TWM540381U - 溼式製程裝置 - Google Patents
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Description
本創作關於一種製程裝置,尤其是適用於面板產業和半導體產業之溼式製程裝置。
在面板產業以及半導體產業中,溼式製程發展的已經相當成熟。然而,受限於現有的機構設計,在實際操作中仍存在許多問題。舉例來說,溼式製程需要持續施加不同的液體至一基板,舉例而言,在一容器中可能採用A蝕刻液體對該基板進行蝕刻,在相鄰的另一容器中可能採用純水對該基板進行清洗。一般而言,是讓該基板在多個儲存有不同液體的容器中依序傳遞與移動,然而,為了確保液體不會從一容器帶至另一容器而產生彼此汙染的狀況,必須利用液體移除裝置(俗稱風刀)在基板離開每一個容器時,能夠不帶走該容器中的液體至另一容器中,以避免造成汙染以及產品的瑕疵。
參考第1至2圖,第1圖繪示現有技術的濕式製程裝置10之示意圖。第2圖繪示現有技術的濕式製程裝置10之剖面側視圖。該濕式製程裝置10包括一第一容器11以及一主液體移除單元15。該第一容器11包括一第一側壁19的一開口12,用於讓一基板14沿著所述第一容器11的第一軸13從該開口12離開或進入該第一容器10。該主液體移除單元15設置在該第一容
器11內部靠近該第一側壁19與該開口12之區域,並且該主液體移除單元15包括一第一風口16。該第一風口16的方向21是朝左下方(以該第一軸13為準,約為225度,一般而言,該方向21會介於180-270度),以便將在該基板14上的液體18吹除。然而,該側壁19設有該開口12使得該側壁19較為脆弱,無法用於固定該主液體移除單元15。因此只能夠將該主液體移除單元15通過其他的內壁進行固定作業,進而使該主液體移除單元15無法固定在該側壁11上。因此,通常會在該主液體移除單元15的上方加裝一導板17,該導板17能夠避免該液體18在該主液體移除單元15與該側壁11之間的空隙滴落至該基板14。雖然可以避免該導板17上方的該液體18滴落至該基板14上,但是隨著時間經過,多少仍然會在該導板17以及該側壁11的間隙中累積液體18,進而滴落在該基板14上的技術問題。
綜上所述,基於該側壁11的結構問題,無法將該主液體移除單元15固定在該側壁11上。即使能夠將該主液體移除單元15固定在該側壁11上,仍有可能在該主液體移除單元15與該側壁之間累積該液體18,進而滴落在該基板14上的技術問題。
因此,有必要提供一種溼式製程裝置,以解決上述之問題。
有鑑於此,本創作目的在於提供一種溼式製程裝置,通過在一主液體移除單元旁設置一副液體移除單元,並在該副液體移除單元與該主液體移除單元之間形成一第二風口,產生一白努力現象,進而藉由該第二風口帶走靠近一容器側壁的液體,避免液體的累積。
為達成上述目的,本創作提供一種濕式製程裝置,其包括
一第一容器、一主液體移除單元、一氣體提供單元以及一副液體移除單元。
該第一容器,包括一第一側壁的一開口,用於讓一基板沿著所述第一容器的第一軸從該開口離開或進入該第一容器。該主液體移除單元設置在該第一容器內部靠近該第一側壁與該開口之區域,並且該主液體移除單元包括第一風口。該氣體提供單元提供一氣體至該主液體移除單元,以由該第一風口流向該基板。該副液體移除單元鄰接於該主液體移除單元,該副液體移除單元與該主液體移除單元之間形成一第二風口。該副液體移除單元包括連接至該第一側壁的一導板。
該主液體移除單元、該第一側壁、該導板以及該副液體移除單元之間的物質依序經過該導板、該副液體移除單元往該第二風口移動。
在一較佳實施例中,該第二風口的位置較該第一風口遠離該開口。
在一較佳實施例中,該氣體在該第二風口產生的第一氣體壓力小於該主液體移除單元、該第一側壁、該導板以及該副液體移除單元之間的第二氣體壓力。
在一較佳實施例中,該氣體是潔淨乾燥氣體。
在一較佳實施例中,該主液體移除單元以及該副液體移除單元設置於該基板的上方。
在一較佳實施例中,該第一風口的方向與該第一軸的第一夾角介於180-270度。
在一較佳實施例中,該第二風口的方向與該第一軸的第二夾角介於180-270度。
在一較佳實施例中,該第二夾角小於該第一夾角。
相較於先前技術,本創作通過在一主液體移除單元旁設置一副液體移除單元,並在該副液體移除單元與該主液體移除單元之間形成一第二風口,產生一白努力現象,進而藉由該第二風口帶走靠近一容器側壁的液體,避免液體的累積。
