[go: up one dir, main page]
More Web Proxy on the site http://driver.im/

DE602005003072T2 - Flachdruckplattenvorläufer - Google Patents

Flachdruckplattenvorläufer Download PDF

Info

Publication number
DE602005003072T2
DE602005003072T2 DE602005003072T DE602005003072T DE602005003072T2 DE 602005003072 T2 DE602005003072 T2 DE 602005003072T2 DE 602005003072 T DE602005003072 T DE 602005003072T DE 602005003072 T DE602005003072 T DE 602005003072T DE 602005003072 T2 DE602005003072 T2 DE 602005003072T2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
group
printing plate
formula
planographic printing
plate precursor
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
DE602005003072T
Other languages
English (en)
Other versions
DE602005003072D1 (de
Inventor
Yusuke Hatanaka
Ikuo Kawauchi
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Corp
Original Assignee
Fujifilm Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujifilm Corp filed Critical Fujifilm Corp
Publication of DE602005003072D1 publication Critical patent/DE602005003072D1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE602005003072T2 publication Critical patent/DE602005003072T2/de
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C1/00—Forme preparation
    • B41C1/10—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
    • B41C1/1008—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C1/00—Forme preparation
    • B41C1/10—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
    • B41C1/1008—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials
    • B41C1/1016—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials characterised by structural details, e.g. protective layers, backcoat layers or several imaging layers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2201/00—Location, type or constituents of the non-imaging layers in lithographic printing formes
    • B41C2201/04—Intermediate layers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2201/00—Location, type or constituents of the non-imaging layers in lithographic printing formes
    • B41C2201/12—Location, type or constituents of the non-imaging layers in lithographic printing formes characterised by non-macromolecular organic compounds
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2201/00—Location, type or constituents of the non-imaging layers in lithographic printing formes
    • B41C2201/14—Location, type or constituents of the non-imaging layers in lithographic printing formes characterised by macromolecular organic compounds, e.g. binder, adhesives
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/02—Positive working, i.e. the exposed (imaged) areas are removed
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/06—Developable by an alkaline solution
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/24—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by a macromolecular compound or binder obtained by reactions involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. acrylics, vinyl polymers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/26—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by a macromolecular compound or binder obtained by reactions not involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
    • B41C2210/262—Phenolic condensation polymers, e.g. novolacs, resols
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/039—Macromolecular compounds which are photodegradable, e.g. positive electron resists
    • G03F7/0392—Macromolecular compounds which are photodegradable, e.g. positive electron resists the macromolecular compound being present in a chemically amplified positive photoresist composition

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Ink Jet (AREA)
  • Formation Of Insulating Films (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)

