JP7179533B2 - 自己回復又は自己修復膜形成組成物 - Google Patents
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Description
(a)少なくとも1種のカチオン性多糖と、
(b)3つ以上の酸基を有する少なくとも1種の架橋剤又はその塩と、
(c)少なくとも1種の生理学的に許容される揮発性媒体と
を含む組成物であって、
任意選択により界面活性剤を、組成物の総質量に対して1質量%以下、好ましくは0.5質量%以下、より好ましくは0.3質量%以下の量で含む、組成物によって達成することができる。
(a)少なくとも1種のカチオン性多糖と、
(b)3つ以上の酸基を有する少なくとも1種の架橋剤又はその塩と、
(c)少なくとも1種の生理学的に許容される揮発性媒体と
を含み、
任意選択により界面活性剤を、組成物の総質量に対して1質量%以下、好ましくは0.5質量%以下、より好ましくは0.3質量%以下の量で含む。
本発明による組成物は、(a)少なくとも1種のカチオン性多糖を含む。2つ以上の異なるタイプの(a)カチオン性多糖を組み合わせて使用してもよい。したがって、単一のタイプの(a)カチオン性多糖、又は異なるタイプの(a)カチオン性多糖の組合せを使用することができる。
本発明による組成物は、(b)3つ以上の酸基を有する少なくとも1種の架橋剤又はその塩を含む。2つ以上の異なるタイプの(b)架橋剤又はそれらの塩を組み合わせて使用してもよい。そのため、単一のタイプの(b)架橋剤若しくはその塩、又は異なるタイプの(b)架橋剤若しくはそれらの塩の組合せが使用されてもよい。
本発明による組成物は、少なくとも1種の(c)生理学的に許容される揮発性媒体を含む。
本発明による組成物は、(d)少なくとも1種のアニオン性ポリマーを含んでもよい。2つ以上の異なるタイプの(d)アニオン性ポリマーを組み合わせて使用してもよい。したがって、単一のタイプの(d)アニオン性ポリマー、又は異なるタイプの(d)アニオン性ポリマーの組合せを使用することができる。
- モノマー(a')及び(c)、若しくは(a')、(b)及び(c)、若しくは(a")及び(c)、若しくは(a")、(b)及び(c)の共重合、又は
- モノマー(a')、若しくはモノマー(a')及び(b)、若しくは(a")及び(b)から形成されたコポリマーの、一価の非イオン性両親媒性化合物又は第一級若しくは第二級脂肪族アミンによる修飾(特に、エステル化若しくはアミド化)
のいずれかによって得ることができる。
R-(OCH2CHR')m-(OCH2CH2)n-OH (V)
(式中、Rは、6から30個の炭素原子を含むアルキル又はアルキレン基及び8から30個の炭素原子を含むアルキル基を有するアルキルアリール基から選択され、R'は、1から4個の炭素原子を含むアルキル基から選択され、nは、およそ1から150の範囲の平均数であり、mは、およそ0から50の範囲の平均数であり、ただし、nは、少なくともmと同等である)
を有する化合物である。
本発明による組成物は、少なくとも1種の美容有効成分を含んでもよい。美容有効成分には制限がない。2種以上の美容有効成分を組み合わせて使用してもよい。したがって、単一のタイプの美容有効成分、又は異なるタイプの美容有効成分の組合せを使用することができる。
本発明の好ましい実施形態によれば、美容有効成分は、UV遮蔽剤から選択することができる。
本発明による組成物は、少なくとも1種の無機UV遮蔽剤を含んでもよい。2種以上の無機UV遮蔽剤を使用する場合、これらは同じであっても異なっていてもよく、好ましくは同じである。
シリカで被覆された酸化チタン、例えばIkeda社製の製品「Sunveil」、
シリカ及び酸化鉄で被覆された酸化チタン、例えばIkeda社製の製品「Sunveil F」、
シリカ及びアルミナで被覆された酸化チタン、例えばTayca社製の製品「Microtitanium Dioxide MT 500 SA」、Tioxide社製の製品「Tioveil」、及びRhodia社製の製品「Mirasun TiW 60」、
アルミナで被覆された酸化チタン、例えばIshihara社製の製品「Tipaque TTO-55(B)」及び「Tipaque TTO-55(A)」、並びにKemira社製の「UVT 14/4」、
