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TW202224922A - 光學膜 - Google Patents

光學膜 Download PDF

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TW202224922A
TW202224922A TW110142584A TW110142584A TW202224922A TW 202224922 A TW202224922 A TW 202224922A TW 110142584 A TW110142584 A TW 110142584A TW 110142584 A TW110142584 A TW 110142584A TW 202224922 A TW202224922 A TW 202224922A
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TW
Taiwan
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layer
refractive index
optical
optical film
film
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Application number
TW110142584A
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Inventor
片桐正義
宮本幸大
石川岳人
Original Assignee
日商日東電工股份有限公司
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Abstract

本發明提供一種適合抑制於透明基材與黏著劑層之界面處形成氣泡之光學膜。 本發明之光學膜F具備：複合膜部100，其依序包含透明基材10及光學功能層20；及黏著劑層101，其與透明基材10之與光學功能層20相反之側相接。透明基材10與黏著劑層101之間之剝離強度X(N/25 mm)、及複合膜部100之透濕度Y(g/m 2・24 h)滿足26.6X＋Y≧502。

Description

光學膜
本發明係關於一種光學膜。
於液晶顯示器等顯示器之視認側之外表面，有時會設置下述透明光學膜，該光學膜具備具有規定之光學功能之層(光學功能層)。作為光學膜，可例舉抗反射膜、透明導電膜、電磁波屏蔽膜等。光學膜例如具備透明基材、位於其一面側之光學功能層及位於透明基材之另一面上之貼合用黏著劑層。此種光學膜之相關技術例如記載於下述專利文獻1。 [先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2011-145443號公報
[發明所欲解決之問題]
關於光學膜，根據製造後之存放環境及使用環境，有時會於透明基材與黏著劑層之界面形成氣泡。例如於紫外線照射量較多之環境下使用之車輛顯示器及室外顯示器中所設置之光學膜中，有時會形成可視認程度之較大之氣泡。光學膜中形成氣泡有時會損害設置有該膜之被黏著體之外觀，故欠佳。設置於顯示器表面之光學膜中形成氣泡有時會影響該顯示器之圖像顯示，故欠佳。
本發明提供一種適合抑制於透明基材與黏著劑層之界面處形成氣泡之光學膜。 [解決問題之技術手段]
本發明[1]包含一種光學膜，其具備：複合膜部，其依序具有透明基材及光學功能層；及黏著劑層，其與上述透明基材中之與上述光學功能層相反之側相接；且上述透明基材與上述黏著劑層之間之剝離強度X(N/25 mm)、及上述複合膜部之透濕度Y(g/m 2・24 h)滿足26.6X＋Y≧502。
本發明[2]包含如上述[1]所記載之光學膜，其中上述光學功能層為抗反射層。
本發明[3]包含如上述[2]所記載之光學膜，其中上述抗反射層交替地包含折射率相對較大之高折射率層、及折射率相對較小之低折射率層。
本發明[4]包含如上述[1]至[3]中任一項所記載之光學膜，其中上述黏著劑層含有丙烯酸系聚合物作為基礎聚合物。
本發明[5]包含如上述[1]至[4]中任一項所記載之光學膜，其中上述透明基材為三乙醯纖維素膜。
本發明[6]包含如上述[1]至[5]中任一項所記載之光學膜，其中上述複合膜部於上述透明基材與上述光學功能層之間進而具備硬塗層。
本發明[7]包含如上述[6]所記載之光學膜，其中上述硬塗層含有金屬氧化物微粒子。
本發明[8]包含如上述[7]所記載之光學膜，其中上述金屬氧化物微粒子為奈米二氧化矽粒子。
本發明[9]包含如上述[6]至[8]中任一項所記載之光學膜，其中上述硬塗層中之上述光學功能層側之表面經電暈處理。 [發明之效果]
本發明之光學膜由於透明基材與黏著劑層之間之剝離強度X(N/25 mm)及複合膜部之透濕度Y(g/m 2・24 h)滿足26.6X＋Y≧502，故適合抑制於透明基材與黏著劑層之界面處形成氣泡。
圖1係作為本發明之光學膜之一實施方式之光學膜F的剖面模式圖。光學膜F沿厚度方向依序具備複合膜部100及黏著劑層101，於本實施方式中光學膜F為抗反射膜。
複合膜部100至少包含透明基材10及光學功能層20。透明基材10具有第1面11及該第1面11之相反側之第2面12。光學功能層20位於透明基材10之第1面11側。黏著劑層101與透明基材10之第2面12(即透明基材10中之與光學功能層20相反之側)相接。
複合膜部100可朝向厚度方向一側依序具備：透明基材10、硬塗層31、密接層32、光學功能層20及防污層33。複合膜部100較佳為包含：透明基材10、硬塗層31、密接層32、光學功能層20及防污層33。
