DE3613107A1 - Resistfarbenzusammensetzung - Google Patents
ResistfarbenzusammensetzungInfo
- Publication number
- DE3613107A1 DE3613107A1 DE19863613107 DE3613107A DE3613107A1 DE 3613107 A1 DE3613107 A1 DE 3613107A1 DE 19863613107 DE19863613107 DE 19863613107 DE 3613107 A DE3613107 A DE 3613107A DE 3613107 A1 DE3613107 A1 DE 3613107A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- composition according
- resin
- parts
- acid
- weight
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
- G03F7/0388—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable with ethylenic or acetylenic bands in the side chains of the photopolymer
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S525/00—Synthetic resins or natural rubbers -- part of the class 520 series
- Y10S525/922—Polyepoxide polymer having been reacted to yield terminal ethylenic unsaturation
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Inks, Pencil-Leads, Or Crayons (AREA)
- Non-Metallic Protective Coatings For Printed Circuits (AREA)
- Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)
- Epoxy Resins (AREA)
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
Description
Die vorliegende Erfindung betrifft eine neuartige und nützliche Resistfarbenzusammensetzung und betrifft insbesondere eine flüssige
Resistfarbenzusammensetzung, die mittels einer alkalischen wässrigen Lösung entwickelbar ist, die überlegen ist hinsichtlich
der Wärmehärtungseigenschaften, der Beständigkeit gegenüber Hitze, der Beständigkeit gegenüber Lösungsmitteln und Beständigkeit
gegen Oxidation, und die insbesondere geeignet isc zur Herstellung von gedruckten Schaltungen für Haushaltsgeräte
und gedruckte Schaltungen für industrielle Geräte.
Bisher wurde zur Herstellung von Resistmustern auf verschiedenen
gedruckten Schaltungen für Haushalts- und industrielle Geräte das Siebdruckverfahren vornehmlich angewandt. Das Siebdruckverfahren
hat von seiner Natur her eine geringe Auflösung. Wenn das Siebdruckverfahren durchgeführt wird mit einer Siebdruckfarbe
von relativ hoher Viskosität, treten solche Fehler wie Brüche, Siebabdrücke und Nadellöcher in den erzeugten Mustern auf. Wenn
das Siebdruckverfahren durchgeführt wird mit einer Siebdruckfarbe
von relativ niedriger Viskosität, treten solche nachträglichen Erscheinungen wie Klumpen, Schmiere und Tropfen auf. Wegen dieser
Fehler kann der Siebdruck nicht langer mit dem Trend von gedruckten
Schaltungen hinsichtlich zunehmender Dichte schritthaltem
Um diese Probleme zu lösen, sind trockene Photoresists vom Filmtyp
und flüssigentwickelbare Resistfarben vorgeschlagen worden.
Beispielsweise ist ein Photoresist vom Trockenfilmtyp, nämlich eine lichtempfindliche Trockenfilm-Harzzusammensetzung in der
japanischen Offenlegungsschrift SHO 57(1982)-55,914 beschrieben,
die Urethan-di (meth)acrylat, eine lineare hoch-molekulare Verbindung
mit einem Glasübergangspunkt in einem bestimmten Bereich, sowie einen Sensibilisator enthält. Im allgemeinen hat jedoch
ein Photoresist vom Trockenfilmtyp die Neigung, während der
Thermokompressions-Abbindung Blasen zu bilden, einen geringen
thermischen Widerstand und schlechte Adhäsion zu zeigen und sehr teuer zu sein. Als Beispiel für flüssigentwickelbare Resistfarben
sind in der GB-OS 20 32 939 photopolymerisierbare Beschichtungszusammensetzungen
beschrieben, die ein festes oder halbfestes Reaktionsprodukt aus einem Polyepoxid und einer ethylenisch ungesättigten
Carbonsäure, einem inerten anorganischen Füllstoff, einen Photopolymerisationsinitiator und ein flüchtiges organisches
Lösungsmittel enthält, und die japanische Offenlegungsschrift
SHO 58 (1983)-62,636 (entsprechend der schweizerischen Patentanmeldung
Nr. 600781) beschreibt eine Beschichtungszusammensetzung, bei der
ein feinkörniger Füllstoff in einer Lösung eines lichtempfindlichen
Epoxniarzes dispergiert ist, welches mit einem Härtungsmittel
vermischt ist und eine Viskosität im Bereich von 200 bis 700 mPa-s aufweist, so daß sie für das Schleierbeschichtungsverfahren
(curtain coating method) geeignet ist. Da die in der Patentliteratur beschriebenen und auf dem Markt angebotenen flüssigen
Resistfarben die Verwendung von organischen Lösungsmitteln als Entwicklungsmitteln verlangen, bringen sie das Problem der Luftverschmutzung
und zudem das Problem teurer Lösungsmittel mit sich, und sie sind zudem nicht zufriedenstellend hinsichtlich ihrer
Beständigkeit gegen Lösungsmittel und Säuren. Ein Verfahren, welches eine alkalische wässrige Lösung als Entwicklungsflüssigkeit
anstelle eines organischen Lösungsmittels verwendet, ist in der japanischen Offenlegungsschrift SHO 57(1982)-164,595 (entsprechend
US S.N. 225 810) beschrieben. Das in der genannten Patentanmeldung
beschriebene Verfahren zur Herstellung einer gedruckten Schaltung ist, im Gegensatz zu den herkömmlichen Methoden,
bei denen ein Film erzeugt wird, indem ein flüssiges Polymer auf eine Schaltung-Grundplatte aufgetragen und das aufgetragene flüssige
Polymer getrocknet wird, eine einzigartige Methode, welche darin besteht, daß man das aufgetragene flüssige Polymer in seinem
nicht-getrockneten Zustand durch ein vorgegebenes Resistmuster belichtet und in diesem Muster härtet und dann das ungehärtete
flüssige Polymer entfernt. Da dieses Verfahren ein flüssiges Prepolymer verwendet, das viele reaktive Monomere enthält, ist es
dem herkömmlichen Filmbildungsverfahren hinsichtlich solcher
Eigenschaften wie Beständigkeit gegenüber Säuren und Beständigkeit gegenüber Chemikalien unterlegen. Außerdem erfordert dieses
Verfahren, da es keinen Film durch Trocknung bildet, daß die Oberfläche des aufgetragenen flüssigen Polymers in einem Abstand
zu dem Resistmusterfilm gehalten wird. Diese Trennung verschlechtert
die Auflösung und macht die Anwendung einer speziellen Vorrichtung erforderlich und erhöht damit die Herstellungskosten.
Ein erstes Ziel der vorliegenden Erfindung ist daher eine flüssige
lichthärtende Resistfarbenzusammensetzung, die mittels einer alkalischen
wässrigen Lösung entwickelbar ist und die oben geschilderten Nachteile überwindet.
Ein anderes Ziel der Erfindung ist eine lichthärtende flüssige
Resistf arbenzusammensetzung, die mit einer verdünnten alkalischen wässrigen Lösung entwickelbar und in der Lage ist, auf einer
Schaltungs-Grundplatte eine Resistschicht zu bilden, die unübertroffen ist in Haftfähigkeit, Härte, Widerstand gegen Lösungsmitteln
und Beständigkeit gegenüber Säuren.
Ein weiteres Ziel dieser Erfindung ist eine flüssige Resistfarbenzusammensetzung,
die in einer verdünnten alkalischen wässrigen Lösung entwickelbar ist, die in der Lage ist, eine gehärtete
Schicht zu bilden, welche nicht nur in den geschilderten Eigenschaften
unübertroffen ist, sondern auch hinsichtlich anderer Eigenschaften wie elektrischen Eigenschaften, Beständigkeit gegen
Hitze und Beständigkeit gegen Hautbildung, und die deshalb geeignet ist zurHerstellung von Platten mit gedruckten Schaltungen
für Haushaltsgeräte und gedruckten Schaltungen für industrielle Geräte.
Ein anderes Ziel dieser Erfindung schließlich ist eine lichthärtende,
wärmehärtende flüssige Resistfarbenzusammensetzung, die mit einer verdünnten alkalischen wässrigen Lösung entwickelbar
-,ΙΟ.
und in der Lage ist, eine gehärtete Schicht zu bilden, welche die oben genannten, hervorragenden Eigenschaften aufweist.
Alle diese Ziele werden erfindungsgemäß erreicht mit einer flüssigen
Resistfarbenzusammensetzung, die mit einer verdünnten alkalischen
wässrigen Lösung entwickelbar ist und die enthält:
(A) ein durch aktivierte Energiestrahlung härtbares Harz, das durch Umsetzung eines gesättigten oder ungesättigten polybasischen
Säureanhydrids mit dem Reaktionsprodukt einer Epoxiverbindung vom Novolaktyp und einer ungesättigten Monocarbonsäure
erhalten worden ist,
(B) einen Photopolymerisationsinitiator und
(C) ein Verdünnungsmittel.
Weiterhin wird gemäß der vorliegenden Erfindung eine lichthärtende
und wärmehärtende flüssige Resistfarbenzusammensetzung;vorgestellt,
die entwickelbar ist mit einer verdünnten alkalischen wässrigen Lösung und die in Kombination enthält: Eine lichthärtende
Harzzusammensetzung aus:
(A) einem durch aktivierte Energiestrahlung härtbaren Harz, das durch Umsetzung eines gesättigten oder ungesättigten polybasischen
Säureanhydrids mit dem Reaktionsprodukt aus einer Epoxyverbindung vom Novolaktyp und einer ungesättigten Monocarbonsäure
erhalten worden ist,
(B) eine Photopolymerisationsinitiator und
(C) einem Verdünnungsmittel
und eine wärmehärtende Verbindung.
• ΛΑ -
Diese Vorteile, Merkmale und weitere Ziele der vorliegenden Erfindung
gehen aus der nachfolgenden, detaillierten Beschreibung
hervor.
Die Zeichnung ist ein schematischer Querschnitt, welcher eine gedruckte Schaltung erläutert, auf der eine Resistschicht als
Folge einer Belichtung und Entwicklung gebildet worden ist.
Das erwähnte Harz (A), das durch eine aktivierte Energiestrahlung härtbar ist, wird erhalten, indem das Reaktionsprodukt aus
einer solchen Epoxyverbindung vom Novolaktyp, wie sie weiter unten beschrieben wird, und einer ungesättigten Monocarbonsäure
mit einem dibasischen Säureanhydrid wie Phthalsäureanhydrid oder einem aromatischen Polycarbonsäureanhydrid wie Trimellitsäureanhydrid
oder Pyromellitsäureanhydrid reagieren gelassen wird. In diesem Falle erweist sich das Harz dann als besonders
geeignet, wenn bei seiner Herstellung die für die Umsetzung verwendete Menge des genannten Säurear.hydrids 0,15 Mol für jede
der Hydroxylgruppen, die das Reaktionsprodukt aus der Epoxiverbindung vom Novolaktyp und der ungesättigten Carbonsäure aufweist,
überschreitet.
Die Säurezahl des so erhaltenen Harzes (A) fällt zweckmäßigerweise
in den Bereich von 45 bis 160 mg KOH/g, vorzugsweise von 50 bis 140 mg KOH/g. Wenn die Säurezahl kleiner als 45 ist, ist
die Alkalilöslichkeit nicht ausreichend. Andererseits ist dann,
wenn die Säurezahl deutlich größer als 160 ist, die Beständigkeit des gehärteten Films gegenüber Alkali und sind die elektrischen
Eigenschaften und andere ähnliche Eigenschaften des Resists nicht zufriedenstellend. Eine Abweichung von dem erwähnten Bereich hat
daher nachteilige Effekte.
Wenn die Anzahl an ethylenisch ungesättigten Bindungen, die in der Moleküleinheit des durch die aktivierte Energiestrahlung
härtbaren Harzes (A) enthalten sind, klein ist, ist es zweckmäßig,
da die Wärmehärtung langsam abläuft, ein Rohmaterial in
Form einer Epoxyverbindung vom Novolaktyp zu verwenden. Zum
Zwecke der Erniedrigung der Viskosität der Farbe ist es zulässig, stattdessen eine Epoxyverbindung vom bis-Phenol Α-Typ zu verwenden.
Beispiele für Epoxiverbindungen vom Novolaktyp sind Epoxiharze
vom Phenol-Novolak-Typ und Epoxiharze vom Cresol-Novolak-Typ.
Eine solche Verbindung wird erzeugt, indem Epichlorhydrin mit einem geeigneten Novolakharz nach herkömmlichen Methoden reagieren
gelassen wird.
Typische Beispiele für ungesättigte Monocarbonsäuren sind Acrylsäure,
Methacrylsäure, Crotonsäure und Zimtsäure. Unter den genannten ungesättigten Monocarbonsäuren hat sich Acrylsäure
als besonders geeignet erwiesen.
