KR20220134586A - Molded article and its precursor, manufacturing method and use - Google Patents
Molded article and its precursor, manufacturing method and use Download PDFInfo
- Publication number
- KR20220134586A KR20220134586A KR1020227029418A KR20227029418A KR20220134586A KR 20220134586 A KR20220134586 A KR 20220134586A KR 1020227029418 A KR1020227029418 A KR 1020227029418A KR 20227029418 A KR20227029418 A KR 20227029418A KR 20220134586 A KR20220134586 A KR 20220134586A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- group
- dielectric filler
- region
- resin
- molded article
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000002243 precursor Substances 0.000 title claims abstract description 29
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 21
- 239000000945 filler Substances 0.000 claims abstract description 144
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 143
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 90
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 90
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 claims abstract description 70
- 239000012705 liquid precursor Substances 0.000 claims abstract description 45
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 42
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims description 22
- 238000005054 agglomeration Methods 0.000 claims description 17
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims description 16
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 claims description 13
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 13
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims description 10
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 10
- 230000007423 decrease Effects 0.000 claims description 9
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 claims description 7
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 5
- 230000004913 activation Effects 0.000 claims description 4
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 4
- 230000004931 aggregating effect Effects 0.000 claims description 2
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 abstract description 53
- 230000008569 process Effects 0.000 abstract description 16
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 abstract description 2
- -1 2-methyloxiran-2-yl group Chemical group 0.000 description 96
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 76
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 39
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 34
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 33
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 24
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical compound C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 23
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 20
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 18
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 16
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 16
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 15
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 15
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 14
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 14
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 14
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 12
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 11
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 11
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 10
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 10
- 239000000463 material Substances 0.000 description 9
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 9
- 125000004450 alkenylene group Chemical group 0.000 description 8
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000010538 cationic polymerization reaction Methods 0.000 description 8
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 8
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 8
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 8
- 125000003566 oxetanyl group Chemical group 0.000 description 8
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 8
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 7
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 7
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 7
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 7
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 7
- ZWAJLVLEBYIOTI-UHFFFAOYSA-N cyclohexene oxide Chemical compound C1CCCC2OC21 ZWAJLVLEBYIOTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol Natural products OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 6
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical class S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 5
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 5
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 5
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 5
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 5
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 4
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N butyl acetate Chemical compound CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 4
- 239000013626 chemical specie Substances 0.000 description 4
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 4
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RBHIUNHSNSQJNG-UHFFFAOYSA-N 6-methyl-3-(2-methyloxiran-2-yl)-7-oxabicyclo[4.1.0]heptane Chemical compound C1CC2(C)OC2CC1C1(C)CO1 RBHIUNHSNSQJNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical group C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004833 X-ray photoelectron spectroscopy Methods 0.000 description 3
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 3
- JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N barium titanate Chemical compound [Ba+2].[Ba+2].[O-][Ti]([O-])([O-])[O-] JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910002113 barium titanate Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 3
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 3
- 238000002149 energy-dispersive X-ray emission spectroscopy Methods 0.000 description 3
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 3
- 230000006870 function Effects 0.000 description 3
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 3
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004836 hexamethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 3
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 3
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 3
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 3
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 3
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 3
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 3
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 3
- 125000000383 tetramethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 3
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 3
- 125000003258 trimethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical class O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000000177 wavelength dispersive X-ray spectroscopy Methods 0.000 description 3
- UWFRVQVNYNPBEF-UHFFFAOYSA-N 1-(2,4-dimethylphenyl)propan-1-one Chemical compound CCC(=O)C1=CC=C(C)C=C1C UWFRVQVNYNPBEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HDPLHDGYGLENEI-UHFFFAOYSA-N 2-[1-(oxiran-2-ylmethoxy)propan-2-yloxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COC(C)COCC1CO1 HDPLHDGYGLENEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WMYINDVYGQKYMI-UHFFFAOYSA-N 2-[2,2-bis(hydroxymethyl)butoxymethyl]-2-ethylpropane-1,3-diol Chemical compound CCC(CO)(CO)COCC(CC)(CO)CO WMYINDVYGQKYMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SHKUUQIDMUMQQK-UHFFFAOYSA-N 2-[4-(oxiran-2-ylmethoxy)butoxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCCCCOCC1CO1 SHKUUQIDMUMQQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KUAUJXBLDYVELT-UHFFFAOYSA-N 2-[[2,2-dimethyl-3-(oxiran-2-ylmethoxy)propoxy]methyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCC(C)(C)COCC1CO1 KUAUJXBLDYVELT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001731 2-cyanoethyl group Chemical group [H]C([H])(*)C([H])([H])C#N 0.000 description 2
- VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 4,4'-sulfonyldiphenol Chemical class C1=CC(O)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(O)C=C1 VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical group C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTKINSOISVBQLD-UHFFFAOYSA-N Glycidol Chemical compound OCC1CO1 CTKINSOISVBQLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004566 IR spectroscopy Methods 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910018286 SbF 6 Inorganic materials 0.000 description 2
- 208000034189 Sclerosis Diseases 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005410 aryl sulfonium group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 2
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002585 base Substances 0.000 description 2
- JRPRCOLKIYRSNH-UHFFFAOYSA-N bis(oxiran-2-ylmethyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical class C=1C=CC=C(C(=O)OCC2OC2)C=1C(=O)OCC1CO1 JRPRCOLKIYRSNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 125000006364 carbonyl oxy methylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])OC([*:1])=O 0.000 description 2
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 150000001924 cycloalkanes Chemical class 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WVIIMZNLDWSIRH-UHFFFAOYSA-N cyclohexylcyclohexane Chemical group C1CCCCC1C1CCCCC1 WVIIMZNLDWSIRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012954 diazonium Substances 0.000 description 2
- 229940105990 diglycerin Drugs 0.000 description 2
- GPLRAVKSCUXZTP-UHFFFAOYSA-N diglycerol Chemical compound OCC(O)COCC(O)CO GPLRAVKSCUXZTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 2
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 2
- MRELNEQAGSRDBK-UHFFFAOYSA-N lanthanum(3+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[La+3].[La+3] MRELNEQAGSRDBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052451 lead zirconate titanate Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 2
- 239000012766 organic filler Substances 0.000 description 2
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 2
- 239000000123 paper Substances 0.000 description 2
- 239000013618 particulate matter Substances 0.000 description 2
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 description 2
- RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N propylene carbonate Chemical compound CC1COC(=O)O1 RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 2
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 2
- 238000000550 scanning electron microscopy energy dispersive X-ray spectroscopy Methods 0.000 description 2
- 238000000682 scanning probe acoustic microscopy Methods 0.000 description 2
- 230000001568 sexual effect Effects 0.000 description 2
- 229940071182 stannate Drugs 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 238000005011 time of flight secondary ion mass spectroscopy Methods 0.000 description 2
- 125000005409 triarylsulfonium group Chemical group 0.000 description 2
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 2
- DNIAPMSPPWPWGF-VKHMYHEASA-N (+)-propylene glycol Chemical compound C[C@H](O)CO DNIAPMSPPWPWGF-VKHMYHEASA-N 0.000 description 1
- PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N (+/-)-1,3-Butanediol Chemical compound CC(O)CCO PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000027 (C1-C10) alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000008 (C1-C10) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000006681 (C2-C10) alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- GKNWQHIXXANPTN-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,2-pentafluoroethanesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C(F)(F)C(F)(F)F GKNWQHIXXANPTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005654 1,2-cyclohexylene group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([*:2])C([H])([*:1])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000005837 1,2-cyclopentylene group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([*:2])C1([H])[H] 0.000 description 1
- OUPZKGBUJRBPGC-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-tris(oxiran-2-ylmethyl)-1,3,5-triazinane-2,4,6-trione Chemical compound O=C1N(CC2OC2)C(=O)N(CC2OC2)C(=O)N1CC1CO1 OUPZKGBUJRBPGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005838 1,3-cyclopentylene group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([*:2])C([H])([H])C1([H])[*:1] 0.000 description 1
- YPFDHNVEDLHUCE-UHFFFAOYSA-N 1,3-propanediol Substances OCCCO YPFDHNVEDLHUCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940035437 1,3-propanediol Drugs 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004955 1,4-cyclohexylene group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[*:2] 0.000 description 1
- 229940043375 1,5-pentanediol Drugs 0.000 description 1
- COOJZGDRNSHKNW-UHFFFAOYSA-N 1-(benzylsulfanylmethyl)-4-methoxybenzene Chemical class C1=CC(OC)=CC=C1CSCC1=CC=CC=C1 COOJZGDRNSHKNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXJGSNRAQWDDJT-UHFFFAOYSA-N 1-acetyl-5-bromo-2h-indol-3-one Chemical compound BrC1=CC=C2N(C(=O)C)CC(=O)C2=C1 KXJGSNRAQWDDJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UYVDGHOUPDJWAZ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O.COCC(C)O UYVDGHOUPDJWAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,4,6,6-hexaphenoxy-1,3,5-triaza-2$l^{5},4$l^{5},6$l^{5}-triphosphacyclohexa-1,3,5-triene Chemical compound N=1P(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP=1(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JTINZFQXZLCHNS-UHFFFAOYSA-N 2,2-bis(oxiran-2-ylmethoxymethyl)butan-1-ol Chemical compound C1OC1COCC(CO)(CC)COCC1CO1 JTINZFQXZLCHNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FGPFIXISGWXSCE-UHFFFAOYSA-N 2,2-bis(oxiran-2-ylmethoxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound C1OC1COCC(CO)(CO)COCC1CO1 FGPFIXISGWXSCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IVIDDMGBRCPGLJ-UHFFFAOYSA-N 2,3-bis(oxiran-2-ylmethoxy)propan-1-ol Chemical compound C1OC1COC(CO)COCC1CO1 IVIDDMGBRCPGLJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MODMUHZSYIODLE-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-tribromo-n,n-bis(oxiran-2-ylmethyl)aniline Chemical compound BrC1=CC(Br)=CC(Br)=C1N(CC1OC1)CC1OC1 MODMUHZSYIODLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OVSKIKFHRZPJSS-UHFFFAOYSA-N 2,4-D Chemical compound OC(=O)COC1=CC=C(Cl)C=C1Cl OVSKIKFHRZPJSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BBBUAWSVILPJLL-UHFFFAOYSA-N 2-(2-ethylhexoxymethyl)oxirane Chemical compound CCCCC(CC)COCC1CO1 BBBUAWSVILPJLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YSUQLAYJZDEMOT-UHFFFAOYSA-N 2-(butoxymethyl)oxirane Chemical compound CCCCOCC1CO1 YSUQLAYJZDEMOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VMSIYTPWZLSMOH-UHFFFAOYSA-N 2-(dodecoxymethyl)oxirane Chemical compound CCCCCCCCCCCCOCC1CO1 VMSIYTPWZLSMOH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CUGZWHZWSVUSBE-UHFFFAOYSA-N 2-(oxiran-2-ylmethoxy)ethanol Chemical compound OCCOCC1CO1 CUGZWHZWSVUSBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCZCZLVSKGCRTD-UHFFFAOYSA-N 2-(tridecoxymethyl)oxirane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCOCC1CO1 ZCZCZLVSKGCRTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HHRACYLRBOUBKM-UHFFFAOYSA-N 2-[(4-tert-butylphenoxy)methyl]oxirane Chemical compound C1=CC(C(C)(C)C)=CC=C1OCC1OC1 HHRACYLRBOUBKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SYEWHONLFGZGLK-UHFFFAOYSA-N 2-[1,3-bis(oxiran-2-ylmethoxy)propan-2-yloxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCC(OCC1OC1)COCC1CO1 SYEWHONLFGZGLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WUIQPLSONDMSBW-UHFFFAOYSA-N 2-[1-(oxiran-2-ylmethoxy)butan-2-yloxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COC(CC)COCC1CO1 WUIQPLSONDMSBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RQZUWSJHFBOFPI-UHFFFAOYSA-N 2-[1-[1-(oxiran-2-ylmethoxy)propan-2-yloxy]propan-2-yloxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COC(C)COC(C)COCC1CO1 RQZUWSJHFBOFPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SRTKZSGXECRYOS-UHFFFAOYSA-N 2-[10-(oxiran-2-ylmethoxy)decoxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCCCCCCCCCCOCC1CO1 SRTKZSGXECRYOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DZRLZBYMIRXJGO-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)ethoxy]ethanol Chemical compound OCCOCCOCC1CO1 DZRLZBYMIRXJGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SEFYJVFBMNOLBK-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)ethoxy]ethoxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCCOCCOCC1CO1 SEFYJVFBMNOLBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VLKXLWGYPOUERV-UHFFFAOYSA-N 2-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propoxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCCCOCC1CO1 VLKXLWGYPOUERV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CAYJDIDYXCENIR-UHFFFAOYSA-N 2-[5-(oxiran-2-ylmethoxy)pentoxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCCCCCOCC1CO1 CAYJDIDYXCENIR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WTYYGFLRBWMFRY-UHFFFAOYSA-N 2-[6-(oxiran-2-ylmethoxy)hexoxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCCCCCCOCC1CO1 WTYYGFLRBWMFRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BCKFVXHJSVKKBD-UHFFFAOYSA-N 2-[8-(oxiran-2-ylmethoxy)octoxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCCCCCCCCOCC1CO1 BCKFVXHJSVKKBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OGRULRAOMCDCBO-UHFFFAOYSA-N 2-[[1-(oxiran-2-ylmethoxy)naphthalen-2-yl]oxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COC1=CC=C2C=CC=CC2=C1OCC1CO1 OGRULRAOMCDCBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKANYVMWDXJHLE-UHFFFAOYSA-N 2-[[2-(oxiran-2-ylmethoxy)phenoxy]methyl]oxirane Chemical compound C1OC1COC1=CC=CC=C1OCC1CO1 NKANYVMWDXJHLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STHCTMWQPJVCGN-UHFFFAOYSA-N 2-[[2-[1,1,2-tris[2-(oxiran-2-ylmethoxy)phenyl]ethyl]phenoxy]methyl]oxirane Chemical compound C1OC1COC1=CC=CC=C1CC(C=1C(=CC=CC=1)OCC1OC1)(C=1C(=CC=CC=1)OCC1OC1)C1=CC=CC=C1OCC1CO1 STHCTMWQPJVCGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PLDLPVSQYMQDBL-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-(oxiran-2-ylmethoxy)-2,2-bis(oxiran-2-ylmethoxymethyl)propoxy]methyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCC(COCC1OC1)(COCC1OC1)COCC1CO1 PLDLPVSQYMQDBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIUBDTHCAMOZSM-UHFFFAOYSA-N 2-[[4-(oxiran-2-ylmethoxy)cyclohexyl]oxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COC(CC1)CCC1OCC1CO1 UIUBDTHCAMOZSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VTPXYFSCMLIIFK-UHFFFAOYSA-N 3-(oxiran-2-ylmethoxy)-2,2-bis(oxiran-2-ylmethoxymethyl)propan-1-ol Chemical compound C1OC1COCC(COCC1OC1)(CO)COCC1CO1 VTPXYFSCMLIIFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLJFKNONPLNAPF-UHFFFAOYSA-N 3-Vinyl-7-oxabicyclo[4.1.0]heptane Chemical compound C1C(C=C)CCC2OC21 SLJFKNONPLNAPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RDIGYBZNNOGMHU-UHFFFAOYSA-N 3-amino-2,4,5-tris(oxiran-2-ylmethyl)phenol Chemical compound OC1=CC(CC2OC2)=C(CC2OC2)C(N)=C1CC1CO1 RDIGYBZNNOGMHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MECNWXGGNCJFQJ-UHFFFAOYSA-N 3-piperidin-1-ylpropane-1,2-diol Chemical compound OCC(O)CN1CCCCC1 MECNWXGGNCJFQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRXFVFZYPPCDAW-UHFFFAOYSA-N 4-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-ylmethoxymethyl)-7-oxabicyclo[4.1.0]heptane Chemical compound C1CC2OC2CC1COCC1CC2OC2CC1 RRXFVFZYPPCDAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IOSONAGXTXMCDY-UHFFFAOYSA-N 4-(benzylsulfanylmethyl)phenol Chemical class C1=CC(O)=CC=C1CSCC1=CC=CC=C1 IOSONAGXTXMCDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CYCBPQPFMHUATH-UHFFFAOYSA-N 4-(oxiran-2-ylmethoxy)butan-1-ol Chemical compound OCCCCOCC1CO1 CYCBPQPFMHUATH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLPMHOSKRYECTK-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl]-7-oxabicyclo[4.1.0]heptane Chemical compound C1CC2OC2CC1CCC1CC2OC2CC1 ZLPMHOSKRYECTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVMHLMJYHBAOPL-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)propan-2-yl]-7-oxabicyclo[4.1.0]heptane Chemical compound C1CC2OC2CC1C(C)(C)C1CC2OC2CC1 HVMHLMJYHBAOPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GPCJIIDPVLEBGD-UHFFFAOYSA-N 4-[3-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)oxiran-2-yl]-7-oxabicyclo[4.1.0]heptane Chemical compound C1CC2OC2CC1C1OC1C1CCC2OC2C1 GPCJIIDPVLEBGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CXXSQMDHHYTRKY-UHFFFAOYSA-N 4-amino-2,3,5-tris(oxiran-2-ylmethyl)phenol Chemical compound C1=C(O)C(CC2OC2)=C(CC2OC2)C(N)=C1CC1CO1 CXXSQMDHHYTRKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSMQKESQZFQMFW-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-pyrazole-3-carboxylic acid Chemical compound CC1=CC(C(O)=O)=NN1 WSMQKESQZFQMFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIJZFHNDUJXJMR-UHFFFAOYSA-N 7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-ylmethanol Chemical compound C1C(CO)CCC2OC21 NIJZFHNDUJXJMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YXALYBMHAYZKAP-UHFFFAOYSA-N 7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-ylmethyl 7-oxabicyclo[4.1.0]heptane-4-carboxylate Chemical compound C1CC2OC2CC1C(=O)OCC1CC2OC2CC1 YXALYBMHAYZKAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 229910015900 BF3 Inorganic materials 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical class [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005914 C6-C14 aryloxy group Chemical group 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N D-Glucitol Natural products OC[C@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N 0.000 description 1
- FBPFZTCFMRRESA-KVTDHHQDSA-N D-Mannitol Chemical compound OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-KVTDHHQDSA-N 0.000 description 1
- FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N D-glucitol Chemical compound OC[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N 0.000 description 1
- OIFBSDVPJOWBCH-UHFFFAOYSA-N Diethyl carbonate Chemical compound CCOC(=O)OCC OIFBSDVPJOWBCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052692 Dysprosium Inorganic materials 0.000 description 1
- 241000196324 Embryophyta Species 0.000 description 1
- KMTRUDSVKNLOMY-UHFFFAOYSA-N Ethylene carbonate Chemical compound O=C1OCCO1 KMTRUDSVKNLOMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 244000043261 Hevea brasiliensis Species 0.000 description 1
- 239000004354 Hydroxyethyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920000663 Hydroxyethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930195725 Mannitol Natural products 0.000 description 1
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N Nitrate Chemical compound [O-][N+]([O-])=O NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 1
- 229920000571 Nylon 11 Polymers 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002033 PVDF binder Substances 0.000 description 1
- ALQSHHUCVQOPAS-UHFFFAOYSA-N Pentane-1,5-diol Chemical compound OCCCCCO ALQSHHUCVQOPAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FQYUMYWMJTYZTK-UHFFFAOYSA-N Phenyl glycidyl ether Chemical compound C1OC1COC1=CC=CC=C1 FQYUMYWMJTYZTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 229920002396 Polyurea Polymers 0.000 description 1
- 229920005830 Polyurethane Foam Polymers 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000004373 Pullulan Substances 0.000 description 1
- 229920001218 Pullulan Polymers 0.000 description 1
- 238000001069 Raman spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 229910052772 Samarium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-M Thiocyanate anion Chemical compound [S-]C#N ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UMILHIMHKXVDGH-UHFFFAOYSA-N Triethylene glycol diglycidyl ether Chemical compound C1OC1COCCOCCOCCOCC1CO1 UMILHIMHKXVDGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YDBHIUQLJNCUNP-UHFFFAOYSA-N [2-(4-nitrophenyl)-2-oxoethyl]-diphenylsulfanium Chemical class C1=CC([N+](=O)[O-])=CC=C1C(=O)C[S+](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 YDBHIUQLJNCUNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDLQZKYLHJJBHD-UHFFFAOYSA-N [3-(aminomethyl)phenyl]methanamine Chemical compound NCC1=CC=CC(CN)=C1 FDLQZKYLHJJBHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YIMQCDZDWXUDCA-UHFFFAOYSA-N [4-(hydroxymethyl)cyclohexyl]methanol Chemical compound OCC1CCC(CO)CC1 YIMQCDZDWXUDCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000641 acridinyl group Chemical class C1(=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3C=C12)* 0.000 description 1
- 229920000122 acrylonitrile butadiene styrene Polymers 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000003302 alkenyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004183 alkoxy alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000012491 analyte Substances 0.000 description 1
- 238000010539 anionic addition polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 150000001454 anthracenes Chemical class 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- GUNJVIDCYZYFGV-UHFFFAOYSA-K antimony trifluoride Chemical compound F[Sb](F)F GUNJVIDCYZYFGV-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000005098 aryl alkoxy carbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002102 aryl alkyloxo group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005161 aryl oxy carbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021523 barium zirconate Inorganic materials 0.000 description 1
- DQBAOWPVHRWLJC-UHFFFAOYSA-N barium(2+);dioxido(oxo)zirconium Chemical compound [Ba+2].[O-][Zr]([O-])=O DQBAOWPVHRWLJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XWUPANOEJRYEPL-UHFFFAOYSA-N barium(2+);oxygen(2-);titanium(4+);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ti+4].[Zr+4].[Ba+2] XWUPANOEJRYEPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N benzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DHXJFECNLYYCDM-UHFFFAOYSA-N benzyl(dimethyl)sulfanium Chemical class C[S+](C)CC1=CC=CC=C1 DHXJFECNLYYCDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPDLSYSNVXVNFR-UHFFFAOYSA-N benzyl(diphenyl)sulfanium Chemical class C=1C=CC=CC=1C[S+](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 BPDLSYSNVXVNFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LUFPJJNWMYZRQE-UHFFFAOYSA-N benzylsulfanylmethylbenzene Chemical class C=1C=CC=CC=1CSCC1=CC=CC=C1 LUFPJJNWMYZRQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- VCCBEIPGXKNHFW-UHFFFAOYSA-N biphenyl-4,4'-diol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C1=CC=C(O)C=C1 VCCBEIPGXKNHFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KIKYOFDZBWIHTF-UHFFFAOYSA-N bis(oxiran-2-ylmethyl) cyclohex-3-ene-1,2-dicarboxylate Chemical compound C1CC=CC(C(=O)OCC2OC2)C1C(=O)OCC1CO1 KIKYOFDZBWIHTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XFUOBHWPTSIEOV-UHFFFAOYSA-N bis(oxiran-2-ylmethyl) cyclohexane-1,2-dicarboxylate Chemical compound C1CCCC(C(=O)OCC2OC2)C1C(=O)OCC1CO1 XFUOBHWPTSIEOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002115 bismuth titanate Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 229940063013 borate ion Drugs 0.000 description 1
- 150000001639 boron compounds Chemical class 0.000 description 1
- WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N boron trifluoride Substances FB(F)F WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDQSJQSWAWPGKG-UHFFFAOYSA-N butane-1,1-diol Chemical compound CCCC(O)O CDQSJQSWAWPGKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMRWNKZVCUKKSR-UHFFFAOYSA-N butane-1,2-diol Chemical compound CCC(O)CO BMRWNKZVCUKKSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005569 butenylene group Chemical group 0.000 description 1
- 229920005549 butyl rubber Polymers 0.000 description 1
- UIZLQMLDSWKZGC-UHFFFAOYSA-N cadmium helium Chemical compound [He].[Cd] UIZLQMLDSWKZGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- AOWKSNWVBZGMTJ-UHFFFAOYSA-N calcium titanate Chemical compound [Ca+2].[O-][Ti]([O-])=O AOWKSNWVBZGMTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003917 carbamoyl group Chemical group [H]N([H])C(*)=O 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005587 carbonate group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920003086 cellulose ether Polymers 0.000 description 1
- 239000004568 cement Substances 0.000 description 1
- 150000005678 chain carbonates Chemical class 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 238000012790 confirmation Methods 0.000 description 1
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 1
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 1
- 125000002993 cycloalkylene group Chemical group 0.000 description 1
- HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N cyclohexanol Chemical compound OC1CCCCC1 HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FOTKYAAJKYLFFN-UHFFFAOYSA-N decane-1,10-diol Chemical compound OCCCCCCCCCCO FOTKYAAJKYLFFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 description 1
- 150000001989 diazonium salts Chemical class 0.000 description 1
- IEJIGPNLZYLLBP-UHFFFAOYSA-N dimethyl carbonate Chemical compound COC(=O)OC IEJIGPNLZYLLBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JTNDNBUJMQNEGL-UHFFFAOYSA-N dimethyl(phenacyl)sulfanium Chemical class C[S+](C)CC(=O)C1=CC=CC=C1 JTNDNBUJMQNEGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940113088 dimethylacetamide Drugs 0.000 description 1
- OWZDULOODZHVCQ-UHFFFAOYSA-N diphenyl-(4-phenylsulfanylphenyl)sulfanium Chemical class C=1C=C([S+](C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)C=CC=1SC1=CC=CC=C1 OWZDULOODZHVCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ORKZATPRQQSLDT-UHFFFAOYSA-N diphenylmethanethiol Chemical class C=1C=CC=CC=1C(S)C1=CC=CC=C1 ORKZATPRQQSLDT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- KBQHZAAAGSGFKK-UHFFFAOYSA-N dysprosium atom Chemical compound [Dy] KBQHZAAAGSGFKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 238000004453 electron probe microanalysis Methods 0.000 description 1
- 150000002168 ethanoic acid esters Chemical class 0.000 description 1
- 125000005678 ethenylene group Chemical group [H]C([*:1])=C([H])[*:2] 0.000 description 1
- 125000002573 ethenylidene group Chemical group [*]=C=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229960005237 etoglucid Drugs 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 1
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- 239000011086 glassine Substances 0.000 description 1
- 108010067216 glycyl-glycyl-glycine Proteins 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 1
- WJRBRSLFGCUECM-UHFFFAOYSA-N hydantoin Chemical compound O=C1CNC(=O)N1 WJRBRSLFGCUECM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940091173 hydantoin Drugs 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical class I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019447 hydroxyethyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 238000003703 image analysis method Methods 0.000 description 1
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003049 isoprene rubber Polymers 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 239000002655 kraft paper Substances 0.000 description 1
- 239000000990 laser dye Substances 0.000 description 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 1
- HFGPZNIAWCZYJU-UHFFFAOYSA-N lead zirconate titanate Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ti+4].[Zr+4].[Pb+2] HFGPZNIAWCZYJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010985 leather Substances 0.000 description 1
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000004611 light stabiliser Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- GQYHUHYESMUTHG-UHFFFAOYSA-N lithium niobate Chemical compound [Li+].[O-][Nb](=O)=O GQYHUHYESMUTHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 239000000594 mannitol Substances 0.000 description 1
- 235000010355 mannitol Nutrition 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 239000002905 metal composite material Substances 0.000 description 1
- 238000001000 micrograph Methods 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- JAYXSROKFZAHRQ-UHFFFAOYSA-N n,n-bis(oxiran-2-ylmethyl)aniline Chemical compound C1OC1CN(C=1C=CC=CC=1)CC1CO1 JAYXSROKFZAHRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VAUOPRZOGIRSMI-UHFFFAOYSA-N n-(oxiran-2-ylmethyl)aniline Chemical class C1OC1CNC1=CC=CC=C1 VAUOPRZOGIRSMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 description 1
- RSIZHSFCPFZAJC-UHFFFAOYSA-N naphthalen-1-yl(diphenyl)sulfanium Chemical class C1=CC=CC=C1[S+](C=1C2=CC=CC=C2C=CC=1)C1=CC=CC=C1 RSIZHSFCPFZAJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003052 natural elastomer Polymers 0.000 description 1
- 229920001194 natural rubber Polymers 0.000 description 1
- QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N neodymium atom Chemical compound [Nd] QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004745 nonwoven fabric Substances 0.000 description 1
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 1
- OEIJHBUUFURJLI-UHFFFAOYSA-N octane-1,8-diol Chemical compound OCCCCCCCCO OEIJHBUUFURJLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002921 oxetanes Chemical class 0.000 description 1
- 125000004269 oxiran-2-yl group Chemical group [H]C1([H])OC1([H])* 0.000 description 1
- AFEQENGXSMURHA-UHFFFAOYSA-N oxiran-2-ylmethanamine Chemical compound NCC1CO1 AFEQENGXSMURHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000466 oxiranyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004043 oxo group Chemical group O=* 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N palladium;triphenylphosphane Chemical compound [Pd].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 125000004817 pentamethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 1
- 150000002979 perylenes Chemical class 0.000 description 1
- NKIFVPLJBNCZFN-UHFFFAOYSA-N phenacyl(diphenyl)sulfanium Chemical class C=1C=CC=CC=1C(=O)C[S+](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 NKIFVPLJBNCZFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- IGALFTFNPPBUDN-UHFFFAOYSA-N phenyl-[2,3,4,5-tetrakis(oxiran-2-ylmethyl)phenyl]methanediamine Chemical compound C=1C(CC2OC2)=C(CC2OC2)C(CC2OC2)=C(CC2OC2)C=1C(N)(N)C1=CC=CC=C1 IGALFTFNPPBUDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003003 phosphines Chemical class 0.000 description 1
- 150000004714 phosphonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 229920001084 poly(chloroprene) Polymers 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000166 polytrimethylene carbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000011496 polyurethane foam Substances 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 229920002981 polyvinylidene fluoride Polymers 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 230000002250 progressing effect Effects 0.000 description 1
- 125000006410 propenylene group Chemical group 0.000 description 1
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019423 pullulan Nutrition 0.000 description 1
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000007870 radical polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002910 rare earth metals Chemical class 0.000 description 1
- KZUNJOHGWZRPMI-UHFFFAOYSA-N samarium atom Chemical compound [Sm] KZUNJOHGWZRPMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001004 secondary ion mass spectrometry Methods 0.000 description 1
- 150000003342 selenium Chemical class 0.000 description 1
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000600 sorbitol Substances 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 1
- CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N strontium atom Chemical compound [Sr] CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEALVRVVWBQVSL-UHFFFAOYSA-N strontium titanate Chemical compound [Sr+2].[O-][Ti]([O-])=O VEALVRVVWBQVSL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000020 sulfo group Chemical group O=S(=O)([*])O[H] 0.000 description 1
- 150000003462 sulfoxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000003464 sulfur compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000005211 surface analysis Methods 0.000 description 1
- 229920003051 synthetic elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000005061 synthetic rubber Substances 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003017 thermal stabilizer Substances 0.000 description 1
- 229920002725 thermoplastic elastomer Polymers 0.000 description 1
- YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N thioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3SC2=C1 YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002042 time-of-flight secondary ion mass spectrometry Methods 0.000 description 1
- LLZRNZOLAXHGLL-UHFFFAOYSA-J titanic acid Chemical compound O[Ti](O)(O)O LLZRNZOLAXHGLL-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004992 toluidines Chemical class 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 1
- ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N triflic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C(F)(F)F ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GZXOHHPYODFEGO-UHFFFAOYSA-N triglycine sulfate Chemical compound NCC(O)=O.NCC(O)=O.NCC(O)=O.OS(O)(=O)=O GZXOHHPYODFEGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MGACORKJUSACCA-UHFFFAOYSA-N trinaphthalen-1-ylsulfanium Chemical class C1=CC=C2C([S+](C=3C4=CC=CC=C4C=CC=3)C=3C4=CC=CC=C4C=CC=3)=CC=CC2=C1 MGACORKJUSACCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HKDYXDHJQBAOAC-UHFFFAOYSA-N trinaphthalen-2-ylsulfanium Chemical class C1=CC=CC2=CC([S+](C=3C=C4C=CC=CC4=CC=3)C3=CC4=CC=CC=C4C=C3)=CC=C21 HKDYXDHJQBAOAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WLOQLWBIJZDHET-UHFFFAOYSA-N triphenylsulfonium Chemical class C1=CC=CC=C1[S+](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 WLOQLWBIJZDHET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXYQQAVHPAUFQX-UHFFFAOYSA-N tris(2-methylphenyl)sulfanium Chemical class CC1=CC=CC=C1[S+](C=1C(=CC=CC=1)C)C1=CC=CC=C1C AXYQQAVHPAUFQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MAOCPIDAEMTJLK-UHFFFAOYSA-N tris(4-fluorophenyl)sulfanium Chemical class C1=CC(F)=CC=C1[S+](C=1C=CC(F)=CC=1)C1=CC=C(F)C=C1 MAOCPIDAEMTJLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUWXFPUSCUUNPR-UHFFFAOYSA-O tris(4-hydroxyphenyl)sulfanium Chemical class C1=CC(O)=CC=C1[S+](C=1C=CC(O)=CC=1)C1=CC=C(O)C=C1 XUWXFPUSCUUNPR-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- WUKMCKCDYKBLBG-UHFFFAOYSA-N tris(4-methoxyphenyl)sulfanium Chemical class C1=CC(OC)=CC=C1[S+](C=1C=CC(OC)=CC=1)C1=CC=C(OC)C=C1 WUKMCKCDYKBLBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QKFJVDSYTSWPII-UHFFFAOYSA-N tris(4-methylphenyl)sulfanium Chemical class C1=CC(C)=CC=C1[S+](C=1C=CC(C)=CC=1)C1=CC=C(C)C=C1 QKFJVDSYTSWPII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
- 210000002268 wool Anatomy 0.000 description 1
- 239000002759 woven fabric Substances 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical compound [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
- C08K3/18—Oxygen-containing compounds, e.g. metal carbonyls
- C08K3/20—Oxides; Hydroxides
- C08K3/22—Oxides; Hydroxides of metals
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2/00—Processes of polymerisation
- C08F2/46—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
- C08F2/48—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J5/00—Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
- C08J5/18—Manufacture of films or sheets
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
- C08K3/01—Use of inorganic substances as compounding ingredients characterized by their specific function
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L101/00—Compositions of unspecified macromolecular compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L101/00—Compositions of unspecified macromolecular compounds
- C08L101/12—Compositions of unspecified macromolecular compounds characterised by physical features, e.g. anisotropy, viscosity or electrical conductivity
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
- H01G4/00—Fixed capacitors; Processes of their manufacture
- H01G4/32—Wound capacitors
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
- C08K3/18—Oxygen-containing compounds, e.g. metal carbonyls
- C08K3/20—Oxides; Hydroxides
- C08K3/22—Oxides; Hydroxides of metals
- C08K2003/2237—Oxides; Hydroxides of metals of titanium
- C08K2003/2241—Titanium dioxide
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Epoxy Resins (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
수지 전구체 및 유전체 필러를 포함하는 액상 전구체의 일부 영역에 활성 에너지를 부여하여 상기 유전체 필러를 응집시켜 전구 성형체를 얻는 응집 공정을 거쳐, 수지와 유전체 필러를 포함하는 성형체를 제조한다. 이 성형체는 상기 유전체 필러가 응집한 영역인 응집부와, 상기 응집부 이외의 영역인 비응집부로 형성되는 동시에, 상기 응집부에서의 유전체 필러의 존재 비율이 상기 비응집부와의 적어도 계면 근방에서 계면을 향해 점차 감소하고 있다. 상기 수지는 광경화성 수지의 경화물일 수도 있다. 상기 광경화성 수지는 양이온 중합성 화합물일 수도 있다. 상기 유전체 필러의 비율은 상기 수지 100질량부에 대해 0.1~100질량부일 수도 있다. 상기 성형체는 필름상일 수도 있다.A molded body including a resin and a dielectric filler is manufactured through an aggregation process of applying active energy to a partial region of a liquid precursor including a resin precursor and a dielectric filler to agglomerate the dielectric filler to obtain a precursor molded body. The molded body is formed of an agglomerated portion, which is a region in which the dielectric filler aggregates, and a non-agglomerated portion, which is a region other than the agglomerated portion. is gradually decreasing towards The resin may be a cured product of a photocurable resin. The photocurable resin may be a cationically polymerizable compound. The ratio of the dielectric filler may be 0.1 to 100 parts by mass based on 100 parts by mass of the resin. The molded article may be in the form of a film.
