CN111522083B - 附着力增强型宽光谱反射膜及其制备方法 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种附着力增强型宽光谱反射膜及其制备方法。其结构包括：柔性基底；设置于所述柔性基底上的高折射膜层；设置于所述高折射膜层上的低折射膜层；设置于所述低折射膜层上的金属层；所述金属层的材料选自银或银合金。反射膜具有宽光谱(波长范围300nm～2500nm)反射膜。同时，金属银层与柔性基底之间的附着力高，金属银层不易剥落。

Description

附着力增强型宽光谱反射膜及其制备方法

技术领域

本发明涉及反射膜技术领域，特别是涉及附着力增强型宽光谱反射膜及其制备方法。

背景技术

一般金属都具有较大的消光系数，当光束由空气入射到金属表面时，进入金属内的光振幅迅速衰减，使得进入金属内部的光能相应减少，而反射光能增加。目前，市场上有很多基于金属反射的反射膜，诸如金膜、铜膜、铑膜、铝膜和银膜。其中，金膜、铜膜和铑膜在紫外、可见波段的反射率都较低，不适用于宽带高反射膜材料。铝膜的反射区间覆盖了紫外、可见和红外波段，并且都具有较高的反射率；银膜从可见到红外波段具有最高的反射效率。因此铝和银是最常用的两种宽带高反射膜材料。

但是，铝膜在0.86μm处有一个明显的吸收峰，降低了整个太阳光波段的反射效率。虽然银膜在可见光波段的反射率优于铝膜，但由于表面等离子激元的作用，银膜在300nm-400nm紫外波段的反射率急剧降低。目前虽然有在铝膜或银膜上设置高低折射膜堆来提高膜层反射率的技术，但是，这种设计多是基于以下2个目的：1)采用不同效果的多个膜堆组合，实现宽光谱高折射率；2)金属层上设置一组或几组膜堆，从而提高部分波段的反射率，还可以起到保护金属层的作用(这样会导致其与波段的反射率下降，进而导致全光谱反射率下降)。

而且，由于材质原因，铝和银在柔性基底上的附着力均极差，在柔性基底上直接溅镀银/铝，得到的产品往往无法使用。目前，通常的解决方案是在柔性基底与银/铝之间加镀一层过渡介质层，此时，如果介质层厚度较薄，例如介质层厚度小于15nm时，就不能达到很好的附着力增强效果，然而，如果采用增加介质层厚度的方法，提高铝/银在柔性基底上的附着力，就易导致基膜面膜层的全光谱反射率大幅下降。

发明内容

基于此，本发明提供一种基于柔性基底的附着力增强型宽光谱反射膜。整个膜层在紫外区域、可见光区域以及红外区域均具有较高反射率，为宽光谱(波长范围300nm～2500nm)反射膜。同时，金属银层与柔性基底之间的附着力高，金属银层不易剥落。

具体技术方案为：

一种附着力增强型宽光谱反射膜，其结构包括：

柔性基底；

设置于所述柔性基底上的高折射膜层；

设置于所述高折射膜层上的低折射膜层；

设置于所述低折射膜层上的金属层；

所述高折射膜层的材料的折射率n₁≥2，消光系数k₁≤0.001，所述高折射膜层的光学厚度为0.25H～0.5H，其中1H＝n₁*d₁，所述d₁表示所述高折射膜层的物理厚度；

所述低折射膜层的材料的折射率n₂＜1.8，消光系数k₂≤0.001，所述低折射膜层的光学厚度为0.25L～0.5L，其中1L＝n₂*d₂，所述d₂表示所述低折射膜层的物理厚度；

所述金属层的材料选自银或银合金。

在一些优选的实施例中，所述高折射膜层的材料选自Ta₂O₅、SnO₂、BiO₂、TiO₂、ZnSnO_x、ZnO、AZO、ITO、Nb₂O₅和Si₃N₄中的一种或几种。

