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KR20220063257A - 열전사 시트와 중간 전사 매체의 조합, 인화물의 제조 방법, 및 인화물 - Google Patents

열전사 시트와 중간 전사 매체의 조합, 인화물의 제조 방법, 및 인화물 Download PDF

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KR20220063257A
KR20220063257A KR1020227013241A KR20227013241A KR20220063257A KR 20220063257 A KR20220063257 A KR 20220063257A KR 1020227013241 A KR1020227013241 A KR 1020227013241A KR 20227013241 A KR20227013241 A KR 20227013241A KR 20220063257 A KR20220063257 A KR 20220063257A
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KR
South Korea
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layer
transfer
intermediate transfer
transfer medium
heat seal
Prior art date
Application number
KR1020227013241A
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English (en)
Inventor
아키토 다이케
Original Assignee
다이니폰 인사츠 가부시키가이샤
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Publication date
Application filed by 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 filed Critical 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤
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Abstract

본 개시의 열전사 시트와 중간 전사 매체의 조합은, 열전사 시트가, 제1 기재(基材)와, 제1 기재 상에 형성된, 착색층, 필 오프층 및 히트 시일층을 구비하고, 중간 전사 매체가, 제2 기재와, 전사층을 구비하며, 필 오프층이, 중간 전사 매체에 있어서의 전사층의 일부를 제거하기 위한 층이고, 히트 시일층과, 전사층의 45도 경면 광택도차의 절대값이, 20% 이상인 것을 특징으로 한다.

Description

열전사 시트와 중간 전사 매체의 조합, 인화물의 제조 방법, 및 인화물
본 개시는 열전사 시트와 중간 전사 매체의 조합, 인화물의 제조 방법, 및 인화물에 관한 것이다.
종래, 여러 가지 열전사 기록 방법이 알려져 있다.
예컨대, 열용융 전사형 착색층을 구비하는 열전사 시트와, 피전사체를 중첩시키고, 계속해서, 열전사 프린터가 구비하는 서멀 헤드에 의해 열전사 시트를 가열함으로써, 착색층을 피전사체 상에 전사해서 화상을 형성하여, 인화물을 제조하는, 열용융 전사 방식이 알려져 있다.
또한, 승화성 염료를 함유하는 착색층을 구비하는 열전사 시트와, 피전사체를 중첩시키고, 계속해서, 열전사 프린터가 구비하는 서멀 헤드에 의해 열전사 시트를 가열함으로써, 착색층 중의 승화성 염료를 피전사체 상으로 이행시켜 화상을 형성하여, 인화물을 제조하는, 승화형 열전사 방식이 알려져 있다.
승화형 열전사 방식에 의한 화상 형성은, 피전사체의 표면 형상 등에 따라서는, 곤란해지는 경우가 있다. 이러한 경우에는, 전사층을 구비하는 중간 전사 매체를 이용하여 인화물이 제조되고 있다. 예컨대, 열전사 시트를 가열하여, 착색층 중의 승화성 염료를, 중간 전사 매체가 구비하는 전사층을 구성하는 수용층으로 이행시켜 화상을 형성한 후, 중간 전사 매체를 가열하여, 전사층을 피전사체 상에 전사시킴으로써, 인화물이 제조된다.
중간 전사 매체로부터의 전사층의 전사는, 용도에 따라서는, 선택적 전사가 요망되는 경우가 있다. 특허문헌 1에서는, 중간 전사 매체로부터 전사층의 일부를 제거(필 오프)함으로써, 피전사체 상에의 전사층의 선택적 전사를 가능하게 하고 있다.
특허문헌 1: 일본 특허 공개 제2003-326865호 공보
최근, 인화물에는, 그 용도에 따라 여러 가지 의장성이 요구되고 있다. 예컨대, 부분적으로 볼록부가 형성된 인화물이나, 부분적으로 높은 광택감을 갖는 인화물 등, 부분적으로 입체감이나 질감이 상이한 인화물을 들 수 있다.
본 개시의 해결하고자 하는 하나의 과제는, 부분적으로 입체감이나 질감이 상이한 인화물을 제조할 수 있는, 열전사 시트와 중간 전사 매체의 조합을 제공하는 것이다.
또한, 중간 전사 매체로부터 전사층의 일부를 제거(필 오프)하는 경우, 본 개시자들은, 필 오프된 영역의 근방의 전사층의, 피전사체에의 전사가 불안정해져, 전사 불량이 발생하는 경우가 있는 것을 발견하였다.
본 개시의 해결하고자 하는 하나의 과제는, 열전사 시트와 중간 전사 매체의 조합을 이용하여 중간 전사 매체로부터 전사층의 일부를 제거(필 오프)하는 공정을 포함하는 인화물의 제조 방법에 있어서, 상기 전사 불량을 억제할 수 있는 방법을 제공하는 것이다.
본 개시의 해결하고자 하는 하나의 과제는, 열전사 시트와 중간 전사 매체의 상기 조합을 이용하여 제조된 인화물을 제공하는 것이다.
본 개시의 조합은, 열전사 시트와 중간 전사 매체를 구비한다. 열전사 시트는, 제1 기재(基材)와, 제1 기재 상에 형성된, 착색층, 필 오프층 및 히트 시일층을 구비한다. 중간 전사 매체는, 제2 기재와, 전사층을 구비한다. 필 오프층은, 중간 전사 매체에 있어서의 전사층의 일부를 제거하기 위한 층이다.
일 실시형태에 있어서, 히트 시일층과, 전사층의 45도 경면 광택도차의 절대값이, 20% 이상이다.
일 실시형태에 있어서, ΔL* HS와 ΔL* T의 차의 절대값이, 5 이상 30 이하이다. ΔL* HS는, 히트 시일층에 입사각 45도로 광을 입사했을 때의, 광의 입사각의 정반사각에 대한 수광각 110도 및 15도에 있어서의 L*값의 차의 절대값이다. ΔL* T는, 전사층에 입사각 45도로 광을 입사했을 때의, 광의 입사각의 정반사각에 대한 수광각 110도 및 15도에 있어서의 L*값의 차의 절대값이다.
일 실시형태에 있어서, RHS와 RT의 차의 절대값이, 20% 이상 50% 이하이다. RHS는, 입사각 5도, 측정 파장 범위 400 ㎚ 이상 700 ㎚ 이하의 조건으로 히트 시일층에 광을 입사했을 때의 평균 정반사율이다. RT는, 상기 조건으로 전사층에 광을 입사했을 때의 평균 정반사율이다.
일 실시형태에 있어서, 히트 시일층의 표면 거칠기(RaHS)와, 전사층의 표면 거칠기(RaT)의 차의 절대값이, 0.5 ㎛ 이상 3.0 ㎛ 이하이다.
본 개시의 인화물의 제조 방법은,
제1 기재와, 제1 기재 상에 형성된, 착색층, 필 오프층 및 히트 시일층을 구비하는 열전사 시트, 및, 제2 기재와, 전사층을 구비하는 중간 전사 매체의 조합을 준비하는 공정과,
중간 전사 매체가 구비하는 전사층 상에, 화상을 형성하는 공정과,
중간 전사 매체가 구비하는 전사층의 일부와, 열전사 시트가 구비하는 필 오프층의 적어도 일부를 가열 압착한 후, 가열 압착된 부분의 전사층을, 중간 전사 매체로부터 필 오프하는 공정과,
중간 전사 매체의 전사층이 필 오프되지 않은 영역, 및 중간 전사 매체의 전사층이 필 오프된 영역에, 열전사 시트로부터 히트 시일층을 전사하는 공정과,
중간 전사 매체의 전사층이 필 오프되지 않은 영역에 있어서의, 적어도 일부에 화상이 형성된 전사층 및 전사된 히트 시일층과, 중간 전사 매체의 전사층이 필 오프된 영역에 있어서의 전사된 히트 시일층을, 피전사체 상에 전사하는 공정
을 포함한다.
본 개시의 인화물은,
제1 기재와, 제1 기재 상에 형성된, 착색층, 필 오프층 및 히트 시일층을 구비하는 열전사 시트, 및, 제2 기재와, 전사층을 구비하는 중간 전사 매체의 조합을 이용하여 제조한 인화물로서, 필 오프층이, 중간 전사 매체에 있어서의 전사층의 일부를 제거하기 위한 층이고,
피전사체와,
피전사체 상에 형성된 히트 시일층과,
히트 시일층 상의 일부에 형성된, 화상이 형성된 전사층
을 구비한다.
본 개시에 의하면, 부분적으로 입체감이나 질감이 상이한 인화물을 제조할 수 있는, 열전사 시트와 중간 전사 매체의 조합을 제공할 수 있다.
본 개시에 의하면, 열전사 시트와 중간 전사 매체의 조합을 이용하여 중간 전사 매체로부터 전사층의 일부를 제거(필 오프)하는 공정을 포함하는 인화물의 제조 방법에 있어서, 상기 전사 불량을 억제할 수 있는 방법을 제공할 수 있다.
본 개시에 의하면, 열전사 시트와 중간 전사 매체의 상기 조합을 이용하여 제조된 인화물을 제공할 수 있다.
도 1은 본 개시의 열전사 시트와 중간 전사 매체의 조합의 일 실시형태를 도시한 모식 단면도이다.
도 2는 본 개시의 인화물의 제조 방법을 설명하기 위한 개략도이다.
도 3은 본 개시의 인화물의 모식 단면도이다.
도 4는 입사각, 정반사각 및 수광각의 관계를 도시한 모식도이다.
[열전사 시트와 중간 전사 매체의 조합]
본 개시의 조합은, 열전사 시트(10)와, 중간 전사 매체(20)를 구비한다.
일 실시형태에 있어서, 열전사 시트(10)는, 도 1(a)에 도시된 바와 같이, 제1 기재(11)와, 제1 기재(11) 상에 면순차로 형성된, 착색층(12), 필 오프층(13) 및 히트 시일층(14)을 구비한다. 중간 전사 매체(20)는, 도 1(b)에 도시된 바와 같이, 제2 기재(21)와, 전사층(22)을 구비한다.
본 개시에 있어서, 필 오프층이란, 중간 전사 매체에 있어서의 전사층의 일부를 제거하기 위한 층이다.
열전사 시트는, 도 1(a)에 도시된 양태에 한정되지 않고, 착색층(12), 필 오프층(13) 및 히트 시일층(14)이, 상이한 제1 기재 상에 형성된 열전사 시트, 즉, 복수의 열전사 시트여도 좋다(도시하지 않음).
일 실시형태에 있어서, 열전사 시트는, 복수의 제1 기재와, 착색층, 필 오프층 및 히트 시일층을 구비하는 복수의 시트이다. 이 경우, 착색층, 필 오프층 및 히트 시일층 중 적어도 2개의 층은, 상이한 제1 기재 상에 형성되어 있다. 예컨대, 착색층, 필 오프층 및 히트 시일층이, 각각, 상이한 제1 기재 상에 형성되어 있다.
일 실시형태에 있어서, 열전사 시트(10)는, 도 1(a)에 도시된 바와 같이, 제1 기재(11)의 착색층(12) 등이 형성된 면과는 반대의 면에, 배면층(15)을 구비한다.
일 실시형태에 있어서, 열전사 시트(10)는, 제1 기재(11)와 착색층(12) 사이, 및 제1 기재(11)와 필 오프층(13) 사이에, 프라이머층을 구비한다(도시하지 않음).
일 실시형태에 있어서, 열전사 시트(10)는, 제1 기재(11)와 히트 시일층(14) 사이에, 이형층을 구비한다(도시하지 않음).
일 실시형태에 있어서, 중간 전사 매체(20)가 구비하는 전사층(22)은, 도 1(b)에 도시된 바와 같이, 박리층(23) 및 수용층(24)을 구비한다.
일 실시형태에 있어서, 중간 전사 매체(20)가 구비하는 전사층(22)은, 도 1(b)에 도시된 바와 같이, 박리층(23)과 수용층(24) 사이에, 보호층(25)을 구비한다.
일 실시형태에 있어서, 열전사 시트가 구비하는 히트 시일층(이하, 경우에 따라, 간단히 「히트 시일층」이라고 한다.)과, 중간 전사 매체가 구비하는 전사층(이하, 경우에 따라, 간단히 「전사층」이라고 한다.)의 45도 경면 광택도차의 절대값이, 20% 이상이다. 이러한 구성의 상기 조합을 이용함으로써, 부분적으로 볼록부를 갖고, 또한 부분적으로 매트감 또는 광택감이 상이한 인화물을 제조할 수 있다.
보다 바람직하게는, 히트 시일층과, 전사층의 45도 경면 광택도차의 절대값은, 25% 이상이다. 상기 45도 경면 광택도차의 절대값의 상한은, 예컨대, 90%이다.
일 실시형태에 있어서, 히트 시일층의 45도 경면 광택도는, 60% 이상 95% 이하, 바람직하게는 70% 이상 90% 이하이다. 일 실시형태에 있어서, 전사층의 45도 경면 광택도는, 5% 이상 75% 이하, 바람직하게는 10% 이상 70% 이하이다.
히트 시일층 및 전사층의 45도 경면 광택도는, 후술하는 입자를, 히트 시일층 또는 전사층을 구성하는 층에 첨가함으로써 조정할 수 있다.
본 개시에 있어서, 히트 시일층 및 전사층의 45도 경면 광택도는, 실시예란의 [인화물의 제조]에 기재된 방법에 준거하여, 열전사 시트의 히트 시일층 및 중간 전사 매체의 전사층을 동일한 피전사체 상에 전사한 후, JIS Z8741에 기재된 45도 경면 광택도 측정 방법에 준거하여, 광택도계(닛폰 덴쇼쿠 고교(주) 제조, VG 7000)를 이용하여 측정한다.
전사층이 박리층을 구비하는 경우, 인화물에 있어서, 박리층은 최표면에 위치하게 된다. 인화물에 있어서의 볼록부에 양호한 매트감을 갖게 할 수 있는 점에서, 상기 박리층은 입자를 함유하는 것이 바람직하다.
