TWI407246B - 光罩及使用該光罩之曝光方法 - Google Patents

Description

光罩及使用該光罩之曝光方法

本發明係有關一種光罩，其係用於使在透明基材之一面上所形成的遮光膜所設有的光罩圖案之像，轉印至塗敷有感光性樹脂的基板，以形成曝光圖案；詳細地說，係有關於一種用於提升曝光圖案與基板所預先形成之基準圖案間之重合精確度之光罩、及使用該光罩之曝光方法。

習知的光罩具備：一光罩圖案，係將塗敷有感光性樹脂之基板上所轉印之圖案的直線部分，以較短方式形成；以及一對準標記(Alignment mark)，用於在特定的位置與基板對準(參照例如特開平11－237744號公報)。然後，利用該光罩進行曝光，在開始曝光之前，使上述對準標記與基板之對準標記之位置對準，然後，將上述光罩以及透過光罩對上述基板照射曝光光線之一光照射裝置，在包含基板之特定區域內，在平行於基板之面的平面內，於雙軸方向相對地移動或停止，在上述基板對光罩的相對移動中或停止時照射曝光光線，俾在基板上形成直線狀延伸之曝光圖案。藉此，即使小型的光罩，也可以在基板上很有效地形成直線狀的曝光圖案。

可是，在此種習知的光罩中，係藉由光罩的對準標記與基板的對準標記，而間接進行光罩圖案(mask pattern)與基板上所預先形成之基準圖案之位置對準，無法邊觀察基板上所形成之基準圖案的同時，邊將光罩圖案與該基準圖案對準位置。因此，曝光圖案與基板之基準圖案間之重合精確度，係根據光罩之光罩圖案與其對準標記之間的形成精確度、以及基板之基準圖案與其對準標記之間的形成精確度來決定，若該形成精確度不足時，上述重合精確度也變差。尤其是，基板為大型者時，上述各對準標記與各圖案之間的形成精確度變得更為嚴格，其對準位置更困難。

此外，由於上述習知的光罩係在開始曝光前進行光罩之對準標記與基板之對準標記之對準，在曝光的執行中是無法進行兩個對準標記之對準的。因此，如果曝光開始前之位置對準不完全，則曝光圖案與基準圖案之對準精確度也不理想。另外，也無法修正由於基板之移動誤差所導致之位置偏移，所以無法提升上述位置對準之精確度。

本發明之目的在提供一種光罩以及使用該光罩之曝光方法，其可以解決上述問題，並提升曝光圖案與在塗敷有感性樹脂之基板上預先形成之基準圖案間之重合精確度。

為達成上述目的，第1發明之光罩係由一透明基材與形成於該透明基材之一面上的一遮光膜所構成，其特徵為設有：多個遮光圖案，在上述遮光膜上排列形成於一個方向，以使曝光光線通過；以及一觀察窗，在上述遮光膜上，形成於上述多個遮光圖案之排列方向之一側，而可以觀察被設置於對面之一基板之表面。

利用此種構造，在透明基材之一面上所形成的遮光膜係形成有排列成一方向之多個光罩圖案，透過在多個光罩圖案之排列方向之一側所形成之觀察窗，觀察被設置於對面之基板表面，並通過上述多個光罩圖案，對基板照射曝光光線。藉此，在接近多個光罩圖案之位置，可以通過觀察窗直接觀察基板上所預先形成之基準圖案。因此，透過上述觀察窗，可以檢測出上述基準圖案所預先設定之基準位置與上述多個光罩圖案間之偏移，俾將該偏移量修正為一特定值，並使上述多個遮罩圖樣與基板之基準圖案之位置對準。藉此，可以提升兩個圖案的位置對準精確度。尤其是，依據本發明，由於將觀察窗形成於多個光罩圖案的排列方向之一側，因此若使上述觀察窗位於面向基板的搬送方向之近端側，並將上述基板設置於對面，則即使邊將基板朝特定方向搬送的同時，邊執行曝光的過程中，透過觀察窗，也可以觀察基板的基準圖案，並進行光罩圖案與基板之基準圖案之位置對準。因此，可以修正基板的移動誤差，以提升上述光罩圖案之曝光圖案與上述基板之基準圖案間之重合精確度。