Description
본 개시는 수지 중에 유전체 필러가 응집한 영역을 갖는 성형체 및 그 전구체, 제조 방법 및 용도에 관한 것이다.The present disclosure relates to a molded article having a region in which a dielectric filler aggregates in a resin, a precursor thereof, a manufacturing method, and a use thereof.
유전 재료는 전압이 부하되면, 전기 분극이 일어나고 전기를 비축하는 성질을 가지고 있기 때문에, 전기·전자 기기에 있어서 콘덴서(커패시터), 레지스터, 인덕터 등의 수동 소자 부품으로서 널리 이용되고 있다. 또한, 이들 용도로 사용되는 유전 재료는 통상 시트상이며, 기계적 강도나 내구성이 요구될 뿐만 아니라, 롤상으로 권회된 형태인 경우도 많아 유연성도 요구된다. 때문에, 유전 재료로서는 수지 중에 유전체 필러를 함유시킨 복합 유전 재료도 개발되고 있는데, 복합 유전 재료에 있어서는, 전기 특성과 기계적 특성이 트레이드 오프의 관계에 있어, 유전체 필러의 비율을 증가하여 비유전율을 향상시키면, 유전 재료의 기계적 특성은 저하된다. 최근, 스마트폰 등의 모바일 기기의 보급에 의해 전자 부품의 고밀도화, 소형화가 진행되고 있기 때문에, 복합 유전 재료에도 비유전율의 향상(고유전율화)과 유연성 등의 기계적 특성의 양립이 요구되고 있다.Dielectric materials are widely used as passive components such as capacitors (capacitors), resistors, and inductors in electrical and electronic devices because they have a property of causing electrical polarization and storing electricity when a voltage is applied. In addition, dielectric materials used for these purposes are usually in the form of a sheet, and not only mechanical strength and durability are required, but also flexibility is required in many cases in the form of being wound in a roll shape. For this reason, as a dielectric material, a composite dielectric material containing a dielectric filler in a resin has also been developed. In the composite dielectric material, there is a trade-off relationship between electrical and mechanical properties, and the dielectric constant is improved by increasing the ratio of the dielectric filler. When this is done, the mechanical properties of the dielectric material are lowered. In recent years, since the density and miniaturization of electronic components are progressing due to the spread of mobile devices such as smartphones, it is required to improve the relative dielectric constant (high dielectric constant) and to achieve both mechanical properties such as flexibility and the like in composite dielectric materials.
일본 공개특허공보 제2018-6052호(특허문헌 1)에는, 수지로 이루어지는 매트릭스 입자의 주위에 유전체 필러로 이루어지는 피막이 형성되고, 상기 유전체 필러가 삼차원적으로 네트워크를 형성한 유전체 복합 재료가 개시되어 있다.Japanese Patent Application Laid-Open No. 2018-6052 (Patent Document 1) discloses a dielectric composite material in which a film made of a dielectric filler is formed around matrix particles made of a resin, and the dielectric filler forms a three-dimensional network. .
일본 특허공보 제6264897호(특허문헌 2)에는, 수지의 용융액과 분산매 중에 분산시킨 무기 필러의 분산액을 혼합하고, 초음파 진동에 의해 무기 필러를 수지에 분산시킨 도료를 도공함으로써, 불균일 상태로 수지에 무기 필러가 분산된 고유전율 필름이 개시되어 있다.In Japanese Patent Publication No. 6264897 (Patent Document 2), by mixing a resin melt and a dispersion liquid of an inorganic filler dispersed in a dispersion medium, and coating a paint in which the inorganic filler is dispersed in the resin by ultrasonic vibration, the resin in a non-uniform state A high dielectric constant film in which an inorganic filler is dispersed is disclosed.
그러나, 특허문헌 1 및 2의 유전체 복합 재료 및 고유전율 필름은 구조 제어가 용이하지 않고, 간편성 및 생산성이 낮을 뿐만아니라, 고유전율화도 충분하지 않다. 아울러, 특허문헌 1에서는, 도 1의 단면 모식도로 나타나는 병렬 모델은 소량의 유전체 필러를 이용하여 제조하는 것이 용이하지 않아, 현실적이지 않은 모델로서 기재되어 있다.However, the dielectric composite material and the high-k film of
따라서, 본 개시의 목적은 수지 중에서 유전체 필러가 응집한 영역을 갖는 성형체를 간편하게 제조할 수 있는 방법을 제공하는 것에 있다.Accordingly, an object of the present disclosure is to provide a method by which a molded article having regions in which dielectric fillers are aggregated in a resin can be easily manufactured.
본 개시의 다른 목적은 유전체 필러의 응집 영역이 각종 형상 또는 패턴상으로 형성되어 있는 성형체 및 그 전구체, 제조 방법 및 용도를 제공하는 것에 있다.Another object of the present disclosure is to provide a molded article in which agglomerated regions of a dielectric filler are formed in various shapes or patterns, a precursor thereof, a manufacturing method, and a use thereof.
본 개시의 또 다른 목적은 두께 방향으로 횡단 또는 관통하는 형태의 필러 응집 영역을 갖는 필름상 성형체 및 그 전구체, 제조 방법 및 용도를 제공하는 것에 있다.Another object of the present disclosure is to provide a film-like molded article having a filler aggregation region in a form that crosses or penetrates in the thickness direction, a precursor thereof, a manufacturing method, and a use thereof.
본 개시의 다른 목적은 유연성(또는 인성) 등의 기계적 특성과 고유전율 특성을 양립할 수 있는 필름상 성형체 및 그 전구체, 제조 방법 및 용도를 제공하는 것에 있다.Another object of the present disclosure is to provide a film-like molded article capable of compatibility of mechanical properties such as flexibility (or toughness) and high dielectric constant properties, and a precursor thereof, a manufacturing method, and a use thereof.
본 개시의 또 다른 목적은 고유전율 특성, 저유전 손실 및 내열성을 향상시킬 수 있는 필름상 성형체 및 그 전구체, 제조 방법 및 용도를 제공하는 것에 있다.Another object of the present disclosure is to provide a film-like molded article capable of improving high dielectric constant characteristics, low dielectric loss and heat resistance, and a precursor thereof, a manufacturing method, and use thereof.
본 발명자들은 상기 과제를 달성하기 위해 더욱 예의 검토한 결과, 수지 전구체 및 유전체 필러를 포함하는 액상 전구체의 일부 영역에 활성 에너지를 부여하면, 상기 유전체 필러를 특정 영역에 응집시킬 수 있어, 수지 중에서 유전체 필러가 응집한 영역을 갖는 성형체를 간편하게 제조할 수 있다는 것을 발견하여, 본 발명을 완성했다.As a result of further intensive studies to achieve the above object, the present inventors have found that if active energy is applied to a partial region of a liquid precursor including a resin precursor and a dielectric filler, the dielectric filler can be aggregated in a specific region, and the dielectric in the resin The present invention was completed by discovering that a molded article having a region in which fillers aggregated could be easily manufactured.
즉, 본 개시의 성형체는 수지와 유전체 필러(또는 유전체 입자)를 포함하며, 상기 유전체 필러가 응집한 영역인 응집부와, 상기 응집부 이외의 영역인 비응집부로 형성되는 동시에, 상기 응집부에서의 유전체 필러의 존재 비율이 상기 비응집부와의 적어도 계면 근방에서, 계면을 향해 점차 감소한다. 상기 수지는 광경화성 수지의 경화물일 수도 있다. 상기 광경화성 수지는 양이온 중합성 화합물일 수도 있다. 상기 유전체 필러는 티탄 함유 복합 금속 산화물로 형성된 무기 필러일 수도 있다. 상기 유전체 필러의 비율은 상기 수지 100 질량부에 대해 0.1~100질량부일 수도 있다. 상기 성형체는 필름상일 수도 있다. 상기 필름상 성형체는 복수의 응집부가 패턴 형상을 형성하는 동시에, 상기 복수의 응집부 중 적어도 하나의 응집부가 두께 방향으로 연장되어 관통한 형태로 형성되어 있을 수도 있다. 상기 성형체는 유전 필름일 수도 있다.That is, the molded article of the present disclosure includes a resin and a dielectric filler (or dielectric particles), and is formed into an agglomerated portion that is an area in which the dielectric filler aggregates and a non-agglomerated portion that is a region other than the aggregated portion, and at the same time, in the aggregated portion The abundance ratio of the dielectric filler of , at least in the vicinity of the interface with the non-agglomerated portion, gradually decreases toward the interface. The resin may be a cured product of a photocurable resin. The photocurable resin may be a cationically polymerizable compound. The dielectric filler may be an inorganic filler formed of a titanium-containing composite metal oxide. The ratio of the dielectric filler may be 0.1 to 100 parts by mass based on 100 parts by mass of the resin. The molded article may be in the form of a film. The film-like molded body may be formed in a form in which a plurality of agglomerate portions form a pattern shape, and at least one aggregated portion of the plurality of aggregated portions extends in a thickness direction and penetrates therethrough. The molded body may be a dielectric film.
본 개시에는, 수지 전구체 및 유전체 필러를 포함하는 액상 전구체의 일부 영역에 활성 에너지를 부여하여 상기 유전체 필러를 응집시켜 전구 성형체를 얻는 응집 공정을 포함하는 상기 성형체의 제조 방법도 포함된다. 이 제조 방법은 응집 공정을 거친 전구 성형체의 미경화 영역에 활성 에너지를 부여하여 중합을 완결시키는 중합 완결 공정을 포함하고 있을 수도 있다. 상기 제조 방법에 있어서, 상기 액상 전구체는 광 산발생제를 포함하고 있을 수도 있으며, 상기 활성 에너지는 활성 광선일 수도 있다. 또한, 본 개시에는 상기 제조 방법으로 얻어진 성형체도 포함된다.The present disclosure also includes a method for manufacturing the molded body including an aggregation step of applying active energy to a partial region of a liquid precursor including a resin precursor and a dielectric filler to agglomerate the dielectric filler to obtain a precursor molded body. This production method may include a polymerization completion step of imparting active energy to an uncured region of the precursor molded body that has undergone the agglomeration step to complete polymerization. In the manufacturing method, the liquid precursor may contain a photoacid generator, and the active energy may be actinic light. In addition, the present disclosure includes a molded article obtained by the above production method.
본 개시에는, 광경화성 수지와 유전체 필러를 포함하며, 상기 유전체 필러가 응집한 영역인 응집부와, 상기 응집부 이외의 영역인 비응집부를 갖는 성형체를 형성하기 위한 액상 전구체이며, 광경화성 수지 및 유전체 필러를 포함하는 액상 전구체도 포함된다.The present disclosure provides a liquid precursor for forming a molded article comprising a photocurable resin and a dielectric filler, wherein the molded body has an agglomerated portion that is a region in which the dielectric filler aggregates and a non-agglomerated portion that is a region other than the agglomerated portion, the photocurable resin and Liquid precursors containing dielectric fillers are also included.
본 개시에는, 수지, 세라믹 또는 금속으로 형성된 기재와 상기 성형체가 접합된 접합체도 포함된다. 이 접합체는 콘덴서일 수도 있다.The present disclosure also includes a bonded body in which a substrate formed of a resin, ceramic, or metal and the molded body are joined. This junction may be a capacitor.
본 개시에서는, 수지 전구체 및 유전체 필러를 포함하는 액상 전구체의 일부 영역에 활성 에너지를 부여하기 때문에, 수지 중에서 유전체 필러가 응집한 영역을 갖는 성형체를 간편하게(효율적으로) 제조할 수 있다. 또한, 소망의 형(型)이나 패턴상의 마스크 등을 이용하면, 유전체 필러의 응집 영역이 각종 형상 또는 패턴상으로 형성되어 있는 성형체도 간편하게 또는 정밀하게 제조할 수 있다. 또한, 두께 방향으로 횡단 또는 연속하는 형태의 필러 응집 영역(병렬 접속 모델이라고 칭해지는 두께 방향으로 유전체가 연속하는 고유전율 구조: 예를 들어, 특허문헌 1에 기재되어 있는 도 1에 나타내는 구조 등)을 갖는 필름상(또는 시트상) 성형체도 간편하게 제조할 수 있다. 때문에, 필름상 성형체의 두께 방향으로 유전 특성을 유효하게 발현할 수 있다. 또한, 유전체 필러의 첨가량이 적어도 효율적으로 유전 특성을 부여할 수 있기 때문에, 필름상 성형체의 유연성(또는 인성) 등의 기계적 특성과 고유전율 특성을 양립할 수 있다. 또한, 고유전율 특성, 저유전 손실 및 내열성도 우수한 성형체도 얻을 수 있다.In the present disclosure, since active energy is applied to a partial region of the liquid precursor including the resin precursor and the dielectric filler, a molded article having a region in which the dielectric filler aggregates in the resin can be manufactured simply (efficiently). In addition, if a desired shape or patterned mask is used, a molded article in which dielectric filler aggregation regions are formed in various shapes or patterns can be manufactured simply or precisely. In addition, a filler aggregation region of a form that is transverse or continuous in the thickness direction (a high dielectric constant structure in which a dielectric is continuous in the thickness direction referred to as a parallel connection model; for example, the structure shown in FIG. 1 described in
도 1은 특허문헌 1에서 제조가 용이하지 않다고 기재되어 있는 복합 재료의 단면 모식도이다.
도 2는 응집부에서의 유전체 필러 농도의 불균일성을 설명하기 위해 나타낸 본 발명의 시트상 성형체의 개략 부분 종단면도이다.
도 3은 실시예에서 사용한 포토마스크의 패턴 형상을 나타내는 도면이다.
도 4는 실시예에서 사용한 포토마스크의 다른 패턴 형상을 나타내는 도면이다.
도 5는 비교예 1에서 얻어진 필름의 표면((a) 100배, (b) 400배)의 CCD(전하 결합 소자) 사진이다.
도 6은 비교예 2에서 얻어진 필름의 표면((a) 100배, (b) 400배)의 CCD 사진이다.
도 7은 실시예 1에서 얻어진 필름의 표면((a) 100배, (b) 400배)의 CCD 사진이다.
도 8은 실시예 2에서 얻어진 필름의 표면((a) 100배, (b) 400배)의 CCD 사진이다.
도 9는 실시예 3에서 얻어진 필름의 표면((a) 100배, (b) 400배)의 CCD 사진이다.
도 10은 실시예 4에서 얻어진 필름의 표면((a) 100배, (b) 400배)의 CCD 사진이다.
도 11은 실시예 5에서 얻어진 필름의 표면((a) 100배, (b) 400배)의 CCD 사진이다.
도 12는 실시예 6에서 얻어진 필름의 표면((a) 100배, (b) 400배)의 CCD 사진이다.
도 13은 실시예 7에서 얻어진 필름의 표면((a) 100배, (b) 400배)의 CCD 사진이다.
도 14는 실시예 8에서 얻어진 필름의 표면((a) 100배, (b) 400배)의 CCD 사진이다.
도 15는 실시예 9에서 얻어진 필름의 표면((a) 100배, (b) 400배)의 CCD 사진이다.
도 16은 실시예 10에서 얻어진 필름의 표면((a) 100배, (b) 400배)의 CCD 사진이다.
도 17은 실시예 11에서 얻어진 필름의 표면((a) 100배, (b) 400배)의 CCD 사진이다.
도 18은 실시예 12에서 얻어진 필름의 표면((a) 100배, (b) 400배)의 CCD 사진이다.
도 19는 실시예 13에서 얻어진 필름의 표면((a) 100배, (b) 400배)의 CCD 사진이다.
도 20은 실시예 14에서 얻어진 필름의 표면((a) 100배, (b) 400배)의 CCD 사진이다.
도 21은 실시예 15에서 얻어진 필름의 표면((a) 100배, (b) 400배)의 CCD 사진이다.
도 22는 실시예 16에서 얻어진 필름의 표면((a) 100배, (b) 400배)의 CCD 사진이다.
도 23은 실시예 17에서 얻어진 필름의 표면((a) 100배, (b) 400배)의 CCD 사진이다.
도 24는 실시예 18에서 얻어진 필름의 표면((a) 100배, (b) 400배)의 CCD 사진이다.
도 25는 비교예 4에서 얻어진 필름의 표면(100배)의 CCD 사진이다.
도 26은 실시예 19에서 얻어진 필름의 표면(100배)의 CCD 사진이다.
도 27은 실시예 20에서 얻어진 필름의 표면(100배)의 CCD 사진이다.
도 28은 실시예 21에서 얻어진 필름의 표면(100배)의 CCD 사진이다.
도 29는 비교예 5에서 얻어진 필름의 표면(100배)의 CCD 사진이다.
도 30은 실시예 22에서 얻어진 필름의 표면(100배)의 CCD 사진이다.
도 31은 실시예 23에서 얻어진 필름의 표면(100배)의 CCD 사진이다.
도 32는 실시예 24에서 얻어진 필름의 표면(100배)의 CCD 사진이다.
도 33은 비교예 6에서 얻어진 필름의 표면(100배)의 CCD 사진이다.
도 34는 실시예 25에서 얻어진 필름의 표면(100배)의 CCD 사진이다.
도 35는 실시예 26에서 얻어진 필름의 표면(100배)의 CCD 사진이다.
도 36은 실시예 27에서 얻어진 필름의 표면(100배)의 CCD 사진이다.
도 37은 비교예 7에서 얻어진 필름의 표면(100배)의 CCD 사진이다.
도 38은 실시예 28에서 얻어진 필름의 표면(100배)의 CCD 사진이다.
도 39는 실시예 29에서 얻어진 필름의 표면(100배)의 CCD 사진이다.1 is a schematic cross-sectional view of a composite material described in
Fig. 2 is a schematic partial longitudinal sectional view of the sheet-like molded article of the present invention shown for explaining the non-uniformity of the dielectric filler concentration in the agglomeration portion.
Fig. 3 is a view showing the pattern shape of the photomask used in Examples.
Fig. 4 is a view showing another pattern shape of the photomask used in Examples.
5 is a CCD (charge coupled device) photograph of the surface ((a) 100 times, (b) 400 times) of the film obtained in Comparative Example 1. FIG.
6 is a CCD photograph of the surface of the film obtained in Comparative Example 2 ((a) 100 times, (b) 400 times).
7 is a CCD photograph of the surface ((a) 100 times, (b) 400 times) of the film obtained in Example 1. FIG.
8 is a CCD photograph of the surface ((a) 100 times, (b) 400 times) of the film obtained in Example 2. FIG.
9 is a CCD photograph of the surface ((a) 100 times, (b) 400 times) of the film obtained in Example 3;
10 is a CCD photograph of the surface ((a) 100 times, (b) 400 times) of the film obtained in Example 4;
11 is a CCD photograph of the surface ((a) 100 times, (b) 400 times) of the film obtained in Example 5. FIG.
12 is a CCD photograph of the surface of the film obtained in Example 6 ((a) 100 times, (b) 400 times).
13 is a CCD photograph of the surface of the film obtained in Example 7 ((a) 100 times, (b) 400 times).
14 is a CCD photograph of the surface ((a) 100 times, (b) 400 times) of the film obtained in Example 8. FIG.
15 is a CCD photograph of the surface ((a) 100 times, (b) 400 times) of the film obtained in Example 9. FIG.
16 is a CCD photograph of the surface ((a) 100 times, (b) 400 times) of the film obtained in Example 10. FIG.
17 is a CCD photograph of the surface ((a) 100 times, (b) 400 times) of the film obtained in Example 11. FIG.
18 is a CCD photograph of the surface ((a) 100 times, (b) 400 times) of the film obtained in Example 12. FIG.
19 is a CCD photograph of the surface ((a) 100 times, (b) 400 times) of the film obtained in Example 13. FIG.
20 is a CCD photograph of the surface ((a) 100 times, (b) 400 times) of the film obtained in Example 14. FIG.
21 is a CCD photograph of the surface ((a) 100 times, (b) 400 times) of the film obtained in Example 15. FIG.
22 is a CCD photograph of the surface ((a) 100 times, (b) 400 times) of the film obtained in Example 16. FIG.
23 is a CCD photograph of the surface ((a) 100 times, (b) 400 times) of the film obtained in Example 17. FIG.
24 is a CCD photograph of the surface ((a) 100 times, (b) 400 times) of the film obtained in Example 18. FIG.
25 is a CCD photograph of the surface (100 times) of the film obtained in Comparative Example 4.
Fig. 26 is a CCD photograph of the surface (100 times) of the film obtained in Example 19.
Fig. 27 is a CCD photograph of the surface (100 times) of the film obtained in Example 20.
Fig. 28 is a CCD photograph of the surface (100 times) of the film obtained in Example 21.
29 is a CCD photograph of the surface (100 times) of the film obtained in Comparative Example 5;
Fig. 30 is a CCD photograph of the surface (100 times) of the film obtained in Example 22.
Fig. 31 is a CCD photograph of the surface (100 times) of the film obtained in Example 23.
Fig. 32 is a CCD photograph of the surface (100 times) of the film obtained in Example 24.
Fig. 33 is a CCD photograph of the surface (100 times) of the film obtained in Comparative Example 6.
Fig. 34 is a CCD photograph of the surface (100 times) of the film obtained in Example 25.
Fig. 35 is a CCD photograph of the surface (100 times) of the film obtained in Example 26.
Fig. 36 is a CCD photograph of the surface (100 times) of the film obtained in Example 27.
Fig. 37 is a CCD photograph of the surface (100 times) of the film obtained in Comparative Example 7.
Fig. 38 is a CCD photograph of the surface (100 times) of the film obtained in Example 28.
Fig. 39 is a CCD photograph of the surface (100 times) of the film obtained in Example 29.
