KR960002628B1 - 세정제조성물 - Google Patents

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Description

세정제조성물

본 발명은 세정제조성물에 관한 것이다. 특히, 본 발명은 피부 및 모발을 세정하는데 적합한 매우 순하고 거품성이 높은 세정제조성물에 관한 것이다.

세정제조성물에 가장 폭넓게 사용되는 음이온계 계면 활성제는 알킬 황산염, 폴리옥시에틸렌 알킬 황산염 및 알킬 벤젠 술폰산염이다. 이러한 화합물은 우수한 거품성과 세정력을 가지는 것으로 알려져 있다. 그러나, 그 거침성 때문에 사람의 피부 및 모발에 국소 도포되는 세정제조성물의 성분으로서는 바람직스럽지 못하다. 특히, 젊거나 유연하거나 손상된 피부의 경우에, 이들 조성물의 손상 효과는 여러해 동안 집중적인 연구의 대상이 되어 왔다.

한편, 보다 순한 활성제는 흔히 소비자에게는 매우 중요한 높은 거품성을 제공하지 못하는 결점이 있다. 그러므로, 매우 순하면서 또한 탁월한 거품 발생 능력을 가지고 있는 제품에 대한 필요성이 강력하게 대두되고 있다.

미합중국 특허 제3,728,447호(C J Patterson)에는 지방산 락틸레이트 또는 글리콜레이트를 함유하는 모발샴푸 조성물에 대해 기재되어 있다. 지방산 락틸레이트를 기재(基材)로 하는 샴푸의 세정 효과는 만족할만한 수준이나 그 거품성은 극미한 수준이다. 보다 높은 거품 효과를 달성하기 위해서는 라우릴 황산나트륨 또는 라우릴 황산 트리에탄올아민과 같은 거친 세제 성분을 함유시키는 것이라고 기재되어 있다. 락틸레이트를 이러한 거품 촉진 세제성분과 함께 사용할 때, 조성물중에 함유되는 락틸레이트의 양은 약 1∼ 2중량%로 감소된다.

EP-A 제224,796호(Kao)에는 (a) 인산염 계면 활성제와 (b) C₁₂-C₁₈아실기를 가지는 아실 락텔레이트를 함유하는 세제조성물이 개시되어 있다. 이 세제조성물은 탁월한 거품 특성 뿐만 아나라 탁월한 세정력을 가지며, 피부 및 모발에 순하다고 기재되어 있다. 이러한 특성은 아실 락틸레이트가 조성물의 5중량%이하, 바람직하게는 3중량% 이하의 양으로 사용될 때에만 달성될 수 있다고 제시되어 있다.

미합중국 특허 제4,761,279호(EastmanKodak)에는 아실 락틸레이트의 염, 포화 모노글리세라이드, 프로필렌글리콜 모노 에스테르 휴멕탄트(humectants)를 함유하는 쉐이빙 크림 조성물이 기재되어 있다.

미합중국 특허 제4 946 823호(RITA Corporation)에는 1∼15중량%의 슈크로즈 지방산 에스테르, 3∼45중량%의 아실 락틸레이트 또는 그 알칼리 금속염 및 솔벤트를 함유하는 화장품 기초 조성물이 기재되어 있다. 이 조성물은 상처 회복을 촉진시키고 피부 건조를 감소시킨다. 그러나, 이 조성물의 거품 특성에 대해서는 보고되어 있지 않다.

본 발명자는 충분한 거품을 일으키는 특성이 추가된, 특히 사람의 피부 또는 모발을 세정하기 위한 순한 세정제조성물을 연구한 결과, 특정의 보조 계면 활성제와 함께 좁은 범위의 아실 락틸레이트를 특정량으로 사용할 때 바람직한 효과를 가져올 수 있다는 기재하지 못하였던 사실을 알게 되었다. 본 조성물은 탁월하게 거품을 일으킬 수 있으며 따라서 소비자들에게 강력한 호감을 준다. 또한, 본 조성물을 순하기 때문에 피부 및 모발 그리고 기타보다 민감한 피부 부위를 세정하는데 안전하게 사용될 수 있다.

따라서, 본 발명은 물이외에 다음과 같은 성분을 함유하는 것을 특징으로 한다.

(a) 다음 구조식(1)의 1종 이상의 아실 락틸레이트 10∼35중량%

(1)

위 식에서, R¹CO는 C₆-C₁₆아실기를 나타내고, a는 1∼3의 정수이며, M¹은 수소 또는 알칼리 금속, 암모늄 또는 하나 이상의 C₁-C₃알킬기 또는 히드록시알킬기를 가지는 치환 암모늄기로부터 선택되는 상대 이온(counter ion)을 나타낸다]

(b) 다음의 화합물(A)∼(O)중에서 선택되는 1종 이상의 보조 계면 활성제5∼25중량%

(A) 다음 구조식(2)의 N-메틸-N-아실 타우레이트

(2)

[위 식에서 R²CO는 C₁₀-C₁₈아실기를 나타내며, M²은 구조식(1)의 M¹과 같다.]

