JP2000296668A - インク受像シート及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 インク吸収性及びインク定着性に優れたイン
ク受像シートを得る。 【解決手段】空孔の形状が、平面方向において実質的に
円形又は楕円形で、かつ厚み方向において平面方向に長
軸を有する楕円形又は細長状の空孔を有する多孔質膜で
インク受像シートを構成する。前記多孔質膜は、平均空
孔径が０．１〜５μｍ、空孔率が２０〜７０％である。
厚み方向の断面におけるアスペクト比は、１．３／１〜
２０／１程度であってもよい。多孔質膜は、乾式相転換
によるミクロ相分離構造を有していてもよい。前記多孔
質膜は、セルロース系樹脂、ビニル系重合体及びポリス
ルホン系重合体などの樹脂で構成できる。このようなイ
ンク受像シートは、基材に樹脂溶液を塗布し、相分離し
て多孔質膜を形成することにより製造できる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、インクジェット記
録方式におけるインクの吸収性、インク定着性及び印字
性に優れたインク受像シート及びその製造方法に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】インクジェット記録方式は、フルカラー
化が容易であり、低騒音で印字品質に優れている。ま
た、インクジェットプリンターは低価格で、しかも高速
化が容易であるため、コンピュータ用記録装置、ワード
プロセッサ、コピー機などの印字・出力装置として広く
用いられている。インクジェット記録用のインク成分と
しては、安全性、記録適性の点から主に水系インクが使
用され、ノズルから記録用シートにむけてインク小滴を
飛翔させることにより記録が行われる。そして、使用す
る記録シートのインク吸収性が低い場合、飛翔させたイ
ンク小滴の周辺にインクが飛散したり、記録終了後もイ
ンクが記録用シートの表面に長時間残り、装置の一部へ
の接触、取り扱い者への接触や、記録シートの重ね合せ
により、記録部分が汚れる。また、高密度画像部では、
多量に供給されたインクが吸収されないまま混合される
とともに流れ出し、不鮮明な画像となる。このため、記
録用シートは、速やかにインクを吸収すること、及び高
い定着性が要求される。

【０００３】特公昭６３−５６８７６号公報には連続被
膜中に空孔を有する多孔性樹脂層を備えたインクジェッ
ト記録用シートが開示されている。このようなシートで
は、多孔性樹脂層を備えることにより、インク定着性は
向上するものの、インク吸収性（特に印字表面の速乾性
など）及び印字結果などに限界がある。

【０００４】特開平４−２６３９８２号公報には、基材
上に、酢酸セルロースからなる多孔質層を設け、その上
層に擬ベーマイトからなる色素の担持層を設けた記録シ
ートが提案されている。

【０００５】特開昭６１−８６２５１号公報には、基材
フィルム層の少なくとも片面に、液体吸収層を積層する
とともに、この液体吸収層に多孔質プラスチックシート
薄膜層（直径０．０１〜０．１μｍの孔が多数形成され
たポリエチレン又はポリプロピレンフィルム）を熱プレ
スにより積層した記録用シートが開示されている。しか
し、前記多孔質薄膜層の調製方法については記載されて
いない。

【０００６】ＷＯ９８／２５９９７には、セルロース誘
導体、ビニル形重合体、ポリスルホン系重合体などで構
成され、波長４００ｎｍの光線透過率が３０％以上であ
る多孔質膜が開示されており、前記多孔質膜がミクロ相
分離構造を有することが記載されている。

【０００７】なお、インクジェット記録方式において、
耐水性を向上させるため、顔料を用いたインクが検討さ
れている。しかし、染料インクと異なり、粒子状の顔料
インクではインク受容層に対する定着性ひいては耐水性
が低下する。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、インク吸収性、インク定着性及び印字性に優れ、画
像の耐久性が向上したインク受像シート及びその製造方
法を提供することにある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記目的
を達成するために鋭意検討の結果、特定の空孔形状を有
する多孔質膜でインク受像シートを構成すると、インク
吸収性、インク定着性及び印字性を大幅に改善できるこ
とを見出し、本発明を完成した。

【００１０】すなわち、本発明のインク受像シートは、
平均空孔径が０．１〜５μｍ、空孔率が２０〜７０％で
ある多孔質膜で構成され、この多孔質膜の空孔の形状
は、平面方向において実質的に円形又は楕円形で、かつ
厚み方向において平面方向に長軸を有する楕円形又は細
長状である。前記厚み方向の断面におけるアスペクト比
は１．３／１〜２０／１程度であってもよい。前記多孔
質膜は、乾式相転換によるミクロ相分離構造を有してい
てもよい。前記多孔質膜は、セルロース系樹脂、ビニル
系重合体、ポリスルホン系重合体などの樹脂で構成でき
る。前記多孔質膜は、基材の少なくとも一方の面に形成
してもよい。また、多孔質膜と基材との間にインク吸収
層を形成してもよい。

【００１１】本発明には、基材に樹脂を塗布し、相分離
により多孔質膜を形成するインク受像シートの製造方法
も含まれる。

【００１２】

【発明の実施の形態】［多孔質膜］本発明のインク受像
シートは、多孔質膜で構成されている。多孔質膜の平均
空孔径は０．１〜５μｍ、好ましくは０．１〜３μｍ、
さらに好ましくは０．３〜３μｍ程度である。平均空孔
径が、０．１μｍ未満では、インクが空孔に吸収され難
く、乾燥性、インク定着性及び画像の耐久性が低下し、
５μｍを超えると画像の鮮明性や塗膜の強度などが低下
する。

【００１３】インク吸収性は多孔質膜の空孔率にも影響
される。前記多孔質膜において、膜全体の空孔率は２０
〜７０％、好ましくは３０〜６０％程度である。空孔率
が２０％未満では、吸収面の表面積が少ないため、膜の
インクに対する吸収能が低く、７０％を超えると、多孔
質膜自体の強度が低下する虞がある。

【００１４】多孔質膜の空孔の形状は、平面方向におい
て（平面方向の断面形状が）実質的に（又は略）円形又
は楕円形であり、かつ厚み方向の断面形状が平面方向に
長軸を有する楕円形又は細長状である。なお、平面方向
における空孔の断面形状は、実質的に円形又は楕円形状
であればよく、湾曲又は歪んでいてもよい。

【００１５】前記多孔質膜において、厚み方向の断面に
おける空孔のアスペクト比（長軸と短軸との長さの比）
は、１．３／１〜２０／１、好ましくは１．５／１〜１
０／１、さらに好ましくは２／１〜５／１程度である。
アスペクト比が、１．３／１未満では、浸透するインク
成分を効率よく吸収できず、２０／１を超えると滲みが
生じる虞がある。

【００１６】このようなインク受像シートでは、印字す
る場合に、多孔質膜表面に飛翔したインク（顔料インク
などであってもよい水性インクなど）は、その空孔に速
やかに吸収されるため、鮮明な画像を得ることができる
とともに、シート表面の見かけ上の乾燥状態をより速く
得ることができる。

【００１７】多孔質膜は透明，半透明又は不透明のいず
れであってもよい。本発明では、孔径や空孔率を調整す
ることにより、用途によっては透明性の高い多孔質膜を
得ることも可能である。透明性の高い多孔質膜は、例え
ば、平均空孔径が０．４μｍ以下である。このようなイ
ンク受像シートは、波長４００ｎｍでの光線透過率が、
５５％以上（すなわち５５〜１００％）、好ましくは６
０〜１００％、さらに好ましくは７０〜１００％、特に
７５〜１００％程度であれば、ＯＨＰ用シートとしても
有用である。透明性を重視する場合、多孔質膜の空孔率
は、例えば、２０〜７０％、好ましくは２０〜６０％
（例えば、２０〜４５％）程度であるのが望ましい。

【００１８】前記多孔質膜は、樹脂で構成されており、
ミクロ相分離構造、特に乾式相転換によるミクロ相分離
構造を有していてもよい。このミクロ相分離構造は、流
延した樹脂溶液の組成変化により相分離したゲル相の凝
固により形成される。

【００１９】前記多孔質膜を構成する樹脂としては、前
記特徴を有する多孔質膜を形成できる限り、特に制限さ
れず種々の樹脂（熱可塑性樹脂および熱硬化性樹脂）が
使用でき、通常、熱可塑性樹脂が使用される。以下の樹
脂又は重合体などが例示できる。

