JP2002305080A

JP2002305080A - 統合マスク、ならびに統合マスクを用いた有機ｅｌ素子の製造方法およびその製造装置

Info

Publication number: JP2002305080A
Application number: JP2002022982A
Authority: JP
Inventors: Yoshiyuki Kitamura; 義之北村; Hiromitsu Kanamori; 浩充金森; Shigeo Fujimori; 茂雄藤森
Original assignee: Toray Industries Inc
Current assignee: Toray Industries Inc
Priority date: 2001-01-31
Filing date: 2002-01-31
Publication date: 2002-10-18
Anticipated expiration: 2022-01-31
Also published as: JP4096567B2

Abstract

(57)【要約】【課題】１枚の基板に多数個の有機ＥＬ素子を精度よく
蒸着により形成できるように多数個の小蒸着マスクを配
列した蒸着用マスクの具体的構成と、それを用いた有機
ＥＬ素子の製造方法および製造装置を提供する。【解決手段】蒸着パターンに対応した蒸着用開口配列群
をもつ複数の蒸着マスクが、複数の開口部を有するベー
ス板に、各蒸着マスクの前記蒸着用開口配列群が前記開
口部の上側に位置するように配置されており、かつ前記
蒸着マスクは前記ベース板に任意に固定・開放自由な係
合手段によって固定されているとともに、前記蒸着マス
クを前記ベース板に位置決めするための基準アライメン
トマークを前記ベース板上に有することを特徴とする統
合マスク。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、例えば表示素
子、フラットパネルディスプレイ、バックライト、照
明、インテリア、標識、看板、電子写真機などの分野に
利用可能な、電気エネルギーを光に変換できる有機ＥＬ
素子を製造するための、蒸着用マスク、並びにそれを用
いた有機ＥＬ素子の製造方法および製造装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】有機ＥＬ素子は、陰極から注入する電子
と、陽極から注入する正孔とを、両極にはさまれた有機
蛍光体内で再結合させて発光させる原理のものであり、
構造が簡素で、低電圧での高輝度多色発光が行えること
から、薄型の小型ディスプレイに多く活用されはじめて
いる。

【０００３】この有機ＥＬ素子を用いてフルカラーの表
示パネルを作成するには、基板上に構成要素となる赤
（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の発光層の他、第１、第２
電極層等の薄膜層を所定パターンとピッチで規則正しく
配列することが必要とされる。

【０００４】以上の薄膜層のうち、発光層となる有機薄
膜層を高精度の微細パターンに形成するためには、有機
薄膜の特性から、発光層の所定パターンに対応した開口
配列を有するマスクを用いて、真空下で蒸着するマスク
蒸着法が通常利用される。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】上述した有機ＥＬ素子
製造の生産性を向上させるには、発光層の形成に用いら
れるマスク蒸着が基板ごとのバッチ処理となることと、
現在の有機ＥＬ素子は小型用途が多いことから、１枚の
大きな基板に多数の有機ＥＬ素子を形成する、いわゆる
多面取りが有効となる。多面取りのためには、１個の有
機ＥＬ素子の大きさに対応した開口配列部分を多数有し
ている蒸着用マスクを作成することが必要となる。しか
しながらこのような蒸着マスクは大型化し、製作ならび
に使用時に大きく変形して開口配列の寸法精度を高精度
に維持できないため、特開２０００−１１３９７８号公
報では、１個の有機ＥＬ素子に応じた開口配列を有する
１つの蒸着用マスクを多数配列する寄せ合わせ型蒸着マ
スクを導入することにより、寸法精度を高精度に維持す
る手段が示されているが、蒸着用マスクの具体的な構成
までは示されていない。

【０００６】また、発光層はＲＧＢの３色が存在してい
ることから、各発光層間の位置決めが重要となるが、一
枚の蒸着用マスクと基板の位置決めについては、特開平
１１−１５８６０５号公報等で示されているものの、上
記の多面取りを高精度で行える寄せ合わせ型蒸着マスク
を用いた時の、蒸着用マスクと基板との位置決め手段に
ついては何も提示されていない。

【０００７】この発明は、上述の事情に基づいてなされ
たものでその目的とするところは、１個の有機ＥＬ素子
に応じた開口配列を有する１つの蒸着用マスクを多数配
列する寄せ合わせ型蒸着用マスクを実用に供するための
具体的な構成を提示するとともに、その寄せ合わせ型蒸
着マスクと基板を位置決めして、マスク蒸着して、一枚
の基板に多数の有機ＥＬ素子を形成して生産性を飛躍的
に向上できる有機ＥＬ素子の製造方法および製造装置を
提供することにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記の目的はこの発明に
よって達成される。すなわち本発明は、蒸着パターンに
対応した蒸着用開口配列群をもつ複数の蒸着マスクが、
複数の開口部を有するベース板に、各蒸着マスクの前記
蒸着用開口配列群が前記開口部の上側に位置するように
配置されており、かつ前記蒸着マスクは前記ベース板に
任意に固定・開放自由な係合手段によって固定されてい
るとともに、前記蒸着マスクを前記ベース板に位置決め
するための基準アライメントマークを前記ベース板上に
有することを特徴とする統合マスクであり、それを用い
た用いた有機ＥＬ素子の製造方法およびその製造装置で
ある。

【０００９】

【発明の実施の形態】本発明の統合マスクは、蒸着パタ
ーンに対応した蒸着用開口配列群をもつ複数の蒸着マス
クが、複数の開口部を有するベース板に、各蒸着マスク
の前記蒸着用開口配列群が前記開口部の上側に位置する
ように配置されているものであり、かつ前記蒸着マスク
は前記ベース板に任意に固定・開放自由な係合手段によ
って固定されているとともに、前記蒸着マスクを前記ベ
ース板に位置決めするための基準アライメントマークを
前記ベース板上に有することを特徴とするものである。
ここで、開口部の上側に蒸着用開口配列群が配置される
ということは、開口部が、形成される蒸着用開口配列
群、つまり蒸着パターンよりも広い範囲に形成されてい
るということを意味している。また、前記任意に固定・
開放自由な係合手段は特に限定されないが、外力が付加
されることで開放自由となるものであることが好まし
い。また統合マスクの構成部材に熱膨張係数が１×１０
^-5以下のものを含むことが好ましく、さらに前記複数の
蒸着マスクは、隣り合うどおしの最大隙間が１０ｍｍ以
下で配置される部分を含むのが好ましい。

