CN108375878A - 聚合性组合物、固化膜的制造方法和固化膜 - Google Patents
聚合性组合物、固化膜的制造方法和固化膜 Download PDFInfo
- Publication number
- CN108375878A CN108375878A CN201810085762.4A CN201810085762A CN108375878A CN 108375878 A CN108375878 A CN 108375878A CN 201810085762 A CN201810085762 A CN 201810085762A CN 108375878 A CN108375878 A CN 108375878A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- group
- polymerizable composition
- resin
- methyl
- carbon atom
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 266
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 20
- 239000000945 filler Substances 0.000 claims abstract description 65
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 38
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 claims abstract description 37
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 claims abstract description 37
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 claims abstract description 29
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 claims abstract description 23
- 238000011161 development Methods 0.000 claims abstract description 13
- -1 (methyl) acryloyl group Chemical group 0.000 claims description 300
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 218
- 239000002585 base Substances 0.000 claims description 203
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 189
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 189
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 132
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 claims description 99
- 125000001820 oxy group Chemical group [*:1]O[*:2] 0.000 claims description 86
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 76
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 60
- 229920000548 poly(silane) polymer Polymers 0.000 claims description 60
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 claims description 59
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 38
- 230000014509 gene expression Effects 0.000 claims description 37
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 37
- 125000001118 alkylidene group Chemical group 0.000 claims description 29
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 claims description 26
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 claims description 24
- 239000003513 alkali Substances 0.000 claims description 20
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 19
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 claims description 19
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 14
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 10
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 10
- 239000013522 chelant Substances 0.000 claims description 9
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 7
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 7
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052688 Gadolinium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052689 Holmium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims 6
- 230000008569 process Effects 0.000 abstract description 7
- 239000012528 membrane Substances 0.000 abstract description 6
- 238000001259 photo etching Methods 0.000 abstract description 5
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 195
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 108
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 92
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 72
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 49
- 239000004567 concrete Substances 0.000 description 48
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 41
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N alpha-methacrylic acid Natural products CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 39
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 38
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 37
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 36
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 35
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 35
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 34
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 33
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 31
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N monobenzene Natural products C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 31
- GLUUGHFHXGJENI-UHFFFAOYSA-N Piperazine Chemical compound C1CNCCN1 GLUUGHFHXGJENI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 28
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 28
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 26
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 26
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 24
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 24
- YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N Morpholine Natural products C1COCCN1 YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 23
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 23
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 21
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 21
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 20
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 20
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 19
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 19
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 18
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 16
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 16
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 15
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 15
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 description 14
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 14
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 125000003236 benzoyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C(*)=O 0.000 description 13
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 13
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 13
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 235000007586 terpenes Nutrition 0.000 description 13
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 12
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 12
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 12
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 12
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 12
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 11
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 11
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 10
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 10
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 10
- UODXCYZDMHPIJE-UHFFFAOYSA-N menthanol Chemical compound CC1CCC(C(C)(C)O)CC1 UODXCYZDMHPIJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 9
- 235000019441 ethanol Nutrition 0.000 description 9
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 9
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 9
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 9
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 9
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 9
- 125000003884 phenylalkyl group Chemical group 0.000 description 9
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 9
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 9
- UJOBWOGCFQCDNV-UHFFFAOYSA-N 9H-carbazole Chemical compound C1=CC=C2C3=CC=CC=C3NC2=C1 UJOBWOGCFQCDNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 8
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N Thiophene Chemical compound C=1C=CSC=1 YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N anthracene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C21 MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 8
- 125000000000 cycloalkoxy group Chemical group 0.000 description 8
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 8
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 8
- 235000019197 fats Nutrition 0.000 description 8
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 8
- 125000003136 n-heptyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 8
- 125000001326 naphthylalkyl group Chemical group 0.000 description 8
- 150000002924 oxiranes Chemical class 0.000 description 8
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 8
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 8
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 8
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 7
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 7
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 7
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 7
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 7
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 7
- 125000001038 naphthoyl group Chemical group C1(=CC=CC2=CC=CC=C12)C(=O)* 0.000 description 7
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N phenylbenzene Natural products C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 7
- FCEHBMOGCRZNNI-UHFFFAOYSA-N 1-benzothiophene Chemical compound C1=CC=C2SC=CC2=C1 FCEHBMOGCRZNNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QZZJTWAHFMBFSX-UHFFFAOYSA-N 2,4-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound ClC(Cl)(Cl)C1=NC=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 QZZJTWAHFMBFSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KDCGOANMDULRCW-UHFFFAOYSA-N 7H-purine Chemical compound N1=CNC2=NC=NC2=C1 KDCGOANMDULRCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 6
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N Pyrazine Chemical compound C1=CN=CC=N1 KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 6
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 6
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 6
- 125000001231 benzoyloxy group Chemical group C(C1=CC=CC=C1)(=O)O* 0.000 description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 6
- IAQRGUVFOMOMEM-UHFFFAOYSA-N but-2-ene Chemical group CC=CC IAQRGUVFOMOMEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 6
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 6
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 6
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 6
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 6
- 125000001316 cycloalkyl alkyl group Chemical group 0.000 description 6
- NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N fluorene Chemical compound C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3C2=C1 NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YCOZIPAWZNQLMR-UHFFFAOYSA-N heptane - octane Natural products CCCCCCCCCCCCCCC YCOZIPAWZNQLMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 6
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 6
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XSCHRSMBECNVNS-UHFFFAOYSA-N quinoxaline Chemical compound N1=CC=NC2=CC=CC=C21 XSCHRSMBECNVNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000000094 2-phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 5
- GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N ac1mqpva Chemical compound CC12C(=O)OC(=O)C1(C)C1(C)C2(C)C(=O)OC1=O GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 5
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 5
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 5
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 5
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 5
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 5
- 229940035423 ethyl ether Drugs 0.000 description 5
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 5
- 150000002240 furans Chemical class 0.000 description 5
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 5
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 5
- YPHQUSNPXDGUHL-UHFFFAOYSA-N n-methylprop-2-enamide Chemical compound CNC(=O)C=C YPHQUSNPXDGUHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 5
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 5
- 239000003495 polar organic solvent Substances 0.000 description 5
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 5
- 125000000383 tetramethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 5
- 125000003258 trimethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 5
- YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzothiazole-2-thiol Chemical compound C1=CC=C2SC(S)=NC2=C1 YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 1H-benzimidazole Chemical compound C1=CC=C2NC=NC2=C1 HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 4
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 4
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 4
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N Pyrrole Chemical compound C=1C=CNC=1 KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical group C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000000218 acetic acid group Chemical group C(C)(=O)* 0.000 description 4
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 4
- WUOACPNHFRMFPN-UHFFFAOYSA-N alpha-terpineol Chemical compound CC1=CCC(C(C)(C)O)CC1 WUOACPNHFRMFPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QQQCWVDPMPFUGF-ZDUSSCGKSA-N alpinetin Chemical compound C1([C@H]2OC=3C=C(O)C=C(C=3C(=O)C2)OC)=CC=CC=C1 QQQCWVDPMPFUGF-ZDUSSCGKSA-N 0.000 description 4
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 4
- IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N benzothiazole Chemical compound C1=CC=C2SC=NC2=C1 IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000033228 biological regulation Effects 0.000 description 4
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 4
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 4
- 229940106691 bisphenol a Drugs 0.000 description 4
- CDQSJQSWAWPGKG-UHFFFAOYSA-N butane-1,1-diol Chemical compound CCCC(O)O CDQSJQSWAWPGKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 4
- 125000006841 cyclic skeleton Chemical group 0.000 description 4
- 150000001924 cycloalkanes Chemical class 0.000 description 4
- 125000000392 cycloalkenyl group Chemical group 0.000 description 4
- 125000001995 cyclobutyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 4
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000000640 cyclooctyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 4
- SQIFACVGCPWBQZ-UHFFFAOYSA-N delta-terpineol Natural products CC(C)(O)C1CCC(=C)CC1 SQIFACVGCPWBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000002290 gas chromatography-mass spectrometry Methods 0.000 description 4
- 125000000268 heptanoyl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 4
- DCAYPVUWAIABOU-UHFFFAOYSA-N hexadecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC DCAYPVUWAIABOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 4
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 4
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 4
- IIYFAKIEWZDVMP-UHFFFAOYSA-N linear paraffin C13 Natural products CCCCCCCCCCCCC IIYFAKIEWZDVMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical group CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229940094933 n-dodecane Drugs 0.000 description 4
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 4
- 125000002801 octanoyl group Chemical group C(CCCCCCC)(=O)* 0.000 description 4
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 4
- FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N pentan-3-one Chemical compound CCC(=O)CC FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000003053 piperidines Chemical class 0.000 description 4
- 229920000767 polyaniline Polymers 0.000 description 4
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 4
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000003233 pyrroles Chemical class 0.000 description 4
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 4
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000003505 terpenes Chemical class 0.000 description 4
- 229940116411 terpineol Drugs 0.000 description 4
- VDZOOKBUILJEDG-UHFFFAOYSA-M tetrabutylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC VDZOOKBUILJEDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229930192474 thiophene Natural products 0.000 description 4
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000003852 triazoles Chemical class 0.000 description 4
- YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilane Chemical compound CO[SiH](OC)OC YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000003774 valeryl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- BCMCBBGGLRIHSE-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzoxazole Chemical compound C1=CC=C2OC=NC2=C1 BCMCBBGGLRIHSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YDIYEOMDOWUDTJ-UHFFFAOYSA-N 4-(dimethylamino)benzoic acid Chemical class CN(C)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 YDIYEOMDOWUDTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N Dimethyl ether Chemical compound COC LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N Oxazole Chemical compound C1=COC=N1 ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N Phenazine Natural products C1=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3N=C21 PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 3
- BGHCVCJVXZWKCC-UHFFFAOYSA-N Tetradecane Natural products CCCCCCCCCCCCCC BGHCVCJVXZWKCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N Thiazole Chemical compound C1=CSC=N1 FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000006978 adaptation Effects 0.000 description 3
- WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K aluminium hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[Al+3] WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 3
- 229910021502 aluminium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000012752 auxiliary agent Substances 0.000 description 3
- RFRXIWQYSOIBDI-UHFFFAOYSA-N benzarone Chemical compound CCC=1OC2=CC=CC=C2C=1C(=O)C1=CC=C(O)C=C1 RFRXIWQYSOIBDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 3
- BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N butan-2-ol Chemical compound CCC(C)O BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- 125000000259 cinnolinyl group Chemical class N1=NC(=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 3
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 3
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 3
- 125000000582 cycloheptyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 3
- 125000001559 cyclopropyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C1([H])* 0.000 description 3
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 239000000412 dendrimer Substances 0.000 description 3
- 229920000736 dendritic polymer Polymers 0.000 description 3
- 125000003963 dichloro group Chemical group Cl* 0.000 description 3
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 3
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 3
- 150000002220 fluorenes Chemical group 0.000 description 3
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N heptan-2-one Chemical compound CCCCCC(C)=O CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001072 heteroaryl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000006517 heterocyclyl carbonyl group Chemical group 0.000 description 3
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 3
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 description 3
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 3
