JPH0296755A - 感光性組成物 - Google Patents
感光性組成物Info
- Publication number
- JPH0296755A JPH0296755A JP24939888A JP24939888A JPH0296755A JP H0296755 A JPH0296755 A JP H0296755A JP 24939888 A JP24939888 A JP 24939888A JP 24939888 A JP24939888 A JP 24939888A JP H0296755 A JPH0296755 A JP H0296755A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- acid
- compound
- photosensitive
- cresol
- resin
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 37
- -1 halomethyl oxadiazole Chemical compound 0.000 claims abstract description 40
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 37
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 37
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims abstract description 10
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 238000006303 photolysis reaction Methods 0.000 claims abstract description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 51
- TUXAJHDLJHMOQB-UHFFFAOYSA-N 2-diazonio-4-sulfonaphthalen-1-olate Chemical compound C1=CC=C2C(S(=O)(=O)O)=CC([N+]#N)=C([O-])C2=C1 TUXAJHDLJHMOQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 4
- 150000002366 halogen compounds Chemical class 0.000 claims 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 28
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 abstract description 12
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 abstract description 10
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 abstract description 8
- 239000003513 alkali Substances 0.000 abstract description 5
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 abstract description 5
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 abstract description 4
- 230000003993 interaction Effects 0.000 abstract 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 abstract 1
- 230000015843 photosynthesis, light reaction Effects 0.000 abstract 1
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 26
- IWDCLRJOBJJRNH-UHFFFAOYSA-N p-cresol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1 IWDCLRJOBJJRNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 15
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 13
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 12
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 9
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 9
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 9
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 8
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 description 8
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 8
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 8
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 7
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 7
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 6
- 238000011161 development Methods 0.000 description 6
- RLSSMJSEOOYNOY-UHFFFAOYSA-N m-cresol Chemical compound CC1=CC=CC(O)=C1 RLSSMJSEOOYNOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N pyrogallol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1O WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 5
- 229940118056 cresol / formaldehyde Drugs 0.000 description 5
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 5
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 5
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 5
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 4
- HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N benzaldehyde Chemical compound O=CC1=CC=CC=C1 HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N catechol Chemical compound OC1=CC=CC=C1O YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 4
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 4
- 238000000866 electrolytic etching Methods 0.000 description 4
- 229940093915 gynecological organic acid Drugs 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 4
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 4
- GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N resorcinol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1 GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MGSRCZKZVOBKFT-UHFFFAOYSA-N thymol Chemical compound CC(C)C1=CC=C(C)C=C1O MGSRCZKZVOBKFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 3
- 150000005215 alkyl ethers Chemical class 0.000 description 3
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000004982 aromatic amines Chemical class 0.000 description 3
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 3
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 3
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 3
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 229940079877 pyrogallol Drugs 0.000 description 3
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 3
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 3
- KMOUUZVZFBCRAM-OLQVQODUSA-N (3as,7ar)-3a,4,7,7a-tetrahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1C=CC[C@@H]2C(=O)OC(=O)[C@@H]21 KMOUUZVZFBCRAM-OLQVQODUSA-N 0.000 description 2
- RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 1-methylsulfonylpiperidin-4-one Chemical compound CS(=O)(=O)N1CCC(=O)CC1 RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NKTOLZVEWDHZMU-UHFFFAOYSA-N 2,5-xylenol Chemical compound CC1=CC=C(C)C(O)=C1 NKTOLZVEWDHZMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethyl acetate Chemical compound COCCOC(C)=O XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TUAMRELNJMMDMT-UHFFFAOYSA-N 3,5-xylenol Chemical compound CC1=CC(C)=CC(O)=C1 TUAMRELNJMMDMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XJMMNTGIMDZPMU-UHFFFAOYSA-N 3-methylglutaric acid Chemical compound OC(=O)CC(C)CC(O)=O XJMMNTGIMDZPMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 101100491149 Caenorhabditis elegans lem-3 gene Proteins 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 2
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229930192627 Naphthoquinone Natural products 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005844 Thymol Substances 0.000 description 2
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001253 acrylic acids Chemical class 0.000 description 2
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 2
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 2
- JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N anhydrous glutaric acid Natural products OC(=O)CCCC(O)=O JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007743 anodising Methods 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RECUKUPTGUEGMW-UHFFFAOYSA-N carvacrol Chemical compound CC(C)C1=CC=C(C)C(O)=C1 RECUKUPTGUEGMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HHTWOMMSBMNRKP-UHFFFAOYSA-N carvacrol Natural products CC(=C)C1=CC=C(C)C(O)=C1 HHTWOMMSBMNRKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000007746 carvacrol Nutrition 0.000 description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GHVNFZFCNZKVNT-UHFFFAOYSA-N decanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCC(O)=O GHVNFZFCNZKVNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 2
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 2
- KZTYYGOKRVBIMI-UHFFFAOYSA-N diphenyl sulfone Chemical compound C=1C=CC=CC=1S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 KZTYYGOKRVBIMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DMBHHRLKUKUOEG-UHFFFAOYSA-N diphenylamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1NC1=CC=CC=C1 DMBHHRLKUKUOEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-N dodecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCC(O)=O POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N ethenoxyethane Chemical compound CCOC=C FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 2
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 2
- HYBBIBNJHNGZAN-UHFFFAOYSA-N furfural Chemical compound O=CC1=CC=CO1 HYBBIBNJHNGZAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 2
- WYXXLXHHWYNKJF-UHFFFAOYSA-N isocarvacrol Natural products CC(C)C1=CC=C(O)C(C)=C1 WYXXLXHHWYNKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N isophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 2
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010297 mechanical methods and process Methods 0.000 description 2
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002791 naphthoquinones Chemical class 0.000 description 2
- BDJRBEYXGGNYIS-UHFFFAOYSA-N nonanedioic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCC(O)=O BDJRBEYXGGNYIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FBUKVWPVBMHYJY-UHFFFAOYSA-N nonanoic acid Chemical compound CCCCCCCCC(O)=O FBUKVWPVBMHYJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RZXMPPFPUUCRFN-UHFFFAOYSA-N p-toluidine Chemical compound CC1=CC=C(N)C=C1 RZXMPPFPUUCRFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N para-ethylbenzaldehyde Natural products CCC1=CC=C(C=O)C=C1 QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 2
- KJFMBFZCATUALV-UHFFFAOYSA-N phenolphthalein Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C1(C=2C=CC(O)=CC=2)C2=CC=CC=C2C(=O)O1 KJFMBFZCATUALV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229960001553 phloroglucinol Drugs 0.000 description 2
- QCDYQQDYXPDABM-UHFFFAOYSA-N phloroglucinol Chemical compound OC1=CC(O)=CC(O)=C1 QCDYQQDYXPDABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 2
- WLJVNTCWHIRURA-UHFFFAOYSA-N pimelic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCC(O)=O WLJVNTCWHIRURA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 2
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 2
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- CYIDZMCFTVVTJO-UHFFFAOYSA-N pyromellitic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(C(O)=O)=C(C(O)=O)C=C1C(O)=O CYIDZMCFTVVTJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N sebacic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCCC(O)=O CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 2
- 229960000790 thymol Drugs 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZDPHROOEEOARMN-UHFFFAOYSA-N undecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCC(O)=O ZDPHROOEEOARMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ROVRRJSRRSGUOL-UHFFFAOYSA-N victoria blue bo Chemical compound [Cl-].C12=CC=CC=C2C(NCC)=CC=C1C(C=1C=CC(=CC=1)N(CC)CC)=C1C=CC(=[N+](CC)CC)C=C1 ROVRRJSRRSGUOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 2
- QBYIENPQHBMVBV-HFEGYEGKSA-N (2R)-2-hydroxy-2-phenylacetic acid Chemical compound O[C@@H](C(O)=O)c1ccccc1.O[C@@H](C(O)=O)c1ccccc1 QBYIENPQHBMVBV-HFEGYEGKSA-N 0.000 description 1
- MUTGBJKUEZFXGO-OLQVQODUSA-N (3as,7ar)-3a,4,5,6,7,7a-hexahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1CCC[C@@H]2C(=O)OC(=O)[C@@H]21 MUTGBJKUEZFXGO-OLQVQODUSA-N 0.000 description 1
- XVOUMQNXTGKGMA-OWOJBTEDSA-N (E)-glutaconic acid Chemical compound OC(=O)C\C=C\C(O)=O XVOUMQNXTGKGMA-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 1
- BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N (S)-malic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N 0.000 description 1
- FFJCNSLCJOQHKM-CLFAGFIQSA-N (z)-1-[(z)-octadec-9-enoxy]octadec-9-ene Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCCOCCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC FFJCNSLCJOQHKM-CLFAGFIQSA-N 0.000 description 1
- RBNPOMFGQQGHHO-UHFFFAOYSA-N -2,3-Dihydroxypropanoic acid Natural products OCC(O)C(O)=O RBNPOMFGQQGHHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QJZZHNDRXWSQMZ-UHFFFAOYSA-N 1,3-diphenyl-2,4-dihydrotriazine Chemical compound C1C=CN(C=2C=CC=CC=2)NN1C1=CC=CC=C1 QJZZHNDRXWSQMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXGZQGDTEZPERC-UHFFFAOYSA-N 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCC(C(O)=O)CC1 PXGZQGDTEZPERC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCNMALATRPXTKX-UHFFFAOYSA-N 1,4-dimethylcyclohexa-2,4-dien-1-ol Chemical compound CC1=CCC(C)(O)C=C1 PCNMALATRPXTKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UOFGSWVZMUXXIY-UHFFFAOYSA-N 1,5-Diphenyl-3-thiocarbazone Chemical compound C=1C=CC=CC=1N=NC(=S)NNC1=CC=CC=C1 UOFGSWVZMUXXIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IANQTJSKSUMEQM-UHFFFAOYSA-N 1-benzofuran Chemical group C1=CC=C2OC=CC2=C1 IANQTJSKSUMEQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DNJRKFKAFWSXSE-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-2-ethenoxyethane Chemical compound ClCCOC=C DNJRKFKAFWSXSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTZVZZJJVJQZHV-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-4-ethenylbenzene Chemical compound ClC1=CC=C(C=C)C=C1 KTZVZZJJVJQZHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZCMOJQQLBXBKI-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxy-2-methylpropane Chemical compound CC(C)COC=C OZCMOJQQLBXBKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTXUTPWZJZHRJC-UHFFFAOYSA-N 1-ethenylpyrrole Chemical compound C=CN1C=CC=C1 CTXUTPWZJZHRJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUFPHBVGCFYCNW-UHFFFAOYSA-N 1-naphthylamine Chemical compound C1=CC=C2C(N)=CC=CC2=C1 RUFPHBVGCFYCNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FRPZMMHWLSIFAZ-UHFFFAOYSA-N 10-undecenoic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCCC=C FRPZMMHWLSIFAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VFNKZQNIXUFLBC-UHFFFAOYSA-N 2',7'-dichlorofluorescein Chemical compound O1C(=O)C2=CC=CC=C2C21C1=CC(Cl)=C(O)C=C1OC1=C2C=C(Cl)C(O)=C1 VFNKZQNIXUFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AVYGCQXNNJPXSS-UHFFFAOYSA-N 2,5-dichloroaniline Chemical compound NC1=CC(Cl)=CC=C1Cl AVYGCQXNNJPXSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZQBDGHUOBRFAA-UHFFFAOYSA-N 2-(2,6-dihydroxyphenyl)benzaldehyde Chemical compound C1(O)=C(C(O)=CC=C1)C1=CC=CC=C1C=O VZQBDGHUOBRFAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LHSAKGVBHJUEOV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methylpropyl)pentanedioic acid Chemical compound CC(C)CC(C(O)=O)CCC(O)=O LHSAKGVBHJUEOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FALRKNHUBBKYCC-UHFFFAOYSA-N 2-(chloromethyl)pyridine-3-carbonitrile Chemical compound ClCC1=NC=CC=C1C#N FALRKNHUBBKYCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKBZDWDOSPZINT-UHFFFAOYSA-N 2-[4-(diethylamino)anilino]-2-oxo-n-phenylethanimidoyl cyanide Chemical compound C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1NC(=O)C(C#N)=NC1=CC=CC=C1 DKBZDWDOSPZINT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IOOMXAQUNPWDLL-UHFFFAOYSA-N 2-[6-(diethylamino)-3-(diethyliminiumyl)-3h-xanthen-9-yl]-5-sulfobenzene-1-sulfonate Chemical compound C=12C=CC(=[N+](CC)CC)C=C2OC2=CC(N(CC)CC)=CC=C2C=1C1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1S([O-])(=O)=O IOOMXAQUNPWDLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSSICPJTIPBTDD-UHFFFAOYSA-N 2-ethenyl-1h-indole Chemical compound C1=CC=C2NC(C=C)=CC2=C1 LSSICPJTIPBTDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZRUOTKQBVMWMDK-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-6-methylbenzaldehyde Chemical compound CC1=CC=CC(O)=C1C=O ZRUOTKQBVMWMDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MUHFRORXWCGZGE-KTKRTIGZSA-N 2-hydroxyethyl (z)-octadec-9-enoate Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(=O)OCCO MUHFRORXWCGZGE-KTKRTIGZSA-N 0.000 description 1