在一些优选的实施例中，所述低折射膜层的材料选自SiO₂、Al₂O₃、MgF₂、YF₃、Y₂O₃中的一种或几种。

在一些优选的实施例中，所述高折射膜层的物理厚度和所述低折射膜层的物理厚度总和大于50nm。

在一些优选的实施例中，所述高折射膜层的光学厚度为0.5H，所述低折射膜层的光学厚度为0.25L。

在一些优选的实施例中，所述高折射膜层的光学厚度为0.25H，所述低折射膜层的光学厚度为0.5L。

在一些优选的实施例中，所述高折射膜层的光学厚度为0.5H，所述低折射膜层的光学厚度为0.5L。

在一些优选的实施例中，其结构还包括种子层，所述种子层层叠设置于所述低折射膜层与所述金属层之间；

所述种子层的材料选自AZO和NiCr中的一种或几种。

在一些优选的实施例中，所述种子层的材料为AZO，所述种子层的膜层厚度为3nm～7nm。

在一些优选的实施例中，所述种子层的材料为NiCr，所述种子层的膜层厚度为0.3nm～0.5nm。

在一些优选的实施例中，所述银合金中银的质量占总质量的80％～99.99％。

在一些优选的实施例中，所述金属层的膜层厚度为120nm～150nm。

在一些优选的实施例中，所述柔性基底的材料选自PET、PEN、PETG和PMMA中的一种或几种，所述柔性基底的厚度为20μm-200μm。

本发明还提供一种附着力增强型宽光谱反射膜的制备方法。

具体技术方案为：

一种附着力增强型宽光谱反射膜的制备方法，包括以下步骤：

提供柔性基底和高折射膜层的材料，在柔性基底上形成高折射膜层；

提供低折射膜层的材料，在所述高折射膜层上形成低折射膜层；

提供金属材料，在所述低折射膜层上形成金属层；

所述高折射膜层的材料的折射率n₁≥2，消光系数k₁≤0.001，所述高折射膜层的光学厚度为0.25H～0.5H，其中1H＝n₁*d₁，所述d₁表示所述高折射膜层的物理厚度；

所述低折射膜层的材料的折射率n₂＜1.8，消光系数k₂≤0.001，所述低折射膜层的光学厚度为0.25L～0.5L，其中1L＝n₂*d₂，所述d₂表示所述低折射膜层的物理厚度；

所述金属层的材料选自银或银合金。

在一些优选的实施例中，所述制备方法还包括：

于所述低折射膜层上溅镀种子层的材料，形成种子层；

于所述种子层上溅镀所述金属层的材料，形成所述金属层；

所述种子层的材料选自AZO和NiCr中的一种或几种。

与现有技术相比，本发明具有以下有益效果：

本申请发明人以其在本领域长期的经验总结和大量创造性的实验巧妙发现，只采用由一层高折射膜层与一层低折射膜组成的介质层，然后将其位置调整到柔性基底和金属银层之间，再通过对介质层进行合理的光学设计，可以一方面确保整个膜层在紫外区域、可见光区域以及红外区域均具有较高反射率，在柔性基底上，形成了宽光谱(波长范围300nm～2500nm)反射膜。同时另一方面，能够增强金属银层与柔性基底之间的附着力，防止金属银层剥落，还能阻隔基膜界面的水氧侵蚀，延长膜层使用寿命。

附图说明

图1为实施例1所得反射膜的结构示意图；

图2为实施例4所得反射膜的结构示意图；

图3为对比例8所得反射膜的结构示意图。

具体实施方式

以下结合具体实施例对本发明进一步详细的说明。本发明可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施方式。相反地，提供这些实施方式的目的是使对本发明公开内容理解更加透彻全面。

除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本发明。本文所使用的术语“和/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。

本发明提供一种附着力增强型宽光谱反射膜。

具体技术方案为：

一种附着力增强型宽光谱反射膜，其结构包括：

柔性基底；

设置于所述柔性基底上的高折射膜层；

设置于所述高折射膜层上的低折射膜层；

设置于所述低折射膜层上的金属层；

所述高折射膜层的材料的折射率n₁≥2，消光系数k₁≤0.001，所述高折射膜层的光学厚度为0.25H～0.5H，其中1H＝n₁*d₁，所述d₁表示所述高折射膜层的物理厚度；

所述低折射膜层的材料的折射率n₂＜1.8，消光系数k₂≤0.001，所述低折射膜层的光学厚度为0.25L～0.5L，其中1L＝n₂*d₂，所述d₂表示所述低折射膜层的物理厚度；

所述金属层的材料选自银或银合金。

具体地，柔性基底可采用能透射太阳光(波长范围为300nm～2500nm)的柔性薄膜，例如，可选自PET(聚对苯二甲酸乙二醇酯)、PEN(聚萘二甲酸乙二醇酯)、PETG(聚对苯二甲酸乙二醇酯-1,4-环己烷二甲醇酯)和PMMA(聚甲基丙烯酸甲酯)中的一种或几种。