- 150000002475 indoles Chemical class 0.000 description 3
- HOBCFUWDNJPFHB-UHFFFAOYSA-N indolizine Chemical compound C1=CC=CN2C=CC=C21 HOBCFUWDNJPFHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000002518 isoindoles Chemical class 0.000 description 3
- 125000001972 isopentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- AWJUIBRHMBBTKR-UHFFFAOYSA-N isoquinoline Chemical compound C1=NC=CC2=CC=CC=C21 AWJUIBRHMBBTKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZLTPDFXIESTBQG-UHFFFAOYSA-N isothiazole Chemical compound C=1C=NSC=1 ZLTPDFXIESTBQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000002545 isoxazoles Chemical class 0.000 description 3
- 239000003446 ligand Substances 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 229910000000 metal hydroxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000004692 metal hydroxides Chemical class 0.000 description 3
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 3
- 150000002790 naphthalenes Chemical group 0.000 description 3
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010943 off-gassing Methods 0.000 description 3
- 150000002923 oximes Chemical class 0.000 description 3
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N palladium Substances [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 3
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 3
- LFSXCDWNBUNEEM-UHFFFAOYSA-N phthalazine Chemical class C1=NN=CC2=CC=CC=C21 LFSXCDWNBUNEEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Substances [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PBMFSQRYOILNGV-UHFFFAOYSA-N pyridazine Chemical compound C1=CC=NN=C1 PBMFSQRYOILNGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JWVCLYRUEFBMGU-UHFFFAOYSA-N quinazoline Chemical compound N1=CN=CC2=CC=CC=C21 JWVCLYRUEFBMGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- ABTOQLMXBSRXSM-UHFFFAOYSA-N silicon tetrafluoride Chemical compound F[Si](F)(F)F ABTOQLMXBSRXSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- 125000006158 tetracarboxylic acid group Chemical group 0.000 description 3
- 150000004867 thiadiazoles Chemical class 0.000 description 3
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 3
- IBOKZQNMFSHYNQ-UHFFFAOYSA-N tribromosilane Chemical compound Br[SiH](Br)Br IBOKZQNMFSHYNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N trichlorosilane Chemical compound Cl[SiH](Cl)Cl ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000005052 trichlorosilane Substances 0.000 description 3
- QQQSFSZALRVCSZ-UHFFFAOYSA-N triethoxysilane Chemical compound CCO[SiH](OCC)OCC QQQSFSZALRVCSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N (+)-borneol Chemical group C1C[C@@]2(C)[C@@H](O)C[C@@H]1C2(C)C DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N 0.000 description 2
- JHNRZXQVBKRYKN-VQHVLOKHSA-N (ne)-n-(1-phenylethylidene)hydroxylamine Chemical compound O\N=C(/C)C1=CC=CC=C1 JHNRZXQVBKRYKN-VQHVLOKHSA-N 0.000 description 2
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FYBFGAFWCBMEDG-UHFFFAOYSA-N 1-[3,5-di(prop-2-enoyl)-1,3,5-triazinan-1-yl]prop-2-en-1-one Chemical class C=CC(=O)N1CN(C(=O)C=C)CN(C(=O)C=C)C1 FYBFGAFWCBMEDG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YAOJJEJGPZRYJF-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxyhexane Chemical class CCCCCCOC=C YAOJJEJGPZRYJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- APFRUMUZEFOCFO-UHFFFAOYSA-N 1-methoxybutan-1-ol Chemical compound CCCC(O)OC APFRUMUZEFOCFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005999 2-bromoethyl group Chemical group 0.000 description 2
- DZZAHLOABNWIFA-UHFFFAOYSA-N 2-butoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCCCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 DZZAHLOABNWIFA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001340 2-chloroethyl group Chemical group [H]C([H])(Cl)C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000001731 2-cyanoethyl group Chemical group [H]C([H])(*)C([H])([H])C#N 0.000 description 2
- FLFWJIBUZQARMD-UHFFFAOYSA-N 2-mercapto-1,3-benzoxazole Chemical class C1=CC=C2OC(S)=NC2=C1 FLFWJIBUZQARMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004200 2-methoxyethyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- SZNYYWIUQFZLLT-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(2-methylpropoxy)propane Chemical compound CC(C)COCC(C)C SZNYYWIUQFZLLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RXELBMYKBFKHSM-UHFFFAOYSA-N 2-phenyl-1,3,5-triazine Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=NC=NC=N1 RXELBMYKBFKHSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 2
- UBLAMKHIFZBBSS-UHFFFAOYSA-N 3-Methylbutyl pentanoate Chemical compound CCCCC(=O)OCCC(C)C UBLAMKHIFZBBSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DKIDEFUBRARXTE-UHFFFAOYSA-N 3-mercaptopropanoic acid Chemical class OC(=O)CCS DKIDEFUBRARXTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JSDZSLGMRRSAHD-UHFFFAOYSA-N 3-methylbutan-2-ylcyclopropane Chemical compound CC(C)C(C)C1CC1 JSDZSLGMRRSAHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000006201 3-phenylpropyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Bis(dimethylamino)benzophenone Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NPDACUSDTOMAMK-UHFFFAOYSA-N 4-Chlorotoluene Chemical compound CC1=CC=C(Cl)C=C1 NPDACUSDTOMAMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VHYFNPMBLIVWCW-UHFFFAOYSA-N 4-Dimethylaminopyridine Chemical compound CN(C)C1=CC=NC=C1 VHYFNPMBLIVWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PLIKAWJENQZMHA-UHFFFAOYSA-N 4-aminophenol Chemical compound NC1=CC=C(O)C=C1 PLIKAWJENQZMHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BMVWCPGVLSILMU-UHFFFAOYSA-N 5,6-dihydrodibenzo[2,1-b:2',1'-f][7]annulen-11-one Chemical compound C1CC2=CC=CC=C2C(=O)C2=CC=CC=C21 BMVWCPGVLSILMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VQVIHDPBMFABCQ-UHFFFAOYSA-N 5-(1,3-dioxo-2-benzofuran-5-carbonyl)-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC(C(C=2C=C3C(=O)OC(=O)C3=CC=2)=O)=C1 VQVIHDPBMFABCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PQJUJGAVDBINPI-UHFFFAOYSA-N 9H-thioxanthene Chemical compound C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3SC2=C1 PQJUJGAVDBINPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N Benzoic acid Natural products OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N Butyric acid Chemical compound CCCC(O)=O FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N EDTA Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N Epichlorohydrin Chemical compound ClCC1CO1 BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-N Glycolic acid Chemical compound OCC(O)=O AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005057 Hexamethylene diisocyanate Substances 0.000 description 2
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N Magnesium oxide Chemical compound [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JGFZNNIVVJXRND-UHFFFAOYSA-N N,N-Diisopropylethylamine (DIPEA) Chemical compound CCN(C(C)C)C(C)C JGFZNNIVVJXRND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JCXJVPUVTGWSNB-UHFFFAOYSA-N Nitrogen dioxide Chemical compound O=[N]=O JCXJVPUVTGWSNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N Phosphine Chemical compound P XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N Phthalic anhydride Natural products C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 2
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QOSMNYMQXIVWKY-UHFFFAOYSA-N Propyl levulinate Chemical compound CCCOC(=O)CCC(C)=O QOSMNYMQXIVWKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N Pyrimidine Chemical compound C1=CN=CN=C1 CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N Sodium methoxide Chemical compound [Na+].[O-]C WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical class C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 description 2
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 description 2
- ORILYTVJVMAKLC-UHFFFAOYSA-N adamantane Chemical compound C1C(C2)CC3CC1CC2C3 ORILYTVJVMAKLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000004520 agglutination Effects 0.000 description 2
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 2
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005428 anthryl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C([H])=C3C(*)=C([H])C([H])=C([H])C3=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 2
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 2
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- 230000031709 bromination Effects 0.000 description 2
- 238000005893 bromination reaction Methods 0.000 description 2
- FQEKAFQSVPLXON-UHFFFAOYSA-N butyl(trichloro)silane Chemical compound CCCC[Si](Cl)(Cl)Cl FQEKAFQSVPLXON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001589 carboacyl group Chemical group 0.000 description 2
- YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N catechol Chemical compound OC1=CC=CC=C1O YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004568 cement Substances 0.000 description 2
- HNEGQIOMVPPMNR-IHWYPQMZSA-N citraconic acid Chemical compound OC(=O)C(/C)=C\C(O)=O HNEGQIOMVPPMNR-IHWYPQMZSA-N 0.000 description 2
- 229940018557 citraconic acid Drugs 0.000 description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 2
- 239000007859 condensation product Substances 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical compound C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 125000001352 cyclobutyloxy group Chemical group C1(CCC1)O* 0.000 description 2
- 125000000596 cyclohexenyl group Chemical group C1(=CCCCC1)* 0.000 description 2
- 125000006547 cyclononyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 2
- 125000004410 cyclooctyloxy group Chemical group C1(CCCCCCC1)O* 0.000 description 2
- 125000000131 cyclopropyloxy group Chemical group C1(CC1)O* 0.000 description 2
- 125000006612 decyloxy group Chemical group 0.000 description 2
- 238000003795 desorption Methods 0.000 description 2
- SABOFMXVPLSZCY-UHFFFAOYSA-N dibromo(dibutyl)silane Chemical compound CCCC[Si](Br)(Br)CCCC SABOFMXVPLSZCY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001991 dicarboxylic acids Chemical class 0.000 description 2
- 125000004177 diethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005442 diisocyanate group Chemical group 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N dimethylselenoniopropionate Natural products CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N diphenyl ether Chemical compound C=1C=CC=CC=1OC1=CC=CC=C1 USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- POLCUAVZOMRGSN-UHFFFAOYSA-N dipropyl ether Chemical compound CCCOCCC POLCUAVZOMRGSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N dipropylene glycol Chemical compound OCCCOCCCO SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PDYPRPVKBUOHDH-UHFFFAOYSA-N ditert-butyl(dichloro)silane Chemical compound CC(C)(C)[Si](Cl)(Cl)C(C)(C)C PDYPRPVKBUOHDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-N dodecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCC(O)=O POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940079593 drug Drugs 0.000 description 2
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 238000002296 dynamic light scattering Methods 0.000 description 2
- 229960001484 edetic acid Drugs 0.000 description 2
- 229910001325 element alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 description 2
- 150000002168 ethanoic acid esters Chemical class 0.000 description 2
- 125000005678 ethenylene group Chemical group [H]C([*:1])=C([H])[*:2] 0.000 description 2
- 125000003754 ethoxycarbonyl group Chemical group C(=O)(OCC)* 0.000 description 2
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FKRCODPIKNYEAC-UHFFFAOYSA-N ethyl propionate Chemical compound CCOC(=O)CC FKRCODPIKNYEAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol monomethyl ether acetate Natural products COCCOC(C)=O XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000219 ethylidene group Chemical group [H]C(=[*])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 2
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 2
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 2
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 2
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NGAZZOYFWWSOGK-UHFFFAOYSA-N heptan-3-one Chemical compound CCCCC(=O)CC NGAZZOYFWWSOGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FLBJFXNAEMSXGL-UHFFFAOYSA-N het anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C2C1C1(Cl)C(Cl)=C(Cl)C2(Cl)C1(Cl)Cl FLBJFXNAEMSXGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N hexamethylene diisocyanate Chemical compound O=C=NCCCCCCN=C=O RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000003642 hunger Nutrition 0.000 description 2
- 125000001841 imino group Chemical group [H]N=* 0.000 description 2
- 230000008676 import Effects 0.000 description 2
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 2
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 2
- 150000007529 inorganic bases Chemical class 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- MLFHJEHSLIIPHL-UHFFFAOYSA-N isoamyl acetate Chemical compound CC(C)CCOC(C)=O MLFHJEHSLIIPHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BUZRAOJSFRKWPD-UHFFFAOYSA-N isocyanatosilane Chemical class [SiH3]N=C=O BUZRAOJSFRKWPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011133 lead Substances 0.000 description 2
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 2
- VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L magnesium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Mg+2] VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000000347 magnesium hydroxide Substances 0.000 description 2
- 229910001862 magnesium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 2
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- HNEGQIOMVPPMNR-NSCUHMNNSA-N mesaconic acid Chemical compound OC(=O)C(/C)=C/C(O)=O HNEGQIOMVPPMNR-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 2
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical compound CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001160 methoxycarbonyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC(*)=O 0.000 description 2
- ARYZCSRUUPFYMY-UHFFFAOYSA-N methoxysilane Chemical compound CO[SiH3] ARYZCSRUUPFYMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HNEGQIOMVPPMNR-UHFFFAOYSA-N methylfumaric acid Natural products OC(=O)C(C)=CC(O)=O HNEGQIOMVPPMNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PQIOSYKVBBWRRI-UHFFFAOYSA-N methylphosphonyl difluoride Chemical group CP(F)(F)=O PQIOSYKVBBWRRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 125000006609 n-nonyloxy group Chemical group 0.000 description 2
- 125000006608 n-octyloxy group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N o-cresol Chemical compound CC1=CC=CC=C1O QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005447 octyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 2
- 150000007530 organic bases Chemical class 0.000 description 2
- JMANVNJQNLATNU-UHFFFAOYSA-N oxalonitrile Chemical compound N#CC#N JMANVNJQNLATNU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000004817 pentamethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 2
- 125000004115 pentoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 2
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N perchloric acid Chemical compound OCl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005561 phenanthryl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 2
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 2
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 2
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 229920006389 polyphenyl polymer Polymers 0.000 description 2
- 229920000128 polypyrrole Polymers 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- FGIUAXJPYTZDNR-UHFFFAOYSA-N potassium nitrate Chemical compound [K+].[O-][N+]([O-])=O FGIUAXJPYTZDNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoyloxy prop-2-eneperoxoate Chemical compound C=CC(=O)OOOC(=O)C=C KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N prop-2-enylbenzene Chemical group C=CCC1=CC=CC=C1 HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N propyl acetate Chemical compound CCCOC(C)=O YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ODLMAHJVESYWTB-UHFFFAOYSA-N propylbenzene Chemical compound CCCC1=CC=CC=C1 ODLMAHJVESYWTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003217 pyrazoles Chemical class 0.000 description 2
- 238000010010 raising Methods 0.000 description 2
- GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N resorcinol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1 GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DCKVNWZUADLDEH-UHFFFAOYSA-N sec-butyl acetate Chemical compound CCC(C)OC(C)=O DCKVNWZUADLDEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000015424 sodium Nutrition 0.000 description 2
- 238000007711 solidification Methods 0.000 description 2
- 230000008023 solidification Effects 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 description 2
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 2
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 2
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 2
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000012222 talc Nutrition 0.000 description 2
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 2
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 2
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005023 xylyl group Chemical group 0.000 description 2
- VMHYWKBKHMYRNF-UHFFFAOYSA-N (2-chlorophenyl)-phenylmethanone Chemical class ClC1=CC=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 VMHYWKBKHMYRNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZWVMLYRJXORSEP-LURJTMIESA-N (2s)-hexane-1,2,6-triol Chemical compound OCCCC[C@H](O)CO ZWVMLYRJXORSEP-LURJTMIESA-N 0.000 description 1
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MUTGBJKUEZFXGO-OLQVQODUSA-N (3as,7ar)-3a,4,5,6,7,7a-hexahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1CCC[C@@H]2C(=O)OC(=O)[C@@H]21 MUTGBJKUEZFXGO-OLQVQODUSA-N 0.000 description 1
- 125000004178 (C1-C4) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- YKYIFUROKBDHCY-ONEGZZNKSA-N (e)-4-ethoxy-1,1,1-trifluorobut-3-en-2-one Chemical group CCO\C=C\C(=O)C(F)(F)F YKYIFUROKBDHCY-ONEGZZNKSA-N 0.000 description 1