Description

  • Hintergrund der Erfindung
  • Gebiet der Erfindung
  • Die Erfindung betrifft einen Flachdruckplattenvorläufer mit einer Aufzeichnungsschicht, die eine positiv-fotoempfindliche Zusammensetzung enthält, deren Löslichkeit in einer wässrigen alkalischen Lösung sich in Abhängigkeit der Belichtung mit Infrarotstrahlen verändert, insbesondere einen Positiv-Flachdruckplattenvorläufer, der sogenanntes direktes Druckplattenerstellen durch Abtasten des Infrarotlaserlichts auf Basis eines digitalen Signals von einem Computer oder dergleichen ermöglicht.
  • Beschreibung des Standes der Technik
  • In jüngster Zeit ist mit dem Fortschritt in der Bilderzeugungstechnologie das direkte Plattenerstellen, ohne ein Filmskript zu verwenden, durch Abtasten einer Plattenoberfläche mit dicht gebündeltem Laserlicht, um ein geschriebenes Zeichen oder ein geschriebenes Bild direkt auf der Plattenoberfläche zu erzeugen, möglich geworden. Solch ein Plattenmaterial wird als Computer-To-Plate(CTP)-Flachdruckplattenvorläufer bezeichnet.
  • Ein thermischer Positiv-Flachdruckplattenvorläufer ist ein bilderzeugendes Material, bei dem durch Bestrahlen mit Laserlicht, um eine Foto-thermische Umwandlung in einer Aufzeichnungsschicht hervorzurufen, die Alkali-Löslichkeit der Aufzeichnungsschicht erhöht wird, um ein Positivbild zu erzeugen. In solche einem thermischen Flachdruckplattenvorläufer vom Positiv-Typ wird als ein Bilderzeugungsprinzip eine empfindliche Veränderung in der Wechselwirkung zwischen Bindemittelmolekül in einer Aufzeichnungsschicht aufgrund von Laserbelichtung benutzt. Dementsprechend gibt es das Problem, dass der Unterschied in der Alkali-Löslichkeit zwischen belichteten Teilen/unbelichteten Teilen (d. h. die Löslichkeitsdiskriminierung) zu gering ist, um ausreichende Entwicklungsbreite (ausreichende Entwicklungsstabilität) in Abhängigkeit der verwendeten Bedingungen zu erreichen. Im Ergebnis bestehen die Möglichkeiten, dass aufgrund einer Veränderung der Aktivität eines Entwicklers Entwicklungsfehler und weißer Leerraum in einem Bildbereich hervorgerufen werden.
  • Im Hinblick auf die oben erwähnten Probleme ist ein Bildaufzeichnungsmaterial vorgeschlagen worden, in dem eine Aufzeichnungsschicht in eine Mehrschichtstruktur gebildet wird, um die Entwicklungsbreite auszudehnen und die Bilderzeugungseigenschaften der Aufzeichnungsschicht auf ein praktisch akzeptables Niveau zu verbessern.
  • Beispielsweise ist eine Technologie vorgeschlagen worden, bei der ein Polymer, das als eine Hauptkette einen Polyvinylalkohol mit einer Acetaleinheit als einer daran hängenden Gruppe aufweist, zu einer positiv-arbeitenden Zusammensetzung zugesetzt wird (beispielsweise in der Japanischen Offenlegungsschrift Nr. 2003-530581 ). Wenngleich ein solches Polymer eine hohe Löslichkeit in einem alkalischen Entwickler aufweist und Entwicklungsfehler in einem belichteten Bereich vermindert, treten Probleme dahingehend auf, dass die Alkali-Löslichkeit in einem nicht belichteten Bereich ebenfalls erhöht wird und somit schließlich die Entwicklungsbreite nicht verbessert wird und die Tintenaufnahmeeigenschaft im nicht belichteten Bereich (Bildbereich) eher verschlechtert wird.
  • EP 1 204 000 A1 offenbart eine fotoempfindliche Flachdruckplatte, umfassend einen Träger und eine fotoempfindliche Schicht. Die fotoempfindliche Schicht umfasst ein Polyvinylalkoholharzbindemittel, das mit einem Acetalgerüst, umfassend eine aliphatische cyclische Struktur, modifiziert ist.
  • US 4 737 426 offenbart Verbindungen der allgemeinen Formel (I):
    Figure 00030001
  • In Verbindung mit Verbindungen, die Säure abgeben, wenn sie mit ionisierender Strahlung belichtet werden, sind Verbindungen der Formel (I) zur Verwendung als Positiv-Fotoresists geeignet. In der Formel (I) sind R1 und R2 Wasserstoff, Alkyl, Aryl, cyclisches Aryl, Arylalkyl oder Alcrylyl, R2 bis R8 sind Wasserstoff oder niederes Alkyl, X ist -O- oder -NR9-, wobei R9 Wasserstoff oder C1-C4-Alkyl ist, n ist 0 oder 1, m ist 2, 3 oder 4 und Q ist ein organisches Radikal der Wertigkeit m.
  • WO 01/09682 A2 offenbart eine positiv wirkende Fotoresist-Zusammensetzung, die wärmeempfindlich ist. Sie umfasst ein wasserlösliches wärmeempfindliches Harz, einen Adhäsionsförderer und ein Strahlung absorbierendes Mittel – einen Farbstoff oder ein Pigment.
  • Zusammenfassung der Erfindung
  • Ein Gegenstand der Erfindung, die im Hinblick auf das Überwinden dieser Nachteile der herkömmlichen Technologien durchgeführt wurde, ist es, einen Infrarot-empfindlichen Positiv-Flachdruckplattenvorläufer vom CTP-Typ bereitzustellen, der direkte Plattenherstellung durch Aufzeichnen mit einem Feststofflaser oder Halbleiterlaser, der Infrarotstrahlen auf Basis eines digitalen Signals von einem Computer oder dergleichen abstrahlt, ermöglicht, breit in seiner Entwicklungsbreite und hervorragend in der Tintenaufnahmeeigenschaft eines Bildbereichs ist.
  • Nach intensiven Untersuchungen haben die Erfinder entdeckt, dass Bedingungen zum Erreichen des vorgenannten Gegenstands erzielt werden können, indem eine fotoempfindliche Zusammensetzung verwendet wird, die eine Polymerverbindung mit einer speziellen Struktur und ein Oniumsalz in einer Aufzeichnungsschicht enthalten.
  • Das bedeutet, dass ein Positiv-Flachdruckplattenvorläufer gemäß der Erfindung
    ein Substrat und
    eine Aufzeichnungsschicht umfasst, die auf dem Substrat angeordnet ist und eine Polymerverbindung, die durch die nachstehende Formel (I) repräsentiert wird, ein Oniumsalz, das durch die nachstehende Formel (A) repräsentiert wird, einen Infrarotabsorber und ein Novolakharz enthält: Formel (I):
    Figure 00050001
    worin in Formel (I) R1 eine Kohlenwasserstoffgruppe darstellt und R2 eine aromatische Gruppe darstellt, die als eine Substituentengruppe eine Hydroxylgruppe aufweist.
    m = 5 bis 40 Mol-%, n = 10 bis 60 Mol-%, o = 1 bis 20 Mol-% und p = 5 bis 50 Mol-%; M+X– Formel (A)worin in der Formel (A) M+ ein Kation darstellt, das aus Sulfonium oder Iodonium, welches eine Substituentengruppe aufweisen kann, ausgewählt ist, und X– ein Gegenanion darstellt.
  • Wenngleich der Funktionsmechanismus der Erfindung noch nicht erhellt worden ist, wird angenommen, dass eine besonders starke Wechselwirkung in einem nicht belichteten Bereich hervorgerufen wird, da eine Polymerverbindung mit einer Acetalstruktur wie der Formel (I) viele Sauerstoffatome aufweist, so dass ein starker Film gebildet wird, der eine hohe Eigenschaft der Auflösungsverhinderung gegen einen Entwickler zeigt, wenn sie zusammen mit einem Oniumsalz verwendet wird. Andererseits wird angenommen, dass in einem belichteten Bereich die Diskriminierung überall in der Schicht verbessert wird und die Entwicklungsbreite erhöht wird, da die Wechselwirkung durch Wärme oder dergleichen bereitwillig gelöst wird, um hohe Entwickelbarkeit zu gewährleisten, was durch eine saure Gruppe der speziellen Polymerstruktur hervorgerufen wird. Ferner wird angenommen, dass die Lipophilie eines Bildbereichs besonders verbessert wird und dadurch hervorragende Tintenaufnahmeeigenschaften gezeigt werden.
  • Da ein unbelichteter Bereich, der einen Bildbereich bildet, einen sehr starken, die Auflösung verhindernden Effekt gegenüber dem Entwickler aufrechterhält, wie oben erwähnt, wird angenommen, dass ebenfalls vermieden wird, dass die Platte verkratzt wird, wenn sie gehandhabt wird, es schwierig ist, unerwünschte Auflösung an den Kratzern während der Entwicklung hervorzurufen, und die Tintenaufnahmeeigenschaft aufgrund der hydrophoben Eigenschaften des Films sichergestellt werden kann.
  • Gemäß der Erfindung wird ein Positiv-Flachdruckplattenvorläufer erhalten, der die direkte Plattenherstellung durch abtastende Belichtung auf Basis eines digitalen Signals von einem Computer oder dergleichen ermöglicht, eine breite Entwicklungsbreite aufweist und hervorragend in der Tintenaufnahmeeigenschaft eines Bildbereichs ist.
  • Detaillierte Beschreibung der Erfindung
  • Nachfolgend wird die Erfindung detailliert beschrieben.
  • Eine Aufzeichnungsschicht eines Positiv-Flachdruckplattenvorläufers gemäß der Erfindung ist eine aus einer positiv-fotoempfindlichen Zusammensetzung hergestellte Aufzeichnungsschicht, die das Polymer mit der speziellen Struktur, ein Oniumsalz und einen Infrarotabsorber, wie in Anspruch 1 definiert, enthält.
  • Das Polymer mit der spezifischen Struktur, dass eine kennzeichnende Komponente der fotoempfindlichen Zusammensetzung darstellt, die eine Aufzeichnungsschicht des Flachdruckplattenvorläufers gemäß der Erfindung darstellt, wird nachstehend beschrieben.
  • (Polymer mit spezifischer Struktur)
  • Das Polymer mit der spezifischen Struktur, das in einer Aufzeichnungsschicht des Positiv-Flachdruckplattenvorläufers gemäß der Erfindung verwendet wird, ist eine durch die Formel (I) unten dargestellte Polymerverbindung. Das Polymer mit der spezifischen Struktur ist ein alkalilösliches Polymer. Formel (I):
    Figure 00070001
  • In der Formel (I) stellt R1 eine Kohlenwasserstoffgruppe und R2 eine aromatische Gruppe mit einer Hydroxylgruppe als einer Substituentengruppe dar. m liegt im Bereich von 5 bis 40 Mol-%, n im Bereich von 10 bis 60 Mol-%, o im Bereich von 1 bis 10 Mol-% und p im Bereich von 5 bis 50 Mol-%.
  • In der Struktureinheit (a) stellt R1 eine Kohlenwasserstoffgruppe dar und eine geradkettige, verzweigte oder cyclische Alkylgruppe werden als bevorzugt genannt.
  • Als R1 ist eine Alkylgruppe mit 1 bis 12 Kohlenstoffatomen (vorzugsweise 3 bis 10 Kohlenstoffatomen) bevorzugt.
  • Insbesondere können eine Methylgruppe, eine Ethylgruppe, eine Propylgruppe, eine Butylgruppe, eine Pentylgruppe, eine Hexylgruppe, eine Heptylgruppe, eine Octylgruppe, eine Nonylgruppe, eine Decylgruppe, eine Undecylgruppe, eine Dodecylgruppe, eine Tridecylgruppe, eine Hexadecylgruppe, eine Octadecylgruppe, eine Eicosylgruppe, eine Isopropylgruppe, eine Isobutylgruppe, eine s-Butylgruppe, eine t-Butylgruppe, eine Isopentylgruppe, eine Neopentylgruppe, eine 1-Methylbutylgruppe, eine Isohexylgruppe, eine 2-Ethylhexylgruppe, eine 2-Methylhexylgruppe, eine Cyclohexylgruppe, eine Cyclopentylgruppe und eine 2-Norbornylgruppe genannt werden. Unter diesen ist eine Alkylgruppe mit 3 bis 10 Kohlenstoffatomen bevorzugt.
  • In der Formel (I) liegt m, das ein Copolymerisationsverhältnis der Struktureinheit (a) ist, im Bereich von 5 bis 40 Mol-%, vorzugsweise im Bereich von 10 bis 35 Mol-% und weiter bevorzugt im Bereich von 15 bis 30 Mol-%.
  • In einer durch die Formel (I) dargestellten Polymerverbindung kann die Struktureinheit (a) ausschließlich Struktureinheiten (a) mit dem gleichen R1 oder einer Vielzahl von Arten der Struktureinheit (a) mit voneinander unterschiedlichen R1 enthalten.
  • In der Struktureinheit (b) stellt R2 eine aromatische Gruppe mit einer Hydroxylgruppe als einer Substituentengruppe dar. Als ein in R2 enthaltener aromatischer Ring kann ein Benzolring, ein Naphthalinring, ein Anthracenring und dergleichen genannt werden.
  • R2, das unabdingbarerweise eine Hydroxylgruppe als eine Substituentengruppe aufweist, kann Substituentengruppen aufweisen, die von der Hydroxylgruppe verschieden sind. Als eine Substituentengruppe, die eingeführt werden kann, kann eine von Wasserstoff verschiedene monovalente, nichtmetallische Atomgruppierung verwendet werden. Bevorzugte Beispiele umfassen ein Halogenatom (-F, -Br, -Cl und -I), eine Hydroxylgruppe, eine Alkoxygruppe, eine Aryloxygruppe und dergleichen.
  • In der durch die Formel (I) dargestellten Polymerverbindung kann die Struktureinheit (b) ausschließlich Struktureinheiten (b) mit gleichen R2 oder eine Vielzahl von Arten von Struktureinheiten (b) mit voneinander verschiedenen R2 enthalten.
  • In der Formel (I) liegt n, das ein Copolymerisationsverhältnis der Struktureinheit (b) ist, im Bereich von 10 bis 60 Mol-%, vorzugsweise im Bereich von 20 bis 55 Mol-% und weiter bevorzugt im Bereich von 30 bis 50 Mol-%.
  • In der Formel (I) liegt o, das ein Copolymerisationsverhältnis der Struktureinheit (c) ist, im Bereich von 1 bis 20 Mol-%, vorzugsweise im Bereich von 2 bis 15 Mol-% und weiter bevorzugt im Bereich von 3 bis 10 Mol-%.
  • Ferner liegt in der Formel (I) p, das ein Copolymerisationsverhältnis der Struktureinheit (d) ist, im Bereich von 5 bis 50 Mol-%, vorzugsweise im Bereich von 10 bis 45 Mol-% und weiter bevorzugt im Bereich von 15 bis 40 Mol-%.
  • Eine durch die Formel (I) dargestellte Polymerverbindung kann andere Struktureinheiten als die Struktureinheiten (a), (b), (c) und (d) enthalten.
  • Unter den durch die Formel (I) dargestellten Polymerverbindungen sind durch die Formel (II) unten dargestellte Polymerverbindungen als das Polymer mit der spezifischen Struktur in der Erfindung weiter bevorzugt. Formel (II):
    Figure 00100001
  • In der Formel (II) sind die Struktureinheiten (a), (b), (c) und (d) die gleichen wie die Struktureinheiten (a), (b), (c) und (d) in der Formel (I) und die bevorzugten Bereiche sind ebenfalls gleich.
  • In der Struktureinheit (e) stellt R3 -(CH2)xCOOH, -C≡CH oder eine nachstehend gezeigte Gruppe dar. x stellt eine ganze Zahl dar, die gleich 1 oder mehr ist, und vorzugsweise eine ganze Zahl von 1 bis 12, q liegt im Bereich von 0 bis 20 Mol-%.
  • Figure 00100002
  • In der Formel stellt R4 -COOH, -(CH2)xCOOH oder -O-(CH2)xCOOH dar. X stellt eine ganze Zahl dar, die gleich 1 oder mehr ist, und vorzugsweise eine ganze Zahl von 1 bis 12.
  • In der Formel (II) liegt q, das ein Copolymerisationsverhältnis der Struktureinheit (e) ist, im Bereich von 0 bis 20 Mol-%, vorzugsweise im Bereich von 3 bis 17 Mol-% und weiter bevorzugt im Bereich von 5 bis 15 Mol-%.
  • In der Polymerverbindung, die durch die Formel (II) dargestellt wird, kann die Struktureinheit (e) ausschließlich Struktureinheiten (e) mit gleichen R3 oder eine Vielzahl von Arten von Struktureinheiten (e) mit voneinander verschiedenen R3 enthalten.
  • Der Gehalt des Polymers mit der spezifischen Struktur in der fotoempfindlichen Zusammensetzung, die eine fotoempfindliche Schicht bildet, liegt unter dem Gesichtspunkt des Bildens einer hervorragenden Aufzeichnungsschicht, vorzugsweise im Bereich von 10 bis 99 Massen-%, weiter bevorzugt im Bereich von 30 bis 95 Massen-% und noch weiter bevorzugt im Bereich von 50 bis 90 Massen-%.
  • (Andere Polymerverbindungen)
  • Unter dem Gesichtspunkt, die Leistungsfähigkeit weiter zu verbessern, kann die fotoempfindliche Zusammensetzung, die in der Erfindung verwendet wird, zusätzlich zu dem Polymer mit der spezifischen Struktur ein anderes Polymer als das Polymer mit der spezifischen Struktur enthalten.
  • Der Typ der anderen Polymerverbindung (Polymer), die zusammen mit dem Polymer mit der spezifischen Struktur verwendet werden kann, ist nicht sonderlich beschränkt und kann in geeigneter Weise in Übereinstimmung mit der Zielsetzung ausgewählt werden. Im allgemeinen wird unter dem Gesichtspunkt, die Positiv-Fotoempfindlichkeit nicht zu beschädigen, ein alkalilösliches Polymer verwendet.
  • Als bevorzugte alkalilösliche Harze, die zusammen mit dem Polymer mit der spezifischen Struktur verwendet werden können, können solche mit einer nachstehend unter (1) bis (6) genannten sauren Gruppe an einer Hauptkette und/oder einer Seitenkette eines Polymers genannt werden.
    • (1) Phenol (-Ar-OH),
    • (2) Sulfonamid (-SO2NH-R),
    • (3) substituierte Säuregruppe auf Sulfonamido-Basis (nachfolgend als aktive Imidogruppe bezeichnet) [-SO2NHCOR, -SO2NHSO2R, -CONHSO2R]
    • (4) Carbonsäuregruppe (-CO2H),
    • (5) Sulfonsäuregruppe (-SO3H), und
    • (6) Phosphorsäuregruppe (-OPO3H2)
  • In den oben genannten Gruppen (1) bis (6) stellt Ar eine divalente Aryl-Bindungsgruppe dar und R stellt ein Wasserstoff oder eine Kohlenwasserstoffgruppe dar.
  • Unter den alkalilöslichen Harzen, umfassend die aus den oben genannten (1) bis (6) ausgewählte saure Gruppe ist ein alkalilösliches Harz, umfassend (1) Phenol, (2) Sulfonamid oder (3) eine aktive Imidogruppe bevorzugt und ein alkalilösliches Harz, umfassend (1) Phenol oder (2) Sulfonamid, ist weiter bevorzugt im Hinblick auf das Sicherstellen einer ausreichenden Löslichkeit in einem alkalischen Entwickler, einer Entwicklungsbreite und Filmstärke. Ein alkalilösliches Harz, umfassend (1) Phenol an einer Hauptkette und/oder einer Seitenkette eines Polymers ist am meisten bevorzugt.
    • (1) Beispiele des alkalilöslichen Harzes, umfassend eine Phenolgruppe, können einschließen: Novolakharz wie etwa Kondensationspolymere aus Phenol und Formaldehyd, Kondensationspolymere aus m-Kresol und Formaldehyd, Kondensationspolymere aus p-Kresol und Formaldehyd, Kondensationspolymere aus gemischtem m-/p-Kresol und Formaldehyd und Kondensationspolymere aus Phenol, Kresol (m-, p- oder m-/p-Mischung) und Formaldehyd und Kondensations-Copolymere aus Pyrogallol und Aceton. Ferner können als Beispiele Copolymere, die durch Copolymerisieren von Verbindungen, umfassend Phenylgruppen in den Seitenketten erhalten werden, genannt werden.
  • Unter diesen wird unter dem Gesichtspunkt, eine relativ hohe Wechselwirkung mit dem Polymer mit der spezifischen Struktur und eine relativ hohe Diskriminierung des Polymers selbst erzeugen zu können, ein Novolakharz bevorzugt. Ein Novolakharz ist in der fotoempfindlichen Schicht enthalten.
  • Als das Novolakharz kann beispielsweise ein Phenol-Formaldehyd-Harz, ein m-Kresol-Formaldehyd-Harz, ein p-Kresol-Formaldehyd-Harz, ein m-/p-Kresol-Mischung-Formaldehyd-Harz oder ein Phenol/Kresol-Mischung-Formaldehyd-Harz (eine beliebige von m-, p-, o-, m-/p-Mischung, m-/o-Mischung und o-/p-Mischung kann verwendet werden) genannt werden. Diese können entweder einzeln oder in Kombination von wenigstens zwei Arten verwendet werden.
  • Als die vorzugsweise zusammen verwendeten Novolakharze werden solche mit einem gewichtsmittleren Molekulargewicht von 1.500 oder mehr und einem zahlenmittlere Molekulargewicht von 300 oder mehr bevorzugt. Weiter bevorzugt liegt das gewichtsmittlere Molekulargewicht im Bereich von 3.000 bis 300.000, das zahlenmittlere Molekulargewicht im Bereich von 500 bis 250.000 und der Dispersionsgrad (gewichtsmittleres Molekulargewicht/zahlenmittleres Molekulargewicht) liegt im Bereich von 1,1 bis 10.
