ES2344668T3 - Metodo para tratar una plancha de impresion litografica. - Google Patents
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Abstract
Método para limpiar una plancha de impresión litográfica que comprende la etapa de aplicar a la plancha un líquido que incluye una fase acuosa, una fase de disolvente y al menos un (poli)glucósido de alquilo, incluyendo dicha fase de disolvente una mezcla que comprende hidrocarburos alifáticos y/o aromáticos, caracterizado por que la cantidad de la fase de disolvente en el líquido es <=q 40% p.
Description
Método para tratar una plancha de impresión
litográfica.
La presente invención se refiere a un método
para tratar una plancha de impresión litográfica.
Las prensas de impresión litográfica usan un
denominado clisé de impresión tal como una plancha de impresión que
se monta sobre un cilindro de la prensa de impresión. El clisé
transporta una imagen litográfica sobre su superficie y se obtiene
una impresión aplicando tinta a dicha imagen y después transfiriendo
la tinta desde el clisé sobre un material receptor, que es
típicamente papel. En la denominada impresión litográfica en
"húmedo" convencional, la tinta así como una solución de
fuente acuosa (también denominado líquido humectante) se suministran
a la imagen litográfica que consiste de áreas oleófilas (o
hidrófobas, es decir, aceptantes de tinta, repelentes de agua) así
como áreas hidrófilas (o oleófobas, es decir, aceptantes de agua,
repelentes de tinta). En la denominada impresión driográfica, la
imagen litográfica consiste de áreas aceptantes de tinta y abhesivas
de tintas (repelentes de tinta) y durante la impresión diográfica,
sólo la tinta se suministra al clisé.
Los clisés de impresión se obtienen básicamente
mediante la exposición a modo de imagen y el procesamiento de un
material de imagen denominado precursor de plancha. Además de las
planchas fotosensibles bastantes conocidas, las denominadas
presensibilizadas, que son adecuadas para la exposición al contacto
con UV a través de una máscara de película, también los Precursores
de planchas de impresión termosensibles se han hecho bastantes
populares a finales de 1990. Tales materiales térmicos ofrecen la
ventaja de estabilidad a luz del día y se usan especialmente en el
método denominado ordenador a plancha, en el que el precursor de
plancha se expone directamente, es decir, sin el uso de una máscara
de película. El material se expone al calor o a luz infrarroja y el
calor generado activa un proceso (físico-) químico tal como,
ablación, polimerización, insolubilización reticulando un polímero,
solubilización inducida por calor o coagulación de partícula de un
polímero de látex termoplástico.
Las planchas térmicas más populares forman una
imagen por la diferencia de solubilidad inducida por calor en un
desarrollador alcalino entre las áreas expuestas y no expuestas del
revestimiento. El revestimiento comprende típicamente un
aglutinante oleófilo, por ejemplo, una resina fenólica, cuya
velocidad de disolución en el desarrollador es bien reducida
(trabajo negativo) o incrementada (trabajo positivo) por la
exposición a modo de imagen. Durante el procesamiento, la
diferencia de solubilidad conlleva a retirar las áreas sin imágenes
(no impresas) del revestimiento, revelando de esta manera el soporte
hidrófilo, mientras las áreas de imagen (impresión) del
revestimiento permanecen sobre el soporte. Los ejemplos típicos de
tales planchas se describen en por ejemplo los documentos
EP-A 625728, 823327, 825927, 864420, 894622 y
901902. Las realizaciones de trabajo negativo de tales materiales
térmicos a menudo requieren una etapa de precalentamiento entre la
exposición y el desarrollo que se ha descrito en, por ejemplo, el
documento EP-625.728.
Los Precursores de planchas de trabajo negativo
que no requieren una etapa de precalentamiento pueden contener una
capa de registro de imagen que funciona por la coalescencia de
partícula inducida por calor de una partícula de polímero
termoplástico (látex), como se ha descrito en, por ejemplo, los
documentos EP-As 770.494, 770.495, 770 496 y 770
497. Estas patentes describen un método para elaborar una plancha de
impresión litográfica que comprende las etapas de (1) exponer a
modo de imagen un elemento de imagen que comprende partículas de
polímero termoplástico hidrófobas dispersadas en un aglutinante
hidrófilo y un compuesto capaz de convertir la luz en calor, (2) y
desarrollar el elemento expuesto a modo de imagen aplicando una
fuente y/o tinta.
Algunos de estos procesos térmicos posibilitan
la elaboración de la plancha sin procesamiento en húmedo y, por
ejemplo, se basan en la ablación de una o más capas del
revestimiento. En las áreas expuestas se revela que la superficie
de una capa subyacente tiene una afinidad diferente hacia la tinta o
fuente diferente que la superficie del revestimiento no
expuesta.
Otros procesos térmicos que permiten la
elaboración de la plancha sin el procesamiento en húmedo son, por
ejemplo, los procesos basados en una conversión hidrófila/oleófoba
inducida por calor de una o más capas del revestimiento de manera
que en las áreas expuestas se crea una afinidad diferente hacia la
tinta o fuente diferente que en la superficie de revestimiento no
expuesto.
El documento US 4.576.743 describe un limpiador
de planchas que comprende una solución acuosa que contiene un
silicato y al menos un agente activo de superficie seleccionado a
partir de un agente activo de superficie catiónico o
anfotérico.
Una composición estable que comprende un
componente alcalino en combinación con un compuesto químico que
reduce o evita la formación de residuo y espuma, tal como, un
azufre aromático que contiene compuestos y azúcares y derivados del
azúcar se describe en el documento EP 1 361 480.
\newpage
La composición de limpieza para las planchas de
impresión litográfica que comprenden (i) principalmente
hidrocarburos alifáticos con un punto de ebullición específico y un
punto de inflamación, (ii) un tensioactivo con un equilibrio
hidrófilo/lipófilo de aproximadamente 3 a 10 y (iii) un electrolito
seleccionado a partir de sal silicato, sulfato, fosfato o nitrato
se describe en el documento US 4.504.406.
El documento US 5.691.288 describe una
composición que consiste esencialmente de una emulsión estable que
comprende del 0,1% p al 7% p de poliol, del 1% p al 15% p de
almidones o dextrinas, del 0,5% p al 2% p de una sal benceno
sulfonato amina de alquilo y del 1% p al 20% p de hidrocarburos que
contienen menos que el 10% p de hidrocarburos aromáticos, del 0,1
al 5% p de etanol sustituido con fenoxipoli(oxiteleno),
aproximadamente el 0,1% p de C12 a C20 de alcohol y del 0,01% p al
1,0% p de etanolamina.
El documento US 4.829.897 describe un medio de
lavado de protección atmosférica que comprende del 5%
p-35% p de agua y del 65% p-95% p
de una fase insoluble en agua que contiene ciertos hidrocarburos en
una proporción específica y un tensioactivo con un valor de HLB de
3-11.
Una composición de limpieza para retirar los
residuos de tintas y/o aceites emplazados sobre una superficie de
un aparato de impresión que comprende un poli(glucósido) de
alquilo se describe en el documento US 6.346.156.
El documento WO 95/14755 describe una
composición de limpieza que comprende una mezcla de un disolvente de
hidrocarburo, un alquil benceno C_{12}-C_{26}
con bajo COV en el que el grupo de alquilo es un grupo de alquilo
C_{6}-C_{20}, un alquil naftaleno
C_{16}-C_{30} con bajo COV en el que el grupo de
alquilo es un alquilo C_{6}-C_{20} y
opcionalmente un tensioactivo.
Antes, durante y después de la etapa de
impresión, una plancha de impresión litográfica es en general
tratada con varios líquidos para mejorar las propiedades las
propiedades litográficas de las áreas con imagen y sin imagen.
Tales líquidos se aplican, por ejemplo, para mejorar las propiedades
hidrófilas de las áreas sin imágenes y para proteger, restaurar e
incluso potenciar la hidrofobicidad de las áreas de imagen. Es gran
importancia que estos fluidos, comúnmente referidos como líquidos
de tratamiento de plancha, no deterioren las áreas de imagen y/o
sin imágenes durante todo el proceso ni tampoco después de su
aplicación. Debido a la naturaleza bivalente de un tratamiento de
este tipo - es decir, mejorar tanto las áreas hidrófilas como las
hidrófobas - el líquido del tratamiento contiene típicamente tanto
agua como
disolvente o disolventes orgánicos y es por tanto una emulsión; preferiblemente una emulsión de aceite en agua (O/W).
disolvente o disolventes orgánicos y es por tanto una emulsión; preferiblemente una emulsión de aceite en agua (O/W).
La resistencia a la limpieza o la denominada
"solvencia a tinta" de los líquidos de limpieza de plancha o
limpiadores de planchas - es decir, la capacidad para retirar la
tinta de una plancha - se determina principalmente mediante la
composición de limpiador de plancha y más específicamente, mediante
la concentración y/o naturaleza del disolvente orgánico. Los
disolventes de hidrocarburos aromáticos son preferidos sobre los
disolventes hidrocarburos alifáticos ya que los mismos exhiben una
solvencia a tinta bastante buena. Comúnmente, los disolventes
hidrocarburos aromáticos usados son mezclas de hidrocarburos de
alquilbenceno C_{9}-C_{10}. Sin embargo, los
líquidos de limpieza que contienen tales hidrocarburos aromáticos
tienen un bajo punto de inflamación y, por tanto, crean un alto
riesgo de explosión en los líquidos de limpieza no sólo en el
ambiente donde se encuentra ubicada la prensa sino también durante
el transporte. Los hidrocarburos aromáticos con mayores puntos de
inflamación tales como, por ejemplo, mezclas de disolventes
hidrocarburo de alquilbenceno C_{10}-C_{11}
preferiblemente no se usan ya que tienen una solvencia a tinta
reducida y los mismos contienen normalmente naftaleno y/o derivados
del naftaleno. La presencia del naftaleno y/o derivados de naftaleno
en los líquidos de limpieza se debe limitar ya que estos compuestos
tienen un olor desagradable y se clasifican como componentes
carcinogénicos; por ejemplo, los mismos se clasifican como la
categoría de carcinógenos 2B por la Agencia Internacional para la
Investigación del Cáncer (IARC 2002). El punto de inflamación de los
disolventes hidrocarburos de alquilbenceno aromáticos
C_{9}-C_{10} se puede, por ejemplo, incrementar
mezclando los mismos con disolventes hidrocarburos alifáticos con
un mayor punto de inflamación. Sin embargo, el nivel del disolvente
de un limpiador de plancha de este tipo incrementa
significativamente lo que es desfavorable tanto desde un punto de
vista ambiental como económico.