【００１０】本発明の有機ＥＬ素子の製造方法は、本発
明の統合マスクと、蒸着を施す基板とを、前記統合マス
クの基準アライメントマークを基準にして、蒸着室内で
位置決めを行ってから、マスク蒸着により薄膜層をパタ
ーニングする工程を有して有機ＥＬ素子を製造する方法
である。また位置決めを完了してから、位置決めを行っ
た統合マスクと基板を蒸着室にいれて、マスク蒸着によ
り薄膜層をパターニングする工程であってもよい。位置
決めを工程のどの部分で行うかは、装置等の配置、構成
に応じて使い分ければよく、本発明では位置決め工程を
設けることが重要である。また、本発明の統合マスクで
蒸着する薄膜層はＲ、Ｇ、Ｂの発光層であることが好ま
しい。

【００１１】本発明の有機ＥＬ素子の製造装置は、本発
明の統合マスクと、蒸着を施す基板を、前記統合マスク
の基準アライメントマークを基準にして、位置決めを行
う位置決め装置と、マスク蒸着により薄膜層をパターニ
ングする蒸着装置を備えて有機ＥＬ素子を製造すること
を特徴とする。ここで、蒸着装置は蒸着室内に蒸発源を
有し、マスクのパターンにしたがって、基板にパターニ
ングした蒸着を行うことができるものである。また、統
合マスクと基板の位置を合わせ込む位置決め装置は、蒸
着室内もしくは蒸着室外のいずれの位置にあってもよ
い。なお、位置決め装置が蒸着室外に存在する場合は、
位置決めを行った統合マスクと基板を蒸着室内に導入す
る装置を有していてもよい。

【００１２】本発明の統合マスクによれば、所定の蒸着
用開口配列をもつ蒸着用マスクをベース板上に両者の基
準マークをもとに多数配置し、かつ固定・開放が自由な
手段によって保持する構成を有しているので、多数の蒸
着マスクを高い精度で所定位置に配置することが可能と
なる。さらに構成部材に熱膨張係数が１×１０^-5以下の
ものを含むとしているので、蒸着源からの放射熱による
パターン精度の変化を最小限度におさえることができ
る。また、隣り合う蒸着マスク間の最大間隙を１０ｍｍ
以下とするから、蒸着の無効スペースが小さく、同数の
有機ＥＬ素子をえるガラス基板の大きさを最小にでき、
コストダウンがはかれる。

【００１３】本発明の有機ＥＬ素子の製造方法および製
造装置によれば、上記の統合マスクを用いて基板と位置
決め、並びに発光層等の薄膜層の蒸着を行うのであるか
ら、薄膜層を蒸着する基板の大きさに関係なく、高い寸
法精度で所定のパターンに薄膜層を蒸着することが可能
となり、一枚の基板に多数の有機ＥＬ素子を形成する、
いわゆる多面取りが高精度のパターン精度で行うことが
でき、高品質の有機ＥＬ素子を高い生産性で得ることが
できる。

【００１４】以下、この発明の好ましい一実施形態を図
面に基づいて説明する。

【００１５】図１は、この発明に係る統合マスク１の全
体概略斜視図、図２は図１の統合マスクを各要素ごとに
分解した斜視図、図３は統合マスクを用いた蒸着装置の
一実施例を示す正面断面図、図４は統合マスクを用いた
蒸着装置の別の実施例を示す正面断面図である。

【００１６】図１を参照すると、統合マスク１は、４つ
の蒸着マスク２０をベース板２に、係合ユニット４０で
固定して構成されている。

【００１７】蒸着マスク２０は、蒸着パターンに応じて
蒸着用開口３２を配置した開口部３０を有するマスクプ
レート２２を、フレーム２４に固定して構成される。フ
レーム２４の破線の内側は開口としており、蒸着マスク
２０の開口部３０の直下には遮蔽物は何もないようにし
ている。また、蒸着マスク２０が配置されるベース板２
の場所には、図２に示すように開口部３０の占有面積よ
りも広く、かつ開口部３０がその中に含まれる開口１０
が必ず設けられている。なお、蒸着用開口３２の形状は
長方形や円形の穴を多数ならべる等、蒸着パターンにし
たがって形成する。ここで、開口１０は開口部３０より
も、面積で好ましくは５〜５００％、より好ましくは２
０〜１００％大きくする。

【００１８】また蒸着マスク２０の各配置位置は、ベー
ス板２の突起部４の上面８に設けられたアライメントマ
ーク６を基準として、蒸着マスク２０の所定の蒸着用開
口３２が定めた位置になるようにしている。ここでは蒸
着用開口３２の位置を直接検知して、ベース板２上のア
ライメントマーク６との相対位置合わせを行ってもよい
が、各蒸着マスク２０のマスクプレート２２にアライメ
ントマーク２６を設け、これをベース板２のアライメン
トマーク６を基準にして位置合わせを行わせるのが好ま
しい。なお、アライメントマーク６が設けられている突
起部４の上面８と蒸着用マスク２０のマスクプレート２
２のベース２からの高さは等しくし、同じ焦点距離にな
るようにして、カメラによる位置検知が行いやすいよう
にすることが好ましい。

【００１９】係合ユニット４０は、図１に示すように、
押さえ棒４２、圧縮バネ４４、留め金４６より構成され
ており、押さえ棒４２を蒸着用マスク２０の穴２８とベ
ース板２の取付け穴１８を通し、ベース板２の裏面で圧
縮バネ４４を取り付けてから、留め金４６を装着して、
押さえ棒４２が抜けないようにする。これにより、圧縮
バネ４４の力で蒸着用マスク２０をベース板２に一定力
で押さえつけて、摩擦力で動かないように保持すること
になる。また、下側から留め金４６を押すと圧縮バネ４
４が縮み、押さえ棒４２の上側にある頭部と蒸着用マス
ク２０の間にすきまが生じるので、蒸着用マスク２０の
ベース板２へのおしつけが開放されて、蒸着用マスク２
０はベース板２上を自在に移動できるようになる。この
ようにして保持力が解除されている間に、蒸着マスク２
０を移動させてベース板２上への位置決めを行う。これ
が完了したら、留め金４６への押しつけを解除し、係合
ユニット４０のバネ力により蒸着マスク２０をベース板
２に押し付けて、保持する。

【００２０】次に統合マスク１を使用して発光層等を実
際に蒸着する蒸着システム１００について説明する。図
３を見ると、統合マスク１を使用する蒸着装置１０２が
ある。統合マスク１は外壁１０８で覆われた真空槽１３
２の中にあるマスクホルダー１１２に支持されており、
固定具１１８で、統合マスク１のベース板２がマスクホ
ルダー１１２で移動しないように挟持されている。真空
槽１３２は図示しない真空吸引装置に接続されており、
蒸着のために必要な真空度に調整される。ガラス板であ
る基板Ａは真空槽１３２内の基板ホルダー１２２にその
下面が保持されている。さらに基板ホルダー１２２はブ
ラケット１２０と昇降軸１２６を介して、真空槽外にあ
るモータ１２８に接続されている。昇降軸１２６は内部
に上下方向に移動自在とするガイドと駆動部を有してお
り、基板ホルダー１２２を上下方向に自在に昇降させる
ことができる。またモータ１２８の駆動により、昇降軸
１２６以降のものが回転自在となる。したがって、昇降
軸１２６とモータ１２８の動作により、基板Ａを、真空
槽１３２内で自在に昇降させたり、水平面内で回転させ
ることができる。