アルミナ及びステアリン酸アルミニウムで被覆された酸化チタン、例えばTayca社製の製品「Microtitanium Dioxide MT 100 T、MT 100 TX、MT 100 Z若しくはMT-01」、Uniqema社製の製品「Solaveil CT-10 W」及び「Solaveil CT 100」、並びにMerck社製の製品「Eusolex T-AVO」、
アルミナ及びラウリン酸アルミニウムで被覆された酸化チタン、例えばTayca社製の製品「Microtitanium Dioxide MT 100 S」、
酸化鉄及びステアリン酸鉄で被覆された酸化チタン、例えばTayca社製の製品「Microtitanium Dioxide MT 100 F」、
酸化亜鉛及びステアリン酸亜鉛で被覆された酸化チタン、例えばTayca社製の製品「BR351」、
シリカ及びアルミナで被覆され、シリコーンで処理された酸化チタン、例えばTayca社製の製品「Microtitanium Dioxide MT 600 SAS」、「Microtitanium Dioxide MT 500 SAS」、及び「Microtitanium Dioxide MT 100 SAS」、
シリカ、アルミナ、及びステアリン酸アルミニウムで被覆され、シリコーンで処理された酸化チタン、例えばTitan Kogyo社製の製品「STT-30-DS」、
シリカで被覆され、シリコーンで処理された酸化チタン、例えばKemira社製の製品「UV-Titan X 195」、
アルミナで被覆され、シリコーンで処理された酸化チタン、例えばIshihara社製の製品「Tipaque TTO-55(S)」若しくはKemira社製の製品「UV Titan M 262」、
トリエタノールアミンで被覆された酸化チタン、例えばTitan Kogyo社製の製品「STT-65-S」、
ステアリン酸で被覆された酸化チタン、例えばIshihara社製の製品「Tipaque TTO-55(C)」、又は
ヘキサメタリン酸ナトリウムで被覆された酸化チタン、例えばTayca社製の製品「Microtitanium Dioxide MT 150 W」
であってもよい。
平均一次粒径15nmの、ステアリン酸(及び)水酸化アルミニウム(及び)TiO2、例えばTayca社製の製品「MT-100 TV」、
平均一次粒径15nmの、ジメチコン(及び)ステアリン酸(及び)水酸化アルミニウム(及び)TiO2、例えばMiyoshi Kasei社製の製品「SA-TTO-S4」、
平均一次粒径15nmの、シリカ(及び)TiO2、例えばTayca社製の製品「MT-100 WP」、
平均一次粒径10nmの、ジメチコン(及び)シリカ(及び)水酸化アルミニウム(及び)TiO2、例えばTayca社製の製品「MT-Y02」及び「MT-Y-110 M3S」、
平均一次粒径15nmの、ジメチコン(及び)水酸化アルミニウム(及び)TiO2、例えばMiyoshi Kasei社製の製品「SA-TTO-S3」、
平均一次粒径15nmの、ジメチコン(及び)アルミナ(及び)TiO2、例えばSachtleben社製の製品「UV TITAN M170」、並びに
平均一次粒径15nmの、シリカ(及び)水酸化アルミニウム(及び)アルギン酸(及び)TiO2、例えばTayca社製の製品「MT-100 AQ」。
Sunsmart社により商標「Z-cote」で市販されているもの、
Elementis社によって商標「Nanox」で市販されているもの;及び
Nanophase Technologies社によって商標「Nanogard WCD 2025」で市販されているものがある。
Toshiba社によって商標「Oxide Zinc CS-5」で市販されているもの(ポリメチルヒドロシロキサンで被覆されたZnO)、
Nanophase Technologies社によって商標「Nanogard Zinc Oxide FN」で(Finsolv TN、安息香酸アルキル(C12~C15)中の40%分散体として)市販されているもの、
Daito社によって商標「Daitopersion Zn-30」及び「Daitopersion Zn-50」で市販されているもの(シリカ及びポリメチルヒドロシロキサンで被覆されたナノ酸化亜鉛を30%又は50%含む、オキシエチレン化ポリジメチルシロキサン/シクロポリメチルシロキサン分散体)、