(B) 다음 구조식(3)의 아실이세티오네이트

R³CO-OCH₂CH₂-SO₃M³(3)

위 식에서, R³CO는 C₁₀-C₁₈아실기를 나타내며, M³는 구조식(1)의 M¹과 같다.

(C)다음 구조식(4)의 ω-술폰화 카르복실산의 알킬에스테르

(4)

[위 식에서, R₄는 C₁₀-C₁₈알킬기를 나타내며, M⁴는 구조식(1)의 M¹과 같고 (b)는 1∼3 사이의 정수이다.]

(D) 다음 구조식(5)의 지방 아실아미도 폴리옥시에틸렌 술페이트

R⁵CO-NH-(CH₂CH₂O)_C-SO₃M⁵(5)

[위 식에서, R⁵CO는 C₁₀-C₁₈아실기를 나타내며, M⁵는 구조식(1)의 M¹과 같고, C는 1-10의 정수이다.]

(E) 다음 구조식(6)의 지방아실 폴리글리세라이드 술페이트

R⁶CO-O-(CH₂-CHOH-CH₂O)_d-SO₃M⁶(6)

[위 식에서, R⁶CO는 C₁₀-C₁₈아실기를 나타내고, M⁶은 구조식(1)의 M¹과 같으며, d는 1∼4의 정수이다.]

(F) 다음 구조식(7a) 또는 (7b)의 단일 치환 술포숙시네이트

[위 식에서, Z⁷은 다음과 같은 기(i)∼(iii)중에서 선택되며, (i) R^aCO-NH-(CH₂CH₂O)_e-(여기서, R^aCO는 C₁₀-C₁₈아실기를 나타내고, e는 1∼10의 정수임) (ii) R^b-O-(CH₂CH₂O)_f-(여기서, R^b는 C₁₀-C₁₈알킬기를 나타내고, f는 1∼10의 정수임) (iii) R-O-(여기서 R^c는 C₁₀-C₁₈알킬기를 나타냄)]

X⁷및 Y⁷은 구조식(1)의 M¹에 의해 나타낸 상대 이온으로부터 서로 독립적으로 선택된다.]

(G) 다음 구조식(8)의 단일 치환 포스페이트

[위 식에서, R⁸은 C₁₀-C₁₈알킬기를 나타내며, M^8a및 M^8b는 구조식(1)의 M¹에 의해 나타낸 카운터 이온으로부터 서로 독립적으로 선택되며, g는 0-3사이의 정수이다]

(H) 다음 구조식(9)의 알킬 폴리(에틸렌글리콜)아세테이트

[위 식에서, R⁹는 C₁₀-C₁₈알킬기를 나타내며, M⁹는 구조식(1)의 M¹과 같고, h는 1∼10의 정수이다.]

(I) 다음 구조식(10)의 N-아실-α-아미노산의 염

[위 식에서, R¹⁰CO은 C₁₀-C₁₈아실기를 나타내며, Z¹⁰은 H 또는 C₁-C₂알킬기를 나타내며, Y¹⁰은 H, C₁-C₃알킬기 또는 COOH기로 치환된 C₁-C₃알킬을 나타내고, M¹⁰은 구조식(1)의 M¹에 의해 나타낸 상대 이온으로부터 선택된다.]

(K) 다음 구조식(11)의 알킬 폴리글루코시드

[위 식에서, R¹¹은 C₁₀-C₁₄알킬기를 나타내며, n은 1∼3의 정수이다.]

(L) 다음 구조식(12)의 폴리(옥시알킬렌)지방 알킬에테르

R¹²-O-(Z¹²O)_pH (12)

[위 식에서, R¹²는 C₈-C₁₈알킬기를 나타내며, Z¹²는 C₂-C₃알킬렌기를 나타내고, p는 1~10의 정수이다.]

(M) 다음 구조식(13)의 N-치환 베타인

[위 식에서, Z¹³은 다음의 기로부터 선택된다. (i) C₁₀-C₁₈알킬기, 또는 (ii) R¹³CO-NH-(CH₂)₃기(여기서, R¹³CO는 C₁₀-C₁₈알킬기를 나타냄).]

(N) 다음 구조식(14)의 술타인

[위 식에서, Z¹⁴는 C₁₀-C₁₈알킬기 또는 C₁₀-C₁₈아실 아미도기를 나타낸다.]

(O) 다음 구조식(15)의 알킬 암포카르복실레이트

[위 식에서, R¹⁵CO는 C₁₀-C₁₈아실기를 나타내며, Z¹⁵및 Y¹⁵는 H, CH₂OH 또는 (CG₂)_rCOO^-로부터 서로 독립적으로 선택되며, M¹⁵는 구조식(1)의 M¹과 같다.]

[아실 락틸레이트]

본 발명에 따르는 조성물은 다음 구조식(1)의 1종 이상의 아실 락틸레이트를 10∼35중량% 함유한다.