  • Ferner können als die anderen Verbindungen mit einer Phenolgruppe Acrylamid, Methacrylamid, Acrylsäureester, Methacrylsäureester oder Hydroxystyrol, die jeweils eine Phenolgruppe aufweisen, genannt werden.
    • (1) Bevorzugte alkalilösliche Harze, die andere als die alkalilöslichen Harze mit einer phenolischen Hydroxylgruppe sind, werden beschrieben.
    • (2) Als die alkalilöslichen Harze mit einer Sulfonamidgruppe können beispielsweise Polymere genannt werden, die aus einer Minimum-Bestandteileinheit als einer Hauptkomponente, die von einer Verbindung mit einer Sulfonamidgruppe abgeleitet ist, aufgebaut sind. Beispiele einer solchen Verbindung umfassen eine Verbindung, die in einem Molekül wenigstens eine Sulfonamidgruppe, in der wenigstens ein Wasserstoffatom an ein Stickstoffatom gebunden ist, und wenigstens eine polymerisierbare ungesättigte Gruppe aufweisen. Unter diesen können in der Erfindung insbesondere m-Aminosulfonylphenylmethacrylat, N-(p-Aminosulfonylphenyl)methacrylamid, N-(p-Aminosulfonylphenyl)acrylamid oder dergleichen bevorzugt verwendet werden.
    • (3) Beispiele des in wässriger Alkalilösung löslichen Harzes mit einer aktivierten Imidogruppe sind Polymere, die Minimum-Monomereinheiten umfassen, die von Verbindungen mit einer aktivierten Iminogruppe als Hauptbestandteile abgeleitet sind. Beispiele solcher Verbindungen sind Verbindungen, die aktivierte Imidogruppen und polymerisierbare ungesättigte Gruppen aufweisen, von denen wenigstens jeweils eine in einem Molekül durch die folgende Strukturformel definiert wird.
  • Figure 00140001
  • In der Praxis werden N-(p-Toluolsulfonyl)methacrylamid und N-(p-Toluolsulfonyl)acrylamid besonders bevorzugt verwendet.
  • Im Hinblick auf die Minimumbestandteileinheit, aus der ein alkalilösliches Harz, das in einer in der Erfindung verwendeten Aufzeichnungsschicht verwendet wird und eine saure Gruppe aufweist, die aus (1) bis (6) ausgewählt ist, aufgebaut ist, besteht keine Notwendigkeit, nur eine Art der Minimumbestandteileinheit zu verwenden, sondern es können wenigstens zwei Arten der Minimumbestandteileinheiten mit der gleichen sauren Gruppe copolymerisiert werden oder es können auch zwei Arten der Minimumbestandteileinheiten mit unterschiedlichen sauren Gruppen copolymerisiert werden.
  • In dem Copolymer ist der Gehalt der Verbindung, die darin copolymerisiert wird und eine aus (1) bis (6) ausgewählte saure Gruppe aufweist, vorzugsweise 10 Mol-% oder mehr und weiter bevorzugt 20 Mol-% oder mehr. Wenn der Gehalt weniger als 10 Mol-% beträgt, neigt der Breitenverbesserungseffekt durch dessen Zusatz dazu, unzureichend zu sein.
  • Als die alkalilöslichen Harze ist ein Homopolymer oder ein Copolymer eines polymerisierenden Monomers mit einer phenolischen Hydroxylgruppe oder eines polymerisierenden Monomers mit einer aktiven Imidogruppe bevorzugt. Insbesondere ist ein Homopolymer oder ein Copolymer aus polymerisierenden Monomeren mit einer Sulfonamidgruppe wie etwa m-Aminosulfonylphenylmethacrylat, N-(p-Aminosulfonylphenyl)methacrylamid, N-(p-Aminosulfonylphenyl)acrylamid oder dergleichen bevorzugt.
  • Das gewichtsmittlere Molekulargewicht des alkalilöslichen Harzes beträgt vorzugsweise 2.000 oder mehr und das zahlenmittlere Molekulargewicht beträgt vorzugsweise 500 oder mehr. Weiter bevorzugt liegt das gewichtsmittlere Molekulargewicht im Bereich von 5.000 bis 300.000, das zahlenmittlere Molekulargewicht im Bereich von 800 bis 250.000 und der Dispersionsgrad (gewichtsmittleres Molekulargewicht/zahlenmittleres Molekulargewicht) liegt im Bereich von 1,1 bis 10.
  • Wenn das alkalilösliche Harz in der Erfindung ein Harz wie etwa ein Phenol-Formaldehyd-Harz, ein Kresol-Aldehyd-Harz oder dergleichen ist, ist es ferner bevorzugt, dass das gewichtsmittlere Molekulargewicht im Bereich von 500 bis 20.000 und das zahlenmittlere Molekulargewicht im Bereich von 200 bis 10.000 liegt.
  • Die alkalilöslichen Harze können entweder einzeln oder in Kombination von wenigstens zwei Arten verwendet werden. Das alkalilösliche Harz wird bezogen auf das Polymer mit der spezifischen Struktur vorzugsweise in einem Bereich von 1 bis 50 Massen-% und weiter bevorzugt in einem Bereich von 5 bis 30 Massen-% zu der fotoempfindlichen Zusammensetzung zugegeben. Ferner ist unter dem Gesichtspunkt der Haltbarkeit eines Films und der Empfindlichkeit dessen Gehalt in der Aufzeichnungsschicht im Hinblick auf den Gesamtfeststoffgehalt im Bereich von 1 bis 30 Gew.-%, vorzugsweise im Bereich von 3 bis 25 Gew.-% und besonders bevorzugt im Bereich von 5 bis 20 Massen-%.
  • [Oniumsalz]
  • Eine Aufzeichnungsschicht eines Flachdruckplattenvorläufers gemäß der Erfindung enthält notwendigerweise ein Oniumsalz. Die in der Erfindung verwendeten Oniumsalze sind Verbindungen, die durch die untenstehende Formel (A) dargestellt werden. M+X– Formel (A)
  • In der Formel (A) stellt M+ ein Kation dar, das aus Sulfonium und Iodonium ausgewählt ist, das eine Substituentengruppe aufweisen kann. X– stellt ein willkürlich gewähltes Gegenanion dar und ein organisches Säureanion ist bevorzugt.
  • In der Erfindung fungiert das Oniumsalz, wenn es mit einer Polymerverbindung gemischt ist, die wasserunlöslich und alkalilöslich ist, als ein Auflösungsinhibitor, der die Löslichkeit der Polymerverbindung in Wasser oder einem alkalischen Entwickler vermindert.
  • Nachfolgend werden beispielhaft spezielle Beispiele der durch die Formel (A) dargestellten Oniumsalzverbindungen genannt. Jedoch ist die Erfindung nicht auf diese beschränkt und es kann daher, soweit der Umfang der Oniumsalzverbindung innerhalb des durch die Formel (A) dargestellten Bereichs liegt, jede beliebige Verbindung ausgewählt werden.
    • *kennzeichnet Oniumsalze, die lediglich als Referenzen verwendet werden.
  • Figure 00170001
  • Figure 00180001
  • Figure 00190001
  • Figure 00200001
  • Figure 00210001
  • Figure 00220001
  • Figure 00230001
  • Figure 00240001
  • Figure 00250001
  • Diese Oniumsalze können einzeln oder in Kombination von wenigstens zwei Arten verwendet werden. Ferner ist es unter dem Gesichtspunkt des Verbesserns der Empfindlichkeit und Erweiterns der Entwicklungsbreite, bezogen auf den Gesamtfeststoffgehalt der Aufzeichnungsschicht vorzugsweise in einem Bereich von 0,1 bis 30 Massen-% und weiter bevorzugt in einem Bereich von 1 bis 20 Massen-% enthalten.
  • (Infrarotabsorber)
  • Ein in der Erfindung verwendeter Infrarotabsorber stellt eine Substanz dar, die eine Lichtabsorptionszone in einer Infrarotzone von 700 nm oder mehr, vorzugsweise im Bereich von 750 bis 1200 nm aufweist und durch Einwirkung von Licht mit einer Wellenlänge in dem vorgenannten Bereich zu einer fotothermischen Umwandlung in der Lage ist. Insbesondere können verschiedene Arten von Farbstoffen oder Pigmenten verwendet werden, die Licht in dem vorgenannten Wellenlängenbereich absorbieren und Wärme erzeugen.
  • Als ein Farbstoff können handelsübliche Farbstoffe und die bekannten Farbstoffe, die in Publikationen wie etwa "Dye Handbook" (herausgegeben von The Society of Synthetic Organic Chemistry, Japan, veröffentlicht 1970) können verwendet werden. Beispiele umfassen Farbstoffe wie etwa Azofarbstoffe, Metallsalzkomplex-Azofarbstoffe, Pyrazolon-Azofarbstoffe, Naphthochinon-Farbstoffe, Anthrachinon-Farbstoffe, Phthalocyanin-Farbstoffe, Carbonium-Farbstoffe, Chinonimin-Farbstoffe, Methin-Farbstoffe, Cyan-Farbstoffe, Squaryliumpigmente, Pyriliumsalze, Metallthiolatkomplexe, Oxomol-Farbstoffe, Diimonium-Farbstoffe, Aminium-Farbstoffe und Croconium-Farbstoffe.
  • Unter diesen Farbstoffe sind Cyanin-Farbstoffe, Phthalocyanin-Farbstoffe, Oxonol-Farbstoffe, Squarylium-Farbstoffe, Pyryliumsalze, Thiopyrylium-Farbstoffe und Nickelthiolatkomplexe besonders bevorzugt. Cyanin-Farbstoffe, die durch die folgende allgemeine Formel (a) dargestellt werden, werden ebenfalls bevorzugt, da solche Farbstoffe im Hinblick auf die fotothermische Umwandlungseffizienz hervorragend sind. Die durch die folgende allgemeine Formel (a) dargestellten Farbstoffe sind aus dem folgenden Grund am meisten bevorzugt: wenn die Farbstoffe in der Aufzeichnungsschicht des Flachdruckplattenvorläufers der Erfindung verwendet werden, zeigen die Farbstoffe ein hohes Maß an Wechselwirkung mit dem alkalilöslichen Harz und die Farbstoffe sind ebenfalls im Hinblick auf Stabilität und Wirtschaftlichkeit hervorragend. Allgemeine Formel (a)
    Figure 00270001
  • In der allgemeinen Formel (a) stellt X1 ein Wasserstoffatom, ein Halogenatom, -NPh2, X2-L1 (wobei X2 ein Sauerstoffatom oder ein Schwefelatom darstellt, L1 eine Kohlenwasserstoffgruppe mit 1 bis 12 Kohlenstoffatomen, eine aromatische cyclische Gruppe mit einem Heteroatom oder eine Kohlenwasserstoffgruppe mit einem Heteroatom und 1 bis 12 Kohlenstoffatomen darstellt und das hier genannte Heteroatom N, S, O, ein Halogenatom oder Se ist) oder eine durch die folgende Formel dargestellte Gruppe darstellt:
    Figure 00270002
    wobei Xa– die gleiche Definition wie Za– hat, die später beschrieben wird, und Ra einen Substituenten darstellt, der ausgewählt ist aus einem Wasserstoffatom, einer Alkylgruppe, einer Arylgruppe, einer substituierten oder unsubstituierten Aminogruppe oder einem Halogenatom,
    R1 und R2 jeweils unabhängig voneinander eine Kohlenwasserstoffgruppe mit 1 bis 12 Kohlenstoffatomen darstellen und unter dem Gesichtspunkt der Lagerstabilität der fotoempfindlichen Zusammensetzung der Erfindung ist es bevorzugt, dass R1 und R2 jeweils unabhängig voneinander eine Kohlenwasserstoffgruppe mit 2 oder mehr Kohlenstoffatomen darstellen, und weiter bevorzugt, dass R1 und R2 aneinander unter Bilden eines 5-gliedrigen oder 6-gliedrigen Rings gebunden sind, wenn sie in einer Beschichtungslösung zum Bilden einer Aufzeichnungsschicht des Flachdruckplattenvorläufers verwendet wird.
  • Ar1 und Ar2, die gleich oder verschieden voneinander sein können, stellen jeweils eine aromatische Kohlenwasserstoffgruppe dar, die einen Substituenten aufweisen kann. Bevorzugte Beispiele der aromatischen Kohlenwasserstoffgruppe umfassen Benzol- und Naphthalinringe. Bevorzugte Beispiele des Substituenten umfassen Kohlenwasserstoffgruppen mit 12 oder weniger Kohlenstoffatomen, Halogenatome und Alkoxygruppen mit 12 oder weniger Kohlenstoffatomen.
  • Y1 und Y2, die gleich oder voneinander verschieden sein können, stellen jeweils ein Schwefelatom oder eine Dialkylmethylengruppe mit 12 oder weniger Kohlenstoffatomen dar.
  • R3 und R4, die gleich oder voneinander verschieden sein können, stellen jeweils eine Kohlenwasserstoffgruppe dar, die 20 oder weniger Kohlenstoffatome aufweist und einen Substituenten aufweisen kann. Bevorzugte Beispiele des Substituenten umfassen Alkoxygruppen mit 12 oder weniger Kohlenstoffatomen, eine Carboxylgruppe und eine Sulfogruppe. R5, R6, R7 und R8, die gleich oder voneinander verschieden sein können, stellen jeweils ein Wasserstoffatom oder eine Kohlenwasserstoffgruppe mit 12 oder weniger Kohlenstoffatomen dar, und, da die Ausgangsmaterialien dafür leicht erhältlich sind, stellen sie jeweils vorzugsweise ein Wasserstoffatom dar.
  • Za– stellt ein Gegenanion dar. In einem Fall, in dem der durch die allgemeine Formel (a) dargestellte Cyaninfarbstoff einen anionischen Substituenten in der Struktur aufweist und dementsprechend keine Notwendigkeit besteht, elektrische Ladungen von dem Farbstoff zu neutralisieren, wird Za– jedoch nicht benötigt. Unter dem Gesichtspunkt der Lagerstabilität der Aufzeichnungsschicht-Beschichtungslösung ist Za– vorzugsweise ein Ion eines Halogens, Perchlorats, Tetrafluorborat, Hexafluorphosphat, Carboxylat oder Sulfonat. Unter dem Gesichtspunkt der Verträglichkeit des Farbstoffs mit dem alkalilöslichen Harz und der Löslichkeit in der Beschichtungslösung ist Za– vorzugsweise ein Halogenion oder ein organisches Säureion, wie etwa ein Carbonsäureion oder Sulfonsäureion, weiter bevorzugt ein Sulfonsäureion und noch weiter bevorzugt ein Arylsulfonsäureion.
  • Spezielle Beispiele des durch die allgemeine Formel (a) dargestellten Cyaninfarbstoffs, die vorzugsweise in der Erfindung verwendet werden können, umfassen in JP-A 2001-133969 (Absätze [0017] bis [0019]), JP-A 2002-40638 (Absätze [0012] bis [0038]) und JP-A 2002-23360 (Absätze [0012] bis [0023]) aufgeführte Farbstoffe ebenso wie die nachstehend aufgeführten Farbstoffe.
  • Figure 00290001
  • Figure 00300001
  • Figure 00310001
  • Als weitere bevorzugte Farbstoffe können beispielsweise die in der japanischen Offenlegungsschrift (JP-A) 58-125246 , 59-84356 , 59-202829 und 60-78787 beschriebenen Cyaninfarbstoffe, die in JP-A 58-173696 , 58-181690 und 58-194595 beschriebenen Methinfarbstoffe, die in JP-A 58-112793 , 58-224793 , 59-48187 , 59-73996 , 60-52940 und 60-63744 beschriebenen Naphthochinon-Farbstoffe, die in JP-A 58-112792 beschriebenen Squarylium-Farbstoffe und die in dem UK-Patent 434,875 beschriebenen Cyaninfarbstoffe genannt werden.
  • Ferner können bevorzugt die im nahen Infrarot absorbierenden Sensibilisatoren verwendet werden, die in US 5,156,938 beschrieben werden. Ebenfalls können ferner die in US 3,881,924 beschriebenen Arylbenzo(thio)pyriliumsalze, die in JP-A 57-142645 ( US 4,327,169 ) beschriebenen Trimethinthiapyriliumsalze, die in JP-A 58-181051 , 58-220143 , 59-41363 , 59-84248 , 59-84249 , 59-146063 und 59-146061 beschriebenen Pyriliumbasenverbindungen, die in JP-A 59-21646 beschriebenen Cyaninfarbstoffe, die in US 4,283,475 beschriebenen Pentamethinthiopyriliumsalze und die in der japanischen Offenlegungsschrift (JP-B) 5-13514 und 5-19702 beschriebenen Pyriliumverbindungen vorzugsweise verwendet werden.
  • Ferner können als weitere Beispiele bevorzugter Farbstoffe, die als Formeln (I) und (II) in der Beschreibung von US 4,756,993 beschriebenen Infrarot absorbierenden Farbstoffe genannt werden.
  • Das als der Infrarotabsorber in der Erfindung verwendete Pigment kann ein handelsübliches Pigment oder ein Pigment sein, das in Veröffentlichungen, wie etwa Color Index (C. I.) Handbook, "Latest Pigment Handbook" (herausgegeben von Japan Pigment Technique Association, veröffentlicht 1977), "Latest Pigment Applied Technique" (von CMC Publishing Co., Ltd., 1986) und "Printing Ink Technique" (von CMC Publishing Co., Ltd. 1984).
  • Beispiele für das Pigment, umfassend schwarze Pigmente, gelbe Pigmente, orange Pigmente, braune Pigmente, rote Pigmente, purpurne Pigmente, blaue Pigmente, grüne Pigmente, fluoreszierende Pigmente, Metallpulverpigmente und Polymergebundene Farbstoffe. Insbesondere können die folgenden verwendet werden: unlösliche Azopigmente, Azobeizenpigmente, kondensierte Azopigmente, Chelat-Azopigmente, Phthalocyaninpigmente, Anthrachinonpigmente, Perylen- und Perynonpigmente, Thioindigopigmente, Chinacridonpigmente, Dioxazinpigmente, Isoindolinonpigmente, Chinophthalonpigmente, färbende Beizpigmente, Azinpigmente, Nitrosopigmente, Nitropigmente, natürliche Pigmente, fluoreszierende Pigmente, anorganische Pigmente und Ruß.
  • Die Teilchengröße des Pigments beträgt vorzugsweise von 0,01 bis 10 μm und im Hinblick auf die Stabilität der in einer Beschichtungslösung dispergierten Pigmente und eine gleichmäßige Verteilung der Pigmente in der Aufzeichnungsschicht weiter bevorzugt 0,05 bis 1 μm und noch weiter bevorzugt 0,1 bis 1 μm.
  • Das Verfahren zum Dispergieren des Pigments kann eine bekannte Dispersionstechnik sein, die zum Herstellen von Tinte oder Toner verwendet wird. Beispiele einer Dispersionsvorrichtung, die verwendet werden kann, umfassen einen Ultraschalldisperser, eine Sandmühle, einen Attritor, eine Perlmühle, eine Supermühle, eine Kugelmühle, einen Impeller, einen Disperser, eine KD-Mühle, eine Kolloidmühle, einen Dynatron, eine Dreiwalzenmühle und einen Presskneter. Details werden in "Latest Pigment Applied Technique" (von CMC Publishing Co., Ltd., 1986) beschrieben.
  • Die Pigmente oder Farbstoffe werden unter dem Gesichtspunkt der Empfindlichkeit und der Gleichförmigkeit und Dauerhaftigkeit der Aufzeichnungsschicht, bezogen auf den Gesamtfeststoffgehalt, der eine Oberschicht der Aufzeichnungsschicht bildet, in einem Bereich von 0,01 bis 50 Massen-% und vorzugsweise im Bereich von 0,1 bis 10 Massen-% zugesetzt. Insbesondere ist ein Farbstoff vorzugsweise in einem Verhältnis im Bereich von 0,5 bis 10 Massen-% enthalten und ein Pigment, vorzugsweise im Bereich von 0,1 bis 10 Massen-% enthalten.
  • (Andere Inhaltsstoffe)
  • Zu der in der Erfindung verwendeten Aufzeichnungsschicht können ferner verschiedene Arten von Additiven, je nach Notwendigkeit, zugesetzt werden.
  • Beispielsweise, um die Löslichkeit zu steuern, können sogenannte Auflösungsinhibitoren, wie etwa eine aromatische Sulfonverbindung, eine aromatische Sulfonsäureesterverbindung und eine polyfunktionelle Aminverbindung, die die auflösungsinhibierende Funktion eines in einer wässrigen alkalischen Lösung löslichen Polymers (alkalilösliches Harz) gegenüber einem Entwickler verbessern, wenn sie zugesetzt werden, vorzugsweise zugesetzt werden. Von diesen kann unter dem Gesichtspunkt des Verbessern der auflösungsinhibierenden Eigenschaft eines Bildbereichs gegenüber dem Entwickler eine Substanz, wie etwa eine o-Chinondiazidoverbindung oder ein Sulfonsäurealkylester, der pyrolisierbar ist und in einem Zustand, in dem er nicht zersetzt ist, die Löslichkeit des alkalilöslichen Harzes wesentlich vermindern kann, vorzugsweise gemeinsam verwendet werden.
  • Das Chinondiazid ist vorzugsweise eine o-Chinondiazidverbindung. Die o-Chinondiazidverbindung, die in der Erfindung verwendet wird, ist eine Verbindung mit wenigstens einer o-Chinondiazidgruppe und weist eine durch thermische Zersetzung erhöhte Alkalilöslichkeit auf. Die Verbindung kann eine beliebige aus Verbindungen mit unterschiedlichen Strukturen sein.
  • Mit anderen Worten unterstützt die o-Chinondiazidverbindung die Löslichkeit des fotoempfindlichen Materials sowohl unter dem Gesichtspunkt der Wirkungen der thermischen Zersetzung und der damit verlorengehenden Funktion, die Auflösung des Bindemittels zu unterdrücken, als auch unter dem Gesichtspunkt des Effekts, dass das o-Chinondiazid selbst in ein alkalilösliches Material umgewandelt wird.
