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JP2000169354A - 化粧用調剤および製薬学的調剤における光安定性のUVフィルタ―としての二量体α―アルキル―スチロ―ル誘導体 - Google Patents

化粧用調剤および製薬学的調剤における光安定性のUVフィルタ―としての二量体α―アルキル―スチロ―ル誘導体

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Publication number
JP2000169354A
JP2000169354A JP11340616A JP34061699A JP2000169354A JP 2000169354 A JP2000169354 A JP 2000169354A JP 11340616 A JP11340616 A JP 11340616A JP 34061699 A JP34061699 A JP 34061699A JP 2000169354 A JP2000169354 A JP 2000169354A
Authority
JP
Japan
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alkyl
cosmetic
formula
substituted
pharmaceutical preparations
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP11340616A
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English (en)
Inventor
Thorsten Habeck
ハベック トルステン
Frank Prechtl
プレヒトル フランク
Thomas Dr Wuensch
ヴュンシュ トーマス
Horst Westenfelder
ヴェステンフェルダー ホルスト
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
BASF SE
Original Assignee
BASF SE
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by BASF SE filed Critical BASF SE
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Withdrawn legal-status Critical Current

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    • A61K8/18Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition
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    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61KPREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
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    • A61K31/277Nitriles; Isonitriles having a ring, e.g. verapamil
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    • A61QSPECIFIC USE OF COSMETICS OR SIMILAR TOILETRY PREPARATIONS
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    • A61Q17/04Topical preparations for affording protection against sunlight or other radiation; Topical sun tanning preparations
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C255/00Carboxylic acid nitriles
    • C07C255/01Carboxylic acid nitriles having cyano groups bound to acyclic carbon atoms
    • C07C255/32Carboxylic acid nitriles having cyano groups bound to acyclic carbon atoms having cyano groups bound to acyclic carbon atoms of a carbon skeleton containing at least one six-membered aromatic ring
    • C07C255/37Carboxylic acid nitriles having cyano groups bound to acyclic carbon atoms having cyano groups bound to acyclic carbon atoms of a carbon skeleton containing at least one six-membered aromatic ring the carbon skeleton being further substituted by etherified hydroxy groups
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 UV−A領域内で高い吸光度で吸収し、光安
定性であり、僅かな固有色、即ち鮮明なバンド構造を示
し、かつ置換基に応じて油または水中で可溶性である、
化粧術的および製薬学的目的のための光安定剤を提案す
る。 【解決手段】 太陽光線からヒトの皮膚またはヒトの毛
髪を保護するための化粧用調剤および製薬学的調剤にお
ける光安定性のUVフィルターとしての単独でかまたは
化粧用調剤および製薬学的調剤にとって公知のUV範囲
内で吸収する化合物と一緒での式I 【化1】 で示される置換された二量体α−アルキル−スチロール