透明基材10例如為具有可撓性之透明樹脂膜。作為該樹脂膜之材料，較佳為使用兼具透明性與強度之熱塑性樹脂。作為此種熱塑性樹脂，例如可例舉：三乙醯纖維素等纖維素樹脂、聚酯樹脂、聚醚碸樹脂、聚碸樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚醯胺樹脂、聚醯亞胺樹脂、聚烯烴樹脂、丙烯酸系樹脂、降艸伯烯樹脂、聚芳酯樹脂、聚苯乙烯樹脂及聚乙烯醇樹脂。該等熱塑性樹脂可單獨使用，亦可併用兩種以上。就確保透明性、強度以及透濕性之觀點而言，透明基材10較佳為纖維素膜，更佳為三乙醯纖維素膜。
樹脂膜中可含有一種或兩種以上之添加劑。作為添加劑，例如可例舉：紫外線吸收劑、抗氧化劑、潤滑劑、塑化劑、脫模劑、防著色劑、阻燃劑、抗靜電劑、顏料及著色劑。
就強度之觀點而言，透明基材10之厚度較佳為5 μm以上，更佳為10 μm以上，進而較佳為20 μm以上。就操作性之觀點而言，透明基材10之厚度較佳為300 μm以下，更佳為200 μm以下。
就透明性之觀點而言，透明基材10之可見光透過率較佳為80%以上，更佳為90%以上。透明基材10之可見光透過率例如為100%以下。
硬塗層31例如係用以提高光學功能層20之硬度等機械特性之要素。硬塗層31位於透明基材10之第1面11(厚度方向一面)上。硬塗層31係硬化性樹脂組合物之硬化物。硬化性樹脂組合物至少含有硬化性樹脂。
作為硬化性樹脂，例如可例舉：聚酯樹脂、丙烯酸系樹脂、聚胺酯樹脂、丙烯酸胺基甲酸酯樹脂、醯胺樹脂、矽酮樹脂、環氧樹脂及三聚氰胺樹脂。該等硬化性樹脂可單獨使用，亦可併用兩種以上。就確保高硬度之觀點而言，較佳為使用丙烯酸胺基甲酸酯樹脂作為硬化性樹脂。
又，作為硬化性樹脂，例如可例舉紫外線硬化型樹脂及熱硬化型樹脂，就能夠不進行高溫加熱而硬化，從而有利於提高光學膜F之生產性之觀點而言，較佳為使用紫外線硬化型樹脂。紫外線硬化型樹脂中包含選自由紫外線硬化型單體、紫外線硬化型低聚物及紫外線硬化型聚合物所組成之群中之至少一種。
硬塗層31較佳為具有防眩性之硬塗層(防眩性硬塗層)。作為防眩性硬塗層之硬塗層31係含有硬化性樹脂(基質樹脂)、及用以表現出防眩性之微粒子(防眩性微粒子)之硬化性樹脂組合物之硬化物。作為防眩性微粒子，例如可例舉金屬氧化物微粒子及有機系微粒子。作為金屬氧化物微粒子之材料，例如可例舉：二氧化矽、氧化鋁、氧化鈦、氧化鋯、氧化鈣、氧化錫、氧化銦、氧化鎘及氧化銻。作為有機系微粒子之材料，可例舉聚甲基丙烯酸甲酯、聚苯乙烯、聚胺基甲酸酯、丙烯酸-苯乙烯共聚物、苯并胍胺、三聚氰胺及聚碳酸酯。該等微粒子可單獨使用，亦可併用兩種以上。就於硬塗層31中表現出良好之防眩性之觀點而言，較佳為使用奈米二氧化矽粒子作為防眩性微粒子。
微粒子之平均粒徑例如為10 μm以下，較佳為8 μm以下，又，例如為1 nm以上。於使用奈米粒子作為微粒子之情形時，該微粒子之平均粒徑例如為100 nm以下，較佳為70 nm以下，又，例如為1 nm以上。微粒子之平均粒徑例如可基於藉由雷射散射法中之粒度分佈測定法所求得之粒度分佈，以D50值(累積50%中值粒徑)之形式求出。
基質樹脂(硬化後)之折射率例如為1.46以上，較佳為1.49以上，更佳為1.50以上，進而較佳為1.51以上。上述基質樹脂(硬化後)之折射率例如為1.60以下，較佳為1.59以下，更佳為1.58以下，進而較佳為1.57以下。
微粒子之折射率可高於基質樹脂之上述折射率，亦可低於基質樹脂之上述折射率。於微粒子之折射率高於基質樹脂之折射率之情形時，微粒子之折射率例如為1.62以下，較佳為1.60以下，更佳為1.59以下，進而較佳為1.50以下。於微粒子之折射率低於基質樹脂之折射率之情形時，微粒子之折射率例如為1.40以上，較佳為1.42以上，更佳為1.44以上。
相對於基質樹脂100質量份，硬塗層31中之微粒子之含量較佳為1質量份以上，更佳為3質量份以上。相對於基質樹脂100質量份，硬塗層31中之微粒子之含量較佳為30質量份以下，更佳為20質量份以下。
就確保硬塗層31之硬度之觀點而言，硬塗層31之厚度較佳為0.5 μm以上，更佳為1μm以上。硬塗層31之厚度例如為10 μm以下。
硬塗層31之密接層32側表面可進行表面改質處理。作為表面改質處理，例如可例舉：電漿處理、電暈處理、臭氧處理、底塗處理、輝光處理及偶合劑處理。就於硬塗層31與密接層32之間確保較高之密接力之觀點而言，硬塗層31之密接層32側表面(即光學功能層20側表面)較佳為經電暈處理。
密接層32係用以於設置有透明基材10或硬塗層31之情形時，確保硬塗層31與光學功能層20之密接力之層。密接層32位於硬塗層31之厚度方向一面上。作為密接層32之材料，例如可例舉：矽、鎳、鉻、鋁、錫、金、銀、鉑、鋅、鈦、鎢、鋯、銦、鈀等金屬、該等金屬之兩種以上之合金、及該等金屬之氧化物。要想兼顧對有機層(具體而言為透明基材10或硬塗層31)及氧化物層(具體而言為第1高折射率層21)兩者之密接性、以及密接層32之透明性，較佳為使用氧化矽(SiOx)或銦錫氧化物(ITO)作為密接層32之材料。於使用氧化矽作為密接層32之材料之情形時，較佳為使用與化學計量組成相比氧含量較少之SiOx，更佳為使用x為1.2以上1.9以下之SiOx。
要想確保透明基材10與光學功能層20之間之密接力，且兼顧密接層32之透明性，密接層32之厚度例如為1 nm以上，又，例如為10 nm以下。
光學功能層20位於密接層32之厚度方向一面上。於本實施方式中，光學功能層20係用以抑制外界光之反射強度之抗反射層，於厚度方向上交替地具有折射率相對較大之高折射率層、及折射率相對較小之低折射率層。抗反射層係利用其中所包含之複數個薄層(高折射率層、低折射率層)中之複數個界面處之反射光間的干涉作用，使淨反射光強度衰減。又，抗反射層藉由調整各薄層之光學膜厚(折射率與厚度之乘積)，可表現出使反射光強度衰減之干涉作用。關於作為此種抗反射層之光學功能層20，於本實施方式中，具體而言朝向厚度方向一側依序具有第1高折射率層21、第1低折射率層22、第2高折射率層23及第2低折射率層24。