  • Bevorzugte Beispiele der o-Chinondiazidverbindungen, die in der Erfindung verwendet werden, umfassen Verbindungen, die in J. Coser, "Light-Sensitive Systems" (John Wiley & Sons. Inc.), Seiten 339–352, beschrieben werden. Besonders bevorzugt sind Sulfonsäureester oder Sulfonamide von o-Chinondiazid, die mit unterschiedlichen aromatischen Polyhydroxyverbindungen oder mit aromatischen Aminoverbindungen zur Reaktion gebracht worden sind.
  • Ferner bevorzugte Beispiele umfassen einen Ester, der aus Benzochinon-(1,2)-diazidsulfonsäurechlorid oder Naphthochinon-(1,2)-diazid-5-sulfonsäurechlorid und Pyrogallol-Acetonharz, wie in JP-B 43-28403 beschrieben, hergestellt wurde, und einen Ester, der aus Benzochinon-(1,2)-diazidsulfonsäurechlorid oder Naphthochinon-(1,2)-diazid-5-sulfonsäurechlorid und Phenol-Formaldehydharz, wie in US 3,046,120 und US 3,188,210 beschrieben, hergestellt wurde.
  • Die als ein Inhibitor der Auflösung auf Basis von Zersetzung zuzusetzende Menge der o-Chinondiazidverbindung liegt vorzugsweise in einem Bereich von 1 bis 10 Massen-%, weiter bevorzugt in einem Bereich von 1 bis 5 Massen-% und besonders bevorzugt in einem Bereich von 1 bis 2 Massen-%, bezogen auf den Gesamtfeststoffgehalt jeder Aufzeichnungsschicht. Diese Verbindung kann als eine Mischung mehrerer Arten verwendet werden, obwohl jede einzeln verwendet werden kann.
  • Die Menge der von der o-Chinondiazidverbindung unterschiedlichen Additive liegt vorzugsweise im Bereich von 0,1 bis 5 Massen-%, weiter bevorzugt 0,1 bis 2 Massen-% und besonders bevorzugt im Bereich von 0,1 bis 1,5 Massen-%. Die in der Erfindung verwendeten Additive und Bindemittel werden vorzugsweise in der gleichen Schicht formuliert.
  • Ferner kann ein Auflösungsinhibitor, der nicht die gleichen Zersetzungseigenschaften zeigt, gemeinsam verwendet werden. Bevorzugte Auflösungsinhibitoren können ein Sulfonsäureester, ein Phosphorsäureester, ein aromatischer Carbonsäureester, ein aromatisches Disulfon, ein Carbonsäureanhydrid, ein aromatisches Keton, ein aromatischer Aldehyd, ein aromatisches Amin und ein aromatischer Ether, wie in JP-A 10-268512 beschreiben, ein säurefärbender Farbstoff mit einer Lactonstruktur, einer N,N-Diarylamidstruktur oder einer Diarylmethyliminostruktur, der ebenfalls als färbendes Mittel fungiert und in JP-A 11-190903 beschrieben wird, und ein nichtionisches Tensid, das in JP-A 2000-105454 beschrieben wird, genannt werden.
  • Ferner können als Additive, die in der Aufzeichnungsschicht, die in der Erfindung verwendet wird, verwendet werden, cyclische Säureanhydride, Phenole und organische Säuren, die zugesetzt werden, um die Empfindlichkeit zu verbessern, genannt werden. Ferner können ein Tensid, ein bildfärbendes Mittel und ein Weichmacher, der später beschrieben wird, zu der Aufzeichnungsschicht, die in der Erfindung verwendet wird, zugesetzt werden.
  • Das Verhältnis des cyclischen Säureanhydrids, der Phenole und organischen Säuren in der Aufzeichnungsschicht liegt vorzugsweise im Bereich von 0,05 bis 20 Massen mehr bevorzugt im Bereich von 0,1 bis 15 Massen-% und am meisten bevorzugt im Bereich von 0,1 bis 10 Massen-%.
  • Ferner können in geeigneter Weise zusätzlich zu den oben beschriebenen Verbindungen eine Epoxyverbindung, Vinylether und ferner eine in JP-A 8-276558 beschriebene Phenolverbindung, die eine Hydroxymethylgruppe aufweist, eine Phenolverbindung mit einer Alkoxymethylgruppe und eine vernetzbare Verbindung mit einer Alkali-Auflösunginhibierenden Eigenschaft, die in JP-A 11-160860 beschrieben wird und früher von den Erfindern vorgeschlagen wurde, zielgemäß zugesetzt werden.
  • In der Bildaufzeichnungsschicht des Flachdruckplattenvorläufers der Erfindung kann das folgende zugesetzt werden, um die Stabilität in Verfahren, welche die Entwicklungsbedingungen beeinflussen, zu verbessern:
    nichtionische Tenside, wie in JP-A 62-251740 und 3-208514 beschrieben, amphotere Tenside, wie in JP-A 59-121044 und 4-13149 beschrieben, Siloxanverbindungen, wie in EP 950517 beschrieben und aus einem fluorhaltigen Monomer hergestellte Copolymere, wie in JP-A 11-288093 beschrieben.
  • Der Gehalt an nichtionischem Tensid und/oder dem anionischen Tensid in der fotoempfindlichen Zusammensetzung beträgt vorzugsweise 0,05 bis 15 Massen-% und mehr bevorzugt 0,1 bis 5 Massen-%.
  • Zu der fotoempfindlichen Zusammensetzung der Erfindung kann ein Druckhilfsmittel zugesetzt werden, um ein sichtbares Bild zu erhalten, unmittelbar nachdem die fotoempfindliche Zusammensetzung der Erfindung durch Belichtung erwärmt worden ist, oder ein Farbstoff oder Pigment als ein bildfärbendes Mittel.
  • Ein typisches Beispiel eines Druckhilfsmittels ist eine Kombination einer Verbindung, die durch Belichtung erwärmt wird, wodurch eine Säure freigesetzt wird (ein auf optischem Wege Säure erzeugendes Mittel), und ein organischer Farbstoff, der Salze bilden kann (salzbildender organischer Farbstoff).
  • Konkrete Beispiele dafür umfassen Kombinationen eines o-Naphthochinondiazid-4-sulfonsäurehalogenids mit einem salzbildenden organischen Farbstoff, wie in JP-A 50-36209 und 53-8128 beschrieben und Kombinationen einer Trihalomethylverbindung mit einem salzbildenden organischen Farbstoff, wie jeweils in JP-A 53-36223 , 54-74728 , 60-3626 , 61-143748 , 61-151644 und 63-58440 beschrieben.
  • Die Trihalomethylverbindung wird in eine Oxazolverbindung oder eine Triazinverbindung klassifiziert. Beide Verbindungen zeigen hervorragende Stabilität über die Zeit und ergeben ein lebhaftes Druckbild.
  • Als das bildfärbende Mittel kann ein von dem obengenannten salzbildenden organischen Farbstoff verschiedener Farbstoff verwendet werden. Bevorzugte Beispiele eines solchen Farbstoffs (und des oben genannten salzbildenden organischen Farbstoffs) umfassen öllösliche Farbstoffe und basische Farbstoffe.
  • Konkrete Beispiele umfassen Ölgelb #101, Ölgelb #103, Ölpink #312, Ölgrün BG, Ölblau BOS, Ölblau #603, Ölschwarz BY, Ölschwarz BS und Ölschwarz T-505 (die jeweils von Orient Chemical Industries Ltd. hergestellt werden); Victoria-Reinblau, Kristall-Violett (CI42555), Methyl-Violett (CI42535), Ethyl-Violett, Rhodamin B (CI145170B), Malachit-Grün (CI42000) und Methylenblau (CI52015).
  • Die in JP-A 62-293247 beschriebenen Farbstoffe werden besonders bevorzugt. Diese Farbstoffe können zu der fotoempfindlichen Zusammensetzung in einem Verhältnis von 0,01 bis 10 Massen-% und vorzugsweise 0,1 bis 3 Massen-%, bezogen auf den Gesamtfeststoffgehalt zugesetzt werden.
  • Falls nötig, kann ein Weichmacher zu der fotoempfindlichen Zusammensetzung, die die Aufzeichnungsschicht der Erfindung bildet, zugesetzt werden, um einem aus der Zusammensetzung hergestellten Beschichtungsfilm Flexibilität zu geben. Beispiele des Weichmachers umfassen Oligomere und Polymere von Butylphthalyl, Polyethylenglycol, Tributylcitrat, Diethylphthalat, Dibutylphthalat, Dihexylphthalat, Dioctylphthalat, Trikresylphosphat, Tributylphosphat, Trioctylphosphat, Tetrahydrofurfuryloleat und Acrylsäure und Methacrylsäure.
  • (Flachdruckplattenvorläufer]
  • Nachfolgend werden bevorzugte Aspekte eines Flachdruckplattenvorläufers gemäß der Erfindung mit der zuvor beschriebenen Aufzeichnungsschicht beschrieben.
  • [Schichtenzusammenstellung]
  • Die Schichtenzusammenstellung einer Aufzeichnungsschicht in einem Flachdruckplattenvorläufer gemäß der Erfindung ist optional und kann eine beliebige einer Einschichtenstruktur, einer Phasentrennungsstruktur und einer Mehrschichtstruktur annehmen. Jedoch werden eine Einschichtstruktur und eine Phasentrennungsstruktur besonders bevorzugt.
  • Wenn die Aufzeichnungsschicht die Phasentrennungsstruktur annimmt, kann die fotoempfindliche Zusammensetzung der Erfindung entweder in einer Matrix (Phase des dispergierenden Mediums) und in einer Dispersionsphase der Phasentrennungsstruktur verwendet werden.
  • (Bilden der Aufzeichnungsschicht]
  • In dem Flachdruckplattenvorläufer gemäß der Erfindung wird die fotoempfindliche Zusammensetzung in einem Lösungsmittel aufgelöst, auf ein geeignetes Substrat beschichtet und getrocknet, um eine Aufzeichnungsschicht zu bilden.
  • Beispiele des für die Beschichtungslösung zu verwendenden Lösungsmittels umfassen Ethylendichlorid, Cyclohexanon, Methylethylketon, Methanol, Ethanol, Propanol, Ethylenglycolmonomethylether, 1-Methoxy-2-propanol, 2-Methoxyethylacetat, 1-Methoxy-2-propylacetat, Dimethoxyethan, Methyllactat, Ethyllactat, N,N-Dimethylacetamid, N,N-Dimethylformamid, Tetramethylharnstoff, N-Methylpyrrolidon, Dimethylsulfoxid, Sulflan, γ-Butyrolacton, Toluol und dergleichen, ohne auf diese Beispiele beschränkt zu sein. Diese Lösungsmittel werden einzeln oder in Form von Mischungen verwendet. Die Konzentration der oben genannten Bestandteile (als Gesamtfeststoff einschließlich Additiven) in dem Lösungsmittel beträgt vorzugsweise 1 bis 50 Massen-%.
  • Die Beschichtungsmenge (Feststoffgehalt) der Aufzeichnungsschicht auf dem Substrat, die nach Beschichten und Trocknen erhalten wird, liegt im allgemeinen vorzugsweise im Bereich von 0,5 bis 5,0 g/m2 für eine Einschichtenstruktur, wenngleich die Beschichtungsmenge in Abhängigkeit von der Anwendung variiert. Als Grundschicht in der Mehrschichtstruktur sind 0,1 bis 5,0 g/m2 bevorzugt und 0,2 bis 3,0 g/m2 mehr bevorzugt. Als Deckschicht (die obere Schicht) wird eine Menge im Bereich von 0,01 bis 5,0 g/m2 bevorzugt und eine Menge im Bereich von 0,05 bis 2,0 g/m2 mehr bevorzugt. Wenn die Beschichtungsmenge kleiner ist, können die Filmeigenschaften der Aufzeichnungsschicht verschlechtert werden, obwohl die scheinbare Empfindlichkeit dementsprechend größer wird.
  • Als ein Beschichtungsverfahren für die Aufzeichnungsschicht-Beschichtungslösung können verschiedene Verfahren verwendet werden. Beispielsweise können ein Stabbeschichtungsverfahren, ein Rotationsbeschichtungsverfahren, ein Sprühbeschichtungsverfahren, ein Florstreichbeschichtungsverfahren, ein Tauchbeschichtungsverfahren, ein Luftrakelbeschichtungsverfahren, ein Rakelbeschichtungsverfahren und ein Walzenbeschichtungsverfahren genannt werden.
  • Wenn eine Aufzeichnungsschicht in einer Mehrschichtstruktur gebildet wird, umfassen Beispiele des Verfahrens zum Bilden von zwei Schichten (Deckschicht und Grundschicht) jeweils ein Verfahren, das Unterschiede der Löslichkeit der Bestandteile in verschiedenen Lösungsmitteln zwischen der Grundschicht und der Deckschicht nutzt und ein Verfahren, in dem zunächst eine Deckschicht beschichtet wird, gefolgt von raschem Trocknen und Entfernen des Lösungsmittels.
  • Ferner kann der in der Erfindung verwendeten Aufzeichnungsschicht ein Tensid zum Verbessern der Beschichtungseigenschaft, wie etwa ein fluoriertes Tensid, das beispielsweise in JP-A 62-170950 beschrieben wird, zugesetzt werden. Eine vorzugsweise zugesetzte Menge liegt, bezogen auf den Gesamtfeststoffgehalt in der Aufzeichnungsschicht, im Bereich von 0,01 bis 1 Massen-% und weiter bevorzugt im Bereich von 0,05 bis 0,5 Massen-%.
  • [Träger]
  • Der Träger, der in den Flachdruckplattenvorläufern der Erfindung verwendet wird, kann ein beliebiges Produkt in Plattenform sein, das die nötige Stärke und Dauerhaftigkeit zeigt und dimensionsstabil ist. Beispiele umfassen ein Papierblatt, ein Papierblatt, auf das ein Kunststoff (wie etwa Polyethylen, Polypropylen oder Polystyrol) laminiert ist, eine Metallplatte (wie etwa eine Aluminium-, Zink- oder Kupferplatte), einen Kunststofffilm (wie etwa ein Cellulosediacetat-, Cellulosetriacetat-, Cellulosepropionat-, Celluloselactat-, Celluloseacetatlactat-, Cellulosenitrat-, Polyethylenterephthalat-, Polyethylen-, Polystyrol-, Polypropylen-, Polycarbonat- oder Polyvinylacetalfilm) und ein Papier oder Kunststofffilm, auf den ein Metall, wie oben beschrieben, laminiert oder aus der Dampfphase abgelagert wurde.
  • Von diesen Trägern wird ein Polyesterfilm oder eine Aluminiumplatte in der Erfindung bevorzugt. Eine Aluminiumplatte wird besonders bevorzugt, da die Platte eine gute Dimensionsstabilität aufweist und relativ preisgünstig ist. Bevorzugte Beispiele der Aluminiumplatte umfassen eine reine Aluminiumplatte und Legierungsplatten, umfassend Aluminium als den Hauptbestandteil und eine kleine Menge verschiedener Elemente. Ein Kunststofffilm, auf den Aluminium laminiert oder aus der Dampfphase abgeschieden wurde, kann verwendet werden. Beispiele der verschiedenen Elemente, die in der Aluminiumlegierung enthalten sind, umfassen Silicium, Eisen, Mangan, Kupfer, Magnesium, Chrom, Zink, Bismuth, Nickel und Titan. Der prozentuale Gehalt der unterschiedlichen Elemente in der Legierung beträgt höchstens 10 Massen-%.
  • In der Erfindung wird reines Aluminium besonders bevorzugt. Jedoch ist vollständig reines Aluminium unter dem Gesichtspunkt der Metallverarbeitungstechnologie nicht leicht herstellbar. Daher kann Aluminium, das die verschiedenen Elemente in Spuren enthält, verwendet werden.
  • Wie oben beschrieben, kann die in der Erfindung verwendete Aluminiumplatte, deren Zusammensetzung nicht spezifiziert wird, eine beliebige Aluminiumplatte, die bereits bekannt und verwendet worden ist, sein. Die Dicke der in der Erfindung verwendeten Aluminiumplatte beträgt im allgemeinen 0,1 bis 0,6 mm, vorzugsweise 0,15 bis 0,4 mm und weiter bevorzugt 0,2 bis 0,3 mm.
  • Eine solche Aluminiumplatte wird im allgemeinen einer Oberflächenaufrauungsbehandlung unterzogen, um die Anhaftung einer darauf aufgebrachten Aufzeichnungsschicht zu verbessern. Bevor die Oberfläche der Aluminiumplatte aufgeraut wird, wird die Platte einer Entfettungsbehandlung mit einem Tensid, einem organischen Lösungsmittel, einer wässrigen alkalischen Lösung oder dergleichen unterzogen, wenn gewünscht, um Walzöl von der Oberfläche zu entfernen. Die Aufrauungsbehandlung der Aluminiumplattenoberfläche wird durch ein beliebiges Verfahren durchgeführt, beispielsweise durch ein mechanisches Oberflächenaufrauungsverfahren oder ein Verfahren des Auflösens und Aufrauens der Oberfläche auf elektrochemische Weise oder ein Verfahren des selektiven Auflösens der Oberfläche auf chemische Weise.
  • Das mechanische Oberflächenaufrauungsverfahren, das verwendet werden kann, kann ein bekanntes Verfahren, wie etwa ein Kugelpolierverfahren, ein Bürstenpolierverfahren, ein Strahlpolierverfahren oder ein Lederscheibenpolierverfahren sein. Das elektrochemische Oberflächenaufrauungsverfahren kann ein Verfahren sein, bei dem das Aufrauen der Oberfläche in einem Salzsäure- oder Salpetersäureelektrolyten durch Verwendung von Wechselstrom oder Gleichstrom durchgeführt wird. Wie in JP-A 54-63902 offenbart, kann eine Kombination der beiden verwendet werden.
  • Die Aluminiumplatte, deren Oberfläche wie oben beschrieben aufgeraut wurde, wird, falls notwendig, einer Alkali-Ätzbehandlung und Neutralisierungsbehandlung unterzogen. Danach wird die Aluminiumplatte einer Anodisierbehandlung unterzogen, falls notwendig, um die Wasserhaltefähigkeit oder Abriebbeständigkeit der Oberfläche zu verbessern. Der in der Anodisierbehandlung der Aluminiumplatte verwendete Elektrolyt ist ein beliebiger, der aus verschiedenen Elektrolyten ausgewählt ist, die einen porösen Oxidfilm ergeben können. Im allgemeinen wird Schwefelsäure, Phosphorsäure, Oxalsäure, Chromsäure oder eine Mischsäure daraus verwendet. Die Konzentration des Elektrolyten kann in geeigneter Weise in Abhängigkeit von der Art des Elektrolyten gewählt werden.
  • Die Bedingungen der Anodisierbehandlung können nicht ohne Vorbehalt angegeben werden, da die Bedingungen in Abhängigkeit von dem verwendeten Elektrolyten variieren. Die folgenden Bedingungen sind allgemein geeignet: eine Elektrolytkonzentration von 1 bis 80 Massen eine Lösungstemperatur von 5 bis 70°C, eine Stromdichte von 5 bis 60 A/dm2, eine Spannung von 1 bis 100 V und eine Elektrolysezeit von 10 Sekunden bis 5 Minuten. Wenn die Menge des anodischen Oxidfilms weniger als 1,0 g/m2 beträgt, ist die Druckbeständigkeit unzureichend oder Nichtbildbereiche der Flachdruckplatte werden leicht beschädigt, so dass sogenannte "Beschädigungsflecken", die von Tinte herrühren, die zum Zeitpunkt des Druckens an den beschädigten Bereichen anhaftet, leicht hervorgerufen.
  • Falls notwendig, wird die Aluminiumoberfläche einer Hydrophilisierungsbehandlung nach der Anodisierbehandlung unterzogen.
  • Die Hydrophilisierungsbehandlung, die in der Erfindung verwendet werden kann, kann ein Alkalimetallsilikatverfahren (beispielsweise mit einer wässrigen Natriumsilikatlösung), wie in US 2,714,066 , 3,181,461 , 3,280,734 und 3,902,734 offenbart, sein. In diesem Verfahren wird der Träger einer Tauchbehandlung oder Elektrolysebehandlung mit wässriger Natriumsilikatlösung unterzogen. Daneben kann ein Verfahren der Behandlung des Trägers mit Kaliumfluorzirkonat, wie in JP-B 36-22063 offenbart oder mit Polyvinylphosphonsäure, wie in US 3,276,868 , 4,153,461 und 4,689,272 offenbart, verwendet werden.
  • [Unterzugsschicht]
  • In dem Flachdruckplattenvorläufer gemäß der Erfindung wird auf ein Substrat einer Aufzeichnungsschicht, enthaltend ein spezielles Strukturpolymer aufgebracht. Jedoch kann zwischen dem Substrat und der Grundschicht der Aufzeichnungsschicht je nach Notwendigkeit eine Unterzugsschicht angeordnet sein.
  • Wenn die Unterzugsschicht angeordnet wird, kann die durch Belichten mit einem Infrarotlaser erzeugte Wärme effizient verwendet werden, ohne in das Substrat abgeleitet zu werden, da die Unterzugsschicht zwischen dem Substrat und der Aufzeichnungsschicht als eine Wärmeisolationsschicht fungiert, was vorteilhafterweise dazu führt, dass eine hohe Empfindlichkeit erhalten wird. Da die Aufzeichnungsschicht, die in der Erfindung verwendet wird, sogar wenn die Unterzugsschicht aufgebracht ist, auf einer Belichtungsoberfläche oder in der Nähe davon angeordnet ist, kann die Empfindlichkeit gegenüber dem Infrarotlaser hoch gehalten werden.
  • Ferner wird angenommen, dass in einem unbelichteten Bereich die Entwicklungsstabilität hervorragend ist und ein Bild gebildet werden kann, das hervorragend in der Diskriminierung ist, da eine Bildaufzeichnungsschicht selbst, die für den alkalischen Entwickler undurchlässig ist, als eine Schutzschicht der Unterzugsschicht fungiert. Ferner kann die Stabilität ebenfalls mit dem Verstreichen der Zeit in dem unbelichteten Bereich sichergestellt werden.