Typische Beispiele für die erwähnten Säureanhydride sind dibasische
Säureanhydride wie Maleinsäureanhydrid, Bernsteinsäureanhydrid, Titaconsäureanhydrid, Phthalsäureanhydrid, Tetrahydrophthalsäureanhydrid,
Hexahydrophthalsäureanhydrid, Methylhexahydrophthaisäureanhydrid,
Endomethylentetrahydrophthalsäureanhydrid,
Methylendomethylentetrahydrophthalsäureanhydrid, Chlorendsäureanhydrid
und Methyltetrahydrophthalsäureanhydrid; aromatische Polycarbonsäureanhydride wie Trimellitsäureanhydrid, Pyromellitsäureanhydrid
und Benzophenontetracarbonsäuredianhydrid, sowie Polycarbonsäureanhydridderivate wie 5-2,5-Dioxotetrahydrofuryl-3-methyl-3-cyclohexen-1,2-dicarbonsäureanhydrid.
Typische Beispiele für den erwähnten Photopolymerisationsinitiator
(B) sind Benzoin und dessen Alkylether wie Benzoin, Benzoinmethylether, Benzoinethylether und Benzoinisopropylether; Acetophenone
wie Acetophenon, 2,2-Dimethoxy-2-phenylacetophenon, 2,2-Diethoxy-2-phenylacetophenon,
1,I-Dichloroacetophenon, 1-Hydroxycyclohexyl
phenyl keton, und 2-Methyl-1 -^methylthiophenyl^-morpho-
1inpropan-1-on; Anthrachinone wie 2-Methylanthrachinon, 2-Ethylanthrachinon,
2-tertiär-Butylanthrachinon, 1-Chloroanthrachinon
und 2-Amylanthrachinon; Thioxanthone wie 2,4-Dimethylthioxantho>i,
2,4-Diethylthioxanthon, 2-Chlorothioxanthon und 2 ,4-Diisopropylthioxanthon;
Ketale wie Acetophenondimethylketal und Benzyldimethyl
ketal, sowie Benzophenone wie Benzophenon oder Xanthone. Der Photopolymerisationsinitiator (B) kann verwendet werden in Kombination
mit einem oder mehreren wohl bekannten, herkömmlichen
Photopolymerisationsbeschleunigern vom Benzoesäuretyp und tertiären
Amintyp. Die zweckmäßigerweise zu verwendende Menge an dem Photopolymerisationsinitiator (B) liegt im Bereich von 0,2 bis
30 Gew.-Teilen, vorzugsweise 2 bis 20 Gew.-Teilen, bezogen auf 100 Gew.-Teile des durch die aktivierte Energiestrahlung härtbaren
Harzes (A).
Als das oben erwähnte Verdünnungsmittel (C) kann ein photopolymerisierbares
Monomer und/oder ein organisches Lösungsmittel verwendet werden. Typische Beispiele für photopolymerisierbare Monomere
sind wasserlösliche Monomere (C-1) wie 2-Hydroxyethylacry!at,
2-Hydroxypropylacrylat, N-Vinylpyrrolidon, Acryloylmorpholin,
Methoxytetraethylenglykolacrylat, Methoxypolyethylenglykolacrylat,
Polyethylenglykoldiacrylat, Ν,Ν-Dimethylacrylamid, N-Methylolacrylamid,
Ν,Ν-Dimethylaminopropylacrylamid, Ν,Ν-Dimethylaminoethylacrylat,
Ν,Ν-Dimethylaminopropylacrylat und Melaminacrylat
und die den vorstehend genannten Acrylaten entsprechenden Methacrylate und wasserunlösliche Monomere (C-2) wie Diethylenglykoldiacrylat,
Triethylenglykoldiacrylat, Propylenglykoldiacrylat, Dipropylenglykoldiacrylat, Tripropylenglykoldiacrylat, PoIypropylenglykoldiacrylat,
Phenoxyethylacrylat, Tetrahydrofurfurylacrylat,
Cyclohexylacrylat, Trimethylolpropandiacrylat, Trimethylo!
propantriacrylat, Glycerindiglycidyletherdiacrylat, Glycerintrig1ycidy1ethertriacryl
at, Pentaerythritol acryl at, Pentaerythrittetraacrylat,
Dipentaerythritpentaacrylat, Dipentaerythrithexa-
■ Λ-
acrylat, Isoborneolylacrylat, Cyclopentadienmono- oder -diacrylat,
Methacrylate, die den erwähnten Acrylaten entsprechen, sowie mono-, di-, tri- und höhere Polyester von polybasischen Säuren
mit Hydroxyalkylmethacrylaten.
Beispiele für organische Lösungsmittel (C-3) umfassen Ketone wie Methylethylketon und Cyclohexanon; aromatische Kohlenwasserstoffe
wie Toluol und Xylol; Cellosolve wie Cellosolv und Butylcellosolv;
Carbitole wie Carbitol und Butylcarbitol, sowie Essigsäureester wie Ethylacetat, Butylacetat, CeIlosolvacetat, Butylcellosolvacetat,
Carbitolacetat und Butylcarbitolacetat.
Die oben aufgelisteten Verdünnungsmittel (C) werden entweder
allein oder in Form eines Gemisches aus zwei oder mehreren Verdünnungsmitteln verwendet. Die zu verwendende Menge an Verdünnungsmittel
liegt zweckmäßigerweise im Bereich von 30 bis 300 Gewichtsteilen, vorzugsweise von 50 bis 200 Gewichtsteilen, bezogen
auf 100 Gewichtsteile des durch die aktivierte Energiestrahlung härtbaren Harzes (A).
Das wasserlösliche Monomer (C-1) und das wasserunlösliche Monomer
(C-2) dienen dazu, das erwähnte, durch aktivierte Energiestrahlung härtbare Harze härtbar zu machen, die produzierte Zusammensetzung
leicht anwendbar zu machen und die Zusammensetzung photopolymerisierbar
zu machen. Die Löslichkeit der gebildeten Zusammensetzung in der wässrigen alkalischen Lösung erhöht sich in
dem Maße, in dem der Gehalt an dem eingearbeitetet wasserlöslichen
Monomer (C-1) zunimmt. Wenn es in einer extrem großen Menge verwendet wird, verliert das vollständig gehärtete Resistmaterial
seine Wasserbeständigkeit. Deshalb stellt die zusätzliche Verwendung des wasserunlöslichen Monomers (C-2) eine günstige Maßnahme
dar. Wenn die Menge an dem zusätzlich zu verwendenden wasserunlöslichen Monomer (C-2) zu groß ist, ist die gebildete Zusammensetzung
kaum in der alkalischen wässrigen Lösung löslich. Zweckmäßigerweise beträgt diese Menge nicht mehr als 100 Gewichtsprozent,
■JiS-
bezogen auf die Menge an dem durch die aktivierte Energiestrahlung
härtbaren Harz (A). Insbesondere hat die reichliche Verwendung eines hydrophilen Monomers einen günstigen Effekt, ohne
daß die oben erwähnten Eigenschaften geopfert werden müssen.
Das organische Lösungsmittel (C-3) dient dazu, das durch die aktivierte
Energiestrahlung härtbare Harz (A) zu lösen und zu verdünnen, das aufzutragende Harz in Form einer Flüssigkeit auftragbar
zu machen und es der aufgetragenen Flüssigkeitsschicht zu ermöglichen, beim Trocknen einen Film zu bilden.
Die erfindungsgemäß erhaltene, lichthärtende flüssige Resistfarbenzusammensetzung
kann nötigenfalls weiterhin eingearbeitet enthalten einen bekannten, herkömmlichen Füllstoff wie Bariumsulfat,
Siliciumdioxid, Talkum, Ton oder Calciumcarbonat, ein bekanntes, herkömmliches färbendes Pigment wie Phthalocyaninblau, Phthalocyaningrün,
Titandioxid oder Kohlenstoff, ein Entschäumungsmittel,
ein die Haftfestigkeit verbesserndes Mittel, ein Glättungsmitte! oder andere Additive oder einen bekannten herkömmlichen Polymerisationsinhibitor
wie Hydrochinon, Hydrochinonmonomethylether, Pyrogallol, tertiäres Butylcatechin oder Phenothiazin.
Eine angestrebte Resistsschicht kann gebildet werden, indem eine flüssige Resistfarbenzusammensetzung, die im wesentlichen aus
einem spezifischen, durch aktivierte Energiestrahlung härtbaren Harz, das ein Novolakharz als Basispolymer enthält, einem Photopolymerisationsinitiator
und einem Verdünnungsmittel besteht, auf die gesamte Oberfläche eines Trägers für eine gedruckte Schaltung
nach dem Siebdruckverfahren, dem Walzendruckverfahren oder
dem Schleierbeschichtungsverfahren aufgetragen wird, das Substrat einer aktivierten Energiestrahlung ausgesetzt wird, wodurch dessen
gewünschter Teil gehärtet wird, und der nicht-belichtete Teil der aufgetragenen Schicht mit einer verdünnten alkalischen wässrigen
Lösung gelöst wird.
Gemäß einem anderen Aspekt der vorliegenden Erfindung wird eine lichthärtende und wärmehärtende flüssige Resistfarbenzusammensetzung,
die mit einer verdünnten wässrigen alkalischen Lösung entwickelbar ist, dadurch erhalten, daß die oben erwähnte ■lichthärtende
Harzzusammensetzung aus (A) einem mit einer aktivierten Energiestrahlung härtbaren Harz, (B) einem Photopolymerisationsinitiator
und (C) einem Verdünnungsmittel, sowie gegebenenfalls
zugesetztem Füllstoff, färbendem Pigment, Entschäumungsmittel,
Glättungsmittel, Haftverbesserungsmittel oder Polymerisationsinhibitor mit einer wärmehärtenden Verbindung kombiniert wird.
Genauer gesagt, besteht die wärmehärtende Verbindung aus einer Epoxiverbindung mit zwei oder mehr Epoxigruppen in der Moleküleinheit, wie z.B. ein Epoxiharz vom bis-Phenol Α-Typ, ein Epoxi-
harz vom bis-Phenol F-Typ, ein Epoxiharz vom bis-Phenol S-Typ, ein Epoxiharz vom Phenolnovolaktyp, ein Epoxiharz vom Cresolnovolaktyp,
ein Epoxiharz vom N-Glycidyltyp oder ein Epoxiharz
vom al!cyclischen Typ und enthält gegebenenfalls zusätzlich eingearbeitet
in einer kleinen Menge zur Förderung der Reaktion einen bekannten Epoxid-Härtungspromotor wie, z.B., eine Aminverbindung,
eine Imidazolverbindung, eine Carbonsäure, ein Phenol, ein quarternäres Ammoniumsalz oder eine eine Methylolgruppe enthaltende
Verbindung. Wenn die Zusammensetzung in einer Schicht aufgetragen und die aufgetragene Schicht danach erhitzt wird,
wird die Polymerisation der wärmehärtenden Verbindung beschleunigt und die Copolymerisation der beiden Verbindungen wird erleichtert,
so daß die dadurch erzeugte Resistschicht verbesserte Eigenschaften aufweist hinsichtlich Beständigkeit gegenüber Hitze,
Beständigkeit gegen Lösungsmittel, Beständigkeit gegen Säuren, Beständigkeit gegen Hautbildung, Haftfähigkeit, elektrische Eigenschaften
und Härte. Die Zusammensetzung erweist sich als besonders brauchbar für die Bildung eines Lötresists. Die erwähnte wärmehärtende
Verbindung kann mit der lichthärtenden Harzzusammensetzung vor deren Verwendung vermischt werden. Da das so gebildete
Gemisch dazu neigt, seine Viskosität zu erhöhen, während es
auf die aktuelle Anwendung auf einer Schaltungsplatte wartet, ist es zweckmäßig, die beiden Komponenten zu vermischen unmittelbar
vor Gebrauch. Außerdem können der erwähnte Füllstoff, das färbende Pigment etc. in die wärmehärtende Komponente eingearbeitet
werden, indem sie mit einer Lösung der wärmehärtenden Komponente in einem organischen Lösungsmittel vermischt
werden. Die zu verwendende Menge an der wärmehärtenden Komponente liegt im Bereich von 10 bis 150 Gewichtsteilen, vorzugsweise
30 bis 50 Gewichtsteilen, bezogen auf 100 Gewichtsteile der
lichthärtenden Harzzusammensetzung. Der erwähnte Epoxi'iiärtungspromotor
wird in einer Menge von 1 bis 20 Gewichtsteilen, bezogen auf 100 Gewichtsteile der wärmehärtenden Komponente (Epoxyverbindung)
eingesetzt.
Die erfindungsgemäße Resistfarbenzusammensetzung bildet eine
Resistschicht, die hinsichtlich ihrer wärmehärtenden Eigenschaft, ihres Haftvermögens, ihrer Beständigkeit gegenüber Hitze, Lösungsmitteln,
Säuren und gegen Hautbildung unübertroffen ist. Außerdem besteht, da sie mit einer verdünnten wässrigen alkalischen
Lösung entwickelbar ist, kein Bedarf an einem organischen Lösngsmittel,
das für die herkömmlichen flüssigen Resists unabdingbar war, und somit besteht auch nicht das Problem der Luftverschmutzung.