【００２０】セルロース系樹脂（セルロース誘導体）：
セルロースエステル、例えば、セルロースアセテート，
セルロースプロピオネート，セルロースブチレート，セ
ルロースアセテートプロピオネート，セルロースアセテ
ートブチレート，セルロースアセテートフタレートなど
の有機酸エステル；硝酸セルロース，硫酸セルロース，
リン酸セルロースなどの無機酸エステル；硝酸酢酸セル
ロースなどの混酸エステルなど セルロースエーテル、例えば、メチルセルロース，エチ
ルセルロース，イソプロピルセルロース，ブチルセルロ
ース，ベンジルセルロース，ヒドロキシエチルセルロー
ス，ヒドロキシプロピルセルロース，カルボキシメチル
セルロース，カルボキシエチルセルロース，シアノエチ
ルセルロースなど） ビニル系重合体：オレフィン系重合体、例えば、ポリエ
チレン，ポリプロピレン，ポリ１−ブテン，ポリイソブ
テン，ポリブタジエン，ポリイソプレン，エチレン−プ
ロピレン共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体，エ
チレン−（メタ）アクリル酸共重合体，エチレン−（メ
タ）アクリル酸エステル共重合体、変性ポリオレフィン
など ハロゲン含有ビニル重合体、例えば、ハロゲン含有ビニ
ル単量体の単独又は共重合体（ポリ塩化ビニルなど）、
ハロゲン含有ビニル単量体と共重合性単量体との共重合
体（塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体など） ビニルエステル系重合体又はその誘導体、例えば、ポリ
酢酸ビニル、ポリビニルアルコール，エチレン−ビニル
アルコール共重合体，ポリビニルアセタール系重合体
（ポリビニルフォルマール，ポリビニルアセタール，ポ
リビニルブチラールなど） スチレン系重合体、例えば、芳香族ビニル単量体（スチ
レン系単量体）の単独又は共重合体（ポリスチレンな
ど）、芳香族ビニル単量体と共重合性単量体との共重合
体（スチレン−（メタ）アクリル酸Ｃ_1-10アルキルエス
テル共重合体など） アリルアルコール系重合体、例えば、アリルアルコール
−Ｃ_1-6 アルキルビニルエーテル共重合体 ポリビニルケトン類、例えば、ポリビニルメチルイソブ
チルケトンなど ポリアルキルビニルエーテル、例えば、ポリメチルビニ
ルエーテル，メチルビニルエーテル−無水マレイン酸共
重合体など （メタ）アクリル系重合体、例えば、（メタ）アクリル
系単量体［（メタ）アクリロニトリル，（メタ）アクリ
ル酸エステル単量体など］の単独又は共重合体、（メ
タ）アクリル系単量体と共重合性単量体［ビニルエステ
ル系単量体，複素環式ビニル系単量体，芳香族ビニル単
量体，重合性不飽和ジカルボン酸又はその誘導体などの
ビニル系単量体］との共重合体 ポリスルホン系重合体：ポリスルホン，ポリエーテルス
ルホンなど ポリオキシド系重合体：ポリオキシエチレン，ポリオキ
シプロピレン，ポリオキシエチレン−ポリオキシプロピ
レン共重合体など ポリアミドおよびポリイミド系重合体：ポリアミド（ナ
イロン６，ナイロン６６，ナイロン１１，ナイロン１
２，ナイロン６／１１，ナイロン６／１２など），ポリ
エステルアミド，ポリイミド，ポリアミドイミドなど ポリエステル系重合体（飽和ポリエステルなど）：Ｃ
_2-6 アルキレンテレフタレート（エチレンテレフタレー
ト，ブチレンテレフタレートなど），Ｃ_2-6 アルキレン
ナフタレート（エチレンナフタレートなど）を主たる構
成単位として含むポリエステル（特に、Ｃ_2-6 アルキレ
ングリコール及びテレフタル酸及び／又はナフタレンジ
カルボン酸のうち、少なくとも一方の成分の一部が、他
のジオール成分（エチレングリコール，プロピレングリ
コール，ブタンジオール，ヘキサンジオール，ポリオキ
シＣ_2-4 アルキレングリコール，シクロヘキサンジメタ
ノールなど），他のジカルボン酸成分（フタル酸，イソ
フタル酸などの芳香族ジカルボン酸またはその酸無水
物，アジピン酸などのＣ_{6- 12}脂肪族ジカルボン酸など）
などで置換したポリＣ_2-4 アルキレンテレフタレート系
コポリエステルやポリアルキレンナフタレート系コポリ
エステルなど） ポリカーボネート：芳香族ポリカーボネート（ビスフェ
ノールＡ型ポリカーボネートなど） 他の重合体：熱可塑性ウレタン系重合体（ジオール成分
としてポリエステルジオール，ポリエーテルジオールな
どを用いたポリウレタンなど），ポリエーテルエーテル
ケトン，ポリエーテルエステル，ポリフェニレンエーテ
ル，ポリフェニレンスルフィド，ポリエチレンイミンな
ど これらの樹脂又は重合体は単独でまたは二種以上混合し
て使用できる。

【００２１】好ましい樹脂には、セルロース誘導体、ビ
ニル系重合体およびポリスルホン系重合体から選択され
た少なくとも一種の樹脂が含まれる。

【００２２】好ましいセルロース誘導体は、セルロース
エステル、例えば、セルロース有機酸エステル（例え
ば、炭素数２〜４程度の有機酸とのエステル）、特にセ
ルロースアセテート（セルロースジアセテートやセルロ
ーストリアセテートなど）が含まれる。

【００２３】セルロース誘導体（セルロースエステルな
ど）の粘度平均重合度は、例えば、５０〜８００、好ま
しくは７５〜５００、さらに好ましくは１００〜２５０
（特に１００〜２００）程度である。粘度平均重合度１
００〜１９０程度のセルロースアセテートも有効に使用
できる。

【００２４】セルロースアセテートなどのセルロースエ
ステルの粘度平均重合度は、宇田らの極限粘度法（宇田
和夫、斎藤秀夫、繊維学会誌、第１８巻１号、１０５〜
１２０頁、１９６２年）により測定できる。すなわち、
メチレンクロライド／メタノール＝９／１（重量比）の
混合溶液に精秤したセルロースエステルを溶解し、所定
の濃度ｃ（２．００ｇ／Ｌ）の溶液を調製する。この溶
液をオストワルド粘度計に注入し、２５℃で粘度計の刻
線間を溶液が通過する時間（秒）ｔを測定する。一方、
前記混合溶剤単独についても上記と同様にして通過する
時間（秒）ｔ₀を測定し、下記式に従って、粘度平均重
合度を算出する。

【００２５】η_rel ＝ｔ／ｔ₀ ［η］＝（ｌｎη_rel ）／ｃ ＤＰ＝［η］／（６×１０^-4） （式中、ｔは溶液の通過時間（秒）、ｔ₀ は溶媒の通過
時間（秒）、ｃは溶液のセルロースエステル濃度（ｇ／
Ｌ）、η_rel は相対粘度、［η］は極限粘度、ＤＰは平
均重合度を示す） セルロース誘導体の平均置換度は、１〜３程度の範囲か
ら選択できる。例えば、好ましいセルロースアセテート
では、例えば、平均酢化度４２〜６２％（４３〜６０
％）程度、好ましくは４２〜５７％程度である。

【００２６】ビニル系重合体のうち、（メタ）アクリロ
ニトリル系重合体および（メタ）アクリル酸エステル系
重合体が好ましい。すなわち、（メタ）アクリロニトリ
ル，（メタ）アクリル酸エステル系単量体から選択され
た少なくとも一種の（メタ）アクリル系単量体の単独又
は共重合体、この（メタ）アクリル系単量体と他の共重
合性単量体［ビニルエステル系単量体，複素環式ビニル
系単量体，芳香族ビニル単量体，重合性不飽和ジカルボ
ン酸又はその誘導体などから選択された少なくとも一種
の単量体］との共重合体が好ましい。

