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WO2009151098A1 - βセクレターゼ阻害作用を有する含硫黄複素環誘導体 - Google Patents

βセクレターゼ阻害作用を有する含硫黄複素環誘導体 Download PDF

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WO2009151098A1
WO2009151098A1 PCT/JP2009/060696 JP2009060696W WO2009151098A1 WO 2009151098 A1 WO2009151098 A1 WO 2009151098A1 JP 2009060696 W JP2009060696 W JP 2009060696W WO 2009151098 A1 WO2009151098 A1 WO 2009151098A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
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substituent
compound
optionally substituted
optionally
lower alkyl
Prior art date
Application number
PCT/JP2009/060696
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
章洋 堀
秀爾 米澤
千明 藤越
彩枝 松本
雄二 郡山
達彦 上野
輝和 加藤
Original Assignee
塩野義製薬株式会社
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Filing date
Publication date
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    • C07D487/04—Ortho-condensed systems

Definitions

  • the present invention relates to a compound having an inhibitory effect on amyloid ⁇ production and useful as a therapeutic agent for diseases induced by production, secretion and / or deposition of amyloid ⁇ protein.
  • amyloid ⁇ protein In the brain of Alzheimer's disease patients, insoluble spots (senile plaques) in which a peptide consisting of about 40 amino acids called amyloid ⁇ protein accumulates outside the nerve cells are widely observed. It is thought that Alzheimer's disease develops when this senile plaque kills nerve cells, and amyloid ⁇ protein degradation accelerators, amyloid ⁇ vaccines, and the like have been studied as therapeutic agents for Alzheimer's disease.
  • Secretase is an enzyme that cleaves a protein called amyloid ⁇ precursor protein (APP) in cells to produce amyloid ⁇ protein.
  • APP amyloid ⁇ precursor protein
  • the enzyme that controls the generation of the N-terminus of amyloid ⁇ protein is called ⁇ -site APP-cleaving enzyme 1, BACE-1.
  • Patent Document 1 describes a compound having a structure similar to that of the compound of the present invention, and discloses that it has NO synthase inhibitory activity and is effective for dementia.
  • Patent Documents 2 to 5 describe compounds having a structure similar to that of the present invention, but each has a blood pressure raising agent, a morphine-like analgesic or tranquilizer, a pharmaceutical intermediate, NPYY5, respectively. It is described that it is useful as an antagonist, an analgesic or the like.
  • Patent Documents 6 to 24 and the like are known as ⁇ -secretase inhibitors, all of which have a skeleton different from the compound of the present invention.
  • a compound having an inhibitory action on amyloid ⁇ production particularly an inhibitory action on ⁇ secretase, and useful as a therapeutic agent for diseases induced by production, secretion or deposition of amyloid ⁇ protein.
  • the present invention 1) The following formula (I): (In the formula, ring A is a carbocyclic group which may have a substituent or a heterocyclic group which may have a substituent, R 1 may have a lower alkyl optionally having a substituent, a lower alkenyl optionally having a substituent, a lower alkynyl optionally having a substituent, cyano, and optionally having a substituent.
  • R 2a and R 2b are each independently hydrogen, optionally substituted lower alkyl, or optionally substituted acyl
  • R 3a and R 3c are each independently hydrogen, halogen, hydroxy, optionally substituted lower alkyl, optionally substituted lower alkenyl, optionally substituted lower Alkynyl
  • acyl optionally having substituent, lower alkoxy optionally having substituent, aryl lower alkyl optionally having substituent, heteroaryl lower optionally having substituent Alkyl, optionally substituted aryl lower alkylkyloxy, optionally substituted heteroaryl lower alkyloxy, optionally substituted lower alkylthio, carboxy, cyano substituent Lower alkoxycarbonyl which may have, amino which may have a substituent, carbamoyl which may have a substituent, may have a substituent A carbocyclic group or optionally substituted heterocyclic group, or R 3a and R 3c
  • R x is an optionally substituted carbocyclic group or an optionally substituted heterocyclic group
  • R 3a and R 3b are each independently hydrogen, halogen, hydroxy, optionally substituted lower alkyl, optionally substituted lower alkenyl, optionally substituted lower Alkynyl, acyl optionally having substituent, lower alkoxy optionally having substituent, aryl lower alkyl optionally having substituent, heteroaryl lower optionally having substituent Alkyl, optionally substituted aryl lower alkoxy, optionally substituted heteroaryl lower alkoxy, optionally substituted lower alkylthio, carboxy, cyano, substituted Optionally substituted lower alkoxycarbonyl, optionally substituted amino, optionally substituted carbamoyl, optionally substituted carbocyclic group
  • R 3a and R 3b are each independently hydrogen, halogen, hydroxy, optionally substituted lower alkyl, optionally substituted lower alkenyl, optionally substituted lower Alkynyl, acy
  • R y is a halogeno lower alkyl
  • R 3a , R 3b , R 3c and R 3d each independently have hydrogen, halogen, hydroxy, optionally substituted lower alkyl, optionally substituted lower alkenyl, or optionally substituted.
  • Ring A is (Wherein ring A ′ is a carbocyclic group or a heterocyclic group; G is Wherein R 5 is hydrogen, lower alkyl or acyl; R 6 is optionally substituted lower alkyl, optionally substituted lower alkenyl, or optionally substituted lower alkynyl, W 1 is O or S; W 2 is O, S or NR 5 ; Ak is a lower alkylene which may have a substituent, a lower alkenylene which may have a substituent or a lower alkynylene which may have a substituent, Ring B is a carbocyclic group which may have a substituent or a heterocyclic group which may have a substituent.
  • R 4 is independently halogen, hydroxy, mercapto, halogeno lower alkyl, lower alkyl, lower alkoxy, optionally substituted amino or lower alkylthio, and n is an integer of 0-2.
  • a method for treating a disease 23) The compound according to any one of the above 1) to 16) or a pharmaceutically acceptable salt thereof for producing a medicament for the treatment of a disease induced by production, secretion or deposition of amyloid ⁇ protein, or Use of those solvates, 24) The compound according to any one of the above 1) to 16) or a pharmaceutically acceptable salt thereof or a solvate thereof used for the treatment of a disease induced by production, secretion or deposition of amyloid ⁇ protein , 25) A method for treating Alzheimer's disease, comprising administering the compound according to any one of the above 1) to 16) or a pharmaceutically acceptable salt thereof or a solvate thereof, 26) Use of the compound according to any one of 1) to 16) above or a pharmaceutically acceptable salt thereof or a solvate thereof for the manufacture of a medicament for the treatment of Alzheimer's disease, 27) The compound according to any one of 1) to 16) or a pharmaceutically acceptable salt thereof or a solvate thereof, which is used for the treatment of
  • the compound of the present invention is useful as a therapeutic agent for diseases (such as Alzheimer's disease) induced by production, secretion or deposition of amyloid ⁇ protein.
  • halogen includes fluorine, chlorine, bromine and iodine.
  • the halogen part of “halogeno lower alkyl”, “halogeno lower alkoxy” and “halogeno lower alkoxycarbonyl” is the same as the above “halogen”.
  • “Lower alkyl” includes linear or branched alkyl having 1 to 15 carbon atoms, preferably 1 to 10 carbon atoms, more preferably 1 to 6 carbon atoms, and still more preferably 1 to 3 carbon atoms.
  • the substituent group ⁇ is halogen, hydroxy, lower alkoxy, halogeno lower alkoxy, hydroxy lower alkoxy, lower alkoxy lower alkoxy, acyl, acyloxy, carboxy, lower alkoxycarbonyl, amino, acylamino, lower alkylamino, imino, hydroxy Imino, lower alkoxyimino, lower alkylthio, carbamoyl, lower alkylcarbamoyl, hydroxy lower alkylcarbamoyl, sulfamoyl, lower alkylsulfamoyl, lower alkylsulfinyl, lower alkylsulfonylamino, lower alkylsulfonyl lower alkylamino, lower alkylsulfonylimino, lower Alkylsulfinylamino, lower alkylsulfinyl lower alkylamino, lower alkylsulfinylimino, Bruno
  • Substituents of “lower alkoxy optionally having substituent”, “lower alkoxycarbonyl optionally having substituent” and “lower alkylthio optionally having substituent” are the above substituents And one or more groups selected from the group ⁇ .
  • Preferable embodiments of “halogeno lower alkyl” include trifluoromethyl, fluoromethyl, trichloromethyl and the like.
  • “Lower alkylidene” includes the above-mentioned divalent group of “lower alkyl” and includes, for example, methylidene, ethylidene, propylidene, isopropylidene, butylidene, pentylidene, hexylidene and the like.
  • “Lower alkenyl” means 2 to 15 carbon atoms having one or more double bonds at any position, preferably 2 to 10 carbon atoms, more preferably 2 to 6 carbon atoms, and further preferably 2 to 4 carbon atoms. Of linear or branched alkenyl.
  • “Lower alkynyl” refers to straight or branched alkynyl having 2 to 10, preferably 2 to 8, and more preferably 3 to 6 carbon atoms having one or more triple bonds at any position. Include. Specifically, ethynyl, propynyl, butynyl, pentynyl, hexynyl, heptynyl, octynyl, nonynyl, decynyl and the like are included. These may further have a double bond at an arbitrary position. Examples of the substituents of “optionally substituted lower alkenyl” and “optionally substituted lower alkynyl” include one or more groups selected from the above substituent group ⁇ .
  • “Hydroxy lower alkenyl”, “lower alkoxy lower alkenyl”, “lower alkoxycarbonyl lower alkenyl”, “carbocyclic lower alkenyl”, “lower alkenyloxy”, “lower alkoxy lower alkenyloxy”, “lower alkenylthio” and “lower The lower alkenyl part of “alkenylamino” is the same as the above “lower alkenyl”.
  • “Hydroxy lower alkynyl”, “lower alkoxy lower alkynyl”, “lower alkoxycarbonyl lower alkynyl”, “carbocyclic lower alkynyl”, “lower alkynyloxy”, “lower alkoxy lower alkynyloxy”, “lower alkynylthio” and “lower The lower alkynyl part of “alkynylamino” is the same as the above “lower alkynyl”.
  • substituents of “optionally substituted amino” and “optionally substituted carbamoyl” include lower alkyl, acyl, hydroxy, lower alkoxy, lower alkoxycarbonyl, carbocyclic group and Examples thereof include 1 to 2 groups selected from a heterocyclic group and the like.
  • “Acyl” includes aliphatic acyl having 1 to 10 carbon atoms, carbocyclic carbonyl and heterocyclic carbonyl.
  • acyl Specifically, formyl, acetyl, propionyl, butyryl, isobutyryl, valeryl, pivaloyl, hexanoyl, acryloyl, propioroyl, methacryloyl, crotonoyl, benzoyl, cyclohexanecarbonyl, pyridinecarbonyl, furancarbonyl, thiophenecarbonyl, benzothiazolecarbonyl, pyrazinecarbonyl, Examples include piperidine carbonyl and thiomorpholino.
  • the acyl moiety of “acylamino” and “acyloxy” is the same as described above.
  • substituent of “acyl optionally having substituent (s)” include one or more groups selected from substituent group ⁇ .
  • the ring portion of carbocyclic carbonyl and heterocyclic carbonyl is represented by one or more groups selected from lower alkyl, substituent group ⁇ , and lower alkyl substituted by one or more groups selected from substituent group ⁇ . May be substituted.
  • the “carbocyclic group” includes cycloalkyl, cycloalkenyl, aryl, non-aromatic fused carbocyclic group and the like.
  • “Cycloalkyl” is a carbocyclic group having 3 to 10 carbon atoms, preferably 3 to 8 carbon atoms, more preferably 4 to 8 carbon atoms.
  • Cycloalkyl lower alkyl "cycloalkyloxy”, “cycloalkyl lower alkoxy”, “cycloalkylthio", “cycloalkylamino”, “cycloalkyl lower alkylamino”, “cycloalkylsulfamoyl”, “cycloalkyl
  • the cycloalkyl part of “sulfonyl”, “cycloalkylcarbamoyl”, “cycloalkyl lower alkylcarbamoyl”, “cycloalkyl lower alkoxycarbonyl” and “cycloalkyloxycarbonyl” is the same as the above “cycloalkyl”.
  • Cycloalkenyl includes those having one or more double bonds at any position in the cycloalkyl ring, specifically, cyclopropenyl, cyclobutenyl, cyclopentenyl, cyclohexenyl, cyclo Examples include heptynyl, cyclooctynyl and cyclohexadienyl.
  • Aryl includes phenyl, naphthyl, anthryl, phenanthryl and the like, with phenyl being particularly preferred.
  • non-aromatic fused carbocyclic group includes a non-aromatic group in which two or more cyclic groups selected from the above “cycloalkyl”, “cycloalkenyl” and “aryl” are condensed, and specifically Includes indanyl, indenyl, tetrahydronaphthyl, fluorenyl and the like. “To form a carbocycle together with carbon atoms to be bonded” means that two substituents are combined to form the above “cycloalkyl” or “cycloalkenyl”.
  • Carbocyclic oxy “Carbocyclic lower alkyl”, “Carbocyclic lower alkenyl”, “Carbocyclic lower alkynyl”, “Carbocyclic lower alkoxy”, “Carbocyclic lower alkoxycarbonyl”, “Carbocyclic thio”, “Carbon Ring Amino, Carbocyclic Lower Alkylamino, Carbocyclic Carbonyl, Carbocyclic Sulfamoyl, Carbocyclic Sulfonyl, Carbocyclic Carbamoyl, Carbocyclic Lower Alkylcarbamoyl, and Carbocyclic Oxycarbonyl
  • the carbocyclic moiety is the same as the “carbocyclic group”.
  • Aryl lower alkyl “aryloxy”, “aryloxycarbonyl”, “aryloxycarbonyloxy”, “aryl lower alkoxycarbonyl”, “arylthio”, “arylamino”, “aryl lower alkoxy”, “aryl lower alkyl”
  • the aryl part of “amino”, “arylsulfonyl”, “arylsulfonyloxy”, “arylsulfinyl”, “arylsulfamoyl”, “arylcarbamoyl” and “arylloweralkylcarbamoyl” is the same as the above “aryl”.
  • Heterocyclic group includes a heterocyclic group having one or more heteroatoms arbitrarily selected from O, S and N, specifically, pyrrolyl, imidazolyl, pyrazolyl, pyridyl, pyridazinyl.
  • 5- to 6-membered heteroaryl such as, pyrimidinyl, pyrazinyl, triazolyl, triazinyl, tetrazolyl, furyl, thienyl, isoxazolyl, oxazolyl, oxadiazolyl, isothiazolyl, thiazolyl, thiadiazolyl; Dioxanyl, thilanyl, oxiranyl, oxetanyl, oxathiolanyl, azetidinyl, thianyl, thiazolidinyl, pyrrolidinyl, pyrrolinyl, imidazolidinyl, imidazolinyl, pyrazolidinyl, pyrazolinyl, piperidyl, piperazinyl, morpholinyl, morpholinoyl, thiomorpholinyl, thiomorpholinyl, thiomorpholinyl, thiomorpholin
  • Heterocyclic lower alkyl "heterocyclic oxy”, “heterocyclic thio", "heterocyclic carbonyl”, “heterocyclic lower alkoxy”, “heterocyclic amino”, “heterocyclic carbonylamino”, “heterocyclic sulfamoyl” , “Heterocyclic sulfonyl”, “heterocyclic carbamoyl”, “heterocyclic oxycarbonyl”, “heterocyclic lower alkylamino”, “heterocyclic lower alkoxycarbonyl” and “heterocyclic lower alkylcarbamoyl” are also referred to as " The same as “heterocyclic group”.
  • the “nitrogen-containing aromatic heterocyclic group” is a group containing at least one nitrogen among the above “heterocyclic groups”, for example, pyrrolyl, imidazolyl, pyrazolyl, pyridyl, pyridazinyl, pyrimidinyl, pyrazinyl, 5- to 6-membered heteroaryl such as triazolyl, triazinyl, tetrazolyl, isoxazolyl, oxazolyl, oxadiazolyl, isothiazolyl, thiazolyl, thiadiazolyl, etc .; Quinoxalinyl, purinyl, pteridinyl, benzopyranyl, benzimidazolyl, benzotriazolyl, benzisoxazolyl, benzoxazolyl, Ndoxadiazolyl, benzoisothiazolyl, benzothiazolyl, benzothiadiazolyl, benzotriazolyl
  • the bond of the above “heterocyclic group” and “nitrogen-containing aromatic heterocyclic group” may be located on any ring.
  • the “nitrogen-containing aromatic heteromonocyclic group” means a monocyclic group among the above-mentioned “nitrogen-containing aromatic heterocyclic groups”.
  • Examples include 5- to 6-membered heteroaryl such as pyrrolyl, imidazolyl, pyrazolyl, pyridyl, pyridazinyl, pyrimidinyl, pyrazinyl, triazolyl, triazinyl, tetrazolyl, isoxazolyl, oxazolyl, oxadiazolyl, isothiazolyl, thiazolyl, thiadiazolyl and the like.
  • the bond of the above “nitrogen-containing aromatic heteromonocyclic group” may be located on any carbon atom.
  • the “heteroaryl” includes those that are aromatic cyclic groups among the above “heterocyclic groups”. The same applies to the heteroaryl part of “heteroaryl lower alkyl” and “heteroaryl lower alkoxy”.
  • Substituent group ⁇ (preferably halogen, hydroxy, acyl, acyloxy, carboxy, lower alkoxycarbonyl, carbamoyl, amino, cyano, lower alkylamino and / or lower alkylthio, etc.), Substituent group ⁇ , lower alkyl optionally substituted with one or more groups selected from the group consisting of hydroxyimino and lower alkoxyimino (wherein the substituent is preferably halogen, hydroxy, lower alkoxy and / or lower Alkoxycarbonyl), An amino lower alkyl substituted with one or more groups selected from the substituent group ⁇ (wherein the substituent is preferably acyl, lower alkyl and / or lower alkoxy, etc.), Hydroxyimino lower alkyl, Lower alkoxyimino lower alkyl, Lower alkoxyimino lower alky
  • Lower alkynyloxy optionally substituted with one or more groups selected from substituent group ⁇ (preferably halogen and / or hydroxy etc. as a substituent), Lower alkoxy lower alkynyloxy optionally substituted with one or more groups selected from substituent group ⁇ , Lower alkylthio optionally substituted with one or more groups selected from substituent group ⁇ , Lower alkenylthio which may be substituted with one or more groups selected from substituent group ⁇ , Lower alkynylthio optionally substituted with one or more groups selected from substituent group ⁇ , Lower alkylamino substituted with one or more groups selected from substituent group ⁇ , Lower alkenylamino substituted with one or more groups selected from substituent group ⁇ , Lower alkynylamino substituted with one or more groups selected from substituent group ⁇ , Aminooxy optionally substituted with one or more groups selected from substituent group ⁇ and lower alkylidene, Acyl substituted with one or more groups selected from the substituent group
  • a carbocyclic group (for example, cycloalkyl, aryl, etc.) that may be substituted with one or more groups selected from the group consisting of substituent group ⁇ , azide, lower alkyl and halogeno lower alkyl, A heterocyclic group which may be substituted with one or more groups selected from the group consisting of substituent group ⁇ , azide, lower alkyl and halogeno lower alkyl, A carbocyclic lower alkyl optionally substituted with one or more groups selected from the group consisting of the substituent group ⁇ , azide, lower alkyl and halogeno lower alkyl (for example, cycloalkyl lower alkyl, aryl lower alkyl, etc.), Heterocyclic lower alkyl optionally substituted with one or more groups selected from the group consisting of substituent group ⁇ , azide, lower alkyl and halogeno lower alkyl, Substituent group ⁇ , azido, carbocyclic oxy optionally substituted
  • Heterocyclic lower alkoxy optionally substituted with one or more groups selected from the group consisting of substituent group ⁇ , azide, lower alkyl and halogeno lower alkyl, Substituent group ⁇ , azido, carbocyclic lower alkoxycarbonyl (eg, cycloalkyl lower alkoxycarbonyl, aryl lower alkoxycarbonyl, etc.) optionally substituted with one or more groups selected from the group consisting of azide, lower alkyl and halogeno lower alkyl , Heterocyclic group lower alkoxycarbonyl optionally substituted with one or more groups selected from the group consisting of substituent group ⁇ , azide, lower alkyl and halogeno lower alkyl, Substituent group ⁇ , azido, carbocyclic thio (eg, cycloalkylthio, arylthio etc.) optionally substituted with one or more groups selected from the group consisting of lower alkyl and hal
  • a carbocyclic sulfamoyl group (eg, cycloalkylsulfamoyl, arylsulfamoyl etc.) optionally substituted with one or more groups selected from the group consisting of substituent group ⁇ , azide, lower alkyl and halogeno lower alkyl, Heterocyclic sulfamoyl optionally substituted with one or more groups selected from the group consisting of the substituent group ⁇ , azide, lower alkyl and halogeno lower alkyl, A carbocyclic sulfonyl optionally substituted with one or more groups selected from the group consisting of the substituent group ⁇ , azide, lower alkyl and halogeno lower alkyl (for example, cycloalkylsulfonyl, arylsulfonyl, etc.), Heterocyclic sulfonyl optionally substituted with one or more groups selected from the group consisting of substituent group ⁇ , azide
  • ring A has the substituents shown below:
  • Ak 1 , Ak 2 and Ak 3 each independently have a single bond, a lower alkylene which may have a substituent, a lower alkenylene which may have a substituent or a substituent. And may be lower alkynylene, Ak 4 is lower alkylene which may have a substituent, lower alkenylene which may have a substituent or lower alkynylene which may have a substituent, W 1 and W 3 are each independently O or S; Each W 2 is independently O, S or NR 5 ; R 5 and R 6 are each independently hydrogen, lower alkyl, hydroxy lower alkyl, lower alkoxy lower alkyl, lower alkoxycarbonyl lower alkyl, carbocyclic lower alkyl, lower alkenyl, hydroxy lower alkenyl, lower alkoxy lower alkenyl, lower alkoxycarbonyl Lower alkenyl, carbocyclic lower alkenyl, lower alkynyl, hydroxy lower alkynyl, lower alkoxy lower alkenyl Lower
  • substituent of “group” include one or more groups selected from the group consisting of lower alkyl optionally substituted with one or more groups selected from substituent group ⁇ and substituent group ⁇ .
  • R 4 include halogen, lower alkyl, halogeno lower alkyl, lower alkoxy, and halogeno lower alkoxy.
  • the “lower alkylene” includes a linear or branched divalent carbon chain having 1 to 10, preferably 1 to 6, and more preferably 1 to 3 carbon atoms. Specific examples include methylene, dimethylene, trimethylene, tetramethylene, methyltrimethylene and the like.
  • the lower alkylene part of “lower alkylenedioxy” is the same as the above “lower alkylene”.
  • “Lower alkenylene” is a divalent carbon having 2 to 10 carbon atoms, preferably 2 to 6 carbon atoms, more preferably 2 to 4 carbon atoms, having a double bond at any position. Includes chains.
  • “Lower alkynylene” is a straight chain or branched chain having 2 to 10 carbon atoms, more preferably 2 to 6 carbon atoms, which has a triple bond at an arbitrary position and may further have a double bond. More preferably, it includes a divalent carbon chain having 2 to 4 carbon atoms. Specific examples include ethynylene, propynylene, butynylene, pentynylene and hexynylene.
  • R 3a and R 3c may be combined to form a ring” means that the following formula (I ′′) (In the formula, ring C is an optionally substituted carbocyclic group or an optionally substituted heterocyclic group, and other symbols are as defined in formula (I). .) Preferred examples of ring C include benzene, pyridine, pyrimidine, cyclohexene, tetrahydropyridine, dihydropyran and the like.
  • solvate includes, for example, solvates with organic solvents, hydrates and the like. When forming a hydrate, it may be coordinated with any number of water molecules.
  • the compound represented by the formula (I) includes a pharmaceutically acceptable salt.
  • alkali metals such as lithium, sodium or potassium
  • alkaline earth metals such as magnesium or calcium
  • ammonium salts with organic bases and amino acids, or inorganic acids (hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, hydrobromic acid, phosphorus Acid or hydroiodic acid) and organic acids (acetic acid, trifluoroacetic acid, citric acid, lactic acid, tartaric acid, oxalic acid, maleic acid, fumaric acid, mandelic acid, glutaric acid, malic acid, benzoic acid, phthalic acid, Benzenesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid, methanesulfonic acid, ethanesulfonic acid and the like).
  • hydrochloric acid, phosphoric acid, tartaric acid, methanesulfonic acid and the like are preferable.
  • the compound represented by the formula (I) is not limited to a specific isomer, but all possible isomers (keto-enol isomer, imine-enamine isomer, diastereoisomer, optical isomer) And rotational isomers) and racemates.
  • the compound represented by the formula (I) in which R 2a is hydrogen includes the following tautomers. Similar tautomers are also included in the compounds represented by formulas (II), (III) and (IV).
  • the compound of the present invention represented by the formula (I), (II), (III) or (IV) can be produced, for example, according to the method described in Patent Document 15 or Non-Patent Document 1, or by the following method. .
  • the compound represented by formula (I) can be produced, for example, according to the synthesis method of compound v or compound ab shown below.
  • R 2a is hydrogen, optionally substituted lower alkyl, or optionally substituted acyl
  • R 3c each independently represents hydrogen, halogen, hydroxy, optionally substituted lower alkyl, optionally substituted lower alkenyl, optionally substituted acyl, substituent Lower alkoxy, which may have a substituent, aralkyl which may have a substituent, heteroarylalkyl which may have a substituent, aralkyloxy which may have a substituent, Optionally substituted heteroarylalkyloxy, optionally substituted lower alkylthio, carboxy, optionally substituted lower alkoxycarbonyl, optionally substituted amino, substituent A carbamoyl which may have, a carbocyclic group which may have a substituent or a heterocyclic group which may have a substituent.
  • First step Enolate obtained by reacting with a target ester such as t-butyl propionate in the presence of a base such as lithium diisopropylamide in a solvent such as toluene, dichloromethane or tetrahydrofuran, or in a mixed solvent thereof.
  • a titanium reagent such as chlorotitanium triisopropoxide is added, and a compound p that can be prepared by a known method is added, and the temperature is ⁇ 80 ° C. to 30 ° C., preferably ⁇ 80 ° C.
  • Compound q can be obtained diastereoselectively by reacting for a period of time, preferably 0.1 to 12 hours.
  • Second Step Compound q is dissolved in a solvent such as dioxane, methanol, dichloromethane or the like, or a mixed solvent thereof in the presence of an acid such as hydrochloric acid, hydrobromic acid, sulfuric acid, trifluoroacetic acid, preferably 0 ° C. to 80 ° C.
  • an acid such as hydrochloric acid, hydrobromic acid, sulfuric acid, trifluoroacetic acid, preferably 0 ° C. to 80 ° C.
  • Second Step Add a reducing agent such as borane, sodium hydride, lithium aluminum hydride to the compound r in a solvent such as dioxane, tetrahydrofuran, toluene, or a mixed solvent thereof, and -80 ° C to 80 ° C, preferably Compound s can be obtained by reacting at ⁇ 20 ° C. to 30 ° C. for 0.5 to 48 hours, preferably for 1 to 12 hours.
  • a reducing agent such as borane, sodium hydride, lithium aluminum hydride
  • the compound s is added with an oxidizing agent such as 2-iodoxybenzoic acid in a solvent such as dimethyl sulfoxide or dichloromethane, and is heated at 0 ° C. to 80 ° C., preferably 10 ° C. to 40 ° C., for 0.5 hour to 48 hours.
  • compound u can be obtained by reacting for 1 to 12 hours.
  • the amine and / or aldehyde groups of compound s and compound u are protected by the method described in Protective Groups in Organic Synthesis, Theodora W Green (John Wiley & Sons), etc. as necessary. And can be deprotected in a timely manner.
  • isothiocyanate for example, benzoyl isothiocyanate
  • a protecting group prepared by commercially available or known methods to compound u in a solvent such as dioxane, tetrahydrofuran, toluene, acetone, or a mixed solvent thereof
  • Reaction is performed at 30 ° C. to 50 ° C., preferably ⁇ 10 ° C. to 25 ° C. for 0.1 hour to 12 hours, preferably 0.1 hour to 3 hours, followed by addition of concentrated sulfuric acid, concentrated nitric acid, etc.
  • Compound v can be obtained by reacting at 0 to 100 ° C., preferably 0 to 60 ° C., for 0.5 to 24 hours, preferably 1 to 12 hours.
  • R 3a is each independently hydrogen, halogen, hydroxy, optionally substituted lower alkyl, optionally substituted lower alkenyl, optionally substituted acyl, substituent Lower alkoxy, which may have a substituent, aralkyl which may have a substituent, heteroarylalkyl which may have a substituent, aralkyloxy which may have a substituent, Optionally substituted heteroarylalkyloxy, optionally substituted lower alkylthio, carboxy, optionally substituted lower alkoxycarbonyl, optionally substituted amino, substituent A carbamoyl which may have a carbocyclic group which may have a substituent or a heterocyclic group which may have a substituent, Other symbols are as defined above. )
  • the compound x corresponds to a target product such as methylmagnesium bromide at ⁇ 80 ° C. to 50 ° C., preferably ⁇ 20 ° C. to 20 ° C. in a solvent such as toluene, ether, tetrahydrofuran, or a mixed solvent thereof.
  • Compound y can be obtained by adding a Grignard reagent and reacting for 0.2 to 48 hours, preferably 1 to 24 hours. During the reaction, the yield can be improved by adding titanium tetrachloride.
  • Third Step Compound y is added with an oxidizing agent of an alcohol group such as oxalyl chloride-dimethyl sulfoxide or 2-iodoxybenzoic acid in a solvent such as dimethyl sulfoxide, and at 0 ° C. to 80 ° C., preferably 10 ° C. to 40 ° C.
  • Compound aa can be obtained by reacting for 0.5 to 48 hours, preferably 1 to 6 hours.
  • an isothiocyanate for example, benzoyl isothiocyanate
  • a compound aa in a solvent such as dioxane, tetrahydrofuran, toluene, acetone or a mixed solvent thereof
  • Reaction is performed at 30 ° C. to 50 ° C., preferably ⁇ 10 ° C. to 25 ° C. for 0.1 hour to 12 hours, preferably 0.1 hour to 3 hours, followed by addition of concentrated sulfuric acid, concentrated nitric acid, etc.
  • Compound ab can be obtained by reacting at 0 ° C. to 100 ° C., preferably 0 ° C. to 60 ° C., for 0.5 to 12 hours, preferably for 1 to 6 hours.
  • R x is an optionally substituted carbocyclic group or an optionally substituted heterocyclic group
  • R 2a and R 2b are each independently hydrogen, optionally substituted lower alkyl, or optionally substituted acyl
  • R 3a and R 3b are each independently hydrogen, halogen, hydroxy, optionally substituted lower alkyl, optionally substituted lower alkenyl, optionally substituted acyl.
  • L is a leaving group such as halogen or a lower alkylsulfonyloxy group, Other symbols are as defined above. )
  • Step 1 Compound a, which can be prepared commercially or by a known method, is present in a solvent such as toluene, dichloromethane or tetrahydrofuran, or in a mixed solvent thereof in the presence of a base such as pyridine, triethylamine, diisopropylethylamine or 4-dimethylaminopyridine.
  • a base such as pyridine, triethylamine, diisopropylethylamine or 4-dimethylaminopyridine.
  • N O-dimethylhydroxylamine hydrochloride or a free form thereof at ⁇ 40 ° C. to 60 ° C., preferably ⁇ 20 ° C. to 30 ° C., for 0.1 hour to 24 hours, preferably 0.3 hour to 6 hours.
  • Compound b can be obtained by reaction.
  • Compound b corresponds to a target product such as cyclohexylmagnesium bromide in a solvent such as ether or tetrahydrofuran or a mixed solvent thereof at ⁇ 80 ° C. to 50 ° C., preferably ⁇ 20 ° C. to 20 ° C.
  • Compound c can be obtained by adding a Grignard reagent and reacting for 0.2 to 48 hours, preferably 1 to 24 hours.
  • the first step may not be performed.
  • a compound c dissolved in a solvent such as ether, tetrahydrofuran or dioxane is prepared by adding a strong base such as an alkyl metal reagent such as butyl lithium to prepare a Wittig reagent corresponding to the target product, preferably -40 ° C to 60 ° C, preferably Compound d can be obtained by adding ⁇ 20 ° C. to 30 ° C.
  • Step d is reacted for 1 hour to 72 hours, preferably 6 hours to 48 hours by adding thiophosgene, iodine or thiocyanate in a solvent such as toluene, dichloromethane, tetrahydrofuran, water, or a mixed solvent thereof.
  • a solvent such as toluene, dichloromethane, tetrahydrofuran, water, or a mixed solvent thereof.
  • a fifth step in which an appropriate amount of phase transfer catalyst (for example, tetra-n-butylammonium chloride, tetramethylammonium bromide, etc.) can be added and reacted.
  • phase transfer catalyst for example, tetra-n-butylammonium chloride, tetramethylammonium bromide, etc.
  • R 2a R 2b -amine is added and reacted at 0 ° C. to 120 ° C., preferably 20 ° C. to 80 ° C. for 1 hour to 72 hours, preferably 6 hours to 48 hours.
  • Compound f can be obtained.
  • First Step Compound g that can be prepared commercially or by a known method is prepared in a solvent such as toluene, dichloromethane, tetrahydrofuran, or a mixed solvent thereof in the presence of a base such as diisopropylethylamine, triethylamine, trimethylamine, etc.
  • compound i can be obtained.
  • Third step According to the method described in Chem. Lett., 3, 373-376 (1990), compound i is dissolved in a solvent such as methanol, ethanol, isopropyl alcohol, water, potassium hydroxide, sodium hydroxide, hydroxide.
  • Compound j can be obtained by reacting at 20 ° C. to 100 ° C., preferably 50 ° C. to 100 ° C. for 0.5 hours to 24 hours, preferably 1 hour to 12 hours in the presence of a base such as lithium. .
  • Fourth Step 2-Chloroacetonitrile and concentrated sulfuric acid are added to Compound j in the presence of carboxylic acid such as acetic acid, formic acid, trifluoroacetic acid, and the like, and added at ⁇ 20 ° C. to 100 ° C., preferably 0 ° C. to 40 ° C., 0.2
  • carboxylic acid such as acetic acid, formic acid, trifluoroacetic acid, and the like
  • Compound k can be obtained by reacting for a period of time to 24 hours, preferably 1 hour to 12 hours.
  • Fifth Step Acetic acid and thiourea are added to compound k in a solvent such as methanol, ethanol, isopropyl alcohol and the like, and the temperature is ⁇ 20 ° C. to 100 ° C., preferably 0 ° C.
  • Compound 1 can be obtained by reacting for 1 to 12 hours.
  • the fourth and fifth steps can be performed according to the method described in Synthesis, 12, 1709-1712 (2000).
  • Compound m can be obtained by reacting for 0.2 hour to 24 hours, preferably 1 hour to 12 hours.
  • An isothiocyanate having a protecting group (for example, benzoyl isothiocyanate) prepared by commercially available or known methods is added to compound m in a solvent such as dichloromethane, tetrahydrofuran, toluene, or a mixed solvent, and -30 ° C to 50 ° C is added.
  • Compound n can be obtained by reacting at 0 ° C., preferably ⁇ 10 ° C. to 25 ° C., for 0.5 to 24 hours, preferably 0.5 to 12 hours.
  • Compound n is added to a solvent such as dichloromethane, tetrahydrofuran, toluene, oxalyl chloride, thionyl chloride and the like and a catalytic amount of N, N, -dimethylformamide, or chloro such as 1-chloro-2-trimethylpropenylamine.
  • Compound o can be obtained by adding a oxidant and reacting at 0 ° C. to 100 ° C., preferably 20 ° C. to 50 ° C., for 0.5 hour to 72 hours, preferably 0.5 hour to 12 hours.
  • the compound j can also be synthesized by the following method. (Wherein P c is a protecting group for carboxylic acid, and other symbols are as defined above.)
  • First Step A compound ca that can be prepared commercially or by a known method is dissolved in a solvent such as toluene, dichloromethane, tetrahydrofuran, or a mixed solvent thereof, and the corresponding Grignard reagent such as Rx magnesium bromide is ⁇ 80 ° C. to 30 ° C., preferably Compound cb can be obtained by reacting at ⁇ 40 ° C. to 10 ° C. for 0.1 to 24 hours, preferably 0.1 to 12 hours.
  • Second Step A compound j can be obtained by subjecting the protecting group Pc of the carboxylic acid to a deprotection reaction by a conventional method.
  • C Production of compound represented by formula (III)
  • the compound represented by formula (III) can be produced, for example, according to the synthesis method of compound ai or compound al shown below.
  • C-1) Synthesis of compound ai Wherein R 11 is an optionally substituted aryl, R y is a halogeno lower alkyl; R 3d has hydrogen, halogen, hydroxy, optionally substituted lower alkyl, optionally substituted lower alkenyl, optionally substituted acyl, and optionally substituted.
  • Lower alkoxy which may have, aralkyl which may have a substituent, heteroarylalkyl which may have a substituent, aralkyloxy which may have a substituent, which may have a substituent Good heteroarylalkyloxy, optionally substituted lower alkylthio, carboxy, optionally substituted lower alkoxycarbonyl, optionally substituted amino, substituted An optionally substituted carbamoyl, an optionally substituted carbocyclic group or an optionally substituted heterocyclic group, Other symbols are as defined above. )
  • a solvent ac such as dioxane, tetrahydrofuran, toluene, or a mixed solvent thereof, which is commercially available or can be prepared by a known method
  • dehydration is performed at 50 ° C. to 200 ° C., preferably 80 ° C. to 150 ° C. for 1 hour to 48 hours, preferably 2 hours to 24 hours.
  • Compound ad can be obtained by reacting under conditions.
  • Second Step Compound ad is added in a solvent such as ether or tetrahydrofuran, or a mixed solvent thereof, to a vinyl lithium reagent corresponding to the desired product at ⁇ 80 ° C. to 50 ° C., preferably ⁇ 80 ° C. to 0 ° C.
  • the compound ae can be obtained by reacting for 0.2 to 24 hours, preferably 0.5 to 12 hours.
  • the vinyl lithium reagent can be prepared by adding an alkyl lithium reagent such as butyl lithium to the target tetravinyltin.
  • Third Step Compound ae is added to a borane reagent in a solvent such as dioxane, tetrahydrofuran or the like, or a mixed solvent thereof, and 0 ° C to 60 ° C, preferably 20 ° C to 50 ° C, for 0.2 hours to 12 hours,
  • the compound af can be obtained by reacting for 0.5 to 6 hours, adding alkaline water such as aqueous sodium hydroxide and hydrogen peroxide, and reacting for 0.5 to 12 hours. .
  • Methanol fourth step compound af ethanol, ethyl acetate, in a solvent such as tetrahydrofuran, or a mixture thereof, in addition of Pd (OH) 2, palladium catalysts such as Pd-C, in a stream of hydrogen, 0 ° C.
  • Compound ag can be obtained by reacting at ⁇ 60 ° C., preferably 20 ° C. to 50 ° C. for 1 hour to 24 hours, preferably 1 hour to 12 hours.
  • ⁇ Compound ah is added in a solvent such as dioxane, tetrahydrofuran, toluene, acetone or the like, or a mixed solvent thereof, isothiocyanate having a protecting group (for example, benzoyl isothiocyanate) prepared by a commercially available or known method, ⁇ Compound ah can be obtained by reacting at 30 ° C. to 70 ° C., preferably 0 ° C. to 50 ° C. for 1 hour to 12 hours, preferably 1 hour to 6 hours.
  • a solvent such as dioxane, tetrahydrofuran, toluene, acetone or the like, or a mixed solvent thereof
  • isothiocyanate having a protecting group for example, benzoyl isothiocyanate
  • Compound ah is chlorinated in a solvent such as dichloromethane, tetrahydrofuran or toluene with oxalyl chloride, thionyl chloride or the like and a catalytic amount of N, N-dimethylformamide added, or 1-chloro-2-trimethylpropenylamine or the like.
  • Compound ai can be obtained by adding a reagent and reacting at 0 ° C. to 100 ° C., preferably 10 ° C. to 50 ° C., for 0.5 hour to 72 hours, preferably 0.5 hour to 6 hours.
  • First step In a solvent such as toluene, dichloromethane, tetrahydrofuran, or a mixed solvent thereof, in the presence of a base such as lithium diisopropylamide or potassium hexamethyldisilazide, the corresponding phenyl alkyl ketone (for example, acetophenone) is Compound p that can be prepared by a known method is added to the enolate obtained by the reaction, and the reaction is carried out at ⁇ 80 ° C. to 30 ° C., preferably ⁇ 80 ° C. to 0 ° C. for 0.1 hour to 24 hours, preferably 0. Compound aj can be obtained stereoselectively by reacting for 1 to 12 hours.
  • a base such as lithium diisopropylamide or potassium hexamethyldisilazide
  • Second Step To the compound aj obtained in the first step, hydrochloric acid, hydrobromic acid, trifluoroacetic acid and the like are added, and 0 ° C. to 60 ° C., preferably 0 ° C. to 30 ° C., for 0.1 hour to 24 hours, Preferably, compound ak can be obtained by reacting for 0.5 to 12 hours.
  • Compound (IV) can be produced, for example, according to the synthesis method of compound ao, compound be or compound bh shown below.
  • D-1) Synthesis of compound ao (Wherein R za and R zb each independently represents a lower alkyl optionally having substituent (s), or together with the carbon atom to which they are bonded, forms a carbocycle; Other symbols are as defined above. )
  • the corresponding alkyl ketone (for example, 3-methyl-2 Compound p which can be prepared by a known method is added to the enolate obtained by reacting -butanone or the like) at -80 ° C to 30 ° C, preferably at -80 ° C to 0 ° C, for 0.1 to 24 hours.
  • compound am can be obtained stereoselectively by reacting for 0.1 to 12 hours.
  • Second Step To the compound am obtained in the first step, hydrochloric acid, hydrobromic acid, trifluoroacetic acid and the like are added, and 0 ° C. to 60 ° C., preferably 0 ° C. to 30 ° C., for 0.1 hour to 24 hours, Preferably, compound an can be obtained by reacting for 0.5 to 12 hours.
  • Third Step Add an isothiocyanate having a protecting group (for example, benzoyl isothiocyanate) prepared by commercially available or known methods in a solvent such as dioxane, tetrahydrofuran, toluene, acetone, or a mixed solvent thereof, and- The reaction is carried out at 30 ° C.
  • a protecting group for example, benzoyl isothiocyanate
  • Compound ao can be obtained by adding nitric acid or the like and reacting at ⁇ 30 ° C. to 70 ° C., preferably ⁇ 20 ° C. to 50 ° C. for 1 hour to 12 hours, preferably 1 hour to 6 hours.
  • Second Step A hydrogen chloride solution is added to the compound ba obtained in the first step in a solvent such as methanol, ethanol, water, or a mixed solvent thereof, and the temperature is ⁇ 20 ° C. to 80 ° C., preferably 0 ° C. to 30 ° C.
  • the compound bb can be obtained by reacting for 0.1 to 24 hours, preferably 0.1 to 12 hours.
  • isothiocyanate for example, benzoyl isothiocyanate
  • a protecting group prepared by commercially available or known methods to compound bb in a solvent such as dichloromethane, dioxane, tetrahydrofuran, toluene, acetone, or a mixed solvent thereof.
  • Compound bc can be obtained by reacting at ⁇ 30 ° C. to 70 ° C., preferably ⁇ 20 ° C. to 50 ° C. for 0.1 hour to 12 hours, preferably 0.1 hour to 6 hours.
  • Fourth Step Compound bc is added with a halogenium cation source such as iodine, bromine or NBS in a solvent such as dichloromethane, and at ⁇ 20 ° C. to 40 ° C., preferably at 0 ° C. to 20 ° C., for 0.1 to 12 hours.
  • a halogenium cation source such as iodine, bromine or NBS
  • a solvent such as dichloromethane
  • compound bd can be obtained by reacting for 0.1 to 6 hours.
  • Fifth Step Compound bd is added with a base such as pyrrolidine, piperidine, piperazine, morpholine in a solvent such as dioxane, tetrahydrofuran, toluene or the like, or a mixed solvent thereof.
  • the compound bd can be obtained by reacting for 0.1 to 24 hours, preferably 1 to 12 hours.
  • Step 1 Compound bf is prepared by adding ethyl acrylate and a Grubbs reagent to compound bb in which an amino group is protected with a protecting group in a solvent such as toluene, dichloromethane, tetrahydrofuran or the like, or a mixed solvent thereof, and subjecting it to an olefin metathesis reaction. Can be obtained.
  • the reaction temperature is ⁇ 20 ° C. to 60 ° C., preferably 0 ° C. to 30 ° C.
  • the reaction time is 0.5 hour to 24 hours, preferably 1 hour to 12 hours.
  • Second Step Add isothiocyanate (for example, benzoyl isothiocyanate) having a protecting group prepared by commercially available or known methods to compound bf in a solvent such as dichloromethane, dioxane, tetrahydrofuran, toluene, acetone, or a mixed solvent thereof.
  • Compound bg can be obtained by reacting at ⁇ 30 ° C. to 70 ° C., preferably ⁇ 20 ° C. to 50 ° C. for 0.1 hour to 12 hours, preferably 0.1 hour to 6 hours.
  • Third Step The compound bg is subjected to a reduction reaction by adding diisobutylaluminum hydride, lithium aluminum hydride, sodium hydride, etc.
  • Compound bh can be obtained by reacting at 0 ° C., preferably ⁇ 80 ° C. to ⁇ 20 ° C. for 0.1 hour to 12 hours, preferably 0.1 hour to 3 hours.
  • the compound bh can be further converted by subjecting it to an appropriate reaction.
  • Compound af-1 can be obtained by reacting at -100 ° C for 0.5 hour to 48 hours, preferably 3 hours to 20 hours.
  • the amino protecting group may be any substituent that can be deprotected by the method described in Protective Groups in Organic Synthesis, Theodora W Green (John Wiley & Sons), etc., for example, lower alkoxycarbonyl, lower alkenyloxycarbonyl, trialkylsilyl, Examples include acyl, methanesulfonyl, trifluoroethanesulfonyl, toluenesulfonyl and the like.
  • the compounds v, ab, al, ao, be and bh are, for example, (1) T. Fujisawa et al., Tetrahedron Lett., 37, 3881-3884 (1996), (2) D. H. Hua et al, Sulfur Reports, vol. 21, pp. 211-239 (1999) (3) Y. Koriyama et al., Tetrahedron, 58, 9621-9628 (2002) or (4) T. Vilavan et al, Cuuent Organic Chemistry, 9, It can be produced according to the method described in 1315-1392 (2005), or by optical resolution of each intermediate and final product, or by the following method.
  • Optical resolution methods include separation of optical isomers using optically active columns, kinetic optical resolution using enzymatic reactions, etc., diastereomers by salt formation using chiral acids and chiral bases. There are crystallization division, preferential crystallization method and the like.
  • Formula (I ′) 1) a compound in which ring A ′ is phenyl or a nitrogen-containing aromatic heterocyclic group (hereinafter referred to as a compound in which ring A ′ is A′1), A compound in which ring A ′ is phenyl, pyridyl, indolyl, benzisoxazolyl, benzopyrazolyl or benzofuryl, benzothienyl, benzodioxolyl, or dihydrobenzodioxolanyl (hereinafter, ring A ′ is A′2) Compound), A compound in which ring A ′ is phenyl (hereinafter referred to as a compound in which ring A ′ is A′3), A compound in which ring A ′ is pyridyl (hereinafter referred to as a compound in which ring A ′ is A′4), 2) R 1 compounds is lower alkyl which
  • R 4 is R4-1 Compound
  • R 4 is R4-2
  • G is the above (ii), (iv), (v), (x), (xiii) or (xiv)
  • G is G1
  • G is the above (ii ′), (ii ′′), (iv ′), (v ′), (x ′), (xiii ′) or (xiv ′)
  • G is G2
  • G is the above (ii ′), (ii ′′), (iv ′), (v ′), (x ′), (xiii ′) or (xiv ′)
  • G is G2
  • G is the above (ii ′), (ii ′′), (iv ′),
  • Mayoxazolyl which may have a substituent, benzothiazolyl which may have a substituent, thiazopyridyl which may have a substituent, quinolyl which may have a substituent, Good isoquinolyl or optionally substituted naphthyridinyl, optionally substituted quinazolinyl or optionally substituted pyridopyrimidinyl (wherein the substituent is the substituent group ⁇ And a compound having 1 to 3 groups selected from the group consisting of lower alkyl optionally substituted with one or more groups selected from substituent group ⁇ (hereinafter, G is G4) ), G is the above (ii ′), R 5 is hydrogen or lower alkyl, W 1 is O, and ring B may have an optionally substituted pyridyl or optionally substituted.
  • a combination of ring A ′, R 1 , R 2a and R 2b , R 3a and R 3c , n and R 4 , G is as follows: (A'1, R1-1, R2-1, R3-1, R4-1, G1), (A'1, R1-1, R2-1, R3-1, R4-1, G2), (A '1, R1-1, R2-1, R3-1, R4-1, G3), (A'1, R1-1, R2-1, R3-1, R4-1, G4), (A'1 , R1-1, R2-1, R3-1, R4-1, G5), (A'1, R1-1, R2-1, R3-1, R4-2, G1), (A'1, R1 -1, R2-1, R3-1, R4-2, G2), (A'1, R1-1, R2-1, R3-1, R4-2, G3), (A'1, R1-1 , R2-1, R3-1, R4-2, G4),
  • R x is have good carbocyclic group or a substituted group which may have a substituent is also optionally heterocyclic group compound (hereinafter, R x is a compound which is Rx-1) , R x represents phenyl optionally having substituent, pyridyl optionally having substituent, pyrazinyl optionally having substituent, thiazolyl optionally having substituent, and substituent.
  • R x is Rx-2 And a compound that is A compound in which R x is cyclohexyl, pyrrolinyl, morpholinyl, piperidyl, piperazinyl (hereinafter referred to as a compound in which R x is Rx-3), 3) A compound in which R 2a and R 2b are each independently hydrogen, lower alkyl or acyl (hereinafter referred to as a compound in which R 2a and R 2b are R2-1), A compound in which R 2a and R 2b are both hydrogen (hereinafter referred to as a compound in which R 2a and R 2b are both hydrogen (hereinafter referred to as a compound in which R 2a and R 2b are both hydrogen (hereinafter referred to as a compound in which R 2a and R 2b are both hydrogen (hereinafter referred to as a compound in which R 2a and R 2b are both hydrogen (hereinafter referred to as a compound in which R 2a and R 2b are both hydrogen (her
  • R 4 is R4-1 And a compound in which n is 0 to 2 and each R 4 is independently a halogen (hereinafter referred to as a compound in which R 4 is R4-2), 6) A compound in which G is the above (ii), (iv), (v), (x), (xiii) or (xiv) (hereinafter referred to as a compound in which G is G1), A compound in which G is the above (ii ′), (ii ′′), (iv ′), (v ′), (x ′), (xiii ′) or (xiv ′) (hereinafter, a compound in which G is G2) And) G is the above (ii ′), (ii ′′), (iv ′), (
  • Mayoxazolyl which may have a substituent, benzothiazolyl which may have a substituent, thiazopyridyl which may have a substituent, quinolyl which may have a substituent, Good isoquinolyl or optionally substituted naphthyridinyl, optionally substituted quinazolinyl or optionally substituted pyridopyrimidinyl (wherein the substituent is the substituent group ⁇ And a compound having 1 to 3 groups selected from the group consisting of lower alkyl optionally substituted with one or more groups selected from substituent group ⁇ (hereinafter, G is G4) ), G is the above (ii ′), R 5 is hydrogen or lower alkyl, W 1 is O, and ring B may have an optionally substituted pyridyl or optionally substituted.
  • a compound in which the combination of ring A ′, R x , R 2a and R 2b , R 3a and R 3b , n and R 4 and G in formula (II ′) is as follows.