Wie aus den weiter unten beschriebenen Testversuchen klar hervorgeht, kann die eine wärmehärtende Komponente
enthaltende Farbenzusammensetzung der vorliegenden Erfindung, die mit einer verdünnten alkalischen wässrigen Lösung entwickelbar
ist, nicht nur bei Ätzresists sondern auch bei Lötresists verwendet werden unter der Voraussetzung, daß ein Nachhärtungsschritt
durch Wärme in das Verfahren zusätzlich eingebaut wird. Die so gebildete Lötresists sind unübertroffen in ihrer Härtungseigenschaft, ihrem Haftvermögen, ihrer Härte, ihrer Widerstandsfähigkeit
gegen Hitze, Lösungsmittel, Hautbildung und hinsichtlich ihrer elektrischen Eigenschaften.
Beispiele für Lichtquellen, die mit Vorteil zum Härten der erfindungsgemäßen
Zusammensetzung verwendet werden können, sind Niederdruckquecksi1 berdampflampen, Mitteldruckquecksilberdampflampen,
Hochdruckquecksilberdampflampen, Ultrahochdruckquecksilberdampflampen,
Xenonlampen und Metallhalogenidlampen. Auch ein Laserstrahl kann als aktivierter Energiestrahl während der
Belichtung verwendet werden.
Die nachfolgenden Beispiele, die keinesfalls den Schutzumfang
der Erfindung einschränkend angesehen werden dürfen, erläutern die Erfindung.
Mit dem Produkt der Umsetzung aus 1 Äquivalentgewicht eines EpoxHiarzes vom Cresol-Novolaktyp mit einem Epoxyäquivalentgewicht
von 217 und mit durchschnittlich 7 Phenolringresten und Epoxygruppen im Molekül, und 1,05 Äquivalentgewicht Acrylsäure
wurden 0,67 Äquivalentgewicht Tetrahydrophthalsäureanhydrid auf herkömmliche
Weise reagieren gelassen, wobei Phenoxyethylacrylat als Lösungsmittel diente. Das Produkt dieser Umsetzung war eine
viskose Flüssigkeit, die 35 Gewichtsteile Phenoxyehtylacrylat enthielt. Als Gemisch hatte es eine Säurezahl von 63,4 mg KOH/g.
Im folgenden wird dieses Produkt kurz als "Harz (A-1)" bezeichnet.
Komponente (a) | Harz (A-1) | 40 Gewi | chtstei Ie |
2-Hydroxyethylacryl at | 15 | I! | |
Benzyldiethylketal | 2.5 | II | |
1-Benzyl-2-methylimidazol | 1.0 | Il | |
"Modaflow" (Glättungsmittel der | |||
Firma Monsanto Chemical, USA) | 1.0 | Il | |
Bariumsulfat | 25 | Il | |
Phthalocyaningrün | 0.5 | Il | |
Gesamtkomponente (a) 85 Gewichtsteile
./9
Komponente (b) Trimethylolpropantriglycidylether
15 Gewichtsteile
Die Komponente (a) wurde in einer Testwalze (Walzenmühle) zu
einer Farbe geknetet. Dann wurde die Farbe dieser Komponente (a) mit der Komponente (b) vermischt. Das entstandene Gemisch
wurde mit einem Schleierbeschichter (curtain coater), hergestellt von Hiyama Manufacturing Co., Ltd, auf die gesamte Oberfläche
eines verkupferten Laminats aufgetragen, das aus einer Kupferfolie aus 35 pm Dicke und aus einem Glasepoxysubstrat bestand
und eine Schaltung aufgedruckt hatte mit einem vorgegebenen, vorher eingeätzten Muster, um Teststücke zu präparieren.
Nachfoldend wird das durch Beschichten des verkupferten Laminats erhaltene Teststück kurz als Teststück Nr. 1-E und das durch
Beschichten der gedruckten Schaltung erhaltete Teststück als Teststück Nr. 1-S bezeichnet.
Komponente (a)
Harz (A-1)
N-Vinylpyrrolidon Trimethylolpropantriacrylat
2-Ethylanthrachinon 2,4-Diethylthioxanthon
2-Phenyl-4-methyl-5-hydroxymethylimidazol
Phthalocyaningrün "Modaflow"
Calziumcarbonat
30 Gewi | chtsteiIe |
15 | Il |
10 | Il |
2.0 | Il |
1.5 | Il |
1.0 | Il |
0.5 | Il |
1.0 | Il |
24 | Il |
Gesamtkomponente (a)
85 Gewichtsteile
Komponente (b)
"Epikote 828"(Epoxyharz der Shell Oil) Glycerindiglycidylether
7 Gewichtsteile 8
Gesamtkomponente (b)
15 Gewichtsteile
AO-
Teststücke wurden nach dem Verfahren von Beispiel 1 präpariert mit der Abweichung, daß die oben angegebenen Komponenten anstelle
der im Beispiel 1 angegebenen verwendet wurden. Die Teststücke werden als Teststücke Nr. 2-E und Nr. 2-S bezeichnet.
Beispiel 3: ,
Das Produkt der Umsetzung von 1 Äquivalentgewicht eines Epoxidharzes
vom Phenol-Novolaktyp mit einem Epoxyäquivalentgewicht von 178 und mit durchschnittlich 3,6 Phenylringresten und Epoxygruppen
im Molekül, mit 0,95 Äquivalentgewicht Acrylsäure wurden 0,78 Äquivalentgewicht Hexahydrophthalsäureanhydrid auf herkömmliche
Weise reagieren gelassen, wobei Diethylenglykolacrylat als Lösungsmittel diente. Das Produkt dieser Umsetzung war eine viskose
Flüssigkeit, die 35 Gewichtsteile Diethylenglykoldiacrylat enthielt. Als Gemisch zeigte es eine Säurezahl von 72,8 mg KOH/g.
Es wird kurz als "Harz (A-2)" bezeichnet.
Komponente (a) Harz (A-2)
2-Hydroxypropylarcrylat
Pentaerythrittriacryl at
2-Ethylanthrachinon 2-Dimethylaminoethylbenzoat
"AC-300" (Entschäumungsmittel der Kyoeisha Yushi K.K.)
Phthalocyaningrün Talkum
40 | GewichtsteiIe |
10 | Il |
10 | Il |
2.0 | Il |
1.5 | ti |
1.0 | Il |
0.5 | Il |
20 | Il |
Gesamtkomponente (a)
"Epikote 828"
Komponente (b)
85 Gewichtsteile 15 Gewichtsteile
Eine Farbe wurde zubereitet, indem die Komponente (a) in einer Testwalze (Walzenmühle) geknetet wurde. Dann wurden die Komponente
(a) und die Komponente (b) vermischt. Das entstandene Gemisch
wurde nach dem Siebdruckverfahren auf die gesamte Oberfläche eines verkupferten Laminats aufgetragen und eine gedruckte
Schaltung mit einem vorgegebenen Muster zuvor durch Ätzen gebildet, um Teststücke zu präparieren. Diese Teststücke werden
als Teststück Nr. 3-E und Nr. 3-S bezeichnet.
Beispiel 4: ^
Das Produkt der Umsetzung von 1 Äquivalentgewicht eines Epoxiharzes
vom Cresoltyp mit einem Epoxyä'quivalentgewicht von 217 und mit durchschnittlich 7 Phenolringresten und Epoxygruppen, mit
1,05 Äquivalentgewicht Acrylsäure wurde mit 0,95 Äquivalentgswicht
Tetrahydrophthalsäureanhydrid reagieren gelassen. Das Reaktionsprodukt wurde mit CeIlosolvacetat bis auf einen Gehalt
an unflüchtigen Bestandteilen von 70 % verdünnt. Das verdünnte
Produkt wird als "Harz (A-3)" bezeichnet.
Komponente (a) Harz (A-3) Trimethylolpropantriacrylat
Pentaerythrittriacryl at
2-Ethylanthrachinon
2-Dimethyl aminoethyI benzoat
^-Phenyl-^-benzyl-S-hydroxymethylimidazol
"AC-300"
Phthalocyaningrün Calciumcarbonat
50 | Gewi | chtsteil |
4 | Il | |
4 | Il | |
3 | Il | |
2 | H | |
0. | 5 | Il |
1. | 0 | Il |
0. | 5 | Il |
10 | Il |
Gesamtkomponente (a)
Komponente (b)
11 Epic lon EXA-1514" (bis-Phenol S-Typ
Epoxiharz von Dai-Nippon Ink & Chemicals, Inc.)
Trimethy1 ölpropantriglycidyl ether
CeIlosolvacetat Calciumcarbonat
Gewichtsteile
10 Gewichtsteile
4 6 5
Gesamtkomponente (b)
Gewichtsteile
. 3L2-
Die Komponenten (a) und (b) wurden getrennt in einer Testwalze (Walzenmühle) zu Farben verknetet.
Dann wurden die Komponente (a) und die Komponente (b) vermischt. Das entstandene Gemisch wurde nach dem Siebdruckverfahren auf
die gesamte Oberfläche eines verkupferten Laminats und eines Substrats für eine gedruckte Schaltung aufgetragen, das ein
vorgegebens Muster aufwies, welches vorher durch Ätzen gebildet worden war, und wurde dann in einem Trockenofen mit heißer Umluft
bei 700C 30 min getrocknet, um Teststücke zu erhalten. Das durch
Auftragen der Farbe auf das verkupferte Laminat erzeugte Teststück
wird als "Teststück 4-E" und das durch auftragen der Farbe auf die gedruckte Schaltung mit dem vorgegeben Muster, vorher
durch Ätzen erzeugt, erhaltene Teststück wird als "Teststück 4-S" bezeichnet.
Komponente (a) Harz (A-3)
"Aronics M-5400" (Acrylmonomer von Toa Gosei Chemical Industry Co., Ltd.)
Tetramethyl οlmethantetraacrylat
Benzoinisopropylether
1-Benzyl-2-methyl imidazo "AC-300"
Phthalocyaningrün Talkum
50 Gewichtsteile
3 | Il |
2.5 | Il |
3 | Il |
1.0 | Il |
1.0 | Il |
0.5 | Il |
9 | Il |
Gesamtkomponente (a)
"Epikote 1001" Glycerindig lye idyl ether
Butylcellosolv Talkum
Komponente (b)
70 Gewichtsteile
15 Gewichtsteile 5
6
4
6
4
Gesamtkomponente (b)
30 Gewichtsteile
53
Farben wurden zubereitet und Teststücke wurden erzeugt nach dem Verfahren von Beispiel 4 mit der Abweichung, daß die hier
angegebenen Komponenten verwendet wurden. Die so erhaltenen Teststücke werden als "Teststück Nr. 5-E und 5-S" bezeichnet.
Komponente (a) Harz (A-3)
"M-310" (Acrylmonomer der Toa Gosei Chemical Industry Co., Ltd.)
"M-5400 (Acrylmonomer der Toa Gosei Chemical Industry Co., Ltd.)
Benzoinisopropy 1 ether
2-Dimethylaminoethylbenzoat 2-Phenylimidazol
"AC-300"
Phthalocyaningrün
Cellosolvacetat
Bariumsulfat
45 Gewichtsteile
3 | Il |
3 | Il |
1.5 | Il |
1.0 | Il |
1.0 | Il |
0.5 | Il |
7 | Il |
15 | Il |
Gesamtkomponente (a)
80 Gewichtsteile
Komponente (b) Epikote 828
Trimethylolpropantriglycidylether
Bariumsulfat
10 Gewichtsteile 4
6
6
Gesamtkomponente (b)
20 Gewichtsteile
Farben wurden zubereitet und Teststücke wurden hergestellt nach dem Verfahren von Beispiel 4 mit der Abweichung, daß die hier
angegebenen Komponenten verwendet wurden. Die so gebildeten Teststücke werden als "Teststück 6-E" und "Teststück 6-S" bezeichnet.
Harz (A-3)
CeIlosolvacetat Benzyldiethylketal
2-Ethy 1-4-methy lim idazo I
"AC-300"
Phthalocyaningrün Talkum
Komponente (a)
50 Gewichtsteile 10
3.0
0.5
1.0 "■-0.5
20
Gesamtkomponente (a)
Komponente (b) 'Epikote 1001"
Trimethylolpropantrig lye idyl ether
Trimethylolpropantrig lye idyl ether
85 Gewichtsteile
10 Gewichtsteile
Gesamtkomponente (b)
15 Gewichtsteile
Farben wurden zubereitet und Teststücke wurden hergestellt nach dem Verfahren von Beispiel 4 mit der Abweichung, daß die hier angegebenen
Bestandteile verwendet wurden. Die Teststücke werden als "Teststück Nr. 7-E" und "Teststück Nr. 7-S" bezeichnet.
Harz (A-3)
Trimethylolpropantriacrylat
Benzyldiethylketal "AC-300"
Phthalocyaningrün CeIlosolvacetat Talkum
50 Gewichtsteile
5 | Il |
3 | Il |
1.5 | Il |
0.5 | Il |
20 | Il |
20 | Il |
Insgesamt
Gewichtsteile
■-«■-
In einer Testwalze (Walzenmühle) wurden die angegebenen Komponenten
zu einer Farbe verknetet. Das entstandene Gemisch wurde nach dem Siebdruckverfahren auf die gesamte Oberfläche eines
verkupferten Laminats aufgetragen und dann in einem Heißluftzirkulationsofen bei 700C 30 Minuten getrocknet, um ein Teststück
zu erzeugen. Dieses Teststück wird als "Teststück Nr. 8-E" bezeichnet.