可以理解地，还可对柔性基底进行适当的预处理，例如对柔性基底表面进行电晕处理，来增加柔性基底表面的粗糙度，进而提高随后施加层对柔性基底的附着力。

柔性基底的厚度优选20μm-200μm。

进一步地，所述高折射膜层的材料的折射率n₁≥2，消光系数k₁≤0.001。消光系数越低，表明材料的吸收越低，反之则导致膜层吸收过大，降低膜层整体反射率。

所述高折射膜层的光学厚度为0.25H～0.5H，其中H是指一个光学厚度，即λ/4(λ为入射光的波长，一般选取λ＝550nm)，1H＝n₁*d₁，所述d₁表示所述高折射膜层的物理厚度。

应当理解地，所述高折射膜层的材料选自Ta₂O₅、SnO₂、BiO₂、TiO₂、ZnSnO_x、ZnO、AZO(铝掺杂的氧化锌)、ITO(氧化铟锡)、Nb₂O₅和Si₃N₄中的一种或几种。

所述低折射膜层的材料的折射率n₂＜1.8，消光系数k₂≤0.001。消光系数越低，表明材料的吸收越低，反之则导致膜层吸收过大，降低膜层整体反射率。

所述低折射膜层的光学厚度为0.25L～0.5L，其中L是指一个光学厚度，即λ/4(λ为入射光的波长，一般选取λ＝550nm)，1L＝n₂*d₂，所述d₂表示所述低折射膜层的物理厚度。

应当理解地，所述低折射膜层的材料选自SiO₂、Al₂O₃、MgF₂、YF₃、Y₂O₃中的一种或几种。

本发明利用光学干涉原理，合理设计高折射膜层H与低折射膜层L的膜厚，对紫外波段反射率进行光学调制，最终实现了兼具紫外、可见光、红外区域的全光谱高反射率的效果。

优选地，所述高折射膜层的物理厚度和所述低折射膜层的物理厚度总和大于50nm，此厚度下，既能兼具全光谱高反射率的效果，又能增强金属层与柔性基底的附着力，防止金属层剥落。

更优选地，所述高折射膜层的物理厚度和所述低折射膜层的物理厚度的总和为50nm～100nm。

当所述高折射膜层的光学厚度为0.25H，所述低折射膜层的光学厚度为0.5L时，紫外、可见光、红外区域的全光谱高反射率的效果均较好。

当所述高折射膜层的光学厚度为0.5H，所述低折射膜层的光学厚度为0.5L时，紫外、可见光、红外区域的全光谱高反射率的效果也均较好。

优选地，当所述高折射膜层的光学厚度为0.5H，所述低折射膜层的光学厚度为0.25L时，紫外、可见光、红外区域的全光谱高反射率的效果最好。

在一些实施例中，于所述低折射膜层与所述金属层之间还设置了种子层。增加设置种子层，可以提高金属层的生长质量，间接增加膜层反射率；一方面，种子层可以平滑金属层，促进金属层结晶，降低金属层的粗糙度，减少膜面散射损耗；另一方面，种子层还可以增加金属层与低折射膜层之间的附着力。

所述种子层的材料选自AZO(铝掺杂的氧化锌)和NiCr中的一种或几种。

当所述种子层的材料为AZO时，种子层的膜层厚度优选为3nm～7nm。

当所述种子层的材料为NiCr时，种子层的膜层厚度优选为0.3nm～0.5nm。

进一步地，金属层的材料选自银或银合金。

可以理解地，所述银合金中，Ag的质量占比为80％～99.99％；剩余合金成分由Rn、Co、Cu、In、Nd、Ge、Sn、Si、Pt、Pd、Zn、Cd和Au中一种或几种构成，剩余合金成分的质量占比为0.01％～20％。

优选地，所述金属层的膜层厚度为120nm～150nm。

不同于将高低折射膜堆设置与金属层背离基底的一侧的方案，本申请发明人以其在本领域长期的经验总结和大量创造性的实验巧妙发现，只采用由一层高折射膜层与一层低折射膜组成的介质层，然后将其位置调整到柔性基底和金属银层之间，再通过对介质层进行合理的光学设计，可以一方面确保整个膜层在紫外区域、可见光区域以及红外区域均具有较高反射率，在柔性基底上，形成了宽光谱(波长范围300nm～2500nm)反射膜。同时另一方面，能够增强金属银层与柔性基底之间的附着力，防止金属银层剥落，还能阻隔基膜界面的水氧侵蚀，延长膜层使用寿命。