【００２７】（メタ）アクリロニトリル系重合体には、
ポリアクリロニトリル、ポリメタアクリロニトリル，
（メタ）アクリロニトリルと共重合性単量体との共重合
体が含まれる。前記共重合性単量体としては、例えば、
ビニルエステル系単量体（酢酸ビニルなど）、（メタ）
アクリル系単量体［（メタ）アクリル酸，（メタ）アク
リル酸メチル，（メタ）アクリル酸エチル，（メタ）ア
クリル酸ブチル，（メタ）アクリル酸ヘキシル，（メ
タ）アクリル酸２−エチルヘキシルなどの（メタ）アク
リル酸Ｃ_1-10アルキルエステル、（メタ）アクリル酸２
−ヒドロキシエチル，（メタ）アクリル酸２−ヒドロキ
シプロピルなどのヒドロキシアルキル（メタ）アクリレ
ート、グリシジル（メタ）アクリレート、ジメチルアミ
ノエチル（メタ）アクリレート，ジエチルアミノエチル
（メタ）アクリレートなどのＣ_1-4 アルキルアミノ−Ｃ
_1-4 アルキル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル
アミド、Ｎ−メチル（メタ）アクリルアミド、メチロー
ル（メタ）アクリルアミド、アルコキシメチル（メタ）
アクリルアミドなど］、複素環式ビニル系単量体（ビニ
ルピロリドン，ビニルピリジン，ビニルイミダゾール，
ビニルカルバゾールなどの少なくとも一種のヘテロ原子
を含む５〜６員複素環式ビニル系単量体など）、芳香族
ビニル単量体（スチレン，ビニルトルエン，α−メチル
スチレンなど）、重合性不飽和ジカルボン酸又はその誘
導体（イタコン酸、マレイン酸、無水マレイン酸，フマ
ル酸，これらの低級アルキルエステル又は酸無水物，マ
レイミド，Ｎ−アルキルマレイミド，Ｎ−フェニルマレ
イミドなど）などが例示できる。これらの共重合性単量
体は単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。

【００２８】（メタ）アクリロニトリル系共重合体とし
ては、例えば、アクリロニトリル−ビニルピロリドン共
重合体、アクリロニトリル−酢酸ビニル共重合体、アク
リロニトリル−Ｃ_1-8 アルキル（メタ）アクリレート共
重合体（アクリロニトリル−メチルアクリレート共重合
体など）、アクリロニトリル−ビニルピロリドン−Ｃ
_1-8 アルキル（メタ）アクリレート共重合体、アクリロ
ニトリル−酢酸ビニル−Ｃ_1-8 アルキル（メタ）アクリ
レート共重合体、アクリロニトリル−（メタ）アクリル
酸共重合体、アクリロニトリル−酢酸ビニル−（メタ）
アクリル酸共重合体、アクリロニトリル−Ｃ_1-8 アルキ
ル（メタ）アクリレート−（メタ）アクリル酸共重合体
などが例示できる。

【００２９】（メタ）アクリル酸エステル系重合体とし
ては、前記（メタ）アクリル酸エステルの単独又は共重
合体［例えば、ポリ（メタ）アクリル酸，ポリ（メタ）
アクリル酸Ｃ_1-18アルキルエステルの単独又は共重合体
（ポリ（メタ）アクリル酸メチル，メタクリル酸メチル
−（メタ）アクリル酸共重合体，メタクリル酸メチル−
アクリル酸Ｃ_1-10アルキルエステル共重合体など］、
（メタ）アクリル系単量体と共重合性単量体（ビニルエ
ステル系単量体，芳香族ビニル単量体，重合性不飽和ジ
カルボン酸又はその誘導体など）との共重合体［例え
ば、（メタ）アクリル酸Ｃ_1-10アルキルエステル−スチ
レン共重合体，（メタ）アクリル酸Ｃ_1-10アルキルエス
テル−（メタ）アクリル酸−スチレン共重合体など］な
どが例示できる。

【００３０】前記多孔質層は、水性インクに対する濡れ
性が高く、孔中に水性インクが侵入するのに十分な親水
性表面を有するものであってもよい。このような多孔質
層は、親水性樹脂で構成できる。なお、親水性樹脂と
は、接触角が８０°未満（好ましくは０〜６０°、特に
０〜４０°程度）の重合体を意味する。接触角とは、室
温で、重合体面上の水滴の広がりが停止した状態で、水
滴の表面と重合体面との交点において、水滴に対する接
線と重合体面との間の角度である。

【００３１】多孔質膜の膜厚は、特に制限されず用途に
応じて選択でき、例えば、１〜１００μｍ、好ましくは
２〜７０μｍ、さらに好ましくは３〜５０μｍ程度であ
る。膜厚が小さすぎると強度が不十分となる。また、透
明性の高いインク受像シートを所望する場合、膜厚が１
００μｍを越えると、透明性が低下する虞がある。

【００３２】本発明のインク受像シートは、基材の少な
くとも一方の面に、前記多孔質膜を形成してもよく、基
材と多孔質膜との間にはインク吸収層を介在させてもよ
い。

【００３３】基材上に多孔質膜を設ける場合、多孔質膜
の膜厚は、３μｍ以上（例えば、３〜１００μｍ程
度）、好ましくは５〜７０μｍ、さらに好ましくは５〜
５０μｍ程度である。 ［基材］基材の材質については、特に制限はなく、透
明、半透明、及び不透明のいずれであってもよい二次元
的構造の基材、例えば、紙、塗工紙、不織布、プラスチ
ックフィルムなどが挙げられ、これらのうち、プラスチ
ックフィルムが好ましい。例えば、オーバーヘッドプロ
ジェクター（ＯＨＰ）用に使用する場合、基材は、通常
透明のプラスチックフィルムである。プラスチックフィ
ルムを構成するポリマーとしては、例えば、ポリエチレ
ン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン、ポリ（メ
タ）アクリル酸エステル、ポリスチレン、ポリビニルア
ルコール、エチレン−ビニルアルコール共重合体、酢酸
セルロースなどのセルロース誘導体、ポリエステル（ポ
リエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレー
トなどのポリアルキレンテレフタレートなどのポリアル
キレンナフタレートなど）、ポリカーボネート、ポリア
ミド、ポリエステルアミド、ポリイミド、ポリアミドイ
ミドなどが挙げられ、さらにこれらの共重合体、ブレン
ド物、架橋物を用いてもよい。

【００３４】これらのフィルムのうち、通常、ポリオレ
フィン（特に、ポリプロピレンなど）、ポリエステル
（特に、ポリエチレンテレフタレートなど）、ポリアミ
ドなどが使用され、特に、機械的強度、作業性などの点
からポリエステル（特にポリエチレンテレフタレートな
ど）が好ましい。

【００３５】プラスチックフィルムなどの基材には、必
要に応じて、酸化防止剤、紫外線吸収剤、熱安定剤、滑
剤、顔料などの慣用の添加剤を添加してもよい。また、
多孔質膜やインク吸収層との接着性を改善するため、コ
ロナ放電処理やアンダーコート処理などの表面処理を行
ってもよい。

【００３６】基材の厚みは、用途に応じて当業者の所望
により選択できるが、通常、インクジェットプリンター
に挿入して画像を形成することを考慮すると、例えば、
２０〜２００μｍ程度の範囲から選択でき、好ましくは
５０〜１７０μｍ程度、さらに好ましくは８０〜１５０
μｍ程度である。 ［インク吸収層］インク吸収層は、インク又はインクの
溶媒成分を吸収可能な物質で構成でき、特に制限はな
い。インクジェット記録式においては、水性インクが多
用されているため、インク吸収層は、通常、親水性高分
子（親水性樹脂）で構成できる。

