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TWI503721B - 觸控電極裝置 - Google Patents

觸控電極裝置 Download PDF

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TWI503721B TW102116452A TW102116452A TWI503721B TW I503721 B TWI503721 B TW I503721B TW 102116452 A TW102116452 A TW 102116452A TW 102116452 A TW102116452 A TW 102116452A TW I503721 B TWI503721 B TW I503721B
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Description

觸控電極裝置
本發明係有關一種觸控電極裝置,特別是關於一種雙層電極裝置。
觸控顯示器係結合感測技術及顯示技術所形成的一種輸入/輸出裝置,普遍使用於電子裝置中,例如可攜式及手持式電子裝置。
電容式觸控面板為一種常用的觸控面板,其利用電容耦合效應以偵測觸碰位置。當手指觸碰電容式觸控面板的表面時,相應位置的電容量會受到改變,因而得以偵測到觸碰位置。
第一圖顯示傳統觸控面板100的剖面圖。如圖所示,第一電極層12設置於基板10的上表面,且第一電極層12藉由第一絕緣層13貼合覆蓋玻璃16。第二電極層14則藉由第二絕緣層15貼合設於基板10的下表面。其中,第一電極層12與第二電極層14可互為實質正交。此外,傳統觸控面板100亦具有一保護薄膜18設置於第二電極層14的下表面。
然而,在上述傳統觸控面板100中的基板10、第一絕緣層13及第二絕緣層15之厚度分別皆至少在100微米(μm)以上,如此將使得觸控面板100之整體厚度增加,進而無法具有輕薄微型化之應用特性。此外,由於傳統觸控面板之製作過程繁複,且製程良率不佳,導致其生產成本甚高。
鑑於傳統觸控面板具有複雜的製程且無法達致輕薄化,因此亟需提出一種新穎的觸控電極裝置,用以改善傳統觸控面板的缺點。
鑑於上述,本發明實施例的目的之一在於提出一種觸控電極裝置,其具有較輕薄的整體厚度,因而可大幅應用於微型化之行動裝置。此外,本實施例亦可藉由簡易製程步驟予以形成雙層觸控電極層,進而提升產品良率,以有效降低製作成本。
根據本發明之一實施例,一種觸控電極裝置包含第一光敏絕緣層、第二光敏絕緣層、第一電極層及第二電極層。第一電極層形成於第一光敏絕緣層之一表面,而第二電極層則形成於第二光敏絕緣層之一表面。其中,第一光敏絕緣層之另一表面貼合於第二光敏絕緣層之另一表面,並且第一電極層及第二電極層皆包含非透明導電材料。
請同時參照第二A圖及第二B圖,第二A顯示本發明實施例之觸控電極裝置200的剖面圖,第二B圖顯示本發明實施例之觸控電極裝置200的製程,其中圖式僅顯示與實施例相關的組成元件。本實施例之觸控電極裝置200主要包含第一光敏絕緣層21a、第二光敏絕緣層21b、第一電極層22及第二電極層24。第一電極層22形成於第一光敏絕緣層21a之一表面,而第二電極層24則形成於第二光敏絕緣層21b之一表面。其中,第一光敏絕緣層21a之另一表面貼合於第二光敏絕緣層21b之另一表面,並且第一電極層22及第二電極層24皆包含非透明導電材料。
更具體地說,如圖所示,當第一電極層22及第二電極層24分別形成於第一光敏絕緣層21a及第二光敏絕緣層21b後,即可透過第一光敏絕緣層21a及第二光敏絕緣層21b分別所具有之表面黏性,進而可直接相互貼合形成光敏絕緣層21,其中第一電極層22及第二電極層24則分別位在光敏絕緣層21的相對表面,因此可簡化製程步驟及製程元件以大幅降低成本。此外,由於第一光敏絕緣層21a與第二光敏絕緣層21b的厚度可分別介於10微米(μm)至30微米(μm)之間,因此經貼合所形成的光敏絕緣層21之厚度將可介於20微米(μm)至60微米(μm)之間,進而有效降低觸控電極裝置200的整體厚度。
再者,上述第一光敏絕緣層21a及第二光敏絕緣層21b的材質可為光敏絕緣材料,如此使其相互貼合形成的光敏絕緣層21,不僅可有效電性隔離第一電極層22及第二電極層24,亦可藉以進行曝光顯影製程。
上述第一電極層22與第二電極層24可為非透明導電材料所形成的透光(light-transmissive)結構。非透明導電材料可為複數奈米金屬線(metal nanowire),例如奈米銀線或奈米銅線;或者複數奈米金屬網(metal nanonet),例如奈米銀網或奈米銅網。奈米金屬線或金屬網的內徑為奈米等級,亦即可介於數奈米至數百奈米之間。奈米金屬線或金屬網可藉由塑膠材料(例如樹脂)予以固定。由於奈米金屬線/網非常細,非人眼可以觀察得到,因此由奈米金屬線/網所構成之第一電極層22與第二電極層24的透光性極佳,且觸控電極裝置200的整體厚度也得以降低。奈米金屬線/網呈平面二維分佈,因此由奈米金屬線/網所構成的第一電極層22與第二電極層24之導電性於平面的各個方向大致相等。
然而,依據本實施例之另一特徵,第一電極層22與第二電極層24亦可包含光敏(photosensitive)材料(例如壓克力),即可藉由曝光顯影製程形成所要的電極形狀(pattern),而有效簡化製程步驟及設備。
另外,觸控電極裝置200可更包含覆蓋玻璃(coverglass)26。第一電極層22、光敏絕緣層21與第二電極層24則依序設於覆蓋玻璃26的下表面,其中雖然第二A圖中之覆蓋玻璃26係顯示具有二維輪廓,然而本發明不以此為限,即其可為二維或三維輪廓,分別應用於二維或三維的觸控顯示。在一實施例中,覆蓋玻璃26包含可撓性材料或硬性材料,並且覆蓋玻璃26之表面材質可經由特殊工藝處理後,以具有抗磨、抗刮、抗反射、防眩光及防指紋等功能特性。
請參照第二C圖,在另一實施例中,觸控電極裝置200可更包含一絕緣層27,其設於覆蓋玻璃26與第一電極層22之間。其中,絕緣層27的材質可為光學膠(OCA)或二氧化矽,也可含光敏材料,藉由曝光顯影製程即可形成所要的形狀。此外,觸控電極裝置200亦可更包含一保護薄膜28,其設於第二電極層24之下表面,用以包覆第二電極層24並提供電性絕緣保護效果。
以上所述僅為本發明之較佳實施例而已,並非用以限定本發明之申請專利範圍;凡其它未脫離發明所揭示之精神下所完成之等效改變或修飾,均應包含在下述之申請專利範圍內。
100...觸控面板
10...基板
12...第一電極層
13...第一絕緣層
14...第二電極層
15...第二絕緣層
16...覆蓋玻璃
18...保護薄膜
200...觸控電極裝置
21...光敏絕緣層
21a...第一光敏絕緣層
21b...第二光敏絕緣層
22...第一電極層
24...第二電極層
26...覆蓋玻璃
27...絕緣層
28...保護薄膜
第一圖顯示傳統觸控面板的剖面圖。第二A圖顯示本發明一實施例之觸控電極裝置的剖面圖。第二B圖顯示第二A圖之觸控電極裝置的的製程。第二C圖顯示本發明另一實施例之觸控電極裝置的剖面圖。
200...觸控電極裝置
21...光敏絕緣層
21a...第一光敏絕緣層
21b...第二光敏絕緣層
22...第一電極層
24...第二電極層
26...覆蓋玻璃

