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KR970705771A - 극화 구조를 사용하는 제어 가능 빔 디렉터(controllable beam director using poled structure) - Google Patents

극화 구조를 사용하는 제어 가능 빔 디렉터(controllable beam director using poled structure)

Info

Publication number
KR970705771A
KR970705771A KR1019970701498A KR19970701498A KR970705771A KR 970705771 A KR970705771 A KR 970705771A KR 1019970701498 A KR1019970701498 A KR 1019970701498A KR 19970701498 A KR19970701498 A KR 19970701498A KR 970705771 A KR970705771 A KR 970705771A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
optical
waveguide segment
waveguide
energy
region
Prior art date
Application number
KR1019970701498A
Other languages
English (en)
Inventor
데이비드 에이. 지. 디콘
마이클 제이. 브링크만
윌리암 케이. 비쉬엘
시몬 제이. 필드
Original Assignee
올리브 리
디콘 리서치
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 올리브 리, 디콘 리서치 filed Critical 올리브 리
Publication of KR970705771A publication Critical patent/KR970705771A/ko

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    • G02B6/24—Coupling light guides
    • G02B6/26—Optical coupling means
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Abstract

새로운 등급의 에너지 상호작용 장치, 특히 광학 에너지 전달 장치 및 에너지 유도 장치는 고체 재료에 에너지 진행을 제어하기 위하여 극화 구조에 인가된 에너지 필드, 특히 전기장을 사용한다. 박막 또는 벌크 구조의 회절 격자를 형성하는 극화 구조는 광학 또는 음향 빔같은 에너지 빔을 유도하기 위하여 도파관 구조와 결합된다. 전기 활성 회전 격자같은 극화 구조에 인가된 전기장은 광학 에너지의 루팅을 제어한다. 광학 장치는 제한되지는 않지만, 극화된 빔 결합기, AM 및 FM 변조기, 모든 선택기, 에너지 전달 장치, 광학 데이터 판독기, 파넬 디스플레이 장치, 및 도파관/반사기 스위칭 어레이뿐 아니라 주파수 선택 스위칭 가능하고 조절할 수 있는 반사기, 분할기, 지향성 결합기, 주파수 조절 스위치, 및 효과적인 빔 결합기를 포함한다. 회절 격자에서 가시적 반사성 및 조절 가능 동조성은 조절 가능한 필드의 영향하에서 극화 구조에 의해 얻어지고, 고체 재료의 조절 가능한 진행 속도의 공간 기울기를 형성한다.

Description

극화 구조를 사용하는 제어 가능 빔 디렉터(CONTROLLABLE BEAM DIRECTOR USING POLED STRUCTURE)
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제3도는 스위치 격자를 사용하는 도파관 역반사기의 실시예를 도시한 도, 제4도는 액정의 동일 면상에 배치된 3개의 전극을 가지는 역반사장치에 대한 전극 구조의 실시예를 도시한 도, 제5도는 두개의 전극이 액정의 동일 면상에 배치되는 동일 장치에 대한 전극 구조의 실시예를 도시한 도.

Claims (142)

  1. 다른 영역의 패턴을 가지는 고체 유전체 재료를 포함하는데, 상기 영역중 적어도 하나의 제1형태를 국화구조이고, 상기 영역중 제2형태와 고대로 적어도 두개의 엘리먼트를 형성하고, 및 상기 고체 유전체 재료와 직면하고 상기 제1형태의 극화 구조의 적어도 구개의 상기 엘리먼트를 브릿지하는 제1전극을 형성하는 적어도 하나의 제1전기 전도 재료를 포함하는 것을 특징으로 하는 패턴화된 극화 유전체 장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 고체 유전체 재료와 직면하는 제2전극을 형성하는 수단을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 패턴화된 극화 유전체 장치.
  3. 제1항에 있어서, 상기 적어도 두개의 엘리먼트는 회절 격자를 형성하는 것을 특징으로 하는 패턴화된 극화 유전체 장치.
  4. 제1항에 있어서, 상기 제2형태의 상기 영역은 상기 제1형태의 상기 영역에 대한 역 감지능력을 가지는 극화 구조인 것을 특징으로 하는 패턴화된 극화 유전체 장치.
  5. 제1항에 있어서, 상기 고체 유전체 재료와 직면하는 제2전극을 형성하는 수단을 더 포함하고, 상기 제1전극 및 상기 제2전극은 상기 고체 유전체 재료의 공통 평면상에 배치되는 것을 특징으로 하는 패턴화된 극화 유전체 장치.
  6. 제1항에 있어서, 상기 고체 유전체 재료와 직면하는 제2전극을 형성하는 수단을 더 포함하고, 상기 제1전극 및 상기 제2전극은 상기 고체 유전체 재료의 반대 평면에 배치되는 것을 특징으로 하는 패턴화된 극화 유전체 장치.
  7. 제1항에 있어서, 상기 고체 유전체 재료를 횡단하는 도파관 세그먼트를 더 포함하고, 상기 적어도 두개의 엘리먼트는 상기 도파관 세그먼트의 횡단부에 배치되는 것을 특징으로 하는 패턴화된 극화 유전체 장치.
  8. 제7항에 있어서, 상기 적어도 두개의 엘리먼트는 상기 도파관 세그먼트의 횡단부에 배치되는 회절 격자를 형성하는 것을 특징으로 하는 패턴화된 극화 유전체 장치.
  9. 제8항에 있어서, 상기 회절 격자는 상기 도파관 엘리먼트 수직으로 배치되어 전기 제어 주파수 선택 역반사기를 형성하는 것을 특징으로 하는 패턴화된 극화 유전체 장치.
  10. 제1항에 있어서, 상기 고체 유전체 재료를 횡단하는 제1도파관 세그먼트; 상기 교체 유전체 재료를 횡단하고 상기 적어도 두개의 엘리먼트를 가지는 교차점에서 상기 도파관 세그먼트와 교차하는 제2도파관 세그먼트를 포함하는데, 상기 적어도 두개의 엘리먼트는 상기 제1도파관 세그먼트 및 상기 제2도파관 세그먼트의 횡단부에 배치되고, 상기 적어도 두개의 엘리먼트는 전기 제어 주파수 선택 빔 결합기를 형성하는 것을 특징으로 하는 패턴화된 극화 유전체 장치.
  11. 제10항에 있어서, 상기 적어도 두개의 엘리먼트는 회절 격자 구조를 형성하고, 상기 회절 격자 구조는 최소 상기 제2도파관 세그먼트에서 에너지의 횡단필드 프로파일과 충돌하는 비균일 특성을 가지는 것을 특징으로 하는 패턴화된 극화 유전체 장치.
  12. 제11항에 있어서, 상기 비균일 특성은 다수의 상기 엘리먼트 사이의 공간 효율 사이클에서 변화인 것을 특징으로 하는 패턴화된 극화 유전체 장치.
  13. 제11항에 있어서, 상기 비균일 특성은 상기 교차점에서 상기 회절격자의 공간 범위에서 변화인 것을 특징으로 하는 패턴화된 극화 유전체 장치.
  14. 제11항에 있어서, 상기 비균일 특성은 상기 회절 격자의 등급에서 변화인 것을 특징으로 하는 패턴화된 극화 유전체 장치.
  15. 제10항에 있어서, 상기 적어도 두개의 엘리먼트는 상기 제1도파관 세그먼트로부터 상기 제2도파관 세그먼트로 광학 에너지를 반사하기 위하여 상기 제1도파관에 대한 각으로 배치되는 것을 특징으로 하는 패턴화된 극화 유전체 장치.
  16. 제1항에 있어서, 상기 고체 유전체 재료의 평면을 따라 상기 고체 유전체 재료를 횡단하는 도파관 세그먼트를 더 포함하고, 상기 적어도 두개의 엘리먼트는 상기 도파관 세그먼트의 횡단부에 배치되고, 상기 적어도 두개의 엘리먼트는 회절격자를 형성하고, 상기 회절 격자는 상기 평면으로부터 상기 도파관 세그먼트로부터 주파수 선택 에너지를 반사하기 위하여 상기 도파관 세그먼트의 횡단부에 배치되는 것을 특징으로 하는 패턴화된 극화 유전체 장치.
  17. 제1항에 있어서, 상기 고체 유전체 재료를 횡단하는 제1도파관 세그먼트; 및 상기 고체 유전체 재료를 횡단하고 상기 제1도파관 세그먼트에 인접하고 교차하지 않는 제2도파관 세그먼트를 포함하는데, 상기 적어도 두개의 엘리먼트는 상기 제1도파관 세그먼트 및 상기 제2도파관 세그먼트의 횡단부에 배치되고, 상기 적어도 두개의 엘리먼트는 전기 제어 주파수 선택 빔 결합기를 형성하는 것을 특징으로 하는 패턴화된 극화 유전체 장치.
  18. 제1전달 상수를 특징으로 하는 제1광학 모드 및 제2전달 상수를 특징으로 하는 제2광학 모드 사이의 광파를 전환하기 위한 제1항에 따른 장치에 있어서, 상기 제1광학 모드 및 상기 제2광학 모드를 형성하기 위한 상기 광학 축을 따른 도파관 세그먼트를 더 포함하고, 상기 적어도 두개의 엘리먼트는 회절 격자를 형성하기 위하여 상기 광학 축의 횡단부에 배치되고, 상기 회절 격자는 제3절단 상수와 연관된 광학 간격을 가지며, 상기 제3절단 상수는 제1절단 상수 및 제2전달 상수 사이의 차이 크기와 동일한 것을 특징으로 하는 패턴화된 극화 유전체 장치.
