JPS5921646A - エチレン性不飽和化合物およびその製造法 - Google Patents
エチレン性不飽和化合物およびその製造法Info
- Publication number
- JPS5921646A JPS5921646A JP57108528A JP10852882A JPS5921646A JP S5921646 A JPS5921646 A JP S5921646A JP 57108528 A JP57108528 A JP 57108528A JP 10852882 A JP10852882 A JP 10852882A JP S5921646 A JPS5921646 A JP S5921646A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- value
- parts
- integer
- caprolactone
- average value
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D11/00—Inks
- C09D11/02—Printing inks
- C09D11/10—Printing inks based on artificial resins
- C09D11/106—Printing inks based on artificial resins containing macromolecular compounds obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
- C09D11/107—Printing inks based on artificial resins containing macromolecular compounds obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds from unsaturated acids or derivatives thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F20/00—Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride, ester, amide, imide or nitrile thereof
- C08F20/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms, Derivatives thereof
- C08F20/10—Esters
- C08F20/26—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen
- C08F20/28—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen containing no aromatic rings in the alcohol moiety
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は新規なエチレン硅不飽和化合物およびその製造
方法に関するものである。
方法に関するものである。
カプロラクトンと種々の重合開始剤とよりポリカプロラ
クトンニス□チルのような、相当するそれらの誘導体を
製造する反応は、特公昭３４−５２９２号公報、特公昭
３４−５２９３号公報、特公昭４１−９５５９号公報等
に開示されている。また、従来より各種のアクリレート
エステル類が合成されている。しかしながらジペンタエ
リスリトールのカプロラクトン誘導体のアクリレートエ
ステルまたはそれらの予想外の性質のいずれについても
先行技術において示唆：され、あるいは開示されたこと
はなかった。
クトンニス□チルのような、相当するそれらの誘導体を
製造する反応は、特公昭３４−５２９２号公報、特公昭
３４−５２９３号公報、特公昭４１−９５５９号公報等
に開示されている。また、従来より各種のアクリレート
エステル類が合成されている。しかしながらジペンタエ
リスリトールのカプロラクトン誘導体のアクリレートエ
ステルまたはそれらの予想外の性質のいずれについても
先行技術において示唆：され、あるいは開示されたこと
はなかった。
、杢発明の新規なエチレン性不飽和化合物は下１□
（式中Ｒは１−１．又はＣｌ−ｌ３；ｍ及びｎは１〜５
の′ □値を有する整数であって、好ましくは１〜３、
最も好ましくは１で玩り；ｐは１〜６の値を有する整数
てちり、ｑ及びｒは０．又は１〜３の値を有する整数で
あって、好ましくは０．又は１であり；Ｓは０．又は１
〜５の値を有する整数であり； ｐ＋ｑ＋ｒ、＋ｓは６
であり；ｑ ４１ ｒは０．又はＩ〜３の値を有する整
数であって好捷しくは０゜又は１であり； ｐ ＋ｓは
３〜６の値を有する整数であって、好ましくは５又は６
であり１ｍｐ＋ｎｑの平均合計値が１〜３０の数でち−
って、好ましくは１〜６である。ン この新規なエチレン性不飽和化合物〔■〕は一般式ＣＩ
Ｄ （但し、式Ｃ１０中ａは１〜５の値を有する整数であ□
って、好ましくは１〜３、最も好捷しくは１であり、Ｘ
は１〜６の値を有する整数でちり、ｙは０．又は１〜５
の値を有する整数でありｘ十ｙは６であり、２ｘの平均
合計値は１〜３０の薮であって、好捷しくは、１〜６で
ある。）で表わされるジペンタエリスリトールとニブシ
ロンカプロラクトンとの縮合物をアクリル酸もしくはメ
タクリル酸でエステル化する事によって製造する事を特
徴とする。この゛反応については下記冗おいて更に詳細
に論する。また一般式ＣＩＴ〕のジペンタエリスリトー
ルとニブ７０ンカプロラクトンとの縮合物は、ジペンタ
エリスリトールとニブシロンカプロラクトンとの反応に
より製造する。
の′ □値を有する整数であって、好ましくは１〜３、
最も好ましくは１で玩り；ｐは１〜６の値を有する整数
てちり、ｑ及びｒは０．又は１〜３の値を有する整数で
あって、好ましくは０．又は１であり；Ｓは０．又は１
〜５の値を有する整数であり； ｐ＋ｑ＋ｒ、＋ｓは６
であり；ｑ ４１ ｒは０．又はＩ〜３の値を有する整
数であって好捷しくは０゜又は１であり； ｐ ＋ｓは
３〜６の値を有する整数であって、好ましくは５又は６
であり１ｍｐ＋ｎｑの平均合計値が１〜３０の数でち−
って、好ましくは１〜６である。ン この新規なエチレン性不飽和化合物〔■〕は一般式ＣＩ
Ｄ （但し、式Ｃ１０中ａは１〜５の値を有する整数であ□
って、好ましくは１〜３、最も好捷しくは１であり、Ｘ
は１〜６の値を有する整数でちり、ｙは０．又は１〜５
の値を有する整数でありｘ十ｙは６であり、２ｘの平均
合計値は１〜３０の薮であって、好捷しくは、１〜６で
ある。）で表わされるジペンタエリスリトールとニブシ
ロンカプロラクトンとの縮合物をアクリル酸もしくはメ
タクリル酸でエステル化する事によって製造する事を特
徴とする。この゛反応については下記冗おいて更に詳細
に論する。また一般式ＣＩＴ〕のジペンタエリスリトー
ルとニブ７０ンカプロラクトンとの縮合物は、ジペンタ
エリスリトールとニブシロンカプロラクトンとの反応に
より製造する。
ジペン〉エリスリトールとニブシロンカプロラクトンの
反応中において触媒的有効量の触媒を使用することが好
ましく、その使用量はカプロラクトンの重量を基準にし
て０．００１〜１．０重量％好ましくは０，０１〜０．
