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JP2002353105A - 照明光学装置，該照明光学装置を備えた露光装置，およびマイクロデバイスの製造方法 - Google Patents

照明光学装置，該照明光学装置を備えた露光装置，およびマイクロデバイスの製造方法

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Publication number
JP2002353105A
JP2002353105A JP2001155095A JP2001155095A JP2002353105A JP 2002353105 A JP2002353105 A JP 2002353105A JP 2001155095 A JP2001155095 A JP 2001155095A JP 2001155095 A JP2001155095 A JP 2001155095A JP 2002353105 A JP2002353105 A JP 2002353105A
Authority
JP
Japan
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light
mirror
optical system
light source
mask
Prior art date
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Application number
JP2001155095A
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Inventor
Hideki Komatsuda
秀基 小松田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Nikon Corp filed Critical Nikon Corp
Priority to JP2001155095A priority Critical patent/JP2002353105A/ja
Publication of JP2002353105A publication Critical patent/JP2002353105A/ja
Publication of JP2002353105A5 publication Critical patent/JP2002353105A5/ja
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    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70058—Mask illumination systems
    • G03F7/70091—Illumination settings, i.e. intensity distribution in the pupil plane or angular distribution in the field plane; On-axis or off-axis settings, e.g. annular, dipole or quadrupole settings; Partial coherence control, i.e. sigma or numerical aperture [NA]
    • G03F7/70116—Off-axis setting using a programmable means, e.g. liquid crystal display [LCD], digital micromirror device [DMD] or pupil facets

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
  • Microscoopes, Condenser (AREA)
  • Mechanical Light Control Or Optical Switches (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ズーム光学系を用いずに照明条件を連続的に