  • R y is lower alkyl substituted by halogen
  • R y is a compound which is Ry-1
  • a compound in which R y is trifluoromethyl hereinafter referred to as a compound in which R y is Ry-2
  • a compound in which R 2a and R 2b are each independently hydrogen, lower alkyl or acyl hereinafter referred to as a compound in which R 2a and R 2b are R2-1
  • a compound in which R 2a and R 2b are both hydrogen (hereinafter referred to as a compound in which R 2a and R 2b are R2-2)
  • R 3a , R 3b , R 3c and R 3d are each independently hydrogen, halogen, hydroxy, lower alkyl or amino
  • R 3a , R 3b , R 3c and R 3d are R3-1
  • R 4 is R4-1 And a compound in which n is 0 to 2 and each R 4 is independently a halogen (hereinafter referred to as a compound in which R 4 is R4-2), 6) A compound in which G is the above (ii), (iv), (v), (x), (xiii) or (xiv) (hereinafter referred to as a compound in which G is G1), A compound in which G is the above (ii ′), (ii ′′), (iv ′), (v ′), (x ′), (xiii ′) or (xiv ′) (hereinafter, a compound in which G is G2) And) G is the above (ii ′), (ii ′′), (iv ′), (
  • a compound in which the combination of ring A ′, R y , R 2a and R 2b , R 3a , R 3b , R 3c and R 3d , n and R 4 , G is as follows: (A'1, Ry-1, R2-1, R3-1, R4-1, G1), (A'1, Ry-1, R2-1, R3-1, R4-1, G2), (A '1, Ry-1, R2-1, R3-1, R4-1, G3), (A'1, Ry-1, R2-1, R3-1, R4-1, G4), (A'1 , Ry-1, R2-1, R3-1, R4-1, G5), (A'1, Ry-1, R2-1, R3-1, R4-2, G1), (A'1, Ry -1, R2-1, R3-1, R4-2, G2), (A'1, Ry-1, R2-1, R3-1, R4-2, G3), (A'1, Ry-1 , R2-1, R3-1, R4-2, G4), (A
  • R za and R zb are each independently hydrogen, halogen, or optionally substituted lower alkyl, 1) A compound in which ring A ′ is phenyl or a nitrogen-containing aromatic heterocyclic group (hereinafter referred to as a compound in which ring A ′ is A′1), A compound in which ring A ′ is phenyl, pyridyl, indolyl, benzisoxazolyl, benzopyrazolyl or benzofuryl, benzothienyl, benzodioxolyl, dihydrobenzodioxolanyl (hereinafter, a compound in which ring A ′ is A′2) And) A compound in which ring A ′ is phenyl (hereinafter referred to as a compound in which ring A ′ is A′3), A compound in which ring A ′ is pyridyl (hereinafter referred to as a compound in which ring A ′),
  • R 1 compounds is lower alkyl which may have a substituent (hereinafter, R 1 is a compound which is R1-1), A compound in which R 1 is methyl (hereinafter referred to as a compound in which R 1 is R1-2), 3) A compound in which R 2a and R 2b are each independently hydrogen, lower alkyl or acyl (hereinafter referred to as a compound in which R 2a and R 2b are R2-1), A compound in which R 2a and R 2b are both hydrogen (hereinafter referred to as a compound in which R 2a and R 2b are R2-2), 4) A compound in which R 3c and R 3d are each independently hydrogen, halogen, hydroxy, lower alkyl or amino (hereinafter referred to as a compound in which R 3c and R 3d are R3-1), Compounds R 3c and R 3d are the same substituent selected from halogen or lower alkyl (hereinafter, R 3c and R 3d are the compounds which are R3-2), A compound in which R
  • R 4 is R4-1 And a compound in which n is 0 to 2 and each R 4 is independently a halogen (hereinafter referred to as a compound in which R 4 is R4-2), 6) A compound in which G is the above (ii), (iv), (v), (x), (xiii) or (xiv) (hereinafter referred to as a compound in which G is G1), A compound in which G is the above (ii ′), (ii ′′), (iv ′), (v ′), (x ′), (xiii ′) or (xiv ′) (hereinafter, a compound in which G is G2) And) G is the above (ii ′), (ii ′′), (iv ′), (
  • Mayoxazolyl which may have a substituent, benzothiazolyl which may have a substituent, thiazopyridyl which may have a substituent, quinolyl which may have a substituent, Good isoquinolyl or optionally substituted naphthyridinyl, optionally substituted quinazolinyl or optionally substituted pyridopyrimidinyl (wherein the substituent is the substituent group ⁇ And a compound having 1 to 3 groups selected from the group consisting of lower alkyl optionally substituted with one or more groups selected from substituent group ⁇ (hereinafter, G is G4) ), G is the above (ii ′), R 5 is hydrogen or lower alkyl, W 1 is O, and ring B may have an optionally substituted pyridyl or optionally substituted.
  • a compound in which the combination of ring A ′, R 1 , R 2a and R 2b , R 3c and R 3d , n and R 4 , G is as follows: (A'1, R1-1, R2-1, R3-1, R4-1, G1), (A'1, R1-1, R2-1, R3-1, R4-1, G2), (A '1, R1-1, R2-1, R3-1, R4-1, G3), (A'1, R1-1, R2-1, R3-1, R4-1, G4), (A'1 , R1-1, R2-1, R3-1, R4-1, G5), (A'1, R1-1, R2-1, R3-1, R4-2, G1), (A'1, R1 -1, R2-1, R3-1, R4-2, G2), (A'1, R1-1, R2-1, R3-1, R4-2, G3), (A'1, R1-1 , R2-1, R3-1, R4-2, G4), (A'1,
  • the compound of the present invention is useful for diseases induced by production, secretion or deposition of amyloid ⁇ protein.
  • diseases induced by production, secretion or deposition of amyloid ⁇ protein For example, Alzheimer type dementia (Alzheimer's disease, Alzheimer type senile dementia etc.), Down's syndrome, memory disorder, prion disease (Kreuz's disease) Felt-Jakob disease, etc.), mild cognitive impairment (MCI), Dutch hereditary amyloid cerebral hemorrhage, cerebral amyloid angiopathy, other degenerative dementia, mixed vascular dementia, dementia associated with Parkinson's disease, progression Treatment and / or prevention of dementia associated with supranuclear paralysis, dementia associated with corticobasal degeneration, diffuse Lewy body Alzheimer's disease, age-related macular degeneration, Parkinson's disease, amyloid angiopathy, etc. It is effective for improvement.
  • Alzheimer type dementia Alzheimer's disease, Alzheimer type senile dementia etc.
  • the compound of the present invention has high inhibitory activity on ⁇ -secretase and / or high selectivity to other enzymes, and therefore can be a pharmaceutical with reduced side effects. Furthermore, since it has a high inhibitory effect on amyloid ⁇ production in cell systems, and particularly has a high inhibitory effect on amyloid ⁇ production in the brain, it can be an excellent pharmaceutical product. Moreover, it can become a pharmaceutical with a wider safety margin with respect to a side effect by setting it as the optically active substance which has appropriate stereochemistry.
  • the compound of the present invention has high metabolic stability, high solubility, high oral absorption, good bioavailability, good clearance, high brain transferability, long half-life, non-protein binding rate Also has advantages such as high HERG channel inhibition, low CYP inhibition and / or negative Ames test.
  • Alzheimer's disease therapeutic agents such as acetylcholinesterase
  • it can be used in combination with antidementia drugs such as donepezil hydrochloride, tacrine, galantamine, rivastigmine, zanapezil, memantine, and vinpocetine.
  • antidementia drugs such as donepezil hydrochloride, tacrine, galantamine, rivastigmine, zanapezil, memantine, and vinpocetine.
  • the compound of the present invention When the compound of the present invention is administered to humans, it can be administered orally as powders, granules, tablets, capsules, pills, liquids, etc. or parenterally as injections, suppositories, transdermal absorption agents, inhalants, etc. Can be administered.
  • excipients, binders, wetting agents, disintegrants, lubricants and the like suitable for the dosage form may be mixed with an effective amount of this compound as necessary to obtain a pharmaceutical preparation. it can.
  • the dose varies depending on the disease state, administration route, patient age, or body weight, but when administered orally to an adult, it is usually 0.1 ⁇ g to 1 g / day, preferably 0.01 to 200 mg / day. In the case of parenteral administration, it is usually 1 ⁇ g to 10 g / day, preferably 0.1 to 2 g / day.
  • Step 1 Compound (10) (7.17 g) was dissolved in tetrahydrofuran (70.0 ml), 1-ethynyl-4-methoxybenzene (5.63 g), tetrakistriphenylphosphine palladium (4.10 g), copper iodide (338 mg) ) And diisopropylamine (70.0 ml) were added, and the mixture was stirred at reflux for 30 minutes. The solvent was distilled off under reduced pressure and dichloromethane was added to remove insoluble matters. Purification by column chromatography, dichloromethane and n-hexane were added, and the precipitated solid was collected by filtration to obtain compound (11) (8.99 g).
  • reaction solvent was extracted with ethyl acetate and washed with an aqueous sodium thiosulfate solution and distilled water. The separated organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate, and the solvent was distilled off under reduced pressure. Dichloromethane and diisopropyl ether were added to the residue, and the precipitated solid was collected by filtration to obtain compound (12) (532 mg).
  • Step 6 To a solution of the compound (27) (3.77 g) obtained in Step 5 in methanol (60 ml), methyl orthoformate (38 ⁇ l) and p-toluenesulfonic acid monohydrate (66 mg) were added. The mixture was stirred for 30 minutes under heating and reflux. The solvent was distilled off under reduced pressure and diluted with ethyl acetate. The organic layer was washed with a saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and dried over anhydrous magnesium sulfate. The solvent was distilled off under reduced pressure to obtain Compound (28) (3.55 g) as a crude product.
  • Step 9 Compound (48) (50 mg) is dissolved in methanol (0.5 ml), 20% Pd (OH) 2 (28 mg: 50% wet) is added, and the mixture is stirred for 8 hours under a hydrogen stream, and then filtered through Celite. The filtrate obtained in 1 was evaporated under reduced pressure to give a crude product (49) (33 mg).
  • Step 12 Compound (51) (80 mg) was dissolved in dichloromethane (2 ml), and 1-chloro-2-trimethylpropenylamine (0.043 ml) was added under a nitrogen stream. After stirring at room temperature for 1 hour, an aqueous sodium bicarbonate solution was added, and the mixture was extracted with ethyl acetate, washed with water and washed with brine, and then dried over anhydrous sodium sulfate, and the solvent was distilled off under reduced pressure. The residue was purified by silica gel thin layer chromatography to obtain compound (52) (58 mg).
  • Second Step 4 mol / L hydrochloric acid / dioxane solution (1.8 ml) and methanol (45 ⁇ l) were added to a mixture (380 mg) of the compound (55) obtained in the first step, and the mixture was stirred at room temperature for 1.5 hours. Diethyl ether and water were added, the aqueous layer was made alkaline with 28% aqueous ammonia, and extracted with ethyl acetate. The organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate, and the solvent was evaporated under reduced pressure to obtain Compound (56) (181 mg).
  • Second Step A 4 mol / L hydrochloric acid / dioxane solution (1.65 ml) and methanol (40 ⁇ l) were added to the compound (60) (307 mg) obtained in the first step, and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour. Diethyl ether and water were added, the aqueous layer was made alkaline with 28% aqueous ammonia, and extracted with ethyl acetate. The organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate, and the solvent was evaporated under reduced pressure to obtain compound (61) (209 mg).
  • Step 1 Compound (71) (8.00 g) was dissolved in methylene chloride (20 ml), ethyl acrylate (40 ml) and second generation Grubbs catalyst (0.412 g) were added, and the mixture was stirred at room temperature for 2 hours under a nitrogen atmosphere. Stir. The solvent was distilled off under reduced pressure, and the residue was subjected to column chromatography to obtain compound (72) (8.34 g).
  • reaction mixture was diluted with ethyl acetate and water, sodium sulfite was added, neutralized with sodium hydrogen carbonate, and extracted with ethyl acetate.
  • the organic layer was dried over anhydrous sodium sulfate and filtered, then the solvent was distilled off under reduced pressure, and the residue was subjected to column chromatography to obtain compound (74) (0.939 g).
  • Step 4 Compound (74) (0.700 mg) is dissolved in toluene (2.5 ml), keeping the internal temperature at -50 ° C or lower, 1 mol / L diisobutylaluminum hydride toluene solution is added dropwise over 5 minutes, acetone-dry The mixture was further stirred for 30 minutes under cooling in an ice bath. After quenching with methanol, the mixture was warmed to room temperature and filtered, and then the solvent was distilled off under reduced pressure. The residue was subjected to column chromatography to obtain compound (75) (0.183 g).
  • Step 1 Compound (77) (500 mg) is dissolved in dimethylacetamide (7.5 ml), potassium carbonate (440 mg) and 1H-1,2,4-triazole (200 mg) are added, and the mixture is irradiated under microwave irradiation. Stir at 0 ° C. for 10 minutes. Water was added and the mixture was extracted with ethyl acetate. The organic layer was washed with water and saturated brine, dried over anhydrous magnesium sulfate, and the solvent was evaporated under reduced pressure. The residue was washed with diisopropyl alcohol to obtain Compound (78) (451 mg).
  • n 1 or 2
  • compound (89) (10.0 g) was dissolved in acetonitrile (200 ml), and benzyl 2-bromoethyl ether (9.5 ml) and potassium carbonate (11.3 g) were added. Stir for hours. After allowing to cool to room temperature, the solvent was distilled off under reduced pressure, water was added, and the mixture was extracted with ethyl acetate.
  • Second Step Compound (103) (1.05 g) is dissolved in ethanol (3 ml), acetamidine hydrochloride (500 mg) is added, and the mixture is heated to reflux for 7 hours. After evaporating the solvent under reduced pressure, water was added and the mixture was extracted with ethyl acetate.
  • Step 3 Compound (104) (2.15 g) is added to a pyridine (20 ml) solution, selenium dioxide (4.01 g) is added, and the mixture is stirred at 80 ° C. for 4 hours. The mixture was allowed to stand overnight at room temperature, insoluble matters were removed by filtration, and then the solvent was evaporated under reduced pressure.
  • Step 5 A solution of the compound (112) obtained in Step 4 in tetrahydrofuran (10 ml) was added dropwise with 1 mol / L borane / tetrahydrofuran solution (66.0 ml) under ice-cooling and stirred at room temperature for 3 hours. It was. The reaction solution was poured onto ice and acidified with concentrated hydrochloric acid, and then stirred at room temperature for 15 minutes. A 4 mol / L aqueous sodium hydroxide solution was added to make the mixture basic, followed by extraction with chloroform. The organic layer was dried over anhydrous sodium sulfate and the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain the compound (113) as a crude product.
  • the sixth step compound (123) (146 mg) was dissolved in tetrahydrofuran (1.5 mL), Boc 2 O (298 mg) was added, and the mixture was stirred at room temperature for about 1 hr. After adding water, the mixture was extracted with ethyl acetate, washed with brine, and dried over sodium sulfate. The obtained residue was purified by chromatography to give compound (124) (174 mg).
  • Second step compound (127) (100 mg), 2-fluoropyridine-3-boronic acid (40.7 mg), Pd (PPh 3 ) 4 (25.7 mg) and sodium carbonate (47.1 mg) in DME (2 mL) and Water (0.5 mL) was added, and the mixture was stirred overnight at 50 ° C., then warmed to 70 ° C., and stirred for about 7.5 hours. After allowing to cool to room temperature, 2 mol / L hydrochloric acid was added and stirred overnight, trifluoroacetic acid was added, and the mixture was stirred for 9 hours. A saturated aqueous sodium carbonate solution was added, and the mixture was extracted with ethyl acetate, washed with brine, and dried over sodium sulfate.
  • Step 3 Butyllithium (2.73 mol / L: 0.914 mL) was dissolved in toluene (5 mL) and hexane (3 mL), and the crude product (130) (500 mg) at -78 ° C in toluene (1 mL) The solution was added dropwise. After stirring for 45 minutes, dry ice was slowly added. After stirring for 40 minutes, the temperature was raised to room temperature. After adding ether, the precipitated solid was collected by filtration to obtain a crude product (131) (461 mg). The fourth step crude product (131) (361 mg) was dissolved in methanol (8 mL), thionyl chloride (0.218 mL) was added, and the mixture was heated to reflux for about 2 hours.
  • the sixth step compound (133) 64 mg was dissolved in tetrahydrofuran (1 mL), 1 mol / L aqueous sodium hydroxide solution (0.391 mL) was added at 0 ° C., and the mixture was stirred at room temperature for 2.5 hr. The solution was concentrated, 2 mol / L hydrochloric acid (0.195 mL) was added at 0 ° C., and the resulting solid was collected by filtration to obtain a crude product (134) (47 mg).
  • the seventh step crude product (134) 47 mg was dissolved in DMF (1 mL), oxalyl chloride (0.066 mL) was added at 0 ° C., and the mixture was stirred for 2 hr.
  • the second step compound (137) (7.57 g) was dissolved in 22 ml of ethanol, 2 mol / L hydrochloric acid / ethanol solution (22 ml) was added, and the mixture was stirred at room temperature for 30 min. After diluting with water and washing with hexane-diethyl ether (1: 1), the aqueous layer was basified with potassium carbonate, extracted with chloroform, and the organic layer was dried over anhydrous sodium sulfate. After filtration, the filtrate was distilled off under reduced pressure to obtain Compound (138). The whole amount was used for the next reaction without purification.
  • the third step compound (138) was dissolved in methylene chloride (30 ml), benzoyl isothiocyanate (2.05 ml) was added under ice cooling, and the mixture was stirred at the same temperature for 30 minutes, and then the solvent was distilled off under reduced pressure. Compound (139) was obtained. The whole amount was used for the next reaction without purification. Concentrated sulfuric acid (30 ml) previously ice-cooled was added to the fourth step compound (139), dissolved gradually, stirred at 15 ° C. for 40 minutes, and further concentrated sulfuric acid (10 ml) previously ice-cooled was added. Stir for 20 minutes.
  • reaction solution was transferred to ice water, neutralized with potassium carbonate, extracted with ethyl acetate, and the organic layer was dried over anhydrous sodium sulfate. After filtration, the filtrate was distilled off under reduced pressure, and the residue was subjected to column chromatography to obtain compound (140) (2.86 g).
  • the fifth step compound (140) (296.6 g) was dissolved in toluene (3 ml), and 1 mol / L diisobutylaluminum hydride / toluene solution (3.31 ml) was added dropwise at -78 ° C over 5 minutes. After stirring at temperature for 1 hour, the mixture was stirred for 1 hour under ice cooling. A 20 w / w% aqueous potassium potassium tartrate solution (10 ml) -ethyl acetate (10 ml) was added, the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes, extracted with ethyl acetate, and the organic layer was dried over anhydrous sodium sulfate.
  • Step 7 Compound (142) (94 mg) was dissolved in tetrahydrofuran (2 ml), t-butyl dicarbonate (209 mg) was added, and the mixture was stirred at 60 ° C. for 2 hours. The solvent was evaporated under reduced pressure, The residue was subjected to column chromatography to obtain compound (143) (111 mg).
  • the eighth step compound (143) (110 mg) was dissolved in methylene chloride (2 ml), manganese dioxide (510 mg) was added, and the mixture was stirred at room temperature for 2 hr. The reaction mixture was filtered through celite, and the filtrate was evaporated under reduced pressure to give compound (144). The whole amount was used for the next reaction without purification. After dissolving the 9th step compound (144) in methylene chloride (2 ml), N, N-diethylaminosulfur trifluoride (88 ul) was added under ice-cooling, and at the same temperature for 1 hour at 50 ° C. The mixture was stirred for 3 hours at 65 ° C. for 3 hours.
  • the substrate peptide was synthesized by reacting biotin-XSEVNLDAEFRHDSGC (Peptide Institute) with cryptate TBPCOOH mono SMP (CIS bio international). The final concentration of substrate peptide was 18 nM, the final concentration of recombinant human BACE-1 was 7.4 nM, and sodium acetate buffer (50 mM sodium acetate pH 5.0, 0.008% Triton X-100) was used as the reaction buffer.
  • the following compounds also showed an IC 50 value of 1 ⁇ M or less in the same test.
  • Test Example 2 Rat Brain ⁇ -Amyloid Reduction Action
  • the test compound was suspended in 0.5% methylcellulose and prepared to a final concentration of 2 mg / mL. It was orally administered at 10 mg / kg.
  • the base control group was administered with 0.5% methylcellulose alone, and the administration test was conducted with 3 to 8 animals in each group. Three hours after administration, the brain was removed, the cerebral hemisphere was isolated and weighed, and then immediately frozen in liquid nitrogen and stored at ⁇ 80 ° C. until the date of extraction.
  • the frozen cerebral hemisphere was transferred to a Teflon (registered trademark) homogenizer under ice-cooling, and an extraction buffer (1% CHAPS ( ⁇ 3-[(3-chloroamidopropyl) dimethylammonio] -1-propane) having a volume 5 times its weight was used. Sulfonate ⁇ ), 20 mM Tris-HCl (pH 8.0), 150 mM NaCl, and Complete (Roche) protease inhibitor) were added, and the mixture was homogenized for 2 minutes and solubilized repeatedly. The suspension was transferred to a centrifuge tube and left on ice for 3 hours or more, and then centrifuged at 100,000 ⁇ g, 4 ° C. for 20 minutes.
  • ⁇ -amyloid 1-40 manufactured by Immunobiological Laboratories, product number 27730.
  • ELISA measurement was performed according to the attached instruction. The decreasing effect was calculated as the ratio of ⁇ -amyloid 1-40 in the brain of the base control group of each test.
  • the compound of the present invention showed an extremely excellent effect in the above test, and was shown to have a high brain ⁇ -amyloid inhibitory action.
  • CYP3A4 Fluorescence MBI test is a test for examining the enhancement of CYP3A4 inhibition of a compound by metabolic reaction.
  • the reaction was debenzylated with an enzyme to produce a fluorescent metabolite 7-hydroxytrifluoromethylcoumarin (HFC) as an indicator.
  • the reaction conditions are as follows: substrate, 5.6 ⁇ mol / L 7-BFC; pre-reaction time, 0 or 30 minutes; reaction time, 15 minutes; reaction temperature, 25 ° C. (room temperature); CYP3A4 content (E.
  • Enzyme and test drug solution are added to the 96-well plate as a pre-reaction solution in K-Pi buffer (pH 7.4) with the above pre-reaction composition, and the substrate and K-Pi buffer are added to another 96-well plate. A part of the solution was transferred so that it was diluted to 1/10, and the reaction using NADPH as a coenzyme was started as an indicator (no pre-reaction).
  • Test Example 4 CYP Inhibition Test O-deethylation of 7-ethoxyresorufin as a typical substrate metabolic reaction of human major CYP5 molecular species (CYP1A2, 2C9, 2C19, 2D6, 3A4) using commercially available pooled human liver microsomes ( CYP1A2), tolbutamide methyl-hydroxylation (CYP2C9), mephenytoin 4'-hydroxylation (CYP2C19), dextromethorphan O-demethylation (CYP2D6), and terfenadine hydroxylation (CYP3A4) The degree to which the metabolite production was inhibited by the test compound was evaluated.
  • reaction conditions are as follows: substrate, 0.5 ⁇ mol / L ethoxyresorufin (CYP1A2), 100 ⁇ mol / L tolbutamide (CYP2C9), 50 ⁇ mol / L S-mephenytoin (CYP2C19), 5 ⁇ mol / L dextromethorphan (CYP2D6) , 1 ⁇ mol / L terfenadine (CYP3A4); reaction time, 15 minutes; reaction temperature, 37 ° C .; enzyme, pooled human liver microsome 0.2 mg protein / mL; test drug concentration, 1, 5, 10, 20 ⁇ mol / L (4 point).
  • resorufin CYP1A2 metabolite
  • CYP1A2 metabolite resorufin in the supernatant of the centrifugation was collected with a fluorescent multi-label counter
  • tolbutamide hydroxide CYP2C9 metabolite
  • mephenytoin 4 ′ hydroxide CYP2C19 metabolite
  • Dextrorphan CYP2D6 metabolite
  • terfenadine alcohol CYP3A4 metabolite
  • the control system (100%) was obtained by adding DMSO, which is a solvent in which the drug was dissolved, to the reaction system, and calculated the residual activity (%) at each concentration with the test drug solution added.
  • the IC 50 was calculated by inverse estimation using a logistic model. (result) Compound No. 35: 5 types> 20 ⁇ M Compound No. 63: 5 types> 20 ⁇ M Compound No. 68: 5 types> 20 ⁇ M Compound No. 104: 5 types> 20 ⁇ M Compound No. 106: 5 types> 20 ⁇ M
  • Test Example 6 Metabolic Stability Test Using commercially available pooled human liver microsomes, the test compound was reacted for a certain period of time, and the residual rate was calculated by comparing the reaction sample with the unreacted sample to evaluate the degree of metabolism in the liver. In the presence of 1 mmol / L NADPH in 0.2 mL buffer (50 mMol / L tris-HCl pH7.4, 150 mmol / L potassium chloride, 10 mmol / L magnesium chloride) containing 0.5 mg protein / mL human liver microsomes The reaction was carried out at 0 ° C. for 0 minutes or 30 minutes (oxidative reaction).
  • Test Example 7 hERG test Using HEK293 cells expressing human ether-a-go-go related gene (hERG) channels to play an important role in the ventricular repolarization process for the purpose of risk assessment of ECG QT interval prolongation
  • the effect on delayed rectifier K + current (I Kr ) was investigated.
  • a fully automatic patch clamp system PatchXpress 7000A, Axon Instruments Inc.
  • hold the cells at a membrane potential of -80 mV using the whole cell patch clamp method and then apply a +50 mV depolarization stimulus for 2 seconds.