Daikin社によって商標「NFD Ultrafine ZnO」で市販されているもの(シクロペンタシロキサン分散体としての、ペルフルオロアルキルホスフェート及びペルフルオロアルキルエチルベースのコポリマーで被覆されたZnO)、
Shin-Etsu社によって商標「SPD-Z1」で市販されているもの(シクロジメチルシロキサン中に分散させた、シリコーングラフトアクリルポリマーで被覆されたZnO)、
ISP社によって商標「Escalol Z100」で市販されているもの(エチルヘキシルメトキシシンナメート/PVP-ヘキサデセンコポリマー/メチコン混合物中に分散させたアルミナ処理ZnO)、
Fuji Pigment社によって商標「Fuji ZnO-SMS-10」で市販されているもの(シリカ及びポリメチルシルセスキオキサンで被覆されたZnO)、並びにElementis社によって商標「Nanox Gel TN」で市販されているもの[ヒドロキシステアリン酸重縮合物を含む安息香酸アルキル(C12~C15)中に55%で分散させたZnO]がある。
本発明による組成物は、少なくとも1種の有機UV遮蔽剤を含んでもよい。2種以上の有機UV遮蔽剤を使用する場合、これらは同じであっても異なっていてもよく、好ましくは同じである。
- ジベンゾイルメタン化合物: 具体的には商標「Parsol 1789」でHoffmann-La Roche社より市販されているブチルメトキシジベンゾイルメタン、及びイソプロピルジベンゾイルメタン。
- ケイ皮酸化合物: 商標「Parsol MCX」でHoffmann-La Roche社より市販されているメトキシケイ皮酸エチルヘキシル、メトキシケイ皮酸イソプロピル、メトキシケイ皮酸イソプロポキシ、商標「Neo Heliopan E 1000」でHaarmann and Reimer社より市販されているメトキシケイ皮酸イソアミル、シノキサート(4-メトキシケイ皮酸2-エトキシエチル、メトキシケイ皮酸DEA、メチルケイ皮酸ジイソプロピル、及びエチルヘキサン酸ジメトキシケイ皮酸グリセリル。
- サリチル酸化合物: Rona/EM Industries社により「Eusolex HMS」の商標で市販されているホモサレート(サリチル酸ホモメンチル);Haarmann and Reimer社により「Neo Heliopan OS」の商標で市販されているサリチル酸エチルヘキシル;サリチル酸グリコール;サリチル酸ブチルオクチル;サリチル酸フェニル;Scher社により「Dipsal」の商標で市販されているサリチル酸ジプロピレングリコール;及びHaarmann and Reimer社により「Neo Heliopan TS」の商標で市販されているサリチル酸TEA。
- カンファー化合物、特にベンジリデンカンファー誘導体: Chimex社により「Mexoryl SD」の商標で製造されている3-ベンジリデンカンファー;Merck社により「Eusolex 6300」の商標で市販されている4-メチルベンジリデンカンファー;Chimex社により「Mexoryl SL」の商標で製造されているベンジリデンカンファースルホン酸;Chimex社により「Mexoryl SO」の商標で製造されているメト硫酸カンファーベンザルコニウム;Chimex社により「Mexoryl SX」の商標で製造されているテレフタリリデンジカンファースルホン酸;及びChimex社により「Mexoryl SW」の商標で製造されているポリアクリルアミドメチルベンジリデンカンファー。
- ベンゾフェノン化合物: BASF社により「Uvinul 400」の商標で市販されているベンゾフェノン-1(2,4-ジヒドロキシベンゾフェノン);BASF社により「Uvinul D50」の商標で市販されているベンゾフェノン-2(テトラヒドロキシベンゾフェノン);BASF社により「Uvinul M40」の商標で市販されているベンゾフェノン-3(2-ヒドロキシ-4-メトキシベンゾフェノン)又はオキシベンゾン;BASF社により「Uvinul MS40」の商標で市販されているベンゾフェノン-4(ヒドロキシメトキシベンゾフェノンスルホン酸);ベンゾフェノン-5(ヒドロキシメトキシベンゾフェノンスルホン酸ナトリウム);Norquay社により「Helisorb 11」の商標で市販されているベンゾフェノン-6(ジヒドロキシジメトキシベンゾフェノン);American Cyanamid社により「Spectra-Sorb UV-24」の商標で市販されているベンゾフェノン-8;BASF社により「Uvinul DS-49」の商標で市販されているベンゾフェノン-9(ジヒドロキシジメトキシベンゾフェノンジスルホン酸二ナトリウム);ベンゾフェノン-12、及び安息香酸n-ヘキシル2-(4-ジエチルアミノ-2-ヒドロキシベンゾイル)(BASF社によるUVINUL A+)。