Vergleichsversuch 1:
"NK-Ester EA-800" (Epoxiacrylatharz vom bis-Phenol Α-Typ, hergestellt durch
Shin Nakamura Kagaku K. K.) Trimethylolpropantriacrylat
Isobutylmethacrylat
"Darocure 1173" (Photopolymerisationsinitiator von Merck) Bariumsulfat
Phthalocyaningrün
insgesamt: 100 Gewichstteile
Für eine Farbenzusammensetzung zu Vergleichszwecken wurden die angegebenen Komponenten in einer Testwalze (Walzenmühle) geknetet
Diese Farbe wurde nach dem Siebdruckverfahren auf die gesamte
Oberfläche eines verkupferten Laminats und auf eine gedruckte Schaltung aufgetragen, auf welcher zuvor durch Ätzung ein vorgegebenes
Muster erzeugt worden war; auf diese Weise wurden Teststücke hergestellt. Die Teststücke werden als "Vergleich
1-E" und "Vergleich 1-S" bezeichnet.
Vergleichsversuch 2:
"XP-4200" Urethanacrylatharz von Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd. 35 Gewichstteile
40 | Gewi | 5 | chtsteile |
16 | Il | ||
20 | 5 | Il | |
3. | Il | ||
20 | Il | ||
0. | Il |
Neopentylglykoldiacrylat 20 Gewichtsteile
2-Hydroxypropylmethacrylat 16 "
"Darocure 1173" 3.5 "
Talkum 25 "
Phthalocyaningrün 0.5 "
insgesamt: 100 Gewichsteile
Teststücke wurden nach dem Verfahren von Vergleichsversuch 1 hergestellt, wobei die angegebenen Komponenten zur Zubereitung
einer Farbenzusammensetzung für Vergleichszwecke verwendet wurden. Die Teststücke werden als "Vergleich 2-E" und "Vergleich
2-S" bezeichnet.
Vergleichsversuch 3:
"V-90" Epoxyacrylatharz vom bis-Phenol Α-Typ, bei Raumtemperatur fest, hergestellt
durch Showa Highpolymer
Co., Ltd. 50 Gewichtsteile
Co., Ltd. 50 Gewichtsteile
Dipentaerythrithexaacrylat 5 "
Carbitolacetat 40
Benzoinisopropylether 3.5 "
Phthalocyaningrün 0.5 "
"AC-300" 1.0
insgesamt: 100 Gewichtsteile
Die angegebenen Komponenten wurden in einer Testwalze (Walzenmühle)
zu einer Farbe verarbeitet, die als Farbzusammensetzung für Vergleichszwecke diente.
Diese Farbe wurde nach dem Siebdruckverfahren auf die gesamte
Oberfläche eines verkupferten Laminats und auf eine gedruckte Schaltung aufgetragen, wobei zuvor ein vorgegebenes Muster durch
Äzen erzeugt worden war, und danach wurde diese Farbe in einem Heißluftzirkulationsofen bei 700C 30 min getrocknet. Die so er-
"-: 27
zeugten Teststücke werden als "Vergleich 3-E" und "Vergleich 3-S" bezeichnet.
Vergleichsversuch 4:
"ZX-673" (Epoxyacrylatharz vom Novolak-Typ, bei Raumtemperatur fest, hergestellt
von Toto Chemical Co., Ltd.)
"ECN 1280" (Epoxiharz vom Cresolnovolak-Typ, hergestellt durch Ciba Geigy)
Dipentaerythrithexaacrylat
Carbitol 2-Ethylanthrachinon "AC-300" Phthalocyaningrün
2-Ethy1-4-methylimidazol
Bariumsulfat
35 Gewichtsteile
8 | Il |
6 | Il |
30 | Il |
3.5 | Il |
1.0 | Il |
0.5 | Il |
1.0 | Il |
15 | Il |
insgesamt:
100 Gewichtsteile
Teststücke wurden nach der Methode von Vergleichsversuch 3 hergestellt,
wobei die angegebenen Komponenten verwendet wurden. Die so erzeugten Teststücke werden als "Vergleich 4-E" und "Vergleich
4-S" bezeichnet.
Testbeispiele 1-3 (Lichthärtungseigenschaft, Entwickelbarkeit und Trockenheit bei Fingerberührung):
Auf jedes der Teststücke 1-E bis 8-E und Vergleich 1-E bis Vergleich
4-E, hergestellt gemäß Beispiele 1-8 und Vergleichsversuche 1-4, wurde ein ResistmusterfiIm, der auf Glas festgehalten
war, durch ein Abstandsmedium von 0,5 mm Dicke, so daß die Teststücke nicht berührt wurden, plaziert und für wechselnde Zeitdauer
mit dem Licht von einer Parallelbelichtungsvorrichtung (Modell HMw-590 der Ore Manufacturing Co., Ltd.) bestrahlt, um
die Lichthärtungseigenschaften zu untersuchen. Der Resistmuster-
film wurde, nachdem er durch die Belichtung gehärtet worden war, mit einer wässrigen 1-%igen Natriumcarbonatlösung als Entwickler
entwickelt, um die Entwickelbarkeit zu untersuchen. Die Ergebnisse sind gemeinschaftlich in Tabelle 1 wiedergegeben.
Die Teststücke aus den Vergleichsversuchen wurden, da sie nicht mit einer alkalischen wässrigen Lösung entwickelbar waren, mit
"Eterna IR" (modifiziertes 1,1,1-Trichloroethan der Asahi
Chemical Industry Co., Ltd.) entwickelt.
Die in den Beispielen 4-8 und den Vergleichsversuchen 3-4 erzeugten
Teststücke wurden auf ihre Trockenheit mit einer Fingerspitze untersucht. Auf jedem dieser Teststücke wurde ein Resistfilm
direkt befestigt, für wechselnde Zeitdauer mit dem Licht bestrahlt und auf Lichthärtungseigenschaft und Entwickelbarkeit
getestet. Die Ergebnisse sind ebenfalls in Tabelle 1 wiedergegeben.
ι
Π3 |
30 | Beispiel | 1-Ε | 2-Ε | 3-Ε | 4-Ε | 5-Ε | 6-Ε | 7-Ε | 8-Ε | Vergleichsversuch | C. 2-Ε | C.3-Ε | C. 4-Ε | |
S-
+-> ι—I 13 |
60 | Δ | © | © | Cl-E | Δ | Δ | ||||||||
Eigenschaft | -P •ί-Η #■"—·* C= 4-3 C! |
90 | χ | © | |||||||||||
Trockenheit mit | j= α> | A | ο | Δ | © | © | ο | Δ | χ | χ | χ | ||||
FinqersDitze |
DUO
■ZS I =J |
120 | ο | O | ο | © | © | ο | © | χ | Δ | Δ | χ | ||
icht let. Sek |
180 | Θ | © | © | © | © | χ | Δ | ο | A | |||||
Lgen- | ·—> O C | © | © | Δ | |||||||||||
O)
O |
CQ > | 300 | © | © | © | © | θ | © | © | ο | ο | Δ | |||
C | 30 | © | © | © | © | © | Δ | ο | O | O | |||||
t | . . | 60 | © | © | ο | ||||||||||
hthä aft |
Ο) | θ | © | O | © | © | © | χ | © | © | © | O | |||
υ sz | ■σ ■Ρ C •r—4 Ξ3 |
90 | ο | Δ | χ | χ | χ | Δ | ο | χ | X | X | |||
■η υ
I CO |
CL) ^έ
NI CL) J= OO |
120 | O | ο | ο | Δ | Δ | Δ | Δ | Δ | Δ | X | |||
S- C
Ο.·-« |
180 | ο | ο | ||||||||||||
-kei | © | O | ο | ο | ο | ο | O | © | ο | ο | Δ | ||||
Π3 | © | Θ | © | © | O | © | © | ο | O | ο | |||||
JD
1—1 OJ |
© | O | θ | O | © | © | ο | ||||||||
O
• Ι—« ■» |
© | ||||||||||||||
Ent\ |
Die Entwicklungsflüssigkeit war eine wässrige 1-%ige Natriumcarbonatlösung im Falle der
Beispiele und war Eterna IR (modifiziertes 1,1,1-Trichlorethan) im Falle der Vergleichsversuche
Die in Tabelle 1 angegebenen Markierungen als Ergebnisse der Bewertung der Eigenschaften basieren auf den folgenden Bewertungsskalen.
Trockenheit mit Fingerspitze — Das Teststück wurde in einer konstanten Temperatur und konstanten Feuchtigkeit bei 250C
und 65 % rF eine Stunde stehen gelassen, mit einer Fingerspitze berührt, um die Klebrigkeit zu untersuchen, und
nach der folgenden 4-Punkte-Skala bewertet:
© — völliges Fehlen von wahrnehmbarer Klebrigkeit
ο — geringfügig wahrnehmbare Klebrigkeit δ — deutlich wahrnehmbare Klebrigkeit
χ — Hängenbleiben von Farbe an der Fingerspitze
Lichthärtungseigenschaft — Das Teststück wurde Ultravioletlicht
ausgesetzt, mit einer verdünnten alkalischen wässrigen Lösung als Entwicklungsflüssigkeit 1 Minute unter der
Bedingung eines Sprühdruckes von 2 kg/cm2 entwickelt, visuell untersucht hinsichtlich des Zustandes der Beschichtung
und nach der folgenden 4-Punkte-Skala bewertet:
(§) völliges Fehlen einer erkennbaren Veränderung
ο — leichte Veränderung der Oberfläche & — deutliche Veränderung der Oberfläche
χ — völlige Abtrennung der Beschichtung
Entwickelbarkeit — Das Teststück wurde, während es unter einem
Sprühdruck von 2 kg/cm2 entwickelt wurde, auf seine Entwickelbarkeit unter einem Mikroskop in vorgegebenen Intervallen
untersucht und nach der folgenden 4-Punkte-Skala bewertet:
(q) — vollkommene Entwicklung zu feinen Stellen
ο — Auftreten von dünnen, nicht-entwickelten Stellen auf der
Substratoberfläche
δ ---Starkes Auftreten von nicht-entwickelten Stellen
χ — im wesentlichen Fehlen von Entwicklung
Testversuch 4 (Beschichtungseigenschaft):
Die Teststücke 1-E bis 8-E und Vergleich 1-E bis Vergleich 4-E,
die erhalten worden waren durch Auftragen der entsprechenden Farben auf verkupferte Laminate gemäß dem Beispiel 1-8 und den
Vergleichsversuchen 1-4, wurden belichtet und entwickelt. Dann wurden mit einer Ätzvorrichtung (hergestellt durch Tokyo Kakoki
K.K.) die Teststücke an ihrer Kupferfolie geätzt, um die Ätzbeständigkeit,
Neigung zum Abblättern und andere Beschichtungseigenschaften zu testen. Die Ergebnisse sind in Tabelle 2 wiedergegeben.
Bedingungen
Belichtungszeit mit UV-Licht (in Sekunden)
Entwicklungs zeit * 1) (in Sekunden
Filmeigenschaften nach der Entwicklung
Haftvermögen
Härte
Beständigkeit gegen Ät.7f 1 fissiakeit. ■
Kupferchlorid
Eisenchlorid
Abblättern *2)
1-E 2-E 3-E 4-E 5-E 6-E 7-E 8-E
60
30
90 30
60
N N
90
Il
H ■
30
O O O O
O O
2H
2H
2H
O Δ
O) υ
—< ZS
1-E 2-E 3-E 4-E
180
120 120 180
60 90
120
P HB B P
O A
Δ X
O Δ
*1) Die Entwicklungsflüssigkeit war eine schwach alkalische wässrige Lösung (wässrige 1-%ige
Natriumcarbonatlösung) im Falle der Beispiele und war Eterna IR im Falle der Vergleichsversuche. __^
Natriumcarbonatlösung) im Falle der Beispiele und war Eterna IR im Falle der Vergleichsversuche. __^
*2) Die Ablöseflüssigkeit war eine stark alkalische wässrige Lösung (eine wässrige 5 %ige Natriumhydroxidlösung
bei 50°C) im Falle der Beispiele und war Methylenchlorid im Falle der Ver- ^1
versuche.
Die in Tabelle 2 wiedergegebenen Markierungen als Ergebnisse der Bewertungen von Eigenschaften basieren auf den folgenden
Bewertungsskalen.
Haftungsvermögen — Auf einem Teststück wurden Schnitte nach dem Muster eines Schachbretts gemäß der Testmethode
JIS D-0202 angebracht. Die Teststücke wurden dann einem Abziehtest mit einem CeIlophanband unterworden und visuell
auf Abtrennung der herausgeschnittenen Quadrate untersucht und nach der folgenden 4-Punkte-Skala bewertet:
©— völliges Fehlen von Veränderungen (100/100)
ο — leichtes Abblättern entlang der Schnittkanten (100/100)
Δ ___ 50/100 bis 90/100 χ --- 0/100 bis 50/100
Bleistifthärte — Nach der Testmethode JIS K-5400 und unter Verwendung
eines Bleistifthärtetesters wurde ein Teststück unter einer Belastung von 1kg gesetzt. Bei der größten
gemessenen Härte wurde keine Kerbe auf der Beschichtung beobachtet. Die für diesen Test verwendeten Bleistifte
waren "Mitsubishi Hi-Uni" (Mitsubhishi Pencil Co., Ltd.)