誘導体の使用。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、太陽光線、特に3
20〜400nmの範囲内のUV光からヒトの皮膚また
はヒトの毛髪を保護するための化粧用調剤および製薬学
的調剤における光安定性のUVフィルターとしての置換
された二量体α−アルキル−スチロール誘導体の使用に
関する。
【0002】
【従来の技術】化粧用調剤および製薬学的調剤に使用さ
れる光安定剤は、ヒトの皮膚に対する太陽光線の支障の
ある影響を阻止するかまたは少なくともこの太陽光線の
影響を減少させるという課題を有している。しかし、そ
れとともにこの光安定剤は、UV線による破壊または分
解からの他の内容物質の保護にも使用される。毛髪化粧
用調剤の場合には、UV線によるケラチン繊維の損傷は
減少される。
【0003】土壌表面に達する太陽光線は、直接に可視
光線の領域につながるUV−B−線(280〜320n
m)およびUV−A−線(320nmを上廻る)の割合
を有している。ヒトの皮膚に対する影響は、特にUV−
B−線の場合に日焼けに現れている。それに応じて、当
工業界では、UV−B−線を吸収し、ひいては日焼けを
阻止する数多くの物質を提供している。
【0004】ところで、皮膚科学的試験により、例えば
ケラチンまたはエラスチンが損なわれることにより、U
V−A−線もかなり皮膚損傷およびアレルギーを惹起し
うることが判明した。それによって、皮膚の弾性および
水蓄積能力は減少され、即ち皮膚は、殆んど弾力がなく
なり、しわを形成する傾向にある。強い太陽光線の地域
における極めて高い皮膚癌の頻度は、明らかに太陽光
線、特にUV−A−線によって細胞内での遺伝的情報の
損傷が惹起されることを示す。従って、これら全ての認
識により、UV−A−領域に対して有効なフィルター物
質を開発することが必要であるように思われる。
【0005】なかんずくUV−A−フィルターとして使
用することができ、したがって吸収最大が約320〜3
80nmの範囲内ある化粧用調剤および製薬学的調剤の
ための光安定剤がますます必要とされている。できるだ
け僅かな使用量で望ましい作用を達成させるために、こ
の種の光安定剤は、付加的に高い特異的な吸光度を示
す。更に、化粧用調製剤のための光安定剤は、なお数多
くの他の要件、例えば化粧用油中での良好な溶解度、こ
の光安定剤を用いて製造されるエマルジョンの高い安定
度、毒物学的に懸念のないことならびに僅かな固有の臭
いおよび僅かな固有色を満たさなければならない。
【0006】光安定剤を満たさなければならないもう1
つの要件は、十分な光安定性にある。しかし、これは、
使用可能なUV−A吸収性光安定剤を用いた場合には、
保証されていないか、或いは不十分に保証されているに
すぎない。
【0007】フランス国特許第2440933号明細書
には、4−(1,1−ジメチルエチル)−4′−メトキ
シジベンゾイルメタンがUV−A−フィルターとして記
載されている。280〜380nmの波長を有する全U
V線を吸収させるために、ギバウダン社(GIVAUDAN)か
ら”PARSOL 1789”の名称で購買することが
できる前記の特殊なUV−A−フィルターを種々のUV
−B−フィルターと組み合わせることが提案されてい
る。
【0008】しかし、長時間の日焼けの間に皮膚の持続
する保護を保証させる目的で、このUV−A−フィルタ
ーは、これを単独でかまたはUV−B−フィルターと組
み合わせて使用する場合には、光化学的に十分には安定
性でなく、このことは、全UV線からの皮膚の有効な保
護を達成させる場合には、規則的で短い距離での使用を
繰り返し必要とする。
【0009】従って、欧州特許出願公開第051449
1号明細書の記載によれば、不十分な光安定性のUV−
A−フィルターは、2−シアン−3,3−ジフェニルア
クリル酸エステルの添加によって安定化され、このフィ
ルターそれ自体は、UV−B領域内でフィルターとして
使用される。
【0010】更に、欧州特許出願公開第0251398
号明細書の記載によれば、UV−A線およびUV−B線
を吸収する発色団を結合員によって1つの分子に合わせ
ることは、既に提案されている。これは、一面で化粧用
調剤中でUV−A−フィルターおよびUV−B−フィル
ターの自由な組合せがもはや不可能であり、発色団の化
学結合の際に一定の組合せのみを可能にすることが困難
であるという欠点を有している。
【0011】欧州特許出願公開第0413648号明細
書には、化粧用サンフィルター剤(kosmetische Sonnen
schutzmitteln)中にUV吸収剤としての置換された二
量体スチロール誘導体を使用することが記載されてい
る。
【0012】欧州特許出願公開第0401128号明細
書、ドイツ連邦共和国特許出願公開第1568693号
明細書および米国特許第4749774号明細書には、
それぞれ置換された二量体スチロール誘導体をUV吸収
剤として飲料用および食品用のプラスチック、例えば包
装用材料に使用することが記載されている。
【0013】しかし、上記の各特許明細書に記載された
二量体スチロール誘導体は、不満足な光安定性を示す。
【0014】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の課題
は、UV−A領域内で高い吸光度で吸収し、光安定性で
あり、僅かな固有色、即ち鮮明なバンド構造を示し、か
つ置換基に応じて油または水中で可溶性である、化粧術
的および製薬学的目的のための光安定剤を提案すること
である。
【0015】
【課題を解決するための手段】この課題は、本発明によ
れば、太陽光線からヒトの皮膚またはヒトの毛髪を保護
するための化粧用調剤および製薬学的調剤における光安
定性のUVフィルターとしての単独でかまたは化粧用調
剤および製薬学的調剤にとって公知のUV範囲内で吸収
する化合物と一緒での式I
【0016】
【化4】
【0017】〔式中、置換基は互いに独立に次の意味を
有する:RおよびRは、水素、OH、NH、C
〜C12−アルキル、C〜C −アルコキシ、C
〜C12−アルキルアミノ、C〜C12−ジアルキル
アミノを表わすか或いはカルボキシレート基、スルホネ
ート基またはアンモニウム基からなる群から選択された
水溶性にする置換基を表わし;RはCOOR、CO
、CONR、CNを表わし;RはCOOR
、COR、CONR、CNを表わし;R
〜C12−アルキルを表わし;RおよびRは、
水素、置換または非置換C〜C12−アルキル、置換
または非置換C〜C10−アルケニル、置換または非