Por lo tanto, todavía existe una necesidad
urgente para hacer que los líquidos tratamientos eficientes
satisfagan las altas normativas de salud y seguridad.
Un objeto de la presente invención es
proporcionar un líquido de limpieza para una plancha de impresión
que tenga una excelente solvencia a tinta, y un alto punto de
inflamación, poco olor y que cumpla con los altos requisitos de
salud y de seguridad a un precio aceptable.
El objeto se consigue mediante la reivindicación
1, es decir, un método para limpiar una plancha de impresión
litográfica que comprende la etapa de aplicar un líquido a la
plancha que incluye una fase acuosa, una fase de disolvente y al
menos un (poli)glucósido de alquilo, incluyendo dicha fase de
disolvente una mezcla que comprende hidrocarburos alifáticos y/o
aromáticos, caracterizado por que la cantidad de la fase de
disolvente en el líquido es \leq 40% p.
Se ha encontrado sorprendente que un líquido de
limpieza que comprende una fase acuosa, un tensioactivo de
(poli)glucósido de alquilo y el 40% p o menos de una fase de
disolvente que contiene una mezcla de hidrocarburos aromáticos y/o
hidrocarburos alifáticos, tenga una excelente solvencia a tinta.
Otras características, elementos, etapas, rasgos
y ventajas de la presente invención serán más aparentes a partir de
la siguiente descripción detallada de las realizaciones preferidas
de la presente invención.
El líquido del tratamiento usado en la presente
invención, también referido como líquido de limpieza o
limpiador de plancha es una emulsión, preferiblemente una
emulsión de aceite en agua, que comprende una fase acuosa y una
fase de disolvente. El líquido de limpieza tiene preferiblemente un
punto de inflamación por encima de 60ºC. El nivel total de la fase
de disolvente en la emulsión es \leq 40% p, preferiblemente
\leq 35% p, más preferiblemente \leq 30% p. La fase de
disolvente varía entre el 10% p y el 40% p, más preferiblemente
entre 15% y el 35% p y lo más preferible es entre el 20% p y el 30%
p. La emulsión contiene preferiblemente \geq 60% p de agua, más
preferiblemente el nivel de agua varía entre el 60% p y el 90% p,
más preferiblemente entre el 65% p y el 85% p y lo más preferible es
entre el 70% p y el 80% p.
La fase de disolvente comprende una mezcla de
uno o más disolventes de hidrocarburo aromáticos y/o uno o más
alifáticos. El disolvente de hidrocarburo aromático es
preferiblemente una mezcla de hidrocarburos
C_{10-11}. Esta mezcla de hidrocarburos
C_{10}-C_{11} puede contener fracciones de
hidrocarburos mayores o menores, es decir, hidrocarburos con mayor
o menor contenido de carbono. La mezcla de hidrocarburos
C_{10}-C_{11} es preferiblemente una mezcla de
alquil bencenos sustituidos; más preferiblemente una mezcla de
bencenos sustituido con uno o múltiples grupos de alquilo
C_{1}-C_{5}. Para satisfacer las altas
normativas de salud y seguridad, el etilbenceno preferiblemente no
está presente en la fase de disolvente. Por la misma razón, el nivel
del naftaleno y derivados del naftaleno en la fase de disolvente
está preferiblemente por debajo del 1% p, más preferiblemente por
debajo del 0,5% p y lo más preferible es por debajo del 0,1% p. Los
hidrocarburos aromáticos C_{10}-C_{11} tienen
preferiblemente un punto de inflación por encima de 60ºC. Los
ejemplos preferidos de mezclas de hidrocarburos aromáticos
C_{10}-C_{11} incluyen SOLVESSO 150^{TM},
SOLVESSO 150 ND^{TM} y SOLVESSO 150 ULN^{TM}, disponibles en el
mercado a partir de ExxonMobil Chemical.
Los hidrocarburos alifáticos se seleccionan
preferiblemente a partir de hidrocarburos alifáticos
C_{7}-C_{14}, sin embargo, se pueden presentar
fracciones de hidrocarburos menores y/o mayores tal como, por
ejemplo, hidrocarburos alifáticos C_{5}-C_{6}
y/o C_{15}-C_{18}. Los mismos pueden ser
lineales, ramificados o cíclicos y tienen preferiblemente un punto
de inflamación por encima de los 60ºC. Ejemplos específicos incluyen
EXXSOL D-60^{TM} disponible en el mercado por
ExxonMobil Chemical y SHELLSOL D-60^{TM},
disponible en el mercado por Shell Chemicals.
La proporción en peso de hidrocarburos
alifáticos con respecto a hidrocarburos aromáticos en la fase de
disolvente varía preferiblemente entre 5/1 y 1/5, más
preferiblemente 3/1 y 1/3 y lo más preferible es entre 2/1 y 1/2.
En una realización particularmente preferida, el líquido de limpieza
contiene hidrocarburos alifáticos y aromáticos en una proporción de
2/1. Especialmente, en la realización en la que los hidrocarburos
aromáticos pueden contener derivados del naftaleno, es favorable
una proporción de 2/1 de hidrocarburos alifáticos con respecto a
hidrocarburos aromáticos. Como alternativa, la fase de disolvente
puede contener sólo hidrocarburos aromáticos. Es altamente
preferido que el nivel de naftaleno y derivados del naftaleno en la
fase de disolvente que contiene el sólo hidrocarburos aromáticos
tales como, una mezcla de hidrocarburos
C_{10}-C_{11}, esté preferiblemente por debajo
del 1% p, más preferiblemente por debajo del 0,5% p y lo más
preferible es por debajo del 0,1% p.
El líquido de limpieza comprende además, al
menos un tensioactivo - es decir, (poli)glucósido de alquilo
- que proporciona estabilidad a la emulsión. Se ha encontrado
sorprendente que el tensioactivo de (poli)glucósido de
alquilo no iónico proporcionan ya a un nivel bastante bajo
estabilidad a la emulsión. El líquido de limpieza comprende al
menos un (poli)glucósido de alquilo y el tensioactivo se usa
de forma preferida dentro del intervalo del 0,5% p al 2% p. Por
encima del 2% p, la solvencia a tinta del líquido de limpieza se
deteriora significativamente. Más preferiblemente, el tensioactivo
se usa dentro del intervalo del 0,1% p al 1,8% p, más
preferiblemente dentro del intervalo del 0,5% p al 1,6% p. El
tensioactivo de (poli)glucósido de alquilo se puede presentar
en una fase acuosa, en la fase de disolvente o en ambas fases de la
emulsión. También, se puede presentar en la interfase entre ambas
fases. El (poli)glucósido de alquilo es un tensioactivo no
iónico que comprende al menos un grupo de alquilo y al menos un
grupo de glucósido. El grupo de alquilo contiene preferiblemente de
4 a 30 átomos de carbono, más preferiblemente de 7 a 25 átomos de
carbono y lo más preferible es de 8 a 20 átomos de carbono. El
grupo alquilo puede ser lineal, ramificado, saturado o insaturado.
Preferiblemente el grupo de alquilo es lineal y saturado. El grupo
de (poli)glucósido comprende al menos un grupo de glucósido
- es decir, monoglucósido, o más que un grupo de glucósido. Un
glucósido se deriva de la glucosa; la glucosa se produce tras la
hidrolización de un glucósido. Un glucósido contiene un enlace
glicosídico que es de un cierto tipo de grupo funcional que une una
molécula de glucosa con otro compuesto. Por ejemplo, se puede formar
un enlace glicosídico entre el grupo hemiacetal (posición 1) de un
molécula de glucosa (Fórmula 1) del grupo de hidroxilo de un
compuesto orgánico, tal como, un alcohol con el que se forma un
glucósido de alquilo. También, se puede formar un glucósido que
tiene un grupo de alquilo en la posición 2, 3 ó 4, sin embargo, la
posición 1 es preferida. Un enlace glicosídico se puede formar
entre una molécula de glucosa y un glucósido de alquilo y otra
molécula de glucosa con lo que se forma un poliglucósido o
(poli)glucósido de alquilo. El grado de polimerización del
grupo de poliglucósido varía preferiblemente entre 1 y 10, más
preferiblemente entre 1 y 4, lo más preferible es entre 1 y 3. La
glucosa adicional y/o los grupos glucósidos se pueden fijar por
medio de la posición 1, 2, 3 ó 4 a cualquier posición sobre el grupo
de glucósido o alquilglucósido. Preferiblemente, los grupos de
glucosa adicional y/o glucósidos son fijados predominantemente por
medio de la posición 1 a la posición 4 del grupo de glucósido o
alquilglucósido (enlace c^{1} -o-c^{4} que
implica c^{1} de una molécula de glucosa o grupo de glucósido y
c^{4} de otro) o a la posición 6 del grupo de glucósido o
alquilglucósido (enlace c^{1} -o-c^{6} que
implica c^{1} de un molécula de glucosa o grupo de glucósido y
c^{6} de otro). La fijación de la posición 1 a la posición 6
(c^{1}-o-c^{6}) del grupo de
glucósido o alquilglucósido se prefiere.
El (poli)glucósido de alquilo se
representa preferiblemente mediante la fórmula II
en la
que
R^{5} es un grupo alquilo, preferiblemente una
cadena de alquilo lineal que comprende preferiblemente de 4 a 30
átomos de carbono;
q es un entero que varía entre
0-9.
En una realización preferida, R^{5} es una
cadena de alquilo lineal que comprende de 7 a 25 átomos de carbono,
más preferiblemente de 8 a 20 átomos de carbono; y q es un entero
que varía entre 0 y 3, más preferiblemente entre 0 y 2.
Los ejemplos adecuados de
(poli)glucósidos de alquilo que están disponibles en el
mercado incluyen, pero no se limitan a, los productos
GLUCOPON^{TM} disponibles por Cognis tales como, por ejemplo,
Glucopon 425 HH^{TM}, Glucopon 600 EC^{TM}, Glucopon 600
CSUP^{TM}, Glucopon 625 UP^{TM} y Glucopon 625 EC^{TM}.