  • Als Bestandteile der Unterzugsschicht können verschiedene organische Verbindungen verwendet werden. Beispiele dafür umfassen Carboxymethylcellulose, Dextrin, Gummi arabicum, Phosphonsäuren mit einer Aminogruppe, wie etwa 2-Aminoethylphosphonsäure, organische Phosphonsäuren, wie etwa Phenylphosphonsäure, Naphthylphosphonsäure, Alkylphosphonsäure, Glycerinphosphonsäure, Methylendiphosphonsäure und Ethylendiphosphonsäure, von denen jede einen Substituenten aufweisen kann, organische Phosphorsäuren, wie etwa Phenylphosphorsäure, Naphthylphosphorsäure, Alkylphosphorsäure und Glycerinphosphorsäure, von denen jede einen Substituenten aufweisen kann, organische Phosphinsäuren, wie etwa Phenylphosphinsäure, Naphthylphosphinsäure, Alkylphosphinsäure und Glycerinphosphinsäure, von denen jede einen Substituenten aufweisen kann, Aminosäuren, wie etwa Glycin und β-Alanin und Hydrochloride von Aminen mit einer Hydroxylgruppe, wie etwa das Hydrochlorid von Triethanolamin. Diese können in Form einer Mischung verwendet werden.
  • Ferner kann eine Unterzugsschicht, die wenigstens eine Art einer Verbindung, ausgewählt aus einer Gruppe von organischen Polymerverbindungen mit einer Struktureinheit, die durch eine untenstehende Formel dargestellt wird, enthält, ebenfalls bevorzugt.
  • Diese organische Unterzugsschicht kann durch das folgende Verfahren erzeugt werden: ein Verfahren des Auflösens der oben genannten organischen Verbindung in Wasser, einem organischen Lösungsmittel, wie etwa Methanol, Ethanol oder Methylethylketon oder einem Mischlösungsmittel daraus, um eine Lösung herzustellen, Auftragen der Lösung auf eine Aluminiumplatte und Trocknen der Lösung, um die Unterzugsschicht zu erzeugen; oder ein Verfahren des Auflösens der oben erwähnten organischen Verbindung in Wasser, einem organischen Lösungsmittel, wie etwa Methanol, Ethanol oder Methylethylketon oder einem Mischlösungsmittel daraus, um eine Lösung herzustellen, Eintauchen einer Aluminiumplatte in die Lösung, so dass die Platte die organische Verbindung adsorbiert, Waschen der Platte mit Wasser oder dergleichen und Trocknen der Platte, um die Unterzugsschicht zu erzeugen.
  • In dem erstgenannten Verfahren kann die Lösung der organischen Verbindung mit einer Konzentration von 0,005 bis 10 Massen-% durch verschiedene Verfahren aufgetragen werden. In dem letztgenannten Verfahren beträgt die Konzentration der organischen Verbindung in der Lösung 0,01 bis 20 Massen-%, vorzugsweise 0,05 bis 5 Massen-%, die Eintauchtemperatur beträgt 20 bis 90°C, vorzugsweise 25 bis 50°C und die Eintauchzeit beträgt 0,1 Sekunde bis 20 Minuten, vorzugsweise 2 Sekunden bis 1 Minute.
  • Der pH der in diesem Verfahren verwendeten Lösung kann auf den Bereich von 1 bis 12 mit einem basischen Material, wie etwa Ammoniak, Triethylamin oder Kaliumhydroxid oder mit einem sauren Material wie etwa Salzsäure oder Phosphorsäure eingestellt werden. Ein gelber Farbstoff kann zu der Lösung gegeben werden, um die Reproduzierbarkeit des Tons des Bildaufzeichnungsmaterials zu verbessern.
  • Die beschichtete Menge der organischen Unterzugsschicht beträgt geeigneterweise 2 bis 200 mg/m2 und vorzugsweise 5 bis 100 mg/m2, um ausreichende Druckdauerhaftigkeit zu erhalten.
  • In einem Flachdruckplattenvorläufer gemäß der Erfindung wird ein Bild durch Wärme erzeugt. Insbesondere kann direktes bildweises Aufzeichnen mit einem Thermoaufzeichnungskopf, abtastende Belichtung mit einem Infrarotlaser, Blitzbelichtung mit einer Xenon-Entladungslampe großer Helligkeit oder Infrarotlampenbelichtung verwendet werden, jedoch wird ein Hochleistungs-Infrarot-Feststofflaser, wie etwa ein Halbleiterlaser oder ein YAG-Laser, der Infrarotstrahlen in einer Wellenlänge von 700 bis 1.200 nm abstrahlt, bevorzugt zum Belichten verwendet.
  • Die Abgabe des Lasers beträgt vorzugsweise 100 mW oder mehr. Um die Belichtungszeit zu verkürzen, kann ein Mehrstrahllasergerät vorzugsweise verwendet werden. Ferner beträgt die Belichtungszeit pro Pixel vorzugsweise 20 μsek oder weniger und die auf das Aufzeichnungsmaterial gestrahlte Energie liegt vorzugsweise im Bereich von 10 bis 500 mJ/cm2.
  • Nach dem Belichtungsverfahren werden die Nichtbildbereiche des Flachdruckplattenvorläufers der Erfindung durch Entwicklung entfernt, so dass eine Flachdruckplatte erhalten wird. Die Entwicklungslösung, die für die Entwicklungsbehandlung des Flachdruckplattenvorläufers der Erfindung verwendet werden kann, ist eine Entwicklungslösung mit einem pH-Bereich von 9,0 bis 14,0 und vorzugsweise einem pH-Bereich von 12,0 bis 13,5. Als die Entwicklungslösung (nachfolgend als eine Entwicklungslösung einschließlich einer Auffrischungslösung bezeichnet) kann eine herkömmlicherweise bekannte wässrige Alkalilösung verwendet werden.
  • Beispiele des alkalischen Mittels umfassen anorganische Alkalisalze, wie etwa Natriumsilikat, Kaliumsilikat, Trinatriumphosphat, Trikaliumphosphat, Triammoniumphosphat, Dinatriumhydrogenphosphat, Dikaliumhydrogenphosphat, Diammoniumhydrogenphosphat, Natriumcarbonat, Kaliumcarbonat, Ammoniumcarbonat, Natriumhydrogencarbonat, Kaliumhydrogencarbonat, Ammoniumhydrogencarbonat, Natriumborat, Kaliumborat, Ammoniumborat, Natriumhydroxid, Ammoniumhydroxid, Kaliumhydroxid und Lithiumhydroxid und organische alkalische Mittel, wie etwa Monomethylamin, Dimethylamin, Trimethylamin, Monoethylamin, Diethylamin, Triethylamin, Monoisopropylamin, Diisopropylamin, Triisopropylamin, n-Butylamin, Monoethanolamin, Diethanolamin, Triethanolamin, Monoisopropanolamin, Diisopropanolamin, Ethylenimin, Ethylendiamin und Pyridin.
  • Diese alkalischen Mittel können einzeln oder in Kombination von zweien oder mehreren verwendet werden.
  • Von den obigen wässrigen Alkalilösungen ist ein Entwickler, der den Effekt der Erfindung zeigt, eine wässrige Lösung mit einem pH von 12 oder mehr, ein sogenannter "Silikatentwickler", enthaltend Alkalisilikat als eine Base oder enthaltend Alkalisilikat, das durch Mischen einer Base mit einer Siliciumverbindung erhalten wurde, und der andere bevorzugtere Entwickler ist ein sogenannter "Nicht-Silikatentwickler", der kein Alkalisilikat enthält und einen nicht-reduzierenden Zucker (organische Verbindung mit Pufferwirkung) und eine Base enthält.
  • Im Erstgenannten kann die Entwickelbarkeit einer wässrigen Lösung von Alkalimetallsilikat durch das Verhältnis von Siliciumoxid SiO2 und Alkalimetalloxid M2O (allgemein ausgedrückt als Molverhältnis von [SiO2]/[M2O]).
  • Beispielsweise werden eine wässrige Lösung von Natriumsilikat mit einem Molverhältnis von SiO2/Na2O von 1,0 bis 1,5 (d. h. [SiO2]/[Na2O] beträgt 1,0 bis 1,5) und einem Gehalt von SiO2 ist 1 bis 4 Massen-%, wie in JP-A 54-62004 offenbart und eine wässrige Lösung von Alkalimetallsilikat mit [SiO2]/[M] von 0,5 bis 0,75 (d. h. [SiO2]/[M2O] beträgt 1,0 bis 1,5) einer Konzentration von SiO2 von 1 bis 4 Massen-%, wobei der Entwickler wenigstens 20% Kalium unter Verwendung von Grammatom des gesamten darin vorliegenden Alkalimetalls als Bezugsgröße, wie in JP-B 57-7427 beschrieben, vorzugsweise verwendet.
  • Um die Entwickelbarkeit zu verbessern oder zu verhindern, um Entwicklungsschaum zu dispergieren oder um die Tintenaffinität eines Druckplattenbildbereichs, je nach Notwendigkeit zu verbessern, können verschiedene Arten von Tensiden und organischen Lösungsmitteln zu dem Entwickler und Auffrischer zugesetzt werden. Als Tensid werden anionische, kationische, nichtionische und amphotere Tenside bevorzugt. Ferner können dem Entwickler und Auffrischer je nach Notwendigkeit Hydrochinon, Resorzin, Reduktionsmittel, wie etwa Natrium- und Kaliumsalze einer anorganischen Säure, wie etwa schwefeliger Säure oder Hydrogensulfit (Hydroacidsulfite), ferner eine organische Carbonsäure, ein Entschäumungsmittel und ein Wasserweichmacher zugesetzt werden.
  • Die mit dem Entwickler und Auffrischer entwickelte Flachdruckplatte wird mit Waschwasser, einer Spüllösung, enthaltend ein Tensid oder einer desensibilisierenden Lösung, enthaltend Gummi arabicum und ein Stärkederivat nachbearbeitet. Zur Nachbearbeitung können die Verfahren in unterschiedlicher Kombination verwendet werden.
  • Im Fall des Durchführens der Entwicklung unter Verwendung einer automatischen Entwicklungsvorrichtung ist es bekannt, dass eine große Menge von PS-Platten ohne Ersetzen des Entwicklers in einem Entwicklertank über eine lange Zeit behandelt werden können, indem dem Entwickler eine wässrige Lösung (ein Auffrischer) mit einer höheren Alkalinität als die des Entwicklers zugesetzt wird. In der Erfindung wird dieses Auffrischungsverfahren vorzugsweise verwendet. Um die Entwickelbarkeit des Entwicklers oder des Auffrischers zu fördern oder zu unterdrücken und um die Dispersion des Entwicklungsschaums und die Affinität des bilderzeugenden Bereichs der Druckplatte gegenüber Tinte zu verbessern, können gegebenenfalls verschiedene Tenside und organische Lösungsmittel zugesetzt werden.
  • Als bevorzugte Tenside können anionische, kationische, nichtionische und amphotere Tenside beispielhaft genannt werden. Ferner können dem Entwickler oder dem Auffrischer Reduktionsmittel, wie etwa Hydrochinon, Resorzin, Natriumsalz oder Kaliumsalz von anorganischen Säuren, wie etwa schwefeliger Säure, Hydrogen-schwefeliger Säure und ferner organische Carbonsäuren, Entschäumungsmittel und Wasserhartmacher oder -weichmacher zugesetzt werden.
  • Die unter Verwendung des Entwicklers oder des Auffrischers behandelte Druckplatte wird mit Wasser gewaschen und mit Spüllösungen, enthaltend Tenside oder dergleichen und desensibilisierenden Lösungen, enthaltend Gummi arabicum und Stärkederivate, nachbehandelt. Die Nachbehandlungen des Bildaufzeichnungsmaterials der Erfindung können unter Verwendung dieser Behandlungen in Kombination durchgeführt werden.
  • In jüngster Zeit sind zur Rationalisierung oder Standardisierung der Druckplattenherstellung in der Druckplatten herstellenden oder Druckindustrie automatische Entwicklungsvorrichtungen für Druckplatten in großem Umfang verwendet worden. Eine automatische Entwicklungsvorrichtung umfasst im allgemeinen einen Entwicklungsabschnitt und einen Nachbehandlungsabschnitt. Insbesondere umfasst eine automatische Entwicklungsvorrichtung eine Einheit zum Transport der Druckplatten, Tanks für die jeweiligen Behandlungslösungen und Sprühvorrichtungen. Die automatische Entwicklungsvorrichtung transportiert die belichteten Druckplatten horizontal und führt gleichzeitig eine Entwicklungsbehandlung durch Aufsprühen der jeweiligen Behandlungslösungen, die durch Pumpen gefördert werden, auf die Druckplatte durch Sprühköpfe. In jüngster Zeit ist ein Verfahren zum Durchführen der Behandlung durch Transportieren der Druckplatten durch in Lösung liegenden Führungswalzen, während die Druckplatten in die Behandlungslösungstanks, die mit den Behandlungslösungen gefüllt sind, eingetaucht werden, ebenfalls bekannt geworden. In solch einer automatischen Behandlung können die Auffrischer in Abhängigkeit von der Behandlungsmenge, Standzeiten und dergleichen zu den jeweiligen Behandlungslösungen zugegeben werden. Alternativ kann ein sogenanntes Einmalbehandlungsverfahren verwendet werden, bei dem die Behandlung unter Verwendung von im wesentlichen unbenutzten Behandlungslösungen durchgeführt wird.
  • In der Erfindung wird der Flachdruckplattenvorläufer bildweise belichtet, entwickelt, mit Wasser gewaschen und/oder gespült und/oder gummibeschichtet, um eine Flachdruckplatte zu erhalten. Falls nicht notwendige Bildbereiche (beispielsweise Filmkantenspuren eines Masterfilms) auf der Flachdruckplatte vorhanden sind, werden die nicht notwendigen Bildbereiche gelöscht. Dieses Löschen wird vorzugsweise durch ein Verfahren unter Anwenden einer Löschlösung, wie in JP-B 2-13293 auf die nicht notwendigen Bildbereiche und Waschen mit Wasser nach einer vorgeschriebenen Einwirkzeit durchgeführt. Ein Verfahren des Bestrahlens der nicht notwendigen Bildbereiche mit einem aktiven Lichtstrahl, der durch optische Fasern geleitet wird, und anschließendes Durchführen einer Entwicklung, wie in JP-A 59-174842 offenbart wird, kann ebenfalls verwendet werden.
  • Die auf diese Weise hergestellte Flachdruckplatte wird mit einem desensibilisierenden Gummi beschichtet, falls notwendig, und Druckschritten zugeführt. In dem Fall, in dem eine Flachdruckplatte mit weiter verbesserter Druckbeständigkeit erhalten werden soll, kann gegebenenfalls eine Brennbehandlung durchgeführt werden.
  • In dem Fall, in dem eine Brennbehandlung der Flachdruckplatte durchgeführt wird, ist es bevorzugt, die Flachdruckplatte vor der Brennbehandlung mit Oberflächenkonditionierungslösungen, wie in JP-B 61-2518 und 55-28062 und JP-A 62-31859 und 61-159655 beschrieben, zu behandeln.
  • Beispiele eines Verfahrens zum Bewirken einer solchen Brennvorbehandlung umfassen ein Verfahren des Anwendens der Oberflächenkonditionierungslösungen auf die Flachdruckplatte durch einen mit den Lösungen benetzten Schwamm oder entfettete Baumwolle, ein Verfahren des Eintauchens der Druckplatte in eine mit den Oberflächenkonditionierungslösungen gefüllte Wanne, ein Verfahren des Anwendens der Oberflächenkonditionierungslösungen unter Verwendung eines automatischen Beschichters. In dem Fall, in dem nach dem Anwenden die Menge der angewendeten Lösung mit einer Rakel oder einer Rakelwalze gleichmäßig gemacht werden, kann ein besseres Ergebnis erzielt werden.
  • Im allgemeinen beträgt die angewendete Menge der Oberflächenanpassungslösung geeigneterweise 0,03 bis 0,8 g/m2 (Trockenmasse). Falls notwendig, kann die Flachdruckplatte, auf die die Oberflächenanpassungslösung angewendet worden ist, getrocknet werden und dann wird die Platte mit einem Brenngerät (beispielsweise einem von Fuji Photo Film Co., Ltd. vertriebenen Brenngerät (BP-1300)) oder dergleichen auf eine hohe Temperatur erwärmt. In diesem Fall betragen die Heiztemperatur und die Heizzeit, die von der Art der Bestandteile abhängen, die das Bild erzeugen, vorzugsweise 180 bis 300°C bzw. 1 bis 20 Minuten.
  • Die auf diese Weise gebrannte Flachdruckplatte kann ferner herkömmlich durchgeführten Behandlungen unterzogen werden, wie etwa einer Waschbehandlung mit Wasser und einer Gummibeschichtung. In einem Fall, in dem eine wasserlösliche Polymerverbindung oder dergleichen enthaltende Oberflächenanpassungslösung verwendet wird, kann jedoch die sogenannte Desensibilisierungsbehandlung (beispielsweise Gummibeschichtung) weggelassen werden. Die als Resultat solcher Behandlungen erhaltene Flachdruckplatte wird in eine Offsetdruckmaschine oder eine andere Druckmaschine eingesetzt und zum Drucken auf einer großen Anzahl von Blättern verwendet.
  • Der auf diese Weise erhaltene Flachdruckplattenvorläufer gemäß der Erfindung ist in der Lage, mit hoher Empfindlichkeit aufzuzeichnen, zeigt ungeachtet der Schwankung der Aktivität des Entwicklers eine große Entwicklungsbreite, wodurch hervorragende Bilderzeugungseigenschaften erzielt werden, ebenso wie hervorragende Tintenannahmeeigenschaften eines Bildbereichs während des Druckens.
  • Beispiele
  • Die Erfindung wird anhand von Beispielen erläutert, die jedoch den Umfang der Erfindung nicht beschränken.
  • (Herstellung des Trägers)
  • Unter Verwendung einer JIS-A-1050-Aluminiumplatte mit einer Dicke von 0,3 mm wurde die Aluminiumplatte durch Kombination der folgenden Schritte behandelt, um die Träger A, B, C und D herzustellen.
  • (a) Mechanische Oberflächenaufrauungsbehandlung
  • Während eine Suspension, die ein Poliermittel (Siliciumdioxidsand) mit einem spezifischen Gewicht von 1,12 und Wasser, als ein Polierschlamm der Oberfläche jedes Aluminiumblechs zugeführt wurde, wurde die mechanische Oberflächenaufrauung durch rotierende Nylonbürsten vom Walzentyp durchgeführt. Die mittlere Teilchengröße des Poliermittels betrug 8 μm und die maximale Teilchengröße betrug 50 μm. Das Material der Nylonbürsten war 6–10-Nylon und die Haarlänge und der Haardurchmesser betrugen 50 mm bzw. 0,3 mm. Die Nylonbürsten wurden hergestellt, indem die Haare dicht in Löcher eingesetzt wurden, die in rostfreien Stahlzylindern mit einem Durchmesser von 300 mm gebildet worden waren. Drei rotierende Bürsten wurden verwendet. Zwei Unterstützungswalzen (Durchmesser 200 mm) wurden unterhalb der Bürsten mit einem Abstand von 300 mm angeordnet. Die Bürstenwalzen wurden angedrückt, bis die Last des Antriebsmotors zum rotieren der Bürsten sich um 7 kW oder mehr über die Last, bevor die Bürstenwalzen gegen das Aluminiumblech angedrückt wurden, erhöht hatte. Die Drehrichtung der Bürsten war die gleiche wie die Bewegungsrichtung des Aluminiumblechs. Die Drehgeschwindigkeit der Bürsten betrug 200 U/min.
  • (b) Alkaliätzbehandlung
  • Die Ätzbehandlung wurde durchgeführt, indem eine wässrige NaOH-Lösung (NaOH-Konzentration 26 Gew.-%, ebenfalls eine Aluminiumionenkonzentration von 6,5 Gew.-% enthaltend) bei 70°C auf die Aluminiumplatte gesprüht wurde, um eine Menge von 6 g/m2 von dem Aluminiumblech abzulösen. Danach wurde das Aluminiumblech mit Wasser durch Besprühen gewaschen.
  • (c) Entschmutzungsbehandlung
  • Die Entschmutzungsbehandlung wurde durchgeführt, indem eine wässrige Lösung von 1 Gew.-% Salpetersäure (enthaltend eine Aluminiumionenkonzentration von 0,5 Gew.-%) bei 30°C aufgesprüht wurde und das resultierende Aluminiumblech mit Wasser gewaschen wurde. Als für das Entschmutzen verwendete wässrige Salpetersäurelösung wurde eine Abfalllösung aus einem Schritt der elektrochemischen Oberflächenaufrauung mit einer wässrigen Salpetersäurelösung durch Wechselstrom verwendet.
  • (d) Elektrochemische Oberflächenaufrauungsbehandlung
