)は表1
に示す。
Example 1 Bisphenol A type epoxy resin as the epoxy resin (I), high softening point fine particles (II
High softening point fine particles (A) synthesized in Synthesis Example 1 as I), silicone elastomer (A) synthesized in Synthesis Example 3 as polysilicone (IV), and γ-glycidylpropyltrimethoxysilane as coupling agent (VI). KBM-403 (manufactured by Shin-Etsu Silicone) was pre-kneaded with a Dalton mixer, and then kneaded with three rolls. Next, as an amine-based curing agent (II), an imidazole-modified microencapsulated curing agent, and as conductive particles (V), Micropearl Au-205 (manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.,
After mixing with a specific gravity of 2.67), vacuum kneading and defoaming were performed with a Dalton mixer. The blending amount (unit: g) of each material is shown in Table 1.
Shown in.

【0086】得られた異方性導電ペースト(P−1)を
以下の試験方法により評価を行った。その結果を表2に
示す。
The anisotropic conductive paste (P-1) thus obtained was evaluated by the following test methods. The results are shown in Table 2.

【0087】<1.貯蔵安定性試験>異方性導電ペース
ト(P−1)の25℃の粘度を測定してその値を基準と
した。P−1をポリエチレン製容器に入れ、密閉し、−
10℃の一定条件にて保管した。30日経過後、25℃
での粘度を測定してその増加率により判定した。 ○:10%未満 △:10%以上50%未満 ×:50%以上
<1. Storage stability test> The viscosity of the anisotropic conductive paste (P-1) at 25 ° C was measured and the value was used as a reference. Put P-1 in a polyethylene container, seal,
It was stored under a constant condition of 10 ° C. 25 days after 30 days
The viscosity was measured and the rate of increase was determined. ○: less than 10% △: 10% or more and less than 50% ×: 50% or more

【0088】<2.塗布適性>異方性導電ペースト(P
−1)を10ccのシリンジに充填した後、脱泡を行な
った。ディスペンサー(ショットマスター:武蔵エンジ
ニアリング製)にて、毎秒4cmのスピードで塗布し、
以下の判定基準で優劣を判断した。 ○:染み出し、糸曳きが無く、外観も良好であった △:染み出し、糸曳きは無いが、外観が不良であった ×:染み出し、糸曳きが発生して塗布適性が著しく劣っ
ていた
<2. Applicability> Anisotropic conductive paste (P
-1) was filled in a 10 cc syringe and then defoamed. Apply with a dispenser (Shot Master: made by Musashi Engineering) at a speed of 4 cm per second,
The following criteria were used to judge superiority or inferiority. ◯: No bleeding, no stringing, and good appearance. Δ: No bleeding, no stringing, but poor appearance. X: Exudation, stringing occurred, and coating suitability was extremely poor. Was

【0089】<3.150℃のゲル化時間測定試験>異
方性導電ペースト(P−1)1gを150℃の熱板に載
せ、スパチュラで攪拌した。P−1を熱板に載せてから
糸曳きが無くなるまでの時間を測定してゲル化時間とし
た。
<3. 150 ° C. Gelation Time Measurement Test> 1 g of anisotropic conductive paste (P-1) was placed on a hot plate at 150 ° C. and stirred with a spatula. The time from when P-1 was placed on the hot plate until the stringing disappeared was measured and used as the gelation time.

【0090】<4.接着強度>異方性導電ペースト(P
−1)1gをディスペンサー(ショットマスター:武蔵
エンジニアリング製)で、低アルカリガラス上に塗布し
た。230℃のセラミックツールで、30秒間、2MP
aの圧力にて、試験用TAB(Tape AutomatedBondin
g)フィルムと圧着し貼り合わせを行なった。24時
間、25℃、湿度50%の恒温槽にて保管後、ピール強
度を引張り試験装置(インテスコ製)にて測定した。
<4. Adhesive strength> Anisotropic conductive paste (P
-1) 1 g was applied onto low-alkali glass with a dispenser (shot master: manufactured by Musashi Engineering). 2MP with a ceramic tool at 230 ℃ for 30 seconds
TAB for test (Tape Automated Bondin)
g) The film was pressure-bonded and laminated. After being stored in a constant temperature bath at 25 ° C. and a humidity of 50% for 24 hours, the peel strength was measured by a tensile test device (manufactured by Intesco).