- SVHAMPNLOLKSFU-UHFFFAOYSA-N 1,2,2-trichloroethenylbenzene Chemical compound ClC(Cl)=C(Cl)C1=CC=CC=C1 SVHAMPNLOLKSFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SUTQSIHGGHVXFK-UHFFFAOYSA-N 1,2,2-trifluoroethenylbenzene Chemical compound FC(F)=C(F)C1=CC=CC=C1 SUTQSIHGGHVXFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical compound C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WQONPSCCEXUXTQ-UHFFFAOYSA-N 1,2-dibromobenzene Chemical compound BrC1=CC=CC=C1Br WQONPSCCEXUXTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AUHKVLIZXLBQSR-UHFFFAOYSA-N 1,2-dichloro-3-(1,2,2-trichloroethenyl)benzene Chemical compound ClC(Cl)=C(Cl)C1=CC=CC(Cl)=C1Cl AUHKVLIZXLBQSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LEEANUDEDHYDTG-UHFFFAOYSA-N 1,2-dimethoxypropane Chemical compound COCC(C)OC LEEANUDEDHYDTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 1,2-diphenyl-2-propan-2-yloxyethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC(C)C)C(=O)C1=CC=CC=C1 MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIHQDMXYYFUGFV-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-triazine Chemical compound C1=NC=NC=N1 JIHQDMXYYFUGFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YJTKZCDBKVTVBY-UHFFFAOYSA-N 1,3-Diphenylbenzene Chemical group C1=CC=CC=C1C1=CC=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1 YJTKZCDBKVTVBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YHMYGUUIMTVXNW-UHFFFAOYSA-N 1,3-dihydrobenzimidazole-2-thione Chemical compound C1=CC=C2NC(S)=NC2=C1 YHMYGUUIMTVXNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GGXGMQKZNYMKEH-UHFFFAOYSA-N 1-(2-bromoethenyl)-4-(trifluoromethyl)benzene Chemical class FC(F)(F)C1=CC=C(C=CBr)C=C1 GGXGMQKZNYMKEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VKYJVCLBILULEG-UHFFFAOYSA-N 1-(2-fluoroethenyl)-3-(trifluoromethyl)benzene Chemical class FC=CC1=CC=CC(C(F)(F)F)=C1 VKYJVCLBILULEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZFPGARUNNKGOBB-UHFFFAOYSA-N 1-Ethyl-2-pyrrolidinone Chemical class CCN1CCCC1=O ZFPGARUNNKGOBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UZASMYQTKALYAA-UHFFFAOYSA-N 1-benzothiophene 1H-pyrrole Chemical class N1C=CC=C1.S1C=CC2=C1C=CC=C2 UZASMYQTKALYAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HNAGHMKIPMKKBB-UHFFFAOYSA-N 1-benzylpyrrolidine-3-carboxamide Chemical compound C1C(C(=O)N)CCN1CC1=CC=CC=C1 HNAGHMKIPMKKBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SSZOCHFYWWVSAI-UHFFFAOYSA-N 1-bromo-2-ethenylbenzene Chemical compound BrC1=CC=CC=C1C=C SSZOCHFYWWVSAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LPTKDIHTOLTCIR-UHFFFAOYSA-N 1-butyl-2,3,4-trichlorobenzene Chemical group C(CCC)C1=C(C(=C(C=C1)Cl)Cl)Cl LPTKDIHTOLTCIR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XPXMCUKPGZUFGR-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-2-(1,2,2-trichloroethenyl)benzene Chemical compound ClC(Cl)=C(Cl)C1=CC=CC=C1Cl XPXMCUKPGZUFGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DNJRKFKAFWSXSE-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-2-ethenoxyethane Chemical compound ClCCOC=C DNJRKFKAFWSXSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VKQJCUYEEABXNK-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-4-propoxythioxanthen-9-one Chemical class S1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C(OCCC)=CC=C2Cl VKQJCUYEEABXNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HWCLMKDWXUGDKL-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxy-2-ethoxyethane Chemical compound CCOCCOC=C HWCLMKDWXUGDKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZPGDWJYZCVCMOZ-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxyanthracene Chemical compound C1=CC=C2C=C3C(OC=C)=CC=CC3=CC2=C1 ZPGDWJYZCVCMOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OHSFPBQPZFLOKE-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxynaphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(OC=C)=CC=CC2=C1 OHSFPBQPZFLOKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXCVIFJHBFNFBO-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxyoctane Chemical compound CCCCCCCCOC=C XXCVIFJHBFNFBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OBRYRJYZWVLVLF-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-4-ethoxybenzene Chemical class CCOC1=CC=C(C=C)C=C1 OBRYRJYZWVLVLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RCSKFKICHQAKEZ-UHFFFAOYSA-N 1-ethenylindole Chemical class C1=CC=C2N(C=C)C=CC2=C1 RCSKFKICHQAKEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LEWNYOKWUAYXPI-UHFFFAOYSA-N 1-ethenylpiperidine Chemical compound C=CN1CCCCC1 LEWNYOKWUAYXPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTXUTPWZJZHRJC-UHFFFAOYSA-N 1-ethenylpyrrole Chemical class C=CN1C=CC=C1 CTXUTPWZJZHRJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CNJRPYFBORAQAU-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-2-(2-methoxyethoxy)ethane Chemical compound CCOCCOCCOC CNJRPYFBORAQAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QZKVUSSYPPWURQ-UHFFFAOYSA-N 1-methylthioxanthen-9-one Chemical class S1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2C QZKVUSSYPPWURQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 1755-01-7 Chemical compound C1[C@H]2[C@@H]3CC=C[C@@H]3[C@@H]1C=C2 HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 0.000 description 1
- MREIFUWKYMNYTK-UHFFFAOYSA-N 1H-pyrrole Chemical class C=1C=CNC=1.C=1C=CNC=1 MREIFUWKYMNYTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAMHTTBNEJBIKA-UHFFFAOYSA-N 2,2,2-trichloro-1-phenylethanone Chemical compound ClC(Cl)(Cl)C(=O)C1=CC=CC=C1 OAMHTTBNEJBIKA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERJZAHSUZVMCH-UHFFFAOYSA-N 2,2-dichloro-1-phenylethanone Chemical compound ClC(Cl)C(=O)C1=CC=CC=C1 CERJZAHSUZVMCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DYCXARRIIDBCMF-UHFFFAOYSA-N 2,2-dichloro-1-phenylhexan-1-one Chemical group CCCCC(Cl)(Cl)C(=O)C1=CC=CC=C1 DYCXARRIIDBCMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CISIJYCKDJSTMX-UHFFFAOYSA-N 2,2-dichloroethenylbenzene Chemical compound ClC(Cl)=CC1=CC=CC=C1 CISIJYCKDJSTMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIZHFBODNLEQBL-UHFFFAOYSA-N 2,2-diethoxy-1-phenylethanone Chemical class CCOC(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 PIZHFBODNLEQBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PUGOMSLRUSTQGV-UHFFFAOYSA-N 2,3-di(prop-2-enoyloxy)propyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(OC(=O)C=C)COC(=O)C=C PUGOMSLRUSTQGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZWVPGJPVCYAOC-UHFFFAOYSA-N 2,3-diphenylanthracene-9,10-dione Chemical compound C=1C=CC=CC=1C=1C=C2C(=O)C3=CC=CC=C3C(=O)C2=CC=1C1=CC=CC=C1 LZWVPGJPVCYAOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OVSKIKFHRZPJSS-UHFFFAOYSA-N 2,4-D Chemical compound OC(=O)COC1=CC=C(Cl)C=C1Cl OVSKIKFHRZPJSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMNYXCUDBQKCMU-UHFFFAOYSA-N 2,4-dichloro-1-ethenylbenzene Chemical compound ClC1=CC=C(C=C)C(Cl)=C1 OMNYXCUDBQKCMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MFUCEQWAFQMGOR-UHFFFAOYSA-N 2,4-diethyl-9h-thioxanthene Chemical compound C1=CC=C2CC3=CC(CC)=CC(CC)=C3SC2=C1 MFUCEQWAFQMGOR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTJPUDCSZVCXFQ-UHFFFAOYSA-N 2,4-diethylthioxanthen-9-one Chemical class C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CC)=CC(CC)=C3SC2=C1 BTJPUDCSZVCXFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WULAHPYSGCVQHM-UHFFFAOYSA-N 2-(2-ethenoxyethoxy)ethanol Chemical class OCCOCCOC=C WULAHPYSGCVQHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethanol Chemical compound COCCOCCO SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FALRKNHUBBKYCC-UHFFFAOYSA-N 2-(chloromethyl)pyridine-3-carbonitrile Chemical compound ClCC1=NC=CC=C1C#N FALRKNHUBBKYCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIUSRIAANRCPGF-UHFFFAOYSA-N 2-(ethenoxymethyl)oxolane Chemical class C=COCC1CCCO1 UIUSRIAANRCPGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LBLYYCQCTBFVLH-UHFFFAOYSA-N 2-Methylbenzenesulfonic acid Chemical compound CC1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O LBLYYCQCTBFVLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VQKFNUFAXTZWDK-UHFFFAOYSA-N 2-Methylfuran Chemical compound CC1=CC=CO1 VQKFNUFAXTZWDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RCSBILYQLVXLJG-UHFFFAOYSA-N 2-Propenyl hexanoate Chemical compound CCCCCC(=O)OCC=C RCSBILYQLVXLJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PZGMUSDNQDCNAG-UHFFFAOYSA-N 2-Propenyl octanoate Chemical compound CCCCCCCC(=O)OCC=C PZGMUSDNQDCNAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DNVXWIINBUTFEP-UHFFFAOYSA-N 2-[(2-phenylphenoxy)methyl]oxirane Chemical group C1OC1COC1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 DNVXWIINBUTFEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFSMVVDJSNMRAR-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-ethoxyethoxy)ethoxy]ethanol Chemical compound CCOCCOCCOCCO WFSMVVDJSNMRAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCZVSXRMYJUNFX-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-hydroxypropoxy)propoxy]propan-1-ol Chemical compound CC(O)COC(C)COC(C)CO LCZVSXRMYJUNFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WAEVWDZKMBQDEJ-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-methoxypropoxy)propoxy]propan-1-ol Chemical compound COC(C)COC(C)COC(C)CO WAEVWDZKMBQDEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LQXYAONREUURJF-UHFFFAOYSA-N 2-[4-(dimethylamino)-2-ethylhexyl]benzoic acid Chemical class CCC(N(C)C)CC(CC)CC1=CC=CC=C1C(O)=O LQXYAONREUURJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDSUVTROAWLVJA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO FDSUVTROAWLVJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOJUJUVQIVIZAV-UHFFFAOYSA-N 2-amino-4,6-dichloropyrimidine-5-carbaldehyde Chemical group NC1=NC(Cl)=C(C=O)C(Cl)=N1 GOJUJUVQIVIZAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBYMUDUGTIKLCR-UHFFFAOYSA-N 2-chloroethenylbenzene Chemical compound ClC=CC1=CC=CC=C1 SBYMUDUGTIKLCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCDADJXRUCOCJE-UHFFFAOYSA-N 2-chlorothioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(Cl)=CC=C3SC2=C1 ZCDADJXRUCOCJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MENUHMSZHZBYMK-UHFFFAOYSA-N 2-cyclohexylethenylbenzene Chemical class C1CCCCC1C=CC1=CC=CC=C1 MENUHMSZHZBYMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PLWQJHWLGRXAMP-UHFFFAOYSA-N 2-ethenoxy-n,n-diethylethanamine Chemical compound CCN(CC)CCOC=C PLWQJHWLGRXAMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HDEFKPTUGHCBCD-UHFFFAOYSA-N 2-ethenoxy-n-methylethanamine Chemical class CNCCOC=C HDEFKPTUGHCBCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VUIWJRYTWUGOOF-UHFFFAOYSA-N 2-ethenoxyethanol Chemical compound OCCOC=C VUIWJRYTWUGOOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSSMDYZLWCIDQO-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyprop-1-enylbenzene Chemical compound CCOC(C)=CC1=CC=CC=C1 QSSMDYZLWCIDQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YNCPAOSZXZXHKB-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-1-(2-methoxybut-1-enoxy)but-1-ene Chemical compound COC(=COC=C(OC)CC)CC YNCPAOSZXZXHKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-methylphenol Chemical compound [CH]OC1=CC=CC([CH])=C1O KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTHJQRHPNQEPAB-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethenylbenzene Chemical compound COC=CC1=CC=CC=C1 CTHJQRHPNQEPAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BSMGLVDZZMBWQB-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-phenylpropan-1-one Chemical compound CC(C)C(=O)C1=CC=CC=C1 BSMGLVDZZMBWQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATTLFLQPHSUNBK-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-9h-thioxanthene Chemical compound C1=CC=C2CC3=CC(C)=CC=C3SC2=C1 ATTLFLQPHSUNBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTOVVHWKPVSLBI-UHFFFAOYSA-N 2-methylprop-1-enylbenzene Chemical compound CC(C)=CC1=CC=CC=C1 BTOVVHWKPVSLBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYISVPVWAQRUTL-UHFFFAOYSA-N 2-methylthioxanthen-9-one Chemical class C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C)=CC=C3SC2=C1 MYISVPVWAQRUTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KGIGUEBEKRSTEW-UHFFFAOYSA-N 2-vinylpyridine Chemical compound C=CC1=CC=CC=N1 KGIGUEBEKRSTEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HKADMMFLLPJEAG-UHFFFAOYSA-N 3,3,3-trifluoroprop-1-enylbenzene Chemical compound FC(F)(F)C=CC1=CC=CC=C1 HKADMMFLLPJEAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LINZZISWCNKFEM-UHFFFAOYSA-N 3,3-dimethylbutanamide Chemical compound CC(C)(C)CC(N)=O LINZZISWCNKFEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCAHUFWKIQLBNB-UHFFFAOYSA-N 3-(3-methoxypropoxy)propan-1-ol Chemical compound COCCCOCCCO QCAHUFWKIQLBNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDGNEDMGRQQNNI-UHFFFAOYSA-N 3-(ethenoxymethyl)pentane Chemical class CCC(CC)COC=C WDGNEDMGRQQNNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMYNFMYTOJXKLE-UHFFFAOYSA-N 3-azaniumyl-2-hydroxypropanoate Chemical compound NCC(O)C(O)=O BMYNFMYTOJXKLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JRXXEXVXTFEBIY-UHFFFAOYSA-N 3-ethoxypropanoic acid Chemical class CCOCCC(O)=O JRXXEXVXTFEBIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YSIKHBWUBSFBRZ-UHFFFAOYSA-N 3-methoxypropanoic acid Chemical class COCCC(O)=O YSIKHBWUBSFBRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CEBRPXLXYCFYGU-UHFFFAOYSA-N 3-methylbut-1-enylbenzene Chemical compound CC(C)C=CC1=CC=CC=C1 CEBRPXLXYCFYGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZTHJQCDAHYOPIK-UHFFFAOYSA-N 3-methylbut-2-en-2-ylbenzene Chemical compound CC(C)=C(C)C1=CC=CC=C1 ZTHJQCDAHYOPIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003542 3-methylbutan-2-yl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- OFNISBHGPNMTMS-UHFFFAOYSA-N 3-methylideneoxolane-2,5-dione Chemical compound C=C1CC(=O)OC1=O OFNISBHGPNMTMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZZEWMYILWXCRHZ-UHFFFAOYSA-N 3-phenylbutyric acid Chemical compound OC(=O)CC(C)C1=CC=CC=C1 ZZEWMYILWXCRHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AIMDYNJRXHEXEL-UHFFFAOYSA-N 3-phenylprop-1-enylbenzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1CC=CC1=CC=CC=C1 AIMDYNJRXHEXEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDMRLRNXHLPZJN-UHFFFAOYSA-N 3-propoxypropan-1-ol Chemical compound CCCOCCCO LDMRLRNXHLPZJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKISUZLXOYGIFP-UHFFFAOYSA-N 4,4'-dichlorobenzophenone Chemical class C1=CC(Cl)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(Cl)C=C1 OKISUZLXOYGIFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CSDQQAQKBAQLLE-UHFFFAOYSA-N 4-(4-chlorophenyl)-4,5,6,7-tetrahydrothieno[3,2-c]pyridine Chemical compound C1=CC(Cl)=CC=C1C1C(C=CS2)=C2CCN1 CSDQQAQKBAQLLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LKVFCSWBKOVHAH-UHFFFAOYSA-N 4-Ethoxyphenol Chemical compound CCOC1=CC=C(O)C=C1 LKVFCSWBKOVHAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 4-Methylstyrene Chemical compound CC1=CC=C(C=C)C=C1 JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004172 4-methoxyphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(OC([H])([H])[H])=C([H])C([H])=C1* 0.000 description 1
- XRBNDLYHPCVYGC-UHFFFAOYSA-N 4-phenylbenzene-1,2,3-triol Chemical group OC1=C(O)C(O)=CC=C1C1=CC=CC=C1 XRBNDLYHPCVYGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NMILGIZTAZXMTM-UHFFFAOYSA-N 4-propylmorpholine Chemical compound CCCN1CCOCC1 NMILGIZTAZXMTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JDPITNFDYXOKRM-UHFFFAOYSA-N 5-methoxy-3h-1,3-benzothiazole-2-thione Chemical class COC1=CC=C2SC(=S)NC2=C1 JDPITNFDYXOKRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MWSKJDNQKGCKPA-UHFFFAOYSA-N 6-methyl-3a,4,5,7a-tetrahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1CC(C)=CC2C(=O)OC(=O)C12 MWSKJDNQKGCKPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MTRFEWTWIPAXLG-UHFFFAOYSA-N 9-phenylacridine Chemical class C1=CC=CC=C1C1=C(C=CC=C2)C2=NC2=CC=CC=C12 MTRFEWTWIPAXLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LYJHVEDILOKZCG-UHFFFAOYSA-N Allyl benzoate Chemical compound C=CCOC(=O)C1=CC=CC=C1 LYJHVEDILOKZCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 1
- ROFVEXUMMXZLPA-UHFFFAOYSA-N Bipyridyl Chemical group N1=CC=CC=C1C1=CC=CC=N1 ROFVEXUMMXZLPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PBTGKABDWPYKCH-UHFFFAOYSA-N C(C)(=O)OC=C.C(CCC)OCC(=O)O Chemical compound C(C)(=O)OC=C.C(CCC)OCC(=O)O PBTGKABDWPYKCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGBLXJKVDQZDSA-UHFFFAOYSA-N C(C)(=O)OC=C.C1(=CC=CC2=CC=CC=C12)C(=O)O Chemical compound C(C)(=O)OC=C.C1(=CC=CC2=CC=CC=C12)C(=O)O QGBLXJKVDQZDSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WRJVGCPJPJXNKH-UHFFFAOYSA-N C(C)(=O)OC=C.COCC(=O)O Chemical compound C(C)(=O)OC=C.COCC(=O)O WRJVGCPJPJXNKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZUGVRBHBAXXGDX-UHFFFAOYSA-N C(C)(=O)OC=C.ClC1=C(C(=O)O)C=CC=C1 Chemical compound C(C)(=O)OC=C.ClC1=C(C(=O)O)C=CC=C1 ZUGVRBHBAXXGDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZQJFNOVPBMKCCJ-UHFFFAOYSA-N C(C)(=O)OC=C.ClC=1C(=C(C(=C(C(=O)O)C1)Cl)Cl)Cl Chemical compound C(C)(=O)OC=C.ClC=1C(=C(C(=C(C(=O)O)C1)Cl)Cl)Cl ZQJFNOVPBMKCCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNBCKKSGQPLTRW-UHFFFAOYSA-N C(C=C)(=O)OC.C(N)(O)=O Chemical compound C(C=C)(=O)OC.C(N)(O)=O GNBCKKSGQPLTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RBXVEVFFLZRSAG-UHFFFAOYSA-N C(CC(=O)C)(=O)O.C(C)(=O)OC=C Chemical compound C(CC(=O)C)(=O)O.C(C)(=O)OC=C RBXVEVFFLZRSAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYGNWDWNZBZHMD-UHFFFAOYSA-N CN(C)C(=NO)C(C1=CC=CC=C1)=O Chemical compound CN(C)C(=NO)C(C1=CC=CC=C1)=O QYGNWDWNZBZHMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MZYWILXIKDNWTC-UHFFFAOYSA-N CO[SiH](C)CCC1=CC=CC=C1 Chemical compound CO[SiH](C)CCC1=CC=CC=C1 MZYWILXIKDNWTC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N Carbon monoxide Chemical compound [O+]#[C-] UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YYLLIJHXUHJATK-UHFFFAOYSA-N Cyclohexyl acetate Chemical compound CC(=O)OC1CCCCC1 YYLLIJHXUHJATK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HECLRDQVFMWTQS-UHFFFAOYSA-N Dicyclopentadiene Chemical group C1C2C3CC=CC3C1C=C2 HECLRDQVFMWTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXRCUYVCPSWGCC-UHFFFAOYSA-N Ethyl pyruvate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=O XXRCUYVCPSWGCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WEEGYLXZBRQIMU-UHFFFAOYSA-N Eucalyptol Chemical compound C1CC2CCC1(C)OC2(C)C WEEGYLXZBRQIMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VTLYFUHAOXGGBS-UHFFFAOYSA-N Fe3+ Chemical compound [Fe+3] VTLYFUHAOXGGBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010018612 Gonorrhoea Diseases 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YZCKVEUIGOORGS-UHFFFAOYSA-N Hydrogen atom Chemical compound [H] YZCKVEUIGOORGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- DTGKSKDOIYIVQL-MRTMQBJTSA-N Isoborneol Natural products C1C[C@@]2(C)[C@H](O)C[C@@H]1C2(C)C DTGKSKDOIYIVQL-MRTMQBJTSA-N 0.000 description 1
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WVRPFQGZHKZCEB-UHFFFAOYSA-N Isopropyl 2-methylpropanoate Chemical compound CC(C)OC(=O)C(C)C WVRPFQGZHKZCEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JGFBQFKZKSSODQ-UHFFFAOYSA-N Isothiocyanatocyclopropane Chemical compound S=C=NC1CC1 JGFBQFKZKSSODQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-M Lactate Chemical compound CC(O)C([O-])=O JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N Lactic Acid Natural products CC(O)C(O)=O JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005639 Lauric acid Substances 0.000 description 1
- RJUFJBKOKNCXHH-UHFFFAOYSA-N Methyl propionate Chemical compound CCC(=O)OC RJUFJBKOKNCXHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WRQNANDWMGAFTP-UHFFFAOYSA-N Methylacetoacetic acid Chemical compound COC(=O)CC(C)=O WRQNANDWMGAFTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKIZCWYLBDKLSU-UHFFFAOYSA-M N,N,N-Trimethylmethanaminium chloride Chemical compound [Cl-].C[N+](C)(C)C OKIZCWYLBDKLSU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CMEWLCATCRTSGF-UHFFFAOYSA-N N,N-dimethyl-4-nitrosoaniline Chemical compound CN(C)C1=CC=C(N=O)C=C1 CMEWLCATCRTSGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical group CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 description 1
- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N Nitrate Chemical compound [O-][N+]([O-])=O NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XAWZTWJVCCSMLF-UHFFFAOYSA-N O(C)[SiH3].CC1=C(C=CC=C1)C Chemical compound O(C)[SiH3].CC1=C(C=CC=C1)C XAWZTWJVCCSMLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DEIFCDDWJAVBLI-UHFFFAOYSA-N OC(C(P(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1)(O)O)O Chemical compound OC(C(P(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1)(O)O)O DEIFCDDWJAVBLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- LCTONWCANYUPML-UHFFFAOYSA-N PYRUVIC-ACID Natural products CC(=O)C(O)=O LCTONWCANYUPML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DIQMPQMYFZXDAX-UHFFFAOYSA-N Pentyl formate Chemical compound CCCCCOC=O DIQMPQMYFZXDAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N Propene Chemical compound CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- YZCKVEUIGOORGS-IGMARMGPSA-N Protium Chemical compound [1H] YZCKVEUIGOORGS-IGMARMGPSA-N 0.000 description 1
- 229910018557 Si O Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910008045 Si-Si Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910003978 SiClx Inorganic materials 0.000 description 1
- 241000219289 Silene Species 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910006411 Si—Si Inorganic materials 0.000 description 1
- KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N Sodium Chemical compound [Na] KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIIMBOGNXHQVGW-DEQYMQKBSA-M Sodium bicarbonate-14C Chemical compound [Na+].O[14C]([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-DEQYMQKBSA-M 0.000 description 1
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 1
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical group [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 1
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLINHMUFWFWBMU-UHFFFAOYSA-N Triisopropanolamine Chemical compound CC(O)CN(CC(C)O)CC(C)O SLINHMUFWFWBMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 1
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDLQZKYLHJJBHD-UHFFFAOYSA-N [3-(aminomethyl)phenyl]methanamine Chemical compound NCC1=CC=CC(CN)=C1 FDLQZKYLHJJBHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MZVQCMJNVPIDEA-UHFFFAOYSA-N [CH2]CN(CC)CC Chemical group [CH2]CN(CC)CC MZVQCMJNVPIDEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RBIILJCATVGHHI-UHFFFAOYSA-N [diethoxy(phenyl)silyl]methanamine Chemical compound NC[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 RBIILJCATVGHHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YBHBEZSZXFLQMW-UHFFFAOYSA-N [dimethoxy(phenyl)silyl]methanamine Chemical compound CO[Si](CN)(OC)C1=CC=CC=C1 YBHBEZSZXFLQMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GTYLEVMOSBBKCQ-UHFFFAOYSA-N acetic acid;2-(2-ethoxyethoxy)ethanol Chemical class CC(O)=O.CCOCCOCCO GTYLEVMOSBBKCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JQICEOPIRHDDER-UHFFFAOYSA-N acetic acid;2-(2-methoxyethoxy)ethanol Chemical compound CC(O)=O.COCCOCCO JQICEOPIRHDDER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KVXNKFYSHAUJIA-UHFFFAOYSA-N acetic acid;ethoxyethane Chemical compound CC(O)=O.CCOCC KVXNKFYSHAUJIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TUVYSBJZBYRDHP-UHFFFAOYSA-N acetic acid;methoxymethane Chemical class COC.CC(O)=O TUVYSBJZBYRDHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 238000005917 acylation reaction Methods 0.000 description 1
- 125000005073 adamantyl group Chemical group C12(CC3CC(CC(C1)C3)C2)* 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 230000001476 alcoholic effect Effects 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000004183 alkoxy alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000005224 alkoxybenzenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000005250 alkyl acrylate group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003282 alkyl amino group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- RQPZNWPYLFFXCP-UHFFFAOYSA-L barium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Ba+2] RQPZNWPYLFFXCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001863 barium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N barium titanate Chemical compound [Ba+2].[Ba+2].[O-][Ti]([O-])([O-])[O-] JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002113 barium titanate Inorganic materials 0.000 description 1
- PQVXXMYLCJGDSU-UHFFFAOYSA-N benzene-1,2,3-triol ethane Chemical compound CC.OC=1C(=C(C=CC1)O)O PQVXXMYLCJGDSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N benzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940092714 benzenesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- WURBFLDFSFBTLW-UHFFFAOYSA-N benzil Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C(=O)C1=CC=CC=C1 WURBFLDFSFBTLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960005274 benzocaine Drugs 0.000 description 1
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 1
- CPLASELWOOUNGW-UHFFFAOYSA-N benzyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CC1=CC=CC=C1 CPLASELWOOUNGW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FKPSBYZGRQJIMO-UHFFFAOYSA-M benzyl(triethyl)azanium;hydroxide Chemical compound [OH-].CC[N+](CC)(CC)CC1=CC=CC=C1 FKPSBYZGRQJIMO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- GQVVQDJHRQBZNG-UHFFFAOYSA-N benzyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CC1=CC=CC=C1 GQVVQDJHRQBZNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FIQWLKKNIDPHPE-UHFFFAOYSA-N benzyl-methoxy-dimethylsilane Chemical compound CO[Si](C)(C)CC1=CC=CC=C1 FIQWLKKNIDPHPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QUKGYYKBILRGFE-UHFFFAOYSA-N benzyloxyacetoaldehyde Natural products CC(=O)OCC1=CC=CC=C1 QUKGYYKBILRGFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NDKBVBUGCNGSJJ-UHFFFAOYSA-M benzyltrimethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 NDKBVBUGCNGSJJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000006267 biphenyl group Chemical group 0.000 description 1
- MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N bis[2-(1-hydroxycyclohexyl)phenyl]methanone Chemical class C=1C=CC=C(C(=O)C=2C(=CC=CC=2)C2(O)CCCCC2)C=1C1(O)CCCCC1 MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYHBFRJRBHMIQZ-UHFFFAOYSA-N bis[4-(diethylamino)phenyl]methanone Chemical compound C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(CC)CC)C=C1 VYHBFRJRBHMIQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CKDOCTFBFTVPSN-UHFFFAOYSA-N borneol Natural products C1CC2(C)C(C)CC1C2(C)C CKDOCTFBFTVPSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- MPMBRWOOISTHJV-UHFFFAOYSA-N but-1-enylbenzene Chemical compound CCC=CC1=CC=CC=C1 MPMBRWOOISTHJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NUHPRPBUYOGFHX-UHFFFAOYSA-N butan-2-yl(trichloro)silane Chemical compound CCC(C)[Si](Cl)(Cl)Cl NUHPRPBUYOGFHX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001273 butane Substances 0.000 description 1
- OBNCKNCVKJNDBV-UHFFFAOYSA-N butanoic acid ethyl ester Natural products CCCC(=O)OCC OBNCKNCVKJNDBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N butyl 2,2-difluorocyclopropane-1-carboxylate Chemical compound CCCCOC(=O)C1CC1(F)F JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTMVHUNTONAYDX-UHFFFAOYSA-N butyl propionate Chemical compound CCCCOC(=O)CC BTMVHUNTONAYDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XGZGKDQVCBHSGI-UHFFFAOYSA-N butyl(triethoxy)silane Chemical compound CCCC[Si](OCC)(OCC)OCC XGZGKDQVCBHSGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWLNAUNEAKQYLH-UHFFFAOYSA-N butyric acid octyl ester Natural products CCCCCCCCOC(=O)CCC PWLNAUNEAKQYLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000013877 carbamide Nutrition 0.000 description 1
- 125000003917 carbamoyl group Chemical group [H]N([H])C(*)=O 0.000 description 1
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 description 1
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N carbonic acid Chemical compound OC(O)=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010538 cationic polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- CETPSERCERDGAM-UHFFFAOYSA-N ceric oxide Chemical compound O=[Ce]=O CETPSERCERDGAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000422 cerium(IV) oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 150000008422 chlorobenzenes Chemical group 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 235000009508 confectionery Nutrition 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- TXWRERCHRDBNLG-UHFFFAOYSA-N cubane Chemical group C12C3C4C1C1C4C3C12 TXWRERCHRDBNLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YQHLDYVWEZKEOX-UHFFFAOYSA-N cumene hydroperoxide Chemical compound OOC(C)(C)C1=CC=CC=C1 YQHLDYVWEZKEOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004966 cyanoalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000004759 cyclic silanes Chemical class 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001047 cyclobutenyl group Chemical group C1(=CCC1)* 0.000 description 1
- LMGZGXSXHCMSAA-UHFFFAOYSA-N cyclodecane Chemical group C1CCCCCCCCC1 LMGZGXSXHCMSAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WVTITOWTHWIEGF-UHFFFAOYSA-N cycloheptyl acetate Chemical compound CC(=O)OC1CCCCCC1 WVTITOWTHWIEGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATGKAFZFOALBOF-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C1CCCCC1 ATGKAFZFOALBOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FNIATMYXUPOJRW-UHFFFAOYSA-N cyclohexylidene Chemical group [C]1CCCCC1 FNIATMYXUPOJRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004113 cyclononanyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 239000004914 cyclooctane Substances 0.000 description 1
- YRMPTIHEUZLTDO-UHFFFAOYSA-N cyclopentyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1CCCC1 YRMPTIHEUZLTDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006837 decompression Effects 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000006356 dehydrogenation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 description 1
- IVZNLGYPGPGWMF-UHFFFAOYSA-N di(butan-2-yl)-difluorosilane Chemical compound CCC(C)[Si](F)(F)C(C)CC IVZNLGYPGPGWMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GDVKFRBCXAPAQJ-UHFFFAOYSA-A dialuminum;hexamagnesium;carbonate;hexadecahydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[Mg+2].[Mg+2].[Mg+2].[Mg+2].[Mg+2].[Mg+2].[Al+3].[Al+3].[O-]C([O-])=O GDVKFRBCXAPAQJ-UHFFFAOYSA-A 0.000 description 1
- 125000000950 dibromo group Chemical group Br* 0.000 description 1
- SRIHMZCTDWKFTQ-UHFFFAOYSA-N dibromo(diethyl)silane Chemical compound CC[Si](Br)(Br)CC SRIHMZCTDWKFTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIQOCGKQCFXKLF-UHFFFAOYSA-N dibromo(dimethyl)silane Chemical compound C[Si](C)(Br)Br LIQOCGKQCFXKLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBUGVTOEUNNUHR-UHFFFAOYSA-N dibromo(diphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](Br)(Br)C1=CC=CC=C1 DBUGVTOEUNNUHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UQULDICHSIILPZ-UHFFFAOYSA-N dibromo-bis(2-methylpropyl)silane Chemical compound CC(C)C[Si](Br)(Br)CC(C)C UQULDICHSIILPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YBTDDDDNTJFTSQ-UHFFFAOYSA-N dibromo-di(butan-2-yl)silane Chemical compound CCC(C)[Si](Br)(Br)C(C)CC YBTDDDDNTJFTSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NJKDOKBDBHYMAH-UHFFFAOYSA-N dibutyl(dichloro)silane Chemical compound CCCC[Si](Cl)(Cl)CCCC NJKDOKBDBHYMAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MIVNEOYVERQQTF-UHFFFAOYSA-N dibutyl(difluoro)silane Chemical compound CCCC[Si](F)(F)CCCC MIVNEOYVERQQTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YPENMAABQGWRBR-UHFFFAOYSA-N dibutyl(dimethoxy)silane Chemical compound CCCC[Si](OC)(OC)CCCC YPENMAABQGWRBR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VJBOSIHCFQKSQC-UHFFFAOYSA-N dichloro-bis(2-methylpropyl)silane Chemical compound CC(C)C[Si](Cl)(Cl)CC(C)C VJBOSIHCFQKSQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZMAPKOCENOWQRE-UHFFFAOYSA-N diethoxy(diethyl)silane Chemical compound CCO[Si](CC)(CC)OCC ZMAPKOCENOWQRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UWGJCHRFALXDAR-UHFFFAOYSA-N diethoxy-ethyl-methylsilane Chemical compound CCO[Si](C)(CC)OCC UWGJCHRFALXDAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OJBGGLLCYJYHPG-UHFFFAOYSA-N diethyl(difluoro)silane Chemical compound CC[Si](F)(F)CC OJBGGLLCYJYHPG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VSYLGGHSEIWGJV-UHFFFAOYSA-N diethyl(dimethoxy)silane Chemical compound CC[Si](CC)(OC)OC VSYLGGHSEIWGJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol monoethyl ether Chemical compound CCOCCOCCO XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940075557 diethylene glycol monoethyl ether Drugs 0.000 description 1
- XRRDNAZMVAXXQP-UHFFFAOYSA-N difluoro(dimethyl)silane Chemical compound C[Si](C)(F)F XRRDNAZMVAXXQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JBFWEIYRGONWCM-UHFFFAOYSA-N difluoro-bis(2-methylpropyl)silane Chemical compound CC(C)C[Si](F)(F)CC(C)C JBFWEIYRGONWCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GPLRAVKSCUXZTP-UHFFFAOYSA-N diglycerol Chemical compound OCC(O)COCC(O)CO GPLRAVKSCUXZTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 1
- LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N dimethyldichlorosilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)Cl LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N dimethyldiethoxysilane Chemical compound CCO[Si](C)(C)OCC YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KZHJGOXRZJKJNY-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O.O=[Al]O[Al]=O.O=[Al]O[Al]=O KZHJGOXRZJKJNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CZZYITDELCSZES-UHFFFAOYSA-N diphenylmethane Chemical compound C=1C=CC=CC=1CC1=CC=CC=C1 CZZYITDELCSZES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NJLLQSBAHIKGKF-UHFFFAOYSA-N dipotassium dioxido(oxo)titanium Chemical compound [K+].[K+].[O-][Ti]([O-])=O NJLLQSBAHIKGKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PZPGRFITIJYNEJ-UHFFFAOYSA-N disilane Chemical compound [SiH3][SiH3] PZPGRFITIJYNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JTGAUXSVQKWNHO-UHFFFAOYSA-N ditert-butylsilicon Chemical compound CC(C)(C)[Si]C(C)(C)C JTGAUXSVQKWNHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DTGKSKDOIYIVQL-UHFFFAOYSA-N dl-isoborneol Natural products C1CC2(C)C(O)CC1C2(C)C DTGKSKDOIYIVQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MSHALHDXRMDVAL-UHFFFAOYSA-N dodec-1-enylbenzene Chemical compound CCCCCCCCCCC=CC1=CC=CC=C1 MSHALHDXRMDVAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000642 dynamic headspace extraction Methods 0.000 description 1
- 239000003623 enhancer Substances 0.000 description 1
- URCAYJXJXYLGTI-UHFFFAOYSA-N ethene fluorobenzene Chemical compound C=C.FC1=CC=CC=C1 URCAYJXJXYLGTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZRYZMLQEDPYAY-UHFFFAOYSA-N ethene iodobenzene Chemical group C=C.IC1=CC=CC=C1 OZRYZMLQEDPYAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NHOGGUYTANYCGQ-UHFFFAOYSA-N ethenoxybenzene Chemical compound C=COC1=CC=CC=C1 NHOGGUYTANYCGQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCUBDDIKWLELPD-UHFFFAOYSA-N ethenyl 2,2-dimethylpropanoate Chemical compound CC(C)(C)C(=O)OC=C YCUBDDIKWLELPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XJELOQYISYPGDX-UHFFFAOYSA-N ethenyl 2-chloroacetate Chemical compound ClCC(=O)OC=C XJELOQYISYPGDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CMXXMZYAYIHTBU-UHFFFAOYSA-N ethenyl 2-hydroxybenzoate Chemical compound OC1=CC=CC=C1C(=O)OC=C CMXXMZYAYIHTBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MEGHWIAOTJPCHQ-UHFFFAOYSA-N ethenyl butanoate Chemical compound CCCC(=O)OC=C MEGHWIAOTJPCHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZWYWAIOTBEZFN-UHFFFAOYSA-N ethenyl hexanoate Chemical compound CCCCCC(=O)OC=C LZWYWAIOTBEZFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BLZSRIYYOIZLJL-UHFFFAOYSA-N ethenyl pentanoate Chemical compound CCCCC(=O)OC=C BLZSRIYYOIZLJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000005448 ethoxyethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])OC([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- FJAKCEHATXBFJT-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-oxobutanoate Chemical compound CCOC(=O)C(=O)CC FJAKCEHATXBFJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYIBRDXRRQCHLP-UHFFFAOYSA-N ethyl acetoacetate Chemical compound CCOC(=O)CC(C)=O XYIBRDXRRQCHLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BLFLLBZGZJTVJG-UHFFFAOYSA-N ethyl ester of p-aminobenzoic acid Natural products CCOC(=O)C1=CC=C(N)C=C1 BLFLLBZGZJTVJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940117360 ethyl pyruvate Drugs 0.000 description 1
- SBRXLTRZCJVAPH-UHFFFAOYSA-N ethyl(trimethoxy)silane Chemical compound CC[Si](OC)(OC)OC SBRXLTRZCJVAPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HTSRFYSEWIPFNI-UHFFFAOYSA-N ethyl-dimethoxy-methylsilane Chemical compound CC[Si](C)(OC)OC HTSRFYSEWIPFNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SUHRFYWSDBWMFS-UHFFFAOYSA-N ethyl-methoxy-dimethylsilane Chemical compound CC[Si](C)(C)OC SUHRFYWSDBWMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- WHRIKZCFRVTHJH-UHFFFAOYSA-N ethylhydrazine Chemical compound CCNN WHRIKZCFRVTHJH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 1
- 150000004675 formic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000003205 fragrance Substances 0.000 description 1
- 238000009432 framing Methods 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- ANSXAPJVJOKRDJ-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-f][2]benzofuran-1,3,5,7-tetrone Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC2=C1C(=O)OC2=O ANSXAPJVJOKRDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CMIHHWBVHJVIGI-UHFFFAOYSA-N gadolinium(III) oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Gd+3].[Gd+3] CMIHHWBVHJVIGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 1
- VANNPISTIUFMLH-UHFFFAOYSA-N glutaric anhydride Chemical compound O=C1CCCC(=O)O1 VANNPISTIUFMLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960004275 glycolic acid Drugs 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 1
- CJNBYAVZURUTKZ-UHFFFAOYSA-N hafnium(IV) oxide Inorganic materials O=[Hf]=O CJNBYAVZURUTKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KETWBQOXTBGBBN-UHFFFAOYSA-N hex-1-enylbenzene Chemical compound CCCCC=CC1=CC=CC=C1 KETWBQOXTBGBBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004836 hexamethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JYTUFVYWTIKZGR-UHFFFAOYSA-N holmium oxide Inorganic materials [O][Ho]O[Ho][O] JYTUFVYWTIKZGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000413 hydrolysate Substances 0.000 description 1
- 229910001701 hydrotalcite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229960001545 hydrotalcite Drugs 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002329 infrared spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000001802 infusion Methods 0.000 description 1
- 230000005764 inhibitory process Effects 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- GJRQTCIYDGXPES-UHFFFAOYSA-N iso-butyl acetate Natural products CC(C)COC(C)=O GJRQTCIYDGXPES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940117955 isoamyl acetate Drugs 0.000 description 1
