201202858 六、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於-種透過光罩來將曝光光線照射在台座 ^所保持之被曝光體而曝光形成特定圖案之曝光裝置，詳 細來說，為-種能夠以高解析度來進行大面積被曝光體的 非周期性圖案曝光之曝光裝置。 【先前技術】 上述的習知曝光裝置係透過光罩來將曝光光線間歇地 肊射在以一定速度搬送之被曝光體，以使光罩的遮罩圖案 曝光在特定位置，其具備有：第丨攝像機構，係配設為能 夠拍攝該光罩的曝光位置，或較該曝光位置要更靠該被曝 光體搬送方向的相反側的位置，而具有排列在該搬送方向 $略直交方向的複數受光元件；第2攝像機構，係配設為 月約拍攝該光罩的曝光位置’或較該曝光位置要更靠該被 曝光體搬送方向的相反側的位置，而具有與該搬送方向略 平行排列的複數受光元件；對位機構，係使該被曝光體及 光罩朝向該搬送方向的略直交方向相對移動，來補正該光 軍的曝光位置；以及控制機構，係當利用該第1攝像機構 來檢測出該被曝光體上所預先設定之曝光位置補正用的第 1基準位置時’會依據其來控制該對位機構的驅動，而當利 用該第2攝像機構來檢測出該被曝光體上所預先設定之曝 光光線照射時間點抽樣用的第2基準位置時’會依據其來 控制該曝光光線的照射時間點（參照例如曰本特開 201202858 2008-76709 號公報）。 然而，上述的習知曝光裝置中，在針對被曝光體(基板） 進行具周期性圖案的曝光時，雖只要將基板一邊以一定速 度往一方向搬送，一邊以特定周期控制曝光光線的照射時 間點便可容易地進行，但非周期性圖案的曝光卻非常困 難。又，由於係使光罩接近對向於基板來進行曝光，因此 會因照射在光罩之光源光線中的視角（平行半角）存在，使得 基板上圖案的像獅、解析度降低，而有紐曝光形成微 細圖案之虞。 針對上述問題’雖可使用利用成像鏡片來使光罩的像 縮小投影在基板上而進行曝光之步進…啊轉光裝置來 =以對應’但壯hnxlm以上的大面積基板進行曝光 日，便會有所使用之鏡片口徑為了要對應於基板大小而 格昂貴之問題。 【發明内容】 種發财#於上關題點，其目的在於提供一 曝度來進行大面積被曝光體的非周期性圖案 二5成上述目的’本發明之曝光裝置係具備有： 鄉成有與姆光在纟座上賴狀被曝光體 ==:=在 =_體，係配 之被曝光體的面呈平行之面内配;;有複保; 4 201202858 4複數單位鏡片群的結構為於該光罩的法線方向上配置 立複數凸鏡片，以便能夠使形成於該光罩之遮罩圖案的等 ^正立像成像在該被曝光體表面；及㈣機構，係使該鏡 、”裴體在與邊光罩及該台座上的被曝光體的 面呈平行之 面内移動。 4鱼藉由上述結構，便能夠藉由移動機構來使鏡片組裝體 、鉍光罩及台座呈平行之面内移動，該鏡片組裝體係配設 於光罩與台座之間而在與光罩及台座上所保持之被曝光體 的面呈平行之面内配列有複數單位鏡片群，其中該複數單 位鏡片群的結構為於光罩的法線方向上配置有複數凸鏡 片以5亥鏡片組裝體來使形成於光罩之遮罩圖案的等倍正 立像成像在纟座上所保狀祕光體表面 ，而將特定圖案 二=在1皮曝光體。藉此，便能夠使可讓形成於光罩之遮罩 圖木的等倍正立像成像在被曝光體表面所形成之鏡片組裝 體邊平行於光罩的面移動一邊曝光’且既便是非周期性 圖案而仍能夠以高解析度來將該遮罩圖案曝光。此時，該 鏡片組襄體的尺寸可較光罩的尺寸要小。於是，便能夠對 …於大面積被曝光體，即使光罩尺寸較大而仍能夠縮小所 使用之鏡片組裝體的尺寸，從而減少零件費用。因此，便 能夠減少裝置的製造成本。 >又’ s亥鏡片組裝體係在其移動方向而以特定間距列設 數鏡片列’並且’向該移動方向觀之，該各鏡片列之 各單位鏡片群的—部分如同重疊般地彼此鄰接之該鏡片列 的其中一鏡片列係往該單位鏡片群的配列方向僅偏移特定 5 201202858 量之型態所設置，該鏡片列係於該移動方向的直交方向而 以特定間距配列有複數該單位鏡片群。藉此，便能夠一邊 移動鏡片組裝體一邊將光罩的遮罩圖案曝光在被曝光體 上；該鏡片組裝體係在其移動方向而以特定間距列設有複 數鏡片列’並且，向該移動方向觀之，各鏡片列之各單位 鏡片群的一部分如同重疊般地彼此鄰接之鏡片列的其中一 鏡片列係往單位鏡片群的配列方向僅偏移特定量之型態所 S史置’其中該鏡片列係於鏡片組裝體移動方向的直交方向 而以特定間距配列有複數單位鏡片群。因此，即使是尺寸 較鏡片尺寸更大的遮罩圖案也能不在中途中斷而連續的接 續曝光。 