第1高折射率層21及第2高折射率層23分別包含波長550 nm下之折射率較佳為1.9以上之高折射率材料。就兼顧高折射率及可見光之低吸收性之觀點而言，作為高折射率材料，例如可例舉氧化鈮(Nb 2O 5)、氧化鈦、氧化鋯、摻錫氧化銦(ITO)及摻銻氧化錫(ATO)，較佳為使用氧化鈮。
第1高折射率層21之光學膜厚(折射率與厚度之乘積)例如為20 nm以上，又，例如55 nm以下。第2高折射率層23之光學膜厚例如為60 nm以上，又，例如為330 nm以下。
第1低折射率層22及第2低折射率層24分別包含波長550 nm下之折射率較佳為1.6以下之低折射率材料。就兼顧低折射率及可見光之低吸收性之觀點而言，作為低折射率材料，例如可例舉二氧化矽(SiO 2)及氟化鎂，較佳為使用二氧化矽。作為第2低折射率層24之材料，就確保第2低折射率層24與防污層33之密接性之觀點而言，亦較佳為使用二氧化矽。
第1低折射率層22之光學膜厚例如為15 nm以上，又，例如為70 nm以下。第2低折射率層24之光學膜厚例如為100 nm以上，又，例如為160 nm以下。
又，於光學功能層20中，第1高折射率層21之厚度例如為1 nm以上，較佳為5 nm以上，又，例如為30 nm以下，較佳為20 nm以下。第1低折射率層22之厚度例如為10 nm以上，較佳為20 nm以上，又，例如為50 nm以下，較佳為30 nm以下。第2高折射率層23之厚度例如為50 nm以上，較佳為80 nm以上，又，例如為200 nm以下，較佳為150 nm以下。第2低折射率層24之厚度例如為60 nm以上，較佳為80 nm以上，又，例如為150 nm以下，較佳為100 nm以下。
防污層33係光學膜F中具有防污功能之層，位於光學功能層20之厚度方向一面上。防污層33之防污功能包含：抑制手部油脂等污染物質附著於光學膜F之露出面(與黏著劑層101相反之側之表面)之功能、及容易去除所附著之污染物質之功能。
作為防污層33之材料，例如可例舉含氟基之有機化合物。作為含氟基之有機化合物，例如可例舉具有全氟聚醚基之烷氧基矽烷化合物。作為具有全氟聚醚基之烷氧基矽烷化合物，例如可例舉下述通式(1)所表示之化合物。
R 1-R 2-O-(CH 2) m-Si(OR 3) 3(1)
於通式(1)中，R 1表示烷基中一個以上之氫原子被取代為氟原子之直鏈狀或支鏈狀之氟化烷基(碳數例如為1以上20以下)，較佳為表示烷基之所有氫原子均被取代為氟原子之全氟烷基。
R 2表示至少包含一個全氟聚醚(PFPE)基之重複結構之結構，較佳為表示包含兩個PFPE基之重複結構之結構。作為PFPE基之重複結構，例如可例舉直鏈狀PFPE基之重複結構及支鏈狀PFPE基之重複結構。作為直鏈狀PFPE基之重複結構，例如可例舉-(OC nF 2n) p-所表示之結構(n表示1以上20以下之整數，p表示1以上50以下之整數；以下同樣如此)。作為支鏈狀PFPE基之重複結構，例如可例舉-(OC(CF 3) 2) p-所表示之結構、及-(OCF 2CF(CF 3)CF 2) p-所表示之結構。作為PFPE基之重複結構，較佳可例舉直鏈狀PFPE基之重複結構，更佳可例舉-(OCF 2) p-及-(OC 2F 4) p-。
R 3表示碳數1以上4以下之烷基，較佳為表示甲基。
m表示1以上之整數。又，m表示較佳為20以下、更佳為10以下、進而較佳為5以下之整數。
此種具有全氟聚醚基之烷氧基矽烷化合物中，較佳為使用下述通式(2)所表示之化合物。
CF 3-(OCF 2) q-(OC 2F 4) r-O-(CH 2) 3-Si(OCH 3) 3(2)
於通式(2)中，q表示1以上50以下之整數，r表示1以上50以下之整數。
作為具有全氟聚醚基之烷氧基矽烷化合物，可使用市售品。作為具有全氟聚醚基之烷氧基矽烷化合物之市售品，例如可例舉OPTOOL UD509(上述通式(2)所表示之化合物，大金工業公司製造)。又，具有全氟聚醚基之烷氧基矽烷化合物可單獨使用，亦可併用兩種以上。
防污層33之厚度較佳為1 nm以上，更佳為2 nm以上，進而較佳為3 nm以上。防污層33之厚度較佳為100 nm以下，更佳為50 nm以下，進而較佳為30 nm以下。
就使防污層33表現出較高之防污功能之觀點而言，防污層33之純水接觸角較佳為100度以上，更佳為102度以上，進而較佳為105度以上。純水接觸角例如為120度以下。純水接觸角係藉由在防污層33之表面形成直徑2 mm以下之水滴，測定該水滴相對於防污層33表面之接觸角而求得。
黏著劑層101係由樹脂組合物形成之層，且具有透光性。黏著劑層101位於透明基材10之厚度方向另一面(第2面12)上。樹脂組合物至少含有使黏著劑層101表現出黏著性之基礎聚合物。作為基礎聚合物，例如可例舉：丙烯酸系聚合物、橡膠系聚合物、矽酮系聚合物、胺基甲酸酯系聚合物、聚酯系聚合物及聚醯胺系聚合物。就同時實現光學膜F之黏著劑層所需之黏著力及較高之透明性之觀點而言，較佳為使用丙烯酸系聚合物作為基礎聚合物。
丙烯酸系聚合物係源自(甲基)丙烯酸烷基酯之單體單元之以質量比計之含量最多之聚合物，例如為藉由使(甲基)丙烯酸烷基酯之含有比率為50質量%以上之單體成分聚合而得到之聚合物。「(甲基)丙烯酸」係指丙烯酸及/或甲基丙烯酸。