10、100‧‧‧濕式製程裝置
11、110‧‧‧第一容器
12、120‧‧‧開口
13、130‧‧‧第一軸
14、140‧‧‧基板
15、150‧‧‧主液體移除單元
16、160‧‧‧第一風口
17、190‧‧‧導板
18、200‧‧‧液體
19、112‧‧‧第一側壁
21‧‧‧方向
161‧‧‧第一夾角
170‧‧‧副液體移除單元
180‧‧‧第二風口
181‧‧‧第二夾角
210‧‧‧氣體提供單元
P1‧‧‧第一氣體壓力
P2‧‧‧第二氣體壓力
第1圖,繪示現有技術的濕式製程裝置之示意圖;第2圖,繪示現有技術的濕式製程裝置之剖面側視圖;第3圖,繪示本創作的濕式製程裝置之示意圖;第4圖,繪示本創作的濕式製程裝置之剖面側視圖;以及第5圖,繪示本創作的第一夾角以及第二夾角的示意圖。
以下參照附圖詳細說明的實施例將會使得本創作的優點和特徵以及實現這些優點和特徵的方法更加明確。但是,本創作不局限於以下所公開的實施例,本創作能夠以互不相同的各種方式實施,以下所公開的實施例僅用於使本創作的公開內容更加完整,有助於本創作所屬技術領域的普通技術人員能夠完整地理解本創作之範疇,本創作是根據申請專利範圍而定義。在說明書全文中,相同的附圖標記表示相同的裝置元件。
參考第3-5圖。第3圖繪示本創作的濕式製程裝置100之示意圖。第4圖繪示本創作的濕式製程裝置100之剖面側視圖。第5圖繪示本創作的第一夾角161以及第二夾角181的示意圖。
該濕式製程裝置100包括一第一容器110、一主液體移除單元150、一氣體提供單元210以及一副液體移除單元170。
該第一容器110包括一第一側壁112的一開口120用於讓一基板140沿著所述第一容器110的第一軸130從該開口120離開或進入該第一容器110。該主液體移除單元150設置第一容器110內部靠近該第一側壁112與該開口120之區域,並且該主液體移除單元150包括第一風口160。該第一風口160的方向與該第一軸130的第一夾角161介於180-270度。該氣體提供單元210提供一氣體至該主液體移除單元150,以由該第一風口160流向該基板140。較佳地,該氣體是乾燥潔淨氣體(clean dry air,CDA)。該副液體移除單元170鄰接於該主液體移除單元150,並且遠離該開口120,該副液體移除單元170與該主液體移除單元150之間形成一第二風口180。該副液體移除單元170連接至該第一側壁112的一導板190。該第二風口180的位置較該第一風口160遠離該開口120。該第二風口180的方向與該第一軸130的第二夾角181介於180-270度。
本創作中藉由利用白努力定律(Bernoulli's principle),該氣體提供單元210提供氣體,將氣體從該第一風口160上的液體200往左吹,會在該第二風口180處產生一個高速的流場。該氣體在該第二風口180產生的第一氣體壓力P1小於該主液體移除單元150、該第一側壁112、該導板190以及該副液體移除單元170之間的第二氣體壓力P2。詳細地,根據白努力定律,在一個水平流體(此處的高低差可忽略不計)中,流速高的地方其壓力就會小,因此該第二風口180處的該第一氣體壓力P1會小於該氣體壓力P2,因此,該主液體移除單元150、該第一側壁112、該導板190以及該副液體移除
單元170之間的空氣就會帶著周圍的液體200被拉往該第二風口180,進而移除靠近該第一側壁112的液體。
較佳地,該第二夾角181小於該第一夾角161。因此該第二風口180能夠進一步輔助該第一風口160將該液體200自該基板140上移除。進一步,該主液體移除單元150以及該副液體移除單元170設置於該基板140移動方向的上方。然而,在其他較佳實施例中,該主液體移除單元150以及該副液體移除單元170設置於該基板140移動方向的下方,以便因應去除在該基板140下方的液體。在本較佳實施例中,該主液體移除單元150以及該副液體移除單元170均設置在該基板140的上方,而該開口120是在右側,該第一夾角161以及該第二夾角181的角度才會如此設計;舉例而言,當該主液體移除單元150以及該副液體移除單元170均設置在該基板140的下方,而該開口120仍是在右側,該第一夾角161以及該第二夾角181的角度就會是介於90-180度。