置換C〜C10−シクロアルキル、置換または非置換
〜C10−シクロアルケニル、置換または非置換ア
リール、置換または非置換ヘテロアリールを表わし;A
はO、S、N−Rを表わし;BはC〜C12−アル
キレン、C〜C12−シクロアルキレン、C〜C
−アラルキレン、C〜C21−モノオキソアラルキ
レン、[−X−]−Yを表わし;Rは水素、C
12−アルキルを表わし;Xは、−CH−CH
Z−、−CH−CH−CH−Z−、−CH(CH
)−CH−Z−、−CH−CH−CH−CH
−Z−、−CH−CH(CH−CH)−Z−を
表わし;Yは、−CH−CH−、−CH−CH
−CH−、−CH(CH)−CH−、−CH
CH−CH−CH−、−CH−CH(CH
CH)−を表わし;ZはO、Sを表わし;nは1〜1
50で表わし、この場合基R、RおよびRの中の
それぞれ2個は、これら2個が結合している芳香環と一
緒に5−または6員環を形成することができる〕で示さ
れる置換された二量体α−アルキル−スチロール誘導体
の使用によって解決された。
【0018】RおよびRならびにR〜Rのアル
キル基としては、分枝鎖状または非分枝鎖状C〜C
12−アルキル鎖、有利にメチル、エチル、n−プロピ
ル、1−メチルエチル、n−ブチル、1−メチルプロピ
ル、2−メチルプロピル、1,1−ジメチルエチル、n
−ペンチル、1−メチルブチル、2−メチルブチル、3
−メチルブチル、2,2−ジメチルプロピル、1−エチ
ルプロピル、n−ヘキシル、1,1−ジメチルプロピ
ル、1,2−ジメチルプロピル、1−メチルペンチル、
2−メチルペンチル、3−メチルペンチル、4−メチル
ペンチル、1,1−ジメチルブチル、1,2−ジメチル
ブチル、1,3−ジメチルブチル、2,2−ジメチルブ
チル、2,3−ジメチルブチル、3,3−ジメチルブチ
ル、1−エチルブチル、2−エチルブチル、1,1,2
−トリメチルプロピル、1,2,2−トリメチルプロピ
ル、1−エチル−1−メチルプロピル、1−エチル−2
−メチルプロピル、n−ヘプチル、n−オクチル、n−
ノニル、n−デシル、n−ウンデシルおよびn−ドデシ
ルが挙げられる。
【0019】RおよびRのアルケニル基としては、
分枝鎖状または非分枝鎖状C2〜C10−アルケニル
鎖、好ましくはエテニル、n−プロペニル、1−メチル
エテニル、n−ブテニル、1−メチルプロペニル、2−
メチルプロペニル、1,1−ジメチルエテニル、n−ペ
ンテニル、1−メチルブテニル、2−メチルブテニル、
3−メチルブテニル、2,2−ジメチルプロペニル、1
−エチルプロペニル、n−ヘキセニル、1,1−ジメチ
ルプロペニル、1,2−ジメチルプロペニル、1−メチ
ルペンテニル、2−メチルペンテニル、3−メチルペン
テニル、4−メチルペンテニル、1,1−ジメチルブテ
ニル、1,2−ジメチルブテニル、1,3−ジメチルブ
テニル、2,2−ジメチルブテニル、2,3−ジメチル
ブテニル、3,3−ジメチルブテニル、1−エチルブテ
ニル、2−エチルブテニル、1,1,2−トリメチルプ
ロペニル、1,2,2−トリメチルプロペニル、1−エ
チル−1−メチルプロペニル、1−エチル−2−メチル
プロペニル、n−ヘプテニル、n−オクテニル、n−ノ
ネニル、n−デセニルが挙げられる。
【0020】RおよびRのシクロアルキル基として
は、分枝鎖状または非分枝鎖状C〜C10−シクロア
ルキル鎖、好ましくはシクロプロピル、シクロブチル、
シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、1
−メチルシクロプロピル、1−エチルシクロプロピル、
1−プロピルシクロプロピル、1−ブチルシクロプロピ
ル、1−ペンチルシクロプロピル、1−メチル−1−ブ
チルシクロプロピル、1,2−ジメチルシクロプロピ
ル、1−メチル−2−エチルシクロプロピル、シクロオ
クチル、シクロノニルまたはシクロデシルが挙げられ
る。
【0021】RおよびRのシクロアルケニル基とし
ては、1個以上の二重結合を有する分枝鎖状または非分
枝鎖状C〜C10−シクロアルケニル鎖、例えばシク
ロプロペニル、シクロブテニル、シクロペンテニル、シ
クロペンタジエニル、シクロヘキセニル、1,3−シク
ロヘキサジエニル、1,4−シクロヘキサジエニル、シ
クロヘプテニル、シクロヘプタトリエニル、シクロオク
テニル、1,5−シクロオクタジエニル、シクロオクタ
テトラエニル、シクロノネニルまたはシクロデシルが挙
げられる。
【0022】シクロアルケニル基およびシクロアルキル
基は、場合によっては1個以上、例えば1〜3個の基、
例えばハロゲン、例えば弗素、塩素または臭素、シア
ノ、ニトロ、アミノ、C〜C−アルキルアミノ、C
〜C−ジアルキルアミノ、ヒドロキシ、C〜C
−アルキル、C〜C−アルコキシもしくは別の基に
よって置換されていてもよいか、或いは1〜3個のヘテ
ロ原子、例えば硫黄、その遊離原子価が水素またはC
〜C−アルキルによって飽和されていてもよい窒素、
または酸素を環中に含有されていてよい。
【0023】RおよびRのアルコキシ基としては、
1〜12個のC原子、特に4〜8個のC原子を有するも
のがこれに該当する。
【0024】例えば、次のものを挙げることができる:
メトキシ−、エトキシ−、n−プロポキシ−、イソプロ
ポキシ−、1−メチルプロポキシ−、n−ブトキシ−、
n−ペントキシ−、2−メチルプロポキシ−、3−メチ
ルブトキシ−、1,1−ジメチルプロポキシ−、2,2
−ジメチルプロポキシ−、ヘキソキシ−、1−メチル−
1−エチルプロポキシ−、ヘプトキシ−、オクトキシ
−、2−エチルヘキシキシ−。
【0025】RおよびRのモノアルキルアミノ基お
よびジアルキルアミノ基としては、1〜12個のC原子
を有するアルキル基、有利に1〜8個のC原子を有する
もの、例えばメチル、n−プロピル、n−ブチル、2−
メチルプロピル、1,1−ジメチルプロピル、ヘキシ
ル、ヘプチル、2−エチルヘキシル、イソプロピル、1
−メチルプロピル、n−ペンチル、3−メチルブチル、
2,2−ジメチルプロピル、1−メチル−1−エチルプ
ロピルおよびオクチルがこれに該当する。
【0026】RおよびRのアリールは、環系中に6
〜18個の炭素原子を有する芳香環または環系、例えば
場合によっては1個以上の基、例えばハロゲン、例えば
弗素、塩素もしくは臭素、シアノ、ニトロ、アミノ、C
〜C−アルキルアミノ、C〜C−ジアルキルア
ミノ、ヒドロキシ、C〜C−アルキル、C〜C
−アルコキシもしくは別の基によって置換されていても
よいフェニルまたはナフチルである。
【0027】RおよびRのヘテロアリール基は、好