另外，在上述透明基材之至少一面上，形成有可穿透可見光並反射或吸收紫外線之一波長選擇性膜，以覆蓋上述觀察窗。藉此，在透明基材之至少一面，藉由覆蓋觀察窗而形成之波長選擇性膜，可穿透可見光，並反射或吸收紫外線。因此，可以防止紫外線透過觀察窗照射至基板，並防止上述觀察窗被曝光在基板上而與曝光圖案重疊。

此外，第2發明的光罩係由一透明基材與形成於該透明基材之一面上的一遮光膜所構成，其特徵為設有：多個光罩圖案，在上述遮光膜上排列形成於一個方向，以使曝光光線通過；一觀察窗，在上述遮光膜上，形成於上述多個光罩圖案之排列方向之一側，而可以觀察被設置於對面之一基板之表面；以及一光罩側對準標記，在上述觀察窗內或觀察窗之一端部側，被形成為相對於上述多個光罩圖案中之至少一個而具有一特定的位置關係，而用於與上述基板對準位置。

利用此種構造，在透明基材之一面上所形成的遮光膜係形成有排列成一個方向之多個光罩圖案，透過在多個光罩圖案之排列方向之一側所形成的觀察窗，觀察被設置對面之基板表面，並在上述觀察窗內或觀察窗的一端部側，形成有與上述多個光罩圖案中之至少一個具有特定的位置關係的一光罩側對準標記，藉由該光罩側對準標記與基板對準位置，並透過上述多個光罩圖案，對基板照射曝光光線。藉此，可以提升曝光圖案與基板之基準圖案之重合精確度。尤其是，由於在觀察窗內或觀察窗之一端部側形成有光罩側對準標記，所以若在基板的搬送方向之前端部形成基板側對準標記時，即可根據透過上述觀察窗所觀察之基板側對準標記與上述光罩側對準標記，粗調基板與光罩的位置對準。從而，可以進一步提升曝光圖案與基板的基準圖案之重合精確度。

另外，在上述透明基材之至少一面上，形成可以穿透可見光並反射或吸收紫外線的一波長選擇性膜，以覆蓋上述觀察窗與光罩側對準標記。藉此，在透明基材之至少一面上，藉由覆蓋觀察窗與光罩側對準標記而形成之波長選擇性膜，可穿透可見光，並反射或吸收紫外線。因此，可以防止觀察窗與光罩側對準標記被曝光而重疊在曝光圖案上。

此外，第3發明之曝光方法，係利用一光罩進行曝光的方法，該光罩設有：多個光罩圖案，係在形成於一透明基材之一面上的遮光膜上排列形成於一方向，以使曝光光線通過；以及一觀察窗，在上述遮光膜上形成於上述多個光罩圖案之排列方向之一側，俾可觀察位於對面且被搬送之一基板之表面；該曝光方法之特徵為包含下列步驟：將上述光罩配置成使上述觀察窗位於面向該基板之搬送方向之近端側之步驟；在與上述多個光罩圖案之排列方向垂直的方向，搬送塗敷有感光性樹脂之基板之步驟；利用攝影手段透過上述觀察窗拍攝上述基板之表面，以檢測出一基準位置的步驟，該基準位置係相對於該基板所形成之基準圖案被設定於特定之關係位置；以及將上述光罩朝向與上述基板之搬送方向垂直之方向移動，俾使上述被檢測出之基板的基準位置與上述光罩之多個光罩圖案之任一之水平距離成為一特定值，以對準上述基板與光罩之位置之步驟。