  19. 제1전달 상수 및 제1극성 상태를 특징으로 하는 제1광학 모드 및 제2전달 상수 및 제2극성 상태를 특징으로 하는 제2광학 모드 사이의 광파를 전환하기 위한 제1항에 따른 장치에 있어서, 상기 제1광학 모드를 형성하기 위한 상기 광학 축을 따른 입력 도파관 세그먼트; 및 최소 상기 제2광학 모드를 형성하기 위한 상기 광학축을 따른 출력 도파관 세그먼트를 포함하고, 상기 적어도 두개의 세그먼트는 회절 격자를 형성하기 위하여 상기 광학 축의 횡단부에 배치되고, 상기 회절 격자는 제3전달 상수와 연관된 광학 간격을 가지며, 상기 제3절단 상수는 제1전달 상수 및 제2전달 상수 사이의 차이 크기와 동일한 것을 특징으로 하는 패턴화된 극화 유전체 장치.
  20. 제1전달 상수 및 제1극성 상태를 특징으로 하는 제1광학 모드 및 제2전달 상수 및 제2극성 상태를 특징으로 하는 제2광학 모드 사이의 광파를 전환하기 위한 제1항에 따른 장치에 있어서, 상기 제1광학 모드에 대한 제1전달 경로; 및 상기 제2광학 모드에 대한 제2전달 경로를 포함하고, 상기 적어도 두개의 엘리먼트는 회절 격자를 형성하기 위하여 상기 광학 축의 횡단부에 배치되고, 상기 회절 격자는 제3전달 상수와 연관된 광학 간격을 가지며, 상기 제3전달 상수는 제1전달 상수 및 제2전달 상수 사이의 차이 크기와 동일한 것을 특징으로 하는 패턴화된 극화 유전체 장치.
  21. 제1항에 있어서, 상기 고체 유전체 재료를 횡단하는 광축을 따라 배치된 광학 증폭기를 포함하는데, 상기 적어도 두개의 엘리먼트는 상기 광축의 횡단부에 배치되고; 및 상기 광학 증폭기 및 상기 고체 유전체 재료 사이의 광학 에너지를 결합하기 위하여 상기 광축을 따라 상기 고체 유전체 재료 및 상기 광학 증폭기 사이에 배치된 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 패턴화된 극화 유전체 장치.
  22. 제21항에 있어서, 상기 적어도 두개의 엘리먼트는 주기성 회절 격자를 형성하고, 상기 광축을 따라 배치된 광학 반사기를 더 포함하고, 상기 광학 증폭기는 상기 반사기 및 상기 고체 유전체 재료 사이에 배치되는 것을 특징으로 하는 패턴화된 극화 유전체 장치.
  23. 제21항에 있어서, 상기 광축을 따라 배치된 광학 반사기를 포함하는데, 상기 광학 증폭기는 상기 광학 반사기 및 상기 광학 유전체 재료 사이에 배치되고; 및 상기 고체 유전체 재료의 상기 광축을 따른 도파관 수단을 포함하고, 상기 광학 증폭기는 반도체 다이오드이고, 상기 광학 결합 수단은 상기 반도체 다이오드 및 상기 도파관 사이에 배치된 결합 및 역반사 수단에 인접하고, 상기 적어도 두개의 엘리먼트는 피드백 미러를 형성하고 적어도 하나의 주파수를 선택하기 위한 주기를 가지는 것을 특징으로 하는 패턴화된 극화 유전체 장치.
  24. 제21항에 있어서, 상기 광축을 따라 배치된 광학 반사기를 포함하는데, 상기 광학 증폭기는 상기 광학 반사기 및 상기 광학 유전체 재료 사이에 배치되고; 및 상기 전기장을 변조하기 위한 변조 제어 수단을 포함하고, 상기 적어도 두개의 엘리먼트는 회절 격자를 형성하고, 상기 광학 결합 수단은 특정 전기장 세기에서 레이저 발진을 억제하기 위하여 반사되지 않는 것을 특징으로 하는 패턴화된 극화 유전체 장치.
  25. 제24항에 있어서, 상기 회절 격자는 상기 제1형태의 영역과 상기 제2형태의 영역을 교대하는 것을 포함하고, 상기 제2형태는 상기 제1형태의 영역에 반대 감지 능력을 가지는 극화 구조이고, 상기 제1형태의 영역을 가로지르는 평균 거리는 상기 광학축을 따른 상기 제2형태의 영역을 가로지르는 평균 거리와 실질적으로 동일한 것을 특징으로 하는 패턴화된 극화 유전체 장치.
  26. 제24항에 있어서, 상기 회절 격자는 상기 제1형태의 영역 및 상기 제2형태의 영역을 교대하는 것을 포함하고, 상기 제2형태는 상기 제1형태의 영역에 반대 감지 능력을 가지는 극화 구조이고, 상기 제1형태의 영역을 가로지르는 평균 거리는 상기 광학축을 따른 상기 제2형태 영역을 가로지르는 평균 거리와 다른 것을 특징으로 하는 패턴화된 극화 유전체 장치.
  27. 제21항에 있어서, 상기 적어도 두개의 엘리먼트는 다수의 전기 광학 계수를 가지는 다수의 형태의 영역으로부터 형성되고, 상기 광학축을 따라 배치된 광학 반사기를 포함하는데, 상기 광학 증폭기는 상기 광학 반사기 및 상기 고체 유전체 재료 사이에 배치되고, 상기 광학 결합 수단은 적어도 두개의 엘리먼트로부터 광학 피드백의 부재시 레이저 발진을 억제하기 위하여 반사되지 않고, 상기 전기 광학 계수의 각 영역 형태에 대한 상기 광학축을 따른 영역 형태를 가로지르는 평균 거리의 모든 영역 형태상에 합은 영과 다른 것을 특징으로 하는 패턴화된 극화 유전체 장치.
  28. 제21항에 있어서, 상기 적어도 두개의 엘리먼트는 회절 격자를 형성하고, 상기 광학축을 따라 배치된 광학 반사기를 포함하는데, 상기 광학 증폭기는 상기 광학 반사기 및 상기 고체 유전체 재료 사이에 배치되고, 및 상기 전기장을 변조하기 위하여 동작하고, 상기 회절 격자 및 상기 광학 반사기 사이의 상호간의 일주 광학통과 시간인 다수의 주파수인 주파수에서 동작되는 것을 특징으로 하는 패턴화된 극화 유전체 장치.
  29. 제1항에 있어서, 상기 고체 유전체 재료를 횡단하는 제1도파관 세그먼트; 상기 제1도파관 세그먼트 및 상기 제2도파관 세그먼트 사이의 광학 결합을 허용하기 위하여 상기 제1도파관 세그먼트에 근접하고 실질적으로 평행한 상기 고체 유전체 재료를 횡단하는 제2도파관 세그먼트를 포함하고, 상기 적어도 두개의 엘리먼트는 상기 제1도파관 세그먼트 및 상기 제2도파관 세그먼트의 횡단부에 배치되고 상기 제1도파관 세그먼트 및 제2도파관 세그먼트중 적어도 하나에서 광학 에너지의 최소 무한소 전자기 필드와 겹치는 것을 특징으로 하는 패턴화된 극화 유전체 장치.
  30. 제29항에 있어서, 상기 적어도 두개의 엘리먼트는 회절 격자를 형성하는 것을 특징으로 하는 패턴화된 극화 유전체 장치.
  31. 제29항에 있어서, 상기 도파관 세그먼트중 상기 하나의 광학 에너지의 최소 무한소 전자기 필드에 대한 그리고 상기 필드에 겹치는 상기 제1 및 제2도파관 세그먼트를 따라 배치된 제2회절 격자를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 패턴화된 극화 유전체 장치.
  32. 다른 도파관에서 광학 에너지를 분리하기 위한 제1항에 있어서, 상기 고체 유전체 재료를 횡단하는 제1도파관 세그먼트; 및 상기 고체 유전체 재료를 횡단하고 상기 제1도파관 세그먼트 및 상기 제2도파관 세그먼트 사이의 광학 결합을 허용하기 위하여 상기 제1도파관 세그먼트의 길이를 따라 적어도 하나의 제1위치 및 제2위치에서 상기 제1도파관 세그먼트에 근접하여 그리고 실질적으로 평행하게 배치된 적어도 하나의 도파관 세그먼트; 상기 적어도 두개의 엘리먼트는 제1주기의 적어도 하나의 제1회절 격자 및 제2주기의 제2회절 격자를 형성하고, 상기 제1회절 격자는 상기 제1도파관 세그먼트 및 제2도파관 세그먼트의 횡단부에 배치되고 상기 제1위치에서 상기 제1도파관 세그먼트 및 상기 제2도파관 세그먼트중 적어도 하나에서 광학 에너지의 최소 무한소 전자기 필드와 겹치고, 상기 제2회절 격자는 상기 제1도파관 세그먼트 및 상기 제2도파관 세그먼트의 횡단부에 배치되고 상기 제2위치에서 상기 제1도파관 세그먼트 및 상기 제2도파관 세그먼트중 적어도 하나에서 광학 에너지의 최소 무한소 전자기 필드와 겹치고, 상기 제1위치에서 상기 제1도파관 세그먼트 및 상기 제2도파관 세그먼트 사이의 상기 광학 결합을 제어하기 위한 제1전극 수단 및 상기 제2위치에서 상기 제1도파관 세그먼트 및 상기 제2도파관 세그먼트 사이의 상기 광학 결합을 제어하기 위한 제2전극 수단을 포함하는 전기장 형성수단; 및 상기 제1전극 수단 및 상기 제2전극 수단을 통하여 전기장의 선택적인 인가를 제어하기 위한 제어 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 패턴화된 극화 유전체 장치.