変更可能な光効率の高い照明光学装置，該照明光学装置
を備えた露光装置，該露光装置を用いたマイクロデバイ
スの製造方法を提供すること。 【解決手段】 光源1から射出された光束はリレー光学
系２に入射し，可動マルチミラー３に入射した後，リレ
ー光学系４を介してフライアイレンズ５に入射し，コン
デンサ光学系６，７を経た後，マスク８を均一に照明す
る。可動マルチミラー３は，アレイ状に配列された多数
の微小な要素ミラー３０を含んで構成される。各要素ミ
ラー３０は，可動であり，傾斜角および傾斜方向が個別
に駆動制御される。これより，可動マルチミラー３では
光束を反射面毎の微小単位に分割して，所定方向に，所
定角度偏向させることができ，光源からの光の断面形状
を所望の形状または所望の大きさに変換できる。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は，例えば半導体素子
や液晶表示素子，撮像素子，ＣＣＤ素子，薄膜磁気ヘッ
ド等のマイクロデバイスを，フォトリソグラフィ技術を
利用して製造する際に用いられるのに好適な照明光学装
置，該照明光学装置を備えた露光装置，マイクロデバイ
スの製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年，半導体集積回路等のマイクロデバ
イスの回路パターンの微細化が進んでいる。それに伴
い，フォトリソグラフィ工程における照明条件の選択が
非常に重要な要素となり，露光する回路パターンやプロ
セス条件毎に照明条件を変更して露光を行うことが求め
られている。それゆえ，最近の露光装置では一般に，１
つの装置で複数の照明条件を実施可能とし，露光時に最
適な照明条件を選択できるよう構成されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところで，１つの装置
で複数の照明条件を実施可能とするために，大まかには
以下に述べる２つの方法に分類することができる。１つ
は，照明光学装置内における投影光学系の開口絞り位置
と共役な位置に，複数の開口絞りを切り替え可能なよう
に配置して切り替える方法である。なお，ここでいう照
明光学装置内における投影光学系の開口絞り位置と共役
な位置を，以下では疑似光源位置と称する。というの
は，照明光学系がケーラー照明光学系を実現していると
きは，この疑似光源位置を光源位置と考えることができ
るからである。この方法により，疑似光源位置での光強
度分布が変更可能となり，複数の照明条件を達成可能と
なる。以下，この方法を方法１と称する。
【０００４】方法１は，例えば，円形，輪帯，２極，４
極等の形状の開口絞りを用いて変形照明を行う場合に用
いられる。図８にこのような変形照明を行った場合の照
野の形状の一例を示す。それぞれ，図８（ａ）は円形，
図８（ｂ）は輪帯，図８（ｃ）は４極形状の開口絞りを
用いた場合の照野の例である。図中の斜線部が照野とな
る。図８（ｃ）における点線は４極が同一輪帯上にある
ことを示すための補助線である。
【０００５】もう１つは，光源と疑似光源位置との間の
光学系を切り替える，または光源と疑似光源位置との間
にズーム光学系を配置してズーミングを行う方法であ
る。この方法により，疑似光源位置における光束の形状
を所定の形状にすることができ，複数の照明条件が可能
となる。以下，この方法を方法２と称する。
【０００６】しかしながら，方法１，２ともに以下に述
べるような欠点を有する。方法１では，複数の所定形状
の開口絞りを用意し，切り替えて用いている。ところ
が，前述のように，フォトリソグラフィ工程では，照明
条件の選択が非常に重要な要素となっており，パターン
やプロセス条件毎に実に細かく照明条件を変更して最適
となる照明条件を選択することが要求される。そのため
には，連続的に照明条件を変更できることが好ましい。
円形開口のみ考えればよい場合には，径を連続的に可変
とすることは可能であり，このような絞りは実際にカメ
ラ等でも用いられている。しかし，実際には円形開口だ
けでなく，上述の既存形状の開口絞り，およびその他の
形状の開口絞りが必要であり，さらにそれらの大きさも
連続的に変更可能であることが要求される。これに対