ましくは1個以上のヘテロ芳香族の3ないし7員の環を
有するモノ芳香族環系または縮合された芳香族環系であ
る。ヘテロ原子としては、環中または環系中に1個以上
の窒素原子、硫黄原子および/または酸素原子が含有さ
れていてよい。
【0028】RおよびRの親水性、即ち式Iの化合
物の水溶性を可能にする基は、例えばカルボキシ基およ
びスルホキシ基、殊に任意の生理的に認容性の陽イオン
を有する該基の塩、例えばアルカリ金属塩またはトリア
ルキルアンモニウム塩、例えばトリ−(ヒドロキシアル
キル)−アンモニウム塩または2−メチルプロパン−1
−オール−2−アンモニウム塩である。更に、アンモニ
ウム基、殊に任意の生理的に認容性の陰イオンを有する
アルキルアンモニウム基がこれに該当する。
【0029】Bのアルキレン基としては、分枝鎖状また
は非分枝鎖状C1〜C12−アルキレン鎖、好ましくは
メチレン、エチレン、n−プロピレン、1−メチルエチ
レン、n−ブチレン、1−メチルプロピレン、2−メチ
ルプロピレン、1,1−ジメチルエチレン、n−ペンチ
レン、1−メチルブチレン、2−メチルブチレン、3−
メチルブチレン、2,2−ジメチルプロピレン、1−エ
チルプロピレン、n−ヘキサン、1,1−ジメチルプロ
ピレン、1,2−ジメチルプロピレン、1−メチルペン
チレン、2−メチルペンチレン、3−メチルペンチレ
ン、4−メチルペンチレン、1,1−ジメチルブチレ
ン、1,2−ジメチルブチレン、1,3−ジメチルブチ
レン、2,2−ジメチルブチレン、2,3−ジメチルブ
チレン、3,3−ジメチルブチレン、1−エチルブチレ
ン、2−エチルブチレン、1,1,2−トリメチルプロ
ピレン、1,2,2−トリメチルプロピレン、1−エチ
ル−1−メチルプロピレン、1−エチル−2−メチルプ
ロピレン、n−ヘプチレン、n−オクチレン、n−ノニ
レン、n−デシレン、n−ウンデシレンおよびn−ドデ
シレンが挙げられる。
【0030】上記のアルキレン基は、場合によっては1
回以上置換されていてよい。この場合、可能な置換基と
しては、次の基が挙げられる:OH、O−C〜C
アシル、O−C〜C−アルキル、NH、NH−C
〜C−アルキル、NH−C〜C−アシル、C
N、COOH、COO−C〜C−アルキル。
【0031】Bのシクロアルキレン基としては、C
12−シクロアルキレン基、例えば
【0032】
【化5】
【0033】が挙げられる。
【0034】Bのアラルキレン基としては、C〜C
22−アラルキレン基、例えば
【0035】
【化6】
【0036】が挙げられる。
【0037】Bのモノオキソアラルキレン基としては、
〜C21−モノオキソアラルキレン基、例えば
【0038】
【化7】
【0039】が挙げられる。
【0040】基[−X−]−Y−は、2〜151個の
交互のモノマー単位を有する二量体またはポリマーのC
〜C−アルキルエーテル、C〜C−アルキルチ
オエーテルまたはC〜C−アルキルイミンを表わ
す。好ましくは、2〜21個の交互のモノマー単位を有
する二量体またはポリマーのC〜C−アルキルエー
テル、特に好ましくは2〜21個の交互のモノマー単位
を有する二量体またはポリマーのエチレングリコールま
たはプロピレングリコールである。
【0041】基R、RおよびRの中のそれぞれ2
個は、これら2個が結合している芳香環と一緒に他の5
−または6員環を形成することができる。例としては、
次の構造式が挙げられる:
【0042】
【化8】
【0043】好ましくは、RおよびRが水素、C
〜C−アルキル、C〜C−アルコキシを表わすか
或いはカルボキシレート基、スルホネート基またはアン
モニウム基からなる群から選択された水溶性にする置換
基を表わし;RはCOOR、CNを表わし;R
COOR、CNを表わし;RはC〜C−アルキ
ルを表わし;RはC〜C12−アルキルを表わし;
AはOを表わし;BはC〜C12−アルキレン、C
〜C22−アラルキレン、C〜C12−シクロアルキ
レン、[−X−]−Yを表わし;Xは、−CH−C
−O−、−CH−CH−CH−O−、−CH
(CH)−CH−O−、−CH−CH−CH
−CH−O−、−CH−CH(CH−CH)−
O−を表わし;Yは、−CH−CH−、−CH
CH−CH−、−CH(CH)−CH−、−C
−CH−CH−CH−、−CH−CH(C
−CH)−を表わし;nは1〜20を表わす式I
の化合物である。
【0044】特に好ましいのは、RおよびRが水
素、C〜C−アルキル、C〜C−アルコキシを
表わすか或いはカルボキシレート基、スルホネート基ま
たはアンモニウム基からなる群から選択された水溶性に
する置換基を表わし;RおよびRはCNを表わし;
はC〜C−アルキルを表わし;AはOを表わ
し;BはC〜C12−アルキレン、[−X−]−Y
を表わし;Xは、−CH−CH−O−、−CH(C
)−CH−O−を表わし;Yは、−CH−CH
−、−CH(CH)−CH−を表わし;nは1〜
20を表わす式Iの化合物である。
【0045】基−A−B−A−は、R〜Rを含有す
る基に対して、それぞれオルト位、メタ位またはパラ位
で芳香族化合物に結合されていてよい。特に好ましいの
は、−A−B−A−がパラ位にある式Iの化合物であ
る。
【0046】特に好ましいのは、次の構造式Ia
【0047】
【化9】
【0048】を有する置換された二量体α−アルキル−
スチロール誘導体であり、この場合置換基は、次の意味
を有する:Rは、C〜C−アルキル、好ましくは
メチルを表わし;Bは、C〜C12−アルキレンを表
わす。
【0049】即ち、式Iaの第1表に記載された次の化
合物は、特殊な光安定性の性質を有している。
【0050】
【表1】
【0051】式Iの本発明により使用すべき化合物は、
例えば次の反応式:
【0052】
【化10】
【0053】により得ることができ、この場合Hal
は、ハロゲン、例えば塩素または臭素を表わし、R
ならびに符号AおよびBは、請求項1に記載された
意味を有する。
【0054】更に、本発明の対象は、化粧術的調剤およ
び製薬学的調剤の全体量に対して0.1〜10質量%、
特に1〜7質量%の式Iの1種以上の化合物を、光安定
剤としての化粧用調剤および製薬学的調剤に対して自体
公知のUV−B領域内で吸収する化合物と一緒に含有す
る化粧用調剤および製薬学的調剤であり、この場合式I
の化合物は、一般にUV−B吸収性化合物よりも僅かな
量で使用される。
【0055】好ましくは、式Ia
【0056】
【化11】
【0057】〔式中、置換基は次の意味を有する:R
は、C〜C−アルキル、好ましくはメチルを表わ
し、Bは、C〜C12−アルキレンを表わす〕で示さ
れる化合物1つ以上を含有する上記の化粧用調剤および