相較於現有技術,本創作不需提供氣體至該副液體移除單元170,亦即只需要使用相同的空氣量,然而,卻能夠通過產生白努力現象進而額外在該第二風口180處產生拉力,進而能夠將靠近該第一側壁112的該液體200通過該第二風口180被抽走,進而避免其掉落至該基板140靠近該第一側壁112處。
雖然本創作已用較佳實施例揭露如上,然其並非用以限定本創作,本創作所屬技術領域中具有通常知識者,在不脫離本創作之精神和範圍內,當可作各種之更動與潤飾,因此本創作之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。
100‧‧‧濕式製程裝置
110‧‧‧第一容器
112‧‧‧第一側壁
120‧‧‧開口
130‧‧‧第一軸
140‧‧‧基板
150‧‧‧主液體移除單元
160‧‧‧第一風口
170‧‧‧副液體移除單元
180‧‧‧第二風口
190‧‧‧導板
200‧‧‧液體
210‧‧‧氣體提供單元
P1‧‧‧第一氣體壓力
P2‧‧‧第二氣體壓力
Claims (8)
- 一種濕式製程裝置,包括:一第一容器,包括一第一側壁的一開口,用於讓一基板沿著所述第一容器的第一軸從該開口離開或進入該第一容器;一主液體移除單元,設置在該第一容器內部靠近該第一側壁與該開口之區域,並且該主液體移除單元包括第一風口;一氣體提供單元,提供一氣體至該主液體移除單元,以由該第一風口流向該基板;以及一副液體移除單元,鄰接於該主液體移除單元,並且遠離該開口,該副液體移除單元與該主液體移除單元之間形成一第二風口,該副液體移除單元包括連接至該第一側壁的一導板;其中該主液體移除單元、該第一側壁、該導板以及該副液體移除單元之間的物質依序經過該導板、該副液體移除單元往該第二風口移動。
- 如申請專利範圍第1項所述之濕式製程裝置,其中該第二風口的位置較該第一風口遠離該開口。
- 如申請專利範圍第1項所述之濕式製程裝置,其中該氣體在該第二風口產生的第一氣體壓力小於該主液體移除單元、該第一側壁、該導板以及該副液體移除單元之間的第二氣體壓力。
- 如申請專利範圍第1項所述之濕式製程裝置,其中該氣體是潔淨乾燥氣體。
- 如申請專利範圍第1項所述之濕式製程裝置,其中該主液體移除單元以 及該副液體移除單元設置於該基板的上方。
- 如申請專利範圍第1項所述之濕式製程裝置,其中該第一風口的方向與該第一軸的第一夾角介於180-270度。
- 如申請專利範圍第6項所述之濕式製程裝置,其中該第二風口的方向與該第一軸的第二夾角介於180-270度。
- 如申請專利範圍第7項所述之濕式製程裝置,其中該第二夾角小於該第一夾角。
Priority Applications (1)
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TW105216495U TWM540381U (zh) | 2016-10-28 | 2016-10-28 | 溼式製程裝置 |
Publications (1)
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TWM540381U true TWM540381U (zh) | 2017-04-21 |
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ID=59254589
Family Applications (1)
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TW105216495U TWM540381U (zh) | 2016-10-28 | 2016-10-28 | 溼式製程裝置 |
Country Status (1)
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TW (1) | TWM540381U (zh) |
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2016
- 2016-10-28 TW TW105216495U patent/TWM540381U/zh not_active IP Right Cessation
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