し，方法１の装置ではあらかじめ用意した絞りしか用い
ることができないため，照明条件を細かく変更したり，
連続的に変更することが極めて困難であり，最新の装置
の要求に対応できなくなりつつある。また，絞りによっ
て遮光するために光効率が悪いという問題がある。
【０００７】方法２では，光学系を切り替えるもので
は，方法１の絞りを切り替えるもの同様，細かな照明条
件の変更に対応できないという欠点がある。ズーム光学
系を用いるものでは，光学系が複雑である，レンズ枚数
が増加する，光量が低下する，装置劣化速度を加速させ
る，重量が増加する等のズーム光学系の一般特性から発
生する多数の問題があり，露光装置に好適であるとはい
えない。近年では特に，露光波長の短波長化に伴い，レ
ンズの透過率の経時変化による装置の劣化速度の加速が
深刻な問題となりつつある。
【０００８】本発明は，このような問題に鑑みてなされ
たものであり，その目的とするところは，ズーム光学系
を用いずに照明条件を連続的に変更可能な光効率の高い
照明光学装置，該照明光学装置を備えた露光装置，該露
光装置を用いたマイクロデバイスの製造方法を提供する
ことにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に，本発明の第１発明は，光源からの光に基づいて被照
射面を均一に照明するオプティカルインテグレータと，
前記光源と前記オプティカルインテグレータとの間の光
路中に配置され，前記光源からの光の断面形状を所望の
形状または所望の大きさに変換する光変換手段と，を含
み，前記光変換手段は，アレイ状に配列された多数の微
小な反射面を有する光学素子を含むことを特徴とする照
明光学装置を提供する。ここで，微小な各反射面を所定
方向に，所定角度傾けて配置すれば，光束を反射面毎の
微小単位に分割して，所定方向に，所定角度偏向させる
ことができる。これより，オプティカルインテグレータ
に入射する光束の断面形状を所望の形状または所望の大
きさに変換でき，オプティカルインテグレータ上に所望
の光強度分布を形成することができる。また，光源から
の全ての光を遮光することなく利用できるので，高い光
効率を達成できる。
【００１０】第１発明の好ましい態様によれば，前記多
数の微小な反射面のうちの１部または全てが可動に構成
され，前記光源からの光の断面形状を所望の形状または
所望の大きさに変換するために，前記多数の微小な反射
面のうちの１部または全ての動きを制御する制御手段を
さらに含む。かかる構成によれば，微小な反射面を制御
することにより，オプティカルインテグレータに入射す
る光束の断面形状または大きさを様々に変換することが
でき，１つの露光装置で様々な照明条件を達成すること
ができる。また，反射面の動きを連続的に変更可能なよ
うに構成すれば，ズーム光学系を用いずに，連続的に照
明条件を変更することが可能となる。
【００１１】また，第１発明の好ましい態様によれば，
前記多数の微小な反射面のうちの１部または全ては，傾
斜角と傾斜方向との少なくとも一方がそれぞれ変更可能
に構成されている。傾斜角と傾斜方向の双方を変更パラ
メータと考えることにより，照明条件を多様に変更する
ことが可能となる。
【００１２】また，第１発明の好ましい態様によれば，
前記多数の微小な反射面のうちの少なくとも1つは非平
面である。非平面の面形状としては，凹面，凸面，球
面，楕円面，放物面，等，様々な面形状が考えられる。
かかる構成によれば，微小単位に分割された光束それぞ
れに収束性，あるいは発散性をもたせることができる。
これより，さらに自由に光を変換することができ，より
多様な照明条件を達成できる。
【００１３】上記のような光変換手段としては，例えば
テキサスインスツルメンツ社が開発したＤＭＤ（Ｄｉｇ
ｉｔａｌ Ｍｉｃｒｏｍｉｒｒｏｒ Ｄｅｖｉｃｅ）
（商標）を使用することができる。ＤＭＤは基板上に多
数の微小反射ミラーが碁盤の目状に配列され，個々のミ
ラーの傾斜が個別に駆動制御されるよう構成された素子
である。
【００１４】また，本発明の第２の発明は，上記記載の
照明光学装置と，所定のパターンを有するマスクを前記
被照射面に設定するマスク保持手段と，前記マスクのパ
ターン像を感光性基板に投影する投影光学系と，前記感