【００３７】前記親水性高分子としては、例えば、親水
性天然高分子又はその誘導体（デンプン、コーンスター
チ、アルギン酸ナトリウム、アラビアゴム、ゼラチン、
カゼイン、デキストリンなど）、セルロース誘導体（メ
チルセルロース、エチルセルロース、ヒドロキシエチル
セルロース、カルボキシメチルセルロース、セルロース
スルフェート、シアノエチルセルロースなど）、ビニル
アルコール系重合体（ポリビニルアルコール、エチレン
−ビニルアルコール共重合体など）、エチレン系重合体
（エチレン−無水マレイン酸共重合体など）、酢酸ビニ
ル系共重合体（酢酸ビニル−アクリル酸メチル共重合体
など）、ポリアルキレンオキサイド（ポリエチレンオキ
サイド、エチレンオキサイド−プロピレンオキサイドブ
ロック共重合体など）、カルボキシル基又はスルホン酸
基を有する重合体又はその塩［アクリル系重合体（ポリ
（メタ）アクリル酸又はその塩（アンモニウム、ナトリ
ウムなどのアルカリ金属塩）、メタクリル酸メチル−
（メタ）アクリル酸共重合体、アクリル酸−ポリビニル
アルコール共重合体など）、ビニルエーテル系重合体
（ポリビニルメチルエーテル、ポリビニルイソブチルエ
ーテルなどのポリビニルアルキルエーテル、メチルビニ
ルエーテル−無水マレイン酸共重合体など）、スチレン
系重合体（スチレン−無水マレイン酸共重合体、スチレ
ン−（メタ）アクリル酸共重合体、ポリスチレンスルホ
ン酸ナトリウムなど）、ポリビニルスルホン酸ナトリウ
ムなど］、窒素含有重合体（又はカチオン性ポリマー）
又はその塩（ポリビニルベンジルトリメチルアンモニウ
ムクロライド、ポリジアリルジメチルアンモニウムクロ
ライドなどの４級アンモニウム塩、ポリジメチルアミノ
エチル（メタ）アクリレート塩酸塩、ポリビニルピリジ
ン、ポリビニルイミダゾール、ポリエチレンイミン、ポ
リアミドポリアミン、ポリアクリルアミド、ポリビニル
ピロリドンなど）などが挙げられる。これらの親水性高
分子は単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。

【００３８】これらの親水性高分子のうち、セルロース
誘導体（特にヒドロキシエチルセルロースなど）、ビニ
ルアルコール系重合体（特にポリビニルアルコールな
ど）、ビニルエステル系重合体（特に酢酸ビニル系共重
合体など）、ポリビニルピロリドンなどが好ましい。

【００３９】また、（１）ポリオキシアルキレン単位，
（２）アセトアセチル基，（３）カルボキシル基，
（４）酸無水物基および（５）アミノ基から選択された
少なくとも１つの官能基を有する親水性高分子も好まし
い。

【００４０】（１）前記ポリオキシアルキレン単位を有
する親水性高分子には、前記多孔質膜を構成する重合体
と同様のビニルエステル系重合体（エーテル基などの親
水性基を有するポリオキシアルキレン−酢酸ビニル共重
合体など）が使用できる。

【００４１】（２）アセトアセチル基変性親水性高分子
には、ヒドロキシル基を有する親水性高分子とアセト酢
酸エステルとの反応により生成するアセトアセチル基含
有親水性高分子、例えば、アセトアセチル基変性酢酸ビ
ニル系共重合体（アセトアセチル基含有ポリビニルアル
コール，アセトアセチル基含有セルロース誘導体など）
が含まれる。

【００４２】（３）カルボキシル基変性親水性高分子に
は、（3a）カルボキシル基変性ポリビニルアルコール、
例えば、ビニルエステル（酢酸ビニルなど）とカルボキ
シル基含有不飽和単量体（（メタ）アクリル酸などのモ
ノカルボン酸、マレイン酸などのジカルボン酸又はこれ
らの酸無水物もしくはモノアルキルエステルなど）との
共重合体の部分ケン化物、例としては、スチレン−（メ
タ）アクリル酸共重合体、酢酸ビニル−（メタ）アクリ
ル酸共重合体などのケン化物など、（3b）カルボキシル
基含有多糖類、例えば、カルボキシＣ_1-4 アルキルセル
ロース、カルボキシメチルデキストランなどが含まれ
る。

【００４３】（４）酸無水物基含有親水性高分子には、
アルキルビニルエーテル−無水マレイン酸共重合体、エ
チレン−無水マレイン酸共重合体、（メタ）アクリル酸
エステル−無水マレイン酸共重合体などが含まれる。

【００４４】（５）アミノ基含有親水性高分子には、ポ
リアミド−ポリアミン、ポリビニルアミン、ポリ（Ｎ−
ビニルホルムアミド）の部分加水分解物、アミノ基含有
多糖類などが挙げられる。

【００４５】前記親水性高分子には、耐水性を付与する
ために、架橋剤を添加してもよい。前記親水性高分子が
ヒドロキシル基を有する場合、架橋剤としては、有機系
架橋剤［カルボキシル基又は酸無水物基を有する化合物
（多価カルボン酸又はその酸無水物など）、アルデヒド
基を有する化合物（グリオキザール、マロンジアルデヒ
ド、グルタルアルデヒド、テレフタルアルデヒド、ジア
ルデヒドデンプン、アクロレイン共重合アクリル樹脂な
どの複数のアルデヒド基を有する化合物など）、エポキ
シ基を有する化合物（アルキレングリコールジグリシジ
ルエーテル、ポリオキシアルキレングリコールジグリシ
ジルエーテル、グリセロールトリグリシジルエーテル、
トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、１，
２−３，４−ジエポキシブタンなどの複数のエポキシ基
を有する化合物など）、窒素含有化合物（尿素樹脂、グ
アナミン樹脂、メラミン樹脂などのアミノ樹脂；エチレ
ンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ポリオキシアル
キレン型ジアミン又はポリアミン（すなわち、ポリエー
テル型ジアミン又はポリアミン）などの脂肪族、脂環
族、芳香族ジアミン又はポリアミンなど）、アクリルア
ミド基を有する化合物、イソシアネート基を有する化合
物（ポリイソシアネート、ブロック型ポリイソシアネー
トなど）］、金属化合物などの無機系架橋剤［ホウ酸又
はホウ酸塩（硼砂など）、ジルコニウム化合物（例えば
ハロゲン化物、硫酸などの無機酸や酢酸などの有機酸と
の塩など）、チタニウム化合物（例えば、テトラエトキ
シチタネートなどのアルコキシドなど）、アルミニウム
化合物（例えば、トリメトキシアルミネートなどのアル
コキシドなど）、リン化合物（例えば、亜リン酸エステ
ル、ビスフェノールＡ変性ポリリン酸など）、シランカ
ップリング剤（アルコキシ基、グリシジル基などの反応
性官能基を有するシリコーン化合物）など］などが使用
でき、多価カルボン酸又はその酸無水物、金属化合物な
どが好ましい。例えば、前記親水性高分子がカルボキシ
ル基を有する場合、エポキシ基を有する化合物、イソシ
アネート基を有する化合物及び金属化合物などが使用で
きる。これらの架橋剤は、単独で又は二種以上を組み合
わせて使用できる。

【００４６】多価カルボン酸又はその塩、あるいは多価
カルボン酸の無水物を、ヒドロキシル基含有親水性高分
子と組み合わせると、インク吸収性、アンチブロッキン
グ性、画像の鮮明性（印字品質）及び耐水性を改善でき
る。

【００４７】多価カルボン酸としては、分子中に２以上
の複数のカルボキシル基を有する化合物、例えば、脂肪
族ポリカルボン酸（シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グ
ルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼ
ライン酸、セバシン酸などのＣ_2-10脂肪族飽和ポリカル
ボン酸など、フマル酸、マレイン酸、無水マレイン酸、
シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸などのＣ_4-6 脂
肪族不飽和ポリカルボン酸など）、脂環族ポリカルボン
酸（シクロヘキサンジカルボン酸、テトラヒドロフタル
酸、ヘキサヒドロフタル酸、ハイミック酸などのＣ_8-10
脂環族ポリカルボン酸など）、芳香族ポリカルボン酸
（フタル酸、無水フタル酸、イソフタル酸、テレフタル
酸、トリメリット酸、ピロメリット酸などのＣ_8-12芳香
族ポリカルボン酸又はその酸無水物など）、オキシポリ
カルボン酸（タルトロン酸、リンゴ酸、酒石酸、クエン
酸などのＣ_3-6 オキシ多価カルボン酸など）、窒素、酸
素及び硫黄原子から選択された少なくとも一種のヘテロ
原子を有する複素環式多価カルボン酸（ピリジンカルボ
ン酸、ピリジントリカルボン酸、ピリジンテトラカルボ
ン酸、イソ糖酸、トロピン酸など）が例示できる。これ
らの多価カルボン酸には、脂肪族、脂環族又は芳香族Ｃ
_2-10ポリカルボン酸（特にＣ_3-10ポリカルボン酸）が含
まれる。