作為(甲基)丙烯酸烷基酯，例如可例舉具有直鏈狀或支鏈狀之碳數1～20之烷基的(甲基)丙烯酸烷基酯。作為此種(甲基)丙烯酸烷基酯，例如可例舉：(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸異丙酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸第二丁酯、(甲基)丙烯酸第三丁酯、(甲基)丙烯酸戊酯、(甲基)丙烯酸異戊酯、(甲基)丙烯酸新戊酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸庚酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸辛酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸壬酯、(甲基)丙烯酸異壬酯、(甲基)丙烯酸癸酯、(甲基)丙烯酸異癸酯、(甲基)丙烯酸十一烷基酯、(甲基)丙烯酸十二烷基酯、(甲基)丙烯酸異三(十二烷基)酯、(甲基)丙烯酸十四烷基酯、(甲基)丙烯酸異十四烷基酯、(甲基)丙烯酸十五烷基酯、(甲基)丙烯酸十六烷基酯、(甲基)丙烯酸十七烷基酯、(甲基)丙烯酸十八烷基酯、(甲基)丙烯酸異十八烷基酯、(甲基)丙烯酸十九烷基酯、及(甲基)丙烯酸二十烷基酯。(甲基)丙烯酸烷基酯可單獨使用，亦可併用兩種以上。作為(甲基)丙烯酸烷基酯，較佳為使用具有碳數2～8之烷基之丙烯酸烷基酯，更佳為使用丙烯酸2-乙基己酯。
就使黏著劑層101適當地表現出黏著性等基本特性之觀點而言，單體成分中之(甲基)丙烯酸烷基酯之比率較佳為55質量%以上，更佳為60質量%以上，進而較佳為65質量%以上。又，單體成分中之(甲基)丙烯酸烷基酯之比率較佳為90質量%以下，更佳為85質量%以下，進而較佳為80質量%以下。
單體成分亦可包含能夠與(甲基)丙烯酸烷基酯共聚之一種或兩種以上之含官能基之乙烯基單體。含官能基之乙烯基單體有助於確保丙烯酸系聚合物之凝集力、對丙烯酸系聚合物導入交聯點等丙烯酸系聚合物之改質。單體成分中之含官能基之乙烯基單體之比率例如為5質量%以上，較佳為10質量%以上，更佳為15質量%以上，進而較佳為20質量%以上。單體成分中之含官能基之乙烯基單體之比率較佳為45質量%以下，更佳為40質量%以下，進而較佳為35質量%以下。
作為含官能基之乙烯基單體，例如可例舉：含羥基之乙烯基單體、含氮原子之乙烯基單體、含羧基之乙烯基單體及酸酐式乙烯基單體。含官能基之乙烯基單體可單獨使用，亦可併用兩種以上。
作為含羥基之乙烯基單體，例如可例舉：(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸3-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸4-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸6-羥基己酯、(甲基)丙烯酸8-羥基辛酯、(甲基)丙烯酸10-羥基癸酯、(甲基)丙烯酸12-羥基月桂酯、及(甲基)丙烯酸(4-羥基甲基環己基)甲酯。
作為含氮原子之乙烯基單體，例如可例舉N-乙烯基環狀醯胺。作為N-乙烯基環狀醯胺，例如可例舉：N-乙烯基-2-吡咯啶酮、N-乙烯基-2-哌啶酮、N-乙烯基-3-𠰌啉酮、N-乙烯基-2-己內醯胺、N-乙烯基-1,3-㗁 𠯤-2-酮、及N-乙烯基-3,5-𠰌啉二酮。
作為含羧基之乙烯基單體，例如可例舉：丙烯酸、甲基丙烯酸、(甲基)丙烯酸2-羧基乙酯、(甲基)丙烯酸羧基戊酯、亞甲基丁二酸、順丁烯二酸、反丁烯二酸及丁烯酸。
作為酸酐式乙烯基單體，例如可例舉順丁烯二酸酐、及亞甲基丁二酸酐。
黏著劑組合物可含有多官能(甲基)丙烯酸酯作為共聚性交聯劑。作為多官能(甲基)丙烯酸酯，例如可例舉：1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、(聚)乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、(聚)丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、四羥甲基甲烷三(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸烯丙酯、及(甲基)丙烯酸乙烯酯。該等多官能(甲基)丙烯酸酯可單獨使用，亦可併用兩種以上。於本實施方式中，較佳為使用三羥甲基丙烷三丙烯酸酯。
黏著劑組合物中之多官能(甲基)丙烯酸酯之含量相對於丙烯酸系聚合物100質量份，較佳為0.01質量份以上，更佳為0.02質量份以上，進而較佳為0.03質量份以上。上述含量相對於丙烯酸系聚合物100質量份，較佳為1質量份以下，更佳為0.5質量份以下。
黏著劑組合物較佳為含有矽烷偶合劑。作為矽烷偶合劑，例如可例舉γ-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷、γ-縮水甘油氧基丙基三乙氧基矽烷、γ-胺基丙基三甲氧基矽烷、及N-苯基-胺基丙基三甲氧基矽烷，較佳為使用γ-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷。
黏著劑組合物中之矽烷偶合劑之含量相對於丙烯酸系聚合物100質量份，較佳為0.05質量份以上，更佳為0.1質量份以上，進而較佳為0.2質量份以上。上述含量相對於丙烯酸系聚合物100質量份，較佳為1質量份以下，更佳為0.5質量份以下。與矽烷偶合劑之含量相關之該構成適合使黏著劑層101實現在加濕條件下之較高之接著性、尤其是對玻璃之較高之接著性。
黏著劑組合物較佳為含有光聚合起始劑。光聚合起始劑會促進多官能(甲基)丙烯酸酯之交聯反應。作為光聚合起始劑，例如可例舉光自由基起始劑。作為光自由基起始劑，例如可例舉：1-羥基環己基苯基酮等羥基酮類、苯偶醯二甲基縮酮類、胺基酮類、醯基氧化膦類、二苯甲酮類、及含三氯甲基之三𠯤衍生物。該等光聚合起始劑可單獨使用，亦可併用兩種以上。