Claims (16)

  1. 一種觸控電極裝置,包含:一第一光敏絕緣層;一第二光敏絕緣層;一第一電極層,形成於該第一光敏絕緣層之一表面;以及一第二電極層,形成於該第二光敏絕緣層之一表面;其中該第一光敏絕緣層之另一表面貼合於該第二光敏絕緣層之另一表面,並且該第一電極層及該第二電極層皆包含非透明導電材料。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之觸控電極裝置,其中該第一光敏絕緣層與該第二光敏絕緣層皆具有表面黏性。
  3. 如申請專利範圍第1項所述之觸控電極裝置,其中該第一光敏絕緣層與該第二光敏絕緣層的厚度分別介於10微米(μm)至30微米(μm)之間。
  4. 如申請專利範圍第1項所述之觸控電極裝置,其中該第一光敏絕緣層與該第二光敏絕緣層皆包含光敏絕緣材料。
  5. 如申請專利範圍第1項所述之觸控電極裝置,其中該第一電極層及該第二電極層包含具有該非透明導電材料所形成的透光(light-transmissive)結構。
  6. 如申請專利範圍第5項所述之觸控電極裝置,其中該非透明導電材料包含複數奈米金屬線(metal nanowire)或複數奈米金屬網(metal nanonet)。
  7. 如申請專利範圍第6項所述之觸控電極裝置,其中該些奈米金屬線或奈米金屬網的內徑介於數奈米至數百奈米之間。
  8. 如申請專利範圍第6項所述之觸控電極裝置,其中該些奈米金屬線或奈米金屬網呈平面分佈。
  9. 如申請專利範圍第6項所述之觸控電極裝置,其中該第一電極層及該第二電極層更包含塑膠材料,以固定該非透明導電材料於該第一電極層及該第二電極層內。
  10. 如申請專利範圍第1項所述之觸控電極裝置,其中該第一電極層及該第二電極層包含光敏(photosensitive)材料。
  11. 如申請專利範圍第1項所述之觸控電極裝置,其中該觸控電極裝置更包含一覆蓋玻璃,且該第一電極層設於該覆蓋玻璃的下表面。
  12. 如申請專利範圍第11項所述之觸控電極裝置,其中該覆蓋玻璃包含可撓性材料或硬性材料。
  13. 如申請專利範圍第11項所述之觸控電極裝置,其中該觸控電極裝置更包含一絕緣層,設於該第一電極層與該覆蓋玻璃之間。
  14. 如申請專利範圍第13項所述之觸控電極裝置,其中該絕緣層包含光學膠(OCA)或二氧化矽。
  15. 如申請專利範圍第13項所述之觸控電極裝置,其中該絕緣層更包含光敏材料。
  16. 如申請專利範圍第13項所述之觸控電極裝置,其中該絕緣層更包含一保護薄膜,設於該第二電極層的下表面。
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