本发明还提供一种附着力增强型宽光谱反射膜的制备方法。

具体技术方案为：

一种附着力增强型宽光谱反射膜的制备方法，包括以下步骤：

提供柔性基底和高折射膜层的材料，在柔性基底上形成高折射膜层；

提供低折射膜层的材料，在所述高折射膜层上形成低折射膜层；

提供金属材料，在所述低折射膜层上形成金属层；

所述高折射膜层的材料的折射率n₁≥2，消光系数k₁≤0.001，所述高折射膜层的光学厚度为0.25H～0.5H，其中1H＝n₁*d₁，所述d₁表示所述高折射膜层的物理厚度；

所述低折射膜层的材料的折射率n₂＜1.8，消光系数k₂≤0.001，所述低折射膜层的光学厚度为0.25L～0.5L，其中1L＝n₂*d₂，所述d₂表示所述低折射膜层的物理厚度；

所述金属层的材料选自银或银合金。

可以理解地，在所述低折射膜层上形成所述金属层之前，还包括：

提供种子层材料，于所述低折射膜层上形成种子层；

所述金属层形成于所述种子层上；

所述种子层的材料选自AZO和NiCr中的一种或几种。

可以理解地，形成上述各功能层的方法可以是通过溅镀形成，溅镀的工艺参数可参考本领域常规的工艺参数进行，本发明在此不做特别的限定。

以下结合具体实施例进行说明。

实施例1

本实施例提供一种附着力增强型宽光谱反射膜及其制备方法。具体步骤如下：

以50μm厚的PET薄膜作为柔性基底。

于所述PET薄膜上溅镀Nb₂O₅，形成高折射膜层。其中，Nb₂O₅的折射率n₁为2.35，消光系数k₁为0.00006，所述高折射膜层的光学厚度为0.5H，物理厚度d₁为29nm。

于所述高折射膜层上溅镀SiO₂，形成低折射膜层。其中，SiO₂的折射率n₂为1.46，消光系数k₂为0.0001，所述低折射膜层的光学厚度为0.5L，物理厚度d₂为47nm。

于所述低折射膜层上溅镀金属Ag，形成厚度为120nm的金属层，即得，其结构如图1所示，其中，1为柔性基底，2为高折射膜层，3为低折射膜层，4为金属层。

对所得附着力增强型宽光谱反射膜的紫外反射率、可见光反射率、红外反射率、全光谱反射率、柔性基底与金属层之间的附着力进行测试。结果如表1所示。

实施例2

本实施例提供一种附着力增强型宽光谱反射膜及其制备方法。具体步骤如下：

以50μm厚的PET薄膜作为柔性基底。

于所述PET薄膜上溅镀TiO₂，形成高折射膜层。其中，TiO₂的折射率n₁为2.35，消光系数k₁为0.00008，所述高折射膜层的光学厚度为0.25H，物理厚度d₁为14nm。

于所述高折射膜层上溅镀Al₂O₃，形成低折射膜层。其中，Al₂O₃的折射率n₂为1.67，消光系数k₂为0.00008，所述低折射膜层的光学厚度为0.5L，物理厚度d₂为41nm。

于所述低折射膜层上溅镀金属Ag，形成厚度为120nm的金属层，即得。

对所得附着力增强型宽光谱反射膜的紫外反射率、可见光反射率、红外反射率、全光谱反射率、柔性基底与金属层之间的附着力进行测试。结果如表1所示。

实施例3

本实施例提供一种附着力增强型宽光谱反射膜及其制备方法。具体步骤如下：

以50μm厚的PET薄膜作为柔性基底。

于所述PET薄膜上溅镀TiO₂，形成高折射膜层。其中，TiO₂的折射率n₁为2.35，消光系数k₁为0.00008，所述高折射膜层的光学厚度为0.5H，物理厚度d₁为29nm。

于所述高折射膜层上溅镀MgF₂，形成低折射膜层。其中，MgF₂的折射率n₂为1.39，消光系数k₂为0.00009，所述低折射膜层的光学厚度为0.25L，物理厚度d₂为25nm。