- FGKJLKRYENPLQH-UHFFFAOYSA-M isocaproate Chemical compound CC(C)CCC([O-])=O FGKJLKRYENPLQH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 1
- COGQEWWPALQLAK-UHFFFAOYSA-N isocyanato(tripropyl)silane Chemical class CCC[Si](CCC)(CCC)N=C=O COGQEWWPALQLAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Natural products OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JMMWKPVZQRWMSS-UHFFFAOYSA-N isopropanol acetate Natural products CC(C)OC(C)=O JMMWKPVZQRWMSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940011051 isopropyl acetate Drugs 0.000 description 1
- 229940024423 isopropyl isobutyrate Drugs 0.000 description 1
- 125000005928 isopropyloxycarbonyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(OC(*)=O)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- GWYFCOCPABKNJV-UHFFFAOYSA-N isovaleric acid Chemical compound CC(C)CC(O)=O GWYFCOCPABKNJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OQAGVSWESNCJJT-UHFFFAOYSA-N isovaleric acid methyl ester Natural products COC(=O)CC(C)C OQAGVSWESNCJJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004310 lactic acid Substances 0.000 description 1
- 235000014655 lactic acid Nutrition 0.000 description 1
- MRELNEQAGSRDBK-UHFFFAOYSA-N lanthanum oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[La+3].[La+3] MRELNEQAGSRDBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- DLEDOFVPSDKWEF-UHFFFAOYSA-N lithium butane Chemical compound [Li+].CCC[CH2-] DLEDOFVPSDKWEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SIAPCJWMELPYOE-UHFFFAOYSA-N lithium hydride Chemical compound [LiH] SIAPCJWMELPYOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000103 lithium hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- IHLVCKWPAMTVTG-UHFFFAOYSA-N lithium;carbanide Chemical compound [Li+].[CH3-] IHLVCKWPAMTVTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003443 lutetium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002521 macromolecule Polymers 0.000 description 1
- ZLNQQNXFFQJAID-UHFFFAOYSA-L magnesium carbonate Chemical compound [Mg+2].[O-]C([O-])=O ZLNQQNXFFQJAID-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000001095 magnesium carbonate Substances 0.000 description 1
- 229910000021 magnesium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- CCERQOYLJJULMD-UHFFFAOYSA-M magnesium;carbanide;chloride Chemical compound [CH3-].[Mg+2].[Cl-] CCERQOYLJJULMD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004949 mass spectrometry Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- KBHMHROOFHVLBA-UHFFFAOYSA-N metamfepramone Chemical compound CN(C)C(C)C(=O)C1=CC=CC=C1 KBHMHROOFHVLBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940098779 methanesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- POPACFLNWGUDSR-UHFFFAOYSA-N methoxy(trimethyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(C)C POPACFLNWGUDSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QPJVMBTYPHYUOC-UHFFFAOYSA-N methyl benzoate Chemical class COC(=O)C1=CC=CC=C1 QPJVMBTYPHYUOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CRVGTESFCCXCTH-UHFFFAOYSA-N methyl diethanolamine Chemical compound OCCN(C)CCO CRVGTESFCCXCTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004702 methyl esters Chemical class 0.000 description 1
- 229940017219 methyl propionate Drugs 0.000 description 1
- CWKLZLBVOJRSOM-UHFFFAOYSA-N methyl pyruvate Chemical compound COC(=O)C(C)=O CWKLZLBVOJRSOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005055 methyl trichlorosilane Substances 0.000 description 1
- UAEPNZWRGJTJPN-UHFFFAOYSA-N methylcyclohexane Chemical compound CC1CCCCC1 UAEPNZWRGJTJPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N methyltrichlorosilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)Cl JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010445 mica Substances 0.000 description 1
- 229910052618 mica group Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003801 milling Methods 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- MKQLBNJQQZRQJU-UHFFFAOYSA-N morpholin-4-amine Chemical compound NN1CCOCC1 MKQLBNJQQZRQJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052863 mullite Inorganic materials 0.000 description 1
- IPUPLVNNJOGFHX-UHFFFAOYSA-N n-(2-ethenoxyethyl)butan-1-amine Chemical class CCCCNCCOC=C IPUPLVNNJOGFHX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N n-Butyllithium Substances [Li]CCCC MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUIQMZJEGPQKFD-UHFFFAOYSA-N n-butyric acid methyl ester Natural products CCCC(=O)OC UUIQMZJEGPQKFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N n-vinylcarbazole Chemical class C1=CC=C2N(C=C)C3=CC=CC=C3C2=C1 KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- PLDDOISOJJCEMH-UHFFFAOYSA-N neodymium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Nd+3].[Nd+3] PLDDOISOJJCEMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012454 non-polar solvent Substances 0.000 description 1
- UMRZSTCPUPJPOJ-KNVOCYPGSA-N norbornane Chemical compound C1C[C@H]2CC[C@@H]1C2 UMRZSTCPUPJPOJ-KNVOCYPGSA-N 0.000 description 1
- 125000003518 norbornenyl group Chemical group C12(C=CC(CC1)C2)* 0.000 description 1
- 239000004843 novolac epoxy resin Substances 0.000 description 1
- AMZORBZSQRUXNC-UHFFFAOYSA-N o-Tolyl acetate Chemical compound CC(=O)OC1=CC=CC=C1C AMZORBZSQRUXNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RCALDWJXTVCBAZ-UHFFFAOYSA-N oct-1-enylbenzene Chemical compound CCCCCCC=CC1=CC=CC=C1 RCALDWJXTVCBAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000012766 organic filler Substances 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- MPQXHAGKBWFSNV-UHFFFAOYSA-N oxidophosphanium Chemical class [PH3]=O MPQXHAGKBWFSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTUFCUMIWABKDW-UHFFFAOYSA-N oxo(oxolanthaniooxy)lanthanum Chemical compound O=[La]O[La]=O KTUFCUMIWABKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FZUGPQWGEGAKET-UHFFFAOYSA-N parbenate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 FZUGPQWGEGAKET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVAMZGADVCBITI-UHFFFAOYSA-M pent-4-enoate Chemical compound [O-]C(=O)CCC=C HVAMZGADVCBITI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- 125000005359 phenoxyalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000005054 phenyltrichlorosilane Substances 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- 229910000073 phosphorus hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- LPNYRYFBWFDTMA-UHFFFAOYSA-N potassium tert-butoxide Chemical compound [K+].CC(C)(C)[O-] LPNYRYFBWFDTMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011165 process development Methods 0.000 description 1
- CYFIHPJVHCCGTF-UHFFFAOYSA-N prop-2-enyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CC(O)C(=O)OCC=C CYFIHPJVHCCGTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXLMPTNTPOWPLT-UHFFFAOYSA-N prop-2-enyl 3-oxobutanoate Chemical compound CC(=O)CC(=O)OCC=C AXLMPTNTPOWPLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CIBMHJPPKCXONB-UHFFFAOYSA-N propane-2,2-diol Chemical compound CC(C)(O)O CIBMHJPPKCXONB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019260 propionic acid Nutrition 0.000 description 1
- HUAZGNHGCJGYNP-UHFFFAOYSA-N propyl butyrate Chemical compound CCCOC(=O)CCC HUAZGNHGCJGYNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000714 pyrimidinyl group Chemical group 0.000 description 1
- WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N pyrogallol Chemical group OC1=CC=CC(O)=C1O WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000168 pyrrolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229940107700 pyruvic acid Drugs 0.000 description 1
- 238000004445 quantitative analysis Methods 0.000 description 1
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N quinbolone Chemical compound O([C@H]1CC[C@H]2[C@H]3[C@@H]([C@]4(C=CC(=O)C=C4CC3)C)CC[C@@]21C)C1=CCCC1 IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 1
- 238000007151 ring opening polymerisation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 1
- 235000021003 saturated fats Nutrition 0.000 description 1
- 238000009738 saturating Methods 0.000 description 1
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Inorganic materials [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000010944 silver (metal) Substances 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- QDRKDTQENPPHOJ-UHFFFAOYSA-N sodium ethoxide Chemical compound [Na+].CC[O-] QDRKDTQENPPHOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012312 sodium hydride Substances 0.000 description 1
- 229910000104 sodium hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 1
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 1
- 229920005792 styrene-acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 229940014800 succinic anhydride Drugs 0.000 description 1
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N tantalum pentoxide Inorganic materials O=[Ta](=O)O[Ta](=O)=O PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAELLLITIZHOGQ-UHFFFAOYSA-N tert-butyl propanoate Chemical compound CCC(=O)OC(C)(C)C JAELLLITIZHOGQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000000000 tetracarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- HWCKGOZZJDHMNC-UHFFFAOYSA-M tetraethylammonium bromide Chemical compound [Br-].CC[N+](CC)(CC)CC HWCKGOZZJDHMNC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N tetraethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCOCCO UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 125000004001 thioalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 description 1
- WHLUQAYNVOGZST-UHFFFAOYSA-N tifenamil Chemical group C=1C=CC=CC=1C(C(=O)SCCN(CC)CC)C1=CC=CC=C1 WHLUQAYNVOGZST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010023 transfer printing Methods 0.000 description 1
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 1
- HOKCCICJZJWXKL-UHFFFAOYSA-N tribromo(butan-2-yl)silane Chemical compound CCC(C)[Si](Br)(Br)Br HOKCCICJZJWXKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KVENDAGPVNAYLY-UHFFFAOYSA-N tribromo(ethyl)silane Chemical compound CC[Si](Br)(Br)Br KVENDAGPVNAYLY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBSUPJLTDMARAI-UHFFFAOYSA-N tribromo(methyl)silane Chemical compound C[Si](Br)(Br)Br KBSUPJLTDMARAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPTIEXHGTPSFDC-UHFFFAOYSA-N tribromo(phenyl)silane Chemical compound Br[Si](Br)(Br)C1=CC=CC=C1 HPTIEXHGTPSFDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MHOVTIVXUNGWHW-UHFFFAOYSA-N tribromo(propan-2-yl)silane Chemical compound CC(C)[Si](Br)(Br)Br MHOVTIVXUNGWHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CQBJNTVZDBKMDS-UHFFFAOYSA-N tributyl(isocyanato)silane Chemical class CCCC[Si](CCCC)(CCCC)N=C=O CQBJNTVZDBKMDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOYFEXPFPVDYIS-UHFFFAOYSA-N trichloro(ethyl)silane Chemical compound CC[Si](Cl)(Cl)Cl ZOYFEXPFPVDYIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ORVMIVQULIKXCP-UHFFFAOYSA-N trichloro(phenyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)C1=CC=CC=C1 ORVMIVQULIKXCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DOEHJNBEOVLHGL-UHFFFAOYSA-N trichloro(propyl)silane Chemical compound CCC[Si](Cl)(Cl)Cl DOEHJNBEOVLHGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003866 trichloromethyl group Chemical group ClC(Cl)(Cl)* 0.000 description 1
- ALVYUZIFSCKIFP-UHFFFAOYSA-N triethoxy(2-methylpropyl)silane Chemical compound CCO[Si](CC(C)C)(OCC)OCC ALVYUZIFSCKIFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VBSUMMHIJNZMRM-UHFFFAOYSA-N triethoxy(2-phenylethyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCC1=CC=CC=C1 VBSUMMHIJNZMRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DENFJSAFJTVPJR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(ethyl)silane Chemical compound CCO[Si](CC)(OCC)OCC DENFJSAFJTVPJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(phenyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UMFJXASDGBJDEB-UHFFFAOYSA-N triethoxy(prop-2-enyl)silane Chemical compound CCO[Si](CC=C)(OCC)OCC UMFJXASDGBJDEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BJDLPDPRMYAOCM-UHFFFAOYSA-N triethoxy(propan-2-yl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C(C)C BJDLPDPRMYAOCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NESLVXDUKMNMOG-UHFFFAOYSA-N triethoxy-(propyltetrasulfanyl)silane Chemical compound CCCSSSS[Si](OCC)(OCC)OCC NESLVXDUKMNMOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLGLQAWTXXGVEM-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol monomethyl ether Chemical compound COCCOCCOCCO JLGLQAWTXXGVEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BHOCBLDBJFCBQS-UHFFFAOYSA-N trifluoro(methyl)silane Chemical compound C[Si](F)(F)F BHOCBLDBJFCBQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000725 trifluoropropyl group Chemical group [H]C([H])(*)C([H])([H])C(F)(F)F 0.000 description 1
- UBMUZYGBAGFCDF-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(2-phenylethyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCC1=CC=CC=C1 UBMUZYGBAGFCDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LGROXJWYRXANBB-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(propan-2-yl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C(C)C LGROXJWYRXANBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004417 unsaturated alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003672 ureas Chemical class 0.000 description 1
- KOZCZZVUFDCZGG-UHFFFAOYSA-N vinyl benzoate Chemical compound C=COC(=O)C1=CC=CC=C1 KOZCZZVUFDCZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003021 water soluble solvent Substances 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L83/00—Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon only; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L83/04—Polysiloxanes
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/075—Silicon-containing compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
- C08K3/01—Use of inorganic substances as compounding ingredients characterized by their specific function
- C08K3/013—Fillers, pigments or reinforcing additives
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L101/00—Compositions of unspecified macromolecular compounds
- C08L101/02—Compositions of unspecified macromolecular compounds characterised by the presence of specified groups, e.g. terminal or pendant functional groups
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/075—Silicon-containing compounds
- G03F7/0757—Macromolecular compounds containing Si-O, Si-C or Si-N bonds
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
Abstract
本发明的课题在于提供:即使含有选自由包含特定元素的无机填料(D1)和碱性填料(D2)组成的组中的1种以上的填料(D)和含聚合性基团的成分、也能抑制在利用光刻法形成经图案化的功能性膜时在非图案部中产生显影残渣的感光性的聚合性组合物、使用该聚合性组合物的固化膜的制造方法、使该聚合性组合物固化而形成的固化膜、使包含前述的无机填料(D1)的聚合性组合物固化而形成的透明绝缘膜、及具有该透明绝缘膜的显示装置。一种感光性的聚合性组合物,其包含选自由包含特定元素的无机填料(D1)和碱性填料(D2)组成的组中的1种以上的填料(D)、和含聚合性基团的成分,所述组合物中,含有特定的含硅树脂(A)。
Description
技术领域
本发明涉及聚合性组合物、使用该聚合性组合物的固化膜的制造方法、使该聚合性组合物固化而形成的固化膜、透明绝缘膜、及具有透明绝缘膜的显示装置。
背景技术
以往,为了形成功能性膜而使用了各种添加剂。作为用于向膜赋予功能的添加剂,例如,已知氢氧化镁、氢氧化铝等阻燃剂、聚吡咯、聚苯胺、及聚苯胺乙烯撑(日文:ポリアニレンビニレン)等导电性的高分子等(参见专利文献1及2。)。
另外,为了形成介电常数高、透明性优异的透明绝缘膜,在膜形成材料(负型感光性组合物)中配合包含La、Ce、Nd、Gd、Ho、Lu、Hf和Ta等元素的无机填料也是已知的。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2006-43974号公报
专利文献2:日本特开2010-257981号公报
专利文献3:日本特开2016-75853号公报
发明内容
发明所要解决的课题
然而,在包含聚合引发剂和含聚合性基团的成分的感光性的聚合性组合物中配合专利文献1及2中记载的那样的碱性填料、碱性聚合物、或者配合专利文献3中记载的那样的包含特定种类的元素的无机填料的情况下,使用该聚合性组合物、利用光刻法形成经图案化的功能性膜时,有在显影后容易在非图案部(未曝光部)产生显影残渣的问题。
本发明是鉴于上述课题而作出的,目的在于提供:即使含有选自由包含特定元素的无机填料(D1)和碱性填料(D2)组成的组中的1种以上的填料(D)、和含聚合性基团的成分、也可抑制在利用光刻法形成经图案化的功能性膜时在非图案部(未曝光部)中产生显影残渣的感光性的聚合性组合物;使用该聚合性组合物的固化膜的制造方法;使该聚合性组合物固化而形成的固化膜;使包含前述的无机填料(D1)的聚合性组合物固化而形成的透明绝缘膜;及具有该透明绝缘膜的显示装置。
用于解决课题的手段
本申请的发明人发现,通过在包含选自由包含特定元素的无机填料(D1)和碱性填料(D2)组成的组中的1种以上的填料(D)、和含聚合性基团的成分的感光性的聚合性组合物中含有特定的含硅树脂(A),能解决上述课题,从而完成了本发明。具体而言,本发明提供以下的方案。
本发明的第1方式是聚合性组合物,
其是包含含聚合性基团的成分的聚合性组合物,
前述聚合性组合物包含:
含硅树脂(A),
聚合引发剂(C),和
填料(D),
前述含硅树脂(A)包含选自由倍半硅氧烷树脂(A1)、聚硅烷-聚硅氧烷树脂(A-I)、树脂混合物(A-II)和含聚硅烷结构的树脂(A-III)组成的组中的至少1种,
前述倍半硅氧烷树脂(A1)为具有下述式(a1a)表示的结构单元的倍半硅氧烷树脂,
[化学式1]
(式(a1a)中,Ra1为下述式(a1a-I)表示的基团,
-Xa-Ba-Ya-COOH……(a1a-I)
Xa为单键、碳原子数1~6的亚烷基、碳原子数6~12的亚芳基、或-Ra6-NH-Ra7-表示的基团,
Ra6和Ra7各自独立地为碳原子数1~3的亚烷基,
Ya为2价的环式有机基团或碳原子数1~20的链状脂肪族烃基,
Ba为-NH-CO-、-CO-NH-、-NH-CO-O-、-O-CO-NH-、或-NH-CO-NH-,
Xa和Ya各自独立地可以被选自由(甲基)丙烯酰基氧基、乙烯基和含环氧基的有机基团组成的组中的1种以上的基团取代。)
聚硅烷-聚硅氧烷树脂(A-I)为具有聚硅烷结构(I-1)和聚硅氧烷结构(I-2)的聚硅烷-聚硅氧烷树脂,
树脂混合物(A-II)为具有聚硅烷结构(II-1)的树脂与具有聚硅氧烷结构(II-2)的树脂的混合物,
含聚硅烷结构的树脂(A-III)为具有聚硅烷结构(II-1)的树脂,
前述含聚合性基团的成分包含下述(1)~(5)中的至少1种,
(1)具有上述式(a1a)表示的结构单元、且上述式(a1a-I)中的Xa和Ya中的至少一方被选自由(甲基)丙烯酰基氧基、乙烯基和含环氧基的有机基团组成的组中的1种以上的基团取代的倍半硅氧烷树脂(A1-1),
(2)具有上述式(a1a)表示的结构单元和下述式(a2a)表示的结构单元的倍半硅氧烷树脂(A1-2),
[化学式2]
(式(a2a)中,Ra2为下述式(a1a-II)表示的基团,
-Za-Aa……(a1a-II)
Za为单键、碳原子数1~6的亚烷基、或碳原子数6~12的亚芳基,
Aa为(甲基)丙烯酰基氧基、乙烯基、或含环氧基的有机基团。)
(3)具有上述式(a2a)表示的结构单元、并且不属于倍半硅氧烷树脂(A1)的倍半硅氧烷树脂(A2),
(4)多官能聚合性单体(B1),以及,
(5)具有选自由(甲基)丙烯酰基氧基、乙烯基和含环氧基的有机基团组成的组中的1种以上的基团、并且不属于倍半硅氧烷树脂(A1)、倍半硅氧烷树脂(A2)和多官能聚合性单体(B1)中的任一种的含聚合性基团的树脂(B2);
填料(D)包含选自由无机填料(D1)和碱性填料(D2)组成的组中的1种以上,
无机填料(D1)为选自由下述物质组成的组中的1种以上:选自由La、Ce、Nd、Gd、Ho、Lu、Hf和Ta组成的组中的至少1种元素的单质、前述的元素的氧化物、前述的元素的螯合物、前述的元素的盐、以及前述的元素的合金,
碱性填料(D2)为选自碱性填料和碱性聚合物中的一种以上。
本发明的第2方式是固化膜的制造方法,所述方法包括下述步骤:
使用第1方式涉及的聚合性组合物在基材上形成涂布膜的步骤,
位置选择性地将涂布膜曝光的步骤,和
将经曝光的涂布膜显影的步骤。
本发明的第3方式是固化膜,其是使第1方式涉及的聚合性组合物固化而形成的。
本发明的第4方式是透明绝缘膜,其是使包含无机填料(D1)作为填料(D)的第1方式涉及的聚合性组合物固化而形成的。
本发明的第5方式是显示装置,其具有第4方式涉及的透明绝缘膜。
发明的效果
本发明的聚合性组合物即使含有选自由包含特定元素的无机填料(D1)和碱性填料(D2)组成的组中的1种以上的填料(D)、和含聚合性基团的成分,也能抑制在利用光刻法形成经图案化的功能性膜时在非图案部(未曝光部)中产生显影残渣。
另外,通过本发明,可提供使用该聚合性组合物的固化膜的制造方法、使该聚合性组合物固化而形成的固化膜、使包含前述的无机填料(D1)的聚合性组合物固化而形成的透明绝缘膜、及具有该透明绝缘膜的显示装置。
具体实施方式
《聚合性组合物》
聚合性组合物包含含聚合性基团的成分。另外,聚合性组合物包含含硅树脂(A)、聚合引发剂(C)和填料(D)。
聚合性组合物包含含聚合性基团的成分和聚合引发剂(C)。因此,聚合性组合物具有通过曝光而进行固化的固化性。
另外,如后文所述,聚合性组合物包含呈现碱溶性的含硅树脂(A)。因此,若位置选择性地将由聚合性组合物形成的涂布膜曝光,则未固化的未曝光部可溶于碱性的显影液。
此外,在使用包含后述的特定填料(D)的感光性组合物的情况下,通常,在利用光刻法形成经图案化的功能性膜时而进行显影时,容易在未曝光部产生残渣。
然而,若使用组合地包含规定结构的含硅树脂(A)和特定的填料(D)的聚合性组合物,则可抑制在显影时在未曝光部中产生残渣。
以下,对聚合性组合物中的必需或任选的成分进行说明。
<含硅树脂(A)>
聚合性组合物必须包含含硅树脂(A)。所述含硅树脂(A)包含选自由后述的倍半硅氧烷树脂(A1)、聚硅烷-聚硅氧烷树脂(A-I)、树脂混合物(A-II)和含聚硅烷结构的树脂(A-III)组成的组中的至少1种。
·倍半硅氧烷树脂(A1)
倍半硅氧烷树脂(A1)为具有式(a1a-I)表示的含羧基的基团的倍半硅氧烷树脂。倍半硅氧烷树脂(A1)在聚合性组合物中起到作为碱溶性树脂的作用。
因此,对于聚合性组合物而言,在被曝光时,通过含聚合性基团的成分的聚合反应从而变得不溶于碱性的显影液,另一方面,在未曝光的状态下,可溶于碱性的显影液。
含硅树脂(A)包含倍半硅氧烷树脂(A1)时,对于含硅树脂(A)中的倍半硅氧烷树脂(A1)的含量而言,在不妨碍本发明的目的的范围内没有特别限制,从聚合性组合物的显影性方面考虑,优选为50质量%以上,更优选为70质量%以上,进一步优选为80质量%以上,特别优选为90质量%以上,最优选为100质量%。
作为倍半硅氧烷化合物的通常的结构,笼型、不完全笼型、梯型、无规型等广为人知。倍半硅氧烷树脂(A1)的结构没有特别限制,可以是笼型、不完全笼型、梯型、无规型等现有已知的任意结构。
倍半硅氧烷树脂(A1)具有下述式(a1a)表示的结构单元。
[化学式3]
(式(a1a)中,Ra1为下述式(a1a-I)表示的基团,
-Xa-Ba-Ya-COOH……(a1a-I)
Xa为单键、碳原子数1~6的亚烷基、碳原子数6~12的亚芳基、或-Ra6-NH-Ra7-表示的基团,
Ra6和Ra7各自独立地为碳原子数1~3的亚烷基,
Ya为2价的环式有机基团或碳原子数1~20的链状脂肪族烃基,
Ba为-NH-CO-、-CO-NH-、-NH-CO-O-、-O-CO-NH-、或-NH-CO-NH-,
Xa和Ya各自独立地可以被选自由(甲基)丙烯酰基氧基、乙烯基和含环氧基的有机基团组成的组中的1种以上的基团取代。)
例如,除了式(a1a)表示的结构单元以外,倍半硅氧烷树脂(A1)可包含下述式(a1a-1)、或(a1a-2)表示的结构单元。
下述式(a1a-1)或(a1a-2)表示的结构单元中,Ra0为有机基团时,该有机基团可包含选自芳香族基团、酰胺键和氨基甲酸酯键中的1种以上。
[化学式4]
(式(a1a-1)及(a1a-2)中,Ra0各自独立地为氢原子或1价的有机基团。)
式(a1a-1)及(a1a-2)中的Ra0为有机基团时,其碳原子数没有特别限制,例如优选为1~50,更优选为1~30,特别优选为1~20。有机基团的结构可以为直链状,可以为支链状,可以为环状,也可以为将这些结构组合而得到的结构。有机基团可以具有1个以上不饱和键。有机基团可包含杂原子。作为杂原子,可举出卤素原子、氧原子、硫原子、氮原子、磷原子等。
作为有机基团的优选例,可举出烷基、烷氧基、环烷基、环烷氧基、饱和脂肪族酰基、饱和脂肪族酰基氧基、烷氧基羰基、可以具有取代基的苯基、可以具有取代基的苯氧基、可以具有取代基的苯甲酰基、可以具有取代基的苯氧基羰基、可以具有取代基的苯甲酰基氧基、可以具有取代基的苯基烷基、可以具有取代基的萘基、可以具有取代基的萘氧基、可以具有取代基的萘甲酰基、可以具有取代基的萘氧基羰基、可以具有取代基的萘甲酰基氧基、可以具有取代基的萘基烷基、可以具有取代基的杂环基、被1个或2个有机基团取代的氨基等。
作为这些基团可以具有的取代基,可举出碳原子数1~20的烷基、碳原子数1~20的烷氧基、碳原子数3~10的环烷基、碳原子数3~10的环烷氧基、碳原子数2~20的饱和脂肪族酰基、碳原子数2~20的烷氧基羰基、碳原子数2~20的饱和脂肪族酰基氧基、苯基、苯氧基、苯基硫基、苯甲酰基、苯氧基羰基、苯甲酰基氧基、碳原子数7~20的苯基烷基、萘基、萘氧基、萘甲酰基、萘氧基羰基、萘甲酰基氧基、碳原子数11~20的萘基烷基、杂环基、杂环基羰基、氨基、被1个或2个碳原子数1~20的有机基团取代的氨基、硝基、羟基、卤素原子、氰基、羧基等。