製薬学的調剤に対するものである。
【0058】ヒトの表皮の保護に使用される化粧用調剤
および製薬学的調剤中の光安定剤の主要部分は、UV光
をUV−B領域内、即ち280〜320nmの範囲内で
吸収する化合物からなる。例えば、本発明により使用す
べきUV−A吸収剤の含量は、UV−B吸収剤およびU
V−A吸収剤の全体量に対して10〜90質量%、好ま
しくは20〜50質量%である。
【0059】光安定剤を含有する化粧用調剤および製薬
学的調剤は、一般に少なくとも1つの油相を含有する担
持剤を基礎とするものである。しかも、親水性置換基を
有する化合物を使用する場合には、専ら水相を基礎とす
る調剤が可能である。それによれば、油、水中油型エマ
ルジョンおよび油中水型エマルジョン、クリーム剤、、
ペースト剤、リップスティック剤(Lippenschutzstiftm
assen)または脂肪不含ゲル剤がこれに該当する。
【0060】それに応じて、サンフィルター調製剤は、
例えば油中水型クリーム剤、水中油型クリーム剤および
水中油型ローション、エーロゾルフォームクリーム、ゲ
ル、油、フェットスティック(Fettstifte)剤、粉末
剤、スプレー剤またはアルコール性水性ローションとし
て液状、ペースト状または固体の形で存在することがで
きる。
【0061】化粧術において通常の油成分は、例えばパ
ラフィン油、グリセリルステアレート、イソプロピルミ
リステート、ジイソプロピルアジペート、2−エチルヘ
キサン酸セチルステアリルエステル、水素化ポリイソブ
テン、ワセリン、カプリル酸/カプリン酸トリグリセリ
ド、微晶質ワックス、ラノリンおよびステアリン酸であ
る。
【0062】添加剤として該当することができる通常の
化粧用助剤は、例えば共乳化剤、脂肪およびワックス、
安定剤、濃稠化剤、生物源作用物質、被膜形成剤、芳香
剤、着色剤、パール光沢剤、保存剤、顔料、電解質(例
えば、ステアリン酸マグネシウム)およびpH調節剤で
ある。共乳化剤としては、特に公知のW/O乳化剤およ
びそれとともにO/W乳化剤、例えばポリグリセリンエ
ステル、ソルビタンエステルまたは部分エステル化グリ
セリドがこれに該当する。脂肪の典型的な例は、グリセ
リドであり;ワックスとしては、特に場合によっては親
水性のワックスとの組合せ物の蜜ろう、パラフィン油ま
たはマイクロワックスを挙げることができる。安定剤と
しては、脂肪酸の金属塩、例えばステアリン酸マグネシ
ウム、ステアリン酸アルミニウムおよび/またはステア
リン酸亜鉛を使用することができる。適当な濃稠化剤
は、例えば架橋されたポリアクリル酸およびその誘導
体、多糖類、殊にキサンタンゴム、グアーグアー(Guar
-Guar)、寒天、アルギン酸塩およびチロース、カルボ
キシメチルセルロースおよびヒドロキシエチルセルロー
ス、さらに脂肪アルコール、モノグリセリドおよび脂肪
酸、ポリアクリレート、ポリビニルアルコールおよびポ
リビニルピロリドンである。生物源作用物質は、例えば
植物抽出液、蛋白水解物およびビタミン複合体であるこ
とができる。常用の被膜形成剤は、例えばヒドロコロイ
ド、例えばキトサン、微晶質キトサンまたは四量体化さ
れたキトサン、ポリビニルピロリドン、ビニルピロリド
ン−ビニルアセテート共重合体、アクリル酸系列の重合
体、第四セルロース誘導体および類似の化合物である。
保存剤としては、例えばホルムアルデヒド溶液、p−ヒ
ドロキシベンゾエートまたはソルビン酸が適当である。
パール光沢剤としては、例えばグリコールジステアリン
酸エステル、例えばエチレングリコールジステアレート
がこれに該当するが、しかし、脂肪酸および脂肪酸モノ
グリコールエステルもこれに該当する。着色剤として
は、例えばFarbstoffkoimmission der DeutschenForsch
ungsgemeinschaftの刊行物”Kosmetische Faerbemitte
l”、Verlag Chemiez社, Weinheim, 1984発行に纏めら
れているような、化粧の目的に適しておりかつ容認され
る物質を使用することができる。この着色剤は、通常、
全混合物に対して0.001〜0.1質量の濃度で使用
される。
【0063】助剤および添加剤の全含量は、薬剤に対し
て1〜80質量%、有利に6〜40質量であることがで
き、非水性の含量(”活性剤”)は、20〜80質量
%、有利に30〜70質量%であることができる。薬剤
の製造は、自体公知の方法で、例えば熱間乳化、常温乳
化、熱間−熱間/常温乳化もしくはPIT乳化によって
行なうことができる。この場合には、化学反応を生じさ
せない純粋に機械的な方法が重要である。
【0064】最後に、UV−BフィルターとUV−Aフ
ィルターからなる本発明により使用すべき組合せの全体
系において安定である場合には、UV−A領域内で吸収
する他の自体公知の物質を一緒に使用することができ
る。
【0065】式Iの本発明により使用すべき化合物との
組合せ物で使用されるUVフィルター物質としては、U
V−A−フィルター物質およびUV−B−フィルター物
質がこれに該当する。例えば、次のものが挙げられる
(第2表参照):
【0066】
【表2】
【0067】
【表3】
【0068】最後に、微細化された顔料、例えば二酸化
チタンおよび酸化チタンを挙げることもできる。
【0069】UV線からヒトの皮膚を保護するために、
式Iの本発明による光安定剤は、シャンプー、ローショ
ン、ゲル剤、ヘアスプレー、エアゾール−フォームクリ
ームまたはエマルジョン中に0.1〜10質量%、有利
に1〜7質量%の濃度で混入されていてよい。この場
合、それぞれの調剤は、なかんずく毛髪の洗浄、着色な
らびに整髪のために使用されてもよい。
【0070】本発明により使用すべき化合物は、一般に
鮮明なバンド構造を有するUV−A領域内で特に高い吸
収能を示す。更に、この本発明により使用すべき化合物
は、化粧用油中で良好に可溶性であり、化粧用調剤中に
簡単に混入することができる。化合物Iを用いて得られ
るエマルジョンは、特に高い安定性を示し、化合物Iそ
れ自体は、高い光安定性を示し、Iを用いて得られた調
剤は、心地よい毛髪の感触を示す。
【0071】また、式Iの本発明による化合物のUV−
フィルター作用は、化粧用調剤および製薬学的調剤中で
の作用物質および助剤の安定化のために利用されてもよ
い。
【0072】
【実施例】I.製造 例1 第2表のNo.2の化合物に関する製造方法 a)4−ヒドロキシアセトフェノン0.5モル、1,4
−ジブロムブタン0.25モルおよび炭酸カリウム0.