  • Die elektrochemische Oberflächenaufrauungsbehandlung wurde kontinuierlich unter Verwendung von 60 Hz Wechselstromspannung durchgeführt. Die in diesem Fall verwendete Elektrolyselösung war eine wässrige Lösung von Salpetersäure (mit einer Konzentration von 10,5 g/l und ebenfalls 5 g/l Aluminiumionen enthaltend) bei 50°C. Die elektrochemische Oberflächenaufrauung wurde unter Verwendung einer Wechselstromwellenform durchgeführt, die eine trapezoide rechteckige Wellenform aufwies, mit einer Zeit TP von einem Nullstromwert bis zur Spitze von 0,8 ms und einem Lastverhältnis von 1:1 unter Verwendung einer Kohlenstoffelektrode als Gegenelektrode. Ferrit wurde als Hilfsanode verwendet. Ein Elektrolysebad vom radialen Zellentyp wurde verwendet.
  • Die Stromdichte betrug 30 A/dm2 am Spitzenwert des Stroms und die gesamte Ladungsmenge betrug 220 C/dm2, wenn das Aluminiumblech als Anode verwendet wurde. Fünf Prozent des elektrischen Stroms aus der elektrischen Spannungsquelle wurde auf die Hilfsanode geleitet.
  • Danach wurde das resultierende Aluminiumblech mit einem Wassersprühnebel gewaschen.
  • (e) Alkaliätzbehandlung
  • Die Ätzbehandlung des Aluminiumblechs wurde bei 32°C durch Aufsprühen einer Lösung mit einer Natriumhydroxidkonzentration von 26 Gew.-% und einer Aluminiumionenkonzentration von 6,5 Gew.-% auf das Aluminiumblech durchgeführt. 0,2 g/m2 des Aluminiumblechs wurden abgelöst, um den Schmutz, dessen Hauptbestandteil während der elektrochemischen Oberflächenaufrauung unter Verwendung von Wechselstrom im vorhergehenden Schritt hergestelltes Aluminiumhydroxid war, zu entfernen. Die Kantenbereiche der gebildeten Vertiefungen wurden aufgelöst, um die Kantenbereiche zu glätten. Danach wurde das Aluminiumblech durch Aufsprühen von Wasser gewaschen.
  • (f) Entschmutzungsbehandlung
  • Die Entschmutzungsbehandlung wurde durch Aufsprühen einer wässrigen Lösung von 15 Gew.-% Salpetersäure (enthaltend 4,5 Gew.-% Aluminiumionen) bei 30°C durchgeführt. Dann wurde das resultierende Aluminiumblech durch Aufsprühen von Wasser gewaschen. Als die für die Entschmutzung verwendete wässrige Salpetersäurelösung wurde eine Abfalllösung aus der elektrochemischen Oberflächenaufrauung mit einer wässrigen Salpetersäurelösung durch Wechselstrom verwendet.
  • (g) Elektrochemische Oberflächenaufrauungsbehandlung
  • Die elektrochemische Oberflächenaufrauungsbehandlung wurde kontinuierlich unter Verwendung von 60 Hz Wechselstromspannung durchgeführt. Die in diesem Schritt verwendete Elektrolyselösung war eine wässrige Lösung von Salzsäure (mit einer Konzentration von 7,5 g/l und ebenfalls 5 g/l Aluminiumionen enthaltend) bei 35°C. Die Wechselstromwellenform wies eine trapezoide rechteckige Wellenform auf und eine Kohlenstoffelektrode wurde als eine Gegenelektrode verwendet, um die elektrochemische Oberflächenaufrauungsbehandlung zu bewirken. Ferrit wurde als eine Hilfsanode verwendet. Ein Elektrolysebad vom radialen Zellentyp wurde verwendet.
  • Die Stromdichte betrug 25 A/dm2 beim Spitzenwert des Stroms und die Gesamtladungsmenge betrug 50 C/dm2, wenn das Aluminiumblech als Anode verwendet wurde.
  • Danach wurde das resultierende Aluminiumblech mit einem Wassersprühnebel gewaschen.
  • (h) Alkaliätzbehandlung
  • Die Ätzbehandlung des Aluminiumblechs wurde bei 32°C durchgeführt, indem eine Lösung, die 26 Gew.-% Natriumhydroxid und 6,5 Gew.-% Aluminiumionen enthielt, aufgesprüht wurde, um 0,10 g/m2 des Aluminiumblechs abzulösen, um den Schmutz zu entfernen, dessen Hauptbestandteil während der elektrochemischen Aufrauungsbehandlung der Oberfläche unter Verwendung von Wechselstrom im vorangegangenen Schritt hergestelltes Aluminiumhydroxid war. Ferner wurden die Kantenteile der gebildeten Vertiefungen aufgelöst, um die Kantenteile zu glätten. Danach wurde das Aluminiumblech durch Aufsprühen von Wasser gewaschen.
  • (i) Entschmutzungsbehandlung
  • Die Entschmutzungsbehandlung wurde durchgeführt, indem eine wässrige Lösung von 25 Gew.-% Schwefelsäure (enthaltend 0,5 Gew.-% Aluminiumionen) bei 60°C aufgesprüht wurde und das resultierende Aluminiumblech dann mit einem Wassersprühnebel gewaschen wurde.
  • (j) Anodisierungsbehandlung
  • Schwefelsäure wurde als eine Elektrolyselösung verwendet. Die Elektrolyselösung enthielt 170 g/l Schwefelsäure (und enthielt 0,5 Gew.-% Aluminiumionen). Die Temperatur der Elektrolyselösung betrug 43°C. Dann wurde das Aluminiumblech mit einem Wassersprühnebel gewaschen.
  • Die elektrische Stromdichte betrug ungefähr 30 A/dm2. Die Oxidfilmdicke betrug schließlich 2,7 g/m2.
  • <Träger A>
  • Jeder der vorgenannten Schritte (a) bis (j) wurde nacheinander durchgeführt und die Menge des Ätzens im Schritt (e) wurde so gesteuert, dass sie 3,4 g/m2 betrug, so dass Träger A hergestellt wurde.
  • <Träger B>
  • Der Träger B wurde durch aufeinanderfolgendes Durchführen der oben genannten Schritte (a) bis (j) unter Auslassung der Schritte (g), (h) und (i) hergestellt.
  • <Träger C>
  • Die jeweiligen Schritte wurden nacheinander durchgeführt, bis auf dass die Schritte (a), (g), (h) und (i) der zuvor genannten Schritte weggelassen wurden, so dass Träger C hergestellt wurde.
  • <Träger D>
  • Die jeweiligen Schritte wurden nacheinander durchgeführt, bis auf dass die Schritte (a), (d), (e) und (f) der zuvor genannten Schritte weggelassen wurden und die Summe der Ladungsmenge im Schritt (g) auf 450 C/dm2 eingestellt wurde, so dass Träger D hergestellt wurde.
  • Die Träger A, B, C und D, wie oben erhalten, wurden nacheinander der folgenden Hydrophilisierungsbehandlung und Unterzugsbeschichtungsbehandlung unterzogen.
  • (k) Alkalimetallsilikatsalzbehandlung
  • Ein durch anodische Oxidationsbehandlung erhaltener Aluminiumträger wurde in ein Behandlungsbad, das 1 Massen-% wässrige Lösung Nr. 3 Natriumsilikat enthielt, bei einer Temperatur von 30°C für 10 Sekunden eingetaucht, wodurch eine Alkalimetallsilikatsalzbehandlung (Silikatbehandlung) bewirkt wurde. Danach wurde ein Waschen mit Wasser durch Aufsprühen von Wasser durchgeführt. Danach betrug die Menge des anhaftenden Silikats 3,6 mg/m2.
  • (Unterzugsbeschichtungsbehandlung)
  • Eine Unterzugsbeschichtungslösung mit der folgenden Zusammensetzung wurde auf den so nach Alkalimetallsilikatsalzbehandlung erhaltenen Aluminiumträger geschichtet und 15 Sekunden lang bei 80°C getrocknet. Die Beschichtungsmenge nach dem Trocknen betrug 15 mg/m2. <Unterzugsbeschichtungslösung-Zusammensetzung>
    • Folgende Polymerverbindung 0,3 g
    • Methanol 100 g
    • Wasser 1,0 g
  • Figure 00600001
  • [Beispiele 1 bis 3 und Vergleichsbeispiele 1 und 2]
  • Auf die Substrate mit einer Unterzugsschicht, die gemäß dem Verfahren erhalten worden war, wurde eine Aufzeichnungsschicht-Beschichtungslösung A mit der untenstehenden Zusammensetzung unter Verwendung eines Drahtstabs beschichtet. Nach dem Beschichten wurde sie 60 Sekunden lang bei 140°C getrocknet, um eine Gesamtbeschichtungsmenge von 1,80 g/m2 zu erhalten. Dadurch wurden Positiv-Flachdruckplattenvorläufer gemäß den Beispielen 1 bis 3 und Vergleichsbeispielen 1 und 2 erhalten. <Aufzeichnungsschicht-Beschichtungslösung A>
    • Polymer, enthaltend die in Tabelle 1 beschriebene spezielle Struktur 0,75 g
    • m-Kresol/p-Kresol-Novolakharz (molares Verhältnis: 60:40, gewichtsmittleres Molekulargewicht: 5.000) 0,25 g
    • in Tabelle 1 beschriebenes Oniumsalz 0,25 g
    • p-Toluolsulfonsäure 0,003 g
    • Tetrahydrophthalsäureanhydrid 0,3 g
    • Cyaninfarbstoff X (Struktur untenstehend beschrieben) 0,017 g
    • Viktoria-Reinblau (Farbstoff, in dem das Gegenanion von BOH durch das 1-Naphthalinsulfonatanion ersetzt ist) 0,015 g
    • γ-Butyllacton 10 g
    • Methylethylketon 10 g
    • 1-Methoxy-2-propanol 1 g
  • Figure 00610001
    Cyaninfarbstoff X
  • [Beispiele 4 bis 6, Vergleichsbeispiele 3 und 4]
  • Auf das Substrat mit einer Unterzugsschicht, das gemäß dem Verfahren ähnlich den Beispielen 1 bis 3 erhalten wurde, wurde eine Aufzeichnungsschicht-Beschichtungslösung B mit der untenstehenden Zusammensetzung unter Verwendung eines Drahtstabs beschichtet. Nach dem Beschichten wurde sie 100 Sekunden lang bei 150°C getrocknet, so dass die Gesamtbeschichtungsmenge 1,40 g/m2 betrug. Dadurch wurden die Positiv-Flachdruckplattenvorläufer gemäß den Beispielen 4 bis 6 und Vergleichsbeispielen 3 und 4 erhalten. <Aufzeichnungsschicht-Beschichtungslösung B>
    • Polymer, enthaltend die spezielle, in Tabelle 1 beschriebene Struktur 12,0%
    • in Tabelle 1 beschriebenes Oniumsalz 3,0%
    • Cyaninfarbstoff X (obige Struktur) 0,12%
    • Kristallviolett 0,05%
    • Fluoriertes Tensid (Handelsname: Megafack F-780, hergestellt von Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) 0,03%
    • Methylethylketon 84,8%
  • [Bewertung des Flachdruckplattenvorläufers]
  • Als nächstes wurden die Positiv-Flachdruckplattenvorläufer gemäß Beispielen 1 bis 6 und Vergleichsbeispielen 1 bis 4 einer Leistungsfähigkeitsbewertung unterzogen. Der Bewertungstest wurde mit jeder Probe durchgeführt, die nach dem Beschichten der Aufzeichnungsschicht 30 Tage lang bei 25°C gelagert wurde.
  • (Bewertung der Entwicklungsbreite)
  • Als nächstes wurden die Positiv-Flachdruckplattenvorläufer, die gemäß den Beispielen 1 bis 6 und den Vergleichsbeispielen 1 bis 4 erhalten worden waren, auf einen TrendSetter 800 (Handelsname, hergestellt von CREO Co., Ltd.) eingespannt und ein Testmuster wurde bildweise gezeichnet (belichtet) unter Bedingungen einer Strahlintensität von 10,0 W und einer Trommelrotationsgeschwindigkeit von 250 U/min.
  • Anschließend wurde jeder der Flachdruckplattenvorläufer gemäß der Beispiele 1 bis 3 und der Vergleichsbeispiele 1 und 2 auf einen PS-Prozessor LP-940HII (Handelsname, hergestellt von Fuji Photo Film Co., Ltd.) eingespannt, der mit einer Lösung geladen war, die durch Einblasen von Kohlendioxid in einen mit Wasser verdünnten (1:9) Entwickler DT-2R (Handelsname, hergestellt von Fuji Photo Film Co., Ltd.) erhalten worden war, so dass sie eine elektrische Leitfähigkeit von 37 mS/cm aufwies, und einer mit Wasser verdünnten (1:1) Lösung von Finisher FG-1 (Handelsname, hergestellt von Fuji Photo Film Co., Ltd.) beschickt war und mit einer bei 30°C gehaltenen Flüssigkeitstemperatur über eine Entwicklungszeitspanne von 12 Sekunden entwickelt. Danach wurde eine geeignete Menge der mit Wasser verdünnten (1:9) Lösung des DT-2R zu einem Entwickler gegeben, um die elektrische Leitfähigkeit auf 39 mS/cm einzustellen, gefolgt vom Entwickeln des Flachdruckplattenvorläufers, auf den das gleiche Testmuster wie zuvor bildweise gezeichnet worden war. Ferner wurde der Arbeitsgang fortgesetzt, indem die elektrische Leitfähigkeit jeweils um 2 mS/cm erhöht wurde, bis eine feststellbare Filmabnahme durch Entwicklung eines Bildes beobachtet wurde.
  • Ferner wurde jeder der Flachdruckplattenvorläufer gemäß den Beispielen 4 bis 6 und den Vergleichsbeispielen 3 und 4 in einen PS-Prozessor LP-940HII (Handelsname, hergestellt von Fuji Photo Film Co., Ltd.), der mit einer Lösung, die durch Einblasen von Kohlendioxidgas in einen mit Wasser verdünnten (1:9) Entwickler DT-2R (Handelsname, hergestellt von Fuji Photo Film Co., Ltd.), so dass er eine elektrische Leitfähigkeit von 50 mS/cm aufwies, erhalten worden war und mit einer mit Wasser verdünnten (1:1) Lösung des Finisher FG-1 (Handelsname, hergestellt von Fuji Photo Film Co., Ltd.) beschickt worden war. Die Bewertung wurde gemäß einem Verfahren ähnlich den Beispielen 1 bis 3 durchgeführt.
  • Die entwickelten Platten gemäß den Beispielen und Vergleichsbeispielen, die bei den jeweiligen elektrischen Leitfähigkeiten entwickelt worden waren, wurden mit einer 50fach vergrößernden Lupe betrachtet um festzustellen, ob Flecken oder Verfärbungen vorlagen, die durch einen Filmrest aufgrund von unzureichender Entwicklung eines Nichtbildbereichs hervorgerufen wurden, und die (grenzwertige) elektrische Leitfähigkeit des Entwicklers, bei dem die Entwicklung in hervorragendem Maße durchgeführt wurde, wurde bestimmt. Anschließend wurde eine weitere grenzwertige elektrische Leitfähigkeit bestimmt, bei der die Entwicklungsinhibierung bei einem schwarzen (Vollbild-)Bereich während der Entwicklung aufrechterhalten blieb. Insbesondere wurde die Bilddichte eines schwarzen Bereichs vor dem Entwickeln mit einem GRETAG-Reflektionsdensitometer D 196 (Handelsname, hergestellt von Gretag Macbeth) gemessen und eine weitere grenzwertige elektrische Leitfähigkeit des Entwicklers, bei dem die Bilddichte eines schwarzen Bereichs auf 0,10 oder weniger gesenkt wurde, wurde bestimmt.
  • Die Breite zwischen der grenzwertigen elektrischen Leitfähigkeit, bei der eine hervorragende Entwicklung durchgeführt wird, und einer weiteren grenzwertigen elektrischen Leitfähigkeit, bei der die Entwicklungsinhibierung beim schwarzen Bereich aufrechterhalten bleibt, wird als die Entwicklungsbreite genommen. Bei einem größeren Zahlenwert ist die Entwicklungsbreite breiter. Die Ergebnisse werden in Tabelle 1 gezeigt.
  • (Bewertung der Tintenannahmeeigenschaften)
  • Jede der Positiv-Flachdruckplattenvorläufer, die gemäß den Beispielen und Vergleichsbeispielen erhalten wurden, wurde in einen Trendsetter 3244 (Handelsname, hergestellt von CREO Co., Ltd.) eingesetzt und ein Testmuster wurde bildweise gezeichnet (belichtet) unter den Bedingungen einer Strahlintensität von 10,0 W und einer Trommelrotationsgeschwindigkeit von 250 U/min.
  • Nach dem Belichten unter den obigen Bedingungen wurde jeder der Flachdruckplattenvorläufer gemäß den Beispielen 1 bis 3 und Vergleichsbeispielen 1 und 2 in einen PS-Prozessor LP-940H (Handelsname, hergestellt von Fuji Photo Film Co., Ltd.) eingesetzt, der mit einem Entwickler DT-2 (Handelsname, hergestellt von Fuji Photo Film Co., Ltd.) (dessen elektrische Leitfähigkeit durch Verdünnen auf 43 mS/cm eingestellt wurde) und einem Finisher FP-2W (Handelsname, hergestellt von Fuji Photo Film Co., Ltd.) (1:1 verdünnt) beschickt worden war, und mit einer bei 30°C gehaltenen Temperatur über eine Entwicklungszeitspanne von 12 Sekunden entwickelt.
  • Ferner wurde jeder der Flachdruckplattenvorläufer gemäß den Beispielen 4 bis 6 und Vergleichsbeispielen 3 und 4 in einen PS-Prozessor LP-940HII (Handelsname, hergestellt von Fuji Photo Film Co., Ltd.) eingesetzt, der mit einer Lösung, die durch Einblasen von Kohlendioxidgas in einen mit Wasser verdünnten (1:9) Entwickler DT-2R (Handelsname, hergestellt von Fuji Photo Film Co., Ltd.), so dass dessen elektrische Leitfähigkeit auf 54 mS/cm eingestellt wurde, erhalten wurde, und mit einer bei 30°C gehaltenen Temperatur über eine Entwicklungszeitspanne von 12 Sekunden entwickelt.
  • Danach wurde jede der Druckplatten gemäß den Beispielen und Vergleichsbeispielen in eine Heidel KOR-D-Maschine zum Drucken eingesetzt, die Zahl der Drucke vom Beginn des Druckens bis zum ersten, bei dem normale Affinität der Tinte zu einem Bildbereich beobachtet wurde, wurde gezählt und es wurde abgeschätzt, dass die Tintenannahmeeigenschaften besser sind, je kleiner die Zahl ist. Die Ergebnisse sind in Tabelle 1 dargestellt. Tabelle 1
    Substrat Verbindung der Unterzugsschicht Spezifische Strukur Polymer oder Vergleichspolymer Oniumsalz Entwicklungsbreite (mS/cm) Tintenannahmeeigenschaften (Blatt)
    Beispiel 1 A I a C-1 12 10
    Beispiel 2 B II b C-2 12 5
    Beispiel 3* C I c C-10 11 5
    Vergleichsbeispiel 1 A I g - 4 75
    Vergleichsbeispiel 2 B II (i) C-1 5 75
    Beispiel 4* A I d C-12 10 10
    Beispiel 5* B II e C-19 10 10
    Beispiel 6* D I f C-27 11 10
    Vergleichsbeispiel 3 C I h - 4 100
    Vergleichsbeispiel 4 D II (i) C-2 5 100
    • *bezeichnet ein Vergleichsbeispiel
  • In der Tabelle 1 sind die "spezifischen Strukturpolymere" wie folgt. [Spezifische Strukturpolymere]
    Figure 00660001
    • • Spezifisches Strukturpolymer (a): (a/b/c/d/e = 36/37/2/25/0, gewichtsmittleres Molekulargewicht: 16.000) R1 = n-Butylgruppe R2 = 4-Hydroxybenzylgruppe
    • • Spezifisches Strukturpolymer (b): (a/b/c/d/e = 12/49/17/22/0, gewichtsmittleres Molekulargewicht: 14.000) R1 = n-Butylgruppe R2 = 3-Hydroxybenzylgruppe
    • • Spezifisches Strukturpolymer (c): (a/b/c/d/e = 30/41/2/20/9, gewichtsmittleres Molekulargewicht: 18.000) R1 = n-Butylgruppe R2 = 2-Hydroxybenzylgruppe R3 = Glyoxylatgruppe
    • • Spezifisches Strukturpolymer (d): (a/b/c/d/e = 21/43/2/24/10, gewichtsmittleres Molekulargewicht: 16.000) R1 = n-Butylgruppe R2 = 3-Hydroxybenzylgruppe R3 = Propargylgruppe
    • • Spezifisches Strukturpolymer (e): (a/b/c/d/e = 38/42/2/18/0, gewichtsmittleres Molekulargewicht: 18.000) R1 = n-Butylgruppe R2 = 2-Hydroxybenzylgruppe
    • • Spezifisches Strukturpolymer (f): (a/b/c/d/e = 25/38/12/26/0, gewichtsmittleres Molekulargewicht: 16.000) R1 = n-Butylgruppe R2 = 4-Hydroxybenzylgruppe
    • • Spezifisches Strukturpolymer (g): (a/b/c/d/e = 16/10/12/44/18, gewichtsmittleres Molekulargewicht: 18.000) R1 = n-Isovalerylgruppe R2 = 2-Hydroxybenzylgruppe R36 = 4-Formylphenoxyacetatgruppe
    • • Spezifisches Strukturpolymer (h): (a/b/c/d/e = 14/44/2/40/0, gewichtsmittleres Molekulargewicht: 16.000) R1 = n-Butylgruppe R2 = 3,5-Dibrom-4-hydroxybenzylgruppe
    • • Das Polymer (i): Vergleichspolymer N-(4-Aminosulfonylphenyl)methacrylamid/acrylnitril/methylmethacrylat (36/34/30, gewichtsmittleres Molekulargewicht 50.000).
  • Wie in Tabelle 1 gezeigt wurde gefunden, dass in den Flachdruckplattenvorläufern gemäß den Beispielen 1 bis 6, die ein spezifisches Strukturpolymer und ein Oniumsalz und einen Infrarotabsorber umfassen, sowohl diejenigen, deren Aufzeichnungsschicht eine Einschichtstruktur aufweist, als auch diejenigen, deren Aufzeichnungsschicht eine Trennphasenstruktur aufweist, in ähnlicher Weise eine breite Entwicklungsbreite und hervorragende Tintenannahmeeigenschaften eines Bildbereichs zeigen.
  • Andererseits waren die Flachdruckplattenvorläufer gemäß den Vergleichsbeispielen 2 und 4, in denen eine Zusammensetzung, die kein spezifisches Strukturpolymer enthält, in der Aufzeichnungsschicht verwendet wird, sowohl hinsichtlich der Entwicklungsbreite als auch der Tintenannahmeeigenschaften des Bildbereichs den Flachdruckplattenvorläufern gemäß den Beispielen 1–6 unterlegen. Ferner wurde gefunden, dass die Flachdruckplattenvorläufer gemäß den Vergleichsbeispielen 1 und 3, in denen eine Zusammensetzung, die das spezifische Strukturpolymer, aber nicht das Oniumsalz enthält, verwendet wird, schlecht sowohl im Hinblick auf die Entwicklungsbreite als auch im Hinblick auf die Tintenannahmeeigenschaften des Bildbereichs waren.