일 실시형태에 있어서, 상기 조합에 있어서의 ΔL* HS와 ΔL* T의 차의 절대값이, 5 이상 30 이하이고, 8 이상 25 이하가 바람직하며, 10 이상 20 이하가 보다 바람직하다. 이러한 구성의 상기 조합을 이용함으로써, 부분적으로 볼록부를 갖고, 또한 부분적으로 질감이 상이한 인화물을 제조할 수 있다.
ΔL* HS는, 히트 시일층에 입사각 45도로 광을 입사했을 때의, 광의 입사각의 정반사각에 대한 수광각 110도 및 15도에 있어서의 L*값의 차의 절대값이다. ΔL* T는, 전사층에 입사각 45도로 광을 입사했을 때의, 광의 입사각의 정반사각에 대한 수광각 110도 및 15도에 있어서의 L*값의 차의 절대값이다.
도 4는 입사각, 정반사각 및 수광각의 관계를 도시한 모식도이다. 입사 각도는, 측정 대상 표면의 법선에 대한 각도이다. 정반사란, 광의 입사 각도와 반사 각도가 동일한 반사를 의미한다. L*값은, 국제 조명 위원회(CIE)에 의한 L*a*b* 색공간에 있어서의 L*값을 의미하며, 명도 지수이다.
바람직하게는, ΔL* HS보다 ΔL* T가 크다.
일 실시형태에 있어서, ΔL* HS는, 10 이상 60 이하, 바람직하게는 20 이상 50 이하이다. 일 실시형태에 있어서, ΔL* T는, 10 이상 60 이하, 바람직하게는 20 이상 50 이하이다. 이들 ΔL* HS 및 ΔL* T의 범위로부터, ΔL* HS와 ΔL* T의 차의 절대값이 상기 범위 내가 되도록, ΔL* HS 및 ΔL* T가 설정된다.
본 개시에 있어서, 히트 시일층 및 전사층의 L*값은, 실시예란의 [인화물의 제조]에 기재된 방법에 준거하여, 열전사 시트의 히트 시일층 및 중간 전사 매체의 전사층을 동일한 피전사체 상에 전사한 후에, 전사된 히트 시일층 표면 및 전사된 전사층 표면에 입사각 45도로 광을 입사하여 측정한다.
각 ΔL*는, 예컨대, 히트 시일층 및 전사층에 있어서의 펄 안료의 함유량에 의해, 조정할 수 있다. 예컨대, 히트 시일층 및 전사층에서 선택되는 적어도 하나의 층이, 펄 안료를 함유하는 것이 바람직하다.
일 실시형태에 있어서, 히트 시일층에 있어서의 펄 안료의 함유량과, 전사층에 있어서의 펄 안료의 함유량의 차의 절대값이, 10 질량% 이상이다. 상기 차의 절대값의 상한은, 예컨대, 50 질량%이다. 이러한 구성의 상기 조합을 이용함으로써, 부분적으로 볼록부를 갖고, 또한 부분적으로 펄감이 상이한 인화물을 제조할 수 있다.
전사층이 박리층을 구비하는 경우, 인화물에 있어서, 박리층은 최표면에 위치하게 된다. 인화물에 있어서의 볼록부에 양호한 펄감을 갖게 할 수 있는 점에서, 상기 박리층은 펄 안료를 함유하는 것이 바람직하다.
히트 시일층이, 다층 구조를 갖고, 또한 펄 안료를 포함하는 경우에 있어서, 상기 「히트 시일층에 있어서의 펄 안료의 함유량」이란, 히트 시일층이 구비하는, 펄 안료를 포함하는 층에 있어서의 펄 안료의 함유량(질량%)을 의미한다.
전사층이, 다층 구조를 갖고, 또한 펄 안료를 포함하는 경우에 있어서, 상기 「전사층에 있어서의 펄 안료의 함유량」이란, 전사층이 구비하는, 펄 안료를 포함하는 층(예컨대, 박리층)에 있어서의 펄 안료의 함유량(질량%)을 의미한다.
히트 시일층 및 전사층이 펄 안료를 포함하는 경우, 상기 펄 안료의 색감 및 입자 직경은 동일해도, 상이해도 좋다.
일 실시형태에 있어서, 상기 조합에 있어서의 RHS와 RT의 차의 절대값이, 20% 이상 50% 이하이고, 25% 이상 45% 이하가 바람직하며, 25% 이상 40% 이하가 보다 바람직하다. 이러한 구성의 상기 조합을 이용함으로써, 부분적으로 볼록부를 갖고, 또한 부분적으로 금속 광택감이 상이한 인화물을 제조할 수 있다.
RHS는, 입사각 5도, 측정 파장 범위 400 ㎚ 이상 700 ㎚ 이하의 조건으로 히트 시일층에 광을 입사했을 때의 평균 정반사율이다. RT는, 상기 조건으로 전사층에 광을 입사했을 때의 평균 정반사율이다.
정반사율이란, 측정 대상 표면에 광원으로부터 광을 입사하여 반사시킨 경우에, 입사각과 동일한 반사각(정반사각)의 위치에 있어서 수광 프로브로 수광시켰을 때의, 입사광과 반사광의 에너지의 비이다.
바람직하게는, RT보다 RHS가 크다.
일 실시형태에 있어서, RHS는, 5% 이상 80% 이하, 바람직하게는 10% 이상 70% 이하이다. 일 실시형태에 있어서, RT는, 5% 이상 80% 이하, 바람직하게는 10% 이상 70% 이하이다. 이들 RHS 및 RT의 범위로부터, RHS와 RT의 차의 절대값이 상기 범위 내가 되도록, RHS 및 RT가 설정된다.
본 개시에 있어서, 히트 시일층 및 전사층의 평균 정반사율은, 실시예란의 [인화물의 제조]에 기재된 방법에 준거하여, 열전사 시트의 히트 시일층 및 중간 전사 매체의 전사층을 동일한 피전사체 상에 전사한 후에, 전사된 히트 시일층 표면 및 전사된 전사층 표면에 입사각 5도로 광을 입사하여 측정한다.
각 평균 정반사율은, 예컨대, 히트 시일층 및 전사층에 있어서의 금속 안료의 함유량에 의해, 조정할 수 있다. 예컨대, 히트 시일층 및 전사층에서 선택되는 적어도 하나의 층이, 금속 안료를 함유하는 것이 바람직하다.
일 실시형태에 있어서, 히트 시일층에 있어서의 금속 안료의 함유량과, 전사층에 있어서의 금속 안료의 함유량의 차의 절대값이, 10 질량% 이상이다. 상기 차의 절대값의 상한은, 예컨대, 60 질량%이다. 이러한 구성의 상기 조합을 이용함으로써, 부분적으로 볼록부를 갖고, 또한 부분적으로 금속 광택감이 상이한 인화물을 제조할 수 있다.
히트 시일층이, 다층 구조를 갖고, 또한 금속 안료를 포함하는 경우에 있어서, 상기 「히트 시일층에 있어서의 금속 안료의 함유량」이란, 히트 시일층이 구비하는, 금속 안료를 포함하는 층에 있어서의 금속 안료의 함유량(질량%)을 의미한다.
전사층이, 다층 구조를 갖고, 또한 금속 안료를 포함하는 경우에 있어서, 상기 「전사층에 있어서의 금속 안료의 함유량」이란, 전사층이 구비하는, 금속 안료를 포함하는 층에 있어서의 금속 안료의 함유량(질량%)을 의미한다.
히트 시일층 및 전사층이 금속 안료를 포함하는 경우, 상기 금속 안료의 색감 및 입자 직경은 동일해도, 상이해도 좋다.
일 실시형태에 있어서, 상기 조합에 있어서의, 히트 시일층의 표면 거칠기(RaHS)와, 전사층의 표면 거칠기(RaT)의 차의 절대값이, 0.5 ㎛ 이상 3.0 ㎛ 이하이고, 0.8 ㎛ 이상 2.5 ㎛ 이하가 바람직하며, 1.0 ㎛ 이상 2.0 ㎛ 이하가 보다 바람직하다. 이러한 구성의 상기 조합을 이용함으로써, 부분적으로 볼록부를 갖고, 또한 부분적으로 질감이 상이한 인화물을 제조할 수 있다.
표면 거칠기 Ra란, 산술 평균 거칠기이고, JIS B 0601에 준거하여 측정한 값이다.
바람직하게는, RaHS보다 RaT가 크다.
일 실시형태에 있어서, RaHS는, 0.5 ㎛ 이상 10 ㎛ 이하, 바람직하게는 1 ㎛ 이상 5 ㎛ 이하이다. 일 실시형태에 있어서, RaT는, 0.5 ㎛ 이상 10 ㎛ 이하, 바람직하게는 1 ㎛ 이상 5 ㎛ 이하이다. 이들 RaHS 및 RaT의 범위로부터, RaHS와 RaT의 차의 절대값이 상기 범위 내가 되도록, RaHS 및 RaT가 설정된다.
본 개시에 있어서, 히트 시일층 및 전사층의 표면 거칠기 Ra는, 실시예란의 [인화물의 제조]에 기재된 방법에 준거하여, 열전사 시트의 히트 시일층 및 중간 전사 매체의 전사층을 동일한 피전사체 상에 전사한 후에, 전사된 히트 시일층 표면 및 전사된 전사층 표면에 대해 측정한다.
각 표면 거칠기 Ra는, 예컨대, 히트 시일층 및 전사층에 있어서의 발포 입자의 함유량에 의해, 조정할 수 있다. 예컨대, 히트 시일층 및 전사층에서 선택되는 적어도 하나의 층이, 발포 입자를 함유하는 것이 바람직하다.
일 실시형태에 있어서, 히트 시일층에 있어서의 발포 입자의 함유량과, 전사층에 있어서의 발포 입자의 함유량의 차의 절대값이, 10 질량% 이상이다. 상기 차의 절대값의 상한은, 예컨대, 50 질량%이다. 이러한 구성의 상기 조합을 이용함으로써, 부분적으로 볼록부를 갖고, 또한 부분적으로 질감이 상이한 인화물을 제조할 수 있다.
전사층이 박리층을 구비하는 경우, 인화물에 있어서, 박리층은 최표면에 위치하게 된다. 인화물에 있어서의 볼록부에 양호한 질감을 갖게 할 수 있는 점에서, 상기 박리층은 발포 입자를 함유하는 것이 바람직하다.
히트 시일층이, 다층 구조를 갖고, 또한 발포 입자를 포함하는 경우에 있어서, 상기 「히트 시일층에 있어서의 발포 입자의 함유량」이란, 히트 시일층이 구비하는, 발포 입자를 포함하는 층에 있어서의 발포 입자의 함유량(질량%)을 의미한다.
전사층이, 다층 구조를 갖고, 또한 발포 입자를 포함하는 경우에 있어서, 상기 「전사층에 있어서의 발포 입자의 함유량」이란, 전사층이 구비하는, 발포 입자를 포함하는 층(예컨대, 박리층)에 있어서의 발포 입자의 함유량(질량%)을 의미한다.
히트 시일층 및 전사층이 발포 입자를 포함하는 경우, 상기 발포 입자의 팽창률 및 입자 직경은 동일해도, 상이해도 좋다.
본 개시에 있어서는, 열전사 시트가 구비하는 히트 시일층이, 입자, 펄 안료, 금속 안료 및 발포 입자에서 선택되는 재료를 포함하고, 중간 전사 매체의 전사층이 구비하는 적어도 1층이, 상기 선택된 재료 이외의 재료를 포함하는 것이어도 좋다. 예컨대, 히트 시일층이, 펄 안료를 포함하는 층을 구비하고, 전사층을 구성하는 박리층이, 금속 안료를 포함하는 구성으로 할 수 있다. 이러한 조합을 이용하여 제조되는 인화물도, 부분적으로 상이한 입체감 및 질감을 갖고, 높은 의장성을 갖는다.
이하, 열전사 시트와 중간 전사 매체의 조합이 구비하는, 열전사 시트 및 중간 전사 매체가 구비하는 각 층에 대해 설명한다.
(열전사 시트)
열전사 시트는, 제1 기재와, 제1 기재 상에 형성된, 착색층, 필 오프층 및 히트 시일층을 구비한다. 일 실시형태에 있어서, 열전사 시트는, 제1 기재의 착색층 등이 형성된 면과는 반대의 면에, 배면층을 구비한다. 일 실시형태에 있어서, 열전사 시트는, 제1 기재와 착색층 사이, 및 제1 기재와 필 오프층 사이에, 프라이머층을 구비한다. 일 실시형태에 있어서, 열전사 시트는, 제1 기재와 히트 시일층 사이에, 이형층을 구비한다.
(제1 기재)
제1 기재는, 열전사 시에 가해지는 열에너지(예컨대, 서멀 헤드에 의한 열)에 견딜 수 있는 내열성을 갖고, 제1 기재 상에 형성되는 착색층 등을 지지할 수 있는 기계적 강도 및 내용제성을 갖는 것이면, 특별히 제한없이 사용할 수 있다.
제1 기재로서는, 예컨대, 1종 또는 2종 이상의 수지 등으로 구성되는 필름(이하, 간단히 「수지 필름」이라고도 한다.)을 사용할 수 있다. 수지로서는, 예컨대, 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리부틸렌테레프탈레이트(PBT), 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN), 1,4-폴리시클로헥실렌디메틸렌테레프탈레이트, 테레프탈산-시클로헥산디메탄올-에틸렌글리콜 공중합체 등의 폴리에스테르; 나일론 6 및 나일론 6,6 등의 폴리아미드; 폴리에틸렌(PE), 폴리프로필렌(PP) 및 폴리메틸펜텐 등의 폴리올레핀; 폴리염화비닐, 폴리비닐알코올(PVA), 폴리아세트산비닐, 염화비닐-아세트산비닐 공중합체, 폴리비닐부티랄 및 폴리비닐피롤리돈(PVP) 등의 비닐 수지; 폴리(메트)아크릴레이트 및 폴리메틸(메트)아크릴레이트 등의 (메트)아크릴 수지; 폴리이미드 및 폴리에테르이미드 등의 이미드 수지; 셀로판, 셀룰로오스아세테이트, 니트로셀룰로오스, 셀룰로오스아세테이트프로피오네이트(CAP) 및 셀룰로오스아세테이트부티레이트(CAB) 등의 셀룰로오스 수지; 폴리스티렌(PS) 등의 스티렌 수지; 폴리카보네이트; 및 이오노머 수지를 들 수 있다.