式(a1a)中,Ra1为下述式(a1a-I)表示的基团。
-Xa-Ba-Ya-COOH……(a1a-I)
式(a1a-I)中,Xa为单键、碳原子数1~6的亚烷基、碳原子数6~12的亚芳基、或-Ra6-NH-Ra7-表示的基团。
Ra6和Ra7各自独立地为碳原子数1~3的亚烷基。
Ya为2价的环式有机基团或碳原子数1~20的链状脂肪族烃基。
Ba为-NH-CO-、-CO-NH-、-NH-CO-O-、-O-CO-NH-、或-NH-CO-NH-。
Xa和Ya各自独立地可以被选自由(甲基)丙烯酰基氧基、乙烯基和含环氧基的有机基团组成的组中的1种以上的基团取代。
作为Xa中的碳原子数1~6的亚烷基,具体而言,可举出例如亚甲基、乙烷-1,2-二基、乙烷-1,1-二基、丙烷-1,3-二基、丙烷-1,2-二基、丁烷-1,4-二基、戊烷-1,5-二基、己烷-1,6-二基等。
Xa中的亚芳基的碳原子数为6~12,优选为6~10。
作为亚芳基的优选的具体例,可举出邻亚苯基、间亚苯基、对亚苯基、萘-1,4-二基、萘-1,5-二基、萘-2,6-二基、联苯-4,4’-二基等。
作为-Ra6-NH-Ra7-,具体而言,可举出例如-CH2-NH-CH2-、-(CH2)2-NH-(CH2)2-、-(CH2)3-NH-(CH2)3-、-CH2-NH-(CH2)2-、-(CH2)2-NH-CH2-、-(CH2)2-NH-(CH2)3-、-(CH2)3-NH-(CH2)2-、-CH2-NH-(CH2)3-、-(CH2)3-NH-CH2-等。
Ya中的2价的环式有机基团可以是从芳香族环上除去2个氢原子而得到的基团,也可以是从脂肪族环上除去2个氢原子而得到的基团。
Ya为包含芳香族环的2价基团时,作为2价的环式有机基团,优选从可以具有碳原子数1或2的取代基的碳原子数6~10的芳香族环上除去2个氢原子而得到的基团。作为碳原子数6~10的芳香族环的优选例,可举出苯环、萘环、甲基苯环、二甲基苯环等。
Ya为包含脂肪族环的2价基团时,作为2价的环式有机基团,优选从碳原子数5~16的脂肪族环上除去2个氢原子而得到的基团。作为碳原子数5~16的脂肪族环的优选例,可举出环戊烷环、环己烷环、环庚烷环、环辛烷环、环壬烷环、环癸烷环、二环戊二烯环、降冰片烷环、降冰片烯环、立方烷环、篮烷环等。
Ya为碳原子数1~20的链状脂肪族烃基时,该链状脂肪族烃基可以是直链状,也可以是支链状,可以是饱和烃基,也可以是不饱和烃基。
作为碳原子数1~20的链状脂肪族烃基的优选例,可举出亚甲基、乙烷-1,2-二基、乙烷-1,1-二基、丙烷-1,3-二基、丙烷-1,2-二基、丙烷-1,3-二基、丙烷-1,2-二基、亚乙烯基、(2-辛烯基)亚乙基、(2,4,6-三甲基-2-壬烯基)亚乙基等亚烷基、具有双键的亚烷基或具有碳原子数1~9的支链的亚烷基。
式(a1a-I)中,Xa和Ya各自独立地可以被选自由(甲基)丙烯酰基氧基、乙烯基和含环氧基的有机基团组成的组中的1种以上的基团取代。
另外,倍半硅氧烷树脂(A1)优选为Xa和Ya中的至少一方被选自由(甲基)丙烯酰基氧基、乙烯基和含环氧基的有机基团组成的组中的1种以上的基团取代的倍半硅氧烷树脂(A1-1)。这种情况下,倍半硅氧烷树脂(A1-1)作为倍半硅氧烷树脂(A1)及含聚合性基团的成分这两者发挥作用,可在不过度增加聚合性组合物的构成成分种类的情况下,向聚合性组合物赋予所期望的性能。
倍半硅氧烷树脂(A1-1)可包含除式(a1a)表示的结构单元以外的其他结构单元。
其他结构单元没有特别限制,作为其他结构单元,优选下述式(a2b)表示的结构单元。
[化学式5]
(式(a2b)中,Ra3表示碳原子数1~12的烷基、碳原子数6~12的芳基、或碳原子数7~12的芳烷基。)
Ra3为烷基时,例如优选为甲基、乙基及正丙基。Ra3为芳基或芳烷基时,例如优选为苯基、苄基、甲苯基、二甲苯基及萘基。
倍半硅氧烷树脂(A1-1)中的Xa和Ya中的至少一方被选自由(甲基)丙烯酰基氧基、乙烯基和含环氧基的有机基团组成的组中的1种以上的基团取代,并且式(a1a)表示的结构单元的比例没有特别限制,为10~100摩尔%,优选为30~70摩尔%。
倍半硅氧烷树脂(A1)还优选为具有式(a1a)表示的结构单元和下述式(a2a)表示的结构单元的倍半硅氧烷树脂(A1-2)。
[化学式6]
(式(a2a)中,Ra2为下述式(a1a-II)表示的基团,
-Za-Aa……(a1a-II)
Za为单键、碳原子数1~6的亚烷基或碳原子数6~12的亚芳基,
Aa为(甲基)丙烯酰基氧基、乙烯基、或含环氧基的有机基团。)
所述倍半硅氧烷树脂(A1-2)也作为碱溶性树脂发挥作用,另一方面,可作为含聚合性基团的成分优选使用。
式(a1a-II)中,作为Za为碳原子数1~6的亚烷基时的优选例,可举出亚甲基、乙烷-1,2-二基、乙烷-1,1-二基、丙烷-1,3-二基、丙烷-1,2-二基、丁烷-1,4-二基、戊烷-1,5-二基、己烷-1,6-二基等。
Za中的亚芳基的碳原子数为6~12,优选为6~10。
作为亚芳基的优选的具体例,可举出邻亚苯基、间亚苯基、对亚苯基、萘-1,4-二基、萘-1,5-二基、萘-2,6-二基、联苯-4,4’-二基等。
式(a1a-II)中,Aa为(甲基)丙烯酰基氧基、乙烯基、或含环氧基的有机基团。作为含环氧基的有机基团,没有特别限制,可举出例如环氧乙烷基、缩水甘油基、及缩水甘油基氧基等。
倍半硅氧烷树脂(A1-2)包含具有聚合性基团的式(a2a)表示的结构单元。因此,倍半硅氧烷树脂(A1-2)中的式(a1a)表示的结构单元中,Xa和Ya并非必须被选自由(甲基)丙烯酰基氧基、乙烯基和含环氧基的有机基团组成的组中的1种以上的基团取代。从容易合成或容易获得提供式(a1a)表示的结构单元的化合物方面考虑,优选式(a1a)中的Xa和Ya未被所述聚合性基团取代。
作为倍半硅氧烷树脂(A1-2)中包含的式(a1a)表示的结构单元中的、式(a1a-I)表示的基团的具体例,例如,可举出Xa、Ba、Ya为下表1所示的组合的基团。表1中的Ya具有两个化学键,其中1个与羧基键合,另一个与Ba键合。关于表1中的Ba也同样,与Xa、Ya键合。
[表1]
作为倍半硅氧烷树脂(A1-2)中包含的式(a2a)表示的结构单元中的、式(a2a-II)表示的基团的具体例,可举出例如Za和Aa为下表2所示的组合的基团。
[表2]
倍半硅氧烷树脂(A1-2)也可包含除式(a1a)表示的结构单元和式(a2a)表示的结构单元以外的其他结构单元。
作为其他结构单元,没有特别限制,优选前述的式(a2b)表示的结构单元。
倍半硅氧烷树脂(A1-2)中的式(a2a)表示的结构单元的比例没有特别限制,为5~90摩尔%,优选为10摩尔%~70摩尔%,优选为20摩尔%~60摩尔%。
另外,倍半硅氧烷树脂(A1-2)中的式(a1a)表示的结构单元的比例没有特别限制,为5摩尔%~90摩尔%,优选为10摩尔%~70摩尔%,更优选为20摩尔%~60摩尔%。
含硅树脂(A)可包含具有上述式(a2a)表示的结构单元、并且不属于倍半硅氧烷树脂(A1)的倍半硅氧烷树脂(A2)。倍半硅氧烷树脂(A2)由于具有式(a2a)表示的结构单元,因而包含聚合性基团。因此,可合适地使用倍半硅氧烷树脂(A2)作为含聚合性基团的成分。
倍半硅氧烷树脂(A2)可以仅由式(a2a)表示的结构单元形成,也可由式(a2a)表示的结构单元和其他结构单元形成。其他结构单元没有特别限制,优选前述的式(a2b)表示的结构单元。
倍半硅氧烷树脂(A2)中的式(a2a)表示的结构单元的比例没有特别限制,为5~100摩尔%,优选为10摩尔%~70摩尔%,更优选为20摩尔%~60摩尔%。优选为30摩尔%以上,更优选为40摩尔%以上,特别优选为50摩尔%以上。
作为含硅树脂(A)为倍半硅氧烷树脂(A1)或倍半硅氧烷树脂(A2)时的重均分子量Mw,1000~100000是通常可得到的范围,优选为1000~50000,更优选为1500~20000。
接下来,对聚硅烷-聚硅氧烷树脂(A-I)、树脂混合物(A-II)及含聚硅烷结构的树脂(A-III)进行说明。
聚硅烷-聚硅氧烷树脂(A-I)为具有聚硅烷结构(I-1)和聚硅氧烷结构(I-2)的聚硅烷-聚硅氧烷树脂。
树脂混合物(A-II)为具有聚硅烷结构(II-1)的树脂与具有聚硅氧烷结构(II-2)的树脂的混合物。
含聚硅烷结构的树脂(A-III)为具有聚硅烷结构(II-1)的树脂。
上述聚硅氧烷结构(I-2)和(II-2)各自独立地优选包含选自由下述式(A-1-1)~(A-1-4)表示的硅化合物组成的组中的至少1种硅化合物的水解缩合结构。
R1R2R3SiX1 (A-1-1)
R4R5SiX2 2 (A-1-2)
R6SiX3 3 (A-1-3)
SiX4 4 (A-1-4)
(上述式中,X1~X4各自独立地为水解性基团,R1、R2、R3、R4、R5和R6各自独立地为氢原子或有机基团,该有机基团中的氢原子可以被卤素原子取代。)
作为X1~X4表示的水解性基团,可举出烷氧基、卤素原子或异氰酸酯基(NCO)等,优选为烷氧基。
作为上述烷氧基,可举出碳原子数1~6的烷氧基,具体而言,可举出甲氧基、乙氧基、正丙氧基、异丙氧基、正丁氧基、叔丁氧基、戊氧基等。
作为上述卤素原子,可举出氟原子、氯原子、溴原子或碘原子,优选氯原子。
作为R1~R6表示的有机基团,可举出碳数1~30的有机基团,可举出烷基[甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基及叔丁基等碳原子数1~10的烷基(优选碳原子数1~6的烷基、尤其是碳数1~4的烷基等)]、环烷基(环己基等碳原子数5~8的环烷基、尤其是碳原子数5~6的环烷基)、链烯基[乙烯基、丙烯基、丁烯基等碳原子数2~10的链烯基(优选碳原子数2~6的链烯基、尤其是碳数2~4的链烯基等)]、环烯基[1-环戊烯基、1-环己烯基等碳原子数5~10的环烯基(优选碳原子数5~8的环烯基、尤其是碳数5~7的环烯基等)]、芳基(苯基、萘基等碳原子数6~10的芳基、)、芳烷基[苄基、苯乙基等C6-10芳基-C1-6烷基(C6-10芳基-C1-4烷基等)]、氨基、N-取代氨基(被上述烷基、环烷基、芳基、芳烷基、酰基等取代的N-单或二取代氨基等)等。上述烷基、环烷基、芳基或构成芳烷基的芳基等可以具有1个或多个取代基。作为这样的取代基,可举出上文例举的烷基(尤其是碳原子数1~6的烷基等)、上文例举的烷氧基等。作为具有这样的取代基的有机基团,可举出例如甲苯基、二甲苯基、乙基苯基、甲基萘基等C1-6烷基-C6-10芳基(优选单、二或三C1-4烷基-C6-10芳基、尤其是单或二C1-4烷基苯基等);甲氧基苯基、乙氧基苯基、甲氧基萘基等C1-10烷氧基C6-10芳基(优选C1-6烷氧基C6-10芳基、尤其是C1-4烷氧基苯基等)等。
作为上述式(A-1-1)~(A-1-4)表示的硅化合物,可举出三氯硅烷、三溴硅烷、及三氟硅烷等三卤代硅烷;四氯硅烷、四溴硅烷、及四氟硅烷等四卤代硅烷;甲基三氯硅烷、甲基三溴硅烷、甲基三氟硅烷、乙基三氯硅烷、乙基三溴硅烷、乙基三氟硅烷、正丙基三氯硅烷、正丙基三溴硅烷、正丙基三氟硅烷、异丙基三氯硅烷、异丙基三溴硅烷、异丙基三氟硅烷、正丁基三氯硅烷、正丁基三溴硅烷、正丁基三氟硅烷、异丁基三氯硅烷、异丁基三溴硅烷、异丁基三氟硅烷、仲丁基三氯硅烷、仲丁基三溴硅烷、仲丁基三氟硅烷、叔丁基三氯硅烷、叔丁基三溴硅烷、及叔丁基三氟硅烷等烷基三卤代硅烷;苯基三氯硅烷、苯基三溴硅烷、及苯基三氟硅烷等苯基三卤代硅烷;二氯二甲基硅烷、二溴二甲基硅烷、二氟二甲基硅烷、二氯二乙基硅烷、二溴二乙基硅烷、二氟二乙基硅烷、二氯二正丙基硅烷、二溴二正丙基硅烷、二氟二正丙基硅烷、二氯二异丙基硅烷、二溴二异丙基硅烷、二氟二异丙基硅烷、二氯二正丁基硅烷、二溴二正丁基硅烷、二氟二正丁基硅烷、二氯二正丁基硅烷、二溴二正丁基硅烷、二氟二正丁基硅烷、二氯二异丁基硅烷、二溴二异丁基硅烷、二氟二异丁基硅烷、二氯二仲丁基硅烷、二溴二仲丁基硅烷、二氟二仲丁基硅烷、二氯二叔丁基硅烷、二氯二叔丁基硅烷、及二氯二叔丁基硅烷等二烷基二卤代硅烷;二氯二苯基硅烷、二溴二苯基硅烷、及二氟二苯基硅烷等二苯基二卤代硅烷、四甲氧基硅烷、四乙氧基硅烷、甲基三甲氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷、乙基三甲氧基硅烷、乙基三乙氧基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、丙基三甲氧基硅烷、丙基三乙氧基硅烷、异丙基三甲氧基硅烷、异丙基三乙氧基硅烷、丁基三甲氧基硅烷、丁基三乙氧基硅烷、异丁基三甲氧基硅烷、异丁基三乙氧基硅烷、烯丙基三甲氧基硅烷、烯丙基三乙氧基硅烷、环戊基三甲氧基硅烷、环戊基三乙氧基硅烷、环己基三甲氧基硅烷、环己基三乙氧基硅烷、环己烯基三甲氧基硅烷、环己烯基三乙氧基硅烷、苯基三甲氧基硅烷、苯基三乙氧基硅烷、苄基三甲氧基硅烷、苄基三乙氧基硅烷、甲苯基三甲氧基硅烷、甲苯基三乙氧基硅烷、茴香基三甲氧基硅烷、茴香基三乙氧基硅烷、苯乙基三甲氧基硅烷、苯乙基三乙氧基硅烷、二甲基二甲氧基硅烷、二甲基二乙氧基硅烷、二乙基二甲氧基硅烷、二乙基二乙氧基硅烷、甲基乙基二甲氧基硅烷、甲基乙基二乙氧基硅烷、二丙基二甲氧基硅烷、二丁基二甲氧基硅烷、甲基苯基二甲氧基硅烷、甲基苯基二乙氧基硅烷、三甲基甲氧基硅烷、二甲基乙基甲氧基硅烷、二甲基苯基甲氧基硅烷、二甲基苄基甲氧基硅烷、二甲基苯乙基甲氧基硅烷、四异氰酸酯基硅烷、甲基三异氰酸酯基硅烷、乙基三异氰酸酯基硅烷、丙基三异氰酸酯基硅烷、丁基三异氰酸酯基硅烷、二甲基二异氰酸酯基硅烷、二乙基二异氰酸酯基硅烷、二丙基二异氰酸酯基硅烷、二丁基二异氰酸酯基硅烷、三甲基异氰酸酯基硅烷、三乙基异氰酸酯基硅烷、三丙基异氰酸酯基硅烷、三丁基异氰酸酯基硅烷等。
另外,上述式(A-1-3)表示的硅化合物也可以是衍生上述式(a1a)或(a2a)表示的结构单元的硅化合物,这种情况下,树脂混合物(A-II)中的具有聚硅氧烷结构(II-2)的树脂与上述倍半硅氧烷树脂(A1)或倍半硅氧烷树脂(A2)相同。
作为选自由上述式(A-1-1)~(A-1-4)表示的硅化合物组成的组中的至少1种硅化合物的水解缩合反应的条件,只要水解缩合反应进行即可,没有特别限制,可利用已知的条件,此时,可使用催化剂,作为上述催化剂,可举出四丁基氢氧化铵、苄基三甲基氢氧化铵、苄基三乙基氢氧化铵、四甲基氢氧化铵、四丁基氢氧化铵、盐酸、硫酸、甲酸、草酸。另外,作为反应条件,可采用例如1~10小时、25~100℃。
上述聚硅烷结构(I-1)及(II-1)各自独立地优选包含来自选自由下述式(A-2-1)和(A-2-2)表示的聚硅烷化合物组成的组中的至少1种的结构。
(R7R8R9Si)a1(R10R11Si)a2(R12Si)a3(Si)a4……(A-2-1)
(上述式中,R7、R8、R9、R10、R11和R12各自独立地为氢原子、羟基或有机基团。a1、a2、a3及a4各自独立地为摩尔分率,a1+a2+a3+a4=1,0≤a1≤1,0≤a2≤1,0≤a3≤1,以及0≤a4≤1。)
[化学式7]
(上述式(A-2-2)中,Ra1和Ra2各自独立地表示氢原子、羟基或有机基团。n表示3~20的整数。)
作为R7~R6、Ra1和Ra2表示的有机基团,可举出与作为R1~R6表示的有机基团而在上文说明的具体例及优选例同样的基团。
作为R7~R12、Ra1和Ra2表示的有机基团,例如,可利用日本特开2003-261681号公报0031段中记载的方法导入任意的有机基团。
(聚硅烷-聚硅氧烷树脂(A-I))
聚硅烷-聚硅氧烷树脂(A-I)具有聚硅烷结构(I-1)和聚硅氧烷结构(I-2)。
作为聚硅烷-聚硅氧烷树脂(A-I),优选为聚硅烷结构(I-1)与聚硅氧烷结构(I-2)经由氧原子(醚键(-O-))连接而成的聚硅烷-聚硅氧烷树脂。
对于聚硅烷-聚硅氧烷树脂(A-I)而言,相对于聚硅烷结构中的Si-Si键及聚硅氧烷结构中的Si-O键,聚硅烷结构与聚硅氧烷结构的连接部分(例如醚键)的化学键比较不稳定,容易通过碱显影液的作用而分解。由此,聚合性组合物含有聚硅烷-聚硅氧烷树脂(A-I)时,碱显影性优异。
作为聚硅烷-聚硅氧烷树脂(A-I),优选包含选自由下述式(H1)和(H2)表示的结构组成的组中的至少1种。
[化学式8]
A1-A2O-Psi-OA2-A1...(HI)
A1-A2O-Psi-OH...(H2)
(上述式(H1)及(H2)中,A1各自独立地表示包含下述式(HA1)表示的结构中的至少1种、并且包含至少1个最左侧的结构的聚硅氧烷结构。
-A2O-各自独立地表示下述式(HA2)表示的结构中的任一种连接基团。需要说明的是,上述式(H1)中,-OA2-表示与下述式(HA1)中的主链-SiO-的键合顺序相反的-OSi-结构。Psi表示聚硅烷结构(I-1)。)
[化学式9]
[化学式10]
(上述式(HA1)及(HA2)中,R1、R2、R3、R4、R5和R6各自独立地为氢原子或有机基团,该有机基团中的氢原子可以被卤素原子取代。)
作为R1~R6表示的有机基团的具体例及优选例,如上文所述。
作为Psi表示的聚硅烷结构(I-1),可举出Si原子数3~40的聚硅烷结构,优选为Si原子数5~30的聚硅烷结构。
作为Psi表示的聚硅烷结构(I-1),优选包含下述式(HB1)表示的聚硅烷结构中的1种以上。
[化学式11]
(上述式(HB1)中,R10、R11和R12各自独立地表示氢原子、羟基或有机基团。*表示化学键。)
作为Psi表示的聚硅烷结构(I-1),从在制造工序中进行加工时除去聚合性组合物膜的情况下或向聚合性组合物赋予光刻性能的情况下容易将聚合性组合物膜除去方面考虑,更优选包含下述式(HB1-1)表示的聚硅烷结构。
[化学式12]
(上述式(HB1-1)中,*、R10和R11与式(HB1)含义相同。)
作为R10~R12表示的有机基团的具体例及优选例,与作为R1~R6表示的有机基团的具体例及优选例而在上文说明的基团同样。
作为上述式(H1)表示的结构的1个具体例,可举出下述式(H3)表示的结构。
[化学式13]
A1-A2O-Psi-OA2-A1-A2O-Psi-OA2-A1(H3)
(上述式(H3)中,A1、-A2O-、-OA2-及Psi与式(H1)含义相同。)
作为聚硅烷-聚硅氧烷树脂(A-I)的质均分子量(Mw),没有特别限制,只要不妨碍本发明的目的即可,优选为500~20000,更优选为1000~10000,进一步优选为2000~8000。
本说明书中,质均分子量(Mw)是利用凝胶渗透色谱法(GPC)、按照聚苯乙烯换算得到的测定值。
(聚硅烷-聚硅氧烷树脂(A-I)的制造方法)
通过使从硅化合物(其是选自由上述式(A-1-1)~(A-1-4)表示的硅化合物组成的组中的至少1种硅化合物)以及上述硅化合物的水解物、缩合物及水解缩合物中选择的至少1种、与具有聚硅烷结构的树脂进行水解缩合反应,从而可制造聚硅烷-聚硅氧烷树脂(A-I)。
作为制造中使用的上述具有聚硅烷结构的树脂,优选为选自由上述式(A-2-1)和(A-2-2)表示的聚硅烷化合物组成的组中的至少1种。
作为上述水解缩合反应条件,没有特别限制,只要使水解缩合反应进行即可,例如,可使用选自无机酸、脂肪族磺酸和芳香族磺酸中的1种以上化合物作为酸催化剂而进行。作为此时可使用的酸催化剂,可举出例如氢氟酸、盐酸、氢溴酸、硫酸、硝酸、高氯酸、磷酸、甲磺酸、苯磺酸、甲苯磺酸等。对于催化剂的使用量而言,相对于上述式(A-1-1)~(A-1-4)表示的硅化合物1摩尔,优选为10-6~10摩尔,更优选为10-5~5摩尔,进一步优选为10-4~1摩尔。
对于将上述式(A-1-1)~(A-1-4)表示的硅化合物水解缩合时的水的量而言,相对于上述式(A-1-1)~(A-1-4)表示的硅化合物所具有的水解性基团1摩尔,优选为0.01~100摩尔,更优选添加0.05~50摩尔,进一步优选添加0.1~30摩尔。
反应温度优选为0~100℃,更优选为5~80℃。
作为可在催化剂水溶液中添加的有机溶剂,优选甲醇、乙醇、1-丙醇、2-丙醇、1-丁醇、2-丁醇、2-甲基-1-丙醇、丙酮、乙腈、四氢呋喃、甲苯、己烷、乙酸乙酯、环己酮、甲基戊基酮、丁二醇单甲基醚、丙二醇单甲基醚、乙二醇单甲基醚、丁二醇单乙基醚、丙二醇单乙基醚、乙二醇单乙基醚、丙二醇二甲基醚、二乙二醇二甲基醚、丙二醇单甲基醚乙酸酯、丙二醇单乙基醚乙酸酯、丙酮酸乙酯、乙酸丁酯、3-甲氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、乙酸叔丁酯、丙酸叔丁酯、丙二醇单叔丁基醚乙酸酯、γ-丁内酯、及它们的混合物等。
这些溶剂中,更优选的溶剂是水溶性的溶剂。可举出例如甲醇、乙醇、1-丙醇、2-丙醇等醇类、乙二醇、丙二醇等多元醇、丁二醇单甲基醚、丙二醇单甲基醚、乙二醇单甲基醚、丁二醇单乙基醚、丙二醇单乙基醚、乙二醇单乙基醚、丁二醇单丙基醚、丙二醇单丙基醚、乙二醇单丙基醚等多元醇缩合物衍生物、丙酮、乙腈、四氢呋喃等。其中特别优选的是沸点为100℃以下的溶剂。
另外,作为上述有机溶剂,可优选使用从后述的具有选自由羟基和乙酰氧基组成的组中的至少1种基团的萜烯化合物、以及含有环状骨架的乙酸酯化合物(其中不包括上述萜烯化合物。)中选择的至少1种溶剂。
需要说明的是,对于有机溶剂的使用量而言,相对于上述式(A-1-1)~(A-1-4)表示的硅化合物1摩尔,优选为0~1,000mL,特别优选为0~500mL。
然后,根据需要,可进行催化剂的中和反应,将在水解缩合反应中生成的醇减压除去,得到反应混合物水溶液。
上述式(A-2-1)或(A-2-2)表示的聚硅烷化合物可通过适用或应用各种聚硅烷的制造方法来制备。
例如,可举出下述方法:(a)将镁作为还原剂而使卤代硅烷类进行脱卤素缩聚的方法(“镁还原法”、WO98/29476号公报、日本特开2003-277507号公报中记载的方法等);(b)使用金属钠等碱金属,于100℃以上的温度,对甲苯溶剂中的二烷基二卤代硅烷或二卤代四烷基二硅烷进行强力搅拌,以还原方式使其偶联的方法[J.Am.Chem.Soc.,103(1981)7352];(c)使利用联苯等掩蔽了的二硅烯进行阴离子聚合的方法(日本特开平1-23063号公报);(d)使环状硅烷类进行开环聚合的方法(日本特开平5-170913号公报);(e)利用过渡金属络合物催化剂使氢化硅烷类进行脱氢缩聚的方法(日本特公平7-17753号公报);(f)于室温以下的温度使二卤代硅烷类进行电极还原而制造聚硅烷的方法(日本特开平7-309953号公报);等等,优选镁还原法。
作为上述式(A-2-1)或(A-2-2)表示的聚硅烷化合物,也可使用Osaka GasChemicals制的OGSOL SI-10-10(聚甲基苯基硅烷)、SI-10-20(聚甲基苯基硅烷)、SI-20-10(聚苯基硅烷)、SI-20-10改(聚苯基硅烷)、SI-30-10(环状聚二苯基硅烷)等市售品。另外,也可使用在下述碱性条件下使它们进行反应而成为低分子量从而得到的产物。
(树脂混合物(A-II))
如上文所述,树脂混合物(A-II)为具有聚硅烷结构(II-1)的树脂、与具有聚硅氧烷结构(II-2)的树脂的混合物。以下,对具有聚硅烷结构(II-1)的树脂、和具有聚硅氧烷结构(II-2)的树脂进行说明。
((具有聚硅烷结构(II-1)的树脂))
作为具有聚硅烷结构(II-1)的树脂,可举出具有Si原子数3~40的聚硅烷结构的树脂,优选为具有Si原子数5~30的聚硅烷结构的树脂。
作为具有聚硅烷结构(II-1)的树脂,优选包含上述式(HB1)表示的聚硅烷结构中的至少1种,更优选包含上述式(HB1-1)表示的聚硅烷结构。
具有聚硅烷结构(II-1)的树脂优选为选自由上述式(A-2-1)和(A-2-2)表示的聚硅烷化合物组成的组中的至少1种。
具有聚硅烷结构(II-1)的树脂具有上述式(a1a-II)表示的取代基的情况下,可将具有聚硅烷结构(II-1)的树脂作为含聚合性基团的成分(属于后述的(5)的含聚合性基团的树脂的情况)而合适地使用。
作为具有聚硅烷结构(II-1)的树脂的质均分子量(Mw),没有特别限制,只要不妨碍本发明的目的即可,优选为500~20000,更优选为1000~10000,进一步优选为2000~5000。
((具有聚硅氧烷结构(II-2)的树脂))
具有聚硅氧烷结构(II-2)的树脂优选具有包含选自由上述式(A-1-1)~(A-1-4)表示的硅化合物组成的组中的至少1种的混合物的水解缩合结构,更优选包含上述式(HA1)表示的聚硅氧烷结构中的至少1种。
具有聚硅氧烷结构(II-2)的树脂可利用包含选自由上述式(A-1-1)~(A-1-4)表示的硅化合物组成的组中的至少1种的混合物的水解缩合反应来制造。
作为具有聚硅氧烷结构(II-2)的树脂的质均分子量(Mw),没有特别限制,只要不妨碍本发明的目的即可,优选500~20000,更优选1000~10000。
含硅树脂(A)为树脂混合物(A-II)时,具有聚硅烷结构(II-1)的树脂相对于具有聚硅氧烷结构(II-2)的树脂的混合比没有特别限制,只要不损害本发明的效果即可,优选0.01质量倍~5质量倍,更优选0.05质量倍~1质量倍。
(含聚硅烷结构的树脂(A-III))
含聚硅烷结构的树脂(A-III)为具有聚硅烷结构(II-1)的树脂,与树脂混合物(A-II)中的具有聚硅烷结构(II-1)的树脂相同。
含硅树脂(A)为含聚硅烷结构的树脂(A-III)时,具有聚硅烷结构(II-1)的树脂优选为在碱性条件下进行了处理(例如,纯化处理)的具有聚硅烷结构的树脂、或具有上述式(a1a-I)表示的取代基。
关于碱性条件下的处理,作为使用的碱,只要是呈现碱性的化合物即可,可使用各种碱,例如,可使用氢氧化钠、氢氧化钾、氢氧化钡、氨、四甲基氢氧化铵、碳酸钠、碳酸氢钠、碳酸钾、氢化锂、氢化钠、氢化钾、氢化钙等无机碱类、甲基锂、正丁基锂、氯化甲基镁、溴化乙基镁等烷基金属类、由Cr、Ga、Fe(Fe(II)、Fe(III))、Cd、Co、Ni、Sn、Pb、Cu(Cu(II)、Cu(I))、Ag、Pd、Pt、Au等金属(或金属离子)构成的金属卤化物、甲醇钠、乙醇钠、叔丁醇钾等醇盐类、三乙基胺、二异丙基乙基胺、N,N-二甲基苯胺、吡啶、4-二甲基氨基吡啶、二氮杂双环十一碳烯(DBU)等有机碱类。反应温度优选为-50℃~溶剂的沸点左右,进一步优选为室温~100℃。
另外,含硅树脂(A)包含含聚硅烷结构的树脂(A-III)时,作为含硅树脂(A),优选进一步组合倍半硅氧烷树脂(A1)及/或聚硅烷-聚硅氧烷树脂(A-I)。
另外,含硅树脂(A)包含含聚硅烷结构的树脂(A-III)时,作为聚合成分,优选与(4)多官能聚合性单体(B)组合使用。
对于聚合性组合物中的含硅树脂(A)的含量而言,相对于聚合性组合物中的固态成分整体,优选为20~97质量%,更优选为30~90质量%,进一步优选为40~80质量%。
通过使用上述范围的量的含硅树脂(A),从而容易抑制在未曝光部中产生残渣,容易确保良好的显影性。
<多官能聚合性单体(B1)>
聚合性组合物可包含多官能聚合性单体(B1)作为含聚合性基团的成分。多官能聚合性单体是具有(甲基)丙烯酰基氧基、乙烯基、或含环氧基的有机基团作为聚合性基团的化合物。
作为多官能聚合性单体(B1)的优选例,可举出具有(甲基)丙烯酰基氧基或乙烯基的不饱和化合物(B1-1)、和具有含环氧基的有机基团的环氧化合物(B1-2)。
这些多官能聚合性单体(B1)中,从存在提高聚合性组合物对基板的密合性、聚合性组合物固化后的强度的倾向的方面考虑,优选3官能以上的多官能聚合性单体,更优选4官能以上的多官能聚合性单体,进一步优选5官能以上的多官能聚合性单体。
作为不饱和化合物(B1-1),可举出乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、甘油二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、2,2-双(4-(甲基)丙烯酰氧基二乙氧基苯基)丙烷、2,2-双(4-(甲基)丙烯酰氧基多乙氧基苯基)丙烷、(甲基)丙烯酸2-羟基-3-(甲基)丙烯酰基氧基丙基酯、乙二醇二缩水甘油基醚二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二缩水甘油基醚二(甲基)丙烯酸酯、邻苯二甲酸二缩水甘油酯二(甲基)丙烯酸酯、甘油三丙烯酸酯、甘油聚缩水甘油基醚聚(甲基)丙烯酸酯、氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯(即,甲苯二异氰酸酯、三甲基-1,6-己二异氰酸酯、或1,6-己二异氰酸酯等与(甲基)丙烯酸2-羟基乙酯的反应物)、亚甲基双(甲基)丙烯酰胺、(甲基)丙烯酰胺亚甲基醚、多元醇与N-羟甲基(甲基)丙烯酰胺的缩合物等多官能单体、1,3,5-三丙烯酰基六氢-1,3,5-三嗪(triacrylformal)等。这些多官能单体可单独使用或组合2种以上而使用。
这些具有烯键式不饱和基团的不饱和化合物(B1-1)中,从存在提高聚合性组合物对基板的密合性、聚合性组合物固化后的强度的倾向的方面考虑,优选3官能以上的不饱和化合物,更优选4官能以上的不饱和化合物,进一步优选5官能以上的不饱和化合物。
作为环氧化合物(B1-2)的具体例,可举出双酚A型环氧树脂、双酚F型环氧树脂、双酚S型环氧树脂、双酚AD型环氧树脂、萘型环氧树脂、及联苯型环氧树脂等2官能环氧树脂;二聚酸缩水甘油基酯、及三缩水甘油基酯等缩水甘油基酯型环氧树脂;四缩水甘油基氨基二苯基甲烷、三缩水甘油基对氨基苯酚、四缩水甘油基间苯二甲胺、及四缩水甘油基双氨基甲基环己烷等缩水甘油基胺型环氧树脂;三缩水甘油基异氰脲酸酯等杂环式环氧树脂;间苯三酚三缩水甘油基醚、三羟基联苯三缩水甘油基醚、三羟基苯基甲烷三缩水甘油基醚、甘油三缩水甘油基醚、2-[4-(2,3-环氧基丙氧基)苯基]-2-[4-[1,1-双[4-(2,3-环氧基丙氧基)苯基]乙基]苯基]丙烷、及1,3-双[4-[1-[4-(2,3-环氧基丙氧基)苯基]-1-[4-[1-[4-(2,3-环氧基丙氧基)苯基]-1-甲基乙基]苯基]乙基]苯氧基]-2-丙醇等3官能型环氧树脂;四羟基苯基乙烷四缩水甘油基醚、四缩水甘油基二苯甲酮、双间苯二酚四缩水甘油基醚、及四环氧丙氧基联苯等4官能型环氧树脂。
对于聚合性组合物包含多官能聚合性单体(B1)时的多官能聚合性单体(B1)的含量而言,相对于聚合性组合物的固态成分整体的质量,优选为1~80质量%,更优选为5~40质量%。另外,相对于含硅树脂(A)100质量份,优选使多官能聚合性单体(B1)为10~200质量份,更优选为20~120质量份的范围。通过为上述的范围,从而存在容易获得敏感度、显影性、分辨率性能的均衡性的倾向。
<含聚合性基团的树脂(B2)>
聚合性组合物中,作为含聚合性基团的成分,可包含:具有选自由(甲基)丙烯酰基氧基、乙烯基和含环氧基的有机基团组成的组中的1种以上的基团、并且不属于倍半硅氧烷树脂(A1)、倍半硅氧烷树脂(A2)、及多官能聚合性单体(B1)中的任一种的含聚合性基团的树脂(B2)。
需要说明的是,含聚合性基团的树脂(B2)可与多官能聚合性单体(B1)并用。
作为含聚合性基团的树脂(B2)的优选例,可举出具有(甲基)丙烯酰基氧基或乙烯基的不饱和树脂(B2-1)、和具有含环氧基的有机基团的含环氧基的树脂(B2-2)。
以下,对不饱和树脂(B2-1)和含环氧基的树脂(B2-2)进行说明。
[不饱和树脂(B2-1)]
对于不饱和树脂(B2-1)而言,只要是具有(甲基)丙烯酰基氧基或乙烯基的树脂即可,没有特别限制。作为不饱和树脂(B2-1)的优选例,可举出使后述的含环氧基的树脂(B2-2)所具有的环氧基的至少一部分与不饱和羧酸反应而得到的树脂。
作为不饱和羧酸,可举出(甲基)丙烯酸;丁烯酸;马来酸、富马酸、柠康酸、中康酸、衣康酸、这些二羧酸的酐。
另外,作为不饱和树脂(B2-1),还优选下述式(b-1)表示的具有Cardo结构的树脂(也记为Cardo树脂。)。
[化学式14]
式(b-1)中,Xb表示下述式(b-2)表示的基团。m1表示0~20的整数。
[化学式15]
上述式(b-2)中,Rb1各自独立地表示氢原子、碳原子数1~6的烃基、或卤素原子,Rb2各自独立地表示氢原子或甲基,Rb3各自独立地表示直链或支链的亚烷基,m2表示0或1,Wb表示下述式(b-3)表示的基团。
[化学式16]
式(b-2)中,作为Rb3,优选碳原子数1~20的亚烷基,更优选碳原子数1~10的亚烷基,特别优选碳原子数1~6的亚烷基,最优选乙烷-1,2-二基、丙烷-1,2-二基、及丙烷-1,3-二基。
式(b-3)中的环Ab可与芳香族环稠合,表示可以具有取代基的脂肪族环。脂肪族环可以是脂肪族烃环,也可以是脂肪族杂环。
作为脂肪族环,可举出单环烷烃、双环烷烃、三环烷烃、四环烷烃等。
具体而言,可举出环戊烷、环己烷、环庚烷、环辛烷等单环烷烃、金刚烷、降冰片烷、异冰片烷、三环癸烷、四环十二烷。
可与脂肪族环稠合的芳香族环可以是芳香族烃环,也可以是芳香族杂环,优选芳香族烃环。具体而言优选苯环及萘环。
作为式(b-3)表示的2价基团的优选例,可举出下述的基团。
[化学式17]
式(b-1)中的2价基团Xb可通过使提供残基Zb的四羧酸二酐与下式(b-2a)表示的二醇化合物反应从而导入至Cardo树脂中。
[化学式18]
式(b-2a)中,Rb1、Rb2、Rb3、及m2与关于式(b-2)而进行的说明相同。关于式(b-2a)中的环Ab,与关于式(b-3)而进行的说明相同。
式(b-2a)表示的二醇化合物例如可利用以下的方法制造。
首先,根据需要,按照常规方法,将下述式(b-2b)表示的二醇化合物所具有的酚式羟基中的氢原子取代为-Rb3-OH表示的基团,然后使用表氯醇等进行缩水甘油基化,得到下述式(b-2c)表示的环氧化合物。
接下来,通过使式(b-2c)表示的环氧化合物与丙烯酸或甲基丙烯酸反应,从而得到式(b-2a)表示的二醇化合物。
式(b-2b)及式(b-2c)中,Rb1、Rb3、及m2与关于式(b-2)而进行的说明相同。关于式(b-2b)及式(b-2c)中的环Ab,与关于式(b-3)而进行的说明相同。
需要说明的是,式(b-2a)表示的二醇化合物的制造方法不限于上述的方法。
[化学式19]
作为式(b-2b)表示的二醇化合物的优选例,可举出以下的二醇化合物。
[化学式20]
上述式(b-1)中,Rb0为氢原子或-CO-Yb-COOH表示的基团。此处,Yb表示从二羧酸酐除去酸酐基(-CO-O-CO-)而得到的残基。作为二羧酸酐的例子,可举出马来酸酐、琥珀酸酐、衣康酸酐、邻苯二甲酸酐、四氢邻苯二甲酸酐、六氢邻苯二甲酸酐、甲基内亚甲基四氢邻苯二甲酸酐、氯菌酸酐(Chlorendic Anhydride)、甲基四氢邻苯二甲酸酐、戊二酸酐等。
另外,上述式(b-1)中,Zb表示从四羧酸二酐除去2个酸酐基而得到的残基。作为四羧酸二酐的例子,可举出均苯四甲酸二酐、二苯甲酮四甲酸二酐、联苯四甲酸二酐、二苯基醚四甲酸二酐、其他含有脂环骨架的四羧酸二酐等。
另外,上述式(b-1)中,m1表示0~20的整数。
Cardo树脂的重均分子量优选为1000~40000,更优选为1500~30000,进一步优选为2000~10000。通过使Cardo树脂的重均分子量成为上述的范围,从而可在得到良好的显影性的同时,得到充分的耐热性、膜强度。
[含环氧基的树脂(B2-2)]
含环氧基的树脂(B2-2)可以是使具有环氧基的单体或包含具有环氧基的单体的单体混合物聚合而得到的聚合物。含环氧基的树脂可以是使用例如表氯醇这样的具有环氧基的化合物向含有羟基、羧基、氨基等具有反应性的官能团的聚合物中导入环氧基而得到的树脂。从获得、制备、调节聚合物中的环氧基的量等容易进行的方面考虑,作为具有环氧基的聚合物,优选使具有环氧基的单体或包含具有环氧基的单体的单体混合物聚合而得到的聚合物。
作为含环氧基的树脂(B2-2)的优选一例,可举出苯酚novolac型环氧树脂、溴化苯酚novolac型环氧树脂、邻甲酚novolac型环氧树脂、双酚A novolac型环氧树脂、及双酚ADnovolac型环氧树脂等novolac环氧树脂;二环戊二烯型酚醛树脂的环氧化物等环式脂肪族环氧树脂;萘型酚醛树脂的环氧化物等芳香族环氧树脂。
另外,含环氧基的树脂(B2-2)中,从容易进行制备、或者容易调节形成的膜的物性方面考虑,优选具有环氧基的(甲基)丙烯酸酯的均聚物、或具有环氧基的(甲基)丙烯酸酯与其他单体的共聚物。
具有环氧基的(甲基)丙烯酸酯可以是具有链状脂肪族环氧基的(甲基)丙烯酸酯,也可以是后述那样的具有脂环式环氧基的(甲基)丙烯酸酯。另外,具有环氧基的(甲基)丙烯酸酯可包含芳香族基团。具有环氧基的(甲基)丙烯酸酯中,优选具有链状脂肪族环氧基的脂肪族(甲基)丙烯酸酯、具有脂环式环氧基的脂肪族(甲基)丙烯酸酯,更优选具有脂环式环氧基的脂肪族(甲基)丙烯酸酯。
作为包含芳香族基团、且具有环氧基的(甲基)丙烯酸酯的例子,可举出(甲基)丙烯酸4-缩水甘油基氧基苯酯、(甲基)丙烯酸3-缩水甘油基氧基苯酯、(甲基)丙烯酸2-缩水甘油基氧基苯酯、(甲基)丙烯酸4-缩水甘油基氧基苯基甲酯、(甲基)丙烯酸3-缩水甘油基氧基苯基甲酯、及(甲基)丙烯酸2-缩水甘油基氧基苯基甲酯等。
作为具有链状脂肪族环氧基的脂肪族(甲基)丙烯酸酯的例子,可举出(甲基)丙烯酸环氧烷基酯、及(甲基)丙烯酸环氧基烷基氧基烷基酯等这样的、链状脂肪族环氧基键合于酯基(-O-CO-)中的氧基(-O-)上的(甲基)丙烯酸酯。这样的(甲基)丙烯酸酯所具有的链状脂肪族环氧基可在链中包含1个或多个氧基(-O-)。链状脂肪族环氧基的碳原子数没有特别限制,优选为3~20,更优选为3~15,特别优选为3~10。
作为具有链状脂肪族环氧基的脂肪族(甲基)丙烯酸酯的具体例,可举出(甲基)丙烯酸缩水甘油酯、(甲基)丙烯酸2-甲基缩水甘油酯、(甲基)丙烯酸3,4-环氧丁酯、(甲基)丙烯酸6,7-环氧庚酯等(甲基)丙烯酸环氧烷基酯;(甲基)丙烯酸2-缩水甘油基氧基乙酯、(甲基)丙烯酸3-缩水甘油基氧基正丙酯、(甲基)丙烯酸4-缩水甘油基氧基正丁酯、(甲基)丙烯酸5-缩水甘油基氧基正己酯、(甲基)丙烯酸6-缩水甘油基氧基正己酯等(甲基)丙烯酸环氧基烷基氧基烷基酯。
作为具有脂环式环氧基的脂肪族(甲基)丙烯酸酯的具体例,可举出例如下述式(b1-1)~(b1-15)表示的化合物。这些中,优选下述式(b1-1)~(b1-5)表示的化合物,更优选下述式(a1-1)~(a1-3)表示的化合物。另外,关于这些各化合物,酯基的氧原子相对于脂环的键合部位不限于此处记载的部位,可包含一部分位置异构体。
[化学式21]
[化学式22]
[化学式23]
上述式中,Rb7表示氢原子或甲基,Rb8表示碳原子数1~6的2价的脂肪族饱和烃基,Rb9表示碳原子数1~10的2价的烃基,t0表示0~10的整数。作为Rb8,优选直链状或支链状的亚烷基,例如亚甲基、亚乙基、亚丙基、1,4-亚丁基、乙基亚乙基、1,5-亚戊基、1,6-亚己基。作为Rb9,例如优选亚甲基、亚乙基、亚丙基、1,4-亚丁基、乙基亚乙基、1,5-亚戊基、1,6-亚己基、亚苯基、亚环己基。
作为具有环氧基的聚合物,具有环氧基的(甲基)丙烯酸酯的均聚物、及具有环氧基的(甲基)丙烯酸酯与其他单体的共聚物均可使用,具有环氧基的聚合物中的来自具有环氧基的(甲基)丙烯酸酯的结构单元的含量优选为70质量%以上,更优选为80质量%以上,特别优选为90质量%以上,最优选为100质量%。
具有环氧基的聚合物为具有环氧基的(甲基)丙烯酸酯与其他单体的共聚物时,作为其他单体,可举出不饱和羧酸、不具有环氧基的(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酰胺类、烯丙基化合物、乙烯基醚类、乙烯基酯类、苯乙烯类等。这些化合物可单独使用或组合2种以上而使用。从聚合性组合物的保存稳定性、使用聚合性组合物形成的膜相对于碱等的耐化学药品性方面考虑,优选具有环氧基的(甲基)丙烯酸酯与其他单体的共聚物不包含来自不饱和羧酸的结构单元。
作为不饱和羧酸的例子,可举出(甲基)丙烯酸;(甲基)丙烯酰胺;丁烯酸;马来酸、富马酸、柠康酸、中康酸、衣康酸、这些二羧酸的酐。
作为不具有环氧基的(甲基)丙烯酸酯的例子,可举出(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸戊酯、(甲基)丙烯酸叔辛酯等直链状或支链状的(甲基)丙烯酸烷基酯;(甲基)丙烯酸氯乙酯、(甲基)丙烯酸2,2-二甲基羟基丙酯、(甲基)丙烯酸2-羟基乙酯、三羟甲基丙烷单(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸糠基酯;含有具有脂环式骨架的基团的(甲基)丙烯酸酯。不具有环氧基的(甲基)丙烯酸酯中,优选含有具有脂环式骨架的基团的(甲基)丙烯酸酯。
含有具有脂环式骨架的基团的(甲基)丙烯酸酯中,构成脂环式骨架的脂环式基可以是单环也可以是多环。作为单环的脂环式基,可举出环戊基、环己基等。另外,作为多环的脂环式基,可举出降冰片基、异冰片基、三环壬基、三环癸基、四环十二烷基等。
作为含有具有脂环式骨架的基团的(甲基)丙烯酸酯,可举出例如下述式(b2-1)~(b2-8)表示的化合物。这些中,优选下述式(b2-3)~(b2-8)表示的化合物,更优选下述式(b2-3)或(b2-4)表示的化合物。
[化学式24]
[化学式25]
上述式中,Rb10表示氢原子或甲基,Rb11表示单键或碳原子数1~6的2价的脂肪族饱和烃基,Rb12表示氢原子或碳原子数1~5的烷基。作为Rb11,优选单键、直链状或支链状的亚烷基,例如亚甲基、亚乙基、亚丙基、1,4-亚丁基、乙基亚乙基、1,5-亚戊基、1,6-亚己基。作为Rb12,优选甲基、乙基。
作为(甲基)丙烯酰胺类的例子,可举出(甲基)丙烯酰胺、N-烷基(甲基)丙烯酰胺、N-芳基(甲基)丙烯酰胺、N,N-二烷基(甲基)丙烯酰胺、N,N-芳基(甲基)丙烯酰胺、N-甲基-N-苯基(甲基)丙烯酰胺、N-羟基乙基-N-甲基(甲基)丙烯酰胺等。
作为烯丙基化合物的例子,可举出乙酸烯丙酯、己酸烯丙酯、辛酸烯丙酯、月桂酸烯丙酯、棕榈酸烯丙酯、硬脂酸烯丙酯、苯甲酸烯丙酯、乙酰乙酸烯丙酯、乳酸烯丙酯等烯丙基酯类;烯丙基氧基乙醇;等等。
作为乙烯基醚类的例子,可举出己基乙烯基醚、辛基乙烯基醚、癸基乙烯基醚、乙基己基乙烯基醚、甲氧基乙基乙烯基醚、乙氧基乙基乙烯基醚、氯乙基乙烯基醚、1-甲基-2,2-二甲基丙基乙烯基醚、2-乙基丁基乙烯基醚、羟基乙基乙烯基醚、二乙二醇乙烯基醚、二甲基氨基乙基乙烯基醚、二乙基氨基乙基乙烯基醚、丁基氨基乙基乙烯基醚、苄基乙烯基醚、四氢糠基乙烯基醚等脂肪族乙烯基醚;乙烯基苯基醚、乙烯基甲苯基醚、乙烯基氯苯基醚、乙烯基-2,4-二氯苯基醚、乙烯基萘基醚、乙烯基蒽基醚等乙烯基芳基醚;等等。
作为乙烯基酯类的例子,可举出丁酸乙烯酯、异丁酸乙烯酯、三甲基乙酸乙烯酯、二乙基乙酸乙烯酯、戊酸乙烯酯、己酸乙烯酯、氯乙酸乙烯酯、二氯乙酸乙烯酯、甲氧基乙酸乙烯酯、丁氧基乙酸乙烯酯、苯基乙酸乙烯酯、乙酰乙酸乙烯酯、乳酸乙烯酯、β-苯基丁酸乙烯酯、苯甲酸乙烯酯、水杨酸乙烯酯、氯苯甲酸乙烯酯、四氯苯甲酸乙烯酯、萘甲酸乙烯酯等。
作为苯乙烯类的例子,可举出苯乙烯;甲基苯乙烯、二甲基苯乙烯、三甲基苯乙烯、乙基苯乙烯、二乙基苯乙烯、异丙基苯乙烯、丁基苯乙烯、己基苯乙烯、环己基苯乙烯、癸基苯乙烯、苄基苯乙烯、氯甲基苯乙烯、三氟甲基苯乙烯、乙氧基甲基苯乙烯、乙酰氧基甲基苯乙烯等烷基苯乙烯;甲氧基苯乙烯、4-甲氧基-3-甲基苯乙烯、二甲氧基苯乙烯等烷氧基苯乙烯;氯苯乙烯、二氯苯乙烯、三氯苯乙烯、四氯苯乙烯、五氯苯乙烯、溴苯乙烯、二溴苯乙烯、碘苯乙烯、氟苯乙烯、三氟苯乙烯、2-溴-4-三氟甲基苯乙烯、4-氟-3-三氟甲基苯乙烯等卤代苯乙烯;等等。
对于含环氧基的树脂(B2-2)的分子量而言,在不妨碍本发明的目的的范围内没有特别限制,作为按照聚苯乙烯换算的重均分子量,优选为3,000~30,000,更优选为5,000~15,000。
对于聚合性组合物包含含聚合性基团的树脂(B2)时的含聚合性基团的树脂(B2)的含量而言,相对于聚合性组合物的固态成分整体的质量,优选为1~50质量%,更优选为5~40质量%。通过使所述含量为上述的范围,从而存在容易获得敏感度、显影性、分辨率性能的均衡性的倾向。
另外,在并用多官能聚合性单体(B1)、和含聚合性基团的树脂(B2)的情况下,两者总含量相对于聚合性组合物的固态成分整体的质量而言优选为1~50质量%,更优选为5~40质量%。
<聚合引发剂(C)>
对于聚合引发剂(C)而言,只要能使聚合性组合物中的含聚合性基团的成分的聚合反应进行即可,没有特别限制。典型地,可以没有特别限制地使用在各种感光性组合物中作为光聚合引发剂而使用的化合物。