[위 식에서, R¹CO는 C₆-C₁₆아실기를 나타내고 1∼3의 정수이며, M¹은 수소 또는 알칼리 금속, 암모늄 또는 하나 이상의 C₁-C₃알킬기 또는 히드록시알킬기를 가지는 치환 암모늄기로부터 선택되는 상대 이온을 나타낸다.]

본 명세서에 기재된 거품 높이 테스트에 의해 측정시 130㎜ 이상의 거품 높이를 가지는 것을 특징으로 하는 세정제조성물을 제공한다.

상기 구조식(1)의 아실 락틸레이트의 예를 들면 다음과 같다.

라우로일 모노락트산나트륨

미리스토일 모노락트산나트륨

데카노일 모노락트산나트륨

도데카노일 모노락트산칼륨

도데카노일 디락트산칼륨

미리스토일 디락트산나트륨

라우로일 디락틸산나트륨

라우로일 디락틸산

팔미토일 디락틸산

도데카노일 모노락트산트리에탄올 암모늄

데카노일 모노락트산암모늄

데카노일 모노락트산트리에탄올암모늄

바람직한 아실기 R¹CO는 C₁₀-C₁₄이실기이다.

M¹으로서 바람직한 예를 들면 나트륨, 칼륨, 암모늄 및 트리에탄올 암모늄이 있다.

본 발명에 따르는 조성물중에 존재하는 아실 락틸레이트의 양은 조성물의 15∼30중량%, 더욱 바람직하게는 20∼30중량%인 것이 좋다.

[보조 계면 활성제]

본 발명에 따르는 조성물은 또한 1종 이상의 보조 계면 활성제를 조성물의 5∼25중량%의 양으로 함유한다. 보조 계면 활성제는 후술하는 화합물(A)∼(O)중에서 선택된다.

본 발명의 조성물에 존재하는 보조 계면 활성제의 바람직한 양은 10∼25중량%이다.

본 발명에 유용한 보조 계면 활성제는 아실 락틸레이트와 함께 특정량으로 사용되는 경우 매우 순하며 또한 거품성이 높은 조성물을 제공한다.

본 발명에 따르는 세정제조성물에 있어서 보조 계면 활성제로서 적합한 화합물은 다음과 같다.

(A) 다음 구조식(2)의 N-메틸-N-아실 타우레이트

[위 식에서, R²CO는 C₁₀-C₁₈아실기를 나타내며, M²는 구조식(1)의 M¹과 같다.]

상기 구조식(2)의 가지는 타우레이트의 바람직한 예를 들면 다음과 같다.

·N-메틸-N-코코일 타우린산나트륨[예를 들면, 니폰 오일 앤드 패트(Nippon oil and Fats)사로부터 디아폰(Diapon) K로서 구입가능]

·N-메틸-N-라우로일 타우린산나트륨[예를 들면, 니폰 오일 앤드 패트사로부터 디아폰 LK로서 구입가능]

·N-메틸-N-미리스토일 타우린산나트륨[예를 들면, 니콜 케미칼즈(Nikkol Chemicals)사로부터 니콜 MMT로서 구입 가능]

(B) 다음 구조식(3)의 아실이세티오네이트

R³CO-OCH₂CH₂-SO₃M³(3)

[위 식에서, R³CO는 C₁₀-C₁₈아실기를 나타내며, M³는 구조식(1)의 M¹과 같다.]

구조식(3)을 가지는 아실이세티오네이트의 바람직한 예를 들면 코코일 이세티온산나트륨[예를 들면, 론포울레크(Rhone Poulenc)사로부터 페토폰(Fenopon) AC 78로서 구입가능]이 있다.

(C) 다음 구조식(4)의 ω-술폰화 카르복실산의 알킬에스테르

[위 식에서, R⁴는 C₁₀-C₁₈알킬기를 나타내며, M⁴는 구조식(1)의 M¹과 같고, (b)는 1∼3의 정수이다.]

상기 구조식(4)의 ω-술폰화 카르복실산의 알킬 에스테르의 바람직한 예를 들면 라우릴 술포아세트산나트륨[예를 들면 스테판(Stepan)사로부터 라타놀(Lathanol) LAL로서 또는 니콜 케미칼즈사로부터 니콜 LSA로서 구입가능]이 있다.

(D) 다음 구조식(5)의 지방 아실아미도 폴리옥시에틸렌 술페이트

R⁵CO-NH-(CH₂CH₂O)_c-SO₃M⁵(5)

[위 식에서, R⁵CO는 C₁₀-C₁₈아실기를 나타내고 M⁵는 구조식(1)의 M¹과 같고, c는 1∼10의 정수이다]

상기 구조식(5)의 술페이트의 바람직한 예를 들면 코코일 아미드 EO-3 황산나트륨[예를 들면, 니폰 오일 앤드 패트사로부터 수나미드(Sunamide C-3)로서 구입가능]이 있다.