- RFVNOJDQRGSOEL-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl octadecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OCCO RFVNOJDQRGSOEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CWBAMDVCIHSKNW-UHFFFAOYSA-N 2-iminonaphthalene-1,4-dione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C(=N)CC(=O)C2=C1 CWBAMDVCIHSKNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-methylphenol Chemical compound [CH]OC1=CC=CC([CH])=C1O KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FANUNTYUYWEPJX-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-n-phenylprop-2-enamide Chemical compound COC(=C)C(=O)NC1=CC=CC=C1 FANUNTYUYWEPJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FCYVWWWTHPPJII-UHFFFAOYSA-N 2-methylidenepropanedinitrile Chemical compound N#CC(=C)C#N FCYVWWWTHPPJII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CFVWNXQPGQOHRJ-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)COC(=O)C=C CFVWNXQPGQOHRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GXEXLSDIVMVEFZ-UHFFFAOYSA-N 2-nitroprop-1-ene Chemical group CC(=C)[N+]([O-])=O GXEXLSDIVMVEFZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BCHZICNRHXRCHY-UHFFFAOYSA-N 2h-oxazine Chemical compound N1OC=CC=C1 BCHZICNRHXRCHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AGIJRRREJXSQJR-UHFFFAOYSA-N 2h-thiazine Chemical compound N1SC=CC=C1 AGIJRRREJXSQJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JKYKXTRKURYNGW-UHFFFAOYSA-N 3,4-dihydroxy-9,10-dioxo-9,10-dihydroanthracene-2-sulfonic acid Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C(O)=C(O)C(S(O)(=O)=O)=C2 JKYKXTRKURYNGW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAUAQNGYDSHRET-UHFFFAOYSA-N 3,4-dimethoxybenzoic acid Chemical compound COC1=CC=C(C(O)=O)C=C1OC DAUAQNGYDSHRET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UMVOQQDNEYOJOK-UHFFFAOYSA-N 3,5-dimethylbenzoic acid Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C(O)=O)=C1 UMVOQQDNEYOJOK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CXJAFLQWMOMYOW-UHFFFAOYSA-N 3-chlorofuran-2,5-dione Chemical compound ClC1=CC(=O)OC1=O CXJAFLQWMOMYOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VDAVARPTDLMJIC-UHFFFAOYSA-N 3-ethylpentanedioic acid Chemical compound OC(=O)CC(CC)CC(O)=O VDAVARPTDLMJIC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZRYCRPNCXLQHPN-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxy-2-methylbenzaldehyde Chemical compound CC1=C(O)C=CC=C1C=O ZRYCRPNCXLQHPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KLFHRQOZJWCFOI-UHFFFAOYSA-N 3-methyl-1-[(3-methylpiperidin-1-yl)methyl]piperidine Chemical compound C1C(C)CCCN1CN1CC(C)CCC1 KLFHRQOZJWCFOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QZYCWJVSPFQUQC-UHFFFAOYSA-N 3-phenylfuran-2,5-dione Chemical compound O=C1OC(=O)C(C=2C=CC=CC=2)=C1 QZYCWJVSPFQUQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YHJZYPZZBZPIPX-UHFFFAOYSA-N 3-propylpentanedioic acid Chemical compound CCCC(CC(O)=O)CC(O)=O YHJZYPZZBZPIPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 4-Methylstyrene Chemical compound CC1=CC=C(C=C)C=C1 JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MGUKYHHAGPFJMC-UHFFFAOYSA-N 4-[3-(4-hydroxy-2,5-dimethylphenyl)-1,1-dioxo-2,1$l^{6}-benzoxathiol-3-yl]-2,5-dimethylphenol Chemical compound C1=C(O)C(C)=CC(C2(C3=CC=CC=C3S(=O)(=O)O2)C=2C(=CC(O)=C(C)C=2)C)=C1C MGUKYHHAGPFJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ADUMIBSPEHFSLA-UHFFFAOYSA-N 4-[bis(4-aminophenyl)methyl]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1C(C=1C=CC(N)=CC=1)C1=CC=C(N)C=C1 ADUMIBSPEHFSLA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZEYHEAKUIGZSGI-UHFFFAOYSA-N 4-methoxybenzoic acid Chemical compound COC1=CC=C(C(O)=O)C=C1 ZEYHEAKUIGZSGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YYYYPEDVWWTCNX-UHFFFAOYSA-N 4-n,4-dimethylcyclohexa-1,5-diene-1,4-diamine Chemical compound CNC1(C)CC=C(N)C=C1 YYYYPEDVWWTCNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IICHURGZQPGTRD-UHFFFAOYSA-N 4-phenyldiazenylnaphthalen-1-amine Chemical compound C12=CC=CC=C2C(N)=CC=C1N=NC1=CC=CC=C1 IICHURGZQPGTRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N Ascorbic acid Natural products OC[C@H](O)[C@H]1OC(=O)C(O)=C1O CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N 0.000 description 1
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 1
- DPUOLQHDNGRHBS-UHFFFAOYSA-N Brassidinsaeure Natural products CCCCCCCCC=CCCCCCCCCCCCC(O)=O DPUOLQHDNGRHBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021555 Chromium Chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N D-Glucitol Natural products OC[C@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N 0.000 description 1
- RBNPOMFGQQGHHO-UWTATZPHSA-N D-glyceric acid Chemical compound OC[C@@H](O)C(O)=O RBNPOMFGQQGHHO-UWTATZPHSA-N 0.000 description 1
- 101100136092 Drosophila melanogaster peng gene Proteins 0.000 description 1
- URXZXNYJPAJJOQ-UHFFFAOYSA-N Erucic acid Natural products CCCCCCC=CCCCCCCCCCCCC(O)=O URXZXNYJPAJJOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FPVVYTCTZKCSOJ-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol distearate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OCCOC(=O)CCCCCCCCCCCCCCCCC FPVVYTCTZKCSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical class C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005639 Lauric acid Substances 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-XIXRPRMCSA-N Mesotartaric acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](O)[C@@H](O)C(O)=O FEWJPZIEWOKRBE-XIXRPRMCSA-N 0.000 description 1
- WWKGVZASJYXZKN-UHFFFAOYSA-N Methyl violet 2B Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(C=1C=CC(N)=CC=1)=C1C=CC(=[N+](C)C)C=C1 WWKGVZASJYXZKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N Methylacrylonitrile Chemical compound CC(=C)C#N GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101100161696 Myxine glutinosa ache gene Proteins 0.000 description 1
- UTGQNNCQYDRXCH-UHFFFAOYSA-N N,N'-diphenyl-1,4-phenylenediamine Chemical compound C=1C=C(NC=2C=CC=CC=2)C=CC=1NC1=CC=CC=C1 UTGQNNCQYDRXCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N N,N-dimethylaniline Chemical compound CN(C)C1=CC=CC=C1 JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AFBPFSWMIHJQDM-UHFFFAOYSA-N N-methyl-N-phenylamine Natural products CNC1=CC=CC=C1 AFBPFSWMIHJQDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005643 Pelargonic acid Substances 0.000 description 1
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 1
- LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N Phthalic anhydride Natural products C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001213 Polysorbate 20 Polymers 0.000 description 1
- 229920001214 Polysorbate 60 Polymers 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IWYDHOAUDWTVEP-UHFFFAOYSA-N R-2-phenyl-2-hydroxyacetic acid Natural products OC(=O)C(O)C1=CC=CC=C1 IWYDHOAUDWTVEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000220317 Rosa Species 0.000 description 1
- 239000004147 Sorbitan trioleate Substances 0.000 description 1
- PRXRUNOAOLTIEF-ADSICKODSA-N Sorbitan trioleate Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(=O)OC[C@@H](OC(=O)CCCCCCC\C=C/CCCCCCCC)[C@H]1OC[C@H](O)[C@H]1OC(=O)CCCCCCC\C=C/CCCCCCCC PRXRUNOAOLTIEF-ADSICKODSA-N 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N Tartaric acid Natural products [H+].[H+].[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N Tetraethylene glycol, Natural products OCCOCCOCCOCCO UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDKDGDIWEUUXSH-UHFFFAOYSA-N Thymophthalein Chemical compound C1=C(O)C(C(C)C)=CC(C2(C3=CC=CC=C3C(=O)O2)C=2C(=CC(O)=C(C(C)C)C=2)C)=C1C LDKDGDIWEUUXSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical group ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GPVDHNVGGIAOQT-UHFFFAOYSA-N Veratric acid Natural products COC1=CC=C(C(O)=O)C(OC)=C1 GPVDHNVGGIAOQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical class C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBMCZKMIOZYAHS-NSCUHMNNSA-N [(e)-prop-1-enyl]boronic acid Chemical compound C\C=C\B(O)O CBMCZKMIOZYAHS-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- IKHGUXGNUITLKF-XPULMUKRSA-N acetaldehyde Chemical compound [14CH]([14CH3])=O IKHGUXGNUITLKF-XPULMUKRSA-N 0.000 description 1
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 1
- 238000007754 air knife coating Methods 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 150000003973 alkyl amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N alpha-hydroxysuccinic acid Natural products OC(=O)C(O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 239000002280 amphoteric surfactant Substances 0.000 description 1
- 229940051881 anilide analgesics and antipyretics Drugs 0.000 description 1
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 238000002048 anodisation reaction Methods 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229960005070 ascorbic acid Drugs 0.000 description 1
- 235000010323 ascorbic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000011668 ascorbic acid Substances 0.000 description 1
- JPIYZTWMUGTEHX-UHFFFAOYSA-N auramine O free base Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=N)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 JPIYZTWMUGTEHX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 1
- FAJDWNKDRFAWLS-UHFFFAOYSA-N benzyl-[9-(diethylamino)benzo[a]phenoxazin-5-ylidene]azanium;chloride Chemical compound [Cl-].O1C2=CC(N(CC)CC)=CC=C2N=C(C2=CC=CC=C22)C1=CC2=[NH+]CC1=CC=CC=C1 FAJDWNKDRFAWLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N butanedioic acid Chemical compound O[14C](=O)CC[14C](O)=O KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N 0.000 description 1
- JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N butyl 2,2-difluorocyclopropane-1-carboxylate Chemical compound CCCCOC(=O)C1CC1(F)F JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 125000002603 chloroethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])Cl 0.000 description 1
- KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L chromic acid Substances O[Cr](O)(=O)=O KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- QSWDMMVNRMROPK-UHFFFAOYSA-K chromium(3+) trichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Cl-].[Cr+3] QSWDMMVNRMROPK-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 238000003776 cleavage reaction Methods 0.000 description 1
- 229920006026 co-polymeric resin Polymers 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- IQFVPQOLBLOTPF-HKXUKFGYSA-L congo red Chemical compound [Na+].[Na+].C1=CC=CC2=C(N)C(/N=N/C3=CC=C(C=C3)C3=CC=C(C=C3)/N=N/C3=C(C4=CC=CC=C4C(=C3)S([O-])(=O)=O)N)=CC(S([O-])(=O)=O)=C21 IQFVPQOLBLOTPF-HKXUKFGYSA-L 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- OBRMNDMBJQTZHV-UHFFFAOYSA-N cresol red Chemical compound C1=C(O)C(C)=CC(C2(C3=CC=CC=C3S(=O)(=O)O2)C=2C=C(C)C(O)=CC=2)=C1 OBRMNDMBJQTZHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MLUCVPSAIODCQM-NSCUHMNNSA-N crotonaldehyde Chemical compound C\C=C\C=O MLUCVPSAIODCQM-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- MLUCVPSAIODCQM-UHFFFAOYSA-N crotonaldehyde Natural products CC=CC=O MLUCVPSAIODCQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- ZXJXZNDDNMQXFV-UHFFFAOYSA-M crystal violet Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(C)C)=CC=C1[C+](C=1C=CC(=CC=1)N(C)C)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 ZXJXZNDDNMQXFV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000007766 curtain coating Methods 0.000 description 1
- CCQPAEQGAVNNIA-UHFFFAOYSA-N cyclobutane-1,1-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1(C(O)=O)CCC1 CCQPAEQGAVNNIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WYHYNUWZLKTEEY-UHFFFAOYSA-N cyclobutane-1,3-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CC(C(O)=O)C1 WYHYNUWZLKTEEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ILUAAIDVFMVTAU-UHFFFAOYSA-N cyclohex-4-ene-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CC=CCC1C(O)=O ILUAAIDVFMVTAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYQADNCHXSEGJT-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,1-dicarboxylate;hydron Chemical compound OC(=O)C1(C(O)=O)CCCCC1 QYQADNCHXSEGJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSAWQNUELGIYBC-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCCCC1C(O)=O QSAWQNUELGIYBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBZSBBLNHFMTEB-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,3-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCCC(C(O)=O)C1 XBZSBBLNHFMTEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GCFAUZGWPDYAJN-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl 3-phenylprop-2-enoate Chemical compound C=1C=CC=CC=1C=CC(=O)OC1CCCCC1 GCFAUZGWPDYAJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ASJCSAKCMTWGAH-UHFFFAOYSA-N cyclopentane-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCCC1C(O)=O ASJCSAKCMTWGAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LNGJOYPCXLOTKL-UHFFFAOYSA-N cyclopentane-1,3-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCC(C(O)=O)C1 LNGJOYPCXLOTKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- SOCTUWSJJQCPFX-UHFFFAOYSA-N dichromate(2-) Chemical compound [O-][Cr](=O)(=O)O[Cr]([O-])(=O)=O SOCTUWSJJQCPFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GGSUCNLOZRCGPQ-UHFFFAOYSA-N diethylaniline Chemical compound CCN(CC)C1=CC=CC=C1 GGSUCNLOZRCGPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WMYWOWFOOVUPFY-UHFFFAOYSA-L dihydroxy(dioxo)chromium;phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O.O[Cr](O)(=O)=O WMYWOWFOOVUPFY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- CZZYITDELCSZES-UHFFFAOYSA-N diphenylmethane Chemical compound C=1C=CC=CC=1CC1=CC=CC=C1 CZZYITDELCSZES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZZTCPWRAHWXWCH-UHFFFAOYSA-N diphenylmethanediamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(N)(N)C1=CC=CC=C1 ZZTCPWRAHWXWCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002845 discoloration Methods 0.000 description 1
- ARZVLGVDYAMAFX-UHFFFAOYSA-L disodium 6-amino-4-hydroxy-5-[(4-nitro-2-sulfonatophenyl)diazenyl]naphthalene-2-sulfonate Chemical compound [Na+].[Na+].Nc1ccc2cc(cc(O)c2c1N=Nc1ccc(cc1S([O-])(=O)=O)[N+]([O-])=O)S([O-])(=O)=O ARZVLGVDYAMAFX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 1
- 125000002587 enol group Chemical group 0.000 description 1
- YQGOJNYOYNNSMM-UHFFFAOYSA-N eosin Chemical compound [Na+].OC(=O)C1=CC=CC=C1C1=C2C=C(Br)C(=O)C(Br)=C2OC2=C(Br)C(O)=C(Br)C=C21 YQGOJNYOYNNSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DPUOLQHDNGRHBS-KTKRTIGZSA-N erucic acid Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCCCCCC(O)=O DPUOLQHDNGRHBS-KTKRTIGZSA-N 0.000 description 1