  33. 제1항에 있어서, 상기 고체 유전체 재료를 횡단하는 제1도파관 세그먼트; 상기 고체 유전체 재료를 횡단하고 상기 적어도 두개의 엘리먼트를 가지는 교차점에서 상기 제1도파관 세그먼트와 교차하는 제2도파관 세그먼트를 포함하는데, 상기 적어도 두개의 엘리먼트는 상기 제1도파관 세그먼트 및 상기 제2도파관 세그먼트의 횡단부에 배치되고, 상기 적어도 두개의 엘리먼트는 회절 격자를 형성하여 상기 제어 주파수 선택 빔 결합기를 형성하고, 상기 회절 격자는 상기 제1도파관 세그먼트로부터 상기 제2도파관 세그먼트로 광학 에너지를 반사하기 위하여 상기 제1도파관 세그먼트에 대한 각으로 배치되고; 입력 경로의 단열적 확장을 상기 회절격자에 형성하는 상기 제1도파관 세그먼트의 제1탭퍼 세그먼트; 및 상기 회절 격자로부터 출력 경로의 단열적 수축을 형성하는 상기 제2도파관 세그먼트의 제2탭퍼 세그먼트를 포함하는 것을 특징으로 하는 패턴화된 극화 유전체 장치.
  34. 제1항에 있어서, 상기 적어도 두개의 엘리먼트는 제1회절 격자를 형성하고, 상기 제1전극은 상기 제1회절 격자에 인접하게 배치되고, 상기 제1회절 격자를 가지는 광학축을 따라 배치된 제2회절 격자를 포함하고, 상기 제1회절 격자는 제2회절 격자의 제2주기와 실질적으로 동일한 상기 광학 축을 따라 적어도 하나의 제1주기를 가지며, 상기 제1회절 격자 및 상기 제2회절 격자는 소정 광학 거리만큼 분리된 것을 특징으로 하는 패턴화된 극화 유전체 장치.
  35. 제1항에 있어서, 상기 적어도 두개의 엘리먼트는 제1회절 격자 및 제2회절 격자를 형성하고, 광학 축을 따르는 제1도파관 세그먼트; 상기 제1도파관 세그먼트 및 상기 제2도파관 세그먼트 사이의 결합을 허용하기위하여 충분히 근접하여 상기 제1도파관 세그먼트에 근접하여 배치된 제2도파관 세그먼트를 포함하는데, 상기 제1회절 격자는 상기 제1도파관 세그먼트에 인접하고 횡단하여 배치되고, 상기 제1전극은 상기 제1회절 격자에 인접하여 배치된 배치되고, 상기 제2회절 격자는 상기 제1도파관 세그먼트에 인접하고 횡단하여 배치되고; 상기 제2회절 격자에 인접하여 제2전극; 및 상기 제1회절 격자 및 상기 제2회절 격자를 통하여 제어 전기장을 이루기 위하여 동작하는 상기 제1전극 및 상기 제2전극 반대편의 전극 수단을 포함하는 데, 상기 제1회절 격자는 상기 제2회절 격자의 제2주기와 실질적으로 같은 상기 광학 축을 따르는 적어도 하나의 제1주기를 가지며, 상기 제1회절 격자 및 상기 제2회절 격자는 소정 광학 거리만큼 분리하는 것을 특징으로 하는 패턴화된 극화 유전체 장치.
  36. 제1항에 있어서, 적어도 두개의 엘리먼트는 적어도 하나의 회절 격자를 형성하고, 광학 축을 따르는 제1도파관 세그먼트; 및 상기 제1도파관 세그먼트 및 상기 제2도파관 세그먼트 사이의 결합을 허용하기 위하여 충분히 근접한 상기 제1도파관 세그먼트에 인접하여 배치되고, 필드 에너지를 다시 일주시키기 위한 밀폐된 경로를 형성하는 제2도파관 세그먼트를 포함하는데, 상기 제1회절 격자는 상기 제1도파관 세그먼트에 인접하고 횡단하여 배치되고, 상기 제1전극은 상기 제1회절 격자에 인접하여 배치되는 것을 특징으로 하는 패턴화된 극화 유전체 장치.
  37. 제1항에 있어서, 상기 적어도 두개의 엘리먼트는 적어도 하나의 제1회절 격자를 형성하고, 광학 축을 따르는 제1도파관 세그먼트; 및 상기 제1도파관 세그먼트 및 상기 제2도파관 세그먼트 사이의 결합을 허용하기 위하여 충분히 근접하여 상기 제1도파관 세그먼트에 인접하여 배치되고, 필드 에너지를 다시 일주시키기 위한 밀폐된 경로를 형성하는 제2도파관 세그먼트를 포함하는데, 상기 제1회절 격자는 상기 제2도파관 세그먼트에 인접하고 횡단하여 배치되고, 상기 제1전극은 상기 제1회절 격자에 인접하여 배치되는 것을 특징으로 하는 패턴화된 극화 유전체 장치
  38. 제1항에 있어서, 상기 적어도 두개의 엘리먼트는 제1회절 격자 및 제2회절 격자를 형성하고, 광학 축을 따르는 제1도파관 세그먼트; 상기 제1도파관 세그먼트 및 상기 제2도파관 세그먼트 사이의 결합을 허용하기 위하여 충분히 근접한 상기 제1도파관 세그먼트에 인접하여 배치된 제2도파관 세그먼트를 포함하는데, 상기 제1회절 격자는 상기 제1도파관 세그먼트에 인접하고 횡단하여 배치되고, 상기 제1전극은 상기 제1회절 격자에 인접하여 배치되고; 상기 제2회절 격자에 인2접하여 배치된 제2전극; 및 상기 제1회절 격자 및 상기 제2회절 격자를 통하여 제어 전기장을 이루기 위한 상기 제1전극 및 상기 제2전극 반대편의 전극 수단을 포함하는데, 상기 제1회절 격자는 상기 제2회절 격자이 제2주기에 실질적으로 똑같은 상기 광학 축을 따라 적어도 하나의 제1주기를 가지며, 상기 제1회절 격자 및 상기 제2회절 격자는 소정 광학 거리에 의해 분리되고, 상기 제어 전기장은 상기 제1회절 격자 및 상기 제1회절 격자를 통하여 인가되는 것을 특징으로 하는 패턴화된 극화 유전체 장치
  39. 제1항에 있어서, 상기 적어도 두개의 엘리먼트는 패턴을 바탕으로 패턴화된 구조를 함께 형성하고, 상기 패턴은 상기 세그먼트 사이의 적어도 하나의 위상 이동을 가지는 다수의 세그먼트 포함하는 것을 특징으로 하는 패턴화된 극화 유전체 장치.
  40. 제1항에 있어서, 상기 적어도 두개의 엘리먼트는 파 진행의 로컬 방향에 횡단하는 경계를 가지며, 상기 경계는 상기 로컬 진행 방향에 관해 각의 선택된 분배로 배치되는 것을 특징으로 하는 패턴화된 극화 유전체 장치.
  41. 제1항에 있어서, 상기 적어도 두개의 엘리먼트는 입력 파의 진행 방향에 대해 횡단하는 3차원 구조에 배치되고, 상기 평면 구조는 상기 입력 파에 관한 출력 파의 위상의 증가에 의해 형성된 위치에서 상기 엘리먼트의 경계를 가져서 스위칭 가능 존 플레이트를 형성하는 것을 특징으로 하는 패턴화된 극화 유전체 장치.
  42. 제41항에 있어서, 상기 3차원 구조는 상기 입력 파 및 상기 출력 파 사이의 파이 위상 차의 정수 배로 경계를 가지는 상기 엘리먼트의 중심이 같은 링을 형성하는 것을 특징으로 하는 패턴화된 극화 유전체 장치.
  43. 제42항에 있어서, 상기 전극은 상기 입력 파의 횡단부에 배치되고 상기 입력 파에 대해 투명하고, 상기 중심이 같은 링은 도파관 종속 초점 길이를 가지는 프레스널 렌즈 구조를 형성하는 것을 특징으로 하는 패턴화된 극화 유전체 장치.
  44. 제1항에 있어서, 진행 파를 포함하기 위한 상기 고체 재료의 도파관을 더 포함하고 상기 적어도 두개의 엘리먼트는 상기 도파관의 경계 근처에 배치되고 상기 도파관으로부터의 에너지 누설을 허용하기 위하여 상기 경계 근처 굴절 인덱스를 변화시키도록 인가된 전기장에 응답하여 동작하는 것을 특징으로 하는 패턴화된 극화 유전체 장치.