再者’該鏡片組裝體的結構為使對應於第1、第2、第 3及第4鏡片陣列之各凸鏡片的光軸一致並相重疊，並使該 光罩之遮罩圖案的中間倒立像成像在該第2鏡片陣列與該 第3鏡片陣列之間，其中該第1、第2、第3及第4鏡片陣 列係使得透明基板的表内面彼此對應而形成有複數凸鏡 片。藉此，便能夠藉由鏡片組裝體來使形成於光罩之遮罩 圖案的等倍正立像成像在被曝光體表面，該鏡片組裝體的 結構為使對應於第丨、第2、第3及第4鏡片陣列之各凸鏡 片的光軸一致並相重疊，並使光罩之遮罩圖案的中間倒立 像成像在第2鏡片陣列與第3鏡片陣列之間，其中該第卜 第2、第3及第4鏡片陣列係使得透明基板的表内面彼此對 應而形成有複數凸鏡片。因此，便能夠容易形成在面 列有複數單位鏡之複數則組裝體，並減少鏡片組裝體 6 201202858 的製造成本。 然後，該鏡片組裝體係設置有第i集束構件以將單位 鏡片所形成之曝光區域限制在鏡片的中央部，該第丨集束 構件係接近位於該第3鏡片_的光線行進方向上游側之 凸鏡片表面而具有特定形狀的開口。藉此，便能夠以第i 集束構件來將單位鏡片所形成之曝光區域限制在鏡片的中 央部，該第1集束構件係接近位於鏡片組裝體之第3鏡片 陣列的光線行進方向上游侧之凸鏡片表面而具有特定形狀 的開=。因此，便能夠排除鏡片像差的影響而以高精確度 來使光罩之遮罩圖案的等倍正立像成像在被曝光體表面， 亚提高曝光圖案的形成精確度。 ,又，該第1集束構件之開口的形狀為於俯視觀看為矩 形的開口處，從該鏡片組裝體的移動方向觀之，係將鄰接 之第1集束構件的開口的一部分遮光以使得與該一部分相 ，叠之部分的面積為該重疊部整體面積的一半。藉此，便 成夠以第1集束構件的開口來限制曝光區域而將光罩的遮 罩圖案曝光在被曝光體表面，該第1集束構件之開口的形 狀為於俯視觀看為矩形的開口處’從鏡片組裝體的移動方 向觀之’係將鄰接之第i集束構件的開口的一部分遮光以 使知與該一部分相重疊之部分的面積為重疊部整體面積的 :半。此時，係藉由先後存在於鏡片組裝體的移動方向之 :位鏡片群的重複曝光來進行特定量的曝光。因此，即便 疋為了使曝光圖案連續而重複曝光的情況，仍可防止過度 曝光’並更加提高曝光圖案的形成精確度。 7 201202858 之光線行進;=二 置有接近至該第4鏡片陣列 束構件側的鏡片表面而限制光束徑之第2集 便能夠以第2集束構件來限制光束徑，該 集束構件係接近至第4鏡片陣列之光線 面而設置。因此’便能夠限制光束徑，並更加 杈问鏡片組裝體的單位鏡片群的解析度。 较么f後/ 4 °座可載置该被曝光體並往—方向搬送；該 $構係在停止該台座的移動之狀態下移動該鏡片組裝 體。藉此，便能夠將載置被曝光體並往一方向搬送之台座 暫時停止，並在此停止狀態下，以移動機構來移動鏡二組 裴體而將光罩的遮罩圖案曝光在被曝光體上。因此，便能 夠一邊連續地供應被曝光體一邊進行曝光，從而可提高曝 光處理的效率。 又，於該台座上方處，在相對於該光罩而與該被曝光 體之搬送方向的相反側處更進一步地具備有其他光罩，而 以特定時間間隔來將光源光線間歇地照射在該其他光罩， 並將其他遮罩圖案以特定周期曝光在以一定速度搬送中的 該被曝光體’其中該其他光罩係於透明基板的一面所形成 之遮光膜處形成有在該被曝光體之搬送方向的直交方向上 而以特定間隔至少排列為1列之複數個該其他遮罩圖案。 藉此，於台座上方處’在相對於光罩而與被曝光體之搬送 方向的相反側處係具備有其他光罩’便能夠以特定時間間 隔來將光源光線間歇地照射在其他光罩’並將其他遮罩圖 案以特定周期曝光在以一定速度搬送中的該被曝光體，其 8 201202858 中該其他光罩係於透明基板的一面所形成之遮光膜處形成 有在被曝光體之搬送方向的直交方向上而以特定間隔至少 排列為1列之複數個該其他遮罩圖案。因此，便能夠以同 一曝光步驟來形成不具周期性之曝光圖案與具周期性之曝 光圖案。 再者’該其他光罩係在透明基板之該被曝光體側的相 反側的面所形成之遮光膜處，而於該被曝光體的搬送方向 先後形成有要求解析度相異的2種遮罩圖案所構成之二個 遮罩圖案群；該被曝光體側的面形成有微鏡片，該微鏡片 係對應於該要求解析度相異的2種遮罩圖案當中之要求解 析度高的遮罩圖案’而將該遮罩圖案縮小投影在該被曝光 體上。藉此’便能夠將在透明基板之被曝光體侧的相反側 的面所形成之遮光膜處’於被曝光體的搬送方向先後形成 之要求解析度相異的2種遮罩圖案所構成之二個遮罩圖案 群當中要求解析度高的遮罩圖案群的複數遮罩圖案，藉由 對應於要求解析度高的遮罩圖案而形成於該透明基板的被 曝光體侧之複數微鏡片來縮小投影在被曝光體上。