２重量％である。有□用な触媒はラクトン付加物化学分
野における当業者に公知のものでちり、それら有用な触
媒の例として、テトライソグロビルチタネート、テトラ
オチルチタネ−１・等の有機チタン化合物、テトラフェ
ニルすず、テトラオクチルすず、ジフェニルすずジラウ
レート、ジラウリルすずオキサイド、ジ−ローブチルす
ずジクロライド等のすず化合物などを挙げることができ
る。ジペンタエリスリトールとニブシロンカプロラクト
ンの反応は５０Ｃ〜３００℃、好１しくに □１３０
〜２００Ｃの温度において、仕込み反応物間の反応が完
結するのに十分な時間にわたって行う。反応に仕込むニ
ブシロンカプロラクトンの量はジペンタエリスリトール
の仕込量１モル当り約１モル〜３０モル才たはそれ以上
、好１しくは１〜６モルである。
反応中において触媒的有効量の触媒を使用することが好
ましく、その使用量はカプロラクトンの重量を基準にし
て０．００１〜１．０重量％好ましくは０，０１〜０．
２重量％である。有□用な触媒はラクトン付加物化学分
野における当業者に公知のものでちり、それら有用な触
媒の例として、テトライソグロビルチタネート、テトラ
オチルチタネ−１・等の有機チタン化合物、テトラフェ
ニルすず、テトラオクチルすず、ジフェニルすずジラウ
レート、ジラウリルすずオキサイド、ジ−ローブチルす
ずジクロライド等のすず化合物などを挙げることができ
る。ジペンタエリスリトールとニブシロンカプロラクト
ンの反応は５０Ｃ〜３００℃、好１しくに □１３０
〜２００Ｃの温度において、仕込み反応物間の反応が完
結するのに十分な時間にわたって行う。反応に仕込むニ
ブシロンカプロラクトンの量はジペンタエリスリトール
の仕込量１モル当り約１モル〜３０モル才たはそれ以上
、好１しくは１〜６モルである。
酸化副反応を最小化するために、該反応は窒素等の不活
性ガス雰囲気下において行うことが好ましい。反応の終
りに当って、該ジペンタエリスリトールとニブシロンカ
プロラクトンとの縮合物の混合物からなる生成物をその
−ｉ寸利用することができる。
性ガス雰囲気下において行うことが好ましい。反応の終
りに当って、該ジペンタエリスリトールとニブシロンカ
プロラクトンとの縮合物の混合物からなる生成物をその
−ｉ寸利用することができる。
エチレン性不飽和化合物（一般式〔■〕）はジペンタエ
リスリトールとニブシロンカプロラクトンとの縮合物（
一般式〔■〕）とアクリル酸もしくはメタクリル酸また
はそれらの混合物との反応により製造される。アクリル
酸捷たはメタクリル酸の使用量は、仕込んだジベンタエ
リスＩＪ ）−ルとニブシロンカプロラクトンとの縮合
物（一般式１：１０ ） ］モル当り、それらの約６〜
１２モルである。化学量論的量である６モルを該ジペン
タエリスリトールとニブシロンカプロラクトンとの縮合
物（一般式〔■〕）の水酸基の反応性水素と反応させる
ことが望ましいけれど実際上は反応を完全に行うことが
できる様にそれらのわずかに過剰量を仕込むことが好ま
しい。
リスリトールとニブシロンカプロラクトンとの縮合物（
一般式〔■〕）とアクリル酸もしくはメタクリル酸また
はそれらの混合物との反応により製造される。アクリル
酸捷たはメタクリル酸の使用量は、仕込んだジベンタエ
リスＩＪ ）−ルとニブシロンカプロラクトンとの縮合
物（一般式１：１０ ） ］モル当り、それらの約６〜
１２モルである。化学量論的量である６モルを該ジペン
タエリスリトールとニブシロンカプロラクトンとの縮合
物（一般式〔■〕）の水酸基の反応性水素と反応させる
ことが望ましいけれど実際上は反応を完全に行うことが
できる様にそれらのわずかに過剰量を仕込むことが好ま
しい。
該反応は、アクリル二重結合の重合を最小化捷たは遅延
させるために重合防止剤と接触させて行うことが好塘し
い。上記重合防止剤は当業者に周知であり、それらは該
混合物の０．０１〜５重量％の濃度で使用する。それら
重合防止剤の例としてハイドロキノン、ｐ−メトキシフ
ェノール、２．／Ｉ−ジメチル−６−１−ブチルフェノ
ール、３−ヒドロキシチオール、α−ニトロソ−β−ナ
フトール、ｐ−ベンゾキノン、２，５−ジヒドロキシ−
ｐ−キノン、フェノチアジン、Ｎ−ニトロンジフェニル
アミン、銅塩等が挙げられろ。該反応は、一般的に約５
０Ｕ〜１３０Ｃ１好ましくは６５Ｃ〜９０ｃの温度にお
いてエチレン性不飽和化合物（一般式〔ＩＤ）を生成す
るための、アクリル酸捷たはメタクリル酸によるジペン
タエリスリトールとニブシロンカプロラクトンの縮合物
（一般式［：ＩＤ ）のエステル化を確実如完結させる
のに十分な時間にわたって行う。この時間は、バッチの
規模、それぞれの反応物及び触媒及び採用される反応条
件により変動する。１だエステル化触媒をも、使用され
るアクリル酸捷たはメタクリル酸に対して０、１〜１５
モル％、好捷しくは１〜６モル％の濃度で存在させる。
させるために重合防止剤と接触させて行うことが好塘し
い。上記重合防止剤は当業者に周知であり、それらは該
混合物の０．０１〜５重量％の濃度で使用する。それら
重合防止剤の例としてハイドロキノン、ｐ−メトキシフ
ェノール、２．／Ｉ−ジメチル−６−１−ブチルフェノ
ール、３−ヒドロキシチオール、α−ニトロソ−β−ナ
フトール、ｐ−ベンゾキノン、２，５−ジヒドロキシ−
ｐ−キノン、フェノチアジン、Ｎ−ニトロンジフェニル
アミン、銅塩等が挙げられろ。該反応は、一般的に約５
０Ｕ〜１３０Ｃ１好ましくは６５Ｃ〜９０ｃの温度にお
いてエチレン性不飽和化合物（一般式〔ＩＤ）を生成す
るための、アクリル酸捷たはメタクリル酸によるジペン
タエリスリトールとニブシロンカプロラクトンの縮合物
（一般式［：ＩＤ ）のエステル化を確実如完結させる
のに十分な時間にわたって行う。この時間は、バッチの
規模、それぞれの反応物及び触媒及び採用される反応条
件により変動する。１だエステル化触媒をも、使用され
るアクリル酸捷たはメタクリル酸に対して０、１〜１５
モル％、好捷しくは１〜６モル％の濃度で存在させる。
任意の公知のエステル化触媒を使用することができ、そ
れらの例としてｐ−トルエンスルホン酸、メタンスルホ
ン酸、リン酸、硫酸などを挙げることができる。ヘキサ
ン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエンのような不活
性溶剤を存在させて、このエステル化反応中に生成した
水分の除去を助けることが望ましい。このエチレン性不
飽和化合物（一般式〔ＩＤ）はコーティング及びインキ
用組成物のビヒクルとして有用であり、それらは放射線
により、才たは熱的手段により硬化させることがてきる
。
れらの例としてｐ−トルエンスルホン酸、メタンスルホ
ン酸、リン酸、硫酸などを挙げることができる。ヘキサ
ン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエンのような不活
性溶剤を存在させて、このエステル化反応中に生成した
水分の除去を助けることが望ましい。このエチレン性不
飽和化合物（一般式〔ＩＤ）はコーティング及びインキ
用組成物のビヒクルとして有用であり、それらは放射線
により、才たは熱的手段により硬化させることがてきる
。
放射線硬化はイオン化もしくは電子線のような微粒子放
射により、または紫外線放射のような化学線により行う
ことができる。化学線により硬化を行う場合には一般的
に当業界に公知の多くの種類の光増感剤または光重合開
始剤を包含させる。放射線硬化技術及び熱硬化技術は当