利用此種構造，可將光罩配置成使多個光罩圖案的排列方向之一側所形成的觀察窗，位於面向搬送方向之近端側；在與多個遮光圖案之排列方向垂直之方向，搬送塗敷有感光性樹脂的基板；利用攝影手段透過上述觀察窗拍攝基板表面，以檢測出一基準位置，該基準位置係相對於該基板所形成之基準圖案被設定於特定之關係位置；並將上述光罩朝向與上述基板之搬送方向垂直之方向移動，俾使該被檢測出之基板的基準位置與上述光罩之多個光罩圖案之任一之水平距離成為一特定值，以進行基板與光罩之位置對準。如此一來，縱使邊將基板朝特定方向搬送的同時，邊執行曝光的過程中，透過上述觀察窗，可以觀察基板之基準圖案，並進行光罩圖案與基板之基準圖案之位置對準。從而，可以修正基板之移動誤差，並提升上述光罩圖案的曝光圖案與上述基板之基準圖案間之重合精確度。

再者，第4發明之曝光方法係利用一光罩進行曝光的方法，該光罩設有：多個光罩圖案，係在形成於一透明基板之一面上的遮光膜上排列形成於一方向，以使曝光光線通過；一觀察窗，在上述遮光膜上形成於上述多個光罩圖案之排列方向之一側，俾可觀察位於對面且被搬送之一基板之表面；以及一光罩側對準標記，在上述觀察窗內或觀察窗之一端部側，被形成為相對於上述多個光罩圖案中之至少一個具有一特定之位置關係，而用於與上述基板對準位置，該曝光方法之特徵為包含下列步驟：將上述光罩配置成使上述觀察窗位於面向該基板的搬送方向近端側之步驟；在與上述多個光罩圖案之排列方向垂直之方向，搬送之塗敷有感光性樹脂之基板步驟；利用攝影手段透過上述觀察窗拍攝上述基板之表面，以檢測出一基準位置之步驟，該基準位置係相對於該基板所形成之基準圖案被設定於特定之關係位置；利用上述攝影手段拍攝上述光罩之光罩側對準標記，以檢測出其位置之步驟；以及將上述光罩朝向與上述基板之搬送方向垂直之方向移動，以進行上述基板與光罩之位置對準，俾使上述檢測出之基板之基準位置與上述光罩之遮罩側之對準標記之位置之水平距離成為一特定值之步驟。

利用此種構造，可將光罩配置成使多個光罩圖案的排列方向之一側所形成的觀察窗，位於面向搬送方向之近端側；在與多個光罩圖案之排列方向垂直之方向，搬送塗敷有感光性樹脂之基板；利用攝影手段透過上述觀察窗拍攝基板表面，以檢測出一基準位置，該基準位置係相對於該基板所形成之基準圖案被設定於特定之關係位置；利用攝影手段拍攝光罩側對準標記以檢測出其位置，該光罩側對準標記係在上述光罩上形成而與上述多個光罩圖案中之至少一個具有特定之關係位置；並將上述光罩朝向與上述基板之搬送方向垂直之方向移動，俾使該被檢測出之基板的基準位置與上述光罩之光罩側對準標記之位置之水平距離成為一特定值，以對準基板與光罩之位置。藉此，可以根據光罩側對準標記而對準基板與光罩的位置。因此，可以進一步提升光罩圖案之曝光圖案與基板的基準圖案間之重合精確度。

另外，檢測上述基板之基準位置之步驟、以及檢測上述光罩的光罩側對準標記之位置之步驟，係同時進行。藉此，可以同時檢測基板之基準位置與光罩的光罩側對準標記之位置。因此，可以提升對準處理速度。

此外，上述基板係在其一端部，將用於與上述光罩之光罩側對準標記對準位置之一基板側對準標記，形成為相對於上述基準圖案具有特定的位置關係。藉此，在基板之一端部形成之相對於基準圖案具有特定位置關係之基板側對準標記，係與光罩之光罩側對準標記之位置對準。