- IINNWAYUJNWZRM-UHFFFAOYSA-L erythrosin B Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1C1=C2C=C(I)C(=O)C(I)=C2OC2=C(I)C([O-])=C(I)C=C21 IINNWAYUJNWZRM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- MEGHWIAOTJPCHQ-UHFFFAOYSA-N ethenyl butanoate Chemical compound CCCC(=O)OC=C MEGHWIAOTJPCHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIWXSTHGICQLQT-UHFFFAOYSA-N ethenyl propanoate Chemical compound CCC(=O)OC=C UIWXSTHGICQLQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OUGJKAQEYOUGKG-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylidenebutanoate Chemical compound CCOC(=O)C(=C)CC OUGJKAQEYOUGKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- JVICFMRAVNKDOE-UHFFFAOYSA-M ethyl violet Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C(C=1C=CC(=CC=1)N(CC)CC)=C1C=CC(=[N+](CC)CC)C=C1 JVICFMRAVNKDOE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000005562 fading Methods 0.000 description 1
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- VOOLKNUJNPZAHE-UHFFFAOYSA-N formaldehyde;2-methylphenol Chemical compound O=C.CC1=CC=CC=C1O VOOLKNUJNPZAHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- USEUJPGSYMRJHM-UHFFFAOYSA-N formaldehyde;4-methylphenol Chemical compound O=C.CC1=CC=C(O)C=C1 USEUJPGSYMRJHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLGWESQGEUXWJQ-UHFFFAOYSA-N formaldehyde;phenol Chemical compound O=C.OC1=CC=CC=C1 SLGWESQGEUXWJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 1
- AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-b]pyrazine-5,7-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)OC(=O)C2=N1 AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- VANNPISTIUFMLH-UHFFFAOYSA-N glutaric anhydride Chemical compound O=C1CCCC(=O)O1 VANNPISTIUFMLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940100608 glycol distearate Drugs 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004970 halomethyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- TYQCGQRIZGCHNB-JLAZNSOCSA-N l-ascorbic acid Chemical compound OC[C@H](O)[C@H]1OC(O)=C(O)C1=O TYQCGQRIZGCHNB-JLAZNSOCSA-N 0.000 description 1
- PBOSTUDLECTMNL-UHFFFAOYSA-N lauryl acrylate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)C=C PBOSTUDLECTMNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940107698 malachite green Drugs 0.000 description 1
- FDZZZRQASAIRJF-UHFFFAOYSA-M malachite green Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(C=1C=CC=CC=1)=C1C=CC(=[N+](C)C)C=C1 FDZZZRQASAIRJF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 239000001630 malic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011090 malic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229960002510 mandelic acid Drugs 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- GXHFUVWIGNLZSC-UHFFFAOYSA-N meldrum's acid Chemical compound CC1(C)OC(=O)CC(=O)O1 GXHFUVWIGNLZSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N methanone Chemical compound O=[14CH2] WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- AWJZTPWDQYFQPQ-UHFFFAOYSA-N methyl 2-chloroprop-2-enoate Chemical compound COC(=O)C(Cl)=C AWJZTPWDQYFQPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DWCZIOOZPIDHAB-UHFFFAOYSA-L methyl green Chemical compound [Cl-].[Cl-].C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(C=1C=CC(=CC=1)[N+](C)(C)C)=C1C=CC(=[N+](C)C)C=C1 DWCZIOOZPIDHAB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229940012189 methyl orange Drugs 0.000 description 1
- STZCRXQWRGQSJD-GEEYTBSJSA-M methyl orange Chemical compound [Na+].C1=CC(N(C)C)=CC=C1\N=N\C1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1 STZCRXQWRGQSJD-GEEYTBSJSA-M 0.000 description 1
- CEQFOVLGLXCDCX-WUKNDPDISA-N methyl red Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1\N=N\C1=CC=CC=C1C(O)=O CEQFOVLGLXCDCX-WUKNDPDISA-N 0.000 description 1
- XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N methyl vinyl ether Chemical compound COC=C XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIYVHBGGAOATLY-UHFFFAOYSA-N methylmalonic acid Chemical compound OC(=O)C(C)C(O)=O ZIYVHBGGAOATLY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- VUAAUVMKUNKSNE-UHFFFAOYSA-N n,n'-diphenylethene-1,2-diamine Chemical group C=1C=CC=CC=1NC=CNC1=CC=CC=C1 VUAAUVMKUNKSNE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISGXOWLMGOPVPB-UHFFFAOYSA-N n,n-dibenzylaniline Chemical compound C=1C=CC=CC=1CN(C=1C=CC=CC=1)CC1=CC=CC=C1 ISGXOWLMGOPVPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SHXOKQKTZJXHHR-UHFFFAOYSA-N n,n-diethyl-5-iminobenzo[a]phenoxazin-9-amine;hydrochloride Chemical compound [Cl-].C1=CC=C2C3=NC4=CC=C(N(CC)CC)C=C4OC3=CC(=[NH2+])C2=C1 SHXOKQKTZJXHHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JEPAGMKWFWQECH-UHFFFAOYSA-N n-(4-chlorophenyl)prop-2-enamide Chemical compound ClC1=CC=C(NC(=O)C=C)C=C1 JEPAGMKWFWQECH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DYFFAVRFJWYYQO-UHFFFAOYSA-N n-methyl-n-phenylaniline Chemical compound C=1C=CC=CC=1N(C)C1=CC=CC=C1 DYFFAVRFJWYYQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPCNEKWROYSOLT-UHFFFAOYSA-N n-phenylprop-2-enamide Chemical compound C=CC(=O)NC1=CC=CC=C1 BPCNEKWROYSOLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N n-vinylcarbazole Chemical compound C1=CC=C2N(C=C)C3=CC=CC=C3C2=C1 KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004957 naphthylene group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- 150000002826 nitrites Chemical class 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- 229920002114 octoxynol-9 Polymers 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 150000004866 oxadiazoles Chemical class 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 125000006353 oxyethylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- HWGNBUXHKFFFIH-UHFFFAOYSA-I pentasodium;[oxido(phosphonatooxy)phosphoryl] phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])(=O)OP([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O HWGNBUXHKFFFIH-UHFFFAOYSA-I 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WRAQQYDMVSCOTE-UHFFFAOYSA-N phenyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1=CC=CC=C1 WRAQQYDMVSCOTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 1
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920000259 polyoxyethylene lauryl ether Polymers 0.000 description 1
- 235000010486 polyoxyethylene sorbitan monolaurate Nutrition 0.000 description 1
- 239000000256 polyoxyethylene sorbitan monolaurate Substances 0.000 description 1
- 235000010482 polyoxyethylene sorbitan monooleate Nutrition 0.000 description 1
- 239000000244 polyoxyethylene sorbitan monooleate Substances 0.000 description 1
- 235000010483 polyoxyethylene sorbitan monopalmitate Nutrition 0.000 description 1
- 239000000249 polyoxyethylene sorbitan monopalmitate Substances 0.000 description 1
- 235000010989 polyoxyethylene sorbitan monostearate Nutrition 0.000 description 1
- 239000001818 polyoxyethylene sorbitan monostearate Substances 0.000 description 1
- 235000010988 polyoxyethylene sorbitan tristearate Nutrition 0.000 description 1
- 239000001816 polyoxyethylene sorbitan tristearate Substances 0.000 description 1
- 229920000053 polysorbate 80 Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 1
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052913 potassium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019353 potassium silicate Nutrition 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 150000003142 primary aromatic amines Chemical class 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 229940081623 rose bengal Drugs 0.000 description 1
- AZJPTIGZZTZIDR-UHFFFAOYSA-L rose bengal Chemical compound [K+].[K+].[O-]C(=O)C1=C(Cl)C(Cl)=C(Cl)C(Cl)=C1C1=C2C=C(I)C(=O)C(I)=C2OC2=C(I)C([O-])=C(I)C=C21 AZJPTIGZZTZIDR-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229930187593 rose bengal Natural products 0.000 description 1
- STRXNPAVPKGJQR-UHFFFAOYSA-N rose bengal A Natural products O1C(=O)C(C(=CC=C2Cl)Cl)=C2C21C1=CC(I)=C(O)C(I)=C1OC1=C(I)C(O)=C(I)C=C21 STRXNPAVPKGJQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 230000007017 scission Effects 0.000 description 1
- 150000003336 secondary aromatic amines Chemical class 0.000 description 1
- 230000001568 sexual effect Effects 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- FQENQNTWSFEDLI-UHFFFAOYSA-J sodium diphosphate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O FQENQNTWSFEDLI-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 235000019795 sodium metasilicate Nutrition 0.000 description 1
- 235000019832 sodium triphosphate Nutrition 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 235000019337 sorbitan trioleate Nutrition 0.000 description 1
- 229960000391 sorbitan trioleate Drugs 0.000 description 1
- 239000000600 sorbitol Substances 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 description 1
- 229940014800 succinic anhydride Drugs 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 239000011975 tartaric acid Substances 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- AUHHYELHRWCWEZ-UHFFFAOYSA-N tetrachlorophthalic anhydride Chemical compound ClC1=C(Cl)C(Cl)=C2C(=O)OC(=O)C2=C1Cl AUHHYELHRWCWEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PRZSXZWFJHEZBJ-UHFFFAOYSA-N thymol blue Chemical compound C1=C(O)C(C(C)C)=CC(C2(C3=CC=CC=C3S(=O)(=O)O2)C=2C(=CC(O)=C(C(C)C)C=2)C)=C1C PRZSXZWFJHEZBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N trichloroethylene Natural products ClCC(Cl)Cl UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004385 trihaloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- ODHXBMXNKOYIBV-UHFFFAOYSA-N triphenylamine Chemical compound C1=CC=CC=C1N(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 ODHXBMXNKOYIBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AAAQKTZKLRYKHR-UHFFFAOYSA-N triphenylmethane Chemical compound C1=CC=CC=C1C(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 AAAQKTZKLRYKHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- KOZCZZVUFDCZGG-UHFFFAOYSA-N vinyl benzoate Chemical compound C=COC(=O)C1=CC=CC=C1 KOZCZZVUFDCZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 229920003169 water-soluble polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003739 xylenols Chemical class 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野1
本発明は感光性平版印刷版に適用される感光性組成物に
関し、更に詳しくは、ナフトキノンジアジド化合物を感
光成分として含有する感光性組成物に関する。
関し、更に詳しくは、ナフトキノンジアジド化合物を感
光成分として含有する感光性組成物に関する。
[発明の背景]
ポジ型感光性平版印刷版とは、一般に親水性支持体上に
紫外線等の活性光線による露光により可溶化するインキ
受容性感光層を形成したものである。この感光層に画像
露光を行い現像すると、画像部を残して非画像部が除去
され、画像が形成される。平版印刷においては、上記画
像部が親油性で非画像部が親水性であるという性質上の
差が利用される。
紫外線等の活性光線による露光により可溶化するインキ
受容性感光層を形成したものである。この感光層に画像
露光を行い現像すると、画像部を残して非画像部が除去
され、画像が形成される。平版印刷においては、上記画
像部が親油性で非画像部が親水性であるという性質上の
差が利用される。
通常、ポジ型の感光性平版印刷版の感光層には、感光成
分として0−キノンジアジド化合物が、また皮膜強度と
アルカリ溶解性とを高めるための成分としてアルカリ可
溶性樹脂が含有されている。
分として0−キノンジアジド化合物が、また皮膜強度と
アルカリ溶解性とを高めるための成分としてアルカリ可
溶性樹脂が含有されている。
特に上記0−キノンジアジド化合物の中でも感度及びコ
ストの点から1.2−ナフトキノン−2=ジアジド−5
−スルホン酸エステル化合物が有用なものとして一般に
用いられている。
ストの点から1.2−ナフトキノン−2=ジアジド−5
−スルホン酸エステル化合物が有用なものとして一般に
用いられている。
従来、このようなポジ型の感光性平版印刷版の現像処理
は通常アルカリ水溶液から成る現像液中で行なわれるが
、現像液の現像能力は種々の条件で変動を受けやすく、
例えば多層処理による疲労や空気酸化による劣化で現像
能力が低下し、処理しても印刷版の非画像部の感光層が
完全に溶解されなくなる場合がある。このため、感光性
平版印刷版は、上記のような処理能力が低下した現像液
でも、標準現像液で処理した場合と同様の現像性を示す
幅広い現像許容性を有することが望まれている。(以下
、適正な現像結果が得られる現像能力低下の許容範囲を
アンダー現像性という。)一方、前記の如き感光性平版
印刷版に複数のフィルム原稿を位置を変えて次々と焼き
付けする所謂パ多面焼き付け″を行なう際等、フィルム
原稿間の位置合わせを容易にするため、露光部と未露光
部が区別できることが必要である。このため、一般に、
感光性平版印刷版に用いられる感光性組成物には、露光
により可視画像を形成させる(以下、「露光可視画性」
と称す)ためのプリントアウト材料が含まれている。該
プリントアウト材料としては、露光により酸もしくは遊
離基を生成する化合物と、これと相互作用することによ
り色調を変える色素とからなっており、従来、露光によ
り酸もしくは遊離基を生成する化合物としては、例え゛
ば、特開昭55−77742号公報に記載されているハ
ロメチル−ビニル−オキサジアゾール化合物等が挙げら
れる。露光可視画性は通常、このような化合物の添加M
の増大に伴なって良くなっていくが、一方で添加口を多
くしすぎると感光性平版印刷版の感度が低下したり、ア
ルカリ溶解性が低下して前記アンダー現象性が悪化する
等の欠点を有している。
は通常アルカリ水溶液から成る現像液中で行なわれるが
、現像液の現像能力は種々の条件で変動を受けやすく、
例えば多層処理による疲労や空気酸化による劣化で現像
能力が低下し、処理しても印刷版の非画像部の感光層が
完全に溶解されなくなる場合がある。このため、感光性
平版印刷版は、上記のような処理能力が低下した現像液
でも、標準現像液で処理した場合と同様の現像性を示す
幅広い現像許容性を有することが望まれている。(以下
、適正な現像結果が得られる現像能力低下の許容範囲を
アンダー現像性という。)一方、前記の如き感光性平版
印刷版に複数のフィルム原稿を位置を変えて次々と焼き
付けする所謂パ多面焼き付け″を行なう際等、フィルム
原稿間の位置合わせを容易にするため、露光部と未露光
部が区別できることが必要である。このため、一般に、
感光性平版印刷版に用いられる感光性組成物には、露光
により可視画像を形成させる(以下、「露光可視画性」
と称す)ためのプリントアウト材料が含まれている。該
プリントアウト材料としては、露光により酸もしくは遊
離基を生成する化合物と、これと相互作用することによ
り色調を変える色素とからなっており、従来、露光によ
り酸もしくは遊離基を生成する化合物としては、例え゛
ば、特開昭55−77742号公報に記載されているハ
ロメチル−ビニル−オキサジアゾール化合物等が挙げら
れる。露光可視画性は通常、このような化合物の添加M
の増大に伴なって良くなっていくが、一方で添加口を多
くしすぎると感光性平版印刷版の感度が低下したり、ア
ルカリ溶解性が低下して前記アンダー現象性が悪化する
等の欠点を有している。
また、上記欠点を改良するため1.2−ナフトキノン−
2−ジアジド−5−スルホン酸エステル化合物等の感光
成分の添加量を多くすると、アンダー現像性は改良され
るものの感度は更に低下し、満足しつる感光性組成物は
得られなかった。
2−ジアジド−5−スルホン酸エステル化合物等の感光
成分の添加量を多くすると、アンダー現像性は改良され
るものの感度は更に低下し、満足しつる感光性組成物は
得られなかった。
[発明の目的]
上記問題点に鑑で、本発明の目的は、優れた露光可視画
性及びアンダー現像性を有し、かつ高い感度を有する感
光性平版印刷版及び該印刷版に適する感光性組成物を提
供することにある。
性及びアンダー現像性を有し、かつ高い感度を有する感
光性平版印刷版及び該印刷版に適する感光性組成物を提
供することにある。
[発明の構成]
本発明者等は鋭意研究の結果、本発明の上記目的は、少
なくとも、(a)1,2−ナフトキノン−2−ジアジド
−4−スルホン酸エステル化合物、(b)アルカリ可溶
性樹脂、(c)活性光線の照射によりハロゲン遊離基を
生成するへロメチルオキサジアゾール化合物及び(d)
上記へ〇メチルオキサジアゾール化合物の光分解生成物
と相互作用をすることによってその色調をかえる変色剤
、を含有することを特徴とする感光性組成物を提供する
ことにより達成されることを見出した。
なくとも、(a)1,2−ナフトキノン−2−ジアジド
−4−スルホン酸エステル化合物、(b)アルカリ可溶
性樹脂、(c)活性光線の照射によりハロゲン遊離基を
生成するへロメチルオキサジアゾール化合物及び(d)
上記へ〇メチルオキサジアゾール化合物の光分解生成物
と相互作用をすることによってその色調をかえる変色剤
、を含有することを特徴とする感光性組成物を提供する
ことにより達成されることを見出した。
[発明の具体的構成1
以下に、本発明を更に具体的に説明する。
本発明における1、2−ナフトキノン−2−ジアジド−
4−スルホン酸エステル化合物(以下、[本発明の化合
物Jと称す)としては公知の種々の化合物が使用できる
が、特に1.2−ナフトキノン−2−ジアジド−4−ス
ルホン酸と、フェノール類及びアルデヒド又はケトンの
M縮合樹脂とのエステル化合物が好ましく用いられる。
4−スルホン酸エステル化合物(以下、[本発明の化合
物Jと称す)としては公知の種々の化合物が使用できる
が、特に1.2−ナフトキノン−2−ジアジド−4−ス
ルホン酸と、フェノール類及びアルデヒド又はケトンの
M縮合樹脂とのエステル化合物が好ましく用いられる。
前記フェノール類としては、例えば、フェノール、0−
クレゾール、m−クレゾール、p−クレゾール、3,5
−キシレノール、カルバクロールチモール等の一何フエ
ノール、カテコール、レゾルシン、ヒドロキノン等の二
価フェノール、ピロガロール、フロログルシン等の三価
フェノール等が挙げられる。前記アルデヒドとしてはホ
ルムアルデヒド、ベンズアルデヒド、アセトアルデヒド
、クロトンアルデヒド、フルフラール等が挙げられる。
クレゾール、m−クレゾール、p−クレゾール、3,5
−キシレノール、カルバクロールチモール等の一何フエ
ノール、カテコール、レゾルシン、ヒドロキノン等の二
価フェノール、ピロガロール、フロログルシン等の三価
フェノール等が挙げられる。前記アルデヒドとしてはホ
ルムアルデヒド、ベンズアルデヒド、アセトアルデヒド
、クロトンアルデヒド、フルフラール等が挙げられる。
これらのうち好ましいものはホルムアルデヒド及びベン
ズアルデヒドである。また、前記ケトンとしてはアセト
ン、メチルエチルケトン等が挙げられる。
ズアルデヒドである。また、前記ケトンとしてはアセト
ン、メチルエチルケトン等が挙げられる。
前記重縮合樹脂の具体的な例としては、フェノール・ホ
ルムアルデヒド樹脂、m−クレゾール・ホルムアルデヒ
ド樹脂、p−クレゾール・ホルムアルデヒド樹脂、w−
、p−混合クレゾール・ホルムアルデヒド樹脂、レゾル
シン・ベンズアルデヒド樹脂、ピロガロール・アセ1〜
ン樹脂等が挙げられる。
ルムアルデヒド樹脂、m−クレゾール・ホルムアルデヒ
ド樹脂、p−クレゾール・ホルムアルデヒド樹脂、w−
、p−混合クレゾール・ホルムアルデヒド樹脂、レゾル
シン・ベンズアルデヒド樹脂、ピロガロール・アセ1〜
ン樹脂等が挙げられる。
前記本発明の化合物のフェノール類の○H基に対する1
.2−ナフトキノン−2−ジアジド−4−スルホン酸の
縮合率(OH11個に対する反応率)は、15〜80%
が好ましく、より好ましくは20〜60%である。
.2−ナフトキノン−2−ジアジド−4−スルホン酸の
縮合率(OH11個に対する反応率)は、15〜80%
が好ましく、より好ましくは20〜60%である。
更に本発明の化合物としてはポリヒドロキシ化合物の1
,2−ナフトキノン−2−ジアジド−4−スルホン酸エ
ステル化合物が挙げられ、このような化合物としては、
例えば、1.2−ナフトキノンジアジド−4−スルホン
酸シクロヘキシルエステル、1−(1,2−ナフトキノ
ンジアジド−4−スルホニル)−3,5−ジメチルピラ
ゾール、1.2−ナフトキノンジアジド−4−スルホン
酸4″−ヒドロキシジフェニル−4“−アゾ−β−ナフ
トールエステル、2’−(1,2−ナフトキノンジアジ
ド−4−スルホニルオキシ)−1−ヒドロキシ−アント
ラキノン、1,2−ナフトキノンジアジド−4−スルホ
ンM−2,4−ジヒドロキシベンゾフェノンエステル、
1.2−ナフトキノンジアジド−4−スルボンM−2,
3,4−トリヒドロキシベンゾフェノンエステル、1.