【００２１】また、マスクホルダー１１２はＸ−Ｙガイ
ド１１６に接続されている。Ｘ−Ｙガイド１１６は外壁
１０８の上部に固定されている。Ｘ−Ｙガイド１１６は
図示されていない駆動源によって、水平面内のＸ、Ｙ方
向に自在に移動できるもので、その結果として、マスク
ホルダー１１２上の統合マスク１を水平面内で自在に移
動させることができる。統合マスク１と基板Ａのアライ
メントマーク、または蒸着マスクの開口は外壁のルッキ
ンググラス１０４を通して、外部に設けられたカメラ１
３０によって検知され、その検知位置に応じてＸ−Ｙガ
イド１１６による水平移動とモータ１２８による回転
で、統合マスク１と基板Ａとの位置決めが行われる。な
お基板Ａのアライメントマーク位置検知時には、昇降軸
１２６を下降させて、基板Ａを統合マスク１の上にのせ
た状態で行う。基板Ａを統合マスク１上にのせた状態で
の位置決めが完了したら、ブラケット１２０に対して図
示しない駆動源によって昇降可能な押さえ部材１２４を
下降させて基板Ａに接触させ、基板Ａと統合マスク１の
密着度を上げる。なお、押さえ部材１２４の少なくとも
一部を磁石として、金属あるいは磁性体からなる蒸着マ
スク２０を磁力により引きつけることで、基板Ａと統合
マスク１との密着度を上げることも可能である。

【００２２】また真空槽１３２内には蒸発源１３４が統
合マスク１の真下に設けられている。この中に蒸着すべ
き材料をいれ、適切な温度に調整して、材料を蒸発させ
ると、統合マスク１の各蒸着マスク２０の開口部３０を
通過するもののみが基板Ａに蒸着されることになり、基
板Ａに所定パターンの蒸着膜層を形成できる。さらに、
基板への蒸着を任意に実施／停止するために、開閉可能
な蒸着シャッター１１４が蒸発源１３４の上方に設けら
れている。なお基板Ａの真空槽１３２内外への搬出入
は、開閉可能なシャッター１３６を開け、外壁１０８に
設けられた搬出入口１３８を通して、移載装置２００を
用いて行なう。

【００２３】移載装置２００は、ベース２０２に対して
昇降と回転自在なベース板２０４、ベース板２０４上を
ガイド２０６により自在に往復動可能なスライド板２１
０より構成されており、基板Ａをスライド板２１０上の
パッド２０８にのせて、これを可動範囲内の任意の位置
に搬送することができる。

【００２４】次に図３をもとに蒸着システム１００を使
った蒸着方法について次に説明する。まず、統合マスク
１を真空槽１３２のマスクホルダー１１２に設置し、固
定する。続いて統合マスク１のアライメントマーク６の
位置をカメラ１３０によって検知し、図示していない画
像処理装置によってその位置を認識して、記憶する。

【００２５】次にシャッター１３６を開けて移載装置２
００により基板Ａを基板ホルダー１２２に載置し、移載
装置２００のスライド板２１０が真空槽１３２外にでた
ら、シャッター１３６を閉じ、図示しない真空ポンプを
駆動して、真空槽１３２内を一定の真空度にする。つい
で、昇降軸１２６を下降させて基板Ａを統合マスク１上
に置き、ルッキンググラス１０４を通してカメラ１３０
で基板Ａのアライメントマーク位置を検知する。次に昇
降軸１２６を上昇させて基板Ａと統合マスク１を離接さ
せた後、すでに検知している統合マスク１のアライメン
トマーク位置と基板Ａのアライメントマーク位置が合致
するように、Ｘ−Ｙガイド１１６およびモータ１２８を
所定量だけ移動、回転させる。

【００２６】この位置あわせ作業が終わったら、カメラ
１３０によって統合マスク１のアライメントマーク位置
を検知するとともに、昇降軸１２６を再び下降させて基
板Ａを統合マスク１上に載置して、カメラ１３０で基板
Ａのアライメントマーク位置を検知する。この場合、統
合マスク１のアライメントマーク６と基板Ａのアライメ
ントマーク位置は演算で補正できるので、同じ位置にす
る必要はないが、両アライメントマーク位置が同じであ
る方が、演算等の作業が省略されて簡単化できるので、
好ましい。この時に検知した統合マスク１と基板Ａの各
々のアライメントマークが合致していなければ、昇降軸
１２６を上昇させて基板Ａを統合マスク１より離接し、
同じくアライメントマークの位置あわせ作業を行う。基
板Ａと統合マスク１のアライメントマーク６の検知と位
置あわせ作業を繰り返して、アライメントマークが合致
すれば、押さえ部材１２４を下降させて基板Ａを統合マ
スク１に押しつける。この押しつけ力は好ましくは、１
０〜１００Ｎとする。

【００２７】ついで、蒸発源１３４を加熱して有機物を
蒸発後、蒸着シャッター１１４を開けて、基板Ａにマス
クパターンにしたがった蒸着を行う。所定厚さの有機膜
が形成できたら、蒸着シャッター１１４を閉じて蒸着を
完了し、真空槽１３２内を大気圧にもどす。これと平行
して押さえ部材１２４を上昇させた後、シャッター１３
６を開けて移載装置２００によりマスクパターンで蒸着
された基板Ａを取り出して次の工程に送る。

【００２８】なお、真空槽１３２内を一定の真空度にす
るには時間を要するので、大気→真空→大気→真空の繰
り返しのむだをなくして効率を向上させるために、移載
装置２００も真空装置内にいれて、真空下内で全ての作
業を行ってもよい。

【００２９】次に統合マスク１を使った別の蒸着システ
ムの実施例を、図４を用いて説明する。図４を見ると、
蒸着システム４００がある。蒸着システム４００は、統
合マスク１上に基板Ａを位置決め載置する位置決め装置
３００と、基板Ａが統合マスクに各々のアライメントマ
ークが合致した状態で載置される位置決め済み基板−マ
スク４２０を移載する移載装置２００、位置決め済み基
板−マスク４２０を装着して、それに有機物の蒸着を行
う蒸着装置４０２よりなる。