于所述低折射膜层上溅镀金属Ag，形成厚度为120nm的金属层，即得。

对所得附着力增强型宽光谱反射膜的紫外反射率、可见光反射率、红外反射率、全光谱反射率、柔性基底与金属层之间的附着力进行测试。结果如表1所示。

实施例4

本实施例提供一种附着力增强型宽光谱反射膜及其制备方法。具体步骤如下：

以50μm厚的PET薄膜作为柔性基底。

于所述PET薄膜上溅镀TiO₂，形成高折射膜层。其中，TiO₂的折射率n₁为2.35，消光系数k₁为0.00008，所述高折射膜层的光学厚度为0.25H，物理厚度d₁为14nm。

于所述高折射膜层上溅镀Al₂O₃，形成低折射膜层。其中，Al₂O₃的折射率n₂为1.67，消光系数k₂为0.00008，所述高折射膜层的光学厚度为0.5L，物理厚度d₂为41nm。

于所述低折射膜层上溅镀AZO，形成厚度为3nm的种子层。

于所述种子层上溅镀金属Ag，形成厚度为120nm的金属层，即得，其结构如图2所示，其中，1为柔性基底，2为高折射膜层，3为低折射膜层，4为金属层，5为种子层。

对所得附着力增强型宽光谱反射膜的紫外反射率、可见光反射率、红外反射率、全光谱反射率、柔性基底与金属层之间的附着力进行测试。结果如表1所示。

对比例1

本对比例提供一种反射膜及其制备方法。具体步骤如下：

以50μm厚的PET薄膜作为柔性基底。

于所述PET薄膜上溅镀金属Ag，形成厚度为120nm的金属层，即得。

对所得反射膜的紫外反射率、可见光反射率、红外反射率、全光谱反射率、柔性基底与金属层之间的附着力进行测试。结果如表1所示。

对比例2

本对比例提供一种反射膜及其制备方法。具体步骤如下：

以50μm厚的PET薄膜作为柔性基底。

于所述PET薄膜上溅镀金属Al，形成厚度为120nm的金属层，即得。

对所得反射膜的紫外反射率、可见光反射率、红外反射率、全光谱反射率、柔性基底与金属层之间的附着力进行测试。结果如表1所示。

对比例3

本对比例提供一种反射膜及其制备方法。具体步骤如下：

以50μm厚的PET薄膜作为柔性基底。

于所述PET薄膜上溅镀TiO₂，形成氧化物膜层。其中，TiO₂的折射率n为2.35，消光系数k为0.00008，所述氧化物膜层的光学厚度为1.5H，物理厚度d为87nm。

于所述氧化物膜层上溅镀金属Ag，形成厚度为120nm的金属层，即得。

对所得反射膜的紫外反射率、可见光反射率、红外反射率、全光谱反射率、柔性基底与金属层之间的附着力进行测试。结果如表2所示。

对比例4

本对比例提供一种反射膜及其制备方法。具体步骤如下：

以50μm厚的PET薄膜作为柔性基底。

于所述PET薄膜上溅镀Nb₂O₅，形成氧化物膜层。其中，Nb₂O₅的折射率n为2.35，消光系数k为0.00006，所述氧化物膜层的光学厚度为0.25H，物理厚度d为14nm。

于所述氧化物膜层上溅镀金属Ag，形成厚度为120nm的金属层，即得。

对所得反射膜的紫外反射率、可见光反射率、红外反射率、全光谱反射率、柔性基底与金属层之间的附着力进行测试。结果如表2所示。

对比例5

本对比例提供一种反射膜及其制备方法。具体步骤如下：

以50μm厚的PET薄膜作为柔性基底。

于所述PET薄膜上溅镀Al₂O₃，形成氧化物膜层。其中，Al₂O₃的折射率n为1.67，消光系数k为0.00008，所述氧化物膜层的光学厚度为0.5L，物理厚度d为41nm。

于所述氧化物膜层上溅镀金属Ag，形成厚度为120nm的金属层，即得。

对所得反射膜的紫外反射率、可见光反射率、红外反射率、全光谱反射率、柔性基底与金属层之间的附着力进行测试。结果如表2所示。

对比例6

本对比例提供一种反射膜及其制备方法。具体步骤如下：

以50μm厚的PET薄膜作为柔性基底。

于所述PET薄膜上溅镀Nb₂O₅，形成高折射膜层。其中，Nb₂O₅的折射率n₁为2.35，消光系数k₁为0.00006，所述高折射膜层的光学厚度为1H，物理厚度d₁为58nm。

于所述高折射膜层上溅镀SiO₂，形成低折射膜层。其中，SiO₂的折射率n₂为1.46，消光系数k₂为0.0001，所述高折射膜层的光学厚度为1L，物理厚度d₂为47nm。

于所述低折射膜层上溅镀金属Ag，形成厚度为120nm的金属层，即得。

对所得反射膜的紫外反射率、可见光反射率、红外反射率、全光谱反射率、柔性基底与金属层之间的附着力进行测试。结果如表2所示。

对比例7

本对比例提供一种反射膜及其制备方法。具体步骤如下：

于所述PET薄膜上溅镀TiO₂，形成高折射膜层。其中，TiO₂的折射率n₁为2.35，消光系数k₁为0.00008，所述高折射膜层的光学厚度为1H，物理厚度d₁为58nm。

于所述高折射膜层上溅镀Al₂O₃，形成低折射膜层。其中，Al₂O₃的折射率n₂为1.67，消光系数k₂为0.00008，所述高折射膜层的光学厚度为0.25L，物理厚度d₂为21nm。

于所述低折射膜层上溅镀金属Ag，形成厚度为120nm的金属层，即得。

对所得反射膜的紫外反射率、可见光反射率、红外反射率、全光谱反射率、柔性基底与金属层之间的附着力进行测试。结果如表2所示。

对比例8

本对比例提供一种反射膜及其制备方法。具体步骤如下：

以50μm厚的PET薄膜作为柔性基底。

于所述PET薄膜上溅镀Nb₂O₅，形成高折射膜层。其中，Nb₂O₅的折射率n₁为2.35，消光系数k₁为0.00006，所述高折射膜层的光学厚度为0.5H，物理厚度d₁为29nm。

于所述高折射膜层上溅镀SiO₂，形成低折射膜层。其中，SiO₂的折射率n₂为1.46，消光系数k₂为0.0001，所述高折射膜层的光学厚度为0.5L，物理厚度d₂为47nm。

于所述低折射膜层上继续溅镀Nb₂O₅，形成光学厚度为0.5H的第二高折射膜层。

于所述高折射膜层上继续溅镀SiO₂，形成光学厚度为0.5L的第二低折射膜层。

于所述低折射膜层上溅镀金属Ag，形成厚度为120nm的金属层，即得，其结构如图3所示，其中，1为柔性基底，2为高折射膜层，3为低折射膜层，4为金属层，6为第二高折射膜层，7为第二低折射膜层。

对所得反射膜的紫外反射率、可见光反射率、红外反射率、全光谱反射率、柔性基底与金属层之间的附着力进行测试。结果如表2所示。

以上实施例和对比例的汇总情况如表1和表2所示。

表1

表2

上述紫外反射率指的是300nm～400nm波段反射膜的平均反射率，可见光反射率指的是400nm～760nm波段反射膜的平均反射率，红外反射率指的是760nm～2500nm波段反射膜的平均反射率。

结合各实施例、对比例、表1、表2，可以得出以下结论：

1)对比例1和对比例2中，直接在柔性基底上溅镀形成Al层或Ag层，基底与金属层之间的附着力较差，且金属层为Al层的反射膜在可见光区域的反射率较低，降低其在全光谱区域的反射率；金属层为Ag层的反射膜在紫外波段的反射率较差。

2)比较实施例1-3和对比例1，在金属层和柔性基底之间设置了由高、低折射膜层组成的介质层后，基底与金属层之间的附着力显著增加，且反射膜在紫外区域反射率明显上升，整个反射膜在紫外区域、可见光区域以及红外区域均具有较高反射率。

3)比较实施例2和实施例4，在低折射膜层与金属层设置种子层后，反射膜在紫外区域、可见光区域以及红外区域的反射率均有提高。

4)比较实施例1和对比例4、实施例1和对比例5、实施例2和对比例3，虽然在柔性基底和金属层之间设置一层金属氧化物层，能够保证基底和金属层之间的附着力，但这种方法会导致反射膜全光谱反射率的下降。