[성형체][Mold]
본 개시의 성형체는 수지와 유전체 필러를 포함하는 동시에, 상기 유전체 필러가 응집한 영역인 응집부와, 상기 응집부 이외의 영역인 비응집부(또는 매트릭스부)로 형성된 성형체인데, 이러한 구조를 갖는 성형체(복합 성형체)는 수지 전구체 및 유전체 필러를 포함하는 액상 전구체의 일부 영역에 활성 에너지를 부여하여 상기 유전체 필러를 응집시키는 응집 공정을 거침으로써 얻어진다. 본 개시에서는 응집 공정에서, 활성 에너지가 부여된 영역에서 상기 수지 전구체가 중합하면서, 상기 유전체 필러가 중합에 수반해 이동하여 응집부를 형성하고 있다고 추측할 수 있다. 유전체 필러는 배합의 조합이나 제조 조건의 선택에 따라, 활성 에너지가 부여되지 않은 영역으로 이동시킬 수도 있고, 활성 에너지가 부여되어 있는 영역으로 이동시킬 수도 있다.The molded article of the present disclosure includes a resin and a dielectric filler, and is a molded article formed of an agglomerated portion, which is a region in which the dielectric filler aggregates, and a non-agglomerated portion (or matrix portion) that is a region other than the aggregated portion. A (composite molded article) is obtained by applying an active energy to a partial region of a liquid precursor including a resin precursor and a dielectric filler to agglomerate the dielectric filler. In the present disclosure, it can be inferred that, in the aggregation step, the resin precursor polymerizes in the region to which the active energy is applied, and the dielectric filler moves along with the polymerization to form the agglomeration portion. The dielectric filler may be moved to a region to which active energy is not applied or may be moved to a region to which active energy is applied, depending on a combination of formulations and selection of manufacturing conditions.
(수지)(Suzy)
수지로서는, 활성 에너지에 의해 중합 가능한 수지이면 무방하며, 중합에 의해 얻어진 수지는 열가소성 수지일 수도 있으나, 유전체 필러를 응집시키기 쉬운 점에서, 활성 에너지에 의해 경화 가능한 경화성 수지의 경화물이 바람직하다.The resin may be any resin that can be polymerized by active energy, and the resin obtained by polymerization may be a thermoplastic resin.
경화성 수지로서는 양이온 중합성 화합물 및/또는 라디칼 중합성 수지 등을 들 수 있다. 이들 중, 생산성 등의 점에서 양이온 중합성 화합물이 바람직하다. 양이온 중합성 화합물은 반응 속도가 유전체 필러의 이동(응집)에 대해 적합하기 때문인지, 소망의 성형체를 간편하게 또는 정밀하게 조제할 수 있다. 또한, 양이온 중합은 공기 중 등 산소 존재하에서 반응시킬 수 있으며, 나아가서는 암(暗)반응(또는 후중합) 등을 이용함으로써 경화성의 제어도 용이하기 때문에, 생산성이 우수하다.Examples of the curable resin include a cationically polymerizable compound and/or a radically polymerizable resin. Among these, a cationically polymerizable compound is preferable from points, such as productivity. The cationically polymerizable compound can easily or precisely prepare a desired molded article, perhaps because the reaction rate is suitable for the movement (aggregation) of the dielectric filler. In addition, cationic polymerization can be carried out in the presence of oxygen, such as in air, and furthermore, by using a dark reaction (or post-polymerization) or the like, curability can be easily controlled, so that the productivity is excellent.
양이온 중합성 화합물은 적어도 1개의 양이온 중합성기를 갖는 한 특별히 제한되지 않으며, 1개의 양이온 중합성기를 갖는 단관능 양이온 중합성 화합물일 수도 있고, 2 이상의 동일 또는 상이한 양이온 중합성기를 갖는 다관능 양이온 중합성 화합물일 수도 있다. 경화성이나 수지 강도(또는 경도 등의 성형체 강도)의 관점에서, 통상 다관능 양이온 중합성 화합물이 잘 이용된다. 다관능 양이온 중합성 화합물인 경우, 양이온 중합성기의 수는, 예를 들어 2~10 정도의 범위로부터 선택할 수 있으며, 예를 들어 2~8(예를 들어 2~6), 바람직하게는 2~4, 더욱더 바람직하게는 2~3, 특히 2일 수도 있다.The cationically polymerizable compound is not particularly limited as long as it has at least one cationically polymerizable group, and may be a monofunctional cationically polymerizable compound having one cationically polymerizable group, or polyfunctional cationic polymerization having two or more identical or different cationically polymerizable groups. It may be a sexual compound. From the viewpoint of curability and resin strength (or strength of a molded article such as hardness), a polyfunctional cationically polymerizable compound is usually used well. In the case of a polyfunctional cationically polymerizable compound, the number of cationically polymerizable groups can be selected from the range of about 2-10, for example, 2-8 (for example, 2-6), Preferably 2- 4, even more preferably 2-3, especially 2.
양이온 중합성기로서는, 예를 들어 에폭시(옥시란환) 함유기, 옥세탄환 함유기, 비닐 에테르기 등을 들 수 있다.Examples of the cationically polymerizable group include an epoxy (oxirane ring)-containing group, an oxetane ring-containing group, and a vinyl ether group.
에폭시 함유기로서는, 옥시란환 골격을 적어도 갖는 기이면 무방하며, 예를 들어 에폭시기(또는 옥시란-2-일기), 2-메틸옥시란-2-일기, 글리시딜 함유기(예를 들어, 글리시딜기, 2-메틸 글리시딜기 등), 지환식 에폭시기(예를 들어, 3, 4-에폭시사이클로헥실기 등의 에폭시사이클로알킬기, 3, 4-에폭시-6-메틸사이클로헥실기 등의 알킬-에폭시사이클로알킬기 등) 등을 들 수 있다.The epoxy-containing group may be any group having at least an oxirane ring skeleton, for example, an epoxy group (or oxiran-2-yl group), a 2-methyloxiran-2-yl group, a glycidyl-containing group (for example, , glycidyl group, 2-methyl glycidyl group, etc.), alicyclic epoxy group (eg, epoxycycloalkyl group such as 3,4-epoxycyclohexyl group, 3,4-epoxy-6-methylcyclohexyl group, etc.) alkyl-epoxycycloalkyl group, etc.) and the like.
옥세탄환 함유기로서는, 옥세탄환 골격을 적어도 갖는 기이면 무방하며, 예를 들어 옥세타닐기(3-옥세타닐기 등), 알킬옥세타닐기(예를 들어, 3-메틸-3-옥세타닐기, 3-에틸-3-옥세타닐기 등의 C1-4 알킬옥세타닐기 등) 등을 들 수 있다.The oxetane ring-containing group may be any group having at least an oxetane ring skeleton, for example, an oxetanyl group (3-oxetanyl group, etc.), an alkyloxetanyl group (eg 3-methyl-3-oxetanyl group). , a C 1-4 alkyloxetanyl group such as a 3-ethyl-3-oxetanyl group), and the like.
이들 양이온 중합성기는 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 가지고 있을 수도 있다. 이들 양이온 중합성기 중, 유전체 필러의 응집에 적합한 경화성이나 생산성 등의 관점에서, 글리시딜 함유기, 지환식 에폭시기 등의 에폭시 함유기가 잘 이용된다.You may have these cationically polymerizable groups individually or in combination of 2 or more types. Of these cationically polymerizable groups, epoxy-containing groups such as glycidyl-containing groups and alicyclic epoxy groups are well used from the viewpoints of curability and productivity suitable for aggregation of dielectric fillers.
대표적인 양이온 중합성 화합물로서는, 에폭시 함유기를 갖는 에폭시 화합물, 옥세탄환 함유기를 갖는 옥세탄 화합물, 비닐 에테르기를 갖는 비닐 에테르 화합물, 에폭시 함유기, 옥세탄환 함유기, 비닐 에테르기로부터 선택된 2종 이상의 양이온 중합성기를 갖는 다관능 화합물 등을 들 수 있다.Representative cationic polymerizable compounds include an epoxy compound having an epoxy-containing group, an oxetane compound having an oxetane ring-containing group, a vinyl ether compound having a vinyl ether group, an epoxy-containing group, an oxetane ring-containing group, and a vinyl ether group. The polyfunctional compound etc. which have a sexual group are mentioned.
이들 양이온 중합성 화합물은 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수도 있다. 이들 양이온 중합성 화합물 중, 에폭시 화합물, 옥세탄 화합물 등의 상기 에폭시 함유기, 옥세탄환 함유기로부터 선택된 적어도 1종의 양이온 중합성기를 갖는 화합물이 잘 이용되며, 그 중에서도, 적어도 에폭시기를 갖는 화합물이 바람직하고, 유전체 필러의 응집에 적합한 경화성이나 생산성 등의 관점에서 에폭시 화합물이 더욱더 바람직하다.These cationically polymerizable compounds may be used individually or in combination of 2 or more types. Among these cationically polymerizable compounds, compounds having at least one cationically polymerizable group selected from the above epoxy-containing groups and oxetane ring-containing groups such as epoxy compounds and oxetane compounds are well used, and among them, compounds having at least an epoxy group are It is preferable, and an epoxy compound is still more preferable from a viewpoint of hardenability suitable for aggregation of a dielectric filler, productivity, etc.
상기 에폭시 화합물로서는, 양이온 중합성기로서, 1개의 에폭시 함유기를 갖는 단관능 에폭시 화합물, 2 이상의 에폭시 함유기를 갖는 다관능 에폭시 화합물을 들 수 있다. 이들 에폭시 화합물은 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수도 있다.As said epoxy compound, the monofunctional epoxy compound which has one epoxy-containing group as a cationically polymerizable group, and the polyfunctional epoxy compound which has two or more epoxy-containing groups are mentioned. These epoxy compounds may be used individually or in combination of 2 or more types.
단관능 에폭시 화합물로서는, 예를 들어 글리시딜기(또는 2-메틸 글리시딜기)를 갖는 단관능 글리시딜형 에폭시 화합물, 지환식 에폭시기를 갖는 단관능 지환식 에폭시 화합물 등을 들 수 있다. 단관능 글리시딜형 에폭시 화합물로서는, 예를 들어 부틸 글리시딜 에테르, 2-에틸헥실 글리시딜 에테르, 도데실 글리시딜 에테르, 트리데실 글리시딜 에테르 등의 알킬 글리시딜 에테르; 페닐 글리시딜 에테르, 알킬페닐 글리시딜 에테르(톨릴 글리시딜 에테르, t-부틸페닐 글리시딜 에테르 등) 등의 아릴 글리시딜 에테르; 에틸렌 글리콜 모노글리시딜 에테르, 1, 4-부탄디올 모노글리시딜 에테르, 디에틸렌 글리콜 모노글리시딜 에테르 등의 (폴리)알킬렌 글리콜 모노글리시딜 에테르; 2, 3-에폭시-1-프로판올(또는 글리시돌); 글리시딜 (메타)아크릴레이트; 글리시딜 옥시에틸 (메타)아크릴레이트 등의 글리시딜 옥시알킬 (메타)아크릴레이트; 2-(2-글리시딜 옥시에톡시)에틸 (메타)아크릴레이트 등의 글리시딜 옥시 (폴리)알콕시알킬 (메타)아크릴레이트; 이들 화합물에서의 글리시딜기를 2-메틸 글리시딜기로 한 화합물 등을 들 수 있다.As a monofunctional epoxy compound, the monofunctional glycidyl type epoxy compound which has a glycidyl group (or 2-methyl glycidyl group), the monofunctional alicyclic epoxy compound which has an alicyclic epoxy group, etc. are mentioned, for example. Examples of the monofunctional glycidyl type epoxy compound include alkyl glycidyl ethers such as butyl glycidyl ether, 2-ethylhexyl glycidyl ether, dodecyl glycidyl ether, and tridecyl glycidyl ether; aryl glycidyl ethers such as phenyl glycidyl ether and alkylphenyl glycidyl ether (tolyl glycidyl ether, t-butylphenyl glycidyl ether, etc.); (poly)alkylene glycol monoglycidyl ethers such as ethylene glycol monoglycidyl ether, 1,4-butanediol monoglycidyl ether, and diethylene glycol monoglycidyl ether; 2, 3-epoxy-1-propanol (or glycidol); glycidyl (meth)acrylate; glycidyl oxyalkyl (meth)acrylates such as glycidyl oxyethyl (meth)acrylate; glycidyl oxy (poly) alkoxyalkyl (meth) acrylates such as 2-(2-glycidyl oxyethoxy) ethyl (meth) acrylate; The compound etc. which made the glycidyl group in these compounds a 2-methyl glycidyl group are mentioned.
단관능 지환식 에폭시 화합물로서는, 예를 들어 1, 2-에폭시사이클로헥산, 치환 에폭시사이클로헥산(예를 들어, 1, 2-에폭시-4-하이드록시메틸사이클로헥산, 1, 2-에폭시-4-비닐사이클로헥산, 3, 4-에폭시-사이클로헥실메틸 (메타)아크릴레이트, 알릴-3, 4-에폭시사이클로헥산 카복실레이트 등) 등을 들 수 있다.Examples of the monofunctional alicyclic epoxy compound include 1,2-epoxycyclohexane and substituted epoxycyclohexane (eg, 1,2-epoxy-4-hydroxymethylcyclohexane, 1,2-epoxy-4- vinylcyclohexane, 3,4-epoxy-cyclohexylmethyl (meth)acrylate, allyl-3,4-epoxycyclohexane carboxylate, etc.) and the like.
다관능 에폭시 화합물로서는, 예를 들어 글리시딜기(및/또는 2-메틸 글리시딜기)를 갖는 다관능 글리시딜형 에폭시 화합물, 적어도 1개의 지환식 에폭시기를 갖는 다관능 지환식 에폭시 화합물 등을 들 수 있다. 아울러, 본 명세서 및 특허 청구의 범위에서, 글리시딜기 및 지환식 에폭시기의 쌍방을 갖는 에폭시 화합물은 지환식 에폭시 화합물로 분류한다.Examples of the polyfunctional epoxy compound include a polyfunctional glycidyl type epoxy compound having a glycidyl group (and/or a 2-methyl glycidyl group), and a polyfunctional alicyclic epoxy compound having at least one alicyclic epoxy group. can In addition, in the present specification and claims, an epoxy compound having both a glycidyl group and an alicyclic epoxy group is classified as an alicyclic epoxy compound.
다관능 글리시딜형 에폭시 화합물로서는, 예를 들어 글리시딜 에테르형 에폭시 화합물(또는 글리시딜 에테르형 에폭시 수지), 글리시딜 에스테르형 에폭시 화합물(또는 글리시딜 에스테르형 에폭시 수지), 글리시딜 아민형 에폭시 화합물(또는 글리시딜 아민형 에폭시 수지), 복소환식 글리시딜형 에폭시 화합물 등을 들 수 있다.As a polyfunctional glycidyl type epoxy compound, for example, a glycidyl ether type epoxy compound (or glycidyl ether type epoxy resin), a glycidyl ester type epoxy compound (or glycidyl ester type epoxy resin), glycidyl ester type epoxy resin A dilamine-type epoxy compound (or a glycidylamine-type epoxy resin), a heterocyclic glycidyl-type epoxy compound, etc. are mentioned.
글리시딜 에스테르형 에폭시 화합물로서는, 예를 들어 디글리시딜 프탈레이트, 디글리시딜 테트라하이드로프탈레이트, 디글리시딜 헥사하이드로프탈레이트 등의 디글리시딜 프탈레이트류; 글리시딜 (메타)아크릴레이트의 단독 또는 공중합체; 이들 화합물에서의 글리시딜기를 2-메틸 글리시딜기로 한 화합물 등을 들 수 있다.As a glycidyl ester type epoxy compound, For example, diglycidyl phthalates, such as a diglycidyl phthalate, a diglycidyl tetrahydrophthalate, and a diglycidyl hexahydrophthalate; a homo or copolymer of glycidyl (meth)acrylate; The compound etc. which made the glycidyl group in these compounds a 2-methyl glycidyl group are mentioned.
글리시딜 아민형 에폭시 화합물로서는, 예를 들어 테트라글리시딜 디아미노디페닐메탄, 테트라글리시딜 메타크실릴렌디아민, 테트라글리시딜 비스아미노메틸사이클로헥산 등의 테트라글리시딜 디아민류; 디글리시딜 아닐린, 디글리시딜 톨루이딘, N, N-디글리시딜-2, 4, 6-트리브로모아닐린, 트리글리시딜-p-아미노페놀, 트리글리시딜-m-아미노페놀 등의 글리시딜 아닐린류; 이들 화합물에서의 글리시딜기를 2-메틸 글리시딜기로 한 화합물 등을 들 수 있다.As a glycidyl amine type epoxy compound, For example, tetraglycidyl diamines, such as tetraglycidyl diamino diphenylmethane, tetraglycidyl metaxylylene diamine, tetraglycidyl bisaminomethyl cyclohexane; Diglycidyl aniline, diglycidyl toluidine, N, N-diglycidyl-2, 4, 6-tribromoaniline, triglycidyl-p-aminophenol, triglycidyl-m-aminophenol, etc. of glycidyl anilines; The compound etc. which made the glycidyl group in these compounds a 2-methyl glycidyl group are mentioned.
복소환식 글리시딜형 에폭시 화합물로서는, 예를 들어 트리글리시딜 이소시아누레이트 등의 이소시아누레이트형 에폭시 화합물; 디글리시딜 히단토인 등의 히단토인형 에폭시 화합물; 이들 화합물에서의 글리시딜기를 2-메틸 글리시딜기로 한 화합물 등을 들 수 있다.As a heterocyclic glycidyl type epoxy compound, For example, Isocyanurate type epoxy compounds, such as triglycidyl isocyanurate; hydantoin-type epoxy compounds such as diglycidyl hydantoin; The compound etc. which made the glycidyl group in these compounds a 2-methyl glycidyl group are mentioned.
이들 다관능 글리시딜형 에폭시 화합물은 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수도 있다. 이들 중, 유전체 필러의 응집에 적합한 경화성이나 생산성 등의 관점에서, 글리시딜 에테르형 에폭시 화합물이 바람직하다.These polyfunctional glycidyl-type epoxy compounds can also be used individually or in combination of 2 or more types. Among these, a glycidyl ether type epoxy compound is preferable from a viewpoint of hardenability, productivity, etc. suitable for aggregation of a dielectric filler.
글리시딜 에테르형 에폭시 화합물로서 대표적으로는, 방향족 글리시딜 에테르형 에폭시 화합물, 지환족 글리시딜 에테르형 에폭시 화합물, 지방족 글리시딜 에테르형 에폭시 화합물 등을 들 수 있다.Representative examples of the glycidyl ether type epoxy compound include an aromatic glycidyl ether type epoxy compound, an alicyclic glycidyl ether type epoxy compound, and an aliphatic glycidyl ether type epoxy compound.
방향족 글리시딜 에테르형 에폭시 화합물로서는, 방향족 폴리올 또는 그 알킬렌 옥사이드 부가체의 폴리글리시딜 에테르 등을 들 수 있으며, 예를 들어 비 또는 비스페놀형 에폭시 화합물(예를 들어, 비스페놀 A형 에폭시 화합물, 비스페놀 F형 에폭시 화합물, 비스페놀 AD형 에폭시 화합물, 비스페놀 S형 에폭시 화합물 등의 관용의 비스페놀류의 디글리시딜 에테르, p, p'-비페놀 등의 비페놀류의 디글리시딜 에테르 등); 노볼락형 에폭시 수지(예를 들어, 페놀 노볼락형 에폭시 수지, 크레졸 노볼락형 에폭시 수지 등); 폴리하이드록시아렌의 폴리글리시딜 에테르[예를 들어, 비스(글리시딜옥시)벤젠, 비스(글리시딜옥시)나프탈렌 등]; 테트라키스 페놀형 에폭시 화합물[예를 들어, 테트라키스(글리시딜옥시페닐)에탄 등]; 이들 화합물에 대응하는 방향족 폴리올의 C2-4 알킬렌 옥사이드 부가체의 폴리글리시딜 에테르; 이들 화합물에서의 글리시딜기를 2-메틸 글리시딜기로 한 화합물 등을 들 수 있다.Examples of the aromatic glycidyl ether type epoxy compound include polyglycidyl ether of an aromatic polyol or an alkylene oxide adduct thereof, and for example, a non- or bisphenol type epoxy compound (eg, a bisphenol A type epoxy compound). , bisphenol F-type epoxy compound, bisphenol AD-type epoxy compound, diglycidyl ether of common bisphenols such as bisphenol S-type epoxy compound, diglycidyl ether of biphenols such as p, p'-biphenol, etc.) ; novolac-type epoxy resins (for example, phenol novolak-type epoxy resins, cresol novolac-type epoxy resins, etc.); polyglycidyl ethers of polyhydroxyarene [eg, bis(glycidyloxy)benzene, bis(glycidyloxy)naphthalene, etc.]; tetrakis phenol-type epoxy compounds [eg, tetrakis (glycidyloxyphenyl) ethane, etc.]; polyglycidyl ethers of C 2-4 alkylene oxide adducts of aromatic polyols corresponding to these compounds; The compound etc. which made the glycidyl group in these compounds a 2-methyl glycidyl group are mentioned.
지환식 글리시딜 에테르형 에폭시 화합물로서는, 지환족 폴리올 또는 그 알킬렌 옥사이드 부가체의 폴리글리시딜 에테르 등을 들 수 있으며, 예를 들어 상기 방향족 글리시딜 에테르 화합물의 수첨물[예를 들어, 수첨 비 또는 비스페놀형 에폭시 화합물(수첨 비스페놀 A형 에폭시 화합물 등의 관용의 비스페놀류의 수첨물의 디글리시딜 에테르 등); 수첨 노볼락형 에폭시 수지 등]; 1, 4-비스(글리시딜옥시)사이클로헥산 등의 비스(글리시딜옥시) C5-10 사이클로알칸; 1, 4-사이클로헥산디메탄올의 디글리시딜 에테르 등의 비스(글리시딜옥시 C1-4 알킬) C5-10 사이클로알칸; 이들 화합물에 대응하는 지환식 폴리올의 C2-4 알킬렌 옥사이드 부가체의 폴리글리시딜 에테르; 이들 화합물에서의 글리시딜기를 2-메틸 글리시딜기로 한 화합물 등을 들 수 있다.Examples of the alicyclic glycidyl ether type epoxy compound include polyglycidyl ethers of alicyclic polyols or alkylene oxide adducts thereof. For example, hydrogenated products of the aromatic glycidyl ether compounds [for example, , hydrogenated ratio or bisphenol type epoxy compound (diglycidyl ether of hydrogenated product of common bisphenols such as hydrogenated bisphenol A type epoxy compound); hydrogenated novolac-type epoxy resin, etc.]; bis(glycidyloxy) C5-10 cycloalkanes such as 1,4-bis(glycidyloxy)cyclohexane; bis(glycidyloxy C 1-4 alkyl) C 5-10 cycloalkanes such as diglycidyl ether of 1,4-cyclohexanedimethanol; polyglycidyl ethers of C 2-4 alkylene oxide adducts of alicyclic polyols corresponding to these compounds; The compound etc. which made the glycidyl group in these compounds a 2-methyl glycidyl group are mentioned.
이들 글리시딜 에테르형 에폭시 화합물은 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수도 있다. 이들 중, 저점도이고 유전체 필러의 응집을 촉진하기 쉬운 점 등에서, 지방족 글리시딜 에테르형 에폭시 화합물이 바람직하다.These glycidyl ether type epoxy compounds can also be used individually or in combination of 2 or more types. Among these, an aliphatic glycidyl ether type epoxy compound is preferable because it has a low viscosity and is easy to promote aggregation of the dielectric filler.
지방족 글리시딜 에테르형 에폭시 화합물로서는, 예를 들어 지방족 다가 알코올(지방족 폴리올) 또는 그 축합물(또는 다량체)의 폴리글리시딜 에테르 등을 들 수 있다. 지방족 글리시딜 에테르형 에폭시 화합물을 형성하기 위한 지방족 다가 알코올로서는, 예를 들어 지방족 디올[예를 들어, 에틸렌 글리콜, 프로필렌 글리콜, 1, 3-프로판디올, 1, 2-부탄디올, 1, 4-부탄디올, 1, 5-펜탄디올, 네오펜틸 글리콜, 1, 6-헥산디올, 1, 8-옥탄디올, 1, 10-데칸디올 등의 직쇄상 또는 분지쇄상 C2-12 알칸디올 등]; 3가 이상의 지방족 폴리올[예를 들어, 트리메틸올프로판 등의 폴리메틸올알칸; 글리세린, 펜타에리트리톨, 소르비톨, 만니톨 등의 당 알코올; 이들의 알킬렌 옥사이드 부가체 등] 등을 들 수 있다. 아울러, 지방족 다가 알코올의 축합물은 이들 지방족 다가 알코올이 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 축합된 화합물일 수도 있다.As an aliphatic glycidyl ether type epoxy compound, polyglycidyl ether of an aliphatic polyhydric alcohol (aliphatic polyol) or its condensate (or a multimer), etc. are mentioned, for example. As an aliphatic polyhydric alcohol for forming an aliphatic glycidyl ether type epoxy compound, For example, an aliphatic diol [For example, ethylene glycol, propylene glycol, 1, 3- propanediol, 1,2-butanediol, 1, 4- linear or branched C 2-12 alkanediol such as butanediol, 1, 5-pentanediol, neopentyl glycol, 1, 6-hexanediol, 1, 8-octanediol, and 1, 10-decanediol]; trivalent or higher aliphatic polyols [For example, polymethylol alkane such as trimethylolpropane; sugar alcohols such as glycerin, pentaerythritol, sorbitol and mannitol; These alkylene oxide adducts, etc.] etc. are mentioned. In addition, the condensate of an aliphatic polyhydric alcohol may be a compound which these aliphatic polyhydric alcohols were condensed individually or in combination of 2 or more types.
지방족 글리시딜 에테르형 에폭시 화합물로서 대표적으로는, 2가의 글리시딜 에테르형 화합물, 3가 이상의 글리시딜 에테르형 화합물을 들 수 있다. 2가의 글리시딜 에테르형 화합물로서는, 예를 들어 하기 식 (1)로 표시되는 (폴리)알킬렌 글리콜 디글리시딜 에테르; 트리메틸올프로판 디글리시딜 에테르, 글리세린 디글리시딜 에테르, 펜타에리트리톨 디글리시딜 에테르 등의 상기 3가 이상의 지방족 폴리올 또는 그 폴리올을 포함하는 축합물의 디글리시딜 에테르 등을 들 수 있다.Typical examples of the aliphatic glycidyl ether type epoxy compound include a divalent glycidyl ether type compound and a trivalent or higher glycidyl ether type compound. As a divalent glycidyl ether type compound, For example, (poly)alkylene glycol diglycidyl ether represented by following formula (1); and diglycidyl ether of the above trivalent or higher aliphatic polyols such as trimethylolpropane diglycidyl ether, glycerin diglycidyl ether, and pentaerythritol diglycidyl ether, or a condensate containing the polyol. .
[화 1][Tue 1]
(식 중, A1은 직쇄상 또는 분지쇄상 알킬렌기, m은 1 이상의 정수, R1은 각각 독립적으로 수소 원자 또는 메틸기를 나타낸다).(Wherein, A 1 is a linear or branched alkylene group, m is an integer of 1 or more, and R 1 each independently represents a hydrogen atom or a methyl group).
상기 식 (1)에서, A1로 표시되는 직쇄상 또는 분지쇄상 알킬렌기로서는, 예를 들어 에틸렌기, 프로필렌기, 트리메틸렌기, 1, 2-부탄디일기, 테트라메틸렌기, 2, 2-디메틸프로판-1, 3-디일기(네오펜틸렌기), 펜타메틸렌기, 헥사메틸렌기, 옥타메틸렌기, 데카메틸렌기 등의 직쇄상 또는 분지쇄상 C2-12 알킬렌기(예를 들어, 직쇄상 또는 분지쇄상 C2-10 알킬렌기), 바람직하게는 직쇄상 또는 분지쇄상 C2-8 알킬렌기(예를 들어, 직쇄상 또는 분지쇄상 C3-7 알킬렌기), 더욱더 바람직하게는 에틸렌기, 프로필렌기, 트리메틸렌기, 테트라메틸렌기, 헥사메틸렌기 등의 직쇄상 또는 분지쇄상 C2-7 알킬렌기(예를 들어, 테트라메틸렌기 등의 직쇄상 또는 분지쇄상 C2-6 알킬렌기, 바람직하게는 직쇄상 또는 분지쇄상 C3-6 알킬렌기, 특히 직쇄상 또는 분지쇄상 C4-6 알킬렌기) 등을 들 수 있다.Examples of the linear or branched alkylene group represented by A 1 in the formula (1) include an ethylene group, a propylene group, a trimethylene group, a 1,2-butanediyl group, a tetramethylene group, and 2,2- Linear or branched C 2-12 alkylene groups such as dimethylpropane-1, 3-diyl group (neopentylene group), pentamethylene group, hexamethylene group, octamethylene group, and decamethylene group (for example, straight-chain or a branched C 2-10 alkylene group), preferably a linear or branched C 2-8 alkylene group (eg, a straight or branched C 3-7 alkylene group), even more preferably an ethylene group, A linear or branched C 2-7 alkylene group such as a propylene group, trimethylene group, tetramethylene group, or hexamethylene group (For example, a linear or branched C 2-6 alkylene group such as a tetramethylene group, preferably preferably a linear or branched C 3-6 alkylene group, particularly a linear or branched C 4-6 alkylene group).