【００３０】まず位置決め装置３００は、統合マスク１
を保持するマスク保持器３０２と、マスク保持器３０２
を平面内（Ｘ−Ｙ方向）に自在に移動させるＸ−Ｙテー
ブル３０４、基板Ａを保持する基板保持器３０６、基板
保持器３０６がブラケット３１８と昇降軸３１２を介し
て接続されている回転モータ３１４、回転モータ３１４
を保持するフレーム３１６、フレーム３１６とＸ−Ｙテ
ーブル３０４を支持する架台３０８、統合マスク１およ
び基板Ａのアライメントマークを検知するカメラ３１０
よりなる。以上の中で、昇降軸３１２は内部に上下方向
に移動自在とするガイドと駆動部を有しており、基板保
持器３０６を上下方向に自在に昇降させることができ
る。また回転モータ３１４は基板保持器３０６を自在に
回転可能とする。

【００３１】次に移載装置２００は、蒸着システム１０
０で説明したものと全く同じものである。そして、蒸着
装置４０２は、真空槽４１６内に位置決め済み基板−マ
スク４２０が載置される載置台４０４、基板Ａを統合マ
スク１に一定力で押し付ける昇降自在な押さえ板４１
２、有機物の蒸着源４０６、蒸着源４０６からの蒸発物
が基板Ａに到達するのを妨げる開閉自在なシャッター４
０８よりなる。ここで、押さえ板４１２は、真空槽４１
６外で外壁４１８に固定された昇降シリンダー４１４に
接続されており、この昇降シリンダー４１４の昇降動作
により、自在な昇降動作が付与される。また、真空槽４
１６は図示しない真空ポンプに接続されており、槽内を
任意の真空度にすることができる。また位置決め済み基
板−マスク４２０は、開閉可能な扉４１０を通して真空
槽４１６内に導入される。

【００３２】以上の蒸着システム４００を用いた基板Ａ
の蒸着は次のようにして行なう。まず統合マスク１を位
置決め装置３００のマスク保持器３０２に装着し、統合
マスク１のアライメントマーク位置をカメラ３１０で検
知する。つづいて基板Ａを基板保持器３０６に装着し、
基板保持器３０６を下降させて基板Ａを統合マスク１上
に載置する。そして基板Ａのアライメントマーク位置を
カメラ３１０で検知した後、一旦基板Ａを基板保持器３
０６で上昇させて、検知した基板Ａのアライメントマー
クと統合マスク１のアライメントマークが合致するよう
にＸ−Ｙテーブル３０４と回転モータ３１４を制御す
る。そして、再度両方のアライメントマーク位置を確認
し、両者が一致するまで位置決め・アライメントマーク
位置確認を繰り返す。最終的に両方のアライメントマー
ク位置の一致が確認できたら、基板Ａを統合マスク１上
に載置した位置決め済み基板−マスク４２０を、基板保
持器３０６から移載装置２００のパッド２０８上に載せ
かえ、蒸着装置４０２の扉４１０を開けて、載置台４０
４上に置く。ついで押さえ板４１２を下降させて基板Ａ
を統合マスク１に所定の力で押し付ける。押しつけ力は
１０〜３００Ｎが好ましい。この間に移載装置２００の
スライド板２１０が真空槽４１６外へでたら扉４１０を
閉め、図示しない真空ポンプを駆動して真空槽４１６内
を所定の真空度にする。つづいて蒸着源４０６を加熱し
て有機物を蒸発させ、シャッター４０８を開いて統合マ
スク１上の基板Ａにマスクパターンに応じた有機物の蒸
着を行う。

【００３３】蒸着が完了したら、シャッター４０８を閉
じ、真空槽４１６内を大気圧にもどした後、扉４１０を
開いて蒸着された位置決め済み基板−マスク４２０を移
載装置２００により取り出して、次の工程へ搬送する。

【００３４】以上の中で、位置決め装置３００、移載装
置２００も真空室内に置いてもよい。これによって常に
真空下で基板Ａと統合マスク１の位置決め、搬送が行わ
れるので、大気圧→真空、真空→大気圧にする時間が省
略できて、生産性を大幅に向上できる。

【００３５】さらに、統合マスクの好ましい別の実施態
様を図５と図６を用いて説明する。図５は統合マスクの
別の実施態様例である統合マスク５００の全体概略斜視
図、図６は図５の統合マスク５００を各要素ごとに分解
した斜視図である。

【００３６】図５を見ると、統合マスク５００は、４つ
の蒸着マスク５２０をベース板５０２に、係合手段５４
０で固定して構成されている。

【００３７】ここで蒸着マスク５２０は、統合マスク１
の蒸着マスク２０と同様に、蒸着パターンに応じて蒸着
用開口５３２を配置した開口部５３０と、位置合わせ時
の基準となる十字形状のアライメントマーク５２６を有
するマスクプレート５２２が、フレーム５２４に固定さ
れている。また蒸着マスク５２０には、係合手段５４０
で押さえる耳部５２８が、蒸着マスク２０の端部に追加
して設けられている。さらに蒸着マスク５２０は、ベー
ス板５０２の中央部に設けた突起部５０４の上面５０８
にあるアライメントマーク５０６を基準として、突起部
５０４の左右に配置されている。アライメントマーク５
０６は、図５では十字形状としているが、丸型の他、基
準となりうるのであればいかなる形状でもよい。

【００３８】また係合手段５４０は、Ｌ型状の押さえ板
５４２、押さえ板５４２を軸５４８回りに回転自由に保
持する保持台５４６、及び押さえ板５４２の片端Ｂ５５
０を押し上げる圧縮バネ５４４より構成されている。そ
して、保持台５４６をベース板５０２に固定することに
より、係合手段５４０はベース板５０２の開口部５１０
周辺の任意の位置に配置することができる。さらに、圧
縮バネ５４４の内側には、案内軸５５４が設けられてい
る。この案内軸５５４は、外径を圧縮バネ５４４の内径
より小さく、軸長さを圧縮バネ５４４の自由長よりも短
くして、圧縮バネ５４４の位置がずれないようにすると
ともに、圧縮バネ５４４とベース板５０２を接触させ
て、バネ力が押さえ板５４２に付加されるようにしてい
る。案内軸５５４は、押さえ板５４２に固定してもよい
し、ベース板５０２に固定されていてもよい。