Beständigkeit gegenüber Ätzflüssigkeit — Bei jedem Teststück
wurde nach dem Entwickeln die 35 μπι-Kupferfol ie unter
einem Sprühdruck von 1,7 kg/cm2 und bei einer Flüssigkeitstemperatur von 350C geätzt, bis die Ätzung vollkommen
war. Die Zeitdauer bis zur vollkommenen Ätzung wurde bestimmt. Die der Ätzflüssigkeit ausgesetzte Beschichtung
wurde visuell hinsichtlich des Zustandes der Beschichtung untersucht und nach der folgenden 4-Punkte-Skala bewertet:
@ — völliges Fehlen von Veränderungen ο — leichtes Anheben der Beschichtung entlang der Kanten
& — Abtrennung der Beschichtung entlang der Kanten χ — völlige Abtrennung der gesamten Beschichtung
Abblättern/Abziehen Teststücke wurden nach dem Ätzen unter
einem Sprühdruck von 2 kg/cm2 und bei einer Flüssigkeitstemperatur von 400C stehen gelassen. Die bis zur völligen
Abtrennung vergangene Zeit wurde bestimmt. (p) — Trennung erfolgte innerhalb von 30 Sekunden
ο — Trennung erfolgte nach 30 bis 60 Sekunden Stehen Δ — Trennung erfolgte nach 1 bis 3-minütigem Stehen
χ — Trennung erfolgte nach mehr als 3-minütigem Stehen
Testversuch 5 (Beschichtungseigenschaften als Lötresist):
Die Teststücke 1S bis 7S und Vergleich 1-S bis Vergleich 4-S, hergestellt
in den Beispielen 1-7 und den Vergleichsversuchen 1-4, wurden belichtet, entwickelt und 60 Minuten auf 1400C erhitzt.
Die dabei entstandenen, völlig gehärteten Lötresists wurden auf ihre Beschichtungseigenschaften untersucht. Die Ergebnisse
sind in Tabelle 3 wiedergegeben.
Bedingungen
'Dauer der UV-Belich tung (see.)
Entwicklungszeit (see.)
Schichteigenschaften nach dem Nacherhitzen
Haftvermögen
Härte
Beständigkeit gegen Löthitze
1. Zyklus
2. Zyklus
3. Zyklus
Beständigkeit
gegenüber Lösungsmittel Beständig Beständig
Säuren
keit
gegen
Halbbildung
gegen
Halbbildung
- Isolations-
tormal zustand
(Sl)
nach
Absorption von Feuchtigkeit
1-S 2-S 3-S 4-S 5-S 6-S 7-S
60
30
90
60
90
5H
6H 4H 7H SH 7H 3H
O O
13 4.2x10
13 6.7x10
13 6.3x10
14 1.2x10
13 8.9x10
14 1.1x10
13 5.5x10
7.8x10
5.6x10
8.8x10
2.7x10
1.4x10
9.5x10
4.6x10
12
12
12,
13"
13
12
12:
180 120
180
60
90
120
4H 2H 2H 4H
13 2.3x10
12 8.7x10
12 4.9x10
13 4.2x10
7.1x10
5.6x10
6.9x10
3.3x10
11
11
10
12
OJ
co
Die in Tabelle 3 als Ergebnisse der Bewertung der Eigenschaften
angegebenen Markierungen basieren auf folgenden Bewertungsskalen. Die Bewertungsskalen für das Haftvermögen und die Härte
sind die gleichen wie die für Tabelle 2.
Beständigkeit gegenüber der Löthitze — Gemäß Testmethode JIS C-6481 wurde das Teststück auf einem Lötbad 1, 3 und
6 Zyklen von je 6 Sekunden schwimmen gelassen. Danach wurde das Teststück auf "Blasen" und Haftvermögen untersucht
und synthetisch bewertet:
(o) — völliges Fehlen von Veränderungen ο — sehr leichte erkennbare Veränderungen
& — Abblättern auf nicht mehr als 10 % der beschichteten
Oberfläche
χ — Abblättern auf der gesamten beschichteten Oberfläche
Beständigkeit gegenüber Lösungsmittel — Das Teststück wurde 1 Stunde bei 200C in Methylethylketon getaucht und dann
hinsichtlich des Zustandes der Beschichtung und der Haftung untersucht und nach der folgenden 4-Punkte-Skala
synthetisch bewertet:
(δ) — völliges Fehlen von Veränderungen ο — sehr leichte erkennbare Veränderungen
Λ — deutliche Veränderungen χ— gequollene und abgetrennte Schicht
Beständigkeit gegenüber Säuren — Das Teststück wurde 30 Minuten
bei 200C in eine wässrige Lösung von 10 Gew.-Xiger Salzsäure
getaucht und dann hinsichtlich des Zustandes der Schicht und des Haftens untersucht und nach der folgenden
4-Punkte-Skala synthetisch bewertet:
ο)— völliges Fehlen von erkennbaren Veränderungen
ο — sehr leichte erkennbare Änderungen Λ — deutliche Veränderungen
χ — gequollene und abgetrennte Schicht
• 3?
Beständigkeit gegen Goldplattierung In einem Bad von
"Autronex CI" (Goldplattierungsflüssigkeit der Sel-Rex
Corp., USA) wurde das Teststück einer Goldplattierung bei einer Stromdichte von 1 A/dm2 12 Minuten unterworfen,
um Gold in einer Dicke von 2 Mm darauf abzuscheiden. Die
Beschichtung wurde einem Abziehtest unter Verwendung eines CeIlophanstreifens unterworfen, visuell auf Abtrennung
der Schicht untersucht und nach der folgenden 4-Punkte-Skala bewertet:
(ö) völliges Fehlen von Abtrennung
ο sehr leichte Abtrennung
Δ — Abtrennung von 10 bis 50 % der gesamten Schicht
χ — Abtrennung der gesamten Schicht
Isolationswiderstand — Gemäß der Methode JIS Z-3197 wurde das
Teststück in Normalzustand auf Isolation getestet und, nachdem es 500 Stunden zur Absorption von Feuchtigkeit
unter 55°C und 95 % rF gestanden hatte, mit Hilfe von "TR-8601" (Takeda Riken Co., Ltd.) auf Isolation getestet,
Die in 1 Minute bei 500 V Gleichstrom erhaltenen Ergebnisse wurden registriert.
Testversuch 6 (Auflösung):
Verschiedene Methoden zur Bildung einer gedruckten Schaltung wurden hinsichtlich der Auflösung getestet. Die Methode der
kontaktfreien Belichtung (unter Verwendung des Teststückes
2-S von Beispiel 2), die Methode der Belichtung unter Kontakt (unter Verwendung von Teststück 5-S von Beispiel 5) und die
Siebdruckmethode (unter Verwendung von Vergleichsteststück 1-S von Vergleichsversuch 1) wurden ausprobiert. Im Falle der kontaktfreien
Belichtung waren die Oberfläche des Substrats und der Belichtungsfilm (Maske) durch einen Spalt von 500 pm voneinander
getrennt.
Als Instrument zur Messung der Auflösung wurde ein Werkzeugmachermikroskop
(Modell STM, 150fache Vergrößerung, hergestellt von Olympus Optical Co., Ltd.) verwendet. Ein Grat, Wb, und
eine Rille, Wa, im Schnittpunkt eines Schaltungsmusters (Farbe) 1, gebildet durch Belichtung und Entwicklung auf einem Substrat (Glasepoxysubstrat oder Glasepoxysubstrat mit Kupferfolie beschichtet) 2, wie in der Zeichnung dargestellt, wurden gemessen. Die gemessenen Werte wurde mit den entsprechenden Dimensionen des Musters in der Maske verglichen. Die Ergebnisse sind in Tabelle 4 wiedergegeben.
eine Rille, Wa, im Schnittpunkt eines Schaltungsmusters (Farbe) 1, gebildet durch Belichtung und Entwicklung auf einem Substrat (Glasepoxysubstrat oder Glasepoxysubstrat mit Kupferfolie beschichtet) 2, wie in der Zeichnung dargestellt, wurden gemessen. Die gemessenen Werte wurde mit den entsprechenden Dimensionen des Musters in der Maske verglichen. Die Ergebnisse sind in Tabelle 4 wiedergegeben.
Methode der Musterbildung |
Teil der Messung |
Oberfläche des Substrat |
Breite | des Belichtungsfilmmusters im) |
150 | 100 | 75 |
Kontaktfreie Belichtung |
Rille Wa |
G-E *1) Cu *2) |
S 250 | 200 | 102 105.8 |
51.8 48 |
- |
Belichtung mit Kontakt |
Grad Wb |
G-E Cu |
203.6 209.6 |
154.6 158.8 |
192.4 189.8 |
151.8 140.8 |
|
Siebdruck | Rille Wa |
G-E Cu |
291 290.2 |
242.4 239.8 |
147.6 144.2 |
92.2 95.4 |
66.2 69.7 |
Grad Wb |
G-E Cu |
256.1 245.4 |
202.7 194.1 |
153.5 152.8 |
108.2 104.3 |
83.4 82^ |
|
Rille Wa |
G-E CU |
247.4 254.3 |
196.6 203.3 |
— | _ | - | |
Grad Wb |
G-E Cu |
91.7 | 37.4 | - | - | - | |
412.7 | 352.3 |
*1) G-E: Muster, belichtet auf GTasepoxisubstrat *2) Cu: Muster, belichtet auf Kupferfolie
Claims (32)
1. Lichthärtende flüssige Resistfarbenzusammensetzung, die
mit einer verdünnten alkalischen wässrigen Lösung entwickelbar ist, dadurch gekennzeichnet, daß sie
(A) ein durch aktivierte Energiestrahlung härtbares Harz, das durch Umsetzung eines gesättigten oder ungesättigten polybasischen
Säureanhydrids mit dem Reaktionsprodukt aus einer Epoxyverbindung vom Novolaktyp und einer ungesättigten Mono·
carbonsäure erhalten worden ist,
(B) einen Photopolymerisationsinitiator und
(C) ein Verdünnungsmittel
enthält.
enthält.
2. Zusammensetzung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß dieses durch aktivierte Energiestrahlung härtbare Harz erhalten
worden ist durch Umsetzung dieses gesättigten oder ungesättigten polybasischen Säureanhydrids in einer Menge von nicht
weniger als 0,15 Mol für jede der Hydroxylgruppen, die dieses Umsetzungsprodukt einer Epoxyverbindung vom Novolaktyp mit einer
ungesättigten Monocarbonsäure aufweist.
3. Zusammensetzung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß dieses mit aktivierter Energiestrahlung härtbare Harz eine
Säurezahl im Bereich von 45 bis 165 mg KOH/g aufweist.
4. Zusammensetzung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet,
daß dieses Harz eine Säurezahl von im Bereich 50 bis 140 mg KOH/g
aufweist.
5. Zusammensetzung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß diese Epoxyverbindung vom Novolaktyp das Produkt der Reaktion eines Phenols vom Novolaktyp mit Epichlorhydri η ist. "■■'
6. Zusammensetzung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß diese ungesättigte Monocarbonsäure Acrylsäure oder Methacrylsäure
ist.
7. Zusammensetzung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß dieses Säureanhydrid ein dibasisches Säureanhydrid oder ein
aromatisches Polycarbonsäureanhydrid oder ein Polycarbonsäureanhydrid-Derivat
ist.
8. Zusammensetzung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß dieser Photopolymerisationsinitiator in Kombination mit einem
Photopolymerisationsbeschleuniger verwendet worden ist.
9. Zusammensetzung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß dieser Photopolymerisationsinitiator in einer Menge in Bereich
von 0,2 bis 30 Gewichtsteilen, bezogen auf 100 Gewichtsteile
dieses durch aktivierte Energiestrahlung härtbaren Harzes verwendet worden ist.
10. Zusammensetzung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß dieses Verdünnungsmittel ein photopolymerisierbares Monomer oder ein organisches Lösungsmittel und in einer Menge von 30
bis 300 Gewichtsteilen, bezogen auf 100 Gewichtsteile dieses druch aktivierte Energiestrahlung härtbaren Harzes verwendet
worden ist.
11. Zusammensetzung nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß dieses photopolymerisierbare Monomer ein wässerlösliches
Monomer einer eine hydrophile Gruppe aufweisenden cc, ß-ungesättigten Verbindung ist.
12. Zusammensetzung nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß dieses wasserlösliche Monomer ein Hydroxylacrylat oder
-methacrylat, Acrylamid, Aminoalkylacrylat oder -methacrylat, Polyethylenglycolmono- oder -diacrylat oder -methacrylat oder
N-Vinylpyrrolidon ist.
13. Zusammensetzung nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß dieses photopolymerisierbare Monomer ein Polyolpolyacrylat
oder -polymethacrylat oder ein Polyester aus einer polybasischen Säure und einem Hydroxyalkylacrylat oder -methacrylat ist.