(E) 다음 구조식(6)의 지방 아실 폴리글리세라이드 술페이트

R⁶CO-O-(CH₂-CHOH-CH₂O)_d-SO₃M⁵(6)

[위 식에서, R⁶CO는 C₁₀-C₁₈아실기를 나타내고, M⁶는 구조식(1)의 M¹과 같으며, d는 1∼4의 정수이다.]

상기 구조식(6)의 지방 아실 폴리(글리셀라이드)술페이트의 바람직한 예를 들면 코코일 모노글리세라이드 황산나트륨[잔 데커 인터내셔날(Jan Dekker International)로부터 구입가능]이 있다.

(F) 다음 구조식(7a) 또는 (7b)의 단일 치환 술폭숙시네이트

[위 식에서, Z⁷은 다음의 기 (i)-(iii)중에서 선택되며, X⁷및 X⁷은 구조식(1)의 M¹으로 나타낸 상대 이온으로부터 서로 독립적으로 선택된다.

(i) R²CO-NH-(CH₂CH₂O)_e-(여기서, R^aCO는 C₁₀-C₁₈아실기를 나타내고, e는 1-10 사이의 정수임)

(ii) R^b-O-(CH₂CH₂O)_f-(여기서, R^b는 C₁₀-C₁₈알킬기를 나타내고, f는 1~10의 정수임)

(iii) R^c-O-(여기서, R^c는 C₁₀-C₁₈알킬기를 나타냄).]

상기 구조식(7a) 및 (7b)의 단일 치환 술폭숙시네이트의 바람직한 예를 들면 다음과 같다.

·라우로일 아미도(EO)-2 내지 3 술폭숙신산 디나트륨[예를 들면 산요 케미칼즈(Sanyo Chemicals)사로부터 뷰라이트(Beauligh) A-5000으로서 구입가능]

·라우릴(PEG)-2-술폭숙신산 디아나트륨 미리스틸(PEG)-2- 술포숙신산 이나트륨의 혼합물[예를 들면 산요 케미칼즈사로부터 뷰라이트 ESS로서 구입 가능]

·라우릴(PEG)-2- 내지 3 술폭숙신산 디타트륨[예를 들면 레워(Rewo)사로부터 레워폴(Rewopol) SBFA 30으로서 구입가능]

·라우릴술포숙신산 디나트륨[예를 들면 산요 케미칼즈사로부터 뷰라이트 SSS로서 구입가능]

간단한 형태인 (EO)-2 내지 3은 술포숙신산염 분자당 평균 2 내지 3의 옥시에틸렌기가 존재한다는 것을 나타낸다. 또한 간단한 형태인(PEG)-2 내지 3은 술폭숙신산염 분자당 평균 2 내지 3의 에틸렌 글리콜 분자로부터 유도된 폴리에틸렌 글리콜기가 존재한다는 것을 의미한다.

(G) 다음 구조식(8)의 단일 치환 포스페이트

[위 식에서, R⁸은 C₁₀-C₁₈알킬기를 나타내며, M^8a및 M^8b는 구조식(1)의 M¹으로 나타낸 상대 이온으로부터 서로 독립적으로 선택되며, g는 0-3의 정수이다]

상기 구조식(8)의 단일 치환 포스페이트의 바람직한 예를 들면 다음과 같다.

·모노 라우릴 인산 모노나트륨[예를 들면, 니콜 케미칼즈사로부터 포스텐(Phosten) HLP로서 구입가능]

·모노라우릴(EO)-2 내지 3 인산 모노나트륨[예를 들면, 토호 케미칼즈(Toho Chemiocals)사로부터 포스판올(Phosphnol) ㎖220으로서 구입가능]

(H) 다음 구조식(9)의 알킬 폴리(에틸렌글리콜)아세테이트

[위 식에서, R⁹는 C₁₀-C₁₈알킬기를 나타내며, M⁹은 구조식(1)의 M¹과 같고, h는 1∼10의 정수이다.]

상기 구조식(9)의 알킬(PEG) 아세테이트의 바람직한 예를 들면 코코일 PEG-10 아세트산나트륨 예를 들면 홀스(Huls)사로부터 마르리나트(Marlinat) CM 105 로서 구입가능] 및 트리데실(PEG)-3 아세트산나이트륨 [예를 들면 산요 케미칼즈사로부터 뷰라이트 ECA로서 구입가능] 등이 있다.

(I) 다음 구조식(10)의 N-아실-α-아니노산의 염

[위 식에서, R¹⁰CO는 C₁₀-C₁₈아실기를 나타내며, Z¹⁰은 H 또는 C₁-C₃알킬기 또는 COOH기로부터 치환된 C₁-C₃알킬을 나타내고, M¹⁰은 구조식(10)의 M¹에 의해 나타낸 상대 이온으로부터 선택된다.]

상기 구조식(10)을 가지는 N-아실-α-아미노산의 염의 바람직한 예를 들면 다음과 같다.

