TWM537302U - 溼式製程裝置 - Google Patents

Description

溼式製程裝置

本創作關於一種製程裝置，尤其是適用於面板產業和半導體產業之溼式製程裝置。

在面板產業以及半導體產業中，溼式製程發展的已經相當成熟。然而，受限於現有的機構設計，在實際操作中仍存在許多問題。舉例來說，溼式製程需要持續施加不同的液體至一基板，舉例而言，在一容器中可能採用A蝕刻液體對該基板進行蝕刻，在相鄰的另一容器中可能採用純水對該基板進行清洗。一般而言，是讓該基板在多個儲存有不同液體的容器中依序傳遞與移動，然而，為了確保液體不會從一容器帶至另一容器而產生彼此汙染的狀況，必須利用液體移除裝置(俗稱風刀)在基板離開每一個容器時，能夠不帶走該容器中的液體至另一容器中，以避免造成汙染以及產品的瑕疵。

參考第1至2圖，第1圖繪示現有技術的濕式製程裝置10之示意圖。第2繪示現有技術的濕式製程裝置10之剖面側視圖。該濕式製程裝置10包括一第一容器11以及一主液體移除單元15。該第一容器11包括一第一側壁19的一開口12，用於讓一基板14沿著第一軸13從該開口12離開或進入該第一容器10。該主液體移除單元15設置在該第一容器11內部靠近該第一 側壁19與該開口12之區域，並且該主液體移除單元15包括一第一風口16。該第一風口16的方向21是朝左下方(以該第一軸13為準，約為225度，一般而言，該方向21會介於180-270度)，以便將在該基板14上的液體18吹除。然而，該側壁19設有該開口12使得該側壁19較為脆弱，無法用於固定該主液體移除單元15。因此只能夠將該主液體移除單元15通過其他的內壁進行固定作業，進而使該主液體移除單元15無法固定在該側壁11上。因此，通常會在該主液體移除單元15的上方加裝一導板17，該導板17能夠避免該液體18在該主液體移除單元15與該側壁11之間的空隙滴落至該基板14。雖然可以避免該導板17上方的該液體18滴落至該基板14上，但是隨著時間經過，多少仍然會在該導板17以及該側壁11的間隙中累積液體18，進而滴落在該基板14上的技術問題。

綜上所述，基於該側壁11的結構問題，無法將該主液體移除單元15固定在該側壁11上。即使能夠將該主液體移除單元15固定在該側壁11上，仍有可能在該主液體移除單元15與該側壁之間累積該液體18，進而滴落在該基板14上的技術問題。

上述的技術問題產生的原因主要在於：現有技術均是把每一個容器作為一個單位，卻受限於開口處的側壁強度較弱而無法將液體移除單元貼近該側壁設置，因而無法有效解決靠近該側壁的液體累積進而濺灑至相鄰容器的技術問題。

因此，有必要提供一種溼式製程裝置，以解決上述之問題。

有鑑於此，本創作目的在於提供一種溼式製程裝置，藉由將 兩個相鄰容器作為一個單元，因此液體移除單元無法固定在開口處的側壁的技術問題便不復存在。所採用的技術方案為將液體移除單元設置在兩個容器中間的開口處，避免將該液體移除單元固定於該開口的側壁上造成不穩定，又可以完整的緊靠在該側壁上，避免液體移除單元與側壁間產生液體累積，同時在開口處設置兩組噴嘴，使兩個容器內部的液體不會交叉汙染。

為達成上述目的，本創作提供一種濕式製程裝置，其包括一第一容器、一第二容器以及一主液體移除單元。

該第一容器，包括一第一側壁的一第一開口，用於讓一基板沿著第一軸從該第一開口離開或進入該第一容器。該第一容器用於對該基板施加第一液體。該第二容器，包括一第二側壁的一第二開口，該第二開口對應該第一開口設置，該第二開口用於讓該基板相應地沿著該第一軸從該第二開口進入或離開該第二容器。該第二容器用於對該基板施加第二液體。該主液體移除單元設置於該第一容器的該第一側壁至該第一開口，並包括複數個第一噴嘴，設置在該第一液體移除單元位於該第一開口周圍的部份。該些第一噴嘴用於將該第一液體吹往該第一容器內部。