【0091】<5.樹脂抜けの有無>異方性導電ペース
ト(P−1)1gをディスペンサー(ショットマスタ
ー:武蔵エンジニアリング製)で、低アルカリガラス上
に塗布した。230℃のセラミックツールで、30秒
間、2MPaの圧力にて、試験用TABフィルムと圧着
し貼り合わせを行なった。顕微鏡にて接合部分を観察
し、以下の判定基準で優劣を判断した。 ○:樹脂抜け、染み出しが無く、外観も良好であった △:バンプ間に一部樹脂抜けが見られ、外観が不良であ
った ×:樹脂抜け、染み出しが全体的に発生した
<5. Presence or absence of resin omission> 1 g of the anisotropic conductive paste (P-1) was applied on a low alkali glass with a dispenser (shot master: manufactured by Musashi Engineering). Using a ceramic tool at 230 ° C., a test TAB film was pressure-bonded for 30 seconds at a pressure of 2 MPa to perform bonding. The joint portion was observed with a microscope and superiority or inferiority was judged according to the following criteria. Good: Appearance was good with no resin bleeding or bleeding. C: Partial resin bleeding was observed between the bumps and appearance was poor. X: Resin bleeding or bleeding occurred overall.

【0092】<6.気泡発生の有無>異方性導電ペース
ト(P−1)1gをディスペンサー(ショットマスタ
ー:武蔵エンジニアリング製)で、低アルカリガラス上
に塗布した。230℃のセラミックツールで、30秒
間、2MPaの圧力にて試験用TABフィルムと圧着し
貼り合わせを行なった。顕微鏡にて接合部分を観察し以
下の判定基準で優劣を判断した。 ○:気泡が無く、外観も良好であった △:バンプ間に一部気泡が見られた ×:全体的に気泡が見られた
<6. Presence or absence of air bubbles> 1 g of the anisotropic conductive paste (P-1) was applied on low-alkali glass with a dispenser (shot master: manufactured by Musashi Engineering). Using a ceramic tool at 230 ° C., the test TAB film was pressure-bonded for 30 seconds at a pressure of 2 MPa to perform bonding. The joint portion was observed with a microscope and superiority or inferiority was judged according to the following criteria. ◯: There were no bubbles and the appearance was good. Δ: Some bubbles were seen between the bumps. ×: Bubbles were seen overall.

【0093】<7.導通性>異方性導電ペースト(P−
1)1gをディスペンサー(ショットマスター:武蔵エ
ンジニアリング製)で、ITO(Indium Tin Oxide)電
極を有する低アルカリガラス上に塗布した。230℃の
セラミックツールで、30秒間、2MPaの圧力にて試
験用TABフィルムと圧着し貼り合わせを行なった。I
TO電極と試験用TABフィルム上の電極間の抵抗値
を、接続直後と、60℃95%RH(relative humidit
y)下において600時間経過後に測定した。
<7. Conductivity> Anisotropic conductive paste (P-
1) 1 g was applied onto a low alkali glass having an ITO (Indium Tin Oxide) electrode with a dispenser (shot master: manufactured by Musashi Engineering). Using a ceramic tool at 230 ° C., the test TAB film was pressure-bonded for 30 seconds at a pressure of 2 MPa to perform bonding. I
The resistance between the TO electrode and the electrode on the test TAB film was measured at 60 ° C and 95% RH (relative humidit
y) Measured after 600 hours.

【0094】<8.配線間ショートの有無の確認試験>
異方性導電ペースト(P−1)1gをディスペンサー
(ショットマスター:武蔵エンジニアリング製)で、I
TO電極を有する低アルカリガラス上に塗布した。23
0℃のセラミックツールで、30秒間、2MPaの圧力
にて試験用TABフィルムと圧着し貼り合わせを行なっ
た。隣接するITO電極間の抵抗値を測定して以下の判
定基準で示した。 ○:絶縁性が確保されている ×:導通している
<8. Confirmation test for the presence of shorts between wires>
1 g of anisotropic conductive paste (P-1) was dispensed (shot master: made by Musashi Engineering Co., Ltd.)
It was applied on a low alkali glass having a TO electrode. 23
The test TAB film was pressure-bonded with a ceramic tool at 0 ° C. for 30 seconds at a pressure of 2 MPa to perform bonding. The resistance value between adjacent ITO electrodes was measured and shown by the following criteria. ○: Insulation is secured ×: Conductivity