再者，上述基板被搬送時，形成有上述基板側對準標記之端部成為搬運方向之前端側。藉此，基板係以形成有基板側對準標記的端部做為搬送之前端。

而且，使上述光罩朝向與上述基板之搬送方向垂直的方向移動，俾使上述基板側對準標記之位置與上述光罩之光罩側對準標記之位置之水平距離成為一特定值，而進行該基板與光罩之對準位置之粗調後，使上述基板移動，俾使上述基板之基準位置與光罩側對準標記之位置之水平距離成為特定值，以完成該基板與光罩之位置對準。藉此，在將光罩朝向與基板之搬送方向垂直的方向移動，並粗調基板與光罩之位置對準，俾使基板側對準標記與光罩之光罩側對準標記之水平距離成為特定值後，再將光罩朝向與基板之搬送方向垂直之方向移動，俾使基板之基準位置與光罩側對準標記之位置之水平距離成為特定值，以對準基板與光罩之位置。因此，可以更進一步提升光罩圖案之曝光圖案與基板之基準圖案間之重合精確度。

以下，根據附圖詳細說明本發明之實施形態。圖1為表示本發明的光罩的實施形態之平面圖。圖2為圖1之X－X線剖面圖，圖3為圖1之Y－Y線剖面圖。該光罩1在邊使基板朝特定方向移動邊執行曝光的過程中，也可以進行光罩圖案與基板的基準圖案之位置對準，該光罩1係由透明基材2、遮光膜3、光罩圖案4、觀察窗5、以及光罩側對準標記12所構成。以下，針對上述基板是彩色濾光片基板之情形加以說明。

上述透明基材2係為紫外線與可見光可高效率穿透之透明玻璃基材，例如由石英玻璃所構成。

如圖2或圖3所示，在上述透明基材2之其中之一面2a，形成有遮光膜3。該遮光膜3係用於遮蔽曝光光線，是以不透明之例如鉻(Cr)薄膜所形成。

如圖1所示，上述遮光膜3形成有排列於一個方向的多個光罩圖案4。該多個光罩圖案4係使曝光光線通過的特定形狀之開口，可以使曝光光線照射至對向搬送之如圖4所示之彩色濾光片基板6，而被轉印於黑色矩陣框(black matrix)7之像素8上，以做為彩色濾光片基板6上所形成之基準圖案。而且，具有與例如與上述像素8寬度大致相同的寬度並且呈現與上述方向正交的方向之長矩形狀，而形成為與上述像素8之3間距(pitch)間隔相一致的間隔。另外，如圖1所示，預先設定例如位於中央部之光罩圖案4a之左端緣部做為基準位置S1。

又，如圖2所示，在位於透明基材2之另一面2b上而與上述光罩圖案4的形成區域相對應之區域9(參照圖1)，形成紫外線反射防止膜10，以提升包含於曝光光線中之紫外線成分之穿透效率。

上述遮光膜3接近上述多個光罩圖案4之位置，在其排列方向之一側形成觀察窗5。該觀察窗5係用於觀察對向搬送之如圖4所示之彩色濾光片基板6之表面，可利用一攝影手段(未圖示)檢測出上述基板側對準標記11之位置以及一基準位置S2，該基準位置S2係預先設定於黑色矩陣框7之例如圖4所示之中央部之像素8a之左上端角部。而且，如圖1所示，被形成為與上述多個光罩圖案4之排列方向平行而由中央側朝一方的端部2c延長之矩形狀。

於上述觀察窗5之一端部側，該遮光膜3係形成有由中央側朝向另一方的端部2d排列之多個光罩側對準標記12。該多個光罩側對準標記12係用於對準事先設定於上述光罩圖案4之基準位置S1、以及事先設定於像素8作為上述彩色濾光片基板6之基準圖案之基準位置S2之位置，而被形成為與上述多個光罩圖案4相對應。另外，該形成位置係與圖1中之光罩側對準標記12之左側緣部相對應之光罩圖案4之左側緣部相一致。而且，例如形成於遮光膜3之中央部側的光罩側對準標記12是事先被設定做為基準標記12a。藉此，上述基準標記12a與彩色濾光片基板6之基板側對準標記11之位置被調整成為特定之位置關係，因此，可以對準上述光罩圖案4之基準位置S1與彩色濾光片基板6之基準位置S2之位置。此外，上述光罩側對準標記12也可以單一地形成為與上述多個光罩圖案中之例如上述基準標記12a具有特定的位置關係。另外，上述彩色濾光片基板6之基準位置S2並不限於形成在像素8者，只要相對於像素8具有特定之位置關係，即可設定於任何位置。