·N-라우로일 글루탐산나트륨[아지노모드(Ajinomoto)사로부터 아미소프트(Amisoft) LS-11로서 구입가능]

·N-코코일 글루탐산나트륨[예를 들면, 아지노모도사로부터 아미소프트 CS-11로서 구입가능]

·N-코코일 사르코신산 트리에탄올암모늄[예를 들면, 니폰 오일 앤드 패트사로부터 피페트(Firet) KT로서 구입가능]

·N-데카노일 사르코신산나트륨

·N-라우로일 알라닌산나트륨[예를 들면, 니콜 케미칼즈사로부터 알라니네이드(Alaninate) LN-30)으로서 구입가능]

·N-코코일 알라닌산나트륨

·N-코코일 아스파르트산나트륨

·N-라우로일 아스파르트산나트륨

(K) 다음 구조식(11)의 알킬 폴리글루코시드

[위 식에서, R¹¹은 C₁₀-C₁₄알킬기를 나타내며, n은 1∼3의 정수이다.]

상기 구조식(11)의 알킬 폴리글루코시드의 바람직한 예를 들면 다음과 같다.

·데실 폴리글루코시드(n=1.44)[예를 들면 세픽(Seppic)사로부터 오라믹스(Oramix) NS 10으로서 구입가능]

·C₉-C₁₁알킬 폴리글루코시드(n=1.4), 예를 들면 헨켈(Henkel)사로부터 APG 300으로서 구입가능]

(L) 다음 구조식(12)의 폴리(옥시알킬렌)지방 알킬 에테르

R¹²-O-(Z¹²O)_pH (12)

[위 식에서, R¹²는 C₈-C₁₈알킬기를 나타내며, Z¹²는 C₂-C₃알킬렌기를 나타내고, p는 1∼10의 정수이다.]

상기 구조식(12) 폴리(옥시알킬렌)-지방 알킬 에테르의 바람직한 예를 들면 (PEG)-6 라우릴 에테르 및 (PEG)-6 미리스틸 에테르가 있다. (PEG)-6 C₁₂-C₁₅에테르의 혼합물은 쉘 케미칼즈(Shell Chemicals)사로부터 도바놀(Dobanol) 91-6으로서 구입가능하다.

(M) 다음 구조식(13)의 N-치환 베타인

위 식에서, Z¹³은 다음과 같은 기로부터 선택된다.

(i) C₁₀- C₁₈알킬기, 또는

(ii) R¹³CO-NH-(CH₂)₃기(여기에서, R¹³CO는 C₁₀-C₁₈알킬기를 나타냄) 구조식(13)을 가지는 N-치환 베타인의 바람직한 예를 들면 다음과 같다.

·라우릴 디메틸 베타인[예를 들면 알브라이트 앤드 윌슨(Albright & Wilson)사로부터 엠피겐(Empigen)BB로서 구입가능]

·코코아미도프로필베타인 예를 들면 골드슈미트(Goldschmidt)사로부터 테고베타인(Tegobetaine) L7으로서 구입가능]

(N) 다음 구조식(14)의 술타인

[위 식에서, Z¹⁴는 C₁₀-C₁₈알킬기 또는 C₁₀-C₁₈아실아미도기를 나타낸다.]

상기 구조식(14)의 술타인의 바람직한 예를 들면 코코아미도프로필히도록시술타인[알콜락(Alcolac)사로부터 시클로테릭(Cycolteric) BET-CS로서 구입가능] 등이 있다.

(O) 다음 구조식(15)의 알킬 암포카르복실레이트

[위 식에서, R¹⁵CO는 C₁₀-C₁₈아실기를 나타내며, Z¹⁵및 Y¹⁵는 H, CH₂CH₂OH 또는 (CH₂)_rCOO^-로부터 독립적으로 선택되며, M¹⁵는 구조식(1)의 M¹과 같다.]

상기 구조식(15)의 알킬 암포카르복실레이트의 바람직한 예를 들면 다음과 같다.

·코코암포글리시네이트[예를 들면 GAF사로부터 구입가능]

·맥아 암포디글리시네이트

·코캄포디프로피오네이트[예를 들면 론 포울렌크(Rhone Poulenc)사로부터 미라타인(Miratine) C2MS로서 구입가능]

·카프릴암포디프로피오네이트[예를 들면 론 포울렌크사로부터 미라놀(Miranol) S2MSF로서 구입가능]물

또한, 본 발명에 따르는 세정제조성물은 물을 함유한다. 일반적으로, 물은 조성물의 85중량% 이하, 바람직하게는 10∼85중량%의 양으로 존재한다.

[선택 성분]

본 발명에 따르는 세정제조성물은 또한 조성물의 물리적 또는 화학적 특성, 예를 들면 제품 형태, 거품 특성, pH값 또는 보존기간을 조절하기 위해서 선택 성분을 함유할 수 있다.

본 발명에 따르는 조성물에 함유될 수 있는 성분의 예를 들면 다음과 같다.