【0095】<9.リペア性>異方性導電ペースト(P
−1)1gをディスペンサー(ショットマスター:武蔵
エンジニアリング製)で、低アルカリガラス上に塗布し
た。230℃のセラミックツールで、30秒間、2MP
aの圧力にて試験用TABフィルムと圧着し貼り合わせ
を行なった。溶剤で洗浄して試験用TABフィルムを剥
離した後、低アルカリガラスの表面を顕微鏡で観察し以
下の判定基準で優劣を判断した。 ○:樹脂の残存が無く、外観も良好であった △:樹脂が部分的に残存しており外観も不良であった ×:全体的に樹脂が残存していた
<9. Repairability> Anisotropic conductive paste (P
-1) 1 g was applied onto low-alkali glass with a dispenser (shot master: manufactured by Musashi Engineering). 2MP with a ceramic tool at 230 ℃ for 30 seconds
The test TAB film was pressure-bonded and bonded at a pressure of a. After washing with a solvent and peeling the test TAB film, the surface of the low-alkali glass was observed with a microscope, and the superiority or inferiority was judged according to the following criteria. ◯: No resin remained and appearance was good Δ: Resin partially remained and appearance was poor X: Resin remained overall

【0096】[実施例2]配合量を表1に示したとおり
とした以外は、実施例1と同様に異方性導電ペースト
(P−2)を調製し、試験を行った。試験結果は表2に
示す。
[Example 2] An anisotropic conductive paste (P-2) was prepared and tested in the same manner as in Example 1 except that the compounding amounts were as shown in Table 1. The test results are shown in Table 2.

【0097】[実施例3]実施例1におけるシリコーン
エラストマー(A)を、直鎖状シリコーンDC3037
(信越シリコーン製)に変え、配合量を表1に示したと
おりとした以外は、実施例1と同様に異方性導電ペース
ト(P−3)を調製し、試験を行った。試験結果は表2
に示す。
Example 3 The silicone elastomer (A) in Example 1 was used as a linear silicone DC3037.
Anisotropic conductive paste (P-3) was prepared and tested in the same manner as in Example 1 except that (Shin-Etsu Silicone) was used and the compounding amount was changed as shown in Table 1. Table 2 shows the test results
Shown in.

【0098】[実施例4]実施例1におけるシリコーン
エラストマー(A)に加えて、さらに直鎖状シリコーン
DC3037(信越シリコーン製)を用い、配合量を表
1に示したとおりにした以外は、実施例1と同様に異方
性導電ペースト(P−4)を調製し、試験を行った。試
験結果は表2に示す。
[Example 4] In addition to the silicone elastomer (A) in Example 1, a linear silicone DC3037 (manufactured by Shin-Etsu Silicone) was used, and the compounding amount was as shown in Table 1. An anisotropic conductive paste (P-4) was prepared and tested in the same manner as in Example 1. The test results are shown in Table 2.

【0099】[実施例5]配合量を表1に示したとおり
とした以外は、実施例1と同様に異方性導電ペースト
(P−5)を調製し、試験を行った。試験結果は表2に
示す。
[Example 5] An anisotropic conductive paste (P-5) was prepared and tested in the same manner as in Example 1 except that the compounding amounts were as shown in Table 1. The test results are shown in Table 2.

【0100】[実施例6]実施例1におけるカップリン
グ剤(VI)としてγ−グリシジルプロピルトリメトキ
シシラン KBM−403(信越シリコーン製)を用い
ず、配合量を表1に示したとおりにした以外は、実施例
1と同様に異方性導電ペースト(P−6)を調製し、試
験を行った。試験結果は表2に示す。
Example 6 γ-glycidylpropyltrimethoxysilane KBM-403 (manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd.) was not used as the coupling agent (VI) in Example 1 except that the compounding amount was as shown in Table 1. In the same manner as in Example 1, an anisotropic conductive paste (P-6) was prepared and tested. The test results are shown in Table 2.

【0101】[比較例1]配合量を表1に示したとおり
とした以外は、実施例1と同様に異方性導電ペースト
(C−1)を調製し、試験を行った。試験結果は表2に
示す。
[Comparative Example 1] An anisotropic conductive paste (C-1) was prepared and tested in the same manner as in Example 1 except that the compounding amounts were as shown in Table 1. The test results are shown in Table 2.

【0102】[比較例2]配合量を表1に示したとおり
とした以外は、実施例1と同様に異方性導電ペースト
(C−2)を調製し、試験を行った。試験結果は表2に
示す。
[Comparative Example 2] An anisotropic conductive paste (C-2) was prepared and tested in the same manner as in Example 1 except that the compounding amounts were as shown in Table 1. The test results are shown in Table 2.