【００３９】さて係合手段５４０は、保持台５４６の軸
５４８の回りで回転自在に動作する押さえ板５４２の片
端Ｂ５５０を圧縮バネ５４４により押し上げているの
で、押さえ板５４２の片端Ｂ５５０の反対側にある片端
Ａ５５２では下向きの押さえ力が作用することとなる。
したがって、押さえ板５４２の片端Ａ５５２の下に蒸着
マスク５２０の耳部５２８を配置することにより、押さ
え板５４２が一定力で耳部５２８をベース板５０２に押
しつけることになり、摩擦力により蒸着マスク５２０を
ベース板５０２上で動かないように保持できる。また、
押さえ板５４２の軸５４８に対して片端Ｂ５５０のある
側を上側から押すか、軸５４８に対して片端Ａ５５２の
ある側を上側に引き上げるかして外力を付加すると、圧
縮バネ５４４が縮み、押さえ板５４２の片端Ａ５５２と
蒸着マスク５２０の耳部５２８の間にすきまが生じるの
で、蒸着用マスク５２０のベース板５０２への押しつけ
が開放されて、蒸着用マスク５２０はベース板５０２上
を自在に移動できるようになる。このようにして保持力
が解除されている間に、蒸着マスク５２０を移動させて
ベース板５０２上への位置決めを行う。これが完了した
ら、押さえ板５４２への外力の付加を解除し、圧縮バネ
５４４により発生する押しつけ力で、再び蒸着マスク５
２０をベース板５０２に押し付けて、保持・固定する。
このように、係合手段５４０を用いれば、蒸着マスク５
２０の固定・解放は自在に行えることとなる。また、蒸
着マスク５２０の耳部５２８を押しつける押しつけ板５
４２の片端Ａ５５２は、Ｌ型形状をなす押しつけ板５４
２の短辺側に設けられている。ここで、耳部５２８のフ
レーム５２４の側面に直角方向の長さは、押しつけ板５
４２のＬ型の短辺長よりも短くしているので、耳部５２
８を片端Ａの真下（押しつけ板５４２のＬ型の短辺で覆
われる部分）以外にずらす時に、上方には干渉するもの
がないので、蒸着マスク５２０を上側に持ち上げること
ができ、蒸着マスク５２０のベース板５０２への装着・
取り外しが容易に行える。

【００４０】なお統合マスクは、上記係合手段が蒸着マ
スクをベース板に固定する際に働く力の主方向が、ベー
ス板に対する垂直線から±３０°、より好ましくは±５
°以下の範囲となるよう、構成する各手段の構造を定め
る。このために、特に係合手段５４０の押さえ板５４２
の片端Ａ５５２の、蒸着マスク５２０に耳部５２８を接
触する部分は、Ｒ形状の面になっていることが好まし
く、より好ましくはＲ＝１０〜１００ｍｍとする。上記
の力の主方向が上記の範囲外にあると、蒸着マスクがベ
ース板に位置決めされた位置からずれることがある。

【００４１】統合マスクの材質としては、いかなるもの
を用いてもよいが、有機ＥＬ素子を製造するときの蒸着
源からの放射熱によってマスク周辺の温度が上昇し、統
合マスクの寸法が変化してパターニングする薄膜層のパ
ターン精度が変化することを配慮して、統合マスクを構
成する部材であるベース板、蒸着マスクすなわちマスク
プレートとフレーム等は、熱膨張係数が好ましくは１×
１０^-5以下、より好ましくは０．７×１０^-5以下、さら
により好ましくは０．４×１０^-5以下の材料を用いるの
がよい。この条件を満たす材料にはインバー合金やモリ
ブデン、チタン、コバール合金、ガラス、セラミックな
どがあるが、入手の容易さと強度の点から、インバー合
金、コバール合金がより好ましい。この低熱膨張係数材
料を使用することによる上記効果は、製造開始から時間
がたって構成部材の温度が上昇するときに、特に発現す
る。

【００４２】またベース板の突起部は通常は同一の材料
からベース板と一体形成されるが、ベース板と突起部を
独立に製作して合体させる場合は特に、上記の熱膨張係
数の範囲にある材料をベース板と突起部に用いるのが好
ましい。

【００４３】なお熱膨張係数は、長手方向の長さＬ0の
部材をＴ℃だけ温度を上昇させた時の長手方向の長さＬ
を測定し、（Ｌ−Ｌ0）／Ｌ0／Ｔで算出する。単位は１
／℃であり、この熱膨張係数に、変化温度と部材の長さ
を掛け合わせれば、その温度変化が生じた場合の部材の
伸縮量が求められる。

【００４４】次に、統合マスクを構成する各蒸着マスク
のマスクプレートの厚さは、ストライプ状に伸びる開口
間にあるマスク部の幅の３倍以下、より好ましくは２倍
以下とし、具体的な厚さとしては、５００μｍ以下、よ
り好ましくは１００μｍ以下、さらにより好ましくは５
０μｍ以下とする。またマスクプレートには、開口を横
切る向きに補強線を設けたものを用いるのが好ましい。
これによって、マスクプレートの開口ピッチが小さくて
マスクプレート単体では剛性が不足し、たわみによる開
口の変形が発生するのを、防止することができる。

【００４５】マスクプレートの開口は電鋳法やエッチン
グ法、機械的研磨法、サンドブラスト法、焼結法、レー
ザー加工法などいかなる方法で製作してもよいが、微細
な開口を容易に製作できる点から、電鋳法を用いること
が好ましい。これらの手法により作製されたマスクプレ
ートに張力を加えると、高い平面性を維持した状態でフ
レームに固定された蒸着マスクが得られる。固定手段は
特に限定されないが、接着剤を用いるのが簡便で、好ま
しい。そしてマスクプレートは適切な張力でフレームに
固定されている時にのみ、マスクプレート自身の温度変
化による伸縮を吸収できるので、熱膨張係数は１×１０
^-5をこえることも許される。しかし、フレーム、ベース
板にはそのような熱収縮の吸収メカニズムがいかなる場
合にもないので、上記したように熱膨張係数は１×１０
^-5以下であることが好ましい。

【００４６】またマスクプレートの材質としては、通常
ステンレス鋼、銅合金、鉄ニッケル合金、アルミニウム
合金などの金属系材料、各種樹脂系材料が用いられる
が、Ｎｉ合金等の磁性材料を使用するの好ましい。これ
はマスクプレートと基板との密着性を磁気力により向上
させて、より精度の高いパターンを蒸着により形成でき
るからである。さらに、上記したように熱膨張係数が１
×１０^-5以下であることをも満足する材料を用いること
がより好ましい。