반복수 m은 1 이상의 정수이면 무방하며, 예를 들어 1~30(예를 들어 1~15) 정도의 정수로부터 선택할 수 있고, 예를 들어 1~10(예를 들어 1~8), 바람직하게는 1~6(예를 들어 1~4), 더욱더 바람직하게는 1~3(예를 들어 1 또는 2), 특히 1일 수도 있다. m이 너무 크면, 액상 전구체의 점도가 상승하여 유전체 필러의 제어성이 저하될 우려가 있다. 또한, m이 2 이상인 경우, 복수의 알킬렌기 A1의 종류는 서로 동일 또는 상이할 수도 있다.The number of repetitions m may be an integer of 1 or more, for example, may be selected from integers of about 1 to 30 (eg, 1 to 15), for example, 1 to 10 (eg, 1 to 8), preferably may be 1 to 6 (
R1은 수소 원자 또는 메틸기 중 어느 것일 수도 있으며, 통상 수소 원자인 경우가 많다. R1의 종류는 서로 상이할 수도 있으나, 통상 동일하다.R 1 may be either a hydrogen atom or a methyl group, and is usually a hydrogen atom in many cases. Although the types of R 1 may be different from each other, they are usually the same.
상기 식 (1)로 표시되는 (폴리)알킬렌 글리콜 디글리시딜 에테르로서 구체적으로는, 예를 들어 에틸렌 글리콜 디글리시딜 에테르, 프로필렌 글리콜 디글리시딜 에테르, 1, 3-프로판디올 디글리시딜 에테르, 1, 2-부탄디올 디글리시딜 에테르, 1, 4-부탄디올 디글리시딜 에테르, 네오펜틸 글리콜 디글리시딜 에테르, 1, 5-펜탄디올 디글리시딜 에테르, 1, 6-헥산디올 디글리시딜 에테르, 1, 8-옥탄디올 디글리시딜 에테르, 1, 10-데칸디올 디글리시딜 에테르 등의 직쇄상 또는 분지쇄상 C2-12 알킬렌 글리콜-디글리시딜 에테르; 디에틸렌 글리콜 디글리시딜 에테르, 디프로필렌 글리콜 디글리시딜 에테르, 트리에틸렌 글리콜 디글리시딜 에테르 등의(디 내지 펜타) 직쇄상 또는 분지쇄상 C2-12 알킬렌 글리콜-디글리시딜 에테르; 이들 화합물의 글리시딜옥시기를 2-메틸 글리시딜옥시기로 치환한 화합물 등을 들 수 있다.Specifically, as the (poly)alkylene glycol diglycidyl ether represented by the formula (1), for example, ethylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, 1,3-propanediol di glycidyl ether, 1,2-butanediol diglycidyl ether, 1,4-butanediol diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, 1,5-pentanediol diglycidyl ether, 1, Linear or branched C 2-12 alkylene glycol-diglycidyl ether, such as 6-hexanediol diglycidyl ether, 1,8-octanediol diglycidyl ether, and 1, 10-decanediol diglycidyl ether cydyl ether; (di to penta) linear or branched C 2-12 alkylene glycol-diglycidyl such as diethylene glycol diglycidyl ether, dipropylene glycol diglycidyl ether, triethylene glycol diglycidyl ether, etc. ether; The compound etc. which substituted the glycidyloxy group of these compounds with the 2-methyl glycidyloxy group are mentioned.
상기 식 (1)로 표시되는 (폴리)알킬렌 글리콜 디글리시딜 에테르는 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수도 있다. 이들 중, m이 1인 알킬렌 글리콜 디글리시딜 에테르가 바람직하며, 그 중에서도, 에틸렌 글리콜 디글리시딜 에테르, 프로필렌 글리콜 디글리시딜 에테르, 1, 4-부탄디올 디글리시딜 에테르, 네오펜틸 글리콜 디글리시딜 에테르, 1, 6-헥산디올 디글리시딜 에테르 등의 직쇄상 또는 분지쇄상 C2-8 알킬렌 글리콜-디글리시딜 에테르(예를 들어, 직쇄상 또는 분지쇄상 C3-7 알킬렌 글리콜-디글리시딜 에테르), 특히 직쇄상 또는 분지쇄상 C2-6 알킬렌 글리콜-디글리시딜 에테르(예를 들어, 네오펜틸 글리콜, 1, 6-헥산디올 디글리시딜 에테르 등의 직쇄상 또는 분지쇄상 C4-6 알킬렌 글리콜-디글리시딜 에테르, 바람직하게는 네오펜틸 글리콜 등의 분지쇄상 C4-6 알킬렌 글리콜-디글리시딜 에테르 등)가 바람직하다.The (poly)alkylene glycol diglycidyl ether represented by the formula (1) may be used alone or in combination of two or more. Among these, alkylene glycol diglycidyl ether in which m is 1 is preferable, and among them, ethylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, 1,4-butanediol diglycidyl ether, neo linear or branched C 2-8 alkylene glycol-diglycidyl ethers such as pentyl glycol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether (for example, linear or branched C 3-7 alkylene glycol-diglycidyl ethers), in particular straight or branched C 2-6 alkylene glycol-diglycidyl ethers (eg neopentyl glycol, 1,6-hexanediol diglycidyl linear or branched C 4-6 alkylene glycol-diglycidyl ether such as cidyl ether, preferably branched C 4-6 alkylene glycol-diglycidyl ether such as neopentyl glycol) desirable.
한편, 3가 이상의 글리시딜 에테르형 화합물로서는, 예를 들어 (폴리)트리메틸올프로판 트리 내지 펜타글리시딜 에테르[예를 들어, 트리메틸올프로판 트리글리시딜 에테르, 디트리메틸올프로판 트리글리시딜 에테르, 디트리메틸올프로판 테트라글리시딜 에테르 등의 모노 내지 트리(트리메틸올프로판) 트리 내지 펜타글리시딜 에테르 등]; (폴리)글리세린 폴리글리시딜 에테르[예를 들어, 글리세린 트리글리시딜 에테르, 디글리세린 트리글리시딜 에테르, 디글리세린 테트라글리시딜 에테르 등의 모노 내지 트리(글리세린) 트리 내지 펜타글리시딜 에테르 등]; (폴리)펜타에리트리톨 폴리글리시딜 에테르[예를 들어, 펜타에리트리톨 트리글리시딜 에테르, 펜타에리트리톨 테트라글리시딜 에테르, 디펜타에리트리톨 펜타글리시딜 에테르, 디펜타에리트리톨 헥사글리시딜 에테르 등의 모노 내지 트리(펜타에리트리톨) 트리 내지 옥타글리시딜 에테르 등] 등의 3가 이상의 폴리올 또는 그 축합물(혹은 이들의 C2-4 알킬렌 옥사이드 부가체)의 폴리글리시딜 에테르; 이들 화합물에서의 글리시딜기를 2-메틸 글리시딜기로 한 화합물 등을 들 수 있다.On the other hand, as a trivalent or higher glycidyl ether compound, for example, (poly)trimethylolpropane tri to pentaglycidyl ether [for example, trimethylolpropane triglycidyl ether, ditrimethylolpropane triglycidyl ether , mono to tri(trimethylolpropane) tri to pentaglycidyl ether such as ditrimethylolpropane tetraglycidyl ether]; (poly)glycerin polyglycidyl ether [For example, mono-tri-(glycerin) tri-pentaglycidyl ether, such as glycerin triglycidyl ether, diglycerin triglycidyl ether, diglycerin tetraglycidyl ether, etc. ]; (poly) pentaerythritol polyglycidyl ether [eg, pentaerythritol triglycidyl ether, pentaerythritol tetraglycidyl ether, dipentaerythritol pentaglycidyl ether, dipentaerythritol hexaglycidyl ether Mono-tri-(pentaerythritol) tri-octaglycidyl ether, etc.], such as dil ether, polyol of trivalence or more, or polyglycidyl of its condensate (or C 2-4 alkylene oxide adduct thereof) ether; The compound etc. which made the glycidyl group in these compounds a 2-methyl glycidyl group are mentioned.
이들 지방족 글리시딜 에테르형 에폭시 화합물은 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수도 있다. 이들 지방족 글리시딜 에테르형 에폭시 화합물 중, 2가의 글리시딜 에테르형 화합물, 그 중에서도, 유전체 필러의 제어성을 향상시키기 쉽고, 조달도 용이한 점 등에서, 상기 식 (1)로 표시되는 (폴리)알킬렌 글리콜 디글리시딜 에테르(특히, 알킬렌 글리콜 디글리시딜 에테르)가 잘 이용된다.These aliphatic glycidyl ether type epoxy compounds can also be used individually or in combination of 2 or more types. Among these aliphatic glycidyl ether-type epoxy compounds, divalent glycidyl ether-type compounds, especially, the polyvalent glycidyl ether-type compounds represented by the formula (1) ) Alkylene glycol diglycidyl ethers (especially alkylene glycol diglycidyl ethers) are well used.
상기 다관능 지환식 에폭시 화합물은 2 이상의 에폭시 함유기를 갖는 동시에, 적어도 1개가 지환식 에폭시기인 화합물이면 무방하다. 대표적으로는, 1개의 지환식 에폭시기와 1 이상의 비지환식 에폭시기를 갖는 화합물[예를 들어, 1, 2:8, 9-디에폭시 리모넨(또는 1-메틸-4-(2-메틸옥시라닐)-7-옥사비사이클로[4.1.0]헵탄, ARKEMA사 제품 「LIMONENE DIOXIDE」) 등의 지환식 에폭시기와 에틸렌 옥사이드기를 각각 1개씩 갖는 화합물 등]; 2개의 지환식 에폭시기를 갖는 화합물; 3 이상의 지환식 에폭시기를 갖는 화합물 등을 들 수 있다.The polyfunctional alicyclic epoxy compound may be a compound having two or more epoxy-containing groups and at least one of which is an alicyclic epoxy group. Typically, a compound having one alicyclic epoxy group and one or more non-alicyclic epoxy groups [for example, 1, 2:8, 9-diepoxy limonene (or 1-methyl-4-(2-methyloxiranyl)- 7-oxabicyclo[4.1.0]heptane, a compound each having one alicyclic epoxy group and one ethylene oxide group, such as "LIMONENE DIOXIDE" manufactured by ARKEMA); a compound having two alicyclic epoxy groups; The compound etc. which have 3 or more alicyclic epoxy groups are mentioned.
2개의 지환식 에폭시기를 갖는 화합물로서는, 하기 식 (2)로 표시되는 화합물을 들 수 있다.As a compound which has two alicyclic epoxy groups, the compound represented by following formula (2) is mentioned.
[화 2][Tue 2]
(식 중, X는 단결합 또는 연결기를 나타내고, 사이클로헥센 옥사이드기는 각각 치환기를 가지고 있을 수도 있다).(Wherein, X represents a single bond or a linking group, and the cyclohexene oxide group may each have a substituent).
식 (2)에서, X로 표시되는 연결기로서는, 예를 들어 2가의 탄화수소기, 탄소-탄소 이중 결합의 일부 또는 전부가 에폭시화된 알케닐렌기, 카보닐기(-CO-), 에테르 결합(-O-), 에스테르 결합(-COO-), 카보네이트기(-O-CO-O-), 아미드기(-CONH-) 및 이들이 복수개 연결한 기 등을 들 수 있다.In Formula (2), as a linking group represented by X, for example, a divalent hydrocarbon group, an alkenylene group in which some or all of carbon-carbon double bonds are epoxidized, a carbonyl group (-CO-), an ether bond (- O-), an ester bond (-COO-), a carbonate group (-O-CO-O-), an amide group (-CONH-), and a group in which a plurality of these groups are linked.
상기 2가의 탄화수소기로서는, 예를 들어 직쇄상 또는 분지쇄상 C1-18 알킬렌기, 2가의 C3-18 지환식 탄화수소기 등을 들 수 있다. 직쇄상 또는 분지쇄상 C1-18 알킬렌기로서는, 예를 들어 메틸렌기, 메틸 메틸렌기, 디메틸 메틸렌기, 에틸렌기, 프로필렌기, 트리메틸렌기 등을 들 수 있다. 2가의 C3-18 지환식 탄화수소기로서는, 예를 들어 1, 2-사이클로펜틸렌기, 1, 3-사이클로펜틸렌기, 사이클로펜틸리덴기, 1, 2-사이클로헥실렌기, 1, 3-사이클로헥실렌기, 1, 4-사이클로헥실렌기, 사이클로헥실리덴기 등의 사이클로알킬렌기(사이클로알킬리덴기를 포함한다) 등을 들 수 있다.Examples of the divalent hydrocarbon group include a linear or branched C 1-18 alkylene group and a divalent C 3-18 alicyclic hydrocarbon group. Examples of the linear or branched C 1-18 alkylene group include a methylene group, a methyl methylene group, a dimethyl methylene group, an ethylene group, a propylene group, and a trimethylene group. Examples of the divalent C 3-18 alicyclic hydrocarbon group include 1,2-cyclopentylene group, 1,3-cyclopentylene group, cyclopentylidene group, 1,2-cyclohexylene group, and 1,3-cyclo Cycloalkylene groups (including a cycloalkylidene group), such as a hexylene group, a 1, 4- cyclohexylene group, and a cyclohexylidene group, etc. are mentioned.
상기 탄소-탄소 이중 결합의 일부 또는 전부가 에폭시화된 알케닐렌기(「에폭시화 알케닐렌기」라고 칭하는 경우가 있다)에서의 알케닐렌기로서는, 예를 들어 비닐렌기, 프로페닐렌기, 1-부테닐렌기, 2-부테닐렌기, 부타디에닐렌기, 펜테닐렌기, 헥세닐렌기, 헵테닐렌기, 옥테닐렌기 등의 직쇄상 또는 분지쇄상 C2-8 알케닐렌기 등을 들 수 있다. 특히, 상기 에폭시화 알케닐렌기로서는, 탄소-탄소 이중 결합의 전부가 에폭시화된 알케닐렌기가 바람직하며, 보다 바람직하게는 탄소-탄소 이중 결합의 전부가 에폭시화된 C2-4 알케닐렌기이다.Examples of the alkenylene group in the alkenylene group in which some or all of the carbon-carbon double bonds are epoxidized (also referred to as "epoxidized alkenylene group") include, for example, a vinylene group, a propenylene group, 1- and linear or branched C 2-8 alkenylene groups such as butenylene group, 2-butenylene group, butadienylene group, pentenylene group, hexenylene group, heptenylene group, and octenylene group. In particular, the epoxidized alkenylene group is preferably an alkenylene group in which all carbon-carbon double bonds are epoxidized, and more preferably a C 2-4 alkenylene group in which all carbon-carbon double bonds are epoxidized. .
이들 중, X로서는 카보닐옥시메틸렌기 등이 바람직하다.Among these, as X, a carbonyloxymethylene group etc. are preferable.
상기 식 (2)에서, 2개의 사이클로헥센 옥사이드기에는 각각 독립적으로 치환기가 결합해 있을 수도 있으며, 상기 치환기로서는, 예를 들어 할로겐 원자, C1-10 알킬기, C1-10 알콕시기, C2-10 알케닐옥시기, C6-14 아릴옥시기, C7-18 아르알킬옥시기, C1-10 아실옥시기, C1-10 알콕시카보닐기, C6-14 아릴옥시카보닐기, C7-18 아르알킬옥시카보닐기, 에폭시기 함유기, 옥세탄환 함유기, C1-10 아실기, 이소시아네이트기, 술포기, 카바모일기, 옥소기 등을 들 수 있다. 사이클로헥센 옥사이드기에는 상기 치환기가 결합해 있지 않는 것이 바람직하다.In the formula (2), two cyclohexene oxide groups may each independently have a substituent bonded thereto, and examples of the substituent include a halogen atom, a C 1-10 alkyl group, a C 1-10 alkoxy group, and C 2 -10 alkenyloxy group, C 6-14 aryloxy group, C 7-18 aralkyloxy group, C 1-10 acyloxy group, C 1-10 alkoxycarbonyl group, C 6-14 aryloxycarbonyl group, C 7 -18 aralkyloxycarbonyl group, epoxy group-containing group, oxetane ring-containing group, C 1-10 acyl group, isocyanate group, sulfo group, carbamoyl group, oxo group and the like. It is preferable that the said substituent is not couple|bonded with the cyclohexene oxide group.
상기 식 (2)로 표시되는 화합물의 대표적인 예로서는, (3, 4, 3', 4'-디에폭시) 비사이클로헥실, 비스(3, 4-에폭시사이클로헥실메틸) 에테르, 1, 2-에폭시-1, 2-비스(3, 4-에폭시사이클로헥산-1-일) 에탄, 2, 2-비스(3, 4-에폭시사이클로헥산-1-일) 프로판, 1, 2-비스(3, 4-에폭시사이클로헥산-1-일) 에탄이나, 하기 식 (2-1)~(2-8)로 표시되는 화합물 등을 들 수 있다.Representative examples of the compound represented by the formula (2) include (3, 4, 3', 4'-diepoxy) bicyclohexyl, bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl) ether, 1,2-epoxy- 1,2-Bis(3,4-epoxycyclohexan-1-yl)ethane, 2,2-bis(3,4-epoxycyclohexan-1-yl)propane, 1,2-bis(3,4- Epoxycyclohexan-1-yl) ethane, the compound represented by following formula (2-1) - (2-8), etc. are mentioned.
[화 3][Tuesday 3]
(식 중, L은 C1-8 알킬렌기(예를 들어, 메틸렌기, 에틸렌기, 프로필렌기, 이소프로필렌기 등의 직쇄상 또는 분지쇄상 C1-3 알킬렌기)를 나타내고, n1 및 n2는 각각 1~30의 정수를 나타낸다).(Wherein, L represents a C 1-8 alkylene group (for example, a linear or branched C 1-3 alkylene group such as a methylene group, ethylene group, propylene group, isopropylene group), and n1 and n2 are Each represents an integer from 1 to 30).
상기 3 이상의 지환식 에폭시기를 갖는 화합물로서는, 예를 들어 하기 식 (2-9), (2-10)으로 표시되는 화합물 등을 들 수 있다.As a compound which has the said 3 or more alicyclic epoxy group, the compound etc. which are represented by following formula (2-9) and (2-10) are mentioned, for example.
[화 4][Tue 4]
(식 중, n3~n8은 각각 독립적으로 1~30의 정수를 나타낸다).(In the formula, n3 to n8 each independently represent an integer of 1 to 30).
이들 다관능 지환식 에폭시 화합물은 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수도 있다. 이들 다관능 지환식 에폭시 화합물 중, 상기 식 (2)로 표시되는 화합물 등의 2개의 지환식 에폭시기를 갖는 화합물이 바람직하고, 그 중에서도, X가 카보닐옥시메틸렌기인 3, 4-에폭시사이클로헥실메틸(3, 4-에폭시)사이클로헥산 카복실레이트(상기 식 (2-1)로 표시되는 화합물)가 바람직하다.These polyfunctional alicyclic epoxy compounds may be used individually or in combination of 2 or more types. Among these polyfunctional alicyclic epoxy compounds, compounds having two alicyclic epoxy groups, such as the compound represented by the formula (2), are preferable, and among these, 3,4-epoxycyclohexylmethyl in which X is a carbonyloxymethylene group. (3,4-epoxy) cyclohexane carboxylate (compound represented by the said Formula (2-1)) is preferable.
상기 다관능 글리시딜형 에폭시 화합물 및 다관능 지환식 에폭시 화합물과는 상이한 다른 다관능 에폭시 화합물로서는, 예를 들어 폴리올(트리메틸올프로판 등)의 1, 2-에폭시-4-(2-옥시라닐)사이클로헥산 부가체(예를 들어, 가부시키가이샤 다이셀(Daicel Corporation) 제품 「EHPE3150」 등) 등을 들 수 있다.As another polyfunctional epoxy compound different from the said polyfunctional glycidyl type epoxy compound and polyfunctional alicyclic epoxy compound, 1,2-epoxy-4- (2-oxiranyl) of a polyol (trimethylol propane etc.), for example. A cyclohexane adduct (For example, Daicel Corporation "EHPE3150" etc.) etc. are mentioned.
이들 다관능 에폭시 화합물은 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수도 있다. 이들 에폭시 화합물 중, 통상 경화성이나 생산성의 관점에서 다관능 에폭시 화합물이 잘 이용된다. 다관능 에폭시 화합물 중, 유전체 필러의 응집에 특히 적합한 경화성이나 생산성 등의 관점에서, 다관능 글리시딜형 에폭시 화합물, 다관능 지환식 에폭시 화합물이 바람직하며, 더욱더 바람직하게는 글리시딜 에테르형 에폭시 화합물, 2개의 지환식 에폭시기를 갖는 화합물, 보다 바람직하게는 상기 식 (1)로 표시되는 (폴리)알킬렌 글리콜 디글리시딜 에테르, 상기 식 (2)로 표시되는 2개의 지환식 에폭시기를 갖는 화합물이다.These polyfunctional epoxy compounds may be used individually or in combination of 2 or more types. Among these epoxy compounds, a polyfunctional epoxy compound is usually used well from a viewpoint of sclerosis|hardenability and productivity. Among polyfunctional epoxy compounds, polyfunctional glycidyl-type epoxy compounds and polyfunctional alicyclic epoxy compounds are preferable from the viewpoints of curability and productivity particularly suitable for aggregation of dielectric fillers, and even more preferably, glycidyl ether-type epoxy compounds. , a compound having two alicyclic epoxy groups, more preferably a (poly)alkylene glycol diglycidyl ether represented by the formula (1), a compound having two alicyclic epoxy groups represented by the formula (2) to be.
또한, 유전체 필러의 제어성이 우수한 동시에, 성형체의 유연성도 향상시킬 수 있는 점에서, 다관능 지환식 에폭시 화합물과 다관능 글리시딜형 에폭시 화합물의 조합이 바람직하며, 상기 식 (2)로 표시되는 2개의 지환식 에폭시기를 갖는 화합물과 상기 식 (1)로 표시되는 (폴리)알킬렌 글리콜 디글리시딜 에테르의 조합이 특히 바람직하다.In addition, the combination of a polyfunctional alicyclic epoxy compound and a polyfunctional glycidyl-type epoxy compound is preferable from the viewpoint that the controllability of the dielectric filler is excellent and the flexibility of the molded article can be improved. A combination of a compound having two alicyclic epoxy groups and a (poly)alkylene glycol diglycidyl ether represented by the formula (1) is particularly preferred.
다관능 지환식 에폭시 화합물과 다관능 글리시딜형 에폭시 화합물의 질량비는 전자/후자=99/1~1/99의 범위로부터 선택할 수 있으며, 예를 들어 90/10~10/90, 바람직하게는 80/20~20/80, 더욱더 바람직하게는 70/30~30/70, 보다 바람직하게는 60/40~40/60이다.The mass ratio of the polyfunctional alicyclic epoxy compound and the polyfunctional glycidyl type epoxy compound can be selected from the range of the former/the latter = 99/1 to 1/99, for example, 90/10 to 10/90, preferably 80 /20-20/80, More preferably 70/30-30/70, More preferably, it is 60/40-40/60.
응집 공정에서의 유전체 필러의 응집을 촉진할 수 있는 점에서, 양이온 중합성 화합물의 25℃에서의 점도는, 예를 들어 500 mPa·s 이하(예를 들어 1~400 mPa·s) 정도의 범위로부터 선택할 수 있으며, 예를 들어 2~350 mPa·s(예를 들어 3~300 mPa·s), 바람직하게는 4~250 mPa·s(예를 들어 5~200 mPa·s), 보다 바람직하게는 5~150 mPa·s(예를 들어 5~100 mPa·s), 더욱더 바람직하게는 5~80 mPa·s(예를 들어 5.5~50 mPa·s)이고, 이들 중에서도, 바람직하게는 6~30 mPa·s(예를 들어 6.5~20 mPa·s), 더욱더 바람직하게는 7~15 mPa·s(예를 들어 7.5~10 mPa·s) 정도일 수도 있다. 아울러, 점도는 관용의 점도계(예를 들어, 단일 원통형 회전 점도계 등)를 이용하여 측정할 수 있다.Since the aggregation of the dielectric filler in the aggregation step can be promoted, the viscosity of the cationically polymerizable compound at 25°C is, for example, in the range of about 500 mPa·s or less (eg, 1-400 mPa·s). can be selected from, for example, 2 to 350 mPa·s (eg, 3 to 300 mPa·s), preferably 4 to 250 mPa·s (eg, 5 to 200 mPa·s), more preferably is 5 to 150 mPa·s (
양이온 중합성 화합물의 비율은 액상 전구체 중에 포함되는 수지 전체에 대해, 예를 들어 10~100질량%(예를 들어 30~99질량%) 정도의 범위로부터 선택할 수 있으며, 예를 들어 50~100질량%(예를 들어 60~98질량%), 바람직하게는 70~100질량%(예를 들어 80~97질량%), 더욱더 바람직하게는 80~100질량%(예를 들어 90~95질량%), 특히 95~100질량%(특히, 실질적으로 100질량%) 정도일 수도 있다. 양이온 중합성 화합물의 비율이 너무 적으면, 응집 공정에서 간편하게 또는 충분히(또는 정밀하게) 응집부를 형성할 수 없을 우려가 있다.The ratio of the cationically polymerizable compound can be selected from the range of, for example, about 10 to 100% by mass (eg, 30 to 99% by mass) with respect to the entire resin contained in the liquid precursor, for example, 50 to 100% by mass % (for example 60-98 mass %), Preferably 70-100 mass % (for example 80-97 mass %), More preferably, 80-100 mass % (for example 90-95 mass %) , in particular, may be about 95 to 100 mass % (especially, substantially 100 mass %). When there are too few ratios of a cationically polymerizable compound, there exists a possibility that an aggregation part cannot be formed simply or sufficiently (or precisely) in an aggregation process.
경화성 수지로서는, 응집부를 형성하기 쉬운 점에서 광경화성 수지가 바람직하며, 광양이온 중합성 화합물이 특히 바람직하다.As curable resin, a photocurable resin is preferable at the point which it is easy to form an aggregation part, and a photocationically polymerizable compound is especially preferable.
(중합 개시제)(Polymerization Initiator)
성형체(또는 성형체를 형성하기 위한 액상 전구체)는 상기 수지를 중합하기 위한 중합 개시제를 더 포함하고 있을 수도 있다. 중합 개시제는 수지의 종류에 따라 적절히 선택할 수 있으며, 수지가 경화성 수지인 경우, 라디칼 중합 개시제, 양이온 중합 개시제, 음이온 중합 개시제일 수도 있다. 바람직한 중합 개시제는 양이온 중합 개시제(산발생제)이다. 양이온 중합 개시제에는 광 산발생제 및 열 산발생제가 포함된다.The molded article (or the liquid precursor for forming the molded article) may further contain a polymerization initiator for polymerizing the resin. The polymerization initiator can be appropriately selected according to the type of resin, and when the resin is a curable resin, a radical polymerization initiator, a cationic polymerization initiator, or an anionic polymerization initiator may be used. A preferred polymerization initiator is a cationic polymerization initiator (acid generator). Cationic polymerization initiators include photo acid generators and thermal acid generators.
광 산발생제로서는, 예를 들어 술포늄염(술포늄 이온과 음이온의 염), 디아조늄염(디아조늄 이온과 음이온의 염), 요오도늄염(요오도늄 이온과 음이온의 염), 셀레늄염(셀레늄 이온과 음이온의 염), 암모늄염(암모늄 이온과 음이온의 염), 포스포늄염(포스포늄 이온과 음이온의 염), 옥소늄염(옥소늄 이온과 음이온의 염), 전이 금속 착체 이온과 음이온의 염, 브롬 화합물 등을 들 수 있다. 이들 광 산발생제는 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다. 이들 광 산발생제 중, 반응성을 향상시킬 수 있는 점에서 산성도가 높은 산발생제, 예를 들어 술포늄염이 바람직하다.Examples of the photoacid generator include sulfonium salts (salts of sulfonium ions and anions), diazonium salts (salts of diazonium ions and anions), iodonium salts (salts of iodonium ions and anions), selenium salts. (salt of selenium ion and anion), ammonium salt (salt of ammonium ion and anion), phosphonium salt (salt of phosphonium ion and anion), oxonium salt (salt of oxonium ion and anion), transition metal complex ion and anion salts, bromine compounds, and the like. These photoacid generators can be used individually or in combination of 2 or more types. Among these photoacid generators, an acid generator with high acidity, for example, a sulfonium salt, is preferable from the viewpoint of improving the reactivity.