2−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸−2゜3.
4’ 、4’ −テトラヒドロキシベンゾフェノンエス
テル、1,2−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸
クロリド2モルと4.4′−ジヒドロキシ−1,1′−
ジフェニルスルホン1モルの縮合物、1.2−ナフトキ
ノンジアジド−4−スルホン酸クロリド1モルとプルブ
ロガリン1モルの綜合物等が挙げられる。
,2−ナフトキノン−2−ジアジド−4−スルホン酸エ
ステル化合物が挙げられ、このような化合物としては、
例えば、1.2−ナフトキノンジアジド−4−スルホン
酸シクロヘキシルエステル、1−(1,2−ナフトキノ
ンジアジド−4−スルホニル)−3,5−ジメチルピラ
ゾール、1.2−ナフトキノンジアジド−4−スルホン
酸4″−ヒドロキシジフェニル−4“−アゾ−β−ナフ
トールエステル、2’−(1,2−ナフトキノンジアジ
ド−4−スルホニルオキシ)−1−ヒドロキシ−アント
ラキノン、1,2−ナフトキノンジアジド−4−スルホ
ンM−2,4−ジヒドロキシベンゾフェノンエステル、
1.2−ナフトキノンジアジド−4−スルボンM−2,
3,4−トリヒドロキシベンゾフェノンエステル、1.
2−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸−2゜3.
4’ 、4’ −テトラヒドロキシベンゾフェノンエス
テル、1,2−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸
クロリド2モルと4.4′−ジヒドロキシ−1,1′−
ジフェニルスルホン1モルの縮合物、1.2−ナフトキ
ノンジアジド−4−スルホン酸クロリド1モルとプルブ
ロガリン1モルの綜合物等が挙げられる。
また、更に下記に示すようなポリウレタン樹脂の1,2
−ナフトキノ゛ンー2−ジアジド−4−スルホン酸エス
テル化合物も使用しうる。
−ナフトキノ゛ンー2−ジアジド−4−スルホン酸エス
テル化合物も使用しうる。
以下余白
また、本発明の化合物としてはフェノール性水M15を
有するビニル重合体と1.2−ナフトキノン−2−ジア
ジド−4−スルホン酸とのエステル化合物も使用するこ
とができる。このようなエステル化合物を形成するフェ
ノール性水11cWを有するビニル重合体としてはフェ
ノール性水酸基を有する単位を分子構造中に有する重合
体であり、好ましくは、後述するアルカリ可溶性樹脂と
して用いられるフェノール性水酸基を有する構造単位を
分子構造中に有するビニル系重合体と同様のものが用い
られる。
有するビニル重合体と1.2−ナフトキノン−2−ジア
ジド−4−スルホン酸とのエステル化合物も使用するこ
とができる。このようなエステル化合物を形成するフェ
ノール性水11cWを有するビニル重合体としてはフェ
ノール性水酸基を有する単位を分子構造中に有する重合
体であり、好ましくは、後述するアルカリ可溶性樹脂と
して用いられるフェノール性水酸基を有する構造単位を
分子構造中に有するビニル系重合体と同様のものが用い
られる。
本発明の化合物としては上記化合物を各々単独で用いて
もよいし、2種以上組合わせて用いてもよい。本発明の
感光性組成物中における本発明の化合物の占める割合は
、5〜60重量%が好ましく、特に好ましくは、10〜
50重量%である。
もよいし、2種以上組合わせて用いてもよい。本発明の
感光性組成物中における本発明の化合物の占める割合は
、5〜60重量%が好ましく、特に好ましくは、10〜
50重量%である。
本発明におけるアルカリ可溶性樹脂としては、当分野に
おいて公知の種々の樹脂が用いられるが、特にノボラッ
ク樹脂及びフェノール性水酸基を有する構造単位を分子
構造中に有するビニル系重合(但し、nは2〜300の
整数を表わす。)体が好ましい。
おいて公知の種々の樹脂が用いられるが、特にノボラッ
ク樹脂及びフェノール性水酸基を有する構造単位を分子
構造中に有するビニル系重合(但し、nは2〜300の
整数を表わす。)体が好ましい。
本発明に好ましく用いられるノボラック樹脂としては、
フェノール類とホルムアルデヒドを酸触媒の存在下で縮
合して得られる樹脂が挙げられ、該フェノール類として
は、例えばフェノール、O−クレゾール、−一クレゾー
ル、p−クレゾール、3,5−キシレノール、2.4−
キシレノール、2,5−キシレノール、カルバクロール
、チモール、カテコール、レゾルシン、ヒドロキノン、
ピロガロール、フロログルシン等が挙げられる。
フェノール類とホルムアルデヒドを酸触媒の存在下で縮
合して得られる樹脂が挙げられ、該フェノール類として
は、例えばフェノール、O−クレゾール、−一クレゾー
ル、p−クレゾール、3,5−キシレノール、2.4−
キシレノール、2,5−キシレノール、カルバクロール
、チモール、カテコール、レゾルシン、ヒドロキノン、
ピロガロール、フロログルシン等が挙げられる。
上記フェノール類化合物は単独で又は2種以上組み合わ
せてホルムアルデヒドと縮合し樹脂を得ることができる
。これらのうち好ましいノボラック樹脂は、フェノール
、m−クレゾール(又は〇−クレゾール)及びp−クレ
ゾールから選ばれる少なくとも1種とホルムアルデヒド
とを共重縮合して(qられる樹脂であり、例えば、フェ
ノール・ホルムアルデヒド樹脂、1−クレゾール・ホル
ムアルデヒド樹脂、O−クレゾール・ホルムアルデヒド
樹脂、フェノール・p−クレゾール・ホルムアルデヒド
共重合体樹脂、―−クレゾール・p−クレゾール・ホル
ムアルデヒド共重縮合体樹脂、O−クレゾール・p−ク
レゾール・ホルムアルデヒド共重縮合体樹脂、フェノー
ル・m−クレゾール・p−クレゾール・ホルムアルデヒ
ド共重縮合体樹脂、フェノール・0−クレゾール・p−
クレゾール・ホルムアルデヒド共重縮合体樹脂が挙げら
れる。更に上記のノボラック樹脂のうち、フェノール・
膳−クレゾール・p−クレゾール・ホルムアルデヒド樹
脂が好ましい。
せてホルムアルデヒドと縮合し樹脂を得ることができる
。これらのうち好ましいノボラック樹脂は、フェノール
、m−クレゾール(又は〇−クレゾール)及びp−クレ
ゾールから選ばれる少なくとも1種とホルムアルデヒド
とを共重縮合して(qられる樹脂であり、例えば、フェ
ノール・ホルムアルデヒド樹脂、1−クレゾール・ホル
ムアルデヒド樹脂、O−クレゾール・ホルムアルデヒド
樹脂、フェノール・p−クレゾール・ホルムアルデヒド
共重合体樹脂、―−クレゾール・p−クレゾール・ホル
ムアルデヒド共重縮合体樹脂、O−クレゾール・p−ク
レゾール・ホルムアルデヒド共重縮合体樹脂、フェノー
ル・m−クレゾール・p−クレゾール・ホルムアルデヒ
ド共重縮合体樹脂、フェノール・0−クレゾール・p−
クレゾール・ホルムアルデヒド共重縮合体樹脂が挙げら
れる。更に上記のノボラック樹脂のうち、フェノール・
膳−クレゾール・p−クレゾール・ホルムアルデヒド樹
脂が好ましい。
本発明においては、上記ノボラック樹脂は単独で用いて
もよいし、また2種以上組合わせて用いてもよい。
もよいし、また2種以上組合わせて用いてもよい。
上記ノボラック樹脂の分子量(ポリスチレン標準)とし
ては、重量平均分子ffiMWが2.0×103〜2.
0×104で、数平均分子!1Mnが7.0X1Q2〜
5.0X103の範囲内の値であることが好ましく、更
に、好ましくは、MWが3,0X103〜6.0X10
3、Mllが7.7x 1Q2〜1.2X i Q 3
の範囲内の値である。本発明におけるノボラックall
脂の分子量の測定は、GPC(ゲルバーミエーションク
ロマドグラフイー法)によって行う。
ては、重量平均分子ffiMWが2.0×103〜2.
0×104で、数平均分子!1Mnが7.0X1Q2〜
5.0X103の範囲内の値であることが好ましく、更
に、好ましくは、MWが3,0X103〜6.0X10
3、Mllが7.7x 1Q2〜1.2X i Q 3
の範囲内の値である。本発明におけるノボラックall
脂の分子量の測定は、GPC(ゲルバーミエーションク
ロマドグラフイー法)によって行う。
また、本発明に好ましく用いられるフェノール性水酸基
を有する構造単位を分子構造中に有するビニル系重合体
としては、炭素−炭素二重結合が開裂して、重合してで
きた重合体であり下記−形式[I]〜[VT]の少なく
とも1つの構造単位を含む重合体が好ましく用いられる
。
を有する構造単位を分子構造中に有するビニル系重合体
としては、炭素−炭素二重結合が開裂して、重合してで
きた重合体であり下記−形式[I]〜[VT]の少なく
とも1つの構造単位を含む重合体が好ましく用いられる
。
−形式[I]
+ CR+ R2−CR3+−
0−C0−8−0)−1
一般式[Irl
+CR+ R2−CR3+
C0NR+→A檜B−OH
一般式[I[]
+CRI R2−CR3士
CO0−(−A+−B −OH
−源式[IV ]
士CRI R2−CR3+
−0H
一般式[V]
OH
一般式[VI]
OH
式中、R1およびR2はそれぞれ水素原子、アルキル基
、またはカルボキシル基を表し、好ましくは水素原子で
ある。R3は水素原子、ハロゲン原子またはアルキル基
を表し、好ましくは水素原子またはメチル基、エチル基
等のアルキル基である。R4は水素原子、フルキル基、
アリール基またはアラルキル基を表し、好ましくは水素
原子である。Aは窒素原子または酸素原子と芳香族炭素
原子とを連結する置換基を有してもよいアルキレン基を
表し、鵬はO〜10の整数を表し、Bは置換基を有して
もよいフェニレン基または置換基を有してもよいナフチ
レン基を表す。本発明においては、これらのうち上記−
形式[II]で示される構造単位を少なくとも1つ含む
共重合体が好ましい。
、またはカルボキシル基を表し、好ましくは水素原子で
ある。R3は水素原子、ハロゲン原子またはアルキル基
を表し、好ましくは水素原子またはメチル基、エチル基
等のアルキル基である。R4は水素原子、フルキル基、
アリール基またはアラルキル基を表し、好ましくは水素
原子である。Aは窒素原子または酸素原子と芳香族炭素
原子とを連結する置換基を有してもよいアルキレン基を
表し、鵬はO〜10の整数を表し、Bは置換基を有して
もよいフェニレン基または置換基を有してもよいナフチ
レン基を表す。本発明においては、これらのうち上記−
形式[II]で示される構造単位を少なくとも1つ含む
共重合体が好ましい。
前記ビニル系重合体としては共重合体型の構造を有して
いることが好ましく、このような共重合体において、前
記−形式[I]〜[VI]の各々で示される構造単位の
少なくとも1種と組み合わせて用いることができる単量
体単位としては、例えばエチレン、プロピレン、インブ
チレン、ブタジェン、イソプレン等のエチレン系不飽和
オレフィン類、例えばスチレン、α−メチルスチレン、
p−メチルスチレン、p−クロロスチレン等のスチレン
類、例えばアクリル酸、メタクリル酸等のアクリル酸類
、例えばイタコン酸、マレイン酸、無水マレイン酸等の
不飽和脂肪族ジカルボン酸類、例えばアクリル酸メチル
、アクリル酸エチル、アクリル1lJn−ブチル、アク
リル酸イソブチル、アクリル酸ドデシル、アクリル酸2
−クロロエチル、アクリル酸フェニル、α−クロロアク
リル酸メチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチ
ル、エタクリル酸エチル等のα−メチレン脂肪族モノカ
ルボン酸のエステル類、例えばアクリロニトリル、メタ
アクリロニトリル等のニトリル類、例えばアクリルアミ
ド等のアミド類、例えばアクリルアニリド、p−クロロ
アクリルアニリド、−m:トロアクリルアニリド、■−
メトキシアクリルアニリド等のアニリド類、例えば酢酸
ビニル、プロピオン酸ビニル、ベンジェ酸ビニル、酪酸
ビニル等のビニルエステル類、例えばメチルビニルエー
テル、エチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテ
ル、β−クロロエチルビニルエーテル等のビニルエーテ
ル類、塩化ビニル、ごニリデンクロライド、ビニリデン
シアナイド、例えば1−メチル−1−メトキシエチレン
、1,1−ジメトキシエチレン、1,2−ジメトキシエ
チレン、1,1−ジメトキシカルボニルエチレン、1−
メチル−1−二トロエチレン等のエチレン誘導体類、例
えばN−ビニルピロール、N−ビニルカルバゾール、N
−ビニルインドール、N−ビニルピロリドン、N−ビニ
ルピロリドン等のN−ビニル化合物、等のビニル系単口
体がある。これらのビニル系単口体は不飽和二重結合が
開裂した構造で高分子化合物中に存在する。
いることが好ましく、このような共重合体において、前
記−形式[I]〜[VI]の各々で示される構造単位の
少なくとも1種と組み合わせて用いることができる単量
体単位としては、例えばエチレン、プロピレン、インブ
チレン、ブタジェン、イソプレン等のエチレン系不飽和
オレフィン類、例えばスチレン、α−メチルスチレン、
p−メチルスチレン、p−クロロスチレン等のスチレン
類、例えばアクリル酸、メタクリル酸等のアクリル酸類
、例えばイタコン酸、マレイン酸、無水マレイン酸等の
不飽和脂肪族ジカルボン酸類、例えばアクリル酸メチル
、アクリル酸エチル、アクリル1lJn−ブチル、アク
リル酸イソブチル、アクリル酸ドデシル、アクリル酸2
−クロロエチル、アクリル酸フェニル、α−クロロアク
リル酸メチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチ
ル、エタクリル酸エチル等のα−メチレン脂肪族モノカ
ルボン酸のエステル類、例えばアクリロニトリル、メタ
アクリロニトリル等のニトリル類、例えばアクリルアミ
ド等のアミド類、例えばアクリルアニリド、p−クロロ
アクリルアニリド、−m:トロアクリルアニリド、■−
メトキシアクリルアニリド等のアニリド類、例えば酢酸
ビニル、プロピオン酸ビニル、ベンジェ酸ビニル、酪酸
ビニル等のビニルエステル類、例えばメチルビニルエー
テル、エチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテ
ル、β−クロロエチルビニルエーテル等のビニルエーテ
ル類、塩化ビニル、ごニリデンクロライド、ビニリデン
シアナイド、例えば1−メチル−1−メトキシエチレン
、1,1−ジメトキシエチレン、1,2−ジメトキシエ
チレン、1,1−ジメトキシカルボニルエチレン、1−
メチル−1−二トロエチレン等のエチレン誘導体類、例
えばN−ビニルピロール、N−ビニルカルバゾール、N
−ビニルインドール、N−ビニルピロリドン、N−ビニ
ルピロリドン等のN−ビニル化合物、等のビニル系単口
体がある。これらのビニル系単口体は不飽和二重結合が
開裂した構造で高分子化合物中に存在する。
上記の単量体のうち、−形式[I]〜[VI]で示され
る構造単位の少なくとも1種と組み合わせて用いるもの
として、(メタ)アクリル酸類、脂肪族モノカルボン酸
のエステル類、ニトリル類が総合的に優れた性能を示し
、好ましい。より好ましくは、メタクリル酸、メタクリ
ル酸メチル、アクリロニトリル、アクリル酸エチル等で
ある。
る構造単位の少なくとも1種と組み合わせて用いるもの
として、(メタ)アクリル酸類、脂肪族モノカルボン酸
のエステル類、ニトリル類が総合的に優れた性能を示し
、好ましい。より好ましくは、メタクリル酸、メタクリ
ル酸メチル、アクリロニトリル、アクリル酸エチル等で
ある。
これらの単量体は前記ビニル系重合体中にブロック又は
ランダムのいずれの状態で結合していてもよい。
ランダムのいずれの状態で結合していてもよい。
前記ビニル系重合体中における、−形式[I]〜〔■1
〕のそれぞれで示される構造単位の含有率は、・5〜7
0モル%が好ましく、特に、10〜40モル%が好まし
い。
〕のそれぞれで示される構造単位の含有率は、・5〜7
0モル%が好ましく、特に、10〜40モル%が好まし
い。
前記の重合体は1種のみで用いてもよいが、2種以上併
用して感光性組成物中に含んでいてもよい。
用して感光性組成物中に含んでいてもよい。
以下に本発明に用いられるビニル系重合体の代表的な具
体例をあげる。なお下記に例示の化合物において、MW
は重量平均分子量、Mnは数平均分子徂、S、に、1.