5モルをジメチルホルムアミド200ml中で4時間8
0℃に加熱した。この混合物に水600mlを添加し、
室温で30分間攪拌し、この場合生成物が沈殿した。沈
殿物を吸引濾過し、3回水100ml宛で洗浄し、50
℃で真空(200ミリバール)中で乾燥させた。収量:
次式:
【0073】
【化12】
【0074】で示される二量体アセトフェノン68g
(理論値の83%)。
【0075】b)例1aからの化合物65.2g(0.
2モル)およびマロン酸ジニトリル264.g(0.4
モル)をトルオール500ml中に溶解し、フェノキシ
酢酸およびサリチル酸それぞれ9.2g宛を添加した。
60℃に加熱し、飽和するまでアンモニアを導入した。
引続き、反応混合物を還流下に加熱し、その際生成され
る反応水を分離した。形成された沈殿物を吸引濾過し、
メタノールおよび水それぞれ100ml宛で後洗浄し
た。引続き、真空(200ミリバール)中で50℃で乾
燥させた。収量:73g(理論値の86%)。
【0076】
【化13】
【0077】第3表の化合物1および3〜6の製造は、
例1と同様に行なわれる。
【0078】
【表4】
【0079】例2 光安定性を測定するための標準化された方法(太陽光試
験) 試験すべき光安定剤の5質量%のアルコール溶液をエッ
ペンドルフ型ピペット(20μl)を用いてガラス小板
のフライス削り部上に塗布する。アルコールの存在によ
って、溶液は、粗面化されたガラス表面上に均一に分布
する。塗布された量は、日焼け止めクリーム剤において
平均的な光保護ファクターを達成させるために必要とさ
れる光安定剤の量に相当する。試験の場合には、それぞ
れ4個のガラス小板が照射される。蒸発時間および照射
時間は、それぞれ30分間である。ガラス小板は、太陽
光試験装置の底面に存在する水冷部によって照射の間に
簡単に冷却される。太陽光試験装置内の温度は、照射の
間、40℃である。試料を照射した後、この試料をエタ
ノールを用いて暗色の50mlの測定フラスコ中で洗浄
し、光度計を用いて測定する。同様に、空試験の試料を
ガラス小板上に塗布し、室温で30分間蒸発させる。別
の試料と同様に前記試料をエタノールで洗浄除去し、1
00mlに希釈し、測定する。
【0080】比較−光安定性:
【0081】
【化14】
【0082】化粧の目的のためにエマルジョンを製造す
るための一般的な製造方法 全ての油溶性成分を攪拌釜中で85℃に加熱する。全成
分が溶融しているか、或いは全液相が存在する場合に
は、水相を均質化させながら混入する。エマルジョンを
攪拌させながら約40℃に冷却し、付香し、均質化し、
次に絶えず攪拌しながら25℃に冷却する。 調剤 例3 リップ手入れ剤用の組成物 物質含量 質量% 無水オイケリヌム(Eucerinum anhydricum) 100質量%になるまで グリセリン 10.00 二酸化チタン 10.00 第3表の化合物No.2 5.00 オクチルメトキシシンナメート 8.00 酸化亜鉛 5.00 ヒマシ油 4.00 ペンタエリトリチルステアレート/カプレート/カプリレート/アジペート 4.00 グリセリルステアレートSE 3.00 蜜ろう 2.00 微晶質ワックス 2.00 クアテルニウム(Quaternium)−18ベントナイト 2.00 PEG−45/ドデシルグリコール共重合体 1.50 例4 リップ手入れ剤用の組成物 物質含量 質量% 無水オイケリヌム(Eucerinum anhydricum) 100質量%になるまで グリセリン 10.00 二酸化チタン 10.00 第3表の化合物No.4 5.00 オクチルメトキシシンナメート 8.00 酸化亜鉛 5.00 ヒマシ油 4.00 ペンタエリトリチルステアレート/カプレート/カプリレート/アジペート 4.00 グリセリルステアレートSE 3.00 蜜ろう 2.00 微晶質ワックス 2.00 クアテルニウム(Quaternium)−18ベントナイト 2.00 PEG−45/ドデシルグリコール共重合体 1.50 例5 微細顔料を有する日焼け止め剤用の組成 物質含量 質量% 水 100質量%になるまで オクチルメトキシシンナメート 10.00 PEG−7−水素化ヒマシ油 6.00 二酸化チタン 6.00 第3表の化合物No.2 5.00 鉱油 5.00 イソアミルp−メトキシシンナメート 5.00 プロピレングリコール 8.00 ジョジョバ油 3.00 4−メチルベンジリデンカンファー 3.00 PEG−45/ドデシルグリコール共重合体 2.00 ジメチコン 1.00 PEG−40−水素化ヒマシ油 0.50 トコフェリルアセテート 0.50 フェノキシエタノール 0.50 EDTA 0.20 例6 微細顔料を有する日焼け止め剤用の組成 物質含量 質量% 水 100質量%になるまで オクチルメトキシシンナメート 10.00 PEG−7−水素化ヒマシ油 6.00 二酸化チタン 6.00 第3表の化合物No.4 5.00 鉱油 5.00 イソアミルp−メトキシシンナメート 5.00 プロピレングリコール 5.00 ジョジョバ油 3.00 4−メチルベンジリデンカンファー 3.00 PEG−45/ドデシルグリコール共重合体 2.00 ジメチコン 1.00 PEG−40−水素化ヒマシ油 0.50 トコフェリルアセテート 0.50 フェノキシエタノール 0.50 EDTA 0.20 例7 脂肪不含ゲル剤 物質含量 質量% 水 100質量%になるまで オクチルメトキシシンナメート 8.00 二酸化チタン 7.00 第3表の化合物No.2 5.00 グリセリン 5.00 PEG−25 PABA 5.00 4−メチルベンジリデンカンファー 1.00 アクリレートC10〜C30アルキルアクリレート クロスポリマー(Acrylate C10〜C30 Alkyl Acrylat Crosspolymer) 0.40 イミダゾリジニル尿素 0.30 ヒドロキシエチルセルロース 