상기 수지 중에서도, 내열성 및 기계적 강도라고 하는 관점에서, PET 및 PEN 등의 폴리에스테르가 바람직하고, PET가 특히 바람직하다.
본 개시에 있어서, 「(메트)아크릴」이란 「아크릴」과 「메타크릴」의 양방을 포함하는 것을 의미한다. 「(메트)아크릴레이트」란 「아크릴레이트」와 「메타크릴레이트」의 양방을 포함하는 것을 의미한다.
상기 수지 필름의 적층체를 제1 기재로서 사용할 수 있다. 수지 필름의 적층체는, 드라이 라미네이션법, 웨트 라미네이션법 및 익스트루전법 등을 이용하여 제작할 수 있다.
제1 기재가 수지 필름인 경우, 상기 수지 필름은, 연신 필름이어도, 미연신 필름이어도 좋으나, 강도라고 하는 관점에서, 일축 방향 또는 이축 방향으로 연신된 연신 필름이 바람직하다.
제1 기재의 두께는, 2 ㎛ 이상 25 ㎛ 이하가 바람직하고, 3 ㎛ 이상 10 ㎛ 이하가 보다 바람직하다. 이에 의해, 제1 기재의 기계적 강도 및 열전사 시의 열에너지의 전달을 양호하게 할 수 있다.
(착색층)
열전사 시트는, 제1 기재 상에, 착색층을 구비한다. 착색층은, 도 1에 도시된 바와 같이, 상호 면순차가 되도록 복수 형성되어 있어도 좋다.
착색층은, 착색층에 포함되는 승화성 염료가 전사되는 승화 전사형 착색층이어도 좋고, 착색층 자체가 전사되는 용융 전사형 착색층이어도 좋다. 열전사 시트는, 승화 전사형 착색층 및 용융 전사형 착색층을 함께 구비하고 있어도 좋다.
착색층은, 착색재를 1종 또는 2종 이상 포함한다. 착색재는, 안료여도, 염료여도 좋다. 염료는, 승화성 염료여도 좋다.
착색재로서는, 예컨대, 카본 블랙, 아세틸렌 블랙, 램프 블랙, 흑연, 철흑, 아닐린 블랙, 실리카, 탄산칼슘, 산화티탄, 카드뮴 레드, 카드모폰 레드, 크롬 레드, 버밀리언, 벵갈라, 아조계 안료, 알리자린 레이크, 퀴나크리돈, 코치닐 레이크 페릴렌, 옐로우 오커, 오레올린, 카드뮴 옐로우, 카드뮴 오렌지, 크롬 옐로우, 징크 옐로우, 네이플스 옐로우, 니켈 옐로우, 아조계 안료, 그리니쉬 옐로우, 울트라마린, 암군청, 코발트, 프탈로시아닌, 안트라퀴논, 인디고이드, 시너바 그린, 카드뮴 그린, 크롬 그린, 프탈로시아닌, 아조메틴, 페릴렌, 알루미늄 안료, 및, 디아릴메탄 염료, 트리아릴메탄 염료, 티아졸 염료, 메로시아닌 염료, 피라졸론 염료, 메틴 염료, 인도아닐린 염료, 아세토페논아조메틴 염료, 피라졸로아조메틴 염료, 크산텐 염료, 옥사진 염료, 티아진 염료, 아진 염료, 아크리딘 염료, 아조 염료, 스피로피란 염료, 인돌리노스피로피란 염료, 플루오란 염료, 나프토퀴논 염료, 안트라퀴논 염료 및 퀴노프탈론 염료 등의 승화성 염료를 들 수 있다.
일 실시형태에 있어서, 착색층은, 수지 재료를 1종 또는 2종 이상 포함한다. 수지 재료로서는, 예컨대, 폴리에스테르, 폴리아미드, 폴리올레핀, 비닐 수지, 비닐아세탈 수지, (메트)아크릴 수지, 셀룰로오스 수지, 스티렌 수지, 폴리카보네이트, 부티랄 수지, 페녹시 수지 및 이오노머 수지를 들 수 있다.
착색층은, 첨가재를 1종 또는 2종 이상 포함할 수 있다. 첨가재로서는, 예컨대, 충전재, 가소재, 자외선 흡수재, 무기 입자, 유기 입자, 이형재 및 분산재를 들 수 있다.
착색층의 두께는, 0.1 ㎛ 이상 3 ㎛ 이하가 바람직하다.
착색층은, 예컨대, 상기 재료를 물 또는 적당한 유기 용매에 분산 또는 용해하여 얻어진 도공액을, 공지된 수단에 의해, 제1 기재 등의 위에 도포하여 도막을 형성시키고, 이것을 건조시킴으로써 형성할 수 있다. 공지된 수단으로서는, 예컨대, 롤 코트법, 리버스 롤 코트법, 그라비아 코트법, 리버스 그라비아 코트법, 바 코트법 및 로드 코트법을 들 수 있다.
(필 오프층)
필 오프층은, 중간 전사 매체가 구비하는 전사층을 부분적으로 필 오프하기 위한 층이다.
일 실시형태에 있어서, 필 오프층은, 수지 재료를 1종 또는 2종 이상 포함한다. 수지 재료로서는, 예컨대, 폴리에스테르, 폴리아미드, 폴리올레핀, 비닐 수지, (메트)아크릴 수지, 이미드 수지, 셀룰로오스 수지, 스티렌 수지, 폴리카보네이트 및 이오노머 수지를 들 수 있다.
필 오프성이라고 하는 관점에서, 필 오프층은, 중간 전사 매체가 바람직하게 구비하는 수용층에 포함되는 수지 재료와 동일 종류의 수지 재료를 포함하는 것이 바람직하고, 완전히 동일 종류의 수지 재료를 포함하는 것이 보다 바람직하다.
본 개시에 있어서, 「동일 종류의 수지 재료」란, 수지 재료를 구성하는 모노머의 50 질량% 이상이 일치하는 것을 의미하고, 「완전히 동일 종류의 수지 재료」란, 수지 재료를 구성하는 모노머의 95 질량% 이상이 일치하는 것을 의미한다.
필 오프층은, 상기 첨가재를 1종 또는 2종 이상 포함하고 있어도 좋다.
필 오프층의 두께는, 0.3 ㎛ 이상 10 ㎛ 이하가 바람직하고, 0.5 ㎛ 이상 5 ㎛ 이하가 보다 바람직하다. 이에 의해, 열전사 시트의 필 오프성을 보다 향상시킬 수 있다.
필 오프층은, 예컨대, 상기 재료를 물 또는 적당한 유기 용매에 분산 또는 용해하여 얻어진 도공액을, 상기 공지된 수단에 의해, 제1 기재 등의 위에 도포하여 도막을 형성시키고, 이것을 건조시킴으로써 형성할 수 있다.
(히트 시일층)
히트 시일층은, 열전사 시트로부터 중간 전사 매체 상에 전사되는 층이다. 히트 시일층은, 단층 구조를 가져도 좋고, 다층 구조를 가져도 좋다.
일 실시형태에 있어서, 히트 시일층을 구성하는 각 층은, 수지 재료를 1종 또는 2종 이상 포함한다. 수지 재료로서는, 예컨대, 폴리에스테르, 폴리아미드, 폴리올레핀, 비닐 수지, (메트)아크릴 수지, 이미드 수지, 셀룰로오스 수지, 스티렌 수지, 폴리카보네이트 및 이오노머 수지를 들 수 있다.
일 실시형태에 있어서, 히트 시일층은, 입자를 1종 또는 2종 이상 포함하는 층을 구비한다. 이에 의해, 히트 시일층에 매트감을 부여할 수 있고, 히트 시일층과, 전사층의 45도 경면 광택도의 차를 둘 수 있다. 히트 시일층은, 입자를 포함하는 층을 2층 이상 구비하고 있어도 좋다.
입자는, 유기 입자여도, 무기 입자여도 좋고, 이들을 병용해도 좋다.
유기 입자로서는, 예컨대, 멜라민 수지, 벤조구아나민 수지, (메트)아크릴 수지, 폴리아미드, 불소 수지, 페놀 수지, 스티렌 수지, 폴리올레핀, 실리콘 수지 및 이들 수지를 구성하는 모노머의 공중합체 등의 수지를 포함하는 입자(수지 입자)를 들 수 있다.
무기 입자로서는, 예컨대, 탤크 및 카올린 등의 점토 광물, 탄산칼슘 및 탄산마그네슘 등의 탄산염, 수산화알루미늄 및 수산화마그네슘 등의 수산화물, 황산칼슘 등의 황산염, 실리카 등의 산화물, 그래파이트, 초석, 및 질화붕소를 들 수 있다.
입자의 형상은, 부정 형상, 구(球)형, 타원형, 원기둥형 및 각기둥형 등의 어느 것이어도 좋다. 입자는, 그 표면이, 실란 커플링제 등의 표면 처리재에 의해 처리된 것이어도 좋다.
입자의 평균 입자 직경은, 0.5 ㎛ 이상 10 ㎛ 이하가 바람직하고, 1 ㎛ 이상 5 ㎛ 이하가 보다 바람직하다. 이에 의해, 히트 시일층과 피전사체의 접착력이 저하되지 않고, 전사층을 필 오프한 영역에 매트감을 부여할 수 있다.
본 개시에 있어서, 평균 입자 직경은, 체적 평균 입자 직경을 의미하고, JIS Z 8819-2에 준거하여 측정한다.
히트 시일층이 입자를 포함하는 층을 구비하는 경우, 입자의 굴절률로부터 히트 시일층에 포함되는 수지 재료의 굴절률을 뺀 값은, -0.07 이상이 바람직하고, 0.01 이상이 보다 바람직하다. 이에 의해, 부분적으로 매우 높은 매트감을 갖는 인화물을 제조할 수 있다. 입자의 굴절률로부터 수지 재료의 굴절률을 뺀 값의 상한은, 예컨대, 0.4이다.
본 개시에 있어서, 입자 및 수지 재료의 굴절률은, 임계각법(JIS K 7142) 또는 V블록법(JIS B 7071-2)에 의해 측정한다.
입자를 포함하는 층에 있어서의 입자의 함유량은, 수지 재료 100 질량부에 대해, 10 질량부 이상이 바람직하고, 30 질량부 이상이 보다 바람직하다. 이에 의해, 부분적으로 매우 높은 매트감을 갖는 인화물을 제조할 수 있다.
히트 시일층의 형성성이라고 하는 관점에서, 입자의 함유량은, 수지 재료 100 질량부에 대해, 120 질량부 이하가 바람직하다.
히트 시일층이 입자를 포함하는 층을 구비하는 경우에 있어서, 중간 전사 매체가 구비하는 전사층이 구비하는 각 층에 있어서의 입자의 함유량은, 상기 각 층에 포함되는 수지 재료 100 질량부에 대해, 10 질량부 이하가 바람직하고, 1 질량부 이하가 보다 바람직하며, 입자는 포함되지 않는 것이 특히 바람직하다.
일 실시형태에 있어서, 히트 시일층은, 펄 안료를 1종 또는 2종 이상 포함하는 층을 구비한다. 이에 의해, 히트 시일층과, 전사층의 ΔL*의 차를 둘 수 있다. 히트 시일층은, 펄 안료를 포함하는 층을 2층 이상 구비하고 있어도 좋다.
펄 안료로서는, 예컨대, 금속 산화물에 의해 피복된 인계(鱗系)형 알루미나 안료 및 운모 안료를 들 수 있다. 금속 산화물로서는, 예컨대, 티탄, 철, 지르코늄, 규소, 알루미늄 및 세륨 등의 산화물을 들 수 있다.
펄 안료를 포함하는 층에 있어서의 펄 안료의 함유량은, 일 실시형태에 있어서 상기한 바와 같이 히트 시일층 및 전사층에 있어서의 펄 안료의 함유량차를 만족시킬 수 있으면 특별히 한정되는 것은 아니지만, 수지 재료 100 질량부에 대해, 10 질량부 이상이 바람직하고, 30 질량부 이상이 보다 바람직하다. 이에 의해, 부분적으로 매우 높은 펄감을 갖는 인화물을 제조할 수 있다.
히트 시일층의 형성성이라고 하는 관점에서, 펄 안료의 함유량은, 수지 재료 100 질량부에 대해, 120 질량부 이하가 바람직하다.
히트 시일층이 펄 안료를 포함하는 층을 구비하는 경우에 있어서, 중간 전사 매체가 구비하는 전사층이 구비하는 각 층에 있어서의 펄 안료의 함유량은, 상기 각 층에 포함되는 수지 재료 100 질량부에 대해, 10 질량부 이하가 바람직하고, 1 질량부 이하가 보다 바람직하며, 펄 안료는 포함되지 않는 것이 특히 바람직하다.
일 실시형태에 있어서, 히트 시일층은, 금속 안료를 1종 또는 2종 이상 포함하는 층을 구비한다. 이에 의해, 히트 시일층과, 전사층의 평균 정반사율의 차를 둘 수 있다. 히트 시일층은, 금속 안료를 포함하는 층을 2층 이상 구비하고 있어도 좋다.
금속 안료로서는, 예컨대, 알루미늄, 니켈, 크롬, 놋쇠, 주석, 황동, 청동, 아연, 은, 백금, 금 및 이들의 산화물, 및 금속 증착이 실시된 유리 등의 입자를 들 수 있다.
금속 안료를 포함하는 층에 있어서의 금속 안료의 함유량은, 일 실시형태에 있어서 상기한 바와 같이 히트 시일층 및 전사층에 있어서의 금속 안료의 함유량차를 만족시킬 수 있으면 특별히 한정되는 것은 아니지만, 수지 재료 100 질량부에 대해, 10 질량부 이상이 바람직하고, 30 질량부 이상이 보다 바람직하다. 이에 의해, 부분적으로 매우 높은 금속 광택감을 갖는 인화물을 제조할 수 있다.