  • I Kr evoked when 50 mV of repolarization stimulation was applied for 2 seconds was recorded.
  • the absolute value of the maximum tail current was measured from the obtained I Kr using the analysis software (DataXpress ver. 1, Molecular Devices Corporation) based on the current value at the holding membrane potential. Moreover, to calculate the inhibition rate to the maximum tail current before application test substance, as compared with the medium application group (0.1% dimethyl sulfoxide solution) to assess influence of the I Kr analyte. (result) Compound 92: 7.9% Compound 102: 2.3%
  • Test Example 8 FAT test 20 ⁇ L of frozen Salmonella typhimurium TA98 and TA100 strains were inoculated into 10 mL liquid nutrient medium (2.5% Oxoid nutrient broth No. 2) and shaken at 37 ° C. for 10 hours. Pre-culture.
  • Test substance DMSO solution (maximum dose 50 mg / mL to 8-fold dilution at 2-fold common ratio), DMSO as negative control, 50 ⁇ g / mL 4-nitroquinoline for TA98 strain under non-metabolic activation conditions as positive control -1-oxide DMSO solution, for TA100 strain, 0.25 ⁇ g / mL 2- (2-furyl) -3- (5-nitro-2-furyl) acrylamide DMSO solution, for metabolic activation conditions against TA98 strain 40 ⁇ g / mL 2-aminoanthracene DMSO solution and for TA100 strain, 20 ⁇ g / mL 2-aminoanthracene DMSO solution each 12 ⁇ L and test bacterial solution 588 ⁇ L (under metabolic activation conditions, test bacterial solution 498 ⁇ L and S9 mix 90 ⁇ L of the mixture), and cultured with shaking at 37 ° C.
  • Formulation Example 1 A granule containing the following ingredients is produced.
  • Ingredient Compound represented by formula (I) 10 mg Lactose 700 mg Corn starch 274 mg HPC-L 16 mg 1000 mg
  • the compound of formula (I) and lactose are passed through a 60 mesh sieve. Pass cornstarch through a 120 mesh sieve. These are mixed in a V-type mixer.
  • HPC-L low-viscosity hydroxypropylcellulose
  • aqueous solution to the powder mixture, knead, granulate (extruded granulation pore size 0.5-1mm), and dry.
  • the obtained dried granules are combed with a vibrating sieve (12/60 mesh) to obtain granules.
  • Formulation Example 2 A capsule filling granule containing the following ingredients is produced.
  • Ingredient Compound represented by formula (I) 15 mg Lactose 90 mg Corn starch 42 mg HPC-L 3 mg 150 mg
  • the compound of formula (I), lactose is passed through a 60 mesh sieve. Pass cornstarch through a 120 mesh sieve. These are mixed, and the HPC-L solution is added to the mixed powder to knead, granulate and dry. After sizing the obtained dry granules, 150 mg thereof is filled into No. 4 hard gelatin capsules.
  • Formulation Example 3 A tablet containing the following ingredients is produced.
  • Ingredient Compound represented by formula (I) 10 mg Lactose 90 mg Microcrystalline cellulose 30 mg CMC-Na 15 mg Magnesium stearate 5 mg 150 mg
  • the compound of formula (I), lactose, microcrystalline cellulose and CMC-Na (carboxymethylcellulose sodium salt) are passed through a 60 mesh sieve and mixed.
  • the mixed powder is mixed with magnesium stearate to obtain a mixed powder for tableting. This mixed powder is directly hit to obtain a 150 mg tablet.
  • the compound of the present invention can be a useful medicament as a therapeutic agent for diseases induced by production, secretion and / or deposition of amyloid ⁇ protein.

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Abstract

アミロイドβタンパク質の産生、分泌および／または沈着により誘発される疾患の治療剤として、例えば以下の化合物等を提供する。 　式（Ｉ）：（式中、環Ａは置換基を有していてもよい炭素環式基または置換基を有していてもよい複素環式基であり、 Ｒ１は置換基を有していてもよい低級アルキル等、 Ｒ２ａおよびＲ２ｂは各々独立して水素、置換基を有していてもよい低級アルキル等、 Ｒ３ａおよびＲ３ｃは各々独立して水素、ハロゲン、ヒドロキシ、置換基を有していてもよい低級アルキル等を表す） で示される化合物もしくはその製薬上許容される塩またはそれらの溶媒和物。

Description

βセクレターゼ阻害作用を有する含硫黄複素環誘導体
　本発明は、アミロイドβ産生抑制作用を有し、アミロイドβタンパク質の産生、分泌および／または沈着により誘発される疾患の治療剤として有用な化合物に関する。
　アルツハイマー症患者の脳内には、アミロイドβタンパク質と呼ばれる約４０個のアミノ酸からなるペプチドが神経細胞外に蓄積した不溶性の斑点（老人斑）が広範に認められる。この老人斑が神経細胞を死滅させることによりアルツハイマー症が発症すると考えられており、アルツハイマー症治療剤としてアミロイドβタンパク質の分解促進剤、アミロイドβワクチン等が研究されている。
　セクレターゼはアミロイドβ前駆体タンパク質（ＡＰＰ）と呼ばれるタンパク質を細胞内で切断しアミロイドβタンパク質を生成させる酵素である。アミロイドβタンパク質のN末端の生成をつかさどる酵素はβセクレターゼ（beta-site APP-cleaving enzyme 1、ＢＡＣＥ－１）と呼ばれており、この酵素を阻害することによりアミロイドβタンパク質生成が抑制され、アルツハイマー症治療剤になり得ると考えられる。
　特許文献１には本発明化合物と構造が類似した化合物が記載されており、ＮＯ合成酵素阻害活性を有し、認知症に有効である旨開示されている。
　特許文献２～５、非特許文献１および非特許文献２には本発明と構造が類似した化合物が記載されているが、それぞれ、血圧上昇剤、モルヒネ様鎮痛剤またはトランキライザー、医薬品中間体、ＮＰＹＹ５拮抗剤、鎮痛剤等として有用である旨記載されている。
　βセクレターゼ阻害剤として特許文献６～２４等が知られているが、いずれも本発明化合物とは異なる骨格を有するものである。
国際公開第９６／０１４８４２号パンフレット 米国特許第３２３５５５１号明細書 米国特許３２２７７１３号明細書 特開平９－０６７３５５号公報 国際公開第２００５／１１１０３１号パンフレット 国際公開第０２／９６８９７号パンフレット 国際公開第０４／０４３９１６号パンフレット 国際公開第２００５／０５８３１１号パンフレット 国際公開第２００５／０９７７６７号パンフレット 国際公開第２００６／０４１４０４号パンフレット
国際公開第２００６／０４１４０５号パンフレット 米国出願公開第２００７／０００４７８６号 米国出願公開第２００７／０００４７３０号 米国出願公開第２００７／２７１９９号 国際公開第２００７／０４９５３２号パンフレット 国際公開第２００７／１４６２２５号パンフレット 国際公開第２００７／１１４７７１号パンフレット 国際公開第２００７／０７３２８４号パンフレット 国際公開第２００７／０５８５８３号パンフレット 国際公開第２００７／０５８５８０号パンフレット 国際公開第２００６／１３８２１７号パンフレット 国際公開第２００６／１３８１９２号パンフレット 国際公開第２００６／０６５２７７号パンフレット 国際公開第２００５／０５８３１１号パンフレット 国際公開第２００８／１０３３５１号パンフレット
ジャーナル・オブ・ヘテロサイクリック・ケミストリー（Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ　Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ）、１４巻、７１７頁～７２３頁（１９７７年） ジャーナル・オブ・オーガニック・ケミストリー（Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ｏｒｇａｎｉｃ　Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ）、３３巻、８号、３１２６頁～３１３２頁（１９６８年） ジャーナル・オブ・メディシナル・ケミストリー（Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ｍｅｄｉｃｉｎａｌ　Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ）、５０巻、２４号、５９１２頁～５９２５頁（２００７年）
　アミロイドβ産生抑制作用、特にβセクレターゼ阻害作用を有し、アミロイドβタンパク質の産生、分泌または沈着により誘発される疾患の治療剤として有用な化合物を提供する。
　本発明は、
１）下式（Ｉ）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
（式中、環Ａは置換基を有していてもよい炭素環式基または置換基を有していてもよい複素環式基であり、
Ｒ１は置換基を有していてもよい低級アルキル、置換基を有していてもよい低級アルケニル、置換基を有していてもよい低級アルキニル、シアノ、置換基を有していてもよい炭素環式基または置換基を有していてもよい複素環式基であり、
Ｒ２ａおよびＲ２ｂは各々独立して水素、置換基を有していてもよい低級アルキルまたは置換基を有していてもよいアシルであり、
Ｒ３ａおよびＲ３ｃは各々独立して水素、ハロゲン、ヒドロキシ、置換基を有していてもよい低級アルキル、置換基を有していてもよい低級アルケニル、置換基を有していてもよい低級アルキニル、置換基を有していてもよいアシル、置換基を有していてもよい低級アルコキシ、置換基を有していてもよいアリール低級アルキル、置換基を有していてもよいヘテロアリール低級アルキル、置換基を有していてもよいアリール低級アルキルキルオキシ、置換基を有していてもよいヘテロアリール低級アルキルオキシ、置換基を有していてもよい低級アルキルチオ、カルボキシ、シアノ置換基を有していてもよい低級アルコキシカルボニル、置換基を有していてもよいアミノ、置換基を有していてもよいカルバモイル、置換基を有していてもよい炭素環式基または置換基を有していてもよい複素環式基であり、またはＲ３ａおよびＲ３ｃが一緒になって環を形成していてもよい。）
で示される化合物もしくはその製薬上許容される塩またはそれらの溶媒和物、
２）下式（ＩＩ）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
（式中、Ｒｘは、置換基を有していてもよい炭素環式基または置換基を有していてもよい複素環式基であり、
Ｒ３ａおよびＲ３ｂは各々独立して水素、ハロゲン、ヒドロキシ、置換基を有していてもよい低級アルキル、置換基を有していてもよい低級アルケニル、置換基を有していてもよい低級アルキニル、置換基を有していてもよいアシル、置換基を有していてもよい低級アルコキシ、置換基を有していてもよいアリール低級アルキル、置換基を有していてもよいヘテロアリール低級アルキル、置換基を有していてもよいアリール低級ルコキシ、置換基を有していてもよいヘテロアリール低級アルコキシ、置換基を有していてもよい低級アルキルチオ、カルボキシ、シアノ、置換基を有していてもよい低級アルコキシカルボニル、置換基を有していてもよいアミノ、置換基を有していてもよいカルバモイル、置換基を有していてもよい炭素環式基または置換基を有していてもよい複素環式基であり、
環Ａ、Ｒ２ａおよびＲ２ｂは上記１）と同義である。）
で示される化合物もしくはその製薬上許容される塩またはそれらの溶媒和物、
３）下式（ＩＩＩ）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
（式中、Ｒｙは、ハロゲノ低級アルキルであり、
Ｒ３ａ、Ｒ３ｂ、Ｒ３ｃおよびＲ３ｄは各々独立して水素、ハロゲン、ヒドロキシ、置換基を有していてもよい低級アルキル、置換基を有していてもよい低級アルケニル、置換基を有していてもよい低級アルキニル、置換基を有していてもよいアシル、置換基を有していてもよい低級アルコキシ、置換基を有していてもよいアリール低級アルキル、置換基を有していてもよいヘテロアリール低級アルキル、置換基を有していてもよいアリール低級アルコキシ、置換基を有していてもよいヘテロアリール低級アルコキシ、置換基を有していてもよい低級アルキルチオ、カルボキシ、置換基を有していてもよい低級アルコキシカルボニル、置換基を有していてもよいアミノ、置換基を有していてもよいカルバモイル、置換基を有していてもよい炭素環式基または置換基を有していてもよい複素環式基であり、
環Ａ、Ｒ２ａ、およびＲ２ｂは上記１）または２）と同義である。）
で示される化合物もしくはその製薬上許容される塩またはそれらの溶媒和物、
４）下式（ＩＶ）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
（式中、ＲｚａおよびＲｚｂは、各々独立して置換基を有していてもよい低級アルキルを表すか、または、それらが結合する炭素原子と一緒になって炭素環を形成し、
環Ａ、Ｒ２ａ、Ｒ２ｂは上記１）と同義であり、Ｒ３ｃおよびＲ３ｄ上記３）と同義である。）
で示される化合物もしくはその製薬上許容される塩またはそれらの溶媒和物、
４’）上式（ＩＶ）
（式中、ＲｚａおよびＲｚｂは、各々独立して水素、ハロゲン、置換基を有していてもよい低級アルキルまたは、ＲｚａおよびＲｚｂが、それらが結合する炭素原子と一緒になって炭素環を形成し、
環Ａ、Ｒ２ａ、Ｒ２ｂは上記１）と同義であり、Ｒ３ｃおよびＲ３ｄ上記３）と同義である。）
で示される化合物もしくはその製薬上許容される塩またはそれらの溶媒和物、
５）Ｒ３ａまたはＲ３ｃが水素である、上記１）に記載の化合物もしくはその製薬上許容される塩またはそれらの溶媒和物、
６）Ｒ３ａおよびＲ３ｃが共に水素である、上記１）に記載の化合物もしくはその製薬上許容される塩またはそれらの溶媒和物、
７）Ｒ１が炭素数１～３のアルキルである、上記１）、４）、５）または６）のいずれかに記載の化合物もしくはその製薬上許容される塩またはそれらの溶媒和物、
８）Ｒｘが、置換基を有していてもよいシクロアルキル、置換基を有していてもよいフェニルまたは置換基を有していてもよい含窒素芳香族複素環式基である、上記２）に記載の化合物もしくはその製薬上許容される塩またはそれらの溶媒和物、
９）Ｒ３ａおよびＲ３ｂが共に水素である、上記２）または８）に記載の化合物もしくはその製薬上許容される塩またはそれらの溶媒和物、
１０）Ｒ３ａ、Ｒ３ｂ、Ｒ３ｃおよびＲ３ｄが全て水素である、上記３）に記載の化合物もしくはその製薬上許容される塩またはそれらの溶媒和物、
１１）Ｒ２ａおよびＲ２ｂが共に水素である、上記１）～１０）のいずれかに記載の化合物もしくはその製薬上許容される塩またはそれらの溶媒和物、
１２）環Ａが
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
（式中、環Ａ’は炭素環式基または複素環式基であり、
Ｇが
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
（式中、Ｒ５は水素、低級アルキルまたはアシルであり、
Ｒ６は置換基を有していてもよい低級アルキル、置換基を有していてもよい低級アルケニルまたは置換基を有していてもよい低級アルキニルであり、
Ｗ１はＯまたはＳであり、
Ｗ２はＯ、ＳまたはＮＲ５であり、
Ａｋは置換基を有していてもよい低級アルキレン、置換基を有していてもよい低級アルケニレンまたは置換基を有していてもよい低級アルキニレンであり、
環Ｂは置換基を有していてもよい炭素環式基または置換基を有していてもよい複素環式基である）であり、
Ｒ４はそれぞれ独立してハロゲン、ヒドロキシ、メルカプト、ハロゲノ低級アルキル、低級アルキル、低級アルコキシ、置換基を有していてもよいアミノまたは低級アルキルチオであり、ｎは０～２の整数である）
である、上記１）～１１）のいずれかに記載の化合物もしくはその製薬上許容される塩またはそれらの溶媒和物、
１３）環Ａ’がフェニルまたは含窒素芳香族複素環式基である、上記１２）記載の化合物もしくはその製薬上許容される塩またはそれらの溶媒和物、
１４）環Ａ’が含窒素芳香族複素単環式基である、上記１２）記載の化合物もしくはその製薬上許容される塩またはそれらの溶媒和物、
１５）環Ａ’がフェニルである、上記１２）記載の化合物もしくはその製薬上許容される塩またはそれらの溶媒和物、
１６）環Ｂが含窒素芳香族複素単環式基である、上記１２）～１５）のいずれかに記載の化合物もしくはその製薬上許容される塩またはそれらの溶媒和物、
１７）上記１）～１６）のいずれかに記載の化合物、もしくはその製薬上許容される塩またはそれらの溶媒和物を有効成分とすることを特徴とする、医薬組成物、および
１８）上記１）～１６）のいずれかに記載の化合物、もしくはその製薬上許容される塩またはそれらの溶媒和物を有効成分とすることを特徴とする、βセクレターゼ阻害活性を有する医薬組成物、
１９）上記１）～１６）のいずれかに記載の化合物、もしくはその製薬上許容される塩またはそれらの溶媒和物を投与することを特徴とする、βセクレターゼ活性を阻害する方法、
２０）βセクレターゼ活性を阻害するための医薬を製造するための、上記１）～１６）のいずれかに記載の化合物もしくはその製薬上許容される塩またはそれらの溶媒和物の使用、
２１）βセクレターゼ活性を阻害するために使用する上記１）～１６）のいずれかに記載の化合物もしくはその製薬上許容される塩またはそれらの溶媒和物、
２２）上記１）～１６）のいずれかに記載の化合物、もしくはその製薬上許容される塩またはそれらの溶媒和物を投与することを特徴とする、アミロイドβタンパク質の産生、分泌または沈着により誘発される疾患の治療方法、
２３）アミロイドβタンパク質の産生、分泌または沈着により誘発される疾患の治療のための医薬を製造するための、上記１）～１６）のいずれかに記載の化合物もしくはその製薬上許容される塩またはそれらの溶媒和物の使用、
２４）アミロイドβタンパク質の産生、分泌または沈着により誘発される疾患の治療のために使用する上記１）～１６）のいずれかに記載の化合物もしくはその製薬上許容される塩またはそれらの溶媒和物、
２５）上記上記１）～１６）のいずれかに記載の化合物もしくはその製薬上許容される塩またはそれらの溶媒和物を投与することを特徴とする、アルツハイマー症の治療方法、
２６）アルツハイマー症の治療のための医薬を製造するための、上記１）～１６）のいずれかに記載の化合物もしくはその製薬上許容される塩またはそれらの溶媒和物の使用、
２７）アルツハイマー症の治療のために使用する上記１）～１６）のいずれかに記載の化合物もしくはその製薬上許容される塩またはそれらの溶媒和物、
を提供する。
　本発明化合物はアミロイドβタンパク質の産生、分泌または沈着により誘発される疾患（アルツハイマー症等）の治療剤として有用である。
　本明細書中、「ハロゲン」とはフッ素、塩素、臭素およびヨウ素を包含する。
　「ハロゲノ低級アルキル」、「ハロゲノ低級アルコキシ」および「ハロゲノ低級アルコキシカルボニル」のハロゲン部分は上記「ハロゲン」と同様である。
　「低級アルキル」とは、炭素数１～１５、好ましくは炭素数１～１０、より好ましくは炭素数１～６、さらに好ましくは炭素数１～３の直鎖または分枝状のアルキルを包含し、例えばメチル、エチル、ｎ－プロピル、イソプロピル、ｎ－ブチル、イソブチル、ｓｅｃ－ブチル、ｔｅｒｔ－ブチル、ｎ－ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、ヘキシル、イソヘキシル、ｎ－へプチル、イソヘプチル、ｎ－オクチル、イソオクチル、ｎ－ノニルおよびｎ－デシル等が挙げられる。
　「低級アルコキシ」、「ハロゲノ低級アルキル」、「ヒドロキシ低級アルキル」、「ハロゲノ低級アルコキシ」、「ヒドロキシ低級アルコキシ」、「低級アルコキシカルボニル」、「ハロゲノ低級アルコキシカルボニル」、「低級アルコキシカルボニル低級アルキル」、「低級アルキルアミノ」、「低級アルコキシ低級アルキル」、「ヒドロキシイミノ低級アルキル」、「低級アルコキシイミノ低級アルキル」、「アミノ低級アルキル」、「低級アルコキシ低級アルコキシ」、「低級アルコキシ低級アルケニル」、「低級アルコキシ低級アルケニルオキシ」、「低級アルコキシカルボニル低級アルケニル」、「低級アルコキシ低級アルキニル」、「低級アルコキシカルボニル低級アルキニル」、「低級アルキルカルバモイル」、「ヒドロキシ低級アルキルカルバモイル」、「低級アルコキシイミノ」、「低級アルキルチオ」、「低級アルキルスルホニル」、「低級アルキルスルホニルオキシ」、「低級アルキルスルホニルアミノ」、「低級アルキルスルホニル低級アルキルアミノ」、「低級アルキルスルホニルイミノ」、「低級アルキルスルフィニルアミノ」、「低級アルキルスルフィニル低級アルキルアミノ」、「、低級アルキルスルフィニルイミノ」、「低級アルキルスルファモイル」、「低級アルキルスルフィニル」、「炭素環低級アルキル」、「炭素環低級アルコキシ」、「炭素環低級アルコキシカルボニル」、「炭素環低級アルキルアミノ」、「炭素環低級アルキルカルバモイル」、「シクロアルキル低級アルキル」、「シクロアルキル低級アルコキシ」、「シクロアルキル低級アルキルアミノ」、「シクロアルキル低級アルコキシカルボニル」、「シクロアルキル低級アルキルカルバモイル」、「アリール低級アルキル」、「アリール低級アルコキシ」、「アリール低級アルキルアミノ」、「アリール低級アルコキシカルボニル」、「アリール低級アルキルカルバモイル」、「複素環低級アルキル」、「複素環低級アルコキシ」、「複素環低級アルキルアミノ」、「複素環低級アルコキシカルボニル」、「複素環低級アルキルカルバモイル」、「ヘテロアリール低級アルキル」および「ヘテロアリール低級アルコキシ」の低級アルキル部分も上記「低級アルキル」と同様である。
　「置換基を有していてもよい低級アルキル」は置換基群αから選択される１以上の基で置換されていてもよい。
　ここで置換基群αとは、ハロゲン、ヒドロキシ、低級アルコキシ、ハロゲノ低級アルコキシ、ヒドロキシ低級アルコキシ、低級アルコキシ低級アルコキシ、アシル、アシルオキシ、カルボキシ、低級アルコキシカルボニル、アミノ、アシルアミノ、低級アルキルアミノ、イミノ、ヒドロキシイミノ、低級アルコキシイミノ、低級アルキルチオ、カルバモイル、低級アルキルカルバモイル、ヒドロキシ低級アルキルカルバモイル、スルファモイル、低級アルキルスルファモイル、低級アルキルスルフィニル、低級アルキルスルホニルアミノ、低級アルキルスルホニル低級アルキルアミノ、低級アルキルスルホニルイミノ、低級アルキルスルフィニルアミノ、低級アルキルスルフィニル低級アルキルアミノ、低級アルキルスルフィニルイミノ、シアノ、ニトロ、炭素環式基および複素環式基（それぞれの炭素環および複素環はハロゲンおよび／またはヒドロキシで置換されていてもよい）からなる群である。
　「置換基を有していてもよい低級アルコキシ」、「置換基を有していてもよい低級アルコキシカルボニル」および「置換基を有していてもよい低級アルキルチオ」の置換基としては上記置換基群αから選択される１以上の基が挙げられる。
　「ハロゲノ低級アルキル」の好ましい態様としては、トリフルオロメチル、フルオロメチル、トリクロロメチル等が挙げられる。
　「低級アルキリデン」とは、上記「低級アルキル」の２価の基を包含し、例えばメチリデン、エチリデン、プロピリデン、イソプロピリデン、ブチリデン、ペンチリデン、ヘキシリデン等である。
　「低級アルケニル」とは、任意の位置に１以上の二重結合を有する炭素数２～１５、好ましくは炭素数２～１０、より好ましくは炭素数２～６、さらに好ましくは炭素数２～４の直鎖または分枝状のアルケニルを包含する。具体的にはビニル、アリル、プロペニル、イソプロペニル、ブテニル、イソブテニル、プレニル、ブタジエニル、ペンテニル、イソペンテニル、ペンタジエニル、ヘキセニル、イソヘキセニル、ヘキサジエニル、ヘプテニル、オクテニル、ノネニル、デセニル、ウンデセニル、ドデセニル、トリデセニル、テトラデセニル、ペンタデセニル等を包含する。
　「低級アルキニル」とは、任意の位置に１以上の三重結合を有する炭素数２～１０、好ましくは炭素数２～８、さらに好ましくは炭素数３～６の直鎖または分枝状のアルキニルを包含する。具体的には、エチニル、プロピニル、ブチニル、ペンチニル、ヘキシニル、ヘプチニル、オクチニル、ノニニル、デシニル等を包含する。これらはさらに任意の位置に二重結合を有していてもよい。
　「置換基を有していてもよい低級アルケニル」および「置換基を有していてもよい低級アルキニル」の置換基としては上記置換基群αから選択される１以上の基が挙げられる。
「ヒドロキシ低級アルケニル」、「低級アルコキシ低級アルケニル」、「低級アルコキシカルボニル低級アルケニル」、「炭素環低級アルケニル」、「低級アルケニルオキシ」、「低級アルコキシ低級アルケニルオキシ」、「低級アルケニルチオ」および「低級アルケニルアミノ」の低級アルケニル部分は上記「低級アルケニル」と同様である。
　「ヒドロキシ低級アルキニル」、「低級アルコキシ低級アルキニル」、「低級アルコキシカルボニル低級アルキニル」、「炭素環低級アルキニル」、「低級アルキニルオキシ」、「低級アルコキシ低級アルキニルオキシ」、「低級アルキニルチオ」および「低級アルキニルアミノ」の低級アルキニル部分は上記「低級アルキニル」と同様である。
　「置換基を有していてもよいアミノ」および「置換基を有していてもよいカルバモイル」の置換基としては、低級アルキル、アシル、ヒドロキシ、低級アルコキシ、低級アルコキシカルボニル、炭素環式基および複素環式基等から選択される１～２個の基が挙げられる。
　「アシル」とは、炭素数１～１０の脂肪族アシル、炭素環カルボニルおよび複素環カルボニルを包含する。具体的には、ホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、ピバロイル、ヘキサノイル、アクリロイル、プロピオロイル、メタクリロイル、クロトノイル、ベンゾイル、シクロヘキサンカルボニル、ピリジンカルボニル、フランカルボニル、チオフェンカルボニル、ベンゾチアゾールカルボニル、ピラジンカルボニル、ピペリジンカルボニル、チオモルホリノ等が例示される。
　「アシルアミノ」および「アシルオキシ」のアシル部分も上記と同様である。
　「置換基を有していてもよいアシル」の置換基としては、置換基群αから選択される１以上の基が挙げられる。また、炭素環カルボニルおよび複素環カルボニルの環部分は、低級アルキル、置換基群α、および置換基群αから選択される１以上の基により置換された低級アルキルから選択される１以上の基により置換されていてもよい。
　「炭素環式基」としては、シクロアルキル、シクロアルケニル、アリールおよび非芳香族縮合炭素環式基等包含する。
　「シクロアルキル」とは炭素数３～１０、好ましくは炭素数３～８、より好ましくは炭素数４～８の炭素環式基であり、例えばシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロノニルおよびシクロデシル等を包含する。
　「シクロアルキル低級アルキル」、「シクロアルキルオキシ」、「シクロアルキル低級アルコキシ」、「シクロアルキルチオ」、「シクロアルキルアミノ」、「シクロアルキル低級アルキルアミノ」、「シクロアルキルスルファモイル」、「シクロアルキルスルホニル」、「シクロアルキルカルバモイル」、「シクロアルキル低級アルキルカルバモイル」、「シクロアルキル低級アルコキシカルボニル」および「シクロアルキルオキシカルボニル」のシクロアルキル部分も上記「シクロアルキル」と同様である。
　「シクロアルケニル」とは、上記シクロアルキルの環中の任意の位置に１以上の二重結合を有しているものを包含し、具体的にはシクロプロペニル、シクロブテニル、シクロペンテニル、シクロヘキセニル、シクロへプチニル、シクロオクチニルおよびシクロヘキサジエニル等が挙げられる。
　「アリール」とは、フェニル、ナフチル、アントリルおよびフェナントリル等を包含し、特にフェニルが好ましい。
　「非芳香族縮合炭素環式基」とは、上記「シクロアルキル」、「シクロアルケニル」および「アリール」から選択される２個以上の環状基が縮合した非芳香族基を包含し、具体的にはインダニル、インデニル、テトラヒドロナフチルおよびフルオレニル等が挙げられる。
「結合する炭素原子と一緒になって炭素環を形成する」とは、２個の置換基が一緒になって上記「シクロアルキル」または「シクロアルケニル」を形成することをいう。
　「炭素環オキシ」、「炭素環低級アルキル」、「炭素環低級アルケニル」、「炭素環低級アルキニル」、「炭素環低級アルコキシ」、「炭素環低級アルコキシカルボニル」、「炭素環チオ」、「炭素環アミノ」、「炭素環低級アルキルアミノ」、「炭素環カルボニル」、「炭素環スルファモイル」、「炭素環スルホニル」、「炭素環カルバモイル」、「炭素環低級アルキルカルバモイル」および「炭素環オキシカルボニル」の炭素環部分も「炭素環式基」と同様である。
　「アリール低級アルキル」、「アリールオキシ」、「アリールオキシカルボニル」、「アリールオキシカルボニルオキシ」、「アリール低級アルコキシカルボニル」、「アリールチオ」、「アリールアミノ」、「アリール低級アルコキシ」、「アリール低級アルキルアミノ」、「アリールスルホニル」、「アリールスルホニルオキシ」、「アリールスルフィニル」、「アリールスルファモイル」、「アリールカルバモイル」および「アリール低級アルキルカルバモイル」のアリール部分も上記「アリール」と同様である。
　「複素環式基」としては、Ｏ、ＳおよびＮから任意に選択されるヘテロ原子を環内に１以上有する複素環式基を包含し、具体的にはピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、ピリジル、ピリダジニル、ピリミジニル、ピラジニル、トリアゾリル、トリアジニル、テトラゾリル、フリル、チエニル、イソオキサゾリル、オキサゾリル、オキサジアゾリル、イソチアゾリル、チアゾリル、チアジアゾリル等の５～６員のヘテロアリール；
ジオキサニル、チイラニル、オキシラニル、オキセタニル、オキサチオラニル、アゼチジニル、チアニル、チアゾリジニル、ピロリジニル、ピロリニル、イミダゾリジニル、イミダゾリニル、ピラゾリジニル、ピラゾリニル、ピペリジル、ピペラジニル、モルホリニル、モルホリノ、チオモルホリニル、チオモルホリノ、ジヒドロピリジル、テトラヒドロピリジル、テトラヒドロフリル、テトラヒドロピラニル、ジヒドロチアゾリル、テトラヒドロチアゾリル、テトラヒドロイソチアゾリル、ジヒドロオキサジニル、ヘキサヒドロアゼピニル、テトラヒドロジアゼピニル、テトラヒドロピリダジニル等の非芳香族複素環式基；
インドリル、イソインドリル、インダゾリル、インドリジニル、インドリニル、イソインドリニル、キノリル、イソキノリル、シンノリニル、フタラジニル、キナゾリニル、ナフチリジニル、キノキサリニル、プリニル、プテリジニル、ベンゾピラニル、ベンズイミダゾリル、ベンゾトリアゾリル、ベンズイソオキサゾリル、ベンズオキサゾリル、ベンズオキサジアゾリル、ベンゾイソチアゾリル、ベンゾチアゾリル、ベンゾチアジアゾリル、ベンゾフリル、イソベンゾフリル、ベンゾチエニル、ベンゾトリアゾリル、チエノピリジル、チエノピロリル、チエノピラゾリル、チエノピラジニル、フロピロリル、チエノチエニル、イミダゾピリジル、イミダゾピラゾリル、ピラゾロピリジル、ピラゾロピラジニル、チアゾロピリジル、ピラゾロピリミジニル、ピラゾロトリアニジル、ピリダゾロピリジル、トリアゾロピリジル、イミダゾチアゾリル、ピラジノピリダジニル、キナゾリニル、キノリル、イソキノリル、ナフチリジニル、ジヒドロチアゾロピリミジニル、
テトラヒドロキノリル、テトラヒドロイソキノリル、ジヒドロベンゾフリル、ジヒドロベンズオキサジニル、ジヒドロベンズイミダゾリル、テトラヒドロベンゾチエニル、テトラヒドロベンゾフリル、ベンゾジオキソリル、ベンゾジオキソニル、クロマニル、クロメニル、オクタヒドロクロメニル、ジヒドロベンゾジオキシニル、ジヒドロベンゾオキセジニル、ジヒドロベンゾジオキセピニル、ジヒドロチエノジオキシニル、等の２環の縮合複素環式基；
カルバゾリル、アクリジニル、キサンテニル、フェノチアジニル、フェノキサチイニル、フェノキサジニル、ジベンゾフリル、イミダゾキノリル、テトラヒドロカルバゾリル、等の３環の縮合複素環式基等を包含する。好ましくは５～６員のヘテロアリールまたは非芳香族複素環式基である。
　「複素環低級アルキル」、「複素環オキシ」、「複素環チオ」、「複素環カルボニル」、「複素環低級アルコキシ」、「複素環アミノ」、「複素環カルボニルアミノ」、「複素環スルファモイル」、「複素環スルホニル」、「複素環カルバモイル」、「複素環オキシカルボニル」、「複素環低級アルキルアミノ」、「複素環低級アルコキシカルボニル」および「複素環低級アルキルカルバモイル」の複素環部分も上記「複素環式基」と同様である。
　「含窒素芳香族複素環式基」とは、上記「複素環式基」のうち、少なくとも１個の窒素を含有する基であり、例えばピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、ピリジル、ピリダジニル、ピリミジニル、ピラジニル、トリアゾリル、トリアジニル、テトラゾリル、イソオキサゾリル、オキサゾリル、オキサジアゾリル、イソチアゾリル、チアゾリル、チアジアゾリル等の５～６員のヘテロアリール；インドリル、イソインドリル、インダゾリル、インドリジニル、インドリニル、イソインドリニル、キノリル、イソキノリル、シンノリニル、フタラジニル、キナゾリニル、ナフチリジニル、キノキサリニル、プリニル、プテリジニル、ベンゾピラニル、ベンズイミダゾリル、ベンゾトリアゾリル、ベンズイソオキサゾリル、ベンズオキサゾリル、ベンズオキサジアゾリル、ベンゾイソチアゾリル、ベンゾチアゾリル、ベンゾチアジアゾリル、ベンゾトリアゾリル、イミダゾピリジル、ピラゾロピリジン、トリアゾロピリジル、イミダゾチアゾリル、ピラジノピリダジニル、キナゾリニル、キノリル、イソキノリル、ナフチリジニル、ジヒドロベンゾフリル、テトラヒドロキノリル、テトラヒドロイソキノリル、ジヒドロベンズオキサジン等の２環の縮合複素環式基；カルバゾリル、アクリジニル、キサンテニル、イミダゾキノリル等の３環の縮合複素環式基；ピロリジニル、ピロリニル、イミダゾリジニル、イミダゾリニル、ピラゾリジニル、ピラゾリニル、ピペリジル、ピペラジニル、モルホリニル、モルホリノ、チオモルホリニル、チオモルホリノ、ジヒドロピリジル、ジヒドロベンズイミダゾリル、テトラヒドロピリジル、テトラヒドロチアゾリル、テトラヒドロイソチアゾリル等を包含する。
　上記「複素環式基」、「含窒素芳香族複素環式基」の結合手はいずれの環に位置していてもよい。
　「含窒素芳香族複素単環式基」とは、上記「含窒素芳香族複素環式基」のうち、単環性のものをいう。例えばピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、ピリジル、ピリダジニル、ピリミジニル、ピラジニル、トリアゾリル、トリアジニル、テトラゾリル、イソオキサゾリル、オキサゾリル、オキサジアゾリル、イソチアゾリル、チアゾリル、チアジアゾリル等の５～６員のヘテロアリール等を包含する。
　上記「含窒素芳香族複素単環式基」の結合手はいずれの炭素原子上に位置していてもよい。
　「ヘテロアリール」とは、上記「複素環式基」のうち、芳香族環式基であるものを包含する。「ヘテロアリール低級アルキル」、「ヘテロアリール低級アルコキシ」のヘテロアリール部分も同様である。
　環Ａ、環ＢおよびＲｘにおける「置換基を有していてもよい炭素環式基」および「置換基を有していてもよい複素環式基」の置換基としては、
置換基群α（好ましくはハロゲン、ヒドロキシ、アシル、アシルオキシ、カルボキシ、低級アルコキシカルボニル、カルバモイル、アミノ、シアノ、低級アルキルアミノおよび／または低級アルキルチオ等）、
置換基群α、ヒドロキシイミノおよび低級アルコキシイミノからなる群から選択される１以上の基で置換されていてもよい低級アルキル（ここで置換基としては好ましくはハロゲン、ヒドロキシ、低級アルコキシおよび／または低級アルコキシカルボニル等）、
置換基群αから選択される１以上の基で置換されたアミノ低級アルキル（ここで置換基としては好ましくはアシル、低級アルキルおよび／または低級アルコキシ等）、
ヒドロキシイミノ低級アルキル、
低級アルコキシイミノ低級アルキル、
置換基群αから選択される１以上の基で置換されていてもよい低級アルケニル（ここで置換基としては好ましくは低級アルコキシカルボニル、ハロゲンおよび／またはハロゲノ低級アルコキシカルボニル等）、
置換基群αから選択される１以上の基で置換されていてもよい低級アルキニル（ここで置換基としては好ましくは低級アルコキシカルボニル等）、
置換基群αから選択される１以上の基で置換されていてもよい低級アルコキシ（ここで置換基としては好ましくはハロゲン、カルバモイル、低級アルキルカルバモイルおよび／またはヒドロキシ低級アルキルカルバモイル等）、
置換基群αから選択される１以上の基で置換されていてもよい低級アルコキシ低級アルコキシ、
置換基群αから選択される１以上の基で置換されていてもよい低級アルケニルオキシ（ここで置換基として好ましくはハロゲン、ヒドロキシ、アミノおよび／または低級アルキルアミノ等）、
置換基群αから選択される１以上の基で置換されていてもよい低級アルコキシ低級アルケニルオキシ、
置換基群αから選択される１以上の基で置換されていてもよい低級アルキニルオキシ（ここで置換基として好ましくはハロゲンおよび／またはヒドロキシ等）、
置換基群αから選択される１以上の基で置換されていてもよい低級アルコキシ低級アルキニルオキシ、
置換基群αから選択される１以上の基で置換されていてもよい低級アルキルチオ、
置換基群αから選択される１以上の基で置換されていてもよい低級アルケニルチオ、
置換基群αから選択される１以上の基で置換されていてもよい低級アルキニルチオ、
置換基群αから選択される１以上の基で置換された低級アルキルアミノ、
置換基群αから選択される１以上の基で置換された低級アルケニルアミノ、
置換基群αから選択される１以上の基で置換された低級アルキニルアミノ、
置換基群αおよび低級アルキリデンから選択される１以上の基で置換されていてもよいアミノオキシ、
置換基群αから選択される１以上の基で置換されたアシル、
置換基群αから選択される１以上の基で置換されていてもよい低級アルキルスルホニル、
置換基群αから選択される１以上の基で置換されていてもよい低級アルキルスルフィニル、置換基群αから選択される１以上の基で置換されていてもよい低級アルキルスルファモイル、
置換基群α、アジド、低級アルキルおよびハロゲノ低級アルキルからなる群から選択される１以上の基で置換されていてもよい炭素環式基（例えばシクロアルキル、アリール等）、
置換基群α、アジド、低級アルキルおよびハロゲノ低級アルキルからなる群から選択される１以上の基で置換されていてもよい複素環式基、
置換基群α、アジド、低級アルキルおよびハロゲノ低級アルキルからなる群から選択される１以上の基で置換されていてもよい炭素環低級アルキル（例えばシクロアルキル低級アルキル、アリール低級アルキル等）、
置換基群α、アジド、低級アルキルおよびハロゲノ低級アルキルからなる群から選択される１以上の基で置換されていてもよい複素環低級アルキル、
置換基群α、アジド、低級アルキルおよびハロゲノ低級アルキルからなる群から選択される１以上の基で置換されていてもよい炭素環オキシ（例えばシクロアルキルオキシ、アリールオキシ等）
置換基群α、アジド、低級アルキルおよびハロゲノ低級アルキルからなる群から選択される１以上の基で置換されていてもよい複素環オキシ、
置換基群α、アジド、低級アルキルおよびハロゲノ低級アルキルからなる群から選択される１以上の基で置換されていてもよい炭素環低級アルコキシ（例えばシクロアルキル低級アルコキシ、アリール低級アルコキシ等）、
置換基群α、アジド、低級アルキルおよびハロゲノ低級アルキルからなる群から選択される１以上の基で置換されていてもよい複素環低級アルコキシ、
置換基群α、アジド、低級アルキルおよびハロゲノ低級アルキルからなる群から選択される１以上の基で置換されていてもよい炭素環低級アルコキシカルボニル（例えばシクロアルキル低級アルコキシカルボニル、アリール低級アルコキシカルボニル等）、
置換基群α、アジド、低級アルキルおよびハロゲノ低級アルキルからなる群から選択される１以上の基で置換されていてもよい複素環低級アルコキシカルボニル、
置換基群α、アジド、低級アルキルおよびハロゲノ低級アルキルからなる群から選択される１以上の基で置換されていてもよい炭素環チオ（例えばシクロアルキルチオ、アリールチオ等）、
置換基群α、アジド、低級アルキルおよびハロゲノ低級アルキルからなる群から選択される１以上の基で置換されていてもよい複素環チオ、
置換基群α、アジド、低級アルキルおよびハロゲノ低級アルキルからなる群から選択される１以上の基で置換されていてもよい炭素環アミノ（例えばシクロアルキルアミノ、アリールアミノ等）、
置換基群α、アジド、低級アルキルおよびハロゲノ低級アルキルからなる群から選択される１以上の基で置換されていてもよい複素環アミノ、
置換基群α、アジド、低級アルキルおよびハロゲノ低級アルキルからなる群から選択される１以上の基で置換されていてもよい炭素環低級アルキルアミノ（例えばシクロアルキル低級アルキルアミノ、アリール低級アルキルアミノ等）、
置換基群α、アジド、低級アルキルおよびハロゲノ低級アルキルからなる群から選択される１以上の基で置換されていてもよい複素環低級アルキルアミノ、
置換基群αから選択される１以上の基で置換されていてもよい低級アルキルスルファモイル、
置換基群α、アジド、低級アルキルおよびハロゲノ低級アルキルからなる群から選択される１以上の基で置換されていてもよい炭素環スルファモイル（例えばシクロアルキルスルファモイル、アリールスルファモイル等）、
置換基群α、アジド、低級アルキルおよびハロゲノ低級アルキルからなる群から選択される１以上の基で置換されていてもよい複素環スルファモイル、
置換基群α、アジド、低級アルキルおよびハロゲノ低級アルキルからなる群から選択される１以上の基で置換されていてもよい炭素環スルホニル（例えばシクロアルキルスルホニル、アリールスルホニル等）、
置換基群α、アジド、低級アルキルおよびハロゲノ低級アルキルからなる群から選択される１以上の基で置換されていてもよい複素環スルホニル、
置換基群α、アジド、低級アルキルおよびハロゲノ低級アルキルからなる群から選択される１以上の基で置換されていてもよい炭素環カルバモイル（例えばシクロアルキルカルバモイル、アリールカルバモイル等）、
置換基群α、アジド、低級アルキルおよびハロゲノ低級アルキルからなる群から選択される１以上の基で置換されていてもよい複素環カルバモイル、
置換基群α、アジド、低級アルキルおよびハロゲノ低級アルキルからなる群から選択される１以上の基で置換されていてもよい炭素環低級アルキルカルバモイル（例えばシクロアルキル低級アルキルカルバモイル、アリール低級アルキルカルバモイル）、
置換基群α、アジド、低級アルキルおよびハロゲノ低級アルキルからなる群から選択される１以上の基で置換されていてもよい複素環低級アルキルカルバモイル、
置換基群α、アジド、低級アルキルおよびハロゲノ低級アルキルからなる群から選択される１以上の基で置換されていてもよい炭素環オキシカルボニル（例えばシクロアルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル等）
置換基群α、アジド、低級アルキルおよびハロゲノ低級アルキルからなる群から選択される１以上の基で置換されていてもよい複素環オキシカルボニル、
ハロゲンで置換されていてもよい低級アルキレンジオキシ、
オキソ、アジド等が挙げられる。これらから選択される１以上の基で置換されていてもよい。
　別の態様として、環Ａは、以下に示す置換基：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
（式中、Ａｋ１、Ａｋ２およびＡｋ３が各々独立して単結合、置換基を有していてもよい低級アルキレン、置換基を有していてもよい低級アルケニレンまたは置換基を有していてもよい低級アルキニレンであり、
Ａｋ４は置換基を有していてもよい低級アルキレン、置換基を有していてもよい低級アルケニレンまたは置換基を有していてもよい低級アルキニレンであり、
Ｗ１およびＷ３は各々独立してＯまたはＳであり、
Ｗ２は各々独立してＯ、ＳまたはＮＲ５であり、
Ｒ５およびＲ６は各々独立して水素、低級アルキル、ヒドロキシ低級アルキル、低級アルコキシ低級アルキル、低級アルコキシカルボニル低級アルキル、炭素環低級アルキル、低級アルケニル、ヒドロキシ低級アルケニル、低級アルコキシ低級アルケニル、低級アルコキシカルボニル低級アルケニル、炭素環低級アルケニル、低級アルキニル、ヒドロキシ低級アルキニル、低級アルコキシ低級アルキニル、低級アルコキシカルボニル低級アルキニル、炭素環低級アルキニルまたはアシルであり、
Ｒ７は水素または低級アルキルであり、
環Ｂが置換基を有していてもよい炭素環式基または置換基を有していてもよい複素環式基であり、
ｐは１または２である）
で示される基から選択される１以上の基で置換されていてもよい。複数のＷ１、複数のＷ３、複数のＲ５等が存在する場合には、各々独立して異なっていてもよい。
　(xii)において酸素原子は置換基Ｒ７に対してシスまたはトランスの関係であってよい。
　上記(i)～(xixi)で示される基のうち、好ましくは
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
（式中、Ａｋは置換基を有していてもよい低級アルキレン、置換基を有していてもよい低級アルケニレンまたは置換基を有していてもよい低級アルキニレンであり、その他の各記号は前記と同義）
である。Ｂ環の置換基としては置換基群αから選択される１以上の基が好ましい。
　上記の環Ａ、環ＢおよびＲｘ以外において「置換基を有していてもよい炭素環式基」、「置換基を有していてもよい複素環式基」、「置換基を有していてもよいアリール低級アルキル」、「置換基を有していてもよいアリール低級アルコキシ」、「置換基を有していてもよいヘテロアリール低級アルキル」、「置換基を有していてもよいヘテロアリール低級アルコキシ」、「置換基を有していてもよいシクロアルキル」、「置換基を有していてもよいフェニル」、「置換基を有していてもよい含窒素芳香族複素環式基」の置換基としては、置換基群αから選択される１以上の基で置換されていてもよい低級アルキルおよび置換基群αからなる群から選択される１以上の基が挙げられる。
　Ｒ４のうち好ましくは、ハロゲン、低級アルキル、ハロゲノ低級アルキル、低級アルコキシ、ハロゲノ低級アルコキシが挙げられる。
　「低級アルキレン」とは、炭素数１～１０、好ましくは炭素数１～６、より好ましくは炭素数１～３の直鎖状または分枝状の２価の炭素鎖を包含する。具体的にはメチレン、ジメチレン、トリメチレン、テトラメチレン、メチルトリメチレン等である。
　「低級アルキレンジオキシ」の低級アルキレン部分も上記「低級アルキレン」と同様である。
　「低級アルケニレン」とは、任意の位置に二重結合を有する直鎖または分枝状の炭素数２～１０、好ましくは炭素数２～６、より好ましくは炭素数２～４の２価の炭素鎖を包含する。具体的にはビニレン、プロペニレン、ブテニレン、ブタジエニレン、メチルプロペニレン、ペンテニレンおよびヘキセニレン等が挙げられる。
　「低級アルキニレン」とは、任意の位置に三重結合を有し、さらに二重結合を有していてもよい、直鎖または分枝状の炭素数２～１０、より好ましくは炭素数２～６、より好ましくは炭素数２～４の２価の炭素鎖を包含する。具体的にはエチニレン、プロピニレン、ブチニレン、ペンチニレンおよびヘキシニレン等が挙げられる。
　「置換基を有していてもよい低級アルキレン」、「置換基を有していてもよい低級アルケニレン」、「置換基を有していてもよい低級アルキニレン」の置換基としては置換基群αが挙げられ、好ましくはハロゲン、ヒドロキシ等である。
　式（Ｉ）において、「Ｒ３ａおよびＲ３ｃが一緒になって環を形成していてもよい」とは、以下の式（Ｉ’’）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
（式中、環Ｃは置換基を有していてもよい炭素環式基または置換基を有していてもよい複素環式基であり、その他の記号は、式（Ｉ）の定義と同義である。）
を包含し、環Ｃの好ましい態様としては、ベンゼン、ピリジン、ピリミジン、シクロへキセン、テトラヒドロピリジン、ジヒドロピラン等が挙げられる。
　本明細書中、「溶媒和物」とは、例えば有機溶媒との溶媒和物、水和物等を包含する。水和物を形成する時は、任意の数の水分子と配位していてもよい。
　式（Ｉ）で示される化合物は、製薬上許容される塩を包含する。例えば、アルカリ金属（リチウム、ナトリウムまたはカリウム等）、アルカリ土類金属（マグネシウムまたはカルシウム等）、アンモニウム、有機塩基およびアミノ酸との塩、または無機酸（塩酸、硫酸、硝酸、臭化水素酸、リン酸またはヨウ化水素酸等）、および有機酸（酢酸、トリフルオロ酢酸、クエン酸、乳酸、酒石酸、シュウ酸、マレイン酸、フマル酸、マンデル酸、グルタル酸、リンゴ酸、安息香酸、フタル酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ－トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸またはエタンスルホン酸等）との塩が挙げられる。特に塩酸、リン酸、酒石酸またはメタンスルホン酸等が好ましい。これらの塩は、通常行われる方法によって形成させることができる。
　また、式（Ｉ）で示される化合物は、特定の異性体に限定するものではなく、全ての可能な異性体（ケト－エノール異性体、イミン-エナミン異性体、ジアステレオ異性体、光学異性体および回転異性体等）やラセミ体を含むものである。例えばＲ２ａが水素である式（Ｉ）で示される化合物は、以下のような互変異性体を包含する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
式（ＩＩ）、（ＩＩＩ）および（ＩＶ）で示される化合物についても同様の互変異性体が包含される。
　式（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）または（ＩＶ）で示される本発明化合物は、例えば特許文献１５または非特許文献１に記載の方法に準じて、または下記方法により製造することができる。
　なお、下記すべての工程において、反応の障害となる置換基（例えば、ヒドロキシ、メルカプト、アミノ、ホルミル、カルボニル、カルボキシル等）を有する場合には、Protective Groups in Organic Synthesis, Theodora W Greene(John Wiley & Sons)等に記載の方法で予め保護し、望ましい段階でその保護基を除去すればよい。
　また、上記すべての工程について、実施する工程の順序を適宜変更することができ、各中間体を単離して次の工程に用いてもよい。
Ａ．式（Ｉ）で示される化合物の製造
　式（Ｉ）で示される化合物は、例えば以下に示す化合物ｖまたは化合物ａｂの合成法に従って、製造することができる。
Ａ－１）化合物ｖの合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
（式中、環Ａは置換基を有していてもよい炭素環式基または置換基を有していてもよい複素環式基であり、
Ｒ１は置換基を有していてもよい低級アルキル、置換基を有していてもよい低級アルケニル、置換基を有していてもよい低級アルキニル、置換基を有していてもよい炭素環式基または置換基を有していてもよい複素環式基であり、
Ｒ２ａは水素、置換基を有していてもよい低級アルキルまたは置換基を有していてもよいアシルであり、
Ｒ３ｃは各々独立して水素、ハロゲン、ヒドロキシ、置換基を有していてもよい低級アルキル、置換基を有していてもよい低級アルケニル、置換基を有していてもよいアシル、置換基を有していてもよい低級アルコキシ、置換基を有していてもよいアラルキル、置換基を有していてもよいヘテロアリールアルキル、置換基を有していてもよいアラルキルオキシ、置換基を有していてもよいヘテロアリールアルキルオキシ、置換基を有していてもよい低級アルキルチオ、カルボキシ、置換基を有していてもよい低級アルコキシカルボニル、置換基を有していてもよいアミノ、置換基を有していてもよいカルバモイル、置換基を有していてもよい炭素環式基または置換基を有していてもよい複素環式基である。）
第一工程
　トルエン、ジクロロメタン、テトラヒドロフラン等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、リチウムジイソプロピルアミド等の塩基の存在下で、プロピオン酸ｔ－ブチル等の目的とするエステルとを反応させて得たエノラートに、クロロチタニウムトリイソプロポキシド等のチタニウム試薬を加え、公知の方法により調整できる化合物ｐを加えて、－８０℃～３０℃、好ましくは－８０℃～０℃で、０．１時間～２４時間、好ましくは、０．１時間～１２時間反応させることにより化合物ｑをジアステレオ選択的に得ることができる。
第二工程
　化合物ｑを、ジオキサン、メタノール、ジクロロメタン等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、塩酸、臭化水素酸、硫酸、トリフルオロ酢酸等の酸の存在下、０℃～８０℃、好ましくは０℃～３０℃で、０．５時間～４８時間、好ましくは、１時間～２４時間反応させることにより化合物ｒを得ることができる。
第三工程
　化合物ｒを、ジオキサン、テトラヒドロフラン、トルエン等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、ボラン、水素化ナトリウム、水素化リチウムアルミニウム等の還元剤を加え、－８０℃～８０℃、好ましくは－２０℃～３０℃で、０．５時間～４８時間、好ましくは、１時間～１２時間反応させることにより化合物ｓを得ることができる。
第四工程
　化合物ｓを、ジメチルスルホキシド、ジクロロメタン等の溶媒中、２－ヨードキシ安息香酸等の酸化剤を加え、０℃～８０℃、好ましくは１０℃～４０℃で、０．５時間～４８時間、好ましくは、１時間～１２時間反応させることにより化合物ｕを得ることができる。
　なお、第三工程および第四工程において、化合物ｓおよび化合物ｕのアミンおよび／またはアルデヒド基は必要に応じてProtective Groups in organic Synthesis, Theodora W Green(John Wiley & Sons) 等に記載の方法で保護し、適時脱保護することができる。