Como se conoce en la técnica otros aditivos
adecuados se pueden presentar en el líquido de limpieza - en la
fase de disolvente y/o en la fase acuosa - e incluir, por ejemplo,
hidrofilizadores tales como, sorbitol o glicerol, agentes
quelantes, compuestos que comprenden al menos un grupo ácido tal
como, por ejemplo, ácido fosfórico, ácido nítrico, ácido glucónico,
ácido glicólico o ácido polivinilfosfónico, biocidas, tampones,
ajustadores de ph como ácidos o bases minerales, inhibidores de
corrosión, agentes antiformantes, otros tensiotivos, agentes
desensibilizantes tales como sales nitrato y/o polímeros solubles en
agua con una excelente capacidad de formación de película tales
como, alcohol polivinílico, polivinilpirrolidona, un acetato de
polivinilo parcialmente hidrolizado, agentes protectores, ésteres
de ácidos grasos, tales como, alquilésteres de ácidos grasos,
tintes, colorantes, fragancias, antioxidantes, conservantes, tales
como, fenol y derivados del mismo, agentes espesantes, tales como,
gomas de xantano, gelatina, goma arábiga, varios almidones,
carbohidratos o derivados de la celulosa, tales como, carboximetil
celulosa, metil o etil celulosa, hemicelulosa, hidroxietil
celulosa.
El líquido de limpieza usado en el método de la
presente invención se aplica a una plancha de impresión; puede
aplicarse antes, después y/o durante la etapa de impresión. El
líquido de limpieza se usa generalmente para retirar la tinta y
residuos de la plancha, para desensibilizar las áreas sin imágenes y
para restaurar las propiedades hidrófilas de las áreas sin
imágenes, que con el paso del tiempo pueden hacerse menos capaces
de repeler la tinta y pueden tender a retener alguna tinta - lo que
se conoce en la técnica como formación de velo. Un limpiador de
plancha eficaz retira la tinta, la suciedad, las manchas de
oxidación, el difuminado y/u otras imperfecciones sin raspar ni
raer la plancha. El líquido también se puede usar para retirar la
tintura formada en cualquier etapa desde la elaboración de la
plancha a través de la impresión.
Los líquidos de tratamiento se pueden aplicar,
por ejemplo, limpiando la plancha de impresión con, por ejemplo,
una cinta de algodón o esponja empapada con un líquido del
tratamiento antes y/o después del montaje de la plancha sobre la
prensa y también durante y/o después de la corrida de la prensa. La
cinta de algodón o esponja se puede mojar opcionalmente con una
solución fuente antes y/o después de que la misma se empape con el
líquido del tratamiento. La limpieza se puede combinar con una
fricción mecánica, por ejemplo, usando un cepillo (giratorio). Como
alternativa, el líquido del tratamiento se puede aplicar
pulverizándolo, inmergiéndolo o revistiéndolo sobre la plancha de
impresión. Se pueden emplear diversas técnicas de revestimiento,
tales como revestimiento por inmersión, revestimiento por
pulverización o "revestimiento sobre la marcha" (durante la
impresión), el revestimiento de ranura, revestimiento de rodillo
revertido o revestimiento electroquímico; las más preferidas son el
revestimiento por inmersión y el revestimiento por
pulverización.
La plancha de impresión litográfica usada en la
presente invención comprende un soporte que tiene una superficie
hidrófila o que está provista con una capa hidrófila. El soporte
puede ser un material similar a una lámina, tal como, una plancha o
puede ser un elemento cilíndrico tal como un manguito que se puede
deslizar alrededor de un cilindro de impresión de una prensa de
impresión. Preferiblemente, el soporte es un soporte de metal tal
como aluminio o acero inoxidable. El soporte también puede ser un
laminado que comprende un papel de aluminio y una capa plástica,
por ejemplo, una película de poliéster.
Un soporte litográfico particularmente preferido
es un soporte de aluminio granulado y anodizado electroquímicamente.
El soporte de aluminio tiene normalmente un espesor de
aproximadamente 0,1-0,6 mm. Sin embargo, este
espesor se puede cambiar dependiendo de forma apropiada del tamaño
de la plancha de impresión usada y/o del tamaño de los ajustadores
de plancha sobre los que se exponen los precursores de la plancha de
impresión. El aluminio se granula preferiblemente mediante
granulación electroquímica, y se anodiza mediante técnicas de
anodización empleando ácido fosfórico o una mezcla de ácido
sulfúrico/ácido fosfórico. Tanto los métodos de granulación como
los de anodización del aluminio son bastante conocidos en la
técnica.
Granulando (o desbastando) el soporte de
aluminio, se mejoran tanto la adhesión de la imagen impresa como
las características de humectación de las áreas sin imágenes.
Variando el tipo y/o concentración del electrolito y el voltaje
aplicado en la etapa de granulación, se pueden obtener diferentes
tipos de granos. La rugosidad superficial a menudo se expresa como
la media aritmética de la rugosidad de la línea central Ra (normas
ISO 4287/1 o DIN 4762) y puede variar entre 0,05 y 1,5 \mum. El
sustrato de aluminio de la invención actual tiene preferiblemente
un valor de Ra por debajo de 0,45 \mum, preferiblemente por debajo
de 0,40 \mum y lo más preferible es por debajo de 0,30 \mum. El
límite inferior del valor de Ra es preferiblemente aproximadamente
0,1 \mum. Más detalles en relación con los valores de Ra
preferidos de la superficie del soporte de aluminio granulado y
anodizado se describen en el documento
EP 1 356 926.
EP 1 356 926.
Anodizando el soporte de aluminio, se mejoran su
resistencia a la abrasión y su naturaleza hidrófila. La micro
estructura así como el espesor de la capa de Al_{2}O_{3} se
determinan por la etapa de anodización, el peso anódico (g/m^{2}
del Al_{2}O_{3} formado sobre la superficie de aluminio) varía
entre 1 y 8 g/m^{2}. El peso anódico es preferiblemente \geq 3
g/m^{2}, más preferiblemente \geq 3,5 g/m^{2} y lo más
preferible \geq 4,0 g/m^{2}.
Una proporción óptima entre el diámetro del poro
de la superficie del soporte de aluminio y el tamaño de partícula
medio de las partículas termoplásticas hidrófobas que puede
proporcionarse en su interior, puede potenciar la vida en prensa de
la plancha de impresión y puede mejorar el comportamiento del viraje
de las impresiones. Esta proporción del diámetro del poro medio de
la superficie del soporte de aluminio con respecto al tamaño de
partícula medio de las partículas termoplásticas que se pueden
presentar en la capa de registro de imagen del revestimiento, varía
preferiblemente de 0,05:1 a 1,0:1, más preferiblemente de 0,10:1 a
0,80:1 y lo más preferible es de 0,15:1 a 0,65:1.
El soporte de aluminio granulado y anodizado se
puede someter a un denominado tratamiento
post-anódico para mejorar las propiedades
hidrófilas de su superficie. Por ejemplo, el soporte de aluminio se
puede tratar con silicatos tratando su superficie con una solución
de silicato sódico a una elevada temperatura, por ejemplo, 95ºC.
Como alternativa, un tratamiento de fosfato se puede aplicar que
implica tratar de la superficie del óxido de aluminio con una
solución de fosfato que puede contener además un fluoruro
inorgánico. Además, la superficie de óxido de aluminio se puede
enjuagar con un ácido cítrico o una solución de citrato. Este
tratamiento se puede realizar a temperatura ambiente o se puede
realizar a una temperatura ligeramente elevada de aproximadamente
30 a 50ºC. Un tratamiento más interesante implica enjuagar la
superficie de óxido de aluminio con una solución de bicarbonato.
Todavía además, la superficie de óxido de aluminio se puede tratar
con ácido polivinilfosfónico, ácido polivinilmetilfosfónico,
ésteres de ácido fosfórico de alcohol polivinílico, ácido
polivinilsulfónico, ácido polivinilbencenosulfónico, ésteres de
ácido sulfúrico de alcohol polivinílico, y acetales de alcoholes
polivinílicos formados mediante la reacción con un aldehído
alifático sulfonado.
Otro tratamiento post-anódico
útil se puede realizar con una solución de ácido poliacrílico o un
polímero que comprende al menos el 30% mol de unidades monoméricas
de ácido acrílico, por ejemplo, GLASCOL E15, un ácido
poliacrílico, comercialmente disponible por Ciba Speciality
Chemicals.
El soporte también puede ser un soporte
flexible, que puede estar provisto de una capa hidrófila, en lo
sucesivo en este documento denominada "capa base". El soporte
flexible es, por ejemplo, papel, una película de plástico o
aluminio. Los ejemplos preferidos de la película de plástico son una
película de tereftalato de polietileno, una película de naftalato
de polietileno, una película de acetato celulosa, una película de
poliestireno, una película de policarbonato, etc. El soporte de
película de plástico puede ser opaco o transparente.
La capa base es preferiblemente una capa
hidrófila reticulada obtenida a partir de un aglutinante hidrófilo
reticulado con un agente endurecedor, tal como, formaldehído,
glioxal, polisocionato o un tetra-alquilortosilicato
hidrolizado. Este último es particularmente preferido. El espesor
de la capa base hidrófila puede variar en el intervalo de 0,2 a 25
\mum y es preferiblemente de 1 a 10 \mum. Más detalles de las
realizaciones preferidas de la capa base se pueden encontrar en,
por ejemplo, el documento EP-1 025 992.
La plancha de impresión litográfica usada en la
presente invención se obtiene exponiendo y desarrollando
opcionalmente un precursor de plancha de impresión que comprende un
revestimiento termosensible y/o sensible a luz sobre un soporte
hidrófilo. El precursor puede ser de trabajo negativo o positivo, es
decir, puede formar áreas aceptantes de tinta en áreas expuestas y
no expuestas respectivamente. A continuación, se describen en
detalle los ejemplos adecuados de revestimientos termosensibles y
sensibles a luz.
\vskip1.000000\baselineskip
El mecanismo de imagen de los Precursores de
planchas de impresión térmica se puede activar mediante exposición
directa al calor, por ejemplo, mediante un cabezal térmico, o
mediante la absorción de luz de uno o más compuestos en el
revestimiento que sean capaces de convertir la luz, más
preferiblemente la luz infrarroja, en calor.
Un primer ejemplo adecuado de un precursor de
plancha de impresión térmica es un precursor basado en una
coalescencia inducida por calor de partículas de polímero
termoplástico hidrófobas que se dispersan preferiblemente en un
aglutinante hidrófilo, como se describe en, por ejemplo, los
documentos EP 770 994, EP 770 495, EP 770 497, EP 773 112, EP 774
364, EP 849 090, EP 1 614 538, EP 1 614 539, EP 1 614 540, EP 1 777
067, EP 1 767 349, WO 2006/037716, WO 2006/133741 y WO
2007/045515.