此外，如圖3所示，在位於透明基材2之另一側之面2b上而與上述觀察窗5及光罩側對準標記12之形成區域相對應之區域13(參照圖1)，形成有可以穿透可見光並反射或吸收紫外線的波長選擇性膜14，可以防止包含於曝光光線中之紫外線成分通過上述觀察窗5及光罩側對準標記12照射至彩色濾光片基板6，而令塗敷在彩色濾光片基板6上的彩色光阻(color resist)曝光。

其次，要針對使用如上構成之光罩1進行之曝光方法加以說明。

在此，如圖4所示，所使用的彩色濾光片基板6係在透明的玻璃基板之一面形成由鉻(Cr)等所構成之不透明膜，以及如該圖所示，在曝光區域15內係將多個像素8形成矩陣狀。另外，為修正上述光罩1所預先設定之基準位置S1以及上述彩色濾光片基板6所預先設定之基準位置S2之位移以使其對位，在曝光區域15之一端部15a側的大致中央部，形成有一個與上述像素8具有特定之位置關係之細長狀的基板側對準標記11。又，在上述基板側對準標記11之一側，由中央部朝向一方的端部6a排列有多個對準確認標記16，其係與像素8相對應而形成與像素8之排列之3間距間隔相一致之間隔。再者，在圖4中，上述基板側對準標記11與對準確認標記16分別被形成為與各標記之左側緣部相對應之像素8之左側緣部相一致。

如此形成的彩色濾光片基板6上面塗敷有特定的彩色光阻(color resist)做為感光性樹脂，而使曝光區域15中形成有上述基板側對準標記11之端部15a之一側，位於圖4中以箭號A所示之搬送方向之遠端側，並藉由一搬送手段(未圖示)以特定速度搬送。

另一方面，光罩1係使形成有觀察窗5之一側之端部2e，位於圖1中以箭號A所示之搬送方向之近端側，並將光罩1對向且靠近地配置於以形成有遮光膜3之面2a朝下而被搬送之彩色濾光片基板6上面。

在此狀態下，透過形成於光罩1之觀察窗5，在彩色濾光片基板6上的基板側對準標記11、對準確認標記16、以及像素8，係由一攝影手段(未圖示)所拍攝。在此，上述攝影手段為具有多個受光元件之一線形CCD，該等受光元件係於與彩色濾光片基板6平行的平面內與搬送方向正交的方向排列成一直線狀。

此時，首先，如圖5所示，彩色濾光片基板6之基板側對準標記11與光罩1之光罩側對準標記12同時被拍攝。此時，讀取檢測出基板側對準標記11之攝影手段之受光元件的單元(cell)號碼、以及檢測出上述光罩1之基準標記12a之攝影手段之受光元件的單元號碼，並以一運算部(未圖示)計算出其距離L。然後，與事先設定記憶之特定距離Lo比較。

在此，如圖5所示，若光罩1相對於彩色濾光片基板6朝箭號B之方向偏移時，則如圖6所示，光罩1會朝箭號C之方向移動，而使基板側對準標記11與基準標記12a之水平距離L成為Lo或Lo±x(x為容許值，或稱公差(tolerance))。如此一來，光罩1之基準位置S1與彩色濾光片基板6之基準位置S2，係符合在特定之容許範圍內。