第五工程
　化合物ｕをジオキサン、テトラヒドロフラン、トルエン、アセトン等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、市販または公知の方法により調整した保護基を有するイソチオシアネート（例えば、ベンゾイルイソチオシアネート）を加え、－３０℃～５０℃、好ましくは－１０℃～２５℃で、０．１時間～１２時間、好ましくは、０．１時間～３時間反応させ、続いて、濃硫酸、濃硝酸等を加えて、０℃～１００℃、好ましくは０℃～６０℃で、０．５時間～２４時間、好ましくは、１時間～１２時間反応させることにより化合物ｖを得ることができる。
Ａ－２）化合物ａｂの合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
（式中、Ｒpは、アミンの保護基を表わし、
Ｒ３ａは各々独立して水素、ハロゲン、ヒドロキシ、置換基を有していてもよい低級アルキル、置換基を有していてもよい低級アルケニル、置換基を有していてもよいアシル、置換基を有していてもよい低級アルコキシ、置換基を有していてもよいアラルキル、置換基を有していてもよいヘテロアリールアルキル、置換基を有していてもよいアラルキルオキシ、置換基を有していてもよいヘテロアリールアルキルオキシ、置換基を有していてもよい低級アルキルチオ、カルボキシ、置換基を有していてもよい低級アルコキシカルボニル、置換基を有していてもよいアミノ、置換基を有していてもよいカルバモイル、置換基を有していてもよい炭素環式基または置換基を有していてもよい複素環式基であり、
その他の記号は前記と同義である。）
第一工程
　上記化合物ｓのアミノ基を保護基で保護して調整できる化合物ｗをトルエン、ジクロロメタン、テトラヒドロフラン等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、塩化オキザリル－ジメチルスルホキシドを用いるＳｗｅｒｎ酸化反応の条件下、または２－ヨードキシ安息香酸等のアルコール基の酸化剤を加え、０℃～８０℃、好ましくは１０℃～４０℃で、０．５時間～４８時間、好ましくは、１時間～１２時間反応させることにより化合物ｘを得ることができる。
第二工程
　化合物ｘをトルエン、エーテル、テトラヒドロフラン等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、－８０℃～５０℃、好ましくは－２０℃～２０℃にてメチルマグネシウムブロミド等の目的物に対応するグリニヤール試薬を加えて、０．２時間～４８時間、好ましくは、１時間～２４時間反応させることにより、化合物ｙを得ることができる。反応の際、四塩化チタンを加えることにより、収率が向上しうる。
第三工程
　化合物ｙをジメチルスルホキシド等の溶媒中、塩化オキザリル－ジメチルスルホキシド、または２－ヨードキシ安息香酸等のアルコール基の酸化剤を加え、０℃～８０℃、好ましくは１０℃～４０℃で、０．５時間～４８時間、好ましくは、１時間～６時間反応させることにより化合物ａａを得ることができる。
第四工程
　化合物ａａをジオキサン、テトラヒドロフラン、トルエン、アセトン等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、市販または公知の方法により調整した保護基を有するイソチオシアネート（例えば、ベンゾイルイソチオシアネート）を加え、－３０℃～５０℃、好ましくは－１０℃～２５℃で、０．１時間～１２時間、好ましくは、０．１時間～３時間反応させ、続いて、濃硫酸、濃硝酸等を加えて、０℃～１００℃、好ましくは０℃～６０℃で、０．５時間～１２時間、好ましくは、１時間～６時間反応させることにより化合物ａｂを得ることができる。
Ｂ．式（ＩＩ）で示される化合物の製造
　式（ＩＩ）で示される化合物は、例えば以下に示す化合物ｆまたは化合物ｏの合成法に従って製造することができる。
Ｂ－１）化合物ｆの合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
（式中、Ｒｘは、置換基を有していてもよい炭素環式基または置換基を有していてもよい複素環式基であり、
Ｒ２ａおよびＲ２ｂは各々独立して水素、置換基を有していてもよい低級アルキルまたは置換基を有していてもよいアシルであり、
Ｒ３ａおよびＲ３ｂは各々独立して水素、ハロゲン、ヒドロキシ、置換基を有していてもよい低級アルキル、置換基を有していてもよい低級アルケニル、置換基を有していてもよいアシル、置換基を有していてもよい低級アルコキシ、置換基を有していてもよいアラルキル、置換基を有していてもよいヘテロアリールアルキル、置換基を有していてもよいアラルキルオキシ、置換基を有していてもよいヘテロアリールアルキルオキシ、置換基を有していてもよい低級アルキルチオ、カルボキシ、置換基を有していてもよい低級アルコキシカルボニル、置換基を有していてもよいアミノ、置換基を有していてもよいカルバモイル、置換基を有していてもよい炭素環式基または置換基を有していてもよい複素環式基であり、
Ｌはハロゲンまたは低級アルキルスルホニルオキシ基等の脱離基であり、
その他の記号は前記と同義である。）
第一工程
　市販または公知の方法により調整できる化合物aを、トルエン、ジクロロメタン、テトラヒドロフラン等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、ピリジン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、４－ジメチルアミノピリジン等の塩基の存在下にＮ，Ｏ－ジメチルヒドロキシルアミン塩酸塩またはそのフリー体を－４０℃～６０℃、好ましくは－２０℃～３０℃で、０．１時間～２４時間、好ましくは、０．３時間～６時間反応させることにより化合物ｂを得ることができる。
第二工程
　化合物ｂをエーテル、テトラヒドロフラン等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、－８０℃～５０℃、好ましくは－２０℃～２０℃にてシクロへキシルマグネシウムブロミド等の目的物に対応するグリニヤール試薬を加えて、０．２時間～４８時間、好ましくは、１時間～２４時間反応させることにより、化合物ｃを得ることができる。
　なお、第一工程および第二工程において、第二工程の反応によって化合物ａから化合物ｃを直接に得られる場合は、第一工程を行なわなくてもよい。
第三工程
　エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、市販または公知の方法により合成できるR3aR3bCHPPh3L等（例えば、メチルトリフェニルホスホニウムヨージド等）に、ｎ－ブチルリチウム等のアルキル金属試薬などの強塩基を加え、目的物に対応するＷittig試薬を調整し、エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等の溶媒に溶解した化合物ｃを、－４０℃～６０℃、好ましくは－２０℃～３０℃を加え、０．１時間～２４時間、好ましくは、０．３時間～６時間反応させることにより化合物ｄを得ることができる。
第四工程
　化合物ｄをトルエン、ジクロロメタン、テトラヒドロフラン、水等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、チオホスゲンまたはヨウ素、チオシアン酸塩を加えて１時間～７２時間、好ましくは、６時間～４８時間反応させることにより、化合物eを得ることができる。反応の際、必要に応じて、適量の相間異動触媒（例えば、テトラｎ－ブチルアンモニウムクロリド、テトラメチルアンモニウムブロミド等）を入れて反応させることができる
第五工程
　化合物eをトルエン、ジクロロメタン、テトラヒドロフラン等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、Ｒ２ａＲ２ｂ－アミンを加えて０℃～１２０℃、好ましくは２０℃～８０℃にて１時間～７２時間、好ましくは、６時間～４８時間反応させることにより、化合物ｆを得ることができる。
Ｂ－２）化合物ｏの合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020
（式中、Ｈａｌはハロゲンであり、その他の各記号は前記と同義である。）
第一工程
　市販または公知の方法により調整できる化合物ｇをトルエン、ジクロロメタン、テトラヒドロフラン等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、ジイソプロピルエチルアミン、トリエチルアミン、トリメチルアミン等の塩基の存在下に、エチニル－Ｒｘならびにトリスベンジリデンアセトンジパラジウム、酢酸パラジウム、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウムまたは系内で調整されるＰｄ（０）触媒および、トリt－ブチルホスフィン、ジシクロへキシルビフェニルホスフィン等の配位子を加え、さらにヨウ化銅を加え、２０℃～１２０℃、好ましくは３０℃～８０℃で、０．１時間～２４時間、好ましくは、０．１時間～１２時間反応させることにより化合物ｈを得ることができる。
第二工程
　化合物ｈをジメチルスルホキシドに溶解し、ヨウ素を加え、２０℃～２００℃、好ましくは１００℃～１８０℃で、０．１時間～２４時間、好ましくは、１時間～１２時間反応させることにより化合物iを得ることができる。
第三工程
　Chem. Lett., 3, 373-376 (1990) に記載の方法に準じて、化合物iをメタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等の溶媒中、水および水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化リチウム等の塩基の存在下、２０℃～１００℃、好ましくは５０℃～１００℃で、０．５時間～２４時間、好ましくは、１時間～１２時間反応させることにより化合物ｊを得ることができる。
第四工程
　酢酸、ギ酸、トリフルオロ酢酸等のカルボン酸の存在下、化合物ｊに２－クロロアセトニトリルおよび濃硫酸を加え、－２０℃～１００℃、好ましくは０℃～４０℃で、０．２時間～２４時間、好ましくは、１時間～１２時間反応させることにより化合物ｋを得ることができる。
第五工程
　メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等の溶媒中、化合物ｋに酢酸およびチオウレアを加え、－２０℃～１００℃、好ましくは０℃～４０℃で、０．２時間～２４時間、好ましくは、１時間～１２時間反応させることにより化合物ｌを得ることができる。
　第四工程および第五工程は、Synthesis, 12, 1709-1712 (2000) に記載の方法に準じて行なうことができる。
第六工程
　化合物ｌをテトラヒドロフラン、トルエン、ジクロロメタン等の溶媒中、ボラン、水素化ナトリウム、水素化リチウムアルミニウム等の還元剤を加え、－８０℃～１００℃、好ましくは－２０℃～４０℃で、０．２時間～２４時間、好ましくは、１時間～１２時間反応させることにより化合物ｍを得ることができる。
第七工程
　化合物ｍをジクロロメタン、テトラヒドロフラン、トルエン等の溶媒中、または混合溶媒中、市販または公知の方法により調整した保護基を有するイソチオシアネート（例えば、ベンゾイルイソチオシアネート）を加え、－３０℃～５０℃、好ましくは－１０℃～２５℃で、０．５時間～２４時間、好ましくは、０．５時間～１２時間反応させることにより化合物ｎを得ることができる。
第八工程
　化合物ｎをジクロロメタン、テトラヒドロフラン、トルエン等の溶媒中、オキザリルクロリド、塩化チオニル等と触媒量のＮ，Ｎ，－ジメチルホルムアミドを加え、または１－クロロ－２－トリメチルプロペニルアミン等のクロロ化試薬を加え、０℃～１００℃、好ましくは２０℃～５０℃で、０．５時間～７２時間、好ましくは、０．５時間～１２時間反応させることにより化合物ｏを得ることができる。
Ｂ－２’)
上記化合物ｊは以下の方法によっても合成することができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
（式中、Ｐｃはカルボン酸の保護基であり、その他の各記号は前記と同義である。）
第一工程
　市販または公知の方法により調整できる化合物ｃａをトルエン、ジクロロメタン、テトラヒドロフラン等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、Ｒｘマグネシウムブロミドなどの対応するグリニヤール試薬を－８０℃～３０℃、好ましくは－４０℃～１０℃で、０．１時間～２４時間、好ましくは、０．１時間～１２時間反応させることにより化合物ｃｂを得ることができる。
第二工程
　通常の方法により、カルボン酸の保護基Ｐｃを脱保護反応に付すことにより、化合物ｊを得ることができる。
Ｃ．式（ＩＩＩ）で示される化合物の製造
　式（ＩＩＩ）で示される化合物は、例えば以下に示す化合物ａｉまたは化合物ａｌの合成法に従って製造することができる。
Ｃ－１）化合物ａｉの合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000022
（式中、Ｒ１１は置換されていてもよいアリールであり、
Ｒｙは、ハロゲノ低級アルキルであり、
Ｒ３ｄは水素、ハロゲン、ヒドロキシ、置換基を有していてもよい低級アルキル、置換基を有していてもよい低級アルケニル、置換基を有していてもよいアシル、置換基を有していてもよい低級アルコキシ、置換基を有していてもよいアラルキル、置換基を有していてもよいヘテロアリールアルキル、置換基を有していてもよいアラルキルオキシ、置換基を有していてもよいヘテロアリールアルキルオキシ、置換基を有していてもよい低級アルキルチオ、カルボキシ、置換基を有していてもよい低級アルコキシカルボニル、置換基を有していてもよいアミノ、置換基を有していてもよいカルバモイル、置換基を有していてもよい炭素環式基または置換基を有していてもよい複素環式基であり、
その他の各記号は前記と同義である。）
第一工程
　市販または公知の方法により調整できる化合物ａｃに、ジオキサン、テトラヒドロフラン、トルエン等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、２－アミノ－２－フェニルエタノール等の目的とする化合物に対応する試薬および、触媒量の硫酸、ピリジニウムパラトルエンスルホン酸等の酸の存在下、５０℃～２００℃、好ましくは８０℃～１５０℃で、１時間～４８時間、好ましくは、２時間～２４時間、脱水条件下で反応させることにより化合物ａｄを得ることができる。
第二工程
　化合物ａｄをエーテル、テトラヒドロフラン等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、－８０℃～５０℃、好ましくは－８０℃～０℃にての目的物に対応するビニルリチウム試薬を加えて、０．２時間～２４時間、好ましくは、０．５時間～１２時間反応させることにより、化合物ａｅを得ることができる。
　ビニルリチウム試薬は、目的とするテトラビニルスズに、ブチルリチウム等のアルキルリチウム試薬を添加することによって調整することができる。
第三工程
　化合物ａｅを、ジオキサン、テトラヒドロフラン等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、ボラン試薬を加え、０℃～６０℃、好ましくは２０℃～５０℃にて０．２時間～１２時間、好ましくは、０．５時間～６時間反応させ、水酸化ナトリウム水溶液等のアルカリ水および、過酸化水素水を添加し、０．５時間～１２時間反応させることにより、化合物ａｆを得ることができる。
第四工程
　化合物ａｆをメタノール、エタノール、酢酸エチル、テトラヒドロフラン等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、Ｐｄ（ＯＨ）２、Ｐｄ－Ｃ等のパラジウム触媒を加えて、水素気流下で、０℃～６０℃、好ましくは２０℃～５０℃にて１時間～２４時間、好ましくは、１時間～１２時間反応させることにより、化合物ａｇを得ることができる。
第五工程
　化合物ａｇをジオキサン、テトラヒドロフラン、トルエン、アセトン等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、市販または公知の方法により調整した保護基を有するイソチオシアネート（例えば、ベンゾイルイソチオシアネート）を加え、－３０℃～７０℃、好ましくは０℃～５０℃で、１時間～１２時間、好ましくは、１時間～６時間反応させることにより化合物ａｈを得ることができる。
第六工程
　化合物ａｈをジクロロメタン、テトラヒドロフラン、トルエン等の溶媒中、オキザリルクロリド、塩化チオニル等と触媒量のＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミドを加え、または１－クロロ－２－トリメチルプロペニルアミン等のクロロ化試薬を加え、０℃～１００℃、好ましくは１０℃～５０℃で、０．５時間～７２時間、好ましくは、０．５時間～６時間反応させることにより化合物ａｉを得ることができる。
Ｃ－２）化合物ａｌの合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023
（式中、Ｒ１２は、置換されていてもよいアリール、置換されていてもよいヘテロアリールであり、その他の各記号は前記と同義である。）
第一工程
　トルエン、ジクロロメタン、テトラヒドロフラン等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、リチウムジイソプロピルアミド、カリウムヘキサメチルジシラジド等の塩基の存在下で、対応するフェニルアルキルケトン（例えば、アセトフェノン等）を反応させて得たエノラートに、公知の方法により調整できる化合物ｐを加えて、－８０℃～３０℃、好ましくは－８０℃～０℃で、０．１時間～２４時間、好ましくは、０．１時間～１２時間反応させることにより化合物ａｊを立体選択的に得ることができる。
第二工程
　第一工程で得られた化合物ａｊに塩酸、臭化水素酸、トリフルオロ酢酸等を加え、０℃～６０℃、好ましくは０℃～３０℃で、０．１時間～２４時間、好ましくは、０．５時間～１２時間反応させることにより化合物ａｋを得ることができる。
第三工程
　化合物ａｋをジオキサン、テトラヒドロフラン、トルエン、アセトン等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、市販または公知の方法により調整した保護基を有するイソチオシアネート（例えば、ベンゾイルイソチオシアネート）を加え、－３０℃～７０℃、好ましくは－２０℃～５０℃で、０．１時間～１２時間、好ましくは、０．１時間～６時間反応させ、続いて、溶媒を留去した後に濃硫酸、濃硝酸等を加え－３０℃～７０℃、好ましくは－２０℃～５０℃で、１時間～１２時間、好ましくは、１時間～６時間反応させることにより化合物ａｌを得ることができる。
Ｄ．化合物（ＩＶ）の製造
　化合物（ＩＶ）は、例えば以下に示す化合物ａｏ、化合物ｂｅまたは化合物ｂｈの合成法に従って製造することができる。
Ｄ－１）化合物ａｏの合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000024
（式中、ＲｚａおよびＲｚｂは、各々独立して置換基を有していてもよい低級アルキルを表すか、または、それらが結合する炭素原子と一緒になって炭素環を形成し、
その他の各記号は前記と同義である。）
第一工程
　トルエン、ジクロロメタン、テトラヒドロフラン等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、リチウムジイソプロピルアミド、カリウムヘキサメチルジシラジド等の塩基の存在下で、対応するアルキルケトン（例えば、３－メチル－２－ブタノン等）を反応させて得たエノラートに、公知の方法により調整できる化合物ｐを加えて、－８０℃～３０℃、好ましくは－８０℃～０℃で、０．１時間～２４時間、好ましくは、０．１時間～１２時間反応させることにより化合物ａｍを立体選択的に得ることができる。
第二工程
　第一工程で得られた化合物ａｍに塩酸、臭化水素酸、トリフルオロ酢酸等を加え、０℃～６０℃、好ましくは０℃～３０℃で、０．１時間～２４時間、好ましくは、０．５時間～１２時間反応させることにより化合物ａｎを得ることができる。
第三工程
　化合物ａｎをジオキサン、テトラヒドロフラン、トルエン、アセトン等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、市販または公知の方法により調整した保護基を有するイソチオシアネート（例えば、ベンゾイルイソチオシアネート）を加え、－３０℃～７０℃、好ましくは－２０℃～５０℃で、０．１時間～１２時間、好ましくは、０．１時間～６時間反応させ、続いて、溶媒を留去した後に濃硫酸、濃硝酸等を加え－３０℃～７０℃、好ましくは－２０℃～５０℃で、１時間～１２時間、好ましくは、１時間～６時間反応させることにより化合物ａｏを得ることができる。
Ｄ－２）化合物ｂｅの合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000025
（式中、各記号は前記と同義である。）
第一工程
　トルエン、ジクロロメタン、テトラヒドロフラン等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、臭化アリルマグネシウムなどの対応するグリニヤー試薬を－８０℃～３０℃、好ましくは－８０℃～０℃で、０．１時間～２４時間、好ましくは、０．１時間～１２時間反応させることにより化合物ａｍを立体選択的に得ることができる。
第二工程
　第一工程で得られた化合物ｂａにメタノール、エタノール、水等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、塩化水素溶液を加え、－２０℃～８０℃、好ましくは０℃～３０℃で、０．１時間～２４時間、好ましくは、０．１時間～１２時間反応させることにより化合物ｂｂを得ることができる。
第三工程
　化合物ｂｂをジクロロメタン、ジオキサン、テトラヒドロフラン、トルエン、アセトン等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、市販または公知の方法により調整した保護基を有するイソチオシアネート（例えば、ベンゾイルイソチオシアネート）を加え、－３０℃～７０℃、好ましくは－２０℃～５０℃で、０．１時間～１２時間、好ましくは、０．１時間～６時間反応させることにより、化合物ｂｃを得ることができる。
第四工程
　化合物ｂｃをジクロロメタンなどの溶媒中、ヨウ素、臭素、ＮＢＳ等のハロゲニウム陽イオン源を加え、－２０℃～４０℃、好ましくは０℃～２０℃で、０．１時間～１２時間、好ましくは、０．１時間～６時間反応させることにより化合物ｂｄを得ることができる。
第五工程
　化合物ｂｄをジオキサン、テトラヒドロフラン、トルエンなどの溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、ピロリジン、ピペリジン、ピペラジン、モルホリンなどの塩基を加え、２０℃～１００℃、好ましくは４０℃～８０℃で、０．１時間～２４時間、好ましくは、１時間～１２時間反応させることにより化合物ｂｄを得ることができる。
Ｄ－３）化合物ｂｈの合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000026
（式中、各記号は前記と同義である。）
第一工程
　トルエン、ジクロロメタン、テトラヒドロフラン等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、アミノ基を適宜保護基で保護した化合物ｂｂをアクリル酸エチルとグラブス試薬を加え、オレフィンメタセシス反応に付すことにより化合物ｂｆを得ることができる。反応温度は－２０℃～６０℃、好ましくは０℃～３０℃であり、反応時間は０．５時間～２４時間、好ましくは、１時間～１２時間である。
第二工程
　化合物ｂｆをジクロロメタン、ジオキサン、テトラヒドロフラン、トルエン、アセトン等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、市販または公知の方法により調整した保護基を有するイソチオシアネート（例えば、ベンゾイルイソチオシアネート）を加え、－３０℃～７０℃、好ましくは－２０℃～５０℃で、０．１時間～１２時間、好ましくは、０．１時間～６時間反応させることにより、化合物ｂｇを得ることができる。
第三工程
　化合物ｂｇをジオキサン、テトラヒドロフラン、トルエンなどの溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、水素化ジイソブチルアルミニウム、水素化リチウムアルミニウム、水素化ナトリウムなどを加えて還元反応に付し、－８０℃～０℃、好ましくは－８０℃～－２０℃で、０．１時間～１２時間、好ましくは、０．１時間～３時間反応させることにより化合物ｂｈを得ることができる。
　化合物ｂｈは適当な反応に付すことにより、アルコール基をさらに変換することが可能である。
Ｅ．置換基の変換（１）
　次に示すのは置換基の変換による化合物ａｂ－２の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000027
（式中、ＰａおよびＰｂはアミノ保護基、その他の各記号は前記と同義である。）
である。
　テトラヒドロフラン、トルエン、キシレン等の溶媒中、化合物ａｂ－１にトリスジベンジリデンアセトンジパラジウム、酢酸パラジウム、または系内で調製されるパラジウム(0)等とトリtert－ブチルホスフィン、ジシクロヘキシルビフェニルホスフィン等のホスフィン配位子を加え、－１０℃～３０℃にてリチウムヘキサメチルジシラジド、ベンゾフェノンイミン等の目的とする化合物に対応する置換基を有する試薬を加え、３０℃～１２０℃、好ましくは５０℃～１００℃で０．５時間～４８時間、好ましくは３時間～２０時間、反応させることにより化合物ａｆ－１を得ることが出来る。
　アミノ保護基としてはProtective Groups in Organic Synthesis, Theodora W Green(John Wiley & Sons)等に記載の方法で脱保護できる置換基であればよく、例えば低級アルコキシカルボニル、低級アルケニルオキシカルボニル、トリアルキルシリル、アシル、メタンスルホニル、トリフルオロエタンスルホニル、トルエンスルホニル等が挙げられる。
Ｆ．置換基の変換（２）
　以下は置換基の変換による化合物ａｂ－４の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000028
（式中、各記号は前記と同義である。）
である。
　酢酸および水の混合溶媒中、化合物ａｂ－３に鉄を加え、２０℃～１２０℃、好ましくは５０℃～８０℃で０．５時間～４８時間、好ましくは６時間～２０時間反応させることにより、化合物ａｂ－４を得ることが出来る。
　その他、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、メタノール等の溶媒中、化合物ａｂ－３に１０％パラジウム／炭素等の接触還元触媒を加え、常圧～５気圧、好ましくは常圧～２気圧の水素雰囲気下、３０℃～１２０℃、好ましくは５０℃～８０℃で０．５時間～４８時間、好ましくは６時間～２０時間反応させる、または、Comprehensive Organic Transformations, Richard C Larock (Mcgraw-Hill)記載の方法によっても化合物ａｂ－４を得ることが出来る。
　上記化合物ｖ、ａｂ、ａｌ、ａｏ、ｂｅおよびｂｈは例えば(1)T. Fujisawa et al., Tetrahedron Lett., 37, 3881-3884 (1996), (2)D. H. Hua et al, Sulfur Reports, vol. 21, pp. 211-239 (1999) (3)Y. Koriyama et al., Tetrahedron, 58, 9621-9628 (2002)または(4)T. Vilavan et al, Cuuent Organic Chemistry, 9, 1315-1392 (2005)に記載の方法に準じて、または各中間体および最終物の光学分割または下記方法により製造することができる。光学分割の手法としては、光学活性カラムを用いて光学異性体を分離する方法、酵素反応等を利用した速度論的光学分割、キラルな酸、キラルな塩基を用いての塩形成によるジアステレオマーの晶析分割、優先晶出法等がある。
　本発明化合物のうち、以下の化合物が好ましい。
式（Ｉ’）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000029
において
１）環Ａ’がフェニルまたは含窒素芳香族複素環式基である化合物（以下、環Ａ’がＡ’１である化合物とする）、
環Ａ’がフェニル、ピリジル、インドリル、ベンズイソキサゾリル、ベンゾピラゾリルまたはベンゾフリル、ベンゾチエニル、ベンゾジオキソリル、またはジヒドロベンゾジオキソラニルである化合物（以下、環Ａ’がＡ’２である化合物とする）、
環Ａ’がフェニルである化合物（以下、環Ａ’がＡ’３である化合物とする）、
環Ａ’がピリジルである化合物（以下、環Ａ’がＡ’４である化合物とする）、
２）Ｒ１が置換基を有していてもよい低級アルキルである化合物（以下、Ｒ１がＲ１－１である化合物とする）、
Ｒ１がメチルである化合物（以下、Ｒ１がＲ１－２である化合物とする）、
３）Ｒ２ａおよびＲ２ｂが各々独立して水素、低級アルキルまたはアシルである化合物（以下、Ｒ２ａおよびＲ２ｂがＲ２－１である化合物とする）、
Ｒ２ａおよびＲ２ｂが共に水素である化合物（以下、Ｒ２ａおよびＲ２ｂがＲ２－２である化合物とする）、
４）Ｒ３ａおよびＲ３cが各々独立して、水素、ハロゲン、ヒドロキシ、低級アルキルまたはアミノである化合物（以下、Ｒ３ａおよびＲ３cがＲ３－１である化合物とする）、
Ｒ３ａまたはＲ３cがハロゲンまたは低級アルキルから選ばれる同一の置換基である化合物（以下、Ｒ３ａおよびＲ３cがＲ３－２である化合物とする）、
Ｒ３ａおよびＲ３cが全て水素である化合物（以下、Ｒ３ａおよびＲ３cがＲ３－３である化合物とする）、
５）ｎが０～２であり、Ｒ４が各々独立してハロゲン、低級アルコキシ、低級アルキルアミノ、低級アルキルチオ、オキソ、または低級アルキレンジオキシである化合物（以下、Ｒ４がＲ４－１である化合物とする）、
ｎが０～２であり、Ｒ４が各々独立してハロゲンである化合物（以下、Ｒ４がＲ４－２である化合物とする）、
６）Ｇが上記(ii)、(iv)、(v)、(x)、(xiii)または(xiv)である化合物（以下、ＧがＧ１である化合物とする）、
Ｇが上記(ii'), (ii'')、(iv')、(v')、(x')、(xiii')または(xiv')である化合物（以下、ＧがＧ２である化合物とする）、
Ｇが上記(ii'), (ii'')、(iv')、(v')、(x')、(xiii')または(xiv')であり、環Ｂが置換基を有していてもよいピリジル、置換基を有していてもよいピラジニル、置換基を有していてもよいチアゾリル、置換基を有していてもよいイソキサゾリル、置換基を有していてもよいベンゾチアゾリル、置換基を有していてもよいチアゾロピリジル、置換基を有していてもよいキノリル、置換基を有していてもよいイソキノリルまたは置換基を有していてもよいナフチリジニル、置換基を有していてもよいキナゾリニルまたは置換基を有していてもよいピリドピリミジニルである（ここで置換基とは置換基群αおよび置換基群αから選択される１以上の基で置換されていてもよい低級アルキルからなる群から選択される１～３個の基である）化合物（以下、ＧがＧ３である化合物とする）、
Ｇが上記(ii')であり、環Ｂが置換基を有していてもよいピリジル、置換基を有していてもよいピラジニル、置換基を有していてもよいチアゾリル、置換基を有していてもよいイソキサゾリル、置換基を有していてもよいベンゾチアゾリル、置換基を有していてもよいチアゾロピリジル、置換基を有していてもよいキノリル、置換基を有していてもよいイソキノリルまたは置換基を有していてもよいナフチリジニル、置換基を有していてもよいキナゾリニルまたは置換基を有していてもよいピリドピリミジニルである（ここで置換基とは置換基群αおよび置換基群αから選択される１以上の基で置換されていてもよい低級アルキルからなる群から選択される１～３個の基である）化合物（以下、ＧがＧ４である化合物とする）、
Ｇが上記(ii')であり、Ｒ５が水素または低級アルキルであり、Ｗ１がＯであり、環Ｂが置換基を有していてもよいピリジルまたは置換基を有していてもよいピラジニルである（ここで置換基とは置換基群αおよび置換基群αから選択される１以上の基で置換されていてもよい低級アルキルからなる群から選択される１～３個の基である）化合物（以下、ＧがＧ５である化合物とする）、
式（Ｉ’）において、環Ａ’、Ｒ１、Ｒ２ａおよびＲ２ｂ、Ｒ３ａおよびＲ３c、ｎおよびＲ４、Ｇの組み合わせが以下のものである化合物。
(A'1,R1-1,R2-1,R3-1,R4-1,G1)、(A'1,R1-1,R2-1,R3-1,R4-1,G2)、(A'1,R1-1,R2-1,R3-1,R4-1,G3)、(A'1,R1-1,R2-1,R3-1,R4-1,G4)、(A'1,R1-1,R2-1,R3-1,R4-1,G5)、(A'1,R1-1,R2-1,R3-1,R4-2,G1)、(A'1,R1-1,R2-1,R3-1,R4-2,G2)、(A'1,R1-1,R2-1,R3-1,R4-2,G3)、(A'1,R1-1,R2-1,R3-1,R4-2,G4)、(A'1,R1-1,R2-1,R3-1,R4-2,G5)、(A'1,R1-1,R2-1,R3-2,R4-1,G1)、(A'1,R1-1,R2-1,R3-2,R4-1,G2)、(A'1,R1-1,R2-1,R3-2,R4-1,G3)、(A'1,R1-1,R2-1,R3-2,R4-1,G4)、(A'1,R1-1,R2-1,R3-2,R4-1,G5)、(A'1,R1-1,R2-1,R3-2,R4-2,G1)、(A'1,R1-1,R2-1,R3-2,R4-2,G2)、(A'1,R1-1,R2-1,R3-2,R4-2,G3)、(A'1,R1-1,R2-1,R3-2,R4-2,G4)、(A'1,R1-1,R2-1,R3-2,R4-2,G5)、(A'1,R1-1,R2-1,R3-3,R4-1,G1)、(A'1,R1-1,R2-1,R3-3,R4-1,G2)、(A'1,R1-1,R2-1,R3-3,R4-1,G3)、(A'1,R1-1,R2-1,R3-3,R4-1,G4)、(A'1,R1-1,R2-1,R3-3,R4-1,G5)、(A'1,R1-1,R2-1,R3-3,R4-2,G1)、(A'1,R1-1,R2-1,R3-3,R4-2,G2)、(A'1,R1-1,R2-1,R3-3,R4-2,G3)、(A'1,R1-1,R2-1,R3-3,R4-2,G4)、(A'1,R1-1,R2-1,R3-3,R4-2,G5)、(A'1,R1-1,R2-2,R3-1,R4-1,G1)、(A'1,R1-1,R2-2,R3-1,R4-1,G2)、(A'1,R1-1,R2-2,R3-1,R4-1,G3)、(A'1,R1-1,R2-2,R3-1,R4-1,G4)、(A'1,R1-1,R2-2,R3-1,R4-1,G5)、(A'1,R1-1,R2-2,R3-1,R4-2,G1)、(A'1,R1-1,R2-2,R3-1,R4-2,G2)、(A'1,R1-1,R2-2,R3-1,R4-2,G3)、(A'1,R1-1,R2-2,R3-1,R4-2,G4)、(A'1,R1-1,R2-2,R3-1,R4-2,G5)、(A'1,R1-1,R2-2,R3-2,R4-1,G1)、(A'1,R1-1,R2-2,R3-2,R4-1,G2)、(A'1,R1-1,R2-2,R3-2,R4-1,G3)、(A'1,R1-1,R2-2,R3-2,R4-1,G4)、(A'1,R1-1,R2-2,R3-2,R4-1,G5)、(A'1,R1-1,R2-2,R3-2,R4-2,G1)、(A'1,R1-1,R2-2,R3-2,R4-2,G2)、(A'1,R1-1,R2-2,R3-2,R4-2,G3)、(A'1,R1-1,R2-2,R3-2,R4-2,G4)、(A'1,R1-1,R2-2,R3-2,R4-2,G5)、(A'1,R1-1,R2-2,R3-3,R4-1,G1)、(A'1,R1-1,R2-2,R3-3,R4-1,G2)、(A'1,R1-1,R2-2,R3-3,R4-1,G3)、(A'1,R1-1,R2-2,R3-3,R4-1,G4)、(A'1,R1-1,R2-2,R3-3,R4-1,G5)、(A'1,R1-1,R2-2,R3-3,R4-2,G1)、(A'1,R1-1,R2-2,R3-3,R4-2,G2)、(A'1,R1-1,R2-2,R3-3,R4-2,G3)、(A'1,R1-1,R2-2,R3-3,R4-2,G4)、(A'1,R1-1,R2-2,R3-3,R4-2,G5)、(A'1,R1-2,R2-1,R3-1,R4-1,G1)、(A'1,R1-2,R2-1,R3-1,R4-1,G2)、(A'1,R1-2,R2-1,R3-1,R4-1,G3)、(A'1,R1-2,R2-1,R3-1,R4-1,G4)、(A'1,R1-2,R2-1,R3-1,R4-1,G5)、(A'1,R1-2,R2-1,R3-1,R4-2,G1)、(A'1,R1-2,R2-1,R3-1,R4-2,G2)、(A'1,R1-2,R2-1,R3-1,R4-2,G3)、(A'1,R1-2,R2-1,R3-1,R4-2,G4)、(A'1,R1-2,R2-1,R3-1,R4-2,G5)、(A'1,R1-2,R2-1,R3-2,R4-1,G1)、(A'1,R1-2,R2-1,R3-2,R4-1,G2)、(A'1,R1-2,R2-1,R3-2,R4-1,G3)、(A'1,R1-2,R2-1,R3-2,R4-1,G4)、(A'1,R1-2,R2-1,R3-2,R4-1,G5)、(A'1,R1-2,R2-1,R3-2,R4-2,G1)、(A'1,R1-2,R2-1,R3-2,R4-2,G2)、(A'1,R1-2,R2-1,R3-2,R4-2,G3)、(A'1,R1-2,R2-1,R3-2,R4-2,G4)、(A'1,R1-2,R2-1,R3-2,R4-2,G5)、(A'1,R1-2,R2-1,R3-3,R4-1,G1)、(A'1,R1-2,R2-1,R3-3,R4-1,G2)、(A'1,R1-2,R2-1,R3-3,R4-1,G3)、(A'1,R1-2,R2-1,R3-3,R4-1,G4)、(A'1,R1-2,R2-1,R3-3,R4-1,G5)、(A'1,R1-2,R2-1,R3-3,R4-2,G1)、(A'1,R1-2,R2-1,R3-3,R4-2,G2)、(A'1,R1-2,R2-1,R3-3,R4-2,G3)、(A'1,R1-2,R2-1,R3-3,R4-2,G4)、(A'1,R1-2,R2-1,R3-3,R4-2,G5)、(A'1,R1-2,R2-2,R3-1,R4-1,G1)、(A'1,R1-2,R2-2,R3-1,R4-1,G2)、(A'1,R1-2,R2-2,R3-1,R4-1,G3)、(A'1,R1-2,R2-2,R3-1,R4-1,G4)、(A'1,R1-2,R2-2,R3-1,R4-1,G5)、(A'1,R1-2,R2-2,R3-1,R4-2,G1)、(A'1,R1-2,R2-2,R3-1,R4-2,G2)、(A'1,R1-2,R2-2,R3-1,R4-2,G3)、(A'1,R1-2,R2-2,R3-1,R4-2,G4)、(A'1,R1-2,R2-2,R3-1,R4-2,G5)、(A'1,R1-2,R2-2,R3-2,R4-1,G1)、(A'1,R1-2,R2-2,R3-2,R4-1,G2)、(A'1,R1-2,R2-2,R3-2,R4-1,G3)、(A'1,R1-2,R2-2,R3-2,R4-1,G4)、(A'1,R1-2,R2-2,R3-2,R4-1,G5)、(A'1,R1-2,R2-2,R3-2,R4-2,G1)、(A'1,R1-2,R2-2,R3-2,R4-2,G2)、(A'1,R1-2,R2-2,R3-2,R4-2,G3)、(A'1,R1-2,R2-2,R3-2,R4-2,G4)、(A'1,R1-2,R2-2,R3-2,R4-2,G5)、(A'1,R1-2,R2-2,R3-3,R4-1,G1)、(A'1,R1-2,R2-2,R3-3,R4-1,G2)、(A'1,R1-2,R2-2,R3-3,R4-1,G3)、(A'1,R1-2,R2-2,R3-3,R4-1,G4)、(A'1,R1-2,R2-2,R3-3,R4-1,G5)、(A'1,R1-2,R2-2,R3-3,R4-2,G1)、(A'1,R1-2,R2-2,R3-3,R4-2,G2)、(A'1,R1-2,R2-2,R3-3,R4-2,G3)、(A'1,R1-2,R2-2,R3-3,R4-2,G4)、(A'1,R1-2,R2-2,R3-3,R4-2,G5)、(A'2,R1-1,R2-1,R3-1,R4-1,G1)、(A'2,R1-1,R2-1,R3-1,R4-1,G2)、(A'2,R1-1,R2-1,R3-1,R4-1,G3)、(A'2,R1-1,R2-1,R3-1,R4-1,G4)、(A'2,R1-1,R2-1,R3-1,R4-1,G5)、(A'2,R1-1,R2-1,R3-1,R4-2,G1)、(A'2,R1-1,R2-1,R3-1,R4-2,G2)、(A'2,R1-1,R2-1,R3-1,R4-2,G3)、(A'2,R1-1,R2-1,R3-1,R4-2,G4)、(A'2,R1-1,R2-1,R3-1,R4-2,G5)、(A'2,R1-1,R2-1,R3-2,R4-1,G1)、(A'2,R1-1,R2-1,R3-2,R4-1,G2)、(A'2,R1-1,R2-1,R3-2,R4-1,G3)、(A'2,R1-1,R2-1,R3-2,R4-1,G4)、(A'2,R1-1,R2-1,R3-2,R4-1,G5)、(A'2,R1-1,R2-1,R3-2,R4-2,G1)、(A'2,R1-1,R2-1,R3-2,R4-2,G2)、(A'2,R1-1,R2-1,R3-2,R4-2,G3)、(A'2,R1-1,R2-1,R3-2,R4-2,G4)、(A'2,R1-1,R2-1,R3-2,R4-2,G5)、(A'2,R1-1,R2-1,R3-3,R4-1,G1)、(A'2,R1-1,R2-1,R3-3,R4-1,G2)、(A'2,R1-1,R2-1,R3-3,R4-1,G3)、(A'2,R1-1,R2-1,R3-3,R4-1,G4)、(A'2,R1-1,R2-1,R3-3,R4-1,G5)、(A'2,R1-1,R2-1,R3-3,R4-2,G1)、(A'2,R1-1,R2-1,R3-3,R4-2,G2)、(A'2,R1-1,R2-1,R3-3,R4-2,G3)、(A'2,R1-1,R2-1,R3-3,R4-2,G4)、(A'2,R1-1,R2-1,R3-3,R4-2,G5)、(A'2,R1-1,R2-2,R3-1,R4-1,G1)、(A'2,R1-1,R2-2,R3-1,R4-1,G2)、(A'2,R1-1,R2-2,R3-1,R4-1,G3)、(A'2,R1-1,R2-2,R3-1,R4-1,G4)、(A'2,R1-1,R2-2,R3-1,R4-1,G5)、(A'2,R1-1,R2-2,R3-1,R4-2,G1)、(A'2,R1-1,R2-2,R3-1,R4-2,G2)、(A'2,R1-1,R2-2,R3-1,R4-2,G3)、(A'2,R1-1,R2-2,R3-1,R4-2,G4)、(A'2,R1-1,R2-2,R3-1,R4-2,G5)、(A'2,R1-1,R2-2,R3-2,R4-1,G1)、(A'2,R1-1,R2-2,R3-2,R4-1,G2)、(A'2,R1-1,R2-2,R3-2,R4-1,G3)、(A'2,R1-1,R2-2,R3-2,R4-1,G4)、(A'2,R1-1,R2-2,R3-2,R4-1,G5)、(A'2,R1-1,R2-2,R3-2,R4-2,G1)、(A'2,R1-1,R2-2,R3-2,R4-2,G2)、(A'2,R1-1,R2-2,R3-2,R4-2,G3)、(A'2,R1-1,R2-2,R3-2,R4-2,G4)、(A'2,R1-1,R2-2,R3-2,R4-2,G5)、(A'2,R1-1,R2-2,R3-3,R4-1,G1)、(A'2,R1-1,R2-2,R3-3,R4-1,G2)、(A'2,R1-1,R2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2-2,R3-2,R4-1,G2)、(A'3,R1-2,R2-2,R3-2,R4-1,G3)、(A'3,R1-2,R2-2,R3-2,R4-1,G4)、(A'3,R1-2,R2-2,R3-2,R4-1,G5)、(A'3,R1-2,R2-2,R3-2,R4-2,G1)、(A'3,R1-2,R2-2,R3-2,R4-2,G2)、(A'3,R1-2,R2-2,R3-2,R4-2,G3)、(A'3,R1-2,R2-2,R3-2,R4-2,G4)、(A'3,R1-2,R2-2,R3-2,R4-2,G5)、(A'3,R1-2,R2-2,R3-3,R4-1,G1)、(A'3,R1-2,R2-2,R3-3,R4-1,G2)、(A'3,R1-2,R2-2,R3-3,R4-1,G3)、(A'3,R1-2,R2-2,R3-3,R4-1,G4)、(A'3,R1-2,R2-2,R3-3,R4-1,G5)、(A'3,R1-2,R2-2,R3-3,R4-2,G1)、(A'3,R1-2,R2-2,R3-3,R4-2,G2)、(A'3,R1-2,R2-2,R3-3,R4-2,G3)、(A'3,R1-2,R2-2,R3-3,R4-2,G4)、(A'3,R1-2,R2-2,R3-3,R4-2,G5)、(A'4,R1-1,R2-1,R3-1,R4-1,G1)、(A'4,R1-1,R2-1,R3-1,R4-1,G2)、(A'4,R1-1,R2-1,R3-1,R4-1,G3)、(A'4,R1-1,R2-1,R3-1,R4-1,G4)、(A'4,R1-1,R2-1,R3-1,R4-1,G5)、(A'4,R1-1,R2-1,R3-1,R4-2,G1)、(A'4,R1-1,R2-1,R3-1,R4-2,G2)、(A'4,R1-1,R2-1,R3-1,R4-2,G3)、(A'4,R1-1,R2-1,R3-1,R4-2,G4)、(A'4,R1-1,R2-1,R3-1,R4-2,G5)、(A'4,R1-1,R2-1,R3-2,R4-1,G1)、(A'4,R1-1,R2-1,R3-2,R4-1,G2)、(A'4,R1-1,R2-1,R3-2,R4-1,G3)、(A'4,R1-1,R2-1,R3-2,R4-1,G4)、(A'4,R1-1,R2-1,R3-2,R4-1,G5)、(A'4,R1-1,R2-1,R3-2,R4-2,G1)、(A'4,R1-1,R2-1,R3-2,R4-2,G2)、(A'4,R1-1,R2-1,R3-2,R4-2,G3)、(A'4,R1-1,R2-1,R3-2,R4-2,G4)、(A'4,R1-1,R2-1,R3-2,R4-2,G5)、(A'4,R1-1,R2-1,R3-3,R4-1,G1)、(A'4,R1-1,R2-1,R3-3,R4-1,G2)、(A'4,R1-1,R2-1,R3-3,R4-1,G3)、(A'4,R1-1,R2-1,R3-3,R4-1,G4)、(A'4,R1-1,R2-1,R3-3,R4-1,G5)、(A'4,R1-1,R2-1,R3-3,R4-2,G1)、(A'4,R1-1,R2-1,R3-3,R4-2,G2)、(A'4,R1-1,R2-1,R3-3,R4-2,G3)、(A'4,R1-1,R2-1,R3-3,R4-2,G4)、(A'4,R1-1,R2-1,R3-3,R4-2,G5)、(A'4,R1-1,R2-2,R3-1,R4-1,G1)、(A'4,R1-1,R2-2,R3-1,R4-1,G2)、(A'4,R1-1,R2-2,R3-1,R4-1,G3)、(A'4,R1-1,R2-2,R3-1,R4-1,G4)、(A'4,R1-1,R2-2,R3-1,R4-1,G5)、(A'4,R1-1,R2-2,R3-1,R4-2,G1)、(A'4,R1-1,R2-2,R3-1,R4-2,G2)、(A'4,R1-1,R2-2,R3-1,R4-2,G3)、(A'4,R1-1,R2-2,R3-1,R4-2,G4)、(A'4,R1-1,R2-2,R3-1,R4-2,G5)、(A'4,R1-1,R2-2,R3-2,R4-1,G1)、(A'4,R1-1,R2-2,R3-2,R4-1,G2)、(A'4,R1-1,R2-2,R3-2,R4-1,G3)、(A'4,R1-1,R2-2,R3-2,R4-1,G4)、(A'4,R1-1,R2-2,R3-2,R4-1,G5)、(A'4,R1-1,R2-2,R3-2,R4-2,G1)、(A'4,R1-1,R2-2,R3-2,R4-2,G2)、(A'4,R1-1,R2-2,R3-2,R4-2,G3)、(A'4,R1-1,R2-2,R3-2,R4-2,G4)、(A'4,R1-1,R2-2,R3-2,R4-2,G5)、(A'4,R1-1,R2-2,R3-3,R4-1,G1)、(A'4,R1-1,R2-2,R3-3,R4-1,G2)、(A'4,R1-1,R2-2,R3-3,R4-1,G3)、(A'4,R1-1,R2-2,R3-3,R4-1,G4)、(A'4,R1-1,R2-2,R3-3,R4-1,G5)、(A'4,R1-1,R2-2,R3-3,R4-2,G1)、(A'4,R1-1,R2-2,R3-3,R4-2,G2)、(A'4,R1-1,R2-2,R3-3,R4-2,G3)、(A'4,R1-1,R2-2,R3-3,R4-2,G4)、(A'4,R1-1,R2-2,R3-3,R4-2,G5)、(A'4,R1-2,R2-1,R3-1,R4-1,G1)、(A'4,R1-2,R2-1,R3-1,R4-1,G2)、(A'4,R1-2,R2-1,R3-1,R4-1,G3)、(A'4,R1-2,R2-1,R3-1,R4-1,G4)、(A'4,R1-2,R2-1,R3-1,R4-1,G5)、(A'4,R1-2,R2-1,R3-1,R4-2,G1)、(A'4,R1-2,R2-1,R3-1,R4-2,G2)、(A'4,R1-2,R2-1,R3-1,R4-2,G3)、(A'4,R1-2,R2-1,R3-1,R4-2,G4)、(A'4,R1-2,R2-1,R3-1,R4-2,G5)、(A'4,R1-2,R2-1,R3-2,R4-1,G1)、(A'4,R1-2,R2-1,R3-2,R4-1,G2)、(A'4,R1-2,R2-1,R3-2,R4-1,G3)、(A'4,R1-2,R2-1,R3-2,R4-1,G4)、(A'4,R1-2,R2-1,R3-2,R4-1,G5)、(A'4,R1-2,R2-1,R3-2,R4-2,G1)、(A'4,R1-2,R2-1,R3-2,R4-2,G2)、(A'4,R1-2,R2-1,R3-2,R4-2,G3)、(A'4,R1-2,R2-1,R3-2,R4-2,G4)、(A'4,R1-2,R2-1,R3-2,R4-2,G5)、(A'4,R1-2,R2-1,R3-3,R4-1,G1)、(A'4,R1-2,R2-1,R3-3,R4-1,G2)、(A'4,R1-2,R2-1,R3-3,R4-1,G3)、(A'4,R1-2,R2-1,R3-3,R4-1,G4)、(A'4,R1-2,R2-1,R3-3,R4-1,G5)、(A'4,R1-2,R2-1,R3-3,R4-2,G1)、(A'4,R1-2,R2-1,R3-3,R4-2,G2)、(A'4,R1-2,R2-1,R3-3,R4-2,G3)、(A'4,R1-2,R2-1,R3-3,R4-2,G4)、(A'4,R1-2,R2-1,R3-3,R4-2,G5)、(A'4,R1-2,R2-2,R3-1,R4-1,G1)、(A'4,R1-2,R2-2,R3-1,R4-1,G2)、(A'4,R1-2,R2-2,R3-1,R4-1,G3)、(A'4,R1-2,R2-2,R3-1,R4-1,G4)、(A'4,R1-2,R2-2,R3-1,R4-1,G5)、(A'4,R1-2,R2-2,R3-1,R4-2,G1)、(A'4,R1-2,R2-2,R3-1,R4-2,G2)、(A'4,R1-2,R2-2,R3-1,R4-2,G3)、(A'4,R1-2,R2-2,R3-1,R4-2,G4)、(A'4,R1-2,R2-2,R3-1,R4-2,G5)、(A'4,R1-2,R2-2,R3-2,R4-1,G1)、(A'4,R1-2,R2-2,R3-2,R4-1,G2)、(A'4,R1-2,R2-2,R3-2,R4-1,G3)、(A'4,R1-2,R2-2,R3-2,R4-1,G4)、(A'4,R1-2,R2-2,R3-2,R4-1,G5)、(A'4,R1-2,R2-2,R3-2,R4-2,G1)、(A'4,R1-2,R2-2,R3-2,R4-2,G2)、(A'4,R1-2,R2-2,R3-2,R4-2,G3)、(A'4,R1-2,R2-2,R3-2,R4-2,G4)、(A'4,R1-2,R2-2,R3-2,R4-2,G5)、(A'4,R1-2,R2-2,R3-3,R4-1,G1)、(A'4,R1-2,R2-2,R3-3,R4-1,G2)、(A'4,R1-2,R2-2,R3-3,R4-1,G3)、(A'4,R1-2,R2-2,R3-3,R4-1,G4)、(A'4,R1-2,R2-2,R3-3,R4-1,G5)、(A'4,R1-2,R2-2,R3-3,R4-2,G1)、(A'4,R1-2,R2-2,R3-3,R4-2,G2)、(A'4,R1-2,R2-2,R3-3,R4-2,G3)、(A'4,R1-2,R2-2,R3-3,R4-2,G4)、(A'4,R1-2,R2-2,R3-3,R4-2,G5)。
式（ＩＩ’）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000030
において
１）環Ａ’がフェニルまたは含窒素芳香族複素環式基である化合物（以下、環Ａ’がＡ’１である化合物とする）、
環Ａ’がフェニル、ピリジル、インドリル、ベンズイソキサゾリル、ベンゾピラゾリルまたはベンゾフリル、ベンゾチエニル、ベンゾジオキソリル、ジヒドロベンゾジオキソラニルである化合物（以下、環Ａ’がＡ’２である化合物とする）、
環Ａ’がフェニルである化合物（以下、環Ａ’がＡ’３である化合物とする）、
環Ａ’がピリジルである化合物（以下、環Ａ’がＡ’４である化合物とする）、
２）Ｒｘが置換基を有していてもよい炭素環式基または置換基を有していてもよい複素環式基である化合物（以下、ＲｘがＲｘ－１である化合物とする）、
Ｒｘが置換基を有していてもよいフェニル、置換基を有していてもよいピリジル、置換基を有していてもよいピラジニル、置換基を有していてもよいチアゾリル、置換基を有していてもよいイソキサゾリル、置換基を有していてもよいベンゾチアゾリル、置換基を有していてもよいチアゾロピリジル、置換基を有していてもよいキノリル、置換基を有していてもよいイソキノリルまたは置換基を有していてもよいナフチリジニル、置換基を有していてもよいキナゾリニルまたは置換基を有していてもよいピリドピリミジニルである化合物（以下、ＲｘがＲｘ－２である化合物とする）、
Ｒｘがシクロへキシル、ピロリニル、モルホリニル、ピペリジル、ピペラジニルである化合物（以下、ＲｘがＲｘ－３である化合物とする）、
３）Ｒ２ａおよびＲ２ｂが各々独立して水素、低級アルキルまたはアシルである化合物（以下、Ｒ２ａおよびＲ２ｂがＲ２－１である化合物とする）、
Ｒ２ａおよびＲ２ｂが共に水素である化合物（以下、Ｒ２ａおよびＲ２ｂがＲ２－２である化合物とする）、
４）Ｒ３ａおよびＲ３ｂが各々独立して、水素、ハロゲン、ヒドロキシ、低級アルキルまたはアミノである化合物（以下、Ｒ３ａおよびＲ３ｂがＲ３－１である化合物とする）、
Ｒ３ａおよびＲ３ｂが一緒になってシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチルまたはシクロへキシルを形成する化合物（以下、Ｒ３ａおよびＲ３ｂがＲ３－２である化合物とする）、
Ｒ３ａおよびＲ３ｂがハロゲンまたは低級アルキルから選ばれる同一の置換基である化合物（以下、Ｒ３ａおよびＲ３ｂがＲ３－３である化合物とする）、
Ｒ３ａおよびＲ３ｂが全て水素である化合物（以下、Ｒ３ａおよびＲ３ｂがＲ３－４である化合物とする）、
５）ｎが０～２であり、Ｒ４が各々独立してハロゲン、低級アルコキシ、低級アルキルアミノ、低級アルキルチオ、オキソ、低級アルキレンジオキシである化合物（以下、Ｒ４がＲ４－１である化合物とする）、
ｎが０～２であり、Ｒ４が各々独立してハロゲンである化合物（以下、Ｒ４がＲ４－２である化合物とする）、
６）Ｇが上記(ii)、(iv)、(v)、(x)、(xiii)または(xiv)である化合物（以下、ＧがＧ１である化合物とする）、
Ｇが上記(ii'), (ii'')、(iv')、(v')、(x')、(xiii')または(xiv')である化合物（以下、ＧがＧ２である化合物とする）、
Ｇが上記(ii'), (ii'')、(iv')、(v')、(x')、(xiii')または(xiv')であり、環Ｂが置換基を有していてもよいピリジル、置換基を有していてもよいピラジニル、置換基を有していてもよいチアゾリル、置換基を有していてもよいイソキサゾリル、置換基を有していてもよいベンゾチアゾリル、置換基を有していてもよいチアゾロピリジル、置換基を有していてもよいキノリル、置換基を有していてもよいイソキノリルまたは置換基を有していてもよいナフチリジニル、置換基を有していてもよいキナゾリニルまたは置換基を有していてもよいピリドピリミジニルである（ここで置換基とは置換基群αおよび置換基群αから選択される１以上の基で置換されていてもよい低級アルキルからなる群から選択される１～３個の基である）化合物（以下、ＧがＧ３である化合物とする）、
Ｇが上記(ii')であり、環Ｂが置換基を有していてもよいピリジル、置換基を有していてもよいピラジニル、置換基を有していてもよいチアゾリル、置換基を有していてもよいイソキサゾリル、置換基を有していてもよいベンゾチアゾリル、置換基を有していてもよいチアゾロピリジル、置換基を有していてもよいキノリル、置換基を有していてもよいイソキノリルまたは置換基を有していてもよいナフチリジニル、置換基を有していてもよいキナゾリニルまたは置換基を有していてもよいピリドピリミジニルである（ここで置換基とは置換基群αおよび置換基群αから選択される１以上の基で置換されていてもよい低級アルキルからなる群から選択される１～３個の基である）化合物（以下、ＧがＧ４である化合物とする）、