Preferiblemente, una capa de registro de imagen
de este tipo comprende un compuesto orgánico, caracterizado por que
dicho compuesto orgánico comprende al menos un grupo de ácido
fosfónico o al menos un grupo de ácido fosfórico o una sal de los
mismos, como se describe en el documento WO 2007/045515. En una
realización particularmente preferida, la capa de registro de
imagen comprende un compuesto orgánico como se representa por la
fórmula III:
o una sal de los mismo y en la que
R' representa de forma independientemente un hidrógeno, y un grupo
de alquilo lineal, ramificado, cíclico o heterocíclico
opcionalmente sustituido o un grupo de arilo o (hetero)arilo
opcionalmente
sustituido.
Los compuestos de acuerdo con la Fórmula III se
pueden presentar en la capa de registro de imagen en una cantidad
entre el 0,05 y el 15% en peso, preferiblemente entre el 0,5 y el
10% en peso y más preferiblemente entre el 1 y el 5% en peso con
respecto al peso total de los ingredientes de la capa de registro de
imagen.
En una segunda realización adecuada, el
precursor de plancha de impresión térmico comprende un revestimiento
que comprende un homo- o copolímero de diazosulfonato de arilo que
es hidrófilo y soluble en el líquido de procesamiento antes de la
exposición al calor o luz UV y se vuelve hidrófobo y menos soluble
después de tal exposición.
Los ejemplos preferidos de tales polímeros de
diazosulfonato de arilo son los compuestos que se pueden preparar
por homo- o copolimerización de monómeros de diazosulfonato de arilo
con otros monómeros de diazosulfonato de arilo y/o con monómeros de
vinilo tales como ácido (met)acrílico o ésteres de los
mismos, (met)acrilamida, acrilonitrilo, acetato de vinilo,
cloruro de vinilo, cloruro de vinilideno, estireno,
\alpha-metil estireno, etc. Los monómeros
diazosulfonato de arilos adecuados se describen en los documentos
EP-A 339393, EP-A 507008 y
EP-A 771645 y los polímeros de diazosulfonato de
arilos adecuados se describen en los documentos EP 507,008, EP
960,729, EP 960,730 y EP1, 267,211.
Otro precursor de plancha de impresión térmico
adecuado es de trabajo positivo y depende de la solubilización
inducida por calor de una resina oleófila. La resina oleófila es
preferiblemente un polímero que es soluble en un desarrollador
acuoso, más preferiblemente una solución de desarrollo alcalino
acuosa con un ph entre 7,5 y 14. Los polímeros preferidos son
resinas fenólicas, por ejemplo, novolac, resoles, fenoles
polivinílicos y polímeros sustituidos con carboxi. Los ejemplos
típicos de estos polímeros se describen en los documentos
DE-A-4007428,
DE-A-4027301 Y
DE-A-4445820. La cantidad de resina
fenólica presente en la primera capa es preferiblemente al menos el
50% en peso, preferiblemente al menos el 80% en peso con relación al
peso total de todos los componentes presentes en la primera
capa.
En una realización preferida, la resina oleófila
es preferiblemente una resina fenólica en la que el grupo fenilo o
el grupo de hidróxido se modifica químicamente con un sustituyente
orgánico. Las resinas fenólicas que se modifican químicamente con
un sustituyente orgánico pueden exhibir una resistencia química
incrementada contra los productos químicos de impresión, tales
como, soluciones fuente o líquidos del tratamiento de plancha tales
como limpiadores de plancha. Los ejemplos de tales resinas fenólicas
químicamente modificadas se describen en los documentos
EP-A 0 934 822, EP-A 1 072 432, US 5
641 608, EP-A 0 982 123, WO 99/01795,
EP-A 02 102 446, EP-A 02 102 444,
EP-A 02 102 445, EP-A 02 102 443,
EP-A 03 102 522. Las resinas modificadas descritas
en el documento EP-A 02 102 446, son preferidas,
especialmente aquellas resinas en las que el grupo fenilo de dicha
resina fenólica se sustituye con un grupo que tiene la estructura
-N=N-Q, en la que el grupo -N=N- se enlaza
covalentemente con un átomo de carbono del grupo fenilo y en la que
Q es un grupo aromático.
En la última realización, el revestimiento puede
comprender una segunda capa que comprende un polímero o copolímero
(es decir, (co)polímero) que comprende al menos una unidad
monomérica que comprende al menos un grupo de sulfonamida. Esta
capa se emplaza entre la capa descrita anteriormente que comprende
la resina oleófila y el soporte hidrófilo. En lo sucesivo en este
documento, "un (co)polímero que comprende al menos una
unidad monomérica que comprende al menos un grupo de
sulfonamida" también se refiere como "un (co)polímero de
sulfonamida". El (co)polímero de sulfonamida es
preferiblemente alcali-soluble. El grupo de
sulfonamida se representa preferiblemente mediante
-NR-SO_{2}-, -SO_{2}-NR- o
-SO_{2}-NRR' en la que R y R' representan cada una
independientemente hidrógeno o un sustituyente orgánico.
Los (co)polímeros de sulfonamida son
preferiblemente compuestos de alto peso molecular preparados por
homopolimerización de unidades monoméricas que contienen al menos
un grupo de sulfonamida o por la copolimerización de tales unidades
monoméricas y otras unidades monoméricas polimerizables.
Los ejemplos de unidades monoméricas que
contienen al menos un grupo de sulfonamida incluyen unidades
monoméricas que contienen además al menos un enlace insaturado
polimerizable tal como un grupo de acriloilo, alilo o viniloxido.
Los ejemplos adecuados se describen en los documentos U.S.
5.141.838, EP 1545878, EP 909.657, EP 0 894 622 y EP 1.120.246.
Los ejemplos de unidades monomérica
copolimerizadas con las unidades monoméricas que contienen al menos
un grupo de sulfonamida incluyen las unidades monoméricas como las
descritas en los documentos EP 1.262.318, EP 1.275.498, EP 909.657,
EP 1.120.246 EP 0 894 622 y EP 1.400.351.
Los ejemplos adecuados de (co)polímeros
de sulfonamida y/o sus métodos de preparación se describen en los
documentos EP-A 933 682, EP-A 982
123, EP-A 1 072 432, WO 99/63407 y EP 1.400.351.
Un ejemplo altamente preferido de un
(co)polímero de sulfonamida es un homopolímero o copolímero
que comprende una unidad estructural representada por la siguiente
fórmula general (IV):
en la
que:
R^{1} representa hidrógeno o un grupo de
hidrocarburo que tiene hasta 12 átomos de carbono; preferiblemente
R^{1} representa hidrógeno o un grupo de metilo;
X^{1} representa un enlace individual o un
grupo de unión divalente. El grupo de unión divalente puede tener
hasta 20 átomos de carbono y puede contener al menos un átomo
seleccionado a partir de C, H, N, O y S. Preferiblemente, los
grupos de unión divalentes preferidos son un grupo de alquileno
lineal que tiene de 1 a 18 átomos de carbono, un grupo lineal,
ramificado o cíclico que tiene de 3 a 18 átomos de carbono, un grupo
de alquileno que tiene de 2 a 18 átomos de carbono y un grupo de
arileno que tiene de 6 a 20 átomos de carbono, -O-, -S-, -CO-,
-CO-O, -O-CO-, -CS-,
NR^{h}R^{i}-, -CO-NR^{h}-,
NR^{h}-CO-,
NR^{h}-CO-O-,
-O-CO-NR^{h}-,
-NR^{h}-CO-NR^{i}-,
-NR^{h}-CS-NR^{i}, un grupo de
fenileno, un grupo de naftaleno, un grupo de antraceno, un grupo
heterocíclico o combinaciones de los mismos, en los que R^{h} y
R^{i} cada una representan independientemente hidrógeno o un
alquilo, alquenilo, alquinilo, cicloalquilo, heterocíclico, arilo,
heteroarilo, aralquilo o grupo heteroaralquilo opcionalmente
sustituido. Los sustituyentes preferidos de los últimos grupos son
un grupo alcoxi que tiene hasta 12 átomos de carbono, un halógeno o
un grupo hidroxilo. Preferiblemente X^{1} es un grupo de metileno,
un grupo de etileno, un grupo de propileno, un grupo de butileno,
un grupo de isopropileno, un grupo de ciclohexileno, un grupo de
fenileno, un grupo de tolileno o un grupo de bifenileno;
Y^{1} es un grupo de sulfonamida bivalente
representado por -NR^{j}-SO_{2} o
-SO_{2}-NR^{k}- en el que R^{j} y R^{k}
representan independientemente hidrógeno y alquilo, alcanoilo,
alquenilo, alquilino, cicloalquilo, heterocíclico, arilo,
heteroarilo, aralquilo o grupo heteroaralquilo opcionalmente
sustituido o un grupo de la fórmula -C(=N)
-NH-R^{2}, en la que R^{2} representa hidrógeno
o un grupo de alquilo o de arilo opcionalmente sustituido.
Z^{1} representa un grupo terminal
representado preferiblemente por hidrógeno o un grupo de alquileno o
alquilo lineal, ramificado o cíclico opcionalmente sustituido que
tiene de 1 a 18 átomos de carbono tal como un grupo de metilo, un
grupo de etilo, un grupo de propilo, un grupo de isopropilo, un
grupo de butilo, un grupo de isobutilo, un grupo de
t-butilo, un grupo de s-butilo, un
grupo pentilo, un grupo de hexilo, un grupo de ciclopentilo, un
grupo de ciclohexilo, un grupo de octilo, y un grupo de arileno o
arilo opcionalmente sustituido que tiene de 6 a 20 átomos de
carbono; y un grupo hetero-arileno o heteroarilo
opcionalmente sustituido; un grupo de alquileno o alquenilo lineal,
ramificado o cíclico que tiene de 2 a 18 átomos de carbono, un grupo
de alquinileno o alquinilo lineal, ramificado o cíclico que tiene
de 2 a 18 átomos de carbono o un grupo alcoxi.
Ejemplos de los sustituyentes preferidos se
presentan opcionalmente en los grupos que representan Z^{1} son
un grupo alquilo que tiene hasta 12 átomos de carbono, y un grupo
alcoxi que tiene hasta 12 átomos de carbono, un átomo de halógeno o
un grupo hidroxilo.
La unidad estructural representada por la
fórmula general (IV) tiene preferiblemente los siguientes
grupos:
X^{1} representa un grupo de alquileno,
ciclohexileno, fenileno o tolileno, -O-, -S-, -CO-,
-CO-O, -O-CO-, -CS-,
-NR^{h}R^{i}-, -CO-NR^{h}-,
-NR^{h}-CO-,
-NR^{h}-CO-O-,
-O-CO-NR^{h}-,
-NR^{h}-CO-NR^{i}-,
-NR^{h}-CS-NR^{i}-, o
combinaciones de los mismos, y en la que R^{h} y R^{i} cada una
representa independientemente hidrógeno o un grupo de alquilo,
alquenilo, alquinilo, cicloalquilo, heterocíclico, arilo,
heteroarilo, aralquilo o heteroaralquilo opcionalmente sustituido.