業者に周知であり、それらのそれぞれにより硬化を行う
ことができるようにすることについて何も苦労はない。
射により、または紫外線放射のような化学線により行う
ことができる。化学線により硬化を行う場合には一般的
に当業界に公知の多くの種類の光増感剤または光重合開
始剤を包含させる。放射線硬化技術及び熱硬化技術は当
業者に周知であり、それらのそれぞれにより硬化を行う
ことができるようにすることについて何も苦労はない。
該エチレン性不飽和化合物はそれ自体単独で、捷たは他
の単量体もしくは重合体と混合して使用することができ
る。この新規なエチレン性不飽和化合物は有機過酸化物
の添加によっても重合させることができる。
の単量体もしくは重合体と混合して使用することができ
る。この新規なエチレン性不飽和化合物は有機過酸化物
の添加によっても重合させることができる。
代表的な実施態様においては、アクリル酸、ジペンタエ
リスリトールとニブシロンカプロラクトンの縮合物（一
般式ＣＩＬＬ触媒、溶剤、重合防止剤を反応器に仕込む
。この混合物を、エステル化が実質上完結するまで加熱
し、次いで慣用の方法によりエチレン性不飽和化合物を
回収する。
リスリトールとニブシロンカプロラクトンの縮合物（一
般式ＣＩＬＬ触媒、溶剤、重合防止剤を反応器に仕込む
。この混合物を、エステル化が実質上完結するまで加熱
し、次いで慣用の方法によりエチレン性不飽和化合物を
回収する。
下記ジペンタエリスリトールとニブシロンカプロラクト
ンの縮合物の合成例及び実施例により更に本発明を説明
する。下記において部とあるのは、特に指定しない限り
重量を表わす。
ンの縮合物の合成例及び実施例により更に本発明を説明
する。下記において部とあるのは、特に指定しない限り
重量を表わす。
合成例１゜
攪拌機、温度調節装置、温度計、凝縮器を備えた２看反
応器に、ジペンタエリスリトール５０８部、ニブシロン
カプロラクトン４５６部、イングロビルチタネー）０．
２８部を仕込み、窒素中で１６０〜１７０Ｃに加熱し、
未反応のニブシロンカプロラクトンが１重量％以下にな
る捷で反応させた。得た縮合物はワックス状物質で水酸
基価６９】、酸価２．０であった。分子量測定の結果、
該ジペンタエリスリトールとニブシロンカプロラクトン
の縮合物は分子中にニブシロンカプロラクトン平均約２
個の何カ０量を有することが示された。
応器に、ジペンタエリスリトール５０８部、ニブシロン
カプロラクトン４５６部、イングロビルチタネー）０．
２８部を仕込み、窒素中で１６０〜１７０Ｃに加熱し、
未反応のニブシロンカプロラクトンが１重量％以下にな
る捷で反応させた。得た縮合物はワックス状物質で水酸
基価６９】、酸価２．０であった。分子量測定の結果、
該ジペンタエリスリトールとニブシロンカプロラクトン
の縮合物は分子中にニブシロンカプロラクトン平均約２
個の何カ０量を有することが示された。
以後これを［ジペンタエリスリトールとニブシロンカプ
ロラクトンの縮合物（２Ｍ）ｊとする。
ロラクトンの縮合物（２Ｍ）ｊとする。
合成例２゜
合成例１と同一の反応器に、ジペンタエリスリトール５
０８部、ニブシロンカプロラクトン６８４部、イソプロ
ピルチタネート０．４２部、を仕込ミ、ニブシロンカブ
「コラクトンの残量が１重量％以下になる才で、合成例
１と同様に反応を行った。得た縮合物は、ワックス状物
質で、水酸基価５５９、酸価１．７であった。分子量測
定の結果該ジペンタエリスリトールとニブシロンカプロ
ラクトンの縮合物は分子中に平均約３個のエプシロンツ
Ｊプロラクトンの付加量を有することが示された。以後
これを「ジペンタエリスリトールとニブシロンカプロラ
クトンの縮合物（３Ｍ）Ｊとする。
０８部、ニブシロンカプロラクトン６８４部、イソプロ
ピルチタネート０．４２部、を仕込ミ、ニブシロンカブ
「コラクトンの残量が１重量％以下になる才で、合成例
１と同様に反応を行った。得た縮合物は、ワックス状物
質で、水酸基価５５９、酸価１．７であった。分子量測
定の結果該ジペンタエリスリトールとニブシロンカプロ
ラクトンの縮合物は分子中に平均約３個のエプシロンツ
Ｊプロラクトンの付加量を有することが示された。以後
これを「ジペンタエリスリトールとニブシロンカプロラ
クトンの縮合物（３Ｍ）Ｊとする。
エチレン性不飽和化合物の実施例
実施例１゜
攪拌機、温度調節装置、温度計、凝縮器及び分離器を備
えた２石反応器に、前記ジベンタエリスＩＪ ）−ルと
ニブシロンカプロラクトンの縮合物（２Ｍ）３００部、
アクリル酸２９６０部、ｐ−トルエンスルホンｉ４１．
１部、ベンゼン７２０Ｍ、シクロヘキサン１８０部、ノ
・イド１４７７３部を仕込み、力０熱し、生成水は溶剤
と共に蒸留、凝縮させ分離器で水のみ系外に取り除き、
溶剤は反応器に戻す。水が６７．２部生成した時点で冷
却した。
えた２石反応器に、前記ジベンタエリスＩＪ ）−ルと
ニブシロンカプロラクトンの縮合物（２Ｍ）３００部、
アクリル酸２９６０部、ｐ−トルエンスルホンｉ４１．
１部、ベンゼン７２０Ｍ、シクロヘキサン１８０部、ノ
・イド１４７７３部を仕込み、力０熱し、生成水は溶剤
と共に蒸留、凝縮させ分離器で水のみ系外に取り除き、
溶剤は反応器に戻す。水が６７．２部生成した時点で冷
却した。
反応温度は７７〜８１Ｃでｈつだ。
反応混合物をベンゼン７２０部、シクロヘキサン１８０
部に溶解し、２０％苛性ソーダ水溶液で中和しＬ後、２
０％食塩水５００部で３回洗滌する。
部に溶解し、２０％苛性ソーダ水溶液で中和しＬ後、２
０％食塩水５００部で３回洗滌する。
溶剤を減圧留去して淡黄色粘稠液体４０１部を得た。こ
のものは、下記の性質を有する。
のものは、下記の性質を有する。
比 重 （２５７？） １．１６０１）粘
度 （２５Ｕ） ＋９１４ ＣＦ３酸
価 ０．０６ ｍ９ＫＯＨ
／７屈析率（２０Ｃ） １．４８４２ 元素分析値 Ｃ（％） 、 Ｉ−（（％）
５９．５５ ７．０７ 得られた生成物の高分解能核磁気共鳴（ＮＭＩ（、）に
よる吸収周波数の測定を行った結果を下記に示す。
度 （２５Ｕ） ＋９１４ ＣＦ３酸
価 ０．０６ ｍ９ＫＯＨ
／７屈析率（２０Ｃ） １．４８４２ 元素分析値 Ｃ（％） 、 Ｉ−（（％）
５９．５５ ７．０７ 得られた生成物の高分解能核磁気共鳴（ＮＭＩ（、）に
よる吸収周波数の測定を行った結果を下記に示す。
Ｎ 吸収周波数（Ｈｚ ）
１ −２６０７．４２１
２ ２５９７．６５６
３ ２４９８．０４６
４ ２４８Ｇ、３２８
５ １９７４．６０９
６ １９６２．８９０
７ １９３１．６４０
８ １９２１．８７５
９ １１９３．３５９
１０ １１６０．１５６
１１ １１２８．９０６
１２ １０５２．７３４
１３ ９６４．８４３
１４ ９４３．３５９
１５ ６４６、４８４
１６ ５１１．７］８
１７ ５０７．８］２
１８ ４２５．７８］
１９ ３８２．８１２
２０ ’ ３６７．１８７猶上記測定には
基準物質としてテトラメチルシランを用い、溶媒として
クロロホルムを用いてＩＩ’ 。
基準物質としてテトラメチルシランを用い、溶媒として
クロロホルムを用いてＩＩ’ 。
Ｃｌ３− ＩＴのカップリングさせた測定をして最終的
にＣｌ３の１）カップルの同定結果を示した、上記吸収
のうちＮα９．１０．１１は溶媒の吸収のピーク位置を
示す。
にＣｌ３の１）カップルの同定結果を示した、上記吸収
のうちＮα９．１０．１１は溶媒の吸収のピーク位置を
示す。
２−エチルアンスラキノン（光増感剤） ５．０ ｋｆ
ｔ％を生成物の一部に添加し、次いで生成した増感され