【００４７】次に、統合マスクにおける各蒸着マスクの
配置は、隣り合う蒸着マスク間にできる最大隙間が１０
ｍｍ以下、より好ましくは５ｍｍ以下となるようにす
る。ここで最大隙間は次のように定義する。まず、対象
とする隙間は、ベース板面上で２つの隣り合う蒸着マス
ク間に作られる隙間とする。そしてその隙間を全て含む
ようにして、２本の平行線を配置する。この２本の平行
線の間隔を、２つの隣り合う蒸着マスク間の隙間を全て
含めることができる最小のものとし、そのときの２本の
平行線の間隔を最大隙間とする。この蒸着マスク間の最
大隙間が小さいほど、蒸着の無効スペースが小さくな
り、同じ数の有機ＥＬ素子を得るために必要な１枚の基
板の大きさが小さくて済む。この結果、基板のコストだ
けでなく、蒸着装置の大きさ縮小による装置コストも、
低減することが可能となる。また品質的には、薄膜層の
膜厚ムラも小さくできる。なお隣り合う蒸着マスク間に
隙間ができる全ての場所で、最大隙間の値を１０ｍｍ下
とするのが好ましいが、図５に示す統合マスク５００で
は、左右方向は隣り合う蒸着マスクの間に突起部５０４
があるために、最大間隙を１０ｍｍ以下にするのは難し
い。このような場合は、上下方向に隣り合う蒸着マスク
間の最大隙間だけを１０ｍｍ以下としてもよい。

【００４８】さらにまた、蒸着物がある入射角度をもつ
ことによって発生する蒸着影による蒸着無効スペースも
小さくするために、蒸着マスクのフレームやマスクプレ
ートの開口部の断面をテーパー形状にすることも好まし
い。

【００４９】

【実施例】実施例１発光層用の蒸着マスク用のプレートとして、外形が８４
ｍｍ幅×１０５ｍｍ長、厚さ２５μｍ、熱膨張係数１×
１０^-5のＮｉ合金を用意した。幅１００μｍで長さが６
４ｍｍの長方形開口を、開口の長手方向（６４ｍｍの方
向）がプレートの幅方向（８４ｍｍの方向）と一致する
ようにして、ピッチ３００μｍでプレートの長手方向に
２７２個設けた。なお長方形開口はプレートの長手、幅
方向ともプレートの中央になるようにし、さらに長手方
向の上側端部より５ｍｍの直線上に、幅方向に対称とな
るようにピッチ３０ｍｍで十字形状のアライメントマー
クを２個設けて、蒸着マスクプレートを作成した。同様
にして同じ蒸着マスクプレートを１６個作成した。

【００５０】この蒸着マスクプレートを、全体の大きさ
１０４ｍｍ幅×１０５ｍｍ長、熱膨張係数１．３×１０
^-5のステンレス製フレーム２４（図１参照）の長手方向
中央部にある取付部（外形８４ｍｍ幅×１０５ｍｍ長）
に接着によりとりつけ、蒸着マスクを作成した。同様に
同じ蒸着マスクを１６個作成した。なお蒸着マスクのフ
レーム２４のマスクプレート取り付け部は、厚さ１０ｍ
ｍで、外形から４ｍｍを接着代として残して、その内側
は７６ｍｍ幅×９７ｍｍ長の開口とした。またフレーム
２４の幅方向の両端１０ｍｍは厚さ５ｍｍで、固定用の
φ５ｍｍの穴を片側２ヶ所づつ、合計４ヶ所設けた。

【００５１】次に４４１ｍｍ幅×４５５ｍｍ長、厚さ５
ｍｍ、熱膨張係数２×１０^-5のアルミ製板に、７６ｍｍ
幅×９５ｍｍ長の開口を、幅方向に左端部より１９ｍｍ
の位置のところから１０９ｍｍピッチで４列、長手方向
に上端部より２０ｍｍの位置から１１０ｍｍピッチで４
列の合計１６個設けたものを、図１のベース板２とし
た。そして、それに上記の蒸着マスク１６個を、各々の
蒸着マスクの開口がベース板２の開口の中央になるよう
に配置した。この時の隣り合う蒸着マスク間の最大隙間
は、ベース板２上で幅方向に５ｍｍ、長手方向に９ｍｍ
であった。さらに蒸着マスク１個に対して４本の係合ユ
ニットで、各蒸着マスクをベース板上に固定して、統合
マスク１を作成した。なおベース板の長手方向上部端部
１０ｍｍは厚さ１５ｍｍとなっており、その上面にアラ
イメントマークとして直径１ｍｍで深さ５ｍｍの穴を幅
方向の中央部に３０ｍｍのピッチで、上部端部より５ｍ
ｍの位置に中心がくるように２個設けた。アライメント
マークのある面は、ベース板に取り付けた蒸着マスク１
の上面と同じ高さになった。また係合ユニットはステン
レス製で、押さえ棒４２の頭部は直径８ｍｍ、ベース板
の穴に貫通させる部分は直径４ｍｍであり、圧縮バネ４
４にはバネ定数１０Ｎ／ｍｍのものを使用して、一個の
蒸着マスクを１００Ｎの力でベース板に押し付けるよう
にした。またこの時、ベース板のアライメントマークを
基準にして、各蒸着マスクのアライメントマークが所定
位置にくるように、蒸着マスクの位置調整も行った。

【００５２】つぎにこの統合マスク１を緑色発光層用と
して、緑色発光層用蒸着装置１０２のマスクホルダー１
１２に装着した。次に緑色発光層用統合マスクの蒸着マ
スクプレート上の１００μｍ幅×６４ｍｍ長の開口の全
ての位置を、プレート長手方向に１００μｍ（１ピッチ
分）だけをずらす他は、緑色発光層用統合マスクと全く
同じにして赤色発光層用統合マスクを作成するととも
に、緑色発光層用統合マスクの蒸着マスクプレート上の
１００μｍ幅×６４ｍｍ長の開口の全ての位置を、プレ
ート長手方向に２００μｍ（２ピッチ分）だけをずらす
他は、緑色発光層用統合マスクと全く同じにして青色発
光層用統合マスクを作成した。これにより、全て発光層
の蒸着準備を完了した。

【００５３】次に、厚さ１．１ｍｍで外形が４５７ｍｍ
幅×４５５ｍｍ長の無アルカリガラス表面にＩＴＯ透明
電極膜を１３０ｎｍだけスパッタリングにて全面形成し
た。ここで、基板幅方向に並行して長さが９０ｍｍ、幅
が８０μｍのストライプ形状を基板長手方向に１００μ
ｍピッチで８１６本配列した１単位のストライプ列を、
基板幅方向に１０９ｍｍピッチ、基板長手方向に１１０
ｍｍのピッチで合計１６単位配列させたものを残すよう
に、この形状にパターニングされたシャドーマスクを用
いてフォトリソ法で、第１電極を形成した。なお、ガラ
ス端部から最寄りのストライプ列までの距離は、基板幅
方向に２０ｍｍ、長手方向に２２ｍｍとした。