  45. 제1항에 있어서, 상기 고체 유전체 재료의 평면을 따라 상기 고체 유전체 재료를 횡단하는 적어도 하나의 화소 도파관 세그먼트; 상기 평면을 따라 상기 고체 유전체 재료를 횡단하고 다수의 교차점에서 상기 화소 도파관 세그먼트에 인접한 다수의 출력 도파관 세그먼트를 포함하는데, 상기 적어도 두개의 엘리먼트는 다수의 전기 제어 광학 에너지를 리디렉터를 형성하고, 각각의 에너지 리디렉터는 상기 교차점중 하나의 횡단부에 배치되고, 상기 에너지 리디렉터는 상기 화소 도파관 세그먼트로부터 상기 출력 도파관 세그먼트로 광학 에너지를 반사하기 위하여 동작하고; 및 상기 평면으로부터 광학 에너지를 투사하기 위한 상기 출력 도파관 수단을 가지는 라인의 상기 평면상 선택된 위치에 배치된 광학 반사기 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 패턴화된 극화 유전체 장치.
  46. 제45항에 있어서, 선택된 교차점에서 상기 적어도 하나의 화소 도파관 세그먼트에 인접한 분배 도파관을 더 포함하고, 상기 교차점의 각각 하나는 광학 에너지를 적어도 하나의 화소 도파관 세그먼트로 반사하기 위한 동작하는 상기 선택된 교차점의 횡단부에 배치된 광학 에너지 루터를 가지는 것을 특징으로 하는 패턴화된 극화 유전체 장치.
  47. 제45항에 있어서, 다수의 전극을 포함하고, 상기 전극중 선택된 전극은 광학 에너지의 경로를 제어하기 위한 상기 교차점에 배치되는 것을 특징으로 하는 패턴화된 극화 유전체 장치.
  48. 제46항에 있어서, 상기 다수의 전극은 로우 및 칼럼 패턴으로 배치되고, 공통 칼럼의 전극은 공통 전기 전도체에 접속되는 것을 특징으로 하는 패턴화된 극화 유전체 장치.
  49. 제46항에 있어서, 상기 광학 에너지 리디렉터는 상기 출력 도파관 수단의 각 교차점에 제공된 다수의 주파수 선택 회절 격자인 것을 특징으로 하는 패턴화된 극화 유전체 장치.
  50. 제46항에 있어서, 상기 광학 에너지 리디렉터는 상기 광학 에너지의 각 선택된 색을 반사하기 위한 다중 주기 회절 격자인 것을 특징으로 하는 패턴화된 극화 유전체 장치.
  51. 제45항에 있어서, 상기 광학 에너지 리디렉터는 상기 광학 에너지를 반사하기 위한 총 내부 반사 수단인 것을 특징으로 하는 패턴화된 극화 유전체 장치.
  52. 제45항에 있어서, 선택된 제1교차점에 한세트의 제1화소 도파관 세그먼트에 인접한 제1분배 도파관을 포함하는데, 상기 제1교차점의 각각 하나는 광학 에너지를 상기 제1화소 도파관 세그먼트에 반사하기 위하여 동작하는 상기 선택된 제1교차점의 횡단부에 배치된 제1광학 에너지 루터를 가지며; 및 선택된 제2교차점에서 한세트의 상기 제2화소 도파관 세그먼트에 인접한 제2분배 도파관을 포함하는데, 상기 제2교차점의 각각 하나는 광학 에너지를 상기 제2화소 도파관 세그먼트에 반사하기 위하여 동작하는 상기 선택된 제2교차점의 횡단부에 배치된 제2광학 에너지 루터를 가지는 것을 특징으로 하는 패턴화된 극화 유전체 장치.
  53. 제1항에 있어서, 상기 고체 유전체 재료의 한 평면을 따라 상기 고체 유전체 재료를 횡단하는 적어도 하나의 화소 도파관 세그먼트; 상기 평면을 따라 상기 고체 유전체 재료를 횡단하고, 다수의 교차점에서 상기 화소 도파관 세그먼트에 인접한 다수의 출력 도파관 세그먼트를 포함하는데, 상기 적어도 두개의 엘리먼트는 다수의 전기 제어 광학 에너지 리디렉터를 형성하고, 각각의 리디렉터는 상기 교차점중 하나의 횡단부에 배치되고, 상기 화소 도파관 세그먼트로부터 상기 출력 도파관 세그먼트로 광학 에너지를 반사하기 위하여 동작하고; 및 상기 출력 도파관 수단을 가지는 라인의 상기 평면상 선택 화소 위치에 배치된 인광 물질 목표 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 패턴화된 극화 유전체 장치.
  54. 제53항에 있어서, 상기 인광물질 목표 수단에 인접한 상기 평면으로부터 광학 에너지를 투사하기 위한 선택된 출력 도파관 수단을 가지는 라인의 상기 평면상 각 화소 위치에 배치된 광학 반사기 수단을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 패턴화된 극화 유전체 장치.
  55. 제1항에 있어서, 상기 광학 여자기에 의해 여기될 결합된 주파수 더블러 수단 및 제1주파수의 광학 여자기를 포함하는 광학 주파수 소스 수단; 상기 고체 유전체 재료의 한 평면을 따라 상기 고체 유전체 재료를 횡단하는 적어도 하나의 회소 도파관 세그먼트; 및 상기 평면을 따라 상기 고체 유전체 재료를 횡단하고, 다수의 교차점에서 상기 화소 도파관 세그먼트에 인접한 다수의 출력 도파관 세그먼트를 포함하는데, 상기 적어도 두개의 엘리먼트는 다수의 전기 제어 광학 에너지 리디렉터를 형성하고, 각각의 리디렉터는 상기 교차점중 하나의 횡단부에 배치되고, 상기 리디렉터는 상기 화소 도파관 세그먼트로부터 상기 출력 도파관 세그먼트로 광학 에너지를 반사하기 위하여 동작하는 것을 특징으로 하는 패턴화된 극화 유전체 장치.
  56. 제55항에 있어서, 상기 주파수 더블러 수단은 상기 유전체 재료의 주기 극화 구조인 것을 특징으로 하는 패턴화된 극화 유전체 장치.
  57. 제1항에 있어서, 상기 고체 재료의 한평면을 따라 상기 고체 유전체 재료를 횡단하는 제1도파관 세그먼트; 상기 평면을 따라 상기 고체 재료를 횡단하고, 다수의 교차점에서 상기 제1도파관 세그먼트에 인접한 다수의 제2도파관 세그먼트를 포함하는데, 상기 적어도 두개의 엘리먼트는 다수의 전기 제어 에너지 리디렉터를 형성하고, 각 에너지 리디렉터는 상기 교차점중 하나의 횡단부에 배치되고, 상기 에너지 리디렉터는 상기 제1도파관 세그먼트 및 상기 제2도파관 세그먼트 사이의 광학 에너지를 반사하기 위하여 동작하고; 상기 평면의 안팎으로 광학 에너지를 투사하기 위한 상기 제2도파관 세그먼트를 가지는 라인의 상기 평면상에 선택된 위치에 배치된 광학 반사기 수단; 및 상기 교차점에서 상기 고체 재료에 직면하는 제1전극을 형성하는 적어도 하나의 제1전기 전도 재료를 포함하는 것을 특징으로 하는 패턴화된 극화 유전체 장치.
  58. 제57항에 있어서, 상기 평면에 인접하게 배치되고, 상기 광학 반사기 수단의 적어도 하나와 정렬된 적어도 하나의 렌즈 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 패턴화된 극화 유전체 장치.
  59. 제58항에 있어서, 한세트의 상기 렌즈 수단은 대략적으로 조준 렌즈의 초점 길이에 의해 상기 광학 반사기 수단으로부터 분리된 조준 렌즈 어레이를 형성하는 것을 특징으로 하는 패턴화된 극화 유전체 장치.
  60. 제58항에 있어서, 상기 렌즈 수단은 대응 이미지 빔 스폿을 가지는 상기 광학 반사기 수단을 결합하기 위하여 동작하는 것을 특징으로 하는 패턴화된 극화 유전체 장치.
  61. 제60항에 있어서, 한세트의 상기 렌즈 수단은 상기 대응 이미지 빔 스폿의 어레이를 가지는 상기 광학 반사기 수단의 어레이를 결합하기 위하여 배열되고, 상기 이미지 빔 스폿은 초점의 실질적으로 공통 평면인 것을 특징으로 하는 패턴화된 극화 유전체 장치.
  62. 제61항에 있어서, 상기 임의의 이미지 빔 스폿으로부터 돌아오는 광학 에너지를 수신하기 위하여 배치된 광학 에너지 검출 수단을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 패턴화된 극화 유전체 장치.
  63. 제59항에 있어서, 임의의 상기 제2도파관 세그먼트로부터 돌아오는 광학 에너지를 수신하기 위하여 배치된 광학 에너지 검출 수단을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 패턴화된 극화 유전체 장치.
  64. 제58항에 있어서, 광학 에너지를 상기 제1도파관 세그먼트에 유도하기 위한 광학 소스; 및 임의의 상기 제2도파관 세그먼트로부터 돌아오는 광학 에너지를 수신하기 위하여 배치된 광학 에너지 검출 수단을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 패턴화된 극화 유전체 장치.
  65. 제58항에 있어서, 광학 에너지를 상기 제1도파관 세그먼트에 유도하기 위한 광학 소스; 상기 광학 반사기 수단이 목표 표면의 데이터 트랙과 정렬된 선택된 위치에 배치되는 임의의 상기 제2도파관 세그먼트로부터 돌아오는 광학 에너지를 수신하기 위하여 배치된 광학 에너지 검출 수단; 및 상기 데이터 트랙중에 전기 스위칭하기 위하여 상기 광학 에너지 리디렉터를 전기적으로 스위칭히가 위한 제어 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 패턴화된 극화 유전체 장치.