술포늄염으로서는, 예를 들어 트리페닐술포늄염, 트리-p-톨릴술포늄염, 트리-o-톨릴술포늄염, 트리스(4-메톡시페닐)술포늄염, 1-나프틸디페닐술포늄염, 2-나프틸디페닐술포늄염, 트리스(4-플루오로페닐)술포늄염, 트리-1-나프틸술포늄염, 트리-2-나프틸술포늄염, 트리스(4-하이드록시페닐)술포늄염, 디페닐[4-(페닐티오)페닐]술포늄염, [4-(4-비페닐티오)페닐]-4-비페닐페닐술포늄염, 4-(p-톨릴티오)페닐디-(p-페닐)술포늄염 등의 트리아릴술포늄염; 디페닐페나실술포늄염, 디페닐 4-니트로페나실술포늄염, 디페닐벤질술포늄염, 디페닐메틸술포늄염 등의 디아릴술포늄염; 페닐메틸벤질술포늄염, 4-하이드록시페닐메틸벤질술포늄염, 4-메톡시페닐메틸벤질술포늄염 등의 모노아릴술포늄염; 디메틸페나실술포늄염, 페나실테트라하이드로티오페늄염, 디메틸벤질술포늄염 등의 트리알킬술포늄염 등을 들 수 있다. 이들 술포늄염은 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다. 이들 술포늄염 중, 트리아릴술포늄염이 바람직하다.Examples of the sulfonium salt include triphenylsulfonium salt, tri-p-tolylsulfonium salt, tri-o-tolylsulfonium salt, tris(4-methoxyphenyl)sulfonium salt, 1-naphthyldiphenylsulfonium salt, 2-naph Tyldiphenylsulfonium salt, tris(4-fluorophenyl)sulfonium salt, tri-1-naphthylsulfonium salt, tri-2-naphthylsulfonium salt, tris(4-hydroxyphenyl)sulfonium salt, diphenyl[4- (phenylthio)phenyl]sulfonium salt, [4-(4-biphenylthio)phenyl]-4-biphenylphenylsulfonium salt, 4-(p-tolylthio)phenyldi-(p-phenyl)sulfonium salt, etc. triarylsulfonium salts; diarylsulfonium salts such as diphenylphenacylsulfonium salt, diphenyl 4-nitrophenacylsulfonium salt, diphenylbenzylsulfonium salt, and diphenylmethylsulfonium salt; monoarylsulfonium salts such as phenylmethylbenzylsulfonium salt, 4-hydroxyphenylmethylbenzylsulfonium salt, and 4-methoxyphenylmethylbenzylsulfonium salt; and trialkylsulfonium salts such as dimethylphenacylsulfonium salt, phenacyltetrahydrothiophenium salt and dimethylbenzylsulfonium salt. These sulfonium salts can be used individually or in combination of 2 or more types. Among these sulfonium salts, a triarylsulfonium salt is preferable.
양이온과 염을 형성하기 위한 음이온(반대 이온)으로서는, 예를 들어 SbF6-, PF6-, BF4-, 불화알킬플루오로인산 이온[(CF3CF2)3PF3-, (CF3CF2CF2)3PF3- 등], (C6F5)4B-, (C6F5)4Ga-, 술폰산 음이온(트리플루오로메탄술폰산 음이온, 펜타플루오로에탄술폰산 음이온, 노나플루오로부탄술폰산 음이온, 메탄술폰산 음이온, 벤젠술폰산 음이온, p-톨루엔술폰산 음이온 등), (CF3SO2)3C-, (CF3SO2)2N-, 과할로겐산 이온, 할로겐화 술폰산 이온, 황산 이온, 탄산 이온, 알루민산 이온, 헥사플루오로비스무트산 이온, 카복실산 이온, 아릴붕산 이온, 티오시안산 이온, 질산 이온 등을 들 수 있다. 이들 음이온은 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수도 있다. 이들 음이온 중, SbF6-, PF6-, 불화알킬플루오로인산 이온 등이 범용되며, 용해성 등의 점에서는 불화알킬플루오로인산 이온 등이 바람직하고, 통상 PF6- 등인 경우가 많다.As an anion (counter ion) for forming a salt with a cation, for example, SbF 6 - , PF 6 - , BF 4 - , fluorinated alkylfluorophosphate ion [(CF 3 CF 2 ) 3 PF 3 - , (CF 3 ) CF 2 CF 2 ) 3 PF 3- etc], (C 6 F 5 ) 4 B-, (C 6 F 5 ) 4 Ga - , sulfonic acid anion (trifluoromethanesulfonic acid anion, pentafluoroethanesulfonic acid anion, nona Fluorobutanesulfonic acid anion, methanesulfonic acid anion, benzenesulfonic acid anion, p-toluenesulfonic acid anion, etc.), (CF 3 SO 2 ) 3 C - , (CF 3 SO 2 ) 2 N - , perhalogenate ion, halogenated sulfonic acid ion , sulfate ion, carbonate ion, aluminate ion, hexafluorobismuth acid ion, carboxylate ion, aryl borate ion, thiocyanate ion, nitrate ion, etc. are mentioned. These anions may be used individually or in combination of 2 or more types. Among these anions, SbF 6 - , PF 6 - , fluorinated alkyl fluorophosphate ion, etc. are commonly used. From the viewpoint of solubility, fluorinated alkyl fluorophosphate ion and the like are preferred, and usually PF 6 - or the like is often used.
광 산발생제는 시판의 광 산발생제를 사용할 수 있다. 시판의 광 산발생제로서는, 예를 들어 산아프로 가부시키가이샤(San-Apro Ltd.) 제품 「CPI-101A」, 「CPI-110A」, 「CPI-100P」, 「CPI-110P」, 「CPI-210S」, 「CPI-200K」; 다우케미칼사(The Dow Chemical Company) 제품 「CYRACURE UVI-6990」, 「CYRACURE UVI-6992」; 다이셀올넥스 가부시키가이샤(DAICEL-ALLNEX LTD.) 제품 「UVACURE1590」; 미국 사토머(Sartomer) 제품 「CD-1010」, 「CD-1011」, 「CD-1012」; BASF사 제품 「이르가큐어(Irgacure) 264」; 니혼소다 가부시키가이샤(Nippon Soda Co., Ltd.) 제품 「CIT-1682」; 로디아재팬 가부시키가이샤(Rhodia Japan Ltd.) 제품 「PHOTOINITIATOR 2074」 등을 이용할 수 있다.As the photo acid generator, a commercially available photo acid generator can be used. As a commercially available photoacid generator, "CPI-101A", "CPI-110A", "CPI-100P", "CPI-110P", "CPI" by San-Apro Ltd. are, for example, -210S", "CPI-200K"; "CYRACURE UVI-6990", "CYRACURE UVI-6992" manufactured by The Dow Chemical Company; "UVACURE1590" manufactured by DAICEL-ALLNEX LTD.; "CD-1010", "CD-1011", and "CD-1012" manufactured by Sartomer, USA; "Irgacure 264" manufactured by BASF; "CIT-1682" manufactured by Nippon Soda Co., Ltd.; Rhodia Japan Ltd. "PHOTOINITIATOR 2074", etc. can be used.
열 산발생제로서는, 예를 들어 아릴술포늄염, 아릴요오도늄염, 알렌-이온 착체, 제4급 암모늄염, 알루미늄 킬레이트, 삼불화붕소 아민 착체 등을 들 수 있다. 이들 열 산발생제는 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다. 이들 열 산발생제 중, 반응성을 향상시킬 수 있는 점에서 산성도가 높은 산발생제, 예를 들어 아릴술포늄염이 바람직하다. 음이온으로서는, 광 산발생제와 동일한 음이온 등을 들 수 있으며, SbF6- 등의 안티몬의 불화물 이온일 수도 있다.Examples of the thermal acid generator include arylsulfonium salts, aryliodonium salts, allene-ion complexes, quaternary ammonium salts, aluminum chelates, boron trifluoride amine complexes, and the like. These thermal acid generators can be used individually or in combination of 2 or more types. Among these thermal acid generators, an acid generator with high acidity, for example, an arylsulfonium salt, is preferable from the viewpoint of improving the reactivity. Examples of the anion include the same anion as that of the photoacid generator, and may be an antimony fluoride ion such as SbF 6- .
열 산발생제도 시판의 열 산발생제를 사용할 수 있다. 시판의 열 산발생제로서는, 예를 들어 산신카가쿠코교 가부시키가이샤(SANSHIN CHEMICAL INDUSTRY CO.,LTD.) 제품 「산에이드(SAN-AID) SI-60L」, 「산에이드 SI-60S」, 「산에이드 SI-80L」, 「산에이드 SI-100L」이나, (주)ADEKA 제품 「SP-66」, 「SP-77」 등을 이용할 수 있다.As for the thermal acid generator, a commercially available thermal acid generator can be used. As a commercially available thermal acid generator, for example, "SAN-AID SI-60L", "San-Aid SI-60S" manufactured by SANSHIN CHEMICAL INDUSTRY CO., LTD., "San-Aid SI-80L", "San-Aid SI-100L", "SP-66", "SP-77" manufactured by ADEKA Corporation, etc. can be used.
아울러, 이들 광 또는 열 산발생제는 각각 광 및 열의 어느 작용에 의해서도 산을 발생할 수 있는 경우가 있다.In addition, these light or thermal acid generators may generate an acid by either action of light and heat, respectively.
이들 양이온 중합 개시제는 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수도 있다. 이들 양이온 중합 개시제 중, 포토마스크 등을 이용하여 응집부를 패턴상으로 용이하게 형성할 수 있는 점에서 광 산발생제가 바람직하다.These cationic polymerization initiators may be used individually or in combination of 2 or more types. Among these cationic polymerization initiators, a photoacid generator is preferable at the point which can form an aggregation part in pattern shape easily using a photomask etc.
중합 개시제(특히, 양이온 중합 개시제)의 비율은 수지의 종류 등에 따라 적절히 선택하여, 액상 전구체의 경화성을 조정할 수도 있으며, 예를 들어 수지(특히, 양이온 중합성 화합물)의 총량 100질량부에 대해 0.01~100질량부 정도의 범위로부터 선택할 수 있고, 예를 들어 0.1~50질량부, 바람직하게는 1~30질량부, 더욱더 바람직하게는 3~20질량부, 보다 바람직하게는 5~15질량부, 가장 바람직하게는 8~12질량부이다. 중합 개시제의 비율이 너무 적으면, 경화 반응이 진행되기 어려워, 응집 공정에서 유전체 필러가 응집하기 어려워질 우려가 있으며, 너무 많으면, 경화 반응이 너무 빨라 응집 공정에서 유전체 필러의 응집이 불충분한 상태로 경화할 우려가 있는 동시에, 비용도 들어 생산성의 점에서도 불리하다.The ratio of the polymerization initiator (particularly, cationic polymerization initiator) may be appropriately selected according to the type of resin, etc., and the curability of the liquid precursor may be adjusted, for example, 0.01 to 100 parts by mass of the total amount of the resin (especially the cationically polymerizable compound). It can select from the range of about -100 mass parts, For example, 0.1-50 mass parts, Preferably 1-30 mass parts, More preferably, 3-20 mass parts, More preferably, 5-15 mass parts, Most preferably, it is 8-12 mass parts. If the ratio of the polymerization initiator is too small, the curing reaction may hardly proceed and the dielectric filler may be difficult to aggregate in the agglomeration process. While there is a possibility of hardening, it also costs and it is disadvantageous also in the point of productivity.
(유전체 필러)(dielectric filler)
유전체 필러로서는, 관용의 유전체 필러(유전체 입자 또는 입상 유전체)를 이용할 수 있다. 관용의 유전체 필러는 무기 필러(또는 입자), 유기 필러(또는 입자)로 크게 나눌 수 있다.As the dielectric filler, a conventional dielectric filler (dielectric particle or granular dielectric) can be used. Common dielectric fillers can be roughly divided into inorganic fillers (or particles) and organic fillers (or particles).
무기 필러의 재질에는 금속 산화물, 금속 복합 산화물 등이 포함된다. 금속 산화물로서는, 예를 들어 산화티탄, 산화지르코늄, 산화란탄 등을 들 수 있다. 복합 금속 산화물로서는, 예를 들어 티탄산 마그네슘, 티탄산 칼슘, 티탄산 스트론튬, 티탄산 바륨(BaTiO3), 티탄산 아연, 티탄산 비스무트 등의 티탄 금속; 지르콘산 바륨 등의 지르콘산 금속; 주석산 바륨 등의 주석산 금속; 하프늄산 바륨 등의 하프늄산 금속; 니오브산 리튬 등의 니오브산 금속; 탄탈산 리튬 등의 탄탈산 금속; 티탄산 지르콘산 바륨, 티탄산 지르콘산 연(PZT) 등의 티탄산 지르콘산 금속 등을 들 수 있다. 또한, 티탄산 바륨 등의 복합 금속 산화물은 미량 성분으로서, 칼슘, 스트론튬 등의 알칼리 토류 금속, 이트륨, 네오디뮴, 사마륨, 디스프로슘 등의 희토류 금속을 더 포함하고 있을 수도 있다.The material of the inorganic filler includes a metal oxide, a metal composite oxide, and the like. Examples of the metal oxide include titanium oxide, zirconium oxide, and lanthanum oxide. Examples of the composite metal oxide include titanium metals such as magnesium titanate, calcium titanate, strontium titanate, barium titanate (BaTiO 3 ), zinc titanate, and bismuth titanate; zirconate metals such as barium zirconate; stannate metals such as barium stannate; hafniate metals such as barium hafniate; metal niobates such as lithium niobate; tantalate metals such as lithium tantalate; and metal zirconate titanates such as barium titanate zirconate and lead zirconate titanate (PZT). The composite metal oxide such as barium titanate may further contain alkaline earth metals such as calcium and strontium, and rare earth metals such as yttrium, neodymium, samarium and dysprosium as trace components.
유기 필러의 재질로서는, 예를 들어 폴리불화 비닐리덴, 불화 비닐리덴-삼불화에틸렌 공중합체, 불화 비닐리덴-사불화에틸렌 공중합체, 불화 비닐리덴-육불화 비닐리덴 공중합체 등의 불화 비닐리덴계 중합체; 폴리아미드 5, 폴리아미드 7, 폴리아미드 11 등의 홀수 폴리아미드(홀수 나일론); 시아노에틸 풀루란, 시아노에틸 폴리비닐 알코올, 시아노에틸 하이드록시에틸 셀룰로오스, 시아노에틸 셀룰로오스 등의 시아노 수지; 폴리요소; 폴리티오요소; 황산 트리글리신 등을 들 수 있다.As the material of the organic filler, for example, polyvinylidene fluoride, vinylidene fluoride-ethylene trifluoride copolymer, vinylidene fluoride-ethylene tetrafluoride copolymer, vinylidene fluoride-vinylidene hexafluoride copolymer, etc. polymer; odd polyamides (odd nylon) such as
이들 재질로 형성된 유전체 필러는 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다. 이들 중, 응집부를 형성하기 쉬운 점에서, 무기 필러가 바람직하며, 복합 금속 산화물로 형성된 무기 필러(복합 금속 산화물 필러)가 더욱더 바람직하고, 티탄 함유 복합 금속 산화물로 형성된 무기 필러가 보다 바람직하고, 티탄산 알칼리 토류 금속으로 형성된 무기 필러가 가장 바람직하다. 또한, 유전체 필러는 응집부를 형성하기 쉬운 점에서, 페로브스카이트 구조를 갖는 무기 필러(특히, 페로브스카이트 구조를 갖는 복합 금속 산화물로 형성된 무기 필러)일 수도 있다. 또한, 유전체 필러 중, 성형체의 비유전율을 향상시킬 수 있는 점에서 강유전체 필러일 수도 있다.The dielectric filler formed of these materials can be used individually or in combination of 2 or more types. Among these, inorganic fillers are preferable from the viewpoint of easy formation of aggregates, and inorganic fillers (composite metal oxide fillers) formed of a composite metal oxide are still more preferable, and inorganic fillers formed of titanium-containing composite metal oxides are more preferable, and titanic acid An inorganic filler formed of an alkaline earth metal is most preferred. Further, the dielectric filler may be an inorganic filler having a perovskite structure (in particular, an inorganic filler formed of a composite metal oxide having a perovskite structure) in view of the ease of forming agglomerated portions. Further, among the dielectric fillers, the ferroelectric filler may be used in that the dielectric constant of the molded article can be improved.
유전체 필러의 비유전율(εr)은 100 이상일 수도 있으며, 예를 들어 500 이상, 바람직하게는 1000 이상, 더욱더 바람직하게는 3000 이상(예를 들어 3000~10000)일 수도 있다.The dielectric constant (ε r ) of the dielectric filler may be 100 or more, for example, 500 or more, preferably 1000 or more, even more preferably 3000 or more (eg, 3000 to 10000).
유전체 필러의 형상(일차 입자의 형상)은 입상이면 특별히 한정되지 않으며, 예를 들어 진구상(眞球狀) 또는 대략 구상(球狀) 등의 구상; 타원체(타원구)상; 원추상, 다각추상 등의 추상; 입방체상이나 직방체상 등의 다각방체상; 편평상, 인편상(鱗片狀), 박편상 등의 판상; 로드상 또는 봉상; 섬유상, 수침상(樹針狀) 등의 선상; 부정형상 등을 들 수 있다.The shape (shape of primary particles) of the dielectric filler is not particularly limited as long as it is granular, and examples thereof include spherical shapes such as true spherical shape or substantially spherical shape; ellipsoid (ellipsoid) phase; abstractions such as cones and polygons; polygonal cube shapes, such as a cube shape and a cuboid shape; Plate shape, such as a flat shape, a flaky shape, and a flaky shape; rod or rod; Line shape, such as fibrous shape and water needle shape; irregular shape, etc. are mentioned.
유전체 필러의 중심 입경(D50)은 1 μm 이상일 수도 있으나, 1 μm 이하가 바람직하고, 더욱더 바람직하게는 0.01~1 μm이다. 중심 입경이 너무 작으면, 액상 전구체의 점도가 상승하기 쉬워 응집 공정에서 유전체 필러가 응집하기 어려워질 우려나, 계면 저항(접촉 저항)의 영향으로 인해 유전성을 유효하게 부여하기 어려워질 우려가 있다. 반대로 너무 크면, 응집 공정에서 유전체 필러가 이동하기 어려워 응집이 곤란해질 우려나, 유전체 필러에 따라서는 유전체 필러 자신의 그림자의 영향으로 인해 광경화성이 저하될 우려가 있다. 또한, 응집부의 유전체 필러 농도를 효율적으로 높이기 위해 크기가 다른 입자를 의도적으로 소정 비율로 혼합할 수도 있다.The central particle diameter (D 50 ) of the dielectric filler may be 1 μm or more, but preferably 1 μm or less, and even more preferably 0.01 to 1 μm. If the central particle size is too small, the viscosity of the liquid precursor tends to rise, and there is a fear that the dielectric filler may be difficult to aggregate in the agglomeration step, or there is a risk that it may be difficult to effectively impart dielectric properties due to the influence of the interfacial resistance (contact resistance). Conversely, if it is too large, the dielectric filler may be difficult to move in the aggregation process, making it difficult to agglomerate. In addition, in order to efficiently increase the dielectric filler concentration of the agglomerated portion, particles of different sizes may be intentionally mixed in a predetermined ratio.
아울러, 본 명세서 및 특허 청구의 범위에서, 유전체 필러의 중심 입경은 일차 입자의 중심 입경을 의미하며, 나노 입자 지름 분포 측정 장치(가부시키가이샤 시마즈세이사쿠쇼(SHIMADZU CORPORATION) 제품 「SALD-7500nano」)를 이용하여 부피 기준으로 측정할 수 있다. 또한, 화상 해석법에 의해 구해진다. 즉, 예를 들어 주사형 전자 현미경(SEM)을 이용하여 충분한 수(예를 들어 10개 이상)의 입자상 물질에 대해 전자 현미경 상을 촬영하고, 이들 입자상 물질의 최대 지름, 교차 지름 및 두께를 계측하고, 이를 산술 평균함으로써 구해진다.In addition, in the present specification and claims, the central particle diameter of the dielectric filler means the central particle diameter of primary particles, and a nanoparticle diameter distribution measuring device (“SALD-7500nano” manufactured by SHIMADZU CORPORATION) ) can be used to measure on a volume basis. In addition, it is calculated|required by the image analysis method. That is, an electron microscope image is taken for a sufficient number (for example, 10 or more) of particulate matter using, for example, a scanning electron microscope (SEM), and the maximum diameter, crossover diameter, and thickness of these particulate matter are measured. and it is obtained by arithmetic mean.
유전체 필러의 비율은 수지(또는 수지 전구체) 100질량부에 대해 0.01~300질량부(예를 들어 0.1~100질량부) 정도의 범위로부터 선택할 수 있으며, 예를 들어 0.1~80질량부, 바람직하게는 0.2~70질량부이다. 유도체 필러의 비율이 많아도 유도체 필러의 응집을 제어할 수 있으며, 유도체 필러의 비율은 수지 100질량부에 대해, 예를 들어 1~300질량부, 바람직하게는 10~200질량부, 더욱더 바람직하게는 20~100질량부, 보다 바람직하게는 30~80질량부일 수도 있다. 유전체 필러의 비율이 너무 적으면, 성형체의 비유전율을 향상시킬 수 없을 우려가 있지만, 본 개시에서는 비교적 적은 유전체 필러양이어도, 응집부를 형성함으로써 비유전율을 향상시킬 수 있다. 반대로, 너무 많으면 액상 전구체의 점도가 상승하기 쉬워 응집 공정에서 유전체 필러가 응집하기 어려워질 우려나, 유전체 필러에 따라서는 유전체 필러 자신의 그림자의 영향으로 인해 광경화성이 저하될 우려가 있다. 나아가서는, 얻어지는 성형체의 유연성(또는 인성)이 저하되기 쉽고, 무른 성형체가 될 우려가 있다. The ratio of the dielectric filler can be selected from the range of about 0.01 to 300 parts by mass (for example, 0.1 to 100 parts by mass) with respect to 100 parts by mass of the resin (or resin precursor), for example, 0.1 to 80 parts by mass, preferably is 0.2 to 70 parts by mass. Aggregation of the derivative filler can be controlled even if the proportion of the derivative filler is large, and the proportion of the derivative filler is, for example, from 1 to 300 parts by mass, preferably from 10 to 200 parts by mass, even more preferably from 100 parts by mass of the resin. 20-100 mass parts, More preferably, 30-80 mass parts may be sufficient. If the ratio of the dielectric filler is too small, there is a fear that the dielectric constant of the molded article cannot be improved, but in the present disclosure, even with a relatively small amount of the dielectric filler, the dielectric constant can be improved by forming the agglomerated portion. Conversely, if the amount is too large, the viscosity of the liquid precursor tends to increase, making it difficult for the dielectric filler to agglomerate in the agglomeration process. Furthermore, the softness|flexibility (or toughness) of the molded object obtained may fall easily, and there exists a possibility of becoming a soft molded object.
(다른 성분)(other ingredients)
성형체(또는 성형체를 형성하기 위한 액상 전구체)는 수지 및 유전체 필러에 더하여, 필요에 따라 관용의 첨가제 등의 다른 성분을 더 포함하고 있을 수도 있다.The molded article (or liquid precursor for forming the molded article) may further contain other components such as conventional additives, if necessary, in addition to the resin and dielectric filler.
관용의 첨가제로서는, 예를 들어 안정제(열안정제, 자외선 흡수제, 광안정제, 산화방지제 등), 분산제, 대전 방지제, 착색제, 윤활제, 증감제(아크리딘류, 벤조플라빈류, 페릴렌류, 안트라센류, 티오크산톤류, 레이저 색소류 등), 증감 조제, 경화 촉진제(이미다졸류, 알칼리 금속 또는 알칼리 토류 금속 알콕사이드, 포스핀류, 아미드 화합물, 루이스산 착체 화합물, 황 화합물, 붕소 화합물, 축합성 유기 금속 화합물 등), 소포제, 난연제 등을 들 수 있다. 이들 첨가제는 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다. 관용의 첨가제의 비율은 수지(또는 수지 전구체) 100질량부에 대해, 예를 들어 30질량부 이하(예를 들어 0.01~30질량부), 바람직하게는 20질량부 이하, 더욱더 바람직하게는 10질량부 이하일 수도 있다.Common additives include, for example, stabilizers (thermal stabilizers, ultraviolet absorbers, light stabilizers, antioxidants, etc.), dispersants, antistatic agents, colorants, lubricants, sensitizers (acridines, benzoflavins, perylenes, anthracenes, thioxanthone, laser dyes, etc.), sensitizers, curing accelerators (imidazoles, alkali metal or alkaline earth metal alkoxides, phosphines, amide compounds, Lewis acid complex compounds, sulfur compounds, boron compounds, condensable organometals) compound, etc.), an antifoaming agent, a flame retardant, and the like. These additives can be used individually or in combination of 2 or more types. The proportion of the usual additive is, for example, 30 parts by mass or less (for example, 0.01 to 30 parts by mass), preferably 20 parts by mass or less, still more preferably 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin (or resin precursor). It may be less than
(성형체의 특성)(characteristics of molded body)
성형체의 응집부는 앞에서 설명한 바와 같이, 활성 에너지의 부여에 의해 상기 유전체 필러가 성형체 내부에서 균일하게 분산하지 않고 응집하여 형성된 영역인데, 상기 비응집부(또는 매트릭스부)와의 적어도 계면 근방에서, 유전체 필러의 존재 비율이 계면을 향해 점차 감소하는 구조를 가지고 있다. 즉, 응집부는 응집부의 전체 영역에서, 유전체 필러가 일정한 비율로 존재하는 균질한 구조가 아니라, 응집부와 비응집부의 적어도 계면 근방에서 농도가 서서히(직선적 또는 곡선적으로, 혹은 연속적으로 또는 단계적으로) 감소하는 농도 구배 또는 경사 구조를 가지고 있다. 특히, 계면 근방의 구조는 농도 구배를 가지지만 정형적이지 않기 때문에, 미시적인 구조의 특정은 불가능 또는 지극히 곤란하며, 실제적이지 않다. 또한, 이 구조 특성을 가짐으로써, 앵커 효과에 의한 계면 강도 향상 등의 본 개시에서 유래하는 특성을 부여할 수 있다. 이러한 구조는 디지털 마이크로스코프(CCD 관찰상(像)) 등에 의해 용이하게 관찰할 수 있으며, 예를 들어 응집부의 단면 또는 표면을 200~1000배 정도의 배율로 촬영한 CCD 사진에서, 응집부에서의 유전체 필러의 존재 비율(농도)이 불균일한 것은 용이하게 확인할 수 있다.As described above, the aggregation portion of the molded body is a region formed by aggregation of the dielectric filler without uniformly dispersing it inside the molded body by application of active energy. It has a structure in which the abundance ratio gradually decreases toward the interface. That is, the agglomerated portion does not have a homogeneous structure in which the dielectric filler is present in a constant ratio in the entire area of the agglomerated portion, but gradually (linearly or curvedly, or continuously or stepwisely) in concentration near the interface at least between the aggregated portion and the non-agglomerated portion. ) has a decreasing concentration gradient or gradient structure. In particular, since the structure in the vicinity of the interface has a concentration gradient but is not formal, it is impossible or extremely difficult to specify the microscopic structure, and is not practical. Moreover, by having this structural characteristic, the characteristic derived from this indication, such as an interface strength improvement by an anchor effect, can be provided. Such a structure can be easily observed with a digital microscope (CCD observation image). It can be easily confirmed that the abundance ratio (concentration) of the dielectric filler is non-uniform.
또한, 응집부에서의 유전체 필러의 존재 비율(농도)의 불균일성은 응집부 내의 소정 영역의 원소 분석(또는 표면 분석) 또는 화학종의 분석에 의해, 유전체 필러를 구성하는 원소(유전체 필러 구성 원소라고도 한다) 또는 화학종을 검출함으로써도 확인할 수 있다. 원소 분석의 방법(또는 장치)으로서는, 성형체의 형태(유전체 필러의 종류 등)에 따라 적절히 선택할 수도 있으며, 예를 들어 에너지 분산형 X선 분광법(EDX 또는 EDS), 파장 분산형 X선 분광법(WDX, WDS 또는 EPMA), X선 광전자 분광 분석(XPS 또는 ESCA), 오제 전자 분광법(AES), 이차 이온 질량 분석법(SIMS)[비행 시간형 이차 이온 질량 분석법(TOF-SIMS) 등] 등의 관용의 방법을 들 수 있으며, 화학종을 검출하는 방법으로서는, 라만 분광법, 적외 분광법(IR) 등의 관용의 방법을 들 수 있고, 통상 SEM-EDX(SEM-EDS) 등의 에너지 분산형 X선 분광법이 잘 이용된다.Incidentally, the non-uniformity of the abundance ratio (concentration) of the dielectric filler in the agglomerated portion is determined by elemental analysis (or surface analysis) or chemical species analysis of a predetermined region in the agglomerated portion to determine the elements constituting the dielectric filler (also referred to as dielectric filler constituent elements). ) or by detecting chemical species. The elemental analysis method (or apparatus) may be appropriately selected depending on the shape of the molded body (type of dielectric filler, etc.), for example, energy dispersive X-ray spectroscopy (EDX or EDS), wavelength dispersive X-ray spectroscopy (WDX) , WDS or EPMA), X-ray photoelectron spectroscopy (XPS or ESCA), Auger electron spectroscopy (AES), secondary ion mass spectrometry (SIMS) [time-of-flight secondary ion mass spectrometry (TOF-SIMS), etc.] Methods are mentioned, As a method of detecting a chemical species, common methods, such as Raman spectroscopy and infrared spectroscopy (IR), are mentioned, Usually, energy dispersive X-ray spectroscopy, such as SEM-EDX (SEM-EDS), is well used
본 개시의 성형체는 응집부의 적어도 계면 근방의 주변역에서, 계면(또는 계면 방향)을 향해 유전체 필러 농도가 감소 또는 점차 감소하고 있기 때문에, 응집부 내의 소정 영역을 원소 분석하면, 응집부의 적어도 계면 근방(또는 주변역)에서의 유전체 필러 구성 원소의 존재 비율이 낮은 것을 확인할 수 있다.In the molded article of the present disclosure, the dielectric filler concentration decreases or gradually decreases toward the interface (or the interface direction) in the peripheral region at least near the interface of the agglomerated portion. It can be confirmed that the abundance ratio of dielectric filler constituent elements in (or in the peripheral region) is low.