히트 시일층의 형성성이라고 하는 관점에서, 금속 안료의 함유량은, 수지 재료 100 질량부에 대해, 120 질량부 이하가 바람직하다.
히트 시일층이 금속 안료를 포함하는 층을 구비하는 경우에 있어서, 중간 전사 매체가 구비하는 전사층이 구비하는 각 층에 있어서의 금속 안료의 함유량은, 상기 각 층에 포함되는 수지 재료 100 질량부에 대해, 10 질량부 이하가 바람직하고, 1 질량부 이하가 보다 바람직하며, 금속 안료는 포함되지 않는 것이 특히 바람직하다.
일 실시형태에 있어서, 히트 시일층은, 발포 입자를 1종 또는 2종 이상 포함하는 층을 구비한다. 이에 의해, 히트 시일층과, 전사층의 표면 거칠기의 차를 둘 수 있다. 히트 시일층은, 발포 입자를 포함하는 층을 2층 이상 구비하고 있어도 좋다.
발포 입자로서는, 예컨대, 휘발성 물질이 내포된 열팽창성 마이크로 캡슐을 사용할 수 있다. 열팽창성 마이크로 캡슐의 외각을 구성하는 재료로서는, 예컨대, 폴리에틸렌 등의 폴리올레핀, (메트)아크릴 수지, 스티렌 수지, 폴리아세트산비닐 및 폴리염화비닐 등의 비닐 수지, 폴리아미드, 폴리에스테르를 들 수 있다. 상기 외각에 의해 내포되는 휘발성 물질로서는, 예컨대, 프로판, 부텐, 이소부탄, 이소펜텐, 네오펜텐, 헥산, 헵탄, 염화메틸 및 테트라메틸실란을 들 수 있다.
발포 입자를 포함하는 층에 있어서의 발포 입자의 함유량은, 일 실시형태에 있어서 상기한 바와 같이 히트 시일층 및 전사층에 있어서의 발포 입자의 함유량차를 만족시킬 수 있으면 특별히 한정되는 것은 아니지만, 수지 재료 100 질량부에 대해, 10 질량부 이상이 바람직하고, 30 질량부 이상이 보다 바람직하다. 이에 의해, 부분적으로 매우 높은 입체감을 갖는 인화물을 제조할 수 있다.
히트 시일층의 형성성이라고 하는 관점에서, 발포 입자의 함유량은, 수지 재료 100 질량부에 대해, 120 질량부 이하가 바람직하다.
히트 시일층이 발포 입자를 포함하는 층을 구비하는 경우에 있어서, 중간 전사 매체가 구비하는 전사층이 구비하는 각 층에 있어서의 발포 입자의 함유량은, 상기 각 층에 포함되는 수지 재료 100 질량부에 대해, 10 질량부 이하가 바람직하고, 1 질량부 이하가 보다 바람직하며, 발포 입자는 포함되지 않는 것이 특히 바람직하다.
히트 시일층은, 상기 첨가재를 1종 또는 2종 이상 포함할 수 있다.
히트 시일층의 두께는, 0.3 ㎛ 이상 20 ㎛ 이하가 바람직하고, 0.5 ㎛ 이상 10 ㎛ 이하가 보다 바람직하다.
히트 시일층은, 예컨대, 상기 재료를 물 또는 적당한 유기 용매에 분산 또는 용해하여 얻어진 도공액을, 상기 공지된 수단에 의해, 제1 기재 등의 위에 도포하여 도막을 형성시키고, 이것을 건조시킴으로써 형성할 수 있다.
히트 시일층은, 입자, 펄 안료, 금속 안료 및 발포 입자에서 선택되는 2종 이상을 포함하는 층을 구비하고 있어도 좋다. 히트 시일층은, 입자, 펄 안료, 금속 안료 및 발포 입자에서 선택되는 재료를 포함하는 층을 2층 이상 구비하고, 각각이 상이한 재료를 포함하는 구성이어도 좋다. 히트 시일층은, 예컨대, 입자를 포함하는 층을 1층, 펄 안료를 포함하는 층을 1층 구비하고 있어도 좋다.
(프라이머층)
일 실시형태에 있어서, 본 개시의 열전사 시트는, 제1 기재와 착색층 사이 및/또는 제1 기재와 필 오프층 사이에, 프라이머층을 구비한다. 이에 의해, 이들 층 사이의 밀착성을 향상시킬 수 있다.
일 실시형태에 있어서, 프라이머층은, 수지 재료를 1종 또는 2종 이상 포함한다. 수지 재료로서는, 예컨대, 폴리에스테르, 비닐 수지, 폴리우레탄, (메트)아크릴 수지, 폴리아미드, 폴리에테르, 스티렌 수지 및 셀룰로오스 수지를 들 수 있다.
프라이머층의 두께는, 0.1 ㎛ 이상 2.0 ㎛ 이하가 바람직하다.
프라이머층은, 예컨대, 상기 재료를 물 또는 적당한 유기 용매에 분산 또는 용해하여 얻어진 도공액을, 상기 공지된 수단에 의해, 제1 기재 상에 도포하여 도막을 형성시키고, 이것을 건조시킴으로써 형성할 수 있다.
(이형층)
일 실시형태에 있어서, 본 개시의 열전사 시트는, 제1 기재와 히트 시일층 사이에 이형층을 구비한다. 이에 의해, 히트 시일층의 전사성을 향상시킬 수 있다. 이형층은, 전사 시에 기재측에 머무른다.
일 실시형태에 있어서, 이형층은, 수지 재료를 1종 또는 2종 이상 포함한다. 수지 재료로서는, 예컨대, (메트)아크릴 수지, 폴리우레탄, 아세탈 수지, 폴리아미드, 폴리에스테르, 멜라민 수지, 폴리올 수지, 셀룰로오스 수지 및 실리콘 수지를 들 수 있다.
일 실시형태에 있어서, 이형층은, 이형재를 1종 또는 2종 이상 포함한다. 이형재로서는, 예컨대, 실리콘 오일, 인산에스테르계 가소재, 불소계 화합물, 왁스, 금속 비누 및 입자를 들 수 있다.
이형층의 두께는, 0.2 ㎛ 이상 2.0 ㎛ 이하가 바람직하다.
이형층은, 예컨대, 상기 재료를 물 또는 적당한 유기 용매에 분산 또는 용해하여 얻어진 도공액을, 상기 공지된 수단에 의해, 제1 기재 상에 도포하여 도막을 형성시키고, 이것을 건조시킴으로써 형성할 수 있다.
(배면층)
일 실시형태에 있어서, 본 개시의 열전사 시트는, 제1 기재의 착색층 등이 형성된 면과는 반대의 면에, 배면층을 구비한다. 이에 의해, 열전사 시의 가열에 의한 스티킹 및 주름의 발생을 억제할 수 있다.
일 실시형태에 있어서, 배면층은, 수지 재료를 1종 또는 2종 이상 포함한다. 수지 재료로서는, 예컨대, 비닐 수지, 폴리에스테르, 폴리아미드, 폴리올레핀, (메트)아크릴 수지, 폴리올레핀, 폴리우레탄, 셀룰로오스 수지 및 페놀 수지를 들 수 있다.
배면층의 두께는, 0.3 ㎛ 이상 3.0 ㎛ 이하가 바람직하다.
배면층은, 예컨대, 상기 재료를 물 또는 적당한 유기 용매에 분산 또는 용해하여 얻어진 도공액을, 상기 공지된 수단에 의해, 제1 기재 상에 도포하여 도막을 형성시키고, 이것을 건조시킴으로써 형성할 수 있다.
(중간 전사 매체)
중간 전사 매체는, 제2 기재와, 전사층을 구비한다. 일 실시형태에 있어서, 전사층은, 박리층 및 수용층을 구비한다. 일 실시형태에 있어서, 전사층은, 박리층과 수용층 사이에, 보호층을 구비한다.
(제2 기재)
제2 기재로서는, 제1 기재에 사용할 수 있는 재료를 적절히 선택하여 사용할 수 있다.
(박리층)
박리층은, 중간 전사 매체로부터 피전사체 상에 전사되는 층이고, 인화물의 최표면에 위치하게 되는 층이다.
박리층은, 수지 재료를 1종 또는 2종 이상 포함한다. 수지 재료로서는, 예컨대, 폴리에스테르, 폴리아미드, 폴리올레핀, 비닐 수지, (메트)아크릴 수지, 이미드 수지, 셀룰로오스 수지, 스티렌 수지, 폴리카보네이트 및 이오노머 수지를 들 수 있다.
일 실시형태에 있어서, 박리층은, (히트 시일층)란에서 설명한 상기 입자를 1종 또는 2종 이상 포함한다.
박리층이 입자를 포함하는 경우, 입자의 굴절률로부터 박리층에 포함되는 수지 재료의 굴절률을 뺀 값은, -0.07 이상이 바람직하고, 0.01 이상이 보다 바람직하다. 이에 의해, 부분적으로 매우 높은 매트감을 갖는 인화물을 제조할 수 있다. 입자의 굴절률로부터 수지 재료의 굴절률을 뺀 값의 상한은, 예컨대, 0.4이다.
박리층에 있어서의 입자의 함유량은, 수지 재료 100 질량부에 대해, 10 질량부 이상이 바람직하고, 30 질량부 이상이 보다 바람직하다. 이에 의해, 부분적으로 매우 높은 매트감을 갖는 인화물을 제조할 수 있다.
박리층의 형성성이라고 하는 관점에서, 입자의 함유량은, 수지 재료 100 질량부에 대해, 120 질량부 이하가 바람직하다.
박리층이 입자를 포함하는 경우에 있어서, 열전사 시트가 구비하는 히트 시일층에 있어서의 입자의 함유량은, 히트 시일층에 포함되는 수지 재료 100 질량부에 대해, 10 질량부 이하가 바람직하고, 1 질량부 이하가 보다 바람직하며, 입자는 포함되지 않는 것이 특히 바람직하다.
일 실시형태에 있어서, 박리층은, 상기 펄 안료를 1종 또는 2종 이상 포함한다.
박리층에 있어서의 펄 안료의 함유량은, 일 실시형태에 있어서 상기한 바와 같이 히트 시일층 및 전사층에 있어서의 펄 안료의 함유량차를 만족시킬 수 있으면 특별히 한정되는 것은 아니지만, 수지 재료 100 질량부에 대해, 10 질량부 이상이 바람직하고, 30 질량부 이상이 보다 바람직하다. 이에 의해, 부분적으로 매우 높은 펄감을 갖는 인화물을 제조할 수 있다.
박리층의 형성성이라고 하는 관점에서, 펄 안료의 함유량은, 수지 재료 100 질량부에 대해, 120 질량부 이하가 바람직하다.
박리층이 펄 안료를 포함하는 경우에 있어서, 열전사 시트가 구비하는 히트 시일층에 있어서의 펄 안료의 함유량은, 히트 시일층에 포함되는 수지 재료 100 질량부에 대해, 10 질량부 이하가 바람직하고, 1 질량부 이하가 보다 바람직하며, 펄 안료는 포함되지 않는 것이 특히 바람직하다.
일 실시형태에 있어서, 박리층은, 상기 금속 안료를 1종 또는 2종 이상 포함한다.
박리층에 있어서의 금속 안료의 함유량은, 일 실시형태에 있어서 상기한 바와 같이 히트 시일층 및 전사층에 있어서의 금속 안료의 함유량차를 만족시킬 수 있으면 특별히 한정되는 것은 아니지만, 수지 재료 100 질량부에 대해, 10 질량부 이상이 바람직하고, 30 질량부 이상이 보다 바람직하다. 이에 의해, 부분적으로 매우 높은 금속 광택감을 갖는 인화물을 제조할 수 있다.
박리층의 형성성이라고 하는 관점에서, 금속 안료의 함유량은, 수지 재료 100 질량부에 대해, 120 질량부 이하가 바람직하다.
박리층이 금속 안료를 포함하는 경우에 있어서, 열전사 시트가 구비하는 히트 시일층에 있어서의 금속 안료의 함유량은, 히트 시일층에 포함되는 수지 재료 100 질량부에 대해, 10 질량부 이하가 바람직하고, 1 질량부 이하가 보다 바람직하며, 금속 안료는 포함되지 않는 것이 특히 바람직하다.
일 실시형태에 있어서, 박리층은, 상기 발포 입자를 1종 또는 2종 이상 포함한다.
박리층에 있어서의 발포 입자의 함유량은, 일 실시형태에 있어서 상기한 바와 같이 히트 시일층 및 전사층에 있어서의 발포 입자의 함유량차를 만족시킬 수 있으면 특별히 한정되는 것은 아니지만, 수지 재료 100 질량부에 대해, 10 질량부 이상이 바람직하고, 30 질량부 이상이 보다 바람직하다. 이에 의해, 부분적으로 매우 높은 입체감을 갖는 인화물을 제조할 수 있다.
박리층의 형성성이라고 하는 관점에서, 발포 입자의 함유량은, 수지 재료 100 질량부에 대해, 120 질량부 이하가 바람직하다.
박리층이 발포 입자를 포함하는 경우에 있어서, 열전사 시트가 구비하는 히트 시일층에 있어서의 발포 입자의 함유량은, 히트 시일층에 포함되는 수지 재료 100 질량부에 대해, 10 질량부 이하가 바람직하고, 1 질량부 이하가 보다 바람직하며, 발포 입자는 포함되지 않는 것이 특히 바람직하다.
일 실시형태에 있어서, 박리층은, 왁스를 1종 또는 2종 이상 포함한다. 왁스로서는, 예컨대, 밀랍, 경랍, 목랍, 미강랍, 카르나우바 왁스, 칸데릴라 왁스 및 몬탄 왁스 등의 천연 왁스, 파라핀 왁스, 마이크로크리스탈린 왁스, 산화 왁스, 오조케라이트, 세레신, 에스테르 왁스 및 폴리에틸렌 왁스 등의 합성 왁스, 마르가르산, 라우르산, 미리스트산, 팔미트산, 스테아르산, 푸로인산 및 베헤닌산 등의 고급 포화 지방산, 스테아릴알코올 및 베헤닐알코올 등의 고급 포화 1가 알코올, 소르비탄의 지방산에스테르 등의 고급 에스테르, 스테아르산아미드 및 올레산아미드 등의 고급 지방산아미드를 들 수 있다.