黏著劑組合物中之光聚合起始劑之含量相對於丙烯酸系聚合物100質量份，例如為0.01質量份以上，較佳為0.02質量份以上，更佳為0.05質量份以上。上述含量例如為1質量份以下，較佳為0.5質量份以下。
黏著劑層101亦可視需要進而含有黏著賦予樹脂、防老化劑、填充劑、顏料或染料等著色劑、抗氧化劑、鏈轉移劑、塑化劑、軟化劑、界面活性劑及抗靜電劑等添加劑。
就使光學膜F實現對被黏著體之充分之黏著力之觀點而言，黏著劑層101之厚度較佳為5 μm以上，更佳為10 μm以上，更佳為15 μm以上。又，就確保透明性之觀點而言，黏著劑層101之厚度較佳為300 μm以下，更佳為200 μm以下，進而較佳為100 μm以下。
於光學膜F中，透明基材10與黏著劑層101之間之剝離強度X(N/25 mm)、及複合膜部100之透濕度Y(g/m 2・24 h)滿足26.6X＋Y≧502，較佳為滿足26.6X＋Y≧527。此種結構適合對透明基材10與黏著劑層101之界面處之氣泡之形成進行抑制。具體而言，例如，如下述實施例及比較例所示。對光學膜F中之氣泡之形成進行抑制，適合確保設置有光學膜F之被黏著體G(圖1所示)之良好之外觀。具體而言，例如，對設置於液晶顯示器等顯示器之視認側之外表面之光學膜F中之氣泡之形成進行抑制，適合避免或減輕對該顯示器之圖像顯示之影響。
光學膜例如可藉由以下方式而製造：分別製作複合膜部100及黏著劑層101後，將複合膜部100與黏著劑層101進行貼合。
複合膜部100例如可藉由在卷對卷方式中，於透明基材10上依序積層硬塗層31、密接層32、光學功能層20及防污層33而製作。光學功能層20可藉由在密接層32上依序積層第1高折射率層21、第1低折射率層22、第2高折射率層23及第2低折射率層24而形成。
硬塗層31可藉由以下方式而形成：於透明基材10之第1面11塗佈含有硬化性樹脂及視需要而定之防眩性微粒子之硬化性樹脂組合物而形成塗膜後，使該塗膜硬化。於硬化性樹脂組合物含有紫外線硬化型樹脂之情形時，藉由照射紫外線而使上述塗膜硬化。於硬化性樹脂組合物含有熱硬化型樹脂之情形時，藉由加熱而使上述塗膜硬化。
對於形成於透明基材10上之硬塗層31之露出表面，視需要進行表面改質處理。於進行電漿處理作為表面改質處理之情形時，例如使用氬氣作為惰性氣體。又，電漿處理時之放電功率例如為100 W以上，又，例如為500 W以下。
關於密接層32、第1高折射率層21、第1低折射率層22、第2高折射率層23及第2低折射率層24，可藉由利用乾式塗佈法使材料成膜而形成。作為乾式塗佈法，例如可例舉：濺鍍法、真空蒸鍍法及CVD(Chemical Vapor Deposition，化學氣相沈積)，較佳為使用濺鍍法。
於濺鍍法中，一面於真空條件下將氣體導入濺鍍室內，一面對配置於陰極上之靶施加負電壓。藉此，產生輝光放電，使氣體原子離子化，使該氣體離子以高速與靶表面碰撞，從靶表面將靶材料彈出，將所彈出之靶材料堆積於規定面上。於形成金屬氧化物層時，就成膜速度之觀點而言，較佳為反應性濺鍍。於反應性濺鍍中，使用金屬靶作為靶，使用氬氣等惰性氣體與氧氣(反應性氣體)之混合氣體作為上述氣體。藉由調整惰性氣體及氧氣之流量比(sccm)，可調整所成膜之金屬氧化物層中所包含之氧之比率。
作為用以實施濺鍍法之電源，例如可例舉：DC(Direct Current，直流)電源、AC(Alternating Current，交流)電源、RF(Radio Frequency，射頻)電源及MFAC(Model-Free Adaptive Control，無模型自適應控制)電源(頻帶為數十～數百MHz之AC電源)。濺鍍法中之放電電壓例如為100 V以上，又，例如為1000 V以下。又，供實施濺鍍法之濺鍍室內之成膜壓力例如為0.1 Pa以上，又，例如為1 Pa以下。
防污層33可藉由在光學功能層20上成膜出例如含氟基之有機化合物而形成。作為防污層33之形成方法，可例舉濕式塗佈法及乾式塗佈法。作為濕式塗佈法，例如可例舉凹版塗佈法、反向塗佈法及模嘴塗佈法。作為乾式塗佈法，例如可例舉真空蒸鍍法、濺鍍法及CVD，較佳為使用真空蒸鍍法。
黏著劑層101例如可藉由以下方式而形成。首先，將用以形成丙烯酸系聚合物之單體成分、光聚合起始劑、及視需要添加之其他成分進行混合後，藉由使該混合物在氮氣氛圍下暴露於紫外線中而部分地產生光聚合反應。藉此，獲得含有單體成分之部分聚合物之溶液(部分聚合物溶液)。繼而，向該部分聚合物溶液中至少加入多官能(甲基)丙烯酸酯，視需要加入矽烷偶合劑，將其等進行混合而獲得丙烯酸系黏著劑組合物。繼而，於第1剝離襯墊上塗佈丙烯酸系黏著劑組合物而形成塗膜。繼而，利用第2剝離襯墊來被覆第1剝離襯墊上之黏著劑塗膜之露出面。繼而，藉由照射紫外線而使第1及第2剝離襯墊間之黏著劑塗膜硬化。藉此，獲得兩面被覆有剝離襯墊之黏著劑層101。
然後，從所獲得之黏著劑層101將其中一個剝離襯墊剝離後，將因該剝離而露出之黏著劑層101表面與上述複合膜部100之透明基材10之第2面12貼合，藉此可製造光學膜F。
上述光學膜F亦可為抗反射膜以外之其他光學膜。作為其他光學膜，例如可例舉透明導電膜及電磁波屏蔽膜。
於光學膜F為透明導電膜之情形時，該光學膜F之光學功能層20例如沿厚度方向依序具備第1介電薄膜、ITO膜等透明電極膜、及第2介電膜。具有此種積層構成之光學功能層20可兼顧可見光透過性及導電性。
於光學膜F為電磁波屏蔽膜之情形時，該光學膜F之光學功能層20例如沿厚度方向交替地具備具有電磁波反射能力之金屬薄膜及金屬氧化物膜。具有此種積層構成之光學功能層20可兼顧對特定波長之電磁波之屏蔽性及可見光透過性。 [實施例]