１こ透明なコーティング組成物を鋼製パネル上に塗布し
、次いで該コーティングを紫外線に露出して透明な乾燥
した膜状コーティングを得１こ。
ｔ％を生成物の一部に添加し、次いで生成した増感され
１こ透明なコーティング組成物を鋼製パネル上に塗布し
、次いで該コーティングを紫外線に露出して透明な乾燥
した膜状コーティングを得１こ。
実施例
実ｊｌｆＪ ｆｌ、１ ］と同一の反応器に、前記ジペ
ンタエリスリトールとニブシロンカプロラクトンの縮合
物（３Ｍ）３００部、アクリル酸２６］部、ｐ−トルエ
ンスルホン酸３６．３８［＋、ベンゼン４８０部、シク
ロヘキサン１２０部、ハイドロキノン３部を仕込み、生
成水が５４３部になる捷で、実施例１と同様に反応を行
った。
ンタエリスリトールとニブシロンカプロラクトンの縮合
物（３Ｍ）３００部、アクリル酸２６］部、ｐ−トルエ
ンスルホン酸３６．３８［＋、ベンゼン４８０部、シク
ロヘキサン１２０部、ハイドロキノン３部を仕込み、生
成水が５４３部になる捷で、実施例１と同様に反応を行
った。
反応温度は７８〜８２７ｍ’であった。反応混合物をベ
ンゼン６４０部、シクロヘキサン１６０部に溶解し、２
０％苛性ソーダ水溶液で中和した後、２００りＮａＣｌ
水溶液５００部で３回洗滌する。溶剤を減圧留去して淡
黄色粘稠液体３９３部を得た。
ンゼン６４０部、シクロヘキサン１６０部に溶解し、２
０％苛性ソーダ水溶液で中和した後、２００りＮａＣｌ
水溶液５００部で３回洗滌する。溶剤を減圧留去して淡
黄色粘稠液体３９３部を得た。
このものは、下記の性質乞有する。
比 重 （２５ｒ） １１４９０粘 度
（２５Ｕ） １４４０ ＣＦ３酸 価
０．０３ ｍ９Ｋｏｌ−■／
！ｉ’屈折率（２０ｔＺ’） １．４８３８元素分析
値 Ｃ（％）、Ｈ（％）５９．９１
７．０９ ＮＭＲＫよる測定結果 Ｎ 吸収周波数（１−４２） １ ２６０７．４２１２
２５９７．６５６ ３ ２４９８．０４６ ４ ２４９４．１４０ ５ ２４８６．３２８ ６ １９７６．５６２ ７ １９６２．８９０ ８ １９３１．６４０９
１９２１．８７５１０
１１９３．３５９ＩＩ １１６０
．１５６１２ １１２８．９０６１
３ １０５２．７３４】 ４
９６４．８４３１５
９４３．３５９１６ ９０
０．３９０１７ ６６９．９２１
１８ ６４６、／１８４１９
５０９．７６５２０
４２５．７８１２］ ３
８２．８］２２２ ３６７．１８
７２３ ０．０００上記の吸
収のうち、Ｎ１１１０，１１．１２は溶媒の吸収ピーク
位置陥２３はテトラメチルシランの吸収ピーク位置を示
す。
（２５Ｕ） １４４０ ＣＦ３酸 価
０．０３ ｍ９Ｋｏｌ−■／
！ｉ’屈折率（２０ｔＺ’） １．４８３８元素分析
値 Ｃ（％）、Ｈ（％）５９．９１
７．０９ ＮＭＲＫよる測定結果 Ｎ 吸収周波数（１−４２） １ ２６０７．４２１２
２５９７．６５６ ３ ２４９８．０４６ ４ ２４９４．１４０ ５ ２４８６．３２８ ６ １９７６．５６２ ７ １９６２．８９０ ８ １９３１．６４０９
１９２１．８７５１０
１１９３．３５９ＩＩ １１６０
．１５６１２ １１２８．９０６１
３ １０５２．７３４】 ４
９６４．８４３１５
９４３．３５９１６ ９０
０．３９０１７ ６６９．９２１
１８ ６４６、／１８４１９
５０９．７６５２０
４２５．７８１２］ ３
８２．８］２２２ ３６７．１８
７２３ ０．０００上記の吸
収のうち、Ｎ１１１０，１１．１２は溶媒の吸収ピーク
位置陥２３はテトラメチルシランの吸収ピーク位置を示
す。
２−エチルアンスラキノン（光増感剤）５．０ｆｆｉ量
係を生成物の一部に添加し、次いで生成した増感された
透明なコーティング組成物を鋼製パネル上に塗布し、次
いで該コーティングを紫外線に露出して透明な乾燥した
膜状コーティングを得た。
係を生成物の一部に添加し、次いで生成した増感された
透明なコーティング組成物を鋼製パネル上に塗布し、次
いで該コーティングを紫外線に露出して透明な乾燥した
膜状コーティングを得た。
実施例３
上記に記載されたジペンタエリスリトールとニブシロン
カプロラクトンの縮合物（２Ｍ）及び（３Ｍ）の合成手
順にゝしたがって、分子中に平均約６個のニブシロンカ
プロラクトンの付加量を有スルジペンタエリスリトール
とニブシロンカプロラクトンの縮合物を合成した。これ
を以後［ジペンタエリスリトールとニゲシロンカプロラ
クトンの縮合物（６Ｍ）Ｊという。実施例１と同一の反
応器に、ジペンタエリスリトールとニブシロンカプロラ
クトンの縮合物（６Ｍ、） ４５０部、アクリル酸２４
８．９Ｈ［ｉ、ｒ＋−）ルエンスルホン酸２３．３１ｃ
、ベンゼン４８０部、シクロヘキサン１２０部、ハイド
ロキノン３部を仕込み、生成水が５１．８部になる寸で
実施例１と同様に反応を行った。反応温度は７８〜８２
Ｃであった。反応混合物をペンゼ７９６０部、シクロヘ
キサン２４０部に溶解し、２０％苛性ソーダ水溶液で中
和した後、２０％ＮａＣ］水溶液５００部で３回洗滌す
る。溶剤を減圧留去して淡黄色粘稠液体４８７部を得た
。このものは、下記の性質を有する。
カプロラクトンの縮合物（２Ｍ）及び（３Ｍ）の合成手
順にゝしたがって、分子中に平均約６個のニブシロンカ
プロラクトンの付加量を有スルジペンタエリスリトール
とニブシロンカプロラクトンの縮合物を合成した。これ
を以後［ジペンタエリスリトールとニゲシロンカプロラ
クトンの縮合物（６Ｍ）Ｊという。実施例１と同一の反
応器に、ジペンタエリスリトールとニブシロンカプロラ
クトンの縮合物（６Ｍ、） ４５０部、アクリル酸２４
８．９Ｈ［ｉ、ｒ＋−）ルエンスルホン酸２３．３１ｃ
、ベンゼン４８０部、シクロヘキサン１２０部、ハイド
ロキノン３部を仕込み、生成水が５１．８部になる寸で
実施例１と同様に反応を行った。反応温度は７８〜８２
Ｃであった。反応混合物をペンゼ７９６０部、シクロヘ
キサン２４０部に溶解し、２０％苛性ソーダ水溶液で中
和した後、２０％ＮａＣ］水溶液５００部で３回洗滌す
る。溶剤を減圧留去して淡黄色粘稠液体４８７部を得た
。このものは、下記の性質を有する。
比 重 （２５ｔＺ’） １．１３３５粘
度 （２５Ｃ） ６１０．３ ＣＦ３
酸 価 ０．０２ ｍｇ
ＫｏＩ−１／ ！ｉ’屈折率（２０ｔｌｌｌ’） ］
、４８１０元素分析値 Ｃ（％）、Ｈ（
％）６１．２０ 、 ７．５４ ＮＭＲによる測定結果 Ｎ 吸収周波数（Ｂ２） １ ２６０５．４６８ ２ ２５９５．７０３ ３ ２４９６．０９３ ４ ２４８６．３２８ ５ １９７４．６０９ ６ １９６０．９３７ ７ １９２９．６８７ ９ １１９１．４０６１０
１１６０．１５６１１
］］２６．９５３１２
１０５２．７３４１３
９６０．９３７１４ ９３９．
４５３４５ ６６６．０１５１
６ ６４４．５３１１７
５０９．７６５１８
４２３．８２８１９
３８０．８５９２０ ３
６５．２３４２］ １
１．７］８２２ −１．９５
３上記吸収のうち、ｒＩ＆１９，１０．１１は溶媒の吸
収ピーク位置、Ｎｎ２２はテトラメチルシランの吸収ピ
ーク位置を示す。
度 （２５Ｃ） ６１０．３ ＣＦ３
酸 価 ０．０２ ｍｇ
ＫｏＩ−１／ ！ｉ’屈折率（２０ｔｌｌｌ’） ］
、４８１０元素分析値 Ｃ（％）、Ｈ（
％）６１．２０ 、 ７．５４ ＮＭＲによる測定結果 Ｎ 吸収周波数（Ｂ２） １ ２６０５．４６８ ２ ２５９５．７０３ ３ ２４９６．０９３ ４ ２４８６．３２８ ５ １９７４．６０９ ６ １９６０．９３７ ７ １９２９．６８７ ９ １１９１．４０６１０
１１６０．１５６１１
］］２６．９５３１２