因此， 即便是在被曝光體上混合形成要求解析度相異的2種曝光 圖案的狀態之情況，仍能夠在同一曝光步驟下同時形成， 义而可南曝光處理效率。 又再者’該要求解析度高的遮罩圖案所構成之遮罩圖 案群係具有複數遮罩圖案列，並於該複數遮罩圖案的該排 列方向上，分別錯開特定尺寸而形成有後續的遮罩圖案 列，以便忐夠藉由該後續遮罩圖案列所形成的複數曝光圖 201202858 案來填補位於該被曝光體的搬送方向前側之遮罩圖案列所 形成的複數曝光圖案之間；其中該複數遮罩圖案列係於該 被曝光體之搬送方向的略直交方向而以特定間距一直線狀 地排列形成有該複數遮罩圖案。藉此，藉由要求解析度高 的遮罩圖案所構成之遮罩圖案群，便能夠以後續遮罩圖案 列所形成的複數曝光圖案來填補位於被曝光體的搬送方向 别側之遮罩圖案列所形成的複數曝光圖案之間；其中該要 求解析度高的遮罩圖案所構成之遮罩圖案群係具有於被曝 光體之搬送方向的略直交方向而以特定間距排列形成有複 數遮罩圖案之複數遮罩圖案列，並於複數遮罩圖案的排列 2向上，分別錯開特定尺寸而於位在被曝光體的搬送方向 =側，遮罩圖案列形成有後續的遮罩圖案列。因此，即便 是因微鏡片的存在而無法縮小遮罩圖案列之複數遮罩圖案 ，配列間距的情況’仍可藉由後續遮罩圖案列所形成之複 =曝光圖案來填補位於被曝光體的搬送方向前側之遮罩圖 ^戶^成的複數曝光圖案之間，且亦可稠密地形成要求 解析度局的曝光圖案。 敎被曝光體係顯示裝置之薄膜電日日日體用基板； S特定周期來將該要求解析度相異的2種遮 求:C專膜電晶體用基板中失的顯示區域，該要 圖案為ί膜i的2種遮罩圖案當中，要求解析度高的遮罩 低的遮之電極配線用遮罩圖案，而要求解析度 描後用訊號到該薄膜電晶體之訊號線及掃 描線用鮮_;該光罩躲該_ 201202858 示區域的外侧區域設置有連接於該訊號線或掃描線之端子 用遮罩圖案。藉以利用其他光罩而以特定周期來使要求解 析度高之薄膜電晶體的電極配線的曝光圖案與要求解析度 低之訊號線及掃描線的曝光圖案形成於薄膜電晶體用基板 中央的顯不區域’並利用光罩而於薄膜電晶體用基板的顯 示區域的外側區域處形成有與訊號線或掃描線的曝光圖案 相連接之端子的曝光圖案。因此’便能夠於顯示裝置之薄 膜電晶體用基板中央的顯示區域處而以特定周期形成有要 求高解析度之薄膜電晶體的電極配線用曝光圖案及解析度 較低亦可之訊號線及掃描線用曝光圖案，並以同一曝光步 驟而於該顯示區域的外侧區域處形成有與該訊號線或掃4苗 線用曝光圖案相連接之不具周期性的端子用曝光圖案。目 而能夠有效率地形成薄膜電晶體用基板的配線圖案。 【實施方式】 以下，根據添附圖式來詳細說明本發明實施形態。圖i 係顯示本發明曝光裝置的實施形態之前視圖，圖2為圖j 之俯視圖。該曝光裝置能夠以高解析度來進行大面積被曝 光體中的非周期性圖案曝光，係具備有搬送機構1、第/ 曝光光學單元2與第2曝光光學單元3。此外，以下的說明 乃針對以顯示裝置的薄膜電晶體（以下稱為「TFT」）用基板 來作為被曝光體之情況加以敘述。 圖3為本發明所使用之TFT用基板4的俯視圖，係藉 由別的曝光裝置而於顯示區域5内以特定周期縱橫地交又 11 201202858 形成有複數訊號線及掃描線的曝光圖案。又，於同圖中之 顯示區域5外侧以虛線圍繞所顯示之區域6為形成有訊號 侧端子之區域，該訊號側端子係將複數訊號線與設置於外 部之訊號側驅動電路加以連接，而區域7則為形成有掃描 侧端子之區域’該掃描側端子係將複數掃描線與設置於外 部之掃描側驅動電路加以連接。 該搬送機構1係將塗佈有感光性樹脂之TFT用基板4 載置在台座8上方面並往一方向（圖1所示之箭頭a方向） 搬送，例如係藉由將馬達與齒輪等加以組合所構成之移動 機構來移動台座8°抑或’亦可於台座8表面具備有氣體的 噴出口及吸引口，並使氣體的喷出力及吸引力平衡而在使 得TFT用基板4在台座8上僅浮起特定量之狀態下來加以 搬送。然後，搬送機構1係設置有用以檢測台座8的移動 距離之位置感測器（圖中未顯示）。 該搬送機構1的上方設置有第1曝光光學單元該第 1曝光光學單元2係用以使訊號側端子的圖案曝光在TFT 用基板4的訊號側端子形成區域6,其結構為具備有光源裝 置9、訊號端子用光罩10、訊號端子用鏡片組裝體u及移 動機構12。 