作为聚合引发剂(C),具体而言,可举出1-羟基环己基苯基酮、2-羟基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮、1-〔4-(2-羟基乙氧基)苯基〕-2-羟基-2-甲基-1-丙烷-1-酮、1-(4-异丙基苯基)-2-羟基-2-甲基丙烷-1-酮、1-(4-十二烷基苯基)-2-羟基-2-甲基丙烷-1-酮、2,2-二甲氧基-1,2-二苯基乙烷-1-酮、双(4-二甲基氨基苯基)酮、2-甲基-1-〔4-(甲基硫基)苯基〕-2-吗啉代(morpholino)丙烷-1-酮、2-苄基-2-二甲基氨基-1-(4-吗啉代苯基)-丁烷-1-酮、O-乙酰基-1-[6-(2-甲基苯甲酰基)-9-乙基-9H-咔唑-3-基]乙酮肟、(9-乙基-6-硝基-9H-咔唑-3-基)[4-(2-甲氧基-1-甲基乙氧基)-2-甲基苯基]甲酮O-乙酰肟、2-(苯甲酰基氧基亚氨基)-1-[4-(苯基硫基)苯基]-1-辛酮、2,4,6-三甲基苯甲酰基二苯基氧化膦、4-苯甲酰基-4’-甲基二甲基硫醚、4-二甲基氨基苯甲酸、4-二甲基氨基苯甲酸甲酯、4-二甲基氨基苯甲酸乙酯、4-二甲基氨基苯甲酸丁酯、4-二甲基氨基-2-乙基己基苯甲酸、4-二甲基氨基-2-异戊基苯甲酸、苯偶酰-β-甲氧基乙基缩醛、苯偶酰二甲基缩酮、1-苯基-1,2-丙二酮-2-(O-乙氧基羰基)肟、邻苯甲酰基苯甲酸甲酯、2,4-二乙基噻吨酮、2-氯噻吨酮、2,4-二甲基噻吨酮、1-氯-4-丙氧基噻吨酮、噻吨、2-氯噻吨、2,4-二乙基噻吨、2-甲基噻吨、2-异丙基噻吨、2-乙基蒽醌、八甲基蒽醌、1,2-苯并蒽醌、2,3-二苯基蒽醌、偶氮双异丁腈、过氧化苯甲酰、过氧化氢异丙苯、2-巯基苯并咪唑、2-巯基苯并噁唑、2-巯基苯并噻唑、2-(邻氯苯基)-4,5-二(间甲氧基苯基)-咪唑基二聚体、二苯甲酮、2-氯二苯甲酮、4,4’-双二甲基氨基二苯甲酮、4,4’-双二乙基氨基二苯甲酮、4,4’-二氯二苯甲酮、3,3-二甲基-4-甲氧基二苯甲酮、苄基、苯偶姻、苯偶姻甲基醚、苯偶姻乙基醚、苯偶姻异丙基醚、苯偶姻正丁基醚、苯偶姻异丁基醚、苯偶姻丁基醚、苯乙酮、2,2-二乙氧基苯乙酮、对二甲基苯乙酮、对二甲基氨基苯丙酮、二氯苯乙酮、三氯苯乙酮、对叔丁基苯乙酮、对二甲基氨基苯乙酮、对叔丁基三氯苯乙酮、对叔丁基二氯苯乙酮、α,α-二氯-4-苯氧基苯乙酮、噻吨酮、2-甲基噻吨酮、2-异丙基噻吨酮、二苯并环庚酮(dibenzosuberone)、4-二甲基氨基苯甲酸戊酯、9-苯基吖啶、1,7-双-(9-吖啶基)庚烷、1,5-双-(9-吖啶基)戊烷、1,3-双-(9-吖啶基)丙烷、对甲氧基三嗪、2,4,6-三(三氯甲基)均三嗪、2-甲基-4,6-双(三氯甲基)均三嗪、2-[2-(5-甲基呋喃-2-基)乙烯基]-4,6-双(三氯甲基)均三嗪、2-[2-(呋喃-2-基)乙烯基]-4,6-双(三氯甲基)均三嗪、2-[2-(4-二乙基氨基-2-甲基苯基)乙烯基]-4,6-双(三氯甲基)均三嗪、2-[2-(3,4-二甲氧基苯基)乙烯基]-4,6-双(三氯甲基)均三嗪、2-(4-甲氧基苯基)-4,6-双(三氯甲基)均三嗪、2-(4-乙氧基苯乙烯基)-4,6-双(三氯甲基)均三嗪、2-(4-正丁氧基苯基)-4,6-双(三氯甲基)均三嗪、2,4-双三氯甲基-6-(3-溴-4-甲氧基)苯基均三嗪、2,4-双三氯甲基-6-(2-溴-4-甲氧基)苯基均三嗪、2,4-双三氯甲基-6-(3-溴-4-甲氧基)苯乙烯基苯基均三嗪、2,4-双三氯甲基-6-(2-溴-4-甲氧基)苯乙烯基苯基均三嗪等。这些聚合引发剂可单独使用或组合2种以上而使用。
这些中,从敏感度方面考虑,特别优选使用肟系的聚合引发剂。在这些肟系的聚合引发剂中,作为特别优选的引发剂,可举出O-乙酰基-1-[6-(2-甲基苯甲酰基)-9-乙基-9H-咔唑-3-基]乙酮肟、1-[9-乙基-6-(吡咯-2-基羰基)-9H-咔唑-3-基]乙酮-1-(O-乙酰基肟)、及2-(苯甲酰基氧基亚氨基)-1-[4-(苯基硫基)苯基]-1-辛酮。
另外,聚合性基团为含环氧基的有机基团时,也可使用碘鎓盐、锍盐等感光性的阳离子聚合引发剂作为聚合引发剂(C)。
作为聚合引发剂(C),另外还优选使用下述式(c1)表示的肟系化合物。
[化学式26]
(Rc1为选自由1价的有机基团、氨基、卤素、硝基、及氰基组成的组中的基团,
n1为0~4的整数,
n2为0或1,
Rc2为可以具有取代基的苯基、或可以具有取代基的咔唑基,
Rc3为氢原子或碳原子数1~6的烷基。)
式(c1)中,Rc1在不妨碍本发明的目的的范围内没有特别限制,可从各种有机基团中适当选择。作为Rc1为有机基团时的优选例,可举出烷基、烷氧基、环烷基、环烷氧基、饱和脂肪族酰基、饱和脂肪族酰基氧基、烷氧基羰基、可以具有取代基的苯基、可以具有取代基的苯氧基、可以具有取代基的苯甲酰基、可以具有取代基的苯氧基羰基、可以具有取代基的苯甲酰基氧基、可以具有取代基的苯基烷基、可以具有取代基的萘基、可以具有取代基的萘氧基、可以具有取代基的萘甲酰基、可以具有取代基的萘氧基羰基、可以具有取代基的萘甲酰基氧基、可以具有取代基的萘基烷基、可以具有取代基的杂环基、氨基、被1个或2个有机基团取代的氨基、吗啉-1-基、及哌嗪-1-基、卤素、硝基、及氰基等。n1为2~4的整数时,Rc1可以相同也可以不同。另外,取代基的碳原子数不包含取代基进一步所具有的取代基的碳原子数。
Rc1为烷基时,碳原子数优选为1~20,碳原子数更优选为1~6。另外,Rc1为烷基时,可以为直链,也可以为支链。作为Rc1为烷基时的具体例,可举出甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、仲丁基、叔丁基、正戊基、异戊基、仲戊基、叔戊基、正己基、正庚基、正辛基、异辛基、仲辛基、叔辛基、正壬基、异壬基、正癸基、及异癸基等。另外,Rc1为烷基时,烷基可在碳链中包含醚键(-O-)。作为在碳链中具有醚键的烷基的例子,可举出甲氧基乙基、乙氧基乙基、甲氧基乙氧基乙基、乙氧基乙氧基乙基、丙基氧基乙氧基乙基、及甲氧基丙基等。
Rc1为烷氧基时,碳原子数优选为1~20,碳原子数更优选为1~6。另外,Rc1为烷氧基时,可以为直链,也可以为支链。作为Rc1为烷氧基时的具体例,可举出甲氧基、乙氧基、正丙基氧基、异丙基氧基、正丁基氧基、异丁基氧基、仲丁基氧基、叔丁基氧基、正戊基氧基、异戊基氧基、仲戊基氧基、叔戊基氧基、正己基氧基、正庚基氧基、正辛基氧基、异辛基氧基、仲辛基氧基、叔辛基氧基、正壬基氧基、异壬基氧基、正癸基氧基、及异癸基氧基等。另外,Rc1为烷氧基时,烷氧基可在碳链中包含醚键(-O-)。作为在碳链中具有醚键的烷氧基的例子,可举出甲氧基乙氧基、乙氧基乙氧基、甲氧基乙氧基乙氧基、乙氧基乙氧基乙氧基、丙基氧基乙氧基乙氧基、及甲氧基丙基氧基等。
Rc1为环烷基或环烷氧基时,碳原子数优选为3~10,碳原子数更优选为3~6。作为Rc1为环烷基时的具体例,可举出环丙基、环丁基、环戊基、环己基、环庚基、及环辛基等。作为Rc1为环烷氧基时的具体例,可举出环丙基氧基、环丁基氧基、环戊基氧基、环己基氧基、环庚基氧基、及环辛基氧基等。
Rc1为饱和脂肪族酰基或饱和脂肪族酰基氧基时,碳原子数优选为2~20,碳原子数更优选为2~7。作为Rc1为饱和脂肪族酰基时的具体例,可举出乙酰基、丙酰基、正丁酰基、2-甲基丙酰基、正戊酰基、2,2-二甲基丙酰基、正己酰基、正庚酰基、正辛酰基、正壬酰基、正癸酰基、正十一烷酰基、正十二烷酰基、正十三烷酰基、正十四烷酰基、正十五烷酰基、及正十六烷酰基等。作为Rc1为饱和脂肪族酰基氧基时的具体例,可举出乙酰基氧基、丙酰基氧基、正丁酰基氧基、2-甲基丙酰基氧基、正戊酰基氧基、2,2-二甲基丙酰基氧基、正己酰基氧基、正庚酰基氧基、正辛酰基氧基、正壬酰基氧基、正癸酰基氧基、正十一烷酰基氧基、正十二烷酰基氧基、正十三烷酰基氧基、正十四烷酰基氧基、正十五烷酰基氧基、及正十六烷酰基氧基等。
Rc1为烷氧基羰基时,碳原子数优选为2~20,碳原子数更优选为2~7。作为Rc1为烷氧基羰基时的具体例,可举出甲氧基羰基、乙氧基羰基、正丙基氧基羰基、异丙基氧基羰基、正丁基氧基羰基、异丁基氧基羰基、仲丁基氧基羰基、叔丁基氧基羰基、正戊基氧基羰基、异戊基氧基羰基、仲戊基氧基羰基、叔戊基氧基羰基、正己基氧基羰基、正庚基氧基羰基、正辛基氧基羰基、异辛基氧基羰基、仲辛基氧基羰基、叔辛基氧基羰基、正壬基氧基羰基、异壬基氧基羰基、正癸基氧基羰基、及异癸基氧基羰基等。
Rc1为苯基烷基时,碳原子数优选为7~20,碳原子数更优选为7~10。另外,Rc1为萘基烷基时,碳原子数优选为11~20,碳原子数更优选为11~14。作为Rc1为苯基烷基时的具体例,可举出苄基、2-苯基乙基、3-苯基丙基、及4-苯基丁基。作为Rc1为萘基烷基时的具体例,可举出α-萘基甲基、β-萘基甲基、2-(α-萘基)乙基、及2-(β-萘基)乙基。Rc1为苯基烷基、或萘基烷基时,Rc1可在苯基、或萘基上进一步具有取代基。
Rc1为杂环基时,杂环基为包含1个以上N、S、O的五元或六元的单环、或为所述单环彼此稠合、或所述单环与苯环稠合而成的杂环基。杂环基为稠环时,环数为3以下。作为构成所述杂环基的杂环,可举出呋喃、噻吩、吡咯、噁唑、异噁唑、噻唑、噻二唑、异噻唑、咪唑、吡唑、三唑、吡啶、吡嗪、嘧啶、哒嗪、苯并呋喃、苯并噻吩、吲哚、异吲哚、吲哚嗪、苯并咪唑、苯并三唑、苯并噁唑、苯并噻唑、咔唑、嘌呤、喹啉、异喹啉、喹唑啉、酞嗪、噌啉、及喹喔啉等。Rc1为杂环基时,杂环基可以进一步具有取代基。
Rc1为被1个或2个有机基团取代的氨基时,关于有机基团的优选例,可举出碳原子数1~20的烷基、碳原子数3~10的环烷基、碳原子数2~20的饱和脂肪族酰基、可以具有取代基的苯基、可以具有取代基的苯甲酰基、可以具有取代基的碳原子数7~20的苯基烷基、可以具有取代基的萘基、可以具有取代基的萘甲酰基、可以具有取代基的碳原子数11~20的萘基烷基、及杂环基等。这些优选的有机基团的具体例与Rc1同样。作为被1个或2个有机基团取代的氨基的具体例,可举出甲基氨基、乙基氨基、二乙基氨基、正丙基氨基、二正丙基氨基、异丙基氨基、正丁基氨基、二正丁基氨基、正戊基氨基、正己基氨基、正庚基氨基、正辛基氨基、正壬基氨基、正癸基氨基、苯基氨基、萘基氨基、乙酰基氨基、丙酰基氨基、正丁酰基氨基、正戊酰基氨基、正己酰基氨基、正庚酰基氨基、正辛酰基氨基、正癸酰基氨基、苯甲酰基氨基、α-萘甲酰基氨基、及β-萘甲酰基氨基等。
作为Rc1中包含的苯基、萘基、及杂环基进一步具有取代基时的取代基,可举出碳原子数1~6的烷基、碳原子数1~6的烷氧基、碳原子数2~7的饱和脂肪族酰基、碳原子数2~7的烷氧基羰基、碳原子数2~7的饱和脂肪族酰基氧基、具有碳原子数1~6的烷基的单烷基氨基、具有碳原子数1~6的烷基的二烷基氨基、吗啉-1-基、哌嗪-1-基、卤素、硝基、及氰基等。Rc1中包含的苯基、萘基、及杂环基进一步具有取代基时,其取代基的个数在不妨碍本发明的目的的范围内没有限制,优选为1~4。Rc1中包含的苯基、萘基、及杂环基具有多个取代基时,多个取代基可以相同也可以不同。
Rc1中,从化学稳定、空间位阻小、容易合成肟酯化合物等方面考虑,优选选自由碳原子数1~6的烷基、碳原子数1~6的烷氧基、及碳原子数2~7的饱和脂肪族酰基组成的组中的基团,更优选碳原子数1~6的烷基,特别优选甲基。
针对Rc1在苯基上键合的位置,在将苯基与肟酯化合物的主骨架的化学键的位置作为1位,将甲基的位置作为2位时,Rc1在苯基上键合的位置优选为4位或5位,更优选为5位。另外,n1优选为0~3的整数,更优选为0~2的整数,特别优选为0或1。
Rc2为可以具有取代基的苯基、或可以具有取代基的咔唑基。另外,Rc2为可以具有取代基的咔唑基时,咔唑基上的氮原子可被碳原子数1~6的烷基取代。
Rc2中,苯基、或咔唑基所具有的取代基在不妨碍本发明的目的的范围内没有特别限制。作为苯基、或咔唑基可以在碳原子上具有的优选的取代基的例子,可举出碳原子数1~20的烷基、碳原子数1~20的烷氧基、碳原子数3~10的环烷基、碳原子数3~10的环烷氧基、碳原子数2~20的饱和脂肪族酰基、碳原子数2~20的烷氧基羰基、碳原子数2~20的饱和脂肪族酰基氧基、可以具有取代基的苯基、可以具有取代基的苯氧基、可以具有取代基的苯基硫基、可以具有取代基的苯甲酰基、可以具有取代基的苯氧基羰基、可以具有取代基的苯甲酰基氧基、可以具有取代基的碳原子数7~20的苯基烷基、可以具有取代基的萘基、可以具有取代基的萘氧基、可以具有取代基的萘甲酰基、可以具有取代基的萘氧基羰基、可以具有取代基的萘甲酰基氧基、可以具有取代基的碳原子数11~20的萘基烷基、可以具有取代基的杂环基、可以具有取代基的杂环基羰基、氨基、被1个或2个有机基团取代的氨基、吗啉-1-基、及哌嗪-1-基、卤素、硝基、及氰基等。
Rc2为咔唑基时,作为咔唑基可以在氮原子上具有的优选的取代基的例子,可举出碳原子数1~20的烷基、碳原子数3~10的环烷基、碳原子数2~20的饱和脂肪族酰基、碳原子数2~20的烷氧基羰基、可以具有取代基的苯基、可以具有取代基的苯甲酰基、可以具有取代基的苯氧基羰基、可以具有取代基的碳原子数7~20的苯基烷基、可以具有取代基的萘基、可以具有取代基的萘甲酰基、可以具有取代基的萘氧基羰基、可以具有取代基的碳原子数11~20的萘基烷基、可以具有取代基的杂环基、及可以具有取代基的杂环基羰基等。这些取代基中,优选碳原子数1~20的烷基,更优选碳原子数1~6的烷基,特别优选乙基。
对于苯基、或咔唑基可以具有的取代基的具体例,关于烷基、烷氧基、环烷基、环烷氧基、饱和脂肪族酰基、烷氧基羰基、饱和脂肪族酰基氧基、可以具有取代基的苯基烷基、可以具有取代基的萘基烷基、可以具有取代基的杂环基、及被1个或2个有机基团取代的氨基,与Rc1同样。
Rc2中,作为苯基、或咔唑基所具有的取代基中包含的苯基、萘基、及杂环基进一步具有取代基时的取代基的例子,可举出碳原子数1~6的烷基;碳原子数1~6的烷氧基;碳原子数2~7的饱和脂肪族酰基;碳原子数2~7的烷氧基羰基;碳原子数2~7的饱和脂肪族酰基氧基;苯基;萘基;苯甲酰基;萘甲酰基;被选自由碳原子数1~6的烷基、吗啉-1-基、哌嗪-1-基、及苯基组成的组中的基团取代的苯甲酰基;具有碳原子数1~6的烷基的单烷基氨基;具有碳原子数1~6的烷基的二烷基氨基;吗啉-1-基;哌嗪-1-基;卤素;硝基;氰基。苯基、或咔唑基所具有的取代基中包含的苯基、萘基、及杂环基进一步具有取代基时,其取代基的个数在不妨碍本发明的目的的范围内没有限制,优选为1~4。苯基、萘基、及杂环基具有多个取代基时,多个取代基可以相同也可以不同。
Rc2中,从容易得到敏感度优异的聚合引发剂方面考虑,优选下述式(c2)或(c3)表示的基团,更优选下述式(c2)表示的基团,特别优选A为S的下述式(c2)表示的基团。
[化学式27]
(Rc4为选自由1价的有机基团、氨基、卤素、硝基、及氰基组成的组中的基团,A为S或O,n3为0~4的整数。)
[化学式28]
(Rc5和Rc6分别为1价的有机基团。)
式(c2)中的Rc4为有机基团时,可在不妨碍本发明的目的的范围内从各种有机基团中选择。作为式(c2)中Rc4为有机基团时的优选例,可举出碳原子数1~6的烷基;碳原子数1~6的烷氧基;碳原子数2~7的饱和脂肪族酰基;碳原子数2~7的烷氧基羰基;碳原子数2~7的饱和脂肪族酰基氧基;苯基;萘基;苯甲酰基;萘甲酰基;被选自由碳原子数1~6的烷基、吗啉-1-基、哌嗪-1-基、及苯基组成的组中的基团取代的苯甲酰基;具有碳原子数1~6的烷基的单烷基氨基;具有碳原子数1~6的烷基的二烷基氨基;吗啉-1-基;哌嗪-1-基;卤素;硝基;氰基。
Rc4中,优选苯甲酰基;萘甲酰基;被选自由碳原子数1~6的烷基、吗啉-1-基、哌嗪-1-基、及苯基组成的组中的基团取代的苯甲酰基;硝基,更优选苯甲酰基;萘甲酰基;2-甲基苯基羰基;4-(哌嗪-1-基)苯基羰基;4-(苯基)苯基羰基。
另外,式(c2)中,n3优选为0~3的整数,更优选为0~2的整数,特别优选为0或1。n3为1时,Rc4键合的位置优选相对于Rc4所键合的苯基与氧原子或硫原子键合的化学键而言为对位。
式(c3)中的Rc5可在不妨碍本发明的目的的范围内从各种有机基团中选择。作为Rc5的优选例,可举出碳原子数1~20的烷基、碳原子数3~10的环烷基、碳原子数2~20的饱和脂肪族酰基、碳原子数2~20的烷氧基羰基、可以具有取代基的苯基、可以具有取代基的苯甲酰基、可以具有取代基的苯氧基羰基、可以具有取代基的碳原子数7~20的苯基烷基、可以具有取代基的萘基、可以具有取代基的萘甲酰基、可以具有取代基的萘氧基羰基、可以具有取代基的碳原子数11~20的萘基烷基、可以具有取代基的杂环基、及可以具有取代基的杂环基羰基等。
Rc5中,优选碳原子数1~20的烷基,更优选碳原子数1~6的烷基,特别优选乙基。
式(c3)中的Rc6在不妨碍本发明的目的的范围内没有特别限制,可从各种有机基团中选择。关于作为Rc6的优选基团的具体例,可举出碳原子数1~20的烷基、可以具有取代基的苯基、可以具有取代基的萘基、及可以具有取代基的杂环基。在这些基团中,作为Rc6,更优选可以具有取代基的苯基,特别优选2-甲基苯基。
作为Rc4、Rc5、或Rc6中包含的苯基、萘基、及杂环基进一步具有取代基时的取代基,可举出碳原子数1~6的烷基、碳原子数1~6的烷氧基、碳原子数2~7的饱和脂肪族酰基、碳原子数2~7的烷氧基羰基、碳原子数2~7的饱和脂肪族酰基氧基、具有碳原子数1~6的烷基的单烷基氨基、具有碳原子数1~6的烷基的二烷基氨基、吗啉-1-基、哌嗪-1-基、卤素、硝基、及氰基等。Rc4、Rc5、或Rc6中包含的苯基、萘基、及杂环基进一步具有取代基时,其取代基的个数在不妨碍本发明的目的的范围内没有限制,优选为1~4。Rc4、Rc5、或Rc6中包含的苯基、萘基、及杂环基具有多个取代基时,多个取代基可以相同也可以不同。
式(c1)中的Rc3为氢原子或碳原子数1~6的烷基。作为Rc3,优选甲基或乙基,更优选甲基。
式(c1)表示的肟酯化合物中,作为特别优选的化合物,可举出下述的PI-1~PI-42。
[化学式29]
[化学式30]
[化学式31]
[化学式32]
[化学式33]
[化学式34]
另外,作为聚合引发剂(C),也优选下述式(c4)表示的肟酯化合物。
[化学式35]
(Rc7为氢原子、硝基或1价的有机基团,Rc8和Rc9各自为可以具有取代基的链状烷基、可以具有取代基的环状有机基团、或氢原子,Rc8与Rc9可以相互键合而形成环,Rc10为1价的有机基团,Rc11为氢原子、可以具有取代基的碳原子数1~11的烷基、或可以具有取代基的芳基,n4为0~4的整数,n5为0或1。)
此处,作为用于制造式(c4)的肟酯化合物的肟化合物,优选下式(c5)表示的化合物。
[化学式36]
(Rc7、Rc8、Rc9、Rc10、n4、及n5与式(c4)同样。)
式(c4)及(c5)中,Rc7为氢原子、硝基或1价的有机基团。Rc7在式(c4)中的芴环上键合于与-(CO)n5-表示的基团所键合的六元芳香环不同的六元芳香环。式(c4)中,Rc7相对于芴环的键合位置没有特别限制。式(c4)表示的化合物具有1个以上Rc7时,从容易合成式(c4)表示的化合物等方面考虑,优选1个以上的Rc7中的1个键合于芴环中的2位。Rc7为多个时,多个Rc7可以相同也可以不同。
Rc7为有机基团时,Rc7在不妨碍本发明的目的的范围内没有特别限制,可从各种有机基团中适当选择。作为Rc7为有机基团时的优选例,可举出烷基、烷氧基、环烷基、环烷氧基、饱和脂肪族酰基、饱和脂肪族酰基氧基、烷氧基羰基、可以具有取代基的苯基、可以具有取代基的苯氧基、可以具有取代基的苯甲酰基、可以具有取代基的苯氧基羰基、可以具有取代基的苯甲酰基氧基、可以具有取代基的苯基烷基、可以具有取代基的萘基、可以具有取代基的萘氧基、可以具有取代基的萘甲酰基、可以具有取代基的萘氧基羰基、可以具有取代基的萘甲酰基氧基、可以具有取代基的萘基烷基、可以具有取代基的杂环基、可以具有取代基的杂环基羰基、被1个或2个有机基团取代的氨基、吗啉-1-基、及哌嗪-1-基等。
Rc7为烷基时,烷基的碳原子数优选为1~20,更优选为1~6。另外,Rc7为烷基时,可以为直链,也可以为支链。作为Rc7为烷基时的具体例,可举出甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、仲丁基、叔丁基、正戊基、异戊基、仲戊基、叔戊基、正己基、正庚基、正辛基、异辛基、仲辛基、叔辛基、正壬基、异壬基、正癸基、及异癸基等。另外,Rc7为烷基时,烷基可在碳链中包含醚键(-O-)。作为在碳链中具有醚键的烷基的例子,可举出甲氧基乙基、乙氧基乙基、甲氧基乙氧基乙基、乙氧基乙氧基乙基、丙基氧基乙氧基乙基、及甲氧基丙基等。
Rc7为烷氧基时,烷氧基的碳原子数优选为1~20,更优选为1~6。另外,Rc7为烷氧基时,可以为直链,也可以为支链。作为Rc7为烷氧基时的具体例,可举出甲氧基、乙氧基、正丙基氧基、异丙基氧基、正丁基氧基、异丁基氧基、仲丁基氧基、叔丁基氧基、正戊基氧基、异戊基氧基、仲戊基氧基、叔戊基氧基、正己基氧基、正庚基氧基、正辛基氧基、异辛基氧基、仲辛基氧基、叔辛基氧基、正壬基氧基、异壬基氧基、正癸基氧基、及异癸基氧基等。另外,Rc7为烷氧基时,烷氧基可在碳链中包含醚键(-O-)。作为在碳链中具有醚键的烷氧基的例子,可举出甲氧基乙氧基、乙氧基乙氧基、甲氧基乙氧基乙氧基、乙氧基乙氧基乙氧基、丙基氧基乙氧基乙氧基、及甲氧基丙基氧基等。
Rc7为环烷基或环烷氧基时,环烷基或环烷氧基的碳原子数优选为3~10,更优选为3~6。作为Rc7为环烷基时的具体例,可举出环丙基、环丁基、环戊基、环己基、环庚基、及环辛基等。作为Rc7为环烷氧基时的具体例,可举出环丙基氧基、环丁基氧基、环戊基氧基、环己基氧基、环庚基氧基、及环辛基氧基等。
Rc7为饱和脂肪族酰基或饱和脂肪族酰基氧基时,饱和脂肪族酰基或饱和脂肪族酰基氧基的碳原子数优选为2~21,更优选为2~7。作为Rc7为饱和脂肪族酰基时的具体例,可举出乙酰基、丙酰基、正丁酰基、2-甲基丙酰基、正戊酰基、2,2-二甲基丙酰基、正己酰基、正庚酰基、正辛酰基、正壬酰基、正癸酰基、正十一烷酰基、正十二烷酰基、正十三烷酰基、正十四烷酰基、正十五烷酰基、及正十六烷酰基等。作为Rc7为饱和脂肪族酰基氧基时的具体例,可举出乙酰基氧基、丙酰基氧基、正丁酰基氧基、2-甲基丙酰基氧基、正戊酰基氧基、2,2-二甲基丙酰基氧基、正己酰基氧基、正庚酰基氧基、正辛酰基氧基、正壬酰基氧基、正癸酰基氧基、正十一烷酰基氧基、正十二烷酰基氧基、正十三烷酰基氧基、正十四烷酰基氧基、正十五烷酰基氧基、及正十六烷酰基氧基等。
Rc7为烷氧基羰基时,烷氧基羰基的碳原子数优选为2~20,更优选为2~7。作为Rc7为烷氧基羰基时的具体例,可举出甲氧基羰基、乙氧基羰基、正丙基氧基羰基、异丙基氧基羰基、正丁基氧基羰基、异丁基氧基羰基、仲丁基氧基羰基、叔丁基氧基羰基、正戊基氧基羰基、异戊基氧基羰基、仲戊基氧基羰基、叔戊基氧基羰基、正己基氧基羰基、正庚基氧基羰基、正辛基氧基羰基、异辛基氧基羰基、仲辛基氧基羰基、叔辛基氧基羰基、正壬基氧基羰基、异壬基氧基羰基、正癸基氧基羰基、及异癸基氧基羰基等。
Rc7为苯基烷基时,苯基烷基的碳原子数优选为7~20,更优选为7~10。另外,Rc7为萘基烷基时,萘基烷基的碳原子数优选为11~20,更优选为11~14。作为Rc7为苯基烷基时的具体例,可举出苄基、2-苯基乙基、3-苯基丙基、及4-苯基丁基。作为Rc7为萘基烷基时的具体例,可举出α-萘基甲基、β-萘基甲基、2-(α-萘基)乙基、及2-(β-萘基)乙基。Rc7为苯基烷基或萘基烷基时,Rc7可在苯基或萘基上进一步具有取代基。
Rc7为杂环基时,杂环基为包含1个以上的N、S、O的五元或六元的单环、或为所述单环彼此稠合、或所述单环与苯环稠合而成的杂环基。杂环基为稠环时,环数为3以下。杂环基可以是芳香族基团(杂芳基),也可以是非芳香族基团。作为构成所述杂环基的杂环,可举出呋喃、噻吩、吡咯、噁唑、异噁唑、噻唑、噻二唑、异噻唑、咪唑、吡唑、三唑、吡啶、吡嗪、嘧啶、哒嗪、苯并呋喃、苯并噻吩、吲哚、异吲哚、吲哚嗪、苯并咪唑、苯并三唑、苯并噁唑、苯并噻唑、咔唑、嘌呤、喹啉、异喹啉、喹唑啉、酞嗪、噌啉、喹喔啉、哌啶、哌嗪、吗啉、哌啶、四氢吡喃、及四氢呋喃等。Rc7为杂环基时,杂环基可以进一步具有取代基。
Rc7为杂环基羰基时,杂环基羰基中包含的杂环基与Rc7为杂环基的情况同样。
Rc7为被1个或2个有机基团取代的氨基时,关于有机基团的优选例,可举出碳原子数1~20的烷基、碳原子数3~10的环烷基、碳原子数2~21的饱和脂肪族酰基、可以具有取代基的苯基、可以具有取代基的苯甲酰基、可以具有取代基的碳原子数7~20的苯基烷基、可以具有取代基的萘基、可以具有取代基的萘甲酰基、可以具有取代基的碳原子数11~20的萘基烷基、及杂环基等。这些优选的有机基团的具体例与Rc7同样。作为被1个或2个有机基团取代的氨基的具体例,可举出甲基氨基、乙基氨基、二乙基氨基、正丙基氨基、二正丙基氨基、异丙基氨基、正丁基氨基、二正丁基氨基、正戊基氨基、正己基氨基、正庚基氨基、正辛基氨基、正壬基氨基、正癸基氨基、苯基氨基、萘基氨基、乙酰基氨基、丙酰基氨基、正丁酰基氨基、正戊酰基氨基、正己酰基氨基、正庚酰基氨基、正辛酰基氨基、正癸酰基氨基、苯甲酰基氨基、α-萘甲酰基氨基、及β-萘甲酰基氨基等。
作为Rc7中包含的苯基、萘基、及杂环基进一步具有取代基时的取代基,可举出碳原子数1~6的烷基、碳原子数1~6的烷氧基、碳原子数2~7的饱和脂肪族酰基、碳原子数2~7的烷氧基羰基、碳原子数2~7的饱和脂肪族酰基氧基、具有碳原子数1~6的烷基的单烷基氨基、具有碳原子数1~6的烷基的二烷基氨基、吗啉-1-基、哌嗪-1-基、卤素、硝基、及氰基等。Rc7中包含的苯基、萘基、及杂环基进一步具有取代基时,其取代基的个数在不妨碍本发明的目的的范围内没有限制,优选为1~4。Rc7中包含的苯基、萘基、及杂环基具有多个取代基时,多个取代基可以相同也可以不同。
上文中说明的基团中,作为Rc7,为硝基或Rc12-CO-表示的基团时,存在敏感度提高的倾向,是优选的。Rc12在不妨碍本发明的目的的范围内没有特别限制,可从各种有机基团中选择。关于作为Rc12的优选基团的例子,可举出碳原子数1~20的烷基、可以具有取代基的苯基、可以具有取代基的萘基、及可以具有取代基的杂环基。这些基团中,作为Rc12,特别优选2-甲基苯基、噻吩-2-基、及α-萘基。
另外,Rc7为氢原子时,存在透明性变得良好的倾向,是优选的。需要说明的是,Rc7为氢原子并且Rc10为后述的式(c4a)或(c4b)表示的基团时,存在透明性变得更良好的倾向。
式(c4)中,Rc8和Rc9各自为可以具有取代基的链状烷基、可以具有取代基的环状有机基团、或氢原子。Rc8与Rc9可以相互键合而形成环。这些基团中,作为Rc8和Rc9,优选可以具有取代基的链状烷基。Rc8和Rc9为可以具有取代基的链状烷基时,链状烷基可以为直链烷基,也可以为支链烷基。
Rc8和Rc9为不具有取代基的链状烷基时,链状烷基的碳原子数优选为1~20,更优选为1~10,特别优选为1~6。作为Rc8和Rc9为链状烷基时的具体例,可举出甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、仲丁基、叔丁基、正戊基、异戊基、仲戊基、叔戊基、正己基、正庚基、正辛基、异辛基、仲辛基、叔辛基、正壬基、异壬基、正癸基、及异癸基等。另外,Rc8和Rc9为烷基时,烷基可在碳链中包含醚键(-O-)。作为在碳链中具有醚键的烷基的例子,可举出甲氧基乙基、乙氧基乙基、甲氧基乙氧基乙基、乙氧基乙氧基乙基、丙基氧基乙氧基乙基、及甲氧基丙基等。
Rc8和Rc9为具有取代基的链状烷基时,链状烷基的碳原子数优选为1~20,更优选为1~10,特别优选为1~6。这种情况下,链状烷基的碳原子数不包含取代基的碳原子数。具有取代基的链状烷基优选为直链状。
烷基可以具有的取代基在不妨碍本发明的目的的范围内没有特别限制。作为取代基的优选例,可举出氰基、卤素原子、环状有机基团、及烷氧基羰基。作为卤素原子,可举出氟原子、氯原子、溴原子、碘原子。这些中,优选氟原子、氯原子、溴原子。作为环状有机基团,可举出环烷基、芳香族烃基、杂环基。作为环烷基的具体例,与Rc7为环烷基时的优选例同样。作为芳香族烃基的具体例,可举出苯基、萘基、联苯基、蒽基、及菲基等。作为杂环基的具体例,与Rc7为杂环基时的优选例同样。Rc7为烷氧基羰基时,烷氧基羰基中包含的烷氧基可以为直链状,也可以为支链状,优选为直链状。烷氧基羰基中包含的烷氧基的碳原子数优选为1~10,更优选为1~6。
链状烷基具有取代基时,取代基的个数没有特别限制。优选的取代基的个数根据链状烷基的碳原子数而改变。关于取代基的个数,典型地,为1~20,优选为1~10,更优选为1~6。
Rc8和Rc9为环状有机基团时,环状有机基团可以为脂环式基,也可以为芳香族基团。作为环状有机基团,可举出脂肪族环状烃基、芳香族烃基、杂环基。Rc8和Rc9为环状有机基团时,环状有机基团可以具有的取代基与Rc8和Rc9为链状烷基的情况同样。
Rc8和Rc9为芳香族烃基时,芳香族烃基优选为:苯基、或多个苯环经由碳-碳键键合而形成的基团、或多个苯环稠合而形成的基团。芳香族烃基为苯基、或多个苯环键合或稠合而形成的基团时,芳香族烃基中包含的苯环的环数没有特别限制,优选为3以下,更优选为2以下,特别优选为1。作为芳香族烃基的优选的具体例,可举出苯基、萘基、联苯基、蒽基、及菲基等。
Rc8和Rc9为脂肪族环状烃基时,脂肪族环状烃基可以为单环式也可以为多环式。脂肪族环状烃基的碳原子数没有特别限制,优选为3~20,更优选为3~10。作为单环式的环状烃基的例子,可举出环丙基、环丁基、环戊基、环己基、环庚基、环辛基、降冰片基、异冰片基、三环壬基、三环癸基、四环十二烷基、及金刚烷基等。
Rc8和Rc9为杂环基时,杂环基为包含1个以上的N、S、O的五元或六元的单环、或为所述单环彼此稠合、或所述单环与苯环稠合而成的杂环基。杂环基为稠环时,环数为3以下。杂环基可以为芳香族基团(杂芳基),也可以为非芳香族基团。作为构成所述杂环基的杂环,可举出呋喃、噻吩、吡咯、噁唑、异噁唑、噻唑、噻二唑、异噻唑、咪唑、吡唑、三唑、吡啶、吡嗪、嘧啶、哒嗪、苯并呋喃、苯并噻吩、吲哚、异吲哚、吲哚嗪、苯并咪唑、苯并三唑、苯并噁唑、苯并噻唑、咔唑、嘌呤、喹啉、异喹啉、喹唑啉、酞嗪、噌啉、喹喔啉、哌啶、哌嗪、吗啉、哌啶、四氢吡喃、及四氢呋喃等。
Rc8与Rc9可以相互键合而形成环。由Rc8与Rc9所形成的环构成的基团优选为亚环烷基(cycloalkylidene)。Rc8与Rc9键合而形成亚环烷基时,构成亚环烷基的环优选为五元环~六元环,更优选为五元环。
Rc8与Rc9键合而形成的基团为亚环烷基时,亚环烷基可与1个以上其他环稠合。作为可与亚环烷基稠合的环的例子,可举出苯环、萘环、环丁烷环、环戊烷环、环己烷环、环庚烷环、环辛烷环、呋喃环、噻吩环、吡咯环、吡啶环、吡嗪环、及嘧啶环等。
上文中说明的Rc8和Rc9中,作为优选的基团的例子,可举出式-A1-A2表示的基团。式中,可举出:A1为直链亚烷基,A2为烷氧基、氰基、卤素原子、卤代烷基、环状有机基团、或烷氧基羰基。
A1的直链亚烷基的碳原子数优选为1~10,更优选为1~6。A2为烷氧基时,烷氧基可以为直链状,也可以为支链状,优选为直链状。烷氧基的碳原子数优选为1~10,更优选为1~6。A2为卤素原子时,优选为氟原子、氯原子、溴原子、碘原子,更优选为氟原子、氯原子、溴原子。A2为卤代烷基时,卤代烷基中包含的卤素原子优选为氟原子、氯原子、溴原子、碘原子,更优选为氟原子、氯原子、溴原子。卤代烷基可以为直链状,也可以为支链状,优选为直链状。A2为环状有机基团时,环状有机基团的例子与Rc8和Rc9作为取代基而具有的环状有机基团同样。A2为烷氧基羰基时,烷氧基羰基的例子与Rc8和Rc9作为取代基而具有的烷氧基羰基同样。
作为Rc8和Rc9的优选的具体例,可举出乙基、正丙基、正丁基、正己基、正庚基、及正辛基等烷基;2-甲氧基乙基、3-甲氧基正丙基、4-甲氧基正丁基、5-甲氧基正戊基、6-甲氧基正己基、7-甲氧基正庚基、8-甲氧基正辛基、2-乙氧基乙基、3-乙氧基正丙基、4-乙氧基正丁基、5-乙氧基正戊基、6-乙氧基正己基、7-乙氧基正庚基、及8-乙氧基正辛基等烷氧基烷基;2-氰基乙基、3-氰基正丙基、4-氰基正丁基、5-氰基正戊基、6-氰基正己基、7-氰基正庚基、及8-氰基正辛基等氰基烷基;2-苯基乙基、3-苯基正丙基、4-苯基正丁基、5-苯基正戊基、6-苯基正己基、7-苯基正庚基、及8-苯基正辛基等苯基烷基;2-环己基乙基、3-环己基正丙基、4-环己基正丁基、5-环己基正戊基、6-环己基正己基、7-环己基正庚基、8-环己基正辛基、2-环戊基乙基、3-环戊基正丙基、4-环戊基正丁基、5-环戊基正戊基、6-环戊基正己基、7-环戊基正庚基、及8-环戊基正辛基等环烷基烷基;2-甲氧基羰基乙基、3-甲氧基羰基正丙基、4-甲氧基羰基正丁基、5-甲氧基羰基正戊基、6-甲氧基羰基正己基、7-甲氧基羰基正庚基、8-甲氧基羰基正辛基、2-乙氧基羰基乙基、3-乙氧基羰基正丙基、4-乙氧基羰基正丁基、5-乙氧基羰基正戊基、6-乙氧基羰基正己基、7-乙氧基羰基正庚基、及8-乙氧基羰基正辛基等烷氧基羰基烷基;2-氯乙基、3-氯正丙基、4-氯正丁基、5-氯正戊基、6-氯正己基、7-氯正庚基、8-氯正辛基、2-溴乙基、3-溴正丙基、4-溴正丁基、5-溴正戊基、6-溴正己基、7-溴正庚基、8-溴正辛基、3,3,3-三氟丙基、及3,3,4,4,5,5,5-七氟正戊基等卤代烷基。
作为Rc8和Rc9,上述中优选的基团是乙基、正丙基、正丁基、正戊基、2-甲氧基乙基、2-氰基乙基、2-苯基乙基、2-环己基乙基、2-甲氧基羰基乙基、2-氯乙基、2-溴乙基、3,3,3-三氟丙基、及3,3,4,4,5,5,5-七氟正戊基。
作为Rc10的优选的有机基团的例子,与Rc7同样,可举出烷基、烷氧基、环烷基、环烷氧基、饱和脂肪族酰基、烷氧基羰基、饱和脂肪族酰基氧基、可以具有取代基的苯基、可以具有取代基的苯氧基、可以具有取代基的苯甲酰基、可以具有取代基的苯氧基羰基、可以具有取代基的苯甲酰基氧基、可以具有取代基的苯基烷基、可以具有取代基的萘基、可以具有取代基的萘氧基、可以具有取代基的萘甲酰基、可以具有取代基的萘氧基羰基、可以具有取代基的萘甲酰基氧基、可以具有取代基的萘基烷基、可以具有取代基的杂环基、可以具有取代基的杂环基羰基、被1个或2个有机基团取代的氨基、吗啉-1-基、及哌嗪-1-基等。这些基团的具体例与关于Rc7而进行的说明同样。另外,作为Rc10,还优选环烷基烷基、可以在芳香环上具有取代基的苯氧基烷基、可以在芳香环上具有取代基的苯基硫基烷基。苯氧基烷基、及苯基硫基烷基可以具有的取代基与Rc7中包含的苯基可以具有的取代基同样。
有机基团中,作为Rc10,优选烷基、环烷基、可以具有取代基的苯基、或环烷基烷基、可以在芳香环上具有取代基的苯基硫基烷基。作为烷基,优选碳原子数1~20的烷基,更优选碳原子数1~8的烷基,特别优选碳原子数1~4的烷基,最优选甲基。可以具有取代基的苯基中,优选甲基苯基,更优选2-甲基苯基。环烷基烷基中包含的环烷基的碳原子数优选为5~10,更优选为5~8,特别优选为5或6。环烷基烷基中包含的亚烷基的碳原子数优选为1~8,更优选为1~4,特别优选为2。环烷基烷基中,优选环戊基乙基。可以在芳香环上具有取代基的苯基硫基烷基中包含的亚烷基的碳原子数优选为1~8,更优选为1~4,特别优选为2。可以在芳香环上具有取代基的苯基硫基烷基中,优选2-(4-氯苯基硫基)乙基。
另外,作为Rc10,还优选-A3-CO-O-A4表示的基团。A3为2价的有机基团,优选为2价的烃基,优选为亚烷基。A4为1价的有机基团,优选为1价的烃基。
A3为亚烷基时,亚烷基可以为直链状,也可以为支链状,优选为直链状。A3为亚烷基时,亚烷基的碳原子数优选为1~10,更优选为1~6,特别优选为1~4。
作为A4的优选例,可举出碳原子数1~10的烷基、碳原子数7~20的芳烷基、及碳原子数6~20的芳香族烃基。作为A4的优选的具体例,可举出甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、仲丁基、叔丁基、正戊基、正己基、苯基、萘基、苄基、苯乙基、α-萘基甲基、及β-萘基甲基等。
作为-A3-CO-O-A4表示的基团的优选具体例,可举出2-甲氧基羰基乙基、2-乙氧基羰基乙基、2-正丙基氧基羰基乙基、2-正丁基氧基羰基乙基、2-正戊基氧基羰基乙基、2-正己基氧基羰基乙基、2-苄基氧基羰基乙基、2-苯氧基羰基乙基、3-甲氧基羰基正丙基、3-乙氧基羰基正丙基、3-正丙基氧基羰基正丙基、3-正丁基氧基羰基正丙基、3-正戊基氧基羰基正丙基、3-正己基氧基羰基正丙基、3-苄基氧基羰基正丙基、及3-苯氧基羰基正丙基等。
以上,对Rc10进行了说明,但作为Rc10,优选下述式(c4a)或(c4b)表示的基团。
[化学式37]
(式(c4a)及(c4b)中,Rc13和Rc14分别为有机基团,n6为0~4的整数,Rc13和R8存在于苯环上的相邻的位置时,Rc13与Rc14可以相互键合而形成环,n7为1~8的整数,n8为1~5的整数,n9为0~(n8+3)的整数,Rc15为有机基团。)
式(c4a)中的Rc13和Rc14的有机基团的例子与Rc7同样。作为Rc13,优选烷基或苯基。Rc13为烷基时,其碳原子数优选为1~10,更优选为1~5,特别优选为1~3,最优选为1。即,最优选Rc13为甲基。Rc13与Rc14键合而形成环时,该环可以为芳香族环,也可以为脂肪族环。作为Rc13与Rc14形成环时式(c4a)表示的基团的优选例,可举出萘-1-基、1,2,3,4-四氢萘-5-基等。上述式(c4a)中,n6为0~4的整数,优选为0或1,更优选为0。
上述式(c4b)中,Rc15为有机基团。作为有机基团,可举出与关于Rc7而说明的有机基团同样的基团。有机基团中,优选烷基。烷基可以为直链状,也可以为支链状。烷基的碳原子数优选为1~10,更优选为1~5,特别优选为1~3。作为Rc15,可优选例举甲基、乙基、丙基、异丙基、丁基等,这些中,更优选为甲基。
上述式(c4b)中,n8为1~5的整数,优选为1~3的整数,更优选为1或2。上述式(c4b)中,n9为0~(n8+3),优选为0~3的整数,更优选为0~2的整数,特别优选为0。上述式(c4b)中,n7为1~8的整数,优选为1~5的整数,更优选为1~3的整数,特别优选为1或2。
式(c4)中,Rc11为氢原子、可以具有取代基的碳原子数1~11的烷基、或可以具有取代基的芳基。作为Rc11为烷基时可以具有的取代基,可优选例举苯基、萘基等。另外,作为Rc7为芳基时可以具有的取代基,可优选例举碳原子数1~5的烷基、烷氧基、卤素原子等。
式(c4)中,作为Rc11,可优选例举氢原子、甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、苯基、苄基、甲基苯基、萘基等,这些中,更优选甲基或苯基。
式(c4)表示的化合物可通过包括下述步骤的方法来制造,所述步骤为:将前述的式(c5)表示的化合物中包含的肟基(>C=N-OH)转化为>C=N-O-CORc11表示的肟酯基。Rc11与式(c4)中的Rc11同样。
肟基(>C=N-OH)向>C=N-O-CORc11表示的肟酯基的转化可通过使前述的式(c5)表示的化合物与酰化剂反应而进行。
作为提供-CORc11表示的酰基的酰化剂,可举出(Rc11CO)2O表示的酸酐、Rc11COHal(Hal为卤素原子)表示的酰卤。
作为式(c4)表示的化合物的优选的具体例,可举出以下的PI-43~PI-83。
[化学式38]
[化学式39]
对于聚合引发剂(C)的含量而言,相对于聚合性组合物的固态成分整体的质量,优选为0.5~30质量%,更优选为1~20质量%。通过使聚合引发剂(C)的含量成为上述的范围,可得到不易发生图案形状不良的聚合性组合物。
另外,可将聚合引发剂(C)与光引发助剂组合。作为光引发助剂,可举出三乙醇胺、甲基二乙醇胺、三异丙醇胺、4-二甲基氨基苯甲酸甲酯、4-二甲基氨基苯甲酸乙酯、4-二甲基氨基苯甲酸异戊酯、4-二甲基氨基苯甲酸2-乙基己酯、苯甲酸2-二甲基氨基乙酯、N,N-二甲基对甲苯胺、4,4’-双(二甲基氨基)二苯甲酮、9,10-二甲氧基蒽、2-乙基-9,10-二甲氧基蒽、9,10-二乙氧基蒽、2-乙基-9,10-二乙氧基蒽、2-巯基苯并噻唑、2-巯基苯并噁唑、2-巯基苯并咪唑、2-巯基-5-甲氧基苯并噻唑、3-巯基丙酸、3-巯基丙酸甲酯、季戊四醇四巯基乙酸酯、3-巯基丙酸酯等硫醇化合物等。这些光引发助剂可单独使用或组合2种以上而使用。
<填料(D)>
聚合性组合物包含填料(D)。填料(D)包含选自由无机填料(D1)和碱性填料(D2)组成的组中的1种以上。关于无机填料(D1)及碱性填料(D2),详细内容在后文中说明。
聚合性组合物包含满足前述的规定条件的倍半硅氧烷树脂(A),因此,即使含有无机填料(D1)、碱性填料(D2),也可在利用光刻法进行图案形成时的显影后,抑制在未曝光部产生残渣。
[无机填料(D1)]
无机填料(D1)为从选自由La、Ce、Nd、Gd、Ho、Lu、Hf和Ta组成的组中的至少1种元素的单质、前述的元素的氧化物、前述的元素的螯合物、前述的元素的盐、以及前述的元素的合金中选择的1种以上。
上述的元素的电子密度高。因此,上述元素的单质、上述元素的氧化物、上述元素的螯合物、上述元素的盐、及上述元素的合金的介电常数高。另外,上述元素的单质、上述元素的氧化物、上述元素的螯合物、上述元素的盐、及上述元素的合金在使用聚合性组合物形成的膜中处于分散在构成膜的基体中的状态,不易阻碍可见光透过。
因此,使用包含上述的无机填料(D1)的聚合性组合物形成的膜存在介电常数高、透明性优异的倾向,可作为透明绝缘膜而合适地使用。上述元素的单质、上述元素的氧化物、上述元素的螯合物、上述元素的盐、及上述元素的合金,分别可单独使用或组合2种以上而使用。
上述元素的氧化物中包含的上述元素的原子价没有特别限制。
上述元素的螯合物中,作为与上述元素形成螯合物的配体,可举出吡啶、三苯基膦、一氧化碳、乙二胺、联吡啶、邻苯二酚、乙二胺四乙酸(EDTA)等。
上述元素的盐可以为无机酸的盐,也可以为有机酸的盐。作为优选的盐,可举出卤化物、硫酸盐、硝酸盐、磷酸盐、乙酸盐、甲酸盐、丙酸盐、及苯甲酸盐等。构成盐的上述元素的原子价没有特别限制。
上述元素的合金中包含的金属(元素)的组合没有特别限制。另外,合金中包含的多种金属(元素)的混合比率也没有特别限制。
上述元素的单质、上述元素的氧化物、上述元素的螯合物、上述元素的盐、及上述元素的合金中,从在组合物中稳定、使用聚合性组合物容易形成透明性优异的膜方面考虑,优选氧化物。作为上述元素的氧化物的优选的具体例,可举出La2O3、CeO2、Nd2O3、Gd2O3、Ho2O3、Lu2O3、HfO2、及Ta2O5。
无机填料(D1)的形状没有特别限制。无机填料(D1)的平均粒径优选为200nm以下,更优选150nm以下,特别优选为100nm以下。无机填料(D1)的平均粒径为200nm以下时,无机填料(D1)不易在分散液中沉淀,容易得到液态的形态的聚合性组合物。另外,无机填料(D1)的平均粒径的下限没有特别限制,优选为40nm以上,更优选为45nm以上。无机填料(D1)的平均粒径的下限为40nm以上时,无机填料(D1)的表面变得容易被涂覆,对于使用聚合性组合物得到的膜而言,介电常数不易下降,不易产生漏电流,另外,无机填料(D1)不易凝集。
需要说明的是,本说明书中,所谓平均粒径,是指利用动态光散射测定法(DLS)测得的体积平均粒径。
聚合性组合物中的无机填料(D1)的含量在不妨碍本发明的目的的范围内没有特别限制。对于聚合性组合物中的无机填料(D1)的含量而言,典型地,相对于含硅树脂(A)100质量份,优选为5~60质量份,更优选为10~50质量份,特别优选为15~40质量份。
[碱性填料(D2)]
碱性填料(D2)为选自碱性填料和碱性聚合物中的一种以上。
以下,依次对碱性填料和碱性聚合物进行说明。
(碱性填料)
碱性填料为由其表面呈碱性的材料形成的粉状、板状、或短纤维状的填料。碱性填料可以是有机填料,也可以是无机填料。碱性填料的形状没有特别限制,可以是粉末状,也可以是板状,也可以是短纤维状。
碱性填料的尺寸在不妨碍本发明的目的的范围内没有特别限制,根据目标图案尺寸等适当选择即可。作为碱性填料的尺寸,为球状的情况下,作为平均直径,优选为1nm~1500nm,更优选为2~800nm,进一步优选为10nm~100nm。为板状或短纤维状的情况下,作为平均长度,优选为5nm~1500nm,更优选为10nm~100nm。另外,为纤维状的情况下,作为填料平均长度(L1)与填料的平均截面径(L2)的比率的平均长径短径比(L1/L2)没有特别限制,优选为1.5~1000,更优选为2~100。
作为碱性填料的例子,可举出碱性的金属碳酸盐、碱性的金属氢氧化物、滑石、云母、接合剂(cement)粉末、碱性的活性氧化铝、水滑石、后述的碱性聚合物的粉末等。作为碱性的金属碳酸盐,可举出碳酸钙、碳酸镁等。作为碱性的金属氢氧化物,可举出氢氧化铝、氢氧化镁等。
另外,作为碱性填料,可以是其表面被碱性的材料被覆的填料、在其表面上附着有碱性的材料的填料。用碱性的材料进行处理的填料的表面的性状没有特别限制,可以是酸性,也可以是碱性,也可以是中性。
作为用碱性的材料进行处理的填料,可举出二氧化硅、氧化铝、氧化锆、莫来石、尖晶石、氧化锌等金属氧化物的粉体;氢氧化铝、氢氧化镁等金属氢氧化物的粉体;碳酸钙、碳酸镁等金属碳酸盐的粉末;云母、滑石、玻璃短纤维、碳短纤维、钛酸钾晶须、钛酸钡晶须、硼酸铝晶须、氧化钛晶须、碳酸钙晶须等板状或短纤维状的填料;有机树脂的粉末;铁、钴、镍、铜、钯、银、锡、铂及金等金属粒子的粉体等。