在一較佳實施例中，該第一液體移除單元設置於該基板的上方。

在一較佳實施例中，該些第一噴嘴的方向與該第一軸的第一夾角介於180-270度。

在一較佳實施例中，該第一液體移除單元進一步延伸至該第二開口，並包括複數個第二噴嘴，設置在該第一液體移除單元相對應該第 二開口周圍的部份，該些第二噴嘴用於在將該第二液體吹往該第二容器內部。

在一較佳實施例中，該濕式製程裝置還包括一固定裝置，用於將該第一液體移除單元在該第二容器的部分與該第二容器相固定。

在一較佳實施例中，該些第二噴嘴的方向與該第一軸的第二夾角介於270-360度。

在一較佳實施例中，該濕式製程裝置還包括一第二液體移除單元，設置於該第二容器的一第二側壁至該第二開口，該第一液體移除單元與該第二液體移除單元在該第一開口以及該第二開口處相連接。

在一較佳實施例中，該第二液體移除單元還包括複數個第二噴嘴，設置在該第二液體移除單元相對應該第二開口周圍的部份，該些第二噴嘴用於將該第二液體吹往該第二容器內部。

在一較佳實施例中，該些第二噴嘴的方向與該第一軸的第二夾角介於270-360度。

在一較佳實施例中，該濕式製程裝置還包括一氣體供應源用於藉由該第一液體移除單元提供該些第一噴嘴以及藉由該第二液體移除單元提供該些第二噴嘴潔淨乾燥氣體。

相較於先前技術，本創作藉由將兩個相鄰容器作為一個單元，因此液體移除單元無法固定在開口處的側壁的技術問題便不復存在。所採用的技術方案為將液體移除單元設置在兩個容器中間的開口處，避免將該液體移除單元固定於該開口的側壁上造成不穩定，又可以完整的緊靠在該側壁上，避免液體移除單元與側壁間產生液體累積，同時在開口處設 置兩組噴嘴，使兩個容器內部的液體不會交叉汙染。

10、100、200‧‧‧濕式製程裝置

11、110‧‧‧第一容器

12‧‧‧開口

13、130‧‧‧第一軸

14、140‧‧‧基板

15‧‧‧主液體移除單元

120‧‧‧第一液體移除單元

160‧‧‧第一開口

16、122‧‧‧第一噴嘴

17‧‧‧導板

18‧‧‧液體

19、112‧‧‧第一側壁

124‧‧‧第一夾角

210‧‧‧第二容器

212‧‧‧第二側壁

220‧‧‧第二液體移除單元

222‧‧‧第二噴嘴

224‧‧‧第二夾角

260‧‧‧第二開口

290‧‧‧固定裝置

320‧‧‧氣體供應源

第1圖，繪示現有技術的濕式製程裝置之示意圖；第2圖，繪示現有技術的濕式製程裝置之剖面側視圖；第3圖，繪示本創作的第一較佳實施例的濕式製程裝置之部分剖面示意圖；第4圖，繪示第3圖之剖面側視圖；第5圖，繪示本創作的第一夾角以及第二夾角的示意圖；第6圖，繪示本創作的第二較佳實施例的濕式製程裝置之部分剖面示意圖；以及第7圖，繪示第6圖之剖面側視圖。

以下參照附圖詳細說明的實施例將會使得本創作的優點和特徵以及實現這些優點和特徵的方法更加明確。但是，本創作不局限於以下所公開的實施例，本創作能夠以互不相同的各種方式實施，以下所公開的實施例僅用於使本創作的公開內容更加完整，有助於本創作所屬技術領域的普通技術人員能夠完整地理解本創作之範疇，本創作是根據申請專利範圍而定義。在說明書全文中，相同的附圖標記表示相同的裝置元件。