- β,β-ジフェニルアクリレート化合物: 特にBASF社により「Uvinul N539」の商標で市販されているオクトクリレン;及び特にBASF社により「Uvinul N35」の商標で市販されているエトクリレン。
- トリアジン化合物: Sigma 3V社により「Uvasorb HEB」の商標で市販されているジエチルヘキシルブタミドトリアゾン;2,4,6-トリス(ジネオペンチル4'-アミノベンザルマロネート)-s-トリアジン、CIBA GEIGY社により<<TINOSORB S>>の商標で市販されているビス-エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン、及びBASF社により<<UVINUL T150>>の商標で市販されているエチルヘキシルトリアゾン。
- ベンゾトリアゾール化合物、特にフェニルベンゾトリアゾール誘導体: 分枝状及び直鎖状の2-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-6-ドデシル-4-メチルフェノ、及びUSP 5240975に記載されているもの。
- ベンザルマロネート化合物: 4'-メトキシベンザルマロン酸ジネオペンチル、及びベンザルマロネート官能基を含むポリオルガノシロキサン、例えば、Hoffmann-LaRoche社によって「Parsol SLX」の商標で市販されているポリシリコーン-15。
- ベンゾイミダゾール化合物、特にフェニルベンゾイミダゾール誘導体: 特にMerck社により「Eusolex 232」の商標で市販されているフェニルベンゾイミダゾールスルホン酸、及びHaarmann and Reimer社により「Neo Heliopan AP」の商標で市販されているフェニルジベンゾイミダゾールテトラスルホン酸二ナトリウム。
- イミダゾリン化合物: ジメトキシベンジリデンジオキソイミダゾリンプロピオン酸エチルヘキシル。
- ビス-ベンゾアゾリル化合物: EP-669,323及び米国特許第2,463,264号に記載の誘導体。
- パラアミノ安息香酸化合物: PABA(p-アミノ安息香酸)、エチルPABA、エチルジヒドロキシプロピルPABA、ペンチルジメチルPABA、特にISP社により「Escalol 507」の商標で市販されているエチルヘキシルジメチルPABA、グリセリルPABA、及びBASF社により「Uvinul P25」の商標で市販されているPEG-25 PABA。
- メチレンビス-(ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール)化合物、例えばFairmount Chemical社により「Mixxim BB/200」の商標で、固体形態で市販されている2,2'-メチレンビス[6-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4-メチル-フェノール]、BASF社により「Tinosorb M」の商標で、又はFairmount Chemical社により「MixximBB/100」の商標で、水性分散体中の微粉化形態で市販されている2,2'-メチレンビス[6-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4-(1,1,3,3-テトラメチルブチル)フェノール]、及び米国特許第5,237,071号、同第5,166,355号、GB-2,303,549、DE-197,26,184及びEP-893,119に記載されている誘導体、並びに
Rhodia Chimie社により「Silatrizole」の商標で、又はL'Oreal社により「Mexoryl XL」の商標で市販されている、下記に示すようなドロメトリゾールトリシロキサン。