作为可用于填料的表面处理的碱性的材料,可举出氨、有机胺、包含含氮碱性基团的硅烷偶联剂、碱性的含氮环状化合物等。这些中,包含含氮碱性基团的硅烷偶联剂由于容易化学键合于无机填料的表面,因而优选。作为这样的硅烷偶联剂的优选例,可举出N-苯基-γ-氨基丙基三甲氧基硅烷、γ-氨基丙基三乙氧基硅烷。
另外,利用碱性的材料对填料进行的处理可以是利用后述的碱性聚合物、包含碱性聚合物的树脂混合物等进行的被覆处理。例如,可通过在合成了利用低级铵配体进行了一定程度的稳定化的金属粒子后、利用碱性聚合物来交换配体的方法,或者,在具有铵基的碱性聚合物的溶液中将上述金属的金属离子直接还原,从而形成使碱性聚合物附着或配位于金属粒子而得到的复合体。另外,利用粉碎等方法将包含碱性聚合物和填料的均匀的组合物制成微粒而得到的粉体也可用作碱性填料。
(碱性聚合物)
作为碱性聚合物,可使用现有已知的各种碱性聚合物。作为碱性聚合物的优选例,可举出聚吡咯、聚苯胺、及聚苯胺乙烯撑、及这些树脂的衍生物等。
作为碱性聚合物,还优选:包含来自具有二甲基氨基乙基、二乙基氨基乙基、二正丁基氨基乙基、及N-乙基-N-苯基氨基乙基等碱性官能团的(甲基)丙烯酸酯、乙烯基吡啶、乙烯基吡咯烷、乙烯基哌啶、N-乙烯基吡咯、N-乙烯基咔唑、N-乙烯基吲哚、及N-乙烯基内酰胺(N-乙烯基吡咯烷酮等)等碱性的不饱和单体的结构单元的、具有不饱和键的单体的均聚物或共聚物。
作为这样的碱性的均聚物或共聚物,优选丙烯酸树脂及苯乙烯丙烯酸树脂等。
作为碱性聚合物,还可举出具有羧酸碱金属盐这样的呈碱性的羧酸碱的树脂。作为这样的树脂,例如,可举出包含来自(甲基)丙烯酸等不饱和羧酸的结构单元的树脂、将包含乙酸乙烯酯单元的树脂的侧链的羧基转变成碱性的羧酸碱而得到的树脂。
另外,碱性聚合物不限于具有直链状的主链的聚合物。作为碱性聚合物,也可使用网状聚合物、具有分支成树状的所谓树枝状聚合物(dendrimer)结构的聚合物。碱性聚合物具有树枝状聚合物结构时,碱性官能团优选存在于聚合物的最外层。
作为具有树枝状聚合物结构的聚合物的优选例,可举出下式(d1)表示的聚合物。
[化学式40]
式中,Rd1各自独立地表示氢原子或甲基。Rd2和Rd3各自独立地为碱性基团或在末端具有碱性基团的有机基团。t为2~100000的整数。
式(d1)中,Ad1为下式(d2)表示的2价基团。
[化学式41]
式(d2)中,Ad2表示可以包含醚键或酯键的碳原子数1~30的亚烷基。另外,Yd1、Yd2、Yd3和Yd4各自独立地表示氢原子、碳原子数1~20的烷基、碳原子数1~20的烷氧基、硝基、羟基、氨基、羧基、或氰基。
式(d1)中,作为Rd2和Rd3中包含的碱性基团,可举出铵盐基、吡啶基等碱性的杂环基、氨基、被1个或2个有机基团取代的氨基等。
作为铵盐基,优选-N+Rd4Rd5Rd6·Z-表示的基团。Rd4、Rd5和Rd6各自独立地为氢原子、碳原子数1~20的烷基、碳原子数7~20的芳烷基、或-(CH2CH2O)u-Rd7表示的基团。需要说明的是,u为2~100的整数,Rd7为氢原子或甲基。Rd4、Rd5、和Rd6中的任意的两个可以相互键合而形成环。
Z-为阴离子,优选为卤素原子、PF6 -、BF4 -或全氟烷烃磺酸根。
作为被1个或2个有机基团取代的氨基,优选烷基氨基、或二烷基氨基。作为烷基氨基、或二烷基氨基中包含的烷基,优选碳原子数1~10的烷基、及碳原子数1~10的羟基烷基。
作为将碳原子或Ad1与Rd2或Rd3中包含的碱性基团连接的基团,可举出可包含醚键或酯键的碳原子数1~30的亚烷基、-O-CO-*、-S-CO-*、-S-CS-*等。需要说明的是,标有*的化学键为与Rd2或Rd3中包含的碱性基团键合的化学键。
作为式(d1)中的Ad1,优选下述结构的2价基团。
[化学式42]
即,作为式(d1)表示的化合物,优选下式(d3)表示的化合物。
[化学式43]
上述式(d3)中,关于Rd1、Rd2、Rd3、及t,与式(d1)同样。
碱性聚合物可均匀地溶解在聚合性组合物中,也可均匀地分散在聚合性组合物中。
聚合性组合物中的碱性填料(D2)的含量在不妨碍本发明的目的的范围内没有特别限制。对于聚合性组合物中的碱性填料(D2)的含量而言,典型地,相对于含硅树脂(A)100质量份,优选为0.5~30质量份,更优选为1~20质量份,特别优选为2~10质量份。另外,相对于聚合性组合物中的固态成分整体,优选为1~30质量%,更优选为1.5~25质量%。
<有机溶剂(S)>
对于聚合性组合物而言,出于对涂布性的调节、填料(D)的分散等目的,通常优选包含(S)有机溶剂。作为所述有机溶剂(S),可以没有特别限制地使用以往在各种感光性组合物中配合的有机溶剂。
作为有机溶剂(S)的优选例,可举出乙二醇单甲基醚、乙二醇单乙基醚、乙二醇单正丙基醚、乙二醇单正丁基醚、二乙二醇单甲基醚、二乙二醇单乙基醚、二乙二醇单正丙基醚、二乙二醇单正丁基醚、三乙二醇单甲基醚、三乙二醇单乙基醚、丙二醇单甲基醚、丙二醇单乙基醚、丙二醇单正丙基醚、丙二醇单正丁基醚、二丙二醇单甲基醚、二丙二醇单乙基醚、二丙二醇单正丙基醚、二丙二醇单正丁基醚、三丙二醇单甲基醚、三丙二醇单乙基醚等(聚)亚烷基二醇单烷基醚类;乙二醇单甲基醚乙酸酯、乙二醇单乙基醚乙酸酯、二乙二醇单甲基醚乙酸酯、二乙二醇单乙基醚乙酸酯、丙二醇单甲基醚乙酸酯(PGMEA)、丙二醇单乙基醚乙酸酯等(聚)亚烷基二醇单烷基醚乙酸酯类;二乙二醇二甲基醚、二乙二醇甲基乙基醚、二乙二醇二乙基醚、四氢呋喃等其他醚类;甲基乙基酮、环己酮、2-庚酮、3-庚酮等酮类;2-羟基丙酸甲酯、2-羟基丙酸乙酯等乳酸烷基酯类;2-羟基-2-甲基丙酸乙酯、3-甲氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、乙氧基乙酸乙酯、羟基乙酸乙酯、2-羟基-3-甲基丁酸甲酯、乙酸3-甲氧基丁酯、乙酸3-甲基-3-甲氧基丁酯、丙酸3-甲基-3-甲氧基丁酯、乙酸乙酯、乙酸正丙酯、乙酸异丙酯、乙酸正丁酯、乙酸异丁酯、甲酸正戊酯、乙酸异戊酯、丙酸正丁酯、丁酸乙酯、丁酸正丙酯、丁酸异丙酯、丁酸正丁酯、丙酮酸甲酯、丙酮酸乙酯、丙酮酸正丙酯、乙酰乙酸甲酯、乙酰乙酸乙酯、2-氧代丁酸乙酯等其他酯类;甲苯、二甲苯等芳香族烃类等。
另外,有机溶剂(S)可包含含氮有机溶剂。尤其是,聚合性组合物包含碱性填料(D2)时,作为有机溶剂(S),优选包含含氮有机溶剂。
这种情况下,可抑制聚合性组合物中的碱性填料及/或碱性聚合物的凝集、分散不良,由此,使用聚合性组合物容易形成截面、表面平滑的膜。
含氮有机溶剂包含氮原子即可,可以是极性溶剂,也可以是非极性溶剂。作为含氮有机溶剂,优选含氮极性有机溶剂。
作为含氮极性有机溶剂的例子,可举出N,N-二甲基乙酰胺、N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二乙基乙酰胺、N,N-二乙基甲酰胺等酰胺类;1,3-二甲基-2-咪唑啉酮、N-甲基吡咯烷酮、N-乙基吡咯烷酮、γ-丁内酯等杂环式极性有机溶剂等。需要说明的是,含氮有机溶剂、含氮极性有机溶剂均不限于这些例子。另外,可将2种以上的含氮有机溶剂组合使用。
作为含氮极性有机溶剂,优选下式(S1)表示的化合物。
[化学式44]
(式(S1)中,Rs1和Rs2各自独立地为碳原子数1~3的烷基,Rs3为下式(S1-1)或下式(S1-2)表示的基团。
[化学式45]
式(S1-1)中,Rs4为氢原子或羟基,Rs5和Rs6各自独立地为碳原子数1~3的烷基。式(S1-2)中,Rs7和Rs8各自独立地为氢原子或碳原子数1~3的烷基。)
作为式(S1)表示的化合物中Rs3为式(S1-1)表示的基团时的具体例,可举出N,N,2-三甲基丙酰胺、N-乙基-N,2-二甲基丙酰胺、N,N-二乙基-2-甲基丙酰胺、N,N,2-三甲基-2-羟基丙酰胺、N-乙基-N,2-二甲基-2-羟基丙酰胺、及N,N-二乙基-2-羟基-2-甲基丙酰胺等。
作为式(S1)表示的化合物中Rs3为式(S1-2)表示的基团时的具体例,可举出N,N,N’,N’-四甲基脲、N,N,N’,N’-四乙基脲等。
式(S1)表示的化合物中,从不仅使各种材料良好地溶解,而且容易抑制聚合性组合物中的碱性填料及/或碱性聚合物的凝集方面考虑,作为特别优选的化合物,可举出N,N,2-三甲基丙酰胺、及N,N,N’,N’-四甲基脲。
有机溶剂(S)中的含氮有机溶剂的含量例如为5~100质量%,填料(D)包含碱性填料(D2)时,优选为50~100质量%,更优选为60~90质量%。
另外,作为溶剂,可使用从具有选自由羟基和乙酰氧基组成的组中的至少1种基团的萜烯化合物、以及含有环状骨架的乙酸酯化合物(其中,不包括上述萜烯化合物。)中选择的至少1种溶剂。
(具有选自由羟基和乙酰氧基组成的组中的至少1种基团的萜烯化合物)
作为具有选自由羟基和乙酰氧基组成的组中的至少1种基团的萜烯化合物,可优选举出萜品醇(terpineol)、二氢萜品醇、4-(乙酰基氧基)-α,α,4-三甲基环己烷甲醇乙酸酯、2-[1-甲基-1-(4-甲基-3-环己烯-1-基)乙氧基]乙醇等。
对于萜品醇而言,存在以下的α-、β-、γ-的异构体,已由日本香料药品(株)、Nippon Terpene Chemicals,Inc.在市场上销售。
[化学式46]
另外,对于二氢萜品醇而言,存在以下的2种化合物(1-羟基对萜烷和8-羟基对萜烷),由Nippon Terpene Chemicals,Inc.作为二氢萜品醇、Tersorb DTO-210在市场上销售。
[化学式47]
4-(乙酰基氧基)-α,α,4-三甲基环己烷甲醇乙酸酯为下述式C-3表示的化合物,作为式C-1表示的化合物和式C-2表示的化合物的混合物,例如,由Nippon TerpeneChemicals,Inc.作为Tersorb THA-90、Tersorb THA-70在市场上销售。
[化学式48]
2-[1-甲基-1-(4-甲基-3-环己烯-1-基)乙氧基]乙醇为下述式表示的化合物,例如,由Nippon Terpene Chemicals,Inc.作为Tersorb TOE-100在市场上销售。
[化学式49]
这些中,优选萜品醇、二氢萜品醇、Tersorb THA-90、Tersorb THA-70、TersorbTOE-100,更优选二氢萜品醇、Tersorb THA-90、Tersorb THA-70,进一步优选Tersorb THA-90、Tersorb THA-70。
作为上述萜烯化合物,可以单独使用,也可混合2种以上而使用。
(含有环状骨架的乙酸酯化合物)
作为含有环状骨架的乙酸酯化合物(其中,不包括上述萜烯化合物。),没有特别限制,只要是不损害本发明的效果的具有环状骨架的乙酸酯系溶剂即可,优选为下述式(S1)表示的乙酸环烷基酯。
[化学式50]
(式(S1)中,Rs1各自独立地为烷基,p为1~6的整数,q为0~(p+1)的整数。)
作为Rs1表示的烷基,可举出碳原子数1~3的烷基,可举出甲基、乙基、正丙基、异丙基。
作为式(S1)表示的乙酸环烷酯的具体例,可举出乙酸环丙酯、乙酸环丁酯、乙酸环戊酯、乙酸环己酯、乙酸环庚酯、及乙酸环辛酯。
这些中,从获得容易性等观点考虑,优选乙酸环辛酯。
作为上述含有环状骨架的乙酸酯化合物,可以单独使用,也可混合2种以上而使用。
有机溶剂(S)的含量没有特别限制,可根据由聚合性组合物形成的膜的膜厚等适当设定。典型地,可以以聚合性组合物的固态成分浓度为1~50质量%、优选5~30质量%那样的量使用有机溶剂(S)。
<其他成分>
在聚合性组合物中,除了上文中说明的成分之外,根据需要,可含有表面活性剂、光产碱剂、光产酸剂、密合性提高剂、着色剂、热聚合阻止剂、消泡剂、固化促进剂等添加剂。所有添加剂均可使用现有已知的物质。作为表面活性剂,可举出阴离子系、阳离子系、非离子系等的化合物。作为热聚合阻止剂,可举出氢醌、氢醌单乙基醚等。作为消泡剂,可举出有机硅系、氟系化合物等。
<聚合性组合物的制备方法>
对于聚合性组合物的制备方法而言,只要是可将规定的成分均匀混合的方法即可,没有特别限制。例如,聚合性组合物可通过利用三辊磨、球磨机、砂磨机等搅拌机将上述各成分混合(分散·混炼),根据需要用5μm膜滤器等过滤器进行过滤,从而制备。
《固化膜的制造方法》
对于固化膜的制造方法而言,只要是能使由前述的聚合性组合物形成的膜固化的方法,就没有特别限制。典型地,优选制造经图案化的固化膜。
作为优选的方法的具体例,可举出包括下述步骤的方法:
使用前述的聚合性组合物在基材上形成涂布膜的步骤,
位置选择性地将涂布膜曝光的步骤,和
将经曝光的涂布膜显影的步骤。
作为基材,没有特别限制,可以没有特别限制地使用玻璃基板、硅基板等各种基板。
例如,聚合性组合物包含前述的无机填料(D1)时,作为基材,可优选使用ITO膜基板等透明导电膜基板。
作为将聚合性组合物涂布于基材上的方法,可举出例如使用辊涂机、逆转涂布机(reverse coater)、棒涂机、狭缝涂布机等接触转印型涂布装置、旋涂器(旋转式涂布装置)、幕涂流动涂料器(curtain flow coater)等非接触型涂布装置的方法。
对于已涂布的聚合性组合物,根据需要进行干燥,构成涂布膜。干燥方法没有特别限制,例如,可举出下述方法:(1)用加热板,于80~120℃、优选90~100℃的温度,进行60~120秒干燥的方法;(2)在室温下放置数小时~数天的方法;(3)放入至热风加热器、红外线加热器中数十分钟~数小时而除去溶剂的方法;等等。
接下来,对涂布膜进行曝光。曝光可通过照射紫外线、准分子激光等活性能量射线而进行。曝光例如可通过经由负型的掩模进行曝光的方法等,位置选择性地进行。照射的能量射线量根据聚合性组合物的组成的不同而不同,例如优选为40~300mJ/cm2左右。
位置选择性地使涂布膜进行曝光后,利用显影液进行显影,由此,形成所期望的形状的图案。显影方法没有特别限制,例如,可使用浸渍法、喷雾法等。显影液可根据聚合性组合物的组成适当选择。作为显影液,可优选使用碱水溶液。碱水溶液可以是无机碱的水溶液,也可以是有机碱的水溶液。作为优选的显影液,可举出例如氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸钠、氨、季铵盐等碱性的水溶液,特别优选四甲基氢氧化铵的水溶液。
优选对显影后的已图案化的固化膜进行加热(烘烤)。烘烤温度没有特别限制,只要不使已图案化的固化膜发生热分解或过度的变形即可,优选为180~280℃,更优选为190~260℃。
经过以上的操作,可得到形成了所期望的形状的图案的聚合性组合物的固化膜。
对于利用上述的方法得到的固化膜而言,由于使用了前述的聚合性组合物,因而在利用碱水溶液进行显影时,不易在未曝光部产生残渣。
《透明绝缘膜及显示装置》
尤其是,若使用包含无机填料(D1)的聚合性组合物,则可利用上述的方法形成透明绝缘膜。另外,对于按照上述方式形成的透明绝缘膜而言,透明性优异,介电常数高,因此,可在制造各种方式的显示装置时合适地使用。对于按照上述方式形成的透明绝缘膜而言,由于这些优点,因而可期待将其作为以往在液晶显示器这样的显示装置中使用的、由氮化硅形成的透明绝缘膜的替代材料。
实施例
以下,通过实施例进一步详细地说明本发明,但本发明不限于这些实施例。
〔制备例1〕
首先,在容量为500mL的四颈瓶中,装入双酚芴型环氧树脂235g(环氧当量235)和四甲基氯化铵110mg、2,6-二叔丁基-4-甲基苯酚100mg、及丙烯酸72.0g,一边以25ml/分钟的速度向其中吹入空气,一边于90℃~100℃进行加热溶解。接下来,在溶液为白浊的状态下,缓缓升温,加热至120℃,使其完全溶解。此处,溶液逐渐变得透明粘稠,保持该状态继续搅拌。期间测定酸值,持续加热搅拌直至酸值变得低于1.0mgKOH/g。酸值达到目标需要12小时。而后冷却至室温,得到双酚芴型环氧丙烯酸酯。
接下来,向按照上述方式得到的上述的双酚芴型环氧丙烯酸酯307.0g中添加乙酸3-甲氧基丁酯600g,将其溶解,然后混合二苯甲酮四甲酸二酐80.5g、及溴化四乙基铵1g,缓缓升温,于110℃~115℃进行4小时反应。确认了酸酐消失后,混合1,2,3,6-四氢邻苯二甲酸酐38.0g,于90℃进行6小时反应,得到具有Cardo结构的树脂4(质均分子量:3400)。通过IR光谱确认酸酐消失。
〔实施例1~4及比较例1~5〕
实施例1~4中,作为碱溶性树脂,使用了以下的倍半硅氧烷树脂1。
·倍半硅氧烷树脂1:包含2-(3-(三乙氧基甲硅烷基丙基)氨基甲酰基)环己烷羧酸(40摩尔%)、甲基丙烯酸3-(三甲氧基甲硅烷基)丙酯(40摩尔%)、及苯基三甲氧基硅烷(20摩尔%)作为单体组成的倍半硅氧烷树脂。
比较例1~4中,将由下述式表示的结构单元I~IV形成、且各结构单元的量为各单元的括号的右下方的值(质量%)的丙烯酸树脂即树脂2作为碱溶性树脂使用。
比较例5中,将制备例1中得到的具有Cardo结构的树脂即树脂4作为碱溶性树脂使用。
[化学式51]
实施例1~3及比较例1~3中,作为无机填料,使用了CeO2(平均粒径50nm)。
另外,实施例4、比较例4、及比较例5中,作为碱性填料,使用了碱性氧化铝微粒(平均粒径700nm)。
实施例、及比较例中,作为多官能聚合性单体,使用了二季戊四醇六丙烯酸酯(DPHA)。
实施例、及比较例中,作为聚合引发剂,使用了以下的化合物。
[化学式52]
分别地,在实施例1~3及比较例1~3中,以固态成分浓度成为12质量%的方式,将表3中记载的量的各材料均匀地混合在PGMEA中,另外,在实施例4、比较例4、及比较例5中,以固态成分浓度成为16质量%的方式,将表3中记载的量的各材料均匀地混合在N,N,N’,N’-四甲基脲与PGMEA的混合溶剂(质量比80:20)中,得到实施例1~4及比较例1~5的聚合性组合物。
使用得到的聚合性组合物,进行以下的评价。将评价结果记载于表3。
〔未曝光部残渣和漏电流的评价〕
使用旋涂机,将各实施例及比较例的聚合性组合物涂布于玻璃基板上,然后,于90℃进行120秒的烘烤,得到膜厚1μm的涂布膜。
对于得到的涂布膜,经由可形成线宽3μm的线图案的掩模,在实施例1~3及比较例1~3中,以30mJ/cm2的曝光量进行曝光,在实施例4、比较例4、及比较例5中,以300mJ/cm2的曝光量进行曝光。
使用温度23℃的浓度2.38质量%的四甲基氢氧化铵水溶液对曝光后的涂布膜进行显影。
对于显影后的涂布膜,于230℃进行20分钟烘烤,得到形成了线状的图案的固化膜。
对未曝光部(非图案部)进行显微镜观察,对未曝光部残渣进行评价。将在显影后几乎未确认到残渣的情况判断为○,将在显影后确认到残渣的情况判断为×。
另外,利用介电常数测定装置SSM495(日本SSM制)进行漏电流的测定。将漏电流的值为1.0×E-8以下的情况判断为○,将漏电流的值为1.0×E-9以下的情况判断为◎。将漏电流的值超过1.0×E-8的情况判断为×。
需要说明的是,来自无机填料或碱性填料的残渣是漏电流值上升的原因之一。
<气体产生评价>
将聚合性组合物涂布在10cm×10cm的玻璃基板上,然后于90℃进行120秒干燥,形成涂布膜。
接下来,利用使用了高压水银灯的曝光机,以50mJ/cm2的曝光量对涂布膜进行整面曝光。
对于经曝光的涂布膜,于230℃进行30分钟后烘烤,得到膜厚2μm的固化膜。
使用形成的固化膜作为试样,利用安装了吹扫捕集取样器(加热脱附装置)的气相色谱质谱法(P&T-GC/MS),对产生气体量进行评价。测定和气体的定量按照下述(i)~(iii)的步骤进行。
(i)气体产生和向二级吸附管的捕集
在一级捕集管中装入固化膜1mg,使用加热脱附装置(Perkin Elmer制:TarboMatrix ATD),于230℃进行10分钟加热,使脱离的气体吸附于二级捕集管。
(ii)GC/MS分析
于250℃对二级捕集管进行1分钟加热,利用GC/MS(Agilent Technologies公司制:7890B(GC),5977AMSD(MS))对脱离后的气体进行分析。
(iii)定量分析
由树脂组合物的利用PT-GC/MS分析得到的图的各峰面积进行定量。具体而言,将检测到的释气(outgas)的峰的总面积%规定为评价值。
基于得到的评价值(总面积%),按照下述的基准,对产生气体量进行评价。
○:评价值的值小于5.0E9。
×:评价值的值为5.0E9以上。
[表3]
由表3可知,如果是包含规定结构的含硅树脂(A)的实施例的聚合性组合物,则即使聚合性组合物包含特定种类的无机填料(D1)、碱性填料(D2),也可抑制在利用碱水溶液进行显影时产生残渣。
尤其是,可知从使用包含规定结构的含硅树脂(A)的聚合性组合物形成的固化膜中产生的释气少。
另一方面,可知若使用包含其他结构的碱溶性树脂来代替规定结构的含硅树脂的聚合性组合物,则在利用碱水溶液进行显影时容易产生残渣,容易从固化膜中产生释气。
Claims (7)
1.聚合性组合物,其是包含含聚合性基团的成分的聚合性组合物,
所述聚合性组合物包含含硅树脂(A)、聚合引发剂(C)和填料(D),
所述含硅树脂(A)包含选自由倍半硅氧烷树脂(A1)、聚硅烷-聚硅氧烷树脂(A-I)、树脂混合物(A-II)和含聚硅烷结构的树脂(A-III)组成的组中的至少1种,
所述倍半硅氧烷树脂(A1)为具有下述式(a1a)表示的结构单元的倍半硅氧烷树脂,
[化学式1]
式(a1a)中,Ra1为下述式(a1a-I)表示的基团,
-Xa-Ba-Ya-COOH……(a1a-I)
Xa为单键、碳原子数1~6的亚烷基、碳原子数6~12的亚芳基、或-Ra6-NH-Ra7-表示的基团,
Ra6和Ra7各自独立地为碳原子数1~3的亚烷基,
Ya为2价的环式有机基团或碳原子数1~20的链状脂肪族烃基,
Ba为-NH-CO-、-CO-NH-、-NH-CO-O-、-O-CO-NH-、或-NH-CO-NH-,
Xa和Ya各自独立地可以被选自由(甲基)丙烯酰基氧基、乙烯基和含环氧基的有机基团组成的组中的1种以上的基团取代,
所述聚硅烷-聚硅氧烷树脂(A-I)为具有聚硅烷结构(I-1)和聚硅氧烷结构(I-2)的聚硅烷-聚硅氧烷树脂,
所述树脂混合物(A-II)为具有聚硅烷结构(II-1)的树脂与具有聚硅氧烷结构(II-2)的树脂的混合物,
所述含聚硅烷结构的树脂(A-III)为所述具有聚硅烷结构(II-1)的树脂,
所述含聚合性基团的成分包含下述(1)~(5)中的至少1种,
(1)具有上述式(a1a)表示的结构单元、且上述式(a1a-I)中的Xa和Ya中的至少一方被选自由(甲基)丙烯酰基氧基、乙烯基和含环氧基的有机基团组成的组中的1种以上的基团取代的倍半硅氧烷树脂(A1-1),
(2)具有上述式(a1a)表示的结构单元和下述式(a2a)表示的结构单元的倍半硅氧烷树脂(A1-2),
[化学式2]
式(a2a)中,Ra2为下述式(a1a-II)表示的基团,
-Za-Aa……(a1a-II)
Za为单键、碳原子数1~6的亚烷基、或碳原子数6~12的亚芳基,Aa为(甲基)丙烯酰基氧基、乙烯基、或含环氧基的有机基团,
(3)具有上述式(a2a)表示的结构单元、并且不属于所述倍半硅氧烷树脂(A1)的倍半硅氧烷树脂(A2),
(4)多官能聚合性单体(B),以及
(5)具有选自由(甲基)丙烯酰基氧基、乙烯基和含环氧基的有机基团组成的组中的1种以上的基团、并且不属于所述倍半硅氧烷树脂(A1)、所述倍半硅氧烷树脂(A2)或所述多官能聚合性单体(B)中的任一种的含聚合性基团的树脂;
所述填料(D)包含选自由无机填料(D1)和碱性填料(D2)组成的组中的1种以上,
所述无机填料(D1)为选自由下述物质组成的组中的1种以上:选自由La、Ce、Nd、Gd、Ho、Lu、Hf和Ta组成的组中的至少1种元素的单质、所述元素的氧化物、所述元素的螯合物、所述元素的盐、以及所述元素的合金,
所述碱性填料(D2)为选自碱性填料和碱性聚合物中的一种以上。
2.如权利要求1所述的聚合性组合物,其中,所述多官能聚合性单体(B)为5官能以上的多官能单体。
3.固化膜的制造方法,所述方法包括下述步骤:
使用权利要求1或2所述的聚合性组合物在基材上形成涂布膜的步骤,
位置选择性地将所述涂布膜曝光的步骤,和
将经曝光的所述涂布膜显影的步骤。
4.如权利要求3所述的固化膜的制造方法,其中,使用碱水溶液作为显影液将经曝光的所述涂布膜显影。
5.固化膜,其是使权利要求1或2所述的聚合性组合物固化而形成的。
6.透明绝缘膜,其是使包含所述无机填料(D1)作为所述填料(D)的权利要求1或2所述的聚合性组合物固化而形成的。
7.显示装置,其具有权利要求6所述的透明绝缘膜。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017-016202 | 2017-01-31 | ||
JP2017016202A JP6853057B2 (ja) | 2017-01-31 | 2017-01-31 | 重合性組成物、硬化膜の製造方法、及び硬化膜 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN108375878A true CN108375878A (zh) | 2018-08-07 |
CN108375878B CN108375878B (zh) | 2023-12-08 |
Family
ID=63016938
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201810085762.4A Active CN108375878B (zh) | 2017-01-31 | 2018-01-29 | 聚合性组合物、固化膜的制造方法和固化膜 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6853057B2 (zh) |
KR (1) | KR102518717B1 (zh) |
CN (1) | CN108375878B (zh) |
TW (1) | TWI767982B (zh) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7247736B2 (ja) * | 2019-05-07 | 2023-03-29 | Jsr株式会社 | 感放射線性組成物、表示装置用絶縁膜、表示装置、表示装置用絶縁膜の形成方法、及びシルセスキオキサン |
JP2021026029A (ja) * | 2019-07-31 | 2021-02-22 | メルク、パテント、ゲゼルシャフト、ミット、ベシュレンクテル、ハフツングMerck Patent GmbH | ネガ型感光性組成物 |
JPWO2023074804A1 (zh) | 2021-10-29 | 2023-05-04 | ||
WO2024048317A1 (ja) * | 2022-08-31 | 2024-03-07 | 富士フイルム株式会社 | 感光性組成物、転写フィルム、積層体の製造方法、積層体、半導体パッケージ |
Citations (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1299884A (en) * | 1969-03-28 | 1972-12-13 | Agfa Gevaert | Spectral sensitization of a photoconductive recording element |
GB1478333A (en) * | 1973-05-29 | 1977-06-29 | Fuji Photo Film Co Ltd | Light-sensitive copying material |
US5002691A (en) * | 1986-11-06 | 1991-03-26 | The Clorox Company | Oxidant detergent containing stable bleach activator granules |
JPH08262727A (ja) * | 1995-01-25 | 1996-10-11 | Nippon Paint Co Ltd | 多色パターン形成用感光性樹脂組成物およびそれを用いる多色パターン形成方法 |
JPH08337708A (ja) * | 1995-06-14 | 1996-12-24 | Toshiba Corp | エポキシ樹脂系組成物 |
EP1181924A2 (de) * | 2000-08-26 | 2002-02-27 | Degussa Dental GmbH & Co. KG | Dentalkomposite aufweisend Hybridfüllstoffe und Verfahren zur Herstellung |
JP2007059360A (ja) * | 2005-07-29 | 2007-03-08 | Toyobo Co Ltd | 透明導電性フィルム、透明導電性シートおよびタッチパネル |
JP2008083228A (ja) * | 2006-09-26 | 2008-04-10 | Fujifilm Corp | カラーフィルタ用感光性組成物、カラーフィルタ、及びその製造方法 |
JP2009003351A (ja) * | 2007-06-25 | 2009-01-08 | Panasonic Electric Works Co Ltd | コーティング組成物及び反射防止フィルム |
JP2009084395A (ja) * | 2007-09-28 | 2009-04-23 | Mitsubishi Chemicals Corp | 重合体、組成物、硬化物および光記録媒体 |
JP2012013962A (ja) * | 2010-06-30 | 2012-01-19 | Fujifilm Corp | 感光性組成物、パターン形成材料、並びに、これを用いた感光性膜、パターン形成方法、パターン膜、低屈折率膜、光学デバイス、及び、固体撮像素子 |
WO2012015076A1 (en) * | 2010-07-29 | 2012-02-02 | Fujifilm Corporation | Polymerizable composition |
JP2012215716A (ja) * | 2011-03-31 | 2012-11-08 | Taiyo Ink Mfg Ltd | 光硬化性樹脂組成物、ドライフィルム、硬化物及びプリント配線板 |
JP2013047818A (ja) * | 2012-10-01 | 2013-03-07 | Taiyo Holdings Co Ltd | 光硬化性樹脂組成物 |
CN103755847A (zh) * | 2013-12-31 | 2014-04-30 | 京东方科技集团股份有限公司 | 聚丙烯酸酯分散剂、颜料分散液、彩色光刻胶、彩膜基板和显示装置 |
JP2014091790A (ja) * | 2012-11-05 | 2014-05-19 | Toyo Ink Sc Holdings Co Ltd | 樹脂組成物 |
KR20140122661A (ko) * | 2013-04-10 | 2014-10-20 | 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤 | 투명 절연막 형성용 조성물 |
WO2015037695A1 (ja) * | 2013-09-13 | 2015-03-19 | 富士フイルム株式会社 | 感光性樹脂組成物、硬化膜の製造方法、硬化膜、液晶表示装置および有機el表示装置 |
CN104662101A (zh) * | 2012-09-28 | 2015-05-27 | 太阳油墨制造株式会社 | 固化性树脂组合物、阻焊剂形成用组合物、干膜及印刷配线板、以及层叠结构体及其制造方法 |
CN104749884A (zh) * | 2013-12-25 | 2015-07-01 | 东京应化工业株式会社 | 感光性树脂组合物 |
JP2015158638A (ja) * | 2014-02-25 | 2015-09-03 | 東洋インキScホールディングス株式会社 | 感光性樹脂組成物、ならびにそれを用いた塗膜 |
CN105372938A (zh) * | 2014-08-19 | 2016-03-02 | 东京应化工业株式会社 | 感光性树脂组合物及炭黑 |
JP2016178056A (ja) * | 2015-03-23 | 2016-10-06 | 東洋インキScホールディングス株式会社 | 有機エレクトロルミネッセンス素子、および有機エレクトロルミネッセンス装置 |
CN106019841A (zh) * | 2015-03-30 | 2016-10-12 | 东京应化工业株式会社 | 感光性树脂组合物、图案形成方法、固化膜、绝缘膜、滤色器及显示装置 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4514546B2 (ja) | 2004-08-03 | 2010-07-28 | リケンテクノス株式会社 | 難燃フィルム、接着性難燃フィルム及びフラットケーブル |
US20100270055A1 (en) | 2009-04-27 | 2010-10-28 | Air Products And Chemicals, Inc. | Electrically Conductive Films Formed From Dispersions Comprising Conductive Polymers and Polyurethanes |
KR101537771B1 (ko) * | 2014-06-27 | 2015-07-17 | 주식회사 삼양사 | 차광용 감광성 수지 조성물 및 이로부터 형성된 차광층 |
JP6764636B2 (ja) | 2014-10-08 | 2020-10-07 | 東京応化工業株式会社 | 感放射線性樹脂組成物、パターン製造方法、透明絶縁膜、及び表示装置 |
-
2017
- 2017-01-31 JP JP2017016202A patent/JP6853057B2/ja active Active
-
2018
- 2018-01-29 CN CN201810085762.4A patent/CN108375878B/zh active Active
- 2018-01-30 KR KR1020180011434A patent/KR102518717B1/ko active IP Right Grant
- 2018-01-31 TW TW107103395A patent/TWI767982B/zh active
Patent Citations (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1299884A (en) * | 1969-03-28 | 1972-12-13 | Agfa Gevaert | Spectral sensitization of a photoconductive recording element |
GB1478333A (en) * | 1973-05-29 | 1977-06-29 | Fuji Photo Film Co Ltd | Light-sensitive copying material |
US5002691A (en) * | 1986-11-06 | 1991-03-26 | The Clorox Company | Oxidant detergent containing stable bleach activator granules |
JPH08262727A (ja) * | 1995-01-25 | 1996-10-11 | Nippon Paint Co Ltd | 多色パターン形成用感光性樹脂組成物およびそれを用いる多色パターン形成方法 |
JPH08337708A (ja) * | 1995-06-14 | 1996-12-24 | Toshiba Corp | エポキシ樹脂系組成物 |
EP1181924A2 (de) * | 2000-08-26 | 2002-02-27 | Degussa Dental GmbH & Co. KG | Dentalkomposite aufweisend Hybridfüllstoffe und Verfahren zur Herstellung |
JP2007059360A (ja) * | 2005-07-29 | 2007-03-08 | Toyobo Co Ltd | 透明導電性フィルム、透明導電性シートおよびタッチパネル |
JP2008083228A (ja) * | 2006-09-26 | 2008-04-10 | Fujifilm Corp | カラーフィルタ用感光性組成物、カラーフィルタ、及びその製造方法 |
JP2009003351A (ja) * | 2007-06-25 | 2009-01-08 | Panasonic Electric Works Co Ltd | コーティング組成物及び反射防止フィルム |
JP2009084395A (ja) * | 2007-09-28 | 2009-04-23 | Mitsubishi Chemicals Corp | 重合体、組成物、硬化物および光記録媒体 |
JP2012013962A (ja) * | 2010-06-30 | 2012-01-19 | Fujifilm Corp | 感光性組成物、パターン形成材料、並びに、これを用いた感光性膜、パターン形成方法、パターン膜、低屈折率膜、光学デバイス、及び、固体撮像素子 |
WO2012015076A1 (en) * | 2010-07-29 | 2012-02-02 | Fujifilm Corporation | Polymerizable composition |
JP2012215716A (ja) * | 2011-03-31 | 2012-11-08 | Taiyo Ink Mfg Ltd | 光硬化性樹脂組成物、ドライフィルム、硬化物及びプリント配線板 |
CN104662101A (zh) * | 2012-09-28 | 2015-05-27 | 太阳油墨制造株式会社 | 固化性树脂组合物、阻焊剂形成用组合物、干膜及印刷配线板、以及层叠结构体及其制造方法 |
JP2013047818A (ja) * | 2012-10-01 | 2013-03-07 | Taiyo Holdings Co Ltd | 光硬化性樹脂組成物 |
JP2014091790A (ja) * | 2012-11-05 | 2014-05-19 | Toyo Ink Sc Holdings Co Ltd | 樹脂組成物 |
KR20140122661A (ko) * | 2013-04-10 | 2014-10-20 | 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤 | 투명 절연막 형성용 조성물 |
WO2015037695A1 (ja) * | 2013-09-13 | 2015-03-19 | 富士フイルム株式会社 | 感光性樹脂組成物、硬化膜の製造方法、硬化膜、液晶表示装置および有機el表示装置 |
CN104749884A (zh) * | 2013-12-25 | 2015-07-01 | 东京应化工业株式会社 | 感光性树脂组合物 |
CN103755847A (zh) * | 2013-12-31 | 2014-04-30 | 京东方科技集团股份有限公司 | 聚丙烯酸酯分散剂、颜料分散液、彩色光刻胶、彩膜基板和显示装置 |
JP2015158638A (ja) * | 2014-02-25 | 2015-09-03 | 東洋インキScホールディングス株式会社 | 感光性樹脂組成物、ならびにそれを用いた塗膜 |
CN105372938A (zh) * | 2014-08-19 | 2016-03-02 | 东京应化工业株式会社 | 感光性树脂组合物及炭黑 |
JP2016178056A (ja) * | 2015-03-23 | 2016-10-06 | 東洋インキScホールディングス株式会社 | 有機エレクトロルミネッセンス素子、および有機エレクトロルミネッセンス装置 |
CN106019841A (zh) * | 2015-03-30 | 2016-10-12 | 东京应化工业株式会社 | 感光性树脂组合物、图案形成方法、固化膜、绝缘膜、滤色器及显示装置 |
Non-Patent Citations (3)
Title |
---|
"石油化工科技期刊题录", 石化技术与应用, no. 05, pages 443 - 464 * |
DAR-JONG LIN ET,: "Preparation of Silica-Filled Poly(2-hydroxymethyl methacrylate) Nanocomposites Cured by Photoirradiation during the Sol–Gel Process", 《JOURNAL OF APPLIED POLYMER SCIENCE》, vol. 94, pages 1927 * |
冯润强;任碧野;童真;王全;: "有机硅改性聚氨酯合成路径的研究进展", 广东化工, no. 02, pages 13 - 15 * |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20200067261A (ko) | 2020-06-12 |
JP2018123234A (ja) | 2018-08-09 |
KR102518717B1 (ko) | 2023-04-06 |
TWI767982B (zh) | 2022-06-21 |
TW201840655A (zh) | 2018-11-16 |
JP6853057B2 (ja) | 2021-03-31 |
CN108375878B (zh) | 2023-12-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN108375878A (zh) | 聚合性组合物、固化膜的制造方法和固化膜 | |
JP5872470B2 (ja) | 感光性樹脂組成物及びその硬化物 | |
JP5247396B2 (ja) | Mems用感光性樹脂組成物及びその硬化物 | |
TWI491675B (zh) | Polyoxometallic compositions containing free crosslinking groups | |
JP5137673B2 (ja) | Mems用感光性樹脂組成物及びその硬化物 | |
JP6641879B2 (ja) | レジスト下層膜形成用組成物、レジスト下層膜及びパターニングされた基板の製造方法 | |
KR101461450B1 (ko) | 감광성 도전 페이스트 | |
JP5072101B2 (ja) | Mems用感光性樹脂組成物及びその硬化物 | |
JP7247736B2 (ja) | 感放射線性組成物、表示装置用絶縁膜、表示装置、表示装置用絶縁膜の形成方法、及びシルセスキオキサン | |
TW201217910A (en) | Radiation-sensitive composition, protective film, interlayer insulation film and method for forming the same | |
TW201527433A (zh) | 含矽之熱或光硬化性組成物 | |
TW201247813A (en) | Coating composition containing siloxane resin | |
JP7085791B2 (ja) | 感光性樹脂組成物及びその硬化物 | |
CN110317174A (zh) | 氢阻隔剂、氢阻隔膜形成用组合物、氢阻隔膜、氢阻隔膜的制造方法、及电子元件 | |
TW200907580A (en) | Photosensitive resin composition | |
CN105408816B (zh) | 感光性树脂组合物 | |
TWI482811B (zh) | A photohardenable resin composition, a hardened product thereof, and a printed wiring board | |
JP5137674B2 (ja) | Mems用感光性樹脂組成物及びその硬化物 | |
CN107458042A (zh) | 晶片层合体和制备方法 | |
JP4033455B2 (ja) | 感光性樹脂組成物及びその硬化物 | |
TW200837498A (en) | Alkali developable photosensitive paste composition | |
JP4738259B2 (ja) | 感光性樹脂組成物、並びにその硬化物 | |
TW202208474A (zh) | 感光性樹脂組成物 | |
KR102671237B1 (ko) | 네가티브형 감광성 수지 조성물 | |
JP2008070416A (ja) | パターン形成方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant |