JP2002342987A - 光学記録媒体製造用原盤、光学記録媒体製造用スタンパおよび光学記録媒体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】グルーブパターンあるいは情報ピットパターン
の微細化、特にグルーブまたは情報ピットの幅を狭くす
ることが可能な光学記録媒体の製造方法とそれに用いる
原盤およびスタンパの製造方法を提供する。 【解決手段】トラック領域を区分する案内溝のパターン
またはピットのパターンに従ってレジスト膜を形成し、
原盤基板１０に凹凸形状を形成する。次に、凹凸形状の
凹部１０ａの側壁にこの凹部の幅を狭めるサイドウォー
ル１２ａを形成して原盤とする。また、得られた原盤基
板１０の凹凸形状が転写されたニッケルなどからなるス
タンパ１３を形成する。また、得られたスタンパの上記
凹凸形状が転写された媒体基板を形成し、媒体基板上に
光学記録膜および保護膜を形成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光学記録媒体（以
下光ディスクとも言う）の製造方法と、この光学記録媒
体を製造する工程において用いる光学記録媒体製造用原
盤およびスタンパの製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、動画、静止画などのビデオデータ
をデジタルに記録する技術の発展に伴い、大容量のデー
タが取り扱われるようになり、大容量記録装置としてＣ
ＤやＤＶＤなどの光ディスク装置が脚光を浴びており、
さらなる大容量化の研究が進められている。

【０００３】ＣＤなどの光ディスクを記録あるいは再生
する光ディスク装置の通常の構成においては、記録また
は再生用の波長λの光を照射する光源と、当該光源の出
射する光を光学記録媒体の光学記録膜上に集光する開口
数ＮＡの対物レンズ（集光レンズ）を含む光学系と、光
学記録膜からの反射光を検出する受光素子などを有す
る。

【０００４】上記の光ディスクの再生あるいは記録にお
いて、光学記録膜上における光のスポットサイズφは、
一般に下記式（１）で与えられる。

【０００５】

【数１】φ＝λ／ＮＡ …（１）

【０００６】光のスポットサイズφは光学記録媒体の記
録密度に直接影響を与え、スポットサイズφが小さいほ
ど高密度記録が可能となり、大容量化ができる。即ち、
光の波長λがより短いほど、また、対物レンズの開口数
ＮＡが大きいほど、スポットサイズφはより小さくな
り、高密度記録が可能となることを示す。

【０００７】例えば、上記のＣＤ方式においては、光源
の波長が近赤外領域（７８０ｎｍ程度）であり、対物レ
ンズの開口数が０．４５程度であり、記録膜に相変化型
記録膜を用い、さらに、ディスク基板に形成された凹凸
に応じて、光学記録膜が凹凸形状を有しており、この凹
凸形状の光学記録膜の内、記録または再生用の光の照射
側から近い側である、凹凸形状の凸部（以下ランドＬと
言う）に相当する部分の光学記録膜のみが記録領域ＲＡ
として用いられ、記録または再生用の光の照射側から遠
い側である、凹凸形状の凹部（以下グルーブＧと言う）
に相当する部分の光学記録膜を記録領域ＲＡとして用い
ない構成において、１２０ｍｍ径の光ディスクの場合に
約７００ＭＢの記録容量を実現している。

【０００８】光ディスクのさらなる高密度化の研究が進
められており、例えば、文献「Ｏｐｔｉｃａｌ ｄｉｓ
ｋ ｒｅｃｏｒｄｉｎｇ ｕｓｉｎｇ ａ ＧａＮ ｂ
ｌｕｅ−ｖｉｏｌｅｔ ｌａｓｅｒ ｄｉｏｄｅ」（Ｉ
ｃｈｉｍｕｒａら、Ｊｐｎ．Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙ
ｓ．，ｖｏｌ．３９（２０００），ｐｐ９３７−９４
２）においては、青紫色半導体レーザと開口数０．８５
の２群対物レンズを用いることで、ＤＶＤサイズの光デ
ィスクに２２Ｇバイトを越える記憶容量を実現する手法
が提案されている。

【０００９】ところで、対物レンズの開口数が大きくな
ると、一般に光ディスク装置におけるディスク傾き許容
度が減少する。光軸に対する傾き角θに対して、発生す
るコマ収差Ｗ₃₁は、文献「Ａｐｌａｎａｔｉｃ ｃｏｎ
ｄｉｔｉｏｎ ｒｅｑｕｉｒｅｄ ｔｏ ｒｅｐｒｏｄ
ｕｃｅ ｊｉｔｔｅｒ−ｆｒｅｅ ｓｉｇｎａｌｓｉｎ
ｏｐｔｉｃａｌ ｄｉｓｋ ｓｙｓｔｅｍ」（Ｋｕｂ
ｏｔａら、Ａｐｐｌ．Ｏｐｔ．，ｖｏｌ．２６（１９８
７），ｐｐ３９６１−３９７３）によると下記式（２）
で与えられ、概ね開口数ＮＡの３乗と、光ディスクの保
護膜（光学記録膜の上層に形成された膜）の厚さｔに比
例する。なお、式（２）中、ｎは保護膜の屈折率であ
る。

【００１０】

【数２】

【００１１】従って、許容されるコマ収差Ｗ₃₁の値をλ
／４とすると、開口数０．８５まで高めた光ディスク装
置において、ＤＶＤ再生装置と同等のディスク傾き許容
度を確保するためには、光ディスクの保護膜の厚さを
０．１ｍｍ程度に薄くすることが必要となる。

【００１２】上記の短波長化および高開口数化より大容
量化に対応した光ディスクについて、図面を参照して説
明する。図７（ａ）は上記の光ディスクの光の照射の様
子を示す模式斜視図である。光ディスクＤは、中心部に
センターホールＣＨが開口された略円盤形状をしてお
り、ドライブ方向ＤＲに回転駆動される。情報を記録ま
たは再生するときには、光ディスクＤＣ中の光学記録膜
に対して、例えば開口数が０．８以上の対物レンズＯＬ
により、青〜青紫色の領域のレーザ光などの光ＬＴが照
射されて用いられる。

【００１３】図７（ｂ）は模式断面図であり、図７
（ｃ）は図７（ｂ）の模式断面図の要部を拡大した断面
図である。厚さが約１．１ｍｍのポリカーボネートなど
からなるディスク基板１４の一方の表面に、トラック領
域を区分する溝１４ａが設けられており、この面上に、
例えば反射膜、誘電体膜、記録膜、誘電体膜などがこの
順番で積層された光学記録膜１５が形成されている。光
学記録膜１５の層構成および層数は記録材料の種類や設
計によって異なる。さらに、光学記録膜１５の上層に
０．１ｍｍの膜厚の光透過性の保護層１６が形成されて
いる。