【0103】[比較例3]実施例1における高軟化点微
粒子(A)に変えて、合成例2において合成した高軟化
点微粒子(B)を用い、配合量を表1に示したとおりと
した以外は、実施例1と同様に異方性導電ペースト(C
−3)を調製し、試験を行った。試験結果は表2に示
す。
Comparative Example 3 The high softening point fine particles (B) synthesized in Synthesis Example 2 were used in place of the high softening point fine particles (A) in Example 1, and the compounding amounts were as shown in Table 1. The anisotropic conductive paste (C
-3) was prepared and tested. The test results are shown in Table 2.

【0104】[比較例4]配合量を表1に示したとおり
とした以外は、実施例1と同様に異方性導電ペースト
(C−4)を調製し、試験を行った。試験結果は表2に
示す。
[Comparative Example 4] An anisotropic conductive paste (C-4) was prepared and tested in the same manner as in Example 1 except that the blending amount was changed as shown in Table 1. The test results are shown in Table 2.

【0105】[比較例5]配合量を表1に示したとおり
とした以外は、実施例1と同様に異方性導電ペースト
(C−5)を調製し、試験を行った。試験結果は表2に
示す。
[Comparative Example 5] An anisotropic conductive paste (C-5) was prepared and tested in the same manner as in Example 1 except that the compounding amounts were changed as shown in Table 1. The test results are shown in Table 2.

【0106】[比較例6]配合量を表1に示したとおり
とした以外は、実施例1と同様に異方性導電ペースト
(C−6)を調製し、試験を行った。試験結果は表2に
示す。
[Comparative Example 6] An anisotropic conductive paste (C-6) was prepared and tested in the same manner as in Example 1 except that the compounding amount was as shown in Table 1. The test results are shown in Table 2.

【0107】[0107]

【表1】 [Table 1]

【0108】[0108]

【表2】 [Table 2]

【0109】表2より、実施例1〜6の異方性導電ペー
ストは、いずれの試験においても良好な評価を得られた
ことがわかる。
From Table 2, it can be seen that the anisotropic conductive pastes of Examples 1 to 6 obtained good evaluations in all tests.

【0110】[0110]

【発明の効果】本発明によれば、貯蔵安定性、ディスペ
ンサー塗布作業性に優れた異方性導電ペーストを提供で
きる。
According to the present invention, it is possible to provide an anisotropic conductive paste which is excellent in storage stability and workability in dispenser application.