１０５２．７３４１３
９６０．９３７１４ ９３９．
４５３４５ ６６６．０１５１
６ ６４４．５３１１７
５０９．７６５１８
４２３．８２８１９
３８０．８５９２０ ３
６５．２３４２］ １
１．７］８２２ −１．９５
３上記吸収のうち、ｒＩ＆１９，１０．１１は溶媒の吸
収ピーク位置、Ｎｎ２２はテトラメチルシランの吸収ピ
ーク位置を示す。
前記実施例１に記載のようにして光増感剤の添加及び硬
化を行い透明な乾燥した膜状コーティングを得た。
化を行い透明な乾燥した膜状コーティングを得た。
実施例４
実施例１と同一の反応器に、前記実施例３に記載のジペ
ンタエリスリトールとニブシロンカプロラクトンの縮合
物（６Ｍ ） ５００部、メタクリル酸３０２１［！、
ｐ −トルエンスルホントルエン６００部、ハイドロキ
ノン４部を仕込み生成水が５７５部になるまで実施例１
と同様に反応を行った。反応温度は１１０〜１１９Ｃで
あった。
ンタエリスリトールとニブシロンカプロラクトンの縮合
物（６Ｍ ） ５００部、メタクリル酸３０２１［！、
ｐ −トルエンスルホントルエン６００部、ハイドロキ
ノン４部を仕込み生成水が５７５部になるまで実施例１
と同様に反応を行った。反応温度は１１０〜１１９Ｃで
あった。
反応混合物をトルエン１０００部に溶解し、２０％苛性
ソーダ水溶液で中和した後、２０係Ｎａ Ｃｌ水溶液６
００部で３回洗滌する。溶剤を減圧留去して淡黄色粘稠
液体５９０部を得た。このものは下記の性質を有する。
ソーダ水溶液で中和した後、２０係Ｎａ Ｃｌ水溶液６
００部で３回洗滌する。溶剤を減圧留去して淡黄色粘稠
液体５９０部を得た。このものは下記の性質を有する。
比 重 （２Ｉ’） １．１１４０粘
度 （２５Ｃ） １２７６ ＣＰＳ凸
麦 価 ０．０
２ ｍｇＫｏＨ／ ｆ屈折率（２０ｔＣ）
１．４８１５ 元素分析値 Ｃ（％）、Ｌｌ（至））６
２、３４ ７．９２ ＮＭＲ，による測定結果 陶 吸収周波数（ Ｉ（２ ）１
２６０５、４６Ｂ ２ ２６０１、５６２ ３ ２５９５、７０３ ４ ２５１３、６７＋５
２５０７、８１２ ６ ２５０１、９５３ ７ ２０４８、Ｂ２８ ８ ２０３９、０６２ ９ １９５１、１７］ １０ １８９２、５７８ １１ １８８０、８５９ １２ １１９１、４０６ ］ ３ １ １ ６ ０．’ １ ５ （
３１４ １１２６、９５３ １５ １０５２、７３４ １６ ９６４、８４３ １７ ９６０、９３７ １８ ９４１、４０６ １９ ６６７−９６８２０
６４．４．５３１２１
５０９、 ７６５２２
５０５．８５９２３
４２３．８２８２４
３８０．８５９２５ ３
６７．１８７２６ ２７］、４
８４２７ １１．７］８上
記吸収のうち、Ｎα１２，１３．１４は溶媒の吸収ピー
ク位置を示す。
度 （２５Ｃ） １２７６ ＣＰＳ凸
麦 価 ０．０
２ ｍｇＫｏＨ／ ｆ屈折率（２０ｔＣ）
１．４８１５ 元素分析値 Ｃ（％）、Ｌｌ（至））６
２、３４ ７．９２ ＮＭＲ，による測定結果 陶 吸収周波数（ Ｉ（２ ）１
２６０５、４６Ｂ ２ ２６０１、５６２ ３ ２５９５、７０３ ４ ２５１３、６７＋５
２５０７、８１２ ６ ２５０１、９５３ ７ ２０４８、Ｂ２８ ８ ２０３９、０６２ ９ １９５１、１７］ １０ １８９２、５７８ １１ １８８０、８５９ １２ １１９１、４０６ ］ ３ １ １ ６ ０．’ １ ５ （
３１４ １１２６、９５３ １５ １０５２、７３４ １６ ９６４、８４３ １７ ９６０、９３７ １８ ９４１、４０６ １９ ６６７−９６８２０
６４．４．５３１２１
５０９、 ７６５２２
５０５．８５９２３
４２３．８２８２４
３８０．８５９２５ ３
６７．１８７２６ ２７］、４
８４２７ １１．７］８上
記吸収のうち、Ｎα１２，１３．１４は溶媒の吸収ピー
ク位置を示す。
２−エチルアンスラキノン（光増感剤） ５． Ｏｆｆ
ｉ量％を生成物の一部に添刀０し、次いで生成した増感
された透明なコーティング組成物も鋼製パネル上に塗布
し、次いで該コーティングを紫外線に露出して透明な乾
燥した膜状コーティングを得た。
ｉ量％を生成物の一部に添刀０し、次いで生成した増感
された透明なコーティング組成物も鋼製パネル上に塗布
し、次いで該コーティングを紫外線に露出して透明な乾
燥した膜状コーティングを得た。
実施例５
合成例】と同一の反応器に、ジペンタエリスリトール２
５４部、ニブシロンカプロラクトン１３６８部、インプ
ロビルチタネート０８２部を仕込み、窒素中で１６０〜
１７０Ｕに加熱し、未反応ニブシロンカプロラクトンが
１重量％以下になるまで反応させた。得られたジペンタ
エリスリトールとニブシロンカプロラクトンの縮合物は
、分子中に平均約１２個のニブシロンカプロラクトンの
何カ１１量を有する淡黄色粘稠液体で、水酸基価２０９
、酸価２７であった。実施例１と同一の反応器に、上記
ジペンタエリスリトールとニブシロンカプロラクトンの
縮合物８００部、アクリル酸２５６部、ｐ−トルエンス
ルホン酸２３８部、ベンゼン４８０部、シクロヘキサン
１２０部、ハイドロキノン４部を仕込み生成水が５３２
部になる寸で実施例１と同様に反応を行った。反応温度
は８４〜８７Ｃであった。反応混合物をベンゼン１８２
４部、シクロヘキサン４５６部に溶融し、２０％苛性ソ
ーダ水溶液で中和した後、２０％ＮａＣ１水溶液４００
部で３回洗滌する。溶剤を減圧留去して淡黄色粘稠液体
７５４部を得た。
５４部、ニブシロンカプロラクトン１３６８部、インプ
ロビルチタネート０８２部を仕込み、窒素中で１６０〜
１７０Ｕに加熱し、未反応ニブシロンカプロラクトンが
１重量％以下になるまで反応させた。得られたジペンタ
エリスリトールとニブシロンカプロラクトンの縮合物は
、分子中に平均約１２個のニブシロンカプロラクトンの
何カ１１量を有する淡黄色粘稠液体で、水酸基価２０９
、酸価２７であった。実施例１と同一の反応器に、上記
ジペンタエリスリトールとニブシロンカプロラクトンの
縮合物８００部、アクリル酸２５６部、ｐ−トルエンス
ルホン酸２３８部、ベンゼン４８０部、シクロヘキサン
１２０部、ハイドロキノン４部を仕込み生成水が５３２
部になる寸で実施例１と同様に反応を行った。反応温度
は８４〜８７Ｃであった。反応混合物をベンゼン１８２
４部、シクロヘキサン４５６部に溶融し、２０％苛性ソ
ーダ水溶液で中和した後、２０％ＮａＣ１水溶液４００
部で３回洗滌する。溶剤を減圧留去して淡黄色粘稠液体
７５４部を得た。
このものは、下記の性質を有する。
比 重 （２５Ｃ） １．１１８０粘
度 （２５Ｃ） ２２４２ ＣＰＳ酸
価 ０．０２ ｍｇＫ
ｏ Ｈ／ｆＰ屈折率（２０ｒ） １．４７８０ 元素分析値 Ｃ（％）、ｌ−１（％）６
］、９１ ８．０１ ＮＭＲによる測定結果 南 吸収周波数（ＩＩ２） ］ ２６２１．０９３２
２６０５．４６８ ３ ２６０１．５６２ ４ ２５９７．６５６ ５ ２４９６．０９３ ６ ２４８６．３２８ ７ １９７２．６５６ ８ ．１９６０．９３７ ９ １９２９．６８７ １０ １９１９．９２１ １１ １１９１．４０６ １２ １１６０．１５６ １３ １１２６．９５３ １４ １０５２．７３４１５
９６０．９３７１６
９３９．４５３１７
９２１．８７５１８ ６４４
、−５３１１９ ５０９．７６５
２０ ４８２、４２１２ ］
４２３．８’２８２２
３８０、８５９２３
３６７．１８７２４ −
２９．２９６上記吸収のうち、ｌＶ！ｌｌｌ、１２．１
３は溶媒の吸収ピーク位置を示す。
度 （２５Ｃ） ２２４２ ＣＰＳ酸
価 ０．０２ ｍｇＫ