【００４８】さらに好ましい多価カルボン酸は、水溶性
又は、水分散性である場合が多く、温度３０℃において
水１００ｇに対して５ｇ以上（好ましくは１０ｇ以上、
さらに好ましくは３０ｇ以上）溶解する水溶性多価カル
ボン酸である。このような多価カルボン酸には、Ｃ_2-6
脂肪族多価カルボン酸（特にＣ_3-5 脂肪族多価カルボン
酸）、特に、マレイン酸又はその酸無水物（無水マレイ
ン酸）が含まれる。

【００４９】多価カルボン酸は塩としても使用でき、多
価カルボン酸のカルボキシル基の一部又は全部が塩基と
の塩を形成してもよい。多価カルボン酸塩には、無機塩
基（アンモニア、カリウム、ナトリウムなどのアルカリ
金属など）との塩、有機塩基（第３級アミンなど）との
塩が含まれる。

【００５０】インク吸収層には、硬化反応を促進するた
めに、硬化剤（硬化触媒又は硬化促進剤）を添加しても
よい。硬化剤としては、例えば、有機スズ化合物、有機
アルミニウム化合物、有機チタニウム化合物、有機ジル
コニウム化合物、酸性化合物、酸性リン酸エステル、前
記酸性リン酸エステルとアミンとの混合物または反応物
が挙げられる。これらの硬化剤は単独で又は２種以上を
混合して用いることができる。

【００５１】硬化剤の使用量は、硬化性を促進できる範
囲、例えば、固形分換算で、親水性高分子で構成された
樹脂組成物１００重量部に対して０. ０１〜１０重量
部、好ましくは０. １〜５重量部程度である。

【００５２】多孔質膜及び／又はインク吸収層は、必要
に応じて、染料固着剤を含有していてもよい。また、多
孔質膜及び／又はインク吸収層を染料固着剤で処理（含
浸、浸漬など）してもよい。染料固着剤を用いると、例
えば、染料インクを使用しても、染料の定着性、画像の
鮮明性及び画像の耐久性を向上できる。染料固着剤（高
分子染料固着剤）は、通常、分子中にカチオン基（特
に、グアニジル基や第４級アンモニウム塩型の強いカチ
オン基）を有している。染料固着剤は水溶性であっても
よい。

【００５３】染料固着剤としては、例えば、ジシアン系
固着剤（ジシアンジアミド−ホルマリン重縮合体な
ど）、ポリアミン系固着剤［ジエチレントリアミン，ト
リエチレンテトラミン，ジプロピレントリアミン，ポリ
アリルアミンなどの脂肪族ポリアミン、フェニレンジア
ミンなどの芳香族ポリアミン、ジシアンジアミドと（ポ
リ）Ｃ_2-4 アルキレンポリアミンとの縮合体（ジシアン
ジアミド−ジエチレントリアミン重縮合体など）］、ポ
リカチオン系固着剤などが例示できる。ポリカチオン系
固着剤としては、例えば、エピクロルヒドリン−ジＣ
_1-4 アルキルアミン付加重合体（エピクロルヒドリン−
ジメチルアミン付加重合体など）、アリルアミン又はそ
の塩の重合体（ポリアリルアミン又はその塩酸塩の重合
体、例えば、日東紡績（株），PAA-10C ，PAA-HCl-3L，
PAA-HCl-10L など）、ジアリルＣ_1-4 アルキルアミン又
はその塩の重合体（ジアリルメチルアミン又はその塩酸
塩の重合体、例えば、日東紡績（株），PAS-M-1 な
ど）、ジアリルジＣ_1-4 アルキルアンモニウム塩の重合
体（ジアリルジメチルアンモニウムクロライドの重合
体、例えば、日東紡績（株），PAS-H-5L，PAS-H-10L な
ど）、ジアリルアミン又はその塩と二酸化イオウとの共
重合体（ジアリルアミン塩酸塩−二酸化イオウ共重合
体、例えば、日東紡績（株），PAS-92など），ジアリル
ジＣ_1-4 アルキルアンモニウム塩−二酸化イオウ共重合
体（ジアリルジメチルアンモニウムクロライド−二酸化
イオウ共重合体、例えば、日東紡績（株），PAS-A-1 ，
PAS-A-5 ，PAS-A-120L，PAS-A-120Aなど），ジアリルジ
Ｃ_1-4 アルキルアンモニウム塩とジアリルアミン又はそ
の塩もしくは誘導体との共重合体（ジアリルジメチルア
ンモニウムクロライド−ジアリルアミン塩酸塩誘導体の
共重合体、例えば、日東紡績（株），PAS-880 など）、
ジアリルジＣ_1-4 アルキルアンモニウム塩重合体，ジＣ
_1-4 アルキルアミノエチル（メタ）アクリレート４級塩
の重合体、ジアリルジＣ_1-4 アルキルアンモニウム塩−
アクリルアミド共重合体（ジアリルジメチルアンモニウ
ムクロライド−アクリルアミド共重合体、例えば、日東
紡績（株），PAS-J-81など）、アミン−カルボン酸共重
合体（例えば、日東紡績（株），PAS-410 など）などが
例示できる。これらの染料固着剤も単独で又は二種以上
混合して使用できる。

【００５４】染料固着剤の使用量は、定着性を向上でき
る範囲、例えば、固形分換算で、樹脂１００重量部に対
して０．１〜４０重量部、好ましくは１〜３０重量部、
さらに好ましくは２〜２０重量部程度の範囲から選択で
きる。

【００５５】多孔質膜及び／又はインク吸収層には、粉
粒体（顔料など）を含有させてもよい。粉粒体として
は、例えば、無機粉粒体（ホワイトカーボン、微粒子状
珪酸カルシウム、ゼオライト、アミノ珪酸マグネシウ
ム、焼成珪成土、微粒子状炭酸マグネシウム、微粒子状
アルミナ、シリカ、タルク、カオリン、デラミカオリ
ン、クレー、重質炭酸カルシウム、軽質炭酸カルシウ
ム、炭酸マグネシウム、二酸化チタン、水酸化アルミニ
ウム、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム、珪酸マ
グネシウム、硫酸カルシウム、セリサイト、ベントナイ
ト、スメクタイトなどの鉱物質粉粒体など）、有機粉粒
体［ポリスチレン樹脂、アクリル樹脂、尿素樹脂、メラ
ミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂などの架橋又は非架僑
有機微粒子、微小中空粒子などの有機質粉粒体など］が
挙げられる。これらの粉粒体は１種又は２種以上適宜選
択して併用可能である。なお、粉粒体を用いる場合、バ
インダー樹脂としては前記親水性高分子（親水性樹脂）
が使用できる。

【００５６】粉粒体とバインダー樹脂との割合は、例え
ば、バインダー樹脂１００重量部に対して粉粒体０．１
〜８０重量部、好ましくは０．２〜５０重量部程度であ
る。

【００５７】インク吸収層には、必要に応じて、他の成
分、例えば、水性樹脂エマルジョンを含有させてもよ
い。また、多孔質膜及び／又はインク吸収層は、さらに
特性を損なわない範囲で慣用の添加剤、例えば、消泡
剤、塗布性改良剤、増粘剤、滑剤、安定剤（酸化防止
剤、紫外線吸収剤、熱安定剤など）、帯電防止剤、アン
チブロッキング剤などを含有していてもよい。

【００５８】インク吸収層の厚みは、用途に応じて選択
でき、例えば、５〜５０μｍ、好ましくは１０〜３０μ
ｍ程度であり、通常、５〜３０μｍ程度である。

【００５９】インク吸収層を設ける場合、多孔質膜の膜
厚は、１μｍ以上（例えば、１〜１５μｍ程度）、好ま
しくは１．５〜１２μｍ程度である。 ［インク受像シートの製造方法］本発明のインク受像シ
ートは、基材に樹脂溶液を塗布し、塗膜を相分離して多
孔質膜を形成することにより製造できる。また、基材の
少なくとも一方の面に、前記多孔質膜を形成してもよ
く、前記基材の少なくとも一方の面にインク吸収層を形
成し、このインク吸収層上に多孔質膜を形成してもよ
い。