其次，如圖6所示，透過光罩1之觀察窗5，以一攝影手段同時拍攝彩色濾光片基板6之對準確認標記16與光罩1之光罩側對準標記12。然後，讀出檢測出各對準確認標記16之受光元件之單元號碼、以及檢測出光罩1之各光罩側對準標記12之受光元件之單元號碼，並以運算部計算各單元號碼之平均值。在對準調整後，比較該平均值、以及檢測出上述彩色濾光片基板6之基板側對準標記11之攝影手段之受光元件的單元號碼，若兩者在特定之容許範圍內相一致時，即判定已確實進行對準，而對光罩1照射曝光光線。藉此，光罩1之光罩圖案4的像，即被轉印到彩色濾光片基板6的像素8上。此外，若上述平均值與單元號碼不一致時，例如彩色濾光片基板6之種類不同、或判斷為黑色矩陣框(Black matrix)7之形成缺陷品時，即停止曝光並示警。

然後，比較以攝影手段所拍攝之影像資料、以及被記憶在記憶部之彩色濾光片基板6之基準位置S2之查找表(Lookup table,LUT)，以檢測出基準位置S2。然後，如圖7所示，比較檢測出上述基準位置S2之攝影手段之受光元件的單元號碼、以及檢測出光罩1之基準標記12a之受光元件之單元號碼，並將光罩1朝箭號B、C之方向微微移動，俾使兩者之水平距離L成為Lo或Lo±x。另外，必要時，光罩1以該面的中心做為中心軸而轉動調整。如此一來，縱使彩色濾光片基板6被偏向與箭號A所示之搬送方向正交之方向搬送，光罩1也會追隨其而行動，在做為目標之位置很精確地轉印光罩1之光罩圖案4之像。

此時，在光罩1的透明基材2的另一面2b上而與光罩圖案4之形成區域相對應之區域9，由於形成有包含於曝光光線中的紫外線成分之反射防止膜10，因此紫外線被該反射防止膜10抑制反射而很有效地穿透光罩1之光罩圖案4。然後，使彩色濾光片基板6上的彩色光阻(color resist)很有效率地曝光。

另一方面，在光罩1的另一面2b上而與觀察窗5及光罩側對準標記12之形成區域相對應之區域13，由於形成有穿透可見光並反射或吸收紫外線之波長選擇性膜14，因此，照射至上述觀察窗5與遮罩對準標記12之曝光光線之紫外線成分，會被上述波長選擇性膜14反射或吸收。因此，曝光光線的紫外線成分絕不致通過觀察窗5與光罩側對準標記12而照射彩色濾光片基板6。

因此，即使觀察窗5與光罩側對準標記12接近光罩圖案4而先後形成於搬送方向，上述觀察窗5與光罩側對準標記12的像也不致被轉印於彩色濾光片基板6之曝光區域15。

另一方面，因為可見光穿過上述波長選擇性膜14，因此可以透過上述觀察窗5觀察彩色濾光片基板6之基板側對準標記11、對準確認標記16、以及像素8。從而，可以邊搬送彩色濾光片基板6、邊在接近光罩圖案4之位置透過觀察窗5確認彩色濾光片基板6之基板側對準標記11與像素8之位置，可以使光罩1之基準位置S1與彩色濾光片基板6之基準位置S2之位置對準，並將兩者的位置對準精確度比先前更加提升。

此外，在上述實施形態中，光罩側對準標記12、基板側對準標記11、以及對準確認標記16係形成為朝箭號A之方向細長延伸之形狀者，惟本發明並不侷限於此，只要可以攝影手段的受光元件檢測，則矩形或線形也可以，或形成為與彩色濾光片基板6之像素8之寬度大致同樣寬度也可以。此外，在上述說明中，係針對一個基板側對準標記11之情形敘述，但是，本發明並不侷限於此，也可以特定間隔形成多個。

另外，在上述實施形態中，係針對在彩色濾光片基板6上形成基板側對準標記11與對準確認標記16之情形加以說明，但是本發明並不侷限於此，沒有上述基板側對準標記11與對準確認標記16也可以。此時，也可以在曝光區域15之搬送方向兩側之特定位置形成其他對準標記，在光罩1之兩端部形成對準標記與其相對應，並在搬送彩色濾光片基板6之前利用兩個對準標記粗調對準，而在曝光執行中，以攝影手段透過觀察窗5檢測像素8的基準位置S2，並以上述方法進行位置之對準。