  66. 제64항에 있어서, 상기 적어도 하나의 렌즈 수단은 대응 이미지 빔 스폿을 가지는 상기 광학 반사기 수단을 결합하기 위한 포커싱 렌즈를 포함하는 렌즈 어레이를 형성하고, 상기 이미지 빔 스폿은 초점의 실질적으로 공통 평면에 존재하고, 선택된 세트의 상기 포커싱 렌즈는 선택된 위치에 배치되고 목표 표면의 데이터 트랙에 횡단하는 라인을 따라 상기 이미지 빔 스폿을 포커싱하기 위하여 정렬되고, 상기 광학 반사기 수단에 관한 상기 단일 데이터 트랙의 운동중에 단일 데이터 트랙을 따르기 위한 광학 반사기수단을 선택하기 위하여 상기 리디렉터를 전기적으로 제어하기 위한 제어 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 패턴화된 극화 유전체 장치.
  67. 제65항에 있어서, 상기 제어 수단은 단일 데이터 트랙과 결합된 다수의 상기 리디렉터가 동시에 활성화 되도록 상기 리디렉터의 조절 가변 동작을 포함하기 위한 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 패턴화된 극화 유전체 장치.
  68. 제1항에 있어서, 상기 고체 유전체 재료의 한평면을 따라 상기 고체 유전체 재료를 횡단하는 적어도 하나의 제1도파관 세그먼트; 및 상기 평면을 따라 상기 고체 재료를 횡단하고, 다수의 교차점에서 상기 제1도파관 세그먼트와 만나는 다수의 제2도파관 세그먼트를 포함하는데, 상기 제1 및 제2엘리먼트는 상기 교차점의 횡단부에 배치되고 상기 교차점중 선택된 하나에 인접한 전기장의 인가중에 상기 제1도파관 세그먼트 및 선택된 상기 제2도파관 사이에 광학 에너지를 제어 반사하기 위한 상기 제1전극에 의해 제어되는 전기 제어 가능한 광학 에너지 리디렉터를 형성하는 것을 특징으로 하는 패턴화된 극화 유전체 장치.
  69. 제68항에 있어서, 상기 교차점에서 상기 고체 재료와 직면하는 다수의 전극; 및 상기 전기 제어 가능 리디렉터 수단의 전기장을 선택적으로 제어하기 위하여 전위 소스와 전기 접속하기 위한 상기 전극에 결합된 전기 접촉부를 포함하는 것을 특징으로 하는 패턴화된 극화 유전체 장치.
  70. 제68항에 있어서, 상기 교차점중 선택된 하나에서 상기 적어도 하나의 제1도파관 세그먼트에 인접한 분배 도파관을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 패턴화된 극화 유전체 장치.
  71. 제68항에 있어서, 적어도 하나의 선택된 광학 입력 위치 및 상기 제1 및 제2도파관 세그먼트에 결합된 적어도 하나의 레이저 소스를 포함하는 것을 특징으로 하는 패턴화된 극화 유전체 장치.
  72. 제68항에 있어서, 상기 제1 및 제2도파관 세그먼트의 적어도 하나의 광학 입력 위치에 접속된 배치된 광학 검출 수단을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 패턴화된 극화 유전체 장치.
  73. 제68항에 있어서, 단일 도파관 세그먼트와 결합된 다수의 상기 리디렉터가 동시에 활성화되도록 상기 리디렉터 수단의 조절 가변 동작을 포함하는 제어수단을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 패턴화된 극화 유전체 장치.
  74. 제68항에 있어서, 주파수 선택 회절 격자는 상기 제1 및 제2도파관 세그먼트의 선택된 교차점에 제공되는 것을 특징으로 하는 패턴화된 극화 유전체 장치.
  75. 제68항에 있어서, 상기 에너지 리디렉터의 선택된 하나는 광학 에너지의 각 선택 도파관을 동시에 반사하기 위하여 동작하는 다중 주기 회절 격자인 것을 특징으로 하는 패턴화된 극화 유전체 장치.
  76. 제68항에 있어서, 상기 에너지 리디렉터중 선택된 하나는 광학 에너지의 각 선택 도파관을 동시에 반사하기 위하여 동작하는 총 내부 반사 수단인 것을 특징으로 하는 패턴화된 극화 유전체 장치.
  77. 제68항에 있어서, 선택된 제1교차점에서 한세트의 상기 제1화소 도파관에 인접한 제1분배 도파관을 포함하는데, 상기 제1교차점의 각각 하나는 광학 에너지를 상기 제1화소 도파관 세그먼트로 반사하기 위하여 동작하는 상기 선택된 제1교차점의 횡단부에 배치된 제1에너지 루터를 가지며; 및 선택된 제2교차점에서 제2세트의 상기 화소 도파관 세그먼트에 인접한 제2분배 도파관을 포함하는데, 상기 제2교차점의 각각 하나는 광학 에너지를 상기 제2화소 도파관 세그먼트로 반사하기 위하여 동작하는 선택된 제2교차점의 횡단부에 배치된 제2광학 에너지 루터를 가지며, 상기 제1도파관 세그먼트는 상기 제2도파관 세그먼트가 삽입되는 것을 특징으로 하는 패턴화된 극화 유전체 장치.
  78. 에너지 빔을 가지는 상호작용 주파수를 조절하기 위한 패턴 극화 전기 장치에 있어서, 다른 영역의 패턴을 가지는 고체 유전체 재료를 포함하고, 적어도 하나의 제1형태의 영역은 극화 구조이고 제2형태의 영역을 교대하는 적어도 두개의 엘리먼트를 형성하고, 상기 적어도 두개의 엘리먼트는 전기장의 존재시, 상기 빔 진행축을 따라 위상 속도의 평균 변화와 연관된 굴절 위상 속도의 패턴화 변화를 생성하는 패턴화 구조를 형성하기 위한 빔 진행 축을 따라 간격지는 것을 특징으로 하는 패턴화된 극화 유전체 장치.
  79. 제78항에 있어서, 상기 패턴화 구조는 주기적인 것을 특징으로 하는 패턴화된 극화 유전체 장치.
  80. 제78항에 있어서, 상기 패턴화 구조는 다수의 다른 주기를 포함하는 것을 특징으로 하는 패턴화된 극화 유전체 장치.
  81. 제78항에 있어서, 상기 패턴화 구조는 총내부 반사 인터페이스를 포함하는 것을 특징으로 하는 패턴화된 극화 유전체 장치.
  82. 제78항에 있어서, 상기 패턴화 구조는 상기 세그먼트 사이의 적어도 한 위상을 가지는 다수의 세그먼트를 가지는 패턴을 바탕으로 하는 것을 특징으로 하는 패턴화된 극화 유전체 장치.
  83. 제78항에 있어서, 상기 제2형태의 영역은 상기 제1형태의 영역에 대한 역감지능력을 가지는 극화 구조이고, 상기 제1형태의 영역을 가로지르는 평균 물리적 거리 및 상기 제1형태의 위상 속도 변화의 적은 상기 제2형태의 영역을 가로지르는 평균 물리적 거리 및 상기 빔 진행축을 따라 상기 제2형태의 영역의 위상 속도 변화의 적과 다른 것을 특징으로 하는 패턴화된 극화 유전체 장치.
  84. 제78항에 있어서, 상기 제2형태의 영역은 임의의 영역 구조인 것을 특징으로 하는 패턴화된 극화 유전체 장치.
  85. 제78항에 있어서, 상기 제2형태의 영역은 전기 활성이 상기 제1형태의 영역과 비교하여 감소되는 전기 활성 재료인 것을 특징으로 하는 패턴화된 극화 유전체 장치.
  86. 제78항에 있어서, 상기 에너지 빔은 광학 빔이고, 상기 빔 진행 축을 따르는 도파관 세그먼트를 더 포함하고, 상기 위상 속도의 평균 변화는 상기 도파관 세그먼트를 따라 효과적인 굴절 인덱스의 평균 변화와 연관되는 것을 특징으로 하는 패턴화된 극화 유전체 장치.
  87. 제86항에 있어서, 상기 광학 빔과 상호작용하기 위한 상기 빔 진행 축에 인접한 제2패턴화 구조를 형성하는 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 패턴화된 극화 유전체 장치.
  88. 에너지 빔을 가지는 상호작용 주파수를 조절하기 위한 패턴 극화 유전체 장치에 있어서, 다른 영역의 패턴을 가지는 고체 유전체 재료를 포함하는데, 적어도 하나의 제1형태 영역은 극화 구조이고 제2형태의 영역을 가지는 교대하는 적어도 두개의 엘리먼트를 형성하고, 상기 적어도 두개의 엘리먼트는 빔 진행 축을 따라 간격지고; 클래딩으로서 상기 도파관과 직면하에 배치된 전기장 감지 재료; 상기 클래딩과 직면하는 제1전극을 형성하는 적어도 하나의 제1전기 전도재료; 및 상기 유전체 재료 및 클래딩 재료를 통하여 전기장을 형성하기 위한 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 패턴화된 극화 유전체 장치.