대표적인 확인 방법으로서는, 예를 들어 우선, 응집부의 중심부(응집부 내부 중, 인접하여 응집부를 구획하는 비응집부와의 계면으로부터 가장 먼 부분) 및 상기 응집부와 인접하는 비응집부와의 계면을 두께 방향을 따라 횡단하는 성형체 단면(또는 표면)에서, 응집부를 상기 중심부로부터 계면(또는 계면 방향)을 향해 3등분(중심부로부터 계면까지의 거리가 등간격이 되도록 3분할)한다. 분할한 각 영역을 상기 중심부로부터 상기 계면을 향하는 순으로, 중앙역(중앙부, 중심부 근방 또는 제1 영역), 중간역(중간부, 중간 영역 또는 제2 영역), 주변역(주변부, 계면 근방 또는 제3 영역)으로 한다. 이들 영역을 각각 원소 분석하여 유전체 필러를 구성하는 적어도 1개의 원소의 존재 비율을 측정하고, 각 영역의 상기 존재 비율을 비교함으로써, 주변역에서의 상기 존재 비율이 적어도 중간역에서의 상기 존재 비율보다 낮은 것을 확인할 수 있다. 아울러, 상기 존재 비율은 원자의 개수 기준(빈도 또는 강도)의 비율일 수도 있으나, 통상, 원자의 질량 기준의 비율이다. 본 명세서 및 특허 청구의 범위에서, 구체적인 원소 분석의 방법으로서는 SEM-EDS(본체 가부시키가이샤 히타치하이테크놀로지스(Hitachi High-Technologies Corporation) 제품 「SU5000」; SDD 검출기 옥스포드 인스트루먼츠(Oxford Instruments) 제품 「X-MaxN」)를 이용할 수 있다.As a representative confirmation method, for example, first, the central portion of the agglomerated portion (the portion of the interior of the aggregated portion that is furthest from the interface with the non-agglomerated portion that adjacently divides the aggregated portion) and the interface between the aggregated portion and the adjacent non-agglomerated portion in the thickness direction In the cross section (or surface) of the molded body traversing along , the agglomerated portion is divided into three equal parts from the center toward the interface (or in the interface direction) (the distance from the center to the interface is equally spaced). Each divided region is divided in the order from the central portion toward the interface: a central region (central portion, near central region, or first region), intermediate region (middle region, intermediate region, or second region), and peripheral region (peripheral region, near interface or first region) 3 area). By elemental analysis of each of these regions, measuring the abundance ratio of at least one element constituting the dielectric filler, and comparing the abundance ratio of each region, the abundance ratio in the peripheral region is at least higher than the abundance ratio in the intermediate region. low can be seen. In addition, the abundance ratio may be a ratio based on the number of atoms (frequency or intensity), but is usually a ratio based on the mass of atoms. In the present specification and claims, specific elemental analysis methods include SEM-EDS ("SU5000" manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation; SDD detector "X-X-EDS" manufactured by Oxford Instruments) MaxN”) can be used.
이하, 도 2를 기초로 보다 구체적으로 설명한다. 도 2는 본 개시의 성형체, 즉 두께 방향으로 유전체 필러가 관통한 형태의 응집부(1)를 갖는 필름(또는 시트)상 성형체의 개략 부분 종단면도이다. 즉, 도 2는 성형체 중의 임의의 응집부(1)의 중심부(4)(응집부의 면방향에서의 중심에서 두께 방향으로 연장되는 중심축), 및 상기 응집부(1)에 인접하는 비응집부(2)와의 계면(3)을 통과하는(또는 횡단하는) 동시에, 성형체의 두께 방향에 거의 평행한 단면(또는 종단면)을 나타내고 있다.Hereinafter, it will be described in more detail based on FIG. 2 . Fig. 2 is a schematic partial longitudinal sectional view of a molded article of the present disclosure, that is, a film (or sheet)-like molded article having agglomerated
도면 중, 응집부 내에서, 상기 중심부(4)로부터 적어도 한쪽 계면(도면 중, 중심부(4)의 좌측 계면)(3)에 이르기(최단으로 이르기)까지의 영역을, 중심부(4)로부터 계면(3)까지의 거리가 등간격이 되도록 응집부의 폭방향(횡방향)으로 3분할한다. 분할한 영역을 상기 중심부(4)측의 영역으로부터 계면(3)을 향하는 순으로, 중앙역(1a), 중간역(1b), 주변역(또는 계면 근방)(1c)으로 한다. 각 영역(1a~1c)에서, 무작위로 선택한 복수(바람직하게는 3 이상)의 측정 개소에서 원소 분석하고, 유전체 필러 구성 원소 중 적어도 1개의 원소의 존재 비율을 측정 개소별로 구한다. 얻어진 상기 존재 비율의 평균값을 산출하고, 측정 개소가 속하는 상기 각 영역의 존재 비율로서 채용한다. 이와 같이 하여 얻어진 상기 각 영역에서의 유전체 필러 구성 원소의 존재 비율을 비교함으로써, 응집부에서의 유전체 필러의 존재 비율(농도)이 불균일한 것을 확인할 수 있다.In the figure, within the aggregation part, the area from the
보다 상세하게는, 성형체 단면(응집부의 중심부 및 계면을 통과하는 종단면)의 응집부에서의 유전체 필러의 분포 상태는, 횡축을 성형체 단면에서의 횡방향(두께 방향에 대해 수직인 방향, 또는 응집부의 폭방향), 세로축을 유전체 필러 구성 원소로부터 선택된 1개의 원소의 존재 비율(유전체 필러 농도)로 하는 그래프에 의해 가시화할 수도 있다. 본 개시의 성형체에서는 유전체 필러의 이동에 의해 응집부가 형성되기 때문인지, 상기 주변역에서의 상기 존재 비율(농도)이 적어도 상기 중간역에서의 상기 존재 비율(농도)보다 낮다. 때문에, 상기 그래프(횡축을 한쪽 주변역으로부터 중앙역(또는 중심부)을 통과하여, 다른쪽 주변역에 이르기까지의 구간으로 한 그래프)가 나타내는 형상(종단면에서의 응집부의 농도 분포)으로서는, 산 형상 또는 정규 분포상[중앙역의 존재 비율이 높고, 주변역(계면 방향)으로 갈수록 직선적 또는 만곡하여 연속적 또는 단계적으로 저하되는 형상]; 사다리꼴상[중앙역 및 중간역의 존재 비율이 거의 동일 정도로 높고, 주변역으로 갈수록 직선적 또는 만곡하여 연속적 또는 단계적으로 저하되는 형상]; 칼데라상[중간역의 존재 비율이 높고, 중앙역 및 주변역으로 갈수록 직선적 또는 만곡하여 연속적 또는 단계적으로 저하되는 형상] 등을 들 수 있으며, 통상 산 형상인 경우가 많다. 아울러, 상기 그래프 형상(농도 분포)은 유전체 필러 구성 원소 중 적어도 1개의 원소에 대해 만족하고 있으면 무방하며, 바람직하게는 복수의 유전체 필러 구성 원소에 대해, 더욱더 바람직하게는 모든 유전체 필러 구성 원소에 대해 만족하고 있을 수도 있다(이하에 기재한 존재 비율의 비에 대해도 동일).More specifically, the distribution state of the dielectric filler in the agglomerated portion of the cross section of the molded body (the longitudinal section passing through the center and the interface of the agglomerated portion) is determined by taking the abscissa in the transverse direction in the cross section of the molded body (the direction perpendicular to the thickness direction, or the agglomerated portion width direction) and the vertical axis representing the abundance ratio (dielectric filler concentration) of one element selected from dielectric filler constituent elements. In the molded article of the present disclosure, the abundance ratio (concentration) in the peripheral region is at least lower than the abundance ratio (concentration) in the intermediate region, perhaps because agglomerated portions are formed by the movement of the dielectric filler. For this reason, as the shape (concentration distribution of the agglomerated portion in the longitudinal section) shown in the graph (a graph in which the horizontal axis is a section from one peripheral region through the central region (or central region) to the other peripheral region), a mountain-shaped or Normal distribution [a shape in which the abundance ratio of the central area is high, and is linearly or curved toward the peripheral area (interfacial direction) and decreases continuously or stepwise]; trapezoidal shape [a shape in which the abundance ratio of the central area and the intermediate area is almost the same, and is linearly or curved toward the peripheral area and decreases continuously or stepwise]; a caldera phase [a shape in which the abundance ratio of the intermediate region is high, and is linear or curved toward the central region and the peripheral region, and decreases continuously or in stages], etc. are mentioned, and they are usually in the shape of a mountain. In addition, the graph shape (concentration distribution) may be satisfied for at least one of the dielectric filler constituent elements, preferably for a plurality of dielectric filler constituent elements, and even more preferably for all dielectric filler constituent elements. may be satisfied (the same applies to the ratio of abundance described below).
주변역(제3 영역)에서의 상기 존재 비율과 중간역(제2 영역)에서의 상기 존재 비율의 비는, 예를 들어 제3 영역/제2 영역(질량 기준)=1/1.01~1/20(예를 들어 1/1.05~1/15) 정도의 범위로부터 선택할 수 있으며, 예를 들어 1/1.1~1/10(예를 들어 1/1.15~1/8), 바람직하게는 1/1.2~1/7(예를 들어 1/1.25~1/6), 더욱더 바람직하게는 1/1.5~1/5(예를 들어 1/2~1/4, 바람직하게는 1/2.5~1/3.5) 정도일 수도 있다.The ratio of the abundance ratio in the peripheral region (third region) to the abundance ratio in the intermediate region (second region) is, for example, 3rd region/second region (by mass) = 1/1.01 to 1/ It can be selected from the range of about 20 (eg, 1/1.05 to 1/15), for example, 1/1.1 to 1/10 (eg, 1/1.15 to 1/8), preferably 1/1.2 ~1/7 (
또한, 주변역(계면 근방 또는 제3 영역)의 상기 존재 비율은 중앙역(제1 영역)의 상기 존재 비율에 비해 반드시 낮지 않을 수도 있으나, 통상, 낮은 경우가 많다. 때문에, 제3 영역에서의 상기 존재 비율과 제1 영역에서의 상기 존재 비율의 비는, 예를 들어 제3 영역/제1 영역(질량 기준)=1/1.1~1/20(예를 들어 1/1.2~1/15) 정도의 범위로부터 선택할 수 있으며, 바람직하게는 1/1.3~1/10(예를 들어 1/1.5~1/8), 더욱더 바람직하게는 1/2~1/7(예를 들어 1/3~1/6, 바람직하게는 1/3.5~1/5.5) 정도일 수도 있다. 제2 영역에서의 상기 존재 비율과 제1 영역에서의 상기 존재 비율의 비는, 예를 들어 제2 영역/제1 영역(질량 기준)=1/0.1~1/5(예를 들어 1/0.5~1/4) 정도의 범위로부터 선택할 수 있으며, 예를 들어 1/0.8~1/3(예를 들어 1/1~1/2.5), 바람직하게는 1/1.1~1/2(예를 들어 1/1.2~1/1.8) 정도일 수도 있다.In addition, the abundance ratio of the peripheral region (near the interface or the third region) may not necessarily be lower than the abundance ratio of the central region (the first region), but is usually low in many cases. Therefore, the ratio of the abundance ratio in the third region to the abundance ratio in the first region is, for example, 3rd region/first region (by mass) = 1/1.1 to 1/20 (
아울러, SEM-EDX로 측정하는 경우, 상기 존재 비율은 유전체 필러 구성 원소로부터 선택된 1개의 원소의 존재 비율일 수도 있고, 유전체 필러를 구성하는 모든 원소 및 수지를 구성하는 탄소의 존재 비율의 합계에 대한 유전체 필러 구성 원소로부터 선택된 1개의 원소의 존재 비율의 비일 수도 있다. 또한, 원소 분석에 제공하는 분석 시료의 조제 방법은 상기 존재 비율의 측정 결과에 영향을 미치지 않는 방법이면 특별히 제한되지 않으며, 관용의 방법, 예를 들어 성형체를 절단하고 상기 단면(또는 관찰면)을 잘라 낸 후, 소정의 수지 중에 포매하고, 정밀 연마하는 방법 등에 의해 조제할 수도 있고, 분석 방법 등에 따라, 또한, 수지 및 유전체 필러에 포함되지 않는 원소를 관찰면에 증착할 수도 있다.In addition, when measured by SEM-EDX, the abundance ratio may be the abundance ratio of one element selected from the dielectric filler constituent elements, and the total abundance ratio of all elements constituting the dielectric filler and carbon constituting the resin. It may be a ratio of the abundance ratio of one element selected from dielectric filler constituent elements. In addition, the preparation method of the analyte sample to be used for elemental analysis is not particularly limited as long as it does not affect the measurement result of the abundance ratio, and a conventional method, for example, a molded article is cut and the cross-section (or observation surface) is obtained. After being cut out, it may be prepared by, for example, a method of embedding in a predetermined resin and precision polishing, or an element not contained in the resin and dielectric filler may be vapor-deposited on the observation surface according to an analysis method or the like.
또한, 상술한 설명에서는, 원소 분석에 의해 유전체 필러의 존재 비율(농도)의 불균일성을 확인하는 방법에 대해 설명했지만, 원소 분석 대신, 상기 화학종을 분석하는 방법 등의 필러 농도를 검출(또는 확인) 가능한 방법을 이용할 수도 있다.In addition, in the above description, although the method for confirming the non-uniformity of the abundance ratio (concentration) of the dielectric filler by elemental analysis has been described, instead of elemental analysis, the filler concentration such as a method of analyzing the chemical species is detected (or confirmed) ) can be used as well.
아울러, 도 2에서는 단면에서의 영역에 대해 설명했지만, 유전체 필러가 표면에 관통 또는 노출된 형태의 응집부를 갖는 성형체라면, 상기 단면 대신, 성형체 표면에서 동일하게 하여 영역을 설정하고, 유전체 필러 구성 원소의 존재 비율을 비교할 수도 있다. 통상, 단면에서 영역을 설정하는 경우가 많으며, 단면은 임의의 단면일 수도 있으나, 두께 방향에 대해 거의 평행한 단면(종단면)이 바람직하다.In addition, although the region in the cross section has been described in FIG. 2 , if the dielectric filler is a molded body having agglomerates in the form of penetrating or exposed surfaces, instead of the cross section, the region is set in the same manner on the surface of the molded body, and dielectric filler constituent elements It is also possible to compare the abundance of In general, in many cases, the area is set in the cross section, and the cross section may be any cross section, but a cross section (longitudinal cross section) substantially parallel to the thickness direction is preferable.
응집부의 중심부는 응집부의 형태에 따라 적절히 결정할 수 있다. 응집부는 후술하는 제조 방법(응집 공정)과의 관계로 인해, 통상 두께 방향 또는 두께 방향에 소정의 각도를 이루는 방향(바람직하게는 두께 방향)으로 연장되어 형성되는 경우가 많다. 때문에, 상기 중심부는 성형체의 횡단면(두께 방향에 대해 수직인 단면)에서의 응집부(또는 응집부 엘리먼트)의 중심[응집부의 횡단면 형상의 중심 또는 (선상인 경우)폭방향의 중심]을 통과하여, 응집부가 연장되는 방향(또는 두께 방향)을 따라 연장되는 중심축(또는 중심면)으로 할 수도 있다.The central portion of the agglomerated portion can be appropriately determined according to the shape of the agglomerated portion. Due to the relationship with the manufacturing method (aggregation step) described later, the agglomerated portion is usually formed extending in the thickness direction or in a direction forming a predetermined angle to the thickness direction (preferably in the thickness direction). Therefore, the central portion passes through the center of the aggregated portion (or aggregated portion element) in the cross-section (cross-section perpendicular to the thickness direction) of the molded body [the center of the cross-sectional shape of the aggregated portion or the center in the width direction (if linear)] , may be a central axis (or a central plane) extending along a direction (or thickness direction) in which the agglomeration portion extends.
상기 횡단면에서의 응집부(또는 응집부 엘리먼트)의 단면 형상은 특별히 제한되지 않으며, 후술하는 응집부의 형상에 대응하는 형상일 수도 있고, 예를 들어 대략 원상, 대략 타원상, 다각형상(삼각형상, 정사각형상, 직사각형상 등), 선상(직선상 또는 곡선상), 소용돌이상, 부정형상 등을 들 수 있다.The cross-sectional shape of the aggregation part (or agglomeration part element) in the cross section is not particularly limited, and may be a shape corresponding to the shape of the agglomeration part to be described later, for example, a substantially circular shape, an approximately oval shape, or a polygonal shape (triangular shape, square shape, rectangular shape, etc.), linear shape (linear shape or curved shape), swirl shape, irregular shape, etc. are mentioned.
본 명세서 및 특허 청구의 범위에서, 응집부가 형상 및/또는 방향이 동일 또는 상이한 복수의 응집부 엘리먼트로 형성되어 있는 경우[예를 들어, 복수의 응집부 엘리먼트로 복잡(또는 불규칙)한 형상(예를 들어, 격자상 등)의 응집부를 형성하고 있는 경우], 상기 복잡 형상의 응집부의 중심부는 상기 응집부 엘리먼트로부터 선택되는 적어도 하나의 응집부 엘리먼트에서의 중심부[응집부 엘리먼트의 횡단면 형상의 중심 또는 (선상인 경우)폭방향의 중심]로 할 수 있다. 상기 응집부 엘리먼트는 횡단면 형상이 비교적 단순한 형상(예를 들어, 상기 예시의 단면 형상 등)인 경우가 많으며, 응집부 엘리먼트의 구체적인 형상으로서는, 예를 들어 도트상[원기둥상, 사각기둥상(또는 직방체상) 등의 다각기둥상 등], 선상(직선적 또는 만곡하여 연장되는 벽상) 등일 수도 있다.In the present specification and claims, when an agglomerate is formed of a plurality of agglomerate elements that are the same or different in shape and/or direction (eg, a complex (or irregular) shape (eg, a plurality of agglomerate elements) For example, in the case of forming agglomerated portions in a lattice shape), the central portion of the complex-shaped aggregated portion is a central portion of at least one aggregated portion element selected from the aggregated portion elements (the center of the cross-sectional shape of the aggregated portion element or (In the case of a linear) center in the width direction]. The aggregation element element has a relatively simple cross-sectional shape (for example, the cross-sectional shape of the above example) in many cases, and as a specific shape of the aggregation element element, for example, a dot shape [cylindrical shape, a square column shape (or rectangular prism), etc.], linear (a wall shape extending linearly or curvedly), etc. may be sufficient.
대표적인 상기 복잡 형상의 응집부로서는, 예를 들어 단면 コ자상의 응집부[예를 들어, 서로 대향하는 한 쌍의 직방체상 엘리먼트(또는 소정 길이의 직선상 엘리먼트)와, 이들의 한쪽 단부에 각각 접속하고, 상기 한 쌍의 직방체상 엘리먼트가 대향하는 방향으로 연장되는 직방체상 엘리먼트로 형성된 응집부 등]; 단면 덤벨 형상의 응집부(예를 들어, 직방체상 엘리먼트와 이 엘리먼트의 양단에 접속하는 한 쌍의 원기둥상 엘리먼트로 형성된 응집부 등); 프레임상 응집부(예를 들어, 삼각 프레임상 응집부, 사각 프레임상 응집부 등의 소정 영역을 벽상의 응집부 엘리먼트로 구획한 응집부 등); 격자상 응집부(예를 들어, 소정 간격을 두고 서로 평행하게 연장되는 복수의 제1 직선상 엘리먼트와, 이 복수의 제1 직선상 엘리먼트와 소정 각도로 교차하는 동시에, 소정 간격을 두고 서로 평행하게 연장되는 복수의 제2 직선상 엘리먼트로 형성된 응집부; 허니콤상 또는 망목상 응집부 등) 등일 수도 있다.Representative examples of the complex-shaped aggregated portion include, for example, a U-shaped aggregate portion in a cross-section (for example, a pair of rectangular parallelepiped elements (or linear elements of a predetermined length) opposed to each other and connected to one end thereof, respectively. and an aggregation portion formed of the rectangular parallelepiped elements extending in opposite directions of the pair of rectangular parallelepiped elements, etc.]; a cross-section dumbbell-shaped agglomeration portion (eg, an aggregation portion formed of a rectangular parallelepiped element and a pair of cylindrical elements connected to both ends of the element, etc.); frame-like aggregation portions (eg, aggregation portions in which a predetermined region such as triangular frame-shaped aggregated portions and rectangular frame-shaped aggregated portions is partitioned by wall-shaped aggregated portion elements, etc.); A lattice-like aggregation portion (for example, a plurality of first linear elements extending parallel to each other at a predetermined distance and intersecting the plurality of first linear elements at a predetermined angle and parallel to each other at a predetermined interval It may be an aggregation part formed of a plurality of second linear elements extending; a honeycomb shape or a mesh-like aggregation part, etc.).
응집부에서는 유전체 필러가 응집되어 있기 때문에, 성형체에서 응집부는 유전체 필러의 기능을 발현시키는 영역으로서 기능한다. 때문에, 성형체에서 응집부는 용도나 목적에 따라 다양한 형상 및 구조로 형성되는데, 본 개시에서는 활성 에너지를 일부 영역에 부여하는 간편한 방법으로 복잡한 형상 및 구조이더라도 용이하게 형성할 수 있다.Since the dielectric filler is aggregated in the aggregated portion, the aggregated portion in the molded body functions as a region in which the function of the dielectric filler is expressed. Therefore, the agglomerated portion in the molded body is formed in various shapes and structures depending on the use or purpose. In the present disclosure, even a complex shape and structure can be easily formed by a simple method of applying active energy to a partial region.
응집부의 형상으로서는 특별히 한정되지 않으며, 예를 들어 선상, 기둥상(또는 봉상), 구상, 타원체상, 부정형상, 면상 등을 들 수 있다. 또한, 응집부의 형상은 상기 형상을 조합한 형상(예를 들어, 격자상 등)일 수도 있으며, 상기 단면 형상에 대응하는 형상일 수도 있다. 이들 형상 중, 선상, 기둥상(원기둥상, 각기둥상 등), 면상, 격자상 또는 이들 형상을 조합한 형상이 잘 이용된다.It does not specifically limit as a shape of an aggregation part, For example, linear shape, column shape (or rod shape), spherical shape, ellipsoid shape, an irregular shape, planar shape, etc. are mentioned. In addition, the shape of the agglomeration part may be a shape that combines the above shapes (eg, a lattice shape, etc.) or a shape corresponding to the above cross-sectional shape. Among these shapes, a linear shape, a columnar shape (a columnar shape, a prismatic shape, etc.), a planar shape, a lattice shape, or a shape combining these shapes is well used.
응집부의 형상은 상기 형상으로부터 선택할 수 있으나, 생산성이 높고, 대칭성 및 균질성에 의해 성형체의 기계적 특성도 향상시킬 수 있는 점에서, 패턴상(패턴 또는 패턴 형상)으로 형성되어 있을 수도 있다. 패턴 형상은 하나의 응집부(연속한 단일 응집부)가 형성할 수도 있고, 통상, 서로 분리된 복수의 응집부가 형성하는 경우가 많다. 패턴으로서는, 예를 들어 모양(기하학적 모양 등), 무늬, 기호(또는 마크), 문자, 그림, 이들의 2종 이상의 조합 등일 수도 있으며, 이러한 패턴 형상에 의해 성형체에 의장성을 부여할 수도 있다. 대표적인 패턴으로서는, 통상, 필름상 성형체의 평면에서의 패턴일 수도 있고, 예를 들어 규칙적 또는 불규칙적으로 배열된 도트상, 평행하게 또는 비평행하게 소정 간격(예를 들어, 등간격, 서로 상이한 간격 등)을 두고 배열된 직선 또는 곡선상(라인상), 격자상, 우물 정자상, 프레임상, 소용돌이상, 이들의 2종 이상의 조합 등을 들 수 있다. 규칙적 또는 불규칙적으로 배열된 도트상 응집부의 형상(또는 두께 방향으로 수직인 단면의 형상)으로서는, 정사각형상 등의 다각형상, 원상, 별 형상, 부정형상, 이들의 2종 이상의 조합 등을 들 수 있다.The shape of the agglomeration portion can be selected from the above shapes, but it may be formed in a pattern (pattern or pattern shape) from the viewpoint of high productivity and improving the mechanical properties of the molded article by symmetry and homogeneity. The pattern shape may be formed by one aggregated portion (continuous single aggregated portion), and usually a plurality of aggregated portions separated from each other are often formed. The pattern may be, for example, a pattern (geometric shape, etc.), a pattern, a symbol (or mark), a character, a picture, a combination of two or more thereof, or the like, and designability can be imparted to the molded body by such a pattern shape. As a typical pattern, it may be a pattern on the plane of a film-shaped molded object normally, for example, regular or irregularly arranged dot shape, parallel or non-parallel at predetermined intervals (for example, equal intervals, mutually different intervals, etc.) and a straight or curved shape (line shape), a grid shape, a well-defined shape, a frame shape, a vortex shape, and combinations of two or more thereof. Examples of the shape (or the shape of a cross-section perpendicular to the thickness direction) of regularly or irregularly arranged dot-like aggregates include a polygonal shape such as a square shape, a circular shape, a star shape, an irregular shape, a combination of two or more thereof, and the like. .
본 개시의 성형체는 연속한 단일 응집부(예를 들어, 격자상 패턴을 형성하는 응집부 등)를 가지고 있을 수도 있고, 서로 분리된 복수의 응집부를 가지고 있을 수도 있다. 이들 중, 응집부에 의한 기능에 이방성을 부여하기 쉬운 동시에, 유전체 필러의 비율을 저감하여 성형체의 기계적 특성을 향상시키는 관점에서, 복수의 응집부를 갖는 것이 바람직하다. 성형체가 복수의 응집부를 갖는 경우, 각 응집부의 형상은 동일한 형상일 수도 있고, 상이한 형상일 수도 있다. 본 개시에서는, 활성 에너지의 부여 영역(중합 영역 또는 경화 영역)에 대응하는 각종 형상의 마스크와, 소정 형상으로 수지를 성형하기 위한 삼차원상의 형을 조합하면, 다양한 형상의 응집부를 용이하게 형성할 수 있으며, 각 응집부의 형상이 상이한 성형체도 용이하게 형성할 수 있다. 생산성 등의 점에서는, 응집부의 형상이 대략 동일한 성형체가 바람직하다. 그 중에서도, 복수의 응집부가 패턴 형상을 형성하는 동시에, 상기 복수의 응집부 중 적어도 하나의 응집부가 두께 방향으로 연장되어 횡단(또는 관통)한 형태로 형성된 필름상 성형체(특히 유전 필름 또는 시트)일 수도 있다. 또한, 응집부(두께 방향의 양단부)는 시트상 성형체의 표면(특히, 표면 및 이면의 쌍방)에 노출되어 있을 수도 있다.The molded article of the present disclosure may have a single continuous agglomerated portion (eg, agglomerated portions forming a lattice pattern, etc.), or may have a plurality of agglomerated portions separated from each other. Among these, it is preferable to have a plurality of aggregated portions from the viewpoint of easily imparting anisotropy to the function of the aggregated portion and improving the mechanical properties of the molded article by reducing the ratio of the dielectric filler. When the molded article has a plurality of aggregated portions, the shape of each aggregated portion may be the same or different. In the present disclosure, by combining a mask of various shapes corresponding to the region to which active energy is applied (polymerization region or curing region) and a three-dimensional mold for molding a resin into a predetermined shape, it is possible to easily form agglomerate portions of various shapes. Also, a molded article having a different shape of each aggregation portion can be easily formed. From the viewpoint of productivity and the like, a molded article having substantially the same shape of the agglomerated portion is preferable. Among them, a plurality of aggregated portions form a pattern shape, and at least one aggregated portion of the plurality of aggregated portions extends in the thickness direction to cross (or penetrate) a film-like molded article (especially a dielectric film or sheet). may be In addition, the aggregation part (both ends in the thickness direction) may be exposed on the surface (particularly, both of the front surface and the back surface) of a sheet-like molded object.
아울러, 응집부의 폭이나 지름 등의 사이즈(또는 두께 방향에서 본 응집부의 형상에서의 최소폭)는 특별히 제한되지 않으며, 예를 들어 1 mm 이상일 수도 있으나, 본 개시에서는 비교적 작은 사이즈(예를 들어 1 mm 정도 이하)의 응집부를 형성할 수 있다. 때문에, 상기 응집부의 사이즈는 0.01~500 μm(예를 들어 0.1~300 μm) 정도의 범위로부터 선택할 수 있으며, 예를 들어 1~200 μm 이하, 바람직하게는 10~150 μm 정도일 수도 있다.In addition, the size (or the minimum width in the shape of the agglomerated part viewed in the thickness direction) such as the width or diameter of the agglomerated part is not particularly limited, and may be, for example, 1 mm or more, but in the present disclosure, a relatively small size (for example, 1 mm or less) can be formed. Therefore, the size of the aggregation portion may be selected from the range of about 0.01 to 500 μm (eg, 0.1 to 300 μm), for example, 1 to 200 μm or less, preferably about 10 to 150 μm.