ｏ Ｈ／ｆＰ屈折率（２０ｒ） １．４７８０ 元素分析値 Ｃ（％）、ｌ−１（％）６
］、９１ ８．０１ ＮＭＲによる測定結果 南 吸収周波数（ＩＩ２） ］ ２６２１．０９３２
２６０５．４６８ ３ ２６０１．５６２ ４ ２５９７．６５６ ５ ２４９６．０９３ ６ ２４８６．３２８ ７ １９７２．６５６ ８ ．１９６０．９３７ ９ １９２９．６８７ １０ １９１９．９２１ １１ １１９１．４０６ １２ １１６０．１５６ １３ １１２６．９５３ １４ １０５２．７３４１５
９６０．９３７１６
９３９．４５３１７
９２１．８７５１８ ６４４
、−５３１１９ ５０９．７６５
２０ ４８２、４２１２ ］
４２３．８’２８２２
３８０、８５９２３
３６７．１８７２４ −
２９．２９６上記吸収のうち、ｌＶ！ｌｌｌ、１２．１
３は溶媒の吸収ピーク位置を示す。
２−エチルアンスラキノン（光増感剤）５０重量％を生
成物の一部に添卵し、次いで生成した増感さｊした透明
なコーティング組成物を鋼製パネル上に塗布し、次いで
該コーティングを紫外線に露出して透明な乾燥した膜状
コーティングを得た。
成物の一部に添卵し、次いで生成した増感さｊした透明
なコーティング組成物を鋼製パネル上に塗布し、次いで
該コーティングを紫外線に露出して透明な乾燥した膜状
コーティングを得た。
手続補正書
昭和５８年８月３０日
特ｒ＋庁長官 若 杉 和 失敗
１事件の表示
昭和５７年特許願第１０８５２８号
２発明の名称
エチレン性不飽和化合物およびその製造法３ 補正をす
る者 事件との関係 特許出願人 東京都千代田区丸の内−丁［１２番１号（＜ｏｓ）日本
化薬株式会社 代表者 取締役社長 坂 野 常 和 ４代 理 人 東京都千代ＦＢ区丸の内−丁目２番１号６ 補正により
増加する発明の数 なし ７補正の対象 補 正 の 内 容 １、明細書の特許請求の範囲を次のように訂正する。
る者 事件との関係 特許出願人 東京都千代田区丸の内−丁［１２番１号（＜ｏｓ）日本
化薬株式会社 代表者 取締役社長 坂 野 常 和 ４代 理 人 東京都千代ＦＢ区丸の内−丁目２番１号６ 補正により
増加する発明の数 なし ７補正の対象 補 正 の 内 容 １、明細書の特許請求の範囲を次のように訂正する。
［（１） 一般式
（式中、ＲはＨ又はＣＨ３； ｍ及びｎの平均値はそれ
ぞれ１〜５の数であり、ｐの平均値は１〜６の数であり
、Ｓの平均値はＯ〜５の数であり、ｐ＋ｑ＋ｒ＋９は６
であり、ｑ＋ｒは（＋−３の数であり、ｐ＋ｅは３〜６
の数であり、ｍｐ ＋ ｎｑの平均合計値は１〜５０の
数である。）を有するエチレン性不飽和化合物。
ぞれ１〜５の数であり、ｐの平均値は１〜６の数であり
、Ｓの平均値はＯ〜５の数であり、ｐ＋ｑ＋ｒ＋９は６
であり、ｑ＋ｒは（＋−３の数であり、ｐ＋ｅは３〜６
の数であり、ｍｐ ＋ ｎｑの平均合計値は１〜５０の
数である。）を有するエチレン性不飽和化合物。
（２） 下記一般式（ｎ）
（但し、式（■〕中ａの平均値は１〜５の数であり、Ｘ
の平均値は１〜６の数であり、Ｙの平均値は０〜５の数
であり、Ｘ＋７は６であり、ａＸの平均合計値は１〜３
０の数である。）で表わされ条化合物をアクリル酸もし
くはメタクリル酸でエステル化する事を特徴とする下記
一般式（１）で表わされるエチレン性不飽和化合物の製
造方法。
の平均値は１〜６の数であり、Ｙの平均値は０〜５の数
であり、Ｘ＋７は６であり、ａＸの平均合計値は１〜３
０の数である。）で表わされ条化合物をアクリル酸もし
くはメタクリル酸でエステル化する事を特徴とする下記
一般式（１）で表わされるエチレン性不飽和化合物の製
造方法。
（但し、式（１）中Ｒ１ｄＩ（、又はＣＨ３，ｍ及びｎ
の平均値はそれぞわ１〜５の数であり、ｐの平均でちり
、ｐ＋ｑ＋ｒ＋ａは６であり、ｑ＋ｒは０〜３の数であ
り、ｐ＋９は５〜６の数であゆ。
の平均値はそれぞわ１〜５の数であり、ｐの平均でちり
、ｐ＋ｑ＋ｒ＋ａは６であり、ｑ＋ｒは０〜３の数であ
り、ｐ＋９は５〜６の数であゆ。
ｍｐ ＋ ｎｑの平均合計値は１〜３ｏの数である。ン
２、同書、４頁６行〜末行を次のように訂正する。
２、同書、４頁６行〜末行を次のように訂正する。
「Ｃ式中ＲｉｄＨ又はＣＨ３ｉ ｍ及びｎの平均値はそ
れぞれ１〜５の数であって、好ましくは１〜５、最も好
ましくは１であり；ｐの平均値は１〜乙の数であり、ｑ
及びｒの平均値はそれぞれ０〜５の数であって、好まし
くは０〜１であり；Ｓの平均値は０〜５の数でありｉ
ｐ＋ ｑ＋ ｒ 十Ｂは６であ’）ｉｑ十ｒはＯ−５の
数であって好ましくはＤ〜１でありｉ Ｐ ＋ Ｂは３
〜６の数であって、好ましくは５〜６でありｉ ｍｐ
＋ ｎｑの平均合創値は１〜３０の数であって、好まし
くは１〜６である。）３、同書、５頁４行〜９行を次の
ように訂正する。
れぞれ１〜５の数であって、好ましくは１〜５、最も好
ましくは１であり；ｐの平均値は１〜乙の数であり、ｑ
及びｒの平均値はそれぞれ０〜５の数であって、好まし
くは０〜１であり；Ｓの平均値は０〜５の数でありｉ
ｐ＋ ｑ＋ ｒ 十Ｂは６であ’）ｉｑ十ｒはＯ−５の
数であって好ましくはＤ〜１でありｉ Ｐ ＋ Ｂは３
〜６の数であって、好ましくは５〜６でありｉ ｍｐ
＋ ｎｑの平均合創値は１〜３０の数であって、好まし
くは１〜６である。）３、同書、５頁４行〜９行を次の
ように訂正する。
［（但し、式（ｎ）中己の平均値は１〜５の数でちって
、好ましくは１〜３、最も好１しくは１であり、Ｘの平
均値は１〜６の数であり、ｙの平均値はＯ〜５の数であ
り、Ｘ十７は６であり、ａＸの平均合計値は１〜３０の
数であって、好ましくは１〜６である。）
、好ましくは１〜３、最も好１しくは１であり、Ｘの平
均値は１〜６の数であり、ｙの平均値はＯ〜５の数であ
り、Ｘ十７は６であり、ａＸの平均合計値は１〜３０の
数であって、好ましくは１〜６である。）
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 （式中ＲはＴ１．又はＣＩ（３； ｍ及びｎは１〜５の
値を有する整数であり、ｐは１〜６の値を有する整数で
あり、ｑ及びｒばＯｌ又は１〜３の値を有する整数であ
り、ＳはＯｌ又は］〜５の値を有する整数であり、ｐ＋
ｑ十ｒ十ｓは６であり、ｑ ＋ ｒはＯ９又は１〜３の
値を有する整数であり、ｐ＋ｓは、３〜６の値を有する
整数であり、ｍｐ＋ｎｑの平均合計値が】〜３０の数で
ある。）を有するエチレン性不飽和化合物。 （但し、式〔■〕中２は１〜５の値を有する整数であり
、Ｘは１〜６の値を有する整数であり、ｙは０．又は１
〜５の値を有する整数でちり、ｘ ４− ｙは６でおり
、ａｘの平均合計値が１〜３０の数である。）で表わさ
れる化合物をアクリル酸もしくはメタクリル酸でエステ
ル化する事を特徴とする下記一般式〔■〕で表わされる
エチレン性不飽和化合物の製造力（但し、式（Ｉ）中Ｒ
はＩ（、又はＣｌ−１３、ｍ及びｎは１〜５の値を有す
る整数であり、ｐは１−６の値を有する整数であり、ｑ
及びｒは、０９．又は１〜３の値ケ１有する整数であり
、Ｓ、は０、支は′１〜５’（ＩＩ）’値を有する整数
であり、ｐ￥□ｑ、＋ｒ 十ｓ は６であり、ｃｌ ｊ
ｒは０．又は１〜３の値を有する整数であり、ｐ ＋
ｓは３〜６の値を有する整数であり、ｍｐ＋ｎｑの平
均合計値７５（１〜３０の薮である。）
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57108528A JPS5921646A (ja) | 1982-06-25 | 1982-06-25 | エチレン性不飽和化合物およびその製造法 |