Ｇが上記(ii')であり、Ｒ５が水素または低級アルキルであり、Ｗ１がＯであり、環Ｂが置換基を有していてもよいピリジルまたは置換基を有していてもよいピラジニルである（ここで置換基とは置換基群αおよび置換基群αから選択される１以上の基で置換されていてもよい低級アルキルからなる群から選択される１～３個の基である）化合物（以下、ＧがＧ５である化合物とする）、
式（ＩI’）において、環Ａ’、Ｒｘ、Ｒ２ａおよびＲ２ｂ、Ｒ３ａおよびＲ３ｂ、ｎおよびＲ４、Ｇの組み合わせが以下のものである化合物。
(A'1,Rx-1,R2-1,R3-1,R4-1,G1)、(A'1,Rx-1,R2-1,R3-1,R4-1,G2)、(A'1,Rx-1,R2-1,R3-1,R4-1,G3)、(A'1,Rx-1,R2-1,R3-1,R4-1,G4)、(A'1,Rx-1,R2-1,R3-1,R4-1,G5)、(A'1,Rx-1,R2-1,R3-1,R4-2,G1)、(A'1,Rx-1,R2-1,R3-1,R4-2,G2)、(A'1,Rx-1,R2-1,R3-1,R4-2,G3)、(A'1,Rx-1,R2-1,R3-1,R4-2,G4)、(A'1,Rx-1,R2-1,R3-1,R4-2,G5)、(A'1,Rx-1,R2-1,R3-2,R4-1,G1)、(A'1,Rx-1,R2-1,R3-2,R4-1,G2)、(A'1,Rx-1,R2-1,R3-2,R4-1,G3)、(A'1,Rx-1,R2-1,R3-2,R4-1,G4)、(A'1,Rx-1,R2-1,R3-2,R4-1,G5)、(A'1,Rx-1,R2-1,R3-2,R4-2,G1)、(A'1,Rx-1,R2-1,R3-2,R4-2,G2)、(A'1,Rx-1,R2-1,R3-2,R4-2,G3)、(A'1,Rx-1,R2-1,R3-2,R4-2,G4)、(A'1,Rx-1,R2-1,R3-2,R4-2,G5)、(A'1,Rx-1,R2-1,R3-3,R4-1,G1)、(A'1,Rx-1,R2-1,R3-3,R4-1,G2)、(A'1,Rx-1,R2-1,R3-3,R4-1,G3)、(A'1,Rx-1,R2-1,R3-3,R4-1,G4)、(A'1,Rx-1,R2-1,R3-3,R4-1,G5)、(A'1,Rx-1,R2-1,R3-3,R4-2,G1)、(A'1,Rx-1,R2-1,R3-3,R4-2,G2)、(A'1,Rx-1,R2-1,R3-3,R4-2,G3)、(A'1,Rx-1,R2-1,R3-3,R4-2,G4)、(A'1,Rx-1,R2-1,R3-3,R4-2,G5)、(A'1,Rx-1,R2-1,R3-4,R4-1,G1)、(A'1,Rx-1,R2-1,R3-4,R4-1,G2)、(A'1,Rx-1,R2-1,R3-4,R4-1,G3)、(A'1,Rx-1,R2-1,R3-4,R4-1,G4)、(A'1,Rx-1,R2-1,R3-4,R4-1,G5)、(A'1,Rx-1,R2-1,R3-4,R4-2,G1)、(A'1,Rx-1,R2-1,R3-4,R4-2,G2)、(A'1,Rx-1,R2-1,R3-4,R4-2,G3)、(A'1,Rx-1,R2-1,R3-4,R4-2,G4)、(A'1,Rx-1,R2-1,R3-4,R4-2,G5)、(A'1,Rx-1,R2-2,R3-1,R4-1,G1)、(A'1,Rx-1,R2-2,R3-1,R4-1,G2)、(A'1,Rx-1,R2-2,R3-1,R4-1,G3)、(A'1,Rx-1,R2-2,R3-1,R4-1,G4)、(A'1,Rx-1,R2-2,R3-1,R4-1,G5)、(A'1,Rx-1,R2-2,R3-1,R4-2,G1)、(A'1,Rx-1,R2-2,R3-1,R4-2,G2)、(A'1,Rx-1,R2-2,R3-1,R4-2,G3)、(A'1,Rx-1,R2-2,R3-1,R4-2,G4)、(A'1,Rx-1,R2-2,R3-1,R4-2,G5)、(A'1,Rx-1,R2-2,R3-2,R4-1,G1)、(A'1,Rx-1,R2-2,R3-2,R4-1,G2)、(A'1,Rx-1,R2-2,R3-2,R4-1,G3)、(A'1,Rx-1,R2-2,R3-2,R4-1,G4)、(A'1,Rx-1,R2-2,R3-2,R4-1,G5)、(A'1,Rx-1,R2-2,R3-2,R4-2,G1)、(A'1,Rx-1,R2-2,R3-2,R4-2,G2)、(A'1,Rx-1,R2-2,R3-2,R4-2,G3)、(A'1,Rx-1,R2-2,R3-2,R4-2,G4)、(A'1,Rx-1,R2-2,R3-2,R4-2,G5)、(A'1,Rx-1,R2-2,R3-3,R4-1,G1)、(A'1,Rx-1,R2-2,R3-3,R4-1,G2)、(A'1,Rx-1,R2-2,R3-3,R4-1,G3)、(A'1,Rx-1,R2-2,R3-3,R4-1,G4)、(A'1,Rx-1,R2-2,R3-3,R4-1,G5)、(A'1,Rx-1,R2-2,R3-3,R4-2,G1)、(A'1,Rx-1,R2-2,R3-3,R4-2,G2)、(A'1,Rx-1,R2-2,R3-3,R4-2,G3)、(A'1,Rx-1,R2-2,R3-3,R4-2,G4)、(A'1,Rx-1,R2-2,R3-3,R4-2,G5)、(A'1,Rx-1,R2-2,R3-4,R4-1,G1)、(A'1,Rx-1,R2-2,R3-4,R4-1,G2)、(A'1,Rx-1,R2-2,R3-4,R4-1,G3)、(A'1,Rx-1,R2-2,R3-4,R4-1,G4)、(A'1,Rx-1,R2-2,R3-4,R4-1,G5)、(A'1,Rx-1,R2-2,R3-4,R4-2,G1)、(A'1,Rx-1,R2-2,R3-4,R4-2,G2)、(A'1,Rx-1,R2-2,R3-4,R4-2,G3)、(A'1,Rx-1,R2-2,R3-4,R4-2,G4)、(A'1,Rx-1,R2-2,R3-4,R4-2,G5)、(A'1,Rx-2,R2-1,R3-1,R4-1,G1)、(A'1,Rx-2,R2-1,R3-1,R4-1,G2)、(A'1,Rx-2,R2-1,R3-1,R4-1,G3)、(A'1,Rx-2,R2-1,R3-1,R4-1,G4)、(A'1,Rx-2,R2-1,R3-1,R4-1,G5)、(A'1,Rx-2,R2-1,R3-1,R4-2,G1)、(A'1,Rx-2,R2-1,R3-1,R4-2,G2)、(A'1,Rx-2,R2-1,R3-1,R4-2,G3)、(A'1,Rx-2,R2-1,R3-1,R4-2,G4)、(A'1,Rx-2,R2-1,R3-1,R4-2,G5)、(A'1,Rx-2,R2-1,R3-2,R4-1,G1)、(A'1,Rx-2,R2-1,R3-2,R4-1,G2)、(A'1,Rx-2,R2-1,R3-2,R4-1,G3)、(A'1,Rx-2,R2-1,R3-2,R4-1,G4)、(A'1,Rx-2,R2-1,R3-2,R4-1,G5)、(A'1,Rx-2,R2-1,R3-2,R4-2,G1)、(A'1,Rx-2,R2-1,R3-2,R4-2,G2)、(A'1,Rx-2,R2-1,R3-2,R4-2,G3)、(A'1,Rx-2,R2-1,R3-2,R4-2,G4)、(A'1,Rx-2,R2-1,R3-2,R4-2,G5)、(A'1,Rx-2,R2-1,R3-3,R4-1,G1)、(A'1,Rx-2,R2-1,R3-3,R4-1,G2)、(A'1,Rx-2,R2-1,R3-3,R4-1,G3)、(A'1,Rx-2,R2-1,R3-3,R4-1,G4)、(A'1,Rx-2,R2-1,R3-3,R4-1,G5)、(A'1,Rx-2,R2-1,R3-3,R4-2,G1)、(A'1,Rx-2,R2-1,R3-3,R4-2,G2)、(A'1,Rx-2,R2-1,R3-3,R4-2,G3)、(A'1,Rx-2,R2-1,R3-3,R4-2,G4)、(A'1,Rx-2,R2-1,R3-3,R4-2,G5)、(A'1,Rx-2,R2-1,R3-4,R4-1,G1)、(A'1,Rx-2,R2-1,R3-4,R4-1,G2)、(A'1,Rx-2,R2-1,R3-4,R4-1,G3)、(A'1,Rx-2,R2-1,R3-4,R4-1,G4)、(A'1,Rx-2,R2-1,R3-4,R4-1,G5)、(A'1,Rx-2,R2-1,R3-4,R4-2,G1)、(A'1,Rx-2,R2-1,R3-4,R4-2,G2)、(A'1,Rx-2,R2-1,R3-4,R4-2,G3)、(A'1,Rx-2,R2-1,R3-4,R4-2,G4)、(A'1,Rx-2,R2-1,R3-4,R4-2,G5)、(A'1,Rx-2,R2-2,R3-1,R4-1,G1)、(A'1,Rx-2,R2-2,R3-1,R4-1,G2)、(A'1,Rx-2,R2-2,R3-1,R4-1,G3)、(A'1,Rx-2,R2-2,R3-1,R4-1,G4)、(A'1,Rx-2,R2-2,R3-1,R4-1,G5)、(A'1,Rx-2,R2-2,R3-1,R4-2,G1)、(A'1,Rx-2,R2-2,R3-1,R4-2,G2)、(A'1,Rx-2,R2-2,R3-1,R4-2,G3)、(A'1,Rx-2,R2-2,R3-1,R4-2,G4)、(A'1,Rx-2,R2-2,R3-1,R4-2,G5)、(A'1,Rx-2,R2-2,R3-2,R4-1,G1)、(A'1,Rx-2,R2-2,R3-2,R4-1,G2)、(A'1,Rx-2,R2-2,R3-2,R4-1,G3)、(A'1,Rx-2,R2-2,R3-2,R4-1,G4)、(A'1,Rx-2,R2-2,R3-2,R4-1,G5)、(A'1,Rx-2,R2-2,R3-2,R4-2,G1)、(A'1,Rx-2,R2-2,R3-2,R4-2,G2)、(A'1,Rx-2,R2-2,R3-2,R4-2,G3)、(A'1,Rx-2,R2-2,R3-2,R4-2,G4)、(A'1,Rx-2,R2-2,R3-2,R4-2,G5)、(A'1,Rx-2,R2-2,R3-3,R4-1,G1)、(A'1,Rx-2,R2-2,R3-3,R4-1,G2)、(A'1,Rx-2,R2-2,R3-3,R4-1,G3)、(A'1,Rx-2,R2-2,R3-3,R4-1,G4)、(A'1,Rx-2,R2-2,R3-3,R4-1,G5)、(A'1,Rx-2,R2-2,R3-3,R4-2,G1)、(A'1,Rx-2,R2-2,R3-3,R4-2,G2)、(A'1,Rx-2,R2-2,R3-3,R4-2,G3)、(A'1,Rx-2,R2-2,R3-3,R4-2,G4)、(A'1,Rx-2,R2-2,R3-3,R4-2,G5)、(A'1,Rx-2,R2-2,R3-4,R4-1,G1)、(A'1,Rx-2,R2-2,R3-4,R4-1,G2)、(A'1,Rx-2,R2-2,R3-4,R4-1,G3)、(A'1,Rx-2,R2-2,R3-4,R4-1,G4)、(A'1,Rx-2,R2-2,R3-4,R4-1,G5)、(A'1,Rx-2,R2-2,R3-4,R4-2,G1)、(A'1,Rx-2,R2-2,R3-4,R4-2,G2)、(A'1,Rx-2,R2-2,R3-4,R4-2,G3)、(A'1,Rx-2,R2-2,R3-4,R4-2,G4)、(A'1,Rx-2,R2-2,R3-4,R4-2,G5)、(A'1,Rx-3,R2-1,R3-1,R4-1,G1)、(A'1,Rx-3,R2-1,R3-1,R4-1,G2)、(A'1,Rx-3,R2-1,R3-1,R4-1,G3)、(A'1,Rx-3,R2-1,R3-1,R4-1,G4)、(A'1,Rx-3,R2-1,R3-1,R4-1,G5)、(A'1,Rx-3,R2-1,R3-1,R4-2,G1)、(A'1,Rx-3,R2-1,R3-1,R4-2,G2)、(A'1,Rx-3,R2-1,R3-1,R4-2,G3)、(A'1,Rx-3,R2-1,R3-1,R4-2,G4)、(A'1,Rx-3,R2-1,R3-1,R4-2,G5)、(A'1,Rx-3,R2-1,R3-2,R4-1,G1)、(A'1,Rx-3,R2-1,R3-2,R4-1,G2)、(A'1,Rx-3,R2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-1,G3)、(A'3,Rx-3,R2-2,R3-1,R4-1,G4)、(A'3,Rx-3,R2-2,R3-1,R4-1,G5)、(A'3,Rx-3,R2-2,R3-1,R4-2,G1)、(A'3,Rx-3,R2-2,R3-1,R4-2,G2)、(A'3,Rx-3,R2-2,R3-1,R4-2,G3)、(A'3,Rx-3,R2-2,R3-1,R4-2,G4)、(A'3,Rx-3,R2-2,R3-1,R4-2,G5)、(A'3,Rx-3,R2-2,R3-2,R4-1,G1)、(A'3,Rx-3,R2-2,R3-2,R4-1,G2)、(A'3,Rx-3,R2-2,R3-2,R4-1,G3)、(A'3,Rx-3,R2-2,R3-2,R4-1,G4)、(A'3,Rx-3,R2-2,R3-2,R4-1,G5)、(A'3,Rx-3,R2-2,R3-2,R4-2,G1)、(A'3,Rx-3,R2-2,R3-2,R4-2,G2)、(A'3,Rx-3,R2-2,R3-2,R4-2,G3)、(A'3,Rx-3,R2-2,R3-2,R4-2,G4)、(A'3,Rx-3,R2-2,R3-2,R4-2,G5)、(A'3,Rx-3,R2-2,R3-3,R4-1,G1)、(A'3,Rx-3,R2-2,R3-3,R4-1,G2)、(A'3,Rx-3,R2-2,R3-3,R4-1,G3)、(A'3,Rx-3,R2-2,R3-3,R4-1,G4)、(A'3,Rx-3,R2-2,R3-3,R4-1,G5)、(A'3,Rx-3,R2-2,R3-3,R4-2,G1)、(A'3,Rx-3,R2-2,R3-3,R4-2,G2)、(A'3,Rx-3,R2-2,R3-3,R4-2,G3)、(A'3,Rx-3,R2-2,R3-3,R4-2,G4)、(A'3,Rx-3,R2-2,R3-3,R4-2,G5)、(A'3,Rx-3,R2-2,R3-4,R4-1,G1)、(A'3,Rx-3,R2-2,R3-4,R4-1,G2)、(A'3,Rx-3,R2-2,R3-4,R4-1,G3)、(A'3,Rx-3,R2-2,R3-4,R4-1,G4)、(A'3,Rx-3,R2-2,R3-4,R4-1,G5)、(A'3,Rx-3,R2-2,R3-4,R4-2,G1)、(A'3,Rx-3,R2-2,R3-4,R4-2,G2)、(A'3,Rx-3,R2-2,R3-4,R4-2,G3)、(A'3,Rx-3,R2-2,R3-4,R4-2,G4)、(A'3,Rx-3,R2-2,R3-4,R4-2,G5)、(A'4,Rx-1,R2-1,R3-1,R4-1,G1)、(A'4,Rx-1,R2-1,R3-1,R4-1,G2)、(A'4,Rx-1,R2-1,R3-1,R4-1,G3)、(A'4,Rx-1,R2-1,R3-1,R4-1,G4)、(A'4,Rx-1,R2-1,R3-1,R4-1,G5)、(A'4,Rx-1,R2-1,R3-1,R4-2,G1)、(A'4,Rx-1,R2-1,R3-1,R4-2,G2)、(A'4,Rx-1,R2-1,R3-1,R4-2,G3)、(A'4,Rx-1,R2-1,R3-1,R4-2,G4)、(A'4,Rx-1,R2-1,R3-1,R4-2,G5)、(A'4,Rx-1,R2-1,R3-2,R4-1,G1)、(A'4,Rx-1,R2-1,R3-2,R4-1,G2)、(A'4,Rx-1,R2-1,R3-2,R4-1,G3)、(A'4,Rx-1,R2-1,R3-2,R4-1,G4)、(A'4,Rx-1,R2-1,R3-2,R4-1,G5)、(A'4,Rx-1,R2-1,R3-2,R4-2,G1)、(A'4,Rx-1,R2-1,R3-2,R4-2,G2)、(A'4,Rx-1,R2-1,R3-2,R4-2,G3)、(A'4,Rx-1,R2-1,R3-2,R4-2,G4)、(A'4,Rx-1,R2-1,R3-2,R4-2,G5)、(A'4,Rx-1,R2-1,R3-3,R4-1,G1)、(A'4,Rx-1,R2-1,R3-3,R4-1,G2)、(A'4,Rx-1,R2-1,R3-3,R4-1,G3)、(A'4,Rx-1,R2-1,R3-3,R4-1,G4)、(A'4,Rx-1,R2-1,R3-3,R4-1,G5)、(A'4,Rx-1,R2-1,R3-3,R4-2,G1)、(A'4,Rx-1,R2-1,R3-3,R4-2,G2)、(A'4,Rx-1,R2-1,R3-3,R4-2,G3)、(A'4,Rx-1,R2-1,R3-3,R4-2,G4)、(A'4,Rx-1,R2-1,R3-3,R4-2,G5)、(A'4,Rx-1,R2-1,R3-4,R4-1,G1)、(A'4,Rx-1,R2-1,R3-4,R4-1,G2)、(A'4,Rx-1,R2-1,R3-4,R4-1,G3)、(A'4,Rx-1,R2-1,R3-4,R4-1,G4)、(A'4,Rx-1,R2-1,R3-4,R4-1,G5)、(A'4,Rx-1,R2-1,R3-4,R4-2,G1)、(A'4,Rx-1,R2-1,R3-4,R4-2,G2)、(A'4,Rx-1,R2-1,R3-4,R4-2,G3)、(A'4,Rx-1,R2-1,R3-4,R4-2,G4)、(A'4,Rx-1,R2-1,R3-4,R4-2,G5)、(A'4,Rx-1,R2-2,R3-1,R4-1,G1)、(A'4,Rx-1,R2-2,R3-1,R4-1,G2)、(A'4,Rx-1,R2-2,R3-1,R4-1,G3)、(A'4,Rx-1,R2-2,R3-1,R4-1,G4)、(A'4,Rx-1,R2-2,R3-1,R4-1,G5)、(A'4,Rx-1,R2-2,R3-1,R4-2,G1)、(A'4,Rx-1,R2-2,R3-1,R4-2,G2)、(A'4,Rx-1,R2-2,R3-1,R4-2,G3)、(A'4,Rx-1,R2-2,R3-1,R4-2,G4)、(A'4,Rx-1,R2-2,R3-1,R4-2,G5)、(A'4,Rx-1,R2-2,R3-2,R4-1,G1)、(A'4,Rx-1,R2-2,R3-2,R4-1,G2)、(A'4,Rx-1,R2-2,R3-2,R4-1,G3)、(A'4,Rx-1,R2-2,R3-2,R4-1,G4)、(A'4,Rx-1,R2-2,R3-2,R4-1,G5)、(A'4,Rx-1,R2-2,R3-2,R4-2,G1)、(A'4,Rx-1,R2-2,R3-2,R4-2,G2)、(A'4,Rx-1,R2-2,R3-2,R4-2,G3)、(A'4,Rx-1,R2-2,R3-2,R4-2,G4)、(A'4,Rx-1,R2-2,R3-2,R4-2,G5)、(A'4,Rx-1,R2-2,R3-3,R4-1,G1)、(A'4,Rx-1,R2-2,R3-3,R4-1,G2)、(A'4,Rx-1,R2-2,R3-3,R4-1,G3)、(A'4,Rx-1,R2-2,R3-3,R4-1,G4)、(A'4,Rx-1,R2-2,R3-3,R4-1,G5)、(A'4,Rx-1,R2-2,R3-3,R4-2,G1)、(A'4,Rx-1,R2-2,R3-3,R4-2,G2)、(A'4,Rx-1,R2-2,R3-3,R4-2,G3)、(A'4,Rx-1,R2-2,R3-3,R4-2,G4)、(A'4,Rx-1,R2-2,R3-3,R4-2,G5)、(A'4,Rx-1,R2-2,R3-4,R4-1,G1)、(A'4,Rx-1,R2-2,R3-4,R4-1,G2)、(A'4,Rx-1,R2-2,R3-4,R4-1,G3)、(A'4,Rx-1,R2-2,R3-4,R4-1,G4)、(A'4,Rx-1,R2-2,R3-4,R4-1,G5)、(A'4,Rx-1,R2-2,R3-4,R4-2,G1)、(A'4,Rx-1,R2-2,R3-4,R4-2,G2)、(A'4,Rx-1,R2-2,R3-4,R4-2,G3)、(A'4,Rx-1,R2-2,R3-4,R4-2,G4)、(A'4,Rx-1,R2-2,R3-4,R4-2,G5)、(A'4,Rx-2,R2-1,R3-1,R4-1,G1)、(A'4,Rx-2,R2-1,R3-1,R4-1,G2)、(A'4,Rx-2,R2-1,R3-1,R4-1,G3)、(A'4,Rx-2,R2-1,R3-1,R4-1,G4)、(A'4,Rx-2,R2-1,R3-1,R4-1,G5)、(A'4,Rx-2,R2-1,R3-1,R4-2,G1)、(A'4,Rx-2,R2-1,R3-1,R4-2,G2)、(A'4,Rx-2,R2-1,R3-1,R4-2,G3)、(A'4,Rx-2,R2-1,R3-1,R4-2,G4)、(A'4,Rx-2,R2-1,R3-1,R4-2,G5)、(A'4,Rx-2,R2-1,R3-2,R4-1,G1)、(A'4,Rx-2,R2-1,R3-2,R4-1,G2)、(A'4,Rx-2,R2-1,R3-2,R4-1,G3)、(A'4,Rx-2,R2-1,R3-2,R4-1,G4)、(A'4,Rx-2,R2-1,R3-2,R4-1,G5)、(A'4,Rx-2,R2-1,R3-2,R4-2,G1)、(A'4,Rx-2,R2-1,R3-2,R4-2,G2)、(A'4,Rx-2,R2-1,R3-2,R4-2,G3)、(A'4,Rx-2,R2-1,R3-2,R4-2,G4)、(A'4,Rx-2,R2-1,R3-2,R4-2,G5)、(A'4,Rx-2,R2-1,R3-3,R4-1,G1)、(A'4,Rx-2,R2-1,R3-3,R4-1,G2)、(A'4,Rx-2,R2-1,R3-3,R4-1,G3)、(A'4,Rx-2,R2-1,R3-3,R4-1,G4)、(A'4,Rx-2,R2-1,R3-3,R4-1,G5)、(A'4,Rx-2,R2-1,R3-3,R4-2,G1)、(A'4,Rx-2,R2-1,R3-3,R4-2,G2)、(A'4,Rx-2,R2-1,R3-3,R4-2,G3)、(A'4,Rx-2,R2-1,R3-3,R4-2,G4)、(A'4,Rx-2,R2-1,R3-3,R4-2,G5)、(A'4,Rx-2,R2-1,R3-4,R4-1,G1)、(A'4,Rx-2,R2-1,R3-4,R4-1,G2)、(A'4,Rx-2,R2-1,R3-4,R4-1,G3)、(A'4,Rx-2,R2-1,R3-4,R4-1,G4)、(A'4,Rx-2,R2-1,R3-4,R4-1,G5)、(A'4,Rx-2,R2-1,R3-4,R4-2,G1)、(A'4,Rx-2,R2-1,R3-4,R4-2,G2)、(A'4,Rx-2,R2-1,R3-4,R4-2,G3)、(A'4,Rx-2,R2-1,R3-4,R4-2,G4)、(A'4,Rx-2,R2-1,R3-4,R4-2,G5)、(A'4,Rx-2,R2-2,R3-1,R4-1,G1)、(A'4,Rx-2,R2-2,R3-1,R4-1,G2)、(A'4,Rx-2,R2-2,R3-1,R4-1,G3)、(A'4,Rx-2,R2-2,R3-1,R4-1,G4)、(A'4,Rx-2,R2-2,R3-1,R4-1,G5)、(A'4,Rx-2,R2-2,R3-1,R4-2,G1)、(A'4,Rx-2,R2-2,R3-1,R4-2,G2)、(A'4,Rx-2,R2-2,R3-1,R4-2,G3)、(A'4,Rx-2,R2-2,R3-1,R4-2,G4)、(A'4,Rx-2,R2-2,R3-1,R4-2,G5)、(A'4,Rx-2,R2-2,R3-2,R4-1,G1)、(A'4,Rx-2,R2-2,R3-2,R4-1,G2)、(A'4,Rx-2,R2-2,R3-2,R4-1,G3)、(A'4,Rx-2,R2-2,R3-2,R4-1,G4)、(A'4,Rx-2,R2-2,R3-2,R4-1,G5)、(A'4,Rx-2,R2-2,R3-2,R4-2,G1)、(A'4,Rx-2,R2-2,R3-2,R4-2,G2)、(A'4,Rx-2,R2-2,R3-2,R4-2,G3)、(A'4,Rx-2,R2-2,R3-2,R4-2,G4)、(A'4,Rx-2,R2-2,R3-2,R4-2,G5)、(A'4,Rx-2,R2-2,R3-3,R4-1,G1)、(A'4,Rx-2,R2-2,R3-3,R4-1,G2)、(A'4,Rx-2,R2-2,R3-3,R4-1,G3)、(A'4,Rx-2,R2-2,R3-3,R4-1,G4)、(A'4,Rx-2,R2-2,R3-3,R4-1,G5)、(A'4,Rx-2,R2-2,R3-3,R4-2,G1)、(A'4,Rx-2,R2-2,R3-3,R4-2,G2)、(A'4,Rx-2,R2-2,R3-3,R4-2,G3)、(A'4,Rx-2,R2-2,R3-3,R4-2,G4)、(A'4,Rx-2,R2-2,R3-3,R4-2,G5)、(A'4,Rx-2,R2-2,R3-4,R4-1,G1)、(A'4,Rx-2,R2-2,R3-4,R4-1,G2)、(A'4,Rx-2,R2-2,R3-4,R4-1,G3)、(A'4,Rx-2,R2-2,R3-4,R4-1,G4)、(A'4,Rx-2,R2-2,R3-4,R4-1,G5)、(A'4,Rx-2,R2-2,R3-4,R4-2,G1)、(A'4,Rx-2,R2-2,R3-4,R4-2,G2)、(A'4,Rx-2,R2-2,R3-4,R4-2,G3)、(A'4,Rx-2,R2-2,R3-4,R4-2,G4)、(A'4,Rx-2,R2-2,R3-4,R4-2,G5)、(A'4,Rx-3,R2-1,R3-1,R4-1,G1)、(A'4,Rx-3,R2-1,R3-1,R4-1,G2)、(A'4,Rx-3,R2-1,R3-1,R4-1,G3)、(A'4,Rx-3,R2-1,R3-1,R4-1,G4)、(A'4,Rx-3,R2-1,R3-1,R4-1,G5)、(A'4,Rx-3,R2-1,R3-1,R4-2,G1)、(A'4,Rx-3,R2-1,R3-1,R4-2,G2)、(A'4,Rx-3,R2-1,R3-1,R4-2,G3)、(A'4,Rx-3,R2-1,R3-1,R4-2,G4)、(A'4,Rx-3,R2-1,R3-1,R4-2,G5)、(A'4,Rx-3,R2-1,R3-2,R4-1,G1)、(A'4,Rx-3,R2-1,R3-2,R4-1,G2)、(A'4,Rx-3,R2-1,R3-2,R4-1,G3)、(A'4,Rx-3,R2-1,R3-2,R4-1,G4)、(A'4,Rx-3,R2-1,R3-2,R4-1,G5)、(A'4,Rx-3,R2-1,R3-2,R4-2,G1)、(A'4,Rx-3,R2-1,R3-2,R4-2,G2)、(A'4,Rx-3,R2-1,R3-2,R4-2,G3)、(A'4,Rx-3,R2-1,R3-2,R4-2,G4)、(A'4,Rx-3,R2-1,R3-2,R4-2,G5)、(A'4,Rx-3,R2-1,R3-3,R4-1,G1)、(A'4,Rx-3,R2-1,R3-3,R4-1,G2)、(A'4,Rx-3,R2-1,R3-3,R4-1,G3)、(A'4,Rx-3,R2-1,R3-3,R4-1,G4)、(A'4,Rx-3,R2-1,R3-3,R4-1,G5)、(A'4,Rx-3,R2-1,R3-3,R4-2,G1)、(A'4,Rx-3,R2-1,R3-3,R4-2,G2)、(A'4,Rx-3,R2-1,R3-3,R4-2,G3)、(A'4,Rx-3,R2-1,R3-3,R4-2,G4)、(A'4,Rx-3,R2-1,R3-3,R4-2,G5)、(A'4,Rx-3,R2-1,R3-4,R4-1,G1)、(A'4,Rx-3,R2-1,R3-4,R4-1,G2)、(A'4,Rx-3,R2-1,R3-4,R4-1,G3)、(A'4,Rx-3,R2-1,R3-4,R4-1,G4)、(A'4,Rx-3,R2-1,R3-4,R4-1,G5)、(A'4,Rx-3,R2-1,R3-4,R4-2,G1)、(A'4,Rx-3,R2-1,R3-4,R4-2,G2)、(A'4,Rx-3,R2-1,R3-4,R4-2,G3)、(A'4,Rx-3,R2-1,R3-4,R4-2,G4)、(A'4,Rx-3,R2-1,R3-4,R4-2,G5)、(A'4,Rx-3,R2-2,R3-1,R4-1,G1)、(A'4,Rx-3,R2-2,R3-1,R4-1,G2)、(A'4,Rx-3,R2-2,R3-1,R4-1,G3)、(A'4,Rx-3,R2-2,R3-1,R4-1,G4)、(A'4,Rx-3,R2-2,R3-1,R4-1,G5)、(A'4,Rx-3,R2-2,R3-1,R4-2,G1)、(A'4,Rx-3,R2-2,R3-1,R4-2,G2)、(A'4,Rx-3,R2-2,R3-1,R4-2,G3)、(A'4,Rx-3,R2-2,R3-1,R4-2,G4)、(A'4,Rx-3,R2-2,R3-1,R4-2,G5)、(A'4,Rx-3,R2-2,R3-2,R4-1,G1)、(A'4,Rx-3,R2-2,R3-2,R4-1,G2)、(A'4,Rx-3,R2-2,R3-2,R4-1,G3)、(A'4,Rx-3,R2-2,R3-2,R4-1,G4)、(A'4,Rx-3,R2-2,R3-2,R4-1,G5)、(A'4,Rx-3,R2-2,R3-2,R4-2,G1)、(A'4,Rx-3,R2-2,R3-2,R4-2,G2)、(A'4,Rx-3,R2-2,R3-2,R4-2,G3)、(A'4,Rx-3,R2-2,R3-2,R4-2,G4)、(A'4,Rx-3,R2-2,R3-2,R4-2,G5)、(A'4,Rx-3,R2-2,R3-3,R4-1,G1)、(A'4,Rx-3,R2-2,R3-3,R4-1,G2)、(A'4,Rx-3,R2-2,R3-3,R4-1,G3)、(A'4,Rx-3,R2-2,R3-3,R4-1,G4)、(A'4,Rx-3,R2-2,R3-3,R4-1,G5)、(A'4,Rx-3,R2-2,R3-3,R4-2,G1)、(A'4,Rx-3,R2-2,R3-3,R4-2,G2)、(A'4,Rx-3,R2-2,R3-3,R4-2,G3)、(A'4,Rx-3,R2-2,R3-3,R4-2,G4)、(A'4,Rx-3,R2-2,R3-3,R4-2,G5)、(A'4,Rx-3,R2-2,R3-4,R4-1,G1)、(A'4,Rx-3,R2-2,R3-4,R4-1,G2)、(A'4,Rx-3,R2-2,R3-4,R4-1,G3)、(A'4,Rx-3,R2-2,R3-4,R4-1,G4)、(A'4,Rx-3,R2-2,R3-4,R4-1,G5)、(A'4,Rx-3,R2-2,R3-4,R4-2,G1)、(A'4,Rx-3,R2-2,R3-4,R4-2,G2)、(A'4,Rx-3,R2-2,R3-4,R4-2,G3)、(A'4,Rx-3,R2-2,R3-4,R4-2,G4)、(A'4,Rx-3,R2-2,R3-4,R4-2,G5)。
式（ＩＩＩ’）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000031
において
１）環Ａ’がフェニルまたは含窒素芳香族複素環式基である化合物（以下、環Ａ’がＡ’１である化合物とする）、
環Ａ’がフェニル、ピリジル、インドリル、ベンズイソキサゾリル、ベンゾピラゾリルまたはベンゾフリル、ベンゾチエニル、ベンゾジオキソリル、ジヒドロベンゾジオキソラニルである化合物（以下、環Ａ’がＡ’２である化合物とする）、
環Ａ’がフェニルである化合物（以下、環Ａ’がＡ’３である化合物とする）、
環Ａ’がピリジルである化合物（以下、環Ａ’がＡ’４である化合物とする）、
２）Ｒｙがハロゲンで置換されている低級アルキルである化合物（以下、ＲｙがＲｙ－１である化合物とする）、
Ｒｙがトリフルオロメチルである化合物（以下、ＲｙがＲｙ－２である化合物とする）、
３）Ｒ２ａおよびＲ２ｂが各々独立して水素、低級アルキルまたはアシルである化合物（以下、Ｒ２ａおよびＲ２ｂがＲ２－１である化合物とする）、
Ｒ２ａおよびＲ２ｂが共に水素である化合物（以下、Ｒ２ａおよびＲ２ｂがＲ２－２である化合物とする）、
４）Ｒ３ａ、Ｒ３ｂ、Ｒ３cおよびＲ３dが各々独立して、水素、ハロゲン、ヒドロキシ、低級アルキルまたはアミノである化合物（以下、Ｒ３ａ、Ｒ３ｂ、Ｒ３cおよびＲ３dがＲ３－１である化合物とする）、
Ｒ３ａおよびＲ３ｂ、またはＲ３cおよびＲ３dが一緒になってシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチルまたはシクロへキシルを形成する化合物（以下、Ｒ３ａ、Ｒ３ｂ、Ｒ３cおよびＲ３dがＲ３－２である化合物とする）、
Ｒ３ａおよびＲ３ｂ、またはＲ３cおよびＲ３dがハロゲンまたは低級アルキルから選ばれる同一の置換基である化合物（以下、Ｒ３ａ、Ｒ３ｂ、Ｒ３cおよびＲ３dがＲ３－３である化合物とする）、
Ｒ３ａ、Ｒ３ｂ、Ｒ３cおよびＲ３dが全て水素である化合物（以下、Ｒ３ａ、Ｒ３ｂ、Ｒ３cおよびＲ３dがＲ３－４である化合物とする）、
５）ｎが０～２であり、Ｒ４が各々独立してハロゲン、低級アルコキシ、低級アルキルアミノ、低級アルキルチオ、オキソ、低級アルキレンジオキシである化合物（以下、Ｒ４がＲ４－１である化合物とする）、
ｎが０～２であり、Ｒ４が各々独立してハロゲンである化合物（以下、Ｒ４がＲ４－２である化合物とする）、
６）Ｇが上記(ii)、(iv)、(v)、(x)、(xiii)または(xiv)である化合物（以下、ＧがＧ１である化合物とする）、
Ｇが上記(ii'), (ii'')、(iv')、(v')、(x')、(xiii')または(xiv')である化合物（以下、ＧがＧ２である化合物とする）、
Ｇが上記(ii'), (ii'')、(iv')、(v')、(x')、(xiii')または(xiv')であり、環Ｂが置換基を有していてもよいピリジル、置換基を有していてもよいピラジニル、置換基を有していてもよいチアゾリル、置換基を有していてもよいイソキサゾリル、置換基を有していてもよいベンゾチアゾリル、置換基を有していてもよいチアゾロピリジル、置換基を有していてもよいキノリル、置換基を有していてもよいイソキノリルまたは置換基を有していてもよいナフチリジニル、置換基を有していてもよいキナゾリニルまたは置換基を有していてもよいピリドピリミジニルである（ここで置換基とは置換基群αおよび置換基群αから選択される１以上の基で置換されていてもよい低級アルキルからなる群から選択される１～３個の基である）化合物（以下、ＧがＧ３である化合物とする）、
Ｇが上記(ii')であり、環Ｂが置換基を有していてもよいピリジル、置換基を有していてもよいピラジニル、置換基を有していてもよいチアゾリル、置換基を有していてもよいイソキサゾリル、置換基を有していてもよいベンゾチアゾリル、置換基を有していてもよいチアゾロピリジル、置換基を有していてもよいキノリル、置換基を有していてもよいイソキノリルまたは置換基を有していてもよいナフチリジニル、置換基を有していてもよいキナゾリニルまたは置換基を有していてもよいピリドピリミジニルである（ここで置換基とは置換基群αおよび置換基群αから選択される１以上の基で置換されていてもよい低級アルキルからなる群から選択される１～３個の基である）化合物（以下、ＧがＧ４である化合物とする）、
Ｇが上記(ii')であり、Ｒ５が水素または低級アルキルであり、Ｗ１がＯであり、環Ｂが置置換基を有していてもよいピリジルまたは置換基を有していてもよいピラジニルである（ここで置換基とは置換基群αおよび置換基群αから選択される１以上の基で置換されていてもよい低級アルキルからなる群から選択される１～３個の基である）化合物（以下、ＧがＧ５である化合物とする）、
環Ａ’、Ｒｙ、Ｒ２ａおよびＲ２ｂ、Ｒ３ａ、Ｒ３ｂ、Ｒ３cおよびＲ３d、ｎおよびＲ４、Ｇの組み合わせが以下のものである化合物。
(A'1,Ry-1,R2-1,R3-1,R4-1,G1)、(A'1,Ry-1,R2-1,R3-1,R4-1,G2)、(A'1,Ry-1,R2-1,R3-1,R4-1,G3)、(A'1,Ry-1,R2-1,R3-1,R4-1,G4)、(A'1,Ry-1,R2-1,R3-1,R4-1,G5)、(A'1,Ry-1,R2-1,R3-1,R4-2,G1)、(A'1,Ry-1,R2-1,R3-1,R4-2,G2)、(A'1,Ry-1,R2-1,R3-1,R4-2,G3)、(A'1,Ry-1,R2-1,R3-1,R4-2,G4)、(A'1,Ry-1,R2-1,R3-1,R4-2,G5)、(A'1,Ry-1,R2-1,R3-2,R4-1,G1)、(A'1,Ry-1,R2-1,R3-2,R4-1,G2)、(A'1,Ry-1,R2-1,R3-2,R4-1,G3)、(A'1,Ry-1,R2-1,R3-2,R4-1,G4)、(A'1,Ry-1,R2-1,R3-2,R4-1,G5)、(A'1,Ry-1,R2-1,R3-2,R4-2,G1)、(A'1,Ry-1,R2-1,R3-2,R4-2,G2)、(A'1,Ry-1,R2-1,R3-2,R4-2,G3)、(A'1,Ry-1,R2-1,R3-2,R4-2,G4)、(A'1,Ry-1,R2-1,R3-2,R4-2,G5)、(A'1,Ry-1,R2-1,R3-3,R4-1,G1)、(A'1,Ry-1,R2-1,R3-3,R4-1,G2)、(A'1,Ry-1,R2-1,R3-3,R4-1,G3)、(A'1,Ry-1,R2-1,R3-3,R4-1,G4)、(A'1,Ry-1,R2-1,R3-3,R4-1,G5)、(A'1,Ry-1,R2-1,R3-3,R4-2,G1)、(A'1,Ry-1,R2-1,R3-3,R4-2,G2)、(A'1,Ry-1,R2-1,R3-3,R4-2,G3)、(A'1,Ry-1,R2-1,R3-3,R4-2,G4)、(A'1,Ry-1,R2-1,R3-3,R4-2,G5)、(A'1,Ry-1,R2-1,R3-4,R4-1,G1)、(A'1,Ry-1,R2-1,R3-4,R4-1,G2)、(A'1,Ry-1,R2-1,R3-4,R4-1,G3)、(A'1,Ry-1,R2-1,R3-4,R4-1,G4)、(A'1,Ry-1,R2-1,R3-4,R4-1,G5)、(A'1,Ry-1,R2-1,R3-4,R4-2,G1)、(A'1,Ry-1,R2-1,R3-4,R4-2,G2)、(A'1,Ry-1,R2-1,R3-4,R4-2,G3)、(A'1,Ry-1,R2-1,R3-4,R4-2,G4)、(A'1,Ry-1,R2-1,R3-4,R4-2,G5)、(A'1,Ry-1,R2-2,R3-1,R4-1,G1)、(A'1,Ry-1,R2-2,R3-1,R4-1,G2)、(A'1,Ry-1,R2-2,R3-1,R4-1,G3)、(A'1,Ry-1,R2-2,R3-1,R4-1,G4)、(A'1,Ry-1,R2-2,R3-1,R4-1,G5)、(A'1,Ry-1,R2-2,R3-1,R4-2,G1)、(A'1,Ry-1,R2-2,R3-1,R4-2,G2)、(A'1,Ry-1,R2-2,R3-1,R4-2,G3)、(A'1,Ry-1,R2-2,R3-1,R4-2,G4)、(A'1,Ry-1,R2-2,R3-1,R4-2,G5)、(A'1,Ry-1,R2-2,R3-2,R4-1,G1)、(A'1,Ry-1,R2-2,R3-2,R4-1,G2)、(A'1,Ry-1,R2-2,R3-2,R4-1,G3)、(A'1,Ry-1,R2-2,R3-2,R4-1,G4)、(A'1,Ry-1,R2-2,R3-2,R4-1,G5)、(A'1,Ry-1,R2-2,R3-2,R4-2,G1)、(A'1,Ry-1,R2-2,R3-2,R4-2,G2)、(A'1,Ry-1,R2-2,R3-2,R4-2,G3)、(A'1,Ry-1,R2-2,R3-2,R4-2,G4)、(A'1,Ry-1,R2-2,R3-2,R4-2,G5)、(A'1,Ry-1,R2-2,R3-3,R4-1,G1)、(A'1,Ry-1,R2-2,R3-3,R4-1,G2)、(A'1,Ry-1,R2-2,R3-3,R4-1,G3)、(A'1,Ry-1,R2-2,R3-3,R4-1,G4)、(A'1,Ry-1,R2-2,R3-3,R4-1,G5)、(A'1,Ry-1,R2-2,R3-3,R4-2,G1)、(A'1,Ry-1,R2-2,R3-3,R4-2,G2)、(A'1,Ry-1,R2-2,R3-3,R4-2,G3)、(A'1,Ry-1,R2-2,R3-3,R4-2,G4)、(A'1,Ry-1,R2-2,R3-3,R4-2,G5)、(A'1,Ry-1,R2-2,R3-4,R4-1,G1)、(A'1,Ry-1,R2-2,R3-4,R4-1,G2)、(A'1,Ry-1,R2-2,R3-4,R4-1,G3)、(A'1,Ry-1,R2-2,R3-4,R4-1,G4)、(A'1,Ry-1,R2-2,R3-4,R4-1,G5)、(A'1,Ry-1,R2-2,R3-4,R4-2,G1)、(A'1,Ry-1,R2-2,R3-4,R4-2,G2)、(A'1,Ry-1,R2-2,R3-4,R4-2,G3)、(A'1,Ry-1,R2-2,R3-4,R4-2,G4)、(A'1,Ry-1,R2-2,R3-4,R4-2,G5)、(A'1,Ry-2,R2-1,R3-1,R4-1,G1)、(A'1,Ry-2,R2-1,R3-1,R4-1,G2)、(A'1,Ry-2,R2-1,R3-1,R4-1,G3)、(A'1,Ry-2,R2-1,R3-1,R4-1,G4)、(A'1,Ry-2,R2-1,R3-1,R4-1,G5)、(A'1,Ry-2,R2-1,R3-1,R4-2,G1)、(A'1,Ry-2,R2-1,R3-1,R4-2,G2)、(A'1,Ry-2,R2-1,R3-1,R4-2,G3)、(A'1,Ry-2,R2-1,R3-1,R4-2,G4)、(A'1,Ry-2,R2-1,R3-1,R4-2,G5)、(A'1,Ry-2,R2-1,R3-2,R4-1,G1)、(A'1,Ry-2,R2-1,R3-2,R4-1,G2)、(A'1,Ry-2,R2-1,R3-2,R4-1,G3)、(A'1,Ry-2,R2-1,R3-2,R4-1,G4)、(A'1,Ry-2,R2-1,R3-2,R4-1,G5)、(A'1,Ry-2,R2-1,R3-2,R4-2,G1)、(A'1,Ry-2,R2-1,R3-2,R4-2,G2)、(A'1,Ry-2,R2-1,R3-2,R4-2,G3)、(A'1,Ry-2,R2-1,R3-2,R4-2,G4)、(A'1,Ry-2,R2-1,R3-2,R4-2,G5)、(A'1,Ry-2,R2-1,R3-3,R4-1,G1)、(A'1,Ry-2,R2-1,R3-3,R4-1,G2)、(A'1,Ry-2,R2-1,R3-3,R4-1,G3)、(A'1,Ry-2,R2-1,R3-3,R4-1,G4)、(A'1,Ry-2,R2-1,R3-3,R4-1,G5)、(A'1,Ry-2,R2-1,R3-3,R4-2,G1)、(A'1,Ry-2,R2-1,R3-3,R4-2,G2)、(A'1,Ry-2,R2-1,R3-3,R4-2,G3)、(A'1,Ry-2,R2-1,R3-3,R4-2,G4)、(A'1,Ry-2,R2-1,R3-3,R4-2,G5)、(A'1,Ry-2,R2-1,R3-4,R4-1,G1)、(A'1,Ry-2,R2-1,R3-4,R4-1,G2)、(A'1,Ry-2,R2-1,R3-4,R4-1,G3)、(A'1,Ry-2,R2-1,R3-4,R4-1,G4)、(A'1,Ry-2,R2-1,R3-4,R4-1,G5)、(A'1,Ry-2,R2-1,R3-4,R4-2,G1)、(A'1,Ry-2,R2-1,R3-4,R4-2,G2)、(A'1,Ry-2,R2-1,R3-4,R4-2,G3)、(A'1,Ry-2,R2-1,R3-4,R4-2,G4)、(A'1,Ry-2,R2-1,R3-4,R4-2,G5)、(A'1,Ry-2,R2-2,R3-1,R4-1,G1)、(A'1,Ry-2,R2-2,R3-1,R4-1,G2)、(A'1,Ry-2,R2-2,R3-1,R4-1,G3)、(A'1,Ry-2,R2-2,R3-1,R4-1,G4)、(A'1,Ry-2,R2-2,R3-1,R4-1,G5)、(A'1,Ry-2,R2-2,R3-1,R4-2,G1)、(A'1,Ry-2,R2-2,R3-1,R4-2,G2)、(A'1,Ry-2,R2-2,R3-1,R4-2,G3)、(A'1,Ry-2,R2-2,R3-1,R4-2,G4)、(A'1,Ry-2,R2-2,R3-1,R4-2,G5)、(A'1,Ry-2,R2-2,R3-2,R4-1,G1)、(A'1,Ry-2,R2-2,R3-2,R4-1,G2)、(A'1,Ry-2,R2-2,R3-2,R4-1,G3)、(A'1,Ry-2,R2-2,R3-2,R4-1,G4)、(A'1,Ry-2,R2-2,R3-2,R4-1,G5)、(A'1,Ry-2,R2-2,R3-2,R4-2,G1)、(A'1,Ry-2,R2-2,R3-2,R4-2,G2)、(A'1,Ry-2,R2-2,R3-2,R4-2,G3)、(A'1,Ry-2,R2-2,R3-2,R4-2,G4)、(A'1,Ry-2,R2-2,R3-2,R4-2,G5)、(A'1,Ry-2,R2-2,R3-3,R4-1,G1)、(A'1,Ry-2,R2-2,R3-3,R4-1,G2)、(A'1,Ry-2,R2-2,R3-3,R4-1,G3)、(A'1,Ry-2,R2-2,R3-3,R4-1,G4)、(A'1,Ry-2,R2-2,R3-3,R4-1,G5)、(A'1,Ry-2,R2-2,R3-3,R4-2,G1)、(A'1,Ry-2,R2-2,R3-3,R4-2,G2)、(A'1,Ry-2,R2-2,R3-3,R4-2,G3)、(A'1,Ry-2,R2-2,R3-3,R4-2,G4)、(A'1,Ry-2,R2-2,R3-3,R4-2,G5)、(A'1,Ry-2,R2-2,R3-4,R4-1,G1)、(A'1,Ry-2,R2-2,R3-4,R4-1,G2)、(A'1,Ry-2,R2-2,R3-4,R4-1,G3)、(A'1,Ry-2,R2-2,R3-4,R4-1,G4)、(A'1,Ry-2,R2-2,R3-4,R4-1,G5)、(A'1,Ry-2,R2-2,R3-4,R4-2,G1)、(A'1,Ry-2,R2-2,R3-4,R4-2,G2)、(A'1,Ry-2,R2-2,R3-4,R4-2,G3)、(A'1,Ry-2,R2-2,R3-4,R4-2,G4)、(A'1,Ry-2,R2-2,R3-4,R4-2,G5)、(A'2,Ry-1,R2-1,R3-1,R4-1,G1)、(A'2,Ry-1,R2-1,R3-1,R4-1,G2)、(A'2,Ry-1,R2-1,R3-1,R4-1,G3)、(A'2,Ry-1,R2-1,R3-1,R4-1,G4)、(A'2,Ry-1,R2-1,R3-1,R4-1,G5)、(A'2,Ry-1,R2-1,R3-1,R4-2,G1)、(A'2,Ry-1,R2-1,R3-1,R4-2,G2)、(A'2,Ry-1,R2-1,R3-1,R4-2,G3)、(A'2,Ry-1,R2-1,R3-1,R4-2,G4)、(A'2,Ry-1,R2-1,R3-1,R4-2,G5)、(A'2,Ry-1,R2-1,R3-2,R4-1,G1)、(A'2,Ry-1,R2-1,R3-2,R4-1,G2)、(A'2,Ry-1,R2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2-1,R3-3,R4-1,G2)、(A'3,Ry-1,R2-1,R3-3,R4-1,G3)、(A'3,Ry-1,R2-1,R3-3,R4-1,G4)、(A'3,Ry-1,R2-1,R3-3,R4-1,G5)、(A'3,Ry-1,R2-1,R3-3,R4-2,G1)、(A'3,Ry-1,R2-1,R3-3,R4-2,G2)、(A'3,Ry-1,R2-1,R3-3,R4-2,G3)、(A'3,Ry-1,R2-1,R3-3,R4-2,G4)、(A'3,Ry-1,R2-1,R3-3,R4-2,G5)、(A'3,Ry-1,R2-1,R3-4,R4-1,G1)、(A'3,Ry-1,R2-1,R3-4,R4-1,G2)、(A'3,Ry-1,R2-1,R3-4,R4-1,G3)、(A'3,Ry-1,R2-1,R3-4,R4-1,G4)、(A'3,Ry-1,R2-1,R3-4,R4-1,G5)、(A'3,Ry-1,R2-1,R3-4,R4-2,G1)、(A'3,Ry-1,R2-1,R3-4,R4-2,G2)、(A'3,Ry-1,R2-1,R3-4,R4-2,G3)、(A'3,Ry-1,R2-1,R3-4,R4-2,G4)、(A'3,Ry-1,R2-1,R3-4,R4-2,G5)、(A'3,Ry-1,R2-2,R3-1,R4-1,G1)、(A'3,Ry-1,R2-2,R3-1,R4-1,G2)、(A'3,Ry-1,R2-2,R3-1,R4-1,G3)、(A'3,Ry-1,R2-2,R3-1,R4-1,G4)、(A'3,Ry-1,R2-2,R3-1,R4-1,G5)、(A'3,Ry-1,R2-2,R3-1,R4-2,G1)、(A'3,Ry-1,R2-2,R3-1,R4-2,G2)、(A'3,Ry-1,R2-2,R3-1,R4-2,G3)、(A'3,Ry-1,R2-2,R3-1,R4-2,G4)、(A'3,Ry-1,R2-2,R3-1,R4-2,G5)、(A'3,Ry-1,R2-2,R3-2,R4-1,G1)、(A'3,Ry-1,R2-2,R3-2,R4-1,G2)、(A'3,Ry-1,R2-2,R3-2,R4-1,G3)、(A'3,Ry-1,R2-2,R3-2,R4-1,G4)、(A'3,Ry-1,R2-2,R3-2,R4-1,G5)、(A'3,Ry-1,R2-2,R3-2,R4-2,G1)、(A'3,Ry-1,R2-2,R3-2,R4-2,G2)、(A'3,Ry-1,R2-2,R3-2,R4-2,G3)、(A'3,Ry-1,R2-2,R3-2,R4-2,G4)、(A'3,Ry-1,R2-2,R3-2,R4-2,G5)、(A'3,Ry-1,R2-2,R3-3,R4-1,G1)、(A'3,Ry-1,R2-2,R3-3,R4-1,G2)、(A'3,Ry-1,R2-2,R3-3,R4-1,G3)、(A'3,Ry-1,R2-2,R3-3,R4-1,G4)、(A'3,Ry-1,R2-2,R3-3,R4-1,G5)、(A'3,Ry-1,R2-2,R3-3,R4-2,G1)、(A'3,Ry-1,R2-2,R3-3,R4-2,G2)、(A'3,Ry-1,R2-2,R3-3,R4-2,G3)、(A'3,Ry-1,R2-2,R3-3,R4-2,G4)、(A'3,Ry-1,R2-2,R3-3,R4-2,G5)、(A'3,Ry-1,R2-2,R3-4,R4-1,G1)、(A'3,Ry-1,R2-2,R3-4,R4-1,G2)、(A'3,Ry-1,R2-2,R3-4,R4-1,G3)、(A'3,Ry-1,R2-2,R3-4,R4-1,G4)、(A'3,Ry-1,R2-2,R3-4,R4-1,G5)、(A'3,Ry-1,R2-2,R3-4,R4-2,G1)、(A'3,Ry-1,R2-2,R3-4,R4-2,G2)、(A'3,Ry-1,R2-2,R3-4,R4-2,G3)、(A'3,Ry-1,R2-2,R3-4,R4-2,G4)、(A'3,Ry-1,R2-2,R3-4,R4-2,G5)、(A'3,Ry-2,R2-1,R3-1,R4-1,G1)、(A'3,Ry-2,R2-1,R3-1,R4-1,G2)、(A'3,Ry-2,R2-1,R3-1,R4-1,G3)、(A'3,Ry-2,R2-1,R3-1,R4-1,G4)、(A'3,Ry-2,R2-1,R3-1,R4-1,G5)、(A'3,Ry-2,R2-1,R3-1,R4-2,G1)、(A'3,Ry-2,R2-1,R3-1,R4-2,G2)、(A'3,Ry-2,R2-1,R3-1,R4-2,G3)、(A'3,Ry-2,R2-1,R3-1,R4-2,G4)、(A'3,Ry-2,R2-1,R3-1,R4-2,G5)、(A'3,Ry-2,R2-1,R3-2,R4-1,G1)、(A'3,Ry-2,R2-1,R3-2,R4-1,G2)、(A'3,Ry-2,R2-1,R3-2,R4-1,G3)、(A'3,Ry-2,R2-1,R3-2,R4-1,G4)、(A'3,Ry-2,R2-1,R3-2,R4-1,G5)、(A'3,Ry-2,R2-1,R3-2,R4-2,G1)、(A'3,Ry-2,R2-1,R3-2,R4-2,G2)、(A'3,Ry-2,R2-1,R3-2,R4-2,G3)、(A'3,Ry-2,R2-1,R3-2,R4-2,G4)、(A'3,Ry-2,R2-1,R3-2,R4-2,G5)、(A'3,Ry-2,R2-1,R3-3,R4-1,G1)、(A'3,Ry-2,R2-1,R3-3,R4-1,G2)、(A'3,Ry-2,R2-1,R3-3,R4-1,G3)、(A'3,Ry-2,R2-1,R3-3,R4-1,G4)、(A'3,Ry-2,R2-1,R3-3,R4-1,G5)、(A'3,Ry-2,R2-1,R3-3,R4-2,G1)、(A'3,Ry-2,R2-1,R3-3,R4-2,G2)、(A'3,Ry-2,R2-1,R3-3,R4-2,G3)、(A'3,Ry-2,R2-1,R3-3,R4-2,G4)、(A'3,Ry-2,R2-1,R3-3,R4-2,G5)、(A'3,Ry-2,R2-1,R3-4,R4-1,G1)、(A'3,Ry-2,R2-1,R3-4,R4-1,G2)、(A'3,Ry-2,R2-1,R3-4,R4-1,G3)、(A'3,Ry-2,R2-1,R3-4,R4-1,G4)、(A'3,Ry-2,R2-1,R3-4,R4-1,G5)、(A'3,Ry-2,R2-1,R3-4,R4-2,G1)、(A'3,Ry-2,R2-1,R3-4,R4-2,G2)、(A'3,Ry-2,R2-1,R3-4,R4-2,G3)、(A'3,Ry-2,R2-1,R3-4,R4-2,G4)、(A'3,Ry-2,R2-1,R3-4,R4-2,G5)、(A'3,Ry-2,R2-2,R3-1,R4-1,G1)、(A'3,Ry-2,R2-2,R3-1,R4-1,G2)、(A'3,Ry-2,R2-2,R3-1,R4-1,G3)、(A'3,Ry-2,R2-2,R3-1,R4-1,G4)、(A'3,Ry-2,R2-2,R3-1,R4-1,G5)、(A'3,Ry-2,R2-2,R3-1,R4-2,G1)、(A'3,Ry-2,R2-2,R3-1,R4-2,G2)、(A'3,Ry-2,R2-2,R3-1,R4-2,G3)、(A'3,Ry-2,R2-2,R3-1,R4-2,G4)、(A'3,Ry-2,R2-2,R3-1,R4-2,G5)、(A'3,Ry-2,R2-2,R3-2,R4-1,G1)、(A'3,Ry-2,R2-2,R3-2,R4-1,G2)、(A'3,Ry-2,R2-2,R3-2,R4-1,G3)、(A'3,Ry-2,R2-2,R3-2,R4-1,G4)、(A'3,Ry-2,R2-2,R3-2,R4-1,G5)、(A'3,Ry-2,R2-2,R3-2,R4-2,G1)、(A'3,Ry-2,R2-2,R3-2,R4-2,G2)、(A'3,Ry-2,R2-2,R3-2,R4-2,G3)、(A'3,Ry-2,R2-2,R3-2,R4-2,G4)、(A'3,Ry-2,R2-2,R3-2,R4-2,G5)、(A'3,Ry-2,R2-2,R3-3,R4-1,G1)、(A'3,Ry-2,R2-2,R3-3,R4-1,G2)、(A'3,Ry-2,R2-2,R3-3,R4-1,G3)、(A'3,Ry-2,R2-2,R3-3,R4-1,G4)、(A'3,Ry-2,R2-2,R3-3,R4-1,G5)、(A'3,Ry-2,R2-2,R3-3,R4-2,G1)、(A'3,Ry-2,R2-2,R3-3,R4-2,G2)、(A'3,Ry-2,R2-2,R3-3,R4-2,G3)、(A'3,Ry-2,R2-2,R3-3,R4-2,G4)、(A'3,Ry-2,R2-2,R3-3,R4-2,G5)、(A'3,Ry-2,R2-2,R3-4,R4-1,G1)、(A'3,Ry-2,R2-2,R3-4,R4-1,G2)、(A'3,Ry-2,R2-2,R3-4,R4-1,G3)、(A'3,Ry-2,R2-2,R3-4,R4-1,G4)、(A'3,Ry-2,R2-2,R3-4,R4-1,G5)、(A'3,Ry-2,R2-2,R3-4,R4-2,G1)、(A'3,Ry-2,R2-2,R3-4,R4-2,G2)、(A'3,Ry-2,R2-2,R3-4,R4-2,G3)、(A'3,Ry-2,R2-2,R3-4,R4-2,G4)、(A'3,Ry-2,R2-2,R3-4,R4-2,G5)、(A'4,Ry-1,R2-1,R3-1,R4-1,G1)、(A'4,Ry-1,R2-1,R3-1,R4-1,G2)、(A'4,Ry-1,R2-1,R3-1,R4-1,G3)、(A'4,Ry-1,R2-1,R3-1,R4-1,G4)、(A'4,Ry-1,R2-1,R3-1,R4-1,G5)、(A'4,Ry-1,R2-1,R3-1,R4-2,G1)、(A'4,Ry-1,R2-1,R3-1,R4-2,G2)、(A'4,Ry-1,R2-1,R3-1,R4-2,G3)、(A'4,Ry-1,R2-1,R3-1,R4-2,G4)、(A'4,Ry-1,R2-1,R3-1,R4-2,G5)、(A'4,Ry-1,R2-1,R3-2,R4-1,G1)、(A'4,Ry-1,R2-1,R3-2,R4-1,G2)、(A'4,Ry-1,R2-1,R3-2,R4-1,G3)、(A'4,Ry-1,R2-1,R3-2,R4-1,G4)、(A'4,Ry-1,R2-1,R3-2,R4-1,G5)、(A'4,Ry-1,R2-1,R3-2,R4-2,G1)、(A'4,Ry-1,R2-1,R3-2,R4-2,G2)、(A'4,Ry-1,R2-1,R3-2,R4-2,G3)、(A'4,Ry-1,R2-1,R3-2,R4-2,G4)、(A'4,Ry-1,R2-1,R3-2,R4-2,G5)、(A'4,Ry-1,R2-1,R3-3,R4-1,G1)、(A'4,Ry-1,R2-1,R3-3,R4-1,G2)、(A'4,Ry-1,R2-1,R3-3,R4-1,G3)、(A'4,Ry-1,R2-1,R3-3,R4-1,G4)、(A'4,Ry-1,R2-1,R3-3,R4-1,G5)、(A'4,Ry-1,R2-1,R3-3,R4-2,G1)、(A'4,Ry-1,R2-1,R3-3,R4-2,G2)、(A'4,Ry-1,R2-1,R3-3,R4-2,G3)、(A'4,Ry-1,R2-1,R3-3,R4-2,G4)、(A'4,Ry-1,R2-1,R3-3,R4-2,G5)、(A'4,Ry-1,R2-1,R3-4,R4-1,G1)、(A'4,Ry-1,R2-1,R3-4,R4-1,G2)、(A'4,Ry-1,R2-1,R3-4,R4-1,G3)、(A'4,Ry-1,R2-1,R3-4,R4-1,G4)、(A'4,Ry-1,R2-1,R3-4,R4-1,G5)、(A'4,Ry-1,R2-1,R3-4,R4-2,G1)、(A'4,Ry-1,R2-1,R3-4,R4-2,G2)、(A'4,Ry-1,R2-1,R3-4,R4-2,G3)、(A'4,Ry-1,R2-1,R3-4,R4-2,G4)、(A'4,Ry-1,R2-1,R3-4,R4-2,G5)、(A'4,Ry-1,R2-2,R3-1,R4-1,G1)、(A'4,Ry-1,R2-2,R3-1,R4-1,G2)、(A'4,Ry-1,R2-2,R3-1,R4-1,G3)、(A'4,Ry-1,R2-2,R3-1,R4-1,G4)、(A'4,Ry-1,R2-2,R3-1,R4-1,G5)、(A'4,Ry-1,R2-2,R3-1,R4-2,G1)、(A'4,Ry-1,R2-2,R3-1,R4-2,G2)、(A'4,Ry-1,R2-2,R3-1,R4-2,G3)、(A'4,Ry-1,R2-2,R3-1,R4-2,G4)、(A'4,Ry-1,R2-2,R3-1,R4-2,G5)、(A'4,Ry-1,R2-2,R3-2,R4-1,G1)、(A'4,Ry-1,R2-2,R3-2,R4-1,G2)、(A'4,Ry-1,R2-2,R3-2,R4-1,G3)、(A'4,Ry-1,R2-2,R3-2,R4-1,G4)、(A'4,Ry-1,R2-2,R3-2,R4-1,G5)、(A'4,Ry-1,R2-2,R3-2,R4-2,G1)、(A'4,Ry-1,R2-2,R3-2,R4-2,G2)、(A'4,Ry-1,R2-2,R3-2,R4-2,G3)、(A'4,Ry-1,R2-2,R3-2,R4-2,G4)、(A'4,Ry-1,R2-2,R3-2,R4-2,G5)、(A'4,Ry-1,R2-2,R3-3,R4-1,G1)、(A'4,Ry-1,R2-2,R3-3,R4-1,G2)、(A'4,Ry-1,R2-2,R3-3,R4-1,G3)、(A'4,Ry-1,R2-2,R3-3,R4-1,G4)、(A'4,Ry-1,R2-2,R3-3,R4-1,G5)、(A'4,Ry-1,R2-2,R3-3,R4-2,G1)、(A'4,Ry-1,R2-2,R3-3,R4-2,G2)、(A'4,Ry-1,R2-2,R3-3,R4-2,G3)、(A'4,Ry-1,R2-2,R3-3,R4-2,G4)、(A'4,Ry-1,R2-2,R3-3,R4-2,G5)、(A'4,Ry-1,R2-2,R3-4,R4-1,G1)、(A'4,Ry-1,R2-2,R3-4,R4-1,G2)、(A'4,Ry-1,R2-2,R3-4,R4-1,G3)、(A'4,Ry-1,R2-2,R3-4,R4-1,G4)、(A'4,Ry-1,R2-2,R3-4,R4-1,G5)、(A'4,Ry-1,R2-2,R3-4,R4-2,G1)、(A'4,Ry-1,R2-2,R3-4,R4-2,G2)、(A'4,Ry-1,R2-2,R3-4,R4-2,G3)、(A'4,Ry-1,R2-2,R3-4,R4-2,G4)、(A'4,Ry-1,R2-2,R3-4,R4-2,G5)、(A'4,Ry-2,R2-1,R3-1,R4-1,G1)、(A'4,Ry-2,R2-1,R3-1,R4-1,G2)、(A'4,Ry-2,R2-1,R3-1,R4-1,G3)、(A'4,Ry-2,R2-1,R3-1,R4-1,G4)、(A'4,Ry-2,R2-1,R3-1,R4-1,G5)、(A'4,Ry-2,R2-1,R3-1,R4-2,G1)、(A'4,Ry-2,R2-1,R3-1,R4-2,G2)、(A'4,Ry-2,R2-1,R3-1,R4-2,G3)、(A'4,Ry-2,R2-1,R3-1,R4-2,G4)、(A'4,Ry-2,R2-1,R3-1,R4-2,G5)、(A'4,Ry-2,R2-1,R3-2,R4-1,G1)、(A'4,Ry-2,R2-1,R3-2,R4-1,G2)、(A'4,Ry-2,R2-1,R3-2,R4-1,G3)、(A'4,Ry-2,R2-1,R3-2,R4-1,G4)、(A'4,Ry-2,R2-1,R3-2,R4-1,G5)、(A'4,Ry-2,R2-1,R3-2,R4-2,G1)、(A'4,Ry-2,R2-1,R3-2,R4-2,G2)、(A'4,Ry-2,R2-1,R3-2,R4-2,G3)、(A'4,Ry-2,R2-1,R3-2,R4-2,G4)、(A'4,Ry-2,R2-1,R3-2,R4-2,G5)、(A'4,Ry-2,R2-1,R3-3,R4-1,G1)、(A'4,Ry-2,R2-1,R3-3,R4-1,G2)、(A'4,Ry-2,R2-1,R3-3,R4-1,G3)、(A'4,Ry-2,R2-1,R3-3,R4-1,G4)、(A'4,Ry-2,R2-1,R3-3,R4-1,G5)、(A'4,Ry-2,R2-1,R3-3,R4-2,G1)、(A'4,Ry-2,R2-1,R3-3,R4-2,G2)、(A'4,Ry-2,R2-1,R3-3,R4-2,G3)、(A'4,Ry-2,R2-1,R3-3,R4-2,G4)、(A'4,Ry-2,R2-1,R3-3,R4-2,G5)、(A'4,Ry-2,R2-1,R3-4,R4-1,G1)、(A'4,Ry-2,R2-1,R3-4,R4-1,G2)、(A'4,Ry-2,R2-1,R3-4,R4-1,G3)、(A'4,Ry-2,R2-1,R3-4,R4-1,G4)、(A'4,Ry-2,R2-1,R3-4,R4-1,G5)、(A'4,Ry-2,R2-1,R3-4,R4-2,G1)、(A'4,Ry-2,R2-1,R3-4,R4-2,G2)、(A'4,Ry-2,R2-1,R3-4,R4-2,G3)、(A'4,Ry-2,R2-1,R3-4,R4-2,G4)、(A'4,Ry-2,R2-1,R3-4,R4-2,G5)、(A'4,Ry-2,R2-2,R3-1,R4-1,G1)、(A'4,Ry-2,R2-2,R3-1,R4-1,G2)、(A'4,Ry-2,R2-2,R3-1,R4-1,G3)、(A'4,Ry-2,R2-2,R3-1,R4-1,G4)、(A'4,Ry-2,R2-2,R3-1,R4-1,G5)、(A'4,Ry-2,R2-2,R3-1,R4-2,G1)、(A'4,Ry-2,R2-2,R3-1,R4-2,G2)、(A'4,Ry-2,R2-2,R3-1,R4-2,G3)、(A'4,Ry-2,R2-2,R3-1,R4-2,G4)、(A'4,Ry-2,R2-2,R3-1,R4-2,G5)、(A'4,Ry-2,R2-2,R3-2,R4-1,G1)、(A'4,Ry-2,R2-2,R3-2,R4-1,G2)、(A'4,Ry-2,R2-2,R3-2,R4-1,G3)、(A'4,Ry-2,R2-2,R3-2,R4-1,G4)、(A'4,Ry-2,R2-2,R3-2,R4-1,G5)、(A'4,Ry-2,R2-2,R3-2,R4-2,G1)、(A'4,Ry-2,R2-2,R3-2,R4-2,G2)、(A'4,Ry-2,R2-2,R3-2,R4-2,G3)、(A'4,Ry-2,R2-2,R3-2,R4-2,G4)、(A'4,Ry-2,R2-2,R3-2,R4-2,G5)、(A'4,Ry-2,R2-2,R3-3,R4-1,G1)、(A'4,Ry-2,R2-2,R3-3,R4-1,G2)、(A'4,Ry-2,R2-2,R3-3,R4-1,G3)、(A'4,Ry-2,R2-2,R3-3,R4-1,G4)、(A'4,Ry-2,R2-2,R3-3,R4-1,G5)、(A'4,Ry-2,R2-2,R3-3,R4-2,G1)、(A'4,Ry-2,R2-2,R3-3,R4-2,G2)、(A'4,Ry-2,R2-2,R3-3,R4-2,G3)、(A'4,Ry-2,R2-2,R3-3,R4-2,G4)、(A'4,Ry-2,R2-2,R3-3,R4-2,G5)、(A'4,Ry-2,R2-2,R3-4,R4-1,G1)、(A'4,Ry-2,R2-2,R3-4,R4-1,G2)、(A'4,Ry-2,R2-2,R3-4,R4-1,G3)、(A'4,Ry-2,R2-2,R3-4,R4-1,G4)、(A'4,Ry-2,R2-2,R3-4,R4-1,G5)、(A'4,Ry-2,R2-2,R3-4,R4-2,G1)、(A'4,Ry-2,R2-2,R3-4,R4-2,G2)、(A'4,Ry-2,R2-2,R3-4,R4-2,G3)、(A'4,Ry-2,R2-2,R3-4,R4-2,G4)、(A'4,Ry-2,R2-2,R3-4,R4-2,G5)。