以下，藉由實施例對本發明進行具體說明，但本發明不限定於實施例。又，以下所記載之調配量(含量)、物性值及參數等具體數值可代替為上述「實施方式」中所記載之與其等對應之調配量(含量)、物性值及參數等對應記載之上限(定義為「以下」或「未達」之數值)或下限(定義為「以上」或「超過」之數值)。
[實施例1] 首先，將含有奈米二氧化矽粒子之丙烯酸系單體組合物(商品名「NC035」，奈米二氧化矽粒子之平均一次粒徑為40 nm，固形物成分濃度為50%，固形物成分中之奈米二氧化矽粒子之比率為60質量%，荒川化學工業公司製造)67質量份(固形物成分換算)、與紫外線硬化型多官能丙烯酸酯(商品名「Binder A」，固形物成分濃度100%，荒川化學工業公司製造)33質量份進行混合，而獲得混合組合物M。本實施例之混合組合物M中，相對於丙烯酸系樹脂成分(「NC035」中之丙烯酸系單體、及「Binder A」中之多官能丙烯酸酯)、及奈米二氧化矽粒子之合計量100質量份，奈米二氧化矽粒子量為40質量份。繼而，將該混合組合物M 100質量份(以固形物成分換算)、作為防眩性微粒子之聚甲基丙烯酸甲酯粒子(商品名「TECHPOLYMER」，平均粒徑3 μm，折射率1.525，積水化成品工業公司製造)3質量份、作為防眩性微粒子之矽酮粒子(商品名「Tospearl 130」，平均粒徑3 μm，折射率1.42，邁圖高新材料日本有限公司製造)1.5質量份、觸變賦予劑(商品名「Lucentite SAN」，作為有機黏土之合成膨潤石，CO-OP. CHEMICAL CO., LTD.製造)1.5質量份、光聚合起始劑(商品名「OMNIRAD907」，BASF公司製造)3質量份、調平劑(商品名「LE303」，共榮社化學公司製造)0.15質量份及甲苯進行混合，而製備固形物成分濃度45質量%之組合物(清漆)。混合時使用超音波分散機。繼而，於作為透明樹脂膜之三乙醯纖維素(TAC)膜(厚度80 μm)之單面塗佈組合物而形成塗膜。繼而，藉由照射紫外線而使該塗膜硬化後，藉由加熱使其乾燥。於照射紫外線時，使用高壓水銀燈作為光源，使用波長365 nm之紫外線，將累計照射光量設為200 mJ/cm 2。又，將加熱時間設為60℃，將加熱溫度設為60秒。藉此，於TAC膜上形成厚度7 μm之防眩性硬塗(HC)層。
繼而，利用卷對卷方式之電漿處理裝置，於1.0 Pa之真空氛圍下對附有HC層之TAC膜之HC層表面進行電漿處理。於該電漿處理中，使用氬氣作為惰性氣體，將放電功率設為300 W。
繼而，於電漿處理後之附有HC層之TAC膜之HC層上，依序形成密接層及抗反射層(濺鍍成膜步驟)。具體而言，利用卷對卷方式之濺鍍成膜裝置，於電漿處理後之附有HC層之TAC膜之HC層上依序形成：作為密接層之厚度1.5 nm之銦錫氧化物(ITO)層、作為第1高折射率層之厚度12 nm之Nb 2O 5層、作為第1低折射率層之厚度28 nm之SiO 2層、作為第2高折射率層之厚度100 nm之Nb 2O 5層、及作為第2低折射率層之厚度85 nm之SiO 2層。密接層之形成係使用ITO靶，使用作為惰性氣體之氬氣、及相對於氬氣100體積份為10體積份之作為反應性氣體之氧氣，將放電電壓設為400 V，將成膜室內之氣壓(成膜氣壓)設為0.2 Pa，藉由MFAC濺鍍而成膜出ITO層。第1高折射率層之形成係使用Nb靶，使用100體積份之氬氣及5體積份之氧氣，將放電電壓設為415 V，將成膜氣壓設為0.42 Pa，藉由MFAC濺鍍而成膜出Nb 2O 5層。第1低折射率層之形成係使用Si靶，使用100體積份之氬氣及30體積份之氧氣，將放電電壓設為350 V，將成膜氣壓設為0.3 Pa，藉由MFAC濺鍍而成膜出SiO 2層。第2高折射率層之形成係使用Nb靶，使用100體積份之氬氣及13體積份之氧氣，將放電電壓設為460 V，將成膜氣壓設為0.5 Pa，藉由MFAC濺鍍而成膜出Nb 2O 5層。第2低折射率層之形成係使用Si靶，使用100體積份之氬氣及30體積份之氧氣，將放電電壓設為340 V，將成膜氣壓設為0.25 Pa，藉由MFAC濺鍍而成膜出SiO 2層。藉此，於附有HC層之TAC膜之HC層上經由密接層而積層形成抗反射層(第1高折射率層、第1低折射率層、第2高折射率層、第2低折射率層)。
繼而，於所形成之抗反射層上形成防污層。具體而言，將規定之含有烷氧基矽烷化合物之溶液(商品名「OPTOOL UD509」，上述通式(2)所表示之含有全氟聚醚基之烷氧基矽烷化合物，大金工業公司製造)塗佈於抗反射層上而形成塗膜後，使該塗膜於60℃下乾燥而形成厚度8 nm之防污層。
繼而，於上述積層形成有HC層至防污層之TAC膜中，在露出之第2面(與HC層相反之側之表面)形成黏著劑層。具體而言，首先將丙烯酸-2-乙基己酯(2EHA)67質量份、N-乙烯基-2-吡咯啶酮(NVP)15質量份、丙烯酸羥基乙酯(HEA)3質量份、丙烯酸4-羥基丁酯(4HBA)15質量份、第1光聚合起始劑(商品名「Irgacure 184」，BASF公司製造)0.05質量份、及第2光聚合起始劑(商品名為「Irgacure 651」，BASF公司製造)0.05質量份於反應容器內進行混合。繼而，藉由使所獲得之混合物在氮氣氛圍下暴露於紫外線中而使其部分地產生光聚合反應，從而得到含有聚合率約10質量%之部分聚合物之溶液(部分聚合物溶液)。繼而，向該部分聚合物溶液中加入相對於溶液中之部分聚合物100質量份為5質量份之丙烯酸系聚合物P(以下述方式準備)、0.04質量份之三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、及0.3質量份之矽烷偶合劑(商品名「KBM-403」，γ-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷，Shin-Etsu Silicones公司製造)並進行混合，而得到丙烯酸系黏著劑組合物。