再者，在上述實施形態中，係針對光罩側對準標記12排列形成於觀察窗5之一端部側之情形加以說明，但是，本發明並不侷限於此，也可以將觀察窗5形成為由透明基材2之其中一端部2c側朝另一端部2d側延伸，而在其內部形成光罩側對準標記12。此時，光罩側對準標記12係以不透明膜形成為例如細長狀者。

另外，上述光罩側對準標記12可以不要。此時，與光罩圖案12之基準位置S1具有特定的位置關係之攝影手段之受光元件，預先定為基準受光元件，若對位而使該基準受光元件與檢測出上述基板側對準標記11或彩色濾光片基板6之基準位置S2之受光元件之距離成為特定距離時，即可對準光罩1與彩色濾光片基板6之位置。

此外，在上述說明中，係針對曝光光線照射光罩圖案4、觀察窗5、與光罩側對準標記12之情形加以說明，但是本發明並不侷限於此，也可以縮小曝光光線使觀察窗5與光罩側對準標記12不受曝光光線照射。此時，穿透可見光且反射或吸收紫外線之波長選擇性膜14也可以形成不必覆蓋觀察窗5與光罩側對準標記12。

而且，在上述說明中，係針對基板為彩色濾光片基板6之情形加以敘述，但是，本發明並不侷限於此，只要可以形成條紋狀的曝光圖案，則任何基板皆可。

1．．．光罩

2．．．透明基材

3．．．遮光膜

4、4a．．．光罩圖案

5．．．觀察窗

6．．．彩色濾光片基板

7．．．黑色矩陣框

8、8a．．．像素

10．．．反射防止膜

11．．．基板側對準標記

12．．．光罩側對準標記

12a．．．基準標記

9、13．．．區域

14．．．波長選擇性膜

15．．．曝光區域

16．．．對準確認標記

S1、S2．．．基準位置

L．．．距離

2c、2d、2e．．．端部

2a、2b．．．面

A、B、C．．．箭頭

圖1為表示本發明之光罩之實施形態的平面圖。

圖2為圖1之X－X線剖面圖。

圖3為圖1之Y－Y線剖面圖。

圖4為表示位於上述光罩對面且被搬送之彩色濾光片基板之一構造例之平面圖。

圖5為用於說明使上述光罩與彩色濾光片基板之位置對準的圖，為表示調整前之狀態的說明圖。

圖6為用於說明使上述光罩與彩色濾光片基板之位置對準的圖，為表示調整後之狀態的說明圖。

圖7為用於說明使上述光罩與彩色濾光片基板之位置對準的圖，為表示曝光執行中之微調的說明圖。

1．．．光罩

2．．．透明基材

3．．．遮光膜

4、4a．．．光罩圖案

5．．．觀察窗

9．．．區域

12．．．光罩側對準標記

12a．．．基準標記

13．．．區域

2c、2d、2e．．．端部

S1．．．基準位置

Claims (10)