본 개시의 성형체는 일차원상(예를 들어, 섬유상), 이차원상(예를 들어, 판상, 시트상, 필름상 등), 삼차원상 성형체 중 어느 형상일 수도 있다. 이들 중, 이차원상이 잘 이용된다.The molded object of the present disclosure may have any shape of a one-dimensional shape (eg, fibrous), a two-dimensional shape (eg, plate-like, sheet-like, film-like, etc.), and three-dimensional molded body. Among these, a two-dimensional image is well used.
이차원상 성형체의 두께(평균 두께)는, 예를 들어 0.1 μm~1 mm 정도의 범위로부터 선택할 수 있으며, 예를 들어 0.5~500 μm(예를 들어 1~100 μm), 바람직하게는 3~80 μm(예를 들어 5~50 μm), 더욱더 바람직하게는 8~45 μm(예를 들어 10~40 μm) 정도일 수도 있고, 그 중에서도, 자립막을 형성하는 경우에는, 예를 들어 5 μm 이상(예를 들어 10~100 μm), 바람직하게는 20 μm 이상(예를 들어 25~70 μm), 더욱더 바람직하게는 30~50 μm 정도일 수도 있다.The thickness (average thickness) of the two-dimensional molded body can be selected from, for example, a range of about 0.1 µm to 1 mm, for example, 0.5 to 500 µm (eg, 1 to 100 µm), preferably 3 to 80 µm. μm (for example, 5-50 μm), even more preferably about 8 to 45 μm (for example, 10-40 μm). For example, 10 to 100 μm), preferably 20 μm or more (eg, 25 to 70 μm), even more preferably about 30 to 50 μm.
[성형체의 제조 방법][Method for producing molded article]
본 개시의 성형체의 제조 방법은 수지 전구체 및 유전체 필러를 포함하는 액상 전구체의 일부 영역에 활성 에너지를 부여하여 상기 유전체 필러를 응집시키는 응집 공정을 포함한다. 응집 공정에서는, 일부 영역에 활성 에너지가 부여됨으로써, 수지 전구체가 중합하는 동시에, 성형체 내부에서 균일하게 분산되어 있던 유전체 필러는 이동하여 액상 전구체 내부의 일부 영역에 응집한다. 유전체 필러가 응집하는 상기 일부 영역은 활성 에너지가 부여되지 않은 영역(미중합 영역 또는 미노광 영역), 활성 에너지가 부여되어 있는 영역(중합 영역 또는 노광 영역) 중 어느 영역이다. 본 개시의 방법에서는, 배합의 조합이나 제조 조건(특히, 조합하는 수지와 유전체 필러의 종류)을 조정함으로써, 미중합 영역, 중합 영역 중 어느 쪽에 응집시킬 수 있다. 때문에, 목적의 응집 형태가 정해지면, 미리 활성 에너지의 부여에 의해, 미중합 영역, 중합 영역 중 어느 영역으로 유전체 필러가 이동하는 조건 또는 조합인지 확인한 후, 미중합 영역으로 이동하는 경우에는 목적의 응집 형태에 상당하는 영역 이외의 영역에 활성 에너지를 부여하고, 반대로 중합 영역으로 이동하는 경우에는 목적의 응집 형태에 상당하는 영역에 활성 에너지를 부여하는 것만으로 간단하게 목적의 패턴을 형성할 수 있다.The method for manufacturing a molded article of the present disclosure includes an aggregation process of aggregating the dielectric filler by applying active energy to a partial region of a liquid precursor including a resin precursor and a dielectric filler. In the aggregation step, when active energy is applied to a partial region, the resin precursor polymerizes, and the dielectric filler uniformly dispersed inside the molded body moves and aggregates in a partial region inside the liquid precursor. The partial region where the dielectric filler aggregates is either a region to which no active energy is applied (unpolymerized region or unexposed region) or a region to which active energy is applied (polymerized region or exposed region). In the method of the present disclosure, aggregation can be achieved in either of the unpolymerized region and the polymerized region by adjusting the combination of blending and manufacturing conditions (particularly, the type of resin and dielectric filler to be combined). Therefore, when the target aggregation form is determined, it is confirmed in advance whether the condition or combination for the dielectric filler to move to the non-polymerized region or the polymerized region by application of active energy, and then, when moving to the non-polymerized region, the target When the active energy is applied to a region other than the region corresponding to the aggregation form, and conversely, when moving to the polymerization region, the desired pattern can be formed simply by applying the active energy to the region corresponding to the desired aggregation form. .
본 개시에 있어서, 유전체 필러가 이러한 거동을 나타내는 상세한 메커니즘은 불분명하지만, 활성 에너지가 부여된 영역에서, 수지 전구체가 중합하여 수지가 생성됨에 따라, 수지 성분[수지 전구체 및 그 중합체(경화물)인 수지]과 유전체 필러의 친화성의 관계에 변화가 생기기 때문인 것으로 추정할 수 있다.In the present disclosure, although the detailed mechanism by which the dielectric filler exhibits this behavior is unclear, in the region to which the active energy is imparted, the resin precursor polymerizes to produce a resin, so that the resin component [resin precursor and its polymer (cured product)) It can be presumed that this is because there is a change in the affinity relationship between the resin] and the dielectric filler.
본 개시에서는, 이와 같이 응집부를 형성하기 때문에, 필러를 포함하는 수지 성형체에서 자주 보이는 보이드(수지/필러 계면에 생기는 보이드 등)의 발생을 억제할 수 있다. 또한, 중합 영역에 유전체 필러를 응집시킨 경우, 응집부의 두께는 비응집부의 두께보다 클 수도 있다.In the present disclosure, since the agglomerated portion is formed in this way, it is possible to suppress the occurrence of voids (voids generated at the resin/filler interface, etc.) frequently seen in the resin molded body containing the filler. Further, when the dielectric filler is aggregated in the polymerization region, the thickness of the aggregated portion may be greater than the thickness of the non-agglomerated portion.
응집 공정에서, 수지 전구체는 수지의 종류에 따라 선택할 수 있으며, 수지가 열가소성 수지인 경우, 중합성 화합물로서 열가소성 수지를 형성하기 위한 단량체(단관능 중합성 화합물)를 포함하고 있을 수도 있고, 수지가 경화성 수지의 경화물(3차원 망목상 구조를 갖는 경화물 등)인 경우, 다관능성 중합성 화합물을 포함하고 있을 수도 있다.In the aggregation process, the resin precursor can be selected according to the type of resin, and when the resin is a thermoplastic resin, it may contain a monomer (monofunctional polymerizable compound) for forming the thermoplastic resin as a polymerizable compound, and the resin In the case of a cured product of a curable resin (such as a cured product having a three-dimensional network structure), a polyfunctional polymerizable compound may be included.
액상 전구체는 용매(또는 분산매)를 포함하지 않을 수도 있으며, 필요에 따라, 상기 양이온 중합성 화합물 및 필러(및 필요에 따라 다른 첨가제)에 더하여, 액상 전구체의 점도를 저감하기 위해 용매를 더 포함하고 있을 수도 있다.The liquid precursor may not contain a solvent (or dispersion medium), and if necessary, in addition to the cationically polymerizable compound and filler (and other additives if necessary), a solvent is further included to reduce the viscosity of the liquid precursor, there may be
용매(또는 분산매)로서는, 예를 들어 케톤류(아세톤, 메틸 에틸 케톤, 메틸 이소부틸 케톤, 사이클로헥사논 등), 에테르류(디옥산, 테트라하이드로푸란 등), 지방족 탄화수소류(헥산 등), 지환식 탄화수소류(사이클로헥산 등), 방향족 탄화수소류(톨루엔, 크실렌 등), 할로겐화 탄소류(디클로로메탄, 디클로로에탄 등), 에스테르류(아세트산 메틸, 아세트산 에틸, 아세트산 n-부틸 등의 아세트산 에스테르류 등), 물, 알코올류(에탄올, 이소프로판올, 부탄올, 사이클로헥산올 등), 셀로솔브류[메틸 셀로솔브, 에틸 셀로솔브, 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르(1-메톡시-2-프로판올) 등], 셀로솔브 아세테이트류, 설폭사이드류(디메틸설폭사이드 등), 아미드류(디메틸포름아미드, 디메틸아세트아미드 등), 카보네이트류[예를 들어, 디메틸 카보네이트, 디에틸 카보네이트 등의 쇄상 카보네이트류, 에틸렌 카보네이트, 프로필렌 카보네이트(또는 탄산프로필렌) 등의 환상 카보네이트류 등] 등을 예시할 수 있다. 또한, 용매는 혼합 용매일 수도 있다. 이들 용매 중, 2-프로판올 등의 알코올류, 탄산프로필렌 등의 카보네이트류, 아세트산 n-부틸 등의 에스테르류 등이 잘 이용된다.As the solvent (or dispersion medium), for example, ketones (acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, etc.), ethers (dioxane, tetrahydrofuran, etc.), aliphatic hydrocarbons (hexane etc.), alicyclic Formula hydrocarbons (cyclohexane, etc.), aromatic hydrocarbons (toluene, xylene, etc.), halogenated carbons (dichloromethane, dichloroethane, etc.), esters (acetic acid esters such as methyl acetate, ethyl acetate, n-butyl acetate, etc.) ), water, alcohols (ethanol, isopropanol, butanol, cyclohexanol, etc.), cellosolves [methyl cellosolve, ethyl cellosolve, propylene glycol monomethyl ether (1-methoxy-2-propanol), etc.], cello Solve acetates, sulfoxides (dimethyl sulfoxide, etc.), amides (dimethylformamide, dimethyl acetamide, etc.), carbonates [eg, chain carbonates such as dimethyl carbonate and diethyl carbonate, ethylene carbonate, propylene cyclic carbonates, such as carbonate (or propylene carbonate)], etc. can be illustrated. In addition, the solvent may be a mixed solvent. Among these solvents, alcohols, such as 2-propanol, carbonates, such as propylene carbonate, esters, such as n-butyl acetate, etc. are used well.
용매의 20℃에서의 점도는, 예를 들어 0.5~100 mPa·s(예를 들어 0.6~50 mPa·s), 바람직하게는 0.5~20 mPa·s(예를 들어 0.7~10 mPa·s), 더욱더 바람직하게는 0.5~5 mPa·s(예를 들어 1~3 mPa·s) 정도일 수도 있다. 아울러, 점도는 관용의 점도계(단일 원통형 회전 점도계 등)를 이용하여 측정할 수 있다. 용매의 점도가 너무 높으면, 액상 전구체의 점도를 충분히 저감할 수 없게 될 우려가 있다.The viscosity of the solvent at 20°C is, for example, 0.5 to 100 mPa·s (eg, 0.6 to 50 mPa·s), preferably 0.5 to 20 mPa·s (eg, 0.7 to 10 mPa·s) , more preferably 0.5 to 5 mPa·s (eg, 1 to 3 mPa·s). In addition, the viscosity can be measured using a conventional viscometer (single cylindrical rotational viscometer, etc.). When the viscosity of the solvent is too high, there is a possibility that the viscosity of the liquid precursor cannot be sufficiently reduced.
용매를 포함하는 경우, 그 비율은 액상 전구체 100질량부에 대해, 예를 들어 300질량부 이하(예를 들어 1~200질량부), 바람직하게는 180질량부 이하(예를 들어 50~150질량부), 바람직하게는 130질량부 이하(예를 들어 80~120질량부) 정도이다. 용매의 양이 너무 적으면 액상 전구체의 점도를 충분히 저감할 수 없게 될 우려가 있으며, 너무 많으면 두께가 큰 성형체를 조제하기 어려워질 우려가 있다.When a solvent is included, the ratio is, for example, 300 mass parts or less (for example, 1-200 mass parts) with respect to 100 mass parts of liquid precursors, Preferably, 180 mass parts or less (for example, 50-150 mass parts) part), Preferably it is about 130 mass parts or less (for example, 80-120 mass parts). When there is too little quantity of a solvent, there exists a possibility that the viscosity of a liquid precursor may become unable to fully reduce, and when too large, there exists a possibility that it may become difficult to prepare a molded object with large thickness.
활성 에너지를 부여하기 위한 액상 전구체는 목적의 형상에 따라, 형 내에 충전할 수도 있고, 시트상 또는 필름상 성형체인 경우에는 도포할 수도 있다. 도포 방법으로서는, 관용의 방법, 예를 들어 롤 코터, 에어 나이프 코터, 블레이드 코터, 로드 코터, 리버스 코터, 바 코터, 콤마 코터, 딥·스퀴즈 코터, 다이 코터, 그라비아 코터, 마이크로 그라비아 코터, 실크 스크린 코터법, 딥법, 스프레이법, 스피너법 등을 들 수 있다.The liquid precursor for imparting active energy may be filled in a mold depending on the desired shape, or may be applied in the case of a sheet or film molded article. As the application method, a conventional method, for example, a roll coater, an air knife coater, a blade coater, a rod coater, a reverse coater, a bar coater, a comma coater, a dip squeeze coater, a die coater, a gravure coater, a micro gravure coater, a silk screen The coater method, the dip method, the spray method, the spinner method, etc. are mentioned.
활성 에너지로서는, 예를 들어 레이저 등에 의한 열에너지, 자외선이나 전자선 등의 활성 광선 등을 들 수 있다. 이들 중, 자외선이나 전자선 등의 활성 광선이 바람직하며, 취급성 등의 점에서 자외선이 특히 바람직하다.Examples of the active energy include thermal energy by a laser or the like, and active rays such as ultraviolet rays or electron beams. Among these, actinic rays, such as an ultraviolet-ray and an electron beam, are preferable, and an ultraviolet-ray is especially preferable from points, such as handleability.
활성 에너지의 부여 방법은 활성 에너지의 종류에 따라 에너지원(열원 또는 광원)을 선택할 수 있다. 활성 에너지가 자외선인 경우, 광원으로서는, 예를 들어 자외선인 경우에는 Deep UV 램프, 저압 수은 램프, 고압 수은 램프, 초고압 수은 램프, 할로겐 램프, 레이저 광원(헬륨-카드뮴 레이저, 엑시머 레이져 등의 광원) 등을 이용할 수 있다.In the method of imparting active energy, an energy source (heat source or light source) may be selected according to the type of active energy. When the active energy is ultraviolet light, as a light source, for example, in the case of ultraviolet light, a deep UV lamp, a low pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, an ultrahigh pressure mercury lamp, a halogen lamp, a laser light source (a helium-cadmium laser, a light source such as an excimer laser) etc. can be used.
활성 광선(광 에너지)으로서 자외광을 이용하는 경우, 그 조도는 중합성 화합물의 종류나 농도 등에 따라 적절히 선택할 수도 있으며, 파장 365 nm에서의 조도, 예를 들어 0.1~20 mW/cm2(예를 들어 1~18 mW/cm2), 바람직하게는 0.3~15 mW/cm2(예를 들어 5~12 mW/cm2), 더욱더 바람직하게는 0.6~10 mW/cm2(예를 들어 6~9.5mW/cm2) 정도일 수도 있다. 조사 시간은 조도에 따라 선택할 수도 있으며, 예를 들어 1~60분, 바람직하게는 3~25분, 더욱더 바람직하게는 5~15분 정도일 수도 있다.When ultraviolet light is used as actinic light (light energy), the illuminance may be appropriately selected depending on the type or concentration of the polymerizable compound, and the illuminance at a wavelength of 365 nm, for example, 0.1 to 20 mW/cm 2 (for example, For example 1-18 mW/cm 2 ), preferably 0.3-15 mW/cm 2 (eg 5-12 mW/cm 2 ), even more preferably 0.6-10 mW/cm 2 (eg 6- 9.5 mW/cm 2 ). The irradiation time may be selected according to the illuminance, for example, 1 to 60 minutes, preferably 3 to 25 minutes, still more preferably about 5 to 15 minutes.
응집 공정에서는, 액상 전구체의 일부 영역에 활성 에너지를 부여함으로써, 부여한 영역의 수지 전구체의 중합을 개시할 수 있는 동시에, 활성 에너지를 부여하지 않은 부분 또는 부여한 부분으로 유전체 필러가 이동함으로써, 응집부와 비응집부를 형성할 수 있다. 본 공정에서 수지 전구체의 중합은 완결해 있을 수도 있고, 후술하는 중합 공정에서 중합을 완결시킬 수도 있다.In the aggregation step, by applying active energy to a partial region of the liquid precursor, polymerization of the resin precursor in the given region can be started, and at the same time, the dielectric filler moves to the part to which the active energy is not applied or to the part to which the aggregation part is formed. A non-agglomerated portion may be formed. In this step, polymerization of the resin precursor may be completed, or polymerization may be completed in a polymerization step to be described later.
액상 전구체(또는 A스테이지상 전구체)의 일부 영역에 활성 에너지를 부여하는 방법으로서는, 활성 에너지의 종류에 따라 적절히 선택할 수 있으며, 예를 들어 열에너지인 경우, 일부 영역에 레이저광 등을 조사할 수도 있고, 자외선이나 전자선 등의 활성 광선인 경우, 미경화 영역(또는 미중합 영역)에의 활성 광선을 차광할 수 있는 영역을 갖는 포토마스크를 이용하여, 일부 영역(경화 영역 또는 중합 영역)에 활성 광선을 조사할 수도 있다.As a method of imparting active energy to a partial region of the liquid precursor (or A-stage precursor), it can be appropriately selected depending on the type of activation energy, for example, in the case of thermal energy, laser light or the like may be irradiated to a partial region. , in the case of actinic rays such as ultraviolet rays or electron beams, by using a photomask having a region that can block the actinic rays in the uncured region (or unpolymerized region) may investigate.
시트상 성형체를 형성하는 경우, 응집 공정에서, 도막 등의 평면상의 액상 전구체에 대해 소정 각도로 기울어진 방향으로 활성 에너지를 부여(또는 조사)할 수도 있으나, 통상, 평면상의 액상 전구체에 대해 대략 수직인 방향으로 조사하는 것이 바람직하다. 대략 수직으로 조사함으로써, 시트상 성형체의 두께 방향으로 유전체 필러를 응집 또는 배향(규칙적으로 또는 랜덤으로 배향)시켜, 두께 방향(조사 방향)으로 연장되어 형성되고, 유전체 필러가 횡단 또는 관통한 형태(또는 표면에서 유전체 필러가 노출된 형태)의 응집부를 용이하게 형성할 수 있다.In the case of forming a sheet-like molded body, active energy may be applied (or irradiated) in a direction inclined at a predetermined angle with respect to a flat liquid precursor such as a coating film in the agglomeration step, but in general, it is approximately perpendicular to the flat liquid precursor. It is preferable to irradiate in the phosphorus direction. By irradiating approximately vertically, the dielectric fillers are aggregated or oriented (regularly or randomly oriented) in the thickness direction of the sheet-like molded article to extend in the thickness direction (irradiation direction), and the dielectric fillers cross or penetrate ( Alternatively, it is possible to easily form agglomerates in the form in which the dielectric filler is exposed on the surface.
본 개시의 성형체의 제조 방법은 상기 응집 공정에 더하여, 응집 공정을 거친 전구 성형체(반고체상 전구 성형체 또는 고체상 전구 성형체, 혹은 B스테이지상 전구 성형체)의 활성 에너지를 부여하지 않은 영역(미경화 영역 또는 미중합 영역)에 활성 에너지를 부여하여 중합을 완결시키는 중합 완결 공정을 더 포함하는 것이 바람직하다. 중합 완결 공정을 거침으로써, 활성 에너지를 부여하지 않은 영역의 수지 전구체도 중합하여 수지를 형성할 수 있다.In the method for producing a molded body of the present disclosure, in addition to the aggregation step, the region (uncured region or It is preferable to further include a polymerization completion step of completing polymerization by imparting active energy to the unpolymerized region). By passing through the polymerization completion step, the resin precursor in the region to which no active energy is applied can also be polymerized to form a resin.
중합 완결 공정에서 활성 에너지를 부여하는 영역은 응집 공정에서 활성화 에너지를 부여하지 않은 영역을 포함하는 영역이면 무방하나, 간편하게 조작할 수 있고, 생산성이 우수할 뿐만 아니라, 중합을 더 진행시켜 성형체의 기계적 특성을 향상시킬 수 있는 점에서, 전체 영역에 활성 에너지를 부여하는 방법이 바람직하다.The region to which the activation energy is applied in the polymerization completion process may be any region including the region to which the activation energy is not applied in the aggregation process, but it can be easily manipulated, has excellent productivity, and the polymerization proceeds further to improve the mechanical properties of the molded body. From the viewpoint of improving the properties, a method in which active energy is applied to the entire area is preferred.
활성 에너지로서는 응집 공정과 동일한 활성 에너지를 이용할 수도 있으며, 통상, 활성 에너지를 부여하는 조건을 강해지는 방향으로 변경할 수도 있다. 또한, 조도를 단계적으로 올려 조사할 수도 있다. 활성 광선(광 에너지)을 이용하는 경우, 조사 시간이 너무 길면 생산성이 저하될 우려가 있다.As the active energy, the same active energy as in the aggregation step may be used, and the conditions for applying the active energy may be usually changed in a direction to become stronger. In addition, it is also possible to irradiate by increasing the illuminance step by step. When using actinic light (light energy), there exists a possibility that productivity may fall when irradiation time is too long.
또한, 수지가 양이온 중합성 화합물인 형태에서는, 중합 완결 공정에서 열에너지를 부여(또는 어닐링 처리)함으로써, 양이온 중합성 화합물의 암반응(후중합)을 이용하여 중합을 완결시킬 수도 있다. 어닐링 온도로서는, 예를 들어 50~200℃(예를 들어 70~180℃), 바람직하게는 80~150℃(예를 들어 90~130℃), 더욱더 바람직하게는 100~120℃ 정도일 수도 있다. 가열 시간으로서는, 예를 들어 10~120분, 바람직하게는 30~60분 정도일 수도 있다.In addition, in the form in which the resin is a cationically polymerizable compound, by applying heat energy (or annealing treatment) in the polymerization completion step, polymerization can be completed using a dark reaction (post polymerization) of the cationically polymerizable compound. As annealing temperature, it is 50-200 degreeC (for example, 70-180 degreeC), for example, Preferably it is 80-150 degreeC (for example, 90-130 degreeC), More preferably, it may be about 100-120 degreeC. The heating time may be, for example, 10 to 120 minutes, preferably about 30 to 60 minutes.
아울러, 본 개시에서는 액상 전구체를 소정 기재에 도포 등의 방법으로 접촉시킨 상태에서 상기 성형체를 성형함으로써, 상기 기재와 성형체가 접합한 접합체(복합 성형체)를 형성할 수도 있다.In addition, in the present disclosure, a bonded body (composite molded body) in which the substrate and the molded body are joined may be formed by molding the molded body in a state in which the liquid precursor is brought into contact with a predetermined substrate by a method such as coating.
기재의 재질은 특별히 제한되지 않으며, 유기 재료 또는 무기 재료 중 어느 것일 수도 있다.The material of the base material is not particularly limited, and either an organic material or an inorganic material may be used.
유기 재료로서는, 예를 들어 수지[예를 들어, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌 등의 올레핀계 수지, ABS 수지 등의 스티렌계 수지, 염화비닐 수지 등의 비닐계 수지, 폴리메틸 메타크릴레이트 등의 (메타)아크릴계 수지, 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET) 등의 폴리에스테르계 수지, 폴리카보네이트계 수지, 폴리아미드계 수지, 폴리이미드계 수지, 셀룰로오스 에스테르, 셀룰로오스 에테르 등의 셀룰로오스 유도체, 열가소성 엘라스토머 등]; 합성 고무 재료(이소프렌 고무, 부틸 고무 등); 수지 또는 고무의 발포체(예를 들어, 발포 폴리우레탄, 발포 폴리클로로프렌 고무 등); 식물 또는 동물 유래의 재료(목재, 펄프, 천연 고무, 피혁, 모사 등) 등을 들 수 있다.Examples of the organic material include resins [eg, olefin resins such as polyethylene and polypropylene, styrene resins such as ABS resins, vinyl resins such as vinyl chloride resin, (meth) such as polymethyl methacrylate) acrylic resins, polyester resins such as polyethylene terephthalate (PET), polycarbonate resins, polyamide resins, polyimide resins, cellulose derivatives such as cellulose esters and cellulose ethers, thermoplastic elastomers, etc.]; synthetic rubber materials (isoprene rubber, butyl rubber, etc.); foams of resins or rubbers (eg, polyurethane foam, polychloroprene rubber, etc.); Plant or animal-derived materials (wood, pulp, natural rubber, leather, wool, etc.) etc. are mentioned.
무기 재료로서는, 예를 들어 세라믹(유리, 실리콘, 시멘트 등); 금속[예를 들어, 금속 단체(알루미늄, 철, 니켈, 구리, 아연, 크롬, 티탄 등), 이들 금속을 포함하는 합금(알루미늄 합금, 강(스테인리스강 등) 등) 등] 등을 들 수 있다.Examples of the inorganic material include ceramics (glass, silicon, cement, etc.); metals [for example, simple metals (aluminum, iron, nickel, copper, zinc, chromium, titanium, etc.), alloys containing these metals (aluminum alloy, steel (stainless steel, etc.), etc.), etc. are mentioned. .
이들 재질 중, 수지(예를 들어, 폴리에스테르계 수지, 폴리이미드 수지 등, 바람직하게는 폴리이미드 수지 등), 세라믹(유리 등), 금속(구리 등)이 잘 이용된다.Among these materials, resins (for example, polyester resins, polyimide resins, etc., preferably polyimide resins etc.), ceramics (glass etc.), and metals (copper etc.) are well used.
또한, 기재의 형태(형상)는 특별히 제한되지 않으며, 예를 들어 섬유상(사상(絲狀), 로프상, 와이어상 등) 등의 일차원 형상, 판상, 시트상, 필름상, 박상(箔狀), 포(布) 또는 클로스(cloth)상(직포, 편포(編布), 부직포 등), 종이상(상질지, 글라신지, 크라프트지, 화지(Japanese paper) 등) 등의 이차원 형상, 괴상, 블록상, 봉상(원기둥상, 다각기둥상 등), 관상 등의 3차원 형상 등을 들 수 있다.In addition, the form (shape) of a base material is not restrict|limited in particular, For example, one-dimensional shape, such as fibrous form (filament form, rope form, wire form, etc.), plate form, sheet form, film form, foil form , two-dimensional shapes such as cloth or cloth (woven fabric, knitted fabric, non-woven fabric, etc.), paper-like (fine paper, glassine paper, kraft paper, Japanese paper, etc.), Three-dimensional shapes, such as block shape, rod shape (cylindrical shape, polygonal pillar shape, etc.), and a tubular shape, etc. are mentioned.
이들 형태 중, 판상, 시트상, 필름상, 박상 등의 2차원 형상인 경우가 많다.Two-dimensional shapes, such as a plate shape, a sheet shape, a film shape, and foil shape, among these forms in many cases.
아울러, 본 명세서에 개시된 각각의 태양은 본 명세서에 개시된 다른 어떠한 특징과도 조합할 수 있다.In addition, each aspect disclosed herein may be combined with any other feature disclosed herein.
실시예Example
이하에 실시예를 기초로 본 발명을 보다 상세하게 설명하지만, 본 발명이 이들 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다. 이용한 원료는 이하와 같으며, 얻어진 적층체를 이하의 방법으로 평가했다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail based on Examples, but the present invention is not limited by these Examples. The raw material used was as follows, and the following method evaluated the obtained laminated body.
[원료][Raw material]
(양이온 중합성 화합물)(cationically polymerizable compound)
NPG: 네오펜틸 글리콜 디글리시딜 에테르, 욧카이치고세이 가부시키가이샤(Yokkaichi Chemical Co.,Ltd.) 제품 「에포고세이(EPOGOSEY, 등록 상표) NPG(D)」, 점도 8 mPa·s(25℃, 카탈로그값)NPG: neopentyl glycol diglycidyl ether, Yokkaichi Chemical Co., Ltd. "EPOGOSEY (registered trademark) NPG(D)", viscosity 8 mPa·s ( 25℃, catalog value)
EP1: CEL2021P: 3, 4-에폭시사이클로헥실메틸(3, 4-에폭시)사이클로헥산 카복실레이트, 가부시키가이샤 다이셀 제품 「셀록사이드(CELLOXIDE) 2021P」, 점도 240 mPa·s(25℃)EP1: CEL2021P: 3,4-epoxycyclohexylmethyl (3,4-epoxy) cyclohexane carboxylate, Daicel Co., Ltd. "CELLOXIDE 2021P", viscosity 240 mPa·s (25°C)
EP2: (3, 4, 3', 4'-디에폭시)비사이클로헥실, 점도 60 mPa·s(25℃)EP2: (3, 4, 3', 4'-diepoxy)bicyclohexyl, viscosity 60 mPa s (25° C.)