  89. 광학 빔을 가지는 상호작용 주파수를 조절하기 위한 패턴 극화 유전체 장치에 있어서, 다른 영역의 패턴을 가지는 고체 유전체 재료를 포함하는데, 적어도 하나의 제1형태 영역은 극화 구조이고 제2형태의 영역과 교대하는 적어도 두개의 엘리먼트를 형성하고, 상기 적어도 두개의 엘리먼트는 전기장의 존재시 굴절 인덱스를 변화하는 패턴 구조를 형성하기 위하여 광학축을 따라 간격지고; 상기 패턴화 구조를 통한 상기 광학 축을 따른 도파관; 클래딩으로서 상기 도파관과 직면하에 배치된 전기 광학 재료; 상기 클래딩과 직면하는 제1전극을 형성하는 적어도 하나의 제1전기 전도재료; 상기 유전체 재료 및 상기 클래딩 사이에 배치된 제2전극을 형성하는 적어도 하나의 제2전기 전도 재료; 및 상기 제1전극 구조를 사용하여 상기 클래딩을 통한 상기 제1전기장을 형성하고 상기 유전체 재료를 통한 상기 제2전기장을 형성하기 위한 수단을 포함한 것을 특징으로 하는 패턴화된 극화 유전체 장치.
  90. 다른 영역의 패턴을 가지는 고체 유전체 재료를 포함하는데, 적어도 하나의 제1형태 영역은 극화 구조이고 제2형태의 영역과 교대하는 적어도 두개의 엘리먼트를 형성하고; 상기 고체 유전체 재료와 직면하고 상기 제1형태의 극화 구조의 적어도 두개의 엘리먼트와 브릿지하는 제1전극을 형성하는 적어도 하나의 제1전기 전도재료; 상기 패턴의 제2패턴에서 상기 고체 유전체 재료와 직면하고 제1형태의 극화 구조의 적어도 두개의 상기 엘리먼트와 브릿지하는 제2전극을 형성하는 적어도 하나의 제2전기 전도 재료; 및 상기 제1전극 및 상기 제2전극에 결합된 전기장 형성 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 패턴화된 극화 유전체 장치.
  91. 제90항에 있어서, 상기 패턴은 광학 경로를 따라 다른 주기를 가짐으로써 다중 주파수 장치를 형성하는 것을 특징으로 하는 패턴화된 극화 유전체 장치.
  92. 다른 영역의 패턴을 가지는 고체 무기 재료를 포함하는데, 적어도 하나의 제1형태 영역은 제2형태의 영역에 인접한 극화 구조이고; 및 상기 고체 무기 재료와 직면한 제1전극을 형성하는 적어도 하나의 제1전기 전도 재료를 포함하는 것을 특징으로 하는 패턴화된 극화 유전체 장치.
  93. 제92항에 있어서, 상기 무기 재료와 직면하는 제2전극을 형성하는 수단을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 패턴화된 극화 유전체 장치.
  94. 제92항에 있어서, 상기 적어도 하나의 제1형태 영역은 전기 제어 광학 굴절 구조를 형성하는 것을 특징으로 하는 패턴화된 극화 유전체 장치.
  95. 제92항에 있어서, 상기 적어도 하나의 제1형태 영역은 전기 제어 광학 굴절 구조를 형성하는 것을 특징으로 하는 패턴화된 극화 유전체 장치.
  96. 제95항에 있어서, 상기 광학 굴절 구조는 렌즈인 것을 특징으로 하는 패턴화된 극화 유전체 장치.
  97. 제92항에 있어서, 상기 적어도 하나의 제1형태 영역은 전기 제어 광학 굴절 및 분배 구조를 형성하는 것을 특징으로 하는 패턴화된 극화 유전체 장치.
  98. 제92항에 있어서, 상기 제2형태의 영역은 상기 제1형태 영역에 대해 역감지 능력을 가지는 극화 구조인 것을 특징으로 하는 패턴화된 극화 유전체 장치.
  99. 제92항에 있어서, 상기 제2형태의 영역은 전기 광학 활성이 상기 제1형태의 영역과 비교하여 감소되는 전기 광학 재료인 것을 특징으로 하는 패턴화된 극화 유전체 장치.
  100. 다른 영역의 패턴을 가지는 고체 유전체 재료를 포함하는데, 적어도 하나의 제1형태 영역은 극화 구조이고 제2형태 영역과 교대하는 적어도 두개의 엘리먼트를 형성하고, 상기 제2형태의 영역은 상기 제1형태 영역에 대해 역 감지 능역을 가지며; 상기 고체 유전체 재료와 직면하고 상기 제1형태의 극화 구조의 적어도 두개의 상기 엘리먼트와 브릿지하는 제1전극을 형성하는 적어도 하나의 제1전기 전도 재료; 및 제2전극을 형성하는 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 패턴화된 극화 유전체 장치.
  101. 제100항에 있어서, 상기 적어도 두개의 엘리먼트는 회절 격자를 형성하는 것을 특징으로 하는 패턴화된 극화 유전체 장치.
  102. 다른 영역의 셀을 포함하는 고체 유전체 재료를 포함하는데, 제1형태의 영역은 극화 구조이고, 상기 셀은 입력 광학 경로를 따라 제2축에 횡단하는 제1축에 평행한 적어도 하나의 제1로우 및 상기 제2로우는 제2로우에 배치되고, 상기 셀은 제1도파관에 아주 작게 관련된 제1주기에 의해 최소 제1로우를 따라 분리되고, 상기 제1로우 및 상기 제1도파관에 아주 작게 관련된 제2주기에 의해 분리되고; 및 상기 고체 유전체 재료와 직면하고 적어도 두개의 상기 로우와 브릿지하는 제1전극을 형성하는 적어도 하나의 제1전기 전도 재료를 포함하는 것을 특징으로 하는 전기 제어가능 체적 회절 격자.
  103. 제102항에 있어서, 상기 제1축에 평행하게 배치된 상기 셀의 적어도 하나의 제3로우, 및 상기 제1축에 평행하게 배치된 상기 셀의 제4로우를 더 포함하고, 상기 제3로우의 셀은 상기 도파관에 아주 약간 관련된 제3주기에 의해 상기 제3로우를 따라 분리되고, 상기 제4로우의 상기 셀은 상기 제3주기에 의해 상기 제4로우를 따라 분리되고, 상기 제3로우 및 상기 제4로우는 상기 제2도파관에 아주 약간 관련된 제4주기에 의해 분리되는 것을 특징으로 하는 전기 제어가능 체적 회절 격자.
  104. 다른 영역의 패턴을 가지는 고체 재료를 포함하는데, 적어도 하나의 제1형태 영역은 극화 구조이고 상기 제2형태의 영역과 교대하는 적어도 3개의 엘리먼트를 형성하고, 상기 엘리먼트는 셀을 형성하고, 상기 셀은 제1축을 따른 제1공간 주파수 스펙트럼 및 제2축을 따른 제2공간 주파수 스펙트럼을 가지는 이차원 회절격자 구조를 형성하는 광학 경로의 제1 및 제2비평행 축 횡단부를 따라 서로 분리되고; 및 상기 고체 유전체 재료와 직면하고 적어도 3개의 엘리먼트와 브릿지하는 제1전극을 형성하는 적어도 하나의 제1전기 전도 재료를 포함하는 것을 특징으로 하는 전지 제어가능 체적 회절 격자.
  105. 다른 영역의 셀을 포함하는 고체 유전체 재료를 포함하는데, 제1형태의 영역은 극화 구조이고, 상기 셀은 상기 이차원 패턴을 횡단하는 직선을 따라 형성된 공간 주파수 스펙트럼을 특징으로 하는 이차원 패턴으로 배치되고, 상기 직선이 상기 이차원 패턴을 가로질러 이동할 때 상기 주파수와 대칭 방식으로 변화하고; 및 상기 고체 유전체 재료와 직면하고 적어도 두개의 상기 로우와 브릿지하는 제1전극을 형성하는 적어도 하나의 제1전기 전도 재료를 포함하는 것을 특징으로 하는 전기 제어가능 체적 회절 격자.
  106. 다른 영역의 셀에 의해 형성된 적어도 하나의 회절 격자를 포함하는 고체 유전체 재료를 포함하는데, 제1형태의 영역은 극화 구조이고, 상기 셀은 입력 광학 경로를 따라 제2축의 제1축 횡단부 평행한 적어도 하나의 제1로우 및 제2로우에 배치되고, 상기 셀은 제1도파관에 약간 관련된 제1주기에 의해 최소 제1로우를 따라 분리되고, 상기 제1로우 및 상기 제2로우는 상기 제1도파관에 약간 관련된 제2주기에 의해 분리되고; 목표 지역내에 있고, 상기 회절 격자에 관련하여 배치시킴으로써 형성된 선택된 도파관에서 광학 에너지의 존재를 감지하기 위하여 배열된 적어도 하나의 광학 센서; 및 상기 고체 유전체 재료와 직면하고 적어도 두개의 상기 로우에 브릿지하는 제1전극을 형성하는 적어도 하나의 제1전기 전도 재료를 포함하는 것을 특징으로 하는 전기 제어가능 체적 회절 격자.
  107. 제106항에 따른 스펙트럼 분석기에 있어서, 상기 고체 재료의 평면의 소정 두께내에 광학 에너지를 형성하기 위한 상기 고체 재료의 평면 도파관 수단을 포함하는데, 상기 평면은 상기 광학 경로를 포함하고 상기 회절 격자의 횡단부이고; 상기 회절 격자의 출력에서 상기 광학 경로에 배치된 입력 렌즈를 포함하는 것을 특징으로 하는 스펙트럼 분석기.