·에몰리엔트, 예를 들면

-[PEG]-20 콘 글리세라이드

-[PEG]-60 콘 글리세라이드

-[PEG]-20 아몬드 글리세라이드

-[PEG]-60 아몬드 글리세라이드

-[PEG]-12 팜핵 글리세라이드

-[PEG]-45 팜핵 글리세라이드

-[PEG]-20 월견초 글리세라이드

-[PEG]-60 월견초 글리세라이드

-에톡실화(EO)-20 메틸 글루코시드[메틸 글루세트-20이라고도 부름]

-프로폭실화(EO)-10 메틸 글루코시드

바람직한 에몰리엔트는 C₁₀-C₁₈알킬기로 단일 치환된 화합물로서 글리세라이드 분자당 평균 20 이하의 C₂-C₃옥시알킬렌기를 가지는 폴리(옥시알킬렌)글리세라이드이다.

특히 바람직한 에몰리엔트는 글루코시드 분자당 평균 20 이하의 C₂-C₃옥시알킬렌기를 가지는 폴리옥시알킬렌 메틸 글루코시드이다. 이러한 에몰리엔트는 피부에 부드러운 느낌을 부여하며 피부에 수분이 유지되도록 해주므로 매우 유익하다. 이러한 폴리옥시알킬렌 메틸 글루코시드의 예는 아메르콜(Amerchol)사로부터 각각 글루캄(Glucam) E-20 및 글루캄 P 10으로서 구입가능하다.

·휴멕탄트, 예를 들면 글리세린, 소르비톨, 2-피롤리돈-5-카르복실산나트륨, 수용성 콜라겐, 젤라틴, 에톡실화(EO)-20 메틸 글루코시드 및 프로폭실화(EO)-10 메틸 클루코시드

·방부제, 예를 들면 에탄올, 벤조산, 벤조산 나트륨, 소르빈산, 알킬리 금속 할로겐화물

·pH 조절제, 예를 들면 수산화나트륨, 구연산, 트리에탄올아민, 수산화칼륨, 아미노 소르비톨

pH 조절제는 조성물의 pH가 5.5∼8.5 범위내에 있도록 조절하기에 충분한 양으로 존재하는 것이 바람직하다.

·프로펠란트, 예를 들면 염화불화 탄화수소, 프로판, 부탄, 이소부탄, 디메틸 에테르, 이산화탄소, 아산화질소

·거품 조절제, 예를 들면 양이온 중합제, 특히 제4급화 암모늄 히드록시 에틸 셀룰로즈 중합체[예를 들면 폴리콰터늄-24 또는 폴리콰터늄-10으로서 구입가능].

이러한 중합체는 거품을 보다 부드럽고 풍부하게 한다.

[기타의 선택 성분]

또한, 본 발명에 따르는 조성물은 기타 임의의 다른 성분, 즉 세정제조성물에 통상적으로 사용되는 앞서 이미 정의한 주요 성분 이외의 성분, 예를 들면 증점제(thickner)를 함유할 수 있다.

[조성물의 용도]

본 발명에 따르는 세정제조성물은 기본적으로 얼굴을 세정하기 위한 세정 제품으로서 의도된다. 또한, 본 설명의 조성물은 전신 뿐만 아니라 모발을 세정하기 위해 사용될 수도 있다. 본 발명에 따르는 조성물은 안면 클린저, 안면 워쉬폼(facial wash foam), 모발 샴푸, 배쓰 폼(bath foam) 또는 쉐이빙 크림(shaving cream)으로서 사용되는 것이 바람직하다. 상기 조성물은 높은 세정력을 발휘하므로 비화장품 분야, 예를 들면 가정용 세정제, 카페트 세정제또는 식탁용 식기류 세정제로 사용할 수도 있다.

다음의 절차는 본 발명에 따르는 세정제조성물을 사용하기 위한 일례이다. 즉, 소량, 예를 들면 1∼5㎖의 조성물을 물과 함께 양손 사이에 비벼서 거품을 발생시킨 다음 세정에 이용하거나 또는 스폰지를 사용하여 세정하여야 할 부위에 도포시키거나 또는 세정하여야 할 부위에서 곧바로 거품을 발생시킨다. 그다음, 깨끗한 물로 거품을 헹구어낸다.

본 발명에 따르는 세정제조성물은 병, 롤-온 어플리케이터 또는 튜브와 같은 뚜껑있는 용기나 또는 펌프 작동식 또는 프로펠란트 추진식 에어로솔 디스펜서로부터 분배되도록 하기 위해 액체 또는 겔 형태를 취할 수 있다. 또한, 본 세정제조성물은 통상적인 비누바(soap bar) 대신 세정에 사용하기 위한 스틱이나 바 또는 타볼렛과 같은 고체의 형태를 취할 수도 있다.

[조성물의 거품 특성]

본 발명에 따르는 조성물은 종래의 세정제조성물에 함유되는 거친 계면 활성제를 함유하지 않으나, 그 거품 발생능력은 탁월하다. 이는 후술하는 거품 높이 시험법에 의해 측정된 거품 높이에 의해 입증된다.