박리층은, 상기 첨가재를 1종 또는 2종 이상 포함할 수 있다.
박리층의 두께는, 0.3 ㎛ 이상 20 ㎛ 이하가 바람직하고, 0.5 ㎛ 이상 10 ㎛ 이하가 보다 바람직하다.
박리층은, 예컨대, 상기 재료를 물 또는 적당한 유기 용매에 분산 또는 용해하여 얻어진 도공액을, 상기 공지된 수단에 의해, 제2 기재 상에 도포하여 도막을 형성시키고, 이것을 건조시킴으로써 형성할 수 있다.
(수용층)
일 실시형태에 있어서, 수용층은, 수지 재료를 1종 또는 2종 이상 포함한다. 수지 재료로서는, 예컨대, 폴리올레핀, 폴리염화비닐 및 염화비닐-아세트산비닐 공중합체 등의 비닐 수지, (메트)아크릴 수지, 셀룰로오스 수지, 폴리에스테르, 폴리아미드, 폴리카보네이트, 스티렌 수지, 에폭시 수지, 폴리우레탄, 에폭시 수지 및 이오노머 수지를 들 수 있다.
일 실시형태에 있어서, 수용층은, 이형재를 1종 또는 2종 이상 포함한다. 이에 의해, 열전사 시트로부터의 이형성을 향상시킬 수 있다.
이형재로서는, 예컨대, 폴리에틸렌 왁스, 폴리아미드 왁스, 테플론(등록 상표) 파우더 등의 고형 왁스류, 불소계 또는 인산에스테르계 계면 활성재, 실리콘 오일, 반응성 실리콘 오일, 경화형 실리콘 오일 등의 각종 변성 실리콘 오일, 및 실리콘 수지를 들 수 있다.
상기 실리콘 오일로서는 유상(油狀)의 것도 이용할 수 있으나, 변성 실리콘 오일이 바람직하다. 변성 실리콘 오일로서는, 아미노 변성 실리콘, 에폭시 변성 실리콘, 아랄킬 변성 실리콘, 에폭시-아랄킬 변성 실리콘, 알코올 변성 실리콘, 비닐 변성 실리콘, 우레탄 변성 실리콘이 바람직하고, 에폭시 변성 실리콘, 아랄킬 변성 실리콘, 에폭시-아랄킬 변성 실리콘이 특히 바람직하다.
일 실시형태에 있어서, 수용층은, (히트 시일층)란에서 설명한 상기 입자를 1종 또는 2종 이상 포함한다.
수용층이 입자를 포함하는 경우, 입자의 굴절률로부터 수용층에 포함되는 수지 재료의 굴절률을 뺀 값은, -0.07 이상이 바람직하고, 0.01 이상이 보다 바람직하다. 이에 의해, 부분적으로 매우 높은 매트감을 갖는 인화물을 제조할 수 있다. 입자의 굴절률로부터 수지 재료의 굴절률을 뺀 값의 상한은, 예컨대, 0.4이다.
수용층에 있어서의 입자의 함유량은, 수지 재료 100 질량부에 대해, 10 질량부 이상이 바람직하고, 30 질량부 이상이 보다 바람직하다. 이에 의해, 부분적으로 매우 높은 매트감을 갖는 인화물을 제조할 수 있다.
수용층의 형성성이라고 하는 관점에서, 입자의 함유량은, 수지 재료 100 질량부에 대해, 120 질량부 이하가 바람직하다.
수용층이 입자를 포함하는 경우에 있어서, 열전사 시트가 구비하는 히트 시일층에 있어서의 입자의 함유량은, 히트 시일층에 포함되는 수지 재료 100 질량부에 대해, 10 질량부 이하가 바람직하고, 1 질량부 이하가 보다 바람직하며, 입자는 포함되지 않는 것이 특히 바람직하다.
일 실시형태에 있어서, 수용층은, 상기 펄 안료를 1종 또는 2종 이상 포함한다.
수용층에 있어서의 펄 안료의 함유량은, 일 실시형태에 있어서 상기한 바와 같이 히트 시일층 및 전사층에 있어서의 펄 안료의 함유량차를 만족시킬 수 있으면 특별히 한정되는 것은 아니지만, 수지 재료 100 질량부에 대해, 10 질량부 이상이 바람직하고, 30 질량부 이상이 보다 바람직하다. 이에 의해, 부분적으로 매우 높은 펄감을 갖는 인화물을 제조할 수 있다.
수용층의 형성성이라고 하는 관점에서, 펄 안료의 함유량은, 수지 재료 100 질량부에 대해, 120 질량부 이하가 바람직하다.
수용층이 펄 안료를 포함하는 경우에 있어서, 열전사 시트가 구비하는 히트 시일층에 있어서의 펄 안료의 함유량은, 히트 시일층에 포함되는 수지 재료 100 질량부에 대해, 10 질량부 이하가 바람직하고, 1 질량부 이하가 보다 바람직하며, 펄 안료는 포함되지 않는 것이 특히 바람직하다.
일 실시형태에 있어서, 수용층은, 상기 금속 안료를 1종 또는 2종 이상 포함한다.
수용층에 있어서의 금속 안료의 함유량은, 일 실시형태에 있어서 상기한 바와 같이 히트 시일층 및 전사층에 있어서의 금속 안료의 함유량차를 만족시킬 수 있으면 특별히 한정되는 것은 아니지만, 수지 재료 100 질량부에 대해, 10 질량부 이상이 바람직하고, 30 질량부 이상이 보다 바람직하다. 이에 의해, 부분적으로 매우 높은 금속 광택감을 갖는 인화물을 제조할 수 있다.
수용층의 형성성이라고 하는 관점에서, 금속 안료의 함유량은, 수지 재료 100 질량부에 대해, 120 질량부 이하가 바람직하다.
수용층이 금속 안료를 포함하는 경우에 있어서, 열전사 시트가 구비하는 히트 시일층에 있어서의 금속 안료의 함유량은, 히트 시일층에 포함되는 수지 재료 100 질량부에 대해, 10 질량부 이하가 바람직하고, 1 질량부 이하가 보다 바람직하며, 금속 안료는 포함되지 않는 것이 특히 바람직하다.
일 실시형태에 있어서, 수용층은, 상기 발포 입자를 1종 또는 2종 이상 포함한다.
수용층에 있어서의 발포 입자의 함유량은, 일 실시형태에 있어서 상기한 바와 같이 히트 시일층 및 전사층에 있어서의 발포 입자의 함유량차를 만족시킬 수 있으면 특별히 한정되는 것은 아니지만, 수지 재료 100 질량부에 대해, 10 질량부 이상이 바람직하고, 30 질량부 이상이 보다 바람직하다. 이에 의해, 부분적으로 매우 높은 입체감을 갖는 인화물을 제조할 수 있다.
수용층의 형성성이라고 하는 관점에서, 발포 입자의 함유량은, 수지 재료 100 질량부에 대해, 120 질량부 이하가 바람직하다.
수용층이 발포 입자를 포함하는 경우에 있어서, 열전사 시트가 구비하는 히트 시일층에 있어서의 발포 입자의 함유량은, 히트 시일층에 포함되는 수지 재료 100 질량부에 대해, 10 질량부 이하가 바람직하고, 1 질량부 이하가 보다 바람직하며, 발포 입자는 포함되지 않는 것이 특히 바람직하다.
수용층은, 상기 첨가재를 1종 또는 2종 이상 포함할 수 있다.
수용층의 두께는, 0.5 ㎛ 이상 20 ㎛ 이하가 바람직하고, 1 ㎛ 이상 10 ㎛ 이하가 보다 바람직하다. 이에 의해, 수용층 상에 형성되는 화상의 농도를 향상시킬 수 있다.
수용층은, 예컨대, 상기 재료를 물 또는 적당한 유기 용매에 분산 또는 용해하여 얻어진 도공액을, 상기 공지된 수단에 의해, 제2 기재 등 상의 임의의 층 상에 도포하여 도막을 형성시키고, 이것을 건조시킴으로써 형성할 수 있다.
(보호층)
일 실시형태에 있어서, 중간 전사 매체가 구비하는 전사층은, 박리층과 수용층 사이에, 보호층을 구비한다.
일 실시형태에 있어서, 보호층은, 수지 재료를 1종 또는 2종 이상 포함한다. 수지 재료로서는, 예컨대, 폴리에스테르, (메트)아크릴 수지, 에폭시 수지, 스티렌 수지, 아크릴폴리올 수지, 폴리우레탄, 전리 방사선 경화성 수지 및 자외선 흡수성 수지를 들 수 있다.
일 실시형태에 있어서, 보호층은, 이소시아네이트 화합물을 1종 또는 2종 이상 포함한다. 이소시아네이트 화합물로서는, 예컨대, 크실렌디이소시아네이트, 톨루엔디이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트 및 헥사메틸렌디이소시아네이트를 들 수 있다.
일 실시형태에 있어서, 보호층은, (히트 시일층)란에서 설명한 상기 입자를 1종 또는 2종 이상 포함한다.
보호층이 입자를 포함하는 경우, 입자의 굴절률로부터 보호층에 포함되는 수지 재료의 굴절률을 뺀 값은, -0.07 이상이 바람직하고, 0.01 이상이 보다 바람직하다. 이에 의해, 부분적으로 매우 높은 매트감을 갖는 인화물을 제조할 수 있다. 입자의 굴절률로부터 수지 재료의 굴절률을 뺀 값의 상한은, 예컨대, 0.4이다.
보호층에 있어서의 입자의 함유량은, 수지 재료 100 질량부에 대해, 10 질량부 이상이 바람직하고, 30 질량부 이상이 보다 바람직하다. 이에 의해, 부분적으로 매우 높은 매트감을 갖는 인화물을 제조할 수 있다.
보호층의 형성성이라고 하는 관점에서, 입자의 함유량은, 수지 재료 100 질량부에 대해, 120 질량부 이하가 바람직하다.
보호층이 입자를 포함하는 경우에 있어서, 열전사 시트가 구비하는 히트 시일층에 있어서의 입자의 함유량은, 히트 시일층에 포함되는 수지 재료 100 질량부에 대해, 10 질량부 이하가 바람직하고, 1 질량부 이하가 보다 바람직하며, 입자는 포함되지 않는 것이 특히 바람직하다.
일 실시형태에 있어서, 보호층은, 상기 펄 안료를 1종 또는 2종 이상 포함한다.
보호층에 있어서의 펄 안료의 함유량은, 일 실시형태에 있어서 상기한 바와 같이 히트 시일층 및 전사층에 있어서의 펄 안료의 함유량차를 만족시킬 수 있으면 특별히 한정되는 것은 아니지만, 수지 재료 100 질량부에 대해, 10 질량부 이상이 바람직하고, 30 질량부 이상이 보다 바람직하다. 이에 의해, 부분적으로 매우 높은 펄감을 갖는 인화물을 제조할 수 있다.
보호층의 형성성이라고 하는 관점에서, 펄 안료의 함유량은, 수지 재료 100 질량부에 대해, 120 질량부 이하가 바람직하다.
보호층이 펄 안료를 포함하는 경우에 있어서, 열전사 시트가 구비하는 히트 시일층에 있어서의 펄 안료의 함유량은, 히트 시일층에 포함되는 수지 재료 100 질량부에 대해, 10 질량부 이하가 바람직하고, 1 질량부 이하가 보다 바람직하며, 펄 안료는 포함되지 않는 것이 특히 바람직하다.
일 실시형태에 있어서, 보호층은, 상기 금속 안료를 1종 또는 2종 이상 포함한다.
보호층에 있어서의 금속 안료의 함유량은, 일 실시형태에 있어서 상기한 바와 같이 히트 시일층 및 전사층에 있어서의 금속 안료의 함유량차를 만족시킬 수 있으면 특별히 한정되는 것은 아니지만, 수지 재료 100 질량부에 대해, 10 질량부 이상이 바람직하고, 30 질량부 이상이 보다 바람직하다. 이에 의해, 부분적으로 매우 높은 금속 광택감을 갖는 인화물을 제조할 수 있다.
보호층의 형성성이라고 하는 관점에서, 금속 안료의 함유량은, 수지 재료 100 질량부에 대해, 120 질량부 이하가 바람직하다.
보호층이 금속 안료를 포함하는 경우에 있어서, 열전사 시트가 구비하는 히트 시일층에 있어서의 금속 안료의 함유량은, 히트 시일층에 포함되는 수지 재료 100 질량부에 대해, 10 질량부 이하가 바람직하고, 1 질량부 이하가 보다 바람직하며, 금속 안료는 포함되지 않는 것이 특히 바람직하다.
일 실시형태에 있어서, 보호층은, 상기 발포 입자를 1종 또는 2종 이상 포함한다.
보호층에 있어서의 발포 입자의 함유량은, 일 실시형태에 있어서 상기한 바와 같이 히트 시일층 및 전사층에 있어서의 발포 입자의 함유량차를 만족시킬 수 있으면 특별히 한정되는 것은 아니지만, 수지 재료 100 질량부에 대해, 10 질량부 이상이 바람직하고, 30 질량부 이상이 보다 바람직하다. 이에 의해, 부분적으로 매우 높은 입체감을 갖는 인화물을 제조할 수 있다.
보호층의 형성성이라고 하는 관점에서, 발포 입자의 함유량은, 수지 재료 100 질량부에 대해, 120 질량부 이하가 바람직하다.
보호층이 발포 입자를 포함하는 경우에 있어서, 열전사 시트가 구비하는 히트 시일층에 있어서의 발포 입자의 함유량은, 히트 시일층에 포함되는 수지 재료 100 질량부에 대해, 10 질량부 이하가 바람직하고, 1 질량부 이하가 보다 바람직하며, 발포 입자는 포함되지 않는 것이 특히 바람직하다.