式（ＩＶ’）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000032
においてＲｚaおよびＲｚｂが各々独立して水素、ハロゲン、置換基を有していてもよい低級アルキルであり、
１）環Ａ’がフェニルまたは含窒素芳香族複素環式基である化合物（以下、環Ａ’がＡ’１である化合物とする）、
環Ａ’がフェニル、ピリジル、インドリル、ベンズイソキサゾリル、ベンゾピラゾリルまたはベンゾフリル、ベンゾチエニル、ベンゾジオキソリル、ジヒドロベンゾジオキソラニルである化合物（以下、環Ａ’がＡ’２である化合物とする）、
環Ａ’がフェニルである化合物（以下、環Ａ’がＡ’３である化合物とする）、
環Ａ’がピリジルである化合物（以下、環Ａ’がＡ’４である化合物とする）、
２）Ｒ１が置換基を有していてもよい低級アルキルである化合物（以下、Ｒ１がＲ１－１である化合物とする）、
Ｒ１がメチルである化合物（以下、Ｒ１がＲ１－２である化合物とする）、
３）Ｒ２ａおよびＲ２ｂが各々独立して水素、低級アルキルまたはアシルである化合物（以下、Ｒ２ａおよびＲ２ｂがＲ２－１である化合物とする）、
Ｒ２ａおよびＲ２ｂが共に水素である化合物（以下、Ｒ２ａおよびＲ２ｂがＲ２－２である化合物とする）、
４）Ｒ３cおよびＲ３dが各々独立して、水素、ハロゲン、ヒドロキシ、低級アルキルまたはアミノである化合物（以下、Ｒ３cおよびＲ３dがＲ３－１である化合物とする）、
Ｒ３cおよびＲ３dがハロゲンまたは低級アルキルから選ばれる同一の置換基である化合物（以下、Ｒ３cおよびＲ３dがＲ３－２である化合物とする）、
Ｒ３cおよびＲ３dが全て水素である化合物（以下、Ｒ３cおよびＲ３dがＲ３－３である化合物とする）、
５）ｎが０～２であり、Ｒ４が各々独立してハロゲン、低級アルコキシ、低級アルキルアミノ、低級アルキルチオ、オキソ、低級アルキレンジオキシである化合物（以下、Ｒ４がＲ４－１である化合物とする）、
ｎが０～２であり、Ｒ４が各々独立してハロゲンである化合物（以下、Ｒ４がＲ４－２である化合物とする）、
６）Ｇが上記(ii)、(iv)、(v)、(x)、(xiii)または(xiv)である化合物（以下、ＧがＧ１である化合物とする）、
Ｇが上記(ii'), (ii'')、(iv')、(v')、(x')、(xiii')または(xiv')である化合物（以下、ＧがＧ２である化合物とする）、
Ｇが上記(ii'), (ii'')、(iv')、(v')、(x')、(xiii')または(xiv')であり、環Ｂが置換基を有していてもよいピリジル、置換基を有していてもよいピラジニル、置換基を有していてもよいチアゾリル、置換基を有していてもよいイソキサゾリル、置換基を有していてもよいベンゾチアゾリル、置換基を有していてもよいチアゾロピリジル、置換基を有していてもよいキノリル、置換基を有していてもよいイソキノリルまたは置換基を有していてもよいナフチリジニル、置換基を有していてもよいキナゾリニルまたは置換基を有していてもよいピリドピリミジニルである（ここで置換基とは置換基群αおよび置換基群αから選択される１以上の基で置換されていてもよい低級アルキルからなる群から選択される１～３個の基である）化合物（以下、ＧがＧ３である化合物とする）、
Ｇが上記(ii')であり、環Ｂが置換基を有していてもよいピリジル、置換基を有していてもよいピラジニル、置換基を有していてもよいチアゾリル、置換基を有していてもよいイソキサゾリル、置換基を有していてもよいベンゾチアゾリル、置換基を有していてもよいチアゾロピリジル、置換基を有していてもよいキノリル、置換基を有していてもよいイソキノリルまたは置換基を有していてもよいナフチリジニル、置換基を有していてもよいキナゾリニルまたは置換基を有していてもよいピリドピリミジニルである（ここで置換基とは置換基群αおよび置換基群αから選択される１以上の基で置換されていてもよい低級アルキルからなる群から選択される１～３個の基である）化合物（以下、ＧがＧ４である化合物とする）、
Ｇが上記(ii')であり、Ｒ５が水素または低級アルキルであり、Ｗ１がＯであり、環Ｂが置換基を有していてもよいピリジルまたは置換基を有していてもよいピラジニルである（ここで置換基とは置換基群αおよび置換基群αから選択される１以上の基で置換されていてもよい低級アルキルからなる群から選択される１～３個の基である）化合物（以下、ＧがＧ５である化合物とする）、
環Ａ’、Ｒ１、Ｒ２ａおよびＲ２ｂ、Ｒ３cおよびＲ３d、ｎおよびＲ４、Ｇの組み合わせが以下のものである化合物。
(A'1,R1-1,R2-1,R3-1,R4-1,G1)、(A'1,R1-1,R2-1,R3-1,R4-1,G2)、(A'1,R1-1,R2-1,R3-1,R4-1,G3)、(A'1,R1-1,R2-1,R3-1,R4-1,G4)、(A'1,R1-1,R2-1,R3-1,R4-1,G5)、(A'1,R1-1,R2-1,R3-1,R4-2,G1)、(A'1,R1-1,R2-1,R3-1,R4-2,G2)、(A'1,R1-1,R2-1,R3-1,R4-2,G3)、(A'1,R1-1,R2-1,R3-1,R4-2,G4)、(A'1,R1-1,R2-1,R3-1,R4-2,G5)、(A'1,R1-1,R2-1,R3-2,R4-1,G1)、(A'1,R1-1,R2-1,R3-2,R4-1,G2)、(A'1,R1-1,R2-1,R3-2,R4-1,G3)、(A'1,R1-1,R2-1,R3-2,R4-1,G4)、(A'1,R1-1,R2-1,R3-2,R4-1,G5)、(A'1,R1-1,R2-1,R3-2,R4-2,G1)、(A'1,R1-1,R2-1,R3-2,R4-2,G2)、(A'1,R1-1,R2-1,R3-2,R4-2,G3)、(A'1,R1-1,R2-1,R3-2,R4-2,G4)、(A'1,R1-1,R2-1,R3-2,R4-2,G5)、(A'1,R1-1,R2-1,R3-3,R4-1,G1)、(A'1,R1-1,R2-1,R3-3,R4-1,G2)、(A'1,R1-1,R2-1,R3-3,R4-1,G3)、(A'1,R1-1,R2-1,R3-3,R4-1,G4)、(A'1,R1-1,R2-1,R3-3,R4-1,G5)、(A'1,R1-1,R2-1,R3-3,R4-2,G1)、(A'1,R1-1,R2-1,R3-3,R4-2,G2)、(A'1,R1-1,R2-1,R3-3,R4-2,G3)、(A'1,R1-1,R2-1,R3-3,R4-2,G4)、(A'1,R1-1,R2-1,R3-3,R4-2,G5)、(A'1,R1-1,R2-2,R3-1,R4-1,G1)、(A'1,R1-1,R2-2,R3-1,R4-1,G2)、(A'1,R1-1,R2-2,R3-1,R4-1,G3)、(A'1,R1-1,R2-2,R3-1,R4-1,G4)、(A'1,R1-1,R2-2,R3-1,R4-1,G5)、(A'1,R1-1,R2-2,R3-1,R4-2,G1)、(A'1,R1-1,R2-2,R3-1,R4-2,G2)、(A'1,R1-1,R2-2,R3-1,R4-2,G3)、(A'1,R1-1,R2-2,R3-1,R4-2,G4)、(A'1,R1-1,R2-2,R3-1,R4-2,G5)、(A'1,R1-1,R2-2,R3-2,R4-1,G1)、(A'1,R1-1,R2-2,R3-2,R4-1,G2)、(A'1,R1-1,R2-2,R3-2,R4-1,G3)、(A'1,R1-1,R2-2,R3-2,R4-1,G4)、(A'1,R1-1,R2-2,R3-2,R4-1,G5)、(A'1,R1-1,R2-2,R3-2,R4-2,G1)、(A'1,R1-1,R2-2,R3-2,R4-2,G2)、(A'1,R1-1,R2-2,R3-2,R4-2,G3)、(A'1,R1-1,R2-2,R3-2,R4-2,G4)、(A'1,R1-1,R2-2,R3-2,R4-2,G5)、(A'1,R1-1,R2-2,R3-3,R4-1,G1)、(A'1,R1-1,R2-2,R3-3,R4-1,G2)、(A'1,R1-1,R2-2,R3-3,R4-1,G3)、(A'1,R1-1,R2-2,R3-3,R4-1,G4)、(A'1,R1-1,R2-2,R3-3,R4-1,G5)、(A'1,R1-1,R2-2,R3-3,R4-2,G1)、(A'1,R1-1,R2-2,R3-3,R4-2,G2)、(A'1,R1-1,R2-2,R3-3,R4-2,G3)、(A'1,R1-1,R2-2,R3-3,R4-2,G4)、(A'1,R1-1,R2-2,R3-3,R4-2,G5)、(A'1,R1-2,R2-1,R3-1,R4-1,G1)、(A'1,R1-2,R2-1,R3-1,R4-1,G2)、(A'1,R1-2,R2-1,R3-1,R4-1,G3)、(A'1,R1-2,R2-1,R3-1,R4-1,G4)、(A'1,R1-2,R2-1,R3-1,R4-1,G5)、(A'1,R1-2,R2-1,R3-1,R4-2,G1)、(A'1,R1-2,R2-1,R3-1,R4-2,G2)、(A'1,R1-2,R2-1,R3-1,R4-2,G3)、(A'1,R1-2,R2-1,R3-1,R4-2,G4)、(A'1,R1-2,R2-1,R3-1,R4-2,G5)、(A'1,R1-2,R2-1,R3-2,R4-1,G1)、(A'1,R1-2,R2-1,R3-2,R4-1,G2)、(A'1,R1-2,R2-1,R3-2,R4-1,G3)、(A'1,R1-2,R2-1,R3-2,R4-1,G4)、(A'1,R1-2,R2-1,R3-2,R4-1,G5)、(A'1,R1-2,R2-1,R3-2,R4-2,G1)、(A'1,R1-2,R2-1,R3-2,R4-2,G2)、(A'1,R1-2,R2-1,R3-2,R4-2,G3)、(A'1,R1-2,R2-1,R3-2,R4-2,G4)、(A'1,R1-2,R2-1,R3-2,R4-2,G5)、(A'1,R1-2,R2-1,R3-3,R4-1,G1)、(A'1,R1-2,R2-1,R3-3,R4-1,G2)、(A'1,R1-2,R2-1,R3-3,R4-1,G3)、(A'1,R1-2,R2-1,R3-3,R4-1,G4)、(A'1,R1-2,R2-1,R3-3,R4-1,G5)、(A'1,R1-2,R2-1,R3-3,R4-2,G1)、(A'1,R1-2,R2-1,R3-3,R4-2,G2)、(A'1,R1-2,R2-1,R3-3,R4-2,G3)、(A'1,R1-2,R2-1,R3-3,R4-2,G4)、(A'1,R1-2,R2-1,R3-3,R4-2,G5)、(A'1,R1-2,R2-2,R3-1,R4-1,G1)、(A'1,R1-2,R2-2,R3-1,R4-1,G2)、(A'1,R1-2,R2-2,R3-1,R4-1,G3)、(A'1,R1-2,R2-2,R3-1,R4-1,G4)、(A'1,R1-2,R2-2,R3-1,R4-1,G5)、(A'1,R1-2,R2-2,R3-1,R4-2,G1)、(A'1,R1-2,R2-2,R3-1,R4-2,G2)、(A'1,R1-2,R2-2,R3-1,R4-2,G3)、(A'1,R1-2,R2-2,R3-1,R4-2,G4)、(A'1,R1-2,R2-2,R3-1,R4-2,G5)、(A'1,R1-2,R2-2,R3-2,R4-1,G1)、(A'1,R1-2,R2-2,R3-2,R4-1,G2)、(A'1,R1-2,R2-2,R3-2,R4-1,G3)、(A'1,R1-2,R2-2,R3-2,R4-1,G4)、(A'1,R1-2,R2-2,R3-2,R4-1,G5)、(A'1,R1-2,R2-2,R3-2,R4-2,G1)、(A'1,R1-2,R2-2,R3-2,R4-2,G2)、(A'1,R1-2,R2-2,R3-2,R4-2,G3)、(A'1,R1-2,R2-2,R3-2,R4-2,G4)、(A'1,R1-2,R2-2,R3-2,R4-2,G5)、(A'1,R1-2,R2-2,R3-3,R4-1,G1)、(A'1,R1-2,R2-2,R3-3,R4-1,G2)、(A'1,R1-2,R2-2,R3-3,R4-1,G3)、(A'1,R1-2,R2-2,R3-3,R4-1,G4)、(A'1,R1-2,R2-2,R3-3,R4-1,G5)、(A'1,R1-2,R2-2,R3-3,R4-2,G1)、(A'1,R1-2,R2-2,R3-3,R4-2,G2)、(A'1,R1-2,R2-2,R3-3,R4-2,G3)、(A'1,R1-2,R2-2,R3-3,R4-2,G4)、(A'1,R1-2,R2-2,R3-3,R4-2,G5)、(A'2,R1-1,R2-1,R3-1,R4-1,G1)、(A'2,R1-1,R2-1,R3-1,R4-1,G2)、(A'2,R1-1,R2-1,R3-1,R4-1,G3)、(A'2,R1-1,R2-1,R3-1,R4-1,G4)、(A'2,R1-1,R2-1,R3-1,R4-1,G5)、(A'2,R1-1,R2-1,R3-1,R4-2,G1)、(A'2,R1-1,R2-1,R3-1,R4-2,G2)、(A'2,R1-1,R2-1,R3-1,R4-2,G3)、(A'2,R1-1,R2-1,R3-1,R4-2,G4)、(A'2,R1-1,R2-1,R3-1,R4-2,G5)、(A'2,R1-1,R2-1,R3-2,R4-1,G1)、(A'2,R1-1,R2-1,R3-2,R4-1,G2)、(A'2,R1-1,R2-1,R3-2,R4-1,G3)、(A'2,R1-1,R2-1,R3-2,R4-1,G4)、(A'2,R1-1,R2-1,R3-2,R4-1,G5)、(A'2,R1-1,R2-1,R3-2,R4-2,G1)、(A'2,R1-1,R2-1,R3-2,R4-2,G2)、(A'2,R1-1,R2-1,R3-2,R4-2,G3)、(A'2,R1-1,R2-1,R3-2,R4-2,G4)、(A'2,R1-1,R2-1,R3-2,R4-2,G5)、(A'2,R1-1,R2-1,R3-3,R4-1,G1)、(A'2,R1-1,R2-1,R3-3,R4-1,G2)、(A'2,R1-1,R2-1,R3-3,R4-1,G3)、(A'2,R1-1,R2-1,R3-3,R4-1,G4)、(A'2,R1-1,R2-1,R3-3,R4-1,G5)、(A'2,R1-1,R2-1,R3-3,R4-2,G1)、(A'2,R1-1,R2-1,R3-3,R4-2,G2)、(A'2,R1-1,R2-1,R3-3,R4-2,G3)、(A'2,R1-1,R2-1,R3-3,R4-2,G4)、(A'2,R1-1,R2-1,R3-3,R4-2,G5)、(A'2,R1-1,R2-2,R3-1,R4-1,G1)、(A'2,R1-1,R2-2,R3-1,R4-1,G2)、(A'2,R1-1,R2-2,R3-1,R4-1,G3)、(A'2,R1-1,R2-2,R3-1,R4-1,G4)、(A'2,R1-1,R2-2,R3-1,R4-1,G5)、(A'2,R1-1,R2-2,R3-1,R4-2,G1)、(A'2,R1-1,R2-2,R3-1,R4-2,G2)、(A'2,R1-1,R2-2,R3-1,R4-2,G3)、(A'2,R1-1,R2-2,R3-1,R4-2,G4)、(A'2,R1-1,R2-2,R3-1,R4-2,G5)、(A'2,R1-1,R2-2,R3-2,R4-1,G1)、(A'2,R1-1,R2-2,R3-2,R4-1,G2)、(A'2,R1-1,R2-2,R3-2,R4-1,G3)、(A'2,R1-1,R2-2,R3-2,R4-1,G4)、(A'2,R1-1,R2-2,R3-2,R4-1,G5)、(A'2,R1-1,R2-2,R3-2,R4-2,G1)、(A'2,R1-1,R2-2,R3-2,R4-2,G2)、(A'2,R1-1,R2-2,R3-2,R4-2,G3)、(A'2,R1-1,R2-2,R3-2,R4-2,G4)、(A'2,R1-1,R2-2,R3-2,R4-2,G5)、(A'2,R1-1,R2-2,R3-3,R4-1,G1)、(A'2,R1-1,R2-2,R3-3,R4-1,G2)、(A'2,R1-1,R2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2-2,R3-2,R4-1,G2)、(A'3,R1-2,R2-2,R3-2,R4-1,G3)、(A'3,R1-2,R2-2,R3-2,R4-1,G4)、(A'3,R1-2,R2-2,R3-2,R4-1,G5)、(A'3,R1-2,R2-2,R3-2,R4-2,G1)、(A'3,R1-2,R2-2,R3-2,R4-2,G2)、(A'3,R1-2,R2-2,R3-2,R4-2,G3)、(A'3,R1-2,R2-2,R3-2,R4-2,G4)、(A'3,R1-2,R2-2,R3-2,R4-2,G5)、(A'3,R1-2,R2-2,R3-3,R4-1,G1)、(A'3,R1-2,R2-2,R3-3,R4-1,G2)、(A'3,R1-2,R2-2,R3-3,R4-1,G3)、(A'3,R1-2,R2-2,R3-3,R4-1,G4)、(A'3,R1-2,R2-2,R3-3,R4-1,G5)、(A'3,R1-2,R2-2,R3-3,R4-2,G1)、(A'3,R1-2,R2-2,R3-3,R4-2,G2)、(A'3,R1-2,R2-2,R3-3,R4-2,G3)、(A'3,R1-2,R2-2,R3-3,R4-2,G4)、(A'3,R1-2,R2-2,R3-3,R4-2,G5)、(A'4,R1-1,R2-1,R3-1,R4-1,G1)、(A'4,R1-1,R2-1,R3-1,R4-1,G2)、(A'4,R1-1,R2-1,R3-1,R4-1,G3)、(A'4,R1-1,R2-1,R3-1,R4-1,G4)、(A'4,R1-1,R2-1,R3-1,R4-1,G5)、(A'4,R1-1,R2-1,R3-1,R4-2,G1)、(A'4,R1-1,R2-1,R3-1,R4-2,G2)、(A'4,R1-1,R2-1,R3-1,R4-2,G3)、(A'4,R1-1,R2-1,R3-1,R4-2,G4)、(A'4,R1-1,R2-1,R3-1,R4-2,G5)、(A'4,R1-1,R2-1,R3-2,R4-1,G1)、(A'4,R1-1,R2-1,R3-2,R4-1,G2)、(A'4,R1-1,R2-1,R3-2,R4-1,G3)、(A'4,R1-1,R2-1,R3-2,R4-1,G4)、(A'4,R1-1,R2-1,R3-2,R4-1,G5)、(A'4,R1-1,R2-1,R3-2,R4-2,G1)、(A'4,R1-1,R2-1,R3-2,R4-2,G2)、(A'4,R1-1,R2-1,R3-2,R4-2,G3)、(A'4,R1-1,R2-1,R3-2,R4-2,G4)、(A'4,R1-1,R2-1,R3-2,R4-2,G5)、(A'4,R1-1,R2-1,R3-3,R4-1,G1)、(A'4,R1-1,R2-1,R3-3,R4-1,G2)、(A'4,R1-1,R2-1,R3-3,R4-1,G3)、(A'4,R1-1,R2-1,R3-3,R4-1,G4)、(A'4,R1-1,R2-1,R3-3,R4-1,G5)、(A'4,R1-1,R2-1,R3-3,R4-2,G1)、(A'4,R1-1,R2-1,R3-3,R4-2,G2)、(A'4,R1-1,R2-1,R3-3,R4-2,G3)、(A'4,R1-1,R2-1,R3-3,R4-2,G4)、(A'4,R1-1,R2-1,R3-3,R4-2,G5)、(A'4,R1-1,R2-2,R3-1,R4-1,G1)、(A'4,R1-1,R2-2,R3-1,R4-1,G2)、(A'4,R1-1,R2-2,R3-1,R4-1,G3)、(A'4,R1-1,R2-2,R3-1,R4-1,G4)、(A'4,R1-1,R2-2,R3-1,R4-1,G5)、(A'4,R1-1,R2-2,R3-1,R4-2,G1)、(A'4,R1-1,R2-2,R3-1,R4-2,G2)、(A'4,R1-1,R2-2,R3-1,R4-2,G3)、(A'4,R1-1,R2-2,R3-1,R4-2,G4)、(A'4,R1-1,R2-2,R3-1,R4-2,G5)、(A'4,R1-1,R2-2,R3-2,R4-1,G1)、(A'4,R1-1,R2-2,R3-2,R4-1,G2)、(A'4,R1-1,R2-2,R3-2,R4-1,G3)、(A'4,R1-1,R2-2,R3-2,R4-1,G4)、(A'4,R1-1,R2-2,R3-2,R4-1,G5)、(A'4,R1-1,R2-2,R3-2,R4-2,G1)、(A'4,R1-1,R2-2,R3-2,R4-2,G2)、(A'4,R1-1,R2-2,R3-2,R4-2,G3)、(A'4,R1-1,R2-2,R3-2,R4-2,G4)、(A'4,R1-1,R2-2,R3-2,R4-2,G5)、(A'4,R1-1,R2-2,R3-3,R4-1,G1)、(A'4,R1-1,R2-2,R3-3,R4-1,G2)、(A'4,R1-1,R2-2,R3-3,R4-1,G3)、(A'4,R1-1,R2-2,R3-3,R4-1,G4)、(A'4,R1-1,R2-2,R3-3,R4-1,G5)、(A'4,R1-1,R2-2,R3-3,R4-2,G1)、(A'4,R1-1,R2-2,R3-3,R4-2,G2)、(A'4,R1-1,R2-2,R3-3,R4-2,G3)、(A'4,R1-1,R2-2,R3-3,R4-2,G4)、(A'4,R1-1,R2-2,R3-3,R4-2,G5)、(A'4,R1-2,R2-1,R3-1,R4-1,G1)、(A'4,R1-2,R2-1,R3-1,R4-1,G2)、(A'4,R1-2,R2-1,R3-1,R4-1,G3)、(A'4,R1-2,R2-1,R3-1,R4-1,G4)、(A'4,R1-2,R2-1,R3-1,R4-1,G5)、(A'4,R1-2,R2-1,R3-1,R4-2,G1)、(A'4,R1-2,R2-1,R3-1,R4-2,G2)、(A'4,R1-2,R2-1,R3-1,R4-2,G3)、(A'4,R1-2,R2-1,R3-1,R4-2,G4)、(A'4,R1-2,R2-1,R3-1,R4-2,G5)、(A'4,R1-2,R2-1,R3-2,R4-1,G1)、(A'4,R1-2,R2-1,R3-2,R4-1,G2)、(A'4,R1-2,R2-1,R3-2,R4-1,G3)、(A'4,R1-2,R2-1,R3-2,R4-1,G4)、(A'4,R1-2,R2-1,R3-2,R4-1,G5)、(A'4,R1-2,R2-1,R3-2,R4-2,G1)、(A'4,R1-2,R2-1,R3-2,R4-2,G2)、(A'4,R1-2,R2-1,R3-2,R4-2,G3)、(A'4,R1-2,R2-1,R3-2,R4-2,G4)、(A'4,R1-2,R2-1,R3-2,R4-2,G5)、(A'4,R1-2,R2-1,R3-3,R4-1,G1)、(A'4,R1-2,R2-1,R3-3,R4-1,G2)、(A'4,R1-2,R2-1,R3-3,R4-1,G3)、(A'4,R1-2,R2-1,R3-3,R4-1,G4)、(A'4,R1-2,R2-1,R3-3,R4-1,G5)、(A'4,R1-2,R2-1,R3-3,R4-2,G1)、(A'4,R1-2,R2-1,R3-3,R4-2,G2)、(A'4,R1-2,R2-1,R3-3,R4-2,G3)、(A'4,R1-2,R2-1,R3-3,R4-2,G4)、(A'4,R1-2,R2-1,R3-3,R4-2,G5)、(A'4,R1-2,R2-2,R3-1,R4-1,G1)、(A'4,R1-2,R2-2,R3-1,R4-1,G2)、(A'4,R1-2,R2-2,R3-1,R4-1,G3)、(A'4,R1-2,R2-2,R3-1,R4-1,G4)、(A'4,R1-2,R2-2,R3-1,R4-1,G5)、(A'4,R1-2,R2-2,R3-1,R4-2,G1)、(A'4,R1-2,R2-2,R3-1,R4-2,G2)、(A'4,R1-2,R2-2,R3-1,R4-2,G3)、(A'4,R1-2,R2-2,R3-1,R4-2,G4)、(A'4,R1-2,R2-2,R3-1,R4-2,G5)、(A'4,R1-2,R2-2,R3-2,R4-1,G1)、(A'4,R1-2,R2-2,R3-2,R4-1,G2)、(A'4,R1-2,R2-2,R3-2,R4-1,G3)、(A'4,R1-2,R2-2,R3-2,R4-1,G4)、(A'4,R1-2,R2-2,R3-2,R4-1,G5)、(A'4,R1-2,R2-2,R3-2,R4-2,G1)、(A'4,R1-2,R2-2,R3-2,R4-2,G2)、(A'4,R1-2,R2-2,R3-2,R4-2,G3)、(A'4,R1-2,R2-2,R3-2,R4-2,G4)、(A'4,R1-2,R2-2,R3-2,R4-2,G5)、(A'4,R1-2,R2-2,R3-3,R4-1,G1)、(A'4,R1-2,R2-2,R3-3,R4-1,G2)、(A'4,R1-2,R2-2,R3-3,R4-1,G3)、(A'4,R1-2,R2-2,R3-3,R4-1,G4)、(A'4,R1-2,R2-2,R3-3,R4-1,G5)、(A'4,R1-2,R2-2,R3-3,R4-2,G1)、(A'4,R1-2,R2-2,R3-3,R4-2,G2)、(A'4,R1-2,R2-2,R3-3,R4-2,G3)、(A'4,R1-2,R2-2,R3-3,R4-2,G4)、(A'4,R1-2,R2-2,R3-3,R4-2,G5)。
　本発明化合物は、アミロイドβタンパク質の産生、分泌または沈着により誘発される疾患に有用であり、例えばアルツハイマー型認知症（アルツハイマー症、アルツハイマー型老年認知症等）、ダウン症、記憶障害、プリオン病（クロイツフェルト・ヤコブ病等）、軽度認知障害（MCI）、オランダ型遺伝性アミロイド性脳出血、脳アミロイド血管障害、他の変性認知症、血管性変性混合型認知症、パーキンソン病に随伴する認知症、進行性核上麻痺に随伴する認知症、皮質基底核変性症に随伴する認知症、びまん性レビー小体型アルツハイマー病、加齢黄斑変性症、パーキンソン病、アミロイドアンジオパシー等の治療および／または予防、症状改善に対して有効である。
　本発明化合物は、βセクレターゼに対する阻害活性が高い、および／または他の酵素に対する選択性が高いため、副作用が軽減された医薬品となりうる。さらに細胞系でのアミロイドβ産生抑制効果が高い、とりわけ脳内でのアミロイドβ産生抑制効果が高いため、優れた医薬品となりうる。また、適切な立体化学を有する光学活性体とすることで、副作用に対するより安全マージンの広い医薬品となりうる。また、本発明化合物は、代謝安定性が高い、溶解度が高い、経口吸収性が高い、良好なバイオアベイラビリティーを示す、良好なクリアランス、脳移行性が高い、半減期が長い、非タンパク結合率が高い、hERGチャネル阻害が低い、CYP阻害が低い、および／またはAmes試験陰性等の利点も有する。
　本発明化合物を投与する場合、他の医薬（例えばアセチルコリンエステラーゼ等の他のアルツハイマー症治療剤等）と併用してもよい。例えば、塩酸ドネペジル、タクリン、ガランタミン、リバスチグミン、ザナペジル、メマンチン、ビンポセチン等の抗認知症薬等との併用が可能である。
　本発明化合物をヒトに投与する場合は、散剤、顆粒剤、錠剤、カプセル剤、丸剤、液剤等として経口的に、または注射剤、坐剤、経皮吸収剤、吸入剤等として非経口的に投与することができる。また、本化合物の有効量にその剤型に適した賦形剤、結合剤、湿潤剤、崩壊剤、滑沢剤等の医薬用添加剤を必要に応じて混合し、医薬製剤とすることができる。
　投与量は疾患の状態、投与ルート、患者の年齢、または体重によっても異なるが、成人に経口で投与する場合、通常０．１μｇ～１ｇ／日であり、好ましくは０．０１～２００ｍｇ／日であり、非経口投与の場合には通常１μｇ～１０ｇ／日であり、好ましくは０．１～２ｇ／日である。
　以下に実施例および試験例を挙げて本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれらにより限定されるものではない。
　実施例中、各略号の意味は以下の通りである。
Ｍｅ　メチル
Ｅｔ　エチル
ｉＰｒ、Ｐｒｉ　イソプロピル
ｔＢｕ　ｔ－ブチル
Ｐｈ　フェニル
Ｂｎ　ベンジル
Ｂｚ　ベンゾイル
Ｂｏｃ　ｔ－ブトキシカルボニル
Ｆｍｏｃ　９-フルオレニルメチルオキシカルボニル
Ｔｒｔ　トリチル
ＴＦＡ　トリフルオロアセチル
ＤＭＡＣ　ジメチルアセトアミド
ＴＨＦ　テトラヒドロフラン
ＤＭＳＯ　ジメチルスルホキシド
ＤＭＴ－ＭＭ　４－（４，６－ジメトキシ－１，３，５－トリアジン－２－イル）－４－メチルモルホリニウムクロライド
ＤＭＦ　Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド
ｍＣＰＢＡ　メタクロロ過安息香酸
第二世代グラブス触媒　ベンジリデン［１，３－ビス(２，４，６－トリメチルフェニル)－２－イミダゾリヂニリデン］ジクロロ(トリシクロヘキシルホスフィン)ルテニウム
　本発明の化合物のＬＣ／ＭＳデータは、以下の条件（メソッドＡおよびＢ）のいずれかで測定し、保持時間および［Ｍ＋Ｈ］＋を示した。

　（メソッドＡ）
カラム：Ｗａｔｅｒｓ　ＸＢｒｉｄｇｅ　Ｃ１８　５μｍ
サイズ：４．６ｘ５０ｍｍ
流速：３ｍＬ／分
カラムオーブン：５０℃
ＵＶ検出波長：ＰＤＡ（２５４ｎｍ）
３分間、１０％－１００％溶媒（０．１％ギ酸含有アセトニトリル溶液）のリニアグラジエントを行い、０．５分間、１００％溶媒（０．１％ギ酸含有アセトニトリル溶液）を維持した。
（メソッドＢ）
カラム：Ｓｈｉｍａｄｚｕ　Ｓｈｉｍ－ｐａｃｋ　ＸＲ－ＯＤＳ　５０Ｌ×３．０
サイズ：５０ｘ３．０ｍｍ
流速：１．６ｍＬ／分
カラムオーブン：５０℃
ＵＶ検出波長：ＰＤＡ（２５４ｎｍ）
３分間、１０％－１００％溶媒（０．１％ギ酸含有アセトニトリル溶液）のリニアグラジエントを行い、０．５分間、１００％溶媒（０．１％ギ酸含有アセトニトリル溶液）を維持した。
参考例１
中間体化合物（２１）の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000033
第一工程
　化合物(10)(7.17 g)をテトラヒドロフラン(70.0 ml)に溶解し、１－エチニル－４－メトキシベンゼン（5.63 g）、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム(4.10 g)、ヨウ化銅(338 mg)、ジイソプロピルアミン(70.0 ml)を加え、30分間、還流攪拌した。溶媒を減圧留去し、ジクロロメタンを加え、不溶物を除去した。カラムクロマトグラフィーで精製し、ジクロロメタンおよびｎ－ヘキサンを加えて析出した固体を濾取し、化合物(11)(8.99 g)を得た。
１Ｈ－ＮＭＲ(DMSO-d6)δ: 3.81 (3H, s), 7.02 (2H, d, J = 8.6 Hz), 7.57 (2H, d, J = 8.6 Hz), 7.71 (1H, t, J = 8.0 Hz), 7.96 (1H, d, J = 7.6 Hz), 8.22 (1H, d, J = 8.1 Hz), 8.30 (1H, s).
第二工程
　化合物(11)（1.00 g）をジメチルスルホキシド(10.0 ml)に溶解し、ヨウ素(501 mg)を加え、2時間、165℃で加熱攪拌した。反応溶媒から酢酸エチルを用いて抽出し、チオ硫酸ナトリウム水溶液、および蒸留水で洗浄した。分取した有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧留去した。残渣にジクロロメタンおよびジイソプロピルエーテルを加えて析出した固体を濾取し、化合物(12)(532 mg)を得た。
１Ｈ－ＮＭＲ(DMSO-d6)δ: 3.89 (3H, s), 7.16 (2H, d, J = 8.6 Hz), 7.91 (1H, t, J = 8.0 Hz), 7.98 (2H, d, J = 8.8 Hz), 8.33 (1H, d, J = 7.3 Hz), 8.58-8.61 (2H, m).
第三工程
　化合物(12)(2.00 g)をエタノール(10.0 ml)に溶解し、水酸化カリウム(7.87 g)、および蒸留水(10.0 ml)を加え、3時間、還流攪拌した。反応溶液から蒸留水および水酸化カリウム水溶液を用いて抽出し、クロロホルムにより洗浄した。分取した水相を塩酸により中和した後、クロロホルム・メタノール混合溶液で有機相に抽出した。分取した有機層を無水硫酸ナトリウムにより乾燥し、溶媒を減圧留去し、化合物(13)(2.02 g)を得た。得られた化合物(13)(2.02 g)に2－クロロアセトニトリル(10.1 ml)、酢酸(12.8 ml)、および濃硫酸(12.8 ml)を加え、室温で2時間攪拌した。反応溶液を氷水に入れ、析出した固体を濾取し、化合物(14)(2.34 g)を得た。
１Ｈ－ＮＭＲ(DMSO-d6)δ: 3.74 (30H, s), 4.26 (2H, dd, J = 20.5, 13.1 Hz), 6.94 (2H, d, J = 8.8 Hz), 7.21 (2H, d, J = 8.8 Hz), 7.62 (1H, t, J = 8.0 Hz), 7.77 (1H, d, J = 7.3 Hz), 8.14 (1H, d, J = 7.6 Hz), 8.25 (1H, s), 9.22 (1H, s).
第四工程
　化合物(14)(2.34 g)にチオウレア(564 mg)、エタノール(12.0 ml)、および酢酸(2.40 ml)を加え、80℃で一晩過熱攪拌した。溶媒を減圧留去した後、残渣に蒸留水を加えて析出した固体を濾取し、化合物(15)(4.76 g)を得た。
１Ｈ－ＮＭＲ(DMSO-d6)δ: 3.75 (3H, s), 3.89 (2H, s), 6.89 (2H, d, J = 8.8 Hz), 7.22 (2H, br s), 7.30 (2H, d, J = 8.8 Hz), 7.58 (1H, t, J = 8.0 Hz), 7.81 (1H, d, J = 8.3 Hz), 8.11 (1H, d, J = 8.1 Hz), 8.34 (1H, s).
第五工程
　化合物(15)(455 mg)をテトラヒドロフラン(5.00 ml)に溶解し、0.99mol/Lボラン・テトラヒドロフラン錯体(10.0 ml)を加えた。0℃で1時間攪拌した後、さらに室温で3時間攪拌した。反応溶液に２mol/L塩酸(6.8 ml)を加え、溶媒を濃縮し、不溶物を濾別した。得られたろ液から、蒸留水で抽出し、ジクロロメタンにより洗浄した。得られた水相を塩酸により中和し、ジクロロメタン・メタノール混合溶液を用いて抽出し、溶媒を減圧留去し、化合物(16)(300 mg)を得た。
１Ｈ－ＮＭＲ(DMSO-d6)δ: 3.71 (3H, s), 3.83 (1H, d, J = 9.9 Hz), 4.04 (1H, d, J = 6.6 Hz), 5.10 (1H, s), 5.75 (2H, s), 6.84 (2H, d, J = 8.6 Hz), 7.33 (2H, d, J = 8.6 Hz), 7.55 (1H, t, J = 8.0 Hz), 7.83 (1H, d, J = 8.1 Hz), 8.04 (1H, d, J = 7.1 Hz), 8.34 (1H, s).
第六工程
　化合物(16)(300 mg)をアセトン(3.00 ml)に溶解し、ベンゾイルイソチオシアネート(187 mg)を加え、室温で１時間攪拌した。溶媒を減圧留去し、クロマトグラフィーを用いて精製し、化合物(17)(470 mg)を得た。
１Ｈ－ＮＭＲ(DMSO-d6)δ: 3.76 (3H, s), 4.54 (2H, s), 5.42 (1H, s), 6.94 (2H, d, J = 8.8 Hz), 7.34 (2H, d, J = 8.8 Hz), 7.53 (2H, t, J = 7.8 Hz), 7.64 (2H, dd, J = 13.6, 7.6 Hz), 7.86 (1H, d, J = 8.6 Hz), 7.98 (2H, d, J = 7.3 Hz), 8.13 (1H, d, J = 8.1 Hz), 8.22 (1H, s), 8.31 (2H, s), 11.20 (1H, s), 12.15 (1H, s).
第七工程
　化合物(17)(31.2 mg)をジクロロメタン(1.00 ml)に溶解し、１－クロロ－２－トリメチルプロペニルアミン(0.0183 ml)を加え、室温で2時間攪拌した。反応溶液から、ジクロロメタンを用いて抽出し、蒸留水で洗浄した後、溶媒を減圧留去することにより、化合物(18)(15.6 mg)を得た。
１Ｈ－ＮＭＲ(DMSO-d6)δ: 3.74 (3H, s), 3.97 (2H, dd, J = 20.2, 11.6 Hz), 6.94 (2H, d, J = 8.3 Hz), 7.43 (2H, d, J = 8.6 Hz), 7.49 (2H, t, J = 7.5 Hz), 7.59 (1H, t, J = 7.1 Hz), 7.68 (1H, t, J = 8.0 Hz), 7.94 (1H, d, J = 7.3 Hz), 8.08 (2H, d, J = 7.3 Hz), 8.15 (1H, d, J = 8.6 Hz), 8.36 (1H, s).
第八工程
　化合物(18)(320 mg)をメタノール(3.00 ml)に溶解し、ヒドラジン一水和物(0.107 ml)を加え、40℃で3時間攪拌した後、さらに室温で14時間攪拌した。溶媒を減圧留去し、カラムクロマトグラフィーで精製することにより、化合物(19)(128 mg)を得た。
１Ｈ－ＮＭＲ(DMSO-d6)δ: 3.71 (3H, s), 3.93 (2H, s), 6.78 (2H, s), 6.85 (2H, d, J = 8.8 Hz), 7.40 (2H, d, J = 8.8 Hz), 7.58 (1H, t, J = 8.2 Hz), 7.89 (1H, d, J = 7.6 Hz), 8.04 (1H, d, J = 8.8 Hz), 8.32 (1H, s).
第九工程
　化合物(19)(120 mg)をジクロロメタン(1.20 ml)に溶解し、ジ－ｔ－ブチルジカーボネート(564 mg)を加え、室温で6時間攪拌した。溶媒を減圧留去し、カラムクロマトグラフィーにより精製を行い、化合物(20)(105 mg)を得た。
１Ｈ－ＮＭＲ(DMSO-d6)δ: 1.41 (9H, s), 3.72 (3H, s), 3.90 (2H, dd, J = 22.7, 12.6 Hz), 6.89 (2H, d, J = 7.8 Hz), 7.37 (2H, d, J = 8.8 Hz), 7.64 (1H, s), 7.88 (1H, d, J = 6.6 Hz), 8.10 (1H, s), 8.30 (1H, d, J = 9.1 Hz).
第十工程
　化合物(20)(106 mg)をメタノールに溶解し、10%パラジウムカーボン(52.5 mg)を加え、水素雰囲気下で5時間攪拌した。セライトろ過により不溶物を除去し、溶媒を減圧留去することにより、化合物(21)(98.7 mg)を得た。
１Ｈ－ＮＭＲ(DMSO-d6)δ: 1.40 (9H, s), 3.70-3.73 (4H, m), 3.84 (1H, d, J = 11.4 Hz), 6.85-6.89 (3H, m), 6.96-6.99 (2H, m), 7.20 (1H, t, J = 7.2 Hz), 7.33 (2H, d, J = 8.8 Hz).
参考例２
中間体化合物（３１）の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000034
第一工程
　2.0mol/Lリチウムジイソプロピルアミドのノルマルヘプタン/エチルベンゼン/テトラヒドロフラン(16.2 ml) 溶液を－78℃で攪拌しながら、プロピオン酸ｔ－ブチル(4.73 ml) のテトラヒドロフラン(10 ml) 溶液を 10分間かけて滴下した。－78℃で 1時間20分間攪拌した後、クロロチタニウムトリイソプロポキシド(12.0 g) のテトラヒドロフラン(20 ml)溶液を 40分間かけて滴下した。－78℃で1時間攪拌した後、化合物(22)(3.00 g)のテトラヒドロフラン(10 ml)溶液を 30分間かけて滴下した。－78℃で1時間攪拌した後、氷冷下、飽和塩化アンモニウム水溶液へ少量ずつ加え、生じた不溶物をろ別した。不溶物を酢酸エチルで洗浄し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、粗生成物として化合物(23) (5.00 g)を得た。
第二工程
　第一工程で得られた化合物(23) (5.00 g)に、４mol/L塩酸/ジオキサン溶液(39 ml) 及びメタノール(1.2 ml) を加え、室温で一晩攪拌した。ジエチルエーテル(60 ml) を加え、沈殿物を濾取し粗生成物として化合物(24)(2.37 g)を得た。
第三工程
　第二工程で得られた化合物(24)(2.37 g)をテトラヒドロフラン(8 ml)に懸濁させ、0℃で 1mol/Lボラン/テトラヒドロフラン溶液(24 ml)を加えた。室温で3.5時間攪拌した後、氷水に注ぎ、1mol/L水酸化ナトリウム水溶液を加えてアルカリ性にした。酢酸エチルで抽出し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、粗生成物として化合物(25)(1.67 g)を得た。
第四工程
　第三工程で得られた化合物(25)(1.67 g)のテトラヒドロフラン(16 ml)溶液に、水(8 ml)、炭酸水素ナトリウム(1.74 g)及び N－(フルオレニルメトキシカルボニルオキシ)コハク酸イミド(1.74 g)を加え、室温で 2時間20分間攪拌した後、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去し、粗生成物として化合物(26)(3.72 g) を得た。
第五工程
　第四工程で得られた化合物(26)(3.72 g)のジメチルスルホキシド(15 ml)溶液に、２－ヨードキシ安息香酸(1.93 g)を加え、室温で2時間30分間攪拌した。水及び酢酸エチルを加え、不溶物をろ別し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去し、粗生成物として化合物(27)(3.77 g) を得た。
第六工程
　第五工程で得られた化合物(27)(3.77 g)のメタノール(60 ml)溶液に、オルトギ酸メチル (38 μl)、ｐ－トルエンスルホン酸一水和物(66 mg)を加え、加熱還流下で30分間攪拌した。減圧下溶媒を留去し、酢酸エチルで希釈した。飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄して、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、粗生成物として化合物(28)(3.55 g) を得た。
第七工程
　第六工程で得られた化合物(28)(3.55 g)のジメチルホルムアミド(14 ml)溶液に、ピペリジン(1 ml)を加え、室温で30分間攪拌した。水を加え、酢酸エチルで抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をカラムクロマトグラフィーに付し、ジアステレオマー混合物(29)(985 mg)を1H-NMRのプロトン比より約2 : 3で得た。
１Ｈ－ＮＭＲ(ジアステレオマー混合物、CDCl3)δ: 0.80 (d, J = 7.2 Hz), 1.06 (d, J = 7.2 Hz), 1.48 (d, J = 1.4 Hz), 1.62 (d, J = 1.7 Hz), 2.40-2.60 (m), 3.17 (s), 3.21 (s), 3.36 (s), 3.41 (s), 3.72 (d, J = 2.6 Hz), 4.34 (d, J = 3.8 Hz), 7.11-7.20 (m), 8.10-8.19 (m), 8.59 (dd, J = 6.9, 3.0 Hz), 8.71 (dd, J = 6.9, 2.9 Hz).
第八工程
　化合物(29)(985 mg)のアセトン(5 ml)溶液に、0℃でベンゾイルイソチオシアネート(497 μl) を加え、0℃で20分間攪拌した後、減圧下溶媒を留去した。残渣に濃硫酸(6 ml) を加え、50℃で一晩攪拌した後、氷を加え、氷冷下で攪拌しながら 28％アンモニア水溶液でアルカリ性にした。酢酸エチルで抽出し、水洗後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、化合物(30)(968 mg) を得た。
１Ｈ－ＮＭＲ(CDCl3)δ: 1.77 (3H, d, J = 1.1 Hz), 1.82 (1H, d, J = 1.4 Hz), 6.07 (1H, d, J = 1.4 Hz), 7.15 (1H, dd, J = 10.3, 8.9 Hz), 8.16 (1H, ddd, J = 8.9, 4.0, 2.9 Hz), 8.30 (1H, dd, J = 6.9, 2.9 Hz).
第九工程
　化合物(30)(968 mg)の酢酸(8 ml)及び水(1 ml)の溶液に、鉄(769 mg)を加え、60℃で攪拌した。28%アンモニア水でアルカリ性にした後、不溶物をろ別し、ろ液を酢酸エチルで抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、化合物(31)(968 mg) を得た。
１Ｈ－ＮＭＲ(CDCl3)δ: 1.66 (3H, s), 1.78 (3H, d, J = 1.3 Hz), 3.51 (2H, br), 5.94 (1H, d, J = 4.7, 1.5 Hz), 6.51 (1H, ddd, J = 8.5, 3.8, 2.8 Hz), 6.66 (1H, dd, J = 6.6, 2.8 Hz), 6.79 (1H, dd, J = 11.4, 8.5 Hz).
参考例３
中間体化合物（３９）の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000035
第一工程
　化合物(32)(5.14 g)のテトラヒドロフラン(50 ml)溶液に、水(40 ml)、炭酸水素ナトリウム(7.57 g) 及び、N－(フルオレニルメトキシカルボニルオキシ)コハク酸イミド(8.36 g)を加え、室温で2.5時間攪拌した後、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去し、粗生成物として化合物(33)(11.0 g)を得た。
第二工程
　第一工程で得られた化合物(33)(11.0 g)のジメチルスルホキシド(40 ml)溶液に、２－ヨードキシ安息香酸(6.94 g)を加え、室温で2時間攪拌した後、水及び酢酸エチルを加え、不溶物をろ別した。有機層を水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。残渣をカラムクロマトグラフィーに付し、化合物(34)(6.06 g)を得た。
MS (M+1) 449.00
第三工程
　ジエチルエーテル(60 ml) に、－78℃で四塩化チタン(3.1 ml)を加え、生じた黄色懸濁液に3 mol/L臭化メチルマグネシウムのジエチルエーテル溶液(9.5 ml)を滴下した。－40℃まで昇温後、化合物(34) (3.18 g)のジエチルエーテル(15 ml)溶液を30分間かけて滴下した。2.5時間攪拌後、氷を加え、室温まで昇温した。酢酸エチルで抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、粗生成物として化合物(35)(3.4 g)を得た。
第四工程
　第三工程で得られた化合物(35)(3.4 g)のジメチルスルホキシド(16 ml)溶液に、２－ヨードキシ安息香酸(1.98 g)を加え、室温で2日間攪拌した後、水及び酢酸エチルを加え、不溶物をろ別した。有機層を水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。残渣をカラムクロマトグラフィーに付し、化合物(36)(2.34 g)を得た。
MS (M+1) 463.15
第五工程
　化合物(36) (2.34 g)のジメチルホルムアミド(10 ml)溶液に、ピペリジン(600 μl)を加え、室温下20分間攪拌した後、水を加え、酢酸エチルで抽出した。無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。残渣をカラムクロマトグラフィーに付し、化合物(37)(928 mg)を得た。
１Ｈ－ＮＭＲ(CDCl3)δ: 1.51 (3H, s), 2.08 (3H, s), 2.93 (1H, d, J = 18 Hz), 3.44 (1H, d, J = 18 Hz), 7.13 (1H, dd, J = 11.0, 8.9 Hz), 8.13 (1H, ddd, J = 8.9, 4.0, 2.9 Hz), 8.59 (1H, dd, J = 7.2, 2.9 Hz).
第六工程
　化合物(37)(928 mg)のアセトン(4 ml)溶液に、ベンゾイルイソチオシアネート(497 μl)を 0℃で加え、20分間攪拌した後、減圧下溶媒を留去した。残渣に濃硫酸(6 ml)を加え、室温で 3時間攪拌した後、氷を加え、氷冷下で攪拌しながら28％アンモニア水溶液でアルカリ性にした。酢酸エチルで抽出し、水洗後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、得られた残渣をエタノール(6 ml) に溶解し、ヒドラジン一水和物(290 mg)を加えた。50℃で2時間攪拌した後、水を加え、酢酸エチルで抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をカラムクロマトグラフィーに付し、化合物(38)(523 mg) を得た。
１Ｈ－ＮＭＲ(CDCl3)δ: 1.68 (3H, d, J = 1.2 Hz), 1.99 (3H, d, J = 1.5 Hz), 4.63 (2H, br), 5.93 (2H, dd, J = 4.7, 1.5 Hz), 7.15 (1H, dd, J = 10.3, 8.9 Hz), 8.11 (1H, ddd, J = 8.9, 4.1, 2.9 Hz), 8.38 (1H, dd, J = 6.7, 2.9 Hz).
第七工程
　化合物(38)(523 mg)の酢酸(5 ml)及び水(0.5 ml)の溶液に、鉄(415 mg)を加え、50℃で2時間攪拌した。28%アンモニア水でアルカリ性にした後、不溶物をろ別し、ろ液を酢酸エチルで抽出した。無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去し、化合物(39)(407 mg)を得た。
１Ｈ－ＮＭＲ(CDCl3)δ: 1.66 (3H, d, J = 1.1 Hz), 1.96 (3H, d, J = 1.5 Hz), 3.51 (2H, br), 5.95 (2H, dd, J = 4.7, 1.5 Hz), 6.48 (1H, ddd, J = 8.5, 3.6, 2.9 Hz), 6.73 (1H, dd, J = 6.7, 2.9 Hz), 6.81 (1H, dd, J = 11.4, 8.5 Hz).