[거품 높이 시험법]

본 발명에 따르는 세정제조성물의 거품 발생 능력을 평가하는데에 사용되는 시험법은 로스-마일즈(Ross-Miles) 테스트라고도 불리우는 ASTM D 1173-53 시험법이다[참조 : J Ross and G D Miles, American Society for Testing Materials, 1953, P 644-646] 이 시험법은 0.3중량%의 아실 락틸레이트와 0.1중량%의 보조 계면 활성제의 테스트 수용액을 사용하여 20℃의 온도에서 수행된다. 이 피검 수용액은 소비자가 사용하는 경우, 예를 들면 물과 함께 얼굴 또는 신체의 국소 도포하여 원하는 거품을 발생시키는 경우, 본 발명의 세정제조성물의 현실성 있는 농도이다. 피검 수용액의 pH값은 수산화나트륨 수용액을 첨가하여 pH 7.5로 조절한다.

다음의 표 1은 본 발명에 따르는 여러가지 세정제조성물을 사용함의로써 얻는 거품 높이를 보여준다. 모든 경우에 있어서 아실 락틸레이트는 70중량%의 라우로일 락트산나트륨과 30중량%으 미리스토일 락트산 나트륨의 혼합물이다. 이 혼합물은 RITA 패터슨사로부터 파티오닉(Pationic) 138C라는 상품명으로 구입가능하다. 보조 계면 활성제를 첨가함이 없이 이 혼합물만에 대해 측정한 거품 높이는 실험(27)로 나타내었다.

[표 1]

n*-중합도, 참조 : 구조식(11)

실험(27)로부터 실험(1)∼(26)에서 사용된 모든 보조 계면 활성제는 아실 락틸레이트 혼합물인 파티오닉 138 C의 거품 높이를 어느 정도 향상시킨다는 것을 알 수 있다. 특히 구조식(2)의 타우레이트, 구조식(10)의 사르코시네이트, 구조식(7a) 또는 (7b)의 술포숙시네이트 및 구조식(3)의 이세티오네이트는 거품 높이를 현저히 증가시킬 수 있는 능력이 있다.

조성물의 성분 및 그 사용량은 본 발명에 따르는 세정제조성물이 전술한 바와 같이 조건하에 수행되는 거품 높이 시험에 의해 측정시 130㎜ 이상의 거품 높이를 가지도록 선택된다.

본 발명에 따르는 조성물의 거품 높이는 바람직하게는 150㎜ 이상, 보다 바람직하게는 170㎜ 이상, 특히 바람직하게는 190㎜ 이상이다.

종래의 제품에 비해 본 발명에 따르는 조성물의 우수성은 다음의 표 2에 나타낸 바와 같이, 종래의 계면 활성제를 기본물로 하는 훼이셜 워쉬 폼에 대한 거품 높이에 의해 입증된다. 각각의 높이를 측정하기 위해 앞서 기술한 바와 같은 조건하에 다시 로스-마일즈 시험법을 수행하였다. 피검 용액은 종래의 제품을 1.0중량%의 농도로 함유하는 수용액이다. 계면 활성제의 성분에 대해 아래에 주어진 백분률은 각 제품의 중량을 기준으로 한 것이다.

[표 2]

상기 데이터는 본 발명에 따르는 조성물이 종래의 계면 활성제를 기초 물질로 하는 세정제조성물에 비해 훨씬 높은 거품 높이를 가진다는 것을 명백히 보여준다.

본 발명에 따르는 세정제조성물은 높은 함량의, 즉 10∼30중량%의 아실 락틸레이트를 함유하지만, 표 1의 데이터에 의해 나타낸 바와 같이 탁월한 거품 발생 능력을 발휘한다. 이는 순하며 높은 거품성의 세정제조성물을 제조하기 위해서는 계면 활성제계에 단지 5중량% 이하의 아실 락틸레이트만 함유시켜야 한다는 EP-A 제224,796호(Kao)에 기재된 바와 같은 종래의 기술에 제시된 것과는 다르다는 것이 확실하다.

아래 표 3에 주어진 데이터는 EP-A 제224,736호에 기재된 종래 기술에 비해 본 발명에 따르는 조성물에 의해 보다 우수한 거품 발생 능력을 얻을 수 있다는 것을 보여준다. 표 3의 실시예(i) 내지 (viii)은 EP-A 제224,796호의 표 7-1의 실시예 2-9와 동일한 양의 동일한 락틸레이트를 함유한다. 상기 (i) 내지 (viii) 각각의 경우, 모노 : 디 라우릴 인산 트리에탄올아민 7 : 3 혼합물의 15중량%의 양으로 함유시켰으며, pH를 7.5로 조절하기 위하여 트리에탄올아민을 첨가시키고 증류수를 사용하여 100중량%가 되도록 하였다. 표 3에서 볼 수 이있는 바와 같은 경우에 있어서 락틸레이트의 함량은 5중량% 이하이며, 전술한 로즈-마일즈 시험법에 의해 측정시 거품 높이는 130㎜ 이하이다.