- 遮蔽性ポリマー及び遮蔽性シリコーン: WO 93/04665に記載のシリコーン。
- α-アルキルスチレン由来ダイマー: DE-19855649に記載のダイマー。
- 4,4-ジアリールブタジエン化合物: 1,1-ジカルボキシ(2,2'-ジメチルプロピル)-4,4-ジフェニルブタジエン。
ブチルメトキシジベンゾイルメタン、メトキシケイ皮酸エチルヘキシル、ホモサレート、サリチル酸エチルヘキシル、オクトクリレン、フェニルベンゾイミダゾールスルホン酸、ベンゾフェノン-3、ベンゾフェノン-4、ベンゾフェノン-5、n-ヘキシル2-(4-ジエチルアミノ-2-ヒドロキシベンゾイル)ベンゾエート、1,1'-(1,4-ピペラジンジイル)ビス[1-[2-[4-(ジエチルアミノ)-2-ヒドロキシベンゾイル]フェニル]-メタノン、4-メチルベンジリデンカンファー、テレフタリリデンジカンファースルホン酸、フェニルジベンゾイミダゾールテトラスルホン酸二ナトリウム、エチルヘキシルトリアゾン、ビス-エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン、ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン、2,4,6-トリス(ジネオペンチル4'-アミノベンザルマロネート)-s-トリアジン、2,4,6-トリス(ジイソブチル4'-アミノベンザルマロネート)-s-トリアジン、2,4-ビス-(n-ブチル4'-アミノベンザルマロネート)-6-[(3-{1,3,3,3-テトラメチル-1-[(トリメチルシリルオキシ]-ジシロキサニル}プロピル)アミノ]-s-トリアジン、2,4,6-トリス-(ジフェニル)-トリアジン、2,4,6-トリス-(ターフェニル)-トリアジン、メチレンビス-ベンゾトリアゾリルテトラメチルブチルフェノール、ドロメトリゾールトリシロキサン、ポリシリコーン-15、ジネオペンチル4'-メトキシベンザルマロネート、1,1-ジカルボキシ(2,2'-ジメチルプロピル)-4,4-ジフェニルブタジエン、2,4-ビス[5-1(ジメチルプロピル)ベンゾオキサゾール-2-イル-(4-フェニル)イミノ]-6-(2-エチルヘキシル)イミノ-1,3,5-トリアジン、カンファーベンジルコニウムメトスルフェート及びそれらの混合物。
本発明による組成物のpHは、3から9、好ましくは3.5から8、より好ましくは4から7であってよい。
本発明による組成物は、少なくとも1種のアルカリ剤を含んでもよい。2種以上のアルカリ剤を組み合わせて使用してもよい。したがって、単一のタイプのアルカリ剤、又は異なるタイプのアルカリ剤の組合せを使用することができる。
に記載されているもの等のジアミン(これは、1,3-プロパンジアミン及びその誘導体により例示することができる)を挙げることができる。アルギニン、尿素及びモノエタノールアミンが好ましい。
本発明による組成物は、少なくとも1種の酸を含んでもよい。2種以上の酸を組み合わせて使用してもよい。したがって、単一のタイプの酸、又は異なるタイプの酸の組合せを使用することができる。
本発明による組成物は、少なくとも1種の緩衝剤を含んでもよい。2種以上の緩衝剤を組み合わせて使用してもよい。したがって、単一のタイプの緩衝剤、又は異なるタイプの緩衝剤の組合せを使用することができる。
本発明による組成物は、前述の成分に加えて化粧品に典型的に用いられる成分、具体的には、例えば染料、粉末、油、増粘剤、有機不揮発性溶媒、シリコーン及びシリコーン誘導体、動物又は植物に由来する天然抽出物、ワックス等を、本発明の効果を損なわない範囲内で含んでもよい。
本発明による組成物は、化粧用組成物として使用することを意図したものであってもよい。そのため、本発明による化粧用組成物は、ケラチン物質上への適用が意図されてもよい。ケラチン物質は、本明細書において、ケラチンを主要構成要素として含む材料を意味し、その例として、皮膚、頭皮、爪、唇、毛髪等を含む。したがって、本発明による化粧用組成物は、ケラチン物質、特に皮膚のための美容方法に使用することが好ましい。
本発明による組成物は、自己回復又は自己修復膜を容易に調製するために使用することができる。
本発明による組成物を基体、好ましくはケラチン基体、より好ましくは皮膚に塗布する工程と、
組成物を乾燥させる工程と
を含む、方法に関しうる。