此處，該光源裝置9係用以使具有均勻輝度分布之光 源光線的平行光照射在後述訊號端子用光罩1〇，其於構為 具備有例如超高壓水紐錢氣燈等所構成的光源；；使從 該光源所放射之光源光線的輝度分布岣勻化之例如八 儀、以及使輝度分布經均勻化後的·光線成為平行^ 12 201202858 聚光逯鏡。 X <该光源裝置9所放射之光源光線下游側處係設 置有訊号卢姓工 示，/ A、于用光罩10。該訊號端子用光罩10如圖4所 透明基板表面形成有與訊號側端子相同形狀之訊 &端子用遮罩81案13,並將形成有訊號端子用遮罩圖案13 1面朝向下側而保持在遮罩台座（圖中未顯示）。此外，訊號 端子用光罩1〇雖依所使用之感光性樹脂的種類而分類為正 型(positive)與負（negative)型，但此處係針對正型的情況加 以說明。因此’訊號端子用遮罩圖案13係由不透明膜所形 成’以使光線穿透訊號端子用遮罩圖案13的外侧區域。 該訊號端子用光罩1〇與搬送機構1的台座8之間設置 有訊號端子用鏡片組裝體U。該訊號端子用鏡片組裝體U 係用以使訊號端子用光罩1〇所形成之訊號端子用遮罩圖案 13的等倍正立像成像在TFT用基板4表面，而於訊號端子 用光罩10的法線方向上，如圖5(b)所示般地將複數凸鏡片 (微鏡片）14a〜14h所構成之單位鏡片群15複數地配列在與 訊號端子用光罩10及台座8的面呈平行之面内，而藉由後 述移動機構12於與訊號端子用光罩10及台座8呈平行之 面内朝圖1箭頭A所示之基板搬送方向的相反方向（圖1之 箭頭B方向）移動。 該訊號端子用鏡片組裝體11的具體構成例如圖5(a)所 示，係於箭頭B所示之移動方向而以間距p2(例如150 μ m 的間距)設置有3列鏡片列16’並且，從該移動方向（箭頭b 方向）觀之’各鏡片列16之各單位鏡片群15的一部分如同 13 201202858 重疊般地彼此鄰接之鏡片列16的其中一鏡片列16係往單 位鏡片群15的配列方向僅偏移複數單位鏡片群15的配列 間距P〗的l/n(n為2以上的整數，圖5中係顯示n=3)之型 態所設置，其中該鏡片列16係於訊號端子用鏡片組裝體n 移動方向（同圖所示之箭頭B方向）的直交方向而以間距 P!(例如15〇em的間距）配列有複數單位鏡片群15。 又，如圖5(b)所示，該訊號端子用鏡片組裝體丨丨的結 構為使對應於第1、第2、第3及第4鏡片陣列18a〜18d之 各凸鏡片14的光軸一致之狀態下來加以重疊接合，並使訊 號端子用光罩10之訊號端子用遮罩圖案13的中間倒立像 成像在第2鏡片陣列i8b與第3鏡片陣列18c之間，其中 該第1、第2、第3及第4鏡片陣列18a〜18d係使得透明基 板17的表内面彼此對應而形成有複數凸鏡片η。此時，使 光軸彼此一致而排列之8個凸鏡片14a〜14h便構成了單位 鏡片群15。 此處’針對單位鏡片群15之各凸鏡片14的功能加以 說明。首先’第1鏡片陣列18a的前側凸鏡片i4a為一種 場鏡(field lens)，其功能在於使入射光的主光線聚集在第J 鏡片陣列18a之後侧凸鏡片14b的面上，以增加穿透訊號 端子用光罩10之曝光光線進入至單位鏡片群15内的量。 又’第1鏡片陣列18a的後側凸鏡片i4b與第2鏡片陣列 18b的前侧凸鏡片14c為一種成像鏡片，其功能在於會一起 作用來使訊號端子用光罩10之訊號端子用遮罩圖案13的 像成像在第2鏡片陣列18b與第3鏡片陣列18C之間，以 201202858 產生訊號端子用遮罩圖案13的中間倒立像。再者，第2鏡 片陣列18b的後側凸鏡片14d為一種場鏡，其功能在於使 入射光的主光線平行於光軸。又，第3鏡片陣列18C的前 側凸鏡片14e為一種場鏡，其目的在於使入射光的主光線 聚集在第3鏡片陣列18c之後側凸鏡片的面上。再者， 第3鏡片陣列18c的後側凸鏡片14f與第4鏡片陣列I8d 的前側凸鏡片14g為一種成像鏡片，其功能在於會一起作 用來使訊號端子用遮罩圖案13的中間倒立像成像在TFT用 基板4面上，以產生訊號端子用遮罩圖案13的正立像。然 後’第4鏡片陣列I8d的後側凸鏡片Hh為一種場鏡，其 目的在於使入射光的主光線平行於光軸。藉此，便能夠藉 由單位鏡片群15來使訊號端子用光罩1〇之訊號端子用遮 罩圖案13的等倍正立像成像在tft用基板4表面。 又，該訊號端子用鏡片組装體u如圖5(b)所示，係設 置有第1集束構件19以將單位鏡片15所形成之曝光區域 限制在鏡片的中央部，該第1集束構件19係接近第3鏡片 陣列18c之前侧凸鏡片I4e的表面而具有特定形狀的開口 20。