| EP83303665A EP0099661B1 (en) | 1982-06-25 | 1983-06-24 | Polymerisable ethylenically unsaturated dipentaerythritol derivatives |
| US06/507,537 US4540809A (en) | 1982-06-25 | 1983-06-24 | (Meth) acrylate esters of dipentaerythritol caprolactone condensates |
| DE8383303665T DE3368602D1 (en) | 1982-06-25 | 1983-06-24 | Polymerisable ethylenically unsaturated dipentaerythritol derivatives |
| CA000431253A CA1210777A (en) | 1982-06-25 | 1983-06-27 | Ethylenically unsaturated compounds and process for producing the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57108528A JPS5921646A (ja) | 1982-06-25 | 1982-06-25 | エチレン性不飽和化合物およびその製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5921646A true JPS5921646A (ja) | 1984-02-03 |
| JPH0158176B2 JPH0158176B2 (ja) | 1989-12-11 |
Family
ID=14487087
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57108528A Granted JPS5921646A (ja) | 1982-06-25 | 1982-06-25 | エチレン性不飽和化合物およびその製造法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4540809A (ja) |
| EP (1) | EP0099661B1 (ja) |
| JP (1) | JPS5921646A (ja) |
| CA (1) | CA1210777A (ja) |
| DE (1) | DE3368602D1 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59168073A (ja) * | 1983-03-15 | 1984-09-21 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | 被膜形成性組成物およびそれを用いた合成樹脂成形品の表面改良法 |
| JPS61126179A (ja) * | 1984-11-22 | 1986-06-13 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 電子線硬化型印刷インキ組成物 |
| JPH02306938A (ja) * | 1989-04-19 | 1990-12-20 | Arakawa Chem Ind Co Ltd | 耐乳化性ジペンタエリスリトールポリアクリレートの製造方法 |
| EP1627732A1 (en) | 2004-08-18 | 2006-02-22 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Planographic printing plate precursor |
Families Citing this family (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4954277A (en) * | 1986-10-07 | 1990-09-04 | Exxon Chemical Patents Inc. | Lactone modified, esterified or aminated additives useful in oleaginous compositions and compositions containing same |
| US5032320A (en) * | 1986-10-07 | 1991-07-16 | Exxon Chemical Patents Inc. | Lactone modified mono- or dicarboxylic acid based adduct dispersant compositions |
| US4866140A (en) * | 1986-10-07 | 1989-09-12 | Exxon Chemical Patents Inc. | Lactone modified adducts or reactants and oleaginous compositions containing same |
| US4954276A (en) * | 1986-10-07 | 1990-09-04 | Exxon Chemical Patents Inc. | Lactone modified adducts or reactants and oleaginous compositions containing same |
| US4866141A (en) * | 1986-10-07 | 1989-09-12 | Exxon Chemical Patents Inc. | Lactone modified, esterfied or aminated additives useful in oleaginous compositions and compositions containing same |
| US4906394A (en) * | 1986-10-07 | 1990-03-06 | Exxon Chemical Patents Inc. | Lactone modified mono-or dicarboxylic acid based adduct dispersant compositions |
| US5417983A (en) * | 1992-02-19 | 1995-05-23 | Sagami Chemical Research Center | Drug release controlling material responsive to changes in temperature |
| US6369164B1 (en) | 1993-05-26 | 2002-04-09 | Dentsply G.M.B.H. | Polymerizable compounds and compositions |
| US5998499A (en) | 1994-03-25 | 1999-12-07 | Dentsply G.M.B.H. | Liquid crystalline (meth)acrylate compounds, composition and method |