Los sustituyentes preferidos de los últimos grupos son un grupo
alcoxi que tiene hasta 12 átomos de carbono, un halógeno o un grupo
hidroxilo;
Y^{i} es un grupo de sulfonamida bivalente
representado por -NR^{j}-SO_{2}-,
-SO_{2}-NR^{k}- en el que
R^{j} y R^{k} cada una representa independientemente un
hidrógeno, un grupo de alquilo, alcanoilo, alquenilo, alquinilo,
cicloalquilo, heterocíclico, arilo, heteroarilo, aralquilo o
heteroaralquilo opcionalmente sustituido;
Z^{1} es un grupo terminal representado por
hidrógeno, un grupo de alquilo tal como un grupo de metilo, un
grupo de etilo, un grupo de propilo, un grupo de isopropilo, un
grupo de butilo, un grupo de isobutilo, un grupo de
t-butilo, un grupo de s-butilo, un
grupo de pentilo, un grupo de hexilo, un grupo de ciclopentilo, un
grupo de ciclohexilo o un grupo de octilo, un grupo de bencilo, un
grupo de arilo o heteroarilo opcionalmente sustituido, un grupo de
naftilo, un grupo de antracenilo, un grupo de piridilo, un grupo de
alilo o un grupo de vinilo.
Los ejemplos específicos preferidos de
(co)polímeros de sulfonamida son polímeros que comprenden
(met)acrilamida de N-(p-aminosulfonilfenil),
(met)acrilamida de N-(m-aminosulfonilfenil)
y/o (met)acrilamida de
N-(o-aminosulfonilfenil). Un (co)polímero de
sulfonamida particularmente preferido es un polímero que comprende
N-(p-aminosulfonilfenil) metacrilamida en el que el
grupo de sulfonamida comprende un grupo de alquilo recto,
ramificado, cíclico o heterocíclico opcionalmente sustituido, un
grupo de arilo opcionalmente sustituido o un grupo heteroarilo
opcionalmente sustituido.
La capa que comprende el (co)polímero de
sulfonamida puede comprender además aglutinantes hidrófobos
adicionales tales como una resina fenólica (por ejemplo, novolac,
resoles o fenoles de polivinilo), una resina fenólica químicamente
modificada o un polímero que contiene un grupo de carboxilo, un
grupo de nitrilo o un grupo de maleimida.
El comportamiento de disolución del
revestimiento de la última realización en el desarrollador se puede
ajustar con precisión mediante los componentes de regulación de
solubilidad opcionales. Más particularmente, se pueden usar
aceleradores de desarrollo e inhibidores de desarrollo. En la
realización en la que el revestimiento comprende más de una capa,
se pueden añadir estos ingredientes a la primera capa, a la segunda
capa y/o a otra capa opcional del revestimiento.
Los aceleradores de desarrollo son compuestos
que actúan como promotores de disolución ya que son capaces de
incrementar la velocidad de disolución del revestimiento. Por
ejemplo, se pueden usar anhídridos del ácido cíclico, fenoles o
ácidos orgánicos para mejorar la capacidad de desarrollo acuosa.
Ejemplos del anhídrido del ácido cíclico incluyen anhídrido
ftálico, anhídrido tretahidroftálico, anhídrido hexahidroftálico,
anhídrido
3,6-endoxi-4-tetrahidro-ftálico,
anhídrido tetracloroftálico, anhídrido maleico, anhídrido
cloromaleico, anhídrido alfa-fenilmaleico,
anhídrido succínico y anhídrido piromelítico, como se ha descrito en
la Patente de Estados Unidos Nº 4.115.128. Ejemplos de los fenoles
incluyen bisfenol A, p-nitrofenol,
p-etoxifenol,
2,4,4'-trihidroxibenzofenona,
2,3,4-trihidroxi-benzofenona,
4-hidrosibenzenofenona,
4,4',4''-trihidroxi-trifenilmetano,
y
4,4',3'',4''-tetrahidroxi-3,5,3',5'-tetrametiltrifenil-metano,
y similares. Los ejemplos de ácidos orgánicos incluyen ácidos
sulfónicos, ácidos sulfínicos, ácidos alquilsulfúricos, ácidos
fosfónicos, fosfatos, ácidos carboxílicos, como se han descrito en,
por ejemplo, los documentos JP-A Nº
60-88.942 y 2-96.755. Ejemplos
específicos de estos ácidos orgánicos incluyen ácido
p-toluensulfónico, ácido dodecilbencenosulfónico,
ácido p-toluensulfínico, ácido etilsulfúrico, ácido
fenilfosfónico, ácido fenilfosfínico, fosfato de fenilo, fosfato de
difenilo, ácido benzoico, ácido isoftálico, ácido adípico, ácido
p-toluico, ácido
3,4-dimetoxibenzoico, ácido
3,4,5-trimetoxibenzoico, ácido
3,4,5-trimetoxicinamico, ácido ftálico, ácido
tereftálico, ácido
4-ciclohexeno-1,2-dicarboxílico,
ácido erúcico, ácido láurico, ácido n-undecanoico y
ácido ascórbico. La cantidad del anhídrido del ácido cíclico,
fenol, o ácido orgánico contenido en el revestimiento está
preferiblemente en el intervalo del 0,05 al 20% en peso, con
relación al revestimiento como un todo. Los aceleradores de
desarrollo poliméricos tales como resinas
fenólicas-formaldehidos que comprenden al menos el
70% mol meta-cresol como unidades monoméricas
recurrentes también son aceleradores de desarrollo adecuados.
En una realización preferida, el revestimiento
también contiene medios de resistencia a desarrolladores, también
denominados inhibidores de desarrollo, es decir, uno o más
ingredientes que son capaces de retardar la disolución de las áreas
no expuestas durante el procesamiento. El efecto de inhibición de la
disolución se invierte preferiblemente calentando, de manera que la
disolución de las áreas expuestas no se retarda sustancialmente y
por lo tanto, se puede obtener un diferencial de disolución mayor
entre las áreas expuestas y las áreas no expuestas. Se cree que los
compuestos descritos en, por ejemplo, los documentos
EP-A 823 327 y WO97/39894 actúan como inhibidores
de disoluciones debido a la interacción, por ejemplo, la formación
de un puente de hidrógeno, con la resina o resinas
álcali-solubles en el revestimiento. Los inhibidores
de este tipo comprenden típicamente al menos un puente de hidrógeno
que forma un grupo, tal como, átomos de nitrógeno, grupos onio,
grupos de carbonilo (-CO-), de sulfinilo (-SO-) o de sulfonilo
(-SO_{2}-) y un resto hidrófobo mayor tal como uno más anillos
aromáticos. Algunos de los compuestos mencionados a continuación,
por ejemplo, tintes infrarrojos tales como cianinas y tintes de
contraste tales como tintes de triarilmetano cuaternizado también
pueden actuar como un inhibidor de disolución.
Otros inhibidores adecuados mejoran la
resistencia al desarrollador debido a que los mismos retardan la
penetración de un desarrollador alcalino acuoso en el
revestimiento. Tales compuestos se pueden presentar en la primera
capa y/o, si se presenta, en la segunda capa como se ha descrito en,
por ejemplo, el documento EP-A 950 518, y/o en la
capa de protección del desarrollo sobre la parte superior de dicha
capa, como se ha descrito en, por ejemplo, los documentos
EP-A 864 420, EP-A 950 517, WO
99/21725 y WO 01/45958. En la última realización, se puede
incrementar la solubilidad de la capa protectora en el desarrollador
o la penetrabilidad de la capa protectora por el desarrollador
mediante la exposición al calor o los infrarrojos.
Ejemplos preferidos de inhibidores que retrasan
la penetración del desarrollador alcalino acuoso en el revestimiento
incluyen los siguientes:
(a) Un material polimérico que es insoluble en o
impenetrable por el desarrollador, por ejemplo, un polímero o
copolímero hidrófobo o repelente de agua, tal como, polímeros
acrílicos, poliestireno, copolímeros
estireno-acrílico, poliésteres, poliamidas,
poliúreas, poliuretanos, resinas nitrocelulósicas y epoxi; o
polímeros que comprenden unidades de siloxano (siliconas) y/o
perfluoroalquilo.
(b) Compuestos bifuncionales tales como
tensioactivos que comprenden un grupo polar y un grupo hidrófobo tal
como un grupo de hidrocarburo de cadena larga, un grupo de poli- u
oligosiloxano y/o hidrocarburo perfluorado. Un ejemplo típico es
Megafac F-177, un tensioactivo perfluorado
disponible en el mercado por Dainippon Ink y Chemical, Inc. Una
cantidad adecuada de tales compuestos está entre 10 y 100
mg/m^{2}, más preferiblemente entre 50 y 90 mg/m^{2}.
(c) Copolímeros de bloque bifuncionales que
comprenden un bloque polar tal como un poli- u oligo(óxido de
alquileno) y un bloque hidrófobo tal como un grupo de hidrocarburo
de cadena larga, un poli- u oligosiloxano y/o un grupo de
hidrocarburo perfluorado. Una cantidad adecuada de tales compuestos
está entre 0,5 y 25 mg/m^{2}, preferiblemente entre 0,5 y 15
mg/m^{2}, y lo más preferible es entre 0,5 y 10 mg/m^{2}. Un
copolímero adecuado comprende de aproximadamente 15 a 25 unidades
de siloxano y de 50 a 70 grupos de alquilenóxido. Ejemplos
preferidos incluyen copolímeros que comprenden fenilmetilsiloxano
y/o dimetilsiloxano así como óxido de etileno y/o óxido de
propileno, tales como, Tego Glide 410, Tego Wet 265, Tego Protect
5001 o Silikofen P50/X, todos disponibles en el mercado a partir de
Tego Chemi, Essen, Alemania. Dicho poli- u oligosiloxano puede ser
un polímero o copolímero reticulado, lineal, cíclico o complejo. La
expresión compuesto de polisiloxano deberá incluir cualquier
compuesto que contenga más de un grupo de polisiloxano
-Si(R,R')-O-, en el que R y R' son grupos de
alquilo o arilo opcionalmente sustituidos. Los polisiloxanos
preferidos son fenilalquilsiloxanos y dialquilsiloxanos. El número
de grupos de siloxano en el polímero u oligómero es de al menos 2,
preferiblemente al menos 10, más preferiblemente al menos 20. Puede
ser menor que 100, preferiblemente menor que 60.