(1)本発明による組成物を基体、好ましくはケラチン基体、より好ましくは皮膚に塗布する工程と、
組成物を乾燥させる工程と
を含む方法によって調製される膜、好ましくは化粧膜、及び
(2)少なくとも1種のカチオン性多糖と、3つ以上の酸基を有する少なくとも1種の架橋剤又はその塩と、
任意選択の少なくとも1種のアニオン性ポリマーと
を含む、膜、好ましくは化粧膜
に関しうる。
本発明はまた、
皮膚等のケラチン基体のための美容方法であって、本発明による組成物をケラチン基体に塗布する工程と、組成物を乾燥させて、ケラチン基体上に化粧膜を形成する工程とを含む方法、及び
皮膚等のケラチン基体上に化粧膜を調製するための本発明による組成物の使用
に関する。
(3つの成分(CMC/PQ-67/フィチン酸)で構成されるDICゲルの調製)
ポリアニオンとしてのカルボキシメチルセルロース(CMC)の10wt%水溶液1.8g、ポリカチオンとしてのポリクオタニウム-67(PQ-67)0.79g、架橋剤としてのフィチン酸の50wt%水溶液0.50g、水酸化ナトリウム0.15g、及び水96.76gを、ホモジナイザーを使用して混合した。こうして、安定な半透明分散体を成功裏に調製した。加熱を通して水を蒸発させることによって、この分散体を濃縮し、DICゲルを調製した。最終固体濃縮物は、約10wt%であった。
DICゲルを2片に切り分け、これらを室温で空気に接触させた。1時間後、これらの2片は互いに接着した。
濃縮DICゲルを小片に切り分け、ほうれい線に適用した。適用した断片は、ほうれい線において自己回復し、互いに同化した。最終的に、ほうれい線はDICゲルによって変化し、ほうれい線はあまり目立たなくなった。
(DICゲルエマルションの調製)
0.593gのポリクオタニウム-67及び0.135gのセルロースガムを67.4gの水(A1相)中に溶解し、0.11gの水酸化ナトリウム(A2相)をその混合物中に加えた。0.375gの50wt%フィチン酸水溶液を5gの水(A3相)で希釈し、このA3相を上記の混合物と混合してDICゲル溶液を調製した。このDICゲル溶液に、水(A4相)を添加した。調製は、ホモジナイザーを使用して実施した。油相(B)を、室温でDICゲル溶液で乳化し、DICゲルエマルションを調製した。
1mlのDICゲルエマルションをガラス上に適用し、室温で15紛間乾燥して、DICゲル膜を調製した。DICゲル膜の表面をつまようじで引っかいた。かき傷痕の治癒過程を、共焦点顕微鏡法によって確認した。かき傷痕は、回復した。
(2つの成分(PQ-67/フィチン酸)で構成されるDICゲルの調製)
ポリカチオンとしてのポリクオタニウム-67(PQ-67)0.79g、架橋剤としてのフィチン酸の50wt%水溶液0.50g、水酸化ナトリウム0.15g、及び水98.56gを、ホモジナイザーを使用して混合した。こうして、安定な半透明分散体を成功裏に調製した。加熱を通して水を蒸発させることによって、この分散体を濃縮し、DICゲルを調製した。最終固体濃縮物は、約10wt%であった。
濃縮DICゲルを2片に切り分け、これらを室温で空気に接触させた。1時間後、これらの2片は互いに接着した。
(2つの成分(PQ-10/フィチン酸)で構成されるDICゲルの調製)
0.5gのポリクオタニウム-10を99.1gの水に溶解し、0.4gの50wt%フィチン酸水溶液をその中で混合した。こうして、安定な透明分散体を成功裏に調製した。加熱を通して水を蒸発させることによって、この分散体を濃縮し、DICゲルを調製した。最終固体濃縮物は、約10wt%であった。
DICゲルを2片に切り分け、これらを室温で空気に接触させた。1時間後、これらの2片は互いに接着した。
(2つの成分(PQ-67/クエン酸)で構成されるDICゲルの調製)
0.55gのポリクオタニウム-67、0.24gのクエン酸を95.79gの水と混合し、10%水酸化ナトリウム溶液でpHをpH7に調整した。こうして、安定な透明分散体を成功裏に調製した。加熱を通して水を蒸発させることによって、この分散体を濃縮し、DICゲルを調製した。最終固体濃縮物は、約10wt%であった。
1mlのDICゲル分散体(水を蒸発させる前)を、ガラス板上に適用し、室温で1日間乾燥して、DICゲル膜を調製した。DICゲル膜の表面をつまようじで引っかき、共焦点顕微鏡法によって測定した。膜上に一滴の水を注ぎ、30秒間放置した。水を除去した後、表面を再度測定した。引っかきの傷痕は消えていた。