參考第3-5圖。第3圖，繪示本創作的第一較佳實施例的濕式製程裝置100之部分剖面示意圖。第4圖，繪示第3圖之剖面側視圖。第5圖，繪示本創作的第一夾角124以及第二夾角224的示意圖。

該濕式製程裝置100包括一第一容器110、一第二容器210、一主液體移除單元120、一固定裝置290以及一氣體供應源320。該第一容器110包括一第一側壁112的一第一開口160，用於讓一基板140沿著第一軸130從該第一開口160離開或進入該第一容器110。在後續說明中，假設該基板140是由左而右離開該第一容器110。該第二容器210包括一第二側壁212的一第二開口260，該第二開口260對應該第一開口160設置，該第二開口260用於讓該基板140相應地沿著該第一軸130從該第二開口260進入或離開該第二容器210。該第一容器110用於對該基板140施加第一液體。該第二容器260用於對該基板140施加第二液體。基本上該第一液體以及該第二液體是不同的，舉例而言，該第一液體是蝕刻液而該第二液體是純水，兩種液體的混合均會對製程產生不良的影響。

該主液體移除單元120設置於該第一容器110的該第一側壁112、該第一開口160以及該第二開口260，並包括複數個第一噴嘴122以及複數個第二噴嘴222，各別設置在該第一液體移除單元120位於該第一開口160周圍的部份以及該第一液體移除單元120相對應該第二開口260周圍的部份。該些第一噴嘴122用於將該第一液體吹往該第一容器110內部。該些第二噴222嘴用於在將該第二液體吹往該第二容器210內部。

在本較佳實施例中，該第一液體移除單元是緊靠著該第一側壁112設置於該第一基板140的上方，詳細地，緊靠在該第一開口160以及該第二開口260的上方設置，因此，該些第一噴嘴122的方向與該第一軸130的第一夾角124介於180-270度，因此能夠將該第一液體吹向左側(第一容器的內部)；該些第二噴嘴222的方向與該第一軸130的第二夾角224介於270-360 度，因此能夠將該第二液體吹向右側(第二容器的內部)。

考量該第一側壁112以及該第二側壁222均不適合用於固定該第一液體移除單元120，該第一液體移除單元120在該第一容器110的部分固定在該第一容器110的上方側壁，該第一液體移除單元120在該第二容器210的部分亦是藉由該固定裝置290採用吊掛或其他方式固定在上方的側壁。需要提醒的是，在其他較佳實施例中，亦可採用不同的固定方式或不同的側壁進行該第一液體移除單元120的固定。

該氣體供應源320用於藉由該第一液體移除單元120提供該些第一噴嘴122以及該些第二噴嘴222一潔淨乾燥氣體(clean dry air,CDA)。

參考第6-7圖。第6圖，繪示本創作的第二較佳實施例的濕式製程裝置200之部分剖面示意圖。第7圖，繪示第6圖之剖面側視圖。本較佳實施例與第一較佳實施例的差異在於：該濕式製程裝置200還包括一第二液體移除單元220，設置於該第二容器210的一第二側壁212至該第二開口260，該第一液體移除單元120與該第二液體移除單元220在該第一開口160以及該第二開口260處相連接。

考量該第一側壁112以及該第二側壁222均不適合用於固定該第一液體移除單元120，該第一液體移除單元120在該第一容器110的部分固定在該第一容器110的上方側壁，該第二液體移除單元220在該第二容器210的部分亦是藉由該固定在上方的側壁。需要提醒的是，在其他較佳實施例中，亦可採用不同的固定方式或不同的側壁進行該第一液體移除單元120以及該第二液體移除單元220的固定。至於該第一液體移除單元120以及該第二液體移除單元220之間可以採用螺絲或其他固定方式進行固定，並不以 此為限。

該氣體供應源320用於藉由該第一液體移除單元120提供該些第一噴嘴122以及藉由該第二液體移除單元220提供該些第二噴嘴222一潔淨乾燥氣體。

通過本創作將該些第一噴嘴122以及該些第二噴嘴222分別設置在該第一開口160以及該第二開口260處，即便在該第一液體移除單元120與該第一側壁112以及該第二側壁212之間仍然產生了液體累積，仍舊可以藉由相對位於該第一側壁112以及該第二側壁212外側的該些第一噴嘴122以及該些第二噴嘴222將該第一液體以及該第二液體分別地吹向該第一容器110以及該第二容器210內部，避免液體的交互汙染。