Se cree que durante el revestimiento y secado,
el inhibidor mencionado anteriormente del tipo (b) y (c) tiende a
posicionarse a sí mismo, debido a su estructura bifuncional, en la
interfase entre el revestimiento y el aire y forma de esta manera
una capa superior separada incluso cuando se aplica como un
ingrediente de la solución de revestimiento de la primera y/o
segunda capa opcional. De forma simultánea, los tensioactivos
también actúan con un agente de propagación que mejora la calidad
del revestimiento. La capa superior separada formada de esta manera
parece ser capaz de actuar como la capa protectora mencionada
anteriormente que retarda la penetración del desarrollador en del
revestimiento.
Como alternativa, el inhibidor del tipo (a) a
(c) se puede aplicar en una solución separada, recubierto sobre la
parte superior de la primera, segunda opcional y/o otras capas del
revestimiento. En dicha realización, puede ser ventajoso usar un
disolvente en la solución separada que no sea capaz de disolver los
ingredientes presentes en las otras capas de manera que una fase
repelente a agua o hidrófila altamente concentrada se obtiene en la
parte superior del revestimiento y que es capaz de actuar como la
capa de protección de desarrollo mencionada anteriormente.
Además, la primera o segunda capa opcional y/o
otras capas pueden comprender polímeros que mejoren además la
longitud de la corrida y/o la resistencia química de la plancha. Los
ejemplos de los mismos son polímeros que comprenden grupos
colgantes imido (-CO-NR-CO-), en los
que R es hidrógeno, alquilo opcionalmente sustituido o arilo
opcionalmente sustituido, tales como, los polímeros descritos en los
documentos EP-A 894 622, EP-A 901
902, EP-A 933 682 y WO 99/63407.
El revestimiento de los precursores de planchas
de impresión termosensibles descritos anteriormente también
contienen preferiblemente un tinte o pigmento absorbente de luz
infrarroja que, en la realización en la que el revestimiento
comprende más de una capa, se puede presentar en la primera capa y/o
en la segunda capa, y/o en otra capa opcional. Los tintes
absorbentes IR preferidos son tintes cianina, tintes merocianina,
tintes indoanilina, tintes oxonol, tintes pirilio, tintes
esquarilio. Ejemplos de tintes IR adecuados se describen en, por
ejemplo, los documentos EP-A 823327, 978376,
1029667, 1053868, 1093934; WO/9739894 y 00/29214. Los compuestos
preferidos son los siguientes tintes cianina:
La concentración del tinte IR en el
revestimiento está preferiblemente entre el 0,25 y el 15% p, más
preferiblemente entre el 0,5 y el 10% p, lo más preferible es entre
el 1,0 y el 7,5% p con relación al revestimiento como un todo.
El revestimiento puede comprender además uno o
más colorante o colorantes, tales tintes o pigmentos que
proporcionan un color visible al revestimiento y que permanecen en
el revestimiento en las áreas de imagen que no se han retirado
durante la capa de procesamiento. Por lo tanto, se forma una imagen
visible y la exanimación de la imagen litográfica sobre la plancha
de impresión desarrollada se hace factible. Tales tintes a menudo se
denominan tintes de contraste o tintes indicadores.
Preferiblemente, el tinte tiene un color azul y una absorción máxima
en el intervalo de longitud de onda entre 600 nm y 750 nm. Los
ejemplos típicos de tales tintes de contraste son tintes tri- o
diarilmetano amino-sustituidos, por ejemplo violeta
cristal, violeta de metilo, azul victoria puro, flexoblau 630,
basonyblau 640, auramina y verde de malaquita. También los tintes
que se describen en detalle en el documento EP-A
400.706 son tintes de contraste adecuados. Los tintes que,
combinados con aditivos específicos, colorean ligeramente el
revestimiento pero se colorean intensivamente después de la
exposición, como se han descrito en, por ejemplo, el documento
WO2006/005688, también se pueden usar como colorantes.
El precursor de plancha termosensible se puede
exponer a modo de imagen directamente con calor, por ejemplo, por
medio de un cabezal térmico o indirectamente mediante luz
infrarroja, preferiblemente cerca de la luz infrarroja. La luz
infrarroja se convierte preferiblemente en calor por un compuesto
absorbente de luz IR como se ha descrito anteriormente. El
precursor de plancha de impresión litográfica termosensible es
preferiblemente insensible a la luz visible, es decir, no se induce
ningún efecto sustancial en la velocidad de disolución del
revestimiento en el desarrollador mediante la exposición a la luz
visible. Más preferiblemente, el revestimiento es insensible a la
luz solar.
El precursor de plancha de impresión se puede
exponer a luz infrarroja por medio de, por ejemplo, un láser o LED.
Más preferiblemente, la luz usada para la exposición es un láser que
emite luz en el infrarrojo cercano que tiene una longitud de onda
en el intervalo desde aproximadamente 750 hasta aproximadamente 1500
nm, más preferiblemente de 750 a 1100 nm, tal como un diodo de
láser semiconductor, un láser Nd:YAG o un láser Nd:YLF. La potencia
del láser requerida depende de la sensibilidad del precursor de
plancha, el tiempo de residencia del píxel del rayo de láser, que
se determina por el diámetro del punto (valor típico de montadores
de planchas modernos a 1/e^{2} de intensidad máxima:
5-25 \mum), la velocidad de exploración y la
resolución del aparato de exposición (es decir, el número de
píxeles abarcados por unidad de distancia lineal, a menudo expresada
en puntos por pulgada o dpi; valor típico:
1000-4000 dpi).
Dos tipos de aparato de exposición por láser se
usan habitualmente: montadores de planchas de tambores internos
(ITD) y externos (XTD). Los montadores de planchas ITD para planchas
térmicas se caracterizan típicamente por una muy alta velocidad de
exploración de hasta 500 m/seg y pueden requerir una potencia de
láser de varios Watts. Los montadores de planchas XTD para planchas
térmicas que tienen una potencia de láser típica de aproximadamente
200 mW a aproximadamente 1 W operan a una menor velocidad de
exploración, por ejemplo, de 0,1 a 10 m/seg. Un montador de plancha
XTD equipado con uno o más diodos de láser que emiten en el
intervalo de longitud de onda entre 750 y 850 nm es una realización
especialmente preferida para el método de la presente invención.
Los montadores de planchas conocidos se pueden
usar como un aparato de exposición fuera de la prensa, que ofrece
el beneficio de tiempo muerto en prensa reducido. Las
configuraciones de montadores de planchas XTD también se pueden
usar para la exposición sobre la prensa, ofreciendo el beneficio de
registro inmediato en una prensa multicolor. Los detalles más
técnicos de los aparatos de exposición sobre prensa se describen en,
por ejemplo, los documentos US 5.174.205 y US 5.163.368.
Después de la exposición, el precursor se puede
desarrollar por medio de un líquido de procesamiento adecuado, tal
como una solución alcalina acuosa, con la que se retiran las áreas
sin imagen, del revestimiento; la etapa de desarrollo se puede
combinar con fricción mecánica, por ejemplo, usando un cepillo
giratorio. Durante el desarrollo, también se puede retirar
cualquier capa protectora soluble en agua presente. Los Precursores
de planchas de impresión termosensibles basados en la coalescencia
de látex, también se pueden desarrollar usando agua o soluciones
acuosas, por ejemplo, solución engomada como se ha descrito en el
documento EP 1.342.568. Como alternativa, tales Precursores de
planchas de impresión pueden después de la exposición montarse
directamente sobre una prensa de impresión y pueden desarrollarse
sobre la prensa suministrando tinta y/o fuente al precursor.
Más detalles con relación a la etapa de
desarrollo se pueden encontrar en, por ejemplo, los documentos EP
1614538, EP 1614539, EP 1614540 y WO/2004071767.
\vskip1.000000\baselineskip
Además de los materiales térmicos anteriores,
también se pueden usar revestimientos sensibles a luz. Los ejemplos
típicos de tales planchas son las planchas "PS" sensibles a UV
y las denominadas planchas de fotopolímeros que contienen una
composición fotopolimerizable que se endurece tras la exposición a
la luz.
En una realización particular de la presente
invención, se usa un precursor de plancha "PS" sensible a UV
convencional. Los ejemplos adecuados de tales precursores de
planchas, que son sensibles en el intervalo de
300-450 nm (intervalo de luz cercano a la luz azul y
luz UV), se han descrito en el documento EP 1.029.668 A2. Las
composiciones de trabajo positivo y negativo se usan típicamente en
los precursores de planchas "PS".
La capa de imagen de trabajo positivo comprende
preferiblemente un compuesto o-naftoquinona diazida
(NQD) y una resina álcali soluble. Los ésteres del ácido
o-naftoquinona-diazidosulfónico o
ésteres del ácido o-naftoquinona diazidocarboxílico
particularmente preferidos de varios compuestos hidróxilos y las
amidas del ácido
o-naftoquinona-diazidosulfónico o
amidas del ácido
o-naftoquinona-diazidocarboxílico de
varios compuestos de aminas aromáticas. Se pueden usar dos
variantes de los sistemas NQD: sistemas de un componente y sistemas
de dos componentes. Tales planchas de impresión sensibles a la luz
se han descrito ampliamente en la técnica anterior en, por ejemplo,
los documentos U.S. 3.635.709, J.P. KOKAI Nº
55-76346, J.P. KOKAI Nº Sho
50-117503, J.P. KOKAI Nº Sho
50-113305, U.S. 3.859.099, U.S. 3.759.711,
GB-A 739654, U.S. 4.266.001 y J.P. KOKAI Nº
55-57841.
La capa de trabajo negativo de una plancha
"PS" comprende preferiblemente una sal de diazonio, una resina
de diazonio o un homo- o copolímero de arildiazosulfonato. Los
ejemplos adecuados de sales de diazonio con bajo peso molecular
incluyen: tetrazoniocloruro de bencidina, tetrazoniocloruro de
3,3'-dimetilbencidina, tetrazoniocloruro de
3,'-dimetoxibencidina, tetrazoniocloruro de
4,4'-diaminodifenilamina, tetrazoniosulfato de
3,3'-dietilbencidina, diazoniosulfato de
4-aminodifenilamina, diazoniocloruro de
4-aminodefenilamina, diazoniosulfato de
4-piperidino anilina, diazoniosulfato de
4-dietilamino anilina y productos de condensación
oligoméricos de diazoniofenilamina y formaldehido. Los ejemplos de
las resinas diazo incluyen los productos de condensación de una sal
de diazonio aromática como la sustancia sensible a luz. Tales
productos de condensación se describen en, por ejemplo, el
documento DE-P-1 214 086. La capa
termosensible o sensible a luz también contiene preferiblemente un
aglutinante, por ejemplo, alcohol polivinílico.