(2つの成分(PQ-10/クエン酸)で構成されるDICゲルの調製)
0.50gのポリクオタニウム-10、0.24gのクエン酸を95.79gの水と混合し、10%水酸化ナトリウム溶液でpHをpH7に調整した。こうして、安定な透明分散体を成功裏に調製した。加熱を通して水を蒸発させることによって、この分散体を濃縮し、DICゲルを調製した。最終固体濃縮物は、約10wt%であった。
1mlのDICゲル分散体(水を蒸発させる前)を、ガラス板上に適用し、室温で1日間乾燥して、DICゲル膜を調製した。DICゲル膜の表面をつまようじで引っかき、共焦点顕微鏡法によって測定した。膜上に一滴の水を注ぎ、30秒間放置した。水を除去した後、表面を再度測定した。引っかきの傷痕は消えていた。
ポリクオタニウム-67又はポリクオタニウム-10は、上記の濃度で水に溶解した場合、本来ヒドロゲルである。ポリクオタニウム-67又はポリクオタニウム-10単独で構成されるヒドロゲルは、以下に示すような自己修復特性を示さなかった。
ポリアニオンとしてのカルボキシメチルセルロース(CMC)の10wt%水溶液1.8g、ポリカチオンとしてのポリクオタニウム-67(PQ-67)0.79g、架橋剤としてのフィチン酸の50wt%水溶液0.50g、水酸化ナトリウム0.15g、フェノキシエタノール0.50g、界面活性剤としての33wt%ココベタイン3.33g及び水96.26gを、ホモジナイザーを使用して混合した。こうして、安定な半透明分散体を成功裏に調製した。加熱を通して水を蒸発させることによって、この分散体を濃縮し、DICゲルを調製した。最終固体濃縮物は、約10wt%であった。
Claims (10)
- (a)少なくとも1種の、カチオン性セルロースポリマーから選択されるカチオン性多糖と、
(b)3つ以上の酸基を有する少なくとも1種の架橋剤又はその塩と、
(c)水と
(e)少なくとも1種の油又は少なくとも1種の有機UV遮蔽剤
を含む、組成物であって、
前記(b)3つ以上の酸基を有する架橋剤又はその塩が、フィチン酸又はその塩から選択され、
前記組成物中の前記(a)カチオン性多糖の量が、前記組成物の総質量に対して、0.01質量%~20質量%であり、
前記組成物中の前記(b)3つ以上の酸基を有する架橋剤又はその塩の量が、前記組成物の総質量に対して0.001質量%から15質量%であり、
前記組成物中の前記(e)油又は有機UV遮蔽剤の量が、前記組成物の総質量に対して、0.001質量%以上、10質量%未満であり、
界面活性剤を、前記組成物の総質量に対して1質量%以下の量で含む、エマルションの形態である、組成物。 - 前記(a)カチオン性多糖が、少なくとも1つの第四級アンモニウム基を有する、請求項1に記載の組成物。
- 前記(a)カチオン性多糖が、ポリクオタニウム-4、ポリクオタニウム-10、ポリクオタニウム-24、ポリクオタニウム-67、及びそれらの混合物からなる群から選択される、請求項1又は2に記載の組成物。
- 前記組成物中の前記(a)カチオン性多糖の量が、前記組成物の総質量に対して、0.1質量%~15質量%である、請求項1から3のいずれか一項に記載の組成物。
- 前記組成物中の前記(b)3つ以上の酸基を有する架橋剤又はその塩の量が、前記組成物の総質量に対して、0.05質量%から10質量%である、請求項1から4のいずれか一項に記載の組成物。
- 前記組成物中の前記(c)水の量が、前記組成物の総質量に対して50質量%から99質量%である、請求項1から5のいずれか一項に記載の組成物。
- (d)少なくとも1種のアニオン性ポリマーを更に含む、請求項1から6のいずれか一項に記載の組成物。
- 前記組成物中の前記(e)油又は有機UV遮蔽剤の量が、前記組成物の総質量に対して、0.001質量%以上、5質量%未満である、請求項1から7のいずれか一項に記載の組成物。
- 化粧用組成物である、請求項1から8のいずれか一項に記載の組成物。
- ケラチン基体のための美容方法であって、
請求項1から9のいずれか一項に記載の組成物を前記ケラチン基体に塗布する工程と、
前記組成物を乾燥させて、前記ケラチン基体上に化粧膜を形成する工程と
を含む、方法。
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