0.25 ナトリウムメチルパラベン(Sodium Methylparaben) 0.25 二ナトリウムEDTA 0.20 芳香剤 0.15 ナトリウムプロピルパラベン(Sodium Propylparaben)0.15 水酸化ナトリウム 0.10 例8 脂肪不含ゲル剤 物質含量 質量% 水 100質量%になるまで オクチルメトキシシンナメート 8.00 二酸化チタン 7.00 第3表の化合物No.4 5.00 グリセリン 5.00 PEG−25 PABA 5.00 4−メチルベンジリデンカンファー 1.00 アクリレートC10〜C30アルキルアクリレート クロスポリマー(Acrylate C10〜C30 Alkyl Acrylat Crosspolymer) 0.40 イミダゾリジニル尿素 0.30 ヒドロキシエチルセルロース 0.25 ナトリウムメチルパラベン(Sodium Methylparaben) 0.25 二ナトリウムEDTA 0.20 芳香剤 0.15 ナトリウムプロピルパラベン(Sodium Propylparaben)0.15 水酸化ナトリウム 0.10 例9 日焼け止めクリーム(LSF20) 物質含量 質量% 水 100質量%になるまで オクチルメトキシシンナメート 8.00 二酸化チタン 8.00 PEG−7−水素化ヒマシ油 6.00 第3表の化合物No.2 5.00 鉱油 6.00 酸化亜鉛 5.00 パルミチン酸イソプロピル 5.00 イミダゾリジニル尿素 5.00 ジョジョバ油 3.00 PEG−45/ドデシルグリコール共重合体 2.00 4−メチルベンジリデンカンファー 1.00 ステアリン酸マグネシウム 0.60 トコフェリルアセテート 0.50 メチルパラベン(Methylparaben) 0.25 二ナトリウムEDTA 0.20 プロピルパラベン(Propylparaben) 0.15 例10 日焼け止めクリーム(LSF20) 物質含量 質量% 水 100質量%になるまで オクチルメトキシシンナメート 8.00 二酸化チタン 8.00 PEG−7−水素化ヒマシ油 6.00 第3表の化合物No.4 5.00 鉱油 6.00 酸化亜鉛 5.00 パルミチン酸イソプロピル 5.00 イミダゾリジニル尿素 5.00 ジョジョバ油 3.00 PEG−45/ドデシルグリコール共重合体 2.00 4−メチルベンジリデンカンファー 1.00 ステアリン酸マグネシウム 0.60 トコフェリルアセテート 0.50 メチルパラベン(Methylparaben) 0.25 二ナトリウムEDTA 0.20 プロピルパラベン(Propylparaben) 0.15 例11 耐水性日焼け止めクリーム 物質含量 質量% 水 100質量%になるまで オクチルメトキシシンナメート 8.00 PEG−7−水素化ヒマシ油 5.00 プロピレングリコール 5.00 パルミチン酸イソプロピル 4.00 カプリル酸/カプリン酸トリグリセリド 4.00 第3表の化合物No.2 5.00 グリセリン 4.00 ジョジョバ油 3.00 4−メチルベンジリデンカンファー 2.00 二酸化チタン 2.00 PEG−45/ドデシルグリコール共重合体 1.50 ジメチコン 1.50 硫酸マグネシウム 0.70 ステアリン酸マグネシウム 0.50 芳香剤 0.15 例12 耐水性日焼け止めクリーム 物質含量 質量% 水 100質量%になるまで オクチルメトキシシンナメート 8.00 PEG−7−水素化ヒマシ油 5.00 プロピレングリコール 5.00 パルミチン酸イソプロピル 4.00 カプリル酸/カプリン酸トリグリセリド 4.00 第3表の化合物No.4 5.00 グリセリン 4.00 ジョジョバ油 3.00 4−メチルベンジリデンカンファー 2.00 二酸化チタン 2.00 PEG−45/ドデシルグリコール共重合体 1.50 ジメチコン 1.50 硫酸マグネシウム 0.70 ステアリン酸マグネシウム 0.50 芳香剤 0.15 例13 日焼け止め乳液(LSF6) 物質含量 質量% 水 100質量%になるまで 鉱油 10.00 PEG−7−水素化ヒマシ油 6.00 パルミチン酸イソプロピル 5.00 オクチルメトキシシンナメート 3.50 第3表の化合物No.2 5.00 カプリル酸/カプリン酸トリグリセリド 3.00 ジョジョバ油 3.00 PEG−45/ドデシルグリコール共重合体 2.00 硫酸マグネシウム 0.70 ステアリン酸マグネシウム 0.60 トロフェリルアセテート 0.50 グリセリン 0.30 メチルパラベン(Methylparaben) 0.25 プロピルパラベン(Propylparaben) 0.15 トコフェロール 0.05 例14 日焼け止め乳液(LSF6) 物質含量 質量% 水 100質量%になるまで 鉱油 10.00 PEG−7−水素化ヒマシ油 6.00 パルミチン酸イソプロピル 5.00 オクチルメトキシシンナメート 3.50 第3表の化合物No.4 5.00 カプリル酸/カプリン酸トリグリセリド 3.00 ジョジョバ油 3.00 PEG−45/ドデシルグリコール共重合体 2.00 硫酸マグネシウム 0.70 ステアリン酸マグネシウム 0.60 トロフェリルアセテート 0.50 グリセリン 0.30 メチルパラベン(Methylparaben) 0.25 プロピルパラベン(Propylparaben) 0.15 トコフェロール 0.05
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 フランク プレヒトル ドイツ連邦共和国 フランクフルト ヴィ ーラントシュトラーセ 61 (72)発明者 トーマス ヴュンシュ ドイツ連邦共和国 シュパイヤー ザンク ト クラーラ クロステルヴェーク 6 (72)発明者 ホルスト ヴェステンフェルダー ドイツ連邦共和国 ノイシュタット ミュ ラー−トゥルガウ−ヴェーク 6