보호층은, 상기 첨가재를 1종 또는 2종 이상 포함할 수 있다.
보호층의 두께는, 0.5 ㎛ 이상 7 ㎛ 이하가 바람직하고, 1 ㎛ 이상 5 ㎛ 이하가 보다 바람직하다. 이에 의해, 보호층의 내구성을 보다 향상시킬 수 있다.
보호층은, 예컨대, 상기 재료를 물 또는 적당한 유기 용매에 분산 또는 용해하여 얻어진 도공액을, 상기 공지된 수단에 의해, 박리층 상에 도포하여 도막을 형성시키고, 이것을 건조시킴으로써 형성할 수 있다.
전사층은, 입자, 펄 안료, 금속 안료 및 발포 입자에서 선택되는 2종 이상을 포함하는 층을 구비하고 있어도 좋다. 전사층은, 입자, 펄 안료, 금속 안료 및 발포 입자에서 선택되는 재료를 포함하는 층을 2층 이상 구비하고, 각각이 상이한 재료를 포함하는 구성이어도 좋다. 예컨대, 박리층이 입자를 포함하고, 수용층이 펄 안료를 포함하고 있어도 좋다.
[인화물의 제조 방법]
이하, 본 개시의 인화물의 제조 방법에 포함되는 공정을 설명한다.
(열전사 시트 및 중간 전사 매체의 준비 공정)
본 개시의 인화물의 제조 방법은, 제1 기재와, 제1 기재 상에 형성된, 착색층, 필 오프층 및 히트 시일층을 구비하는 열전사 시트, 및, 제2 기재와, 전사층을 구비하는 중간 전사 매체의 조합을 준비하는 공정을 포함한다(도 2(a) 참조).
열전사 시트 및 중간 전사 매체의 구체예, 적합예 및 제작 방법에 대해서는, 바람직하게는 상기한 바와 같기 때문에, 여기서는 기재를 생략한다. 상기 조합으로서는, 전술한 본 개시의 조합이 바람직하다.
(화상 형성 공정)
본 개시의 인화물의 제조 방법은, 중간 전사 매체가 구비하는 전사층 상에, 화상을 형성하는 공정을 포함한다(도 2(b) 참조). 화상 형성에는, 상기 열전사 시트를 사용해도 좋고, 상이한 열전사 시트를 사용해도 좋다.
(필 오프 공정)
본 개시의 인화물의 제조 방법은, 중간 전사 매체가 구비하는 전사층의 일부와, 열전사 시트가 구비하는 필 오프층의 적어도 일부를 가열 압착한 후, 가열 압착된 부분의 전사층을, 중간 전사 매체로부터 필 오프하는 공정을 포함한다(도 2(c) 참조).
본 공정에서의 필 오프는, 전사층의 일부를 제거하는 것이며, 하기 피전사체 상에의 전사 공정에 있어서의 전사와는 명확히 구별된다.
이하, 중간 전사 매체에 있어서의, 전사층이 필 오프될 예정인 영역을 「제거 예정 영역」이라고도 한다. 제거 예정 영역의 전사층에는, 화상이 형성되어 있지 않아도 좋고, 화상이 형성되어 있어도 좋다. 즉, 필 오프되는 일부의 전사층에는, 화상이 형성되어 있지 않아도 좋고, 화상이 형성되어 있어도 좋다.
일 실시형태에 있어서, 중간 전사 매체의 제거 예정 영역에 형성된 전사층의 필 오프는, 제거 예정 영역의 적어도 일부에 있어서, 중간 전사 매체가 구비하는 전사층과, 열전사 시트가 구비하는 필 오프층을 중첩시키고, 계속해서, 열전사 시트를 배면층측으로부터 서멀 헤드 등을 이용하여 가열하며, 압착시키고, 열전사 시트를 박리함으로써 행할 수 있다.
본 공정에 있어서, 전사층과 필 오프층의 가열 압착은, 제거 예정 영역의 전역에 걸쳐 행해지는 것이 바람직하다. 이에 의해, 제거 예정 영역에 형성된 전사층을 보다 정확히 필 오프할 수 있다.
(히트 시일층의 전사 공정)
본 개시의 인화물의 제조 방법은, 중간 전사 매체의 전사층이 필 오프되지 않은 영역(이하 「비제거 영역」이라고도 한다.), 및 중간 전사 매체의 전사층이 필 오프된 영역(이하 「제거 영역」이라고도 한다.)에, 열전사 시트로부터 히트 시일층을 전사하는 공정(도 2(d) 참조)을 포함한다. 상기 전사는, 시판되는 열전사 프린터를 이용하여, 종래 공지된 방법에 의해 행할 수 있다.
본 공정에 의해, 예컨대, 비제거 영역에 있어서 적어도 일부에 화상이 형성된 전사층 상과, 제거 영역에 있어서 제2 기재 상에, 히트 시일층이 전사된다.
히트 시일층을 전사함으로써, 제거 영역의 근방의 전사층의, 피전사체에의 전사성을 향상시킬 수 있다. 따라서, 열전사 시트와 중간 전사 매체의 조합을 이용하여 중간 전사 매체로부터 전사층의 일부를 제거하는 공정을 포함하는 인화물의 제조 방법에 있어서, 전사 불량을 억제할 수 있다.
(피전사체 상에의 전사 공정)
본 개시의 인화물의 제조 방법은, 중간 전사 매체의 비제거 영역에 있어서의, 적어도 일부에 화상이 형성된 전사층 및 전사된 히트 시일층과, 중간 전사 매체의 제거 영역에 있어서의 전사된 히트 시일층을, 피전사체 상에 전사하는 공정을 포함한다(도 2(e) 참조). 상기 전사는, 시판되는 열전사 프린터를 이용하여, 종래 공지된 방법에 의해 행할 수 있다.
피전사체는, 용도에 따라 적절히 선택하여 사용할 수 있고, 예컨대, 상질지, 아트지, 코트지, 레진 코트지, 캐스트 코트지, 판지, 합성지 및 함침지(含浸紙) 등의 종이 기재나 상기 수지 필름 등을 사용할 수 있다.
[인화물]
상기한 바와 같이, 중간 전사 매체가 구비하는 전사층은, 선택적으로 필 오프되어 있고, 본 개시의 인화물(30)(도 3 참조)은, 중간 전사 매체로부터 전사층이 전사된 영역과, 전사층이 전사되어 있지 않은 영역을 갖는다. 이 전사층이 전사된 영역은, 볼록부가 되어, 인화물에 입체감을 부여할 수 있다.
중간 전사 매체로부터 전사된 전사층과, 전사층이 전사되어 있지 않은 영역에 있어서 최표면층으로서 위치하는 히트 시일층의 조성을 상이하게 함으로써, 부분적으로 질감이 상이한 인화물로 하거나, 보다 입체감이 있는 인화물로 하거나 할 수 있다.
본 개시는 예컨대 이하의 [1]∼[10]에 관한 것이다.
[1] 열전사 시트와 중간 전사 매체의 조합으로서,
열전사 시트가, 제1 기재와, 제1 기재 상에 형성된, 착색층, 필 오프층 및 히트 시일층을 구비하고,
중간 전사 매체가, 제2 기재와, 전사층을 구비하며,
필 오프층이, 중간 전사 매체에 있어서의 전사층의 일부를 제거하기 위한 층이고,
히트 시일층과, 전사층의 45도 경면 광택도차의 절대값이, 20% 이상인,
열전사 시트와 중간 전사 매체의 조합.
[2] 열전사 시트와 중간 전사 매체의 조합으로서,
열전사 시트가, 제1 기재와, 제1 기재 상에 형성된, 착색층, 필 오프층 및 히트 시일층을 구비하고,
중간 전사 매체가, 제2 기재와, 전사층을 구비하며,
필 오프층이, 중간 전사 매체에 있어서의 전사층의 일부를 제거하기 위한 층이고,
ΔL* HS와 ΔL* T의 차의 절대값이, 5 이상 30 이하인
[ΔL* HS는, 히트 시일층에 입사각 45도로 광을 입사했을 때의, 광의 입사각의 정반사각에 대한 수광각 110도 및 15도에 있어서의 L*값의 차의 절대값이고,
ΔL* T는, 전사층에 입사각 45도로 광을 입사했을 때의, 광의 입사각의 정반사각에 대한 수광각 110도 및 15도에 있어서의 L*값의 차의 절대값이다.],
열전사 시트와 중간 전사 매체의 조합.
[3] 히트 시일층 및 전사층에서 선택되는 적어도 하나의 층이, 펄 안료를 함유하고, 히트 시일층에 있어서의 펄 안료의 함유량과, 전사층에 있어서의 펄 안료의 함유량의 차의 절대값이, 10 질량% 이상인,
상기 [2]에 기재된 열전사 시트와 중간 전사 매체의 조합.
[4] 열전사 시트와 중간 전사 매체의 조합으로서,
열전사 시트가, 제1 기재와, 제1 기재 상에 형성된, 착색층, 필 오프층 및 히트 시일층을 구비하고,
중간 전사 매체가, 제2 기재와, 전사층을 구비하며,
필 오프층이, 중간 전사 매체에 있어서의 전사층의 일부를 제거하기 위한 층이고,
RHS와 RT의 차의 절대값이, 20% 이상 50% 이하인
[RHS는, 입사각 5도, 측정 파장 범위 400 ㎚ 이상 700 ㎚ 이하의 조건으로 히트 시일층에 광을 입사했을 때의 평균 정반사율이고,
RT는, 상기 조건으로 전사층에 광을 입사했을 때의 평균 정반사율이다.],
열전사 시트와 중간 전사 매체의 조합.
[5] 히트 시일층 및 전사층에서 선택되는 적어도 하나의 층이, 금속 안료를 함유하고, 히트 시일층에 있어서의 금속 안료의 함유량과, 전사층에 있어서의 금속 안료의 함유량의 차의 절대값이, 10 질량% 이상인, 상기 [4]에 기재된 열전사 시트와 중간 전사 매체의 조합.
[6] 열전사 시트와 중간 전사 매체의 조합으로서,
열전사 시트가, 제1 기재와, 제1 기재 상에 형성된, 착색층, 필 오프층 및 히트 시일층을 구비하고,
중간 전사 매체가, 제2 기재와, 전사층을 구비하며,
필 오프층이, 중간 전사 매체에 있어서의 전사층의 일부를 제거하기 위한 층이고,
히트 시일층의 표면 거칠기(RaHS)와, 전사층의 표면 거칠기(RaT)의 차의 절대값이, 0.5 ㎛ 이상 3.0 ㎛ 이하인,
열전사 시트와 중간 전사 매체의 조합.
[7] 히트 시일층 및 전사층에서 선택되는 적어도 하나의 층이, 발포 입자를 함유하고, 히트 시일층에 있어서의 발포 입자의 함유량과, 전사층에 있어서의 발포 입자의 함유량의 차의 절대값이, 10 질량% 이상인, 상기 [6]에 기재된 열전사 시트와 중간 전사 매체의 조합.
[8] 제1 기재와, 제1 기재 상에 형성된, 착색층, 필 오프층 및 히트 시일층을 구비하는 열전사 시트, 및, 제2 기재와, 전사층을 구비하는 중간 전사 매체의 조합을 준비하는 공정과,
중간 전사 매체가 구비하는 전사층 상에, 화상을 형성하는 공정과,
중간 전사 매체가 구비하는 전사층의 일부와, 열전사 시트가 구비하는 필 오프층의 적어도 일부를 가열 압착한 후, 가열 압착된 부분의 전사층을, 중간 전사 매체로부터 필 오프하는 공정과,
중간 전사 매체의 전사층이 필 오프되지 않은 영역, 및 중간 전사 매체의 전사층이 필 오프된 영역에, 열전사 시트로부터 히트 시일층을 전사하는 공정과,
중간 전사 매체의 전사층이 필 오프되지 않은 영역에 있어서의, 적어도 일부에 화상이 형성된 전사층 및 전사된 히트 시일층과, 중간 전사 매체의 전사층이 필 오프된 영역에 있어서의 전사된 히트 시일층을, 피전사체 상에 전사하는 공정
을 포함하는, 인화물의 제조 방법.
[9] 열전사 시트와 중간 전사 매체의 조합이, 상기 [1]∼[7] 중 어느 1항에 기재된 열전사 시트와 중간 전사 매체의 조합인, 상기 [8]에 기재된 인화물의 제조 방법.
[10] 제1 기재와, 제1 기재 상에 형성된, 착색층, 필 오프층 및 히트 시일층을 구비하는 열전사 시트, 및, 제2 기재와, 전사층을 구비하는 중간 전사 매체의 조합을 이용하여 제조한 인화물로서, 필 오프층이, 중간 전사 매체에 있어서의 전사층의 일부를 제거하기 위한 층이고,
피전사체와,
피전사체 상에 형성된 히트 시일층과,
히트 시일층 상의 일부에 형성된, 화상이 형성된 전사층
을 구비하는, 인화물.
실시예
다음으로 실시예를 들어, 본 개시의 조합 등을 더욱 상세히 설명하지만, 본 개시의 조합 등은, 이들 실시예에 한정되는 것이 아니다.
(굴절률의 측정 방법)
수지 재료 및 입자의 굴절률은, 굴절률 측정기((주)시마즈 세이사쿠쇼 제조, KPR-30)에 의해 측정하였다.
(45도 경면 광택도의 측정 방법)
45도 경면 광택도는, JIS Z8741에 기재된 45도 경면 광택도 측정 방법에 준거하여, 광택도계(닛폰 덴쇼쿠 고교(주) 제조, VG 7000)를 이용하여 측정하였다.