Claims (11)

  1. Positiv-Flachdruckplattenvorläufer, umfassend: ein Substrat; und eine Aufzeichnungsschicht, die auf dem Substrat angeordnet ist und eine Polymerverbindung, die durch die nachstehende Formel (I) repräsentiert wird, ein Oniumsalz, das durch die nachstehende Formel (A) repräsentiert wird, einen Infrarotabsorber und ein Novolakharz enthält: Formel (I):
    Figure 00690001
    worin in Formel (I) R1 eine Kohlenwasserstoffgruppe darstellt und R2 eine aromatische Gruppe darstellt, die als eine Substituentengruppe eine Hydroxylgruppe aufweist. m = 5 bis 40 Mol-%, n = 10 bis 60 Mol-%, o = 1 bis 20 Mol-% und p = 5 bis 50 Mol-%; M+X– Formel (A)worin in der Formel (A) M+ ein Kation darstellt, das aus Sulfonium oder Iodonium, welches eine Substituentengruppe aufweisen kann, ausgewählt ist, und X– ein Gegenanion darstellt.
  2. Positiv-Flachdruckplattenvorläufer gemäß Anspruch 1, worin R1 der strukturellen Einheit (a) eine Alkylgruppe mit 1 bis 12 Kohlenstoffatomen ist.
  3. Positiv-Flachdruckplattenvorläufer gemäß Anspruch 2, worin R1 der strukturellen Einheit (a) eine Alkylgruppe mit 3 bis 10 Kohlenstoffatomen ist.
  4. Positiv-Flachdruckplattenvorläufer gemäß Anspruch 1, worin ein aromatischer Ring, der in R2 der strukturellen Einheit (b) enthalten ist, aus der Gruppe ausgewählt ist, die aus einem Benzolring, einem Naphthalinring und einem Antracenring besteht.
  5. Positiv-Flachdruckplattenvorläufer gemäß Anspruch 1, worin R2 der strukturellen Einheit (b) eine aromatische Gruppe ist, die eine einwertige atomare Nicht-Metallgruppe, die sich von Wasserstoff unterscheidet, aufweist.
  6. Positiv-Flachdruckplattenvorläufer gemäß Anspruch 1, worin die Polymerverbindung eine Polymerverbindung ist, die durch nachstehende Formel (II) dargestellt wird: Formel (II):
    Figure 00700001
    Figure 00710001
    worin in der strukturellen Einheit (e) q im Bereich von 0 bis 20 Mol-% liegt und R3 -(CH2)xCOOH, -C≡CH oder eine nachstehend gezeigte Gruppe darstellt und x eine ganze Zahl von 1 oder größer darstellt
    Figure 00710002
    worin in der Formel R4 -COOH, -(CH2)xCOOH, oder -O-(CH2)xCOOH darstellt und X eine ganze Zahl von 1 oder größer darstellt.
  7. Positiv-Flachdruckplattenvorläufer gemäß Anspruch 1, worin in Formel (I) m im Bereich von 10 bis 35 Mol-% liegt.
  8. Positiv-Flachdruckplattenvorläufer gemäß Anspruch 1, worin in der Formel (I) n im Bereich von 20 bis 55 Mol-% liegt.
  9. Positiv-Flachdruckplattenvorläufer gemäß Anspruch 1, worin in der Formel (I) o im Bereich von 2 bis 15 Mol-% liegt.
  10. Positiv-Flachdruckplattenvorläufer gemäß Anspruch 1, worin in der Formel (I) p im Bereich von 10 bis 45 Mol-% liegt.
  11. Positiv-Flachdruckplattenvorläufer gemäß Anspruch 6, worin in der Formel (II) q im Bereich von 3 bis 17 Mol-% liegt.
DE602005003072T 2004-08-18 2005-08-16 Flachdruckplattenvorläufer Active DE602005003072T2 (de)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004238183A JP2006058430A (ja) 2004-08-18 2004-08-18 平版印刷版原版
JP2004238183 2004-08-18