  108. 광학 빔 루팅 장치에 있어서, 상기 고체 재료의 평면을 따라 상기 고체 재료를 횡단하는 적어도 하나의 입력 광학축; 상기 평면을 따라 상기 고체 재료를 횡단하고, 교차점에서 상기 입력 광학축에 인접하는 적어도 하나의 출력 광학 축; 제1전극을 형성하고, 상기 교차점에서 상기 고체 재료와 직면하는 적어도 하나의 제1전기 전도 재료; 및 상기 교차점의 횡단부에 배치되고 전기장의 인가중 상기 입력 광학 축으로부터 상기 출력 광학 축으로 광학 에너지를 제어적으로 반사하기 위하여 상기 제1전극에 의해 제어되는 전기 제어가능 광학 에너지 반사기 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 빔 루팅 장치.
  109. 적어도 하나의 제1형태 시변 에너지 필드 및 제2형태 시변 에너지 필드 사이에서 상호작용하기 위한 구조에 있어서, 상기 제1형태의 시변 에너지 필드에 대한 적어도 하나의 제1진형 경로를 포함하기 위한 고체 무기 재료; 고체 재료내에 있고, 교대하는 영역으로 형성된 안정한 패턴 극화 지역을 포함하는데, 적어도 하나의 영역은 지향성으로 순서가 이루어진 형태이고, 상기 패턴은 상기 제1형태의 시변 에너지 필드 및 상기 제2형태의 시변 에너지 필드와 상호작용하기 위하여 동작하고; 및 상기 패턴화 극화 지역내의 두개의 시변 에너지 필드 사이에 에너지의 전달을 이루기 위한 상기 제2형태의 시변 에너지 필드에 의해, 상기 패턴 극화 지역과 상호 작용하기 위한 상기 패턴 극화 지역에 인접하고 극화되도록 배치된 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 구조.
  110. 제109항에 있어서, 상기 제1형태의 시변 에너지 필드는 상기 고체 무기 재료쪽으로 진행 경로를 따라 향해진 제1광학 필드이고 상기 제2형태의 시변 에너지 필드는 전기장이고, 상기 안정한 패턴 극화 지역은, 전기장 제어 가능 에너지 리디렉터를 포함하는데, 상기 상호 작용 수단은, 전극 구조를 포함하는 것을 특징으로하는 구조.
  111. 제110항에 있어서, 제3형태의 시변 에너지 필드는 제2광학 필드이고, 상기 고체 무기 재료는, 상기 제2광학 필드에 대한 제2진행 경로를 더 포함하고, 상기 전기장은 상기 제1광학 필드 및 제2광학 필드 사이의 에너지 전달을 제어하기 위하여 동작하는 것을 특징으로 하는 구조.
  112. 제111항에 있어서, 상기 제1광학 필드는 상기 제2광학 필드의 단하나의 소스이고 상기 상호작용 수단은 상기 제1광학 필드의 에너지를 상기 제2광학 필드에 전달하기 위한 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 구조.
  113. 제110항에 있어서, 제3형태의 시변 에너지 필드는 제2광학 필드이고, 상기 고체 무기 재료는 상기 제2광학 필드에 대한 제2진행 경로이고, 상기 전기장은 상기 제1광학 필드 및 상기 제2광학 필드 사이에 상호작용을 검출하는 것을 특징으로 하는 구조.
  114. 제109항에 있어서, 상기 제1형태의 시변 에너지 필드는 상기 고체 무기 재료쪽으로 진행 경로를 따라 인가된 제1광학 필드이고, 상기 제2형태의 시변 에너지 필드는 기계적 스트레인 필드이고, 제3형태의 시변 에너지 필드는 제2광학 필드이고, 상기 안정한 패턴 국화 지역은 스트레인 필드 제어가능 광학 에너지 리디렉터 구조이고, 상기 고체 무기 재료는 상기 제2광학 필드에 대한 제2진행 경로를 포함하고, 상기 기계적 스트레인 필드는 상기 제1광학 필드 및 상기 제2광학 필드 사이의 에너지 전달을 제어하기 위하여 동작하는 것을 특징으로 하는 구조.
  115. 제109항에 있어서, 상기 제1형태의 시변 에너지 필드는 상기 고체 무기 재료의 진행 경로를 따라 음향필드이고 상기 제2형태의 시변 에너지 필드는 전기장이고, 상기 안정한 패턴 극화 지역은 주기 회절 격자 구조를 포함하고 상기 상호작용 수단은 전극 구조를 포함하는 것을 특징으로 하는 구조.
  116. 제115항에 있어서, 상기 전기장은 상기 제1음향 필드 및 상기 회절 격자 구조 사이의 상호작용을 검출하는 것을 특징으로 하는 구조.
  117. 제109항에 있어서, 상기 제1형태의 시변 에너지 필드는 상기 고체 무기 재료의 진행 경로를 따른 제1음향 필드이고, 상기 제2형태의 시변 에너지 필드는 전기장이고 제3형태의 시변 에너지 필드는 제2음향 필드이고, 상기 고체 무기 재료는, 상기 제2음향 필드에 대한 제2진행 경로이고, 상기 전기장은 상기 제1음향 필드 및 상기 제2음향 필드 사이에서 에너지 전달을 제어하기 위하여 동작하고, 상기 안정한 패턴 극화 지연은 주기 회절 격자 구조를 포함하고, 상기 상호작용 수단은 전극 구조를 포함하는 것을 특징으로 하는 구조.
  118. 제117항에 있어서, 상기 영역은 영역 사이의 경계에 인터페이스를 형성하고 상기 인터페이스 사이의 간격은 상기 인터페이스의 제1음향 필드오프의 반사 파를 상기 인터페이스상에 입사하는 음향 파와 관련하여 선택된 위상을 가지는 것을 특징으호 하는 구조.
  119. 제118항에 있어서, 상기 반사된 파 및 상기 입사 파는 상기 제1 및 제2진행 경로중 선택된 하나를 따라 서로 강화되는 것을 특징으로 하는 구조.
  120. 제118항에 있어서, 상기 반사된 파 및 상기 입사파는 상기 제1 및 제2진행 경로 중 선택된 하나를 따라 서로 파괴적으로 인터페이스하는 것을 특징으로 하는 구조.
  121. 광학 빔 지향성 엘리먼트에 있어서, 광학 에너지를 전달하기 위한 고체 재료; 상기 고체 재료와 직면하는 제1전극을 형성하는 적어도 하나의 제1전기 전도 재료; 상기 고체 재료의 한 평면을 따라 상기 고체 재료를 횡단하는 입력 도파관 세그먼트; 상기 평면을 따라 상기 고체 재료를 횡단하는 다수의 출력 도파관을 포함하는데, 적어도 하나의 상기 출력 도포관 세그먼트는 제1교차 지역에서 상기 입력 도파관 세그먼트로 횡단하고; 및 상기 제1교차 지역에 배치되고, 상기 제1전극으로부터 전기 필드의 선택적인 인가중에 상기 입력 도파관 세그먼트로부터 상기 출력 도파관 세그먼트로 광학 에너지를 반사하기 위하여 동작하는 상기 전기 제어 가능 광학 에너지 리디렉터를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 빔 지향성 엘리먼트.
  122. 적어도 하나의 제2교차 지역에서 제공하기 위하여 제121항에 따른 상기 세그먼트중 적어도 하나를 사용하는 광학 빔 루팅 구조에 있어서, 상기 제2교차 지역에서 적어도 하나의 상기 엘리먼트중 상기 입력 도파관 세그먼트에 인접한 분배 도파관을 더 포함하는데, 각각의 상기 제2교차 지역은 광학 에너지를 상기 입력 도파관 세그먼트에 다시 루팅하기 위하여 상기 제2교차 지역에 배치된 전기 제어 가능 광학 에너지 루터를 가지는 것을 특징으로 하는 광학 빔 루팅 구조.
  123. 제122항에 있어서, 다수의 상기 제1전극을 포함하고, 상기 제1전극중 선택된 것은 광학 에너지의 경로를 제어하기 위한 상기 제1 및 제2교차 지점에 배치되는 것을 특징으로 하는 광학 빔 루팅 구조.
  124. 제123항에 있어서, 상기 다수의 상기 제1전극은 로우 및 칼럼 패턴에 배치되고, 공통 칼럼의 제1전극은 필드 형성 수단에 결합된 공통 전기 전도체에 접속되는 것을 특징으로 하는 광학 빔 루팅 구조.
  125. 광학 에너지를 전달하기 위한 고체 재료; 상기 고체 재료의 한 평면을 따라 상기 고체 재료를 횡단하는 분배 도파관 세그먼트; 상기 고체 재료의 평면을 따라 상기 고체 재료를 횡단하고 교차 지역에서 상기 분배 도파관 세그먼트에 인접한 적어도 하나의 도파관 세그먼트; 상기 교차 지역에 배치되고, 상기 분배 도파관 세그먼트로부터 상기 입력 도파관 세그먼트로 상기 광학 에너지의 일부를 반사하기 위하여 동작하는 고정된 광학 에너지 리디렉터; 및 상기 광학 에너지의 상기 부분을 각각 변조하기 위한 상기 적어도 하나의 입력 도파관 세그먼트에 대한 광학 변조기를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 빔 어레이 구조.