【００６０】前記多孔質膜は、ミクロ相分離法、例え
ば、多孔質膜を構成する樹脂の良溶媒溶液を流延又は塗
布し、前記樹脂に対する貧溶媒に浸漬する湿式相分離法
で製造することも可能であるものの、乾式相転換法、す
なわち、樹脂と、この樹脂に対する良溶媒と、前記樹脂
に対する貧溶媒とを含む均一なドープを基材に流延又は
塗布し、溶媒を蒸発させてミクロ相分離を生じさせるこ
とにより製造できる。特に、乾式相転換法では、良溶媒
よりも沸点の高い溶媒（高沸点溶媒）を貧溶媒として使
用することが肝要である。

【００６１】上記乾式相分離プロセスにおいて、多孔質
膜の孔径を制御し、前記特徴を有する多孔質膜を得るに
は、良溶媒と貧溶媒の選定が重要である。

【００６２】良溶媒としては、高分子の種類などに応じ
て、例えば、ケトン類（アセトン、メチルエチルケト
ン、メチルプロピルケトン、メチルブチルケトン、メチ
ルイソブチルケトンなどのＣ_3-5 ジアルキルケトン、シ
クロヘキサノンなど）、エステル類（ギ酸エチルなどの
ギ酸Ｃ_1-4 アルキルエステル、酢酸メチル、酢酸エチ
ル、酢酸ブチルなどの酢酸Ｃ_1-4 アルキルエステル、プ
ロピオン酸エチル、乳酸エチルなど）、エーテル類
（１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン，テトラヒ
ドロピラン，ジエチルエーテル，ジイソプロピルエーテ
ル，ジメトキシエタンなどの環状又は鎖状Ｃ_4-6 エーテ
ル）、セロソルブ類（メチルセロソルブ、エチルセロソ
ルブ、ブチルセロソルブなどのＣ_1-4 アルキル−セロソ
ルブ）、セロソルブアセテート類（メチルセロソルブア
セテート、エチルセロソルブアセテートなどのＣ_1-4 ア
ルキル−セロソルブアセテート）、芳香族炭化水素類
（ベンゼン、トルエン、キシレンなど）、ハロゲン化炭
化水素類（塩化メチレン、塩化エチレンなど）、アミド
類（ホルムアミド，アセトアミドなどのアシルアミド
類、Ｎ−メチルホルムアミド、Ｎ−メチルアセトアミ
ド，Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル
アセトアミドなどのモノ又はジＣ_1-4 アシルアミド
類）、スルホキシド類（ジメチルスルホキシドなどのジ
Ｃ_1-3 アルキルスルホキシド）、ニトリル類（アセトニ
トリル、クロロアセトニトリル、プロピオニトリル、ブ
チロニトリルなどＣ_1-6 アルキルニトリル，ベンゾニト
リルなど）、有機酸類（ギ酸、酢酸、プロピオン酸な
ど）、有機酸無水物（無水マレイン酸、無水酢酸な
ど）、およびこれらの混合物から選択できる。良溶媒
は、ニトロ化合物（ニトロメタン、ニトロエタン、ニト
ロプロパンなど）、低級アルコール類（メタノール、エ
タノールなどのＣ_1-4 アルコール、ジアセトンアルコー
ルなど）を含んでいてもよい。

【００６３】良溶媒は樹脂の種類に応じて選択できる。
例えば、セルロース誘導体（例えば、セルロースアセテ
ート）の好ましい良溶媒には、アセトンなどのＣ_3-6 ジ
アルキルケトン類（特にアセトン、メチルエチルケトン
など）、酢酸エチルなどの酢酸Ｃ_1-4 アルキルエステル
類（特に酢酸メチル、酢酸エチル）、ジオキサン、ジメ
トキシエタンなどの環状又は鎖状Ｃ_4-6 エーテル類など
のＣ_1-4 アルキル−セロソルブ類（特にメチルセロソル
ブ、エチルセロソルブ）、メチルセロソルブアセテート
などのＣ_1-4 アルキル−セロソルブアセテート類（特に
メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテ
ート）およびこれらの混合溶媒などが含まれる。

【００６４】ビニル系重合体の好ましい良溶媒には、窒
素含有溶媒（Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジ
メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドな
どのアミド類など）が含まれる。

【００６５】ポリスルホン系重合体の好ましい良溶媒に
は、前記ビニル系重合体の好ましい良溶媒（窒素含有溶
媒）に加えて、スルホキシド類（ジメチルスルホキシド
など）、又はこれらの混合溶媒が含まれ、中でもスルホ
キシド類が好ましい。

【００６６】良溶媒の沸点は、３５〜２００℃（例え
ば、３５〜１８０℃）、好ましくは３５〜１７０℃（例
えば、３５〜１６０℃）、さらに好ましくは４０〜１６
０℃（例えば、４０〜１２５℃）程度の範囲から選択で
き、通常、３５〜１５０℃（例えば、３５〜１３０℃）
程度である。

【００６７】良溶媒は、その蒸気圧が２００ｍｍＨｇに
なる温度が、１０〜７０℃、好ましくは１０〜５０℃程
度である。

【００６８】貧溶媒とは、樹脂に対する溶解性がない
か、又は溶解性の低い溶媒を意味し、前記良溶媒よりも
沸点が高ければいずれの溶媒も使用できる。そのため貧
溶媒の種類は、特に制限されない。貧溶媒としては、例
えば、エステル類（ギ酸アミル、ギ酸イソアミルなどの
ギ酸Ｃ_5-8 アルキルエステル、酢酸ブチル，酢酸アミ
ル、酢酸ヘキシル、酢酸オクチル，酢酸３−メトキシブ
チル，酢酸３−エトキシブチル，プロピオン酸ブチル，
プロピオン酸３−メトキシブチルなどのＣ_1-4 アルコキ
シ基を有していてもよいＣ_2-4 脂肪族カルボン酸Ｃ_3-10
アルキルエステル（特に、Ｃ_1-4 アルコキシ基を有して
いてもよい酢酸Ｃ_4-10アルキルエステル）、安息香酸メ
チル、安息香酸エチル、安息香酸プロピルなどの安息香
酸Ｃ_1-4 アルキルエステル類）、アルコール類（シクロ
ペンタノール、シクロヘキサノール、メチルシクロヘキ
サノール、ジメチルシクロヘキサノール、シクロオクタ
ノールなどのＣ_1-4 アルキル基が置換していてもよいＣ
_4-8 シクロアルカノール、アミルアルコール、イソアミ
ルアルコール、ヘキシルアルコールなどのＣ_5-8 アルコ
ール類、２−ブトキシエタノール，３−ブトキシプロパ
ノールなどのＣ_2-6 アルコキシ−Ｃ_1-4 アルコール類、
フルフリルアルコールなどの複素環式アルコールな
ど）、ケトン類（メチルペンチルケトン、メチルイソペ
ンチルケトン、２，６−ジメチル−４−ヘプタノンなど
のＣ_3-10ジアルキルケトン（特にＣ_6-10ジアルキルケト
ン）、アセトニルアセトン、アセトフェノンなど）、エ
ーテル類（メチルフェニルエーテル、メトキシトルエ
ン、ジブチルエーテル、ベンジルエチルエーテルなどの
Ｃ_7-10エーテル) 、脂肪族炭化水素類（ヘキサン，オク
タン，ノナン，デカンなどのＣ_5-20脂肪族炭化水素類）
およびこれらの混合物が例示できる。 セルロース誘導
体の好ましい貧溶媒には、エステル類（ギ酸Ｃ_5-8 アル
キルエステル、安息香酸Ｃ_1-4 アルキルエステルな
ど）、Ｃ_4-8 シクロアルカノール、Ｃ_6-10ジアルキルケ
トンおよびＣ_7-10エーテルから選択された少なくとも一
種の溶媒、特に少なくともＣ_5-7 シクロアルカノール
（中でもシクロヘキサノール類）を含む溶媒が含まれ
る。シクロヘキサノール類には、シクロヘキサノール，
メチルシクロヘキサノール、ジメチルシクロヘキサノー
ルなどのモノ又はジＣ_{1- 2} アルキル置換体が含まれる。