o、aおよびnは、それぞれM4造単位のモル%を表す
。
体例をあげる。なお下記に例示の化合物において、MW
は重量平均分子量、Mnは数平均分子徂、S、に、1.
o、aおよびnは、それぞれM4造単位のモル%を表す
。
以下余白
例示化合物
(ど)
CH。
(j)
(k)
CH。
CH。
CH。
■
(m)
CH3
以下余白1
・ 1
木LIIの感)ζ性組成物中における上記アルカリ可溶
性樹脂の占める割合は50〜95重は%が好ましく、更
に好ましくは60〜90重ffi%である。
性樹脂の占める割合は50〜95重は%が好ましく、更
に好ましくは60〜90重ffi%である。
本発明に用いる活性光線の照射によりハロゲン遊PII
基を生成するへロメチルオキナジアゾール化合物として
は、好ましくは下記−服代[VI]で表される化合物が
用いられる。
基を生成するへロメチルオキナジアゾール化合物として
は、好ましくは下記−服代[VI]で表される化合物が
用いられる。
一般式〔V[]
(式中、Xaは炭素原子1〜3個を有するトリハロアル
キル基、Lは水素原子またはメチル基、Jは置換若しく
は非置換アリール基又は複素lj1基を表し、nはOl
lまたは2である。)−服代[Vl ]で表わされる化
合物としては具体的には。
キル基、Lは水素原子またはメチル基、Jは置換若しく
は非置換アリール基又は複素lj1基を表し、nはOl
lまたは2である。)−服代[Vl ]で表わされる化
合物としては具体的には。
特開昭60−241049号公報記載の下記化合物:等
のベンゾフラン環を有するオキザジアゾール化合物、特
開昭54−74728号公報に記載されている2−トリ
クロロメチル−3−(p−メ1〜キシスチリル)−1,
3,4−オキザジアゾール化合物、又は 特開昭54−74728号公報記載の下記化合物:!開
昭81−143748号公報記載ノ下記化合a#:特開
昭55−77742号公報記載の下記化合物:等が挙げ
られる。
のベンゾフラン環を有するオキザジアゾール化合物、特
開昭54−74728号公報に記載されている2−トリ
クロロメチル−3−(p−メ1〜キシスチリル)−1,
3,4−オキザジアゾール化合物、又は 特開昭54−74728号公報記載の下記化合物:!開
昭81−143748号公報記載ノ下記化合a#:特開
昭55−77742号公報記載の下記化合物:等が挙げ
られる。
以下余白
4#開昭60−3826号公報記載の下記化合物:特開
昭80−177340号公報記載の下記化合物:上記活
性光線の照射によりハロゲン遊離基を生成するへロメチ
ルオキサジアゾール化合物ノ感光性組成物中に含まれる
はは0.01〜20重恐%が好ましく、より好ましくは
0.1〜20flf1%、特に好ましくは0.2〜10
重員%である。
昭80−177340号公報記載の下記化合物:上記活
性光線の照射によりハロゲン遊離基を生成するへロメチ
ルオキサジアゾール化合物ノ感光性組成物中に含まれる
はは0.01〜20重恐%が好ましく、より好ましくは
0.1〜20flf1%、特に好ましくは0.2〜10
重員%である。
本発明に使用される上記のハロメチルオキサジアゾール
化合物の光分解生成物と相互作用をすることによってそ
の色調を変える変色剤としては、発色するものと退色又
は変色するものとの2種類がある。退色又は変色する変
色剤としては、例えばジフェニルメタン、トリフェニル
メタン系チアジン、オキサジン系、ギサンテン系、アン
スラキノン系、イミノナフトキノン系、アゾメチン系等
の各種色素が有効に用いられる。
化合物の光分解生成物と相互作用をすることによってそ
の色調を変える変色剤としては、発色するものと退色又
は変色するものとの2種類がある。退色又は変色する変
色剤としては、例えばジフェニルメタン、トリフェニル
メタン系チアジン、オキサジン系、ギサンテン系、アン
スラキノン系、イミノナフトキノン系、アゾメチン系等
の各種色素が有効に用いられる。
これらの例としては具体的には次のようなものが挙げら
れる。ブリリアントグリーン、エオシン、エチルバイオ
レッ1〜、エリスロシンB、メチルグリーン、クリスタ
ルバイオレット、ペイシックツクシン、フェノールフタ
レイン、1.3−ジフェニルトリアジン、アリザリンレ
ッドS、チモールフタレイン、メチルバイオレット2B
、キナルジンレッド、ローズベンガル、メタニルイエロ
ーチモールスルホフタレイン、キシレノールブルーメチ
ルオレンジ、オレンジTV、ジフェニルチオカルバゾン
、2.7−ジクロロフルオレセイン、バラメチルレッド
、コンゴーレッド、ベンゾブルーリン4 B 、α−ナ
フチルレッド、ナイルブルー2B、ナイルブルーA、フ
エナセタリン、メチルバイオレット、マラカイトグリー
ン、パラツクシン、ビクトリアピュアブルーBOH(採
土ケ谷化学11i1)、オイルブルー#603[オリエ
ント化学工業ll111、オイルピンク#312[オリ
エント化学工業■製]、オイルレッド5B[オリエント
化学工業■製]、オイルブルーレツト9308[オリエ
ント化学工業■製]、オイルレッドOG[オリエント化
学工業側製j、オイルレッドRR[オリエント化学工業
■製]、オイルグリーン#502[オリエント化学工業
@H]、スビロンレッドBEHスペシャル[保土谷化学
工業f!All] 、a −クレゾールパープル、クレ
ゾールレッド、ローダジン810−ダミン6G、フアー
ストアシツドバイオレツトR、スルホローダミンB、オ
ーラミン、4−p−ジエチルアミノフェニルイミノナフ
トキノン、2−カルボキシアニリノ−41−ジエチルア
ミノフェニルイミノナフトキノン、2−カルボステアリ
ルアミノ−4−11−ジヒドロオキシエチルアミン−フ
ェニルイミノナフトキノン、p−メトキシベンゾイル−
p′−ジエチルアミノθ′−メチルフェニルイミノアセ
トアニリド、シアノ−p−ジエチルアミノフェニルイミ
ノアセトアニリド、1−フェニル−3−メチル−4−p
〜ジエチルアミノフェニルイミノ−5−ピラゾロン、1
−β−ナフチル−4−p−ジエチルアミノフェニルイミ
ノ−5−ピラゾロン。
れる。ブリリアントグリーン、エオシン、エチルバイオ
レッ1〜、エリスロシンB、メチルグリーン、クリスタ
ルバイオレット、ペイシックツクシン、フェノールフタ
レイン、1.3−ジフェニルトリアジン、アリザリンレ
ッドS、チモールフタレイン、メチルバイオレット2B
、キナルジンレッド、ローズベンガル、メタニルイエロ
ーチモールスルホフタレイン、キシレノールブルーメチ
ルオレンジ、オレンジTV、ジフェニルチオカルバゾン
、2.7−ジクロロフルオレセイン、バラメチルレッド
、コンゴーレッド、ベンゾブルーリン4 B 、α−ナ
フチルレッド、ナイルブルー2B、ナイルブルーA、フ
エナセタリン、メチルバイオレット、マラカイトグリー
ン、パラツクシン、ビクトリアピュアブルーBOH(採
土ケ谷化学11i1)、オイルブルー#603[オリエ
ント化学工業ll111、オイルピンク#312[オリ
エント化学工業■製]、オイルレッド5B[オリエント
化学工業■製]、オイルブルーレツト9308[オリエ
ント化学工業■製]、オイルレッドOG[オリエント化
学工業側製j、オイルレッドRR[オリエント化学工業
■製]、オイルグリーン#502[オリエント化学工業
@H]、スビロンレッドBEHスペシャル[保土谷化学
工業f!All] 、a −クレゾールパープル、クレ
ゾールレッド、ローダジン810−ダミン6G、フアー
ストアシツドバイオレツトR、スルホローダミンB、オ
ーラミン、4−p−ジエチルアミノフェニルイミノナフ
トキノン、2−カルボキシアニリノ−41−ジエチルア
ミノフェニルイミノナフトキノン、2−カルボステアリ
ルアミノ−4−11−ジヒドロオキシエチルアミン−フ
ェニルイミノナフトキノン、p−メトキシベンゾイル−
p′−ジエチルアミノθ′−メチルフェニルイミノアセ
トアニリド、シアノ−p−ジエチルアミノフェニルイミ
ノアセトアニリド、1−フェニル−3−メチル−4−p
〜ジエチルアミノフェニルイミノ−5−ピラゾロン、1
−β−ナフチル−4−p−ジエチルアミノフェニルイミ
ノ−5−ピラゾロン。
また、発色する変色剤としてはアリールアミン類を挙げ
ることができる。この目的に適するアリールアミン類と
しては、第一級、第二級芳香族アミンのような単なるア
リールアミンのほかにいわゆるロイコ色素も含まれ、こ
れらの例としては次のようなものが挙げられる。
ることができる。この目的に適するアリールアミン類と
しては、第一級、第二級芳香族アミンのような単なるア
リールアミンのほかにいわゆるロイコ色素も含まれ、こ
れらの例としては次のようなものが挙げられる。
ジフェニルアミン、ジベンジルアニリン、トリフェニル
アミン、ジエチルアニリン、ジフェニル−p−フェニレ
ンジアミン、p−トルイジン、4゜4′−ビフェニルジ
アミン、0−クロロアニリン、0−ブロモアニリン、4
−クロロ−〇−フェニレンジアミン、0−ブロモ−)1
,N−ジメチルアニリン、1.2.3−トリフェニルグ
アニジン、ナフチルアミン、ジアミノジフェニルメタン
、アニリン、2,5−ジクロロアニリン、N−メチルジ
フェニルアミン、0−トルイジン、0.0’ −テトラ
メチルジアミノジフェニルメタン、)1,N−ジメチル
−p−フェニレンジアミン、1,2−ジアニリノエチレ
ン、D 、 l) ’ 、 p”−ヘキサメチルトリア
ミノトリフェニルメタン、p、p’ −テトラメチルジ
アミノトリフェニルメタン、p。
アミン、ジエチルアニリン、ジフェニル−p−フェニレ
ンジアミン、p−トルイジン、4゜4′−ビフェニルジ
アミン、0−クロロアニリン、0−ブロモアニリン、4
−クロロ−〇−フェニレンジアミン、0−ブロモ−)1
,N−ジメチルアニリン、1.2.3−トリフェニルグ
アニジン、ナフチルアミン、ジアミノジフェニルメタン
、アニリン、2,5−ジクロロアニリン、N−メチルジ
フェニルアミン、0−トルイジン、0.0’ −テトラ
メチルジアミノジフェニルメタン、)1,N−ジメチル
−p−フェニレンジアミン、1,2−ジアニリノエチレ
ン、D 、 l) ’ 、 p”−ヘキサメチルトリア
ミノトリフェニルメタン、p、p’ −テトラメチルジ
アミノトリフェニルメタン、p。
p′−テトラメチルジアミノジフェニルメチルイミン、
p、p’、p“−トリアミノ−0−メチルトリフェニル
メタン、D、O’、p“−トリアミノトリノエニルカル
ビノール、p、o’ −テトラメチルアミノジフェニル
−4−アニリノナフチルメタン、p、p’、p”−トリ
アミノトリフェニルメタン、p 、 p ’ 、 p
″−ヘキサプロピルトリアミノトリフェニルメタン。
p、p’、p“−トリアミノ−0−メチルトリフェニル
メタン、D、O’、p“−トリアミノトリノエニルカル
ビノール、p、o’ −テトラメチルアミノジフェニル
−4−アニリノナフチルメタン、p、p’、p”−トリ
アミノトリフェニルメタン、p 、 p ’ 、 p
″−ヘキサプロピルトリアミノトリフェニルメタン。
上記の変色剤の感光性組成物中に占める割合は、o、
oi〜10重量%であることが好ましく、更に好ましく
は002〜5重山%で使用される。
oi〜10重量%であることが好ましく、更に好ましく
は002〜5重山%で使用される。
本発明の感光性組成物は更に有機酸及び酸無水物を含む
ことができる。
ことができる。
本発明に用いられる有機酸としては公知の種々の有機酸
がすべて用いられるがpKa値が2以上である有機酸が
好ましく、更に好ましくはoKa値が3.0〜9,0で
あり、特に好ましくは35〜8.0の有v1酸が用いら
れる。但し、本発明で使用されるpKaliaは25℃
における値である。
がすべて用いられるがpKa値が2以上である有機酸が
好ましく、更に好ましくはoKa値が3.0〜9,0で
あり、特に好ましくは35〜8.0の有v1酸が用いら
れる。但し、本発明で使用されるpKaliaは25℃
における値である。
このような有111Mとしては、例えば化学便覧基礎編
■(丸善1811966年、第1054〜1058頁)
に記載されている有機酸で、上記pKa&nを示し得る
化合物をすべて挙げることができる。このような化合物
としては、例えば安息香酸、アジピン酸、アゼライン酸
、イソフタル酸、D−トルイル酸、q−゛トルイル酸、
β−エチルグルタル酸、I−オキシ安息香酸、p−オキ
シ安息香酸、3,5−ジメチル安息香酸、3,4−ジメ
トキシ安息香酸、グリセリン酸、グルタコン酸、グルタ
ル酸、p−アニス酸、コハク酸、セバシン酸、β、β−
ジエチル、グルタル酸、1.1−シクロブタンジカルボ
ン酸、1,3−シクロブタンジカルボン酸、1゜1−シ
クロペンタンジカルボン酸、1,2−シクロペンタンジ
カルボン酸、1,3−シクロペンタンジカルボン酸、β
、β−ジメチルグルタルジメチルマロン酸、α−酒石酸
、スペリン酸、テレフタル酸、ピメリン酸、フタル酸、
フマル酸、β−プロピルグルタル酸、プロピルマロン酸
、マンデル酸、メソ酒石酸、β−メチルグルタル酸、β
,βーメチルプロピルグルタル酸、メチルマロン酸、リ
ンゴ酸、1,1−シクロヘキサンジカルボン酸、1,2
−シクロヘキサンジカルボン酸、1、3−シクロヘキサ
ンジカルボン酸、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸
、シス−4−シクロヘキセン1,2−ジカルボン酸、エ
ルカ酸、ウンデセン酸、ラウリン酸、n−カプリン酸、
ペラルゴン酸、n−ウンデカン酸等を挙げることができ
る。その他メルドラム酸やアスコルビン酸などのエノー
ル構造を有する有機酸も好ましく用いることができる。
■(丸善1811966年、第1054〜1058頁)
に記載されている有機酸で、上記pKa&nを示し得る
化合物をすべて挙げることができる。このような化合物
としては、例えば安息香酸、アジピン酸、アゼライン酸
、イソフタル酸、D−トルイル酸、q−゛トルイル酸、
β−エチルグルタル酸、I−オキシ安息香酸、p−オキ
シ安息香酸、3,5−ジメチル安息香酸、3,4−ジメ
トキシ安息香酸、グリセリン酸、グルタコン酸、グルタ
ル酸、p−アニス酸、コハク酸、セバシン酸、β、β−
ジエチル、グルタル酸、1.1−シクロブタンジカルボ
ン酸、1,3−シクロブタンジカルボン酸、1゜1−シ
クロペンタンジカルボン酸、1,2−シクロペンタンジ
カルボン酸、1,3−シクロペンタンジカルボン酸、β
、β−ジメチルグルタルジメチルマロン酸、α−酒石酸
、スペリン酸、テレフタル酸、ピメリン酸、フタル酸、
フマル酸、β−プロピルグルタル酸、プロピルマロン酸
、マンデル酸、メソ酒石酸、β−メチルグルタル酸、β
,βーメチルプロピルグルタル酸、メチルマロン酸、リ
ンゴ酸、1,1−シクロヘキサンジカルボン酸、1,2
−シクロヘキサンジカルボン酸、1、3−シクロヘキサ
ンジカルボン酸、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸
、シス−4−シクロヘキセン1,2−ジカルボン酸、エ
ルカ酸、ウンデセン酸、ラウリン酸、n−カプリン酸、
ペラルゴン酸、n−ウンデカン酸等を挙げることができ
る。その他メルドラム酸やアスコルビン酸などのエノー
ル構造を有する有機酸も好ましく用いることができる。
上記有機酸の感光層中に占める割合は0,05〜10重
邑%が適当であり、好ましくは0.1〜5重員%である
。
邑%が適当であり、好ましくは0.1〜5重員%である
。
また、本発明に用いる酸無水物としては公知の種々の酸
無水物がすべて用いられるが、好ましくは環状酸無水物
であり、このようなものとして例えば無水フタル酸、テ
トラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、