【００１４】上記の光ディスクを記録あるいは再生する
場合には、対物レンズＯＬにより、レーザ光などの光Ｌ
Ｔを保護層１６側から光学記録膜１５に対して照射す
る。光ディスクの再生時においては、光学記録膜１５で
反射された戻り光が受光素子で受光され、信号処理回路
により所定の信号を生成して、再生信号が取り出され
る。

【００１５】上記のような光ディスクにおいて、ディス
ク基板１５の一方の表面に設けられた溝１４ａに応じて
光学記録膜１５も凹凸形状を有しており、この溝１４ａ
によりトラック領域が区分されている。以下、ディスク
基板１４から見て保護層１６側に凸に突出している領域
はランド、凹部領域はグルーブと呼ばれ、ランドとグル
ーブの両者に情報を記録するランド・グルーブ記録方式
を適用することが可能である。また、ランドとグルーブ
の一方のみ記録領域とすることも可能である。

【００１６】また、上記のディスク基板１４の凹凸形状
を記録データに対応する長さを有するピットとして、光
学記録膜をアルミニウム膜などの反射膜とすることによ
り、再生専用（ＲＯＭ）型の光ディスクとすることもで
きる。

【００１７】上記の光ディスクの製造方法について説明
する。図８（ａ）は、上記の製造方法で用いるカッティ
ング装置（露光装置）の模式構成図であり、図８（ｂ）
は要部斜視図である。光源として、例えば発振波長３５
１ｎｍのＫｒガス（イオン）レーザＧＳが備えられ、そ
の光軸上に光学素子として、電気光学素子ＥＯＭ、偏光
ビームスプリッタＰＢＳ１、ミラーＭ１、レンズＬ１、
音響光学素子ＡＯＭ、レンズＬ２、ミラーＭ２、レンズ
Ｌ３、レンズＬ４、ＤＣＭ、ミラーＭ３、対物レンズＯ
Ｌが所定の位置に配置されている。上記のミラーＭ２以
前の光学素子は、固定定盤に固定されており、一方、レ
ンズＬ３以降の光学素子は、可動式テーブルＭＴ上に搭
載されている。また、このカッティング装置の露光対象
物であるガラス基板上にレジスト膜が成膜されたレジス
ト原盤ＲＤが、スピンドルモータにより高回転精度で回
転駆動可能なエアースピンドル上にチャックされる。

【００１８】ガスレーザＧＳから出射されたレーザ光Ｌ
Ｔ１は、電気光学素子ＥＯＭおよび偏光ビームスプリッ
タＰＢＳ１を透過し、ミラーＭ１で反射してその進行方
向が屈曲される。このとき、レーザ光ＬＴ１の一部はミ
ラーＭ１を透過し、フォトダイオードＰＤ１に入射す
る。上記のミラーＭ１で反射したレーザ光ＬＴ１は、レ
ンズＬ１により集光され、音響光学素子ＡＯＭを経てレ
ンズＬ２により平行光に戻され、ミラーＭ２で反射して
その進行方向が屈曲される。このとき、レーザ光ＬＴ１
の一部はミラーＭ２を透過し、フォトダイオードＰＤ２
に入射する。上記のフォトダイオードＰＤ１またはフォ
トダイオードＰＤ２で受光したの強度により、電気光学
素子ＥＯＭにフォードバックがなされ、一定の出力を得
ようとするＡＰＣ制御（Automatic Power Control ）が
なされる。また、必要に応じて、音響光学素子ＡＯＭに
おいてレーザ光ＬＴ１の変調がなされる。上記のミラー
Ｍ２で反射したレーザ光ＬＴ１は、レンズ（Ｌ３，Ｌ
４）よりなるビームエキスパンダにより、そのビーム径
が拡大され、ＤＣＭを透過して、ミラーＭ３により反射
して、対物レンズＯＬによりレジスト原盤ＲＤのレジス
ト膜に対して例えば０．３μｍの径のスポットとして集
光される。

【００１９】上記のカッティング装置において、不図示
のスピンドルモータによりレジスト原盤ＲＤをスピンド
ル方向ＳＤに回転駆動し、可動式テーブルＭＴをレジス
ト原盤ＲＤの半径方向に所定幅ずつ送りながら、上記レ
ーザ光ＬＴ１をレジスト原盤ＲＤのレジスト膜に照射す
ることで、レジスト原盤ＲＤのパターン露光を行うこと
ができる。例えば、相変化型光ディスクなどの書き換え
可能型の光ディスクを製造する工程においては、記録領
域を区分するトラック（ランド／グルーブ）のパターン
に沿って露光用レーザ光をスパイラル状に走査露光する
ことができる。また、再生専用（ＲＯＭ）型の光ディス
クを製造する工程においては、露光用レーザ光を記録デ
ータ（情報ピット）に対応するようにオンオフしながら
スパイラル状に走査露光することもできる。

【００２０】上記の対物レンズの焦点距離を常にレジス
ト原盤ＲＤ上に一致させるために、オートフォーカス
（Ａ／Ｆ）機構が配置されている。例えば、Ａ／Ｆ光学
系として発振波長６８０ｎｍのレーザダイオードＬＤを
用いた離軸方式を適用しており、レーザダイオードＬＤ
から出射された６８０ｎｍのレーザ光ＬＴ２は偏光ビー
ムスプリッタＰＢＳ２の分光面で反射され、１／４波長
板ＱＷＰを透過してＤＣＭで反射し、レーザ光ＬＴ１と
ともにレジスト原盤ＲＤ上に照射される。このとき、レ
ーザ光ＬＴ２の対物レンズＯＬによる焦点をレーザ光Ｌ
Ｔ１の焦点面に一致させておく。レーザ光ＬＴ２は、レ
ジスト原盤ＲＤで反射され、対物レンズを通して戻って
きたスポットをスポット位置検出素子ＰＳＤ上に投影さ
れる。この際、レーザ光ＬＴ２は対物レンズの光軸から
やや離れた位置から光軸にほぼ平行に入射させ、レジス
ト原盤表面においてレーザ光ＬＴ１の焦点からやや離れ
た位置に焦点を結ばせることにより、レジスト原盤表面
の光軸上での焦点面からの変位をレーザ光ＬＴ２のレジ
スト原盤上での変位として検出し、光てこの原理によ
り、スポット位置検出素子ＰＳＤ上で１００倍程度に拡
大して検出する。このようにしてスポット位置検出素子
ＰＳＤ上でのスポットの位置を検出して、レジスト原盤
表面が焦点位置に一致したときのレーザ光ＬＴ２の戻り
光スポット位置からの変位をフォーカス誤差量として、
対物レンズを上下させるアクチュエータにフィードバッ
クして駆動させ、Ａ／Ｆサーボを行い、レーザ光ＬＴ１
を常にレジスト原盤上に合焦させる。また、Ａ／Ｆ光学
系において、偏光ビームスプリッタＰＢＳ２および１／
４波長板ＱＷＰはレーザ光ＬＴ２の往路と復路を効率よ
く分離するための偏光素子として用いられている。