【００６９】ビニル系重合体の好ましい貧溶媒には、酢
酸エステル、蟻酸エステルなどのエステル類（特にアル
キル基がＣ_1-4 アルコキシ基を有していてもよい酢酸Ｃ
_3-10アルキルエステルなど）、アルコール類（Ｃ_4-8 シ
クロアルカノール、Ｃ_5-8 アルコール類など）が例示で
きる。

【００７０】ポリスルホン系重合体の好ましい貧溶媒に
は、水、アルコール類（Ｃ_6-20アルキルアルコール、エ
チレングリコール、ポリエチレングリコール、グリセリ
ンなどの多価アルコールなど）、ケトン類（アセトニル
アセトン、アセトフェノン）などが含まれる。特に、ア
ルコール類、特に多価アルコール（エチレングリコール
などの脂肪族多価アルコール）などが好ましい。

【００７１】貧溶媒の沸点は、通常、１００〜２３０
℃、好ましくは１２０〜２００℃程度である。貧溶媒
は、通常、前記良溶媒よりも２０℃以上（２０〜６０℃
程度）、好ましくは３０〜５０℃程度高い沸点を有して
いる。

【００７２】貧溶媒は、その蒸気圧が２００ｍｍＨｇに
なる温度が５０〜２００℃、好ましくは７０〜１５０℃
程度である。また、良溶媒及び貧溶媒のそれぞれの蒸気
圧が２００ｍｍＨｇになる温度の差は、５０〜２００
℃、好ましくは７０〜１５０℃程度である。

【００７３】良溶媒と貧溶媒との割合は、樹脂の均一溶
液を形成できる限り特に制限されず、通常、良溶媒１０
０重量部に対して貧溶媒１〜２００重量部（例えば、２
〜２００重量部) 、好ましくは３〜１８０重量部( 例え
ば、５〜１８０重量部) 、さらに好ましくは５〜１７０
重量部( 例えば、１０〜１７０重量部) 程度であり、通
常、５〜１５０重量部程度である。

【００７４】さらに、ドープ液の樹脂の含有量は、樹脂
（重合体）の重合度などに応じて選択でき、例えば、３
〜３０重量％、好ましくは３〜２５重量％、特に３〜２
０重量％（例えば、３〜１５重量％）程度である。

【００７５】ドープ液は、樹脂５〜３０重量％程度の良
溶媒溶液１００重量部に対して、貧溶媒５〜１７０重量
部程度を含んでいる。ドープ液は、好ましくは、樹脂５
〜２０重量％（特に５〜１５重量％）程度の良溶媒溶液
１００重量部に対して、析出を抑制しつつ、貧溶媒５〜
１７０重量部（好ましくは５〜１５０重量部）程度を添
加することにより調製できる。

【００７６】ドープ液（塗布液）には、多孔質膜の特性
を損なわない範囲で慣用の添加剤、例えば、消泡剤、塗
布性改良剤、増粘剤、滑剤、安定剤（酸化防止剤，紫外
線吸収剤，熱安定剤など）、帯電防止剤、アンチブロッ
キング剤などを添加してもよい。

【００７７】ドープ液は、慣用の流延又は塗布方法、例
えば、ロールコーター、エアナイフコーター、ブレード
コーター、ロッドコーター、バーコーター、コンマコー
ター、グラビアコーター、シルクスクリーンコーター法
などにより、基材のうち少なくとも一方の面に流延又は
塗布される。

【００７８】なお、ＷＯ９８／２５９９７には、ドープ
液の塗膜を、高湿度下、二段階で乾燥する方法が開示さ
れている。しかし、本発明では、高湿度下、二段階で乾
燥する必要はなく、塗布した後、放置し、乾燥するだけ
で多孔質膜を形成できる。

【００７９】塗布された塗膜を乾燥する乾燥工程では、
沸点の低い良溶媒が優先的に蒸発する。この良溶媒の蒸
発の進行に伴い、塗膜中の樹脂の溶解性が低下し、樹脂
はミセル（ゲル相）を形成して貧溶媒相と相分離する。
さらに乾燥が進むと、ミセルが接触し網目構造が形成さ
れ、貧溶媒の蒸発の完了により、多孔質膜又は多孔質フ
ィルムが形成される。

【００８０】塗布された塗膜の乾燥工程では、一段で乾
燥してもよく、先ず低温で乾燥して、沸点の低い良溶媒
を蒸発させ（例えば、実質的に沸点の低い良溶媒の蒸発
を完了させ）、次いで高温での乾燥により残存する貧溶
媒の蒸発を行う二段階乾燥を行ってもよい。一段階乾燥
又は二段階乾燥する場合、乾燥条件は使用する良溶媒、
貧溶媒の種類に応じて選択できる。一般に、一段階乾燥
又は二段階乾燥の一段目の乾燥は、温度１０〜１００℃
（好ましくは２０〜８０℃、例えば、２０〜７５℃）程
度で３０秒〜６０分（好ましくは１〜６０分）程度行う
ことができる。二段階乾燥の二段目の乾燥は、一段目の
温度よりも高い温度、例えば、温度５０〜１５０℃（好
ましくは６０〜１３０℃）程度で２秒〜３０分（例えば
２秒〜１０分）程度行ってもよい。二段目の乾燥温度
は、通常、一段目の温度よりも２０℃以上（２０〜１２
０℃、好ましくは５０〜１１０℃程度）高い温度から選
択できる。例えば、良溶媒としてアセトンなどのＣ_3-5
ジアルキルケトン、貧溶媒としてシクロヘキサノールな
どのシクロアルカノール類を使用する場合などには、特
に二段階乾燥を行うことなく、簡便に乾燥することがで
き、容易にミクロ相分離膜を得ることができる。

【００８１】前記乾式相転換により多孔質膜を製造する
と、インク吸収性及びインク定着性に優れたインク受像
シートを高い生産性で製造することができる。

【００８２】前記製造方法により得られたインク受像シ
ートは、インクの小滴を飛翔させて記録するインクジェ
ット方式による記録用シートとして有用であるが、オフ
セット印刷、フレキソ印刷などの印刷用シート（特に水
性インキ用シート）などとしても利用できる。

【００８３】本発明のインク受像シートは、インク吸収
性及びインク定着性に優れ、画像の鮮明性（印字品質）
が良好であり、インクジェットによる記録に適してい
る。

【００８４】

【発明の効果】本発明のインク受像シートは、特定の形
状の空孔を有する多孔質膜で構成するため、染料又は顔
料インクであってもインク吸収性、インク定着性及び印
字性に優れ、画像の耐久性を向上できる。また、多孔質
膜とインク吸収層とでインク受像シートを構成するの
で、さらにインク吸収性を改善できる。

【００８５】

【実施例】以下に、実施例に基づいて本発明をより詳細
に説明するが、本発明はこれらの実施例により限定され
るものではない。

【００８６】なお、文中、特に断りのない限り、部また
は％は重量基準である。

【００８７】実施例及び比較例で得られたインク受像シ
ートにおける平均孔径、空孔率、アスペクト比、耐水
性、印字性およびインク吸収性は、以下のようにして評
価した。

【００８８】なお、画像形成にはインクジェットプリン
ター（ＥＮＣＡＤ製、ＮＯＶＡＪＥＴ・ＰＲＯ）を使用
し、実施例及び比較例で得られた記録用シートに、顔料
タイプ水性インク（イエロー、マゼンタ、シアン、ブラ
ックの各々の色）をベタで印刷し、記録画像を形成し
た。 ［平均孔径および空孔率］倍率５０００倍で撮影した電
子顕微鏡表面写真において、３箇所の所定面積（２ｃｍ
×２ｃｍ）を画像処理装置で処理し、電子顕微鏡表面写
真の各孔を真円として孔径を測定し、平均することによ
り平均空孔径を求めた。

【００８９】空孔率（％）は、計算式（孔の全面積／測
定面積）×１００により算出した。 ［アスペクト比］倍率８０００倍で撮影した電子顕微鏡
断面写真において、１０個の孔の長軸及び短軸を測定
し、アスペクト比を算出し、平均した。