参考例４
中間体化合物（５３）の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000036
第一工程
　氷冷下濃硫酸(61 ml)に硝酸(20 ml)を滴下し試薬を調整した。－38℃下にて化合物(40)(50 g)に濃硫酸(137 ml)を滴下溶解した。本溶液に先に調整した試薬を－25℃下、1時間を要し滴下した。この際、内温を－15℃から－20℃に保持した。1時間撹拌後、氷水に反応溶液を加え氷冷下にて40分間激しく撹拌した後、ジエチルエーテルで抽出、水洗浄し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥して減圧下溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、化合物(41)(72.3 g)を得た。
１Ｈ－ＮＭＲ(ハイドレート体との混合物、CDCl3)δ: 8.81 (1H, s), 8.51 (1H, d, J = 8.1 Hz), 8.44 (1.5H, s), 8.33 (1H, d, J = 7.6 Hz), 8.20 (1.5H, d, J = 6.8 Hz), 7.93 (1.5H, d, J = 7.8 Hz), 7.77 (1H, t, J = 8.1 Hz), 7.56 (1.5H, t, J = 16.8 Hz).
第二工程
　化合物(41)(10 g)をメタノール(200 ml)に溶解し、鉄(15 g)を加えた後、氷冷下濃塩酸(23 ml)を滴下した。室温で5時間撹拌した後、セライトろ過にて不溶物を除去、得られたろ液に氷冷下4mol/L水酸化ナトリウム水溶液(69 ml)を加えた。セライトろ過後、酢酸エチルにより抽出、食塩水洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥して減圧下溶媒を留去、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、化合物(42)(8.63 g)を得た。
１Ｈ－ＮＭＲ(CDCl3)δ: 7.43 (1H, d, J = 7.6 Hz), 7.32-7.28 (2H, m), 6.99 (1H, d, J = 8.1 Hz), 3.93 (2H, br s).
第三工程
　化合物(42)(37.2 g)を酢酸エチル(200 ml)に溶解し、無水酢酸(19.5 ml)を加え室温で2時間攪拌した後、減圧下溶媒を留去した。残渣にイソプロピルエーテルを加え、生じた固体を濾取し、イソプロピルエーテルにて洗浄して化合物(43)(15.8 g)を得た。また、得られたろ液に水及び酢酸エチルを加え、酢酸エチルにより抽出、食塩水にて洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥して減圧下溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、化合物(43)(10.5 g)を得た。
１Ｈ－ＮＭＲ(ハイドレート体との混合物、DMSO-d6)δ: 10.33 (1H, s), 10.01 (0.7H, s), 8.41 (1H, s), 7.97 (1H, d, J = 7.8 Hz), 7.78 (0.7H, s), 7.73-7.70 (1.7H, m), 7.59 (1H, t, J = 8.0 Hz), 7.52 (1.4H, s), 7.32-7.27 (1.4H, m), 2.08 (3H, s), 2.04 (2.1H, s).
第四工程
　化合物(43)(2.0 g)をトルエン(100 ml)に溶解し、２－アミノ－２－フェニルエタノール (1.2 g)および、ピリジニウムパラトルエンスルホン酸(0.22 g)を加え、130℃下、ディーンスタークにて脱水を行った。同温にて10時間撹拌後室温へ冷却し、重曹を加えた後酢酸エチルで抽出、食塩水洗浄し無水硫酸ナトリウムで乾燥して減圧下溶媒を留去した。残渣をアミノシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、化合物(44)(1.8 g)を得た。
１Ｈ－ＮＭＲ(DMSO-d6)δ: 10.07 (1H, s), 7.84 (1H, s), 7.73 (1H, d, J = 8.3 Hz), 7.38-7.27 (7H, m), 4.68-4.61 (1H, m), 4.52 (1H, t, J = 7.1 Hz), 4.08 (1H, d, J = 8.8 Hz), 3.59 (1H, t, J = 8.3 Hz), 2.04 (3H, s).
第五工程
　テトラビニルスズ(10 ml)に窒素気流下ブチルリチウム(42.2 ml: 2.6 mol/L)を滴下し、生じた白色固体をペンタンにてデカンテーション後、THF(25 ml)に溶解した。一方、化合物(44)(3.2 g)をTHF(32 ml)に溶解し、－78℃にて先に調整したビニルリチウム溶液(22.1 ml)を滴下した。1.5時間撹拌後、氷冷した飽和塩化アンモニウム水溶液に反応液を加え、酢酸エチルで抽出、食塩水洗浄し無水硫酸ナトリウムで乾燥して減圧下溶媒を留去した。残渣をアミノシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、化合物(45)(1.7 g)を得た。
１Ｈ－ＮＭＲ(CDCl3)δ: 7.88 (1H, s), 7.80 (1H, s), 7.39-7.37 (1H, m), 7.24-7.19 (7H, m), 5.74 (1H, dd, J = 17.7, 11.1 Hz), 5.23 (2H, dd, J = 17.7, 11.1 Hz), 3.97-3.95 (1H, m), 3.68-3.66 (1H, m), 3.47-3.45 (1H, m), 3.25-3.23 (1H, m), 2.86-2.84 (1H, m), 2.10 (3H, s).
第六工程
　化合物(45)(1.1 g)をエタノール(11 ml)に溶解し、塩酸(5.5 ml: 6 mol/L)を加え90℃で5時間攪拌した後、水酸化ナトリウム(8.7 ml: 4 mol/L)を加えた。酢酸エチルにより抽出、食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥して減圧下溶媒を留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、粗生成物(46)(728 mg)を得た。
第七工程
　化合物(46)(728 mg)をジクロロメタン(7 ml)に溶解し、窒素気流下氷冷下にてジイソプロピルエチルアミン(0.42 ml)及びクロロギ酸ベンジル(0.308 ml)を加えた。1時間撹拌した後、氷冷下飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出、食塩水洗浄し無水硫酸ナトリウムで乾燥して減圧下溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、化合物(47)(839 mg)を得た。
１Ｈ－ＮＭＲ(DMSO-d6)δ: 9.79 (1H, s), 7.79 (1H, s), 7.48-7.14 (13H, m), 5.80 (1H, dd, J = 18.1, 11.2 Hz), 5.42-5.38 (2H, dd, J = 18.1, 11.2 Hz), 5.15 (2H, s), 5.08 (1H, s), 3.89-3.87 (1H, m), 3.35-3.25 (2H, m), 3.03-3.00 (1H, m).
第八工程
　化合物(47)(4.8 g)をTHF(48 ml)に溶解し、窒素気流下氷冷下にてボラン・ジメチルスルフィドコンプレックス(15.3 ml: 2 mol/L)を加え、同温にて30分間撹拌した後、室温に昇温し30分間撹拌した。更に40℃に昇温し2.5時間撹拌した後、氷冷した。水(4.8 ml)を反応溶液に加えた後、水酸化ナトリウム水溶液(25.5 ml: 4 mol/L)および過酸化水素水(10.4 ml: 30%)を加えた。室温にて終夜撹拌した後、酢酸エチルにて抽出、食塩水で洗浄し無水硫酸ナトリウムで乾燥して減圧下溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、化合物(48)(1.7 g)を得た。
１Ｈ－ＮＭＲ(DMSO-d6)δ: 9.77 (1H, s), 7.81 (1H, s), 7.49-7.12 (13H, m), 5.16 (2H, s), 4.98-4.96 (1H, m), 4.52-4.49 (1H, m), 3.86-3.84 (1H, m), 3.37-3.18 (4H, m), 2.90-2.87 (1H, m), 2.28-2.25 (1H, m), 2.12-2.10 (1H, m).
第九工程
　化合物(48)(50 mg)をメタノール(0.5 ml)に溶解し、20% Pd(OH)2(28 mg: 50%wet)を加え、水素気流下8時間撹拌した後、セライトろ過にて得られたろ液を減圧下溶媒留去し、粗生成物(49)(33 mg)を得た。
第十工程
　化合物(49)(24 mg)をTHF(0.5 ml)に溶解し、氷冷下にて無水トリフルオロ酢酸(0.029 ml)を加え室温で5.5時間攪拌した後、重曹水を加えた。更に酢酸エチルにより抽出、食塩水にて洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥して減圧下溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、化合物(50)(12 mg)を得た。
１Ｈ－ＮＭＲ(CDCl3)δ: 8.53 (1H, s), 7.76 (1H, s), 7.68 (1H, d, J = 8.1 Hz), 7.45 (1H, t, J = 8.0 Hz), 7.40 (1H, d, J = 7.8 Hz), 3.61-3.58 (1H, m), 3.46-3.39 (1H, m), 2.22 (2H, t, J = 5.2 Hz).
第十一工程
　化合物(50)(68 mg)をアセトン(1 ml)に溶解し、氷冷下ベンゾイルイソチオシアネート(0.043 ml)を加えた。15分撹拌後、室温に昇温して2.5時間、更に40℃で4時間撹拌した後、減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、化合物(51)(80 mg)を得た。
１Ｈ－ＮＭＲ(DMSO-d6)δ: 12.40 (1H, s), 11.69 (1H, s), 11.30 (1H, s), 8.03-8.01 (2H, m), 7.84-7.81 (2H, m), 7.68-7.66 (1H, m), 7.56-7.54 (2H, m), 7.45-7.43 (1H, m), 7.34-7.33 (1H, m), 4.81-4.79 (1H, m), 3.73-3.62 (2H, m), 3.48-3.45 (1H, m), 2.67-2.65 (1H, m).
第十二工程
　化合物(51)(80 mg)をジクロロメタン(2 ml)に溶解し、窒素気流下１－クロロ－２－トリメチルプロペニルアミン(0.043 ml)を加えた。室温下1時間撹拌した後、重曹水溶液を加え、酢酸エチルにより抽出、水洗浄及び食塩水洗浄を行った後、無水硫酸ナトリウムで乾燥して減圧下溶媒を留去した。残渣をシリカゲル薄層クロマトグラフィーで精製し、化合物(52)(58 mg)を得た。
１Ｈ－ＮＭＲ(DMSO-d6)δ: 11.42 (1H, s), 11.23 (1H, s), 8.01 (2H, d, J = 6.6 Hz), 7.84-7.81 (2H, m), 7.70-7.46 (5H, m), 3.10-2.99 (1H, m), 2.92-2.82 (1H, m), 2.65-2.59 (1H, m), 2.12-2.05 (1H, m).
第十三工程
　化合物(52)(57 mg)をエタノール(1 ml)に溶解し、２mol/L水酸化ナトリウム水溶液(0.6 ml)を加えた。70℃加温下7.5時間撹拌した後、室温まで冷却し酢酸エチルにより抽出し減圧下溶媒を留去し、化合物(53)(7.7 mg)を得た。
１Ｈ－ＮＭＲ(DMSO-d6)δ: 7.01 (1H, t, J = 7.8 Hz), 6.67 (1H, s), 6.59 (1H, d, J = 7.6 Hz), 6.51 (1H, d, J = 7.8 Hz), 6.29 (2H, s), 5.07 (2H, s), 2.90 (1H, d, J = 10.6 Hz), 2.59-2.49 (2H, m), 1.74 (1H, t, J = 13.4 Hz).
参考例５
中間体化合物（５８）の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000037
第一工程
　0.5mol/Lカリウムヘキサメチルジシラジドのトルエン(7.3 ml)溶液に、テトラヒドロフラン (30 ml)を加え、－78℃で攪拌しながら、アセトフェノン(407 μl)をゆっくり滴下した。－78℃で1時間攪拌した後、化合物(54)(500 mg)のテトラヒドロフラン(3 ml)溶液を滴下した。－78℃で1時間攪拌した後、飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、室温まで昇温させた。酢酸エチルで抽出し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をカラムクロマトグラフィーで精製し、化合物(55)のジアステレオマー混合物(380 mg)を得た。
第二工程
　第一工程で得られた化合物(55)の混合物(380 mg)に4mol/L塩酸/ジオキサン溶液(1.8 ml)及びメタノール(45 μl)を加え、室温で1.5時間攪拌した。ジエチルエーテル及び水を加え、水層を28%アンモニア水でアルカリ性にした後に、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下溶媒を留去し、化合物(56)(181 mg)を得た。
1H-NMR (CDCl3)δ: 1.62 (3H, s, J = 1.7 Hz), 3.43 (1H, d, J = 18.8 Hz), 4.02 (1H, d, J = 18.8 Hz), 7.08 (1H, dd, J = 11.1, 9.0 Hz), 7.41-7.59 (3H, m), 7.85-7.90 (2H, m), 8.11 (1H, ddd, J = 9.0, 4.0, 2.8 Hz), 8.69 (1H, dd, J = 7.2, 2.8 Hz).
第三工程
　化合物(56)(181 mg)のアセトン(1.5 ml)溶液に、0℃でベンゾイルイソチオシアネート(81 μl)を加え、0℃で30分間攪拌した後、減圧下溶媒を留去した。残渣に濃硫酸(1.1 ml)を加え、室温で一晩攪拌した後、水(500 μl)を加え、50℃で6時間攪拌する。氷冷下で攪拌しながら 28％ アンモニア水溶液でアルカリ性にした。酢酸エチルで抽出し、水洗後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をカラムクロマトグラフィーで精製し、化合物(57)(112 mg)を得た。
１Ｈ－ＮＭＲ(CDCl3)δ: 1.81 (3H, d, J = 0.9 Hz), 4.80 (2H, s), 6.46 (1H, d, J = 5.5 Hz), 7.17 (1H, dd, J = 10.5, 8.9 Hz), 7.34-7.49 (5H, m), 8.13 (1H, ddd, J = 8.9, 4.0, 3.0 Hz), 8.45 (1H, dd, J = 6.8, 3.0 Hz).
第四工程
　化合物(57)(112 mg)の酢酸(1 ml)及び水(0.1 ml)の溶液に、鉄(91 mg)を加え、50℃で2.5 時間攪拌した。不溶物をろ別し、28%アンモニア水でアルカリ性にした後、ろ液を酢酸エチルで抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、化合物(58)(98.7 mg)の粗生成物を得た。
参考例６
中間体化合物（６３）の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000038
第一工程
　0.5mol/Lカリウムヘキサメチルジシラジドのトルエン(8 ml)溶液に、ジエチルエーテル(30 ml)を加え、－78℃で攪拌しながら、３－メチル－２－ブタノン(376 μl)をゆっくり滴下した。－78℃で1時間攪拌した後、化合物(59)(500 mg)のジエチルエーテル(8 ml)溶液を滴下した。－78℃で1.5時間攪拌した後、飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、室温まで昇温させた。酢酸エチルで抽出し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をカラムクロマトグラフィーで精製し、化合物(60)(307 mg)を得た。
１Ｈ－ＮＭＲ(CDCl3)δ: 1.02 (3H, d, J = 6.9 Hz), 1.06 (3H, d, J = 6.9 Hz), 1.34 (9H, s), 1.77 (3H, s), 2.55 (1H, septet, J = 6.9 Hz), 3.41 (1H, d, J = 18.8 Hz), 3.72 (1H, d, J = 18.8 Hz), 5.46 (1H, s), 7.12 (1H, dd, J = 11.3, 8.9 Hz), 8.13 (1H, ddd, J = 8.9, 4.0, 2.8 Hz), 8.56 (1H, dd, J = 6.9, 2.8 Hz).
第二工程
　第一工程で得られた化合物(60)(307 mg)に4mol/L塩酸/ジオキサン溶液(1.65 ml)及びメタノール(40 μl)を加え、室温で1時間攪拌した。ジエチルエーテル及び水を加え、水層を28%アンモニア水でアルカリ性にした後に、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下溶媒を留去し、化合物(61)(209 mg)を得た。
第三工程
　化合物(61)(209 mg)のアセトン(1 ml)溶液に、0℃でベンゾイルイソチオシアネート(105 μl)を加え、0℃で30分間攪拌した後、減圧下溶媒を留去した。残渣に濃硫酸(1.6 ml)を加え、室温で一晩攪拌した後、氷冷下で攪拌しながら28％アンモニア水溶液でアルカリ性にした。酢酸エチルで抽出し、水洗後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をカラムクロマトグラフィーで精製し、化合物(62)(96 mg)を得た。
１Ｈ－ＮＭＲ(CDCl3)δ: 1.57 (3H, s), 1.68 (3H, s), 1.77 (3H, s), 2.70 (1H, d, J = 14.2 Hz), 2.87 (1H, d, J = 14.2 Hz), 4.80 (2H, s), 6.46 (1H, d, J = 5.5 Hz), 7.14 (1H, dd, J = 11.0, 8.9 Hz), 8.12 (1H, ddd, J = 8.9, 4.0, 3.0 Hz), 8.44 (1H, dd, J = 6.9, 3.0 Hz).
第四工程
　化合物(62)(96 mg)の酢酸(1 ml)及び水(0.1 ml)の溶液に、鉄(87 mg)を加え、50℃で2時間攪拌した。28%アンモニア水でアルカリ性にした後、不溶物をろ別し、ろ液を酢酸エチルで抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、化合物(63)(78.3 mg)の粗生成物を得た。
参考例７
中間体化合物（７０）の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000039
第一工程
　化合物(64)(12 g)をテトラヒドロフラン(240 ml)に溶解させ、攪拌下－78℃で1mol/L 臭化アリルマグネシウム/エーテル溶液を1時間かけて滴下した。－78℃でさらに1時間攪拌した後、飽和塩化アンモニウム水溶液に移し、酢酸エチルで抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。無機物を濾別した後、減圧下溶媒を留去し、残渣をカラムクロマトグラフィーに付し、化合物(65) (9.7 g) を得た。
1H-NMR(CDCl3) δ: 1.21 (9H, s), 1.68 (3H, s), 2.79 (1H, dd, J = 13.4, 7.3 Hz), 2.92 (1H, dd, J = 13.4, 6.8 Hz), 4.16 (1H, s), 5.10 (1H, d, J = 9.6 Hz), 5.13 (1H, d, J = 17.2 Hz), 5.52-5.66 (1H, m), 6.95 (1H, dd, J = 10.6, 10.1 Hz), 7.55-7.62 (1H, m), 7.67-7.72 (1H, m), 9.96 (1H, s).
第二工程
　化合物(65)(3.99 g)をエタノール(20 ml)に溶解させ、室温攪拌下1mol/L 塩酸－エタノール溶液を加え、室温に1時間攪拌した。減圧下溶媒を留去した後、残渣を酢酸エチルで希釈し、２mol/L塩酸で抽出した。得られた水層を炭酸カリウムで塩基性にして(pH = 8～9)、酢酸エチルで抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。無機物を濾別した後、減圧下溶媒を留去し、化合物(66)を得た。精製は行わず次の反応に全量用いた。
1H-NMR(CDCl3)δ: 1.51 (3H, s), 1.75-1.89 (2H, br), 2.47 (1H, dd, J = 13.1, 8.1 Hz), 2.76 (1H, dd, J = 13.1, 7.1 Hz), 5.03-5.11 (2H, m), 5.46-5.58 (1H, m), 7.01-7.08 (1H, m), 7.52-7.60 (2H, m), 8.25-8.36 (1H, br)．
第三工程
　得られた化合物(66)を塩化メチレン(20 ml)に溶解させ、氷冷攪拌下ベンゾイルイソチオシアナート(1.43 ml)を滴下し、氷冷下5分間攪拌し、室温にて45分間攪拌した。減圧下溶媒を留去し、残渣をカラムクロマトグラフィーに付し、化合物(67) (4.34 g) を得た。
1H-NMR(CDCl3)δ: 2.00 (3H, s), 2.73 (1H, dd, J = 13.1, 6.6 Hz), 3.18 (1H, dd, J = 13.1, 7.6 Hz), 5.24 (1H, d, J = 10.6 Hz), 5.29 (1H, J = 17.2 Hz), 5.67-5.79 (1H, m), 6.99-7.07 (1H, dd, J = 10.4, 10.4 Hz), 7.45-7.53 (3H, m), 7.57-7.65 (2H, m), 7.83 (2H, d J = 7.07 Hz), 8.39 (1H, s), 8.86 (1H, s), 11.36 (1H, s).
第四工程
　化合物(67)(4.34 g)を塩化メチレン(220 ml)に溶解させ、氷冷攪拌下ヨウ素(3.64 g)を一度に加え、さらに氷冷下30分間攪拌した。水で希釈後、次亜硫酸ナトリウムで残存するヨウ素を還元し、炭酸水素ナトリウムで水層を中和(pH = 8)した後に、酢酸エチルで抽出し、硫酸ナトリウムで乾燥した。無機物を濾別した後、減圧下溶媒を留去し、化合物(68)を得た。精製は行わず、次の反応に全量用いた。
第五工程
　化合物(68)をテトラヒドロフラン(130 ml)に溶解させ、ピロリジン(4 ml)を加え、2時間加熱還流した。水を加えた後、酢酸エチルで抽出し、硫酸ナトリウムで乾燥した。無機物を濾別した後、減圧下溶媒を留去し、残渣をカラムクロマトグラフィーに付し、化合物(69) (3.44 g) を得た。
1H-NMR(CDCl3)δ: 1.71 (3H, s), 2.71 (1H, d, J = 14.1 Hz), 3.39 (1H, d, J = 14.1 Hz), 5.01 (1H, s), 5.09 (1H, s), 7.10 (1H, dd, J = 10.6, 10.1 Hz), 7.31-7.40 (4H, m), 7.47 (1H, t, J = 7.0 Hz), 8.05 (2H, d, J = 7.6 Hz), 8.08-8.13 (1H, m).
第六工程
　化合物(69)(459 mg)をエタノール(9.2 ml)に溶解させ、ヒドラジン１水和物(0.986 ml)を加え、50℃にて4.5時間攪拌した。水を加えた後、クロロホルムで抽出し、硫酸ナトリウムで乾燥した。無機物を濾別した後、減圧下溶媒を留去し、残渣をカラムクロマトグラフィーに付し、化合物(70) (158 mg) を得た。
1H-NMR(CDCl3)δ: 1.54(3H, s), 2.53 (1H, d, J = 13.6 Hz), 2.89 (1H, d, J = 13.6 Hz), 4.97 (1H, s), 5.09 (1H, s), 6.45-6.51 (1H, m), 6.73-6.84 (2H, m).
参考例８
中間体化合物（７６）の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000040
第一工程
　化合物(71)(8.00 g)を塩化メチレン(20 ml)に溶解させ、アクリル酸エチル(40 ml)と第二世代グラブス触媒(0.412 g)を加え、窒素雰囲気下室温にて2時間攪拌した。減圧下溶媒を留去し、残渣をカラムクロマトグラフィーに付し、化合物(72) (8.34 g) を得た。
1H-NMR(CDCl3)δ: 1.26 (3H, t, J = 6.6 Hz), 1.53-1.78 (3H, br), 2.72-2.92 (1H, br), 3.14-3.38 (1H, br), 4.23 (2H, q, J = 6.6 Hz), 4.25-4.50 (2H, br), 5.44-5.67 (1H, br), 5.82-5.98 (1H, br), 6.73-6.93 (1H, br), 6.97 (1H, dd, J = 9.6, 9.6 Hz), 7.19-7.85 (11H, m), 8.67-8.82 (1H, br).
第二工程
　化合物(72)(8.32 g)をN,N－ジメチルホルムアミドに溶解させ、ピペリジン(0.125 ml)を加え、室温にて15時間攪拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。ろ過した後、減圧下溶媒を留去し、残渣をカラムクロマトグラフィーに付し、化合物(73) (4.81 g) を得た。
1H-NMR(CDCl3)δ: 1.26 (3H, t, J = 7.1 Hz), 1.55 (3H, s), 1.65-1.88 (2H, br), 2.66 (1H, dd, J = 14.1, 8.1 Hz), 2.89 (1H, dd, J = 14.1, 8.1 Hz), 4.15 (2H, q, J = 7.1 Hz), 5.86 (1H, d, J = 15.2 Hz), 6.69 (1H, ddd, J = 15.2, 8.1, 8.1 Hz), 7.07 (1H, dd, J = 10.1, 8.1 Hz), 7.56-7.64 (2H, m), 8.14-8.26 (1H, br).
第三工程
　化合物(73)(0.950 g)を塩化メチレン(14 ml)に溶解させ、氷冷下ベンゾイルイソチオシアナート(0.370 ml)を10分間かけて滴下し、氷冷下30分間攪拌した。その後、氷冷下ヨウ素(0.732 g)を一度に加え、室温にて45分間攪拌した。再び、氷冷し、1,8－ビシクロ[5.4.0]ウンデカ－7－エン(1.581 ml)を塩化メチレン(10 ml)に溶解した溶液を5分間かけて滴下し、室温に昇温させ、4時間攪拌した。反応液を酢酸エチル及び水で希釈し、亜硫酸ナトリウムを加えたのち、炭酸水素ナトリウムで中和し、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過した後、減圧下溶媒を留去し、残渣をカラムクロマトグラフィーに付し、化合物(74) (0.939 g) を得た。
1H-NMR(CDCl3)δ: 1.22 (3H, t, J = 7.1 Hz), 1.73 (3H, s), 2.93 (1H, d, J = 14.7 Hz), 3.58 (1H, d, J = 14.7 Hz), 4.09 (2H, q, J = 7.1 Hz), 5.83 (1H, s), 7.14 (1H, dd, J = 11.1, 9.1 Hz), 7.31-7.45 (3H, m), 7.58 (1H, t, J = 7.1 Hz), 8.00 (2H, d, J = 7.1 Hz), 8.10-8.16 (1H, m), 9.62-9.76 (1H, br).
第四工程
　化合物(74)(0.700 mg)をトルエン(2.5 ml)に溶解させ、内温-50℃以下を保ち、1mol/L 水素化ジイソブチルアルミニウムトルエン溶液を5分間かけて滴下し、アセトン－ドライアイス浴による冷却下さらに30分間攪拌した。メタノールでクエンチした後、室温まで昇温させ、ろ過した後、減圧下溶媒を留去し、残渣をカラムクロマトグラフィーに付し、化合物(75) (0.183 g) を得た。
1H-NMR(CDCl3)δ: 1.52-1.98 (1H, br), 1.78 (3H, s), 2.75 (1H, d, J = 13.9 Hz), 3.40 (1H, d, J = 13.9 Hz), 3.44-3.87 (2H, br), 4.07 (1H, dd, J = 13.1, 5.1 Hz), 4.14 (1H, dd, J = 13.1, 3.5 Hz), 5.63 (1H, dd, J = 5.1, 3.5 Hz), 6.46-6.59 (2H, m), 6.87 (1H, dd, J = 11.1, 9.1 Hz), 7.46 (2H, dd, J = 7.1, 7.1 Hz), 7.53 (1H, t, J = 7.1 Hz), 8.25 (2H, d, J = 7.1 Hz).
第五工程
　化合物(75)(60.4 mg)をエタノール(600 μl)に溶解させ、ヒドラジン1水和物(38 μl)を加え、室温にて終夜攪拌した。反応液を飽和食塩水で薄め、クロロホルム抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。ろ過した後、減圧下溶媒を留去し、ベンゾイルヒドラジンとの混合物として化合物(76)を得た。化合物(76)は精製することなく次の反応に用いた。
1H-NMR(CDCl3)δ: 1.45 (3H, s), 2.41 (1H, d, J = 14.2 Hz), 2.82 (1H, d, J = 14.2 Hz), 3.29-3.80 (4H, br), 3.98 (2H, d, J = 6.6 Hz), 5.49 (1H, m), 6.36-6.41 (1H, m), 6.60-6.65 (1H, m), 6.70 (1H, dd, J = 12.1, 9.1 Hz).
参考例９
中間体化合物（７９）の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000041
第一工程
　化合物(77)(500 mg)をジメチルアセトアミド(7.5 ml)に溶解し、炭酸カリウム(440 mg)および1H－1,2,4－トリアゾール(200 mg)を加え、マイクロウェーブ照射下130 ℃で10分間攪拌した。水を加え酢酸エチルにより抽出し、有機層を水および飽和食塩水で洗浄後、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去した。残渣をジイソプロピルアルコールにて洗浄し、化合物(78)(451 mg)を得た。
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 3.96 (3H, s), 8.48 (1H, s), 9.16 (1H, d, J = 1.5 Hz), 9.29 (1H, d, J = 1.5 Hz), 9.56 (1H, s).
第二工程
　化合物(78)(50 mg)をテトラヒドロフラン(1 ml)とメタノール(1 ml)に溶解し、2mol/L 水酸化ナトリウム水溶液(0.12 ml)を加え、室温下2時間攪拌した。2mol/L 塩酸(0.12 ml)を加え減圧下有機溶媒を留去した後、残渣にクロロホルムを加え濾取し、化合物(79)(27 mg)(塩化ナトリウム含有)を得た。
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 8.48 (1H, s), 9.13 (1H, s), 9.27 (1H, s), 9.55 (1H, s), 14.18 (1H, s).
参考例１０
中間体化合物（８４）の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000042
第一工程
　化合物(80)(1.0 g)をジメチルスルホキシド(10 ml)に溶解し、メタンスルホンアミド(0.66 g)および炭酸カリウム(1.6 g)を加え、120 ℃で1時間攪拌した。0.2 mol/L 塩酸を加えてpH=4とし、酢酸エチルにより抽出した。有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄後、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去した。残渣をジエチルエーテルで洗浄し、化合物(81)(1.1 g)を得た。
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 3.40 (3H, s), 3.88 (3H, s), 8.35 (1H, d, J = 1.0 Hz), 8.90 (1H, d, J = 1.0 Hz), 11.68 (1H, s).
第二工程
　化合物(81)(200 mg)をテトラヒドロフラン(4 ml)とメタノール(4 ml)に溶解し、2mol/L 水酸化ナトリウム水溶液(1.3 ml)を加え、室温下3時間攪拌した。2mol/L 塩酸(1.3 ml)を加え減圧下有機溶媒を留去した後、水を加えて濾取し、残渣をテトラヒドロフランで洗浄して化合物(82)(161 mg)を得た。
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 3.39 (3H, s), 8.34 (1H, d, J = 1.5 Hz), 8.87 (1H, d, J = 1.0 Hz), 11.62 (1H, s), 13.35 (1H, s).
第三工程
　化合物(81)(300 mg)と炭酸カリウム(197 mg)をジメチルホルムアミド(3 ml)に溶解し、ヨウ化メチル(203 mg)を加え、60 ℃で2時間攪拌した。水を加え酢酸エチルにより抽出し、有機層を水および飽和食塩水で洗浄後、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、化合物(83)(162 mg)を得た。
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 3.39 (3H, s), 3.42 (3H, s), 3.91 (3H, s), 8.87 (1H, d, J = 1.5 Hz), 8.99 (1H, d, J = 1.5 Hz).
第四工程
　化合物(83)(153 mg)をテトラヒドロフラン(3 ml)とメタノール(3 ml)に溶解し、2mol/L 水酸化ナトリウム水溶液(0.31 ml)を加え、室温下1時間攪拌した。2 mol/L 塩酸(0.31 ml)を加え減圧下有機溶媒を留去した後、水を加えて濾取し、残渣を水で洗浄して化合物(84)(121 mg)を得た。
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 3.37 (3H, s), 3.41 (3H, s), 8.85 (1H, d, J = 1.0 Hz), 8.97 (1H, d, J = 1.5 Hz), 13.53 (1H, s).
参考例１１
中間体化合物（８８）の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000043
第一工程
化合物(85)(2.50 g)をピリジン(25 ml)に溶解し、トリチルクロリド(5.47 g)、ジメチルアミノピリジン(2.40 g)を加え、100℃で22時間攪拌を行った後、水を加え、酢酸エチルにより抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥して減圧下溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、化合物(86)(2.81 g)を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 0.94 (3H, t, J = 7.1 Hz), 3.82 (2H, q, J = 7.1 Hz), 6.97 (1H, d, J = 1.0 Hz), 7.12 (7H, m), 7.28-7.30 (9H, m).
第二工程
　テトラヒドロフラン(25 mL)を氷冷攪拌下、水素化リチウムアルミニウム(333 mg)を加えた後、化合物(86)(2.80 g)のテトラヒドロフラン溶液(40 mL)を滴下した。室温で1時間反応させた後、氷冷攪拌下で、水(0.35 mL), 2mol/L 水酸化ナトリウム水溶液(0.35 mL), 水(1.05 mL)を加えて室温で1時間攪拌した。不溶物をセライトで除き、セライト上の不溶物を熱したクロロホルムとメタノールにて洗浄した。これら洗浄液を減圧下留去して化合物(87)(960 mg)を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 3.09 (1H, s), 3.65 (2H, d, J = 3.5 Hz), 6.80 (1H, s), 7.00 (1H, s), 7.11 (6H, m), 7.34 (9H, m).
第三工程
　化合物(87) (681 mg)、5－クロロピラジン－2－カルボン酸 (317 mg)をDMF(20 ml)に溶解し、氷冷攪拌下で水素化ナトリウム(240 mg)を加え、75℃にて3時間攪拌した。反応後、飽和塩化アンモニウム水溶液(50 mL)に加えた後、これら反応液を減圧下にて濃縮した。残渣に熱エタノールを加えて抽出した後、減圧下溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、化合物(88)(497 mg、含不純物)を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 4.85 (2H, s), 6.88 (1H, s), 7.00-7.42 (16H, m), 7.84 (1H, s), 8.59 (1H, s).
参考例１２
中間体化合物（９５）の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000044
（式中、ｎ＝１または２を表わす）
第一工程
ｎ＝１のとき
化合物(89)(10.0 g)をアセトニトリル(200 ml)に溶解し、ベンジル2－ブロモエチルエーテル(9.5 ml), 炭酸カリウム (11.3 g)を加え85℃にて1.5時間攪拌した。室温に放冷後、減圧下溶媒を留去した後、水を加え、酢酸エチルにより抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥して減圧下溶媒を留去して化合物(90)(17.0 g)を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 3.84 (3H, d, J = 2.5 Hz), 3.86 (2H, t, J = 5.8 Hz), 3.94 (3H, s), 4.47 (2H, s), 4.90 (2H, t, J = 5.8 Hz), 7.19-7.36 (6H, m).
ｎ＝２のとき
化合物(89)(10.0 g)をアセトニトリル(100 ml)に溶解し、ベンジル3－ブロモプロピルエーテル(11.2 ml), 炭酸カリウム (11.3 g)を加え85℃にて1.5時間攪拌した。室温に放冷後、減圧下溶媒を留去した後、水を加え、酢酸エチルにより抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥して減圧下溶媒を留去して化合物(90)(18.0 g)を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 2.16-2.23 (2H, m), 3.50 (2H, t, J = 6.1 Hz), 3.87 (3H, s), 3.93 (3H, s), 4.48 (2H, s), 4.77 (2H, t, J = 7.4 Hz), 7.26-7.35 (6H, m).
第二工程
ｎ＝１のとき
化合物(90)(17.0 g）をMeOHに溶解し、氷冷攪拌下、1.7mol/L 水酸化ナトリウム水溶液(32 ml)を加えた。室温で18時間攪拌した後、減圧下にて反応液を留去した。0.2mol/L 塩酸水溶液を加え、酢酸エチルにより抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去して粗生成物として化合物(91) (16.0 g)を得た。
ｎ＝２も同様にして合成した。
粗生成物につきスペクトルは未測定。
第三工程
ｎ＝１のとき
化合物(91)(16.0 g)をt－ブチルアルコールに溶解し、ジフェニルホスホリルアジド (14 ml)、トリエチルアミン(10 ml)を加え、加熱還流下、4時間攪拌を行った後、減圧下にて反応液を留去した。水を加え、酢酸エチルにより抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥して減圧下溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、化合物(92)(15.0 g)を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.44 (9H, s), 3.85 (2H, t, J = 4.3 Hz), 3.92 (3H, s), 4.37 (2H, t, J = 4.3 Hz), 4.52 (2H, s), 6.82 (1H, s), 7.28 (5H, m), 7.90 (1H, s).
ｎ＝２も同様にして合成した。
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.48 (9H, s), 2.08-2.14 (2H, m), 3.35 (2H, t, J = 5.6 Hz), 3.90 (3H, s), 4.23 (2H, t, J = 6.1 Hz), 4.57 (2H, s), 6.80 (1H, s), 7.35 (5H, m, Hz), 7.75 (1H, s).
第四工程
ｎ＝１のとき
化合物(92)(15.0 g)をメタノール(150 ml)に溶解し、水酸化パラジウム(1.40 g)を加えた後、水素気流下、室温下激しく攪拌した。5時間後、不溶物をセライトにて濾別し、濾液を減圧下にて濃縮し化合物 (93) (11.4 g)を粗成生物として得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.51 (9H, s), 3.89 (3H, s), 4.03-4.05 (2H, m), 4.28-4.31 (2H, m), 6.77 (1H, s), 7.75 (1H, s).
ｎ＝２も同様にして合成した。
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.48 (9H, d, J = 19.8 Hz), 2.07-2.12 (2H, m), 3.56 (2H, t, J = 5.3 Hz), 3.90 (3H, s), 4.26 (2H, t, J = 6.1 Hz), 6.76 (1H, s), 7.76 (1H, s).
第五工程
ｎ＝１のとき
　化合物(93)(11.4 g)をTHF (400 ml)に溶解し、１，１'－(アゾジカルボニル)ジピペラジン(12.1 g)、トリブチルホスフィン(13 ml)を加え、75℃で15分間攪拌した。反応後、室温に放冷し析出した不溶物を濾別し、濾液を減圧にて濃縮した。残渣に水を加え、酢酸エチルで抽出後、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥して減圧下溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、化合物(94)(7.60 g)を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.57 (9H, s), 3.91 (3H, s), 4.39 (4H, s), 6.17 (1H, s).
ｎ＝２も同様にして合成した。
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.58 (9H, s), 2.20 (2H, m), 3.84 (2H, t, J = 5.6 Hz), 3.91 (3H, s), 4.24 (2H, t, J = 6.1 Hz), 6.80 (1H, s).
第六工程
ｎ＝１のとき
　化合物(94)(1.01 g)をTHF (10 ml)、MeOH(10 ml)に溶解し、4mol/L 水酸化リチウム水溶液 (1.9 ml)を加え、室温で4.5時間攪拌した。反応液に0.1mol/L塩酸水溶液を加え、クロロホルムにより抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去して化合物(95)(844 mg) を粗成生物として得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.59 (9H, s), 4.41 (4H, s), 6.21 (1H, s).
ｎ＝２も同様にして合成した。
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.56 (9H, s), 2.18-2.24 (2H, m), 3.85 (2H, t, J = 5.8 Hz), 4.25 (2H, t, J = 6.1 Hz), 6.82 (1H, s).
参考例１３
中間体化合物（１０１）の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000045
第一工程
化合物(96)(15 g)をジクロロメタン(150 ml)に溶解し、mCPBA(21.4 g)を加え室温で24時間撹拌後、飽和重曹水を加えジクロロメタンにより抽出し、有機層を飽和重曹水で洗浄、硫酸ナトリウムにて乾燥し減圧下溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、化合物(97)(14.3 g)を得た。
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 8.60-8.58 (1.0H, m), 7.85-7.83 (2.0H, m), 4.40-4.32 (4.0H, m), 1.33-1.31 (6.0H, m).
第二工程
　化合物(97)(14.3 g)をエタノール(72 ml)及び水(72 ml)に溶解し、濃塩酸(14.3 ml)を加え60℃で14.5時間撹拌した後、氷冷下得られた固体を濾取後、水にて洗浄し、化合物(98)(9.8 g)を得た。
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 9.00-8.97 (1.0H, m), 8.41-8.39 (1.0H, m), 8.28-8.26 (1.0H, m), 4.40 (2.0H, q, J = 6.91 Hz), 1.36 (3.0H, t, J = 6.95 Hz).
第三工程
　塩化チオニル(13.5 ml)をジクロロメタン(200 ml)に溶解し、氷冷下DMF(4.7 ml)を加えた後、同温下化合物(98)(9.7 g)を加え65℃にて2.5時間撹拌した。室温に放冷後、氷冷下にて水(31 ml)を加えた後、減圧下ジクロロメタンを留去し析出した固体を濾取、水にて洗浄し、化合物(99)(9.3 g)を得た。
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 8.99 (1.0H, d, J = 1.68 Hz), 8.42 (1.0H, d, J = 1.68 Hz), 4.36 (2.0H, q, J = 7.07 Hz), 1.34 (3.0H, t, J = 7.09 Hz).
第四工程
　化合物(99)(6 g)に28%アンモニア水(40.2 ml)を加え、室温下2時間撹拌後、氷冷下にて濃塩酸(44.1 ml)を滴下した。析出した固体を濾取、水にて洗浄し、化合物(100)(4.6 g)を得た。1H-NMR (DMSO-d6) δ: 8.97-8.95 (1.0H, m), 8.43-8.40 (1.0H, m), 8.33 (1.0H, br s), 7.84 (1.0H, br s).
第五工程
化合物(100)(1.5 g)をDMF(15 ml)に溶解し、氷冷下にて塩化オキザリル(1.9 ml)を加え、同温下1.5時間撹拌後、4mol/L 水酸化ナトリウム(9.4 ml)を加えた。析出した固体を濾取、水にて洗浄し、化合物(6)(706 mg)を得た。また、濾液は酢酸エチルエステルにより抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥して減圧下溶媒を留去、残渣を水にて洗浄後濾取し、化合物(101)(305 mg)を得た。
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 9.03-9.00 (1.0H, m), 8.75-8.72 (1.0H, m).
参考例１４
中間体化合物（１０５）の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000046
第一工程
  水素化ナトリウム(3.90 g)のテトラヒドロフラン(30 ml)懸濁液に、15℃で化合物(102)(9.8 ml)及び蟻酸エチル(10.8 ml)を加え、室温下5日間攪拌した。固体をろ取し、エーテルで洗浄後自然乾燥し、化合物(103)(11.7 g)を得た。
第二工程
化合物(103)(1.05 g)をエタノール(3 ml)に溶解し、アセトアミジン塩酸塩(500 mg)を加え、7時間加熱還流する。減圧下溶媒を留去した後、水を加え酢酸エチルにより抽出した。減圧下溶媒を留去した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し化合物(104)(294 mg)を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 2.84(3H, s), 8.90(2H, s).
第三工程
化合物(104)(2.15 g)をピリジン(20 ml)溶液に、二酸化セレン(4.01 g)を加え、80℃で4時間攪拌する。室温で終夜静置し、不溶物をろ過により除去した後、減圧下溶媒を留去した。水に溶解させ、HP－20SSカラムクロマトグラフィーに通し、減圧下溶媒を留去した後、残渣をアセトンで洗浄し化合物(105)(491 mg)を得た。
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 9.44(2H, s).
参考例１５
中間体化合物（１０７）の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000047
第一工程
化合物(106)(1.0 g)の濃硫酸(5.4 ml)及び水(600 μl)溶液を110℃で22時間攪拌した後、氷水にあけ、析出した固体をろ取した。水で洗浄後、自然乾燥して化合物(107)(1.02 g)を得た。
1H-NMR(DMSO-d6) δ: 8.08 (1H, m), 8.60 (1H, m).
実施例１
化合物２の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000048
第一工程
　化合物(1)(21.25 g)をジクロロメタン(106 ml)に溶解し、氷冷下Ｎ，Ｏ－ジメチルヒドロキシルアミン塩酸塩(12.29 g)およびピリジン(23.2 ml)を加え、20分間攪拌した。希塩酸を加えジクロロメタンにより抽出し、有機層を希塩酸、飽和重曹水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥して減圧下溶媒を留去した。残渣にヘキサンを加え、析出した固体を濾取し、化合物(2)(22.47 g)を得た。
１Ｈ－ＮＭＲ(CDCl3)δ: 3.41 (3H, s), 3.57 (3H, s), 7.62 (1H, t, J = 8.1 Hz), 8.05 (1H, dt, J = 8.1, 1.2 Hz), 8.33 (1H, ddd, J = 8.1, 2.1, 1.2 Hz), 8.59 (1H, t, J = 2.1 Hz).
第二工程
　化合物(2)(22.26 g)をメタノール(111 ml)に溶解し、5%パラジウムカーボン (6.68 g)を加え、水素雰囲気下7時間攪拌した。さらに5%パラジウムカーボン (4.45 g)を追加し水素雰囲気下1.5時間攪拌した後、反応液をろ過して、母液を減圧濃縮し、化合物(3)の残渣(15.86 g)を得た。
１Ｈ－ＮＭＲ(CDCl3)δ: 3.33 (3H, s), 3.58 (3H, s), 3.74 (2H, brs), 6.76 (1H, ddd, J = 7.8, 2.4, 1.2 Hz), 6.95 (1H, t, J = 2.4 Hz), 7.02 (1H, dt, J = 7.8, 1.2 Hz), 7.17 (1H, t, J = 7.8 Hz).
第三工程
　化合物(3)(15.81 g)をジクロロメタン(79 ml)に溶解し、氷冷下トリフルオロ酢酸無水物(13.6 ml)およびピリジン(7.8 ml)を加え、30分間攪拌した。希塩酸を加えジクロロメタンにより抽出し、有機層を希塩酸、飽和重曹水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥して減圧下溶媒を留去した。残渣にヘキサンを加え、析出した固体を濾取し、化合物(4)(14.92 g)を得た。
１Ｈ－ＮＭＲ(CDCl3)δ: 3.37 (3H, s), 3.58 (3H, s), 7.42 (1H, t, J = 7.8 Hz), 7.52 (1H, dt, J = 7.8, 1.2 Hz), 7.80-7.88 (2H, m), 8.78 (1H, brs).
第四工程
　化合物(4)(4.00 g)をテトラヒドロフラン(32 ml)に溶解し、氷冷下1mol/Lシクロヘキシルマグネシウムブロミド－テトラヒドロフラン溶液(43.5 ml)を加え、室温で16.5時間攪拌した。氷冷下塩化アンモニウム水溶液を加え酢酸エチルにより抽出し、不溶物を濾別した。有機層を水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥して減圧下溶媒を留去した。残渣をクロマトグラフィーで精製し、化合物(5)(833 mg)を得た。
１Ｈ－ＮＭＲ(CDCl3)δ: 1.20-1.96 (10H, m), 3.20-3.28 (1H, m), 7.52 (1H, t, J = 8.1 Hz), 7.76 (1H, dt, J = 8.1, 1.2 Hz), 7.92 (1H, ddd, J = 8.1, 1.7, 1.2 Hz), 8.03 (1H, t, J = 1.7 Hz), 8.07 (1H, brs).
第五工程
　メチルトリフェニルホスホニウムヨージド(5.73 g)をテトラヒドロフラン(21ml)に懸濁し、氷冷下1.57mol/L n－ブチルリチウム－ヘキサン溶液(9.0 ml)を滴下した。室温で50分間攪拌後、氷冷下にて化合物(5)(1.42 g)－テトラヒドロフラン(8 ml)溶液を加え、室温で45分間攪拌した。酢酸エチル、水を加え酢酸エチルにより抽出し、有機層を水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥して減圧下溶媒を留去した。残渣をクロマトグラフィーで精製し、化合物(6)(1.47 g)を得た。
１Ｈ－ＮＭＲ(CDCl3)δ: 1.10-1.88 (10H, m), 2.34-2.43 (1H, m), 5.05 (1H, t, J = 1.2 Hz), 5.14 (1H, s), 7.21 (1H, dt, J = 7.8, 1.2 Hz), 7.34 (1H, t, J = 7.8 Hz), 7.47 (1H, t, J = 2.1 Hz),  7.52 (1H, ddd, J = 7.8, 2.1, 1.2 Hz), 7.85 (1H, brs).
第六工程
　化合物(6)(1.20 g)をクロロホルム(60 ml)に溶解し、ヨウ素(2.46 g)、チオシアン酸カリウム(1.96 g)、テトラn－ブチルアンモニウムクロリド(50 mg)、水(3 ml)を加えて60℃で45.5時間攪拌した。氷冷下、チオ硫酸ナトリウム水溶液を加えクロロホルムにより抽出した。有機層を水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥して減圧下溶媒を留去した。残渣をクロマトグラフィーで精製し、化合物(7)(619 mg)を得た。
１Ｈ－ＮＭＲ(CDCl3)δ: 1.10-2.10 (11H, m), 3.67, 4.00 (2H, ABq, J = 10.7 Hz), 7.15 (1H, d, J = 8.3 Hz), 7.41-7.48 (2H, m), 7.65 (1H, d, J = 8.3 Hz), 8.03 (1H, brs).
第七工程
　化合物(7)(70 mg)をテトラヒドロフラン(0.7 ml)に溶解し、ｔ－ブチルアミン(0.046 ml)、を加えて60℃で26時間攪拌した。酢酸エチル、水を加え抽出した。有機層を水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥して減圧下溶媒を留去した。同様に、化合物(7)(578 mg)、テトラヒドロフラン(5.8 ml)、ｔ－ブチルアミン(0.378 ml)を用いて反応を行った。両方の反応残渣を合わせてクロマトグラフィーで精製し、化合物(8)(511 mg)を得た。
１Ｈ－ＮＭＲ(CDCl3)δ: 0.90-2.00 (11H, m), 1.47 (9H, s), 3.35, 3.63 (2H, ABq, J = 10.4 Hz), 7.26-7.37 (2H, m), 7.47-7.60 (2H, m).
第八工程
　化合物(8)(464 mg)を濃塩酸(4.6 ml)に懸濁させ、100℃で2.5時間攪拌した。5mol/L水酸化ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥して減圧下溶媒を留去した。残渣をクロマトグラフィーで精製し、化合物(9)(280 mg)を得た。
１Ｈ－ＮＭＲ(CDCl3)δ: 0.94-1.95 (11H, m), 3.52, 3.71 (2H, ABq, J = 10.7 Hz), 3.63 (1H, brs), 4.63 (1H, brs), 6.55 (1H, ddd, J = 7.8, 2.0, 1.2 Hz), 6.73 (1H, dt, J = 7.8, 1.2 Hz), 6.76 (1H, t, J = 2.0 Hz), 7.09 (1H, t, J = 7.8 Hz).
第九工程
　５－メトキシピラジン－２－カルボン酸(47 mg)をメタノール(1.4 ml)に懸濁させ、DMT-MM(88 mg)、メタノール(0.7 ml)、次いでを化合物（9）（70 mg）を加えて、室温で1時間攪拌した。酢酸エチル、5%炭酸カリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥して減圧下溶媒を留去した。残渣をクロマトグラフィーで精製し、化合物２(63 mg)を得た。
１Ｈ－ＮＭＲ(CDCl3)δ: 0.80-2.10 (11H, m), 3.59, 3.79 (2H, ABq, J = 11.1 Hz), 4.07 (3H, s), 4.67 (1H, brs), 7.15 (1H, dt, J = 8.1, 1.2 Hz), 7.33 (1H, t, J = 8.1 Hz), 7.68 (1H, t, J = 1.8 Hz), 7.74 (1H, ddd, J = 8.1, 1.8, 1.2 Hz), 8.15 (1H, d, J = 1.2 Hz), 9.03 (1H, d, J = 1.2 Hz), 9.53 (1H, s).
実施例２
化合物５６の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000049
第一工程
化合物(108)(4.00 g)のテトラヒドロフラン(40 ml)溶液を氷冷撹拌下、1mol/L 3－ブロモフェニルマグネシウムブロミド/テトラヒドロフラン溶液(24.9 ml)を滴下し1時間反応を行った後、飽和塩化アンモニウム水を加えた。酢酸エチルにより抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、化合物(109)(3.24 g)を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 3.92 (3H, s), 4.37 (1H, s), 7.02-7.19 (3H, m), 7.31-7.38 (1H, m), 7.52 (1H, t, J = 8.2 Hz), 7.78 (1H, dq, J = 8.2, 1.0 Hz), 8.19 (1H, dq, J = 8.2, 1.0 Hz), 8.35 (1H, t, J = 2.1 Hz).
第二工程
化合物(109)(3.24 g)のメタノール(32 ml)溶液を氷冷撹拌下、2mol/L 水酸化ナトリウム水溶液(15.9ml)を滴下し、30分間撹拌を行った。反応液に2mol/L 塩酸水溶液を加え酸性とした後、クロロホルムにより抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、化合物(110)(2.77 g)を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 7.04-7.40 (4H, m), 7.54 (1H, t, J = 8.2 Hz), 7.84 (1H, dq, J = 8.2, 1.1 Hz), 8.21 (1H, dq, J = 8.2, 1.1 Hz), 8.43 (1H, t, J = 1.9 Hz).