【００２１】上記のカッティング装置を用いて、以下の
ように光ディスクを製造することができる。まず、図９
（ａ）に示すようなガラス基板１０上にレジスト膜１１
が成膜されたレジスト原盤ＲＤを準備する。上記のガラ
ス基板は、例えば直径が２００ｍｍ、厚さが数ｍｍであ
り、表面が精密に研磨されている。また、レジスト膜１
１は、例えば紫外線に感光する感光性ポジ型フォトレジ
ストを用い、１００ｎｍの膜厚でスピンコートにより成
膜する。レジスト膜１１中に残存する溶剤を数１０℃の
ベーキング処理により除去する。

【００２２】次に、図８（ａ）および（ｂ）に示すカッ
ティング装置を用いて、ディスク基板の溝となる領域を
感光させるパターンでレジスト膜１１の露光を行い、ア
ルカリ現像液などにより現像処理を施して、図９（ｂ）
に示すように、ディスク基板の溝となる領域を開口する
パターンのレジスト膜１１ａとする。

【００２３】次に、図１０（ａ）に示すように、例えば
ニッケルメッキ処理などを行い、上記ガラス基板１０上
のレジスト膜１１ａ上にスタンパ１３を形成する。スタ
ンパ１３の表面には、ガラス基板１０およびレジスト膜
１１ａにより構成されるパターンの凹凸と逆パターンの
凹凸が転写され、凸部１３ａが形成されている。

【００２４】次に、図１０（ｂ）に示すように、ガラス
基板１０上のレジスト膜１１ａからスタンパ１３を離型
する。

【００２５】次に、図１１（ａ）に示すように、上記で
得られたスタンパ１３を金型（ＭＤ１，ＭＤ２）からな
るキャビティ内に固定し、射出成形用金型を構成する。
このとき、スタンパ１３の凸部形成面１３ａ’がキャビ
ティ内側を臨むように設置する。上記の射出成形用金型
のキャビティ内に、例えば溶融状態のポリカーボネート
などの樹脂を金型の注入口Ｉから射出することで、図１
１（ｂ）に示すように、スタンパ１３の凹凸パターン上
にディスク基板１４を形成する。ここで、ディスク基板
１４には、スタンパ１３の表面の凹凸と逆パターンの凹
凸となる溝１４ａが転写される。

【００２６】上記の射出成形金型から離型することで、
図１２（ａ）に示すような表面に溝１４ａが形成された
ディスク基板１４が得られる。次に、図１２（ｂ）に示
すように、ディスク基板１４の表面に空気や窒素ガスな
どのガスを吹き付けてダストを除去した後、例えばスパ
ッタリング法などにより、反射膜、誘電体膜、記録膜、
誘電体膜の積層体を有する光学記録膜１５をこの成膜順
序で成膜する。次に、図１２（ｃ）に示すように、光学
記録膜１５の上層に保護膜１５を形成する。以上で、図
７に示す構造の光ディスクを製造することができる。

【００２７】上記の露光工程において、露光用レーザ光
を記録データに対応するようにオンオフしながらスパイ
ラル状に走査露光することで、ディスク基板ディスク基
板１４の凹凸形状を記録データに対応する長さを有する
ピットとして形成し、光学記録膜をアルミニウム膜など
の反射膜により形成することにより、再生専用（ＲＯ
Ｍ）型の光ディスクを製造することもできる。

【００２８】図８に示すカッティング装置によりレジス
ト原盤を所定パターンで露光する場合、機構系は全て設
置場所の外部振動の影響を受けないようにエア定盤上に
搭載されている。この場合、カッティングにより形成可
能な最小パターンサイズ、即ち、解像力Ｐは、一般にレ
ーザ波長λ、対物レンズの開口数ＮＡ、およびレジスト
膜の特性などに依存し、通常０．５〜０．８の値をとる
プロセスファクターＫから、下記式（３）で表される。

【００２９】

【数３】Ｐ＝Ｋ（λ／ＮＡ） …（３）

【００３０】例えば、λ＝３５１ｎｍ、ＮＡ＝０．９、
Ｋ＝０．５を代入するとＰ＝０．２μｍとなり、トラッ
クピッチ０．４μｍのグルーブ、または、０．２μｍＬ
／Ｓ（ライン／スペース：パターンとして残す部分と除
去する部分の幅）がそれぞれ０．２μｍ／０．２μｍで
あるレジスト膜のパターンが解像される。

【００３１】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、近年の
情報通信および画像処理技術の急速な進展に伴い、光デ
ィスク容量も近い将来において現在の数倍のものが要求
されると考えられ、例えば２０ＧＢ以上の記憶容量が必
要となり、これを直径１２ｃｍのディスクの片面に現在
と同様の信号処理により達成するには、書き換え型光デ
ィスクではトラックピッチが０．４μｍ以下のグルーブ
パターンが必要となるが、上記の従来の光ディスクの製
造方法によると、トラックピッチが０．４μｍ以下のグ
ルーブパターンを形成することは容易ではない。

【００３２】また、光磁気記録膜、あるいは、相変化膜
を用いる書き換え型光ディスクでは、データ書き込み時
のクロスイレース特性を改善するために、出来るだけ細
く（幅が狭く）深いグルーブ、いわゆるディープグルー
ブ形状のグルーブパターンが好適である。このような微
細で深い溝を形成するためには、上記の式（３）からわ
かるように、レーザ光の短波長化と対物レンズの高ＮＡ
化が求められるが、対物レンズのＮＡはレンズの設計製
作精度の面から現状の０．９程度の値がほぼ限界であ
る。

【００３３】レーザ光の集光スポットサイズＷ（半値
幅）は、上述の解像力の場合と同様に、レーザ波長λ、
対物レンズの開口数ＮＡ、およびガウシアンビームを仮
定した係数０．５２から、下記式（４）で近似される。

【００３４】

【数４】 Ｗ＝０．５２×（λ／ＮＡ） …（４）

【００３５】例えば、λ＝３５１ｎｍ、ＮＡ＝０．９を
代入するとＷ＝０．２μｍとなり、レジスト膜中のグル
ーブパターンの幅をこれ以上狭くすることはできない。
従って、例えば０．４μｍのトラックピッチで、０．１
μｍの幅の微細なグルーブパターンを膜厚７０ｎｍのレ
ジスト膜に形成することは現状の技術では極めて困難と
なっている。

【００３６】本発明は上記の状況に鑑みてなされたもの
であり、従って本発明の目的は、グルーブパターンある
いは情報ピットパターンの微細化、特にグルーブまたは
情報ピットの幅を狭くすることが可能な光学記録媒体の
製造方法と、この光学記録媒体を製造する工程において
用いる光学記録媒体製造用原盤およびスタンパの製造方
法を提供することである。

【００３７】

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明の光学記録媒体製造用原盤の製造方法は、
光学記録媒体の媒体基板の表面に凹凸形状を転写するた
めに用いられる光学記録媒体製造用原盤の製造方法であ
って、原盤基板に凹凸形状を形成する工程と、上記凹凸
の凹部の側壁に当該凹部の幅を狭めるサイドウォールを
形成する工程とを有する。

【００３８】上記の本発明の光学記録媒体製造用原盤の
製造方法は、好適には、上記サイドウォールを形成する
工程は、上記原盤基板の上記凹凸形状形成面上に、上記
凹部内を被覆して全面にサイドウォール用層を形成する
工程と、上記凹部の側壁に接する部分の上記サイドウォ
ール用層を残して全面にエッチバックする工程とを含
む。

【００３９】上記の本発明の光学記録媒体製造用原盤の
製造方法は、好適には、上記凹凸形状が上記光学記録媒
体のトラック領域を区分する案内溝のパターンである。
あるいは好適には、上記凹凸形状が上記光学記録媒体の
ピットのパターンである。

【００４０】上記の本発明の光学記録媒体製造用原盤の
製造方法は、好適には、上記原盤基板に凹凸形状を形成
する工程は、上記原盤基板の上記凹凸形状形成面上に当
該凹凸形状の凹部となる部分を開口するパターンに沿っ
てレジスト膜を形成する工程と、上記レジスト膜をマス
クとして異方性エッチングを行う工程とを含む。

【００４１】上記の本発明の光学記録媒体製造用原盤の
製造方法は、トラック領域を区分する案内溝のパターン
またはピットのパターンに従ってレジスト膜を形成し、
異方性エッチングを行うなどにより、原盤基板に凹凸形
状を形成する。次に、凹凸形状形成面上に凹部内を被覆
して全面にサイドウォール用層を形成し、凹部の側壁に
接する部分のサイドウォール用層を残して全面にエッチ
バックするなどにより、凹凸の凹部の側壁にこの凹部の
幅を狭めるサイドウォールを形成する。

【００４２】上記の本発明の光学記録媒体製造用原盤の
製造方法によれば、グルーブパターンあるいは情報ピッ
トパターンの微細化、特にグルーブまたは情報ピットの
幅を狭くして製造することができる光学記録媒体の製造
方法において用いる光学記録媒体製造用原盤を製造する
ことができる。

【００４３】また、上記の目的を達成するために、本発
明の光学記録媒体製造用スタンパの製造方法は、光学記
録媒体の媒体基板の表面に凹凸形状を転写するために用
いられる光学記録媒体製造用スタンパの製造方法であっ
て、原盤基板に凹凸形状を形成する工程と、上記凹凸形
状の凹部の側壁に当該凹部の幅を狭めるサイドウォール
を形成する工程と、上記原盤基板の上記凹凸形状が転写
されたスタンパを形成する工程とを有する。

【００４４】上記の本発明の光学記録媒体製造用スタン
パの製造方法は、好適には、上記スタンパをニッケルに
より形成する。

【００４５】上記の本発明の光学記録媒体製造用スタン
パの製造方法は、原盤基板に凹凸形状を形成し、凹凸形
状の凹部の側壁にこの凹部の幅を狭めるサイドウォール
を形成し、得られた原盤基板の凹凸形状が転写されたニ
ッケルなどからなるスタンパを形成する。

【００４６】上記の本発明の光学記録媒体製造用スタン
パの製造方法によれば、グルーブパターンあるいは情報
ピットパターンの微細化、特にグルーブまたは情報ピッ
トの幅を狭くして製造することができる光学記録媒体の
製造方法において用いる光学記録媒体製造用スタンパを
製造することができる。

【００４７】また、上記の目的を達成するために、本発
明の光学記録媒体の製造方法は、表面に凹凸形状が転写
された媒体基板を有する光学記録媒体の製造方法であっ
て、原盤基板に凹凸形状を形成する工程と、上記凹凸形
状の凹部の側壁に当該凹部の幅を狭めるサイドウォール
を形成する工程と、上記原盤基板の上記凹凸形状が転写
されたスタンパを形成する工程と、上記スタンパの上記
凹凸形状が転写された媒体基板を形成する工程と、上記
媒体基板の上記凹凸形状形成面上に光学記録膜を形成す
る工程と、上記光学記録膜上に保護膜を形成する工程と
を有する。

【００４８】上記の本発明の光学記録媒体の製造方法
は、好適には、上記原盤基板の上記凹凸形状が転写され
たスタンパを形成する工程は、上記原盤基板の上記凹凸
形状が転写された中間部材を形成する工程と、上記中間
部材の上記凹凸形状が転写されたスタンパを形成する工
程とを含む。

【００４９】上記の本発明の光学記録媒体の製造方法
は、好適には、上記光学記録膜として相変化型の光学記
録膜を形成する。あるいは好適には、上記光学記録膜と
して光磁気記録膜を形成する。あるいは好適には、上記
光学記録膜として有機色素層を含む光学記録膜を形成す
る。あるいは好適には、上記光学記録膜として反射膜を
形成する。

【００５０】上記の本発明の光学記録媒体の製造方法
は、原盤基板に凹凸形状を形成し、凹凸形状の凹部の側
壁にこの凹部の幅を狭めるサイドウォールを形成する。
次に、原盤基板の凹凸形状が転写されたスタンパを形成
し、スタンパの上記凹凸形状が転写された媒体基板を形
成する。次に、媒体基板の凹凸形状形成面上に相変化型
の光学記録膜、光磁気記録膜あるいは反射膜などの光学
記録膜を形成し、その上に保護膜を形成する。原盤基板
の凹凸形状が転写されたスタンパを形成するためには、
凹凸形状が転写された中間部材を形成し、その凹凸形状
を転写してスタンパを形成してもよい。

【００５１】上記の本発明の光学記録媒体の製造方法に
よれば、グルーブパターンあるいは情報ピットパターン
の微細化、特にグルーブまたは情報ピットの幅を狭くし
て光学記録媒体を製造することができる。

【００５２】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を用いて詳しく説明する。本実施の形態は、光学
記録媒体である光ディスクの製造方法と、この光学記録
媒体を製造する工程において用いる光学記録媒体製造用
原盤およびスタンパの製造方法に関する。

【００５３】図１（ａ）は本実施形態に係る光ディスク
の光の照射の様子を示す模式斜視図である。光ディスク
Ｄは、中心部にセンターホールＣＨが開口された略円盤
形状をしており、ドライブ方向ＤＲに回転駆動される。
情報を記録または再生するときには、光ディスクＤＣ中
の光学記録膜に対して、例えば開口数が０．８以上の対
物レンズＯＬにより、青〜青紫色の領域のレーザ光など
の光ＬＴが照射されて用いられる。

【００５４】図１（ｂ）は模式断面図であり、図１
（ｃ）は図１（ｂ）の模式断面図の要部を拡大した断面
図である。厚さが約１．１ｍｍのポリカーボネートなど
からなるディスク基板１４の一方の表面に、トラック領
域を区分する溝１４ａが設けられており、この面上に、
例えば反射膜、誘電体膜、記録膜、誘電体膜などがこの
順番で積層された光学記録膜１５が形成されている。光
学記録膜１５の層構成および層数は記録材料の種類や設
計によって異なる。上記の記録膜は、例えば相変化型の
記録膜、光磁気記録膜、あるいは有機色素を含む記録膜
である。さらに、光学記録膜１５の上層に０．１ｍｍの
膜厚の光透過性の保護層１６が形成されている。

【００５５】上記の光ディスクを記録あるいは再生する
場合には、対物レンズＯＬにより、レーザ光などの光Ｌ
Ｔを保護層１６側から光学記録膜１５に対して照射す
る。光ディスクの再生時においては、光学記録膜１５で
反射された戻り光が受光素子で受光され、信号処理回路
により所定の信号を生成して、再生信号が取り出され
る。

【００５６】上記のような光ディスクにおいて、ディス
ク基板１５の一方の表面に設けられた溝１４ａに応じて
光学記録膜１５も凹凸形状を有しており、この溝１４ａ
によりトラック領域が区分されている。以下、ディスク
基板１４から見て保護層１６側に凸に突出している領域
はランド、凹部領域はグルーブと呼ばれ、ランドとグル
ーブの両者に情報を記録するランド・グルーブ記録方式
を適用することが可能である。また、ランドとグルーブ
の一方のみ記録領域とすることも可能である。

【００５７】ここで、上記のグルーブピッチは例えば
０．４μｍ程度であり、グルーブの幅は例えば０．１μ
ｍ程度であり、また、グルーブの深さは７０ｎｍ程度で
あり、従来形成することが困難であった微細な幅のグル
ーブとなっている。

【００５８】また、上記のディスク基板１４の凹凸形状
を記録データに対応する長さを有するピットとして、光
学記録膜をアルミニウム膜などの反射膜とすることによ
り、再生専用（ＲＯＭ）型の光ディスクとすることもで
きる。

【００５９】上記の光ディスクの製造方法について説明
する。図８（ａ）は、本実施形態の光ディスクの製造方
法で用いるカッティング装置（露光装置）の模式構成図
であり、図８（ｂ）は要部斜視図であり、従来の光ディ
スクの製造方法において用いるものと共通の構成であ
る。光源として、例えば発振波長３５１ｎｍのＫｒまた
はＡｒガス（イオン）レーザＧＳが備えられ、その光軸
上に光学素子として、電気光学素子ＥＯＭ、偏光ビーム
スプリッタＰＢＳ１、ミラーＭ１、レンズＬ１、音響光
学素子ＡＯＭ、レンズＬ２、ミラーＭ２、レンズＬ３、
レンズＬ４、ＤＣＭ、ミラーＭ３、対物レンズＯＬが所
定の位置に配置されている。上記のミラーＭ２以前の光
学素子は、固定定盤に固定されており、一方、レンズＬ
３以降の光学素子は、可動式テーブルＭＴ上に搭載され
ている。また、このカッティング装置の露光対象物であ
るガラス基板上にレジスト膜が成膜されたレジスト原盤
ＲＤが、スピンドルモータにより高回転精度で回転駆動
可能なエアースピンドル上にチャックされる。

【００６０】ガスレーザＧＳから出射されたレーザ光Ｌ
Ｔ１は、電気光学素子ＥＯＭおよび偏光ビームスプリッ
タＰＢＳ１を透過し、ミラーＭ１で反射してその進行方
向が屈曲される。このとき、レーザ光ＬＴ１の一部はミ
ラーＭ１を透過し、フォトダイオードＰＤ１に入射す
る。上記のミラーＭ１で反射したレーザ光ＬＴ１は、レ
ンズＬ１により集光され、音響光学素子ＡＯＭを経てレ
ンズＬ２により平行光に戻され、ミラーＭ２で反射して
その進行方向が屈曲される。このとき、レーザ光ＬＴ１
の一部はミラーＭ２を透過し、フォトダイオードＰＤ２
に入射する。上記のフォトダイオードＰＤ１またはフォ
トダイオードＰＤ２で受光したの強度により、電気光学
素子ＥＯＭにフォードバックがなされ、一定の出力を得
ようとするＡＰＣ制御（Automatic Power Control ）が
なされる。また、必要に応じて、音響光学素子ＡＯＭに
おいてレーザ光ＬＴ１の変調がなされる。上記のミラー
Ｍ２で反射したレーザ光ＬＴ１は、レンズ（Ｌ３，Ｌ
４）よりなるビームエキスパンダにより、そのビーム径
が拡大され、ＤＣＭを透過して、ミラーＭ３により反射
して、対物レンズＯＬによりレジスト原盤ＲＤのレジス
ト膜に対して例えば０．３μｍの径のスポットとして集
光される。

【００６１】上記のカッティング装置において、不図示
のスピンドルモータによりレジスト原盤ＲＤをスピンド
ル方向ＳＤに回転駆動し、可動式テーブルＭＴをレジス
ト原盤ＲＤの半径方向に所定幅ずつ送りながら、上記レ
ーザ光ＬＴ１をレジスト原盤ＲＤのレジスト膜に照射す
ることで、レジスト原盤ＲＤのパターン露光を行うこと
ができる。例えば、相変化型光ディスクなどの書き換え
可能型の光ディスクを製造する工程においては、記録領
域を区分するトラック（ランド／グルーブ）のパターン
に沿って露光用レーザ光をスパイラル状に走査露光する
ことができる。また、再生専用（ＲＯＭ）型の光ディス
クを製造する工程においては、露光用レーザ光を記録デ
ータ（情報ピット）に対応するようにオンオフしながら
スパイラル状に走査露光することもできる。

【００６２】上記の対物レンズの焦点距離を常にレジス
ト原盤ＲＤ上に一致させるために、オートフォーカス
（Ａ／Ｆ）機構が配置されている。例えば、Ａ／Ｆ光学
系として発振波長６８０ｎｍのレーザダイオードＬＤを
用いた離軸方式を適用しており、レーザダイオードＬＤ
から出射された６８０ｎｍのレーザ光ＬＴ２は偏光ビー
ムスプリッタＰＢＳ２の分光面で反射され、１／４波長
板ＱＷＰを透過してＤＣＭで反射し、レーザ光ＬＴ１と
ともにレジスト原盤ＲＤ上に照射される。このとき、レ
ーザ光ＬＴ２の対物レンズＯＬによる焦点をレーザ光Ｌ
Ｔ１の焦点面に一致させておく。レーザ光ＬＴ２は、レ
ジスト原盤ＲＤで反射され、対物レンズを通して戻って
きたスポットをスポット位置検出素子ＰＳＤ上に投影さ
れる。この際、レーザ光ＬＴ２は対物レンズの光軸から
やや離れた位置から光軸にほぼ平行に入射させ、レジス
ト原盤表面においてレーザ光ＬＴ１の焦点からやや離れ
た位置に焦点を結ばせることにより、レジスト原盤表面
の光軸上での焦点面からの変位をレーザ光ＬＴ２のレジ
スト原盤上での変位として検出し、光てこの原理によ
り、スポット位置検出素子ＰＳＤ上で１００倍程度に拡
大して検出する。このようにしてスポット位置検出素子
ＰＳＤ上でのスポットの位置を検出して、レジスト原盤
表面が焦点位置に一致したときのレーザ光ＬＴ２の戻り
光スポット位置からの変位をフォーカス誤差量として、
対物レンズを上下させるアクチュエータにフィードバッ
クして駆動させ、Ａ／Ｆサーボを行い、レーザ光ＬＴ１
を常にレジスト原盤上に合焦させる。また、Ａ／Ｆ光学
系において、偏光ビームスプリッタＰＢＳ２および１／
４波長板ＱＷＰはレーザ光ＬＴ２の往路と復路を効率よ
く分離するための偏光素子として用いられている。

【００６３】上記のカッティング装置を用いて、以下の
ように光ディスクを製造することができる。まず、図２
（ａ）に示すようなガラス基板１０上にレジスト膜１１
が成膜されたレジスト原盤ＲＤを準備する。上記のガラ
ス基板は、例えば直径が２００ｍｍ、厚さが数ｍｍであ
り、表面が精密に研磨されている。また、レジスト膜１
１は、例えば紫外線に感光する感光性ポジ型フォトレジ
ストを用い、１００ｎｍの膜厚でスピンコートにより成
膜する。レジスト膜１１中に残存する溶剤を数１０℃の
ベーキング処理により除去する。

【００６４】次に、図８（ａ）および（ｂ）に示すカッ
ティング装置を用いて、ディスク基板の溝となる領域を
感光させるパターンでレジスト膜１１の露光を行い、ア
ルカリ現像液などにより現像処理を施して、図２（ｂ）
に示すように、ディスク基板の溝となる領域を開口する
パターンのレジスト膜１１ａとする。

【００６５】上記の露光工程において、例えば、レーザ
波長λ＝３５１ｎｍ、対物レンズの開口数ＮＡ＝０．
９、プロセスファクターＫ＝０．５とすると、式（３）
から解像力Ｐ＝０．２μｍとなり、トラックピッチ０．
４μｍのグルーブ、または、０．２μｍＬ／Ｓ（ライン
／スペース：パターンとして残す部分と除去する部分の
幅）がそれぞれ０．２μｍ／０．２μｍであるレジスト
膜のパターンが解像される。

【００６６】次に、図２（ｃ）に示すように、レジスト
膜１１ａをマスクとしてドライエッチングを行い、レジ
スト膜１１ａのパターンをガラス基板１０に転写して側
壁がほぼ垂直となるようにレジスト膜１１ａと同パター
ンの溝１０ａを形成する。ここで、用いるエッチングガ
スとして例えばフロン系ガス（ＣＦ₄ ，ＣＨＦ₃など）
を用い、プラズマ中に生成されたエッチングガスのイオ
ンをガラス基板１０に垂直に入射させる、いわゆる反応
性イオンエッチング（ＲＩＥ）モードでエッチングを行
う。形成するグルーブパターンは、例えば深さ７０ｎｍ
であり、ピッチおよび幅は、それぞれ０．４μｍ、０．
２μｍである。

【００６７】次に、図３（ａ）に示すように、酸素プラ
ズマ処理あるいはアッシングなどにより、レジスト膜１
１ａを除去する。

【００６８】次に、図３（ｂ）に示すように、例えば真
空中スパッタリングあるいはＣＶＤ（Chemical Vapor D
eposition ）法により、窒化シリコンなどのシリコン系
材料あるいはその他の材料を５０ｎｍの膜厚で全面に堆
積させて、サイドウォール用層１２を形成する。このと
き、成膜の条件を適正化し、グルーブの底部、側部およ
びランド上に均一な膜厚で被覆するように成膜する。

【００６９】次に、図３（ｃ）に示すように、例えばフ
ロン系ガスを用いたＲＩＥモードで全面にエッチバック
を行うことにより、グルーブの側壁に接する部分を残し
てサイドウォール用層を除去し、サイドウォール１２ａ
を形成する。上記のように形成されたサイドウォール１
２ａが形成されたことにより、幅が狭められた溝（グル
ーブ）１０ｂとなる。例えば、サイドウォール用層の膜
厚が５０ｎｍの場合、サイドウォールの幅も５０ｎｍと
なり、サイドウォールにより狭められた溝（グルーブ）
１０ｂの幅は０．１μｍ程度となる。グルーブ底部が露
出するまでサイドウォール用層が除去されているので、
サイドウォールにより狭められた溝（グルーブ）１０ｂ
の深さは７０ｎｍ程度のままである。

【００７０】次に、図４（ａ）に示すように、例えばニ
ッケルメッキ処理などを行い、上記ガラス基板１０上に
スタンパ１３を形成する。スタンパ１３の表面には、サ
イドウォールにより狭められた溝（グルーブ）１０ｂが
形成されたガラス基板１０により構成されるパターンの
凹凸と逆パターンの凹凸が転写され、凸部１３ａが形成
されている。サイドウォールにより狭められた溝（グル
ーブ）１０ｂは、幅が０．１μｍ、深さが７０ｎｍ、ピ
ッチが０．４μｍであったので、凸部１３ａの幅が０．
１μｍ、高さが７０ｎｍ、ピッチが０．４μｍとなる。

【００７１】次に、図４（ｂ）に示すように、ガラス基
板１０上のレジスト膜１１ａからスタンパ１３を離型す
る。

【００７２】次に、図５（ａ）に示すように、上記で得
られたスタンパ１３を金型（ＭＤ１，ＭＤ２）からなる
キャビティ内に固定し、射出成形用金型を構成する。こ
のとき、スタンパ１３の凸部形成面１３ａ’がキャビテ
ィ内側を臨むように設置する。上記の射出成形用金型の
キャビティ内に、例えば溶融状態のポリカーボネートな
どの樹脂を金型の注入口Ｉから射出することで、図５
（ｂ）に示すように、スタンパ１３の凹凸パターン上に
ディスク基板１４を形成する。ここで、ディスク基板１
４には、スタンパ１３の表面の凹凸と逆パターンの凹凸
となる溝（グルーブ）１４ａが転写される。凸部は、幅
が０．１μｍ、高さが７０ｎｍ、ピッチが０．４μｍで
あったので、溝（グルーブ）１４ａの幅が０．１μｍ、
深さが７０ｎｍ、ピッチが０．４μｍとなる。

【００７３】上記の射出成形金型から離型することで、
図６（ａ）に示すような表面に溝（グルーブ）１４ａが
形成されたディスク基板１４が得られる。次に、図６
（ｂ）に示すように、ディスク基板１４の表面に空気や
窒素ガスなどのガスを吹き付けてダストを除去した後、
例えばスパッタリング法などにより、反射膜、誘電体
膜、記録膜、誘電体膜の積層体を有する光学記録膜１５
をこの成膜順序で成膜する。上記の記録膜は、例えば、
相変化型の光学記録膜、光磁気記録膜あるいは有機色素
を含む記録膜を用いることができる。次に、図６（ｃ）
に示すように、光学記録膜１５の上層に保護膜１５を形
成する。以上で、図７に示す構造の光ディスクを製造す
ることができる。

【００７４】上記の露光工程において、露光用レーザ光
を記録データに対応するようにオンオフしながらスパイ
ラル状に走査露光することで、ディスク基板ディスク基
板１４の凹凸形状を記録データに対応する長さを有する
ピットとして形成し、光学記録膜をアルミニウム膜など
の反射膜により形成することにより、再生専用（ＲＯ
Ｍ）型の光ディスクを製造することもできる。

【００７５】上記の本実施形態の光ディスクの製造方法
によれば、グルーブパターンあるいは情報ピットパター
ンの微細化、特にグルーブまたは情報ピットの幅を狭く
して光学記録媒体を製造することができる。また、本実
施形態の光ディスクを製造する工程において用いる光学
記録媒体製造用原盤およびスタンパの製造方法によれ
ば、グルーブパターンあるいは情報ピットパターンの微
細化、特にグルーブまたは情報ピットの幅を狭くして製
造することができる光学記録媒体の製造方法において用
いる光学記録媒体製造用原盤あるいはスタンパを製造す
ることができる。

【００７６】本発明は、上記の実施の形態に限定されな
い。例えば、光学記録膜の層構成は、実施形態で説明し
た構成に限らず、記録膜の材料などに応じて種々の構造
とすることができる。また、相変化型の光学記録媒体の
他、光磁気記録媒体や、有機色素材料を用いた光ディス
ク媒体にも適用可能である。原盤の溝の幅を狭めるサイ
ドウォールとしては、窒化シリコンの他、溝の幅を狭め
る部材となりうる材料であれば種々の材料を用いること
ができる。その他、本発明の要旨を変更しない範囲で種
々の変更をすることができる。

【００７７】

【発明の効果】本発明の光ディスクを製造する工程にお
いて用いる光学記録媒体製造用原盤およびスタンパの製
造方法によれば、グルーブパターンあるいは情報ピット
パターンの微細化、特にグルーブまたは情報ピットの幅
を狭くして製造することができる光学記録媒体の製造方
法において用いる光学記録媒体製造用原盤あるいはスタ
ンパを製造することができる。

【００７８】本発明の光ディスクの製造方法によれば、
グルーブパターンあるいは情報ピットパターンの微細
化、特にグルーブまたは情報ピットの幅を狭くして光学
記録媒体を製造することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１（ａ）は本発明の実施形態に係る光ディス
クの光の照射の様子を示す模式斜視図であり、図１
（ｂ）は模式断面図であり、図１（ｃ）は図１（ｂ）の
模式断面図の要部を拡大した断面図である。

【図２】図２は本発明の実施形態に係る光ディスクの製
造方法の製造工程を示す断面図であり、（ａ）はレジス
ト原盤を作成する工程まで、（ｂ）はレジスト膜をパタ
ーン加工する工程まで、（ｃ）はガラス基板に溝を形成
する工程までを示す。

【図３】図３は図２の続きの工程を示す断面図であり、
（ａ）はレジスト膜を除去する工程まで、（ｂ）はサイ
ドウォール用層を形成する工程まで、（ｃ）はサイドウ
ォールを形成する工程までを示す。

【図４】図４は図３の続きの工程を示す断面図であり、
（ａ）はスタンパを形成する工程まで、（ｂ）はスタン
パを離型する工程までを示す。

【図５】図５は図４の続きの工程を示す射出成形工程の
（ａ）模式図および（ｂ）断面図である。

【図６】図６は図５の続きの工程を示す断面図であり、
（ａ）はディスク基板を形成する工程まで、（ｂ）は光
学記録膜を形成する工程まで、（ｃ）は保護膜を形成す
る工程までを示す。