【００９０】[耐水性]２５℃にて十分に水を含んだ綿棒
で印字部を１０往復こすり、下記の基準で印字部を目視
で評価した。

【００９１】 ◎ 印字部が完全に残っている ○ 印字部に滲みが認められる × 印字部が残っていない ［印字性］印字した画像形成部を下記の基準で、目視で
評価した。

【００９２】 ◎ 滲みがなく、画像が鮮明である ○ やや滲みを生ずる × 滲みを激しく生ずる ［インク吸収性］印字した後、一定時間ごとに印字部に
ＰＰＣ用コピー紙を載せ、コピー用紙の上から過重（２
５０ｇ／ｃｍ² ）を１０秒間かけた後、コピー用紙を剥
がし、インクの裏移りの程度を目視で判断し、裏移りが
認められなくなるまでの時間を基準にしてインク吸収性
を評価した。

【００９３】 ◎ 裏移りが認められなくなるまでの時間が１分以内で
ある ○ 裏移りが認められなくなるまでの時間が３分以内で
ある × 裏移りが認められなくなるまでの時間が５分以内で
ある 実施例１ 酢酸セルロース（酢化度５５％、粘度平均重合度２５
０、以下ＣＡと略記する）１０重量％のアセトン溶液１
００重量部に、よく撹拌しながらシクロヘキサノール１
００重量部を添加してドープを作製した。ポリエチレン
テレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（ＩＣＩジャパン
（株）製、「メリネックス３３９」、厚さ７５μｍ）上
に、乾燥後の厚みが１０μｍとなるようにドープを塗布
し、７０℃で５分間乾燥した。得られた記録シートの多
孔質膜は、平均空孔径１．２μｍ、空孔率５１．１％の
孔を有し、多孔質膜の断面は３次元の網目構造であっ
た。また、厚み方向における空孔のアスペクト比（長軸
／短軸比）は５．４／１であった。インク受像シート表
面の電子顕微鏡写真（倍率５０００倍）を図１に、断面
の電子顕微鏡写真（倍率８０００倍）を図２に示す。

【００９４】実施例２ 実施例１と同様のＰＥＴフィルム上に、変性ポリビニル
アルコール（日本合成化学工業（株）製、「ＯＫＳ７１
５８Ｇ」、ケン化度８８％）１８重量％の水溶液１００
重量部に対して、マレイン酸２重量部を添加した塗布液
を、乾燥後のインク吸収層の厚みが１５μｍとなるよう
に塗布し、１２０℃で３分間乾燥してインク吸収層を形
成した。さらに、このインク吸収層に、実施例１のドー
プを、乾燥後の多孔質層の厚みが１０μｍとなるように
塗布し、７０℃で５分間乾燥した。得られた記録用シー
トは、表面の平均空孔径が１．２μｍ、空孔率４８．２
％の孔を有し、多孔質膜の断面は３次元の網目構造であ
った。また、厚み方向における空孔のアスペクト比は
６．２／１であった。

【００９５】実施例３ アクリロニトリル（ＡＮ）−ビニルピロリドン（ＶＰ）
共重合体（ＤＵＹ、ＡＮ／ＶＰ＝０．９８／０．０２モ
ル比、ダイセル化学工業（株）製）１０重量％のＮ，Ｎ
−ジメチルホルムアミド溶液１００重量部に、よく攪拌
しながら酢酸３−メトキシブチル１５重量部を添加して
塗布液を作製した。ＰＥＴフィルム上に、実施例２と同
様にインク吸収層を介して、乾燥後のフィルムの厚みが
１０μｍとなるように前記塗布液を塗布し、７０℃、９
０％ＲＨの条件で１．５分乾燥した後、１２０℃で３分
間乾燥した。得られた記録用シートは、表面の平均空孔
径が０．３μｍ、空孔率４７．６％の孔を有し、多孔質
膜の断面は３次元の網目構造であった。また、厚み方向
における空孔のアスペクト比は７．３／１であった。

【００９６】比較例１ 実施例１と同様のポリエステル不織布に、酢酸セルロー
ス（平均酢化度：５５、粘度平均重合度：１７０）８重
量％のメチルセロソルブ溶液１００重量部に４−メチル
シクロヘキサノール１３．７重量部を添加した塗布液
を、多孔質層の厚みが５０μm になるよう塗布し、４０
℃、９０％ＲＨの条件で１０間分乾燥した。得られた記
録用シートの多孔質膜は、層状構造であり、平均空孔径
０．２μｍ、空孔率３９．３％の孔を有していた。

【００９７】比較例２ 塗布液をポリエーテルスルホン（「スミカエクセル５２
００Ｐ」、住友化学（株）社製）のジメチルスルホキシ
ド１５重量％溶液とする以外は、実施例１と同様にし
た。得られた記録用シートの多孔質層は、表面に孔を有
しなかった。

【００９８】比較例３ ＰＥＴフィルム上に、変性ポリビニルアルコール（日本
合成化学工業（株）製、「ＯＫＳ７１５８Ｇ」、けん化
度８８％）５重量％の水溶液１００重量部に対し、粒径
１０μｍの酸化アルミニウム粒子１００重量部を添加し
た塗布液を、乾燥後の厚みが２０μｍとなるように塗布
し、１２０℃で３分間乾燥させた。得られたフィルム
は、表面の平均孔径は７．１μｍであり、表面に空孔率
２０．３％の多孔質層を表面に有する積層フィルムであ
った。

【００９９】結果を表１に示す。

【０１００】

【表１】

【０１０１】表１から明らかなように、実施例の記録用
シートを用いると、耐水性、印字性、インク吸収性が良
好である。これに対して，比較例1 の記録用シートは、
多孔質膜の断面の形状が、三次元網目構造となっていな
いので、インク吸収性は良好なものの，印字性、耐水
性、が実施例のものに比べて、やや劣っている。比較例
２の記録用シートを用いると、多孔質膜が形成されてい
ないため、全ての項目において劣っている。また、比較
例３の記録用シートを用いると、孔径が大きいため、耐
水性は比較的良好なものの、顔料インクの記録用シート
内部への過度の浸透により、画像の鮮明性が悪い。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１は、実施例１で得られたインク受像シート
の表面の電子顕微鏡写真（倍率５０００倍）である。

【図２】図２は、実施例１で得られたインク受像シート
の断面の電子顕微鏡写真（倍率８０００倍）である。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2C056 FC06 2H086 BA02 BA15 BA34 BA41 4F074 AA02 AA48 AA49 AA87 CB34 CB37 CB47 CC04Y CC10X DA02 DA03

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 平均空孔径が０．１〜５μｍ、空孔率が
   ２０〜７０％である多孔質膜で構成されているシートで
   あって、前記多孔質膜の空孔の形状が、平面方向におい
   て実質的に円形又は楕円形であり、かつ厚み方向におい
   て平面方向に長軸を有する楕円形又は細長状であるイン
   ク受像シート。
2. 【請求項２】 厚み方向の断面におけるアスペクト比が
   １．３／１〜２０／１である請求項１記載のインク受像
   シート。
3. 【請求項３】 多孔質膜が、乾式相転換によるミクロ相
   分離構造を有している請求項１記載のインク受像シー
   ト。
4. 【請求項４】 多孔質膜が、セルロース系樹脂、ビニル
   系重合体及びポリスルホン系重合体から選択された少な
   くとも一種の樹脂で構成されている請求項１記載のイン
   ク受像シート。
5. 【請求項５】 多孔質膜が、セルロースエステル、( メ
   タ）アクリロニトリル系重合体、( メタ）アクリル酸エ
   ステル系重合体及びポリスルホン系重合体から選択され
   た少なくとも一種で構成されている請求項１記載のイン
   ク受像シート。
6. 【請求項６】 基材の少なくとも一方の面に多孔質膜が
   形成されている請求項１記載のインク受像シート。
7. 【請求項７】 多孔質膜と基材との間にインク吸収層が
   形成されている請求項１記載のインク受像シート。
8. 【請求項８】基材に樹脂溶液を塗布し、相分離により多
   孔質膜を形成する請求項１記載のインク受像シートの製
   造方法。