繼而，於單面經矽酮剝離處理之厚度38 μm之聚酯膜(第1剝離襯墊)之剝離處理面上塗佈丙烯酸系黏著劑組合物而形成塗膜。繼而，利用單面經矽酮剝離處理之厚度38 μm之聚酯膜(第2剝離襯墊)，以第2剝離襯墊之剝離處理面與黏著劑塗膜相接之方式對第1剝離襯墊上之黏著劑塗膜之露出面進行被覆。繼而，利用黑光燈，對第1及第2剝離襯墊間之黏著劑塗膜照射照度5 mW/cm 2之紫外線360秒。藉此，獲得兩面被覆有剝離襯墊之黏著片。繼而，對上述積層形成有密接層至抗反射層之TAC膜之第2面實施電暈處理，且從黏著片將第1剝離襯墊剝離後，利用貼合機將黏著片之單面(因第1剝離襯墊之剝離而露出之面)貼合於上述TAC膜之第2面。
藉此，製作實施例1之光學膜。實施例1之光學膜具備：複合膜部(透明基材、HC層、密接層、抗反射層、防污層)、及與複合膜部之透明基材相接之黏著劑層。
＜丙烯酸系聚合物P之製備＞ 首先，將甲苯100質量份、甲基丙烯酸雙環戊酯(DCPMA)(商品名「FA-513M」，日立化成工業公司製造)60質量份、甲基丙烯酸甲酯(MMA)40質量份、及作為鏈轉移劑之α-硫甘油(TGR)3.5質量份在反應容器內之混合物，於氮氣氛圍下以70℃攪拌1小時。繼而，向該混合物中加入偶氮二異丁腈0.2質量份作為熱聚合起始劑後，於70℃下使其聚合反應2小時，繼而於80℃下使其聚合反應2小時。然後，使反應液於130℃之溫度氛圍下進行乾燥，去除甲苯、鏈轉移劑及未反應單體。藉此，獲得固形狀之丙烯酸系聚合物P。
[實施例2～4] 除了將針對HC層表面之電漿處理時之放電功率自300 W變更為500 W(實施例2)、700 W(實施例3)或1000 W(實施例4)以外，以與實施例1之光學膜相同之方式製作實施例2～4之各光學膜。
[實施例5～9] 於HC層形成過程中之混合組合物M之製備中，以奈米二氧化矽粒子量相對於丙烯酸系樹脂成分及奈米二氧化矽粒子之合計量100質量份成為30質量份之方式，將上述「NC035」與上述「Binder A」進行混合，並且將針對HC層表面之電漿處理時之放電功率設為100 W(實施例5)、300 W(實施例6)、500 W(實施例7)、700 W(實施例8)或1000 W(實施例9)，除此以外，以與實施例1之光學膜相同之方式製作實施例5～9之各光學膜。
[實施例10～14] 將針對HC層表面之電漿處理時之放電功率設為100 W(實施例10)、300 W(實施例11)、500 W(實施例12)、700 W(實施例13)或1000 W(實施例14)，於形成第1低折射率層及第2低折射率層之濺鍍法中將成膜壓力設為0.5 Pa，且未對TAC膜之第2面進行電暈處理，除此以外，以與實施例1之光學膜相同之方式製作實施例10～14之各光學膜。
[比較例1～5] 於形成第1高折射率層及第2高折射率層之各濺鍍法中將成膜壓力設為0.3 Pa，且於形成第1低折射率層及第2低折射率層之濺鍍法中將成膜壓力設為0.2 Pa，除此以外，以與實施例10～14之光學膜相同之方式製作比較例1～5之光學膜。
[比較例6～10] 於形成第1高折射率層及第2高折射率層之各濺鍍法中將成膜壓力設為0.3 Pa，且未對TAC膜之第2面進行電暈處理，除此以外，以與實施例5～9之光學膜相同之方式製作比較例6～10之光學膜。
＜透濕度＞ 對實施例1～14及比較例1～10之各光學膜之複合膜部(未貼合有黏著劑層)之透濕度進行調查。具體而言，依據JIS K 7129：2008，於溫度40℃及相對濕度90%之氛圍中測定複合膜部之透濕度(g/m 2・24 h)。將其結果揭示於表1。
＜剝離強度＞ 對於實施例1～14及比較例1～10之各光學膜，調查透明基材與黏著劑層之間之剝離強度。具體而言，首先，從光學膜之黏著劑層將第2剝離襯墊剝離，於藉此露出之黏著劑層之露出面貼合襯底膠帶(商品名「BT-315」，日東電工股份有限公司製造)。繼而，自該襯底光學膜中切割出試驗片(寬25 mm×長100 mm)。繼而，對於試驗片，利用拉伸試驗機(商品名「Autograph AGS-J」，島津製作所股份有限公司製造)，測定透明基材與黏著劑層之間之黏著力作為剝離強度(N/25 mm)。於本測定中，將測定溫度設為23℃，將相對濕度設為50%，將拉伸角度設為180°，將拉伸速度設為300 mm/分鐘。將測定結果揭示於表1。
＜氣泡評價試驗＞ 對於實施例1～14及比較例1～10之各光學膜，於耐候性試驗後調查透明基材與黏著劑層之界面處有無氣泡。
具體而言，首先，從光學膜之黏著劑層將第2剝離襯墊剝離後，藉由使2 kg之手壓輥往返1次之壓接作業，將光學膜之黏著劑層貼合於厚度5 mm之玻璃板，而製成樣品。繼而，將樣品(附有光學膜之玻璃板)載置於耐候性試驗機(商品名「Eye Super SUV-W161」，岩崎電氣股份有限公司製造)之試驗室內，實施伴有紫外線照射之耐候性試驗。於本試驗中，將溫度設為80℃，將相對濕度設為45%，將紫外線之照射強度設為150 mW/cm 2，將樣品靜置時間設為32.5小時。
並且，對試驗後之樣品觀察透明基材與黏著劑層之界面處有無氣泡。於該觀察中，併用目視觀察與光學顯微鏡觀察。其結果為，於實施例1～4、7～14之光學膜中，不論是藉由目視觀察或是藉由光學顯微鏡觀察，均未確認到氣泡(表1中，觀察結果記為“無”)。於實施例5、6之光學膜中，雖然藉由目視觀察未確認到，但藉由光學顯微鏡觀察確認到最大直徑100 μm以下之氣泡(表1中，觀察結果記為“微小”)。於比較例1～10之光學膜中，藉由目視觀察而確認到氣泡，且該氣泡之最大直徑為數毫米左右(表1中，觀察結果記為“有”)。