藉此，便能夠排除鏡片像差的影響，而以高解析度來 將訊號端子用光罩10的訊號端子用遮罩圖案13曝光。 此時，第1集束構件19之開口 20的形狀如圖6所示， 於具有四個角部21a、21b、21C、21d之俯視觀看為矩形的 開口處，從§礼號端子用鏡片、组裝體U的移動方向（箭頭B 方向)觀之，係將鄰接之第1集束構件19的開口 20的一部 分遮光以使得與該一部分相重疊之部分（以下稱為「重疊部 15 201202858 22」）的面積為重疊部2〇整體面積的一半。 t ® 5 ^ 19 π 20 f * 片列16的中心線上具有角部之六角形。藉此，=糸於鏡 集束構件19之開口 20的該重疊部22之部面^於第1 為重疊部22整體面積的 面積便會成 二平均曝光量便會成為特定W:一半仏 ，似區域係藉由先後存在於訊t虎端t 曝光來進行特=:===-22之區域過度曝光之虞。 不會有對應於重疊部 此處’蒼照圖7 ’針對訊號端子用鏡片 動中，對應於該重聶邻27 β Ρ H 、裝體11的移 明。 X重Μ 22之區域的被曝光樣態更加詳細說 移動係—先後存在於_端子用糾岐體11的 =:Γ方向)之單位鏡片群15的俯視圖。又： 說明圖 (咐對應於重疊部22外之點〇的曝光之 被；^ ^時，點0係藉由第1集束構件19的開口 20而 〇便1::、;從“開:曝光’而“結束曝光。藉此，點 進行期間内曝露在特定光量的先線中，而 另一方面，圖7(c)係顯示對應於重遇 光之說明圖。此時，點ρ係藉由對應 開口2〇的重叠部22的部分而被加以限束構件19之 而在W時結束曝光後，藉由 =曝光’ 復、，第1集束構件19 16 201202858 之開口 20的重疊部22的部分來加以限制 曝光，而在t6結束曝光。藉此，點:P便合在上述5t广 的期間_露在敎*量的 θ二〜t5〜t6 光。 K甲，而進仃特定深度的曝 入，圆/(d)係顯示對應於重 邮 明圖。此時，‘點Q係藉由對應於^曝^之說 20的重疊部22的部分而被加 ；^ :之開σ t。暫έ士击Β異1 Μ 從開始曝光，而在 01束曝从，猎域續對應 。20的重疊部22的部分來加 ϋ冓件19之開 而在tl。結束曝光。藉此，點Q便^^ t9再度開始曝光， 期間::露:?=光線“進行度 ί 之開口20的形狀不限於上述 六角形’只要是能夠以使得對應於開σ2_重疊部22t 部分的面積為重疊部22整體面積的—半之方式來將i一部 分遮光者’則亦可為如圖8所示般之梯形等任何形狀。 又’該訊號端子用鏡片組裝體u如圖柳所示，係設 置有接近至第4鏡片陣列18d之光線行進方向上游侧的凸 鏡片14g表面而具有對應於第i集束構件19的開口 2〇之 橢圓形狀的開口之第2集束構件37，以限射透單位鏡片 群15之光線的光束徑。 再者’訊號端子用鏡片組裝體11係能夠將第1鏡片陣 列18a之前侧凸鏡片14a周圍的光線遮蔽，並且，於圖5(a) 中以虛線圍繞之鏡片形成區域外的部分處，將同圖之箭頭B 所示移動方向（箭頭A的相反方向）前後之區域的同方向的 17 201202858 寬度％形成為至少與訊號端子用光罩ίο之訊號端子用遮 罩圖案13形成區域的箭頭A方向的寬度參照圖4)相 同。藉此，便能夠在訊號端子用鏡片組裝體11的移動開始 前及移動結束後將穿透訊號端子用光罩10之光線完全地遮 蔽。 設置有可移動該訊號端子用鏡片組裝體11之移動機構 12。該移動機構12係用以使訊號端子用鏡片組裝體u在 與讯號端子用光罩1〇及台座8呈平行之面内朝圖1之箭頭 B方向移動，而為例如電磁致動器或電動台座等。 該台座 的上方處，相對於弟1曝光光學單元2之基 板搬送方向前方侧處係設置有第2曝光光學單元3。該第l 曝光光學單元3係用以將掃描侧端子之圖案曝光在TFT用 基板4的區域，其結構為具備有光源震置23、掃描端子用 光罩24、掃描端子用鏡片組裝體25與移動機構％。 此處，該光源裝置23係使具有均勻輝度分布之光 =射在後述掃描端子用光軍24，與第1㈣ 使從該光源所放射之光源光 設置有掃描端 形 r 掃== 罩圖案27,亚將形成有掃描端子用遮罩圖案 18 201202858 27之面朝向下側而保持在遮罩台座（圖中未顯 掃描端子用光罩24係與訊號端子用遮罩 雖依所使用之感光性樹脂的種類而分類為正型 此處係針對正型的情況加以說明。因此，料 [