Tras la exposición, las resinas diazo o sales de
diazonio se convierten de solubles en agua a insolubles en agua
(debido a la destrucción de los grupos de diazonio) y
adicionalmente, los productos de fotólisis del diazo pueden
incrementar el nivel de reticulación del aglutinante polimérico o
resina diazo, convirtiendo esta manera selectivamente el
revestimiento, en un patrón de imagen, de soluble en agua a
insoluble en agua. Las áreas no expuestas permanecen sin cambios,
es decir, solubles en agua.
Tales precursores de planchas de impresión se
pueden desarrollar usando una solución alcalina acuosa como se ha
descrito anteriormente.
En una segunda realización adecuada, el
precursor de plancha de impresión sensible a luz se basa en una
reacción de foto-polimerización y contiene un
revestimiento que comprende una composición fotocurable que
comprende un iniciador de radical libre (como se ha descrito en,
por ejemplo, los documentos US 5.955.238; US 6.037.098; US
5.629.354; US 6.232.038; US 6.218.076; US 5.955.238; US 6.037.098;
US 6.010.824; US 5.629.354; DE 1.470.154; EP 024.629; EP 107.792;
US 4.410.621; EP 215.453; DE 3.211.312 y EP A 1.091.247) un
compuesto polimerizable (como se ha descrito en los documentos
EP1,161,4541, EP 1349006, WO2005/109103 y en las solicitudes de
patentes Europeas no publicadas EP 5.111.012,0, EP 5.111.025,2, EP
5110918, 9 y EP 5.110.961,9) y un aglutinante polimérico (como se
ha descrito en, por ejemplo, los documentos US2004/0260050,
US2005/0003285; US2005/0123853; EP 1.369.232; EP 1.369.231; EP
1.341.040; US 2003/0124460, EP 1 241 002, EP 1 288 720, US
6.027.857, US 6.171.735; US 6.420.089; EP 152.819; EP 1.043.627; US
6.899.994; US2004/0260050; US 2005/0003285; US2005/0170286;
US2005/0123853; US2004/0260050; US2005/0003285; US2004/0260050; US
2005/0003285; US 2005/0123853 y US2005/0123853). Opcionalmente, se
pueden añadir otros ingredientes tales como sensibilizantes,
co-iniciadores, compuestos que promueven la
adhesión, colorantes, tensioactivos y/o agentes de impresión. Estos
Precursores de planchas de impresión se pueden sensibilizar con luz
azul, verde o roja (es decir, intervalo de longitud de onda entre
450 y 750 nm), con ultravioleta (es decir, intervalo de longitud de
onda entre 350 y 450 nm) o con luz infrarroja (es decir, intervalo
de longitud de onda entre 750 y 1500 nm) usando por ejemplo un
láser Ar (488 nm) o un láser FD-YAG (532 nm), un
láser semiconductor InGaN (de 350 a 450 nm 9, un diodo de láser
infrarrojo (830 nm) o un láser Nd-YAG (1064
nm).
Típicamente, un precursor de plancha de
fotopolímero se procesa en un desarrollador alcalino que tiene un
pH > 10 (véase lo anterior) y posteriormente se engoma. Como
alternativa, el precursor de plancha de fotopolímero expuesto
también se puede desarrollar aplicando una solución de goma al
revestimiento con la que se retiran las áreas no expuestas. Las
soluciones engomadas adecuadas se describen en el documento
WO/2005/111727. Después de la etapa de exposición, el precursor con
la imagen también se puede montar directamente sobre una prensa y
procesarse sobre prensa aplicando tinta y/o solución de fuente. Los
métodos para preparar tales planchas se describen en los documentos
WO93/05446, US 6.027.857, US 6.171.735, US 6.420.089, US 6.071.675,
US 6.245.481, US 6.387.595, US 6.482.571, US.576.401, US 6.548.222,
WO 03/087939, US 2003/16577 y US 2004/13968.
Para proteger la superficie de revestimiento de
los precursores de planchas de impresión termosensibles y/o
sensibles a la luz, en particular del daño mecánico, se puede
aplicar también una capa protectora de forma opcional. La capa
protectora comprende generalmente al menos un aglutinante soluble en
agua, tal como un alcohol polivinílico, polivinilpirrolidona,
acetatos polivinílicos parcialmente hidrolizados, gelatina,
carbohidratos, hidroxietilcelulosa y se pueden producir de
cualquier forma conocida tal como a partir de una solución o
dispersión acuosa que puede, si se requiere, contener pequeñas
cantidades - es decir, menos que el 5% en peso en base al peso
total de los disolventes del revestimiento para la capa protectora -
de disolventes orgánicos. El espesor de la capa protectora se puede
adecuar a cualquier cantidad, ventajosamente hasta 5,0 \mum,
preferiblemente de 0,1 a 3,0 \mum, particularmente preferido de
0,15 a 1,0 \mum.
Opcionalmente, el revestimiento puede contener
además ingredientes adicionales tales como tensioactivos,
especialmente tensioactivos perfluoro, partículas de dióxido de
silicio o titanio o partículas de polímeros tales como agentes
mateantes y espaciadores.
Se puede usar cualquier método de revestimiento
para aplicar dos o más soluciones de revestimiento a la superficie
hidrófila del soporte. El revestimiento multicapa se puede aplicar
revistiendo/secando cualquier capa de forma consecutiva o mediante
el revestimiento simultáneo de varias soluciones de revestimiento al
mismo tiempo. En la etapa de secado, los disolventes volátiles se
retiran del revestimiento hasta que el revestimiento se soporta a
sí mismo y se seca al tacto. Sin embargo, no es necesario (incluso
no puede ser posible) retirar todo el disolvente en la etapa de
secado. De hecho, el contenido de disolvente residual se puede
considerar como una variable de composición adicional mediante la
que se puede optimizar la composición. El secado se realiza
típicamente soplando aire caliente sobre el revestimiento,
típicamente a una temperatura de al menos 70ºC, de forma adecuada
de 80-150ºC y especialmente de
90-140ºC. También, se pueden usar lámparas
infrarrojas. El tiempo de secado puede ser típicamente de
15-600 segundos.
Entre el revestimiento y el secado, o después de
la etapa de secado, un tratamiento térmico y un enfriamiento
posterior pueden proporcionar beneficios adicionales, como se han
descrito en los documentos WO99/21715, EP-A
1074386, EP-A 1074889, WO00/29214, y WO/04030923,
WO/04030924, WO/04030925.
Las planchas de impresión termosensibles y/o
sensibles a luz se pueden tratar como un líquido de limpieza usado
en la presente invención. Entonces, las mismas se pueden usar para
la denominada impresión por transferencia en húmedo convencional,
en la que la tinta y un líquido humectante acuoso se suministran a
la plancha. Otro método de impresión adecuado usa la denominada
tinta de un solo fluido sin un líquido humectante. Las tintas de un
solo fluido adecuadas se han descrito en los documentos US
4.045.232; US 4.981.517 y US 6.140.392. En una realización más
preferida, la tinta de un solo fluido comprende una fase de tinta,
también denominada fase hidrófoba u oleófoba, y una fase de poliol
como se ha descrito en el documento WO 00/32705. También durante la
etapa de impresión, el líquido de limpieza de la presente invención
se puede aplicar a las planchas de impresión.
El líquido de tratamiento usado en la presente
invención también se puede usar para tratar termoresistencias, por
ejemplo, en una aplicación PCB (tablero de circuito impreso) como se
ha descrito en el documento US 2003/0003406 A1.
\vskip1.000000\baselineskip
Se preparó Un buen rendimiento del limpiador de
plancha de referencia PC-01 con la composición dada
en la tabla 1 de la siguiente manera.
Se añadió monohidrato de ácido cítrico al agua
desmineralizada y se mezcló hasta disolverlo totalmente. Después,
se añadió Partemol A26 mientras que se mezcló, y posteriormente se
añadieron 85% w/w de ácido fosfórico y Rewopol D510 y se mezclaron
hasta que se disolvieron.
Se añadieron Atlas G3300 B, NANSA YS94 y Caflon
PHC040 al Exxsol D-40 y al Solvesso 100 y se
mezclaron hasta que se disolvieron totalmente.
La fase de disolvente se añadió a la fase acuosa
mientras la mezcla mantenía las cuchillas de mezcla justo por
debajo de la superficie de emulsión (mezclador Silverson de alta
velocidad de cizallamiento). Una vez que la emulsión se formó y que
se había añadido todo disolvente, la emulsión se mezcló más
lentamente durante 10 minutos.
(1) Biocida, disponible en el mercado por
Schülke & Maier GmbH (Alemania);
(2) 2-etilhexilsulfato
disponible en el mercado por Goldschmidt;
(3) Exxsol D-40 es una mezcla de
disolvente de hidrocarburo alifático con un punto de inflamación de
40ºC, disponible en el mercado por Exxon;
(4) Mezcla de disolventes de hidrocarburos
aromáticos C_{9}-C_{10}, disponible en el
mercado por Exxon;
(5) Tensioactivo de alquilarilsolfonato,
disponible en el mercado por Uniquema;
(6) Tensioactivo de
iso-propilamidadodecilbencenosulfonato, disponible
en el mercado por Huntsman;
(7) Tensioactivo de alquiletoliato
(C_{4}-4EO), disponible en el mercado por
Unilever.
\vskip1.000000\baselineskip
El nivel de disolvente del limpiador de plancha
de referencia es del 44,7% p.
Se preparó el limpiador de plancha inventivo
PC-02 con la composición dada en la tabla 2 de la
siguiente manera.
Los componentes de la parte acuosa, excepto por
el Rheogel IRX55395, se añadieron al agua desmineralizada a
temperatura ambiente y se agitaron hasta que todos los componentes
se disolvieron completamente.
Los componentes de la parte orgánica se
mezclaron a temperatura ambiente.
Mientras se agitó a 15K revoluciones/minuto en
un mezclador digital Utra Turrax T25 equipado con un cabezal de
mezcla S25N (ambas marcas comerciales de IKA Werke GmbH & Co) se
añadió la parte orgánica muy lentamente en el vórtice de la parte
acuosa. Después de completar toda la adición de la parte orgánica,
la emulsión resultante se agitó durante unos 2 minutos adicionales
a la misma velocidad. Después, se le permitió a la espuma disiparse
en la emulsión.