(ΔL*의 측정 방법)
수광각 110도 및 15도의 ΔL*는, JIS-Z-8781-4(2013)에 준거하여, 변각 측색계로 측정 산출되는, 수광각 110도의 L*와, 수광각 15도의 L*의 차의 절대값을 의미한다. 변각 측색계로서, GC-2000(닛폰 덴쇼쿠 고교(주))을 사용하였다. 입사광은, 백색 표준판에 입사각 45도로 광을 입사했을 때의, 정반사각의 L*가 79 이상 81 이하가 되도록 설정하고 있다. 백색 표준판은, 상기 변각 측색계(GC-2000 닛폰 덴쇼쿠 고교(주))에 부속된 순정(純正) 표준판을 사용하였다. 파장은 D65 광원(시야각 2°)이다.
(정반사율의 측정 방법)
정반사율은, 히트 시일층 및 전사층에 대해, 분광 광도계(Solid Spec 3700DUV, (주)시마즈 세이사쿠쇼)를 이용하여 측정하였다. 측정 조건은, 입사각 5도에 있어서, 파장 400 ㎚ 이상 700 ㎚ 이하의 범위에서, 1 ㎚마다, 정반사율(절대 반사율)을 측정하고, 이 파장 범위에 있어서의 평균 정반사율을 산출하였다.
(표면 거칠기 Ra의 측정 방법)
표면 거칠기 Ra란, 산술 평균 거칠기이고, JIS B 0601에 준거하여, 표면 거칠기 측정 기능을 갖는 레이저 현미경((주)기엔스 제조, 상품명: VK-X150)을 이용하여 측정하였다.
실시예 1
[열전사 시트의 제작]
제1 기재로서, 두께 6 ㎛의 PET 필름을 준비하였다. 제1 기재의 한쪽 면에, 하기 조성의 프라이머층 형성용 도공액 A를 도포, 건조시켜, 두께 0.15 ㎛의 프라이머층 A를 형성하였다. 계속해서, 프라이머층 A 상에 하기 조성의 승화 전사형의 착색층 형성용 도공액 A, B 및 C를 면순차로 도포, 건조시켜, 각각 두께 0.7 ㎛의 승화 전사형 착색층 A∼C를 형성하였다.
<프라이머층 형성용 도공액 A>
·알루미나 졸 50 질량부
　(닛산 가가쿠 고교(주) 제조, 알루미나 졸 200, 고형분 10.5%)
·비닐피롤리돈-아세트산비닐 공중합체 4 질량부
　(아이에스피·재팬(주) 제조, PVP/VA E-335, 고형분 50%)
<착색층 형성용 도공액 A>
·옐로우 승화성 염료 6 질량부
·폴리비닐아세탈 4 질량부
　(세키스이 가가쿠 고교(주) 제조, 에스렉(S-LEC)(등록 상표) KS-6)
·메틸에틸케톤(MEK) 45 질량부
·톨루엔 45 질량부
<착색층 형성용 도공액 B>
·마젠타 승화성 염료 6 질량부
·폴리비닐아세탈 4 질량부
　(세키스이 가가쿠 고교(주) 제조, 에스렉(등록 상표) KS-6)
·MEK 45 질량부
·톨루엔 45 질량부
<착색층 형성용 도공액 C>
·시안 승화성 염료 6 질량부
·폴리비닐아세탈 4 질량부
　(세키스이 가가쿠 고교(주) 제조, 에스렉(등록 상표) KS-6)
·MEK 45 질량부
·톨루엔 45 질량부
상기한 바와 같이 형성한 승화 전사형 착색층과 면순차가 되도록, 제1 기재의 한쪽 면에, 하기 조성의 착색층 형성용 도공액 D를 도포, 건조시켜, 두께 0.7 ㎛의 용융 전사형 착색층 D를 형성하였다.
<착색층 형성용 도공액 D>
·카본 블랙 50 질량부
·염화비닐-아세트산비닐 공중합체 50 질량부
　(닛신 가가쿠 고교(주) 제조, 솔바인(등록 상표) CNL)
·MEK 200 질량부
·톨루엔 200 질량부
상기한 바와 같이 형성한 착색층과 면순차가 되도록, 제1 기재의 한쪽 면에, 하기 조성의 프라이머층 형성용 도공액 B를 도포, 건조시켜, 두께 0.1 ㎛의 프라이머층을 형성하고, 계속해서, 이 프라이머층 상에, 하기 조성의 필 오프층 형성용 도공액을 도포, 건조시켜, 두께 0.5 ㎛의 필 오프층을 형성하였다.
<프라이머층 형성용 도공액 B>
·폴리에스테르 10 질량부
　(모톤 케미컬사 제조, Mor-Ester49000)
·디메틸카보네이트 45 질량부
·메틸에틸케톤 45 질량부
<필 오프층 형성용 도공액>
·염화비닐-아세트산비닐 공중합체 5 질량부
　(닛신 가가쿠 고교(주) 제조, 솔바인(등록 상표) A)
·MEK 47.5 질량부
·톨루엔 47.5 질량부
상기한 바와 같이 하여 형성한 필 오프층과 면순차가 되도록, 제1 기재의 한쪽 면에, 하기 조성의 히트 시일층 형성용 도공액을 도포, 건조시켜, 두께 1 ㎛의 히트 시일층을 형성하였다.
<히트 시일층 형성용 도공액>
·염화비닐-아세트산비닐 공중합체 20 질량부
　(닛신 가가쿠 고교(주) 제조, 솔바인(등록 상표) CNL)
·MEK 40 질량부
·톨루엔 40 질량부
제1 기재의 다른쪽 면에, 하기 조성의 배면층 형성용 도공액을 도포, 건조시켜, 두께 1 ㎛의 배면층을 형성하여, 열전사 시트를 얻었다.
<배면층 형성용 도공액>
·폴리비닐부티랄 2 질량부
　(세키스이 가가쿠 고교(주) 제조, 에스렉(등록 상표) BX-1)
·폴리이소시아네이트 9.2 질량부
　(DIC(주) 제조, 바녹(BURNOCK)(등록 상표) D750)
·인산에스테르계 계면 활성제 1.3 질량부
　(다이이치 고교 세이야쿠(주) 제조, 플라이서프(PLYSURF)(등록 상표) A208N)
·탤크 0.3 질량부
　(닛폰 탤크 고교(주) 제조, 미크로 에이스(MICRO ACE)(등록 상표) P-3)
·MEK 43.6 질량부
·톨루엔 43.6 질량부
[중간 전사 매체의 제작]
제2 기재로서, 두께 12 ㎛의 PET를 준비하였다. 제2 기재의 한쪽 면에, 하기 조성의 박리층 형성용 도공액을 도포, 건조시켜, 두께 1.6 ㎛의 박리층을 형성하였다.
박리층을 구성하는 수지 재료, 및 입자의 굴절률은, 각각, 1.49, 1.66이었다.
<박리층 형성용 도공액>
·(메트)아크릴 수지 95 질량부
　(미츠비시 케미컬(주) 제조, 다이아날(DIANAL)(등록 상표) BR-87)
·폴리에스테르 5 질량부
　(도요보(주) 제조, 바이론(VYLON)(등록 상표) 200)
·멜라민 수지 입자 50 질량부
　((주)닛폰 쇼쿠바이 제조, 에포스타(EPOSTAR)(등록 상표) M30)
·MEK 300 질량부
·톨루엔 300 질량부
상기한 바와 같이 하여 형성한 박리층 상에, 하기 조성의 보호층 형성용 도공액을 도포, 건조시켜, 두께 4 ㎛의 보호층을 형성하였다.
<보호층 형성용 도공액>
·폴리에스테르 20 질량부
　(유니티카(주) 제조, 엘리텔(ELITEL)(등록 상표) UE-9885)
·MEK 40 질량부
·톨루엔 40 질량부
상기한 바와 같이 하여 형성한 보호층 상에, 하기 조성의 수용층 형성용 도공액을 도포, 건조시켜, 두께 2 ㎛의 수용층을 형성하여, 중간 전사 매체를 얻었다.
<수용층 형성용 도공액>
·염화비닐-아세트산비닐 공중합체 95 질량부
　(닛신 가가쿠 고교(주) 제조, 솔바인(등록 상표) CNL)
·에폭시 변성 실리콘 오일 5 질량부
　(신에츠 가가쿠 고교(주) 제조, KP-1800U)
·MEK 200 질량부
·톨루엔 200 질량부
[인화물의 제조]
상기 열전사 시트, 중간 전사 매체 및 열전사 프린터를 준비하였다.
중간 전사 매체의 수용층과 열전사 시트의 착색층을 중첩시키고, 하기 열전사 프린터가 구비하는 서멀 헤드에 의해 배면층측으로부터 열전사 시트를 가열하여, 중간 전사 매체가 구비하는 수용층 상에, 화상을 형성하였다.
(열전사 프린터)
서멀 헤드: 교세라(주) 제조, KEE-57-12GAN2-STA
발열체 평균 저항값: 3303 Ω
주(主) 주사 방향 인자 밀도: 300 dpi
부(副) 주사 방향 인자 밀도: 300 dpi
인화 전압: 18.5 V
1라인 주기: 3 msec.
인자 개시 온도: 35℃
펄스 Duty비: 85%
계속해서, 중간 전사 매체의 수용층과 열전사 시트의 필 오프층을 중첩시키고, 서멀 헤드에 의해 배면층측으로부터 1 ㎝×5 ㎝의 제거 예정 영역에 대응하는 위치의 열전사 시트를 가열하며, 0.078 ㎫의 압력을 가하여, 수용층과 필 오프층을 압착하였다. 그 후, 열전사 시트를 박리함으로써, 중간 전사 매체의 제거 예정 영역에 형성된 수용층, 보호층 및 박리층을 포함하는 전사층을 필 오프하였다.
계속해서, 상기 열전사 프린터를 이용하여, 필 오프 후의 중간 전사 매체의 전면에, 열전사 시트로부터 히트 시일층을 전사하였다.
피전사체로서, 염화비닐 카드(다이니폰 인사츠(주) 제조)를 준비하고, 이 한쪽 면에, 중간 전사 매체로부터, 히트 시일층과, 일부가 필 오프된 전사층을 전사하여, 인화물을 얻었다. 중간 전사 매체의 전사층이 필 오프되지 않은 영역에 있어서는, 전사층 및 히트 시일층의 적층체를 피전사체 상에 전사하였다. 중간 전사 매체의 전사층이 필 오프된 영역에 있어서는, 히트 시일층만을 피전사체 상에 전사하였다.
이와 같이 하여 얻어진 인화물은, 전사층이 전사된 영역은 볼록부이고, 또한 상기 영역에는 매트조(調; tone)의 화상이 형성되어 있으며, 높은 의장성을 갖고 있는 것을 확인할 수 있었다.
얻어진 인화물에 있어서의 전사층 및 히트 시일층의 45도 경면 광택도는, 각각, 20.0%, 85.0%였다.
실시예 2
박리층 형성용 도공액의 조성을 이하와 같이 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여, 인화물을 제작하였다. 이와 같이 하여 얻어진 인화물은, 전사층이 전사된 영역은 볼록부이고, 또한 상기 영역에는 매트조의 화상이 형성되어 있으며, 높은 의장성을 갖고 있는 것을 확인할 수 있었다.
박리층을 구성하는 수지 재료, 및 입자의 굴절률은, 각각, 1.49, 1.66이었다.
얻어진 인화물에 있어서의 전사층 및 히트 시일층의 45도 경면 광택도는, 각각, 43.1%, 85.0%였다.
<박리층 형성용 도공액>
·(메트)아크릴 수지 67 질량부
　(미츠비시 케미컬(주) 제조, 다이아날(등록 상표) BR-113)
·(메트)아크릴 수지 28 질량부
　(미츠비시 케미컬(주) 제조, 다이아날(등록 상표) BR-52)
·폴리에스테르 5 질량부
　(도요보(주) 제조, 바이론(등록 상표) 200)
·멜라민 수지 입자 50 질량부
　((주)닛폰 쇼쿠바이 제조, 에포스타(등록 상표) M30)
·MEK 300 질량부
·톨루엔 300 질량부
실시예 3
박리층 형성용 도공액에 있어서의 멜라민 수지 입자를, (메트)아크릴 수지 입자((주)닛폰 쇼쿠바이 제조, 에포스타(등록 상표) MA1002)로 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여, 인화물을 제작하였다. 이와 같이 하여 얻어진 인화물은, 전사층이 전사된 영역은 볼록부이고, 또한 상기 영역에는 매트조의 화상이 형성되어 있으며, 높은 의장성을 갖고 있는 것을 확인할 수 있었다.
박리층을 구성하는 수지 재료, 및 입자의 굴절률은, 각각, 1.49, 1.51이었다.
얻어진 인화물에 있어서의 전사층 및 히트 시일층의 45도 경면 광택도는, 각각, 50.3%, 85.0%였다.
실시예 4
박리층 형성용 도공액에 있어서의 멜라민 수지 입자를, 실리카 입자((주)닛폰 쇼쿠바이 제조, 시호스타(SEAHOSTAR)(등록 상표) KE-P250)로 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여, 인화물을 제작하였다. 이와 같이 하여 얻어진 인화물은, 전사층이 전사된 영역은 볼록부이고, 또한 상기 영역에는 매트조의 화상이 형성되어 있으며, 높은 의장성을 갖고 있는 것을 확인할 수 있었다.
박리층을 구성하는 수지 재료, 및 입자의 굴절률은, 각각, 1.49, 1.43이었다.
얻어진 인화물에 있어서의 전사층 및 히트 시일층의 45도 경면 광택도는, 각각, 58.9%, 85.0%였다.
실시예 5
박리층 형성용 도공액에 있어서의 멜라민 수지 입자를, 펄 안료(머크사 제조, 이리오딘(IRIODIN)(등록 상표) 111WNT)로 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여, 인화물을 제작하였다. 전사층의 ΔL* T는 37이고, 히트 시일층의 ΔL* HS는 23이었다. 이와 같이 하여 얻어진 인화물은, 전사층이 전사된 영역은 볼록부이고, 또한 상기 영역에는 펄조(調)의 화상이 형성되어 있으며, 높은 의장성을 갖고 있는 것을 확인할 수 있었다.