【００５４】続いて本基板上全面にポジ型フォトレジス
ト（東京応化（株）製、ＯＦＰＲ−８００）をスピナー
により厚さ３μｍになるように塗布した。乾燥後この塗
布膜にフォトマスクを介して露光、現像してフォトレジ
ストのパターニングを行った後、１８０℃でキュアを行
って、１６個の有機ＥＬ素子の有効発光エリア（第１電
極と後のＲ、Ｇ、Ｂ発光層が占める領域）を全面を覆う
ように、それぞれに対応して１６単位のスペーサを形成
した。なお１単位のスペーサでは、基板長手方向（第１
電極に直交する方向に）に長さ６５μｍ、基板幅方向に
長さ２３５μｍの開口部（スペーサーの存在しない部
分）を、基板長手方向には第１電極の中央部が露出する
ように１００μｍピッチで８１６個、基板幅方向に第１
電極にそって３００μｍピッチで２００個の格子状に配
置した。またこの開口部最左端は、第１電極左端部より
基板幅方向にそって１５ｍｍの位置になるようにした。

【００５５】次に１６個ある有機ＥＬ素子の有効発光エ
リア全面に、銅フタロシアニンを１５ｎｍ、ビス（Ｎ−
エチルカルバゾール）を６０ｎｍを蒸着して、正孔輸送
層を形成した。蒸着時の真空度は２×１０^-4Ｐａ以下と
し、蒸着中は基板を蒸着源に対して回転させた。

【００５６】次に発光層を蒸着するために、蒸着装置に
装着した統合マスク１のアライメントマーク位置をカメ
ラによってまず検知した。つづいて基板ホルダー１２２
に、移載装置２００から正孔輸送層まで蒸着したガラス
基板をのせた後、真空ポンプを駆動して、蒸着槽内の真
空度を１×１０^-4Ｐａにした。所定の真空度がえられて
から、基板ホルダー１２２を下降させて、基板ホルダー
１２２上のガラス基板を統合マスク１上に載置した。こ
のガラス基板の長手方向上部端部には基板幅方向の中央
に幅方向ピッチ３０ｍｍで、基板長手方向上部端部より
５ｍｍの位置に中心がくるように直径１ｍｍの貫通穴が
アライメントマークとして２ヶ所設けられているので、
そのアライメントマーク位置を検知して、統合マスク１
のベース板に設けられているアライメントマークと一致
するようにガラス基板と統合マスク１の位置合わせを行
った。位置合わせ完了後押しつけ部材でガラス基板を統
合マスク１に２０Ｎの力で押し付け、つづいて蒸着源を
加熱し、緑色発光層として、０．３ｗｔ％の１，３，
５，７，８，−ペンタメチル−４，４−ジフロロ−４−
ボラ−３ａ，４ａ−ジアザ−ｓ−インダセン（ＰＭ５４
６）をドーピングした８−ヒドロキシキノリン−アルミ
ニウム錯体（Ａｌｑ３）を、統合マスクのパターンにし
たがって２０ｎｍ蒸着した。

【００５７】次に蒸着された基板を取り出し、赤色発光
層用統合マスクが装着されている別の蒸着装置に移載
し、緑色発光層の場合と同じく基板と統合マスクの位置
合わせを行った後、１×１０^-4Ｐａの真空下で赤色発光
層として１ｗｔ％の４−（ジシアノメチレン）−２−メ
チル−６（ジュロリジルスチリル）ピラン（ＤＣＪＴ）
をドーピングしたＡｌｑ３を１５ｎｍ蒸着した。つづい
て、基板を青色発光層用統合マスクが装着されているさ
らにまた別の蒸着装置に移載し、同様に基板と統合マス
クの位置合わせを行った後、１×１０^-4Ｐａの真空下で
青色発光層として４,４’−ビス（２，２’−ジフェニ
ルビニル）ジフェニル（ＤＰＶＢｉ）を２０ｎｍ蒸着し
た。

【００５８】この発光層はストライプ状の第１電極に各
々対応しており、第１電極の露出部分を完全に被覆し
た。

【００５９】次にＤＰＶＢｉを４５ｎｍ、Ａｌｑ３を１
０ｎｍ、１６個ある有機ＥＬ素子の有効発光エリア全面
にそれぞれ蒸着した。つづいて、基板長手方向（第１電
極に直交する方向）に長さ１００ｍｍ、基板幅方向に２
５０μｍで厚さ２４０ｎｍであるアルミニウムのストラ
イプを、基板幅方向にピッチ３００μｍで２００本配置
したストライプ列を１単位とし、これを先に作成した基
板上のスペーサの開口部を覆うように幅方向ピッチ１０
９ｍｍ、基板長手方向ピッチ１１０ｍｍで、１６単位配
置できるようアルミニウムの蒸着を行い、第２電極を形
成した。なお蒸着時の真空度は３×１０^-4Ｐａ以下とし
た。そして最後に一酸化珪素を２００ｎｍの厚さに電子
ビーム蒸着法によって全面蒸着し、保護層を形成した。

【００６０】以上のようにして１６個の発光素子が形成
された基板を切断して、１６個の発光素子に分割した。
各々の発光素子には、８１６本のＩＴＯストライプ状第
１電極上にパターニングされたＲＧＢそれぞれの発光層
を含む薄膜層と、さらに第１電極と直交するするように
２００本のストライプ状第２電極が形成された。第１、
第２電極の交差部分のうち、スペーサーの開口部のみが
発光し、ＲＧＢ各１つずつの発光単位が１画素を形成す
るので、３００μｍピッチで２７２×２００画素を有す
る単純マトリックス型カラー有機ＥＬ素子が製作でき
た。製作した有機ＥＬ素子の発光性能は１６個ともディ
スプレイとして用いることができるものであった。また
蒸着マスクを分割して発光層を蒸着したので、１６個全
て同一寸法精度と性能をもつ発光素子を製作することが
できた。なお、Ｒ、Ｇ、Ｂ各発光層の位置ずれは５μｍ
以下であり、１６個の有機ＥＬ素子のいずれもがそのよ
うになっていた。比較のために、１６個の有機ＥＬ素子
に相応する蒸着パターンを一枚の板に作成した蒸着マス
クを使用して、有機ＥＬ素子を製造したが、Ｒ、Ｇ、Ｂ
各発光層の位置ずれが、１６個の各有機ＥＬ素子で異な
り、５〜２００μｍあった。そのため実際に実用にディ
スプレイとして用いることができたのは、２個だけであ
った。

【００６１】実施例２実施例１で、フレーム２４に熱膨張係数０．５×１０^-5
のコバール合金、ベース板２にも同じく熱膨張係数０．
５×１０^-5のコバール合金を用いた他は、実施例１と全
く同じようにして有機ＥＬ素子を製作した。このときの
Ｒ、Ｇ、Ｂ各発光層の位置ずれは３μｍ以下となり、１
６個の有機ＥＬ素子のいずれもがそのようになってい
た。なおこの精度は製作開始２４時間後も変化がなく、
長期にわたって高精度を維持できた。