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE602005003072D1 DE602005003072D1 (de) 2007-12-13
DE602005003072T2 true DE602005003072T2 (de) 2008-08-14

Family

ID=35106826

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE602005003072T Active DE602005003072T2 (de) 2004-08-18 2005-08-16 Flachdruckplattenvorläufer

Country Status (4)

Country Link
EP (1) EP1627732B1 (de)
JP (1) JP2006058430A (de)
AT (1) ATE376929T1 (de)
DE (1) DE602005003072T2 (de)

Families Citing this family (29)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5283339B2 (ja) * 2006-03-09 2013-09-04 富士フイルム株式会社 画像形成材料、画像形成方法、平版印刷版原版及び平版印刷方法
WO2007107494A1 (en) * 2006-03-17 2007-09-27 Agfa Graphics Nv Method for making a lithographic printing plate
ATE517758T1 (de) * 2006-03-17 2011-08-15 Agfa Graphics Nv Verfahren zur herstellung einer lithografiedruckform
US7910768B2 (en) 2006-05-17 2011-03-22 American Dye Source, Inc. Materials for lithographic plates coatings, lithographic plates and coatings containing same, methods of preparation and use
GB2439734A (en) * 2006-06-30 2008-01-09 Peter Andrew Reath Bennett Coating for a lithographic precursor and use thereof
JP4828347B2 (ja) * 2006-08-01 2011-11-30 株式会社クラレ ポリビニルアセタール樹脂
JP4866209B2 (ja) * 2006-11-02 2012-02-01 積水化学工業株式会社 ポジ型感光性樹脂組成物
US7544462B2 (en) 2007-02-22 2009-06-09 Eastman Kodak Company Radiation-sensitive composition and elements with basic development enhancers
US7723012B2 (en) 2007-06-28 2010-05-25 Eastman Kodak Company Radiation-sensitive compositions and elements with solvent resistant poly(vinyl acetal)s
US8088549B2 (en) 2007-12-19 2012-01-03 Eastman Kodak Company Radiation-sensitive elements with developability-enhancing compounds
US20100227269A1 (en) 2009-03-04 2010-09-09 Simpson Christopher D Imageable elements with colorants
US8383319B2 (en) 2009-08-25 2013-02-26 Eastman Kodak Company Lithographic printing plate precursors and stacks
EP2366545B1 (de) 2010-03-19 2012-12-05 Agfa Graphics N.V. Lithographiedruckplattenvorläufer
JP5698750B2 (ja) 2010-08-19 2015-04-08 株式会社クラレ ポリビニルアセタール樹脂、そのスラリー組成物、セラミックグリーンシート及び積層セラミックコンデンサ
EP2796929B1 (de) 2011-03-31 2015-12-30 Fujifilm Corporation Lithographiedruckplattenvorläufer und Verfahren zur Herstellung davon
US8771920B2 (en) * 2011-03-31 2014-07-08 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor and method of preparing the same
US8632940B2 (en) 2011-04-19 2014-01-21 Eastman Kodak Company Aluminum substrates and lithographic printing plate precursors
US8722308B2 (en) 2011-08-31 2014-05-13 Eastman Kodak Company Aluminum substrates and lithographic printing plate precursors
US20130255515A1 (en) 2012-03-27 2013-10-03 Celin Savariar-Hauck Positive-working lithographic printing plate precursors
ES2642967T3 (es) 2013-01-01 2017-11-20 Agfa Graphics Nv Copolímeros (de etileno, vinilacetal) y precursores de plancha de impresión litográfica que incluyen tales copolímeros
EP2933278B1 (de) 2014-04-17 2018-08-22 Agfa Nv (Ethylen-,Vinylacetal-)Copolymere und ihre Verwendung in Lithographiedruckplattenvorläufern
EP2944657B1 (de) 2014-05-15 2017-01-11 Agfa Graphics Nv (Ethylen-,Vinylacetal-)Copolymere und deren Verwendung in Lithographiedruckplattenvorläufern
EP2955198B8 (de) 2014-06-13 2018-01-03 Agfa Nv Ethylenvinylacetal-Copolymere und deren Verwendung in lithographischen Druckplattenvorläufer
EP2963496B1 (de) 2014-06-30 2017-04-05 Agfa Graphics NV Lithografiedruckplattenvorläufer mit (Ethylen-, Vinylacetal-) Copolymeren
EP3130465B1 (de) 2015-08-12 2020-05-13 Agfa Nv Wärmeempfindlicher lithografiedruckplattenvorläufer
CA3017777A1 (en) 2016-03-16 2017-09-21 Agfa Nv Method for processing a lithographic printing plate
CN109690403A (zh) * 2016-09-29 2019-04-26 富士胶片株式会社 正型平板印刷版原版及平板印刷版的制作方法
WO2019150998A1 (ja) * 2018-01-31 2019-08-08 富士フイルム株式会社 ポジ型平版印刷版原版及び平版印刷版の作製方法
EP3778253A1 (de) 2019-08-13 2021-02-17 Agfa Nv Verfahren zur verarbeitung einer lithografiedruckplatte

Family Cites Families (76)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR44686E (fr) 1933-02-08 1935-03-20 Procédé d'obtention de photographies ou films cinématographiques en deux ou en plusieurs couleurs
BE506677A (de) 1950-10-31
BE540601A (de) 1950-12-06
NL130248C (de) 1959-01-21
NL267931A (de) 1960-08-05 1900-01-01
US3181461A (en) 1963-05-23 1965-05-04 Howard A Fromson Photographic plate
US3280734A (en) 1963-10-29 1966-10-25 Howard A Fromson Photographic plate
ZA6807938B (de) 1967-12-04
CA990722A (en) 1971-08-25 1976-06-08 Yoshinobu Murakami Organic photoconductive layer sensitized with trimethine compound
DE2331377C2 (de) 1973-06-20 1982-10-14 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Lichtempfindliches Kopiermaterial
US3902734A (en) 1974-03-14 1975-09-02 Twm Mfg Co Frames for axle suspension systems
GB1513368A (en) 1974-07-08 1978-06-07 Vickers Ltd Processing of radiation-sensitive members
JPS51143409A (en) 1975-06-04 1976-12-09 Fuji Photo Film Co Ltd Method of making lithographic press plate
JPS538128A (en) 1976-07-09 1978-01-25 Fuji Photo Film Co Ltd Photosolubilizable composition
DE2641100C2 (de) 1976-09-13 1987-02-26 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Lichtempfindliches Gemisch
JPS5462004A (en) 1977-10-24 1979-05-18 Fuji Photo Film Co Ltd Method of developing flat positive printing plate
JPS5522759A (en) 1978-08-08 1980-02-18 Fuji Photo Film Co Ltd Developing method of positive type photosensitive lithographic printing plate
JPS5463902A (en) 1977-10-31 1979-05-23 Fuji Photo Film Co Ltd Method of making offset printing plate
JPS5474728A (en) 1977-11-28 1979-06-15 Fuji Photo Film Co Ltd Photosensitive composition
JPS55121447A (en) 1979-03-15 1980-09-18 Fuji Photo Film Co Ltd Lithographic printing plate correcting agent
US4283475A (en) 1979-08-21 1981-08-11 Fuji Photo Film Co., Ltd. Pentamethine thiopyrylium salts, process for production thereof, and photoconductive compositions containing said salts
US4327169A (en) 1981-01-19 1982-04-27 Eastman Kodak Company Infrared sensitive photoconductive composition, elements and imaging method using trimethine thiopyrylium dye
JPS58112793A (ja) 1981-12-28 1983-07-05 Ricoh Co Ltd 光情報記録部材
JPS58112792A (ja) 1981-12-28 1983-07-05 Ricoh Co Ltd 光情報記録部材
JPS58125246A (ja) 1982-01-22 1983-07-26 Ricoh Co Ltd レ−ザ記録媒体
JPS58220143A (ja) 1982-06-16 1983-12-21 Canon Inc 有機被膜
JPS58181690A (ja) 1982-04-19 1983-10-24 Canon Inc 光学記録媒体
JPS58173696A (ja) 1982-04-06 1983-10-12 Canon Inc 光学記録媒体
JPS58181051A (ja) 1982-04-19 1983-10-22 Canon Inc 有機光導電体
JPS58194595A (ja) 1982-05-10 1983-11-12 Canon Inc 光学記録媒体
JPS5948187A (ja) 1982-09-10 1984-03-19 Nec Corp 光学記録媒体
JPS58224793A (ja) 1982-06-25 1983-12-27 Nec Corp 光学記録媒体
JPS5921646A (ja) 1982-06-25 1984-02-03 Nippon Kayaku Co Ltd エチレン性不飽和化合物およびその製造法
JPS5984248A (ja) 1982-11-05 1984-05-15 Canon Inc 有機被膜
JPS5984249A (ja) 1982-11-05 1984-05-15 Canon Inc 有機被膜
JPS5941363A (ja) 1982-08-31 1984-03-07 Canon Inc 新規ピリリウム系染料およびその製造方法
JPS5973996A (ja) 1982-10-22 1984-04-26 Nec Corp 光学記録用媒体
JPS5984356A (ja) 1982-11-05 1984-05-16 Ricoh Co Ltd 光デイスク原盤の作成方法
JPS59121044A (ja) 1982-12-27 1984-07-12 Fuji Photo Film Co Ltd 光可溶化組成物
JPS59146061A (ja) 1983-02-09 1984-08-21 Canon Inc 有機被膜
JPS59146063A (ja) 1983-02-09 1984-08-21 Canon Inc 有機被膜
JPS59174842A (ja) 1983-03-24 1984-10-03 Fuji Photo Film Co Ltd ポジ型感光性平版印刷版を用いた製版方法
JPS59202829A (ja) 1983-05-04 1984-11-16 Sanpo Gokin Kogyo Kk 合成樹脂製品の射出成型金型
JPS603626A (ja) 1983-06-22 1985-01-10 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
JPS6063744A (ja) 1983-08-23 1985-04-12 Nec Corp 光学的情報記録媒体
JPS6052940A (ja) 1983-09-02 1985-03-26 Nec Corp 光学記録媒体
JPS6078787A (ja) 1983-10-07 1985-05-04 Ricoh Co Ltd 光学的情報記録媒体
DE3406101A1 (de) 1984-02-21 1985-08-22 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Verfahren zur zweistufigen hydrophilierenden nachbehandlung von aluminiumoxidschichten mit waessrigen loesungen und deren verwendung bei der herstellung von offsetdruckplattentraegern
JPS61143748A (ja) 1984-12-17 1986-07-01 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
JPS61151644A (ja) 1984-12-26 1986-07-10 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
JPS61159655A (ja) 1985-01-07 1986-07-19 Fuji Photo Film Co Ltd 製版方法
US4737426A (en) * 1985-05-15 1988-04-12 Ciba-Geigy Corporation Cyclic acetals or ketals of beta-keto esters or amides
JPS6231859A (ja) 1985-08-01 1987-02-10 Fuji Photo Film Co Ltd 製版方法
JPS6256971A (ja) 1985-09-05 1987-03-12 Fuji Photo Film Co Ltd 電子写真感光材料
JPS6259963A (ja) 1985-09-10 1987-03-16 Fuji Photo Film Co Ltd 電子写真感光材料
JPH083630B2 (ja) 1986-01-23 1996-01-17 富士写真フイルム株式会社 感光性組成物
US4756993A (en) 1986-01-27 1988-07-12 Fuji Photo Film Co., Ltd. Electrophotographic photoreceptor with light scattering layer or light absorbing layer on support backside
JPH0743501B2 (ja) 1986-04-24 1995-05-15 富士写真フイルム株式会社 ポジ型感光性平版印刷版
JPH065384B2 (ja) 1986-06-12 1994-01-19 富士写真フイルム株式会社 感光性印刷版
JPS6358440A (ja) 1986-08-29 1988-03-14 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
US5156938A (en) 1989-03-30 1992-10-20 Graphics Technology International, Inc. Ablation-transfer imaging/recording
JPH03208514A (ja) 1990-01-04 1991-09-11 Nippon Steel Corp 塗装鋼板の切断方法
JP2639741B2 (ja) 1990-05-02 1997-08-13 富士写真フイルム株式会社 感光性組成物
JP3515846B2 (ja) 1995-02-06 2004-04-05 富士写真フイルム株式会社 ネガ型画像記録材料
JP3622063B2 (ja) 1995-11-20 2005-02-23 光洋精工株式会社 油圧制御弁
JP3814961B2 (ja) 1996-08-06 2006-08-30 三菱化学株式会社 ポジ型感光性印刷版
JP3731356B2 (ja) 1997-08-13 2006-01-05 三菱化学株式会社 ポジ型感光性組成物、感光性平版印刷版及びポジ画像の形成方法
JP3810538B2 (ja) 1997-11-28 2006-08-16 富士写真フイルム株式会社 ポジ型画像形成材料
JP2000105454A (ja) 1997-12-02 2000-04-11 Mitsubishi Chemicals Corp ポジ型感光性組成物及びポジ型感光性平版印刷版
JPH11288093A (ja) 1998-04-06 1999-10-19 Fuji Photo Film Co Ltd 赤外線レーザ用ポジ型感光性組成物
EP0950517B1 (de) 1998-04-15 2001-10-04 Agfa-Gevaert N.V. Wärmeempfindliches Aufzeichnungsmaterial zur Herstellung von positiv arbeitenden Druckplatten
US6255033B1 (en) 1999-07-30 2001-07-03 Creo, Ltd. Positive acting photoresist compositions and imageable element
JP2001133969A (ja) 1999-11-01 2001-05-18 Fuji Photo Film Co Ltd ネガ型平版印刷版原版
JP2002023360A (ja) 2000-07-12 2002-01-23 Fuji Photo Film Co Ltd ネガ型画像記録材料
JP4156784B2 (ja) 2000-07-25 2008-09-24 富士フイルム株式会社 ネガ型画像記録材料及び画像形成方法
JP2002139828A (ja) * 2000-11-06 2002-05-17 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版

Also Published As

Publication number Publication date
EP1627732B1 (de) 2007-10-31
ATE376929T1 (de) 2007-11-15
EP1627732A1 (de) 2006-02-22
JP2006058430A (ja) 2006-03-02
DE602005003072D1 (de) 2007-12-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE602005003072T2 (de) Flachdruckplattenvorläufer
DE69829590T2 (de) Positiv arbeitendes photoempfindliches Aufzeichnungsmaterial für Infrarotlaser und positiv arbeitende Zusammensetzung für Infrarotlaser
DE69930019T2 (de) Lichtempfindliche Harzzusammensetzung und Flachdruckplatte
DE69812243T2 (de) Positiv arbeitende lichtempfindliche Zusammensetzung für Infrarot Laser Aufzeichnung
DE60008184T2 (de) Fotoempfindliche Zusammensetzung und Flachdruckplatte, die diese Zusammensetzung verwendet
JP4480812B2 (ja) 感光又は感熱性ポジ型平版印刷版原版、および製版方法
DE60126000T2 (de) Wärmeempfindliche Flachdruckplatte
DE60014207T2 (de) Positives planographisches Druckmaterial
DE60106796T2 (de) Bildaufzeichnungsmaterial und Flachdruckplatte mit diesem Bildaufzeichnungsmaterial
DE60123173T2 (de) Negativ arbeitende Flachdruckplatte
DE69828364T2 (de) Positiv-Typ photoempfindliche Zusammensetzung für Infrarotlaser
DE60125432T3 (de) Verfahren zur Herstellung einer Flachdruck- Originalplatte
DE60117194T2 (de) Flachdruckplattenvorstufe
JP3917422B2 (ja) 画像形成材料
DE602005000609T2 (de) Positiv arbeitende photoempfindliche Zusammensetzung
JP4210039B2 (ja) ポジ型画像形成材料
US6214518B1 (en) Negative type image recording material and method of plate-making using the same
JP3798547B2 (ja) ネガ型画像記録材料
DE69701266T2 (de) Negativarbeitendes Bildaufzeichnungsmaterial
DE60214804T2 (de) Flachdruckplattenvorläufer
JP4085006B2 (ja) 平版印刷版用原版
JP2003029400A (ja) 画像形成材料
JP3836605B2 (ja) ポジ型感光性樹脂組成物およびこれを用いた平版印刷用原版
JP2006084592A (ja) 感光性組成物
DE602005002324T2 (de) Flachdruckplattenvorläufer.

Legal Events

Date Code Title Description
8364 No opposition during term of opposition