【図７】図７（ａ）は従来例に係る光ディスクの光の照
射の様子を示す模式斜視図であり、図７（ｂ）は模式断
面図であり、図７（ｃ）は図７（ｂ）の模式断面図の要
部を拡大した断面図である。

【図８】図８（ａ）は、カッティング装置（露光装置）
の模式構成図であり、図８（ｂ）は要部斜視図である。

【図９】図９は従来例に係る光ディスクの製造方法の製
造工程を示す断面図であり、（ａ）はレジスト原盤を作
成する工程まで、（ｂ）はレジスト膜をパターン加工す
る工程までを示す。

【図１０】図１０は図９の続きの工程を示す断面図であ
り、（ａ）はスタンパを形成する工程まで、（ｂ）はス
タンパを離型する工程までを示す。

【図１１】図１１は図１０の続きの工程を示す射出成形
工程の（ａ）模式図および（ｂ）断面図である。

【図１２】図１２は図１１の続きの工程を示す断面図で
あり、（ａ）はディスク基板を形成する工程まで、
（ｂ）は光学記録膜を形成する工程まで、（ｃ）は保護
膜を形成する工程までを示す。

【符号の説明】

１０…ディスク基板、１０ａ…溝、１０ｂ…サイドウォ
ールにより狭められた溝、１１，１１ａ…レジスト膜、
１２…サイドウォール用層、１２ａ…サイドウォール、
１３…スタンパ、１３ａ…凸部、１３’…凸部形成面、
１４…ディスク基板、１４ａ…溝、１４’…溶融樹脂、
１５…光学記録膜、１６…保護膜、ＡＯＭ…音響光学素
子、ＣＨ…センタホール、ＤＣ…光ディスク、ＤＲ…ド
ライブ方向、ＥＯＭ…電気光学素子、ＧＬ…ガスレー
ザ、Ｉ…注入口、Ｌ１，Ｌ２，Ｌ３，Ｌ４…レンズ、Ｌ
Ｔ，ＬＴ１，ＬＴ２…（レーザ）光、Ｍ１，Ｍ２，Ｍ３
…ミラー、ＭＤ１，ＭＤ２…金型、ＭＴ…可動テーブ
ル、ＯＬ…対物レンズ、ＰＢＳ１，ＰＢＳ２…偏光ビー
ムスプリッタ、ＰＤ１，ＰＤ２…フォトダイオード、Ｐ
ＳＤ…スポット位置検出素子、ＱＷＰ…１／４波長板、
ＲＤ…レジスト原盤、ＳＤ…スピンドル方向。

Claims (13)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】光学記録媒体の媒体基板の表面に凹凸形状
   を転写するために用いられる光学記録媒体製造用原盤の
   製造方法であって、 原盤基板に凹凸形状を形成する工程と、 上記凹凸の凹部の側壁に当該凹部の幅を狭めるサイドウ
   ォールを形成する工程とを有する光学記録媒体製造用原
   盤の製造方法。
2. 【請求項２】上記サイドウォールを形成する工程は、 上記原盤基板の上記凹凸形状形成面上に、上記凹部内を
   被覆して全面にサイドウォール用層を形成する工程と、 上記凹部の側壁に接する部分の上記サイドウォール用層
   を残して全面にエッチバックする工程とを含む請求項１
   に記載の光学記録媒体製造用原盤の製造方法。
3. 【請求項３】上記凹凸形状が上記光学記録媒体のトラッ
   ク領域を区分する案内溝のパターンである請求項１に記
   載の光学記録媒体製造用原盤の製造方法。
4. 【請求項４】上記凹凸形状が上記光学記録媒体のピット
   のパターンである請求項１に記載の光学記録媒体製造用
   原盤の製造方法。
5. 【請求項５】上記原盤基板に凹凸形状を形成する工程
   は、 上記原盤基板の上記凹凸形状形成面上に当該凹凸形状の
   凹部となる部分を開口するパターンに沿ってレジスト膜
   を形成する工程と、 上記レジスト膜をマスクとして異方性エッチングを行う
   工程とを含む請求項１に記載の光学記録媒体製造用原盤
   の製造方法。
6. 【請求項６】光学記録媒体の媒体基板の表面に凹凸形状
   を転写するために用いられる光学記録媒体製造用スタン
   パの製造方法であって、 原盤基板に凹凸形状を形成する工程と、 上記凹凸形状の凹部の側壁に当該凹部の幅を狭めるサイ
   ドウォールを形成する工程と、 上記原盤基板の上記凹凸形状が転写されたスタンパを形
   成する工程とを有する光学記録媒体製造用スタンパの製
   造方法。
7. 【請求項７】上記スタンパをニッケルにより形成する請
   求項６に記載の光学記録媒体製造用スタンパの製造方
   法。
8. 【請求項８】表面に凹凸形状が転写された媒体基板を有
   する光学記録媒体の製造方法であって、 原盤基板に凹凸形状を形成する工程と、 上記凹凸形状の凹部の側壁に当該凹部の幅を狭めるサイ
   ドウォールを形成する工程と、 上記原盤基板の上記凹凸形状が転写されたスタンパを形
   成する工程と、 上記スタンパの上記凹凸形状が転写された媒体基板を形
   成する工程と、 上記媒体基板の上記凹凸形状形成面上に光学記録膜を形
   成する工程と、 上記光学記録膜上に保護膜を形成する工程とを有する光
   学記録媒体の製造方法。
9. 【請求項９】上記原盤基板の上記凹凸形状が転写された
   スタンパを形成する工程は、 上記原盤基板の上記凹凸形状が転写された中間部材を形
   成する工程と、 上記中間部材の上記凹凸形状が転写されたスタンパを形
   成する工程とを含む請求項８に記載の光学記録媒体の製
   造方法。
10. 【請求項１０】上記光学記録膜として相変化型の光学記
    録膜を形成する請求項８に記載の光学記録媒体の製造方
    法。
11. 【請求項１１】上記光学記録膜として光磁気記録膜を形
    成する請求項８に記載の光学記録媒体の製造方法。
12. 【請求項１２】上記光学記録膜として有機色素層を含む
    光学記録膜を形成する請求項８に記載の光学記録媒体の
    製造方法。
13. 【請求項１３】上記光学記録膜として反射膜を形成する
    請求項８に記載の光学記録媒体の製造方法。