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 太陽光線からヒトの皮膚またはヒトの毛
    髪を保護するための化粧用調剤および製薬学的調剤にお
    ける光安定性のUVフィルターとしての単独でかまたは
    化粧用調剤および製薬学的調剤にとって公知のUV範囲
    内で吸収する化合物と一緒での式I 【化1】 〔式中、置換基は互いに独立に次の意味を有する:R
    およびRは、水素、OH、NH、C〜C12−ア
    ルキル、C〜C −アルコキシ、C〜C12−ア
    ルキルアミノ、C〜C12−ジアルキルアミノを表わ
    すか或いはカルボキシレート基、スルホネート基または
    アンモニウム基からなる群から選択された水溶性にする
    置換基を表わし;RはCOOR、COR、CON
    、CNを表わし;RはCOOR、CO
    、CONR、CNを表わし;RはC〜C
    12−アルキルを表わし;RおよびRは、水素、置
    換または非置換C〜C12−アルキル、置換または非
    置換C〜C10−アルケニル、置換または非置換C
    〜C10−シクロアルキル、置換または非置換C〜C
    10−シクロアルケニル、置換または非置換アリール、
    置換または非置換ヘテロアリールを表わし;AはO、
    S、N−Rを表わし;BはC〜C12−アルキレ
    ン、C〜C12−シクロアルキレン、C〜C
    アラルキレン、C〜C21−モノオキソアラルキレ
    ン、[−X−]−Yを表わし;Rは水素、C〜C
    12−アルキルを表わし;Xは、−CH−CH−Z
    −、−CH−CH−CH−Z−、−CH(C
    )−CH−Z−、−CH−CH−CH−C
    −Z−、−CH−CH(CH−CH)−Z−
    を表わし;Yは、−CH−CH−、−CH−CH
    −CH−、−CH(CH)−CH−、−CH
    −CH−CH−CH−、−CH−CH(CH
    −CH)−を表わし;ZはO、Sを表わし;nは1〜
    150で表わし、この場合基R、RおよびRの中
    のそれぞれ2個は、これら2個が結合している芳香環と
    一緒に5−または6員環を形成することができる〕で示
    される置換された二量体α−アルキル−スチロール誘導
    体の使用。
  2. 【請求項2】 置換基が次の意味を有する:Rおよび
    が水素、C〜C−アルキル、C〜C−アル
    コキシを表わすか或いはカルボキシレート基、スルホネ
    ート基またはアンモニウム基からなる群から選択された
    水溶性にする置換基を表わし;RはCOOR、CN
    を表わし;RはCOOR、CNを表わし;RはC
    〜C−アルキルを表わし;RはC〜C12−ア
    ルキルを表わし;AはOを表わし;BはC〜C12
    アルキレン、C〜C22−アラルキレン、C〜C
    12−シクロアルキレン、[−X−]−Yを表わし;
    Xは、−CH−CH−O−、−CH−CH−C
    −O−、−CH(CH)−CH−O−、−CH
    −CH−CH−CH−O−、−CH−CH
    (CH−CH)−O−を表わし;Yは、−CH
    CH−、−CH−CH−CH−、−CH(CH
    )−CH−、−CH−CH−CH−CH
    −、−CH−CH(CH−CH)−を表わし;
    nは1〜20を表わす、請求項1記載の式Iの化合物の
    使用。
  3. 【請求項3】 置換基が次の意味を有する:Rおよび
    が水素、C〜C−アルキル、C〜C−アル
    コキシを表わすか或いはカルボキシレート基、スルホネ
    ート基またはアンモニウム基からなる群から選択された
    水溶性にする置換基を表わし;RおよびRはCNを
    表わし;RはC〜C−アルキルを表わし;AはO
    を表わし;BはC〜C12−アルキレン、[−X−]
    −Yを表わし;Xは、−CH−CH−O−、−C
    H(CH)−CH−O−を表わし;Yは、−CH
    −CH−、−CH(CH)−CH−を表わし;n
    は1〜20を表わす、請求項1または2に記載の式Iの
    化合物の使用。
  4. 【請求項4】 次の構造式Ia 【化2】 〔式中、置換基は次の意味を有する:RはC〜C
    −アルキルを表わし;BはC〜C12−アルキレンを
    表わす〕を有する請求項1から3までのいずれか1項に
    記載の置換された二量体α−アルキル−スチロール誘導
    体の使用。
  5. 【請求項5】 光安定性のUV−A−フィルターとして
    の請求項1から4までのいずれか1項に記載の式Iの化
    合物の使用。
  6. 【請求項6】 化粧用調剤および製薬学的調剤へのUV
    安定剤としての請求項1に定義された式Iの化合物の使
    用。
  7. 【請求項7】 280〜400nmの範囲内のUV光に
    対してヒトの表皮またはヒトの毛髪を保護するための光
    保護剤含有化粧用調剤および製薬学的調剤において、該
    調剤が化粧術および製薬学的に適した担持剤内で単独ま
    たは化粧用調剤および製薬学的調剤にとって公知のUV
    範囲内で吸収する化合物と一緒に光安定性UVフィルタ
    ーとして式I 【化3】 〔式中、置換基は、請求項1に記載の意味を有する〕で
    示される有効量の化合物を含有することを特徴とする、
    光保護剤含有化粧用調剤および製薬学的調剤。
  8. 【請求項8】 置換基が請求項4に記載の意味を有する
    式Iaの化合物をUV−A−フィルターとして含有す
    る、請求項7記載の光保護剤含有化粧用調剤および製薬
    学的調剤。
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