14. Zusammensetzung nach Ansrpuch 1, dadurch gekennzeichnet, daß sie weiterhin einen anorganischen Füllstoff, ein Pigment,
ein Entschäumungsmittel, ein Glättungsmittel oder einen Polymerisationsinhibitor
enthält.
15. Eine lichthärtende und wärmehärtende flüssige Resistfarbenzusammensetzung,
die mit einer verdünnten alkalischen wässrigen
Lösung entwickelbar ist, dadurch gekennzeichnet, daß sie in Kombination
(A) ein durch aktivierte Energiestrahlung härtbares Harz, das durch Umsetzung eines gesättigten oder ungesättigten polybasischen
Säureanhydrids mit dem Reaktionsprodukt aus einer Epoxyverbindung vom Novolaktyp und einer ungesättigten
Monocarbonsäure erhalten worden ist,
(B) einen Photopolymerisationsinitiator,
(C) ein Verdünnungsmittel und eine wärmehärtende Verbindung
enthält.
16. Zusammensetzung nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, daß diese wärmehärtende Verbindung eine mindestens zwei Epoxigruppen
im Molekül enthaltende Epoxyverbindung ist.
17. Zusammensetzung nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet,
daß s.ie diese wärmehärtende Verbindung in Kombination mit einem Epoxi'härtungspromotor enthält.
18. Zusammensetzung nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet, daß sie diese wärmehärtende Verbindung in einem organischen
Lösungsmittel gelöst und zusätzlich einen Füllstoff enthält.
19. Zusammensetzung nach Ansrpuch 15, dadurch gekennzeichnet, daß sie diese wärmehärtende Verbindung in einer Menge von 10
bis 150 Gewichtsteilen, bezogen auf 100 Gewichtsteile dieser
lichthärtenden Harzzusammensetzung enthält.
20. Zusammensetzung nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet,
daß dieses durch aktivierte Energiestrahlung härtbare Harz erhalten worden ist durch Umsetzung dieses gesättigten oder ungesättigten
polybasischen Säureanhydrids in einer Menge von nicht weniger als 0,15 Mol für jede der Hydroxylgruppen, die dieses Umsetzungsprodukt
aus einer Epoxyverbindung vom Novolaktyp und einer ungesättigten Monocarbonsäure aufweist.
21. Zusammensetzung nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet,
daß dieses durch aktivierte Energiestrahlung härtbare Harz eine Säurezahl im Bereich von 45 bis 165 mg KOH/g aufweist.
22. Zusammensetzung nach Anspruch 21, dadurch gekennzeichnete
daß dieses Harz eine Säurezahl im Bereich von 50 bis 140 mg
KOH/g aufweist.
KOH/g aufweist.
23. Zusammensetzung nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet:, daß diese Epoxyverbindung vom Novolaktyp das Reaktionsprodukt
aus einem Phenol vom Novolaktyp oder Epoxiharz vom Cresolnovolaktyp und Epichlorhydrin ist.
aus einem Phenol vom Novolaktyp oder Epoxiharz vom Cresolnovolaktyp und Epichlorhydrin ist.
24. Zusammensetzung nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, daß diese ungesättigte Monocarbonsäure Acrylsäure oder Methacrylsäure
ist.
25. Zusammensetzung nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, daß dieses Säureanhydrid ein dibasisches Säureanhydrid oder ein
aromatisches Polycarbonsäureanhydrid oder ein Polycabonsäureanhydrid-Derivat ist.
26. Zusammensetzung nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnete
daß dieser Photopolymerisationsinitiator in Kombination mit einem Photopolymerisationsbeschleuniger verwendet worden ist.
27. Zusammensetzung nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, daß dieser Photopolymerisationsinitiator in einer Menge von 0s2
bis 30 Gewichtsteilen, bezogen auf 100 Gewichtsteile dieses
durch aktivierte Energiestrahlung härtbaren Harzes verwendet worden ist.
28. Zusammensetzung nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet,
daß dieses Verdünnungsmittel ein photopolymerisierbares Monomer oder ein organisches Lösungsmittel und in einer Menge von 30
bis 300 Gewichtsteilen, bezogen auf 100 Gewichtsteile dieses
durch aktivierte Energiestrahlung härtbaren Harzes verwendet worden ist.
29. Zusammensetzung nach Anspruch 28, dadurch gekennzeichnet, daß dieses photopolymerisierbare Monomer ein wasserlösliches
Monomer einer eine hydrophile Gruppe aufweisenden oO, ß-ungesättigten
Verbindung ist.
30. Zusammensetzung nach Anspruch 28, dadurch gekennzeichnet, daß dieses wasserlösliche Monomer ein Hydroxyalkylacrylat oder
-methacrylat, Acrylamid, Aminoalkylacrylat oder -methacrylat,
Polyethylenglycolmono- oder diacrylat oder -methacrylat oder N-Vinylpyrrolidon ist.
31. Zusammensetzung nach Anspruch 28, dadurch gekennzeichnet, daß dieses photopolymerisierbare Monomer ein Polyolpolyacrylat
oder -polymethacrylat oder ein Polyester aus einer polybasischen Säure und Hydroxyalkylacrylat oder -methacrylat ist.
32. Zusammensetzung nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, daß sie weiterhin einen anorganischen Füllstoff, ein Entschäumungsmittel,
ein Glättungsmittel und/oder einen Polymerisationsinhibitor enthält.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60084987A JPS61243869A (ja) | 1985-04-19 | 1985-04-19 | レジストインキ組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3613107A1 true DE3613107A1 (de) | 1986-10-23 |
DE3613107C2 DE3613107C2 (de) | 1993-01-21 |
Family
ID=13845972
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19863613107 Granted DE3613107A1 (de) | 1985-04-19 | 1986-04-18 | Resistfarbenzusammensetzung |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5009982B1 (de) |
JP (1) | JPS61243869A (de) |
DE (1) | DE3613107A1 (de) |
FR (1) | FR2580828B1 (de) |
GB (1) | GB2175908B (de) |
HK (1) | HK7690A (de) |
SG (1) | SG73389G (de) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3838562A1 (de) * | 1987-11-13 | 1989-05-24 | Toshiba Kawasaki Kk | Loetresistmasse |
DE4340949A1 (de) * | 1993-12-01 | 1995-06-08 | Thera Ges Fuer Patente | Lichtinitiiert kationisch härtende Epoxidmasse und ihre Verwendung |
Families Citing this family (140)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0623325B2 (ja) * | 1986-11-11 | 1994-03-30 | 日本化薬株式会社 | ソルダーレジストインキ組成物 |
JPS63258975A (ja) * | 1986-12-26 | 1988-10-26 | Toshiba Corp | ソルダーレジストインキ組成物 |
JPS63205650A (ja) * | 1987-02-20 | 1988-08-25 | Unitika Ltd | アルカリ現像型感光性樹脂組成物 |
EP0292219A3 (de) * | 1987-05-21 | 1989-10-11 | AT&T Corp. | Verfahren zur Herstellung von Grundplatten für gedruckte Schaltungen |
JPS6462375A (en) * | 1987-09-02 | 1989-03-08 | Arakawa Chem Ind | Liquid photosolder resist ink composition of alkali development type |
US5213875A (en) * | 1987-09-30 | 1993-05-25 | Westinghouse Electric Corp. | UV conformal coatings |
JPH0717737B2 (ja) * | 1987-11-30 | 1995-03-01 | 太陽インキ製造株式会社 | 感光性熱硬化性樹脂組成物及びソルダーレジストパターン形成方法 |
US5215863A (en) * | 1987-12-18 | 1993-06-01 | Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha | Resin composition and solder resist composition |
JPH02136825A (ja) * | 1988-11-18 | 1990-05-25 | Toppan Printing Co Ltd | 表示装置用電極板及びその製造方法 |
JPH01203424A (ja) * | 1988-02-09 | 1989-08-16 | Toagosei Chem Ind Co Ltd | 硬化性組成物 |
JPH07103213B2 (ja) * | 1988-10-04 | 1995-11-08 | 日本化薬株式会社 | 不飽和基含有ポリカルボン酸樹脂を含む樹脂組成物及びソルダーレジスト樹脂組成物 |
JPH0823695B2 (ja) * | 1988-12-27 | 1996-03-06 | タムラ化研株式会社 | 感光性樹脂組成物 |
EP0402894B1 (de) * | 1989-06-16 | 1995-07-26 | Ciba-Geigy Ag | Photoresist |
JPH0371137A (ja) * | 1989-08-11 | 1991-03-26 | Tamura Kaken Kk | 感光性樹脂組成物 |
US5723261A (en) * | 1989-11-30 | 1998-03-03 | Tamura Kaken Co., Ltd. | Photopolymerizable composition |
JP2988736B2 (ja) * | 1991-03-11 | 1999-12-13 | 株式会社アサヒ化学研究所 | 一液型感光性熱硬化性樹脂組成物 |
JP3077277B2 (ja) * | 1991-08-05 | 2000-08-14 | 大日本インキ化学工業株式会社 | 新規なエネルギー線硬化型樹脂組成物 |
GB2259812B (en) * | 1991-09-06 | 1996-04-24 | Toa Gosei Chem Ind | Method for making multilayer printed circuit board having blind holes and resin-coated copper foil used for the method |
US5391247A (en) * | 1992-01-24 | 1995-02-21 | Revlon Consumer Products Corporation | Hot stamping glass |
DE69330028T2 (de) * | 1992-06-19 | 2001-08-23 | Nippon Steel Chemical Co., Ltd. | Farbfilter, material und harzzusammensetzung dafür |
KR0126118B1 (ko) * | 1992-09-10 | 1997-12-18 | 다나카 쇼소 | 솔더레지스트용 잉크조성물 |
JP3329877B2 (ja) * | 1993-03-02 | 2002-09-30 | 互応化学工業株式会社 | プリント回路基板製造用レジストインク組成物、それを用いたレジスト膜及びプリント回路基板 |
JP3115449B2 (ja) * | 1993-05-07 | 2000-12-04 | イビデン株式会社 | 配線板用めっきレジスト組成物およびプリント配線板 |
JP2877659B2 (ja) * | 1993-05-10 | 1999-03-31 | 日本化薬株式会社 | レジストインキ組成物及びその硬化物 |
JPH0756336A (ja) * | 1993-06-07 | 1995-03-03 | Ajinomoto Co Inc | 樹脂組成物 |
TW270123B (de) * | 1993-07-02 | 1996-02-11 | Ciba Geigy | |
US5710234A (en) * | 1993-07-20 | 1998-01-20 | Nippon Steel Chemical Co., Ltd. | Ortho spiroesters and curable and cured resin compositions of same |
WO1996028764A1 (fr) * | 1993-09-02 | 1996-09-19 | Goo Chemical Industries Co., Ltd. | Composition de resine photosensible et couche mince de revetement, encre resist, resist de soudure et plaquette a circuits imprimes realises avec cette composition |
TW290583B (de) * | 1993-10-14 | 1996-11-11 | Alpha Metals Ltd | |
JP3815574B2 (ja) * | 1993-12-15 | 2006-08-30 | ソニー株式会社 | 多層プリント配線板の製造方法 |
JP3281473B2 (ja) * | 1994-01-17 | 2002-05-13 | 日本化薬株式会社 | フレキシブルプリント配線板用レジストインキ組成物及びその硬化物 |