又，於由表示剝離強度(N/25 mm)之橫軸及表示透濕度(g/m 2・24 h)之縱軸所規定之二維座標面，將對各光學膜進行測定而獲得之剝離強度之值作為x座標且將透濕度之值作為y座標進行繪圖。將其結果示於圖2。
[評價] 於圖2所示之二維座標面中，比較例1～10之各透光性膜之曲線位於較Y＝-26.6X＋502所表示之直線L1更靠近下方之區域內。即，關於比較例1～10之各透光性膜，其透明基材與黏著劑層之間之剝離強度X(N/25 mm)及複合膜部之透濕度Y(g/m 2・24 h)不滿足26.6X＋Y≧502。
相對於此，於圖2所示之二維座標面中，實施例1～14之各透光性膜之曲線位於Y＝-26.6X＋502所表示之直線L1以上之區域內。即，關於實施例1～14之各透光性膜，其透明基材與黏著劑層之間之剝離強度X(N/25 mm)及複合膜部之透濕度Y(g/m 2・24 h)滿足26.6X＋Y≧502。具有此種結構之實施例1～14之各透光性膜適合抑制於透明基材與黏著劑層之界面處形成氣泡。
又，於圖2所示之二維座標面中，實施例1～4、7～14之各透光性膜之曲線位於Y＝-26.6X＋527所表示之直線L2以上之區域內。即，關於實施例1～4、7～14之各透光性膜，其透明基材與黏著劑層之間之剝離強度X(N/25 mm)及複合膜部之透濕度Y(g/m 2・24 h)滿足26.6X＋Y≧527。具有此種結構之實施例1～4、7～10之各透光性膜尤其適合抑制於透明基材與黏著劑層之界面處形成氣泡。
[表1]
   透明基材之第2面之電暈處理 HC層之奈米二氧化矽粒子量 (質量份) HC層表面之電漿處理之放電功率 (W) Nb 2O 5層之成膜壓力 (Pa) SiO 2層之成膜壓力 (Pa) 透濕度 (g/m 2・24 h) 剝離強度 (N/25 mm) 氣泡
實施例1 有 40 300 0.5 0.2 43 19 無
實施例2 有 40 500 0.5 0.2 116 19 無
實施例3 有 40 700 0.5 0.2 77 19 無
實施例4 有 40 1000 0.5 0.2 121 19 無
實施例5 有 30 100 0.5 0.2 4 19 微小
實施例6 有 30 300 0.5 0.2 13 19 微小
實施例7 有 30 500 0.5 0.2 59 19 無
實施例8 有 30 700 0.5 0.2 129 19 無
實施例9 有 30 1000 0.5 0.2 126 19 無
實施例10 無 40 100 0.5 0.5 165 14 無
實施例11 無 40 300 0.5 0.5 245 14 無
實施例12 無 40 500 0.5 0.5 265 14 無
實施例13 無 40 700 0.5 0.5 277 14 無
實施例14 無 40 1000 0.5 0.5 266 14 無
比較例1 無 40 100 0.3 0.2 3 14 有
比較例2 無 40 300 0.3 0.2 43 14 有
比較例3 無 40 500 0.3 0.2 116 14 有
比較例4 無 40 700 0.3 0.2 77 14 有
比較例5 無 40 1000 0.3 0.2 121 14 有
比較例6 無 30 100 0.3 0.2 4 14 有
比較例7 無 30 300 0.3 0.2 13 14 有
比較例8 無 30 500 0.3 0.2 59 14 有
比較例9 無 30 700 0.3 0.2 129 14 有
比較例10 無 30 1000 0.3 0.2 126 14 有
10:透明基材 11:透明基材10之第1面 12:透明基材10之第2面 20:光學功能層 21:第1高折射率層 22:第1低折射率層 23:第2高折射率層 24:第2低折射率層 31:硬塗層 32:密接層 33:防污層 100:複合膜部 101:黏著劑層 F:光學膜 G:被黏著體
圖1係本發明之光學膜之一實施方式之剖面模式圖。 圖2表示將對實施例1～14及比較例1～10之各光學膜進行測定所得之剝離強度(透明基材與黏著劑層之間之剝離強度)及透濕度(複合膜部之透濕度)設為x座標及y座標之曲線。
10:透明基材
11:透明基材10之第1面
12:透明基材10之第2面
20:光學功能層
21:第1高折射率層
22:第1低折射率層
23:第2高折射率層
24:第2低折射率層
31:硬塗層
32:密接層
33:防污層
100:複合膜部
101:黏著劑層
F:光學膜
G:被黏著體

Claims (9)

  1. 一種光學膜，其特徵在於具備：複合膜部，其依序包含透明基材及光學功能層； 及黏著劑層，其與上述透明基材中之與上述光學功能層相反之側相接；且 上述透明基材與上述黏著劑層之間之剝離強度X(N/25 mm)、及上述複合膜部之透濕度Y(g/m 2・24 h)滿足26.6X＋Y≧502。
  2. 如請求項1之光學膜，其中上述光學功能層為抗反射層。
  3. 如請求項2之光學膜，其中上述抗反射層交替地包含折射率相對較大之高折射率層、及折射率相對較小之低折射率層。
  4. 如請求項1之光學膜，其中上述黏著劑層含有丙烯酸系聚合物作為基礎聚合物。
  5. 如請求項1至4中任一項之光學膜，其中上述透明基材為三乙醯纖維素膜。
  6. 如請求項1之光學膜，其中上述複合膜部於上述透明基材與上述光學功能層之間進而具備硬塗層。
  7. 如請求項6之光學膜，其中上述硬塗層含有金屬氧化物微粒子。
  8. 如請求項7之光學膜，其中上述金屬氧化物微粒子為奈米二氧化矽粒子。
  9. 如請求項6至8中任一項之光學膜，其中上述硬塗層中之上述光學功能層側之表面經電暈處理。
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