第三工程
化合物(110)(0.96 g)の2-クロロアセトニトリル(4.98 g)溶液を氷冷撹拌下、濃硫酸(3.23 g)を加え4時間撹拌を行った。反応液に水を加えクロロホルムにより抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥して減圧下溶媒を留去し、粗生成物として化合物(111)を得た。
第四工程
第三工程で得られた化合物(111) のジクロロメタン(24 ml)溶液を氷冷攪拌下、Ｎ, Ｎ－ジメチルホルムアミド(0.024 g)および塩化オキサリル(1.16 ml)を加え、室温下にて3時間撹拌を行った。反応液をメタノール(20 ml)に注ぎ減圧下溶媒を留去し、粗生成物として化合物(112)を得た。
第五工程
第四工程で得られた化合物(112) のテトラヒドロフラン(10 ml)溶液を氷冷撹拌下、1mol/L ボラン/テトラヒドロフラン溶液(66.0 ml)を滴下し室温下にて3時間撹拌を行った。反応液を氷に注ぎ濃塩酸を加え、酸性とした後、室温下にて15分間撹拌を行った。4mol/L 水酸化ナトリウム水溶液を加え塩基性とした後、クロロホルムにより抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥して減圧下溶媒を留去し、粗生成物として化合物(113)を得た。
第六工程
第五工程で得られた化合物(113) のアセトン(3.6 ml)溶液を氷冷撹拌下、Fmoc－イソチオシアナート(0.40 g)を加え、室温下にて1.5時間撹拌を行った。反応液を減圧下留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、化合物(114)(0.57 g)を得た。
第七工程
　化合物(114)(0.57 g)をジクロロメタン(31 ml)に溶解し氷冷撹拌下、1－クロロ－N, N－2－トリメチル－1－プロペニルアミン (0.27 g)を加えた。室温で2時間撹拌した後、水を加えジクロロメタンにより抽出し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、化合物(115)(0.24 g)を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 3.90 (1H, d, J = 11.9 Hz), 3.95 (1H, d, J = 11.9 Hz), 4.25 (1H, t, J = 6.5 Hz), 4.52 (2H, d, J = 6.5 Hz), 6.96-6.99 (1H, m), 7.08-7.13 (2H, m), 7.29-7.34 (3H, m), 7.40-7.42 (2H, m), 7.49 (1H, t, J = 8.0 Hz), 7.57 (2H, d, J = 7.5 Hz), 7.69 (1H, dt, J = 8.0, 2.0 Hz), 7.76 (2H, d, J = 7.5 Hz), 8.12 (1H, d, J = 8.0 Hz), 8.29 (1H, t, J = 2.0 Hz).
第八工程
　化合物(115)(0.22 g) の酢酸エチル(2.2 ml)、メタノール(2.2 ml)溶液に、10%パラジウム炭素粉末 (0.07 g)を加え、室温下にて7時間撹拌を行った。不溶物を濾別後、濾液を減圧下留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、化合物(116)(0.18 g)を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 3.73 (2H, br s), 3.82 (1H, d, J = 11.8 Hz), 3.91 (1H, d, J = 11.8 Hz), 4.27 (1H, t, J = 7.1 Hz), 4.46 (2H, d, J = 7.1 Hz), 6.59-6.71 (2H, m), 6.94-7.18 (4H, m), 7.29-7.32 (4H, m), 7.40 (2H, t, J = 7.7 Hz), 7.62 (2H, d, J = 7.7 Hz), 7.76 (2H, d, J = 7.7 Hz).
第九工程
　3,5－ジクロロピリジン－2－カルボン酸のＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミド(0.5 ml)溶液を氷冷撹拌下、2－(1H－7－アザベンゾトリアゾール－１－イル)－1,1,3,3－テトラメチルウロニウムヘキサフルオロフォスフェート(0.05 mg)およびトリエチルアミン(0.01 mg)を加えた。10分間撹拌を行った後、化合物(116)(0.05 g)のＮ, Ｎ－ジメチルホルムアミド(2 ml)溶液を加え、室温下にて2.5時間撹拌を行った。水を加え、酢酸エチルにより抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、化合物(117)(0.05 g)を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 3.89 (1H, d, J = 11.7 Hz), 3.99 (1H, d, J = 11.7 Hz), 4.26 (1H, t, J = 6.8 Hz), 4.47 (3H, d, J = 6.8 Hz), 6.96 (1H, dd, J = 8.9, 7.2 Hz), 7.10-7.14 (2H, m), 7.28-7.42 (9H, m), 7.60 (2H, d, J = 7.3 Hz), 7.74-7.76 (2H, m), 7.90 (1H, d, J = 2.0 Hz), 8.46 (1H, d, J = 2.0 Hz), 9.77 (1H, s).
第十工程
化合物(117)(0.05 g)のジクロロメタン(0.5 ml)溶液を氷冷撹拌下、ピペリジン(0.03 mg)を加え、室温下にて1時間撹拌を行った。水を加え、ジクロロメタンにより抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去し残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、化合物５６(0.02 g)を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 3.97 (1H, d, J = 11.2 Hz), 4.06 (1H, d, J = 11.2 Hz), 4.78 (2H, br s), 6.88-6.94 (1H, m), 7.17-7.21 (4H, m), 7.33 (1H, t, J = 7.9 Hz), 7.69 (1H, t, J = 1.9 Hz), 7.78-7.81 (1H, m), 7.89 (1H, d, J = 2.2 Hz), 8.46 (1H, d, J = 2.2 Hz), 9.73 (1H, s).
参考例１６
化合物２０３の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000050
第一工程
原料(118)(500 mg)をテトラヒドロフラン(10 mL)に溶解し、-78℃下LDA (2mol/L : 2.59 mL)を滴下し、約1時間撹拌した。その後、クロロトリエチルシラン(0.527 mL)を滴下し、約5時間撹拌した後、0℃に昇温し飽和塩化アンモニウム水溶液を加えた。エーテルにて抽出後、食塩水で洗浄、硫酸ナトリウムにて乾燥した。得られた残渣をクロマトグラフィーに付し、粗成生物(119)(932 mg)を得た。
第二工程
ジイソプロピルアミン(0.554 mL)をテトラヒドロフラン(8 mL)に溶解し、-78℃下ブチルリチウム (1.66mol/L : 1.873 mL)を滴下し、10分撹拌した。次に、粗成生物(119)(796 mg)のテトラヒドロフラン(4 mL)溶液を滴下、10分撹拌後、メチルビニルケトン(0.315 mL)を滴下し約3時間撹拌した。0℃に昇温し飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、エーテルにて抽出後、食塩水で洗浄、硫酸ナトリウムにて乾燥し、粗成生物(120)(1.26 g)を得た。
第三工程
粗成生物(120)(978 mg)をエタノール(8 mL)及び水(2 mL)に溶解し、水酸化カリウム(291 mg)を加え、約4時間加熱還流した。室温に放冷後濃縮し、水、酢酸エチル及びエーテルを加え、エーテルにて抽出した。食塩水で洗浄後硫酸ナトリウムにて乾燥し、得られた残渣をクロマトグラフィーに付し、粗成生物(121)(200 mg)を得た。
第四工程
粗成生物(121)(200 mg)に塩酸酢酸溶液(1mol/L:1.901 mL)及びチオウレア(63.7 mg)を加え、40度にて4.5時間撹拌後50度に昇温した。終夜撹拌後、反応溶液を濃縮し粗成生物(122)(272 mg)を得た。
第五工程
粗成生物(122)(272 mg)にトリフルオロ酢酸(3 mL)及び濃硫酸(0.162 mL)を加え、60度にて約7時間撹拌した。室温に放冷後反応溶液を濃縮し、炭酸カリウム水溶液にて中和した後、酢酸エチルにて抽出、食塩水で洗浄後硫酸ナトリウムにて乾燥した。得られた残渣をクロマトグラフィーで精製し、化合物(123)(146 mg)を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 7.62 (1.0H, t, J = 8.24 Hz), 6.86 (1.0H, dd, J = 11.44, 8.08 Hz), 4.40 (2.0H, br s), 3.00 (1.0H, ddd, J = 12.35, 7.32, 3.66 Hz), 2.71 (1.0H, ddd, J = 12.35, 9.76, 3.66 Hz), 2.26 (1.0H, ddd, J = 14.03, 7.32, 3.66 Hz), 1.95 (1.0H, ddd, J = 14.03, 9.76, 3.66 Hz), 1.56 (3.0H, d, J = 1.53 Hz).
第六工程
化合物(123)(146 mg)をテトラヒドロフラン(1.5 mL)に溶解し、Boc2O(298 mg)を加え、室温下約1時間撹拌した。水を加えた後、酢酸エチルにて抽出し、食塩水で洗浄後硫酸ナトリウムにて乾燥した。得られた残渣をクロマトグラフィーで精製し、化合物(124)(174 mg)を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 7.50 (1.0H, t, J = 8.08 Hz), 6.94-6.89 (1.0H, m), 2.89-2.85 (1.0H, m), 2.66-2.59 (2.0H, m), 2.12-2.05 (1.0H, m), 1.68 (3.0H, s), 1.52 (9.0H, s).
第七工程
化合物(124)(47 mg)、N-methyl-5-(4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolan-2-yl)picolinamide (38 mg)及びPdCl2(dppf) (9.11 mg)にDME(1 mL)を加えた後、炭酸ナトリウム水溶液(1 mol/L : 0.335 mL)を加え、70℃下マイクロウェイブを照射し30分撹拌した。得られた反応溶液をクロマトグラフィーに付し、粗生成物(125)(24 mg)を得た。
第八工程
粗生成物(125)(24 mg)をクロロホルム(0.5 mL)に溶解し、トリフルオロ酢酸(0.5 mL)を加え、室温下3時間撹拌した。反応溶液を濃縮後、炭酸ナトリウム水溶液にて中和し、酢酸エチルにて抽出、食塩水で洗浄後硫酸ナトリウムにて乾燥した。得られた残渣をクロマトグラフィーにて精製後イソプロピルエーテルで洗浄し、化合物(203)(3.5 mg)を得た。
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 8.85 (1.0H, s), 8.71 (1.0H, s), 8.15-8.08 (2.0H, m), 7.64 (1.0H, t, J = 9.09 Hz), 7.45-7.39 (1.0H, m), 6.00 (2.0H, br s), 3.09-2.99 (1.0H, m), 2.85 (3.0H, d, J = 3.54 Hz), 2.71-2.59 (1.0H, m), 2.15-2.02 (1.0H, m), 1.96-1.85 (1.0H, m), 1.49 (3.0H, s).
参考例１７
化合物２０５の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000051
第一工程
化合物(126)(200 mg)をアセトニトリル(4 mL)に溶解し、テトラフルオロホウ酸水溶液(0.096 mL)を加えた。その後、0度下にて亜硝酸イソペンチル (0.098 mL)を加え、30分撹拌後、ヨウ化カリウム(293 mg)水溶液を加え、室温下約3.5時間撹拌した。重曹を加え、酢酸エチルにて抽出後、水及び食塩水で洗浄後硫酸ナトリウムにて乾燥し、クロマトグラフィーで精製し、化合物(127)(87 mg)を得た。
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 9.75 (1.0H, s), 7.76-7.61 (2.0H, m), 7.07-6.98 (1.0H, m), 3.03-2.93 (1.0H, m), 2.63-2.54 (1.0H, m), 2.25-2.03 (2.0H, m), 1.50 (3.0H, s), 1.42 (9.0H, s).
第二工程
化合物(127)(100 mg)、2-フルオロピリジン-3-ボロン酸 (40.7 mg)、Pd(PPh3)4 (25.7 mg)及び炭酸ナトリウム(47.1 mg)にDME(2 mL)及び水(0.5 mL)を加え、50度下終夜撹拌後70度に昇温し、約7.5時間撹拌した。室温に放冷後、2mol/L塩酸を加え終夜撹拌した後、トリフルオロ酢酸を加え、9時間撹拌した。飽和炭酸ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルにて抽出後、食塩水で洗浄、硫酸ナトリウムにて乾燥した。クロマトグラフィーで精製後イソプロピルエーテルにて洗浄した後、ＭＳトリガーで精製し、化合物(205) (9.3 mg)を得た。
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 8.31-8.23 (2.0H, m), 8.10-8.03 (1.0H, m), 7.53-7.45 (2.0H, m), 7.42-7.34 (1.0H, m), 3.16-3.09 (1.0H, m), 2.66-2.57 (2.0H, m), 2.08-1.98 (1.0H, m), 1.65 (3.0H, s).
参考例１８
中間体化合物（１３５）の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000052
第一工程
原料(128)(35 g)及び水酸化ナトリウム(20.6 g)を水(300 mL)に溶解し、2.5時間加熱還流した。0度に冷却後、濃塩酸(44.7 mL)を加えた後、水(120 mL)を加え、析出した固体をろ取し、粗生成物(129)(25.9 g)を得た。ろ液に4 mol/L水酸化ナトリウム水溶液を加え中性とした後、酢酸エチルにて抽出後、硫酸ナトリウムにて乾燥し、粗生成物(2)(5.29 g)を得た。
第二工程
フォスホラスオキシブロマイド(100 g)をトルエン(100 mL)に溶解し、60度下加熱溶解した。同温下粗生成物(129)(25.7 g)をゆっくり加え、110℃下約4時間撹拌した。室温に放冷後、0度にて氷水を加えた後、同温下10 mol/L水酸化ナトリウム(174 mL)を加え、酢酸エチルにて抽出し、重曹及び食塩水で洗浄、硫酸ナトリウムにて乾燥し、粗生成物(130)(40.3 g)を得た。
第三工程
ブチルリチウム(2.73 mol/L : 0.914 mL)をトルエン(5 mL)及びヘキサン(3 mL)に溶解し、-78℃下粗生成物(130)(500 mg)のトルエン(1 mL)溶液を滴下した。45分撹拌後、ドライアイスをゆっくり加え、40分撹拌後室温に昇温した。エーテルを加えた後、析出した固体をろ取し、粗生成物(131)(461 mg)を得た。
第四工程
粗生成物(131)(361 mg)をメタノール(8 mL)に溶解した後、塩化チオニル(0.218 mL)を加え、約2時間加熱還流した。室温に放冷後溶液を濃縮し、重曹を加えた後、酢酸エチルにて抽出した。食塩水で洗浄後硫酸ナトリウムにて乾燥し、粗生成物(132)(243.6 mg)を得た。
第五工程
粗生成物(132)(100 mg)、Pd(OCOCF3)2 (17.54 mg)、亜鉛粉末 (6.55 mg) 1,1'-binaphthyl-2-yldi-tert-butylphosphine(18.5 mg)及びシアン化亜鉛(57.8 mg)を窒素気流下DMAC(3 mL)に溶解し、80℃下約3時間撹拌した。室温に放冷後、酢酸エチルを加え生じた固体をろ過し、ろ液に水を加えた後、酢酸エチルにて抽出、食塩水で洗浄後硫酸ナトリウムにて乾燥した。クロマトグラフィーで精製し、化合物(133)(54.3 mg)を得た。
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 8.97 (1.0H, s), 8.62 (1.0H, d, J = 9.35 Hz), 3.93 (3.0H, s).
第六工程
化合物(133)(64 mg)をテトラヒドロフラン(1 mL)に溶解し、0℃下1 mol/L水酸化ナトリウム水溶液(0.391 mL)を加え、室温にて2.5時間撹拌した。溶液を濃縮後、0度下2 mol/L塩酸(0.195 mL)を加え、生じた固体をろ取し、粗生成物(134)(47 mg)を得た。
第七工程
粗生成物(134)(47 mg)をDMF(1 mL)に溶解し、0℃下塩化オキザリル(0.066 mL)を加え、2時間撹拌した。同温下2 mol/L水酸化ナトリウム水溶液(0.638 mL)を加え、酢酸エチルエステルにて抽出、水及び食塩水で洗浄後硫酸ナトリウムにて乾燥し、粗生成物(135)(8 mg)を得た。一方、抽出時の水層を濃縮した後、得られた残渣にテトラヒドロフランを加えろ過した。ろ液を濃縮し、粗生成物(135)(28 mg)を得た。
参考例１９
中間体化合物（１４５）の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000053
第一工程
ジイソプロピルアミン(13.1 g)をテトラヒドロフラン(75 ml)で希釈した溶液に、攪拌下-25～-40℃で2.67 mol/L n-ブチルリチウム/ヘキサン溶液(48.6ml)に5分間かけて滴下した。さらに、同温度にて20分間攪拌した後に、2-メチル-3-オキソブタン酸エチル(9.36 g)をテトラヒドロフラン(75ml)に希釈した溶液を10分間かけて加え、50分間攪拌を行い、化合物(136)(7.63 g)をテトラヒドロフラン(150ml)に溶解させた溶液を10分間かけて滴下した。同温度にて75分間攪拌した後に、飽和塩化アンモニウム水溶液に移し、酢酸エチルで抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。濾過後、瀘液を減圧下留去し、残渣をカラムクロマトグラフィーに付し、化合物(137) (6.57 g) を得た。
1H-NMR (d6-DNSO) δ: 1.03-1.21(15H, m), 1.69-1.77(3H, m), 3.41-3.70(3H, m), 4.01-4.12(2H, m), 5.23-5.33(1H, m), 7.11-7.23(1H, m), 7.62-7.69(1H, m), 7.87-7.96(1H, m), 11.28-11.37(1H, m).
第二工程
化合物(137) (7.57 g)をエタノール22mlに溶解させた後に、2mol/L 塩酸/エタノール溶液(22 ml)を加え、室温にて30分間攪拌した。水で希釈し、ヘキサン-ジエチルエーテル(1:1)で洗浄後、水層を炭酸カリウムで塩基性にし、クロロホルムで抽出し、その有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。濾過後、瀘液を減圧下留去し、化合物(138)を得た。精製は行わず全量を次の反応に用いた。
第三工程
化合物(138)を塩化メチレン(30 ml)に溶解させ、氷冷下ベンゾイルイソチオシアナート(2.05 ml)を加え、同温度にて30分間攪拌した後に、減圧下溶媒を留去し、化合物(139)を得た。精製は行わず全量を次の反応に用いた。
第四工程
化合物(139)に予め氷冷した濃硫酸(30 ml)を加え、徐々に溶解させ、15度にて40分間攪拌し、さらに、予め氷冷した濃硫酸(10 ml)を加え20度にて20分間攪拌した。反応液を氷水に移し、炭酸カリウムで中和し、酢酸エチルで抽出し、その有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。濾過後、瀘液を減圧下留去し、残渣をカラムクロマトグラフィーに付し、化合物(140) (2.86 g) を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.25(3H, t, J= 7.0 Hz), 1.74(3H, s), 1.93(3H, s), 2.71(1H, d, J= 14.9 Hz), 3.97(1H, d, J= 14.9 Hz), 4.09(2H, q, J= 7.0 Hz), 7.13(1H, dd, J= 11.6, 9.1 Hz), 7.29-7.38(3H, m), 7.48(1H, t, J= 7.1 Hz), 8.00(2H, d, J= 7.1 Hz), 8.10-8.16(1H, m), 9.55-9.68(1H, br), 12.06-12.36(1H, br).
第五工程
化合物(140)(296.6 g)をトルエン(3 ml)に溶解させ、-78度にて1mol/L 水素化ジイソブチルアルミニウム/トルエン溶液(3.31 ml)を5分間かけて滴下し、さらに同温度にて1時間攪拌した後に、氷冷下1時間攪拌した。20w/w%酒石酸ナトリウムカリウム水溶液10ml-酢酸エチル10mlを加え、室温にて30分間攪拌し、酢酸エチルで抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。濾過後、瀘液を減圧下溶媒を留去し、化合物(141)を得た。精製は行わず全量を次の反応に用いた。
第六工程
化合物(141)をエタノール(3.0 ml)に溶解させ、ヒドラジン1水和物(0.268 ml)を加え、室温にて終夜攪拌した。飽和食塩水で希釈した後に、クロロホルムで抽出し、その有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過後、瀘液を減圧下留去し、残渣をカラムクロマトグラフィーに付し、化合物(142) (94.4 mg) を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.60(3H, s), 1.77(3H, s), 2.46(1H, d, J= 13.9 Hz), 3.20(1H, d, J=13.9 Hz), 2.79-3.69(5H, br), 4.00(1H, d, J=12.1 Hz), 4.08(1H, d, J= 12.1 Hz), 6.42-6.50(1H, m), 6.63-6.69(1H, m), 6.79(1H, dd, J= 11.1, 8.6 Hz).
第７工程
化合物(142)(94 mg)をテトラヒドロフラン(2ml)に溶解させ、二炭酸t-ブチル(209 mg)を加え、60度にて2時間攪拌した後、溶媒を減圧下留去し、残渣をカラムクロマトグラフィーに付し、化合物(143) (111 mg) を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.44(3H, s), 1.46-1.50(21H, m), 1.69-1.75(1H, br), 2.55(1H, d, J= 14.2 Hz), 3.51(1H, d, J= 14.2 Hz), 4.00(1H, d, J= 12.6 Hz), 4.08(1H, d, J= 12.6 Hz), 6.94(1H, dd, J= 10.6, 9.6 Hz), 6.98-7.06(1H, m), 7.34-7.41(1H, m), 7.41-7.52(1H, m), 7.77-7.85(1H, m).
第八工程
化合物(143)(110 mg)を塩化メチレン(2 ml)に溶解させ、二酸化マンガン(510 mg)を加え、室温にて2時間攪拌した。反応液をセライト濾過後、瀘液を減圧下留去し、化合物(144)を得た。精製は行わず全量を次の反応に用いた。
第九工程
化合物(144)を塩化メチレン(2 ml)に溶解させた後、氷冷下三フッ化N,N-ジエチルアミノ硫黄(88 ul)を加え、同温にて1時間、50℃にて3時間、65℃にて3時間攪拌した。反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出し、その有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過後、瀘液を減圧下留去し、残渣をカラムクロマトグラフィーに付し、化合物(145) (30.2  mg) を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.51(9H, s), 1.52(3H, s), 1.53(9H, s), 1.74(3H, s), 2.73(1H, d, J= 11.6 Hz), 3.00(1H, d, J= 11.6 Hz), 6.49(1H, t, J= 53.8 Hz), 6.50-6.54(1H, m), 6.91-7.07(3H, m), 7.47-7.62(1H, m).
参考例２０
中間体化合物（１４７）の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000054
化合物(146)(126 mg)を塩化メチレン(1.3 ml)に溶解させ、二酸化マンガン(600 mg)を加え、室温にて終夜攪拌した後に、セライト濾過を行い、瀘液を減圧下溶媒を留去した。得られた残渣を塩化メチレン-酢酸(9:1)(1.3 ml)に溶解させ、ピロリジン(210μl)及び水素化トリアセチルホウ素ナトリウム(109 mg)を加え、室温にて2時間攪拌し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で希釈し、酢酸エチルで抽出し、その有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過後、瀘液を減圧下留去し、残渣をカラムクロマトグラフィーに付し、化合物(147) (65.4 mg) を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.51(9H, s), 1.52(1H, s), 1.53(9H, s), 1.67-1.73(2H, m), 1.77(3H, s), 1.94-2.03(2H, m), 2.12-2.23(2H, m), 2.42-2.56(3H, m), 2.91(1H, d, J= 13.1 Hz), 3.00(1H, d, J= 13.1 Hz), 3.70(1H, d, J= 15.2 Hz), 6.47-6.63(1H, m), 6.69-6.77(1H, m), 6.92-7.08(3H, m), 7.57-7.68(1H, m).
参考例２１
化合物２００の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000055
第一工程
　化合物(148)(100 mg)を2-プロパノール(2 ml)に溶解し4-クロロキナゾリン(52.7 mg)を加えて加熱還流下にて攪拌した。6時間後、4-クロロキナゾリン (24.0 mg)を加えて加熱還流下、2時間攪拌した。室温に放冷後、水を加え、酢酸エチルにより抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥して減圧下溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、化合物(149)(126 mg)を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.83 (3H, s), 2.11-2.18 (1H, m), 2.75-2.82 (1H, m), 2.90-2.92 (1H, m), 2.98-3.02 (1H, m), 7.19 (1H, dd, J = 11.4, 8.9 Hz), 7.40-7.51 (6H, m), 7.60 (1H, s), 7.77 (1H, t, J = 7.9 Hz), 7.88-7.90 (2H, m), 8.11-8.14 (1H, m), 8.24 (2H, d, J = 8.1 Hz), 8.71 (1H, s).
第二工程
　化合物(149)(131 mg)をエタノール(1 ml)に溶解し、ヒドラジン水和物 (0.067 ml)を加え、室温で3日間攪拌した。反応液を減圧下濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、化合物200(57 mg)を得た。
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 1.50 (3H, s), 1.81-1.87 (1H, m), 2.18-2.20 (1H, m), 2.60-2.66 (1H, m), 2.98-3.02 (1H, m), 5.84 (2H, s), 7.16 (1H, dd, J = 11.9, 8.9 Hz), 7.62 (1H, t, J = 7.6 Hz), 7.69-7.73 (1H, m), 7.76-7.80 (2H, m), 7.85 (1H, t, J = 7.6 Hz), 8.54 (2H, t, J = 4.1 Hz), 9.89 (1H, s).
　上記と同様にして以下の化合物を合成した。必要であれば、例えば参考例１の化合物（２１）のようにチアゾール環部分のアミノ基を保護した前駆体で縮合反応を行い、最後に保護基を除去して目的物を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000056
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000057
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000058
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000059
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000060
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000061
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000062
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000063
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000064
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000065
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000066
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000067
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000068
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000069
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000070
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000071
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000072
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000073
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000074
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000075
　本発明化合物の効果を以下の試験例により確認した。
試験例１　βセクレターゼ阻害作用の測定
　96穴ハーフエリアプレート（黒色プレート；コースター社製）の各ウェルに48.5μlの基質ペプチド（ビオチン-XSEVNLDAEFRHDSGC-Eu： X = ε-アミノ-n-カプロン酸、 Eu = ユーロピウムクリプテート）溶液を入れ、0.5μlの被検化合物(N,N'-ジメチルホルムアルデヒド溶液)および1μlの組み替えヒトBACE-1 (R&D systems社製)をそれぞれ添加した後30℃にて3時間反応した。基質ペプチドはビオチン-XSEVNLDAEFRHDSGC（ペプチド研究所製）にクリプテート TBPCOOH mono SMP（CIS bio international社製）を反応させることにより合成した。基質ペプチドの最終濃度は18 nM、組み替えヒトBACE-1の最終濃度は7.4 nMとし、反応バッファーには酢酸ナトリウム緩衝液（50 mM 酢酸ナトリウムpH 5.0、 0.008% Triton X-100）を用いた。反応終了後、リン酸緩衝液(150 mM K2HPO4-KH2PO4 pH 7.0、 0.008 % Triton X-100、 0.8 M KF)に溶解した8.0 μg/ml のストレプトアビジン-XL665 (CIS bio international社製)を各ウェルに50μlずつ添加し、30℃にて１時間静置した。その後、蛍光強度（励起波長 320 nM、測定波長 620 nMおよび665 nM）をワラック1420マルチラベルカウンター（Perkin Elmer life sciences社製）を用いて測定した。酵素活性は各測定波長のカウント率（10000 x Count 665/Count 620)から求め、酵素活性を50%阻害する用量(IC50)を算出した。被検物質のIC50値を表２１に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000076
　以下の化合物も同様の試験により、IC50値が１μM以下を示した。
化合物１、４，５、１２、１３、１４、１５、１７、１８、１９、２５、２６、２７、
２８、２９、３０、３１、３２、３４、３６、３７、４５、４９、５０、５２、５４、
５５、５７、７４、７７、７８、８０、８４、８５、９４、９５、９６、９７、９８、１００、１０３、１０５、１０７および１０８。
試験例２　ラット脳内βアミロイド減少作用
　被験化合物を０．５％メチルセルロースに懸濁させ、最終濃度２ｍｇ／ｍＬとなるように調製し、雄性Ｃｒｊ：ＳＤラット（７～９週齢）に対し、１０ｍｇ／ｋｇとなるように経口投与した。基剤対照群は０．５％メチルセルロースのみを投与し、各群３～８匹で投与試験を実施した。投与３時間後に脳を摘出し、大脳半球を単離し、重量を測定した後、速やかに液体窒素中にて凍結させ、抽出日まで－８０℃にて保存した。凍結した大脳半球を氷冷下テフロン（登録商標）製ホモゲナイザーに移し、重量の５倍容量の抽出バッファー（１％ＣＨＡＰＳ（｛３－〔（３－クロルアミドプロピル）ジメチルアンモニオ〕－１－プロパンスルホネート｝）、２０ｍＭ　Ｔｒｉｓ－ＨＣｌ（ｐＨ８．０）、１５０　ｍＭ　ＮａＣｌ、Ｃｏｍｐｌｅｔｅ（Ｒｏｃｈｅ社製）プロテアーゼ阻害剤含有）を加え、上下動を繰り返し２分間ホモゲナイズし可溶化した。懸濁液を遠心用のチューブに移し、３時間以上氷上にて放置し、その後、１００，０００ｘｇ、４℃、２０分遠心した。遠心後、上清をβアミロイド１－４０測定用のＥＬＩＳＡプレート（免疫生物研究所製、製品番号２７７３０）に移した。ＥＬＩＳＡ測定は添付の説明書に従い行った。減少作用は各試験の基剤対照群の脳内βアミロイド１－４０に対する割合として算出した。
　本発明化合物は上記試験において極めて優れた効果を示し、高い脳内βアミロイド抑制作用を有することが示された。
試験例３　ＣＹＰ３Ａ４蛍光ＭＢＩ試験
　ＣＹＰ３Ａ４蛍光ＭＢＩ試験は、代謝反応による化合物のＣＹＰ３Ａ４阻害の増強を調べる試験であり、酵素に大腸菌発現ＣＹＰ３Ａ４を用いて、７-ベンジルオキシトリフルオロメチルクマリン（ＢＦＣ）がＣＹＰ３Ａ４酵素により脱ベンジル化し、蛍光を発する代謝物７-ハイドロキシトリフルオロメチルクマリン（ＨＦＣ）を生成する反応を指標として行った。
　反応条件は以下のとおり：基質、５.６μｍｏｌ／Ｌ　７－ＢＦＣ；プレ反応時間、０または３０分；反応時間、１５分；反応温度、２５℃（室温）；ＣＹＰ３Ａ４含量（大腸菌発現酵素）、プレ反応時６２．５ｐｍｏｌ／ｍＬ，反応時６．２５ｐｍｏｌ／ｍＬ（１０倍希釈時）；被検薬物濃度、０．６２５、１．２５、２．５、５、１０、２０μｍｏｌ／Ｌ（６点）。９６穴プレートにプレ反応液としてＫ－Ｐｉ緩衝液（ｐＨ７．４）中に酵素、被検薬物溶液を上記のプレ反応の組成で加え、別の９６穴プレートに基質とＫ－Ｐｉ緩衝液で１／１０希釈されるようにその一部を移行し、補酵素であるＮＡＤＰＨを添加して指標とする反応を開始し（プレ反応無）、所定の時間反応後、アセトニトリル／０．５mol/L　Ｔｒｉｓ（トリスヒドロキシアミノメタン）＝４／１を加えることによって反応を停止した。また残りのプレ反応液にもＮＡＤＰＨを添加しプレ反応を開始し（プレ反応有）、所定時間プレ反応後、別のプレートに基質とＫ－Ｐｉ緩衝液で１／１０希釈されるように一部を移行し指標とする反応を開始した。所定の時間反応後、アセトニトリル／０．５ｍｏｌ／Ｌ　Ｔｒｉｓ（トリスヒドロキシアミノメタン）＝４／１を加えることによって反応を停止した。それぞれの指標反応を行ったプレートを蛍光プレートリーダーで代謝物である７－ＨＦＣの蛍光値を測定した。（Ｅｘ＝４２０ｎｍ、Ｅｍ＝５３５ｎｍ）　薬物を溶解した溶媒であるＤＭＳＯのみを反応系に添加したものをコントロール（１００％）とし、被検薬物溶液を加えたそれぞれの濃度での残存活性（％）を算出し、濃度と抑制率を用いて、ロジスティックモデルによる逆推定によりＩＣ５０を算出した。ＩＣ５０値の差が５μＭ以上の場合を（＋）とし、３μＭ以下の場合を（－）とした。
（結果）
化合物　９９：（－）
化合物１０８：（－）
試験例４　ＣＹＰ阻害試験
　市販のプールドヒト肝ミクロソームを用いて、ヒト主要CYP5分子種(CYP1A2、2C9、2C19、2D6、3A4)の典型的基質代謝反応として7-エトキシレゾルフィンのO-脱エチル化(CYP1A2)、トルブタミドのメチル－水酸化(CYP2C9)、メフェニトインの４’－水酸化(CYP2C19)、 デキストロメトルファンのO脱メチル化(CYP2D6)、テルフェナジンの水酸化(CYP3A4)を指標とし、それぞれの代謝物生成量が被検化合物によって阻害される程度を評価した。　反応条件は以下のとおり：基質、0.5 μｍｏｌ／Ｌ　エトキシレゾルフィン(CYP1A2)、100 μｍｏｌ／Ｌ　トルブタミド(CYP2C9)、50 μｍｏｌ／Ｌ　S-メフェニトイン(CYP2C19)、5μｍｏｌ／Ｌ　デキストロメトルファン(CYP2D6)、1 μｍｏｌ／Ｌ　テルフェナジン(CYP3A4)；反応時間、15分；反応温度、37℃；酵素、プールドヒト肝ミクロソーム　0.2mg タンパク質/mL；被検薬物濃度、1、5、10、20 μｍｏｌ／Ｌ(４点)。　96穴プレートに反応溶液として、50mM　Hepes 緩衝液中に各5種の基質、ヒト肝ミクロソーム、被検薬物を上記組成で加え、補酵素であるNADPHを添加して、指標とする代謝反応を開始し、37℃、15分間反応した後、メタノール/アセトニトリル=1/1（v/v）溶液を添加することで反応を停止した。3000rpm、15分間の遠心操作後、遠心上清中のレゾルフィン(CYP1A2代謝物)を蛍光マルチラベルカウンタで、トルブタミド水酸化体 (CYP2C9代謝物)、メフェニトイン４’水酸化体(CYP2C19代謝物)、デキストロルファン(CYP2D6代謝物)、テルフェナジンアルコール体(CYP3A4代謝物)をLC/MS/MSで定量した。　薬物を溶解した溶媒であるDMSOのみを反応系に添加したものをコントロール(100%)とし、被検薬物溶液を加えたそれぞれの濃度での残存活性(%)を算出し、濃度と抑制率を用いて、ロジスティックモデルによる逆推定によりＩＣ５０を算出した。
（結果）
化合物Ｎｏ．３５：５種 ＞２０μＭ
化合物Ｎｏ．６３：５種 ＞２０μＭ
化合物Ｎｏ．６８：５種 ＞２０μＭ
化合物Ｎｏ．１０４：５種 ＞２０μＭ
化合物Ｎｏ．１０６：５種 ＞２０μＭ
試験例５　溶解性試験
　被験化合物の１０ｍＭ　ＤＭＳＯ溶液の２倍希釈系列（１２　ｐｏｉｎｔｓ）を媒体（ＪＰ－Ｉ，ＪＰ－ＩＩ）に添加（２％）し、４時間後の濁度（晶析情報）から、溶解性を３段階評価（Ｈｉｇｈ；＞４０μＭ，Ｍｅｄｉｕｍ；３～４０μＭ，Ｌｏｗ；＜３μＭ）した。
（結果）
化合物Ｎｏ．２：High（JP-I）
化合物Ｎｏ．９：High（JP-I）
化合物Ｎｏ．２３：High（JP-I）
化合物Ｎｏ．３２：High（JP-I）
化合物Ｎｏ．６０：High（JP-I）
化合物Ｎｏ．７０：High（JP-I）
試験例６　代謝安定性試験
　市販のプールドヒト肝ミクロソームを用いて、被験化合物を一定時間反応させ、反応サンプルと未反応サンプルの比較により残存率を算出し、肝で代謝される程度を評価した。　ヒト肝ミクロソーム0.5mg タンパク質/mLを含む0.2 mLの緩衝液（50mｍｏｌ／Ｌ tris-HCl　pH7.4、 150ｍｍｏｌ／Ｌ 塩化カリウム、 10 ｍｍｏｌ／Ｌ 塩化マグネシウム）中で、１ｍｍｏｌ／Ｌ　NADPH存在下で37℃、0分あるいは30分間反応させた（酸化的反応）。反応後、メタノール/アセトニトリル=1/1（v/v）溶液の100μＬに反応液50 μLを添加、混合し、3000rpmで15分間遠心した。その遠心上清中の試験化合物をLC/MS/MSにて定量し、反応後の試験化合物の残存量を0分反応時の化合物量を100%として計算した。
（結果）
化合物Ｎｏ．３８：９５％
化合物Ｎｏ．７０：９４％
化合物Ｎｏ．２１２：９５％
化合物Ｎｏ．２１３：９８％
試験例７　ｈＥＲＧ試験
　心電図QT間隔延長のリスク評価を目的として、human ether-a-go-go related gene (hERG) チャンネルを発現させたHEK293細胞を用いて、心室再分極過程に重要な役割を果たす遅延整流K+電流 (IKr) への作用を検討した。
　全自動パッチクランプシステム (PatchXpress 7000A, Axon Instruments Inc.) を用い、ホールセルパッチクランプ法により、細胞を-80 mVの膜電位に保持した後、+50 mVの脱分極刺激を2秒間、さらに-50 mVの再分極刺激を2秒間与えた際に誘発されるIKrを記録した。発生する電流が安定した後、被検物質を目的の濃度で溶解させた細胞外液 (NaCl: 137 mmol/L、 KCl: 4 mmol/L、 CaCl2・2H2O: 1.8 mmol/L、 MgCl2・6H2O: 1 mmol/L、 グルコース: 10 mmol/L、 HEPES（4-(2-hydroxyethyl)-1-piperazineethanesulfonic acid、４－（２－ヒドロキシエチル）－１－ピペラジンエタンスルホン酸）: 10 mmol/L、 pH = 7.4) を室温条件下で、10分間細胞に適用させた。得られたIKrから、解析ソフト (DataXpress ver. 1、 Molecular Devices Corporation) を使用して、保持膜電位における電流値を基準に最大テール電流の絶対値を計測した。さらに、被検物質適用前の最大テール電流に対する阻害率を算出し、媒体適用群 (0.1 % ジメチルスルホキシド溶液) と比較して、被検物質のIKrへの影響を評価した。
（結果）
化合物９２：７．９％
化合物１０２：２．３％
試験例８　ＦＡＴ試験
　凍結保存しているネズミチフス菌（Salmonella typhimurium TA98株、TA100株）20 μLを10 mL液体栄養培地（2.5% Oxoid nutrient broth No.2）に接種し37℃にて10 時間、振盪前培養する。TA98株は9mLの菌液を遠心（2000×g、10 分間）して培養液を除去し、9mLのMicro F緩衝液(K2HPO4：3.5 g/L、 KH2PO4：1 g/L、 (NH4)2SO4：1g/L、 クエン酸三ナトリウム二水和物：0.25 g/L、 MgSO4・7H20：0.1g/L)に菌を懸濁し、110 mLのExposure培地(ビオチン：8 μg/mL、ヒスチジン：0.2 μg/mL、 グルコース：8 mg/mLを含むMicroF緩衝液)に添加し、TA100株は3.16mL菌液に対しExposure培地120mLに添加し試験菌液を調製する。被験物質DMSO溶液（最高用量50mg/mLから2倍公比で8段階希釈)、陰性対照としてDMSO、陽性対照として非代謝活性化条件ではTA98株に対しては50 μg/mLの4-ニトロキノリン-1-オキシドDMSO溶液、 TA100株に対しては0.25 μg/mLの2-(2-フリル)-3-(5-ニトロ-2-フリル)アクリルアミド DMSO溶液、 代謝活性化条件ではTA98株に対して40μg/mLの2-アミノアントラセンDMSO溶液、 TA100株に対しては20 μg/mLの2-アミノアントラセンDMSO溶液それぞれ12 μL と試験菌液588μL（代謝活性化条件では試験菌液498 μLとS9 mix 90 μLの混合液）を混和し、37℃にて90分間、振盪培養した。被験物質を暴露した菌液460 μLを、Indicator培地(ビオチン：8 μg/mL、ヒスチジン：0.2 μg/mL、グルコース：8 mg/mL、ブロモクレゾールパープル：37.5 μg/mLを含むMicroF緩衝液)2300μLに混和し50 μLずつマイクロプレート48ウェル/用量に分注し、37℃にて 3日間、 静置培養する。アミノ酸(ヒスチジン)合成酵素遺伝子の突然変異によって増殖能を獲得した菌を含むウェルは、pH変化により紫色から黄色に変色するため、1用量あたり48ウェル中の黄色に変色した菌増殖ウェルを計数し、陰性対照群と比較して評価する。
製剤例１
　以下の成分を含有する顆粒剤を製造する。
　成分　　　式（Ｉ）で示される化合物　　　　　　　　　　 　10 mg
　　　　　　乳糖　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　700 mg
　　　　　　コーンスターチ　　　　　　　　　　　　　　　　274 mg
　　　　　　HPC-L　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　16 mg
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　 1000 mg
　式（Ｉ）で示される化合物と乳糖を60メッシュのふるいに通す。コーンスターチを120メッシュのふるいに通す。これらをV型混合機にて混合する。混合末にHPC-L（低粘度ヒドロキシプロピルセルロース）水溶液を添加し、練合、造粒（押し出し造粒 孔径0.5～1mm）、乾燥工程する。得られた乾燥顆粒を振動ふるい（12/60メッシュ）で櫛過し顆粒剤を得る。
製剤例２
　以下の成分を含有するカプセル充填用顆粒剤を製造する。
　成分　　　式（Ｉ）で示される化合物　　　　　　　　　   15 mg
　　　　　　乳糖　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　 90 mg
　　　　　　コーンスターチ　　　　　　　　　　　　　　　 42 mg
　　　　　　HPC-L　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　 3 mg
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　150 mg
　式（Ｉ）で示される化合物、乳糖を60メッシュのふるいに通す。コーンスターチを120メッシュのふるいに通す。これらを混合し、混合末にHPC-L溶液を添加して練合、造粒、乾燥する。得られた乾燥顆粒を整粒後、その150mgを4号硬ゼラチンカプセルに充填する。
製剤例３
　以下の成分を含有する錠剤を製造する。
　成分　　　式（Ｉ）で示される化合物　　　　　　　　　   10 mg
　　　　　　乳糖　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　 90 mg
　　　　　　微結晶セルロース　　　　　　　　　　　　　　 30 mg
　　　　　　CMC-Na　　　　　　　　　　　　　　　　　　   15 mg
　　　　　　ステアリン酸マグネシウム　　　　　　　　　　　5 mg
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　150 mg
　式（Ｉ）で示される化合物、乳糖、微結晶セルロース、CMC-Na（カルボキシメチルセルロース　ナトリウム塩）を60メッシュのふるいに通し、混合する。混合末にステアリン酸マグネシウム混合し、製錠用混合末を得る。本混合末を直打し、150mgの錠剤を得る。
製剤例４
　以下の成分を加温混合後、滅菌して注射剤とする。
　成分　　　式（Ｉ）で示される化合物　　　　　　　　　　 3 mg
　　　　　　非イオン界面活性剤　　　　　　　　　　　　　15 mg
　　　　　　注射用精製水　　　　　　　　　　　　　　　　 1 ml
　本発明化合物は、アミロイドβタンパク質の産生、分泌および／または沈着により誘発される疾患の治療剤として有用な医薬となり得る。

Claims (19)

  1. 　式（Ｉ）：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
    （式中、環Ａは置換基を有していてもよい炭素環式基または置換基を有していてもよい複素環式基であり、
    Ｒ１は置換基を有していてもよい低級アルキル、置換基を有していてもよい低級アルケニル、置換基を有していてもよい低級アルキニル、シアノ、置換基を有していてもよい炭素環式基または置換基を有していてもよい複素環式基であり、
    Ｒ２ａおよびＲ２ｂは各々独立して水素、置換基を有していてもよい低級アルキルまたは置換基を有していてもよいアシルであり、
    Ｒ３ａおよびＲ３ｃは各々独立して水素、ハロゲン、ヒドロキシ、置換基を有していてもよい低級アルキル、置換基を有していてもよい低級アルケニル、置換基を有していてもよい低級アルキニル、置換基を有していてもよいアシル、置換基を有していてもよい低級アルコキシ、置換基を有していてもよいアリール低級アルキル、置換基を有していてもよいヘテロアリール低級アルキル、置換基を有していてもよいアリール低級アルコキシ、置換基を有していてもよいヘテロアリール低級アルコキシ、置換基を有していてもよい低級アルキルチオ、カルボキシ、シアノ、置換基を有していてもよい低級アルコキシカルボニル、置換基を有していてもよいアミノ、置換基を有していてもよいカルバモイル、置換基を有していてもよい炭素環式基または置換基を有していてもよい複素環式基であり、またはＲ３ａおよびＲ３ｃが一緒になって環を形成していてもよい。）
    で示される化合物もしくはその製薬上許容される塩またはそれらの溶媒和物。
  2. 　式（ＩＩ）：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
    （式中、Ｒｘは、置換基を有していてもよい炭素環式基または置換基を有していてもよい複素環式基であり、
    Ｒ３ａおよびＲ３ｂは各々独立して水素、ハロゲン、ヒドロキシ、置換基を有していてもよい低級アルキル、置換基を有していてもよい低級アルケニル、置換基を有していてもよい低級アルキニル、置換基を有していてもよいアシル、置換基を有していてもよい低級アルコキシ、置換基を有していてもよいアリール低級アルキル、置換基を有していてもよいヘテロアリール低級アルキル、置換基を有していてもよいアリール低級アルコキシ、置換基を有していてもよいヘテロアリール低級アルコキシ、置換基を有していてもよい低級アルキルチオ、カルボキシ、シアノ、置換基を有していてもよい低級アルコキシカルボニル、置換基を有していてもよいアミノ、置換基を有していてもよいカルバモイル、置換基を有していてもよい炭素環式基または置換基を有していてもよい複素環式基であり、
    環Ａ、Ｒ２ａおよびＲ２ｂは請求項１と同義である。）
    で示される化合物もしくはその製薬上許容される塩またはそれらの溶媒和物。
  3. 　式（ＩＩＩ）：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
    （式中、Ｒｙは、ハロゲノ低級アルキルであり、
    Ｒ３a、Ｒ３ｂ、Ｒ３ｃおよびＲ３ｄは各々独立して水素、ハロゲン、ヒドロキシ、置換基を有していてもよい低級アルキル、置換基を有していてもよい低級アルケニル、置換基を有していてもよい低級アルキニル、置換基を有していてもよいアシル、置換基を有していてもよい低級アルコキシ、置換基を有していてもよいアリール低級アルキル、置換基を有していてもよいヘテロアリール低級アルキル、置換基を有していてもよいアリール低級アルコキシ、置換基を有していてもよいヘテロアリール低級アルコキシ、置換基を有していてもよい低級アルキルチオ、カルボキシ、シアノ、置換基を有していてもよい低級アルコキシカルボニル、置換基を有していてもよいアミノ、置換基を有していてもよいカルバモイル、置換基を有していてもよい炭素環式基または置換基を有していてもよい複素環式基であり、
    環Ａ、Ｒ２ａ、およびＲ２ｂは請求項１と同義である。）
    で示される化合物もしくはその製薬上許容される塩またはそれらの溶媒和物。
  4. 　式（ＩＶ）：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
    （式中、ＲｚａおよびＲｚｂは、各々独立して水素、ハロゲン、置換基を有していてもよい低級アルキルまたは、ＲｚａおよびＲｚｂが、それらが結合する炭素原子と一緒になって炭素環を形成し、
    環Ａ、Ｒ1、Ｒ２ａ、Ｒ２ｂは請求項１と同義であり、Ｒ３ｃおよびＲ３ｄは請求項３と同義である。）
    で示される化合物もしくはその製薬上許容される塩またはそれらの溶媒和物。
  5. 　Ｒ３ａおよびＲ３ｃが共に水素である、請求項１に記載の化合物もしくはその製薬上許容される塩またはそれらの溶媒和物。
  6. 　Ｒ１が炭素数１～３のアルキルである、請求項１、４または５のいずれかに記載の化合物もしくはその製薬上許容される塩またはそれらの溶媒和物。
  7. 　Ｒｘが、置換基を有していてもよいシクロアルキル、置換基を有していてもよいフェニルまたは置換基を有していてもよい含窒素芳香族複素環式基である、請求項２に記載の化合物もしくはその製薬上許容される塩またはそれらの溶媒和物。
  8. 　Ｒ３ａおよびＲ３ｂが共に水素である、請求項２または７に記載の化合物もしくはその製薬上許容される塩またはそれらの溶媒和物。
  9. 　Ｒ３ａ、Ｒ３ｂ、Ｒ３ｃおよびＲ３ｄが全て水素である、請求項３に記載の化合物もしくはその製薬上許容される塩またはそれらの溶媒和物。
  10. 　Ｒ２ａおよびＲ２ｂが共に水素である、請求項１～９のいずれかに記載の化合物もしくはその製薬上許容される塩またはそれらの溶媒和物。
  11. 　環Ａが
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
    （式中、環Ａ’は炭素環式基または複素環式基であり、
    Ｇが
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
    （式中、Ｒ５は水素、低級アルキルまたはアシルであり、
    Ｒ６は置換基を有していてもよい低級アルキル、置換基を有していてもよい低級アルケニルまたは置換基を有していてもよい低級アルキニルであり、
    Ｗ１はＯまたはＳであり、
    Ｗ２はＯ、ＳまたはＮＲ５であり、
    Ａｋは置換基を有していてもよい低級アルキレン、置換基を有していてもよい低級アルケニレンまたは置換基を有していてもよい低級アルキニレンであり、
    環Ｂは置換基を有していてもよい炭素環式基または置換基を有していてもよい複素環式基である。）であり、
    Ｒ４は各々独立してハロゲン、ヒドロキシ、メルカプト、ハロゲノ低級アルキル、低級アルキル、低級アルコキシ、置換基を有していてもよいアミノまたは低級アルキルチオであり、ｎは０～２の整数である。）
    である、請求項１～１０のいずれかに記載の化合物もしくはその製薬上許容される塩またはそれらの溶媒和物。
  12. 　環Ａ’がフェニルまたは含窒素芳香族複素環式基である、請求項１１記載の化合物もしくはその製薬上許容される塩またはそれらの溶媒和物。
  13. 　環Ａ’が含窒素芳香族複素単環式基である、請求項１１記載の化合物もしくはその製薬上許容される塩またはそれらの溶媒和物。
  14. 　環Ｂが含窒素芳香族複素単環式基である、請求項１１～１３のいずれかに記載の化合物もしくはその製薬上許容される塩またはそれらの溶媒和物。
  15. 　請求項１～１４のいずれかに記載の化合物、もしくはその製薬上許容される塩またはそれらの溶媒和物を有効成分とすることを特徴とする、医薬組成物。
  16. 　請求項１～１４のいずれかに記載の化合物、もしくはその製薬上許容される塩またはそれらの溶媒和物を有効成分とすることを特徴とする、βセクレターゼ阻害活性を有する医薬組成物。
  17. 　請求項１～１４のいずれかに記載の化合物、もしくはその製薬上許容される塩またはそれらの溶媒和物を投与することを特徴とする、βセクレターゼ活性を阻害する方法。
  18. βセクレターゼ活性を阻害するための医薬を製造するための、請求項１～１４のいずれかに記載の化合物もしくはその製薬上許容される塩またはそれらの溶媒和物の使用。
  19. βセクレターゼ活性を阻害するために使用する請求項１～１４のいずれかに記載の化合物もしくはその製薬上許容される塩またはそれらの溶媒和物。
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