光性基板を保持する基板保持手段とを含むことを特徴と
する露光装置を提供する。かかる構成によれば，パター
ンやプロセス条件毎に細かく照明条件を変更でき，最適
な照明条件で露光可能な露光装置を提供できる。
【００１５】また，本発明の第３の発明は，上記記載の
露光装置を用いて前記マスクに形成されたパターンを前
記基板上に露光する露光工程と，前記露光工程にて露光
された前記基板を現像する現像工程とを含むことを特徴
とするマイクロデバイスの製造方法を提供する。かかる
構成によれば，最適な照明条件でパターンを露光できる
ので，良好にパターン形成でき，製品の歩留まり向上に
貢献できる。
【００１６】
【発明の実施の形態】以下，図面に基づいて本発明の実
施の形態を詳細に説明する。なお，以下の説明及び添付
図面において，略同一の機能及び構成を有する構成要素
については，同一符号を付すことにより，重複説明を省
略する。図１は，本発明の第１の実施の形態に係る露光
装置の概略構成図である。図１を参照しながら，本露光
装置の概略構成について説明する。
【００１７】光源1から射出された光束はリレー光学系
２に入射する。リレー光学系２は，コリメート光学系を
構成していてもよく，その場合は，光束は平行光に変換
されて射出する。その後，光束は可動マルチミラー３に
入射する。可動マルチミラー３は，アレイ状に配列され
た多数の微小な反射面を有する素子から構成される。可
動マルチミラー３は，例えばＤＭＤによって構成されて
いてもく，後で詳述するようにここでは光束変換素子と
しての機能を有する。
【００１８】可動マルチミラー３から射出した光束は，
リレー光学系４を介してオプティカルインテグレータと
してのフライアイレンズ５に入射する。ここでは，リレ
ー光学系４の前側焦点位置に可動マルチミラー３が配置
されているが，この配置は必ずしも限定的なものではな
い。リレー光学系４は可動マルチミラー３により変換さ
れた光束をフライアイレンズ５に伝達する機能を果た
す。また，フライアイレンズ５はここでは，前述の疑似
光源位置に配置されているが，この配置は必ずしも限定
的なものではなく，疑似光源位置からデフォーカスした
位置に配置されていてもよい。フライアイレンズ５は，
多数のレンズエレメントを二次元的に配列することによ
り構成されている。フライアイレンズ５に入射した光束
は，この多数のレンズエレメントにより二次元的に分割
され，フライアイレンズ５の後側焦点面に多数の光源像
を形成する。
【００１９】この多数の光源像からの光束は，コンデン
サ光学系６を透過した後，視野絞りＦＳにより制限され
る。視野絞りＦＳは露光時の視野を規定するものであ
る。その後，光束はコンデンサ光学系７および折り返し
ミラーＭ１を経て，所定の回路パターンが形成されたマ
スク８を均一に照明する。マスク８を透過した光束は，
投影光学系９を介してレジストを塗布した基板であるウ
エハ１０に達し，ウエハ１０上にはマスク８の回路パタ
ーンが形成される。図中のＡＳは投影光学系の開口絞り
位置である。ここで，マスク８は不図示のマスクステー
ジに保持されており，ウエハ１０は不図示のウエハステ
ージに保持されている。マスクステージ及びウエハステ
ージは共に二次元的に移動可能であり，マスクステージ
及びウエハステージを介してマスク８及びウエハ１０を
所定方向へ移動させることによって，マスク８の全面の
パターンが投影光学系９を介してウエハ１０上に転写露
光される。
【００２０】次に，可動マルチミラー３について詳細に
述べる。図２に可動マルチミラー３の部分斜視図を示
す。可動マルチミラー３は，図２に示すように平面形状
の反射面を上面にして敷き詰められた多数の微小な要素
ミラー３０を含む。図中の斜線は要素ミラー３０の側面
を表す。各要素ミラー３０は可動であり，その傾斜角お
よび傾斜方向は不図示の制御系により個別に駆動制御さ
れる。ここでは，要素ミラー３０の外形は正方形として
いるが，これに限定するものではない。ただし，光利用
効率の観点から，隙間無く配列可能な形状が好ましい。
また，隣接する要素ミラー３０間の間隔は必要最小限と
することが好ましい。さらにまた，照明条件の細かな変
更を可能にするために，要素ミラー３０は可能な限り小
さいことが好ましい。
【００２１】次に，図３を参照しながら，可動マルチミ