本創作藉由將兩個相鄰容器作為一個單元，因此液體移除單元無法固定在開口處的側壁的技術問題便不復存在。所採用的技術方案為將液體移除單元設置在兩個容器中間的開口處，避免將該液體移除單元固定於該開口的側壁上造成不穩定，又可以完整的緊靠在該側壁上，避免液體移除單元與側壁間產生液體累積，同時在開口處設置兩組噴嘴，使兩個容器內部的液體不會交叉汙染。

雖然本創作已用較佳實施例揭露如上，然其並非用以限定本創作，本創作所屬技術領域中具有通常知識者，在不脫離本創作之精神和範圍內，當可作各種之更動與潤飾，因此本創作之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。

100‧‧‧濕式製程裝置

110‧‧‧第一容器

112‧‧‧第一側壁

120‧‧‧第一液體移除單元

122‧‧‧第一噴嘴

130‧‧‧第一軸

140‧‧‧基板

160‧‧‧第一開口

210‧‧‧第二容器

212‧‧‧第二側壁

222‧‧‧第二噴嘴

260‧‧‧第二開口

290‧‧‧固定裝置

320‧‧‧氣體供應源

Claims (10)

1. 一種濕式製程裝置，包括：一第一容器，包括一第一側壁的一第一開口，用於讓一基板沿著第一軸從該第一開口離開或進入該第一容器，該第一容器用於對該基板施加第一液體；一第二容器，包括一第二側壁的一第二開口，該第二開口對應該第一開口設置，該第二開口用於讓該基板相應地沿著該第一軸從該第二開口進入或離開該第二容器，該第二容器用於對該基板施加第二液體；以及一第一液體移除單元，設置於該第一容器的該第一側壁至該第一開口，並包括複數個第一噴嘴，設置在該第一液體移除單元位於該第一開口周圍的部份；其中該些第一噴嘴用於將該第一液體吹往該第一容器內部。
2. 如申請專利範圍第1項所述之濕式製程裝置，其中該第一液體移除單元設置於該基板的上方。
3. 如申請專利範圍第2項所述之濕式製程裝置，其中該些第一噴嘴的方向與該第一軸的第一夾角介於180-270度。
4. 如申請專利範圍第2項所述之濕式製程裝置，其中該第一液體移除單元進一步延伸至該第二開口，並包括複數個第二噴嘴，設置在該第一液體移除單元相對應該第二開口周圍的部份，該些第二噴嘴用於在將該第二液體吹往該第二容器內部。
5. 如申請專利範圍第2項所述之濕式製程裝置，還包括一固定裝置，用於將該第一液體移除單元在該第二容器的部分與該第二容器相固定。
6. 如申請專利範圍第4項所述之濕式製程裝置，其中該些第二噴嘴的方向與該第一軸的第二夾角介於270-360度。
7. 如申請專利範圍第2項所述之濕式製程裝置，還包括一第二液體移除單元，設置於該第二容器的一第二側壁至該第二開口，該第一液體移除單元與該第二液體移除單元在該第一開口以及該第二開口處相連接。
8. 如申請專利範圍第7項所述之濕式製程裝置，其中該第二液體移除單元還包括複數個第二噴嘴，設置在該第二液體移除單元相對應該第二開口周圍的部份，該些第二噴嘴用於將該第二液體吹往該第二容器內部。
9. 如申請專利範圍第8項所述之濕式製程裝置，其中該些第二噴嘴的方向與該第一軸的第二夾角介於270-360度。
10. 如申請專利範圍第8項所述之濕式製程裝置，還包括一氣體供應源用於藉由該第一液體移除單元提供該些第一噴嘴以及藉由該第二液體移除單元提供該些第二噴嘴潔淨乾燥氣體。