【0111】また本発明によれば、高生産性を維持する
ための、温度200℃、圧力2MPa、および時間20
〜30秒といった厳しい熱圧着条件下における配線の接
続に用いても、樹脂抜け、気泡および染み出しの発生が
ない異方性導電ペーストであって、その硬化物は、高温
高湿時においても接着信頼性および接続信頼性が高く、
かつリペア性も高い異方性導電ペーストを提供できる。
Further, according to the present invention, in order to maintain high productivity, the temperature is 200 ° C., the pressure is 2 MPa, and the time is 20.
It is an anisotropic conductive paste that does not cause resin bleeding, bubbles, or exudation even when used for wiring connection under severe thermocompression bonding conditions of ~ 30 seconds, and its cured product adheres even at high temperature and high humidity. Reliable and connection reliable,
An anisotropic conductive paste having high repairability can be provided.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の電気回路配線の接続方法の工程図であ
る。
FIG. 1 is a process drawing of a method for connecting electrical circuit wiring according to the present invention.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C09J 133/06 C09J 133/06 5G307 151/08 151/08 163/00 163/00 183/04 183/04 201/02 201/02 H05K 1/14 H05K 1/14 A 3/32 3/32 B //(C08L 63/00 C08L 33:12 33:12 83:04 83:04) (72)発明者 村田 達司 千葉県袖ケ浦市長浦580−32 三井化学株 式会社内 (72)発明者 中原 真 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シ ャープ株式会社内 (72)発明者 吉良 隆敏 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シ ャープ株式会社内 (72)発明者 池杉 大輔 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シ ャープ株式会社内 Fターム(参考) 4J002 BG062 CD011 CD051 CD061 CD101 CD131 CD181 CD203 DA077 DA087 DA117 EU116 FA082 FB286 FD010 FD117 FD146 GJ01 GQ02 4J036 AC17 AD08 AE05 AF06 AG01 AG04 AG07 AH05 AH07 AH10 AJ01 AJ05 CD04 DC41 FA02 FA11 FB03 FB16 HA07 JA06 4J040 DF032 DL052 DL152 EC031 EC041 EC071 EC121 EK032 HA066 HC12 HC15 HC23 HD32 HD35 HD36 HD37 JA11 JB02 JB10 KA03 KA16 KA42 LA01 LA02 LA06 LA08 LA09 LA11 MA10 NA17 PA24 PA30 5E319 AA03 AC03 AC04 BB16 CC12 CD27 GG20 5E344 AA02 AA22 BB02 CD04 CD06 DD10 EE30 5G307 HA02 HB03 HC01 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) C09J 133/06 C09J 133/06 5G307 151/08 151/08 163/00 163/00 183/04 183/04 201/02 201/02 H05K 1/14 H05K 1/14 A 3/32 3/32 B // (C08L 63/00 C08L 33:12 33:12 83:04 83:04) (72) Inventor Tatsushi Murata 580-32 Nagaura, Sodegaura City, Chiba Prefecture Mitsui Chemicals Co., Ltd. (72) Inventor Makoto Nakahara 22-22 Nagaikecho, Abeno-ku, Osaka City, Osaka Prefecture 22-22 Ikemachi, Sharp Corporation (72) Inventor Daisuke Ikesugi 22-22, Nagaikemachi, Abeno-ku, Osaka-shi, Osaka Prefecture F-terms within Sharp Corporation (reference) 4J002 BG062 CD011 CD051 CD061 CD101 CD131 CD181 CD203 DA077 DA087 DA117 EU116 FA082 FB 286 FD010 FD117 FD146 GJ01 GQ02 4J036 AC17 AD08 AE05 AF06 AG01 AG04 AG07 AH05 AH07 AH10 AJ01 AJ05 CD04 DC41 FA02 FA11 FB03 FB16 HA07 JA06 4J040 DF032 DL052 DL152 EC031 EC041 EC071 EC121 EK032 HA066 HC12 HC15 HC23 HD32 HD35 HD36 HD37 JA11 JB02 JB10 KA03 KA16 KA42 LA01 LA02 LA06 LA08 LA09 LA11 MA10 NA17 PA24 PA30 5E319 AA03 AC03 AC04 BB16 CC12 CD27 GG20 5E344 AA02 AA22 BB02 CD04 CD06 DD10 EE30 5G307 HA02 HB03 HC01