3,6−ニンドオキシーΔ今一テトラヒドロ無水フタル
酸、テトラクロル無水フタル酸、無水グルタル酸、無水
マレイン酸、クロル無水マレイン酸、α−フェニル無水
マレイン醒、無水コハク酸、ピロメリット酸等が挙げら
れる。これらの酸無水物は感光層中に0.05〜10重
石%、特に01〜5重邑%含有されることが好ましい。
無水物がすべて用いられるが、好ましくは環状酸無水物
であり、このようなものとして例えば無水フタル酸、テ
トラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、
3,6−ニンドオキシーΔ今一テトラヒドロ無水フタル
酸、テトラクロル無水フタル酸、無水グルタル酸、無水
マレイン酸、クロル無水マレイン酸、α−フェニル無水
マレイン醒、無水コハク酸、ピロメリット酸等が挙げら
れる。これらの酸無水物は感光層中に0.05〜10重
石%、特に01〜5重邑%含有されることが好ましい。
本発明の感光性組成物は更に分子構造中に下記構造単位
[A]及び[B]の少なくとも1種を有する化合物を含
有することもできる。
[A]及び[B]の少なくとも1種を有する化合物を含
有することもできる。
構造単位[A]
+CH20H20世
構造単位[B]
H3
+CH2Cl−1−0”H
(式中、nは2〜5000の整数を表わす。)本発明に
用いられる前記構造単位[A]及び[13]の少なくと
も1種を有する化合物としては、上記構単位1t[A]
及び[8]の1方又は両方を有する化合物であればいか
なるものでもよいが、特にnが2〜5oooの範囲内の
整数であり、かつ沸点が240℃以上である化合物が好
ましく、更に好ましくはnが2〜500の範囲内の整数
であり、かつ沸点が280℃以上である化合物であり、
最も好ましいものはnが3〜100の範囲内の化合物で
ある。
用いられる前記構造単位[A]及び[13]の少なくと
も1種を有する化合物としては、上記構単位1t[A]
及び[8]の1方又は両方を有する化合物であればいか
なるものでもよいが、特にnが2〜5oooの範囲内の
整数であり、かつ沸点が240℃以上である化合物が好
ましく、更に好ましくはnが2〜500の範囲内の整数
であり、かつ沸点が280℃以上である化合物であり、
最も好ましいものはnが3〜100の範囲内の化合物で
ある。
このような化合物としては、例えば、
・ポリエチレングリフール(HO−+CH,CH,O”
71′r+−1)・ポリオキシエチレンアルキルエーテ
ル(RO(cH= CH20)n H) ・ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル・アル
キルフェノールホルマリン縮合物の酸化エチレン誘導体 ・ポリオキシエチレンーポリオキシブロビレングリコー
ル ・ポリオキシエチレン多価アルコール脂肪酸部分エステ
ル (ただし、ブロックポリマ〜、ランダムポリマーを含む
) ・ポリオキシエチレンーポリオキシブロビレンアルキル
エーテル (末端がアルキルエーテルを形成している)(ただし、
ランダムポリマーを含む) CHO(cHzCHxO)nH CH* 0 (cH2CH−0)n F(・ポリオキシ
エチレン脂肪酸エステル (例エバ、RCOO(cHx CI(−0)n H)・
ポリオキシエチレンアルキルアミン 等が挙げられる。
71′r+−1)・ポリオキシエチレンアルキルエーテ
ル(RO(cH= CH20)n H) ・ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル・アル
キルフェノールホルマリン縮合物の酸化エチレン誘導体 ・ポリオキシエチレンーポリオキシブロビレングリコー
ル ・ポリオキシエチレン多価アルコール脂肪酸部分エステ
ル (ただし、ブロックポリマ〜、ランダムポリマーを含む
) ・ポリオキシエチレンーポリオキシブロビレンアルキル
エーテル (末端がアルキルエーテルを形成している)(ただし、
ランダムポリマーを含む) CHO(cHzCHxO)nH CH* 0 (cH2CH−0)n F(・ポリオキシ
エチレン脂肪酸エステル (例エバ、RCOO(cHx CI(−0)n H)・
ポリオキシエチレンアルキルアミン 等が挙げられる。
具体的には例えば以下のようなものが好ましい。
すなわち、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリ
オキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンス
テアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテ
ル、ポリオキシエチレン高級アルコールエーテル、ポリ
オキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシ
エチレンノニルフェニルエーテル、ポリオキシエチレン
ソルビタンモノラウレート、ポリオキシエチレンソルビ
タンモノパルミテート、ポリオキシエチレンソルビタン
モノステアレート、ポリオキシエチレンソルビタントリ
ステアレー]〜、ポリオキシエチレンソルビタンモノオ
レエート、ポリオキシエチレンソルビタントリオレエー
]・、テトラオレイン酸ポリオキシエチレンソルビット
、ポリエチレングリコールモノラウレート、ポリエチレ
ングリコールモノステアレート、ポリエチレングリコー
ルモノオレエート、ポリエチレングリコールジステアレ
ート、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテルホル
ムアルデヒド縮合物、オキシエチレンオキシブロビレン
ブロックコボリマー、ポリエチレングリコール、テトラ
エチレングリコール等である。
オキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンス
テアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテ
ル、ポリオキシエチレン高級アルコールエーテル、ポリ
オキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシ
エチレンノニルフェニルエーテル、ポリオキシエチレン
ソルビタンモノラウレート、ポリオキシエチレンソルビ
タンモノパルミテート、ポリオキシエチレンソルビタン
モノステアレート、ポリオキシエチレンソルビタントリ
ステアレー]〜、ポリオキシエチレンソルビタンモノオ
レエート、ポリオキシエチレンソルビタントリオレエー
]・、テトラオレイン酸ポリオキシエチレンソルビット
、ポリエチレングリコールモノラウレート、ポリエチレ
ングリコールモノステアレート、ポリエチレングリコー
ルモノオレエート、ポリエチレングリコールジステアレ
ート、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテルホル
ムアルデヒド縮合物、オキシエチレンオキシブロビレン
ブロックコボリマー、ポリエチレングリコール、テトラ
エチレングリコール等である。
上記構造単位[A]及び[B]の少なくとも1種を有す
る化合物の感光性組成物中に占める割合は全組成物に対
して0.1〜20重世%が好ましく、より好ましくは0
.2〜11色%である。
る化合物の感光性組成物中に占める割合は全組成物に対
して0.1〜20重世%が好ましく、より好ましくは0
.2〜11色%である。
また、上記化合物は上記含有量の範囲内であれば、単独
で用いてもよいし2種以上組合わせて使用してもよい。
で用いてもよいし2種以上組合わせて使用してもよい。
本発明の感光性組成物は、更にアルキル置換フェノール
とホルムアルデヒドとの縮合樹脂などのような感脂化剤
を含有することもできる。
とホルムアルデヒドとの縮合樹脂などのような感脂化剤
を含有することもできる。
本発明の感光性組成物は上記のような素材を組合わせ、
特に本発明の化合物を含有することにより、本発明の目
的を達成し得るものであるが、このような各々の素材の
他、必要に応じて更に染料、顔料等の色素、増感剤、可
塑剤、界面活性剤などを添加することができる。
特に本発明の化合物を含有することにより、本発明の目
的を達成し得るものであるが、このような各々の素材の
他、必要に応じて更に染料、顔料等の色素、増感剤、可
塑剤、界面活性剤などを添加することができる。
更にこれらの各成分を下記の溶媒に溶解さ「、これを適
当な支持体の表面に塗布乾燥させることにより、感光層
を設けて、感光性平版印刷版を形成することができる。
当な支持体の表面に塗布乾燥させることにより、感光層
を設けて、感光性平版印刷版を形成することができる。
本発明の感光性組成物の各成分を溶解する際に使用し得
る溶媒としては、メチルセロソルブ、メチルセロソルブ
アセテート、エチルセロソルブ、エチルセロソルブアセ
テート等のセロソルブ類、ジメチルホルムアミド、ジメ
チルスルホキシド、ジオキサン、アセトン、シクロヘキ
サノン、トリクロロエチレン、メチルエチルケトン等が
挙げられる。これら溶媒は、申独であるいは2種以上混
合して使用することができる。
る溶媒としては、メチルセロソルブ、メチルセロソルブ
アセテート、エチルセロソルブ、エチルセロソルブアセ
テート等のセロソルブ類、ジメチルホルムアミド、ジメ
チルスルホキシド、ジオキサン、アセトン、シクロヘキ
サノン、トリクロロエチレン、メチルエチルケトン等が
挙げられる。これら溶媒は、申独であるいは2種以上混
合して使用することができる。
本発明の感光性組成物を支持体表面に塗布する際に用い
る塗布方法としては、従来公知の方法、例えば、回転塗
布、ワイヤーバー塗布、デイツプ塗布°、エアーナイフ
塗布、ロール塗布、ブレード塗布及びカーテン塗布等が
可能である。この際塗布量は用途により異なるが、例え
ば固形分として05〜5.0g/lrが好ましい。
る塗布方法としては、従来公知の方法、例えば、回転塗
布、ワイヤーバー塗布、デイツプ塗布°、エアーナイフ
塗布、ロール塗布、ブレード塗布及びカーテン塗布等が
可能である。この際塗布量は用途により異なるが、例え
ば固形分として05〜5.0g/lrが好ましい。
本発明の感光性組成物を用いた感光層を設ける支持体と
しては、アルミニウム、亜鉛、鋼、銅等の金属板、並び
にクロム、亜鉛、銅、ニッケル、アルミニウム、鉄等が
メツキ又は蒸着された金属板、組、プラスチックフィル
ム及びガラス板、樹脂が塗布された紙、アルミニウム等
の金属箔が張られた紙、親水化処理したプラスチックフ
ィルム等が挙げられる。このうち好ましいのはアルミニ
ウム板である。本発明の感光性組成物を用いた感光性平
版印刷版の支持体として砂目立て処理、陽極酸化処理お
よび必要に応じて封孔処理等の表面処理が施されている
アルミニウム板を用いることがより好ましい。
しては、アルミニウム、亜鉛、鋼、銅等の金属板、並び
にクロム、亜鉛、銅、ニッケル、アルミニウム、鉄等が
メツキ又は蒸着された金属板、組、プラスチックフィル
ム及びガラス板、樹脂が塗布された紙、アルミニウム等
の金属箔が張られた紙、親水化処理したプラスチックフ
ィルム等が挙げられる。このうち好ましいのはアルミニ
ウム板である。本発明の感光性組成物を用いた感光性平
版印刷版の支持体として砂目立て処理、陽極酸化処理お
よび必要に応じて封孔処理等の表面処理が施されている
アルミニウム板を用いることがより好ましい。
これらの処理には公知の方法を適用することができる。
砂目立て処理の方法としては、例えば、機械的方法、電
解によりエツチングする方法が挙げられる。、機械的方
法としては、例えば、ボール研磨法、ブラシ研磨法、液
体ホーニングによる研磨法、パフ研磨法等が挙げられる
。アルミニウム材の組成等に応じて上述の各種方法を単
独あるいは組み合わせて用いることができる。好ましい
のは電解エツチングによる方法である。
解によりエツチングする方法が挙げられる。、機械的方
法としては、例えば、ボール研磨法、ブラシ研磨法、液
体ホーニングによる研磨法、パフ研磨法等が挙げられる
。アルミニウム材の組成等に応じて上述の各種方法を単
独あるいは組み合わせて用いることができる。好ましい
のは電解エツチングによる方法である。
電解エツチングは、りん酸、硫酸、塩酸、硝酸等の無機
の酸を単独ないし2種以上混合した浴で行なわれる。砂
目立て処理の後、必要に応じてアルカリあるいは酸の水
溶液によってデスマット処理を行い中和して水洗する。
の酸を単独ないし2種以上混合した浴で行なわれる。砂
目立て処理の後、必要に応じてアルカリあるいは酸の水
溶液によってデスマット処理を行い中和して水洗する。
陽極酸化処理は、電解液として、lii!酸、クロム酸
、シュウ酸、リン酸、マロンM等を1種または2種以上
含む溶液を用い、アルミニウム板を陽極として電解して
行なわれる。形成された陽極酸化皮i!山は1〜508
(1/dv’が適当であり、好ましくは10〜4011
o/dfである。l1iVi酸化皮膜量は、例えば、ア
ルミニウム板をリン酸クロム酸溶液(リン酸85%液:
35112、醇化クロム(■):20(lを12の水に
溶解して作製)に浸漬し、酸化皮膜を溶解し、板の皮膜
溶解前後の重最変化測定等から求められる。
、シュウ酸、リン酸、マロンM等を1種または2種以上
含む溶液を用い、アルミニウム板を陽極として電解して
行なわれる。形成された陽極酸化皮i!山は1〜508
(1/dv’が適当であり、好ましくは10〜4011
o/dfである。l1iVi酸化皮膜量は、例えば、ア
ルミニウム板をリン酸クロム酸溶液(リン酸85%液:
35112、醇化クロム(■):20(lを12の水に
溶解して作製)に浸漬し、酸化皮膜を溶解し、板の皮膜
溶解前後の重最変化測定等から求められる。
封孔処理は、沸騰水処理、水蒸気処理、ケイ酸ソーダ処
理、重クロム酸塩水溶液処理等が具体例として挙げられ
る。この他にアルミニウム板支持体に対して、水溶性高
分子化合物や、フッ化ジルコン酸等の金属塩の水溶液に
よる下引き処理を施すこともできる。
理、重クロム酸塩水溶液処理等が具体例として挙げられ
る。この他にアルミニウム板支持体に対して、水溶性高
分子化合物や、フッ化ジルコン酸等の金属塩の水溶液に
よる下引き処理を施すこともできる。
本発明の感光性組成物を適用した感光性平版印刷版は、
通常の方法で現像処理することができる。
通常の方法で現像処理することができる。
例えば、透明陽画フィルムを通して超高圧水銀灯、メタ
ルハライドランプ、キセノンランプ、タングステンラン
プ等の光源により露光し、次いで、種々のアルカリ現像
液にて現像する。この結果未露光部分のみが支持体表面
に残り、ポジーポジ型のレリーフ像が形成される。
ルハライドランプ、キセノンランプ、タングステンラン
プ等の光源により露光し、次いで、種々のアルカリ現像
液にて現像する。この結果未露光部分のみが支持体表面
に残り、ポジーポジ型のレリーフ像が形成される。
上記アルカリ現像液としては、例えば、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、
メタケイ酸ナトリウム、メタケイ酸カリウム、第ニリン
酸ナトリウム、第三リン酸ナトリウム等のアルカリ金属
塩の水溶液が挙げられる。アルカリ金属塩の濃度は0.
1〜10重量%が好ましい。又、該現像液中に必要に応
じアニオン性界面活性剤、両性界面活性剤やアルコール
等の有機溶媒を加えることができる。
ム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、
メタケイ酸ナトリウム、メタケイ酸カリウム、第ニリン
酸ナトリウム、第三リン酸ナトリウム等のアルカリ金属
塩の水溶液が挙げられる。アルカリ金属塩の濃度は0.