ラー３の駆動機構の一例について説明する。図３は駆動
機構の概略構成を示す斜視図である。図３に示すよう
に，要素ミラー３０は反射面を上面にしてヒンジ部材３
２により支持されている。ヒンジ部材３２の長軸方向は
要素ミラー３０の対角線方向と一致しており，この長軸
方向と直交しかつ反射面に平行な方向に沿ってヒンジ部
材３２から４つの電極３４が突設されている。ヒンジ部
材３２の両端は支柱部材３６の上端において，長軸方向
と一致する方向を揺動軸線方向として揺動可能に支持さ
れている。支柱部材３６は基板３８上に設置されてい
る。基板３８上には，４つの電極３４にそれぞれ対応す
る位置に４つの電極４０が形成されている。
【００２２】対応する電極３４と４０との間に電位差を
付与し，電極間の電位差に基づいて作用する静電力によ
って，ヒンジ部材３２を揺動させることができる。ヒン
ジ部材３２の揺動に伴い，ヒンジ部材３２により支持さ
れている要素ミラー３０も揺動する。このような手段を
用いて，要素ミラー３０の傾斜角度と傾斜方向を電気的
に容易に制御することができる。ここでは，１つの要素
ミラー３０を例示して説明したが，他の要素ミラー３０
についても同様の構成となっている。図４は複数の要素
ミラー３０と前述の駆動機構が基板上に配列された様子
を示す断面図である。
【００２３】可動マルチミラー３に入射した光は要素ミ
ラー３０を単位として分割され，各要素ミラー３０の傾
斜方向，傾斜角に従い，所定の方向に所定角度をもって
偏向される。各要素ミラー３０の動きを制御して所定の
傾斜方向，傾斜角となるよう設定することにより，可動
マルチミラー３を射出する光束を自由に制御することが
できる。すなわち，可動マルチミラー３は光束の断面形
状を所望の形状および大きさに変換可能な光束変換素子
としての機能を果たす。よって，可動マルチミラー３に
より，フライアイレンズ５上に所望の光強度分布の光束
を形成することが可能となる。ここで，各要素ミラー３
０の動きを連続的に変更可能なように構成しておけば，
連続的に照明条件を変更することができる。例えば，従
来の露光装置で用いられていた円形照明，および輪帯，
２極，４極等の変形照明も達成することができ，各照明
においてその照野の大きさを連続的に変更することも可
能である。
【００２４】本実施の形態によれば，光源１とフライア
イレンズ５との間の光路中に前述のような可動マルチミ
ラー３を配置したことにより，以下のような多数の効果
が得られる。フライアイレンズ５上に所望の光強度分布
の光束を形成することが可能となり，種種の変形照明に
対応可能である。しかも連続的な光束変化が可能である
ため，連続的に照明条件を変更することができる。ま
た，１つの可動マルチミラーで様々な光束形状を形成可
能であるため，従来の複数の絞りを切り替えていた露光
装置で必要とされた複数の絞りを用意する必要もない。
また，絞りによって遮光することなく光束形状を変更可
能であるため，高い光効率が得られる。さらに，ズーム
光学系を必要としないため，ズーム光学系に起因する様
々な問題も回避でき，部品点数も少なく，装置のコンパ
クト化，コスト削減に貢献できる。またさらに，電気的
手段により光束形状を変換できるので，制御が容易であ
り，パターンやプロセス条件の変更に即時に対応でき
る。
【００２５】次に，可動マルチミラー３の変形例につい
て述べる。本変形例では要素ミラーのみ構成が異なり，
その他の駆動機構は前述のものと同様である。図５にこ
の変形例の断面図を示す。ここでは，要素ミラー３１の
反射面は凹形状の球面である。このような構成を採用す
ることにより，要素ミラー３１を単位として分割された
光束に収束性，あるいは発散性をもたせることができ
る。これはリレー光学系４とは独立に作用するものであ
り，光束変換の自由度が高まり，より多様な照明条件を
達成できる。例えば，要素ミラー３１単位で分割された
光がフライアイレンズ５の入射面上で所定の広がりをも
つようにすることができ，これはフライアイレンズ５を
通常の位置からデフォーカス位置に配置したのと実質的
に同様の効果が得られる。
【００２６】なお，要素ミラーの反射面の形状は上記例
に限定されるものではない。凸形状であっても良く，ま
た楕円面，放物面，あるいは任意曲面等，用途や装置に