(유전체 필러)(dielectric filler)
BaTiO3: 티탄산바륨 미립자, 간토카가쿠 가부시키가이샤 제품, particle size 약 100 nmBaTiO 3 : Barium titanate fine particles, Kanto Chemical Co., Ltd., particle size about 100 nm
(개시제)(initiator)
CPI-100P: 광양이온 중합 개시제, 산아프로 가부시키가이샤 제품 「CPI(등록 상표)-100P」.CPI-100P: A photocationic polymerization initiator, "CPI (registered trademark)-100P" manufactured by San Apro Corporation.
[사용한 지그 및 장치][Used jigs and devices]
(기재)(write)
미처리 유리: 두께 1 mm, 마츠나미가라스코교 가부시키가이샤(Matsunami Glass Ind.,Ltd.) 제품 「S9112」.Untreated glass: 1 mm thick, "S9112" manufactured by Matsunami Glass Ind., Ltd.
(마스크)(mask)
도 3~4에 나타내는 패턴 형상을 갖는 이하의 포토마스크(No. 1~7)The following photomasks (No. 1-7) which have the pattern shape shown in FIGS.
No. 1: 스퀘어 또는 스퀘어 도트, 250 μmХ250 μm 사이즈의 정사각형상 차광부가 250 μm 간격으로 종횡으로 규칙적으로 배열된 포토마스크(도쿄프로세스서비스 가부시키가이샤(Tokyo Process Service Co., Ltd.) 제품 5인치 유리 마스크)No. 1: Square or square dot, 250 μmХ250 μm square-shaped light-shielding parts regularly arranged vertically and horizontally at 250 μm intervals (5-inch glass mask manufactured by Tokyo Process Service Co., Ltd.) )
No. 2: 스퀘어 또는 스퀘어 도트, 50 μmХ50 μm 사이즈의 정사각형상 차광부가 150 μm 간격으로 종횡으로 규칙적으로 배열된 포토마스크(도쿄프로세스서비스 가부시키가이샤 제품 5인치 유리 마스크)No. 2: A photomask with square or square dots, a 50 μmХ50 μm square-shaped light-shielding part regularly arranged vertically and horizontally at 150 μm intervals (5-inch glass mask manufactured by Tokyo Process Services Co., Ltd.)
No. 3: 스퀘어 또는 스퀘어 도트, 100 μmХ100 μm 사이즈의 정사각형상 차광부가 100 μm 간격으로 종횡으로 규칙적으로 배열된 포토마스크(도쿄프로세스서비스 가부시키가이샤 제품 5인치 유리 마스크)No. 3: Photomask with square or square dots, 100 μmХ100 μm square-shaped light-shielding parts arranged vertically and horizontally at intervals of 100 μm (5-inch glass mask manufactured by Tokyo Process Services Co., Ltd.)
No. 4: 스퀘어 또는 스퀘어 도트, 50 μmХ50 μm 사이즈의 정사각형상 차광부가 50 μm 간격으로 종횡으로 규칙적으로 배열된 포토마스크(도쿄프로세스서비스 가부시키가이샤 제품 5인치 유리 마스크)No. 4: Photomask with square or square dots, square-shaped light-shielding portions of 50 μmХ50 μm in size are regularly arranged vertically and horizontally at intervals of 50 μm (5-inch glass mask manufactured by Tokyo Process Services Co., Ltd.)
No. 5: 라인 또는 라인 앤드 스페이스(L/S), 폭 100 μm의 라인상 차광부가 100 μm 간격으로 규칙적으로 배열된 포토마스크(도쿄프로세스서비스 가부시키가이샤 제품 5인치 유리 마스크)No. 5: Line or line and space (L/S), a photomask with 100 μm wide line-shaped light blocking portions regularly arranged at intervals of 100 μm (5-inch glass mask manufactured by Tokyo Process Services Co., Ltd.)
No. 6: 격자상, 100 μmХ100 μm사이즈의 정사각형상 투광부가 100 μm 간격으로 종횡으로 규칙적으로 배열된 포토마스크(도쿄프로세스서비스 가부시키가이샤 제품 5인치 유리 마스크)No. 6: Photomask with grid-like, 100 μmХ100 μm square transmissive parts arranged vertically and horizontally at intervals of 100 μm (5-inch glass mask manufactured by Tokyo Process Services Co., Ltd.)
No. 7: 스퀘어 또는 스퀘어 도트, 100 μmХ100 μm사이즈의 정사각형상 차광부가 바둑판 모양상으로 규칙적으로 배열된 포토마스크(도쿄프로세스서비스 가부시키가이샤 제품 5인치 유리 마스크).No. 7: A photomask (5-inch glass mask manufactured by Tokyo Process Services Co., Ltd.) in which square or square dots, 100 μmХ100 μm square-shaped light-shielding portions are regularly arranged in a checkerboard shape.
(장치)(Device)
바 코터: 다이이치리카 가부시키가이샤(Daiichirika Co., Ltd,) 제품 8 φХ300 mmBar coater: Daiichirika Co., Ltd. 8 φХ300 mm
스팟 UV 장치: 하마마츠포토닉스 가부시키가이샤(Hamamatsu Photonics K.K.) 제품 「LC8」Spot UV device: “LC8” manufactured by Hamamatsu Photonics K.K.
디지털 마이크로스코프: 가부시키가이샤 하이록스(Hirox Co., Ltd.) 제품 「KH-8700」Digital microscope: "KH-8700" manufactured by Hirox Co., Ltd.
[평가 방법][Assessment Methods]
(경화성)(curable)
이하의 기준에 따라 얻어진 필름의 경화성을 평가했다.The following criteria evaluated sclerosis|hardenability of the obtained film.
○··· UV 조사(2 또는 3단째) 후 전체 경화○·· Full curing after UV irradiation (2nd or 3rd layer)
△··· UV 조사(2 또는 3단째) 후에 완전히는 경화하지 않고, 어닐링 후 전체 경화△... Not completely cured after UV irradiation (2nd or 3rd stage), but fully cured after annealing
Х··· 어닐링 후에도 전체 경화하지 않음.Х·· Not fully hardened even after annealing.
(필러 제어성)(Filler controllability)
디지털 마이크로스코프에 의한 CCD 관찰상으로부터, 얻어진 필름에서의 유전체 필러의 제어성에 대해 이하의 기준에 따라 상대적으로 평가했다.From the CCD observation image with a digital microscope, the controllability of the dielectric filler in the obtained film was evaluated relatively according to the following criteria.
◎··· 비응집부에의 필러 잔류량 소◎··· Small amount of filler remaining in the non-agglomerated part
○··· 비응집부에의 필러 잔류량 중○·· Among the remaining amount of filler in the non-agglomerated part
△··· 비응집부에의 필러 잔류량 대△... Residual amount of filler in non-agglomerated areas vs.
Х··· 마스크 패턴의 전사 없음.Х··· No transfer of mask pattern.
(유전율)(permittivity)
전처리 공정으로서, 유전율을 측정하는 필름에 이온 스퍼터링 장치(가부시키가이샤 히타치하이테크(Hitachi High-Tech Corporation) 제품 「MC1000」)로 중심이 동일해지도록 양면에 직경 40 mm의 원 형상으로 백금을 증착시켰다. 전처리한 필름에 대해, 이하의 조건으로 유전율(비유전율)을 측정하고, 대응하는 비교예에 대한 상대값을 증가도로 했다.As a pretreatment step, platinum was deposited in a circular shape with a diameter of 40 mm on both sides so that the center was the same on the film for which the dielectric constant was measured with an ion sputtering device (“MC1000” manufactured by Hitachi High-Tech Corporation). . With respect to the pretreated film, the dielectric constant (relative dielectric constant) was measured under the following conditions, and the relative value with respect to the corresponding comparative example was made into the increase degree.
규격: JIS C2138에 준거Standard: Conforms to JIS C2138
유전율 측정 장치: Cencept42(Novocontrol Technologies사 제품)Permittivity measuring device: Cencept42 (manufactured by Novocontrol Technologies)
온습도: 23℃, 50% RHTemperature and Humidity: 23℃, 50% RH
전극 형상: 가이드 링 없는 원형 전극(직경 40 mm)Electrode shape: Circular electrode without guide ring (diameter 40 mm)
전극 배치: 시험편의 중심과 전극의 중심을 맞추어 배치Electrode arrangement: Align the center of the test piece with the center of the electrode
시험 전압: 1.0 VTest voltage: 1.0 V
시험 주파수: 10 Hz~1 MHz.Test frequency: 10 Hz to 1 MHz.
(유연성)(flexibility)
얻어진 코팅층을 갖는 필름을 직경 5 mm의 유리봉에 감고, 유연성을 평가하여 갈라지지 않은 것을 「○」로 했다.The film having the obtained coating layer was wound around a glass rod having a diameter of 5 mm, the flexibility was evaluated, and the unbreakable film was designated as "○".
[비교예 1~2][Comparative Examples 1-2]
표 1에 기재한 비율로 각 성분을 혼합 교반하여, 양이온 중합성 화합물, 유전체 필러 및 개시제를 포함하는 액상 전구체를 조제했다. 조제한 액상 전구체를 바 코터를 이용해 유리 기재 위에 도공하여, 도막을 형성했다. 얻어진 도막에 대해, 스팟 UV 장치를 이용하여 표 1에 기재한 조건(조도, 조사 시간)으로, 마스크를 개재하지 않고 자외광(파장 365 nm)을 조사한 후, 다시 조도를 올려 마스크를 개재하지 않고 자외광을 조사하여, 표 1에 기재한 막 두께의 코팅층을 갖는 필름을 조제했다.Each component was mixed and stirred at the ratios shown in Table 1 to prepare a liquid precursor containing a cationically polymerizable compound, a dielectric filler, and an initiator. The prepared liquid precursor was coated on a glass substrate using a bar coater to form a coating film. The obtained coating film was irradiated with ultraviolet light (wavelength 365 nm) without intervening a mask under the conditions (illuminance, irradiation time) described in Table 1 using a spot UV device, and then increased the illuminance again without interposing a mask. Ultraviolet light was irradiated, and the film which has a coating layer of the film thickness described in Table 1 was prepared.
[실시예 1~4][Examples 1-4]
표 1에 기재한 비율로 각 성분을 혼합 교반하여, 양이온 중합성 화합물, 유전체 필러 및 개시제를 포함하는 액상 전구체를 조제했다. 조제한 액상 전구체를 바 코터를 이용해 유리 기재 위에 도공하여, 도막을 형성했다. 얻어진 도막에 대해, 스팟 UV 장치를 이용하여 표 1에 기재한 조건(조도, 조사 시간)으로, 마스크를 개재하여 자외광(파장 365 nm)을 조사한 후(1단째), 이어서 마스크를 개재하지 않고 자외광을 신속하게 조사하여(2단째), 표 1에 기재한 막 두께의 코팅층을 갖는 필름을 조제했다.Each component was mixed and stirred at the ratios shown in Table 1 to prepare a liquid precursor containing a cationically polymerizable compound, a dielectric filler, and an initiator. The prepared liquid precursor was coated on a glass substrate using a bar coater to form a coating film. The obtained coating film was irradiated with ultraviolet light (wavelength 365 nm) through a mask under the conditions (illuminance, irradiation time) described in Table 1 using a spot UV apparatus (1st stage), and then without interposing a mask The ultraviolet light was rapidly irradiated (2nd stage|paragraph), and the film which has a coating layer of the film thickness shown in Table 1 was prepared.
[실시예 5~18][Examples 5-18]
표 1에 기재한 비율로 각 성분을 혼합 교반하여, 양이온 중합성 화합물, 유전체 필러 및 개시제를 포함하는 액상 전구체를 조제했다. 조제한 액상 전구체를 바 코터를 이용해 유리 기재 위에 도공하여, 도막을 형성했다. 얻어진 도막에 대해, 스팟 UV 장치를 이용하여 표 1에 기재한 조건(조도, 조사 시간)으로, 마스크를 개재하여 자외광(파장 365 nm)을 조사한 후(1단째), 이어서 마스크를 개재하지 않고 자외광을 신속하게 조사하고(2단째), 다시 조도를 올려 마스크를 개재하지 않고 자외광을 조사하여(3단째), 표 1에 기재한 막 두께의 코팅층을 갖는 필름을 조제했다.Each component was mixed and stirred at the ratios shown in Table 1 to prepare a liquid precursor containing a cationically polymerizable compound, a dielectric filler, and an initiator. The prepared liquid precursor was coated on a glass substrate using a bar coater to form a coating film. The obtained coating film was irradiated with ultraviolet light (wavelength 365 nm) through a mask under the conditions (illuminance, irradiation time) described in Table 1 using a spot UV apparatus (1st stage), and then without interposing a mask UV light was rapidly irradiated (2nd stage), the illuminance was raised again, and ultraviolet light was irradiated without interposing a mask (3rd stage), and the film which has the coating layer of the film thickness shown in Table 1 was prepared.
비교예 1~2 및 실시예 1~18에서 얻어진 필름의 평가 결과를 표 1에 나타낸다.Table 1 shows the evaluation results of the films obtained in Comparative Examples 1-2 and Examples 1-18.
또한, 얻어진 필름의 CCD 사진을 도 5~24에 나타낸다. 아울러, 표면 관찰상에서는, 투과광에 의한 관찰 때문에 필러 응집부는 흑색(암색)으로 나타난다.In addition, the CCD photograph of the obtained film is shown to FIGS. 5-24. In addition, on the surface observation image, the filler aggregation part appears black (dark color) because of observation by transmitted light.
표 1의 결과로부터 분명한 바와 같이, 실시예의 필름은 경화성이 우수하고, 유전체 필러도 충분히 제어되고 있었다.As is clear from the results in Table 1, the films of Examples were excellent in curability, and the dielectric filler was also sufficiently controlled.
[비교예 3][Comparative Example 3]
표 2에 기재한 비율로 각 성분을 혼합 교반하여, 양이온 중합성 화합물 및 개시제를 포함하는 액상 전구체를 조제했다. 조제한 액상 전구체를 바 코터를 이용해 유리 기재 위에 도공하여, 도막을 형성했다. 얻어진 도막에 대해, 스팟 UV 장치를 이용하여 표 2에 기재한 조건(조도, 조사 시간)으로, 마스크를 개재하지 않고 자외광(파장 365 nm)을 조사하여, 표 2에 기재한 막 두께의 코팅층을 갖는 필름을 조제했다.Each component was mixed and stirred in the ratio shown in Table 2, and the liquid precursor containing a cationically polymerizable compound and an initiator was prepared. The prepared liquid precursor was coated on a glass substrate using a bar coater to form a coating film. The obtained coating film was irradiated with ultraviolet light (wavelength 365 nm) without a mask under the conditions (illuminance, irradiation time) shown in Table 2 using a spot UV device, and a coating layer having the thickness shown in Table 2 A film with
[비교예 4~7][Comparative Examples 4 to 7]
표 2에 기재한 비율로 각 성분을 혼합 교반하여, 양이온 중합성 화합물, 유전체 필러 및 개시제를 포함하는 액상 전구체를 조제했다. 조제한 액상 전구체를 바 코터를 이용해 유리 기재 위에 도공하여, 도막을 형성했다. 얻어진 도막에 대해, 스팟 UV 장치를 이용하여 표 2에 기재한 조건(조도, 조사 시간)으로, 마스크를 개재하지 않고 자외광(파장 365 nm)을 조사한 후, 다시 조도를 올려 마스크를 개재하지 않고 자외광을 조사하여, 표 2에 기재한 막 두께의 코팅층을 갖는 필름을 조제했다.Each component was mixed and stirred at the ratios shown in Table 2 to prepare a liquid precursor containing a cationically polymerizable compound, a dielectric filler, and an initiator. The prepared liquid precursor was coated on a glass substrate using a bar coater to form a coating film. The obtained coating film was irradiated with ultraviolet light (wavelength 365 nm) without intervening a mask under the conditions (illuminance, irradiation time) described in Table 2 using a spot UV device, and then raising the illuminance again without interposing a mask Ultraviolet light was irradiated, and the film which has a coating layer of the film thickness shown in Table 2 was prepared.
[실시예 19~29][Examples 19-29]
표 2에 기재한 비율로 각 성분을 혼합 교반하여, 양이온 중합성 화합물, 유전체 필러 및 개시제를 포함하는 액상 전구체를 조제했다. 조제한 액상 전구체를 바 코터를 이용해 유리 기재 위에 도공하여, 도막을 형성했다. 얻어진 도막에 대해, 스팟 UV 장치를 이용하여 표 2에 기재한 조건(조도, 조사 시간)으로, 마스크를 개재하여 자외광(파장 365 nm)을 조사한 후(1단째), 이어서 마스크를 개재하지 않고 자외광을 신속하게 조사하고(2단째), 다시 조도를 올려 마스크를 개재하지 않고 자외광을 조사하여(3단째), 표 2에 기재한 막 두께의 코팅층을 갖는 필름을 조제했다.Each component was mixed and stirred at the ratios shown in Table 2 to prepare a liquid precursor containing a cationically polymerizable compound, a dielectric filler, and an initiator. The prepared liquid precursor was coated on a glass substrate using a bar coater to form a coating film. The obtained coating film was irradiated with ultraviolet light (wavelength 365 nm) through a mask under the conditions (illuminance, irradiation time) described in Table 2 using a spot UV apparatus (1st stage), and then without interposing a mask UV light was rapidly irradiated (2nd stage), the illuminance was raised again, and ultraviolet light was irradiated without interposing a mask (3rd stage), and the film which has a coating layer of the film thickness shown in Table 2 was prepared.
비교예 3~7 및 실시예 19~29에서 얻어진 필름의 평가 결과를 표 2에 나타낸다. 또한, 얻어진 필름의 CCD 사진을 도 25~39에 나타낸다.Table 2 shows the evaluation results of the films obtained in Comparative Examples 3 to 7 and Examples 19 to 29. Moreover, the CCD photograph of the obtained film is shown to FIGS. 25-39.
표 2의 결과로부터 분명한 바와 같이, 실시예의 필름은 경화성이 우수하고, 유전체 필러도 충분히 제어되고, 유전율도 향상되었다. 비유전율에 대해서는 비교예에 대한 상대값을 나타내고 있는데, 실시예에서는 비교예보다 20% 이상이나 비유전율이 증가했다. 또한, 실시예에서 얻어진 유전체 필름은 직경 5 mm의 유리봉에 감아도 갈라지지 않고, 유연성이 우수했다.As is clear from the results in Table 2, the films of Examples were excellent in curability, the dielectric filler was sufficiently controlled, and the dielectric constant was improved. Although the relative value with respect to the comparative example is shown about the dielectric constant, in the Example, the dielectric constant increased by 20% or more compared with the comparative example. Further, the dielectric film obtained in Examples did not crack even when wound around a glass rod having a diameter of 5 mm, and was excellent in flexibility.
본 개시의 성형체는 각종 전기·전자 기기, 수송 기기 등에 이용되는 유전체로서 이용할 수 있으며, 특히 콘덴서(커패시터), 레지스터, 인덕터 등의 수동 소자 부품으로서 이용되는 유전체로서 아주 알맞다. 그 중에서도, 필름상 성형체는 유연성도 우수하기 때문에, 유전 필름(고유전율 절연 필름)으로서 아주 알맞으며, 가전 기기나 차량 탑재 전자 기기, 산업 기기, 파워 일렉트로닉스 기기 등의 필름 콘덴서로서 특히 아주 알맞다.The molded article of the present disclosure can be used as a dielectric used for various electric/electronic devices, transportation devices, and the like, and is particularly suitable as a dielectric used as a passive element component such as a capacitor (capacitor), a resistor, an inductor, and the like. Among them, the film-like molded article is also excellent in flexibility, so it is very suitable as a dielectric film (a high dielectric constant insulating film), and is particularly suitable as a film capacitor for household appliances, vehicle-mounted electronic equipment, industrial equipment, power electronics equipment, and the like.
1: 응집부
1a: 중앙역(중앙부, 중심부 근방 또는 제1 영역)
1b: 중간역(중간부, 중간 영역 또는 제2 영역)
1c: 주변역(주변부, 계면 근방 또는 제3 영역)
2: 비응집부
3: 계면
4: 응집부의 중심부1: agglomeration
1a: Central Station (central part, near central or first area)
1b: mid-region (middle, mid-region or second region)
1c: peripheral region (peripheral portion, near interface, or third region)
2: Non-agglomerate
3: interface
4: the center of the aggregation part
Claims (15)
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JPJP-P-2020-014057 | 2020-01-30 | ||
JP2020014057 | 2020-01-30 | ||
PCT/JP2021/000663 WO2021153213A1 (en) | 2020-01-30 | 2021-01-12 | Molded body, precursor thereof, methods for producing same, and uses thereof |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20220134586A true KR20220134586A (en) | 2022-10-05 |
Family
ID=77078800
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020227029418A Pending KR20220134586A (en) | 2020-01-30 | 2021-01-12 | Molded article and its precursor, manufacturing method and use |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7628510B2 (en) |
KR (1) | KR20220134586A (en) |
CN (1) | CN114829505B (en) |
WO (1) | WO2021153213A1 (en) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN116292717A (en) * | 2023-03-27 | 2023-06-23 | 东南大学深圳研究院 | Geometric locking type honeycomb structure, energy consumption device and anti-collision device |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018006052A (en) | 2016-06-29 | 2018-01-11 | 株式会社豊田中央研究所 | Dielectric composite material and production method thereof |
JP6264897B2 (en) | 2014-01-23 | 2018-01-24 | トヨタ自動車株式会社 | High dielectric constant film and film capacitor |
Family Cites Families (29)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3785012B2 (en) * | 1999-03-24 | 2006-06-14 | 富士通株式会社 | Photosensitive high dielectric composition, photosensitive high dielectric film pattern forming method comprising the composition, and capacitor built-in multilayer circuit board manufactured using the composition |
JP3974336B2 (en) * | 2001-03-01 | 2007-09-12 | ナブテスコ株式会社 | Active energy ray-curable resin composition for optical three-dimensional modeling |
KR100913879B1 (en) * | 2002-01-28 | 2009-08-26 | 제이에스알 가부시끼가이샤 | Composition for forming photosensitive dielectric, and transfer film, dielectric and electronic component using same |
JP2004172531A (en) * | 2002-11-22 | 2004-06-17 | Nippon Paint Co Ltd | Dielectric paste |
JP2004111400A (en) * | 2003-10-07 | 2004-04-08 | Hitachi Ltd | Thin film dielectric, multilayer wiring board using the same, and method of manufacturing the same |
JP2006004854A (en) * | 2004-06-21 | 2006-01-05 | Toray Ind Inc | Patterned dielectric composition and method for forming the same |
JP2006104302A (en) * | 2004-10-04 | 2006-04-20 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | Resin composition and application thereof |
CN101025567B (en) * | 2005-10-07 | 2011-12-14 | Jsr株式会社 | Radiation-sensitive resin composition, method for forming spacer and spacer |
JP5129935B2 (en) | 2006-06-13 | 2013-01-30 | 日東電工株式会社 | Sheet-like composite material and manufacturing method thereof |
KR20100090700A (en) * | 2007-10-26 | 2010-08-16 | 이 아이 듀폰 디 네모아 앤드 캄파니 | Asymmetric dielectric films |
KR20180081848A (en) * | 2010-04-14 | 2018-07-17 | 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 | Patterned gradient polymer film and method |
CN104102091B (en) * | 2013-04-10 | 2020-04-21 | 东京应化工业株式会社 | Composition for forming transparent insulating film |
CN103762078B (en) * | 2014-01-20 | 2017-02-01 | 中国科学院物理研究所 | Wide-temperature area tunable microwave device based on combined thin film |
JP6274039B2 (en) * | 2014-06-12 | 2018-02-07 | Jsr株式会社 | Radiation-sensitive resin composition, insulating film and display element |
EP2960280A1 (en) * | 2014-06-26 | 2015-12-30 | E.T.C. S.r.l. | Photocrosslinkable compositions, patterned high k thin film dielectrics and related devices |
JP6441657B2 (en) * | 2014-12-11 | 2018-12-19 | 京セラ株式会社 | Dielectric film, film capacitor and connection type capacitor using the same, inverter, electric vehicle |
JP2016222750A (en) * | 2015-05-27 | 2016-12-28 | 上海磐樹新材料科技有限公司 | Resin composition, molded body, and resin composition manufacturing method |
JP6679849B2 (en) | 2015-07-01 | 2020-04-15 | 味の素株式会社 | Resin composition |
JP6742785B2 (en) * | 2015-08-13 | 2020-08-19 | 太陽インキ製造株式会社 | Photosensitive resin composition, dry film and printed wiring board |
WO2017098996A1 (en) | 2015-12-09 | 2017-06-15 | 株式会社Adeka | Thermally curable resin composition |
CN105542399A (en) * | 2016-01-18 | 2016-05-04 | 西安交通大学 | Centrifugal manufacturing method for dielectric functional gradient insulator |
JP6816426B2 (en) * | 2016-09-23 | 2021-01-20 | 昭和電工マテリアルズ株式会社 | Underfill material and electronic component equipment using it |
JP6409106B1 (en) * | 2017-08-30 | 2018-10-17 | 太陽インキ製造株式会社 | Curable resin composition, dry film, cured product and printed wiring board |
JP7029267B2 (en) * | 2017-10-06 | 2022-03-03 | 日鉄ケミカル&マテリアル株式会社 | Method for manufacturing a photosensitive resin composition and a substrate with a resin film |
JPWO2019117156A1 (en) * | 2017-12-13 | 2021-01-21 | Jnc株式会社 | Manufacturing method of heat dissipation sheet, heat dissipation sheet, substrate, power semiconductor module |
JP6775053B2 (en) | 2019-03-28 | 2020-10-28 | 株式会社ダイセル | Molded article and its manufacturing method |
CN110265176B (en) * | 2019-06-14 | 2021-01-12 | 清华大学深圳研究生院 | Dielectric gradient material and application thereof |
CN110256813B (en) * | 2019-06-14 | 2022-02-25 | 清华大学深圳研究生院 | Preparation method of dielectric gradient material and encapsulation method of electronic component |
CN110183825B (en) * | 2019-06-14 | 2022-02-25 | 清华大学深圳研究生院 | Dielectric gradient material and application thereof |
-
2021
- 2021-01-12 CN CN202180007079.9A patent/CN114829505B/en active Active
- 2021-01-12 JP JP2021574595A patent/JP7628510B2/en active Active
- 2021-01-12 KR KR1020227029418A patent/KR20220134586A/en active Pending
- 2021-01-12 WO PCT/JP2021/000663 patent/WO2021153213A1/en active Application Filing
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6264897B2 (en) | 2014-01-23 | 2018-01-24 | トヨタ自動車株式会社 | High dielectric constant film and film capacitor |
JP2018006052A (en) | 2016-06-29 | 2018-01-11 | 株式会社豊田中央研究所 | Dielectric composite material and production method thereof |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPWO2021153213A1 (en) | 2021-08-05 |
WO2021153213A1 (en) | 2021-08-05 |
CN114829505A (en) | 2022-07-29 |
JP7628510B2 (en) | 2025-02-10 |
CN114829505B (en) | 2024-05-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101641480B1 (en) | Sealing composition | |
CN105246940B (en) | Optical semiconductor sealing solidification compound | |
KR102032186B1 (en) | Conductive fiber-coated particle, curable composition and cured article derived from curable composition | |
CN104914675B (en) | It is a kind of for the siloxanes containing light sensitivity of three-dimensional fast shaping and the photosensitive resin composition of hyperbranched poly ethoxylated polyhydric alcohol | |
JPWO2016203957A1 (en) | Curable composition and molded body | |
JP6595813B2 (en) | Polyorganosilsesquioxane | |
JP2012119470A (en) | Wiring board | |
JP2014210412A (en) | Hard coat film and production method thereof | |
KR20150121065A (en) | Epoxy resin composition and cured product thereof, prepreg, and fiber-reinforced composite material | |
JP2018065892A (en) | Sheet-like prepreg | |
KR20220134586A (en) | Molded article and its precursor, manufacturing method and use | |
JP2018193566A (en) | Filler for semiconductor element three-dimensional mounting | |
JP6775053B2 (en) | Molded article and its manufacturing method | |
CN107075081B (en) | Photosensitive resin composition for optical waveguide, photocurable film for forming optical waveguide core layer, optical waveguide, and printed wiring board | |
JP2015137338A (en) | Curable composition containing conductive fiber coated particle | |
JPWO2019193961A1 (en) | A resin composition, a method for producing a three-dimensional model using the resin composition, and a three-dimensional model. | |
JP6435226B2 (en) | Epoxy resin having fluorene skeleton and method for producing the same | |
JP4243980B2 (en) | 2,2-bis (3,4-epoxycyclohexyl) -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane and epoxy resin composition using the compound | |
JP2012051379A (en) | Transparent composite sheet | |
KR20190125502A (en) | Manufacturing method of resin molded article and manufacturing method of optical part | |
JP2016106236A (en) | Surface light source substrate and surface light source illumination | |
JP2007168150A (en) | Transparent composite sheet | |
JP2015137339A (en) | Curable composition containing conductive fiber coated particle | |
KR20120000518A (en) | Resin Composition, Transparent Composite Substrate and Display Element Substrate | |
JP2016106348A (en) | Surface light source substrate, surface light source illumination and manufacturing method of surface light source substrate |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PA0105 | International application |
Patent event date: 20220825 Patent event code: PA01051R01D Comment text: International Patent Application |
|
PG1501 | Laying open of application |