罩圖案27的外側區域。 I θ該掃描端子用光罩24與搬送機構丨的台座8之間設置 有掃描端子用鏡片組裝體25。兮播p她； ./± , 衣瓶 w亥拎描鳊子用鏡片組裝體25 係用以使掃描端子用光罩24所形成之掃描端子用遮罩圖案 27的等倍正立像成像在TFT用基板4表面，而於掃描端子 用光罩24的法線方向上’如圖剛所示般地將複數凸鏡 片（微鏡片）28a〜28h所構成之單位鏡片群29複數地配列在 與掃描端子用光罩24及台座8的面呈平行之面内，而藉由 後述移動機構26於與掃描端子用光罩24及台座8呈平行 之面内朝®1 2所示之前頭c方向（箭頭人所示之基板搬送方 向的直交方向）移動。 該掃描端子用鏡片組裝體25的具體構成例如圖1〇(a) 所示，係於前頭C所示之移動方向而以間距p4(例如15〇以 m的間距設置有3列鏡片列30，並且，從該移動方向（箭頭 C方向）觀之，各鏡月列30之各單位鏡片群29的一部分如 同重疊般地彼此鄰接之鏡片列3〇的其中一鏡片列3〇係往 單位鏡片群29的配列方向僅偏移複數單位鏡片群29 的配 列間距P3的l/m(m為2以上的整數，圖中係顯示m=3) 之型態所设置，其中該鏡片列3〇係於掃描端子用鏡片組裝 19 201202858 體25移動方向（同圖所示之箭頭C方向）的直交方向 距P3(例如15〇vm的間距）配列有複數單位鏡片群29 ° 又，如圖10(b)所示，該掃描端子用鏡片組裝雜25的 結構為使對應於第1、第2、第3及第4鏡片陣列3la—3ld 之各凸鏡片28的光軸一致之狀態下來加以重疊接舍，姐橡 掃描端子用光罩24之掃描端子用遮罩圖案27的中間树炎 像成像在第2鏡片陣列31b與第3鏡片陣列31c之間’其 中該第1、第2、第3及第4鏡片陣列31a〜31d係使得透明 基板的表内面彼此對應而形成有複數凸鏡片28。此日夺’ 光軸彼此一致而排列之8個凸鏡片28a〜28h便構成了事位 鏡片群29。此外，由於掃描端子用鏡片組裝體25的結換與 第1曝光光學單元2的訊號端子用鏡片組裝體η的結構相 同’因此此處便省略了單位鏡片群29的具體結構及各公鐵 片28的功能說明。又，圖10中，元件符號32表糸第1儀 束構件，元件符號33表示第1集束構件32的開口，元件 符號34表示第2集束構件。 再者’掃描端子用鏡片組裝體25係能夠將第1鐵片陳 列31a之前側凸鏡片28a周圍的光線遮蔽，並且，於_ 1〇(a) 中以虛線圍繞之鏡片形成區域外的部分處，將同圖之箭韻C 所示移動方向前後之區域的同方向的寬度w2形成為奏少 與掃描端子用光罩24之掃描端子用遮罩圖案27形成匾碱 的箭頭A方向的直交方向的寬度W2(參照圖9)相同。藉此， 便能夠在掃描端子用鏡片組裝體25的移動開始前及移動結 束後將穿透掃描端子用光罩24之光線完全地遮蔽。 201202858 設置有可移動該掃描端子用鏡片組裝體25之移動機構 26 ^該移動機構26係用以使掃描端子用鏡片組裝體25在 與掃描端子用光罩24及台座8呈平行之面内朝圖2之箭頭 c方向移動，而為例如電磁致動器或電動台座8等。 接下來’針對上述方式構成的曝光裝置的動作加以說 明。 首先，將藉由別的曝光裝置而於顯示區域5預先形成 有訊號線及掃描線㈣光圖案之TFT用基板4定位並載置 於台座8上的特^位置後，驅動搬送機構1來將台座8以 一定速度往圖1之箭頭A方向移動，而將TFT用基板4往 同方向搬送。此時，第〗及第2曝光光學單元2、3的光源 為開啟狀態。 接下來，藉由相對於第丨曝光光學單元2而 送方向的相反側所具備的攝像機構（圖中未顯示）來^測出 預先設定在TFT用基板4上的基準記號(圖中未顯示），並 =該基準記號的檢測時刻中之該台座8的位置為基準，而 藉由位置感測器來測量台座8的移動距離。然後，當台座8 移動預先設定的距離而使得TFT用基板4的訊號子形 成區域6到達第1曝光光學單元25之訊號端子用光罩1〇 的正下方後，便停止台座8的移動。 接著’驅動第1曝光光學單元2的移動機構12來使訊 鱿端子用鏡片組裝體11開始向圖1之箭頭Β方向移動，而 藉由連續地往同方向移動之複數單位鏡片群15(參照圖 5)’來使圖4所示之訊號端子用光罩1〇的訊號端子用遮罩 21 201202858