US5620831A (en) * | 1994-04-05 | 1997-04-15 | Taiyo Ink Manufacturing Co., Ltd. | Cyanoguanidine derivatives, and thermosetting or photocurable, thermosetting resin composition using the same |
TW312700B (de) * | 1994-05-17 | 1997-08-11 | Sony Co Ltd | |
KR100192934B1 (ko) * | 1994-09-14 | 1999-06-15 | 아이다 겐지 | 감광성 수지의 제조방법 및 액상 감광성 수지조성물 |
JPH08234432A (ja) * | 1994-11-11 | 1996-09-13 | Taiyo Ink Mfg Ltd | ソルダーレジストインキ組成物 |
EP0737701B1 (de) * | 1995-04-13 | 2002-03-06 | Mitsui Chemicals, Inc. | Epoxyacrylatharze und ihre Verwendungen |
US5853957A (en) * | 1995-05-08 | 1998-12-29 | Tamura Kaken Co., Ltd | Photosensitive resin compositions, cured films thereof, and circuit boards |
JP3190251B2 (ja) * | 1995-06-06 | 2001-07-23 | 太陽インキ製造株式会社 | アルカリ現像型のフレキシブルプリント配線板用光硬化性・熱硬化性樹脂組成物 |
JP2718007B2 (ja) * | 1995-06-06 | 1998-02-25 | 太陽インキ製造株式会社 | アルカリ現像可能な一液型フォトソルダーレジスト組成物及びそれを用いたプリント配線板の製造方法 |
US5973034A (en) * | 1995-10-11 | 1999-10-26 | Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha | (Oxide or sulfide) powder epoxy (meth) acrylate w/glass and/or metal |
JP3405631B2 (ja) * | 1996-02-28 | 2003-05-12 | 互応化学工業株式会社 | エポキシ樹脂組成物及びフォトソルダーレジストインク並びにプリント配線板及びその製造方法 |
JP2707495B2 (ja) * | 1996-03-11 | 1998-01-28 | 太陽インキ製造株式会社 | 感光性熱硬化性樹脂組成物 |
EP0795788B1 (de) * | 1996-03-13 | 2002-07-24 | Ibiden Co, Ltd. | Resistzusammenzetzungen zum Metallabscheiden |
JP3254572B2 (ja) | 1996-06-28 | 2002-02-12 | バンティコ株式会社 | 光重合性熱硬化性樹脂組成物 |
SG73469A1 (en) | 1996-11-20 | 2000-06-20 | Ibiden Co Ltd | Solder resist composition and printed circuit boards |
KR100342950B1 (ko) * | 1997-11-11 | 2002-10-19 | 가부시키가이샤 닛폰 쇼쿠바이 | 경화성수지및수지조성물 |
JP4060962B2 (ja) | 1998-02-25 | 2008-03-12 | 互応化学工業株式会社 | アルカリ現像型フォトソルダーレジストインク |
US8337006B2 (en) * | 1998-05-06 | 2012-12-25 | Sawgrass Technologies, Inc. | Energy activated printing process |
JP3771714B2 (ja) | 1998-05-12 | 2006-04-26 | 互応化学工業株式会社 | 感光性樹脂組成物及びプリント配線板製造用フォトソルダーレジストインク |
JP3338890B2 (ja) | 1998-05-20 | 2002-10-28 | 富士通株式会社 | 感光性耐熱樹脂組成物、その組成物を用いた耐熱絶縁膜のパターン形成方法、及びその方法により得られるパターン化耐熱絶縁膜 |
US5998534A (en) * | 1998-06-19 | 1999-12-07 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Water-soluble or water-dispersible addition copolymer |
JP4081217B2 (ja) | 1999-03-17 | 2008-04-23 | 互応化学工業株式会社 | 紫外線硬化性樹脂組成物、フォトソルダーレジストインク、予備乾燥被膜、基板及びプリント配線板 |
JP3648704B2 (ja) | 2000-02-14 | 2005-05-18 | タムラ化研株式会社 | 活性エネルギー線硬化性組成物及びプリント配線板 |
KR100796405B1 (ko) | 2000-09-20 | 2008-01-21 | 다이요 잉키 세이조 가부시키가이샤 | 카르복실기 함유 감광성 수지, 이것을 함유하는 알칼리현상 가능 광경화성ㆍ열경화성 조성물 및 그 경화물 |
JP2002148799A (ja) * | 2000-11-14 | 2002-05-22 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 耐燃性に優れたレジスト組成物 |
DE60138836D1 (de) * | 2000-12-14 | 2009-07-09 | Goo Chemical Co Ltd | Uv-härtbare harzzusammensetzung und die zusammensetzung enthaltende photolotresisttinte |
US6555592B2 (en) * | 2001-02-27 | 2003-04-29 | Advance Materials Corporation | Photothermosetting composition comprising acrylated epoxy resin |
CN1498236A (zh) * | 2001-03-23 | 2004-05-19 | 太阳油墨制造株式会社 | 活性能量线固化树脂和含其的光固化·热固性树脂组合物 |
JP2003002958A (ja) * | 2001-06-26 | 2003-01-08 | Nippon Kayaku Co Ltd | アルカリ水溶液可溶性ポリエステル化合物及びそれを用いた感光性樹脂組成物並びにその硬化物 |
JP3673967B2 (ja) * | 2001-09-21 | 2005-07-20 | タムラ化研株式会社 | 感光性樹脂組成物及びプリント配線板 |
SG118157A1 (en) * | 2001-09-21 | 2006-01-27 | Tamura Kaken Corp | Photosensitive resin composition and printed wiring board |
EP1296188A3 (de) * | 2001-09-21 | 2003-04-23 | Tamura Kaken Corporation | Lichtempfindliche Harzzusammensetzung und Leiterplatte |
JP2003098658A (ja) * | 2001-09-25 | 2003-04-04 | Tamura Kaken Co Ltd | 感光性樹脂組成物及びプリント配線板 |
JP4148896B2 (ja) * | 2001-10-22 | 2008-09-10 | 太陽インキ製造株式会社 | 光硬化性・熱硬化性樹脂組成物 |
EP1308434B1 (de) | 2001-11-01 | 2006-03-15 | Nippon Shokubai Co., Ltd. | (Meth)acryloylgruppe-enthaltende Verbindung und Verfahren zu derer Herstellung |
KR100529577B1 (ko) | 2001-11-22 | 2005-11-17 | 미쓰이 가가쿠 가부시키가이샤 | 감광성 수지조성물, 드라이필름 및 그것을 이용한 가공부품 |
AU2003211957A1 (en) * | 2002-02-19 | 2003-09-09 | Taiyo Ink Manufacturing Co., Ltd. | Curable resin and curable resin composition containing the same |
JP4213043B2 (ja) * | 2002-03-15 | 2009-01-21 | 太陽インキ製造株式会社 | 硬化性樹脂及びそれを含有する硬化性樹脂組成物 |
CN1955207A (zh) * | 2002-03-15 | 2007-05-02 | 太阳油墨制造株式会社 | 固化性树脂及含有该固化性树脂的固化性树脂组合物 |
DE10223313A1 (de) * | 2002-05-24 | 2003-12-11 | Bakelite Ag | Modifizierte Epoxyacrylate |
JP4087650B2 (ja) * | 2002-07-12 | 2008-05-21 | 太陽インキ製造株式会社 | 光硬化性・熱硬化性樹脂組成物及びその硬化物 |
EP1398667A1 (de) * | 2002-09-11 | 2004-03-17 | Ciba SC Holding AG | Lichtempfindliche Harzzusammensetzung mit halogenfreiem Farbstoff |
EP1455227A3 (de) * | 2002-09-30 | 2004-10-27 | Tamura Kaken Corporation | Lichtempfindliche Zusammensetzung und Leiterplatte |
EP1413926A3 (de) * | 2002-09-30 | 2004-10-27 | Tamura Kaken Corporation | Lichtempfindliche Harzzusammensetzung und gedruckte Leiterplatte |
WO2004049065A2 (en) * | 2002-11-25 | 2004-06-10 | World Properties, Inc. | Curable covercoat compositions, cured products obtained therefrom, and methods of manufacture thereof |
EP1565789B1 (de) * | 2002-11-28 | 2009-12-30 | Basf Se | Halogenfreier farbstoff enthaltende lichtempfindliche harzzusammensetzung |
US20040115561A1 (en) * | 2002-12-13 | 2004-06-17 | Mikhail Laksin | Energy curable, water washable printing inks suitable for waterless lithographic printing |
CA2523755C (en) * | 2003-04-30 | 2012-06-05 | Dainippon Ink And Chemicals, Inc. | Curable resin composition |
JP4573256B2 (ja) * | 2003-06-13 | 2010-11-04 | ダイセル・サイテック株式会社 | 多官能(メタ)アクリル酸エステル、その製造方法および活性エネルギー線硬化型(メタ)アクリル酸エステル樹脂組成物並びにその硬化物 |
WO2005015309A2 (en) * | 2003-07-17 | 2005-02-17 | Cytec Surface Specialties, S.A. | Alkali-developable radiation curable composition |
US7485242B2 (en) * | 2004-01-23 | 2009-02-03 | Printar Ltd | Reactive fine particles |
CN100519630C (zh) | 2004-03-31 | 2009-07-29 | 太阳油墨制造株式会社 | 活性能量线固化性树脂、含有该树脂的光固化性和热固化性树脂组合物及其固化物 |
TW200604269A (en) * | 2004-04-06 | 2006-02-01 | Showa Denko Kk | Thermosetting composition and curing method thereof |
JP4481721B2 (ja) * | 2004-05-18 | 2010-06-16 | 富士フイルム株式会社 | 感光性組成物及び感光性フィルム、並びに、永久パターン及びその形成方法 |
JP5004146B2 (ja) * | 2005-04-28 | 2012-08-22 | 日本化薬株式会社 | エポキシ樹脂、およびエポキシ樹脂組成物 |
JP4899349B2 (ja) * | 2005-06-13 | 2012-03-21 | Dic株式会社 | ソルダーレジストインキ用樹脂組成物 |
JP4770836B2 (ja) | 2005-08-03 | 2011-09-14 | 東亞合成株式会社 | 感光性樹脂組成物、ソルダーレジスト用組成物及び感光性ドライフィルム |
CN101253449A (zh) | 2005-08-30 | 2008-08-27 | 日立化成工业株式会社 | 感光性树脂组合物及感光性组件 |
US7781147B2 (en) | 2005-10-07 | 2010-08-24 | Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha | Imide-urethane resin, photosensitive resin composition including the same and cured product |
US20070182288A1 (en) * | 2006-02-07 | 2007-08-09 | Fujifilm Corporation | Multilayered piezoelectric element and method of manufacturing the same |
KR100865614B1 (ko) * | 2006-09-29 | 2008-10-27 | 니혼 유피카 가부시키가이샤 | 산변성 에폭시 (메타)아크릴레이트 화합물과 그의 제조방법, 상기 화합물을 함유하는 감광성 열경화성 수지 조성물 및 그의 경화물 |
WO2008090640A1 (ja) | 2007-01-23 | 2008-07-31 | Fujifilm Corporation | オキシム化合物、感光性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに液晶表示素子 |
JP5219846B2 (ja) * | 2007-02-16 | 2013-06-26 | 太陽ホールディングス株式会社 | 硬化皮膜パターン形成用組成物及びそれを用いた硬化皮膜パターン作製方法 |
JP4774070B2 (ja) | 2007-03-05 | 2011-09-14 | 株式会社日本触媒 | 画像形成用感光性樹脂組成物及びその製造方法 |
KR101515679B1 (ko) | 2008-06-09 | 2015-04-27 | 고오 가가쿠고교 가부시키가이샤 | 카르복실기 함유 수지 및 카르복실기 함유 수지를 함유하는 경화성 조성물 그리고 그 경화물 |
TWI532756B (zh) | 2009-03-31 | 2016-05-11 | Taiyo Holdings Co Ltd | Hardened resin composition and printed circuit board |
JP2010248297A (ja) * | 2009-04-10 | 2010-11-04 | Taiyo Ink Mfg Ltd | 光硬化性樹脂及び光硬化性樹脂組成物 |
JP4538076B1 (ja) * | 2009-04-13 | 2010-09-08 | 日本ユピカ株式会社 | 多官能エポキシ(メタ)アクリレート化合物及び該化合物を含有する感光性熱硬化性樹脂組成物並びにその硬化物 |
JP5679696B2 (ja) * | 2009-05-22 | 2015-03-04 | 日東電工株式会社 | 紫外線硬化型粘着剤組成物、粘着剤層、粘着シートおよびその製造方法 |
JP5427632B2 (ja) * | 2010-02-08 | 2014-02-26 | 太陽ホールディングス株式会社 | 積層構造体及びそれに用いる感光性ドライフィルム |
JP5422427B2 (ja) | 2010-02-08 | 2014-02-19 | 太陽ホールディングス株式会社 | 積層構造体及びそれに用いる感光性ドライフィルム |
CN102375339B (zh) * | 2010-08-20 | 2013-06-12 | 太阳油墨(苏州)有限公司 | 碱显影型感光性树脂组合物 |
JP5238777B2 (ja) | 2010-09-14 | 2013-07-17 | 太陽ホールディングス株式会社 | 感光性樹脂、それを含有する硬化性樹脂組成物及びそのドライフィルム並びにそれらを用いたプリント配線板 |
KR20160003294A (ko) | 2010-12-28 | 2016-01-08 | 다이요 잉키 세이조 가부시키가이샤 | 광 경화성 수지 조성물, 그의 드라이 필름 및 경화물, 및 이들을 이용한 인쇄 배선판 |
CN103492950B (zh) | 2011-06-17 | 2016-04-13 | 太阳油墨制造株式会社 | 光固化性热固化性树脂组合物 |
CN110083010A (zh) | 2011-08-10 | 2019-08-02 | 日立化成株式会社 | 感光性树脂组合物、感光性薄膜、永久抗蚀剂以及永久抗蚀剂的制造方法 |
TW201435495A (zh) | 2011-09-30 | 2014-09-16 | Taiyo Ink Mfg Co Ltd | 感光性樹脂組成物、其之硬化皮膜及印刷配線板 |
US8703385B2 (en) | 2012-02-10 | 2014-04-22 | 3M Innovative Properties Company | Photoresist composition |
MY173225A (en) | 2012-03-23 | 2020-01-07 | Taiyo Ink Suzhou Co Ltd | Photosensitive resin composition and its cured product, and printed circuit board |
JP6130693B2 (ja) | 2012-03-30 | 2017-05-17 | 太陽インキ製造株式会社 | 積層構造体、ドライフィルムおよび積層構造体の製造方法 |
US8715904B2 (en) | 2012-04-27 | 2014-05-06 | 3M Innovative Properties Company | Photocurable composition |
JP6010340B2 (ja) * | 2012-05-17 | 2016-10-19 | 太陽インキ製造株式会社 | プリント配線板およびプリント配線板の製造方法 |