1〜10重量%が好ましい。又、該現像液中に必要に応
じアニオン性界面活性剤、両性界面活性剤やアルコール
等の有機溶媒を加えることができる。
[実施例]
(アルミニウム板の作製)
4す0.24mm (Dアルミニウム板(材質1050
. v4質H16)を5重量%の水酸化ナトリウム水溶
液中で60℃で1分間脱脂処理を行った後、liLの0
.5モル塩酸水溶液中において温度;25℃、電流密度
; 60A/ dn’ 、 処理時間:30秒間の条件
で電解エツチング処理を行った。次いで、5型出%水酸
化ナトリウム水溶液中で60℃、10秒間のデスマット
処理を施した後、20重a%tiiI酸溶液中で温度;
20℃、電流密度:3A/dm’、処理時間;1分間の
条件で陽極酸化処理を行った。
. v4質H16)を5重量%の水酸化ナトリウム水溶
液中で60℃で1分間脱脂処理を行った後、liLの0
.5モル塩酸水溶液中において温度;25℃、電流密度
; 60A/ dn’ 、 処理時間:30秒間の条件
で電解エツチング処理を行った。次いで、5型出%水酸
化ナトリウム水溶液中で60℃、10秒間のデスマット
処理を施した後、20重a%tiiI酸溶液中で温度;
20℃、電流密度:3A/dm’、処理時間;1分間の
条件で陽極酸化処理を行った。
更に、30℃の熱水で20秒間、熱水封孔処理を行い、
平版印刷版材料用支持体のアルミニウム板を作製した。
平版印刷版材料用支持体のアルミニウム板を作製した。
上記のように作成したアルミニウム板に下記組成の感光
性組成物塗布液を回転塗布機を用いて塗布し、90℃で
4分間乾燥し、ポジ型感光性平版印刷版試料N011を
1qた。
性組成物塗布液を回転塗布機を用いて塗布し、90℃で
4分間乾燥し、ポジ型感光性平版印刷版試料N011を
1qた。
(感光性組成物塗布液組成)
・ノボラック樹脂(1) 7.OQ(
アルカリ可溶性樹脂) ・本発明の化合物(Q’D−1) i、4
g・へ0メチルオ“キサジアゾール化合物 o、osg
(rad−1) ・ビクトリアピュアブルーBOH0,07<1(採土ケ
谷化学i!1製) ・メチルセロソルブ 100 d更
に、上記感光性組成物塗布液組成において、第1表に示
すように本発明の化合物及びハロメチルオキサジアゾー
ル化合物を変え、またその他の添加剤の添加量を適宜変
更して感光性平版印刷版試料NO12〜7を得た。
アルカリ可溶性樹脂) ・本発明の化合物(Q’D−1) i、4
g・へ0メチルオ“キサジアゾール化合物 o、osg
(rad−1) ・ビクトリアピュアブルーBOH0,07<1(採土ケ
谷化学i!1製) ・メチルセロソルブ 100 d更
に、上記感光性組成物塗布液組成において、第1表に示
すように本発明の化合物及びハロメチルオキサジアゾー
ル化合物を変え、またその他の添加剤の添加量を適宜変
更して感光性平版印刷版試料NO12〜7を得た。
かくして得られた感光性平版印刷版試料NO11〜7の
各々に感度測定用ステップタブレット(イーストマン・
コダック社製NO12、濃度差0.15ずつで21段階
のグレースケール)を密着して。
各々に感度測定用ステップタブレット(イーストマン・
コダック社製NO12、濃度差0.15ずつで21段階
のグレースケール)を密着して。
2KWメタルハライドランプ(右輪電気社製アイドルフ
ィン2000 )を光源として90C11の距離から露
光した。次にこの試料を5DR−1(コニカ■製)現像
液を水で6倍に稀釈した現像液で27℃にて20秒間現
像した。I:fA度を上記ステップタブレットの5.0
段が完全にクリアーになる為の露光時間で表わした。
ィン2000 )を光源として90C11の距離から露
光した。次にこの試料を5DR−1(コニカ■製)現像
液を水で6倍に稀釈した現像液で27℃にて20秒間現
像した。I:fA度を上記ステップタブレットの5.0
段が完全にクリアーになる為の露光時間で表わした。
また、アンダー現像性を検討するために、アルカリ濃度
が更に稀釈された現像液、すなわち現像能力の低下した
現像液に対する現像性を評価した。
が更に稀釈された現像液、すなわち現像能力の低下した
現像液に対する現像性を評価した。
上記現像性は、5DR−1現像液の稀釈率を9倍、10
倍及び11倍と変化させ、それぞれ27℃にて20秒間
現像して得られた平版印刷版試料についてハイデルGT
Oにてマークファイブ紅インキ(東洋インキvAg>を
用い印刷テストを行ない、シャド一部の網点のカラミの
程度を目視で評価した。
倍及び11倍と変化させ、それぞれ27℃にて20秒間
現像して得られた平版印刷版試料についてハイデルGT
Oにてマークファイブ紅インキ(東洋インキvAg>を
用い印刷テストを行ない、シャド一部の網点のカラミの
程度を目視で評価した。
次に、露光可視画性を検討するために、前記条件で露光
した現像前の試料の露光部と未露光部の濃度差を黄色灯
下で目視及び、濃度計(サクラデンシトメータPD△−
63)を用いて測定した。
した現像前の試料の露光部と未露光部の濃度差を黄色灯
下で目視及び、濃度計(サクラデンシトメータPD△−
63)を用いて測定した。
その濃度差ΔDが大きい程露光可視画性は良いことを意
味する。
味する。
以上得られた結果を第2表に示す。
以下余白
第2°表Jこり明らか41ように、本ブを明の感光性組
成物を用いて作成した感光性平版印刷版試料N0゜1〜
5はいfれも、1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−
4−スルポン耐エステル化合物を用いない本発明外の感
光11組成物から作成されたん(利N01O及び7に比
較して、!!i度、アンダー現像性及び露光可視画性の
Jべての特1り−にJ)いて優れている。
成物を用いて作成した感光性平版印刷版試料N0゜1〜
5はいfれも、1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−
4−スルポン耐エステル化合物を用いない本発明外の感
光11組成物から作成されたん(利N01O及び7に比
較して、!!i度、アンダー現像性及び露光可視画性の
Jべての特1り−にJ)いて優れている。
−1 ノボラック4fllft(1);フェノールとm
−クレゾールとp−クレゾールとホルムアルデヒドとの
共m縮合樹脂(フェノール、−一クレゾール及び1)−
クレゾールの各々のモル比が2.0: 11.8:
3.2. Mv −6,000゜M W / M n
−5,0) 傘2 本発明の化合物(1,2−ブフト4;ノンー2−
ジアジド−4−スルホン醋エステル):・QD−1 (x/y −1/I Qを反応させる前の樹脂のlylw = 600)・Q
O−2 (X/V −3/I Qを反応さける前の樹脂のlylw−900)・QD−
3 (x/y −2/I Qを反応させる前の樹脂のMW −t、300)・QD
−4 (0を反応させる前の樹脂の1ylv = 1,50
0)・QD−5 ・rad−2 υ ・ Q I) −6 Q D −1にお1ノるQを下記Q′に変える以外はQ
D−1と同じ。
−クレゾールとp−クレゾールとホルムアルデヒドとの
共m縮合樹脂(フェノール、−一クレゾール及び1)−
クレゾールの各々のモル比が2.0: 11.8:
3.2. Mv −6,000゜M W / M n
−5,0) 傘2 本発明の化合物(1,2−ブフト4;ノンー2−
ジアジド−4−スルホン醋エステル):・QD−1 (x/y −1/I Qを反応させる前の樹脂のlylw = 600)・Q
O−2 (X/V −3/I Qを反応さける前の樹脂のlylw−900)・QD−
3 (x/y −2/I Qを反応させる前の樹脂のMW −t、300)・QD
−4 (0を反応させる前の樹脂の1ylv = 1,50
0)・QD−5 ・rad−2 υ ・ Q I) −6 Q D −1にお1ノるQを下記Q′に変える以外はQ
D−1と同じ。
・ QD−7
QD−5にJ′51ノるQをQ′に変える以外はQD−
5に同じ。
5に同じ。
弓 ハロメチルAキリージアゾール化合物;*rad−
1 ・rad−3 [発明の効果] 以上詳細に説明したように、本発明の感光性組成物によ
り、優れた露光vJ視画性及びアンダー現像性を有し、
かつ高い感度を有する感光性平版印刷版が1qられる。
1 ・rad−3 [発明の効果] 以上詳細に説明したように、本発明の感光性組成物によ
り、優れた露光vJ視画性及びアンダー現像性を有し、
かつ高い感度を有する感光性平版印刷版が1qられる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 少なくとも、 (a)1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−4−スル
ホン酸エステル化合物、 (b)アルカリ可溶性樹脂、 (c)活性光線の照射によりハロゲン遊離基を生成する
ハロメチルオキサジアゾール化合物及び (d)上記ハロメチルオキサジアゾール化合物の光分解
生成物と相互作用をすることによってその色調をかえる
変色剤、を含有することを特徴とする感光性組成物。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24939888A JPH0296755A (ja) | 1988-10-03 | 1988-10-03 | 感光性組成物 |
EP19890118267 EP0362778B1 (en) | 1988-10-03 | 1989-10-02 | Photosensitive composition |
DE1989628903 DE68928903T2 (de) | 1988-10-03 | 1989-10-02 | Lichtempfindliche Zusammensetzung |
CA 2000111 CA2000111A1 (en) | 1988-10-03 | 1989-10-03 | Photosensitive composition |
US07/858,441 US5219700A (en) | 1988-10-03 | 1992-03-24 | Photosensitive composition containing 1,2-naphthoquinone-2-diazido-4-sulfonic acid ester, alkali-soluble resin, halomethyloxadiazole compound and a dye |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24939888A JPH0296755A (ja) | 1988-10-03 | 1988-10-03 | 感光性組成物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0296755A true JPH0296755A (ja) | 1990-04-09 |
Family
ID=17192397
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP24939888A Pending JPH0296755A (ja) | 1988-10-03 | 1988-10-03 | 感光性組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0296755A (ja) |
Cited By (64)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1314552A2 (en) | 1998-04-06 | 2003-05-28 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photosensitive resin composition |
EP1640173A1 (en) | 2004-09-27 | 2006-03-29 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Planographic printing plate precursor |
EP1690685A2 (en) | 2005-02-09 | 2006-08-16 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Planographic printing plate precursor |
EP1705004A1 (en) | 2005-03-22 | 2006-09-27 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Planographic printing plate precursor |
US7195859B2 (en) | 2002-10-04 | 2007-03-27 | Agfa-Gevaert | Method of making a lithographic printing plate precursor |
US7198877B2 (en) | 2002-10-15 | 2007-04-03 | Agfa-Gevaert | Heat-sensitive lithographic printing plate precursor |
US7217499B2 (en) | 2003-12-26 | 2007-05-15 | Okamoto Chemical Industry Co., Ltd. | Aluminum support for lithographic printing plate and base plate for lithographic printing plate |
WO2007136005A1 (ja) | 2006-05-18 | 2007-11-29 | Fujifilm Corporation | 被乾燥物の乾燥方法及び装置 |
EP1872943A2 (en) | 1999-05-21 | 2008-01-02 | FUJIFILM Corporation | Photosensitive composition and planographic printing plate base using same |
EP1925447A1 (en) | 2002-09-17 | 2008-05-28 | FUJIFILM Corporation | Image forming material |
US7455949B2 (en) | 2002-10-15 | 2008-11-25 | Agfa Graphics, N.V. | Polymer for heat-sensitive lithographic printing plate precursor |
US7458320B2 (en) | 2002-10-15 | 2008-12-02 | Agfa Graphics, N.V. | Polymer for heat-sensitive lithographic printing plate precursor |
US7467587B2 (en) | 2004-04-21 | 2008-12-23 | Agfa Graphics, N.V. | Method for accurate exposure of small dots on a heat-sensitive positive-working lithographic printing plate material |
EP2036721A1 (en) | 2000-11-30 | 2009-03-18 | FUJIFILM Corporation | Planographic printing plate precursor |
WO2009038038A1 (ja) | 2007-09-19 | 2009-03-26 | Fujifilm Corporation | アセチレン化合物、その塩、その縮合物、及びその組成物 |
EP2042306A2 (en) | 2007-09-28 | 2009-04-01 | FUJIFILM Corporation | Planographic printing plate precursor and method of producing a copolymer used therein |
EP2042308A2 (en) | 2007-09-27 | 2009-04-01 | FUJIFILM Corporation | Planographic printing plate precursor |
EP2042310A2 (en) | 2007-09-27 | 2009-04-01 | FUJIFILM Corporation | Planographic printing plate precursor |
EP2042340A2 (en) | 2007-09-27 | 2009-04-01 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate surface protective agent and platemaking method for lithographic printing plate |
EP2042305A2 (en) | 2007-09-28 | 2009-04-01 | FUJIFILM Corporation | Planographic printing plate precursor |
WO2009050947A1 (ja) | 2007-10-16 | 2009-04-23 | Eastman Kodak Company | ポジ型平版印刷版原版及びその製版方法 |
WO2009063824A1 (ja) | 2007-11-14 | 2009-05-22 | Fujifilm Corporation | 塗布膜の乾燥方法及び平版印刷版原版の製造方法 |
EP2065211A1 (en) | 2007-11-30 | 2009-06-03 | Agfa Graphics N.V. | A method for treating a lithographic printing plate |
EP2098376A1 (en) | 2008-03-04 | 2009-09-09 | Agfa Graphics N.V. | A method for making a lithographic printing plate support |
WO2009114056A1 (en) | 2008-03-14 | 2009-09-17 | Eastman Kodak Company | Negative-working imageable elements with improved abrasion resistance |
WO2009113378A1 (ja) | 2008-03-14 | 2009-09-17 | イーストマン コダック カンパニー | 平版印刷原版の製版方法 |
EP2105690A2 (en) | 2008-03-26 | 2009-09-30 | Fujifilm Corporation | Method and apparatus for drying |
EP2106924A1 (en) | 2008-03-31 | 2009-10-07 | Agfa Graphics N.V. | A method for treating a lithographic printing plate |
EP2106907A2 (en) | 2008-04-02 | 2009-10-07 | FUJIFILM Corporation | Planographic printing plate precursor |
EP2159049A1 (en) | 2008-09-02 | 2010-03-03 | Agfa Graphics N.V. | A heat-sensitive positive-working lithographic printing plate precursor |
EP2161129A2 (en) | 2008-09-09 | 2010-03-10 | Fujifilm Corporation | Photosensitive lithographic printing plate precursor for infrared laser |
US7678533B2 (en) | 2005-06-30 | 2010-03-16 | Agfa Graphics, N.V. | Heat-sensitive lithographic printing plate precursor |
EP2236293A2 (en) | 2009-03-31 | 2010-10-06 | FUJIFILM Corporation | Lithographic printing plate precursor |
WO2010140697A1 (ja) | 2009-06-02 | 2010-12-09 | イーストマン コダック カンパニー | 平版印刷版前駆体 |
WO2011037005A1 (ja) | 2009-09-24 | 2011-03-31 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版 |
EP2354854A1 (en) | 2002-09-20 | 2011-08-10 | FUJIFILM Corporation | Method of making lithographic printing plate |
WO2011102485A1 (ja) | 2010-02-19 | 2011-08-25 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法 |
EP2365389A1 (en) | 2010-03-08 | 2011-09-14 | Fujifilm Corporation | Positive-working lithographic printing plate precursor for infrared laser and process for making lithographic printing plate |
EP2366546A2 (en) | 2010-03-18 | 2011-09-21 | FUJIFILM Corporation | Process for making lithographic printing plate and lithographic printing plate |
EP2366545A1 (en) | 2010-03-19 | 2011-09-21 | Agfa Graphics N.V. | A lithographic printing plate precursor |
EP2381312A2 (en) | 2000-08-25 | 2011-10-26 | Fujifilm Corporation | Alkaline liquid developer for lithographic printing plate and method for preparing lithographic printing plate |
EP2439070A2 (en) | 2010-08-31 | 2012-04-11 | Fujifilm Corporation | Image forming material, planographic printing plate precursor, and method for manufacturing a planographic printing plate |
EP2497639A2 (en) | 2011-03-11 | 2012-09-12 | Fujifilm Corporation | Thermal positive-type planographic original printing plate and method of making planographic printing plate |
EP2506077A2 (en) | 2011-03-31 | 2012-10-03 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor and method of preparing the same |
EP2551113A2 (en) | 2011-07-25 | 2013-01-30 | Fujifilm Corporation | Photosensitive planographic printing plate precursor and method of producing a planographic printing plate |
US8419923B2 (en) | 2006-08-03 | 2013-04-16 | Agfa Graphics Nv | Lithographic printing plate support |
WO2013069508A1 (ja) | 2011-11-10 | 2013-05-16 | イーストマン コダック カンパニー | 平版印刷版前駆体及び平版印刷版の作製方法 |
WO2013084882A1 (ja) | 2011-12-05 | 2013-06-13 | イーストマン コダック カンパニー | 平版印刷版用版面保護液組成物及びそれを用いた平版印刷版の処理方法 |
WO2013094321A1 (en) | 2011-12-21 | 2013-06-27 | Eastman Kodak Company | Positive working lithographic printing plate precursor and process for preparing lithographic printing plate |
EP2641738A2 (en) | 2012-03-23 | 2013-09-25 | Fujifilm Corporation | Method of producing planographic printing plate and planographic printing plate |
EP2644378A1 (en) | 2012-03-30 | 2013-10-02 | Fujifilm Corporation | Method of making planographic printing plate and planographic printing plate |
EP2644379A1 (en) | 2012-03-30 | 2013-10-02 | FUJIFILM Corporation | Method of producing a planographic printing plate |
WO2014106554A1 (en) | 2013-01-01 | 2014-07-10 | Agfa Graphics Nv | (ethylene, vinyl acetal) copolymers and their use in lithographic printing plate precursors |
EP2796929A2 (en) | 2011-03-31 | 2014-10-29 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor and method of preparing the same |
WO2015156065A1 (en) | 2014-04-11 | 2015-10-15 | Eastman Kodak Company | Lithographic printing plate precursor |
EP2933278A1 (en) | 2014-04-17 | 2015-10-21 | Agfa Graphics Nv | (Ethylene, vinyl acetal) copolymers and their use in lithographic printing plate precursors |
EP2944657A1 (en) | 2014-05-15 | 2015-11-18 | Agfa Graphics Nv | (Ethylene, Vinyl Acetal) Copolymers and Their Use In Lithographic Printing Plate Precursors |