合わせて最適な形状を選ぶことが好ましい。
【００２７】図６は，本発明の第２の実施の形態に係る
露光装置の概略構成図である。第１の実施の形態との大
きな相違点は，オプティカルインテグレータに内面反射
型のロッドインテグレータを用いている点である。以
下，この点に注目しながら第２の実施の形態について説
明する。
【００２８】光源１から可動マルチミラー３までの光学
系は第１の実施の形態と同じであるため，説明を省略す
る。可動マルチミラー３から射出した光束は，リレー光
学系１４を介してオプティカルインテグレータとしての
ロッドインテグレータ１５に入射する。ここで，可動マ
ルチミラー３とロッドインテグレータ１５の入射面が共
役関係になるよう，リレー光学系１４が配置されてい
る。なお，この配置は限定的なものではなく，ロッドイ
ンテグレータ１５への入射光束径がロッドインテグレー
タ１５の有効径を越えない程度に配置されていればよ
い。あるいは，光量損失を問題にしない場合は，入射光
束径と有効径とを考慮する必要もなく，概ねの位置に配
置されていてもよい。
【００２９】ロッドインテグレータ１５は内面に反射膜
を形成した中空形状の反射型インテグレータ又は内面反
射型のガラスロッドである。ロッドインテグレータ１５
に入射した光束は内面で反射されるかあるいは反射する
ことなく射出端面から射出し，射出端面内は均一性良く
照明される。その後，光束はコンデンサ光学系１７およ
び折り返しミラーＭ１を経て，所定の回路パターンが形
成されたマスク８を均一に照明する。ここで，ロッドイ
ンテグレータ１５の射出端面とマスク８が共役関係にな
るよう，コンデンサ光学系１７が配置されている。この
配置に関しては，マスク８を照明する照度均一性を確保
するためにある程度の厳密さを必要とする。マスク８を
透過した光束は，投影光学系９を介してレジストを塗布
した基板であるウエハ１０に達し，ウエハ１０上にはマ
スク８の回路パターンが形成される。
【００３０】ここで，可動マルチミラー３の構成は第１
の実施の形態と同様である。本実施の形態においても，
可動マルチミラー３は光源からの光束の断面形状を，所
望の形状および大きさに変換して，ロッドインテグレー
タ１５に入射する光束に所望の光強度分布をもたせるこ
とができる。よって，各種の変形照明に対応可能であ
り，照明条件を連続的に変更可能であり，第１の実施の
形態と同様の効果が得られる。なお，以上の各実施の形
態では，オプティカルインテグレータとして，フライア
イレンズや対面反射型の光学部材を用いた例を説明した
が，これらに限ることなく，例えば回折光学素子やマイ
クロレンズアイ等をオプティカルインテグレータとして
用いることが可能である。
【００３１】図７は，以上に述べた露光装置を用いてマ
イクロデバイスを製造する際の動作の一例を示すフロー
チャートである。ここでは上記のマスク８の代わりにレ
チクルを用いる。まず，ステップ１０１において，1ロ
ットのウエハ１０上に金属膜が蒸着される。次のステッ
プ１０２において，その１ロットのウエハ１０上の金属
膜上にフォトレジストが塗布される。その後，ステップ
１０３において，前記露光装置を用いて，レチクル上の
パターンの像が投影光学系９を介して，その１ロットの
ウエハ１０上の各ショット領域に順次露光転写される。
その後，ステップ１０４において，その1ロットのウエ
ハ１０上のフォトレジストの現像が行われた後，ステッ
プ１０５において，その１ロットのウエハ１０上でレジ
ストパターンをマスクとしてエッチングを行うことによ
って，レチクル上のパターンに対応する回路パターン
が，各ウエハ上の各ショット領域に形成される。その
後，さらに上のレイヤーの回路パターンの形成を行う。
以上により，極めて微細な回路を有する半導体素子等の
デバイスが良好に製造される。
【００３２】以上，添付図面を参照しながら本発明にか
かる好適な実施形態について説明したが，本発明はかか
る例に限定されないことは言うまでもない。当業者であ
れば，特許請求の範囲に記載された技術的思想の範疇内
において，各種の変更例または修正例に想到し得ること
は明らかであり，それらについても当然に本発明の技術
的範囲に属するものと了解される。
【００３３】上記例では，可動マルチミラー３は，個々