CN104334604A (zh) | 2012-05-17 | 2015-02-04 | 太阳油墨制造株式会社 | 碱显影型的热固化性树脂组合物、印刷电路板 |
US9188871B2 (en) | 2012-05-17 | 2015-11-17 | Taiyo Ink Mfg. Co., Ltd. | Pattern forming method, alkali-developable thermosetting resin composition, printed circuit board and manufacturing method thereof |
JP6078535B2 (ja) | 2012-05-17 | 2017-02-08 | 太陽インキ製造株式会社 | アルカリ現像型の熱硬化性樹脂組成物、プリント配線板 |
CN103513515A (zh) * | 2012-06-29 | 2014-01-15 | 太阳油墨(苏州)有限公司 | 碱显影型感光性树脂组合物、干膜、固化物以及印刷电路板 |
US8883402B2 (en) | 2012-08-09 | 2014-11-11 | 3M Innovative Properties Company | Photocurable compositions |
US9217920B2 (en) | 2012-08-09 | 2015-12-22 | 3M Innovative Properties Company | Photocurable compositions |
JP5615415B2 (ja) | 2012-09-28 | 2014-10-29 | 太陽インキ製造株式会社 | 硬化性樹脂組成物、ソルダーレジスト形成用組成物、ドライフィルムおよびプリント配線板、並びに積層構造体及びその製造方法 |
CN103969947B (zh) | 2013-01-31 | 2016-05-04 | 太阳油墨(苏州)有限公司 | 碱显影型感光性树脂组合物、其干膜及其固化物以及使用其而形成的印刷电路板 |
WO2014132974A1 (ja) | 2013-02-28 | 2014-09-04 | 東海神栄電子工業株式会社 | 基板の製造方法と基板とマスクフィルム |
JP5728109B1 (ja) * | 2013-12-18 | 2015-06-03 | 東海神栄電子工業株式会社 | 基板の製造方法と基板とマスクフィルム |
CN103819654B (zh) * | 2014-01-25 | 2016-05-11 | 佛山市高明绿化纳新材料有限公司 | 一种水性紫外光固化涂料专用树脂及其制备方法和应用 |
WO2015190210A1 (ja) | 2014-06-12 | 2015-12-17 | 太陽インキ製造株式会社 | 硬化性樹脂組成物、ドライフィルム、硬化物およびプリント配線板 |
JP6557155B2 (ja) | 2015-02-02 | 2019-08-07 | 株式会社日本触媒 | 硬化性樹脂およびその製造方法 |
JP6717566B2 (ja) * | 2015-04-08 | 2020-07-01 | 昭和電工株式会社 | 感光性樹脂、感光性樹脂組成物、硬化物及びカラーフィルター |
JP6562249B2 (ja) * | 2015-06-05 | 2019-08-21 | Dic株式会社 | (メタ)アクリレート樹脂及びレジスト部材 |
JP6723788B2 (ja) | 2016-03-31 | 2020-07-15 | 太陽インキ製造株式会社 | 硬化性樹脂組成物、ドライフィルム、硬化物およびプリント配線板 |
JP6748663B2 (ja) * | 2017-03-31 | 2020-09-02 | 太陽インキ製造株式会社 | 硬化性組成物、ドライフィルム、硬化物およびプリント配線板 |
KR102517621B1 (ko) | 2017-03-31 | 2023-04-05 | 다이요 잉키 세이조 가부시키가이샤 | 경화성 조성물, 드라이 필름, 경화물 및 프린트 배선판 |
JP6579412B2 (ja) | 2017-06-14 | 2019-09-25 | Dic株式会社 | 酸基含有(メタ)アクリレート樹脂及びソルダーレジスト用樹脂材料 |
JP6409106B1 (ja) | 2017-08-30 | 2018-10-17 | 太陽インキ製造株式会社 | 硬化性樹脂組成物、ドライフィルム、硬化物およびプリント配線板 |
CN113195574B (zh) | 2018-12-19 | 2023-10-20 | Dic株式会社 | 含酸基(甲基)丙烯酸酯树脂、固化性树脂组合物、固化物、绝缘材料、阻焊剂用树脂材料及抗蚀构件 |
CN113544179B (zh) | 2019-03-06 | 2024-02-02 | Dic株式会社 | 含酸基(甲基)丙烯酸酯树脂、固化性树脂组合物、固化物、绝缘材料、阻焊剂用树脂材料和抗蚀构件 |
TW202116847A (zh) | 2019-09-20 | 2021-05-01 | 日商日鐵化學材料股份有限公司 | 環氧丙烯酸酯樹脂、鹼可溶性樹脂、鹼可溶性樹脂的製造方法、含有鹼可溶性樹脂的樹脂組成物及其硬化物 |
JP2021170054A (ja) | 2020-04-14 | 2021-10-28 | 太陽インキ製造株式会社 | 硬化性樹脂組成物、ドライフィルム、硬化物およびプリント配線板 |
KR20230008105A (ko) | 2020-05-12 | 2023-01-13 | 닛테츠 케미컬 앤드 머티리얼 가부시키가이샤 | 에폭시아크릴레이트 수지, 알칼리 가용성 수지, 그것을 포함하는 수지 조성물 및 그 경화물 |
WO2022138184A1 (ja) | 2020-12-22 | 2022-06-30 | Dic株式会社 | 活性エネルギー線硬化性樹脂組成物、硬化物、絶縁材料及びレジスト部材 |
JP2023003576A (ja) | 2021-06-24 | 2023-01-17 | Dic株式会社 | 樹脂、硬化性樹脂組成物、硬化物、絶縁材料及びレジスト部材 |
CN113721422A (zh) * | 2021-09-01 | 2021-11-30 | 大同共聚(西安)科技有限公司 | 一种布线板上绝缘保护层的制备方法 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2459179A1 (de) * | 1973-12-20 | 1975-06-26 | Ibm | Verfahren zur herstellung von photoempfindlichen ueberzuegen |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL6917781A (de) * | 1968-12-02 | 1970-06-04 | ||
DE2115918C3 (de) * | 1971-04-01 | 1980-04-24 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Verfahren zur Herstellung von Epoxydpolyaddukten |
US3980483A (en) * | 1972-04-24 | 1976-09-14 | Nippon Oil Seal Industry Co., Ltd. | Photocurable composition |
JPS5239432B2 (de) * | 1972-09-29 | 1977-10-05 | ||
JPS5514087B2 (de) * | 1973-09-05 | 1980-04-14 | ||
JPS5845474B2 (ja) * | 1974-05-20 | 1983-10-11 | モビル オイル コ−ポレ−シヨン | 放射硬化性塗料 |
US4072592A (en) * | 1974-05-20 | 1978-02-07 | Mobil Oil Corporation | Radiation curable coating |
US4039414A (en) * | 1974-06-19 | 1977-08-02 | Scm Corporation | Ultraviolet curing of electrocoating compositions |
DE2557408C2 (de) * | 1975-12-19 | 1983-08-25 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Verfahren zur Herstellung eines in organischen Lösungsmitteln löslichen, vernetzbaren Acryloyl- und/oder Methacryloylgruppen und Carboxylgruppen enthaltenden Urethanharzes und seine Verwendung |
JPS5296690A (en) * | 1976-02-10 | 1977-08-13 | Dainippon Ink & Chem Inc | Rapidly curable photo-setting resin composition |
US4428807A (en) * | 1978-06-30 | 1984-01-31 | The Dow Chemical Company | Composition containing polymerizable entities having oxirane groups and terminal olefinic unsaturation in combination with free-radical and cationic photopolymerizations means |
EP0008837B1 (de) * | 1978-09-07 | 1982-05-05 | Akzo N.V. | Durch Strahlung härtbares flüssiges Beschichtungsmittel auf der Basis einer eine Epoxidendgruppe enthaltenden Verbindung und Verfahren zum Auftragen einer derartigen Zusammensetzung auf Substrate |
US4479983A (en) * | 1983-01-07 | 1984-10-30 | International Business Machines Corporation | Method and composition for applying coatings on printed circuit boards |
-
1985
- 1985-04-19 JP JP60084987A patent/JPS61243869A/ja active Granted
-
1986
- 1986-04-14 GB GB8608996A patent/GB2175908B/en not_active Expired
- 1986-04-17 FR FR868605511A patent/FR2580828B1/fr not_active Expired - Lifetime
- 1986-04-18 DE DE19863613107 patent/DE3613107A1/de active Granted
-
1988
- 1988-06-06 US US90/002935A patent/US5009982B1/en not_active Expired - Lifetime
-
1989
- 1989-11-13 SG SG733/89A patent/SG73389G/en unknown
-
1990
- 1990-02-01 HK HK76/90A patent/HK7690A/xx not_active IP Right Cessation
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2459179A1 (de) * | 1973-12-20 | 1975-06-26 | Ibm | Verfahren zur herstellung von photoempfindlichen ueberzuegen |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3838562A1 (de) * | 1987-11-13 | 1989-05-24 | Toshiba Kawasaki Kk | Loetresistmasse |
US5055378A (en) * | 1987-11-13 | 1991-10-08 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Solder resist composition |
DE4340949A1 (de) * | 1993-12-01 | 1995-06-08 | Thera Ges Fuer Patente | Lichtinitiiert kationisch härtende Epoxidmasse und ihre Verwendung |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
SG73389G (en) | 1990-03-02 |
US5009982B1 (en) | 1994-03-15 |
JPS61243869A (ja) | 1986-10-30 |
HK7690A (en) | 1990-02-09 |
GB8608996D0 (en) | 1986-05-21 |
FR2580828B1 (fr) | 1992-05-22 |
JPH0154390B2 (de) | 1989-11-17 |
FR2580828A1 (fr) | 1986-10-24 |
GB2175908A (en) | 1986-12-10 |
GB2175908B (en) | 1989-09-06 |
US5009982A (en) | 1991-04-23 |
DE3613107C2 (de) | 1993-01-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE3613107A1 (de) | Resistfarbenzusammensetzung | |
DE69702767T2 (de) | Photopolymerisierbare, wärmehärtbare harzzusammensetzung | |
DE60017470T2 (de) | Phot0- oder wärmehärtende zusammensetzungen zur herstellung matter filme | |
DE3885260T2 (de) | Lichtempfindliche wärmehärtbare Harzzusammensetzung und Methode zur Herstellung von Lötstoppmasken damit. | |
DE69612138T2 (de) | "One Package", lötbeständige, fotoempfindliche, in wässriger Alkali-Lösung entwickelbare Zusammensetzung und Verfahren zum Erzeugen von gedruckten Leiterplatten, dass diese Zusammensetzung verwendet | |
DE3717199C2 (de) | ||
DE69010309T2 (de) | Resist-Tintenzusammensetzung für stromlose Plattierung. | |
EP0418733B1 (de) | Durch Strahlung polymerisierbares Gemisch und Verfahren zur Herstellung einer Lötstopmaske | |
DE2406400A1 (de) | Lichtempfindliche harzzusammensetzungen | |
DE19622464A1 (de) | Licht- und wärmehärtbare Zusammensetzung, die mit einer wässerigen Alkalilösung entwickelbar ist | |
DE69426702T2 (de) | Verbinden von innenschichten in der leiterplattenherstellung | |
DE3916035A1 (de) | Mit aktiven energiestrahlen haertbare ungesaettigte harzmasse | |
DE3887367T2 (de) | Wärmebeständige, lichtempfindliche Harzzusammensetzung. | |
DE69630555T2 (de) | Photostrukturierbare dielektrische Zusammensetzung zur Verwendung in der Herstellung von Leiterplatten | |
DE69019067T2 (de) | Lichtempfindliche Bildaufzeichnungszusammensetzungen. | |
JPH04355450A (ja) | 樹脂組成物、ソルダーレジスト樹脂組成物及びこれらの硬化物 | |
DE4142735A1 (de) | Durch strahlung polymerisierbares gemisch und verfahren zur herstellung einer loetstoppmaske | |
DE69326925T2 (de) | Verfahren zur Herstellung von gedruckten Leiterplatten | |
DE69319277T2 (de) | Verfahren zur Herstellung einer mehrschichtigen Leiterplatte und daraus erhaltenes Produkt | |
US6555592B2 (en) | Photothermosetting composition comprising acrylated epoxy resin | |
DE60220446T2 (de) | Harzzusammensetzung | |
DE69333313T2 (de) | Lötstopp-Tintenzusammensetzung | |
EP0651601B1 (de) | Photopolymerisierbares Gemisch und Verfahren zur Herstellung von Lötstopmasken | |
DE69527896T2 (de) | Verfahren und Zusammensetzung zur Herstellung einer mehrschichtigen Leiterplatte | |
DE69414027T2 (de) | Resistzusammensetzungen für gedruckte Schaltungen |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8128 | New person/name/address of the agent |
Representative=s name: SCHMITZ, W., DIPL.-PHYS., PAT.-ANW., 6200 WIESBADE |
|
8128 | New person/name/address of the agent |
Representative=s name: FUCHS, J., DR.-ING. DIPL.-ING. B.COM. LUDERSCHMIDT |
|
8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
D2 | Grant after examination | ||
8364 | No opposition during term of opposition |