Claims (14)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 (I)エポキシ樹脂を30〜80質量
%、 (II)アミン系硬化剤を10〜50質量%、 (III)高軟化点微粒子を5〜25質量%、 (IV)ポリシリコーンを5〜25質量%含む樹脂組成
物97〜99.9体積%と、 (V)導電性粒子0.1〜3体積%とを含むことを特徴
とする異方性導電ペースト。
1. (I) Epoxy resin 30 to 80% by mass, (II) Amine curing agent 10 to 50% by mass, (III) High softening point fine particles 5 to 25% by mass, (IV) Polysilicone An anisotropic conductive paste comprising 97 to 99.9% by volume of a resin composition containing 5 to 25% by mass and (V) 0.1 to 3% by volume of conductive particles.
【請求項2】 (I)エポキシ樹脂を30〜79.9質
量%、 (II)アミン系硬化剤を10〜50質量%、 (III)高軟化点微粒子を5〜25質量%、 (IV)ポリシリコーンを5〜25質量%、 (VI)カップリング剤を0.1〜5質量%含む樹脂組
成物97〜99.9体積%と、 (V)導電性粒子0.1〜3体積%とを含むことを特徴
とする異方性導電ペースト。
2. (I) 30 to 79.9 mass% of epoxy resin, (II) 10 to 50 mass% of amine curing agent, (III) 5 to 25 mass% of high softening point fine particles, (IV) 5 to 25 mass% of polysilicone, 97 to 99.9 vol% of a resin composition containing (VI) 0.1 to 5 mass% of a coupling agent, and (V) 0.1 to 3 vol% of conductive particles. An anisotropic conductive paste comprising:
【請求項3】 前記エポキシ樹脂(I)が、エポキシ基
を1分子中に少なくとも平均1〜6個有し、かつ分子量
が100〜7000であることを特徴とする請求項1ま
たは2記載の異方性導電ペースト。
3. The epoxy resin (I) according to claim 1, wherein the epoxy resin (I) has at least 1 to 6 epoxy groups in one molecule on average, and has a molecular weight of 100 to 7000. Directional conductive paste.
【請求項4】 前記アミン系硬化剤(II)が、イミダ
ゾール系硬化剤であることを特徴とする請求項1〜3の
いずれかに記載の異方性導電ペースト。
4. The anisotropic conductive paste according to claim 1, wherein the amine curing agent (II) is an imidazole curing agent.
【請求項5】 前記イミダゾール系硬化剤がマイクロカ
プセル化されていることを特徴とする請求項4記載の異
方性導電ペースト。
5. The anisotropic conductive paste according to claim 4, wherein the imidazole curing agent is microencapsulated.
【請求項6】 前記高軟化点微粒子(III)が、60
〜150℃の軟化点温度を持ち、かつ1次粒子径が0.
01〜2μmの範囲であることを特徴とする請求項1〜
5のいずれかに記載の異方性導電ペースト。
6. The high softening point fine particles (III) are 60
It has a softening point temperature of ˜150 ° C. and a primary particle size of 0.1.
It is in the range of 01 to 2 μm.
5. An anisotropic conductive paste according to any one of 5 above.
【請求項7】 前記高軟化点微粒子(III)が、メチ
ル(メタ)アクリレートと該メチル(メタ)アクリレー
ト以外の共重合可能なモノマーとを共重合して得られる
高軟化点微粒子であって、前記メチル(メタ)アクリレ
ートを30〜70質量%含むことを特徴とする請求項1
〜6のいずれかに記載の異方性導電ペースト。
7. The high softening point fine particles (III) are high softening point fine particles obtained by copolymerizing methyl (meth) acrylate and a copolymerizable monomer other than the methyl (meth) acrylate, The methyl (meth) acrylate is contained in an amount of 30 to 70% by mass.
An anisotropic conductive paste according to any one of 1 to 6.
【請求項8】 前記ポリシリコーン(IV)が、シリコ
ーン変性されたエラストマーであることを特徴とする請
求項1〜7のいずれかに記載の異方性導電ペースト。
8. The anisotropic conductive paste according to claim 1, wherein the polysilicone (IV) is a silicone-modified elastomer.
【請求項9】 前記シリコーン変性されたエラストマー
の軟化点温度が−80〜0℃であり、かつ該エラストマ
ーが粒子として存在しており、その1次粒子径が0.0
5〜5μmであることを特徴とする請求項8記載の異方
性導電ペースト。
9. The softening point temperature of the silicone-modified elastomer is −80 to 0 ° C., the elastomer is present as particles, and the primary particle diameter thereof is 0.0.
It is 5-5 micrometers, The anisotropic conductive paste of Claim 8 characterized by the above-mentioned.
【請求項10】 前記シリコーン変性されたエラストマ
ーが、エポキシ樹脂にグラフト化していることを特徴と
する請求項8または9記載の異方性導電ペースト。
10. The anisotropic conductive paste according to claim 8 or 9, wherein the silicone-modified elastomer is grafted on an epoxy resin.
【請求項11】 前記導電性粒子(V)の表面成分が、
金またはニッケルであることを特徴とする請求項1〜1
0のいずれかに記載の異方性導電ペースト。
11. The surface component of the conductive particles (V) is
It is gold or nickel, It is characterized by the above-mentioned.
0. The anisotropic conductive paste according to any one of 0.
【請求項12】 25℃における粘度が、30〜400
Pa・sであることを特徴とする請求項1〜11のいず
れかに記載の異方性導電ペースト。
12. The viscosity at 25 ° C. is 30 to 400.
It is Pa * s, The anisotropic conductive paste in any one of Claims 1-11 characterized by the above-mentioned.
【請求項13】 請求項1〜12のいずれかに記載の異
方性導電ペーストが、回路材料、液晶ディスプレイ、エ
レクトロルミネッセンスディスプレイ、プラズマディス
プレイ、電荷結合素子および半導体デバイスのうちいず
れか1つに用いられることを特徴とする異方性導電ペー
スト。
13. The anisotropic conductive paste according to claim 1, which is used in any one of a circuit material, a liquid crystal display, an electroluminescent display, a plasma display, a charge-coupled device and a semiconductor device. An anisotropic conductive paste characterized by being obtained.
【請求項14】 請求項1〜12のいずれかに記載の異
方性導電ペーストによって、一方の基板上に形成される
電気回路配線と、他方の基板上に形成される電気回路配
線とを接続することを特徴とする電気回路配線の接続方
法。
14. The anisotropic conductive paste according to claim 1 connects electrical circuit wiring formed on one substrate and electrical circuit wiring formed on the other substrate. A method for connecting electrical circuit wiring, comprising:
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