Finalmente, se añadió ligeramente el Rheogel
IRX55395 a esta emulsión evitando la formación de grumos y el
limpiador de plancha resultante se agitó durante 30 minutos
adicionales usando un agitador RW20 (disponible en el mercado por
IKA Werke GmbH & Co) equipado con un disco de dispersión R1303
(disponible en el mercado por IKA Werke GmbH & Co). La
velocidad de giro se incrementó gradualmente para tomar en
consideración el incremento de la viscosidad.
(1) véase tabla 1;
(2) Glucopon 600 CSUP: (poli)glucósido de
alquilo de Cognis con C_{12}-C_{14} y un número
medio de unidades de glucósido de 1,4:
(3) Solución al 70% de sorbitol de Roquette
Frères SA, Francia;
\vskip1.000000\baselineskip
\vskip1.000000\baselineskip
(4) Disolvente de hidrocarburo alifático con un
punto de inflamación de 62ºC, disponible en el mercado por
Exxon;
(5) Mezcla de disolventes de hidrocarburos
aromáticos C_{10}-C_{11}, disponible en el
mercado por Exxon; naftaleno empobrecido (ND) indica un contenido
de naftaleno menos que el 1,0 por ciento en peso;
(6) Espesante de goma xantana, disponible en el
mercado por CNI SA, Francia.
\vskip1.000000\baselineskip
El nivel de disolvente de este limpiador plancha
es del 29,21% p.
Los limpiadores de plancha se evaluaron usando
una plancha de impresión Thermostar P970 (disponible en el mercado
por Agfa-Graphics) sobre una prensa de impresión
Heidelberg Speedmaster SM74 (disponible en el mercado por
Heidelberg Druckmaschinen AG) usando las siguientes condiciones de
impresión:
tinta: tinta negra K+E 700 (disponible en el
mercado por K&E).
solución fuente: 4% de Agfa Prima FS303
(disponible en el mercado por Agfa-Graphics) + 10%
de isopropanol.
papel: papel de maquina revestido (90
g/m^{2}).
La eficacia de limpieza de ambos limpiadores de
placas se evaluó independientemente mediante un panel de 4
operarios de prensa usando los procedimientos de limpieza de plancha
comunes. Una pequeña cantidad del limpiador de plancha se aplicó
sobre una esponja (humedecida con la solución fuerte) y
posteriormente esta esponja se usó para limpiar la plancha sobre la
prensa.
Los operarios indicaron de forma unánime que
ambos limpiadores de plancha tuvieron el mismo rendimiento en
términos de eficacia, limpieza y solvencia a tinta, mientras que el
olor del limpiador de plancha de acuerdo con la presente invención
C-02 fue claramente preferido. Ambos limpiadores de
plancha no dañaron las partes de imagen de la plancha. El limpiador
de plancha PC-02 tuvo un nivel de disolvente de solo
el 29,21% p, mientras que el limpiador de plancha de referencia
tuvo un nivel de disolvente del 44,7% p.
\vskip1.000000\baselineskip
Los limpiadores de plancha PC-03
a PC-07 con la composición dada en la tabla 3 se
prepararon de la misma forma que PC-02 (véase
Ejemplo 1, nº 2).
\vskip1.000000\baselineskip
*: Ingredientes como se han definido en la Tabla
2.
\newpage
En la tabla 4 se resumen el nivel de disolvente
y el nivel del tensioactivo (APG) de (poli)glucósido de
alquilo de los líquidos de limpieza PC-03 a
PC-07.
Los limpiadores de plancha PC-03
a PC-07 y la referencia PC-02 se
evaluaron usando una plancha de impresión Thermostar P970
(disponible en el mercado por Agfa-Graphics) sobre
una prensa de impresión Heidelberg Speedmaster SM74 (disponible en
el mercado por Heidelberg Druckmaschinen AG) usando las siguientes
condiciones de impresión:
tinta: tinta negra K+E 700 (disponible en el
mercado por K&E).
solución fuente: 4% de Agfa Prima FS303
(disponible en el mercado por Agfa-Graphics) + 10%
de isopropanol.
papel: papel de maquina revestido (90
g/m^{2}).
La eficacia de la limpieza de los limpiadores de
plancha se evaluó aplicando una pequeña cantidad de limpiador de
planchas en una esponja (humedecida con la solución fuente) y
posteriormente usando esta esponja para limpiar la plancha sobre la
prensa.
Ni las formulaciones de los limpiadores
PC-03 a PC-07 ni la formulación del
limpiador de plancha de referencia PC-02 dañaron
las partes de imagen de la plancha. Los resultados de la evaluación
de solvencia a tinta usando los procedimientos de limpieza de
plancha comunes se dan en la tabla 5.
* Se usó la siguiente escala de solvencia a
tinta cualitativa:
1 = muy mala calidad
2 = mala calidad
3 = todavía no óptima
4 = buena
5 = bastante buena.
\vskip1.000000\baselineskip
Los resultados de la tabla 5 muestran que una
concentración por encima del 2,0% p del tensioactivo de
(poli)glucósido de alquilo en el líquido de limpieza, la
solvencia a tinta todavía no es óptima (líquidos de limpieza
PC-04 y PC-05) y que por debajo del
2,0% p del tensioactivo de (poli)glucósido de alquilo, la
solvencia a tinta va de buena a bastante buena (líquidos de
limpieza PC-03, PC-06 y
PC-07) y es similar a la solvencia a tinta del
líquido de limpieza de referencia PC-02.
Claims (10)
1. Método para limpiar una plancha de impresión
litográfica que comprende la etapa de aplicar a la plancha un
líquido que incluye una fase acuosa, una fase de disolvente y al
menos un (poli)glucósido de alquilo, incluyendo dicha fase
de disolvente una mezcla que comprende hidrocarburos alifáticos y/o
aromáticos,
caracterizado por que la cantidad de la
fase de disolvente en el líquido es \leq 40% p.
2. Método de acuerdo con la reivindicación 1 en
que la cantidad de la fase de disolvente en el líquido es \leq
30% p.
3. Método de acuerdo con la reivindicación 1 ó
2 en el que el nivel del (poli)glucósido de alquilo es \leq
2% p.
4. Método de acuerdo con cualquiera de las
reivindicaciones precedentes en el que los hidrocarburos aromáticos
se seleccionan a partir de hidrocarburos
C_{10}-C_{11}.
5. Método de acuerdo con la reivindicación 4 en
el que los hidrocarburos aromáticos
C_{10}-C_{11} se seleccionan a partir de
bencenos sustituidos con alquilo.
6. Método de acuerdo con cualquiera de las
reivindicaciones precedentes en el que los hidrocarburos alifáticos
se seleccionan a partir de hidrocarburos
C_{7}-C_{14} lineales o ramificados.
7. Método de acuerdo con cualquiera de las
reivindicaciones precedentes en el que el porcentaje en peso de
hidrocarburos aromáticos con respecto a hidrocarburos alifáticos
varía de 1/3 a 3/1.
8. Método de acuerdo con cualquiera de las
reivindicaciones precedentes en el que el líquido tiene un punto de
inflamación \geq 60ºC.
9. Método de acuerdo con cualquiera de las
reivindicaciones precedentes en el que la plancha de impresión se
obtiene exponiendo y desarrollando un precursor de placa de
impresión que comprende un revestimiento que incluye una resina
oleófila que es soluble en un desarrollador alcalino acuoso.
10. Uso de un líquido que comprende una fase
acuosa, al menos un (poli)glucósido de alquilo y el 40% p o
menos de una fase de disolvente que incluye una mezcla que comprende
hidrocarburos alifáticos y/o aromáticos para limpiar una plancha de
impresión litográfica.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| EP07121963A EP2065211B1 (en) | 2007-11-30 | 2007-11-30 | A method for treating a lithographic printing plate |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| ES2344668T3 true ES2344668T3 (es) | 2010-09-02 |
Family
ID=39315194
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| ES07121963T Active ES2344668T3 (es) | 2007-11-30 | 2007-11-30 | Metodo para tratar una plancha de impresion litografica. |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US8468942B2 (es) |
| EP (1) | EP2065211B1 (es) |
| CN (1) | CN101878117B (es) |
| AT (1) | ATE468981T1 (es) |
| DE (1) | DE602007006822D1 (es) |
| ES (1) | ES2344668T3 (es) |
| WO (1) | WO2009068426A1 (es) |
Family Cites Families (158)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| ATE402012T1 (de) | 2005-09-27 | 2008-08-15 | Agfa Graphics Nv | Verfahren zur herstellung einer lithographischen druckplatte |
| ATE402013T1 (de) | 2005-10-20 | 2008-08-15 | Agfa Graphics Nv | Verfahren zum herstellen eines lithographiedruckformvorläufers |
| EP1940620B1 (en) | 2005-10-20 | 2009-01-28 | Agfa Graphics Nv | Negative working, heat-sensitive lithographic printing plate precursor |
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| DE602005014249D1 (de) | 2005-11-21 | 2009-06-10 | Agfa Graphics Nv | Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckform |
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| JP2009541095A (ja) | 2006-07-05 | 2009-11-26 | エンバイロ イメージ ソリューションズ インコーポレイテッド | オフセット印刷用ブランケットから残留インク像を除去する方法および組成物 |
| ES2365885T3 (es) | 2008-03-31 | 2011-10-13 | Agfa Graphics N.V. | Un método para tratar una plancha de impresión litográfica. |
-
2007
- 2007-11-30 EP EP07121963A patent/EP2065211B1/en not_active Not-in-force
- 2007-11-30 DE DE602007006822T patent/DE602007006822D1/de active Active
- 2007-11-30 ES ES07121963T patent/ES2344668T3/es active Active
- 2007-11-30 AT AT07121963T patent/ATE468981T1/de not_active IP Right Cessation
-
2008
- 2008-11-07 CN CN2008801183248A patent/CN101878117B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2008-11-07 WO PCT/EP2008/065124 patent/WO2009068426A1/en active Application Filing
- 2008-11-07 US US12/743,414 patent/US8468942B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP2065211B1 (en) | 2010-05-26 |
| US8468942B2 (en) | 2013-06-25 |
| CN101878117A (zh) | 2010-11-03 |
| DE602007006822D1 (de) | 2010-07-08 |
| US20110000384A1 (en) | 2011-01-06 |
| WO2009068426A1 (en) | 2009-06-04 |
| CN101878117B (zh) | 2012-01-18 |
| ATE468981T1 (de) | 2010-06-15 |
| EP2065211A1 (en) | 2009-06-03 |
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