| US6353061B1 (en) | 1993-05-26 | 2002-03-05 | Dentsply Gmbh | α, ω-methacrylate terminated macromonomer compounds |
| CA2146816A1 (en) | 1994-04-22 | 1995-10-23 | Joachim E. Klee | Process and composition for preparing a dental polymer product |
| US20050288387A1 (en) * | 2002-08-21 | 2005-12-29 | Li Feng | Acrylate dental compositions with improved viscosity and storage odor |
| US8409784B2 (en) * | 2007-04-24 | 2013-04-02 | Mitsui Chemicals, Inc. | Photosensitive resin composition, dry film, and processed product made using the same |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57185236A (en) * | 1981-05-11 | 1982-11-15 | Daicel Chem Ind Ltd | Preparation of acrylic or methacrylic ester having hydroxyl group |
| JPS58140044A (ja) * | 1982-02-13 | 1983-08-19 | Nippon Kayaku Co Ltd | 不飽和化合物およびその製造法 |
| US4409376A (en) * | 1982-12-10 | 1983-10-11 | Ppg Industries, Inc. | Novel diluents useful in preparing high solids coating compositions |
-
1982
- 1982-06-25 JP JP57108528A patent/JPS5921646A/ja active Granted
-
1983
- 1983-06-24 EP EP83303665A patent/EP0099661B1/en not_active Expired
- 1983-06-24 DE DE8383303665T patent/DE3368602D1/de not_active Expired
- 1983-06-24 US US06/507,537 patent/US4540809A/en not_active Expired - Lifetime
- 1983-06-27 CA CA000431253A patent/CA1210777A/en not_active Expired
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59168073A (ja) * | 1983-03-15 | 1984-09-21 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | 被膜形成性組成物およびそれを用いた合成樹脂成形品の表面改良法 |
| JPS61126179A (ja) * | 1984-11-22 | 1986-06-13 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 電子線硬化型印刷インキ組成物 |
| JPH0510395B2 (ja) * | 1984-11-22 | 1993-02-09 | Toyo Ink Mfg Co | |
| JPH02306938A (ja) * | 1989-04-19 | 1990-12-20 | Arakawa Chem Ind Co Ltd | 耐乳化性ジペンタエリスリトールポリアクリレートの製造方法 |
| EP1627732A1 (en) | 2004-08-18 | 2006-02-22 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Planographic printing plate precursor |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0099661B1 (en) | 1986-12-30 |
| DE3368602D1 (en) | 1987-02-05 |
| JPH0158176B2 (ja) | 1989-12-11 |
| US4540809A (en) | 1985-09-10 |
| EP0099661A1 (en) | 1984-02-01 |
| CA1210777A (en) | 1986-09-02 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS5921646A (ja) | エチレン性不飽和化合物およびその製造法 | |
| JPS58140044A (ja) | 不飽和化合物およびその製造法 | |
| JPS60193945A (ja) | ジ（メタ）アクリル酸エステルおよびその製造法 | |
| JPS58225085A (ja) | アセタ−ルグリコ−ルジアクリレ−トおよびその製造法 | |
| JPS63270641A (ja) | ジ（メタ）アクリル酸エステル | |
| JPS5984844A (ja) | エチレン性不飽和化合物およびその製造法 | |
| JPS6153242A (ja) | （メタ）アクリル酸エステルおよびその製造法 | |
| JPS6154789B2 (ja) | ||
| JPS6391350A (ja) | 不飽和化合物 | |
| JPS6256453A (ja) | ジ（メタ）アクリル酸エステル組成物 | |
| JPS601178A (ja) | ジ（メタ）アクリル酸エステルおよびその製造法 | |
| JPS58213767A (ja) | 新規な（メタ）アクリル酸エステルおよびその製造法 | |
| JPS5978193A (ja) | エチレン性不飽和化合物およびその製造法 | |
| JP4046813B2 (ja) | アクリル酸エステル誘導体およびその製造方法 | |
| JPH07138243A (ja) | フェノチアジン類の製造法 | |
| JPS6078977A (ja) | 新規な（メタ）アクリル酸エステルおよびその製造法 | |
| JPS62108846A (ja) | アクリル酸又はメタクリル酸のエステル及び希釈剤 | |
| JPH0797351A (ja) | 新規な（メタ）アクリレート化合物およびその製造方法 | |
| JPS61176582A (ja) | 新規な（メタ）アクリル酸エステル | |
| JPH0376312B2 (ja) | ||
| JPS6120532B2 (ja) | ||
| JPS601170A (ja) | イソシアヌル酸環を有するアクリル酸エステル及びメタアクリル酸エステルの製造法 | |
| JPS63250346A (ja) | ジ（メタ）アクリル酸エステル | |
| JPH034076B2 (ja) | ||
| JPS60130583A (ja) | 不飽和カルボン酸エステルおよびその製造法 |