【００６２】なお、本実施例ではＲＧＢ発光層のパター
ニングに際して、それぞれ異なる３個の統合マスクを対
応させたが、１個の統合マスクと基板との位置関係を第
１電極のピッチ分だけ移動させて、ＲＧＢそれぞれの発
光層を蒸着することでパターニングすることも可能であ
る。

【００６３】また、第２電極のパターニングにも統合マ
スクを用いたマスク蒸着法を適用したが、基板上にあら
かじめ隔壁を形成しておき、隔壁の影を利用することで
蒸着マスクを用いずに、第２電極をパターニングする隔
壁法を適用することもできる。さらに、蒸着後に公知技
術を用いて封止を行うこともできる。

【００６４】さて、本実施例では単純マトリックス型カ
ラー有機ＥＬ素子を製作したが、発光層の微細パターニ
ングを省略することでモノクロ有機ＥＬ素子を製作する
こともできる。また、薄膜トランジスター（ＴＦＴ）な
どからなるスイッチング素子があらかじめ備えられた基
板を用い、統合マスクを用いて発光層をパターニングす
ることによって、アクティブマトリックス型カラー有機
ＥＬ素子を製作することも可能である。

【００６５】

【発明の効果】本発明になる統合マスクによれば、所定
の蒸着用開口配列をもつ蒸着用マスクをベース板上に両
者の基準マークをもとに多数配置し、かつ固定・開放が
自由な手段によって保持する構成を有しているので、多
数の蒸着マスクを高い精度で所定位置に配置することが
が可能となる。

【００６６】さらに構成部材に熱膨張係数が１×１０^-5
以下のものを含むようにしているので、蒸着源からの放
射熱によるパターン精度の変化を最小限度におさえるこ
とができる。また、隣り合う蒸着マスク間の最大間隙を
１０ｍｍ以下とするから、蒸着の無効スペースが小さ
く、同数の有機ＥＬ素子をえるガラス基板の大きさを最
小にでき、材料費の節減が行える。

【００６７】さらに本発明になる有機ＥＬ素子の製造方
法および製造装置によれば、上記の統合マスクを用いて
基板と位置決め、並びに発光層や第２電極の薄膜層の蒸
着を行うのであるから、薄膜層を蒸着する基板の大きさ
に関係なく、高い寸法精度で所定のパターンに薄膜層を
蒸着することが可能となり、一枚の基板に多数の有機Ｅ
Ｌ素子を形成する、いわゆる多面取りが高精度のパター
ン精度で行うことができ、高品質の有機ＥＬ素子を高い
生産性で得ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る統合マスク１の全体概略斜視図。

【図２】図１の統合マスクを各要素ごとに分解した斜視
図。

【図３】統合マスクを用いた蒸着装置の一実施例を示す
正面断面図。

【図４】統合マスクを用いた蒸着装置の別の実施例を示
す正面断面図。

【図５】本発明にかかる別の実施態様である統合マスク
５００の全体概略斜視図

【図６】図５の統合マスクを各要素ごとに分解した斜視
図

【符号の説明】

１統合マスク２ベース板６アライメントマーク１０開口２０蒸着マスク２２マスクプレート３０開口部３２蒸着用開口４０係合ユニット４２押さえ棒４４圧縮バネ４６留め金１００蒸着システム１０２蒸着装置１０４ルッキンググラス１０６蒸着シャッター１０８外壁１１０ブラケット１１２マスクホルダー１１６Ｘ−Ｙガイド１２０ブラケット１２２基板ホルダー１２４押さえ部材１２６昇降軸１２８モータ１３０カメラ１３２真空槽１３４蒸発源１３６シャッター２００移載装置２１０スライド板２０８パッド４００蒸着システム４０２蒸着装置３００位置決め装置３０２マスク保持器３０６基板保持器３１４回転モータ４１６真空槽４０４載置台４０６蒸着源４０８シャッター４１２押さえ板４２０位置決め済み基板−マスク５００統合マスク５０２ベース板５０６アライメントマーク５１０開口５２０蒸着マスク５２２マスクプレート５２８耳部５３０開口部５３２蒸着用開口５４０係合ユニット５４２押さえ板５４４圧縮バネ５４６保持板５４８軸５５０片端Ｂ５５２片端Ａ

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続きＦターム(参考） 3K007 AB18 DB03 FA01 4K029 AA09 BA62 BD01 CA01 HA03 HA04

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】蒸着パターンに対応した蒸着用開口配列群
をもつ複数の蒸着マスクが、複数の開口部を有するベー
ス板に、各蒸着マスクの前記蒸着用開口配列群が前記開
口部の上側に位置するように配置されており、かつ前記
蒸着マスクは前記ベース板に任意に固定・開放自由な係
合手段によって固定されているとともに、前記蒸着マス
クを前記ベース板に位置決めするための基準アライメン
トマークを前記ベース板上に有することを特徴とする統
合マスク。
【請求項２】前記係合手段は、外力が付加されることで
開放自由となる係合手段であることを特徴とする請求項
１記載の統合マスク。
【請求項３】構成部材に熱膨張係数が１×１０^-5以下の
ものを含むことを特徴とする請求項１に記載の統合マス
ク。
【請求項４】前記複数の蒸着マスクは、隣り合うどおし
の最大隙間が１０ｍｍ以下で配置される部分を含むこと
を特徴とする。請求項１に記載の統合マスク。
【請求項５】請求項１記載の統合マスクと、蒸着が施さ
れる基板を、前記統合マスクの基準アライメントマーク
を基準にして、蒸着室内で位置決めを行ってから、マス
ク蒸着により薄膜層をパターニングする工程を有して有
機ＥＬ素子を製造することを特徴とする有機ＥＬ素子の
製造方法。
【請求項６】請求項１に記載の統合マスクと、蒸着を施
す基板とを、前記統合マスクの基準アライメントマーク
を基準にして、位置決めを行ってから、位置決めを完了
した統合マスクと基板を蒸着室にいれ、マスク蒸着によ
り薄膜層をパターニングする工程を有して有機ＥＬ素子
を製造することを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項７】前記薄膜層はＲ、Ｇ、Ｂの発光層であるこ
とを特徴とする請求項５または６記載の有機ＥＬ素子の
製造方法。
【請求項８】請求項１載の統合マスクと、蒸着が施され
る基板を、前記統合マスクの基準アライメントマークを
基準にして、位置決めを行う位置決め装置と、マスク蒸
着により薄膜層をパターニングする蒸着装置を有するこ
とを特徴とする有機ＥＬ素子の製造装置。