5)比较实施例1和对比例6、实施例2和对比例7，高折射膜层和低折射膜层的光学厚度对反射膜在紫外波段的反射率具有重要的影响。

6)比较实施例1和对比例8，交替设置两组高折射率膜层与低折射率膜层后，虽然会提高部分波段的反射率，但这种设计会导致反射膜在其余波段的反射率下降，导致全光谱区域的反射率下降。

以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (8)

1.一种附着力增强型宽光谱反射膜，其特征在于，其结构为：

柔性基底；

设置于所述柔性基底上的高折射膜层；

设置于所述高折射膜层上的低折射膜层；

设置于所述低折射膜层上的金属层；

所述高折射膜层的材料选自Nb₂O₅，Nb₂O₅的折射率n₁为2.35，消光系数k₁为0.00006，所述高折射膜层的光学厚度为0.5H，物理厚度d₁为29nm；

所述低折射膜层的材料选自SiO₂、Al₂O₃、MgF₂、YF₃和Y₂O₃中的一种或几种；所述低折射膜层的材料的折射率n₂＜1.8，消光系数k₂≤0.001，所述低折射膜层的光学厚度为0.25L~0.5L，其中1L=n₂*d₂，所述d₂表示所述低折射膜层的物理厚度；

所述高折射膜层的物理厚度和所述低折射膜层的物理厚度总和大于50nm；

所述金属层的材料选自银或银合金，所述金属层的膜层厚度为120nm~150nm。

2.根据权利要求1所述的附着力增强型宽光谱反射膜，其特征在于，所述高折射膜层的物理厚度和所述低折射膜层的物理厚度的总和为50nm～100nm。

3.根据权利要求2所述的附着力增强型宽光谱反射膜，其特征在于，所述低折射膜层的材料为SiO₂，SiO₂的折射率n₂为1.46，消光系数k₂为0.0001；所述低折射膜层的光学厚度为0.5L，物理厚度d₂为47nm。

4.根据权利要求1~3中任一项所述的附着力增强型宽光谱反射膜，其特征在于，所述柔性基底的材料选自PET、PEN、PETG和PMMA中的一种或几种。

5.根据权利要求1~3中任一项所述的附着力增强型宽光谱反射膜，其特征在于，所述银合金中，Ag的质量占比为80％～99.99％；

剩余合金成分由Rn、Co、Cu、In、Nd、Ge、Sn、Si、Pt、Pd、Zn、Cd和Au中一种或几种构成，剩余合金成分的质量占比为0.01％～20％。

6.一种附着力增强型宽光谱反射膜，其特征在于，其结构为：

柔性基底；

设置于所述柔性基底上的高折射膜层；

设置于所述高折射膜层上的低折射膜层；

设置于所述低折射膜层上的金属层；以及，

种子层，所述种子层层叠设置于所述低折射膜层与所述金属层之间；

其中，所述高折射膜层的材料选自Nb₂O₅，Nb₂O₅的折射率n₁为2.35，消光系数k₁为0.00006，所述高折射膜层的光学厚度为0.5H，物理厚度d₁为29nm；

所述低折射膜层的材料选自SiO₂、Al₂O₃、MgF₂、YF₃和Y₂O₃中的一种或几种；所述低折射膜层的材料的折射率n₂＜1.8，消光系数k₂≤0.001，所述低折射膜层的光学厚度为0.25L~0.5L，其中1L=n₂*d₂，所述d₂表示所述低折射膜层的物理厚度；

所述高折射膜层的物理厚度和所述低折射膜层的物理厚度总和大于50nm；

所述金属层的材料选自银或银合金，所述金属层的膜层厚度为120nm~150nm；

所述种子层的材料为AZO，所述种子层的膜层厚度为3nm~7nm。

7.权利要求1~5中任一项所述附着力增强型宽光谱反射膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

提供柔性基底和高折射膜层的材料，在柔性基底上形成高折射膜层；

提供低折射膜层的材料，在所述高折射膜层上形成低折射膜层；

提供金属材料，在所述低折射膜层上形成金属层。

8.权利要求6所述附着力增强型宽光谱反射膜的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

提供柔性基底和高折射膜层的材料，在柔性基底上形成高折射膜层；

提供低折射膜层的材料，在所述高折射膜层上形成低折射膜层；

提供金属材料，在所述低折射膜层上形成金属层；

在所述低折射膜层上形成所述金属层之前，还包括：

提供种子层材料，于所述低折射膜层上形成种子层；

所述金属层形成于所述种子层上。

Images