[표 3]

이와 대조적으로 표 IV는 본 발명에 따르는 조성물의 거품 발생 능력을 보여준다. 거품 발생 능력은 상술한 로스-마일즈 시험법에 의해 측정하였다. 각 경우에 있어서, 20% NaOH 수용액을 첨가하여 용액의 pH를 7.5로 조절하였으며, 탈염수를 사용하여 100중량%로 조제하였다.

[표 4]

표 4로부터 알 수 있는 바와 같이, 본 발명에 따르는 각각의 계면 활성제계가 거품 높이가 130㎜보다 높다.

10중량% 이하의 아실 락틸레이트를 함유하는 종래의 조성물에 비해 본 발명에 따르는 세정제조성물의 우수성은 다음의 표 5에 주어진 데이터에 의해 입증된다.

전술한 바와 같은 조건하에서 수행된 로스-마일즈 시험법에 의해 다시 거품 높이를 측정하였다.

제시된 모든 백분율은 각 피검 용액의 중량을 기준으로 한 것이다. 모든 피검 용액은 NaOH 수용액을 첨가하여 pH 7.5로 조절하였다.

[표 5]

상기 데이터는 본 발명에 따르는 조성물(E) 내지 (G)은 아실 락틸레이트를 10중량% 또는 그 이상의 양으로 함유하나, 종래의 조성물(A) 내지 (D)에 비해 훨씬 우수한 거품 발생 능력을 가진다.

다음의 실시예는 통상적은 방법으로 제조된 여러 가지 종류의 세정제조성물의 조성을 제시함으로써 본 발명을 보다 상세히 설명해준다.

[실시예]

[실시예 1]

-안면 클린저

[실시예 2]

-순한 안면 클린저

[실시예 3]

-건성 피부를 위한 안면 클린저

[실시예 4]

-예민 피부를 위한 순차 훼이셜클린저

[실시예 5]

-액체 핸드 비누

[실시예 6]

-여드름방지 안면 클린싱 스크러브 젤

[실시예 7]

-모발 샴푸

[실시예 8]

-마일드 모발 샴푸

[실시예 9]

-콘디셔닝 샴푸

[실시예 10]

-비듬 방지 샴푸

[실시예 11]

-보디 샴푸

[실시예 12]

-마일드 보디 샴푸

[실시예 13]

-액체 보디 샴푸

[실시예 14]

-에이로솔 보디 샴푸

상기 성분을 혼합함으로써 얻어진 용액 95중량%를 5중량%의 분사제와 배합한 다음, 용기에 넣어 밀폐시켰다.

[실시예 15]

-배쓰 폼 농축액

[실시예 16]

-순한 배쓰 폼

[실시예 17]

-콘디셔닝 버블 배쓰

[실시예 18]

-클린싱 바

[실시예 19]

-훼이셜 워시 폼

[실시예 20]

-안면 워쉬 폼

[실시예 21]

-안면 워시 폼

[실시예 22]

-안면 워시 폼

Claims (7)

1. 물 이외에, (a) 다음 구조식(1)의 1종 이상의 아실 락틸레이트 10∼35중량%와, (b) 다음 구조식(2)의 아실이세티오네이트를 함유하며, 명세서 기재의 거품 높이 측정법에 의해 측정시 거품 높이가 150mm 이상인 것을 특징으로 하는 세정제조성물.

   (1)

   위 식중, R¹CO는 C₆내지 C₁₆아실 라디칼을 나타내고, a는 1∼3의 정수이며, M¹은 또는, 알칼리 금속, 암모늄 또는 하나 이상의 C₁내지 C₃알칼기 또는 히드록시 알킬기를 갖는 치환된 암모늄기로부터 선택되는 상대 이온을 나타내고,

   R³CO-OCH₂CH₂-SO₃M³

   위 식중, R³CO는 C₁₀내지 C₁₈의 아실기를 나타내며, M³은 구조식(1)의 M¹과 동일하다.
2. 제1항에 있어서, 거품 높이는 170mm이상인 것인 세정제조성물.
3. 제1항에 있어서, 거품 높이는 190mm 이상인 것인 세정제조성물.
4. 제1항 내지 제4항 중 어느 하나의 항에 있어서, 구조식(1)의 아실기 R¹CO는 C₁₀-C₁₄아실 라디칼을 나타내는 것인 세정제조성물.
5. 제1항에 있어서, 아실 아세티오네이트는 10∼15중량%의 양으로 존재하는 것인 세정제조성물.
6. 제1 항에 있어서, 제4급 암모늄 히드록시에틸 셀룰로즈 중합체를 더 함유하는 것인 세정제조성물.
7. 제1항에 있어서, 다음 구조식(13)의 1종 이상의 N-치환 베타인 5 내지 25중량%을 더 함유하는 것인 세정제조성물

   위 식에서, Z¹³은 (i) C₁₀내지 C₁₈의 알킬기, 또는 (ii) R¹³CO-NH-(CH₂)₃기 (여기서, R¹³CO는 C₁₀내지 C₁₈의 아실기)를 나타낸다.