EP2955198A1 (en) | 2014-06-13 | 2015-12-16 | Agfa Graphics Nv | (Ethylene, vinyl acetal) copolymers and their use in lithographic printing plate precursors |
EP2963496A1 (en) | 2014-06-30 | 2016-01-06 | Agfa Graphics Nv | A lithographic printing plate precursor including ( ethylene, vinyl acetal ) copolymers |
EP3032334A1 (en) | 2014-12-08 | 2016-06-15 | Agfa Graphics Nv | A system for reducing ablation debris |
WO2016140820A1 (en) | 2015-03-03 | 2016-09-09 | Eastman Kodak Company | Negative-working lithographic printing plate precursor |
EP3130465A1 (en) | 2015-08-12 | 2017-02-15 | Agfa Graphics Nv | Heat-sensitive lithographic printing plate precursor |
WO2017157571A1 (en) | 2016-03-16 | 2017-09-21 | Agfa Graphics Nv | Method and apparatus for processing a lithographic printing plate |
EP3778253A1 (en) | 2019-08-13 | 2021-02-17 | Agfa Nv | Method for processing a lithographic printing plate |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS55126235A (en) * | 1979-03-22 | 1980-09-29 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photosensitive composition |
JPS603626A (ja) * | 1983-06-22 | 1985-01-10 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性組成物 |
JPS6088942A (ja) * | 1983-10-21 | 1985-05-18 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性組成物 |
-
1988
- 1988-10-03 JP JP24939888A patent/JPH0296755A/ja active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS55126235A (en) * | 1979-03-22 | 1980-09-29 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photosensitive composition |
JPS603626A (ja) * | 1983-06-22 | 1985-01-10 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性組成物 |
JPS6088942A (ja) * | 1983-10-21 | 1985-05-18 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性組成物 |
Cited By (74)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1314552A2 (en) | 1998-04-06 | 2003-05-28 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photosensitive resin composition |
EP1872943A2 (en) | 1999-05-21 | 2008-01-02 | FUJIFILM Corporation | Photosensitive composition and planographic printing plate base using same |
EP2381312A2 (en) | 2000-08-25 | 2011-10-26 | Fujifilm Corporation | Alkaline liquid developer for lithographic printing plate and method for preparing lithographic printing plate |
EP2036721A1 (en) | 2000-11-30 | 2009-03-18 | FUJIFILM Corporation | Planographic printing plate precursor |
EP1925447A1 (en) | 2002-09-17 | 2008-05-28 | FUJIFILM Corporation | Image forming material |
EP2354854A1 (en) | 2002-09-20 | 2011-08-10 | FUJIFILM Corporation | Method of making lithographic printing plate |
US7195859B2 (en) | 2002-10-04 | 2007-03-27 | Agfa-Gevaert | Method of making a lithographic printing plate precursor |
US7198877B2 (en) | 2002-10-15 | 2007-04-03 | Agfa-Gevaert | Heat-sensitive lithographic printing plate precursor |
US7455949B2 (en) | 2002-10-15 | 2008-11-25 | Agfa Graphics, N.V. | Polymer for heat-sensitive lithographic printing plate precursor |
US7458320B2 (en) | 2002-10-15 | 2008-12-02 | Agfa Graphics, N.V. | Polymer for heat-sensitive lithographic printing plate precursor |
US7217499B2 (en) | 2003-12-26 | 2007-05-15 | Okamoto Chemical Industry Co., Ltd. | Aluminum support for lithographic printing plate and base plate for lithographic printing plate |
US7467587B2 (en) | 2004-04-21 | 2008-12-23 | Agfa Graphics, N.V. | Method for accurate exposure of small dots on a heat-sensitive positive-working lithographic printing plate material |
EP1640173A1 (en) | 2004-09-27 | 2006-03-29 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Planographic printing plate precursor |
EP1690685A2 (en) | 2005-02-09 | 2006-08-16 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Planographic printing plate precursor |
EP1705004A1 (en) | 2005-03-22 | 2006-09-27 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Planographic printing plate precursor |
US7678533B2 (en) | 2005-06-30 | 2010-03-16 | Agfa Graphics, N.V. | Heat-sensitive lithographic printing plate precursor |
WO2007136005A1 (ja) | 2006-05-18 | 2007-11-29 | Fujifilm Corporation | 被乾燥物の乾燥方法及び装置 |
US8419923B2 (en) | 2006-08-03 | 2013-04-16 | Agfa Graphics Nv | Lithographic printing plate support |
WO2009038038A1 (ja) | 2007-09-19 | 2009-03-26 | Fujifilm Corporation | アセチレン化合物、その塩、その縮合物、及びその組成物 |
EP2042340A2 (en) | 2007-09-27 | 2009-04-01 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate surface protective agent and platemaking method for lithographic printing plate |
EP2042310A2 (en) | 2007-09-27 | 2009-04-01 | FUJIFILM Corporation | Planographic printing plate precursor |
EP2042308A2 (en) | 2007-09-27 | 2009-04-01 | FUJIFILM Corporation | Planographic printing plate precursor |
EP2042306A2 (en) | 2007-09-28 | 2009-04-01 | FUJIFILM Corporation | Planographic printing plate precursor and method of producing a copolymer used therein |
EP2042305A2 (en) | 2007-09-28 | 2009-04-01 | FUJIFILM Corporation | Planographic printing plate precursor |
WO2009050947A1 (ja) | 2007-10-16 | 2009-04-23 | Eastman Kodak Company | ポジ型平版印刷版原版及びその製版方法 |
WO2009063824A1 (ja) | 2007-11-14 | 2009-05-22 | Fujifilm Corporation | 塗布膜の乾燥方法及び平版印刷版原版の製造方法 |
EP2065211A1 (en) | 2007-11-30 | 2009-06-03 | Agfa Graphics N.V. | A method for treating a lithographic printing plate |
EP2098376A1 (en) | 2008-03-04 | 2009-09-09 | Agfa Graphics N.V. | A method for making a lithographic printing plate support |
WO2009114056A1 (en) | 2008-03-14 | 2009-09-17 | Eastman Kodak Company | Negative-working imageable elements with improved abrasion resistance |
WO2009113378A1 (ja) | 2008-03-14 | 2009-09-17 | イーストマン コダック カンパニー | 平版印刷原版の製版方法 |
EP2105690A2 (en) | 2008-03-26 | 2009-09-30 | Fujifilm Corporation | Method and apparatus for drying |
EP2106924A1 (en) | 2008-03-31 | 2009-10-07 | Agfa Graphics N.V. | A method for treating a lithographic printing plate |
EP2106907A2 (en) | 2008-04-02 | 2009-10-07 | FUJIFILM Corporation | Planographic printing plate precursor |
EP2159049A1 (en) | 2008-09-02 | 2010-03-03 | Agfa Graphics N.V. | A heat-sensitive positive-working lithographic printing plate precursor |
EP2161129A2 (en) | 2008-09-09 | 2010-03-10 | Fujifilm Corporation | Photosensitive lithographic printing plate precursor for infrared laser |
EP2236293A2 (en) | 2009-03-31 | 2010-10-06 | FUJIFILM Corporation | Lithographic printing plate precursor |
WO2010140697A1 (ja) | 2009-06-02 | 2010-12-09 | イーストマン コダック カンパニー | 平版印刷版前駆体 |
WO2011037005A1 (ja) | 2009-09-24 | 2011-03-31 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版 |
WO2011102485A1 (ja) | 2010-02-19 | 2011-08-25 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法 |
EP2365389A1 (en) | 2010-03-08 | 2011-09-14 | Fujifilm Corporation | Positive-working lithographic printing plate precursor for infrared laser and process for making lithographic printing plate |
EP2366546A2 (en) | 2010-03-18 | 2011-09-21 | FUJIFILM Corporation | Process for making lithographic printing plate and lithographic printing plate |
WO2011113693A1 (en) | 2010-03-19 | 2011-09-22 | Agfa Graphics Nv | A lithographic printing plate precursor |
EP2366545A1 (en) | 2010-03-19 | 2011-09-21 | Agfa Graphics N.V. | A lithographic printing plate precursor |
EP2439070A2 (en) | 2010-08-31 | 2012-04-11 | Fujifilm Corporation | Image forming material, planographic printing plate precursor, and method for manufacturing a planographic printing plate |
EP2497639A2 (en) | 2011-03-11 | 2012-09-12 | Fujifilm Corporation | Thermal positive-type planographic original printing plate and method of making planographic printing plate |
EP2796929A2 (en) | 2011-03-31 | 2014-10-29 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor and method of preparing the same |
EP2506077A2 (en) | 2011-03-31 | 2012-10-03 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor and method of preparing the same |
EP2796928A2 (en) | 2011-03-31 | 2014-10-29 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor and method of preparing the same |
EP2551113A2 (en) | 2011-07-25 | 2013-01-30 | Fujifilm Corporation | Photosensitive planographic printing plate precursor and method of producing a planographic printing plate |
WO2013069508A1 (ja) | 2011-11-10 | 2013-05-16 | イーストマン コダック カンパニー | 平版印刷版前駆体及び平版印刷版の作製方法 |
WO2013084882A1 (ja) | 2011-12-05 | 2013-06-13 | イーストマン コダック カンパニー | 平版印刷版用版面保護液組成物及びそれを用いた平版印刷版の処理方法 |
WO2013094321A1 (en) | 2011-12-21 | 2013-06-27 | Eastman Kodak Company | Positive working lithographic printing plate precursor and process for preparing lithographic printing plate |
EP2641738A2 (en) | 2012-03-23 | 2013-09-25 | Fujifilm Corporation | Method of producing planographic printing plate and planographic printing plate |
EP2644378A1 (en) | 2012-03-30 | 2013-10-02 | Fujifilm Corporation | Method of making planographic printing plate and planographic printing plate |
EP2644379A1 (en) | 2012-03-30 | 2013-10-02 | FUJIFILM Corporation | Method of producing a planographic printing plate |
WO2014106554A1 (en) | 2013-01-01 | 2014-07-10 | Agfa Graphics Nv | (ethylene, vinyl acetal) copolymers and their use in lithographic printing plate precursors |
WO2015156065A1 (en) | 2014-04-11 | 2015-10-15 | Eastman Kodak Company | Lithographic printing plate precursor |
EP2933278A1 (en) | 2014-04-17 | 2015-10-21 | Agfa Graphics Nv | (Ethylene, vinyl acetal) copolymers and their use in lithographic printing plate precursors |
EP2944657A1 (en) | 2014-05-15 | 2015-11-18 | Agfa Graphics Nv | (Ethylene, Vinyl Acetal) Copolymers and Their Use In Lithographic Printing Plate Precursors |
EP2955198A1 (en) | 2014-06-13 | 2015-12-16 | Agfa Graphics Nv | (Ethylene, vinyl acetal) copolymers and their use in lithographic printing plate precursors |
WO2015189092A1 (en) | 2014-06-13 | 2015-12-17 | Agfa Graphics Nv | (ethylene, vinyl acetal) copolymers and their use in lithographic printing plate precursors |
WO2016001023A1 (en) | 2014-06-30 | 2016-01-07 | Agfa Graphics Nv | A lithographic printing plate precursor including (ethylene, vinyl acetal) copolymers |
EP2963496A1 (en) | 2014-06-30 | 2016-01-06 | Agfa Graphics Nv | A lithographic printing plate precursor including ( ethylene, vinyl acetal ) copolymers |
EP3032334A1 (en) | 2014-12-08 | 2016-06-15 | Agfa Graphics Nv | A system for reducing ablation debris |
WO2016140820A1 (en) | 2015-03-03 | 2016-09-09 | Eastman Kodak Company | Negative-working lithographic printing plate precursor |
EP3130465A1 (en) | 2015-08-12 | 2017-02-15 | Agfa Graphics Nv | Heat-sensitive lithographic printing plate precursor |
WO2017157571A1 (en) | 2016-03-16 | 2017-09-21 | Agfa Graphics Nv | Method and apparatus for processing a lithographic printing plate |
WO2017157576A1 (en) | 2016-03-16 | 2017-09-21 | Agfa Graphics Nv | Method for processing a lithographic printing plate |
WO2017157572A1 (en) | 2016-03-16 | 2017-09-21 | Agfa Graphics Nv | Apparatus for processing a lithographic printing plate and corresponding method |
WO2017157578A1 (en) | 2016-03-16 | 2017-09-21 | Agfa Graphics Nv | Method for processing a lithographic printing plate |
WO2017157579A1 (en) | 2016-03-16 | 2017-09-21 | Agfa Graphics Nv | Method for processing a lithographic printing plate |
WO2017157575A1 (en) | 2016-03-16 | 2017-09-21 | Agfa Graphics Nv | Method and apparatus for processing a lithographic printing plate |
EP3778253A1 (en) | 2019-08-13 | 2021-02-17 | Agfa Nv | Method for processing a lithographic printing plate |
WO2021028385A1 (en) | 2019-08-13 | 2021-02-18 | Agfa Nv | Method for processing a lithographic printing plate |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH0296755A (ja) | 感光性組成物 | |
US5219700A (en) | Photosensitive composition containing 1,2-naphthoquinone-2-diazido-4-sulfonic acid ester, alkali-soluble resin, halomethyloxadiazole compound and a dye | |
JPH0296163A (ja) | 感光性組成物 | |
JP2947519B2 (ja) | 感光性平版印刷版 | |
JP2947518B2 (ja) | 感光性平版印刷版 | |
JPH0534904A (ja) | 感光性組成物 | |
JPS63304246A (ja) | 感光性組成物及び感光性平版印刷版 | |
JPH03225343A (ja) | 感光性組成物 | |
EP0362778B1 (en) | Photosensitive composition | |
JPH04122939A (ja) | 感光性組成物 | |
JPH0469661A (ja) | 感光性組成物 | |
JP2922249B2 (ja) | 感光性組成物 | |
JP2947520B2 (ja) | 感光性平版印刷版 | |
JPH0296164A (ja) | 感光性組成物 | |
JPH04153655A (ja) | 感光性組成物 | |
JPH05297573A (ja) | 感光性平版印刷版 | |
JPH0296166A (ja) | 感光性組成物 | |
JPH03274054A (ja) | 感光性組成物 | |
JPH05297585A (ja) | 感光性組成物 | |
JPH03235953A (ja) | 感光性組成物 | |
JPH0798498A (ja) | 感光性平版印刷版 | |
JPH05165212A (ja) | 感光性組成物 | |
JPH04328550A (ja) | 感光性組成物 | |
JPH03259259A (ja) | 感光性平版印刷版 | |
JPH03225341A (ja) | 感光性組成物 |