に独立に可動であるとしたが，これに限定するものでは
なく，可動マルチミラー３の一部が可動となっていても
よい。また，可動マルチミラー３の全体または一部につ
いて，傾斜角または傾斜方向のどちらか一方のみが可動
であるよう構成されていてもよい。
【００３４】
【発明の効果】以上，詳細に説明したように本発明によ
れば，ズーム光学系を利用せずに照明条件を連続的に変
更可能で，光効率の高い照明光学装置を提供できる。ま
た，パターンやプロセス条件毎に細かく照明条件を変更
でき，好適な照明条件で露光可能な露光装置を提供でき
る。さらに，好適な照明条件の下で良好にデバイスを製
造可能なマイクロデバイスの製造方法を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明の第１の実施の形態に係る露光装置の
概略構成図である。
【図２】 可動マルチミラーの部分斜視図である。
【図３】 要素ミラーの駆動機構の構成を示す斜視図で
ある。
【図４】 複数の要素ミラーと駆動機構が配列された状
態を示す断面図である。
【図５】 可動マルチミラーの変形例を示す断面図であ
る。
【図６】 本発明の第２の実施の形態に係る露光装置の
概略構成図である。
【図７】 本発明の実施の形態に係るマイクロデバイス
の製造方法の一例を示すフローチャートである。
【図８】 形状の異なる開口絞りを用いた際に形成され
る照野を説明する図である。
【符号の説明】
１ 光源 ２，４ リレー光学系 ３ 可動マルチミラー ４ 振動ミラー ５ フライアイレンズ ６，７ コンデンサ光学系 ８ マスク ９ 投影光学系 １０ ウエハ ３０，３１ 要素ミラー ３２ ヒンジ部材 ３４，４０ 電極 ３６ 支柱部材 ３８ 基板 ＦＳ 視野絞り Ｍ１ 折り返しミラー
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０３Ｆ 7/20 ５２１ Ｈ０１Ｌ 21/30 ５１５Ｄ Ｇ０２Ｂ 27/00 Ｅ

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 光源からの光に基づいて被照射面を均一
    に照明するオプティカルインテグレータと，前記光源と
    前記オプティカルインテグレータとの間の光路中に配置
    され，前記光源からの光の断面形状を所望の形状または
    所望の大きさに変換する光変換手段と，を含み，前記光
    変換手段は，アレイ状に配列された多数の微小な反射面
    を有する光学素子を含むことを特徴とする照明光学装
    置。
  2. 【請求項２】 前記多数の微小な反射面のうちの１部ま
    たは全てが可動に構成され，前記光源からの光の断面形
    状を所望の形状または所望の大きさに変換するために，
    前記多数の微小な反射面のうちの１部または全ての動き
    を制御する制御手段をさらに含むことを特徴とする請求
    項１に記載の照明光学装置。
  3. 【請求項３】 前記多数の微小な反射面のうちの１部ま
    たは全ては，傾斜角と傾斜方向との少なくとも一方がそ
    れぞれ変更可能に構成されていることを特徴とする請求
    項１または請求項２に記載の照明光学装置。
  4. 【請求項４】 前記多数の微小な反射面のうちの少なく
    とも1つは非平面であることを特徴とする請求項１乃至
    請求項３の何れか一項に記載の照明光学装置。
  5. 【請求項５】 請求項１乃至請求項４の何れか一項に記
    載の照明光学装置と，所定のパターンを有するマスクを
    前記被照射面に設定するマスク保持手段と，前記マスク
    のパターン像を感光性基板に投影する投影光学系と，前
    記感光性基板を保持する基板保持手段とを含むことを特
    徴とする露光装置。
  6. 【請求項６】 請求項５に記載の露光装置を用いて前記
    マスクに形成されたパターンを前記基板上に露光する露
    光工程と，前記露光工程にて露光された前記基板を現像
    する現像工程とを含むことを特徴とするマイクロデバイ
    スの製造方法。
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