1. 一種光罩，係由一透明基材與形成於該透明基材之一面上的一遮光膜所構成，其特徵為設有：多個光罩圖案，在上述遮光膜上排列形成於一個方向，以使曝光光線通過；以及一觀察窗，係形成於與上述多個光罩圖案之排列方向成為交叉之側之上述遮光膜處，而可以觀察被設置於對面之一基板之表面。
2. 如申請專利範圍第1項之光罩，其中，在上述透明基材之至少一面上，形成可穿透可見光且可反射或吸收紫外線之一波長選擇性膜，以覆蓋上述觀察窗。
3. 一種光罩，係由一透明基材與形成於該透明基材之一面上的一遮光膜所構成，其特徵為設有：多個光罩圖案，在上述遮光膜上排列形成於一個方向，以使曝光光線通過；一觀察窗，係形成於與上述多個光罩圖案之排列方向成為交叉之側的上述遮光膜處，而可以觀察被設置於對面之一基板之表面；以及一光罩側對準標記，在上述觀察窗內或觀察窗之一端部側，被形成為相對於上述多個光罩圖案中之至少一個而具有一特定的位置關係，而用於與上述基板對準位置。
4. 如申請專利範圍第3項之光罩，其中，在上述透明基材之至少一面上，形成可穿透可見光且可反射或吸收紫外線之 一波長選擇膜，以覆蓋上述觀察窗與光罩側對準標記。
5. 一種曝光方法，係利用一光罩以進行曝光之方法，該光罩設有：多個光罩圖案，於一透明基材之一面上所形成的一遮光膜上排列形成於一方向，以使曝光光線通過；以及一觀察窗，係形成於與上述多個光罩圖案之排列方向成為交叉之側的上述遮光膜處，而可以觀察位於對面且被搬送之一基板之表面；該曝光方法之特徵為包含下列步驟：將上述光罩配置成使上述觀察窗位於面向該基板之搬送方向之近端側之步驟；在與上述多個光罩圖案之排列方向垂直的一方向，搬送塗敷有感光性樹脂之基板的步驟；利用一攝影手段透過上述觀察窗拍攝上述基板表面，以檢測出一基準位置的步驟，該基準位置係相對於該基板所形成之基準圖案被設定於特定的關係位置；以及將上述光罩朝向至與上述基板之搬送方向垂直的方向移動，俾使上述被檢測出之基板的基準位置與上述光罩之多個光罩圖案之任一個之水平距離成為一特定值，以對準上述基板與光罩的位置的步驟。
6. 一種曝光方法，係利用一光罩以進行曝光之方法，該光罩設有：多個光罩圖案，於一透明基材之一面上所形成的一遮光膜上排列形成於一方向，以使曝光光線通過；一觀察窗，係形成於與上述多個光罩圖案之排列方向成 為交叉之側的上述遮光膜處，而可以觀察位於對面且被搬送之一基板之表面；以及一光罩側對準標記，在上述觀察窗內或觀察窗之一端部側，被形成為相對於上述多個光罩圖案中之至少一個具有一特定的位置關係，而用於與上述基板對準位置，該曝光方法之特徵為包含下列步驟：將上述光罩配置成使上述觀察窗位於面向該基板的搬送方向的近端側的步驟；在與上述多個光罩圖案之排列方向垂直的一方向，搬送塗敷有感光性樹脂之基板的步驟；利用一攝影手段透過上述觀察窗拍攝上述基板表面，以檢測出一基準位置的步驟，該基準位置係相對於該基板所形成之基準圖案被設定於特定的關係位置；利用上述攝影手段拍攝上述光罩之該光罩側對準標記，以檢測出其位置的步驟；以及將上述光罩朝向與上述基板之搬送方向垂直的一方向移動，俾使上述被檢測出之基板的基準位置與上述光罩的光罩側對準標記之位置之水平距離成為一特定值，以對準上述基板與光罩的位置的步驟。
7. 如申請專利範圍第6項之曝光方法，其中，檢測上述基板之基準位置的步驟與檢測上述光罩之光罩側對準標記的位置的步驟係同時執行。
8. 如申請專利範圍第6項之曝光方法，其中，上述基板在其一端部形成有一基板側對準標記，該基板側對準標記 係用於與上述光罩之光罩側對準標記對準位置，且與上述基準圖案具有特定的一位置關係。
9. 如申請專利範圍第8項之曝光方法，其中，在搬送上述基板時，是以形成有上述基板側對準標記之端部做為搬送方向之前端側。
10. 如申請專利範圍第9項之曝光方法，其中，使上述光罩朝向與上述基板之搬送方向垂直的方向移動，俾使上述基板側對準標記之位置與上述光罩之光罩側對準標記之位置之水平距離成為一特定值，以進行該基板與光罩之對準位置之粗調後，使上述基板移動，俾使上述基板之基準位置與光罩側對準標記之位置之水平距離成為特定值，以進行該基板與光罩之位置對準。