圖案13的等倍正立像投影在TFT用基板4面上，而於TFT 用基板4的訊號側端子形成區域6處形成有減側端子的 曝光圖案。 此時，如圖6所示，在被單位鏡片群15之第1集束構 件19的開口 20限制之曝光區域處，對應於重疊部22之區 域會因先後存在於同圖中以箭頭3所示訊號端子用鏡片組 裝體11的移動方向之二個單位鏡片群15而重複曝光。藉 此，sfl號側化子的曝光圖案便不會在中途斷掉而可連續地 連接。此時，於第1集束構件19的開口 2〇處對應於重疊 部22之部分，由於其面積會形成為重疊部22整體面積的 一半，藉由上述二個單位鏡片群15的重複曝光來進行特定 深度的曝光’便不會有過度曝光之虞。 當訊號端子用鏡片組裝體丨丨移動特定距離而kTFT用 基板4的訊號側端子形成區域6處形成有訊號端子用遮罩 圖案13的完整曝光圖案後，便停止移動機構12並開始台 座8的移動，而再度開始TFT用基板4的搬送。 再者，當TFT用基板4移動特定距離而使得TFT用基 板4的掃描侧端子形成區域7到達第2曝光光學單元3的 掃描端子用光罩24的正下方後，便停止台座8的移動。 接著，驅動第2曝光光學單元3的移動機構26來使掃 描端子用鏡片組裝體25開始向圖2之箭頭C方向移動，而 藉由連續地往同方向移動之複數單位鏡片群29(參照圖 10)，來使圖9所示之掃描端子用光罩24的掃描端子用遮 罩圖案27的等倍正立像投影在TFT用基板4面上，而於 22 201202858 7處形成有掃描側端 TFT用基板4的掃描側端子形成區域 子的曝光圖案。 此叶，被單位鏡片群29之第i集束構件 ，之曝光區域處’對應於重疊部之區域處會歲圖:：33 同樣地，鋪由先後存在於圖Π)中箭頭c所二:， 用鏡片組裝體25的移動方向之二個單位鏡>1群29^子 妾掃:輪的曝光圖案便不會在中二 I連續地連接。此時，於第1集束構件32的開口 33處 應於重疊部之部分係與第！曝光光學單元2的第 件19同樣地，由於其面積會形成為重疊部整體面積木的— 半，藉由上述二個單位鏡片群29的重複曝光來進行 度的曝光，便不會有過度曝光之虞 味 然後，當掃描端子用鏡片組裝體25移動特定距離而於 TFT用基板4的掃描侧端子形成區域7處形成有掃描端子 用遮罩圖案27的完整曝光圖案後，便停止移動機構％而 、’’口束所有對TFT用基板4的曝光。之後，再度開始移動台 座8來將TFT用基板4排出至外部。 此外，上述實施形態中雖係針對訊號端子用及掃描端 子用鏡片組裝體11、25僅具備1組由3列構成的鏡片列 16、30的情況加以說明，但本發明不限於此，亦可使上述 3列鏡片列16、30為1組而於訊號端子用及掃描端子用鏡 片紐·裳體11、25的移動方向（箭頭B、c方向）具備有複數 組。此時，係藉由先後存在於與移動方向呈平行之線上的 23 201202858 單位鏡片群15、29來進行多重曝光。藉此，可加快訊號端 子用及掃描端子用鏡片組裝體11、25的移動速度，從而縮 短曝光步驟的時間。又，可減少所使用之光源的功率。 上述實施形態中雖係針對於1片液晶顯示用TFT用基 板4形成有訊號侧端子及掃描側端子的曝光圖案的情況加 以說明，但本發明不限於此’而亦可適用於如圖11所示般 大面積基板35的情況，其係於經多層處理之複數顯示面板 (同圖中係顯示縱8片，橫8片的面板)36形成有訊號侧端 子及知描側端子的曝光圖案。此時，如圖12所示，只要分 別對應於各顯示面板36而於基板搬送方向（箭頭A方向）的 直交方向具備有8台相異的複數第1及第2曝光光學單元 2、3即可。又，當各顯示面板36的訊號侧端子或掃描側端 子的圖案形狀相異時，只要使用如圖13(a)所示般具備有複 數種訊號端子用遮罩圖案13之訊號端子用光罩10,及同圖 (b)所示般具備有複數種掃描端子用遮罩圖案27之掃描端 子用光罩24即可。 此處’當各顯示面板36的訊號側端子及掃描側端子的 形狀相異時’只要在使用例如訊號端子用光罩10的訊號端 子用遮罩圖案13來對特定顯示面板36進行的曝光結束後 使基板35移動特定距離後，再將訊號端子用光罩1〇往箭 頭B方向移動而切換至下一個訊號端子用遮罩圖案13，並 使用該訊號端子用遮罩圖案13來對別的顯示面板36進行 曝光即可。以下，只要一邊重複基板35的移動、停止，一 邊將訊號端子用光罩10往箭頭B方向移動而依序切換訊號 24 201202858 端子用遮罩圖案13，來分別對相對應之顯示面板％進行曝 光即可。又，針對掃描端子用光罩24亦同樣地，只要在使 用例如掃描端子用遮罩圖案27來對特定顯示面板36進行 的曝光結束後使基板3 5移動特定距離後，再將掃描端子用 光罩24往箭頭C方向移動而切換至下一個掃描端子用遮罩 圖案27’並使用該掃描端子用遮罩圖案27來對別的顯示面 板36進行曝光即可。再者針對別的顯示面板36亦可更進 一步地切換至別的掃描端子用遮罩圖案27，而使用該掃描 端子用遮罩圖案27來進行曝光。 