실시예 6
박리층 형성용 도공액에 있어서의 멜라민 수지 입자를, 발포 입자(마츠모토 유시 세이야쿠(주) 제조, 마츠모토 마이크로스페어(등록 상표) FN-100M)로 변경하고, 전사층의 전사 후에, 피전사체를 170℃로 가열한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여, 인화물을 제작하였다. 전사층의 표면 거칠기(RaT)는 2.4 ㎛이고, 히트 시일층의 표면 거칠기(RaHS)는 1.1 ㎛였다. 이와 같이 하여 얻어진 인화물은, 전사층이 전사된 영역은 볼록부이고, 또한 상기 영역에는 화상이 형성되어 있으며, 매우 높은 입체감을 갖고 있는 것을 확인할 수 있었다.
실시예 7
열전사 시트의 제작에 있어서 사용한 히트 시일층 형성용 도공액을 하기 조성의 것으로 변경하고, 중간 전사 매체의 제작에 사용한 박리층 형성용 도공액을 하기 조성의 것으로 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여, 인화물을 제작하였다. 전사층의 평균 정반사율(RT)은 25%이고, 히트 시일층의 평균 정반사율(RHS)은 54%였다.
이와 같이 하여 얻어진 인화물은, 전사층이 전사된 영역은 볼록부이고, 또한 상기 영역에는 금속조(調)의 화상이 형성되어 있으며, 높은 의장성을 갖고 있는 것을 확인할 수 있었다.
(히트 시일층 형성용 도공액)
·염화비닐-아세트산비닐 공중합체 20 질량부
　(닛신 가가쿠 고교(주) 제조, 솔바인(등록 상표) CNL)
·알루미늄 안료 20 질량부
·MEK 40 질량부
·톨루엔 40 질량부
(박리층 형성용 도공액)
·(메트)아크릴 수지 95 질량부
　(미츠비시 케미컬(주) 제조, 다이아날(등록 상표) BR-87)
·폴리에스테르 5 질량부
　(도요보(주) 제조, 바이론(등록 상표) 200)
·MEK 300 질량부
·톨루엔 300 질량부
실시예 8
박리층 형성용 도공액에 멜라민 수지 입자를 함유시키지 않은 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여, 인화물을 제작하였다. 이와 같이 하여 얻어진 인화물은, 전사층이 전사된 영역은 볼록부이고, 또한 상기 영역에는 화상이 형성되어 있었으나, 볼록부와, 그 외의 부분의 콘트라스트가 작았다.
얻어진 인화물에 있어서의 전사층 및 히트 시일층의 45도 경면 광택도는, 각각, 80.7%, 85.0%였다. 전사층의 ΔL* T는 25이고, 히트 시일층의 ΔL* HS는 23이었다. 전사층의 표면 거칠기(RaT)는 1.4 ㎛이고, 히트 시일층의 표면 거칠기(RaHS)는 1.1 ㎛였다. 전사층의 평균 정반사율(RT)은 25%이고, 히트 시일층의 평균 정반사율(RHS)은 18%였다.
실시예 9
박리층 형성용 도공액에 있어서의 멜라민 수지 입자를, 불소 수지 입자(아사히 가라스(주) 제조, 풀온 PFA)로 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여, 인화물을 제작하였다. 이와 같이 하여 얻어진 인화물은, 전사층이 전사된 영역은 볼록부이고, 또한 상기 영역에는 화상이 형성되어 있었으나, 볼록부와, 그 외의 부분의 콘트라스트가 작았다.
박리층을 구성하는 수지 재료, 및 입자의 굴절률은, 각각, 1.49, 1.34였다.
얻어진 인화물에 있어서의 전사층 및 히트 시일층의 45도 경면 광택도는, 각각, 68.2%, 85.0%였다. 전사층의 ΔL* T는 24이고, 히트 시일층의 ΔL* HS는 23이었다. 전사층의 표면 거칠기(RaT)는 1.3 ㎛이고, 히트 시일층의 표면 거칠기(RaHS)는 1.1 ㎛였다. 전사층의 평균 정반사율(RT)은 21%이고, 히트 시일층의 평균 정반사율(RHS)은 18%였다.
비교예 1
인화물의 제조에 있어서, 열전사 시트로부터의 히트 시일층의 전사를 행하지 않은 것 이외에는, 실시예 8과 동일하게 하여, 인화물을 제작하였다. 그러나, 필 오프된 영역의 근방의 전사층의 피전사체에의 전사가 불안정해져, 전사 불량이 발생하였다. 이에 대해, 실시예 1∼9에서는, 전사 불량은 발생하지 않았다.
당업자라면 이해하는 바와 같이, 본 개시의 조합 등은 상기 실시예의 기재에 의해 한정되는 것이 아니며, 상기 실시예 및 명세서는 본 개시의 원리를 설명하기 위한 것에 불과하고, 본 개시의 주지 및 범위에서 일탈하지 않는 한, 여러 가지 개변 또는 개선을 행할 수 있고, 이들 개변 또는 개선은 모두 보호 청구하고 있는 본 개시의 범위 내에 포함된다. 또한 본 개시가 보호 청구하고 있는 범위는, 청구의 범위의 기재뿐만이 아니라 그 균등물을 포함한다.
10: 열전사 시트 11: 제1 기재
12: 착색층 13: 필 오프층
14: 히트 시일층 15: 배면층
20: 중간 전사 매체 21: 제2 기재
22: 전사층 23: 박리층
24: 수용층 25: 보호층
30: 인화물

Claims (10)

  1. 열전사 시트와 중간 전사 매체의 조합으로서,
    상기 열전사 시트가, 제1 기재(基材)와, 상기 제1 기재 상에 형성된, 착색층, 필 오프층 및 히트 시일층을 구비하고,
    상기 중간 전사 매체가, 제2 기재와, 전사층을 구비하며,
    상기 필 오프층이, 상기 중간 전사 매체에 있어서의 상기 전사층의 일부를 제거하기 위한 층이고,
    상기 히트 시일층과, 상기 전사층의 45도 경면 광택도차의 절대값이, 20% 이상인,
    열전사 시트와 중간 전사 매체의 조합.
  2. 열전사 시트와 중간 전사 매체의 조합으로서,
    상기 열전사 시트가, 제1 기재와, 상기 제1 기재 상에 형성된, 착색층, 필 오프층 및 히트 시일층을 구비하고,
    상기 중간 전사 매체가, 제2 기재와, 전사층을 구비하며,
    상기 필 오프층이, 상기 중간 전사 매체에 있어서의 상기 전사층의 일부를 제거하기 위한 층이고,
    ΔL* HS와 ΔL* T의 차의 절대값이, 5 이상 30 이하인
    [ΔL* HS는, 상기 히트 시일층에 입사각 45도로 광을 입사했을 때의, 상기 광의 입사각의 정반사각에 대한 수광각 110도 및 15도에 있어서의 L*값의 차의 절대값이고,
    ΔL* T는, 상기 전사층에 입사각 45도로 광을 입사했을 때의, 상기 광의 입사각의 정반사각에 대한 수광각 110도 및 15도에 있어서의 L*값의 차의 절대값이다.],
    열전사 시트와 중간 전사 매체의 조합.
  3. 제2항에 있어서, 상기 히트 시일층 및 상기 전사층에서 선택되는 적어도 하나의 층이, 펄 안료를 함유하고, 상기 히트 시일층에 있어서의 펄 안료의 함유량과, 상기 전사층에 있어서의 펄 안료의 함유량의 차의 절대값이, 10 질량% 이상인, 열전사 시트와 중간 전사 매체의 조합.
  4. 열전사 시트와 중간 전사 매체의 조합으로서,
    상기 열전사 시트가, 제1 기재와, 상기 제1 기재 상에 형성된, 착색층, 필 오프층 및 히트 시일층을 구비하고,
    상기 중간 전사 매체가, 제2 기재와, 전사층을 구비하며,
    상기 필 오프층이, 상기 중간 전사 매체에 있어서의 상기 전사층의 일부를 제거하기 위한 층이고,
    RHS와 RT의 차의 절대값이, 20% 이상 50% 이하인
    [RHS는, 입사각 5도, 측정 파장 범위 400 ㎚ 이상 700 ㎚ 이하의 조건으로 상기 히트 시일층에 광을 입사했을 때의 평균 정반사율이고,
    RT는, 상기 조건으로 상기 전사층에 광을 입사했을 때의 평균 정반사율이다.],
    열전사 시트와 중간 전사 매체의 조합.
  5. 제4항에 있어서, 상기 히트 시일층 및 상기 전사층에서 선택되는 적어도 하나의 층이, 금속 안료를 함유하고, 상기 히트 시일층에 있어서의 금속 안료의 함유량과, 상기 전사층에 있어서의 금속 안료의 함유량의 차의 절대값이, 10 질량% 이상인, 열전사 시트와 중간 전사 매체의 조합.
  6. 열전사 시트와 중간 전사 매체의 조합으로서,
    상기 열전사 시트가, 제1 기재와, 상기 제1 기재 상에 형성된, 착색층, 필 오프층 및 히트 시일층을 구비하고,
    상기 중간 전사 매체가, 제2 기재와, 전사층을 구비하며,
    상기 필 오프층이, 상기 중간 전사 매체에 있어서의 상기 전사층의 일부를 제거하기 위한 층이고,
    상기 히트 시일층의 표면 거칠기(RaHS)와, 상기 전사층의 표면 거칠기(RaT)의 차의 절대값이, 0.5 ㎛ 이상 3.0 ㎛ 이하인,
    열전사 시트와 중간 전사 매체의 조합.
  7. 제6항에 있어서, 상기 히트 시일층 및 상기 전사층에서 선택되는 적어도 하나의 층이, 발포 입자를 함유하고, 상기 히트 시일층에 있어서의 발포 입자의 함유량과, 상기 전사층에 있어서의 발포 입자의 함유량의 차의 절대값이, 10 질량% 이상인, 열전사 시트와 중간 전사 매체의 조합.
  8. 제1 기재와, 상기 제1 기재 상에 형성된, 착색층, 필 오프층 및 히트 시일층을 구비하는 열전사 시트, 및, 제2 기재와, 전사층을 구비하는 중간 전사 매체의 조합을 준비하는 공정과,
    상기 중간 전사 매체가 구비하는 상기 전사층 상에, 화상을 형성하는 공정과,
    상기 중간 전사 매체가 구비하는 상기 전사층의 일부와, 상기 열전사 시트가 구비하는 상기 필 오프층의 적어도 일부를 가열 압착한 후, 가열 압착된 부분의 전사층을, 상기 중간 전사 매체로부터 필 오프하는 공정과,
    상기 중간 전사 매체의 전사층이 필 오프되지 않은 영역, 및 상기 중간 전사 매체의 전사층이 필 오프된 영역에, 상기 열전사 시트로부터 상기 히트 시일층을 전사하는 공정과,
    상기 중간 전사 매체의 전사층이 필 오프되지 않은 영역에 있어서의, 적어도 일부에 화상이 형성된 상기 전사층 및 전사된 상기 히트 시일층과, 상기 중간 전사 매체의 전사층이 필 오프된 영역에 있어서의 전사된 상기 히트 시일층을, 피전사체 상에 전사하는 공정
    을 포함하는, 인화물의 제조 방법.
  9. 제8항에 있어서, 열전사 시트와 중간 전사 매체의 상기 조합이, 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 기재된 열전사 시트와 중간 전사 매체의 조합인, 인화물의 제조 방법.
  10. 제1 기재와, 상기 제1 기재 상에 형성된, 착색층, 필 오프층 및 히트 시일층을 구비하는 열전사 시트, 및, 제2 기재와, 전사층을 구비하는 중간 전사 매체의 조합을 이용하여 제조한 인화물로서, 상기 필 오프층이, 상기 중간 전사 매체에 있어서의 상기 전사층의 일부를 제거하기 위한 층이고,
    피전사체와,
    상기 피전사체 상에 형성된 상기 히트 시일층과,
    상기 히트 시일층 상의 일부에 형성된, 화상이 형성된 상기 전사층
    을 구비하는, 인화물.
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Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20230264506A1 (en) * 2020-08-05 2023-08-24 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Thermal transfer sheet, and combination of thermal transfer sheet and intermediate transfer medium
KR20240018664A (ko) * 2021-07-07 2024-02-13 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 열전사 시트

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003326865A (ja) 2002-03-08 2003-11-19 Dainippon Printing Co Ltd 熱転写シート、画像形成方法、画像形成物の形成方法及び画像形成物

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3404602B2 (ja) * 1993-12-02 2003-05-12 大日本印刷株式会社 中間転写記録媒体及び画像形成物
US7507452B2 (en) * 2002-10-02 2009-03-24 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Printing method using pearl pigment
WO2008050864A1 (fr) * 2006-10-27 2008-05-02 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Procédé d'enregistrement de transfert de chaleur, procédé de formation d'image et article formé par image
WO2014050880A1 (ja) * 2012-09-26 2014-04-03 大日本印刷株式会社 中間転写媒体、及び中間転写媒体と熱転写シートとの組合せ
JP5686168B2 (ja) * 2013-08-29 2015-03-18 大日本印刷株式会社 中間転写媒体と熱転写シートの組合せ
JP2016068373A (ja) * 2014-09-30 2016-05-09 大日本印刷株式会社 熱転写箔及び印画物形成方法
US10427441B2 (en) * 2015-03-31 2019-10-01 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Thermal transfer sheet
US10328734B2 (en) * 2015-09-30 2019-06-25 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Method for forming print, method for peeling off transfer layer, and thermal transfer printer
JP6191713B2 (ja) * 2016-03-03 2017-09-06 大日本印刷株式会社 熱転写プリンタ及び熱転写方法
US10953637B2 (en) * 2016-03-08 2021-03-23 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Thermal transfer sheet and combination of transfer foil and thermal transfer sheet
WO2017159870A1 (ja) * 2016-03-18 2017-09-21 大日本印刷株式会社 中間転写媒体、中間転写媒体と熱転写シートとの組合せ、及び印画物の形成方法

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003326865A (ja) 2002-03-08 2003-11-19 Dainippon Printing Co Ltd 熱転写シート、画像形成方法、画像形成物の形成方法及び画像形成物

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