  126. 광학 에너지를 전달하기 위한 고체 재료; 상기 고체 재료에 직면하는 제1전극을 형성하는 적어도 하나의 전기 전도재료; 상기 고체 재료의 한 평면을 따라 상기 고체 재료를 횡단하는 입력 도파관 세그먼트; 상기 평면을 따라 상기 고체 재료를 횡단하고, 제1교차 지역에서 상기 입력 도파관 세그먼트로 횡단하는 다수의 출력 도파관 세그먼트; 및 상기 제1교차 지역에 배치되고, 상기 제1전극으로부터 기장을 선택적으로 인가하는 중에 상기 입력 도파관 세그먼트로부터 상기 출력 도파관 세그먼트로 광학 에너지를 반사하기 위하여 동작하는 전기 제어 가능 광학 에너지 리디렉터를 포함하는데, 상기 광학 에너지 리디렉터는, 상기 전극으로부터 상기 전기장의 인가에 응답하여 유도할 수 있는 굴절 분배의 정지 인덱스 및 굴절 분배 제1여기 인덱스 범위를 특징으로 하는 제1극회 지역; 및 상기 전기장의 인가에 응답하여 유도할 수 있는 굴절 분배 범위의 제2여기 인덱스 및 굴절의 제2정지 인덱스 범위를 특징으로 하는 제2지역을 포함하는데, 상기 제2지역은 반사 경계를 따라 상기 제1극화 지역에 병치되고, 상기 제1인덱스는 상기 전기장의 인가에 응답하여 출력 방향으로 선택적으로 광학 에너지를 다시 지향시키기 위하여 상기 반사 경계를 가로질러 굴절 인덱스의 효과적인 차이를 생성하기 위하여 상기 제2인덱스의 변화와 다르게 변화하는 것을 특징으로 하는 광학 빔 지향성 엘리먼트.
  127. 제126항에 있어서, 상기 제1 및 제2굴절 인덱스는 극성 감지할 수 있는 것을 특징으로 하는 광학 지향성 엘리먼트.
  128. 제126항에 있어서, 상기 전기 제어 가능 광학 에너지 리디렉터는 전기장의 인가중에 선택된 방향으로 단열적으로 상기 광학 에너지를 전환하기 위하여 공간 구조에 배치된 극화 지역을 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 빔 지향성 엘리먼트.
  129. 제126항에 있어서, 상기 반사 경계는 상기 정지 및 여기 상태중 하나에서 상기 반사 경계를 따라 충분한 효과 깊이의 지역으로 총 내부 반사를 형성하기 위하여 상기 입력 도파관 세그먼트의 중앙 축에 대해 충분히 얇은 각으로 배치되는 것을 특징으로 하는 광학 빔 지향성 엘리먼트.
  130. 제126항에 있어서, 상기 반사 경계는 상기 출력 도파관 세그먼트중 선택된 하나쪽으로 상기 입력 도파관 세그먼트에 인가된 반사된 광학 에너지를 지향시키기 위하여 동작하는 것을 특징으로 하는 광학 빔 지향성 엘리먼트.
  131. 제126항에 있어서, 상기 입력 도파관의 측면 경계 및 상기 출력 도파관 세그먼트중 선택된 하나의 입력 경계 사이의 결합 도파관 세그먼트를 형성하기 위하여 상기 전기장의 존재에 응답하는 중간 지역을 더 포함하고, 상기 결합 도파관 세그먼트는 상기 입력 도파관 세그먼트의 중앙축 횡단부를 가지며, 상기 반사 경계는 상기 결합 도파관 세그먼트를 통하여 상기 출력 도파관 세그먼트의 선태된 하나로 상기 입력 도파관 세그먼트에 인가된 반사된 광학 에너지를 지향시키기 위하여 동작하는 것을 특징으로 하는 광학 빔 지향성 엘리먼트.
  132. 제131항에 있어서, 상기 전기장의 부재시 상기 중간 지역은 상기 도파관 경계로부터 발생하는 광학 에너지 손실을 최소화하기 위하여 상기 입력 도파관 세그먼트와 전력하여 스위칭 가능 도파관 경계를 형성하는 굴절 분배 제3인덱스를 특징으로 하는 광학 빔 지향성 엘리먼트.
  133. 제131항에 있어서, 상기 입력 도파관 세그먼트로부터 떨어진 임의의 선택각에서 출력 광학 에너지를 지향하기 위한 상기 출력 방향과 정렬하여 배치된 고정위치 미러를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 빔 지향성 엘리먼트.
  134. 광학 에너지를 전달하기 위한 고체 재료; 상기 고체 재료의 평면을 따라 상기 고체 재료를 횡단하는 제1도파관 세그먼트; 상기 고체 재료를 횡단하는 제2도파관 세그먼트; 상기 제1도파관 세그먼트를 가지는 제1교차 지역에 배치되고, 제1전기장의 선택적인 인가중에 상기 제1도파관 세그먼트로부터 광학 에너지를 반사하기 위하여 동작하는 제1전기 제어 가능 광학 에너지 리디렉터; 상기 제2도파관 세그먼트를 가지는 제2교차 지역에 배치되고, 제2전기장의 선택적인 인가중에 상기 광학 에너지를 상기 제2도파관 세그먼트에 반사하기 위하여 동작하는 제2전기 제어가능 광학 에너지 리디렉터를 포함하는데, 상기 제1 및 제2광학 에너지 리디렉터는, 상기 전극으로부터 상기 전기장의 인가에 응답하여 유도할 수 있는 굴절의 제1여기 인덱스 및 굴절의 제1정지 인덱스 범위를 특징으로 하는 제1극화 지역; 및 상기 전기장의 인가에 응답하여 유도할 수 있는 굴절 분배 범위의 제2여기 인덱스 및 굴절의 제2정지 인덱스 범위를 특징으로 하는 제2극화 지역을 포함하는데, 상기 제1인덱스는 선택적으로 광학 에너지를 다시 지향시키기 위한 상기 반사 경계를 따라 굴절 인덱스의 효과적인 차이를 생성하기 위하여 상기 제2인덱스의 변화로부터 다르게 변화할 수 있는 것을 특징으로 하는 광학 빔 지향성 엘리먼트.
  135. 제134항에 있어서, 상기 제1전기 제어가능 광학 에너지 리디렉터 및 상기 제2전기 제어 가능 광학 에너지 리디렉터 사이의 광학 결합을 제공하는 제3도파관 세그먼트를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 빔 지향성 엘리먼트.
  136. 제134항에 있어서, 상기 제1전기 제어 가능 광학 에너지 리디렉터 및 상기 제2전기 제어 가능 광학 에너지 리디렉터 사이의 경로를 따라 광학 에너지를 반사하기 위하여 배치된 고정된 광학 반사기를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 빔 지향성 엘리먼트.
  137. 광학 에너지를 전달하기 위한 고체 재료; 스위칭 지역을 통하여 상기 고체 재료의 평면을 따라 상기 고체 재료를 횡단하는 제1도파관 세그먼트; 상기 평면을 따라 상기 고체 재료를 횡단하고, 상기 제1도파관 세그먼트로 횡단하는 적어도 하나의 제2도파관 세그먼트; 교차 지역에 배치되고, 외부 제어 필드의 선택적인 인가중에 상기 제1도파관 세그먼트 및 상기 제2도파관 세그먼트 사이의 광학 에너지를 결합하기 위한 외부 작동가능 광 에너지 리디렉터; 및 상기 교차 지역 및 상기 제2도파관 세그먼트 사이의 중간 지역을 포함하는데, 상기 중간 지역은 상기 교차 지역의 제1도파관 세그먼트 및 상기 제2도파관 세그먼트의 경계 사이에 결합 도파관 세그먼트를 형성하기 위하여 상기 외부 제어 필드의 존재에 응답하는 것을 특징으로 하는 빔 결합 엘리먼트.
  138. 제137항에 있어서, 상기 외부 제어 필드의 한가지 상태에서, 상기 제1도파관 세그먼트 및 상기 제2도파관 세그먼트 사이에 상기 광학 에너지의 최소 광학 에너지 손실이 있는 것을 특징으로 하는 빔 결합 엘리먼트.
  139. 광학 에너지를 전달하기 위한 고체 재료; 다수의 빔을 전달하기 위한 상기 고체 상태에 재료를 횡단하는 다수의 입력 도파관; 상기 입력 도파관이 서로 밀접한 교차 지역; 상기 교차 지역의 각각의 상기 도파관에서, 각각의 상기 광학 빔의 선택 부분을 다시 지향하기 위한 광학 빔 리디렉터; 및 상기 공통 목표로부터 출력 빔을 수신하기 위하여 결합된 출력 도파관을 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 빔 결합기.
  140. 제139항에 있어서, 적어도 하나의 상기 광학 빔 리디렉터는 외부 인가 필드에 의해 전기 제어가능한 것을 특징으로 하는 광학 빔 결합기.
  141. 제139항에 있어서, 상기 선택 가능한 부분을 수신하기 위한 상기 공통 목표에 광학 집중 엘리먼트를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 빔 결합기.
  142. 비대칭 손실을 가지는 도파관 교차 구조에 있어서, 광학 에너지를 전달하기 위한 고체 재료; 상기 고체 재료내에 있고, 교차 지역에서 굴절 분배 제1인덱스를 가지는 제1도파관 세그먼트; 및 상기 제1도파관 세그먼트를 횡단하는 상기 고체 재료의 제2도파관 세그먼트를 포함하고, 상기 제1도파관 세그먼트를 가지는 상기 교차 지역에 인접한 굴절 분배의 제2인덱스가 상기 제1굴절 분배 인덱스보다 상당히 작은 것을 특징으로 하는 도파관 교차 구조.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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