又，上述實施形態中雖針對TFT用基板4係藉由別的 曝光裝置而於顯示區域5内縱橫地交叉形成有複數訊號線 及掃描線的曝光圖案的情況加以說明，但本發明不限於 此，而亦可具備有第3曝光光學單元，其係用以在tft用 基板4上，相對於第1曝光光學單元2而於基板搬送方向 的相反側形成有該訊號線及掃描線的曝光圖案。此時，該 第3曝光光學單元的結構較佳為使得微鏡片侧為tft用基 板4側之方式來加以配置而具備有光罩，以便能以特定時 間間隔來將光源光線間歇地照射在該光罩，並以特定周期 來將該光罩的2種遮罩圖案曝光在的以一定速度朝圖1之 箭頭A方向搬送中的TFT用基板4;其中該光罩係於透明 基板的一面所形成之遮光膜處’而於TFT用基板4的搬送 方向先後形成有如薄膜電晶體的電極配線或訊號線及掃描 線般要求解析度相異的2種遮罩圖案所構成的二個遮罩圖 案群’而另一面則形成有微鏡片，該微鏡片係對應於要求 25 201202858 解析度相異的2種遮罩圖案當中之要求解析度高的薄暝電 晶體的電極配線的遮罩圖案，而將該遮罩圖案縮小投影在 TFT用基板4上。 此處所使用之光罩的具體構成例只要是要求解柯度高 之薄膜電晶體的電極配線用遮罩圖案所構成的遮罩圖案群 係具備有複數遮罩圖案列’並在該複數遮罩圖案的排歹1】方 向上分別錯開特定尺寸而形成有後續的遮罩圖案列，以便 能夠藉由後續的遮罩圖案列所形成之複數曝光圖案來填補 位於TFT用基板4的搬送方向前側之該遮罩圖案列所形成 的複數曝光圖案之間即可；其中該複數遮罩圖案列係於 TFT用基板4搬送方向（箭頭A方向）的略直交方向上而以 特定間距一直線狀地排列形成有該複數遮罩圖案。 再者，上述實施形態中雖係針對使TFT基板4〜邊往 一方向移動一邊行曝光的情況加以說明，但本發明不限於 此，而亦可使TFT基板4在二維平面内步進移動而進行曝 光。 、 最後’以上的說明雖已針對以TFT用基板4來作為被 曝光體的情況加以敘述’但本發明不限於此，被曝光體只 要是能夠形成非周期性圖案則可為任何物體。 【圖式簡單說明】 圖1係顯示本發明曝光裝置的實施形態之前視圖。 圖2為圖1之俯視圖。 圖3係顯示本發明曝光裝置所使用之薄膜電晶體用基 26 201202858 板之俯視圖。 圖4係顯示本發明曝光裝置所使用之訊號端子用光罩 的一構成例之俯視圖。 圖5係顯示本發明曝光裝置所使用之訊號端子用鏡片 組裝體的一構成例之圖式，（a)為俯視圖，（b)為前視圖。 圖6係說明該訊號端子用鏡片組裝體的第1集束構件 的開口之俯視圖。 圖7(a)〜圖7(d)係顯示利用鄰接於該訊號端子用鏡片組 裝體的移動方向之二個單位鏡片群來進行曝光之說明圖。 圖8(a)〜圖8(c)係顯示該第1集束構件的開口的其他形 狀之俯視圖。 圖9係顯示本發明曝光裝置所使用之掃描端子用光罩 的一構成例之俯視圖。 圖10係顯示本發明曝光裝置所使用之掃描端子用鏡片 組裝體的一構成例之圖式’（a)為俯視圖，（b)為前視圖。 圖11為本發明曝光裝置所使用之基板，係顯示顯示面 板經多層處理後之大面積基板的俯視圖。 圖12係顯示本發明曝光裝置之曝光光學單元的配置， 並顯示針對圖11之大面積基板的配置例之俯視圖。 圖13係顯示於1片光罩形成有複數種遮罩圖案例之概 略俯視圖，（a)為顯示訊號端子用光罩的範例，（…為顯示掃 描端子用光罩的範例。 【主要元件符號說明】 27 201202858 A、 B、C 箭頭 Pi ' P2、P3、P4 間距 W! 、W2 寬度 1 搬送機構 2 第1曝光光學單元 3 第2曝光光學單元 4 TFT用基板 5 顯示區域 6 訊號側端子形成區域 7 掃描側端子形成區域 8 台座 9 光源裝置 10 訊號端子用光罩 11 訊號端子用鏡片組裝體 12 移動機構 13 訊號端子用遮罩圖案 14a〜14h 凸鏡片（微鏡片） 15 單位鏡片群 16 鏡片列 17 透明基板 18a〜18d 第1〜第4鏡片陣列 19 第1集束構件 20 開口 21a 、21b、21c、21d 角部 28 201202858 22 重疊部 23 光源裝置 24 掃描端子用光罩 25 掃描端子用鏡月組裝體 26 移動機構 27 掃描端子用遮罩圖案 28a- J8h 凸鏡片（微鏡片） 29 單位鏡片群 30 鏡片列 31a〜31d 第1〜第4鏡片陣列 32 第1集束構件 33 開口 34 第2集束構件 35 基板 36 顯示面板 37 第2集束構件 29